(57)【要約】【課題】本発明は、光学的に透明な基板の反射を低減する光学構造に関する。本発明の目的は、可視光の広い波長範囲の、表面反射する入射光の反射割合を低減することにあり、反射それ自体の値、低減が実現可能な各波長範囲、及び／又は結果発生するカラーエフェクトに対して特定の影響を及ぼすことが可能である。【解決手段】各基板の表面上に交互に配置され、光学的屈折率がより低い第１の材料及び光学的屈折率がより高い第２の材料からそれぞれ形成される層によって層構造が形成される。これは好ましくは、可視光波長範囲で使用することができる。光学的層構造の個々の積層は、規定可能な波長λの１／４の少なくとも２倍に対応する光学的厚さを有し、好ましくは、規定可能な波長λの１／４の整数倍に対応する光学的厚さを有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
より低い光学的屈折率を有する材料の層とより高い光学的屈折率を有する材料の層が基板の表面上に交互に配置された、光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造であって、
前記層から、より低い光学的屈折率を有する材料で作られた２層で囲まれた、より高い光学的屈折率を有する材料の少なくとも１つの層Ｈを有する積層（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ）が形成され、
前記積層（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ）は、前記基板の前記光学的屈折率よりも低い規定可能な波長λに関して光学的等価屈折率を有し、したがって、
少なくとも２つの積層が上下に形成され、該積層の前記それぞれの光学的等価屈折率は前記基板から始まって低減し、
前記個々の積層（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ）は、前記規定可能な波長λの１／４の少なくとも２倍に対応する光学的厚さを有する、光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項２】
各積層（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ）の前記光学的等価屈折率は、より低い光学的屈折率を有する層が形成される材料の前記光学的屈折率よりも低いことを特徴とする、請求項１記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項３】
前記層構造の前記個々の層Ｈ及びＬのいずれも、前記規定可能な波長の１／４の整数倍に対応する光学的層厚を有さないことを特徴とする、請求項１又は２記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項４】
前記基板の表面上に直接形成され、前記光学的屈折率が前記基板の前記光学的屈折率よりも低い材料から形成される層（Ａ）がλ／４層を形成することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項５】
前記基板の前記光学的屈折率は≦２であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項６】
前記光学的屈折率がより低い前記層ＬはＳｉＯ２又はＭｇＦ２から形成されることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項７】
前記光学的屈折率がより高い前記層Ｈは、ＴｉＯ２、ＨｆＯ２、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、及び／又はＮｂ２Ｏ５から形成されることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項８】
前記個々の積層（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ）は３層、５層、又は７層から形成されることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項９】
前記周囲媒体の方向を向き、より低い光学的屈折率を有する前記材料で作られる最上層は、前記規定の波長λの１／４よりも厚い光学的層厚を有することを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項１０】
前記積層（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ）での、より高い光学的屈折率を有する材料から形成される層Ｈの層厚割合は、前記基板の表面から始まって前記周囲媒体の方向に増大することを特徴とする、請求項１乃至９のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項１１】
８００〜３０００ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項乃至１０のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【請求項１２】
前記規定の波長λは４８０〜６００ｎｍの波長範囲から選択されることを特徴とする、請求項１乃至１１のいずれか１項記載の光学的に透明な基板の反射を低減する光学層構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学的に透明な基板の反射を低減する光学構造に関する。これにより、各基板の表面上に交互に配置され、光学的屈折率がより低い第１の材料及び光学的屈折率がより高い第２の材料からそれぞれ形成される層によって層構造が形成される。これは好ましくは、可視光波長範囲で使用することができる。
【０００２】
本発明による解決策を用いて、比較的広範囲で網羅的な波長範囲（スペクトル範囲）内の各基板の表面上の入射光の反射の大幅な低減を実現することができる。さらに、光のそれぞれ異なる入射角度の影響が従来の解決策と比較して低減し、最も広範囲の色の中立性を実現することができる。したがって、本発明により被覆された光学的に透明な基板は、大抵の多様な用途に使用することができる。したがって、このような層構造は、たとえば、ガラス及びプラスチック材料で作られた眼鏡レンズ、電子表示部材（ディスプレイ）のカバーリング、またプラスチック材料物体の保護カバーリング又はハウジングに使用することができる。
【背景技術】
【０００３】
光学的に透明な基板の表面上の入射光の反射を低減するために、原理上、光学的屈折率の異なる材料から形成される個々の層を含む交互になった層構造を形成することが既知である。
【０００４】
通常、このためにいわゆる３層構造ＭＨＬが使用される。このような層構造の場合、各基板の光学的屈折率よりも低い光学的屈折率を有する層である、周囲大気、一般には空気に直接接触する第１の外層Ｌがある。中間層はより高い光学的屈折率を有する材料で作られ、Ｍ層は、基板の光学的屈折率とそのより高い光学的屈折率の間の光学的屈折率を有する。
【０００５】
このため、これらの個々の層に、このような３層構造の２つの外層のそれぞれに規定の波長λの１／４である光学的厚さ（物理的な厚さと光学的屈折率の積）に対応する層厚が選択される。これとは対照的に、より高い光学的屈折率を有する材料で作られる中間層は、この波長λの１／２の光学的厚さで形成される。このため、この規定の波長は、光の反射の低減が達成されるように意図され、通常は４８０〜６００ｎｍの範囲内にある波長間隔から選択された。
【０００６】
米国特許第３，４３２，２２５号に、このような３層構造体に代えて、中間の光学的屈折率を有する層領域が、より低い光学的屈折率及びより高い光学的屈折率を有する材料から形成される層に帰属し得る部分で置き換えられた３層延長部を選択することが提案されている。
【０００７】
この場合でも、波長λの１／４に対応する３層の厚さが用いられる。
【０００８】
プラスチック材料基板上のハード層と組み合わせて頻繁に用いられるこれらいわゆる従来の反射防止膜の場合、波長範囲４２０ｎｍ〜６８０ｎｍの表面上で反射される可視光の割合を平均で≦１％に低減することができる。しかしこのために、このような層構造の形成に際してわずかなずれであっても変化に繋がる青又は緑の方向でのカラーエフェクトが見られるため、たとえば眼鏡を修理する場合に、たとえ交換する必要があるのは片方だけであっても眼鏡の両方のレンズを交換することが必要になる。
【０００９】
既知の解決策では、このような色の変化はまた、異なる光入射角度又は視角が発生し得る場合にも不利である。斜めに傾いた角度での光入射の場合、光の反射割合はここでも大幅に増大する。
【００１０】
既知の解決策では、基板でカラーエフェクトを発生させることなく、各光波スペクトルの反射割合の所望の大幅低減を実現することに加えて、この光学的屈折率が比較的低いことも問題である。これは特に、ガラス等の基板材料、及び光学的屈折率がこのような基板の光学的屈折率よりも低い選択される材料又は化合物がほんのわずかであることから、光学的屈折率が可視光の平均波長で１．５〜１．６の範囲内にある適したプラスチック材料、たとえばポリメタクリル酸メチルやポリカーボネート等の基板材料に該当する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
したがって、本発明の目的は、可視光の広い波長範囲の、表面反射する入射光の反射割合を低減することにあり、反射それ自体の値、低減が実現可能な各波長範囲、及び／又は結果発生するカラーエフェクトに対して特定の影響を及ぼすことが可能である。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この目的は、請求項１に記載の光学構造の助けにより本発明により達成される。有利な実施の形態及び本発明の発展を従属項に記載の特徴により達成することができる。
【００１３】
本発明による光学層構造は、より低い光学的屈折率を有する材料の層とより高い光学的屈折率の層が交互に配置されたものから形成される。
【００１４】
このため、このような層を含む積層が形成される。そしてこれら積層は、規定可能な波長λに相対する光学的等価屈折率を有する。この光学的等価屈折率は、基板の光学的屈折率よりも低い。このため、各積層が個々の層を形成するように各積層を光学的に観察するべきである。
【００１５】
規定可能な波長λは、反射性の低減が実現されるように意図される波長範囲内にあることができる。
【００１６】
このような個々の積層は、より高い光学的屈折率を有する材料の少なくとも１つの層Ｈから形成される。この層Ｈは、その両側を、より低い光学的屈折率を有する材料から形成された２層で囲まれる。
【００１７】
したがって、より高い光学的屈折率を有する材料の積層中の複数の層Ｈも、その両側を層Ｌで囲むことができる。
【００１８】
このため、本発明による光学層構造は、上下に形成される少なくとも２つの積層から形成される。このため、積層は、互いに異なる光学的等価屈折率を有し、積層の光学的等価屈折率は基板から始まって周囲媒体（一般には空気）に向かって下がる。
【００１９】
光学的層構造の個々の積層は、規定可能な波長λの１／４の少なくとも２倍に対応する光学的厚さを有するべきである。好ましくは、積層は、規定可能な波長λの１／４の整数倍に対応する光学的厚さを有するべきである。
【００２０】
さらに、すべての積層の光学的等価屈折率がすべて、より低い光学的屈折率を有する層Ｌが形成される材料の光学的屈折率よりも低いことが有利である。
【００２１】
したがって、積層の光学的等価屈折率は、基板の表面から始まって周囲媒体に向かって漸進的に下がる。
【００２２】
本発明による層構造の場合、層構造全体の個々の層Ｈ及びＬはすべて、規定可能な波長λの１／４の整数倍から外れた光学的層厚を有することができる。
【００２３】
基板の表面上に直接形成される個々の層に関して、光学的屈折率が基板の光学的屈折率よりも低い材料が使用された場合、この層の一部は、考慮中の規定の波長λについてλ／４層として形成することができる。
【００２４】
本発明による光学層構造は、光学的屈折率が≦２である、すなわち１．５〜１．６の範囲内にもある基板上に有利に形成することができる。
【００２５】
光学的屈折率がより低い層Ｌは、ＳｉＯ２又はＭｇＦ２から有利に形成することができ、これは、各ケースのこれらの光学的屈折率が、通常使用される基板材料の光学的屈折率よりも低いためである。
【００２６】
光学的屈折率がより高い層Ｈは、光学的屈折率ｎが１．９〜２．３５の範囲内にあるＴｉＯ２、ＨｆＯ２、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、及び／又はＮｂ２Ｏ５から形成することができる。
【００２７】
単一の積層をそれぞれ形成する個々の層の数は３層〜７層であると選択することができ、反射を低減する波長範囲には、各積層の層数、またそれに対応して積層の厚さによって影響を及ぼすことができる。
【００２８】
層構造のすべての積層の層数はそれぞれ同一であることができる。これは同様に、同一であることもできる光学的層構造の積層の光学的層厚にも当てはまる。
【００２９】
さらに、より低い光学的屈折率を有する材料から、層構造の周囲媒体に直接接触する最上層を形成することが有利である。このため、最上層は規定の波長λの１／４よりも厚い光学的層厚を有するべきである。
【００３０】
本発明による光学的層構造の場合、より高い光学的屈折率を有する材料から形成される層Ｈの層厚全体の割合は、基板表面から始まって周囲媒体の方向に連続して増大し、そのためこの方向での光学的層厚Ｈの合計は、このような層の層Ｌの部分の光学的層厚の合計に対して増す。
【００３１】
各規定の波長λは好ましくは、４８０〜６００ｎｍの波長範囲、好ましくは５００〜５５０ｎｍの範囲から選択されるべきである。
【００３２】
層構造全体は、特にプラスチック材料で作られる基板の場合に、機械的保護が向上するとともに、十分に高い接着強度及び耐引掻性があるように８００〜３，０００ｎｍの範囲の物理的な厚さを有することができる。
【００３３】
説明するプラスチック材料基板にはさらに、より高い光学的屈折率を有する材料から形成しなければならない層Ｈの割合が光学層構造全体に対して比較的低く、そのため、層を真空中で形成する際に、基板に認められる加熱がほんの少しであり得るという点で有利な効果がある。
【００３４】
積層及び必要であれば基板材料よりも低い光学的屈折率を有する材料を含むλ／４層のそれぞれの数により、光学層構造の光学的屈折率を基板表面から始まって周囲媒体に向かって低減できるようにするステップの数が決まる。
【００３５】
λ／４層厚（ＱＷ）の整数倍として各積層の厚さを具体的に選択することにより、所望の反射低減効果を実現可能な波長範囲に影響を及ぼすことができる。したがって、光学的層厚が規定の波長の１／４の３倍である積層が使用される場合、より広い波長範囲をカバーすることができる。
【００３６】
本発明について、例としてより詳細に以下説明することにする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
実施例１
実施例１では、≦０．４％である、波長範囲４００〜８００ｎｍでの光の反射の低減の実現を目的とする。
【００３８】
光学的屈折率１．５２を有する基板上に光学的層構造を形成した。屈折率ｎ＝１．４６を有する、ＳｉＯ２で作られた層Ｌを形成し、より高い光学的屈折率ｎ＝２．３５を有する、ＴｉＯ２で作られた層Ｈを形成した。
【００３９】
光学的層構造の設計は規定の波長λ＝５００ｎｍに対して行い、交互に変えて配置された、総計で１７のこのような個々の層を形成した。
【００４０】
層構造の構成は、後の表１ａから導き出すことができ、実際の各層の厚さｄ（ｎｍ）、光学的層厚ｎ×ｄ（ｎｍ）、個々の層Ｌ及びＨに入射している規定の波長λの１／４に対する各割合ｃである。
【００４１】
さらに、このため、それぞれ光学的層厚（ＱＷ厚）を有する総計で５つの個々の積層Ａ１〜Ｅ１が、規定の波長λの１／４、また積層Ａ１〜Ｅ１の光学的等価屈折率のそれぞれに関連して示される。このため、Ａ１は、基板の表面上に直接配置され、より低い光学的屈折率を有する材料を含み、規定の波長λの１／４の層厚を有する層である。
【００４２】
基板の表面上に直接形成され、より低い光学的屈折率を有する材料としてＳｉＯ２で作られた層１ａ（Ａ１）は、規定の波長λの１／４に対応する厚さを有する。これは、ＳｉＯ２は光学的屈折率１．４６を有し、これは基板材料の光学的屈折率よりも低いため好ましい。
【００４３】
表１ｂ中、積層の勾配付き等価屈折率を明らかにすることを目的とする。
【００４４】
【表１】
2007520734.tif 000002
【００４５】
表１ｂ  実施例１の勾配付き屈折率ｎｓｋ、勾配付き差Δｎｓ、及び積層屈折率ｎＥ（等価屈折率）、ｋは積層番号である。
【００４６】
【表２】
2007520734.tif 000003
【００４７】
表１ａ中、さらに、より低い光学的屈折率を有するＳｉＯ２で作られた層Ｌが、積層Ａ１〜Ｅ１での層厚割合を表すことが明らかになる。これは、積層Ｂ１〜Ｅ１の外縁に配置される層１ｂ及び５ａ、５ｂ及び９ａ、９ｂ及び１３ａ、１３ｂに関連する。
【００４８】
ＳｉＯ２で作られた最外層１７は光学的層厚１４３．７ｎｍを有し、これは規定の波長λ＝５００ｎｍの１．１４×１／４に対応する。
【００４９】
個々の層厚及び積層を以下のように決定した。
【００５０】
ステップ１
使用される積層数を決定する番号ｑを規定する。
【００５１】
ステップ２
規定の波長λで実現するように意図される残留反射Ｒ０が定義される。この値及び周囲媒体の屈折率ｎ０を用いて、
ｎＯＴ＝（ｎ０＋√Ｒ０）／（ｎ０−√Ｒ０）
に従って目標屈折率ｎＯＴが求められる。
【００５２】
ステップ３
基板の屈折率ｎｓと目標屈折率ｎＯＴとの差をｑで割り、この差を用いて、新規の勾配付き屈折率ｎｓｋが、
Δｎｓ＝（１／ｑ）（ｎｓ−ｎＯＴ）
ｎｓｋ＝ｎｓｋ−１−Δｎｓ
に従って形成され、ｋ＝１…ｑは勾配率であり、ｎｓ０＝ｎｓ、且つｎｓｑ＝ｎＯＴである。
【００５３】
ステップ４
積層はそれぞれ、勾配ごとに計算され、この光学的層厚は規定の波長λの１／４に５を掛けたものに対応すべきであり、各積層は、
ｎＥｋ＝√（ｎｓｋ−１ｎｓｋ）
に従って計算される等価屈折率に対応する。
【００５４】
ステップ５
第１の積層の等価屈折率が低屈折率材料Ｌの屈折率におおよそ等しい場合、１つのみのλ／４層の材料を有する第１の積層（すなわち、光学的厚さが規定の波長λの１／４に等しい層）が低光学的屈折率で形成される。
【００５５】
ステップ６
この層及び基板の屈折率から、第１の基板勾配の新規の屈折率ｎｓ１が、
ｎｓ１＝ｎ２Ｌ／ｎｓ
に従って形成される。その後、この手順をステップ３及びステップ４に従って再び実行する。
【００５６】
ステップ７
残留反射の構成が、複数のステップのうちの１つのステップではなくステップ３に従って勾配付き等価屈折率の線形結合を行うことが有利であることができる。
例１：まず、より低い屈折率を有する材料の第１の等価屈折率が求められる。その後、さらなる勾配付き等価屈折率はすべて、ステップ３からの線形結合に従って求められる。
例２：まず、第１の等価屈折率が、より低い屈折率を有する材料の屈折率により再び求められる。その後、２つのみのさらなる勾配付き等価屈折率が求められ、その後、残りの２つの光学的等価屈折率が求められる。
【００５７】
ステップ８
反射範囲の所望の帯域幅に従って、規定の波長λの１／４の３倍、４倍、又は５倍に対応する積層の光学的層厚が選択される。
【００５８】
ステップ９
所望の等価屈折率を有し、第１層及び第３層がＬ層であり、中間層がＨ層である３層ら形成される、規定の波長λの１／４の３倍に対応する光学的層厚を有する積層の場合、層の光学的層厚は、式：
【数１】
2007520734.tif 000004
に従って計算され、２つのＬ層は同一であり、
ψＭ＝（π／２）・ＣＨ
である。
【００５９】
ステップ１０
（規定の波長λの１／４の３倍に対応する光学的層厚を有する積層の）各等価屈折率毎に、関連する光学的厚さをステップ９に従って求める。
【００６０】
ステップ１１
規定の波長λの１／４の４倍に対応する光学的層厚を有する積層の場合、対応する等価屈折率は５層で形成され、そのうちの第１層、第３層及び第５層はＬ層であり、第２層及び第４層はＨ層である。光学的層厚は、式：
【数２】
2007520734.tif 000005
に従って計算され、
【数３】
2007520734.tif 000006
に従って計算される副屈折率（auxiliary refractive index）ｎＡ及びｎＢを有し、と共に及び。
次いで、個々の層の光学的層厚が、
ｙ＝Ｎ４Ｌ／（ｎＳｎＥ）
Ｃ１（Ｌ）＝１＋ＣＬＡ
Ｃ２（Ｈ）＝ＣＨＡ
Ｃ３（Ｌ）＝ＣＬＡ＋ＣＬＢ
Ｃ４（Ｈ）＝ＣＨＢ
Ｃ５（Ｌ）＝１＋ＣＬＢ
においてもたらされる。
【００６１】
ステップ１２
ステップ１１は、積層の各等価屈折率毎に実施され、屈折率ｎＥ、ｎＳ及びｎ０をそれに対応して、ステップ３及びステップ４に従って現在値ｎＥｋ、ｎＳｋ−１又はｎＳｋで置換する必要がある。
その結果、実際に形成すべきこのような光学構造の層の絶対総数は、２１から事実上１７に低減する。
積層Ａ１〜Ｅ１はそれぞれ、Ｌ層としてＳｉＯ２を、Ｈ層としてＴｉＯ２をそれぞれ含み、Ｌ層及びＨ層が交互に配置された５層から形成される。
【００６２】
図４に示すように、波長範囲４００〜８００ｎｍでの光の反射割合の大幅な低減を、実施例１に定義するような光学層構造を用いて実現することができる。この層構造の続く計算最適化（改良）により、濃い線で示す反射の振る舞いを、上記波長範囲にわたって平らにすることができ、またこれに加えて、実際の光学的屈折率の分散を考慮に入れることができるため少なくとも部分的に低減することができた。このため、事前に計算された層厚の変化はごくわずかであった（図３参照）。
【００６３】
実施例２
実施例２の光学層構造を用いる場合、波長範囲４５０ｎｍ〜５７０ｎｍでの反射光の割合は０．１％未満に下がるべきである。
【００６４】
ここでも、光学的屈折率１．５２を有する基板に、この実施例に対応して構成された本発明による光学層構造を設けた。ここでも、交互に変えて配置されたＳｉＯ２で作られた層及びＴｉＯ２で作られた層Ｈを形成した。
【００６５】
この実施例２による光学層構造の構成は、以下の表２ａで生成される。ここでも、表２ｂは、図５において概説した等価屈折率の勾配を明らかにする。
【００６６】
【表３】
2007520734.tif 000007
表２ｂ  実施例２の勾配付き屈折率ｎｓｋ、勾配付き差Δｎｓ、及び積層屈折率ｎＥ（等価屈折率）であり、ｋは積層番号である。
【００６７】
【表４】
2007520734.tif 000008
【００６８】
この層構造でも、上下に構成された５つの積層Ａ２〜Ｅ２が形成され、各積層にはＴｉＯ２で作られた１つのみの層Ｈが配置されることが明らかになる。このような層Ｈはここでも、その両側をＳｉＯ２で作られた層Ｌで囲まれている。総計で９層を形成した。層１ｂ及び３ａ、３ｂ及び５ａ、５ｂ及び７ａ、７ｂは、より低い光学的屈折率を有する材料で作られた層Ｌの層厚割合を表す。
【００６９】
実施例２によるこの光学層構造の設計では、手順をここでも規定の波長λ＝５００ｎｍで開始した。
【００７０】
層厚及び積層の設計を実施例１と同様に決定した。
【００７１】
波長範囲４５０〜５７０ｎｍでの反射光の割合を、細い描線の実施例２による光学層構造に関する図８から導き出すことができる。太い描線は、その後、計算によって実現される実施例の最適化を考慮に入れた達成可能な反射光の割合をもたらす。このような後続最適化の場合、各層を形成する材料の種々の光学的性質を考慮に入れることができる。先に触れたように、このため決定された層厚を変更する必要があるのはごくわずかである。
【００７２】
次に、透明なポリカーボネートで作られた光窓での光の反射の割合を低減する光学層構造を形成する可能性を説明することを意図する。このような窓はたとえば、自動車両の電子表示部材のカバーリングであることができる。このような光窓が入射光角度６０度の場合、赤のカラーエフェクトは発生しないはずである。
【００７３】
光学層構造は総計で１６００ｎｍ厚を有し、ここでも交互になったＳｉＯ２及びＴｉＯ２で作られた層を電子ビーム蒸着によって析出(堆積）した。真空中での析出中、各層に、電流密度およそ０．１ｍＡ／ｃｍ２でエネルギー８０ｅＶ（ＳｉＯ２）及び１２０ｅＶ（ＴｉＯ２）を有するアルゴンイオン衝撃を与えた。
【００７４】
すでに説明した実施例１に対応する層構造のような層構造を選択した。実際の各光学的屈折率の分散を考慮に入れて、その後の各層厚の最適化を行った。
【００７５】
反射割合は、図９に示す図から導き出すことができるように、波長範囲３８０ｎｍ〜７７０ｎｍで１％未満に保つことができた。
【００７６】
可視光の波長範囲での透明性は、片側被覆の場合の９２％と比較して、基板としての光窓上への光学層構造の両面形成の場合に９８％に上げることができた。
【００７７】
斜めに傾いた角度で入射する光の場合、わずかに緑がかったカラーエフェクトが認められることがある。垂直光入射の場合、色の中立性が実現された。
【００７８】
ポリカーボネート基板上に形成された光学構造は、ＩＳＯ９２１１−０２−０４による引掻試験に、瑕疵を形成することなく耐え、また鋼綿での引掻試験にも耐えた。ポリカーボネート基板の耐引掻性はこうして、被覆されない基板材料と比較して大幅に上げることができた。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】光学的層構造の第１の実施例の光学的等価屈折率の図である。
【図２】光学的層構造内の実際の光学的屈折率の図である。
【図３】計算された最適化が行われた後の光学的層構造の光学的反射率である。
【図４】実施例１に対応する光学的層構造の波長間隔内の反射光の割合及びそれに対応して計算された最適な変形の図である。
【図５】第２の実施例の光学的構造の積層の、計算された光学的等価屈折率の図である。
【図６】実施例２による光学的構造の実際の光学的屈折率の図である。
【図７】実施例２による最適化された光学的層構造の計算された光学的屈折率である。
【図８】具現化され、計算された最適な形態における、実施例２による光学的構造の波長範囲内の反射光の割合の図である。
【図９】波長範囲３５０ｎｍ〜８００ｎｍ内の反射光の割合を、実施例１による層構造でポリカーボネートで作られた基板について導き出すことができる図である。
【図１】
2007520734.tif 000009
【図２】
2007520734.tif 000010
【図３】
2007520734.tif 000011
【図４】
2007520734.tif 000012
【図５】
2007520734.tif 000013
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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