(57)【要約】  本発明は、セメント分割隔壁を含むプラズマパネルに関する。本発明のパネルは、中間に封止空間を定める２つの鋼板を含む。前記封止空間は放電ガスで充満され、隔壁（３）を用いて鋼板間に定められる放電セル（６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ）にセグメント化される。前記隔壁は水硬結合材ベースの無機結合剤と鉱物充填剤とで形成される。水硬結合剤は無機ガラス質結合剤の代わりに用いられるので、パネルをより低温で製造し得る。【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの板を含み、放電ガスで充填され、且つ、鉱物結合剤及び鉱物充填剤を含む鉱物材料から成る隔壁リブによって前記２つの板の間に境界付けられた放電セルにセグメント化された封止空間を、前記２つの板の間に残すプラズマディスプレイパネルであって、前記鉱物結合剤は、水和状態にあり、且つ、前記鉱物充填剤を凝集する水硬結合剤である、ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記水硬結合剤はセメントである、ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記セメントはアルミン酸塩基又はアルミノケイ酸塩基である、ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記鉱物材料内の前記鉱物充填剤の重量比は５０％以上である、ことを特徴とする上記請求項のうちいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記鉱物充填剤は、重量で５０％よりも大きいシリカ及び／又はアルミナを含む、ことを特徴とする上記請求項のうちいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記隔壁リブの気孔率は１５％以上である、ことを特徴とする上記請求項のうちいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記隔壁リブの気孔率は２５％以上である、ことを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２つの板を含むプラズマディスプレイパネルに関し、これらの板の間に、放電ガスで充満され、且つ、配列を形成する隔壁リブによってこれらの板の間に境界付けられた放電セルにセグメント化された封止空間を残す。
【背景技術】
【０００２】
そのようなディスプレイパネルは一般的に画像を表示する働きをする。
【０００３】
セルは行列に分配されるのが一般的である。隔壁リブは一般的に少なくとも列間に延在し、時々行間にも延在する。
【０００４】
隔壁リブの高さは一般的に板間の距離に対応し、よって、リブはスペーサとしての働きもする。
【０００５】
リブの側壁、及び、板の１つには、プラズマ放電の励起の下で可視光を放射し得る蛍光体が塗布されているのが一般的である。放電ガスの組成を適合することによって、蛍光体なしに、直接的に可視光を得ることも可能である。
【０００６】
隔壁リブの製造は一般的に高価で且つ不利な熱処理を必要とする。
【０００７】
国際公開公報第ＷＯ００／３６６２５号は、リブが写真平版によって生成された逆高分子化合物パターンに成型される製造工程を開示している。リブを製造するために、その文献は、第８頁第７〜２２行に、セラミック粉末、ガラスフリット、ポルトランドセメント、又は、他の金属酸化粉末を含む成形ペーストの使用を記載している。文献の最後に提供されている単一の実施例は、重量で４０％のセメントを含むペースト（第１０頁第３２行）、及び、分散媒としてのパラフィン油の使用を具体的に記載している。成形後、パラフィン油は成形体の光硬化材料に移り、それによって、成形体のチャネル内の鉱物粉末の密度を増大する。６００℃での最終加熱が成形体から高分子化合物及びパラフィン油を除去し、セメント粉末が焼結によってここに凝固させる。その文献に見られるように、水はセメントリブ製造のための工程の如何なるステップにおいても加えられない。隔壁リブ材料の当業者にとって、これは、リブが、ペーストのセメントの水和作用によってではなく、セメント粉末又はその分解生成物の焼結によって強化されることを意味し、６００℃では、セメント水和製品は分解しないとしても、強化効果を妨げる地点まで劣化するので、尚更そうである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の１つの目的は、隔壁リブの十分な強化を得るために必要な熱処理数を制限し、及び／又は、これらの熱処理の温度を低減し或いはそれらを省略しさえすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的のために、本発明の主題は、２つの板を含み、放電ガスで充填され、且つ、鉱物結合剤及び鉱物充填剤を含む鉱物材料から成る隔壁リブによって、２つの板の間に境界付けられた放電セルにセグメント化された封止空間を、２つの板の間に残すプラズマディスプレイパネルであって、鉱物結合剤は水硬結合剤であることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、鉱物結合剤は水和状態にあり、且つ、鉱物充填剤を凝集する。従って、この凝集状態を得るために、以下に例示されるように、プラズマディスプレイパネルを製造するための製造ステップにおいて水を使用することが必要である。水硬結合剤は隔壁リブの強化に関与する水和状態にあり、この結合剤は鉱物充填剤の粒子を凝集する。これは、当業者であれば強化効果がセメント粉末粒子を焼結することによって得られることを理解し、且つ、高処理温度の故に、セメントは最早水和状態にない国際公開公報第ＷＯ００／３６６２５号において記載されているリブと異なる。
【００１１】
「水硬結合剤」という用語は、粉末から一括して形成されるときに、水和反応によって硬化され得る材料を意味すると理解される。よって、適切な鉱物充填剤粉末を水硬結合剤粉末と配合し、この粉末配合を例えば成形によって形成することによって、得られる成形品を水和反応後に硬化し得る。実際には、液体全体が型に注入される前に、水が粉末配合に加えられる。水の追加は一般的に混合操作と呼ばれるものを構成する。
【００１２】
ディスプレイパネルのセルは行列に分割されるのが一般的である。
【００１３】
隔壁リブは少なくとも列間に延びるのが一般的であり、時として行間にも延び、その場合には、リブは二次元配列を形成する。リブの高さは一般的に板間の距離に対応する。
【００１４】
リブの側壁及び板の１つには、プラズマ放電の励起下で可視光を放射し得る蛍光体が塗布されるのが一般的である。放電ガスの組成を適合することによって、蛍光体を用いることなく、可視光を直接的に得ることも可能である。
【００１５】
そのようなプラズマディスプレイパネルは少なくとも２つの電極の配列を含み、それらの配列は各セルが各配列の１つの電極によって交差されるよう配置される。
【００１６】
一般的に、各板は電極の少なくとも１つの配列を支持し、よって、１つの板によって支持される１つの配列の電極は、他の板によって支持される配列の電極と交差する。
【００１７】
ディスプレイパネルを駆動するのを容易にするメモリ効果をもたらすよう、配列の少なくとも１つは、誘電体層によって被覆されているのが一般的である。
【００１８】
他のプラズマディスプレイパネルは、放電を開始するための電極を含まない。その代わりに、放電を開始するためにマイクロ波放射が用いられる。しかしながら、この場合には、放電に対処するために、単一配列の電極を用い得る。
【００１９】
水硬結合剤は、セメント、例えば、アルミン酸塩基又はアルミノケイ酸塩基のものであるのが好ましい。
【００２０】
隔壁リブの鉱物材料中の鉱物結合剤の重量比は５０％以上であるのが好ましい。
【００２１】
鉱物充填剤は重量で５０％よりも多いシリカ又はアルミナを含むのが好ましい。
【００２２】
１つの実施態様によれば、隔壁リブの気孔率は約１５％以上、好ましくは２５％よりも大きいことが好ましい。よって、ディスプレイパネルの製造中、排気操作は促進される。
【００２３】
本発明は、非限定的な実施例として与えられている以下の記載を読むことによって、また、添付図面を参照することによって、より良く理解されよう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
直線の行列に配置されたセルをこの場合に備える本発明のプラズマディスプレイパネルを製造するための工程の第一族を、具体的に、同様に直線である隔壁リブの配列を保持する板の製造に特定して、以下に記載する。板はこの場合には背板である。この第一族の工程において、リブを形成するための一時的結合剤として有機樹脂を用いることは従来的である。これはこれらの結合剤を除去するための熱処理を必要とする。
【００２５】
図２を参照すると、これは、２５４ｍｍ×１６２ｍｍ×３ｍｍの寸法を備え、且つ、銀導体によって形成された電極Ａの配列を備えたソーダ石灰ガラスから成る板１を示しており、配列自体には５４０℃で焼かれた従来的な誘電体層２が塗布されている。
【００２６】
以下を得るよう、この板上への隔壁リブ３の配列の製造を次に記載する。
【００２７】
−  ここではポルトランドセメントである硬化水硬結合剤に基づく鉱物材料から成るリブ。
【００２８】
−  ３６０μｍの間隔で離間された列を分離するための、６０〜７０μｍの厚さの一連の連続的な平行リブ。
【００２９】
−  １０８０μｍの間隔で離間された行を分離するための、２２０〜２３０μｍの厚さの一連の平行リブ。
【００３０】
よって、これらのリブによって境界付けられる各セルは、約８５０μｍ×２９０μｍの寸法を備える長方形の形状を有する。
【００３１】
ペーストが準備され、これは、板に塗布され且つ乾燥された後に、重量で４％の有機結合材及び重量で９６％の鉱物リブ材料を含む緑色リブ層を形成することが意図されている。ここでは、セメントに基づき：
【００３２】
−  極めて精細な粒子サイズが用いられたポルトランドセメント、例えば、１μｍのオーダの平均粒子直径を有するもの。このセメントはシリカフューム(silica  fume)と呼ばれるサブミクロンのシリカ粉末を僅かに積載している−このセメントは迅速硬化セメントと考えられる。
【００３３】
−  ９２ｇのテルピネオール基溶剤内の８ｇのエチルセルロース基の樹脂が準備される。
【００３４】
−  ここではセメントである２００ｇの鉱物リブ材料の粉末が１０４ｇの樹脂溶剤内に分散される。粉末骨材のサイズを７μｍ未満に低減するよう、それを３ロール型のミキサ／ミルを通過することによって、この分散は均質化される。必要であれば、粘度を約５０Ｐａ．ｓに調節するために、テルピネオールが加えられる。
【００３５】
次に、この場合にはスクリーン印刷６重畳層によって、リブペーストが板に塗布され、各スクリーン印刷通過後には１１０℃での乾燥操作が続く。従って、１５０μｍの厚さの緑色リブ層を備える板が得られる。
【００３６】
最後の２つの通過の場合には、リブ層の表面に表面下円滑層を得るために、より低粘性のペースト、例えば２０Ｐａ．ｓ前後の粘性を備えるものと共に、例えば９０スレッド／ｃｍを有するより濃厚なスクリーン印刷布が用いられるのが好ましい。
【００３７】
１つの実施態様によれば、板が連続的に通過するロール塗布機を用いて、板にはこのペーストが塗布され、塗布層はトンネル炉内で乾燥され、炉は空気吹付け及び抜取り手段を備える。従って、１５０μｍの厚さの緑色層を単一通過で塗布し得る。
【００３８】
得られたばかりの緑色層の厚み内での研磨によるリブ配列の形成を次に記載する。
【００３９】
第一に、保護マスクがこの層に塗布され、マスクはセルが緑色層の厚み内で研磨によって刳り抜かれるべき地点に孔又は特徴を有する。この目的のために：
【００４０】
−  約４０μｍの厚さの乾燥感光膜が適当な温度及び圧力で緑色層上に積層化される。
【００４１】
−  この膜はリブの場所で適当な期間に亘って紫外線光ビームで照射される。
【００４２】
−  次に、リブの場所から膜部分を除去するよう、この膜は０．２％の炭酸ナトリウム溶剤を用いて約３０℃で現像される。
【００４３】
−  セメントが硬化するのを防止するよう、組立体は迅速に乾燥される。
【００４４】
このようにして、保護マスクが緑色層上に得られる。
【００４５】
リブの厚みにリブを形成するために、２００ｍｍの長さの直線状スロットを備えたノズル用いて、研磨材料がマスク上にブラストされる。研磨材料として、Ｆｕｊｉによって販売されている参照番号Ｓ９等級１０００を備える金属粉末が用いられる。ブラスト処理操作中、ブラスト処理ノズルは板から約１０ｃｍに維持され、約５０ｍｍ／分の速度で形成されるべき隔壁リブに沿って移動されるのに対し、ブラスト処理中、緑色板はリブの方向に対して直交する方向に７０ｍｍ／分の速度で移動する。ブラスト処理圧力は０．０４ＭＰａ前後であり、金属粉末流速は約２５００ｇ／分である。
【００４６】
次に、マスクが１％の水酸化ナトリウム水溶液を３５°Ｃで吹き付けることによって今しがた形成された緑色リブの上から除去される。水で洗浄し、エアナイフを用いて５０℃で乾燥した後に得られるものは、１５０μｍ前後の高さ、ベース部で約１００μｍの幅、頂部で約７０μｍの幅を有する緑色リブの配列を備える板である。これらのリブは重量で約４％の有機樹脂を含む。
【００４７】
緑色リブ間に形成されたセル内での蛍光体ペーストの直接スクリーン印刷による蛍光体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの層の塗布を次に記載する。従って、手順は以下の通りである：
【００４８】
−  １４０ｇの３％エチルセルロース溶剤内の６０ｇの蛍光体粉末をテルピネオールに分散することによる様々な色のための蛍光体ペーストの準備。
【００４９】
−  印刷スクリーンの使用は１２０スレッド／ｃｍを有する金属布を含み、ペーストが移されなければならないゾーン、換言すれば、同一色のセルの２つの連続する列間の間隔に対応する１０８０μｍ（３×３６０μｍ）の周期で離間する領域に位置する９０μｍの幅のバンドを除き、これは感光乳剤によって封止される。
【００５０】
−  このスクリーンを通じた、換言すれば、金属布が封止されない領域における局地的なペースト移転を用いた、蛍光体ペーストの１つの直接スクリーン印刷。
【００５１】
−  １２０℃での乾燥。
【００５２】
これらの操作は同一のスクリーンを用いて各主要色のために繰り返されるが、スクリーンは、第二色に関して一行間隔（３６０μｍ）だけ、第三色に関してさらなる周期だけ、行方向に位置ずれしている。
【００５３】
次に、封止材ペーストがこのようにして得られた背板の外周周辺に蒸着する。ここで、この封止材は、１００Ｐａ．ｓのオーダの粘性を与えるセルロース溶剤内のペーストとして生成された可溶性ガラスに基づく。
【００５４】
従って、得られるものは、緑色リブの配列を備える背板であり、他の表面間のその側壁には蛍光体の緑色層が塗布されている。
【００５５】
次に、リブのため並びに蛍光体層のための有機結合剤を除去するために、１０℃／分での３５０℃までの第一温度上昇、次に、３５０℃での２０分間の第一保持、１０℃／分での４８０℃までの第二温度上昇、次に、４８０℃での第二保持、及び、最後に、１０℃／分での温度降下を含む加熱処理が遂行される。
【００５６】
次に、リブ硬化処理が遂行される。その硬化は、セメント水和反応によって本発明に従って得られ、従って、工程のこの段階で水の使用を必要とする。加熱処理の後、得られた板は水スプレーの下を３０分間進行させられ、次に、板は、エアナイフを用いて室温で、次に、エアナイフを用いて１０５℃で乾燥される。硬化処理を遂行するための１つの方法によれば、板は水中に６時間浸漬される。硬化処理を遂行するための他の方法によれば、セメントが硬化するために、換言すれば、固化するために、適当な温度で且つ適切な時間、板は加圧水蒸気内に配置される。
【００５７】
得られるものは、蛍光体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの層が塗布された硬化リブ３の配列を備える背板である。
【００５８】
今しがた記載された工程の熱処理は、有機結合剤を除去するためだけに役立ち、リブを硬化しないので、従来技術におけると同様に、具体的には、保持時間を削減することによって、或いは、特定の温度範囲内の温度上昇速度を増大することによってさえ、この処理の期間を有利に短縮し得る。従来技術におけるようなガラス質鉱物結合剤を用いると、所要保持時間はここでは２０分の代わりに３０分前後である。加熱時間の短縮、或いは、処理中の最大温度をより低くすることさえ、顕著な経済的利点を表わす。
【００５９】
工程を実施するための１つの有利な方法によれば、有機結合剤を除去する操作及びリブを硬化する操作は組み合わせられる：１０℃／分で３５０℃までの第一温度上昇、次に、３５０℃での３０分間の第一保持、８０℃に保持された水槽内に空気を泡立てることによって得られる湿り空気中の通過、１０℃／分で４８０℃／分までの第二温度上昇、４８０℃での３０分間の第二保持、及び、最終的な、１０℃／分で３５０℃までの温度減少、次に、板が完全に冷却されるまでの、乾燥空気中の通過。
【００６０】
本発明に従ってプラズマディスプレイパネルを得るために、従来的な前板５が本発明に従った背板に結合され（図２において組立てを指し示す２つの矢印を参照）、２つの板は４００℃熱処理によって封止され、板間に包含された空気は排気され、ディスプレイパネルは低圧放電ガスで充填され、排気孔は封鎖される。従来的には、前板５は２つの配列の同一平面電極Ｘ，Ｙを含む。
【００６１】
図１で上面で示される、このようにして得られたプラズマディスプレイパネルは、２つの板を含み、これらの板の間に、放電ガスで充満され、且つ、本発明によれば、硬化鉱物材料、換言すれば、水和状態にある水和結合剤によって凝集された材料から成る隔壁リブ３によって境界付けられた放電セル６Ｒ，６Ｇ，６Ｂにセグメント化された封止空間を残す。
【００６２】
このようにして得られるプラズマディスプレイパネルは、特にリブで良好な機械的特性を有する。リブの崩壊は観察されない。
【００６３】
有利な実施方法によれば、ポルトランドセメントに基づく鉱物材料を用いる代わりに、アルミナ若しくはシリカのような鉱物充填剤も包含する鉱物材料又はプラズマディスプレイパネルの製造及び操作と適合性のある如何なる他の材料も用い得る。従って、水硬結合剤の水和は、本発明によれば、この鉱物充填剤を凝集するのに役立つ。
【００６４】
２５％より大きな開孔率を有する多孔性リブを得るのに特に適した工程の実施する１つの方法によれば、リブのための鉱物材料として、５０％の上記記載のセメント及び５０％のシリカ粉末が用いられている。シリカとして、例えば、特定表面領域が１０ｍ２／ｇ未満であり且つ平均粒子サイズが１０μｍ未満、典型的には、５μｍであるクリストバライト型シリカが用いられる。例えば、Ｓｉｆｒａｃｏからの参照番号Ｍ４０００を用いたシリカが選択される。得られるリブは良好な機械的特性も示す。リブの高度の気孔率のお陰で、板間に包含される空気を排気するための所要排気時間は大幅に短縮される。
【００６５】
２５％より大きな気孔率を備える多孔性リブを得る他の方法は、セメントの当業者に周知の成形セメント組成を用いることである。
【００６６】
さて、本発明に従ったプラズマディスプレイパネルを製造するための製造工程の第二族を記載する。この工程の第二族では、緑色層内に有機樹脂は最早ない。少なくとも背板の製造に関して、これは高温熱処理を完全に省略する。
【００６７】
当工程は、銀導体によって形成された電極の配列を備える２５４ｍｍ×１６２ｍｍ×３ｍｍのソーダ石灰ガラス板で開始し、この場合、配列には誘電体層が塗布されていない。
【００６８】
ここで以下を得るよう、この板上への僅かに多孔性の誘電体層の塗布を僅かに多孔性のリブの配列の製造と共に記載する：
【００６９】
−  ここでは前記と同様にポルトランドセメントである、硬化された水硬結合材に基づく鉱物材料から成るリブ。
【００７０】
−  ３６０μｍの間隔で離間する列を分離するために、ベース部で１００μｍの厚さであり且つ頂部で７０μｍの厚さである一連の連続的な平行リブ。
【００７１】
−  １０８０μｍの間隔で離間する行を分離するために、ベース部で２６０μｍの厚さであり且つ頂部で２３０μｍの厚さである一連の平行リブ。
【００７２】
前記のように、パネルのセルは長方形である。
【００７３】
Ｉ  −  ペーストの準備
【００７４】
以下が準備された：
【００７５】
−  以前の実施態様の誘電体層を置換することが意図されたリブ下層。
【００７６】
−  リブペースト。
【００７７】
Ｉ−ａ：  リブペースト：  これは、３５％の水で「混合」された、５０％のセメント及び５０％のシリカの配合から生成された水溶性ペーストであった：
【００７８】
−  最も粗い粒子サイズを１１μｍ（ｄ１００<１１）に制限するための選択的な選別を用いた製粉によって得られる１００ｇのポルトランドセメント粉末。
【００７９】
−  最も粗い粒子サイズが１０μｍ（ｄ１００<１０）に制限された、３μｍ（ｄ５０＝３μｍ）の平均粒子サイズを備える１００ｇのシリカ粉末。
【００８０】
−  ２つの粉末の乾燥配合し、その後、１０９ｇの脱イオン水への組み込み、且つ、分散剤及び真空脱ガスを用いて均質化した。
【００８１】
６０Ｐａ．ｓの粘性を有するリブペーストが得られた。
【００８２】
Ｉ−ｂ：  下層リブペースト：  これは、３９％の水で混合された、４０％のセメント、２０％のアルミナ、及び、４０％の酸化チタンから成る水性ペーストであった：
【００８３】
−  最も粗い粒子サイズを１１μｍ（ｄ１００<１１）に制限するよう選択的な選別を用いた製粉によって得られる８０ｇの迅速硬化ポルトランドセメント粉末。
【００８４】
−  最も粗い粒子サイズが１０μｍ（ｄ１００<１０）に制限された、３μｍ（ｄ５０＝３μｍ）の平均粒子サイズを備える４０ｇのアルミナ粉末。
【００８５】
−  最も粗い粒子サイズが８μｍ（ｄ１００<１０）に制限された、１．５μｍ（ｄ５０＝１．５μｍ）平均粒子サイズを備える８０ｇのＴｉＯ２粉末。
【００８６】
−  ３つの粉末の乾燥配合し、その後、１３０ｇの脱イオン水への組み込み、且つ、分散剤及び真空脱ガスを用いて均質化した。
【００８７】
４０Ｐａ．ｓの粘性を有する下層ペーストが得られた。
【００８８】
ＩＩ  −  下層の塗布及びリブの形成
【００８９】
１ａ）溝の深さがリブの高さについて２０％だけ増大された点を除き、リブのジオメトリを有する溝の配列を用いて型が製造された。型は２０％の追加的な厚さに対応する厚さのシムから成る取外可能な上方部分で形成された。型には離型剤が塗布され、次に、振動ポット上に載置される。型は次に新たに準備されたリブペーストで充填され、余剰が削り取られた。次に、ここではセメントである水硬結合剤の硬化反応を加速するために、充填された型は４０℃で閉鎖容器内に配置された。セメントの硬化はセメント水和反応に対応した。
【００９０】
１ｂ）硬化中、ステップ１ａ）と平行して、下層ペーストの３０μｍの厚さの下層が、カーテン塗布によって、板上及び電極上に蒸着された。次に、下層におけるセメント硬化反応を加速するために、板は５０℃の環境に配置された。
【００９１】
２）型内で１時間硬化した後（ステップ１ａ）、将来のリブのベース部を形成する型の上面を露出するよう、型の上方シムは除去され、この表面は水が軽く吹き付けられた。次に、将来のリブのベース部に対して依然として可鍛性の下層を塗布するよう、ステップ１ｂ）からの背板はこの表面に適合された。
【００９２】
次に、組立体の全体が裏返しにされ、よって、重力が型及びそのリブを背面に対して押し付け、次に、組立体の全体が４０℃の環境に配置された。
【００９３】
２時間後、型を除去することによって、離型操作を遂行し得た。次に、これは高圧型ジェットを用いて洗浄されることが可能であった。セメント硬化反応を完了し、よって、リブの鉱物充填剤を凝集し且つそれらを固化する水和状態にある水硬結合剤を得るために、下層が塗布された板及びリブはさらに４時間水分飽和環境に保管された。次に、残余水分を除去するために、板は１１５℃に規制されたトンネル炉を通過された。
【００９４】
このようにして、焼結することなく、且つ、熱処理することなく、硬化され且つ固化されたリブの配列が得られた。これらは誘電体層として作用する下層に基づいている。下層及び得られたリブの気孔率は１５％前後であり、これはディスプレイパネルを排気するために有利である。ペーストの水含有量に従ってこの気孔率を調節し得る。
【００９５】
ＩＩＩ  −  蛍光体の塗布
【００９６】
１３０ｇのグリコールエーテルの混合物内に分散された７０ｇの蛍光体粉末を包含する懸濁液がそれらの沸点のために選択され、樹脂を用いることなく、蛍光体を一時懸濁液内に配置するよう、それらの粘度が調合された。しかしながら、必要であれば、コロイド状シリカ、又は、（他の）懸濁液も増粘剤として用い得た。
【００９７】
これらのペーストをリブの側壁及びこれらのリブ間のセルの底部に塗布するために、外部オリフィスがリブ間に向けられたシリンジを用いるペースト施行方法が採用された。この目的のために、（１０８０μｍの間隔で千鳥形状に配置された直径１００μｍの７６個の目盛付き孔を含む）多オリフィスヘッドが用いられた。板全体をカバーするために、数回の位置ズレ通過において、ヘッドは列と平行に移動され、次に、それは１２０℃で乾燥された。このようにして、以前のように、一列間隔（３６０μｍ）のシフトを用いて、３つの蛍光体は連続的に塗布された。
【００９８】
ＩＶ  −  封止材の塗布
【００９９】
次に、蛍光体と場合におけると同一の塗布方法を用いて、このようにして得られた背板の周囲周辺に封止材ペーストが蒸着された。この場合、この封止材は、蛍光体のためのものと類似のペースト溶液として形成された極めて低い融点を有するガラスに基づき、約８０Ｐａ．ｓの粘性をもたらす。この後、１２０℃での乾燥操作が続く。
【０１００】
Ｖ  −  短い低温最終熱処理
【０１０１】
樹脂がないにも拘わらず、全溶媒の蒸発を完了するために、温度は上昇され、且つ、３０分間２５０℃に保持された。
【０１０２】
本発明に従ったプラズマディスプレイパネルを得るために、従来的な前板が本発明に従った背板に組み立てられ、少なくとも部分的に封止材ガラスを溶解するために、二つの板は適切な熱処理によって封止され、板の間に包含される空気は排気され、パネルは低圧放電ガスで充填され、排気オリフィスが封鎖された。
【０１０３】
このようにして得られたプラズマパネルは、特にリブで良好な機械的特性を示した。リブの崩壊は観察されなかった。熱処理にも拘わらず、リブの水硬結合材は水和状態に維持された。
【０１０４】
従って、本発明を実施する方法の第二族に従った工程は、２５０℃を決して超えることなく、リブを支持するプラズマディスプレイ板を製造することを可能にし、これは経済的に極めて有利であり、リブは本発明に従って水和状態に維持される。
【０１０５】
本発明の有利な代替的実施例によれば、２５０℃の温度に対して耐性を示す商業的に入手可能な封止接着剤に基づく封止材を用いることが可能であり、２つの板がたった２５０℃での熱処理によって封止されるのを許容する。この場合、本発明のお陰で、如何なるパネル製造ステップも２５０℃を超えない。これはリブの水硬結合剤を水和状態に維持するのを容易にし、それによって、リブの水硬結合剤の機械的特性の如何なる劣化の危険性も有利に制限する。
【０１０６】
本発明を実施するための方法が何であれ、本発明から逸脱することなく、ポルトランドセメント以外の種類のセメント、特に、硬化後にディスプレイパネルの製造に依然として必要な熱処理の温度に耐え得るセメントも用い得る。セメント以外の種類の水硬性結合剤も本発明から逸脱することなく用い得る。
【０１０７】
本発明は、セルがリブによって区分される如何なる種類のプラズマディスプレイパネルにも適合する。これらのプラズマディスプレイパネルは、共平面型、マトリックス型、又は、高周波若しくはマイクロ波励起型であり得る。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明の１つの実施態様に従ったプラズマディスプレイパネルの３つの隣接するセルを示す上面図である。
【図２】２つの板が組み立てられる以前の図１のプラズマディスプレイパネルを示す断面図である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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