(57)【要約】  コリメータパネルは、非平行な放射線を受ける第1の面と、平行放射線を提供する第2の対向面とを有する固体パネル、および該固体パネル内に配置され、平行化機能を提供するように配向された複数の細長い粒子、を有する。コリメータパネルを製造する方法は、複数の細長い粒子を液体中に懸濁させるステップと、前記粒子を配向させるため、サスペンションに電場または磁場を印加するステップと、前記粒子の前記配向を固定化するため、前記液体を固化するステップであって、これによりコリメータパネルが形成されるステップと、を有する。さらに、細長い粒子を製作する方法について示した。
2007514969.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非平行な放射線を受ける第1の面と、平行放射線を提供する第2の対向面とを有する固体パネル、および
該固体パネル内に配置され、平行化機能を提供するように配向された複数の細長い粒子、
を有するコリメータパネル。
【請求項２】
前記粒子の長手方向の軸は、平行な配置となるように配向されていることを特徴とする請求項1に記載のコリメータパネル。
【請求項３】
前記粒子は、可視光を吸収することを特徴とする請求項2に記載のコリメータパネル。
【請求項４】
前記粒子は、可視光と紫外線を反射することを特徴とする請求項2に記載のコリメータパネル。
【請求項５】
前記粒子の長手方向の軸は、収束する配置となるように配向されていることを特徴とする請求項1に記載のコリメータパネル。
【請求項６】
前記粒子の前記長手方向の軸は、コリメータプレートから一定の距離の位置に収束することを特徴とする請求項5に記載のコリメータパネル。
【請求項７】
異なる粒子群の長手方向の軸は、コリメータプレートから別の距離の位置に収束することを特徴とする請求項5に記載のコリメータパネル。
【請求項８】
前記粒子の表面は、可視光を反射することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項９】
前記粒子は、金属粒子または誘電体の多層化粒子であることを特徴とする請求項8に記載のコリメータパネル。
【請求項１０】
前記固体パネルは、半透明であることを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項１１】
前記粒子は、X線放射線を吸収することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項１２】
前記粒子は、鉛粒子、鉛合金粒子またはタングステン粒子であることを特徴とする請求項11に記載のコリメータパネル。
【請求項１３】
前記固体パネルは、X線透過性であることを特徴とする請求項11または12に記載のコリメータパネル。
【請求項１４】
前記粒子の厚さと長さの間の比は、少なくとも1：10であることを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項１５】
前記粒子の厚さは、5nmから1μmの範囲にあり、前記粒子の長さは、1μmから100μmの範囲にあることを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項１６】
前記固体パネルは、硬化した重合可能な液体を有することを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項１７】
前記固体パネルは、40℃を超える凝固温度を有する有機材料を含むことを特徴とする請求項1乃至15のいずれか一つに記載のコリメータパネル。
【請求項１８】
請求項2または3に記載のコリメータパネルを有する表示装置。
【請求項１９】
請求項8乃至10のいずれか一つに記載のコリメータパネルを有する、透過型液晶表示装置用のバックライト。
【請求項２０】
請求項11乃至13のいずれか一つに記載のコリメータパネルを有するX線検出器。
【請求項２１】
前記請求項のいずれか一つに記載の複数のコリメータパネルを有するコリメータパネル配列。
【請求項２２】
コリメータパネルを製造する方法において、
複数の細長い粒子を液体中に懸濁させるステップと、
前記粒子を配向させるため、サスペンションに電場または磁場を印加するステップと、
前記粒子の前記配向を固定化するため、前記液体を固化するステップであって、これによりコリメータパネルが形成されるステップと、
を有する方法。
【請求項２３】
さらに、前記電場または磁場を印加するステップの前に、定形表面の間に、前記サスペンションを設置するステップを有することを特徴とする請求項22に記載の方法。
【請求項２４】
さらに、前記液体を固化するステップの後に、前記コリメータパネルを平坦化するステップを有することを特徴とする請求項23に記載の方法。
【請求項２５】
さらに、前記電場または磁場を印加するステップの前に、平坦な平行表面の間に、前記サスペンションを設置するステップを有することを特徴とする請求項22に記載の方法。
【請求項２６】
前記電場または磁場を印加するステップは、平行なフィールド線を有する電場または磁場を印加するステップを有することを特徴とする請求項22乃至25のいずれか一つに記載の方法。
【請求項２７】
前記電場または磁場を印加するステップは、非平行なフィールド線を有する電場または磁場を印加するステップを有することを特徴とする請求項22乃至25のいずれか一つに記載の方法。
【請求項２８】
前記液体は、重合可能な液体を含み、前記液体を固化するステップは、前記液体を重合するステップを有することを特徴とする請求項22乃至27のいずれか一つに記載の方法。
【請求項２９】
前記液体は、40℃を超える凝固温度を有する有機材料を含み、前記液体を固化するステップは、前記液体を冷却するステップを有することを特徴とする請求項22乃至27のいずれか一つに記載の方法。
【請求項３０】
前記液体を重合するステップは、前記液体を紫外線に露光して、重合反応を開始するステップを有することを特徴とする請求項28に記載の方法。
【請求項３１】
前記重合可能な液体は、（メタ）アクリレート、エポキシ、ビニルエーテルモノマーまたはチオレン系を含むことを特徴とする請求項28に記載の方法。
【請求項３２】
パネル中に懸濁される細長い粒子を製作する方法において、
細長い粒子材料の層上に、ネガティブエッチングレジスト材料のパターン化層を成膜するステップであって、パターン化領域によって、複数の細長い粒子の所望の形状および寸法が定められるステップと、
前記ネガティブエッチングレジスト材料によって被覆されていない、前記細長い粒子材料の層の領域をエッチングするステップであって、これにより、細長い粒子が残留するステップと、
を有する方法。
【請求項３３】
前記細長い粒子材料の層は、剥離層がコーティングされた基板上に成膜され、さらに、前記エッチングするステップの後に、前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップを有することを特徴とする請求項32に記載の方法。
【請求項３４】
前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップは、前記剥離層を溶媒に溶解させるステップを有することを特徴とする請求項33に記載の方法。
【請求項３５】
さらに、前記エッチングするステップの後に、前記細長い粒子材料から前記ネガティブエッチングレジスト材料を除去するステップを有することを特徴とする請求項32乃至34のいずれか一つに記載の方法。
【請求項３６】
前記ネガティブエッチングレジスト材料のパターン化層は、オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法またはインクジェット印刷法によって成膜されることを特徴とする請求項32乃至35のいずれか一つに記載の方法。
【請求項３７】
パネル中に懸濁される細長い粒子を製作する方法において、
細長い粒子材料の層上に、ポジティブエッチングレジスト材料のパターン化層を成膜するステップであって、未パターン化領域によって、複数の細長い粒子の所望の形状および寸法が定められるステップと、
前記未パターン化領域を処理して、前記未パターン化領域のエッチング抵抗を、パターン化領域よりも大きくするステップと、
前記ポジティブエッチングレジスト材料を除去し、前記ポジティブエッチングレジスト材料によって被覆された、前記細長い粒子材料の層の領域をエッチングするステップであって、これにより細長い粒子が残留するステップと、
を有する方法。
【請求項３８】
前記細長い粒子材料の層は、剥離層がコーティングされた基板上に成膜され、さらに、前記ポジティブエッチングレジスト材料を除去し、前記ポジティブエッチングレジスト材料によって被覆された、前記細長い粒子材料の層の領域をエッチングするステップの後に、前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップを有することを特徴とする請求項37に記載の方法。
【請求項３９】
前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップは、前記剥離層を溶媒に溶解させるステップを有することを特徴とする請求項38に記載の方法。
【請求項４０】
前記ポジティブエッチングレジスト材料のパターン化層は、オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法またはインクジェット印刷法によって成膜されることを特徴とする請求項37乃至39のいずれか一つに記載の方法。
【請求項４１】
請求項32乃至40のいずれか一つに記載の方法の後に実施される、請求項22乃至31のいずれか一つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コリメータに関する。特に本発明は、可視光またはX線等の電磁波用の、収束、発散、および平行コリメータに関する。
【背景技術】
【０００２】
コリメータは、非常に広い技術分野にわたる各種用途に使用される。典型的には、コリメータは、より複雑な機器の構成部品である。広義の意味では、コリメータは、何らかの方法で、電磁放射線ビームの広がりの寸法および角度を制限する装置である。
【０００３】
コリメータは、多くの方法で具体化される。単なる一例のため、2つの既知のコリメータについて、簡単に説明する。
【０００４】
図1には、可視光の平行化に使用される従来の第1のコリメータ1を示す。通常コリメータ1は、透過型液晶表示（LCD）装置用の平行な背面照明を提供するため、バックライトと組み合わせて使用される。平行な背面照明は、コレステリックカラーフィルタを使用する場合に、特に必要となる。また平行な背面照明は、LCD装置において生じるコントラストの角度依存性を抑制することに役立つ。
【０００５】
コリメータ1は、逆ピラミッド型の構造3を形成しており、ピラミッドの表面が集中する位置に小さな開口5を有し、ピラミッドの基部に大きな開口7を有する。構造3の内表面9は、コーティングによって高反射仕上げされており、入射されるほとんど全ての光を反射する。必要に応じて、逆ピラミッド構造3の上部には、小さな開口5とほぼ芯合わせされた半球状レンズ11が設置される。光源13は、大きな開口7に隣接して設置され、光線15は、光源13から大きな開口7を通り、ピラミッド構造3内に伝播する。光線15は、異なる角度でピラミッド構造3に進入し、それらの光が最終的に、小さな開口5を通過するまで、あるいは、大きな開口7を逆に通過して光源に向かって反射されるまで、内表面9で反射される。小さな開口5を通過した光線15は、内表面9の角度に依存した角度で、小さな開口5から発散する。図1に示すように、発散光線は、追加のレンズ11での屈折によって平行化され、平行光線になる。
【０００６】
図1を参照して示したコリメータは、平行化可視光線の光源を提供する。しかしながら、図1に示すように、光線15の一部は、内表面9で2回反射され、ピラミッド構造から逆に放射されるため、この構造は効率的ではない。従って、可視光のコリメータをより効率化することに対する要望がある。
【０００７】
図2には、X線放射線の平行化に使用される従来の第2のコリメータ17を示す。通常、図2のコリメータ17は、散乱X線の画像に及ぼすコントラスト低下の影響を最小限に抑制するため、X線検出器と組合わせて使用される。
【０００８】
コリメータ17は、鉛フォイルストリップ19の配列を形成した構造となっており、これらのストリップは、X線透過性材料からなるより幅広のストリップによって分離されている。通常X線透過性材料は、高分子等の有機材料である。
【０００９】
使用の際には、被検体23およびコリメータ17は、X線源25の位置とX線検出器27の間に設置される。X線源25から検出器27に向かって、反射されずに直接伝播するX線29は、図2に示すように、コリメータ17を透過する。しかしながら、同様に図2に示すように、散乱X線31は、X線源25から直接伝播することはできず、コリメータ17によって吸収される。コリメータ17では、直接伝播するX線29は、X線透過性材料を透過するのに対して、散乱X線31は、鉛フォイルによって吸収される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
図2を参照して示したコリメータは、X線像のコントラストを向上させる。しかしながら、一方でコリメータは、検出器によって生じる画質に悪影響を及ぼす。特に、鉛フォイルストリップの配列は、それが散乱X線の他にも、X線源から直接伝播してくるX線の一部を吸収するため、検出器に陰を投影する。この悪影響を解消するため、コリメータは、陰の影響が検出器の全ての領域にわたって平均化されるように、検出時に左から右に移動される。しかしながら、これには、高額の制御機器が必要となる。
【００１１】
また製造プロセスに、鉛層とX線透過層を交互に積層する工程が含まれるため、X線コリメータ自身の製造も高額となる。鉛層は、通常16μmから40μmの厚さであり、これらの層は、150μmから300μmの間の間隔で配置される。各層は、個々に処理する必要があり、欠陥率が高くなる。あるいはX線コリメータは、小型構造型内で、鉛層とX線透過性材料の層とを交互に設置することにより、製造することもできる。しかしながら、この方法では、成形技術を用いて、鉛層の十分なアスペクト比を得ることが極めて難しい。従って、X線放射線のコリメータの改良に対する要望がある。
【００１２】
本発明では、可視光またはX線用のコリメータパネル、そのようなパネルを使用した装置およびそのようなパネルの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第1の態様では、非平行な放射線を受ける第1の面と、平行放射線を提供する第2の対向面とを有する固体パネル、および該固体パネル内に配置され、平行化機能を提供するように配向された複数の細長い粒子、を有するコリメータパネルが提供される。
【００１４】
固体パネルは、コリメータが用いられる電磁放射線に対して透明であるのに対して、細長い粒子は、電磁放射線に対して透明ではない。
【００１５】
前記粒子の長手方向の軸は、平行な配置となるように配向されても良い。そのようなコリメータパネルでは、平行放射線が提供される。この場合、粒子の長手方向の軸は、コリメータパネルの表面に対して垂直に配向されても良く、あるいは、コリメータパネルの表面に対して、他の一定の角度で配向されても良い。
【００１６】
前記粒子は、例えば可視光を吸収し、そのような配置によって、集束された可視光の効果的なコリメータが提供される。あるいは粒子は、可視光を反射しても良い。いずれの場合も粒子は、赤外領域の光を、それぞれ吸収または反射しても良い。
【００１７】
あるいは前記粒子の長手方向の軸は、収束する配置となるように配向されても良い。コリメータパネルの電磁放射線が入射される側に応じて、その後コリメータパネルは、収束または発散コリメータとして作用する。
【００１８】
前記粒子の長手方向の軸は、コリメータプレートから所定の距離の位置に収束することが好ましい。あるいは別の方法として、異なる粒子群の長手軸が、コリメータプレートから別の距離の位置に収束しても良い。例えば、異なる粒子群は、コリメータパネルの法線に対して別の角度に配向される。
【００１９】
前記粒子の表面は、可視光を反射しても良い。そのような構成によって、非集束可視光の効果的なコリメータが提供される。この場合、前記粒子は、アルミニウム粒子のような金属粒子またはアルミニウム合金粒子であっても良く、前記固体パネルは、半透明であっても良い。
【００２０】
誘電体を多層成膜することによって得られる高反射粒子を使用しても良く、この場合、可視光線は、ほとんど吸収されなくなる。特定の帯域の光を反射する、コレステリック液晶粒子が使用されても良い。そのような粒子は、ガラス状分子、線状高分子または架橋高分子の形態であっても良い。
【００２１】
前記粒子の表面は、X線放射線を吸収しても良い。そのような構成では、X線放射線の効果的なコリメータが提供される。この場合、粒子は、鉛粒子、鉛合金粒子またはタングステン粒子等の重金属粒子であっても良く、固体パネルは、X線透過性であっても良い。
【００２２】
前記粒子は、有機粒子、好ましくは重金属等の別の材料が充填された高分子粒子を含む。そのような配置では、粒子の有効密度が低下し、コリメータプレートの製造時に、均一な粒子サスペンションを得ることが容易となる。
【００２３】
前記粒子の厚さと長さの間の比は、少なくとも1：10であることが好ましく、少なくとも1：100であることがより好ましい。そのような比では、放射線を過度に減衰させずに、放射線を効果的に平行化するコリメータが提供される。前記粒子の厚さは、5nmから1μmの範囲にあることが好ましく、5nmから50nmの範囲にあることがより好ましく、前記粒子の長さは、1μmから100μmの範囲にあることが好ましく、5μmから50μmの範囲にあることがより好ましい。
【００２４】
固体パネルは、硬化した重合可能な液体を有しても良い。硬化した重合可能な液体は、硬化した（メタ）アクリレート、硬化したエポキシ、硬化したビニルエーテルモノマーまたは硬化したチオレン系を含んでも良い。例えば、硬化した重合可能な液体は、硬化したポリエチレングリコール（400）ジアクリレートを含んでも良い。
【００２５】
固体パネルは、有機材料を有しても良く、この材料の凝固温度は、40℃を超えることが好ましく、60℃を超えることがより好ましい。有機材料は、高分子であっても良い。
【００２６】
また本発明は、表示装置、透過型液晶ディスプレイ用のバックライト、およびX線検出器が提供され、これらの各々は、前述のいずれかのコリメータパネルを有する。
【００２７】
また、本発明は、前述の複数のコリメータパネルを有する、コリメータパネル配列を提供する。配列内の各コリメータパネルまたは構造は、構造化方法に応じて異なる平行化特性を有する。
【００２８】
本発明の第2の態様では、コリメータパネルを製造する方法が提供され、当該方法は、複数の細長い粒子を液体中に懸濁させるステップと、前記粒子を配向させるため、サスペンションに電場または磁場を印加するステップと、前記粒子の前記配向を固定化するため、前記液体を固化するステップであって、これによりコリメータパネルが形成されるステップと、を有する。
【００２９】
第2の態様は、本発明の第1の態様、すなわちコリメータパネルを製造する効果的な方法を提供する。
【００３０】
当該方法は、さらに、前記電場または磁場を印加するステップの前に、定形表面の間に、サスペンションを設置するステップを有する。この場合当該方法は、さらに、製造されたコリメータパネルを平坦化するステップを有しても良い。このステップは、前記液体を固化するステップの後に実施されることが好ましい。
【００３１】
この方法では、コリメータパネル内の粒子の配向が、正確に制御される。特に粒子配向は、区画または定形された表面の間に、サスペンションが保持されているうちに固定化される。その後パネルが固化され、さらに平坦化されて、所望の粒子配向が得られる。定形表面の形態を変化させることによって、コリメータパネルが平坦化されると、粒子配向に、正確に制御された変化が生じる。
【００３２】
当該方法は、さらに、前記電場または磁場を印加するステップの前に、平坦な表面間に、前記サスペンションを設置するステップを有しても良い。
【００３３】
前記電場または磁場を印加するステップは、平行なフィールド線を有する電場または磁場を印加するステップを有しても良い。この場合、前述の何らかの他の手段によって、所望の非平行粒子配向が誘起されることが好ましい。
【００３４】
あるいは、前記電場または磁場を印加するステップは、非平行なフィールド線を有する電場または磁場を印加するステップを有しても良い。その後、非平行なフィールド線のみで、または前述のような他の手段との組み合わせによって、非平行な粒子配向が誘起される。非平行なフィールド線が使用される場合、例えば粘性の高い液体を使用するなど、粒子の泳動を防止する手段を利用することが必要となる。
【００３５】
前記電場または磁場を印加するステップは、時間または空間分解的な方法で、前記液体を固化するステップと組み合わせても良い。例えば、そのようなステップは、粒子サスペンションの全領域もしくは特定の領域に、平行なフィールド線を有する電場または磁場を印加するステップを有し、その後、液体の一部のみが固化されて、第1の局部領域において、粒子配向が固定化される。次に、フィールド線に対する粒子サスペンションの配向が変化し、液体の別の部分が固化され、第2の局部領域において、粒子配向が固定化される。この方法では、第1および第2の局部領域において生じた粒子配向は、異なっており、多数の残りの局部領域の各々に対して、本ステップが継続される。そのようなステップでは、異なる局部領域において、広い範囲で、粒子の配向を独立に制御することが可能となる。
【００３６】
電場は、ある領域の粒子濃度を高めるため、パターン化された電極を用いて印加しても良い。この方法では、より微細な粒子をもとに、大きな寸法および高アスペクト比を有する超構造が形成される。例えば、規則格子パターンを有する電極を用いて電場が印加された場合、電極に隣接していない領域の粒子は、そこから電場密度が高い他の領域に引き寄せられる。従って、高密度の粒子を含むある領域と、ほとんど粒子を有さない他の領域とを有する超構造が形成される。薄くて、比較的短いフレークを使用して、数十ミクロンの長さで、数mmの厚さの、金属充填率の高い領域を形成しても良い。そのような配置では、X線等の高エネルギー電磁放射線の吸収率が改善される。
【００３７】
あるいは、細長い粒子は、均一に分散されても良い。
【００３８】
前記液体は、重合可能な液体であることが好ましく、前記液体を固化するステップは、液体を重合するステップを有する。この場合、前記液体を重合するステップは、前記液体を紫外線に露光して、重合反応を開始するステップを有することが好ましい。あるいは別の方法として、重合は、熱的に開始させても良い。前記重合可能な液体は、（メタ）アクリレート、エポキシ、ビニルエーテルモノマーまたはチオレン系を含むことが好ましい。例えば、液体は、ポリエチレングリコール（400）ジアクリレートを含む。
【００３９】
多官能基モノマーを用いた場合、架橋高分子ネットワークを形成することができる。ただし、モノマーは、単官能基であっても良い。この場合、線状高分子が得られる。
【００４０】
あるいは液体は、熱有機材料であり、その凝固温度（ガラス転位温度または融点）は40℃を超え、より好ましくは60℃を超え、前記液体を固化するステップは、液体を周囲温度に冷却するステップを有する。
【００４１】
液体は、細長い粒子が電場または磁場によって整列することを妨げずに、細長い粒子の均一分散サスペンションが維持されるよう、十分な粘度を有することが好ましい。
【００４２】
本発明の第3の態様では、パネル中に懸濁される細長い粒子を製作する方法において、細長い粒子材料の層上に、ネガティブエッチングレジスト材料のパターン化層を成膜するステップであって、パターン化領域によって、複数の細長い粒子の所望の形状および寸法が定められるステップと、前記ネガティブエッチングレジスト材料によって被覆されていない、前記細長い粒子材料の層の領域をエッチングするステップであって、これにより、細長い粒子が残留するステップと、を有する方法が提供される。
【００４３】
第3の態様では、第2の態様に使用される細長い粒子を精度良く製作する有効な方法が提供される。細長い粒子材料の層は、例えば鉛またはアルミニウムである。
【００４４】
前記細長い粒子材料の層は、剥離層がコーティングされた基板上に成膜され、当該方法は、さらに、前記エッチングするステップの後に、前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップを有することが好ましい。前記基板から細長い粒子を取り外すステップは、前記剥離層を溶媒中に溶解させるステップを有することが好ましい。
【００４５】
当該方法は、さらに、前記エッチングするステップの後に、前記細長い粒子材料から、前記ネガティブエッチングレジスト材料を除去するステップを有することが好ましい。これにより、細長い粒子からのいかなるコンタミネーションをも除去することができる。
【００４６】
前記ネガティブエッチングレジスト材料のパターン化層は、オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法またはインクジェット印刷法によって成膜されることが好ましい。特に、マイクロコンタクト印刷法が好ましい。
【００４７】
本発明の第4の態様では、パネル中に懸濁される細長い粒子を製作する方法において、細長い粒子材料の層上に、ポジティブエッチングレジスト材料のパターン化層を成膜するステップであって、未パターン化領域によって、複数の細長い粒子の所望の形状および寸法が定められるステップと、前記未パターン化領域を処理して、前記未パターン化領域のエッチング抵抗を、パターン化領域よりも大きくするステップと、前記ポジティブエッチングレジスト材料を除去し、前記ポジティブエッチングレジスト材料によって被覆された、前記細長い粒子材料の層の領域をエッチングするステップであって、これにより細長い粒子が残留するステップと、を有する方法が提供される。
【００４８】
第4の態様では、第2の態様に使用される細長い粒子を高精度で製作する、別の方法が提供される。細長い粒子材料の層は、例えば鉛またはアルミニウムである。細長い粒子材料の未パターン化領域を処理するステップは、例えば溶液からの自己組織化による成膜により、未改質領域に極めて良好な耐エッチング性を有する材料を設置するステップを有する。
【００４９】
前記細長い粒子材料の層は、剥離層がコーティングされた基板上に成膜されることが好ましく、当該方法は、さらに、前記エッチングするステップの後に、前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップを有する。前記基板から前記細長い粒子を取り外すステップは、前記剥離層を溶媒に溶解させるステップを有する。
【００５０】
前記ポジティブエッチングレジスト材料のパターン化層は、オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法またはインクジェット印刷法によって成膜されることが好ましい。特に、マイクロコンタクト印刷法が好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
本発明の前述の特徴および利点についての更なる理解のため、以下、添付図面を参照して、実施例について説明する。実施例は、単なる一例に過ぎない。
【００５２】
図3には、可視光の平行化に使用される、本発明による第1のコリメータパネル33の概略図を示す。
【００５３】
コリメータパネル33は、実質的に、細長い粒子が懸濁された透明高分子シート35を有する。細長い粒子は、高分子35全体に分散されており、粒子の長手方向の軸は、収束する配置となるように配向されている。細長い粒子の配向は、図において、シート35から一定の距離の位置に収束する収束線37によって表現されている。あるいは細長い粒子は、異なる粒子群が、シート35から別の距離の位置に収束する長手軸を有するように配向されても良い。
【００５４】
高分子シート35内に懸濁された細長い粒子は、高反射性アルミニウム粒子であり、これらの粒子は、微細寸法のミラーとして機能する。アルミニウム粒子は、平均厚さが10nmであり、平均長さおよび幅が10μmである。
【００５５】
粒子の特定の配向は、内部で可視光が極めて有効に平行化される媒体を提供する。収束配置となるように配向されたサスペンション粒子は、効率的な収束光導波構造を提供し、図1に示す従来のコリメータ1の逆ピラミッド構造に比べて、より狭小でより平行な光導波構造が得られる。これらの狭小でほぼ平行な光導波構造は、コリメータパネルから光源に向かって逆行する光の反射を生じさせなくする。これは、図3において、整列粒子の表面で繰り返し反射され、高分子シート35を通過する光線39によって表現されている。光線39は、粒子の配向および濃度によって定まる特定の範囲内の角度で、高分子シート35から放射される。
【００５６】
図2のコリメータ17と比較すると、本発明によるコリメータパネル33では、より多くの光が平行化され、より少ない光が光源の方向に逆向きに反射されることから、本発明によるコリメータパネル33は、より効率的であることがわかる。
【００５７】
図4には、本発明によるコリメータパネル33の顕微鏡像を示す。図4からわかるように、細長い粒子（暗い領域）は、高分子（明るい領域）全体に均一に分散されている。
【００５８】
図5には、光源43およびレンズ45とともに、液晶表示装置のバックライトに使用される、図3に示したコリメータパネル33の配列41を概略的に示す。配列41は、相互に組み合わせて単一ユニットを形成する複数の別個のコリメータパネルを有しても良く、あるいは単一の高分子シート内に一体化された複数のコリメータパネルを有しても良い。この場合、シートは、細長い粒子の2以上の収束配置を有する。
【００５９】
光源43は、ランダムな方向に伝播する光線を形成する。ランダムな方向に放射された光線は、コリメータパネル33に入射し、細長い粒子に誘導されて、高分子パネルを通過する。光線がパネルから放射されるまでに、法線に対する光線の角度は、特定の範囲内となる。次に、光線はレンズ45に入射する。レンズ45は、光線を平行化し、平行光線を放射する。
【００６０】
図6には、図5に示した配列41を有する液晶表示装置47の概略図を示す。この装置は、光源49と、コリメータパネル41の配列と、液晶自身を含む組立体51とを有し、必要であればさらに拡散パネル53を有する。
【００６１】
図7は、図5に示すバックライトの輝度の角度に対する変化を示すグラフである。この図から、コリメータパネルによって、十分に平行化された光が生じることがわかる。
【００６２】
図8には、X線放射線を平行化する際に使用される、本発明による第2のコリメータパネル55の概略図を示す。
【００６３】
コリメータパネル55は、実質的に、X線透過性の高分子シート57を有し、このシートには、細長い粒子が懸濁されている。細長い粒子は、高分子57の全体に均一に分散されており、粒子の長手方向の軸は、収束する配置となるように配向されている。細長い粒子の配向は、図において、シート57から一定の距離の位置に収束する収束線50によって表現されている。
【００６４】
高分子シート57に懸濁された細長い粒子は、X線放射線を吸収する鉛粒子である。鉛粒子は、平均厚さが1μmで、平均長さおよび幅が10μmである。
【００６５】
鉛粒子の特定の配向は、X線が内部で有効に平行化される媒体を提供する。鉛粒子は、所望の角度の方向に進行しないX線を反射するのではなく、それらのX線を吸収する。所望の角度方向でコリメータパネル55に入射したX線のみが、透過する。
【００６６】
図2と同様の配置のX線点源およびX線検出器を使用した場合、コリメータパネル55は、散乱X線を有効に吸収する一方、X線点源から直接進行するX線を透過させる。
【００６７】
図2の従来のコリメータ17の使用法と比べて、本発明によるコリメータパネル55の使用法では、より高画質のX線検出器が得られる。特に、細長い鉛粒子では、検出器に投影される陰が十分に抑制される。これは、コリメータパネル55に使用される細長い粒子の寸法および間隔が、従来のコリメータ17に使用される鉛フォイルの寸法および間隔に比べて、十分に小さいためである。従って、コリメータを常時横方向に動かす必要がなくなり、X線検出機器の構造を簡易化することが可能になる。
【００６８】
小さな寸法で短い間隔の細長い粒子を使用した場合、その高アスペクト比により、検出器を覆う陰の投影が無視できるようになると同時に、散乱X線の減衰を高め、線源から直接進行するX線の減衰を最小限に抑えることが可能になる。
【００６９】
コリメータパネル55は、検出器の全領域にわたって均一なグレースケールを提供する。この均一なグレースケールは、細長い粒子が、コリメータパネル55の全領域にわたって均一な濃度を有することによって得ることができる。
【００７０】
細長い粒子の配向の精度は、最初から硬質の粒子を使用して折れ曲がりを防止し、生じ得る固着を抑制することにより改善される。従って、硬質物質の両側に鉛が設置された複合材粒子では、改良された配向を有するサスペンションが提供される。
【００７１】
図9には、可視光を平行化する際に使用される、本発明による第3のコリメータパネルの概略図を示す。
【００７２】
コリメータパネル58は、透明高分子シート60を有し、このシート内には、細長い粒子が懸濁されている。細長い粒子は、高分子60の全体に分散され、これらの粒子の長手方向の軸は、平行な配置となるように配向される。この実施例では、粒子の長手方向の軸は、高分子パネル60の表面に対して垂直になっているが、他の配置とすることも可能である。
【００７３】
高分子シート60に懸濁された細長い粒子の表面は、細長い粒子の長手方向の軸に対して、実質的に非平行に進行する可視光を吸収する。この方法では、粒子は、コリメータパネル58の表面に入射する光を効果的に平行化する。コリメータパネル58を透過する光線の角度幅は、高分子シート60に懸濁された粒子の寸法および濃度に依存する。粒子が長くなると、または粒子濃度が高くなると、透過する光線の角度幅は狭くなる。
【００７４】
好適な細長い粒子は、金属および誘電体の粒子を含み、例えば、黒色の色素もしくは有機色素がコーティングされた酸化珪素、または酸化アルミニウムからなる粒子である。また好適な粒子には、純粋な色素および顔料からなる粒子も含まれる。クロムのような純金属または合金、および硫化銀のような金属化合物、さらにはグラファイトまたは炭素薄膜層が、粒子用の材料として適している。また顔料、色素または微細な金属粒子を含む高分子粒子のような有機粒子も、適している。
【００７５】
そのようなコリメータパネル58は、ユーザーのプライバシーを保護するため、表示装置の上部に設置されても良い。例えば、コリメータパネルは、現金自動預け払い器（ATM）の表示装置の上部に設置される。ディスプレイの前面で直接ディスプレイを観ることのできるユーザーのみが、表示画像を視認することができる。法線に対して広角度でディスプレイを観る他の人間には、表示画像を視認することはできない。
【００７６】
従来の秘密保護スクリーンとは異なり、本発明によるスクリーンは、二次元化することができ、この場合、細長い粒子は、収束する配置となるように設置される。
【００７７】
図9に示すコリメータパネルは、コリメータパネルの表面と垂直で、平行な長手方向の軸を有する細長い粒子を有する。ただし、本発明の他の実施例では、コリメータパネルは、コリメータパネルの表面に対して、垂直以外の一定の傾きを有する、平行な長手方向の軸を有する細長い粒子を有しても良い。そのような配置は、所望の観察方向に対して非垂直な角度で、コリメータパネルの表面を用いる際に、特に有益である。
【００７８】
例えば、そのようなコリメータパネルは、ある角度で、車のフロントガラスに取り付けられても良く、この場合、運転手は、上部から垂直に入射する直射太陽光で妨害されることなく、道路前方を見ることができる。この場合、直射太陽光は、可視光を吸収する細長い粒子によって吸収される。別の実施例では、可視光および赤外線を反射する細長い粒子、または赤外線のみを反射する細長い粒子を有するコリメータパネルを使用することにより、直射太陽光の熱の影響が回避される。
【００７９】
以下に、本発明によるコリメータを製造する方法について説明する。以下の説明では、「電場」という用語は、液体サスペンション中の細長い粒子を配向させるために使用されるフィールド場を表すために使用される。電場を発生させるため、各種形態の電極が使用される。ただし、この説明を読んだ当業者には、永久磁石によって生じる磁場を用いることにより、同様の効果が得られることを容易に認識することができる。従って、特定の種類の粒子に適している場合には、そのような電場と称する全てのものの中には、磁場が含まれることに留意する必要がある。
【００８０】
最初に、細長いまたはフレーク状の粒子が調製される。ある用途では、様々な形状および寸法の粒子が許容される。寸法分布が広く、形状があまり揃っていない粒子は、いくつかの方法で製作される。一つの方法は、剥離コーティングを有する基板上部に薄膜層を蒸着させることに基づくものであり、その後、薄膜層の取り外し後に、薄膜層が微細粒子寸法に「ミル処理」される。他の方法には、マイカのような天然に生じるミネラルを使用する方法が含まれ、この場合も、ミネラルがミル処理される。また溶液中に、シリコンおよびアルミニウムの粒子を形成しても良い。ただし上述のように、これらの材料は、ランダムな形状および寸法を有する。
【００８１】
他の用途の場合、特定の寸法、形状および／または表面特性を有する粒子によって、特性が向上したコリメータが得られる。従って、そのような粒子を調製する方法を以下に示す。
【００８２】
図10には、本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第1の方法を概略的に示す。この方法は、オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法およびインクジェット印刷法等、様々な技術を用いて行われる。インクジェット印刷法を除くこれらの全ての技術において、パターン化表面、またはパターン化手段（スタンプ）によってインクが転写された表面を用いて、被パターン化層63を有する別の表面に、インク61が転写される。インクは、インクの種類に応じて、ポジティブまたはネガティブのエッチングレジストとして使用される。インクがネガティブエッチングレジストとして使用される場合、被パターン化層63の材料は、エッチングによって、インク61によって被覆されていない、あるいは改質されていない領域から選択的に除去される。インクがポジティブエッチングレジストとして使用される場合、表面の未改質領域にのみ、高いエッチング抵抗を示すインクの第2の層が設置される。（例えば、溶液から、自己組織化によって成膜される）。この場合、後続のエッチングステップで、第1のインクで改質された領域（エッチング抵抗の低い部分）から材料が除去される。他のインク設置−エッチング方式も可能であり、これには、表面に予め成膜されたインクで、局部的な（パターン状の）化学的改質を行うことが含まれる。
【００８３】
重要なことは、被パターン化層63が、下側（被パターン化層63と基板67の間）に剥離層65を有することである。その後剥離層65は、適当な溶媒中に溶解されまたは適当な試薬液によって分解されまたは他の何らかの手段によって除去され、図7に示すように、拘束されないパターン化構造69（粒子、フレーク）が残留する。インク61は、剥離層の除去に使用される溶媒、試薬液または何らかの他の手段によって除去されてもされなくても良い。また必要であれば、インク61は、別の後続の処理ステップにおいて除去されても良い。
【００８４】
また、所望のパターンを形成するため、インクジェット印刷法を用いることも可能である。その場合、インク61は、微細液滴状にパターン化層63の上部に設置される。さらに、前述の方法と同様の処理が行われる。ただし、その逐次的な工程のため、通常インクジェット印刷法では処理が遅くなる。
【００８５】
また光転写法を利用して、フォトマスクを用いて、被パターン化層63を被覆するフォトレジスト材料の層をパターン化しても良い。レジスト層を露光した後、被パターン化層63をエッチングして、前述のような方法で、粒子69またはフレークを形成する。
【００８６】
図11には、本発明の実施例に使用される、細長い粒子を形成する第2の方法を概略的に示す。マスク71を用いて、剥離層77が設置された基板75上に粒子73の層が成膜される。次に剥離層77が溶解されて、拘束されていない粒子またはフレーク79が形成される。
【００８７】
またマスク71は、図12に示すように、基板75の上部に製造されても良い。この場合、マスク71の上部に成膜された粒子73が、適当な溶媒を用いて取り外され、拘束されていない粒子79が形成される一方、密着層72上に成膜された材料74は、取り外されないまま残る。また、逆の技術を使用することも可能である。この技術では、成膜材料がマスク表面71に密着し、マスク表面71の間に成膜された材料74が取り外される。
【００８８】
また、マスクは、剥離層の上部に印刷された自己組織化単分子層を有しても良く、未改質領域とは実質的に異なる表面特性を有する改質領域が提供される。その後、後続のステップにおいて、材料が未改質領域にのみ成膜される。または材料は、全ての領域に成膜されても良く、この場合、改質領域では実質的に密着性が低くなっており、改質領域から材料を簡単に取り外すことができる。
【００８９】
細長い粒子もしくはフレークは、単一の材料層またはいくつかの材料層を有しても良い。材料は、金属、有機、または無機である。例えば、フレークは、ある帯域の光を反射する、層状の誘電体を有しても良い。あるいは、これらのフレークは、異なる物理的（例えば光学的）または化学的な表面特性を有する、2つの異なる層で構成されても良い。2層構造の場合、一つの層は吸収性であり、他の層は反射性であっても良い。また、異なる方法で異なる分子と反応する複数の層を組み合わせることも可能である。例えば、一つの表面は、極性分子と個別に反応し、他の表面は、非極性物質と高い反応性を有するように選択されても良い。この方法では、特定の極性および非極性表面を有する粒子を形成することができる。
【００９０】
また粒子またはフレークは、表面改質されても良い。例えば、一つの粒子の2つの表面が、それぞれ極性および非極性基を有するように改質される。
【００９１】
また、反応基が粒子表面に付与されても良い。反応基を有する粒子を、他の反応性分子を含む溶液中で共重合化させて、粒子が高分子鎖の一部となるようにしても良い。この方法では、後に、安定な粒子サスペンションを形成することができる。
【００９２】
図13には、本発明によるコリメータパネルを製造するための第1の方法の概略図を示す。図13を参照すると、コリメータパネルを製造するため、前述のいずれかの方法で調製された細長い粒子が、重合可能な液体中に懸濁される。この例では、粒子は、アルミニウムフレークであるが、他の材料を使用しても良い。アルミニウムフレークは、平均厚さが10nmで、長さが9乃至11μmであり、重合可能な液体は、ポリエチレングリコール（400）ジアクリレートを含む。アルミニウムフレーク81は、重量比で0.025％の濃度で、重合可能な液体に添加される。このフレークは、サスペンションの物理的な撹拌によって、液体中に均一に分散される。
【００９３】
一旦アルミニウムフレークが均一に分散されると、サスペンション81は、透明ガラス基板83、85にコーティングされた2つのITO（インジウムスズ酸化物）電極の間に付与される。ガラス基板83、85は、一定の間隔だけ離されて、平行に保持される。次に、電極に電圧が印加されて、サスペンションを横断するように電場が誘起される。電場は、フィールド線89が、細長い粒子の所望の配列に対応した、特定の収束パターンとなるように誘起される。収束フィールド線を形成するITO電極のパターンは、当業者には明らかであり、そのような一つのパターン87が、一例として図に示されている。フィールド線の方向および密度は、電場内に置かれた材料の複素誘電率に影響される。従って、電場フィールド線89を最適な方法で誘導するため、予め形成された高分子構造が使用される。
【００９４】
電場によって、懸濁された細長い粒子の長手方向の軸は、次第に電場フィールド線に沿って配向されるようになる。
【００９５】
一旦、電場によって全ての懸濁粒子が配向されると、粒子配向の「固定化」のため、重合化が開始される。重合化は、サスペンション81を、例えば1mW／cm2で1分間、紫外（UV）線で露光することによって開始される。
【００９６】
一度重合化が完了すると、ITOのコーティングされたガラス基板83、85が取り除かれ、懸濁配向粒子を有する平坦で透明な可撓性膜が残留する。この膜は、本発明によるコリメータパネルである。
【００９７】
粒子のこの収束配置によって、光が入射するコリメータパネルの側に応じて、光を収束または発散させ、可視光を平行化することが可能な媒体が提供される。
【００９８】
図14には、本発明によるコリメータパネルを製造するための第2の方法の概略図を示す。この第2の方法は、前述の第1の方法と同様であるが、追加のステップを有する別の技術によって、細長い粒子の収束配置が得られる点が異なっている。ここでも、前述のいずれかの方法で調製された細長い粒子が、重合可能な液体に懸濁される。この例では、粒子は、鉛フレークであるが、他の材料であっても良い。例えば粒子は、X線を吸収する金属材料または有機材料が充填された高分子粒子を含んでも良い。鉛粒子は、体積比で5％の濃度で、重合可能な液体に添加される。鉛粒子の濃度は、特定の用途の場合、要求される吸収率に応じて調節しても良い。フレークは、サスペンションの物理的な撹拌によって、液体内に均一に分散される。
【００９９】
一旦鉛フレークが均一に分散されると、サスペンション91は、「A」で示すように、成形型93に設置される。非平坦な型93は、この例では凸型の表面リリーフを有する。この型は、2つの電極95、97の間に設置され、この場合、電極は、透明基板上にコーティングされたITO電極である。次に、電極95、97に電圧を印加することによって、サスペンション91を横断するように電場が生じる。電場は、フィールド線が平行で、かつ電極表面に対して垂直となるように誘起される。
【０１００】
電場によって、サスペンションの細長い粒子の長手方向の軸は、次第にフィールド線に沿って配向されるようになる。
【０１０１】
一旦、電場によって全ての懸濁粒子が配向されると、粒子の配向を「固定化」するため、重合化が開始される。重合化は、サスペンション91を、例えば1mW／cm2で1分間、紫外（UV）線で露光することによって、開始される。
【０１０２】
一旦重合化が完了すると、ITO電極95、97が除去され、「B」で示すように、懸濁配向粒子を有する可撓性透明凸状膜99が残留する。
【０１０３】
凸状膜は、硬質平坦基板の間に挟み付けて、または端部を引き延ばして平坦化される。平坦化膜101は、「C」で示すように、本発明によるコリメータパネルとなる。
【０１０４】
粒子の収束配向によって、X線放射線が入射するコリメータパネルの側に応じて、X線を収束または発散させ、X線を平行化することの可能な媒体が提供される。
【０１０５】
図15Aおよび15Bには、細長い粒子のサスペンションを配向させる別の技術を概略的に示す。これらの両方法では、パネルの表面に対して垂直以外の角度に配向された、平行な細長い粒子を有するコリメータパネルが提供される。
【０１０６】
図15Aには、ファセット型電極103を用いることにより、コリメータパネルの表面に対して約45゜傾斜した、平行な長手方向の軸を有する細長い粒子が得られる例を示す（「A」）。この例では、固化する液体膜が基板の間に設置された、コリメータパネルが得られる（「B」）。基板には、固化する液体膜にひずみが発生せず、このため粒子の平行で傾斜した配向が維持される。
【０１０７】
図15Bには、コリメータパネルの各表面に加わる剪断力を用いる例を示す（「B」）。この剪断力によって、コリメータパネルには変形が生じ、平行な細長い粒子は、垂直な配向から非垂直な配向に変化する。剪断力は、粒子のサスペンションを保持する液体が固化する前、固化する際、または固化した後に加えても良い。
【０１０８】
図16には、本発明による細長い粒子の超構造を製作するための方法の概略図を示す。この方法では、細長い粒子のサスペンションに電場が印加される際に、パターン化電極105が使用され、粒子の泳動により、粒子の密度が高い特定の領域107と、粒子の密度の低い特定の領域109とが提供される。粒子の密度が高い領域107は、超構造を形成する。例えば図16において、約40μmの深さを有する各々の超構造は、各々約200μmの深さを有する空の領域によって分離される。コリメータパネルの厚さは、2mmであり、平行な視準が得られる。
【０１０９】
この詳細な記載は、幅広い本発明の中の特定の実施例について示したものであり、本発明を限定するものではないことに留意する必要がある。以降の特許請求の範囲に記載の本発明の範囲内で、多くの他の実施例があり、これらは、当業者には明らかである。
【０１１０】
例えば、平行なまたは定形の電場フィールド線、成形型、ファセット型電極および剪断力を用いて、コリメータパネルを製造する方法について説明した。しかしながら、これらの技術を組み合わせて使用して、懸濁粒子が所望の向きに正確に配向されたコリメータパネルを提供しても良い。
【０１１１】
また、平行な電場を用いて、平坦で平行な基板の間に、長手方向の軸が平行な、細長い粒子を有する単純なコリメータパネルを製造しても良い。そのようなコリメータパネルは、図9に示されている。
【０１１２】
前述の本発明の実施例は、いずれの場合も、様々な異なる材料で構成された細長い粒子を有する。また、細長い粒子は、磁性材料で構成されても良く、この場合、磁場を使用して、粒子に特定の配向が導入される。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】光源およびレンズとともに使用される、可視光の平行化に使用される従来の第1のコリメータの概略図である。
【図２】X線源および被結像対象およびX線検出器とともに使用される、X線放射線の平行化に使用される従来の第2のコリメータの概略図である。
【図３】可視光の平行化に使用される本発明によるコリメータパネルの概略図である。
【図４】図3に示す第1のコリメータパネルの顕微鏡像である。
【図５】バックライトを形成する光源およびレンズとともに、液晶表示装置のバックライトに使用される図3に示すコリメータパネルの配列の概略図である。
【図６】図5に示す配列を有する液晶表示装置の概略図である。
【図７】図5に示すバックライトの、角度に対する輝度の変化を示すグラフである。
【図８】X線放射線の平行化に使用される、本発明による第2のコリメータパネルの概略図である。
【図９】可視光の平行化に使用される、本発明による第3のコリメータパネルの概略図である。
【図１０Ａ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第1の方法の概略図である。
【図１０Ｂ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第1の方法の概略図である。
【図１０Ｃ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第1の方法の概略図である。
【図１０Ｄ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第1の方法の概略図である。
【図１１Ａ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第2の方法の概略図である。
【図１１Ｂ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第2の方法の概略図である。
【図１１Ｃ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第2の方法の概略図である。
【図１２Ａ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第3の方法の概略図である。
【図１２Ｂ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第3の方法の概略図である。
【図１２Ｃ】本発明の実施例に使用される、細長い粒子を製作する第3の方法の概略図である。
【図１３】本発明によるコリメータパネルを製造する第1の方法の概略図である。
【図１４Ａ】本発明によるコリメータパネルを製造する第2の方法の概略図である。
【図１４Ｂ】本発明によるコリメータパネルを製造する第2の方法の概略図である。
【図１４Ｃ】本発明によるコリメータパネルを製造する第2の方法の概略図である。
【図１５Ａ】細長い粒子のサスペンションを配向させる別の方法の概略図である。
【図１５Ｂ】細長い粒子のサスペンションを配向させる別の方法の概略図である。
【図１６Ａ】本発明による細長い粒子の超構造を製作する方法の概略図である。
【図１６Ｂ】本発明による細長い粒子の超構造を製作する方法の概略図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【国際調査報告】
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2007514969.tif 000031
2007514969.tif 000032
2007514969.tif 000033
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