(57)【要約】１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースの２−メトキシアデニンとの反応により、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンが形成され、次に、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの脱保護により、スポンゴシンが形成されることが記載される。スポンゴシンの合成において使用するための中間体の合成もまた記載される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
スポンゴシンの合成方法であって、１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースを２−メトキシアデニンと反応させて、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを形成させること、次に、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを脱保護して、スポンゴシンを形成させることを含む、方法。
【請求項２】
９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンが、室温におけるナトリウムメトキシド／メタノールでの処理により脱保護される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
スポンゴシンを酢酸中に懸濁すること、次に、スポンゴシンを単離することをさらに含む、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
単離したスポンゴシンを有機酸中に溶解すること、次に、溶解されたスポンゴシンを有機酸から結晶化させることをさらに含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
スポンゴシンを有機酸中に溶解すること、次に、溶解されたスポンゴシンを有機酸から結晶化させることをさらに含む、請求項１または２記載の方法。
【請求項６】
有機酸が酢酸である、請求項４または５記載の方法。
【請求項７】
スポンゴシンが一部溶解する有機アルコールと有機酸を接触させることにより、スポンゴシンが有機酸から結晶化される、請求項４から６のいずれか記載の方法。
【請求項８】
２−クロロアデニンをナトリウムメトキシド／メタノールと共に１５０℃未満、好ましくは１００℃まで加熱して、２−メトキシアデニンを形成させることをさらに含む、請求項１から７のいずれか記載の方法。
【請求項９】
２−メトキシアデニンの合成方法であって、２−クロロアデニンをナトリウムメトキシド／メタノールと共に１５０℃未満、好ましくは、１００℃まで加熱することを含む、方法。
【請求項１０】
２−クロロアデニンとナトリウムメトキシド／メタノールの混合物を加熱して、２−メトキシアデニンを形成させること、該混合物のｐＨをｐＨ９．５（±０．５）に調節すること、次に、２−メトキシアデニンを単離して、単離された２−メトキシアデニンを１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースと反応させることをさらに含む、請求項１から７のいずれか記載の方法。
【請求項１１】
２−メトキシアデニンの合成方法であって、２−クロロアデニンとナトリウムメトキシド／メタノールの混合物を加熱して、２−メトキシアデニンを形成させること、該混合物のｐＨをｐＨ９．５（±０．５）に調節すること、次に、２−メトキシアデニンを単離することを含む、方法。
【請求項１２】
混合物が１５０℃未満、好ましくは、１００℃まで加熱される、請求項１０または１１記載の方法。
【請求項１３】
２，６−ジクロロプリンを２−クロロアデニンに変換することをさらに含む、請求項８から１２のいずれか記載の方法。
【請求項１４】
２，６−ジクロロプリンをメタノール性アンモニアで処理して、２−クロロアデニンを得て、得られた２−クロロアデニンを水で希釈し、次に、２−クロロアデニンを単離することにより、２，６−ジクロロプリンが２−クロロアデニンに変換される、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
２−クロロアデニンの合成方法であって、２，６−ジクロロプリンをメタノール性アンモニアで処理して、２−クロロアデニンを得ること、得られた２−クロロアデニンを水で希釈すること、次に、２−クロロアデニンを単離することを含む、方法。
【請求項１６】
スキーム２の工程を含む、スポンゴシンの合成方法。
【請求項１７】
スキーム２に関連して実質的に記載されている、スポンゴシンの合成方法。
【請求項１８】
９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの合成方法であって、１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースを２−メトキシアデニンと反応させて、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを形成させることを含む、方法。
【請求項１９】
スポンゴシンの合成における２，６−ジクロロプリンの使用。
【請求項２０】
少なくとも９９％純品である、スポンゴシン。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、スポンゴシン（９−（β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン、または２−メトキシアデノシンとしても知られている）の合成、およびスポンゴシンの合成において用いるための中間体の合成に関するものである。
【０００２】
天然物のスポンゴシンは、１９４５年、フロリダ沿岸部から集められた海綿動物であるクリプトテシア・クリプタ（Cryptotethia crypta）から最初に単離された（Bergmann and Feeney, J.Org. Chem. 1951, 16, 981；Ibid 1956, 21, 226）。スポンゴシンは、それが天然で見出された最初のメトキシプリンであっただばかりでなく、動物組織から単離された最初のＯ−メチル化合物の１つであったという点で珍しいヌクレオシドと考えられた。
【０００３】
スポンゴシンの合成方法は、BergmannおよびStempien（J. Org. Chem. 1957, 22, 1575）によって記載されている。この方法は、クロロメルクリ−２−メトキシアデニンをキシレン中の２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシルクロライドと還流して、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを形成させ、クロロホルムで抽出し、次に、メタノール中のナトリウムメトキシドで還流する工程を含む：
【化１】
2007518782.tif 000002
【０００４】
製造されたスポンゴシンは粗収率３１％で得られ、次に、温水から再結晶されて、融点１９１〜１９１．５℃、旋光度−４３．５℃（ＮａＯＨ）を示すスポンゴシンを生じた。
【０００５】
この方法の欠点は、スポンゴシンが高収率で製造されないことである。さらなる欠点は、水銀残渣の安全な除去に付随する問題のため、その方法はスポンゴシンのラージスケールの合成に適していないようである。
【０００６】
この方法にいくつかの改良が成され、高収率かつ高純度、ならびにラージスケールでのスポンゴシンの合成が可能になった。
【０００７】
９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンは、２−メトキシアデニンを１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースと反応させることにより得られ得ることが見出された。この反応は、BergmannおよびStempienにより記載された方法より高収率で９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを製造することができる。さらに、該反応は、水銀残渣を全く生成せず、かつ室温で行われ得る。これにより、該反応はBergmannおよびStempienの方法より容易にスケールアップされ得る。
【０００８】
従って、本発明の第１の態様により、スポンゴシンの合成方法が提供され、該方法は、１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースを２−メトキシアデニンと反応させ、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを形成させること、および９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを脱保護して、スポンゴシンを形成させることを含む。
【０００９】
本発明により、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの合成方法がまた提供され、該方法は、１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースを２−メトキシアデニンと反応させることを含む。
【００１０】
本発明により、スポンゴシン、または９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの合成における１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースの使用がさらに提供される。
【００１１】
好ましくは、１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースの２−メトキシアデニンとの反応は、これらの反応物を無水アセトニトリル中に懸濁または混合し、次に、該懸濁液または混合物を、好ましくは室温にてトリメチルシリルトリフルオロメチルスルホネート（ＴＭＳＯＴｆ）で処理することで行われる。
【００１２】
得られた９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンは、好ましくは次に単離される。これは、反応混合物をジクロロメタンと接触させ、好ましくは次に該混合物を（例えば、水酸化ナトリウム水溶液および塩水で）洗浄し、（好ましくは、硫酸マグネシウムで乾燥させ、次に濾過した後）有機相から９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを沈殿させることで、達成され得る。沈殿物は好ましくは次に濾過され（例えば、メチルｔ−ブチルエーテルで）洗浄され、次に、乾燥される。
【００１３】
９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの好ましい形成方法が、以下のスキーム２のステージ３において示される。９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの好ましい形成および単離方法が、以下の実施例に記載される。
【００１４】
好ましくは、９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンは、ナトリウムメトキシド／メタノールでの処理により脱保護されて、スポンゴシンが形成される。
【００１５】
BergmannおよびStempienの方法において、クロロメルクリ−２−メトキシアデニンと２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシルクロライドのカップリング生成物が、メタノール中のナトリウムメトキシドで処理され、次に、還流される。しかしながら、９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンのベンゾイル基は、周囲温度にてナトリウムメトキシドのメタノール溶液で処理されることで、除去され得ることが見出された。所望の生成物は、この方法を用いて高収率および高純度で得られ得る。以下の実施例において、純度は９８％（範囲ＬＣによる）であり、収率は８６％である。
【００１６】
従って、好ましくは、９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンが、室温にてナトリウムメトキシド／メタノールで処理されることで脱保護されて、スポンゴシンが形成される。
【００１７】
本発明の第２の態様により、スポンゴシンの合成方法が提供され、該方法は、室温にて９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンをナトリウムメトキシド／メタノールで処理して、スポンゴシンを得ることを含む。
【００１８】
BergmannおよびStempienの方法により、クロロメルクリ−２−メトキシアデニンと２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシルクロライドの結合反応生成物が、単離され、無水エタノール中に溶解され、次に、メタノール中のナトリウムメトキシド溶液と還流された。次に、溶液が減圧乾燥され、半固体の残渣がエーテルと共に粉砕された。次に、残りの粗スポンゴシンが温水中に溶解され、該溶液が水酸化ナトリウムでわずかに塩基性化され、次に、茶色の油状残渣からデカントされた。次に、抽出物が塩酸で酸性化され、全ての液体が凍結乾燥により除去された。残渣である茶色固形物がクロロホルムで抽出され、抽出物が蒸発により乾燥され、スポンゴシン（収率  ３１％）の白色残渣が生じた。
【００１９】
ナトリウムメトキシド／メタノールでの処理による９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの脱保護により製造されるスポンゴシンは、該スポンゴシンを（好ましくは、室温で）酢酸と接触させるか、あるいは酢酸中に懸濁させ、次に、該スポンゴシンを単離すると、該スポンゴシンが高収率かつ高純度で得られることが見出された。
【００２０】
従って、好ましくは、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの脱保護により製造されるスポンゴシンは、該スポンゴシンを酢酸と接触させるか、あるいは該スポンゴシンを酢酸中に懸濁し、次に、該スポンゴシンを単離することにより、得られる。
【００２１】
本発明の第３の態様により、スポンゴシンの合成方法が提供され、該方法は、９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを脱保護して、スポンゴシンを形成し、該スポンゴシンを酢酸と接触させ、あるいは該スポンゴシンを酢酸中に懸濁し、次に、該スポンゴシンを単離することにより、スポンゴシンを得ることを含む。
【００２２】
スポンゴシンは、（好ましくは、反応混合物を濃縮させた後）濾過され、（例えば、メチルｔ−ブチルケトンで）洗浄され、次に、乾燥されることにより、単離され得る。
【００２３】
９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの好ましい脱保護方法が、以下のスキーム２のステージ４に示される。９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを脱保護し、生成したスポンゴシンを得る好ましい方法が、以下の実施例に記載される。
【００２４】
スポンゴシンの収率および純度はまた、スポンゴシンを有機酸中に溶解し、次に、溶解されたスポンゴシンを該有機酸から結晶化させることにより、改良されることが見出された。
【００２５】
従って、好ましくは、９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの脱保護の後に得られたスポンゴシンは、有機酸中に溶解され、次に、該有機酸から結晶化される。
【００２６】
本発明の第４の態様により、スポンゴシンの合成方法が提供され、該方法は、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを脱保護して、スポンゴシンを形成させること、該スポンゴシンを有機酸中に溶解すること、次に、溶解されたスポンゴシンを該有機酸から結晶化させることを含む。
【００２７】
好ましくは、スポンゴシンは有機酸中に溶解され、酢酸と接触させるか、あるいは酢酸中に懸濁されて、結晶化され、次に、本発明の第３の態様の方法により単離される。しかしながら、本発明のある実施態様において、所望に応じて、有機酸中の９−（２’，３’，５’，−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの脱保護により製造されたスポンゴシンを溶解し、次に、本発明の第３の態様の方法を最初に行うことなくスポンゴシンを結晶化させてもよい。
【００２８】
スポンゴシンは、スポンゴシンが一部溶解する有機アルコールと有機酸を接触させることにより、有機酸から結晶化されてもよい。好ましい有機アルコールはエタノールであるが、イソプロパノールが別法として用いられ得ると考えられる。適当な有機酸は酢酸である。
【００２９】
スポンゴシンは、酢酸中のスポンゴシン懸濁液を形成し、該懸濁液を（例えば、７０℃まで）加熱し、次に必要なら、さらに酢酸を、溶液が形成されるまで加熱した懸濁液と接触させることにより、酢酸中に溶解させてもよい。次に、スポンゴシンは、溶液をエタノールと接触させ、次に、室温まで冷却されることにより、溶液から結晶化されてもよい。
【００３０】
結晶化されたスポンゴシンは、酢酸／有機アルコールから任意の適当な方法を用いて単離されてもよい。好ましい方法は、濾過、メチルｔ−ブチルケトンでの洗浄、次に乾燥によるものである。
【００３１】
スポンゴシンの好ましい結晶化方法が、以下のスキーム２のステージ５に示される。スポンゴシンを酢酸中に溶解し、結晶化し、次に、スポンゴシンを単離する好ましい方法が以下の実施例に記載される。
【００３２】
BergmannおよびStempienの方法によると、２−メトキシアデニンは、２−クロロアデニン、無水メタノール中のナトリウム溶液、およびさらなる量の無水メタノールの混合物を１５０℃で５時間加熱し、次に、得られた２−メトキシアデニンを抽出することで形成される。しかしながら、２−メトキシアデニンの収率は、比較的低かった（５０％）。
【００３３】
改良された後処理が開発され、これは、ｐＨを９．５（±０．５）に調節すること、および生成物を濾過することを含む。
【００３４】
従って、好ましくは、２−クロロアデニンとナトリウムメトキシド／メタノールの混合物が加熱されて、２−メトキシアデニンが形成され、次に、該混合物のｐＨがｐＨ９．５（±０．５）に調節され、次に、２−メトキシアデニンが単離される。
【００３５】
本発明の第５の態様により、スポンゴシンの合成方法が提供され、該方法は、２−クロロアデニンとナトリウムメトキシド／メタノールの混合物を加熱して、２−メトキシアデノニンを形成させること、次に、該混合物のｐＨをｐＨ９．５（±０．５）に調節すること、２−メトキシアデニンを単離すること、次に、単離された２−メトキシアデニンからスポンゴシンを形成させることを含む。
【００３６】
本発明により、２−メトキシアデニンの合成方法も提供され、該方法は、２−クロロアデニンとナトリウムメトキシド／メタノールの混合物を加熱して、２−メトキシアデニンを形成させること、該混合物のｐＨをｐＨ９．５（±０．５）に調節すること、次に、２−メトキシアデニンを単離することを含む。
【００３７】
好ましくは、２−クロロアデニンとナトリウムメトキシド／メタノールの混合物は、１５０℃未満、より好ましくは、１００℃まで加熱される。好ましくは、混合物は冷却され、次に、水で希釈される。好ましくは、混合物のｐＨは、塩酸を用いてｐＨ９．５（±０．５）に調節される（好ましくは、混合物は６０℃まで加熱される）。２−メトキシアデニンは、濾過、（例えば、水、次に、メタノールでの）洗浄、次に、乾燥により単離されてもよい。
【００３８】
２−メトキシアデニンの好ましい合成方法が、以下のスキーム２のステージ２に示される。２−メトキシアデニンの好ましい合成および単離方法が、以下の実施例に記載される。この方法は、２−メトキシアデニンを高収率で製造し、かつラージスケールの合成（１５０ｇまで）に適している。
【００３９】
スポンゴシンは、単離された２−メトキシアデニンから任意の適当な方法により形成されてもよい。好ましくは、スポンゴシンは、上述の本発明の方法により、２−メトキシアデニンを１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノースと反応させて、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを製造し、次に、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを脱保護して、スポンゴシンを得て、好ましくは次に、得られたスポンゴシンを結晶化させることにより、形成される。
【００４０】
本発明により、スポンゴシンの合成方法がまた提供され、該方法は、２−クロロアデニンをナトリウムメトキシド／メタノールと共に１５０℃未満（好ましくは、１００℃）で加熱して、２−メトキシアデニンを形成させること、次に、スポンゴシンを２−メトキシアデニンから形成させることを含む。
【００４１】
本発明により、２−メトキシアデニンの合成方法がさらに提供され、該方法は、２−クロロアデニンをナトリウムメトキシド／メタノールと共に１５０℃未満（好ましくは、１００℃）で加熱することを含む。
【００４２】
好ましくは、２−クロロアデニンは、２，６−ジクロロプリンから、例えば、アミノ化により合成される。２，６−ジクロロプリンの２−クロロアデニンへのアミノ化は、BrownおよびWeliky（J.O.C. 1958 Vol. 23, page 125）により記載されている。２，６−ジクロロプリンは、アンモニアで飽和されたメタノール  ５０容量と共に、１００℃で１７時間加熱された。冷却後、結晶が観察された。上清が蒸発させられ、残渣および結晶が１Ｎ  ＮａＯＨ中に溶解された。溶液が濾過され、酢酸で酸性化されて、所望の生成物が得られた。しかしながら、この方法を繰り返してみたところ、乏しい収率となり、これは残渣を１Ｎ  ＮａＯＨ中に溶解する際の困難さに起因するものであった。本発明により、２−クロロアデニンの改良された合成方法が開発された。
【００４３】
本発明により、２−クロロアデニンの合成方法が提供され、該方法は、２，６−ジクロロプリンを飽和メタノール性アンモニアで処理して、２−クロロアデニンを形成させること、水で希釈すること、次に、生じた２−クロロアデニンを単離することを含む。
【００４４】
本発明の第７の態様により、スポンゴシンの合成方法がまた提供され、該方法は、２，６−ジクロロプリンを飽和メタノール性アンモニアで処理することにより２，６−ジクロロプリンを２−クロロアデニンに変換すること、水で希釈すること、製造された２−クロロアデニンを単離すること、次に、単離された２−クロロアデニンからスポンゴシンを形成させることを含む。
【００４５】
スポンゴシンは、単離された２−クロロアデニンから、任意の適当な方法を用いて、しかし好ましくは、本発明の方法を用いて、形成され得る。
【００４６】
本発明のさらなる態様により、２−メトキシアデニンの合成方法が提供され、該方法は、２，６−ジクロロプリンを飽和メタノール性アンモニアで処理することにより、２，６−ジクロロプリンを２−クロロアデニンに変換すること、水で希釈すること、製造された２−クロロアデニンを単離すること、次に、単離された２−クロロアデニンから２−メトキシアデニンを形成させることを含む。
【００４７】
本発明のさらなる態様により、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの合成方法が提供され、該方法は、２，６−ジクロロプリンを飽和メタノール性アンモニアで処理することにより、２，６−ジクロロプリンを２−クロロアデニンに変換すること、水で希釈すること、得られた２−クロロアデニンを単離すること、次に、単離された２−クロロアデニンから９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンを形成させることを含む。
【００４８】
好ましくは、２，６−ジクロロプリンおよび飽和メタノール性アンモニアは、好ましくは１００℃まで加熱される。
【００４９】
好ましくは、２，６−ジクロロプリンは、５０容量未満、好ましくは１０容量未満の飽和メタノール性アンモニアで処理される。
【００５０】
２−クロロアデニンの好ましい合成方法が、以下のスキーム２のステージ１に示される。
【００５１】
２−クロロアデニンは、濾過、（例えば、メタノールでの）洗浄、次に、乾燥により単離されてもよい。２−クロロアデニンの好ましい合成および単離方法が、以下の実施例に記載される。この方法は、２，６−ジクロロアデノシン  ８７７ｇにて上手く行われ、純度  ９６％（ピーク面積ＬＣ）の生成物７２５ｇ（９２ｍｏｌ％）を生じる。
【００５２】
本発明により、スポンゴシンの合成方法も提供され、該方法は、２，６−ジクロロプリンを２−クロロアデニンに変換すること、次に、スポンゴシンを２−クロロアデニンから形成させることを含む。
【００５３】
本発明により、スポンゴシンの合成における２，６−ジクロロプリンの使用がさらに提供される。
【００５４】
以下のスキーム１は、２，６−ジクロロプリンからのスポンゴシンの合成における連続工程を示す。スキームの各合成工程の後の括弧内の数字は、その工程に対する改良と関連する本発明の具体的な態様に対応する。
【００５５】
【化２】
2007518782.tif 000003
スポンゴシンは、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、および第６の態様による改良を取り込んだ方法により製造されることが好ましいが、BergmannおよびStempienの方法と比べてスポンゴシンの収率の改良は、本発明の異なる態様のいずれか１つの使用により、あるいは本発明の異なる態様の２つ以上の組合せにより、得られ得ることが理解されるだろう。方法が本発明の全ての６つの工程を取り込まないなら、残りの工程は、BergmannおよびStempienにより記載される通り、あるいは別法により行われてもよい。
【００５６】
例えば、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンが、本発明の第１の態様の方法により形成され、次に、この保護された中間体がBergmannおよびStempienに記載の方法を用いて脱保護され得る。次に、脱保護により生じたスポンゴシンが、本発明の第３の態様の方法により得られ、所望により、本発明の第４の態様の方法により結晶化され得る。
【００５７】
他の実施態様において、２，６−ジクロロプリンよりむしろ２−クロロアデニン、２−メトキシアデニン、または９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンから出発するスポンゴシンの合成を行うことが好ましい。同様に、スポンゴシンの合成の連続工程（スキーム１に示す）が、本発明の適当な態様により全て行われることが好ましい。しかしながら、本発明の異なる態様のいずれか１つ、あるいは本発明の異なる態様の２つ以上のいずれかの組合せが用いられ、残りの工程は、BergmannおよびStepmienにより記載される通り、あるいは別法により行われてもよい。
【００５８】
従って、本発明の異なる態様は、次の組合せ：
第１工程＋第２工程；第１工程＋第３工程；第１工程＋第４工程；第１工程＋第５工程；第１工程＋第６工程；第２工程＋第３工程；第２工程＋第４工程；第２工程＋第５工程；第２工程＋第６工程；第３工程＋第４工程；第３工程＋第５工程；第３工程＋第６工程；第４工程＋第５工程；第４工程＋第６工程；または第５工程＋第６工程；
第１工程＋第２工程＋第３工程；第１工程＋第２工程＋第４工程；第１工程＋第２工程＋第５工程；第１工程＋第２工程＋第６工程；第１工程＋第３工程＋第４工程；第１工程＋第３工程＋第５工程；第１工程＋第３工程＋第６工程；第１工程＋第４工程＋第５工程；第１工程＋第４工程＋第６工程；第１工程＋第５工程＋第６工程；第２工程＋第３工程＋第４工程；第２工程＋第３工程＋第５工程；第２工程＋第３工程＋第６工程；第２工程＋第４工程＋第５工程；第２工程＋第４工程＋第６工程；第２工程＋第５工程＋第６工程；第３工程＋第４工程＋第５工程；第３工程＋第４工程＋第６工程；第３工程＋第５工程＋第６工程；または第４工程＋第５工程＋第６工程；
第１工程＋第２工程＋第３工程＋第４工程；第１工程＋第２工程＋第３工程＋第５工程；第１工程＋第２工程＋第３工程＋第６工程；第１工程＋第２工程＋第４工程＋第５工程；第１工程＋第２工程＋第４工程＋第６工程；第１工程＋第２工程＋第５工程＋第６工程；第１工程＋第３工程＋第４工程＋第５工程；第１工程＋第３工程＋第４工程＋第６工程；第１工程＋第３工程＋第５工程＋第６工程；第１工程＋第４工程＋第５工程＋第６工程；第２工程＋第３工程＋第４工程＋第５工程；第２工程＋第３工程＋第４工程＋第６工程；第２工程＋第３工程＋第５工程＋第６工程；第２工程＋第４工程＋第５工程＋第６工程；または第３工程＋第４工程＋第５工程＋第６工程；
第１工程＋第２工程＋第３工程＋第４工程＋第５工程；第１工程＋第２工程＋第３工程＋第４工程＋第６工程；または第１工程＋第３工程＋第４工程＋第５工程＋第６工程
のいずれかで用いられ得る。
【００５９】
本発明の方法は、BergmannおよびStempienの方法より実施がかなり簡単であり、スポンゴシンを高収率で提供し、かつスポンゴシン（または、スポンゴシンの合成のための中間体）のラージスケールの合成のために用いられ得る。
【００６０】
本発明の実施態様を、例示のみの目的で、本発明の好ましい態様によるスポンゴシンの合成を示すスキームを参照して、ここで記載する。
【００６１】
実施例
スポンゴシンの合成
【化３】
2007518782.tif 000004
【００６２】
２−クロロアデニンの製造：
【化４】
2007518782.tif 000005
２，６−ジクロロプリン（０．８７７ｋｇ、４．６４ｍｏｌ）を２０Ｌのオートクレーブに入れ、メタノール性アンモニア（７．０Ｎ、６．９５ｋｇ）で処理した。オートクレーブを密閉した際、攪拌を開始し、混合物を内部温度１００℃まで加熱した。反応混合物を１００℃で１７時間維持し、周囲温度まで冷却させた。完全に冷却させ後、オートクレーブの容器を開き、反応混合物を水（３．５ｋｇ）で希釈した。生じた固体懸濁液を吸引濾過により回収し、濾過ケーキをメタノール（２×０．７ｋｇ）で洗浄し、恒量まで真空オーブン中、４０℃にて乾燥させた。２−クロロアデニンを淡黄色固形物（０．７２５ｋｇ、４．２８ｍｏｌ、９２％）として単離した。
δH (250 MHz; d6-DMSO); 7.67 (2H, s, NH2), 8.15 (1H, s, CH), 12.40 (1H, br s, NH)
ＬＣ  ９６％（ピーク面積による）
【００６３】
２−メトキシアデニンの製造：
【化５】
2007518782.tif 000006
２−クロロアデニン（１００ｇ、０．５９ｍｍｏｌ）を、無水トルエン（２×２００ｍＬ）との同時蒸発により乾燥させ、次に、２．０Ｌのオートクレーブに入れ、ナトリウムメトキシド（２５％ｗ／ｗ、１０００ｍｌ、４．６３ｍｏｌ）で処理した。オートクレーブを密閉した際、攪拌を開始し、混合物を内部温度１００℃まで加熱した。反応混合物を１００℃で２４時間維持し、周囲温度まで冷却させた。完全に冷却したら、オートクレーブの容器を開き、懸濁液を水（１０００ｍＬ）で希釈した。生じた溶液を減圧蒸発させ、最終容量１４００ｍＬを得；この溶液に水（６００ｍＬ）を添加し、最終容量２０００ｍＬのものを得た。溶液を、攪拌器、ｐＨメーター、および温度計を頭上に備えた３．０Ｌの３口フラスコに移した。溶液を６０℃（内部温度）まで加熱し、ｐＨを９．５（±０．５）に調節するよう５０％  塩酸水溶液を管理された速度で添加した。生じた懸濁液を６０℃にて１時間攪拌し、室温までゆっくり冷却させ、さらに１６時間攪拌した。懸濁液をＷｈａｔｍａｎ  ３番の濾紙を用いて濾過し、濾過ケーキを水（２００ｍＬ）およびメタノール（２×２００ｍＬ）で洗浄した。固体を５０℃にて減圧乾燥させ、２−メトキシアデニン（７１ｇ、７３ｍｏｌ％）をオフホワイトの固形物として得た。
δH (250 MHz; d6-DMSO); 3.79 (3H, s, OCH3), 7.18 (2H, br s, NH2), 7.92 (1H, br s, CH)
ＬＣ  ９７％（ピーク面積による）
【００６４】
９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニンの製造：
【化６】
2007518782.tif 000007
２−メトキシアデニン（１１ｇ、６８ｍｍｏｌ）と１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノース（４１ｇ、８１ｍｍｏｌ）の混合物を無水アセトニトリル（２×６０ｍＬ）との同時蒸発により乾燥させた。この無水アセトニトリル中の混合物（３２８ｍｌ）に、トリメチルシリルトリフルオロメチルスルホネート（２９ｍｌ、３６ｇ、１６２ｍｍｏｌ）を１０分かけて（わずかな発熱反応２４〜２７℃を認めた）滴下した。添加中、懸濁物質を徐々に溶解するよう注意した。添加した後、反応混合物を周囲温度にて４時間攪拌した。次に、反応混合物をジクロロメタン（３２８ｍＬ）で希釈し、１Ｎ  水酸化ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）および塩水（２００ｍＬ）で洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム（２０ｇ）で乾燥させ、濾過した。次に、溶液を、沈殿物が形成し始めるポイントでそのオリジナルの容量の４分の１まで減圧濃縮した。１時間置いた後、沈殿物を濾取し、濾過ケーキをメチルｔ−ブチルエーテル（２×１００ｍＬ）で洗浄した。固形物を室温で乾燥させ、９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン（３１ｇ、７５ｍｏｌ％）を白色固形物として得た。
δH (250 MHz; CDCl3); 3.92 (3H, s, OCH3), 4.64-4.72 (1H, m, CH), 4.79-4.88 (2H, m, 2 x CH), 5.79 (2H, br s, NH2), 6.29 (1H, d J 3.0, anomeric CH), 6.38-6.46 (2H, m, 2 x CH), 7.35-7.43 (6H, m, 6 x CH), 7.52-7.60 (3H, m, 3 x CH), 7.78 (1H, s, CH), 7.95-8.00 (6H, m, 6 x CH).
ＬＣ  ９７％（ピーク面積による）
【００６５】
９−（β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン（スポンゴシン）の製造：
【化７】
2007518782.tif 000008
無水メタノール（４００ｍＬ）中の９−（２’，３’，５’−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン（３９．６ｇ、６５ｍｍｏｌ）の懸濁液を、ナトリウムメトキシド（３７８ｍｇ、７ｍｍｏｌ、０．１当量）で処理した。混合物を周囲温度で２４時間攪拌し、次に、酢酸（１ｇ）を添加し、懸濁液を１０分間攪拌した。混合物を２分の１の容量まで減圧濃縮し、沈殿物を濾取した。濾過ケーキをメチルｔ−ブチルケトン（２×４０ｍＬ）で洗浄し、乾燥させて、９−（β−Ｄ−フラノシル）−２−メトキシアデニン（１６．７ｇ  ８６ｍｏｌ％）を白色固形物として得た。
δH (250 MHz; CD3OD); 3.73 (1H, dd J 12.4, 3.4, CHab), 3.86 (1H, dd J 12.4, 3.4, CHab), 3.92 (3H, s, OCH3), 4.12 (1H, dd J 6.0, 3.0, CH), 4.34 (1H. dd J 5.0, 3.3, CH), 4.75 (1H, t J 5.5, CH), 5.90 (1H, d J 6.0, CH), 8.13 (1H, s, CH)
δH (250 MHz; d6-DMSO); 3.55 (1H, m, CH), 3.65 (1H, m, CH), 3.83 (3H, s, OCH3), 3.94 (1H, m, CH), 4.16 (1H. m, CH), 4.63 (1H, m, CH), 5.19 (2H, m, OH), 5.43 (1H, d J 6.1,  OH), 5.80 (1H, d J 6.1, CH), 7.35 (2H, bs, NH), 8.16 (1H, s, CH)
ＬＣ  ９８％より高い（ピーク面積による）
【００６６】
９−（β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン（スポンゴシン）の結晶化：
【化８】
2007518782.tif 000009
９−（β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン（３ｇ、１０ｍｍｏｌ）をＡｃＯＨ（６ｍＬ）中に懸濁し、７０℃まで加熱した。さらに、ＡｃＯＨ  ６ｍＬを添加し、透明なわずかに黄色の溶液を得；エタノール（４８ｍＬ）を添加し、溶液を室温まで冷却させた。１６時間置いた後、固形物を濾取し、メチルｔ−ブチルケトン（３０ｍＬ）で洗浄した。固形物を室温にて乾燥させ、純度が９９％より高く、単一不純物０．５％未満の９−（β−Ｄ−リボフラノシル）−２−メトキシアデニン（２．６ｇ、８６ｍｏｌ％）を白色固形物として得た。
ＮＢ：１Ｈ  ｎｍｒによる分析により、試料が残渣エタノール（０．２４重量％）および酢酸（０．２９重量％）を含有することが示された。
【国際調査報告】
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