(57)【要約】【課題】ポリマー添加剤から低粉塵顆粒を製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明は、ポリマー添加剤又はポリマー添加剤混合物の低粉塵顆粒製造の技術的に有利な方法に関する。顆粒形成ポリマー添加剤をまとめて混合し、混合物を加工可能な塊に変形し、そしてオリフィスを通して加圧する。前成形したストランド状の押出された塊を冷却し、そしてまだ加工可能な状態にある間に、圧延、型押、冷却及び微粉砕により顆粒に形成する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー添加剤又はポリマー添加剤混合物の低粉塵顆粒の製造方法であって、顆粒形成ポリマー添加剤をまとめて混合し、混合物を加工可能な塊に変形し、そしてオリフィスを通して加圧し、そして前成形したストランド状の押出された塊を冷却し、そしてまだ加工可能な状態にある間に、圧延、型押、冷却及び微粉砕により顆粒に形成する方法。
【請求項２】
顆粒形成ポリマー添加剤として、式：
【化１】
2007524740.tif 000022
[式中、互いに独立して、Ｒ1及びＲ2のうち１方は水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、フェニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル基、
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）1
ないし3フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルキル基及び（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基又は部分式
【化２】
2007524740.tif 000023
（式中、Ｒａは水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、ハロゲン原子及びスルホ基から選ばれた置換基を表す。）で表される基から選ばれた置換基を表し、
及び他方は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、（
炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基及び（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又は部分式（Ａ）（ここで、
Ｒａは上記で定義された通りである。）で表される基から選ばれる置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し；
ｍは数ゼロ又は１を表し；及び
ｎは１ないし４の整数を表し；ここで、
ｎが数１を表す場合、
ｍはゼロ又は１を表し、）及び
Ｙは１価の置換基−Ｏ−Ｙ1又は−Ｎ（−Ｙ2）2［式中、
Ｙ1は炭素原子数５ないし４５のアルキル基、少なくとも１つの酸素原子により中断され
た炭素原子数３ないし４５のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし１２のアルケニル基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒb （Ｂ）
（式中、Ｒbは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数３ないし５の
アルケニル基又はベンジル基を表す。）で表される置換基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−Ｒc     （Ｃ）
（式中、Ｒcは水素原子、炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基又はフェニル基を表す。）で表される置換基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨＲd−ＣＨＲe−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒf  （Ｄ）
（式中、Ｒd及びＲeのうち１方は水素原子又はメチル基を表し、及び他方はメチル基を表し、及びＲfは水素原子又は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表す。）で表される
置換基、
部分式
【化３】
2007524740.tif 000024
（式中、Ｒ1及びＲ2は上記で定義される通りである。）で表される置換基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒg   （Ｆ）
（式中、Ｒgは水素原子又は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表す。）を表し］；
及び
Ｙ2はヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。］を表し；又は
ｎが数２を表す場合、
ｍはゼロを表し、及びＹは部分式
−Ｏ−ＣxＨ2X−Ｏ−         （Ｇ）
（式中、ｘは２ないし２０の整数を表す。）、
−Ｏ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）y−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−         （Ｈ）
（式中、ｙは１ないし３０の整数を表す。）、
−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−       （Ｉ）、
−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−Ｏ−      （Ｋ）もしくは
−ＮＨ−（ＣＨ2）z−ＮＨ−         （Ｌ）
（式中、ｚはゼロ又は２ないし１０の整数を表す。）で表される二価基を表し；又は、
ｎが数３を表す場合、ｍはゼロを表し、及びＹは部分式
【化４】
2007524740.tif 000025
（式中、Ｒhは炭素原子数１ないし２４のアルキル基又はフェニル基を表す）もしくは
【化５】
2007524740.tif 000026
で表される三価基を表し；又は
ｎが数４を表す場合、ｍはゼロを表し及びＹは部分式
【化６】
2007524740.tif 000027
で表される四価基を表す。]で表されるフェノール系ポリマー添加剤をまとめて混合する
、請求項１記載の方法。
【請求項３】
顆粒形成ポリマーとして、式：
【化７】
2007524740.tif 000028
［式中、互いに独立して、Ｒ1及びＲ2のうちの１方は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、及び他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表し；ｘはゼロ（直接結合）又は１ないし３の整数を表し；及びＹは炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基又は部分式
【化８】
2007524740.tif 000029
（式中、互いに独立して、Ｒ1’及びＲ2’のうちの１方は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、及び他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表し；ｘはゼロ（直接結合）又は１ないし３の整数を表し；及びｙは２ないし１０の整数を表し、及びｚは２ないし６の整数を表す。）で表される基を表す。］で表されるフェノール系添加剤をまとめて混合する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
顆粒形成ポリマー添加剤の混合物を、加熱可能なコニーダーで加工可能な塊に変形する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
加工可能な塊を、円形ノズル又はスロット形ノズルに通してコニーダーから押出し、そして前形成された、ストランド状の塊に更なる加工を受ける、請求項１記載の方法。
【請求項６】
可塑性の前成形された塊を、滑らかで磨かれた表面を有する圧搾ローラーによって、そして次にエンボス加工ラインを備える成形ローラーによって加工する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
成形ローラーが溝を備える、請求項１記載の方法。
【請求項８】
移送及び冷却及び固化が、連続的なスチールベルト上で行われる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
顆粒形成ポリマー添加剤の成分を、液体又は固体形態で又は溶融形態でコニーダーに給送する、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
型押しされた製品マットを、篩造粒機で顆粒サイズに微粉砕する、請求項１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマー添加剤から低粉塵顆粒を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ポリマー、特にポリオレフィンは、加工を容易にするため、及び使用特性を可能な限り長期間保持するために添加剤の添加を一般に必要とする。光及び熱に加えて、有機ポリマーに悪影響を及ぼす要因は、調製の間に使用される触媒の残留物も含む。従来技術は、添加剤及び安定剤として使用され得る非常に広範囲の物質群を開示する。有機ポリマーの崩壊を結果として招く複雑なプロセス（その全てが詳細に説明されている訳ではない）が原因で、多数の添加剤の混合物が頻繁に使用される。
一般に、添加剤及び添加剤混合物は、粉末形態であり、それは不利であり得、不利な例は、粉塵形成、分離傾向及び計量問題を含む。それ故に、それらの不利点と関係のない市販用の製品形態に対し必要性がある。既知の方法の例は、凝集法、例えば水相で、所望により分散剤の使用を伴うもの、バインダを用いた混合法、及びペレットプレスを用いた圧縮法を含む。
多くの場合、結果として生じる市販の製品形態は欠点を有する。それらは頻繁に水又はバインダを含有し、それらは有機ポリマーへの配合に不利である。従って、ほとんどあるいは全くバインダを含まない優れた使用特性を有する顆粒状添加剤混合物が必要である。加えて、顆粒状添加剤混合物は、ますます関連する環境保護基準、例えば低粉塵形成、バインダの削除を通じての材料の節約等を満たすことが必要である。
特許文献１は、有機酸及び無機酸の中和のための添加剤並びにテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタンの顆粒形態を製造するための方法を開示する。前記方法は、溶融状態にある後者材料の存在下に行われ、該材料は酸中和剤の粉末状塊の至る所に均一に分散され、該塊が押出され、押出されたストランドが冷却され、そして次に顆粒が形成される。しかしながら、そのように得られる顆粒は、相当量の粉塵を生じさせる不利点を有する。
特許文献２は、低粉塵ステアリン酸カルシウム顆粒の製造方法、より具体的にはステアリン酸カルシウム又はステアリン酸カルシウム及び更なるポリマー添加剤を含む添加剤混合物を加熱すること、ノズル又は空孔を備え、該ノズル又は空孔の直径は１．０ないし１０．０ｍｍであるところのプレートを通して押出し、そしてその後結果として生じる押出し物から、それがまだ可塑性状態である間に直接顆粒を形成する（ホットカットと言われる）ことによる製造方法が開示される。
【特許文献１】米国特許第５２４０６４２号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第７１９８２４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
前記方法はまた不利点を有する、なぜなら押出しのために生成物塊の粘度を熱の供給又は除去によって低い値に調整しなければならず、そのような生成物塊はオリフィスを通過中可塑性のままだからである。これは特に硬化傾向を有する添加剤混合物の場合において得に重大である。他方では、生成物塊が切断装置に付着するのを妨げるために顆粒形成の間生成物ストランドを切断するためには高粘度が要求される。それ故に押出しとは別に、次の段階で顆粒を形成することを可能にする改善された方法が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、わずかな数のオリフィス又は１つだけのオリフィスが押出しのために要求され及び顆粒は次の段階で形成される方法に基づく。
本発明の方法の原則は、わずかな数のオリフィス、好ましくは１つだけのオリフィス（空孔又は溝孔）を有する押出し機を提供することにある。次に新しい前成形された可塑性の塊は、一組のローラー（カレンダー）を使用して要求された顆粒の厚さに伸ばされ、冷却ベルト上に置かれそしてさらに運ばれる。続く段階において、顆粒サイズは成形ローラーを使用した結果として生じるペーストマットへと型押しされる。ベルト下面は、可塑性の塊を固めるために冷却される。ベルトの末端で、型押しされ固められたペーストマットは、粗い破片へと予備分割を受けさせられ、次に篩造粒機で個々の顆粒に分割される。
本発明は、ポリマー添加剤又はポリマー添加剤混合物（ブレンド）の低粉塵顆粒の技術的に有利な製造方法であって、顆粒形成ポリマー添加剤をまとめて混合し、混合物を加工可能な塊に変形し、そしてオリフィスを通して加圧し、そして前成形したストランド状の押出された塊を冷却し、そしてまだ加工可能な状態にある間に、圧延、型押、冷却及び微粉砕により顆粒に形成する方法に関する。
この方法に従って製造され得る顆粒は、一様に成形されそしてそれらの更なる工程について優れた技術的な性状、特に有利な嵩材料特性、例えば１．０ないし１０．０ｍｍに調整可能な粒径、４００ｇ／ｌを超えるルーズ（ｌｏｏｓｅ）嵩密度、優れた流動性、例えば２ないし４０秒の注入速度（ｔR15及びｔR25の測定、所定の出口開口、例えば１５及び２５ｍｍ、を有する漏斗を使用した注入速度の測定によりＤＩＮ５３４９２に従う）、ＩＳＯ４３２４（ＤＩＮ  ＩＳＯ４３２４）に従う３０ないし４０°の注入材料の安息角、磨損へのかなりの抵抗及び粉塵からの自由度、例えばホイバッハ試験における非常に低い水準の粉塵、及び優れた貯蔵安定性により特徴付けられる。それ故にそれらは安定化される有機ポリマー中へ容易に計量配合され得る。
顆粒の製造において、低粉塵含有量は重要な基準であって、実用条件に類似の実験装置におけるいわゆるホイバッハ試験に従って決定され、試験材料は磨損によって引き起こされる粉塵量に基づいて粉塵形成の傾向を決定するために作動状態に置かれる。試験装置は、ランゲルシェイム（ドイツ国）のホイバッハエンジニアリングにより製造される。試験において、試験材料（試料質量５０ｇ）は、３つの導風板がハウジング壁に対して４５°の角度で回転方向に配置されている２．５リットルの容量を有する粉塵形成システムにおいて、円周速度約１９ｃｍ／秒に相当する３０ｒｐｍ（１分間当りの回転数）で５分間動かされ、その間に０．３２リットル／秒の空気流がフィルター上に微粉成分を堆積させる。この方法で決定される細粒含有量は、好ましくは０．１質量％の値を超えない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
本発明の好ましい態様において、顆粒形成ポリマー添加剤として、式：
【化１】
2007524740.tif 000002
[式中、互いに独立して、Ｒ1及びＲ2のうち１方は水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、フェニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル基、
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルキル基及び（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基又は部分式
【化２】
2007524740.tif 000003
（式中、Ｒａは水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、ハロゲン原子及びスルホ基から選ばれた置換基を表す。）で表される基から選ばれた置換基を表し、
及び他方は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、（
炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基及び（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又は部分式（Ａ）（ここで、
Ｒａは上記で定義された通りである。）で表される基から選ばれる置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し；
ｍは数ゼロ又は１を表し；及び
ｎは１ないし４の整数を表し；ここで、
ｎが数１を表す場合、
ｍはゼロ又は１を表し、及び
Ｙは１価の置換基−Ｏ−Ｙ1又は−Ｎ（−Ｙ2）2［式中、
Ｙ1は炭素原子数５ないし４５のアルキル基、少なくとも１つの酸素原子により中断され
た炭素原子数３ないし４５のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし１２のアルケニル基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒb （Ｂ）
（式中、Ｒbは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数３ないし５の
アルケニル基又はベンジル基を表す。）で表される置換基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−Ｒc     （Ｃ）
（式中、Ｒcは水素原子、炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基又はフェニル基を表す。）で表される置換基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨＲd−ＣＨＲe−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒf  （Ｄ）
（式中、Ｒd及びＲeのうち１方は水素原子又はメチル基を表し、及び他方はメチル基を表し、及びＲfは水素原子又は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表す。）で表される
置換基、
部分式
【化３】
2007524740.tif 000004
（式中、Ｒ1及びＲ2は上記で定義される通りである。）で表される置換基、
部分式
−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒg   （Ｆ）
（式中、Ｒgは水素原子又は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表す。）で表される
置換基を表し、；及び
Ｙ2はヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。］を表し；又は
ｎが数２を表す場合、
ｍはゼロを表し、及びＹは部分式
−Ｏ−ＣxＨ2X−Ｏ−         （Ｇ）
（式中、ｘは２ないし２０の整数を表す。）、
−Ｏ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）y−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−         （Ｈ）
（式中、ｙは１ないし３０の整数を表す。）、
−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−       （Ｉ）、
−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−Ｏ−      （Ｋ）もしくは
−ＮＨ−（ＣＨ2）z−ＮＨ−         （Ｌ）
（式中、ｚはゼロ又は２ないし１０の整数を表す。）で表される二価基を表し；又は、
ｎが数３を表す場合、ｍはゼロを表し、及びＹは部分式
【化４】
2007524740.tif 000005
（式中、Ｒhは炭素原子数１ないし２４のアルキル基又はフェニル基を表す）もしくは
【化５】
2007524740.tif 000006
で表される三価基を表し；又は
ｎが数４を表す場合、ｍはゼロを表し及びＹは部分式
【化６】
2007524740.tif 000007
で表される四価基を表す。]で表されるフェノール系ポリマー添加剤がまとめて混合され
る。
【０００６】
本発明の説明において定義された様々な鎖長のアルキル基は、線状及び、可能であれば
、枝分かれした炭化水素基、特に炭素原子数１ないし９のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルブチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−へプチル基、３−へプチル基、１−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルへプチル基、ｎ−ノニル基又は１，１，３−トリメチルヘキシル基、また炭素原子数１０ないし４５のアルキル基、特に直鎖の炭素原子数１０ないし４５のアルキル基、例えばｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基、イコシル基、ヘニコシル基、ドコシル基又はトリアコンチル基、又は枝分かれした炭素原子数１０ないし２２のアルキル基、例えば１，１，３−トリメチルヘキシル基、１−メチルウンデシル基、２−ｎ−ブチル−ｎ−オクチル基、イソトリデシル基、２−ｎ−ヘキシル−ｎ−デシル基又は２−ｎ−オクチル−ｎ−ドデシル基、又はそれらの高次同族体を含む。
（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル基は、例えば２−又は４−ト
リル基，２，５−又は２，６−キシリル基、メシチル基、２−又は４−エチルフェニル基、２，４−又は２，６−ジエチルフェニル基、４−クメニル、２−第三ブチル−６−メチルフェニル基又は２，６−ビス−第三ブチル基である。
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基は、例えば１−，２−又は３−位置において炭素原子１ないし３のアルキル基に結合したフェニル基、例えば２−フェニルエチル基、特にベンジル基である。
（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル−炭素原子数１ないし３のア
ルキル基は、１−，２−又は３−位置において炭素原子１ないし３のアルキル基に結合した上記で定義された（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3フェニル基の１つ、
例えば２−第三ブチル−６−メチルベンジル基又は２，６−ビス−第三ブチルフェニル基である。
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えばシクロペンチル基又はシクロヘキシル基である。
（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし3炭素原子数５ないし１２のシクロアル
キル基は、１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された上記で定義された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の１つ、例えば２−又は４−メチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基，２，４，６−トリメチルシクロヘキシル基又は４−第三ブチルシクロヘキシル基である。
アルケニル基は、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、メタリル，２−又は３−へキセニル基、又は３−もしくは５−デセニル基である。
【０００７】
加えて、上記で定義された部分式（Ａ）は以下の位置異性体を含む：
【化７】
2007524740.tif 000008
ハロゲン原子としてＲaは、臭素原子、ヨウ素原子又は、特に塩素原子を表す。
化合物（Ｉ）において、指数ｍはゼロ又は１である。ｍがゼロの場合、これは直接結合を定義する。更なる態様に従って、指数ｍ及びｎは数１である。Ｙはこの場合、一価基−Ｏ−Ｙ1を表す。そのような化合物（Ｉ）は、
式：
【化８】
2007524740.tif 000009
に一致する。
少なくとも１つの−Ｏ−ヘテロ原子により中断された炭素原子数３ないし４５のアルキル基としてのＹ1は、上述された炭素原子数３ないし４５のアルキル基、特に２−メトキ
シエチル、２−又は３−メトキシプロピル，２−，３−又は４−メトキシブチル、２−エトキシエチル、２−又は３−エトキシプロピル、２−，３−又は４−エトキシブチル、２−ｎ−プロポキシエチル、２−又は３−ｎ−プロポキシプロピル、２−，３−又は４−ｎ−プロポキシブチル、２−イソプロポキシエチル、２−又は３−イソプロポキシプロピル、２−，３−又は４−イソプロポキシブチル、２−ｎ−ブトキシエチル、２−又は３−ｎ−ブトキシプロピル、２−，３−又は４−ｎ−ブトキシブチル、２−第三ブトキシエチル、２−又は３−第三ブトキシプロピル、２−，３−又は４−第三ブトキシブチル及びそれらの高次同族体、特にメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基により又は第三ブトキシ基により置換された線状の炭素原子数５ないし１８のアルキル基を含む。
部分式（Ａ）で表される基においてＲbは、好ましくは水素原子、アリル基、メタリル
基又はベンジル基である。
部分式（Ｃ）で表される基においてＲcは、好ましくは水素原子又は炭素原子数１ない
し４のアルキル基である。
ヒドロキシ−炭素原子数２ないし４のアルキル基としてＹ2は、好ましくは２−ヒドロ
キシエチルである。
【０００８】
特に好ましい群の化合物（Ｉ）（式中、ｍはゼロを表し、及び直接結合を定義し、並びにｎは１を表す。）は、一般式：
【化９】
2007524740.tif 000010
に一致する。
それらの化合物において、Ｒ1及びＲ2のうちの１方は、メチル基又は第三ブチル基を表し、及びＲ1及びＲ2の他方は第三ブチル基を表し、Ｙ1は直鎖又は枝分かれした炭素原子
数１０ないし２２のアルキル基を表し、及びＹ2は２−ヒドロキシエチル基を表す。
【０００９】
更に特に好ましい群の化合物（Ｉ）（式中、ｍはゼロを表し及び直接結合を定義し、並びにｎは１を表す。）は、一般式：
【化１０】
2007524740.tif 000011
（式中、Ｒaは水素原子又は塩素原子を表し、及びＹ1は直鎖又は枝分かれした炭素原子数１０ないし２２のアルキル基を表す。）に一致する。
好ましい更なる態様によると、顆粒形成ポリマー添加剤として、フェノール系ポリマー添加剤（Ｉ）（式中、ｎは数２を表し、及びｎはゼロを表す。）がともに混合される。Ｙは基
−Ｏ−ＣxＨ2x−Ｏ−          （Ｇ）
（式中、ｘは２ないし２０の整数を表す）、
−Ｏ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）y−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−  （Ｈ）
（式中、ｙは１ないし３０の整数を表す）、
−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−       （Ｉ）、
−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−Ｏ−      （Ｋ）；及び
−ＮＨ−（ＣＨ2）Z−ＮＨ−         （Ｌ）
（式中、ｚはゼロ、又は２ないし１０の整数を表す。）
から選ばれる二価の置換基を表す。
【００１０】
好ましい化合物は式
【化１１】
2007524740.tif 000012
に一致する。
【００１１】
更に好ましい態様は、化合物（Ｉ）（式中、ｎは数３を表し、ｍはゼロを表し、及びＹは三価の基
【化１２】
2007524740.tif 000013
を表す。）の調製に関する。
そのような化合物は式
【化１３】
2007524740.tif 000014
.
に一致する。
【００１２】
更に好ましい態様は、化合物（Ｉ）（式中、ｎは数４を表し、及びｍはゼロを表す。）の調製に関する。そのような化合物は、式
【化１４】
2007524740.tif 000015
に一致する。
本発明の更に好ましい態様において、顆粒形成ポリマー添加剤として、フェノール系ポリマー添加剤（Ｉ）［式中、Ｒ1及びＲ2のうち１方は、メチル基、第三ブチル基又は基（Ａ）（式中、Ｒaは水素原子又は塩素原子を表す。）を表し、及びＲ1及びＲ2のうち他方
は、第三ブチル基を表し；
Ｒ3は水素原子を表し；
ｍはゼロ又は数１を表し；及び
ｎは１ないし４の整数を表し；ここで、
ｎが数１を表す場合、ｍはゼロ又は数１を表し、及びＹは一価の基−Ｏ−Ｙ1もしくは−
Ｎ（−Ｙ2）2を表し、又は
ｎが数２を表す場合、ｍはゼロを表し、及びＹは部分式（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ）又は（Ｈ）で表される二価の基を示し；又は
ｎが数３を表す場合、ｍはゼロを表し、及びＹは部分式（Ｋ）又は（Ｌ）で表される三価の基を示し；又は
ｎが数４を表す場合、及びｍはゼロを表し、及びＹは部分式（Ｍ）で表される四価の基を表す。］がまとめて混合される。
【００１３】
特に好ましい態様に従い、顆粒形成ポリマーとして、式：
【化１５】
2007524740.tif 000016
［式中、互いに独立して、Ｒ1及びＲ2のうちの１方は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、及び他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表し；ｘはゼロ（直接結合）又は１ないし３の整数を表し；及びＹは炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基又は部分式
【化１６】
2007524740.tif 000017
（式中、互いに独立して、Ｒ1’及びＲ2’のうちの１方は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、及び他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表し；ｘはゼロ（直接結合）又は１ないし３の整数を表し；及びｙは２ないし１０の整数を表し、及びｚは２ないし６の整数を表す。）で表される基を表す。］で表されるフェノール系添加剤がまとめて混合される。
【００１４】
以下の更なるポリマー添加剤が、いわゆるブレンドを形成するために上記の顆粒形成フェノール系ポリマー添加剤とともに混合され得る：
１．酸化防止剤
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−ブチル−４，６−ジメ  チルフ
ェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−  ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−  イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、  ２−（α，α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，  ６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシ  ルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直  鎖または分岐鎖であるノニルフェノール；例えば、２，６−ジノニル−４−メ  チルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１'−イル  ）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１'−メチルヘプタデシ−１'−イ  
ル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１'−メチルトリデシ−１'−イ  ル）フェノールおよびそれらの混合物。
１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオク  チルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６  −エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール  。
１．３． ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル  ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−  ４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、  ２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチ  ル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ  ェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ  ル）アジペート。
【００１５】
１．４． トコフェロール、例えば、
α−、β−、γ−又はδ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ  ）。
１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、
２，２'−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２'−  チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４'−チオビス（６−第三ブチル  −３−メチルフェ
ノール）、４，４'−チオビス（６−第三ブチル−２−メチ  ルフェノール）、４，４'−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）  、４，４'−ビス（２，６−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィ  ド。
１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば、
２，２'−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２  '−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２'−メ  チレンビス［４−
メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、  ２，２'−メチレンビス（
４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２  ，２'−メチレンビス（６−ノニル
−４−メチルフェノール）、２，２'−メ  チレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノ
ール）、２，２'−エチリデンビ  ス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２'−エチリデンビス（６−  第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２'−メチレン
ビス［６−（  α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２'−メチレンビ
ス［  ６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４'−メ  チ
レンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４'−メチレンビス  （６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル  −４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブ  チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，  １，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブ  タン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル  ）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−  ビス（３'−第三ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（  ３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエ  ン、ビス［２−（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−メチルベンジ  ル）−
６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス  （３，５−ジメ
チル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，  ５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５  −第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメ  ルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ  −２−メチルフェニル）ペンタン。
【００１６】
１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば、
３，５，３'，５'−テトラ−第三ブチル−４，４'−ジヒドロキシジベンジルエーテル、
オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
１．８． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、
ジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００１７】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビスオクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
１．１１． ベンジルホスホネート、例えば
ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルカルシウム塩。
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば、
４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
１．１３． アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【００１８】
１．１４． アミン系酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ'−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−エチル−３−メチル−ペンチル）−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン
、Ｎ，Ｎ'−ジ（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ
−トルエンスルホンアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ'−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ
−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４'−ジアミノジフェニルメタン、４，４'−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチル−４，４'−ジアミノ−ジフェニルメタン、１，２
−ジ［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジフェニルアミノプロパン、ｏ−トリルビグアニド、ジ［４−（１'，３'−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−オン及び２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−オール。
１．１５ ポリフェノール系酸化防止剤、例えば
ｐ−クレゾール及びジシクロペンタジエンの誘導体、例えばウィングステイ（登録商標：ＷＩＮＧＳＴＡＹ）Ｌ（グッドイヤー）、ＣＡＳ登録番号６８６１０−５１−５。
【００１９】
２． ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１． ２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'，５'−ジ−第三ブチル−２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５'−第三ブチル−２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−（
１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'，５'−ジ−第三ブチル−２'−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３'−第二ブチル−５'−第三ブチル−２'−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−４'−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'，５'−ジ−第三アミル−２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（３'，５'−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２'−ヒドロキシフェニル
）ベンゾトリアゾール、２−（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−（２−オクチ
ルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３'−
第三ブチル−５'−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２'−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−（２−メトキシカルボニル
エチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'−第三ブチル−５'−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'−ドデシル−２'−ヒドロキシ−５'
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３'−第三ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２'−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾル−２−イルフェノール］、２−［３'−第三ブチル−５'−（２−メトキシカルボニルエチル）−２'−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコ
ール３００とのエステル交換生成物、次式［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−］2−
［式中、Ｒは３'−第三ブチル−４'−ヒドロキシ−５'−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−
イルフェニル基を表す。］で表されるもの、２−［２'−ヒドロキシ−３'−（α，α−ジメチルベンジル）−５'−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾト
リアゾール；２−［２'−ヒドロキシ−３'−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５'−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００２０】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、
４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２'，４'−トリヒドロキシおよび２'−ヒドロキシ−
４，４'−ジメトキシ誘導体。
２．３． 安息香酸のエステル、例えば、
４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４． アクリレート、例えば、
エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート又はイソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−α−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート又はブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（α−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５． ニッケル化合物、例えば、
２，２'−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッ
ケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのようなさらなる配位子を伴うまたは伴わないもの、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、
４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、さ
らなる配位子を伴うまたは伴わないもの。
【００２１】
２．６．  いわゆる立体障害アミン、例えば、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンの直鎖または環式縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１'−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖または環式縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメ
チレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エーテル、Ｎ，Ｎ'−ビス−ホルミル−
Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物／α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００２２】
２．７． オキサルアミド、例えば、
４，４'−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２'−ジエトキシオキサニリド、２，２'
−ジオクチルオキシ−５，５'−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２'−ジドデシルオキシ−５，５'−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２'−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ'−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第
三ブチル−２'−エチルオキサニリド、およびその２−エトキシ−２'−エチル−５，４'
−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリド、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００２３】
３． 金属奪活剤、例えば、
Ｎ，Ｎ'−ジフェニルオキサルアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ'−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ'−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ'−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ'−ジアセチルア
ジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ'−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，
Ｎ'−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
４． ホスフィットおよびホスホニット、例えば、
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリスノニルフェニルホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、トリメチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−
ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビスイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビタントリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホニット、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−ジメチル−ベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【００２４】
以下のホスフィットは、特に好ましい：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、チバスペシャルティケミカルズ）、トリスノニルフェニルホスフィット及び構造式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）及び（ｇ）を有するホスフィット：
【化１７】
2007524740.tif 000018
【００２５】
５． ヒドロキシルアミン、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂脂肪酸アミンに由来するＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
６． ニトロン、例えば
Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−へプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン及び水素化牛脂脂肪酸アミンに由来するＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンに由来するニトロン。
７． チオ相乗化合物、例えば、
ジラウリル−又はジステアリル−チオジプロピオネート。
８． 過酸化物吸収材、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトロベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシル二硫化物、ペンタエリトリトール  テトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００２６】
９． ポリアミド安定剤、例えば、
ヨウ化物及び／又はリン化合物及び二価のマンガン塩とを組み合わせた銅塩。
１０. 塩基性補助安定剤、例えば、
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムべヘネート又はステアレート、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、アンチモン又は亜鉛ピロカテコレート。
１１． 核剤、例えば
例えば無機充填剤、例えばタルカム、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属のホスフェート、カルボネート又はスルフェート、有機酸、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びそれらの塩、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸又は安息香酸ナトリウム及びまたポリマー化合物、例えばイオンコポリマー（イオノマー）。
【００２７】
１２． ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば
米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開４３１６６１１第号明細書；独国特許出願公開４３１６６２２第号明細書；独国特許出願公開４３１６８７６第号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に従うもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフ
ラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラン−２−オン。
１３． 他の添加物、例えば
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流れ調整剤、触媒、蛍光増白剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【００２８】
上述された顆粒形成添加剤及び添加剤混合物は、それ自体既知の方法でまとめて混合され、例えば、熱可塑性樹脂及び硬化性プラスチックの混合、混練、配合、可塑化及び均一化に、染料の分散に及び粘弾性相における他のプロセスに適するいわゆるコニーダー、共回転及び反転二軸スクリュー押出し機又は一軸スクリュー押出し機、例えばＫ及びＭ型のコニーダー、特に１時間当り加工された塊１ｋｇにつき１ｋＷまでの比出力を可能にするＰＲ型のコニーダーが適している。特に適する装置は、スイス、プラッテルンのバス  アーゲー製のＰＲ型コニーダー、例えば装置型ＰＲ１００，１４０，２００又は３００である。コニーダーの原理に従い、混合及び混練加工は、複数の小さなエレメント、例えば混練り歯及びヘリカルブレード間で分散される。操作は、バッチによる連続的又は不連続的である。連続操作のためには、液体、溶融物又は粉末状のペースト状材料のための計量装置を用いて達成し得る材料の均一供給が重要である。
加工可能な塊への混合物の変形は、好ましくは温度調節されたコニーダー、共回転又は反転二軸スクリュー押出し機又は一軸スクリュー押出し機において達成される。熱的及び機械的（剪断応力）エネルギーによって、添加剤は混合されそして加工可能な塊に加工される。コニーダーのハウジング及びスクリューは、個々に複数の帯域において、例えばダブルジャケット（ｄｏｕｂｌｅ−ｊａｃｋｅｔ）加熱法を使用することで加熱され得る。２０℃ないし３００℃の温度範囲が好ましい。充てん帯域は、好ましくは冷却される。出口ノズルは、特別に形成され、及び少数のオリフィス、好ましくは１つだけのオリフィスを有する。それは、例えば、注入頭部の形態において、ストリップ形又はスロット形ノズル、円形ノズル又は螺旋状ノズルであり得る。出口ノズルにおけるオリフィスは、長さ約４０ｍｍないし約２００ｍｍ、幅約６ｍｍないし約２０ｍｍであるか、又は円形ノズルの場合、直径約２０ｍｍないし約１５０ｍｍである。
そのように前成形されストランド状に押出された塊は、出口ノズルを出るとき、非硬質状態、更なる成形が可能である、例えば可塑性又は可塑性−結晶性状態である。押出された塊は、約１０００ないし５００００ｃＰａ・ｓｅｃ、好ましくは１０００ないし１００００ｃＰａ・ｓｅｃの粘度を有する。押出された塊は、まだ加工可能な状態である温度まで冷却される。該塊は、非粘着塗装を設けられ得るスライドシュートを用いて排出され得る。
【００２９】
コニーダーに代わるものとして１又は２個のスクリュー（一軸スクリュー又は多軸スクリュー、例えば二軸スクリュー、押出し機）を備え得るスクリュー押出し機が使用され、前記スクリューは同様な又は異なった巻線（剪断応力エレメント及び混合部品）を備えることが可能である。コニーダーの使用は好ましい。Ｈａｎｄｂｕｃｋ  ｄｅｒ  Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，編集  Ｆ．ヘンセン，Ｗ．クナッペ，Ｈ，ポテンテ，第一巻，１９８９，グルントラゲン，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４，及び第二巻，１９８６，Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ，ＩＳＢＮ３−４４６−１４３２９−７において開示される装置を参照のこと。類似の装置は、製造業社ブラベンダー（ドイツ国）、ワーナー＆プフライデラー（ドイツ国）又はビューラー（スイス国）から入手可能である。それがまだ加工可能な状態である間に、冷却された塊は、次に圧延、型押、冷却及び微粉砕によって顆粒に形成される。圧延のためには、いわゆるカレンダー加工に由来し、及び可塑性フィルムの製造から知られる圧延法が、使用さる。従来の圧延法は、少なくとも２本のローラー、いわゆるニップローラー又は圧搾ローラーの中を通ってそれら
を圧延することによって熱可塑性塊をエンドレスストリップに形成することから成る。
本発明において使用した型押しプロセスは、圧延後、まだ可塑性の、前成形された塊は次に直線的にエンボス加工した成形ローラーを使用し処理される点においてカレンダー法とは異なる。前記材料は、このように顆粒状の構造に型押しされ、該構造は生成マットの硬化断片を微粉砕するための所定の破断点を提供するために必要である。
型押しの間、移送は、制御可能な駆動装置を備え、及びその底面上に噴霧される水によって冷却可能であるサンドビック型の連続的なスチールベルト上で行われ得る。スチールベルトは、約２００ｍｍないし約１５００ｍｍのベルト幅及び約２ｍないし約１６ｍの有効冷却長さを有し得る。
【００３０】
圧延は、前成形されたまだ可塑性の材料を２本又は３本の圧搾ローラーに通すことにより行われ、ローラー間の間隔は調整可能であり、及び最小の間隔が顆粒のサイズを決定付ける。このように圧延された可塑性の材料は、次に少なくとも１本、好ましくは２本又は３本の、型押しされた構造を材料に与えるローラーによって加工される。好ましい態様において、前記成形ローラーは、材料のまだ可塑性ストリップにひし形又は正方形の構造を型押しする反対方向に走る対角線上の溝又は縦及び横に走る溝を有する。
圧搾ローラー（頭頂部及び下部）の可能な配列が少なくとも二つある。それらが頭頂部に配列される場合、出口ノズルから表面に出てくる可塑性の材料は移送ベルトによって上方に導かれ、移送ベルトは冷却又は加熱することが可能である。それらが下部に配列される場合、可塑性の材料は一本目の圧搾ローラーの上流を下方に導かれる。
圧搾ローラー及び成形ローラーは、従来のカレンダーにおけるように配列され得、必要に応じて加熱され又は、特に冷却され得る。該ローラーの回転速度は、ペーストの流れに合わされなければならない（閉塞を避けるために）。下部に位置する冷却ベルトと比較して、ローラーは、その軸を流れの方向に対し９０°未満の傾きにして取り付けられている。ローラーは、非粘着塗装も設けられ得る。
型押しされた生成ストリップは、冷却ベルト上で硬化され、及び該ベルトの末端で更なるローラーを使用して粗い破片に分断される。その結果生じる断片は、篩造粒機、例えばフレウィット，ＧＬＡ−ＯＲＶ−０２１５型（４ｍｍ篩い）において押出されたラインに沿って顆粒を形成するために微粉砕される。篩いのメッシュサイズは、顆粒のサイズに合わせられる。細かい又は更に細かい断片は、次に篩い落とされ、そして顆粒から分離される。
篩造粒機の代わりとして、型押しされたラインに沿って形成された断片は、ロールクラッシャー又はロールミルで望ましいサイズの顆粒を形成するために微粉砕され得る。ロールクラッシャー又はロールミルと篩造粒機との組み合わせもまた可能である。
そのように製造され得る単一の添加剤又は添加剤混合物に基づく添加剤顆粒は、熱的、酸化的又は光誘導崩壊に対し有機ポリマーを安定化するために適する。それらはポリマーに、例えば熱可塑性樹脂、特に熱硬化性プラスチック、例えばポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリアミド等に基づくものに、既知の方法を使用してそれ自体既知の方法で配合され得る。顆粒は、またいわゆる予備混合物の調製に対しても適する。
【実施例】
【００３１】
以下の例は、本発明に従う方法の適用性及び実用性を説明する。
実施例１
５０部のイルガノックス１０１０（ペンタエリトリトール  テトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］）及び５０部のイルガノックス１０９８（Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］をバッチミキサーで均一に混合した。計量装置を使用し、混合物を容量分析で押出量５０ｋｇ／ｈでコンティニーダー（ＰＲ１００  ７Ｄ型）に供給した。ニーダーを１００℃に温度調節した（入口を２０℃に冷却
；軸１１０℃）。塊の温度は９５℃だった。軸速度４５ｒｐｍ（１００ｒｐｍ＝１５０ｋｇ／ｈ）で、生成物をスロット形ノズル（寸法４０×６ｍｍ）を通して押出した。材料のストランドを冷却したシュート（２０℃）経由で２本の冷却した（２０℃）圧搾ローラーに供給した。圧搾ローラーで可塑性状態（１０００ないし１００００ｃＰａｓ）の生成物のストランドを、厚さ２ｍｍ、およそ幅１０ないし１５ｃｍのストリップに圧延し、該ストリップを冷却された金属ベルト（サンドビック冷却ベルト；有効幅２５０ｍｍ；有効長４０００ｍｍ）上に置いた。冷却ベルトの上に、生成物のまだ可塑性のストリップにひし形構造を型押する２本のエンボス加工ローラーが取り付けられた。型押し後、型押しされた生成物のストリップは、冷却ベルト上で硬化され、及びベルトの末端で割れて粗い破片になった。型押しされた断片を篩造粒機（フレウィット型：ＧＬＡ−ＯＲＶ−０２１５；４ｍｍ篩い）で型押しされたラインに沿って顆粒を形成するために微粉砕した。微粉は次に篩い落とされた。そのように生成された本発明に従う顆粒は一様な形を有し、及び有利な塊材料性状を示した（表１）。
【表１】
2007524740.tif 000019
1)ＩＳＯ４３２４に従う；2)ＤＩＮ５３４９２に従う；3)ホイバッハ試験に従う。
【００３２】
実施例２
計量装置を使用し、１００部のイルガノックス１０１０を容量分析で押出量１００ｋｇ／ｈでコンティニーダー（ＰＲ１００  ７Ｄ型）に供給した。ニーダーを９０℃に温度調節した（入口を２０℃に冷却；軸１１０℃）。塊の温度は７０℃だった。軸速度４５ｒｐｍで、生成物を円形ノズル（直径２４ｍｍ）を通して押出した。材料のストランドを冷却したシュート（２０℃）経由で２本の冷却された（２０℃）圧搾ローラーに供給した。圧搾ローラーで可塑性状態（１０００ないし５０００ｃＰａｓ）の生成物のストランドを、厚さ２ｍｍ、およそ幅１０ないし１５ｃｍのストリップに圧延し、該ストリップを冷却した金属ベルト（サンドビック冷却ベルト；有効幅２５０ｍｍ；有効長４０００ｍｍ）上に置いた。冷却ベルトの上に、生成物のまだ可塑性のストリップにひし形構造を型押する２本のエンボス加工ローラーが取り付けられた。型押し後、型押しされた生成物のストリップは、冷却ベルト上で硬化され、及びベルトの末端で割れて粗い破片になった。型押しされた断片を篩造粒機（フレウィット型：ＧＬＡ−ＯＲＶ−０２１５；４ｍｍ篩い）で型押しされたラインに沿って顆粒を形成するために微粉砕した。微粉は次に篩い落とされた。そのように生成された本発明に従う顆粒は一様な形を有し、及び特に使用した粉体と比較して、有利な塊材料性状を示した（表２）。
【表２】
2007524740.tif 000020
1)ＩＳＯ４３２４に従う；2)ＤＩＮ５３４９２に従う；3)ホイバッハ試験に従う。
【００３３】
実施例３
５．２部のイルガノックス（登録商標：ＩＲＧＡＮＯＸ）１０１０、２５．８部のステアリン酸カルシウム粉体（ステアリン酸カルシウムＤＷ（登録商標：ＤＷ）；ＦＡＣＩ，ＩＴ）及び６９部のチヌビン（登録商標：ＴＩＮＵＶＩＮ）６２２（ブタン二酸ジメチルエステル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとのポリマー）をＭＴＩミキサーで均一に混合した。計量装置を使用し、混合物を容量分析で押出量１００ｋｇ／ｈでコンティニーダー（ＰＲ１００  ７Ｄ型）に供給した。ニーダーを６０℃に温度調節した（入口を２０℃に冷却；軸６０℃）。塊の温度は５０℃だった。軸速度４５ｒｐｍで、生成物を円形ノズル（直径２４ｍｍ）を通して押出した。材料のストランドを冷却されたシュート（２０℃）経由で２本の冷却された（２０℃）圧搾ローラーに供給した。圧搾ローラーでプラスチック状態（１０００ないし５０００ｃＰａｓ）の生成物のストランドを、厚さ２ｍｍ、およそ幅１０ないし１５ｃｍのストリップに圧延し、ストリップを冷却した金属ベルト（サンドビック冷却ベルト；有効幅２５０ｍｍ；有効長４０００ｍｍ）上に置いた。冷却ベルトの上に、生成物のまだ可塑性のストリップにひし形構造を型押する２本のエンボス加工ローラーが取り付けられた。型押し後、型押しされた生成物のストリップは、冷却ベルト上で硬化され、及びベルトの末端で割れて粗い破片になった。型押しされた断片を篩造粒機（フレウィット型：ＧＬＡ−ＯＲＶ−０２１５；４ｍｍ篩い）で型押しされたラインに沿って顆粒を形成するために微粉砕した。微粉は次に篩い落とされた。そのように生成された本発明に従う顆粒は、一様な形を有し、及び特に使用した粉体と比較して、有利な塊材料性状を示した（表３）。
【表３】
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1)ＩＳＯ４３２４に従う；2)ＤＩＮ５３４９２に従う；3)ホイバッハ試験に従う。
【国際調査報告】
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