(57)【要約】  プラズマ放射線源は、デブリの影響によって制限される光学素子の寿命が著しく長くなるように改良される。ガスカーテンを通して、真空室（１）中の源領域から進む放射線（５）が放射線（５）の平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿ってデブリ抑制のために所定の立体角で放射され、ガスカーテンは軸（Ｘ−Ｘ）上に配置される気体ジェット真空ポンプ（３）の推進ノズル（２）から放射状に向けられた超音速気体ジェット（７）として出る。ガスカーテンは、軸（Ｘ−Ｘ）に同軸に配置される環状の混合ノズル（８）に向けられ、ディフューザ（１０）によって真空室（１）の中から外に誘導される。これにより、最適の変換効率を有し、広範囲のデブリを含む源の配置構成を用いることが可能である。
2007502000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室にて源領域から所定の立体角でデブリ抑制のために設けられたガスカーテンを通って進む放射線を、放射線の平均的な伝搬方向の軸に沿って放射するプラズマ放射線源において、放射状に向けられた超音速気体ジェット（７）としての前記ガスカーテンは、前記放射線（５）の前記平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）上に配置される気体ジェット真空ポンプ（３）の推進ノズル（２）から進み、前記軸（Ｘ−Ｘ）に同軸に配置される前記気体ジェット真空ポンプ（３）の環状の混合ノズル（８）に向けられ、ディフューザ（１０）によって前記真空室（１）の中から誘導されることを特徴とするプラズマ放射線源。
【請求項２】
放電がプラズマ励起のために用いられ、前記放射線（５）の前記平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿って互いに隣接して配置される陽極（１１）および陰極（１２）を備えた電極の配置構成が放電のために設けられることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ放射線源。
【請求項３】
液体金属電極が電極として用いられることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ放射線源。
【請求項４】
前記液体金属電極は、液体エミッタ（１８）用の供給路（１７）によって貫通され且つ前記供給路（１７）が通じる前記プラズマ（４）に面するその端部で高融点多孔性材料（１９）によって被覆される担体（１６）を有することを特徴とする請求項３に記載のプラズマ放射線源。
【請求項５】
前記液体金属電極は、加熱装置を備えて構成されることを特徴とする請求項３または４に記載のプラズマ放射線源。
【請求項６】
前記担体（１６）および前記多孔性材料（１９）は、導電性であることを特徴とする請求項４または５に記載のプラズマ放射線源。
【請求項７】
前記担体（１６）および前記多孔性材料（１９）は、導電性でないことを特徴とする請求項４または５に記載のプラズマ放射線源。
【請求項８】
前記担体（１６）および前記多孔性材料（１９）は、化学的に同一であることを特徴とする請求項６または７に記載のプラズマ放射線源。
【請求項９】
前記軸（Ｘ−Ｘ）に沿って電流の流れによって生成されるピンチ効果が、前記プラズマ（４）の周囲の外部磁界によってさらに補助されることを特徴とする請求項２〜８のいずれか一項に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１０】
前記外部磁界は、静磁界として形成されることを特徴とする請求項９に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１１】
前記外部磁界は、前記プラズマ（４）を通る電流の流れに適合されることを特徴とする請求項９に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１２】
レーザ放射線は、プラズマを励起するために用いられることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１３】
反射体が、前記放射線（５）の前記平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿って前記プラズマ（４）用の源領域（Ｂ）に隣接して設けられ、当該反射体は前記プラズマ（４）による前記放射線（５）の焦点を再び合わせることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１４】
前記ガスカーテンは、作用領域（Ａ）の側のみで前記放射線（５）の前記平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿って源領域（Ｂ）に隣接することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１５】
前記ガスカーテンは、両側で前記放射線（５）の前記平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿って前記源領域（Ｂ）に隣接することを特徴とする請求項１３に記載のプラズマ放射線源。
【請求項１６】
その平均的な伝搬方向が真空室においてガスカーテンを通って向けられる軸に沿って延在する放射線中の粒子用のフィルタとして前記ガスカーテンを生成するための配置構成であって、前記軸（Ｘ−Ｘ）上に配置される推進ノズル（２）を備えた気体ジェット真空ポンプ（３）は、前記ガスカーテン用の超音速気体ジェット（７）を生成するように機能し、前記超音速気体ジェット（７）を前記軸（Ｘ−Ｘ）に同軸に配置される前記気体ジェット真空ポンプ（３）の環状の混合ノズル（８）に向かって放射状に向けることと、ディフューザ（１０）が前記真空室（１）の中から前記超音速気体ジェット（７）を誘導するために設けられることと、を特徴とする配置構成。
【請求項１７】
その気体入口開口部が環状中心に面する環状の混合ノズル（８）と、推進ノズル（２）から放射状に進み、前記気体入口開口部に向けられる超音速気体ジェット（７）を生成するための前記環状中心に配置される推進ノズル（２）と、前記環状中心から遠い方向に向けるように機能する環状のディフューザ（１０）と、を備える気体ジェット真空ポンプ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デブリ抑制のために設けられるガスカーテンを通して、放射線の伝搬の平均的な方向の軸に沿って、所定の立体角で真空室中の源領域から進む放射線を放射するプラズマ放射線源に関する。
【０００２】
本発明はさらに、真空室においてその平均的な伝搬方向がガスカーテンを通って向けられる軸に沿って延在する放射線中の粒子用のフィルタとして、ガスカーテンを生成するための配置構成に関する。
【背景技術】
【０００３】
プラズマ放射線源は、短波長の電磁放射線（λ＜１１０ｎｍ）を生成するために用いられる。一例として、超紫外線（ＥＵＶ、５ｎｍ＜５０ｎｍ）を用いるリソグラフィについて言及する。プラズマ放射線源の効率は、有効な立体角における所望の波長間隔で放射される放射線の量および有効な立体角の大きさに左右される。プラズマに供給されるエネルギを所望の波長間隔の有効な放射線に変換する効率は、変換効率（ＣＥ）として周知である。これは、プラズマの状態（圧力、温度、密度、閉じ込め時間、材料成分）のほか、有効な立体角に左右される。プラズマは、電気を帯びた気体の放電または粒子衝撃のいずれかによって生成されることができ、または集中的なレーザ放射線によって励起されることができる。
【０００４】
生成される放射線を利用するために、光学部品がビーム整形に必要であることが多い。上述の波長帯では十分に透明な材料がないことから、これらの光学部品は、さまざまな複雑さのミラーまたは拡散光学素子である。同様の理由で、気体吸収を防止するために、ビーム誘導システムを十分に低い圧力まで排気することが必要である。このために、光学素子は、プラズマまたはいわゆるデブリの有害な影響に直接曝される。デブリとは、プラズマから発生し、プラズマの周囲から材料を気化またはスパッタする高速粒子を意味する。この影響は、必要な光学素子の寿命を制限する。光学素子の十分な寿命を確保するためには、適切な処置を施さなければならない。原則的には、これは、２つの異なる方法で実現されることができる。
【０００５】
第一に、プラズマ放射線源は、可能な限り小さいデブリを生成するように構成されることができる。たとえば、プラズマ励起（気体放電、粒子衝撃、レーザ励起）の種類、プラズマ環境の設計、プラズマの材料成分の選択が、これに影響を及ぼしうる。この種の処置は、変換効率の最適化に支障を来たすことが多い別の境界条件を生じる。たとえば、希ガスとしてのキセノンは化学変化をせず、表面に析出することもないため、キセノンプラズマがＥＵＶリソグラフィ用のプラズマ放射線源において生成されることが多い。しかし、キセノンは、ＥＵＶリソグラフィに必要な波長帯における変換効率の観点から次善である。スズおよびリチウムはさらに好ましいが、融点が低く、それに関連してデブリの付着が多いことから、従来ほとんど用いられてこなかった。
【０００６】
第二に、デブリの悪影響から可能な限り光学素子を保護するために、積極的な処置を取ることができる。
【０００７】
デブリの抑制のためにこれまで周知の積極的な処置は、電界および／または磁界による偏向（たとえば（特許文献１））、回転ホイル構造またはホイルトラップおよび機械的なシャッターの形態で表面における吸収を伴う。
【０００８】
高速のシャッター回数は他の方法では実現することができないため、短パルスプラズマ放射線源では表面における吸収はきわめて小さな開口面にのみ制限されるが、電界および／または磁界は荷電されていない粒子または準中性粒子の集合には作用しない。
【０００９】
回転ホイル構造は、真空下での蓄電に対する適合性、生じる遠心力に関する機械的安定性、きわめて高速の粒子を遮断するために必要な１０００ｍ／分程度の高速の回転速度に起因する高精度の平衡化に関して問題を生じる。
【００１０】
ホイルトラップは、間隙を有する（金属）ホイルを備えるが、気体の流れが加えられる間隙は、電力損失を防止するために、放射方向に対して正確に長手方向に配置されなければならない。整列の許容差、製作許容差および熱負荷のために、この要件は、実際には十分な精度を満たさないことがよくある。他方、デブリの十分な抑制は、高速の気体の流速によって実現されるに過ぎない。これは、真空システムにおける問題を引き起こし、気体吸収による放射線の出力の低下を引き起こす。
【００１１】
類似の問題はまた、（特許文献２）によるｘ線照射のための装置においても生じうる。この装置は、粒子からマスクを保護するために真空室の出口窓の前に均一に流れる気体層を形成する。
【００１２】
【特許文献１】米国特許第５，９９１，３６０号明細書
【特許文献２】欧州特許第０  １７４  ８７７  Ｂ１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
したがって、本発明の目的は、デブリの影響によって制限される光学素子の寿命が著しく長くなるように、冒頭で述べたタイプのプラズマ放射線源を改良することにある。施される処置は、デブリの伝搬を妨げ、最適の変換効率と共に、用いられることになっている光学素子の寿命に関連する理由のために以前は禁止されていた放射線源の方式を可能にしなければならない。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本目的は冒頭で述べたタイプのプラズマ放射線源において達成され、このプラズマ放射線源では、放射状に向けられた超音速気体ジェットが、放射線の平均的な伝搬方向の軸上に配置される気体ジェット真空ポンプの推進ノズルから進み、軸に対して同軸に配置される気体ジェット真空ポンプの環状混合ノズルに向けられ、ディフューザによって真空室の中から外に誘導される。
【００１５】
この配置構成は単独で十分なデブリ抑制を達成するが、デブリ抑制のための他の方法と組み合わせてもよい。
【００１６】
好都合な実施形態は、従属項に示されている。
【００１７】
本発明によるプラズマ放射線源は、特に好都合な態様においてさらに発展されることができ、プラズマ励起のために気体放電が用いられ、平均的な伝搬方向の軸に沿って互いに配置される陽極および陰極を備えた電極の配置構成が気体放電のために設けられる。
【００１８】
特に好都合な態様において、電極は、担体を有する液体金属電極として構成され、担体は液体エミッタ用の供給路によって貫通され、供給路が通じるプラズマに面するその端部で高融点多孔性材料によって被覆される。
【００１９】
デブリ抑制のためにプラズマ放射線源に用いられる装置は、「ダーティ」プラズマ放射線源手法を高い変換効率と共に用いることができるように効率的に機能する。たとえば、スズプラズマまたはリチウムプラズマはまた、ＥＵＶリソグラフィにも有効となりうる。
【００２０】
この装置はまた、軸に沿って電流の流れによって生じるピンチ効果がさらに、プラズマの周囲の外部の静磁界または動磁界によってさらに補助される場合にも好都合である。
【００２１】
当然のことながら、本発明によるデブリ抑制のための装置の使用は、放電プラズマに限定されているわけではない。プラズマはまた、レーザまたは粒子衝撃によって生成されることもできる。
【００２２】
プラズマによって放射される放射線の特に有効な利用は、反射体が放射線の平均的な伝搬方向の軸に沿って源領域に隣接して設けられ、反射体がプラズマによる放射線の焦点を再び合わせるときに達成される。このように、有効な立体角を二倍にすることができる。このように達成することができる有効な放射線の出力の増大は、反射体の反射率および吸収損失によって制限される。本発明によるデブリ抑制のための装置はまた、この反射体を保護するためにも用いることができ、ガスカーテンが両側で放射線の平均的な伝搬方向の軸に沿って源領域に隣接するようになっている。
【００２３】
さらに、本発明によれば、上述の目的は、ガスカーテンを生成するために冒頭で述べた配置構成によって達成され、この配置構成では、ガスカーテン用の超音速気体ジェットを生成するために、軸上に配置された推進ノズルを備えた気体ジェット真空ポンプは、超音速気体ジェットを軸に同軸に配置される気体ジェット真空ポンプの環状の混合ノズルに対して放射状に向けるように機能し、ディフューザが真空室から超音速気体ジェットを誘導するために設けられる。
【００２４】
本発明の主題はまた、気体ジェット真空ポンプ自体に関し、気体ジェット真空ポンプは、その気体入口開口部が環状中心に面する環状の混合ノズルと、推進ノズルから放射状に進み、気体入口開口部に向けられる超音速気体ジェットを生成するために環状中心に配置される推進ノズルと、環状中心から離れる方向に向けるように機能する環状ディフューザ（１０）と、を有する。
【００２５】
本発明は、概略図を参照して以下にさらに詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１に示されるプラズマ放射線源において、気体ジェット真空ポンプ３の推進ノズル２として機能するラバルノズルが、真空室１中で、プラズマ４によって生成される放射線５の平均的な伝搬方向の軸Ｘ−Ｘ上に取り付けられる。
【００２７】
推進ノズル２は、供給路６を通って推進圧力ＰＴで不活性気体によって作用され、真空室１の室壁に対して放射状の外側に向けられる円形の超音速気体ジェット７を生成する。超音速気体ジェット７は、軸Ｘ−Ｘに対して直角または何か別の角度で延在することができるか、または円錐状に伝搬することもでき、環状の混合ノズル８に通じ、環状の咽喉部９に向けて次第に細くなり、最後に気体ジェット真空ポンプ３の環状のディフューザ１０に入る。ディフューザ１０は、前段ポンプとして機能する１つ以上の適切な真空ポンプによって、気体圧力ＰＧまで排気される。本発明によれば、気体ジェット真空ポンプ３は、プラズマ放射線源に不可欠な２つの機能を担っている。一方では、気体ジェット真空ポンプ３は、ディフューザ１０を通って真空室１の中から超音速気体ジェット７を誘導し、したがって超音速気体ジェット７が真空室に溢れないようにする。他方では、気体ジェット真空ポンプ３は、この真空室を動作圧力Ｐ０まで（完全にまたは部分的に）さらに排気する。膨張比ＰＴ／Ｐ０が増大するにつれて、気体ジェット真空ポンプ３の圧縮比ＰＧ／ＰＯが増大するが、ポンプの設計にも大きく左右される。高い推進圧力ＰＴおよび低い逆圧ＰＧは、常に好都合である。通常、ＰＴ＞＞ＰＧ＞Ｐ０の圧力の間には比がある。ルーツポンプは、たとえば高出力前段ポンプとして用いられることができる。たとえば、以下が、適切な圧力範囲および圧力比である。
ＰＧ＝１０−３ミリバール〜１０ミリバール
ＰＴ＝１００ミリバール〜２０バール
ＰＧ／Ｐ０＞１０＝＞Ｐ０＜１０−４ミリバール〜１ミリバール
【００２８】
デブリ抑制のための本発明による装置は、その気体入口開口部が環状中心に面する環状の混合ノズル８を備え、環状中心には推進ノズルから放射状に進み、気体入口開口部に向けられる超音速気体ジェット７を生成するための推進ノズルが配置される気体ジェット真空ポンプを有する。環状のディフューザ１０は、環状中心から離れる方向に向けるように機能する。
【００２９】
超音速気体ジェット７は、真空室１を作用領域Ａおよび源領域Ｂに分割するガスカーテンを形成し、領域Ａと領域Ｂとの間の任意の交換はガスカーテンを介して行われなければならないようになっている。超音速気体ジェット７は、プラズマ４によって放射され、推進ノズル２と混合ノズル８との間で環状にガスカーテンを通過する放射線５のほか、源によって放射されるデブリにも作用する。しかし、放射線とは違い、デブリは、ガスカーテンの粒子によって減速され、デブリ粒子を混合ノズル８に推進する超音速気体ジェット７から進む衝撃波伝達を受ける。単位面積当たりの粒子数およびガスカーテンを通る経路に沿ってデブリ粒子への衝撃波の伝達が十分に高いときには、これらのデブリ粒子が作用領域Ａに達することは不可能である。デブリ粒子への衝撃波の伝達は、ガスカーテンを通る一定の経路長で増大されることができ、その粒子数密度（超音速気体ジェット７における圧力）および速度は、混合ノズル８の方向において増大する。粒子数密度は、推進圧力ＰＴの増大によって達成される。推進圧力ＰＴの増大は、上述した気体ジェット真空ポンプ３の機能にも同様に好都合である。推進ノズル２の前にある推進気体の温度を上昇させることによって、粒子速度を増大することができる。
【００３０】
プラズマ４によって放射される放射線５の低い吸収を維持するために、放射線５の関連波長において低い吸収係数を有する希ガスが、超音速気体ジェット７用の推進剤として用いられる。
【００３１】
しかし、ガスカーテンによる放射線５の吸収およびデブリの抑制は、均一ではない。被覆される表面積が増大することから、一定の粒子速度でこの方向における粒子数密度が減少するため、いずれも軸Ｘ−Ｘまでの距離に関して二次的に減少する。したがって、装置の状態は、適切なデブリ抑制のために十分な粒子数密度がガスカーテンの外側領域に生じるように調整される。
【００３２】
デブリ抑制のための装置に関する重要な基準は、プラズマ４の周囲に広がりうる立体角の大きさである。作用領域Ａにおいてプラズマ４の高い放射線出力を用いることができるようにするために、この立体角は可能な限り大きい必要がある。既に述べた配置構成では、この立体角は、推進ノズル２と混合ノズル１０との間の表面積およびプラズマ４からの距離によって与えられる。気体ジェット真空ポンプの機能および適切なデブリ抑制を維持するために、推進ノズル２から混合ノズル１０までの距離は依然として制限されていなければならないことから、この表面積は所望の大きさまで増大することはできない。したがって、装置とプラズマ４との間の距離を最小限に抑えることが得策である。これに関連して、プラズマ４からの距離が増大するにつれて、推進ノズル２の表面が放射線５のさらに大きい立体角を分離することを考慮しなければならない。最大立体角を切り開くための装置の最適な距離は、推進ノズル２と混合ノズル１０との間の表面および推進ノズル２の表面の大きさに応じて与えられる。これに関連して、推進ノズル２は、そこで生じる（断熱）膨張によってきわめて効率的に冷却されることから、プラズマ４と推進ノズル２との間に生じうる短距離は、比較的重要ではない。この冷却は、プラズマ放射線源の部品（たとえば電極）に用いることができれば好都合である。超音速気体ジェット７の粒子速度の増大に関連する上述の理由のために、これに関連して生じる推進剤の気体の加熱はさらに望ましい。
【００３３】
本発明による装置によって、有用な光のわずかな損失を維持すると同時に、きわめて効率的な態様でデブリを抑制することができることから、プラズマ放射線源に関して特に「ダーティ」であるが、効率的な概念が実行可能である。このことは、レーザにより誘発されるプラズマ、粒子衝撃および放電プラズマによって生成されるプラズマに当てはまる。
【００３４】
図２に示される放電プラズマ放射線源の構成では、たとえば、従来、一般に用いられたＥＵＶ放射線を生成するための放電プラズマ放射線源とは対照的に、陽極１１および陰極１２が、放射線の平均的な伝搬方向の軸Ｘ−Ｘに沿って互いに隣接して配置される。この種の配置構成は、いくつかの好都合な特性を有する；集光器光学素子（ここには図示せず）の軸Ｘ−Ｘを中心にして数度の円錐がいずれの場合にも用いることができないことから、特にこの配置構成は、有効な立体角をわずかだけ制限する。プラズマ４を中心にした立体角の残りは自由であり、原則的には用いることができる。さらにその対称性のために、この配置構成は、高温および高密度のプラズマを生成するために必要なピンチ効果の進展を強化する。これは、高い電流密度で誘発される磁界を通る電流を伝導するプラズマ４を圧縮する。交流、直流またはパルス直流によって、電力をプラズマ４に供給することができる。ピンチ効果を形成するために必要な電流密度が少なくとも一次的に達成されることが唯一、重要である。
【００３５】
図１に示されるデブリ抑制のための装置を用いて、本発明を制限することなく、今度は、上述したタイプの放電プラズマが放射線源として実行可能であるが、電極面において高い電流密度によって生成される電極の消耗は、著しいデブリ放出につながる。
【００３６】
電流密度が所与の電流強度で増大する点で、プラズマ４の圧縮をさらに増大する外部磁界によって、ピンチ効果をさらに強化することができる。この磁界は静磁界であってもよく、またはプラズマ４を通るそれぞれの電流の流れに適合しうる。図３による配置構成では、磁石１３がプラズマ４の周囲にさらに配置され、この目的のために好都合である。環状の構造により、プラズマ放射線源の有用な立体角をわずかだけ減少させ、図２による上記の電極の配置構成では、容易に組み込むことができる。
【００３７】
軸Ｘ−Ｘに垂直に延在する平面Ｅ−Ｅに対して図２による放電の配置構成が鏡面対称であるために、プラズマ４を通る放射線の焦点が反射体として機能する球面鏡１４によって再び定められるとき、プラズマ４の放射線放射を平面Ｅ−Ｅの両側で用いることができる。両側のビーム経路が１つのビーム経路に統合される対応する配置構成が、図４に示されている。
【００３８】
プラズマ４の対向する側の光学部品（図示せず）のように、球面鏡１４は、さらに保護することなく、デブリ放出を受ける。したがって、図４によれば、図１に記載されるデブリ抑制のための装置はまた、球面鏡１４にも用いられる。
【００３９】
種々の方法で、たとえば、外部から気体または液体として、または気体中または液体中に溶解、浮遊または原子化することによって、プラズマ４に適切なエミッタを供給することができる。エミッタは電極の消耗によってプラズマ４に伝導されることから、エミッタ素子または複数のエミッタ素子から完全または部分的に電極を形成することは特に簡単である。放電の幾何構成を維持するために、消耗を補償するために、可能な限り電極を再調整することが必要であると思われる。
【００４０】
これは、任意の形状の液体金属電極として形成される電極の特に好都合な構成には、もはや当てはまらない。図５は、消耗を最小限に抑えるこの種の電極を示す。
【００４１】
その多孔率が液体の表面張力に適合する多孔性材料と液体が接触するとき、液体はその表面に達するまで多孔性材料中に一様に分散される。液体の圧力が多孔性材料の表面における圧力より大きい場合には、液体は、重力の影響を考慮することなく、表面から一様に押し出される。
【００４２】
図５に示される電極１５では、担体１６が、たとえばスズまたはリチウムなどの液体エミッタ１８によって電極１５に供給するための供給路１７によって貫通される。担体１６は、プラズマに面するその端部で高融点多孔性材料１９によって被覆される。供給路１７はこの多孔性材料１９に通じるため、液体金属エミッタ１８は多孔性材料１９から出て、その表面を完全に被覆することができる。プラズマ側の多孔性材料１９の球面形状ＳＦは、電極面に一様な電流密度を生じ、したがって動作中の局所的な過熱を防止する必要がある。電極１５の全表面を拡大し、担体１６の機械的安定性を確実に改善するために、多孔性材料１９は、プラズマから遠い電極１５の部分で、担体１６上で付加的距離をもたらし配置される。
【００４３】
金属エミッタ１８の融点を上回る動作温度は、その凝固を防止するために、電極１５の機能には重要である。ホットプラズマ４がこの温度で電極１５を維持するまで、動作の開始時に、別の外部加熱装置の電源を投入して作動させることができる。または電源投入措置により、プラズマ４が電極１４を動作温度まで加熱するように構成される。
【００４４】
プラズマ放射線源の電極が真空下にあるため、わずかに過剰な圧力によって、多孔性材料１９の表面における金属フィルムの厚さを増大させることは容易に可能である。必要に応じて、液体金属の表面張力に多孔率を適合させることを省略することも可能である。
【００４５】
多孔性材料１９は効率的に冷却され、液体金属は動作中、多孔性材料１９の表面で常に気化されるためにその消耗が抑制されることから、電極１５の提案された構成は、長い寿命というさらなる利点を有する。これは、電極１５全体に当てはまる。
【００４６】
供給路１７によって電流供給を実行することができることから、担体１６のほか多孔性材料１９も、導電性であってもよいが、必要ではない。
【００４７】
他の実施形態の形において、温度変化中、２つの材料間の境界における機械的な応力を防止することができるように、担体１６および多孔性材料１９は、化学的に同一であってもよい。
【００４８】
本発明によるデブリ抑制のための装置によって、気化されるエミッタ材料が気体ジェット真空ポンプ３によって取り除かれる点で、真空室の表面における気化されるエミッタ材料の凝縮を防止することができる。源領域Ｂにおいて対応して高い表面温度によって、動作中に、この工程を連続的に実行することができる。真空システムにおいて析出されるエミッタ材料は、このように比較的容易に取り除くことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】デブリ抑制のための本発明による装置の第１の構成に関するプラズマ放射線源の断面を示す。
【図２】放電プラズマとして構成されるプラズマ放射線源を示す。
【図３】さらに設けられる磁石を備えた図２によるプラズマ放射線源を示す。
【図４】対向する方向に放射される放射線を用いるためのプラズマ放射線源を示す。
【図５】液体金属電極の断面を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2007502000.tif 000009
2007502000.tif 000010
2007502000.tif 000011