(57)【要約】【解決手段】  下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）が、下記式（III）且つ（IV）を満たす透明フイルムである。（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］【選択図】  なし
2007530989.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）が、下記式（III）且つ（IV）を満たす透明フイルム。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
【請求項２】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含有する請求項１に記載の透明フイルム。
【請求項３】
セルロースアシレートを含有する請求項１に記載の透明フイルム。
【請求項４】
前記セルロースアシレートが、アシル置換度が、２．８５〜３．００のセルロースアシレートである請求項３に記載の透明フイルム。
【請求項５】
前記セルロースアシレート中のアシル置換基が、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基から選ばれる２種類からなり、その全置換度が２．５０〜３．００であるセルロースアシレートからなる請求項３または４の透明フイルム。
【請求項６】
Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む請求項１の透明フイルム。
【請求項７】
フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、且つオクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物を少なくとも１種、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む請求項１の透明フイルム。
【請求項８】
フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７であり、且つ下記一般式（１）〜（１９）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む請求項１の透明フイルム：
【化７３】
2007530989.tif 000083
式中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の脂肪族基を表し；Ｒ11〜Ｒ13は互いに連結して環を形成してもよい；
【化７４】
2007530989.tif 000084
一般式（２）および（３）中、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ25−を表し；Ｒ25は水素原子またはアルキル基を表し；Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していてもよく；Ｙ21及びＹ22はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ21及びＹ22は互いに連結して環を形成してもよく；ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す；
【化７５】
2007530989.tif 000085
一般式（４）〜（１２）中、Ｙ31〜Ｙ70はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の  エステル基、炭素数が１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数が１〜２０  のアミド基、炭素数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基を表し；  Ｖ31〜Ｖ43はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族基を表し  ；Ｌ31〜Ｌ80はそれぞれ独立に、原子数０〜４０かつ、炭素数０〜２０の２価  の飽和の連結基を表し；ここで、Ｌ31〜Ｌ80の原子数が０であるということは  、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味し；Ｖ31〜  Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、さらに置換基を有していてもよい；
【化７６】
2007530989.tif 000086
式中、Ｒ1aはアルキル基またはアリール基を表し；Ｒ2aおよびＲ3aは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【化７７】
2007530989.tif 000087
式中、Ｒ4aおよびＲ5aはそれぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ4aおよびＲ5aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【化７８】
2007530989.tif 000088
式中、Ｒ1b、Ｒ2bおよびＲ3bはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し；Ｘ15は下記の連結基群１から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表し；Ｙ15は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
（連結基群１）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4b−、アルキレン基及びアリーレン基、Ｒ4bは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
【化７９】
2007530989.tif 000089
式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に、５又は６員環を表し；Ｘ16はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す；
【化８０】
2007530989.tif 000090
式中、Ｘ17はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、又はＮを表し；Ｒ11c、Ｒ12c、Ｒ13c、Ｒ14c、Ｒ15c、Ｒ21c、Ｒ22c、Ｒ23c、Ｒ24c、Ｒ25c、Ｒ31c、Ｒ32c、Ｒ33c、Ｒ34c及びＲ35cはそれぞれ水素原子または置換基を表す；
【化８１】
2007530989.tif 000091
式中、Ｒ1dはアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2dおよびＲ3dはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【化８２】
2007530989.tif 000092
式中、Ｒ4d、Ｒ5dおよびＲ6dはそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【請求項９】
フイルムの｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む請求項１の透明フイルム。
【請求項１０】
フイルムの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１の透明フイルム。
【請求項１１】
請求項１の透明フイルムと、Ｒｅ（６３０）が０〜２００ｎｍであり、且つ｜Ｒｔｈ（６３０）｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層とを有する光学補償フイルム。
【請求項１２】
請求項１の透明フイルム、又は請求項１１の光学補償フイルムの少なくとも１枚と、偏光子とを有する偏光板。
【請求項１３】
下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす透明フイルムを有する液晶表示装置：
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【請求項１４】
少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持され、ネマチック液晶材料を含み、黒表示時に該ネマチック液晶材料の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して略並行に配向し、厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．２〜１．０μｍである液晶層とを有する液晶セル、及び該液晶セルを挟持して配置された第一及び第二の偏光膜を有する液晶表示装置であって、
前記第一及び第二の偏光膜の少なくとも一方と前記液晶セルとの間に透明フイルムを有し、該透明フイルムの下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす液晶表示装置：
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【請求項１５】
さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム、前記第二偏光膜がこの順序で配置され、前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、前記第一光学補償フイルムが、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、該第一光学補償フイルムの遅相軸が第一偏光膜の透過軸及び黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であり、及び該第一光学補償フイルムのＲｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍである請求項１４の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、ディスコチック液晶性化合物を少なくとも含む請求項１５の液晶表示装置。
【請求項１７】
さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム及び前記第二偏光膜がこの順序で配置され、
前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、且つ前記第一光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下で、且つ面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及びフイルムの厚さｄを用いて  Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義される前記第一光学補償フイルムのＮｚが０．２〜０．８である請求項１４の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、二軸延伸フイルムである請求項１７の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明フイルム、ならびにそれを用いた光学補償フイルム、偏光板及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セルおよび偏光板からなる。前記偏光板は保護フイルムおよび偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフイルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フイルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、通常、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償フイルムを配置することもある。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フイルム、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行い、透過および反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
この様なＬＣＤの中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トタンジスタにより駆動する９０度ねじれネマチック型液晶表示装置（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下したり、階調表示で明るさが逆転する階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。
【０００４】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、ＴＶ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなっかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。
【０００５】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳモードにおいても検討されている。例えば、傾斜時の液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示又は中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善できることが開示されている（特開平９−８０４２４号公報参照）。また、負の固有複屈折を有するスチレン系ポリマーやディスコチック液晶性化合物からなる光学補償フイルムを使用した方法（特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報参照）が提案されている。しかし、提案された方式の多くは、液晶セル中の液晶の複屈折の異方性を打ち消して視野角を改善する方式であるために、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを十分に解決できないという問題がある。また、この光漏れを補償できるとされる方式でも、液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。なぜなら、ある波長において完全に光漏れを補償できたとしても、他の波長で補償できるとは限らないからである。たとえば、視感度が最も大きい緑の波長で光りぬけを補償したとしても、より小さな波長の青やより大きな波長の赤における光漏れは生じるという問題がある。この問題を解決するために、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４１．（２００２）４５５３．では２枚の２軸性フイルムを積層することを提案している。しかし、この方法には２枚の２軸性フイルムを用いるため、２軸フイルムの軸ずれが発生しやすく、画面むらが発生しやすいという問題があった。また黒表示時の光漏れは、液晶セルと偏光子との間にある偏光板保護膜として従来用いられてきたトリアセチルセルロースフイルムに面内のレターデーションＲｅや膜厚方向のレターデーションＲｔｈがあることも原因となっていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の第１の課題は、液晶セルが可視光の全ての領域において光学的に補償され、かつ、黒表示の視角方向における光漏れが軽減されるように、液晶セルと偏光子との間にある偏光板保護膜のＲｅやＲｔｈを低減し、可視光の全波長領域において光学補償できるような波長分散性を持った透明フイルムを提供することである。
本発明の第２の課題は、この透明フイルムを偏光板の保護フイルムとして用いることにより、液晶セルが可視光の全ての領域において光学的に補償され、かつ、黒表示の視角方向における光漏れを軽減した液晶表示装置、特にＶＡモード、ＩＰＳモードの液晶表示装置を提供することである。
また、本発明は、液晶セルが可視光領域において光学的に補償され、且つ黒表示の視角方向における光漏れが軽減された液晶表示装置、特にＩＰＳモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、透明フイルムが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いてフイルムの光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈを低減することができることを見出した。この知見に基づいてさらに検討を重ねた結果、透明フイルムの波長分散を制御する化合物を用いることにより、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を小さくし、可視光の全波長領域において光学補償できるような波長分散性を持った透明フイルムを作製するとの知見を得、本発明を完成するに至った。
【０００８】
一側面において、本発明は、下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）が、下記式（III）且つ（IV）を満たす透明フイルムを提供する。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
【０００９】
本発明の態様として、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含有する前記透明フイルム；セルロースアシレートを含有する前記透明フイルム；前記セルロースアシレートが、アシル置換度が、２．８５〜３．００のセルロースアシレートである前記透明フイルム；前記セルロースアシレート中のアシル置換基が、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基から選ばれる２種類からなり、その全置換度が２．５０〜３．００であるセルロースアシレートからなる前記透明フイルム；Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む前記透明フイルム；フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、且つオクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物を少なくとも１種、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む前記透明フイルム；フイルムの｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む前記透明フイルム；及びフイルムの膜厚が１０〜１２０μｍである前記透明フイルム；が提供される。
前記Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ得る化合物は、下記式（１）〜（１９）から選択してもよい。
【００１０】
【化１】
2007530989.tif 000003
式中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の脂肪族基を表し；Ｒ11〜Ｒ13は互いに連結して環を形成してもよい；
【００１１】
【化２】
2007530989.tif 000004
一般式（２）および（３）中、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ25−を表し；Ｒ25は水素原子またはアルキル基を表し；Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していてもよく；Ｙ21及びＹ22はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ21及びＹ22は互いに連結して環を形成してもよく；ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す；
【００１２】
【化３】
2007530989.tif 000005
一般式（４）〜（１２）中、Ｙ31〜Ｙ70はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０のエステル基、炭素数が１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数が１〜２０のアミド基、炭素数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基を表し；Ｖ31〜Ｖ43はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族基を表し；Ｌ31〜Ｌ80はそれぞれ独立に、原子数０〜４０かつ、炭素数０〜２０の２価の飽和の連結基を表し；ここで、Ｌ31〜Ｌ80の原子数が０であるということは、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味し；Ｖ31〜Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、さらに置換基を有していてもよい；
【００１３】
【化４】
2007530989.tif 000006
式中、Ｒ1aはアルキル基またはアリール基を表し；Ｒ2aおよびＲ3aは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【００１４】
【化５】
2007530989.tif 000007
式中、Ｒ4aおよびＲ5aはそれぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ4aおよびＲ5aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【００１５】
【化６】
2007530989.tif 000008
式中、Ｒ1b、Ｒ2bおよびＲ3bはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し；Ｘ15は下記の連結基群１から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表し；Ｙ15は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
（連結基群１）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4b−、アルキレン基及びアリーレン基、Ｒ4bは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
【００１６】
【化７】
2007530989.tif 000009
式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に、５又は６員環を表し；Ｘ16はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す；
【００１７】
【化８】
2007530989.tif 000010
式中、Ｘ17はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、又はＮを表し；Ｒ11c、Ｒ12c、Ｒ13c、Ｒ14c、Ｒ15c、Ｒ21c、Ｒ22c、Ｒ23c、Ｒ24c、Ｒ25c、Ｒ31c、Ｒ32c、Ｒ33c、Ｒ34c及びＲ35cはそれぞれ水素原子または置換基を表す；
【００１８】
【化９】
2007530989.tif 000011
式中、Ｒ1dはアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2dおよびＲ3dはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【００１９】
【化１０】
2007530989.tif 000012
式中、Ｒ4d、Ｒ5dおよびＲ6dはそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【００２０】
他の側面において、本発明は、前記透明フイルムと、Ｒｅ（６３０）が０〜２００ｎｍであり、且つ｜Ｒｔｈ（６３０）｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層とを有する光学補償フイルム；及び前記透明フイルム１、又は請求項１２の光学補償フイルムの少なくとも１枚と、偏光子とを有する偏光板。
他の側面において、本発明は、下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす透明フイルムを有する液晶表示装置を提供する。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【００２１】
他の側面において、本発明は、少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持され、ネマチック液晶材料を含み、黒表示時に該ネマチック液晶材料の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して略並行に配向し、厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．２〜１．０μｍである液晶層とを有する液晶セル、及び該液晶セルを挟持して配置された第一及び第二の偏光膜を有する液晶表示装置であって、
前記第一及び第二の偏光膜の少なくとも一方と前記液晶セルとの間に透明フイルムを有し、該透明フイルムの下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす液晶表示装置を提供する。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【００２２】
本発明の態様として、さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム、前記第二偏光膜がこの順序で配置され、前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、前記第一光学補償フイルムが、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、該第一光学補償フイルムの遅相軸が第一偏光膜の透過軸及び黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であり、及び該第一光学補償フイルムのＲｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍである前記液晶表示装置が提供される。
本態様において、前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、ディスコチック液晶性化合物を少なくとも含んでいてもよい。
【００２３】
本発明の態様として、さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム及び前記第二偏光膜がこの順序で配置され、
前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、且つ前記第一光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下で、且つ面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及びフイルムの厚さｄを用いて  Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義される前記第一光学補償フイルムのＮｚが０．２〜０．８である前記液晶表示装置が提供される。
本態様において、前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、ディスコチック液晶性化合物を少なくとも含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、特定の波長においてＲｔｈの正負の符号が逆転するという波長分散特性を有する透明フイルムを用いることによって、液晶セル、特にＩＰＳモードの液晶セルのコントラスト、色ずれの視角依存性を改良している。この透明フイルムは、偏光板の保護フイルム等の一部材や、光学補償フイルムとして液晶表示装置に組み込むことができる。本発明によれば、液晶セルの可視光領域における光学的補償、および黒表示時の光漏れの防止に寄与するフイルムを提供することができる。また、本発明によれば、液晶セルが可視光領域において光学的に補償され、且つ黒表示の視角方向における光漏れが軽減された液晶表示装置、特にＩＰＳモードの液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００２５】
以下、図面を用いて本発明の作用を説明する。図１は、一般的なＩＰＳモードの液晶表示装置の構成を示す模式図である。ＩＰＳモードの液晶表示装置は、電圧無印加時、即ち黒表示時に、液晶が基板面に対して水平配向する液晶層を有する液晶セル３と、該液晶セル３を挟持し、且つ互いの透過軸方向（図１では縞線で示した）を直交させて配置された偏光層１及び偏光層２とを有する。図１中、光は、偏光層１側から入射するものとする。電圧無印加時に、法線方向、即ち、ｚ軸方向に進む光が入射した場合、偏光層１を通過した光は、直線偏光状態を維持したまま、液晶セル３を通過し、偏光層２において完全に遮光される。その結果、コントラストの高い画像を表示できる。
【００２６】
しかし、図２に示す様に、斜光入射の場合には状況が異なる。光が、ｚ軸方向でない斜め方向、即ち、偏光層１および２の偏光方向に対して斜めの方位（いわゆるＯＦＦ  ＡＸＩＳ）から入射する場合、偏光層１と偏光層２の見かけの透過軸が直交からずれる。さらに、通常、偏光層と液晶セルとの間には、偏光層の保護膜などの透明フイルムがあることが多く、この透明フイルムの斜め方向からのレターデーションの影響で偏光状態が変化する。この２つの主要因のため、ＯＦＦ  ＡＸＩＳにおける斜め方向からの入射光は、偏光層２で完全に遮光されず、黒表示時に光抜けが生じ、コントラストを低下させることになる。
【００２７】
ここで、極角と方位角を定義する。極角はフイルム面の法線方向すなわちｚ軸からの傾き角であり、例えば、フイルム面の法線方向が極角＝０度になる。方位角は、ｘ軸の正の方向を基準に反時計回りに回転した方位を表しており、例えばｘ軸の正の方向が方位角＝０度、ｙ軸の正の方向が方位角＝９０度になる。前述したＯＦＦ  ＡＸＩＳにおける斜め方向とは、極角が０度ではない場合で且つ、方位角＝４５度、１３５度、２２５度、３１５度の場合を主に指す。
【００２８】
図３に、本発明の作用を説明するための構成例についての模式図を示す。図３の構成は、図１の構成に、液晶セル３と偏光層１との間に特定の光学特性を有する透明フイルム４を配置し、さらに偏光層２と液晶セル３との間に、２枚の光学補償フイルム５及び６を配置した構成である。透明フイルム４は、下記式（Ｉ）及び（II）で定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）かつ（IV）をみたすこと光学特性を有する。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
【００２９】
透明フイルム４は、０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦３０を満たしているのがより好ましく、０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５を満たしているのがさらに好ましい。また、Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ３０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１２０であるのが好ましく、６０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１００であるのがより好ましい。
【００３０】
本発明は、偏光層１と液晶セル３との間に、厚さ方向のレターデーション及びその正負符号が、光の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）において異なる透明フイルム４を用いることによって、ＩＰＳモードの斜め方向の光りぬけを大きく低減することに成功した。前記光学特性を有する透明フイルムを用いることによって、斜め方向に入射したＲ、Ｇ、Ｂ各波長の光について、各波長ごとに異なったレターデーション及びその正負符号の逆転が起きる。従来の液晶表示装置では、液晶層及び光学補償フイルムによって遷移する偏光状態が、Ｒ、Ｇ、Ｂで異なっていたが、本発明では、遷移後のＲ、Ｇ、Ｂの偏光状態をより近づけることができる。その結果、黒表示の視角コントラストを格段に向上されるとともに、さがらに黒表示の視角方向における色づきも格段に軽減される。
ここで、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長として、Ｒは波長λ＝７００ｎｍ、Ｇは波長λ＝５５０ｎｍ、Ｂは波長λ＝４００ｎｍを用いた。一般にＲ、Ｇ、Ｂの波長は必ずしもこの波長で代表されるものではないが、本発明の効果を示すには適当な波長であると考えられる。ここで、Ｂの波長は４００ｎｍとしたが、偏光膜によっては４００ｎｍ以下付近から偏光度が下がるものや、セルに用いる基板ガラスの吸収などが生じてレターデーションの測定精度が悪くなるものがあるため注意が必要であり、Ｂの波長を４５０ｎｍとして考えても一般性は失われないため、Ｂの波長である４００ｎｍを４５０ｎｍとしてもよい。
【００３１】
図４に、図３の構成における補償機構について、ポアンカレ球を用いて説明した図を示す。ここで、光の伝播方向は方位角＝４５度、極角＝３４度である。図４中、Ｓ２軸は、紙面上から下に垂直に貫く軸であり、図４は、ポアンカレ球を、Ｓ２軸の正の方向から見た図であり、その部分を拡大して描いてある。また、図４は、平面的に示されているので、偏光状態の変化前と変化後の点の変位は、図中直線の矢印で示されているが、実際は、液晶層や光学補償フイルムを通過することによる偏光状態の変化は、ポアンカレ球上では、それぞれの光学特性に応じて決定される特定の軸の回りに、特定の角度回転させることで表される。
【００３２】
図３中の偏光板１を通過した入射光の偏光状態は、図４では点（ｉ）に相当し、図３中の偏光層２の吸収軸によって遮光される偏光状態は、図４では点（ｉｉ）に相当する。従来、液晶表示装置において、光学補償フイルムは一般的に、液晶層における偏光状態の変化も含めて、入射光の偏光状態を点（ｉ）から点（ｉｉ）に変化させるために用いられる。透明フイルム４にレターデーションがない場合には、透明フイルム４および液晶層３を通過することによって入射光の偏光状態は、いずれの波長においても変化せず、点（ｉ）のままである。その後、光学補償フイルム５（例えば、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、遅相軸が偏光層２の透過軸及び液晶セル中の黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であり、且つＲｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍである光学補償フイルムであり、後述する第一光学補償フイルムが好ましい）によって偏光状態は遷移するが、波長が異なるＲ、Ｇ、Ｂの各波長においては、回転角度は一致しないため、光学補償フイルム６（例えば、Ｒｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下である光学補償フイルムであり、後述する第二光学補償フイルムが好ましい）を通過する前の偏光状態は、Ｒ、Ｇ、Ｂでばらばらになってしまう（図中、点（ｉＲ）、点（ｉＧ）、点（ｉＢ））。その後、光学補償フイルム６を通過することによって、偏光状態は、図中、下から上への矢印で示される遷移をする。従来の液晶表示装置では、光学補償フイルム５を通過後の可視光の偏光状態が、Ｒ、Ｇ、Ｂでばらばらになっているため、光学補償フイルム６を通過後の偏光状態も、Ｒ、Ｇ、Ｂでばらばらになり（図中、点（ｉＲ）’、点（ｉＧ）’、点（ｉＢ）’）、全ての偏光状態を点（ｉｉ）に遷移させることができない。その結果、従来の液晶表示装置では、光りぬけを抑えることができなかった。
【００３３】
本発明では、この問題を解決するため、透明フイルム４の厚さ方向のレターデーションＲｔｈを、波長に応じて調節している。図５に本発明の透明フイルムの一例を用いた場合の偏光状態の変化を示した。本例は、上記光学特性を満たすとともに、ＢにおけるＲｔｈが負、ＧにおけるＲｔｈがほぼ０、及びＲにおけるＲｔｈが正の値の透明フイルム４を用いた例である。偏光層１を通過した光の偏光状態は点（ｉ）で示され、前記光学特性を有する透明フイルム４を通過することによって、Ｂは図中の点（ｉ）から点（ｉＢ）に下の矢印で示される遷移をし、Ｇは点（ｉ）のまま遷移せず、Ｒは点（ｉ）から点（ｉＲ）に上の矢印で示される遷移をする。その後、液晶セル３を通過して、偏光状態は点（ｉ）を軸にして右回転するので、光学補償フイルム５の直前の偏光状態は、図中、点（ｉＲ）’、点（ｉＧ）’、点（ｉＢ）’となる。さらに、光学補償フイルム５を通過することによって、図中点（ｉＲ）”、点（ｉＧ）”、点（ｉＢ）”で示される偏光状態になり、それぞれの偏光状態は近づく。最終的に、光学補償フイルム６を通過することによって、Ｒ、Ｇ、Ｂの遷移状態は、いずれも点（ｉｉ）に近づき、その結果、Ｒ、Ｇ、Ｂいずれの波長においても、光りぬけを軽減することが可能になる。上記は偏光膜１側から光が入射する場合の偏光状態の遷移について説明したが、偏光膜２側から光が入射した場合も同様の効果が得られる。
【００３４】
図６に本発明の効果が得られるフイルムのＲｔｈの波長依存性の範囲を斜線で示した図を示す。ここで、斜線を示した範囲は、方位角４５度、極角６０度における黒の光漏れの値が０．０２２％以下になる領域を表しており、この領域では白と黒の比で表されるコントラスト値が３０以上になる。なお、本発明の透明フイルムを用いない場合は、黒の光漏れの値が０．０２２％を超える。図６のグラフから、黒の光漏れの値が小さくなるのは、Ｒｔｈの正負の符号が波長によって逆転し、Ｒｔｈ（４００）とＲｔｈ（７００）の積が負になっている透明フイルムを用いる場合であることがわかる。
【００３５】
本発明は、Ｒｔｈの正負の符号が、波長によって逆転する透明フイルムを利用し、該透明フイルムを光学補償に積極的に用いることを特徴としている。また、本発明の透明フイルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置にも用いることができ、例えば、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＥＣＢモード、ＴＮモード及びＯＣＢモード等、いずれの表示モードの液晶層を有する液晶表示装置にも用いることができる。また、本発明の透明フイルムを偏光板の液晶と遠い側の保護フイルムとして用いても、上述した偏光状態の遷移に違いはなく光学補償には影響を与えないので、何ら問題なく用いることが出来る。
【００３６】
以下、本発明の透明フイルム、及び本発明の透明フイルムを用いた液晶表示装置の作製に用いられる材料、および作製方法等について詳細に説明する。
まず、本発明の透明フイルムの材料および製造方法について説明する。
［透明フイルムの材質］
本発明の透明フイルムを形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましく、上述のＲｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）が、上述した式（Ｉ）〜（IV）を満たす範囲であればどのような材料を用いても良い。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の透明フイルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００３７】
また、本発明の透明フイルムを形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。
【００３８】
また、本発明の透明フイルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フイルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることが出来る。以下にセルロースアシレートについて詳細を説明する。
【００３９】
［セルロースアシレート原料綿］
本発明の透明フイルムに用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、セルロースアシレートフイルムに対しては特に限定されるものではない。
【００４０】
［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造されるセルロースアシレートについて記載する。セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。セルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。
【００４１】
上述のようにセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることがのぞましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることがのぞましく、２．８５〜３．００であることがよりのぞましい。
【００４２】
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００４３】
本発明の発明者が鋭意検討した結果、上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基が、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基から選ばれる少なくとも２種類である場合においては、その全置換度が２．５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフイルムの光学異方性が低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらにのぞましくは２．６５〜３．００である。
【００４４】
［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフイルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフイルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。
【００４５】
特に、アシル置換基が、実質的にアセチル基のみからなり、平均重合度が１８０〜５５０であるセルロースアシレートを用いて本発明の透明フイルムを作製すると、光学異方性をより低下できる。
【００４６】
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００４７】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【００４８】
セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００４９】
［透明フイルムへの添加剤］
本発明の透明フイルムは熱可塑性のポリマー樹脂を熱溶融して製膜しても良いし、ポリマーを均一に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜しても良い。熱溶融製膜の場合は種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を熱溶融時に加えることができる。一方、透明フイルムを溶液から調整する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープという）には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【００５０】
［透明フイルムの光学的異方性を低下させ得る化合物の構造的特徴］
まず、本発明の透明フイルムの光学的異方性を低下させ得る化合物について説明する。本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、フイルム中のポリマーが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学的異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるようにした。このためには光学的異方性を低下させ得る化合物はポリマーに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００５１】
（ＬｏｇＰ値）
本発明の透明フイルムを作製するにあたっては、上述のようにフイルム中のポリマーが面内および膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させ得る化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、ポリマーとの相溶性に乏しく、フイルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、フイルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【００５２】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７）．）、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９，１６３（１９８９）．）、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−  Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９，７１（１９８４）．）などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７）．）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【００５３】
［光学的異方性を低下する化合物の物性］
光学異方性を低下させ得る化合物は、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。また光学異方性を低下させ得る化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
【００５４】
光学異方性を低下させ得る化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させ得る化合物は、透明フイルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００５５】
光学異方性を低下させ得る化合物の添加量は、フイルム固形分（主にポリマー）の０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させ得る化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
【００５６】
光学異方性を低下させ得る化合物を添加する時期は熱溶融にて透明フイルムを作製する場合は熱溶融前、溶液製膜の場合はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００５７】
光学異方性を低下させ得る化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該透明フイルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０−９９％である。本発明の化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【００５８】
以下に本発明で好ましく用いられる、透明フイルムの光学異方性を低下させ得る化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
フイルムのＲｅ及びＲｔｈを低下させ得る化合物は、下記一般式（１）〜（１９）から選ばれる化合物であるのが好ましい。以下、一般式（１）〜（１９）について詳細に説明する。
【００５９】
【化１１】
2007530989.tif 000013
【００６０】
一般式（１）において、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の脂肪族基を表す。Ｒ11〜Ｒ13は互いに連結して環を形成してもよい。
【００６１】
Ｒ11〜Ｒ13について詳しく説明する。Ｒ11〜Ｒ13は好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは炭素数が１〜１２である脂肪族基である。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基またはアルキニル基である。例として、アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどが挙げられる。
Ｒ11〜Ｒ13で表される脂肪族基は置換されていてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリールまたはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。
【００６２】
これらの基はさらに組み合わされて複合置換基を形成してもよく、このような置換基の例としては、エトキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、エトキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。また、Ｒ１１−１３は置換基としてリン酸エステル基を含有することもでき、一般式（１）の化合物は同一分子中に複数のリン酸エステル基を有することも可能である。
【００６３】
一般式（２）および（３）の化合物について説明する。
【化１２】
2007530989.tif 000014
【００６４】
一般式（２）および（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ25−を表し、Ｒ25は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良く、複数の置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚを含んで構成される５または６員環の例としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアン、ピロリジン、ピペリジン、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン、テトラヒドロ−２−フラノン、テトラヒドロ−２−ピロン、４−ブタンラクタム、６−ヘキサノラクタムなどを挙げることができる。また、Ｚを含んで構成される５または６員環は、ラクトン構造またはラクタム構造、すなわち、Ｚの隣接炭素にオキソ基を有する環状エステルまたは環状アミド構造を含む。このような環状エステルまたは環状アミド構造の例としては、２−ピロリドン、２−ピペリドン、５−ペンタノリド、６−ヘキサノリドを挙げることができる。
【００６５】
Ｒ25は水素原子または、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であるアルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）を表す。Ｒ25で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。Ｒ25で表されるアルキル基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては前記のＲ11〜Ｒ13に置換していても良い基を挙げることができる。
【００６６】
Ｙ21〜Ｙ22はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。エステル基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、ｔ−アミルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１−エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ−ノニルカルボニルオキシ、ｎ−ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１−ナフタレンカルボニルオキシ、２−ナフタレンカルボニルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシなどが例示できる。アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、１−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニルなどが例示できる。アミド基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ−プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ−ブチルカルボキサミド、ｔ−ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ−ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ−ブチルカルボキサミド、ｎ−ペンチルカルボキサミド、ｔ−アミルカルボキサミド、ｎ−ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１−エチルペンチルカルボキサミド、１−エチルプロピルカルボキサミド、ｎ−ヘプチルカルボキサミド、ｎ−オクチルカルボキサミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、ｎ−ノニルカルボキサミド、ｎ−ドデシルカルボキサミド、ｎ−ペンタカルボキサミド、ｎ−ヘキサデシルカルボキサミドなどが例示できる。カルバモイル基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメ��ルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ｉｓｏ−ブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ｎ−ヘプチルカルバモイル、ｎ−オクチルカルバモイル、１−アダマンタンカルバモイル、２−アダマンタンカルバモイル、ｎ−デシルカルバモイル、ｎ−ドデシルカルバモイル、ｎ−テトラデシルカルバモイル、ｎ−ヘキサデシルカルバモイルなどが例示できる。
【００６７】
Ｙ21及びＹ22は互いに連結して環を形成してもよい。Ｙ21及びＹ22はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ11〜Ｒ13に置換していても良い基を挙げることができる。
【００６８】
次に、一般式（４）〜（１２）の化合物について説明する。
【化１３】
2007530989.tif 000015
【００６９】
一般式（４）〜（１２）において、Ｙ31〜Ｙ70はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基またはヒドロキシ基を表す。エステル基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、ｔ−アミルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１−エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ−ノニルカルボニルオキシ、ｎ−ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１−ナフタレンカルボニルオキシ、２−ナフタレンカルボニルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシなどが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルなど、１−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニルなどが挙げられる。アミド基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ−プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ−ブチルカルボキサミド、ｔ−ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ−ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ−ブチルカルボキサミド、ｎ−ペンチルカルボキサミド、ｔ−アミルカルボキサミド、ｎ−ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１−エチルペンチルカルボキサミド、１−エチルプロピルカルボキサミド、ｎ−ヘプチルカルボキサミド、ｎ−オクチルカルボキサミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、ｎ−ノニルカルボキサミド、ｎ−ドデシルカルボキサミド、ｎ−ペンタカルボキサミド、ｎ−ヘキサデシルカルボキサミドなどが挙げられる。カルバモイル基としては、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数��１〜１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ｉｓｏ−ブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ｎ−ヘプチルカルバモイル、ｎ−オクチルカルバモイル、１−アダマンタンカルバモイル、２−アダマンタンカルバモイル、ｎ−デシルカルバモイル、ｎ−ドデシルカルバモイル、ｎ−テトラデシルカルバモイル、ｎ−ヘキサデシルカルバモイルなどが挙げられる。
【００７０】
Ｙ31〜Ｙ70はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ11〜Ｒ13に置換していても良い基を挙げることができる。
【００７１】
Ｖ31〜Ｖ43はそれぞれ独立に水素原子または、好ましくは炭素数が１〜２０、さらに好ましくは炭素数が１〜１６、特に好ましくは、炭素数が１〜１２である脂肪族基を表す。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基またはアルキニル基である。アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどを挙げることができる。Ｖ31〜Ｖ43はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ11〜Ｒ13に置換していても良い基を挙げることができる。
【００７２】
Ｌ31〜Ｌ80はそれぞれ独立に、原子数０〜４０かつ、炭素数０〜２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ31〜Ｌ80の原子数が０であるということは、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味する。Ｌ31〜Ｌ77の好ましい例としては、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルエチレン、エチルエチレンなど）、環式の２価の基（例えば、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキシレン、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキシレン、１，３−シクロペンチリデンなど）、エーテル、チオエーテル、エステル、アミド、スルホン、スルホキシド、スルフィド、スルホンアミド、ウレイレン、チオウレイレンなどを挙げることができる。これらの２価の基は互いに結合して二価の複合基を形成してもよく、複合置換基の例としては、−（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）−、−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2Ｏ2Ｃ（ＣＨ2）2−などを挙げることができる。Ｌ31〜Ｌ80は、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては、前記のＲ11〜Ｒ13に置換していても良い基を挙げることができる。
【００７３】
一般式（４）〜（１２）においてＹ31〜Ｙ70、Ｖ31〜Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80の組み合わせにより形成される化合物の好ましい例としては、クエン酸エステル（例えば、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリ（エチルオキシカルボニルメチレン）エステルなど）、オレイン酸エステル（例えば、オレイン酸エチル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２−エチルヘキシル、オレイン酸フェニル、オレイン酸シクロヘキシル、オレイン酸オクチルなど）、リシノール酸エステル（例えばリシノール酸メチルアセチルなど）、セバシン酸エステル（例えばセバシン酸ジブチルなど）、グリセリンのカルボン酸エステル（例えば、トリアセチン、トリブチリンなど）、グリコール酸エステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなど）、ペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラブチレートなど）、ジペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサブチレート、ジペンタエリスリトールテトラアセテートなど）、トリメチロールプロパンのカルボン酸エステル類（トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパンジアセテートモノプロピオネート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、トリメチロールプロパントリブチレート、トリメチロールプロパントリピバロエート、トリメチロールプロパントリ（ｔ−ブチルアセテート）、トリメチロールプロパンジ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンテトラ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンジアセテートモノオクタネート、トリメチロールプロパントリオクタネート、トリメチロールプロパントリ（シクロヘキサンカルボキシレート）など）、特開平１１−２４６７０４公報に記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号公報に記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号公報に記載のクエン酸エステル類、ピロリドンカルボン酸エステル類（２−ピロリドン−５−カルボン酸メチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸エチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸ブチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸２−エチルヘキシル）、シクロヘキサンジカルボン酸エステル（ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチルなど）、キシリトールカルボン酸エステル（キシリトールペンタアセテート、キシリトールテトラアセテート、キシリトールペンタプロピオネートなど）などが挙げられる。
【００７４】
以下に本発明の一般式（１）〜（１２）で表される化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（１）については例示化合物Ｃ−１〜Ｃ−７６を例示し、一般式（２）〜（１２）については例示化合物Ｃ−２０１〜Ｃ−２０３、Ｃ−４０１〜Ｃ−４４８を例示した。表記載あるいは括弧内に記載のｌｏｇＰの値は、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７）．）により求めたものである。
【００７５】
【化１４】
2007530989.tif 000016
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は前記一般式（１）のＲ11〜Ｒ13と同義であり、下記のＣ−１〜Ｃ−７６で具体例を例示する。）
【００７６】
【表１】
2007530989.tif 000017
【００７７】
【表２】
2007530989.tif 000018
【００７８】
【表３】
2007530989.tif 000019
【００７９】
【表４】
2007530989.tif 000020
【００８０】
【化１５】
2007530989.tif 000021
【００８１】
【化１６】
2007530989.tif 000022
【００８２】
【化１７】
2007530989.tif 000023
【００８３】
【化１８】
2007530989.tif 000024
【００８４】
【化１９】
2007530989.tif 000025
【００８５】
次に、一般式（１３）および（１４）の化合物について説明する。
【化２０】
2007530989.tif 000026
【００８６】
上記一般式（１３）において、Ｒ1aはアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2aおよびＲ3aはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aの炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。また、一般式（１４）中、Ｒ4aおよびＲ5aはそれぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ4aおよびＲ5aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。一般式（１３）または一般式（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００８７】
【化２１】
2007530989.tif 000027
【００８８】
【化２２】
2007530989.tif 000028
【００８９】
【化２３】
2007530989.tif 000029
【００９０】
【化２４】
2007530989.tif 000030
【００９１】
【化２５】
2007530989.tif 000031
【００９２】
一般式（１５）の化合物について説明する。
【化２６】
2007530989.tif 000032
【００９３】
上記一般式（１５）において、Ｒ1b、Ｒ2bおよびＲ3bはそれぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミル、イソアミル）であることが好ましく、Ｒ1b、Ｒ2bおよびＲ3bの少なくとも１つ以上が炭素原子数１〜３のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル）であることが特に好ましい。Ｘ15は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基（好ましくは炭素原子数１〜６、より好ましくは１〜３のもの、例えばメチレン、エチレン、プロピレン）またはアリーレン基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１２のもの。例えば、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン）から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、アルキレン基またはアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが特に好ましい。Ｙ15は、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数２〜２５、より好ましくは２〜２０のもの。例えば、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ドデシル、シクロヘキシル、ジシクロヘキシル、アダマンチル）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１８のもの。例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル）またはアラルキル基（好ましくは炭素原子数７〜３０、より好ましくは７〜２０のもの。例えば、ベンジル、クレジル、ｔ−ブチルフェニル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル）であることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアラルキル基であることが特に好ましい。−Ｘ15−Ｙ15の組み合わせとしては、−Ｘ15−Ｙ15の総炭素数が０〜４０であることが好ましく、１〜３０であることがさらに好ましく、１〜２５であることがよりさらに好ましい。
【００９４】
以下に、一般式（１５）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【化２７】
2007530989.tif 000033
【００９５】
【化２８】
2007530989.tif 000034
【００９６】
一般式（１６）の化合物について説明する。
【化２９】
2007530989.tif 000035
式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に５又は６員環を表し、炭化水素環でもへテロ環でもよく、また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。炭化水素環として好ましくは、置換または無置換のシクロヘキサン環、置換または無置換のシクロペンタン環、芳香族炭化水素環であり、より好ましくは芳香族炭化水素環である。へテロ環として好ましくは５又は６員環の酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む環である。へテロ環としてより好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。
Ｑ1、Ｑ2およびＱ3として好ましくは芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環である。芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
【００９７】
芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。Ｑ1、Ｑ2およびＱ3としてより好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。またＱ1、Ｑ2およびＱ3は置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。
【００９８】
Ｘ16はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表し、Ｘ16として好ましくはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Ｎであり、Ｘ16としてより好ましくはＣ−Ｒ、Ｎであり、よりさらに好ましくはＣ−Ｒである。
【００９９】
次に、一般式（１７）で表される化合物について説明する。一般式（１７）は、前記一般式（１６）の好ましい態様でもある。
【化３０】
2007530989.tif 000036
【０１００】
式中、Ｘ17はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表しＸ17として好ましくはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Ｎ、Ｐ＝Ｏであり、更に好ましくはＣ−Ｒ、Ｎであり、特に好ましくはＣ−Ｒである。
【０１０１】
Ｒ11c、Ｒ12c、Ｒ13c、Ｒ14c、Ｒ15c、Ｒ21c、Ｒ22c、Ｒ23c、Ｒ24c、Ｒ25c、Ｒ31c、Ｒ32c、Ｒ33c、Ｒ34c及びＲ35cは水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ11c、Ｒ12c、Ｒ13c、Ｒ14c、Ｒ15c、Ｒ21c、Ｒ22c、Ｒ23c、Ｒ24c、Ｒ25c、Ｒ31c、Ｒ32c、Ｒ33c、Ｒ34c及びＲ35cとして好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
【０１０２】
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１０３】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１０４】
以下に一般式（１６）又は（１７）で表される化合物に関して具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【化３１】
2007530989.tif 000037
【０１０５】
【化３２】
2007530989.tif 000038
【０１０６】
【化３３】
2007530989.tif 000039
【０１０７】
【化３４】
2007530989.tif 000040
【０１０８】
【化３５】
2007530989.tif 000041
【０１０９】
【化３６】
2007530989.tif 000042
【０１１０】
【化３７】
2007530989.tif 000043
【０１１１】
【化３８】
2007530989.tif 000044
式中、Ｒ1dはアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2dおよびＲ3dはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【０１１２】
一般式（１８）として好ましくは下記一般式（１９）で表される化合物である。
【化３９】
2007530989.tif 000045
上記一般式（１９）において、Ｒ4d、Ｒ5dおよびＲ6dはそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。
上記のアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基およびアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基である。
【０１１３】
以下に、一般式（１８）または一般式（１９）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【化４０】
2007530989.tif 000046
【０１１４】
【化４１】
2007530989.tif 000047
【０１１５】
【化４２】
2007530989.tif 000048
【０１１６】
【化４３】
2007530989.tif 000049
【０１１７】
【化４４】
2007530989.tif 000050
【０１１８】
【化４５】
2007530989.tif 000051
【０１１９】
【化４６】
2007530989.tif 000052
【０１２０】
また、上記一般式（１）〜（１９）で表される化合物以外にも、透明フイルムの光学異方性を軽減させ得る化合物がある。例えば、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である、多価アルコールエステル化合物、カルボン酸エステル化合物、多環カルボン酸化合物、ビスフェノール誘導体をポリマーに添加することによっても、光学的異方性を低下させることができる。
【０１２１】
オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である、多価アルコールエステル化合物、カルボン酸エステル化合物、多環カルボン酸化合物、ビスフェノール誘導体の具体例を以下に示す。
（多価アルコールエステル化合物）
本発明の多価アルコールエステルは、２価以上の多価アルコールと１種以上のモノカルボン酸とのエステルである。多価アルコールエステル化合物としては以下のものが例としてあげられるが、本発明はこれらに限定されない。
（多価アルコール）
好ましい多価アルコールの例としては、例えばアドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１２２】
（モノカルボン酸）
本発明の多価アルコールエステルにおけるモノカルボン酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透明フイルムの透湿度、含水率、保留性を向上させる点で好ましい。
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有するとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。これらは更に置換基を有しても良い。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１２３】
本発明の多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を３つ以上有することが好ましい。
【０１２４】
多価アルコールエステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【化４７】
2007530989.tif 000053
【０１２５】
（カルボン酸エステル化合物）
カルボン酸エステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。具体的には、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはクエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチルを挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートもこの目的で好ましく用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭素原子数１〜８のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好ましく、特にエチルフタリルエチルグリコレートが好ましく用いられる。またこれらアルキルフタリルアルキルグリコレート等を２種以上混合して使用してもよい。
【０１２６】
カルボン酸エステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【化４８】
2007530989.tif 000054
【０１２７】
（多環カルボン酸化合物）
本発明において用いる多環カルボン酸化合物は分子量が３０００以下の化合物であることが好ましく、特に２５０〜２０００以下の化合物であることが好ましい。環状構造に関して、環の大きさについて特に制限はないが、３〜８個の原子から構成されていることが好ましく、特に６員環及び／又は５員環であることが好ましい。これらが炭素、酸素、窒素、珪素あるいは他の原子を含んでいてもよく、環の結合の一部が不飽和結合であってもよく、例えば６員環がベンゼン環、シクロヘキサン環でもよい。本発明の化合物は、このような環状構造が複数含まれているものであり、例えば、ベンゼン環とシクロヘキサン環をどちらも分子内に有していたり、２個のシクロヘキサン環を有していたり、ナフタレンの誘導体あるいはアントラセン等の誘導体であってもよい。より好ましくはこのような環状構造を分子内に３個以上含んでいる化合物であることが好ましい。また、少なくとも環状構造の１つの結合が不飽和結合を含まないものであることが好ましい。具体的には、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、パラストリン酸などのアビエチン酸誘導体が代表的であり、以下にこれら化合物の化学式を示すが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１２８】
【化４９】
2007530989.tif 000055
【０１２９】
（ビスフェノール誘導体）
本発明において用いるビスフェノール誘導体は分子量が１００００以下であることが好ましく、この範囲であれば単量体でも良いし、オリゴマー、ポリマーでも良い。また他のポリマーとの共重合体でも良いし、末端に反応性置換基が修飾されていても良い。以下にこれら化合物の化学式を示すが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１３０】
【化５０】
2007530989.tif 000056
【０１３１】
なお、ビスフェノール誘導体の上記具体例中で、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子、または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｌ、ｍ、ｎは繰り返し単位を表し、特に限定はしないが、１〜１００の整数が好ましく、１〜２０の整数がさらに好ましい。
【０１３２】
［波長分散調整剤］
本発明の透明フイルムの波長分散を低下させ得る化合物について説明する。本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、透明フイルムの｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を制御できる化合物を少なくとも１種、ポリマー固形分に対して０．０１〜３０重量％（より好ましくは０．１〜３０重量％）含むことによって透明フイルムのＲｔｈの波長分散を調整した。
とりわけ本発明の透明フイルムとして好ましく用いることが出来るポリマーである、セルロースアセテートのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることができる。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身が透明フイルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【０１３３】
したがって２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、透明フイルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はポリマーに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【０１３４】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フイルムの｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させ得る化合物を透明フイルムに添加する場合、分光透過率が優れている要求される。透明フイルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。
【０１３５】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
波長分散調整剤は、本発明の透明フイルムの製膜のいずれの過程においても揮散しないことが好ましい。
【０１３６】
（化合物添加量）
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、フイルム固形分（主にポリマー）の０．０１〜３０重量％であることが好ましく、０．１〜２０重量％であることがより好ましく、０．２〜１０重量％であることが特に好ましい。
【０１３７】
（化合物添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１３８】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【０１３９】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、一般式（１０１）で表される化合物が、本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（１０１）
Ｑ1e−Ｑ2e−ＯＨ
式中、Ｑ1eは含窒素芳香族ヘテロ環であり、Ｑ2eは芳香族環である。
Ｑ1eは含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
【０１４０】
Ｑ1eで表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
Ｑ2eで表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１４１】
Ｑ2eであらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ2eは更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
【０１４２】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１４３】
一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。
【化５１】
2007530989.tif 000057
【０１４４】
式中、Ｒ1e、Ｒ2e、Ｒ3e、Ｒ4e、Ｒ5e、Ｒ6e、Ｒ7e、およびＲ8eはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。
Ｒ1e、Ｒ2e、Ｒ3e、Ｒ4e、Ｒ5e、Ｒ6e、Ｒ7e、Ｒ8e、およびＲ9eはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１４５】
Ｒ1eおよびＲ3eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、よりさらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【０１４６】
Ｒ2eおよびＲ4eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、よりさらに好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１４７】
Ｒ5eおよびＲ8eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、よりさらに好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１４８】
Ｒ6eおよびＲ7eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、よりさらに好ましくは水素原子、塩素原子である。
【０１４９】
一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物である。
【化５２】
2007530989.tif 000058
【０１５０】
式中、Ｒ1e、Ｒ3e、Ｒ6eおよびＲ7eは一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１５１】
以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【化５３】
2007530989.tif 000059
【０１５２】
【化５４】
2007530989.tif 000060
【０１５３】
以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずに透明フイルムを作製した場合、保留性の点で有利であることが確認された。
【０１５４】
また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。
【化５５】
2007530989.tif 000061
【０１５５】
式中、Ｑ1fおよびＱ2fはそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸfはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｑ1fおよびＱ2fで表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。Ｑ1fおよびＱ2fで表される芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。Ｑ1fおよびＱ2fで表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。Ｑ1fおよびＱ2fであらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。Ｑ1fおよびＱ2fは更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１５６】
ＸfはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては上記置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘfとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、またはＯであり、特に好ましくはＯである。
【０１５７】
一般式（１０２）として好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。
【化５６】
2007530989.tif 000062
【０１５８】
式中、Ｒ1f、Ｒ2f、Ｒ3f、Ｒ4f、Ｒ5f、Ｒ6f、Ｒ7f、Ｒ8fおよびＲ9fはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。
【０１５９】
Ｒ1f、Ｒ2f、Ｒ3f、Ｒ4f、Ｒ5f、Ｒ6f、Ｒ7f、Ｒ8fおよびＲ9fはそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１６０】
Ｒ1f、Ｒ3f、Ｒ4f、Ｒ5f、Ｒ6f、Ｒ8fおよびＲ9fとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、よりさらに好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１６１】
Ｒ2fとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、よりさらに好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１６２】
Ｒ7fとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、よりさらに好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１６３】
一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。
【化５７】
2007530989.tif 000063
【０１６４】
式中、Ｒ10fは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。
【０１６５】
置換基としては前述の置換基Ｔから選択してもよい。
Ｒ10fとして好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、よりさらに好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１６６】
一般式（１０２）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
【０１６７】
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【化５８】
2007530989.tif 000064
【０１６８】
【化５９】
2007530989.tif 000065
【０１６９】
【化６０】
2007530989.tif 000066
【０１７０】
また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては一般式（１０３）で示されるものが好ましく用いられる。
【化６１】
2007530989.tif 000067
【０１７１】
式中、Ｑ1gおよびＱ2gはそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ1gおよびＸ2gは水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ1gおよびＱ2gであらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１７２】
Ｑ1gおよびＱ2gであらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ1gおよびＱ2gは更に置換基を有してもよく、前述の置換基群Ｔから選ばれるのが好ましい。
【０１７３】
Ｘ1gおよびＸ2gは水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ1gおよびＸ2gで表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ1gおよびＸ2gはで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ1gおよびＸ2gはそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１７４】
Ｘ1gおよびＸ2gとして好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【０１７５】
一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物である。
【化６２】
2007530989.tif 000068
【０１７６】
式中、Ｒ1g、Ｒ2g、Ｒ3g、Ｒ4g、Ｒ5g、Ｒ6g、Ｒ7g、Ｒ8g、Ｒ9gおよびＲ10gはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。  Ｒ1g、Ｒ2g、Ｒ3g、Ｒ4g、Ｒ5g、Ｒ6g、Ｒ7g、Ｒ8g、Ｒ9gおよびＲ10gはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ1gおよびＸ2gは一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１７７】
Ｒ1g、Ｒ2g、Ｒ4g、Ｒ5g、Ｒ6g、Ｒ7g、Ｒ9g、およびＲ10gとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、よりさらに好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１７８】
Ｒ3gおよびＲ8gとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１７９】
一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物である。
【化６３】
2007530989.tif 000069
【０１８０】
式中、Ｒ3gおよびＲ8gは一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ3gは水素原子、または置換基を表す。）
Ｘ3gは水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ3gとして好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【０１８１】
一般式（１０３）として更に好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である。
【化６４】
2007530989.tif 000070
【０１８２】
式中、Ｒ3gおよびＲ8gは一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ21gは炭素数１〜２０のアルキル基を表す。
【０１８３】
Ｒ21gとして好ましくはＲ3gおよびＲ8gが両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、よりさらに好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０１８４】
Ｒ21gとして好ましくは、Ｒ3gおよびＲ8gが水素以外の場合には、一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０１８５】
本発明一般式（１０３）で表される化合物はＪｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ６３巻  ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。
【０１８６】
以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【化６５】
2007530989.tif 000071
【０１８７】
【化６６】
2007530989.tif 000072
【０１８８】
【化６７】
2007530989.tif 000073
【０１８９】
［マット剤微粒子］
透明フイルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフイルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１９０】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフイルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フイルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフイルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０１９１】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フイルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１９２】
本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有する透明フイルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のポリマー溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのポリマードープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なポリマーのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ２あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０１９３】
本発明の透明フイルムを溶液製膜で作製する場合、ドープ流延、乾燥の過程で使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１９４】
［可塑剤、劣化防止剤、剥離剤］
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明の透明フイルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、透明フイルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１９５】
［化合物混合の比率］
本発明の透明フイルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、フイルムの固形分（主にポリマー）質量に対して５〜４５％であることがのぞましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらにのぞましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下がのぞましく、２０００以下がよりのぞましく、１０００以下がさらにのぞましい。これら化合物の総量が５％以下であると、ポリマー単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、透明フイルム中に化合物が相溶する限界を超え、フイルム表面に析出してフイルムが白濁する（フイルムからの泣き出し）などの問題が生じやすくなる。
【０１９６】
［ポリマー溶液の有機溶媒］
本発明では、熱溶融製膜、溶液製膜（ソルベントキャスト法）いずれの方法を用いても良い。製膜された透明フイルムの面状をより良い透明フイルムを製造するには溶液製膜（ソルベントキャスト法）による製造が好ましく、ポリマーを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０１９７】
以上本発明の透明フイルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明の透明フイルムに対しては特に限定されるものではない。
その他、ポリマー溶液及びフイルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−６０７５２、特開平１１−６０７５２などに記載されている。これらの特許によるとポリマーに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【０１９８】
［溶液製膜による透明フイルムの製造工程］
以下に、溶液製膜による本発明の透明フイルムの製造工程の詳細を説明する。
［溶解工程］
ポリマー溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるポリマー溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０１９９】
（ドープ溶液の透明度）
ポリマー溶液のドープ透明度としては８５％以上であることがのぞましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることがのぞましい。本発明においてはポリマードープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からポリマー溶液の透明度を算出した。
【０２００】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、ポリマー溶液を用いたフイルムの製造方法について述べる。透明フイルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフイルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（ポリマー溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明の透明フイルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフイルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、本発明の透明フイルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
【０２０１】
［透明フイルム物性評価］
［フイルムのガラス転移温度Ｔｇ］
透明フイルムのガラス転移温度Ｔｇは、８０〜１６５℃である。耐熱性の観点から、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度Ｔｇの測定は、本発明の透明フイルム試料１０ｍｇを、常温から２００度まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、Ｔ．Ａ．インスツルメント）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出した。
【０２０２】
［フイルムのヘイズ］
透明フイルムのヘイズは０．０１〜２．０％であることがのぞましい。よりのぞましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらにのぞましい。光学フイルムとしてフイルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、本発明の透明フイルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定した。
【０２０３】
［フイルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性］
本発明の透明フイルムの面内のレターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。
【０２０４】
［フイルムの平衡含水率］
本発明の透明フイルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０．１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。４％を超える平衡含水率であると、光学補償フイルムの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率の測定法は、本発明の透明フイルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料重量（ｇ）で除して算出した。
【０２０５】
［フイルムの透湿度］
本発明の光学補償シートに用いる透明フイルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがのぞましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ2・２４ｈを越えると、フイルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、本発明の透明フイルムに光学異方性層を積層して光学補償フイルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、透明フイルムの透湿度が４００ｇ／ｍ2・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、透明フイルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
【０２０６】
透明フイルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
【０２０７】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、透明フイルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後重量−調湿前重量で求めた。
【０２０８】
［フイルムの寸度変化］
本発明の透明フイルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０．５％以下であることがのぞましい。
よりのぞましくは０．３％以下であり、さらにのぞましくは０．１５％以下である。
【０２０９】
具体的な測定方法としては、本発明の透明フイルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変化率を求めた。
【０２１０】
［フイルムの弾性率］
（弾性率）
本発明の透明フイルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ／ｍｍ2であることが好ましい、より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ／ｍｍ2であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ2である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン製万能引っ張り試験機ＳＴＭ  Ｔ５０ＢＰを用い、２３℃・７０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めた。
【０２１１】
［フイルムの光弾性係数］
（光弾性係数）
本発明の透明フイルムの光弾性係数は、５０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎ
ｅ以下であることが好ましい。３０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法としては、本発明の透明フイルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。
【０２１２】
［透明フイルムの評価方法］
本発明の透明フイルムの評価に当たって、以下の方法で測定して実施した。
（レターデーション  Ｒｅ）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株）にて５８９ｎｍにおける垂直方向から測定したレターデーション値の外挿値より算出した。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
なお、波長は５８９ｎｍ以外の波長を用いた場合がある。
（レターデーションＲｔｈ）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））で、６３２．８ｎｍにおける垂直方向から測定した値とフイルム面を傾けながら同様に測定したレターデーション値の外挿値より次式に従い算出した。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
【０２１３】
（分子配向軸）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出した。
（軸ズレ）
また、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株））で軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。また、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとったものである。
（透過率）
試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所）で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定した。
（分光特性）
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）日立製作所）にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍおよび３５０ｎｍの透過率を評価した。
【０２１４】
［フイルム表面の性状］
本発明透明フイルムの表面は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することが出来る。
【０２１５】
［フイルムの保留性］
本発明の透明フイルムにおいては、フイルムに添加した各種化合物の保留性が要求される。具体的には、透明フイルムを８０℃／９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合のフイルムの質量変化が、０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
〈保留性の評価方法〉
試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の方法で保留性を計算した。
保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００
【０２１６】
［フイルムの力学特性］
（カール）
本発明の透明フイルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。透明フイルムには後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際のラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、透明フイルムの幅方向のカール値が前述の範囲外では、フイルムのハンドリングに支障をきたし、フイルムの切断が起きることがある。また、フイルムのエッジや中央部などで、フイルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フイルム上への異物付着が多くなり、光学補償フイルムの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがある。又、カールを上述の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
（引裂き強度）
ＪＩＳＫ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基ずく引裂き強度（エルメンドルフ引裂き法）が、透明フイルムの膜厚が２０〜８０μｍの範囲において、２ｇ以上が好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。又、６０μｍ換算で８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【０２１７】
［フイルムの残留溶剤量］
本発明の透明フイルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由堆積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
【０２１８】
［フイルムの吸湿膨張係数］
本発明の透明フイルムの吸湿膨張係数は３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、透明フイルムを光学補償フイルム支持体として用いた際、光学補償フイルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【０２１９】
［表面処理］
本発明の透明フイルムは、場合により表面処理を行うことによって、透明フイルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２２０】
［機能層］
本発明の透明フイルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
【０２２１】
その際に前述の光学用途に透明フイルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。透明フイルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２２２】
［用途（偏光板）］
本発明の透明フイルムの用途について説明する。
本発明の透明フイルムは特に偏光板保護フイルム用として有用である。偏光板保護フイルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた透明フイルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフイルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。
【０２２３】
保護フイルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
【０２２４】
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フイルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフイルムを、反対面にセパレートフイルムを貼合して構成される。プロテクトフイルム及びセパレートフイルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフイルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフイルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
【０２２５】
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フイルムを適用した偏光板保護フイルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フイルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フイルムをこの部分に用いることが得に好ましい。
【０２２６】
［用途（光学補償フイルム）］
本発明の透明フイルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フイルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フイルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フイルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
【０２２７】
したがって本発明の透明フイルムを液晶表示装置の光学補償フイルムとして用いる場合、使用される液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式に制限されず、光学補償フイルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフイルムから形成しても良い。
【０２２８】
前記液晶性化合物としては、ディスコチック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
例えば、本発明の透明フイルムを、ＩＰＳモードの液晶表示装置に用いる場合は、２つの光学補償フイルムとともに用いるのが好ましい。第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、ＩＰＳモードの液晶セル、透明フイルム及び第二偏光膜の順序で配置した態様において、併用する第一及び第二光学補償フイルムの組み合わせの好ましい例は、Ｒｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下である第二光学補償フイルムと、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、Ｒｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍである第一光学補償フイルムとの組み合わせである。なお、本例では、第一光学補償フイルムの遅相軸が、第一偏光膜の透過軸、及び黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行となる様に配置する。
【０２２９】
また、併用する第一及び第二光学補償フイルムの組み合わせの好ましい他の例は、Ｒｅが１００ｎｍ以下で、且つＲｔｈが２００ｎｍ以下である第二光学補償フイルムと、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及びフイルムの厚さｄを用いてＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義されるＮｚが０．２〜０．８であり、且つＲｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍの第一光学補償フイルムの組み合わせである。
なお、ＩＰＳモードの液晶表示装置については、後述する。
【０２３０】
（第二光学補償フイルム）
第二光学補償フイルムの光学特性は、いずれの例においても、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及びフイルムの厚さｄを用いてＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義される面内のレターデーションＲｅが１００ｎｍ以下であり、７０ｎｍ以下であることがより好ましい。またＲｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義される厚み方向のレターデーションＲｔｈは、前者、後者の例とも、２００ｎｍ以下であり、６０ｎｍ〜１５０ｎｍであるのがより好ましく、７０ｎｍ〜１３０ｎｍであることがさらに好ましい。なお、第一光学補償フイルムの遅相軸方向の配置は、Ｒｅが２０ｎｍ以下の場合は特に限定されないが、２０ｎｍを超える場合は、第二偏光膜の透過軸と略直交あるいは略平行する方向となる様に配置するのがより好ましい。
【０２３１】
（第一光学補償フイルム）
前記第一光学補償フイルムは、前者の例では、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、Ｒｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍであり、且つＲｅは
８０〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、１００〜１５０ｎｍであるのがさらに好ましい。また、後者の例では、Ｎｚが０．２〜０．８であり、より好ましくは０．２〜０．６であり、さらに好ましくは０．２５〜０．５であり、且つＲｅは５０ｎｍ〜４００ｎｍであり、より好ましくは８０〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは１００〜２８０ｎｍである。第一光学補償フイルムをディスコチック液晶性分子から形成する場合は、第一光学補償フイルムのＲｅの調整は塗布形成するディスコチック液晶層の厚みを制御することによって行なわれる。さらに、ディスコチック液晶性化合物は、フイルム面に対して実質的に垂直（７０〜９０度の範囲の平均傾斜角）に円盤面を配向させることが必要である。ディスコチック液晶性化合物は斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイブリッド配向）させても良い。斜め配向又はハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は７０°〜９０°であることが好ましく、７５°〜９０°がより好ましく、８０°〜９０°が最も好ましい。平均傾斜角がこれよりも小さくなると光漏れの分布が非対称になる。
【０２３２】
また、第一光学補償フイルムを二軸延伸フイルムで形成する場合は、例えば、フイルムを延伸処理する際に、その樹脂フイルムの片面又は両面に収縮性フイルムを接着して積層体を形成し、その積層体を加熱延伸処理して前記樹脂フイルムの延伸方向と直交する方向の収縮力を付与することにより行うことができる。延伸処理に用いる樹脂フイルムは、例えばキャスティング法や、押出法等の適宜な方式で形成したものであってよい。また、正又は負のいずれの複屈折特性を示す樹脂からなっていてもよく、透明性に優れるフイルムを形成するものが好ましい。正の複屈折特性を示す樹脂としては、例えばポリカーボネート、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィンの如き汎用樹脂があげられる。特に、非晶質で透明性の熱可塑性樹脂や芳香族系ポリカーボネートが好ましく用いられる。負の複屈折特性を示す樹脂としては、例えばポリスチレンやスチレン系共重合体、ポリメチルメタクリレートやメチルメタクリレート系共重合体などがあげられる。特に、ポリスチレンや、スチレン・アクリロニトリル共重合体、スチレン・メタクリル酸共重合体、スチレン・メチルメタクリレート共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体の如きスチレン系共重合体が好ましく用いられる。フイルムの延伸時における延伸方向と直交する方向の収縮力の付与は、例えば加熱延伸時に延伸方向と直交ないし交差する方向に収縮する収縮性フイルムを延伸対象の樹脂フイルムの片面、又は両面に接着してその積層体を加熱延伸処理する方法などにより行うことができる。これにより、収縮性フイルムによる当該直交ないし交差方向の収縮力に基づいて、樹脂フイルムの厚さ方向に延伸応力を発生させ、所望のＮｚ値を満足する光学補償フイルムを得ることができる。これについては特開平５−１５７９１１号公報に詳しく記載がある。
【０２３３】
前記第一及び第二光学補償フイルムは、液晶性分子からなる光学異方性層を有していてもよいし、延伸されたポリマーフイルムであってもよい。好ましくは、少なくとも一方が、ディスチック液晶性分子から形成された光学異方性層を有する態様、又は少なくとも一方が２軸延伸ポリマーフイルムからなる態様である。
【０２３４】
（ディスコチック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコチック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。
【０２３５】
ディスコチック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコチック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコチック液晶性化合物は、下記式で表わされる化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。
【０２３６】
ディスコチック液晶性分子から形成された光学異方性層は、ディスコチック液晶性化合物、及び所望により重合性開始剤や空気界面水平配向剤（例、特願２００３−３８８３０８公報に記載）等の添加剤を含む塗布液を、支持体の上に形成された水平配向膜の上に塗布することで形成することができる。ディスコチック液晶層を水平に配向させるための配向膜としては有機酸や塩などの固形分含有量が０．１質量％未満のポリビニルアルコールやポリイミド、ポリアミド、アクリルなどの高分子配向膜を使用できる。配向膜を形成後にラビングは行なっても良いが、行なわなくてもよい。
【０２３７】
上記光学特性を有する複屈折ポリマーフイルムからなる位相差膜は、高分子フイルムを一軸及び二軸延伸することでも容易に形成できる（例、特開２００２−１３９６２１号公報、特開２００２−１４６０４５号公報）。また、延伸することなしに流延するだけでこの光学特性を発現するセルロースアシレート類を好適に用いることができる。かかるセルロースアシレートとして、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００１−１６６１４４号公報、特開２００２−１６１１４４号公報、特開２００２−９０５４１号公報に記載されているものを用いることができる。高分子フイルムの材料は、一般に合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂、セルロースアセテート）が用いられる。
塗布若しくは転写で透明支持体上に形成した位相差膜として、キラル構造単位を含んだ棒状コレステリック液晶性組成物を、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させたのち、固定化したものや、複屈折が負のディスコチック液晶性化合物を水平配向（ダイレクターは基板に垂直）させたもの、ポリイミド高分子を基板上に流延固定したものなどを例示することができる。
【０２３８】
上記の、塗布若しくは転写で透明支持体上に形成した位相差膜を形成するポリマーフイルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフイルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、上記ポリマーフイルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明の透明フイルムは上記基材として好ましく用いることができる。また、上記ポリマーフイルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフイルムを基材から剥離させたのちに本発明の透明フイルムと貼合し、あわせて光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフイルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。
【０２３９】
（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【０２４０】
光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、及び特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。
【０２４１】
（ポリマーフイルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層はポリマーフイルムから形成してもよい。ポリマーフイルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル及びセルロースエステル（例、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。
【０２４２】
ポリマーフイルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸又は二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、又はポリマーフイルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフイルムを用いて、二枚以上のフイルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフイルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。
【０２４３】
（一般的な液晶表示装置の構成）
本発明の透明フイルムを光学補償フイルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、透明フイルムからなる光学補償フイルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フイルムを配置した構成を有している。
【０２４４】
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０２４５】
（液晶表示装置の種類）
本発明の透明フイルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の透明フイルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【０２４６】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の透明フイルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【０２４７】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明の透明フイルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０２４８】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の透明フイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０乃至１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０２４９】
（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明の透明フイルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明の透明フイルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、前記偏光板の保護膜と保護膜と液晶セルの間に配置された光学異方性層のリターデーションの値は、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。またＲｔｈ値の絶対値｜Ｒｔｈ｜は、２５ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以下に設定するのが好ましいため、本発明の透明フイルムが有利に用いられる。
【０２５０】
（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明の透明フイルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
【０２５１】
（反射型液晶表示装置）
本発明の透明フイルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。
【０２５２】
（その他の液晶表示装置）
本発明の透明フイルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ  ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，ＳＩＤ  ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９  （１９９８））に記載がある。
【０２５３】
（ハードコートフイルム、防眩フイルム、反射防止フイルム）
本発明の透明フイルムは、またハードコートフイルム、防眩フイルム、反射防止フイルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明の透明フイルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フイルム、反射防止フイルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明の透明フイルムを好ましく用いることができる。
【０２５４】
（写真フイルム支持体）
さらに本発明に用いることが出来るセルロースアシレートフイルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該特許に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のセルロースアシレートフイルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。
【０２５５】
（透明基板）
本発明に用いることが出来るセルロースアシレートフイルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。液晶を封入する透明基板はガスバリア性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースアシレートフイルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフイルムの少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフイルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０号公報などに公開されている。
【実施例】
【０２５６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
［実施例１−１］
（透明フイルムの作製）
ポリカーボネートフイルム「パンライトＣ１４００」（帝人化成製）、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製，ＡＲＴＯＮ）、ゼオノア（日本ゼオン製）をそれぞれ塩化メチレンに溶解した溶液を得た。この溶液に、表１−１に示す光学的異方性（Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ））を低下する化合物をポリマー固形分に対して所定量加え、当該溶液を用いてキャティング法により、厚さ４０μｍの透明フイルム００１〜００６を得た。これら本発明の透明フイルム００２、００４，００６はいずれも４００ｎｍと７００ｎｍとでＲｔｈの正負が逆転する光学性能を持つフイルムであることがわかった。
【０２５７】
【表５】
2007530989.tif 000074
【０２５８】
（偏光板の作製）
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフイルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。この偏光膜の両面に接着剤を用いて、前記の透明フイルム試料００１を２枚用意して偏光膜を間にして貼り合わせ、両面が透明フイルム００１によって保護された偏光板を得た。この際両側の透明フイルム試料００１の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付け、偏光板００１を作製した。同様にして透明フイルム試料００２〜００６についても偏光板を作製し、以下これら偏光板を偏光板００２〜００６という。
【０２５９】
［実施例１−２］
（透明フイルムの作製）
（セルロースアシレート溶液の調製）
表２に示すような各種セルロースアシレートを用い、下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
（セルロースアシレート溶液組成）
セルロースアシレート                    １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                    ６０．０質量部
【０２６０】
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
（マット剤溶液組成）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液        １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                      ３．４質量部
セルロースアシレート溶液                  １０．３質量部
【０２６１】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤については下記表２に示すものを用いた。
（添加剤溶液組成）
光学的異方性を低下する化合物      ４９．３〜７６．７質量部
波長分散調整剤                              １０．１質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）              ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                        ８．７質量部
セルロースアシレート溶液                    １２．８質量部
【０２６２】
（セルロースアシレートを用いた透明フイルムの作製）
上記セルロースアシレート溶液を９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤のセルロースアシレートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。残留溶剤量３０％でフイルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、比較試料１０１〜１０２および本発明の透明フイルム試料１０３〜１２１を作製した。出来あがった透明フイルムの残留溶剤量は０．２％以下であり、膜厚は１０４〜４０μｍであった。これら本発明の透明フイルム試料１０３〜１２１はいずれも４００ｎｍと７００ｎｍとでＲｔｈの正負が逆転する光学性能を持つフイルムであることがわかった。
【０２６３】
【表６】
2007530989.tif 000075
【０２６４】
（偏光板の作製）
前記の透明フイルム試料１０１を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、透明フイルムの表面をケン化した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフイルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のケン化した透明フイルム試料１０１を２枚用意して偏光膜を間にして貼り合わせ、両面が透明フイルム１０１によって保護された偏光板を得た。この際両側の透明フイルム試料１０１の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付け、偏光板１０１を作製した。同様にして透明フイルム試料１０２〜１２１についても偏光板を作製し、以下これら偏光板を偏光板１０２〜１２１という。これら偏光板はいずれも十分な偏光性能を持っていた。
【０２６５】
［実施例１−３］
（液晶表示装置への透明フイルムの実装評価）
図７に示す構成のＩＰＳモードの液晶表示装置を作製した。具体的には、一対の基板１６及び１８の間に液晶性分子１７を封入して作製した液晶セルを、一対の偏光膜１１ａ及び１１ｂの間に配置した。液晶セルと下側偏光膜１１ｂとの間に、本発明の透明フイルム１９を配置し、液晶セルと上側偏光膜１１ａとの間に、第一光学補償フイルム１５及び第二光学補償フイルム１３を配置した。なお、偏光膜の透過軸１２ａ、１２ｂと、第一光学補償フイルムの遅相軸１５ａとの関係は、各々の実施例の説明中に記載する。また、図７中、各部材は便宜上、独立の部材として描かれているが、各部材は他の部材と一体化された後、例えば、透明フイルム１９は保護フイルムとして偏光膜１１ｂと一体化された後、装置中に組み込まれている場合もある。
以下、各部材の作製方法について詳細に説明する。
【０２６６】
（ＩＰＳモード液晶セルの作製）
一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【０２６７】
（透明フイルム１９、下側偏光板１１ｂの作製）
本実施例では透明フイルム１９と下側偏光板１１ｂは一体化したものとした。すなわち、偏光板１１ｂは実施例１の透明フイルム試料００１〜００６より作製した偏光板００１〜００６、実施例２の透明フイルム試料１０１〜１２１より作製した偏光板１０１〜１２１を用いた。
【０２６８】
（第二光学補償フイルム１３の作製）
フジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製）を１５０℃で１５％縦一軸延伸することにより光学補償フイルム１３を作製した。このフイルムの光学特性は、Ｒｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。
【０２６９】
（第一光学補償フイルム１５の作製）
上記で作製した第二光学補償フイルムの表面をケン化後、このフイルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０度の温風で６０秒、さらに１００度の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフイルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
下記の変性ポリビニルアルコール                  １０質量部
水                                            ３７１質量部
メタノール                                    １１９質量部
グルタルアルデヒド                            ０．５質量部
テトラメチルアンモニウムフルオライド          ０．３質量部
【０２７０】
【化６８】
2007530989.tif 000076
【０２７１】
次に、配向膜上に、下記のディスコティック液晶性化合物１．８ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）０．２ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、下記のフッ素系ポリマー（空気界面側垂直配向剤）０．０１ｇを３．９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃５のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２５度の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、１００度で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射しディスコティック液晶化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして、第二光学補償フイルム上に、第一光学補償フイルムが形成された位相差膜２を製作した。
【０２７２】
【化６９】
2007530989.tif 000077
【０２７３】
上記作製した位相差膜２のＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定した第二光学補償フイルムの寄与分を差し引くことによって、ディスコティック液晶位相差層（第一光学補償フイルム）のみの光学特性を算出したところ、Ｒｅが１１０ｎｍ、Ｒｔｈが−５５ｎｍ、液晶の平均傾斜角は８９．９°であり、ディスコティック液晶がフイルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。なお遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。
【０２７４】
（上側偏光板１１ａの作製）
次に、延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて上側偏光膜１１ａを作製した。これに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）をこの偏光膜の一方の表面に貼り付けた。その後、偏光膜１１ａの他の表面に、第二光学補償フイルム１３が偏光膜１１ａ側になるように、位相差膜２を貼り合わせて、光学補償層と一体化した上側偏光板を作製した。
【０２７５】
（液晶表示装置の構造）
さらに、第一光学補償フイルム側が液晶セル側になるように、第一偏光板に上記作製したＩＰＳモードセルを貼り合わせた。ここで、第一光学補償フイルム１５及びＩＰＳモードセルの液晶層の２の遅相軸は、偏光膜１１ａの透過軸１２ａと平行にした。次に、前記で作製した第二偏光板１１ｂをその透過軸１２ｂが、偏光膜１１ａの透過軸１２ａと直交するように張り合わせ、液晶表示装置を作製した。
【０２７６】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置において、左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光を測定した。結果は表１、２に示した。本発明の透明フイルムを用いた場合は比較例に対していずれも漏れ光が少なく、本発明の透明フイルムが液晶表示装置のコントラスト、色味表示の視野角特性に優れていることがわかった。
【０２７７】
［実施例１−４］
（光学補償フイルム性能）
本発明の透明フイルム試料を用いて、特開２００３−３１５５４１号公報の実施例１に記載の方法に準じて光学補償フイルム試料を作製した。２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）から合成された、重量平均分子量（Ｍｗ）７万、△ｎが約０．０４のポリイミドを、溶媒にシクロヘキサノンを用い２５ｗｔ％に調製した溶液を、実施例２で作製した本発明の透明フイルム試料１０３（厚さ４０μｍ）に塗布した。その後１００℃で１０分熱処理後、１６０℃で１５％縦一軸延伸することにより厚さ６μｍのポリイミドフイルムが本発明の透明フイルムに塗布された光学補償フイルムを得た。この光学補償フイルムの光学特性は、Ｒｅ＝７２ｎｍ、Ｒｔｈ＝２２０ｎｍ、配向軸のズレ角度は±０．３度以内で、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの複屈折層を持つ光学補償フイルムであった。
【０２７８】
（比較例）
上記の透明フイルム試料１０３の代わりに、比較試料１０１（厚さ４０μｍ）に塗布した以外は同様の操作により、厚さ６μｍのポリイミドフイルムが比較試料１０１の透明フイルムに塗布された光学補償フイルムを得た。この光学補償フイルムの光学特性は、Ｒｅ＝７５ｎｍ、Ｒｔｈ＝２８０ｎｍであった。
【０２７９】
（ＶＡ型液晶表示装置への実装評価）
上記実施例４および比較例で得られた光学補償フイルムの、ポリイミドフイルムを塗布していない側をアルカリ鹸化処理しポリビニルアルコール系接着剤で偏光子と接着することにより、直接偏光子と貼り合せた。この際光学補償フイルムのｎｘ方向と偏光板の吸収軸が直交するように貼り合せた。これら光学補償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤でＶＡ液晶パネルに張り合わせた。なお、液晶セルの反対側には偏光板の吸収軸同士が直交するように偏光板のみを粘着剤を介してＶＡ液晶パネルに貼り合せた。以上のようにして得られた液晶表示装置の視野角特性を測定したところ、実施例３で得られた本発明の透明フイルム試料１０３より得られた光学補償フイルムは比較試料１０１から得た光学補償フイルムよりも左右上下に優れた視野角を有するものであった。したがって、本発明の透明フイルムが、ＶＡ用の位相差フイルムとして用いる際にも優れたものであることが判った。
【０２８０】
［実施例１−５］
（透明フイルムの作製と性能評価）
実施例２と同様の操作により、本発明の透明フイルム試料１２２〜１２５および比較試料１０３を作製した。これら試料の処方および性能評価を表１−３及び表１−４に示した。また、これら本発明の透明フイルム試料１２２〜１２５は、実施例２と同様の操作で作製した偏光板も優れた性能を示し、実施例３と同様の操作で液晶表示装置への実装評価も優れ、実施例４と同様の操作で光学補償フイルムを作製し評価した場合についても、比較試料1０3よりも優れた性能であることが確認できた。
【０２８１】
【表７】
2007530989.tif 000078
【０２８２】
【表８】
2007530989.tif 000079
【０２８３】
［実施例２−１］
図７に示す構成のＩＰＳモードの液晶表示装置を作製した。具体的には、一対の基板１６及び１８の間に液晶性分子１７を封入して作製した液晶セルを、一対の偏光膜１１ａ及び１１ｂの間に配置した。液晶セルと下側偏光膜１１ｂとの間に、本発明の透明フイルム１９を配置し、液晶セルと上側偏光膜１１ａとの間に、第一光学補償フイルム１５及び第二光学補償フイルム１３を配置した。なお、偏光膜の透過軸１２ａ、１２ｂと、第一光学補償フイルムの遅相軸１５ａとの関係は、各々の実施例の説明中に記載する。また、図７中、各部材は便宜上、独立の部材として描かれているが、各部材は他の部材と一体化された後、例えば、透明フイルム１９は保護フイルムとして偏光膜１１ｂと一体化された後、装置中に組み込まれている場合もある。各実施例の説明中に明記した。
以下、各部材の作製方法について詳細に説明する。
【０２８４】
（ＩＰＳモード液晶セルの構造）
一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【０２８５】
（透明フイルム１９の作製）
・セルロースアセテート溶液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｄを調製した。
セルロースアセテート溶液Ｄ組成
酢化度２．８６のセルロースアセテート    １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                    ６０．０質量部
【０２８６】
・マット剤溶液の調製
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液        １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                      ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ                １０．３質量部
【０２８７】
・添加剤溶液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。なお、光学的異方性を低下する化合物として例示化合物Ａ−１９を用い、波長分散調製剤として例示化合物ＵＶ−１０２を用いた。
添加剤溶液組成
光学的異方性を低下する化合物                ４９．３質量部
波長分散調整剤                                ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）              ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                        ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ                  １２．８質量部
【０２８８】
・セルロースアセテートフイルム試料１の作製
上記セルロースアセテート溶液Ｄを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。残留溶剤量３０％でフイルムをバンドから剥離し、１４０度で４０分間乾燥させセルロースアセテートフイルムを製造した。出来あがったセルロースアセテートフイルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。
得られたセルロースアシレートフイルム試料１の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−１４ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝７ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
【０２８９】
第二偏光板の作製：
・偏光膜１１ｂの作製
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフイルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜１１ｂを得た。
・透明フイルム１９との貼り合せ
上記で作製したセルロースアセテートフイルム試料１を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５度で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０度で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００度の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフイルムの表面をケン化した。次に、ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、アルカリけん化処理したセルロースアシレートフイルム試料を２枚用意して、上記作製した偏光膜を間にして貼り合わせ、両面が、セルロースアシレートフイルムによって保護された第二偏光板を得た。
【０２９０】
（第二光学補償フイルム１３の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、下記の組成を有するセルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液の組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート            １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                              ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                          １１質量部
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４８７質量部にレターデーション上昇剤溶液１１質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。
【０２９１】
【化７０】
2007530989.tif 000080
【０２９２】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０度となってから、６０度の温風で１分間乾燥し、フイルムをバンドから剥ぎ取った。次にフイルムを１４０度の乾燥風で１０分間乾燥し、厚さ４０μｍの第２光学補償フイルムを製作した。
このフイルムの光学特性は、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することにより求めたところ、Ｒｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。
【０２９３】
（第一光学補償フイルム１５の作製）
作成した第二光学補償フイルムの表面をケン化後、このフイルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０度の温風で６０秒、さらに１００度の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフイルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
下記の変性ポリビニルアルコール                  １０質量部
水                                            ３７１質量部
メタノール                                    １１９質量部
グルタルアルデヒド                            ０．５質量部
テトラメチルアンモニウムフルオライド          ０．３質量部
【０２９４】
【化７１】
2007530989.tif 000081
【０２９５】
次に、配向膜上に、下記のディスコチック液晶性化合物１．８ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）０．２ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、下記のフッ素系ポリマー（空気界面側垂直配向剤）０．０１ｇを３．９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃５のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２５度の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコチック液晶化合物を配向させた。次に、１００度で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射しディスコチック液晶化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして、第二光学補償フイルム上に、第一光学補償フイルムが形成された位相差膜２を製作した。
【０２９６】
【化７２】
2007530989.tif 000082
【０２９７】
上記作製した位相差膜２のＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定した第二光学補償フイルムの寄与分を差し引くことによって、ディスコチック液晶位相差層（第一光学補償フイルム）のみの光学特性を算出したところ、Ｒｅが１１０ｎｍ、Ｒｔｈが−５５ｎｍ、液晶の平均傾斜角は８９．９°であり、ディスコチック液晶がフイルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。なお遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。
【０２９８】
（第一偏光板の作製）
・第一偏光膜１１ａの作製
次に、延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて第一偏光膜１１ａを作製した。これに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）をこの偏光膜の一方の表面に貼り付けた。
・第二光学補償フイルム１３及び第一光学補償フイルム１３の貼り合わせ
その後、偏光膜１１ａの他の表面に、第二光学補償フイルム１３が偏光膜１１ａ側になるように、位相差膜２を貼り合わせて、第一偏光板を作製した。
【０２９９】
（液晶表示装置の構造）
さらに、第一光学補償フイルム側が液晶セル側になるように、第一偏光板に上記作製したＩＰＳモードセルを貼り合わせた。ここで、第一光学補償フイルム１５及びＩＰＳモードセルの液晶層の２の遅相軸は、偏光膜１１ａの透過軸１２ａと平行にした。次に、前記で作製した第二偏光板１１ｂをその透過軸１２ｂが、偏光膜１１ａの透過軸１２ａと直交するように張り合わせ、液晶表示装置を作製した。
【０３００】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０１９％であった。
【０３０１】
［実施例２−２］
図７と同様の構成の液晶表示装置を作製した。
（透明フイルム１９の作製）
実施例１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の作製方法で、セルロースアセテートフイルムの膜厚を変えてセルロースアセテートフイルム試料２を作製し、透明フイルム１９として用いた。セルロースアセテートフイルム試料２の膜厚は、８０μｍであった。得られたセルロースアセテートフイルム試料２の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−２８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝１４ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりにセルロースアセテートフイルム試料２を透明フイルム１９として用いた以外は、実施例１と全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
【０３０２】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０１７％であった。
【０３０３】
［実施例２−３］
図７に示す構成の液晶表示装置を作製した。
（透明フイルム１９の作製）
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の作製方法で、セルロースアセテートフイルムの膜厚をかえて、セルロースアセテートフイルム試料３を作製し、これを透明フイルム１９として用いた。このときの膜厚は１２０μｍであった。得られたセルロースアセテートフイルム試料３の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−４２ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝２１ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりに、セルロースアセテートフイルム試料３を透明フイルム１９として用いた以外は、実施例１と全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
【０３０４】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０１６％であった。
【０３０５】
［実施例２−４］
図７に示す構成の液晶表示装置を作製した。
（透明フイルム１９の作製）
実施例１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の作製方法で、セルロースアセテートフイルムの膜厚をかえて、セルロースアセテートフイルム試料４を作製し、透明フイルム１９として用いた。このときの膜厚は１６０μｍであった。得られたセルロースアセテートフイルム試料４の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−５６ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝２８ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりに、セルロースアセテートフイルム試料４を透明フイルム１９として用いた以外は、全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
【０３０６】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０１６％であった。
【０３０７】
［実施例２−５］
図７に示す液晶表示装置を作製した。
（透明フイルム１９の作製）
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の作製方法で、セルロースアセテートフイルムの膜厚をかえてセルロースアセテートフイルム試料５を作製し、透明フイルム１９として用いた。このときの膜厚は２００μｍであった。得られたセルロースアセテートフイルム試料５の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝３５ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりに、セルロースアセテートフイルム試料５を透明フイルム１９として用いた以外は、全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
【０３０８】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０１７％であった。
【０３０９】
［実施例２−６］
図７に示す構成の液晶表示装置を作製した。
（透明フイルム１９の作製）
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の作製方法で、セルロースアセテートフイルムの膜厚をかえてセルロースアセテートフイルム試料６を作製し、透明フイルム１９として用いた。このときの膜厚は２４０μｍであった。得られたセルロースアセテートフイルム試料６の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−８４ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝４２ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりに、セルロースアセテートフイルム試料６を透明フイルム１９として用いた以外は、全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
【０３１０】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０１８％であった。
【０３１１】
［実施例２−７］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
（透明フイルム１９の作製）
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の作製方法で、セルロースアセテートフイルムの膜厚をかえて、セルロースアセテートフイルム試料７を作製し、透明フイルム１９として用いた。このときの膜厚は２８０μｍであった。得られたセルロースアセテートフイルム試料７の光学特性は、Ｒｔｈ（４００）＝−９８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（７００）＝４９ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝０ｎｍであった。
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりに、セルロースアセテートフイルム試料７を透明フイルム１９として用いた以外は、全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
【０３１２】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２１％であった。
【０３１３】
［比較例２−１］
実施例２−１におけるセルロースアセテートフイルム試料１の代わりに、ゼオノアフイルム（日本ゼオン社製）を透明保護フイルム１９として用いた以外は、全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。ゼオノアフイルムの光学特性は、Ｒｔｈ（４００）、Ｒｔｈ（５５０）、Ｒｔｈ（７００）、Ｒｅ（６３０）ともほぼ０ｎｍであった。
【０３１４】
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２２％であった。
【０３１５】
［実施例２−８］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−１において作製した第一光学補償フイルムの代わりに、市販されている日立製液晶テレビ（型番：Ｗ３２−Ｌ５０００）の表側の偏光板と液晶セルの間に配置されていた高分子フイルム１を第一光学補償フイルムとして用いて、その他は実施例１と全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。高分子フイルム１の光学特性は、Ｎｚ＝０．２８、Ｒｅ＝１２８ｎｍであった。高分子フイルム１の面内遅相軸は液晶層の面内遅相軸と平行に配置した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２５％であった。
【０３１６】
［実施例２−９］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−２で用いた第二光学補償フイルムの代わりに、実施例２−８と同様に高分子フイルム１を第二光学補償フイルムとして用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２４％であった。
【０３１７】
［実施例２−１０］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−３で用いた第二光学補償フイルムの代わりに、実施例２−８と同様に高分子フイルム１を第二光学補償フイルムとして用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２２％であった。
【０３１８】
［実施例２−１１］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−４で用いた第二光学補償フイルムの代わりに、実施例２−８と同様に高分子フイルム１を第二光学補償フイルムとして用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２２％であった。
【０３１９】
［実施例２−１２］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−５で用いた第二光学補償フイルムの代わりに、実施例２−８と同様に高分子フイルム１を第二光学補償フイルムとして用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２６％であった。
【０３２０】
［実施例２−１３］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−６で用いた第二光学補償フイルムの代わりに、実施例２−８と同様に高分子フイルム１を第二光学補償フイルムとして用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０２８％であった。
【０３２１】
［実施例２−１４］
図７の構成の液晶表示装置を作製した。
実施例２−７で用いた第二光学補償フイルムの代わりに、実施例２−８と同様に高分子フイルム１を第二光学補償フイルムとして用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０３４％であった。
【０３２２】
［比較例２−２］
実施例２−８で、セルロースアセテートフイルム試料１の代わりにゼオノアフイルム（日本ゼオン社製）を透明フイルム１９として用いて、その他は全く同じ方法で液晶表示装置を作製した。ゼオノアフイルムの光学特性は、Ｒｔｈ（４００）、Ｒｔｈ（５５０）、Ｒｔｈ（７００）、Ｒｅ（６３０）ともほぼ０ｎｍであった。
（作製した液晶表示装置の漏れ光の測定）
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０３５％であった。
【産業上の利用可能性】
【０３２３】
本発明の透明フイルムは、特定の波長間でＲｔｈの正負の符号が逆転する波長依存性を示す。この透明フイルムを用いることによって、ＩＰＳモードの液晶表示装置におけるコントラスト、色ずれの視角依存性を改良することができる。この様に、本発明の透明フイルムは、画像表示装置の分野に応用することができる。また、本発明の透明フイルムは、画像表示装置の液晶セルの基板及び各種機能性フイルムの一部材に利用することができる。さらに本発明の透明フイルムは、写真フイルムの支持体としても用いることができる。
いくつかの態様に関連させて本発明を説明したが、明細書の詳細な説明に記載の態様に限定することを意図しているのではなく、特別の定めがない限り、むしろ添付の特許請求の範囲に記載の精神と範囲に含まれる限り広く解釈されることを意図する。
【図面の簡単な説明】
【０３２４】
【図１】従来のＩＰＳモードの液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。
【図２】従来のＩＰＳモードの液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。
【図４】従来の液晶表示装置の一例における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図５】本発明の液晶表示装置における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図６】本発明に使用される透明フイルムの一例のＲｔｈの波長依存性を示したグラフである。
【図７】本発明の液晶表示装置の一例を示す概略模式図である。
【符号の説明】
【０３２５】
１、２            偏光層
３                液晶セル
４                本発明の透明フイルム
５、６            光学補償フイルム
１１ａ、１１ｂ    偏光膜
１２ａ、１２ｂ    透過軸
１３              第二光学補償フイルム
１５              第一光学補償フイルム
１５ａ            面内遅相軸
１６、１８        基板
１７              液晶性分子
１９              本発明の透明フイルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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