(57)【要約】  本発明は、ポリメチルメタクリレート−マトリックス並びに異なる平均粒度Ｖ５０を有する球形散乱粒子（Ａ）及び球形粒子（Ｂ）を含有する、少なくとも１層の光散乱性ポリメチルメタクリレート層を有するリアプロジェクションスクリーンに関するが、その際、球形散乱粒子（Ａ）が０．１〜４０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０及び０．０２〜０．２の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際、球形粒子（Ｂ）が１０〜１５０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０及び０〜０．２の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際、球形散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）の全濃度が光散乱性ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であり、球形散乱粒子（Ａ）の濃度ｃＰＡ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形散乱粒子（Ａ）の粒度ＤＰＡを、ｃＰＡ＊ｄＳ／ＤＰＡ３の比が０．００１〜０．０１５質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択し、球形粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形粒子（Ｂ）の粒度ＤＰＢを、ｃＰＢ＊ｄＳ／ＤＰＢ３の比が０．０００００５〜０．００２質量％＊ｍｍ／μｍ３でありかつポリメチルメタクリレート層の平均表面粗さＲＺの二乗対球形粒子（Ｂ）の粒度の三乗の比ＲＺ２／ＤＢＰ３が０．０００２μｍ−１〜０．１３００μｍ−１であるように選択する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリメチルメタクリレート−マトリックス並びに異なる平均粒度Ｖ５０を有する球形散乱粒子（Ａ）及び球形粒子（Ｂ）を含有する、少なくとも１層の光散乱性ポリメチルメタクリレート層を有するリアプロジェクションスクリーンであって、その際、球形散乱粒子（Ａ）が０．１〜４０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０及び０．０２〜０．２の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際、球形粒子（Ｂ）が１０〜１５０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０及び０〜０．２の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際、球形散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）の全濃度が光散乱性ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であるリアプロジェクションスクリーンにおいて、球形散乱粒子（Ａ）の濃度ｃＰＡ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形散乱粒子（Ａ）の粒度ＤＰＡを、ｃＰＡ＊ｄＳ／ＤＰＡ３の比が０．００１〜０．０１５質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択し、球形粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形粒子（Ｂ）の粒度ＤＰＢを、ｃＰＢ＊ｄＳ／ＤＰＢ３の比が０．０００００５〜０．００２質量％＊ｍｍ／μｍ３でありかつポリメチルメタクリレート層の平均表面粗さＲＺの二乗対球形粒子（Ｂ）の粒度の三乗の比ＲＺ２／ＤＢＰ３が０．０００２μｍ−１〜０．１３００μｍ−１であるように選択することを特徴とするリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２】
ポリメチルメタクリレート層の平均表面粗さＲＺの二乗対球形粒子（Ｂ）の粒度の三乗の比ＲＺ２／ＤＢＰ３が０．００２５μｍ−１〜０．０６００μｍ−１の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項３】
粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ対光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳの比ｃＰＢｄＳが２．５質量％／ｍｍ以上であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項４】
光散乱性ポリメチルメタクリレート層が４０以下の光沢Ｒ８５°を有することを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項５】
ｃＰＡ＊ｄＳ／ＤＰＡ３の比が０．００２５〜０．００９質量％＊ｍｍ／μｍ３の範囲であることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項６】
ｃＰＢ＊ｄＳ／ＤＰＢ３の比が０．００００４〜０．００１５質量％＊ｍｍ／μｍ３の範囲であることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項７】
リアプロジェクションスクリーンの光散乱性ポリメチルメタクリレート層が０．０５〜１ｍｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項８】
球形散乱粒子（Ａ）及び／又は球形粒子（Ｂ）が架橋したポリスチレン、ポリシリコーン及び／又は架橋したポリ（メタ）アクリレートを含むことを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項９】
光散乱性ポリメチルメタクリレート層が着色されていることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１０】
光散乱性ポリメチルメタクリレート層がＮａ−Ｄ−線（５８９ｎｍ）及び２０℃で測定して１．４６〜１．５４の範囲の屈折率を有することを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１１】
プレートの平均表面粗さＲＺが４〜５０μｍの範囲にあることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１２】
球形粒子（Ｂ）の平均粒度Ｖ５０が散乱粒子（Ａ）の平均粒度より少なくとも５μｍ大きいことを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１３】
球形散乱粒子（Ａ）が５〜２０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０を有することを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１４】
球形粒子（Ｂ）が１５〜６０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０を有することを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１５】
最高０．７Ｎの力でスクリーン上に生じさせた引掻傷が目視により認識できないことを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１６】
スクリーンが付加的に６．５°より小さい強度半減値角を有する支持体層を含むことを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１７】
支持体層が３〜４０μｍの範囲の平均表面粗さＲＺを有することを特徴とする、請求項１６に記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１８】
支持体層がポリ（メタ）アクリレートを有することを特徴とする、請求項１６又は１７に記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項１９】
リアプロジェクションスクリーンが０．０５〜５ｍｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１から１８までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２０】
スクリーンが２５％以上の透過度を有することを特徴とする、請求項１から１９までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２１】
スクリーンが１２以下の黄色度を有することを特徴とする、請求項１から２０までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２２】
スクリーンが１５゜以上の強度半減値角を有する、請求項１から２１までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２３】
スクリーンが０．１５以上の散乱力を示す、請求項１から２２までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２４】
スクリーンが、最高でも２５ｎｍの光学複屈折による通行差を有する押出成形したポリメチルメタクリレートプラスチックから成る、請求項１から２３までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーン。
【請求項２５】
請求項１から２４までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーンの製造方法において、ポリメチルメタクリレート、球形散乱粒子（Ａ）及び球形粒子（Ｂ）を含む成形材料を押出することを特徴とする方法。
【請求項２６】
プレート又はシートの押出を行い、そして押出されたプレート又はシートを引き続き５分〜２４時間にわたって１１０〜１９０℃に加熱する、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
光学技術的使用における、請求項１から２４までのいずれか１項記載のリアプロジェクションスクリーンの使用。
【請求項２８】
ＬＣＤ−モニターでの散乱盤としての、請求項２７記載の使用。
【請求項２９】
３Ｄ映写のための、請求項２４記載のリアプロジェクションスクリーンの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１層の光散乱ポリメチルメタクリレート層を有する耐引掻性リアプロジェクションスクリーン、このリアプロジェクションスクリーンの製法及びその使用に関する。
【０００２】
リアプロジェクション技術によって情報を広く大衆に届けることができるようになった。通常このようなシステムは、背面から映写機により映写されて、情報を提供する画像画面から構成されている。
【０００３】
この技術は例えば制御室（発電所、鉄道交通）で、複雑な工程を概観して、制御エラーを回避することができるようにする責務を軽減するために使用される。もう一つの用途は例えばスポーツスタジアム及びモーターレース場のディスプレイパネルである。その際、これが実際に起きている場所から非常に遠く離れている場合でも、その出来事の経過及び状況が観客に伝えられる。
【０００４】
この場合には非常に大きな画像画面が該当する。この技術分野における絶え間ない技術革新（プロジェクター技術）によって、年と共に使用分野は更に拡大してきた。
【０００５】
従ってこの情報伝達方法は例えばＴＶ装置、大規模シネマ及びホームシネマでも使用され、また広告媒体として見本市、ショーウィンドー及び小売商店でも使用される。
【０００６】
更にこの技術は情報伝達用にプレゼンテーションで及び仮想環境がコックピットスクリーン上でできる限り現実に近いように写されるフライトシュミレーションでも使用される。
【０００７】
この技術の多くの利点は、映写機が視聴室の外にあることによって得られる。従って、映写面の前にいる視聴者によって映写は遮蔽されず、映写機の耳障りな雑音は抑制され、それによって部屋も思いのままにレイアウトすることができる。
【０００８】
そうこうするうちに今ではリアプロジェクション法で使用される多数のプラスチックプレート及びシートが存在する。プレートは屡々、背面でフレスネルレンズ系の形の特定の表面構造及び視聴者側で付加的に垂直に配置されたレンティクラルレンズを有するまでに変更されている。その結果このリアプロジェクションパネルの製造には費用がかかる。更に表面構造は機械的負荷に対して非常にもろい。損傷によって映写の現像画像は著しく損なわれることになる。
【０００９】
更に、散乱媒体を有するリアプロジェクションプレート及びシートが公知であり、その際このようなプレートはマトリックスとは異なる屈折率を有する粒子を含有する。このプレート及びシートもリアプロジェクション用に好適であるが、要求プロファイルの全域をカバーするものではなく、スクリーンに対する要求の一部を満たすに過ぎない。
【００１０】
非常に多数の種々の使用可能性によって映写画面に対しては様々な要求がなされる。例えば用法の一つでは、視聴者は比較的長い時間にわたって情報を見続ける必要があるために（例：制御室、ホームシネマ等）、映写画面は非常に安定した、鮮明かつ高解像度の画像再現性を提供する必要がある。
【００１１】
この映写画面をプレゼンテーション及び宣伝用に例えば見本市で使用する場合には、映写品質に対する要求はさほど高いものではないが、画面は特に機械的負荷及び汚れに対する高い耐性を有する必要がある。
【００１２】
例えば公知散乱媒体、例えば硫酸バリウム及び二酸化チタンを用いて高い光散乱角を提供するプレート及びシートを製造することができる。映写の解像度は同じく高い。従って画像の視野角も相応して高いものであるべきである。しかし、映写プレートの画像鮮明度自体は最適とは言い難く、その際その他の要求、例えば耐引掻性は多くの要求に十分ではないことが指摘される。
【００１３】
更に、散乱媒体としてプラスチック粒子を含有するスクリーンが公知である。例えば文書ＪＰ１１１７９８５６には、ポリメチルメタクリレートマトリックス並びに架橋したポリメチルメタクリレートビーズを散乱−／艶消剤として含有する少なくとも１層の層を有する多層プレートが記載されているが、その際、ビーズの割合は０．５〜２５質量％である。ビーズは３〜３０μｍの範囲の大きさを有し、その際、実施例では大きさ約６μｍの散乱ビーズを約３質量％含有する２ｍｍの厚さのプレートだけを記載している。このスクリーンの問題はその耐引掻性である。
【００１４】
日本国公開公報ＪＰ０７２３４３０４には、透明プラスチック中の架橋したアクリレート／スチレンビーズ（１４μｍ）から成る混合物が記載されている。このスクリーンの欠点は、引掻傷が非常に目立ちやすいことである。
【００１５】
更に粒子の混合物を含有するスクリーンが公知である。文書ＪＰ４−１３４４４０には粒度及びマトリックスに対する屈折指数の相違が相互に決められていて、それによって粒子の波長選択性の散乱光（小さい粒子は青い光をより強力に散乱させ、大きい粒子は赤い光を散乱する）が相互に相殺される、２種類の粒子を使用するプレートが記載されている。従って散乱プレートは中間色調を特徴とする。
【００１６】
更に、光学技術で使用することができるシートが公知である。このようなシートは例えばＪＰ８−１９８９７６、ＪＰ５−５１４８０及びＪＰ２０００−２９６５８０に記載されている。
【００１７】
前記プレートの欠点は、一方ではその最適とは言い難い画像品質並びにスクリーンの低い耐引掻性である。
【００１８】
文書ＥＰ−Ａ０５６１５５１には、透明なポリマー及び球形粒子（２〜１５μｍ）から成る混合物から成る散乱層を有する多層プレートが記載されている。このスクリーンも非常に引掻に対して傷つきやすい。
【００１９】
従って散乱媒体を有する公知リアプロジェクションスクリーンの問題点は、その画像特性がその耐引掻性に関して最適ではないということである。特に公知スクリーンは画像鮮明度が比較的僅かであるか又は明度分布が比較的不十分である。更に部分的に色の正確度に対する問題がある。更に多くのスクリーンが機械的な要求を十分満たさず、その際特に引掻傷は不利な光学的作用を及ぼす。
【００２０】
ここに記載し、討論した公知技術を考慮して、本発明の課題は特に高い画像品質と同時に高い耐引掻性を可能にするリアプロジェクションスクリーンを提供することであった。特にスクリーンは高い画像鮮明度及び映写画像の解像度を可能にすべきである。
【００２１】
更に、リアプロジェクションスクリーン上の画像は特に正確な色であるべきである。
【００２２】
本発明のもう一つの課題は、特に均質な明度分布を有するリアプロジェクションスクリーンを提供することであった。
【００２３】
更にリアプロジェクションスクリーンはできる限り高い機械的安定性を有すべきである。その際、スクリーン上の引掻傷は全く目に付かないか又は殆ど見えないものであるべきである。特に損傷はスクリーンの画像再現力に対して全くか又はごく僅かにしか影響を及ぼしてはならない。
【００２４】
更に本発明の根底をなす課題は、特に簡単に製造することができるリアプロジェクションスクリーンを提供することであった。従ってリアプロジェクションスクリーンは特に押出により製造することができるものであるべきである。
【００２５】
従って本発明の課題は更に、高い画像安定性を有するリアプロジェクションスクリーンを提供することであった。これによって長い期間にわたって疲れずに画像を見ることができる。
【００２６】
本発明のもう一つの目的は、簡単に大きさ及び形を要求に合わせることができるリアプロジェクションスクリーンを提供することであった。
【００２７】
更に、リアプロジェクションスクリーン上の画像は特にコントラストに富むものであるべきである。
【００２８】
本発明のもう一つの目的は、リアプロジェクションスクリーンが高い耐久性、特にＵＶ線又は天候に対して高い安定性を有することであった。
【００２９】
更に本発明の根底をなす課題は、画像特性に関して僅かな程度でしか反射しないリアプロジェクションスクリーンを提供することであった。  
更にスクリーンの大きさは各々の要求に適合することができるものである。特にリアプロジェクションスクリーンの厚さは、それによって画像品質並びに耐引掻性が損なわれることなしに、任意の要求に適合させることができねばならない。
【００３０】
この課題並びに詳細に記載してないが本明細書から当然導かれるその他の課題は、特許請求の範囲１に記載のリアプロジェクションスクリーンによって解決される。本発明によるリアプロジェクションスクリーンの有利な修正は、請求項１の従属請求項により保護される。
【００３１】
リアプロジェクションスクリーンの製法に関して請求項２４によりこの根底をなす課題は解決される。
【００３２】
球形散乱粒子（Ａ）の濃度ｃＰＡ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形散乱粒子（Ａ）の粒度ＤＰＡを、ｃＰＡ＊ｄＳ／ＤＰＡ３の比が０．００１〜０．０１５質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択し、球形粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形粒子（Ｂ）の粒度ＤＰＢを、ｃＰＢ＊ｄＳ／ＤＰＢ３の比が０．０００００５〜０．００２質量％＊ｍｍ／μｍ３でありかつポリメチルメタクリレート層の平均表面粗さＲＺの二乗対球形粒子（Ｂ）の粒度の三乗の比ＲＺ２／ＤＢＰ３が０．０００２μｍ−１〜０．１３００μｍ−１であるように選択し、その際、リアプロジェクションスクリーンは、ポリメチルメタクリレート−マトリックス並びに異なる平均粒度Ｖ５０を有する球形散乱粒子（Ａ）及び球形粒子（Ｂ）を含有する、少なくとも１層の光散乱性ポリメチルメタクリレート層を有するが、その際球形散乱粒子（Ａ）は０．１〜４０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０及び０．０２〜０．２の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際球形粒子（Ｂ）は１０〜１５０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０及び０〜０．２の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際球形散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）の全濃度は光散乱性ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であることによって、特に高い画像品質並びに非常に高い光学的耐引掻性を可能にするリアプロジェクションスクリーンを提供することができる。
【００３３】
本発明による手段によって特に下記の特別な利点が得られる：
本発明のリアプロジェクションスクリーンは、それによって画像品質及び／又は耐引掻性を悪化させることなしに個々の要求に合わせることができる。
【００３４】
本発明によるリアプロジェクションスクリーンは映写画像の高い画像鮮明度及び解像度を可能にする。
【００３５】
本発明によるリアプロジェクションスクリーン上の画像は特に正確な色であり、コントラストに富む。
【００３６】
本発明により提供されるリアプロジェクションスクリーンは特に均質な明度分布を有する。
【００３７】
更に、本発明のリアプロジェクションスクリーンは高い機械的安定性を示す。その際スクリーン上の引掻傷は全くか又は殆ど見えない。
【００３８】
更に、本発明のリアプロジェクションスクリーン上に映写された画像は高い画像安定性を有する。これによって情報を長い時間にわたって疲れないで見ることができる。
【００３９】
更に本発明のリアプロジェクションスクリーンは、光らずに艶消し表面特性を示す。表面構造の特徴は場合によって光沢を除いた光学的パラメーターに影響を与えることなしに、様々に変えることができる。それによってスクリーン上の画像に不利な影響を及ぼす反射を減少させることができる。
【００４０】
更に本発明のリアプロジェクションスクリーンは特に簡単に製造することができる。従ってリアプロジェクションスクリーンは特に押出により製造することができる。
【００４１】
本発明のリアプロジェクションスクリーンは天候、特にＵＶ線に対する高い耐性を有する。
【００４２】
リアプロジェクションスクリーンの大きさ及び形は要求に合わせることができる。
【００４３】
本発明によるリアプロジェクションスクリーンの光散乱性ポリメチルメタクリレート層は、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％、特に３〜５５質量％及び特に６〜４８質量％の球形散乱粒子（Ａ）及び球形粒子（Ｂ）を有する。
【００４４】
散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）は球形である。概念球形とは、本発明では粒子が有利には球状の形を有することを意味し、その際、当業者には製造方法によりその他の形状の粒子が含有されていてもよいこと又は粒子の形が理想的な球形から異なっていてもよいことは明らかなことである。
【００４５】
従って概念球形とは、粒子の最大広がり対最小広がりの比が最高４、有利には最高２であることを意味し、その際この広がりは各々粒子の重心により測定する。粒子の数に対して少なくとも７０、特に有利には少なくとも９０％が球形であるのが有利である。
【００４６】
散乱粒子（Ａ）は、０．１〜４０μｍ、特に１〜３５μｍ、有利には２〜３０μｍ、更に有利には３〜２５μｍ、特に４〜２０μｍ及び特別に有利には５〜１５μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０を有する。
【００４７】
このような粒子は自体公知であり、市販されている。これには特にプラスチック粒子並びに無機物質、例えば水酸化アルミニウム、アルミニウム−カリウム−シリケート（雲母）、珪酸アルミニウム（カオリン）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、炭酸カルシウム、珪酸マグネシウム（滑石）から成る粒子が挙げられる。この中でプラスチックから成る粒子が特に有利である。
【００４８】
本発明により使用可能なプラスチック粒子には特別な制限はない。従ってプラスチック粒子を製造するプラスチックの種類は実質的に重要ではないが、その際マトリックスプラスチックに対するプラスチックビーズの相限界で光の屈折が生じる。
【００４９】
従ってプラスチック粒子の屈折率は、マトリックスプラスチックの屈折率ｎ０と０．０２〜０．２単位異なるＮａ−Ｄ−線（５８９ｎｍ）及び２０℃で測定した屈折率ｎ０を有する。
【００５０】
有利には球形散乱粒子（Ａ）は、架橋したポリスチレン、ポリシリコーン及び／又は架橋したポリ（メタ）アクリレートを含む。
【００５１】
散乱剤として使用される有利な種類のプラスチック粒子はシリコーンを含有する。このような粒子は例えば、式Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３及びＳｉ（ＯＲ２）４［式中、Ｒ１は例えば置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基を表し、加水分解可能なアルコキシ基の基Ｒ２はアルキル基、例えばメチル、エチル又はブチル又はアルコキシ置換炭化水素基、例えば２−メトキシエチル又は２−エトキシエチルを表す］により表されるオルガノトリアルコキシシラン及び／又はテトラアルコキシシランの加水分解及び重縮合によって得られる。オルガノトリアルコキシシランの例は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチル−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン及びメチルトリス（２−メトキシエトキシ）シランである。
【００５２】
球形シリコーン粒子を製造するための前記シラン化合物及びその方法は当業者に公知であり、文書ＥＰ１１１６７４１、ＪＰ６３−０７７９４０及びＪＰ２０００−１８６１４８に記載されている。
【００５３】
本発明により特に有利に使用されるシリコーンから成る散乱剤は、ＧＥ  Ｂａｙｅｒ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ社から商標名ＴＯＳＰＥＡＲＬ（Ｒ）１２０及びＴＯＳＰＥＡＲＬ（Ｒ）３１２０で市販されている。
【００５４】
もう一つの有利な種類のプラスチック粒子は下記から成る：
（ｂ１）置換基として芳香族基を有するモノマー、例えばスチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フェニルエチル（メタ）アクリレート、３−フェニルプロピル（メタ）アクリレート又はビニルベンゾエート２５〜９９．９質量部；並びに
（ｂ２）モノマー（ｂ１）と共重合可能である、脂肪族エステル基にＣ原子１〜１２個を有するアクリル−及び／又はメタクリル酸エステル０〜６０質量部、その際例えば下記が挙げられる：メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート又はイソボルニル（メタ）アクリレート；
（ｂ３）少なくとも２個のエチレン性不飽和、ラジカル性の（ｂ１）及び場合により（ｂ２）と共重合可能な基を有する架橋性コモノマー、例えばジビニルベンゼン、グリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ジアリルスクシネート、ペンタエリスリットテトラ（メタ）アクリレート又はトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート０．１〜１５質量部、その際、コモノマー（ｂ１）、（ｂ２）及び（ｂ３）は合計１００質量部である。
【００５５】
それからプラスチック粒子を製造する混合物が、スチレン少なくとも８０質量％及びジビニルベンゼン少なくとも０．５質量％を有するのが特に有利である。
【００５６】
架橋したプラスチック粒子の製造は当業者に公知である。従って、散乱粒子は例えばＥＰ−Ａ３４２２８３又はＥＰ−Ａ２６９３２４に記載されているように乳化重合により製造することができ、極めて特に有利にはドイツ特許出願Ｐ４３２７４６４．１に記載されているように有機相中の重合により製造することができ、その際、後者重合法では特に狭い粒度分布又は言い換えれば平均粒子直径からの特に僅かな粒子直径偏差が生じる。
【００５７】
これに制限されるものではないが、少なくとも２００℃、特に少なくとも２５０℃の温度安定性を有するプラスチック粒子を使用するのが特に有利である。その際、概念温度安定性とは、粒子が実質的に全く温度による分解を起こさないことを意味する。温度による分解によって、不利な方法で変色が起こるので、プラスチック材料が使用不可能となる。
【００５８】
特に有利な粒子は、Ｓｅｋｉｓｕｉから商標名（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ  ＳＢＸ−６、（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ  ＳＢＸ−８及び（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ  ＳＢＸ−１２で市販されている。
【００５９】
前記散乱粒子（Ａ）は単独でか又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００６０】
本発明により使用される粒子（Ｂ）は、１０〜１５０μｍ、有利には１５〜７０μｍ及び特に有利には３０〜５０μｍの範囲の平均粒度Ｖ５０を有し、その際、マトリックスプラスチックの屈折率ｎ０と０〜０．２単位だけ異なるＮａ−Ｄ−線（５８９ｎｍ）及び２０℃で測定した屈折率ｎ０を有する。
【００６１】
粒子（Ｂ）も市販されている。この粒子は散乱粒子（Ａ）と同じ材料から製造することができ、その際同じくプラスチック粒子を使用するのが有利である。
【００６２】
有利には球形粒子（Ｂ）は架橋したポリスチレン、ポリシリコーン及び／又は架橋したポリ（メタ）アクリレートを含む。
【００６３】
前記粒子（Ｂ）は単独でか又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００６４】
有利には散乱粒子（Ａ）対粒子（Ｂ）の質量比は１：１０〜１０：１、特に１：５〜５：１、特に有利には１：３〜３：１及び極めて特に有利には１：２〜２：１の範囲である。
【００６５】
散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）の平均粒度Ｖ５０の差は、有利には少なくとも５μｍ、特に少なくとも１０μｍであり、その際粒子（Ｂ）は散乱粒子（Ａ）より大きい。
【００６６】
粒度及び粒度分布の測定はレーザー吸光法により行うことができる。その際Ｌ．Ｏ．Ｔ．ＧｍｂＨ社のＧａｌａｙ−ＣＩＳを使用することができ、その際粒度並びに粒度分布の測定法は使用冊子に記載されている。平均粒度Ｖ５０は、重量平均値の中央値から得られ、その際粒子の５０質量％はこの値以下であり、この粒子の５０質量％がこの値以上である。
【００６７】
本発明による特別な態様によれば、この粒子は、粒子の特記すべき凝集又は凝結を起こすことなく、プラスチックマトリックス中にも均質に分散されて存在している。均質に分散とは、プラスチックマトリックス内部の粒子の濃度が実質的に一定であることを意味する。
【００６８】
光散乱性層は、球形粒子の他にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を有するプラスチックマトリックスを含む。有利には光散乱性ポリメチルメタクリレート層は、光散乱性層の質量に対して３０質量％、特に少なくとも４０質量％及び特に有利には少なくとも５０質量％のポリメチルメタクリレートを含む。
【００６９】
ポリメチルメタクリレートは通常メチルメタクリレートを含有する混合物のラジカル重合により得られる。通常この混合物は、モノマーの質量に対して少なくとも４０質量％、有利には少なくとも６０質量％及び特に有利には少なくとも８０質量％のメチルメタクリレートを含有する。
【００７０】
更にポリメチルメタクリレートの製造用のこの混合物は、メチルメタクリレートと共重合可能であるその他の（メタ）アクリレートを含有することができる。用語（メタ）アクリレートはメタクリレート及びアクリレート並びに両方から成る混合物を含む。
【００７１】
これらのモノマーは公知である。これらには例えば飽和アルコールから誘導される（メタ）アクリレート、例えばメチルアクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート及び２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート；不飽和アルコールから誘導される（メタ）アクリレート、例えばオレイル（メタ）アクリレート、２−プロピニル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ビニル（メタ）アクリレート；アリール（メタ）アクリレート、例えばベンジル（メタ）アクリレート又はフェニル（メタ）アクリレート、その際アリール基は各々置換されていないか又は４個まで置換されていてよい；シクロアルキル（メタ）アクリレート、例えば３−ビニルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート；ヒドロキシルアルキル（メタ）アクリレート、例えば３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３，４−ジヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；グリコールジ（メタ）アクリレート、例えば１，４−ブタンジオール（メタ）アクリレート、エーテルアルコールの（メタ）アクリレート、例えばテトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、ビニルオキシエトキシエチル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸のアミド及びニトリル、例えばＮ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ジエチルホスホノ）（メタ）アクリルアミド、１−メタクリロイルアミド−２−メチル−２−プロパノール；硫黄含有メタクリレート、例えばエチルスルフィニルエチル（メタ）アクリレート、４−チオシアネートブチル（メタ）アクリレート、エチルスルホニルエチル（メタ）アクリレート、チオシアネートメチル（メタ）アクリレート、メチルスルフィニルメチル（メタ）アクリレート、ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）スルフィド；多価（メタ）アクリレート、例えばトリメチロイルプロパントリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７２】
前記（メタ）アクリレートの他に重合される組成物は、メチルメタクリレート及び前記（メタ）アクリレートと共重合可能であるその他の不飽和モノマーを有することができる。
【００７３】
これには特に、１−アルケン、例えばヘキセン−１、ヘプテン−１；枝分れアルケン、例えばビニルシクロヘキサン、３，３−ジメチル−１−プロペン、３−メチル−１−ジイソブチレン、４−メチルペンテン−１；アクリルニトリル；ビニルエステル、例えばビニルアセテート；スチレン、側鎖にアルキル置換基を有する置換されたスチレン、例えばα−メチルスチレン及びα−エチルスチレン、環にアルキル置換基を有する置換されたスチレン、例えばビニルトルエン及びｐ−メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、例えばモノクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリブロモスチレン及びテトラブロモスチレン；複素環式ビニル化合物、例えば２−ビニルピリジン、３−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、３−エチル−４−ビニルピリジン、２，３−ジメチル−５−ビニルピリジン、ビニルピリミジン、ビニルピペリジン、９−ビニルカルバゾール、３−ビニルカルバゾール、４−ビニルカルバゾール、１−ビニルイミダゾール、２−メチル−１−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリジン、３−ビニルピロリジン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルブチロラクタム、ビニルオキソラン、ビニルフラン、ビニルチオフェン、ビニルチオラン、ビニルチアゾール及び水素化ビニルチアゾール、ビニルオキサゾール及び水素化ビニルオキサゾール；ビニル−及びイソプレニルエーテル；マレイン酸誘導体、例えば無水マレイン酸、無水メチルマレイン酸、マレインイミド、メチルマレインイミド；及びジエン、例えばジビニルベンゼンが挙げられる。
【００７４】
通常これらコモノマーは、モノマーの質量に対して０〜６０質量％、有利には０〜４０質量％及び特に有利には０〜２０質量％の量で使用されるが、その際化合物を単独又は混合物として使用することができる。
【００７５】
重合は通常公知ラジカル重合開始剤を用いて開始させる。有利な開始剤には、特に当業者に公知のアゾ開始剤、例えばＡＩＢＮ及び１，１−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、並びにペルオキシ化合物、例えばメチルエチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキシド、ジラウリルペルオキシド、ｔ−ブチルペル−２−エチルヘキサノエート、ケトンペルオキシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボネート、２，５−ビス（２−エチルヘキサノイル−ペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ジクミルペルオキシド、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、クミルヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカルボネート、２種以上の前記化合物相互の混合物並びに前記化合物と同じくラジカル形成することができる未記載の化合物との混合物が挙げられる。
【００７６】
これらの化合物は、屡々モノマーの質量に対して０．０１〜１０質量％、有利には０．５〜３質量％の量で使用される。
【００７７】
その際、例えば分子量又はモノマー組成が異なる、種々のポリ（メタ）アクリレートを使用することができる。
【００７８】
更に光散乱性層のマトリックスは、特性を変えるためにその他のポリマーを含有することができる。これには、特にポリアクリルニトリル、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート及びポリビニルクロリドが挙げられる。これらのポリマーは単独又は混合物として使用することができ、その際、前記ポリマーから誘導可能であるコポリマーであってもよい。
【００７９】
本発明によりマトリックスポリマーとして使用されるホモ−及び／又はコポリマーの重量平均分子量Ｍｗは、広い範囲で変えることができ、その際分子量は通常使用目的及び成形材料の加工法により決められる。しかし、これに制限されるものではないが、通常２００００〜１００００００ｇ／モル、有利には５００００〜５０００００ｇ／モル及び特に有利には８００００〜３０００００ｇ／モルの範囲である。
【００８０】
本発明の特に有利な態様によれば、光散乱性ポリメチルメタクリレート層のマトリックスは光散乱性層のマトリックスの質量に対して少なくとも７０、有利には少なくとも８０及び特に有利には少なくとも９０質量％のポリメチルメタクリレートを有する。
【００８１】
本発明による特別な態様によれば、光散乱性層のマトリックスのポリ（メタ）アクリレートは、Ｎａ−Ｄ−線（５８９ｎｍ）及び２０℃で測定して１．４６〜１．５４の範囲の屈折率を有する。
【００８２】
光散乱性層を製造するための成形材料は、通常のあらゆる種類の添加物を有することができる。これには特に、帯電防止剤、酸化防止剤、離型剤、難燃剤、滑剤、色料、流動改良剤、填料、光安定剤、紫外線吸収剤及び有機燐化合物、例えばホスフィト又はホスホネート、含量、耐候安定剤及び可塑剤が挙げられる。しかし添加物の量は使用目的に制限される。例えばポリメチルメタクリレート層の光散乱性特性並びにその透明性は添加物によって過度に損なわれてはならない。
【００８３】
本発明の特別な態様によれば、成形材料に場合により耐衝撃性改良剤によって機械的に更に安定にすることもできる。ポリメタクリレートプラスチック用のこのような耐衝撃性改良剤は公知であり、例えば耐衝撃性にしたポリメタクリレート成形材料の製造及び構造は特にＥＰ−Ａ０１１３９２４、ＥＰ−Ａ０５２２３５１、ＥＰ−Ａ０４６５０４９及びＥＰ−Ａ０６８３０２８に記載されている。
【００８４】
マトリックスの製造用に使用することができる有利な衝撃強い成形材料は、散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）なしの成形材料の質量に対して５０〜９９質量％、特に７０〜９８質量％のポリメチルメタクリレートを有する。このポリメチルメタクリレートは前記した。
【００８５】
本発明の特別な態様によれば、耐衝撃性変性した成形材料の製造用に使用されるポリメチルメタクリレートは、メチルメタクリレート８０〜１００質量％、有利には９０〜９８質量％及び場合により同じく前記したその他のラジカル重合可能なコモノマー０〜２０質量％、有利には２〜１０質量％を含む混合物のラジカル重合により得られる。特に有利なコモノマーは特にＣ１−〜Ｃ４−アルキル（メタ）アクリレート、特にメチルアクリレート、エチルアクリレート又はブチルメタクリレートである。
【００８６】
有利には耐衝撃性に改良されたマトリックスの製造用に使用することができるポリメチルメタクリレートの平均分子量Ｍｗは９００００ｇ／モル〜２０００００ｇ／モル、特に１０００００ｇ／モル〜１５００００ｇ／モルの範囲である。
【００８７】
マトリックスの製造用に使用することができる有利な衝撃強い成形材料は、散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）なしの成形材料の質量に対して０．５〜５５、有利には１〜４５、特に有利には２〜４０、特には３〜３５質量％の耐衝撃性改良剤を含有するが、これは架橋した重合粒子から成るエラストマー相である。
【００８８】
耐衝撃性改良剤は自体公知の方法でパール重合又は乳化重合により得ることができる。
【００８９】
有利な耐衝撃性改良剤は、５０〜１０００ｎｍ、有利には６０〜５００ｎｍ及び特に有利には８０〜１２０ｎｍの範囲の平均粒度を有する架橋した粒子である。
【００９０】
このような粒子は例えば、通常少なくとも４０質量％、有利には５０〜７０質量％のメチルメタクリレート、２０〜８０質量％、有利には２５〜３５質量％のブチルアクリレート並びに０．１〜２、有利には０．５〜１質量％の架橋性モノマー、例えば多価（メタ）アクリレート、例えばアリルメタクリレート及び前記ビニル化合物と共重合することができるコモノマーを含有する混合物のラジカル重合により得ることができる。
【００９１】
有利なコモノマーには特にＣ１−〜Ｃ４−アルキル（メタ）アクリレート、例えばエチルアクリレート又はブチルメタクリレート、有利にはメチルアクリレート又はその他のビニル重合性モノマー、例えばスチレンが挙げられる。前記粒子を製造するための混合物は有利にはコモノマー０〜１０、有利には０．５〜５質量％を含有することができる。
【００９２】
特に有利な耐衝撃性改良剤は、２層、特に有利には３層のコア・シェル構造を有するポリマー粒子である。このようなコア・シェル・ポリマーは特にＥＰ−Ａ０１１３９２４、ＥＰ−Ａ０５２２３５１、ＥＰ−Ａ０４６５０４９及びＥＰ−Ａ０６８３０２８に記載されている。
【００９３】
アクリレートゴムをベースとする特に有利な耐衝撃性改良剤は特に下記構造を有する：
コア：コアの質量に対して少なくとも９０質量％のメチルメタクリレート含分を有するポリマー。
シェル１：第１シェルの質量に対して少なくとも８０質量％のブチルアクリレート含分を有するポリマー。
シェル２：第２シェルの質量に対して少なくとも９０質量％のメチルメタアクリレート含分を有するポリマー。
【００９４】
コア並びにシェルは前記モノマーの他に各々その他のモノマーを含有することができる。これらは前記したが、その際特に有利なコモノマーは架橋性作用を有する。
【００９５】
例えば有利なアクリレートゴム−改良剤は下記構造を有する：
コア：メチルメタクリレート（９５．７質量％）、エチルアクリレート（４質量％）及びアリルメタクリレート（０．３質量％）から成るコポリマー。
Ｓ１：ブチルアクリレート（８１．２質量％）、スチレン（１７．５質量％）及びアリルメタクリレート（１．３質量％）から成るコポリマー。
Ｓ２：メチルメタクリレート（９６質量％）及びエチルアクリレート（４質量％）から成るコポリマー。
【００９６】
アクリレートゴム−改良剤のコア対シェル比は、広い範囲で変えることができる。有利にはコア対シェルＫ／Ｓの質量比は、１層のシェルを有する改良剤では２０：８０〜８０：２０、有利には３０：７０〜７０：３０であり、２層のシェルを有する改良剤ではコア対シェル１対シェル２の比２Ｋ／Ｓ１／Ｓ２は、１０：８０：１０〜４０：２０：４０、特に有利には２０：６０：２０〜３０：４０：３０である。
【００９７】
コア・シェル改良剤の粒度は、これに制限されるものではないが、通常５０〜１０００ｎｍ、有利には１００〜５００ｎｍ及び特に有利には１５０〜４５０ｎｍである。
【００９８】
このような耐衝撃性改良剤はＭｉｔｓｕｂｉｓｈｉ社から商標名ＭＥＴＡＢＬＥＮ（Ｒ）ＩＲ４４１で市販されている。更に耐衝撃性に改良された成形材料を得ることもできる。
【００９９】
プラスチック−マトリックスを製造するための特に有利な成形材料は、Ｒｏｅｈｍ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧ社から市販されている。
【０１００】
光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さは通常０．０５〜５ｍｍの範囲、有利には０．０５〜２ｍｍの範囲及び特に有利には０．１〜１ｍｍの範囲である。
【０１０１】
本発明によれば、球形散乱粒子（Ａ）の濃度ｃＰＡ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形散乱粒子（Ａ）の粒度ＤＰＡを、球形散乱粒子（Ａ）の濃度ｃＰＡ及び光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さの積対球形散乱粒子（Ａ）の粒度の３乗の比ｃＰＡ＊ｄＳ／ＤＰＡ３が０．００１〜０．０１５質量％＊ｍｍ／μｍ３、有利には０．００２５〜０．００９質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択する。
【０１０２】
球形粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ並びに球形粒子（Ｂ）の粒度ＤＰＢを、球形粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ及び光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さの積対球形粒子（Ｂ）の粒度の３乗の比ＣＰＢ＊ｄＳ／ＤＰＢ３が０．０００００５〜０．００２質量％＊ｍｍ／μｍ３、有利には０．００００４〜０．００１５質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択する。
【０１０３】
ポリメチルメタクリレート層の平均表面粗さＲＺの二乗対球形粒子（Ｂ）の粒度の三乗の比ＲＺ２／ＤＢＰ３は有利には０．０００２μｍ−１〜０．１３００μｍ−１、特に０．０００９μｍ−１〜０．０９００μｍ−１及び有利には０．０００２５μｍ−１〜０．０６００μｍ−１及び特に有利には０．００２５μｍ−１〜０．０６００μｍ−１であってよい。
【０１０４】
本発明のスクリーンの特別な態様によれば、球形散乱粒子（Ａ）の濃度ｃＰＡ対光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳの比ｃＰＡ／ｄＳは２．５質量％／ｍｍ以上、特に４質量％／ｍｍ以上である。
【０１０５】
本発明のスクリーンの特別な態様によれば、球形粒子（Ｂ）の濃度ｃＰＢ対光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳの比ｃＰＢ／ｄＳは２．５質量％／ｍｍ以上、特に４質量％／ｍｍ以上である。
【０１０６】
光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さｄＳ及び球形散乱粒子の粒度ＤＰＡから成る比ｄＳ／ＤＰＡは、これに制限されるものではないが、有利には１〜５００、特に１〜２５０、有利には２．５〜２５０及び特に有利には２．５〜１５０である。
【０１０７】
光散乱性ポリメチルメタクリレート層は、有利には６０以下、特に４０以下及び特に有利には３０より小さい光沢Ｒ８５°を有する。
【０１０８】
本発明によるリアプロジェクションスクリーン、特に光散乱性ポリメチルメタクリレート層は、特に高い耐引掻性を有する。本発明の特別な態様によれば、これに制限されるものではないが、最高０．４Ｎ、特に最高０，７Ｎ及び特に有利には最高１．０Ｎの力でスクリーン上に生じさせた引掻傷は肉眼で認識できない。
【０１０９】
耐引掻性はＤＩＮ５３７９９及びＤＩＮ  EN４３８により損傷した表面の肉眼による評価により測定することができるが、その際ダイヤモンドによって異なる力を用いて表面に対して傷を付ける。
【０１１０】
本発明の特別な態様によれば、プレートの平均表面粗さＲＺは５〜５０μｍ、特に５〜２５μｍ、有利には６〜３５μｍ、特には１５〜５０μｍ、特に有利には６〜３０μｍの範囲である。
【０１１１】
平均表面粗さＲＺはＤＩＮ４７６８によりＴａｙｌｏｒ  Ｈｏｂｓｏｎ社の測定機Ｔａｌｙｓｕｒｆ５０を用いて測定することができるが、その際粗さプロファイルのＲＺは５回連続して行われる個々の測定トラバーズの個々の粗さ深度の平均値から得られる平均粗さ深度である。
【０１１２】
プレートの表面粗さＲＺは、通常粒子（Ｂ）の選択により生じる。更にこの値は、製造法により左右される異なるパラメーターの変数によって影響され得る。
【０１１３】
これには、特に押出中の溶融物の温度が挙げられ、その際溶融物の高い温度は粗い表面を生じる。しかしその際、溶融物の温度は成形材料の正確な組成に左右されることに考慮すべきである。通常、溶融物の温度は１５０〜３００℃、有利には２００〜２９０℃の範囲である。この温度はノズル出口の溶融物の温度に関する。
【０１１４】
更に表面粗さはプレートを研磨するために使用されるローラー間の間隙により影響される。研磨機が例えば３個のローラーをＬ配置で有し、その際成形材料をノズルからローラー１及びローラー２の間の間隙に誘導し、ローラー２が６０〜１８０°巻き付いている場合には、ローラー２とローラー３の間の間隙によって表面の研磨は達成される。ローラ２とローラー３の間の間隙がプレートの厚さに調整されている場合には、プレート表面上の散乱粒子はマトリックス中に押し込められ、それによって表面はより平滑となる。通常、比較的粗い表面用にはこの間隙は製造すべきプレートのプレート厚さより幾分大きく調整し、その際、これに制限されるものではないが、この値は多くの場合プレートより０．１〜２ｍｍ、有利には０．１〜１．５ｍｍ上の範囲である。更に、表面粗さは粒子の大きさ並びにプレートの厚さに影響されるが、実施例でこの関連を記載する。
【０１１５】
光散乱層は公知方法で製造することができ、その際、熱可塑性成形法が有利である。粒子の添加後、前記成形材料から慣用の熱可塑性成形法によって光散乱性層を製造することができる。
【０１１６】
特別な態様によれば、押出用にか又は散乱ビーズを含有する成形材料−顆粒を製造するために二軸スクリュー押出機を使用する。その際プラスチック粒子を有利には押出機中で溶融物に変える。この方法により溶融物が得られ、これから特に高い透過度を有するスクリーンを製造することができる。
【０１１７】
その際、リアプロジェクションスクリーンは２段階工程で製造することができ、その際二軸スクリュー押出機を用いる本発明によるサイドフィーダー配合及び中間造粒の後に一軸スクリュー押出機でのシート及びプレートの押出を行う。二軸スクリュー押出機により得られた顆粒は特に高い散乱ビーズの割合を有することができるので、成形材料との混合によって散乱ビーズなしで簡単に異なる散乱粒子含量を有するプロジェクションスクリーンを製造することができる。
【０１１８】
更に、１段工程で実施することもでき、その際球形プラスチック粒子を前記したように二軸スクリュー押出機で溶融物中に配合するが、この後に場合により圧力上昇させるユニット（例えば溶融ポンプ）が連結してあり、それに押出ノズルが直接連結してあり、それによって平板状生成物が成形される。意外にも前記した方法により特に僅かな黄色度指数を有するリアプロジェクションスクリーンを得ることができる。
【０１１９】
更に、スクリーンを射出成形により製造することもできるが、しかしその際、方法パラメーター又は注入型を本発明による範囲の表面粗さが達成されるように選択すべきである。
【０１２０】
マトリックスと散乱粒子との配合は有利には二軸スクリュー押出機で行い、本来のプレート押出では一軸スクリュー押出機を使用するが、これに制限されるものではない。
【０１２１】
使用種類に応じて、光散乱性ポリメチルメタクリレート層をスクリーンとして使用することができる。その際比較的薄い層を巻き上げ可能なシートとして使用することができる。特に有利なシートには前記した方法により耐衝撃性を付与する。
【０１２２】
更に、その機械的安定性を高めるために、薄い光散乱性ポリメチルメタクリレート層をプラスチックプレート上に塗布することができる。支持体層として使用されるこのプラスチックプレートは有利には６．５°より小さい、特に６°以下、有利には５°以下及び特に有利には３°以下の強度半減値角を有する。従って支持体層は散乱作用を有する球形粒子を全く有さないか又は僅かな量でしか有さない。有利にはこのプラスチックプレートはポリ（メタ）アクリレートを有する。
【０１２３】
有利には支持体層の表面は角度６０°で７０以下、有利には６０以下、特に４０以下、特に有利には３０以下及び極めて特に有利には１５以下の光沢を有する。
【０１２４】
特別な態様によれば、支持体層は有利には２〜４５μｍ、特に３〜４０μｍ、有利には５〜３５μｍの範囲の平均表面粗さＲＺを有する。それによって画像品質を損なうことなしに、室内でスクリーン上に映写された画像の反射を抑制することができる。
【０１２５】
本発明の特別な態様によれば、スクリーンは２５％以上、特に４０％以上及び特に有利には５５％以上の透過率を有し、その際この値は特にスクリーンによってコントラスト改良性色料なしに得られる。
【０１２６】
本発明の特別な態様によれば、成形材料を着色することができる。この方法により意外にもコントラストを改善することができる。着色用には特に自体公知の色料及び／又はカーボンブラックが好適である。特に有利な色料は市販されている。これには特に各々Ｃｌａｒｉａｎｔの（Ｒ）Ｓａｎｄｏｐｌａｓｔ  Ｒｏｔ  Ｇ及び（Ｒ）Ｓａｎｄｏｐｌａｓｔ  Ｇｅｌｂ  ２Ｇ並びに各々Ｂａｙｅｒの（Ｒ）Ｍａｃｒｏｌｅｘ  Ｇｒｕｅｎ  ５Ｂ及び（Ｒ）Ｍａｃｒｏｌｅｘ  Ｖｉｏｌｅｔｔ  ３Ｒが挙げられる。これらの色料の濃度は所望の色指数並びにプレートの厚さに左右される。これに制限されるものではないが、この色料当たりの濃度は通常散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）なしの着色された成形材料の全質量に対して０〜０，８質量％、有利には０．０００００１〜０．４質量％の範囲である。色料濃度の合計は散乱粒子（Ａ）及び粒子（Ｂ）なしの着色された成形材料の全質量に対して、有利には０〜１質量％、有利には０．０００１〜０．６質量％の範囲である。透過度の損失はより強力な映写機によって少なくとも部分的に補うことができる。
【０１２７】
有利にはスクリーンは、これに制限されるものではないが、１２以下、特に１０以下の黄色度を示す。
【０１２８】
本発明のスクリーンの特別な態様は、１５°以上、特に２５°以上の強度半減値角を有する。
【０１２９】
本発明の特別な態様によれば、スクリーンはこれに制限されるものではないが０．１５以上の、特に０．３５以上の散乱力を示す。
【０１３０】
有利な態様によれば、本発明によるポリメチルメタクリレートプレートの表面は散乱盤上の反射で艶消し外観を示す。ＤＩＮ６７５３０による反射計を用いる光沢測定によって特徴付けを行うことができる。有利にはプレートの光沢は、８５°の角度で６０より下、特に有利には４０より下及び極めて特に有利には３０より下である。
【０１３１】
本発明のリアプロジェクションスクリーンの大きさ及び形には制限はない。しかし、画像が通常この規格であるので、スクリーンは通常長方形で平板状の形である。
【０１３２】
有利にはこのようなリアプロジェクションスクリーンは、２５〜１００００ｍｍ、有利には５０〜３０００ｍｍ及び特に有利には２００〜２０００ｍｍの範囲の長さを有する。この特別な態様の幅は、通常２５〜１００００ｍｍ、有利には５０〜３０００ｍｍ及び特に有利には２００〜２０００ｍｍの範囲である。特に大きな映写面を提供するために、このスクリーンを多数合わせることができる。
【０１３３】
特別な態様によれば、スクリーンはＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ４８９２、Ｔｅｉｌ２−Ｋｕｅｎｓｔｌｉｃｈｅｓ  ｂｅｗｉｔｔｅｒｎ  ｏｄｅｒ  ｂｅｓｔｒａｈｌｅｎ  ｉｎ  Ｇｅｒａｅｔｅｎ，  ｇｅｆｉｌｔｅｒｔｅ  Ｘｅｎｏｎｂｏｇｅｎｂｅｓｔｒａｈｌｕｎｇ−による特に高い耐候性を有する。
【０１３４】
本発明のリアプロジェクションスクリーンはその他の光学技術的使用用に、例えばＬＣＤ−モニターで散乱盤として使用することができる。
【０１３５】
次ぎに本発明を実施例及び比較例につき詳説するが、本発明はこれに制限されるものではない。
（Ａ）測定法
平均粗さＲＺは、ＤＩＮ４７６８によりＴａｙｌｏｒ  Ｈｏｂｓｏｎ社の測定器Ｔａｌｙｓｕｒｆ５０を用いて測定した。
【０１３６】
透過度τＤ６５／２°は、ＤＩＮ５０３６によりＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社の測定器Ｌａｍｂｄａ１９を用いて測定した。
【０１３７】
黄色度τＤ６５／１０°は、ＤＩＮ６１６７によりＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社の測定器Ｌａｍｂｄａ１９を用いて測定した。
【０１３８】
光沢Ｒ８５°は、８５°でＤＩＮ６７５３０によりＤｒ．Ｌａｎｇｅ社の測定器Ｄｒ．Ｌａｎｇｅ  Ｌａｂｏｒ−Ｒｅｆｌｅｋｔｏｍｅｔｅｒを用いて測定した。
【０１３９】
散乱力及び強度半減値角は、ＤＩＮ５０３６によりＬＭＴ社の測定器ＬＭＴ−Ｇｏｎｉｏｍｅｔｅｒ−Ｍｅｓｓｐｌａｔｚ  ＧＯ−Ｔ−１５００を用いて測定した。
【０１４０】
種々のリアプロジェクションスクリーンを付加的に第１表に記載した基準により目視により評価した。
【０１４１】
このために、Ｍａｒｋｅ  Ｅｐｓｏｎ  ＥＭＰ−７１３のプロジェクターを使用した。約１〜１．５ｍの画像からの距離で数個の角度（０°＝映写標準に対して垂直、３０°及び６０°）で評価した。映写プレートに対する映写機の距離は約８５ｃｍ、画像対角約５０ｃｍであった。
【０１４２】
Ｅｐｓｏｎ  Ｐｒｏｊｅｋｔｏｒ  ＥＭＰ  ７１３の技術データ：
照射システム：二色性鏡及びレンズシステム、画素：２３５９２９６ピクセル（１０２４×７６８）＊３、明度：１２００ＡＮＳＩルーメン、コントラスト：４００：１、画像輝度：８５％、色再生：１６．７万色で２４ビット、ｈ：１５−９２ｋＨｚ、Ｖ：５０−８５Ｈｚ、ランプ：１５０ワット−ＵＨＥ、ビデオ解像度：７５０ＴＶライン
第１表
【０１４３】
【表１】
2007501423.tif 000002
【０１４４】
表中、＋＋は非常に良好な特性、＋は良好な特性、０は可、−は欠陥の多い特性、−−は非常に欠陥のある特性及び−−−は不十分な特性であった。
（Ｂ）プラスチック粒子の製造
プラスチック粒子Ｂ１
球形プラスチック粒子を製造するために、沈殿によって硫酸アルミニウム及びソーダ溶液から本来の重合の前に直接製造した、水酸化アルミニウム−ピカリング−安定剤を使用した。このために先ずＡｌ２（ＳＯ４）３１６ｇ、錯化剤（Ｔｒｉｌｏｎ  Ａ）０．０３２ｇ及び乳化剤（ＢａｙｅｒＡＧ社市販のＥｍｕｌｇａｔｏｒ  Ｋ３０；Ｃ１５−パラフィンスルホネートのナトリウム塩）０．１６ｇを蒸留水０．８ｌ中に溶解させた。引き続き温度約４０℃で１Ｎ炭酸ナトリウム溶液を水中に溶解させた硫酸アルミニウムに攪拌下で添加したが、その際ｐＨ値は引き続き５〜５．５の範囲であった。この方法により水中の安定剤のコロイド状分散が達成された。
【０１４５】
安定剤の沈殿後、水相をビーカーに移した。これにメチルメタクリレート１１０ｇ、ベンジルメタクリレート８０ｇ及びアリルメタクリレート１０ｇ並びに過酸化ジラウリル４ｇ及びｔ−ブチルペル−２−エチルヘキサノエート０．４ｇを添加した。この混合物を分散機（Ｕｌｔｒａ−Ｔｕｒｒａｘ  Ｓ５０Ｎ−Ｇ４５ＭＦ、Ｆａ．Ｊａｎｋｅ  ｕｎｄ  Ｋｕｎｋｅｌ、Ｓｔａｕｆｅｎ）を用いて１５分間７０００ｒｐｍで分散させた。
【０１４６】
剪断に次いで、反応混合物を相応する反応温度８０℃に前加熱した反応器中に入れ、約８０℃（重合温度）で４５分間（重合時間）攪拌（６００ｒｐｍ）下で重合させた。次いで内部温度約８５℃で１時間の後反応相を行った。４５℃に冷却後、安定剤を５０％の硫酸の添加によって水溶性硫酸アルミニウムに変えた。ビーズを後処理するために、得られた懸濁液を市販の濾過布で濾過し、加熱箱中で２４時間５０℃で乾燥させた。
【０１４７】
大きさ分布をレーザー吸光法により調べた。粒子は１８．６μｍの平均粒度Ｖ５０を有する。ビーズは球状の形を有し、その際繊維は確認されなかった。凝集はなかった。下記でこうして得た粒子をプラスチック粒子Ｂ１と称する。
プラスチック粒子Ｂ２
球形プラスチック粒子を製造するために、沈殿によって硫酸アルミニウム及びソーダ溶液（１Ｎ炭酸ナトリウム溶液）から本来の重合の前に直接製造した、水酸化アルミニウム−ピカリング−安定剤を使用した。このために先ず脱イオン水３８ｌ、硫酸アルミニウム４００ｇ及び錯化剤（Ｔｒｉｌｏｎ  Ａ）８ｇを羽根車式攪拌機を用いて攪拌（３３０ｒｐｍ）下で、邪魔板、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｎｉ−熱電対及び循環加熱器を有するＮ２をフラッシュした１００ｌのＶ４Ａ−釜中に前装入した。引き続き、水酸化アルミニウムを沈殿させるためにソーダ溶液１７６０ｇの添加並びに各々脱イオン水２４０ｍｌ中に溶解させた、ＢａｙｅｒＡＧ社市販の分散助剤Ｅｍｕｌｇａｔｏｒ  Ｋ３０（Ｃ１５−パラフィンスルホネート）（４ｇ）及びＨｏｅｃｈｓｔ社市販のＰｏｌｙｗａｃｈｓ５０００／６０００（５０００〜６０００の範囲の分子量を有するポリエチレングリコール）（４ｇ）の添加を行う。沈殿後のｐＨ値は約５．３であり、これによって水中の安定剤のコロイド状分散が達成された。
【０１４８】
その後同様に室温で、メチルメタクリレート６９００ｇ、スチレン３０００ｇ、グリコールジメタクリレート１００ｇ、過酸化ジラウロイル２００ｇ、ｔ−ブチルペル−２−エチルヘキサノエート２０ｇ及びエチルヘキシルチオグリコレート５０ｇから成るモノマー混合物の添加を行う。
【０１４９】
これに温度８０℃への加熱相が引き続くが、その際釜内部温度４０℃で反応器を気密密閉し、Ｎ２−導入を中止した。次の１１５分間内で内部温度が約８７℃まで上昇し、圧力は０．７０バールから０．９２バールまで上昇する。温度最高値後に反応混合物は約８７〜８８℃に加熱され、この温度で約１時間後攪拌するが、その際攪拌速度は２００ｒｐｍに減らした。反応混合物を冷却後、釜の温度４６℃で放圧し、次いで５０％硫酸４００ｍｌを添加し、それによって水酸化アルミニウムを可溶性硫酸アルミニウムに変え、それによって懸濁ポリマーが沈殿する。ビーズを後処理するために、得られた懸濁液を石器吸引漏斗で濾過布で濾過し、洗浄して中性にし、５０℃で約２０分間加熱箱で乾燥させた。
【０１５０】
大きさ分布をレーザー吸光法により調べた。粒子は４０．５μｍの平均大きさＶ５０を有する。ビーズは球状の形を有し、その際繊維は確認されなかった。凝集はなかった。下記でこうして得た粒子をプラスチック粒子Ｂ２と称する。
（Ｃ）例１から４
種々のリアプロジェクションスクリーンを押出成形により製造した。このために先ずプラスチック粒子Ｂ１、プラスチック粒子Ｂ２、Ｓｅｋｉｓｕｉ社から商標名（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ  ＳＢＸ−８で市販されている約８．４μｍの粒度Ｖ５０を有するスチレンをベースとするプラスチック粒子並びにＲｏｅｈｍ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧ社から市販されているＰＭＭＡ−成形材料（メチルメタクリレート９７質量％及びメチルアクリレート３質量％から成るコポリマー）から成る種々の散乱ビーズ成形材料を押出してプラスチックプレートにした。ＢＲＥＹＥＲ社のＥｘｔｒｕｄｅｒ  φ６０を使用した。ノズル出口での溶融物の温度は通常２７０℃であった。研磨機は通常特に実施例ではできる限り粗い表面が得られるように調整した。
【０１５１】
ポリメチルメタクリレートマトリックス中のプラスチック粒子の割合並びにプレートの厚さを第２表に表す。
第２表
【０１５２】
【表２】
2007501423.tif 000003
【０１５３】
得られたリアプロジェクションスクリーンを前記した測定方法により調べたが、その際得られた測定結果は第３表に表す。
第３表
【０１５４】
【表３】
2007501423.tif 000004
【０１５５】
【表４】
2007501423.tif 000005
【０１５６】
更に押出物の目視による耐引掻性を調べた。
【０１５７】
耐引掻性の試験は、ＤＩＮ５３７９９及びＤＩＮ  ＥＮ４３８の方法に従って、Ｔａｂｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓの引掻試験機２０３型を用いてダイヤモンドの貫入深度ｔＲ＝ｆ（荷重）により行った：円錐角９０°を有するダイヤモンド刃、尖端半径９０μｍ、半時計回り回転。使用した荷重を第４表に記載する。
【０１５８】
目視による評価は黒色下敷き上で行った（反射試験）。試験押出物に対する試験（粗さ、光沢）は上側面で行った。
【０１５９】
得られた結果は第４表に記載する。
第４表
【０１６０】
【表５】
2007501423.tif 000006
【０１６１】
【表６】
2007501423.tif 000007
（Ｄ）例５及び６
例１から４に記載の製法を実質的には繰り返したが、しかしその際付加的に耐衝撃性改良剤（（Ｒ）Ｍｅｔａｂｌｅｎ  ＩＲ４４１、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉから市販されている）を、添加した。更に、同じく耐衝撃性を付与した着色リアプロジェクションスクリーンを製造した。色料は、（Ｒ）Ｓａｎｄｏｐｌａｓｔ  Ｒｏｔ  Ｇ５２．６６質量％、（Ｒ）Ｓａｎｄｏｐｌａｓｔ  Ｇｅｌｂ  ２Ｇ０．８４質量％（各々Ｃｌａｒｉａｎｔから市販されている）並びに（Ｒ）Ｍａｃｒｏｌｅｘ  Ｇｒｕｅｎ  ５Ｂ３９．２２質量％及び（Ｒ）Ｍａｃｒｏｌｅｘ  Ｖｉｏｌｅｔｔ  ３Ｒ７．２８質量％（各々Ｂａｙｅｒから市販されている）の混合物から成っていた。
【０１６２】
ポリメチルメタクリレートマトリックス中のプラスチック粒子の割合並びにプレートの厚さを第５表に表す。
第５表
【０１６３】
【表７】
2007501423.tif 000008
【０１６４】
得られたリアプロジェクションスクリーンを前記した測定方法により調べたが、その際得られた測定結果を第６表に表す。
【０１６５】
更に、リアプロジェクションスクリーンの機械的特性を調べた。引張強さ、破断時の伸び並びにＥ−モジュールはＩＳＯ５２７−２により、反射はＤＩＮ５０３６により測定した。
第６表
【０１６６】
【表８】
2007501423.tif 000009
【０１６７】
【表９】
2007501423.tif 000010
３Ｄ映写用のリアプロジェクションスクリーン
本発明によるリアプロジェクションスクリーンは、画像又はフィルムの３Ｄ映写用に使用することもできる。
【０１６８】
３Ｄ映写の方法では画像源として、原則として同じ画像内容であるが、しかし一定の距離、例えば眼の距離だけ移して撮影した各々２個の映写を重ね合わせる。屡々使用される原理は例えば偏光法である。偏光させた光を用いて操作する映写機によって、異なる方向の偏光を有する２個の撮影の光をリアプロジェクションスクリーン上に映写する。
【０１６９】
視聴者は各々右眼及び左眼用に分けて相応する偏光フィルターを具備した眼鏡を通して画像を見る。人間の脳は二つの異なる画像を３次元画像としてとらえる。
【０１７０】
３Ｄ映写の目的用に本発明によるリアプロジェクションスクリーンは有利には押出成形したポリメチルメタクリレートプラスチックから押出成形したポリメチルメタクリレートプラスチックから成る少なくとも１層の光散乱層を有するプレート又はシートの形で製造することができ、その際、光学複屈折による通行差は合計最高でも２５ｎｍ、有利には最高１５，特に有利には最高５ｎｍである。
【０１７１】
その際、押出法は常に押出方向で特定の分子鎖の配向が生じることに配慮すべきである。この配向により、２個の映写の偏光した光を部分的に脱偏光させる複屈折特性が生じ、これはもちろん望ましいことではない。
【０１７２】
従って、３Ｄ映写用に準備されたリアプロジェクションスクリーン用の押出成形されたポリメチルメタクリレートプラスチックには押出後に熱後処理を施す。熱後処理で、ポリマー分子の配向を再び十分に撤回する後収縮が起こる。その結果、元々物質中に存在する複屈折特性が強力に減少される。
【０１７３】
３Ｄ映写用のリアプロジェクションスクリーン用に準備されたシート又はプレートの形の押出成形されたポリメチルメタクリレートプラスチックの熱後処理は、材料組成及び材料強度に応じて、例えば１１０〜１９０℃、有利には１２０〜１６０℃の間で５分間から２４時間、有利には１０分間から２時間行うことができる。これは当業者により簡単に最適化することができる。熱により生じた後収縮工程は横置き又は有利には吊した材料で行うことができる。
【０１７４】
光学的複屈折による通行差の測定用に好適な測定方法は、当業者に公知である。通行差は例えばエーリングハウス−キップ補正器（Ｅｈｒｉｎｇｈａｕｓ−Ｋｉｐｐｋｏｍｐｅｎｓａｔｏｒ）と組み合わせた偏光顕微鏡を用いて測定することができる。
【国際調査報告】
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