(57)【要約】  全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ及びその製造方法を提供する。面上の所定領域を選択的にエッチングして有効画面部（エッチング部）と接地部（非エッチング部）を別に形成して使用していた電磁波遮蔽フィルムの全面をエッチングしてエッチング部と非エッチング部の区分をなくし、このような構造を有する電磁波遮蔽フィルムロールをローラの巻取方向にのみ大きさを小さく裁断すれば、他機能性フィルムと共にロールツーロール工程によりラミネーションが可能になり、ＰＤＰの有効画面の大きさが変更されても所望の大きさに裁断すれば、いつでも適用が可能になるＰＤＰフィルタ及びその製造方法に関する。
2007532010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波遮蔽フィルムと少なくとも１つ以上の他の機能性フィルムが積層されてなるＰＤＰフィルタであって、
前記電磁波遮蔽フィルムは、全面全体がエッチングされ、電磁波遮蔽フィルム上で有効画面部になり得る領域が全面全体に拡大されることを特徴とする全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ。
【請求項２】
前記機能性フィルムの幅が前記電磁波遮蔽フィルムの幅より小さく形成され、前記電磁波遮蔽フィルムの上側、下側の両辺が外部に露出され、接地が行われることを特徴とする請求項１に記載の全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ。
【請求項３】
外部に露出される上側、下側の両辺を有する電磁波遮蔽フィルムにおいて少なくとも外部に露出されない左側、右側の両辺を含む側辺部位に、接地のための伝導性テープが取り付けられることを特徴とする請求項２に記載の全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ。
【請求項４】
外部に露出される上側、下側の両辺を有する電磁波遮蔽フィルムにおいて少なくとも外部に露出されない左側、右側の両辺を含む側辺部位に、接地のための伝導性ペーストが塗布されることを特徴とする請求項２に記載の全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ。
【請求項５】
前記機能性フィルムは、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽フィルム、紫外線遮蔽フィルム、色補正フィルム、衝撃吸収フィルム、防眩フィルム、ノイズ吸収フィルムのうち少なくとも１つ以上であることを特徴とする請求項１に記載の全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ。
【請求項６】
全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムをロール状態に設け、当該電磁波遮蔽フィルムの巻取ロールを第１供給ローラに装着するステップと、
前記電磁波遮蔽フィルムの幅より小さな幅を有する機能性フィルムをロール状態に設け、前記第１供給ローラから一定距離をおいて配置された第２供給ローラに装着するステップと、
互いに緊密に向き合う形に備えられる第１圧着ローラと第２圧着ローラを前記第１供給ローラと第２供給ローラから一定の距離をおいて設置した後、前記第１供給ローラから供給される電磁波遮蔽フィルムロールと第２供給ローラから供給される機能性フィルムロールを、前記第１圧着ローラと第２圧着ローラの間に通過させて熱または圧力により取り付けて一体化させ、電磁波遮蔽フィルムロールの上側、下側の両辺は外部に露出されるようにＰＤＰフィルタロールを製造するステップと、
前記一体化されたＰＤＰフィルタロールを一定の大きさのＰＤＰフィルタに裁断するステップと
を含むことを特徴とするＰＤＰフィルタ製造方法。
【請求項７】
前記電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムを取り付けた後、前記取り付けられたＰＤＰフィルタロールをオートクレーブに投入して付着力を高めるステップをさらに含むことを特徴とする請求項６に記載のＰＤＰフィルタ製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタ及びその製造方法に関し、特に、面上の所定領域を選択的にエッチングして有効画面部（エッチング部）と接地部（非エッチング部）を別に形成して使用していた電磁波遮蔽フィルムの全面をエッチングしてエッチング部と非エッチング部の区分をなくし、このような構造を有する電磁波遮蔽フィルムロールをローラの巻取方向にのみ大きさを小さく裁断すれば、他機能性フィルムと共にロールツーロール工程によりラミネーションが可能になり、ＰＤＰの有効画面の大きさが変更されても所望の大きさに裁断すれば、いつでも適用が可能になるＰＤＰフィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）は、Ｈｅ＋Ｘｅ、Ｎｅ＋Ｘｅ、またはＨｅ＋Ｎｅ＋Ｘｅなどの不活性混合ガスの放電時に発生する１４７ｎｍの紫外線により蛍光体を発光させることにより、文字またはグラフィックを含む画像を表示する装置であり、自発光を用いた自然色の再現と１６０度以上の広視野角の確保及び大画面の構成が可能である利点などから、最近の表示装置の薄膜化や軽量化の傾向に伴い、ＬＣＤと共に代表的な平板表示装置として注目を浴びている。
【０００３】
このようなＰＤＰ表示装置は、放電セルにおける放電現状により自発光するディバイスであり、既存のＣＲＴディスプレイ装置に比較して非常に高い消費電力を使用するため、セット内部で発生する強い電磁波と近赤外線ノイズ信号などがＣＲＴディスプレイ装置に比べて極めて高く示される問題点がある。
【０００４】
このような問題点を解決するために、ＰＤＰ表示装置は、そのモジュール前面にＰＤＰフィルタを設置し、反射防止機能、電磁波遮蔽機能、近赤外線吸収機能、色補正機能などがなされるように構成され、特にＰＤＰが家庭用に使用されるためには、電磁波規格であるＣＬＡＳＳ  Ｂ規格を満たす必要があり、このような要求を満たすために、エッチングメッシュタイプのＥＭＩ  ＦＩＬＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ  ＦＩＬＭ；電磁波遮蔽フィルム、以下「ＥＭＩフィルム」という）やスパッターリングによる蒸着ＥＭＩフィルムが電磁波遮蔽フィルムとして用いられてＰＤＰフィルタの一部を構成することになる。
【０００５】
このような電磁波遮蔽フィルムは、電磁波の遮蔽効果を得るために、ＰＤＰとの接地が行われる必要があり、接地の効率を高めるために、ＥＭＩフィルムの製造時に有効画面部として図１に示すようにエッチングにより格子パターンを形成させ、４面の縁部である非エッチング部はエッチングしない状態に残しておき、エッチングされない部分である接地部がＰＤＰの接地器具と当接して接地が行われるようにする。
【０００６】
一方、殆どのＰＤＰフィルタでは、ＥＭＩフィルムが製品の最外部よりは内部に位置することになり、その理由は、エッチングされている領域の表面が滑らかでなく、画像が鮮明に見られないため、それを解消するために、ＥＭＩフィルムの上方に他の機能性フィルムを取り付けて表面を滑らかにする透明化工程を経ることになり、透明化工程に用いられる機能性フィルムとして、反射防止フィルム、近赤外線遮断フィルム、紫外線遮断フィルム、色補正フィルムなどが用いられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、このような有効画面部と接地部の構成は、ＰＤＰの画面の大きさが変更される時ごとに、有効画面部の大きさも変更される必要があることから、毎度パターンを再度製作しなければならない不都合が生じ、上記に言及したようにＥＭＩフィルムの上に取り付けられる機能性フィルムは、図２に示すように、ＥＭＩフィルムの４面が全て外部に露出され接地が行われるように取り付けられる必要があるため、ＥＭＩフィルムより小さく裁断して１枚ずつシート状態に取り付ける製造方法により製造され、ロールツーロール方式により全ての機能性フィルムをラミネーションすることができない問題があり、この点がＰＤＰフィルタの生産性を低下させる根本的な原因であると言える。
【０００８】
本発明は、上述した問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、ＰＤＰフィルタの製作時にＥＭＩフィルムより小さく裁断して１枚ずつシート状態に取り付けることにより製作する従来のシートラミネーション工程を改善し、ロールツーロール工程の適用が可能となるようにすることにより、ＰＤＰフィルタ製作の生産性を向上させようとすることにある。
【０００９】
また、本発明の他の目的は、ＰＤＰの有効画面部の大きさによる別途のＥＭＩフィルムを製作する必要がある従来の問題点を解決し、ＰＤＰの有効画面部の大きさが変更されてもＥＭＩフィルムを所望の大きさに裁断すれば、いつでもＰＤＰフィルタに適用することができるＰＤＰフィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成すべく、本発明によれば、電磁波遮蔽フィルムと少なくとも１つ以上の他の機能性フィルムが積層されてなるＰＤＰフィルタであって、電磁波遮蔽フィルムは全面全体がエッチングされ、電磁波遮蔽フィルム上で有効画面部になり得る領域が全面全体に拡大されることを特徴とする全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるＰＤＰフィルタを提供する。
【００１１】
好ましくは、前記機能性フィルムの幅が前記電磁波遮蔽フィルムの幅より小さく形成され、前記電磁波遮蔽フィルムの上側、下側の両辺が外部に露出されて接地が行われ、電磁波遮蔽フィルムが外部に露出されない左側、右側の両辺には、接地のための伝導性テープの付着または伝導性ペーストの塗布が行われることができ、電磁波遮蔽フィルムが外部に露出されない左側、右側の両辺と共に電磁波遮蔽フィルムが外部に露出される上側、下側の両辺をも伝導性テープの付着または伝導性ペーストの塗布を行うことにより、更なる円滑な接地を行うことができ、前記機能性フィルムは、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽フィルム、紫外線遮蔽フィルム、色補正フィルム、衝撃吸収フィルム、防眩フィルム、ノイズ吸収フィルムのうちの少なくとも１つ以上のフィルムが積層される。
【００１２】
また、本発明により提供されるＰＤＰフィルタ製造方法は、全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムをロール状態に設け、当該電磁波遮蔽フィルムの巻取ロールを第１供給ローラに装着するステップと、前記電磁波遮蔽フィルムの幅より小さな幅を有する機能性フィルムをロール状態に設けて前記第１供給ローラから一定距離をおいて配置された第２供給ローラに装着するステップと、互いに緊密に向き合う形に備えられる第１圧着ローラと第２圧着ローラを前記第１供給ローラと第２供給ローラから一定の距離をおいて設置した後、前記第１供給ローラから供給される電磁波遮蔽フィルムロールと第２供給ローラから供給される機能性フィルムロールを、前記第１圧着ローラと第２圧着ローラの間に通過させて熱または圧力により取り付けて一体化させ、電磁波遮蔽フィルムロールの上側、下側の両辺は外部に露出されるようにＰＤＰフィルタロールを製造するステップと、前記一体化されたＰＤＰフィルタロールを一定の大きさのＰＤＰフィルタに裁断するステップとを含んでなり、また、前記電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムを取り付けた後、前記取り付けられたＰＤＰフィルタロールをオートクレーブに投入して付着力を高めるステップをさらに含まれ、前記一定の程大きさに裁断されたＰＤＰフィルタにおいて前記電磁波遮蔽フィルムが前記機能性フィルムにより外部に露出されない左側、右側の両辺、さらに電磁波遮蔽フィルムが外部に露出される上側、下側の両辺をもその上部に接地のための伝導性テープが取り付けられるステップや伝導性ペーストを塗布するステップがさらに含まれることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、電磁波遮蔽フィルムと他機能性フィルムを１枚ずつシート状態に取り付けることに比較してロールツーロール工程で取り付けるため、大量生産が可能になり、生産性が大幅向上する効果があり、既存製品構造の接地部に該当する非エッチング部がなく、所望の大きさに裁断することにより種々のＰＤＰに適用することができるという効果を奏する。
【００１４】
また、本発明によれば、電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムをロール状態に取り付けた状態で裁断のみ行ってＰＤＰモジュールに直接取り付けて使用したり、電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムをロール状態に取り付けた状態で強化ガラスに取り付ければ一般のガラスフィルタを完成して使用することができる。
【００１５】
また、本発明によれば、より便利な製造方法を適用すると共に、従来と同様の水準の接地及び電磁波遮蔽が可能であり、ＰＤＰフィルタの信頼性が保証される効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
【００１７】
図３は、本発明により全面エッチングした電磁波遮蔽フィルム１００を示す平面図である。本発明の電磁波遮蔽フィルム１００は、透明基材３の上面に接着剤４を塗布し、前記接着剤４で導電性金属薄膜５を透明基材３に圧着して接着したものであり、圧着により接着された電磁波遮蔽フィルム１００は、その上面に感光膜が形成された後、フォトリソグラフィー法及びエッチングによりメッシュ型金属薄膜がエッチング部と非エッチング部に区別されていた有効画面部１と接地部２の区別をなくし、全体面上にエッチング部による有効画面部を形成したものである。
【００１８】
詳細には、ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム１００の透明基材３は、金属薄膜５を支持する機能を行い、その用途上、可視光の透過性が優れる必要があり、湿式エッチング工程に対する耐薬品性及び取扱性が良い必要がある。このために、透明基材３は、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートなどのようなポリエステル系、エチルビニールアセテート、ポリプロピレン及びポリスチレンなどのようなポリオレフィン系、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデンなどのようなビニール系、そして、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース及びポリイミドなどのような高分子フィルム及び樹脂が用いられる。また、取扱性及び可視光の透過性を考慮するとき、透明基材３の厚さは１０μｍ〜２５０μｍが好ましい。
【００１９】
電磁波を遮蔽する機能を行う金属薄膜５として、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、金、銀またはプラチナなどのような薄膜が単独に用いられるか、または、銅ニッケル合金、ステンレスなどのような２種以上の合金箔が用いられる。電磁波を遮蔽する効率を決定する主要因子である金属薄膜５の表面抵抗値と、金属薄膜５に微細パターンを容易に実現することができる程度、及びディスプレイの視野角の側面から見たとき、金属薄膜５の厚さは５μｍ〜２０μｍが好ましい。若し金属薄膜５の厚さが５μｍ以下であれば、概ね金属薄膜５の表面抵抗値が高く、電磁波を遮蔽する効率が落ちることになり、金属薄膜５の厚さが２０μｍ以上であれば、金属薄膜５に微細なメッシュの線幅を実現し難く、高い開口率及び高い視認性を得難く、ディスプレイの視野角が狭くなる問題が発生し得る。
【００２０】
透明基材３と金属薄膜５を接合する接着剤４は、透明性を有し、可視光の透過率が低下しないように透明基材３の屈折率と同一である必要があり、熱と圧力または紫外線（ＵＶ）のような外部エネルギー源により物理化学的変化が起こる物性を有する樹脂が好ましく、このような接着剤４として、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系及びエポキシ系樹脂類の単独または２種以上を混用した混合物またはこれらの変性樹脂が用いられる。
【００２１】
金属薄膜５が接着された透明基材３は、洗浄段階を経た後、金属薄膜５の上面に感光膜（図示せず）が形成される。感光膜として、感光液と感光フィルムが用いられることができ、前記感光膜は、沈積、噴霧、スピンコーティング方式により金属薄膜５上に塗布され、その種類として、カセイン、ポリビニールアルコール、ポリメタアクリル酸メチルなどのようなネガティブ感光液と、アジド系列のポジティブ感光液がある。さらに、感光フィルムとして、ドライフィルムレジスト（Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ：ＤＦＲ）が用いられ、金属薄膜５との密着力を向上するために６０℃〜１００℃に予熱された金属薄膜５に前記ドライフィルムレジストが接着される。
【００２２】
このように感光膜が形成された金属薄膜５は、フォトリソグラフィー法とエッチングによりメッシュ型金属薄膜５を形成する。金属薄膜５に形成しようとするメッシュ構造と対応するパターンが形成されたフォトマスクを感光膜の上側に置いて、光を照射して感光膜を露光し、光により硬化された感光膜の部位を除いた残りの部位を現像液で現像し、感光膜の外部に露出された金属薄膜５をエッチングしてメッシュ型金属薄膜５を形成する。本発明により提供される電磁波遮蔽フィルム１００は、全面にエッチングが行われ、有効画面部１が図３に示すように全面全体に形成される。
【００２３】
図４は、図３に示すように電磁波遮蔽フィルム１００のロール１１０上に電磁波遮蔽フィルム１００の幅より小さな幅を有する機能性フィルムロール２１０を長手方向に取り付けたものを示しており、この状態は、一定の大きさに裁断された後、図５に示すように裁断された後状態で、ＰＤＰフィルタとして完成される前のロール状態を示すものである。
【００２４】
図４に示すように、矢示のロールの巻取方向を長手方向とするとき、電磁波遮蔽フィルムロール１１０の上方に取り付く他機能性フィルム２１０は、幅方向の大きさが電磁波遮蔽フィルムロール１１０の幅方向の大きさより小さくスリッティングされて、ロールツーロール工程によりラミネーションされることにより、ＰＤＰフィルタロール３００が形成されたものを示している。
【００２５】
図４に示すＰＤＰフィルタロール３００を製造するための方法は、図７のフローチャートに示されているステップＳ１乃至ステップＳ２により一部説明されている。以下では、図７のステップＳ５において図４のＰＤＰフィルタロール３００を図５に示すように一定の大きさに裁断し、ステップＳ７において図５のＰＤＰフィルタ１００に伝導性テープ１３０、１４０を取り付けた図６などの図を全て説明する。
【００２６】
まず、ステップＳ１では、全面エッチングした電磁波遮蔽フィルム１００をロール１１０状に設け、当該電磁波遮蔽フィルムの巻取ロールを第１供給ローラに装着し、前記電磁波遮蔽フィルムロール１１０の幅より小さな幅を有する機能性フィルム２００をロール２１０状に設けて、第１供給ローラから一定の距離をおいて配置された第２供給ローラに装着し、ロールツーロールラミネーション工程を進行する。
【００２７】
このとき、機能性フィルムロール２１０の幅が電磁波遮蔽フィルムロール１１０より小さい必要があることは、図５に示すように一定の大きさに裁断した後、電磁波遮蔽フィルム１００のエッチング面の一部、詳細には、電磁波遮蔽フィルムロール１１０の上側長辺１１１と下側長辺１１２が外部に露出できるように意図したものである。（しかし、裁断される大きさによって、上側、下側の両辺が短辺になり、左側、右側の両辺が長辺になり得る。）
【００２８】
このような意図は、ＰＤＰフィルタ１００をロールツーロールラミネーション工程により製造してその生産性を向上させると共に、外部に一部露出された部位により従来のように接地を行わせる目的を同時に達成するためのものであると言える。
【００２９】
さらに、ステップＳ２では、ステップＳ１によりラミネーションされたＰＤＰフィルタロール３００をロール状態に巻取し、ステップＳ３では、ロール状態のＰＤＰフィルタロール３００を加温及び加圧下でオートクレーブ処理を行い、ステップＳ４では、必要時に追加でロール状態のさらに他の機能性フィルムを追加するロールツーロールラミネーション工程を行うことができ、ステップＳ４は、必要性の有無により幾度も省略されたり追加で繰り返すことができる工程であると言える。
【００３０】
以降、ステップＳ５では、ステップＳ２やステップＳ４で巻取されたロールを解くと共に、所望の大きさに裁断が行われ、このとき、一定の大きさに裁断された状態が図５に示されている。
【００３１】
ステップＳ５の裁断段階以後は、裁断されたフィルムをＰＤＰモジュール（図示せず）やガラス上に取り付けてガラスフィルタを製作するステップＳ６や、図５に示すようにエッチング面が露出されず接地が行われない左側、右側の２つの短辺１３０、１４０の縁部に伝導性テープを取り付けるステップＳ７を行う。ここで、ステップＳ６とステップＳ７は幾等でもその順序を変えて行うことができ、ステップＳ７で取り付けられる伝導性テープは、伝導性ペーストを塗布することで取り替えられる。
【００３２】
さらに、電磁波遮蔽フィルムの更なる円滑な接地のために、左右側の２つの短辺１３０、１４０の他に、電磁波遮断フィルムが外部に露出される上下側の２つの長辺１１１、１１２をも、伝導性テープや伝導性ペーストを塗布することができる。
【００３３】
このとき、伝導性テープは、Ａ−Ａ’断面上に示されているように、通常、高分子接着樹脂１３１と、伝導性粒子１３２、及び高分子フィラー１３３から構成され、高分子接着樹脂１３１は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、硬化開始剤、安定剤等から構成されており、前記熱可塑性樹脂として、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、天然ゴムなどを使用することができ、前記熱硬化性樹脂の硬化剤として、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、アミド類、酸無水物類、フェノール類、イミダゾル誘導体などを使用することができる。また、伝導性粒子１３２は、高分子接着樹脂１０の内部に複数個に分散されており、伝導性粒子１３２として、金属コーティング高分子、ニッケル、金、銅、錫、鉛などを単独または合金で使用することができ、これに加えて絶縁性樹脂をコーティングすることにより使用することができる。
【００３４】
高分子フィラー１３３は、前記伝導性粒子１３２のように前記高分子接着樹脂１３１の内部に複数個分散されており、高分子フィラー１３３は、伝導性粒子１３２より弾性係数が小さいかまたは同一であるように構成された高分子であり、ポリスチレンＰＳ樹脂やポリエチレンＰＥ樹脂を使用し、高分子フィラー１３３の数は、伝導性粒子１３２の数に比較して２〜５倍に分布するようにすることが好ましく、高分子フィラー１３３の数が伝導性粒子１３２の数より５倍を越えれば、ボンディング時に圧力と接着力を低下させることができる。
【００３５】
以下、本発明の実験例を詳細に説明する。勿論、本発明の範囲は下記実験例に限られるものではない。
［実験例］
【００３６】
１．電磁波遮蔽フィルム製造
１００μｍ厚さのＰＥＴ透明基材の上面に１５μｍ厚さの接着剤を塗布した後、１０μｍ厚さの銅薄膜を前記透明基材の上面に圧着し、これを洗浄、乾燥した。この後、前記銅薄膜の上面にロールコーティング法を用いて感光液を塗布した。
【００３７】
次に、レーザーでパターンを形成したフォトマスクを用いてフォトリソグラフィー法で露光した後、現像してメッシュ型金属薄膜を形成した。
【００３８】
２．機能性フィルムが取り付けられたＰＤＰフィルタ製造
前記製作された電磁波遮蔽フィルム（幅６００ｍｍ）を巻取したロールを第１供給ローラに装着し、反射防止フィルム（幅５６０ｍｍ）を第２供給ローラに装着した後、電磁波遮蔽フィルムの上側、下側２０ｍｍが露出されるようにすると共に、ロールツーロール方式でラミネーションしてＰＤＰフィルタを製造した後、これをロール状態に巻取した。製造されたＰＤＰフィルタロールを６０℃、０．５Ｍ  Ｐａ状態にオートクレーブ処理を行った後、１０００ｍｍになるように裁断した。
【００３９】
前記裁断されたＰＤＰフィルタをＰＤＰモジュール（ＬＧ電子Ｖ５モジュール）に装着し、エッチング面が露出されない左側、右側辺に伝導性テープを取り付けた後、垂直、水平上の電磁波放出量をそれぞれ測定した結果、〔図８Ａ〕及び〔図８Ｂ〕の結果を得た。
［比較実験例］
【００４０】
図２に示すように、反射防止フィルムが電磁波遮蔽フィルムの４つの端部に接地部が存在するように取り付けられたＰＤＰフィルタを、前記実験例と同じＰＤＰモジュールに装着し、垂直、水平上の電磁波放出量をそれぞれ測定した結果、〔図９Ａ〕及び〔図９Ｂ〕のような結果を得た。
【００４１】
前記実験例と比較実験例により、本発明に係るＰＤＰフィルタは、エッチング部と非エッチング部が区分された従来のＰＤＰフィルタと同様に、電磁波規格であるＣＬＡＳＳ  Ｂを満たしていることを確認した。
【００４２】
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】従来の電磁波遮蔽フィルムの構成を示す平面図である。
【図２】従来のＰＤＰフィルタを示す平面図である。
【図３】本発明に係る全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを示す平面図である。
【図４】本発明に係る製造方法により製造されたＰＤＰフィルタのロール平面を示す平面透視図である。
【図５】本発明に係るＰＤＰフィルタを所定の長さに裁断した状態を示す平面図である。
【図６】本発明に係るＰＤＰフィルタに伝導性テープを取り付けた状態を示す平面図である。
【図７】本発明に係る製造方法のフローチャートである。
【図８】図８は、本発明により製造されたＰＤＰフィルタをＰＤＰモジュールに装着し、垂直上の電磁波放出量を測定したグラフ。
【図９】図９は、本発明により製造されたＰＤＰフィルタをＰＤＰモジュールに装着し、水平上の電磁波放出量を測定したグラフである。
【図１０】図１０は、従来の技術により製造されたＰＤＰフィルタをＰＤＰモジュールに装着し、垂直上の電磁波放出量を測定したグラフ。
【図１１】図１１は、従来の技術により製造されたＰＤＰフィルタをＰＤＰモジュールに装着し、水平上の電磁波放出量を測定したグラフである。
【符号の説明】
【００４４】
１  有効画面部
２  接地部
１０、１００  電磁波遮蔽フィルム
１１０  電磁波遮蔽フィルムロール
１１１  上側長辺
１１２  下側長辺
１３０  左側短辺
１３１  高分子接着樹脂
１３２  伝導性粒子
１３３  高分子フィラー
１４０  右側短辺
２００  機能性フィルム
２１０  機能性フィルムロール
３００  ＰＤＰフィルタロール
【図１】
2007532010.tif 000003
【図２】
2007532010.tif 000004
【図３】
2007532010.tif 000005
【図４】
2007532010.tif 000006
【図５】
2007532010.tif 000007
【図６】
2007532010.tif 000008
【図７】
2007532010.tif 000009
【図８】
2007532010.tif 000010
【図９】
2007532010.tif 000011
【図１０】
2007532010.tif 000012
【図１１】
2007532010.tif 000013
【国際調査報告】
2007532010.tif 000014
2007532010.tif 000015