(57)【要約】  円形と異なる形状の基板のためにも適した、基板の縁範囲の簡単なかつ廉価な洗浄のために、本発明は、基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための装置および方法を提案する。当該装置は、少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた少なくとも１つの洗浄ヘッドを有している。この場合、この洗浄ヘッドはメインボディを有している。このメインボディには、媒体吸出し開口と、この媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とが形成されている。洗浄ヘッドは少なくとも１つの第１のフランジを有している。このフランジは、メインボディの、媒体吸出し開口に向けられた、この媒体吸出し開口を有する面に対してほぼ垂直に延びる平らな面を有している。この場合、少なくとも１つの媒体供給ノズルは、第１のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放していて、この面に対してほぼ垂直に方向付けられている。この場合、媒体供給ノズルの流出開口はフランジの平らな面に対して後退させられているかまたはフランジの平らな面と同じ平面に位置している。この場合、運動装置は、洗浄時に、基板の一方の表面と、フランジの、基板表面に向けられた平らな面との間に０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．３ｍｍ、有利には０．２ｍｍの間隔を維持しているように制御可能である。
2007508684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための装置において、当該装置が、
少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた少なくとも１つの洗浄ヘッドを有しており；
洗浄ヘッドと１つの基板との間の相対運動を発生させるための運動装置を有しており；
洗浄ヘッドが、メインボディを有しており、該メインボディに、媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とが形成されており、洗浄ヘッドが、少なくとも１つの第１のフランジを有しており、該フランジが、媒体吸出し開口に向けられた平らな面を有しており、該面が、メインボディの、媒体吸出し開口を有する面に対してほぼ垂直に延びており、
少なくとも１つの媒体供給ノズルが、第１のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放された少なくとも１つの流出開口を有していて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に対してほぼ垂直に方向付けられており、
媒体供給ノズルの流出開口が、フランジの平らな面に対して後退させられているかまたはフランジの平らな面と同じ平面に位置しており、
運動装置が、洗浄時に、基板の一方の表面と、フランジの、基板表面に向けられた平らな面との間に０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．３ｍｍ、有利には０．２ｍｍの間隔を維持しているように制御可能であることを特徴とする、基板を縁洗浄するための装置。
【請求項２】
基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための装置において、当該装置が、少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた少なくとも１つの洗浄ヘッドを有しており、さらに、該洗浄ヘッドが、
メインボディを有しており、該メインボディに、媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とが形成されており；
第１および第２のフランジを有しており、両フランジが、それぞれメインボディの、媒体吸出し開口に向けられた、該媒体吸出し開口を有する面に対してほぼ垂直に延びる平らな面を有しており、フランジの平らな面が、互いに平行であり；
少なくとも１つの媒体供給ノズルが、第１のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放された少なくとも１つの流出開口を有していて、第１のフランジの、媒体吸出し開口に向けられた平らな面に対してほぼ垂直に方向付けられており、
媒体供給ノズルの流出開口が、フランジの平らな面に対して後退させられているかまたはフランジの平らな面と同じ平面に位置しており、
フランジの平行な面の間の間隔が、０．１ｍｍ〜１ｍｍだけ、特に最大０．６ｍｍ、有利には０．４ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されていることを特徴とする、基板を縁洗浄するための装置。
【請求項３】
少なくとも１つの第２のフランジが設けられており、該フランジが、第１のフランジの、媒体吸出し開口に向けられた平らな面に対してほぼ平行に延びる面を有しており、フランジの平行な面の間の間隔が、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されている、請求項１記載の装置。
【請求項４】
フランジの平行な面の間の間隔が、０．１ｍｍ〜１ｍｍだけ、特に最大０．６ｍｍ、有利には０．４ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されている、請求項３記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つの別の媒体供給ノズルが設けられており、該媒体供給ノズルが、第２のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放していて、該面に対してほぼ垂直に方向付けられており、媒体供給ノズルの流出開口が、第２のフランジの面に対して後退させられているかまたは第２のフランジの面と同じ平面に位置している、請求項２から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
洗浄ヘッドの構造が、フランジの間の中間に位置するレベルに対して対称的である、請求項２から５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
少なくとも１つの媒体供給ノズルが、その各フランジに対して旋回可能である、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項８】
少なくとも１つの媒体供給ノズルが、その各フランジに対して、該フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面の垂線に対して０゜〜４０゜、有利には０゜〜２０゜の間で旋回可能である、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
少なくとも１つの媒体供給ノズルが、多数の流出開口を有している、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
少なくとも１つの媒体供給ノズルが、スリット状の流出開口を有している、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】
多数の流出開口またはスリット状の流出開口が、洗浄ヘッドのメインボディの、媒体吸出し開口を有する面に対して平行なラインに沿って延びている、請求項９または１０記載の装置。
【請求項１２】
媒体供給ノズルの少なくとも１つの流出開口と、洗浄ヘッドのメインボディの、媒体吸出し開口を有する面との間の間隔が、２．５ｍｍ〜６ｍｍの間にあり、特に３ｍｍである、請求項１から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
少なくとも１つの媒体供給部が設けられており、該媒体供給部が、１つの媒体供給ノズルに接続されており、さらに、媒体が、洗浄の間にほぼ無圧で少なくとも１つの媒体供給ノズルの少なくとも１つの流出開口に供給されるように、媒体供給部を調整するための制御装置が設けられている、請求項１から１２までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】
少なくとも１つの媒体供給部が設けられており、該媒体供給部が、少なくとも１つの媒体供給ノズルに接続されており、さらに、媒体が、洗浄の間に圧力を伴って媒体供給ノズルを通して案内され、洗浄したい基板に方向付けられるように、媒体供給部を調整するための装置が設けられている、請求項１から１２までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
圧力が、１０ＫＰａ〜３０ＫＰａの間にあり、有利には２０ＫＰａである、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
媒体供給ノズルを別個に制御するための制御装置が設けられている、請求項４から１５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】
フランジが、切欠きを有しており、該切欠き内に媒体供給ノズルが少なくとも部分的に配置されている、請求項１から１６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１８】
媒体吸出し開口が円形に形成されている、請求項１から１７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１９】
媒体吸出し開口が、約０．２ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きい直径を有している、請求項１から１８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２０】
媒体吸出し通路が、媒体吸出し開口から離れる方向に先細りにされている、請求項１から１９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２１】
媒体吸出し通路に接続された吸出し装置と、該吸出し装置を制御するための制御装置とが設けられている、請求項１から２０までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２２】
基板支持体と、該基板支持体と洗浄ヘッドとの間の相対運動を発生させるための装置とが設けられている、請求項１から２１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
少なくとも１つのフランジと基板の１つの側面とのオーバラップ度を調整するための制御装置が設けられている、請求項１から２２までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２４】
洗浄ヘッドが、不変の間隔を置いて基板の少なくとも１つの縁部の少なくとも一部領域に沿って移動するように、洗浄ヘッドと基板との間の相対運動を制御するための制御装置が設けられている、請求項１から２３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２５】
基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための方法において、当該方法が、以下の方法ステップ：すなわち、
−少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた洗浄ヘッドを１つの基板に隣り合わせて配置し、この場合、媒体供給ノズルが、基板の１つの面の、洗浄したい少なくとも１つの縁範囲に方向付けられており、媒体吸出し開口が、媒体供給ノズルの領域で基板の１つの端面に隣り合って位置しており、この場合、洗浄ヘッドの、媒体供給ノズルを支持するフランジの平らな面と、基板の、洗浄したい縁範囲との間の間隔を、０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．６ｍｍ、有利には０．２ｍｍに調整し；
−洗浄流体を基板の縁範囲に少なくとも１つの媒体供給ノズルによって供給し；
−洗浄流体を媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とを介して完全に吸い出す；
を備えていることを特徴とする、基板を縁洗浄するための方法。
【請求項２６】
洗浄ヘッドが、互いに向き合った少なくとも２つの媒体供給ノズルを有しており、基板の、洗浄したい縁範囲を、配置ステップの間、少なくとも２つの媒体供給ノズルの間に配置し、この場合、洗浄ヘッドの、第２の媒体供給ノズルを支持するフランジの平らな面と、基板の、洗浄したい縁範囲との間の間隔を、０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．６ｍｍ、有利には０．２ｍｍに調整する、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
洗浄流体を少なくとも１つの媒体供給ノズルに供給し、この場合、洗浄流体を、ほぼ無圧で媒体供給ノズルの出口開口に供給し、主として、吸出しの力によって媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とを介して少なくとも１つの媒体供給ノズルから引き出し、基板の、洗浄したい縁範囲に供給する、請求項２５または２６記載の方法。
【請求項２８】
洗浄流体を、圧力を伴って媒体供給ノズルを通して、基板の、洗浄したい縁範囲に供給する、請求項２５または２６記載の方法。
【請求項２９】
圧力が、１０ＫＰａ〜３０ＫＰａの間の範囲にあり、有利には２０ＫＰａである、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
洗浄流体を基板の縁範囲に対してほぼ垂直に供給する、請求項２５から２９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項３１】
洗浄流体を基板の縁範囲に向けて、０゜〜４０゜、有利には０゜〜２０゜の間で基板表面に対する垂線から逸脱した角度で供給する、請求項２５から３０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項３２】
媒体供給ノズルを別個に制御する、請求項２６から３１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項３３】
媒体供給ノズルをそれぞれ異なる圧力で負荷する、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
媒体供給ノズルをそれぞれ異なる流体で負荷する、請求項３２または３３記載の方法。
【請求項３５】
媒体供給開口と媒体吸出し開口とを備えた洗浄ヘッドと、基板との間の相対運動を発生させ、これによって、洗浄ヘッドを基板の少なくとも１つの縁部の少なくとも一部領域に沿って運動させる、請求項２５から３４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項３６】
基板の端面に対する媒体吸出し開口の間隔を、運動の間、等しく保持する、請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
基板と洗浄ヘッドとの間の相対運動を基板のかつ／または洗浄ヘッドの運動によって発生させる、請求項３５または３６記載の方法。
【請求項３８】
基板の端面に対する媒体吸出し開口の間隔を、縁洗浄の間、０．５ｍｍ〜２ｍｍの間、特に１ｍｍに調整する、請求項２５から３７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項３９】
基板の２ｍｍ〜５ｍｍの間の縁範囲、特に３ｍｍの縁範囲を洗浄する、請求項２５から３８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項４０】
洗浄したい１つの縁範囲の幅を、少なくとも１つの媒体供給ノズルと基板の１つの側面とのオーバラップ度の調整によって調整する、請求項２５から３９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項４１】
基板の、洗浄したい１つの縁範囲の幅を、少なくとも部分的に媒体供給ノズルの旋回を介して達成する、請求項２５から４０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項４２】
１回の洗浄過程の終了時に、まず、洗浄流体の供給を停止し、洗浄流体の吸出しを、洗浄流体の供給の終了後の予め規定された期間後に終了する、請求項２５から４１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項４３】
洗浄流体の媒体供給および／または吸出しを基板の輪郭に関連して制御する、請求項２５から４２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項４４】
媒体供給ノズルが、基板の１つの角隅の領域に到達する場合、媒体供給を角隅への到達前に遮断するのに対して、洗浄流体の吸出しは継続する、請求項２５から４３までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の縁範囲における材料および／または媒体の除去（詳細には「縁洗浄」と呼ばれる）および特に半導体産業における基板の縁洗浄に関する。
【０００２】
半導体産業の分野では、生産プロセスの品質が、特に自動化された経過と、使用される構成要素との正確さによっても規定される。この場合、種々異なる多数の個別プロセスを有していてよい生産プロセスの間、材料および／または媒体の連行が個々のプロセスの間で生ぜしめられないことが特に重要である。材料連行および／または媒体連行の回避に対する決定的な寄与は、設備構成要素、たとえばハンドリングシステム、カセット、チャックまたは保持装置と、基板との間の接触面を、可能な限り生産経過の内部のあらゆる時点で材料および／または媒体、たとえば溶媒またはラッカから遠ざけることによって達成される。さもないと、材料／媒体が、このような設備構成要素との接触によって、所定の基板から次の基板に連行され、その後、この基板を汚染する恐れがある。
【０００３】
このような材料連行および／または媒体連行を回避するためには、特にラッカ塗布過程後、ここでは、たとえばフォトマスクまたは半導体ウェーハ自体であってもよい基板の縁部が清浄化される。使用される被覆法に関連して、基板の端面および／または下面もラッカの被覆過程後に汚染される。さらに、基板の後続の処理に応じて、たとえば基板の、ラッカ塗布された上面でも、規定された幅の縁部からラッカ塗布後に新たにラッカを除去することが必要となり得る。この場合、各領域の完全なラッカ除去または単に部分的なラッカ除去も必要となり得る。このようなラッカ除去時または洗浄時には、当然ながら、基板の、洗浄したくない表面が決して洗浄によって影響されないことが必要となる。特に洗浄のために使用される洗浄流体が、洗浄したい領域と異なる領域に到達することが回避されなければならない。
【０００４】
ヨーロッパ特許出願公開第１０６７５９１号明細書に基づき、たとえば半導体ウェーハを縁洗浄するための装置が公知である。この公知の装置では、洗浄したい基板が回転装置に保持され、流体ノズルが０゜〜４５゜の間の入射角で基板の縁範囲に方向付けられている。基板の洗浄のためには、この基板が回転させられ、流体ノズルを介して、エッチング流体が基板の縁範囲に方向付けられる。遠心力によって、供給されたエッチング流体がほぼ半径方向外向きに案内される。
【０００５】
この公知の方法は、一方で、円形の基板のためにしか適しておらず、さらに、エッチング流体が基板への衝突時に飛散し、洗浄する必要のない別の領域にも到達する危険をはらんでいる。さらに、この方法によって、確かに、基板の上面における縁範囲の洗浄が可能となるが、しかし、基板の端面の良好な洗浄は不可能である。なぜならば、基板が高い速度で回転させられ、洗浄流体が半径方向に投げ飛ばされるからである。したがって、洗浄流体が基板の端面に不十分にしか接触しない。この方法は、特に基板、たとえば扁平加工部、すなわち、いわゆる「フラット」を備えた半導体ウェーハでも不可能である。なぜならば、フラットの領域でエッチング流体がウェーハの縁範囲に回転の間に方向付けられ得ないからである。
【０００６】
したがって、公知先行技術から出発して、本発明の課題は、特に円形と異なる形状の基板のためにも適した、基板の縁範囲の簡単なかつ廉価な洗浄が行われるようにすることである。
【０００７】
本発明によれば、この課題は、基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための装置において、当該装置が、少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた少なくとも１つの洗浄ヘッドを有しており；洗浄ヘッドと１つの基板との間の相対運動を発生させるための運動装置を有しており；洗浄ヘッドが、メインボディを有しており、該メインボディに、媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とが形成されており、洗浄ヘッドが、少なくとも１つの第１のフランジを有しており、該フランジが、メインボディの、媒体吸出し開口に向けられた、該媒体吸出し開口を有する面に対してほぼ垂直に延びる平らな面を有しており、少なくとも１つの媒体供給ノズルが、第１のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放された少なくとも１つの流出開口を有していて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に対してほぼ垂直に方向付けられており、媒体供給ノズルの流出開口が、フランジの平らな面に対して後退させられているかまたはフランジの平らな面と同じ平面に位置しており、運動装置が、洗浄時に、基板の一方の表面と、フランジの、基板表面に向けられた平らな面との間に０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．３ｍｍ、有利には０．２ｍｍの間隔を維持しているように制御可能であることによって解決される。本発明による洗浄ヘッドによって、洗浄したい基板を部分的に取り囲むように把持することが可能となる。この場合、媒体吸出し開口を基板の１つの端面に向けて配置することができるのに対して、媒体供給ノズルは、基板の、洗浄したい上面または下面に対してほぼ垂直に方向付けられている。媒体吸出し開口と、この媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とを介して、媒体供給ノズルを介して供給された洗浄流体を直接的に吸い出すことができ、これによって、洗浄流体と、基板の、洗浄したい領域と異なる領域との接触の危険を回避することができる。媒体供給ノズルをフランジの平らな面に対して後退させて配置するかまたはフランジの平らな面と同じ平面に配置することによって、フランジの平らな面と基板との間の狭いギャップを調整することができる。このことは、供給された媒体の良好な吸出しを確保する。さらに、０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ、特に最大０．３ｍｍの狭いギャップによって、毛管作用の発生が可能となり、供給したい洗浄媒体をほぼ無圧で媒体供給ノズルの流出開口に供給することができることが可能となる。なぜならば、媒体を媒体供給ノズルから引き出すために、媒体吸出し開口を介して加えられる負圧で十分であるからである。さらに、この場合、狭いギャップは、比較的少なく周辺空気が吸い込まれることを確保している。これによって、供給された媒体の適切な流れを達成するために、比較的僅かな吸出し出力が必要となる。媒体は、専ら媒体吸出し開口での吸出しによって媒体供給ノズルから引き出すことができ、基板を越えて媒体吸出し開口に運動することができる。さらに、洗浄流体の直接的な吸出しの可能性によって、洗浄流体を投げ飛ばすための回転を要求する上述したヨーロッパ特許出願公開第１０６７５９１号明細書のように、洗浄したい基板を回転させることが不要となる。したがって、真っ直ぐな縁部を備えた基板を洗浄することも可能となる。さらに、１つの基板の周縁部の部分領域の洗浄も可能となる。
【０００８】
本発明の課題は、択一的には、基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための装置において、当該装置が、少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた少なくとも１つの洗浄ヘッドを有しており、さらに、該洗浄ヘッドが、メインボディを有しており、該メインボディに、媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とが形成されており；第１および第２のフランジを有しており、両フランジが、それぞれメインボディの、媒体吸出し開口に向けられた、該媒体吸出し開口を有する面に対してほぼ垂直に延びる平らな面を有しており、フランジの平らな面が、互いに平行であり；少なくとも１つの媒体供給ノズルが、第１のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放された少なくとも１つの流出開口を有していて、第１のフランジの、媒体吸出し開口に向けられた平らな面に対してほぼ垂直に方向付けられており、媒体供給ノズルの流出開口が、フランジの平らな面に対して後退させられているかまたはフランジの平らな面と同じ平面に位置しており、フランジの平行な面の間の間隔が、０．１ｍｍ〜１ｍｍだけ、特に最大０．６ｍｍ、有利には０．４ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されていることによっても解決される。
【０００９】
この択一的な装置では、主として、すでに上述した利点が得られる。特にフランジの平行な平らな面と、両面の間に収容された基板との間の狭いギャップ形成によって、毛管作用が生ぜしめられる。この毛管作用は吸出しに相俟って、基板の縁範囲にわたる洗浄媒体の規定された流れを生ぜしめる。これによって、適切な洗浄が可能となる。２つのフランジによって、基板を取り囲むように把持することができる。これによって、良好に規定された吸出し領域を形成することができる。
【００１０】
本発明の特に有利な構成によれば、少なくとも１つの第２のフランジが設けられており、該フランジが、第１のフランジの、媒体吸出し開口に向けられた平らな面に対してほぼ平行に延びる面を有しており、フランジの平行な平らな面の間の間隔が、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されている。第２のフランジによって、１つの基板の一部縁範囲を取り囲むように把持することが可能となる。これによって、良好に規定された吸出し領域を形成することができる。フランジの間の間隔が、０．１ｍｍ〜１ｍｍだけ、特に最大０．６ｍｍ、有利には０．４ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されていると有利である。これによって、特に上述した毛管作用に基づく洗浄流体の良好な吸出しが可能となる。
【００１１】
本発明の特に有利な構成では、少なくとも１つの別の媒体供給ノズルが設けられており、該媒体供給ノズルが、第２のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放していて、該面に対してほぼ垂直に方向付けられている。少なくとも１つの別の媒体供給ノズルを設けることによって、基板の上面と下面との同時の洗浄が可能となる。さらに、２つの媒体流は、基板の端面の洗浄も促進する。なぜならば、少なくとも部分的に上下から端面が湿潤されるからである。この場合、ほぼ均一な洗浄条件を基板の上面および下面に達成するために、洗浄ヘッドの構造が、フランジの間の中間に位置するレベルに対して対称的であると有利である。
【００１２】
旋回を介して、基板の、洗浄したい縁範囲の幅の調整を可能にするために、少なくとも１つの媒体供給ノズルが、その各フランジに対して旋回可能であると有利である。この場合、少なくとも１つの媒体供給ノズルが、その各フランジに対して、該フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面の垂線に対して０゜〜４０゜、有利には０゜〜２０゜の間で旋回可能である。この場合、旋回運動は基板縁部の方向に行われる。
【００１３】
より大きな幅にわたって流体を供給することができるようにするために、少なくとも１つの媒体供給ノズルが、多数の流出開口を有していると有利である。これによって、特に基板における洗浄流体の滞留時間を延長することができる。択一的な構成では、広幅の領域にわたって均一に洗浄流体を基板に供給することができるようにするために、少なくとも１つの媒体供給ノズルが、スリット状の流出開口を有している。媒体供給ノズルの少なくとも１つの流出開口と、洗浄ヘッドのメインボディの、媒体吸出し開口を有する面との間の間隔が、２．５ｍｍ〜６ｍｍの間にあり、特に３ｍｍであると有利である。
【００１４】
多数の流出開口もしくはスリット状の流出開口が、洗浄ヘッドのメインボディの、媒体吸出し開口を有する面に対して平行に延びていると有利である。
【００１５】
本発明の１つの構成では、少なくとも１つの媒体供給部が設けられており、該媒体供給部が、少なくとも１つの媒体供給ノズルに接続されており、さらに、媒体が、洗浄の間にほぼ無圧で少なくとも１つの媒体供給ノズルの少なくとも１つの流出開口に供給されるように、媒体供給部を調整するための制御装置が設けられている。媒体がほぼ無圧で供給されることによって、媒体の供給が、主として、専ら媒体吸出し開口で形成される負圧を介して行われる。この負圧は媒体を媒体供給ノズルから引き出す。これによって、専ら媒体吸出し開口を介しても吸い出される媒体と同じくらい多くの媒体が供給されることが確保される。さらに、媒体吸出し開口の方向への有利な空気流れが生ぜしめられる。この空気流れは、媒体が基板の中心領域に到達しないことを確保する。さらに、媒体は、ほぼ力なしに基板の表面に衝突する。これによって、媒体の飛散が阻止される。
【００１６】
択一的には、媒体、たとえば洗浄流体を圧力を伴って媒体供給ノズルを通して案内し、洗浄したい基板に供給することも可能である。この場合、媒体が基板への衝突時に飛散することを阻止するために、媒体は、１０ＫＰａ〜３０ＫＰａの間、有利には２０ＫＰａの比較的僅かな圧力を伴って媒体供給ノズルを通して案内される。しかし、仮に小さな液飛びが生ぜしめられるとしても、この液飛びは、フランジと基板との間の狭い毛管ギャップと、媒体吸出し開口の方向への空気流れとに基づき、基板の、洗浄したくない媒体領域に到達することから遠ざけられる。
【００１７】
基板の上面および／または下面の選択的な洗浄を可能にするために、媒体供給ノズルを別個に制御するための制御装置が設けられていると有利である。さらに、上面および下面の選択的な洗浄のほかに、別個の制御によって、種々異なるプロセスを上面および下面に対して行うことが可能となる。
【００１８】
洗浄ヘッドの少なくとも１つのフランジが、切欠きを有しており、該切欠き内に媒体供給ノズルが少なくとも部分的に配置されていると有利である。切欠き内への媒体供給ノズルの配置によって、この媒体供給ノズルが少なくとも部分的にフランジによって取り囲まれており、これによって、より大きな領域にわたって吸込みスリットが基板とフランジおよび媒体供給ノズルとの間に形成される。
【００１９】
本発明の有利な構成では、媒体吸出し開口が円形に形成されている。この場合、直径が、約０．２ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されていると有利である。これによって、媒体の良好な吸出しを確保することができる。媒体吸出し通路が、媒体吸出し開口から離れる方向に先細りにされていると有利である。
【００２０】
媒体吸出し通路に接続された吸出し装置と、該吸出し装置を制御するための制御装置とが設けられていると有利である。吸出し装置の制御を介して、基板における洗浄媒体の滞留時間と、吸い込まれる媒体量とを調整することができる。
【００２１】
１つの縁部に沿った基板の縁洗浄を可能にするために、基板のための基板支持体と、該基板支持体と洗浄ヘッドとの間の相対運動を発生させるための装置とが設けられていると有利である。この場合、洗浄したい縁部の幅の調整を行うために、少なくとも１つのフランジと基板の１つの側面とのオーバラップ度を調整するための制御装置が設けられていると有利である。洗浄ヘッドが、不変の間隔を置いて基板の少なくとも１つの縁部の少なくとも一部領域に沿って移動するように、洗浄ヘッドと基板との間の相対運動を制御するための制御装置が設けられていても有利である。これによって、基板の縁部の規定された一部領域を洗浄することができる。
【００２２】
本発明の課題は、基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための方法において、少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた洗浄ヘッドを１つの基板に隣り合わせて配置し、この場合、媒体供給ノズルが、基板の１つの主面の、洗浄したい少なくとも１つの縁範囲に方向付けられており、媒体吸出し開口が、媒体供給ノズルの領域で基板の１つの端面に隣り合って位置しており、この場合、洗浄ヘッドの、媒体供給ノズルを支持するフランジの平らな面と、基板の、洗浄したい縁範囲との間の間隔を、０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．３ｍｍ、有利には０．２ｍｍに調整し；洗浄流体を基板の縁範囲に少なくとも１つの媒体供給ノズルによって供給し；洗浄流体を媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とを介して完全に吸い出すことによって解決される。本発明による方法によって、すでに上述した利点が達成される。特にフランジと基板の主面との間の狭いギャップの調整は、供給される媒体の適切な供給および吸出しを促進する。
【００２３】
洗浄ヘッドが、互いに向き合った少なくとも２つの媒体供給ノズルを有しており、基板の、洗浄したい縁範囲を、配置ステップの間、少なくとも２つの媒体供給ノズルの間に配置すると有利である。これによって、媒体供給ノズルがそれぞれ基板の上面もしくは下面に方向付けられており、媒体吸出し開口が基板の端面に隣り合って位置していることが達成される。この配置形式では、基板の上面だけでなく下面も同時に洗浄することができる。さらに、これによって、基板の端面の、改善された洗浄も達成することができる。なぜならば、供給された媒体を、この媒体が媒体吸出し部の方向に引っ張られる前に、基板の両主面から端面を湿潤するために、この端面にもたらすことができるからである。このことは、特に狭いギャップ形成によって可能になる。このギャップ形成によって、比較的僅かな吸出し出力の印加が可能となる。なぜならば、周辺空気がほとんど吸い込まれないからである。僅かな吸出し出力によって、やはり基板の端面の良好な湿潤が可能となる。
【００２４】
本発明の有利な実施態様では、洗浄流体を少なくとも１つの媒体供給ノズルに供給し、この場合、洗浄流体を、ほぼ無圧で媒体供給ノズルの出口開口に供給し、主として、吸出しの力によって媒体吸出し開口と、該媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とを介して少なくとも１つの媒体供給ノズルから引き出し、基板の、洗浄したい縁範囲に供給する。これによって、その都度媒体吸出し開口によって吸い出される洗浄流体と同じくらい多くの洗浄流体しか基板に供給されないことが確保される。さらに、流体はほぼ力なしに基板に衝突する。
【００２５】
本発明の択一的な実施態様では、洗浄流体を、圧力を伴って媒体供給ノズルを通して、基板の、洗浄したい縁範囲に供給する。このことは、媒体供給ノズルと基板との間の間隔が過度に大きく、これによって、洗浄流体を引き出すために、十分な負圧を媒体供給ノズルの出口開口に加えることができない恐れがある場合に特に有利である。この場合、圧力は、洗浄流体が基板への衝突時に飛散することを阻止するために、比較的小さく保たれることが望ましい。このためには、圧力が、１０ＫＰａ〜３０ＫＰａの間の範囲にあり、有利には２０ＫＰａであると有利である。
【００２６】
洗浄流体を基板の縁範囲に対してほぼ垂直に供給すると有利である。本発明の１つの実施態様では、洗浄流体を基板の縁範囲に向けて、０゜〜４０゜、有利には０゜〜２０゜の間で基板表面に対する垂線から逸脱した角度で供給する。この場合、洗浄流体は基板縁部に向かって供給される。角度調節によって、洗浄したい縁範囲の深さを調整することができる。
【００２７】
媒体供給ノズルを別個に制御すると有利である。これによって、一方では、均一な圧力が、媒体供給ノズルの、逆方向に向けられた出口開口に加えられることを確保することができる。さらに、たとえば異なる流体量を基板の上面もしくは下面に案内するために、媒体供給ノズルをそれぞれ異なる圧力で負荷することが可能である。さらに、媒体供給ノズルをそれぞれ異なる流体で負荷することも可能である。たとえば、基板の上面に溶媒が供給されてもよいのに対して、下面には純水が供給される。これによって、適宜な流体流れが生ぜしめられ、溶媒が基板の下面に到達しないことが確保される。
【００２８】
本発明の特に有利な実施態様では、媒体供給開口と媒体吸出し開口とを基板の少なくとも１つの縁部の少なくとも一部領域に沿って運動させる。これによって、この部分領域で縁洗浄が行われる。この場合、基板の均一な縁範囲を洗浄するために、基板の端面に対する媒体吸出し開口の間隔を、処理の間、不変にすると有利である。基板と洗浄ヘッドとの間の相対運動を基板のかつ／または洗浄ヘッドの運動によって発生させると有利である。
【００２９】
基板の端面の良好な湿潤ひいては端面の良好な洗浄も達成するために、基板の端面に対する媒体吸出し開口の間隔を、縁洗浄の間、０．５ｍｍ〜２ｍｍの間、特に１ｍｍに調整すると有利である。基板の２ｍｍ〜５ｍｍの間の縁範囲、特に３ｍｍの縁範囲を洗浄すると有利である。
【００３０】
洗浄したい１つの縁範囲の深さを、少なくとも１つの媒体供給ノズルと基板の１つの側面とのオーバラップ度の調整によって達成すると有利である。付加的および／または択一的には、基板の、洗浄したい１つの縁範囲の深さを、媒体供給ノズルの旋回を介して達成することもできる。
【００３１】
洗浄流体が１回の洗浄過程の終了時に完全に吸い出されることを確保するためには、まず、洗浄流体の供給を停止し、洗浄流体の吸出しを、洗浄流体の供給の終了後の予め規定された期間後に終了する。
【００３２】
媒体供給ノズルが、基板の縁部に沿った運動時に基板の１つの角隅の領域に到達する場合、媒体供給を角隅への到達前に遮断するのに対して、洗浄流体の吸出しは継続する。これによって、洗浄流体がさらに完全に吸い出されることが確保される。なぜならば、吸込み作用が角隅の領域で緩和し得るからである。この場合、媒体供給ノズルの負荷は、媒体がまさに丁度角隅領域にまで到達し、これによって、基板の完全な縁部の洗浄が可能となるように制御される。特にそれぞれ異なる縁範囲の間の移行時に、基板の規定された洗浄を行うために、洗浄流体の媒体供給および／または吸出しを基板の輪郭に関連して制御すると有利である。
【００３３】
以下に、本発明の有利な実施例を図面につき詳しく説明する。
【００３４】
図１には、フォトマスク１と、このフォトマスク１を縁洗浄するための洗浄ヘッド３との斜視図が示してある。図２には、この洗浄ヘッド３の拡大断面図が示してある。この場合、フォトマスク１の一部も見ることができる。さらに、図３、図４および図５には、洗浄ヘッド３の正面図、断面図および斜視図が示してある。この場合、図３および図５では、あとでさらに詳しく説明するように、洗浄ヘッドの一部が省略されている。いま、洗浄ヘッド３の構造を図１〜図５につき詳しく説明する。以下の説明では、上方、下方、後方、前方という概念およびこれに類する概念を図面を考慮して使用する。しかし、この場合、これらの概念は決して限定されていない。なぜならば、これらの概念は洗浄ヘッドのその都度の方向付けに関連しているからである。
【００３５】
洗浄ヘッド３はメインボディ部分５を有している。このメインボディ部分５はほぼ平らな端面７を有している。この平らな端面７には開口９が設けられている。この開口９は媒体吸出し通路１１に接続されている。開口９は、媒体吸出し通路１１に向かって減少する円形の直径を有している。この直径の減径は、メインボディ５の、湾曲させられた壁部分１３によって行われている。
【００３６】
さらに、洗浄ヘッド３は、メインボディ５から延びる全部で４つのフランジ１５，１６，１７，１８を有している。これらのフランジ１５〜１８はメインボディ５から、平らな面７を越えて張り出すように延びている。図３および図５に最も良好に認めることができるように、フランジ１５，１６はメインボディ５の上側の端部で延びており、フランジ１７，１８はメインボディ５の下側の端部で延びている。フランジ１５，１６は上側の端部に互いに間隔を置いて配置されていて、その間に自由室もしくは切欠き２０を形成している。同じ形式で下側のフランジ１７，１８の間に自由室もしくは切欠き２２が形成される。図３に示した正面図によれば、フランジ１５〜１８はメインボディ５の四隅に設けられている。
【００３７】
フランジ１５，１６は、平らな面７に対して垂直に延びるそれぞれ１つの真っ直ぐな下面２４；２５を有している。相応の形式でフランジ１７，１８は、上方に向けられた、平らな面７に対してほぼ垂直に延びるそれぞれ１つの上面２６，２７を有している。したがって、下面２４，２５は上面２６，２７に対して平行に位置している。下面２４，２５と上面２６，２７との間の間隔は、洗浄したい基板のサイズに適合されていて、０．２ｍｍ〜１ｍｍ、有利には０．４ｍｍだけ、洗浄したい基板の厚さよりも大きく寸法設定されている。したがって、基板の導入時には、それぞれ０．１ｍｍ〜０．５ｍｍの間の毛管ギャップ、有利には０．２ｍｍの毛管ギャップが、基板の主面と、フランジ１５，１６の下面２４，２５もしくはフランジ１７，１８の上面２６，２７との間に形成される。使用事例に応じて、フランジの間の間隔を０．１ｍｍだけ基板の厚さよりも大きく選択することも可能である。これによって、それぞれ０．０５ｍｍの毛管ギャップが形成されるようになっている。
【００３８】
フランジ１５，１８は、上向きもしくは下向きに開放された円形の切欠き３０；３１を有している。この切欠き３０；３１の機能については、あとでさらに詳しく説明する。これに対して、フランジ１６，１７は、上方にもしくは下方に向けられた切欠きを有していない。しかし、フランジ１６，１７は、フランジ１５，１８に向けられた孔３４，３５を有している。さらに、フランジ１６，１７は、上方にもしくは下方に向けられた円形のそれぞれ１つの肩面３８，３９を有している。この肩面３８，３９は、それぞれフランジ１６；１７の、フランジ１５；１８に向かい合った側に形成されている。孔３４，３５ならびに肩面３８，３９の機能については、あとでさらに詳しく説明する。
【００３９】
図４および図５に最も良好に認めることができるように、メインボディの、フランジ１５，１６の間にもしくはフランジ１７，１８の間に位置する領域には、メインボディが、平らな表面７に向かって円錐形に先細りにされたそれぞれ１つの斜面４２；４３を有している。メインボディ５の斜面４２の前方の端部には、上向きに開放された丸み付け部４６が設けられているのに対して、斜面４３の前方の端部には、下向きに開放された丸み付け部４７が設けられている。両丸み付け部４６，４７の機能については、あとでさらに詳しく説明する。
【００４０】
さらに、図２に最も良好に認めることができるように、洗浄ヘッド３は、フランジ１５，１６；１７，１８に回動可能に支承された２つのノズルボディ５０，５１を有している。両ノズルボディ５０，５１は同一の構造を有しているので、ノズルボディ５０についてしか詳しく説明しない。このノズルボディ５０の基本構造を、図２と、第１の実施例によるノズルボディ５０の斜視図ならびに断面図を示す図６ａおよび図６ｂとにつき詳しく説明する。ノズルボディ５０はほぼ円筒状のメインボディ５４を有している。しかし、このメインボディ５４は完全な円筒形状を有していない。なぜならば、図６ｂに示した断面図に最も良好に認めることができるように、円形状が扁平加工部もしくは扁平面５５を有しているからである。メインボディ５４には、扁平面５５に対して垂直に延びる盲孔５６が設けられている。この盲孔５６は扁平面５５からメインボディ５４内に延びている。盲孔５６は前方の領域、すなわち、扁平面５５に隣接して位置する領域に雌ねじ山５８を有している。この雌ねじ山５８には、内向きに、すなわち隣接して盲孔の内側の端部に向かって、ねじ山なしの領域が続いている。
【００４１】
さらに、メインボディ５４内には１つの分岐孔６０が設けられている。この分岐孔６０は盲孔の中心軸線に約５０゜の角度αを成して交差している。分岐孔６０は、雌ねじ山５８が設けられていない領域で盲孔５６に交差している。分岐孔６０は盲孔５６の内側の端部をメインボディ５４の円形の外周面に接続している。分岐孔６０は、あとでさらに詳しく説明するように、ノズルボディ５０の出口開口６１を形成している。
【００４２】
さらに、ノズルボディ５０は、筒状のメインボディ５４の一方の端面から延びる円筒状の支承ピン６３を有している。この円筒状の支承ピン６３の中心軸線は、ほぼ円形のメインボディ５４の円形の部分の中心軸線に合致している。
【００４３】
図２に最も良好に認めることができるように、ねじ山５８は管接続エレメントまたはチューブ接続エレメント６５を取り付けるために働く。この接続エレメント６５は相応の雄ねじ山を有していて、盲孔５６内にねじ込むことができる。接続エレメント６５を介して、媒体供給管路をノズルボディ５０に接続することができる。
【００４４】
相応して、図２に示したノズルボディ５１は相応の接続エレメント６５を介して同じく媒体供給管路（図示せず）に接続することができる。
【００４５】
ガイドピン６３は、フランジ１６の開口３４内に嵌合しかつ開口３４内でのノズルボディ５０の回動可能な支承を可能にするように寸法設定されている。フランジ１６に設けられた肩部３８と、斜面４２の前方の端部に設けられた丸み付け部４６と、フランジ１５に設けられた円形の切欠き３０とは、それぞれメインボディ５４の円筒状の部分の一部のためのガイドを成すように寸法設定されている。この場合、ノズルボディ５０は、主として、扁平面５５が斜面４２に対してほぼ直角を成しており、分岐孔６０がフランジ１５；１６の下面２４，２５に対してほぼ垂直に延びているように据え付けられる。さらに、ノズルボディは、フランジ１６，１７の真っ直ぐな下面に対して僅かに後退させられているように、つまり、フランジ１６，１７の真っ直ぐな下面を越えて張り出さないように据え付けられている。しかし、この場合、ノズルボディ５０と、このノズルボディ５０の流出開口とをフランジの真っ直ぐな下面に整合させて据え付けることも可能である。有利には、ノズルボディがフランジの下面を越えて張り出すことが回避されることが望ましい。
【００４６】
ノズルボディ５１は、相応の形式でフランジ１７，１８に取り付けられる。したがって、洗浄ヘッド３は、水平な中心平面に対して鏡像対称的な構造を有している。
【００４７】
図７〜図９には、ノズルボディ５０の択一的な構成が示してある。図７〜図９には、類似のまたは同一の構成エレメントを説明する限り、それぞれ図６に示したノズルボディと同一の符号が使用してある。
【００４８】
図７〜図９に示したノズルボディ５０は、ほぼ円筒状のそれぞれ１つのメインボディ５４を有している。このメインボディ５４は、円筒形状を一貫して破断する扁平面５５を有している。この扁平面５５には、これに対して垂直に延びるそれぞれ１つの盲孔５６が設けられている。この盲孔６５内には、接続エレメント、たとえば図２に示した接続エレメント６５を据え付けることができる。盲孔５６は、それぞれ図６に示した構造と同一の構造を有している。
【００４９】
さらに、図７〜図９に示した実施例のノズルボディは、円筒状のそれぞれ１つのガイドピン６３を有している。このガイドピン６３の中心軸線は、メインボディ５４の円筒状の部分の中心軸線に合致している。
【００５０】
図７〜図９に示したノズルボディの各実施例は、図６に示したノズルボディ５０の実施例と、主として、盲孔５６の内側の領域とメインボディ５４の筒状の部分の外周面との間の接続部に関してしか異なっていない。図６に示した実施例では、流出開口６１を備えた単一の分岐孔６０が設けられているのに対して、図７に示した実施例では、全部で３つの分岐孔７０が設けられている。これらの分岐孔７０はそれぞれ１つの流出開口７１を規定している。３つの分岐孔７０は互いに平行に配置されていて、盲孔をメインボディ５４の外周面に接続している。流出開口７１は、それぞれ盲孔５６内に導入された媒体のための流出ノズルとして働く。
【００５１】
図８に示した実施例では、同じく３つの分岐孔８０が設けられている。これらの分岐孔８０はそれぞれ流出開口８１を規定している。しかし、図８に示した実施例では、分岐孔８０が互いに平行に延びておらず、盲孔から扇形にメインボディ５４の外周面に向かって拡張している。図７と図８とを比較して明確に認めることができるように、これによって、流出開口８１の間の間隔が流出開口７１の間の間隔に比べて著しく増加させられる。これによって、分岐管路８０を通って流出する流体が、より広幅の領域にわたって分配されることが可能となる。
【００５２】
図９に示した実施例では、同じく単一の分岐孔９０が設けられている。しかし、この分岐孔９０は盲孔５６をメインボディ５４の外周面に接続しておらず、凹状のスリット９１に接続している。この凹状のスリット９１はメインボディ５４の外周面に向かって開放されていて、スリット状の流出開口として働く。
【００５３】
図１０には、本発明による洗浄装置の概略的な全体構造が示してある。図１０には、フォトマスク１と洗浄ヘッド３とを認めることができる。フォトマスク１は支持体９５に位置している。この支持体９５は、図１０に座標軸によって示したように、Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向に運動可能である。さらに、支持体９５はＺ軸を中心として回動可能である。支持体９５は制御装置９７に接続されている。この制御装置９７は支持体９５の運動を制御する。択一的には、定置の支持体９５を設け、その代わりに、洗浄ヘッド３を運動可能に形成することも可能である。当然ながら、支持体９５も洗浄ヘッド３も運動可能に形成することも可能である。
【００５４】
洗浄ヘッド３におけるメインボディ部分５に設けられた媒体吸出し通路１１は、相応の管路９９を介して吸込み装置、たとえばポンプ１００に接続されている。このポンプ１００は制御装置９７に接続されていて、この制御装置９７によって制御される。
【００５５】
ノズルボディ５０，５１もしくは相応のチューブ接続エレメント６５は、それぞれ相応の管路１０２，１０３を介して媒体供給部１０５に接続されている。管路１０２，１０３は、媒体供給部によって互いに別個に制御可能である。この媒体供給部１０５は制御装置９７に接続されていて、この制御装置９７によって制御される。当然ながら、管路１０２，１０３を一緒に制御することも可能である。
【００５６】
洗浄装置の運転を以下に図面、特に図１０につき詳しく説明する。
【００５７】
まず、基板、たとえばフォトマスク１が支持体９５に降下される。次いで、この支持体９５が運動させられ、これによって、図１０に認めることができるように、フォトマスク１の縁範囲が、洗浄ヘッド３の上側のフランジ１５，１６と下側のフランジ１７，１８との間の中間に収容される。上側のフランジと下側のフランジとの間の間隔によって、それぞれ１つの毛管ギャップが、基板の主面とフランジ１５〜１８の真っ直ぐな下面もしくは上面との間に形成される。フォトマスクとフランジとのオーバラップは、ノズル開口６１が、フォトマスク１の一方の端面から間隔Ａを備えてフォトマスクの上面もしくは下面に方向付けられているように調整される。間隔Ａは、フォトマスク１の、洗浄したい縁範囲に相当している。さらに、フォトマスク１の、洗浄したい縁範囲に相当する間隔Ａは、ノズルボディ５０；５１の回動によって調整されてもよい。この場合、これによって、特にフォトマスク１の上面における間隔Ａを下面に比べて異なる量に調整することもできる。
【００５８】
次いで、媒体供給部１０５を介して適宜な洗浄媒体、たとえば溶媒がノズルボディ５０；５１の流出開口に提供される。この場合、洗浄流体は、ほぼ無圧で各流出開口に供給されるように提供される。次いで、媒体吸出し開口９と媒体吸出し通路１１との方向への流れを発生させるために、ポンプ１００が作動される。この空気流れは、図２に矢印１１０によって最も良好に認めることができる。この流れによって、ノズルボディ５０，５１の流出開口に負圧が形成される。この負圧は洗浄流体を各流出開口から引き出し、フォトマスク１の上面もしくは下面と、洗浄ヘッド３の上側のフランジ１５，１６および下側のフランジ１７，１８とに接触させる。そこで媒体を毛管ギャップにわたって適切に拡幅することができる。洗浄流体は毛管ギャップを通してフォトマスク１の上面もしくは下面に沿って流れる。洗浄流体はその湿潤能に基づきフォトマスク１の端面も湿潤し、この端面に接触する。湿潤は、比較的僅かな吸出し出力の調整によって促進することができる。この吸出し出力は、やはりフランジと基板の主面との間の狭いギャップに基づき可能となる。次いで、フォトマスク１から、図２に符号１１２で示したように、組み合わされた空気・流体混合物が吸い出される。この空気・流体混合物は適宜な形式で廃棄処分される。いま、洗浄流体の相応の流れの開始後、フォトマスク１が洗浄ヘッド３に対して相対的に運動させられ、これによって、この洗浄ヘッドが不変の間隔を置いてフォトマスク１の縁部に沿って移動する。この運動は、所望の縁範囲が洗浄されるまで継続される。縁部全体を洗浄したい場合には、運動がフォトマスク１の角隅にまで延長されるかもしくは角隅を越えるように延長される。角隅の領域において、洗浄流体のための十分な吸出し力が提供され、過度に洗浄流体がフォトマスク１に案内されないことを確保するためには、媒体供給が、１つの角隅への到達直前に終了されてよい。さらに、択一的または付加的にも、角隅の領域でポンプの吸出し出力が高められてよい。
【００５９】
フォトマスク１の別の縁部を洗浄したい場合には、このフォトマスク１が支持体９５を介して回動させられ、別の縁部の洗浄が行われ得る。当然ながら、フォトマスク１の同じ運動時に、たとえば反対の側に位置する縁部を洗浄するために、１つよりも多くの洗浄ヘッドを設けることも可能である。
【００６０】
上述した実施例では、縁洗浄を達成するために、フォトマスク１が運動させられたにもかかわらず、当然ながら、洗浄ヘッド３をフォトマスク１の縁部に沿って運動させることも可能である。この場合、当然ながら、１つよりも多くの洗浄ヘッドを設けることも可能である。同時にフォトマスク１の全ての縁部を洗浄するために、たとえば全部で４つの洗浄ヘッド３が設けられてもよい。
【００６１】
１回の相応の洗浄過程の終了時には、媒体供給が停止され、次いで、吸出し過程を終了するために、ポンプ１００も停止される。この場合、一般的に、媒体供給がまず停止され、その後、全ての洗浄流体が吸い出されることを確保するために、吸出し過程が短時間維持される。
【００６２】
上記のプロセスは、相応の形式で当然ながら別の基板、たとえば半導体ウェーハ、特にいわゆる「フラット」を備えた半導体ウェーハにも使用可能である。洗浄ヘッドは、主として、任意のあらゆる形状に沿って運動することができる。主に円形の基板では、洗浄ヘッド３の平らな面７が、基板の外周形状に適合された曲率を有していてよい。さらに、それぞれ異なる輪郭領域、たとえばフラット／円形部の移行部の領域でも、規定された洗浄を行うために、媒体供給および／または洗浄流体の吸出しを基板の輪郭に関連して制御することができる。
【００６３】
図１１には、洗浄ヘッド３の択一的な構成が示してある。この場合、図３には、同一のまたは類似のエレメントを示す限り、前図と同一の符号が使用してある。第１の実施例による洗浄ヘッド３と、図１１に示した洗浄ヘッド３との間の主な違いは、メインボディ５の上側にしかフランジ１５，１６が設けられていないことにある。この場合、図１１には、フランジ１６しか認めることができない。
【００６４】
図１１に示した実施例では、下側のフランジは設けられていない。その代わりに、メインボディ５で媒体吸出し開口９の下方に突出部１１５が設けられている。
【００６５】
上側のフランジ１５，１６には、同じく相応のノズルボディ５０が保持される。
【００６６】
図１１に示したノズルボディ３の運転は、前述した実施例によるノズルボディ３の運転にほぼ相当している。しかし、この場合、基板、たとえばフォトマスク１の上面における片側の洗浄しか行われない。この場合、媒体吸出し開口の方向への媒体の適切な流れを確保するために、上側のフランジ１５，１６と基板の上面との間に、やはり０．０５〜０．５ｍｍの間の幅、特に０．１ｍｍ〜０．３ｍｍの間の幅を備えた毛管ギャップが形成されることが重要である。突出部１１５は、運転の間、下方から媒体吸出し開口と、この媒体吸出し開口の後方に位置する媒体吸出し通路とへの空気流れを制限するために働く。
【００６７】
本発明による装置の運転の説明では、洗浄流体が洗浄の間に相応のノズルボディ５０，５１に供給され、これによって、流体がほぼ無圧でノズルボディ５０の各流出開口に供給された。したがって、洗浄流体は、空気の吸込み時に形成される、流体に対する負圧を介して受動的に供給された。当然ながら、洗浄流体が圧力を伴ってノズルボディ５０，５１の流出開口から流出するように、媒体供給部１０５が制御されることによって、洗浄流体を能動的に相応の基板に供給することも可能である。しかし、この場合、流体が基板への衝突時に飛散し、これによって、基板の中心領域、すなわち、洗浄したくない領域に到達することを回避するために、圧力は比較的小さく、しかも、１０ＫＰａ〜３０ＫＰａの間の範囲、有利には２０ＫＰａに保たれることが望ましい。洗浄流体が圧力を伴って基板に案内される場合でさえ、ポンプ１００または相応の別の吸出し装置の出力が調整され、これによって、液体が、上述した形式で直接的にかつ完全に吸い出される。圧力を伴って流体を供給することは、特にフランジと基板との間の間隔が増加させられる場合に有利である。なぜならば、増加させられた間隔の場合には、十分な負圧を相応のノズルボディ５０，５１の流出開口に達成するために、過度に高い吸出し出力が必要となる恐れがあるからである。
【００６８】
本発明を有利な実施例につき説明したにもかかわらず、本発明は、具体的に図示した構成に限定されていない。特にノズルボディの形状が図示の形状と異なっていてよく、洗浄ヘッドへのノズルボディの取付けも図示の構成と異なっていてよい。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】フォトマスクおよび本発明による洗浄ヘッドの斜視図である。
【図２】図１に示した洗浄ヘッドの概略的な断面図である。
【図３】ノズルが取り付けられていない洗浄ヘッドの正面図である。
【図４】図３に示した洗浄ヘッドの断面図である。
【図５】図３に示した洗浄ヘッドの斜視図である。
【図６ａ】本発明の第１の実施例によるノズルボディの斜視図である。
【図６ｂ】本発明の第１の実施例によるノズルボディの断面図である。
【図７ａ】本発明の第２の実施例によるノズルボディの斜視図である。
【図７ｂ】本発明の第２の実施例によるノズルボディの断面図である。
【図８ａ】本発明の第３の実施例によるノズルボディの斜視図である。
【図８ｂ】本発明の第３の実施例によるノズルボディの断面図である。
【図９ａ】本発明の第４の実施例によるノズルボディの斜視図である。
【図９ｂ】本発明の第４の実施例によるノズルボディの断面図である。
【図１０】本発明による洗浄装置の概略図である。
【図１１】本発明による択一的な洗浄ヘッドの概略図である。
【符号の説明】
【００７０】
１  フォトマスク、  ３  洗浄ヘッド、  ５  メインボディ、  ７  面、  ９  媒体吸出し開口、  １１  媒体吸出し通路、  １３  壁部分、  １５  フランジ、  １６  フランジ、  １７  フランジ、  １８  フランジ、  ２０  切欠き、  ２２  切欠き、  ２４  下面、  ２５  下面、  ２６  上面、  ２７  上面、  ３０  切欠き、  ３１  切欠き、  ３４  孔、  ３５  孔、  ３８  肩面、  ３９  肩面、  ４２  斜面、  ４３  斜面、  ４６  丸み付け部、  ４７  丸み付け部、  ５０  ノズルボディ、  ５１  ノズルボディ、  ５４  メインボディ、  ５５  扁平面、  ５６  盲孔、  ５８  雌ねじ山、  ６０  分岐孔、  ６１  流出開口、  ６３  支承ピン、  ６５  接続エレメント、  ７０  分岐孔、  ７１  流出開口、  ８０  分岐孔、  ８１  流出開口、  ９０  分岐孔、  ９１  スリット、  ９５  支持体、  ９７  制御装置、  ９９  管路、  １００  ポンプ、  １０２  管路、  １０３  管路、  １０５  媒体供給部、  １１０  空気流れ、  １１２  空気・流体混合物、  １１５  突出部、  Ａ  間隔
【図１】
2007508684.tif 000003
【図２】
2007508684.tif 000004
【図３】
2007508684.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９ａ】
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【図９ｂ】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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