(57)【要約】【課題】表示装置及びそれの製造方法を提供する。【解決手段】表示装置は、第１領域１１０及び第１領域１１０の周辺に配置された第２領域１２０が形成された基板１００は、第１領域１１０に配置された第１電極２００、第１領域１１０に配置され、各第１電極２００を露出させるための開口部３１０が形成された絶縁膜３００、開口部３１０を通じて第１電極２００上に配置された発光層４００及び発光層４００上に配置された第２電極５００を含む。発光層４００の厚みを均一にすることで、発光層４００から発生した映像の質を向上することができる。【選択図】図２
2007518237.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域、及び前記第１領域の周囲に配置された第２領域が形成された基板と、
前記第１領域に配置された複数の第１電極と、
前記第１領域に配置され、前記各第１電極に対応する領域を露出させるための複数の開口部が形成された絶縁膜と、
前記開口部を満たし、前記第１電極上に配置された有機発光層と、
前記有機発光層上に配置された第２電極と、
を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第２領域はダミー有機発光層をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
二組の長辺及び二組の短辺を有する矩形形状を有し、前記第１領域内において、前記長辺と実施的に平行な第１方向及び前記短辺と実質的に平行な第２方向に沿ってマトリックス形態に配置されることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記絶縁膜の側面は、前記第１方向に前記第１領域から第２領域に向かって延長され、その絶縁膜の延長の長さは、前記開口部間の幅以下であることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記絶縁膜の側面は、前記第２方向に前記第１領域から第２領域に向かって延長され、その絶縁膜の延長の長さは、前記開口部の間の間隔以下であることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項６】
前記開口部は、前記第１電極の中心から一側に離隔されたところに配置されることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項７】
前記発光層は、正孔注入層及び正孔注入層上に配置された発光層を含むことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項８】
前記開口部の内側面と前記基板上に形成された第１電極とが成す角度は、実質的に３０°〜１６５°であることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１電極は透明な導電性物質を含み、前記第２電極は不透明な導電性物質を含むことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項１０】
前記絶縁膜は、有機物質、無機物質又は感光物質が含まれることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項１１】
第１領域、及び前記第１領域の周囲に配置された第２領域が形成された基板と、
前記第１領域に配置された複数の第１電極と、
前記第１電極がカバーされるように基板の全面積にかけて形成され、前記第１領域及び第２領域の間にグルーブを有し、前記第１電極上に形成される複数の開口部を有する絶縁膜と、
前記開口部をそれぞれ満たし、前記第１電極上に配置された有機発光層と、
前記有機発光層上に配置された第２電極と、
を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
前記グルーブ幅は、前記開口部幅以上の大きさを有することを特徴とする請求項１１記載の表示装置。
【請求項１３】
前記絶縁膜は、有機物質、無機物質又は感光物質であることを特徴とする請求項１２記載の表示装置。
【請求項１４】
前記グルーブと対応する前記基板上には複数のダミー有機発光層が形成され、前記絶縁膜は前記基盤の第二領域に対応するように形成されることを特徴とする請求項１２記載の表示装置。
【請求項１５】
第１領域及び前記第１領域周囲に配置された第２領域が形成された基板と、
前記第１領域に配置された複数の第１電極と、
前記第１電極がカバーされるように前記基板上に形成され、前記第１電極の対応する部分を露出させるための第１開口部、及び前記第２領域に形成された第２開口部を含む絶縁膜と、
前記第１開口部をそれぞれ満たし、前記第１電極上に配置された有機発光層と、
前記有機発光層上に配置された第２電極と、
を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
前記第１開口部の幅は、前記第２開口部の幅の大きさ以下であることを特徴とする請求項１５記載の表示装置。
【請求項１７】
前記第２開口部のそれぞれと対応する前記基板上には、複数のダミー発光層が形成されることを特徴とする請求項１５記載の表示装置。
【請求項１８】
基板上の第１領域に複数の第１電極を形成する段階と、
前記第１領域に前記第１電極を露出させる複数の開口部を有する絶縁膜を形成する段階と、
前記第１電極上に有機発光層をそれぞれ形成する段階と、
前記有機発光層上を覆うように第１領域に第２電極を形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記基板に透明な導電性の物質を含む導電層が形成され、導電物質は第１領域の第１電極を形成するためにパターンニングされる、ことを特徴とする請求項１８記載の表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記第１電極は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）またはインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を含むことを特徴とする請求項１９記載の表示装置の製造方法。
【請求項２１】
互いに対向する二組の長辺及び互いに対向する二組の短辺を有する矩形形状を有し、前記長辺は第１方向に配置され、前記短辺は、前記第１方向と実質的に直交する第２方向に配置され、マトリックス状に配置される開口部を有することを特徴とする請求項１９記載の表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記第１及び第２領域に絶縁膜を形成する段階と、
前記第１領域に配置された前記第１電極を露出し、前記第２領域の絶縁層の部分を除去して前記絶縁膜をパターニングして除去する段階と、を含むことを特徴とする請求項１８記載の表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記開口部は、前記第１電極の中央から一側に離隔されたところに形成されることを特徴とする請求項２２記載の表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記絶縁膜の端部は、前記第１領域から前記第２領域に向かって、前記開口部の相互の間隔と実質的に同一であるように延長されたことを特徴とする請求項２２記載の表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第１電極に液滴形態を有する正孔注入物質を滴下して、発光層の正孔注入層を形成し、液滴形態を有する発光物質を前記正孔注入層の上面に滴下して、発光パターンの発光層を形成することを特徴とする請求項１８記載の表示装置の製造方法。
【請求項２６】
発光層の乾燥速度に適合するように、前記第２領域にダミー発光パターンを形成することを特徴とする請求項１８記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置及び表示装置の製造方法に関し、より具体的には画像の品質をより向上させた表示装置及び表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、表示装置は情報処理装置で処理されたデータを画像で表示する一種のインターフェース装置である。
表示装置は陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機電界発光表示装置（ＥＬ）、及びプラズマ表示パネル（ＰＤＰ）などが代表的である。陰極線管表示装置は蛍光層に到達する電子の流れを制御して画像を表示する。液晶表示装置は液晶を用いて画像を表示する。有機電界発光表示装置は順方向電流によって発光する有機発光層によって画像を表示する。プラズマ表示パネルはプラズマを用いて画像を表示する。
【０００３】
有機電界発光表示装置は他の種類の表示装置に比べて厚みが薄く及び重さが軽く、画像の輝度が高く、色感が豊富で、応答速度が液晶表示装置より非常に速く、フルカラー表示が可能であり、消費電力量が液晶表示装置より小さく、作動温度範囲が液晶表示装置より広く、生産コストが低いなど多様な長所を有する。
このような有機電界発光表示装置は基板にマトリックス形態に配置されたアノード電極、基板に形成されアノード電極部分が開口された有機膜、アノード電極上に形成され光を発光する有機発光層、有機発光層上に形成されたカソード電極を含む。
【０００４】
このような典型的な構造を有する有機電界発光表示装置の有機発光層は、多層構造である。例えば、有機発光層は、正孔注入層（Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｔｉｃｏｎ  Ｌａｙｅｒ、ＨＩＬ）、ＨＩＬ上の発光層（Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｌａｙｅｒ、ＥＭＬ）、及び電子注入層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ、ＥＩＬ）で構成される。
【０００５】
有機発光層はスリットマスク、スピンコーティング、真空蒸着方法などによって形成される。最近には、インクジェットタイプの液滴を滴下して有機発光層を形成している。
基板上に有機発光層を形成するとき、最も注意する事項は有機発光物質の乾燥速度である。有機発光物質は揮発性溶媒を含む。インクジェットの液滴を装置に適用して基板上に有機発光層を形成する場合、有機発光層の厚みは有機発光物質の乾燥速度により影響を受ける。有機発光物質の乾燥速度が異なる場合、有機発光層の厚みが不均一になり、それにより、有機発光層で発生した光の輝度分布が不均一になる。
【０００６】
これを防止するためにインクジェット方式で有機発光層を形成するとき、有機物質を含む液滴は有機膜のうち有効表示領域だけでなく、基板の有機膜上の画像が表示されない非有効表示領域にも形成される。従って、非有効表示領域にはダミー有機発光層が形成され、ダミー有機発光層は有効表示領域の有機発光物質の乾燥速度を一定にする。
しかし、有機膜のうち非表示領域に形成されたダミー有機発光層は、アノード電極と有機膜との厚みの違いによって、表示領域の有機発光膜より高いところに配置される。故に、ダミー有機発光層を形成するためのダミー有機物質が、表示領域の開口に流れ込んでしまう。ダミー有機物質が開口に流れ込んで有機発光層の厚みを制御できないと、画像の品質が低下する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明はこのような関連技術の限界や不利益による複数の問題点を除去するために提供される。
本発明の目的は画像の品質低下を防止した表示装置を提供することにある。
また、本発明の別の目的は前記表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、表示装置は、基板と、複数の第１電極と、絶縁膜と、発光層と、第２電極とを含む。基板は、第１領域と、第１領域の周辺に位置する第２領域とを含む。複数の第１電極は第１領域に配置される。絶縁膜は選択的に第１領域に配置され、第１電極に対応する部分を露出する複数の開口を有している。発光層は、開口を介して第１電極上にそれぞれ配置される。第２電極は発光層上に形成される。
【０００９】
また、本発明の別の発明によれば、表示装置の製造方法を提供する。基板の第１領域上に複数の第１電極を形成する。絶縁膜は、第１領域上に形成され、第１電極を露出するための開口を有している。複数の発光層は第１電極上にそれぞれ形成され、第２電極は発光層を覆うように第１領域上に形成される。
本発明によれば、表示装置は、マトリックス状に基板の第１領域上に形成される第１電極を含む。有機絶縁層は、第１領域の周辺に位置する第２領域に形成される。有機絶縁層は第１電極に対応する位置に開口を有する。複数の有機発光層は光を発光するために第１電極上に形成される。第２電極は有機発光層上に形成される。よって、有機発光層から発生した光は、均一な輝度を有しており、画像の品質が改良される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施形態をより詳細に説明する。
表示装置
図１は本発明の一実施例による表示装置を示した平面図である。図２は図１のI−I’線に沿って切断した断面図である。図３は図２のＢ部分拡大図である。図４は図１のＣ部分拡大図である。
【００１１】
図１乃至図４に示すように、表示装置７００は、基板１００、基板１００上に配置された第１電極２００、絶縁膜３００、有機発光層４００及び第２電極５００を含む。
図１に示すように、基板１００は透明物質または不透明物質を含む。
基板１００が透明な基板の場合、第１電極２００は透明な導電性物質、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などを含む。反対に、基板１００が不透明な基板、例えば、不透明の合成樹脂基板の場合、後述される第１電極２００は不透明の導電性物質、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金のような金属を含む。本実施例において基板１００は透明の基板を含み、第１電極はＩＴＯ又はＩＺＯを含む。
【００１２】
一方、基板１００には画像が表示される第１領域１１０及び回路または信号配線等が形成された第２領域１２０を含む。第１領域１１０は基板１００の中央部に配置され、第２領域１２０は第１領域１１０の周辺に配置される。
図２及び図４に示すように、第１電極２００は基板１００の第１領域１１０に形成される。第１電極２００は第１領域１１０にマトリックス形態に配置される。本実施例において、第１電極２００は透明導電性でインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む。
【００１３】
本実施例において、第１電極２００は基板１００に長方形状で配置される。第１電極２００は、基板１００上において、実質的に、第１方向に長さＬを有し、第１方向と直交する第２方向に幅Ｗを有する。また、各第１電極２００は相互に間隔Ｇを有するように離隔され配置される。
各第１電極２００は二つの薄膜トランジスタ、一つのストレージキャパシタンス及び信号線からなる駆動回路（図示せず）によって第１駆動信号の印加を受ける。
【００１４】
絶縁膜３００は、基板１００上に配置される。絶縁膜は、光に反応する感光性有機物またはＢＣＢ（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）などのような有機物及びＳｉＯＣなどのような無機物質を含む。
具体的に、絶縁膜３００は基板１００の第１領域１１０に選択的に形成される。図２及び図３に示すように、絶縁膜３００は開口３１０を有している。第１電極２００が第１領域１１０上にマトリックス形態に配置されるのに従って、開口部３１０は第１領域１１０にマトリックス形態に形成される。よって、開口３１０は、各第１電極２００の位置に対応するところに形成された開口部３１０を形成する。本実施例において、開口部３１０は、長方形状、六角形状、八角形状、円形状を有する。
【００１５】
このとき、開口部３１０は各第１電極２００の中心に配置される。あるいは、開口部３１０の中心は、各第１電極２００の中心からいずれか一側に偏心されたところに配置される。
本実施例において、各開口部３１０は第１電極２００の中心上に形成される。開口部３１０は各第１電極２００を露出させ、開口３１０内に液体形状の有機発光物質を収納し、有機発光物質が広がることを防止するなど多様な機能を遂行する。
【００１６】
図３に示すように、開口部３１０の内側壁３２０と第１電極２００とが成す角度θは３０°よりは大きく１６５°よりが小さくすることが望ましい。成す角度θが３０°より小さいか１６５°より大きい場合、有機発光層のプロファイルが不均一になり、それにより有機発光層４００で発生した光の輝度が制御できなくなることがあり得る。
それを具現するために、本実施例において絶縁膜３００に形成された開口部３１０は、フォトリソグラフィー工程または乾式エッチング方法などによってエッチングして形成される。
【００１７】
図２及び図３に示すように、有機発光層４００は絶縁膜３００に形成された各開口部３１０を通じて第１電極２００の上面に形成される。有機発光層４００は正孔注入層（ＨＩＬ）４１０及び発光層（ＥＭＬ）４２０を含む。正孔注入層４１０は第１電極２００の上面に配置され、発光層４２０は発光物質層４２０の上面に配置される。
この際、第１電極２００上の有機発光層４００は、有機発光物質を開口部３１０の内部に滴下した後乾燥させることにより、第１電極２００上に形成される。有機発光物質は揮発性溶媒を含む。
【００１８】
その上部に形成された有機発光層４００の厚みは、有機物質の乾燥速度に影響を受ける。このとき、有機発光物質の乾燥速度が互いに異なる場合、有機発光層４００の厚さが制御できず、有機発光層で発生した光の輝度均一性を制御できない。このような問題点は第１領域１１０及び第２領域１２０の境界に配置された第１電極２００で発生する。
それを防止するために、第２領域１２０には、ダミー有機発光層４３０が形成される。ダミー有機発光層４３０は、揮発性溶媒を含むダミー有機発光物質を含む。よって、境界周辺に配置された第１電極２００上に位置する有機物質の乾燥速度を均一に制御することができる。
【００１９】
望ましくは、ダミー有機発光層４３０は、第１領域１１０に駆動回路部を形成する途中で、第２領域１２０に形成された保護膜の上面に直接形成される（図示せず）。ダミー有機発光層４３０はダミー正孔注入層４３２を含むか、あるいはダミー正孔注入層４３２かつダミー発光層４３４を含む。
この際、第２領域１２０に絶縁膜３００が残されている場合、ダミー発光層４３０を形成するためのダミー有機物質は、第２領域１２０の絶縁層３００上に位置する。従って、有機物質が第１領域１１０の開口部３１０に流れ込む。
ダミー有機発光物質が開口部３１０に流れ込む場合、表示装置の画像の品質を制御することができない。
しかし、本実施例においては、ダミー有機物質及び有機物質の基板１００からの高さが実質的に同じ高さを有するので、ダミー有機物質は開口部３１０に流れ込まない。
【００２０】
図５は本発明の一実施例によって変形された絶縁膜を示した概念図である。
図５に示すように、絶縁膜３００は第１領域１１０から第２領域１２０に拡張される。この際、絶縁膜３００は、ダミー有機発光層４３０と有機発光層４００との間の長さよりも小さい範囲内で拡張されることが望ましい。
これとは異なり、ダミー有機発光層４３０及び有機発光層４００は、開口部３１０の幅分離れた間隔で配置される。よって、拡張可能な絶縁膜の長さは開口部３１０の幅よりも小さい。
【００２１】
図２に示すように、第１電極２００上に有機発光層が形成された後、第２電極５００が基板１００上に形成される。第２電極５００はアルミニウムまたはアルミニウム合金のように仕事関数の低い金属からなる。
第２電極５００は絶縁膜３００の上面に配置され、有機発光層４００と電気的に連結される。第２領域１２０に形成された駆動回路から発生された映像を表示するための第２駆動信号は、第２電極５００に提供される。
【００２２】
図６は本発明の他の実施例による表示装置を示した平面図である。図７は図６のＢ１−Ｂ２線に沿って切断した断面図である。
図６及び図７に示すように、表示装置７００は複数の第１電極２００、絶縁膜３００、有機発光層４００及び第２電極５００を含む。
基板１００は透明な基板または不透明な基板を含む。
【００２３】
基板１００が透明な基板の場合、第１電極２００は透明な導電性物質、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などを含む。反対に、基板１００が不透明な基板、例えば、不透明の合成樹脂基板の場合、後述される第１電極２００は不透明の導電性物質、例えば、アルミニウム又はアルミニウム金属を含む。本実施例において基板１００は透明な基板を含む。
【００２４】
一方、基板１００には第１領域１１０、及び第２領域１２０を含む。第１領域１１０は画像が表示するために基板１００の中央部に配置され、第２領域１２０は電気回路を形成するために第１領域１１０の周辺に配置される。
第１電極２００は基板１００の第１領域１１０に形成される。第１電極２００は第１領域１１０にマトリックス形態に配置される。
【００２５】
本実施例において、第１電極２００は基板１００に長方形状で配置される。第１電極２００は第１方向に長さＬを有し、第１方向と実質的に直交する第２方向に幅Ｗを有する。また、各第１電極２００は相互に間隔Ｇを有するように離隔され配置される。
各第１電極２００は二つの薄膜トランジスタ、一つのストレージキャパシタンス及び信号線からなる駆動回路（図示せず）によって第１駆動信号の印加を受ける。
【００２６】
絶縁膜３００は、第１絶縁膜３６０及び第２絶縁膜３７０を含む。第１絶縁膜３６０は、基板１００の第１領域１１０上に位置する。第１絶縁膜３６０は、光に反応する感光性有機物質、ＢＣＢ（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）などのような有機物及びＳｉＯＣなどのような無機物を含む。
第１絶縁膜３６０は各第１電極２００の位置に対応するところに形成された開口部３１０を含む。第１電極２００が第１領域１１０にマトリックス形態に配置されるので開口部３１０は第１領域１１０にマトリックス形態に形成される。本実施例において、開口部３１０は長方形状、六角形状、八角形状、円形状を有する。
【００２７】
この際、開口部３１０は各第１電極２００の中心に配置される。開口３１０は、第１電極２００の中心から偏心された所に配置されることができる。本実施例において、各開口部３１０は、第１電極２００の中心から偏心された所に配置される。開口部３１０は各第１電極２００を露出させ、開口３１０内に液体形状の有機発光物質を収納するなど多様な機能を遂行する。
【００２８】
絶縁膜３００に形成された開口部３１０は各第１電極２００を外部に対して露出させ、液体形状の有機発光物質を収納し、有機発光物質が隣接した第１電極２００に広がることを防止するなど多様な機能を遂行する。
一方、第２絶縁膜３７０は第２領域に形成され、平板状の第１絶縁膜３６０から一定距離離隔して形成される。結果として、グルーブ（ｇｒｏｏｖｅ）１２５が第１及び第２絶縁膜３６０及び３７０感に形成される。グルーブ１２５の幅は開口部３１０の幅よりも広く形成される。
【００２９】
このようにグルーブ１２５は、第２領域１１０に位置するダミー有機発光物質が開口部３１０の内部に流れ込むことを防止する。
有機発光層４００は、絶縁膜３００に形成された各開口部３１０を通じて第１電極２００の上面に配置される。有機発光層４００は、正孔注入層４１０及び発光層４２０を含む。発光層４３０は正孔注入層４２０の上面に配置される。
【００３０】
有機発光層を形成するために、揮発性溶媒を含む有機物質が開口部３１０に滴下されて乾燥され、発光層が第１電極２００上に形成される。
その上部に形成された有機発光層４００の厚みは、有機発光層４００の乾燥速度に影響を受ける。この際、有機発光層４００の乾燥速度が互いに異なる場合、有機発光層４００の厚さが制御できず、有機発光層で発生した光の輝度均一性を制御できない。このような問題点は第１領域１１０及び第２領域１２０の境界の周辺に配置された第１電極２００で発生する。
【００３１】
これを防止するために、第２領域１２０には揮発性溶媒を有するダミー有機発光物質を含むダミー有機発光層４３０が形成される。よって、境界周辺に配置された第１電極２００上に位置する有機物質の乾燥速度を均一に制御することができる。
望ましくは、ダミー有機発光層４３０は第１領域１１０に駆動回路部を形成する途中で、第２領域１２０に形成された保護膜の上面に直接形成される（図示せず）。ダミー有機発光層４３０は、その上部にダミー正孔注入層４３２及びダミー発光層４３４を含む。
【００３２】
この際、第２領域１２０に絶縁膜３００が残されている場合、ダミー発光層４３０を形成するためのダミー有機物質は、第２領域１２０の絶縁層３００上に位置する。従って、有機物質が第１領域１１０の開口部３１０に流れ込む。
ダミー有機発光物質がた開口部３１０に流れ込む場合、表示装置の画像の品質を制御することができない。
【００３３】
しかし、本実施例においては、第１絶縁膜３６０及び第２絶縁膜３７０の境界部分にグルーブ１２５が形成されているので、ダミー有機物質が開口部３１０に流れ込まない。グルーブ１２５内のダミー有機物質及び第１電極２００上に位置する有機物質は実質的に基板１００から同一の高さに形成されている。
第１電極２００上に有機発光層４００が形成された状態で、基板１００の全表面には第２電極５００が形成される。第２電極５００はアルミニウムまたはアルミニウム合金のように仕事関数の低い金属からなる。
【００３４】
第２電極５００は絶縁膜３００の上面に配置され、有機発光層４００と電気的に連結される。第２電極５００には、第２領域１２０に形成された駆動回路（図示せず）から発生した映像を表示するために、第２駆動電圧が印加される。
図８は本発明の他の実施例による表示装置を示す平面図である。図９は図８のB3-B4線に沿って切断した断面図である。
【００３５】
図８及び図９に示すように、表示装置７００は、基板１００、第１電極２００、絶縁膜３００、有機発光層４００及び第２電極５００を含む。
基板１００は透明な基板または不透明な基板を含む。
基板１００が透明な基板の場合、第１電極２００は透明な導電性物質、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などを含む。反対に、基板１００が不透明な基板、例えば、不透明な合成樹脂基板の場合、後述される第１電極２００は不透明な導電性物質、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金のような金属を含む。本実施例において基板１００は透明な基板を含む。
【００３６】
一方、基板１００には第１領域１１０及び第２領域１２０を含む。第１領域１１０は基板１００の中央部に配置され、第２領域１２０は電気回路を形成するために第１領域１１０の周辺に配置される。
第１電極２００は基板１００の第１領域１１０に形成される。第１電極２００は第１領域１１０にマトリックス形態に配置される。
【００３７】
本実施例において、第１電極２００は基板１００に長方形状に配置される。第１電極２００は、実質的に、第１方向に長さＬを有し、第１方向と直交する第２方向に幅Ｗを有する。また、各第１電極２００は、互いに通常の間隔をおいて形成される。第１電極２００は、相互間隔Ｇを有するように離隔され配置される。
各第１電極２００は二つの薄膜トランジスタ、一つのストレージキャパシタンス及び信号線からなる駆動回路（図示せず）によって、映像を表示するために第１駆動信号の印加を受ける。
【００３８】
絶縁膜３００は、基板１００上に配置される。絶縁膜は、光に反応する感光性有機物質、ＢＣＢなどのような有機物及びＳｉＯＣなどのような無機物を含む。
具体的に、絶縁膜３００は基板１００の第１領域１１０に選択的に形成される。また、絶縁膜３００は。第１開口部３１０及び第２開口部１２５ａを有する。第１開口部３１０第１電極２００に対応する位置に形成される。第１電極２００が第１領域１１０上にマトリックス形態に配置されるのに従って、第１開口部３１０は第１領域１１０にマトリックス形態に形成される。本実施例において、第１開口部３１０は長方形状、六角形状、八角形状、円形状を有することができる。
【００３９】
この際、各第１開口部３１０は各第１電極２００の中心に配置されるか、駆動回路部によって各第１電極２００の中心からいずれか一側に偏心されたところに配置される。
本実施例において、第１開口部３１０は各第１電極２００を露出させ、液体形状の有機物質を収納するなど多様な機能を遂行する。
一方、絶縁膜３００の第２領域１２０には第２開口部１２５ａが形成される。第２開口部１２５ａはマトリックス形態に配置され、第２開口部１２５ａは第１開口部３１０と同一の間隔に形成される。この際、第１及び第２開口３１０、１２５aの間隔は、第１及び第２開口３１０、１２５aの幅よりも狭い。
【００４０】
このような第２開口部１２５ａは後述されたダミー有機発光層が第２開口部１２５ａの内部に配置されるようにしてダミー有機発光物質が第１開口部３１０の内部に流れ込むことを防止する。
有機発光層４００は絶縁膜３００の各開口部３１０を通じて第１電極２００の上面に配置される。有機発光層４００は正孔注入層４１０及び発光層４２０を含む。正孔注入層４１０は第１電極２００の上面に配置され、発光層４２０は正孔注入層４１０の上面に配置される。
【００４１】
この際、第１電極２００上の有機発光層４００は、有機物質を開口部３１０の内部に滴下した後乾燥させることにより形成される。有機発光物質は揮発性溶媒を含む。
その上部に形成された有機発光層４００の厚みは、有機発光層４００の乾燥速度に影響を受ける。
このとき、有機発光層４００の乾燥速度が互いに異なる場合、有機発光層４００の厚さが制御できず、有機発光層で発生した光の輝度均一性を制御できない。このような問題点は第１領域１１０及び第２領域１２０の境界に配置された第１電極２００で発生する。
【００４２】
これを防止するために、第２領域１２０には、ダミー有機発光層４３０が形成される。ダミー有機発光層４３０は、揮発性溶媒を含むダミー有機発光物質を含む。よって、境界周辺に配置された第１電極２００上に位置する有機物質の乾燥速度を均一に制御することができる。
望ましくは、ダミー有機発光層４３０は第１領域１１０に駆動回路部を形成する途中で、第２領域１２０に形成された保護膜（図示せず）の上面に直接形成される。ダミー有機発光層４３０はダミー正孔注入層４３２を含むか、あるいはダミー正孔注入層４３２かつダミー発光層４３４を含む。
【００４３】
この際、第２領域１２０に絶縁膜３００が残されている場合、ダミー発光層４３０を形成するためのダミー有機物質は、第２領域１２０の絶縁層３００上に位置する。従って、有機物質が第１領域１１０の開口部３１０に流れ込む。ダミー有機物質が開口部３１０に流れ込む場合、画像の表示品質を制御することができない。
しかし、本実施例においては、ダミー有機物質及び有機物質の基板１００からの高さが実質的に同じ高さを有するので、ダミー有機物質は開口部３１０に流れ込まない。
【００４４】
有機発光層４００が第１電極２００に形成された状態で、基板１００の全表面には第２電極５００が形成される。第２電極５００はアルミニウムまたはアルミニウム合金のような仕事関数が低い金属からなる。第２電極５００は絶縁膜３００の上面に配置され、有機発光層４００と電気的に連結される。
第２電極５００には、映像を表示するために、第２領域１２０上に形成された駆動回路が発生した第２駆動電圧が印加される。
【００４５】
表示装置の製造方法
図１０は本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
図１０に示すように、基板１００は、画像を表示するための第１領域１１０及び第１領域１１０の周辺に配置第２領域１２０を含む。
基板１００の全上面にはＩＴＯ、ＩＺＯを含む第１導電膜２００ａが形成される。第１導電膜２００ａは、スパッタリングまたは化学気相蒸着方法によって形成される。
【００４６】
続いて、第１導電膜２００ａの上面にはスピンコーティングまたはスリットコーティングなどの方法によって感光物質が薄膜形態に塗布され、第１導電膜２００ａの上面には感光膜２００ｂが形成される。
続いて、基板１００の上面にはマスク２０１がアラインされる。マスク２０１は透明本体２０１ａ、光吸収部２０１ｂ及び光透過部２０１ｃを有し、光吸収部２０１ｂは四角形形態に透明本体上にマトリクス状に配置され、光透過部２０１ｃは光吸収部２０１ｂの間に隠し格子形態に形成される。
【００４７】
続いて、マスク２０１の透過部２０１ｃを介して感光膜２００ｂ上に光源から発生した光が走査され、これにより、感光膜２００ｂが光に露光され、感光パターン２００ｃが現像されて第１導電膜２００ａ上に形成される。
図１１は、本発明の別の実施例について、第１導電膜及び感光膜のパターニングを示した断面図である。
【００４８】
図１１に示すように、感光膜２００ｃを介して露出された第１導電膜２００ａの１部分は、乾式エッチングまたは湿式エッチングによってエッチングされ、基板１００の上面にはマトリックス形態に第１電極２００が形成される。
本実施例においては、基板１００上第１電極２００を形成する前に、駆動電圧を供給するための駆動回路部が基板１００上に形成される。
【００４９】
図１２は図１１に示された第１電極が形成されたことを示した断面図である。
図１２に示すように、第１導電膜２００ａを形成するために、感光パターン２００ｃは感光物質ストリッパー溶液などによって除去され、基板１００の上面にはマトリックス形態に第１電極２００が配置される。
図１３は図１２に示された基板に形成された第１電極を示した平面図である。
【００５０】
図１３に示すように、第１電極２００は基板１００上にマトリックス形態に配置される。各第１電極２００は相互ギャップＧの間隔に相互離隔されて配置され、各第１電極２００は第１方向に長さＬを有し、第１方向と実質的に直交する第２方向に幅Ｗを有する四角形状を有している。
図１４は図１３に示された基板の上面に絶縁膜が形成されたことを示す断面図である。
【００５１】
図１４に示すように、基板１００の上面には、第１電極２００を覆うように全面積にかけて絶縁膜が形成される。この際、絶縁膜は有機物または無機物を含む。有機物は、感光物質またはＢＣＢ（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）を含み、無機物は、ＳｉＯＣなどを含む。本実施例において、絶縁膜は感光物質を含む。
図１５は図１４に示された有機膜を露光することを示した断面図である。
【００５２】
図１５に示すように、有機膜３００ｂの上面にはマスク３０１が配置される。マスク３０１は、光源から発生した光を絶縁膜３００ｂに選択的に供給する。本実施携帯において、絶縁膜は透過した光に選択的に露出される。
これを具現するために、マスク３０１は透明本体３０１ａ、光吸収部３０１ｂ及び光透過部３０１ｃを含む。光透過部３０１ｃは第１電極２００と対応するところに格子状に形成され、光吸収部３０１ｂは光透過部３０１ｃの間に配置される。
【００５３】
基板１００にマスク３０１がアラインされた状態で、光源から発生した光はマスク３０１の光透過部３０１ｃを通じて絶縁膜３００ａに到達し、それにより、有機膜３００ａは光によって部分的に露光される。
図１６は図１５に示された分離パターンが形成されたことを示した断面図である。
図１６に示すように、絶縁膜３００ａは、光によって露光され、現象液によって現象される。従って、第２領域１２０に配置された絶縁膜３００及び第１電極２００に対応した絶縁膜３００ａは絶縁膜３００ａに移動し、それにより開口部３１０を有する分離パターン３００は基板１００上に形成される。
【００５４】
このような絶縁膜３００は感光物質だけではなく、ＢＣＢのまたはＳｉＯＣ含むことが可能である。この際、分理パターンは写真エッチング工程または乾燥エッチング方法を使用して形成してもよい。
この際、絶縁膜３００ａに形成された開口部３１０は、円形または四角形形状を有する。
【００５５】
この際、各開口部３１０の内側面と第１電極２００とが成す角度は、実質的に３０°〜１６５°である。成す角度を３０°〜１６５°の場合、第１電極２００上に配置される有機発光層４００の厚さを正確に制御される。
この際、各開口部３１０は第１電極２００の中央部に配置されるか第１電極２００の中央部からいずれか一方に偏心されて形成される。本実施例においては開口部３１０は第１電極２００の中央部からいずれか一方に偏心されて形成される。
【００５６】
図１７は別の実施形態における分離パターンを示した平面図である。図１８は図１７のＤ１−Ｄ２線に沿って切断した断面図である。
図１７及び図１８に示すように、この実施形態においては、分離パターン３００は、第１領域１１０及び第２領域１２０の境界から延長される。
この際、分離パターンの延長の長さは、開口部の幅以下であることが望ましい。
【００５７】
図１９は図１７に示された第１及び第２領域に有機発光層を形成することを示した断面図である。
図１９に示すように、第１領域１１０に形成された分離パターン３００の開口部３１０に有機発光層が形成される。
まず、有機発光層を形成するために、正孔注入物質を含む正孔注入層４１０が第１電極２００上に形成される。液滴形態を有する正孔注入物質はノズールなどから分離パターン３００の開口部３１０に滴下され、乾燥される。
【００５８】
正孔注入物質は揮発性溶媒を含み、正孔注入層４１０の厚さは正孔注入物質の乾燥速度によって互いに異なる。正孔注入層４１０の厚さが互いに異なる場合、表示装置に不良が発生される。
これを防止するために、ダミー正孔注入層４３０は、正孔注入層４１０の乾燥速度を制御するために、正孔注入層から通常の間隔をおいて、第２領域上に形成される。次に
有機発光物質が開口部３１０に滴下され、乾燥されて発光層４２０を形成する。さらに、ダミー発光物質が第２領域に敵かされ、発光物質が乾燥してダミー有機発光物質の乾燥速度を制御する。
【００５９】
図２０は図１９に示された基板に第２電極が形成されたことを示した概念図である。
図２０に示すように、基板１００に第１電極２００、絶縁膜３００、有機発光層４００が順次に形成された状態で、電気的に有機発光パターン４００を接続するために、基板１００には第２電極５００が形成される。
第２電極５００は、基板１００の全面積にかけて形成され、アルミニウムまたはアルミニウム合金などを含む。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の一実施例による表示装置を示した平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【図３】図２のＢ部分拡大図である。
【図４】図１のＣ部分拡大図である。
【図５】本発明の一実施例により変形された絶縁膜を示した概念図である。
【図６】本発明の他の実施例による表示装置を示した平面図である。
【図７】図６のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図８】本発明の他の実施例による表示装置を示した平面図である。
【図９】図８のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図１０】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１１】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１２】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１３】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１４】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１５】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１６】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１７】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１８】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図１９】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【図２０】本発明の一実施例による表示装置の製造方法を示した断面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１００      基板
１１０      第１領域
１２０      第２領域
１２５      グルーブ
２００      第１電極
２０１      マスク
２０１ａ      透明マスク本体
２０１ｂ      光吸収部
２０１ｃ      光透過部
３００      絶縁膜
４００、４３０      有機発光層
４１０      正孔注入層
４２０      発光層
４３２      ダミー正孔注入層
４３４      ダミー発光層
５００      第２電極
７００      表示装置
【図１】
2007518237.tif 000003
【図２】
2007518237.tif 000004
【図３】
2007518237.tif 000005
【図４】
2007518237.tif 000006
【図５】
2007518237.tif 000007
【図６】
2007518237.tif 000008
【図７】
2007518237.tif 000009
【図８】
2007518237.tif 000010
【図９】
2007518237.tif 000011
【図１０】
2007518237.tif 000012
【図１１】
2007518237.tif 000013
【図１２】
2007518237.tif 000014
【図１３】
2007518237.tif 000015
【図１４】
2007518237.tif 000016
【図１５】
2007518237.tif 000017
【図１６】
2007518237.tif 000018
【図１７】
2007518237.tif 000019
【図１８】
2007518237.tif 000020
【図１９】
2007518237.tif 000021
【図２０】
2007518237.tif 000022
【国際調査報告】
2007518237.tif 000023
2007518237.tif 000024
2007518237.tif 000025