(57)【要約】【解決手段】電子がガス流を清浄化することを含むさまざまな応用に使用可能なところで、真空エンクロージャから大気を含む周囲空間へ電子を解放する高エネルギー電子の概して円筒形生成器が説明される。ガスまたは処理が必要な表面の処理と関連して、このクラスの過去の装置に比べより大きい電力のビームを放出する効率的な電子生成器が説明される。【選択図】図１
2007532899.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子生成器であって、
真空を保持するための円筒シェルと、
前記シェルの周りに伸長する前記シェル内の一列の開口と、
前記開口を覆うようにその上に配置された薄い材料から成る窓であって、前記シェルの真空を強力にするように適応された窓と、
長さ方向に沿って高エネルギー電子を生成するように適応される、前記シェルの内部に配置された電子放出面と、
生成した電子が前記窓まで移動するよう方向付けるための集束エレメントであって、それにより、実質的な割合の生成した電子が前記窓をたたき、それを通過して前記生成器から出る、ところの集束エレメントと、
から成る電子生成器。
【請求項２】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は、前記シェルの実質的な長さにわたって軸方向に連続である、ところの電子生成器。
【請求項３】
請求項１に記載の電子生成器であって、さらに、シェル内で放出された電子を開口へ向けて集束するための、前記電子放出面と前記シェルの間のグリッドを含む、電子生成器。
【請求項４】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記窓は金属箔から成る、ところの電子生成器。
【請求項５】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記開口は前記シェルの周りの円周上に伸長し、前記グリッドはスロット化され、カソードから放出した電子が実質的にグリッドにより遮られるかまたはスロットを通過し、前記シェルの窓上で集束するように配置される、ところの電子生成器。
【請求項６】
請求項１に記載の電子生成器であって、シェルは液体冷却される、ところの電子生成器。
【請求項７】
請求項４に記載の電子生成器であって、前記窓はチタンから成る、ところの電子生成器。
【請求項８】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は分割されたディスペンサカソードである、ところの電子生成器。
【請求項９】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は酸化物カソードである、ところの電子生成器。
【請求項１０】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は、熱線フィラメントである、ところの電子生成器。
【請求項１１】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は冷電子放出デバイスである、ところの電子生成器。
【請求項１２】
請求項１に記載の電子生成器であって、個々の窓の箔は窓の周囲でシェルと接着されている、ところの電子生成器。
【請求項１３】
請求項１２に記載の電子生成器であって、前記窓は、実質的に３６０°のアークで円筒の周りの円周上に伸長する、ところの電子生成器。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電子生成器であって、円筒の周りに伸長する前記窓は、３６０°以下をカバーする、ところの電子生成器。
【請求項１５】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記窓は、厚さが、０.０００３インチから数千分の一インチの範囲にある、ところの電子生成器。
【請求項１６】
請求項１に記載の電子生成器であって、真空は動作中、連続的に維持される、ところの電子生成器。
【請求項１７】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記生成器にはイオンポンプが取り付けられており、生成器は排気され、焼かれ、その後イオンポンプの下流側でピンチオフされる、ところの電子生成器。
【請求項１８】
請求項１に記載の電子生成器であって、ユニットが排気され、焼かれ、処理の最後にユニットがピンチオフされる、ところの電子生成器。
【請求項１９】
請求項１に記載の電子生成器であって、ユニットは真空内にゲッタを含む、ところの電子生成器。
【請求項２０】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記電子ソースの内部に設置された電極は、前記円筒形シェル内の窓をたたくよう前記カソードから放出された電子を集束する、ところの電子生成器。
【請求項２１】
請求項１に記載の電子生成器であって、カソードがシェル内の中心からずれて設置される、ところの電子生成器。
【請求項２２】
請求項１に記載の電子生成器であって、管のスロットは、管内の電子光学的収差を補償し、かつ管からの高エネルギー電子の出力を強化するよう形状及び間隔が異なる、ところの電子生成器。
【請求項２３】
システムを流通するガスから有害物質を除去するためのガス清浄システムであって、ハウジングの内部領域の円周上に高エネルギー電子を放出するべくハウジング内に配置された電子生成器と、前記ハウジングを通過し、前記領域を通過し、前記ハウジングから出るように被処理ガスを流すための前記ハウジング内への吸気口と、から成るシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高エネルギー電子を作り出すための改良されたソースまたは生成器に関する。この装置は、電子の放出を容易にしかつ、使うための電子が置かれる周囲体積内へ真空中のソースからの流れを制御するのを容易にするように、概して円筒形の真空構造体から成る。本発明は、同一または類似の応用に対して現在周知の電子デバイスよりも効率的であり、ここで効率とは、電子ビーム装置に必要な入力電子パワーに対する、応用のための領域内へ放出されるビーム電力の比率である。
【背景技術】
【０００２】
種々のシステムの特徴は、真空状態でないシステム内に高エネルギー電子を適応することにある。ひとつのシステムはガス流中に含まれる揮発性有機化合物を減少させるかまたは除去するために電子を使用する。この応用は、例えば、米国特許第5,319,211号、第5,357,291号及び第5,378,898号に記載されている。
【特許文献１】米国特許第5,319,211号
【特許文献２】米国特許第5,357,291号
【特許文献３】米国特許第5,378,898号
【０００３】
電子は、悪臭を減少させ、無機材料及び他の有害物を含む他の化合物を破壊または減少させるためにも使用されてきた。それは例えば、米国特許第4,396,580号、米国特許第4,752,450号及び米国特許第5,108,565号に開示されている。この出願において有毒物とは、空気、他のガス、霧、または微粒子に付着する毒素を生じさせる有毒性または疾病性のものを意味する。有害物には、空気または他のガス中で発見または導入される危険性及び／または発香性化合物及び他の汚染物質が含まれる。一般にこれらのシステムの第１の目的は、環境中にさまざまな形式で現れる、有毒物質、有害物質及び／または危険物質を減少させることであった。電子は、医療製品及び食料品の滅菌処理、インク、プラスチック、ペンキ及び、その最終的な使用形式で補強するために加熱または放射が必要なその他の化合物を硬化するのにも使用されてきた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これらの目的を達成するための電子ビームは、ユニットの端部の窓へ向けられた電子用のソースを含む真空ユニットを使用して作られる。窓は、薄い箔によりシールされている（窓箔は真空を維持しかつ大気またはその他の条件の周囲領域から真空を分離するためのものである）。箔は最小のエネルギー損失で電子が通過するのに十分に薄いが、真空が大気圧に抵抗するのに十分に強くなければならない。一般に、構造的に補強するべく、箔は貫通孔を有する金属プレートに設置されている。箔を通過するのに十分なエネルギーを有する電子を窓領域に引きつけるために、ソースとプレートとの間に加速電圧が印加される。しかし、使用される電子ビーム装置は、短い平均故障寿命、制限された出力パワー、大きい出力パワーに対するのコストの増大を蒙る。故障モードは、放射ソースの故障及び金属的完全性の欠陥により生じるピンホール、または通過電子による過熱あるいはその両方の組み合わせによる箔の損傷により発生する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は新規な電子ビーム装置である。装置は、カソードのような電子ソースと共中心の可変長の概して円筒形シェルから成り、それは窓箔の長さと同じだけ伸長している。シェルの内部は高真空下にある。円筒形シェルは、薄い金属で覆われた一列の開口（窓）を有し、排気後に内部の真空を維持するためにシールされる。開口は任意の数、幾何形状、方向及び位置にあってよい。電子エミッタと外部シェルとの間に高電圧が印加され、同軸エミッタから放出された電子は支持プレートの穴を覆う薄い窓材料を通過するのに充分なエネルギーで加速される。ユニットは、高電圧ソース、カソード電源及び任意の制御電極電圧源と接続するための高電圧絶縁貫通コンポーネントを含む。ユニット内部及び窓において生成された熱を除去するための技術もまた電子ビーム構造の一部に含まれる。
【０００６】
装置に公称円筒形状を使用することは、出力箔を支持しかつ保持するためにシリンダの固有の強度を利用し、単純化したビーム光を与え、その結果、放出されかつ加速した電子が衝突し、ビーム出口窓箔から出る割合が高くなる。よって、装置の出力は従来の電子ソースより増加する。円筒形状は真空ハウジング内の支持プレートへのビーム出口箔の直接結合をも容易にする。このような結合により、ビーム出口窓材料の良好な放熱を促進し、それにより標準的な機器で従来使用されていたものより厚い箔を使用可能となり、したがって、箔材料の治金学的欠陥の確率が減少する。この形状によってより大きい表面積が出力領域として使用でき、その結果、同等またはそれ以上のパワーが出口窓の単位面積あたりの熱応力が減少した状態で出力される。シリンダ及びカソードが伸長され、あるいはシリンダの直径が大きく作成されるか、またはその両方で、効果的な窓領域及び／または電圧を増加することができ、よって、電子エミッタからの出力パワーが増加する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１に、本発明のひとつの実施例が示される。電子フラックス生成器10は概して円筒形状である。これは、マイクロ波管の設計及び製造で典型的に使用される材料及び製造技術を使用する。例えば、管用のステンレススチールシェルは、管内部を真空状態に、外部を大気状態に維持するのに必要な構造的強度を与える。電子フラックス生成器10はディスペンサ型または酸化物型カソード、あるいは例えばタングステンワイヤフィラメント、高温に加熱されたフィラメント、またはさまざまな冷電子放出デバイスから成るカソード11を含む。ディスペンサまたは酸化物型カソードは、タングステンワイヤフィラメントに比べ相対的に低い温度で動作する。ディスペンサカソードは、例えば約１０００℃以下の温度で動作し、一方酸化物型カソードは約８５０℃以下の温度で動作し、２０００℃またはそれ以上で動作しなければならないタングステンワイヤフィラメントに比べて低い。冷電子放出デバイスが使用される場合、フィラメントは必要ではない。カソード11はフィラメントヒータ16により加熱される。図１において、分割されたディスペンサ型のバリウム含浸タングステンマトリクスカソードが、非放出面15に沿って円筒形カソード11方向に離隔された個々のエミッタ18に対して使用されている。
【０００８】
図２の薄膜窓25は、図１には示されていない。これは管本体の周囲の窓スロット12を明瞭に示すためである。窓が管の内側真空部分をシールするべく機能するよう、薄膜窓は任意の管または動作用ソースに配置される。
【０００９】
好適実施例において、高電圧セラミック絶縁14が、接地ポテンシャルに保持された金属製の管壁から絶縁されかつ高電圧にある管の内部部分に配置される。管内部のカソードの各端部は電場成形電極13である。ヒータ組立体16はカソード構造体全体を加熱する。エミッタ18は窓スロット12と位置合わせされている。スロットは実質的にエミッタ18と同じ幅である。典型的な窓スロットは例えば、幅が約０.１インチまたはそれ以上で、対応するカソードエミッタ表面は０.０８インチまたはそれ以上である。
【００１０】
大気圧に対して薄い窓エレメントの良好な構造的強度を与え、窓箔からの適当な熱伝送を与えるべく、窓スロットは典型的に９０°以下の任意の所望の角度で向かい合うことができる。電気力線は電場成形電極13を使用することによりカソードの表面で調節され、その結果カソード11のエミッタ部分18から放出した実質的にすべての電子が対応する窓スロット12を通過する。カソード11は絶縁14が配置されるところの端部で管内にコンセント接続することにより、応用に応じて、典型的に、−１００Ｖと−２５０Ｖの間の高負電圧に維持される。カソード表面で生成された電子は真空領域17を通じて窓スロット12の方向へ加速される。窓材料は、約０.００１インチの厚さを有し、それは使用する材料、所望の効率及び信頼性等の他の要因に応じて、この図の上下側の両方で変化してもよい。目的は、真空を保持するのに十分に強くかつソースの外部に適応される真空以外のものを電子が通過することができるよう十分薄い材料を使用することである。
【００１１】
この実施例において、カソード11の温度は放出される電流の量を制御することにより変化する。この管内の低い空間電荷密度のため、ビーム軌道はカソード電流の広範囲にわたって一定である。
【００１２】
図２には、制御グリッドを有する集束電子フラックス生成器10が示されている。この実施例において、カソードは分割されておらず、長さの実質的な部分にわたって連続放出面22を有する円筒形カソードに置換されている。ヒータ組立体24はカソード22のシリンダの内径に挿入され、カソード22を所望の温度に加熱する。グリッド27は円筒形カソード22の周りに共中心に配置され、窓スロット12と一致するようにスロット28が設けられている。カソード22までの距離、窓スロット12までの距離である、グリッドスロット幅28は、各グリッドセクションから放出された実質的にすべての電子が集束し、対応するビーム出口窓を通過するように設計されている。真空加速領域17は高電圧セラミック絶縁14として示される。正電圧が、全カソード電流を制御しかつ集束電子ビームを最適化するためにグリッド構造27に印加される。グリッド27を加えた結果、カソード電流はカソード温度を使って制御可能となり、カソードは空間電荷制限モードで動作し、グリッドは電流及び軌道を制御するのに使用される。図２に示される位置において、出口窓25が真空シールされる。薄膜窓25は、図示されるように、すべての窓スロット12の全領域を覆う。窓は、例えば、チタンまたはアルミニウムから成る。応用、エネルギー及びパワーレベルに応じて、窓材料の厚さは、例えば約０.０００２インチから０.００２インチまで変化し、現在好適な厚さは約０.００１インチである。窓が厚くなるほど、窓を通過する電子の通路上で生成される熱が大きくなり、装置をシールする機械的必要性に耐えて欠陥なく実行する最も薄い窓を使用することが好適であるという結論からすると、窓を電子が通過することがより困難になる。好適実施例において、チタン窓が使用される。マイクロ波管に使用されるような、他の金属及びセラミック材料が使用されてもよい。窓材料は支持シェルに接着される。接着剤は良好な熱伝導性を有する材料でなければならない。
【００１３】
デバイスから放出する電子の割合が大きいほど、デバイスの効率は高くなる。窓を通過せずに内壁をたたく電子は装置全体にとって無駄なエネルギーとなる。壁をたたく電子は近くのアプリケーションで失われ、さらに、消散すべき熱を生成する。冷却の要求が大きくなるに従い、冷却装置に必要な電力が大きくなり、それが高い設備投資と高い動作コストを生じさせる。
【００１４】
管から高エネルギー電子の最大出力を保証するためのひとつのメカニズムは、グリッドと出力スロットの間及び／または放出カソード、グリッド及び出力スロットの間の管内で発生する電子光学的収差を補償するために、スロットの形状及び窓アレイ内のスロット間隔を変化させることである。窓領域内でこれらの変化をどのように構成するかを決定するために、通常、管内に電子軌道をプロットし、それに基づいて、窓の最適な位置及び最適構造を決定する。
【００１５】
電子を生成するプロセスがより効率的になるほど、電源能力に対する要求は小さくなる。電源の設備投資コストは、出力電力に対して非線形的に増加する。電源出力要求全体の減少も動作コストを削減する。付加的に、内側面をたたく電子はＸ線放射も生成する。よって、壁をたたく電子が少ないほど、システムに必要なシールドが少なくて済む。多くのシールドはコストを増加させ、さらに、重い原子材料が使用されるため、重量がかなり重くなり、支持体が装置に必要になる。窓箔内には不可避的なＸ線が生成されるが、薄いために、その強度はかなり小さい。
【００１６】
本発明に従い、管または電子ソースを効率的に構成する際に、穴の模様をカットするかまたは制御グリッド内の他の場所に配置することにより電子の流れが制御される。例えば、背向開口角度を３０°にしたいと思った場合、３０°の角度幅の間で窓開口と一致する背向スロットのセットのパターンで、制御グリッドがカットされる。他に、グリッド開口は複数の窓スロットでもよく、例えば、窓内の３０°の背向スロットが、グリッド内の６０°背向スロットに対応する。目的は、製造方法及びコストを最適化しながら、金属シェル上での電子衝突を最小化することである。同様に、窓セグメントは、電子を通過させるよう所望される管の長さに沿って垂直に設置される。円筒管により対向した３６０°以下のアークを生成するために、本発明はシリンダの周りの角度の出力パターンの制御も可能にする。
【００１７】
図３を参照して、液体冷却を使用した、制御グリッドを有する管10の実施例が示されている。グリッド状または非グリッド状の実施例が液体冷却されるが、いずれのタイプの冷却手段の説明も実質的に同じである。示された実施例において、装置10は、グリッドスロット28を含むグリッド27、カソード22及びヒータ24、窓スロット12、セラミック絶縁14、金属箔25、及び真空加速領域17から成る。薄膜の温度をできるだけ低く維持することが、高い動作信頼性を得るのに重要である。液体冷却の使用はさらに集束ビームアプローチの利点を強調する。液体冷却チャネル31は窓スロット12の間のギャップに沿って配置される。個々の冷却チャネルは冷却マニホールド32内で結合する。個々のチャネルは圧力低下を最小限にするために互いに平行であるか、それらは液体流量を最小限にするために直列に接続される。熱の除去は、真空側の内部に、またはシェルの外側に、冷却ラインを取り付けることにより達成可能である。
【００１８】
図３と関連して示されかつ説明された装置は以下の動作結果を達成した。１６００００ボルトがカソードに印加され、９０ボルトがグリッドに印加された。装置の外側シェルは接地され、長さが１フィート以下で、直径は６インチ以下であった。長さの約半分は窓領域に充てられた。装置は、１２０００ワットの内部ビーム電力を分配し、空気流に対して約５キロワットのビーム電力が分配された。
【００１９】
円筒形状の装置を説明してきたが、当業者は、３６０°のパターンまたは直線ソースの長さに沿って画定されたフラクションを作成する目的を達成することができる。これに関して、装置のシェルの形状は、四角形、五角形、六角形等、またはなだらかな曲線と平坦面との任意の組み合わせのような他の断面であってもよい。
【００２０】
ビーム出口窓の開口は円筒形シェルと一体である。すなわち、開口は、円筒形シェルの壁を貫通するか、発明の他の実施例で使用される任意の断面形状のシェルを貫通する。ビーム窓開口領域は、非常に小さい角度から３６０°まで、任意の角度の開口部、シリンダの背向開口のような３６０°の角度部分の開口の任意の組み合わせ、またはシリンダの周囲の任意の角度位置で任意の角度の複数の開口から成る。開口は、シリンダの表面または他の形状の表面に関して複数の長手方向または半径方向の開口である。
【００２１】
発明は、適用に必要なシステムの円筒形状に対して任意の長さの線形電子ソースを含む。線形ソースは、必要な電子流を放出するのに充分に加熱された熱電子フィラメントから組み立てられるか、またはフィラメントにより間接的に加熱された、ディスペンサカソードによりその放出面が生成された任意の所望の長さの線形ソースから組み立てられる。グリッドを有するかまたは有しない長いカソードは遠心端で機械的な支持を必要とする。管のエンドキャップに溶接されたセラミック絶縁体33がその支持体に使用される。
【００２２】
本発明は、薄い材料または材料の組み合わせにより覆われた任意の形状、方向または寸法の窓開口が、システム動作に必要な高真空の完全性を維持するのを許す。当業者に周知のように、この装置には、焼いた後にユニットにシールされるイオンポンプ35、またはマイクロ波管装置の方法で焼いた後に単純にピンチオフされるユニット、あるいは他の周知の取外し可能なポンプ装置により排気されかつシールされない真空ポンプ装置が含まれる。自動的に放出されかつエントラップされたガスを吸収するためのゲッタ材料34が周知のように装置内部に含まれる。
【００２３】
このソースの設計は、さまざまな直径及び長さの使用を許す。装置は窓表面領域を増加するために、より長くまたは増加した直径で製造することも可能である。したがって、増加したビーム電流が活性反応体積内を通過することができ、それにより使用可能な全ビーム電力が増加する。例えば、直接的電子ドーズにより広範囲の塗料またはインクを硬化させるような応用に対して、より長いソースが所望される。
【００２４】
より大きい直径のデバイスはより高い加速電圧の絶縁をサポートし、その結果より高いエネルギーの電子が生成される。より高いエネルギーの電子が有効な相互作用の範囲を拡大し、それにより有効な反応体積が増加する。例えば、より高エネルギーの電子はより広範囲を有し、その結果より大きい直径のパイプまたはスタックでの有害放出を扱うことができる。より低い電圧での同じ電流に対して、より高い電力が生成される。動作中、例えば、地下水から採取した揮発性有機化合物を処理するために、汚染物質を含む空気の流れが反応体積中を流通するように装置を設置する。通過中、装置により生成された高エネルギー電子は通過ストリーム内の汚染物質と相互作用し、ストリーム内の有毒物質を破壊、除去または変換し、出口端から非常にきれいなストリームが流出する。
【００２５】
本発明の改良された出力は、反応体積を通過させることにより、流れるガスを殺菌するのに使用される。付加的に、表面殺菌は、殺菌すべき表面を放出ソース付近で通過させることにより達成される。放出アークは、例えば、表面またはコーティングを扱うのに管に沿った任意の所望のアークサイズの電子放出の線形パターンを製造するよう放出アークが減少する。表面は、固定電子エミッタの下で移動可能であるか、エミッタは固定または電子処理が必要な曲面の経路に沿って移動可能である。
【００２６】
図４に、管の表面領域内のスロット12及び管の内部に配置されたグリッド27が示されている。この図において、図１のように窓箔は配置されておらず、その結果スロットを容易に見ることができる。
【００２７】
図５に、例えば、有毒ガス清浄システムが示されている。被処理流体が配管40でシステムに入り、前処理装置41内に流れる。例えば、米国特許第5,357,291号、及び米国特許第5,378,898号に開示されるような、さまざまな前処理がこの装置に組み込まれ得る。これらは、熱処理システム、フィルタ、ばっ気装置、乾燥機等を含む。前処理ステージを離れるとすぐに、ガスが反応チャンバ42内に入る。チャンバ内には管10が存在する。この図において、管の出力は噴出しとして示され、そのひとつが符号45で示されている。管は高圧電源36から高電力を得る。電源36はシステム用の制御を含み、管10までの点線37として示されるケーブルにそって高電圧を出力する。シリンダ38は管10の冷却を補助するように示されている。反応チャンバ42内での処理後、排液は次の後処理装置43に渡り、それは例えば、スクラッバー、活性炭容器及び／またはさらに処理するために反応チャンバへ排液を戻すための手段を含む。処理が完了すると、排液は配管44に沿ってシステムから流出する。
【００２８】
円周方向に放出された電子を有効利用するためにさまざまな他の構成が使用できることは当業者が容易に理解する。
【００２９】
本発明の好適実施例を説明してきたが、特許請求の範囲に記載された発明の態様から離れることなく、さまざまな変更及び修正が可能であることは当業者の知るところである。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、本発明の管型実施例の略示図である。
【図２】図２は、スロット形グリッドを有する図１の管の略示図である。
【図３】図３は、水冷を含む図２の管の略示図である。
【図４】図４は、管の外側面、表面のスロット及びグリッドを示す、管の切面図である。
【図５】図５は、ガス流の消毒用の装置内での管の略示図である。
【図１】
2007532899.tif 000003
【図２】
2007532899.tif 000004
【図３】
2007532899.tif 000005
【図４】
2007532899.tif 000006
【図５】
2007532899.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子生成器であって、
真空を保持するための円筒シェルと、
前記シェルの周りに伸長する前記シェル内の一列の開口と、
前記開口を覆うようにその上に配置された薄い材料から成る窓であって、前記シェルの真空を強力にするように適応された窓と、
長さ方向に沿って高エネルギー電子を生成するように適応される、前記シェルの内部に配置された電子放出面と、
生成した電子が前記窓まで移動するよう方向付けるための集束エレメントであって、それにより、実質的な割合の生成した電子が前記窓をたたき、それを通過して前記生成器から出る、ところの集束エレメントと、
から成る電子生成器。
【請求項２】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は、前記シェルの実質的な長さにわたって軸方向に連続である、ところの電子生成器。
【請求項３】
請求項１に記載の電子生成器であって、さらに、シェル内で放出された電子を開口へ向けて集束するための、前記電子放出面と前記シェルの間のグリッドを含む、電子生成器。
【請求項４】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記窓は金属箔から成る、ところの電子生成器。
【請求項５】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記開口は前記シェルの周りの円周上に伸長し、前記グリッドはスロット化され、カソードから放出した電子が実質的にグリッドにより遮られるかまたはスロットを通過し、前記シェルの窓上で集束するように配置される、ところの電子生成器。
【請求項６】
請求項１に記載の電子生成器であって、シェルは液体冷却される、ところの電子生成器。
【請求項７】
請求項４に記載の電子生成器であって、前記窓はチタンから成る、ところの電子生成器。
【請求項８】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は分割されたディスペンサカソードである、ところの電子生成器。
【請求項９】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は酸化物カソードである、ところの電子生成器。
【請求項１０】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は、熱線フィラメントである、ところの電子生成器。
【請求項１１】
請求項３に記載の電子生成器であって、前記電子放出面は冷電子放出デバイスである、ところの電子生成器。
【請求項１２】
請求項１に記載の電子生成器であって、個々の窓の箔は窓の周囲でシェルと接着されている、ところの電子生成器。
【請求項１３】
請求項１２に記載の電子生成器であって、前記窓は、実質的に３６０°のアークで円筒の周りの円周上に伸長する、ところの電子生成器。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電子生成器であって、円筒の周りに伸長する前記窓は、３６０°以下をカバーする、ところの電子生成器。
【請求項１５】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記窓は、厚さが、０.０００３インチから数千分の一インチの範囲にある、ところの電子生成器。
【請求項１６】
請求項１に記載の電子生成器であって、真空は動作中、連続的に維持される、ところの電子生成器。
【請求項１７】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記生成器にはイオンポンプが取り付けられており、生成器は排気され、焼かれ、その後イオンポンプの下流側でピンチオフされる、ところの電子生成器。
【請求項１８】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記シェルが排気され、焼かれ、処理の最後にシェルがピンチオフされる、ところの電子生成器。
【請求項１９】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記シェルは真空内にゲッタを含む、ところの電子生成器。
【請求項２０】
請求項１に記載の電子生成器であって、前記電子ソースの内部に設置された電極は、前記円筒形シェル内の窓をたたくよう前記カソードから放出された電子を集束する、ところの電子生成器。
【請求項２１】
請求項１に記載の電子生成器であって、カソードがシェル内の中心からずれて設置される、ところの電子生成器。
【請求項２２】
請求項１に記載の電子生成器であって、管のスロットは、管内の電子光学的収差を補償し、かつ管からの高エネルギー電子の出力を強化するよう形状及び間隔が異なる、ところの電子生成器。
【請求項２３】
システムを流通するガスから有害物質を除去するためのガス清浄システムであって、ハウジングの内部領域の円周上に高エネルギー電子を放出するべくハウジング内に配置された請求項１に記載の電子生成器と、前記ハウジングを通過し、前記領域を通過し、前記ハウジングから出るように被処理ガスを流すための前記ハウジング内への吸気口と、から成るシステム。
【国際調査報告】
2007532899.tif 000008
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