(57)【要約】本発明は、ピレスロイド化合物の合成中間体である2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの製造方法に関する。また、本発明の方法によれば、2,3,5,6−テトラフルオロテレフタレート還元することにより2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールを製造し、さらに得られた2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールをハロゲン化、水素添加、エステル化することによりテフルトリンを製造することができる。本発明の方法は、工程が簡単且つ安全であり、収率も高い。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の構造式で表されるピレスロイド化合物の合成中間体である2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの製造方法であって、
【化１】
2007507435.tif 000003
下記の経路の通り、テトラフルオロテレフタレートを出発原料とし、還元剤と溶媒との存在下、還元して2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールを製造する方法。
【化２】
2007507435.tif 000004
（式中、Ｒ1又はＲ2は、それぞれ独立して、同じでもよく異なっても良い炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルキル基、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基又はネオペンチル基を示す）。
【請求項２】
前記Ｒ1、Ｒ2がいずれもメチルである請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記溶媒が、アルコール類、エチレングリコール類、エーテル類、エチレングリコールエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル類、ポリエチレングリコールジメチルエーテル類、ポリエーテル類、低級アルコール類、両相溶媒の混合物、極性不活性溶媒、有機酸、エステル、水、エーテル、低級アニオン界面活性剤又はその混合物、又はそれらの内の二種類又はそれ以上の種類の混合物である請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記溶媒が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、フェニルメチルエーテル、酢酸、酢酸エチルエステル、蟻酸エチルエステル、水、テトラヒドロフラン、又はそれらの内の二種類又はそれ以上の種類の混合物である請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記溶媒が、メタノール、エタノール又はそれらの混合物である請求項３に記載の製造方法。
【請求項６】
前記還元剤が、金属水素化物；ホウ素水素化物；水素化金属アルミニウム；水素化ホウ素アルミウム；水素ガス又は水素ガスのドナーである請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
前記ホウ素水素化物が、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムから選ばれる少なくとも一種のものであり、前記水素化金属アルミニウムが水素化リチウムアルミニウムである請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
前記還元剤が水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ホウ素リチウムであり、反応において、さらに助剤又は触媒を添加する請求項１に記載の製造方法。
【請求項９】
前記助剤が変性金属塩又はホウ素化物である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記変性金属塩が、アルミニウム塩、亜鉛塩、チタン塩から選ばれる少なくとも一種の塩である請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記変性金属塩が、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、四塩化チタンから選ばれる少なくとも一種の塩である請求項10に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記ホウ素化物が、トリフルオロホウ素又はアルキルホウ素化物である請求項９に記載の製造方法。
【請求項１３】
還元剤として水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ホウ素カリウムを使用する場合に、助剤としてリチウム化物、好ましくは塩化リチウム又は臭化リチウムを使用する請求項８に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記助剤と還元剤とのモル比が、０．０５〜１：１であり、好ましくは０．１〜０．５：１である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記触媒が、オニウム塩であり、好ましくはテトラアルキルアンモニウム塩、ホスホン酸オニウム塩、開鎖又は環状のポリエーテルから選ばれる少なくとも一種のオニウム塩である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記触媒と前記還元剤との使用量比例が０．０１〜０．１（モル比）である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記溶媒が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルである請求項４に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記還元剤が水素ガスであり、反応過程において、さらに金属、金属酸化物、混合金属酸化物、金属塩又は金属錯体から選ばれる少なくとも一種の触媒を使用する請求項１に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記溶媒が、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、有機酸類又はエステル類である請求項１８に記載の製造方法。
【請求項２０】
反応過程における温度を−２０℃から溶媒の沸点までの範囲、好ましくは３０〜１２０℃、より好ましくは４０〜８０℃とする請求項１〜１９のいずれか記載の製造方法。
【請求項２１】
2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールを使用してテフルトリンを製造する方法であって、
下記のステップにより、請求項１に記載の製造方法により得られた2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールをハロゲン化、水素添加、エステル化することにより、テフルトリンを製造する方法：
１）2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールをハロゲン化することにより2,3,5,6−テトラフルオロ−４−ハロメチルベンジルアルコールを得、
２）得られた2,3,5,6−テトラフルオロ−４−ハロメチルベンジルアルコールを水素化することにより、４−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールを得、
３）得られた４−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールをシス−３−（(Z)−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル）−2,2−ジメチルシクロプロパンアシルクロリド又はシス−３−（(Z)−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル）−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸と反応させ、テフルトリンを得る。
【請求項２２】
次の構造式で表される中間体化合物（ＩＩ）。
【化３】
2007507435.tif 000005
（Ｒ2は、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルキル基、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基又はネオペンチル基を示す。）
【請求項２３】
前記Ｒ2がメチルである請求項２２に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ピレスロイドを合成するためのポリフルオロベンジルアルコールである2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオール（以下はテトラフルオロキシレンジオールと略する場合も有る）の製造方法に関する。2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールは、ピレスロイドを合成するための重要な中間体であり、ハロゲン化、水素添加、エステル化することによりテフルトリン（Tefluthrin）を得ることができる。
【背景技術】
【０００２】
シス−３−ハロエニル−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸と４−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロフェニルアルコールとの反応により得られるエステル、特にテフルトリン（2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル−シス−3−((Z)−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシラート）は、重要な殺虫剤及びコナダニ駆除剤である。したがって、2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールのような有用な中間体を製造するための産業化に適合し且つ有効な製造方法が注目されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの製造方法は幾つかの特許公報に開示されている。収率と純度をさらに向上させるために、収率と純度がより良い2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの工業上好ましい製造方法が要求されている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記要求を満足できる2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールを製造する方法を見出し、本発明を完成した。従来の製造方法と比較すると、本発明の製造方法は、より安全であり、よりコントロールし易い。本発明に係わる製造方法に用いられる溶媒は簡単な溶媒であり、工程数が少なく、副生成物が少なく、廃棄物の処理が簡単であり、製品収率が高く、純度が９７％以上に達し得る。
【０００５】
即ち、還元剤と溶媒の存在下、テトラフルオロジアルキル安息香酸エステルを2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールに還元する方法を提供する。
【０００６】
【化１】
2007507435.tif 000002
式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して同じでもよく、異なってもよい、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルキル基を示す。好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基又はネオペンチル基であり、より好ましくは、R1及びR2は同じであって、特にメチル基である。すなわち、R1及びR2が何れもメチル基であるテトラフルオロテレフタル酸ジメチルエステルが好ましい。
【０００７】
中間体（II）が分離、精製された後、他の用途に用いられるか又は更なる反応によって目的産物（III）の合成に用いられることができる。構造式（II）で表される中間体は、新規な化合物であって、本発明の他の方面である。
出発物質（I）はテトラフルオロテレフタル酸とアルカノール、特に低級アルカノールとのエステル化により簡単に得られる。テトラフルオロテレフタル酸は、殺虫剤を製造するための中間体であり、テトラフルオロテレフタロニトリルを加水分解することにより容易に高収率で製造され得る。テトラフルオロテレフタロニトリルは、市場で入手可能な出発物質であるテトラクロロテレフタロニトリルから、フッ素化により容易に製造され得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の製造方法に用いられる還元剤は、金属水素化物であり、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム又はカルシウムのホウ素水素化物（例えば、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム）；水素化カリウムアルミニウム、水素化リチウムアルミニウムのような水素化金属アルミニウム；MAｌHｘ（OR）ｙで示されるアルコキシ水素化金属アルミニウム（ここで、Mがアルカリ金属、Rがアルカンであり、ｘ、ｙがそれぞれ独立して、1、2又は３を示し、且つｘ＋ｙ＝４である）；アルミニウムの水素化物又はホウ素化物；水素ガス；イソプロピルアルコール、蟻酸アンモニウム、トリアルキル蟻酸アンモニウム又はシクロヘキセンのような水素のドナーが挙げられる。
【０００９】
還元剤として金属水素化物を用いて還元反応を行う場合には、金属水素化物の使用量は、ホウ素水素化物を除いて、何れもその還元剤自身の物性によって決められる。ジエステル（I）に対するモル比が、通常1〜3：1であり、好ましくは1〜1.5：1である。アルコキシ水素化金属アルミニウムについては、ジエステル（Ｉ）に対するモル比が、4〜12：1であり、好ましくは、4〜8：１である。構造式（II）で表される中間体を製造する場合には、還元剤の使用量を通常半分にする。
【００１０】
還元反応に好適な溶媒としては、アルコール類、エチレングリコール類、エーテル類、エチレングリコールエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル類、ポリエチレングリコールジメチルエーテル類、ポリエーテル類、低級アルコール（例えば、メタノール、エタノール）の混合物、両相溶媒の混合物、極性不活性溶媒、有機酸、エステル、水、エーテル、低級アニオン界面活性剤の混合物が挙げられる。
【００１１】
還元剤としてホウ素水素化物を用いた還元反応における好適な溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール類；エチレングリコール、ポリエチレングリコールのようなエチレングリコール類；ジメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；１，２−ジメトキシエタンのようなエチレングリコールエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエチレングリコールジメチルエーテル類；ポリエーテル類；低級アルカノール（例えば、メタノール、エタノール）の混合物が挙げられる。反応を完全に行わせるために、助剤又は触媒を添加する。それにより、反応収率及び転化率を向上させるか又はホウ素水素化物の使用量を低減することができる。適合な助剤は、変性金属塩又はホウ素化物である。好ましい変性金属塩としては、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、テトラクロロチタン等のようなアルミニウム塩、亜鉛塩及びチタン塩が挙げられる。ホウ素化物としては、トリフルオロホウ素又はアルキルホウ素化物が挙げられる。水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ホウ素カリウムを使用する場合には、塩化リチウム又は臭化リチウムを助剤として使用することができる。助剤の使用量は、還元剤に対するモル比として通常0.05〜1：１であり、好ましくは0.1〜0.5：1である。適合な触媒としては、テトラアルキルアンモニウム塩、ホスホン酸オニウム塩、開鎖又は環状のポリエーテルのようなオニウム塩が使用され得る。触媒の使用量については、還元剤に対するモル比として通常0.01〜0.1：１である。
【００１２】
還元剤としてホウ素水素化物を使用する場合には、溶媒としては、水と、水溶性又は芳香族炭化水素（特にトルエン）のような非水溶性溶媒との両相溶媒混合物を使用し得る。この場合、反応速度を向上させるために、通常、一種類の触媒を添加する必要がある。好適な触媒としては、テトラアルキルアンモニウム塩、ホスホン酸オニウム塩、開鎖又は環状のポリエーテル（例えば、末端閉鎖のポリエチレングリコールエーテル、クラウンエーテル等）のようなカチオンオニウム塩が使用されうる。
【００１３】
アルミニウム水素化物を還元剤として使用する場合の適合な溶媒は、極性非プロトン性不活性溶媒であり、例えば、トルエンのような芳香族炭化水素；メチルフェニルエーテル、ジオキサン、テトラヒトロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル；又はそれに関連するオリゴエーテルが挙げられる。
還元反応は、−20℃〜溶媒沸点の温度範囲で行われても良く、通常30〜120℃、好ましくは40〜80℃である。反応時間は、還元剤の活性によるが、通常1〜20時間である。上記方法による化合物（III）の製造において、反応は断続的ではなく連続的に行われることが好ましい。それにより、化合物（II）の含量を５％未満、好ましくは１％未満にすることができる。
【００１４】
もう一つの方法は、水素又はイソプロピルアルコール、蟻酸アンモニウム、トリアルキル蟻酸アンモニウム又はシクロヘキセンのような水素のドナーを用いて、金属、金属酸化物、混合金属酸化物、金属塩又は金属複合触媒等の触媒の存在下、上記ジエステルを2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールに還元することである。前記金属としては、バラジウム、白金、ロジウム、レニウム、ニッケルのような第VIII族金属が挙げられる。上記触媒の担体としては、炭素、酸化アルミニウム、アルカリ土類金属炭酸塩のような不活性担体が使用され得る。上記金属酸化物としては、酸化銅、酸化クロムが挙げられる。上記混合酸化物の例としては、銅クロム合金が挙げられる。触媒の使用量は、触媒の性質によるが、第VIII族金属、その塩又はそれを含有する混合物を触媒として使用するとき、一般的に還元剤使用量の0.01〜5mol％、好ましくは0.01〜1mol％であり、非第VIII族金属の金属酸化物又は混合酸化物を触媒として使用するとき、通常還元剤使用量の0.1〜10wt％、好ましくは還元剤使用量の0. 1〜1wt％である。反応終了後、ろ過、不活性材料への吸着又は沈殿等の常法により触媒を回収して再使用することができる。水素ガスを使用する場合には、反応圧力を１〜２００atm、好ましくは１０〜５０atmとし、反応温度を５０〜２００℃、好ましくは50〜120℃としても良い。水素ガスドナーを使用する場合には、用いられる溶媒そのものの通常の圧力と一定の温度条件で反応させても良い。
【００１５】
触媒水素添加還元反応に好適な溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール類；トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；THF、１，２−ジメトキシエタンのようなエーテル類；酢酸のような有機酸；酢酸エチル、酢酸メチルのようなエステルが挙げられる。好ましい溶媒は、イソプロピルアルコール又はイソプロピルアルコールと芳香族炭化水素との混合溶媒である。化合物（II）を製造する場合、水素ガスの消費量が半分になったら反応を終止させる。
【００１６】
還元反応後、以下の一つ又は二つ以上の工程に従って進行させる。
１．触媒をろ過・分離して回収し、
２．水、有機酸又は無機酸水溶液にて反応を終止させ、
３．溶媒を蒸留・回収し、
４．一種の異なる溶媒を添加し、
５．水溶性酸又は塩基で抽出することにより、水溶性無機物又は回収不要な反応溶媒を除去し、
６．結晶化又は蒸発等の通常の手段により製品を回収する。
【００１７】
製品を溶媒中に保留したまま、次の段階の反応に入っても良い。それにより、反応工程数を低減することができる。
【００１８】
下記の処理により2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールをテフルトリンに変換することができる。
１）2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールから、ハロゲン化反応により2,3,5,6−テトラフルオロ−4-ハロメチルベンジルアルコールの合成
当該ハロゲン化反応においては、通常、安定に反応させることができる塩酸又は臭化水素酸等のハロゲン酸が用いられる。用いられる溶媒は、芳香族炭化水素等の不活性又は水と不相溶な溶媒であり、好適な反応温度は50〜150℃、好ましくは75〜100℃である。
２）2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ハロメチルベンジルアルコールからの、水素添加反応による、4−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールの合成
当該水素添加の反応においては、水素ガス及びパラジウム、ニッケル等の金属触媒を使用し、適合するアルカリとの反応により、放出するハロゲン化水素を吸収することができる。上記好適なアルカリ物質としては、塩基、アルカリ土類金属酸化物及び炭酸塩が挙げられる。好ましい溶媒はアルコール類、エステル類及び芳香族炭化水素であり、好ましい反応温度は、0〜60℃であり、好ましい圧力条件は常圧〜１０atmである。
３）4−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールと、シス−3−（（Ｚ）−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル）−2,2−ジメチルシクロプロパンアシルクロリド又はシス−3−（（Ｚ）−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル）−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸との反応によるテフルトリンの合成
エステル化反応によりテフルトリンを得ることができる。エステル化反応の方法としては、加熱又は不活性ガスによる吹き込みのような方法による放出したＨＣｌを除去するための物理的方法、ピリジン等の塩基により中和する化学的方法が挙げられる。エステル化反応において、シクロプロピルカルボン酸を使用する場合には、溶媒を使用しなくても良く、又はトルエン、キシレン又は類似の溶媒のような不活性溶媒を使用することにより、強酸性触媒の条件下、脱水し完全に反応させることができる。
【実施例】
【００１９】
以下に具体的な実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００２０】
実施例１  2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの合成（１）
２０００ml四つ口フラスコ中にメタノール５００ml、水素化ホウ素ナトリウム３７ｇを仕込み、５０℃まで昇温し、この温度に１時間保持した後、テトラフルオロテレフタル酸ジエチルエステル２９４ｇを入れ、５０℃の温度で５時間反応させた。その後、室温まで冷却し、３０％の塩酸３００mlで加水分解し、得られた溶液を５００mlの四塩化炭素で抽出した。四塩化炭素を減圧除去することにより、標題化合物としての2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオール１６７．２ｇを得た（含量97.7％、収率77.8％、白色固体）。
【００２１】
実施例２  2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの合成（2）
２０００ml四つ口フラスコ中にエタノール５００ml、水素化ホウ素カリウム５４ｇを仕込み、５０℃まで昇温し、この温度に１時間保持した後、テトラフルオロテレフタル酸ジメチルエステル２６６ｇを添加し、５０℃の温度で５時間反応させた。その後、室温まで冷却し、３０％の塩酸３００mlで加水分解し、得られた溶液を５００mlの四塩化炭素で抽出した。四塩化炭素を減圧除去することにより、2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオール１７６．４ｇを得た（含量98.1％、収率82.4％）。
【００２２】
実施例３  2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの合成（３）
実施例１で用いたメタノール５００ｍｌの代わりに、メタノール３７０mlを使用した以外は、実施例１と同様にして、2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールを得た（含量93.1％、収率76％）。
【００２３】
実施例４  2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの合成（4）
１０００mlオートクレーブ中にテトラフルオロテレフタル酸ジプロピルエステル１６１ｇ、活性パラジウム１．６１ｇ、メタノール５００mlを仕込み、圧力３．５atm、温度６０〜７０℃の条件下、水素ガスを通気して水素添加還元した。水素ガスの吸収が殆ど終了した後、室温に冷却して、吸引濾過によりPｄ／ｃを除去した。濾液から溶媒を減圧留去することにより、2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオール８５．６ｇを白色な固体として得た（含量97.5％、収率79.5％）。
【００２４】
実施例５  2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールの合成（５）
実施例４で用いた触媒としてのPｄ／ｃに代えてラネーニッケル１．６１ｇを使用した以外、実施例４と同様にして2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールを得た（含量97.8％、収率80.7％）。
【００２５】
実施例６  ４−ヒドロキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸エステルの合成
乾燥した清浄な１００ｍｌフラスコ中にテトラヒドロフラン２０ｍｌ、ジメトキシエタン１０ｍｌ、水素化ホウ素ナトリウム５４ｇを仕込み、反応温度を３５℃に制御しつつ、テトラフルオロテレフタル酸ジメチルエステル４．０ｇをゆっくり入れた後、７０℃まで昇温し、攪拌しつつこの温度に５時間保ち、定期的にサンプリングしてガスクロマトグラフィー（GS）により測定した。その後、反応物を４８時間静置し、冷却した後、再び振動し昇温させた。分析の結果反応が不完全であることが判明したため、ジメトキシエタン１０ｍｌを追加し、５時間振動しながら反応させた。ＧＳによる分析結果は、ジエステルが完全に無くなったことを示していた。化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）との混合物を１００ｍｌの水で処理した後、酢酸エチル５０ｍｌで、３回抽出した。併合した抽出物を処理することにより、粘性がある白色固体を得た。ＧＳによる分析結果より、ジオール体６３％とモノエステル体３７％とからなる混合物を確認した。得られた混合物をカラムクロマトグラフィーに付して精製することにより、４−ヒドロキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸エステルを得た。その分析データは下記の通りである。
融点：65.6℃、
純度：97.6％
NMR(CD3OD)：19Ｆ−１３５.2（ｍ、２Ｆ）、−146.3（ｍ、2Ｆ）、
1ＨNMR(CD3OD)： 4.67（ｓ、ＣＨ2、２Ｈ）、3.90（ｓ、ＯＣＨ3、３Ｈ）
ＭＳ（mass spectrum）：分子イオンピーク：ｍ／ｚ２３８（３０％）、
フラグメントピーク：２０７（100％）、１８７（30％）、１７７（25％）、１５９（20％）、149（22％）、131（24％）、99（24％）、81（20％）、59（17％）
【００２６】
実施例７  テフルトリン（2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル−シス−3−(（Ｚ）−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシラート）の製造方法（1）
工程１：2,3,5,6−テトラフルオロ−４−ブロムメチルベンジルアルコールの合成
還流器及び受容器を備えた１Ｌ反応器中に2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールとメチルイソブチルケトンとの溶液８０ｇを仕込み、溶媒を留去した。トルエン（３０３ｇ）を加え、共沸蒸留にて水を除去した。６０℃まで加熱し、この温度に３０分間維持し、Ｓｉｌｃｏｌａｐｓｅ（０．２ｇ）及び臭化水素酸（４８％、１０９．３ｇ）を添加し、９５℃まで加熱し、３０分間還流した後、５．５時間かけて水を共沸留去した。その後、水（１５０ｍｌ）及び臭化水素酸（３６．６ｇ）を加え、５５℃まで冷却した。５５℃で１５分間攪拌し、３０分間かけて水層を分離した。油層を予め作製しておいた溶液（水１５０ｍｌ＋４０％酢酸ナトリウム水溶液３６ｇ）で洗浄、分層した。得られたトルエン層から2,3,5,6−テトラフルオロ−４−ブロムメチルベンジルアルコールの含量を分析した（収率96.2％）。
【００２７】
工程２：４−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールの合成
分散攪拌器（１０００ｒｐｍ）を備えた１Ｌのガラス製オートクレーブ（運転容積３５０−５００ｍｌｓ）で以下の反応を行わせた。Ｈ2供給は、プローブとＢｕｃｈｉガス制御器（6002型）を介して行った。昇温と冷却は、Ｊelabo FP40温度浴により行った。上記反応器中にメタノール（３６２ｇ）、水（６ｇ）、2,3,5,6−テトラフルオロ−４−ブロムメチルベンジルアルコール（９５．１ｇ−１００ｗｔ％）、ＭｇO（１８．１ｇ）、５％Ｐｄ／Ｃ触媒（５８型、Ｊｏｈｎｓｏｎ  Ｍａｔｔｈｅｙ会社）（０．８ｇ−１００ｗｔ％）を仕込み、蓋をし、ほぼ全てのO2をＮ2で置換し、Ｈ2にて圧力を２．５ｂａｒに調整し、攪拌した。反応過程における圧力を２．５ｂａｒ、温度を５０℃に制御するために、それぞれＢｕｃｈｉ制御器、温浴を使用した。Ｈ2使用量については、Ｂｕｃｈｉ制御器により制御した。Ｈ2の消費が無くなるまで（一般に６０〜９０分間）反応させた後、圧力を解除し、Ｎ2で置換し、反応物を取り出した。少量のメタノール（３０ｇ）でオートクレーブを洗浄し、触媒機能が無くなった触媒と無機塩を濾過・回収し、濾過ケーキを少量のメタノール（２×３０ｇ）で洗浄した。併合した濾液を分析した結果は、４−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールの収量が６０．４ｇ、収率が８９．４％であった。
【００２８】
工程3：テフルトリンの合成
分散攪拌器を備えた四つ口フラスコ中に、シス−３―（(Z)−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル）−2,2−ジメチルシクロプロパンアシルクロリド（２５７ｇ）、トルエン（２５７ｇ）を仕込み、溶解した４−メチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコール（１８８．１ｇ）中に適量のピリジン（５１ｇ）を含有する溶液を滴下ロートに入れ、３５−４５℃に維持しつつフラスコに滴下し、滴下終了後、９５℃まで昇温し、この温度に二時間保持した後、６０℃に冷却した。その後、水を添加して塩を溶解させた後、溶媒を留去することによりテフルトリン４１０．３ｇ（含量95.5％、収率96.5％）を得た。
【００２９】
実施例８  テフルトリン（2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル −シス−3−((Z)−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシラート）の製造方法（2）
１０００ｍｌの琺瑯製オートクレーブ中にメタノール２５０ｍｌ及び水素化ホウ素ナトリウム２０ｇを仕込み、温度を５０℃に制御しつつテトラフルオロテレフタル酸ジメチルエステル１３３ｇをゆっくり加え、この温度に５時間保持した後、サンプリングしてＧＳによる分析に付した。分析にてジエステル体が無くなったことを確認した時点で、この混合物に３０％のＨＣｌを２０ｍｌ添加した。得られた混合物を２５０ｍｌの四塩化炭素で抽出した後、四塩化炭素を減圧除去した。その後、トルエン３００ｍｌ及び４８％の臭化水素酸（１２２．３ｇ）を加え、９５℃まで加熱し、９５〜１００℃で３０分間還流した後、トルエンと水との共沸混合物を回収した。５．５時間反応させた後、約５５℃まで冷却し、５％の酢酸ナトリウム水溶液で1回洗浄することにより、溶媒としてのトルエンを除去した。残留物にメタノール（４５０ｇ）、水（７．５ｇ）、５％のＰｄ／Ｃ触媒（１．２ｇ−１００ｗｔ％）を添加し、装置を密閉し、窒素ガスで酸素含有量がほぼゼロになるまで置換し、水素ガスで圧力が２．５ｂａｒになるまで加圧し、反応温度を約５０℃に制御した。当該反応を水素の吸収が無くなるまで進行させた後、圧力を解除し、反応器中のガスを窒素ガスで置換し、触媒機能が無くなった触媒と無機塩を濾別し、濾液から溶媒を留去した。残留物にトルエン１５０ｍｌ及びピリジン２８．８ｇを添加し、３５〜４５℃まで昇温し、シス−３−（(Z)−2−クロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル）−2,2−ジメチルシクロプロパンアシルクロリド（８５．８ｇ）を滴下し、滴下終了後、７５〜９０℃まで昇温し、この温度に２時間保持し、６０℃まで冷却した。水を添加して塩を溶解させた後、溶媒を留去することにより、テフルトリン７１．１ｇ（含量  94.9％）を得た。テトラフルオロテレフタル酸ジメチルエステルに対する総収率は64.1％であった。
【００３０】
本発明者らは、ピレスロイド化合物の合成中間体の新規な製造方法を提供する。当該中間体である2,3,5,6−テトラフルオロ−ｐ−キシレンジオールをハロゲン化、水素添加、エステル化することにより、テフルトリンを得ることができる。当該製造方法は、工程が簡単、安全であり、且つ収率が高く、コストが低く、工業上好ましいものである。さらに、本発明は、新規な中間体化合物を提供する。
【国際調査報告】
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