(57)【要約】  本発明は、タブレットを製造するための機械（４）を備えた設備に関するもので、前記機械は少なくとも一つのチャンバ（６）を含む。本発明の設備は、ガスをチャンバ内に放出し、ガスをチャンバの周囲に移動するための手段を含む。
2007525252.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タブレットを製造するための機械（４）を備えた設備（２）であって、前記機械（４）は少なくとも一つの室（６、８、１０）を持つ、設備（２）において、
前記設備は、ガスを前記室に注入してこれを前記室に亘って分配するための手段（１０、１２、１６、１４）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項２】
請求項１に記載の設備において、前記手段は、前記ガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の設備において、前記手段は、前記室（６）内のガスの温度が確実に所定値に達するように、前記室（６）の上流の所定位置（８０）のガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項４】
請求項１、２、又は３に記載の設備において、前記手段は、前記温度が確実に所定値に達するように、前記室の上流の所定位置（８０）のガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスを冷却するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項６】
請求項１乃至５のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスを加熱するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項７】
請求項１乃至６のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスの相対湿度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項８】
請求項１乃至７のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は少なくとも一つの粒子フィルタ（３０、３２）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項９】
請求項１乃至８のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、例えば前記室の上流又は下流に配置された少なくとも一つのファン（１０、１４）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（６）は前記タブレットを付形するための装置（３９）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（８）はモータを含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（１０）は電子装置を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（６、８、１０）の数は少なくとも二つであり、前記機械は、前記ガスを各室に注入してこれを分配するための手段を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１４】
請求項１３に記載の設備において、前記ガスを、並列な構成を使用して複数の前記室（６、８、１０）に供給するように構成された複数のガス導管（１６）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載の設備において、前記手段は、複数の前記室（６、８、１０）で部分的に共通である、ことを特徴とする設備。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、前記室（６、８、１０）から取り外すことができるように連結された少なくとも一つのガス導管（１６）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室と前記設備の残り部分との間のガスの流れを遮断するために、少なくとも一つのストッパ（３６ａ−ｃ、７０）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１８】
請求項１乃至１７のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、様々な非ゼロ流れ値から一つの流れを選択できるようにすることによって、前記室と関連したガスの流れを制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項１９】
請求項１乃至１８のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、前記室（６、８、１０）に配置された拡散ボックス（４０、５０、６２）を含み、この拡散ボックスは、ガスを前記室に入れるための少なくとも二つの開口部（４２）を有する、ことを特徴とする設備。
【請求項２０】
請求項１９に記載の設備において、前記開口部（４２）は、拡散ボックス（４０、５０、６２）の異なる面に配置されている、ことを特徴とする設備。
【請求項２１】
請求項１乃至２０のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記タブレットは、治療又は美容で使用するための物質を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項２２】
請求項１乃至２１のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記タブレットはイブプロフェンを含む、ことを特徴とする設備。
【請求項２３】
タブレットを製造するための方法において、
タブレットを製造するための機械（２）の一部分を形成する室（６、８、１０）にガスを供給し、これを前記室に亘って分配する、ことを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の方法において、前記ガスの温度を制御する、ことを特徴とする方法。
【請求項２５】
請求項２３又は２４に記載の方法において、前記室内の前記ガスの温度が確実に所定値に達するように、前記室の上流の所定位置（８０）で前記ガスの温度を制御する、ことを特徴とする方法。
【請求項２６】
請求項２３、２４、又は２５に記載の方法において、前記温度が所定値に達するように、前記室の上流の所定位置（８０）でガスの温度を制御する、ことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タブレット、特に治療や美容で使用するための物質を含むタブレットの製造に関する。例えばイブプロフェンを含むタブレットに関する。
【背景技術】
【０００２】
イブプロフェン分子は、軟化点が４２℃であり、融点が７０℃である。イブプロフェンタブレットは、その間でタブレットを形成する一連のダイ及びパンチを含む機械によって粉体から製造することが一般的である。機械内で圧縮により生じる温度上昇のため、タブレットの製造に使用される原材料が軟化する。これは、タブレットの粉体を機械内に付着させるという問題を生じる。これは、機械の正しい作動にとって有害である。
【０００３】
文献フランス国特許第ＦＲ−２  ４４０  １８８号の図３には、冷却流体を通す内部チャンネルが特定の部品に設けられた、タブレットを製造するための機械が記載されている。このような冷却源は機械の設計及び製造で考慮しなければならない。これは、費用の掛かる変更を行わなければ現存の機械に対して実施することができないためである。図７に示す別の方法では、該文献によれば、機械全体を、温度が制御されるガスで充填した室内に配置することが教示されている。しかしながら、ガスの温度及び従って機械の温度を所望レベルに維持するために費やされるエネルギが非常に大きい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の一つの目的は、タブレットの製造中の付着の問題を、現存の機械に容易に適合できる源を使用して、エネルギを過度に消費する必要なしに解決することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的のため、本発明による提案は、少なくとも一つの室を持つタブレットを製造するための機械を含む設備であり、この設備は、ガスを室に注入してこれを室に亘って分配するための手段を含む。
【０００６】
かくして、本発明は、過度の費用を伴わずに現存の機械に容易に適合できる。更に、ガスを室内で循環させることによって、エネルギを過度に消費することなく室を非常に効率的に冷却する。
【０００７】
有利には、前記手段は、ガスの温度を制御するように構成される。
【０００８】
かくして、タブレットを更に効率的に製造するための所望の温度を、特に更に迅速に達成できる。
【０００９】
有利には、前記源がガスの相対湿度を制御するように構成されている。実際、機械、特にタブレットを製造するための装置を取り囲むガスの相対湿度は、製造中の付着をなくすための重要なパラメータである。
【００１０】
本機械は、更に、少なくとも以下の特徴のうちの任意の特徴を備えることができる。  
−前記手段は、ガスの温度を制御するように構成されており；
−前記手段は、室内のガスの温度が確実に所定値に達するように、室の上流の所定位置のガスの温度を制御するように構成されており；
−前記手段は、温度が確実に所定値に達するように、室の上流の所定位置のガスの温度を制御するように構成されており；
−前記手段は、ガスを冷却及び／又は加熱するように構成されており；
−前記手段は、少なくとも一つの粒子フィルタを含み；
−前記手段は、例えば室の上流又は下流に配置された少なくとも一つのフィンを含み；
−室は、タブレットを付形するための装置を含み；
−室は、モータを含み；
−室は、電子装置を含み；
−室の数は少なくとも二つであり、機械は、ガスを各室に注入して分配するための複数の源を有し；
−並列の構成によってガスを複数の室に供給するように構成された複数のガス導管を含み；
−前記手段は、複数の室で部分的に共通であり；
−前記手段は、室に取り外し自在であるように連結された少なくとも一つのガス導管を含み；
−室と設備の残り部分との間のガスの流れを遮断するためのストッパを含み；
−前記手段は、様々な非ゼロ流れ値から一つを選択できるようにすることによって、室と関連したガスの流れを制御するように構成されており；
−前記手段は、ガスを室に入れるための少なくとも二つの開口部を持つ、室に配置された拡散ボックスを含み；
−開口部は、拡散ボックスの異なる面に配置されており；
−タブレットは、治療又は美容で使用するための物質を含み；及び
−タブレットは、イブプロフェンを含む。
【００１１】
本発明は、更に、タブレットを製造するための機械の一部分を形成する室にガスを注入し、室に亘って分配されたガス中でタブレットを製造するための方法を提案する。
【００１２】
本発明は、以下の特徴のうちの少なくとも一つを備えることができる。  
−ガスの温度を制御し；
−室内のガスの温度が確実に所定値に達するように、室の上流の所定位置でガスの温度を制御し；及び
−温度が所定値に達するように、室の上流の所定位置でガスの温度を制御する。
【００１３】
本発明のこの他の特徴及び利点は、非限定的例として提供される好ましい方法の以下の説明を、添付図面を参照して読むことによりから明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に説明する本発明の実施形態では、設備２は、イブプロフェンを含む治療用タブレットの製造に使用するための機械４を含む。この機械は、既知の種類の機械である。図１を参照すると、機械４は、従来、タブレットを製造するための装置が収容された圧縮室６、圧縮室内に配置された装置を作動するモータを含むモータユニット８、及び機械の調節を行うための電子装置ユニット１０を含む。圧縮室、モータユニット、及び電子装置ユニットは互いに隣接しており、共通のハウジング内に収容されている。このような機械は、例えば、上掲のフランス国特許第ＦＲ−２  ４４０  １８８号に記載された種類の機械であり、その必須エレメントの全てを下文において詳細に説明することはしない。
【００１５】
設備２は、更に、冷却空気を供給することによって機械を冷却するための源を含む。詳細には、上流吸気ファン９を含む。更に、空気の濾過、除湿、及び場合によっては加熱又は冷却を行う空気処理ユニット１２が含まれる。更に、下流排気ファン１４が含まれる。最後に、設備２の様々な部分に亘ってガスを分配する例えばステンレス鋼製の導管又はシャフト１６を含む。かくして、第１共通シャフト１６は、空気処理ユニットの下流に配置されており、圧縮室６、モータユニット８、及び電子装置ユニット１０の夫々と並列に、アッセンブリに連結された他の三つのシャフトと連通している。これらは、共通のシャフト１６と連通しており、このシャフトは、それ自体、下流供給ファン１４と連通している。
【００１６】
かくして、わかるように、この設備では、空気はコンプレッサー４の三つの箇所で供給される。圧縮室６への第１供給部は、製造タレットの急速な運動及び摩擦によって発生する熱量を打ち消すために冷却空気を提供するため、製造装置にできるだけ近づけて配置される。
【００１７】
更に、空気は、隣接した圧縮室の方向での熱拡散現象を最小にするため、モータユニット８に供給される。これらの現象は、モータの機械構成要素の加熱による。
【００１８】
最後に、及び同様に、冷却空気を電子装置ユニット１０に供給することにより、モータユニット及び圧縮室の方向での熱拡散現象を最小にする。これらの現象は、電気部品及び電子部品の加熱による。
【００１９】
空気処理ユニット１２は、好ましくは、コンプレッサー４が置かれた部屋以外の機器室に設置される。このユニットは、吹き出し空気の調整を行うのに使用される。更に、詳細には、空気を濾過、除湿、及び適当な場合には加熱及び／又は冷却することによってその品質を制御する。１５００ｍ3 ／時の空気流を提供でき且つ３５０Ｐａの圧力を利用できるＣＣＭ２０型の循環水式のユニットであってもよい。本例では、このユニットは、新鮮な空気だけで作動する。このことは、既に機械を通過した空気を取り入れないということを意味する。
【００２０】
図２を参照し、このユニット１２を形成する様々な装置を左から右に、即ちガスの流れ方向で説明する。空気は、ユニットの左端から進入し、右端から出る。このユニットは、Ｆ６型（ＥＮ７７９規格による）粒子フィルタ２０を含む。ユニットは、このフィルタ２０の下流に、出力が７．８ｋＷの第１電気式熱交換器２２を含み、次いで、０℃乃至５℃の冷水で作動する出力が２４ｋＷの熱交換器２４が設けられている。これに続いて第２冷水熱交換器２６が設けられている。次に、出力が１５．６ｋＷの電気式熱交換器２８が設けられている。ユニットは、これらのエレメントの下流に上述の上流供給ファン９を含む。従って、このファンは、この例では、ユニットに組み込まれ、１５００ｍ3 ／時の流れを提供し、３００Ｐａの利用可能圧力を提供する。その下流に、Ｆ８型粒子フィルタ３０（ＥＮ７７９規格による）及びＨ１３型粒子フィルタ３２（ＥＮ１８２２規格による）が設けられている。
【００２１】
これらのフィルタは全て、詳細には、ガスをタブレットと接触できるようにするためにガスを製薬の用途に適合する程度まで「浄化」する機能を有する。この例では、これらの最後の二つのフィルタの汚れを監視するため、これらのフィルタの位置で圧力差の計測値を常に計測する。
【００２２】
様々な気候データ及び地理的データを使用し、機械の寸法計算を行ってきた。かくして、この目的は、夏期及び冬期の両方で、機械を０Ｐａ乃至３０Ｐａの負圧に維持し、圧縮ユニットの温度を２５℃に維持し、吹き出し空気の湿度を乾燥空気１ｋｇ当たり５ｇ以下に維持することである。冬期における外気条件は、−７℃で相対湿度が７０％であると仮定し、夏期における外気条件は、２９℃で相対湿度が４３％であると仮定する。
【００２３】
ユニット１２の各低温熱交換器２４、２６には、図３に示す冷却ユニット３４に連結された共通の冷水回路から供給される。冷却ユニットは、水温の正確さに関して高度の安定性を提供するため、１００リットル及び３００リットルのヘッダータンクの夫々と関連している。
【００２４】
図１を参照すると、空気はユニット１２の下流でシャフト１６内を搬送される。このシャフトは、図示のように、三つの部分に別れる。即ち、
−空気を圧縮室６に向かって供給するためのシャフト、
−空気をモータユニット８に向かって供給するためのシャフト、及び
−空気を電子装置ユニット１０に向かって供給するためのシャフトを含む。
【００２５】
これらの三つのシャフトの各々の経路には、供給ダンパー３６ａ、３６ｂ、及び３６ｃが設けられている。これは、圧縮室に向かう経路では、モータ駆動式ダンパー３６ａであってもよい。モータユニット及び電子装置ユニットに向かう経路では、ダンパー３６ｂ及び３６ｃはモータ駆動式ではない。モータ駆動式ダンパー３６ａは、機械を停止した場合に圧縮室を吸気システムに関して密封態様で遮断するのに使用される。これは、機械内に存在する粉体によって吸気システムが汚染されないようにするために加えられる製薬上の制約である。これらのダンパーの各々は、関連したシャフト１６の各々内の空気の流れを異なる非ゼロ流量値間で変化するように、又は場合によってはシャフトを全体として遮断するように、関連したシャフト１６の各々内の空気の流れを変化させるために使用することもできる。シャフト１６は、ＡＩＳＩ３１６Ｌステンレス鋼製である。
【００２６】
これらの三つのシャフトの各々は、ユニット１２を収容した部屋内で始まり、コンプレッサー４を収容した部屋で終端する。この部屋は、環境が制御されている。本例では、これらの三つのシャフト１６の各々は、取り外し自在の中間部品、及びこの取り外し自在の部品のいずれかの側に夫々配置されており且つ部屋及び機械の夫々に永久的に固定された二つの他の部品即ち上流部品及び下流部品を含む。取り外し自在の区分が設けられていることにより、必要な場合に機械４を、冷却空気を供給する必要なしに得ることができるその本来の形態で使用できる。この場合、機械の基本的性能を保証するため、例えばステンレス鋼製のストッパが、機械と関連した固定シャフトの区分に設置される。
【００２７】
図４及び図５を参照し、圧縮室６での冷却を詳細に説明する。圧縮室６と関連したシャフト１６は、室の頂部から到達する。これは、圧縮ダイ３９のできるだけ近くに空気を分配するのに使用される。室６内には、薄板金製の矩形の六面体形状の拡散ボックス即ちデフレクター４０が配置されている。この拡散ボックスは、シャフト１６から到着した空気を受け取る。拡散ボックスは、垂直横面４４及び４６並びにその下面４８及び後面に開口部４２を有する。後面は図示していない。これにより、空気を圧縮室の内側に完全に分配するために、空気流を良好に分配できる。この例では、デフレクターの前面４９には空気出口開口部が設けられていない。実際、この面は、室６内に向いている。コンプレッサーには、ダイ３９の潤滑を一般的に既知のように行うのに使用されるオイル噴霧システムが設けられている。オイルは、非常に揮発性の高い物質である。拡散ボックスのこの面が閉鎖されていない場合には、吹き出し空気により室６内にオイルスプレーの雲が発生してしまう。これは、製造プロセスにとって有害である。デフレクター４０は、室６の上部分内に配置されている。室６からガスを排出するのに使用される下流シャフト１６が室の下部分に、デフレクターの反対側の室の面に開放している。
【００２８】
モータユニット８と関連した室の冷却源を図６及び図７に示す。ユニットの温度を低下させ、及びかくしてモータユニットから圧縮室６に向かう熱拡散を最小にするため、モータユニットに空気を直接送り込む。有孔鋼板製の拡散ボックス５０即ちデフレクターがモータユニットの室８の内側に設置してある。デフレクターを室８の下水平面に配置し、その上面５２、前面５４、及び垂直横面５６が開放しており、各面にオリフィス４２のネットワークが形成される。空気排出シャフト１６が、デフレクターに向かう吸気シャフトが設けられた室８の面以外の面に配置されている。
【００２９】
最後に、電子装置ユニット１０での冷却の実施形態を図８及び図９に示す。モータユニット８と同様に、電子装置ユニットの温度を低下させ、及びかくして電子装置ユニットから圧縮室に向かう熱拡散を最小にするため、電子装置ユニットに空気を直接送り込む。
【００３０】
この目的のため、空気を電子装置ユニット１０の電子装置キャビネット６０の頂部を介して導入する。ここでも、空気を室１０に導入するためにデフレクター即ち拡散ボックスが設けられている。デフレクターは、全体がキャビネットの下部分に配置されたファンを取り外した後、室の下部分に配置される。拡散ボックスは、開口部４２の幾つかのネットワークが設けられたその上面が開放している。空気を電子装置ユニットの内側に完全に拡散するため、このシステムにより、空気流を良好に分散する。空気を室１０に導入する上流シャフト１６がキャビネットの底部分に配置されているのに対し、この室から空気を排出する上流シャフト１６は、モータユニットの上部分に配置されている。これらの二つのシャフトは、キャビネットの同じ横壁と関連している。
【００３１】
わかるように、空気は、機械の二つの箇所３０、即ちモータユニット８及び電子装置ユニット１０のところでだけ、シャフト１６を介して排出される。この排出は、排出ファン１４を使用して行われる。上流シャフトと同様に、モータユニット及び電子装置ユニットと関連した二つの下流シャフトには、モータ駆動式排出ダンパー７０が装着してある。これらのダンパーは、機械を停止する場合に吸気システムの排出ネットワークを密封態様で遮断するのに使用される。この製薬上の制約は、機械的構成要素及び電子的構成要素を通過した汚染された空気によって吸気システムが汚染されることがないようにするために使用される。
【００３２】
機械は、吸気システムを制御するための源を含む。これらの源は、詳細には、様々なパラメータ及び作動手順を設定するのに使用される。このシステムは、部屋の隔壁に窪ませた、制御スクリーンを備えた端子を含んでいてもよい。この端子は、設定点値を入力するため、及び作動のパラメータを監視するために使用される。警報を管理するのにも使用される。有利には、設備の全ての作動履歴を記録するための源を含む。設備は、吸気システム、コンプレッサー、及びこのコンプレッサーと関連した吸気システムの間に自動断続制御ループを含む。
【００３３】
タブレットの製造に関し、設備を作動するための二つの方法が考えられる。
【００３４】
手動モードと呼ばれる第１の方法は、供給空気の温度設定点を入力する工程を含む。この温度設定点は、オペレータによって５℃乃至１５℃の所定範囲から選択される。５℃の最小空気供給温度により、この温度以下で生じることのある凝縮現象を阻止できる。例えば、温度設定点は、１０℃と等しいように選択できる。この設定点値は、当然のことながら、この設定点値前後の温度の揺らぎ許容差（例えば９℃乃至１１℃）と関連している。
【００３５】
この作動モードでは、設備は、ユニット１２の直ぐ下流と連通したシャフト１６に配置されたセンサ８０によって、ユニット１２を離れるガスの温度を制御する。従って、設備はユニット１２を制御し、詳細には、センサ８０によって計測される温度ができるだけ温度設定点、ここでは１０℃に近いままであるように加熱及び冷却熱交換を行う。プローブ８０は、この点での空気の温度を連続的に読み取る。この温度が変化した場合には、設備はユニットを制御して温度を調節する。この作動モードは、モータユニット及び電子装置ユニットの温度を下げるのに使用される。これらの二つのゾーンに供給される空気の温度は、圧縮室での吸気の温度と同じである。
【００３６】
ガスの湿度は、ユニット１２の下流温度プローブ８０に沿って配置されたプローブ８２によって制御される。このプローブは、湿度を調節するため、ユニットの冷却熱交換器に直接作用する。
【００３７】
この例では、圧縮室６について計画された流れは１５０ｍ3 ／時である。モータユニット及び電子装置ユニットでの流れは、各々、７００ｍ3 ／時であるように設計される。圧縮室内での１５０ｍ3 ／時の流れは、圧縮室内に存在する負圧に従って調節される。実際、この室は、機械内の塵埃を一般的に既知の方法で連続的に除去する吸気システム６９に連結されている。この吸気システムは、機械内に存在する余分の潤滑剤をなくすのに使用される。この吸気システムが、圧縮室内へのシステム供給以上を吸い込むため、圧縮室内には０Ｐａ乃至３０Ｐａの負圧が常に存在する。この負圧を使用して塵埃を閉じ込め、塵埃が機械に溜まり過ぎないように、及び粉体が部屋内に漏れないようにする。
【００３８】
室６に進入する空気の流れは、負圧を確実に維持するために調節される。この調節は、ユニット１２に配置された吸気ファン９によって行われる。この調節は、作動中に吸気システムが汚れてしまい、吸気空気流を減少するので、必要である。この目的のため、圧縮室６は、室内の圧力及び室外の圧力を同時に計測する差圧センサ８４と関連している。このセンサによって差圧を計測することにより、機械はファン９を制御できる。
【００３９】
更に、ユニット１２の下流及び排気ファン１４の上流の夫々に配置された二つのセンサ８６及び８８によって圧力が連続的に計測される。センサ８４がファン９の速度を変化させると、センサ８６がユニットの出口で計測する圧力及びセンサ８８が排気ネットワークで計測する圧力が変化する。センサ８６及び８８によって計測された圧力の比が常に一定のままであるように構成されている。従って、設備は、この目的のためにファン１４に作用を及ぼす。
【００４０】
圧縮室内に負圧空気を発生する吸気システム６９には、吸気システムの入口と機械の外側での差圧を計測する圧力ゲージが装備されている。かくして、吸気システムの汚損率を計測する。この比が臨界閾値に達したとき、フィルタのクリーニングを行う必要があることを警報がオペレータに警告する。このクリーニング作業が行われない場合には、機械は故障モードに移行し、次いで、圧縮機械を遮断するため、圧縮室の上流ダンパー３６及び下流ダンパー７０を閉じる。
【００４１】
プロセスの他の作動モードは自動モードと呼ぶことができる。この場合、オペレータは、圧縮室６内のガスについての例えば２５℃の温度設定点をデータとして設備に供給する。温度設定点には、この場合も特定程度の許容差がある。かくして、システムは、空気を室６に供給するため、及び室内のガスの温度が設定点値に達するためにユニット１２を制御する。この目的のため、機械は、室内に配置された温度センサ９０を含む。このセンサは、室内の温度を連続的に計測する。この温度が２５℃から変化したとき、設備は、空気を加熱し又は冷却するため、及びこれを温度設定点に戻すため、ユニット１２、詳細には加熱熱交換器及び冷却熱交換器を制御する。この作動モードは、更に、モータユニット８及び電子装置ユニット１０内の温度を下げる効果がある。これらのゾーンは、温度制御が直接的には行われないが、圧縮室６と関連した設定点値に間接的に行う。
【００４２】
相対湿度の調節は、手動モードと同じ方法で行われる。これは、更に、圧力差の調節にも適用される。
【００４３】
本発明による設備及びプロセスは、タブレットが付着する現象が起こらないようにするためのものである。わかるように、本発明は、全体として、予め処理（加熱、冷却、濾過、及び空気の相対湿度の制御）を施した空気を供給する工程を含む。ここでは、混合物を圧縮するための装置、モータユニット、及び電子装置ユニットが圧縮室に設けられている。モータユニット及び電子装置ユニットに冷却空気を供給することによりこれらのエレメントを冷却し、及び従って圧縮室に向かう熱伝達現象を最小にする。動いている圧縮タワーの運動エネルギと組み合わせられた摩擦効果によって発生した温度上昇現象を減少するため、圧縮ゾーンのできるだけ近くに冷却空気を供給する。
【００４４】
空気の更新が制御される部屋の中にコンプレッサーを配置できるため、全ての空気が流れるとき、本発明にはこれらの流れを妨げないという利点がある。
【００４５】
更に、温度及び流れを制御するための本発明により実施されるレギュレーション構成は、基本的コンプレッサーの製造を推奨することが観察されるということを意味する（様々な部品を潤滑するためのオイルの粘度、モータ及び電子構成要素の作動温度、等）。
【００４６】
本発明は、現存のコンプレッサーを適合することによって容易に実施できる。これは、行われるべき変更を最少にするためである。実際、ハウジングを穿孔し、対応するデフレクターを追加するだけでよい。当然のことながら、本発明は比較的顕著な副次的技術装置、即ち空気処理ユニット、冷却ユニット、及び配管、好ましくは断熱配管、並びにシステムを制御するための自動源を必要とする。本発明により、温度を比較的安価に制御できる。
【００４７】
勿論、本発明を逸脱することなく、本発明に多くの変更を加えることができる。
【００４８】
タブレットは、イブプロフェン以外の治療や美容で使用するための物質を含んでいてもよい。治療用物質という用語は、予防又は緩和の目的で投与できる物質を意味する。
【００４９】
コンプレッサーは、更に、ガス供給システムと関連していない少なくとも一つの室を含む。
【００５０】
コンプレッサーに進入する空気の湿度を高めるためのシステムを設けることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一つの好ましい実施形態による設備の全体ダイヤグラムである。
【図２】図１の設備の空気処理ユニットの概略平面図である。
【図３】図１の設備の空気加熱−冷却システムの一部の概略図である。
【図４】圧縮室と関連した導管を示す、図１の設備の機械の部分斜視図である。
【図５】図１の機械の圧縮室の内部の部分斜視図である。
【図６】モータユニットと関連した導管を示す、図４と同様の図である。
【図７】モータユニットの内部を示す、一部を除去した斜視図である。
【図８】電子装置ユニットと関連した導管を示す、図４と同様の部分斜視図である。
【図９】電子装置ユニットの内部を示す、一部を除去した斜視図である。
【図１】
2007525252.tif 000003
【図２】
2007525252.tif 000004
【図３】
2007525252.tif 000005
【図４】
2007525252.tif 000006
【図５】
2007525252.tif 000007
【図６】
2007525252.tif 000008
【図７】
2007525252.tif 000009
【図８】
2007525252.tif 000010
【図９】
2007525252.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タブレットを製造するための機械（４）を備えた設備（２）であって、前記機械（４）は少なくとも一つの室（６、８、１０）を持つ、設備（２）において、
前記設備は、ガスを前記室に注入してこれを前記室に亘って分配するための手段（１０、１２、１６、１４）を含み、前記手段は、前記室（６）内のガスの温度が確実に所定温度に達するように前記室（６）の上流の所定位置（８０）のガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項２】
請求項１に記載の設備において、前記手段は、前記所定位置（８０）での温度が確実に所定値に達するように、前記所定位置（８０）の前記ガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の設備において、前記手段は前記ガスを冷却するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項４】
請求項１、２、又は３に記載の設備において、前記手段は前記ガスを加熱するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスの相対湿度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項６】
請求項１乃至５のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は少なくとも一つの粒子フィルタ（３０、３２）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項７】
請求項１乃至８のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、例えば前記室の上流又は下流に配置された少なくとも一つのファン（１０、１４）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項８】
請求項１乃至７のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（６）は前記タブレットを付形するための装置（３９）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項９】
請求項１乃至８のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（８）はモータを含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（１０）は電子装置を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室（６、８、１０）の数は少なくとも二つであり、前記機械は、前記ガスを各室に注入してこれを分配するための手段を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１２】
請求項１１に記載の設備において、前記ガスを、並列な構成を使用して複数の前記室（６、８、１０）に供給するように構成された複数のガス導管（１６）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の設備において、前記手段は、複数の前記室（６、８、１０）で部分的に共通である、ことを特徴とする設備。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、前記室（６、８、１０）から取り外すことができるように連結された少なくとも一つのガス導管（１６）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室と前記設備の残り部分との間のガスの流れを遮断するために、少なくとも一つのストッパ（３６ａ−ｃ、７０）を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、様々な非ゼロ流れ値から一つの流れを選択できるようにすることによって、前記室と関連したガスの流れを制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、前記室（６、８、１０）に配置された拡散ボックス（４０、５０、６２）を含み、この拡散ボックスは、ガスを前記室に入れるための少なくとも二つの開口部（４２）を有する、ことを特徴とする設備。
【請求項１８】
請求項１７に記載の設備において、前記開口部（４２）は、拡散ボックス（４０、５０、６２）の異なる面に配置されている、ことを特徴とする設備。
【請求項１９】
請求項１乃至１８のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記タブレットは、治療又は美容で使用するための物質を含む、ことを特徴とする設備。
【請求項２０】
請求項１乃至１９のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記タブレットはイブプロフェンを含む、ことを特徴とする設備。
【請求項２１】
タブレットを製造するためのプロセスにおいて、
タブレットを製造するための機械（２）の一部分を形成する室（６、８、１０）にガスを注入し、これを前記室に亘って分配し、
前記室内の前記ガスの温度が確実に所定値に達するように、前記室の上流の所定位置（８０）で前記ガスの温度を制御する、ことを特徴とするプロセス。
【請求項２２】
請求項２１に記載のプロセスにおいて、前記ガスの温度は、前記所定位置（８０）での温度が確実に所定値に達するように、前記所定位置（８０）でガスの温度を制御する、ことを特徴とするプロセス。
【国際調査報告】
2007525252.tif 000012
2007525252.tif 000013
2007525252.tif 000014
2007525252.tif 000015