(57)【要約】  コンピュータ断層撮影（ＣＴ）スキャナ（１０）における使用に適したＸ線管（１６）は、真空チャンバを定める外被（４２）を含む。陽極（４０）及び陰極組立体（７０）がチャンバ内に配置される。陽極は、陰極組立体のフィラメント（５４）によって放射される電子によって打たれ、且つ、Ｘ線（４６）を放射する標的領域（５６）を定める。標的領域は、陽極の回転軸（Ｒ）に対して直交する平面に対する第一角度（α）で配置された第一環状部分（８０）上、及び、第一部分から径方向に離間し、且つ、平面に対する第二角度（β）で配置される第二部分（８２，１２０）上に部分的に位置する。第二角度は第一角度よりも大きい。異なる傾斜の部分は、ヒール効果を最小限化しながら、Ｘ線管が浅い角度を活用することを可能にする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空のチャンバを定める外被と、
回転軸について回転するために前記チャンバ内に取り付けられた陽極とを有し、
該陽極は、標的領域を定める傾斜付き外周領域を定め、
前記標的領域は、電子源によって放射される電子によって打たれ、且つ、Ｘ線を放射し、
前記傾斜付き外周領域は、前記回転軸に対して直交する平面に対して第一角度で傾斜する第一環状部分と、該第一環状部分の近傍で、前記平面に対して第二角度で傾斜する第二環状部分とを含み、
前記第二角度は前記第一角度と異なり、
前記標的領域は、前記第一環状部分上に部分的に定められ、且つ、前記第二環状部分上に部分的に定められた、
Ｘ線管。
【請求項２】
前記第一環状部分は、前記第二環状部分よりも前記陽極の外周に近い、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項３】
前記第一角度と前記第二角度は少なくとも１°だけ相違する、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項４】
前記第一角度と前記第二角度は少なくとも２°だけ相違する、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項５】
前記第一角度は約８°未満である、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項６】
前記第一角度は約６°から約８°である、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項７】
前記第一角度は約７°である、請求項５に記載のＸ線管。
【請求項８】
前記第二角度は少なくとも８°である、請求項６に記載のＸ線管。
【請求項９】
前記第二角度は約１０°である、請求項８に記載のＸ線管。
【請求項１０】
前記第一部分と前記第二部分との中間にある環状移行部分をさらに有し、該環状移行部分は、前記第一部分と前記第二部分との間の円滑で曲線的な移行を定める、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項１１】
前記移行部分は、前記第一部分から前記第二部分に漸進的に湾曲し、前記移行部分は、前記第一部分の近傍で第一角度で傾斜し、且つ、前記第二部分の近傍で第二角度で傾斜している、請求項１０に記載のＸ線管。
【請求項１２】
前記第二部分は、前記第一部分から離間するに従って傾斜が増大している、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項１３】
前記第一角度は前記第二角度よりも小さく、前記電子源は、実質的に同一の特定負荷を、前記第二部分上の前記標的領域の部分よりも、前記第一部分上の前記標的領域の部分に供給する、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項１４】
前記電子源は、前記第一環状部分上の前記標的領域の前記部分を打つ電子を放射する領域により大きな幅を有し、且つ、前記第二環状部分上の前記標的領域の前記部分を打つ電子を放射する領域により小さな幅を有するフィラメントを有する、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項１５】
前記フィラメントの前記幅は、前記フィラメントの前記領域からの前記電子によって打たれる前記標的領域の領域の傾斜の角度のタンジェントと反比例するよう変化する、請求項１５に記載のＸ線管。
【請求項１６】
請求項１に記載のＸ線管を有するコンピュータ断層撮影スキャナ。
【請求項１７】
少なくとも１つのＸ線検出器と、再構築プロセッサとを有し、該再構築プロセッサは、前記第二環状部分からよりも高いＸ線束を、前記第一環状部分から占めるようプログラムされている、請求項１６に記載のコンピュータ断層撮影スキャナ。
【請求項１８】
電子ビームを加速し且つ集束するステップと、
回転軸について回転する陽極の傾斜する外周領域の上の標的領域を打つステップとを有し、
前記外周領域は、前記回転軸に対して直交する平面に対する第一角度で傾斜する第一環状部分と、該第一環状部分から径方向に離間し、且つ、前記平面に対して第二角度で傾斜する第二環状部分とを有し、
前記第二角度は前記第一角度と異なり、
前記標的領域は、前記第一環状部分上に部分的に定められ、且つ、前記第二環状部分上に部分的に定められた、
Ｘ線ビームを発生する方法。
【請求項１９】
前記第一環状部分上の前記標的領域を打つ前記電子ビームの部分が、前記第二環状部分上の前記標的の前記部分を打つ前記電子ビームの部分よりも大きな電子電流密度を有するよう電子を発生するステップをさらに有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第一環状部分が傾斜する前記角度は、前記第二環状部分が傾斜する角度よりも小さい、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
Ｘ線（４６）を被検者の方向に向けるステップと、
前記被検者を通過する前記Ｘ線を検出器で検出するステップと、
前記第二環状部分上の前記標的領域の前記部分からよりも大きなＸ線束を、前記第一環状部分上の前記標的領域の前記部分から占めるステップを有する、前記被検者の映像を再構築するステップとをさらに有する、
請求項１８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＸ線管技術に関する。本発明は、大径ボアのコンピュータ断層撮影スキャナ用のＸ線管組立体に具体的な用途を見い出す。本発明は、陽極に損傷を与える熱負荷を起こさずに陽極電流を増大することが望ましい他のより高出力のＸ線装置にさらなる用途を見い出すことが理解されるべきである。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ断層撮影（ＣＴ）スキャナは、患者支持体上に配置された被検者をＸ線検査し、被検者の診断映像を生成する。Ｘ線管組立体は、回転ガントレ上に取り付けられ、回転ガントレ又は固定ガントレ上の検出器リングに取り付けられた二次元検出器配列のような検出システムによって検出される被検者の部位を通じて放射線ビームを投射する。照射されるスライス又はコーンビームの幅を増大するために、陽極の回転軸と平行な検知器配列の幅は漸進的に増大された。この増大された幅は、より高速なスキャン時間と共に、より高いＸ線束の発生に関して、Ｘ線管により大きな要求を置く。
【０００３】
従来的な回転陽極Ｘ線管からのＸ線は、患者に最近地点にあるのが典型的な陽極の傾斜付き周縁部上の標的から放射されるのが典型的である。電子はそこに衝突し、Ｘ線に変換される。Ｘ線ビームは、陽極を打つ電子ビームに対して約９０°の角度で、扇状又は楔状のＸ線ビームに平行化されるのが典型的である。集束電子ビームが陽極を打つ標的領域を増大し、よって、標的の電流負荷毎ユニットを減少するために、周縁は傾斜を備えるのが一般的である。Ｘ線ビーム源の幅（焦点幅）は、標的領域の高さ（径方向）の投影である。より具体的には、投影は、電子ビームの高さに陽極周縁の傾斜角度のタンジェントを乗じたものの関数である。
【０００４】
より高い負荷が要求される結果として、近年、傾斜は（電子ビームに対して直交する軸に対して）約１０°から約７°又はそれ以下に減少している。下表から分かるように、これは、Ｘ線ビーム方向で見られるときに、所与の投影焦点サイズでの同一の熱負荷のために陽極電流の４０％を超える増加を可能にする。
【０００５】
【表１】
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【０００６】
しかしながら、浅い角度（例えば７°）で、Ｘ線ビームはヒールで切り詰められ或いはＸ線束が減少される傾向がある。具体的には、入射電子の全てが陽極面の表面でＸ線を発生しない。むしろ、一部の電子はＸ線を発生する前に標的内に深く浸透する。ビーム角が標的傾斜の二倍未満であることを条件として、表面で発生したＸ線は陽極を通過しない。しかしながら、標的内で発生したＸ線はそれを通過しなければならず、標的の重金属によって減衰される。周面の傾斜が平面的であればあるほど、また、ビーム角が広ければ広いほど、内部発生Ｘ線は、出力ビームの方向に現れる前に、陽極金属を通過してさらに進行しなければならない。ヒール効果減衰はビームの陽極側にあるＸ線のためにより大きい。
【０００７】
よって、ＣＴスキャナ製造業者は、ヒール効果の故に提供し得るビーム角に関して制限のある浅い傾斜（例えば７°）、或いは、保持し得る負荷に関して制限のあるより急勾配な傾斜（例えば１０°）のいずれかを特定する選択に直面する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記及び他の問題点を克服する新規且つ改良された方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の１つの特徴に従えば、Ｘ線管が提供される。Ｘ線管は真空のチャンバを定める外被と、回転軸について回転するためにチャンバ内に取り付けられた陽極とを有する。陽極は、標的領域を定める傾斜付き外周領域を定め、標的領域は、電子源によって放射される電子によって打たれ、且つ、Ｘ線を放射する。傾斜付き外周領域は、回転軸に対して直交する平面に対して第一角度で傾斜する第一環状部分と、第一環状部分の近傍で、平面に対して第二角度で傾斜する第二環状部分とを含む。第二角度は第一角度と異なる。標的領域は、第一環状部分上に部分的に定められ、且つ、第二環状部分上に部分的に定められている。
【００１０】
本発明の他の特徴に従えば、Ｘ線ビームを発生する方法が提供される。回転軸について回転する陽極の傾斜する外周領域上の標的領域を打つために、電子ビームは加速され且つ集束される。陽極の外周領域は、回転軸に対して直交する平面に対する第一角度で傾斜する第一環状部分と、第一環状部分から径方向に離間し、且つ、平面に対して第二角度で傾斜する第二環状部分とを有する。第二角度は第一角度と異なる。標的領域は、第一環状部分上に部分的に定められ、且つ、第二環状部分上に部分的に定められる。
【００１１】
１つの利点は、十分に大きなビーム角を維持しながら、陽極が浅い傾斜を有することを可能にすることである。
【００１２】
本発明の少なくとも１つの実施態様の他の利点は、それがより高い束のより広いＸ線ビームを発生するのを容易にすることである。
【００１３】
他の利点は、陽極加熱の減少に存する。
【００１４】
以下の好適実施態様の詳細の記載を読み且つ理解することによって、本発明のさらなる利点が当業者に明らかになるであろう。
【００１５】
本発明は、様々な構成部材及びそれらの構成部材の配置、並びに、様々なステップ及びそれらのステップの配列の形態を取り得る。図面は好適実施態様を例証する目的であるに過ぎず、本発明を制限するものと解釈されるべきではない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１を参照すると、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）スキャナ１０が、患者支持体１２上に配置された被検者をＸ線検査し、診断映像を生成する。より具体的には、支持体１２上の被検者の関心容積が、典型的には支持体１２を方向Ｚに並進することによって検査領域１４内に移動される。回転ガントリ上に取り付けられたＸ線管組立体１６が、１つ又はそれ以上の放射線ビームを検査領域１４を通じて投射する。コリメータ１８が放射線ビームを二次元に平行化する。好適実施態様では、二次元Ｘ線検出器２０が、Ｘ線管から見て検査領域１４の向こう側の回転ガントレ上に配置されている。他の実施態様では、二次元検出器のリング又は配列が、回転ガントレの周りの固定ガントレ上に取り付けられている。
【００１７】
検査領域１４を横断するＸ線を、Ｘ線管１６と検出器２０との間のＸ線吸収を示す電気信号に変換するために、Ｘ線検出器２０は既知の方法で動作する。電気信号は、回転ガントレの角位置に関する情報と共に、データメモリ３０に通信される。データメモリ３０からのデータは再構築プロセッサ３２によって再構築される。コーンビーム、マルチスライス、スパイラル走査及び再構築技法、並びに、それらの類似物を含む様々な既知の再構築技法が企図される。再構築プロセッサ３２によって生成される容積映像表示は、容積映像メモリ３４に記憶される。ビデオプロセッサ３６は、映像メモリの選択的部分を引き出して、スライス映像、投影映像、表面レンダリング、及び、それらの類似物を創成し、ＣＲＴ又はＬＣＤモニタのようなモニタ３８上で表示するためにそれらを再フォーマットする。
【００１８】
ここで図２を参照すると、Ｘ線管組立体１６はディスク形状の陽極４０を含み、陽極は空気真空外被４２内に取り付けられ、回転ガントレの回転軸に対して直交する平面にあり得るが、他のジオメトリも企図され得る。真空外被は、冷却タンクを定める良好なＸ線阻止能ハウジング４４を備えた鉛又は他の高Ｚ金属で取り囲まれている。ベリリウム又は他の低Ｚ金属又は材料の窓４５が、検査領域１４の近傍に出口を定め、Ｘ線４６はそこを通じて検査領域１４に進入する。検査領域１４と窓４５との間に位置しているのは、ビーム整形フィルタ（図示せず）及びコリメータ１８である。
【００１９】
陽極４０は、陰極組立体のフィラメント５４のような電子源によって発生する電子ビーム５２によって打たれる傾斜付き環状周縁を有する。電子ビームは集束されて、傾斜縁上の限定的な所定領域又は標的５６を打つ。陽極は中心シャフト５８に取り付けられ、概ね電子ビーム５２と平行であり且つ陽極の正面に対して直交する軸Ｒについて回転する。傾斜付き標的５６は、その内周縁で距離ｄ１だけ、その外周園で距離ｄ２だけ軸Ｒから離間している。ビーム５２内の電子の大部分は、標的５６内の陽極を打ち、最小限の割合だけが陽極表面の他の部分を打つ。標的５６は、好ましくは、陰極によって放射され且つ陽極を打つ電子の少なくとも９０％、より好ましくは、これらの電子の少なくとも９９％を受ける。
【００２０】
フィラメント５４は、集束装置として作用する陰極カップ７０内に取り付けられ、フィラメントによって放射される電子をビーム５２に集束し、ビームは高圧源７２によって陽極に向かって加速される。陰極カップ及びフィラメントは共に陰極組立体を形成し、外被４２に対して固定されたままであるが、陰極組立体が回転するのに対し、陽極が固定されたままであることも企図される。いずれにしても、陰極組立体は出力ビーム４６に対して固定されたままである。
【００２１】
図２を継続的に参照しながら図３も参照すると、標的５６は、周縁５０の主要部分８０、及び、周縁の二次的部分上に部分的に定められている。二次的部分８２は、主要部分８０の径方向内側に位置している。主要部分８０は、陽極の軸Ｒに対して直交する平面に対して角度αで延在している。二次的部分は、陽極の軸Ｒに対して直交する軸に対して角度βで延在している。角度βは角度αよりも大きい。１つの実施態様では、角度α及びβは少なくとも１°だけ異なる。他の実施態様では、これらの角度は少なくとも２°だけ異なる。例えば、角度αは約６°〜約８°であるのに対し、角度βは約８°〜約１２°である。１つの具体的な好適実施態様において、角度αは約７°であり、且つ、角度βは少なくとも約９°であり、好ましくは、約１０°である。角度αの下限は、検出器、解像度、及び、所望ビームの幅に依存する。現在可能なＣＴシステムでは、これらは６°よりずっと小さい角度αを許容しないが、ＣＴスキャナ技術の進歩はより小さな角度を可能にし得ることが予想される。
【００２２】
好適実施態様において、標的５６を打つ電子の大部分は、主要部分８０に突き通る。１つの具体的な実施態様において、標的を打つ電子の少なくとも６０％は主要部分８０を打ち、４０％以下の残余は二次的部分を打つ。標的５６を打つ電子の少なくとも８０％、より好ましくは、少なくとも９０％が、主要部分及び二次的部分の一方又は他方を打つのが好ましい。図３において、主要部分８０は二次的部分８２と接合部で急に終端するように示されているが、以下に議論されるように、そうでないのが好ましい。
【００２３】
主要部分８０と二次的部分との組み合わせは、主要部分の浅い角度の故に、高出力を可能にすると同時に、二次的部分でヒール効果低減する。主要部分８０からのＸ線ビームの投影ｐ１は、次の式によって、主要部分を打つ電子ビームの高さｈ１に相関している。
【００２４】
【数１】
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【００２５】
同様に、二次的部分に関しては次の通りである。
【００２６】
【数２】
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【００２７】
ここで、ｐ２及びｈ２は、それぞれ二次的部分の投影及び高さである。ｈ１及びｈ２は、主要部分及び二次的部分の実際の高さ以下であり、その場合には、電子ビーム幅ｗはこれらの部分を超えて延在しないことが理解されよう。この実施態様に関して、第一部分及び第二部分が直接隣接する場合には、ｈ１＋ｈ２＝ｈｔ＝ｗである。
【００２８】
再度図２を参照すると、フィラメント５４は、第一部分９０及び第二部分９２を含む。陰極カップ７０の集束効果の故に、第一部分９０によって放射されるＸ線は、主として標的の主要部分８０を打つのに対し、第二部分９２によって放射されるＸ線は、主として標的の二次的部分を打つ。フィラメント５４の第一部分９０は、第二部分９２よりも高い電流を放射する。第一フィラメント部分９０は、主要標的部分９０と軸方向で整列し、第二フィラメント部分９２は、二次的標的部分８２と整列するよう示されているが、フィラメントの上側半分が標的の下側半分に撮像される逆転型エレクトロニクスを含む陰極においては、部分９０及び９２の相対位置は反転される。
【００２９】
第二部分９２のコイル直径ｄ２よりもより大きなコイル直径ｄ１を第一部分９０のために提供することによって、第一部分９０のより大きな電流が容易に達成される。より大きな電流をもたらす他の既知の方法も企図される。よって、放射されるＸ線束（光子毎ユニット領域）は、主要標的部分８０のためよりも二次的標的部分８２のためにより小さい。束中の如何なる変化にも順応するために、ＣＴスキャナ（図１）の再構築プロセッサ３２は、映像の再構築時に束中の変化を考慮に入れるよう選択的にプログラムされる。
【００３０】
電子源は、同一（或いは少なくとも実質的に同一）の特定の負荷を、標的の全ての部分にある陽極に供給するよう構成されるのが好ましい。第一環状部分に対する特定負荷は、第二環状部分に対する特定負荷の±１０％であるのが好ましい。特定負荷は、傾斜表面の電流（ｍＡ）毎ユニット領域（ｃｍ２）として定められる。
【００３１】
フィラメントの整形は、その表面に亘って電流負荷を適切に分布することによって、陽極の整形を活用する。フィラメント電流が増大すると、陰極放射は全ての地点で比例して増大し、第一部分９０及び第二部分９２内の実質的に不変な比率の電流で、陽極上のフィラメントの映像は均質により明るくなる。
【００３２】
代替的な実施態様において、電子源５４は螺旋巻きワイヤ又は伝導性膜の２つのフィラメントを含み、第一フィラメント部分９０と類似の寸法を有する第一フィラメントは、主要標的部分８０を打つよう加速される第一の流れの電子を放射し、第二フィラメント部分９２と類似の寸法を有する第二フィラメントは、二次的標的部分８２を打つよう加速される第二の流れの電子を放射する。標的部分８０，８２の最適な相対高さは、Ｘ線管が用いられるＣＴスキャナに一部依存し、所望有効範囲に一部依存する。例えば、１００スライスを用いるマルチスライスＣＴスキャナは、所与幅の５０スライススキャナに比べ、より大きなｈ１／ｈ２比から利益を享受するのが一般的である。
【００３３】
図３に示されるように、標的領域５６に隣接する陽極表面の部分９６，９８もビーム方向に対して傾斜を付けられている。これらの部分の傾斜は、標的の隣接部分８０，８２の傾斜と同一であり得るし、或いは、傾斜は相違してもよい。
【００３４】
図２及び３の構造は、より大きな傾斜の領域８２を主要部分８０の外周に設けることによって、ヒール効果を軽減するのに役立つ。異なる傾斜の領域を提供する実施態様も図４乃至６に示されており、そこでは、類似素子は同一番号が付与され、相違する素子は新しい番号が付与されている。これらの実施態様のためのＸ線管及び陽極の構造は、特段示されない限り、図２及び３のためのそれと同一である。全ての図面において、角度α及びβは、明瞭性及び例証の容易性のために、実際よりも大きく示されていることが理解されよう。
【００３５】
図４に示される実施態様において、主要標的部分８０は円滑な又は曲線状の移行部分１１０によって二次的部分８２に接続され、それは主要部分８０近傍の角度αに対して接線的であり、二次的部分８２近傍の角度βに対して接線的である。よって、湾曲部分１１０は、主要部分８０近傍のαから二次的部分８２近傍のβに、標的傾斜角度の漸増をもたらしている。角度α及びβは、図２及び３の実施態様のために記載されたのと同一の値を有し得る（例えば、それぞれ７°及び１０°）。１つの実施態様において、湾曲部１１０は約１〜２ｍｍの高さｈ３、即ち、標的高さｈＴの小さな割合だけである。第一部分及び第二部分が移行部分１１０によって離間されているこの実施態様に関して、ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＝ｈＴ＝ｗである。
【００３６】
移行部分１１０は、部分８０及び部分８２と類似の主要及び二次的長さであるとして示されているが、実際上、角度α及びβが上記に議論された７°及び１０°により近い場合には、湾曲部分は、主要部分８０の高さｈ１よりも短く、選択的に、二次的部分８２の高さｈ２よりも短い高さｈ３を有するのが好ましい。
【００３７】
コイル５４は、標的５６の移行部分１１０と円滑に適合する移行部分を有するのが好ましい。図４に示されるように、フィラメントコイル５４は、タンジェントθ（ｄ＝Ｋ／ｔａｎθ）に対して反比例する幅（直径）ｄを有し、ここで、θは、電子が衝突する地点における標的の角度であり、Ｋは、定数である。よって、第一実施態様に関しては、主要標的部分８０に対応するコイルの第一部分９０のために、幅ｄ１＝Ｋ／ｔａｎαであり、第二部分９２のために、幅ｄ２＝Ｋ／ｔａｎβである。第一部分９０と第二部分９２との間のコイルの移行領域１１４のために、幅は、タンジェント、即ち、タンジェントθの関数として漸進的に変化する。第一実施態様に関しては、再構築プロセッサ３２は、フィラメントコイル５４の幅変化の結果として生じる束変化に順応するようプログラムされている。
【００３８】
この実施態様の利点は、陽極上へのフィラメントの映像の配置が、Ｘ線出力の変化を避けるために、図２及び３の実施態様のためほど精密である必要がないことである。Ｘ線管の軸受が摩耗すると、陽極はそのゆらぎから益々影響を受けがちである。主要部分８０と二次的部分８２との間に急激な変化よりもむしろ漸進的に湾曲する移行部分１１０を有することは、Ｘ線出力に対する陽極のゆらぎの影響を低減し、Ｘ線管の耐用年数を延ばす。
【００３９】
ここで図５を参照すると、陽極の他の実施態様が示されている。この実施態様では、標的５６は、上記に議論されたような傾斜α（例えば、７°）を有する第一部分８０を含む。第二部分１２０は、曲率の増大を伴って、第一部分８０から離れて湾曲している。１つの実施態様では、第二部分は、第一部分との接合部分で角度αから移行し、その外部縁で角度βに増大している。βは１０°よりも大きく、例えば１２°又は約１５°ほどの高さであり得る。βの最適値は、ある程度、ＣＴスキャナによって用いられるスライス数に依存する。より大きな数のスライスのためには、より大きな角度βが一般的に好まれる。例えば、５０スライスのためには、１２°のβが最適であるのに対し、１００スライスのためには、１５°により近いのがβのために最適であり得る。
【００４０】
他の実施態様と同様に、フィラメント５４は、ｄ＝Ｋ／ｔａｎθによって概ね記載される幅で、標的の傾斜変化と適合するよう整形されるのが好ましい。
【００４１】
図５の実施態様と同様に、この実施態様は図３及び４の実施態様よりも陽極のゆらぎに対して敏感ではない。
【００４２】
図６は、より平面的で且つより傾斜付き領域が位置反転された実施態様を例証している。標的５６は陽極の内側又は頂部付近で角度αで傾斜し、標的領域の他の端部で角度βに円滑に増大する。例証されている実施態様において、陰極カップ７０は、フィラメント５４が標的に鏡像を集束するよう構成されている。再度、フィラメント５４は、受面の傾斜と反比例して電子を生成する。図６の実施態様は漸進的により急勾配になるので、陽極の表面下で発生するＸ線が進行する陽極を通じた経路長は漸進的に短くなり、減衰及びヒール効果を低減する。連続的な円滑曲線として示されているが、標的領域は、２つの直線セグメント、円滑な移行部分によって接続された２つの直線セグメント、単一の直線セグメント並びに連続的な湾曲移行部分及び二次的領域、又は、それらの類似物であり得ることが理解されよう。他の選択肢として、標的領域を例証領域５６から拡大しうるよう、二重フィラメントを設け得る。その場合には、傾斜は角度αと角度βとの間、例えば７°と１２°との間であり、例えば１５°のような傾斜がより大きい領域に拡大される。
【００４３】
好適実施態様を参照して本発明を記載した。先行する詳細な記載を読み且つ理解することによって、修正及び変更が他の者に生じるであろう。本発明は、添付の請求項及びそれらの均等物の範囲に入る限りの修正及び変更の全てを包含するものとして理解されることが意図されている。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明を組み込んだコンピュータ断層撮影スキャナを示す概略図である。
【図２】図１のコンピュータ断層撮影スキャナのＸ線管の１つの実施態様を示す一部断面図である。
【図３】図２のＸ線管の陽極を詳細に示す断面図である。
【図４】他の実施態様の陽極及びフィラメントの組合わせを概略的に示す断面図である。
【図５】他の陽極及びフィラメントの組合わせを概略的に示す断面図である。
【図６】さらに他の陽極及び陰極フィラメントの組合わせを概略的に示す一部断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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