(57)【要約】  ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物を連続的に製造するための方法であって、この方法は以下の工程：ａ）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ混合物を得るための反応混合物に関しては均質であるａ３）による化合物の存在下で、少なくとも２つの官能基を含むａ１）による化合物を製造するために必要とされる官能基を有する２つの末端オレフィンを加える工程であって、該混合物は、ａ１）該２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、ａ２）該２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびにａ３）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物を含む、工程、ｂ）工程ａ）において得られる混合物を蒸留して、ｂ１）塔頂生成物としての、該２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、ならびにｂ２）以下のｂ２ａ〜ｂ２ｃを含む混合物：ｂ２ａ）該２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、ｂ２ｂ）該２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびにｂ２ｃ）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物を得る工程、ｃ）工程ｂ２）において得られる全体の混合物またはその一部を、工程ｃ）において供給される混合物ｂ２）中における成分ｂ２ｃ）に対する成分ｂ２ｂ）の重量比が保持物中よりも小さいように、浸透物および保持物を得るために半透膜によって分離する工程、ｄ）工程ｂ２）において得られる浸透物を部分的または完全に工程ａ）において循環する工程、ならびにｅ）ｃ）において部分的または完全に分離されなかった工程ｂ）において得られた混合物の一部を工程ａ）に循環する工程を含む。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物を連続的に製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に対して均質なａ３）による化合物の存在下で、少なくとも２つの官能基を含むａ１）による化合物を製造するために必要とされる官能基を有する２つの末端オレフィンを付加して、
ａ１）前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、
ａ２）前記２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ａ３）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物、を含む混合物を得る工程と、
ｂ）工程ａ）において得られる混合物を蒸留して、
ｂ１）塔頂生成物としての、前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物と、
ｂ２）以下のｂ２ａ〜ｂ２ｃを含む混合物、すなわち
ｂ２ａ）前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、
ｂ２ｂ）前記２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ｂ２ｃ）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に対して均質である化合物を含む混合物と、を得る工程、
ｃ）工程ｂ２）において得られる全体の混合物またはその一部を、工程ｃ）において供給される混合物ｂ２）中における成分ｂ２ｃ）に対する成分ｂ２ｂ）の重量比が保持物中よりも小さいように、浸透物および保持物を得るために半透膜によって分離する工程、
ｄ）工程ｃ）において得られる浸透物を部分的または完全に工程ａ）において循環する工程、及び
ｅ）ｃ）において部分的または完全に分離されなかった工程ｂ）において得られた混合物の一部を工程ａ）に循環する工程、
を含む方法。
【請求項２】
工程ａ）で得られた混合物中のａ１）による化合物が、飽和化合物を得るために工程ａ）と工程ｂ）との間で水素化される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用される末端オレフィンが、各々独立して式Ｈ2Ｃ＝ＣＨＲ1で示される２つのオレフィンであり、ここでＲ1がニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、またはカルボキサミド基である、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
工程ａ）における付加が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウム、ルテニウム、パラジウム、またはニッケルを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
工程ａ）における付加が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウムを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
工程ａ）とｂ）との間の水素化が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウム、ルテニウム、パラジウム、またはニッケルを含む、請求項２から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
工程ａ）とｂ）との間の水素化が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウムを含む、請求項２から５のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
工程ａ）における付加、および工程ａ）とｂ）との間の水素化における触媒として同じ化合物が使用される、請求項２から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
工程ａ）における付加、または水素化、またはその双方が触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、ロジウムを含み、かつ式［Ｌ1ＲｈＬ2Ｌ3Ｒ］+Ｘ-を有し、式中、
Ｌ1はアニオン性ペンタヘプトリガンドであり；
Ｌ2は非荷電２−電子供与体であり；
Ｌ3は非荷電２−電子供与体であり；
ＲはＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、およびＣ7〜Ｃ10アラルキルリガンドからなる群より選択され；
Ｘ-は非配位アニオンであり；
また式中Ｌ2、Ｌ3、およびＲの２つまたは３つが任意に結合される、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
Ｌ1がペンタメチルシクロペンタジエニルである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
Ｘ-がＢＦ4-、Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、Ａｌ（ＯＲF）4-からなる群より選択され、ここでＲFはそれぞれ同一であるかまたは異なる部分的にフッ化されているか、またはペルフルオロ化されている脂肪族基または芳香族基である、請求項９または１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
Ｌ2およびＬ3が各々独立して、Ｃ2Ｈ4、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ、Ｐ（ＯＭｅ）3、およびＭｅＯ2Ｃ−（Ｃ4Ｈ6）−ＣＯ2Ｍｅからなる群より選択される、請求項９から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
Ｌ2およびＬ3がともに、アクリロニトリルおよび５−シアノペンテンエステルからなる群より選択される、請求項９から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
Ｌ2およびＲがともに−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅである、請求項９から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
Ｌ2、Ｌ3、およびＲがともにＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅである、請求項９から１２または１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
工程ａ）における付加、または水素化、または両方が触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、ロジウムを含み、かつ
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ａｌ（ＯＲF）4-および
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
（式中ＲFは、同一であるかまたは異なる部分的にフッ化されているか、またはペルフルオロ化されている脂肪族基または芳香族基である）
からなる群より選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
水素化が１０〜２００００ｋＰａの範囲の部分水素圧で実行される、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
水素化が、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物の、平均滞留時間０．１〜１００時間の範囲の滞留により行われる、請求項１から１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
工程ａ）における付加において得られる混合物が、触媒として使用されるロジウム含有化合物を除去することなく、請求項１から１８のいずれかに記載されるように水素化に供給される、請求項２から１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
工程ｂ）における蒸留が、５０〜２００℃の範囲の温度で実行される、請求項１から１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
工程ｂ）における蒸留が、１〜４５分間の範囲の平均滞留時間で実行される、請求項１から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
工程ｂ）における蒸留が、０．５〜５００ｍｂａｒの範囲の圧力で実行される、請求項１から２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
膜が実質的に１種以上の有機物質または無機物質を含む、請求項１から２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
膜の平均孔径が無機膜の場合に０．９〜５０ｎｍの範囲である、請求項１から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
膜の平均分離限界が有機膜の場合に５００〜１０００００ダルトンの範囲である、請求項１から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
膜の浸透側の圧力に対する、膜の保持側の圧力の比率が２〜１００の範囲である、請求項１から２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
０．１〜１０ＭＰａの範囲の圧力が膜の保持側に適用される、請求項１から２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
１〜１０００ｋＰａの範囲の圧力が膜の浸透側に適用される、請求項１から２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
膜分離が０〜１５０℃の範囲の温度で実行される、請求項１から２８のいずれかに記載の方法。
【請求項３０】
工程ｂ）においてｂ１）として得られる成分が飽和化合物を得るために水素化される、請求項１から２９のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物を連続的に製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に対して均質なａ３）による化合物の存在下で、少なくとも２つの官能基を含むａ１）による化合物を製造するために必要とされる官能基を有する２つの末端オレフィンを付加して、
ａ１）前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、
ａ２）前記２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ａ３）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物、を含む混合物を得る工程と、
ｂ）工程ａ）において得られる混合物を蒸留して、
ｂ１）塔頂生成物としての、前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物と、
ｂ２）以下のｂ２ａ〜ｂ２ｃを含む混合物、すなわち
ｂ２ａ）前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、
ｂ２ｂ）前記２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ｂ２ｃ）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に対して均質である化合物を含む混合物と、を得る工程、
ｃ）工程ｂ２）において得られる全体の混合物またはその一部を、工程ｃ）において供給される混合物ｂ２）中における成分ｂ２ｃ）に対する成分ｂ２ｂ）の重量比が保持物中よりも小さいように、浸透物および保持物を得るために半透膜によって分離する工程、
ｄ）工程ｃ）において得られる浸透物を部分的または完全に工程ａ）において循環する工程、及び
ｅ）ｃ）において部分的または完全に分離されなかった工程ｂ）において得られた混合物の一部を工程ａ）に循環する工程、
を含む方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する多数の化合物は、大きな工業的な意義を有する。
【０００３】
例えば、アジピン酸およびその誘導体は、ナイロン−６またはナイロン−６，６などの工業的に重要なポリマーを調節するための重要な出発物質を構成する。
【０００４】
このような化合物は、例えば、少なくとも２つの官能基を含むモノオレフィン性不飽和化合物を製造するために必要である官能基を有する２つの末端オレフィンを付加することによって得られる。
【０００５】
例えば、ヘキセジオンジエステルは、例えば、適切な触媒系、特に、Ｊ．  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９８７，３２０，Ｃ５６，ＵＳ４，４５１，６６５，ＦＲ２，５２４，３４１，ＵＳ  ４，８８９，９４９，Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１９８６，５，１７５２，Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．１９９３，８５，１４９，ＵＳ  ４，５９４，４４７，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，１９８８，２７．１８５，ＵＳ３，０１３，０６６，ＵＳ４，６３８，０８４，ＥＰ−Ａ−４７５  ３８６，ＪＡＣＳ  １９９１，１１３，２７７７−２７７９，ＪＡＣＳ  １９９４，１１６，８０３８−８０６０に記載されるように、均質なロジウム含有触媒系の存在下でアクリルエステルを加えることによって調製可能である。
【０００６】
少なくとも２つの官能基を含むモノオレフィン性の不飽和化合物を製造するための官能基を有する２つの末端オレフィンのこのような付加は、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性の不飽和化合物を供給する。水素化は、このようなモノオレフィン性の不飽和化合物から、対応する飽和化合物が得られることを可能にする。
【０００７】
工業的に実行可能であり、かつ経済的に存続可能である方法のために、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物の調製を連続的に実行することが可能であることが所望される。先行技術はこのような技術を開示していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、技術的に単純であり、かつ経済的に存続可能である様式で、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物の連続的な調製を可能にする方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、この目的が冒頭に定義した方法によって達成されることを見い出した。
【００１０】
本発明の状況における触媒と呼ばれる構造は、触媒として使用される化合物に関する。特定の反応条件下で触媒的に活性な種の構造はそこから異なってもよいが、言及される用語「触媒」に含まれる。
【００１１】
本発明によれば、工程ａ）において、この付加反応のための触媒として適切であり、かつ混合物を得るための反応混合物に関しては均質であるａ３）による化合物の存在下で、少なくとも２つの官能基を含むａ１）による化合物を製造するために必要とされる官能基を有する２つの末端オレフィンを加えることにより行われる。該混合物は、
ａ１）該２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物
ａ２）該２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ａ３）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物を含む。
【００１２】
本発明において、化合物ａ１）は、単一種類の化合物またはこのような化合物の混合物をいう。
【００１３】
本発明において、化合物ａ２）は、単一種類の化合物またはこのような化合物の混合物をいう。
【００１４】
本発明において、化合物ａ３）は、単一種類の化合物またはこのような化合物の混合物をいう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
使用される末端オレフィンは、２つの同一であるかまたは異なる、好ましくは同一のオレフィンであり、これは、各々独立して式Ｈ2Ｃ＝ＣＨＲ1を有し、ここでＲ1がニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、またはカルボキサミド基であり、好ましくはカルボン酸エステル基、またはニトリル基である。
【００１６】
カルボン酸エステル基の場合において、有利な化合物は、脂肪族、芳香族、または複素環式芳香族のアルコール、特に脂肪族アルコールのエステルである。使用可能である脂肪族アルコールは、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ10アルカノール、特にＣ1〜Ｃ4アルカノールであり、例えば、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノールであり、より好ましくはメタノールである。
【００１７】
カルボキサミド基Ｎ−またはＮ，Ｎ−置換されてもよく、そしてＮ，Ｎ−置換は同一であっても異なっていてもよく、好ましくは同一である。有用な置換基は、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4基であり、例えば、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチルであり、より好ましくはメチルである。
【００１８】
有利な実施形態において、使用される官能基を有する末端オレフィンは、アクリル酸またはそのエステルであり得る。例えば、不均一な触媒の存在下でプロペンまたはプロパンの気相酸化によるアクリル酸の調製、および例えば、ｐ−トルエンスルホン酸などの均一な触媒の存在下での適切なアルコールとのアクリル酸のエステル化によるアクリルエステルの調製は、それ自体公知である。
【００１９】
アクリル酸が保存されるかまたは処理される場合、例えば、アクリル酸の重合または分解を妨害または減少する、１種以上の安定剤、例えば、ｐ−メトキシフェノールまたは４−ヒドロキシ−２，２，４，４−テトラメチルピペリジン  Ｎ−オキサイド（「４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯ」）を加えることが慣用的である。
【００２０】
このような安定剤は、アクリル酸またはそのエステルが付加工程において使用される前に、部分的または完全に除去可能である。安定剤は、それ自体公知である方法によって、例えば、蒸留、抽出、または結晶化によって除去可能である。
【００２１】
このような安定剤は、事前に使用された量がアクリル酸またはそのエステルに残っていてもよい。
【００２２】
このような安定剤は、付加反応の前にアクリル酸またはそのエステルに加えられてもよい。
【００２３】
異なるオレフィンが使用される場合、付加は代表的には異なる可能な付加生成物の混合物を生じる。
【００２４】
１種のオレフィンが使用される場合、この場合は代表的には二量体化と呼ばれる付加は、１種の付加生成物を生じる。経済的な理由のため、この代替が通常好ましい。
【００２５】
好ましい実施形態において、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物は、ヘキセンジオンエステル、特にジメチルヘキセンジオエートであり、アジピンジエステルを得るために、特に、水素化によるジメチルアジペートである。
【００２６】
アジピン酸はアジピンジエステル、特にジメチルアジペートから、エステル基の切断によって入手可能である。この目的のための有用な方法は、エステルを切断するための方法であり、それ自体公知である。
【００２７】
さらに好ましい実施形態において、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物は、水素化によってアジポニトリルを得るためのブテンジニトリルである。
【００２８】
さらに好ましい実施形態において、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物は、５−シアノバレリックエステルを得るための５−シアノペンテンエステル、特にメチル５−シアノペンテノエートである。
【００２９】
工程ａ）に従って混合物を得るための２つの末端オレフィンの言及した付加は、例えば、Ｊ．  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９８７，３２０，Ｃ５６，ＵＳ４，４５１，６６５，ＦＲ２，５２４，３４１，ＵＳ４，８８９，９４９，Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１９８６，５，１７５２，Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．１９９３，８５，１４９，ＵＳ４，５９４，４４７，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，１９８８，２７．１８５，ＵＳ３，０１３，０６６，ＵＳ４，６３８，０８４，ＥＰ−Ａ−４７５  ３８６，ＪＡＣＳ  １９９１，１１３，２７７７−２７７９，ＪＡＣＳ  １９９４，１１６，８０３８−８０６０において記載されているように、それ自体公知である方法によってもたらされることが可能である。
【００３０】
付加反応は、部分的または完全であり得る。従って、部分的転換の場合、反応混合物は、未転換のオレフィンを含んでもよい。
【００３１】
付加反応は、水素の存在下で有利に実行され得る。０．１〜４ＭＰａの範囲の水素圧が有利であることが見い出されている。
【００３２】
付加は、触媒として、反応混合物に関して均質であり、かつロジウム、ルテニウム、パラジウム、またはニッケルを含む化合物の存在下で、有利に実行され得る。
【００３３】
好ましい実施形態において、工程ａ）において得られる混合物は、飽和化合物を得るために、工程ａ）と工程ｂ）の間で水素化され得る。
【００３４】
水素化は、触媒として、反応混合物に関して不均一である物質の存在下で有利に実行され得る。
【００３５】
有用な不均一な触媒は、好ましくは、その触媒成分が元素の周期表の第８族の貴金属、例えば、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、白金、ニッケル、コバルト、銅、好ましくはパラジウムであるものである。
【００３６】
これらの金属は、好ましくは、ニッケルまたはコバルトの場合において、支持されていない形態、例えば、懸濁触媒で使用され得る。
【００３７】
これらの金属は、支持された形態、例えば、活性炭、金属酸化物、遷移金属酸化物の上で、例えば、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素上で、好ましくは固定ベッド触媒として使用され得る。
【００３８】
水素化は、触媒として、反応混合物に関して均質であり、かつロジウム、ルテニウム、パラジウム、またはニッケル、好ましくはロジウムを含む化合物の存在下で有利に実行され得る。
【００３９】
好ましい実施形態において、工程ａ）は、反応混合物に関して均質であり、かつロジウムを含む、工程ａ）において得られる混合物のこの水素化と同じ、触媒としての化合物の存在下で実行され得る。
【００４０】
特に好ましい実施形態において、工程ａ）において得られる混合物のこの水素化は、工程ａ）において使用される均質なロジウム含有化合物を除去または枯渇させることなく実行され得る。
【００４１】
この手順は、先行技術と比較して、大きな利点がある。なぜなら、言及した付加反応において得られる反応廃液の作業が必要とされないからである。特に好ましい実施形態において、工程ａ）において得られる混合物は、この水素化に対する作業工程なしで移動されることができる。
【００４２】
これは、例えば、工程ａ）において得られる混合物を、反応装置から、水素化のために意図されるさらなる装置に移動させることによって、すなわち、工程ａ）および水素化の空間的分離によってもたらされ得る。例えば、工程ａ）は、攪拌タンク、攪拌タンクバッテリー、またはフローチューブなどのリアクター中で、または水素化のために適切であるさらなるリアクターとの、これらのリアクター型の１つの組み合わせで、実行され得る。
【００４３】
これは、例えば、同じ装置中で工程ａ）および水素化を連続的に実行すること、すなわち、工程ａ）および水素化の時間的的分離によってもたらされ得る。
【００４４】
好ましくは、工程ａ）における付加、または水素化、または両方が触媒としての化合物の存在下で実行され、該化合物は反応混合物に関して均質であり、ロジウムを含み、かつ式［Ｌ1ＲｈＬ2Ｌ3Ｒ］+Ｘ-を有し、ここで、
Ｌ1はアニオン性ペンタヘプトリガンド、好ましくはペンタメチルシクロペンタジエニルであり；
Ｌ2は非荷電２−電子供与体であり；
Ｌ3は非荷電２−電子供与体であり；
ＲはＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、およびＣ7〜Ｃ10アラルキルリガンドからなる群より選択され；
Ｘ-は非配位アニオン、好ましくはＢＦ4-、Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、Ａｌ（ＯＲF）4-からなる群より選択され、ここでＲFが同一であるかまたは異なる、部分がフッ化されているか、またはペルフルオロ化されている脂肪族基または芳香族基であり、特にペルフルオロイソプロピルまたはペルフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチルであり；
ここでＬ2、Ｌ3、およびＲの２つまたは３つが任意に結合される。
【００４５】
好ましい実施形態において、Ｌ2およびＬ3が各々独立して、Ｃ2Ｈ4、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ、Ｐ（ＯＭｅ）3、およびＭｅＯ2Ｃ−（Ｃ4Ｈ6）−ＣＯ2Ｍｅからなる群より選択され得る。
【００４６】
さらに好ましい実施形態において、Ｌ2およびＬ3がともに結合され得る。この場合、Ｌ2およびＬ3はともに、特にアクリロニトリルおよび５−シアノペンテンエステルであり得る。
【００４７】
さらに好ましい実施形態において、Ｌ2およびＲがともに結合され得る。この場合、Ｌ2およびＲはともに、特に−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅであり得る。
【００４８】
さらに好ましい実施形態において、Ｌ2、Ｌ3、およびＲがともに結合され得る。この場合、Ｌ2、Ｌ3、およびＲはともに、特にともにＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅであり得る。
【００４９】
特に好ましい実施形態において、工程ａ）における付加、または水素化、または両方が触媒としての化合物の存在下で実行され、該化合物は反応混合物に関して均質であり、ロジウムを含み、かつ以下からなる群より選択される：
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、および
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ａｌ（ＯＲF）4-および
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
ここでＲFは、同一であるかまたは異なる、一部がフッ化されているか、またはペルフルオロ化されている脂肪族基または芳香族基、特にペルフルオロイソプロピルまたはペルフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチルである。
【００５０】
このような触媒およびそれらの調製物は、例えば、ＥＰ−Ａ−４７５  ３８６，ＪＡＣＳ  １９９１，１１３，２７７７−２７７９，ＪＡＣＳ  １９９４，１１６，８０３８−８０６０に記載されるように、それ自体公知である方法によってもたらされ得る。
【００５１】
水素化は、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物が、言及された官能基を得るための飽和化合物に転換されるような方法で実行され得る。この水素化は、０．０１〜２０ＭＰａの範囲の水素分圧で有利に実行され得る。水素化において、０．１〜１００時間の範囲である、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物の平均滞留時間が有利であることが見い出された。さらに水素化のための有用な温度は、好ましくは、３０℃〜１６０℃の範囲である。
【００５２】
水素化は、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物が、少なくとも１つ、好ましくはすべての、言及された官能基より好ましくは、カルボン酸基およびカルボン酸エステル基から選択される１つ以上の基、特にカルボン酸エステル基の水素化、特に、構造−ＣＨ2ＯＨの１つ以上の基への言及された基の転換を用いて、飽和化合物に転換されるような方法で実行され得る。この水素化は、有利には、１０〜３０ＭＰａの範囲の水素分圧で実行され得る。水素化において、０．１〜１００時間の範囲である、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物の平均滞留時間が有利であることが見い出された。さらに、水素化のために有用な温度は、好ましくは２００℃〜３５０℃の範囲である。
【００５３】
工程ａ）とｂ）との間の水素化の利点は、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物の少なくとも０．５％、好ましくは少なくとも１％、特に少なくとも５％が、同じ少なくとも２つの官能基を有する飽和化合物に水素化される場合に、特に明らかになる。
【００５４】
本発明に従って、任意に工程ａ）と工程ｂ）の間の水素化後の工程ａ）において得られる混合物は、工程ｂ）に供給され、ここでこの混合物は以下を得るために蒸留される：
ｂ１）塔頂生成物としての、該２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、ならびに
ｂ２）以下のｂ２ａ〜ｂ２ｃを含む混合物：
ｂ２ａ）該２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物
ｂ２ｂ）該２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ｂ２ｃ）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物。
【００５５】
工程ｂ）における蒸留は、５０〜２００℃、好ましくは６０〜１６０℃、特に７０〜１５０℃の範囲の底部温度で有利に実行され得る。
【００５６】
この場合、蒸留装置の底部で測定される有用な圧力は、０．０５〜５０ｋＰａ、好ましくは０．１〜１０ｋＰａ、特に０．２〜６ｋＰａの範囲である。
【００５７】
１〜４５分間、好ましくは５〜３５分間、特に１０〜２５分間の範囲の平均滞留時間が有利であることが見い出された。
【００５８】
蒸留のために有用な装置は、例えば、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第３版、第７巻、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９７９、８７０−８８１頁において記載されるような、この目的のために慣用的である装置であり、例えば、シーブトレイカラム、バブルキャップトレイカラム、構造的またはランダムパッキングを有するカラム、デュアル−フロートレイカラム、バブルトレイカラムまたは１段階エバポレーター、例えば、フォーリングフィルムエバポレーター、薄膜エバポレーターまたはフラッシュエバポレーターである。
【００５９】
蒸留は、複数の、例えば、２個または３個の装置において、有利には単一の装置において実行され得る。
【００６０】
塔頂生成物ｂ１）として得られる成分は、所望されるように、作業され得るし、またはそれ自体公知である方法によってさらに処理され得る。
【００６１】
得られる上端の化合物が不飽和化合物である場合、それ自体公知である方法によって飽和化合物に水素化され得る。例えば、不飽和ジカルボン酸またはそのエステル（例えば、ジエステル）、例えば、ブテンジカルボン酸またはそのモノ−もしくはジエステルが、対応する飽和ジカルボン酸、またはそのエステル（例えば、ジエステル）、例えば、アジピン酸またはそのモノもしくはジエステルに、あるいは対応する、特に飽和アルコール、例えばヘキサン−１，６−ジオールに転換され得る。
【００６２】
得られる塔頂生成物ｂ１）がアジピンジエステルまたはブテンジカルボキシルジエステルなどのジエステルであった場合、これは、末端が不飽和のカルボン酸（例えば、アクリル酸）と有利に反応されて、ジカルボン酸（例えば、ブテンジカルボン酸またはアジピン酸）、および末端が不飽和のカルボン酸の対応するエステルを得てもよい。このような方法は、例えば、独国特許出願第１０２４０７８１．９号において記載されている。
【００６３】
本発明に従って、工程ｂ２）において得られる混合物は、工程ｃ）において供給される混合物ｂ２）中における成分ｂ２ｃ）に対する成分ｂ２ｂ）の重量比が保持物中よりも小さいように、浸透物および保持物を得るために半透膜によって、工程ｃ）において分離される。
【００６４】
有用な半透膜は、好ましくは、成分ｂ２ｂ）についてよりも、成分ｂ２ｃ）についてより高い浸透性を有するものである。
【００６５】
さらに、有用な半透膜は、好ましくは、成分ｂ２ｂ）についてよりも、成分ｂ２ａ）についてより高い浸透性を有するものである。
【００６６】
半透膜の分離層は、特に、有機ポリマー、セラミック材料、金属、および炭素、またはそれらの組み合わせからなる群より選択される、１種以上の有機物質または無機物質を含む。これは、濾過温度において、供給媒体中で安定であるべきである。
【００６７】
有用なセラミックスは、好ましくは、α−酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、二酸化チタン、炭化ケイ素、または混合セラミック材料である。
【００６８】
使用される有機ポリマーは、有利には、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデン、ジフルオリド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、再生セルロース、またはシリコーンであり得る。
【００６９】
機械的な理由により、分離層は、一般的には、分離層に対して同じかまたは異なる物質から作られる単層または多層の多孔性下部構造に適用される。下部層は、一般的には、分離層よりも粗い孔を有する。有利な物質の組み合わせの例は、以下の表に列挙される：
【００７０】
2007509029.tif 000002
【００７１】
膜の平均孔径は、無機膜の場合においては、有利には、０．９〜５０ｎｍ、特に３〜２０ｎｍの範囲であるべきである。分離限界は、有機膜の場合においては、好ましくは、５００〜１０００００ダルトンの範囲、特に２０００〜４００００ダルトンの範囲であるべきである。
【００７２】
膜は種々のジオメトリー、例えば、平面、複数溝エレメント、キャピラリーまたはコイルのジオメトリーにおいて使用してもよく、保持物と透過物との間の分離を可能にする適切な圧力ケーシングが利用可能である。
【００７３】
最適な膜浸透圧力は、膜孔の直径、ケーキ層蓄積に影響を与える流体力学的条件、および濾過温度における膜の機械的安定性に実質的に依存する。
【００７４】
好ましい実施形態において、膜浸透圧力は、０．０２〜１０ＭＰａ、特に０．１〜６ＭＰａの範囲であり得る。
【００７５】
膜の浸透側での圧力に対する保持側での圧力の比は、好ましくは、２〜１００の範囲であり得る。
【００７６】
保持側において、０．１〜１０ＭＰａの範囲の圧力が有利に適用され得る。
【００７７】
浸透側において、１〜１０００ＭＰａの範囲の圧力が有利に適用され得る。
【００７８】
膜分離は、特に、０〜１５０℃の範囲の温度で実行され得る。
【００７９】
浸透流の明確な減少をもたらす成分ｂ）のケーキ層の顕著な蓄積を妨害するために、特に、０．１〜１０ｍ／ｓの範囲での膜と懸濁物との間の相対速度を生成するための、ポンプを用いる循環、膜の機械的な移動、または膜の間の攪拌装置が有用であることが見い出された。
【００８０】
浸透流は、有利には、１〜５０ｋｇ／ｍ2／ｈの範囲であるべきである。
【００８１】
膜分離は、例えば、一連の連結された１つ以上の膜分離ステージを通る、１回の通過によって連続的にもたらされ得る。
【００８２】
膜分離は、例えば、膜モジュールを通した複数の通過によって、不連続であり得る。
【００８３】
膜分離において、補助成分が使用され得る。この状況において、特に、成分ａ）またはｂ１）が浸透物として除去された程度まで、成分ａ）またはｂ１）の使用が有利であることが見い出された。
【００８４】
次いで、成分ａ）またはｂ１）は、それ自体公知である方法、例えば、蒸留、抽出、膜分離によって、好ましくは蒸留によって保持物から除去されてもよい。
【００８５】
工程ｂ）についてすでに記載されたパラメーターおよび装置がこの目的のために有用である。
【００８６】
好ましい実施形態において、本発明による方法において得られる浸透物は、工程ａ）に、部分的または完全に循環されてもよい。
【００８７】
さらなる好ましい実施形態において、本発明に従って蒸留において得られる混合物ｂ２）は、本発明による膜分離に、部分的にまたは完全に供給されてもよい。従って得られ、かつ本発明による膜分離に供給されない下部流は、工程ａ）に部分的にまたは完全に、好ましくは完全に循環されてもよい。
【実施例】
【００８８】
（定義）
膜浸透圧：
ＴＭＰ＝（（Ｐモジュール入口＋Ｐモジュール出口）／２）−Ｐ浸透
ダイアフィルトレーションにおける溶媒交換係数：
ＭＡ＝ダイアフィルトレーション剤付加（Ｋｇ）／システム容量（ｋｇ）
【００８９】
（実施例１）
官能基化オレフィンの二量体化、均質な触媒の蒸留除去、および膜分離による高沸点物質の除去
７５０ｍｌの容量を有する攪拌ガラスオートクレーブおよび４００ｍｌの容量を有する攪拌ガラスオートクレーブを、それぞれリアクターＲ１およびＲ２として、連続して連結する。ポンプＰ１の補助を用いて、ＭＡを第１のオートクレーブの反応物質として供給する。この供給は、浸漬パイプを介して、Ｒ１の液体空間までである。水素を、同様にこのラインを介して、質量流レギュレーターＦ１を使用してガス状で導入する。Ｒ１のレベルは、第２の浸漬パイプを使用して調整し、これはＲ２へのオーバーフローとして働く。ガス状水素は、質量流レギュレーターＦ２を介して、Ｒ２へのオーバーフローラインまで同様に計量される。Ｒ２への供給は、浸漬パイプを介してＲ２に同様に導入され、Ｒ２からの流出物は、さらなる浸漬パイプを通して、Ｒｅｃｏからの圧力調節バルブを使用して、０．０４６ｍ2のエバポレーター表面積を有する薄層エバポレーターに導かれる。このエバポレーターは、真空ユニットを使用して、所定の圧力まで調整される。このエバポレーターは、オイルバスＷ１を使用して加熱される。Ｗ１の温度は、薄層エバポレーターのランオフベッセル中のレベルを制御するために使用される。このベッセルから、ポンプＰ２がエバポレーターを通してサイクル流を搬送し、そしてさらなるポンプＰ３が、このサイクルからの循環流をリアクターＲ１に搬送する。この循環流は、同様に、ＭＡ供給がまたそこから計量される浸漬パイプを通して導入される。ポンプＰ１およびＰ３は、同様に、単位時間あたりに同じ体積を搬送する。エバポレーターの蒸気流は、強力な冷却器を通して導かれ、そこで濃縮される。この濃縮物は、次には収集される（流出物）。これらの条件下で濃縮されない成分は、大気圧下での濃縮に供せられ、冷却トラップ中で収集される。
【００９０】
（連続的二量体化および触媒除去の操作：）
実験の開始時に、リアクターに、Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2および化学量論量のＨＢＡｒF4を含む溶液、およびまたＨＤＭＥ中の２５０ｐｐｍのＰＴＺを充填する。均一な混合を達成するために、反応混合物を、最初に、室温で約２０時間循環する。その後、薄層エバポレーターを、１００℃の開始温度にあらかじめ加熱する。次いで、水素流およびＭＡ供給（１２０ｍ／ｈ、ＰＴＺの重量で１００ｐｐｍを含む）を開始し、リアクターを７０℃に加熱し、そしてエバポレーターを減圧下で操作する。
【００９１】
定常状態において、１９０ｐｐｍのロジウム濃度がＲ１について測定される。１８時間の代表的な評価期間において、以下の結果が得られる：
供給  ２２６４ｇ
冷却トラップ  ２２２ｇ（８１％  ＭＡ）
溶出液  ２０３６ｇ（９５％  不飽和直鎖状ジエステル、４％  ＭＡ、約０．５％  ＤＭＡ）
【００９２】
一連の評価後、触媒回路中の高沸点物質の割合が増加する。それゆえに、循環流の一部が放出し、３００２．６ｇの総重量まで、ＭＡで希釈される。溶液の組成は以下のように特徴付けられる：
Ｒｈ：  １６ｐｐｍ
高沸点物質  ６５ｇ／ｋｇ（残渣測定：２５０℃における真空中でのエバポレーション）
溶液を、実施例４において詳細に記載される連続的膜濾過に供する。
【００９３】
実施例４のＭＡ−およびロジウム触媒−含有浸透物は、二量体化のための連続プラントにおける供給物として直接的に使用可能であり、従って、触媒を循環することは、ポリマーの同時除去を用いて達成可能である。
【００９４】
（実施例２）
ロジウム触媒を用いる生成物のＣ−Ｃ二重結合の水素化を伴う官能基化オレフィンの二量体化、および均質な触媒の蒸留除去、および膜分離による高沸点物質の除去
Ｒ１への供給は計量されず、Ｒ２への供給が計量されること以外は、実施例１に記載されるのと同様の実験装置を使用する。
【００９５】
実験の開始時に、リアクターに、Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2および化学量論量のＨＢＡｒF4を含む溶液、およびまたＨＤＭＥ中の２５０ｐｐｍのＰＴＺを充填する。均一な混合を達成するために、反応混合物を、最初に、室温で約２０時間循環する。その後、薄層エバポレーターを、１００℃の開始温度にあらかじめ加熱する。次いで、水素流およびＭＡ供給（１２０ｍ／ｈ、ＰＴＺの重量で１００ｐｐｍを含む）を開始し、リアクターを７０℃に加熱し、そしてエバポレーターを減圧下で操作する。本実施例における水素は５０ｐｐｍのＯ2を含む。
【００９６】
数日後、定常状態が達成された。１８時間の代表的な評価期間において、以下の結果が得られる：
Ｒｈ濃縮Ｒ１：１７５ｐｐｍ
Ｒｈ濃縮Ｒ２：１１０ｐｐｍ
供給  ７２５ｇ
冷却トラップ  ３８３ｇ（９９％  ＭＡ）
溶出液  ２８４ｇ（６３％  不飽和直鎖状ジエステル、２０％  ＤＭＡ、１７％  ＭＡ）
形成したポリマーは実施例３−５に記載されるように除去可能である。
【００９７】
（実施例３〜５（膜濾過））
均質に溶解されたロジウム触媒の高沸点化合物からの除去
実験のために、３ｌの最小保持量を有するサーモスタット制御可能な循環装置を使用した。
【００９８】
回路において、リザーバー、圧力生成および膜を通過する流れのためのポンプ、温度を維持するための熱交換器、組み込まれたセラミック管状膜を有する膜モジュール、および圧力維持バルブが統合された。浸透ランオフは、大気圧下であった。プラントの保持を一定に維持するためにレベル制御を使用することが可能であった（ダイアフィルトレーションモード）。装置のすべてのリザーバーを窒素で不活性化した。使用したセラミック管状膜（Ｉｎｏｃｅｒｍｉｃ  ＧｍｂＨより）は、１０ｍｍの外径、７ｍｍの内径、および１０００ｍｍの長さを有した。支持エレメントはＡｌ2Ｏ3からなり、内部に５ｎｍ孔のＴｉＯ2を含む分離層を供給した。膜への流れは内部からであり、浸透液が外側に移動した。
【００９９】
（一般的実験の説明）
３ｋｇの蒸留底部を循環ベッセルに導入し、次いで、ポンプを、浸透路を閉鎖して開始し、そして膜の上流の圧力、横断流速、および温度を、所望の値に設定した。温度は４０℃であり、横断流速は膜チューブ中で４ｍ／ｓであった。次いで、浸透路を解放し、ダイアフィルトレーション媒体の供給を活性化した。特定の浸透物の除去および等しいダイアフィルトレーション媒体の供給の後、実験を終了した。次いで、保持物の使用、保持物の放出、および混合浸透物を、高沸点物質（ポリマー）および触媒に関して分析した。
【０１００】
以下に続く表は、連続的膜濾過の結果を含み、これらのパラメーターは上記に記載されている。実施例４は、実施例１からの下部流の膜濾過を記載する。
【０１０１】
【表１】
2007509029.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月25日(2005.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物を連続的に調製するための方法であって、以下の工程：
ａ）付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に対して均質なａ３）による化合物の存在下で、少なくとも２つの官能基を含むａ１）による化合物を調製するために必要とされる官能基を有する２つの末端オレフィンを付加して、
ａ１）前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、
ａ２）前記２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ａ３）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に関して均質である化合物、を含む混合物を得る工程と、
ｂ）工程ａ）において得られる混合物を蒸留して、
ｂ１）塔頂生成物としての、前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物と、
ｂ２）以下のｂ２ａ〜ｂ２ｃを含む混合物、すなわち
ｂ２ａ）前記２つの末端オレフィンのモノ付加によって得られ、かつニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有する化合物、
ｂ２ｂ）前記２つの末端オレフィンのポリ付加によって得られる化合物、ならびに
ｂ２ｃ）この付加反応のための触媒として適切であり、かつ反応混合物に対して均質である化合物を含む混合物と、を得る工程、
ｃ）工程ｂ２）において得られる全体の混合物またはその一部を、工程ｃ）において供給される混合物ｂ２）中における成分ｂ２ｃ）に対する成分ｂ２ｂ）の重量比が保持物中よりも小さいように、浸透物および保持物を得るために半透膜によって分離する工程、
ｄ）工程ｃ）において得られる浸透物を部分的または完全に工程ａ）において循環する工程、及び
ｅ）ｃ）において部分的または完全に分離されなかった工程ｂ）において得られた混合物の一部を工程ａ）に循環する工程、
を含み、使用する末端オレフィンが、それぞれ独立に式Ｈ2Ｃ＝ＣＨＲ1により示され、Ｒ1が二トリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基又はカルボキサミド基を意味する２個のオレフィンである、製造方法。
【請求項２】
工程ａ）で得られた混合物中のａ１）による化合物が、飽和化合物を得るために工程ａ）と工程ｂ）との間で水素化される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程ａ）における付加が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウム、ルテニウム、パラジウム、またはニッケルを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
工程ａ）における付加が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウムを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
工程ａ）とｂ）との間の水素化が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウム、ルテニウム、パラジウム、またはニッケルを含む、請求項２から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
工程ａ）とｂ）との間の水素化が、触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、かつロジウムを含む、請求項２から４のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
工程ａ）における付加、および工程ａ）とｂ）との間の水素化における触媒として同じ化合物が使用される、請求項２から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
工程ａ）における付加、または水素化、またはその双方が触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、ロジウムを含み、かつ式［Ｌ1ＲｈＬ2Ｌ3Ｒ］+Ｘ-を有し、式中、
Ｌ1はアニオン性ペンタヘプトリガンドであり；
Ｌ2は非荷電２−電子供与体であり；
Ｌ3は非荷電２−電子供与体であり；
ＲはＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、およびＣ7〜Ｃ10アラルキルリガンドからなる群より選択され；
Ｘ-は非配位アニオンであり；
また式中Ｌ2、Ｌ3、およびＲの２つまたは３つが任意に結合される、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
Ｌ1がペンタメチルシクロペンタジエニルである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
Ｘ-がＢＦ4-、Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、Ａｌ（ＯＲF）4-からなる群より選択され、ここでＲFはそれぞれ同一であるかまたは異なる部分的にフッ化されているか、またはペルフルオロ化されている脂肪族基または芳香族基である、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
Ｌ2およびＬ3が各々独立して、Ｃ2Ｈ4、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ、Ｐ（ＯＭｅ）3、およびＭｅＯ2Ｃ−（Ｃ4Ｈ6）−ＣＯ2Ｍｅからなる群より選択される、請求項８から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
Ｌ2およびＬ3がともに、アクリロニトリルおよび５−シアノペンテンエステルからなる群より選択される、請求項８から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
Ｌ2およびＲがともに−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅである、請求項８から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
Ｌ2、Ｌ3、およびＲがともにＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅである、請求項８から１１または１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
工程ａ）における付加、または水素化、または両方が触媒としての化合物の存在下で実行され、前記化合物は反応混合物に関して均質であり、ロジウムを含み、かつ
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+ＢＦ4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ｂ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ｂ（ペルフルオロフェニル）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｃ2Ｈ4）2Ｈ］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（Ｐ（ＯＭｅ）3）（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2Ｍｅ）（Ｍｅ）］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
［Ｃｐ*Ｒｈ（−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＯ2Ｍｅ）（Ｐ（ＯＭｅ）3）］+Ａｌ（ＯＲF）4-および
［Ｃｐ*Ｒｈ（ＭｅＯ2Ｃ（ＣＨ2）2−（ＣＨ−）−（ＣＨ2）ＣＯ2Ｍｅ）］+Ａｌ（ＯＲF）4-、
（式中ＲFは、同一であるかまたは異なる部分的にフッ化されているか、またはペルフルオロ化されている脂肪族基または芳香族基である）
からなる群より選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
水素化が１０〜２００００ｋＰａの範囲の部分水素圧で実行される、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
水素化が、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、およびカルボキサミド基からなる群より各々独立して選択される少なくとも２つの官能基を有するモノオレフィン性不飽和化合物の、平均滞留時間０．１〜１００時間の範囲の滞留により行われる、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
工程ａ）における付加において得られる混合物が、触媒として使用されるロジウム含有化合物を除去することなく、請求項１から１７のいずれかに記載されるように水素化に供給される、請求項１から１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
工程ｂ）における蒸留が、５０〜２００℃の範囲の温度で実行される、請求項１から１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
工程ｂ）における蒸留が、１〜４５分間の範囲の平均滞留時間で実行される、請求項１から１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
工程ｂ）における蒸留が、０．５〜５００ｍｂａｒの範囲の圧力で実行される、請求項１から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
膜が実質的に１種以上の有機物質または無機物質を含む、請求項１から２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
膜の平均孔径が無機膜の場合に０．９〜５０ｎｍの範囲である、請求項１から２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
膜の平均分離限界が有機膜の場合に５００〜１０００００ダルトンの範囲である、請求項１から２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
膜の浸透側の圧力に対する、膜の保持側の圧力の比率が２〜１００の範囲である、請求項１から２４のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
０．１〜１０ＭＰａの範囲の圧力が膜の保持側に適用される、請求項１から２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
１〜１０００ｋＰａの範囲の圧力が膜の浸透側に適用される、請求項１から２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
膜分離が０〜１５０℃の範囲の温度で実行される、請求項１から２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
工程ｂ）においてｂ１）として得られる成分が飽和化合物を得るために水素化される、請求項１から２８のいずれかに記載の方法。
【国際調査報告】
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2007509029.tif 000005
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