(57)【要約】  眼（２６６）の前眼房（２８４）からの流れを調節するのに用いることができるシャント（２９０）の流路（２９６）に配置することが可能なＭＥＭＳ流量モジュールの種々の実施形態が開示される。こうしたＭＥＭＳ流量モジュール（５８）の１つは、調整要素（７８）と、下部プレート（７０）とを有する。複数のばねまたはばね状の構造体（８２）が、下部プレート（７０）の下部流れポート（７４）を通る流れによって調整要素（７８）に及ぼされる圧力に応じて調整要素（７８）が下部プレート（７０）に向かう方向またはそこから離れる方向のいずれかに移動できるように、調整要素（７８）を下部プレート（７０）と相互接続する。調整要素（７８）は、（幾何学的に）非直線的な流路に沿ってＭＥＭＳ流量モジュール（５８）を通る流れを生じさせるように、この下部流れポート（７４）上に配置される。
2007526079.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の身体領域内部の圧力に対応するためのインプラントであって、
流路を備え、前記第１の身体領域と流体的に相互接続するのに適合された管と、
前記流路内に配置されたＭＥＭＳ流量モジュールと、
を備え、
前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、
第１のバッフルを含む流量調節器と、
第１の流れポートを含む第１のプレートと、
を備え、
前記第１のバッフルは、前記第１の流れポートと位置合わせされており、前記第１のバッフルは、前記ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧変化に応じて前記第１のプレートから前記第１のバッフルまでの間隔の大きさを変化させるように前記第１のプレートに対して移動可能であることを特徴とするインプラント。
【請求項２】
前記第１のバッフルは、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの方向に対応する軸線に沿って移動可能であることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項３】
前記第１のバッフルは、前記第１のプレートと間隔が空いた位置関係に常に配置されることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項４】
前記第１のバッフルを前記第１のプレートと移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねをさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項５】
前記第１のバッフルを前記第１のプレートと移動可能に相互接続する複数のばねをさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項６】
前記第１のバッフルと前記第１のプレートとの間の空間によって定められる第１の流れチャネルをさらに備え、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの少なくとも一部は、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れチャネルを通過することを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項７】
前記第１のプレートに対する前記第１のバッフルの移動中はいつでも、前記第１のバッフルと前記第１のプレートとの間の距離が、前記第１のバッフルの範囲全体にわたって均等であることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項８】
前記第１のプレートは、複数の前記第１の流れポートの第１のグループを備え、前記第１のバッフルは、前記第１のグループにおける前記第１の流れポートの各々と位置合わせされることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項９】
前記第１のグループにおける前記第１の流れポートのいずれかを通るすべての流れは、前記第１のバッフルの外周部の周囲を進まなければならないことを特徴とする、請求項８に記載のインプラント。
【請求項１０】
前記第１のバッフルは、複数のバッフル流れポートを備え、前記第１のグループにおける前記複数の第１の流れポートおよび前記複数のバッフル流れポートは、いずれかの所与の前記第１の流れポートを通る流れが前記複数のバッフル流れポートのいずれかを通って流れるために方向を変えなければならないように配列されることを特徴とする、請求項８に記載のインプラント。
【請求項１１】
前記第１のバッフルは、前記流れが前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの方向を変えるように配置されることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項１２】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れは、前記第１のバッフルに直角力を及ぼすことを特徴とする、請求項１１に記載のインプラント。
【請求項１３】
前記第１の流れポートから離れる方向への前記第１のバッフルの最大移動量を制限するための手段をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項１４】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、受動装置であることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項１５】
前記第１のプレートは、複数の前記第１の流れポートを備え、前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、複数の前記第１のバッフルと、各々の前記第１のバッフルを前記第１のプレートと離して相互接続する少なくとも１つのばねとをさらに備え、少なくとも１つの前記第１の流れポートは、前記第１のバッフルの各々と関連することを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項１６】
前記第１のバッフルと前記第１のプレートとを移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねと、
第２の流れポートを備え、前記第１のバッフルから離れた第２のプレートであって、前記第１のバッフルが前記第１のプレートと前記第２のプレートとの間に配置されており、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの少なくとも一部が前記第２の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く、第２のプレートと、
前記第１のプレートと前記第２のプレートとを相互接続する環状支持体と、
をさらに備え、
前記第１のプレート、前記第２のプレート、および前記環状支持体は、共同で密閉空間を定めることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項１７】
前記第２のプレートは、前記第１のバッフルと位置合わせされた少なくとも１つの過圧止めを備えることを特徴とする、請求項１６に記載のインプラント。
【請求項１８】
前記第１のバッフルは、第１の製造レベルに少なくとも存在し、前記第１のプレートは、前記第１の製造レベルから離れた第２の製造レベルに少なくとも存在することを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項１９】
前記ＭＥＭＳ流量モジュール内の前記第１のバッフルの位置が、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって前記第１のバッフルに及ぼされる圧力に応じて決まり、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前記流れの流量が、前記ＭＥＭＳ流量モジュール内の前記第１のバッフルの位置に応じて決まり、前記第１のバッフルは、前記流れが前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの方向を変えることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２０】
前記第１のバッフルは、前記第１のプレートの向こう側に、且つ前記第１の流れポートの上を覆う位置関係で、移動可能に吊られており、前記第１のバッフルと前記第１のプレートとの間の間隔が、第１の流れチャネルを定め、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れが、前記第１のバッフルにより前記第１の流れチャネルを通って進むようにさせられ、前記第１のバッフルと前記第１のプレートとの間の前記間隔の大きさが、可変であり、且つ、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れによって前記第１のバッフルに及ぼされる圧力に応じて決まることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２１】
前記第１のバッフルは、前記ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧の上昇に対して、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量の比例増加を上回る増加をもたらすように、前記第１のプレートに対して移動することを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２２】
前記第１のバッフルの位置は、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れによって前記第１のバッフルに及ぼされる圧力に応じて決まり、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前記流れの流量は、前記第１のバッフルの位置に応じて決まることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２３】
前記第１の身体領域は、眼の前眼房であることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２４】
前記第１のバッフルは、前記ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の一定の差圧が達成されるまで、前記第１のプレートと接していることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２５】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールと関連する第１のハウジングをさらに備え、前記第１のハウジングおよび前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、一括して前記流路内に配置されることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２６】
前記インプラントが取り付けられたときに生体物質または生体流体に曝されることがある前記第１のハウジングおよび前記ＭＥＭＳ流量モジュールの全表面に、自己組織化単分子膜コーティングをさらに備えることを特徴とする、請求項２５に記載のインプラント。
【請求項２７】
前記自己組織化単分子膜コーティングは、ポリエチレングリコールであることを特徴とする、請求項２６に記載のインプラント。
【請求項２８】
前記インプラントが取り付けられたときに生体物質または生体流体に曝されることがある前記ＭＥＭＳ流量モジュールの全表面に、自己組織化単分子膜コーティングをさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項２９】
第１のハウジングと、
前記第１のハウジング内に少なくとも一部が配置され、第１の流路を備えた第２のハウジングと、
前記第１の流路を通るすべての流れが中を通って誘導されるように前記第２のハウジングに取り付けられたＭＥＭＳフィルタ要素と、
を備えることを特徴とするフィルタ・アセンブリ。
【請求項３０】
前記第１のハウジングは、剛体、変形体、またはこれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３１】
前記第１のハウジングは、第１の端部および第２の端部、並びに、前記第１の端部と前記第２の端部との間に延びる開口部を備え、前記第２のハウジングは、前記開口部内に配置されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３２】
前記第２のハウジングは、剛体であることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３３】
前記第２のハウジングは、ポリメチルメタクリレート、チタン、移植可能な金属、および移植可能なプラスチックからなる群から選択された材料から形成されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３４】
前記第２のハウジングは、円筒形の外側壁を備えることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３５】
前記ＭＥＭＳフィルタ要素は、前記第２のハウジング内の奥まった所に置かれることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３６】
前記第２のハウジングは、第１の端部と第２の端部とを備え、前記第１の流路は、前記第１の端部と前記第２の端部との間に延び、前記ＭＥＭＳフィルタ要素は、前記第２のハウジング内の前記第１の端部と前記第２の端部との間のどこかに配置されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３７】
前記第２のハウジングは、第１の端部と第２の端部とを備え、前記第１の流路は、前記第１の端部と前記第２の端部との間に延び、前記ＭＥＭＳフィルタ要素は、前記第２のハウジングの前記第１の端部に配置されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３８】
前記第１のハウジング内に少なくとも一部が配置された第３のハウジングをさらに備え、前記第３のハウジングは、第２の流路を備え、前記ＭＥＭＳフィルタ要素は、前記第２のハウジングと前記第３のハウジングとの間に、したがって前記第１の流路と前記第２の流路との間に挟まれることを特徴とする、請求項３７に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項３９】
前記ＭＥＭＳフィルタ要素は、前記第２のハウジングに対して固定位置に維持されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項４０】
前記ＭＥＭＳフィルタ要素は、前記第２のハウジングに接合されることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項４１】
前記フィルタ・アセンブリは、インプラントであることを特徴とする、請求項２９に記載のフィルタ・アセンブリ。
【請求項４２】
ＭＥＭＳ流量モジュールであって、
第１の流れポートと、
前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの方向に対応する軸線に沿って移動可能な調整要素と、
を備え、
前記調整要素の位置は、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れによって前記調整要素に及ぼされる圧力に応じて決まり、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前記流れの流量は、前記調整要素の位置に応じて決まることを特徴とするＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４３】
前記第１の流れポートを備える第１のプレートをさらに備えることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４４】
前記第１のプレートは、該第１のプレートから離れて向かい合う前記調整要素の表面と平行であることを特徴とする、請求項４３に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４５】
前記調整要素は、前記第１のプレートと間隔が空いた位置関係に常に配置されることを特徴とする、請求項４３に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４６】
前記調整要素を前記第１のプレートと移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねをさらに備えることを特徴とする、請求項４３に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４７】
前記調整要素を前記第１のプレートと移動可能に相互接続する複数のばねをさらに備えることを特徴とする、請求項４３に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４８】
前記調整要素と前記第１のプレートとの間の空間によって定められる第１の流れチャネルをさらに備え、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの少なくとも一部は、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れチャネルを通過することを特徴とする、請求項４３に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項４９】
前記第１のプレートに対する前記調整要素の移動中はいつでも、前記調整要素と前記第１のプレートとの間の距離が、前記調整要素の範囲全体にわたって均等であることを特徴とする、請求項４３に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５０】
複数の前記第１の流れポートの第１のグループを備える第１のプレートをさらに備え、前記調整要素は、前記第１のグループにおける各々の前記第１の流れポートと位置合わせされることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５１】
前記第１のグループにおける前記第１の流れポートのいずれかを通るすべての流れは、前記調整要素の外周部の周囲を進まなければならないことを特徴とする、請求項５０に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５２】
前記調整要素は、複数の調整要素流れポートを備え、前記第１のグループにおける前記複数の第１の流れポートおよび前記複数の調整要素流れポートは、いずれかの所与の前記第１の流れポートを通る流れが前記複数の調整要素流れポートのいずれかを通って流れるために方向を変えなければならないように配列されることを特徴とする、請求項５０に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５３】
前記調整要素は、前記流れが前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの方向を変えるように配置されることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５４】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れは、前記調整要素に直角力を及ぼすことを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５５】
前記第１の流れポートから離れる方向への前記調整要素の最大移動量を制限するための手段をさらに備えることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５６】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、受動装置であることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５７】
第１のプレートと、
前記調整要素と前記第１のプレートとを移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねと、
をさらに備えることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５８】
複数の前記第１の流れポートを備える第１のプレートと、
少なくとも１つの前記第１の流れポートが各々の前記調整要素と関連する、複数の前記調整要素と、
各々の前記調整要素を前記第１のプレートと離して相互接続する少なくとも１つのばねと、
をさらに備えることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項５９】
前記第１の流れポートを備える第１のプレートと、
前記調整要素と前記第１のプレートとを移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねと、
第２の流れポートを備え、前記調整要素から離れた第２のプレートであって、前記調整要素が前記第１のプレートと前記第２のプレートとの間に配置されており、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの少なくとも一部が前記第２の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く、第２のプレートと、
前記第１のプレートと前記第２のプレートとを相互接続する環状支持体と、
をさらに備え、
前記第１のプレート、前記第２のプレート、および前記環状支持体は、共同で密閉空間を定めることを特徴とする、請求項４２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６０】
前記第２のプレートは、前記調整要素と位置合わせされた少なくとも１つの過圧止めを備えることを特徴とする、請求項５９に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６１】
ＭＥＭＳ流量モジュールであって、
第１の流れポートと、
移動可能な調整要素と、
を備え、
前記ＭＥＭＳ流量モジュール内の前記調整要素の位置が、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって前記調整要素に及ぼされる圧力に応じて決まり、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前記流れの流量が、前記ＭＥＭＳ流量モジュール内の前記調整要素の位置に応じて決まり、前記調整要素は、前記流れが前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの方向を変えることを特徴とするＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６２】
前記第１の流れポートを備える第１のプレートをさらに備えることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６３】
前記第１のプレートは、該第１のプレートから離れて向かい合う前記調整要素の表面と平行であることを特徴とする、請求項６２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６４】
前記調整要素は、前記第１のプレートと間隔が空いた位置関係に常に配置されることを特徴とする、請求項６２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６５】
前記調整要素を前記第１のプレートと移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねをさらに備えることを特徴とする、請求項６２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６６】
前記調整要素を前記第１のプレートと移動可能に相互接続する複数のばねをさらに備えることを特徴とする、請求項６２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６７】
前記調整要素と前記第１のプレートとの間の空間によって定められる第１の流れチャネルをさらに備え、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの少なくとも一部は、前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く前に、前記第１の流れチャネルを通過することを特徴とする、請求項６２に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６８】
複数の前記第１の流れポートの第１のグループを備える第１のプレートをさらに備え、前記調整要素は、前記第１のグループにおける各々の前記第１の流れポートと位置合わせされることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項６９】
前記第１のグループにおける前記第１の流れポートのいずれかを通るすべての流れは、前記調整要素の外周部の周囲を進まなければならないことを特徴とする、請求項６８に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７０】
前記調整要素は、複数の調整要素流れポートを備え、前記第１のグループにおける前記複数の第１の流れポートおよび前記複数の調整要素流れポートは、いずれかの所与の前記第１の流れポートを通る流れが前記複数の調整要素流れポートのいずれかを通って流れるために方向を変えなければならないように配列されることを特徴とする、請求項６８に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７１】
前記調整要素は、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの方向に対応する軸線に沿って移動可能であることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７２】
前記第１のプレートに対する前記調整要素の移動中はいつでも、前記調整要素と前記第１のプレートとの間の距離が、前記調整要素の範囲全体にわたって均等であることを特徴とする、請求項７１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７３】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れは、前記調整要素に直角力を及ぼすことを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７４】
前記第１の流れポートから離れる方向への前記調整要素の最大移動量を制限するための手段をさらに備えることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７５】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、受動装置であることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７６】
第１のプレートと、
前記調整要素と前記第１のプレートとを移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねと、
をさらに備えることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７７】
複数の前記第１の流れポートを備える第１のプレートと、
少なくとも１つの前記第１の流れポートが各々の前記調整要素と関連する、複数の前記調整要素と、
各々の前記調整要素を前記第１のプレートと離して相互接続する少なくとも１つのばねと、
をさらに備えることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７８】
前記第１の流れポートを備える第１のプレートと、
前記調整要素と前記第１のプレートとを移動可能に相互接続する少なくとも１つのばねと、
第２の流れポートを備え、前記調整要素から離れた第２のプレートであって、前記調整要素が前記第１のプレートと前記第２のプレートとの間に配置されており、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れの少なくとも一部が前記第２の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く、第２のプレートと、
前記第１のプレートと前記第２のプレートとを相互接続する環状支持体と、
をさらに備え、
前記第１のプレート、前記第２のプレート、および前記環状支持体は、共同で密閉空間を定めることを特徴とする、請求項６１に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項７９】
前記第２のプレートは、前記調整要素と位置合わせされた少なくとも１つの過圧止めを備えることを特徴とする、請求項７８に記載のＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項８０】
少なくとも実質的な密閉空間と、第１の流れポートと、第２の流れポートとを備えるハウジングと、
前記ハウジングを通り、前記第１の流れポートと前記第２の流れポートとを流体的に接続する第１の流路と、
前記密閉空間内に配置され、前記ハウジングと移動可能に相互接続された調整要素と、
を備え、
前記調整要素と前記ハウジングの一部との間の間隔が、前記第１の流路の第１の流れチャネルを定め、前記第１の流れチャネルの容積が、前記第１の流れポートを通って前記ハウジングに入る流れによって前記調整要素に及ぼされる圧力に応じて決まり、前記第２の流れポートを通って前記密閉空間から出て行く前記流れの流量が、前記ハウジング内の前記調整要素の位置に応じて決まることを特徴とするＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項８１】
ＭＥＭＳ流量モジュールであって、
第１の流れポートを備える第１のプレートと、
前記第１のプレートの向こう側に、且つ前記第１の流れポートの上を覆う位置関係で、移動可能に吊られた調整要素と、
を備え、
前記調整要素と前記第１のプレートとの間の間隔が、第１の流れチャネルを定め、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れが、前記調整要素により前記第１の流れチャネルを通って進むようにさせられ、前記調整要素と前記第１のプレートとの間の前記間隔の大きさが、可変であり、且つ、前記第１の流れポートを通って前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れによって前記調整要素に及ぼされる圧力に応じて決まることを特徴とするＭＥＭＳ流量モジュール。
【請求項８２】
第１の供給源からの流体出力を調節するための方法であって、
流体を、前記第１の供給源からＭＥＭＳ流量モジュールを通して第２の供給源に誘導するステップと、
前記誘導するステップの間に前記第１の供給源の圧力を調節するステップであって、前記ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧の上昇に対して前記ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量の比例増加を上回る増加をもたらすステップと、
前記第１の供給源と流体的に接続された前記ＭＥＭＳ流量モジュールを通る連続的な開放流路をフィルタ処理するステップであって、前記第２の供給源から前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入り、少なくとも第１の大きさのものであり、前記ＭＥＭＳ流量モジュールを通って前記第１の供給源に戻る前記流路に沿って進もうとする成分を、前記ＭＥＭＳ流量モジュール内で保持することを含むステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項８３】
前記第１の供給源は、人間の眼の前眼房、頭蓋リザーバ、および薬剤リザーバからなる群から選択され、前記第２の供給源は、環境を含むことを特徴とする、請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
前記第１の供給源は、人工リザーバおよび生体リザーバからなる群から選択されることを特徴とする、請求項８２に記載の方法。
【請求項８５】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールは、前記調節するステップのための調整要素を備えることを特徴とする、請求項８２に記載の方法。
【請求項８６】
前記調節するステップは、前記ＭＥＭＳ流量モジュール内の前記調整要素の位置を変えることを含むことを特徴とする、請求項８５に記載の方法。
【請求項８７】
前記ＭＥＭＳ流量モジュールに入る前記流れが前記調整要素に直角力を及ぼすように、前記調整要素を位置決めするステップをさらに含むことを特徴とする、請求項８５に記載の方法。
【請求項８８】
前記調節するステップは、前記流れが前記ＭＥＭＳ流量モジュール内に誘導される方向に対応する軸線に沿って前記調整要素を移動させることを含むことを特徴とする、請求項８５に記載の方法。
【請求項８９】
インプラントを作るための方法であって、
ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて複数の孔を形成することを含む、フィルタ要素を製造するステップと、
前記フィルタ要素をインプラントのハウジングの通路に配置するステップと、
を含み、前記通路を通る流れが、前記フィルタ要素を通して誘導されることを特徴とする方法。
【請求項９０】
前記フィルタ要素と第１のハウジングとを組み立ててフィルタ・アセンブリにするステップをさらに含み、前記組み立てるステップは、前記フィルタ要素を前記第１のハウジングに対して固定位置に維持することを含み、前記配置するステップは、前記組み立てるステップの後に前記フィルタ・アセンブリを前記インプラントのハウジングの前記通路に配置することを含むことを特徴とする、請求項８９に記載の方法。
【請求項９１】
前記第１のハウジングは、前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項９０に記載の方法。
【請求項９２】
前記組み立てるステップは、前記フィルタ要素を前記第１のハウジング内に配置することを含むことを特徴とする、請求項９０に記載の方法。
【請求項９３】
前記組み立てるステップは、前記フィルタ要素を前記第１のハウジングの第１の開放端に取り付けることを含むことを特徴とする、請求項９０に記載の方法。
【請求項９４】
前記フィルタ要素は、わずか約５０μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを備え、前記孔は、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延びることを特徴とする、請求項９０に記載の方法。
【請求項９５】
ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて前記第１のハウジングを製造するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項９０に記載の方法。
【請求項９６】
前記第１のハウジングを製造するステップであって、Ｘ線、極紫外線、深紫外線、またはこれらのいずれかの組み合わせからなる群から選択された光に感光材料を露光させることを含むステップをさらに含むことを特徴とする、請求項９０に記載の方法。
【請求項９７】
前記フィルタ要素と第１のハウジングと第２のハウジングとを組み立ててフィルタ・アセンブリにするステップをさらに含み、前記組み立てるステップは、前記フィルタ要素を前記第２のハウジング内に配置することを含み、前記組み立てるステップは、前記第２のハウジングの少なくとも一部を前記第１のハウジング内に配置することをさらに含み、前記フィルタ要素を配置する前記ステップは、前記フィルタ・アセンブリを前記インプラントのハウジングの前記通路に配置することを含むことを特徴とする、請求項８９に記載の方法。
【請求項９８】
前記第２のハウジングを前記第１のハウジングに対して固定位置に維持するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項９７に記載の方法。
【請求項９９】
前記フィルタ要素を前記第２のハウジングに対して固定位置に維持するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項９８に記載の方法。
【請求項１００】
前記フィルタ要素を前記第２のハウジングに対して固定位置に維持するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項９７に記載の方法。
【請求項１０１】
前記フィルタ要素は、わずか約５０μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを備え、前記孔は、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延びることを特徴とする、請求項９７に記載の方法。
【請求項１０２】
前記第２のハウジングの少なくとも一部を配置する前記ステップは、前記フィルタ要素を前記第２のハウジング内に配置する前記ステップの後に行われることを特徴とする、請求項９７に記載の方法。
【請求項１０３】
前記第１のハウジングおよび前記第２のハウジングの各々は、前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項９７に記載の方法。
【請求項１０４】
前記フィルタ要素と第１のハウジングと第２のハウジングと第３のハウジングとを組み立ててフィルタ・アセンブリにするステップをさらに含み、前記組み立てるステップは、前記第２のハウジングの第１の端部を前記第１のハウジング内に配置し、前記第３のハウジングの第１の端部を前記第１のハウジング内に配置し、前記第２のハウジングの前記第１の端部と前記第３のハウジングの前記第１の端部との間に前記フィルタ要素を配置することを含み、前記フィルタ要素を配置する前記ステップは、前記フィルタ・アセンブリを前記インプラントのハウジングの前記通路に配置することを含むことを特徴とする、請求項８９に記載の方法。
【請求項１０５】
前記第２のハウジングおよび前記第３のハウジングの各々を前記第１のハウジングに対して固定位置に維持するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１０４に記載の方法。
【請求項１０６】
前記フィルタ要素を前記第２のハウジングおよび前記第３のハウジングの各々に対して固定位置に維持するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１０５に記載の方法。
【請求項１０７】
前記フィルタ要素を、前記第１のハウジング、前記第２のハウジング、および前記第３のハウジングの各々に対して固定位置に維持するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１０４に記載の方法。
【請求項１０８】
前記第２のハウジングの第１の端部を配置する前記ステップを行う前に、前記フィルタ要素を前記第２のハウジングの前記第１の端部に位置決めするステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１０４に記載の方法。
【請求項１０９】
前記フィルタ要素は、わずか約５０μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを備え、前記孔は、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延びることを特徴とする、請求項１０４に記載の方法。
【請求項１１０】
前記第１のハウジング、前記第２のハウジング、および前記第３のハウジングの各々は、前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項１０４に記載の方法。
【請求項１１１】
インプラントを作るための方法であって、
Ｘ線、極紫外線、深紫外線、またはこれらのいずれかの組み合わせからなる群から選択された光に第１の感光材料を露光させることを含む、フィルタ要素を製造するステップと、
Ｘ線、極紫外線、深紫外線、またはこれらのいずれかの組み合わせからなる群から選択された光に第２の感光材料を露光させることを含む、第１のハウジングを製造するステップと、
前記フィルタ要素と前記第１のハウジングとを組み立ててフィルタ・アセンブリにするステップと、
前記フィルタ・アセンブリをインプラントのハウジングの通路に配置するステップと、
を含み、前記通路を通る流れが、前記フィルタ要素を通過することを特徴とする方法。
【請求項１１２】
前記第１のハウジングは、前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１１３】
前記組み立てるステップは、前記フィルタ要素を前記第１のハウジング内に配置することを含むことを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１１４】
前記組み立てるステップは、前記フィルタ要素を前記第１のハウジングの第１の開放端に取り付けることを含むことを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１１５】
前記第１のハウジングは、第１の通路を備え、前記フィルタ要素は、前記第１の通路に配置され、前記第１のハウジングは、前記フィルタ要素の周囲に配置されることを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１１６】
前記フィルタ要素は、わずか約５０μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを備え、複数の孔が、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延びることを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１１７】
前記フィルタ・アセンブリは、第２のハウジングをさらに備えることを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１１８】
前記組み立てるステップは、
前記フィルタ要素の位置を前記第２のハウジングに対して固定することと、
前記第１のハウジングが前記フィルタ要素の周囲に配置されるように、前記第２のハウジングの少なくとも一部を前記第１のハウジング内に配置することと、
前記第２のハウジングの位置を前記第１のハウジングに対して固定することと、
をさらに含むことを特徴とする、請求項１１７に記載の方法。
【請求項１１９】
前記フィルタ要素の位置を固定する前記ステップは、前記第２のハウジングの少なくとも一部を配置する前記ステップの前に行われることを特徴とする、請求項１１８に記載の方法。
【請求項１２０】
前記第１のハウジングおよび前記第２のハウジングの各々は、前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項１１８に記載の方法。
【請求項１２１】
前記フィルタ要素は、わずか約５０μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを備え、複数の孔が、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延びることを特徴とする、請求項１１８に記載の方法。
【請求項１２２】
Ｘ線、極紫外線、深紫外線、またはこれらのいずれかの組み合わせからなる群から選択された光に第３の感光材料を露光させることを含む、前記第２のハウジングを製造するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１１７に記載の方法。
【請求項１２３】
前記組み立てるステップは、
前記フィルタ要素を前記第２のハウジング内に配置するステップと、
前記第２のハウジングの少なくとも一部を前記第１のハウジング内に配置するステップと、
をさらに含むことを特徴とする、請求項１１７に記載の方法。
【請求項１２４】
前記組み立てるステップは、
前記フィルタ要素を前記第１のハウジング内に配置するステップと、
前記フィルタ・アセンブリの第２のハウジングの少なくとも一部を前記第１のハウジング内に配置するステップと、
前記フィルタ・アセンブリの第３のハウジングの少なくとも一部を前記第１のハウジング内に配置するステップと、
をさらに含み、
前記フィルタ要素は、前記第２のハウジングと前記第３のハウジングとの間に配置されることを特徴とする、請求項１１１に記載の方法。
【請求項１２５】
前記組み立てるステップは、第２のハウジングを配置する前記ステップを行う前に、前記第２のハウジングの端部に前記フィルタ要素を位置決めするステップをさらに含み、前記第１のハウジングは、第２のハウジングを配置する前記ステップの後に、前記フィルタ要素の周囲に配置されることを特徴とする、請求項１２４に記載の方法。
【請求項１２６】
前記第２のハウジングおよび前記第３のハウジングの各々は、前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項１２４に記載の方法。
【請求項１２７】
前記フィルタ要素は、わずか約５０μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを備え、前記孔は、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延びることを特徴とする、請求項１２４に記載の方法。
【請求項１２８】
通路を備えたインプラントのハウジングと、
前記通路に配置された流量アセンブリと、
を備え、前記流量アセンブリは、微細加工された装置と第１のハウジングとを備え、前記第１のハウジングは、第１の通路を備え、前記通路を通る流れが、前記微細加工された装置を通って誘導されることを特徴とするインプラント。
【請求項１２９】
前記微細加工された装置は、前記第１のハウジング内に配置されることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１３０】
前記微細加工された装置は、前記第１のハウジングの第１の開放端に取り付けられることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１３１】
前記流量アセンブリは、少なくとも一部が前記第１のハウジング内に配置された第２のハウジングをさらに備え、前記微細加工された装置の位置が、前記第２のハウジングに対して固定されており、前記第１のハウジングは、前記微細加工された装置の周囲に配置されることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１３２】
前記微細加工された装置は、前記第２のハウジン内に配置されることを特徴とする、請求項１３１に記載のインプラント。
【請求項１３３】
前記微細加工された装置は、前記第２のハウジンの第１の開放端と接続され、前記第１の開放端は、前記第１のハウジング内に配置されることを特徴とする、請求項１３１に記載のインプラント。
【請求項１３４】
前記第２のハウジングの位置が、前記第１のハウジングに対して固定されることを特徴とする、請求項１３１に記載のインプラント。
【請求項１３５】
前記流量アセンブリは、第２のハウジングと第３のハウジングとをさらに備え、前記第２のハウジングおよび前記第３のハウジングは、前記微細加工された装置が前記第２のハウジングと前記第３のハウジングとの間に配置され且つその各々と接した状態で、端部同士が接した位置関係に配置され、前記第２のハウジングおよび前記第３のハウジングの各々は、前記第１のハウジングが前記微細加工されたフィルタ要素の周囲に配置されるように、少なくとも一部が前記第１のハウジング内に配置されることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１３６】
前記第２のハウジングおよび前記第３のハウジングの各々の位置が、前記第１のハウジングに対して固定されることを特徴とする、請求項１３５に記載のインプラント。
【請求項１３７】
前記第１のハウジングは、少なくとも前記インプラントが生体物質に取り付けられたときに、前記インプラントのハウジングより剛性が高いものであることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１３８】
前記インプラントは、眼の内部の眼圧を解放するのに適合されていることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１３９】
前記微細加工された装置は、間隔が空いた位置関係に配置された第１のフィルムと第２のフィルムとを備えることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１４０】
前記微細加工された装置は、フィルタであることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１４１】
前記微細加工された装置は、ＬＩＧＡフィルタ要素であることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１４２】
前記微細加工された装置は、圧力調節器を備えることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【請求項１４３】
前記微細加工された装置は、
第１のバッフルを備えた流量調節器と、
第１の流れポートを備えた第１のプレートと、
を備え、前記第１のバッフルは、前記第１の流れポートと位置合わせされており、前記第１のバッフルは、前記ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧変化に応じて前記第１のプレートから前記第１のバッフルまでの間隔の大きさを変化させるように前記第１のプレートに対して移動可能であることを特徴とする、請求項１２８に記載のインプラント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、微細加工装置の分野に関し、より特定的には、微細加工された流量モジュールまたはＭＥＭＳ流量モジュールを有し、該ＭＥＭＳ流量モジュールが該ＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れを調節する移動可能なバッフルを用いるインプラントに関する。
【背景技術】
【０００２】
眼の中の高い内圧が、視神経に損傷を与え、失明につながる可能性がある。眼には、２つの主な部屋、すなわち一般にレンズによって分離される前眼房と後眼房とが存在する。房水は前眼房内に存在し、一方、硝子体液は後眼房内に存在する。一般に、眼の中の内圧の上昇は、眼から排出される流体より眼の中で生成される流体の量が多いことによって引き起こされる。一般に、眼圧上昇の主な要因は眼の前眼房内の流体であると考えられている。
【０００３】
【特許文献１】米国特許第６，０８２，２０８号
【特許文献２】米国特許出願公報第２００３／０２１２３８３号
【特許文献３】米国特許第３，７８８，３２７号
【特許文献４】米国特許第５，７４３，８６８号
【特許文献５】米国特許第５，８０７，３０２号
【特許文献６】米国特許第６，６２６，８５８号
【特許文献７】米国特許第６，６３８，２３９号
【特許文献８】米国特許第６，５３３，７６８号
【特許文献９】米国特許第６，５９５，９４５号
【特許文献１０】米国特許第６，６６６，８４１号
【特許文献１１】米国特許第６，７３６，７９１号
【非特許文献１】"Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ  ｏｆ  Ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ”，（２ｎｄ  ｅｄ．  ２００２）（ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ，Ｂｏｃａ  Ｒａｔｏｎ，Ｆｌｏｒｉｄａ）
【発明の開示】
【０００４】
眼の中の高い内圧に対処する１つの提案解決法が、インプラントを取り付けることである。インプラントは、典型的には、前眼房を眼の外側の場所と流体的に接続するように、患者の眼の壁を通して方向が合わせられる。このタイプのインプラントに関して、多数の問題点がある。１つは、視神経に損傷を与える可能性を減少させるように眼の中の内圧の変化に対応するインプラントの能力である。もう１つは、細菌などがインプラントを通って患者の眼の内部に入る可能性を減少させるインプラントの能力である。
【０００５】
本発明の第１の態様は、一般に、フィルタ・アセンブリに向けられる。このフィルタ・アセンブリは、第１のハウジングと、第２のハウジングと、ＭＥＭＳフィルタ要素とを含む。第２のハウジングは、少なくとも一部が第１のハウジング内に配置され、第１の流路を含む。ＭＥＭＳフィルタ要素は、第１の流路を通るすべての流れがＭＥＭＳフィルタ要素を通して誘導されるように第２のハウジングに取り付けられる。
【０００６】
本発明の第１の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第１の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。フィルタ・アセンブリは、インプラントなどのいずれかの適切な用途に用いることができる。第１のハウジングは、いずれかの適切な大きさおよび／または構成のものとすることができ、さらに、いずれかの材料または材料の組み合わせから形成することができる。例えば、第１のハウジングは、剛体、変形体とするか、または、剛性の高い成分と変形可能な成分との組み合わせから形成することができる。
【０００７】
第１の態様によって用いられる第２のハウジングは、ＭＥＭＳフィルタ要素に構造的な完全性を与えることができる。例えば、第２のハウジングは、剛構造とするか、または、少なくともＭＥＭＳフィルタ要素より剛性が高いものとすることができる。第２のハウジングを形成することができる代表的な材料として、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、チタン、並びに、他の移植可能な金属およびプラスチックが挙げられるが、これらに限定されるものではない。第２のハウジングは、いずれかの適切な形状（例えば、円柱）のものとすることができるが、典型的には、少なくとも一部が何らかの方法で第１のハウジング内に配置されるのに適している。この点に関して、第１のハウジングは、第２のハウジングの全長に沿って（例えば、第２のハウジングの各々の端部を、第１のハウジングの対応する端部と同一平面にするか、または内側の奥まった所に置くようにすることができる）、または第２のハウジングの長さの一部のみに沿って（例えば、第２のハウジングの一方の端部または両方の端部を、第１のハウジングの対応する端部を越えて延ばすことができる）、第２のハウジングの周囲に配置することができる。
【０００８】
第１の態様の場合には、第２のハウジングは、第１のハウジングに対して静止した位置または固定された位置に維持されることが好ましい。例えば、第２のハウジングを第１のハウジングに接合するか、第１のハウジングと第２のハウジングとの間で圧入を利用するか、第１のハウジングを第２のハウジングの周囲に焼嵌めするか、または、これらのいずれかの組み合わせとすることができる。第３のハウジングは、少なくとも一部が第１のハウジングの中に配置され、ＭＥＭＳフィルタ要素は、第２のハウジングおよび第３のハウジングの隣接する端部の間に配置され、好ましくは第２のハウジングおよび第３のハウジングの少なくとも一方に取り付けられる。こうした第３のハウジングも、第２のハウジングと同様に第１のハウジングに対して静止した位置または固定された位置に維持されることが好ましい。
【０００９】
第１の態様によって用いられるＭＥＭＳフィルタ要素は、フィルタに加えて１つまたは複数の機能（例えば、圧力調節）を提供することができる。ＭＥＭＳフィルタ要素に関して多くの位置が適切なものとなり得る。例えば、ＭＥＭＳフィルタ要素は、第２のハウジング内の奥まった所に置くことができる。第２のハウジングが第１の端部および第２の端部を含み、第１の流路がこれらの第１の端部および第２の端部の間に延びる場合を考える。ＭＥＭＳフィルタ要素は、これらの第１の端部および第２の端部の間のどこにでも設置することができる。別の選択肢は、ＭＥＭＳフィルタ要素を第２のハウジングの第１の端部または第２の端部に取り付けことである。
【００１０】
第１の態様の場合には、ＭＥＭＳフィルタ要素を第２のハウジングに取り付けるいずれかの適切な方法を用いることができる。例えば、ＭＥＭＳフィルタ要素を第２のハウジングに接合するか、ＭＥＭＳフィルタ要素と第２のハウジングとの間で圧入を行うか、またはその両方とすることができる。いずれの場合においても、ＭＥＭＳフィルタ要素は、第２のハウジングに対して固定された位置に維持されることが好ましい。
【００１１】
本発明の第２の態様は、ＭＥＭＳ流量モジュールに向けられる。このＭＥＭＳ流量モジュールは、第１の流れポートと移動可能な調整要素とを含む。調整要素の位置は、少なくとも部分的に、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって調整要素に及ぼされる圧力に応じて決まり、一方、次にＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流れの流量は、調整要素の位置に応じて決まる。
【００１２】
本発明の第２の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第２の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。ＭＥＭＳ流量モジュールは、（いかなるタイプの外部信号も必要としない）受動装置であり、いずれかの適切な用途に用いることができる。例えば、ＭＥＭＳ流量モジュールは、（例えば、人工リザーバ、生体リザーバ、および／または、環境といったいずれかの適切なタイプの供給源の組の間にある）いずれかのタイプの流路内に配置することができる。すなわち、ＭＥＭＳ流量モジュールは、多数の（例えば、２またはそれより多い）供給源を流体的に相互接続する管内に配置することができ、各々の供給源は、人工リザーバ、生体リザーバ、環境、または他のいずれかの供給源とすることができる。１つの例は、眼の前眼房と眼の角膜の外側の場所との間に延びる管の中にＭＥＭＳ流量モジュールを配置することである。別の例は、眼の前眼房と眼の強膜の外側の別の場所との間に延びる管の中にＭＥＭＳ流量モジュールを配置することである。さらに別の例は、眼の前眼房と眼の内部の（例えば、シュレム管の中への）別の場所または身体の内部の別の場所との間に延びる管の中にＭＥＭＳ流量モジュールを配置することである。いずれの場合においても、ＭＥＭＳ流量モジュールをこうした管の中に直接配置することができ、または、（例えば、上述のＭＥＭＳフィルタ要素を第２の態様のＭＥＭＳ流量モジュールに代える場合には、第１の態様に従って）１つまたは複数のハウジングを用いて、ＭＥＭＳ流量モジュールを管と一体化させることができる。
【００１３】
第２の態様の１つの実施形態においては、調整要素の移動が、圧力調節機能を提供する。別の実施形態においては、ＭＥＭＳ流量モジュールは、第１の方向にＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れについて圧力調節を行い、第１の方向と反対の第２の方向にＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れをフィルタ処理する。患者の眼の眼圧を解放するためにＭＥＭＳ流量モジュールをインプラントに用い、ＭＥＭＳ流量モジュールが患者の眼の前眼房と別の場所（例えば、眼の外側、または、シュレム管などの眼の中のどこか他の場所）との間の流路内に配置される場合を考える。ＭＥＭＳ流量モジュールは、前眼房の圧力を所望の方法で調節するように患者の眼の前眼房から出て行く流体の流れを調節するのに用いることができ、この前眼房の中に導かれる、ＭＥＭＳ流量モジュールを通るあらゆる「逆流」をフィルタ処理することができる。ＭＥＭＳ流量モジュールは、この場合および他の場合においては、ＭＥＭＳ流量モジュールを層流が通るように設計することができるが、ＭＥＭＳ流量モジュールは、乱流が通るように応用することもできる。
【００１４】
第２の態様のＭＥＭＳ流量モジュールは第１のプレートを含み、第１のプレートは第１の流れポートを含むことができる。第１のプレートを通る第１の流れポートは、いずれかの適切な大きさおよび／または形状のものとすることができる。好ましくは、第１のプレートは、該第１のプレートから離れて向かい合う調整要素の表面（調整要素の少なくとも概ね横方向の範囲）と平行である。１つの実施形態においては、調整要素は、常に、第１のプレートと間隔が空いた位置関係に配置される。別の実施形態においては、第１の流れポートを通る流れが少なくとも一定の圧力を調整要素に及ぼして該調整要素を第１のプレートから離れる方向に移動させるまで、調整要素が第１のプレートの上に配置されるようになっている。
【００１５】
第２の態様の場合には、少なくとも１つのばねを用いて、調整要素を上述の第１のプレートと移動可能に相互接続することができる。こうしたばねの各々は、いずれかの適切な大きさおよび／または構成のものとすることができるが、調整要素より剛性が低いものとすべきである。典型的には、調整要素が、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの圧力の変化に応じて移動するときに、その方向を少なくとも実質的に維持することを可能にするように、多数のばねが用いられる。
【００１６】
第２の態様の場合には、調整要素と上述の第１のプレートとの間の空間によって、第１の流れチャネルが定められ得る。第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れは、第１の調整要素によって、この第１の流れチャネルの中に方向転換させることができる。この第１の流れチャネルは、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの方向に対して直角であることを含む少なくとも概ね横方向の寸法において、少なくとも全体的に延びるものとすることができる。いずれの場合においても、ＭＥＭＳ流量モジュールを通る流路は、調整要素がＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れの方向を少なくとも１度変化させた結果として、（幾何学的に）非線形であることが好ましい。
【００１７】
第２の態様の場合には、上述の第１の流れチャネルは、常にゼロより大きい容積を有するものとすることができる。この第１の流れチャネルの少なくとも１つの寸法は、第１の流れチャネルを通って第１の流れポートの方向に進む流れに対するフィルタ・トラップを提供するように選択することができる。調整要素の外周部と、その下の関連する第１の流れポートを有する第１のプレートとの間の間隔が、このフィルタ・トラップをもたらすことになる。別の選択肢は、調整要素から下にある第１のプレートの方向に下向きに延びる環状フィルタ壁を含むようにすることである。こうしたあらゆる環状フィルタ壁は、この環状フィルタ壁が第１のプレート上に突出したときに、結果として得られる領域が第１の流れポートを囲むような寸法であることが好ましい。このタイプの多数の環状フィルタ壁は、多数の第１の流れポートが調整要素と関連付けられる場合に用いられ得る（例えば、各々の第１の流れポートは、関連する環状フィルタ壁を有することが好ましい）。第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールから出て行こうとする流れに対して制御された間隔をもたらすように、いずれかの適切なタイプ／構成のフィルタ壁を用いることができる。
【００１８】
第２の態様の場合における上述の第１のプレートは、複数の第１の流れポートの第１のグループを含むことができ、調整要素は、この第１のグループにおける第１の流れポートの各々と位置合わせされる。すなわち、多数の第１の流れポートを通る流れが、全体として調整要素に作用を及ぼすようにすることができる。第１のグループにおける第１の流れポートを通るいかなる流れも、ＭＥＭＳ流量モジュールを出て行く前に、調整要素の外周部の周囲を進まなければならない。１つまたは複数の調整要素流れポートもまた、調整要素を通って延びるものとすることができる。複数の第１の流れポートおよび複数の調整要素流れポートは、所与の第１の流れポートを通るあらゆる流れが方向を変えて必ず調整要素流れポートのいずれかを通って流れるように配置されることが好ましい。１つまたは複数の調整要素流れポートは、所与の調整要素が単一の第１の流れポートのみを利用する場合にも（例えば、調整要素に作用する圧力が、主として単一の第１の流れポートを通る流れからのものである場合に）、実装することができる。
【００１９】
第２の態様の場合には、第１の流れポートを通る流れによって調整要素に及ぼされる圧力は、第１の流れポートに対する調整要素の位置に関して影響を与える。次に、調整要素の位置は、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量を決定する。一般に、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量は、調整要素と第１の流れポートとの間の間隔が大きくなるのに伴って増加し、調整要素と第１の流れポートとの間の間隔が小さくなるのに伴って減少することになる。この点に関して、調整要素と関連させることができる多数の特徴が存在する。１つは、好ましくは、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュール内に進む流れが調整要素と接する（例えば、この流れの流線が、調整要素と交差する）ように調整要素が位置決めされることである。さらにこの点に関して、調整要素は、この流れが好ましくは調整要素に直角に作用する（例えば、この流れから調整要素に及ぼされる力が、調整要素の対応する表面と「直角をなす」）ように位置決めされる。調整要素の位置は、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって調整要素に及ぼされる圧力に応じて（調整要素と関連する多数の第１の流れポートが存在する場合には少なくとも部分的に、調整要素が単一の第１の流れポートと関連する場合にはおそらく完全に）決まる。この圧力の少なくとも一定の上昇は、調整要素を第１の流れポートからさらに離れる方向に移動させ（例えば、上述の第１の流れチャネルの大きさを増大させる）、一方、それに続くこの圧力の低下は、調整要素を第１の流れポートに近づけるように移動させる（例えば、上述の第１の流れチャネルの大きさを減少させる）。
【００２０】
圧力変化に応じた調整要素の上述の移動自体が、多数の特徴の対象となる。１つは、好ましくは、調整要素の向きがこの移動の間に少なくとも実質的に維持されることである。もう１つは、調整要素が、少なくとも実質的に軸線方向にのみ移動することである。もう１つは、調整要素と、その下にある第１のプレートとの間の距離が、この第１のプレートの上面と向かい合う調整要素の表面全体にわたって少なくとも実質的に同じ量だけ変化することである。さらにもう１つは、上述の第１の流れチャネルの断面積（調整要素と、少なくとも１つの第１の流れポートを有する第１のプレートとの間の空間）が、横方向の寸法において、すなわち第１の流れチャネルの「長さ」に沿って、均等に変化することである。
【００２１】
第２の態様のＭＥＭＳ流量モジュールは、各々が少なくとも１つの関連する第１の流れポートを有する上述のタイプの複数の調整要素を含むことができる。これらの調整要素の各々は、少なくとも１つのばね、より好ましくは複数のばねによって、共通の第１のプレートの上に別々に取り付けることができる。ＭＥＭＳ流量モジュールはまた、第２のプレートを含むことができ、第２のプレートは、対応する第１の流れポートを通る流れから調整要素にかかる圧力の上昇に応じて調整要素が移動する方向に、調整要素と間隔が開いた位置関係に配置される。こうした第２のプレートのいずれも、好ましくは少なくとも１つの、より好ましくは複数の、第２の流れポートを含む。この第２のプレートは、ＭＥＭＳ流量モジュールによって用いられる調整要素ごとに各々の第１の流れポートを有する第１のプレートに固定することができる。好ましくは、少なくとも１つの環状支持体（例えば、閉じた外周を定めるように基準軸の周りに３６０度延びるあらゆる構成）は、こうしたすべての第１のプレートおよび第２のプレートを相互接続し、すべての第１の流れポートおよびすべての第２の流れポートは、この環状支持体の内側に位置決めされることが好ましい。この第２のプレートは、調整要素と第１のプレートとの間の最大間隔を制限するように、調整要素ごとに少なくとも１つの過圧止めを含むことができる。調整要素が、第１のプレートに固定された１つまたは複数のばねによって移動可能に相互接続される代わりに、こうしたばねの各々を第２のプレートに固定することができる。別の選択肢は、１つまたは複数のばねが調整要素と第１のプレートとの間に延びるようにすること、および、１つまたは複数のばねを調整要素と第２のプレートとの間に延ばして、調整要素が流れ制御の目的で移動できるようにすることである。
【００２２】
第３の態様は、第１の供給源から出力される流体を調節するための方法に向けられる。第１の供給源からの流体は、ＭＥＭＳ流量モジュールを通して第２の供給源に誘導される。第１の供給源の圧力は、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量の増加がＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧の上昇と比べて比例的に大きくなるように、ＭＥＭＳ流量モジュールによって調節される。ＭＥＭＳ流量モジュールはまた、第１の供給源と流体的に接続されたＭＥＭＳ流量モジュールを通る連続的な開流路をフィルタ処理する。第２の供給源からＭＥＭＳ流量モジュールに入り、少なくとも第１の大きさのものであり、ＭＥＭＳ流量モジュールを通って第１の供給源の方向に戻る流路に沿って進もうとする成分は、ＭＥＭＳ流量モジュール内で保持される。
【００２３】
本発明の第３の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第３の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。第１および第２の供給源の各々は、いずれかの適切なタイプ、大きさ、および構成のもの（例えば、人工的なもの、生体的なもの、環境）とすることができる。１つの実施形態においては、第１の供給源は、患者の眼の前眼房であり、第２の供給源は、環境または眼の外側といった別の適切な場所、または、眼の内部の（例えば、シュレム管の中への）別の場所若しくは体の内部の別の場所である。第２の態様のＭＥＭＳ流量モジュールは、この第３の態様に関して用いることができる。
【００２４】
本発明の第４の態様は、第１の身体領域内部の圧力に対応するためのインプラントに向けられる。インプラントは、流路を有し、第１の身体領域と流体的に相互接続するのに適合された管を含む。ＭＥＭＳ流量モジュールは、流路内に配置され、流量調節器を含み、流量調節器は、第１のバッフルまたは調整要素を含む。ＭＥＭＳ流量モジュールは、第１のプレートも含む。第１の流れポートは、第１のプレートを通って延び、第１のバッフルは、第１の流れポートと位置合わせされる。第１のバッフルは、ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧変化に応じて第１のプレートから第１のバッフルまでの間隔の大きさを変化させるように、第１のプレートに対して移動可能である。
【００２５】
本発明の第４の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第４の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。インプラントは、いずれかの適切な用途に用いることができる。１つの例は、管を眼の前眼房と眼の角膜の外側の場所との間に延びるようにすることである。別の例は、管を眼の前眼房と眼の強膜の外側の別の場所との間に延びるようにすることである。さらに別の例は、管を眼の前眼房と眼の内部の（例えば、シュレム管の中への）別の場所または身体の内部の別の場所との間に延びるようにすることである。
【００２６】
第４の態様によって用いられる管は、ＭＥＭＳ流量モジュールとすることができる特定のインプラント用途のためのいずれかの適切な構成のものとすることができる。（第１の態様に関して説明されたＭＥＭＳフィルタ要素を、この第４の態様のＭＥＭＳ流量モジュールに代える場合には）第１の態様などに従って、１つまたは複数のハウジングを用いることを含む、ＭＥＭＳ流量モジュールを管と一体化させるいずれかの方法を用いることができる。ＭＥＭＳ流量モジュールは、いずれかの適切な方法で管の流路内に保持することもできる。好ましくは、ＭＥＭＳ流量モジュールは、（いかなるタイプの外部信号も必要としない）受動装置である。ＭＥＭＳ流量モジュールおよび／またはそれに関連するいずれかのハウジングの種々の表面に、生体適合性を改善し、こうした表面をより親水性にし、および／または生物付着の可能性を低減させるコーティングを含む、いずれかの適切なコーティングを施すことができるが、これらに限定されるものではない。１つの実施形態においては、自己組織化単分子膜コーティング（例えば、ポリエチレングリコール）が、いずれかの適切な方法（例えば、液相、または気相が好ましい技術である場合には気相）で、ＭＥＭＳ流量モジュールおよび管の中に位置決めするためにＭＥＭＳ流量モジュールを一体化させたいずれかのハウジングのすべての露出面に、施される。このタイプのコーティングは、本明細書において説明される本発明の他の態様に関して用いることもできる。
【００２７】
表面微細加工は、第４の態様のＭＥＭＳ流量モジュールを作るための好ましい技術である。この点に関して、ＭＥＭＳ流量モジュールは、相互に離れた少なくとも２つの異なるレベル（これ以降、第１の製造レベルおよび第２の製造レベルとする）に作ることができる。第１のバッフルまたは調整要素は、少なくとも第１の製造レベルに作ることができ、一方、第１のプレートは、少なくとも第２の製造レベルに作ることができる。「第１の製造レベル」にある第１のバッフルおよび「第２の製造レベル」にある第１のプレートの特性は、決して第１の製造レベルが「第１に」堆積させられるものであり、第２の製造レベルが「第２に」堆積させられるものである必要がないことを認識されたい。さらに、第１の製造レベルと第２の製造レベルとが直接に隣接することは必要とされない。１つの実施形態においては、ＭＥＭＳ流量モジュールは、適切な基板上に作られており、そこでは、第１のプレートは、基板と、第１のバッフルが作られる別の構造層との間のどこかに配置された１つの構造層に製造される。
【００２８】
第１のバッフルおよび第１のプレートの一方または両方は、各々が単一の製造レベルに存在するものとするか、または、多数の製造レベルに存在するものとすることができる。「製造レベル」は、（例えば、構造層またはフィルムの単一の堆積によって）犠牲材料のいずれかの上部層を形成しなければならなくなる前に構造材料の堆積によって形成することができるものに相当する。上述の第１の例においては、単一の製造レベルにおける構造材料の堆積は、少なくとも概ね平坦な層を定めることができる。第１の例に関する別の選択肢は、下の製造レベルにおける下の構造層に向かって下向きに延びるが下の構造層までは延びない１つまたは複数の構造体に加えて、少なくとも概ね平坦な部分を定めるように、単一の製造レベルに構造材料を堆積させるためのものである。いずれの状況においても、開放エッチングの前に、少なくとも幾つかの場合において、第１のバッフル全体と第１のプレートとの間に配置される少なくともある厚さの犠牲材料が存在することになる。
【００２９】
上述の第２の例においては、隣接する製造レベルの２つまたはそれ以上の構造層またはフィルムは、界面が直接接する（例えば、一方が直接的に他方の上にある）位置関係で配置させることができる。第１のバッフルまたは第１のプレートを定めることになる領域の上では、このことは、次の製造レベルにおいて構造材料を堆積させる前に、１つの製造レベルにおいて構造材料の上に堆積させられる犠牲材料の除去を必要とすることになる。上述の第２の例に関する別の選択肢は、第１のバッフルおよび／または第１のプレートについての異なる製造レベルにおける構造層またはフィルムの間の分離を維持するが、適切な構造的な相互接続（例えば、間隔が空いた異なる製造レベルにおける隣接する構造層若しくはフィルムの間に延びる、複数の柱、支柱など）を両者間に与えることである。
【００３０】
第４の態様の１つの実施形態においては、第１のバッフルの移動が、圧力調節機能をもたらす。別の実施形態においては、ＭＥＭＳ流量モジュールは、第１の方向にＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れについて圧力調節を行い、第１の方向とは反対の第２の方向にＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れをフィルタ処理する。患者の眼の眼圧を軽減するためにインプラントを用い、患者の眼の前眼房と別の場所（例えば、眼の外側、または、眼若しくは体内のいずれか他の場所）との間の流路内にＭＥＭＳ流量モジュールが配置される場合を考える。ＭＥＭＳ流量モジュールは、所望の方法で前眼房の圧力を調節するように患者の眼の前眼房からの流体の流れを調節するのに用いることができ、ＭＥＭＳ流量モジュールを通って、この前眼房に誘導されるあらゆる「逆流」をフィルタ処理することができる。ＭＥＭＳ流量モジュールは、この例および他の例において、層流が通るように設計することができるが、ＭＥＭＳ流量モジュールは、乱流が通るように応用することもできる。
【００３１】
第４の態様のＭＥＭＳ流量モジュールは第１のプレートを含み、第１のプレートは第１の流れポートを含む。第１のプレートを貫く第１の流れポートは、いずれかの適切な大きさおよび／または形状のものとすることができる。好ましくは、第１のプレートは、該第１のプレートから離れて向かい合う第１のバッフルの表面（第１のバッフルの少なくとも概ね横方向の範囲）と平行である。１つの実施形態においては、第１のバッフルは、常に、第１のプレートと間隔が空いた位置関係に配置される。別の実施形態においては、第１の流れポートを通る流れが少なくとも一定の圧力を第１のバッフルに及ぼして第１のバッフルを第１のプレートから離れる方向に移動させるまで、第１のバッフルが第１のプレートの上に配置されるようになっている。すなわち、第１のバッフルおよび第１のプレートを間隔が空いた異なるレベルに作ることができる場合でも、一定の差圧がＭＥＭＳ流量モジュールの両端に存在し、その時点で第１のバッフルが第１のプレートから離れる方向に移動するまで、第１のプレートに対して（および、第１の流れポート上に）第１のバッフルを付勢するように１つまたは複数のバイアスばねなどを製造し、構成することができる。従って、ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧の変化に応じた、第１のバッフルと第１のプレートとの間の「間隔の大きさの変化」は、最初は第１のバッフルが第１のプレートと接しており、その後、第１のプレートから離れる方向に移動することを意図するものである。
【００３２】
第４の態様の場合には、少なくとも１つのばねを用いて、第１のバッフルを上述の第１のプレートと移動可能に相互接続することができる。こうしたばねの各々は、いずれかの適切な大きさおよび／または構成のものとすることができるが、第１のバッフルより剛性が低いものとすべきである。典型的には、第１のバッフルが、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの圧力の変化に応じて移動するときに、その方向を少なくとも実質的に維持することを可能にするように、多数のばねが用いられる。
【００３３】
第４の態様の場合には、第１のバッフルと上述の第１のプレートとの間の空間によって、第１の流れチャネルが定められ得る。第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れは、第１のバッフルによって、この第１の流れチャネルの中に方向転換させることができる。この第１の流れチャネルは、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの方向に対して直角であることを含む少なくとも概ね横方向の寸法において、全体的に延びるものとすることができる。いずれの場合においても、ＭＥＭＳ流量モジュールを通る流路は、第１のバッフルがＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れの方向を少なくとも１度変化させた結果として、（幾何学的に）非線形であることが好ましい。
【００３４】
第４の態様の場合には、上述の第１の流れチャネルは、常にゼロより大きい容積を有するものとすることができる。この第１の流れチャネルの少なくとも１つの寸法は、第１の流れチャネルを通って第１の流れポートの方向に進む流れに対するフィルタ・トラップとなるように選択することができる。第１のバッフルの外周部と、その下の関連する第１の流れポートを有する第１のプレートとの間の間隔が、このフィルタ・トラップをもたらすことになる。別の選択肢は、第１のバッフルから下にある第１のプレートの方向に下向きに延びる環状フィルタ壁を含むようにすることである。こうしたあらゆる環状フィルタ壁は、この環状フィルタ壁が第１のプレート上に突出したときに、結果として得られる領域が第１の流れポートを囲むような寸法であることが好ましい。このタイプの多数の環状フィルタ壁は、多数の第１の流れポートが第１のバッフルと関連付けられる場合に用いることができる（例えば、各々の第１の流れポートは、関連する環状フィルタ壁を有することが好ましい）。第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールから出て行こうとする流れに対して制御された間隔をもたらすように、いずれかの適切なタイプ／構成のフィルタ壁を用いることができる。
【００３５】
第４の態様の場合における上述の第１のプレートは、複数の第１の流れポートの第１のグループを含むことができ、第１のバッフルは、この第１のグループにおける第１の流れポートの各々と位置合わせされる。すなわち、多数の第１の流れポートを通る流れが、全体として第１のバッフルに作用を及ぼすようにすることができる。第１のグループにおける第１の流れポートを通るいかなる流れも、ＭＥＭＳ流量モジュールを出て行く前に、第１のバッフルの外周部の周囲を進まなければならない。１つまたは複数のバッフル流れポートもまた、第１のバッフルを通って延びるものとすることができる。複数の第１の流れポートおよび複数のバッフル流れポートは、所与の第１の流れポートを通るあらゆる流れが方向を変えて必ずバッフル流れポートのいずれかを通って流れるように配置されることが好ましい。１つまたは複数のバッフル流れポートは、所与の第１のバッフルが単一の第１の流れポートのみを利用する場合にも（例えば、第１のバッフルに作用する圧力が、主として単一の第１の流れポートを通る流れからのものである場合に）、実装することができる。
【００３６】
第４の態様の場合には、第１の流れポートを通る流れによって第１のバッフルに及ぼされる圧力は、第１の流れポートに対する第１のバッフルの位置に関して影響を与えることがある。次に、第１のバッフルの位置は、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量を決定する。一般に、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量は、第１のバッフルと第１の流れポートとの間の間隔が大きくなるのに伴って増加し、第１のバッフルと第１の流れポートとの間の間隔が小さくなるのに伴って減少することになる。この点に関して、第１のバッフルと関連させることができる多数の特徴が存在する。１つは、好ましくは、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュール内に進む流れが第１のバッフルと接する（例えば、この流れの流線が、第１のバッフルと交差する）ように第１のバッフルを位置決めすることである。さらにこの点に関して、第１のバッフルは、この流れが好ましくは第１のバッフルに直角に作用する（例えば、この流れから第１のバッフルに及ぼされる力が、第１のバッフルの対応する表面と「直角をなす」）ように位置決めされる。第１のバッフルの位置は、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって第１のバッフルに及ぼされる圧力に応じて（第１のバッフルと関連する多数の第１の流れポートが存在する場合には少なくとも部分的に、第１のバッフルが単一の第１の流れポートと関連する場合にはおそらく完全に）決まる。この圧力の少なくとも一定の上昇は、第１のバッフルを第１の流れポートからさらに離れる方向に移動させ（例えば、上述の第１の流れチャネルの大きさを増大させる）、一方、それに続くこの圧力の低下は、第１のバッフルを第１の流れポートに近づけるように移動させる（例えば、上述の第１の流れチャネルの大きさを減少させる）。
【００３７】
圧力変化に応じた第１のバッフルの上述の移動自体が、多数の特徴の対象となる。１つは、好ましくは、第１のバッフルの方向がこの移動の間に少なくとも実質的に維持されることである。もう１つは、第１のバッフルが、少なくとも実質的に軸線方向に（例えば、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの方向に対応する軸に沿って）のみ移動することである。もう１つは、第１のバッフルと、その下にある第１のプレートとの間の距離が、この第１のプレートの上面と向かい合う第１のバッフルの表面全体にわたって少なくとも実質的に同じ量だけ変化することである。さらにもう１つは、上述の第１の流れチャネルの断面積（第１のバッフルと、少なくとも１つの第１の流れポートを有する第１のプレートとの間の空間）が、横方向の寸法において、すなわち第１の流れチャネルの「長さ」に沿って、均等に変化することである。
【００３８】
第４の態様のＭＥＭＳ流量モジュールは、各々が少なくとも１つの第１の流れポートを有する上述のタイプの複数の第１のバッフルを含むことができる。これらの第１のバッフルの各々は、少なくとも１つのばね、より好ましくは複数のばねによって、共通の第１のプレートの上に別々に取り付けることができる。ＭＥＭＳ流量モジュールはまた、第２のプレートを含むことができ、第２のプレートは、対応する第１の流れポートを通る流れから第１のバッフルにかかる圧力の上昇に応じて第１のバッフルが移動する方向に、第１のバッフルと間隔が空いた位置関係に配置される。こうした第２のプレートのいずれも、好ましくは少なくとも１つの、より好ましくは複数の、第２の流れポートを含む。この第２のプレートは、ＭＥＭＳ流量モジュールによって用いられる第１のバッフルごとに各々の第１の流れポートを有する第１のプレートに固定することができる。好ましくは、少なくとも１つの環状支持体（例えば、閉じた外周を定めるように基準軸の周りに３６０度延びるあらゆる構成）が、こうしたすべての第１のプレートおよび第２のプレートを相互接続し、すべての第１の流れポートおよびすべての第２の流れポートは、この環状支持体の内側に位置決めされることが好ましい。この第２のプレートは、第１のバッフルと第１のプレートとの間の最大間隔を制限するように、第１のバッフルごとに少なくとも１つの過圧止めを含むことができる。第１のバッフルが、第１のプレートに固定された１つまたは複数のばねによって移動可能に相互接続される代わりに、こうしたばねの各々を第２のプレートに固定することができる。別の選択肢は、１つまたは複数のばねが第１のバッフルと第１のプレートとの間に延びるようにすること、および、１つまたは複数のばねを第１のバッフルと第２のプレートとの間に延ばして、第１のバッフルが流れ制御の目的で移動できるようにすることである。
【００３９】
要約すれば、第４の態様によって用いられる第１のバッフルは、ＭＥＭＳ流量モジュールを通る流れを制御し、この流れ制御が、多数の特徴の対象となる。１つは、第１のバッフルの位置が、第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって第１のバッフルに及ぼされる圧力に応じて決まり、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流れの流量が、第１のバッフルの位置に応じて決まることである。もう１つは、ＭＥＭＳ流量モジュールの両端の差圧の上昇に対して、ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流量（第１の流れポートを通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れの少なくとも一部）の比例増加を上回る増加をもたらすように、第１のバッフルが構成され、第１のプレートに対して移動することである。
【００４０】
本発明の第５および第６の態様は、好ましくはＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて微細加工された少なくとも１つのハウジングとフィルタ・モジュール要素とを有するフィルタまたは流量アセンブリによって実現される。より具体的には、フィルタ要素は、少なくとも一部が、感光材料を通る孔の明瞭さと関連する短波長光を用いて（例えば、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて）、製造することができる。このフィルタ・アセンブリは、いずれかの適切な用途に用いることができる。しかしながら、フィルタ・アセンブリについて特に望ましい１つの用途は、インプラントである。本発明の第５から第７の態様は、この特定の用途に関して説明されることになる。しかしながら、本明細書において説明されるフィルタ・アセンブリは、いずれかの用途の要件とは無関係に提供できることを認識すべきである。
【００４１】
本発明の第５の態様は、一般に、インプラントを作るための方法に向けられる。この方法は、ＭＥＭＳ流量モジュールまたは要素を製造することを含む。この製造は、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いてフィルタ要素を完全に貫通して延びる複数の孔を形成することを伴う。このフィルタ要素は、インプラントのハウジングの通路に配置される。インプラントの通路を通る流れまたは他の移動は、フィルタ要素を通して誘導される。
【００４２】
本発明の第５の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第５の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。対象となっている第５の態様は、フィルタ要素が第１のハウジングに対して固定位置に維持されるようにフィルタ要素と第１のハウジングとを組み立ててフィルタ・アセンブリにすることを含むことができる。次いで、このフィルタ・アセンブリは、インプラントのハウジングの通路に配置することができる。好ましくは、この第１のハウジングは、フィルタ要素を保護および／または支持する。フィルタ要素は、１つの実施形態においてはわずか約５０μｍの距離だけ、別の実施形態においてはわずか１５μｍの距離だけ、さらに別の実施形態においては約５μｍの距離だけ離れた第１の主面と第２の主面とを有することができる（例えば、フィルタ要素は、円盤状にすることができる）。複数の孔は、これらの第１の主面と第２の主面との間に延びるものとすることができる。
【００４３】
上述の第１のハウジングは、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる。フィルタ要素は、第１のハウジングがフィルタ要素の周囲に配置される（例えば、「囲む」）ように、第１のハウジング内に配置することができる。例えば、フィルタ要素および第１のハウジングは、フィルタ要素が第１のハウジングの半径方向内側に配置される状態で、同心円上に配置することができる。フィルタ要素は、いずれかの適切な方法で第１のハウジングの第１の開放端に取り付ける（例えば、化学的に接合する）こともできる。
【００４４】
上述のフィルタ要素は、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて製造することができる。この場合においては、感光材料をパターン成形し現像して、感光材料からフィルタ要素の型を定めることができ、適切な材料（例えば、金属）をこの型の中に堆積させて（例えば、電気めっきして）、フィルタ要素の陽像を定めることができる。次いで、フィルタ要素の型を除去する（例えば、溶解させる）。ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いるための別の選択肢は、Ｘ線、極紫外線、または深紫外線を含むがこれらに限定されるものではない短波長を有する光に感光材料を露光させることによって、フィルタ要素を製造することである。次いで、感光材料は、現像後に残る感光材料の関連部分によってフィルタ要素の本体が定められるように、現像することができる（例えば、ポジ型レジスト・システムの場合には、感光材料の露光された部分が溶解され、ネガ型レジスト・システムの場合には、感光材料の露光されていない部分が溶解される）。短波長光は、実現され得る寸法制御が向上するため、いずれの場合にも好ましい。
【００４５】
対象となっている第５の態様は、フィルタ要素と、第１のハウジングと、第２のハウジングとを組み立てて、フィルタまたは流量アセンブリにすることを含むことができる。フィルタ要素は、（例えば、第２のハウジングがフィルタ要素の外周部の周囲に配置されるように）第２のハウジング内に配置することができる。第２のハウジングの少なくとも一部は、第１のハウジング内に配置することができる。１つの実施形態においては、フィルタ要素は、第２のハウジングが第１のハウジング内に配置される前に、第２のハウジング内に配置される。次いで、いずれの場合においても、このフィルタ・アセンブリは、インプラントのハウジングの通路に配置することができる。好ましくは、第１のハウジングおよび／または第２のハウジングは、フィルタ要素を保護および／または支持する。１つの実施形態においては、この場合のフィルタ要素も同様に、上述の間隔限界だけ離れ、かつ、孔が間に延びる、第１の主面と第２の主面とを有するものとすることができる。
【００４６】
上述の第２のハウジングは、いずれかの適切な方法（例えば、圧入、焼嵌め、接合）で、第１のハウジングに対して固定位置に維持することができる。フィルタ要素もまた、いずれかの適切な方法で、第２のハウジングに対して固定位置に維持することができる。好ましくは、フィルタ要素および第２のハウジングは、第１のハウジングおよび第２のハウジングのように、互いに固定位置に維持される。第１のハウジングおよび／または第２のハウジングは、（例えば、感光材料から型を定め、その後、型の中に材料を堆積させて関連するハウジングの本体を定めるために）ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて、または、（例えば、感光材料から直接、関連するハウジングを定めるために）短波長を有する光に適切な感光材料を露光させることによって、あるいはその両方で、製造することができる。さらに、第１のハウジングおよび第２のハウジングの一方または両方は、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる。
【００４７】
対象となっている第５の態様は、フィルタ要素と、第１のハウジングと、第２のハウジングと、第３のハウジングとを組み立てて、フィルタ・アセンブリにすることを含むことができる。第２のハウジングの第１の端部および第３のハウジングの第１の端部の各々は、フィルタ要素が第２のハウジングの第１の端部と第３のハウジングの第１の端部との間に配置されたときに第１のハウジングがフィルタ要素の周囲に配置されるように、第１のハウジング内に配置することができる。第２ハウジングの第１の端部と第３のハウジングの第１の端部とを第１のハウジング内に配置するために、いずれかの順序を用いることができる。１つの実施形態においては、フィルタ要素は、第１のハウジング内に配置される前に、第２のハウジングの第１の端部に位置決めされる。次いで、いずれの場合においても、このフィルタ・アセンブリは、インプラントのハウジングの通路に配置することができる。好ましくは、第１、第２、および第３のハウジングは、全体としてフィルタ要素を保護および／または支持する。１つの実施形態においては、この場合のフィルタ要素も同様に、上述の間隔限界だけ離れ、かつ、孔が間に延びる、第１の主面と第２の主面とを有するものとすることができる。
【００４８】
上述の第２のハウジングおよび第３のハウジングの各々は、いずれかの適切な方法（例えば、圧入、焼嵌め、接合）で、第１のハウジングに対して固定位置に維持することができる。フィルタ要素もまた、いずれかの適切な方法で、第２のハウジングと第３のハウジングの両方に対して固定位置に維持することができる。例えば、フィルタ要素は、第１のハウジング内に位置決めされたときに第２のハウジングおよび第３のハウジングの両方と接することのみによって、固定位置に維持することができる。別の選択肢は、第２のハウジングと第３のハウジングの両方を第１のハウジング内に配置する前に、第２のハウジングと第３のハウジングの一方または両方の第１の端部にフィルタ要素を取り付けることである。好ましくは、フィルタ要素は、第１、第２、および第３のハウジングの各々に対して固定位置に維持される。
【００４９】
第１、第２、および／または第３のハウジングは、（例えば、感光材料から型を定め、その後、型の中に材料を堆積させて関連するハウジングの本体を定めるために）ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて、または、（例えば、感光材料から直接、関連するハウジングを定めるために）短波長を有する光に適切な感光材料を露光させることによって、あるいはその両方で、製造することができる。さらに、第１、第２、および／または第３のハウジングの１つまたは複数は、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる。
【００５０】
本発明の第６の態様は、一般に、インプラントを作るための方法に向けられる。この方法は、Ｘ線、極紫外線、または深紫外線を含むがこれらに限定されるものではない短波長を有する光に感光材料を露光させることによって、フィルタ・アセンブリのためのフィルタ要素と第１のハウジングの両方を製造することを含む。このタイプの露光を用いてフィルタ要素および第１のハウジングの各々を製造した後に、それらを組み立ててフィルタ・アセンブリにする。次いで、このフィルタ・アセンブリは、インプラントのハウジングの通路に配置される。この通路を通る流れまたは他の移動は、フィルタ要素を通して誘導される。
【００５１】
本発明の第６の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第６の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。好ましくは、第１のハウジングは、フィルタ要素を保護および／または支持する。１つの実施形態においては、フィルタ要素は、第１の態様に関して記述された間隔限界だけ離れ、かつ、複数の孔が間に延びる、第１の主面と第２の主面とを有する。
【００５２】
第６の態様に関連する第１のハウジングは、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる。フィルタ要素は、第１のハウジングがフィルタ要素の周囲に配置される（例えば、「囲む」）ように、第１のハウジング内に配置することができる。例えば、フィルタ要素および第１のハウジングは、フィルタ要素が第１のハウジングの半径方向内側に配置される状態で、同心円上に配置することができる。フィルタ要素は、いずれかの適切な方法で、第１のハウジングの第１の開放端に取り付ける（例えば、化学的に接合する）こともできる。いずれの場合においても、第１のハウジングは、第１の通路を含むことができ、フィルタ要素は、この第１の通路の少なくともどこかに配置することができる。
【００５３】
対象となっている第６の態様は、フィルタ要素と、第１のハウジングと、第２のハウジングとを組み立てて、フィルタ・アセンブリにすることを含むことができる。１つの実施形態においては、フィルタ要素は、第２のハウジングに対して固定位置に維持され、第２のハウジングの少なくとも一部は、第１のハウジングがフィルタ要素の周囲に配置されるように第１のハウジング内に配置され、第２のハウジングは、第１のハウジングに対して固定位置に維持される。別の実施形態においては、フィルタ要素は、第２のハウジング内に配置され、第２のハウジングの少なくとも一部は、第１のハウジング内に配置される。いずれの場合においても、こうしたフィルタ・アセンブリは、以下の特性を個々にまたはいずれかを組み合わせて有する、すなわち、１）第２のハウジングに対するフィルタ要素の位置は、第２のハウジングの少なくとも一部が第１のハウジング内に配置される前に固定することができ、次いでその後、フィルタ・アセンブリをインプラントのハウジングの通路に配置することができる、２）フィルタ要素は、いずれかの適切な方法で第２のハウジングに対して固定位置に維持することができる、３）第２のハウジングは、いずれかの適切な方法（例えば、圧入、焼嵌め、接合）で、第１のハウジングに対して固定位置に維持することができる、４）フィルタ要素は、第１の態様に関して記述された間隔限界だけ離れ、かつ、複数の孔が間に延びる、第１の主面および第２の主面を有するものとすることができる、５）第１のハウジングおよび第２のハウジングの一方または両方は、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる、６）第１のハウジングおよび／または第２のハウジングは、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて、または、短波長を有する光に適切な感光材料を露光させることによって、あるいはその両方で、製造することができる。
【００５４】
対象となっている第６の態様はさらに、フィルタ要素と、第１のハウジングと、第２のハウジングと、第３のハウジングとを組み立てて、フィルタ・アセンブリにすることを含むことができる。こうしたフィルタ・アセンブリは、以下の特性を個々にまたはいずれかを組み合わせて有する、すなわち、１）第２のハウジングおよび第３のハウジングの各々は、いずれかの適切な方法（例えば、圧入、焼嵌め、接合）で、第１のハウジングに対して固定位置に維持することができる、２）フィルタ要素の位置は、いずれかの適切な方法で（例えば、第１のハウジング内に位置決めされたときに第２のハウジングおよび第３のハウジングの両方と接することのみによって、または、第２のハウジングと第３のハウジングの両方を第１のハウジング内に配置する前に、第２のハウジングと第３のハウジングの一方または両方の第１の開放端にフィルタ要素を取り付けることによって）、第１、第２、および第３のハウジングの各々に対して固定することができる、３）フィルタ要素は、第１のハウジング内に導かれる前に、第２のハウジングの開放端に位置決めすることができる、４）フィルタ要素は、第１の態様に関して記述された間隔限界だけ離れ、かつ、複数の孔が間に延びる、第１の主面および第２の主面を有するものとすることができる、５）第１、第２および第３のハウジングの１つまたは複数は、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる、６）第１、第２、および第３のハウジングの１つまたは複数は、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて、または、短波長を有する光に適切な感光材料を露光させることによって、あるいはその両方で、製造することができる。
【００５５】
第６の態様の場合には、短波長を有する光に感光材料を露光させることによって、フィルタ・アセンブリのフィルタ要素と少なくとも１つのハウジングとの両方を製造する。１つの実施形態においては、後に型の中に配置される材料が、関連するフィルタ要素またはフィルタ・アセンブリのハウジングの本体を定めるように、短波長光を用いて感光材料に型を形成する（ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩＧ」）。別の実施形態においては、感光材料の後の現像が、関連するフィルタ要素またはフィルタ・アセンブリのハウジングの本体を生成するように、短波長光を用いて感光材料をパターン形成する（ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩ」）。
【００５６】
本発明の第７の態様は、インプラントのハウジングまたは管と、フィルタまたは流量アセンブリとを有するインプラントによって実現される。インプラントのハウジングは、流量アセンブリが位置決めされる通路を含む。流量アセンブリの構成要素は、少なくとも第１のハウジングと、微細加工された装置とを含む。第１のハウジングは、第１の通路を含み、インプラントの通路を通る流れは、微細加工された装置を通して誘導される。
【００５７】
本発明の第７の態様に関して記述される特徴について種々の改良が存在する。さらなる特徴もまた、本発明の第７の態様に組み込むことができる。これらの改良および付加的な特徴は、個々にまたはいずれかの組み合わせとして、存在する場合がある。１つの実施形態においては、第１のハウジングは、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる。１つの実施形態においては、微細加工された装置は、第２から第４の態様までのＭＥＭＳ流量モジュールのいずれかの形態のものである。さらに別の実施形態においては、微細加工された装置は、第５および第６の態様に関して上述されたフィルタ要素のいずれかの形態のものである。
【００５８】
第７の態様の場合には、微細加工された装置は、第１のハウジング内に配置するか、または、第１のハウジングの開放端に取り付けることができる。流量アセンブリは、第１のハウジングが微細加工された装置の周囲に配置されるように、少なくとも一部が第１のハウジング内に配置された第２のハウジングを含むことができ、微細加工された装置の位置は、いずれかの適切な方法で、第２のハウジングに対して固定することができる。さらにこの点に関して、微細加工された装置は、第２のハウジング内に配置するか、または、第２のハウジングの開放端部と接続することができる。この第２のハウジングも、いずれかの適切な方法（例えば、圧入、焼嵌め、接合）で、第１のハウジングに対して固定位置に維持することができる。さらに、第２のハウジングは、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることができる。
【００５９】
第７の態様によって用いられる流量アセンブリは、第２のハウジングと第３のハウジングとをさらに含むことができる。第２のハウジングおよび第３のハウジングは、微細加工された装置が第２のハウジングと第３のハウジングとの間に配置され且つその各々と接した状態で、端部同士が接した位置関係に配置することができる。第２のハウジングおよび第３のハウジングの各々は、第１のハウジングが微細加工された装置の周囲に配置されるように、少なくとも一部を第１のハウジング内に配置することができる。好ましくは、第１、第２、および第３のハウジングは、全体として微細加工された装置を保護および／または支持する。この点に関して、第２のハウジングおよび第３のハウジングは、少なくともインプラントが対象となる生体物質に取り付けられたときに、インプラントのハウジングより剛性が高いものとすることもできる。さらに、微細加工された装置は、ＬＩＧＡフィルタ要素の形態にすることができ、第５の態様に関して記述された間隔限界だけ離れ、かつ、複数の孔が間に延びる、第１の主面と第２の主面とを有するものとすることができる。
【００６０】
上述の第２のハウジングおよび第３のハウジングの各々は、いずれかの適切な方法（例えば、圧入、焼嵌め、接合）で、第１のハウジングに対して固定位置に維持することができる。微細加工された装置もまた、いずれかの適切な方法で、第２のハウジングおよび第３のハウジングの両方に対して固定位置に維持することができる。例えば、微細加工された装置は、第１のハウジング内に位置決めされたときに第２のハウジングおよび第３のハウジングの両方と接することのみによって、固定位置に維持することができる。別の選択肢は、第２のハウジングおよび第３のハウジングの両方を第１のハウジング内に配置する前に、第２のハウジングおよび第３のハウジングの一方または両方の第１の端部に微細加工された装置を取り付けることである。好ましくは、微細加工された装置は、第１、第２、および第３のハウジングの各々に対して固定位置に維持される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６１】
ここでは、本発明の種々の適切な特徴を示すのに少なくとも役に立つ添付図面と関連させて、本発明を説明する。一般に、本明細書において説明される装置は、微細加工される。限定されるものではないが、ＬＩＧＡ（Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｅ、Ｇａｌｖｏｎｏｆｏｒｍｕｎｇ、Ａｂｆｏｒｍｕｎｇ）、ＳＬＩＧＡ（犠牲的ＬＩＧＡ）、バルク微細加工、表面微細加工、マイクロ放電加工（ＥＤＭ）、レーザ微細加工、３−Ｄステレオリソグラフィおよび他の技術を含む、「微細加工」と一般に特徴付けられる多数の微細加工技術が存在する。以下では、「ＭＥＭＳ装置」、「微細加工装置」などの用語は、１０ミクロン以下の形状の実現を可能にする技術を用いて作られるいずれかのこうした装置を意味する。
【００６２】
図１〜図２は、いずれかの適切な用途に用いることができるフィルタまたは流量アセンブリ１０の１つの実施形態を概略的に示す（例えば、流量アセンブリ１０は、いずれかのタイプの流れの中に配置するか、いずれかのタイプの流体の流れをフィルタ処理および／または調節するのに用いるか、（例えば、人工リザーバ、生体リザーバ、環境、若しくは他のいずれかの適切な供給源といった（一方が環境である場合を含む）多数の流体源若しくは圧力源、またはこれらのいずれかの組み合わせの間の）いずれかの適切なタイプの多数の供給源を流体的に相互接続する管の中に配置することができる）。１つの例は、眼の前眼房と眼の角膜の外側の場所との間に延びる管の中に流量アセンブリ１０を配置することである。別の例は、眼の前眼房と眼の強膜の外側の別の場所との間に延びる管の中に流量アセンブリ１０を配置することである。さらに別の例は、眼の前眼房と眼または身体の内部の別の場所との間に延びる管の中に（例えば、シュレム管の中に）流量アセンブリ１０を配置することである。
【００６３】
流量アセンブリ１０の構成要素は、外側ハウジング１４と、内側ハウジング１８と、ＭＥＭＳ流量モジュール２２とを含む。ＭＥＭＳ流量モジュール２２および内側ハウジング１８の位置は、組み立てられた状態におけるこれらの構成要素の相対的な位置を示す図２において、外側ハウジング１４の中に少なくとも概略的に示されており、外側ハウジング１４は透明構造の形態である必要はないことに留意されたい。ＭＥＭＳ流量モジュール２２および内側ハウジング１８のすべての細部が、必ずしも図２に示されているわけではない。
【００６４】
ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、図１〜図２においては概略的に示されているのみであり、フィルタ機能および圧力または流量調節機能のうちの少なくとも１つを提供する。ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、いずれかの適切な設計、大きさ、形状、および構成のものとすることができ、さらに、関連する微細加工技術によって用いられるのに適したいずれかの材料または材料の組み合わせから形成することができる。ＭＥＭＳ流量モジュール２２の露出面に、いずれかの適切なコーティングまたはコーティングの組み合わせを施すこともできる。例えば、コーティングは、ＭＥＭＳ流量モジュール２２の生体適合性を改善するためか、ＭＥＭＳ流量モジュール２２の露出面をより親水性にするためか、ＭＥＭＳ流量モジュール２２が何らかの生物付着を引き起こす可能性を低減させるためか、または、これらのいずれかの組み合わせのために、施すことができる。１つの実施形態においては、自己組織化単分子膜コーティング（例えば、ポリエチレングリコール）を、いずれかの適切な方法（例えば、液相、または、気相が好ましい技術である場合には、気相）で、ＭＥＭＳ流量モジュール２２のすべての露出面に施す。ＭＥＭＳ流量モジュール２２の主要な要件は、それがＭＥＭＳ装置であることである。
【００６５】
外側ハウジング１４および内側ハウジング１８の主な機能は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２に構造的な完全性を与えることまたはＭＥＭＳ流量モジュール２２を支持すること、さらにはＭＥＭＳ流量モジュール２２を保護することである。この点に関して、外側ハウジング１４および内側ハウジング１８の各々は、典型的には、その組み立ての際に、および流量アセンブリ１０を設計された用途で使用する際に、流量アセンブリ１０に及ぼされることが当然に予想される力による損傷からＭＥＭＳ流量モジュール２２を保護するのに十分な剛性を有する構造形態のものである。
【００６６】
内側ハウジング１８は、内側ハウジング１８を通って（示される実施形態においては、その両端部の間に）延びる中空内部すなわち流路２０を含む。ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、いずれかの適切な方法で、内側ハウジング１８内のいずれかの適切な位置において（例えば、内側ハウジング１８がＭＥＭＳ流量モジュール２２の周りに配置されるようないずれかの位置において）、内側ハウジング１８を通る流路２０の中に配置することができる。好ましくは、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、内側ハウジング１８に対して固定された位置に維持される。例えば、ＭＥＭＳ流量モジュール２２を、内側ハウジング１８の内側側壁に、またはこの内側側壁上に形成されたフランジに、取り付けまたは接合するか、内側ハウジング１８とＭＥＭＳ流量モジュール２２との間で圧入を行うか、またはこれらの組み合わせとすることができる。ＭＥＭＳ流量モジュール２２はまた、より詳細に後述する図４Ａ〜図４Ｂの実施形態のように、内側ハウジング１８の端部に取り付けることができる。
【００６７】
内側ハウジング１８は、少なくとも一部が外側ハウジング１４内に配置される（これにより、外側ハウジング１４が、内側ハウジング１８の全長に沿ってまたは内側ハウジング１８の長さの一部のみに沿って、内側ハウジング１８の周りに配置されることを含む）。この点に関して、外側ハウジング１４は、内側ハウジング１８を収容するための、および場合によっては他の適切な機能を提供するための、中空内部１６（例えば、内側ハウジング１８を通る流路２０と流体的に接続された流路）を含む。外側ハウジング１４の外側側壁および内側側壁は、円筒形とするか、または、内側ハウジング１８の外側側壁および内側側壁とすることができる他のいずれかの適切な形状とすることができる。内側ハウジング１８は、いずれかの適切な方法で、外側ハウジング１４に対して保持することができる。例えば、内側ハウジング１８を外側ハウジング１４の内側側壁に取り付けまたは接合するか、内側ハウジング１８と外側ハウジング１４との間で圧入を行うか、外側ハウジング１４と内側ハウジング１８との間で焼嵌めを行うか、またはこれらの組み合わせとすることができる。
【００６８】
内側ハウジング１８は、同様に図１〜図２において概略的に示されているのみであり、内側ハウジング１８は、いずれかの適切な大きさを有するいずれかの適切な形状／構成のものとすることができ、いずれかの材料または材料の組み合わせ（例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、チタン、並びに、他の移植可能な金属およびプラスチック）から形成することができる。典型的には、内側ハウジング１８の外形は、少なくともその一部が配置される外側ハウジング１４の内形に一致するようになっている。１つの実施形態においては、内側ハウジング１８について図示された円筒形の構成は、皮下注射針の原料から適切な長さを切断することによって得られる。内側ハウジング１８はまた、（例えば、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて）所望／所要の形状に作ることができる。しかしながら、内側ハウジング１８を作るあらゆる方法を利用することができる。内側ハウジング１８は、所望／所要のとおりに１つまたは複数のコーティング（例えば、電気めっきされた金属、すなわち、内側ハウジング１８の生体適合性を改善するためのコーティング、内側ハウジング１８の露出面をより親水性にするためのコーティング、内側ハウジング１８が何らかの生物付着を引き起こす可能性を低減させるためのコーティング、またはこれらの組み合わせ）を含むことができることも認識すべきである。１つの実施形態においては、自己組織化単分子膜コーティング（例えば、ポリエチレングリコール）が、いずれかの適切な方法（例えば、液相、または、気相が好ましい技術である場合には気相）で、内側ハウジング１８のすべての露出面に施される。
【００６９】
外側ハウジング１４は、同様に図１〜図２において概略的に示されているのみであり、外側ハウジング１４は、いずれかの適切な大きさを有するいずれかの適切な形状／構成のものとすることができ、いずれかの材料または材料の組み合わせ（例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、チタン、並びに、他の移植可能な金属およびプラスチック）から形成することができる。典型的には、外側ハウジング１４の外形は、少なくともその一部が配置されるかまたは他の方法で取り付けられるハウジングまたは管の内形に一致するようになっている。外側ハウジング１４は、（例えば、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて）所望／所要の形状に微細加工することができる。しかしながら、外側ハウジング１４を作るあらゆる方法を利用することができる。外側ハウジング１４は、所望／所要のとおりに１つまたは複数のコーティング（例えば、電気めっきされた金属、すなわち、外側ハウジング１４の生体適合性を改善するためのコーティング、外側ハウジング１４の露出面をより親水性にするためのコーティング、外側ハウジング１４が何らかの生物付着を引き起こす可能性を低減させるためのコーティング、またはこれらの組み合わせ）を含むことができることも認識すべきである。１つの実施形態においては、自己組織化単分子膜コーティング（例えば、ポリエチレングリコール）が、いずれかの適切な方法（例えば、液相、または、気相が好ましい技術である場合には気相）で、外側ハウジング１４のすべての露出面に施される。
【００７０】
フィルタまたは流量アセンブリの別の実施形態が、図３Ａ〜図３Ｂ（概略的な表現のみ）に示されており、参照数字２６によって特定されている。流量アセンブリ２６は、いずれかの適切な用途に用いることができる（例えば、流量アセンブリ２６は、いずれかのタイプの流れの中に配置するか、いずれかのタイプの流体の流れをフィルタ処理および／または制御するのに用いるか、（例えば、人工リザーバ、生体リザーバ、環境、若しくは他のいずれかの適切な供給源といった（一方が環境である場合を含む）多数の流体源若しくは圧力源、またはこれらのいずれかの組み合わせの間の）いずれかの適切なタイプの多数の供給源を流体的に相互接続する管の中に配置することができる）。流量アセンブリ１０についての上述の用途は、流量アセンブリ２６にも同様に適用可能である。流量アセンブリ１０に関して上述されたコーティングのタイプも同様に、流量アセンブリ２６で用いることができる。
【００７１】
流量アセンブリ２６の構成要素は、外側ハウジング３０と、第１の内側ハウジング３４と、第２の内側ハウジング３８と、ＭＥＭＳ流量モジュール２２とを含む。ＭＥＭＳ流量２２および内側ハウジング３４、３８は、組み立てられた状態におけるこれらの構成要素の相対的な位置を示す図３Ｂにおいて、外側ハウジング３０内に少なくとも概略的に示されており、外側ハウジング３０は透明構造の形態である必要はないことに留意されたい。ＭＥＭＳ流量モジュール２２および内側ハウジング３４、３８のすべての細部が、必ずしも図３Ｂに示されているわけではない。
【００７２】
外側ハウジング３０、第１の内側ハウジング３４、および第２の内側ハウジング３８の主な機能は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２に構造的な完全性を与えることまたはＭＥＭＳ流量モジュール２２を支持すること、さらにはＭＥＭＳ流量モジュール２２を保護することである。この点に関して、外側ハウジング３０、第１の内側ハウジング３４、および第２の内側ハウジング３８の各々は、典型的には、その組み立ての際に、および流量アセンブリ２６を設計された用途で使用する際に、流量アセンブリ２６に及ぼされることが当然に予想される力による損傷からＭＥＭＳ流量モジュール２２を保護するのに十分な剛性を有する構造形態のものである。
【００７３】
第１の内側ハウジング３４は、第１の内側ハウジング３４を通って延びる中空内部すなわち流路３６を含む。同様に、第２の内側ハウジング３８は、第２の内側ハウジング３８を通って延びる中空内部すなわち流路４０を含む。第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８は、端部同士を接した状態で配置され、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８の隣接する端部の間に配置される。従って、第１の流路３６を通って第２の流路４０に進む流れまたはその逆の流れは、ＭＥＭＳ流量モジュール２２を通過する。
【００７４】
好ましくは、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、各々の内側ハウジング３４、３８に対して固定された位置に維持され、その外周は、組み立てられ接合された状態で内側ハウジング３４、３８の隣接する側壁を越えて突出しない。例えば、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、（例えば、シアノ酢酸エステル、ＵＶ硬化性エポキシ、または他のエポキシを用いて）ＭＥＭＳ流量モジュール２２に構造的な完全性を与えるために、第１の内側ハウジング３４（より具体的には、その一方の端部）および第２の内側ハウジング３８（より具体的には、その一方の端部）のうちの少なくとも１つに接合することができ、より好ましくはその両方に接合することができる。別の選択肢は、少なくとも主として外側ハウジング３０に対して内側ハウジング３４、３８の各々の位置を固定することによって、流量アセンブリ２６におけるＭＥＭＳ流量モジュール２２の位置を固定することであろう（すなわち、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、必ずしもハウジング３４、３８のいずれかに接合される必要はない）。１つの実施形態においては、第１の内側ハウジング３４上に配置されたＭＥＭＳ流量モジュール２２を伴う該第１の内側ハウジング３４を外側ハウジング３０の中に押し込むことができるように、ＭＥＭＳ流量モジュール２２と第１の内側ハウジング３４との間に弾性材料を配置することができる（例えば、弾性材料は、外側ハウジング３０内に取り付けられている間はＭＥＭＳ流量モジュール２２を第１の内側ハウジング３４に対して所定の位置に少なくとも一時的に保持するのに十分な「粘着性」を有する）。外側ハウジング３０内の所定の位置において（すなわち、外側ハウジング３０が、ＭＥＭＳ流量モジュール２２の周りに配置されるように）、ＭＥＭＳ流量モジュール２２を内側ハウジング３４と３８との間に「サンドイッチ」するように、（第１の内側ハウジング３４が外側ハウジング３０の中に配置される前に、しかしながら配置された後の方がより適切である）第２の内側ハウジング３８を外側ハウジング３０の中に押し込むこともできる。ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、典型的には、外側ハウジング３０の中に配置されたときに、第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８の両方と接することになる。第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８の各々の位置を外側ハウジング３０に対して固定することによって、事実上、ＭＥＭＳ流量モジュール２２の位置が外側ハウジング３０に対して固定されることになる。
【００７５】
第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８はいずれも、少なくとも一部が外側ハウジング３０の中に配置され（これにより、外側ハウジング３０が、ハウジング３４、３８の全長に沿ってまたはハウジング３４、３８の長さの一部のみに沿って、ハウジング３４、３８のいずれかまたは両方の周りに配置されることを含む）、この場合も同様に、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８の隣接する端部の間に配置される。この点に関して、外側ハウジング３０は、第１の内側ハウジング３４の少なくとも一部と、第２の内側ハウジング３８の少なくとも一部と、その間に配置されるＭＥＭＳ流量モジュール２２とを収容するための、および場合によっては他の適切な機能（例えば、それぞれ第１および第２の内側ハウジング３４、３８を通る流路３６、４０と流体的に接続される流路）を提供するための、中空内部３２を含む。外側ハウジング３０の外側側壁および内側側壁は、円筒形とするか、または、内側ハウジング３４、３８の外側側壁および内側側壁とすることができる他のいずれかの適切な形状とすることができる。第１の内側ハウジング３４および第２の内側ハウジング３８はいずれも、図１〜図２の実施形態の内側ハウジング１８および外側ハウジング１４に関して上述された方法を含むいずれかの適切な方法で、外側ハウジング３０に固定することができる。
【００７６】
内側ハウジング３４、３８の各々は、同様に図３Ａ〜図３Ｂに概略的に示されているのみであり、各々は、いずれかの適切な大きさを有するいずれかの適切な形状／構成のものとすることができ、図１〜図２の実施形態の内側ハウジング１８と同じようにいずれかの材料または材料の組み合わせから形成することができる。典型的には、両方のハウジング３４、３８の外形は、少なくともそれらの一部が配置される外側ハウジング３０の内形に一致するようになっている。１つの実施形態においては、内側ハウジング３４、３８について図示された円筒形の構成は、皮下注射器針の原料から適切な長さを切断することによって得られる。内側ハウジング３４、３８の各々はまた、（例えば、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて）所望／所要の形状に微細加工することができる。しかしながら、内側ハウジング３４、３８を作るあらゆる方法を利用することができる。内側ハウジング３４、３８は、上述に従って所望／所要のとおりに１つまたは複数のコーティングを含むことができることも認識すべきである。
【００７７】
外側ハウジング３０は、同様に図３Ａ〜図３Ｂにおいて概略的に示されているのみであり、外側ハウジング３０は、いずれかの適切な大きさを有するいずれかの適切な形状／構成のものとすることができ、図１〜図２の実施形態の外側ハウジング１４と同じようにいずれかの材料または材料の組み合わせから形成することができる。典型的には、外側ハウジング３０の外形は、少なくともその一部が配置されるかまたは他の方法で取り付けられるハウジングまたは管の内形に一致するようになっている。外側ハウジング３０は、（例えば、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて）所望／所要の形状に微細加工することができる。しかしながら、外側ハウジング３０を作るあらゆる方法を利用することができる。外側ハウジング３０は、上述に従って所望／所要のとおりに１つまたは複数のコーティングを含むことができることも認識すべきである。
【００７８】
フィルタまたは流量アセンブリの別の実施形態が、図４Ａ〜図４Ｂ（概略的な表現のみ）に示されており、参照数字４３によって特定されている。流量アセンブリ４３は、いずれかの適切な用途に用いることができる（例えば、流量アセンブリ４３は、いずれかのタイプの流れの中に配置するか、いずれかのタイプの流体をフィルタ処理するのに用いるか、（例えば、人工リザーバ、生体リザーバ、環境、若しくは他のいずれかの適切な供給源といった多数の流体源若しくは圧力源、またはこれらのいずれかの組み合わせの間の）いずれかの適切なタイプの多数の供給源を流体的に相互接続する管の中に配置することができる）。流量アセンブリ４３の構成要素は、図３Ａ〜図３Ｂの実施形態による上述のハウジング３４と、ＭＥＭＳ流量モジュール２２とを含む。流量アセンブリ４３の場合は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、（例えば、シアノ酢酸エステル、ＵＶ硬化性エポキシ、または他のエポキシを用いて）ハウジング３４の一方の端部に取り付けるかまたは接合される。流量アセンブリ４３は、図１から図３Ｂの実施形態のように外側ハウジングの中に配置するか、または、「そのままで」用いることができる。流量アセンブリ１０についての上述の用途は、流量アセンブリ４３にも同様に適用可能である。流量アセンブリ１０に関して上述されたコーティングのタイプも同様に、流量アセンブリ４３で用いることができる。
【００７９】
ＭＥＭＳ流量モジュール（ＭＥＭＳ装置）の１つの実施形態の全体的な構造は、図５Ａ〜図５Ｂに示され、参照数字４４によって特定されており、フィルタ機能と圧力または流量調節機能の両方、または、個別にいずれか一方を提供することができる。一般に、図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュール４４は、図１〜図４Ｂの流量アセンブリ１０、２６、および４３に関して上述されたＭＥＭＳ流量モジュール２２の代わりに用いることができる。ＭＥＭＳ流量モジュール４４は、平面図において円形形状を有するように示されているが、いずれかの適切な構成を、いずれかの適切な大きさで、利用することができる。
【００８０】
図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュール４４は、下部プレート５２と、縦方向に離れた上部プレート４８と、少なくとも１つの環状支持体５４とを含む。「環状」とは、支持体５４が、ＭＥＭＳ流量モジュール４４について閉じた外周を定めるように基準軸の周りに３６０度延びることを意味する。環状支持体５４についてこの環状の範囲を定めるために、いずれかの構成（例えば、正方形、長方形、円形、楕円形）を用いることができる。環状支持体５４は、ＭＥＭＳ流量モジュール４４についてある程度の構造的剛性をその外周に与える。環状支持体５４はまた、下部プレート５２と、上部プレート４８と、最も内側の環状支持体５４とが全体として、流体の流れを収容するための密閉空間４６を定めるように、下部プレート５２と上部プレート４８とを間隔が空いた位置関係に維持する。（例えば、同心円上に配置される）横方向に間隔が空いた多数の環状支持体５４を用いることもできる。「上部」、「下部」、および「横方向」という用語は、純粋に定義を目的とするためのものであり、ＭＥＭＳ流量モジュール４４をいずれかの特定の方向で用いることを必要とするものではないことを認識すべきである。
【００８１】
下部プレート５２は、少なくとも１つの下部流れポート５３を含み、一方、上部プレート４８は、少なくとも１つの上部流れポート５０を含む。すべての下部流れポート５３およびすべての上部流れポート５０は、最も内側の環状支持体５４の内側に配置される。すなわち、環状支持体５４は、半径寸法または横寸法のシールを形成し、これにより、流れが、様々な上部流れポート５０および／または下部流れポート５３を通るようにする。半径方向または横方向に間隔が空いた多数の環状支持体５４を設けることによって、さらに、流れが１つまたは複数の上部流れポート５０あるいは１つまたは複数の下部流れポート５３を通らずに密閉空間４６から逃げる可能性が低減する。
【００８２】
下部流れポート５３の各々は、いずれかの適切な方法で共通の第１の供給源５５と流体的に接続することができ、一方、上部流れポート５０の各々は、いずれかの適切な方法で共通の第２の供給源５６と流体的に接続することができる。典型的には、第１の供給源５５は、第２の供給源５６より高圧力であるが、こうしたことは、すべての場合に必要とされるわけではない。いずれの場合においても、各々の供給源５５、５６は、いずれかの適切なタイプ（例えば、人工、生体、環境）のものとすることができ、いずれかの適切なタイプの流体または流体の組み合わせを含むものとすることができ、いずれかの適切な大きさのものとすることができ、いずれかの適切な構成のものとすることができる。１つの実施形態においては、供給源５５、５６はいずれも人工リザーバである。別の実施形態は、供給源５５、５６の一方が生体リザーバ（例えば、人間の眼の前眼房、頭蓋リザーバ若しくは房）であり、供給源５５、５６の他方が環境または人工リザーバである。例えば、ＭＥＭＳ流量モジュール４４は、眼圧または頭蓋圧を解放するためにインプラントによって用いるか、薬剤または薬剤の組み合わせをいずれかの供給源に送達するのに用いるか、または、いずれかの適切な用途に適合させることができる。この点に関して、ＭＥＭＳ流量モジュール４４は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２に関して上述されたコーティングを用いることができる。
【００８３】
バッフル、調整要素、または他の移動可能な流量制御要素（図示せず）は、ＭＥＭＳ流量モジュール４４の密閉空間４６内に、好ましくは下部プレート５２および上部プレート４８の各々に対して間隔を空けて、配置される。一般に、図６〜図１３の実施形態に関して説明されるように、この調整要素は、フィルタ機能と圧力または流量調節機能との両方を提供することができる。ＭＥＭＳ流量モジュール４４は、図５Ｂにおいて双方向矢印で示されるように、いずれの方向においても少なくとも何らかのタイプの流れを収容する。圧力または流量調節機能は、ＭＥＭＳ流量モジュール４４を通る一方向の（例えば、第１の供給源５５から第２の供給源５６への）流れについて与えることができ、一方、フィルタ機能は、ＭＥＭＳ流量モジュール４４を通る反対方向の（例えば、第２の供給源５６から第１の供給源５５への）流れについて与えることができる。
【００８４】
下部プレート５２および上部プレート４８は、互いに平行である。上述の調整要素（少なくともその横方向の全体的な範囲）もまた、下部プレート５２および上部プレート４８の各々と平行に、好ましくはその各々と間隔を空けて、配置される（例えば、後述されることになる図６〜図１３）。ＭＥＭＳ流量モジュール４４は、表面微細加工によって作ることができる。この点に関して、下部プレート５２、上部プレート４８、および上記の調整要素の各々は、典型的にはわずか約１０ミクロンの厚さを有するフィルム状ものである。さらに、下部プレート５２および上部プレート４８は、わずか約２０ミクロンの距離だけ離れるように、表面微細加工によって作ることができる。流量モジュール４４は、用いられる特定の用途に適した様々な寸法で表面微細加工によって作ることができるが、１つの実施形態においては、密閉空間４６の容積は、わずか約０．００２ｃｍ３であり、下部プレート５２および上部プレート４８の各々の外周によって囲まれる表面積は、わずか約１ｃｍ２である。
【００８５】
ＭＥＭＳ流量モジュール４４についての好ましい製造技術、および以下で扱われることになるその変化形は、表面微細加工である。表面微細加工は、一般に、結果として得られる微細構造の基礎として機能する適切な基板（例えば、シリコン・ウェハ）を用いて、構造材料と犠牲材料とが交互に重なる層を堆積させることを伴う。所望の微細構造を定めるために次の層を堆積させる前に、これらの層の１つまたは複数に（マスキング、エッチング、およびマスク除去工程全体を含む）種々のパターン成形加工を行うことができる。この一般的な方法で微細構造を定めた後に、微細構造および種々の犠牲層を１つまたは複数のエッチャントに曝すことによって、種々の犠牲層のすべてまたは一部を除去する。このことは、通常は、典型的には微細構造と基板との間の少なくともある程度の相対的な移動を可能にするように、基板から微細構造を「リリースする」と呼ばれている。特に望ましい１つの表面微細加工技術は、「Ｍｅｔｈｏｄ  Ｆｏｒ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｎｇ  Ｆｉｖｅ−Ｌｅｖｅｌ  Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ  ａｎｄ  Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｆｏｒｍｅｄ」という名称の、２０００年７月４日に発行された特許文献１（以下では、’２０８特許とする）に記載されており、その開示全体は引用により本明細書に組み込まれる。
【００８６】
ここで用いられる「犠牲層またはフィルム」という用語は、微細構造を作るのに用いられるが、最終的な構造には存在してない、表面微細加工されたいずれかの微細構造のいずれかの層またはその層の一部を意味する。ここで説明される犠牲層の例示的な材料として、ドープされていない二酸化シリコンまたは酸化シリコンと、ドープされた二酸化シリコンまたは酸化シリコンとが挙げられる（「ドープされた」とは、堆積の際にまたはその後に、付加的な元素材料がフィルムに添加されることを示す）。ここで用いられる「構造層またはフィルム」という用語は、犠牲層および微細構造が作られる基板以外の、表面微細加工された微細構造の他のいずれかの層またはその層の一部を意味する。ここで説明されることになる種々のＭＥＭＳ流量モジュールの「プレート」および「調整要素」は、こうした構造層またはフィルムで形成することができる。ここで説明される構造層の例示的な材料として、ドープまたは非ドープ・ポリシリコンと、ドープまたは非ドープ・シリコンが挙げられる。ここで説明される基板の例示的な材料として、シリコンが挙げられる。ここで説明される種々の層は、例として、低圧ＣＶＤ（ＬＰＣＶＤ）、大気圧ＣＶＤ（ＡＰＣＶＤ）、およびプラズマ補助ＣＶＤ（ＰＥＣＶＤ）を含む化学気相堆積法（ＣＶＤ）、熱酸化処理、並びに、蒸発ＰＶＤおよびスパッタリングＰＶＤを含む物理気相堆積法（ＰＶＤ）などの技術によって、形成／堆積させることができる。
【００８７】
より一般的には、表面微細加工は、基板、犠牲フィルムまたは層、および、構造フィルムまたは層のいずれかの適切な系を用いて、行うことができる。多くの基板材料を表面微細加工工程に用いることができるが、それらの存在の普遍性および利用可能性のために、シリコン・ウェーハが用いられる傾向がある。基板は、本質的には、微細構造が作られる基礎である。この基礎材料は、微細構造を定めるのに用いられるプロセスに対して安定的なものでなければならず、微細構造を定めるのに用いられる犠牲／構造フィルムの処理に悪影響を及ぼす可能性があってはならない。犠牲および構造フィルムに関して、主な差別化要因は、所望／所要のリリースエッチャントに対する犠牲フィルムと構造フィルムとの間の選択性の違いである。この選択性の比は、約１０：１のオーダであり、より好ましくは数百対１またはそれ以上であり、選択性の比が無限大であることが最も好ましい。こうした犠牲フィルム／構造フィルム系の例として、種々の酸化シリコン／種々の形態のシリコン、ポリゲルマニウム／ポリゲルマニウムシリコン、種々の高分子フィルム／種々の金属フィルム（例えば、フォトレジスト／アルミニウム）、種々の金属／種々の金属（例えば、アルミニウム／ニッケル）、ポリシリコン／シリコンカーバイド、二酸化シリコン／ポリシリコン（すなわち、例えば水酸化カリウムのような異なるリリースエッチャントを用いる）が挙げられる。二酸化シリコンおよび酸化シリコンの犠牲材料についてのリリースエッチャントの例は、典型的には、フッ化水素（ＨＦ）酸ベースのもの（例えば、実際は４９ｗｔ％のＨＦ酸と５１ｗｔ％の水である非希釈ＨＦ酸すなわち濃ＨＦ酸、水で薄めた濃ＨＦ酸、緩衝ＨＦ酸（ＨＦ酸およびフッ化アンモニウム））である。
【００８８】
上述の’２０８特許において説明されている微細加工技術は、交互に配置された複数の構造層（例えば、ポリシリコン、したがってここでは「Ｐ」層と呼ぶ）と犠牲層（例えば、二酸化シリコン、したがってここでは「Ｓ」層と呼ぶ）とを用いる。上述の’２０８特許で説明されている微細加工技術において種々の層を説明するのに通常用いられる名称は、本発明にも用いられることになる。
【００８９】
図５Ｃは、表面微細加工に適しており、’２０８特許と一般に関連する名称に従った、基板３１０上の層の１つの実施形態を全体的に示す。基板３１０から離れる方向に向かって、種々の層は、誘電体層３１２（誘電体層３１２と基板３１０との間に中間酸化物層が存在する場合もあるが、それは示されていない）、Ｐ０層３１４、Ｓ１層３１６、Ｐ１層３１８、Ｓ２層３２０、Ｐ２層３２２、Ｓ３層３２４、Ｐ３層３２６、Ｓ４層３２８、およびＰ４層３３０である。幾つかの場合においては、Ｐ２層３２２がＰ１層３１８上に直接堆積するように、リリースエッチングの前にＳ２層３２０を除去することがある。Ｐ４層３３０の形成後に、および、（リリースエッチャントから保護されるように適切に覆われている場合には、１つまたは複数の目的でＳ１層３１６、Ｓ２層３２０、Ｓ３層３２４、およびＳ４層３２８の１つまたは複数の一部を維持することができるが）Ｓ１層３１６、Ｓ２層３２０、Ｓ３層３２４、およびＳ４層３２８の全体を除去することができるリリースエッチングの前に、１つまたは複数の他の層をＰ４層３３０の上に堆積させることができることも認識すべきである。次の構造層を堆積させる前に特定の犠牲層の厚さ全体を貫通するカットまたは開口を形成することによって、隣接する構造層を構造的に相互接続できることも認識すべきである。この場合においては、構造材料は、特定の犠牲層の上面に堆積するだけでなく、これらのカットまたは開口内にも堆積することになる（これにより、一対の隣接する間隔の空いた構造層を相互接続することになる）。
【００９０】
ＭＥＭＳ流量モジュール４４の上述のパラメータによる種々の実施形態が、図６〜図１３に示される。これらの実施形態の各々は、バッフル、調整要素、または、上述のタイプの他の流量制御要素を示す。特に断りがない限り、ＭＥＭＳ流量モジュール４４およびその様々な個々の構成要素に関する説明は、これらの設計にも等しく応用可能である（例えば、こうしたＭＥＭＳ流量モジュールの各々は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２に関して上述されたコーティングを用いることができる）。好ましい設計は、これらのＭＥＭＳ流量モジュールの各々が上部プレートと少なくとも１つの環状支持体とを含むものであるが、このようなことは、これらのＭＥＭＳ流量モジュールが適しているすべての用途について必要とされるわけではない。さらに、これらの実施形態の各々における調整要素は、その下にある、少なくとも１つの下部流れポートを有する下部プレートと、常に間隔が空いた位置関係にあることが好ましい。しかしながら、これらの実施形態の各々は、少なくとも一定の圧力が及ぼされるまで調整要素が下部プレートの上に直接配置され、圧力が及ぼされた後に下部プレートと間隔が空いた位置関係になるように移動して、ＭＥＭＳ流量モジュール内の流れの方向の変化を調整する流路を定めるように、設計することもできる。これらのＭＥＭＳ流量モジュールの各々は、層流が通るように設計することができるが、こうしたＭＥＭＳ流量モジュールの各々は、乱流が通るように応用することもできる。
【００９１】
ＭＥＭＳ流量モジュールの１つの実施形態が、図６に示されており、参照数字５８によって特定されている。ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、上部プレート６２（例えば、Ｐ４層３３０内に作られる）と、該上部プレート６２と平行な下部プレート７０（例えば、Ｐ２層３２２か、または、一体となったＰ２層３２２およびＰ１層３１８に作られる）と、図５Ａ〜図５Ｂの実施形態において用いられたタイプの少なくとも１つの環状支持体５４（図６には示されていない）とを含む。環状支持体５４は、上部プレート６２と下部プレート７０と最も内側の環状支持体５４とが共同で密閉空間６０を定めるように、上部プレート６２および下部プレート７０を間隔が空いた位置関係に維持することを含む、図５Ａ〜図５Ｂの実施形態の場合と同じ機能を提供する。上部プレート６２は、複数の上部流れポート６６を含み、一方、下部プレート７０は、少なくとも１つの下部流れポート７４を含む。流れポート６６、７４は、いずれかの適切な構成および／または大きさのものとすることができる。すべての上部流れポート６６およびすべての下部流れポート７４は、最も内側の環状支持体５４の内側に配置される。すなわち、各々の環状支持体５４はまた、半径寸法または横寸法にシールを形成し、これにより、流れが、様々な上部流れポート６６および／または下部流れポート７４を通るようにする。半径方向または横方向に間隔が空いた多数の環状支持体５４を設けることによって、さらに、流れが１つまたは複数の上部流れポート６６あるいは１つまたは複数の下部流れポート７４を通らずに密閉空間６０から逃げる可能性を低減する。
【００９２】
少なくとも１つのバッフル、調整要素、または他の流量制御要素７８（例えば、Ｐ３層３２６に作られる）は、上部プレート６２および下部プレート７０の各々と間隔が空いた平行な位置関係で密閉空間６０の中に配置され、（図６において提示される表示では調整要素７８を見下ろす）平面図でみていずれかの適切な形状のものとすることができる。調整要素７８は、（概略的にのみ示されている）いずれかの適切な大きさおよび構成の複数のばね８２によって、下部プレート７０の上方に支持される。ばね８２は、一定の差圧がＭＥＭＳ流量モジュール５８全体にわたって存在し、その時に調整要素７８が下部プレート７０から離れるまで、調整要素７８を実質的に付勢して下部プレート７０と接触させるように構成することができる（図示せず）。ばね８２の主な要件は、ばね８２によって調整要素７８が移動して、詳細に後述するように所望の圧力または流量調節機能を提供できるようにすることである。一般に、調整要素７８は、種々のばね８２の曲がりまたは他の何らかの変形（典型的には伸縮）によって、および、調整要素７８の下部プレート７０に面する側にある対応する下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れによって及ぼされる圧力の変化に応じて、下部プレート７０に対して移動することができる。この点に関して、調整要素７８は、ＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れが調整要素７８を変形させる前に対応するばね８２を変形させるという点で、剛構造と特徴付けることができる。
【００９３】
調整要素７８は、少なくとも１つの下部流れポート７４の上方に（例えば、上を覆っているが、好ましくは間隔が空いた位置関係に）配置される。調整要素７８が多数の下部流れポート７４の上方に配置される場合には、好ましくは、これらの下部流れポート７４は、こうした多数の下部流れポート７４を通って密閉空間６０に入る流れが、所望の圧力調節機能を提供する際の調整要素７８の移動の間に少なくとも実質的にその方向を維持することが可能になる方法で調整要素７８に力を及ぼすように、対称的に位置決めされる。いずれの場合においても、密閉空間６０内の調整要素７８の存在は、流れが、完全に直線的な経路に沿ってＭＥＭＳ流量モジュール５８を通って進まないことを意味する。すなわち、調整要素７８は、ＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行く前に流れの方向に少なくとも１つの変化を生じさせることによって、密閉空間６０内で非直線的な経路に沿った流れを引き起こす。示される実施形態においては、流れは、上部プレート６２の方向に再び流れることができる前に、調整要素７８の外周部に達することが必要である。この点に関して、ＭＥＭＳ流量モジュール５８を通る流路の全長を短くするために、１つの、より好ましくは複数の上部流れポート６６を、調整要素７８の外周部にまたはそれをわずかに超えたところに、位置決めする（および、適切な間隔で調整要素７８の周りに位置決めする）ことが望ましいと考えられる。調整要素７８が下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れの方向を変えるため、ＭＥＭＳ流量モジュール５８を通る（幾何学的に）完全に直線の流路は、何らかのタイプの故障がない限り存在しない。
【００９４】
いずれかの下部流れポート７４を通って密閉空間６０に入るあらゆる流れは、対応する調整要素７８と下部プレート７０との間の隙間である流れチャネル８０を通過しなければならない。この流れチャネル８０は、常に存在することが好ましい。換言すれば、ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、調整要素７８が下部プレート７０に常に接触して配置されることがないように設計されることが好ましく、接触して配置されると、少なくとも実質的に、調整要素７８によって塞がれている下部流れポート７４を通る密閉空間６０への流れが停止する。この「常時開の」流れチャネル８０は、少なくとも多くの点で有益である。１つは、調整要素７８が下部プレート７０と常に間隔が空いた位置関係に維持される構成が、表面微細加工によってより容易に作られることである。もう１つは、ＭＥＭＳ流量モジュール５８を用いて、（例えば、眼のインプラントの中に組み込まれることによって）眼の眼圧を軽減させる場合に関連する。この場合には、ＭＥＭＳ流量モジュール５８の下部プレート７０は「患者側」になり、上部プレート６２は「環境側」になる（例えば、この場合には、ＭＥＭＳ流量モジュール５８を通る患者の眼の前眼房からの房水の流れは、１つまたは複数の下部流れポート７４を通って密閉空間６０の中に入り、１つまたは複数の上部流れポート６６から出て行くことになる）。流れチャネル８０を（常にゼロより大きい容積を有するように）常に存在させることは、少なくとも一般的に、眼のシュレム管を通る患者の眼の前眼房からの房水の流れを模擬すると考えられる。しかしながら、上述のように、ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、調整要素７８が、少なくとも一定の圧力（例えば、圧力「設定値」）が及ぼされるまで下部プレート７０の上に直接配置され、圧力が及ぼされた後に、下部プレート７０と間隔が空いた位置関係になるように移動して流れチャネル８０を定めるように、設計することができる。
【００９５】
典型的には、ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、高圧源ＰＨ（例えば、患者の眼の前眼房）が１つまたは複数の下部流れポート７４を介して密閉空間６０と流体的に接続し、一方、低圧源ＰＬ（例えば、環境）が１つまたは複数の上部流れポート６６を介して密閉空間６０と流体的に接続する用途に用いられる。高圧源ＰＨからの圧力の変化は、調整要素７８を下部プレート７０に対して移動させ、それにより流れチャネル８０の大きさが変化する。好ましくは、この圧力の非常に小さな変化が、ＭＥＭＳ流量モジュール５８から上部流れポート６６を通って出て行く流量の線形変化を上回る変化を可能にする。例えば、高圧源ＰＨの圧力の小さな上昇が、（調整要素７８が下部プレート７０からさらに離れる方向に移動することを可能にするばね８２により）流れチャネル８０の高さを増加させ、流れチャネル８０を通る流量、したがってＭＥＭＳ流量モジュール５８を通る流量の線形増加を上回る増加をもたらす。すなわち、ＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行く流量と、高圧源ＰＨからＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れによって調整要素７８に及ぼされる圧力との間に、非線形関係が存在する。流れチャネル８０を通る流量は、少なくとも流れチャネル８０の高さの３乗の関数となるはずである（積流の場合には、典型的には、これらの寸法および流量において生じる）。従って、（例えば、高圧源ＰＨから調整要素７８に作用する圧力のほんの小さな変化による）流れチャネル８０の高さのほんの小さな変化が、流れチャネル８０を通る流量に少なくとも３乗の変化を生じさせることになる。
【００９６】
罹患している患者の眼の前眼房の圧力を調節するインプラントとしてＭＥＭＳ流量モジュール５８が用いられ、この眼の前眼房内の圧力を約５ｍｍＨｇに維持することが望ましい場合を考える。ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、前眼房から出てＭＥＭＳ流量モジュール５８を通る流量を調節し、患者の眼の前眼房内の最大圧力が（ＭＥＭＳ流量モジュール５８が設計された範囲全体にわたって）わずか約７〜８ｍｍＨｇとなるように、構成することができる。換言すれば、ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、少なくとも患者の眼の前眼房内の圧力に関して当然に予想される範囲について、患者の眼の前眼房内を少なくとも実質的に一定の圧力（この場合には、高圧源ＰＨ）に維持することを可能にする。高圧源ＰＨにおける圧力の予想外の上昇に対処するために、上部プレート６２は、調整要素７８ごとに、該調整要素７８と下部プレート７０との間の最大間隔を制限する少なくとも１つの過圧止め６４を含む。これが、流れチャネル８０の最大の高さを制限し、したがって、一定の圧力について流れチャネル８０を通る最大流量を制限する。すなわち、少なくとも１つの過圧止め６４は、その対応する調整要素７８と縦方向に位置合わせされた状態で、下部プレート７０と向かい合う上部プレート６２の表面上に存在する。各々の過圧止め６４は、いずれかの適切な大きさおよび／または形状（例えば、柱状）のものとすることができる。
【００９７】
調整要素７８は、上述のように圧力または流量調節機能を提供する。調整要素７８は、フィルタ機能も提供する。ＭＥＭＳ流量モジュール５８は、１つまたは複数の下部流れポート７４を通って密閉空間６０に入り、低圧源ＰＬの方向に向かう流れについては、圧力または流量調節機能を与え、１つまたは複数の上部流れポート６６を通って密閉空間６０に入り、高圧源ＰＨの方向に向かう流れについては、フィルタ機能を与えると言える。一般に、流れチャネル８０の高さは常にゼロより大きいことが好ましいため、この流れチャネル８０はまた、上部流れポート６６の１つまたは複数を通って密閉空間６０に入り、高圧源ＰＨ方向に進もうとするあらゆる「流れ」について、フィルタ・トラップ間隙として機能する。流れチャネル８０の高さより大きい有効径を有するこの「流れ」のあらゆる成分は、この「流れ」から除去され、流れチャネル８０を通過していずれかの下部流れポート７４を通って密閉空間６０から出て行くことができない。すなわち、調整要素７８の外周部における流れチャネル８０の大きさは、特定の大きさより大きい成分が、流れチャネル８０に入り下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行くことを妨げる。眼圧を調節する眼のインプラントとしてＭＥＭＳ流量モジュール５８が用いられる場合には、流れチャネル８０の最大の高さは、過圧止め６４に基づいて約０．５ミクロンであるが、この用途のために調整要素７８が曝されることになる、当然に予想される差圧のための流れチャネル８０の最大高さは、約０．４ミクロンである。従って、ＭＥＭＳ流量モジュール５８が設計されている患者の眼の前眼房内の当然に予想される圧力について、望ましくない細菌が、流れチャネル８０を通過し、下部流れポート７４を通って密閉空間６０から出て行き、患者の眼の前眼房に入る可能性は低い。
【００９８】
ＭＥＭＳ流量モジュール５８の圧力または流量調節機能に寄与し、要約に値する、多くの特徴および／または関係性が存在する。第１に、ＭＥＭＳ流量モジュール５８は受動装置である、すなわち、下部プレート７０に対して調整要素７８を移動させて圧力または流量調節機能を与えるために、いかなるタイプの外部信号も用いる必要がない。その代わりに、下部プレート７０に対する調整要素７８の位置は、下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れによって下部プレート７０に及ぼされる圧力に応じて決まり、次に、ＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行く流量は、下部プレート７０に対する調整要素７８の位置（両者間の縦方向の間隔、すなわち流れチャネル８０の大きさ）に応じて決まる。調整要素７８は、高圧源ＰＨからの流体を受けるために、少なくとも１つの下部流れポート７４と位置合わせされる。すなわち、調整要素７８は、最初にＭＥＭＳ流量モジュール５８の密閉空間６０に導入される方向に沿って進む流れが調整要素７８に接する（例えば、下部流れポート７４を通って進む直前のこの流れの流線が、調整要素７８と交差する）ように、位置決めされる。さらに、この点に関して、調整要素７８は、この流れが調整要素７８に直角に作用するように位置決めされる。換言すれば、高圧源ＰＨからＭＥＭＳ流量モジュール５８に入るあらゆる流れによって調整要素７８に及ぼされる力は、調整要素７８に対して直角力を与える（例えば、対応する下部流れポート７４を通って流れる直前の流れの流線は、この流れと位置合わせされる調整要素７８の表面に直角である）。
【００９９】
ＭＥＭＳ流量モジュール５８の密閉空間６０内の調整要素７８の位置は、下部流れポート７４すなわち高圧源ＰＨからＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れによって調整要素７８に及ぼされる圧力に応じて決まる。この圧力が少なくとも或る程度上昇することによって、調整要素７８が下部プレート７０からさらに離れる方向に移動し（流れチャネル８０の大きさを増大させる）、一方、次にこの圧力が低下することによって、調整要素７８が下部プレート７０に近づくことになる（流れチャネル８０の大きさが減少する）。調整要素７８のこの移動は、多くの特徴の対象となる。１つは、ＭＥＭＳ流量モジュール５８の他の構成要素に対する調整要素７８の方向が、この移動の間に少なくとも実質的に維持されることである。もう１つは、調整要素７８の上面の少なくとも全体的な範囲が、この移動の間に下部プレート７０と平行の位置関係に維持されることである。もう１つは、調整要素７８が、ＭＥＭＳ流量モジュール５８内で少なくとも実質的に軸線方向にのみ（例えば、下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れ（例えば、その流線）の方向と同一線上のまたは平行な軸線に沿って）移動することである。もう１つは、調整要素７８と下部プレート７０との間の距離が、下部プレート７０の上面と向かい合う調整要素７８の表面全体にわたって少なくとも実質的に同じ量だけ変化することである。さらにもう１つは、流れチャネル８０の断面積（調整要素７８と下部プレート７０との間の空間）が、横方向の寸法において、すなわち流れチャネル８０の長さに沿って、少なくとも実質的に均等に変化することである。
【０１００】
ＭＥＭＳ流量モジュール５８内の調整要素７８の縦方向位置にかかわらず、調整要素７８は、下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８に入る流れの方向を、上部流れポート６６を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行く前に変化させる。高圧源ＰＨからの流れの圧力は、調整要素７８に直角に作用し、次いで流れチャネル８０（調整要素７８と下部プレート７０との間の空間）を通って（図示される実施形態においては、少なくとも概ね９０度）方向が変化する。すなわち、高圧源ＰＨからの流れは、調整要素７８の外周部に到達する前に、流れチャネル８０に沿って一定の距離だけ横方向に流れなければならない。換言すれば、流れチャネル８０を通るこの流れの方向の主成分は、上部プレート６２に向かうに対して、環状支持体５４に向かう。
【０１０１】
高圧源ＰＨからの流れが調整要素７８の外周部に到達すると、流れは、次に上部プレート６２に向かう方向に別の変化を受けて、上部流れポート６６の１つまたは複数を通ってＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行くことになる。好ましくは、流れの少なくとも一部は、調整要素７８の外周部から上部プレート６２の上部流れポート６６までの軸方向経路に沿って（最初に下部流れポート７２を通って密閉空間６０に入ったときの流れの方向に少なくとも概ね平行に）進むことができる。上部流れポート６６から出て行く実際の流量は、この場合も同様に、下部プレート７０に対する調整要素７８の位置に応じて決まる。ＭＥＭＳ流量モジュール５８から出て行く流量は、調整要素７８と下部プレート７０との間の間隔が大きくなるに従って増加し、調整要素７８と下部プレート７０との間の間隔が狭くなるに従って減少することになる。
【０１０２】
図７〜図１３のＭＥＭＳ流量モジュールは、図６のＭＥＭＳ流量モジュール５８と同じ基本動作原理を用いるものであり、これらの設計の各々については繰り返さない。具体的には、図６の調整要素７８の説明は、図７〜図１３のＭＥＭＳ流量モジュールにおける調整要素にも同様に適用可能である。すなわち、図７〜図１３のＭＥＭＳ流量モジュールのバッフルまたは調整要素の各々は、圧力または流量調節機能を提供するための移動に関するそのすべての態様との関連を含めて、図６における調整要素７８の特徴の対象となる。それらの付加的な属性、または少なくとも何らかの点で異なる属性のみを扱う。
【０１０３】
ＭＥＭＳ流量モジュールの別の実施形態が、図７Ａ〜図７Ｂに示されており、参照数字８６によって特定されている。ＭＥＭＳ流量モジュール８６は、上部プレート９０（例えば、Ｐ４層３３０に作られる）と、該上部プレート９０と平行な下部プレート１０２（例えば、Ｐ２層３２２または一体となったＰ２層３２２およびＰ１層３１８に作られる）と、図５Ａ〜図５Ｂの実施形態において用いられたタイプの少なくとも１つの環状支持体５４（図７Ａには示されていない）とを含む。環状支持体５４は、上部プレート９０と下部プレート１０２と最も内側の環状支持体５４とが共同で密閉空間８８を定めるように、上部プレート９０および下部プレート１０２を間隔が空いた位置関係に維持する。上部プレート９０は、複数の上部流れポート９８を含み、一方、下部プレート１０２は、複数の下部流れポート１０６を含む。流れポート９８、１０６は、いずれかの適切な大きさおよび／または形状のものとすることができる。すべての上部流れポート９８およびすべての下部流れポート１０６は、最も内側の環状支持体５４の内側に配置される。すなわち、各々の環状支持体５４はまた、半径寸法または横寸法にシールを形成し、これにより、流れが、様々な上部流れポート９８および／または下部流れポート１０６を通るようにする。半径方向または横方向に間隔が空いた多数の環状支持体５４を設けることによって、さらに、流れが１つまたは複数の上部流れポート９８あるいは１つまたは複数の流れポート１０６を通らずに密閉空間８８から逃げる可能性が低減する。
【０１０４】
少なくとも１つのバッフル、調整要素、または他の流量制御要素１１０（例えば、Ｐ３層３２６に作られる）は、（１つのみが示されている）上部プレート９０および下部プレート１０６の各々と間隔が空いた平行な位置関係で密閉空間８０の中に配置され、（図７Ａにおいて提示される表示では調整要素１１０を見下す）平面図でみていずれかの適切な形状のものとすることができる。調整要素１１０は、（概略的にのみ示されている）いずれかの適切な大きさおよび構成の複数のばね１２２によって、下部プレート１０２の上方に支持される。ばね１２２の主な要件は、ばね１２２によって調整要素１１０が移動して、図６の実施形態に関して上述されたように所望の圧力または流量調節機能を提供するようにすることである。一般に、調整要素１１０は、種々のばね１２２の曲がりまたは他の何らかの変形（典型的には伸縮）によって、および、調整要素１１０の下部プレート７０に面する側にある対応する下部流れポート１０６を通ってＭＥＭＳ流量モジュール８６に入る流れによって及ぼされる圧力の変化に応じて、下部プレート１０２に対して移動することができる。この点に関して、調整要素１１０は、ＭＥＭＳ流量モジュール８６に入る流れが調整要素１１０を変形させる前に対応するばね１２２を変形させるという点で、剛構造と特徴付けることができる。
【０１０５】
圧力または流量調節機能を提供するための、下部プレート１０２から離れる方向および下部プレート１０２に向かう方向への調整要素１１０の移動は、この場合も同様に、調整要素１１０が下部プレート１０２に対してその方向を少なくとも実質的に維持するものである。上部プレート９０は、この場合も同様に下部プレート１０２から離れる調整要素１１０の最大移動を制限するために（流れチャネル１１２の最大の高さ、すなわち調整要素１１０と下部プレート１０２との間の空間を設けるために）、各々の調整要素１１０についての複数の過圧止め９４を含む。こうした過圧止め９４の各々は、いずれかの適切な大きさおよび／または形状（例えば、柱）のものとすることができる。
【０１０６】
調整要素１１０は、複数の下部流れポート１０６の上方に（例えば、上を覆っているが、間隔が空いた位置関係に）配置される。好ましくは、この複数の下部流れポート１０６は、調整要素１１０が上部プレート９０および下部プレート１０２に対して少なくとも実質的にその方向を維持できる方法で、こうした多数の下部流れポート１０６を通って密閉空間８８に入る流れが調整要素１１０に力を及ぼすように対称的に位置決めされる。いずれの場合においても、密閉空間８８内の調整要素１１０の存在は、完全に直線の経路に沿ってＭＥＭＳ流量モジュール８６を通る流れはないことを意味する。すなわち、調整要素１１０は、ＭＥＭＳ流量モジュール８６を出て行く前に流れの方向を少なくとも１度変化させることによって、密閉空間８８内で（幾何学的に）非直線的な経路に沿った流れを生じさせる。この点に関して、調整要素１１０は、複数の調整要素流れポート１１８を含む。しかしながら、調整要素流れポート１１８は、どの下部流れポート１０６とも縦方向に位置合わせされていない。従って、特定の下部流れポート１０６を通って密閉空間８８に入る流れは、対応する調整要素１１０の調整要素流れポート１１８または調整要素１１０の外周部に到達する前に、流れチャネル１１２を通って半径方向または横方向の寸法に流れなければならない。図示される実施形態においては、上部流れポート９８は、各々の調整要素流れポート１１８と縦方向に位置合わせされ、多数の上部流れポート９８は、ＭＥＭＳ流量モジュール８６を通る流路の全長を減少させるために、調整要素１１０の外周部と対応する横寸法の位置に、またはその位置をわずかに越えたところに、配置される。調整要素１１０が下部流れポート１０６を通ってＭＥＭＳ流量モジュール８６に入る流れの方向を変えるため、ＭＥＭＳ流量モジュール８６を通る（幾何学的に）完全に直線の流路は、何らかのタイプの不具合がない限り存在しない。
【０１０７】
いずれかの下部流れポート１０６を通って密閉空間８８に入るあらゆる流れは、対応する調整要素１１０と下部プレート１０２との間の隙間である流れチャネル１１２を通過せざるを得ない。この流れチャネル１１２は、上述の図６の実施形態における流れチャネル８０と同様に、常に存在することが好ましい。しかしながら、調整要素１１０は、一定の圧力の「設定値」に達するまで下部プレート１０２と接触しているように設計し、設定値に達した後は、下部プレート１０２と間隔が空いた位置関係に移動することになる。いずれにしても、下部流れポート１０６を通ってＭＥＭＳ流量モジュール８６に入る流れは、調整要素１１０によって流れチャネル１１２内に方向が変わる。その後、流れは、上部流れポート９８の１つまたは複数を通ってＭＥＭＳ流量モジュール８６から出て行くために、調整要素流れポート１１８の１つまたは複数を通って流れるように、または調整要素１１０の外周部の周囲を流れるように、別の方向変化を受ける。
【０１０８】
調整要素１１０はまた、下部流れポート１０６ごとに環状フィルタ壁１１４を含む。「環状」とは、単に、フィルタ壁１１４が特定の基準軸の周りに３６０度全体に延びて、閉じた外周を形成することを意味する（図７Ｂ参照）。この環状の範囲を形成するいずれかの構成（例えば、円形、正方形、長方形、三角形）を利用することができる。フィルタ壁１１４は、調整要素１１０の下部プレート１０２の方を向いた面に配置される。各々のフィルタ壁１１４を下部プレート１０２の上に突出させることによって囲まれる領域が、対応する下部流れポート１０６を囲む（図７Ｂ参照）。特定のフィルタ壁１１４と下にある構造体（例えば、下部プレート１０２）との間の隙間は、１つまたは複数の下部流れポート１０６を通ってＭＥＭＳ流量モジュール８６から出て行くためにこの隙間を通って進もうとする、ＭＥＭＳ流量モジュール８６に入る流れを、フィルタ処理する。対応する下部流れポート１０６に入る制限流れをもたらすフィルタ壁１１４のいずれかの構成（例えば、図１１Ｂ〜図１１Ｃ）を利用することができる。
【０１０９】
ＭＥＭＳ流量モジュールの別の実施形態が、図８に示されており、参照数字１２６によって特定されている。図８のＭＥＭＳ流量モジュール１２６と図７Ａ〜図７ＢのＭＥＭＳ流量モジュール８６との間の唯一の違いは、ＭＥＭＳ流量モジュール１２６の場合には上部プレート９０´上に過圧止めが存在しないことである（したがって、図８の上部プレート９０´に関して「シングルダッシュ」の表示記号が用いられる）。従って、ＭＥＭＳ流量モジュール１２６の場合には、下部プレート１０２から離れる調整要素１１０の移動は、上部プレート９０´との係合によって制限されることになる。過圧止め９４を除去したことによって、ＭＥＭＳ流量モジュール１２６内の内容積が変わるため、密閉空間８８´もまた、「シングルダッシュ」の表示記号を用いる。
【０１１０】
ＭＥＭＳ流量モジュールの別の実施形態が、図９に示されており、参照数字１３８によって特定されている。図９のＭＥＭＳ流量モジュール１３８と図８のＭＥＭＳ流量モジュール１２６との間の唯一の違いは、ＭＥＭＳ流量モジュール１３８の場合には、バッフル、調整要素、または他の流量調節制御要素１１０´上にフィルタ壁１１４が存在しないことである（したがって、図９の調整要素１１０´に関して「シングルダッシュ」の表示記号が用いられる）。ＭＥＭＳ流量モジュール１３８内の内容積がＭＥＭＳ流量モジュール１２６の内容積とは変わるため、図９の密閉空間８８´´もまた、「ダブルダッシュ」の表示記号を用いる。
【０１１１】
ＭＥＭＳ流量モジュールの別の実施形態が、図１０に示されており、参照数字１６８によって特定されている。このＭＥＭＳ流量モジュール１６８は、図６に関して上述されたものと類似している。しかしながら、図１０のＭＥＭＳ流量モジュール１６８と図６のＭＥＭＳ流量モジュール５８との間には多くの違いがある。１つは、バッフル、調整要素、または他の流量制御要素７８´は、横の寸法が大きく、多数の下部流れポート７４上に配置される（したがって、図１０の調整要素７８´に対して「シングルダッシュ」の表示記号が用いられる）。図１０のＭＥＭＳ流量モジュール１６８の場合には、流れチャネル８０´も横寸法において大きな範囲を有するため、「シングルダッシュ」の表示記号を用いて特定される。さらに別の違いは、調整要素７８´が複数の調整要素流れポート１７０を含むことである。これらの調整要素流れポート１７０は、図７Ａ〜図７Ｂ、図８、および図９の実施形態のように、上部流れポート６６と縦方向に位置合わせされるが、下部流れポート７４からずれている。図１０における矢印は、下部流れポート７４を通ってＭＥＭＳ流量モジュール１６８に入る流れによって調整要素７８´に及ぼされる力の方向を示す。
【０１１２】
図１１Ａは、単一のバッフルまたは調整要素ユニット・セル２０４として特徴付けることができるものを示しており、単一のバッフルまたは調整要素ユニット・セル２０４は、単一のバッフルまたは調整要素（図１１Ｂ〜図１１Ｃ）を定めるか、または複数のこれらの調整要素ユニット・セル２０４を有するバッフルまたは調整要素を定めるように「タイル状」にする（例えば、図１２の調整要素２２４）ことができる。調整要素ユニット・セル２０４は、その外周部に複数の部分的な流れポート２０８を含む。１つまたは複数の他の調整要素ユニット・セル２０４と当接した状態で配置されたときには、隣接する部分的な流れポート２０８は、全体としてより大きな調整要素流れポートを定める。突出部２１２が、調整要素ユニット・セル２０４の中央部に配置される。この突出部は、中実であり、いずれかの適切な形状のものとすることができ、フィルタ壁として機能する。
【０１１３】
図１１Ｂ〜図１１Ｃは、単一のユニット・セル２０４に対応するバッフルまたは調整要素２０６を示す。少なくとも概ね上記のとおりであるＭＥＭＳ流量モジュールの下部プレート２１６は、調整要素２０６の突出部２１２と縦方向に位置合わせされた下部流れポート２２０を含む。流れチャネル２２２は、上記のとおり調整要素２０６と下部プレート２１６との間に存在する。図１１Ｂ〜図１１Ｃにおいては、下部流れポート２２０の側壁は、一方向に「傾斜」しているが、側壁は、下部プレート２１６の上面および下面に対して直角を含むいずれかの角度で、配置することができる。いずれの場合においても、調整要素２０６は、上記のとおり１つまたは複数のサスペンションばね（図示せず）によって下部プレート２１６の上方に吊られている。図１１Ｂに示される調整要素２０６の位置は、ＭＥＭＳ流量モジュールの「設定値」を下回る調整要素２０６に作用する圧力、すなわち、調整要素２０６が下部プレート２１６から離れ始めて、上述のように圧力または流量調節機能をもたらす圧力に対応する。図１１Ｃは、調整要素２０６が下部プレート２１６からその最大距離だけ移動した状態に対応する。すなわち、図１１Ｃは、流れチャネル２２２の最大の高さ、したがって、下部流れポート２２０を通ってＭＥＭＳ流量モジュールに入る流れによって調整要素２０６に作用する一定の圧力に対してＭＥＭＳ流量モジュールを通る最大流量に対応する。突出部２１２と下部プレート２１６との間の隙間は、下部流れポート２２０を通ってＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く方向に流れチャネル２２２を通って進む流れについて、フィルタ機能を提供する隙間とすることができる。
【０１１４】
図１２は、図１１Ａ〜図１１Ｃに示されるタイプの複数の調整要素ユニット・セルによって定められる、バッフル、調整要素、または他の流量制御要素２２４の１つの実施形態を示す。９×５のユニット・セル２０４の「行列」をタイル状に並べて調整要素２２４を定めるが、行あたりおよび列あたりいずれかの適切な数をタイル状に並べて、所望の大きさ／構成のものを形成することができる。少なくとも１つの他の調整要素ユニット・セル２０４の部分的な流れポート２０８と接して完全な調整要素流れポート２２６を定める、種々の調整要素ユニット・セル２０４の外周部にある部分的な流れポート２０８が、調整要素２２４によって用いられる。上述のように、流れは調整要素２２４の外周部の周囲を進むことができるため、調整要素２２４の外周部に配置されたそれらの調整要素ユニット・セル２０４の部分的な流れポート２０８は形成しなかった。
【０１１５】
いずれかの適切な構成の複数のアンカー２２８が、下部プレート２１６に固定され、そこから「上向きに」延びる。可撓性ビーム２３２は、これらのアンカー２２８の各々から延びており、（例えば、調整要素２２４と各々の可撓性ビーム２３２との間で、少なくともある程度の相対移動を可能にするように）典型的には可撓性相互接続部２３４によって調整要素２２４に取り付けられる。図示される実施形態においては、１つの可撓性ビーム２３２は、調整要素２２４を下部プレート２１６と間隔が空いた位置関係に配置し、さらに種々の可撓性ビーム２３２の撓みまたは曲がりによって調整要素２２４が下部プレート２１６に近づいたり離れたりできるように、調整要素２３２の各々の側部に配置される。
【０１１６】
単一のＭＥＭＳ流量モジュールにおいて複数の調整要素２２４を組み合わせて用いることができる。こうした１つの実施形態は、ＭＥＭＳ流量モジュール２３８が共通の下部プレート２１６の上方に配置された５つの調整要素２２４を有する図１３に示される。いずれかの数の調整要素２２４を、いずれかの所望／所要の配置で、用いることができる。種々の調整要素２２４は、（例えば、いずれかの数の調整要素ユニット・セル２０４から形成される）所望／所要の大きさのものとすることもできる。ＭＥＭＳ流量モジュール２３８は、いかなる種類の上部プレートも用いないことに留意されたい。従って、ＭＥＭＳ流量モジュール２３８からの「出口」は、調整要素２２４の外周部の周りを進む流れか、または種々の調整要素２２４の調整要素流れポート２２６となる。特定の用途によって望まれる／必要とされる場合には、本明細書において説明される他のＭＥＭＳ流量モジュールのいずれも、その対応する上部プレートなしで用いることもできる。複数の第２の流れポートを有する単一の第２の上部プレートを、種々の調整要素２２４と間隔が空いた位置関係に配置し、さらに、上述のように１つまたは複数の環状支持体５４によって下部プレート２１６と相互接続することができる。
【０１１７】
上述のように、表面微細加工は、本明細書において説明される種々のＭＥＭＳ流量モジュールについての好ましい製造技術である。各々のこうしたＭＥＭＳ流量モジュールにおいて、（いずれかの上部プレート、調整要素またはバッフル、下部プレート、ばね、いずれかの環状支持体を含むが、これらに限定されるものではない）その各々の構成要素は、単一の製造レベルにおける（例えば、Ｐ１層３１８、Ｐ２層３２２、Ｐ３層３２６、Ｐ４層３３０（上述の図５Ｃ）の）構造層またはフィルムに作ることができる。これによって、下の製造レベルにおける下の構造層に向かって下向きに延びるが下の構造層までは延びない１つまたは複数の構造体を持つ、少なくとも概ね平坦な層または少なくとも概ね平坦な部分を定めることができる。図１０の実施形態における上部プレート６２の場合を考える。過圧止め６４は、Ｐ３層３２６に調整要素７８を形成し、Ｓ４層３２８を堆積させ、Ｐ３層３２６まで延びるカットまたは孔をＳ４層３２８に形成し、これらのカットまたは孔の底部に犠牲材料（図１０において示される、過圧止め６４と調整要素７８との間の間隔を定めることになる厚さ）を堆積させ、次いで、Ｓ４層３２８の「一部が充填された」カットまたは孔の中だけでなくＳ４層３２８の上部にもＰ４層３３０を堆積させることによって、製造することができる。次いで、Ｓ４層３２８の「一部が充填された」カットまたは孔の中への構造材料の堆積が、過圧止め６４を定めるものとなる。この場合、上部プレート６２は、（例えば、構造層またはフィルムの単一の堆積による）犠牲材料のいずれかの上部層を形成しなければならなくなる前に構造材料の堆積によって定められたため、単一の製造レベル（上述の例におけるＰ４層３３０）に存在するものとして特徴付けることができる。（リリースエッチングの前に）Ｓ４層３２８の少なくとも一部が調整要素７８の全体と上部プレート６２との間に残ることに留意されたい。
【０１１８】
本明細書において説明されるＭＥＭＳ流量モジュールのこうした構成要素の各々は、多数の製造レベルにおいて多数の構造層またはフィルムに作ることもできる。例えば、所与のＭＥＭＳ流量モジュールの上部プレートまたは下部プレートは、Ｐ２層３２２がＰ１層３１８の上に直接堆積させられる場合に、Ｐ２層３２２とＰ１層３１８との両方に製造することができる。別の選択肢は、所与のＭＥＭＳ流量モジュールの特定の構成要素を異なる製造レベルにおける多数の構造層またはフィルムに形成するが、それが適切な方法で（例えば、間に延びる１つまたは複数の柱、支柱などによって）構造的に相互接続されるものとすることができる。例えば、上部プレート、下部プレート、またはバッフル／調整要素は、１つまたは複数の構造的な相互接続部がその間に延びた（Ｓ４層３２８を貫通して延びた）状態で、図５Ｃに関して上述されたＰ４層３３０とＰ３層３２６との両方に形成することができる。一般に、これは、Ｐ４層３３０を堆積させる前に、（下のＰ３層３２６を露出させ、そこにＰ４層３３０を堆積させたときにこうした構造的な相互接続部を定めるように）Ｓ４層３２８を通して適切なカットまたは開口部を形成することによって、行うことができる。
【０１１９】
上述のように、図１〜図４Ｂの流量アセンブリ１０、２６、および４３について特に望ましい１つの用途は、眼の前眼房内の圧力を調節することである。このことが、図１４Ａに概略的に示される。ここでは、患者の眼の前眼房２４２（または、さらに言えばそれ以外の身体領域、すなわち第１の身体領域）が、インプラント２４６によって適切な排水領域２４４と流体的に相互接続される。排水領域２４４は、眼の外側（例えば、角膜の外面上）、眼の内部（例えば、シュレム管）、または、一般的に患者の体内（第２の身体領域）といった、いずれかの適切な位置とすることができる。
【０１２０】
一般に、インプラント２４６は、一対の端部２５８ａ、２５８ｂを有し且つその間に延びる流路２５４を持つ、管２５０を含む。管２５０の大きさ、形状、および構成は、用いられる特定の排水領域２４４を収容することを含めて、所望／所要のとおりに適合させることができる。管２５０についての代表的な構成は、特許文献２、並びに、特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６、特許文献７、特許文献８、特許文献９、特許文献１０、および特許文献１１に開示されており、これらの開示全体は引用により本明細書に組み込まれる。
【０１２１】
流量アセンブリ２６２は、管２５０の流路２５４内に配置される。従って、インプラント２４６を通って前眼房２４２から出て行くすべての流れは、流量アセンブリ２６２を通して誘導される。同様に、排水領域２４４からインプラント２４６に入るあらゆる流れは、流量アセンブリ２６２を通過しなければならない。流量アセンブリ２６２は、いずれかの適切な方法で、いずれかの適切な位置において、管２５０の中に保持することができる（例えば、流量アセンブリ２６２は、いずれかの端部２５８ａ、２５８ｂまたはその間のいずれかの中間位置に、配置することができる）。流量アセンブリ２６２は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２を、ＭＥＭＳ流量モジュール４４、５８、８６、１２６、１３８、１６８、２３８か、図１１Ａ〜図１１Ｃまたは図１２によるＭＥＭＳ流量モジュールか、または、図１５Ａ〜図１７Ｂに関してより詳細に後述されることになるＬＩＧＡフィルタ要素４２２のいずれかと置き換える、上述の流量アセンブリ１０、２６、または４３のいずれかの形態のものとすることができる。代替的に、流量アセンブリ２６２は、単に、ＭＥＭＳ流量モジュール４４、５８、８６、１２６、１３８、１６８、２３８か、図１１Ａ〜図１１Ｃまたは図１２によるＭＥＭＳ流量モジュールか、または、上述のＬＩＧＡフィルタ要素４２２の形態のものとすることができる。生体物質／流体に曝されることになるインプラント２４６の少なくともそうした表面に、生体適合性を改善し、こうした表面をより親水性にし、および／または、生物付着の可能性を低減させるコーティングを含むがこれらに限定されるものではないいずれかの適切なコーティングを、施すことができる。１つの実施形態においては、自己組織化単分子膜コーティング（例えば、ポリエチレングリコール）が、いずれかの適切な方法（例えば、液相、または、気相が好ましい技術である場合には気相）で、上述の表面に施される。
【０１２２】
図１４Ｂは、図１４Ａによる代表的な実施形態を示す。図１４Ｂにおいては、角膜２６８、虹彩２７２、瞳孔２７４、レンズ２７６、前眼房２８４、後眼房２８６、シュレム管２７８、小柱網２８０、および房水静脈２８２を含む、眼２６６の種々の部分が表されている。ここでは、適切な形状の管２９２を有するインプラントまたはシャント２９０が、角膜２６８を通して導かれている。管２９２は、いずれかの適切な形態のものとすることができるが、典型的には、一対の端部２９４ａ、２９４ｂ、並びに、その間に延びる流路２９６を少なくとも含むものである。端部２９４ａは、角膜２６８の外面に配置され、一方、端部２９４ｂは、眼２６６の前眼房２８４の中に配置される。
【０１２３】
流量アセンブリ２９８が、管２９２の流路２９６の中に配置される。従って、シャント２９０を通って前眼房２８４から出て行くすべての流れは、流量アセンブリ２９８を通して誘導される。同様に、環境からシャント２９０に入るあらゆる流れも、流量アセンブリ２９８を通過しなければならない。流量アセンブリ２９８は、いずれかの適切な方法で、いずれかの適切な位置において、管２９２の中に保持することができる（例えば、流量アセンブリ２９８は、いずれかの端部２９４ａ、２９４ｂまたはその間のいずれかの中間位置に、配置することができる）。流量アセンブリ２９８は、ＭＥＭＳ流量モジュール２２を、ＭＥＭＳ流量モジュール４４、５８、８６、１２６、１３８、１６８、２３８か、図１１Ａ〜図１１Ｃまたは図１２によるＭＥＭＳ流量モジュールか、または、上述のＬＩＧＡフィルタ要素４２２のいずれかと置き換える、上述の流量アセンブリ１０、２６、または４３のいずれかの形態のものとすることができる。代替的に、流量アセンブリ２９８は、単に、ＭＥＭＳ流量モジュール４４、５８、８６、１２６、１３８、１６８、２３８か、図１１Ａ〜図１１Ｃまたは図１２によるＭＥＭＳ流量モジュールか、または、上述のＬＩＧＡフィルタ要素４２２の形態のものとすることができる。生体物質／流体に曝されることになるシャント２９０の少なくともそうした表面に、生体適合性を改善し、こうした表面をより親水性にし、および／または、生物付着の可能性を低減させるコーティングを含むがこれらに限定されるものではないいずれかの適切なコーティングを、施すことができる。１つの実施形態においては、自己組織化単分子膜コーティング（例えば、ポリエチレングリコール）が、いずれかの適切な方法（例えば、液相、または、気相が好ましい技術である場合には気相）で、上述の表面に施される。
【０１２４】
上述のように、ＭＥＭＳ流量モジュール２２は、少なくともフィルタ機能を提供し、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いることによって（例えば、ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩ」部分を用い、より詳細に後述されることになる図１７Ｂの手順４７６に従って；ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩＧ」部分を用い、より詳細に後述されることになる図１６の手順４４８に従って）微細加工される、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２（図１５Ａ〜図１５Ｂ）の形態とすることができる。従って、こうしたフィルタ要素４２２の定義として「ＬＩＧＡ」を用いることは、ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部がその製造に用いられることを意味する。上述のＬＩＧＡフィルタ要素４２２は、いずれかの適切な設計、大きさ、形状、および構成のものとすることができ、さらにＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部によって作るのに適したいずれかの材料または材料の組み合わせから形成することができる。ＬＩＧＡフィルタ要素４２２は、少なくとも概ねディスク形状であると特徴付けることができ、１つの実施形態においては約５０ミクロン程度の厚さを有し、別の実施形態においては約１５ミクロン程度の厚さを有し、さらに別の実施形態においては約５ミクロンの厚さを有する。
【０１２５】
上述のＬＩＧＡフィルタ要素４２２の１つの実施形態が、図１５Ａ〜図１５Ｂに示される。複数の孔４２３が、所望／所要の領域全体にＬＩＧＡフィルタ要素４２２の全厚（図１５Ｂにおいて寸法「ｔ」で表される）を通って延びる。図示される実施形態においては、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の周辺領域４２４には孔４２３が１つもない。これが、（例えば、流量アセンブリ１０の場合には、内側ハウジング１８と接続するために（例えば、内側ハウジング１８の内壁のフランジ、リップ、または他の支持体と接続するために）；流量アセンブリ２６の場合には、内側ハウジング３４、３８の両端と接続するために；流量アセンブリ４３の場合には、ハウジング３４の端部と接続するために）上述のＭＥＭＳ流量モジュール２２をＬＩＧＡフィルタ要素４２２に置き換えるときなどに、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２を用いているフィルタまたは流量アセンブリのハウジングとの所望の接続を容易なものにする。しかしながら、孔４２３は、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の全体にわたって配置することができる。
【０１２６】
孔４２３は、いずれかの適切な大きさおよび形状のものとすることができる。流れのための少なくとも幾つかの用途については、円筒形の孔４２３が好ましい。いずれかの数の孔４２３を利用して、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２のフィルタ領域（図示される実施形態においては、周辺領域４２４の内側に配置される孔４２３を有するその領域）についていずれかの所望／所要の開口面積、すなわち多孔率を定めることができる。１つの実施形態においては、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の開口面積すなわち多孔率は、少なくとも約５０％であり、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の２つの主面または表面のいずれかにおけるフィルタ領域の面積に対するフィルタ領域内の孔４２３の総面積の比率と定義される。孔４２３のあらゆる分布（例えば、均一に間隔を空けるかまたは他の方法で）も利用することができる。フィルタ領域の外周部４２４にある孔４２３の少なくとも幾つかは、部分的な孔４２３の形態にすることができる場合もあることを認識されたい。
【０１２７】
ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の製造に用いることができる。ＬＩＧＡプロセスは、一般に、Ｍ．Ｊ．Ｍａｄｏｕ、「Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ  ｏｆ  Ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ」（２００２年第２版）（フロリダ州ボカラトン所在のＣＲＣプレス社）というタイトルの書籍（非特許文献１）で扱われており、その開示全体は引用により本明細書に組み込まれる。ＬＩＧＡ製造のあらゆる既知の態様を、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２、および／または、必要に応じて、本明細書において説明される対応するいずれかのフィルタ・アセンブリ・ハウジングの製造に、利用することができる。ＬＩＧＡ製造技術によって用いられる短波長光の１つの利点は、ＬＩＧＡに関連する高度の寸法制御である。具体的には、個々の孔４２３の大きさを、短波長光を用いて厳しい許容誤差内に（例えば、約２０ナノメートル以内に）制御できるだけでなく、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２上のこれらの個々の孔の位置を、この同じ厳しい許容誤差内に制御することができる。従って、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２を製造するＬＩＧＡを用いて２つまたはそれ以上の孔４２３が重なった位置関係に配置される（全体としてより大きな孔が定められる）可能性は、大幅に低減され、場合によっては完全に排除することができる。これは、特定の用途にとって重要な場合があり、特定のサイズより大きい粒子がＬＩＧＡフィルタ要素４２２を通過できる可能性が大幅に低減される。
【０１２８】
ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部（具体的には、ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩＧ」部分）を用いてＬＩＧＡフィルタ要素４２２を作るための手順の１つの実施形態が、図１６に示されており、参照数字４４８によって特定される。種々の孔４２３の大きさ、形状、および位置を含むがこれらに限定されるものではない、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の所望の構成を定めるように、ステップ４５０によっていずれかの適切な材料（例えば、金）のフィルタ要素のマスクを作成する。例えば、ポジ型レジスト・システムの場合には、種々の孔４２３の間の空間に対応するフィルタ要素のマスクに開口部が存在し、ネガ型レジスト・システムの場合には、種々の孔４２３と一致するフィルタ要素のマスクに開口部が存在することになる。いずれの場合においても、ステップ４５２において、いずれかの適切な材料の感光層が、いずれかの適切な基板（例えば、シリコン）の上にいずれかの適切な方法で形成される（例えば、１つまたは複数のシートを基板上に層状にスピン塗布し、成形し、接合する）。この感光層の代表的な材料として、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１２９】
次いで、手順４４８のステップ４５４に従って、フィルタ要素のマスクを感光層に対して適切に位置決めする。典型的には、フィルタ要素のマスクは、感光層の近くに位置決めされる。いずれの場合においても、次いで、ステップ４５６に従って、フィルタ要素のマスクの開口部を通して光が誘導される。典型的には、Ｘ線（例えば、２〜１０オングストローム）、極紫外線（例えば、１０〜１４ナノメートル）、または深紫外線（例えば、１５０〜３００ナノメートル）などの、極めて短い波長光を用いる。波長が短くなるにつれて実現される寸法制御の向上に基づいて、極紫外線（約１０〜１４ｎｍのオーダの波長）およびＸ線（１０オングストロームのオーダかまたはそれより短い波長）が、少なくとも幾つかの用途には好ましい。
【０１３０】
手順４４８のステップ４５６に関する光は、マスク開口部に対応する領域の感光層の性質を変化させる。次いで、ステップ４５８に従って、感光層を現像してフィルタ要素の型を定める。例えば、ポジ型レジスト・システムの場合には、ステップ４５６において露光された感光層のすべての部分を、ステップ４５８の実施によって除去する（例えば、溶解させる）ことができる（ネガ型レジスト・システムの場合には、ステップ４５６において露光されなかった感光層のすべての部分を、ステップ４５８の実施によって除去することができる）。この時に残るものが、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２において最終的に孔４２３を定めることになる複数の構造体（具体的には、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２を通る種々の流路）である。次いで、適切な材料が、これらの構造体の間の空間に適切に配置される。換言すれば、この材料は、ステップ４５８によって定められたフィルタ要素の型の開口部内に堆積する。典型的には、ステップ４６０は、フィルタ要素の型の空間に（例えば、現像された感光材料の上述の構造体の間に）所望の金属を堆積させる電気めっきの形式である。その後、フィルタ要素の型は、現像された感光材料の溶解などのいずれかの適切な方法によって、除去される（ステップ４６２）。このことによって、次に、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の種々の孔４２３に対応する複数の開口領域が形成され、さらにステップ４６０の材料堆積によってＬＩＧＡフィルタ要素４２２の本体が形成される。
【０１３１】
図１７Ａは、フィルタまたは流量アセンブリ・ハウジングを作る（例えば、ハウジング１４、１８、３０、３４、３８のいずれかを作る）のに用いることができ、参照数字４６４によって特定される手順の１つの実施形態を示す。一般に、この手順４６４は、ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩ」部分を用いるものである。フィルタ・アセンブリ・ハウジングの所望の構成を定めるために、ステップ４６６によっていずれかの適切な材料（例えば、金）のフィルタまたは流量アセンブリ・ハウジングのマスクを作成する。円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングであって、ポジ型レジスト・システムの場合には、マスクは、その中空内部に対応する円形開口部と、この円形開口部の外周から間隔を空けた環状開口部とを含む（したがって、これらの２つの開口部間の距離が、円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングの側壁の厚さを定める）。円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングであって、ネガ型レジスト・システムの場合には、マスクは、円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングの側壁の厚さに対応する環状開口部を含む。
【０１３２】
手順４６４のステップ４６８に従って、いずれかの適切な材料の感光層が、いずれかの適切な基板（例えば、シリコン）の上にいずれかの適切な方法で形成される（例えば、１つまたは複数のシートを基板上に層状にスピン塗布し、成形し、接合する）。この感光層の代表的な材料として、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が挙げられるが、これに限定されるものではない。次いで、ステップ４７０に従って、フィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスク（ステップ４６６）は、感光層（ステップ４６８）に対して適切に位置決めされる。典型的には、フィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスクは、感光層の近くに位置決めされることになる。次いで、いずれの場合においても、ステップ４７２に従って、フィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスクの開口部を通して光が誘導される。ステップ４７２について、典型的には、Ｘ線、極紫外線、または深紫外線などの短波長光を用いることになる。波長が短くなるにつれて実現される寸法制御の向上に基づいて、極紫外線（約１０〜１４ｎｍのオーダの波長）およびＸ線（約１０オングストロームのオーダの波長）が、少なくとも幾つかの用途には好ましい。すなわち、フィルタ・アセンブリ・ハウジングは、厳しい許容誤差内で（例えば、微細加工されるフィルタ要素がフィルタ・アセンブリ・ハウジング内に圧入される場合には、約０．５μｍ以内で）作られることが必要な場合があり、これは、このように短波長光を用いて達成可能である。従って、円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングを作るために短波長光を用いることによって、所望の縦方向の度合い、フィルタ・アセンブリ・ハウジングの全長に沿って変動が最小限の壁厚、またはその両方を有する、フィルタ・アセンブリ・ハウジングの内壁および／または外壁を作り出すことができる。
【０１３３】
手順４６４のステップ４７２に関する光は、マスク開口部に対応する領域の感光層の性質を変化させる。次いで、ステップ４７４に従って、感光層を現像してフィルタ・アセンブリ・ハウジングを定める（例えば、ポジ型レジスト・システムの場合には、露光されたフォトレジストを溶解させ、ネガ型レジスト・システムの場合には、露光されていないフォトレジストを溶解させる）。すなわち、プロセス４６４の場合においてフィルタ・アセンブリ・ハウジングを定める材料は、現像された感光材料である。流量アセンブリ１０、２６および４８によって用いられるハウジングのいずれかを目的として（現像されると）十分な剛性を有すると考えられる感光材料として、ＰＭＭＡが挙げられるが、これに限定されるものではない。図１７Ａの手順４６４を応用（例えば、ステップ４６６においてマスクを適切に修正）して、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２を作ることができ、この場合には、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２の「本体」は感光材料となる。
【０１３４】
図１７Ｂは、フィルタまたは流量アセンブリ・ハウジングを作る（例えば、ハウジング１４、１８、３０、３４、３８のいずれかを作る）のに用いることができ、参照数字４７６によって特定され、フィルタ要素製造に関する図１６の手順４４８と少なくとも多少類似する手順の別の実施形態を示す。一般に、この手順４７６は、ＬＩＧＡプロセスの「ＬＩＧ」部分を用いるものである。フィルタ・アセンブリ・ハウジングの所望の構成を定めるために、ステップ４７８によっていずれかの適切な材料（例えば、金）のフィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスクを形成する。円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングであって、ネガ型レジスト・システムの場合には、マスクは、その中空内部に対応する円形開口部と、この円形開口部の外周から間隔を空けた環状開口部とを含む（したがって、これらの２つの開口部間の距離が、円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングの側壁の厚さを定める）。円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングであって、ポジ型レジスト・システムの場合には、マスクは、円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングの側壁の厚さに対応する環状開口部を含む。
【０１３５】
手順４７６のステップ４８０に従って、いずれかの適切な材料の感光層が、いずれかの適切な基板（例えば、シリコン）の上にいずれかの適切な方法で形成される（例えば、１つまたは複数のシートを基板上に層状にスピン塗布し、成形し、接合する）。この感光層の代表的な材料として、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が挙げられるが、これに限定されるものではない。次いで、ステップ４８２に従って、フィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスク（ステップ４７８）は、感光層（ステップ４８０）に対して適切に位置決めされる。典型的には、フィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスクは、感光層の近くに位置決めされることになる。次いで、いずれの場合においても、ステップ４８４に従って、フィルタ・アセンブリ・ハウジングのマスクの開口部を通して光が誘導される。ステップ４８４について、典型的には、Ｘ線、極紫外線、または深紫外線などの短波長光を用いることになる。波長が短くなるにつれて実現される寸法制御の向上に基づいて、上述のように、極紫外線（約１０〜１４ｎｍのオーダの波長）およびＸ線（約１０オングストロームのオーダか、またはそれより短い波長）が、少なくとも幾つかの用途には好ましい。
【０１３６】
手順４７６のステップ４８４に関する光は、マスク開口部に対応する領域の感光層の性質を変化させる。次いで、ステップ４８６に従って、感光層を現像してフィルタ・アセンブリ・ハウジングの型を定める。例えば、ネガ型レジスト・システムの場合には、ステップ４８４において露光されなかった感光層の部分を、ステップ４８６の実施によって除去する（例えば、溶解する）ことができ、一方、ポジ型レジスト・システムの場合には、ステップ４８６において露光された感光層の部分を除去する（例えば、溶解する）ことができる。円筒形のフィルタ・アセンブリ・ハウジングの場合には、この時に残るものは、中実の円筒形プラグと、この円筒形プラグの外周の周りに配置され、円筒形プラグから間隔が空いた環状壁である（この空間が、最終的に定められるフィルタ・アセンブリ・ハウジングの壁厚に対応する）。換言すれば、残るものは、感光層を通って下に延びる環状開口部である。次いで、適切な材料が、この環状開口部の中に適切に配置される。換言すれば、この材料は、フィルタ・アセンブリ・ハウジングの型の環状開口部内に堆積する。典型的には、ステップ４８８は、フィルタ・アセンブリ・ハウジングの型の空間に（例えば、現像された感光材料の上述の構造体の間に）所望の金属を堆積させる電気めっきの形式である。その後、フィルタ・アセンブリ・ハウジングの型は、現像された感光材料の溶解などのいずれかの適切な方法によって、除去される（ステップ４９０）。このことによって、次に、フィルタ・アセンブリ・ハウジングを貫通する中空内部または流路が形成され、さらにステップ４８８の材料堆積によってフィルタ・アセンブリ・ハウジングの本体が形成される。
【０１３７】
フィルタまたは流量アセンブリ１０、２６、および４３について特に望ましい１つの用途は、インプラントに用いるためのものである。インプラント・フィルタ・アセンブリが、図１８に概略的に提示されており、参照数字４９２によって特定されている。インプラント・フィルタ・アセンブリ４９２は、流量アセンブリ１０、２６、または４３のいずれかの形態とすることができるが、いずれの場合においても、少なくとも１つのＬＩＧＡフィルタ要素４２２と、少なくとも１つのハウジングとを含む。このハウジングは、インプラント用途に利用されるときに、ＬＩＧＡフィルタ要素４２２を支持／保護する。さらに、少なくともインプラント・ハウジングが対象となる生体物質に取り付けられたときには、このハウジングは、それが配置されるインプラント・ハウジングより剛性が高い。すなわち、インプラント・ハウジングは、生体物質に曝されたときにその剛性が変化する材料で形成することができる（例えば、インプラント・ハウジングは、生体物質に曝されたときに剛性が低くなる）。
【０１３８】
図１９は、インプラント４９８の１つの実施形態を開示する。インプラント４９８は、特定の適用に適した構成のインプラント・ハウジングまたは管５００を含む（例えば、ハウジング５００の図示される部分は、両端（図示せず）を有するいずれかの適切な構成のものとすることができ、いずれかの適切な材料または材料の組み合わせで作ることができる）。しかしながら、インプラント・ハウジング５００は、対象となる用途と生体適合性があるものとすべきである。具体的には、インプラント・ハウジング５００は、それが配置される生体物質と生体適合性があるものとすべきである。インプラント４９８は、圧力の解放といったいずれかの関連する用途に用いることができる。例えば、インプラント４９８は、患者の眼の前眼房の眼圧上昇に対処するのに用いることができる。インプラント４９８はまた、患者の内耳内の圧力上昇に対処する場合にも適している。この場合も同様に、インプラント４９８の構成は、対象となる用途に望まれる／必要とされるとおりに合わせることができることを認識すべきである。インプラント４９８の代表的な構成として、限定されるものではないが、名称を「Ｓｕｒｇｉｃａｌ  Ｉｍｐｌａｎｔ  Ｄｅｖｉｃｅ」とする特許文献３、名称を「Ｃｏｒｎｅａｌ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ−Ｒｅｇｕｌａｔｉｎｇ  Ｉｍｐｌａｎｔ  Ｄｅｖｉｃｅ」とする特許文献４、または名称を「Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｇｌａｕｃｏｍａ」とする特許文献５のいずれかにより開示されるもの、並びに、名称を「Ｓｙｓｔｅｍ  and  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｆｏｒ  Ｒｅｄｕｃｉｎｇ  Ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ」とする特許文献２により開示されるものが挙げられ、これらの文書の各々の開示全体は引用により本明細書に組み込まれる。
【０１３９】
少なくともインプラント４９８の使用中は（すなわち、少なくとも対象となる生体物質に取り付けられたときは）、インプラント・フィルタ・アセンブリ４９２の少なくとも１つのハウジングは、インプラント・ハウジング５００より剛性が高い。すなわち、インプラント・ハウジング５００は、生体物質に曝されたときに剛性が低くなり、この時点で、インプラント・フィルタ・アセンブリ４９２のハウジングは、インプラント・ハウジング５００より剛性が高い。インプラント・フィルタ・アセンブリ４９２の各々のハウジングは、少なくともインプラント４９８が取り付けられたときは、インプラント・ハウジング５００より剛性が高いことが好ましい。図１〜図２の流量アセンブリ１０の場合には、少なくとも外側ハウジング１４は、上述のようにインプラント・ハウジング５００より剛性が高いものである（とはいえ、内側ハウジング１８も、上述のようにインプラント・ハウジング５００より剛性が高いことが好ましい）。図３Ａ〜図３Ｂの流量アセンブリ２６の場合には、少なくとも外側ハウジング３０は、上述のようにインプラント・ハウジング５００より剛性が高いものである（とはいえ、内側ハウジング３４、３８も、上述のようにインプラント・ハウジング５００より剛性が高いことが好ましい）。図４Ａ〜図４Ｂの流量アセンブリ４３の場合には、ハウジング３４は、上述のようにインプラント・ハウジング５００より剛性が高いものである。
【０１４０】
インプラント・ハウジング５００は、（例えば、関連する流体の（連続的なおよび／または断続的な）流れを受け入れるための）中空内部または通路５０２を含む。この通路５０２は、インプラント・フィルタ・アセンブリ４９２をこの通路５０２に組み込むことによって、フィルタ処理する。インプラント４９８の通路５０２を通る流れが、インプラント・フィルタ・アセンブリ４９２を通って（したがって、少なくとも１つのＬＩＧＡフィルタ要素４２２を通って）誘導されることが好ましい。
【０１４１】
本発明の以上の説明は、例示および説明の目的で提示されたものである。さらに、この説明は、本発明を本明細書において開示された形式に限定することを意図するものではない。従って、上記の教示並びに当該技術分野の技術および知識に応じた変形および修正が、本発明の範囲内に入る。上述の実施形態はさらに、本発明を実施するための既知の最良の形態を説明すること、および、当業者が、こうした実施形態または他の実施形態において、および本発明の特定の用途または使用法によって必要とされる種々の修正を行って、本発明を利用できるようにすることが意図される。特許請求の範囲は、従来技術によって許容される範囲の代替的な実施形態を含むように解釈されることを意図している。
【図面の簡単な説明】
【０１４２】
【図１】ＭＥＭＳ流量モジュールを用いる流量アセンブリの１つの実施形態の分解斜視図である。
【図２】図１の流量アセンブリが組み立てられた状態の斜視図である。
【図３Ａ】ＭＥＭＳ流量モジュールを用いる流量アセンブリの別の実施形態の分解斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ａの流量アセンブリが組み立てられた状態の斜視図である。
【図４Ａ】ＭＥＭＳ流量モジュールを用いる流量アセンブリの別の実施形態の分解斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ａの流量アセンブリが組み立てられた状態の斜視図である。
【図５Ａ】ＭＥＭＳ流量モジュールの１つの実施形態の概略図（上面図）である。
【図５Ｂ】上部プレートおよび下部プレート並びに相互接続する環状支持体のみを示す、図５ＡのＭＥＭＳ流量モジュールの側断面図である。
【図５Ｃ】本明細書において説明されるＭＥＭＳ流量調節モジュールを作る表面微細加工プロセスの１つの実施形態によって用いることができる種々の層の断面図である。
【図６】図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュールによって組み込むことができるＭＥＭＳ流量モジュールの実施形態の側断面図である。
【図７Ａ】図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュールによって組み込むことができるＭＥＭＳ流量モジュールの実施形態の側断面図である。
【図７Ｂ】環状フィルタ壁の１つを示すための、図７ＡのＭＥＭＳ流量モジュールの一部の上部平面図である。
【図８】図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュールによって組み込むことができるＭＥＭＳ流量モジュールの実施形態の側断面図である。
【図９】図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュールによって組み込むことができるＭＥＭＳ流量モジュールの実施形態の側断面図である。
【図１０】図５Ａ〜図５ＢのＭＥＭＳ流量モジュールによって組み込むことができるＭＥＭＳ流量モジュールの実施形態の側断面図である。
【図１１Ａ】調整要素ユニット・セルの上部平面図である。
【図１１Ｂ】図１１Ａの構成の単一の調整要素ユニット・セルを有する調整要素の側断面図であり、これは、調整要素がＭＥＭＳ流量モジュールの下部プレートに対して第１の位置にあることを示す。
【図１１Ｃ】ＭＥＭＳ流量モジュールから出て行く流れを増加させることを可能にする、ＭＥＭＳ流量モジュールの下部プレートに対して第２の位置にある、図１１Ｂの構成の調整要素の側断面図である。
【図１２】図１１Ａの構成の複数の調整要素ユニット・セルを有するＭＥＭＳ調整要素の上部平面図である。
【図１３】図１２の複数の調整要素を用いるＭＥＭＳ流量モジュールの別の実施形態である。
【図１４Ａ】本明細書において説明される移動可能なバッフルまたは調整要素を有するＭＥＭＳ流量モジュールのいずれかを用いることができるインプラントの１つの実施形態の概略図である。
【図１４Ｂ】眼の前眼房内の圧力を解放するのに用いられ、本明細書において説明される移動可能なバッフルまたは調整要素を有するＭＥＭＳ流量モジュールのいずれかを利用することができる、インプラントまたはシャントの１つの実施形態の断面図である。
【図１５Ａ】図１〜図４Ｂの流量アセンブリのいずれかにおいてＭＥＭＳ流量モジュールとして用いることができるＬＩＧＡフィルタ要素の１つの実施形態の上面図である。
【図１５Ｂ】線Ｂ−Ｂに沿って取られた、図１５ＡのＬＩＧＡフィルタ要素の断面図である。
【図１６】ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて図１５Ａ〜図１５ＢのＬＩＧＡフィルタ要素を作るための手順の１つの実施形態である。
【図１７Ａ】ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて流量アセンブリ・ハウジングを作るための手順の１つの実施形態であり、図１〜図４Ｂの流量アセンブリのいずれかに用いることができる。
【図１７Ｂ】ＬＩＧＡプロセスの少なくとも一部を用いて流量アセンブリ・ハウジングを作るための手順の別の実施形態であり、図１〜図４Ｂの流量アセンブリのいずれかに用いることができる。
【図１８】図１〜図４Ｂのフィルタまたは流量アセンブリのいずれかの形態とすることができるインプラント・フィルタまたは流量アセンブリの１つの実施形態の概略図（側面図）である。
【図１９】図１８のインプラント・フィルタまたは流量アセンブリが中空内部に配置された状態のインプラントの１つの実施形態の断面図である。
【図１】
2007526079.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６】
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【図１７Ａ】
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【図１７Ｂ】
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【図１８】
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【図１９】
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【国際調査報告】
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