(57)【要約】  本発明は、芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：［式中、Ｍは、−Ｌｉ、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2であり；Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、Ｏ又はＮであり；そしてＣ結合炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、このＯ又はＮ原子のフリーボンドに結合しており；、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有する化合物に関する。本発明の化合物は、メタレーション試薬で、オルト位の水素をＰ原子に直接置換することにより容易に得ることができる。金属原子を、その後求電子性反応性化合物により置換することができる。−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基を、その後第２級ホスフィン基に変換することができる。本発明の方法は、例えばエナンチオ選択性の水素化反応において、触媒として働く金属錯体のための価値あるリガンドである、モノホスフィン及びジホスフィンの製造を大規模でも可能とする。
2007513923.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：
【化１】
2007513923.tif 000132
［式中、
Ｍは、−Ｌｉ、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2であり、
Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、Ｏ又はＮであり、そしてＣ結合炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、このＯ又はＮ原子のフリーボンドに結合しており、
−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成し、そして
Ｘ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される構造要素を有する、芳香族化合物の製造方法であって、
芳香環中に式（II）：
【化２】
2007513923.tif 000133
［式中、Ｘ1及びＸ2は、上記と同義であり、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有する芳香族化合物を、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドと反応させること、及び
Ｍが、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2である、式（Ｉ）の化合物を製造するために、式（Ia）：
【化３】
2007513923.tif 000134
で示されるリチウム化合物を、少なくとも当量のＭｇ（Ｘ3）2、Ｚｎ（Ｘ3）2、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3ＳｎＸ3又はＢ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3と反応させること
を特徴とする方法。
【請求項２】
芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：
【化４】
2007513923.tif 000135
［式中、
Ｍ、Ｘ1及びＸ2は、請求項１と同義であり、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有する化合物。
【請求項３】
式（Ｉ）の化合物が、芳香族化合物としてフェロセン骨格を持ち、そして式（Ib）又は（Ic）：
【化５】
2007513923.tif 000136
［式中、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、
Ｍは、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ、そして好ましくはＬｉであり、
Ｍ’は、Ｈ、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ又はＬｉであり、そして
Ｘ1及びＸ2並びにまたＸ1及びＸ2のフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義である］に対応する化合物であることを特徴とする、請求項２記載の化合物。
【請求項４】
式（Ｉ）の化合物が、芳香族化合物としてアレーン骨格を持ち、そして式（Id）：
【化６】
2007513923.tif 000137
［式中、
Ｒ6は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、
Ｍは、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ、そして好ましくはＬｉであり、そして
Ｘ1及びＸ2並びにまたＸ1及びＸ2のフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義である］に対応する化合物であることを特徴とする、請求項２記載の化合物［ただし、下記式：
【化７】
2007513923.tif 000138
で示されるオルト−リチオビス（ジメチルアミノ）ホスフィノベンゼンを除く］。
【請求項５】
式（III）：
【化８】
2007513923.tif 000139
［式中、
Ｘ1及びＸ2並びにまたフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義であり、そして
Ｅは、芳香族炭化水素に結合している金属又は結合金属基を置換することができる、反応性求電子化合物のラジカルである］で示される芳香族化合物の製造方法であって、
式（Ｉ）：
【化９】
2007513923.tif 000140
［式中、
Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義である］で示される化合物を、少なくとも等量の反応性求電子化合物と反応させることを特徴とする方法。
【請求項６】
一方又は両方のシクロペンタジエニル環中に式（III）：
【化１０】
2007513923.tif 000141
［式中、
Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項１及び５と同義である］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン及びルテノセンよりなる群からのメタロセン。
【請求項７】
式（IV）：
【化１１】
2007513923.tif 000142
［式中、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、Ｅ’は、Ｈであるか、又は独立にＥの意味の１つを持ち、そしてＥ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項６と同義である］に対応することを特徴とする、請求項６記載のメタロセン。
【請求項８】
式（IVa）：
【化１２】
2007513923.tif 000143
［式中、
Ｅ’は、Ｈであるか、又は独立にＥの意味の１つを持ち、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、そして
Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項６と同義である］に対応することを特徴とする、請求項６記載のメタロセン。
【請求項９】
芳香族炭化水素環中に式（VI）：
【化１３】
2007513923.tif 000144
で示される構造要素を有するか、又はメタロセンの各シクロペンタジエニル環中に式（VIa）：
【化１４】
2007513923.tif 000145
［式中、
Ｒ16は、直接結合又は二価の架橋基であり、架橋基中のｓｅｃ−ホスフィノは、芳香環の炭素原子に対して１、２又は３位に位置し、そして
Ｒ17は、炭素原子を介して芳香環に結合している置換基である］で示される構造要素を有する、芳香族炭化水素ジホスフィンの製造方法であって、
以下の工程：
ａ）  式（II）：
【化１５】
2007513923.tif 000146
で示される芳香族化合物と、メタレーション試薬とを反応させて、式（Ｉ）：
【化１６】
2007513923.tif 000147
（式中、Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項１と同義である）で示される芳香族化合物を生成すること、
ｂ）  式（Ｉ）の化合物と求電子性反応性化合物との反応であって、
ｂ１）  式（Ｉ）の化合物をｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物と反応させることにより、ｓｅｃ−ホスフィノを導入すること、
ｂ２）  式（Ｉ）の化合物を、ｓｅｃ−ホスフィノにより１、２又は３位で置換することができる反応性基を有する求電子性反応性化合物と反応させ、続いてこの生成物を金属ｓｅｃ−リン酸塩又は第２級ホスフィンと反応させることにより、−Ｒ16−ｓｅｃ−ホスフィノ基を導入すること
ｂ３）  式（Ｉ）の化合物を、α炭素原子を形成する求電子性有機化合物と反応させることにより、−Ｒ17基を導入すること
を特徴とする反応、
ｃ）  存在する任意のボラン基を工程ｂ１）、ｂ２）又はｂ３）で得られた化合物から脱離し、続いて（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、次に有機金属化合物を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
式（VII）：
【化１７】
2007513923.tif 000148
［式中、
Ｒ21は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ22は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ23は、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシである］で示される１−（α−置換オルト−ｓｅｃ−ホスフィノ−ベンジル）−２−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンをそのラセミ体、ジアステレオマーの混合物又は本質的に純粋なジアステレオマーの形で製造するための、請求項９記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（VIII）：
【化１８】
2007513923.tif 000149
［式中、
Ｍ及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物と、式（IX）：
【化１９】
2007513923.tif 000150
［式中、Ｙ1は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、そしてＲ23及びＲ21は、請求項１と同義である］で示される化合物とを反応させて、式（Ｘ）：
【化２０】
2007513923.tif 000151
で示される化合物を生成すること、
ｂ）  式（Ｘ）の化合物中のＯＨ基のＣ1−Ｃ4−アルキル化又はＣ1−Ｃ8−アシル化、あるいは生成したアシルオキシ基のｓｅｃ−アミノによる置換、
ｃ）  ｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換、あるいは最初にｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換、
ｄ）  以下による式（VII）のジホスフィンの調製、
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（Ｘ）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XI）：
【化２１】
2007513923.tif 000152
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基、Ｒ21、Ｒ23及びＹ1は、請求項１及び１０と同義であるか、あるいは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基中の（Ｘ1−）及び（Ｘ2−）は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ24は、−ＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである］で示される化合物。
【請求項１２】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XII）の化合物、並びにまた式（XIII）：
【化２２】
2007513923.tif 000153
で示される化合物を製造するための請求項９記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XIV）又は（XV）：
【化２３】
2007513923.tif 000154
［式中、
Ｍ、Ｒ23及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１及び１０と同義である］で示される化合物と、ｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物（塩化物又は臭化物）とを反応させて、式（XVI）又は（XVII）：
【化２４】
2007513923.tif 000155
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XII）及び（XIII）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XVI）又は（XVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XVI）又は（XVIII）：
【化２５】
2007513923.tif 000156
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示される化合物。
【請求項１４】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XIX）：
【化２６】
2007513923.tif 000157
で示される化合物を製造するための請求項９記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）の化合物と式（XXI）：
【化２７】
2007513923.tif 000158
［式中、
Ｍは、−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、そしてＹ2は、Ｉ又はＢｒである］で示される化合物との、Ｐｄ触媒の存在下、反応させて、式（XXII）：
【化２８】
2007513923.tif 000159
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XIX）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXII）又は（XXIII）：
【化２９】
2007513923.tif 000160
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示される化合物。
【請求項１６】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIV）：
【化３０】
2007513923.tif 000161
［式中、
Ｒ’21は、水素又はＣ1−Ｃ6−アルキルであり、
Ｒ’22は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための請求項９記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【化３１】
2007513923.tif 000162
で示される化合物と式：Ｒ’21Ｒ’22Ｃ（Ｏ）のアルデヒド又はケトンとを反応させて、式（XXV）：
【化３２】
2007513923.tif 000163
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XXVI）：
【化３３】
2007513923.tif 000164
で示される化合物の調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXV）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
ｃ）  例えばカルボン酸無水物を用いて、式（XXVI）の化合物をアシル化すること、及び
ｄ）  第２級ホスフィンを用いて、生成したＣ1−Ｃ8−アシルオキシ基を置換することにより、式（XXIV）の化合物を得ること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXVII）又は（XXVIII）：
【化３４】
2007513923.tif 000165
［式中、Ｒ21及びＲ22は、請求項１６と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒであり、そして−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物。
【請求項１８】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIX）：
【化３５】
2007513923.tif 000166
で示される化合物を製造するための請求項９記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【化３６】
2007513923.tif 000167
［式中、Ｍは、−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物と１−ブロモ−２−ヨードベンゼン又は１，２−ジヨードベンゼンとの、Ｐｄ触媒の存在下、反応させて、式（XXX）：
【化３７】
2007513923.tif 000168
（式中、Ｙ2は、臭素又はヨウ素である）で示される化合物を生成すること、
ｂ）  式（XXXI）：
【化３８】
2007513923.tif 000169
で示されるモノホスフィンを調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXX）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること、そして
ｃ）  次にリチウムアルキル（ブチルリチウム）を用いるメタレーションと、これに続くｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物との反応によって、ｓｅｃ−ホスフィノ基により臭素又はヨウ素原子を置換すること、あるいは
ｄ）  式（XXXII）：
【化３９】
2007513923.tif 000170
で示される化合物を調製するために、式（XX）の化合物をオルト−ｓｅｃ−ホスフィノフェニルヨウ化物と、ＺｎＢｒ2のような金属ハロゲン化物及びＰｄ触媒の存在下で反応させること、そして
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１９】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXX）、（XXXII）、（XXXIII）又は（XXXIV）：
【化４０】
2007513923.tif 000171
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ”は、水素又は置換基である］で示される化合物。
【請求項２０】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXXV）：
【化４１】
2007513923.tif 000172
［式中、
Ｒ24は、式：−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ3のラジカル又はＲ28基であり、
Ｒ25は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ26は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｙ3は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ28は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための請求項９記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XXXVI）：
【化４２】
2007513923.tif 000173
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物と、式：ＣＲ25Ｒ26＝Ｙ4［ここで、Ｙ4は、＝Ｏ又は＝Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である］との、又はハロゲン化物Ｒ28Ｙ6［ここで、Ｙ6は、Ｃｌ、Ｂｒ又はヨウ素である］とをの反応させて、式（XXXVII）：
【化４３】
2007513923.tif 000174
（式中、
Ｒ27は、−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ5基又はＲ28である（ここで、Ｒ25及びＲ26は、上記と同義であり、そしてＹ5は、−ＯＨ又は−ＮＨ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である））で示される化合物を生成すること、ＮＨ基をアルキル化し、適宜、ＯＨ基をアルキル化又はアシル化し、そして適宜、アシルオキシ基をｓｅｃ−アミノにより置換すること、そして
ｂ）  式（XXXV）の化合物を調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２１】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の中間体、特に式（XXXVII）又は（XXXVIII）：
【化４４】
2007513923.tif 000175
［式中、
Ｒ27及びＹ2は、請求項１と同義であり、そして−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される中間体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２個のＯ−Ｐ結合、２個のＮ−Ｐ結合又は１個のＯ−Ｐ結合と１個のＮ−Ｐ結合を含む第２級ホスフィノ基に対してオルト位がメタレートされている芳香族化合物、あるいはそのボラン付加物の製造方法であって、有機リチウム又は有機マグネシウム化合物を用いてのオルト水素原子の直接置換、及び適宜これに続く金属交換反応による方法；この方法により得ることができるオルトメタレートされた芳香族ホスフィン；２個のＯ−Ｐ結合、２個のＮ−Ｐ結合又は１個のＯ−Ｐ結合と１個のＮ−Ｐ結合を含む第２級ホスフィノ基を有するオルト置換芳香族ホスフィンの製造方法であって、対応するオルトメタレートされた芳香族ホスフィンを求電子化合物と反応させることによる方法；並びにこの方法において得られる中間体に関する。
【０００２】
第２級ホスフィノ基を有する、オルト置換芳香族モノホスフィン及びジホスフィン、例えば、ジ（ｓｅｃ−ホスフィノ）フェロセン及び１，２−ジ（ｓｅｃ−ホスフィノ）ベンゼンよりなる群からの化合物は、特にプロキラル有機化合物のエナンチオ選択的水素化のための、触媒の有用な配位子であることが見出された。このタイプの配位子は、広く文献に報告されている。フェロセニルジホスフィンは、例えば、Tetrahedron: Asymmetry 9(1998), pages 2377-2407 (C.J. Richards, A.J. Locke)、WO 00/37478、Angew. Chem., 114(2002)24, pages 4902-4905 (M. Lotz, K. Polborn, P. Knochel)、EP-A1-0,564,406、EP-A1-0,612,758及びEP-A1-0,646,590に報告されている。１，２−ジホスフィノベンゼンは、例えば、EP-A1-0,592,552及びEP-A1-0,889,048に報告されている。
【０００３】
オルト位で芳香族化合物を置換するために、芳香族化合物はしばしば、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を介して芳香族骨格に結合しているオルト配向性置換基を含む。このような置換基は、続く工程において、例えば、芳香族１，２−ジホスフィンを製造するための穏やかな反応条件下で置換することはできない。よってホスフィノ基はしばしば、特に上述の文献に報告されているように、ジホスフィン配位子を得るために、オルト配向性置換基中に、又は同置換基と共に導入される。芳香族骨格に直接結合しているホスフィノ基を有する芳香族オルト−ジホスフィン、及び更にはホスフィン基に対してオルト位にオルト配向性でない置換基を有する他の多座ホスフィン配位子は、この経路により合成することはできない。
【０００４】
開裂することができるスルホキシル基を有するフェロセニル−１，２−ジホスフィンを合成する１つの方法は、F. RebiereによりAngew. Chem. (1993), page 105に報告されている。ブチルリチウムとの反応において、スルホキシル基は、オルト配向性作用を持ち、更に第２級ホスフィンハロゲン化物との反応により、１−トルエンスルホキシル−２−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンが得られる。次にこのスルホキシル基を置換することにより、フェロセニル−１，２−ジホスフィンを得ることができる。この合成法は、第１に非常に複雑であり、そして得られる目的化合物は収量がわずかである。第１の問題は、キラルかつ光学的に純粋なフェロセンスルホキシドの製造であるが、これは、調製に困難を伴うフェロセニルスズ化合物を介して行う必要がある。フェロセニルリチウム及び光学的に純粋なｐ−トルエンスルフィン酸メチルから出発すると、ラセミ化が問題である。キラルなフェロセニルスルホキシドは、わずか８３％のｅｅで得られる。クロマトグラフィー精製後、光学的に純粋な生成物を得るためには、生成物は２回再結晶しなければならない（ｅｅ  ９９．３％、収率４９％）。第２の問題は、オルトリチオ化及び求電子化合物との反応により、置換基がオルト位に導入された後のスルホキシド基の置換である。スルホキシド基は通常、ｔ−ブチルリチウムを用いて開裂し、生じるフェロセニルリチウムは、非常に分解し易く、低温でも非常に短寿命である。よってこの方法は、工業規模には適していない。
【０００５】
Angew. Chem. (1982), 94(8), page 642において、K. Dreweliesらは、１，２−ビス（ジクロロホスフィノ）ベンゼンの調製を報告しているが、ここでは、ブチルリチウムとの反応によって、１−ビス（ジメチルアミノ）ホスフィノ−２−ブロモベンゼンの臭素原子をリチウムにより置換し、続いてこの生成物を塩化ビス（ジメチルアミノ）ホスフィンと反応させることにより、１，２−ビス（ジメチルアミノ）ホスフィノベンゼンを得て、そしてここから、ジエチルエーテル中でのＨＣｌとの反応により、１，２−ビス（ジクロロホスフィノ）ベンゼンが得られる。この方法では、臭素原子の存在によりオルト置換が強制される。臭素化出発物質の調製もまた、合成を複雑にする。
【０００６】
WO 03/031456A2から、３−（ジメチルアミノ）ホスフィノチオフェンは、ブチルリチウムと反応させ、次に更に中間体の単離なしに塩化ビス（ジメチルアミノ）ホスフィンと反応させることにより、２，３−ビス（ジメチルアミノ）ホスフィノチオフェンを得ることができることは知られている。オルト位の置換は、Ｓ原子に対してα位の水素原子の活性化により引き起こされる。
【０００７】
芳香族化合物のＰ（III）置換基に対してオルト位の非活性化水素原子の直接メタレーションは、未だ知られていない。比較的大規模でも簡便なやり方で、特に芳香族１，２−ジホスフィンを調製できるようにするための、このような合成法に対するニーズは存在する。
【０００８】
今や驚くべきことに、芳香族モノホスフィン中のホスフィノ基に対してオルト位の非活性化水素原子は、このホスフィノ基がアミノ及び／又はオキシ置換基を含むとき、有機リチウム又はマグネシウム化合物を用いて、高収率で位置選択的にメタレートできることが見出された。この反応は、式：ＢＨ3のボランが更にＰ原子に結合しているとき、特に首尾よく進行する。次にこれらのメタレートされた化合物は、金属の置換された多くの求電子化合物を用いて、有用な中間体へと変換することができ、そしてここから、それ自体既知のやり方で、アミノ及び／又はオキシ置換基を有するホスフィン基を炭化水素置換基を有する第２級ホスフィン基に変換することにより、特に均質な金属触媒のための配位子を得ることができる。ジホスフィン配位子、並びに少なくとも１個のホスフィノ基及び異なる骨格を有する他の多座配位子は、この全般的な製造法を用いて、比較的大規模でも顕著に経済的にかつ高収率で調製することができる。
【０００９】
メタロセン、例えば、フェロセンの群からの芳香族化合物では、メタレーションによって面性キラリティーが生じる。更に、驚くべきことに、ホスフィノ基のＮ又はＯ原子が、（特に、Ｎ又はＯ原子に対してα位のキラルな炭素原子を含む）キラルラジカルを有するとき、このメタレーションは高度に立体選択的に進行することが見出された。このように、この合成法を用いて、ジアステレオマーが高い光学的収率で直接得られるため、複雑な分離操作は回避できる。
【００１０】
本発明は第１に、芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：
【００１１】
【化４５】
2007513923.tif 000003
【００１２】
［式中、
Ｍは、−Ｌｉ、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2であり、
Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、Ｏ又はＮであり、そしてＣ結合炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、このＯ又はＮ原子のフリーボンドに結合しており、
−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成し、そして
Ｘ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される構造要素を有する、芳香族化合物の製造方法であって、芳香環中に式（II）：
【００１３】
【化４６】
2007513923.tif 000004
【００１４】
［式中、Ｘ1及びＸ2は、上記と同義であり、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有する芳香族化合物を、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドと反応させること、及び
Ｍが、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2である、式（Ｉ）の化合物を製造するために、式（Ia）：
【００１５】
【化４７】
2007513923.tif 000005
【００１６】
で示されるリチウム化合物を、少なくとも等量のＭｇ（Ｘ3）2、Ｚｎ（Ｘ3）2、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3ＳｎＸ3又はＢ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3と反応させること
を特徴とする方法を提供する。
【００１７】
説明として、式（Ｉ）の構造要素は、本発明のためには、芳香族化合物の種々の芳香族炭化水素環中に、例えば、フェロセンの２個のシクロペンタジエニル環又は縮合アレーン若しくはビアレーンの芳香族炭化水素環中に存在することができる。
【００１８】
脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドは、２〜１８個、好ましくは２〜１２個、そして特に好ましくは２〜１０個の炭素原子を有する第２級アミンから誘導することができる。Ｎ原子に結合している脂肪族ラジカルは、アルキル、シクロアルキル又はシクロアルキルアルキルであってよいか、あるいは４〜１２個、好ましくは５〜７個の炭素原子を有するＮ−複素環が存在してもよい。Ｎ原子に結合しているラジカルの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘキシルメチルである。Ｎ−複素環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及びアザノルボルナンである。好ましい実施態様では、このアミドは、式：Ｌｉ−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2又はＸ3Ｍｇ−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2（ここで、アルキルは、特にメチルである）に対応する。
【００１９】
本発明のためには、芳香族炭化水素は、縮合又は非縮合の芳香族炭素環であり、アニオン性芳香環又は芳香環のいずれかの形でメタロセンの一部であってもよい。これらは、例えば、Ｃ6−Ｃ18−アレーン、好ましくはＣ6−Ｃ14−アレーン、そして特に好ましくはＣ6−Ｃ10−アレーンであってよく、そしてこれらは、非置換であるか、又は例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシにより置換されている。芳香環はまた、脂肪族５員又は６員炭化水素環と縮合していてもよい。好ましくは５員である、アニオン性芳香環の例には、シクロペンタジエニル及びインデニルがある。アレーンの具体例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、ナフタレン、テトラリン、ナフタセン及びフルオレンである。可能性あるメタロセンの例は、フェロセン、ビスインデニルフェロセン、ルテノセン及びベンゼンクロムトリカルボニルである。
【００２０】
芳香族炭化水素としてフェロセン、ビスインデニルフェロセン及びルテノセンの場合に、式（Ｉ）の構造要素は、１個のシクロペンタジエニル環に又は２個のシクロペンタジエニル環のそれぞれに存在することができる。
【００２１】
好ましい芳香族炭化水素は、ベンゼン、ナフタレン及びフェロセンである。
【００２２】
式（Ｉ）において、Ｍは、好ましくは−Ｌｉ又は−ＭｇＸ3（ここで、Ｘ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである）である。特に好ましいのは、Ｍが−Ｌｉであるものである。
【００２３】
式（Ｉ）中のＸ1及びＸ2は、好ましくはＮである。
【００２４】
本発明では、例えば、以下の炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2基に結合することができる：
１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合するか、又は１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2に結合する（Ｘ1及びＸ2がＯであるとき）；
２個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
２個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）（この二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルは、結合、メチレン又はエチレンにより架橋することができる）；
１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1に結合し、そして２個の一価ラジカルが、Ｘ2に結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）（一価ラジカルはこの二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルに結合しているメチレン又はエチレンである）；
１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合し、そして１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
２個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1に結合し、そして１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ2に結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
２個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
Ｘ1がＯであり、そして１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルがＸ1に結合し、かつＸ2がＮであり、そして２個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカル又は１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルがＸ2に結合する；
Ｘ1がＯであり、かつＸ2がＮであり、そして１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2に結合し、そして１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ2に結合する；
１個の二価芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素ラジカルが結合する（Ｘ1及びＸ2がＯであるとき）か；あるいは
１個の二価芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2に結合し、そして１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）。
【００２５】
Ｘ1及びＸ2にＣ結合する炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルは、以下であってよい：
ａ）  飽和又は不飽和の、直鎖、分岐又は環状の、そして一価のラジカル（２個の一価ラジカルがＸ1及びＸ2に結合する（これらがＮであるとき））；
ｂ）  飽和、不飽和、直鎖、分岐及び／又は環状若しくは二環式の二価のラジカル（Ｘ1及び／又はＸ2に結合し（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）、そして４員〜７員環を形成する）、あるいは
ｃ）  飽和、不飽和、直鎖、分岐及び／又は環状若しくは二環式の二価のラジカル（１個のＯ原子及び１個のＮ原子を架橋するか、又は２個のＮ原子の間に単一又は二重架橋を形成し、そして−Ｘ1−Ｐ−Ｘ2−基と一緒に５員〜７員環を形成する）。
【００２６】
ヘテロ炭化水素ラジカルは、Ｏ、Ｓ及びＮ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）よりなる群から選択されるヘテロ原子を含むことができる。ヘテロ原子の数は、好ましくは１〜４個、更に好ましくは１〜３個、そして特に好ましくは１個又は２個である。この炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルは、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子、及び適宜ヘテロ原子を含むことができる。このラジカルは、例えば、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルフェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−フェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシフェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ−フェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオフェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオベンジルオキシ、ジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノフェニル、ジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノフェノキシ、シクロヘキシル、シクロペンチル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルシクロヘキシル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルシクロペンチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシシクロヘキシル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシシクロペンチル、フッ素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ、ジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、又はジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノ−Ｃ1−Ｃ4−アルキルにより、単置換又は多置換、好ましくは単置換〜三置換あるいは単置換又は二置換されていてもよい。ラジカルが、メタレーションとそれに続く反応において光学誘導をもたらしうるキラル炭素原子を有する限り、Ｘ1及びＸ2基に対してα又はβ位の置換が好ましい。幾つかの具体的な置換基は、メチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−及びｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フェニル、フェノキシ、メトキシフェニル及びメトキシフェノキシである。
【００２７】
Ｘ1及びＸ2にＣ結合する炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルは、非置換又は置換Ｃ1−Ｃ18−、好ましくはＣ1−Ｃ12−、そして特に好ましくはＣ1−Ｃ8−（ヘテロ）アルキル；非置換又は置換Ｃ2−Ｃ18−、好ましくはＣ2−Ｃ12−、そして特に好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）アルケニル；非置換又は置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル、非置換又は置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル、非置換又は置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、置換又は非置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、置換又は非置換Ｃ6−Ｃ14−（ヘテロ）アリール、及びＣ6−Ｃ14−（ヘテロ）アリール−Ｃ1−Ｃ4−アルキルのような、一価ラジカルであってよい。好ましいのは、飽和及び芳香族の炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルである。
【００２８】
一価炭化水素ラジカルは、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1−Ｃ8−アルキル、そして特に好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−、そして好ましくはＣ4−Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル−、そして好ましくはＣ4−Ｃ6−シクロアルキル−メチル又はエチル、Ｃ6−Ｃ14−、そして好ましくはＣ6−Ｃ10−アリール、Ｃ7−Ｃ15−アラルキル、そして好ましくはＣ7−Ｃ11−アラルキルであってよい。幾つかの具体例は、メチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルエチル、フェニル、ナフチル、ベンジル及びフェニルエチルである。例えば、フェロセンの場合に、キラル誘導が達成されるならば、炭化水素ラジカルは、好ましくはＸ1及び／又はＸ2に対してα−及び／又はβ位で、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−エチル、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル又は−エチル、フェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシ、２−アニシル、ベンジル又はベンジルオキシにより置換されている。
【００２９】
一価ヘテロ炭化水素ラジカルの幾つかの例は、Ｃ1−Ｃ8−アルコキシ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、Ｃ5−Ｃ7−シクロアルコキシ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、Ｃ4−Ｃ10−（ヘテロ）アリールオキシ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、Ｃ4−Ｃ7−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ4−Ｃ10−ヘテロアリール−Ｃ1−Ｃ4−アルキルである。幾つかの具体例は、メトキシエチル、エトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロヘキシルオキシエチル、フェノキシエチル、Ｎ−メチルモルホリニルメチル又はＮ−メチルモルホリニルエチル、Ｎ−メチルピペリジニル−メチル又はＮ−メチルピペリジニルエチル、ピリジニルメチル又はピリジニルエチル及びピロリジニルメチル又はピロリジニルエチルである。
【００３０】
Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合し（Ｘ1及びＸ2がそれぞれＮであるとき）、そしてＮ原子と一緒に４員〜７員環を形成する、二価炭化水素ラジカルは、２〜８個、好ましくは２〜６個、そして更に好ましくは２〜４個の炭素原子を有していてよく、そして好ましくは直鎖又は分岐の非置換又は置換アルキレンであり、そしてここに脂環又は芳香環が縮合していてもよい。炭化水素鎖は、Ｏ原子及び／又は−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）により中断されていてもよい。二価炭化水素ラジカルの例は、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−である。二価炭化水素ラジカルは、これらが結合している原子と共に複素環を形成する。例えば、フェロセンの場合に、キラル誘導が達成されるならば、この炭化水素ラジカルは、好ましくはＸ1及び／又はＸ2に対してα−又はβ位で、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル又は−エチル、フェニル、２−アニシル又はベンジルにより置換されている。両方のＮ原子が２個の二価ラジカルにより架橋されるならば、これらのラジカルは、環状ジアミン、例えば、ピペラジンから誘導される。
【００３１】
Ｘ1及びＸ2に結合している（Ｘ1及びＸ2がそれぞれＮであるとき）二価炭化水素ラジカルは、好ましくは１，２−又は１，３−ジアミン（アミノ基は環の一部であってもよい）から誘導される。この二価炭化水素ラジカルは、直鎖又は分岐の１，２−又は１，３−Ｃ2−Ｃ12−アルキレン、好ましくは１，２−又は１，３−Ｃ2−Ｃ8−アルキレン、そして特に好ましくは１，２−又は１，３−Ｃ2−Ｃ4−アルキレン、１，２−又は１，３−Ｃ3−Ｃ8−、そして好ましくは１，２−又は１，３−Ｃ4−Ｃ6−シクロアルキレン、１−Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル−、そして好ましくは１−Ｃ4−Ｃ6−シクロアルキル−２−メチレン又は−エチレン、Ｃ6−Ｃ14−、そして好ましくは１，２−Ｃ6−Ｃ10−アリーレン、及びＣ6−Ｃ10−アラルカ−１−イル−２−メチレンであってよい。幾つかの具体例は、エチレン、ｎ−及びｉ−プロピレン、ｎ−又はｉ−ブチレン、シクロプロピル−１，２−エン、シクロブチル−１，２−エン、シクロペンチル−１，２−エン、シクロヘキシル−１，２−エン、シクロヘプチル−１，２−エン、シクロオクチル−１，２−エン、シクロブタ−１−イル−２−メチレン、シクロペンタ−１−イル−２−メチレン、シクロヘキサ−１−イル−２−メチレン、シクロブタ−１−イル−２−エチレン、シクロペンタ−１−イル−２−エチレン、シクロヘキサ−１−イル−２−エチレン、１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、フェン−１−イル−２−メチレン及びフェン−１−イル−２−エチレンである。例えば、フェロセンの場合に、キラル誘導が達成されるならば、この炭化水素ラジカルは、好ましくはＸ1及び／又はＸ2に対してα及び／又はβ位で、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル又は−エチル、フェニル、２−アニシル又はベンジルにより置換されている。
【００３２】
Ｘ1及びＸ2に結合している（Ｘ1及びＸ2がそれぞれＮであるとき）二価炭化水素ラジカルはまた、１，１’−ビフェニレン、１，１’−ビナフチレン及び１，１’−ビスピリジンであってもよい。
【００３３】
式（Ｉ）中の好ましいホスフィン基は、Ｎ原子に対してα位でＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシエチルにより置換されており、そして全部で４、５、６若しくは７個の環原子を有するＮ−ヘテロシクロアルキルが、又は１，２−ジアミノ−Ｃ4−Ｃ7−シクロアルキルが、リン原子に結合しているものであるか、あるいはＮ，Ｎ’−置換ジアミンが、リン原子に結合しており、そしてＰ原子と一緒に４〜７個の環原子を有するＮ−Ｐ−Ｎ−ヘテロ脂環を形成し、そして更に別の置換基が炭素原子に結合していてもよいものである。リン原子上の適切な開鎖置換基は、例えば、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−Ｃ2−Ｃ4−アルキレン−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2である。
【００３４】
式（Ｉ）中の特に好ましいホスフィノ基は、下記式に対応する：
【００３５】
【化４８】
2007513923.tif 000006
【００３６】
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっており、そして好ましくは同一であり、かつそれぞれＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルであり、
Ｒ3及びＲ4は、同一であるか又は異なっており、そして好ましくは同一であり、かつそれぞれＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、フェニル又はメチルフェニルであり、そして
Ｚは、Ｈ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2、フェニル、フェノキシ、メトキシ−フェニル又はメトキシフェノキシである］。
【００３７】
Ｚの幾つかの更に別の例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ及びジメチルアミノである。
【００３８】
芳香族のメタレーションは、例えば、M. Schlosser(編)によりOrganometallics in Synthesis, John Wiley & Sons (1994)に、又はJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)に記載されている、既知の反応を伴う。
【００３９】
本発明のためには、少なくとも等量という表現は、芳香族化合物中の反応性＝ＣＨ−基あたり１〜１．２当量のマグネシウムグリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミド、例えば、式（Ia）の化合物中の＝Ｃ−Ｌｉ基あたり１〜１．２当量のＭｇ（Ｘ3）2、Ｚｎ（Ｘ3）2、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3ＳｎＸ3又はＢ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3の使用を意味する。式（II）の構造要素を有するフェロセンを使用するとき、第２のシクロペンタジエニル環のメタレーションは、少なくとも２当量のメタレーション試薬を使用するならば、同時に達成することができる。
【００４０】
本反応は、有利には低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行われる。反応時間は、約２〜５時間である。本反応は、有利には不活性な保護ガス、例えば、窒素、又はアルゴンのような希ガス下で行われる。
【００４１】
本反応は、有利には不活性溶媒の存在下で行われる。このような溶媒は、単独又は少なくとも２種の溶媒の組合せとして使用することができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素、また開鎖又は環状エーテル類である。具体例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンである。
【００４２】
式（Ia）の化合物の金属交換反応は、リチウム化合物の調製直後にその単離なしに行うことができる。この目的には、メタレーション試薬を反応混合物に加えるが、このとき上述の反応条件を利用することができる。また、−ＭｇＸ3基を有する化合物を調製するために、メタレーション試薬としてマグネシウムグリニャール化合物を使用することができる。
【００４３】
式（II）の化合物は、既知であるか、又は既知の若しくは既知の方法に類似の方法により調製することができる。例えば、モノリチオ化芳香族化合物を出発物質として使用し、これを式：Ｘ3Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−［ここで、Ｘ3は、好ましくはＣｌ又はＢｒであり、Ｘ1及びＸ2は、Ｏ又はＮであり、そして炭化水素ラジカルは、Ｘ1−及びＸ2−のフリーボンドに結合している］のモノハロホスフィンと反応させる。この反応後、ボランＢＨ3（その存在が望ましい）をそれ自体既知のやり方で、例えば、反応混合物をＢＨ3・Ｓ（ＣＨ3）2のようなボラン複合体と反応させることにより導入することができる。式：Ｘ3Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−のモノハロホスフィンは、既知であるか、又は三塩化リンからアルコール、アミン、アミノアルコール若しくはジアミンとの反応により、それ自体既知のやり方で得ることができる。
【００４４】
式（Ｉ）の化合物は、反応混合物から沈殿する着色固体であり、必要ならば濾別して次に精製することができる。本化合物の貯蔵は、有利には、これらが可溶性でない媒体、例えば、炭化水素又はエーテル（反応溶媒として上述されているような）中の化合物の懸濁液にして行う。しかし式（Ｉ）の化合物はまた、その反応混合物としてその調製直後に更に反応させることができる。式（Ｉ）の化合物は、オルト位で置換されている芳香族炭化水素の調製の有用な中間体である。
【００４５】
本発明は更に、上述の実施態様及び優先傾向を含めて、式（Ｉ）の化合物を提供する。
【００４６】
好ましい実施態様において、式（Ｉ）の化合物は、芳香族化合物としてフェロセン骨格を有する化合物、具体的には式（Ib）又は（Ic）：
【００４７】
【化４９】
2007513923.tif 000007
【００４８】
［式中、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、
Ｍは、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ、そして好ましくはＬｉであり、
Ｍ’は、Ｈ、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ又はＬｉであり、そして
Ｘ1及びＸ2並びにまたＸ1及びＸ2のフリーボンドに結合しているラジカルは、上述の有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］に対応するものである。
【００４９】
別の好ましい実施態様において、式（Ｉ）の化合物は、芳香族化合物としてアレーン骨格、好ましくはベンゼン又はナフタレン骨格を有する化合物である。具体的には、これらは、式（Id）：
【００５０】
【化５０】
2007513923.tif 000008
【００５１】
［式中、
Ｒ6は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、
Ｍは、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ、そして好ましくはＬｉであり、そして
Ｘ1及びＸ2並びにまたＸ1及びＸ2のフリーボンドに結合しているラジカルは、上記と同義である］に対応するアレーン［ただし、下記式：
【００５２】
【化５１】
2007513923.tif 000009
【００５３】
で示されるオルト−リチオビス（ジメチルアミノ）ホスフィノベンゼンを除く］である。
【００５４】
式（Id）の化合物において、上述の有利な実施態様及び優先傾向が、Ｘ1及びＸ2に当てはまる。
【００５５】
本発明はまた、式（III）：
【００５６】
【化５２】
2007513923.tif 000010
【００５７】
［式中、
Ｘ1及びＸ2並びにまたフリーボンドに結合しているラジカルは、上記と同義であり、そして
Ｅは、芳香族炭化水素に結合している金属又は結合金属基を置換することができる、反応性求電子化合物のラジカルである］で示される芳香族化合物の製造方法であって、
式（Ｉ）：
【００５８】
【化５３】
2007513923.tif 000011
【００５９】
［式中、
Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにフリーボンドに結合しているラジカルは、上記と同義である］で示される化合物を、少なくとも等量の反応性求電子化合物と反応させることを特徴とする方法を提供する。
【００６０】
上述の実施態様及び上述の優先傾向が、Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにまたフリーボンドに結合しているラジカルに当てはまる。
【００６１】
本発明のためには、反応性求電子化合物は、式（Ｉ）中のＭを置換するために結合することができる任意の試薬である。触媒を併用することができ、そして一価ラジカルのＥは、試薬の添加後の続く工程（例えば、加水分解）でしか形成されない。このような試薬は、有機金属化学において広く知られており、メタレートされた芳香族炭化水素について報告されている；例えば、V. Snieckus, Chem. Rev., 90(1990) 879-933；Manfred Schlosser (編), Organometalics in Synthesis, A. Manual, 第2版, John Wiley & Sons, LTD. (2002)；Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series) Chapter 6 & 7, Pergamon Press (2002)及びKagan H.B.ら, J. Org. Chem., 62(1997) 6733-45を参照のこと（例えば、メタレートされたフェロセンへの選定された可能性ある求電子化合物の導入について）。
【００６２】
反応性求電子化合物の例は、以下である：
Ｃｌ、Ｂｒ又はＩの導入のためのハロゲン（Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2）、ハロゲン間化合物（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）及び脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ3Ｃ−ＣＣｌ3又はＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ）；
カルボキシル基−ＣＯ2Ｈの導入のためのＣＯ2；
カルボキシラート基の導入のためのクロロカルボナート又はブロモカルボナート［Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ］［ここで、Ｒは、水素又は炭化水素ラジカル（アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル）であり、そしてこれは、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子を持ち、かつ非置換であるか、あるいはｓｅｃ−ホスフィノ、ジ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）2Ｎ−、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ1−Ｃ8−アルキル又は−ＯＣ1−Ｃ8−アルキルのような不活性置換基により置換されている（式（Ｉ）の化合物中に金属又は金属基に対して更に反応性の高い基、例えば−ＣＨＯが同時に存在するならば、あるいはＣｌ及びＢｒ、Ｃｌ及びＩ又はＢｒ及びＩが、好ましくは芳香族炭化水素ラジカル中に同時に結合しているならば、不活性置換基は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩのような反応性基を含む）］；
−ＣＨ（Ｏ）基の導入のためのジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）ホルムアミド、例えば、ジメチルホルムアミド又はジエチルホルムアミド；
−Ｃ（Ｏ）−Ｒ基の導入のためのジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）カルボキサミド；
−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ基の導入のための、非置換であっても、又はＲ基でｓｅｃ−ホスフィノにより置換されていてもよいアルデヒド；
−Ｃ（ＯＨ）ＲＲ’基の導入のための、非置換であっても、又はＲ若しくはＲ’基でｓｅｃ−ホスフィノにより置換されていてもよい、対称性又は非対称性ケトン［ここで、Ｒ’は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ’は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成する］；
炭素原子がＨ又はＲにより置換されていてもよい、−Ｃ−Ｃ−ＯＨ基の導入のためのエポキシド；
−ＣＨ（Ｒ）−ＮＨＲ’基の導入のためのイミン：Ｒ−ＣＨ＝Ｎ−Ｒ’［ここで、Ｒ’は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ’は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成し；Ｒ及びＲ’は、同時に水素ではない］；
−Ｃ（Ｒ）（Ｒ”）−ＮＨＲ’基の導入のためのイミン：Ｒ−Ｃ（Ｒ”）＝Ｎ−Ｒ’［ここで、Ｒ’は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ’は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成し、Ｒ”は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ”は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成する］；
炭化水素及びヘテロ炭化水素ラジカル（例えば、Ｃ1−Ｃ18−アルキル、Ｃ6−Ｃ14−アリール、Ｃ7−Ｃ14−アラルキル）の導入のための、炭化水素及びヘテロ炭化水素一ハロゲン化物、具体的には塩化物、臭化物及びヨウ化物；
炭化水素及びヘテロ炭化水素ラジカル（例えば、Ｃ1−Ｃ18−アルキル、Ｃ6−Ｃ14−アリール、Ｃ7−Ｃ14−アラルキル）の導入のための、異なる反応性のハロゲン原子、具体的には塩素と臭素又はヨウ素との、臭素とヨウ素との組合せ、あるいは２個の臭素又はヨウ素原子（生成する中間体の立体障害の場合）を有するハロ炭化水素及びハロヘテロ炭化水素；
アリル及びビニルのようなアルケニル基を導入するためのアルケニルハロゲン化物、具体的には塩化物、臭化物及びヨウ化物；
トリ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）Ｓｉ−基の導入のためのトリ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）シリルハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
式（Ｉ）の２個のラジカルが（Ｍの代わりに）結合している二価基：−（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）2Ｓｉ−の導入のための、ジ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）シリル二ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
ジフェニルホスフィノ、ジ（メチルフェニル）ホスフィノ、ジシクロヘキシルホスフィノ及びジ−ｔ−ブチルホスフィノのようなｓｅｃ−ホスフィノ基の導入のための、ｓｅｃ−ホスフィン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
ジ（ジメチルアミノ）ホスフィノ、ジ（ジエチルアミノ）ホスフィノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシレンジアミノホスフィノのようなジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィノ基の導入のための、ジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
（ＣＨ3Ｏ）2（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−のようなホスホン酸エステル基の導入のための、リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
（ＣＨ3Ｏ）2Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2Ｐ−、（エチレンジオキシル）Ｐ−のような亜リン酸エステル基の導入のための、亜リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
式（Ｉ）の２個のラジカルが（Ｍの代わりに）結合している二価基：−Ｐ（Ｒ）−の導入のための、ＲＰＣｌ2又はＲＰＢｒ2のようなホスフィン二ハロゲン化物；
ジフェニルアルシノ、ジ（メチルフェニル）アルシノ、ジシクロヘキシルアルシノ及びジ−ｔ−ブチルアルシノのようなｓｅｃ−アルシノ基の導入のための、ｓｅｃ−アルシン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
式（Ｉ）の２個のラジカルが（Ｍの代わりに）結合している二価基：−Ａｓ（Ｒ）−の導入のための、アルシン二ハロゲン化物、例えば、ＲＡｓＣｌ2又はＲＡｓＢｒ2；
−ＳＲ基の導入のための有機ジスルフィド：Ｒ−ＳＳ−Ｒ；
−ＳＨ基の導入のための硫黄（Ｓ8）；及び
置換又は非置換フェロセニル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物、ヨウ化物）。
【００６３】
本発明のためには、少なくとも等量という表現は、芳香族化合物中の反応性＝ＣＭ−基あたり１〜１．２当量の反応性求電子化合物の使用を意味する。しかし、２．５当量以下の明らかに過剰量を使用することもできる。
【００６４】
本反応は、有利には比較的低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行われる。本反応は、有利には不活性な保護ガス、例えば、アルゴンのような希ガス、そうでなければ窒素下で行われる。反応性求電子化合物の添加後、反応混合物は、有利には室温まで温まるのを待つか、又は高温、例えば、１００℃以下、好ましくは５０℃以下まで加熱し、そしてこのような条件下で反応が終了するまで数時間撹拌する。
【００６５】
本反応は、有利には不活性溶媒の存在下で行われる。このような溶媒は、単独又は少なくとも２種の溶媒の組合せとして使用することができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素、また開鎖又は環状エーテル類である。具体例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンである。
【００６６】
式（III）の化合物の単離は、それ自体既知の方法、例えば、抽出、濾過及び蒸留により行うことができる。単離後、この化合物は、例えば、蒸留、再結晶又はクロマトグラフィー法により精製することができる。
【００６７】
驚くべきことに、メタロセン骨格、特にフェロセン骨格を持つ式（Ｉ）の化合物の場合に、そして特にＭがＬｉであり、かつこの化合物が面性キラリティーを持つとき、光学誘導は、好ましくはキラル炭素原子がＯ及び／又はＮ原子に対してα又はβ位に存在できるように、少なくとも１個のキラル炭素原子が少なくとも１個のＸ1及びＸ2基に結合しているときのメタレーションであっても、明らかに達成することができることが見出された。この場合に、求電子性反応性化合物の導入は、一方の光学異性体の優勢な生成をもたらし、一方のジアステレオマーの含量は、例えば、少なくとも７０％、そして好ましくは少なくとも８０％以上でありうる。この段階では特に単純なやり方で、再結晶又はクロマトグラフィーのような既知の分離法を用いて純粋なジアステレオマーを入手することができる。
【００６８】
式（III）の化合物中の求電子性反応性化合物のラジカルＥは、シクロペンタジエニル環の炭素原子に結合しているキラル炭素原子を含むことができる。このようなラジカルは、プロキラル求電子性反応性化合物、例えば、アルデヒド及びケトンから生成する。驚くべきことに、特にメタロセン骨格、好ましくはフェロセン骨格を持ち、そして面性キラリティー及び炭素原子のキラリティーを有する化合物の場合に、少なくとも１個のＸ1及びＸ2基に結合している（好ましくはＯ及び／又はＮ原子に対してα位にキラル炭素原子を有する）Ｃキラル炭化水素ラジカルの存在が、面性キラリティーに関して非常に高いジアステレオ選択性と、更に炭素原子のキラリティーに関しても顕著なジアステレオ選択性とをもたらすことが見出された。プロキラル求電子化合物が導入されるとき、面性キラリティーに関して４つの可能性あるジアステレオマーの中で、本質的に１対のジアステレオマーだけが生成し、そしてまたジアステレオマー対の一方のジアステレオマーが優先的に生成するのが、しばしば観察される。純粋なジアステレオマーは、仮にも必要ならば、再結晶、又は特にクロマトグラフィー法を用いる分離により、この段階（Ｘ1及びＸ2基上のキラルラジカル）で容易に入手することができる。
【００６９】
本発明は更に、一方又は両方のシクロペンタジエニル環中に式（III）：
【００７０】
【化５４】
2007513923.tif 000012
【００７１】
［式中、
Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン及びルテノセンよりなる群からのメタロセンを提供する。
【００７２】
好ましいメタロセンは、式（IV）：
【００７３】
【化５５】
2007513923.tif 000013
【００７４】
［式中、
Ｅ’は、Ｈであるか、又はＥの意味の１つを持ち；そして
Ｒ5、Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］に対応するものである。
【００７５】
Ｒ5は、好ましくは水素である。Ｅは、好ましくは−ＰＨ2、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2、ｓｅｃ−ホスフィノ、オルト−クロロフェニル若しくはオルト−ブロモフェニル、又は下記式：
【００７６】
【化５６】
2007513923.tif 000014
【００７７】
［式中、
Ｒ7は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ、そして好ましくは水素原子であり、
Ｒ8は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、
Ｒ9は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、そして
Ｒ10は、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ又はｓｅｃ−ホスフィノであるか、あるいは
−ＣＲ8Ｒ9−基は、直接結合を表し、そしてＲ10は、Ｂｒ又はＣｌである］で示されるベンジルラジカルである。
【００７８】
Ｒ8がＣ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである化合物は、ヒドロキシル基Ｒ8のエーテル化若しくはエステル化により、又はｓｅｃ−アミノによるアシルオキシ基Ｒ8の置換により得られる。
【００７９】
Ｒ8がｓｅｃ−アミノであるとき、これは、好ましくは２〜１２個、そして特に好ましくは２〜６個の炭素原子を含む。幾つかの例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジ−ｎ−プロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、モルホリノ、ピペリジニル及びピロリジニルがある。Ｒ8がアルコキシであるとき、これは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はｎ−ブトキシであってよい。Ｒ8がアシルオキシであるとき、このラジカルは、好ましくはカルボン酸から誘導される。これは、アセチルオキシ、プロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ、シクロヘキサノイルオキシ、ベンゾイルオキシ又はトルオイルオキシであってよい。Ｒ8がアルキルであるとき、これは、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル又はｎ−ブチルであってよい。
【００８０】
更に別の好ましいメタロセンは、式（IVa）：
【００８１】
【化５７】
2007513923.tif 000015
【００８２】
［式中、
Ｅ’は、Ｈであるか、又は独立にＥの意味の１つを持ち；そして
Ｒ5、Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］に対応するものである。
【００８３】
Ｒ5は、好ましくは水素である。Ｅは、好ましくはシクロペンタジエニル環に結合しているキラル炭素原子を有する、炭化水素ラジカルである。キラル炭素原子を有するこのキラル炭化水素ラジカルは、好ましくは下記式：
【００８４】
【化５８】
2007513923.tif 000016
【００８５】
［式中、
Ｒ12は、水素、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、そして好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、あるいは非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換されたフェニルであり、
Ｒ13は、独立にＲ12の意味の１つを持ち；そして
Ｒ11は、独立にＲ12の意味の１つを持つか、あるいはＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである］に対応する。
【００８６】
Ｒ12の幾つかの例には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチルがある。Ｒ12は、好ましくは水素である。Ｒ12がシクロアルキルであるとき、これは、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル又はメチルシクロヘキシルであってよい。Ｒ12が置換フェニルであるとき、これは、例えば、トリル、キシリル、メトキシフェニル又はジメトキシフェニルであってよい。アルコキシ、アシルオキシ及びｓｅｃ−アミノの例は、上に与えられている。特に好ましいのは、Ｒ12が水素であり、Ｒ13がメチルであり、そしてＲ11がジメチルアミノであるものである。
【００８７】
式（III）の化合物は、既知のやり方で、例えば、単座配位子として使用することができる、芳香族炭化水素モノホスフィンに変換することができる。このような１個の芳香族炭化水素環中に、又はメタロセンの場合には２個の芳香族炭化水素環中にも、式（Ｖ）：
【００８８】
【化５９】
2007513923.tif 000017
【００８９】
で示される構造要素を有するモノホスフィンは、以下により得られる：
ａ）  存在する任意のボラン基を式（III）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること。
【００９０】
最後の反応工程でのボラン基だけの脱離には、反応感受性基が保護されたままという利点がある。
【００９１】
ボラン基は、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル基を有する第２級アミン、モルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンのような試薬を式（III）の溶解化合物に加え、２０〜７０℃の温度で充分に長く撹拌し、そして有利には減圧下で揮発性成分を除去することにより、開裂することができる。ボランを脱離する方法は、例えば、M. OhffらによりSynthesis (1998), page 1391に記載されている。
【００９２】
−ＰＣｌ2又は−ＰＢｒ2基の形成は、同様に知られており、そして例えば、A. LongeauらによりTetrahedron: Asymmetry, 8(1997), pages 987-990に記載されている。使用される試薬は、有利には、例えばエーテル中のＨＣｌ又はＨＢｒの有機溶液であり、そしてこれを低温（例えば、−２０〜３０℃）で、ボラン基を持つか又は持たない式（III）の溶解化合物に加える。
【００９３】
グリニャール試薬は、モノ−又はジ−Ｌｉ−、−ＣｌＭｇ−、−ＢｒＭｇ−又は−ＩＭｇ−炭化水素であってよく、そして一般には過剰に、例えば、ハロゲン原子あたり５当量以下で加える。本反応は、溶液中で行われ、メタレーションに関して上述されたような溶媒を使用することができる。本反応は、−８０〜８０℃の温度で行うことができる。
【００９４】
−ＰＣｌ2又は−ＰＢｒ2基は、それ自体既知のやり方で、例えば、Ｌｉ（ＡｌＨ4）を用いて水素化することができ、そして次にホスフィノ基は、例えば、硫酸ブチレン又はプロピレンのような環状硫酸エステルを用いて、環状の第２級ホスフィノ基に変換することができる。モノホスフィンは、上述のような方法を使用して単離することができる。
【００９５】
第２級ホスフィノ基は、２個の同一の、又は２個の異なる炭化水素ラジカルを持つことができるか、あるいは２個の炭化水素ラジカルは、Ｐ原子と一緒に３員〜８員環を形成することができる。このホスフィノ基は、好ましくは２個の同一の炭化水素ラジカルを有する。炭化水素ラジカルは、非置換であっても置換されていてもよく、そして１〜２２個、そして好ましくは１〜１２個の炭素原子を有することができる。好ましいｓｅｃ−ホスフィノ基は、ホスフィノ基が、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換Ｃ5−Ｃ12−シクロアルキル又はＣ5−Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル又はベンジル；及び置換されたフェニル又はベンジル［ハロゲン（例えば、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒ）、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル（例えば、トリフルオロメチル）、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ（例えば、トリフルオロメトキシ）、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ、ｓｅｃ−アミノ又は−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキル（例えば、−ＣＯ2ＣＨ3）により置換されている］よりなる群から選択される、２個の同一の、又は異なるラジカルを有するものである。
【００９６】
ホスフィノ基中の２個のラジカルはまた、一緒になって非置換又はハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換のジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレンを形成することができる。置換基は、好ましくはＰ原子に対して２個のオルト位に位置する。
【００９７】
ホスフィノ基はまた、下記式：
【００９８】
【化６０】
2007513923.tif 000018
【００９９】
［式中、フェニル環は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4−アルキル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシにより置換されている］で示される基であってもよい。
【０１００】
２個の炭化水素ラジカルがＰ原子と一緒に３員〜８員環を形成する、第２級ホスフィノ基の例は、具体的には下記式：
【０１０１】
【化６１】
2007513923.tif 000019
【０１０２】
で示されるものであり、そしてこれらは、Ｐ原子に対して一方又は両方のオルト位、及び適宜メタ位で、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシにより置換されていてもよい。
【０１０３】
好ましくは１〜６個の炭素原子を含む、Ｐ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル並びにペンチル及びヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換又はアルキル置換シクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル及びエチルシクロヘキシル並びにジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−及びハロアルコキシ−置換されたフェニル又はベンジル置換基の例は、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル及びビストリフルオロメトキシフェニルである。
【０１０４】
好ましいホスフィノ基は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチル又はシクロヘキシル、及び置換シクロペンチル又はシクロヘキシル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されている）、並びにベンジル及び特にフェニル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル若しくはＣ1−Ｃ4−フルオロアルコキシ基により置換されている）よりなる群から選択される、同一の又は異なる、そして好ましくは同一のラジカルを有するものである。
【０１０５】
ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは式：−ＰＲ14Ｒ15［ここで、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ相互に独立に、１〜２０個の炭素原子を有しており、そして非置換であるか、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ、ジ−Ｃ1−Ｃ4−アルキルアミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ若しくは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキルにより置換されている、炭化水素ラジカルであるか；あるいはＲ14及びＲ15は、一緒になって非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換のジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレンを形成する］に対応する。
【０１０６】
Ｒ14及びＲ15は、好ましくは、分岐Ｃ3−Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチル又はシクロヘキシル、及び置換シクロペンチル又はシクロヘキシル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されている）、非置換ベンジル又は置換ベンジル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されている）、及び特に非置換フェニル又は置換フェニル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル又はＣ1−Ｃ4−フルオロアルコキシ基により置換されている）よりなる群から選択される、同一の又は異なる、そして特に同一のラジカルである。
【０１０７】
Ｒ14及びＲ15は、特に好ましくは、非置換フェニル及び置換フェニル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ及び／又はＣ1−Ｃ4−フルオロアルキル基により置換されている）よりなる群から選択される、同一の又は異なる、そして特に同一のラジカルである。
【０１０８】
本発明の製造法及び中間体は、キレート化剤として適切なアキラル及びキラル芳香族オルト−ジホスフィン又は他の芳香族ジホスフィンの調製に非常に適しており、そしてこれらは、触媒活性金属錯体中の有用な配位子であることが見出された。本製造法は、２個のＰ原子上の異なる置換基の作成のためのモジュール式であり、そして高収率を与える。更に、純粋なジアステレオマー又はジアステレオマーの容易に分離された対の対は、簡単なやり方でかつ高収率で直接調製することができる。本製造法は、工業規模でこのようなジホスフィンの製造に特に有用である。
【０１０９】
本発明は更に、芳香族炭化水素環中に式（VI）：
【０１１０】
【化６２】
2007513923.tif 000020
【０１１１】
で示される構造要素を有するか、又はメタロセンの各シクロペンタジエニル環中に式（VIa）：
【０１１２】
【化６３】
2007513923.tif 000021
【０１１３】
［式中、
Ｒ16は、直接結合又は二価の架橋基であり、架橋基中のｓｅｃ−ホスフィノは、芳香環の炭素原子に対して１、２又は３位に位置し、そして
Ｒ17は、炭素原子を介してシクロペンタジエニル環に結合している置換基である］で示される構造要素を有する、芳香族炭化水素ジホスフィンの製造方法であって、以下の工程：
ａ）  式（II）：
【０１１４】
【化６４】
2007513923.tif 000022
【０１１５】
で示される芳香族化合物と、メタレーション試薬とを反応させて、式（Ｉ）：
【０１１６】
【化６５】
2007513923.tif 000023
【０１１７】
（式中、Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、上記と同義である）で示される芳香族化合物を生成すること、
ｂ）  式（Ｉ）の化合物と求電子性反応性化合物との反応であって、
ｂ１）  式（Ｉ）の化合物をｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物と反応させることにより、ｓｅｃ−ホスフィノを導入すること、
ｂ２）  式（Ｉ）の化合物を、ｓｅｃ−ホスフィノにより１、２又は３位で置換することができる反応性基を有する求電子性反応性化合物と反応させ、続いてこの生成物を金属ｓｅｃ−リン酸塩又は第２級ホスフィンと反応させることにより、−Ｒ16−ｓｅｃ−ホスフィノ基を導入すること、
ｂ３）  式（Ｉ）の化合物を、α炭素原子を形成する求電子性有機化合物と反応させることにより、−Ｒ17基を導入すること
を特徴とする反応、
ｃ）  存在する任意のボラン基を工程ｂ１）、ｂ２）又はｂ３）で得られた化合物から脱離し、続いて（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法を提供する。
【０１１８】
個々の製造工程、有利な実施態様及び優先傾向は、上述されており、そして実施例に例証されている。製造法及び化合物に関して与えられた有利な実施態様及び優先傾向はまた、上記製造法にも当てはまる。
【０１１９】
架橋基Ｒ16は、好ましくは下記式：
【０１２０】
【化６６】
2007513923.tif 000024
【０１２１】
［式中、
Ｒ7は、上記と同義であり、
Ｒ18は、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ19は、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、そして好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、あるいは非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示されるものの１つのラジカルである。
【０１２２】
Ｒ17は、好ましくは下記式：
【０１２３】
【化６７】
2007513923.tif 000025
【０１２４】
［式中、
Ｒ12は、水素、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、そして好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、あるいは非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換されたフェニルであり、
Ｒ13は、独立にＲ12の意味の１つを持ち、そして
Ｒ20は、独立にＲ12の意味の１つを持つか、又はＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ若しくはｓｅｃ−アミノである］で示されるラジカルである。
【０１２５】
個々の意味の例は上述されている。
【０１２６】
本発明の製造法は、例えば、Ｒｕ触媒エナンチオ選択的水素化において特に重要であることが見出された、タニアホス（Taniaphos）配位子の経済的な製造に特に適している。アミノ−タニアホスの合成は、例えば、WO 00/37478 A1に、及びT. IrelandらによりAngew. Chem., 111(1999), pages 3397-3400に記載されている。前駆体をその光学異性体に容易に分離することができ、そしてキラル置換基の存在が光学誘導をもたらすため、これらの配位子は、本発明の方法により立体選択的に調製することができる。
【０１２７】
したがって本発明の製造法の１つの好ましい実施態様は、式（VII）：
【０１２８】
【化６８】
2007513923.tif 000026
【０１２９】
［式中、
Ｒ21は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ22は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ23は、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシである］で示される１−（α−置換オルト−ｓｅｃ−ホスフィノベンジル）−２−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンをそのラセミ体、ジアステレオマーの混合物又は本質的に純粋なジアステレオマーの形で製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（VIII）：
【０１３０】
【化６９】
2007513923.tif 000027
【０１３１】
［式中、
Ｍ及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と、式（IX）：
【０１３２】
【化７０】
2007513923.tif 000028
【０１３３】
［式中、Ｙ1は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、そしてＲ23は、上記と同義である］で示される化合物とを反応させて、式（Ｘ）：
【０１３４】
【化７１】
2007513923.tif 000029
【０１３５】
で示される化合物を生成すること、
ｂ）  式（Ｘ）の化合物中のＯＨ基のＣ1−Ｃ4−アルキル化又はＣ1−Ｃ8−アシル化、あるいは生成したアシルオキシ基のｓｅｃ−アミノによる置換、
ｃ）  ｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換、あるいは最初にｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換、
ｄ）  以下による式（VII）のジホスフィンの調製、
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（Ｘ）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０１３６】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｄ）を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対を生成するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。
【０１３７】
製造工程ｂ）のアルキル化は、既知のやり方で、例えば、アルカリ金属水素化物（水素化カリウム）を用いる−Ｏ−アルカリ金属基の形成と、これに続くハロゲン化アルキル（ヨウ化メチル）との反応により実施することができる。製造工程ｂ）のアシル化は、有利にはカルボン酸無水物、好ましくは無水酢酸を使用して行われる。この反応は、好ましくは溶液中で行われる（可能性ある溶媒は上述されている）。反応温度は、−３０℃〜７０℃の範囲にあってよい。
【０１３８】
製造工程ｂ）におけるアシルオキシ基の置換は、第２級アミンを用いて達成することができる。使用される溶媒は、好ましくはアセトニトリルのようなニトリル、又はジメチルホルムアミドのようなカルボキサミドである。反応温度は、例えば、２０〜１２０℃であってよい。
【０１３９】
ハロゲンＹ1の置換は、例えば、リチウムアルキル（ブチルリチウム）を用いるハロゲンのメタレーションと、これに続くｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物、特に好ましくは塩化物又は臭化物との反応により行うことができる。この反応は、好ましくは溶液中で行われる（可能性ある溶媒は上述されている）。反応温度は、−１００℃〜３０℃の範囲にあってよい。ｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物という用語は、Ｈ2Ｐハロゲン化物を包含し、これを用いて−ＰＨ2基を導入することができ、この基は、次に上述のように環状ｓｅｃ−ホスフィノ基に変換することができる。
【０１４０】
式（VII）の化合物は、良好な全収率で、そして必要であれば、高い光学純度で得られる。
【０１４１】
本発明はまた、ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、本発明の製造法により得られる中間体、具体的には式（XI）：
【０１４２】
【化７２】
2007513923.tif 000030
【０１４３】
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基、Ｒ21、Ｒ22及びＹ1は、上記と同義であるか、あるいは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基中の（Ｘ1−）及び（Ｘ2−）は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ24は、−ＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである］で示される化合物を提供する。
【０１４４】
本発明の製造法は、以下に更に詳細に記述される。メタレートされたメタロセンとプロキラル求電子化合物との反応により、面性キラリティー及びα炭素のキラリティーの両方を持つジアステレオマーの混合物が得られることは既に言及されている。適切なキラル基：−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1、例えば、Ｏ−メチルプロリノールの使用により、面性キラリティーに関して非常に高いジアステレオ選択性と、炭素のキラリティーに関して顕著なジアステレオ選択性が得られる。結果として、４種の可能性あるジアステレオマーの中で、事実上ジアステレオマー（Ａ）及び（Ｂ）：
【０１４５】
【化７３】
2007513923.tif 000031
【０１４６】
だけが生成し、そしてこれらのうち一方が優先的に生成する。必要であれば、キラル基−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1のおかげで簡単なやり方で、具体的にはキラルカラムを使用するクロマトグラフィー法により、全てのジアステレオマーを分離することができる。
【０１４７】
可能性あるジアステレオマーのそれぞれは、式（VII）の配位子に変換することができる。以下において、ジアステレオマー（Ａ）から出発する手順のみが示される。式（VII）の配位子の調製には、この合成の工程は、種々の順序で行うことができる。
【０１４８】
第１法では、化合物（Ａ）中のアルコールを、塩基（好ましくはＫＨ）を用いて脱プロトン化し、モノハロ炭化水素Ｒ***−ハロゲンを用いて式（Ｃ）：
【０１４９】
【化７４】
2007513923.tif 000032
【０１５０】
で示される対応するエーテルに変換する。
【０１５１】
溶媒（ＴＢＭＥ、トルエン）中での、化合物（Ｃ）とハロゲン化水素酸、好ましくはＨＣｌとの反応により、一般式（Ｄ）のホスフィン二ハロゲン化物が得られる。Ｘ1及び／又はＸ2がＮであれば、これらは、＞２当量のハロゲン化水素酸の添加により対応するアンモニウムハロゲン化物に変換されるが、これは、沈殿させるか、又は適切な溶媒に抽出し、そして必要に応じて再生利用することができる。
【０１５２】
式（Ｅ）のホスフィン化合物は、化合物（Ｄ）を、一般式：（ＲO）n金属z（ハロゲン）z-n［ここで、ｚは、金属の結合価であり、そしてｎは、ｚ以下である］の有機金属試薬と、特に好ましくはＲO−Ｌｉ又はＲO−Ｍｇ−ハロゲンと反応させることにより得られる：
【０１５３】
【化７５】
2007513923.tif 000033
【０１５４】
化合物（Ｅ）は、既知のやり方で、Ｃ−ハロゲンのメタレーションと、これに続くメタレートされた化合物とハロゲン−Ｐ（ＲOO）2との反応により、２個の同一の又は２個の異なるｓｅｃ−ホスフィノラジカルを有する、式（VII）の配位子に変換することができる。
【０１５５】
保護ボラン基が存在するならば、これは、既知の方法により任意の段階で脱離することができる（M. Ohffら, Synthesis (1998), page 1391を参照のこと）。好ましい方法は、例えば、ジエチルアミン又はＤＢＵの存在下で、２０℃〜１２０℃の温度でのこの化合物の撹拌である。
【０１５６】
ボラン基が存在するならば、これは、好ましくは化合物（Ｅ）の段階で、又は式（VII）の配位子を生成するための最終工程として脱離する。化合物（Ａ）からのボラン基の脱離により、式（Ｆ）の環状生成物を生成することができる。
【０１５７】
【化７６】
2007513923.tif 000034
【０１５８】
式（Ｆ）の化合物は、最初のハロゲン化水素酸との反応と、これに続く（ＲO）n金属z（ハロゲン）z-nとの、好ましくはＲO−Ｌｉ又はＲO−Ｍｇ−ハロゲン化物との反応により、一般式（Ｈ）：
【０１５９】
【化７７】
2007513923.tif 000035
【０１６０】
で示される化合物に変換することができる。
【０１６１】
塩基（好ましくはＫＨ）を用いる脱プロトン化及び式：Ｒ***−ハロゲンの炭化水素ハロゲン化物との反応後に、ボランを含まない化合物（Ｊ）が得られる：
【０１６２】
【化７８】
2007513923.tif 000036
【０１６３】
化合物（Ｄ）は、Ｃ−ハロゲンのメタレーションと、これに続くメタレート種とハロゲン−Ｐ（ＲOO）2との反応により、一般式（Ｋ）：
【０１６４】
【化７９】
2007513923.tif 000037
【０１６５】
で示される化合物に変換される。
【０１６６】
化合物（Ｋ）とハロゲン化水素酸との反応により、化合物（Ｌ）が得られ、これは、上述のように、ＲO含有有機金属試薬を用いて、式（VII）の配位子に変換することができる：
【０１６７】
【化８０】
2007513923.tif 000038
【０１６８】
代替合成経路は、化合物（VIII）と下記式：
【０１６９】
【化８１】
2007513923.tif 000039
【０１７０】
で示されるアルデヒド又はケトンとの反応を介して進行することにより、化合物（Ｍ）及び（Ｍ’）：
【０１７１】
【化８２】
2007513923.tif 000040
【０１７２】
が生成し、そしてこれは、上述のように、アルコールの脱プロトン化及びＲ***−ハロゲンとの反応に付すことにより、再び化合物（Ｋ）を得ることができる。
【０１７３】
アルコキシ基ではなくｓｅｃ−アミノ基をキラル炭素原子に結合しようとするならば、これらの化合物は、以下のやり方で調製することができる。化合物（Ａ）を、例えば、無水酢酸中で、一般式（Ｎ）：
【０１７４】
【化８３】
2007513923.tif 000041
【０１７５】
で示されるアセタートに変換する。
【０１７６】
ＨＮ（Ｒ***）2との反応後、一般式（Ｏ）のアミンが得られる：
【０１７７】
【化８４】
2007513923.tif 000042
【０１７８】
また、最初に無水酢酸を用いて式（Ｍ）の化合物を式（Ｐ）のアセタート化合物に変換し、続いて式（Ｐ）の化合物をＨＮ（Ｒ***）2と反応させることにより、式（Ｑ）のアミン化合物を得ることも可能である：
【０１７９】
【化８５】
2007513923.tif 000043
【０１８０】
更に別の可能性は、式（Ｈ）の化合物と無水酢酸との反応であり、これによって式（Ｒ）：
【０１８１】
【化８６】
2007513923.tif 000044
【０１８２】
で示される化合物が生成し、そして次にＨＮ（Ｒ***）2との反応により、式（Ｔ）の化合物が得られる。
【０１８３】
式（Ｏ）及び（Ｑ）のアミン化合物は、式（Ｃ）のエーテル化合物と同様のやり方で式（VII）の配位子に変換することができる。この場合に、合成は、以下の中間体（Ｓ）、（Ｔ）、（Ｕ）及び（Ｗ）を介して行われる：
【０１８４】
【化８７】
2007513923.tif 000045
【０１８５】
芳香族骨格、好ましくはフェロセン又はベンゼンに１，２位で直接結合している同一の又は異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するジホスフィン配位子は、本発明の製造法を利用して、わずか数製造工程で特に経済的に調製することができる。本発明の製造法の別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XII）の化合物、並びに式（XIII）：
【０１８６】
【化８８】
2007513923.tif 000046
【０１８７】
で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XIV）又は（XV）：
【０１８８】
【化８９】
2007513923.tif 000047
【０１８９】
［式中、
Ｍ、Ｒ23及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と、ｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物（塩化物又は臭化物）とを反応させて、式（XVI）又は（XVII）：
【０１９０】
【化９０】
2007513923.tif 000048
【０１９１】
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XII）及び（XIII）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XVI）又は（XVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０１９２】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｂ）を実施するための手順は、同様に上述されている。フェロセンの場合には、上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。
【０１９３】
本発明はまた、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で本製造法において生じる新規な中間体、具体的には式（XVI）及び（XVIII）：
【０１９４】
【化９１】
2007513923.tif 000049
【０１９５】
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示されるものを提供する。
【０１９６】
本発明の製造法はまた、ビスフェロセニルジホスフィン配位子、特に異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するものを調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XIX）：
【０１９７】
【化９２】
2007513923.tif 000050
【０１９８】
［式中、ｓｅｃ−ホスフィノは、上記と同義である］で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）の化合物と式（XXI）：
【０１９９】
【化９３】
2007513923.tif 000051
【０２００】
［式中、
Ｍは、−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、そしてＹ2は、Ｉ又はＢｒである］で示される化合物との、Ｐｄ触媒の存在下での反応［これによって式（XXII）：
【０２０１】
【化９４】
2007513923.tif 000052
【０２０２】
で示される化合物が生成する］、
ｂ）  以下による式（XIX）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２０３】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｂ）を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。適切なＰｄ触媒は、例えば、Ｐｄ（ｄｂａ）3である。
【０２０４】
本発明はまた、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で本製造法において生じる新規な中間体、具体的には式（XXII）又は（XXIII）：
【０２０５】
【化９５】
2007513923.tif 000053
【０２０６】
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示されるものを提供する。
【０２０７】
本発明の製造法はまた、ホスフィノ基がキラル炭素原子を介してシクロペンタジエニル環に結合している、フェロセニルジホスフィン配位子、特に異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するものを調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIV）：
【０２０８】
【化９６】
2007513923.tif 000054
【０２０９】
［式中、
Ｒ’21は、水素であり、
Ｒ’22は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【０２１０】
【化９７】
2007513923.tif 000055
【０２１１】
で示される化合物と式：Ｒ21Ｒ22Ｃ（Ｏ）のアルデヒド又はケトンとを反応させて、式（XXV）：
【０２１２】
【化９８】
2007513923.tif 000056
【０２１３】
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XXVI）：
【０２１４】
【化９９】
2007513923.tif 000057
【０２１５】
で示される化合物の調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXV）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
ｃ）  例えば、カルボン酸無水物を用いて、式（XXVI）の化合物をアシル化すること、及び
ｄ）  第２級ホスフィンを用いて、生成したＣ1−Ｃ8−アシルオキシ基を置換することにより、式（XXIV）の化合物を得ること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２１６】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｂ）を実施するための手順は、同様に上述されている。フェロセンの場合には、上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。製造工程ｃ）及びｄ）は既知の反応である。
【０２１７】
この一連の反応は、例えば、以下の反応スキームにより図解することができる：
【０２１８】
【化１００】
2007513923.tif 000058
【０２１９】
本発明はまた、この製造過程でラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で生じる新規な中間体、具体的には式（XXVII）及び（XXVIII）：
【０２２０】
【化１０１】
2007513923.tif 000059
【０２２１】
［式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｙ2及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示されるものを提供する。
【０２２２】
本発明の製造法はまた、ホスフィノ基がシクロペンタジエニル環のフェニル置換基のオルト位に存在する、フェロセニルジホスフィン配位子、特に異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するものを調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIX）：
【０２２３】
【化１０２】
2007513923.tif 000060
【０２２４】
で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【０２２５】
【化１０３】
2007513923.tif 000061
【０２２６】
［式中、Ｍは、好ましくは−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と１−ブロモ−２−ヨードベンゼン又は１，２−ジヨードベンゼンとの、Ｐｄ触媒の存在下での反応［これによって式（XXX）：
【０２２７】
【化１０４】
2007513923.tif 000062
【０２２８】
（式中、Ｙ2は、臭素又はヨウ素である）で示される化合物が生成する］、
ｂ）  式（XXXI）：
【０２２９】
【化１０５】
2007513923.tif 000063
【０２３０】
で示されるモノホスフィンを調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXX）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること、そして
ｃ）  次にリチウムアルキル（ブチルリチウム）を用いるメタレーションと、これに続くｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物との反応によって、臭素又はヨウ素原子をｓｅｃ−ホスフィノ基により置換すること、あるいは
ｄ）  式（XXXII）：
【０２３１】
【化１０６】
2007513923.tif 000064
【０２３２】
で示される化合物を調製するために、式（XX）の化合物をオルト−ｓｅｃ−ホスフィノフェニルヨウ化物と、ＺｎＢｒ2のような金属ハロゲン化物及びＰｄ触媒の存在下で反応させること、そして
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２３３】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。個々の製造工程を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。製造工程ｃ）及びｄ）は既知の反応である。
【０２３４】
この一連の反応は、例えば、以下の反応スキームにより図解することができる：
【０２３５】
【化１０７】
2007513923.tif 000065
【０２３６】
本発明はまた、この製造過程においてラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で生じる新規な中間体、具体的には式（XXX）、（XXXII）、（XXXIII）及び（XXXIV）：
【０２３７】
【化１０８】
2007513923.tif 000066
【０２３８】
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ”は、水素又は置換基、例えば、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、又は非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示されるものを提供する。
【０２３９】
本発明の製造法はまた、ホスフィン基が各シクロペンタジエニル環に結合しており、そしてキラルα−炭素原子を有していてもよい置換炭化水素ラジカルが、これに対してオルト位に存在する、フェロセニルジホスフィン配位子を調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXXV）：
【０２４０】
【化１０９】
2007513923.tif 000067
【０２４１】
［式中、
Ｒ24は、式：−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ3のラジカル又はＲ28基であり、
Ｒ25は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ26は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｙ3は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ28は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XXXVI）：
【０２４２】
【化１１０】
2007513923.tif 000068
【０２４３】
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と、式：ＣＲ25Ｒ26＝Ｙ4［ここで、Ｙ4は、＝Ｏ又は＝Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である］のアルデヒド又はケトン又はイミンとの、又はハロゲン化物Ｒ28Ｙ6［ここで、Ｙ6は、Ｃｌ、Ｂｒ又はヨウ素である］とを反応させて、式（XXXVII）：
【０２４４】
【化１１１】
2007513923.tif 000069
【０２４５】
（式中、
Ｒ27は、−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ5又はＲ28基である（ここで、Ｒ25及びＲ26は、上記と同義であり、そしてＹ5は、−ＯＨ又は−ＮＨ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である））で示される化合物が生成すること、ＮＨ基をアルキル化し、適宜、ＯＨ基をアルキル化又はアシル化し、そして適宜、ｓｅｃ−アミノによりアシルオキシ基を置換すること、そして
ｂ）  式（XXXV）の化合物を調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２４６】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。個々の製造工程を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラル及びＣ−キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。アルキル化、アシル化及びアミン置換に関する製造工程ａ）の変法は、既知の反応である。
【０２４７】
本発明はまた、この製造過程においてラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で生じる新規な中間体、具体的には式（XXXVII）及び（XXXVIII）：
【０２４８】
【化１１２】
2007513923.tif 000070
【０２４９】
［式中、
Ｒ27及びＹ2は、上記と同義である］で示されるものを提供する。
【０２５０】
１，２−ジ（ＰＨ2）ベンゼン又は１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−ＰＨ2−ベンゼンはまた、以下により、本発明の製造法を用いて、簡単なやり方で調製することができる：
ａ）  式（XV）の化合物をジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）と反応させることにより、ジ（ジメチルアミノ）ホスフィノ、ジ（ジエチルアミノ）ホスフィノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシレンジアミノホスフィノのようなジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィノ基を導入すること；リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）と反応させることにより、（ＣＨ3Ｏ）2（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−のようなホスホン酸エステル基を導入すること；亜リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）と反応させることにより、（ＣＨ3Ｏ）2Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2Ｐ−、（エチレンジオキシル）Ｐ−のような亜リン酸エステル基を導入すること；又は第２級ホスフィンハロゲン化物と反応させること、
ｂ１）  得られる化合物中に存在する任意のボラン基を脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を（例えば、Ｌｉ（ＡｌＨ4）を用いて）水素化することにより、ＰＨ2基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を水素化することにより、ＰＨ2基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること。１，２−ジ（ＰＨ2）ベンゼン及び１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−ＰＨ2−ベンゼンは、プロキラル化合物のエナンチオ選択的接触水素化用の金属錯体のキラル配位子としてのベンゼン−１，２−ジフォスフェタンを調製するための有用な中間体である。
【０２５１】
本発明の製造法により、工業規模で実施することができる、芳香族ホスフィン配位子の効率的で経済的な製造が可能になり、種々のモノホスフィン及びジホスフィンを製造するための多種多様な可能性が得られる。
【０２５２】
以下の実施例により本発明を説明する。
【０２５３】
Ａ）  ハロホスフィンの調製
実施例Ａ１：下記化合物の調製
【０２５４】
【化１１３】
2007513923.tif 000071
【０２５５】
アルゴン注入口を備えた５００ml丸底フラスコ中で、アルゴン下でＰＣｌ3（７．３８ｇ、５３．７５mmol）を無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、１５０ml）に溶解して、氷浴中でこの溶液を０℃に冷却した。トリエチルアミン（１１．９７ｇ、１１８．２５mmol、２．２０当量）を滴下により加え、次に（Ｓ）−メトキシメチルピロリジン（１２．６９ｇ、１１０．１９mmol、２．０５当量）を滴下によりゆっくり加えた。添加中、白色の沈殿物の形成を観測した。氷浴を取り外し、得られた懸濁液を一晩（１４時間）室温（ＲＴ）で撹拌した。両頭型フリットフィルターを用いて、生成した白色の沈殿物をアルゴン下で濾別して、無水ＴＨＦ（２×２５ml）で洗浄した。得られた帯黄色の濾液の31Ｐ−ＮＭＲスペクトル（Ｃ6Ｄ6）を記録した。こうして得られた溶液を、更に精製することなく反応させた。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：１５４．３（ｓ）。
【０２５６】
実施例Ａ２：下記化合物の調製
【０２５７】
【化１１４】
2007513923.tif 000072
【０２５８】
（Ｒ）−メトキシメチルピロリジンを使用して、実施例Ａ１の手順を繰り返した。
【０２５９】
実施例Ａ３：下記化合物の調製
【０２６０】
【化１１５】
2007513923.tif 000073
【０２６１】
シクロヘキサン／ヘキサン（９８：２）中の１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液８．６ml（１１．２mmol）を、ＴＨＦ  ７０ml中のＮ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１．４８ml（１１．４mmol）の溶液に−７８℃で滴下により加えた。続いてこの混合物を−２０℃で２０分間撹拌した。−７８℃に冷却して戻した後、ＴＨＦ  １４０ml中のＰＣｌ3  ０．４７ml（５．４mmol）の溶液を滴下により加え、そして撹拌しながら一晩この混合物がＲＴまで温まるのを待った。高真空下で溶媒を留去することにより、油状物質として標題化合物を得て、これは、更に精製することなく次に使用することができた。
【０２６２】
実施例Ａ４：下記化合物の調製
【０２６３】
【化１１６】
2007513923.tif 000074
【０２６４】
ヘキサン中の２．５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム溶液１５．４ml（３８．５mmol）を、ＴＨＦ  ３００ml中の（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシエチル）シクロヘキサン−１，２−ジアミン４．２０ｇ（１８．２mmol）に−７８℃で滴下により加えた。続いてこの混合物を−２０℃で２０分間撹拌し、次に−７８℃に冷却して戻し、ＰＣｌ3  ３．６０ml（４１．３mmol）を加えた。撹拌しながら一晩この混合物がＲＴまで温まるのを待った。溶媒及び過剰のＰＣｌ3を減圧下で留去することにより、化合物Ａ４を粘性油状物として得たが、これは更に精製することなく次に使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：１７３．７（ｓ）。
【０２６５】
Ｂ）  芳香族モノホスフィン及びジホスフィンの調製
実施例Ｂ１：下記化合物の調製
【０２６６】
【化１１７】
2007513923.tif 000075
【０２６７】
アルゴン注入口を備えた１ｌ丸底フラスコ中で、アルゴン下でフェロセン（１０．００ｇ、５３．７５mmol）及びカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（７５４mg、６．７２mmol、０．１２５当量）を無水ＴＨＦ（１００ml）に溶解した。この溶液を−７８℃に冷却して、ｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５Ｍ；７１．６７ml、１０７．５０mmol、２．００当量）を４５分間かけて滴下により加えた。この溶液を−７８℃で１．５時間撹拌して、ｎ−ヘプタン（７５ml）と混合した。得られた沈殿物が沈降後、アルゴン圧下−７８℃で中空針を用いて上清を除去した。沈殿物をｎ−ヘプタン（６０ml）で−７８℃で洗浄し、中空針を用いて洗浄液を再度除去した。この手順を３回繰り返した。得られた沈殿物を無水ＴＨＦ（５０ml）に溶解して、ＴＨＦ（２００ml）中のＡ１（５３．７５mmol、１．００当量）の溶液を−７８℃で１．５時間かけて滴下により加えた。ＲＴまで温めながら、この溶液を一晩（１４時間）撹拌した。続いてボラン−硫化ジメチル複合体（５．１０ml、５３．７５mmol、１．００当量）を滴下により加え、この混合物をＲＴで一晩撹拌した。この反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）で加水分解して、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）（３×１００ml）で抽出した。合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。粗生成物（２４．１８ｇ）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。標題化合物（１７．２３ｇ、理論値の７０％）を橙色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：８０．８（ｍ、ブロード）。
【０２６８】
実施例Ｂ２：下記化合物の調製
【０２６９】
【化１１８】
2007513923.tif 000076
【０２７０】
ヘキサン中の１．６Ｍ  ｎ−ブチルリチウム溶液１７．９mmolを、ＴＨＦ  １５ml中のブロモフェロセン４．５３ｇ（１７．１mmol）の溶液に−７８℃で滴下により加え、この混合物をこの温度で１０分間撹拌した。次に温度が０〜５℃（氷冷）に上昇するのを待って、ＴＨＦ  ７８ml中の実施例Ａ２からの化合物１８．８mmolの溶液を滴下により加え、この混合物をＲＴで一晩撹拌した。続いて溶媒を除去して、粗生成物を短いカラム（フルカ（Fluka）製シリカゲル６０、溶離液：ＴＢＭＥ）で精製した。着色画分をロータリーエバポレーターで蒸留することにより、橙色のほぼ固体の油状物を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７０．７（ｓ）。
【０２７１】
実施例Ｂ３：下記化合物の調製
【０２７２】
【化１１９】
2007513923.tif 000077
【０２７３】
ａ）  下記化合物の合成
【０２７４】
【化１２０】
2007513923.tif 000078
【０２７５】
アルゴン注入口を備えた０．５ｌ丸底フラスコ中で、アルゴン下でフェロセン（４．００ｇ、２１．５mmol）及びカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３０５mg、２７mmol、０．１２５当量）を無水ＴＨＦ（１００ml）に溶解した。この溶液を−７８℃に冷却して、ｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５Ｍ；２９ml、４３mmol、２．００当量）を４５分間かけて滴下により加えた。この溶液を−７８℃で１．５時間撹拌して、ｎ−ペンタン（７５ml）の添加によりフェロセニルリチウムが沈殿した。得られた沈殿物が沈降後、アルゴン圧下−７８℃で中空針を用いて上清を除去した。ペンタンによる溶媒の置換後、無水エーテル３０ml中のビス（ジエチルアミノ）クロロホスフィン（４．０４ｇ、１９．３mmol）の溶液を加えて、一晩この混合物が室温まで温まるのを待った。暗橙色の溶液をデカントし、高真空で溶媒を留去し、無水トルエン５０mlに溶解して、０℃でボラン−硫化ジメチル（１０Ｍ、２．３２ml、２３．２mmol）と混合した。室温で１時間後、減圧下で溶媒を留去して、ペンタンからの再結晶後、橙色の固体（６．８７ｇ、９５％）として生成物を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：δ＝９０．２（ｑ、Ｊ＝８３Hz）。
【０２７６】
ｂ）  ａ）に記載されたように調製した化合物（３７４mg、１．０mmol）を脱気モルホリン（５．０ml）と一緒にアルゴン下１００℃で一晩加熱し、続いて高真空で溶媒を留去し、無水エーテルにとり、そして０℃でエーテル中のＨＣｌ（２．０Ｍ、５ml、１０mmol）を滴下により加えた。室温で２時間後、この混合物をアルゴン下で濾過して、溶媒容量を約５mlまで減少させた。０℃で、無水ジエチルエーテル中のエチル3Ｎの溶液及び（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ビスメトキシエチルシクロヘキサン−１，２−ジアミン（２０５mg、０．９mmol）を加えた（このジアミンの調製は、A. Alexakis, A.S. Chauvin, R. Stouvenel, E. Vrancken, S. Mutti, P. Mangeney, Tetrahedron: Asymmetry 2001, 12, 1171により記載されるとおり）。この反応混合物は、ＲＴで一晩撹拌し、次に濾過して、トルエン（６ml）との留去後、０℃でボラン−硫化ジメチル（１０．０Ｍ、０．１２ml、１．２mmol）と混合した。ヘキサン：酢酸エチル（５：１）を用いてアロックス（Alox）カラムで精製することにより、橙色の固体２５０mg（０．５５mmol、６１％）を得た（５５％）。
【０２７７】
【表１】
2007513923.tif 000079
【０２７８】
ｃ）  標題化合物を調製するための代替法：
代替法として、標題化合物は、フェロセニルリチウムを実施例Ａ４からの化合物と反応させることにより調製することができた。
【０２７９】
フェロセニルリチウムは、R. SandersとU.T. Mueller-Westerhoff（J. Organomet. Chem. 1996, 219）の方法により、フェロセン３．６ｇ（１９mmol）、無水ＴＨＦ  １８０ml中のカリウムｔ−ブトキシド０．２６ｇ（２．３mmol）及びペンタン中のｔ−ブチルリチウムの１．５Ｍ溶液２４．５ml（３７mmol）から調製した。続いて実施例Ａ４の化合物（（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシエチル）シクロヘキサン−１，２−ジアミン１８mmolから出発するバッチからの粗生成物）の前もって冷却した懸濁液を、−７８℃で滴下により加えた。一晩この反応混合物がＲＴまで温まるのを待って、生成したＬｉＣｌを保護ガス下で濾過により除去して、１０．０Ｍボラン−硫化ジメチル溶液２．２ml（２２mmol）を０℃で加えた。アロックスＮカラムでのクロマトグラフィー［ヘキサン：酢酸エチル（１０：１）］により精製し、高真空（ＨＶ）で乾燥することにより、標題化合物４．３ｇ（５２％）を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：δ＝１０４．５（ｑ、ＪPB＝８７Hz）。
【０２８０】
実施例Ｂ４：下記化合物の調製
【０２８１】
【化１２１】
2007513923.tif 000080
【０２８２】
アルゴン注入口を備えた２５０ml丸底フラスコ中で、アルゴン下でＣ6Ｈ5ＰＣｌ2（１．５２ｇ、８．４７mmol）を無水ＴＨＦ（２５ml）に溶解して、氷浴中でこの溶液を０℃に冷却した。Ｎエチル3（１．８９ｇ、１８．６３mmol、２．２０当量）を滴下により加え、次に（Ｓ）−メトキシメチルピロリジン（２．００ｇ、１７．３６mmol、２．０５当量）を滴下によりゆっくり加えた。添加中、白色の沈殿物の形成を観測した。氷浴を取り外し、得られた懸濁液を一晩（１４時間）ＲＴで撹拌した。両頭型フリットフィルターを用いて、生成した白色の沈殿物をアルゴン下で濾別して、無水ＴＨＦ（２×１０ml）で洗浄した。続いてＢＨ3−ＴＨＦ溶液（ＴＨＦ中１Ｍ、１０．１６ml、１０．１６mmol、１．２０当量）を滴下により加えて、この溶液を一晩（１４時間）ＲＴで撹拌した。この反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（２０ml）で加水分解し、次にＴＢＭＥ（５０ml）を加え、有機相を分離して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒をロータリーエバポレーターで留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル７０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、３：１）により精製した。標題化合物（１．１０ｇ、６．６６mmol、７９％）を白色の固体の形で得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７７．９〜７７．２（ｍ、ｂｒ）。
【０２８３】
実施例Ｂ５：下記化合物の調製
【０２８４】
【化１２２】
2007513923.tif 000081
【０２８５】
ａ）  フェロセニルリチウムは、R. SandersとU.T. Mueller-Westerhoff（J. Organomet. Chem. 1996, 219）の方法により、フェロセン１．１ｇ（５．９mmol）、無水ＴＨＦ  ５０ml中のカリウムｔ−ブトキシド８３mg（０．７２mmol）及びペンタン中のｔ−ブチルリチウムの１．５Ｍ溶液７．７０ml（１２mmol）から調製した。続いて実施例Ａ３の化合物（Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１１mmolから出発するバッチからの粗生成物）の前もって冷却した懸濁液を−７８℃で滴下により加えた。一晩この反応混合物がＲＴまで温まるのを待って、生成したＬｉＣｌを濾過により除去して、溶媒を高真空で留去した。これにより、橙色の油状物１．５ｇを得たが、これは等量のフェロセンとボランを含まない標題化合物からなっている（４２％）。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：９３．９（ｓ）。
【０２８６】
ｂ）  １０．０Ｍボラン−硫化ジメチル溶液０．１１ml（１．１mmol）を、トルエン３ml中の工程ａ）に記載されたように調製した化合物２２１mg（０．３７mmol）の溶液に０℃で加えた。シリカゲルのクロマトグラフィー精製［溶離液＝ヘキサン：酢酸エチル（２：１）］及び高真空での乾燥により、ボラン含有標題化合物１５２mgを橙色の油状物として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：δ＝９４．６（ｑ、ＪPB＝９４Hz）。
【０２８７】
実施例Ｂ６：
【０２８８】
【化１２３】
2007513923.tif 000082
【０２８９】
ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．６Ｍ）１０．９５ml（１７．５１mmol）を、ヘキサン２．５ml中のテトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）２．６３ml（１７．５１mmol）に加えた。ヘキサン５９ml中のフェロセン１．３２ｇ（７．１mmol）の溶液を、生じた溶液に撹拌しながら滴下により加えて、この反応混合物を更に一晩撹拌した。続いて生じた橙褐色の反応混合物をアルゴン圧下でカニューレを介して、０〜５℃に冷却しておいた、ＴＨＦ  ８０ml中の実施例Ａ１の化合物１８mmolの溶液を含む容器に移した。ＲＴで一晩撹拌後、過剰のボラン−ＴＨＦ複合体（５０mmol、ＴＨＦ中１Ｍ）を反応混合物に加えた。２時間撹拌後、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。残渣を水／ＴＢＭＥにとり、ＴＢＭＥ（ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル）で数回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲルのクロマトグラフィー（溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ、３：１）により、標題化合物３．９ｇを帯赤橙色の油状物として得た（収率：７５％）。1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、３００MHz、一部の特性シグナル）：４．８１（ｍ、４Ｈ、シクロペンタジエン）、４．６２〜４．６７（ｍ、４Ｈ、シクロペンタジエン）、３．２２（ｓ、６Ｈ、Ｏ−ＣＨ3）、３．１２（ｓ、６Ｈ、Ｏ−ＣＨ3）。
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７９．４（ｍ、ｂｒ）。
【０２９０】
Ｃ）  メタレートされた芳香族モノホスフィン及びジホスフィンの調製
実施例Ｃ１：下記化合物の調製
【０２９１】
【化１２４】
2007513923.tif 000083
【０２９２】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ１の化合物（１．００ｇ、２．１８mmol）を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｓｅｃ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した。２種の可能性あるジアステレオマーのうちの一方が優先的に生成した。
【０２９３】
ＮＭＲを用いるリチオ化標題化合物の特性決定：
この目的で、無水ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）１．０ml中の化合物（４５mg、０．１０mmol）を−７８℃でシクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液８６μl（０．１１mmol）と混合して、この混合物を−３０℃で２時間撹拌した。高真空で溶媒を留去し、残渣を−３０℃で無水ペンタン各回３mlで３回洗浄し、高真空で乾燥し、続いて−３０℃で無水ｄ8−トルエン０．７ml又は無水ｄ10−ジエチルエーテル０．７mlのいずれかに溶解した。溶液をＮＭＲ管に移した後、種々のＮＭＲ測定を行った。
ｄ10−Ｅｔ2Ｏ中での特性ＮＭＲシグナル：
【０２９４】
【表２】
2007513923.tif 000084
【０２９５】
測定後、ＮＭＲ試料はトリメチルクロロシラン１．６当量と反応させた。ＮＭＲスペクトルによると、２種の可能性あるジアステレオマーのオルト置換化合物のうちの一方のみが生成した。
【０２９６】
ｄ8−トルエン中のＮＭＲ実験のために、ＴＭＥＤＡ  ４６μl（０．３１mmol）をリチオ化化合物に加えた。特性ＮＭＲシグナル：
【０２９７】
【表３】
2007513923.tif 000085
【０２９８】
実施例Ｃ２：下記化合物の調製
【０２９９】
【化１２５】
2007513923.tif 000086
【０３００】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ４の化合物（２００mg、０．５７mmol）を無水ＴＢＭＥ（１．００ml）及びｎ−ヘキサン（１．００ml）に溶解して、得られた溶液を−７８℃に冷却した。これによって、白色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｔｅｒｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ；０．３８ml、０．５７mmol、１．００当量）を滴下により加えた。この添加中、懸濁液は明黄色になった。−７８℃で３０分間撹拌後、この懸濁液をＲＴまで温めた。沈殿物が溶解することにより、黄色の溶液が生成し、ＲＴで約５分後に白色の固体が沈殿した。
【０３０１】
実施例Ｃ３：下記化合物の調製
【０３０２】
【化１２６】
2007513923.tif 000087
【０３０３】
実施例Ｂ３の化合物４５９mg（１．０mmol）を無水Ｅｔ2Ｏ  １０mlに溶解した。−７８℃に冷却後、出発物質は部分的に沈殿し、生じた懸濁液をシクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．８５ml（１．１mmol）と反応させた。この添加中、橙色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した。２種のジアステレオマーのうちの一方が優先的に生成した。
【０３０４】
ＮＭＲを用いる第１のリチオ化標題化合物の特性決定：
無水Ｅｔ2Ｏ  ２．５ml中のこの化合物４６mg（０．１０mmol）を、シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液８５μl（０．１１mmol）を用いてオルト−リチオ化した。この懸濁液から高真空で溶媒を留去し、残渣を無水ペンタン各回３mlで３回洗浄し、高真空で−３０℃で乾燥後、橙色の固体を無水ｄ8−トルエン０．７mlに溶解した。この溶液をＮＭＲ管に移した後、ＮＭＲ測定を行った：
特性ＮＭＲシグナル：
【０３０５】
【表４】
2007513923.tif 000088
【０３０６】
測定後、ＮＭＲ試料はトリメチルクロロシラン１．６当量と反応させた。ＮＭＲスペクトルによると、２種の可能性あるジアステレオマーのオルト置換化合物のうち一方のみが生成した。
【０３０７】
実施例Ｃ４：下記化合物の調製
【０３０８】
【化１２７】
2007513923.tif 000089
【０３０９】
ジエチルエーテル１．０ml中の実施例Ｂ５の化合物０．１４mmolの溶液を−７８℃に冷却した。これによって、出発物質が明黄色の固体として部分的に沈殿した。この懸濁液をシクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．１０ml（０．１４mmol）と混合した。続いてこの混合物を−２５℃で２時間撹拌した。これによって、暗赤色の溶液の生成が起こった。
【０３１０】
この反応混合物をトリメチルクロロシラン３２μl（０．２２mmol）と反応させると、オルト位がシリル化された化合物が８０％を超える収率で得られた。
【０３１１】
Ｄ）  オルト置換モノホスフィン及びジホスフィンの調製
実施例Ｄ１：下記化合物の調製
【０３１２】
【化１２８】
2007513923.tif 000090
【０３１３】
実施例Ｃ１からの懸濁液を２時間撹拌し、次に２−ブロモベンズアルデヒド（４８５mg、２．６２mmol、１．２当量）を−３０℃で滴下により加え、次に冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら懸濁液を一晩（１４時間）撹拌した。この反応混合物を、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で加水分解し、ＴＢＭＥ（１００ml）を加え、次に有機相を分離して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。フェロセニルアルコールＤ１（８４９mg、１．３２mmol、６１％）及びフェロセニルアルコールＤ’１（３３４mg、０．５２mmol、２４％）を橙褐色の固体として得た。更に、実施例Ｂ１の未反応化合物（１５０mg、０．３３mmol、１５％）を褐色の油状物の形で回収した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７３．３（ｍ、ｂｒ）。
【０３１４】
実施例Ｄ２：下記化合物の調製
【０３１５】
【化１２９】
2007513923.tif 000091
【０３１６】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ１の化合物（１０４mg、０．２３mmol）を無水ＴＢＭＥ（１．００ml）及びｎ−ヘキサン（１．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質が沈殿した。ｓｅｃ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；０．１８ml、０．２４mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した（実施例Ｃ１の化合物）。−３０℃で３時間撹拌後、クロロジフェニルホスファン（６１mg、０．２８mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この溶液を一晩（１４時間）撹拌した。この反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（２０ml）を加え、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。標題化合物（１４２mg）を褐色の油状物の形で得たが、これはなお実施例Ｂ１の出発化合物が混入していた。単離した油状物は、しばらく空気中に放置すると結晶化して、褐色の固体を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７７．９（ｍ、ｂｒ）、−２５．１（ｓ）。
【０３１７】
実施例Ｄ３：下記化合物の調製
【０３１８】
【化１３０】
2007513923.tif 000092
【０３１９】
シクロヘキサン中の１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．５９mmolを、ＴＢＭＥ  １ml及びヘキサン１ml中の実施例Ｂ２の化合物２００mg（０．４５mmol）の溶液に−３０℃で滴下によりゆっくり加えて、この赤色の溶液をこの温度で２時間撹拌した。次にＣｌ−フェニル2  ０．１１ml（０．５９mmol）を加えた。生じた橙色の懸濁液を−３０℃で２時間撹拌し、続いて温度が室温まで上昇するのを待った。飽和ＮａＨＣＯ3  ２ml及びＴＢＭＥ  ２mlをこの混合物に加えて、この混合物を撹拌した。セライトにより濾過し、有機相を水３×５mlで洗浄して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去した。クロマトグラフィー（フルカ製シリカゲル６０、溶離液＝ヘキサン／酢酸エチル、２：３及び３％のＮエチル3）により、橙色の油状物を得たが、これはＮＭＲによると、２種の可能性あるジアステレオマーのうち主として一方からなっていた。
【０３２０】
【表５】
2007513923.tif 000093
【０３２１】
実施例Ｄ４：下記化合物の調製
【０３２２】
【化１３１】
2007513923.tif 000094
【０３２３】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ１の化合物（１．００ｇ、２．１８mmol）を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した（実施例Ｃ１の化合物）。−３０℃で２時間撹拌後、ＣｌＰ（Ｎエチル2）2（５５１mg、２．６２mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この懸濁液を２時間撹拌した。続いてＢＨ3−Ｓメチル2（０．２５ml、２．６２mmol、１．２当量）を滴下により加え、この懸濁液をＲＴで一晩（１４時間）撹拌した。この反応混合物を飽和ＮａＣｌ溶液（５０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（５０ml）を加えて、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。標題化合物（１．１０ｇ、１．７１mmol、７８％）を橙色の固体の形で得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：９９．７〜９９．０（ｍ、ｂｒ）、７９．９〜７９．５（ｍ、ｂｒ）。
【０３２４】
実施例Ｄ５：下記化合物の調製
【０３２５】
【化１３２】
2007513923.tif 000095
【０３２６】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ４の化合物（２００mg、０．５７mmol）を無水ＴＢＭＥ（１．００ml）及びｎ−ヘキサン（１．００ml）に溶解して、得られた溶液を−７８℃に冷却した。これによって、白色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ；０．３８ml、０．５７mmol、１．００当量）を滴下により加えた。この添加中、懸濁液は明黄色になった。−７８℃で３０分間撹拌後、懸濁液をＲＴまで温めた。沈殿物を溶解することにより、黄色の溶液を生成し、ＲＴで約５分後に白色の固体が沈殿した（実施例Ｃ２の化合物）。ＲＴで３０分間撹拌後、この溶液を−７８℃に冷却して戻し、ＣｌＰフェニル2（１５１mg、０．６８mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この懸濁液を一晩（１６時間）撹拌した。この反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（２０ml）を加えて、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、３：１）により精製した。標題化合物（１０７mg）を帯黄色の油状物の形で得たが、これはなお、少量の出発化合物が混入していた。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７８．０〜７６．７（ｍ、ｂｒ）、−１３．１（ｓ）。
【０３２７】
実施例Ｄ６：下記化合物の調製
【０３２８】
【化１３３】
2007513923.tif 000096
【０３２９】
化合物Ｂ３（４５．６mg、０．１０mmol）及び無水ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）２mlを０℃で反応容器に入れて、ｓｅｃ−ブチルリチウム（シクロヘキサン／ヘキサン中１．３Ｍ、７７μl、０．１０mmol）を滴下によりゆっくり加えた。０℃で２時間後、クロロトリメチルシラン（２１μl、０．１６mmol）をゆっくり加え、続いて一晩この混合物が室温まで温まるのを待った。高真空（ＨＶ）での溶媒の留去とクロマトグラフィー精製（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル、７：１）により、標題化合物を８１％の収率で得た。２種の可能性あるジアステレオマーのうち事実上一方のみを得た。特性ＮＭＲシグナル：
【０３３０】
【表６】
2007513923.tif 000097
【０３３１】
実施例Ｄ７：（１）からの（２）及び（３）の調製
【０３３２】
【化１３４】
2007513923.tif 000098
【０３３３】
出発物質（１）は、文献に記載されるように調製した：Nifant'ev I.E., Boricenko A.A., Phosphorus, Sulfur and Silicon 1992, 68, 99。
【０３３４】
化合物（１）（６０．５mg、０．２０mmol）及び無水Ｅｔ2Ｏ  ２mlを−７８℃で反応容器に入れた。次にｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ、１３０μl、０．１９mmol）を滴下によりゆっくり加えた。−７８℃で２０分後、この混合物を−２５℃で更に３時間撹拌し、次に−７８℃に冷却して戻し、次いでトリメチルクロロシラン（４２μl、０．３２mmol）をゆっくり加えた。続いて一晩この混合物が室温まで温まるのを待ち、高真空で溶媒を留去することにより化合物（１）を得た。
【０３３５】
化合物（２）を確認するために、ボランを用いて、これを保護された安定な化合物（３）に変換する。ボランを用いた保護後、反応混合物は、ヘキサン／酢酸エチル（５：１）を溶離液として使用するシリカゲルカラムで精製した。化合物（３）を橙色の固体として得た（31Ｐ−ＮＭＲによると変換率＞６０％）。
【０３３６】
【表７】
2007513923.tif 000099
【０３３７】
実施例Ｄ８：下記化合物の調製
【０３３８】
【化１３５】
2007513923.tif 000100
【０３３９】
実施例Ｄ２の化合物１．２ｇ（１．８７mmol）をジエチルアミン６ml中で２１時間還流した。次に揮発性成分をロータリーエバポレーターで除去した。残渣をジエチルアミン各回２〜３mlで３回処理し、１時間還流して、ジエチルアミンを再度除去した。続いてＴＢＭＥ  ３〜５mlを３回この残渣に加え、撹拌して、ＴＢＭＥを４８℃で高真空で除去した。生成物は、橙色の油状物として事実上定量的に得た。
【０３４０】
【表８】
2007513923.tif 000101
【０３４１】
実施例Ｄ９：下記化合物の調製
【０３４２】
【化１３６】
2007513923.tif 000102
【０３４３】
シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液１．２当量を、ジエチルエーテル１．０ml中の実施例Ｂ１の化合物０．０９mmolの溶液に−７８℃で滴下により加えた。−３０℃で２時間撹拌後、トリメチルクロロシラン１．６当量を加えた。ＮＭＲによると、生成物は、９３％のオルト置換化合物と７％の出発物質からなっていた。シリカゲルカラムでの精製（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル（１０：１））により、標題化合物を橙色の固体として得た。特性ＮＭＲシグナル：
【０３４４】
【表９】
2007513923.tif 000103
【０３４５】
実施例Ｄ１０：下記化合物の調製：
【０３４６】
【化１３７】
2007513923.tif 000104
【０３４７】
無水Ｅｔ2Ｏ  １０ml中の実施例Ｂ３の化合物４５９mg（１．０mmol）を、シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．８５ml（１．１mmol）と−７８℃で反応させ、この混合物を０℃で２時間撹拌し、続いて無水Ｅｔ2Ｏ  ５ml中の２−ブロモベンズアルデヒド０．１４ml（１．２mmol）の溶液を滴下により加えた。一晩ＲＴまで温めた後、この混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で加水分解し、相を分離し、水相をジクロロメタンで抽出して、合わせた有機相を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄した。ＭｇＳＯ4で乾燥してロータリーエバポレーターで溶媒を留去することにより、ジアステレオマーの（７３：２７）混合物を得たが、これはシリカゲルのクロマトグラフィー精製［溶離液：ペンタン：Ｅｔ2Ｏ（２：１）］により相互に分離することができた。これによって、一方のジアステレオマー３１４mg（４９％）ともう一方のジアステレオマー１２５mg（１９％）を暗橙色の結晶として得た。主画分の特性決定（特性ＮＭＲシグナル）：
【０３４８】
【表１０】
2007513923.tif 000105
【０３４９】
第２画分の特性決定（特性ＮＭＲシグナル）：
【０３５０】
【表１１】
2007513923.tif 000106
【０３５１】
実施例Ｄ１１：下記化合物の調製
【０３５２】
【化１３８】
2007513923.tif 000107
【０３５３】
ジエチルエーテル１．０ml中の実施例Ｂ５の化合物０．１４mmolの溶液を−７８℃に冷却して、シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．１０ml（０．１４mmol）と混合した。続いてこの混合物を−２５℃で２時間撹拌した。トリメチルクロロシラン３２μl（０．２２mmol）を、生じた暗赤色の溶液に加え、そしてこの反応混合物を室温で１時間撹拌した。精製及び特性決定のために、ボランを用いてこの化合物を保護した。この目的で、１０．０Ｍボラン−硫化ジメチル溶液０．５mmolを加えた。８３％のオルト置換化合物及び１７％の出発物質を得た。両方の化合物をボランにより保護した。
【０３５４】
ボラン保護オルト置換化合物の特性ＮＭＲシグナル：
【０３５５】
【表１２】
2007513923.tif 000108
【０３５６】
実施例Ｄ１２：下記化合物の調製
【０３５７】
【化１３９】
2007513923.tif 000109
【０３５８】
１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．７７ml（０．５９mmol）を、ＴＢＭＥ／ヘキサン（１：１）４ml中の化合物Ｂ１  １５３mg（０．３３mmol）の橙色の懸濁液に−３０℃で滴下により加えた。この反応混合物をこの温度で３時間撹拌した。この間に、最初に橙色の溶液が生成し、次にこれは懸濁液に変化して戻った。続いてクロロトリメチルシラン０．１５ml（１．１７mmol）を−３０℃で滴下により加えた。冷却装置を外して、反応混合物を室温で一晩撹拌し、続いて水／ＴＢＭＥ中で数回抽出した。有機相を回収し、硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲル６０のクロマトグラフィー（溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ、２０：１）により、標題化合物を良好な収率で橙色の固体として得た。
【０３５９】
【表１３】
2007513923.tif 000110
【０３６０】
実施例Ｄ１３：下記化合物の調製
【０３６１】
【化１４０】
2007513923.tif 000111
【０３６２】
１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．４５ml（０．５８mmol）を、ＴＢＭＥ／ヘキサン（１：１）４ml中の実施例Ｂ６の化合物２０４mg（０．２８mmol）の橙色の懸濁液に−３０℃で滴下により加えた。この反応混合物をこの温度で３時間撹拌した。この間に、これは赤色になり、そして少量の赤色物質が沈殿した。続いてこの混合物を−４０℃に冷却して、クロロトリメチルシラン０．１１ml（０．８４mmol）を滴下により加えた。冷却装置を外して、反応混合物を室温で一晩撹拌して、水／ＴＢＭＥ中で数回抽出した。有機相を回収し、硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲル６０のクロマトグラフィー（溶離液：塩化メチレン）により、標題化合物を良好な収率で橙色の固体として得た。特性ＮＭＲシグナル：
【０３６３】
【表１４】
2007513923.tif 000112
【０３６４】
実施例Ｄ１４：下記化合物の調製
【０３６５】
【化１４１】
2007513923.tif 000113
【０３６６】
１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．２３ml（０．２９mmol）を、ＴＢＭＥ／ヘキサン（１：１）４ml中の実施例Ｂ６の化合物２０３mg（０．２８mmol）の橙色の懸濁液に−３０℃で滴下により加えた。この反応混合物をこの温度で３時間撹拌した。続いて生じた橙色の懸濁液を−４０℃に冷却して、クロロトリメチルシラン０．２２ml（０．４２mmol）を滴下により加えた。冷却装置を外して、反応混合物を室温で一晩撹拌し、続いて水／ＴＢＭＥ中で数回抽出した。有機相を合わせて、硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲル６０のクロマトグラフィー（溶離液：塩化メチレン）により、標題化合物を良好な収率で橙色の実質的に固体状の油として得た。
【０３６７】
【表１５】
2007513923.tif 000114
【０３６８】
実施例Ｄ１５：下記化合物の調製
【０３６９】
【化１４２】
2007513923.tif 000115
【０３７０】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、化合物Ｂ１（１．００ｇ、２．１８mmol）を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体は徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した。−３０℃で２時間撹拌後、ＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ（６８０mg、２．６２mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この懸濁液を２時間撹拌した。この反応混合物をロータリーエバポレーターで高真空で蒸発乾固して、精製することなく更に工程ｂ）で使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７６．５（ｍ）。
【０３７１】
Ｅ）  ジホスフィンの調製
実施例Ｅ１：下記化合物の調製
【０３７２】
【化１４３】
2007513923.tif 000116
【０３７３】
ａ）  下記化合物の調製
【０３７４】
【化１４４】
2007513923.tif 000117
【０３７５】
２Ｍ  ＨＣｌ／ジエチルエーテル溶液の形のＨＣｌ  ４当量を、ＴＢＭＥ  ２０ml中の実施例Ｄ２の化合物（前もって実施例Ｄ８に記載されるやり方と同様にジエチルアミンで処理することにより、ボランを除いた）１．１０ｇ（１．７５mmol）の溶液に０℃で撹拌しながら加えることにより、沈殿物の形成が起こった。０℃で更に１時間撹拌後、この沈殿物をアルゴン下で濾別して、ＴＢＭＥで数回洗浄した。高真空で濾液から溶媒を留去して、橙色の生成物をＮＭＲを用いて特性決定した。
【０３７６】
【表１６】
2007513923.tif 000118
【０３７７】
得られた生成物は、精製することなく続く工程ｂ）で使用した。
【０３７８】
ｂ）標題化合物の調製
工程ａ）に記載されたように得られた生成物をＴＨＦ  １０mlに溶解して、31Ｐ−ＮＭＲにより目的生成物が定量的に生成するまで、−４０℃で塩化メチルマグネシウム溶液と混合した（２〜４当量）。処理及びクロマトグラフィー後、生成物を橙色の固体として単離した。ＮＭＲスペクトルは、文献に報告されたスペクトルと一致した（Kaganら, Eur. J. Org. Chem. (2000) 2893-9）。
【０３７９】
実施例Ｅ２：下記化合物の調製
【０３８０】
【化１４５】
2007513923.tif 000119
【０３８１】
ａ）  下記化合物の調製
【０３８２】
【化１４６】
2007513923.tif 000120
【０３８３】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、アルゴン下で水素化カリウム（３２mg、０．７９mmol、１．３当量）を無水ＴＨＦ（０．５０ml）に懸濁して、０℃に冷却した。ＴＨＦ（３．５ml）中の実施例Ｄ１からの化合物Ｄ１（３９０mg、０．６１mmol）の溶液を滴下によりゆっくり加えることにより、事実上全ての水素化カリウムが溶液になった。得られた橙色の懸濁液をＲＴで１．５時間撹拌し、続いて０℃に冷却して戻した。ヨウ化メチル（９５mg、０．６７mmol、１．１０当量）を滴下により加えた。この添加中、白色の沈殿物の形成を観測した。この懸濁液を０℃で１０分間及びＲＴで１時間撹拌した。この懸濁液をＴＢＭＥ（１０ml）と混合して、水（１０ml）で加水分解した。有機相を分離して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物（黄色の固体）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１→３：１）により精製した。この化合物（３６３mg、０．５５mmol、９１％）を橙黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７５．３（ｍ、ｂｒ）。
【０３８４】
ｂ）  下記化合物の調製
【０３８５】
【化１４７】
2007513923.tif 000121
【０３８６】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、工程ａ）に記載されたように調製した化合物（５００mg、０．７６mmol）をジエチルアミン（３．００ml）にアルゴン下で溶解して、５０℃で一晩（１４時間）撹拌した。続いて全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。得られた残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（各回２．００ml）に３回溶解して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（１０ml）に溶解して、この溶液を０℃に冷却した。ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｍ；１．５２ml、３．０４mmol、４．００当量）を滴下により加えることによって、白色の沈殿物の形成が起こった。０℃で２０分間撹拌後、この懸濁液をアルゴン下で両頭型フリットフィルターを用いて濾過した。得られた黄色の濾液を−３０℃に冷却して、フェニルＭｇＣｌ溶液（ＴＨＦ中２Ｍ；３．８０ml、７．６０mmol、１０．００当量）を滴下により加えた。この反応混合物をＲＴまで温めながら３日間撹拌して、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解した。有機相を分離して、水相をＴＢＭＥ（５０ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、２０：１）により精製した。標題化合物を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２０．５（ｓ）。
【０３８７】
実施例Ｅ３：下記化合物の調製
【０３８８】
【化１４８】
2007513923.tif 000122
【０３８９】
ａ）  下記化合物の調製
【０３９０】
【化１４９】
2007513923.tif 000123
【０３９１】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、実施例Ｄ１からの化合物Ｄ’１（５００mg、０．７８mmol）をジエチルアミン（３．００ml）にアルゴン下で溶解して、この混合物を５０℃で一晩（１４時間）撹拌した。続いて全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。得られた残渣（橙褐色の油状物）をジエチルアミン（各回２．００ml）に３回溶解して、この溶液を５０℃で３０分間撹拌して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（２ml）に２回溶解して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。この化合物（４０１mg、０．７８mmol）を橙褐色の油状物として定量的収率で得た。更に精製することなく次の工程でこの化合物を使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：１０７．７（ｓ）。
【０３９２】
ｂ）  下記化合物の調製
【０３９３】
【化１５０】
2007513923.tif 000124
【０３９４】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、工程ａ）に記載されたように調製した化合物（４０１mg、０．７８mmol）を無水ＴＢＭＥ（１０ml）に溶解して、この溶液を０℃に冷却した。ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｍ；１．５６ml、３．１１mmol、４．００当量）を滴下により加えることによって、白色の沈殿物の形成が起こった。０℃で３０分間撹拌後、この懸濁液をアルゴン下で浸漬フリットを用いて濾過した。得られた沈殿物を無水ＴＢＭＥ（１０ml）で洗浄した。オイルポンプの真空でこの黄色の濾液を蒸発乾固して、得られた残渣を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びＴＨＦ（５．００ml）に溶解した。この溶液を−３０℃に冷却して、フェニルＭｇＢｒ溶液（ＴＨＦ中１Ｍ；３．８９ml、３．８９mmol、５．００当量）を滴下により加えた。この反応混合物をＲＴまで温めながら一晩（１４時間）撹拌して、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解した。有機相を分離して、水相をＴＢＭＥ（１００ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。この化合物を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２１．５（ｓ）。
【０３９５】
ｃ）  下記化合物の調製
【０３９６】
【化１５１】
2007513923.tif 000125
【０３９７】
５０mlシュレンク管中で、工程ｂ）に記載されたように調製した化合物（１００mg、０．１８mmol）をピリジン（１．００ml）にアルゴン下で溶解して、無水酢酸（０．５０ml、４．５３mmol）を加えた。この橙褐色の溶液をＲＴで一晩（１５時間）撹拌した。続いて全ての揮発性成分をオイルポンプの真空で留去した。この化合物（１０８mg、０．１８mmol）を褐色の固体として定量的収率で得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２３．０（ｓ）。
【０３９８】
ｄ）  下記化合物の調製
【０３９９】
【化１５２】
2007513923.tif 000126
【０４００】
５０mlシュレンク管中で、工程ｃ）に記載されたように調製した化合物（１０８mg、０．１８mmol）をアセトニトリル（２．００ml）にアルゴン下で溶解して、メチル2ＮＨ溶液（水中４０％；１．００ml）及び水（０．２０ml）を加えた。得られた帯褐橙色の溶液を９０℃で一晩（１４時間）撹拌した。オイルポンプの真空で溶媒を留去し、残渣をＣＨ2Ｃｌ2にとり、飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、３：１）により精製した。この化合物（６８mg、０．１２mmol、６７％）を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２４．５（ｓ）。
【０４０１】
ｅ）標題化合物の調製
５０mlシュレンク管中で、工程ｄ）に記載されたように調製した化合物（５０mg、０．０９mmol）を無水ＴＨＦ（１．００ml）にアルゴン下で溶解して、この明黄色の溶液を−７８℃に冷却した。ｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ；０．１１ml、０．１７mmol、２．００当量）を滴下により加えた。この溶液は、添加中に橙色になった。−７８℃で１５分間撹拌後、クロロビス（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）ホスファン（３５mg、０．１０mmol、１．２０当量）を滴下によりゆっくり加えることにより、溶液が帯黄橙色になった。冷却浴を取り外し、反応混合物をＲＴで１時間撹拌し、続いて飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解した。有機相を分離し、水相をＴＢＭＥ（５０ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、２：１）により精製した。標題化合物（３４mg、０．０４２mmol、４７％）を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−１８．４（ｄ）、−２５．５（ｄ）。
【０４０２】
実施例Ｅ４：下記化合物の調製
【０４０３】
【化１５３】
2007513923.tif 000127
【０４０４】
ａ）  下記化合物の調製
【０４０５】
【化１５４】
2007513923.tif 000128
【０４０６】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、実施例Ｄ１からの化合物Ｄ１（５００mg、０．７８mmol）をジエチルアミン（５．００ml）にアルゴン下で溶解して、この混合物を５０℃で一晩（１４時間）撹拌した。続いて全ての揮発性置換基をオイルポンプの真空で５０℃で除去した。得られた残渣（橙褐色の油状物）をジエチルアミン（各回３．００ml）に３回溶解し、この溶液を５０℃で３０分間撹拌して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（２ml）に２回溶解して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。この化合物（１．６０ｇ、３．１１mmol）を橙褐色の油状物として定量的収率で得た。この化合物は、更に精製することなく次の工程で使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：１０９．０（ｓ）。
【０４０７】
ｂ）  下記化合物の調製
【０４０８】
【化１５５】
2007513923.tif 000129
【０４０９】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、工程ａ）に記載されたように調製した化合物（１．６０ｇ、３．１１mmol）を無水ＴＢＭＥ（４０ml）に溶解して、この溶液を０℃に冷却した。ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｍ；６．２２ml、１２．４４mmol、４．００当量）を滴下により加えることによって、白色の沈殿物の形成が起こった。０℃で３０分間撹拌後、この懸濁液をアルゴン下で浸漬フリットを用いて濾過した。得られた沈殿物を無水ＴＢＭＥ（２０ml）で洗浄した。オイルポンプの真空でこの黄色の濾液を蒸発乾固して、得られた残渣を無水ＴＨＦ（１０．００ml）に溶解した。この溶液を−３０℃に冷却して、フェニルＭｇＢｒ溶液（ＴＨＦ中１Ｍ；１５．５５ml、１５．５５mmol、５．００当量）を滴下により加えた。この反応混合物をＲＴまで温めながら一晩（１４時間）撹拌して、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）で加水分解した。有機相を分離して、水相をＴＢＭＥ（１００ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。この化合物（８０１mg、１．４４mmol、４６％）を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２１．８（ｓ）。
【０４１０】
ｃ）  下記化合物の調製
【０４１１】
【化１５６】
2007513923.tif 000130
【０４１２】
調製は、実施例Ｅ３の工程ｃ）と同様に行った。
【０４１３】
ｄ）  下記化合物の調製
【０４１４】
【化１５７】
2007513923.tif 000131
【０４１５】
調製は、実施例Ｅ３の工程ｄ）と同様に行った。
【０４１６】
ｅ）標題化合物の調製
調製は、実施例Ｅ３の工程ｅ）と同様に行った。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月20日(2005.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：
【化１】
2007513923.tif 000176
［式中、
Ｍは、−Ｌｉ、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2であり、
Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、Ｏ又はＮであり、そしてＣ結合炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、このＯ又はＮ原子のフリーボンドに結合しており、
−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成し、そして
Ｘ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンの製造方法であって、
芳香環中に式（II）：
【化２】
2007513923.tif 000177
［式中、Ｘ1及びＸ2は、上記と同義であり、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有するフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンを、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドと反応させること、及び
Ｍが、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2である、式（Ｉ）の化合物を製造するために、式（Ia）：
【化３】
2007513923.tif 000178
で示されるリチウム化合物を、少なくとも当量のＭｇ（Ｘ3）2、Ｚｎ（Ｘ3）2、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3ＳｎＸ3又はＢ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3と反応させること
を特徴とする方法。
【請求項２】
芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：
【化４】
2007513923.tif 000179
［式中、
Ｍ、Ｘ1及びＸ2は、請求項１と同義であり、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有するフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセン。
【請求項３】
フェロセン骨格を持ち、そして式（Ib）又は（Ic）：
【化５】
2007513923.tif 000180
［式中、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、
Ｍは、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ、そして好ましくはＬｉであり、
Ｍ’は、Ｈ、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ又はＬｉであり、そして
Ｘ1及びＸ2並びにまたＸ1及びＸ2のフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義である］に対応する化合物であることを特徴とする、請求項２記載のフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセン。
【請求項４】
式（III）：
【化８】
2007513923.tif 000181
［式中、
Ｘ1及びＸ2並びにまたフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義であり、そして
Ｅは、芳香族炭化水素に結合している金属又は結合金属基を置換することができる、反応性求電子化合物のラジカルである］で示されるフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンの製造方法であって、
式（Ｉ）：
【化９】
2007513923.tif 000182
［式中、
Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにフリーボンドに結合しているラジカルは、請求項１と同義である］で示されるフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンを、少なくとも等量の反応性求電子化合物と反応させることを特徴とする方法。
【請求項５】
一方又は両方のシクロペンタジエニル環中に式（III）：
【化１０】
2007513923.tif 000183
［式中、
Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項１及び４と同義である］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン及びルテノセンよりなる群からのメタロセン。
【請求項６】
式（IV）：
【化１１】
2007513923.tif 000184
［式中、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、Ｅ’は、Ｈであるか、又は独立にＥの意味の１つを持ち、そしてＥ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項５と同義である］に対応することを特徴とする、請求項５記載のメタロセン。
【請求項７】
式（IVa）：
【化１２】
2007513923.tif 000185
［式中、
Ｅ’は、Ｈであるか、又は独立にＥの意味の１つを持ち、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、そして
Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項６と同義である］に対応することを特徴とする、請求項５記載のメタロセン。
【請求項８】
芳香族炭化水素環中に式（VI）：
【化１３】
2007513923.tif 000186
で示される構造要素を有するか、又はメタロセンの各シクロペンタジエニル環中に式（VIa）：
【化１４】
2007513923.tif 000187
［式中、
Ｒ16は、直接結合又は二価の架橋基であり、架橋基中のｓｅｃ−ホスフィノは、芳香環の炭素原子に対して１、２又は３位に位置し、そして
Ｒ17は、炭素原子を介して芳香環に結合している置換基である］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセン  ジホスフィンの製造方法であって、
以下の工程：
ａ）  式（II）：
【化１５】
2007513923.tif 000188
で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンと、メタレーション試薬とを反応させて、式（Ｉ）：
【化１６】
2007513923.tif 000189
（式中、Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、請求項１と同義である）で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンを生成すること、
ｂ）  式（Ｉ）で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンと求電子性反応性化合物との反応であって、
ｂ１）  式（Ｉ）の化合物をｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物と反応させることにより、ｓｅｃ−ホスフィノを導入すること、
ｂ２）  式（Ｉ）の化合物を、ｓｅｃ−ホスフィノにより１、２又は３位で置換することができる反応性基を有する求電子性反応性化合物と反応させ、続いてこの生成物を金属ｓｅｃ−リン酸塩又は第２級ホスフィンと反応させることにより、−Ｒ16−ｓｅｃ−ホスフィノ基を導入すること
ｂ３）  式（Ｉ）の化合物を、α炭素原子を形成する求電子性有機化合物と−Ｒ17基を導入すること
を特徴とする反応、
ｃ）  存在する任意のボラン基を工程ｂ１）、ｂ２）又はｂ３）で得られた化合物から脱離し、続いて（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、次に有機金属化合物を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
式（VII）：
【化１７】
2007513923.tif 000190
［式中、
Ｒ21は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ22は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ23は、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシである］で示される１−（α−置換オルト−ｓｅｃ−ホスフィノ−ベンジル）−２−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンをそのラセミ体、ジアステレオマーの混合物又は本質的に純粋なジアステレオマーの形で製造するための、請求項８記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（VIII）：
【化１８】
2007513923.tif 000191
［式中、
Ｍ及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物と、式（IX）：
【化１９】
2007513923.tif 000192
［式中、Ｙ1は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、そしてＲ23及びＲ21は、請求項１と同義である］で示される化合物とを反応させて、式（Ｘ）：
【化２０】
2007513923.tif 000193
で示される化合物を生成すること、
ｂ）  式（Ｘ）の化合物中のＯＨ基のＣ1−Ｃ4−アルキル化又はＣ1−Ｃ8−アシル化、あるいは生成したアシルオキシ基のｓｅｃ−アミノによる置換、
ｃ）  ｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換、あるいは最初にｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換、
ｄ）  以下による式（VII）のジホスフィンの調製、
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（Ｘ）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XI）：
【化２１】
2007513923.tif 000194
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基、Ｒ21、Ｒ23及びＹ1は、請求項１及び９と同義であるか、あるいは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基中の（Ｘ1−）及び（Ｘ2−）は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ24は、−ＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである］で示される化合物。
【請求項１１】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XII）の化合物：
【化２２】
2007513923.tif 000195
で示される化合物を製造するための請求項８記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XIV）又は（XV）：
【化２３】
2007513923.tif 000196
［式中、
Ｍ及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１及び１０と同義である］で示される化合物と、ｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物（塩化物又は臭化物）とを反応させて、式（XVI）又は（XVII）：
【化２４】
2007513923.tif 000197
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XII）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XVI）又は（XVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XVI）又は（XVIII）：
【化２５】
2007513923.tif 000198
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示される化合物。
【請求項１３】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XIX）：
【化２６】
2007513923.tif 000199
で示される化合物を製造するための請求項８記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）の化合物と式（XXI）：
【化２７】
2007513923.tif 000200
［式中、
Ｍは、−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、そしてＹ2は、Ｉ又はＢｒである］で示される化合物との、Ｐｄ触媒の存在下、反応させて、式（XXII）：
【化２８】
2007513923.tif 000201
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XIX）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXII）又は（XXIII）：
【化２９】
2007513923.tif 000202
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示される化合物。
【請求項１５】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIV）：
【化３０】
2007513923.tif 000203
［式中、
Ｒ’21は、水素又はＣ1−Ｃ6−アルキルであり、
Ｒ’22は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための請求項８記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【化３１】
2007513923.tif 000204
で示される化合物と式：Ｒ’21Ｒ’22Ｃ（Ｏ）のアルデヒド又はケトンとを反応させて、式（XXV）：
【化３２】
2007513923.tif 000205
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XXVI）：
【化３３】
2007513923.tif 000206
で示される化合物の調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXV）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
ｃ）  例えばカルボン酸無水物を用いて、式（XXVI）の化合物をアシル化すること、及び
ｄ）  第２級ホスフィンを用いて、生成したＣ1−Ｃ8−アシルオキシ基を置換することにより、式（XXIV）の化合物を得ること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXVII）又は（XXVIII）：
【化３４】
2007513923.tif 000207
［式中、Ｒ21及びＲ22は、請求項１５と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒであり、そして−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物。
【請求項１７】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIX）：
【化３５】
2007513923.tif 000208
で示される化合物を製造するための請求項８記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【化３６】
2007513923.tif 000209
［式中、Ｍは、−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物と１−ブロモ−２−ヨードベンゼン又は１，２−ジヨードベンゼンとの、Ｐｄ触媒の存在下、反応させて、式（XXX）：
【化３７】
2007513923.tif 000210
（式中、Ｙ2は、臭素又はヨウ素である）で示される化合物を生成すること、
ｂ）  式（XXXI）：
【化３８】
2007513923.tif 000211
で示されるモノホスフィンを調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXX）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること、そして
ｃ）  次にリチウムアルキル（ブチルリチウム）を用いるメタレーションと、これに続くｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物との反応によって、ｓｅｃ−ホスフィノ基により臭素又はヨウ素原子を置換すること、あるいは
ｄ）  式（XXXII）：
【化３９】
2007513923.tif 000212
で示される化合物を調製するために、式（XX）の化合物をオルト−ｓｅｃ−ホスフィノフェニルヨウ化物と、ＺｎＢｒ2のような金属ハロゲン化物及びＰｄ触媒の存在下で反応させること、そして
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXX）、（XXXII）、（XXXIII）又は（XXXIV）：
【化４０】
2007513923.tif 000213
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ”は、水素又は置換基である］で示される化合物。
【請求項１９】
ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXXV）：
【化４１】
2007513923.tif 000214
［式中、
Ｒ24は、式：−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ3のラジカル又はＲ28基であり、
Ｒ25は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ26は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｙ3は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ28は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための請求項８記載の方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XXXVI）：
【化４２】
2007513923.tif 000215
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義である］で示される化合物と、式：ＣＲ25Ｒ26＝Ｙ4［ここで、Ｙ4は、＝Ｏ又は＝Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である］との、又はハロゲン化物Ｒ28Ｙ6［ここで、Ｙ6は、Ｃｌ、Ｂｒ又はヨウ素である］とをの反応させて、式（XXXVII）：
【化４３】
2007513923.tif 000216
（式中、
Ｒ27は、−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ5基又はＲ28である（ここで、Ｒ25及びＲ26は、上記と同義であり、そしてＹ5は、−ＯＨ又は−ＮＨ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である））で示される化合物を生成すること、ＮＨ基をアルキル化し、適宜、ＯＨ基をアルキル化又はアシル化し、そして適宜、アシルオキシ基をｓｅｃ−アミノにより置換すること、そして
ｂ）  式（XXXV）の化合物を調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２０】
ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、式（XXXVII）又は（XXXVIII）：
【化４４】
2007513923.tif 000217
［式中、
Ｒ27は、請求項１９と同義であり、そして−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、請求項１と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示される中間体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２個のＯ−Ｐ結合、２個のＮ−Ｐ結合又は１個のＯ−Ｐ結合と１個のＮ−Ｐ結合を含む第２級ホスフィノ基に対してオルト位がメタレートされているメタロセン、あるいはそのボラン付加物の製造方法であって、有機リチウム又は有機マグネシウム化合物を用いてのオルト水素原子の直接置換、及び適宜これに続く金属交換反応による方法；この方法により得ることができるオルトメタレートされたメタロセン−ホスフィン；２個のＯ−Ｐ結合、２個のＮ−Ｐ結合又は１個のＯ−Ｐ結合と１個のＮ−Ｐ結合を含む第２級ホスフィノ基を有するオルト置換メタロセン−ホスフィンの製造方法であって、対応するオルトメタレートされたメタロセン−ホスフィンを求電子化合物と反応させることによる方法；並びにこの方法において得られる中間体に関する。
【０００２】
第２級ホスフィノ基を有する、オルト置換芳香族モノホスフィン及びジホスフィン、例えば、ジ（ｓｅｃ−ホスフィノ）フェロセン及び１，２−ジ（ｓｅｃ−ホスフィノ）ベンゼンよりなる群からの化合物は、特にプロキラル有機化合物のエナンチオ選択的水素化のための、触媒の有用な配位子であることが見出された。このタイプの配位子は、広く文献に報告されている。フェロセニルジホスフィンは、例えば、Tetrahedron: Asymmetry 9(1998), pages 2377-2407 (C.J. Richards, A.J. Locke)、WO 00/37478、Angew. Chem., 114(2002)24, pages 4902-4905 (M. Lotz, K. Polborn, P. Knochel)、EP-A1-0,564,406、EP-A1-0,612,758及びEP-A1-0,646,590に報告されている。１，２−ジホスフィノベンゼンは、例えば、EP-A1-0,592,552及びEP-A1-0,889,048に報告されている。
【０００３】
オルト位で芳香族化合物を置換するために、芳香族化合物はしばしば、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を介して芳香族骨格に結合しているオルト配向性置換基を含む。このような置換基は、続く工程において、例えば、芳香族１，２−ジホスフィンを製造するための穏やかな反応条件下で置換することはできない。よってホスフィノ基はしばしば、特に上述の文献に報告されているように、ジホスフィン配位子を得るために、オルト配向性置換基中に、又は同置換基と共に導入される。芳香族骨格に直接結合しているホスフィノ基を有する芳香族オルト−ジホスフィン、及び更にはホスフィン基に対してオルト位にオルト配向性でない置換基を有する他の多座ホスフィン配位子は、この経路により合成することはできない。
【０００４】
開裂することができるスルホキシル基を有するフェロセニル−１，２−ジホスフィンを合成する１つの方法は、F. RebiereによりAngew. Chem. (1993), page 105に報告されている。ブチルリチウムとの反応において、スルホキシル基は、オルト配向性作用を持ち、更に第２級ホスフィンハロゲン化物との反応により、１−トルエンスルホキシル−２−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンが得られる。次にこのスルホキシル基を置換することにより、フェロセニル−１，２−ジホスフィンを得ることができる。この合成法は、第１に非常に複雑であり、そして得られる目的化合物は収量がわずかである。第１の問題は、キラルかつ光学的に純粋なフェロセンスルホキシドの製造であるが、これは、調製に困難を伴うフェロセニルスズ化合物を介して行う必要がある。フェロセニルリチウム及び光学的に純粋なｐ−トルエンスルフィン酸メチルから出発すると、ラセミ化が問題である。キラルなフェロセニルスルホキシドは、わずか８３％のｅｅで得られる。クロマトグラフィー精製後、光学的に純粋な生成物を得るためには、生成物は２回再結晶しなければならない（ｅｅ  ９９．３％、収率４９％）。第２の問題は、オルトリチオ化及び求電子化合物との反応により、置換基がオルト位に導入された後のスルホキシド基の置換である。スルホキシド基は通常、ｔ−ブチルリチウムを用いて開裂し、生じるフェロセニルリチウムは、非常に分解し易く、低温でも非常に短寿命である。よってこの方法は、工業規模には適していない。
【０００５】
Angew. Chem. (1982), 94(8), page 642において、K. Dreweliesらは、１，２−ビス（ジクロロホスフィノ）ベンゼンの調製を報告しているが、ここでは、ブチルリチウムとの反応によって、１−ビス（ジメチルアミノ）ホスフィノ−２−ブロモベンゼンの臭素原子をリチウムにより置換し、続いてこの生成物を塩化ビス（ジメチルアミノ）ホスフィンと反応させることにより、１，２−ビス（ジメチルアミノ）ホスフィノベンゼンを得て、そしてここから、ジエチルエーテル中でのＨＣｌとの反応により、１，２−ビス（ジクロロホスフィノ）ベンゼンが得られる。この方法では、臭素原子の存在によりオルト置換が強制される。臭素化出発物質の調製もまた、合成を複雑にする。
【０００６】
WO 03/031456A2から、３−（ジメチルアミノ）ホスフィノチオフェンは、ブチルリチウムと反応させ、次に更に中間体の単離なしに塩化ビス（ジメチルアミノ）ホスフィンと反応させることにより、２，３−ビス（ジメチルアミノ）ホスフィノチオフェンを得ることができることは知られている。オルト位の置換は、Ｓ原子に対してα位の水素原子の活性化により引き起こされる。
【０００７】
メタロセンのＰ（III）置換基に対してオルト位の非活性化水素原子の直接メタレーションは、未だ知られていない。比較的大規模でも簡便なやり方で、特にメタロセン１，２−ジホスフィンを調製できるようにするための、このような合成法に対するニーズは存在する。
【０００８】
今や驚くべきことに、メタロセン中のホスフィノ基に対してオルト位の非活性化水素原子は、このホスフィノ基がアミノ及び／又はオキシ置換基を含むとき、有機リチウム又はマグネシウム化合物を用いて、高収率で位置選択的にメタレートできることが見出された。この反応は、式：ＢＨ3のボランが更にＰ原子に結合しているとき、特に首尾よく進行する。次にこれらのメタレートされた化合物は、金属の置換された多くの求電子化合物を用いて、有用な中間体へと変換することができ、そしてここから、それ自体既知のやり方で、アミノ及び／又はオキシ置換基を有するホスフィン基を炭化水素置換基を有する第２級ホスフィン基に変換することにより、特に均質な金属触媒のための配位子を得ることができる。ジホスフィン配位子、並びに少なくとも１個のホスフィノ基を有する他の多座配位子は、この全般的な製造法を用いて、比較的大規模でも顕著に経済的にかつ高収率で調製することができる。
【０００９】
メタロセン、例えば、フェロセンでは、メタレーションによって面性キラリティーが生じる。更に、驚くべきことに、ホスフィノ基のＮ又はＯ原子が、（特に、Ｎ又はＯ原子に対してα位のキラルな炭素原子を含む）キラルラジカルを有するとき、このメタレーションは高度に立体選択的に進行することが見出された。このように、この合成法を用いて、ジアステレオマーが高い光学的収率で直接得られるため、複雑な分離操作は回避できる。
【００１０】
本発明は第１に、芳香族炭化水素環中に式（Ｉ）：
【００１１】
【化４５】
2007513923.tif 000218
【００１２】
［式中、
Ｍは、−Ｌｉ、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2であり、
Ｘ1及びＸ2は、それぞれ相互に独立に、Ｏ又はＮであり、そしてＣ結合炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、このＯ又はＮ原子のフリーボンドに結合しており、
−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成し、そして
Ｘ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンの製造方法であって、芳香環中に式（II）：
【００１３】
【化４６】
2007513923.tif 000219
【００１４】
［式中、Ｘ1及びＸ2は、上記と同義であり、そして−Ｃ＝Ｃ−基は、炭素原子と一緒になって、芳香族炭化水素を形成する］で示される構造要素を有するフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンを、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドと反応させること、及び
Ｍが、−ＭｇＸ3、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3Ｓｎ−、−ＺｎＸ3又は−Ｂ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2である、式（Ｉ）の化合物を製造するために、式（Ia）：
【００１５】
【化４７】
2007513923.tif 000220
【００１６】
で示されるリチウム化合物を、少なくとも等量のＭｇ（Ｘ3）2、Ｚｎ（Ｘ3）2、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3ＳｎＸ3又はＢ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3と反応させること
を特徴とする方法を提供する。
【００１７】
脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドは、２〜１８個、好ましくは２〜１２個、そして特に好ましくは２〜１０個の炭素原子を有する第２級アミンから誘導することができる。Ｎ原子に結合している脂肪族ラジカルは、アルキル、シクロアルキル又はシクロアルキルアルキルであってよいか、あるいは４〜１２個、好ましくは５〜７個の炭素原子を有するＮ−複素環が存在してもよい。Ｎ原子に結合しているラジカルの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘキシルメチルである。Ｎ−複素環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及びアザノルボルナンである。好ましい実施態様では、このアミドは、式：Ｌｉ−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2又はＸ3Ｍｇ−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2（ここで、アルキルは、特にメチルである）に対応する。
【００１８】
フェロセン、ビスインデニルフェロセン及びルテノセンの場合に、式（Ｉ）の構造要素は、１個のシクロペンタジエニル環に又は２個のシクロペンタジエニル環のそれぞれに存在することができる。
【００１９】
好ましい芳香族炭化水素は、フェロセンである。
【００２０】
式（Ｉ）において、Ｍは、好ましくは−Ｌｉ又は−ＭｇＸ3（ここで、Ｘ3は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである）である。特に好ましいのは、Ｍが−Ｌｉであるものである。
【００２１】
式（Ｉ）中のＸ1及びＸ2は、好ましくはＮである。
【００２２】
本発明では、例えば、以下の炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2基に結合することができる：
１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合するか、又は１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2に結合する（Ｘ1及びＸ2がＯであるとき）；
２個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
２個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）（この二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルは、結合、メチレン又はエチレンにより架橋することができる）；
１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1に結合し、そして２個の一価ラジカルが、Ｘ2に結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）（一価ラジカルはこの二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルに結合しているメチレン又はエチレンである）；
１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合し、そして１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
２個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1に結合し、そして１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ2に結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
２個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）；
Ｘ1がＯであり、そして１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルがＸ1に結合し、かつＸ2がＮであり、そして２個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカル又は１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルがＸ2に結合する；
Ｘ1がＯであり、かつＸ2がＮであり、そして１個の二価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2に結合し、そして１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ2に結合する；
１個の二価芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素ラジカルが結合する（Ｘ1及びＸ2がＯであるとき）か；あるいは
１個の二価芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2に結合し、そして１個の一価（ヘテロ）炭化水素ラジカルが、Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合する（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）。
【００２３】
Ｘ1及びＸ2にＣ結合する炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルは、以下であってよい：
ａ）  飽和又は不飽和の、直鎖、分岐又は環状の、そして一価のラジカル（２個の一価ラジカルがＸ1及びＸ2に結合する（これらがＮであるとき））；
ｂ）  飽和、不飽和、直鎖、分岐及び／又は環状若しくは二環式の二価のラジカル（Ｘ1及び／又はＸ2に結合し（Ｘ1及びＸ2がＮであるとき）、そして４員〜７員環を形成する）、あるいは
ｃ）  飽和、不飽和、直鎖、分岐及び／又は環状若しくは二環式の二価のラジカル（１個のＯ原子及び１個のＮ原子を架橋するか、又は２個のＮ原子の間に単一又は二重架橋を形成し、そして−Ｘ1−Ｐ−Ｘ2−基と一緒に５員〜７員環を形成する）。
【００２４】
ヘテロ炭化水素ラジカルは、Ｏ、Ｓ及びＮ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）よりなる群から選択されるヘテロ原子を含むことができる。ヘテロ原子の数は、好ましくは１〜４個、更に好ましくは１〜３個、そして特に好ましくは１個又は２個である。この炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルは、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子、及び適宜ヘテロ原子を含むことができる。このラジカルは、例えば、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルフェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−フェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシフェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ−フェニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオフェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオベンジル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオベンジルオキシ、ジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノフェニル、ジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノフェノキシ、シクロヘキシル、シクロペンチル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルシクロヘキシル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルシクロペンチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシシクロヘキシル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシシクロペンチル、フッ素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ、ジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、又はジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）アミノ−Ｃ1−Ｃ4−アルキルにより、単置換又は多置換、好ましくは単置換〜三置換あるいは単置換又は二置換されていてもよい。ラジカルが、メタレーションとそれに続く反応において光学誘導をもたらしうるキラル炭素原子を有する限り、Ｘ1及びＸ2基に対してα又はβ位の置換が好ましい。幾つかの具体的な置換基は、メチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−及びｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フェニル、フェノキシ、メトキシフェニル及びメトキシフェノキシである。
【００２５】
Ｘ1及びＸ2にＣ結合する炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルは、非置換又は置換Ｃ1−Ｃ18−、好ましくはＣ1−Ｃ12−、そして特に好ましくはＣ1−Ｃ8−（ヘテロ）アルキル；非置換又は置換Ｃ2−Ｃ18−、好ましくはＣ2−Ｃ12−、そして特に好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）アルケニル；非置換又は置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル、非置換又は置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル、非置換又は置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、置換又は非置換Ｃ3−Ｃ12−、そして好ましくはＣ3−Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、置換又は非置換Ｃ6−Ｃ14−（ヘテロ）アリール、及びＣ6−Ｃ14−（ヘテロ）アリール−Ｃ1−Ｃ4−アルキルのような、一価ラジカルであってよい。好ましいのは、飽和及び芳香族の炭化水素又はヘテロ炭化水素ラジカルである。
【００２６】
一価炭化水素ラジカルは、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1−Ｃ8−アルキル、そして特に好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−、そして好ましくはＣ4−Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル−、そして好ましくはＣ4−Ｃ6−シクロアルキル−メチル又はエチル、Ｃ6−Ｃ14−、そして好ましくはＣ6−Ｃ10−アリール、Ｃ7−Ｃ15−アラルキル、そして好ましくはＣ7−Ｃ11−アラルキルであってよい。幾つかの具体例は、メチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルエチル、フェニル、ナフチル、ベンジル及びフェニルエチルである。例えば、フェロセンの場合に、キラル誘導が達成されるならば、炭化水素ラジカルは、好ましくはＸ1及び／又はＸ2に対してα−及び／又はβ位で、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ−エチル、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル又は−エチル、フェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシ、２−アニシル、ベンジル又はベンジルオキシにより置換されている。
【００２７】
一価ヘテロ炭化水素ラジカルの幾つかの例は、Ｃ1−Ｃ8−アルコキシ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、Ｃ5−Ｃ7−シクロアルコキシ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、Ｃ4−Ｃ10−（ヘテロ）アリールオキシ−Ｃ2−Ｃ4−アルキル、Ｃ4−Ｃ7−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ4−Ｃ10−ヘテロアリール−Ｃ1−Ｃ4−アルキルである。幾つかの具体例は、メトキシエチル、エトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロヘキシルオキシエチル、フェノキシエチル、Ｎ−メチルモルホリニルメチル又はＮ−メチルモルホリニルエチル、Ｎ−メチルピペリジニル−メチル又はＮ−メチルピペリジニルエチル、ピリジニルメチル又はピリジニルエチル及びピロリジニルメチル又はピロリジニルエチルである。
【００２８】
Ｘ1及びＸ2のそれぞれに結合し（Ｘ1及びＸ2がそれぞれＮであるとき）、そしてＮ原子と一緒に４員〜７員環を形成する、二価炭化水素ラジカルは、２〜８個、好ましくは２〜６個、そして更に好ましくは２〜４個の炭素原子を有していてよく、そして好ましくは直鎖又は分岐の非置換又は置換アルキレンであり、そしてここに脂環又は芳香環が縮合していてもよい。炭化水素鎖は、Ｏ原子及び／又は−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）により中断されていてもよい。二価炭化水素ラジカルの例は、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−である。二価炭化水素ラジカルは、これらが結合している原子と共に複素環を形成する。例えば、フェロセンの場合に、キラル誘導が達成されるならば、この炭化水素ラジカルは、好ましくはＸ1及び／又はＸ2に対してα−又はβ位で、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル又は−エチル、フェニル、２−アニシル又はベンジルにより置換されている。両方のＮ原子が２個の二価ラジカルにより架橋されるならば、これらのラジカルは、環状ジアミン、例えば、ピペラジンから誘導される。
【００２９】
Ｘ1及びＸ2に結合している（Ｘ1及びＸ2がそれぞれＮであるとき）二価炭化水素ラジカルは、好ましくは１，２−又は１，３−ジアミン（アミノ基は環の一部であってもよい）から誘導される。この二価炭化水素ラジカルは、直鎖又は分岐の１，２−又は１，３−Ｃ2−Ｃ12−アルキレン、好ましくは１，２−又は１，３−Ｃ2−Ｃ8−アルキレン、そして特に好ましくは１，２−又は１，３−Ｃ2−Ｃ4−アルキレン、１，２−又は１，３−Ｃ3−Ｃ8−、そして好ましくは１，２−又は１，３−Ｃ4−Ｃ6−シクロアルキレン、１−Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル−、そして好ましくは１−Ｃ4−Ｃ6−シクロアルキル−２−メチレン又は−エチレン、Ｃ6−Ｃ14−、そして好ましくは１，２−Ｃ6−Ｃ10−アリーレン、及びＣ6−Ｃ10−アラルカ−１−イル−２−メチレンであってよい。幾つかの具体例は、エチレン、ｎ−及びｉ−プロピレン、ｎ−又はｉ−ブチレン、シクロプロピル−１，２−エン、シクロブチル−１，２−エン、シクロペンチル−１，２−エン、シクロヘキシル−１，２−エン、シクロヘプチル−１，２−エン、シクロオクチル−１，２−エン、シクロブタ−１−イル−２−メチレン、シクロペンタ−１−イル−２−メチレン、シクロヘキサ−１−イル−２−メチレン、シクロブタ−１−イル−２−エチレン、シクロペンタ−１−イル−２−エチレン、シクロヘキサ−１−イル−２−エチレン、１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、フェン−１−イル−２−メチレン及びフェン−１−イル−２−エチレンである。例えば、フェロセンの場合に、キラル誘導が達成されるならば、この炭化水素ラジカルは、好ましくはＸ1及び／又はＸ2に対してα及び／又はβ位で、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル又は−エチル、フェニル、２−アニシル又はベンジルにより置換されている。
【００３０】
Ｘ1及びＸ2に結合している（Ｘ1及びＸ2がそれぞれＮであるとき）二価炭化水素ラジカルはまた、１，１’−ビフェニレン、１，１’−ビナフチレン及び１，１’−ビスピリジンであってもよい。
【００３１】
式（Ｉ）中の好ましいホスフィン基は、Ｎ原子に対してα位でＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシメチル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシエチルにより置換されており、そして全部で４、５、６若しくは７個の環原子を有するＮ−ヘテロシクロアルキルが、又は１，２−ジアミノ−Ｃ4−Ｃ7−シクロアルキルが、リン原子に結合しているものであるか、あるいはＮ，Ｎ’−置換ジアミンが、リン原子に結合しており、そしてＰ原子と一緒に４〜７個の環原子を有するＮ−Ｐ−Ｎ−ヘテロ脂環を形成し、そして更に別の置換基が炭素原子に結合していてもよいものである。リン原子上の適切な開鎖置換基は、例えば、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−Ｃ2−Ｃ4−アルキレン−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2である。
【００３２】
式（Ｉ）中の特に好ましいホスフィノ基は、下記式に対応する：
【００３３】
【化４８】
2007513923.tif 000221
【００３４】
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっており、そして好ましくは同一であり、かつそれぞれＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルであり、
Ｒ3及びＲ4は、同一であるか又は異なっており、そして好ましくは同一であり、かつそれぞれＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、フェニル又はメチルフェニルであり、そして
Ｚは、Ｈ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）2、フェニル、フェノキシ、メトキシ−フェニル又はメトキシフェノキシである］。
【００３５】
Ｚの幾つかの更に別の例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ及びジメチルアミノである。
【００３６】
メタロセンのメタレーションは、例えば、M. Schlosser(編)によりOrganometallics in Synthesis, John Wiley & Sons (1994)に、又はJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)に記載されている、既知の反応を伴う。
【００３７】
本発明のためには、少なくとも等量という表現は、メタロセン中の反応性＝ＣＨ−基あたり１〜１．２当量のマグネシウムグリニャール化合物又は脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド若しくはＸ3Ｍｇ  ｓｅｃ−アミド、例えば、式（Ia）の化合物中の＝Ｃ−Ｌｉ基あたり１〜１．２当量のＭｇ（Ｘ3）2、Ｚｎ（Ｘ3）2、（Ｃ1−Ｃ18−アルキル）3ＳｎＸ3又はＢ（Ｏ−Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3の使用を意味する。式（II）の構造要素を有するフェロセンを使用するとき、第２のシクロペンタジエニル環のメタレーションは、少なくとも２当量のメタレーション試薬を使用するならば、同時に達成することができる。
【００３８】
本反応は、有利には低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行われる。反応時間は、約２〜５時間である。本反応は、有利には不活性な保護ガス、例えば、窒素、又はアルゴンのような希ガス下で行われる。
【００３９】
本反応は、有利には不活性溶媒の存在下で行われる。このような溶媒は、単独又は少なくとも２種の溶媒の組合せとして使用することができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素、また開鎖又は環状エーテル類である。具体例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンである。
【００４０】
式（Ia）の化合物の金属交換反応は、リチウム化合物の調製直後にその単離なしに行うことができる。この目的には、メタレーション試薬を反応混合物に加えるが、このとき上述の反応条件を利用することができる。また、−ＭｇＸ3基を有する化合物を調製するために、メタレーション試薬としてマグネシウムグリニャール化合物を使用することができる。
【００４１】
式（II）の化合物は、既知であるか、又は既知の若しくは既知の方法に類似の方法により調製することができる。例えば、モノリチオ化メタロセンを出発物質として使用し、これを式：Ｘ3Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−［ここで、Ｘ3は、好ましくはＣｌ又はＢｒであり、Ｘ1及びＸ2は、Ｏ又はＮであり、そして炭化水素ラジカルは、Ｘ1−及びＸ2−のフリーボンドに結合している］のモノハロホスフィンと反応させる。この反応後、ボランＢＨ3（その存在が望ましい）をそれ自体既知のやり方で、例えば、反応混合物をＢＨ3・Ｓ（ＣＨ3）2のようなボラン複合体と反応させることにより導入することができる。式：Ｘ3Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−のモノハロホスフィンは、既知であるか、又は三塩化リンからアルコール、アミン、アミノアルコール若しくはジアミンとの反応により、それ自体既知のやり方で得ることができる。
【００４２】
式（Ｉ）の化合物は、反応混合物から沈殿する着色固体であり、必要ならば濾別して次に精製することができる。本化合物の貯蔵は、有利には、これらが可溶性でない媒体、例えば、炭化水素又はエーテル（反応溶媒として上述されているような）中の化合物の懸濁液にして行う。しかし式（Ｉ）の化合物はまた、その反応混合物としてその調製直後に更に反応させることができる。式（Ｉ）の化合物は、オルト位で置換されているメタロセンの調製の有用な中間体である。
【００４３】
本発明は更に、上述の実施態様及び優先傾向を含めて、式（Ｉ）の化合物を提供する。
【００４４】
好ましい実施態様において、式（Ｉ）の化合物は、フェロセン骨格を有する化合物、具体的には式（Ib）又は（Ic）：
【００４５】
【化４９】
2007513923.tif 000222
【００４６】
［式中、
Ｒ5は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、
Ｍは、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ、そして好ましくはＬｉであり、
Ｍ’は、Ｈ、−ＭｇＣｌ、−ＭｇＢｒ又はＬｉであり、そして
Ｘ1及びＸ2並びにまたＸ1及びＸ2のフリーボンドに結合しているラジカルは、上述の有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］に対応するものである。
【００４７】
式（Id）の化合物において、上述の有利な実施態様及び優先傾向が、Ｘ1及びＸ2に当てはまる。
【００４８】
本発明はまた、芳香族環中に、式（III）：
【００４９】
【化５２】
2007513923.tif 000223
【００５０】
［式中、
Ｘ1及びＸ2並びにまたフリーボンドに結合しているラジカルは、上記と同義であり、そして
Ｅは、芳香族炭化水素に結合している金属又は結合金属基を置換することができる、反応性求電子化合物のラジカルである］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンの製造方法であって、
式（Ｉ）：
【００５１】
【化５３】
2007513923.tif 000224
【００５２】
［式中、
Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにフリーボンドに結合しているラジカルは、上記と同義である］で示される構造要素を有する化合物を、少なくとも等量の反応性求電子化合物と反応させることを特徴とする方法を提供する。
【００５３】
上述の実施態様及び上述の優先傾向が、Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにまたフリーボンドに結合しているラジカルに当てはまる。
【００５４】
本発明のためには、反応性求電子化合物は、式（Ｉ）中のＭを置換するために結合することができる任意の試薬である。触媒を併用することができ、そして一価ラジカルのＥは、試薬の添加後の続く工程（例えば、加水分解）でしか形成されない。このような試薬は、有機金属化学において広く知られており、メタレートされた芳香族炭化水素について報告されている；例えば、V. Snieckus, Chem. Rev., 90(1990) 879-933；Manfred Schlosser (編), Organometalics in Synthesis, A. Manual, 第2版, John Wiley & Sons, LTD. (2002)；Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series) Chapter 6 & 7, Pergamon Press (2002)及びKagan H.B.ら, J. Org. Chem., 62(1997) 6733-45を参照のこと（例えば、メタレートされたフェロセンへの選定された可能性ある求電子化合物の導入について）。
【００５５】
反応性求電子化合物の例は、以下である：
Ｃｌ、Ｂｒ又はＩの導入のためのハロゲン（Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2）、ハロゲン間化合物（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）及び脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ3Ｃ−ＣＣｌ3又はＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ）；
カルボキシル基−ＣＯ2Ｈの導入のためのＣＯ2；
カルボキシラート基の導入のためのクロロカルボナート又はブロモカルボナート［Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ］［ここで、Ｒは、水素又は炭化水素ラジカル（アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル）であり、そしてこれは、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子を持ち、かつ非置換であるか、あるいはｓｅｃ−ホスフィノ、ジ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）2Ｎ−、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ1−Ｃ8−アルキル又は−ＯＣ1−Ｃ8−アルキルのような不活性置換基により置換されている（式（Ｉ）の化合物中に金属又は金属基に対して更に反応性の高い基、例えば−ＣＨＯが同時に存在するならば、あるいはＣｌ及びＢｒ、Ｃｌ及びＩ又はＢｒ及びＩが、好ましくは芳香族炭化水素ラジカル中に同時に結合しているならば、不活性置換基は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩのような反応性基を含む）］；
−ＣＨ（Ｏ）基の導入のためのジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）ホルムアミド、例えば、ジメチルホルムアミド又はジエチルホルムアミド；
−Ｃ（Ｏ）−Ｒ基の導入のためのジ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）カルボキサミド；
−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ基の導入のための、非置換であっても、又はＲ基でｓｅｃ−ホスフィノにより置換されていてもよいアルデヒド；
−Ｃ（ＯＨ）ＲＲ’基の導入のための、非置換であっても、又はＲ若しくはＲ’基でｓｅｃ−ホスフィノにより置換されていてもよい、対称性又は非対称性ケトン［ここで、Ｒ’は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ’は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成する］；
炭素原子がＨ又はＲにより置換されていてもよい、−Ｃ−Ｃ−ＯＨ基の導入のためのエポキシド；
−ＣＨ（Ｒ）−ＮＨＲ’基の導入のためのイミン：Ｒ−ＣＨ＝Ｎ−Ｒ’［ここで、Ｒ’は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ’は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成し；Ｒ及びＲ’は、同時に水素ではない］；
−Ｃ（Ｒ）（Ｒ”）−ＮＨＲ’基の導入のためのイミン：Ｒ−Ｃ（Ｒ”）＝Ｎ−Ｒ’［ここで、Ｒ’は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ’は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成し、Ｒ”は、独立にＲの意味の１つを持つか、又はＲ及びＲ”は、一緒になって３〜８個の環原子を有する脂環を形成する］；
炭化水素及びヘテロ炭化水素ラジカル（例えば、Ｃ1−Ｃ18−アルキル、Ｃ6−Ｃ14−アリール、Ｃ7−Ｃ14−アラルキル）の導入のための、炭化水素及びヘテロ炭化水素一ハロゲン化物、具体的には塩化物、臭化物及びヨウ化物；
炭化水素及びヘテロ炭化水素ラジカル（例えば、Ｃ1−Ｃ18−アルキル、Ｃ6−Ｃ14−アリール、Ｃ7−Ｃ14−アラルキル）の導入のための、異なる反応性のハロゲン原子、具体的には塩素と臭素又はヨウ素との、臭素とヨウ素との組合せ、あるいは２個の臭素又はヨウ素原子（生成する中間体の立体障害の場合）を有するハロ炭化水素及びハロヘテロ炭化水素；
アリル及びビニルのようなアルケニル基を導入するためのアルケニルハロゲン化物、具体的には塩化物、臭化物及びヨウ化物；
トリ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）Ｓｉ−基の導入のためのトリ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）シリルハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
式（Ｉ）の２個のラジカルが（Ｍの代わりに）結合している二価基：−（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）2Ｓｉ−の導入のための、ジ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）シリル二ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
ジフェニルホスフィノ、ジ（メチルフェニル）ホスフィノ、ジシクロヘキシルホスフィノ及びジ−ｔ−ブチルホスフィノのようなｓｅｃ−ホスフィノ基の導入のための、ｓｅｃ−ホスフィン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
ジ（ジメチルアミノ）ホスフィノ、ジ（ジエチルアミノ）ホスフィノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシレンジアミノホスフィノのようなジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィノ基の導入のための、ジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
（ＣＨ3Ｏ）2（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−のようなホスホン酸エステル基の導入のための、リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
（ＣＨ3Ｏ）2Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2Ｐ−、（エチレンジオキシル）Ｐ−のような亜リン酸エステル基の導入のための、亜リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
式（Ｉ）の２個のラジカルが（Ｍの代わりに）結合している二価基：−Ｐ（Ｒ）−の導入のための、ＲＰＣｌ2又はＲＰＢｒ2のようなホスフィン二ハロゲン化物；
ジフェニルアルシノ、ジ（メチルフェニル）アルシノ、ジシクロヘキシルアルシノ及びジ−ｔ−ブチルアルシノのようなｓｅｃ−アルシノ基の導入のための、ｓｅｃ−アルシン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
式（Ｉ）の２個のラジカルが（Ｍの代わりに）結合している二価基：−Ａｓ（Ｒ）−の導入のための、アルシン二ハロゲン化物、例えば、ＲＡｓＣｌ2又はＲＡｓＢｒ2；
−ＳＲ基の導入のための有機ジスルフィド：Ｒ−ＳＳ−Ｒ；
−ＳＨ基の導入のための硫黄（Ｓ8）；及び
置換又は非置換フェロセニル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物、ヨウ化物）。
【００５６】
本発明のためには、少なくとも等量という表現は、芳香族化合物中の反応性＝ＣＭ−基あたり１〜１．２当量の反応性求電子化合物の使用を意味する。しかし、２．５当量以下の明らかに過剰量を使用することもできる。
【００５７】
本反応は、有利には比較的低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行われる。本反応は、有利には不活性な保護ガス、例えば、アルゴンのような希ガス、そうでなければ窒素下で行われる。反応性求電子化合物の添加後、反応混合物は、有利には室温まで温まるのを待つか、又は高温、例えば、１００℃以下、好ましくは５０℃以下まで加熱し、そしてこのような条件下で反応が終了するまで数時間撹拌する。
【００５８】
本反応は、有利には不活性溶媒の存在下で行われる。このような溶媒は、単独又は少なくとも２種の溶媒の組合せとして使用することができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素、また開鎖又は環状エーテル類である。具体例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンである。
【００５９】
式（III）の化合物の単離は、それ自体既知の方法、例えば、抽出、濾過及び蒸留により行うことができる。単離後、この化合物は、例えば、蒸留、再結晶又はクロマトグラフィー法により精製することができる。
【００６０】
驚くべきことに、メタロセン骨格、特にフェロセン骨格を持つ式（Ｉ）の化合物の場合に、そして特にＭがＬｉであり、かつこの化合物が面性キラリティーを持つとき、光学誘導は、好ましくはキラル炭素原子がＯ及び／又はＮ原子に対してα又はβ位に存在できるように、少なくとも１個のキラル炭素原子が少なくとも１個のＸ1及びＸ2基に結合しているときのメタレーションであっても、明らかに達成することができることが見出された。この場合に、求電子性反応性化合物の導入は、一方の光学異性体の優勢な生成をもたらし、一方のジアステレオマーの含量は、例えば、少なくとも７０％、そして好ましくは少なくとも８０％以上でありうる。この段階では特に単純なやり方で、再結晶又はクロマトグラフィーのような既知の分離法を用いて純粋なジアステレオマーを入手することができる。
【００６１】
式（III）の化合物中の求電子性反応性化合物のラジカルＥは、シクロペンタジエニル環の炭素原子に結合しているキラル炭素原子を含むことができる。このようなラジカルは、プロキラル求電子性反応性化合物、例えば、アルデヒド及びケトンから生成する。驚くべきことに、特にメタロセン骨格、好ましくはフェロセン骨格を持ち、そして面性キラリティー及び炭素原子のキラリティーを有する化合物の場合に、少なくとも１個のＸ1及びＸ2基に結合している（好ましくはＯ及び／又はＮ原子に対してα位にキラル炭素原子を有する）Ｃキラル炭化水素ラジカルの存在が、面性キラリティーに関して非常に高いジアステレオ選択性と、更に炭素原子のキラリティーに関しても顕著なジアステレオ選択性とをもたらすことが見出された。プロキラル求電子化合物が導入されるとき、面性キラリティーに関して４つの可能性あるジアステレオマーの中で、本質的に１対のジアステレオマーだけが生成し、そしてまたジアステレオマー対の一方のジアステレオマーが優先的に生成するのが、しばしば観察される。純粋なジアステレオマーは、仮にも必要ならば、再結晶、又は特にクロマトグラフィー法を用いる分離により、この段階（Ｘ1及びＸ2基上のキラルラジカル）で容易に入手することができる。
【００６２】
本発明は更に、一方又は両方のシクロペンタジエニル環中に式（III）：
【００６３】
【化５４】
2007513923.tif 000225
【００６４】
［式中、
Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン及びルテノセンよりなる群からのメタロセンを提供する。
【００６５】
好ましいメタロセンは、式（IV）：
【００６６】
【化５５】
2007513923.tif 000226
【００６７】
［式中、
Ｅ’は、Ｈであるか、又はＥの意味の１つを持ち；そして
Ｒ5、Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］に対応するものである。
【００６８】
Ｒ5は、好ましくは水素である。Ｅは、好ましくは−ＰＨ2、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2、ｓｅｃ−ホスフィノ、オルト−クロロフェニル若しくはオルト−ブロモフェニル、又は下記式：
【００６９】
【化５６】
2007513923.tif 000227
【００７０】
［式中、
Ｒ7は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ、そして好ましくは水素原子であり、
Ｒ8は、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、
Ｒ9は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、そして好ましくは水素原子であり、そして
Ｒ10は、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ又はｓｅｃ−ホスフィノであるか、あるいは
−ＣＲ8Ｒ9−基は、直接結合を表し、そしてＲ10は、Ｂｒ又はＣｌである］で示されるベンジルラジカルである。
【００７１】
Ｒ8がＣ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである化合物は、ヒドロキシル基Ｒ8のエーテル化若しくはエステル化により、又はｓｅｃ−アミノによるアシルオキシ基Ｒ8の置換により得られる。
【００７２】
Ｒ8がｓｅｃ−アミノであるとき、これは、好ましくは２〜１２個、そして特に好ましくは２〜６個の炭素原子を含む。幾つかの例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジ−ｎ−プロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、モルホリノ、ピペリジニル及びピロリジニルがある。Ｒ8がアルコキシであるとき、これは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はｎ−ブトキシであってよい。Ｒ8がアシルオキシであるとき、このラジカルは、好ましくはカルボン酸から誘導される。これは、アセチルオキシ、プロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ、シクロヘキサノイルオキシ、ベンゾイルオキシ又はトルオイルオキシであってよい。Ｒ8がアルキルであるとき、これは、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル又はｎ−ブチルであってよい。
【００７３】
更に別の好ましいメタロセンは、式（IVa）：
【００７４】
【化５７】
2007513923.tif 000228
【００７５】
［式中、
Ｅ’は、Ｈであるか、又は独立にＥの意味の１つを持ち；そして
Ｒ5、Ｅ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、有利な実施態様及び優先傾向を含めて、上記と同義である］に対応するものである。
【００７６】
Ｒ5は、好ましくは水素である。Ｅは、好ましくはシクロペンタジエニル環に結合しているキラル炭素原子を有する、炭化水素ラジカルである。キラル炭素原子を有するこのキラル炭化水素ラジカルは、好ましくは下記式：
【００７７】
【化５８】
2007513923.tif 000229
【００７８】
［式中、
Ｒ12は、水素、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、そして好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、あるいは非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換されたフェニルであり、
Ｒ13は、独立にＲ12の意味の１つを持ち；そして
Ｒ11は、独立にＲ12の意味の１つを持つか、あるいはＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである］に対応する。
【００７９】
Ｒ12の幾つかの例には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチルがある。Ｒ12は、好ましくは水素である。Ｒ12がシクロアルキルであるとき、これは、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル又はメチルシクロヘキシルであってよい。Ｒ12が置換フェニルであるとき、これは、例えば、トリル、キシリル、メトキシフェニル又はジメトキシフェニルであってよい。アルコキシ、アシルオキシ及びｓｅｃ−アミノの例は、上に与えられている。特に好ましいのは、Ｒ12が水素であり、Ｒ13がメチルであり、そしてＲ11がジメチルアミノであるものである。
【００８０】
構造要素を有する式（III）の化合物は、既知のやり方で、例えば、単座配位子として使用することができる、モノホスフィンに変換することができる。このような１個、又は２個の、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンの芳香族炭化水素環中にも、式（Ｖ）：
【００８１】
【化５９】
2007513923.tif 000230
【００８２】
で示される構造要素を有するモノホスフィンは、以下により得られる：
ａ）  存在する任意のボラン基を式（III）の構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンから脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること。
【００８３】
最後の反応工程でのボラン基だけの脱離には、反応感受性基が保護されたままという利点がある。
【００８４】
ボラン基は、例えば、Ｃ1−Ｃ4−アルキル基を有する第２級アミン、モルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンのような試薬を式（III）の溶解化合物に加え、２０〜７０℃の温度で充分に長く撹拌し、そして有利には減圧下で揮発性成分を除去することにより、開裂することができる。ボランを脱離する方法は、例えば、M. OhffらによりSynthesis (1998), page 1391に記載されている。
【００８５】
−ＰＣｌ2又は−ＰＢｒ2基の形成は、同様に知られており、そして例えば、A. LongeauらによりTetrahedron: Asymmetry, 8(1997), pages 987-990に記載されている。使用される試薬は、有利には、例えばエーテル中のＨＣｌ又はＨＢｒの有機溶液であり、そしてこれを低温（例えば、−２０〜３０℃）で、ボラン基を持つか又は持たない式（III）の溶解化合物に加える。
【００８６】
グリニャール試薬は、モノ−又はジ−Ｌｉ−、−ＣｌＭｇ−、−ＢｒＭｇ−又は−ＩＭｇ−炭化水素であってよく、そして一般には過剰に、例えば、ハロゲン原子あたり５当量以下で加える。本反応は、溶液中で行われ、メタレーションに関して上述されたような溶媒を使用することができる。本反応は、−８０〜８０℃の温度で行うことができる。
【００８７】
−ＰＣｌ2又は−ＰＢｒ2基は、それ自体既知のやり方で、例えば、Ｌｉ（ＡｌＨ4）を用いて水素化することができ、そして次にホスフィノ基は、例えば、硫酸ブチレン又はプロピレンのような環状硫酸エステルを用いて、環状の第２級ホスフィノ基に変換することができる。モノホスフィンは、上述のような方法を使用して単離することができる。
【００８８】
第２級ホスフィノ基は、２個の同一の、又は２個の異なる炭化水素ラジカルを持つことができるか、あるいは２個の炭化水素ラジカルは、Ｐ原子と一緒に３員〜８員環を形成することができる。このホスフィノ基は、好ましくは２個の同一の炭化水素ラジカルを有する。炭化水素ラジカルは、非置換であっても置換されていてもよく、そして１〜２２個、そして好ましくは１〜１２個の炭素原子を有することができる。好ましいｓｅｃ−ホスフィノ基は、ホスフィノ基が、直鎖又は分岐のＣ1−Ｃ12−アルキル；非置換又はＣ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換Ｃ5−Ｃ12−シクロアルキル又はＣ5−Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル又はベンジル；及び置換されたフェニル又はベンジル［ハロゲン（例えば、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒ）、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル（例えば、トリフルオロメチル）、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ（例えば、トリフルオロメトキシ）、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ、ｓｅｃ−アミノ又は−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキル（例えば、−ＣＯ2ＣＨ3）により置換されている］よりなる群から選択される、２個の同一の、又は異なるラジカルを有するものである。
【００８９】
ホスフィノ基中の２個のラジカルはまた、一緒になって非置換又はハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換のジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレンを形成することができる。置換基は、好ましくはＰ原子に対して２個のオルト位に位置する。
【００９０】
ホスフィノ基はまた、下記式：
【００９１】
【化６０】
2007513923.tif 000231
【００９２】
［式中、フェニル環は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4−アルキル若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシにより置換されている］で示される基であってもよい。
【００９３】
２個の炭化水素ラジカルがＰ原子と一緒に３員〜８員環を形成する、第２級ホスフィノ基の例は、具体的には下記式：
【００９４】
【化６１】
2007513923.tif 000232
【００９５】
で示されるものであり、そしてこれらは、Ｐ原子に対して一方又は両方のオルト位、及び適宜メタ位で、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシにより置換されていてもよい。
【００９６】
好ましくは１〜６個の炭素原子を含む、Ｐ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル並びにペンチル及びヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換又はアルキル置換シクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル及びエチルシクロヘキシル並びにジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−及びハロアルコキシ−置換されたフェニル又はベンジル置換基の例は、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル及びビストリフルオロメトキシフェニルである。
【００９７】
好ましいホスフィノ基は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチル又はシクロヘキシル、及び置換シクロペンチル又はシクロヘキシル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されている）、並びにベンジル及び特にフェニル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル若しくはＣ1−Ｃ4−フルオロアルコキシ基により置換されている）よりなる群から選択される、同一の又は異なる、そして好ましくは同一のラジカルを有するものである。
【００９８】
ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは式：−ＰＲ14Ｒ15［ここで、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ相互に独立に、１〜２０個の炭素原子を有しており、そして非置換であるか、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロアルコキシ、ジ−Ｃ1−Ｃ4−アルキルアミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ若しくは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6−アルキルにより置換されている、炭化水素ラジカルであるか；あるいはＲ14及びＲ15は、一緒になって非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換のジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレンを形成する］に対応する。
【００９９】
Ｒ14及びＲ15は、好ましくは、分岐Ｃ3−Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチル又はシクロヘキシル、及び置換シクロペンチル又はシクロヘキシル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されている）、非置換ベンジル又は置換ベンジル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシ基により置換されている）、及び特に非置換フェニル又は置換フェニル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4−フルオロアルキル又はＣ1−Ｃ4−フルオロアルコキシ基により置換されている）よりなる群から選択される、同一の又は異なる、そして特に同一のラジカルである。
【０１００】
Ｒ14及びＲ15は、特に好ましくは、非置換フェニル及び置換フェニル（１〜３個のＣ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ及び／又はＣ1−Ｃ4−フルオロアルキル基により置換されている）よりなる群から選択される、同一の又は異なる、そして特に同一のラジカルである。
【０１０１】
本発明の製造法及び中間体は、キレート化剤として適切なアキラル及びキラル芳香族オルト−ジホスフィン又は他の芳香族ジホスフィンの調製に非常に適しており、そしてこれらは、触媒活性金属錯体中の有用な配位子であることが見出された。本製造法は、２個のＰ原子上の異なる置換基の作成のためのモジュール式であり、そして高収率を与える。更に、純粋なジアステレオマー又はジアステレオマーの容易に分離された対の対は、簡単なやり方でかつ高収率で直接調製することができる。本製造法は、工業規模でこのようなジホスフィンの製造に特に有用である。
【０１０２】
本発明は更に、シクロペンタジニル環中に式（VI）：
【０１０３】
【化６２】
2007513923.tif 000233
【０１０４】
で示される構造要素を有するか、又はメタロセンのフェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンの各シクロペンタジエニル環中に式（VIa）：
【０１０５】
【化６３】
2007513923.tif 000234
【０１０６】
［式中、
Ｒ16は、直接結合又は二価の架橋基であり、架橋基中のｓｅｃ−ホスフィノは、芳香環の炭素原子に対して１、２又は３位に位置し、そして
Ｒ17は、炭素原子を介してシクロペンタジエニル環に結合している置換基である］で示される構造要素を有する、芳香族炭化水素ジホスフィンの製造方法であって、以下の工程：
ａ）  式（II）：
【０１０７】
【化６４】
2007513923.tif 000235
【０１０８】
で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンと、メタレーション試薬とを反応させて、式（Ｉ）：
【０１０９】
【化６５】
2007513923.tif 000236
【０１１０】
（式中、Ｍ、Ｘ1及びＸ2並びにＸ1及びＸ2基のフリーボンドに結合している炭化水素ラジカルは、上記と同義である）で示される構造要素を有する、フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンを生成すること、
ｂ）  式（Ｉ）の化合物と求電子性反応性化合物との反応であって、
ｂ１）  式（Ｉ）の化合物をｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物と反応させることにより、ｓｅｃ−ホスフィノを導入すること、
ｂ２）  式（Ｉ）の化合物を、ｓｅｃ−ホスフィノにより１、２又は３位で置換することができる反応性基を有する求電子性反応性化合物と反応させ、続いてこの生成物を金属ｓｅｃ−リン酸塩又は第２級ホスフィンと反応させることにより、−Ｒ16−ｓｅｃ−ホスフィノ基を導入すること、
ｂ３）  式（Ｉ）の化合物を、α炭素原子を形成する求電子性有機化合物と反応させることにより、−Ｒ17基を導入すること
を特徴とする反応、
ｃ）  存在する任意のボラン基を工程ｂ１）、ｂ２）又はｂ３）で得られた化合物から脱離し、続いて（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法を提供する。
【０１１１】
個々の製造工程、有利な実施態様及び優先傾向は、上述されており、そして実施例に例証されている。製造法及び化合物に関して与えられた有利な実施態様及び優先傾向はまた、上記製造法にも当てはまる。
【０１１２】
架橋基Ｒ16は、好ましくは下記式：
【０１１３】
【化６６】
2007513923.tif 000237
【０１１４】
［式中、
Ｒ7は、上記と同義であり、
Ｒ18は、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ19は、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、そして好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、あるいは非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示されるものの１つのラジカルである。
【０１１５】
Ｒ17は、好ましくは下記式：
【０１１６】
【化６７】
2007513923.tif 000238
【０１１７】
［式中、
Ｒ12は、水素、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、そして好ましくはＣ1−Ｃ4−アルキル、非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換Ｃ4−Ｃ8−シクロアルキル、あるいは非置換又はＣ1−Ｃ4−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ4−アルコキシ−置換されたフェニルであり、
Ｒ13は、独立にＲ12の意味の１つを持ち、そして
Ｒ20は、独立にＲ12の意味の１つを持つか、又はＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ若しくはｓｅｃ−アミノである］で示されるラジカルである。
【０１１８】
個々の意味の例は上述されている。
【０１１９】
本発明の製造法は、例えば、Ｒｕ触媒エナンチオ選択的水素化において特に重要であることが見出された、タニアホス（Taniaphos）配位子の経済的な製造に特に適している。アミノ−タニアホスの合成は、例えば、WO 00/37478 A1に、及びT. IrelandらによりAngew. Chem., 111(1999), pages 3397-3400に記載されている。前駆体をその光学異性体に容易に分離することができ、そしてキラル置換基の存在が光学誘導をもたらすため、これらの配位子は、本発明の方法により立体選択的に調製することができる。
【０１２０】
したがって本発明の製造法の１つの好ましい実施態様は、式（VII）：
【０１２１】
【化６８】
2007513923.tif 000239
【０１２２】
［式中、
Ｒ21は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ22は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ23は、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキル又はＣ1−Ｃ4−アルコキシである］で示される１−（α−置換オルト−ｓｅｃ−ホスフィノベンジル）−２−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンをそのラセミ体、ジアステレオマーの混合物又は本質的に純粋なジアステレオマーの形で製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（VIII）：
【０１２３】
【化６９】
2007513923.tif 000240
【０１２４】
［式中、
Ｍ及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と、式（IX）：
【０１２５】
【化７０】
2007513923.tif 000241
【０１２６】
［式中、Ｙ1は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、そしてＲ23は、上記と同義である］で示される化合物とを反応させて、式（Ｘ）：
【０１２７】
【化７１】
2007513923.tif 000242
【０１２８】
で示される化合物を生成すること、
ｂ）  式（Ｘ）の化合物中のＯＨ基のＣ1−Ｃ4−アルキル化又はＣ1−Ｃ8−アシル化、あるいは生成したアシルオキシ基のｓｅｃ−アミノによる置換、
ｃ）  ｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換、あるいは最初にｓｅｃ−ホスフィノ基への−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基の変換と、これに続くｓｅｃ−ホスフィノによる式（Ｘ）の化合物中のハロゲンＹ1の置換、
ｄ）  以下による式（VII）のジホスフィンの調製、
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（Ｘ）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０１２９】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｄ）を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対を生成するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。
【０１３０】
製造工程ｂ）のアルキル化は、既知のやり方で、例えば、アルカリ金属水素化物（水素化カリウム）を用いる−Ｏ−アルカリ金属基の形成と、これに続くハロゲン化アルキル（ヨウ化メチル）との反応により実施することができる。製造工程ｂ）のアシル化は、有利にはカルボン酸無水物、好ましくは無水酢酸を使用して行われる。この反応は、好ましくは溶液中で行われる（可能性ある溶媒は上述されている）。反応温度は、−３０℃〜７０℃の範囲にあってよい。
【０１３１】
製造工程ｂ）におけるアシルオキシ基の置換は、第２級アミンを用いて達成することができる。使用される溶媒は、好ましくはアセトニトリルのようなニトリル、又はジメチルホルムアミドのようなカルボキサミドである。反応温度は、例えば、２０〜１２０℃であってよい。
【０１３２】
ハロゲンＹ1の置換は、例えば、リチウムアルキル（ブチルリチウム）を用いるハロゲンのメタレーションと、これに続くｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物、特に好ましくは塩化物又は臭化物との反応により行うことができる。この反応は、好ましくは溶液中で行われる（可能性ある溶媒は上述されている）。反応温度は、−１００℃〜３０℃の範囲にあってよい。ｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物という用語は、Ｈ2Ｐハロゲン化物を包含し、これを用いて−ＰＨ2基を導入することができ、この基は、次に上述のように環状ｓｅｃ−ホスフィノ基に変換することができる。
【０１３３】
式（VII）の化合物は、良好な全収率で、そして必要であれば、高い光学純度で得られる。
【０１３４】
本発明はまた、ラセミ体、ジアステレオマー又はジアステレオマーの対の形の、本発明の製造法により得られる中間体、具体的には式（XI）：
【０１３５】
【化７２】
2007513923.tif 000243
【０１３６】
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基、Ｒ21、Ｒ22及びＹ1は、上記と同義であるか、あるいは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基中の（Ｘ1−）及び（Ｘ2−）は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ24は、−ＯＨ、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノである］で示される化合物を提供する。
【０１３７】
本発明の製造法は、以下に更に詳細に記述される。メタレートされたメタロセンとプロキラル求電子化合物との反応により、面性キラリティー及びα炭素のキラリティーの両方を持つジアステレオマーの混合物が得られることは既に言及されている。適切なキラル基：−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1、例えば、Ｏ−メチルプロリノールの使用により、面性キラリティーに関して非常に高いジアステレオ選択性と、炭素のキラリティーに関して顕著なジアステレオ選択性が得られる。結果として、４種の可能性あるジアステレオマーの中で、事実上ジアステレオマー（Ａ）及び（Ｂ）：
【０１３８】
【化７３】
2007513923.tif 000244
【０１３９】
だけが生成し、そしてこれらのうち一方が優先的に生成する。必要であれば、キラル基−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1のおかげで簡単なやり方で、具体的にはキラルカラムを使用するクロマトグラフィー法により、全てのジアステレオマーを分離することができる。
【０１４０】
可能性あるジアステレオマーのそれぞれは、式（VII）の配位子に変換することができる。以下において、ジアステレオマー（Ａ）から出発する手順のみが示される。式（VII）の配位子の調製には、この合成の工程は、種々の順序で行うことができる。
【０１４１】
第１法では、化合物（Ａ）中のアルコールを、塩基（好ましくはＫＨ）を用いて脱プロトン化し、モノハロ炭化水素Ｒ***−ハロゲンを用いて式（Ｃ）：
【０１４２】
【化７４】
2007513923.tif 000245
【０１４３】
で示される対応するエーテルに変換する。
【０１４４】
溶媒（ＴＢＭＥ、トルエン）中での、化合物（Ｃ）とハロゲン化水素酸、好ましくはＨＣｌとの反応により、一般式（Ｄ）のホスフィン二ハロゲン化物が得られる。Ｘ1及び／又はＸ2がＮであれば、これらは、＞２当量のハロゲン化水素酸の添加により対応するアンモニウムハロゲン化物に変換されるが、これは、沈殿させるか、又は適切な溶媒に抽出し、そして必要に応じて再生利用することができる。
【０１４５】
式（Ｅ）のホスフィン化合物は、化合物（Ｄ）を、一般式：（ＲO）n金属z（ハロゲン）z-n［ここで、ｚは、金属の結合価であり、そしてｎは、ｚ以下である］の有機金属試薬と、特に好ましくはＲO−Ｌｉ又はＲO−Ｍｇ−ハロゲンと反応させることにより得られる：
【０１４６】
【化７５】
2007513923.tif 000246
【０１４７】
化合物（Ｅ）は、既知のやり方で、Ｃ−ハロゲンのメタレーションと、これに続くメタレートされた化合物とハロゲン−Ｐ（ＲOO）2との反応により、２個の同一の又は２個の異なるｓｅｃ−ホスフィノラジカルを有する、式（VII）の配位子に変換することができる。
【０１４８】
保護ボラン基が存在するならば、これは、既知の方法により任意の段階で脱離することができる（M. Ohffら, Synthesis (1998), page 1391を参照のこと）。好ましい方法は、例えば、ジエチルアミン又はＤＢＵの存在下で、２０℃〜１２０℃の温度でのこの化合物の撹拌である。
【０１４９】
ボラン基が存在するならば、これは、好ましくは化合物（Ｅ）の段階で、又は式（VII）の配位子を生成するための最終工程として脱離する。化合物（Ａ）からのボラン基の脱離により、式（Ｆ）の環状生成物を生成することができる。
【０１５０】
【化７６】
2007513923.tif 000247
【０１５１】
式（Ｆ）の化合物は、最初のハロゲン化水素酸との反応と、これに続く（ＲO）n金属z（ハロゲン）z-nとの、好ましくはＲO−Ｌｉ又はＲO−Ｍｇ−ハロゲン化物との反応により、一般式（Ｈ）：
【０１５２】
【化７７】
2007513923.tif 000248
【０１５３】
で示される化合物に変換することができる。
【０１５４】
塩基（好ましくはＫＨ）を用いる脱プロトン化及び式：Ｒ***−ハロゲンの炭化水素ハロゲン化物との反応後に、ボランを含まない化合物（Ｊ）が得られる：
【０１５５】
【化７８】
2007513923.tif 000249
【０１５６】
化合物（Ｄ）は、Ｃ−ハロゲンのメタレーションと、これに続くメタレート種とハロゲン−Ｐ（ＲOO）2との反応により、一般式（Ｋ）：
【０１５７】
【化７９】
2007513923.tif 000250
【０１５８】
で示される化合物に変換される。
【０１５９】
化合物（Ｋ）とハロゲン化水素酸との反応により、化合物（Ｌ）が得られ、これは、上述のように、ＲO含有有機金属試薬を用いて、式（VII）の配位子に変換することができる：
【０１６０】
【化８０】
2007513923.tif 000251
【０１６１】
代替合成経路は、化合物（VIII）と下記式：
【０１６２】
【化８１】
2007513923.tif 000252
【０１６３】
で示されるアルデヒド又はケトンとの反応を介して進行することにより、化合物（Ｍ）及び（Ｍ’）：
【０１６４】
【化８２】
2007513923.tif 000253
【０１６５】
が生成し、そしてこれは、上述のように、アルコールの脱プロトン化及びＲ***−ハロゲンとの反応に付すことにより、再び化合物（Ｋ）を得ることができる。
【０１６６】
アルコキシ基ではなくｓｅｃ−アミノ基をキラル炭素原子に結合しようとするならば、これらの化合物は、以下のやり方で調製することができる。化合物（Ａ）を、例えば、無水酢酸中で、一般式（Ｎ）：
【０１６７】
【化８３】
2007513923.tif 000254
【０１６８】
で示されるアセタートに変換する。
【０１６９】
ＨＮ（Ｒ***）2との反応後、一般式（Ｏ）のアミンが得られる：
【０１７０】
【化８４】
2007513923.tif 000255
【０１７１】
また、最初に無水酢酸を用いて式（Ｍ）の化合物を式（Ｐ）のアセタート化合物に変換し、続いて式（Ｐ）の化合物をＨＮ（Ｒ***）2と反応させることにより、式（Ｑ）のアミン化合物を得ることも可能である：
【０１７２】
【化８５】
2007513923.tif 000256
【０１７３】
更に別の可能性は、式（Ｈ）の化合物と無水酢酸との反応であり、これによって式（Ｒ）：
【０１７４】
【化８６】
2007513923.tif 000257
【０１７５】
で示される化合物が生成し、そして次にＨＮ（Ｒ***）2との反応により、式（Ｔ）の化合物が得られる。
【０１７６】
式（Ｏ）及び（Ｑ）のアミン化合物は、式（Ｃ）のエーテル化合物と同様のやり方で式（VII）の配位子に変換することができる。この場合に、合成は、以下の中間体（Ｓ）、（Ｔ）、（Ｕ）及び（Ｗ）を介して行われる：
【０１７７】
【化８７】
2007513923.tif 000258
【０１７８】
フェロセン、ビスインデニルフェロセン又はルテノセンに１，２位で直接結合している同一の又は異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するジホスフィン配位子は、本発明の製造法を利用して、わずか数製造工程で特に経済的に調製することができる。本発明の製造法の別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XII）の化合物、並びに式（XIII）：
【０１７９】
【化８８】
2007513923.tif 000259
【０１８０】
で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XIV）又は（XV）：
【０１８１】
【化８９】
2007513923.tif 000260
【０１８２】
［式中、
Ｍ及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と、ｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物（塩化物又は臭化物）とを反応させて、式（XVI）：
【０１８３】
【化９０】
2007513923.tif 000261
【０１８４】
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XII）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XVI）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０１８５】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｂ）を実施するための手順は、同様に上述されている。フェロセンの場合には、上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。
【０１８６】
本発明はまた、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で本製造法において生じる新規な中間体、具体的には式（XVI）及び（XVIII）：
【０１８７】
【化９１】
2007513923.tif 000262
【０１８８】
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示されるものを提供する。
【０１８９】
本発明の製造法はまた、ビスフェロセニルジホスフィン配位子、特に異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するものを調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XIX）：
【０１９０】
【化９２】
2007513923.tif 000263
【０１９１】
［式中、ｓｅｃ−ホスフィノは、上記と同義である］で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）の化合物と式（XXI）：
【０１９２】
【化９３】
2007513923.tif 000264
【０１９３】
［式中、
Ｍは、−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、そしてＹ2は、Ｉ又はＢｒである］で示される化合物との、Ｐｄ触媒の存在下での反応［これによって式（XXII）：
【０１９４】
【化９４】
2007513923.tif 000265
【０１９５】
で示される化合物が生成する］、
ｂ）  以下による式（XIX）のジホスフィンの調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０１９６】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｂ）を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。適切なＰｄ触媒は、例えば、Ｐｄ（ｄｂａ）3である。
【０１９７】
本発明はまた、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で本製造法において生じる新規な中間体、具体的には式（XXII）又は（XXIII）：
【０１９８】
【化９５】
2007513923.tif 000266
【０１９９】
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、そしてＹ2は、Ｃｌ又はＢｒである］で示されるものを提供する。
【０２００】
本発明の製造法はまた、ホスフィノ基がキラル炭素原子を介してシクロペンタジエニル環に結合している、フェロセニルジホスフィン配位子、特に異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するものを調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIV）：
【０２０１】
【化９６】
2007513923.tif 000267
【０２０２】
［式中、
Ｒ’21は、水素であり、
Ｒ’22は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【０２０３】
【化９７】
2007513923.tif 000268
【０２０４】
で示される化合物と式：Ｒ21Ｒ22Ｃ（Ｏ）のアルデヒド又はケトンとを反応させて、式（XXV）：
【０２０５】
【化９８】
2007513923.tif 000269
【０２０６】
で示される化合物が生成すること、
ｂ）  以下による式（XXVI）：
【０２０７】
【化９９】
2007513923.tif 000270
【０２０８】
で示される化合物の調製、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXV）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
ｃ）  例えば、カルボン酸無水物を用いて、式（XXVI）の化合物をアシル化すること、及び
ｄ）  第２級ホスフィンを用いて、生成したＣ1−Ｃ8−アシルオキシ基を置換することにより、式（XXIV）の化合物を得ること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２０９】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。製造工程ａ）及びｂ）を実施するための手順は、同様に上述されている。フェロセンの場合には、上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。製造工程ｃ）及びｄ）は既知の反応である。
【０２１０】
この一連の反応は、例えば、以下の反応スキームにより図解することができる：
【０２１１】
【化１００】
2007513923.tif 000271
【０２１２】
本発明はまた、この製造過程でラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で生じる新規な中間体、具体的には式（XXVII）及び（XXVIII）：
【０２１３】
【化１０１】
2007513923.tif 000272
【０２１４】
［式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｙ2及び−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示されるものを提供する。
【０２１５】
本発明の製造法はまた、ホスフィノ基がシクロペンタジエニル環のフェニル置換基のオルト位に存在する、フェロセニルジホスフィン配位子、特に異なるｓｅｃ−ホスフィノ基を有するものを調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXIX）：
【０２１６】
【化１０２】
2007513923.tif 000273
【０２１７】
で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XX）：
【０２１８】
【化１０３】
2007513923.tif 000274
【０２１９】
［式中、Ｍは、好ましくは−Ｓｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）3又は−ＺｎＸ3であり、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と１−ブロモ−２−ヨードベンゼン又は１，２−ジヨードベンゼンとの、Ｐｄ触媒の存在下での反応［これによって式（XXX）：
【０２２０】
【化１０４】
2007513923.tif 000275
【０２２１】
（式中、Ｙ2は、臭素又はヨウ素である）で示される化合物が生成する］、
ｂ）  式（XXXI）：
【０２２２】
【化１０５】
2007513923.tif 000276
【０２２３】
で示されるモノホスフィンを調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXX）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること、そして
ｃ）  次にリチウムアルキル（ブチルリチウム）を用いるメタレーションと、これに続くｓｅｃ−ホスフィンハロゲン化物との反応によって、臭素又はヨウ素原子をｓｅｃ−ホスフィノ基により置換すること、あるいは
ｄ）  式（XXXII）：
【０２２４】
【化１０６】
2007513923.tif 000277
【０２２５】
で示される化合物を調製するために、式（XX）の化合物をオルト−ｓｅｃ−ホスフィノフェニルヨウ化物と、ＺｎＢｒ2のような金属ハロゲン化物及びＰｄ触媒の存在下で反応させること、そして
ｄ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｄ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２２６】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。個々の製造工程を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。製造工程ｃ）及びｄ）は既知の反応である。
【０２２７】
この一連の反応は、例えば、以下の反応スキームにより図解することができる：
【０２２８】
【化１０７】
2007513923.tif 000278
【０２２９】
本発明はまた、この製造過程においてラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で生じる新規な中間体、具体的には式（XXX）、（XXXII）、（XXXIII）及び（XXXIV）：
【０２３０】
【化１０８】
2007513923.tif 000279
【０２３１】
［式中、−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義であり、Ｙ2は、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてＲ”は、水素又は置換基、例えば、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、又は非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示されるものを提供する。
【０２３２】
本発明の製造法はまた、ホスフィン基が各シクロペンタジエニル環に結合しており、そしてキラルα−炭素原子を有していてもよい置換炭化水素ラジカルが、これに対してオルト位に存在する、フェロセニルジホスフィン配位子を調製するのに特に有用である。本発明の製造法の更に別の好ましい実施態様は、ラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形の、式（XXXV）：
【０２３３】
【化１０９】
2007513923.tif 000280
【０２３４】
［式中、
Ｒ24は、式：−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ3のラジカル又はＲ28基であり、
Ｒ25は、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｒ26は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルであり、
Ｙ3は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ8−アシルオキシ又はｓｅｃ−アミノであり、そして
Ｒ28は、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ3−Ｃ8−シクロアルキル、非置換又はＦ−、Ｃ1−Ｃ6−アルキル−若しくはＣ1−Ｃ6−アルコキシ−置換されたフェニル又はベンジルである］で示される化合物を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）  式（XXXVI）：
【０２３５】
【化１１０】
2007513923.tif 000281
【０２３６】
［式中、
−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基は、上記と同義である］で示される化合物と、式：ＣＲ25Ｒ26＝Ｙ4［ここで、Ｙ4は、＝Ｏ又は＝Ｎ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である］のアルデヒド又はケトン又はイミンとの、又はハロゲン化物Ｒ28Ｙ6［ここで、Ｙ6は、Ｃｌ、Ｂｒ又はヨウ素である］とを反応させて、式（XXXVII）：
【０２３７】
【化１１１】
2007513923.tif 000282
【０２３８】
（式中、
Ｒ27は、−ＣＲ25Ｒ26−Ｙ5又はＲ28基である（ここで、Ｒ25及びＲ26は、上記と同義であり、そしてＹ5は、−ＯＨ又は−ＮＨ（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）である））で示される化合物が生成すること、ＮＨ基をアルキル化し、適宜、ＯＨ基をアルキル化又はアシル化し、そして適宜、ｓｅｃ−アミノによりアシルオキシ基を置換すること、そして
ｂ）  式（XXXV）の化合物を調製するために、
ｂ１）  存在する任意のボラン基を式（XXXVII）の化合物から脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に有機金属化合物（グリニャール試薬）を用いて、Ｃｌ又はＢｒ原子を炭化水素ラジカルにより置換することによって、ｓｅｃ−ホスフィノ基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること
を含むことを特徴とする方法である。
【０２３９】
上述の有利な実施態様及び好ましい実施態様は、このラジカルに当てはまる。個々の製造工程を実施するための手順は、同様に上述されている。上述されているように、少なくとも１個のキラル炭素原子を有する炭化水素ラジカルは、面性キラル及びＣ−キラルなフェロセンのジアステレオマーを調製するための光学誘導を達成するために、好ましくは−Ｐ（Ｘ1−）（Ｘ2−）----（ＢＨ3）0,1基に結合している。アルキル化、アシル化及びアミン置換に関する製造工程ａ）の変法は、既知の反応である。
【０２４０】
本発明はまた、この製造過程においてラセミ体、ジアステレオマー及びジアステレオマーの対の形で生じる新規な中間体、具体的には式（XXXVII）及び（XXXVIII）：
【０２４１】
【化１１２】
2007513923.tif 000283
【０２４２】
［式中、
Ｒ27及びＹ2は、上記と同義である］で示されるものを提供する。
【０２４３】
１，２−ジ（ＰＨ2）ベンゼン又は１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−ＰＨ2−ベンゼンはまた、以下により、本発明の製造法を用いて、簡単なやり方で調製することができる：
ａ）  式（XV）の化合物をジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィン一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）と反応させることにより、ジ（ジメチルアミノ）ホスフィノ、ジ（ジエチルアミノ）ホスフィノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシレンジアミノホスフィノのようなジ（ｓｅｃ−アミノ）ホスフィノ基を導入すること；リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）と反応させることにより、（ＣＨ3Ｏ）2（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−のようなホスホン酸エステル基を導入すること；亜リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）と反応させることにより、（ＣＨ3Ｏ）2Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2Ｐ−、（エチレンジオキシル）Ｐ−のような亜リン酸エステル基を導入すること；又は第２級ホスフィンハロゲン化物と反応させること、
ｂ１）  得られる化合物中に存在する任意のボラン基を脱離し、次に（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を（例えば、Ｌｉ（ＡｌＨ4）を用いて）水素化することにより、ＰＨ2基を形成すること、あるいは
ｂ２）  （ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2又はＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2ラジカルを開裂することにより、−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を形成し、そして次に−ＰＣｌ2基又は−ＰＢｒ2基を水素化することにより、ＰＨ2基を形成し、そして次にボラン基を脱離すること。１，２−ジ（ＰＨ2）ベンゼン及び１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−ＰＨ2−ベンゼンは、プロキラル化合物のエナンチオ選択的接触水素化用の金属錯体のキラル配位子としてのベンゼン−１，２−ジフォスフェタンを調製するための有用な中間体である。
【０２４４】
本発明の製造法により、工業規模で実施することができる、芳香族ホスフィン配位子の効率的で経済的な製造が可能になり、種々のモノホスフィン及びジホスフィンを製造するための多種多様な可能性が得られる。
【０２４５】
以下の実施例により本発明を説明する。
【０２４６】
Ａ）  ハロホスフィンの調製
実施例Ａ１：下記化合物の調製
【０２４７】
【化１１３】
2007513923.tif 000284
【０２４８】
アルゴン注入口を備えた５００ml丸底フラスコ中で、アルゴン下でＰＣｌ3（７．３８ｇ、５３．７５mmol）を無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、１５０ml）に溶解して、氷浴中でこの溶液を０℃に冷却した。トリエチルアミン（１１．９７ｇ、１１８．２５mmol、２．２０当量）を滴下により加え、次に（Ｓ）−メトキシメチルピロリジン（１２．６９ｇ、１１０．１９mmol、２．０５当量）を滴下によりゆっくり加えた。添加中、白色の沈殿物の形成を観測した。氷浴を取り外し、得られた懸濁液を一晩（１４時間）室温（ＲＴ）で撹拌した。両頭型フリットフィルターを用いて、生成した白色の沈殿物をアルゴン下で濾別して、無水ＴＨＦ（２×２５ml）で洗浄した。得られた帯黄色の濾液の31Ｐ−ＮＭＲスペクトル（Ｃ6Ｄ6）を記録した。こうして得られた溶液を、更に精製することなく反応させた。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：１５４．３（ｓ）。
【０２４９】
実施例Ａ２：下記化合物の調製
【０２５０】
【化１１４】
2007513923.tif 000285
【０２５１】
（Ｒ）−メトキシメチルピロリジンを使用して、実施例Ａ１の手順を繰り返した。
【０２５２】
実施例Ａ３：下記化合物の調製
【０２５３】
【化１１５】
2007513923.tif 000286
【０２５４】
シクロヘキサン／ヘキサン（９８：２）中の１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液８．６ml（１１．２mmol）を、ＴＨＦ  ７０ml中のＮ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１．４８ml（１１．４mmol）の溶液に−７８℃で滴下により加えた。続いてこの混合物を−２０℃で２０分間撹拌した。−７８℃に冷却して戻した後、ＴＨＦ  １４０ml中のＰＣｌ3  ０．４７ml（５．４mmol）の溶液を滴下により加え、そして撹拌しながら一晩この混合物がＲＴまで温まるのを待った。高真空下で溶媒を留去することにより、油状物質として標題化合物を得て、これは、更に精製することなく次に使用することができた。
【０２５５】
実施例Ａ４：下記化合物の調製
【０２５６】
【化１１６】
2007513923.tif 000287
【０２５７】
ヘキサン中の２．５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム溶液１５．４ml（３８．５mmol）を、ＴＨＦ  ３００ml中の（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシエチル）シクロヘキサン−１，２−ジアミン４．２０ｇ（１８．２mmol）に−７８℃で滴下により加えた。続いてこの混合物を−２０℃で２０分間撹拌し、次に−７８℃に冷却して戻し、ＰＣｌ3  ３．６０ml（４１．３mmol）を加えた。撹拌しながら一晩この混合物がＲＴまで温まるのを待った。溶媒及び過剰のＰＣｌ3を減圧下で留去することにより、化合物Ａ４を粘性油状物として得たが、これは更に精製することなく次に使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：１７３．７（ｓ）。
【０２５８】
Ｂ）  芳香族モノホスフィン及びジホスフィンの調製
実施例Ｂ１：下記化合物の調製
【０２５９】
【化１１７】
2007513923.tif 000288
【０２６０】
アルゴン注入口を備えた１ｌ丸底フラスコ中で、アルゴン下でフェロセン（１０．００ｇ、５３．７５mmol）及びカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（７５４mg、６．７２mmol、０．１２５当量）を無水ＴＨＦ（１００ml）に溶解した。この溶液を−７８℃に冷却して、ｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５Ｍ；７１．６７ml、１０７．５０mmol、２．００当量）を４５分間かけて滴下により加えた。この溶液を−７８℃で１．５時間撹拌して、ｎ−ヘプタン（７５ml）と混合した。得られた沈殿物が沈降後、アルゴン圧下−７８℃で中空針を用いて上清を除去した。沈殿物をｎ−ヘプタン（６０ml）で−７８℃で洗浄し、中空針を用いて洗浄液を再度除去した。この手順を３回繰り返した。得られた沈殿物を無水ＴＨＦ（５０ml）に溶解して、ＴＨＦ（２００ml）中のＡ１（５３．７５mmol、１．００当量）の溶液を−７８℃で１．５時間かけて滴下により加えた。ＲＴまで温めながら、この溶液を一晩（１４時間）撹拌した。続いてボラン−硫化ジメチル複合体（５．１０ml、５３．７５mmol、１．００当量）を滴下により加え、この混合物をＲＴで一晩撹拌した。この反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）で加水分解して、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）（３×１００ml）で抽出した。合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。粗生成物（２４．１８ｇ）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。標題化合物（１７．２３ｇ、理論値の７０％）を橙色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：８０．８（ｍ、ブロード）。
【０２６１】
実施例Ｂ２：下記化合物の調製
【０２６２】
【化１１８】
2007513923.tif 000289
【０２６３】
ヘキサン中の１．６Ｍ  ｎ−ブチルリチウム溶液１７．９mmolを、ＴＨＦ  １５ml中のブロモフェロセン４．５３ｇ（１７．１mmol）の溶液に−７８℃で滴下により加え、この混合物をこの温度で１０分間撹拌した。次に温度が０〜５℃（氷冷）に上昇するのを待って、ＴＨＦ  ７８ml中の実施例Ａ２からの化合物１８．８mmolの溶液を滴下により加え、この混合物をＲＴで一晩撹拌した。続いて溶媒を除去して、粗生成物を短いカラム（フルカ（Fluka）製シリカゲル６０、溶離液：ＴＢＭＥ）で精製した。着色画分をロータリーエバポレーターで蒸留することにより、橙色のほぼ固体の油状物を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７０．７（ｓ）。
【０２６４】
実施例Ｂ３：下記化合物の調製
【０２６５】
【化１１９】
2007513923.tif 000290
【０２６６】
ａ）  下記化合物の合成
【０２６７】
【化１２０】
2007513923.tif 000291
【０２６８】
アルゴン注入口を備えた０．５ｌ丸底フラスコ中で、アルゴン下でフェロセン（４．００ｇ、２１．５mmol）及びカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３０５mg、２７mmol、０．１２５当量）を無水ＴＨＦ（１００ml）に溶解した。この溶液を−７８℃に冷却して、ｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５Ｍ；２９ml、４３mmol、２．００当量）を４５分間かけて滴下により加えた。この溶液を−７８℃で１．５時間撹拌して、ｎ−ペンタン（７５ml）の添加によりフェロセニルリチウムが沈殿した。得られた沈殿物が沈降後、アルゴン圧下−７８℃で中空針を用いて上清を除去した。ペンタンによる溶媒の置換後、無水エーテル３０ml中のビス（ジエチルアミノ）クロロホスフィン（４．０４ｇ、１９．３mmol）の溶液を加えて、一晩この混合物が室温まで温まるのを待った。暗橙色の溶液をデカントし、高真空で溶媒を留去し、無水トルエン５０mlに溶解して、０℃でボラン−硫化ジメチル（１０Ｍ、２．３２ml、２３．２mmol）と混合した。室温で１時間後、減圧下で溶媒を留去して、ペンタンからの再結晶後、橙色の固体（６．８７ｇ、９５％）として生成物を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：δ＝９０．２（ｑ、Ｊ＝８３Hz）。
【０２６９】
ｂ）  ａ）に記載されたように調製した化合物（３７４mg、１．０mmol）を脱気モルホリン（５．０ml）と一緒にアルゴン下１００℃で一晩加熱し、続いて高真空で溶媒を留去し、無水エーテルにとり、そして０℃でエーテル中のＨＣｌ（２．０Ｍ、５ml、１０mmol）を滴下により加えた。室温で２時間後、この混合物をアルゴン下で濾過して、溶媒容量を約５mlまで減少させた。０℃で、無水ジエチルエーテル中のエチル3Ｎの溶液及び（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ビスメトキシエチルシクロヘキサン−１，２−ジアミン（２０５mg、０．９mmol）を加えた（このジアミンの調製は、A. Alexakis, A.S. Chauvin, R. Stouvenel, E. Vrancken, S. Mutti, P. Mangeney, Tetrahedron: Asymmetry 2001, 12, 1171により記載されるとおり）。この反応混合物は、ＲＴで一晩撹拌し、次に濾過して、トルエン（６ml）との留去後、０℃でボラン−硫化ジメチル（１０．０Ｍ、０．１２ml、１．２mmol）と混合した。ヘキサン：酢酸エチル（５：１）を用いてアロックス（Alox）カラムで精製することにより、橙色の固体２５０mg（０．５５mmol、６１％）を得た（５５％）。
【０２７０】
【表１】
2007513923.tif 000292
【０２７１】
ｃ）  標題化合物を調製するための代替法：
代替法として、標題化合物は、フェロセニルリチウムを実施例Ａ４からの化合物と反応させることにより調製することができた。
【０２７２】
フェロセニルリチウムは、R. SandersとU.T. Mueller-Westerhoff（J. Organomet. Chem. 1996, 219）の方法により、フェロセン３．６ｇ（１９mmol）、無水ＴＨＦ  １８０ml中のカリウムｔ−ブトキシド０．２６ｇ（２．３mmol）及びペンタン中のｔ−ブチルリチウムの１．５Ｍ溶液２４．５ml（３７mmol）から調製した。続いて実施例Ａ４の化合物（（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシエチル）シクロヘキサン−１，２−ジアミン１８mmolから出発するバッチからの粗生成物）の前もって冷却した懸濁液を、−７８℃で滴下により加えた。一晩この反応混合物がＲＴまで温まるのを待って、生成したＬｉＣｌを保護ガス下で濾過により除去して、１０．０Ｍボラン−硫化ジメチル溶液２．２ml（２２mmol）を０℃で加えた。アロックスＮカラムでのクロマトグラフィー［ヘキサン：酢酸エチル（１０：１）］により精製し、高真空（ＨＶ）で乾燥することにより、標題化合物４．３ｇ（５２％）を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：δ＝１０４．５（ｑ、ＪPB＝８７Hz）。
【０２７３】
実施例Ｂ４：下記化合物の調製
【０２７４】
【化１２２】
2007513923.tif 000293
【０２７５】
ａ）  フェロセニルリチウムは、R. SandersとU.T. Mueller-Westerhoff（J. Organomet. Chem. 1996, 219）の方法により、フェロセン１．１ｇ（５．９mmol）、無水ＴＨＦ  ５０ml中のカリウムｔ−ブトキシド８３mg（０．７２mmol）及びペンタン中のｔ−ブチルリチウムの１．５Ｍ溶液７．７０ml（１２mmol）から調製した。続いて実施例Ａ３の化合物（Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１１mmolから出発するバッチからの粗生成物）の前もって冷却した懸濁液を−７８℃で滴下により加えた。一晩この反応混合物がＲＴまで温まるのを待って、生成したＬｉＣｌを濾過により除去して、溶媒を高真空で留去した。これにより、橙色の油状物１．５ｇを得たが、これは等量のフェロセンとボランを含まない標題化合物からなっている（４２％）。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：９３．９（ｓ）。
【０２７６】
ｂ）  １０．０Ｍボラン−硫化ジメチル溶液０．１１ml（１．１mmol）を、トルエン３ml中の工程ａ）に記載されたように調製した化合物２２１mg（０．３７mmol）の溶液に０℃で加えた。シリカゲルのクロマトグラフィー精製［溶離液＝ヘキサン：酢酸エチル（２：１）］及び高真空での乾燥により、ボラン含有標題化合物１５２mgを橙色の油状物として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１６２MHz）：δ＝９４．６（ｑ、ＪPB＝９４Hz）。
【０２７７】
実施例Ｂ５：
【０２７８】
【化１２３】
2007513923.tif 000294
【０２７９】
ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．６Ｍ）１０．９５ml（１７．５１mmol）を、ヘキサン２．５ml中のテトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）２．６３ml（１７．５１mmol）に加えた。ヘキサン５９ml中のフェロセン１．３２ｇ（７．１mmol）の溶液を、生じた溶液に撹拌しながら滴下により加えて、この反応混合物を更に一晩撹拌した。続いて生じた橙褐色の反応混合物をアルゴン圧下でカニューレを介して、０〜５℃に冷却しておいた、ＴＨＦ  ８０ml中の実施例Ａ１の化合物１８mmolの溶液を含む容器に移した。ＲＴで一晩撹拌後、過剰のボラン−ＴＨＦ複合体（５０mmol、ＴＨＦ中１Ｍ）を反応混合物に加えた。２時間撹拌後、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。残渣を水／ＴＢＭＥにとり、ＴＢＭＥ（ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル）で数回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲルのクロマトグラフィー（溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ、３：１）により、標題化合物３．９ｇを帯赤橙色の油状物として得た（収率：７５％）。1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、３００MHz、一部の特性シグナル）：４．８１（ｍ、４Ｈ、シクロペンタジエン）、４．６２〜４．６７（ｍ、４Ｈ、シクロペンタジエン）、３．２２（ｓ、６Ｈ、Ｏ−ＣＨ3）、３．１２（ｓ、６Ｈ、Ｏ−ＣＨ3）。
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７９．４（ｍ、ｂｒ）。
【０２８０】
Ｃ）  メタレートされた芳香族モノホスフィン及びジホスフィンの調製
実施例Ｃ１：下記化合物の調製
【０２８１】
【化１２４】
2007513923.tif 000295
【０２８２】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ１の化合物（１．００ｇ、２．１８mmol）を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｓｅｃ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した。２種の可能性あるジアステレオマーのうちの一方が優先的に生成した。
【０２８３】
ＮＭＲを用いるリチオ化標題化合物の特性決定：
この目的で、無水ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）１．０ml中の化合物（４５mg、０．１０mmol）を−７８℃でシクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液８６μl（０．１１mmol）と混合して、この混合物を−３０℃で２時間撹拌した。高真空で溶媒を留去し、残渣を−３０℃で無水ペンタン各回３mlで３回洗浄し、高真空で乾燥し、続いて−３０℃で無水ｄ8−トルエン０．７ml又は無水ｄ10−ジエチルエーテル０．７mlのいずれかに溶解した。溶液をＮＭＲ管に移した後、種々のＮＭＲ測定を行った。
ｄ10−Ｅｔ2Ｏ中での特性ＮＭＲシグナル：
【０２８４】
【表２】
2007513923.tif 000296
【０２８５】
測定後、ＮＭＲ試料はトリメチルクロロシラン１．６当量と反応させた。ＮＭＲスペクトルによると、２種の可能性あるジアステレオマーのオルト置換化合物のうちの一方のみが生成した。
【０２８６】
ｄ8−トルエン中のＮＭＲ実験のために、ＴＭＥＤＡ  ４６μl（０．３１mmol）をリチオ化化合物に加えた。特性ＮＭＲシグナル：
【０２８７】
【表３】
2007513923.tif 000297
【０２８８】
実施例Ｃ２：下記化合物の調製
【０２８９】
【化１２６】
2007513923.tif 000298
【０２９０】
実施例Ｂ３の化合物４５９mg（１．０mmol）を無水Ｅｔ2Ｏ  １０mlに溶解した。−７８℃に冷却後、出発物質は部分的に沈殿し、生じた懸濁液をシクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．８５ml（１．１mmol）と反応させた。この添加中、橙色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した。２種のジアステレオマーのうちの一方が優先的に生成した。
【０２９１】
ＮＭＲを用いる第１のリチオ化標題化合物の特性決定：
無水Ｅｔ2Ｏ  ２．５ml中のこの化合物４６mg（０．１０mmol）を、シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液８５μl（０．１１mmol）を用いてオルト−リチオ化した。この懸濁液から高真空で溶媒を留去し、残渣を無水ペンタン各回３mlで３回洗浄し、高真空で−３０℃で乾燥後、橙色の固体を無水ｄ8−トルエン０．７mlに溶解した。この溶液をＮＭＲ管に移した後、ＮＭＲ測定を行った：
特性ＮＭＲシグナル：
【０２９２】
【表４】
2007513923.tif 000299
【０２９３】
測定後、ＮＭＲ試料はトリメチルクロロシラン１．６当量と反応させた。ＮＭＲスペクトルによると、２種の可能性あるジアステレオマーのオルト置換化合物のうち一方のみが生成した。
【０２９４】
実施例Ｃ３：下記化合物の調製
【０２９５】
【化１２７】
2007513923.tif 000300
【０２９６】
ジエチルエーテル１．０ml中の実施例Ｂ５の化合物０．１４mmolの溶液を−７８℃に冷却した。これによって、出発物質が明黄色の固体として部分的に沈殿した。この懸濁液をシクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．１０ml（０．１４mmol）と混合した。続いてこの混合物を−２５℃で２時間撹拌した。これによって、暗赤色の溶液の生成が起こった。
【０２９７】
この反応混合物をトリメチルクロロシラン３２μl（０．２２mmol）と反応させると、オルト位がシリル化された化合物が８０％を超える収率で得られた。
【０２９８】
Ｄ）  オルト置換モノホスフィン及びジホスフィンの調製
実施例Ｄ１：下記化合物の調製
【０２９９】
【化１２８】
2007513923.tif 000301
【０３００】
実施例Ｃ１からの懸濁液を２時間撹拌し、次に２−ブロモベンズアルデヒド（４８５mg、２．６２mmol、１．２当量）を−３０℃で滴下により加え、次に冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら懸濁液を一晩（１４時間）撹拌した。この反応混合物を、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で加水分解し、ＴＢＭＥ（１００ml）を加え、次に有機相を分離して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。フェロセニルアルコールＤ１（８４９mg、１．３２mmol、６１％）及びフェロセニルアルコールＤ’１（３３４mg、０．５２mmol、２４％）を橙褐色の固体として得た。更に、実施例Ｂ１の未反応化合物（１５０mg、０．３３mmol、１５％）を褐色の油状物の形で回収した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７３．３（ｍ、ｂｒ）。
【０３０１】
実施例Ｄ２：下記化合物の調製
【０３０２】
【化１２９】
2007513923.tif 000302
【０３０３】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ１の化合物（１０４mg、０．２３mmol）を無水ＴＢＭＥ（１．００ml）及びｎ−ヘキサン（１．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質が沈殿した。ｓｅｃ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；０．１８ml、０．２４mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した（実施例Ｃ１の化合物）。−３０℃で３時間撹拌後、クロロジフェニルホスファン（６１mg、０．２８mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この溶液を一晩（１４時間）撹拌した。この反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（２０ml）を加え、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。標題化合物（１４２mg）を褐色の油状物の形で得たが、これはなお実施例Ｂ１の出発化合物が混入していた。単離した油状物は、しばらく空気中に放置すると結晶化して、褐色の固体を得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７７．９（ｍ、ｂｒ）、−２５．１（ｓ）。
【０３０４】
実施例Ｄ３：下記化合物の調製
【０３０５】
【化１３０】
2007513923.tif 000303
【０３０６】
シクロヘキサン中の１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．５９mmolを、ＴＢＭＥ  １ml及びヘキサン１ml中の実施例Ｂ２の化合物２００mg（０．４５mmol）の溶液に−３０℃で滴下によりゆっくり加えて、この赤色の溶液をこの温度で２時間撹拌した。次にＣｌ−フェニル2  ０．１１ml（０．５９mmol）を加えた。生じた橙色の懸濁液を−３０℃で２時間撹拌し、続いて温度が室温まで上昇するのを待った。飽和ＮａＨＣＯ3  ２ml及びＴＢＭＥ  ２mlをこの混合物に加えて、この混合物を撹拌した。セライトにより濾過し、有機相を水３×５mlで洗浄して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去した。クロマトグラフィー（フルカ製シリカゲル６０、溶離液＝ヘキサン／酢酸エチル、２：３及び３％のＮエチル3）により、橙色の油状物を得たが、これはＮＭＲによると、２種の可能性あるジアステレオマーのうち主として一方からなっていた。
【０３０７】
【表５】
2007513923.tif 000304
【０３０８】
実施例Ｄ４：下記化合物の調製
【０３０９】
【化１３１】
2007513923.tif 000305
【０３１０】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ１の化合物（１．００ｇ、２．１８mmol）を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体が徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した（実施例Ｃ１の化合物）。−３０℃で２時間撹拌後、ＣｌＰ（Ｎエチル2）2（５５１mg、２．６２mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この懸濁液を２時間撹拌した。続いてＢＨ3−Ｓメチル2（０．２５ml、２．６２mmol、１．２当量）を滴下により加え、この懸濁液をＲＴで一晩（１４時間）撹拌した。この反応混合物を飽和ＮａＣｌ溶液（５０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（５０ml）を加えて、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。標題化合物（１．１０ｇ、１．７１mmol、７８％）を橙色の固体の形で得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：９９．７〜９９．０（ｍ、ｂｒ）、７９．９〜７９．５（ｍ、ｂｒ）。
【０３１１】
実施例Ｄ５：下記化合物の調製
【０３１２】
【化１３３】
2007513923.tif 000306
【０３１３】
化合物Ｂ３（４５．６mg、０．１０mmol）及び無水ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）２mlを０℃で反応容器に入れて、ｓｅｃ−ブチルリチウム（シクロヘキサン／ヘキサン中１．３Ｍ、７７μl、０．１０mmol）を滴下によりゆっくり加えた。０℃で２時間後、クロロトリメチルシラン（２１μl、０．１６mmol）をゆっくり加え、続いて一晩この混合物が室温まで温まるのを待った。高真空（ＨＶ）での溶媒の留去とクロマトグラフィー精製（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル、７：１）により、標題化合物を８１％の収率で得た。２種の可能性あるジアステレオマーのうち事実上一方のみを得た。特性ＮＭＲシグナル：
【０３１４】
【表６】
2007513923.tif 000307
【０３１５】
実施例Ｄ６：（１）からの（２）及び（３）の調製
【０３１６】
【化１３４】
2007513923.tif 000308
【０３１７】
出発物質（１）は、文献に記載されるように調製した：Nifant'ev I.E., Boricenko A.A., Phosphorus, Sulfur and Silicon 1992, 68, 99。
【０３１８】
化合物（１）（６０．５mg、０．２０mmol）及び無水Ｅｔ2Ｏ  ２mlを−７８℃で反応容器に入れた。次にｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ、１３０μl、０．１９mmol）を滴下によりゆっくり加えた。−７８℃で２０分後、この混合物を−２５℃で更に３時間撹拌し、次に−７８℃に冷却して戻し、次いでトリメチルクロロシラン（４２μl、０．３２mmol）をゆっくり加えた。続いて一晩この混合物が室温まで温まるのを待ち、高真空で溶媒を留去することにより化合物（１）を得た。
【０３１９】
化合物（２）を確認するために、ボランを用いて、これを保護された安定な化合物（３）に変換する。ボランを用いた保護後、反応混合物は、ヘキサン／酢酸エチル（５：１）を溶離液として使用するシリカゲルカラムで精製した。化合物（３）を橙色の固体として得た（31Ｐ−ＮＭＲによると変換率＞６０％）。
【０３２０】
【表７】
2007513923.tif 000309
【０３２１】
実施例Ｄ７：下記化合物の調製
【０３２２】
【化１３５】
2007513923.tif 000310
【０３２３】
実施例Ｄ２の化合物１．２ｇ（１．８７mmol）をジエチルアミン６ml中で２１時間還流した。次に揮発性成分をロータリーエバポレーターで除去した。残渣をジエチルアミン各回２〜３mlで３回処理し、１時間還流して、ジエチルアミンを再度除去した。続いてＴＢＭＥ  ３〜５mlを３回この残渣に加え、撹拌して、ＴＢＭＥを４８℃で高真空で除去した。生成物は、橙色の油状物として事実上定量的に得た。
【０３２４】
【表８】
2007513923.tif 000311
【０３２５】
実施例Ｄ８：下記化合物の調製
【０３２６】
【化１３６】
2007513923.tif 000312
【０３２７】
シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液１．２当量を、ジエチルエーテル１．０ml中の実施例Ｂ１の化合物０．０９mmolの溶液に−７８℃で滴下により加えた。−３０℃で２時間撹拌後、トリメチルクロロシラン１．６当量を加えた。ＮＭＲによると、生成物は、９３％のオルト置換化合物と７％の出発物質からなっていた。シリカゲルカラムでの精製（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル（１０：１））により、標題化合物を橙色の固体として得た。特性ＮＭＲシグナル：
【０３２８】
【表９】
2007513923.tif 000313
【０３２９】
実施例Ｄ９：下記化合物の調製：
【０３３０】
【化１３７】
2007513923.tif 000314
【０３３１】
無水Ｅｔ2Ｏ  １０ml中の実施例Ｂ３の化合物４５９mg（１．０mmol）を、シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．８５ml（１．１mmol）と−７８℃で反応させ、この混合物を０℃で２時間撹拌し、続いて無水Ｅｔ2Ｏ  ５ml中の２−ブロモベンズアルデヒド０．１４ml（１．２mmol）の溶液を滴下により加えた。一晩ＲＴまで温めた後、この混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で加水分解し、相を分離し、水相をジクロロメタンで抽出して、合わせた有機相を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄した。ＭｇＳＯ4で乾燥してロータリーエバポレーターで溶媒を留去することにより、ジアステレオマーの（７３：２７）混合物を得たが、これはシリカゲルのクロマトグラフィー精製［溶離液：ペンタン：Ｅｔ2Ｏ（２：１）］により相互に分離することができた。これによって、一方のジアステレオマー３１４mg（４９％）ともう一方のジアステレオマー１２５mg（１９％）を暗橙色の結晶として得た。主画分の特性決定（特性ＮＭＲシグナル）：
【０３３２】
【表１０】
2007513923.tif 000315
【０３３３】
第２画分の特性決定（特性ＮＭＲシグナル）：
【０３３４】
【表１１】
2007513923.tif 000316
【０３３５】
実施例Ｄ１０：下記化合物の調製
【０３３６】
【化１３８】
2007513923.tif 000317
【０３３７】
ジエチルエーテル１．０ml中の実施例Ｂ５の化合物０．１４mmolの溶液を−７８℃に冷却して、シクロヘキサン：ヘキサン（９２：８）中のｓ−ブチルリチウムの１．３Ｍ溶液０．１０ml（０．１４mmol）と混合した。続いてこの混合物を−２５℃で２時間撹拌した。トリメチルクロロシラン３２μl（０．２２mmol）を、生じた暗赤色の溶液に加え、そしてこの反応混合物を室温で１時間撹拌した。精製及び特性決定のために、ボランを用いてこの化合物を保護した。この目的で、１０．０Ｍボラン−硫化ジメチル溶液０．５mmolを加えた。８３％のオルト置換化合物及び１７％の出発物質を得た。両方の化合物をボランにより保護した。
【０３３８】
ボラン保護オルト置換化合物の特性ＮＭＲシグナル：
【０３３９】
【表１２】
2007513923.tif 000318
【０３４０】
実施例Ｄ１１：下記化合物の調製
【０３４１】
【化１３９】
2007513923.tif 000319
【０３４２】
１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．７７ml（０．５９mmol）を、ＴＢＭＥ／ヘキサン（１：１）４ml中の化合物Ｂ１  １５３mg（０．３３mmol）の橙色の懸濁液に−３０℃で滴下により加えた。この反応混合物をこの温度で３時間撹拌した。この間に、最初に橙色の溶液が生成し、次にこれは懸濁液に変化して戻った。続いてクロロトリメチルシラン０．１５ml（１．１７mmol）を−３０℃で滴下により加えた。冷却装置を外して、反応混合物を室温で一晩撹拌し、続いて水／ＴＢＭＥ中で数回抽出した。有機相を回収し、硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲル６０のクロマトグラフィー（溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ、２０：１）により、標題化合物を良好な収率で橙色の固体として得た。
【０３４３】
【表１３】
2007513923.tif 000320
【０３４４】
実施例Ｄ１２：下記化合物の調製
【０３４５】
【化１４０】
2007513923.tif 000321
【０３４６】
１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．４５ml（０．５８mmol）を、ＴＢＭＥ／ヘキサン（１：１）４ml中の実施例Ｂ６の化合物２０４mg（０．２８mmol）の橙色の懸濁液に−３０℃で滴下により加えた。この反応混合物をこの温度で３時間撹拌した。この間に、これは赤色になり、そして少量の赤色物質が沈殿した。続いてこの混合物を−４０℃に冷却して、クロロトリメチルシラン０．１１ml（０．８４mmol）を滴下により加えた。冷却装置を外して、反応混合物を室温で一晩撹拌して、水／ＴＢＭＥ中で数回抽出した。有機相を回収し、硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲル６０のクロマトグラフィー（溶離液：塩化メチレン）により、標題化合物を良好な収率で橙色の固体として得た。特性ＮＭＲシグナル：
【０３４７】
【表１４】
2007513923.tif 000322
【０３４８】
実施例Ｄ１３：下記化合物の調製
【０３４９】
【化１４１】
2007513923.tif 000323
【０３５０】
１．３Ｍ  ｓ−ブチルリチウム溶液０．２３ml（０．２９mmol）を、ＴＢＭＥ／ヘキサン（１：１）４ml中の実施例Ｂ６の化合物２０３mg（０．２８mmol）の橙色の懸濁液に−３０℃で滴下により加えた。この反応混合物をこの温度で３時間撹拌した。続いて生じた橙色の懸濁液を−４０℃に冷却して、クロロトリメチルシラン０．２２ml（０．４２mmol）を滴下により加えた。冷却装置を外して、反応混合物を室温で一晩撹拌し、続いて水／ＴＢＭＥ中で数回抽出した。有機相を合わせて、硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターで減圧下で溶媒を留去した。シリカゲル６０のクロマトグラフィー（溶離液：塩化メチレン）により、標題化合物を良好な収率で橙色の実質的に固体状の油として得た。
【０３５１】
【表１５】
2007513923.tif 000324
【０３５２】
実施例Ｄ１４：下記化合物の調製
【０３５３】
【化１４２】
2007513923.tif 000325
【０３５４】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、化合物Ｂ１（１．００ｇ、２．１８mmol）を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解して、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これによって、黄色の固体として出発物質の沈殿が起こった。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下により加えた。この添加中、黄色の固体は徐々に溶液になり、この溶液は橙赤色になり、そして約３０分後に橙色の固体が沈殿した。−３０℃で２時間撹拌後、ＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ（６８０mg、２．６２mmol、１．２当量）を滴下により加え、冷却浴を取り外して、ＲＴまで温めながら、この懸濁液を２時間撹拌した。この反応混合物をロータリーエバポレーターで高真空で蒸発乾固して、精製することなく更に工程ｂ）で使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７６．５（ｍ）。
【０３５５】
Ｅ）  ジホスフィンの調製
実施例Ｅ１：下記化合物の調製
【０３５６】
【化１４３】
2007513923.tif 000326
【０３５７】
ａ）  下記化合物の調製
【０３５８】
【化１４４】
2007513923.tif 000327
【０３５９】
２Ｍ  ＨＣｌ／ジエチルエーテル溶液の形のＨＣｌ  ４当量を、ＴＢＭＥ  ２０ml中の実施例Ｄ２の化合物（前もって実施例Ｄ７に記載されるやり方と同様にジエチルアミンで処理することにより、ボランを除いた）１．１０ｇ（１．７５mmol）の溶液に０℃で撹拌しながら加えることにより、沈殿物の形成が起こった。０℃で更に１時間撹拌後、この沈殿物をアルゴン下で濾別して、ＴＢＭＥで数回洗浄した。高真空で濾液から溶媒を留去して、橙色の生成物をＮＭＲを用いて特性決定した。
【０３６０】
【表１６】
2007513923.tif 000328
【０３６１】
得られた生成物は、精製することなく続く工程ｂ）で使用した。
【０３６２】
ｂ）標題化合物の調製
工程ａ）に記載されたように得られた生成物をＴＨＦ  １０mlに溶解して、31Ｐ−ＮＭＲにより目的生成物が定量的に生成するまで、−４０℃で塩化メチルマグネシウム溶液と混合した（２〜４当量）。処理及びクロマトグラフィー後、生成物を橙色の固体として単離した。ＮＭＲスペクトルは、文献に報告されたスペクトルと一致した（Kaganら, Eur. J. Org. Chem. (2000) 2893-9）。
【０３６３】
実施例Ｅ２：下記化合物の調製
【０３６４】
【化１４５】
2007513923.tif 000329
【０３６５】
ａ）  下記化合物の調製
【０３６６】
【化１４６】
2007513923.tif 000330
【０３６７】
アルゴン注入口を備えた５０ml丸底フラスコ中で、アルゴン下で水素化カリウム（３２mg、０．７９mmol、１．３当量）を無水ＴＨＦ（０．５０ml）に懸濁して、０℃に冷却した。ＴＨＦ（３．５ml）中の実施例Ｄ１からの化合物Ｄ１（３９０mg、０．６１mmol）の溶液を滴下によりゆっくり加えることにより、事実上全ての水素化カリウムが溶液になった。得られた橙色の懸濁液をＲＴで１．５時間撹拌し、続いて０℃に冷却して戻した。ヨウ化メチル（９５mg、０．６７mmol、１．１０当量）を滴下により加えた。この添加中、白色の沈殿物の形成を観測した。この懸濁液を０℃で１０分間及びＲＴで１時間撹拌した。この懸濁液をＴＢＭＥ（１０ml）と混合して、水（１０ml）で加水分解した。有機相を分離して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去して、粗生成物（黄色の固体）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１→３：１）により精製した。この化合物（３６３mg、０．５５mmol、９１％）を橙黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：７５．３（ｍ、ｂｒ）。
【０３６８】
ｂ）  下記化合物の調製
【０３６９】
【化１４７】
2007513923.tif 000331
【０３７０】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、工程ａ）に記載されたように調製した化合物（５００mg、０．７６mmol）をジエチルアミン（３．００ml）にアルゴン下で溶解して、５０℃で一晩（１４時間）撹拌した。続いて全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。得られた残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（各回２．００ml）に３回溶解して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（１０ml）に溶解して、この溶液を０℃に冷却した。ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｍ；１．５２ml、３．０４mmol、４．００当量）を滴下により加えることによって、白色の沈殿物の形成が起こった。０℃で２０分間撹拌後、この懸濁液をアルゴン下で両頭型フリットフィルターを用いて濾過した。得られた黄色の濾液を−３０℃に冷却して、フェニルＭｇＣｌ溶液（ＴＨＦ中２Ｍ；３．８０ml、７．６０mmol、１０．００当量）を滴下により加えた。この反応混合物をＲＴまで温めながら３日間撹拌して、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解した。有機相を分離して、水相をＴＢＭＥ（５０ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、２０：１）により精製した。標題化合物を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２０．５（ｓ）。
【０３７１】
実施例Ｅ３：下記化合物の調製
【０３７２】
【化１４８】
2007513923.tif 000332
【０３７３】
ａ）  下記化合物の調製
【０３７４】
【化１４９】
2007513923.tif 000333
【０３７５】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、実施例Ｄ１からの化合物Ｄ’１（５００mg、０．７８mmol）をジエチルアミン（３．００ml）にアルゴン下で溶解して、この混合物を５０℃で一晩（１４時間）撹拌した。続いて全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。得られた残渣（橙褐色の油状物）をジエチルアミン（各回２．００ml）に３回溶解して、この溶液を５０℃で３０分間撹拌して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（２ml）に２回溶解して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。この化合物（４０１mg、０．７８mmol）を橙褐色の油状物として定量的収率で得た。更に精製することなく次の工程でこの化合物を使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：１０７．７（ｓ）。
【０３７６】
ｂ）  下記化合物の調製
【０３７７】
【化１５０】
2007513923.tif 000334
【０３７８】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、工程ａ）に記載されたように調製した化合物（４０１mg、０．７８mmol）を無水ＴＢＭＥ（１０ml）に溶解して、この溶液を０℃に冷却した。ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｍ；１．５６ml、３．１１mmol、４．００当量）を滴下により加えることによって、白色の沈殿物の形成が起こった。０℃で３０分間撹拌後、この懸濁液をアルゴン下で浸漬フリットを用いて濾過した。得られた沈殿物を無水ＴＢＭＥ（１０ml）で洗浄した。オイルポンプの真空でこの黄色の濾液を蒸発乾固して、得られた残渣を無水ＴＢＭＥ（５．００ml）及びＴＨＦ（５．００ml）に溶解した。この溶液を−３０℃に冷却して、フェニルＭｇＢｒ溶液（ＴＨＦ中１Ｍ；３．８９ml、３．８９mmol、５．００当量）を滴下により加えた。この反応混合物をＲＴまで温めながら一晩（１４時間）撹拌して、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解した。有機相を分離して、水相をＴＢＭＥ（１００ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。この化合物を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２１．５（ｓ）。
【０３７９】
ｃ）  下記化合物の調製
【０３８０】
【化１５１】
2007513923.tif 000335
【０３８１】
５０mlシュレンク管中で、工程ｂ）に記載されたように調製した化合物（１００mg、０．１８mmol）をピリジン（１．００ml）にアルゴン下で溶解して、無水酢酸（０．５０ml、４．５３mmol）を加えた。この橙褐色の溶液をＲＴで一晩（１５時間）撹拌した。続いて全ての揮発性成分をオイルポンプの真空で留去した。この化合物（１０８mg、０．１８mmol）を褐色の固体として定量的収率で得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２３．０（ｓ）。
【０３８２】
ｄ）  下記化合物の調製
【０３８３】
【化１５２】
2007513923.tif 000336
【０３８４】
５０mlシュレンク管中で、工程ｃ）に記載されたように調製した化合物（１０８mg、０．１８mmol）をアセトニトリル（２．００ml）にアルゴン下で溶解して、メチル2ＮＨ溶液（水中４０％；１．００ml）及び水（０．２０ml）を加えた。得られた帯褐橙色の溶液を９０℃で一晩（１４時間）撹拌した。オイルポンプの真空で溶媒を留去し、残渣をＣＨ2Ｃｌ2にとり、飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、有機相を分離してＮａ2ＳＯ4で乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、３：１）により精製した。この化合物（６８mg、０．１２mmol、６７％）を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２４．５（ｓ）。
【０３８５】
ｅ）標題化合物の調製
５０mlシュレンク管中で、工程ｄ）に記載されたように調製した化合物（５０mg、０．０９mmol）を無水ＴＨＦ（１．００ml）にアルゴン下で溶解して、この明黄色の溶液を−７８℃に冷却した。ｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５Ｍ；０．１１ml、０．１７mmol、２．００当量）を滴下により加えた。この溶液は、添加中に橙色になった。−７８℃で１５分間撹拌後、クロロビス（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）ホスファン（３５mg、０．１０mmol、１．２０当量）を滴下によりゆっくり加えることにより、溶液が帯黄橙色になった。冷却浴を取り外し、反応混合物をＲＴで１時間撹拌し、続いて飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（１０ml）で加水分解した。有機相を分離し、水相をＴＢＭＥ（５０ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、２：１）により精製した。標題化合物（３４mg、０．０４２mmol、４７％）を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−１８．４（ｄ）、−２５．５（ｄ）。
【０３８６】
実施例Ｅ４：下記化合物の調製
【０３８７】
【化１５３】
2007513923.tif 000337
【０３８８】
ａ）  下記化合物の調製
【０３８９】
【化１５４】
2007513923.tif 000338
【０３９０】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、実施例Ｄ１からの化合物Ｄ１（５００mg、０．７８mmol）をジエチルアミン（５．００ml）にアルゴン下で溶解して、この混合物を５０℃で一晩（１４時間）撹拌した。続いて全ての揮発性置換基をオイルポンプの真空で５０℃で除去した。得られた残渣（橙褐色の油状物）をジエチルアミン（各回３．００ml）に３回溶解し、この溶液を５０℃で３０分間撹拌して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。残渣（橙褐色の油状物）を無水ＴＢＭＥ（２ml）に２回溶解して、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプの真空で除去した。この化合物（１．６０ｇ、３．１１mmol）を橙褐色の油状物として定量的収率で得た。この化合物は、更に精製することなく次の工程で使用した。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：１０９．０（ｓ）。
【０３９１】
ｂ）  下記化合物の調製
【０３９２】
【化１５５】
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【０３９３】
アルゴン注入口を備えた１００ml丸底フラスコ中で、工程ａ）に記載されたように調製した化合物（１．６０ｇ、３．１１mmol）を無水ＴＢＭＥ（４０ml）に溶解して、この溶液を０℃に冷却した。ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｍ；６．２２ml、１２．４４mmol、４．００当量）を滴下により加えることによって、白色の沈殿物の形成が起こった。０℃で３０分間撹拌後、この懸濁液をアルゴン下で浸漬フリットを用いて濾過した。得られた沈殿物を無水ＴＢＭＥ（２０ml）で洗浄した。オイルポンプの真空でこの黄色の濾液を蒸発乾固して、得られた残渣を無水ＴＨＦ（１０．００ml）に溶解した。この溶液を−３０℃に冷却して、フェニルＭｇＢｒ溶液（ＴＨＦ中１Ｍ；１５．５５ml、１５．５５mmol、５．００当量）を滴下により加えた。この反応混合物をＲＴまで温めながら一晩（１４時間）撹拌して、飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）で加水分解した。有機相を分離して、水相をＴＢＭＥ（１００ml）で抽出し、合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥して、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ、５：１）により精製した。この化合物（８０１mg、１．４４mmol、４６％）を黄色の固体として得た。31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１MHz）：−２１．８（ｓ）。
【０３９４】
ｃ）  下記化合物の調製
【０３９５】
【化１５６】
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【０３９６】
調製は、実施例Ｅ３の工程ｃ）と同様に行った。
【０３９７】
ｄ）  下記化合物の調製
【０３９８】
【化１５７】
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【０３９９】
調製は、実施例Ｅ３の工程ｄ）と同様に行った。
【０４００】
ｅ）標題化合物の調製
調製は、実施例Ｅ３の工程ｅ）と同様に行った。
【国際調査報告】
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