(57)【要約】定盤（１）がガス状で排出されるよう構成される場合に、カプセル製品および同様な製品処理において迅速な排出と利用の可能な定盤（１）が設けられる。該定盤（１）には、基盤プレート（２）、該基盤プレート（２）を貫通して通じるよう構成される少なくとも１本の排気管（１１）ならびに該基盤プレート（２）との間で各ガス排気管（１１）と通じる高圧空間（９）を生み出すよう該基盤プレート（２）とは別に間隔をおいて配置される支持プレート（３）が含まれる。該定盤（１）には、さらに、支持プレート（３）の高圧空間（９）から遠い表面に形成される第１配列溝（１４）が含まれ、そこには複数のメサ（１５）が該溝中間の支持プレート面領域に定められるとともに、複数の孔（１９）が該溝（１４）に位置してその各々は支持プレート（３）を貫通する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤プレート、前記基盤プレートまで通ずるよう構成される前記高圧空間と通じる少なくとも１本の各ガス排気管、高圧空間をつくり出すための前記基盤プレートとは別に間隔をおいて前記基板プレートとの間に配置される支持プレート、複数のメサが前記溝の中間の前記支持プレート面の領域に定められる前記高圧空間から遠い前記支持プレート面に形成される第１溝配列、ならびに前記溝に位置するとともにそれぞれが前記支持プレートを貫通する前記支持プレートと前記高圧空間の間に拡がる複数の孔が含まれる、ガス状に排出されるよう構成されることを特徴とするカプセル製品処理および同様な処理用の定盤。
【請求項２】
予め決められた溝が相互に交叉すると同時に前記孔が前記溝の交差部に位置することを特徴とする請求項１に記載の定盤。
【請求項３】
前記メサが前記支持プレート面に形成されるとともに前記溝に通じる横溝の第２配列を有することを特徴とする請求項１あるいは請求項２に記載の定盤。
【請求項４】
予め決められる横溝が相互に交叉することを特徴とする請求項３に記載の定盤。
【請求項５】
前記第２配列がほぼ長方形、６角形、８角形あるいはその他のほぼ多角形であることを特徴とする請求項４に記載の定盤。
【請求項６】
前記第１配列がほぼ長方形、６角形、８角形あるいはその他のほぼ多角形であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項７】
前記支持プレートの周辺および前記基盤プレートの周辺がシーリングにより一体化されるよう構成されることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項８】
前記支持プレートの前記高圧空間から遠い面に複数のほぼ平行なスクラッチが含まれることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項９】
前記スクラッチがサンドペーパー、爪やすり、あるいはその他の研磨材によって形成されることを特徴とする請求項８に記載の定盤。
【請求項１０】
前記支持プレートが等間隔に離れて配置される複数のスぺーサーによって前記基盤プレートから間隔をおいて配置されることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項１１】
各前記スぺーサーが前記支持プレートにほぼ垂直に延びるその長手軸に関してほぼ円筒形であることを特徴とする請求項１０に記載の定盤。
【請求項１２】
細かい目のメッシュが前記メサによって支えられることを特徴とする請求項１から請求項１１までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項１３】
穿孔される板が前記の目の細かいメッシュによって支えられることを特徴とする請求項１２に記載の定盤。
【請求項１４】
前記各孔の上端および下端が、ガスが通過する時に各孔にベンチュリー効果をもたらすようテーパー、アールが付けられるかあるいは面取りされることを特徴とする請求項１から請求項１３までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項１５】
さらに、予め決められた数の前記第１配列溝が塞がれると同時に予め決められた数の複数の孔が前記高圧空間までのガスの通行が妨げられるよう構成される周辺に配される縁シールを有する遮断プレートが含まれることを特徴とする請求項１から請求項１４までのいずれかひとつに記載の定盤。
【請求項１６】
前記定盤がガス状に排出されるよう構成され、基盤プレートが提供され、少なくとも１本のガス排気管が前記基盤プレートまで配され、前記基盤プレートに隣接して前記基盤プレートとの間に各ガス排気管と流体が通じる高圧空間が生み出される支持プレートが配され、前記溝中間の前記支持プレート面の領域に複数のメサが設けられる前記支持プレートの前記高圧空間から遠い面に第１配列溝が配されるとともに、前記支持プレートを貫通する等間隔で離れて配置される複数の孔が配されて、前記溝ならびに前記高圧空間は前記孔を経由して流体が通じる手段が含まれることを特徴とするカプセル製品処理および同様の処理用の定盤が提供される方法。
【請求項１７】
予め決められた溝が相互に交叉するとともに前記孔が前記溝の交差部に位置することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記支持プレート面に前記溝に通じる第２配列の横溝が配される手段が含まれることを特徴とする請求項１６あるいは請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
予め決められる横溝が相互に交差することを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第２配列がほぼ長方形、６角形、８角形あるいはその他のほぼ多角形であることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１配列がほぼ長方形、６角形、８角形あるいはその他のほぼ多角形であることを特徴とする請求項１６から請求項２０までのいずれかひとつに記載の方法。
【請求項２２】
前記支持プレートの周辺ならびに前記基盤プレートの周辺をシーリングにより一体化する手段が含まれ、シールされた前記周辺により前記高圧空間が定められることを特徴とする請求項１６から請求項２１までのいずれかひとつに記載の方法。
【請求項２３】
さらに支持プレートの高圧空間から遠い面上に複数のほぼ平行なスクラッチが配置される手段が含まれることを特徴とする請求項１６から請求項２２までのいずれかひとつに記載の方法。
【請求項２４】
スクラッチがサンドペーパー、爪やすりあるいはその他の研磨材によってつくられることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記支持プレートと前記基盤プレートの中間に等間隔で離れて配置される複数のスぺーサーが配される手段が含まれることを特徴とする請求項１６から請求項２４までのいずれかひとつに記載の方法。
【請求項２６】
各前記スぺーサーがほぼ円筒形であると同時に前記支持プレートにほぼ垂直に延びるその長手軸に関して配されることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
穿孔された板が前記メッシュ上に支えられるように配される手段が含まれることを特徴とする請求項１６から請求項２６までのいずれかひとつに記載の方法。
【請求項２８】
前記メッシュ上に穿孔された板が支えられるように配される手段が含まれることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
各孔にそこをガスが通過する時にベンチュリー効果がもたらされるよう各前記孔の上端および下端にテーパー、アールをつけるかあるいは面取りされた手段が含まれることを特徴とする請求項１６から請求項２８までのいずれかひとつに記載の方法。
【請求項３０】
前記定盤上でかつ予め決められた数の前記第１配列溝上ならびに予め決められた数の複数の孔上に前記高圧空間までそこを通行するガスの通行を妨げる遮断プレートが配置される手段が含まれ、該遮断プレートに縁シールがその周辺に配されることを特徴とする請求項１６から請求項２９までのいずれかひとつに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は「ARMACEL」（登録済み商標）処理に利用される装置に関する。本処理は基本的に物品を熱形成可能なプラスチック材料の１層あるいは複数層のカプセルにすることに関わる。特に、本発明はカプセルにする間の物品が支えられるために用いられる定盤に関する。しかし、本発明はまた真空形成や同様の処理に用途を見いだすことも認められよう。
【背景技術】
【０００２】
特に、ポリスチレンや厚紙のような弱い基板、またこのような形成品をもとにした構造用品の形成用の「ARMACEL」処理ならびに装置が、「構造用品形成の方法と装置」と題する本出願人の国際ＰＣＴ特許出願番号PCT/AU95/00100（WO95/23682）、「多層構造用品」と題する国際ＰＣＴ特許出願番号PCT/AU96/00541（WO97/09166）、ならびに「構造用品形成の改善方法」と題する国際ＰＣＴ特許出願番号PCT/AU00/00250（WO 00/59709）に公開されており、これらの全３件の内容は相互参照されて本明細書にここに組込まれている。
【０００３】
さらなる明細書は２００４年６月２４日に提出された国際ＰＣＴ特許出願番号PCT/AU04/000826「物品形成の方法と装置ならびにこれによる形成物品」と題するもののものであり、これによって少なくとも部分的に流体浸透可能でもなければまたそうなるよう穿孔もされない内部構成物のカプセル化が公開されている。該出願の内容もまたここで本明細書中に相互参照として組込まれている。
【０００４】
要約すると、上記特許出願により内部構成物が定められるひとつの形状ならびに少なくともひとつの外皮を使用した構造用品の形成が公開されている。構造用品形成の基本的方法には、次の段階、すなわち、１．外皮が形成されるよう意図された熱成型可能な板の加熱、２．内部構成物と一体の加熱板の持ち込み、３．内部構成物ならびに向き合う面と内部構成物の形状に一致させる板との間の差分流体圧の加圧そして相互の一体化、ならびに、４．板が冷却されるまでの差分流体圧の維持、が含まれる。
【０００５】
流体圧差分の加圧は通常、加熱された板と内部構成物あるいは物品間のガス（通常は空気）の排気によってもたらされる。
【０００６】
この処置の間、物品は調節弁付きの導管を経由して真空タンクあるいはその他の減圧空気源に接続された定盤上に置かれると同時にこれによって支えられる。
【０００７】
「ARMACEL」処理や同様な処理類と真空形成や同様の処理類との間には大きな差が存在することが注目される。真空形成では、例えば、プラスチック材料板が鋳型上に置かれる。該板は加熱されるとともに、鋳型に一致するよう真空下で吸引される。鋳型と一致した板はその後冷却されるとともに、形成板が取り外し可能となるように真空状態が解除される。
【０００８】
内部構成物あるいは物品の形状に加熱された板を一致させる場合に、満足可能で均一な結果が得られるためには、空気が出来る限り迅速に排気されるのが望ましい。空気が排気可能である速度は真空度（差分加圧流体圧）だけでなく定盤の性質にも影響される。
【発明の開示】
【０００９】
従って、迅速かつ均一に排気可能であるとともに「ARMACEL」処理に適する定盤が提供されることが本発明の目的である。
【００１０】
本発明の第１側面によると、カプセル製品処理や同様の処理に利用する定盤が提供され、前記定盤はガス状に排出されるように構成され、前記定盤には基盤プレート、該基盤プレートを通じて連絡するよう構成される少なくとも１本の排気管、該基盤プレートと支持プレートとの間に高圧空間を生み出すよう該基盤プレートと離れて間隔をおいて配置される支持プレート、高圧空間と通じる各ガス排気管、複数のメサが支持プレート面の溝中間の領域に定められる支持プレートの高圧空間から離れた表面に形成される第１配列溝、ならびに該溝に位置すると同時にそれぞれが支持プレートを貫通する支持プレートと高圧空間との間に拡がる複数の孔が含まれる。
【００１１】
予め決められる溝は相互に交叉するとともに、孔は溝の交叉部に位置するのが好ましい。さらに、メサには支持プレート面に形成されるとともに予め決められる横溝が相互に交叉する該溝に至る横溝の第２配列があるのが好ましい。第１および第２配列はほぼ長方形、６角形、８角形あるいはその他の多角形であるのが好ましい。
【００１２】
前記支持プレートの周辺ならびに基盤プレートの周辺はシーリングにより構成されるのが好ましい。さらに、支持プレートの高圧空間から遠い表面には複数のほぼ平行なスクラッチが含まれるのが好ましい。
【００１３】
好ましい実施例では、支持プレートは一定間隔で配置される複数のスぺーサーによって基盤プレートから間隔をおいて配置されるとともに、各スぺーサーは支持プレートにほぼ垂直に延びるその長手軸に関してほぼ円筒形である。
【００１４】
目の細かいメッシュがメサによって支えられるとともに穿孔された板がこの目の細かいメッシュによって支えられることが好ましい。さらには、各孔の上端および下端はテーパーがつけられ、アールがつけられ、あるいは面取りされてガスが通過する時に各孔にベンチュリー効果がもたらされるのが好ましい。
【００１５】
定盤にはさらに周辺付近に施される縁シールのある遮断プレートが含まれるのが好ましく、該遮断プレートは予め決められた数の第１配列の予め決められた数の孔が高圧空間とのガスの往来が妨げられて遮断されるよう構成される
【００１６】
本発明の別の側面によると、カプセル製品処理および同様な処理用にガス状に排出されるよう構成される定盤が提供される方法が提供され、該方法には基盤プレートが設けられる手段が含まれ、該基盤プレートを通る少なくとも１本のガス排気管が配され、該基盤プレートと支持プレート間に各ガス排気管と流体で通じる高圧空間が生まれるよう該基盤プレートに隣接する支持プレートが配され、溝中間の支持プレート表面の領域に複数のメサが設けられる支持プレートの高圧空間から遠い表面に第１溝配列が配されるとともに、支持プレートを貫通する等間隔に離れて配置される複数の孔が配され、該溝および高圧空間は孔を経由して流体が通じる。
【００１７】
該方法には各孔の上端および下端のテーパー付け、アール付け、あるいは面取りが含まれて、ガスが通過する時に各孔にベンチュリー効果がもたらされるのが好ましい。
【００１８】
該方法には支持プレートの周辺と基盤プレートの周辺をシールして相互に一体化させる手段が含まれ、そこでシールされた周辺の内部容積により高圧空間が定められるのが好ましい。
【００１９】
好ましい実施例では、該方法には、定盤上の予め決められる数の第１配列溝ならびに予め決められる数の複数の孔上に遮断プレートが配される手段が含まれて、そこには該遮断プレートの周辺に配される縁シールが存在して高圧空間を通過するガスの往来が妨げられる。
【００２０】
従って、これにより、「ARMACEL」処理の成果の助けとなる迅速かつ均一な排出が可能となるカプセル製品処理および同様の処理用の定盤が提供されるものと理解し得る。さらに、カプセル製品処理が困難な製品の場合には排出速度が好ましい速度まで減速可能であるということも理解し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の好ましい実施例が図面を参照してこれから説明されよう。
図面類全般ならびに特に図１を参照すると、多数のほぼ共通の平たい面のプレートあるいは板から組立てられる定盤１が示される。これらのプレートの最も低いものは基盤プレート２であり、次いで、穿孔されたプレート５が、次いで支えられる目の細かいワイヤーメッシュ４が、次いで支えられる支持プレート３がくる。
【００２２】
支持プレート３は、図１および図３に最も良く示されるように、等間隔をおいて配置される円筒状スぺーサー７の規則正しい配列によって基盤プレート２から間隔をおいて配置される。基盤プレート２および支持プレート３間に生まれる空間により、プレート２および３の周辺の相互一体化によってシールされる高圧空間９が定められる。
【００２３】
複数の、好ましくは３本あるいは４本のガス排気管１１が基盤プレート２を貫通して配置されると同時に、高圧空間９と流体が通じる。管１１のそれぞれは真空タンクあるいはタンク類（図示されず）に接続可能であり、弁１２付きの各導管が空間に配置される。使用の際には、各導管１１は真空タンクあるいはタンクに接続されるとともに、弁１２はガスが高圧空間９から排気可能なように作動される。
【００２４】
図３の左手側に示されるように、何本かあるいはすべての管１１は基盤プレート２を貫通可能である。あるいは、図３の右手側に示されるように、管１１は横になっているフランジで終わると同時に基盤プレート２の貫通穴はシールされる。
【００２５】
図２に最も良く認められるように、支持プレート３の上面は規則正しく密な間隔で配される溝１４の長方形配列によって複数のメサ１５に分割される。
【００２６】
図２に最も良く見られるように、今度は各メサ１５の上部には溝１４につながる密に間隔をおいて配される横溝１７の長方形配列が設けられる。
【００２７】
孔１９は溝１４の交差部に配され、該孔は支持プレート３を貫通する。孔１９によりこうして溝１４は高圧空間９と接続される。各孔１９の上端ならびに下端は図４の２０に示される通り、テーパー、アールがつけられ、あるいは面取りされる。孔端部２０にはガスが孔を通過する時に、無数の細かいベンチュリー管を生む効果がある。図示はされていないが、孔端部２０には任意の好ましい量だけテーパー、アールをつけるかあるいは面取りされるのが良いかあるいはこれらが一切無くても良い点が注目される。
【００２８】
目の粗いサンドペーパーかあるいはその他の研磨材が、支持プレート３の高圧空間から遠い表面の横溝１７に平行な方向にほぼ平行な細かいスクラッチを創り出すために利用される。このサンドペーパーがけの後、メサ１５上部にラッカーの薄いコートが施される。
【００２９】
図１および図４で最も良く分かるように、そしてメサ１５の上部に位置するのはワイヤーメッシュ４ならびに穿孔プレート５であり、そのいずれも定盤を通る空気流にとって必須というわけではないにしても、加熱されて熱変形可能なプラスチック板が溝１４、横溝１７および孔１９に吸引されるのを防止する有益な役割を果たす。さらに、メッシュ４およびプレート５は支持プレート３を摩耗や損耗、開裂等による劣化から保護するのに役立つ。
【００３０】
物品（図示されず）が定盤１に置かれて弁類１２が一斉に開放される場合には管１１を経由して空気が高圧空間９から排気されることが、技術に熟練した人々によって認められよう。特に、定盤上に配置される物品や製品の形状に関係なく、空気は横溝１７を経由して物品の周囲全体から溝１４の中に、かつ溝１４を経由して孔１９までそして高圧空間９の中に流出し得る。本構成により複数の空気用経路が設けられると同時に迅速かつ均一な排出が生じることになる。
【００３１】
定盤１はその能力評価のために試験されるとともに、従来から「ARMACEL」処理向けに利用されていたものならびに「ARMACEL」処理を伴わない通常の真空形成用途に普通に利用されるものとも比較された。排気速度ならびに「ARMACEL」カプセル物品の最終製品の品質は両方ともにこの明細書で記述される盤を利用して改善された。
【００３２】
改善された性能はスぺーサー７の形状、配置間隔、および寸法により高圧空間の容積が減少するという事実を含めて多くの要因から生じていると考えられる。スぺーサー７は比較的細いので、これによって高圧空間内部の空気の流れが邪魔されずに該空気流が改善される。さらに、スぺーサー７により支持プレート３に対してより良好かつより均一な支持が提供されるので、差分流体圧が加えられる場合の支持プレート３の曲がりが減少する。
【００３３】
もうひとつの要因はこの構造により支持プレート３の上面の横溝配置の均一性が最大化されると同時につくり出される点である。この点により、加圧される差分流体圧の均一化と最大化が可能となる。
【００３４】
再び図３の左手側面を参照すると、ベンチュリー管部２１を数本あるいはすべての管１１に位置させることが可能である。ベンチュリー管部２１は弁１２の下流あるいは弁１２の上流に位置させる（図示されず）ことが可能である。ベンチュリー管部２１は１台あるいは複数の真空タンク（図示されず）に接続される直径の大きな管２２に通じることが好ましい。１本あるいは複数のベンチュリー管部２１は定盤１から遠ざかるように作用して空気流が加速されるとともに、これによってより迅速に高圧空間９が排気されると同時に包括的な性能が高まると考えられる。
【００３５】
利用される定盤の効率をさらに改善するために、予め決められた数の溝１４ならびに予め決められた数の孔１９が、高圧空間を通るガスの往来が防止されるよう遮断可能である点が注目される。この点は、例えば、その周辺に配される可撓性の縁シールを有するアルミニウムあるいはその他の剛な遮断プレート（図示されず）を利用して実施可能である。このように、支持プレート２の高圧空間９から遠い面の予め決められた領域上に遮断プレートが置かれることによって、定盤１がより狭い領域に効率的に提供される。さらに、遮断プレート用のアルミニウムのような金属の利用はまた熱を熱変形可能なプラスチック板の加熱器（図示されず）の方に反射し返すことにも役立つ。領域がより狭められることにより排出速度が排気される容積が小さいほど有利に速まることが可能となる。この点もまた熱変形可能なプラスチック板がより迅速に引きおろされるために提供される。
【００３６】
さらに、加工用の好ましい材料および支持プレート３はおがくずおよび膠から加工される複合木材であるけれども、金属のようなその他材料もまた適する。しかしながら、複合木材の利点（例えば、アルミニウムに対して）は、熱を良く伝導することもなければ、温度変動に伴ういかなる顕著な量の伸縮もしないという点である。逆に、金属の穿孔されたプレート５がある程度熱を保持するので、加熱されたプラスチックフィルムにより熱が隣接する物体に急速には放たれることはない。
【００３７】
同様に、定盤の上面は平らである必要はないが、その代わりＷＯ97/09166の図１３に図示されるようにカーブがつけられることが可能である。
【００３８】
本発明の唯一の実施例だけがこれまでに述べられているが、技術に熟練した人々にとって明らかな様々な修正例も、本発明の範囲をそれることなくさらに構成可能である。例えば、溝１４の配列は図示されるような規則正しい配列である必要はないが、その代わり、正規の６角形、８角形あるいはその他の多角形によって提供されても良い。
【００３９】
ここで用いられる用語「含まれる」（およびその文法上の変型類）は「有する」あるいは「含む」という包括的意味であって、「だけからなる」という排他的意味ではなく用いられている。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】好ましい実施例による定盤の分解透視図である。
【図２】図１で円により囲まれて示された支持プレートの一部の縮尺を拡大した透視図である。
【図３】組立てられた定盤の横方向横断面図である。
【図４】図３に図示された定盤の一部の拡大図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
2007514567.tif 000007
2007514567.tif 000008