(57)【要約】  本発明は、ほぼ一定の光度を有する光ビーム（ＣＬＢ）を発生する方法であって、光源（ＳＡＬ）によって光ビーム（ＬＢ）を発生するステップと、その光ビーム（ＬＢ）内での光度ピーク（ＩＰ）の発生に基づいて上記光ビーム（ＬＢ）の減衰を制御するステップとを含む方法に関する
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ほぼ一定の光度を有する光ビーム（ＣＬＢ）を発生する方法であって、
光源（ＳＡＬ）によって光ビーム（ＬＢ）を発生するステップと、
前記光ビーム（ＬＢ）内での光度ピーク（ＩＰ）の発生に基づいて前記光ビーム（ＬＢ）の減衰を制御するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記光度ピーク（ＩＰ）は、周期的に発生する、請求項１に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３】
前記光度ピーク（ＩＰ）は、少なくとも特定の時間間隔内において、ほぼ等しい大きさであると見なされることができる、請求項１又は２に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４】
前記特定の時間間隔は、５０時間、より好ましくは２００時間、さらにより好ましくは１０００時間である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５】
前記減衰を制御するステップは、前記光ビームの光度が光度平坦部分（ＩＦ）の大きさをとるとき、前記光ビーム（ＬＢ）に第１減衰レベルを加え、光度ピーク（ＩＰ）が発生するとき、前記光ビームにさらなる減衰レベルを加えることを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６】
前記さらなる減衰レベルは、前記光度ピーク（ＩＰ）と前記光度平坦部分（ＩＦ）との大きさの差に比例する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項７】
前記減衰は、可変減衰手段（ＶＡＭ）によって行われる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項８】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、前記光ビーム（ＬＢ）に少なくとも２つの異なった減衰レベルを加えることができる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項９】
前記少なくとも２つの異なった減衰レベルの一方は、ほぼ無減衰を表す、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１０】
減衰制御手段（ＡＣＭ）が、前記可変減衰手段（ＶＡＭ）に結合される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１１】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、減衰制御信号（ＡＣＳ）によって前記光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記少なくとも２つの異なった減衰レベルのどちらであるかを制御する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１２】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記光源（ＳＡＬ）を駆動するランプドライバ（ＬＤ）に結合される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１３】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、ランプドライバ制御信号（ＬＣＳ）によって前記光度ピーク（ＩＰ）のタイミングを制御する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１４】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、ランプドライバ制御信号（ＬＣＳ）によって前記光度ピーク（ＩＰ）の大きさを制御する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１５】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記光度ピーク（ＩＰ）の特性に関する情報を有するランプドライバ基準信号（ＬＲＳ）を受け取る、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１６】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記ランプドライバ基準信号（ＬＲＳ）に少なくとも部分的に基づいて、前記減衰手段信号（ＡＣＳ）によって前記光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記少なくとも２つの異なった減衰レベルのどちらであるかを制御する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１７】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記可変減衰手段（ＶＡＭ）の特性に関する情報を有する減衰基準信号（ＡＲＳ）を受け取る、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１８】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記減衰基準信号（ＡＲＳ）に少なくとも部分的に基づいて、前記ランプドライバ制御信号（ＬＣＳ）によって前記光度ピーク（ＩＰ）の特性を制御する、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項１９】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、光ビーム（ＬＢ）の光度を測定するようになっている光度測定装置（ＢＩＭ）から引き出された光ビーム基準信号（ＢＲＳ）を受け取る、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２０】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記ほぼ一定光度の光ビーム（ＣＬＢ）の光度を測定するようになっている光度測定装置（ＣＩＭ）から引き出された一定光ビーム基準信号（ＣＲＳ）を受け取る、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２１】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記光ビーム基準信号（ＢＲＳ）、前記一定光ビーム基準信号（ＣＲＳ）又はその組み合わせに少なくとも部分的に基づいて、前記ランプドライバ制御信号（ＬＣＳ）によって前記光度ピーク（ＩＰ）の特性を制御する、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２２】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記光ビーム基準信号（ＢＲＳ）、前記一定光ビーム基準信号（ＣＲＳ）又はその組み合わせに少なくとも部分的に基づいて、前記減衰制御信号（ＡＣＳ）によって前記光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記少なくとも２つの異なった減衰レベルのどちらであるかを制御する、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２３】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、所定の設定に少なくとも部分的に基づいて、前記可変減衰手段（ＶＡＭ）、前記ランプドライバ（ＬＤ）又はその両方を制御する、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２４】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記可変減衰手段（ＶＡＭ）、前記ランプドライバ（ＬＤ）又はその両方を連続的に制御する、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２５】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記第１及びさらなる減衰レベルを加えるタイミングと前記光度ピーク（ＩＰ）のタイミングとの同期をとる、請求項１〜２４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２６】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）である、請求項１〜２５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２７】
前記多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）は、前記光ビーム（ＬＢ）に無限の減衰レベルを加えることができる、請求項１〜２６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２８】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、光度ピーク（ＩＰ）及び光度平坦部分（ＩＦ）間の大きさの差に少なくとも部分的に基づいて、前記多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）が光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する、請求項１〜２７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項２９】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、一定光ビーム光度測定装置（ＣＩＭ）からのフィードバックに少なくとも部分的に基づいて、前記多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）が光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記無限の減衰レベルのどれであるかを調整する、請求項１〜２８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３０】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、使用者の入力に少なくとも部分的に基づいて、前記多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）が光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する、請求項１〜２９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３１】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記ランプドライバ基準信号（ＬＲＳ）に少なくとも部分的に基づいて、前記多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）が光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する、請求項１〜３０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３２】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、光源の使用経過時間に少なくとも部分的に基づいて、前記多レベル可変減衰手段（ＭＶＡＭ）が光ビーム（ＬＢ）に加えるのが、前記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する、請求項１〜３１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３３】
前記減衰制御手段（ＡＣＭ）は、前記光源（ＳＡＬ）の長期の使用によって発生する光ビーム特性の変化の補償を促進する、請求項１〜３２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３４】
前記光ビーム特性の変化は、光度ピーク（ＩＰ）の大きさの変化を含む、請求項１〜３３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３５】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、回転中心（ＣＯＲ）周りに回転するホイール（Ｗ）を有し、前記回転中心は、前記光ビーム（ＬＢ）の断面の中心から前記光ビームの方向に直交する方向に、少なくとも前記断面の半径に対応する距離だけ変位させられる、請求項１〜３４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３６】
前記ホイール（Ｗ）は、少なくとも１つの透明部分（ＴＳ）を有する、請求項１〜３５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３７】
前記ホイール（Ｗ）は、少なくとも１つの切り抜き部分（ＣＳ）を有する、請求項１〜３６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３８】
前記ホイール（Ｗ）は、少なくとも１つの半透明陰影部分（ＳＳ）を有する、請求項１〜３７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項３９】
前記ホイール（Ｗ）は、少なくとも１つの半透明ラスター部分（ＲＳ）を有する、請求項１〜３８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４０】
前記ホイール（Ｗ）は、少なくとも１つの穿孔部分（ＰＳ）を有する、請求項１〜３９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４１】
前記ホイール（Ｗ）の前記回転は、前記減衰制御手段（ＡＣＭ）によって少なくとも部分的に制御される、請求項１〜４０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４２】
前記ホイール（Ｗ）は、それぞれ異なった不透明度を有する幾つかの半透明部分（ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３）を有する、請求項１〜４１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４３】
前記ホイール（Ｗ）は、使用者によって前記光ビーム（ＬＢ）の方向に直交する方向に変位可能である、請求項１〜４２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４４】
前記ホイール（Ｗ）は、少なくとも部分的に前記減衰制御手段（ＡＣＭ）の制御下で前記光ビーム（ＬＢ）の方向に直交する方向に変位可能である、請求項１〜４３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４５】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、可変寸法の開口ＡＰを生じる絞り（ＤＰ）を有する、請求項１〜４４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４６】
前記開口ＡＰの前記寸法は、前記減衰制御手段（ＡＣＭ）によって少なくとも部分的に制御される、請求項１〜４５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４７】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、不透明板（ＯＰ）と、該不透明板が可変度合いで前記光ビームを遮断できるようにする取り付け手段（ＡＲ）とを有する、請求項１〜４６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４８】
前記遮断度は、前記減衰制御手段（ＡＣＭ）によって少なくとも部分的に制御される、請求項１〜４７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項４９】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、変位可能なシート（ＳＨ）を有し、前記変位は、前記光ビーム（ＬＢ）の方向に直交する平面上で可能である、請求項１〜４８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５０】
前記シート（ＳＨ）は、少なくとも１つの透明部分（ＴＳ）を有する、請求項１〜４９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５１】
前記シート（ＳＨ）は、少なくとも１つの切り抜き部分（ＣＳ）を有する、請求項１〜５０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５２】
前記シート（ＳＨ）は、少なくとも１つの半透明陰影部分（ＳＳ）を有する、請求項１〜５１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５３】
前記シート（ＳＨ）は、少なくとも１つの半透明ラスター部分（ＲＳ）を有する、請求項１〜５２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５４】
前記シート（ＳＨ）は、少なくとも１つの穿孔部分（ＰＳ）を有する、請求項１〜５３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５５】
前記シート（ＳＨ）は、各々が異なった不透明度を有する幾つかの半透明部分（ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３）を有する、請求項１〜５４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５６】
前記シート（ＳＨ）の前記変位は、前記減衰制御手段（ＡＣＭ）によって少なくとも部分的に制御される、請求項１〜５５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５７】
前記シート（ＳＨ）の前記変位は、使用者によって少なくとも部分的に制御される、請求項１〜５６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５８】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、少なくとも１つの空間光変調器（ＳＬＭ）を有する、請求項１〜５７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項５９】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、磁気光学式である、請求項１〜５８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６０】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、電気光学式である、請求項１〜５９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６１】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、音響光学式である、請求項１〜６０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６２】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、液晶ディスプレイである、請求項１〜６１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６３】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、微細機械式シャッターアレイである、請求項１〜６２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６４】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、ＤＭＤ変調器である、請求項１〜６３のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６５】
前記空間光変調器（ＳＬＭ）は、前記減衰制御手段（ＡＣＭ）によって少なくとも部分的に制御される、請求項１〜６４のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６６】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、少なくとも１つの回動式取り付け形ミラー（ＰＭ）と少なくとも１つの減衰フィルタ（ＡＦ）とを有する、請求項１〜６５のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６７】
前記可変減衰手段（ＶＡＭ）は、前記光ビーム（ＬＢ）の方向を変化させる手段を有する、請求項１〜６６のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６８】
前記発生させたほぼ一定の光度の光ビーム（ＣＬＢ）の光度は、完全に一定である、請求項１〜６７のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項６９】
前記発生させたほぼ一定の光度の光ビーム（ＣＬＢ）の光度は、±５０％の許容差内で、より好ましくは±１０％の許容差内で、さらにより好ましくは±１％の許容差内で一定である、請求項１〜６８のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項７０】
前記発生させたほぼ一定の光度の光ビーム（ＣＬＢ）によって１つのピーキング期間中に伝達される光エネルギーは、公称期間中に伝達される光エネルギーの±１０％以内、より好ましくは±５％以内、さらにより好ましくは±１％以内である、請求項１〜６９のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項７１】
前記光源（ＳＡＬ）は、ショートアークランプである、請求項１〜７０のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項７２】
前記ランプドライバ（ＬＤ）は、前記光源（ＳＡＬ）の駆動用に電流ピーク（ＣＰ）を有する交流を発生する、請求項１〜７１のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項７３】
前記ランプドライバ（ＬＤ）は、前記光源（ＳＡＬ）の駆動用に電流ピーク（ＣＰ）を有する直流を発生する、請求項１〜７２のいずれか１項に記載の光ビームを発生する方法。
【請求項７４】
フォトリソグラフィ用に使用される光変調構造での、請求項１〜７３のいずれか１項に記載の方法の使用。
【請求項７５】
画像投影用に使用される光変調構造での、請求項１〜７４のいずれか１項に記載の方法の使用。
【請求項７６】
ほぼ一定の光度を有する光ビーム（ＣＬＢ）を発生する装置であって、
光ビーム（ＬＢ）を発生する光源（ＳＡＬ）と、
可変減衰手段（ＶＡＭ）と、
減衰制御手段（ＡＣＭ）と、
を備え、前記光ビームは、請求項１〜７３のいずれか１項に記載の方法によって加減されて、ほぼ一定の光度の光ビーム（ＣＬＢ）になる、装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、ほぼ一定の光度を有する光ビームを発生する方法に関し、たとえばピークがあるＡＣ又はＤＣ供給によって駆動されるショートアークランプに関する。本発明はさらに、そのような方法の使用及びそのような光ビームを発生する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  幾つかの技術分野では、照明は主目的であるか、又は所望結果を得るためのツールとして使用されるかのいずれかである。用途には、たとえば画像及び映画の投影、フォトリソグラフィ、印刷回路板の製造などの他の写真用途、光分解、高速プロトタイプの作成、通信及び幾つかの他のものがある。【０００３】  照明目的用に多くの種類及び形式の光源が存在し、その各々は、異なった目的を視野に入れて製造され、また多くの場合には他の目的を無視するという制約を受ける。重要な目的は、電力定格、発光効率、光度の安定性、発光点の正確さ、演色性などであろう。たとえばショートアークランプ、すなわち高圧放電ランプは、高い電力定格、高い発光効率、優れた演色性及び非常に小さい発光点を与えることができるので、多くの用途に使用される。しかしながら、残念なことにそれらの構造は、電極からの物質の変位も発生させ、使用中にそれらの電圧定格が変化し、それらの寿命が短くなり、発光点、すなわちアークが変動する。これらの問題は当該技術分野では周知であり、幾つかの方法で取り組まれており、その幾つかは、駆動交流及び／又は頻繁な電流ピーキングの使用を含む。そのような解決策は新しい問題を発生させ、ショートアークランプの例では、電流ピーキングが発光光度を変動させる。【０００４】  上記照明用途のうちの幾つかは、低品質製品での使用を意図するから、又は特定用途では変動が問題にならないと見なされるであろうから、光度の変動及び／又は発光点の変動がある光ビームを発生する光源を許容する。たとえば、映画プロジェクタに使用する場合、光ビームは同一領域を連続的に照明するために使用され、その理由から、人の目は変化を認識することができないであろうし、またさらには投影された画像を早いペースで変化させるので、わずかに変動する光度は容認されるであろう。しかしながら、そのような変動は、高品質プロジェクタの特殊な使用では容認されないであろう。【０００５】  しかしながら、たとえば、露光すべき領域が少しずつ照明されるだけであるフォトリソグラフィ又は他の技術のような分野では、光度の変動が有害であると見なされるであろう。これは、被露光媒体、たとえば印刷版の異なった領域が順に照明されるからであり、それにより、１つの領域が照明される光度レベルと、隣接の領域が照明される光度レベルとが異なる可能性がある。これは、不均一に見える結果を生じ、考えられる光度変化の周期性により、縞又は他の目に見える周期的パターンさえも発生させるであろう。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  本発明の幾つかの目的の１つは、たとえばショートアークランプの場合、電源のピーキング時に光ビーム内に周期的に発生する追加光度を吸収又は他の方法で排除し、それにより、光度がほぼ一定になり、したがって、ほぼ一定の光度を有する光ビームを発生できるようにする減衰手段を設けることである。【０００７】  本発明の幾つかの目的の１つは、光ビーム内に周期的に発生する追加光度のレベルのリアルタイム変化に対応し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームを発生しやすくする減衰手段を設けることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】  本発明は、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生する方法であって、
光源ＳＡＬによって光ビームＬＢを発生するステップと、
上記光ビームＬＢ内の光度ピークＩＰの発生に基づいて上記光ビームＬＢの減衰を制御するステップと、
を含む方法に関する。【０００９】  光度ピークの種類及びタイミングに基づいて光ビームを減衰することにより、それらを少なくとも部分的に排除し、したがって、ほぼ一定光度の光ビームを発生することが可能であり、そのような光ビームは、幾つかの用途で使用するのにはるかにより容認可能である。【００１０】  しかしながら、本発明の方法は、光度変化が周期的かつ／又はゆっくり変化するだけである限り、機械的可変減衰手段だけを有する実施形態の場合、任意種類の光度変化を伴う光ビームを発生する任意種類の光源に適用されることができるので、有利である。【００１１】  本発明の方法はさらに、特定種類の可変減衰手段の使用に制限されることはなく、これにより、製造者は、自己の特定要件及び主目的に適合する減衰手段を選択することができる。【００１２】  光源は好都合には、可変減衰手段による処理前に光ビームの誘導、一体化及びおそらくは集束を行う手段を有することができる。【００１３】  本発明の一実施形態によれば、上記光度ピークＩＰは周期的に発生する。【００１４】  光ビームの光度変化は、光源を駆動する電圧又は電流の周期的変化によって起きるので、しばしば周期的である。たとえば、ショートアークランプの場合、ランプ駆動電流に電流ピークを加えることにより、発光アークがより安定化することは周知である。【００１５】  本発明の一実施形態によれば、上記光度ピークＩＰは、少なくとも特定の時間間隔内において、ほぼ等しい大きさであると見なされることができる。【００１６】  光度変化がしばしば周期的であるのと同じ理由から、それらはしばしば同じ大きさでもある。しかしながら、幾つかの種類の光源は、長期の使用中に、たとえば電極物質の変位によって変化し、これは、光度ピークの大きさを変化させるであろう。【００１７】  本発明の一実施形態によれば、上記特定の時間間隔は、５０時間、より好ましくは２００時間、さらにより好ましくは１０００時間である。【００１８】  光度平坦部分の大きさに比例した光度ピークの大きさの変化が低速であるほど、本発明の方法がそのような変化を補償する必要性が低くなる。そのような大きさの変化を補償する可能性を伴わないで本発明の方法を適用することができるので、そのようなシステムでは、ほぼ一定光度の光ビームの光度は、時間の経過に伴ってより大きく変動するようになり、大きさが一定であると見なされる期間が長いほど、それだけよい。【００１９】  本発明の好適な実施形態によれば、上記の減衰制御は、上記光ビームの光度が光度平坦部分ＩＦの大きさをとるとき、上記光ビームＬＢに第１減衰レベルを加え、光度ピークＩＰが発生するとき、上記光ビームにさらなる減衰レベルを加えることを含む。【００２０】  本発明のこの実施形態によれば、光ビームの光度が一定の比較的低い値、すなわち光度平坦部分にあるとき、好ましくはほぼ無減衰のレベルである第１減衰レベルが光ビームに加えられる。より高い光度、たとえば光度ピークが発生するとき、それらを光度平坦部分と同じ低レベルに加減するために、第２減衰レベルが加えられる。【００２１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記のさらなる減衰レベルは、上記光度ピークＩＰと上記光度平坦部分Ｉ���との大きさの差に比例する。【００２２】  本発明のこの好都合な実施形態により、光度ピークが光度平坦部分と正確に等しくなり、それにより、完全に一定光度の光ビームが発生する。【００２３】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰は、可変減衰手段ＶＡＭによって行われる。【００２４】  上記減衰を実行するために、可変減衰手段が光ビームの方向に配置される。【００２５】  本発明の好適な実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、上記光ビームＬＢに少なくとも２つの異なった減衰レベルを加えることができる。【００２６】  上述したように、本方法を成功させるためには、少なくとも好ましくは無減衰のレベル及びピークを等化するレベルが必要である。好ましくは、可変減衰手段が光度ピークの異なった大きさを等化できるようにするために、３つ以上の減衰レベルが使用可能である。【００２７】  本発明の好適な実施形態によれば、上記少なくとも２つの異なった減衰レベルの一方は、ほぼ無減衰を表す。【００２８】  必要以上に大きい光度損失を避けるために、光ビームが光度平坦レベルにあるときに加えられる低い減衰レベルは、ほぼゼロでなければならない、すなわち光ビームの方向に配置された可変減衰手段ＶＡＭが完全に透明でなければならない。しかしながら、該当する減衰手段の幾つかでは、これを得ることができず、これと速度などの他の選択との釣り合いで、ほとんどゼロではないが低い減衰が容認されるであろう。【００２９】  本発明の好適な実施形態によれば、減衰制御手段ＡＣＭが、上記可変減衰手段ＶＡＭに結合される。【００３０】  減衰制御手段ＡＣＭは、別体の装置でよいが、同じようにランプドライバＬＤ又は可変制御手段ＶＡＭに組み込まれてもよい。【００３１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、減衰制御信号ＡＣＳによって上記光ビームＬＢに加えるのが、上記少なくとも２つの異なった減衰レベルのどちらであるかを制御する。【００３２】  減衰制御手段は、制御信号ＡＣＳによって可変減衰手段に結合される。減衰制御手段は、可変減衰手段がその減衰レベルを変化させるべき時を少なくとも部分的に決定する。【００３３】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記光源ＳＡＬを駆動するランプドライバＬＤに結合される。【００３４】  それにより、減衰制御手段は、光度ピークを可能な限りうまく排除できるようにランプドライバ及び可変減衰手段の両方に作用する、かつ／又はその両方を制御するであろう。【００３５】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、ランプドライバ制御信号ＬＣＳによって上記光度ピークＩＰのタイミングを制御する。【００３６】  少なくともランプドライバＬＤが光度ピークを生じる場合、減衰制御手段をランプドライバに結合することによってそれらが制御されるであろう。光度ピークのタイミングは、頻度、周期性、継続時間などに関係がある。【００３７】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、ランプドライバ制御信号ＬＣＳによって上記光度ピークＩＰの大きさを制御する。【００３８】  少なくともランプドライバＬＤが光度ピークを生じる場合、それらの大きさは、減衰制御手段をランプドライバに結合することによって制御されるであろう。【００３９】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記光度ピークＩＰの特性に関する情報を有するランプドライバ基準信号ＬＲＳを受け取る。【００４０】  光度ピークＩＰの特性は、頻度、継続時間、大きさ、安定性などを有する。ランプドライバ基準信号は、ランプドライバ又はランプ光源内部のさまざまな値を測定することにより、又は単に基準信号をランプ用の電源コードに結合することにより得られるであろう。【００４１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記ランプドライバ基準信号ＬＲＳに少なくとも部分的に基づいて、上記減衰手段信号ＡＣＳによって上記光ビームＬＢに加えるのが、上記少なくとも２つの異なった減衰レベルのどちらであるかを制御する。【００４２】  ランプドライバ基準信号に基づいて、減衰制御手段は、光度ピークと同期させるように可変減衰手段を制御することがより容易になる。【００４３】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記可変減衰手段ＶＡＭの特性に関する情報を有する減衰基準信号ＡＲＳを受け取る。【００４４】  可変減衰手段の特性は、形式ごとに異なり、減衰頻度、減衰継続時間、減衰度などを含むであろう。減衰基準信号は、さまざまな電気値を測定することにより、又は物理的減衰手段にトランスデューサ、回転メータ、ＩＲトランシーバなどを加えることによって得られるであろう。【００４５】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記減衰基準信号ＡＲＳに少なくとも部分的に基づいて、上記ランプドライバ制御信号ＬＣＳによって上記光度ピークＩＰの特性を制御する。【００４６】  減衰基準信号に基づいて、減衰制御手段は、可変減衰手段と同期して光度ピークを生じるようにランプドライバを制御することがより容易である。【００４７】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、光ビームＬＢの光度を測定するようになっている光度測定装置ＢＩＭから引き出された光ビーム基準信号ＢＲＳを受け取る。【００４８】  光ビームの挙動を他の情報から単に補間するのではなく、実際の光ビームにアクセスすることにより、減衰制御手段が可変減衰制御手段を同期状態でより良好に制御することが可能になる。【００４９】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記ほぼ一定光度の光ビームＣＬＢの光度を測定するようになっている光度測定装置ＣＩＭから引き出された一定光ビーム基準信号ＣＲＳを受け取る。【００５０】  実際の一定光度の光ビームにアクセスすることにより、減衰制御手段がそれ自体の性能を測定することが可能である。一定光度の光ビームはほぼ一定の光度を有すると予想されるので、いずれの光度変化も、現在使用中の減衰処理でのトラブルを表す。したがって、このフィードバックは、減衰制御手段がそれ自体の性能を適応改善できるようにするであろう。【００５１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記光ビーム基準信号ＢＲＳ、上記一定光ビーム基準信号ＣＲＳ又はその組み合わせに少なくとも部分的に基づいて、上記ランプドライバ制御信号Ｌ���Ｓによって上記光度ピークＩＰの特性を制御する。【００５２】  光ビーム基準信号ＢＲＳに基づいて、減衰制御手段は、光ビームの光度変化のタイミング及び大きさを引き出すことができる。両基準信号に、たとえばそれらを減算することによって基づいて、減衰制御手段は、可変減衰手段によって加えられる減衰のタイミング及び減衰度を引き出すことができる。一定光ビーム基準信号ＣＲＳに基づいて、減衰制御手段は、減衰方法のいずれの欠点も直接的に検出するであろう。この情報の１つ又は複数に基づいて、減衰制御手段はランプドライバ及び光源をより良好に制御することができるであろう。【００５３】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記光ビーム基準信号ＢＲＳ、上記一定光ビーム基準信号ＣＲＳ又はその組み合わせに少なくとも部分的に基づいて、上記減衰制御信号ＡＣＳによって上記光ビームＬＢに加えるのが、上記少なくとも２つの異なった減衰レベルのどちらであるかを制御する。【００５４】  基準信号から引き出すことができる情報の１つ又は複数に基づいて、減衰制御手段は、可変減衰手段をよりうまく制御することができるであろう。【００５５】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、所定の設定に少なくとも部分的に基づいて、上記可変減衰手段ＶＡＭ、上記ランプドライバＬＤ又はその両方を制御する。【００５６】  単純で低品質の、又は要求がより少ない用例では、減衰制御手段は、製造者から又は使用者により、所定のパラメータだけに、又はそれに部分的に基づいて減衰手段及び／又はランプドライバを制御するように設定されることができる。そのようなパラメータは、理論的予想又は経験に基づいて定められるであろう。一部の光源及びセットアップでは、これがおそらくうまくいくが、幾つかの用例では、これがおそらく光ビームの混乱さえも引き起こすであろう。【００５７】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記可変減衰手段ＶＡＭ、上記ランプドライバＬＤ又はその両方を連続的に制御する。【００５８】  減衰手段及び／又はランプドライバを連続的に制御することにより、減衰制御手段は、ピーキングパターンの変化に迅速に適応することができる。【００５９】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記第１及びさらなる減衰レベルを加えるタイミングと上記光度ピークＩＰのタイミングとの同期をとる。【００６０】  可変減衰手段が光度ピークと正確に同期して動作するとき、ほぼ一定の光度の光ビームが発生した。【００６１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭである。【００６２】  異なった大きさの光度ピークを等化しやすくするために、可変減衰手段は、多レベル可変減衰手段形式でなければならない。それにより、可変減衰手段は、少なくとも３つの、好ましくは多数の異なった減衰レベルを光ビームに加えることができると言える。【００６３】  本発明の好適な実施形態によれば、上記多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭは、上記光ビームＬＢに無限の減衰レベルを加えることができる。【００６４】  可変減衰手段のこの有利で好適な実施形態は、無限の、又は実質的に��限の減衰レベルを与える。それにより、いずれの大きさの光度ピークも、光度平坦部分に等化されることができ、ほぼ一定光度の光ビームが発生するであろう。【００６５】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、光度ピークＩＰ及び光度平坦部分ＩＦ間の大きさの差に少なくとも部分的に基づいて、上記多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭが光ビームＬＢに加えるのが、上記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する。【００６６】  本実施形態によれば、減衰制御手段は、必要なレベルに最も近づく減衰レベルを選択することができる。【００６７】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、一定光ビーム光度測定装置ＣＩＭからのフィードバックに少なくとも部分的に基づいて、上記多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭが光ビームＬＢに加えるのが、上記無限の減衰レベルのどれであるかを調整する。【００６８】  本発明のこの有利な実施形態によれば、減衰制御手段は、可能な限り最も一定化した光度の光ビームを発生するように、多レベル可変減衰手段の減衰レベルを適応変化させることができる。【００６９】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、使用者の入力に少なくとも部分的に基づいて、上記多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭが光ビームＬＢに加えるのが、上記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する。【００７０】  可変減衰手段が多数の減衰レベルを与える必要がある種類の光度変化は、たとえば電極材料の変位のために非常にゆっくり起きることが多いので、可変減衰手段は、比較的まれに調節されるだけでよいであろう。そのような調節は、光度ピークの大きさの測定、又はほぼ一定光度の光ビームの光度変化度の監視に基づくであろう。さらに、多レベル可変減衰手段は、減衰制御手段が減衰レベルを自動的に変化させることができないようにして具現されるであろう。【００７１】  本発明の一実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記ランプドライバ基準信号ＬＲＳに少なくとも部分的に基づいて、上記多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭが光ビームＬＢに加えるのが、上記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する【００７２】  ランプドライバ又は光源は、光度ピークの現在の大きさを減衰制御手段に知らせることができるであろう。【００７３】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、光源の使用経過時間に少なくとも部分的に基づいて、上記多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭが光ビームＬＢに加えるのが、上記無限の減衰レベルのどれであるかを制御する。【００７４】  使用者が自分の経験に基づいて減衰レベルを調節する代替として、減衰制御手段が何らかの種類の使用モニタリング、たとえばクロックを組み込んで、所定時間に減衰レベルを所定レベルに自動的に調節することができる。これでも、調節が経験又は予想に基づくが、使用者の会話は必要ない。【００７５】  本発明の好適な実施形態によれば、上記減衰制御手段ＡＣＭは、上記光源ＳＡＬの長期の使用によって発生する光ビーム特性の変化の補償を促進する。【００７６】  本発明のこの有利な実施形態によれば、本方法は、時間の経過に伴って発生する光ビーム内のゆっくりした変化を補償することができる。【００７��】  本発明の一実施形態によれば、上記光ビーム特性の変化は、光度ピークＩＰの大きさの変化を含む。【００７８】  光源がショートアークランプであるとき、光ビームのゆっくり発生する変化は、光度ピークの大きさの変化であろう。【００７９】  本発明の一実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、回転中心ＣＯＲ周りに回転するホイールＷを有し、上記回転中心は、上記光ビームＬＢの断面の中心から上記光ビームの方向に直交する方向に、少なくとも上記断面の半径に対応する距離だけ変位させられる。【００８０】  ホイールは、適当な種類のアクチュエータ、たとえば電気モータによって駆動されることができる。ホイールは好ましくは円形であるが、任意の形状を有することができ、好ましくは回転中心がホイールの中心である。可変減衰手段用に回転ホイールを使用することにより、減衰の頻度及び継続時間を一定に維持することは容易であるが、他方で変化することが困難であり、低速変化だけが可能である。ほとんどのホイールをベースにした可変減衰手段の実施形態の場合、ホイール上の特定点が光ビーム内にある時間が、回転速度に伴って変化するので、減衰頻度と減衰継続時間との間の比率が一定である。【００８１】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、少なくとも１つの透明部分ＴＳを有する。【００８２】  ホイールは、たとえばプレキシグラスやガラスなどの透明材料から形成されることができるが、透明部分を不透明材料製のホイール内へ挿入してもよい。透明部分の数は、個々の光度ピークタイミングスキームに基づいて決定されることができるが、好ましくは１つである。好ましくは、透明部分の透明度はできる限り完全であるべきであり、色組成や偏光などの他の光特性への影響もできる限り少なくするべきである。【００８３】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、少なくとも１つの切り抜き部分ＣＳを有する。【００８４】  可能な最高の透明度及び他の光パラメータに対する最小限の影響を得るために、ホイールの一部分を切り抜いてもよい。【００８５】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、少なくとも１つの半透明陰影部分ＳＳを有する。【００８６】  ホイールの１つ又は複数の部分に、それらが半透明になるように陰影を付けることにより、ほぼゼロではない減衰レベルを得ることができるであろう。陰影部分の不透明度は、光度ピークと光度平坦部分との大きさの差、すなわち所望の減衰に対応すべきである。【００８７】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、少なくとも１つの半透明ラスター部分ＲＳを有する。【００８８】  陰影部分の１つの代替として、部分にラスター模様を付けることにより、それらを半透明にすることができる。【００８９】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、少なくとも１つの穿孔部分ＰＳを有する。【００９０】  さらなる代替として、ホイールの一部分を穿孔することによって減衰レベルを得ることができる。【００９１】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷの上記回転は、上記減衰制御手段ＡＣＭによって少なくとも部分的に制御される。【００９２】  減衰制御手段がホイールの回転を制御できるようにすることにより、減衰制御手段が減衰の頻度及び継続時間を制御することができるので、有利な実施形態が得られた。【００９３】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、それぞれ異なった不透明度を有する幾つかの半透明部分ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３を有する。【００９４】  ホイールを多レベル可変減衰手段の実施形態で使用できるようにするために、陰影、ラスター又は穿孔部分のいずれかである幾つかの半透明部分を異なった不透明度で形成してもよい。異なった不透明度は、はっきりと分けても、あるいは互いにフェージングしてもよい。【００９５】  本発明の一実施形態によれば、上記ホイールＷは、使用者によって上記光ビームＬＢの方向に直交する方向に変位可能である。【００９６】  異なった陰影部分ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３から選択できるようにするために、ホイールは光ビームに直交する方向に変位させられるであろう。【００９７】  本発明の好適な実施形態によれば、上記ホイールＷは、少なくとも部分的に上記減衰制御手段ＡＣＭの制御下で上記光ビームＬＢの方向に直交する方向に変位可能である。【００９８】  この好適な実施形態により、減衰制御手段は、可変減衰手段によって加えられる減衰レベルを制御することができる。【００９９】  本発明の一実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、可変寸法の開口ＡＰを生じる絞りＤＰを有する。【０１００】  可変減衰手段を可変開口寸法を有する絞りの形で具現することにより、多レベル可変減衰手段が得られた。開口の完全開放から完全閉鎖までの範囲を有する絞りを使用する場合、無限の減衰レベルを光ビームに加えることができる。【０１０１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記開口ＡＰの上記寸法は、上記減衰制御手段ＡＣＭによって少なくとも部分的に制御される。【０１０２】  この好適な実施形態により、減衰制御手段は、可変減衰手段によって加えられる減衰レベルを制御することができる。【０１０３】  本発明の一実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、不透明板ＯＰと、該不透明板が可変度合いで上記光ビームを遮断できるようにする取り付け手段ＡＲとを有する。【０１０４】  不透明板は光ビームを任意度合いで遮断することができるので、多レベル可変減衰手段が得られた。板は任意の適当なやり方で取り付けられることができる。好適な実施形態では、図９に示されているように、光ビームから離れて直交する向きにあるアームにプレートを取り付け、そのアームの軸を中心にして板を回転させるようにする。【０１０５】  本発明の一実施形態によれば、上記遮断度は、上記減衰制御手段ＡＣＭによって少なくとも部分的に制御される。【０１０６】  この好適な実施形態により、減衰制御手段は、可変減衰手段によって加えられる減衰レベルを制御することができる。【０１０７】  本発明の一実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、変位可能なシートＳＨを有し、上記変位は、上記光ビームＬＢの方向に直交する平面上で可能である。【０１０８】  シートの変位は、任意の適当な種類のアクチュエータ又は同様な手段によって行われるであろう。光ビームに直交する平面上で変位可能であることにより、シートの任意部分を光ビーム内に置くことができる。【０１０９】  本発明の一実施形態に��れば、上記シートＳＨは、少なくとも１つの透明部分ＴＳを有する。【０１１０】  シートは、たとえばプレキシグラスやガラスなどの透明材料から形成されることができるが、透明部分を不透明材料製のシート内へ挿入してもよい。透明部分の数は、個々の光度ピークタイミングスキームに基づいて決定されることができるが、好ましくは１つである。好ましくは、透明部分の透明度はできる限り完全であるべきであり、色組成や偏光などの他の光特性への影響もできる限り少なくするべきである。【０１１１】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨは、少なくとも１つの切り抜き部分ＣＳを有する。【０１１２】  可能な最高の透明度及び他の光パラメータに対する最小限の影響を得るために、シートの一部分を切り抜いてもよい。【０１１３】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨは、少なくとも１つの半透明陰影部分ＳＳを有する。【０１１４】  シートの１つ又は複数の部分に、それらが半透明になるように陰影を付けることにより、ほぼゼロではない減衰レベルを得ることができるであろう。陰影部分の不透明度は、光度ピークと光度平坦部分との大きさの差、すなわち所望の減衰に対応すべきである。【０１１５】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨは、少なくとも１つの半透明ラスター部分ＲＳを有する。【０１１６】  陰影部分の代替として、部分にラスターパターンを付けることにより、それらを半透明にしてもよい。【０１１７】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨは、少なくとも１つの穿孔部分ＰＳを有する。【０１１８】  さらなる代替として、シートの一部分を穿孔することにより、減衰レベルを得ることができる。【０１１９】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨは、各々が異なった不透明度を有する幾つかの半透明部分ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３を有する。【０１２０】  シートを多レベル可変減衰手段の実施形態で使用できるようにするために、陰影、ラスター又は穿孔部分のいずれかである幾つかの半透明部分を異なった不透明度で形成してもよい。異なった不透明度は、はっきりと分けても、あるいは互いにフェージングしてもよい。【０１２１】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨの上記変位は、上記減衰制御手段ＡＣＭによって少なくとも部分的に制御される。【０１２２】  この好適な実施形態により、減衰制御手段は、可変減衰手段によって加えられる減衰レベルを制御することができる。【０１２３】  本発明の一実施形態によれば、上記シートＳＨの上記変位は、使用者によって少なくとも部分的に制御される。【０１２４】  多レベル可変減衰手段を形成するシートの異なった減衰レベルは、減衰制御手段がどの１つを使用するかを制御することができない、あるいは代替として減衰制御手段がどのレベルを加えるべきかを決定する潜在能力を有していないようにして定められてもよい。その場合、使用者はその時々にレベルを手動調節することができる。そのような調節は、１つのシートを、使用可能でよりうまく適する減衰レベルを有する別のシートと交換することも含むことができる。【０１２５】  本発明の一実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、少なくとも１つの空間光変調器ＳＬＭを有する。【０１２６】  可変減衰手段の実施形態で任意の空間光変調器を使用することができる。ほとんどの空間光変調器は、本来的に多数の、又は実質的に無限の減衰レベル、たとえば６００，０００レベルを与える。空間光変調器はさらに、正確であり、レベル変化時に非常に高速であり、所望レベルに達するまでに幾つかの不適切なレベルを通過する必要がない。【０１２７】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、磁気光学式である。【０１２８】  そのような変調器は、たとえば、イットリウム鉄ガーネットの結晶を有し、光学回転を生じるために磁界を使用することにより、通過する光ビームの光度が変調されるであろう。代替実施形態では、たとえば磁気光学カー効果のために、反射する光に異なった特性変化を加える表面が使用される。光を通過させようと反射しようと、光度を制御することができる任意の代替磁気光学変調器も、本発明の範囲内で使用されるであろう。【０１２９】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、電気光学式である。【０１３０】  そのような変調器は、たとえば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は任意の他の電気光学変調器又は装置を有するであろう。それは光を透過しても、反射してもよい。【０１３１】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、音響光学式である。【０１３２】  そのような変調器は、たとえば、光を透過しようと反射しようと、ブラッグセル又は任意の他の音響光学変調器又は装置を有するであろう。【０１３３】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、液晶ディスプレイである。【０１３４】  光ビームの変調用に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を使用するとき、高速かつ多レベルの可変減衰手段が得られた。【０１３５】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、微細機械式シャッターアレイである。【０１３６】  光ビームの変調用に微細機械式シャッターアレイを使用するとき、高速かつ多レベルの可変減衰手段が得られた。【０１３７】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、ＤＭＤ変調器である。【０１３８】  光ビームの変調用にＤＭＤ変調器を使用するとき、高速かつ多レベルの可変減衰手段が得られた。【０１３９】  本発明の一実施形態によれば、上記空間光変調器ＳＬＭは、上記減衰制御手段ＡＣＭによって少なくとも部分的に制御される。【０１４０】  減衰制御手段が空間光変調器によって加えられる減衰を少なくとも部分的に制御するとき、本発明の有利な実施形態が得られた。【０１４１】  本発明の一実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、少なくとも１つの回動式取り付け形ミラーＰＭと少なくとも１つの減衰フィルタＡＦとを有する。【０１４２】  回動式取り付け形ミラーは、それ自体の平面上の任意の軸、たとえばその中心を通る軸、又はその縁部の１つに沿った軸を中心にして回動することができる。減衰フィルタＡＦは、たとえば上記手段のいずれかを有する任意の光減衰手段でよい。【０１４３】  本発明の好適な実施形態によれば、上記可変減衰手段ＶＡＭは、上記光ビームＬＢの方向を変化させる手段を有する。【０１４４】  光ビームの方向を変化させるそのような手段は、ミラー、結晶、���ファイバ又は他の光ガイドを有することができる。誘導手段は、たとえば光を直線に沿って進めるのではなく、前後に行ったり来たりさせることによって実施形態の広がりを圧縮するため、又は光をまっすぐ通過させるのではなく、光を反射又は遮断する可変減衰手段又は他の構成部品を容易にするために固定することができるが、たとえば光ビームを変位可能にすることを必要とする可変減衰手段の使用を容易にするために、それらが可変であってもよい。【０１４５】  本発明の好適な実施形態によれば、上記発生させたほぼ一定の光度の光ビームＣＬＢの光度は、完全に一定である。【０１４６】  本発明のこの好適で有利な実施形態によれば、発生した光ビームＣＬＢは完全に一定の光度を有する。【０１４７】  本発明の一実施形態によれば、上記発生させたほぼ一定の光度の光ビームＣＬＢの光度は、±５０％の許容差内で、より好ましくは±１０％の許容差内で、さらにより好ましくは±１％の許容差内で一定である。【０１４８】  本発明のこの実施形態によれば、光ビームＣＬＢは、おそらくはわずかに変動する光度を有して形成されるが、光度ピークの大きさが、たとえば光度平坦部分の１５０〜２００％になる光ビームＬＢの光度パターンに比べて、それははるかにより一定かつ容認できる光ビームである。【０１４９】  本発明の一実施形態によれば、上記発生させたほぼ一定の光度の光ビームＣＬＢによって１つのピーキング期間中に伝達される光エネルギーは、公称期間中に伝達される光エネルギーの±１０％以内、より好ましくは±５％以内、さらにより好ましくは±１％以内である。【０１５０】  ピーキング期間とは、１つの電流ピークの開始から次の電流ピークの開始までの時間長さのことである。公称期間とは、光度平坦レベルにある一定光度を有する光ビーム、すなわちピークを持たない光ビームの対応の時間長さのことである。本発明のこの実施形態によれば、光ビームＣＬＢは、おそらくはわずかに変動する光度を有して形成されるが、伝達されるエネルギー、すなわち経時的に蓄積される光度は、光ビームＬＢによって伝達されるエネルギーより、完全に一定光度の光ビームによって伝達されるエネルギーにはるかに近い。それにより、本発明のほぼ一定光度の光ビームＣＬＢは、敏感な用途において使用するのがはるかに容易である。【０１５１】  本発明の好適な実施形態によれば、上記光源ＳＡＬは、ショートアークランプである。【０１５２】  ショートアークランプが、ピークを有する交流による駆動時によりうまく動作することは、当該技術分野では周知である。このピーキングは完全に周期的に発生されることができ、さらに一定範囲で変化することができるので、本発明はショートアークランプを使用する用途において特に有用である。【０１５３】  本発明の好適な実施形態によれば、上記ランプドライバＬＤは、上記光源ＳＡＬの駆動用に電流ピークＣＰを有する交流を発生する。【０１５４】  これは、少なくともショートアークランプの正確度及び寿命長さに関しては、ショートアークランプを駆動する好適なやり方である。本発明は、関連の問題を克服するために使用されることができる。【０１５５】  本発明の一実施形態によれば、上記ランプドライバＬＤは、上記光源ＳＡＬの駆動用に電流ピークＣＰを有する直流を発生する。【０１５６】  これは代替であるが、ショートアークランプを駆動するために広く使用される方法であって、本発明は、その種類の用途に関連しても使用されるであろう。【０１５７】  本発明はさらに、フォトリソグラフィ用に使用される光変調構造での上記方法の使用に関する。【０１５８】  そのような用途は多くの場合にショートアークランプを使用し、本発明はショートアークランプ用途での使用に特に有用であるので、本発明は、そのような用途で非常に有利に使用されることができる。【０１５９】  本発明はさらに、画像投影用に使用される光変調構造での上記方法の使用に関する。【０１６０】  本発明はまた、プロジェクタ及び同様な用途に有利に使用されることもできる。【０１６１】  さらに、本発明には幾つかのさらなる使用例がある。それは、たとえば印刷回路板の製造に関連した印刷回路板の露光、高速プロトタイプ作成、すなわち高速プロトタイプ作成として周知の処理による三次元モデルの作製、オフセット版及びフィルムの露光用に、またたとえばセリグラフィ用途、写真仕上げ処理、生物医学用途、たとえばＤＮＡプロフィールに関する研究用、投影用途及びサイン、デジタル映画用途などや、光源を有する任意の他の用途又は処理において有利に使用されるであろう。【０１６２】  本発明はさらに、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生する装置であって、
光ビームＬＢを発生する光源ＳＡＬと、
可変減衰手段ＶＡＭと、
減衰制御手段ＡＣＭと、
を備え、上記光ビームは、上記方法によって加減されて、ほぼ一定光度の光ビームＣＬＢになる、装置に関する。【０１６３】  それにより、任意の照明用途で使用するために有利な実施形態が定められる。【０１６４】  次に、図面を参照しながら本発明を説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１６５】  図１は、本発明の一実施形態のブロック図を示す。それは、光ビームＬＢを発生するとともにランプドライバＬＤによる電力供給を受ける光源ＳＡＬを有する。光度を安定させ、したがってそれを加減してほぼ一定光度の光ビームＣＬＢにするために、可変減衰手段ＶＡＭが光ビームＬＢ内に挿入されている。減衰制御手段ＡＣＭが、減衰制御信号ＡＣＳを介して可変減衰手段ＶＡＭを制御する。本発明の好適な実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭはさらに、ランプドライバ制御信号ＬＣＳを介してランプドライバＬＤのピーキングを制御する。本発明のより高度な、又は代替の実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭはさらに、可変減衰手段ＶＡＭから減衰基準信号ＡＲＳを、ランプドライバＬＤからランプドライバ基準信号ＬＲＳを、光ビームの経路上に配置された光度測定装置ＢＩＭから光ビーム基準信号ＢＲＳを、かつ／又はほぼ一定光度の光ビームの経路上に配置された光度測定装置ＣＩＭから一定光ビーム基準信号ＣＲＳを受け取るであろう。【０１６６】  光源は、好ましくはショートアークランプ、すなわち高圧放電ランプであり、以下ではそのようなものとして扱うが、本発明の範囲内において、それは、たとえば任意形式の白熱ランプ、蛍光ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザエミッタなどを含む任意の発光装置でよい。ショートアークランプは任意形式、たとえばメタルハライドランプ、水銀ランプ、ナトリウムランプなどでよく、好ましくは交流（ＡＣ）ランプであるが、本発明の範囲内において、直流（ＤＣ）ランプ又はより精巧な電力要求があるランプであってもよい。できる限り高い光度の光ビームＬＢを発生するために、光源は好ましくは１つ又は複数の反射鏡又は他の光方向手段を備えている。【０１６７】  ランプドライバＬＤは、特定の光源を駆動するのに適する任意の種類の電源でよい。光源をショートアークランプにする場合、ランプドライバＬＤは好ましくは、ランプの寿命を延ばすとともにアークの位置を安定させるために、ピークを有する交流（ＡＣ）を生じる。適当なショートアークランプの代替として、ランプドライバＬＤは、ピークを有するか、そうでなければ変動電流又は電圧、たとえばのこぎり波状の直流（ＤＣ）を生じてもよい。ランプドライバＬＤは、好ましくは電流源であるが、本発明の範囲内において、電圧源であってもよい。【０１６８】  図２は、本発明の一実施形態において光源ＳＡＬに加えられる電圧ＶＳＡＬ及び電流ＩＳＡＬのタイミング図を含む。図示の例では、ランプドライバは、ピークを有する交流を生じる。ランプドライバは、正及び負の電流平坦部分ＣＦ値に加えて、各方向転換の前に電流ピーク値ＣＰを有する交流電流ＩＳＡＬを生じる。ランプに印加される電圧ＶＳＡＬは、図示の例では正及び負の電圧平坦部分ＶＦ値間を交互する。通常は０Ｖである大地電位の領域内の電圧の期間が非常に短くなるようにするために、電圧及び電流の両方の波形は好ましくは方形波である。電力はＲＭＳ電流及びＲＭＳ電圧の積として値が求められるので、電流ピークＣＰのため、光源によって消費される電力は一定ではないであろう。【０１６９】  ピークを有するＡＣによって駆動されるショートアークランプの場合の実際の��の例は、電圧平坦部分ＶＦがたとえば７７〜１４０ボルト、電流平坦部分ＣＦがたとえば１．７〜３．３アンペア、電流ピークＣＰがたとえば電流平坦部分ＣＦ値の１５０〜２００％、ＶＳＡＬの周期がたとえば３〜１０ミリ秒、電流ピークＣＰの継続時間がたとえば２００〜６００μ秒であろう。タイミングは減衰制御手段ＡＣＭによって制御されるか、ランプドライバ基準信号ＬＲＳや、光ビームＬＢ、ほぼ一定の光度の光ビームＣＬＢ又はその両方の内部に配置された光度測定装置などによってアクセス可能であるかのいずれかであるから、それを実際に任意の大きさ及びタイミングスキームに適応させてもよいので、本発明は上記の値や波形などに決して制限されることはないことに注意されたい。ショートアークランプ用によく使用される代替のタイミングスキームは、のこぎり波状電流の直流スキームである。【０１７０】  電流ピークをショートアークランプに加えることにより、アークの位置の変動が少なくなり、それにより、発光点の変動も少なくなるので、精密な用途におけるその有用性が大幅に改善されることは、当該技術分野では周知である。【０１７１】  図２はさらに、結果として生じる光ビームＬＢの光度ＬＩＬＢを示す。光度は消費電力から算出されるので、それは電圧平坦部分ＶＦ及び電流平坦部分ＣＦの積に比例する光度平坦部分ＩＦと、電流ピーク値ＣＰから受け継いで電圧平坦部分ＶＦ及び電流ピークＣＰの積に比例する値を有する光度ピークＩＰとを有する。したがって、光度ピークＩＰは、精度向上の犠牲であるが、それでもほぼ一定の光度が必要である多くの用途では容認されない。したがって、図２の最後の図は、本発明の可変減衰手段ＶＡＭ及び減衰制御手段ＡＣＭによって光ビームＬＢから引き出されたほぼ一定光度の光ビームＣＬＢの光度ＬＩＣＬＢの所望波形を示す。【０１７２】  ＬＩＬＢの図は、本発明が取り組もうとする１つの問題を示している。光ビームＬＢの光度は光度ピークＩＰを有するので、光ビームＬＢにさらされるいずれの領域も、不均一な照明を受けるであろう。これは、一部の用途では、たとえば光ビームが同一領域を連続的に照明するために使用されるプロジェクタでは容認されるであろうが、たとえばフォトリソグラフィや、露光すべき領域を少しずつ照明するだけである他の技術のような幾つかの分野の用途では容認されない。これは、人の目が、１つのドットの光度変化より、たとえば個別に生じて隣り合った２つのドットの相対光度をよりうまく判断するからである。また、運の悪い場合、光度ピーク値の周期性により、縞又は他の目に見える周期的パターンが発生するであろう。【０１７３】  したがって、可変減衰手段ＶＡＭの１つの目的は、ピーキング時に発生する追加的光度を吸収し、又は他の方法で排除し、それにより、光度がほぼ一定になり、したがってほぼ一定光度の光ビームＣＬＢを発生することである。【０１７４】  図３〜図１３は、本発明による可変減衰手段ＶＡＭの異なった可能な実施形態を示す。任意の他の光減衰技術及び開示された実施形態の任意の変更形も本発明の範囲に含まれることに注意されたい。図３〜図１３のすべてにおいて、光源ＳＡＬは、好ましくはショートアークランプとして示され、好ま��くは反射手段又は他の光方向手段を有する。光源ＳＡＬは、可変減衰手段ＶＡＭに向けられる光ビームＬＢを発生し、この可変減衰手段が光ビームＬＢを加減して、ほぼ一定の光度の光ビームＣＬＢにする。【０１７５】  光ビームＬＢ、ＣＬＢは空中を直線に沿って進むように示されているが、光伝送用の任意手段、たとえば光ファイバ、ガス、ガラスなどの透明材料、集光ロッドなどを適用し、それにより、たとえば、外部擾乱を回避し、湾曲経路に沿って光を伝送し、光ビームをより正確に位置決めし、光をより均一に分布させ、光エミッタとそれがねらったレシーバなどとの間の、たとえば振動による相対移動を可能にすることができるであろう。【０１７６】  ここに記載した可変減衰手段はすべて、動作するためにアクチュエータ、モータ、コントローラ、電子制御又は調整回路、又は他の駆動手段を必要とする。わかりやすくするとともに、多くの使用可能な多様性があるために、そのような装置は図示されていないが、それらの形式及び動作モードは説明から想定されるであろう。さらに、可変減衰手段ＶＡＭは、図１に示されている減衰制御手段ＡＣＭからの制御信号ＡＣＳを必要とし、あるいは代わりに、減衰制御手段ＡＣＭへ基準信号ＡＲＳを出力する必要がある。そのような結合は図３〜図１３に示されていない。減衰制御手段ＡＣＭの特徴については後述する。【０１７７】  図３の可変減衰手段ＶＡＭは、透明部分ＴＳと陰影部分ＳＳとを有するホイールＷを備える。ホイールは、たとえばガラス、プレキシグラス又は任意の他のある程度透明な材料から形成されるであろう。陰影部分ＳＳは、ホイールの一部分に透光式着色又は表面着色を施すことにより、たとえば半透明フィルムの付着又はコーティングなどによって半透明にされるであろう。透明部分と陰影付きであるが半透明の部分とを有するホイールを形成する任意の他の方法も、本発明の範囲に含まれる。【０１７８】  ホイールは、ホイールの中心を回転中心ＣＯＲにして回転している。回転中心ＣＯＲは、光ビームＬＢの方向に直交する方向に変位し、それにより、光が同時に回転中心の異なる側部に決して当たらないようにしている。ホイールＷが回転すると、図示の実施形態では、光ビームＬＢは大部分の時間で透明部分ＴＳを通過するが、特定時間で陰影部分ＳＳを通過し、それにより、陰影の特性に従った減衰を受ける。光ビームが陰影部分を通過する特定時間は、ホイール全体と比べたときの陰影部分の寸法及び形状などの特性と、光ビームが通過するスポットに対する回転中心の位置とによって決まる。【０１７９】  ホイールの回転速度を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ陰影部分の不透明度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、ホイールの回転速度の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤをホイールと同期させてもよい。【０１８０】  図３の減衰手段の代替実施形態は、たとえば幾つかの陰影部分をホイールの周りに均一又は非対称的に配置したホイールや、三角形以外の形状の１つ又は複数の陰影部��を設けたホイールなどを有する。【０１８１】  図４は、図３のものに似た可変減衰手段ＶＡＭを示す。光度損失をできる限り少なくするために、図３のホイールの透明部分が切り抜かれて、図４のホイール内に切り抜き部分ＣＳを形成している。図３の実施形態のすべての他の注記及び代替が、本実施形態にも当てはまる。【０１８２】  ホイールの回転速度を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ陰影部分の不透明度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、ホイールの回転速度の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤをホイールと同期させてもよい。【０１８３】  図５は、可変減衰手段ＶＡＭのさらなるホイールベースの実施形態を示す。それは、回転中心ＣＯＲを有する回転ホイールＷを備える。ホイールの表面は、不透明ドットが散在するラスター部分ＲＳと透明部分ＴＳとを有する。ラスター部分ＲＳのドットは、均一、対称的、不規則的、又は任意の適当なパターンに従って分布してもよく、任意の種類、形状及び寸法、たとえば円形、正方形、罫線引きなどでもよい。ドットの形成に使用される技術は重要ではなく、したがって、任意の可能な方法、たとえば塗装、印刷、印刷済みフィルムの貼り付け、エッチング、写真技術の使用などでよい。別法では、不透明材料を完全不透明部分から取り除くことにより、ラスタードットを形成してもよい。ラスター部分ＲＳの、ドットによって不透明にする部分が大きいほど、それだけ多く光ビームＬＢの光度が減衰される。【０１８４】  図５の減衰手段の代替実施形態は、たとえば幾つかのラスター部分をホイールの周りに均一又は非対称的に配置したホイールや、三角形以外の形状の１つ又は複数のラスター部分を設けたホイールなどを有する。【０１８５】  ホイールの回転速度を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつラスター部分ＲＳの平均不透明度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、ホイールの回転速度の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤをホイールと同期させてもよい。【０１８６】  図６は、可変減衰手段ＶＡＭの別のさらなるホイールベースの実施形態を示す。それは、回転中心ＣＯＲ周りに回転する少なくとも部分的に不透明な表面を有するホイールＷを備える。ホイールの表面は、穿孔部分ＰＳと切り抜き部分ＣＳとを有する。したがって、光ビームＬＢがホイールＷの無減衰部分に当たる時に最小減衰光路が確保される。穿孔部分ＰＳの穿孔は、任意の種類、形状及び寸法、たとえば円形、正方形、罫線引きなどの穴でよく、任意の穿孔方法によって形成されるであろう。穿孔部分ＰＳの、穿孔によって透明にする部分が大きいほど、それだけ少なく光ビームＬＢの光度が減衰される。【０１８７】  図６の減衰手段の代替実施形態は、たとえば幾つかの穿孔部分をホイールの周りに均一又は非対称的に配置したホイールや、三角形以外の形状の１つ又は複数の穿孔部分を設けたホイールなどを有する。【０１８８】  ホイールの回転速度を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ穿孔部分ＰＳの平均不透明度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、ホイールの回転速度の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤをホイールと同期させてもよい。【０１８９】  図７は、絞りＤＰの形の可変減衰手段ＶＡＭを示す。多数のラメラＬＭにより、可変寸法の開口ＡＰが形成される。破線は、拡大開口ＡＰを生じるラメラＬＭの代替設定を示す。光ビームＬＢの幅より広い開口ＡＰを定めることにより、光ビームＬＢの全光度を通すことが可能である。一定光度の光ビームＣＬＢのほぼ一定の光度を維持するために、光ビームＬＢの光度が増加するとき、開口を減少させることができる。異なった形状の、たとえば湾曲形状のラメラ、異なった形状の、たとえば半円形又は台形の開口、異なった動作モード、異なった作動モードなどを有する任意の絞り技術も本発明の範囲に含まれることに注意されたい。【０１９０】  絞りの開口寸法の変化を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ開口寸法を光度差に従って制御することにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、絞りの開口寸法変化の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを絞りと同期させてもよい。【０１９１】  図８は、アームＡＲの端部に装着されて、アームＡＲの他端部に位置する回転中心ＣＯＲ周りに回転させることによって光ビームＬＢの経路内に完全又は部分的に、あるいは経路外に置くことができる不透明板ＯＰの形をした可変減衰手段ＶＡＭを示す。その場合、不透明板ＯＰによって遮断される光ビームの百分率が減衰を決定する。図８の可変減衰手段の実施形態は、減衰方法を説明するためだけのものであり、任意の形の不透明板ＯＰ、回転中心ＣＯＲの任意位置、その間の任意の連結手段、たとえばアームＡＲ、回転の任意の代替、たとえば回転移動とは異なって水平又は垂直移動による光ビーム内への不透明板の摺動、あるいは光ビームを部分的に遮断する任意の他の方法が本発明の範囲に含まれることは明らかである。【０１９２】  光ビームＬＢ内への不透明板の部分的挿入を光ビームの光度の周期的変化と同期させ、かつ不透明板の挿入の度合いを光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、不透明板の挿入時間又は挿入度合いの基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを可変減衰手段と同期させてもよい。【０１９３】  図９は、不透明板ＯＰを使用する代替の可変減衰技術を示す。それは、アームＡＲに取り付けられた不透明板ＯＰを有する。板は、回転軸ＡＯＲ、好ましくはアームＡＲの長手を中心にしたその回転に応じて異なった度合いで光ビームを遮断する。不透明板ＯＰが、その板面が光ビームに平行である位置に回転するとき、最小限の遮断が得られる。任意の他の回転状態で、不透明板は、少なくともその板の表面が光ビームに直交する位置において少なくとも部分的及び完全に光ビームを遮断する。光度の減衰は、回転角、板の寸法及び光ビームの断面直径から決定されるであろう。当然ながら、図８の実施形態について述べた代替は、本実施形態にも当てはまる。さらに、加えられる減衰について一定の制御量を達成するために、完全な不透明板の代わりに半透明、穿孔又はドット付き板を使用できることは、図８及び図９の両方の実施形態に当てはまる。【０１９４】  不透明板の回転を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ不透明板の回転角度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、不透明板の回転角度の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを可変減衰手段と同期させてもよい。【０１９５】  可変減衰手段ＶＡＭの代替実施形態が、図１０に示されている。それはシートＳＨを有し、その表面が透明部分ＴＳ及び陰影部分ＳＳを有する。一方部分又は他方部分を水平移動によって光ビームＬＢ内へ移動させることができる。陰影部分ＳＳの陰影の種類が、陰影部分を光ビーム経路内に置いたときに光ビームＬＢに加えられる減衰度を決定する。図示の実施形態は動作原理を示しているだけであって、本実施形態の任意の変更、たとえば上記の他の実施形態の任意の属性に従った変更が本発明の範囲に含まれることに注意されたい。そのような変更には、たとえばある部分に陰影を付ける代わりに穿孔又はドットを付けること、透明材料を使用する代わりにある部分を切り抜くこと、シートを代替形状にすること、異なった部分を互いに代替位置に置くこと、陰影部分の数を増すこと、他の種類の移動、たとえば垂直方向又は回転などによって減衰を調節することが含まれる。【０１９６】  光ビームＬＢ内への陰影部分の挿入時間を光ビームの光度の周期的変化と同期させ、かつ陰影部分の不透明度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、陰影部分の挿入時間の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを可変減衰手段と同期させてもよい。【０１９７】  上記の可変減衰手段の実施形態のすべてに共通することは、それらが、所望の減衰を達成するために比較的大きいホイール又は板を正確に位置決めすることが必要である比較的大規模な装置であることである。光度ピークＩＰは瞬間的に出現し、かつ消滅するので、対応の減衰変化も同様に迅速に行われなければならない。上記実施形態のすべてにおいて、断面の広がりを有する光ビームであるため、それらの減衰率は瞬間的ではなく、少しずつ変化するので、これは上記実施形態の不利点であろう。したがって、図２の実際のほぼ一定光度の光ビーム���光度ＬＩＣＬＢのタイミング図は、光度ピークＩＰの縁部の位置に小さな変動を有するであろう。これを克服するために、無減衰から減衰への機械的変化を、たとえばホイールの回転速度の増加によって行うことができるが、このためにホイールの寸法を大幅に増加させる必要があり、そうでない場合、光度ピーク頻度が低下するであろう。【０１９８】  上記実施形態の利点は、コスト、及び任意種類又は変更形のフィルタ、たとえば偏光フィルタ、赤外線フィルタ、白色点平衡フィルタなどを適用できることである。さらに、すべての該当波長について等しい減衰及び無減衰を有し、したがって、光度ピークＩＰの除去以外のすべての光ビームの擾乱を回避する可変減衰手段ＶＡＭを形成することが可能である。【０１９９】  図１１は、空間光変調器ＳＬＭを有する可変減衰手段ＶＡＭの一実施形態を示す。空間光変調器は、たとえば電気光学、磁気光学又は音響光学材料を有する。図示の空間光変調器ＳＬＭは透過型であり、入射光は変調器の現在の特性に従って空間光変調器を通過する。そのような変調器は、たとえば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）変調器、液晶光弁（ＬＣＬＶ）、微細機械式シャッターなどを有する。他の形式の空間光変調器、たとえば入射光ビームを反射させる変調器、たとえばデジタルマイクロミラー装置（ＤＭＤ）、格子光弁（ＧＬＶ）、変形可能なミラー装置なども使用されるであろう。【０２００】  ほとんどの空間光変調器は、多数の、たとえば数十万個、さらには数百万個の個別に制御可能なピクセルＣＰ、ＯＰを有し、これらは閉鎖ＣＰ又は開放ＯＰのいずれかであろう。透過型変調器の場合、開放ピクセルＯＰは光ビームＬＢに対して透明であり、閉鎖ピクセルＣＰは不透明である。すべてのピクセルを開放することにより、可能な最高の光度が変調器を通過し、またすべてのピクセルを閉鎖することにより、可能な最小限の光度が通過する。一部のピクセルだけを閉鎖することにより、減衰度が達成され、これは、閉鎖ピクセルの数を変化させることによって可変である。閉鎖されたピクセルは、表面全体に均一に、又は一定パターンに従って分布するであろう。【０２０１】  ピクセルの開閉を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ閉鎖するピクセルの数及び位置を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、閉鎖ピクセルの閉鎖時間及び／又は数及び位置の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを空間光変調器と同期させてもよい。【０２０２】  図１２は、音響光学変調器ＡＯＭである空間光変調器ＳＬＭを有する可変減衰手段ＶＡＭの一実施形態を示す。本実施形態はさらに、音響光学変調器ＡＯＭの方向に音波ＳＷを送る音送信器ＳＴも有する。音響光学材料、たとえばブラッグセルの特性は、音響エネルギーをそれに加えることにより、その光学特性を変化させる潜在能力を有する。したがって、音響光学変調器ＡＯＭに送られる音響エネルギーを制御することにより、光ビームの減衰を制御することが可能である。【０２０３】  音波の送信を光ビームＬＢの光度の���期的変化と同期させ、かつ音響光学変調器の不透明度が光度差に対応するように音波を適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、音響光学変調器の現在の不透明度又は音波送信時間などの基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを音響光学変調器と同期させてもよい。【０２０４】  図１１及び図１２の可変減衰手段の実施形態に共通することは、それらが機械部品をまったく有しないか、少なくとも非常に小さい機械部品を有することである。このため、それらはその特性を非常に迅速に、たとえばナノ秒以内に変化させることができ、光ビームＬＢの瞬時変化光度を考えるとき、これは大きな利点である。さらに、それらは、微細機械式シャッターを除いて、使用中に摩耗又は破損する機械部品をまったく有していない。【０２０５】  しかしながら、空間光変調器の不利点には、比較的高いコスト、完全開放時でも比較的高い光度損失、波長や偏光などの光特性に関する、しばしば非常に劣って制御不能なレンダリング機能が含まれる。【０２０６】  図１３は、可変減衰手段ＶＡＭのさらなる実施形態を示す。それは、光ビームＬＢを発する光源ＳＡＬ、好ましくはショートアークランプを有する。光ビームは、回動式に取り付けられたミラーＰＭに当たり、このミラーは、その位置に従って、実線及び破線で示された２つの対向方向に光ビームを反射することができる。いずれの状況においても、光ビームは固定ミラーＦＭによって９０°反射される。実線に従って、光ビームは減衰フィルタＡＦを通過し、それから固定ミラーＦＭによって９０°反射される。他方の場合、光ビームは固定ミラーＦＭによって９０°反射されるだけである。最終的に、光ビームは第２回動式取り付けミラーＰＭに当たり、初期光ビームＬＢとして同一方向に反射されるが、このときにはほぼ一定光度の光ビームＣＬＢである。すべての光度ピークが減衰フィルタＡＦを通過するようにするために、回動式取り付けミラーＰＭを光度ピークＩＰの縁部と同期させる必要がある。本実施形態に幾つかの変更を、たとえばミラーの再位置決め、より多くのミラーの追加、ミラーの一部又はすべての旋回、ＴＩＲプリズムなどのより高度な光学素子の使用などを行ってもよいことに注意されたい。そのような変更は、上記実施形態の任意の組み合わせとともに、本発明の範囲に含まれる。【０２０７】  回動式に取り付けられたミラーＰＭの設定を光ビームＬＢの光度の周期的変化と同期させ、かつ減衰フィルタＡＦの不透明度を光度差に従って適応させることにより、光度ピークＩＰの適切な減衰を達成し、それにより、ほぼ一定の光度を有する光ビームＣＬＢを発生することが可能である。代替として、可変減衰手段ＶＡＭは、回動式取り付けミラーＰＭの設定の基準を減衰制御手段ＡＣＭに出力し、それにより、ランプドライバＬＤを可変減衰手段と同期させてもよい。【０２０８】  図３〜図１３の可変減衰手段ＶＡＭのすべてについて、ホイールＷの任意の他の形状、たとえば正方形、図示又は説明した技術の任意の組み合わせ、回転中心ＣＯＲの任意の変位、光ビームの位置決めを制御するための、たとえば光ファイバ、光ガイド、ミラーなどの形の任意の技術的追加、光ビームの構成及び集光を制御するための、レンズ、光インテグレータロッド又は三角、ＴＩＲプリズムなどの光学素子、たとえばＬＣＤドライバなどの、可変減衰手段の制御又は駆動を行うための電子及び機械的装置、可変減衰手段と他の光フィルタリング手段、たとえば色ホイールなどとの任意の組み合わせが本発明の範囲に含まれることが当てはまる。【０２０９】  上述したように、減衰制御手段ＡＣＭが、光度ピークＩＰのタイミング及び大きさと、可変減衰手段ＶＡＭによって実行される減衰のタイミング及び度合いとを確実に同期させ、それにより、光度ピークＩＰ又は他の追加光度事象を、それらの光度が光度平坦部分ＩＦに等しくなる程度に減衰することによって打ち消すようにすべきである。【０２１０】  好ましくは、減衰制御手段ＡＣＭは、制御信号ＬＣＳ及びＡＣＳによってランプドライバＬＤ及び可変減衰手段ＶＡＭの両方を制御している。それにより、減衰制御手段ＡＣＭは、光源ＳＡＬの要求に適し、かつ可変減衰手段ＶＡＭの特徴を可能な最良の方法で活用するタイミング及び大きさスキームを定めることができる。たとえば、可変減衰手段ＶＡＭが、図３に示されているような陰影部分ＳＳ及び透明部分ＴＳを有するホイールＷからなるとき、ホイールの回転速度はおそらく制御可能であるが、陰影部分ＳＳの寸法は制御できない。したがって、減衰の継続時間、すなわち陰影部分が光ビーム内に位置する継続時間と、減衰頻度、すなわち１秒あたりのホイールの回転数との間に強い相関関係が存在する。さらに、陰影部分によって加えられる減衰は一定である。したがって、減衰制御手段ＡＣＭがランプドライバＬＤを全面的に制御するとき、それは比較的短いピーク継続時間で高いピーク頻度を、又は比較的長いピーク継続時間で低いピーク頻度を設定し、さらに、陰影部分の減衰に合わせるように光度ピークの大きさを制御する。他方、可変減衰手段ＶＡＭが、たとえばＬＣＤ形式の空間光変調器からなるとき、頻度及び継続時間に関する制約は非常に小さく、任意の減衰度を加えることができる。したがって、減衰制御手段ＡＣＭは、ピーク頻度、ピーク継続時間及びピークの大きさなどの、ランプドライバ及び光源にとって最も重要なものにうまく適するように適合されるであろう。【０２１１】  減衰制御手段ＡＣＭは好ましくは電子装置であるが、代替として、ランプドライバ及び可変制御手段の形式に従って、完全又は部分的に機械式か、任意の他の適当な種類又は種類の組み合わせでもよい。減衰制御手段ＡＣＭは別体の装置でよいが、それを可変減衰手段ＶＡＭ又はランプドライバＬＤに組み込んでもよい。【０２１２】  単純な実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭの制御特性は、おそらくは光源、ランプドライバ及び可変減衰手段ＶＡＭの予定の種類に関連させた所定のスキームに従って、製造者又は使用者によって設定される。【０２１３】  代替実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭが、たとえば光度ピークタイミングに関する情報を有するランプドライバ基準信号ＬＲＳを読み取って、可変減衰手段ＶＡＭをそれと同期させるために、たとえば、その動作モード��従って、ホイール回転速度、ピクセル閉鎖時間、開口寸法などを使用する。代替として、一部のランプドライバの特性、たとえば電流ピークの確定時は制御可能であるが、他のもの、たとえば電流ピークの継続時間は制御できない。そのような用途では、ランプドライバ基準信号ＬＲＳ及びランプドライバ制御信号ＬＣＳの両方を使用することができる。ランプドライバ基準信号ＬＲＳを介して減衰制御手段ＡＣＭに送るべき情報は任意の適当な方法で、たとえば基準信号を光源の電源コードに接続する、ランプドライバ及び／又は光源の電圧及び電流を測定する、又はそのような情報を与えるようにランプドライバを適応させるなどによって発生させることができる。【０２１４】  さらなる代替実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭが、たとえば現在の減衰度、減衰レベル変化のタイミングなどに関する情報を有する減衰手段基準信号ＡＲＳを読み取って、ランプドライバＬＤをそれと同期させるために、たとえば光度ピークタイミングや継続時間などを使用する。代替として、一部の可変減衰手段の特性、たとえばホイールの回転速度は制御可能であるが、他のもの、たとえば減衰の継続時間、すなわち陰影部分の寸法は制御できない。そのような用例では、減衰手段基準信号ＡＲＳ及び減衰制御信号ＡＣＳの両方を使用することができる。減衰手段基準信号ＡＲＳを介して減衰制御手段ＡＣＭに送るべき情報は任意の適当な方法で、たとえば可変減衰手段のドライバ、アクチュエータ又は他の電子部品の電圧、電流及び／又は磁界を測定する、減衰度又は減衰の有無を現時点で測定する、又は、たとえば回転数カウンタ、頻度計、角度ゲージ又は他のトランスデューサ又はメータなどの追加によってそのような情報を与えるように可変減衰手段を適応させるなどによって発生させることができる。【０２１５】  さらなる代替実施形態において、減衰制御手段ＡＣＭは光ビーム基準信号ＢＲＳ及び／又は一定光ビーム基準信号ＣＲＳを読み取る。そのような信号は、それぞれ光ビームＬＢ及び一定光度光ビームＣＬＢの経路上に置かれた光度測定装置ＢＩＭ、ＣＩＭによって発生されるであろう。好ましくは、光度測定手段は、光ビームの断面積と比べて小さく、光ビームの遮断を最小限に抑えるために、光ビームの周辺に置かれる。代替として、光度測定装置ＢＩＭ、ＣＩＭを光ビームの外に配置して、小型ミラー又は他の光誘導装置を光ビーム内に置き、それにより、光の一部を光度測定装置の方に進ませるようにしてもよい。光ビーム基準信号ＢＲＳだけが利用可能である場合、光度ピークＩＰのタイミングを決定するために減衰制御手段ＡＣＭはこれだけを使用することができる。一定光ビーム基準信号ＣＲＳだけが利用可能である場合、減衰制御手段は共通フィードバック技術によってこれを処理し、したがって、その信号からの読み取り値が一定であるように、ランプドライバ又は可変減衰手段を適応調整することができる。両方の信号が利用可能である場合、減衰制御手段ＡＣＭは信号を互いに減算し、それにより、可変減衰手段ＶＡＭのタイミングを決定する。【０２１６】  さらなる代替実施形態は、上記実施形態の任意の組み合わせを有し、本発明の範囲に含まれる。一定光ビーム基準信号ＣＲＳの使用を��衰基準信号ＡＲＳと組み合わせ、それにより、ランプドライバ及び可変減衰手段ＶＡＭを適応制御できるようにすることにより、好ましい有利な実施形態が得られる。【０２１７】  ほとんどの光源、特にショートアークランプは、たとえば電力消費量、出力強度、安定性、放熱量などに関して経時的に変化する。光ビームＬＢの光度に影響を与えるそのような変化のいずれも、不均一な光度の補償動作をさらに困難にするので、それはこの状況において重要である。ショートアークランプを論じるとき、経時的な変化の問題は、交流又は直流のいずれであっても、光源がピークで駆動されるときに特に顕著である。【０２１８】  図１４は、ピークを有する交流によって駆動されるショートアークランプの状況での問題をよりうまく説明するために与えられている。図１４のタイミング図は、多くの点で図２のタイミング図に対応しているが、時間軸は図２のものよりはるかに長く延びている。はるかに長い時間は、各時間軸の省略符号によって表されている。各省略符号は数時間、たとえば２００時間に相当する。【０２１９】  第１図は、光源ＳＡＬでの電圧ＶＳＡＬを示す。それは、図２と同様に方形波形であるが、電圧平坦部分ＶＦは使用時間とともに増加する。これは、電極材料の変位のために使用中にゆっくり広がっていくショートアークランプの電極ギャップによって発生する。ギャップが広ければ、電子がギャップを跳び越えるためにより高い電圧が必要であり、したがって、発光アークが生じる。【０２２０】  光ビームの光度が一定であるために、光源が消費する電力がほぼ固定されなければならないので、電力は電圧と電流との積によって決定されることから、電圧の増加に伴って電流が反比例的に減少する。図１４の第２図は、使用中の異なった時間での光源電流ＩＳＡＬの３つのスナップショットを示す。電圧平坦部分の増加に伴って、電流平坦部分ＣＦが減少することがわかる。しかしながら、電流ピークＣＰは、光源ＳＡＬの電力損ではなくランプドライバＬＤがその値を決定するので、一定値に維持される。【０２２１】  図１４の第３図は、図１４の電圧及び電流スキームに基づいて光源によって生成された光ビームの光度ＬＩＬＢを示す。光度は電力に比例するので、光度は光度平坦部分ＩＦによって表される一定レベルに維持されるが、光度ピークＩＰの強さは、増加する電圧と一定電圧との積に対応することから、増加する。【０２２２】  図１４の第４図は、ほぼ一定の光度ＬＩＣＬＢを有する光ビームの所望光度を示す。図３〜図１３を参照しながら上述した可変減衰手段ＶＡＭの実施形態のほとんどは、それらが一定であると見なされるとき、２つの減衰レベルだけ、すなわち好ましくはゼロ減衰と光度ピークでの光度増加に従ったレベルとを有するので、使用中に光度ピークが高くなるという問題に対処するために、それらはそのまま使用されないであろう。【０２２３】  本発明の１つの目的は、可変減衰手段ＶＡＭを、光度レベルのリアルタイム変化の、減衰を意味する補償を行うことができるように適応させ、したがって、ほぼ一定光度の光ビームＣＬＢを発生しやすくすることである。【０２２４】  図１５は、本発明の一実施形態のブロック図を示す。それは、図１の実施���態のようなブロック及び結合部を有するが、使用中に光度ピークＩＰの大きさが変化するという問題に対処するために、可変減衰手段ＶＡＭの代わりに多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭを用いている点で異なる。【０２２５】  多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭは、常にほぼ一定光度の光ビームＣＬＢを生じるために、光ビームＬＢに２つ以上の異なった減衰レベルを加えることができる。透明であるときと減衰を加えるときとの切り換えのタイミングは、可変減衰手段ＶＡＭの場合と同様に、正確に制御されなければならない。しかし、それに加えて、個々の時間にどの減衰レベルを加えるかの制御を追加しなければならない。この制御は好ましくは、減衰制御手段ＡＣＭを適応させることによって行われる。【０２２６】  図３〜図１３を参照しながら説明した可変減衰手段ＶＡＭのいずれも、多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭに変更することができる。以下では、図３〜図１３及び図１６及び図１７を参照しながら、そのような可能な変更を説明する。【０２２７】  図３の可変減衰手段ＶＡＭ、すなわち陰影部分ＳＳ及び透明部分ＴＳを有するホイールの実施形態を変更して、図１６に示されているような多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭにすることができる。図１６の実施形態は、光ビームＬＢを生じる光源ＳＡＬを有し、その光ビームは多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭを通過し、それによって加減されてほぼ一定の光ビームＣＬＢになる。多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭは、回転中心ＣＯＲを有する回転ホイールＷを備える。ホイールＷの表面は、透明部分ＴＳと幾つかの陰影付きであるが半透明の部分ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３とに分けられる。陰影部分の各々は異なった陰影レベルを有し、したがって、それに別々に当たるいずれの光も減衰することができる。異なった陰影部分の数は決して３つに制限されることはなく、ホイールを減衰できなければならない光度レベル間の差及び所望精度に基づいて決定されるであろう。代替実施形態では、１つの陰影部分が存在するだけであるが、異なった位置で異なる陰影を介してフェージングするように着色されて、光ビームに無限の可変減衰を加えることができる。その代替の一例が、基本的には図１７から導き出される。【０２２８】  異なった陰影付きの部分は、そのいずれもが、ホイール又は光ビームを光ビームの方向に直交する方向に変位させることによって光ビームの経路内に配置されることができるようにして、ホイール上に位置決めされる。したがって、ホイールは、回転中心周りに回転することによってその不透明度を透明から特定レベルまで迅速かつ正確な周期で変化させ、またその特定レベルを別のレベルにより低速かつ自由に変化させることができる。光度ピークＩＰは周期的に生じ、特定の時間間隔内では等しい大きさであると見なされるであろうが、長く使用する間に変化するであろうので、これは光ビームの光度変化の性質にうまく合致する。【０２２９】  図３のホイールベースの実施形態から多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭを形成する方法は、いずれの他のホイールベースの可変減衰手段の実施形態、たとえば図４、図５又は図６の実施形態にも適用されるであろう。可変減衰手段ＶＡＭの実施形態では、陰影部分の数、寸法及び形状は適当ないずれでもよく、したがって、図１６に示された１つの三角部分に限定されないことに注意されたい。【０２３０】  図７を参照しながら上述した可変減衰手段ＶＡＭの絞りをベースにした実施形態は、その物理的可能性において、任意の開口寸法を生じることができるので、多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭとして容易に適用されるであろう。実際には、それは透明から一定の減衰レベルに変化するとき、幾つかの減衰レベルを必然的に通過する。【０２３１】  図８及び図９を参照しながら説明した、不透明の、又は代替として半透明の板ＯＰを光ビームの内外へ移動させることに基づく２つの実施形態も、光ビームの遮断度を自由に選択することができ、これがそれらの減衰レベルを決定するものであるので、多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭとして容易に適用することができる。絞り形式の場合のように、本実施形態も無遮断から一定の遮断レベルに変化するとき、幾つかの減衰レベルを必然的に通過する。【０２３２】  図１０を参照しながら説明した可変減衰手段ＶＡＭの実施形態は、たとば図１７に示されているように、多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭに適用されるであろう。この図面は、やはり光ビームＬＢを発生する光源ＳＡＬを有し、その光ビームが加減されてほぼ一定光度の光ビームＣＬＢになるので、図１０に対応する。図１７では、その加減が多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭによって行われ、それは、透明部分ＴＳと、異なった位置で異なる陰影度を介してフェージングするフェージング部分ＦＳとを有する。シートＳＨを光ビームの方向に直交する方向に水平移動させることにより、透明又は減衰モードを選択することができる。シートを光ビームの方向に直交する方向に垂直移動させることにより、減衰レベルを選択することができる。フェージング部分は半透明であるが、異なった不透明レベルを有する。フェージング部分は、図３、図１０又は図１６を参照しながら説明したように形成されてもよいが、図５を参照しながら説明したようなラスター部分、図６を参照しながら説明したような穿孔部分、又は任意の他の種類の半透明部分であってもよい。フィージング部分ＦＳは、たとえば基本的に図１６から導き出されるような、幾つかの異なった陰影付きの部分に代わることができる。フェージング部分は、任意の種類のフェージングパターン、任意の形状、任意の寸法などを有することができる。フェージング部分及び透明部分の位置づけに従って、任意の適当な移動パターンを適用することができる。【０２３３】  図１１及び図１２を参照しながら説明した２つの空間光変調器の実施形態及びほとんどの他の使用可能な空間光変調器の実施形態では、光ビームの減衰度を、たとえば開放及び閉鎖ピクセルの多くの組み合わせのうちから自由に選択できるので、それらは本来的に多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭの性質を有する。空間光変調器は１つの減衰レベルから任意の他のレベルへの切り換えを、非常に迅速かつ正確に、またその間でいずれの望ましくない減衰レベルを通ることなく行うので、これらが主要な課題であるとき、それらは好適な選択肢である。さらに、各減衰レベルに対して幾つかのピクセルパターンを使用可能であり、これにより、光ビームＬＢの断面全体で考えられる不均衡な���度分布を少なくともある程度は補償することが可能である。【０２３４】  図１３を参照しながら上述した可変減衰手段ＶＡＭの実施形態は、減衰フィルタＡＦを高度化させることによって多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭに適応させることができる。たとえば、幾つかの、又は無限の異なった不透明段階を設け、図１６又は図１７を参照しながら説明したように、たとえば垂直又は水平移動によって特定段階を選択する方法を用いることによってこれを適応させることができる。別法として、減衰フィルタの代わりに、可変開口を有する絞り、光ビームを部分的に遮断する不透明板、空間光変調器などを用いる。【０２３５】  光ビームＬＢを加減してほぼ一定光度の光ビームＣＬＢにするのに適した多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭのいずれの実施形態も本発明の範囲に含まれることに注意されたい。【０２３６】  本明細書に開示した可変減衰手段ＶＡＭ及び多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭの異なった実施形態はすべて、異なる利点及び不利点を有する。実際の用例に用いる実施形態の選択は、それらの利点及び不利点の釣り合いによって決まる。減衰手段の理想的な実施形態は、透明モードであるときに減衰又光特性の他の擾乱が全くないこと、減衰モードであるときに光度以外の光特性の擾乱が全くないこと、透明及び減衰モード間の、又は少なくとも光度ピークＩＰの立ち上がり時間内でのシフトが瞬時であること、多数の、又は好ましくは無限の異なる減衰レベルがあること、偶発的切り換え時間がないこと、それらの現在状態を監視できること、高価すぎないこと、空間的要求が限定的であることなどの幾つかの要件に適合する。【０２３７】  一般的に、単純な機械的実施形態、すなわち光ビーム内に挿入されるホイール形式、絞り、不透明板などは、それらの透明モードが開口部又は非常に透明度が高い材料を有するだけであるので、すぐれた透明状態を与える。さらに、それらは比較的廉価な構成部品から形成されることができ、またそれらの幾つかは、多くの、又は無限の減衰レベルを与える。単純な機械的実施形態の不利点は、透明と減衰との間のシフトが比較的低速であり、さらに、所望レベルに達するまでに幾つかの減衰レベルを通過すること、特性が変化する危険があること、さらには時間の経過に伴って摩耗による破損が生じることである。【０２３８】  他方、空間光変調器、すなわち磁気光学、電気光学及び音響光学変調器などは、透明と減衰との間のシフトが高速かつ正確であること、多数の、実際には無限の減衰レベルがあること、摩耗による破損又は変化の危険性が非常に低いことをもたらすが、それらは透明モードであっても相当な光度損失を生じることが多く、また高価である。【０２３９】  上述したように、減衰制御手段ＡＣＭは、光度ピークＩＰのタイミング及び大きさと多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭによって加えられる減衰のタイミング及び度合いを確実に同期させ、それにより、光度ピークＩＰ又は他の追加光度事象が、それらの光度を光度平坦部分ＩＦに等しくする程度にそれらを減衰することによって打ち消されるようにすることができる。【０２４０】  減衰制御手段ＡＣＭの単純な実施形態では、使用者又は製造者が光度ピークの大きさの測定値に従って、又はおそ��くは経験から得られた所定のスキームに従って制御特性を時々変化させてもよい。代替実施形態は、一種の使用メータ、たとえばクロックやエネルギー消費メータなどを有して、減衰制御手段ＡＣＭは、たとえば所定のスキームに基づいて、その読み取り値に従ってその制御特性を自動的に変化させてもよい。【０２４１】  より高性能な実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭは、たとえば、ランプドライバ基準信号ＬＲＳから得られたランプの電力消費量や電圧などに関する情報を使用して、現時点で最も適正な制御特性を決定する。【０２４２】  さらなる代替実施形態では、減衰制御手段ＡＣＭは、光ビーム基準信号ＢＲＳ及び／又は一定光ビーム基準信号ＣＲＳを読み取る。そのような信号は、それぞれ光ビームＬＢ及び一定光度光ビームＣＬＢの経路上に置かれた光度測定装置ＢＩＭ、ＣＩＭによって発生されるであろう。好ましくは、光度測定装置は、光ビームの断面積と比べて小さく、光ビームの遮断を最小限に抑えるために、光ビームの周辺に置かれる。代替として、光度測定装置ＢＩＭ、ＣＩＭを光ビームの外に配置して、小型ミラー又は他の光誘導装置を光ビーム内に置き、それにより、光の一部を光度測定装置の方に導くようにしてもよい。光ビーム基準信号ＢＲＳから、減衰制御手段ＡＣＭは光度ピークＩＰのタイミング及び大きさを決定することができる。一定光ビーム基準信号ＣＲＳにより、減衰制御手段は、共通フィードバック技術に基づいて、その信号からの読み取り値が一定であるように、その制御特性を適応調整することができる。【０２４３】  さらなる代替実施形態は、上記実施形態の任意の組み合わせを有し、本発明の範囲に含まれる。一定光ビーム基準信号ＣＲＳの使用を減衰基準信号ＡＲＳと組み合わせ、それにより、ランプドライバ及び多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭの適応制御を可能にすることにより、好ましい有利な実施形態が得られる。【０２４４】  図１８は、フォトリソグラフィのために使用される光変調構造１の用途での本発明の方法の１つの可能な使用例を示す。構造１の第１部分２が、集束した均一な光ビームを発生する。それは、ランプＳＡＬと、ランプドライバＬＤと、ブロワ２５及びファン２６と、保護ガラス及びフィルタ２１と、シャッター２２と、本発明の多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭと、光インテグレータロッド２３と、ビーム整形光学部品２４とを備える。【０２４５】  ランプＳＡＬの種類は、露光すべきプレートの形式によって決まる。可能な形式には、従来型ショートアーク電球、レーザ源、ダイオードアレイなどである。好適な従来型ランプは、電力消費量が２７０Ｗでよいが、本発明はこの値又はランプの上記形式に制限されることはまったくない。２５０Ｗ及び３５０Ｗなどの代替例も考えることができる。【０２４６】  ランプＳＡＬからの光は、干渉フィルタとして機能するフィルタ（たとえば、用途に応じてＩＲ又はＵＶフィルタ）２１を通り、さらにランプを消すことなく光ビームを止めることができるようにするシャッター機構２２を通って送られる。ほとんどのランプ形式は、始動してから安定化するまでにある程度の時間が必要であるので、これは重要である。ブロワ２５及びファン２６により、ランプＳＡＬの冷却が確��される。【０２４７】  その後、光ビームは本発明の多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭを通って送られ、それにより、周期的光度変化が排除され、その後、光インテグレータロッド２３を通って送られる。それにより、光が混合されて、ビーム全体の光の光度が均一になる。これにより、ビームの周辺の光が、ビームの中心の光と同じ光度を有することができる。光が光インテグレータロッド２３を出た後、それはビーム整形光学部品２４によって集束される。【０２４８】  構造１の次の部分が光ビームを変調し、それによって電子的に保存されている画像データを反射する。それは、光変調手段３と、変調済み光ビーム出力を妨害することなく、未変調光ビームを光変調手段３の方に向けるための手段３５とを有する。【０２４９】  適した光変調手段３は、ＤＭＤ変調器、ＬＣＤを含む透過型シャッター及び微細機械式シャッターなどである。図１８の好適な実施形態では、ＤＭＤ光変調チップ３１が冷却プレート３３付きのＰＣＢ３２に取り付けられ、温度センサ３４が使用されている。【０２５０】  光誘導手段３５は、使用する光変調手段３の形式によって決まる。透過型光変調手段の場合、未変調光ビームは光変調手段の一方側に向けて送られ、変調済み光ビームは他方側から放出される。そのような構造では、光誘導手段３５を除いてもよいであろう。【０２５１】  ＤＭＤ変調器の場合、未変調光ビームは、変調済み光ビームが放出されるのと同じ点に向けて送られる。これにより、光誘導手段３５を使用する必要がある。図１８の好適な実施形態では、ＴＩＲプリズムが光誘導手段として使用されている。ＴＩＲは、「内部全反射」を意味する省略形である。ＴＩＲプリズムは、一方向から（本実施形態では左側から）来る光に対してミラーとして作用する表面３６を有し、別の方向から（本実施形態では上部から）来る光をまっすぐに通過させるであろう。【０２５２】  構造１の最後の部分は、光変調手段３１から放出された多数の変調光ビームを光誘導手段３５を介して照明表面５、たとえば印刷版上に集束する。それは、ハウジング４内に位置する１組のレンズ／マクロレンズ４１を有する。【０２５３】  ランプＳＡＬによって放出される光度ピークＩＰと多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭによって加えられる減衰とを確実に同期させるために、減衰制御手段ＡＣＭがランプドライバ制御信号ＬＣＳを介してランプドライバＬＤに、また減衰制御手段ＡＣＭを介して多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭに結合された。わかりやすくするために、考えられるランプドライバ基準信号ＬＲＳ、減衰基凖信号ＡＲＳ、光ビーム光度測定装置ＢＩＭ、光ビーム基準信号ＢＲＳ、一定光ビーム光度測定装置ＣＩＭ及び一定光ビーム基準信号ＣＲＳは省略されているが、好ましくはそれらの装置及び信号が図１８の実施形態に追加されるであろう。【０２５４】  本発明には上記以外にさらに幾つかの使用例があることに注意されたい。それはさらに、たとえば印刷回路板の製造に関連した印刷回路板の露光、高速プロトタイプ作成、すなわち高速プロトタイプ作成として周知の処理による三次元モデルの作製、オフセット版及びフィルムの露光用に、またたとえばセリグラフィ用途、写真仕上げ処理、生物医学用途、たとえば���ＮＡプロフィールに関する研究用、投影用途及びサイン、デジタル映画用途などや、光源を有し、それらの光源の光の安定性が一定の重要性を有する任意の他の用途又は処理において有利に使用されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０２５５】
【図１】  本発明の概念上の実施形態を示す図である。
【図２】  電流ピークを示すタイミング図である。
【図３】  本発明による可変減衰手段ＶＡＭの一実施形態を示す図である。
【図４】  半透明ホイールを有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図５】  半透明ホイールを有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図６】  半透明ホイールを有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図７】  絞りを有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図８】  不透明板を有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図９】  不透明板を有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図１０】  半透明シートを有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図１１】  空間光変調器を有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図１２】  音響光学変調器を有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図１３】  回動式に取り付けられたミラーを有するＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図１４】  使用中の変化を示すタイミング図である。
【図１５】  本発明のさらなる概念上の実施形態を示す図である。
【図１６】  本発明に従った多レベル可変減衰手段ＭＶＡＭの一実施形態を示す図である。
【図１７】  半透明シートを有するＭＶＡＭのさらなる実施形態を示す図である。
【図１８】  光変調構造において使用するために実現された本発明の一実施形態を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【国際調査報告】
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