(57)【要約】【課題】UVマスク、該マスクを作成するシステム及び方法、並びに画像プリントメディアを生成するための該マスクの使用方法を開示する。当該システムはIR感受性材料の層及びUV吸収材料の層で被覆された基体を有する供与体要素、並びに受容体要素を含む。IR放射線を用いた照射の際、IR感受性材料はそれ自体及びUV吸収材料有意な部分を、供与体要素から分離して、当該分離された材料を受容体要素に転写することができる。UVマスクを作成する方法は、IR放射線で供与体要素等を照射することを含む。使用方法は、UV感受性メディアの上にディジタルUVマスクをオーバーレイし、UVマスクを通してこのメディアをUV放射線に暴露し、そしてUV感受性メディアを現像することを含む。
2007512548.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体、
前記基体の少なくとも一部分を被覆するIR感受性転写材料の層、
前記IR感受性転写材料を被覆するUV吸収材料の層
を含み、前記IR感受性材料の層及びUV吸収材料の層が、少なくとも約1.0の合計UV吸収係数を有する供与体要素；並びに
受容体要素を含んで成るUV吸収パターンを作製するシステム。
【請求項２】
前記IR感受性転写材料が、
ヒドロキシル樹脂を含む結合剤、
フルオロカーボン添加剤、
赤外線吸収性カチオン染料、
下記式：
【化１】
2007512548.tif 000005
(式中、R1は、Ｈ、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基からなる群から選択され、R2及びR3は各々、独立してアルキル基又はアリール基であり、そしてR4はアリール基である)
で表される潜架橋剤、及び
分散性材料
を含み、そして
前記受容体要素がテクスチャーを有する表面を有する
請求項1に記載のシステム。
【請求項３】
請求項1に記載のシステムを用意し、
前記供与体要素を、ディジタル像様IRレーザー放射線に暴露し、次いで
IR感受性材料の層及びUV吸収材料の層のIRレーザーを照射された実質的にすべて部分を、前記供与体要素から前記受容体要素に転写すること
を含んで成るUVマスクの製造方法。
【請求項４】
ディジタル像様IRレーザー放射線が、IR感受性材料の層及びUV吸収材料の層に、ハーフトーンの画像パターンを生成する請求項3に記載の方法。
【請求項５】
ディジタル方式でUVマスクを生成し、
UV感受性フィルムを、前記UVマスクをUV放射線に暴露し、次いで
前記UV感受性フィルムを現像すること
を含んで成るプリント方法。
【請求項６】
前記ディジタル方式でUVマスクを生成するステップが、
基体、
基体の少なくとも一部分を被覆する転写材料の層であって、前記転写材料がIR感受性材料及びUV吸収材料の両者を含み、そして当該層のUV吸収係数が少なくとも約1.0である転写材料の層を含む供与体要素、及び
受容体要素
を含んで成るサーマルレーザー転写画像形成システムを用意し、
前記供与体要素を、ディジタル像様IRレーザー放射線に暴露すること
を含んで成る請求項5に記載のプリント方法。
【請求項７】
ディジタル方式でUVマスクを生成することが、
基体、
前記基体の少なくとも一部分を被覆するIR感受性転写材料の層、
前記IR感受性転写材料を被覆するUV吸収材料の層、
を含み、前記IR感受性材料の層及びUV吸収材料の層が、少なくとも約1.0の合計UV吸収係数を有する供与体要素；並びに
受容体要素を含んで成るサーマルレーザー転写画像形成システムを用意し、
前記供与体要素を、ディジタル像様IRレーザー放射線に暴露し、次いで
IR感受性材料の層及びUV吸収材料の層のIRレーザーを照射された実質的にすべて部分を、前記供与体要素から前記受容体要素に転写すること
を含んで成る請求項5に記載の方法。
【請求項８】
前記現像されたUV感受性フィルムが第一の色の画像を含み、前記方法が、第二の色のディジタル画像を生成し、次いでこれら二つの色を組み合わせることをさらに含む請求項5に記載の方法。
【請求項９】
前記現像されたUV感受性フィルムが第一の色の画像を含み、前記方法が、第二の色のディジタル画像を生成し、次いでこれら二つの色を組み合わせることをさらに含む請求項7に記載の方法。
【請求項１０】
第二の色のディジタル画像を作製することが、
基体、及び
前記基体の少なくとも一部分を被覆するIR感受性転写材料の層、及び
第二の色の着色材
を含む供与体要素、並びに
受容体要素
を含んで成るサーマルレーザー物質転写システムを用意し、
前記供与体要素を、像様IRレーザー放射線に暴露し、次いで
IR感受性転写材料の層のIRを照射された部分を、前記供与体要素から前記受容体要素に転写すること
を含んで成る請求項8に記載の方法。
【請求項１１】
第二の色がシアン、マゼンタ、イエロー及びブラックからなる群から選択され、そして第一の色がシアン、マゼンタ、イエロー又はブラック以外の色である請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも二つの重ね合わせたサブ画像で作成される画像を生成する方法であって、各サブ画像は異なる色を有しており、前記方法は、
ディジタル方式で制御されたレーザー源を使って、第一の色の着色材の層の少なくとも一部分を、第一供与体要素から第一受容体要素に転写させ、
前記第一受容体要素にUV感受性フィルムを重ね合わせ、
前記ディジタル方式で制御されタレーザー源又は別のディジタル方式で制御されたレーザー源を使って、UV吸収性サーマル供与体の層の少なくとも一部分を第二供与体要素から第二受容体に転写させ、
前記UV感受性フィルムを、第二供与体要素又は第二受容体要素を通してUV放射線に、像様暴露し、次いで
前記UV感受性フィルムを現像すること
を含んで成る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般にカラー印刷法に関する。より詳しく述べると、本発明は、レーザーで作製する紫外線(UV)マスク、カスタマイズされた色で印刷するのに特に有用なマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
プリプレス又はオフプレスの色校正は、印刷工程で作製される画像をシミュレートするプリンターで用いられる。プリプレス色校正システムとしては、オーバーレイ校正システム及び重ね刷り、又は単一シートのシステムを含む。オーバーレイ校正と重ね刷り校正の両者は、通常、「校了紙」として用いられる。コントラストプルーフは、印刷機印刷が行われるとき、校正された画像が、印刷工程で複製されるということを顧客に対してそのプリンターによって保証するとして役立つ。それ故、当該プリンターは、印刷機プリントによって再現される画像を最も正確に予想できる校正を得ることを望んでいる。カスタムカラーが印刷工程で採用されている場合は、正確な校正が特に必要である。
【０００３】
オーバーレイ校正の場合、各印刷色は、一般に、オーバーレイとして知られている別個の透明のシート又はフィルム上に分離される。オーバーレイ校正におけるオーバーレイの数は、その印刷工程で使用されるインクの数に、通常等しい。個々のオーバーレイが、位置を合わせて組み合わされオーバーレイ校正が作製され、これは適当なバックグランド(例えば、反射性の不透明な白色シート)に対する合成体と考えられ、印刷される画像の外観を予測する。オーバーレイ校正では、個々のオーバーレイは、分離可能なままであり、別個に又は重ね合わせて見ることができる。多数の商業用オーバーレイ校正システムが、Michael H.Bruno著「Principles of Color Proofing」,GAMA communications(Salem,New Hampshire 1986)に詳細に記載されており、特にChapter V「Off-Press Color Proofing System−Overlay」(pp133-146)を参照されたい。
【０００４】
各オーバーレイは、オーバーレイ校正フィルムから作製する。従来のオーバーレイ校正フィルムの構造は、基体及び着色された感光材料の層を含んでいる。画像複写工程で使用できる感光性校正フィルムは、グラフィックアーツ産業界ではよく知られている。校正フィルムは、通常、画像保持透明原稿（transparency)、例えば色分離透明原稿を通して放射線に暴露されて画像がその校正フィルムに複写される。像様暴露の後、感光層を現像して画像形成オーバーレイを作製できる。現像は、一般に、可溶性画像領域(例えば、ネガとして作用する透明原稿の暴露されていない領域)の洗い流し、はがしとり、着色材による調色又はこれらの方法の組み合わせによって実施される。
【０００５】
ディジタルカラー校正は、ラスタリングレーザービーム又はレーザービームのアレイを使って、着色物質を、「供与体」シートから「受容体」シートに直接転写することによって作製されている。特定のストックカラー、例えばシアン、マゼンタ、イエロー又はブラック(「CMYK」色システムとして一般に知られている)のインクの層で被覆されている供与体シートを、インクの側を間に置いて、受容体フィルムと並置する。そのインクは赤外線（「IR」)吸収材料を含有している。その供与体フィルムは、IR放射線のパターンに暴露される。
【０００６】
一般に、オーバーレイ校正フィルムは、工場で大量に製造されて前着色(pre-color)されている。したがってオーバーレイフィルムを製造する際、エンドユーザーは、一般に製造業者から入手できる前記ストックカラーに限定される。オーバーレイ校正フィルム材料を製造、保存、そして配達するコストのため、必然的に、限られた範囲内の色しか、製造業者から入手できない。製造業者によって用意された限られた範囲の色は、多くの目的に対して充分なものであるが、エンドユーザーは、色合わせが困難な色を正確にまねることができない。例えば、多くの蛍光色又はメタリック色は、標準のプロセスカラーのシアン、マゼンタ、イエロー又はブラックを使ってまねることは、事実上不可能である。標準のプロセスカラーで理論的に複写可能な色でさえ、作製された色の色調は、顧客の特定の用途に対して充分正確に一致していないことが多い。
【０００７】
カスタムカラーを含むオーバーレイ校正の製造方法は知られている。Matthewsらの米国特許第5,001,037号と同第5,122,437号には、少なくとも一つのプリカラーされたオーバーレイ画像及び少なくとも一つの調色された画像を含む多層で多色のオーバーレイ校正を製造する方法が報告されている。この方法には、着色されていない調色可能な感光性オーバーレイ要素を暴露し、その暴露されたオーバーレイ要素を現像し、次にその現像された感光性要素を、トナーを使って調色するステップを含んでいる。Gravesらの米国特許第5,232,814号は、非標準色の画像及び特に金属様画像を作製するのに使う色校正要素を報告している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本願に開示した発明は、従来の方法の欠点が実質的に無い放射線感受性のパターン形成組成物を処理する方法及びシステムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一般に、本発明は、ディジタルレーザーサーマル転写画像形成法によって紫外線(「UV」)マスクを製造するシステム及び方法を提供する。このシステムは、レーザーサーマル転写供与体要素及び受容体要素を有し、その供与体要素は、基体及びその基体の少なくとも一部分を被覆するコーティングを有し、そのコーティングは、IRレーザー放射線などの非UV放射線に像様暴露されたとき、コーティングの照射された部分を選択的に、基体から受容体要素に転写できるUV吸収性サーマル供与体を含んでいる。
【００１０】
上記方法はレーザーサーマル転写供与体要素及び受容体要素を選択することを含み、前記供与体要素は、基体及びその基体の少なくとも一部分を被覆するコーティングを有し、前記コーティングは、IRレーザー放射線などの非UV放射線に像様暴露されたとき、コーティングの照射された部分を選択的に、基体から受容体要素に転写できるUV吸収性サーマル供与体を含んでいる。この方法はさらに、その供与体要素を受容体要素と並置し、そのコーティングを充分な量の非UV放射線に暴露して、そのコーティングの照射された部分を受容体に転写させるステップを含んでいる。
【００１１】
また、本発明は、基体及びその基体の少なくとも一部分を被覆するコーティングを有するレーザーサーマル転写供与体を提供し、前記コーティングは、非UV放射線に像様暴露されたとき、コーティングの照射された部分を選択的に基体から分離できるUV吸収性サーマル供与体を含んでいる。
【００１２】
本発明は、少なくとも二つの重ね合わせたサブ画像で作成される画像を生成する方法を提供し、各サブ画像は異なる色を有している。一つの態様では、この方法は以下のステップを含んでいる。すなわち、(a)ディジタル方式で制御されたレーザー源を使って、第一の色の着色材の層の少なくとも一部分を、第一供与体要素から第一受容体要素に転写させ、(b)同じディジタル方式で制御されたレーザー源を使って、UV吸収性サーマル供与体の層の少なくとも一部分を第二供与体要素から第二受容体に転写させ、（ｃ）その第一受容体要素をUV感受性フィルムでオーバーレイし(例えば積層して)、(d)ステップ(b)の後に、そのUV感受性フィルムを、第二供与体要素を通してUV放射線に像様暴露し、次いで(e)そのUV感受性フィルムを現像するステップを含んでいる。ステップ(b)で得た第二受容体要素は、この受容体要素の画像の質とUV遮断特性が特定の用途の目的を達成するのに十分なものであれば、ステップ(d)でUVマスクとして使用することもできる。
【００１３】
本発明は、上記画像作製法で作製されたプリント画像も提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の他の目的と利点は、以下の詳細な説明を読みかつ図面を参照することによって明らかになるであろう。
【００１５】
本発明は、各種の変形を実施しかつ代替の形態を取ることができるが、その具体的な態様を、図面に示す実施例によって示し、本明細書で詳細に説明した。しかし、本明細書における具体的態様の説明は、本発明を、開示された特定の形態に限定するものではなく、一方、本発明は、本願の特許請求の範囲で定義される本発明の精神と範囲の中に含まれるすべての変形、均等物及び代替物を含むものである。
【００１６】
本発明の一つの態様の図1を見ると、ＵＶマスクを生成するシステム100は、基体112及びその基体112の少なくとも一部分を被覆するUV吸収コーティング114を有する供与体要素110を備えている。そのコーティング114はIR感受性転写材料とUV吸収材料の両者を有している。そのIR感受性転写材料は、レーザービーム140が照射されると、コーティング114の一部130を、供与体要素110から転写させる材料を含んでいる。部分130中のUV吸収材料の充分な比率の部分が供与体要素から除かれる限り、分離は100%完全である必要はない。
【００１７】
図示した態様では、システム100は、コーティング114のIRを照射された部分がIR放射線で軟化又は溶融して、受容体の基体120に接着するか又は他の方法で受容体の基体120に噴射されるレーザー誘導熱ハーフトーン画像形成法によって、転写を実施するように構成されている。一例として校正又はパターン形成プレートを作製する際に使用される特定のレーザー誘導物質転写システム及び方法は、UV吸収コーティング114を転写するように適応させることができる。IR感受性層自体が有意なUV吸収体であるかどうかに関わらず、UV吸収材料を前記コーティングに添加してもよい。あるいは、校正用の特定の着色材が、同時に、適当なUV吸収性能を有していれば、その場合、追加のUV吸収材料は必要でない。いずれにしろ、コーティング114のUV吸収成分は、IR感受性転写材料から実質的に独立しており、そのUV吸収性能は、コーティング114がIR放射線に暴露されることによって、実質的に劣化することはない。
【００１８】
比較的シャープなプロフィールを有する鮮明で概ね連続した(すなわちフェザリングなしの)端縁を有する離散ドット(discrete dot)の形状のハーフトーン画像を提供するレーザー誘導熱画像形成システム及び方法の一例が、米国特許第5,935,758号明細書に開示されている。なおこの特許は、本願と共に譲渡されており、引用することにより本明細書に組み入れる。特にこのようなシステムは、(a)ヒドロキシル樹脂を含有する結合剤、（ｂ）フルオロカーボン添加剤、(c)赤外線吸収性カチオン色素、(d)下記式：
【００１９】
【化１】
2007512548.tif 000003
【００２０】
(式中、R1はH、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基からなる群から選択され、R2及びR3は各々、独立してアルキル基又はアリール基であり、そしてR4はアリール基である)で表される潜架橋剤並びに(e)分散性材料を含む転写材料を被覆された基体を有する供与体要素を含んでいる。このシステムは、テクスチャを有する表面を有する受容体要素を含んでいる。
【００２１】
供与体用に適切な基体としては、例えばポリエチレンテレフタレート、フルオレンポリエステルポリマー類、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂類、ポリ塩化ビニルとそのコポリマー類、及び加水分解された酢酸セルロースと加水分解されていない酢酸セルロースなどのプラスティック製シート又はフィルムがある。基体は、対応する画像を受容体シートに熱転写するため、レーザー又はレーザーダイオードが発する画像形成放射線に対して充分透明でなければならない。供与体用に好ましい基体は、ポリエチレンテレフタレート製シートである。通常、ポリエチレンテレフタレートシートは、厚さが約20μm〜200μmである。必要であれば、基体は、続いて塗布するコーティングに対するその湿潤性と接着性とを改良するため表面処理を行ってもよい。このような表面処理としては、コロナ放電処理及び下塗り層もしくはリリース層の塗布がある。
【００２２】
受容体要素は透明又は半透明でもよい。適切な受容体としては、コート紙；金属(すなわち鋼鉄及びアルミニウム)；フィルムを形成する各種の合成ポリマーもしくは高分子ポリマー(付加重合ポリマー(例えば、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリイソブチレンのポリマー類及びコポリマー類)並びに直鎖縮合ポリマー（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンアジペート及びポリヘキサメチレンアジパミド/アジペート）)で構成されたフィルム又はプレートがある。不透明の受容体シートは、拡散反射又は鏡面反射を行うことができる。受容体要素は、結合剤又は転写される材料を接着しやすくする他の材料をコートしてもよい。
【００２３】
この場合のシステム100内のIR感受性材料及びUV吸収材料は、それぞれ別個の二つの層116と118で堆積されてUV吸収材料の層118は頂部に位置しているが、単一層内で組み合わせてもよい。図1に示すコーティング114の二層構造は、UV吸収材料を、供与体要素110から完全に転写するのに、単一層の場合より適切であるという利点がある。しかし、単一層でも、照射された材料の充分な部分が供与体要素から転写される場合は有効である。
【００２４】
コーティング114をIR放射線で像様暴露した後、コーティング114の照射された部分を供与体要素から持ち上げると、供与体要素110は、UVマスク、すなわちコーティング114が無傷のまま残っている場所がUV光を遮断するマスクになる。
【００２５】
先に述べたように、この場合のIRを照射された部分140は、受容体要素120に転写される。受容体要素120が実質的にUV透過性であれば、生成したシート150は、供与体要素110のUVネガである。特定の用途によって、受容体基体が必要である場合又は必要でない場合があり、受容体基体が必要な場合は異なるタイプの受容体要素120であってもよい。例えば、レーザーアブレーション法を使ってコーティング層を除く場合は、受容体要素は、画像を形成するには不要であるが、供与体要素110から転写される物質をとらえるのに利用できる。受容体要素が、供与体要素から、IR照射部分を除くために必要である場合は、受容体要素120の選択は、UVマスクの目的とするタイプによって決定される。すなわち、残っている供与体要素(通常、ネガマスク)がその後マスクとして使用できさえすれば、受容体要素の光学的特性などの特性は、受容体要素が、コーティング114のレーザー照射部分を供与体要素から、適切に除去する限り重要でない。対照的に、受容体要素がその後、UVマスク(一般に、ポジマスク)として利用できる場合は、基体は、コーティング114のIR照射部分を供与体要素から除く適切なリムーバーであることに加えてUV透過性でなければならない。供与体要素上のコーティング114の組成と構造は、一般により容易に制御されるので、UVマスクを供与体要素から生成し、受容体要素を廃棄又は再使用することが有利なことが多い。ディジタル画像形成を行う場合、ソース画像ファイルのコントラストをディジタル方式で反転させることによって、供与体でネガマスクをつくる設定を、ポジマスクをつくる設定に容易に変換できる。
【００２６】
元のコーティング114の層状構造は、必ずしもそうではないが、転写された部分130に保持される。UV吸収材料は、転写された部分130の実質的に全体にわたって充分な濃度で分散している。IRに暴露した部分130とIRに暴露していない部分がそれぞれ接着している基体112と120を明確に示すため、受容体の基体120を、コーティング114からいくらか距離をおいて図式的に示してある。転写法によって、マスクを製造する実際の方法では、受容体基体120は、コーティング114と密接させることができる。特定の方法では、実際には、受容体基体120とコーティング114の間には間隙があってもよい。例えば、一つの態様では、数マイクロメートルの間隙が、スペーサービーズで保持されている。
【００２７】
この用途で利用する場合、材料(114又は130、供与体又は受容体をマスクとして使うかどうかによる)のUV吸収性能は、コーティング材料を供与体要素から転写する前後の吸光度の差によって測定する。それは、より正確に示すと下記式:
【００２８】
Log(Io/Ic)‐log(Io/Is)    又は
Log(Is/Ic)
【００２９】
(式中、Ioは、マスクに当たるUV放射線の強度を示し、Icは、コーティングを有する領域を通過した後のUV放射線の強度を示し、そしてIsは、コーティングを除去された領域を通過した後のUV放射線の強度を示す)で表される。
【００３０】
コーティング材料のUV吸収性能は、その材料でパターンを形成されたマスクを通過するUV暴露量すなわち線量の有用な範囲に大きく影響する。材料のUV吸収特性を評価する場合、0%〜100%(5%ずつ増加)の範囲内の一連のハーフトーンのスクリーンティント(screen tint)を含む試験マスクを、UV感受性フィルムと接触させて配置する。次に、そのUV感受性フィルムを、一連の予め決定された線量のUV放射線のうちの一つにマスクを通して暴露し次いで現像する。そのUV暴露は数回実施し、各回、予め暴露されていないUV感受性フィルムの部分に、少なくとも一回の暴露ステップで他の暴露と異なる線量で実施する。各ステップは、線量を約40%増大し、これに対応して暴露されたフィルムの濃度は約15%増大する。UV暴露の有用な範囲すなわち暴露のラチチュ−ドはこの場合、UVに暴露され次いで現像されたフィルムが、少なくとも5%〜95%の間のティントの異なるシェードを維持している放射線線量ステップの回数と定義する。約3回のステップの暴露ラチチュードが、商業用途にとって、許容できる最小限のラチチュードであると、通常、考えられている。
【００３１】
本発明の別の具体的な態様では、UVマスクの製造法は、先に述べたような供与体要素と受容体要素とを、それら2基体の間にコーティング114を配置して互いに密着させるステップを含んでいる。次いで供与体要素を、ディジタル方式でパターン化された(又はコンピューターアドレス可能な)IR放射線に対し暴露する。このIR暴露は、ディジタル校正の際に通常使われるサーマルレーザーイメージャーを含めた適当なディジタルIR源で、ラスター化レーザービーム又はレーザー発光ダイオードのアレイが発するレーザービームのアレイによって実施できる。次に受容体をはがしとって、IR放射線に暴露されたコーティング114の部分を供与体要素から除く。その供与体又は受容体は、用途によってはUVマスクとして使用できる。
【００３２】
本発明の別の態様では、校正作成方法は、第一に、上記のようにIRでディジタルUVマスクを作製し、次いで特定色のUV感受性メディアを、前記UVマスクを通してUV放射線に暴露し、次にそのメディアを現像するステップを含んでいる。
【００３３】
本発明の別の態様では、多色校正を製造する方法は、先に述べたようなUV感受性メディア上に第一色の画像を作製し、レーザー誘導熱画像形成法で第二色のディジタル画像を少なくとも一つ作製し、次いでこれら第一色と第二色の画像を重ね合わせるステップを含んでいる。第一色は通常、カスタムカラーであり、そしてその他の単一もしくは複数の色は通常、ストックカラー、例えば、シアン、マゼンタ、イエロー及びブラックである。したがって、CMYK色システムで適切に表すことができるこれらの色は、周知の各種コンピューター・ツー・プルーフ技法（computer-to-proof technology）を使って、ディジタル方式で直接的に再現できる。特に、上記のレーザー誘導熱画像形成システムを使用できる。さらに、同じコンピューター・ツー・プルーフ装置とCYMK層製造方法を使って、従来のアナログ法で単一又は複数のカスタムカラーをプリントするのに必要なUVマスクをディジタル方式で製造できる。これらのCYMK色は、同じ受容体基体又は別個の受容体基体に転写し次いで位置を合わせて重ね合わすことができる。次に前記UV感受性メディアを前記CYMKシートに重ね合わせてから、UV放射線に暴露することができる。
【００３４】
本発明は、ハロゲン化銀フィルムをUVマスクに使用する用途に使用できる。例えば、校正に加えて印刷版も、本願に開示したシステムと方法で製造したUVマスクを使ってパターンを形成できる。本発明は、ＵＶマスクを作成するのに、従来の湿式化学写真法とは対照的に乾燥法の利点を提供できる。この乾燥法は、ストックカラー層を作製する同じサーマルレーザーイメージャーで実施することができ、そして引っかき傷や指紋由来の欠陥を余り起こさないので、ユーザーにとって一層好都合である。また本発明のUVマスクは、粘着性が低い。本発明は、少なくとも一つのカラー層のアナログプリント法も利用する。この特徴は、アナログプリント法の長い歴史によって非常に多種類のものを入手できるようになっているカスタムカラーをプリントするのに特に有用である。アナログUVプリント装置も広く利用できる。
【実施例】
【００３５】
例1
高密度(「HD」)イエローMatchprint Digital Halftone メディア(Kodak Polychrome Graphics, Norwalk, CT(「KPG」)を、Creo Trendsetter Spectrum サーマルレーザーイメージャー(Creo Inc., Vancouver, BC)内で通常の操作条件下で露光した。使用したディジタルファイルは5%ずつのステップの0%〜100%の範囲内の一連のスクリーンティントであった。露光工程中、HDイエローのサーマルレーザー照射部分は受容体フィルムに移動する。画像を形成した後、メディアはイメージャーから放出され、露光されたHDイエロー供与体は次のステップに使用される。受容体は廃棄されるか又は再使用される。
【００３６】
ディジタル方式で画像が形成されたHDイエロー供与体をマスクとして使って、Matchprint Commercial Base (KPG)に積層されているアナログのMatchprint Negative Magenta Proofing 材料 (KPG)と接触させて配置する。
【００３７】
次にこの集成体を真空フレーム内に置いた。減圧にして、供与体(ディジタルマスク)とアナログ受容体とを密着させた。そのメディアはUV光源に暴露されたメディアであった。一連の露光量が増加させた増分のところで得られるまで、この操作を繰り返した。次に、Matchprint III  Negative Proofing Developer(KPG)を使ってKPG2430プロセッサー(KPG)によって、Matchprint  Negative材料を処理する。次にそのマスクの暴露ラチチュードを前述したようにして確認した。マスクとしてHDイエローを使ったこの場合、有用な照射線量の範囲は4ステップであった。
【００３８】
例2
例1に記載したのと同じ方法を使って、High Density  Black Matchprint  Digital Halftone メディア(KPG)を、Creo Laser Imager内で暴露して、アナログMatchprint Proofing メディア用のUVマスク材料として使用した。許容できる暴露の範囲は約3ステップである。
【００３９】
例3
IR色素を含有するポリビニルブチラールの結合剤(Butvar B-76、Solutia,Inc.から入手できる)を使って、コーティングを第一層として作製した。さらに、強くUVを吸収する材料のUvinal 3050(BASF Corp.)を使って、前記色素/結合剤層の頂部に層を作製した。そのコーティングを例1と同様に暴露し、Matchprint Negative Proofing メディアを暴露するために使用した。有用な放射線線量の範囲は5ステップであった。
【００４０】
例4
Uvinal 3050のトップコーティングを有するＨＤブラック(KPG)のコーティングを作製して例1と同じ工程に使用した。得られたUVマスクを使って、Matchprint Negative Proofing メディアを暴露するために使用した。有用な放射線線量の範囲は4ステップであった。
【００４１】
例5
プラテンドラムの回転速度100rpm及びレーザー電力の設定16.5ワットで、White Approval供与体(KPG)を、Creo Trendsetter サーマルレーザーイメージャー内で暴露した。画像が形成された供与体を、例1に記載したようにアナログMatchprint Negative Proofing メディアを暴露する際にUVマスクとして使用した。有用な放射線線量の範囲は7ステップであった。
【００４２】
例6
Matchprint Digital halftone HiFi Orenge メディア(KPG)を、標準の操作条件下、Creo Trendsetter内で暴露して、例1と同様にUVマスクとして使用した。有用な放射線線量の範囲はゼロステップであった。すなわちそのマスクは、どんな暴露条件下でも容認できる画像を全くつくらなかった。
【００４３】
例7及び8
Approval Digital halftone system (KPG)由来のイエローとブラックのメディアを、Creo Trendsetter イメージャー内にて最大電力設定で暴露し、画像が形成された供与体材料をUVマスクとして使用した。両マクス共に、有用な放射線線量の範囲はゼロステップであった。
【００４４】
上記例で得た結果は、表I及び図2と3に示したように、画像が形成された供与体の350〜400nmの光の吸収量に関係付けることができる。一般に、吸収係数が高ければ高いほど有用な暴露ステップは大きくなる。吸収係数が約1.0より低いと、そのコーティングはUVマスクを作製するのに適していない。
【００４５】
【表１】
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【００４６】
適正な着色材及び/又はUV吸収剤含有着色材を使って、アナログシステムを暴露するのに充分なUV線量のラチチュードを提供するマスクを作成できる。
【００４７】
上記特定の実施態様は例示しているだけである。なぜなら、本発明は、変形することができ、本明細書での教示の特典を有している当業者に明らかな、異なっているが均等な方式で実施できるからである。さらに、本発明は、本願の特許請求の範囲に記載されていること以外に、本明細書に示されている構造又は設計の詳細に限定しようとするものではない。それ故、上記特定の実施態様は変更又は変形することができ、かような変更はすべて本発明の範囲と精神に含まれると考えられることは明らかである。したがって、本願で保護を求められているものは本願の特許請求の範囲に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】図１は、本発明の一つの態様のUVマスクを作成するシステムの断面図を概略的に示す図である。
【図２】図２は、市販されている各種のカラー供与体のUV吸収性の差の特性を示す図である。
【図３】図３は、市販のカラー供与体に、高UV吸収材料を添加することによって作成したＵＶ不透過供与体のUV吸収性の差を示す図である。吸収差は一般的に２．５〜３．５である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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