(57)【要約】  ＰＶモジュールの列（１２）のＰＶモジュール（１４）の上下表面間の均圧状態を複数の方法によって向上させることができる。隣接するＰＶモジュール間と前記列の周部（１８）に沿って、前記ＰＶモジュールと支持表面との間に形成される空気体積（air volume）内に開口するエア・ギャップ（３２，３４） を提供すべきである。ＰＶモジュール上に作用する空気力学的流体抵抗（drag force）を最小化するために周部ウィンド・デフレクタを使用すべきである。ＰＶモジュールの上下表面間の圧力を均圧化するための時間は、例えば、１０−２０マイクロ秒以下に維持すべきである。突風によって生じる変位は、例えば、２−５ミリ以下に制限されるべきである。傾斜したＰＶモジュールの場合、各ＰＶモジュールに対して後方ウィンド・デフレクタ（１４８）を設けることが提案され、前記列の周部用には、側方ウィンド・デフレクタ（１６２）を設けることが提案される。
2007502925.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持部材によって、支持表面に対してほぼ平行に支持又は配置可能なＰＶモジュールの列を選択する、このＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、ＰＶモジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡ、とを形成する、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＰＧＡ）を算出する、そして
この比率Ｒが所定の比率以上であれば、
Ｖ，ＭＧＡ及びＰＧＡの少なくとも１つを変更し、
前記算出工程を繰り返す。
【請求項２】
ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持部材によって、支持表面に対してほぼ平行に支持又は配置可能なＰＶモジュールの列を選択する、このＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖを計算する、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰを計算する、
１）前記ＰＶモジュールの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰを計算する、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）を算出する、そして
この比率Ｒが所定の比率以上であれば、
Ｖ，ＩＧＡＰ及びＰＧＡＰの少なくとも１つを変更し、そして
前記算出工程を繰り返す。  
【請求項３】
請求項１又は２の方法であって、更に、前記所定比率を、前記ＰＶモジュールと支持部材との単位面積当たりの重量に応じて選択する工程を有する。
【請求項４】
請求項３の方法であって、前記算出工程は、前記ＰＶモジュールの単位面積当たりの重量を６ｌｂｓ．／平方フィートとし、前記所定比率を２０以下として行われる。
【請求項５】
請求項１又は２の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を２０以下として行われる。
【請求項６】
請求項１又は２の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を１０以下として行われる。
【請求項７】
請求項１又は２の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を２以下として行われる。
【請求項８】
請求項１又は２の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を１以下として行われる。
【請求項９】
請求項１又は２の方法であって、前記選択工程は、前記周辺を取り囲むように配置可能な周辺空気デフレクタ装置を選択することを含む。
【請求項１０】
請求項１の方法であって、前記選択工程は以下の工程を含む、
前記周辺を取り囲むととともに前記周辺から離間して配置可能な周辺空気デフレクタを選択する、
前記周辺空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ／モジュールギャップ面積Ｄ／ＭＧＡを算出する、そして
Ｄ／ＭＧＡ÷ＰＧＡに等しい調節比ＡＲを算出し、もしもＡＲが１以下である場合には、
ＰＧＡをＡＲで積算して補正ＰＧＡを得て、そして
前記補正ＰＧＡを前記比Ｒ算出工程において使用する。
【請求項１１】
請求項１０の方法であって、更に以下の工程を有する、
列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、そして
前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＭＧＡ、ＰＧＡ及びＤ／ＭＧＡの少なくとも１つを下方調節する。
【請求項１２】
請求項１０の方法であって、更に以下の工程を有する、
列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、そして
前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＭＧＡ及びＰＧＡの少なくとも一方を下方調節する。
【請求項１３】
請求項１の方法であって、前記選択工程は、前記周辺ギャップ面積ＰＧＡをゼロに等しいものとして行われる。
【請求項１４】
ＰＶアセンブリ列のＰＶアセンブリの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列を選択する、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含み、前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、前記モジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡと、前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成されるデフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡと、前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡとを形成する、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）、を算出する、そして
の比率Ｒが所定の比率以上であれば、
Ｖ，ＭＧＡ，ＡＤＧＡ，ＰＧＡ及びＤ／ＤＧＡの少なくとも１つを変更し、そして
前記算出工程を繰り返す。
【請求項１５】
ＰＶアセンブリ列のＰＶアセンブリの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列を選択する、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖを計算する、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰを計算する、
１）前記ＰＶモジュール及びデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰを計算する、そして
なんらかの支持体による障害を、ＩＧＡＰとＰＧＡＰとを計算する時に、支持体によって障害されている面積を差し引くことによって計上処理する、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）を算出する、そして
この比率Ｒが所定の比率以上であれば、
Ｖ，ＩＧＡＰ及びＰＧＡＰの少なくとも１つを変更し、そして
前記算出工程を繰り返す。  
【請求項１６】
請求項１４又は１５の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を２０以下として行われる。
【請求項１７】
請求項１４又は１５の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を１０以下として行われる。
【請求項１８】
請求項１４又は１５の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を２以下として行われる。
【請求項１９】
請求項１４又は１５の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を１以下として行われる。
【請求項２０】
請求項１４の方法であって、前記選択工程は以下の工程を含む、
前記傾斜ＰＶモジュールの前記傾斜側方エッジの反対側の前記周辺の一部から離間して配置可能な側方空気デフレクタを選択する、
前記周辺空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ／モジュールギャップ面積Ｄ／ＭＧＡを算出する、そして
Ｄ／ＭＧＡ÷ＰＧＡに等しい調節比ＡＲを算出し、もしもＡＲが１以下である場合には、
ＧＡをＡＲで積算して補正ＰＧＡを得て、そして
前記補正ＰＧＡを前記比Ｒ算出工程において使用する。
【請求項２１】
請求項２０の方法であって、更に以下の工程を有する、
列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、そして
前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＭＧＡ，ＰＧＡ及びＤ／ＭＧＡの少なくとも１つを下方調節する。
【請求項２２】
請求項２０の方法であって、Ｄ／ＭＧＡはゼロである。
【請求項２３】
ＰＶアセンブリ列のＰＶアセンブリの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持表面上に可能なＰＶモジュールアセンブリの列を選択する、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含み、前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、前記モジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡと、前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成されるデフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡと、前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡとを形成する、
列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）を算出する、そして
この比率Ｒが所定の比率以上であれば、
Ｖ，ＭＧＡ，ＡＤＧＡ，ＰＧＡ及びＤ／ＤＧＡの少なくとも１つを変更し、そして
前記算出工程が繰り返し、そして
前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＭＧＡとＰＧＡとの少なくとも一方を下方調節する。
【請求項２４】
ＰＶアセンブリ列のＰＶアセンブリの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列を選択する、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖを計算する、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰを計算する、
１）前記ＰＶモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰを計算する、
列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）を算出する、そして
この比率Ｒが所定の比率以上であれば、
ＩＧＡＰとＰＧＡＰとの少なくとも１つを変更し、そして
前記算出工程を繰り返し、そして
前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＩＧＡＰとＰＧＡＰとの少なくとも一方を下方調節する。
【請求項２５】
請求項２３又は２４の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を２０以下として行われる。
【請求項２６】
請求項２３又は２４の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を１０以下として行われる。
【請求項２７】
請求項２３又は２４の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を２以下として行われる。
【請求項２８】
請求項２３又は２４の方法であって、前記算出工程は、前記所定比率を１以下として行われる。
【請求項２９】
ＰＶ設備であって、以下を有する、
支持表面、
上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含むＰＶモジュール列、
前記ＰＶモジュール列を前記支持表面上にかつ該支持表面に対してほぼ平行に支持するＰＶモジュール支持体、
前記ＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記周辺の外側に配置される周辺デフレクタ、
前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖ、
前記ＰＶモジュール間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡ、
前記周辺に沿って前記ＰＶモジュール間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡ、そして
比率Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＰＧＡ）、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下である
これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項３０】
ＰＶ設備であって以下を有する、
支持表面、
上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含むＰＶモジュール列、
前記ＰＶモジュールを前記支持表面上に該支持表面に対してほぼ平行に支持するＰＶモジュール支持体、
前記ＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記周辺の外側に配置される周辺デフレクタ、
前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖ、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰ、
１）前記ＰＶモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰ、そして
比率Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、
これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項３１】
請求項２９又は３０のＰＶ設備であって、前記所定比率は１０以下である。
【請求項３２】
請求項２９又は３０のＰＶ設備であって、前記所定比率は２以下である。
【請求項３３】
請求項２９又は３０のＰＶ設備であって、前記所定比率は１以下である。
【請求項３４】
請求項２９のＰＶ設備であって、
前記周辺空気デフレクタは前記周辺から離間する、そして前記設備は更に以下を有する、
前記周辺空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ／モジュールギャップ面積Ｄ／ＭＧＡ、そして
Ｄ／ＭＧＡがＰＧＡ以下の場合、比率ＲＸ，ＲＸ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋Ｄ／ＭＧＡ）は、前記所定比率以下である。
【請求項３５】
請求項３４のＰＶ設備であって、Ｄ／ＭＧＡはゼロである。
【請求項３６】
ＰＶ設備であって、以下を有する、
支持表面、
ＰＶアセンブリの列、
これらＰＶアセンブリを前記支持表面上に支持するＰＶアセンブリ支持体、
前記ＰＶアセンブリ列は、上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含み、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む、
前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖ、
前記モジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡ、
前記周辺に沿って前記ＰＶアセンブリと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡ、
前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成されるデフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡ、
前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡ、
比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）、ここで、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、
これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項３７】
ＰＶ設備であって、以下を有する、
支持表面、
ＰＶアセンブリの列、
これらＰＶアセンブリを前記支持表面上に支持するＰＶアセンブリ支持体、
前記ＰＶアセンブリ列は、上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含み、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む、
前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖ、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰ、
１）前記ＰＶモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰ、
比率Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、ここで、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、
これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項３８】
請求項３６又は３７のＰＶ設備であって、前記所定比率は１０以下である。
【請求項３９】
請求項３６又は３７のＰＶ設備であって、前記所定比率は２以下である。
【請求項４０】
請求項３６又は３７のＰＶ設備であって、前記所定比率は１以下である。
【請求項４１】
請求項３６のＰＶ設備であって、更に以下を有する、
数の前記傾斜ＰＶモジュールの前記傾斜側方エッジの反対側の前記周辺の一部に沿った側方空気デフレクタ、
前記側方空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ／モジュールギャップ面積Ｄ／ＭＧＡ、そして
Ｄ／ＭＧＡがＰＧＡ以下の場合、比率ＲＸ，ＲＸ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋Ｄ／ＭＧＡ）は前記所定比率以下である。
【請求項４２】
請求項４１のＰＶ設備であって、前記側方空気デフレクタは、前記周辺に沿って、前記傾斜側方エッジのそれぞれに近接している。
【請求項４３】
請求項４１のＰＶ設備であって、前記側方空気デフレクタは、傾斜し、かつ、前記複数の傾斜ＰＶモジュールに向けて内方かつ上方に傾斜している。
【請求項４４】
請求項３６のＰＶ設備であって、前記デフレクタ側方エッジは、傾斜したデフレクタ側方エッジである。
【請求項４５】
請求項４１のＰＶ設備であって、Ｄ／ＭＧＡはゼロである。
【請求項４６】
ＰＶ設備であって、以下を有する、
支持表面、
ＰＶアセンブリ、
このＰＶアセンブリを前記支持表面の直接反対側に支持するＰＶアセンブリ支持体、
前記ＰＶアセンブリは、前方エッジと、後方エッジと、これら前後エッジを繋ぐ第１及び第２側方エッジとを含み、これらエッジはＰＶアセンブリ周辺を形成する、
前記ＰＶアセンブリ周辺と前記支持表面とは、それらの間に予備ギャップ面積を形成する、
前記ＰＶアセンブリ周辺の少なくとも第１部分は、前記支持表面から少なくとも第１距離離間している、
前記ＰＶアセンブリと前記支持表面との間に形成される空気体積Ｖ、
前記ＰＶアセンブリは、少なくとも前記周辺のほぼ前記第１部分全体に沿って配置されて、前記予備ギャップの一部をブロックして、前記空気体積内へ開口する有効ギャップ面積（ＥＧＡ）を形成する空気デフレクタを備え、
これにより、前記ＰＶモジュール上の風流によって生じる揚力を低減しながら、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項４７】
請求項４６のＰＶ設備であって、Ｖを、内部列表面（鳥瞰図で見た場合）間のすべてのギャップ面積の総計とともにＥＧＡで除算した比率Ｒを有し、Ｒは所定比率以下である。
【請求項４８】
請求項４７のＰＶ設備であって、前記所定比率は２０以下である。
【請求項４９】
請求項４８のＰＶ設備であって、前記ＰＶアセンブリとＰＶアセンブリ支持体との重量は１０ｌｂ／ｓｆ．以下である。
【請求項５０】
請求項４７のＰＶ設備であって、前記所定比率は１０以下である。
【請求項５１】
請求項５０のＰＶ設備であって、前記ＰＶアセンブリとＰＶアセンブリ支持体との重量は８ｌｂ／ｓｆ．以下である。
【請求項５２】
請求項４７のＰＶ設備であって、前記所定比率は２以下である。
【請求項５３】
請求項５２のＰＶ設備であって、前記ＰＶアセンブリとＰＶアセンブリ支持体との重量は６ｌｂ／ｓｆ．以下である。
【請求項５４】
請求項４７のＰＶ設備であって、前記所定比率は１以下である。
【請求項５５】
請求項５４のＰＶ設備であって、前記ＰＶアセンブリとＰＶアセンブリ支持体との重量は４ｌｂ／ｓｆ．以下である。
【請求項５６】
請求項５４のＰＶ設備であって、前記ＰＶアセンブリとＰＶアセンブリ支持体との重量は３ｌｂ／ｓｆ．以下である。
【請求項５７】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記支持表面は、ほぼ水平な屋根を含む。
【請求項５８】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記ＰＶアセンブリ支持体は、前記ＰＶを、支持表面貫通ファスナ無しで支持する。
【請求項５９】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記第１及び第２側方エッジは、前記支持表面に対してほぼ平行である。
【請求項６０】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記第１及び第２側方エッジは、前記前方エッジから前記後方エッジにかけて前記支持表面に対して鋭角で延出している。
【請求項６１】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記鋭角は互いに等しい。
【請求項６２】
請求項６０のＰＶ設備であって、前記空気デフレクタは、前記後方エッジの反対側の後方空気デフレクタ部材と、前記第１及び第２側方エッジの反対側の第１及び第２空気デフレクタ部材とを含む。
【請求項６３】
請求項６２のＰＶ設備であって、前記後方空気テーブル部材は、前記支持表面に対して鋭角で延出している。
【請求項６４】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記第１距離は２０インチ以下である。  
【請求項６５】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記第１距離は１０インチ以下である。  
【請求項６６】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記第１距離は５インチ以下である。  
【請求項６７】
請求項４６のＰＶ設備であって、前記空気デフレクタは、少なくとも、前記周囲の前記第１部分の全体に沿って位置する。
【請求項６８】
請求項４６のＰＶ設備であって、更に、前記支持表面上の前記ＰＶアセンブリの列を有する。
【請求項６９】
ＰＶ設備であって、以下を有する、
支持表面、
少なくとも三列のＰＶモジュールを含むＰＶモジュール列、
第１対の列間に形成される第１通路と、第２対の列間に形成される第２通路、
前記ＰＶモジュールを前記支持表面上に支持する支持体、
前記第１及び第２通路に沿って配置される第１及び第２トラック、そして
前記第１及び第２トラック上に支持されるとともに、これらトラックに沿って移動可能なアクセスカート、これにより、前記ＰＶモジュールの少なくとも１列の少なくとも一部に対するアクセスが得られる。
【請求項７０】
請求項６９のＰＶ設備、前記第１対の列は、第１列のＰＶモジュールと第２列のＰＶモジュールとを含み、そして、前記第２対の列は、前記第２列のＰＶモジュールと第３列のＰＶモジュールとを含む。
【請求項７１】
請求項６９のＰＶ設備であって、前記支持体は、一列のＰＶモジュールの隣接するＰＶモジュール同士を互いに繋ぐ。
【請求項７２】
請求項６９のＰＶ設備であって、前記支持体は、一列のＰＶモジュールのＰＶモジュールを、隣接する列のＰＶモジュールのＰＶモジュールに繋ぐ。
【請求項７３】
請求項６９のＰＶ設備であって、前記トラックは、前記支持体に取り付けられている。
【請求項７４】
請求項６９のＰＶ設備であって、前記アクセスカートは、前記トラックに沿って移動可能な車輪を有する。
【請求項７５】
請求項６９のＰＶ設備であって、前記アクセスカートは、ＰＶモジュールクリーニング装置を含む。
【請求項７６】
請求項７５のＰＶ設備であって、前記ＰＶモジュールクリーニング装置は、ブラシを有する。
【請求項７７】
クリーニング７５のＰＶ設備であって、前記ＰＶモジュールクリーニング装置は、グローバル・ポジショニング・システム（ＧＰＳ）ＰＶモジュールクリーニング装置を含み、これにより、前記列のクリーニングをＧＰＳ位置に応じて追跡することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＶ風力性能向上方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
建築物の屋根やその他の支持表面上に取り付けられた光起電（ＰＶ）アセンブリの列を横切って移動する空気は、それらＰＶアセンブリに対する風揚力を作り出す。風揚力を最小化するためのＰＶアセンブリの列の設計及び評価について多大な研究が行われている。米国特許第５，３１６，５９２号、第５，５０５，７８８号、第５，７４６，８３９号、第６，０６１，９７８号、第６，１４８，５７０号、第６，４９５，７５０号、第６，５３４，７０３号、第６，５０１，０１３号及び第６，５７０，０８４号を参照。風揚力を低減することには複数の利点がある。第１に、それによって列の単位面積当たりに必要な重量が減る。これによって、列の重量を支持するために支持表面を強化する必要性が減少するか、無くなり、それによってレトロフィットが容易になり、レトロフィットと新規設置との両方のコストが低減する。第２に、屋根膜（又はのその他の支持表面）を貫通する固定具の必要性が減少するか、又は無くなる。このことは膜の保全に役立つ。第３に、重量の減少のためにアセンブリの輸送及び接地コストが減少する。第４に、風揚力に対向するためにバラストウエイトに依存するアセンブリよりも、軽量のＰＶアセンブリを設置することが容易になる。第５に、適切に設計されることにより、アセンブリは、極端な温度やＵＶ放射線から保護する屋根膜又は支持表面上の保護層として作用することが可能である。
【０００３】
【特許文献１】米国特許第５，３１６，５９２号公報
【特許文献２】米国特許第５，５０５，７８８号公報
【特許文献３】米国特許第５，７４６，８３９号公報
【特許文献４】米国特許第６，０６１，９７８号公報
【特許文献５】米国特許第６，１４８，５７０号公報
【特許文献６】米国特許第６，４９５，７５０号公報
【特許文献７】米国特許第６，５３４，７０３号公報
【特許文献８】米国特許第６，５０１，０１３号公報
【特許文献９】米国特許第６，５７０，０８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述のように、本発明は、ＰＶアセンブリに対する風揚力を低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様は、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法に関する。支持部材によって、支持表面に対してほぼ平行に支持又は配置可能なＰＶモジュールの列が選択される。このＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積（arraｙ air volume）Ｖと、ＰＶモジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡ、とを形成する。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＰＧＡ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以上であれば、Ｖ，ＭＧＡ及びＰＧＡの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。
【０００６】
本発明の第２の態様は、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法に関する。支持部材によって、支持表面に対してほぼ平行に支持又は配置可能なＰＶモジュールの列が選択される。このＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する。前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積（arraｙ air volume）Ｖが計算される。前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰが計算される。１）前記ＰＶモジュールの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰが計算される。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以上であれば、Ｖ，ＩＧＡＰ及びＰＧＡＰの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。
【０００７】
本発明の第３の態様は、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法に関する。支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列が選択される。前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、前記モジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡと、前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成されるデフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡと、前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡとを形成する。列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以上であれば、Ｖ，ＭＧＡ，ＡＤＧＡ，ＰＧＡ及びＤ／ＤＧＡの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。
【０００８】
本発明の第４の態様は、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法に関する。支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列が選択される。前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する。前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖが選択される。前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰが計算される。１）前記ＰＶモジュール及びデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰが計算される。なんらかの支持体による障害は、ＩＧＡＰとＰＧＡＰとを計算する時に、支持体によって障害されている面積を差し引くことによって計上処理（accounted for）される。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以上であれば、Ｖ，ＩＧＡＰ及びＰＧＡＰの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。
【０００９】
本発明の第５の態様は、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法に関する。支持表面上に可能なＰＶモジュールアセンブリの列が選択される。前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、前記モジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡと、前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成されるデフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡと、前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡとを形成する。列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以上であれば、Ｖ，ＭＧＡ，ＡＤＧＡ，ＰＧＡ及びＤ／ＤＧＡの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＭＧＡとＰＧＡとの少なくとも一方を下方調節することが可能である。
【００１０】
本発明の第６の態様は、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法に関する。支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列が選択される。前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する。前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積（arraｙ air volume）Ｖが計算される。前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰが計算される。１）前記ＰＶモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積ＰＧＡＰが計算される。列空気体積Ｖへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以上であれば、ＩＧＡＰとＰＧＡＰとの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。前記Ｒ算出工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、ＩＧＡＰとＰＧＡＰとの少なくとも一方を下方調節することが可能である。
【００１１】
本発明の第７の態様は、支持表面と、上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含むＰＶモジュール列と、前記ＰＶモジュール列を前記支持表面上にかつ該支持表面に対してほぼ平行に支持するＰＶモジュール支持体とを有するＰＶ設備に関する。前記ＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する。前記周辺の外側には周辺デフレクタが配置される。列空気体積（arraｙ air volume）Ｖが、前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される。モジュールギャップ面積ＭＧＡが前記ＰＶモジュール間に形成される。周辺ギャップ面積ＰＧＡが、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュール間に形成される。前記ＰＶ設備は、比率Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＰＧＡ）、を形成し、ここで、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【００１２】
本発明の第８の態様は、支持表面と、上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含むＰＶモジュール列と、前記ＰＶモジュールを前記支持表面上に該支持表面に対してほぼ平行に支持するＰＶモジュール支持体とを有するＰＶ設備に関する。前記ＰＶモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する。前記周辺の外側には周辺デフレクタが配置される。列空気体積（arraｙ air volume）Ｖが、前記ＰＶモジュール列と前記支持表面との間に形成される。
内部列ギャップ面積ＩＧＡＰが、前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される。周辺ギャップ面積ＰＧＡＰが、１）前記ＰＶモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される。前記ＰＶ設備は、比率Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、を形成し、ここで、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【００１３】
本発明の第９の態様は、支持表面と、ＰＶアセンブリの列と、これらＰＶアセンブリを前記支持表面上に支持するＰＶアセンブリ支持体とを有するＰＶ設備に関する。前記ＰＶアセンブリ列は、上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含み、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する。列空気体積（arraｙ air volume）Ｖが、前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される。モジュールギャップ面積ＭＧＡが、前記モジュール同士の間に形成される。周辺ギャップ面積ＰＧＡが、前記周辺に沿って前記ＰＶアセンブリと前記支持表面との間に形成される。デフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡが、前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成される。空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡが、前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される。前記ＰＶ設備は、比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）を形成し、ここで、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【００１４】
本発明の第１０の態様は、支持表面と、ＰＶアセンブリの列と、これらＰＶアセンブリを前記支持表面上に支持するＰＶアセンブリ支持体とを有するＰＶ設備に関する。前記ＰＶアセンブリ列は、上下表面を有する複数のＰＶモジュールを含み、前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する。列空気体積（arraｙ air volume）Ｖが、前記ＰＶアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される。内部列ギャップ面積ＩＧＡＰが、前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される。周辺ギャップ面積ＰＧＡＰが、１）前記ＰＶモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積、のいずれか小さい方として定義される。前記ＰＶ設備は、比率Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、を形成し、ここで、Ｒは、所定比率以下であり、この所定比率は２０以下であり、これにより、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。前記設備は、更に、複数の前記傾斜ＰＶモジュールの前記傾斜側方エッジの反対側の前記周辺の一部に沿った側方空気デフレクタと、前記側方空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ／モジュールギャップ面積Ｄ／ＭＧＡとを備えることができ、これにより、Ｄ／ＭＧＡがＰＧＡ以下の場合、比率ＲＸ，ＲＸ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋Ｄ／ＭＧＡ）は前記所定比率以下となる。
【００１５】
本発明の第１１の態様は、支持表面と、ＰＶアセンブリと、このＰＶアセンブリを前記支持表面の直接反対側に支持するＰＶアセンブリ支持体とを含むＰＶ設備に関する。前記ＰＶアセンブリは、前方エッジと、後方エッジと、これら前後エッジを繋ぐ第１及び第２側方エッジとを含み、これらエッジはＰＶアセンブリ周辺を形成する。前記ＰＶアセンブリ周辺と前記支持表面とは、それらの間に予備ギャップ面積を形成する。前記ＰＶアセンブリ周辺の少なくとも第１部分は、前記支持表面から少なくとも第１距離離間している。空気体積（air volume）Ｖが前記ＰＶアセンブリと前記支持表面との間に形成される。前記ＰＶアセンブリは、少なくとも前記周辺のほぼ前記第１部分全体に沿って配置されて、前記予備ギャップの一部をブロックして、前記空気体積内へ開口する有効ギャップ面積（ＥＧＡ）を形成する空気デフレクタを備える。これにより、前記ＰＶモジュール上の風流によって生じる揚力を低減しながら、前記ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【００１６】
本発明の第１２の態様は、支持表面と、少なくとも三列のＰＶモジュールを含むＰＶモジュール列とを有するＰＶ設備に関する。第１通路が第１対の列間に形成され、第２通路が第２対の列間に形成される。支持体を使用して前記ＰＶモジュールを前記支持表面上に支持する。第１及び第２トラックが前記第１及び第２通路に沿って配置される。アクセスカートが、前記第１及び第２トラック上に支持されるとともに、これらトラックに沿って移動可能である。これにより、前記ＰＶモジュールの少なくとも１列の少なくとも一部に対するアクセスが得られる。前記アクセスカートは、ＰＶモジュールクリーニング装置を含むことができる。このＰＶモジュールクリーニング装置は、グローバル・ポジショニング・システム（ＧＰＳ）ＰＶモジュールクリーニング装置を含むことができ、これにより、前記列のクリーニングをＧＰＳ位置に応じて追跡することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１及び２は、ＰＶ設備の簡略化された平面図及び側方立面図である。
図３は、図１においてモジュールギャップ面積をクロスハッチングして示す図である。
図４は、周囲ギャップ面積をクロスハッチングして示す図２に類似の図である。
図５は、デフレクタ／モジュールギャップ面積を示す図３に類似の図である。
図６は、モジュールギャップと周囲ギャップとを示す図４に類似の図である。
図７及び８は、ＰＶモジュール列の下方の空気体積（volume of air）をいかにして測定するかを示す図１及び２に類似の図である。
図９及び１０は、傾斜ＰＶモジュールと後方空気デフレクタとを示す図１及び２に類似の図であり、図１０中において最も右側の空気デフレクタは明瞭化のために省略されている。
図１２及び１３は、クロスハッチングを使用してモジュールギャップ面積、空気デフレクタギャップ面積及び周辺ギャップ面積を示す図９及び１０に類似の図である。
図１４及び１５は、図１２に類似の図であって、図１４はデフレクタ／モジュールギャップ面積を示し、図１５はデフレクタ／デフレクタギャップ面積を示す。
図１６は、妨げられていないギャップ面積に対する列の下方の空気体積の比率に対して均圧時間をプロットしている図である。
図１７は、妨げられていないギャップ面積に対する列の下方の空気体積の比率に対して変位をプロットしている図である。
図１８−２０は、三種類のＰＶ−ＰＶギャップについて、支持表面の上方のＰＶアセンブリの高さに対する三種類のＰＶアセンブリの算出垂直変位のプロットである。
図２１Ａ及び２１Ｂは、種々の周囲条件、即ち０％開口、２５％開口及び１００％開口について、種々の構成のＰＶアセンブリについて計算された均圧化時間のプロットである。
図２１Ｃは、図２１Ａと２１Ｂのグラフを作成するために使用された計算を示す表である。
図２２Ａは、比較的に非空気力学的な支持フレームを備えるＰＶアセンブリの簡略化側方立面図である。
図２２Ｂは、図２２Ａのアセンブリの一端面の拡大図である。
図２２Ｃ〜２２Ｆは、より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２２Ａ及び２２Ｂに類似の図である。
図２３Ａは、比較的に非空気力学的な構造部材を備えるＰＶアセンブリの簡略化側方立面図である。
図２３Ｂは、図２３Ａのアセンブリの一端面の拡大図である。
図２３Ｃは、前記構造部材の非空気力学的計上を示す図２２Ｂの構造の端面図である。
図２３Ｄ〜２３Ｅは、より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２３Ａ〜２３Ｃに類似の図である。
図２４Ａ及び２４Ｂは、それぞれ、均圧化時間を削減するためにアセンブリの下方の空気流の促進を補助するべく図２４Ａのアセンブリよりも大きなギャップを備える図２４Ｂのアセンブリとの相互係合ＰＶアセンブリの対を示す。
図２５は、アセンブリの下方の空気流を促進するための図２４ＢのＰＶアセンブリの下方における通路の使用を示す。
図２６及び２６Ａは、本発明の簡易フィールドアセンブリによって形成された傾斜ＰＶモジュールの列の等角図と平面図である。
図２６Ｂ，２７，２８及び２９は、図２６のアセンブリの異なる部分の拡大図である。
図２９Ａは図２９の構造の底面図である。
図２９Ｂは、図２９Ａの構造の一部の拡大図であって、最端部支持体を示し、上方支持アームが何にも取り付けられない状態を示している。
図２９Ｃは、図２９の最上方支持体の下方の逆方向の図であって、そのファスナへの取り付けを示している。
図２９Ｄは、図２９Ｃに類似しているが、ＰＶモジュールの二つの近接列の間からみた図である。
図２９Ｅは、図２９Ｂに類似しているが、ＰＶモジュールの二つの近接列の間からみた図である。
図３０は、ＰＶモジュールと隣接する空気デフレクタのオーバラップするエッジとの間の接合を示す拡大側面図である。
図３１は、図２６Ｂの構造の一部の拡大側面図である。
図３２は、拡張された側方空気デフレクタの使用を示す図３１に類似の図である。
図３３は、図２６Ｂのほぼ垂直な側方空気デフレクタに対する代替品としてのアングル側方空気デフレクタを示す端面図である。
図３４は、前記支持体がＰＶモジュールを支持するのみならずアクセスカートのためのトラックとしても作用する、本発明の別の態様によるＰＶ設備を示す。
図３５及び３６は、図３４の設備の一部の側面図と拡大側面図である。
そして、図３７は、本発明に使用される、別のＰＶモジュール、具体的には、集光装置タイプのＰＶモジュールを示す。
【００１８】
図１及び２は、通常は、建築物の屋根である、支持表面１６によって支持される複数のＰＶモジュール１４の列１２を備える、ＰＶ設備１０の平面図と側方立面図である。ＰＶモジュール１４の列１２は、周方向に閉じられた周辺１８を形成する。設備１０は、更に、周辺１８を包囲するとともにそれから離間して配置された周辺空気デフレクタ２０と、ＰＶモジュール１４を支持表面１６の上方で支持するＰＶモジュール支持体２２とを備える。ＰＶ設備１０の一般的構造は、後述する例示的な可能な改造を備えて、上述した単数又は複数の特許に開示されているもののような、従来式のものとすることができる。例えば、ＰＶモジュール１４は、好ましくは、風揚力に対する抵抗を向上させるために、互いに接続される。ＰＶモジュール１４、更に、周辺空気デフレクタ２０と支持体２２、の数、形状、向き、及び配置は図示されているものから変更することができ、ＰＶ設備１０は、読者が本発明を理解することを助けるために使用される単純化された例示的装置である。
【００１９】
図３−８を使用し、ＰＶ設備１０に関連するいくつかの面積、体積、寸法、及び面積について明らかにする。図３は、ＰＶモジュール１４間に形成されるモジュールギャップ面積（ＭＧＡ）２６を示している。図４は、周辺ギャップ面積（ＰＧＡ）２８を示している。支持表面１６が水平であると仮定すると、周辺ギャップ面積２８は、ＰＶモジュール１４と支持表面１６との間において周辺１８に沿って垂直に延出する面積となる。図５は、周辺１８と周空気デフレクタ２０との間に形成されるデフレクタ／モジュールギャップ面積（Ｄ／ＭＧＡ）３０を図示している。図６は、モジュールギャップ３２と周辺ギャップ３４とを図示している。図７及び８は、いかにして列の下方の空気体積（air volume）を計算するかを図示している。即ち、周辺１８の面積は、寸法Ｘと寸法Ｙとを積算することによって計算され、次に、空気体積Ｖは、その積に高さＨを積算することによって得られる。尚、ＰＶモジュール１４には断熱ベースが使用され、これにより、この断熱ベースが支持表面１６に当接して位置し、断熱ベースとＰＶモジュール１４との間には空間が形成され、前記空気体積計算は、通常、空気体積Ｖから前記ベースの体積を除去することによって調節される。
【００２０】
図９−１５は、ＰＶ設備１１０を図示し、ここで類似の参照番号（例えば、１０に対して１１０）は類似の部材を示している。設備１１０は、上下エッジ１４０，１４２と傾斜した側方エッジ１４４，１４６とを備える傾斜ＰＶモジュール１１４を使用する。設備１１０は、更に、複数の空気デフレクタ１４８を有し、これらデフレクタはそれぞれ、傾斜したデフレクタ側方エッジ１５０，１５２と、上方エッジ１４２の反対側の上方デフレクタエッジ１５４と、下方デフレクタエッジ１５６とを備えている。エッジ１４２，１５４は、それらの間に、ギャップ１５８と空気ギャップ面積（ＡＤＧＡ）１６０（図１２を参照）とを形成している。通常、エッジ１４０，１５６と支持表面１１６との間の距離は、それらのエッジに沿った空気デフレクタが不要となるように十分に小さいものである。しかし、周辺１１８に沿って側方エッジ１４４，１４６，１５０，１５２の反対側に側方空気デフレクタ１６２が使用されている。図１５に図示されているように、対向するデフレクタ側方エッジ１５０，１５２間にデフレクタ／デフレクタギャップ面積（Ｄ／ＤＧＡ）１６４が形成される。図９−１５の傾斜ＰＶモジュールの空気体積Ｖは、支持表面１１６と、周辺ギャップ面積１２８とＰＶモジュール１１４と空気デフレクタ１４８との下側とによって境界付けられる空気体積である。
【００２１】
図２２Ａ及び２２Ｂは、比較的非空気力学的な支持フレーム２２Ａに固定されたＰＶモジュール１４Ａを有するＰＶアセンブリ２２Ａを図示している。支持フレーム２２Ａは、平坦で、かつ、例えば約４ｃｍの高さの比較的高いものである。これに対して、図２２Ｃと２２ＤのＰＶアセンブリ２４Ｂは、支持フレーム２２Ａと比較して、より丸く、約１．３ｃｍ等のより短い支持フレーム２２Ｂを備える。図２２Ｅ及び２２Ｆは、支持フレーム２２Ａよりより空気力学的であり、支持フレーム２２の約１／３の長さであるが、恐らくは、図２２Ｃ及び２２Ｄの丸い支持フレーム２２Ｂほどは空気力学的ではない支持フレーム２２Ｃを備えるＰＶアセンブリ２４Ｃを図示している。支持フレーム２２Ｃに対する支持フレーム２２Ｂの利点は、この支持フレーム２２Ｂの内側エッジ２２Ｄが丸いことによって、該支持フレームの内側部分の空気力学的特性が向上することにある。
【００２２】
図２３Ａ−２３Ｃは、ＰＶモジュール支持体２２Ｃに取り付けられる構造部材４３の形状がいかに風抵抗に対して影響を与えうるかを示している。図２３Ａ〜２３Ｃには図示されていないが、構造部材４３は、離間支持体によって屋根又はその他の支持表面に取り付けられ、これによって空気がこれら構造部材の下を容易に通過できるように構成されている。図２３Ｃにおいて、矢印は、構造部材４３にあたる風を示している。構造部材のＣ形状はなんら空気力学的幾何学性を有さないので、風が図示の方向において構造部材に衝突することによって大きな流体抵抗が生じる。図２３Ｄ−２３Ｆは好適なアプローチを示し、ここでは、構造部材４３のＣ形状は、構造部材４３Ａの丸みを帯びたエッジを有するプロファイルによって置き換えられており、これによって、構造部材４３Ａに対する流体抵抗が減少し、従って、ＰＶアセンブリ２４Ｄに対する流体抵抗も減少する。
【００２３】
図２４Ａ及び２４Ｂは、それぞれ、ＰＶモジュール１４を断熱ベース２７に取り付ける支持体２２を備える一対の断熱ＰＶアセンブリ２５を図示しており、該アセンブリ２５は、支持表面１６によって支持されている。これらアセンブリ２５は、舌／溝インタロック構造２９を使用することによって互いにインタロックされている。図２４Ａにおいて、断熱ベース２７間には比較的小さなギャップ３１が形成されている。この比較的小さなギャップ１３１は、空気流を制限し、均圧化時間を増大させる。急速な均圧によって最善の風性能が達成される。これに対して、図２４Ｂは、より大きなギャップ３１を図示し、これは、均圧化時間を低減し、それによって風性能を向上させる。又、断熱ベース２７に貫通孔（図示せず）を設けることによって、均圧化時間を低減するのに役立つように、ベース２７と支持表面１６との間の面積への均圧化通路が提供される。
【００２４】
図２５は、ベース２７の下方の流れを促進するためにこのベース２７の下に小さな通路３３を備える図２４Ｂに類似の構造を図示しており、ギャップ３１も迅速な均圧化を促進する。但し、通路３３によって作り出される流路によって提供される利点が、均一化されるべきより大きな空気体積によって打ち消されてしまうことがないように、通路３３の高さは最小限のものとすべきであるということが強調されるべきである。通路３３を設けることによって作り出される空気体積の増加は、ギャップ３１のサイズを大きくすること、又は、ベース２７の孔を追加すること、あるいはこれらの両方によって、相殺可能であり、通常は、これらの手段によって相殺されるべきである。
【００２５】
図２６−３１は、ＰＶ設備２１０を構成するべく傾斜ＰＶモジュール２１４の列２１２の現場でのアセンブリを容易にするように構成された別実施例を示しており、ここで類似の参照番号は類似の部材を示している。支持体２２２は、ＰＶモジュール２１４を支持するのみならず、隣接するＰＶモジュール同士を互いに固定するためにも使用される。各支持体２２２は、ベース２７０と、上方に延出する上方エッジ支持アーム２７２と、中程度に傾斜した下方エッジ支持アーム２７４とを有する。支持アーム２７２，２７４は、それぞれ、それから延出してＰＶモジュール２１４をＰＶモジュール２１４の上方及びカテコールブタン方エッジ２４２，２４０で支持するために使用される孔あきタブ２７６，２７８ （図２８及び２９Ａを参照）を備える。図３０は、ファスナ２８０による、二つの隣接するＰＶモジュール２１４の、上方支持アーム２７２の孔あきタブ２７６と、二つの隣接する（そして僅かにオーバラップする）後方空気デフレクタ２４８のオーバラップする孔あきタブ２８２とに対する固定を図示している。ファスナ２８０は、タブ２７６に固定されるとともに外方に延出するネジスタッド２８４と、内側ナット２８８によってタブ２７６に向けて駆動される接地クリップ２８６とを備えている。隣接するＰＶモジュール２４１のそれぞれの金属部分は、クリップ２８６とタブ２７６との間に捕捉されている。後方空気デフレクタ２４８の孔あきタブ２８２が、外側フランジナット２９０と内側ナット２８８との間に捕捉されている。後方空気デフレクタ２４８の下側エッジ２５６は、支持体２２のベース２７０に形成されたスロット２９２に係合するタブを備えている。ＰＶモジュール２１４の下側エッジ２４０は、タブ２７８と、このタブ２７８から延出するスタッドを備える、ファスナ２８０に類似のファスナと、接地クリップとナットとを使用して支持体２２２に固定されている。その他の取り付け構造も使用可能である。
【００２６】
図２６−３１の実施例において、各ＰＶモジュール列内のＰＶモジュール２１４は、それらの間にギャップが無い状態で互いに隣接している。しかし、側方空気デフレクタ２６２が、列２１２の側方エッジに沿ってＰＶモジュール２１４に固定されている。側方空気デフレクタ２６２は、内側に延出する孔あきタブ２９１を備え、これらはＰＶモジュール２１４の下側及び上側エッジ２４０及び２４２に沿って前記ファスナによって係合されている。側方空気デフレクタ２６２と、ＰＶモジュール２１４の隣接するエッジとの間に空気ギャップ２３０が形成されている。
【００２７】
支持体２２２は、通常は、例えば、シートメタル、折り曲げられたアルミ製、押出し成形されたアルミ、ステンレス鋼、又はその他の金属からなる折り曲げ金属支持体である。但し、この支持体２２２は、プラスチック、コンクリート、ファイバグラス、その他の材料から形成することも可能である。支持体２２２は、更に、通常は、ゴム又はその他の適当な材料から形成され、ベース２７０に付着される保護パッド２９３を備える。このパッド２９３は、アセンブリのオプション部材であるが、このバッド２９３は、隣接する列のＰＶモジュール２１４が、支持表面２１６を引っ掻いたり、又はその他状態で損傷することを防止するのに役立つ。図３１に図示されているように、隣接する列のＰＶモジュール２１４は、これらの列の間に通路２９４を提供するのに十分に互いに離間させることができる。
【００２８】
図３２は、拡張された側方空気デフレクタ２６２Ａを使用する別実施例を示し、これらの拡張側方空気デフレクタは、２９６において互いにいくらかオーバラップしている。そのタイプの側方空気デフレクタを使用することによって、列２１２を包囲する、縁石やその他の周部バリアを使用する必要性を無くすることができる。
【００２９】
図３３は、前記側方空気デフレクタがアングル側方空気デフレクタ２６２Ｂである別実施例を示している。このようなアングル側方空気デフレクタは、現状では好適であるが、それらの製造は、通常、垂直な側方空気デフレクタよりも問題が大きくなる。
【００３０】
図３４−３６は、本発明の更に別の実施例を図示している。ＰＶ設備３１０は、支持表面３１６上に取り付けられた複数のＰＶモジュール３１４の列３１２を有する。支持体３２２は、ＰＶモジュール３１４を支持し、隣接するＰＶモジュール３１４を互いに接続するだけでなく、これら支持体３２２の間に延出するＵ通路トラック３１７を支持するようにも構成されている。これらＵ−通路トラック３１７は、アクセスカート３２１の車輪３１９を支持するために使用されるものであり、これら車輪は、カート本体３２３に取り付けられている。アクセスカート３２１は、ＰＶ列３１２のクリーニング、メンテナンス、修理、のために使用され、あるいは、もしそれが無ければ一般にアクセスできない列の面積に対するアクセスを提供するために使用可能である。カート３２１は、ＰＶモジュール３１４をクリーニングするための、ブラシ３３５（図３６を参照）、スプレー、その他のクリーニング装置を搭載することができる。カート３２１は、自走式、手動駆動式、自動制御式、手動制御システム拒絶理由、又はそれらの組み合わせとすることができる。ＰＶモジュール３１４は僅かに傾斜した状態で図示されているが、その他の角度、傾斜無しからより大きな傾斜までの角度も使用可能である。所望の場合には、車輪３１９は、ＰＶモジュール３１４が傾斜している場合に十分なクリアランスを提供するために、互いに異なる径を有するものとして構成することができる。又、支持体３２２は、ＰＶモジュール３１４が傾斜している場合において、二つのＵ通路トラック３１７を異なる高さで支持するように構成することができる。車輪３１９に代えて、Ｕ−通路トラック３１７に沿って乗るスキッドやパッドによってカート３１２を支持することも可能である。カート３２１は、モータ駆動式、又は、ポール、ケーブル、チェーン、又はロープによって、移動させることができる。カート３２１の移動は、又、例えば、グローバル・ポジショニング・システム（ＧＰＳ）を使用して遠隔制御することができる。カート３２１は、又、一列のＰＶモジュール３１４以上の幅のものとして構成することができる。
【００３１】
上述した実施例は、従来のＰＶモジュールの使用を開示するものである。所望の場合、ＰＶモジュールを集光式のものとすることができる。集光式のＰＶモジュール３３６、図３７を参照、は、通常、ＰＶ基板によって受けられる光の強度を増大させるために、ＰＶ基材３３８の上方に位置する複数のレンズ３３７又はその他の集光装置のアレイを備える。これによって、非集光式のＰＶ基板と比較して、ＰＶ基板の有効発電面積３３９の比率を低減させることが可能となる。これは、ＰＶ基板上により効率的な発現材料を使用することをコスト的に有利にするのに役立つ。
【００３２】
ＰＶ支持表面の風性能に対する、均圧化と空気力学的な力との相対的寄与のより良い理解を得るために、風洞実験と組み合わせた計算流体力学（ＣＦＤ）シュミレーションを、断熱発泡ベースを備える、又は備えない、フラットなＰＶモジュール（図１−８を参照）と、傾斜したＰＶモジュール（図９−１５を参照）とに対して行った。均圧に対する量−ギャップ面積の影響と、空気力学的力に対するＰＶジオメトリの影響を測定したので、それらについて以下説明する。
【００３３】
複数の発見が成されたが、これらは、１）均圧化、２）空気力学、及び３）その他、重量、相互接続、摩擦、降伏メカニズム、に大まかに分類することができる。
【００３４】
以下の記載で、図１６−２１の要約されているテストの結果について言及する。
【００３５】
図１６は二つの重要な問題を示している。即ち、（１）ＰＶモジュールの上下での均圧化のための時間は、比率Ｖ／Ｇａに強く依存すること、そして（２）均圧化のための時間は、システムのジオメトリのみの関数であって、システムの重量には依存しないこと。図１６及び１７において、Ｖ＝列の下方の空気体積、Ｇａ＝空気体積面積内に開口する妨げられないギャップ面積。ＰＶモジュールの上方及び下方における急速な均圧化が望ましい。もしも均圧化が急速に起これば、ＰＶシステムの慣性は、動的な風流によって引き起こされる圧力変動に耐えることが出来るであろう。もし均圧化にかかる時間が長ければ、システムの慣性は最終的に圧倒されて、ＰＶシステムは変位を受けるであろう。
【００３６】
システムの重量は、均圧化時間において役割を果たさない。但し、それは、均圧化プロセス中に発生する変位を制限することにおいて支配的なメカニズムの１つではある。その他の支配的なメカニズムは、Ｖ／Ｇａ比である。これが図１７に示されている。このグラフは、Ｖ／Ｇａ比と周辺間隔を同じとした場合、より重量の大きなシステムは、重量の小さなシステムよりも変位量が少ないことを示している。構造コンポーネントに対する歪が最小化され、それによって故障のリスクが最小化されるので、風圧変動中においてシステムが受ける変位を制限することが望ましい。
【００３７】
図１８〜２０は、ＣＦＤシュミレーションに基づく、均圧化時間中に起こるであろう、垂直変位に対するＰＶサイズの影響、更に、垂直変位に対するＰＶモジュール間のギャップ間隔の影響を示している。同じＰＶモジュール間ギャップが使用され、ＰＶが屋根の上方において同じ高さに設置されると仮定すると、より小さなＰＶモジュールのほうが、大きなＰＶモジュールよりも、ＰＶ列の表面上のギャップ面積が大きくなる。
【００３８】
図１８は、屋根の上方の様々な高さに対する、種々のサイズのＰＶモジュールの変位を示している。このグラフは、隣接するＰＶモジュール間のギャップが１”で、ＰＶモジュールと屋根との間の高さが９”である、２４”×２４”のＰＶモジュール列が、１ｍｍの変位を受けうることを示している。ＰＶモジュール間のギャップが同じく１”で、ＰＶモジュールと屋根との間の高さが同じく９”である、４８”×４８”のＰＶモジュール列では、約５ｍｍの変位が起こり、そして類似のジオメトリの９６”×９６”の列では２７ｍｍの垂直変位を受けるであろう。
【００３９】
ＰＶモジュール間のギャップ間隔の影響は、図１８〜２０のデータを比較することによって理解することができる。図１８から、重量が２．３６ｐｓｆで、屋根の上方の高さが３”、ＰＶモジュール間のギャップ間隔が１”の９６”×９６”のＰＶモジュールは、３ｍｍの垂直変位を受けるであろう。図１９は、ＰＶモジュール間のギャップを２”に増加された場合、１ｍｍの垂直変位が起こるであろうことを示している。図２０は、ＰＶモジュール間のギャップを４”に増加された場合、０．２ｍｍの垂直変位が起こるであろうことを示している。このことは、ＰＶシステムの表面上のギャップを増加させる、即ち、Ｖ／Ｇａ比率を減少させることの利点、均圧化時間と垂直変位とが最小化されること、を示している。
【００４０】
図２１Ａ，Ｂ及びＣは、計算に基づくものであり、周辺間隔の作用を示すために使用される。周辺ギャップを介して周辺タイルの下方からの空気流に対して障害が存在しない場合（図６に図示、項目３４）、その時、周辺は１００％開放である。もしも、物体が周辺ギャップ面積を妨げる場合、元の周辺ギャップ面積に対するその障害の比率を、百分率として算出することができる。図２１Ａ及びＢは、種々の構成（任意の１つの構成は同じＰＶ面積、ギャップ間隔、ＰＶ重量、屋根上高さを有する）についての均圧化時間を示している。図２１Ａ中のｙ軸は、７０ｍｓまで増加しているのに対して、図２１Ｂでは、ｙ軸は、明瞭化のために、２０ｍｓまでに制限されている。図２１Ｃは、図２１Ａ及びＢのために使用された生データの表であり、これによって各構成のジオメトリを見ることができる。各構成に対して、０％、２５％周辺障害、及び１００％周辺開放を含む、種々の割合の周辺ギャップ開口度に対して、均圧化時間が示されている。これらの図は、周辺の障害が少ないほど、均圧化が速くなることを示している。
【００４１】
設計考慮事項
Ａ．均圧化
１．ＰＶシステムの空気体積対ギャップ面積の強い依存性が存在する。ここで空気体積とは、ＰＶシステム全体の下方の空気の量をいう（例えば空気体積Ｖ）。前記ギャップ面積とは、モジュール間の全ギャップ面積、ＰＶモジュールの上方エッジと屋根表面との間のギャップ面積の総計を指す（例えば、モジュールギャップ面積２６と周辺ギャップ面積２８とを足したもの）。システムの障害は、前記空気体積対ギャップ面積比を計算する時に、ギャップ面積から、支持体によって妨害される面積を差し引くことによって計上処理（accounted for）される。 従って、以下の式において、ギャップ面積は、特定の面積に対する妨げられていない面積を指すものとされる。最適な風性能のためには、前記空気体積対ギャップ比（例えば、比Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＰＧＡ）は、可能な限り小さくされるべきである（図１６及び１７を参照）。前記比率（空気体積は立方メートル、面積は平方メートル単位で測定）は、好ましくは、約２０メートル以下、より好ましくは約１０メートル以下、更に好ましくは約２メートル以下、そしてより好ましくは約１メートル以下である。前記Ｖ／Ｇａは以下のように選択することができる。図１７に類似のグラフを任意の重量のＰＶモジュールに対して作成することができる。所与の重量のＰＶモジュールに対して、このグラフをチェックして、垂直変位を好ましくは５０ｍｍ以下、より好ましくは約２５ｍｍ以下、更に好ましくは約１ｍｍ以下に制限するＶ／Ｇａ比を決定するべきである。次に、選択されたＶ／Ｇａ比を、図１６に図示されているグラフ上で相互参照されるべきである。図１６に図示されているように選択されたＶ／Ｇａに対する均圧化時間が決定されるべきである。この値は、好ましくは２０ｍｓ以下、より好ましくは８ｍｓ以下、更に好ましくは１ｍｓ以下とするべきである。もしも最初に選択したＶ／Ｇａが図示し上述した好適値よりも高ければ、二つのＶ／Ｇａ値の低い方を選択すべきである。尚、ＰＧＡは、通常、ＭＧＡのなんらかの小部分となり、ゼロになりうる。もしもＭＧＡがゼロで、全てのギャップがＰＧＡ成分中に存在する場合は、システムはおそらく所望の状態で作用しないであろう。ＰＶシステムの変位を制限するためには、適当な比率Ｒは、更に、ＰＶシステムの単位面積当たり重量にも依存する。これが、「設計考慮事項の要約」と題する以下の項に示されている。
【００４２】
２．換言すると、前記空気体積は、全ＰＶシステムの下方の空気の量（例えば、空気体積Ｖ）を指す。前記ギャップ面積ＩＧＡＰは、列の垂直上方から見て列内に位置する固体表面（例えば、ＰＶモジュール）間の全てのギャップ面積の総計として定義される。例えば、図１のＩＧＡＰはＭＧＡ２６に等しいのに対して、図９のＩＧＡＰはＭＧＡ１２６，ＡＤＧＡ１６０及びＤ／ＤＧＡ１６４の総計に等しい。前記ギャップ面積ＰＧＡＰとは、列の周辺でのすべてのギャップ面積の総計を指し、更に、１）ＰＶモジュールの上方エッジと屋根表面との間の面積（周辺ギャップ面積（ＰＧＡ）２８）又は２）ＰＶモジュールの上方エッジと周辺デフレクタ装置との間の面積（周辺ギャップ面積３０（Ｄ／ＭＧＡ））との小さい方、として定義される。尚、これらのギャップ面積の一部は、一般に、ＰＶ支持システム（例えば、ＰＶモジュール支持体２２）によって妨げられる。支持システムの障害は、ＩＧＡＰとＰＧＡＰを計算する時に、支持体によって妨げられる面積を差し引くことによって計上処理（accounted for）される。従って、以下の式において、ギャップ面積は、特定の面積に対する妨げられていない面積を指すものとされる。最適な風性能のためには、前記空気体積対ギャップ比（例えば、比Ｒ，Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）は、可能な限り小さくされるべきである（図１６及び１７を参照）。
【００４３】
３．突風中の変位に耐えることにおいてＰＶモジュールの慣性が十分なものとなるように、１０−２０ｍｓ以下で圧力が均等化されることが望ましいかもしれない。
【００４４】
４．よりフレキシブルで、疲労抵抗性の高い相互接続構造が使用されるのでない限り、ＰＶの垂直変位を２−５ｍｍに制限することが望ましいかもしれない。
【００４５】
５．発泡断熱部材有り、又は無しの傾斜ＰＶモジュールに対する風揚力を低減するためには、２．５ｃｍ以上のＰＶデフレクタギャップ（例えば、周囲ギャップ３４）が望ましいかもしれない。
【００４６】
６．ＰＶモジュール間のギャップ間隔を大きくすれば、風性能は向上する（図１８，１９及び２０を参照）。しかし、ギャップによって、ＰＶシステムの下方で圧力が増大する可能性が高くなり、そのために、ギャップに空気デフレクタを使用したり、空気体積Ｖに対する空気流の抵抗を減少させるために、空気力学的コンポーネントを使用する等の空気力学的解決手段をとる必要が生じることから、ギャップ間隔の増大には限度がある。ギャップは、例えば、屋根に対して平行でない表面などの、正の圧力を受ける面積は回避するように戦略的に配置されるべきである。ギャップは、風デフレクタの使用によるＰＶシステムの下方の風の侵入から保護されるべきである。
【００４７】
７．空気がそれを通して流れることができるように、周辺縁石とＰＶモジュールとの間にギャップを維持することが風性能のために有利である。これが、種々のＰＶ構成に対して、図２１Ａ，２１Ｂ及び２１Ｃ中に％周辺開口率として図示されている。０％周辺開口とは、その周辺が完全に妨げられていることを意味する。１００％周辺開口とは、その周辺が空気流に対して完全に開放されていることを意味するが、但し、これは、ＰＶモジュールに隣接した、但し、好ましくは、ＰＶモジュールから、屋根表面からのＰＶ距離に等しい距離オフセットされた周辺風デフレクタを設けることによって達成されるべきである。
【００４８】
８．より小さなＰＶモジュールは、列表面を介したギャップ面積が大きくなり、それによって、空気流と急速な均圧化が促進されることから、大きなＰＶモジュールよりも（モジュール間のギャップ間隔を同じと仮定して）急速に圧力を均一化する。
【００４９】
９．層流的風流においてさえ、ＰＶ列を介した圧力変動（部分的圧力変動）が起こる。それらの面積に存在する空気体積を同時に制限しながら、ＰＶモジュールの下方および／又は断熱ベースの下方の空気流を促進することによって、均圧化は向上される。例えば、ＰＶモジュールの下方の支持体は可能な限り小さなものとするべきである。又、断熱発泡ベースの下方に小さな溝を設けることによっても、空気体積の増大がギャップ面積の増加によって相殺することが可能であるならば（図２４を参照）、均圧化を向上させることができる。
【００５０】
１０．項目（８）と同様、断熱ボードを供える製品の場合、その断熱発泡材のギャップ間をより大きくすること、又は、ＰＶモジュール間のギャップの真下で発泡材に孔を開けることによって、均圧化が高まるであろう（図２５を参照）。
【００５１】
１１．ＰＶアセンブリ列のＰＶアセンブリの上下表面間の均圧化は、以下のようにして補助することが可能である。支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列が選択される。前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、前記モジュール同士の間に形成されるモジュールギャップ面積ＭＧＡと、前記周辺に沿って前記ＰＶモジュールと前記支持表面との間に形成される周辺ギャップ面積ＰＧＡと、前記傾斜デフレクタ側方エッジの互いに対向するエッジ間に形成されるデフレクタ／デフレクタギャップ面積Ｄ／ＤＧＡと、前記空気デフレクタの前記上方エッジと前記ＰＶモジュールの前記上方エッジとの間に形成される空気デフレクタギャップ面積ＡＤＧＡとを形成する。尚、ＰＧＡはゼロでありうる。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＭＧＡ＋ＡＤＧＰ＋ＰＧＡ＋Ｄ／ＤＧＡ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以下であれば、Ｖ，ＭＧＡ，ＡＤＧＡ，ＰＧＡ及びＤ／ＤＧＡの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。前記所定比率は、例えば、２０以下、１０以下、２以下、又は１以下にすることできる。複数の前記傾斜ＰＶモジュールの前記傾斜側方エッジに対向して前記周辺に沿って側方空気デフレクタを使用することができる。前記周辺空気デフレクタとケーシング周辺との間のデフレクタ／モジュールギャップ面積Ｄ／ＭＧＡを決定する。Ｄ／ＭＧＡ÷ＰＧＡに等しい調節比ＡＲを決定する。もしもＡＲが１以下であれば、ＰＧＡにＡＲを積算して、補正ＰＧＡを得る。この補正ＰＧＡを、比率Ｒ決定工程に使用する。
【００５２】
１２．換言すると、ＰＶモジュール列のＰＶモジュールの上下表面間の均圧化は、以下のようにして補助することが可能である。支持表面上に支持可能なＰＶモジュールアセンブリの列が選択される。前記複数のＰＶアセンブリの少なくとも一部は、（１）下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜ＰＶモジュールと、（２）傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜ＰＶモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。複数の前記傾斜ＰＶモジュールの前記傾斜側方エッジに対向して前記周辺に沿って側方空気デフレクタを使用することができる。
前記ＰＶアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺と、前記ＰＶアセンブリ列と、前記支持表面との間に形成される列空気体積Ｖと、前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積ＩＧＡＰとを形成し、ＰＧＡＰは、前記列の周辺の全てのギャップ面積の和であり、更に、１）前記ＰＶモジュール及びデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の面積（周辺ギャップ面積１２８）、及び２）ＰＶモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の面積（周辺ギャップ面積１３０（Ｄ／ＭＧＡ））、のいずれか小さい方として定義される。尚、これらのギャップ面積の一部は、通常、ＰＶ支持システム（例えば、ＰＶモジュール支持体２２９によって妨げられる。支持システムの障害は、ＩＧＡＰとＰＧＡＰとを計算する時に、支持体によって障害されている面積を差し引くことによって計上処理（accounted for）される。尚、Ｄ／ＭＧＡはゼロでありうる。比率Ｒ：Ｒ＝Ｖ÷（ＩＧＡＰ＋ＰＧＡＰ）、が算出される。この比率Ｒが所定の比率以下であれば、Ｖ，ＩＧＡＰ及びＰＧＡＰの少なくとも１つが変更されて、前記算出工程が繰り返される。前記所定比率は、例えば、２０以下、１０以下、２以下、又は１以下にすることできる。  
【００５３】
Ｂ． 空気力学
１．列の下側になんらかの大きな入口点がある場合には、その入口点からの風の侵入を防止するために、風デフレクタを配置すべきである。風デフレクタは、ＰＶシステムに対する流体抵抗を最小化するために、ＰＶシステム中の最も高さの大きな隣接コンポーネントと同じ高さであるべきである。好ましくは、風デフレクタは、列の上方、特に、周辺の周りに配置される場合には、角度（この角度は、最小化、即ち、屋根表面に対して可能なかぎり平行に近い状態にすべきである）を有して傾斜させるべきである。前記周辺空気デフレクタは、前記周辺を包囲しかつ、それから離間して配置することができる。Ｄ／ＭＧＡ÷ＰＧＡに等しい調節比ＡＲを決定する。もしもＡＲが１以下であれば、ＰＧＡにＡＲを積算して、補正ＰＧＡを得る。この補正ＰＧＡを、比率Ｒ決定工程に使用する。
【００５４】
２．すべての傾斜ＰＶシステムは、後方及び側方デフレクタを備えることによって大きな利点を得るであろう。これは、一部の従来システムの主用な欠点である。
【００５５】
３．風は各システム全体を通して作用するので、それらの空気流に対する抵抗を最小化するためにすべてのアセンブリ細部に注意を払うことが重要である（マイクロ空気力学）。
【００５６】
４．図２２に図示されているＰＶフレームの非空気力学的計上によって、空気力学的ＰＶフレームによって発生する流体抵抗と比較して流体抵抗が増大する。
【００５７】
５．図２３に図示されているＰＶフレームを支持するＣ通路の非空気力学的計上によって、流体抵抗の増加が起こるので、これは一般に避けるべきである。
【００５８】
６．軽量（＜１０ｐｓｆ）の傾斜ＰＶシステムでは、後方及び側方デフレクタ又は、下記の項目２によって作用する機構無しでは、米国内のどこの地区においても設計風速に耐えることはできないであろう。
【００５９】
その他：重量、相互接続、摩擦、降伏メカニズム
１．ＰＶモジュールの重力を増大させること、特に、列の周辺のモジュールの重力を増大させることは、風性能を向上させるであろう（図１７を参照）。
【００６０】
２．ＰＶコンポーネントの相互接続は、風の負荷をＰＶ列を介して分布させることによって風性能を改善するであろう。よりリジッドな相互接続のほうが、おそらく、これらの負荷を分布させることができる。
【００６１】
３．屋根とそれに接触するコンポーネントとの間の摩擦係数を増大させることは、バラストされたシステムの安定性を増大させることができる。屋根に接触する表面積を増大させることも風性能を向上させることができる。
【００６２】
４．倒伏メカニズムが使用される場合（風のなかで「曲がる」ことによって、列部材に、風流のエネルギを吸収させる）、それは、耐疲労性で、突風的、乱流的な風流中で作用し、ｍｓ（低慣性）で測定される応答時間を有し、破損が発生する前に、全ての風方向において作用するものでなければならない。一旦、このメカニズムが作用すると、それは、風速が破損を起こさないレベルに低下するまで、その作用状態に留まるものでなければならない。
【００６３】
５．屋根取り付けＰＶモジュールの列は、屋根の周辺から、離間させて配置することが一般的に推奨されることがわかった。４ｆｔが許容可能であり、８ｆｔが好適で、１２ｆｔがより好適である。
【００６４】
設計考慮事項の要約
１．一般的摘述  
［列の野外における透過性］
１．ＰＶモジュール表面の上下間の空気流を可能にするＰＶモジュールの野外でのギャップ
【００６５】
［列の周囲及び内部における空気力学的解決手段を追加］
１．ＰＶモジュールの下面への水平風流の吹き込みを大幅に防止する手段
ａ．列の周辺
ｂ．列内でのモジュール間（特に、傾斜モジュールの場合）
【００６６】
［性能改善のための追加手段］
１．列の相互係合
２．列の重量増加
３．屋根周辺（最悪の部分揚力）から離間した位置
→ ４’許容可能
→ ８’好適
→１２’最適
【００６７】
２．より具体的摘述
［野外における列の安定性］
１ａ．ＰＶモジュール表面の上下間の空気流を可能にするＰＶモジュールの野外でのギャップ
面積Ａ（ｍ２）を形成するギャップ
支持表面の上方、ＰＶ表面の下方、列周辺内、の空気の量によって定義される量Ｖ（ｍ３）
Ｗ＝列の平均重量、ｐｓｆ
許容可能  好適  最適
全体   Ｖ／Ａ＝＜２０     １０    １
（ｍ）
より具体的には                        許容可能  好適  最適
Ｗ＝＜６ｐｓｆの場合        Ｖ／Ａ＝＜１４      ７      ３
Ｗ＝＜５ｐｓｆの場合        Ｖ／Ａ＝＜１２      ５．５  ２．５
Ｗ＝＜４ｐｓｆの場合        Ｖ／Ａ＝＜  ９      ４．５  ２
Ｗ＝＜２．３６ｐｓｆの場合  Ｖ／Ａ＝＜  ７      ３．５  １．５
Ｗ＝＜１ｐｓｆの場合        Ｖ／Ａ＝＜  ３      １．５  ０．７５
１ｂ．ＰＶモジュール面積とＰＶ対ＰＶギャップの関数としての屋根からの最大平均高さ
平均１’ギャップ  平均２’ギャップ  平均４’ギャップ
PVサイズ（in）  最大   好適      最大    好適      最大    好適
24x24          15 inc  8       20       10        30      20
48x48           5      2.5     10        5        15      10
96x96         2.5      1        5        2.5       7       5
２．均圧化のための好適なギャップサイズ
Ａ．コンポーネント間ギャップ（最終的に下方の屋根デッキまでの空気流を許容）
１．ＰＶ対周辺デフレクタ／縁石／風スポイラー
ａ．ギャップサイズ範囲    ＰＶモジュールの高さの０〜１００％
ｂ．好適ギャップサイズ    １”〜３”
２．ＰＶ対ＰＶ
ａ．ギャップサイズ範囲    ５”〜２０”
ｂ．好適ギャップサイズ    １”〜３”
３．ＰＶ対後方デフレクタ（傾斜モジュール）
ａ．ギャップサイズ範囲    ５”〜６”
ｂ．好適ギャップサイズ    １”〜３”
４．ＰＶ対側方デフレクタ （傾斜モジュール）
ａ．ギャップサイズ範囲    ５”〜６”
ｂ．好適ギャップサイズ    １”〜３”
Ｂ．ギャップは空気流に対して低い抵抗を有する。
【００６８】
［列の周囲及び内部におげる空気力学的解決手段を追加］
１．周辺の空気流を阻止又は分断させるための手段
Ａ．デフレクタ、縁石も、渦発生装置、その他などの、風スポイラー装置を列周辺に使用
デフレクタ又は縁石の場合は、
１．好ましくは、列に固定し、風がそれを支持表面に押し込むような形状にする
２．好ましくは、それ自身と第１ＰＶモジュールとの間に換気用のギャップを有する。最低１”が好適
３．実質的に、ＰＶモジュール表面の下方を風が流れることを阻止
４．デフレクタと屋根表面周辺の間の好適なギャップ。屋根と水平
５．屋根に対してその重みを加えてもよい
６．屋根に対して、固定、粘着、ボルト止めしてもよい
７．透過性のものとしてもよい
８．金属、コンクリート、プラスチック、その他から形成できる
９．デフレクタ角度範囲：０〜７０度
１０．好適なデフレクタ角度：１０−５０度
Ｂ．傾斜タイルのための側部デフレクタ
１．デフレクタ角度範囲：０〜７０度
２．好適なデフレクタ角度：１０−５０度
２．列の内部の風流を阻止又は分断させるための手段
Ａ． デフレクタ、縁石も、渦発生装置、その他などの、風スポイラー装置を列内に使用
デフレクタ又は縁石の場合は、
１．好ましくは、列に固定し、風がそれを支持表面に押し込むような形状にする
２．実質的に、ＰＶモジュール表面の下方を風が流れることを阻止
３．デフレクタと屋根表面周辺の間の好適なギャップ：１／２”以下
４．透過性のものとしてもよい
５．金属、コンクリート、プラスチック、その他から形成できる
６．デフレクタ角度範囲：０〜７０度
７．好適なデフレクタ角度：０−５０度
Ｂ．通路および／又はクリーニング機械用の、デフレクタと隣のＰＶとの間のギャップの追加
１．好適な通路幅３−２４”
２．好適なデフレクタ角  ４−８”
３．迅速な均圧化を容易にするためにアセンブリ全体を通して空気流に対する抵抗を低下させるための手段
Ａ．コンポーネント
１．すべてのコンポーネント表面（例えば、レール、フレームエッジ、支持スペーサ）の空気力学的プロファイル
Ａ．スペーサ
Ｂ．モジュールフレーム
１．フレーム無し
２．低プロファイル、空気力学的フレーム
Ｃ．レール
１．レール無し
２．低プロファイル
３．レールに孔
Ｄ．デフレクタ又はデフレクタ縁石
【００６９】
［列の保全性を強化するためのその他の手段の追加］
１．列相互係合
２．重量追加
＝＜８ｐｓｆ許容可能
＝＜５ｐｓｆ好適
＝＜３ｐｓｆ最適
追加的製品改良
１．熱性能改善のための放射バリアの追加
２．断熱ブロックの追加
【００７０】
上述し、貼付の図面に図示し、以下のクレームに定義されている本発明の課題から逸脱することなく、ここに開示した実施例に対してその他の改造及び変更を行うことが可能である。
【００７１】
上述したすべての特許、特許出願及び刊行物をここに参考文献として合体させる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】ＰＶ設備の簡略化された平面図
【図２】ＰＶ設備の簡略化された側方立面図
【図３】図１においてモジュールギャップ面積をクロスハッチングして示す図
【図４】周囲ギャップ面積をクロスハッチングして示す図２に類似の図
【図５】デフレクタ／モジュールギャップ面積を示す図３に類似の図
【図６】モジュールギャップと周囲ギャップとを示す図４に類似の図
【図７】ＰＶモジュール列の下方の空気体積（volume of air）をいかにして測定するかを示す図１に類似の図
【図８】ＰＶモジュール列の下方の空気体積(volume of air)をいかにして測定するかを示す図２に類似の図
【図９】傾斜ＰＶモジュールと後方空気デフレクタとを示す図１に類似の図
【図１０】傾斜ＰＶモジュールと後方空気デフレクタとを示す図２に類似の図
【図１１】傾斜ＰＶモジュールと後方空気デフレクタとを示す図２に類似の図
【図１２】クロスハッチングを使用してモジュールギャップ面積、空気デフレクタギャップ面積及び周辺ギャップ面積を示す図９に類似の図
【図１３】クロスハッチングを使用してモジュールギャップ面積、空気デフレクタギャップ面積及び周辺ギャップ面積を示す図１０に類似の図
【図１４】デフレクタ／モジュールギャップ面積を示す図１２に類似の図
【図１５】デフレクタ／デフレクタギャップ面積を示す図１２に類似の図
【図１６】妨げられていないギャップ面積に対する列の下方の空気体積の比率に対して均圧時間をプロットした図
【図１７】妨げられていないギャップ面積に対する列の下方の空気体積の比率に対して変位をプロットした図
【図１８】支持表面の上方のＰＶアセンブリの高さに対する三種類のＰＶアセンブリの算出垂直変位のプロット
【図１９】支持表面の上方のＰＶアセンブリの高さに対する三種類のＰＶアセンブリの算出垂直変位のプロット
【図２０】支持表面の上方のＰＶアセンブリの高さに対する三種類のＰＶアセンブリの算出垂直変位のプロット
【図２１Ａ】種々の周囲条件について、種々の構成のＰＶアセンブリについて計算された均圧化時間のプロット
【図２１Ｂ】種々の周囲条件について、種々の構成のＰＶアセンブリについて計算された均圧化時間のプロット
【図２１Ｃ】図２１Ｃ−１〜４の配置を示す図
【図２１Ｃ−１】図２１Ａと２１Ｂのグラフを作成するために使用された計算を示す図
【図２１Ｃ−２】図２１Ａと２１Ｂのグラフを作成するために使用された計算を示す図
【図２１Ｃ−３】図２１Ａと２１Ｂのグラフを作成するために使用された計算を示す図
【図２１Ｃ−４】図２１Ａと２１Ｂのグラフを作成するために使用された計算を示す図
【図２２Ａ】比較的に非空気力学的な支持フレームを備えるＰＶアセンブリの簡略化側方立面図
【図２２Ｂ】図２２Ａのアセンブリの一端面の拡大図
【図２２Ｃ】構造部材の非空気力学的計上を示す図２２Ｂの構造の端面図
【図２２Ｄ】より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２２Ａ及び２２Ｂに類似の図
【図２２Ｅ】より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２２Ａ及び２２Ｂに類似の図
【図２２Ｆ】より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２２Ａ及び２２Ｂに類似の図
【図２３Ａ】比較的に非空気力学的な支持フレームを備えるＰＶアセンブリの簡略化側方立面図
【図２３Ｂ】図２２Ａのアセンブリの一端面の拡大図
【図２３Ｃ】構造部材の非空気力学的計上を示す図２３Ｂの構造の端面図
【図２３Ｄ】より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２３Ａ〜２３Ｃに類似の図
【図２３Ｅ】より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２３Ａ〜２３Ｃに類似の図
【図２３Ｆ】より空気理学的な支持フレームを備える別実施例の図２３Ａ〜２３Ｃに類似の図
【図２４Ａ】均圧化時間を削減するためにアセンブリの下方の空気流の促進を補助するギャップを備えるアセンブリとの相互係合ＰＶアセンブリの対を示す図
【図２４Ｂ】均圧化時間を削減するためにアセンブリの下方の空気流の促進を補助するギャップを備えるアセンブリとの相互係合ＰＶアセンブリの対を示す図
【図２５】アセンブリの下方の空気流を促進するためのＰＶアセンブリの下方における通路の使用を示す図
【図２６】本発明の簡易フィールドアセンブリによって形成された傾斜ＰＶモジュールの列の等角図
【図２６Ａ】本発明の簡易フィールドアセンブリによって形成された傾斜ＰＶモジュールの列の平面図
【図２６Ｂ】図２６のアセンブリの異なる部分の拡大図
【図２７】図２６のアセンブリの異なる部分の拡大図
【図２８】図２６のアセンブリの異なる部分の拡大図
【図２９】図２６のアセンブリの異なる部分の拡大図
【図２９Ａ】図２９の構造の底面図
【図２９Ｂ】図２９Ａの構造の一部の拡大図
【図２９Ｃ】図２９の最上方支持体の下方の逆方向の図
【図２９Ｄ】図２９Ｃに類似しているが、ＰＶモジュールの二つの近接列の間からみた図
【図２９Ｅ】図２９Ｂに類似しているが、ＰＶモジュールの二つの近接列の間からみた図
【図３０】ＰＶモジュールと隣接する空気デフレクタのオーバラップするエッジとの間の接合を示す拡大側面図、
【図３１】図２６Ｂの構造の一部の拡大側面図、
【図３２】拡張された側方空気デフレクタの使用を示す図３１に類似の図
【図３３】図２６Ｂのほぼ垂直な側方空気デフレクタに対する代替品としてのアングル側方空気デフレクタを示す端面図
【図３４】前記支持体がＰＶモジュールを支持するのみならずアクセスカートのためのトラックとしても作用する、本発明の別の態様によるＰＶ設備を示す図
【図３５】図３４の設備の一部の側面図と拡大側面図
【図３６】図３４の設備の一部の側面図と拡大側面図
【図３７】本発明に使用される別のＰＶモジュールである集光装置タイプのＰＶモジュールを示す図
【図１】
2007502925.tif 000003
【図２】
2007502925.tif 000004
【図３】
2007502925.tif 000005
【図４】
2007502925.tif 000006
【図５】
2007502925.tif 000007
【図６】
2007502925.tif 000008
【図７】
2007502925.tif 000009
【図８】
2007502925.tif 000010
【図９】
2007502925.tif 000011
【図１０】
2007502925.tif 000012
【図１１】
2007502925.tif 000013
【図１２】
2007502925.tif 000014
【図１３】
2007502925.tif 000015
【図１４】
2007502925.tif 000016
【図１５】
2007502925.tif 000017
【図１６】
2007502925.tif 000018
【図１７】
2007502925.tif 000019
【図１８】
2007502925.tif 000020
【図１９】
2007502925.tif 000021
【図２０】
2007502925.tif 000022
【図２１Ａ】
2007502925.tif 000023
【図２１Ｂ】
2007502925.tif 000024
【図２１Ｃ】
2007502925.tif 000025
【図２１Ｃ−１】
2007502925.tif 000026
【図２１Ｃ−２】
2007502925.tif 000027
【図２１Ｃ−３】
2007502925.tif 000028
【図２１Ｃ−４】
2007502925.tif 000029
【図２２Ａ】
2007502925.tif 000030
【図２２Ｂ】
2007502925.tif 000031
【図２２Ｃ】
2007502925.tif 000032
【図２２Ｄ】
2007502925.tif 000033
【図２２Ｅ】
2007502925.tif 000034
【図２２Ｆ】
2007502925.tif 000035
【図２３Ａ】
2007502925.tif 000036
【図２３Ｂ】
2007502925.tif 000037
【図２３Ｃ】
2007502925.tif 000038
【図２３Ｄ】
2007502925.tif 000039
【図２３Ｅ】
2007502925.tif 000040
【図２３Ｆ】
2007502925.tif 000041
【図２４Ａ】
2007502925.tif 000042
【図２４Ｂ】
2007502925.tif 000043
【図２５】
2007502925.tif 000044
【図２６】
2007502925.tif 000045
【図２６Ａ】
2007502925.tif 000046
【図２６Ｂ】
2007502925.tif 000047
【図２７】
2007502925.tif 000048
【図２８】
2007502925.tif 000049
【図２９】
2007502925.tif 000050
【図２９Ａ】
2007502925.tif 000051
【図２９Ｂ】
2007502925.tif 000052
【図２９Ｃ】
2007502925.tif 000053
【図２９Ｄ】
2007502925.tif 000054
【図２９Ｅ】
2007502925.tif 000055
【図３０】
2007502925.tif 000056
【図３１】
2007502925.tif 000057
【図３２】
2007502925.tif 000058
【図３３】
2007502925.tif 000059
【図３４】
2007502925.tif 000060
【図３５】
2007502925.tif 000061
【図３６】
2007502925.tif 000062
【図３７】
2007502925.tif 000063
【国際調査報告】
2007502925.tif 000064