(57)【要約】  本発明は、皮膚への適用の際に、角質層の水分維持能力を向上させ、特に乾燥環境においても高い保湿力を示す、下記化学式１で表されるペンタエリスリトール誘導体及びその製造方法、並びにこれを含む液晶ベースに関する。2007532531.tif 000010（上記式中、Ｒは、互いに同じか又は異なる水素またはヒドロキシ基を含むか、又は含まない炭素数１乃至２４個の飽和、不飽和及び直鎖、分岐鎖を含むアルキル基であり；ｍは０乃至１０、ｎは１乃至１０の互いに同じか又は異なる整数である。）
2007532531.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式１で表されるペンタエリスリトール誘導体：
【化１】
2007532531.tif 000009
（上記式中、Ｒは、互いに同じか又は異なる水素またはヒドロキシ基を含むか、又は含まない炭素数１乃至２４個の飽和、不飽和及び直鎖、分岐鎖を含むアルキル基であり；ｍは０乃至１０、ｎは１乃至１０の互いに同じか又は異なる整数である。）
【請求項２】
（１）ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールエトキシレート（pentaerythritol ethoxylate）またはペンタエリスリトールプロポキシレート（pentaerythritol propoxylate）と、エチレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）を有するカルボン酸とを、酸触媒の存在下に還流させてペンタエリスリトール誘導体を合成する段階と、
（２）前記段階（１）で合成されたペンタエリスリトール誘導体を精製する段階と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のペンタエリスリトール誘導体の製造方法。
【請求項３】
前記段階（１）でのペンタエリスリトールエトキシレートまたはペンタエリスリトールプロポキシレートは、分子内に全体的に４乃至４０個のエチレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）またはプロピレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）を有するものであることを特徴とする請求項２に記載のペンタエリスリトール誘導体の製造方法。
【請求項４】
前記段階（１）でのカルボン酸は、エチレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）を有する、炭素数６乃至７５個の飽和、不飽和及び直鎖、分岐鎖を含むカルボン酸であることを特徴とする請求項２に記載のペンタエリスリトール誘導体の製造方法。
【請求項５】
前記カルボン酸は、グリコール酸エトキシレート4-tert-ブチルフェニルエーテル、グリコール酸エトキシレート４−ノニルフェニルエーテル、グリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル、グリコール酸エトキシレートヘプチルエーテル、グリコール酸エトキシレートオクチルエーテル、グリコール酸エトキシレートノニルエーテル、グリコール酸エトキシレートデシルエーテル、グリコール酸エトキシレートラウリルエーテル、グリコール酸エトキシレートテトラデシルエーテル、グリコール酸エトキシレートヘキサデシルエーテル、グリコール酸エトキシレートステアリルエーテル及びグリコール酸エトキシレートオレイルエーテルよりなる群から選ばれたものであることを特徴とする請求項４に記載のペンタエリスリトール誘導体の製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載のペンタエリスリトール誘導体を１０〜７０重量%の量で含有することを特徴とする液晶ベース。
【請求項７】
請求項１に記載のペンタエリスリトール誘導体を含有する皮膚保湿剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮膚への適用の際に、角質層の水分維持能力を向上させ、特に、乾燥環境においても高い保湿力を示す、下記化学式１で表されるペンタエリスリトール誘導体及びその製造方法、並びにそれを含む液晶ベースに関する。
【０００２】
【化１】
2007532531.tif 000003
【０００３】
（上記式中、Ｒは、互いに同じか又は異なる水素またはヒドロキシ基を含むか、又は含まない炭素数１乃至２４個の飽和、不飽和及び直鎖、分岐鎖を含むアルキル基であり；ｍは０乃至１０、ｎは１乃至１０の互いに同じか又は異なる整数である。）
【背景技術】
【０００４】
皮膚の角質層は、外部の有害物質から人体を保護し、皮膚内の水分が外部に蒸発するのを抑制し、皮膚のしっとりした感を維持するようにする機能を担当している。しかしながら、年を取って皮膚の老化が進行するに伴って、このような皮膚角質層の機能が低下し、皮膚が乾燥感を感じやすくなり、更には、乾燥した冬季には、このような傾向が一層大きくなる。
【０００５】
このような理由で、皮膚が感じる乾燥感を改善するための多くの保湿剤が開発されてきた。代表的な例として、水溶性由来の保湿剤とセラミドが挙げられる。アミノ酸、有機酸、尿素などのような水溶性由来の保湿剤は、水分を吸収する能力に優れていて、角質層に水分を提供するため、最も普遍的な保湿剤として使われている。しかし、冬季のように湿度の低い乾燥環境においては、保湿力が顕著に減少するという問題点を有する。そして、セラミドは、皮膚の角質層の細胞間脂質の重要な構成成分であって、皮膚の障壁機能の強化及び皮膚の水分維持に優れた効果を示すが、化粧料に使われるオイルとの相溶性が劣化し、高い含量が使われた時には、剤型の安定性が低下するという短所を有する。このため、実質的な有効濃度を使用することが困難となる。
【０００６】
したがって、乾燥環境においても高い保湿力を示し、皮膚の水分維持に優れた効果を示しながらも、化粧料への使用が容易な油溶性由来の保湿剤の開発が必要であることが現況である。
【０００７】
これより、本発明者らは、前述したような事実に鑑みて、油溶性由来の保湿剤を開発するために鋭意研究を重なってきており、結果として、乾燥環境においても高い保湿力を示す、下記化学式１で表されるペンタエリスリトール誘導体を開発し、本発明を完成するに至った。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、本発明の目的は、皮膚への適用の際に、角質層の水分維持能力を向上させ、特に、乾燥環境においても高い保湿力を示す、下記化学式１で表されるペンタエリスリトール誘導体を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、上記のペンタエリスリトール誘導体の製造方法を提供することにある。
【００１０】
本発明のさらに他の目的は、上記のペンタエリスリトール誘導体を含む液晶ベースを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明によれば、下記化学式１で表されるペンタエリスリトール誘導体が提供される。
【００１２】
【化２】
2007532531.tif 000004
【００１３】
（上記式中、Ｒは、互いに同じか又は異なる水素またはヒドロキシ基を含むか、又は含まない炭素数１乃至２４個の飽和、不飽和及び直鎖、分岐鎖を含むアルキル基であり；ｍは０乃至１０、ｎは１乃至１０の互いに同じか又は異なる整数である。）
【００１４】
本発明により提供される上記のペンタエリスリトール誘導体は、後述する試験例においてその効果が確認できるように、皮膚への適用の際に、角質層の水分維持能力を向上させ、特に、乾燥環境においても高い保湿力を示す。しかも、本発明の上記のペンタエリスリトール誘導体は、液晶ベース内に高い含量で配合され、安定に液晶を形成することができる。
【００１５】
本発明により提供される上記のペンタエリスリトール誘導体は、下記の段階を含む製造方法により製造されることができる：
（１）ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールエトキシレート（pentaerythritol ethoxylate）またはペンタエリスリトールプロポキシレート（pentaerythritol propoxylate）と、エチレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）を有するカルボン酸とを、酸触媒の存在下に還流させてペンタエリスリトール誘導体を合成する段階；
（２）前記段階（１）で合成されたペンタエリスリトール誘導体を精製する段階。
【００１６】
本発明によるペンタエリスリトール誘導体の製造方法は、下記の反応式１で図式化することができる。
【００１７】
【化３】
2007532531.tif 000005
【００１８】
以下、本発明によるペンタエリスリトール誘導体の製造方法を段階別に具体的に説明する。
【００１９】
段階（１）：ペンタエリスリトール誘導体を合成する段階
上記の段階（１）でのペンタエリスリトールエトキシレートまたはペンタエリスリトールプロポキシレートは、分子内に全体的に４乃至４０個のエチレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）またはプロピレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）を有するペンタエリスリトールエトキシレートまたはペンタエリスリトールプロポキシレートを挙げることができる。
【００２０】
また、上記の段階（１）でのカルボン酸は、エチレングリコール反復基（−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）を有する、炭素数６乃至７５個の飽和、不飽和及び直鎖、分岐鎖を含むカルボン酸であり、その例には、グリコール酸エトキシレート4-tert-ブチルフェニルエーテル（glycolic acid ethoxylate 4-tert-butylphenyl ether）、グリコール酸エトキシレート４−ノニルフェニルエーテル、グリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル、グリコール酸エトキシレートヘプチルエーテル、グリコール酸エトキシレートオクチルエーテル、グリコール酸エトキシレートノニルエーテル、グリコール酸エトキシレートデシルエーテル、グリコール酸エトキシレートラウリルエーテル、グリコール酸エトキシレートテトラデシルエーテル、グリコール酸エトキシレートヘキサデシルエーテル、グリコール酸エトキシレートステアリルエーテル（glycolic acid ethoxylate stearyl ether）、グリコール酸エトキシレートオレイルエーテル（glycolic acid ethoxylate oleyl ether）などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２１】
この段階で使われる有機溶媒には、水と共沸蒸留が可能な溶媒が望ましく、その例として、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができる。また、これらの溶媒と、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル、クロロホルム、エチルエーテル、トリクロロエチレン、ジメチルホルムアミドなどとの混合溶媒も可能である。そして、有機溶媒を使用しない無溶媒反応も可能である。
【００２２】
また、この段階で使われる酸触媒には、p-トルエンスルホン酸、ピリジンp-トルエンスルホン酸塩などの有機酸；硫酸、塩酸などの無機酸などが可能である。そして、酸触媒の使用当量は、０．００１〜２当量まで可能であるが、０．０１当量未満では、反応が遅くなり、０．２当量を超過する場合には、副反応が進行されることができるので、０．０１〜０．２当量が望ましい。
【００２３】
段階（２）：ペンタエリスリトール誘導体を精製する段階
上記の段階（１）で合成されたペンタエリスリトール誘導体は、無極性溶媒で分液し、不純物を除去することによって精製することができる。
【００２４】
この段階で使われる無極性溶媒には、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなどを挙げることができるが、これらに限定されるもののではない。この無極性溶媒の使用量は、ペンタエリスリトール誘導体の質量対比３０〜２００%が使用可能であるが、７０%未満では、不純物の除去が容易でなく、１５０%を超過する場合には、収率が減少し得るので、７０〜１５０%が望ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を試験例及び実施例により具体的に説明するが、本発明の権利範囲が下記試験例及び実施例にのみ限定されるものではない。これらの試験例及び実施例は、本発明を説明するためのもので、本発明の範囲がこれらの試験例及び実施例に限定されるものではないことは、この技術分野における通常の知識を有する者にとって自明である。
【００２６】
＜実施例１＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールヘキセス-4カルボキシレート）の製造[Preparation of pentaerythritol glycolic ester ethoxylate hexyl ether (pentaerythritol hexeth-4 carboxylate)]
【００２７】
ペンタエリスリトール１３．６g(100mmol)とグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）１１０．４g(400mmol)をベンゼン２Ｌに溶解させた。得られた溶液にp-トルエンスルホン酸７．６g(40mmol)を入れ、攪拌しながら還流させた。この際、ディーン・スターク（Dean-stark）を用いて水を除去しながら８時間反応させた。
【００２８】
反応が終了した後、有機層を水１Lで２回洗浄し、有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、濾過した。濾過後、残った溶液を減圧蒸留して濃縮した後、ヘキサン１００mlで分液し、ヘキサン層を除去した。残った分液をさらに減圧蒸留して濃縮し、ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールヘキセス-4カルボキシレート）９３gを得た。
【００２９】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１８(16H)、３．６５(48H)、３．４４(8H,t,J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(24H)、０．８８(12H,t, J=6.6Hz)
【００３０】
＜実施例２＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールヘキセス-6カルボキシレート）の製造
【００３１】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-6カルボン酸）１４５．６g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールヘキセス-6カルボキシレート）１２１．５gを得た。
【００３２】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１８(16H)、３．６６(80H)、３．４４(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(24H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００３３】
＜実施例３＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールカプレス-4カルボキシレート：pentaerythritol capreth-4 carboxylate）の製造
【００３４】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）代わりに、グリコール酸エトキシレートオクチルエーテル（カプレス-4カルボン酸）１２１．６g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールカプレス-4カルボキシレート）１０４．６gを得た。
【００３５】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(48H)、３．４５(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(40H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００３６】
＜実施例４＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールカプレス-6カルボキシレート）の製造
【００３７】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートオクチルエーテル（カプレス-6カルボン酸）１６４．０g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールカプレス-6カルボキシレート）１３７．２gを得た。
【００３８】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(80H)、３．４６(8H,t,  J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(40H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００３９】
＜実施例５＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールラウレス-4カルボキシレート：pentaerythritol laureth-4 carboxylate）の製造
【００４０】
実施例１でグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートラウリルエーテル（ラウレス-4カルボン酸）１４４．０g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールラウレス-4カルボキシレート）１２１．２gを得た。
【００４１】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(48H)、３．４６(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００４２】
＜実施例６＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールラウレス-6カルボキシレート）の製造
【００４３】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートラウリルエーテル（ラウレス-6カルボン酸）１８４．０g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールラウレス-6カルボキシレート）１５８．５gを得た。
【００４４】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(80H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００４５】
＜実施例７＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールラウレス-10カルボキシレート）の製造
【００４６】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートラウリルエーテル（ラウレス-10カルボン酸）２５４．４g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールラウレス-10カルボキシレート）２１８．４gを得た。
【００４７】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(144H)、３．４６(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００４８】
＜実施例８＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールセテス-4カルボキシレート：pentaerythritol ceteth-4 carboxylate）の製造
【００４９】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートセチルエーテル（セテス-4カルボン酸）１６２．４g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールセテス-4カルボキシレート）１３８．２gを得た。
【００５０】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(48H)、３．４６(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(104H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００５１】
＜実施例９＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールセテス-6カルボキシレート）の製造
【００５２】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートセチルエーテル（セテス-6カルボン酸）１９７．６g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールセテス-6カルボキシレート）１６３．８gを得た。
【００５３】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(80H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(104H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００５４】
＜実施例１０＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールセテス-10カルボキシレート）の製造
【００５５】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートセチルエーテル（セテス-10カルボン酸）２６８．０g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールセテス-10カルボキシレート）２４７．４gを得た。
【００５６】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(144H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(104H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００５７】
＜実施例１１＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートオレイルエーテル（ペンタエリスリトールオレス-6カルボキシレート：pentaerythritol oleth-6 carboxylate）の製造
【００５８】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートオレイルエーテル（オレス-6カルボン酸）２１６．０g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートオレイルエーテル（ペンタエリスリトールオレス-6カルボキシレート）１８７．１gを得た。
【００５９】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：５．６４(8H)、４．１６(16H)、３．６７(80H)、３．４７(8H,t,J=6.9Hz)、２．０２(16H)、１．５７(8H,m)、１．２７(80H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００６０】
＜実施例１２＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールステアレス-4カルボキシレート：pentaerythritol steareth-4carboxylate）の製造
【００６１】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートステアリルエーテル（ステアレス-4カルボン酸）１７３．６g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールステアレス-4カルボキシレート）１５１．１gを得た。
【００６２】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６８(48H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(120H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００６３】
＜実施例１３＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールステアレス-6カルボキシレート）の製造
【００６４】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートステアリルエーテル（ステアレス-6カルボン酸）２０８．８g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールステアレス-6カルボキシレート）１８３．６gを得た。
【００６５】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(80H)、３．４７(8H,t, J=6.6Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(120H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００６６】
＜実施例１４＞ペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールステアレス-10カルボキシレート）の製造
【００６７】
実施例１においてグリコール酸エトキシレートヘキシルエーテル（ヘキセス-4カルボン酸）の代わりに、グリコール酸エトキシレートステアリルエーテル（ステアレス-10カルボン酸）２７９．２g(400mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールグリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールステアレス-10カルボキシレート）２３８．１gを得た。
【００６８】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(144H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５８(8H,m)、１．２６(120H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００６９】
＜実施例１５＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ヘキセス-4カルボキシレート）の製造（Preparation of pentaerythritol ethoxylate(3/4 EO/OH)glycolic ester ethoxylate hexylether (pentaerythritol ethoxylate(3/4 EO/OH)hexeth-4 carboxylate）
【００７０】
実施例１においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ヘキセス-4カルボキシレート）１３６．５gを得た。
【００７１】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(60H)、３．４４(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(24H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００７２】
＜実施例１６＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ヘキセス-6カルボキシレート）の製造
【００７３】
実施例２においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ヘキセス-6カルボキシレート）１３７．１gを得た。
【００７４】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１８(16H)、３．６６(92H)、３．４４(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(24H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００７５】
＜実施例１７＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)カプレス-4カルボキシレート）の製造
【００７６】
実施例３においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)カプレス-4カルボキシレート）１１９．９gを得た。
【００７７】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(60H)、３．４５(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(40H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００７８】
＜実施例１８＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)カプレス-6カルボキシレート）の製造
【００７９】
実施例４においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)カプレス-6カルボキシレート）１５３．１gを得た。
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(92H)、３．４６(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(40H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００８１】
＜実施例１９＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ラウレス-4カルボキシレート）の製造
【００８２】
実施例５においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ラウレス-4カルボキシレート）１３６．８gを得た。
【００８３】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(60H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００８４】
＜実施例２０＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ラウレス-6カルボキシレート）の製造
【００８５】
実施例６においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ラウレス-6カルボキシレート）１６４．２gを得た。
【００８６】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１６(16H)、３．６６(92H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(72H)、０．８９(12H,t,J=6.6Hz)
【００８７】
＜実施例２１＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ラウレス-10カルボキシレート）の製造
【００８８】
実施例７においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ラウレス-10カルボキシレート）２３４．１gを得た。
【００８９】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(156H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００９０】
＜実施例２２＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)セテス-4カルボキシレート）の製造
【００９１】
実施例８においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)セテス-4カルボキシレート）１４８．９gを得た。
【００９２】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(60H)、３．４７(8H,t, J=6.6Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(104H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【００９３】
＜実施例２３＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)セテス-6カルボキシレート）の製造
【００９４】
実施例９においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)セテス-6カルボキシレート）１７４．８gを得た。
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(92H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(104H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００９６】
＜実施例２４＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)セテス-10カルボキシレート）の製造
【００９７】
実施例１０においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)セテス-10カルボキシレート）２５９．０gを得た。
【００９８】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１８(16H)、３．６７(156H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(104H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【００９９】
＜実施例２５＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオレイルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)オレス-6カルボキシレート）の製造
【０１００】
実施例１１においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオレイルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)オレス-6カルボキシレート）２０８．７gを得た。
【０１０１】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：５．６４（８Ｈ）、４．１７(16H)、３．６７(92H)、３．４７(8H,t,J=6.9Hz)、２．０１(16H)、１．５７(8H,m)、１．２７(80H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１０２】
＜実施例２６＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ステアレス-4カルボキシレート）の製造
【０１０３】
実施例１２においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ステアレス-4カルボキシレート）１５９．１gを得た。
【０１０４】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６８(60H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(120H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【０１０５】
＜実施例２７＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ステアレス-6カルボキシレート）の製造
【０１０６】
実施例１３においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ステアレス-6カルボキシレート）１９４．８gを得た。
【０１０７】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(92H)、３．４７(8H,t, J=6.6Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(120H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【０１０８】
＜実施例２８＞ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ステアレス-10カルボキシレート）の製造
【０１０９】
実施例１４においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)２７．０g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(3/4 EO/OH)ステアレス-10カルボキシレート）２５０．７gを得た。
【０１１０】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(156H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５８(8H,m)、１．２６(120H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１１１】
＜実施例２９＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ヘキセス-4カルボキシレート）の製造
【０１１２】
実施例１においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ヘキセス-4カルボキシレート）１８３．５gを得た。
【０１１３】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(108H)、３．４３(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(24H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１１４】
＜実施例３０＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ヘキセス-6カルボキシレート）の製造
【０１１５】
実施例２においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートヘキシルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ヘキセス-6カルボキシレート）１８７．１gを得た。
【０１１６】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１８(16H)、３．６６(140H)、３．４４(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(24H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１１７】
＜実施例３１＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)カプレス-4カルボキシレート）の製造
【０１１８】
実施例３においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)カプレス-4カルボキシレート）１７０．２gを得た。
【０１１９】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(108H)、３．４５(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(40H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１２０】
＜実施例３２＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)カプレス-6カルボキシレート）の製造
【０１２１】
実施例４においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオクチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)カプレス-6カルボキシレート）２０１．１gを得た。
【０１２２】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(140H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(40H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１２３】
＜実施例３３＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ラウレス-4カルボキシレート）の製造
【０１２４】
実施例５においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ラウレス-4カルボキシレート）１８８．８gを得た。
【０１２５】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１６(16H)、３．６６(108H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１２６】
＜実施例３４＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ラウレス-6カルボキシレート）の製造
【０１２７】
実施例６においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ラウレス-6カルボキシレート）２１３．７gを得た。
【０１２８】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１６(16H)、３．６６(140H)、３．４６(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(72H)、０．８９(12H,t,J=6.6Hz)
【０１２９】
＜実施例３５＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ラウレス-10カルボキシレート）の製造
【０１３０】
実施例７においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートラウリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ラウレス-10カルボキシレート）２８６．３gを得た。
【０１３１】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(204H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２８(72H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１３２】
＜実施例３６＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)セテス-4カルボキシレート）の製造
【０１３３】
実施例８においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)セテス-4カルボキシレート）１９９．３gを得た。
【０１３４】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６６(108H)、３．４７(8H,t, J=6.6Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(104H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１３５】
＜実施例３７＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)セテス-6カルボキシレート）の製造
【０１３６】
実施例９においてペンタエリスリトールり代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)セテス-6カルボキシレート）２２４．８gを得た。
【０１３７】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(140H)、３．４６(8H,t, J=6.9Hz)、１．５６(8H,m)、１．２６(104H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【０１３８】
＜実施例３８＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)セテス-10カルボキシレート）の製造
【０１３９】
実施例１０においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートセチルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)セテス-10カルボキシレート）３０１．２gを得た。
【０１４０】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１８(16H)、３．６７(204H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(104H)、０．８９(12H,t,J=6.6Hz)
【０１４１】
＜実施例３９＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオレイルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)オレス-6カルボキシレート）の製造
【０１４２】
実施例１１においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートオレイルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)オレス-6カルボキシレート）２９０．４gを得た。
【０１４３】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：５．６３(8H)、４．１６(16H)、３．６７(140H)、３．４８(8H,t,J=6.9Hz)、２．０２(16H)、１．５７(8H,m)、１．２７(80H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【０１４４】
＜実施例４０＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ステアレス-4カルボキシレート）の製造
【０１４５】
実施例１２においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ステアレス-4カルボキシレート）２２０．０gを得た。
【０１４６】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６８(108H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(120H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【０１４７】
＜実施例４１＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ステアレス-6カルボキシレート）の製造
【０１４８】
実施例１３においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ステアレス-6カルボキシレート）２４１．３gを得た。
【０１４９】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(140H)、３．４７(8H,t, J=6.6Hz)、１．５７(8H,m)、１．２７(120H)、０．８７(12H,t,J=6.6Hz)
【０１５０】
＜実施例４２＞ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ステアレス-10カルボキシレート）の製造
【０１５１】
実施例１４においてペンタエリスリトールの代わりに、ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)７９．７g(100mmol)を使用して実施例１と同様の方法でペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)グリコール酸エステルエトキシレートステアリルエーテル（ペンタエリスリトールエトキシレート(15/4 EO/OH)ステアレス-10カルボキシレート）３００．７gを得た。
【０１５２】
1Ｈ−ＮＭＲ(in CHCl3)：４．１７(16H)、３．６７(204H)、３．４７(8H,t, J=6.9Hz)、１．５７(8H,m)、１．２６(120H)、０．８８(12H,t,J=6.6Hz)
【０１５３】
＜試験例１＞皮膚内水分量増加効果評価
実施例で得られた化合物に対して皮膚内の水分量増加程度を比較した。皮膚内の水分量増加測定実験は、脱毛ギニーピッグ（hairless Guinea pig）５０匹を１０組みに分けて、実施例で得られた化合物を各組みに分けて測定した。
【０１５４】
具体的に、フィン（Finn）チャンバーを用いてアセトンで３０分間試験動物の横腹にパッチし、皮膚障壁を損傷させた後、パッチした部位に試験物質を各々２００μＬずつ塗布し、水分量測定機（Corneometer）を用いて角質層の水分量を測定し評価した。機器測定は、アセトンパッチ除去直後及びパッチ除去後６時間、１２時間、２４時間、４８時間に測定した。アセトン処理直後の値を１００にして皮膚内の水分量の変化を観察した。その結果を下記表１に示した。
【０１５５】
【表１】
2007532531.tif 000006
【０１５６】
上記の表１から分かるように、本発明のペンタエリスリトール誘導体は、ビヒクル（プロピレングリコール：エタノール＝７：３）に比べて皮膚内の水分量を増加させる効果を示し、またグリセロールと類似した能力を示した。
【０１５７】
＜試験例２＞乾燥環境においての水分維持力評価
実施例で得られた化合物に対して乾燥環境においての水分維持力を測定、比較した。
具体的に、実施例で得られた化合物の水分含有量が６０%となるように試料を製造し、試料を恒温恒湿装置（１８℃、相対湿度２０%）に保管しながら時間による重さを測定し、水分含有量の変化を観察することによって、化合物の水分維持力を評価した。その結果を下記表２に示した。
【０１５８】
【表２】
2007532531.tif 000007
【０１５９】
上記の表２から分かるように、本発明のペンタエリスリトール誘導体は、ビヒクル（プロピレングリコール：エタノール＝７：３）やグリセロールに比べて高い水分維持力を示した。
【０１６０】
以上の試験例１、２の結果から、本発明により提供されるペンタエリスリトール誘導体は、皮膚への適用の際に、角質層の水分維持能力を向上させることができ、特に、乾燥環境においても高い保湿力を示すことが分かる。したがって、本発明のペンタエリスリトール誘導体を含有する化粧料の場合、高い保湿力と共に、高い保湿持続力、特に、乾燥環境においても優れた保湿効果を提供することができる。
【０１６１】
以下の製造例及び試験例３では、本発明のペンタエリスリトール誘導体を含有する液晶ベースを製造し、液晶ベースの安定性を評価した。
【０１６２】
＜製造例１〜２４＞液晶ベースの製造
実施例で得られたペンタエリスリトール誘導体を含有する液晶ベースを製造した。液晶ベースは、人体の皮膚に存在する脂質の分析条件に基づいて本発明のペンタエリスリトール誘導体、脂肪酸、コレステロールを適当な組成で混合して製造した。使用した脂肪酸の種類と各成分の含量は、下記表３に示した。
【０１６３】
【表３】
2007532531.tif 000008
【０１６４】
＜試験例３＞液晶ベースの液晶形成能評価
製造例１〜２４の液晶ベースにおいて液晶形成可否を偏光顕微鏡を用いて観測した。大部分の化合物において、ラメラ液晶の典型的なクローバー形状を呈する偏光結果を観察することができた。図１乃至図４に代表的な例を示した。
【０１６５】
このような結果から、本発明のペンタエリスリトール誘導体は、液晶ベース内において安定して液晶を形成することができることが分かる。本発明のペンタエリスリトール誘導体は、液晶ベースの総重量に対して１０〜７０重量%の量で配合されることができる。
【０１６６】
以上説明ように、本発明により提供される化学式１のペンタエリスリトール誘導体及びこれを含む液晶ベースは、高い保湿力と共に、高い保湿持続力、特に、乾燥環境においても優れた保湿効果を提供することができ、皮膚保湿効果を目的とする化粧料に有用に配合することができる。
【０１６７】
以上において説明した本発明は、本発明が属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形及び変更が可能であるので、上述した実施例及び添付された図面に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】図１は、製造例３の液晶ベースを偏光顕微鏡で観察した結果である。
【図２】図２は、製造例８の液晶ベースを偏光顕微鏡で観察した結果である。
【図３】図３は、製造例１７の液晶ベースを偏光顕微鏡で観察した結果である。
【図４】図４は、製造例２１の液晶ベースを偏光顕微鏡で観察した結果である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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