(57)【要約】Ｘ線装置（１００）内での使用に適した陰極ヘッド（２００）が提供される。Ｘ線装置（１００）は、ターゲット面（３０４）を有する陽極（３００）を含み、ターゲット面（３０４）は、陰極ヘッド（２００）によって放出された電子を受け取るように構成および配置される。陰極ヘッド（２００）は、磁性材料または非磁性材料から構成され、フィラメント（２０４）を保持する放出構造（２０２）を含み、フィラメント（２０４）は、コイル（２０８）等の一つまたは複数の磁気素子が周りに配置された長軸を規定する。フィラメント（２０４）は、電子ビームを放出するように構成および配置され、陽極（３００）のターゲット面（３０４）上に焦点を規定する。フィラメント（２０４）によって規定された長軸の周りに配置された一つまたは複数の磁気コイル（２０８）は磁界を生成し、陽極のターゲット面上における焦点位置の制御を可能にする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット面を有する陽極を含むＸ線装置内での使用に適した陰極ヘッドであって、前記ターゲット面は、Ｘ線を生成するために、前記陰極ヘッドにより放出された電子を受け取るように構成および配置され、前記陰極ヘッドは、
放出構造と、
前記放出構造に取り付けられて、電子ビームを生成するように構成され、前記陽極のターゲット面上に焦点を規定する放出源と、
前記放出源に近接にして配置された少なくとも一つの磁気素子と、
を備える陰極ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記少なくとも一つの磁気素子が、少なくとも一つの電磁石を含む、陰極ヘッド。
【請求項３】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記少なくとも一つの磁気素子が、少なくとも一つの永久磁石を含む、陰極ヘッド。
【請求項４】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出構造が実質的に非磁性である、陰極ヘッド。
【請求項５】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、放出構造が磁性を有する、陰極ヘッド。
【請求項６】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出源が、前記少なくとも一つの磁気素子が周りに配置された長軸を規定する、陰極ヘッド。
【請求項７】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記少なくとも一つの磁気素子が、一対の電磁石を含む、陰極ヘッド。
【請求項８】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記少なくとも一つの磁気素子と前記放出構造とが協動して、前記電子ビームの少なくとも一部が通過する磁界を生成する、陰極ヘッド。
【請求項９】
請求項１に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出源が少なくとも一つのフィラメントを含む、陰極ヘッド。
【請求項１０】
ターゲット面を有する陽極を含むＸ線装置内での使用に適した陰極ヘッドであって、前記ターゲット面は、前記陰極ヘッドが放出した電子を受け取るように構成および配置され、前記陰極ヘッドは、
放出構造と、
前記放出構造に取り付けられて、電子ビームを生成するように構成され、前記陽極のターゲット面上に焦点を規定する放出源と、
焦点制御を容易にするための手段と、
を備える陰極ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、焦点制御を容易にするための前記手段が、ターゲット面上の焦点位置を調整するように機能する、陰極ヘッド。
【請求項１２】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、焦点制御を容易にするための前記手段が、ターゲット面上の焦点位置を少なくとも横方向に調整できる、陰極ヘッド。
【請求項１３】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、焦点制御を容易にするための前記手段が、磁界を用いて、ターゲット面上の焦点位置を調整する、陰極ヘッド。
【請求項１４】
請求項１３に記載の陰極ヘッドにおいて、前記磁界が前記電子ビームに実質的に直交する、陰極ヘッド。
【請求項１５】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、焦点制御を容易にするための前記手段が、前記電子ビームの調整可能な偏向を行う、陰極ヘッド。
【請求項１６】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、焦点制御を容易にするための前記手段が、前記放出源の近傍の位置において前記電子ビームに作用する、陰極ヘッド。
【請求項１７】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出構造が実質的に非磁性である、陰極ヘッド。
【請求項１８】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出構造が磁性を有する、陰極ヘッド。
【請求項１９】
請求項１０に記載の陰極ヘッドにおいて、焦点制御を容易にするための前記手段が前記放出構造と協動して、前記電子ビームの少なくとも一部が通過する磁界を生成する、陰極ヘッド。
【請求項２０】
Ｘ線装置であって、
真空容器と、
前記真空容器内に実質的に配置されるとともに、ターゲット面を含む陽極と、
前記真空容器内に実質的に配置された陰極ヘッドと、
を備え、前記陰極ヘッドが、
放出構造と、
前記放出構造に取り付けられて、電子ビームを生成するように構成され、前記陽極のターゲット面上に焦点を規定する放出源と、
前記放出源の近傍に配置された少なくとも一つの磁気素子と、
を含む、Ｘ線装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記少なくとも一つの磁気素子が、一対の電磁石を含む、Ｘ線装置。
【請求項２２】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記少なくとも一つの磁気素子が、永久磁石を含む、Ｘ線装置。
【請求項２３】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記放出構造が実質的に非磁性である、Ｘ線装置。
【請求項２４】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記放出構造が磁性を有する、Ｘ線装置。
【請求項２５】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記放出源が、前記少なくとも一つの磁気素子が周りに配置された長軸を規定する、Ｘ線装置。
【請求項２６】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記少なくとも一つの磁気素子と前記放出構造とが協動して、前記電子ビームの少なくとも一部が通過する磁界を生成する、Ｘ線装置。
【請求項２７】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記陽極が回転陽極である、Ｘ線装置。
【請求項２８】
請求項２０に記載のＸ線装置において、前記陽極が静止陽極である、Ｘ線装置。
【請求項２９】
真空容器を含むＸ線装置内での使用に適した陰極ヘッドであって、前記陰極ヘッドによって放出された電子を受け取るように構成および配置されたターゲット面を有する陽極が前記真空容器内に配置され、前記陰極ヘッドは、前記真空容器内に実質的に配置され、かつ、
放出構造と、
前記放出構造に取り付けられ、長軸を規定し、電子ビームを放出するように構成され、前記陽極のターゲット面上に焦点を規定するフィラメントと、
前記放出構造に取り付けられ、前記フィラメントによって規定された前記長軸の周りに配置された少なくとも一つの電磁石と、
を備える、陰極ヘッド。
【請求項３０】
請求項２９に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出構造が実質的に非磁性である、陰極ヘッド。
【請求項３１】
請求項２９に記載の陰極ヘッドにおいて、前記放出構造が磁性を有する、陰極ヘッド。
【請求項３２】
請求項２９に記載の陰極ヘッドにおいて、前記少なくとも一つの電磁石が、一対の電磁石を含む、陰極ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、Ｘ線システムおよび装置に関する。より詳細には、本発明の実施形態は陰極ヘッドに関し、該陰極ヘッドは焦点制御の実現を容易にすることを対象とした特徴を有する。
【背景技術】
【０００２】
多くの場合、様々な種類のＸ線管において、陰極または他の放出源が放出した電子ビームを偏向して、その電子ビームが生成した焦点を、電子ビームを導く陽極のターゲット面上における所望の位置に配置することができれば望ましい。いくつかの例では、陽極のターゲット面上における焦点位置は、環境要因、またはＸ線管の動作に関連する要因から生じる焦点位置の変化を補償するように調整されなければならない。
【０００３】
一例として、回転陽極Ｘ線管の動作に関連した高速運動が、ターゲット面上における焦点位置に望ましくない変動を引き起こすことがある。さらに、Ｘ線装置の部品に動作摩耗や亀裂が生じると、陽極のターゲット面上における焦点位置のズレに経時変化が生じる。様々な他の条件または進展も同様に、陽極のターゲット面上における所望の焦点位置に望ましくない変化を引き起こすことがある。
【０００４】
さらに別の場合、特定のＸ線照射効果を実現したり、存在し得るいくらかの条件を克服するように陽極のターゲット面上における焦点位置を動かしたりすることが望ましい。従って、このような所望の効果を実現したり保持したりする能力は、焦点位置が制御されずに変化すると実質的に損なわれる。一例として、いくつかの場合、陽極のターゲット面内の局所的な劣化または他の欠陥を補償するために焦点位置を修正することが望ましい。最後に、いくつかの例では、局所的な電気的効果や磁気的効果を補償するために、陽極のターゲット面上における焦点位置の修正が必要な場合がある。
【０００５】
効果的で信頼性のある焦点配置および制御を実現し保持する試みでは、様々なシステムおよび部品が工夫されている。例えば、Ｘ線管の外側に配置した磁気コイルまたは電磁石を用いることによって、放出電子ビームの偏向、および陽極のターゲット面上における焦点位置の変更を実現することができる。
【０００６】
この種の実施形態の一つの大きな問題は、所望の場所または位置に焦点を移動させるために必要な磁界の生成に、比較的高レベルの電力が必要とされることである。このような高い電力レベルは、磁界の強度が距離に従って減少するという事実に関連している。特に、Ｘ線管の外側、または電子ビームからかなり離れた他の場所に配置した磁気コイルは、特定の電子ビーム効果を実現するために、電子ビームの比較的近くに配置した一つ以上の磁気コイルより比較的多くの電力を必要とする。
【０００７】
さらに、既知のＸ線管の構成と、陰極組み立て品および装置は特に、電子ビームの近くの磁気コイルの構成を大いに制限する。さらに、陽極の高い動作温度およびＸ線や後方散乱電子の存在（それらはコイルの動作を損なうことがある）によって、陽極近傍に磁気コイルを配置することも実用的ではなく。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、必要とされるものは、大量の動作電力を必要とすることがなく、電子ビームの焦点位置の信頼性ある制御が可能となるように、放出源の近傍に配置される一つ以上の磁気素子を含む陰極ヘッドである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
概して、本発明の実施形態は、焦点制御の実現を容易にすることを対象とした特徴を有する陰極ヘッドに関する。より詳細には、本発明の典型的な実施形態は、フィラメント等、陰極の放出源の近傍に配置された一つ以上の磁気素子を有し、放出源が生成した電子ビームによって規定される焦点位置を制御可能な陰極ヘッドを対象とする。
【００１０】
本発明の典型的な一実施形態は、Ｘ線装置内での使用に適した陰極ヘッドを提供し、Ｘ線装置はターゲット面を有する陽極を含み、ターゲット面は陰極ヘッドから電子ビームを受け取るように構成および配置される。陰極ヘッドは磁性材料または非磁性材料から構成され、フィラメントを保持する放出構造を有し、フィラメントは、電磁石等の一つ以上の磁気素子が周囲に配置された長軸を規定する。フィラメントは、電子ビームを放出するように構成および配置され、電子ビームは陽極のターゲット面上に焦点を規定する。
【００１１】
動作中、フィラメントによって規定された長軸の周りに配置された磁気コイルは磁束を生成し、磁束は放出された電子ビームにほぼ直交し、電子ビームに所望の偏向を与える。例えば、磁気コイルに対応した磁束密度の変化は、放出された電子ビームの偏向範囲を変化させ、陽極のターゲット面上での焦点位置を変化させる。さらに、磁気コイルおよびフィラメントを比較的接近させることで、フィラメントと磁気コイルとが所定の距離だけ離れている場合に必要とされる磁界より、比較的弱い磁界を用いて所望の電子偏向を実現することができる。
【００１２】
本発明の実施形態のこれらの態様および他の態様は、以下の説明と添付の請求項からより十分に明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の上記の利点および他の利点、ならびに特徴が得られるように、添付図面に示したその具体的な実施形態を参照しながら、上記に簡単に説明した本発明をより具体的に説明する。当然のことながら、これらの図面は本発明の典型的な実施形態のみを説明し、従って本発明の範囲を限定するものとは考えられない。添付図面を用いることによって、さらに具体的に詳しく本発明は記述および説明される。
【００１４】
本発明の典型的な実施形態の様々な態様を示すために、ここで図面を参照する。当然のことながら、図面はこのような典型的な実施形態の図式的および概略的表現であり、本発明を限定するものではないし、必ずしも等倍率で描かれているものでもない。
【００１５】
概して、本発明の実施形態は一つ以上の磁気素子を含む陰極ヘッドに関し、磁気素子はフィラメント等の対応する放出源が生成した電子ビームの方向制御を可能にする。このように、本発明の典型的な実施形態は、対応する陽極のターゲット面上での電子ビームの焦点位置の効率的かつ確実な制御を可能にする。
【００１６】
ここで、特に図１を参照すると、本発明の実施形態の典型的な動作環境の様々な態様に関する詳細が提供されている。このような典型的な動作環境の一つは、図１で全体として１００で示されたＸ線装置を有する。一般的に、Ｘ線装置１００は排気された容器、つまり真空容器１０２を有し、陰極ヘッド２００および陽極３００が真空容器１０２内に配置される。一般的に、陰極ヘッド２００および陽極３００は、陰極ヘッド２００が放出した電子ビームが陽極ヘッド３００に衝突して、Ｘ線を生成するように配置され、Ｘ線は真空容器１０２内に配置された窓１０４を透過する。
【００１７】
さらに図１を詳しく参照すると、図の典型的な実施形態の陰極ヘッド２００は、ここで放出ブロック２０２として示された放出構造を有し、該放出ブロック２０２は典型的にはセラミック等の非導電性材料を有する。放出構造２０２は、典型的にはフィラメント２０４として実装された一つ以上の電子放出源を受け入れるように一般的には構成されている。一般的に、フィラメント２０４から放出された電子が放出構造２０２によって規定された開口部２０６を通過するように、フィラメント２０４は放出構造２０２内に配置される。開口部２０６の形状、および開口部２０６内のフィラメント２０４の配置は、放出された電子ビームに対して所定の効果を実現するために変更可能である。従って、図示されている構成および配置は典型的なものにすぎず、決して本発明の範囲を限定するものではない。
【００１８】
引き続き図１を参照すると、陰極ヘッド２００の放出構造２０２はさらに電気コネクタ２０２Ａを有し、それを介してフィラメント２０４に電力を印加する。一般的に、電気接続２０２Ａを介してフィラメント２０４に電力を伝えることによって、フィラメント２０４から熱電子を放出する。
【００１９】
図の実施形態の陰極ヘッド２００はさらに、所望の磁束密度「Ｂ」および方向を備えた磁界を生成するように、フィラメント２０４に対して配置された一つ以上の磁気素子２０８を有する。図１で指摘したように、いくつかの実施形態の陰極ヘッド２００は、電磁石として実装した磁気素子２０８を有する。しかし、他の実施形態では、電磁石の変わりに永久磁石が用いられる。電磁石を用いる場合、陰極ヘッド２００はさらに電気接続２０８Ａを有し、それを介して磁気素子２０８に電力を供給する。以下でさらに詳しく説明するように、磁気素子２０８への電力供給を変調することで、電子ビームによって規定された焦点位置に対して様々な効果を実現することができる。
【００２０】
既に述べたように、Ｘ線装置１００の典型的な実施形態は、陰極ヘッド２００のフィラメント２０４が生成した電子ビームを受け取るように配置された陽極３００を有する。より詳細には、陽極３００は、ターゲット面３０４が配置された基板３０２を有する。陽極３００の典型的な実施形態では、基板３０２は実質的に炭素ベースの材料または炭素化合物を有し、ターゲット面３０４はタングステンおよび／または他の金属、またはＸ線の生成に有効な化合物を実質的に有する。
【００２１】
当然のことながら、陰極２００の実施形態は、様々な異なる種類の陽極３００と共に使用することに適している。例えば、陰極ヘッド２００の実施形態は、回転陽極型Ｘ線装置、および静止陽極型Ｘ線装置の両方と共に使用することに適している。従って、本発明の範囲は、特定の陽極またはＸ線装置構成に限定されるものと解釈すべきではない。
【００２２】
ここで図２を参照すると、陰極ヘッド２００の典型的な実施形態に関する詳細がさらに提供されている。図２に示した典型的な実施形態では、放出構造２０２は実質的に非磁性材料を有する。放出構造２０２の構成において用いられる適切な非磁性材料の例は、セラミック材料を含んでいるが、それに限定される訳ではない。図の実施形態では、フィラメント２０４によって規定された長軸２０４Ａの周りに間隙を介した構成で、二つの磁気素子２０８を配置する。図２で指摘したように、本方法では磁気素子２０８を配置する効果は、図の方向の磁束密度Ｂの磁界を生成することである。つまり、磁気素子２０８は協動して、互いに対する所定の配置、およびフィラメント２０４によって規定された長軸２０４Ａに対する磁気素子２０８の所定の配置の結果として、磁束密度Ｂの磁界を規定する。
【００２３】
図２を引き続き参照すると、フィラメント２０４が放出した電子の進行方向を考慮して図の磁界を生成することで、磁界を制御することを通して図のように横方向に電子ビームを偏向することができる。さらに、磁気素子２０８を電磁石として具体化する場合、一方または両方の磁気素子２０８への入力電力を変えることによって、電子ビームを横方向に偏向する範囲全体で確実な制御を可能にし、焦点位置を制御することができる。さらに、典型的な焦点の効果に関する詳細は、図４の説明と共に下記において考慮される。
【００２４】
図２の上記の説明で指摘したように、磁気素子２０８が電子ビーム、従って焦点位置に作用する範囲には様々な要素が影響を及ぼす。例えば、上記で指摘したように、磁気素子２０８への入力電力を変えることによって、使用者は生成される磁界の磁束Ｂを調整でき、それによって電子ビームが横方向に偏向される範囲を修正し、焦点位置が修正される。
【００２５】
別の例として、磁界の強度および方向等、生成される磁界を修正することは、複数の磁気素子２０８の互いの配置、および／または放出構造２０２およびフィラメント２０４に対する配置を変えることによっても実現可能である。従って、生成される磁界の修正の態様によって、電子ビームの位置を変えること、電子ビームが陽極のターゲット面に衝突する焦点（図１参照）を変えることも容易に実現することができる。
【００２６】
さらに、フィラメント２０４と磁気素子２０８との間の物理的近接度を比較的に密にすることで、多くの既知の装置で一般的なように、磁気素子２０８を電子ビームから比較的さらに離して配置した場合に必要とされる電力よりも、比較的小さな電力で所望のビーム偏向効果を実現できる。つまり、磁界の強度は距離に従って減少するので、所望の強度の磁界の生成および維持に必要な磁気素子２０８の入力電力は、電子ビームと磁気素子との間の距離が増大すると必ず増大する。
【００２７】
同様に、フィラメント２０４が放出した電子ビームの焦点に対して所定の効果を実現するために、他の変数を調整することもできる。一例として、必要に応じて所望の効果を実現するために、磁気素子２０８の数や極性等の態様を変更することもできる。
【００２８】
ここで図３を参照すると、全体として４００で示された陰極ヘッドの別の実施形態に関する詳細が提供されている。図３に示したように、陰極ヘッド４００は、典型的にフィラメント４０４として実装された放出源を保持するように構成および配置された放出構造４０２を有し、フィラメント４０４に電圧を印加すると電子ビームが生成される。もちろん、フィラメント４０４の代わりに、他の適切な一つ以上の放出源を用いることもできる。さらに、放出構造４０２に対するフィラメント４０４の配置は必要に応じて変更可能である。この典型的な実施形態では、放出構造４０２は実質的に鉄鋼または合金鋼等の磁性材料を有する。しかし、他の適切な磁性材料を選択的に用いることもできる。
【００２９】
図３を引き続き参照すると、典型的な陰極ヘッド４００はさらに単一の磁気素子４０６を有し、磁気素子４０６はフィラメント４０４によって規定された長軸４０４Ａの周りに配置される。磁気素子４０６は、永久磁石であっても電磁石であってもよい。放出構造４０２は実質的に磁性材料を有するので、単一の磁気素子４０６のみが必要とされる。より詳細には、磁気素子４０６は磁性放出構造４０２と協動して、図の方向の磁束密度Ｂの磁界を規定する。
【００３０】
図３で指摘したように、放出構造４０２の形状、材料、方向、およびフィラメント４０４および磁気素子４０６に対する放出構造４０２の方向等であるが、それらに限定されない態様は、フィラメント４０４が生成した電子ビームの焦点に対する特定の効果を実現するために必要に応じて変更可能である。
【００３１】
さらに、フィラメント４０４および放出構造４０２に対する磁気素子４０６の位置と方向、および磁気素子４０６が電磁石を有する実施形態において、磁気素子４０６に印加する電力は、放出される電子ビームの焦点の制御に対して特定の効果を実現するために好ましくは修正可能である。
【００３２】
最後に、真空容器（図１参照）の内側の放出構造４０２の方向は、電子ビームによって規定された焦点位置に対して特定の効果を実現するために必要に応じて変更可能である。従って、本発明の範囲は、ここで開示した典型的な実施形態に限定されると解釈すべきではない。
【００３３】
当然のことながら、ここで開示した様々な磁気素子、または磁気素子の組合せは、焦点制御を容易にするための手段の典型的構造の実施形態を有する。しかし、焦点位置制御の実施に有効な他の構造およびその組合せも選択的に利用可能である。従って、本発明の範囲は、ここで開示した典型的構造の実施形態に限定されると解釈すべきではない。
【００３４】
ここで図４を参照すると、様々な焦点の効果の実施形態に関連するように発明の動作形態に関する詳細が提供され、該焦点の効果は陰極ヘッドの典型的な実施形態によって実現可能である。動作中、電気接続２０２Ａを介してフィラメント２０４に供給される電力によって、フィラメント２０４は熱電子放出過程によって電子を放出する。陰極ヘッド２００と陽極３００との間の電位差によって、放出された電子は陽極３００のターゲット面３０４に向かって急速に加速し、ターゲット面３０４に衝突してＸ線を生成する。同時に、適用可能なとおりに一つ以上の磁気素子２０８に供給された電力は、図４に示した位置および方向の磁束密度Ｂを備えた磁界を生成する。
【００３５】
つまり、磁界の磁束密度Ｂを表す磁束ラインは、フィラメント２０４にほぼ平行に、送られる電子ビームの平面にほぼ垂直に向けられる。既に述べたように、この磁界の強度と方向は、陽極３００のターゲット面３０４上の焦点位置に対して、特定の効果を実現するために必要に応じて変更可能である。一般的に、これは、磁界の強度、つまり磁束密度Ｂと、磁界を通過する電子に及ぼされる力の間に関係に起因する。
【００３６】
この関係は、式Ｆ＝ｑνｘＢで表されることがあり、ここでＦは磁束密度Ｂを備えた磁界に対して、垂直に速度νで通過する電荷ｑの電子等の粒子に加えられる力である。上記の関係から明らかなように、電子に加えられる力Ｆは磁束密度Ｂの関数として直接変化し、磁束密度が増大するほど、磁界を通過する電子に加えられる力も増大する。
【００３７】
図４に示したように、陰極ヘッド２００の典型的な実施形態は、ターゲット面３０４上の焦点位置を横方向に調整できるように構成および配置され、ここで典型的な焦点位置は「１」、「２」および「３」で表されている。他の実施形態では、磁気素子２０８は、ターゲット面３０４上の焦点の垂直方向の変位を提供するように構成および配置される。さらに別の典型的な実施形態では、一つ以上の磁気素子２０８の配置を用いて、ターゲット面３０４上の電子ビームの焦点位置を垂直および横方向の両方に調整できるようにする。もちろん、陰極ヘッドの実施形態によって、同様に様々な他の効果を実現することもできる。従って、本発明の範囲は、特定の種類または性質の焦点位置調整に限定されると解釈すべきではない。
【００３８】
上記の実施形態は全ての点で典型的なものとしてのみ考え、限定的なものと考えるべきではない。従って、本発明の範囲は上記の説明ではなく、添付の請求項によってのみ示される。請求項の意味およびそれらの均等物の範囲内にある全ての変更は、本発明の範囲に含まれるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】典型的な実施形態の陰極ヘッドによって放出された電子ビームを受け取るように構成された陽極を含むＸ線装置の平面図。
【図２】一対の磁気コイルを含む非磁性陰極ヘッドの典型的な実施形態の側面斜視図。
【図３】単一の磁気コイルを含む磁性陰極ヘッドの典型的な実施形態の側面斜視図。
【図４】典型的な実施形態の陰極ヘッドを用いることによって実現された様々な典型的な電子ビーム効果を示す平面図。
【図１】
2007522622.tif 000003
【図２】
2007522622.tif 000004
【図３】
2007522622.tif 000005
【図４】
2007522622.tif 000006
【国際調査報告】
2007522622.tif 000007