(57)【要約】  本発明は、第１のキャビティを有する第１のマスク（３）と、プリズムユニット（７）と、第２のキャビティを有する第２のマスク（８）とを含む、光をフィルタリングするためのフィルタユニット（１０）に関する。プリズムユニット（７）は２つのマスク（３，８）の間に位置し、第１のマスク（３）および第２のマスク（８）は対応する第１および第２のキャビティを有し、それはキャビティ対を形成する。第２のマスク（８）の少なくとも１つの第２のキャビティが各第１のキャビティに与えられる。さらに、少なくとも１つのキャビティ対について、１つのプリズムがプリズムユニット（７）に与えられる。これは正確な狭帯域フィルタユニットを生成する。本発明はフィルタユニットを含む構成および像を得るための装置にも関する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のマスク（３）とプリズムユニット（７）とを有する、光をフィルタするためのフィルタユニット（１０）であって、前記第１のマスク（３）は複数の第１の開口部を示し、第２の開口部を有する第２のマスク（８）があり、前記プリズムユニット（７）は２つのマスク（３，８）間に配置され、前記第１のマスク（３）および前記第２のマスク（８）は、対応する第１の開口部および第２の開口部を示して開口部対を形成し、少なくとも１つの開口部対について前記プリズムユニット（７）にプリズムを有することを特徴とする、フィルタユニット（１）。
【請求項２】
前記第１のマスク（３）の第１の開口部の各々について、前記第２のマスク（８）に少なくとも１つの第２の開口部があることを特徴とする、請求項１に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項３】
前記第１のマスク（３）は前記プリズムユニット（７）に対して固定され、かつ前記第２のマスク（８）は、前記第１のマスク（３）に関して、または前記プリズムユニット（７）に関して、少なくとも１つの変位ユニット（４，６）の助けによって前記第１のマスク（３）に対して実質的に横方向に変位可能であることを特徴とする、請求項１または２に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項４】
前記第１のマスク（３）は前記第２のマスク（８）に対して固定され、かつ前記プリズムユニット（７）は、前記第１のマスク（３）に関して、または前記第２のマスク（８）に関して、少なくとも１つの変位ユニット（４，６）の助けによって前記第２のマスク（８）に関して実質的に横方向に変位可能であることを特徴とする、請求項１または２に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項５】
少なくとも１つの変位ユニット（４，６）は、変位されるユニット（７，８）の側面に配置されることを特徴とする、請求項３または４に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項６】
少なくとも１つの変位ユニット（４，６）はピエゾユニットから構成されることを特徴とする、請求項３から５のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項７】
２つの変位ユニット（４，６）を有し、一方はピエゾエレメントであって他方は粘性ばね要素であることを特徴とする、請求項３から５のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項８】
少なくとも１つの変位ユニット（４，６）はマイクロステッパまたはマイクロリニアモータから構成されることを特徴とする、請求項３から５のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項９】
前記プリズムユニット（７）は以下の物質または材料の１つ以上でできていることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）：
−  ガラス；
−  結晶ＮａＣｌ；
−  ポリマ；
−  結晶；
−  例えばダイヤモンドなどの宝石；
−  クオーツ；
−  ネオジム。
【請求項１０】
個々のプリズムはガラスに削り込まれるかまたはエッチングされることを特徴とする、請求項９に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項１１】
前記プリズムユニット（７）はポリマでできていることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項１２】
前記第１のマスクおよび前記第２のマスク（３，８）はスリットマスクまたは孔マスクであることを特徴とする、請求項１から１１のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項１３】
スリットを形成する前記スリットマスクの側壁、または孔を形成する前記孔マスクの側壁は、円錐形状または円錐台形状である、請求項１から１２のいずれかに記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項１４】
前記第１のマスク（８）は、前記プリズムユニット（７）側で対向する側よりも小さい第１の開口部を示すことを特徴とする、請求項１３に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項１５】
前記第２のマスク（３）は、前記プリズムユニット（７）側で対向する側よりも小さい第２の開口部を示すことを特徴とする、請求項１２または１３に記載のフィルタユニット（１０）。
【請求項１６】
請求項１から１５のいずれかのフィルタユニット（１０）と感光層（２）とを有し、前記感光層（２）は前記第２のマスク（３）に隣接して配置される、構成。
【請求項１７】
前記感光層（２）は１つ以上のフォトトランジスタまたは１つ以上のイメージセンサを含むことを特徴とする、請求項１６の構成。
【請求項１８】
前記感光層（２）はＣＣＤ（電荷結合素子）型イメージセンサを含むことを特徴とする、請求項１７の構成。
【請求項１９】
像を得るための装置であって、第１の開口部を有する第１のマスク（３）、プリズムユニット（７）、および感光層（２）を有し、前記プリズムユニット（７）は前記第１のマスク（３）と前記感光層（２）との間に配置され、前記感光層（２）は、入射光線がそこで測定可能な少なくとも３つの領域を含み、前記少なくとも３つの領域に当たる光は同じ第１の開口部から生じる、装置。
【請求項２０】
第１の領域で赤色光を、第２の領域で緑色光を、第３の領域で青色光を測定可能である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記第１のマスク（３）は孔マスク型である、請求項１９または２０に記載の装置。
【請求項２２】
さらなる領域で光を測定可能であり、そこへは紫外光が当たる、請求項１９から２１のいずれかに記載の装置。
【請求項２３】
さらなる領域で光を測定可能であり、そこへは赤外光が当たる、請求項１９から２２のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】
孔を形成する孔マスクの側壁は、円錐台形状である、請求項１９から２３のいずれかに記載の装置。
【請求項２５】
前記第１のマスク（８）は、前記プリズムユニット（７）側で対向する側よりも小さい第１の開口部を示す、請求項２４に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前文によるフィルタユニット、フィルタユニットを有する構成、および像を得るための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、光学レンズの性質上、光学色フィルタは光をフィルタリングするのに用いられる。経験から知られているのは、他の欠点に加えて、多くのこのような色フィルタが減衰を示し、色フィルタの通過帯域内にさえ減衰が存在することである。最大５０％の減衰を示し得るいわゆるファブリーペローフィルタは、公知の色フィルタの代表として挙げられる。
【０００３】
公知の色フィルタも、特にフォトトランジスタユニットまたは光検出器と共に使用される。これは、その前部に色フィルタが配置される感光層であって、そのためある波長またはある波長領域だけが感光層に達することができる。ある波長または波長領域に限定するための色フィルタを有するこのような構成は、それ自体公知であり、これらは特に、関心がある波長を有する光、すなわち色フィルタの通過帯域においてさえ高い減衰を示すという欠点を有する。したがって、色フィルタの通過帯域で測定された強度に基く測定結果は、本質的な部分に誤差を含む。その上、公知の色フィルタはうまく調節することができない。これは、特に液体液晶に基く色フィルタにも当てはまり、その上、これは温度依存型であって比較的不活発（traege）である。さらに、それらは実現が困難なので結果的にコストが高くなる。
【０００４】
ドイツ公開公報  ＤＥ  ４４  １６  ３１４  Ａ１から知られるのは、画像シーンをサンプリングするための装置であって、撮像手段、反射素子、および画像シーンの連続的かつポイントごとのサンプリングのためのセンサ構成を有する装置である。互いから独立して可動であるミラー面構成のミラー面は、時間的に互いから独立した態様で駆動され、非常に複雑な機械的構成を必要とする。
【０００５】
ドイツ公開公報  ＤＥ  ３７  ３７  ７７５  Ａ１は、複製原本の密度値を測定する方法を記載する。ここで、複製原本を通過する測定光は、分光計構成の助けによって少なくとも１つの色スペクトルに分割され、このスペクトルの個々の波長領域で光度が個別に測定され、すべての測定値は、その都度所定の複製材料のスペクトル感度を用いて決定される。この目的のために、機械的にサイズ調整可能な、マスクの１つの孔が複製原本上で動かされる。これもまた結果的には比較的困難な機械的設計であり、誤差が生じやすく、従って費用がかかる。同様の教示は、さらにＤＥ  ６９２  １８  １５０  Ｔ２から推論することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、上記に挙げられた欠点を示さないフィルタユニットを特定することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的は、請求項１の特徴的部分で言及される方策によって達成される。本発明の有利な発展、フィルタユニットを有する構成、および像を得るための装置は、さらなる請求項に特定される。
【０００８】
本発明は以下の利点を示す。第１の開口部を有する第１のマスクと、マイクロプリズムユニットと、第２の開口部を有する第２のマスクとがあり、マイクロプリズムユニットは２つのマスク間に配置され、さらに、第１のマスクおよび第２のマスクは対応する第１の開口部および第２の開口部を示して開口部対を形成し、第１のマスク内の各開口部について第２のマスク内に少なくとも１つの第２の開口部があり、最後に、少なくとも１つの開口部対についてマイクロプリズムユニット内にプリズムがあり、正確な狭帯域フィルタユニットが得られるので、列またはマトリクス（アレイ）に配置された対応する第１の開口部および第２の開口部が複数あることに基づいて、公知の構成に対して向上した発光効率（Lichtausbeutung）が可能となる。すべての開口部対を通過する放射を追加することによって、フィルタユニットの出力においてすべての開口部対をある波長またはある波長領域に整える（Ausrichten）ことは、このように、より大きな信号成分を生じ、例えば感光層の助けによってさらに処理する場合に、より正確な結果または実際に測定可能な結果をもたらす。
【０００９】
開口部対が複数用いられて、感光層としてのフォトトランジスタの助けによって、ある波長またはある波長領域を測定する場合、様々な開口部対を通過する信号成分が最初に加えられるので、微小な入力信号を測定することができる。信号成分すべてを追加することは、例えば受信フォトトランジスタによって直接に達成される。多くの適用例では、フォトトランジスタが測定可能な信号を得ることができるほど十分に刺激されるのは、この方法によってしかない。
【００１０】
その上、本発明によるフィルタユニットは、１つ以上の下記の利点によって特徴付けられる：
−  通過帯域は、例えば１４００ｎｍから４３０ｎｍの波長領域に調節することができ、通過帯域は、用いられるマイクロプリズムユニットの物理的特性に依存する。通過した波長の正確さは、スリットマスクまたは孔マスクの正確さに依存する。１つの実施例では、０．５ｎｍ刻みの階調を得るための準備が行われる。
−  偏光および非偏光の両方をフィルタすることができる。
−  光が単に屈折し、回折されないので、マイクロプリズムユニットが示す光損失は極めて小さい。光が屈折する場合、回折の場合に起るような複数の最大値にわたる分散は、起らない。
−  フィルタユニットの特性、特に通過した波長は、電子的に調整することができる。
−  本発明によるフィルタユニットは極めて小さく実現することができる。
−  製造努力および製造コストが比較的低い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明は、図面に示される実施例を参照して、より詳細に下記に記載される。これらは請求項で主張される主題を理解することを助ける、例示的な実施例である。
【００１２】
図１は、本発明によるフォトトランジスタユニット１を示し、それは、例えば１つ以上のフォトトランジスタで実現される感光層２と、感光層２の前部に配置されるフィルタユニット１０とを本質的に含む。フィルタユニット１０は、可動スリットマスク３、マイクロプリズムユニット７、および固定スリットマスク８を示す。可動スリットマスク３は、特に可動スリットマスク３の側面に配置された変位ユニット４および６の助けによって、矢印５で示される方向に、スリットマスク８に対して本質的に横方向に動くことができる。特定の実施例では、一方の変位ユニット４はピエゾ装置の助けによって実現され、他方の変位ユニット６は粘性のばね要素として実現される。ここで、粘性のばね要素は、例えばシリコーンのインサート、天然ゴムでできたインサート、または鋼ばねを含む。シリコーンのインサートが使用される場合、材料の移動を防ぐために緩衝層が必要である。
【００１３】
変位要素４および６のさらなる具体的実施例ではマイクロステッパまたはマイクロリニアモータを用い、それにより可動マスク３の変位を、同じく極めて高精度に行うことが可能になる。
【００１４】
本発明によれば、プリズムユニット７は固定スリットマスク８と可動スリットマスク３との間に配置され、マスク３，８は、開口部の対を形成する、対応する第１の開口部および第２の開口部を示す。プリズムユニット７は、少なくとも１つの開口部対について１つのプリズムを示す。
【００１５】
図１では示されないが、本発明による構成のさらなる実施例において、可動スリットマスク３の代わりにプリズムユニット７の位置が変位ユニットの助けによって変更され、装置は次に例えばピエゾ装置および粘性のばね要素の形で実現される。このようにして、図１による実施例とは対照的にここでは位置的に固定されたスリットマスク４を通して、これらの光波Ｌを選択的に感光層２上に伝えることも可能である。マイクロプリズムユニット７は、スリットマスク３またはスリットマスク８に本質的に横方向に動く。
【００１６】
本発明によるフィルタユニット１０のさらに他の実施例では、両方のスリットマスクが可動である。スリットマスクの各々が、カバーされるべき移動距離の半分ずつを動くので、個々のスリットマスクの可動域（Auslenkungen）はこのように減じられる。この場合、スリットマスクは横方向に反対向きに動く。
【００１７】
説明されたフィルタユニット１０は、このように、フィルタされた波長が電子的に調整できるような色フィルタを代表する。さらに、フィルタユニット１０は、例えば１４００ｎｍから４３０ｎｍまでの波長に調整することができる、温度依存しない色フィルタである。フィルタユニット１０およびそのためにフォトトランジスタユニット１全体として、１つ以上の下記の利点によって特徴付けられる：
−  フィルタユニット１０またはフォトトランジスタユニット１の構造形状は、極めて小さく選択することができる；
−  感光層２に衝突する光線の所望の波長を、電子的に正確に調整可能である；
−  機械的力が最小で済む；
−  反応時間が極めて短い；
−  すべての開口部対が、測定が行われるある波長または同じ波長領域に調整される場合、フォトトランジスタユニット１の感度が増加する。特に、感光層上で測定された信号をその後加えることができ、それはより大きな信号成分に結びつく。
【００１８】
本発明によるフォトトランジスタユニット１を用いて正確な測定結果を得るために、予めキャリブレーションが実行されなければならない。このようなキャリブレーションは、例えば以下のように行なわれることができる。
【００１９】
フォトトランジスタユニット１は、公知の波長を有する光源に晒される。その後、可動スリットマスク３もしくは８が、または必要に応じてマイクロプリズムユニット７が、これが可動である限り、感光層２上で信号最大値が得られるまで、変位ユニット４，６の助けによって変位される。用いられる変位機構に従って対応する変位の程度は、キャリブレーションのために一定に保つことができる。有効な変位ユニットとしてピエゾエレメントが使用される場合、ピエゾエレメントに与えられる電気信号は光源の波長に関連し得るので、この波長についてのキャリブレーションが完成する。非線形性がある場合にはこれを把握するために、光源の他の波長のさらなるキャリブレーションが実行されると有利である。
【００２０】
マイクロプリズムユニット７は、結晶性形状で化学式ＮａＣｌを有する物質で製造することができることが知られている。
【００２１】
図２は、本発明によるフィルタユニットのさらなる実施例を表す斜視図である。図１による実施例とは対照的に、この実施例は、スリットマスク３および８にスリットを１つしか示さない。マイクロプリズムユニット７は対応して単一のプリズムを示す。入射光ビームはスリットマスク８によって平行にされる。その後、平行にされた光ビームは、マイクロプリズムユニット７によって様々な波長の光成分に分割される。関心がある光成分が、可動スリットマスク３を適切に位置決めすることにより、可動スリットマスク３の助けによって選択される。このように、所望の波長を有する光だけが感光層２に当たり、測定されるようになる。
【００２２】
本発明のさらなる実施例は、スリットマスクの代わりに孔マスクを用いる。この場合、感光層上の対応する像は帯形状ではなく、点形状となる。
【００２３】
図３は、例えば図１による実施例で使用される、マイクロプリズムユニット７を表す。マイクロプリズムユニット７は例えばガラスから製造され、そこで個々のプリズムが削り込まれる。マイクロプリズムユニットの製造において、個々のプリズムはスリットマスクまたは孔マスクの対応する寸法と一致することが注意されるべきである。すなわち、スリットまたは孔の配置が対応するプリズムと一致し、その結果、所望の波長または波長領域を測定することができる。対応するスリットまたは孔は一般に開口部対として指定され、対応して第１の開口部および第２の開口部を含む。
【００２４】
さらなる実施例では、マイクロプリズムユニット７は、ガラスの代わりにポリマでできている。このようにして製造が単純化され、ガラスが使用される場合より費用が安い。マイクロプリズム層を形成するために個々のプリズムを組み合わせることも考えられる。個々のプリズムはその後接着剤で接合される。
【００２５】
前述の説明から明らかなように、特に図１から図３による異なる実施例に関連して、本発明によるフィルタユニットの適用例は、感光層２とフィルタユニットとを組み合わせることにある。このように、ある波長領域において極めて正確な測定を行うことができるフォトトランジスタユニットが得られ、測定される波長の電子的調整が本発明により可能である。
【００２６】
本発明によるフィルタユニットのさらなる実施例では、スリットマスクまたは孔マスクを通過した波長が調整可能である。この目的のためにマスクとして与えられるのは一方が他方の上に重なる２つのマスクであって、それらは図１で参照符号３および８として特定されて、そのマスクは一方が他方に対して横方向に変位することができる。このような実施例は図４に示され、２つのマスク８ａおよび８ｂは一方が他方の上に直接に置かれ、そのマスクは、例えば粘性のばね要素と組合わせたピエゾエレメントを再び用いて、一方が他方に対して横方向に変位することができる。このようにしてスリットサイズまたは孔サイズが変更され、結果として、開口部が調整可能なスリットマスクまたは孔マスクが得られる。調整可能な開口部を有するスリットマスクまたは孔マスクは、適用例に依存して、マイクロプリズムユニットの上すなわち光源Ｌの側、またはマイクロプリズムユニットの下にあり得る。さらに、スリットマスクまたは孔マスクの開口部は、先の説明の意味においてマイクロプリズムユニットの上および下の両方において調整可能であることも考えられる。
【００２７】
本発明によるフィルタユニットの他の適用例は、感光層として例えばＣＣＤ（電荷結合素子）型のイメージセンサを使用し、その結果、本発明をカメラ技術、特にデジタルカメ
ラ技術に用いることが可能になる。さらなる実施例では、位置的に固定されたスリットマスクまたは孔マスクが１つあるのみで、それ以外には感光層またはＣＣＤセンサ上に可動マスクはない。
【００２８】
このような適用例は、図５に示される。それは本質的に、プリズムユニット７の上部に配置される孔マスク８と、例えば光素子としてのフォトダイオードまたはフォトトランジスタの助けによって実現される感光層２とを含み、光素子は、孔マスクのすべての孔について、すなわちすべてのピクセルについて３つの光素子６１，６２および６３があるような態様で配置される。ここで、光素子６１は赤色光領域に配置され、すなわち約７００ｎｍの波長を有する光線が入射する。光素子６２は緑色光領域に配置され、すなわち約５２０ｎｍの波長を有する光線が入射する。最後に光素子６３は青色光領域に配置され、すなわち約４７０ｎｍの波長が入射する。したがって写真への適用例については、第２のマスクを感光層の前部に配置することが必要でないことが指摘される。すべてのピクセルについて３つの光素子があれば十分である。このように、第２の孔マスクまたはスリットマスクは、通過した波長がより正確な階調である場合にしか必要ではない。
【００２９】
図５から、マスク８の１つの開口部についてプリズムユニット７の１つのプリズムがあることを推論することができる。プリズムユニット７が、（孔マスクを有する実施例において）開口部列の上に延在するロッド形のプリズムを含むことが考えられる。次いで、マスク８のすべての開口部について、光素子６１，６２および６３を有する。
【００３０】
上述の写真への適用例の他の実施例では、紫外光領域および／または赤外光領域の光素子が、赤、緑および青について光素子の隣りに追加的に配置される。当然この場合、赤、緑および青色光についての光素子を省略することさえ可能である。
【００３１】
さらなる実施例は、上記に挙げられた原理を正像の撮影および印画紙の両方に適用し、その結果、よりよく入射光線を生じる。このようにして特に高分解能のモノクロ像を生成することができる。これらは特に高分解能スペクトルラスタ画像であって、例えば本発明による以下の異なる実施例で実現することができる。
【００３２】
図５による異なる実施例と同様に、ここで孔マスクおよびマイクロプリズム層７は、一方が他方の上に配置される。図５に示される感光層２の代りに、最大限に高感度のきめの細かい単色印画紙、または対応する写真用フィルムが配置される。入射光線は孔マスク８によってラスタ化され、マイクロプリズム層７によってスペクトル色に分割される。従来のモノクロの（ラスタ）写真では、すべてのラスタ点について固定グレースケール値が画像化され、物体の像は複数のラスタ点で生成される。マイクロプリズム層７によれば、このラスタ点上に入射する光の全スペクトルが、情報のバーコードアイテムと同様、単純なグレースケール値の代りに画像化される。このように、すべてのピクセルについての完全なスペクトルがグレースケール値で画像化される。したがって、分析において、最小の色変化（特に反射率および吸収率の変化）さえ特定し、場所を突き止めることが可能になる。有機的および無機的反応の両方の場合において、本発明のこの実施例によって、研究中の物体の質および構造に関して考え得る結論を出すための知識を得ることが可能になる。例えば下記のような適用例が可能である：
−  肌の色の最も微小な変化の測定；
−  工場における化学反応写真；
−  など。
【００３３】
図６は、可動スリットマスク８、プリズムユニット７、固定スリットマスク３、および図２に示された実施例に対応する感光層２を有する、本発明によるフィルタユニット１のさらなる実施例を示す。図２と対照的に、図６による実施例は、一方では、スリットを形
成する側壁が円錐形状を有する可動スリットマスク８を示し、特にスリットは、光の入口側よりも光の出口側でより狭い。他方では、固定スリットマスク３も同様に円錐形に形成された側壁を示すが、逆方向であり、その結果、スリット幅は光の出口側よりも光の入口側でより小さい。換言すれば、スリット幅は、感光層２側よりもプリズムユニット７側でより小さい。
【００３４】
異なる実施例では、可動スリットマスク８のスリットが収束光学系１３を備え、かつ／または固定スリットマスク３のスリットが拡散器１４を備える。収束光学系１３によって、より大きな光量またはやや多くの光子が得られ、プリズムユニット７に当たる一方、プリズムユニット７を通って単色的に出ていく光は、拡散器１４によって、本質的に均一な態様で感光層２のより大きな領域一帯に分散される。最終結果はフォトトランジスタユニットの感度が上がることである。
【００３５】
図６では、可動スリットマスク８とプリズムユニット７との間の距離はａで示され、プリズムユニット７と固定スリットマスクとの間の距離はｂで示され、固定スリットマスク３と感光層２との間の距離はｃで示される。距離ａおよびｃは可能な限り小さく選択されるのが好ましいことがわかっている。距離ｂは可変であるのが好ましく、したがって、固定スリットマスク３のスリットを通り抜ける光ビームの帯域幅または波長領域を制限したり調節したりするよう機能する。
【００３６】
固定スリットマスク３の円錐形状、すなわちスリットを境界付ける側壁の勾配は、感光層上の関連する測定領域が全体的に照らされるような態様で選択されることが指摘される。このようにして測定結果に誤差がないであろうことが保証される。なぜなら、フォトトランジスタの全体的でない照明が、概して測定誤差に結びつくからである。
【００３７】
図７は、図１による実施例に類似する、スリットマスクまたは孔マスク８に複数のスリットまたは孔を有する、感光層２を有する、本発明によるフィルタユニットのさらなる実施例を示す。参照符号１２は混合光を示し、１５は単色光を示し、後者のみが感光層２上に入射する。
【００３８】
可動スリットマスク８を有する実施例では、スリットを形成する側壁が円錐形状を有し、スリット開口部は光入口側で最大に選択され、その結果、可能な限りの光が各スリットに入射することができる。これに対して、スリットを形成する側壁はある点で一緒になり、各場合に可動スリットマスク８の頂部側と一致する。他方、固定スリットマスク３は、広い開口部が感光層２の側に来るという意味において反対方向に配置される。スリットに含まれる拡散器１４により、感光層が最大限かつ均一に照らされることが確実になるので、一層の高感度およびより正確な測定結果が得られる。
【００３９】
発明のさらなる実施例では、スリットの円錐形に形成された側壁には、照明効率をさらに高めるために反射コーティングが施される。
【００４０】
さらなる実施例において、図７による断面の表示も同様に有効であり、マスク８および３にはスリットの代わりに孔がある。したがってマスク８および３の孔は円錐台形の形状を有し、可動孔マスク８の場合には収束レンズ１３として、または固定孔マスク３の場合には拡散器１４としてマスク８および３に嵌め込まれるインサートも、円錐台形の形状を有する。
【００４１】
図１および図２による実施例に関連して既に説明されたように、図６および図７による実施例においてさえ、可動マスク８を固定するよう作ることができ、固定マスク８も可動であるよう作ることができることが明示的に指摘される。さらに、図４による位置は、図
６および図７による実施例においても同様に考えることができる。
【００４２】
最後に、図５を参照して記載されたように、図６および図７による実施例は優れてイメージセンサに適する。
【００４３】
マイクロプリズムユニットは、結晶ＮａＣｌ、ガラスまたはポリマでできていることは既に指摘された。結晶、例えば色純度が高いダイヤモンドなどの宝石、クオーツまたはネオジムがさらに考えられる。
【００４４】
先に記載したすべての実施例において、いわゆるマルチプリズム（Mehrfachprismen）をマイクロプリズムユニットまたはプリズムユニットに用い得ることがさらに指摘される。概略的に直視プリズム（Geradsichtprismen）とも呼ばれるこのようなマルチプリズムは、様々な材料、例えば様々なグレードのガラスを有する複数のプリズムから組み立てられ、その結果、スペクトルの偏差にもかかわらず、中心の光線は本質的に偏向せずに通過する。マルチプリズムについてのさらに詳しい情報は、例えばＤＥ−３７３７７７５Ａ１で見ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明による、感光層を有するフィルタユニットを示す図である。
【図２】本発明によるフィルタユニットのさらなる実施例を示す斜視図である。
【図３】本発明によるフィルタユニットで使用するマイクロプリズムユニットを示す図である。
【図４】通過する波長を調整するために他方の上に重なる２つのマスクを示す図である。
【図５】イメージセンサにおける、本発明によるフィルタユニットの適用例を示す図である。
【図６】本発明によるフィルタユニットの、感光層を有するさらなる実施例を示す斜視図である。
【図７】感光層を有する発明的なフィルタユニットのさらなる実施例を示す図である。
【図１】
2007526502.tif 000003
【図２】
2007526502.tif 000004
【図３】
2007526502.tif 000005
【図４】
2007526502.tif 000006
【図５】
2007526502.tif 000007
【図６】
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【図７】
2007526502.tif 000009
【国際調査報告】
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