(57)【要約】  本発明のフォトレジストストリッパーおよび洗浄組成物が、銅およびアルミニウムに対して本質的に非腐食性であり、少なくとも一つの極性有機溶媒、少なくとも一つのヒドロキシル化有機アミン、およびポリマー骨格からぶら下がった複数のヒドロキシルまたはアミノ官能基を有する腐食阻害剤ポリマー少なくとも一つを含有する、非水性洗浄組成物によって提供される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄組成物が、
一またはそれ以上の極性有機溶媒、
一またはそれ以上の有機ヒドロキシル化アミン、
およびポリマー骨格からぶら下がった複数の官能基を有する一またはそれ以上の腐食阻害剤ポリマーの腐食阻害量を含有する、ここで、ぶら下がった官能基がアミノ基およびヒドロキシル基から選択される、マイクロエレクトロニクス基板からフォトレジストおよび残渣を除去するための非水性洗浄組成物。
【請求項２】
有機溶媒成分がその組成物重量の約８０％ないしそれ以上を占め、有機ヒドロキシル化アミン成分がその組成物重量の約１％ないし約１５％を占め、および腐食阻害ポリマー成分がその組成物中にその組成物重量の約０．１％ないし約１０％の量で存在する、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項３】
極性有機溶媒が、スルホラン、３−メチルスルホラン、ｎ−プロピルスルホン、ジメチルスルホキシド、メチルスルホン、ｎ−ブチルスルホン、スルホラン、３−メチルスルホラン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン（ＨＥＰ）、ジメチルピペリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルアセトアミドおよびジメチルホルムアミドからなる群より選択される、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項４】
ヒドロキシル化アミンが、ヒドロキシルアミンおよびアルカノールアミンからなる群より選択される、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項５】
ヒドロキシル化アミンが、ヒドロキシルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−アミノエタノール、１−アミノ−２−プロパノール、１−アミノ−３−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、および２−（２−アミノエチルアミノ）エチルアミン、およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項４に記載の洗浄組成物。
【請求項６】
ヒドロキシル化アミンが、ジエタノールアミンおよび１−アミノ−２−プロパノールからなる群より選択される、請求項５に記載の洗浄組成物。
【請求項７】
有機極性溶媒が、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、およびそれらの混合物からなる群より選択され、ヒドロキシル化アミンがジエタノールアミンおよび１−アミノ−２−プロパノールからなる群より選択される、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項８】
ポリマー腐食阻害剤が、ポリエチレンイミンおよびポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）からなる群より選択される、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項９】
ポリマー腐食阻害剤が、ポリエチレンイミンおよびポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）からなる群より選択される、請求項７に記載の洗浄組成物。
【請求項１０】
ポリマー腐食阻害剤がポリエチレンイミンである、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１１】
ポリマー腐食阻害剤がポリエチレンイミンである、請求項７に記載の洗浄組成物。
【請求項１２】
ポリマー腐食阻害剤がポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）である、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１３】
ポリマー腐食阻害剤がポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）である、請求項７に記載の洗浄組成物。
【請求項１４】
Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエタノールアミンおよびポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１５】
Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、１−アミノ−２−プロパノールおよびポリエチレンイミンを含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１６】
（ａ）ヒドロキシル基またはポリヒドロキシル基含有脂肪族共溶媒、
（ｂ）芳香環に直接結合した二またはそれ以上のＯＨ、ＯＲ６、および／またはＳＯ２Ｒ６Ｒ７基を含み、Ｒ６，Ｒ７およびＲ８がそれぞれ独立してアルキルおよびアリールからなる群より選択される、腐食阻害アリール化合物、
（ｃ）金属錯体化剤
（ｄ）異なる金属腐食阻害化合物、および
（ｅ）界面活性剤
からなる群より選択される一またはそれ以上の追加成分を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１７】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項１８】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項２に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項１９】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項３に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２０】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項４に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２１】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項５に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２２】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項６に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２３】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項７に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２４】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項８に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２５】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項９に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２６】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１０に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２７】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１１に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２８】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１２に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項２９】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１３に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項３０】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１４に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項３１】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１５に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項３２】
基板からフォトレジストまたは残渣を除去するのに十分な時間で洗浄組成物と基板を接触させることを含む方法であって、その洗浄組成物が請求項１６に記載の組成物を含有する、フォトレジストまたは残渣をマイクロエレクトロニクス基板から除去する方法。
【請求項３３】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項３４】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項２４に記載の方法。
【請求項３５】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項２５に記載の方法。
【請求項３６】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項３７】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３８】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項２８に記載の方法。
【請求項３９】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項２９に記載の方法。
【請求項４０】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項３０に記載の方法。
【請求項４１】
洗浄されるマイクロエレクトロニクス基板が銅金属被覆の存在を特色とする、請求項３１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
本発明はマイクロエレクトロニクス基板洗浄のための、方法および非水性、本質的に非腐食性である洗浄組成物に関し、特にアルミニウム金属被覆を特徴とする基板と同様に銅金属被覆を特徴とするマイクロエレクトロニクス基板に対し有用であり、改善された適合性を有する、かかる洗浄組成物に関する。本発明はまた、フォトレジストのストリッピング、および、有機、有機金属および無機化合物生成エッチングおよびプラズマ工程由来の残渣の洗浄への、かかる洗浄組成物の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロエレクトロニクス分野で製造ラインの下流または後端の洗浄剤として、使用するための多数のフォトレジストストリッパーおよび残渣除去剤が提唱されてきた。これらの製造工程では、フォトレジストの薄膜をウエハー基板に堆積させ、回路デザインをこの薄膜上で画像化する。焼付けに続き、非重合レジストをフォトレジスト現像剤で除去する。次いで、得られた画像を、反応性プラズマエッチングガスまたは化学腐食液により、一般的に誘電体または金属である下層の材料に転写する。エッチングガスまたは化学腐食液は、基板のフォトレジスト非保護領域を選択的に攻撃する。
【０００３】
加えて、エッチング段階の終了に続き、このレジストマスクをウエハーの保護領域から除去し、最終仕上げ操作を実施できるようにしなければならない。これは、適合するプラズマ灰化ガスまたは湿式化学ストリッパーを使用して、プラズマ灰化段階で達成できるが、金属回路構成に、悪影響（例えば、腐食、溶出または鈍化）を与えずにこのレジストマスク材料を除去するのに適合する洗浄組成物を見出すことには、問題が多いことが明らかにされてきた。
【０００４】
マイクロエレクトロニクス製造の集積化レベルが高まり、パターン化されたマイクロエレクトロニクス素子の大きさが原子サイズへと小さくなるにつれて、電流が回路を通過する際に生成される熱が重大な問題となってきた。銅は熱生成を低減するのにより有益であるので、導体材料としてアルミニウムの代わりに銅金属被覆を採用することが、当分野でますます一般的になってきた。これらの銅含有マイクロエレクトロニクス材料は、許容し得る洗浄組成物を見出すためのさらなる挑戦に直面させた。Ａｌ／ＳｉＯ２またはＡｌ（Ｃｕ）／ＳｉＯ２構造を含有する「伝統的」または「常套の」半導体素子のために以前に開発されてきた多数の工程技法組成物は、銅金属被覆構造には採用できない。例えば、ヒドロキシルアミンベースのストリッパーまたは残渣除去組成物は、Ａｌ金属被覆素子の洗浄には成功裏に使用されるが、銅金属被覆素子には実用上適合しない。同様に、多数の銅金属被覆は、相当の組成調整をしなければ、Ａｌ金属被覆素子には適合しない。
【０００５】
このような銅およびアルミニウム金属被覆マイクロエレクトロニクス構造に対するプラズマエッチングおよび／または灰化工程に続くこれらのエッチングおよび／または灰化残渣の除去には、特に銅で金属被覆された基板に対して問題が多いことがわかってきた。これらの残渣の完全な除去または中性化に失敗すると、湿分を吸収し、金属構造の腐食を招く望まざる材料の生成を引き起こし得る。これらの回路構成材料は望まざる材料によって腐食され、回路構成配線中の非連続と、望まざる電気抵抗の増大をもたらす。
【０００６】
硬化フォトレジストを攻撃すること、およびそのような硬化フォトレジストをマイクロエレクトロニクス基板からはぎ取る能力において、優れた洗浄性能を一般的に示すことから、従来、フォトレジストストリッパーはよくアミン類を含有していた。しかしながら、そのような従来のフォトレジストストリッパーが修飾なしに用いられれば、銅も一般にアミン類によって激しく攻撃され、著しい金属腐食が起こりうる。従って、マイクロエレクトロニクス工業での使用、特に銅金属被覆材料のために、銅に適合するフォトレジストストリッパーまたは洗浄剤を提供することは非常に望まれている。また、マイクロエレクトロニクス工業での使用、特に銅金属被覆材料のために、アルミニウム金属被覆材料についての使用にも適合性のある、銅に適合するフォトレジストストリッパーまたは洗浄剤を提供することも非常に望まれている。アルミニウムから銅金属被覆への同様の技術の移行がフラットパネルディスプレイの開発においても認められるので、そのようなフラットパネルディスプレイの生産において使用され得るストリッパー／洗浄剤の提供もまた非常に望まれている。
【０００７】
発明の概要
本発明の後端フォトレジストストリッパーおよび洗浄組成物は、銅およびアルミニウムに対して本質的に非腐食性であり、少なくとも一つの有機極性溶媒、少なくとも一つのヒドロキシル化有機アミン、およびポリマー骨格からぶら下がった複数のアミノまたはヒドロキシル官能基を有するポリマーである少なくとも一つの腐食阻害剤を含有する、非水性、非腐食性洗浄組成物により提供される。本発明の洗浄組成物はまた多くの他の任意の成分をも含有し得る。本発明の洗浄組成物は、工程／操作の広範なｐＨおよび温度条件にわたって使用でき、またフォトレジスト、プラズマ後のエッチング／灰残渣、犠牲的光吸収材料、および抗反射性被覆（ＡＲＣ）を効果的に除去するのに使用できる。加えて、清浄化が極めて困難な試料、例えば、高度に架橋したまたは固まったフォトレジストおよびチタン（例えば、チタン、酸化チタンおよび窒化チタン）またはタンタル類（例えば、タンタル、酸化タンタルおよび窒化タンタル）含有構造を、本発明の洗浄組成物により容易に清浄化できることが分かった。
【０００８】
本発明の非水性、本質的に非腐食性である、マイクロエレクトロニクスストリッパー／洗浄組成物は一般的には約８０％ないしそれ以上の有機極性溶媒成分、約１％ないし約１５％の有機ヒドロキシル化アミン成分、および腐食阻害量の腐食阻害剤ポリマー成分、一般的には約０．１％ないし約１０％の複数のヒドロキシル官能基を有する腐食阻害剤ポリマー成分を含有する。本明細書で与えられる重量％は洗浄組成物の全重量に基づいている。
【０００９】
本発明の非水性で本質的に非腐食性ストリッパー／洗浄組成物は、限定はされないが、例えばキレート化剤、有機ヒドロキシル基含有共溶媒、安定化剤および金属キレート化または錯体化剤、他の金属腐食阻害剤および界面活性剤のような成分を含む他の適合性成分をも必要に応じて含有することができる。
【００１０】
発明の詳細な説明および好適な実施態様
本発明の後端フォトレジストストリッパーおよび洗浄組成物は、銅およびアルミニウムに対して本質的に非腐食性であり、一またはそれ以上の極性有機溶媒、一またはそれ以上の有機ヒドロキシル化アミン、およびポリマー骨格からぶら下がった複数のヒドロキシルまたはアミノ基を有する一またはそれ以上の腐食阻害剤ポリマーを含有する、非水性組成物により提供される。非水性とは、組成物が実質的に水を有しておらず、一般的には他の成分からは不純物として水が存在するだけであり、一般的には組成物重量のわずか約３％にすぎず、好ましくはそれ以下であることを意味する。
【００１１】
本発明の洗浄組成物は、工程／操作の広範なｐＨおよび温度条件にわたって使用でき、またフォトレジスト、プラズマ後のエッチング／灰残渣、犠牲的光吸収材料、および抗反射性被覆（ＡＲＣ）を効果的に除去するのに使用できる。加えて、清浄化が極めて困難な試料、例えば、高度に架橋したまたは固まったフォトレジストおよびチタン（例えば、チタン、酸化チタンおよび窒化チタン）またはタンタル類（例えば、タンタル、酸化タンタルおよび窒化タンタル）含有構造を、本発明の洗浄組成物により容易に清浄化できることが分かった。
【００１２】
本発明の非水性、本質的に非腐食性のマイクロエレクトロニクスストリッパー／洗浄組成物は、一般的に約８０％ないしそれ以上の、好ましくは約８５％ないしそれ以上の、および最も好ましくは９０％ないしそれ以上の有機極性溶媒成分、約１％ないし約１５％の、好ましくは約２ないし約１０％の、および最も好ましくは約２％ないし約５％の有機ヒドロキシル化アミン成分、および一般的には約０．１％ないし約１０％、好ましくは約０．３％ないし約５％、および最も好ましくは約０．３％ないし約３％の腐食阻害量の腐食阻害ポリマー成分、を含有し得る。本明細書で与えられる重量％は洗浄組成物の全重量に基づいている。
【００１３】
本発明の組成物は、一またはそれ以上のいずれかの適切な有機極性溶媒、好ましくはアミド、スルホン、スルホキシド、飽和アルコール等を含む有機極性溶媒を含むことができる。そのような有機極性溶媒には、限定はされないが、スルホラン（テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）、３−メチルスルホラン、ｎ−プロピルスルホン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、メチルスルホン、ｎ−ブチルスルホン、３−メチルスルホラン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン（ＨＥＰ）、ジメチルピペリドン（ＤＭＰＤ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）およびジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド、およびそれらの混合物、のような有機極性溶媒が含まれる。有機極性溶媒として特に好ましいのは、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ＤＭＳＯ、およびこれら三溶媒の二またはそれ以上の混合物である。
【００１４】
有機ヒドロキシル化アミン成分は、適切なヒドロキシル化アミン、好ましくはヒドロキシルアミンまたはアルカノールアミン、好ましくはアルカノールアミンのいずれか一またはそれ以上であり得る。本発明の組成物に有用で適切な有機ヒドロキシル化アミンは、限定はされないが、ヒドロキシルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、および特に２−アミノエタノール、１−アミノ−２−プロパノール、１−アミノ−３−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、ジエタノールアミン、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エチルアミン等、およびそれらの混合物を含む。もっとも好ましくは、有機ヒドロキシル化アミン成分は、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノールおよび１−アミノ−２−プロパノール、およびそれらの混合物である。
【００１５】
本発明の洗浄組成物中の腐食阻害化合物は、ポリマー骨格からぶら下がった複数のヒドロキシルまたはアミン基を有するポリマーである。適切な腐食阻害ポリマーの例には、限定はされないが、ポリエチレンイミンポリマーおよび共重合体、ポリビニルアルコールポリマーおよび共重合体、ポリスチレンポリマーおよび共重合体、ポリ（ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレート）ポリマーおよび共重合体、等が含まれる。好ましくは、ポリマーはポリエチレンイミンポリマー、ポリビニルアルコールポリマーおよびポリビニルアルコール−エチレン共重合体である。
【００１６】
本発明の組成物は、また、必要に応じて一またはそれ以上のいずれかの適切な有機ヒドロキシル基、ポリヒドロキシル基含有脂肪族化合物を共溶媒として含有し得る。いずれかの適切な有機ヒドロキシル基含有共溶媒は、本発明の組成物中に採用され得る。そのような適切な有機ヒドロキシル基含有共溶媒の例には、限定はされないが、（適切な腐食阻害剤の例には、限定はされないが、）アラビトール、エリトリトール、キシリトール、マンニトール、ソルビトール、エチレンドリコール、グリセロール、１，４−ブタンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、およびメチルペンタンジオール、フルクトース、カルビトール（２−（２−エトキシエトキシ）エタノール）およびカルビトール誘導体として知られるジエチレングリコールのモノおよびジアルキルエーテル、およびエタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノールおよびヘキサフルオロイソプロパノール等の飽和アルコール、およびそれらの混合物が含まれる。共溶媒として特に好ましいのは、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール（カルビトール）である。共溶媒は本発明の組成物中、組成物の全重量を基準にして、０ないし約１０重量％、好ましくは、約０．１ないし約１０重量％、最も好ましくは約０．５ないし約５重量％の量で存在し得る。
【００１７】
本発明の組成物は、また、一またはそれ以上のいずれかの適切な他の腐食阻害剤、好ましくは芳香環に直接結合した２またはそれ以上のＯＨ、ＯＲ６および／またはＳＯ２Ｒ６Ｒ７基を含むアリール化合物を含み、ここで、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立してアルキル、好ましくは炭素原子１ないし６のアルキル、またはアリール、好ましくは炭素原子６ないし１４のアリールである。そのような好ましい腐食阻害剤の例として、カテコール、ピロガロール、没食子酸、レゾルシノール等を記載し得る。そのような他の腐食阻害剤は、組成物の重量を基準として０ないし約１０重量％、好ましくは約０．１ないし約１０重量％、最も好ましくは約０．５ないし約５重量％の量で存在し得る。
【００１８】
有機もしくは無機キレート化または金属錯体化試薬は、必要ではないが例えば製品の安定性を改善する等の十分な利益を提供する。１またはそれ以上のそのような無機キレート化または金属錯体化試薬は本発明の組成物に採用され得る。適切なキレート化または錯体化剤の例には、限定されないが、トランス−１，２−シクロヘキサンジアミン４酢酸（ＣｙＤＴＡ）、エチレンジアミン４酢酸（ＥＤＴＡ）、スズ酸塩、ピロリン酸塩、アルキリデン−ジホスホン酸誘導体（例えば、エタン−１−ヒドロキシ−１，１−ジホスホン酸塩）、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンまたはトリエチレンテトラアミンの機能部分を含むホスホン酸塩（例えば、エチレンジアミンテトラメチレンスルホン酸（ＥＤＴＭＰ）、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸およびトリエチレンテトラアミンヘキサメチレンホスホン酸）、およびそれらの混合物が含まれる。キレート化剤は組成物中、組成物の重量を基準として、０から約５重量％、好ましくは約０．１から約２重量％の量で存在する。エチレンジアミンテトラメチレンスルホン酸（ＥＤＴＭＰ）のような多種のホスホン酸塩である金属キレート化または錯体化剤は、酸およびアルカリ条件下で酸化剤を含む本発明の洗浄組成物の安定性を著しく改善させるので、一般に好ましい。
【００１９】
任意：ベンゾトリアゾールのような他の異なる金属腐食阻害剤は、組成物の重量を基準として、０ないし約５重量％、好ましくは約０．１ないし２重量％の量で採用し得る。
【００２０】
洗浄組成物はまた必要に応じて、一またはそれ以上の適切な界面活性剤、例えばジメチルヘキシノール（サーフィノール−６１）、エトキシレート化テトラメチルデサイネディオール（サーフィノール−４６５）、ポリテトラフルオロエチレンセトキシプロピルベタイン（ゾニールＦＳＫ）、ゾニールＦＳＨ等を含み得る。界面活性剤は一般に、組成物の重量を基準として０ないし約５重量％、好ましくは０．１ないし約３重量％の量で存在しうる。
【００２１】
本発明の組成物の例には、限定はされないが、下記表１に記載されている組成物が含まれ、そして、ポリマー腐食阻害剤無しの比較組成物は表２に記載されている。表１および表２中、採用された略語は以下のとおりである。
ＮＭＰ＝Ｎ−メチルピロリジノン
ＳＦＬ＝スルホラン
ＤＭＳＯ＝ジメチルスルホキシド
ＡＭＰ＝１−アミノ−２−プロパノール
ＤＥＡ＝ジエタノールアミン
ＰＥＩ＝ポリエチレンイミン、無水、高分子量−アルドリッチ
２００３−２００４カタログ＃４０，８７２−７
ＰＶＡ−Ｅ＝ポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン），エチレン含量４４５              −アルドリッチ  ２００３−２００４カタログ＃４１，４０７−７
【００２２】
表１
組成物／重量による割合
【表１】
2007514984.tif 000002
【００２３】
表２
組成物／重量による割合
【表２】
2007514984.tif 000003
【００２４】
本発明の腐食阻害ポリマー含有洗浄組成物で得られた抗腐食効果は、本発明の組成物に対する以下の試験で得られた。
【００２５】
銅被覆シリコンウエハー（約２０Ｘ２０ｍｍ）一片を実験のために準備した。その一片を３５重量／重量％ＮＨ４Ｆおよび６重量／重量％ＨＦを含む緩衝化酸化物エッチング中で１分間洗浄し、その後、脱イオン水で１分間すすぎ洗いし、そして窒素スプレーで乾燥させた。その後、そのウエハー片を１００ｇの試験溶液が入った１５０ｍｌビーカー内に浸し、その溶液を６０℃で加熱し、磁気攪拌機を用いて２００ｒｐｍで攪拌した。そして、６２または６３分後その一片を試験溶液から取り出し、１分間脱イオン水ですすぎ洗いし、窒素スプレーで乾燥させた。銅層の厚さ（実験前および後）をＲｅｓＭａｐ（Ｃｒｅａｔｉｖｅ  Ｄｅｓｉｇｎ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ製、サニーベール、カリホルニア）４ポイントプローブシステムで決定した。
【００２６】
試験溶液（洗浄組成物）は表１の本発明組成物１および２であり、比較組成物は表２の組成物ＡおよびＢであった。これらの比較組成物は、本発明の腐食阻害ポリマーを含まないことを除いて、本発明の組成物と同様であった。
【００２７】
表３
【表３】
2007514984.tif 000004
【００２８】
フォトレジストストリッピングのために、本発明の同じ試験組成物を同じ温度（６０℃）で、同じ攪拌速度（２００ｒｐｍ）で用いた。本発明の組成物によって、フォトレジストが取り除かれることを測定するために、表面に堆積されたポジティブフォトレジスト層（約１０００オングストローム）を有するガラス一片を試験溶液の中に浸した。
【００２９】
本発明の洗浄組成物は銅金属被覆マイクロエレクトロニクス基板に対して本質的に非腐食性であること、およびかかる基板からフォトレジスト、プラズマおよびエッチング残渣を除去することができることに加え、かかる組成物は、アルミニウム金属被覆マイクロエレクトロニクス基板についても同様の非腐食的な様式で、同様に洗浄することができる。
【００３０】
本明細書中では本発明をその特定の実施態様群を参照して記述しているが、本明細書中に開示した本発明の発明的コンセプトの精神および範囲から逸脱することなく改変、修飾、および変形がなされ得ることが理解されるであろう。従って、それら全ての改変、修飾、および変形を、添付特許請求の範囲の精神および範囲内のものとして包含することを意図している。
【国際調査報告】
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