(57)【要約】  規定された領域を汚染除去する蒸気汚染除去システムである。システムは領域を規定するチャンバ２４と、過酸化水素溶液と水から過酸化水素蒸気を生成する生成器３２と、オゾンを導入する装置３４とで構成される。過酸化水素蒸気とオゾンを領域に供給するため閉鎖環状循環システムが設けられる。破壊装置９４は過酸化水素蒸気を分解する。オゾンを所望の濃度に維持するため、オゾンを導入する装置３４を制御する制御装置１３２とセンサ３６が設けられる。【選択図】図１【特許請求の範囲】
【請求項１】
規定された領域の汚染除去を行う蒸気汚染除去システムであって、前記システムは
領域を規定するチャンバと、
過酸化水素溶液と水から過酸化水素蒸気を生成し、過酸化水素蒸気をキャリアガスに導入する第１の生成器と、
前記キャリアガスにオゾンを導入する装置と、
前記過酸化水素蒸気と前記キャリアガスを前記領域に供給する閉鎖環状循環システムと、
前記過酸化水素蒸気を分解する破壊装置とを備える。
【請求項２】
前記キャリアガスは酸素を含み、前記第２の生成器は前記酸素からオゾンを生成する、請求項１に記載の蒸気汚染除去システム。
【請求項３】
センサは前記キャリアガスのオゾン濃度を検出するよう操作可能である、請求項１に記載の蒸気汚染除去システム。
【請求項４】
前記第１の生成器は蒸発器である、請求項１に記載の蒸気汚染除去システム。
【請求項５】
前記オゾンを分解する破壊装置をさらに備える請求項１に記載の蒸気汚染除去システム。
【請求項６】
前記閉鎖環状循環システム内に配置され、前記閉鎖環状循環システムに空気を循環させるよう操作可能な送風機と、
前記破壊装置と前記生成器との間の前記閉鎖循環システム内に配置され、前記環状システムから湿気を除去するよう操作可能なドライヤと、
前記循環システムを流れる空気を加熱するため前記第１の生成器の上流の前記閉鎖循環システム内に配置されたヒータと
をさらに備える請求項１に記載の蒸気汚染除去システム。
【請求項７】
領域を汚染除去する汚染除去システムであって、前記システムは、
過酸化水素蒸気を生成する第１の生成器と、  
オゾンを生成する第２の生成器と、
過酸化水素蒸気とオゾンを前記領域に供給する閉鎖環状システムと、
過酸化水素蒸気を分解する破壊装置と、
前記システムのオゾン濃度を検出するセンサと、
前記センサからのデータに基づいて前記領域のオゾンの存在を決定する制御装置とを備える。
【請求項８】
前記制御装置は前記領域のオゾン濃度を決定するよう操作可能である、請求項７に記載の汚染除去システム。
【請求項９】
前記センサはオゾンセンサである、請求項８に記載の汚染除去システム。
【請求項１０】
オゾンと過酸化水素蒸気（ＶＨＰ）の組み合わせで領域を殺菌する方法であって、
入口ポートと出口ポートを備えた密封可能な領域を設け、さらに領域入口ポートに流体接続する第１の端部と領域出口ポートに流体接続する第２の端部を備えた閉鎖環状導管を設けるステップと、
キャリアガスを前記領域に通し閉鎖環状導管を介して流れを再循環させるステップと、
領域入口ポートの上流において再循環キャリアガス流に過酸化水素蒸気を供給するステップと、
領域入口ポートの上流において再循環キャリアガス流にオゾンを供給するステップと、
領域出口ポートの下流となる第１の位置において過酸化水素蒸気を破壊するステップと、
オゾンセンサから導き出した表示に基づいて前記領域のオゾンの存在を決定するステップとを備える方法。
【請求項１１】
前記キャリアガスは空気である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記オゾンを供給するステップには前記キャリアガスからのオゾンの電気生成が含まれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
閉鎖環状導管が流体接続された入口ポートと出口ポートを備えた密封可能なチャンバまたは領域で蒸気相汚染除去を行う閉鎖環貫流方法であって、
キャリアガスを領域に通し閉鎖環状導管を介して流れを再循環させるステップと、
再循環するキャリアガス流に過酸化水素蒸気を供給するステップと、
再循環するキャリアガス流にオゾンを供給するステップと、
前記出口ポートの下流となる第１の位置において過酸化水素蒸気を破壊して水と酸素を形成するステップと、
キャリアガス内のオゾン濃度をモニターするステップとを備える。
【請求項１４】
前記キャリアガスは空気である、請求項１３に記載の閉鎖環貫流方法。
【請求項１５】
前記破壊するステップには過酸化水素を水と酸素とに触媒で分解することが含まれる、請求項１３に記載の閉鎖環貫流方法。
【請求項１６】
閉鎖環貫流の蒸気相汚染除去システムであって、
入口ポートと出口ポートを備えた密封可能なチャンバと、
前記入口ポートに流体接続した第１の端部と前記出口ポートに流体接続した第２の端部とを備えた閉鎖環状導管システムと、
キャリアガスをチャンバに通して再循環させるため前記導管システムに接続された送風機と、
前記入口ポートの上流において前記キャリアガス流に過酸化水素蒸気を供給する蒸発器と、
前記入口ポートの上流において前記キャリアガス流にオゾンを供給する生成器と、
過酸化水素蒸気を水と酸素に変換するため前記出口ポートの下流に設けた破壊装置と、
オゾンを検出するセンサとを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般に殺菌および汚染除去の技術に関し、特にオゾンおよび過酸化水素蒸気を順次または同時に使用することが含まれる汚染除去方法およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
汚染除去方法は広範な範囲の適用に使用され、同様に広範な範囲の殺菌剤および汚染除去剤に使用されてきた。ここで使用する用語「殺菌」は特に無生物物体上のあらゆるバイオ汚染物の不活性化に関係する。「汚染除去」は特に無生物物体上のあらゆる生長力のある生物物質の不活性化に関係する。用語「消毒剤」は病原と考えられる有機体の不活性化に関係する。用語「汚染除去剤」は汚染除去する物質に関係する。
【０００３】
殺菌のために過酸化水素蒸気（ＶＨＰ）を使用することは知られている。ＶＨＰを使用して殺菌する公知の方法には開放環状システムと閉鎖環状システムが含まれる。公知の閉鎖環状システムでは、空気などのキャリアガスは蒸発器を通過する前に乾燥され加熱される。過酸化水溶液は蒸発器に導かれて蒸発する。その結果生じた蒸気はキャリアガスと混合されて殺菌チャンバ内に導かれる。送風機によって殺菌チャンバからキャリアガスを排出し、補充ＶＨＰが追加される蒸発器にキャリアガスを再循環させる。殺菌チャンバと蒸発器の間で、再循環するキャリアガスは触媒破壊装置（残ったＶＨＰがキャリアガスから取り除かれる）、ドライヤ、フィルタおよびヒータを通過する。
【０００４】
またオゾン殺菌装置を使用しオゾンで殺菌および汚染除去することも知られている。オゾン殺菌装置はオゾン生成器またはその他の装置を使用してキャリアガス中にオゾンを導入する。オゾン殺菌用の典型的なキャリアガスは大気中の空気である。キャリアガスにオゾンが追加された後、殺菌される殺菌チャンバあるいは部屋にキャリアガスが導入される。オゾンはオゾンに曝されるバイオ汚染物を酸化してバイオ汚染物を不活性化するよう作用する。またオゾンは漂白剤として作用する。湿気のある環境におけるオゾンは過酸化水素、塩素または二酸化硫黄などその他の公知の漂白剤よりも漂白特性が大きい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明はＶＨＰとオゾンを組み合わせて使用して汚染除去を行う方法およびシステムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の好ましい実施形態によれば、規定された領域を汚染除去する蒸気汚染除去システムが設けられる。このシステムは領域を規定するチャンバと、過酸化水素溶液と水から過酸化水素蒸気を生成する生成器と、オゾンをキャリアガスに導入する装置とから構成される。過酸化水素蒸気とオゾンの混合物を領域に供給するため閉鎖環循環システムが設けられる。領域から排出された過酸化水素蒸気は破壊装置によって分解される。
【０００７】
本発明の別の形態によれば、領域を汚染除去する汚染除去システムが設けられる。この汚染除去システムには過酸化水素蒸気を生成する生成器とオゾンを生成する生成器とが含まれる。過酸化水素蒸気とオゾンを領域に供給するため閉鎖環状システムが設けられる。過酸化水素蒸気を水と酸素に分解するため破壊装置が設けられる。
【０００８】
本発明のさらに別の形態によれば、閉鎖環状導管が流体接続された入口ポートと出口ポートを備えた密封可能なチャンバまたは領域で蒸気相汚染除去を行う閉鎖環貫流方法が設けられる。この方法は
キャリアガスをチャンバに通し閉鎖環状導管を介して流れをつくるステップと、
キャリアガス流にオゾンを供給するステップと、
キャリアガス流に過酸化水素蒸気を供給するステップと、
出口ポートの下流となる第１の位置において過酸化水素蒸気を破壊して水と酸素を形成するステップとを備える。
【０００９】
本発明のさらに別の形態によれば、入口ポートと出口ポートを備えた密封可能なチャンバで構成される閉鎖環貫流の蒸気相汚染除去システムが設けられる。閉鎖環状導管システムには入口ポートに流体接続する第１の端部と出口ポートに流体接続する第２の端部とが備わる。キャリアガスをチャンバに通して再循環するため送風機が導管システムに接続される。入口ポートの上流でキャリアガスに過酸化水素蒸気を供給するため蒸発器が設けられる。蒸発器の上流にオゾン生成器が設けられる。出口ポートの下流に配置された破壊装置は過酸化水素蒸気を水と酸素に変換する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の利点は過酸化水素蒸気とオゾンの汚染除去態様を組み合わせた汚染除去システムにある。
本発明の別の利点は過酸化水素蒸気のみで使用できる前記のシステムにある。
【００１１】
本発明の別の利点はオゾンのみで使用できる前記のシステムにある。
本発明のさらなる利点はオゾンと過酸化水素蒸気を有効に組み合わせ、オゾンのみで殺菌される装置にデグラデーションを引き起こす前記のシステムにある。
【００１２】
本発明のさらなる利点は過酸化水素蒸気にオゾンを組み合わせることで、過酸化水素蒸気のみによる汚染除去に関連しコストを有効に最小限とする前記のシステムを設けることにある。
【００１３】
本発明のさらに別の利点は１）過酸化水素蒸気、２）オゾン、３）過酸化水素蒸気とオゾン、のいずれかを使用して汚染除去するよう操作可能な前記のシステムにある。
本発明のさらに別の利点は乾燥状態でオゾンを生成することでオゾンの生成を促進する前記のシステムにある。
【００１４】
本発明のさらに別の利点は汚染除去される物体を湿気状態でオゾンにさらし、オゾンの漂白品質を促進する前記のシステムにある。
これらの利点などは図面を伴う好ましい実施形態の次の記載および特許請求の範囲から明らかとなる。  
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図面に示すものは発明の好ましい実施形態を示す目的のためだけであり、発明を限定する目的ではない。図１は本発明の好ましい実施形態を示す汚染除去システム１０を示す。広義には、このシステム１０は空間あるいは領域または空間あるいは領域内の物品を汚染除去するための過酸化水素蒸気（すなわち、２成分からなる気相の汚染除去剤）とオゾンとの組み合せを利用するものである。
【００１６】
実施形態ではシステム１０には内部に殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４を形成する分離室あるいは部屋２２が含まれる。殺菌あるいは汚染除去される物品は分離室あるいは部屋２２内に配置されることが意図される。供給導管４２はチャンバあるいは領域２４への汚染除去剤の入口４４を規定する。供給導管４２は蒸発器３２を分離室あるいは部屋２２の殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４に接続する。蒸発器３２は供給ライン５４によって液体汚染除去剤供給源５２に接続される。従来公知のバランス装置５６は汚染除去剤供給源５２に関連して、蒸発器３２に供給される汚染除去剤の実際の量を測定する。
【００１７】
従来公知の手段で汚染除去剤を蒸発させる蒸発器３２に測定された量の液体汚染除去剤を送るためにモータ６４で駆動されるポンプ６２が設けられる。別の実施形態では、ポンプ６２にはエンコーダ（図示しない）が設けられ、蒸発器３２に送られる汚染除去剤の量のモニターが可能となる。エンコーダがポンプ６２に設けられる場合にはバランス装置５６を設ける必要はなくなる。圧力スイッチ７２が供給ライン５４に設けられる。圧力スイッチ７２は一定の静圧が供給ライン５４に存在しないときに電気信号を出すよう作動する。ＶＨＰ濃度を決定するため分離室あるいは部屋２２の殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４内にＶＨＰセンサ３８が設けられる。
【００１８】
分離室あるいは部屋２２と蒸発器３２は、分離室あるいは部屋２２（および殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域）を蒸発器３２に接続する戻り導管４６を含む閉鎖環状システムの一部となる。戻り導管４６は殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４からの汚染除去剤の出口を規定する。モータ８４で駆動される送風機８２が、分離室あるいは部屋２２と蒸発器３２の間の戻り導管４６内に配置される。送風機８２は汚染除去剤と空気などのキャリアガスを閉鎖環状システム内で循環させるよう操作される。
【００１９】
図１に示すように、送風機８２と分離室あるいは部屋２２との間の戻り導管４６に第１のフィルタ９２とＶＨＰ破壊装置９４と弁９６とが配置される。第１のフィルタはシステム１０を流れる汚染物質を除去するために設けられるが、ＨＥＰＡフィルタとするのが好ましい。ＶＨＰ破壊装置９４は従来公知のように内部を通過する過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）を破壊するよう作動する。ＶＨＰ破壊装置９２は過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）を水と酸素に変換する。弁９６は戻り導管４６を通過する流れを制御するよう操作される。弁９６は戻り導管４６に流れを通過させる第１の位置と戻り導管４６への流れをブロックあるいは阻止する第２の位置との間で移動可能になっている。
【００２０】
好ましい実施形態では、オゾン破壊装置９８が補足導管１０２に配置される。オゾン破壊装置は従来公知のようにオゾン（Ｏ３）を破壊するよう作動する。オゾン破壊装置９８はキャリアガスに対するオゾンの濃度を減少するものであればどのような装置でもよい。好ましい実施形態では、オゾン破壊装置９８は活性炭素で構成される。オゾン分子は炭素表面と接触して反応し、直接に化学酸化を介して二酸化炭素（一酸化炭素は副産物である）を形成する。
【００２１】
補足導管１０２の第１の端部１０３は戻り導管４６に流体接続し、一方第２の端部１０４は大気に開放する。補足導管１０２の第１の端部１０３は弁９６とＶＨＰ破壊装置９４の間の戻り導管４６に流体接続される。好ましい実施形態では、弁１０５が第１の端部とオゾン破壊装置９８の間の補足導管１０２に配置される。弁１０５は補足導管１０２に戻る流れを制御するよう作動する。弁１０５は補足導管１０２に流れを通過させる第１の位置と補足導管１０２への流れをブロックあるいは阻止する第２の位置との間で移動可能になっている。補足導管１０２の第２の端部１０４は大気に開放して、補足導管１０２内に含まれるものを大気に放出する。しかし、第２の端部４は弁９６と送風機８２の間の戻り導管４６に流体接続することもできる。エアドライヤ１１２、フィルタ１１４およびヒータ１１６が送風機８２と蒸発器３２の間の戻り導管４６内に配置される。エアドライヤ１１２は閉鎖環状システムを流れる空気から湿気を除去するよう作動する。第２のフィルタ１１４は送風機８２によって戻り導管４６に吹き込まれた空気を濾過するよう作動する。ヒータ１１６は送風機８２によって戻り導管４６に吹き込まれた空気を加熱するよう作動する。この点、空気は蒸発器３２に入ってくる前に加熱される。
【００２２】
空気流センサ１２６が送風機８２とエアドライヤ１１２の間の戻り導管４６に配置される。空気流センサ１２６は戻り導管４６を流れる空気流を検出するよう作動する。
本発明の１つの側面によると、オゾン装置３４がヒータ１１６と蒸発器３２の間の戻り導管４６に配置される。オゾン装置３４はオゾンガスを戻り導管４６に導入するために設けられる。好ましい実施形態ではオゾン装置３４はオゾンを生成する生成器である。オゾンを生成する公知の装置は電気化学、電磁気（例えば紫外線、レーザー光、電子ビーム）および電気などの種々のタイプのエネルギー源を使用する。好ましい実施形態ではオゾン装置３４は電気装置、すなわち、Emigh et alのアメリカ特許３、８７２，３１３に記載された装置のようなコロナ放出装置である。また認識されることは、オゾン装置３４は外部源からオゾンガスを取り入れる装置にすることもできる。このような外部源はオゾンを貯蔵した貯蔵容器（例えば、圧縮液化された状態）または外部オゾン生成装置とすることができる。オゾン装置３４は殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域内のオゾン濃度を１ｐｐｍと５００ｐｐｍの間に維持するのに十分な速度でオゾンを生成、供給あるいは導入する寸法にされる。オゾン装置３４は殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域内のオゾン濃度を１ｐｐｍと１００ｐｐｍの間に維持するのに十分な速度でオゾンを生成、供給あるいは導入する寸法にされるのが好ましい。オゾン装置３４は殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域内のオゾン濃度を１ｐｐｍと５０ｐｐｍの間に維持するのに十分な速度でオゾンを生成、供給あるいは導入する寸法にされるのが一層好ましい。オゾン装置３４は制御信号によって制御装置１３２に接続される。
【００２３】
オゾンセンサ３６はオゾン装置３４と蒸発器３２の間の戻り導管４６に配置される。オゾンセンサ３６は戻り導管４６内のオゾン濃度を検出するよう作動する。好ましい実施形態ではオゾンセンサ３６はオゾンを検出するいくつかの公知の器具の１つにすることができる。オゾンセンサ３６は電気的に制御装置１３２に接続される。オゾンセンサ３６は戻り導管４６、供給導管４２、または殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４のいずれかの箇所に配置することが考えられる。また複数のオゾンセンサは戻り導管４６、供給導管４２、または殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４に配置することが考えられる。
【００２４】
実施形態において、オゾンセンサ３６、ＶＨＰセンサ３８および空気流センサ１２６は図１に概略的に示すシステム制御装置１３２で電気信号を送る。制御装置１３２はシステム１０の操作を制御するためプログラム化されたシテムマイクロプロセッサあるいはマイクロコントローラである。制御装置１３２はプログラム化された制御パラメータに基づき所望のＶＨＰ濃度およびオゾン濃度をモニターして制御するようプログラムされる。使用する制御パラメータは所望のＶＨＰ濃度、所望のオゾン濃度またはオゾンに対するＶＨＰの比率として表すことができる。図１に示すように、制御装置１３２はモータ６４、モータ８４、圧力スイッチ７２、バランス装置５６、オゾン装置３４、弁９６および弁１０５にも接続される。
【００２５】
次に、システム１０の操作について本発明をさらに述べる。典型的な殺菌／汚染除去サイクルには乾燥段階、条件調整段階、汚染除去段階および通風段階が含まれる。殺菌／汚染除去サイクルを運転する前に、汚染除去剤溶液中の過酸化水素のパーセントとセンサ３６における所望のオゾン濃度に関するデータを制御装置１３２に入れる、すなわち入力する。前述のように実施形態では３５％過酸化水素と６５％水との汚染除去剤溶液が使用される。しかし他の濃度の過酸化水素と水を使用することも考えられる。
【００２６】
分離室または部屋２２、供給導管４２および戻り導管４６は閉鎖環状導管回路を形成する。殺菌／汚染除去サイクルを最初に運転するとき、制御装置１３２によって送風機モータ８４で送風機８２を駆動させ、それによってキャリアガスを閉鎖環状回路に循環させる。好ましい実施形態ではキャリアガスは空気である。乾燥段階の間は蒸発器とオゾン装置３４は作動させない。エアドライヤ１１２で、図１に矢印で示すように閉鎖環状システムを通って、すなわち、供給導管４２、戻り導管４６および殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４または分離室あるいは部屋２２を通って循環するキャリアガス（すなわち、空気）から湿気を取り除く。空気が十分に低い湿度レベルにまで乾燥すると、乾燥段階は終了する。所望の湿度レベルは使用されるオゾンとＶＨＰの組合せおよび所望の効果によって選ぶものと考えられる。
【００２７】
次に条件調整段階が開始され、蒸発器３２と蒸発器３２に汚染除去剤を供給する汚染除去剤供給モータ６４とを作動させる。好ましい実施形態では、蒸発器３２に供給される汚染除去剤は約３５％の過酸化水素と約６５％の水とからなる過酸化水素溶液である。その他の比率の過酸化水素と水からなる汚染除去剤も考えられる。蒸発器３２内で周知の方法により液体汚染除去剤は蒸発し、過酸化水素蒸気（ＶＨＰ）と水が生成される。蒸発した汚染除去剤は閉鎖環状導管回路に導入されてキャリアガス（空気）によって供給導管４２を通り分離室あるいは部屋２２内の殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４内に運ばれる。
【００２８】
条件調整段階の間は、ＶＨＰはキャリアガスによって殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４内に運ばれ、ＶＨＰレベルが短時間で所望のレベルに上昇する。この条件調整段階の間は、送風機８２によって空気が閉鎖循環システム内を連続して循環する。キャリアガスは蒸発器からチャンバあるいは領域２４に入ると、次にキャリアガスはチャンバあるいは領域２４から引き出されてＶＨＰ破壊装置９４に達し、そこでＶＨＰは水と酸素に分解される。
【００２９】
条件調整段階が終了した後、汚染除去段階を開始する。システム制御装置１３２によってオゾン発生器を作動させて所望のレベルに維持する。システム制御装置１３２はオゾン装置３４の出力を制御することでオゾンの注入を制御する。
【００３０】
オゾン装置３４はコロナ放電の方法でオゾンを発生する。コロナ放電方法は酸素分子を含むガス（すなわち、キャリアガス）を電荷にさらすことでオゾンを生成する。キャリアガスは第１の電極と第２の電極によって形成された放電隙間を通過する。２つの電極間に電位差が生じ、それによって電子が第１の電極上の誘電体を通過し、第１の電極から第２の電極まで放電隙間を横切る。第１の電極から第２の電極への電子の流れがコロナ放電である。コロナ放電の特徴は一定の限界値を超える電界強度で低電流が流れることである。コロナ放電によってキャリアガス内に含まれる酸素分子を分離させるエネルギーが与えられる。その結果生じた酸素原子は残りの酸素分子と結合してオゾンを形成する。湿気のある状態において所望の電界強度が低下することとなる電子の「漏洩」を防止することで、乾燥状態はオゾンの生成を促進する。オゾン装置３４をエアドライヤ１１２の下流に配置することで、ＶＨＰの破壊やその他の源から生じる湿気がオゾンの生成の前に除去され、オゾンの生成を促進させる湿気のない乾燥状態が備わることになる。
【００３１】
制御装置１３２によってオゾンセンサ３６からの信号がモニターされ、その信号をプログラムされた制御パラメータ、すなわち所望のオゾン濃度と比較され、オゾン装置でキャリアガス内に導入されたオゾン量が調節される。このようにオゾンセンサ３６、制御装置１３２およびオゾン装置３４は閉鎖環状フィードバックオゾン制御システムとして供給導管４２内のキャリアガスの所望オゾン濃度を維持する。さらに詳細に述べると、供給導管４２、戻り導管４６および殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４または分離室あるいは部屋２２を通って図１の矢印に示すように移動するので時間の経過とともにオゾン品質は低下する。汚染処理段階においてシステム１０内を移動する間に消費または品質低下しないオゾンはすべて、オゾン装置３４で戻り導管４６内に導入されるオゾンに補充されることになる。
【００３２】
汚染除去段階は、殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４およびそこに含まれる物品の所望の殺菌あるいは汚染除去に十分有効な所定の時間に渡って続けられる。所望の汚染除去の程度を達成するために必要であると当業者が規定する所望の限度に過酸化水素およびオゾン濃度を維持することが好ましい。前述したように送風機８２でＶＨＰおよびオゾンを循環する。
【００３３】
また汚染除去段階の間においては、分離室あるいは部屋２４の殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４内の雰囲気には、蒸発器３２内の液体汚染除去剤の蒸発によって生成され、さらにＶＨＰの分解によって生成された水が含まれている。その結果生じる、殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４の雰囲気内の湿気は殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域２４内のオゾンのさらし特性を促進する。与えられた汚染除去／殺菌サイクルの間に使用される、オゾンと組み合わされた過酸化水素の実際の量は、その他の理想的な汚染除去／殺菌サイクルの間に過酸化水素のみが使用されると仮定したときに使用される過酸化水素の量よりも少なくなる。
【００３４】
汚染除去段階が終了した後、制御装置１３２によって蒸発器３２とオゾン装置３４を停止させることで、供給導管４２への汚染除去剤の導入および戻り導管４６へのオゾンの導入の両方の導入を停止する。
【００３５】
その後で、通風段階を開始して過酸化水素レベルを許容できる閾値（約１ｐｐｍ）にまで落す。この点に関し、送風機８２によって閉鎖環状システムを通して空気と残りのＶＨＰと残りのオゾンを循環し続ける。最終的には、過酸化水素蒸気（ＶＨＰ）はすべてＶＨＰ破壊装置に供給されて分解される。オゾンは通常の雰囲気状態においては不安定な分子であるので、時間の経過とともに自然に破壊される。通風段階はシステム１０内のオゾンが満足して破壊されるに十分な時間に渡って続けることが好ましい。
【００３６】
好ましい別の実施形態では、戻りライン４６を通る流れがＶＨＰ破壊装置９４を通過した後、大気に放出される前に、オゾン破壊装置９８に向けられるように弁９６と弁１０５を操作するのが好ましい。戻りライン４６に含まれる物をオゾン破壊装置９８に流すようにさせる他の種々の導管および弁配置が考えられる。さらに、戻りライン４６を通る流れをオゾン破壊装置９８に通した後で戻りライン４６に戻すようにすることも考えられる（図示しない）。  
【００３７】
以上の記載は本発明の特別の実施形態である。この実施形態は説明のためにのみ記載されること、また当分野の専門家は発明の精神および範囲から逸脱することなしに数々の変更や修正を行いうることが理解されるべきである。これらの変更の中には、ＶＨＰのみが汚染除去剤として使用される、上述したシステム１０とは別の使用方法が考えられる。この別の実施形態では、オゾン装置３４は操作されず、したがって戻り導管４６にはオゾンが導入されない。オゾン装置３４はヒータ１１６と蒸発器３２の間の戻り導管４６内に配置されたままであり、送風機８２で送り込まれたキャリアガスはオゾン装置３４を通過し続ける。オゾン装置３４は操作せず、オゾンを戻り導管４６に導入しないように制御装置１３２はプログラムされる。
【００３８】
オゾンのみが汚染除去剤として使用される、上述したシステム１０とはさらに別の使用方法が考えられる。オゾン装置３４でオゾンは戻り導管４６内に導入するが、ＶＨＰは供給導管内に導入しない。蒸発器３２は分離室あるいは部屋２２の殺菌／汚染除去チャンバあるいは領域に接続されたままであり、送風機８２で送り込まれたキャリアガスは蒸発器３２を通過し続ける。しかし、モータ６４で駆動されるポンプ６２は液体汚染除去剤を蒸発器に運ばないよう制御装置１３２はプログラムされる。電気供給源を取り除くなどのいくつかの追加の方法でモータ６４の作動を不可能にしたり、液体汚染除去剤の流れを物理的に遮断したりすることが考えられる。
【００３９】
オゾン装置３４で生成されるオゾン量を増加するためにヒータ１１６とオゾン装置３４の間に供給源（図示しない）から酸素あるいは酸素リッチなガスを導入する、上述したシステム１０とはさらに別の使用方法が考えられる。
【００４０】
このような変更や修正は特許請求の範囲に記載された発明またはそれと均等な発明の範囲内である限り、本発明に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
本発明は一定の部分および部分の配置において具体的な形態をとり、その好ましい実施形態は明細書で詳細に記述し、かつ一部を形成する付帯する図面で説明する。
【図１】オゾンで強化した過酸化水素蒸気汚染除去システムの概略図である。
【図１】
2007518954.tif 000002
【国際調査報告】
2007518954.tif 000003