(57)【要約】  可撓性基板（１７Ｓ）を通過させるための連続加工ユニットにおいて、前記基板を展開し、巻き取る２つの巻取りステーション（１０、１０’）と、これらの２つのステーション間の前記基板の通路に提供された少なくとも１つの加工ステーション（Ｂ）と、前記巻取りステーションおよび少なくとも１つの加工ステーションの内側に異なる圧力レベルを達成する目的で、巻取りステーション（１０、１０’）と少なくとも１つの加工ステーションとの間に提供された仕切弁（１８）とを特徴として有し、前記巻取りステーションがベース（１１）上に配置され、例えば前記基板を交換するために前記巻取りステーションを延ばすことができる連続加工ユニットを提供する。【選択図】  図１
2007509237.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状体、箔、同様の単位体などの、通過する可撓性基板（１７Ｓ）を加工、特にコーティングするための連続加工プラントであって、
それぞれが前記可撓性基板を展開し、巻き取る巻取りステーション（１０、１０’）と、
これらの２つのステーション間の基板通路に設けられた少なくとも１つの加工ステーション（Ｂ）と、
それぞれが巻取りステーション（１０、１０’）と少なくとも１つの加工ステーションとの間に組み込まれ、前記巻取りステーションおよび少なくとも１つの加工ステーションに異なる圧力レベルを供するように設計された弁（１８）と
を備え、前記巻取りステーションが可動ベース（１１）に設けられており、前記巻取りステーションを、例えば基板を交換するためにプラントから引き出すことができる連続加工プラントにおいて、
−前記巻取りステーション（１０、１０’）と加工ステーション（Ｂ）とが、互いに可動の異なるベース内またはベース上に配置されており、加工ステーションのベースが固定されており、加工ステーションのベースが、前記加工ステーション（Ｂ）を取り囲み、稼動状態ではさらに前記巻取りステーション（１０、１０’）を取り囲むハウジング（１）の一部として設計されており、前記ハウジングが弁（１８）を含み、
−前記巻取りステーション（１０、１０’）が、そのベース（１１）を含み、前記弁（１８）によってロック可能な開口を特徴として有し、稼動状態では加工ステーションの前記ハウジング（１）に組み込まれる構造体（１２）に設けられており、
前記弁（１８）の開いた状態では、前記加工ステーション（Ｂ）と巻取りステーション（１０、１０’）の両方を一緒に排気することができ、弁（１８）の閉じた状態では、加工ステーションとは独立に前記巻取りステーションを換気することができる、
ことを特徴とする連続加工プラント。
【請求項２】
巻取りステーションの前記ベース（１１）が前記構造体（１２）の壁を構成し、基板支持体（１７）のための少なくとも１つの支持体（１６）を備えることを特徴とする、請求項１に記載の連続加工プラント。
【請求項３】
巻取りステーションの前記ベース（１１）が、プラントの稼動状態において、前記ハウジング（１）の少なくとも１つの壁セクションを構成することを特徴とする、請求項１または２に記載の連続加工プラント。
【請求項４】
巻取りステーションの前記構造体（１２）が、前記共通ベース（１１）および取付板（１５）、ならびにもう１つの壁およびエアロック弁（１８）に面した開口を備えた側壁によって取り囲まれた室を形成することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の連続加工プラント。
【請求項５】
そのハウジング（１）が、巻取りステーションのための、室カバー（８）によってロック可能な少なくとも１つの装填および／または抜取り開口（７）を特徴として有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の連続加工プラント。
【請求項６】
ハウジング（１）の内側に構造体（１２）があるときに、前記室の前記構造体（１２）の開口（１３）が、室カバー（８）によって閉じられた開口（７）の方を向き、前記室カバー（８）を開けた後に基板支持体（１７）の交換を可能にするために、前記開口（７）に開口（１３）が整列されていることを特徴とする、請求項４または５に記載の連続加工プラント。
【請求項７】
前記開口（１３）が、プラントの稼動状態において前記ハウジング（１）の内壁（６）と開口（１３）の縁との間に適用することができるシール（１４）によって取り囲まれており、前記シール（１４）が、構造体（１２）またはハウジング（１）の内側に設けられていることを特徴とする、請求項６に記載の連続加工プラント。
【請求項８】
前記ハウジングの平らな内壁（６）に対してシール（１４）を適用することができることを特徴とする、請求項７に記載の連続加工プラント。
【請求項９】
流体圧力によってシール（１４）を、（圧力にさらされた）密閉位置と（膨らまされまたは低い圧力にさらされた）収縮位置に優先的に制御することができることを特徴とする、請求項７または８に記載の連続加工プラント。
【請求項１０】
シール（１４）によって取り囲まれた領域内にプラントの排気への接続部が存在することを特徴とする、請求項７または８に記載の連続加工プラント。
【請求項１１】
巻取りステーション（１０）の構造体（１２）の内側に少なくとも１つのエアロック弁（１８）が設けられていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の連続加工プラント。
【請求項１２】
前記エアロック弁（１８）が、基板（１７）の通過のために提供された開口（１９）をフレームのように取り囲むシール面（５）と、前記開口（１９）を閉じる弁体（２１）とを備え、前記シール面の縁セクションとの少なくとも間接的な並置によって前記弁体（２１）が開口（１９）を塞ぐように、前記シール面および／または開口（１９）を貫いて延びる前記基板（１７）に前記弁体（２１）を押しつけることができることを特徴とする、請求項１１に記載の連続加工プラント。
【請求項１３】
特にエアロック弁（１８）の内側に固定された残りの帯状体セクションによって新しい基板の導入を支援するために、開口（１９）の内側に弁体（２１）によって前記帯状基板を取り付けることができることを特徴とする、請求項１２に記載の連続加工プラント。
【請求項１４】
前記弁（１８）が、別個のハウジングまたは構造体に別々にまたは一緒に配置され、構造体（１２）の内側に取り付けられていることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の連続加工プラント。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、請求項１のプリアンブルの特徴を有する帯状体加工プラントに関する。
【０００２】
このタイプの加工プラントは主に、真空中で例えばプラスチック箔、磁気テープ、フィルムなどの可撓性帯状基板を、（例えばスパッタリング、すなわち最後に磁場によって強化された標的微粒化（ａｔｏｍｉｚａｔｉｏｎ）、蒸着、ＰＶＤまたはＣＶＤプロセスによって）コーティングするように設計され、また、前処理／洗浄／乾燥／表面活性化／重合などの追加の処理方法のために設計される。このような場合には、支持棒上に置かれたベール（ｂａｌｅ）または箔の形態で供給される帯状基板を、コーティング工程中にこのベールから帯状基板を展開することができるようにプラントに導入する必要がある。
【０００３】
コーティング室の先／下流には、コーティングされた帯状基板が再び巻き取られる巻取りリールを備えた別の心棒が提供される。
【０００４】
基本的に、このような帯状体コーティングプラントは、複数のモジュール（展開、コーティングおよび巻取りモジュール）に分割することができる。
【０００５】
知られているプラントでは、前記帯状基板を展開し、巻き取るために相互に取り付けられた両方の軸ないしシリンダが、共通のフレーム状ベースに組み付けられており、このことは、両方の軸ないしシリンダが固定された一定の相互位置関係にあるという利点を提供する。両方の軸ないしシリンダがコーティングモジュールの両側に配置されているときには、さまざまな手段によって、スプールの交換時に、真空中で稼動しているコーティング室までもが換気されることを防ぐことができる。
【０００６】
基板ベールの交換時、すなわちコーティングされたばかりの新しく巻き取られたベールを帯状基板から取り出すときには、真空中で稼動しているコーティング室を換気しないことを目指さなければならない。
【０００７】
したがって、個々のモジュール間にエアロック弁を取り付けることがすでに知られている。導入および取出しステーションだけがそれぞれ換気され、有効コーティング室は排気された状態に永続的にとどまることができるので、再び換気される容積はしたがって明らかに低減する。明らかに、必要な場合にはプラント全体を換気することができる。
【０００８】
独国公報ＤＥ１９７３５６０３Ｃ１は、連続して配置された異なるコーティング室を有し、それぞれのコーティング室内に、バイパスロール、帯状体測定ロールおよび冷却ロールを備えたローラフレームが提供された連続真空コーティングプラントを記述している。これらのローラフレームは、それぞれのコーティング室の中で、連続する室のロールおよびシリンダを相互に調整することができるような方法で調整することができる。前記コーティング室のマグネトロン源は、ローラフレームとは独立に組み付けられており、そのため、シリンダの位置を変更する必要なしにマグネトロン源を調整し交換することができる。
【０００９】
加工される帯状基板は、展開室からコーティング室へ導入され、コーティング室から下へ巻取り室に導入され、展開室および巻取り室とコーティング室の間には、詳細には論じない真空弁が提供される。
【００１０】
独国公報ＤＥ１０１５７１８６Ｃ１は、その間にエアロック弁または帯状体弁が提供された展開、コーティングおよび巻取り室への細分による別の連続真空コーティングユニットを記述している。排気可能な展開室および巻取り室の内部に提供されたスプールシャフトは、互いに独立に固定された前記ローラフレーム上に提供され、プラントから別々に取り出すことができる。一方、加工モジュール内のシリンダは共通のローラフレーム上に配置される。全てのローラフレームに対して、巻取り室と加工モジュールの間の分離壁に、共通の固定または配置点が提供される。稼動中のローラフレームの相互変位は、稼動中に巻取り室と加工モジュールの間に最大圧力差５０Ｐａを提供することによって防がなければならない。前記加工モジュールは、アクセス開口を備えた別個のカバーで閉じることができる。
【００１１】
国際公開公報ＷＯ９９／５０４７２は、共通の室の中に配置された対応する巻取りおよび展開リールを有する装填および抜取りステーションと、別に提供された少なくとも１つの反応室（コーティングモジュール）とを備えた真空帯状体コーティングプラントを記述している。帯状基板は、装填ステーションと抜取りステーションの間の圧力段の働きをするシリンダエアロックを通過する。一変形では帯状基板が、互いに回転する２つのシリンダ間を通過し、他の変形では帯状基板が、シリンダと固定された密閉ブロックとの間を通過する。これらのシリンダエアロックは、例えば新しい帯状基板を導入するために開くことができる。この目的のため、どちらかのシリンダを折りたたむことができ、その回転軸は、別の回転軸を中心に折りたたむことできるように取り付けられており、または密閉ブロックがシリンダから取り外される。
【００１２】
この知られているプラントの一実施形態では、駆動機構を有する全てのシリンダおよび弁が、ハウジングの中に導入することができる共通のベース上に提供される。ベースとハウジングの間のすき間は、周囲シールによって真空が保たれるようにきつく閉じることができる。とはいえ、それらの空間配置を考慮すれば、特に前記エアロック弁の領域では、これらのシールが全て平らなシール面に適用できるわけではない。さらにこのプラントでは、前記エアロック弁の存在のために、前記加工室を換気する必要なしに帯状体スプールを交換することができる。
【００１３】
本発明の目的は、プラント全体を換気する必要なしに、すなわち排気加工セクションなしに展開スプールおよび巻取りスプールを交換できる他の加工プラントを提供することにある。
【００１４】
本発明によれば、この課題は請求項１の特徴によって解決される。従属請求項の諸特徴は本発明の有利な実施形態を示す。
【００１５】
本発明によれば、巻取りステーションと加工ステーションが、互いに対して相対的に移動することができる異なるベース内またはベース上に設けられる。加工プラントのベースは、プラントハウジングの固定されたセクションであり、プラントハウジングはさらに、稼動状態の間、巻取りセクションを取り囲んでいる。
【００１６】
巻取りセクションは、その共通のベースを含み、加工モジュールに向かって開いており、プラントハウジングに関して可動の構造体に設けられ、巻取りセクションは弁によって、実際の加工プラント（または加工モジュール）に対して密閉することができるようになっている。
【００１７】
このベース全体が、前記構造体の１つの壁セクションを構成する閉じたプレートであることが好ましい。特に好適な実施形態では、稼動状態の間、巻取りステーションのこの基本プレートが同時に、プラント全体のハウジングの１つの壁セクションを構成する。さらにそれは、構造体自体の内部に形成された室の壁を形成し、前記室は実質的に閉じた形態を示す。
【００１８】
稼動状態の間、きつく閉じることができる前記プラントハウジングの別個の開口を通して、巻取りステーションに外部からアクセスすることができる。巻取りステーションを支持する構造体の壁の開口はこれらの開口に対応する。したがって、前記弁を閉じ、巻取りステーションを換気した後に、プラント全体を換気する必要なしに、また巻取りテーションをプラントハウジングから引き出す必要なしに、帯状体スプールを迅速に交換することができる。
【００１９】
特に好ましい実施形態では、構造体、またはさらにプラントハウジングが、装填および／または抜取り開口を取り囲むシールを含む。このシールは、流体圧力によって有利に動作可能であり、そのためこのシールは、密閉位置と非活動位置とを特徴として有する。非活動位置では、前記シールに作用力を発揮することなく、前記巻取りセクションの単純な引き出しおよび導入が実行可能である。密閉位置では、それぞれの開口を使用して、プラント全体を換気する必要なしに装填アクションを変更することができる。有利には、前記ハウジングの平らな内壁に対してこのシールを適用することができ、必要な場合に前記構造体のフランジセクションに対して適用するためにこのシールをこの壁に配置することができる。
【００２０】
有利には、エアロック弁が、前記帯状基板を通すための開口と、この開口を閉じる弁体とを備え、前記弁体の閉位置を使用してさらに、基板スプールまたは支持体の交換の間、前記帯状基板を保持することができる。
【００２１】
本発明の目的の他の詳細および利点は、例示的な一実施形態の図面および以下の詳細な説明に基づいて理解することができよう。
【００２２】
図１は、連続加工プラントを含むハウジング１を示し、このハウジングは、詳細には示されていない手段によって排気することができる。このハウジングは１つの面に、フランジ３によって取り囲まれた大きな開口を特徴として有する（この図ではこの開口の内部が見えている）。図２および図３はこの主開口５の目的を示しており、この開口は、巻取りステーション１０のための構造体１２の導入および引出し、したがってこのプラント内での１回の加工ステップで加工される帯状体原料全体の導入および引出しを可能にする。前記フランジ３には周囲シール４が設けられている。
【００２３】
前記ハウジング１の下部領域には加工セットＢしか示されていないが、加工セットＢは例えば少なくとも１つのスパッタリングカソードを含む。バイパスシリンダおよび冷却シリンダは全て巻取り系の一部であり、前記構造体１２に組み付けられている。図１には、より小径のいくつかのバイパスシリンダの位置が示されているが、見やすくするため図２および３にはこれらが示されていない。これらの図には２つのシリンダ、すなわち（上部の）巻取りまたは展開シリンダ１７とその下に置かれた冷却またはコーティングシリンダしか示されていない。
【００２４】
図２は、引き出された位置にある構造体１２を示しており、この位置状態では、プラント全体、すなわちハウジング１全体が換気されている。
【００２５】
図３は、構造体１２がハウジング１の中に導入された、構造体１２の稼動位置を示している。以下では、１つの巻取りステーションだけを説明するが、説明する巻取りステーションと同様の機能の第２の巻取りステーションも構築されている。図２および３ではこのステーションが、図を見る方向には、巻取りステーション／シリンダ１７の陰に隠れているが、図１および５では見ることができる。
【００２６】
図２および３の切断線の軌跡は、複数の切れ目を有する点と線によって図１に示されている。図１の両巻取りステーション１７間の分離壁は機能上必須というわけではなく、両巻取りステーションを互いに独立に換気しないときには最終的に省くことができる。図１は、前記ハウジング１と、その中に含まれシリンダが組み込まれた構造体１２とを横切る断面を示している。
【００２７】
コーティングされる帯状基板は、展開シリンダ１７からその下の加工ステーションＢの中のコーティングシリンダに向かって導かれる。加工ステーションＢがさらにさまざまなスパッタリングカソードを含むことができることは明らかである。続いて、前記基板は上向きに導かれ、（図１にも示されているように）巻取りシリンダによって受け取られる。
【００２８】
（巻取りステーション１０の上方の）ハウジング１の上部内壁６には、通常は室カバー８で閉じられている少なくとも１つの開口７が設けられている。これは、周囲シール９によって安全に密閉された開口７を取り囲む内壁６の縁に設けられる。図１から分かるように、それぞれの巻取りステーションに対して、室カバー８およびシール９を有する別個の開口７が設けられている。
【００２９】
同じ平らな内壁６から、図示されていないポンプソケットの（室側の）内側開口も形成されている。
【００３０】
巻取りステーションが導入された位置にあるときに前記室カバー８を開くことができるようにするのが有効である。
【００３１】
支持体１２は、巻取りステーション１０に属する閉じられた板状ベース１１を支持する。これはさらに、上部開口１３と、上部開口を取り囲み、流体圧力によって優先的に膨らますことができる「活性」シール１４と、閉じられた（抵抗）取付板１５と、ベース１１および取付板１５にしっかりと取り付けられた基板スプールまたはベールのための２つのソケット１６と、前記ソケット１６に回転可能に適用された基板スプール１７とを備える。下に設けられたコーティングシリンダは、展開シリンダとは独立に、特定の取付ソケットに取り付けられる。
【００３２】
シール１４は、開口１３を取り囲むフランジ上に設けられている。動作のために必要な流体圧力接続は、図を簡単にするために示されていない。活動的に使用されていないとき、前記シールは、機械的損傷から安全に保護するため、優先的に、前記フランジの周囲みぞの中に置かれる。
【００３３】
ベース１１および取付板１５は、構造体１２の閉じられた１つの側壁を構成する。構造体１２の上部セクションは全体として、前記基板スプール１７を取り囲む実質的に閉じられた室を形成し、前記室へは開口１３からしかアクセスできない。
【００３４】
図３は、ハウジング１の中に構造体１２が導入された後に膨張され、開口１３の周囲の前記ハウジングの内壁６と並置された位置にあるシール１４の機能上の詳細を示す。さらに、前記巻取りステーション１０の最終位置ないし稼動位置で、板状ベース１１の縁が、ハウジング１の前記開口５の周囲のフランジ３に着接し、開口を閉じ、その内面がシール４に対して押し付けられることも分かる。したがって、前記開口５はぴったりと閉じられ、この位置でベース１１は前記ハウジング１の１つの壁を構成する。
【００３５】
図３は、前記カウンタプレート１５の下に、必要な場合に前記構造体１２すなわちその室をハウジング１の内側に支持することができるコンソール１Ｋを示している。この非常に単純化された図とは異なるが、このような支持体はさらに、ハウジング１の内側ならびにカウンタプレート１５上のガイドレールまたは同様の装置の形態の対応するカウンタピースを構造体１２に備えることができ、したがって、導入された状態だけではなく、それぞれの引出しおよび導入ステップの間もシリンダセット全体が支持される。
【００３６】
前記巻取りステーション１０の構造体１２の開口１３は十分に大きく、したがって、開口１３は、室カバー８を有する内壁６の開口７と重なり合うように配置される。その結果、膨張可能シール１２は前記開口７も取り囲む。
【００３７】
この図とは異なるが、膨張した状態で構造体１１の開口１３を取り囲むフランジと並置させるために、基本的に、ハウジング１の前記内壁６の同じスポットにシール１４を提供することもできる。
【００３８】
加工プラントを作動させる前、ハウジング１の内側に構造体１２を適切に固定した後に、ポンプ（図示せず）による空気吸引によってハウジング１から排気する。シール１４は、ハウジング１の平らな内壁６に対して適用することができ（密閉位置）、前記流体接続（図示せず）にわたって内壁６に圧力をかける。
【００３９】
とはいえ、前記加工プラントの通常動作の間、シール１４を常に「活動化」しておく必要はない。ハウジング１は、巻取りステーションと加工ステーションの両方を包含し、したがってこれらは同時に排気されるからである。シール１４は事実上、残りのハウジング１とは独立に巻取りステーション１０だけを換気しようとするとき、すなわち室カバー８を開けようとするときにしか必要ない。
【００４０】
ハウジング１に対する巻取りステーション１０の移動段階の間、すなわちプラントが稼動状態にないとき、例えば室カバー８を開いた後に単純に達成することができない保守または洗浄作業の間、または（巻取り室１０を含む）ハウジング１全体が排気されたとき、前記シール１４は膨らまされ（その内圧は中立化され）、またはより低い圧力にさらされる。結果として、シール１４はその着座みぞの中に収縮し（収縮位置）、そこで摩擦および損傷から保護される。
【００４１】
図２と３の比較から分かるように、ハウジング１に対する構造体１２の移動は巻取りステーション１０の軸または基板スプール１７の軸それぞれに対して平行である。
【００４２】
前記基板スプール１７の下では、帯状基板１７Ｓが、構造体１２の中の展開ステーション１０から下方へ、加工モジュールＢの中に導かれている。巻取り室または巻取りステーション１０の対応する開口は、エアロック弁１８によって、前記ハウジング１および加工ステーションＢに関してロックすることができる。前記エアロック弁は、前記可動構造体１２の中に提供され、構造体１２を開き、引き出す間に、それは、結果的にハウジング１から取り出される。
【００４３】
エアロック弁１８は、ハウジング１全体を換気する必要なしに、巻取りステーション１０の中に存在する基板支持体ないしスプール１７を交換することを可能にする。後に説明するとおり、前記エアロック弁１８は、その閉位置で、前記加工ステーションＢを巻取りステーション１０に対してすき間なくロックする。それは、前記帯状基板が接触せずにそこを通過することができる比較的に大きな自由横断面をプラントの稼動中に提供する静的な弁として設計される。
【００４４】
図４は別に、巻取りステーション１０のある角度の図を示している。この図はさらに、巻取りステーションをハウジング１に関して変位させることなく室カバー８を開けた後に、基板スプール１７を交換して、すなわち基板スプール１７を持ち上げて新しい基板スプールを導入するのに、室カバー８によって閉じられたハウジング１の開口７が十分な大きさであることを示す。
【００４５】
この図では、基板スプール１７から取り出すことができる可撓性基板１７Ｓが、構造体１２から、（少なくとも）１つのバイパスシリンダによって、やはり概略的にしか示されていないエアロック弁１８を通して、巻取りステーションの下に設けられた加工モジュールＢの中へ、どのように移されるのかを再びよく認識することができる。前記エアロック弁は構造体１２にしっかりと取り付けられている。
【００４６】
したがってすでに述べたとおり、巻取りステーション１０の構造体１２は、共通ベース１１と、取付板１５と、前記エアロック弁１８を受け取る開口を有する他の底部セクションと、この図では前記基板スプール１７の右側と左側に見られる側壁とによって取り囲まれた室を形成する（図４および５）。
【００４７】
この室は、室カバー８によって閉じられた開口７を通して外部からアクセスすることができ、さらにそれが稼動状態にあるときには、前記加工プラントのハウジング１の内側にシール１４によって密封される。
【００４８】
図４の巻取りステーション１０の反対側、加工モジュールＢの先（下方）に、同様の別の巻取りステーション（図示せず）が設けられており、これは、巻取りステーション１０に関して鏡像位置にあると想像することができ、その中に封入された基板スプールをハウジング１から開口を通して取り出し、最終的には交換することができる。
【００４９】
巻取りステーション１０を互いに独立に開き、換気することができ、すなわち一方のユニットを換気している間、もう一方のユニットを排気された状態に維持することができ（この場合、稼動させるためには当然ながら図１に示した分離壁が必要となる）、または、基本的に、両巻取りステーションを一緒に換気することができる。後者の場合、巻取りステーションは互いに対して別個に密閉する必要はない。
【００５０】
図１の原理に対応するこの第２の巻取りステーション１０は、同じ構造体１２に設けられており、したがって、巻取りステーション１０に関して安定な位置を有する。その結果、シール１４を開いた後に構造体１２によって両方のユニットをハウジング１から一緒に取り出すことができる。
【００５１】
稼動中、前記エアロック弁１８は、相当な圧力差、例えば大気圧と真空の間の圧力差を安全に排除することができる。
【００５２】
しかしそれはさらに、一方で自由な通行および基板フラックスを可能にするために、他方で、以前に加工された可撓性基板が完全にプラントから除去されたときに新しい基板の横断、すなわち新しい基板の導入を可能にするために、開くことができる。明らかに、弁の開口幅は、加工される基板のサイズ（特に幅）に合わせてある程度調整される。
【００５３】
最後に、知られている方法では帯状基板の末端セクションに新しい帯状基板を固定し、続いて、複雑な手動の導入手順に代わって、残った「古い」断片によって新しい帯状基板を導入し横切らせるために、エアロック弁１８によって、仕上がった帯状基板の末端セクションを保持することができる。
【００５４】
したがって基本的には、前記国際公開公報ＷＯ９９／５０４７２Ａ１に概説されているのと同じ方法でエアロック弁を設計することが可能と考えられる。しかし別の実施形態を使用することもできる。図５に基づいて例示的な一実施形態を概略的に説明する。
【００５５】
したがって、前記エアロック弁１８は、展開ステーション１０を完全に引き出すことなく基板スプールを交換する上記のオプションのために非常に重要である。エアロック弁１８は、閉じた状態で、排気されている加工モジュールＢを同様に換気することなく、前記室カバー８を開くことを可能にする。
【００５６】
図５は、コンパクトな共通の構造体１２″の中の巻取りモジュール１０’の中にタンデム配置の２つの巻取りステーションを含む、本発明に基づく加工プラントの他の実施形態を示す。この実施形態は、共通の室カバー８’を通して両方の基板スプール１７にアクセスでき、そのためハウジング１に開口を１つだけ提供し、それを密閉すればよいという利点を提供する。さらに、この設計では、最終的にはより単純な方法で、両方の巻取りステーションに対して共通の周囲シール１４を設けることができる。
【００５７】
さらに、両方のエアロック弁１８を結合して、構築された１つのユニット１８’を構成することができるが、基板セクションのそれぞれの引出しおよび導入に対して、特定の／独立した弁機能が提供されなければならないことは明白である。
【００５８】
最後に、図６は、本明細書で説明した連続ユニットの文脈で使用されることが好ましいエアロック弁１８の一実施形態の断面を示す。前記エアロック弁１８を横切る基板１７Ｓ、および、より近い意味では、それによって閉じることができる（スリット状の）開口１９が認められる。そのハウジングまたは構造の内側で、軸２０を中心に、図示の閉位置と点線で表された開位置との間で回転するように取り付けられた円筒形の弁体２１も前記弁１８の部分である。それにもかかわらず、前記シリンダ体２１は前記基板１７Ｓ上で転がることができるが、加工プラントの連続運転では、前記弁体２１が基板１７Ｓと接触しないことが予見される。この点をはっきりさせるために、弁１８が開いているときの前記基板１７Ｓのおおよその軌道が点線で示されている。それにもかかわらず、排出される仕上げられた／コーティングされた基板セクションでは、プラント構成部品との摩擦接触をできる限り防がなければならない（知られているプラントでは、弁はしたがって、最小の空隙で時々提供されるだけである）。
【００５９】
弁体２１に面し、開口１９が終わるハウジングの内側の面が、前記開口の縁セクション（これは同時にシール面２２の役目を果たしまたはシール面２２として形成することができる）と閉位置に移された弁体２１との間の基板１７Ｓが、その過程で折り曲げられることなく動きがとれない状態に取り付けられるような方法で形成される。シール縁に向かって導かれる表面２２は帯状基板面に向かって斜めに適用される。さらに、弁体２１によって、最終的には中間位置の基板１７Ｓによって閉じることができるシール面２２は、開口１９のところで（最終的には縁または表面シールとして軟かい弾性材料を使用して）、弁体２１が基板と別個に強制的に適用されるのか、または基板と一緒に適用されるのかにかかわらず満足のいく密閉効果が保証されるように設計される。
【００６０】
前記エアロック弁１８は、別個のモジュールとして構造体１２または１２’の中に提供されることが好ましい。このことは特に、互いに独立に動作することができる２つのエアロック弁を図４に示した１つの弁ブロックに融合する際にあてはまる。
【００６１】
すでに概要を説明したとおり、この実施形態は、一方で、基板がプラント内に残っているときに、加工モジュールＢを排気された状態に維持したまま、前記巻取りステーション１０または１０’を換気することを可能にし、他方で、基板スプールの交換の後に、弁の中に固定された残った帯状体セクションによって新しい帯状基板を導入することができる。この目的のため、新しい帯状基板の最初のセクションが残った帯状体セクションに接着される。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明に基づく連続加工プラント全体の概略基本図（断面図）である。
【図２】図１を９０度傾けた、巻取りステーションのための構造体が前記ハウジングから引き出された位置にある、同じ連続加工プラントの図である。
【図３】前記ハウジングの中に導入された構造体がその稼動位置にある、前記連続加工プラントの図２と同様の他の図である。
【図４】エアロック弁を有する巻取りステーション、構造体およびハウジングの側面図である。
【図５】巻取りおよび展開のための２つの巻取りステーションがタンデム配置で提供され、２つのエアロック弁が１つのユニットに統合された図３の変形を示す図である。
【図６】エアロック弁の好ましい一実施形態を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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