(57)【要約】  開口部を画成する電極本体部を有する電極挿入部材が電極サポートフレームに挿入されているイオン注入器に、運動学的電極マウントが提供される。一実施形態において、該挿入部材の第１の運動学的整列ピンは該電極サポートフレームの第１の溝状運動学的整列表面と係合して、該電極サポートフレームに対する２つの直交方向に該第１の整列ピンを整列させる。加えて、該挿入部材の第２の運動学的整列ピンは該電極サポートフレームの第２の運動学的整列表面と係合して、該電極サポートフレームに対して回転方向に該挿入部材を整列させる。該挿入部材の複数のフランジが電極サポートフレームと係合して、該挿入部材を整列位置に保有し、かつ該電極挿入部材を該電極サポートフレームに電気的に結合する。該電極挿入部材と該電極サポートフレーム間に位置決めされたスプリングは、該電極サポートフレームに対する整列および保有位置で該電極挿入部材をバイアスする。別の実施形態において、該電極サポートフレームは整列ピンを有し、該挿入部材は整列スロットを有する。【選択図】  図２
2007513463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性電極サポートフレームを有し、かつイオンビームを発生するように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン注入電極コンポーネントであって、
前記イオン注入器のサポートフレームに挿入されるように適合された導電性挿入部材を備えており、前記挿入部材が開口部を画成する電極本体部を備えており、前記挿入部材が更に、前記イオン注入器のサポートフレームと係合し、かつ前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に前記開口部を整列させるように位置決めされた複数の整列ピンを備えており、前記電極本体部が前記開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされており、前記挿入部材が更に複数の保有フランジを備え、前記複数の保有フランジは、前記イオン注入器のサポートフレームと係合し前記イオン注入器のサポートフレーム内の前記整列位置に前記電極本体部を保有するように適合され、また前記サポートフレームに電気的に結合される、
イオン注入電極コンポーネント。
【請求項２】
各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームと係合するように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形ピン本体部を有する、請求項１に記載のコンポーネント。
【請求項３】
各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームと係合するように適合された外部表面を画成するピン本体部と、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップとを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成する、請求項１に記載のコンポーネント。
【請求項４】
前記整列ピン、保有フランジおよび前記電極本体部が一体的に形成されて、前記挿入部材がワンピース部材である、請求項１に記載のコンポーネント。
【請求項５】
前記サポートフレームが平面部を有しており、前記挿入部材が平面部を有しており、前記挿入部材の平面部が、前記整列および保有位置で前記サポートフレームの平面部と向き合って係合されて位置決めされる、請求項１に記載のコンポーネント。
【請求項６】
イオンビームを発生させるように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン注入電極であって、
第１および第２の整列表面を有する開口部を画成する導電性電極サポートフレームであって、前記第１の整列表面が溝状である導電性電極サポートフレームと、
前記イオン注入器のサポートフレームに挿入されるように適合された導電性挿入部材と、を備えており、前記挿入部材が開口部を画成し、かつ前記サポートフレームの開口部に挿入されるように適合された電極本体部を備えており、前記挿入部材が更に、前記イオン注入器のサポートフレームの溝状の第１の整列表面と係合するように位置決めされた第１の整列ピンと、前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に前記開口部を整列させる前記イオン注入器のサポートフレームの第２の整列表面に係合するように位置決めされた第２の整列ピンと、を備えており、前記電極本体部が前記開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされており、前記挿入部材が更に複数の保有フランジを備え、前記複数の保有フランジは、前記イオン注入器のサポートフレームと係合し前記イオン注入器のサポートフレーム内の前記整列位置に前記電極本体部を保有するように適合され、また前記サポートフレームと電気的に結合される、イオン注入電極。
【請求項７】
各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームと係合するように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形本体部を有する、請求項６に記載の電極。
【請求項８】
各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームと係合するように適合された外部表面を画成する本体部と、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップとを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成する、請求項６に記載の電極。
【請求項９】
前記整列ピン、保有フランジおよび前記電極本体部が一体的に形成されて、前記挿入部材がワンピース部材である、請求項６に記載の電極。
【請求項１０】
前記サポートフレームが平面部を有し、前記挿入部材が平面部を有し、前記挿入部材の平面部が、前記整列および保有位置で前記サポートフレームの平面部と向き合って係合するように位置決めされている、請求項６に記載の電極。
【請求項１１】
前記挿入部材と前記サポートフレーム間に位置決めされ、前記整列および保有位置で前記挿入部材をバイアスするスプリングを更に備える、請求項６に記載の電極。
【請求項１２】
イオンビームを発生するように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン注入電極の組み立て方法であって、
第１および第２の整列表面を有する開口部を画成する導電性電極サポートフレームに導電性挿入部材を挿入するステップであって、前記第１の整列表面が溝状であり、前記挿入部材が開口部を画成する電極本体部を備えるステップと、
前記挿入部材の第１の整列ピンを前記イオン注入器のサポートフレームの溝状の第１の整列表面と係合させるステップと、
前記挿入部材の第２の整列ピンを前記イオン注入器のサポートフレームの第２の整列表面と係合させて、前記挿入部材の開口部を、前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に整列させるステップであって、前記電極本体部が前記開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされているステップと、
前記サポートフレームに電気的に結合された前記挿入部材の複数の保有フランジを前記イオン注入器のサポートフレームに係合して、前記電極本体部を前記イオン注入器のサポートフレームに対する前記整列位置に保有するステップと、
を備える方法。
【請求項１３】
各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームの整列表面と係合するように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形本体部を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームの整列表面と係合するように適合された外部表面を画成する本体部と、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップとを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記整列ピン、保有フランジおよび電極本体部が一体的に形成され、前記挿入部材がワンピース部材である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記挿入するステップが、挿入部材の平面部をサポートフレームの平面部と向き合って係合させる工程を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記挿入部材と前記サポートフレーム間の、前記整列および保有位置で前記挿入部材をバイアスするスプリングを位置決めするステップを更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
導電性電極サポートフレームを有し、かつイオンビームを発生させるように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン抽出電極コンポーネントであって、
前記イオン注入器のサポートフレームに挿入されるように適合されたワンピースの導電性挿入部材を備えており、前記挿入部材が開口部を画成する一体型電極本体部を備えており、前記挿入部材が更に複数の一体型整列ピンを備えており、各整列ピンが、前記イオン注入器のサポートフレームと係合し、かつ前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に前記開口部を整列させるように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形ピン本体を有しており、前記電極本体部が前記開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされており、各整列ピンが更に、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成し、前記保有フランジは、前記イオン注入器のサポートフレームと係合し前記イオン注入器のサポートフレーム内の前記整列位置で前記電極本体部を保有するように適合され、また前記サポートフレームに電気的に結合され、前記サポートフレームが平面部を有し、前記挿入部材が平面部を有し、前記挿入部材の平面部が、前記整列および保有位置で前記サポートフレームの平面部と向き合って係合されるように位置決めされている、イオン抽出電極コンポーネント。
【請求項１９】
整列ピンおよび保有フランジを有する導電性電極サポートフレームを有し、かつイオンビームを発生させるように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン注入電極コンポーネントであって、
前記イオン注入器のサポートフレームに挿入されるように適合された導電性挿入部材を備えており、前記挿入部材が開口部を画成する電極本体部を備えており、前記挿入部材が複数の整列スロットを画成し、各整列スロットが、サポートフレームの整列ピンによって係合されて、前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置で前記挿入部材の開口部を整列させるように適合された整列表面を画成するベース表面を有しており、前記電極本体部が前記挿入部材の開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされており、前記挿入部材が更に複数の保有表面を備えており、各保有表面が、前記イオン注入器のサポートフレーム内の前記整列位置に前記電極本体部を保有し、かつ前記サポートフレームに電気的に結合された前記イオン注入器のサポートフレームの保有フランジによって係合されるように適合されている、コンポーネント。
【請求項２０】
各整列ピンが、前記イオン注入器の挿入部材の整列スロットのベース表面と係合するように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形ピン本体部を有する、請求項１９に記載のコンポーネント。
【請求項２１】
各整列ピンが、前記イオン注入器の挿入部材の整列スロットのベース表面と係合するように適合された外部表面を画成するピン本体部と、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップとを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成する、請求項１９に記載のコンポーネント。
【請求項２２】
前記コンポーネントがグラファイトから作られる、請求項１９に記載のコンポーネント。
【請求項２３】
前記サポートフレームが平面部を有し、前記挿入部材が平面部を有し、前記挿入部材の平面部が、前記整列および保有位置で前記サポートフレーム平面部と向き合って係合されるように位置決めされている、請求項１９に記載のコンポーネント。
【請求項２４】
イオンビームを発生させるように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン注入電極であって、
開口部を画成する導電性電極サポートフレームと、
前記イオン注入器のサポートフレームに挿入されるように適合された導電性挿入部材であって、開口部を画成し、かつ前記サポートフレームの開口部に挿入されるように適合された電極本体部と、更にその前記第１の整列表面が溝状である第１および第２の整列表面とを備える挿入部材と、
を備え、
前記サポートフレームが更に、前記イオン注入挿入部材の溝状の第１の整列表面と係合するように位置決めされた第１の整列ピンと、前記イオン注入器の挿入部材の第２の整列表面と係合して前記挿入部材の開口部を前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に整列させるように位置決めされた第２の整列ピンとを備えており、前記電極本体部が前記開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされており、前記挿入部材が更に複数の保有フランジを備え、前記複数の保有フランジは、前記イオン注入器のサポートフレームと係合し前記イオン注入器のサポートフレーム内の前記整列位置に前記電極本体を保有するように適合され、また前記サポートフレームに電気的に結合される、イオン注入電極。
【請求項２５】
各整列ピンが、前記イオン注入器の挿入部材と係合するように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形本体部を有する、請求項２４に記載の電極。
【請求項２６】
各整列ピンが、前記イオン注入器の挿入部材と係合するように適合された外部表面を画成する本体部と、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップとを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成する、請求項２４に記載の電極。
【請求項２７】
前記整列ピン、保有フランジおよび前記電極本体が一体的に形成されて、前記サポートフレームがワンピース部材である、請求項２４に記載の電極。
【請求項２８】
前記サポートフレームが平面部を有しており、前記挿入部材が平面部を有しており、前記挿入部材の平面部が、前記整列および保有位置に前記サポートフレームの平面部と向き合って係合するように位置決めされている、請求項２４に記載の電極。
【請求項２９】
前記挿入部材と前記サポートフレーム間に位置決めされた、前記整列および保有位置で前記挿入部材をバイアスするスプリングを更に備える、請求項２４に記載の電極。
【請求項３０】
イオンビームを発生するように適合されたイオン注入器で使用するためのイオン注入電極の組み立て方法であって、
開口部を有する導電性電極サポートフレームに導電性挿入部材を挿入するステップであって、前記挿入部材が開口部を画成する電極本体部を備えるステップと、
前記挿入部材の第１の溝状整列表面を前記サポートフレームの第１の整列ピンに係合するステップと、
前記挿入部材の第２の整列表面を前記サポートフレームの第２の整列ピンに係合させて、前記挿入部材の開口部を、前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に整列させるステップであって、前記電極本体部が、前記挿入部材の開口部を通過する前記イオンビームを受け取るように位置決めされているステップと、
前記サポートフレームに電気的に結合された前記サポートフレームの複数の保有フランジを前記イオン注入器の挿入部材に係合して前記電極本体部を前記イオン注入器のサポートフレームに対する前記整列位置に保有するステップと、
を備える方法。
【請求項３１】
各整列ピンが、前記イオン注入器の挿入部材の整列表面と係合するように適合された円筒形外部表面を画成する円筒形本体部を有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
各整列ピンが、前記イオン注入器の挿入部材の整列表面と係合するように適合された外部表面を画成する本体部と、前記ピン本体部の幅よりも広い幅を有する保有キャップとを有しており、各整列ピンの保有キャップが保有フランジを画成する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
前記整列ピン、保有フランジおよび前記電極本体部が一体的に形成され、前記サポートフレームがワンピース部材である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
前記挿入するステップが、サポートフレームの平面部と向き合って挿入部材の平面部を係合させる工程を含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３５】
前記挿入部材と前記サポートフレーム間の、前記挿入部材を前記整列および保有位置でバイアスするためのスプリングを位置決めするステップを更に備える、請求項３０に記載の方法。
【請求項３６】
円形整列ピンを有する導電性電極サポートフレームを有しており、かつイオンビームを発生するように適合されたイオン注入器において使用するためのイオン抽出電極コンポーネントであって、
前記イオン注入器のサポートフレームに挿入されるように適合されたワンピースの導電性挿入部材を備えており、前記挿入部材が開口部を画成する一体型電極本体部を備えており、前記挿入部材が更に複数の矩形整列スロットを画成し、各整列スロットが、サポートフレームの整列ピンによって係合され、前記挿入部材の開口部を、前記イオン注入器のサポートフレームに対する整列位置に整列させるように適合された整列表面を画成するベース表面を有しており、ベース整列表面が溝状である、コンポーネント。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
[0001]本出願は、「Ｋｉｎｅｍａｔｉｃ  Ｉｏｎ  Ｉｍｐｌａｎｔｅｒ  Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ  Ｍｏｕｎｔｉｎｇ」と題され、２００３年９月１１日に出願された出願番号第１０／６６１，０２７号の特許出願の一部継続出願であり、本出願の譲受人に譲渡されている。
【発明の分野】
【０００２】
[0002]本発明は、電子デバイス製作において半導体ウェーハなどのイオン基板にイオンを注入するためのイオン注入器に関し、特に、商業規模でウェーハを処理することができるイオン注入器に関する。
【背景】
【０００３】
[0003]イオン注入技術は、集積回路の製造で採用されるプロセスの１つとして、半導体材料の事前に画成された領域において、これらの領域を所定の濃度の不純物原子でドープすることによって電気輸送特性を修正するために広く使用される。この技術は一般的に、事前に選択されたイオン種のビームを発生させることと、該ビームをターゲット基板に向けることとを伴う。イオン注入の深さはとりわけ、基板でのイオンビームのエネルギーに左右される。単一のウェーハ上のデバイスの密度が大きくなり、かつ個々のデバイスの横方向寸法が超大規模集積回路（ＵＬＳＩ）に関して小さくなると、例えば約０．２ｋｅＶ〜１０ｋｅＶの低エネルギーイオンを使用して浅い接合を形成するイオン注入器の性能はますます有用になる。同時に、商業的イオン注入において、できるだけ短時間に個々のウェーハを処理できるということもまたしばしば有用であり、これはイオンビーム電流が可能な限り大きいことを要する。
【０００４】
[0004]米国特許第５，９３２，８８２号は、イオンビームが高エネルギーで輸送されて、ビームが基板に当たる直前により低いエネルギーに減速される一従来技術について説明している。本参照のイオン注入器は、イオン源を含むイオンビーム発生器と、該源からイオンを抽出して、イオンビームを形成する抽出電極アセンブリとを備える。抽出電極アセンブリは、イオンビームが成形される開口部を通常有する１つ以上の電極を備える。飛行管は抽出アセンブリからのビームを輸送エネルギーで輸送し、基板ホルダーはイオンビームが注入される基板を保持する。飛行管と基板ホルダー間の減速レンズアセンブリに減速電位を印加するように接続された減速電位発生器は、ビームイオンを所望の注入エネルギーに減速させる。飛行管と基板ホルダー間に設置された減速レンズアセンブリは、イオンビームが通過する開口部を通常有する複数の電極を備える。
【０００５】
[0005]抽出電極などの電極の、イオン注入器の他のパーツに対する位置決めは、ビームエネルギー、ビームサイズおよびビーム形状を含むイオンビームの特徴に影響を与えうる。イオン注入器の抽出電極を整列させるために、種々のデバイスが提案されてきた。例えば、特殊なセットアップツールやジグが、電極を整列させて抽出電極アセンブリにインストールするために使用されてきた。これらのセットアップツールはしばしば、ダボや、電極の対応する整列開口部で受け取られる他の整列表面を含んでいた。セットアップツールを使用して整列された各電極は通常、スクリューファスナーなどの適切なファスナーを使用して抽出電極アセンブリ内の適所に締結される。そしてセットアップツールは抽出電極アセンブリから除去される。この手順は通常、電極が交換されるたびに反復される。
【例示された実施形態の概要】
【０００６】
[0006]運動学的電極マウントが、開口部を画成する電極本体部を有する電極挿入部材が電極サポートフレームに挿入されているイオン注入器に提供される。一実施形態において、該挿入部材の第１の運動学的整列ピンは該電極サポートフレームの第１の溝状運動学的整列表面と係合して、該第１の整列ピンを、該電極サポートフレームに対して２つの直交方向に整列させる。加えて、該挿入部材の第２の運動学的整列ピンは該電極サポートフレームの第２の運動学的整列表面に係合し、該挿入部材を、該電極サポートフレームに対して回転方向に整列させる。該挿入部材の複数のフランジは該電極サポートフレームに係合して、該挿入部材を整列位置に保有して、該電極挿入部材を該電極サポートフレームに電気的に結合させる。該電極挿入部材と該電極サポートフレーム間に位置決めされたスプリングは、該電極サポートフレームに対して整列かつ保有された位置で該電極挿入部材をバイアスする。
【０００７】
[0007]本発明に対する追加態様がある。例えば、該電極挿入部材は整列表面を有することもあり、また該電極サポートフレームは、該整列表面と係合する整列ピンを有することもある。従って、先行のものは本発明の実施形態および態様の簡潔な概要にすぎないことが理解されるべきである。本発明の追加実施形態および態様が以下に参照される。更に、開示されている実施形態に対する多数の変更は本発明の主旨および範囲を逸脱することなく可能である点が理解されるべきである。従って、先行の概要は本発明の範囲を制限することを意図していない。むしろ、本発明の範囲は添付の請求項およびその等化物によって判断されるべきである。
【０００８】
[0008]次に、本発明の実施形態の例が図面を参照して説明される。
【例示された実施形態の説明】
【０００９】
[0009]一実施形態に従ったイオン注入器は、図１では一般的に１と指示されている。イオン注入器１は、イオンビームを発生させるイオンビーム発生器３を備える。イオンビーム発生器に隣接するマグネット５は、イオンビームを、その質量および帯電状態に応じて空間的に分解する。分析マグネット５に隣接して配置されたイオン選択器７は、ターゲット基板に注入されるイオン種を選択し、マグネットからの空間分解ビームにおける他のイオンを拒絶する。イオン選択器７に隣接して配置された減速レンズ電極アセンブリ９は、注入前にイオンビームの最終エネルギーを制御する。電極アセンブリ９から間隔をあけられているサポートつまりホルダー１１は、ビームイオンが注入されるターゲット基板１２をサポートする。電極アセンブリ９および基板サポート１１間に配置されたプラズマ発生器１３は、電子および他の帯電粒子をターゲット表面近くのイオンビームに導入して、ビームおよびウェーハ表面を中性化する。基板サポート１１の下流に位置決めされたイオンビーム収集器１４は、線量測定用のビームストップおよびイオン電流検出器として作用する。
【００１０】
[00010]より詳細には、図示された実施形態のプラズマ発生器３は、出口開口部を有するアークチャンバを含むイオン源を備える。抽出電極アセンブリ２０は、出口開口部から間隔をあけられている（例えば２つ、３つまたは４つなどの）複数の抽出電極を含む。アセンブリ２０の抽出電極はアークチャンバおよびイオンビームからイオンを抽出する。抽出電極はグラファイトや他の適切な導電性材料から作られてもよい。アークチャンバの出口開口部に最も近い抽出電極は、ビーム発生器の前方の電子がアークチャンバに流れるのを防ぐための抑制電極として作用する。以下に詳細に説明されるように、抽出電極アセンブリ２０は、電極開口部が交換されるたびに再整列する必要なく、各電極が緊密に制御された整列位置の適所に容易に搭載されるようにする運動学的マウントを含む。原則的に抽出電極と関連して説明されているが、これらの実施形態に従った運動学的マウントは、以下に論じられる電極アセンブリ９の減速電極を含むイオン注入器の他の電極を搭載するのに使用されてもよいことが認識される。
【００１１】
[00011]質量分析マグネット５の極間に位置決めされた飛行管はビーム発生器３からのイオンビームを受け取り、マグネット５の極間の通路でのイオンビームの輸送エネルギーを制御する。イオンビームの輸送エネルギーは、飛行管とイオン源の電位差の関数である。この特定の実施形態において、分析マグネットの磁界強度と、マグネットを介するイオンビームのエネルギーとが選択されて、適切な質量および帯電状態を有するイオンが、イオン選択器７と電極アセンブリ９とプラズマ発生器１３とを介してウェーハの表面まで通過するようにおよそ９０度で偏向される。
【００１２】
[00012]抽出電極アセンブリ２０は図２において、部分的に分解されて示されている。抽出電極は、導電性搭載つまりサポートフレームコンポーネント２１ａと、サポートフレームコンポーネント２１ａに挿入されかつこれに搭載された導電性挿入部材コンポーネント２１ｂとを含む。同様に、別の抽出電極は、サポートフレームコンポーネント２３ａと、サポートフレームコンポーネント２３ａに挿入されかつこれに搭載された挿入部材コンポーネント２３ｂとを含む。図示された実施形態の一態様によると、各挿入部材コンポーネント２１ｂ、２３ｂは複数の運動学的整列ピン２９ａ、２９ｂ（図２）と２９ｃ、２９ｄ（図３）とをそれぞれ有する。図４の断面アセンブリ図で最もよく分かるように、挿入部材コンポーネント２１ｂの運動学的整列ピン２９ａおよび２９ｂは各々略円筒形本体部３１を有する。同様に、挿入部材コンポーネント２３ｂの運動学的整列ピン２９ｃおよび２９ｄは各々、図５の断面アセンブリ図で最もよく分かるように、略円筒形本体部３１を有する。
【００１３】
[00013]挿入部材コンポーネント２１ｂは、運動学的整列ピン２９ａ、２９ｂが延びるプレート部３３ａを有する。１対のイオンビーム抽出スロット３７ａ、３７ｂを画成する抽出電極本体部３５ａもまたプレート部３３ａから延びている。サポートフレームコンポーネント２１ａに搭載されると、抽出電極本体部３５ａはサポートフレームコンポーネント２１ａの中央開口部３９を介して延びる。同様に、挿入部材コンポーネント２３ｂは、運動学的整列ピン２９ｃ、２９ｄが延びるプレート部３３ｂを有する。１対のイオンビーム抽出スロット３７ｃ、３７ｄを画成する抽出電極本体部３５ｂもまたプレート部３３ｂから延びている。サポートフレームコンポーネント２３ａに搭載されると、抽出電極本体部３５ｂはサポートフレームコンポーネント２１ａの中央開口部６７を介して延びる。
【００１４】
[00014]サポートフレームコンポーネント２１ａおよび２３ａはまずイオン注入器１内に整列されてから、図２にそれぞれ４０ａ、４０ｂと概略的に指示された適切なマウントに締結される。ある用途においては、マウント４０ａ、４０ｂは、用途に応じて、一方のセットの抽出電極開口部３７ａ、３７ｃまたは他方のセットの抽出電極開口部３７ｂ、３７ｄのいずれかをイオンビームが通過するように抽出電極２１、２３を移動させることができるアクチュエータを含む。サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａは、サポートフレームコンポーネント２１ａの開口部４２などの適切な整列開口部と、電極マウント４０ｂの適切な開口部とを係合する整列ピンを有する適切な整列ジグやツールを使用して整列されてもよい。サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａがマウント４０ａ、４０ｂに対して整列されると、サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａは、スクリューファスナーなどの適切なファスナーを使用してマウント４０ａ、４０ｂに締結される。抽出電極サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａが整列され、イオン注入器にインストールされると、整列ジグはイオン注入器１から除去される。
【００１５】
[00015]サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａの有用寿命は挿入部材コンポーネント２１ｂ、２３ｂと比べて比較的長いことが予想される。従って、整列ジグを使用してサポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａを交換および整列することは比較的まれである。
【００１６】
[00016]挿入部材コンポーネント２１ｂを既に整列されているサポートフレームコンポーネント２１ａに運動学的に搭載するために、挿入部材コンポーネント２１ｂの運動学的整列ピン２９ａは、サポートフレームコンポーネント２１ａのスロット４０ａによって画成された運動学的溝４１（図４）に受け取られる。運動学的整列ピン２９ａの外部円筒形表面３１ａが運動学的溝４１の表面に完全に係合されると、中央軸３１ｂは、図４のサポートフレームコンポーネント２１ａのｘおよびｙ軸によって表されるように、サポートフレームコンポーネント２１ａに対する２つの直交方向に正確に設置される。
【００１７】
[00017]挿入部材コンポーネント２１ｂは回転され、挿入部材コンポーネント２１ｂの第２の運動学的整列ピン２９ｂが、サポートフレームコンポーネント２１ａのスロット４０ｂによって画成された平らな運動学的整列表面４３と係合するまで、ピン２９ａの軸３１ｂをピボット回転する。運動学的整列ピン２９ｂの外部円筒形表面３１ａが平らな運動学的整列表面４３と完全に係合されると、運動学的整列ピン２９ｂの中央軸３１ｂは、図４のサポートフレームコンポーネント２１ａの回転軸Ｒによって表されるように、サポートフレームコンポーネント２１ａに対して回転方向に正確に設置される。整列表面４３は整列溝４１のような溝ではないため、ピン２９ｂと整列表面４３との係合は、整列ピン２９ａと整列溝４１との係合と干渉しない。
【００１８】
[00018]図６に示されるように、運動学的整列ピン２９ａ、２９ｂは各々、円筒形本体部３１の端に保有キャップ４５を有する。図７で最もよく分かるように、保有キャップ４５は、キャップ４５がピン本体部３１に張り出して保有フランジ４５ａを提供するように、運動学的整列ピンの本体部３１よりも幅が広い。各整列ピンのキャップ保有フランジ４５ａおよび本体部３１は、挿入部材プレート部３３ｂの対向する隣接表面と共に、サポートフレームコンポーネント２１ａの舌部を受け取る保有溝４７を形成する。溝４７の内部保有表面は舌部の外側保有表面と係合して、図４および７のサポートフレームコンポーネント２１ａのＺ軸で表されるように、第３の直交方向で挿入部材プレート部３３ｂをサポートフレームコンポーネント２１ａに固定する。例えば、整列ピン２９ｂの保有溝４７はサポートフレームコンポーネント２１ａの舌部４９ａを受け取る。サポートフレーム舌部４９ａの前縁４３は、運動学的整列ピン２９ｂの外部円筒形表面３１ａによって係合された運動学的整列表面４３を提供する。この位置で、挿入部材プレート部３３ａの平面部４８はサポートフレーム２１ａの平面部５０と向き合って係合される。サポートフレームコンポーネント２１ａに対してＺ方向に設置および保有されるのに加えて、挿入部材コンポーネント２１ｂはまた、この係合位置でサポートフレームコンポーネント２１ａと電気的に接触する。
【００１９】
[00019]同様に、運動学的整列ピン２９ａの保有溝４７はサポートフレームコンポーネント２１ａの舌部４９ｂ（図６）を受け取り、図２および７のＺ方向で挿入部材プレート部３３ｂをサポートフレームコンポーネント２１ａに固定する。サポートフレーム舌部４９ｂの前縁４１（図４）は、運動学的整列ピン２９ａの外部円筒形表面３１ａによって係合された運動学的整列溝４１を提供する。
【００２０】
[00020]図示された実施形態において、挿入部材コンポーネント２１ｂは、略円筒形本体部５５（図４）の端に張り出し保有キャップ５３を有する追加ピン５１を有しており、サポートフレームコンポーネント２１ａの舌部４９ｃを受け取る保有溝を形成する。ピン５１は、図２のサポートフレームコンポーネント２１ａのＺ方向で挿入部材プレート部３３ｂをサポートフレームコンポーネント２１ａに更に固定する役割をする。本体部５５は、ピン本体部５５の外部表面間の間隙を提供する緩和部５５ａを有しており、ピン５１は、運動学的整列ピン２９ａ、２９ｂの運動学的設置（ｓｅａｔｉｎｇ）と干渉しない。
【００２１】
[00021]サポートフレームコンポーネント２１ａのスロット４０ａ、４０ｂおよび４０ｃは各々、関連スロット４０ａ〜４０ｃへのピン２９ａ、２９ｂ、５１のキャップ４５、５３を十分許容するようにサイズ設定されている。加えて、中央開口部３９は、開口部３９への抽出電極本体部３５ａを十分許容するようにサイズ設定されている。挿入部材コンポーネント２１ｂは、論じられたように、運動学的整列ピン２９ａ、２９ｂが運動学的整列溝４１および運動学的整列表面４３とそれぞれ係合するまで、下方向に（図６のＹ方向）に押される。挿入部材コンポーネント２１ｂは、サポートフレームコンポーネント２１ａと係合して、運動学的係合位置からの挿入部材コンポーネント２１ｂの偶発的な変位を防ぐためのスプリング６１ａ（図２）を有する。
【００２２】
[00022]挿入コンポーネント２３ｂは、同様に、サポートフレームコンポーネント２３ａに運動学的に搭載される。従って、挿入部材コンポーネント２３ｂは、運動学的整列ピン２９ｃ、２９ｄが延びるプレート部３３ｂを有する。１対のイオンビーム抽出スロット３７ｃ、３７ｄを画成する抽出電極本体部３５ｂもまたプレート部３３ｂから延びている。サポートフレームコンポーネント２３ａに搭載されると、抽出電極本体部３５ｂはサポートフレームコンポーネント２３ａの中央開口部６７を介して延びる。
【００２３】
[00023]サポートフレームコンポーネント２１ａと関連して説明されたように整列ツールを使用して既に整列されているサポートフレームコンポーネント２３ａに挿入部材コンポーネント２３ｂを運動学的に搭載するために、挿入部材コンポーネント２３ｂの運動学的整列ピン２９ｃは、サポートフレームコンポーネント２３ａのスロット６８ａによって画成された運動学的溝４１（図５）に受け取られる。運動学的整列ピン２９ｃの外部円筒形表面３１ａが運動学的溝４１の表面に完全に係合されると、中央軸３１ｂは、図５のサポートフレームコンポーネント２３ａのｘおよびｙ軸によって表されるように、サポートフレームコンポーネント２３ａに対して２つの直交方向に正確に設置される。
【００２４】
[00024]挿入部材コンポーネント２３ｂの第２の運動学的整列ピン２９ｄは次いで、サポートフレームコンポーネント２３ａのスロット６８ｂによって画成された平らな運動学的整列表面４３と係合するまで回転される。運動学的整列ピン２９ｄの外部円筒形表面３１ａが平らな運動学的整列表面４３と完全に係合されると、運動学的整列ピン２９ｄの中央軸３１ｂは、図５のサポートフレームコンポーネント２３ａの回転軸ｒによって表されるように、サポートフレームコンポーネント２３ａに対して回転方向に正確に設置される。
【００２５】
[00025]電極２１と同様に、運動学的整列ピン２９ｃ、２９ｄの保有溝はサポートフレームコンポーネント２３ａの舌部４９ｃ、４９ｄ（図３）を受け取り、図２のｚ方向で、挿入部材プレート部３３ｂをサポートフレームコンポーネント２３ａに固定する。しかしながら、ピン５１などの追加ピンを使用せずに、挿入部材プレート部３３ｂは、サポートフレームコンポーネント２３ａの舌部４９ｅを受け取り、図２のｚ方向で挿入部材プレート部３３ｂをサポートフレームコンポーネント２３ａに更に固定するための保有タブ６９を有する。挿入部材コンポーネント２３ｂは、サポートフレームコンポーネント２３ａと係合して、運動学的係合位置からの挿入部材コンポーネント２３ｂの偶発的な変位を防ぐためのスプリング６１ｂ（図２、３）を有する。図５で最もよく分かるように、スプリング６１ｂは、挿入部材２３ａの開口部７０に受け取られ、保有位置の挿入部材コンポーネント２３ｂをバイアスするようにスプリング６１ｂを位置決めする端を有する。
【００２６】
[00026]運動学的整列溝４１および運動学的整列表面４３を電極サポートフレーム２１ａ、２３ａ上の既知の位置に設置することによって、また運動学的整列ピン２９ａ、２９ｂ、２９ｃ、２９ｄを挿入部材コンポーネント２１ａ、２３ｂの既知の位置に設置することによって、抽出電極開口部３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄは、別々の整列ツールを使用せずに電極サポートフレームに対して運動学的に整列されてもよいことが認識される。更に、サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａに挿入部材コンポーネント２１ｂ、２３ｂを締結するためのスクリューなどの時間のかかるファスナーの使用は、所望ならば排除されてもよい。
【００２７】
[00027]図示された実施形態において、サポートフレームコンポーネント２１ａ、２３ａおよび挿入部材コンポーネント２１ｂ、２３ｂは各々、一体型のワンピース部材コンポーネントとして製作される。従って、例えば、挿入部材コンポーネント２３ｂの運動学的整列ピン２９ｃ、２９ｄと挿入部材プレート部３３ｂと抽出電極本体部３ｂは、ワンピース部材に一体的に製作される。各コンポーネントは金型の鋳造チャンバとして製作されて、最終寸法に加工されてもよく、または別々のパーツとして製作されて、所望のコンポーネントに溶接、ロウ付けまたは他の方法で組み合わされてもよい。各コンポーネントはまた共に締結された別々のパーツから製作されてもよいことが認識される。しかしながら、各コンポーネントの一体型のワンピース構築は、適切な場所に運動学的表面を配置することを容易にすることがあると思われる。
【００２８】
[00028]すでに言及されたように、図示された実施形態の運動学的搭載配列は、抽出電極以外のイオン注入電極に適用されてもよい。例えば、図１に示されるように、図示された実施形態のイオン選択器７は、ビームに沿って間隔をあけられており、かつ、分析マグネット５を通過する空間分解イオンを拒絶しつつターゲット基板に注入される正しい質量および帯電状態のイオンを組み合わせて選択する一連の開口部を画成する一連の個別要素を備える。この特定の実施形態において、イオン選択器７は、マグネットから出る不要なイオン種の多くを拒絶するプレート電極５と、選択されたイオン種のみを通過させる可変的な幅の質量分解スリットを画成する１対の要素と、イオンビームの高さを画成する更なる要素とを備える。しかしながら、質量分解要素数およびこの構成は変更されてもよい。
【００２９】
[00029]イオン選択アセンブリは、飛行管の一部を形成し、かつマグネットおよび電極アセンブリ９間に配置されているチャンバに収容される。質量分解チャンバを含む飛行管は、ビームがイオンビーム発生器から電極アセンブリ９に輸送される手段を提供する。質量分解チャンバ壁は、ビームラインの方向に延び、かつ略円筒形エンベロープを画成するパーツと、ビームラインを横断して配置されたプレート電極を構成し、かつビームが通過可能な開口部を画成し、該開口部はイオン選択器７の最終要素に隣接している、円筒形パーツに隣接する横断パーツとを備える。横断パーツ１は、イオン選択器の下流から生じる電界からイオン選択器７をスクリーニングする静電スクリーンを提供する。本明細書に説明された運動学的搭載技術は、イオン注入器のイオン選択器のプレート電極の１つ以上に適用されてもよい。
【００３０】
[00030]スクリーニングアセンブリは、質量分解チャンバの出口開口部と電極アセンブリ９間に位置決めされて、出口開口部を介して電極アセンブリ９から質量分解チャンバへの電界の貫通を縮小する。スクリーニングアセンブリは円筒形電極と電界画成電極とを備える。円筒形電極は、質量分解チャンバの出口開口部１、および質量分解チャンバ壁の横断パーツ（または下流端）に隣接して位置決めされかつこれと接続されている端と同軸的に配列される。円筒形電極は質量分解チャンバの下流に延びており、追加スクリーニングを提供し、かつ減速レンズの第１の電極の嵌合を許容するように下流端に形成された内側に延びる放射フランジを有してもよい。
【００３１】
[00031]電界画成電極は、使用されても使用されなくてもよく、その中央に開口部を形成する円形プレートを備える。電界画成電極は円筒形電極内に搭載されて、これによってサポートされ、また（これは変更することがあるが）円筒形電極の端間のほぼ中間に、かつビームライン軸を横断して位置決めされる。開口部は楕円形、矩形または正方形であってもよく、一実施形態においては、電極アセンブリ９に向かってわずかに外側に先細りしてもよい。本実施例において、開口部は正方形である。円筒形電極および電界画成電極は各々、グラファイトや他の適切な材料から作られてもよい。本明細書に説明された運動学的搭載技術はイオン注入器のスクリーニングアセンブリの電極に適用されてもよい。
【００３２】
[00032]イオンビームの注入エネルギーを制御する電極アセンブリ９はスクリーニングアセンブリのすぐ向こうに置かれ、電界またはリング電極と開口部付きプレート電極とを備える。電界電極は略円形対称を有しており、スクリーニングアセンブリの出口開口部に隣接しており、これと実質的に同軸の開口部を画成する。プレート電極はビームを略横断して配置されて、イオンビームが通過可能な更なる開口部を画成し、この更なる開口部は電界電極開口部に隣接して配置されている。電界電極およびプレート電極は、各々グラファイトや他の適切な材料から作られてもよい。本明細書に説明された運動学的搭載技術は、注入エネルギーを制御するイオン選択器の電極に適用されてもよい。
【００３３】
[00033]本実施形態において、プラズマ発生器１３は、ターゲットに近いイオンビームに低エネルギー電子を導入するプラズマフラッドシステムを備える。プラズマフラッドシステムは、イオンビームがプレート電極開口部からターゲット基板１２に通過可能であり、またイオンビームの近傍のプラズマフラッドシステムからの電子を維持し、かつプレート電極開口部と、漂流電界からのウェーハとの間のイオンビームの一部をスクリーニングするガイドつまり閉じ込めチューブを含む。開口部付きプレート電極は、減速アセンブリの開口部付きプレート電極に隣接する閉じ込めチューブの上流端に位置決めされて、電界電極からの電界から閉じ込めチューブの内部を更にスクリーニングする。本明細書に説明された運動学的搭載技術はイオン注入器の電子インジェクタの電極に適用されてもよい。本明細書に説明された運動学的搭載技術は、イオン注入器のプラズマフラッドシステムの電極に適用されてもよい。
【００３４】
[00034]イオン注入器は更に、イオン源をバイアスするイオン源電圧源と、抑制電極をバイアスする抑制電極電圧源と、飛行管をバイアスする飛行管電圧源と、質量分解チャンバと、スクリーニングアセンブリと、抽出アセンブリの適切な電極とを備える。電界電極電圧源は電極アセンブリ９の電極をバイアスする。プラズマフラッド電圧源は電子閉じ込め電極および開口部付きスクリーニングプレート電極をバイアスする。本実施形態において、減速レンズの開口部付きプレート電極と、ターゲット基板ホルダー１１と基板１２は接地電位に維持されるが、これは、ターゲット基板の取り扱いを容易にし、ターゲットサポートアセンブリを簡略化し、他の電極の便宜上の基準電位として作用する。
【００３５】
[00035]真空ポートが、チャンバを空にする真空ポンプに接続された分析マグネット５の近くのチャンバ壁に形成される。真空ポートならびに他の上記特徴は、特定の用途に応じて省略されてもよい。
【００３６】
[00036]上記実施形態において、整列ピン２９ａ〜２９ｄおよび保有キャップ４５は、挿入部材コンポーネント２１ｂ、２３ｂおよび整列溝４１の一部であり、整列表面４３および舌部４９ａ〜４９ｅはサポートプレートコンポーネント２１ａ、２３ａの一部である。これらの整列および保有要素は用途に応じて異なるコンポーネント上に置かれてもよいことが認識される。例えば、図８は部分的に分解された抽出電極アセンブリ２２０を示す。図２の実施形態と同様に、抽出電極は、導電性搭載つまりサポートフレームコンポーネント２２１ａと、サポートフレームコンポーネント２２１ａに挿入され、これに搭載された導電性挿入部材コンポーネント２２１ｂとを含む。同様に、別の抽出電極は、サポートフレームコンポーネント２２３ａと、サポートフレームコンポーネント２２３ａに挿入され、これに搭載された挿入部材コンポーネント２２３ｂとを含む。図示された実施形態の別の態様によると、各サポートフレームコンポーネント２２１ｂ、２２３ｂは、図８および９に示されたサポートフレームコンポーネント２２３ａの整列ピン２２９ａ、２２９ｂなどの複数の運動学的整列ピンを有する。図９の断面アセンブリ図で最も良く分かるように、挿入部材コンポーネント２２１ｂの運動学的整列ピン２２９ａおよび２２９ｂは各々略円筒形本体部２３１を有する。同様に、サポートフレームコンポーネント２２１ａの運動学的整列ピンは各々略円筒形本体部を有する。
【００３７】
[00037]挿入部材コンポーネント２２３ｂは、整列スロット２３４ａ、２３４ｂを画成するプレート部２３３ａを有する。１対のイオンビーム抽出スロット２３７ａ、２３７ｂを画成する抽出電極本体部２３５ａもまたプレート部２３３ａから延びている。サポートフレームコンポーネント２２１ａに搭載されると、抽出電極本体部２３５ａはサポートフレームコンポーネント２２１ａの中央開口部２３９を介して延びる。同様に、挿入部材コンポーネント２２１ｂは、サポートフレームコンポーネント２２１ａの運動学的整列ピンが延びる整列スロット２３４ｃ、２３４ｄを画成するプレート部２３３ｂを有する。１対のイオンビーム抽出スロット２３７ｃ、２３７ｄを画成する抽出電極本体部２３５ｂもまたプレート部２３３ｂから延びている。サポートフレームコンポーネント２２１ａに搭載されると、抽出電極本体部２３５ｂはサポートフレームコンポーネント２２１ａの中央開口部２６７を介して延びる。
【００３８】
[00038]サポートフレームコンポーネント２２１ａおよび２２３ａは、サポートフレームコンポーネント２１ａおよび２３ａと関連して説明されたのと同様に、イオン注入器内に整列および搭載されてもよい。サポートフレームコンポーネント２１ａと関連して説明されたように整列ツールを使用して既に整列されているサポートフレームコンポーネント２２３ａに挿入部材コンポーネント２２３ｂを運動学的に搭載するために、サポートフレームコンポーネント２２３ｂの運動学的整列ピン２２９ａは、挿入部材コンポーネント２２３ａのスロット２３４ａのベース表面によって画成された運動学的溝２４１（図９、１０）に受け取られる。運動学的整列ピン２２９ａの外部円筒形表面２３１ａが運動学的溝２４１の表面に完全に係合されると、ピン２２９ａの中央軸は、図５のサポートフレームコンポーネント２３ａと関連して説明されたのと同様にサポートフレームコンポーネント２２３ａに対して２つの直交方向に正確に設置される。
【００３９】
[00039]挿入部材コンポーネント２２３ｂは、挿入部材コンポーネント２２３ｂのスロット２３４ｂのベース表面によって画成された平らな運動学的整列表面２４３（図９）が運動学的整列ピン２２９ｂの外部円筒形表面２３１と係合するまで回転されてもよい。この位置で、運動学的整列ピン２２９ｂの中央軸２３１ａは、図５のサポートフレームコンポーネント２３ａと関連して説明されたのと同様にサポートフレームコンポーネント２２３ａに対して回転方向に正確に設置される。
【００４０】
[00040]電極２３と同様に、運動学的整列ピン２２９ａ、２２９ｂの保有溝２４７は、挿入部材コンポーネント２２３ｂの舌部２４９ａ（図１０）、２４９ｂ（図９）を受け取る。溝２４７の内部保有表面は舌部２４９ａの外部保有表面と係合して、図１０のｚ方向で挿入部材プレート部２３３ａをサポートフレームコンポーネント２２３ａに固定する。サポートフレームコンポーネント２２３ａは、挿入部材コンポーネント２２３ｂの舌部２７０を受け取り、図１０のｚ方向で挿入部材プレート部２３３ａをサポートフレームコンポーネント２２３ａに更に固定するための保有タブ２６９を有する。挿入部材コンポーネント２２３ｂは、サポートフレームコンポーネント２２３ａと係合して、運動学的係合位置からの挿入部材コンポーネント２２３ｂの偶発的な変位を防ぐためのスプリング２７１（図８、９）を有する。
【００４１】
[00041]挿入部材コンポーネント２２１ｂは、挿入部材コンポーネント２２３ｂおよびサポートフレームコンポーネント２２３ａと関連して説明されたのと同様に既に整列されたサポートフレームコンポーネント２２１ａに運動学的に搭載され、ここで運動学的整列ピンはスロット２３４ｃおよび２３４ｄの運動学的整列表面に挿入されかつこれと係合される。しかしながら、保有タブではなく、サポート部材コンポーネント２２１ａは、挿入部材２１ｂおよびサポートフレームコンポーネント２１ａと関連して説明されたのと同様に挿入部材コンポーネント２２１ｂの舌部２４９ｃ（図８）を受け取る保有溝を形成する追加ピンを有する。挿入部材コンポーネント２２１ｂは、サポートフレームコンポーネント２２１ａと係合して、運動学的係合位置からの挿入部材コンポーネント２２１ｂの偶発的な変位を防ぐためのスプリング２８１（図８）を有する。
【００４２】
[00042]本発明の種々の実施形態についての上記説明は例示および説明目的で提示されている。本発明を開示されている正確な形態に制限することは意図されていない。多くの修正および変更が上記教示に照らして可能である。例えば、種々の整列および保有表面の形状およびサイズは用途に応じて変更してもよいことが認識される。本発明の範囲はこの詳細な説明によって制限されないことが意図されている。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の実施形態に従った運動学的電極マウントを採用するイオン注入器の概略図を示す。
【図２】種々の実施形態に従った運動学的電極マウントの分解図を示す。
【図３】図２の運動学的電極マウントの一実施形態の平面図を示す。
【図４】図２の運動学的電極マウントの別の実施形態の断面図を示す。
【図５】図３の運動学的電極マウントの断面図を示す。
【図６】図４の運動学的電極マウントの平面図を示す。
【図７】図６のライン７−７に沿って示される、図６の運動学的電極マウントの整列ピンの断面図である。
【図８】代替実施形態に従った運動学的電極マウントの分解図を示す。
【図９】図８の運動学的電極マウントの一実施形態の平面図を示す。
【図１０】図９のライン１０−１０に沿って示される、図９の運動学的電極マウントの整列スロットの断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１…イオン注入器、３…プラズマ発生器、５…マグネット、７…イオン選択器、９…減速イオン電極アセンブリ、１１…基板ホルダー、１２…基板、１３…プラズマ発生器、１４…イオンビーム収集器、２０…抽出電極アセンブリ、２１ａ、２３ａ…サポートフレームコンポーネント、２１ｂ、２３ｂ…挿入部材コンポーネント、２９ａ、２９ｂ、２９ｃ、２９ｄ…運動学的整列ピン、３１…本体部、３３ｂ…挿入部材プレート部、３５…抽出電極本体部、３７ａ、３７ｂ…イオンビーム抽出スロット、３９…開口部、４０ａ、４０ｂ…マウント、４１…整列溝、４２…開口部、４３…整列表面、４５…保有キャップ、４５ａ…保有フランジ、４７…保有溝、４９ａ、４９ｂ、４９ｃ…舌部、５０…平面部、５３…張り出し保有キャップ、６１ａ…スプリング、６７…中央開口部、６８ａ…スロット、２２０…抽出電極アセンブリ、２２１ａ、２２３ａ…サポートフレームコンポーネント、２２１ｂ、２２３ｂ…挿入部材コンポーネント、２２９ａ、２２９ｂ…整列ピン、２３１…本体部、２３３ｂ…プレート部、２３４ａ、２３４ｂ…整列スロット、２３５ａ…抽出電極本体部、２３７ａ、２３７ｂ、２３７ｃ、２３７ｄ…イオンビーム抽出スロット、２４７…溝、２６７…中央開口部、２７０…舌部、２７１…スプリング、２８１…スプリング。
【図１】
2007513463.tif 000003
【図２】
2007513463.tif 000004
【図３】
2007513463.tif 000005
【図４】
2007513463.tif 000006
【図５】
2007513463.tif 000007
【図６】
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【図７】
2007513463.tif 000009
【図８】
2007513463.tif 000010
【図９】
2007513463.tif 000011
【図１０】
2007513463.tif 000012
【国際調査報告】
2007513463.tif 000013
2007513463.tif 000014
2007513463.tif 000015
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