(57)【要約】  コーティングアプリケータ、乾燥機または硬化ステーションを用いるウェブコーティング方法および装置、ならびにコーティングアプリケータを過ぎかつ乾燥機を通してウェブ（１４）を搬送するウェブ取扱い機器。ウェブ（１４）は、密結合エンクロージャにおいて当該の粒子数を実質的に減じる、または物理特性を実質的に変更するのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャ（７２）または一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている。
2007530254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを前記エンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、前記密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法。
【請求項２】
密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記基材を前記コーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションを通して搬送することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記基材を前記コーティングアプリケータから前記乾燥機および硬化ステーションを通して搬送することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記基材を予備コーティングステーションから前記コーティングアプリケータへ搬送することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記基材を予備コーティングステーションから前記乾燥機または硬化ステーションを通して搬送することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記基材を巻き出しリールを含有するキャビネットから、巻き取りリールを含有するキャビネットまで搬送することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記基材をコーティングし、前記コーティングが固化するまで、微粒子汚染物からそれを保護することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記基材をコーティングし、少なくとも前記コーティングを適用する時から、前記コーティングが固化するまでそれを周囲空気に曝さないことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
少なくとも２つの密結合エンクロージャは異なる圧力、温度、平均ヘッドスペースまたは平均フットスペースを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１つの密結合エンクロージャにおいて正圧を維持するかまたは設定し、そして少なくとも１つの他の密結合エンクロージャにおいて負圧を維持するかまたは設定することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
調整ガスのストリームを一連の相互接続密結合エンクロージャの少なくとも１番目に供給して、それによって前記調整ガスを前記可動基材に沿って下流の密結合エンクロージャへ搬送するかまたは上流のエンクロージャまたはプロセスに押し出すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
調整ガスのストリームを複数の密結合エンクロージャに供給し、ガスを複数の密結合エンクロージャから取り出すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
調整ガスのストリームを一連の相互接続密結合エンクロージャにそれぞれ供給することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記可動基材を、一連の相互接続密結合エンクロージャの上流および下流端部でシールすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
密結合エンクロージャにおいて、少なくとも約−０．５Ｐａ以上の圧力勾配を維持することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
密結合エンクロージャにおいて、正圧勾配を維持することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
各操作圧力において材料差を有する１番目および２番目のエンクロージャを転移ゾーンを含む密結合エンクロージャを介して接続することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記１番目のエンクロージャは密結合エンクロージャを含み、前記２番目のエンクロージャはオーブンを含み、前記１番目および２番目のエンクロージャの雰囲気間に１０倍以上の圧力差がある、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
密結合エンクロージャにおける前記平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が１０ｃｍ以下である、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
密結合エンクロージャにおける前記平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が５ｃｍ以下である、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
任意の密結合エンクロージャにおける前記平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が３ｃｍ以下である、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
ガス導入装置を有する第１のチャンバは制御表面近傍に配置され、ガス取り出し装置を有する第２のチャンバが前記制御表面近傍に配置され、前記制御表面と、第１および第２のチャンバが併せて領域を画定していて、近接するガス相がある量の質量を有しており、近接するガス相からの前記質量の少なくとも一部が、前記領域を通してフローを誘導することにより前記ガス取り出し装置を通して搬送され、前記質量フローが以下の成分へ分かれており、
Ｍ１は、圧力勾配から得られる領域へ、または領域から基材の幅の単位当たりの合計正味時間平均質量フローを意味し、
Ｍ１’は、ガス導入装置から前記第１のチャンバを通って前記領域への単位幅当たりのガスの合計正味時間平均質量フローを意味し、
Ｍ２は、前記基材の少なくとも一主面から、または一主面への単位幅当たりの調整ガス、あるいは前記領域への、または前記領域からのコーティングの時間平均質量フローを意味し、
Ｍ３は、前記材料の動きから得られる前記領域への単位幅当たりの合計正味時間平均質量フローを意味し、そして
Ｍ４は、前記ガス取り出し装置を通る単位幅当たりの質量移動の時間平均速度を意味する、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
Ｍ１はゼロ未満で、−０．２５ｋｇ／秒／メートルを超える値を有している、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
Ｍ１はゼロ未満で、−０．１０ｋｇ／秒／メートルを超える値を有している、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
密結合エンクロージャ粒子数を７５％以上減じるのに十分な速度で調整ガスのストリームを流すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
密結合エンクロージャ粒子数を９０％以上減じるのに十分な速度で調整ガスのストリームを流すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、前記コーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、前記基材が、密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置。
【請求項２８】
前記基材が、密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記コーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションを通して密閉されている、請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記基材が、密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、前記コーティングアプリケータから前記乾燥機および硬化ステーションを通して密閉されている、請求項２７に記載の装置。
【請求項３０】
前記基材が、密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、予備コーティングステーションから前記コーティングアプリケータまで密閉されている、請求項２７に記載の装置。
【請求項３１】
前記基材が、密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、予備コーティングステーションから前記乾燥機または硬化ステーションを通して密閉されている、請求項２７に記載の装置。
【請求項３２】
前記基材が、密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、巻き出しリールを含有するキャビネットから、巻き取りリールを含有するキャビネットまで密閉されている、請求項２７に記載の装置。
【請求項３３】
前記基材の前記未固化コーティングが、前記コーティングが固化するまで、微粒子汚染物から保護されている、請求項２７に記載の装置。
【請求項３４】
前記基材をコーティングし、少なくとも前記コーティングを適用してから、前記コーティングが固化するまで周囲空気に曝さない、請求項２７に記載の装置。
【請求項３５】
少なくとも２つの密結合エンクロージャは異なる平均ヘッドスペースまたは平均フットスペースを有する、請求項２７に記載の装置。
【請求項３６】
調整ガスのストリームを一連の相互接続密結合エンクロージャの少なくとも１番目に供給して、前記調整ガスを前記可動基材に沿って下流の密結合エンクロージャへ搬送するかまたは上流のエンクロージャまたはプロセスに押し出す、請求項２７に記載の装置。
【請求項３７】
調整ガスのストリームを複数の密結合エンクロージャに供給し、ガスストリームを複数の密結合エンクロージャから取り出す、請求項２７に記載の装置。
【請求項３８】
調整ガスのストリームを一連の相互接続密結合エンクロージャにそれぞれ供給する、請求項２７に記載の装置。
【請求項３９】
一連の相互接続密結合エンクロージャの上流および下流端部で前記可動基材に対するシールを有する、請求項２７に記載の装置。
【請求項４０】
密結合エンクロージャが少なくとも約−０．５Ｐａ以上の圧力勾配を有する、請求項２７に記載の装置。
【請求項４１】
密結合エンクロージャが正圧勾配を有する、請求項２７に記載の装置。
【請求項４２】
前記１番目と２番目のエンクロージャとの間に転移ゾーンを含む密結合エンクロージャにより接続された、各操作圧力において材料差を有する第１および第２のエンクロージャを含む、請求項２７に記載の装置。
【請求項４３】
前記１番目のエンクロージャは密結合エンクロージャを含み、前記２番目のエンクロージャはオーブンを含み、前記１番目と２番目のエンクロージャの雰囲気間に１０倍以上の圧力差がある、請求項４２に記載の装置。
【請求項４４】
密結合エンクロージャにおける前記平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が１０ｃｍ以下である、請求項２７に記載の装置。
【請求項４５】
密結合エンクロージャにおける前記平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が５ｃｍ以下である、請求項２７に記載の装置。
【請求項４６】
密結合エンクロージャにおける前記平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が３ｃｍ以下である、請求項２７に記載の装置。
【請求項４７】
ガス導入装置を有する第１のチャンバは制御表面近傍に配置され、ガス取り出し装置を有する第２のチャンバが前記制御表面近傍に配置され、前記制御表面と、第１および第２のチャンバが併せて領域を画定していて、近接するガス相がある量の質量を有しており、近接するガス相からの前記質量の少なくとも一部が、前記領域を通してフローを誘導することにより前記ガス取り出し装置を通して搬送でき、前記質量フローが以下の成分へ分かれており、
Ｍ１は、圧力勾配から得られる領域へ、または領域から基材の幅の単位当たりの合計正味時間平均質量フローを意味し、
Ｍ１’は、ガス導入装置から前記第１のチャンバを通って前記領域への単位幅当たりのガスの合計正味時間平均質量フローを意味し、
Ｍ２は、前記基材の少なくとも一主面から、または一主面への単位幅当たりの調整ガス、あるいは前記領域への、または前記領域からのコーティングの時間平均質量フローを意味し、
Ｍ３は、前記材料の動きから得られる前記領域への単位幅当たりの合計正味時間平均質量フローを意味し、そして
Ｍ４は、前記ガス取り出し装置を通る単位幅当たりの質量移動の時間平均速度を意味する、請求項２７に記載の装置。
【請求項４８】
Ｍ１はゼロ未満で、−０．２５ｋｇ／秒／メートルを超える値を有している、請求項４７に記載の装置。
【請求項４９】
Ｍ１はゼロ未満で、−０．１０ｋｇ／秒／メートルを超える値を有している、請求項４７に記載の装置。
【請求項５０】
調整ガスのストリームが、密結合エンクロージャ粒子数を７５％以上減じるのに十分な速度で流れる、請求項２７に記載の装置。
【請求項５１】
調整ガスのストリームが、密結合エンクロージャ粒子数を９０％以上減じるのに十分な速度で流れる、請求項２７に記載の装置。
【請求項５２】
密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における物質変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを前記エンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、前記密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して前記基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法。
【請求項５３】
コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、前記コーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、前記基材が、密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における物質変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不定の長さの可動基材を処理するためのコーティング方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
不定の長さの可動基材（すなわち、移動中のウェブ）は、通常の周囲空気条件が、コーティングプロセスを妨害したり、安全を脅かすとき、制御された環境においてコートすることができる。一般的な制御された環境としては、クリーンルームおよび不活性低酸素または飽和雰囲気の使用が挙げられる。クリーンルームおよび特別な雰囲気には、高価な外部装置および大量のろ過空気または特別なガスが必要とされる。例えば、一般的なクリーンルーム操作には、１分当たり、数千リットルのろ過空気が必要である。
【０００３】
コートしたウェブの乾燥中、成分の除去および回収には、従来から、乾燥ユニットまたはオーブンが用いられている。ウェブまたはコーティングから放出された溶剤蒸気を集めるには、密閉と開放の両乾燥システムにおいて、収集フードまたはポートが用いられている。従来の開放蒸気収集システムは、通常、周囲雰囲気からの大量のフローを吸い込むことなく、主に所望のガス相成分を選択的に吸い込むことのできない空気取扱いシステムを利用している。密閉蒸気収集システムは、一般的に、不活性ガス循環システムを導入して、密閉された容積をパージするのを補助する。いずれのシステムにおいても、周囲空気または不活性ガスの導入によって、ガス相成分の濃度が希釈される。このように、希釈した蒸気ストリームからの蒸気の後の分離は難しく非効率である。
【０００４】
更に、従来の蒸気収集システムに関連した熱力学によって、ウェブまたはコーティングまたはその近傍で蒸気の望ましくない凝縮がなされることが多い。凝縮物はウェブまたはコーティングに落ちて、最終製品の外観または機能面のいずれかに悪影響を及ぼす可能性がある。工業的環境において、方法および処理機器を囲む周囲条件には、外部からの物質が含まれる。大容積乾燥ユニットにおいて、外部からの物質は、従来の乾燥システムの大容量のフローにより収集システムに吸い込まれる。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
ここで開示される発明は、低容積のろ過空気または特別なガスを用いて、制御された環境において不定の長さの可動基材をコーティングする方法および装置を含む。開示される方法および装置は、少なくともコーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションまで可動基材を密閉する密結合エンクロージャ（ｃｌｏｓｅ−ｃｏｕｐｌｅｄ  ｅｎｃｌｏｓｕｒｅ）を利用するものであり、密結合エンクロージャには、密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスが供給されている。本発明は、このように、一態様において、密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスをエンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法を提供する。
【０００６】
本発明は、他の態様において、コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、コーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、基材が、密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置を提供する。
【０００７】
本発明は、更に他の態様において、密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における物質変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスをエンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法を提供する。
【０００８】
本発明は、更に、他の態様において、コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、コーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、基材が、密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における物質変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置を提供する。
【０００９】
ここに開示される本発明の上記およびその他の利点は、添付の図面を鑑みたときに、以下の詳細な説明から当業者には明白になるであろう。
【００１０】
添付の様々な図面において、同じ参照符号は同じ構成要素を示している。図面の要素の縮尺は合っていない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
可動基材またはかかる基材をコーティングする装置に関して用いるとき、「下流」および「上流」という単語は、それぞれ、基材運動方向とその逆の方向をそれぞれ指す。
【００１２】
可動基材をコーティングする装置あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「前縁」および「後縁」という単語は、それぞれ、基材が列挙した装置、要素またはステーションに入る、または出る領域のことを指す。
【００１３】
可動基材またはかかる基材をコーティングする装置に関して用いるとき、「幅」という単語は、基材運動方向に垂直な、基材の平面における長さを指す。
【００１４】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「コーティングアプリケータ」という言い回しは、コーティング組成物の連続または不連続層を基材に適用する装置のことを指す。
【００１５】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「乾燥機」という単語は、コーティング組成物から１種類以上の揮発性液体を除去するのに熱またはその他エネルギーを用いる装置のことを指す。
【００１６】
可動基材をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「相当な乾燥」という言い回しは、空中浮遊微粒子からの汚染を受けにくいコーティングを与えるのに十分な乾燥のことを指す。
【００１７】
可動基材またはかかる基材をコーティングする装置に関して用いるとき、「固化」という単語は、コーティングの少なくとも一部に顕著な相変化を示すほど十分なコーティングにおける硬化、架橋またはその他変更のことを指す。
【００１８】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「硬化ステーション」という言い回しは、コーティング組成物の固化を実施するのに、熱、光、マイクロ波、電子ビームまたはその他エネルギー源を用いる装置のことを指す。
【００１９】
可動基材をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「相当な硬化」という言い回しは、空中浮遊微粒子からの汚染を受けにくいコーティングを与えるのに十分な硬化のことを指す。
【００２０】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「ウェブ取扱い装置」という言い回しは、装置を通して基材を搬送する装置のことを指す。
【００２１】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「制御表面」という言い回しは、基材の主面に略平行で、コーティング品質に影響する雰囲気が制御表面と基材との間に存在するよう、基材に十分近く配置された表面のことを指す。制御表面には、例えば、エンクロージャ筐体、分離板、スリット壁、または基材の主面に略平行なかなりの面積を有するその他表面が含まれる。
【００２２】
可動基材の片側または両側をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「ヘッドスペース」という単語は、基材に垂直なコート側で測定した隣接する制御表面からの距離のことを指す。
【００２３】
可動基材の片側をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「フットスペース」という単語は、基材に垂直な未コート側で測定した隣接する制御表面からの距離のことを指す。
【００２４】
可動基材をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「密結合エンクロージャ」という言い回しは、エンクロージャ全体の平均ヘッドスペースプラス平均フットスペースが約３０ｃｍ以下で、その上流または下流端部が、基材に対してシールされている、またはキャビネット、密閉要素、密閉ステーションまたはその他エンクロージャに接続されたエンクロージャのことを指す。
【００２５】
可動基材の片側をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「上にある」という単語は、基材のコート側またはコートされる側の装置、要素またはステーションのことを指す。
【００２６】
可動基材の片側をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「下にある」という単語は、基材の未コート側の装置、要素またはステーションのことを指す。
【００２７】
可動基材をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「調整ガス」という言い回しは、当該の少なくとも１つの特性において装置を囲む周囲空気とは違うガスのことを指す。
【００２８】
可動基材をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションに関して用いるとき、「粒子数」という言い回しは、２８．３リットルの容積中の０．５μｍ以上の粒子の数を指す。
【００２９】
可動基材をコーティングする密閉装置、あるいはかかる装置の密閉要素またはステーションにおける雰囲気について当該の物理特性（例えば、粒子数）に関して用いるとき、「実質的」という単語は、装置、要素またはステーションを囲む周囲空気に比べて、当該の特性が少なくとも５０％減少または増加することを指す。
【００３０】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「負圧」という言い回しは、装置、要素またはステーションを囲む周囲空気の圧力より低い圧力を指し、「正圧」という言い回しは、装置、要素またはステーションを囲む周囲空気の圧力より高い圧力を指す。
【００３１】
可動基材をコーティングする装置、あるいはかかる装置の要素またはステーションに関して用いるとき、「圧力勾配」という言い回しは、装置、要素またはステーションの内部部分と、装置、要素またはステーションを囲む周囲空気との間の圧力差を指す。
【００３２】
開示された密結合エンクロージャの略端部間の実行を用いるウェブライン１を図１に示す。巻き出し（巻き戻し）リール１０および巻き取り（テークアップ）リール１５４は、キャビネット１２および１５６の内側に位置している。キャビネット１２および１５６は、一般的に、密結合エンクロージャを用いる利点はなく、その代わりに、大きな未コートまたはコートウェブロールを収容し、ロールの交換および搬送を容易にする、十分な空間と整理された内部があるのが望ましい。キャビネット１２および１５６は、所望により、通気しなくても、周囲空気で通気しても、または好適な調整ガスのストリームを供給してもよい。未コートウェブ１４は、巻き戻しリール１０から、搬送ロール１６を超えて、１番目の密結合エンクロージャ１８へと通過する。その操作の詳細については後述してある。密結合エンクロージャ１８は、それぞれ、ウェブ１４の主面に近接配置された、下にある制御表面２０と、上にある制御表面２２とを含む。ウェブ１４は、次に、ウェブクリーニング装置２４を通過する。装置２４は、望ましくない異物、表面油またはその他汚染物質を、ウェブ１４の少なくとも一表面から除去するのに当業者に知られた様々な方法（例えば、プラズマ処理または粘着性ロール）を用いてよい。装置２４は、所望により、通気しなくても、または好適な調整ガスのストリームを供給してもよい。後者の例において、調整ガスは、上流または下流で隣接したエンクロージャへと流れる。ウェブ１４は、次に、クリーニング装置２４から、下にある制御表面３０と上にある制御表面３２とがウェブ１４の主面に近接配置された２番目の密結合エンクロージャ２８を通って、下塗り装置３４へと通過する。装置３４は、後に適用されるコーティングを受けるウェブ１４の少なくとも一表面を作成するのに当業者に知られた様々な方法（例えば、コロナ処理）を用いてよい。装置３４は、所望により、通気しなくても、または好適な調整ガスのストリームを供給してもよい。後者の例において、調整ガスは、上流または下流で隣接したエンクロージャへと流れる。
【００３３】
清浄にしコロナ処理したウェブ１４は、次に、コロナ処理機３４から、下にある制御表面４０と上にある制御表面４２とがウェブ１４の主面に近接配置された３番目の密結合エンクロージャ３８を通過する。密結合エンクロージャ３８には、下流入口４６を通って密結合エンクロージャ３８へ流れ、上流出口４８を通って出る調整ガスのストリーム４４を供給してもよい。調整ガスのストリーム４４は、当該の少なくとも１つの特性において、周囲空気とは異なり、例えば、１種類以上のガス（水分を含む）の有無、異なる（例えば、少ない）粒子数または異なる温度により、異なる化学組成である。例えば、加湿器／除湿機４５を用いて、調整ガスのストリーム４４の水分含量を変更し、ウェブ１４へ水分を与えたりウェブ１４から除去してもよい。
【００３４】
ウェブ１４は、次に、シール５２を通って、４番目の密結合エンクロージャ５４へ移動する。密結合エンクロージャ５４は、一部、シール５２、バッキングロール５６および上下クラムシェル筐体５８、６０に結合していて、ダイエンクロージャシステムを形成している。ダイエンクロージャシステムに関する更なる詳細については、その開示内容が本明細書に参照により援用される米国特許第６，１１７，２３７号明細書（ヤペルら（Ｙａｐｅｌ  ｅｔ  ａｌ．）に見出される。コーティングダイ６２は、コーティング材料６４の１層以上をウェブ１４の主側面に適用する。ウェブ１４の他の主側面は、バッキングロール５６と接触する。バッキングロール５６は、適切な温度制御システム（図１には図示せず）を用いて加熱されて、例えば、適用コーティング品質または固化制御が改善される。密結合エンクロージャ５４には、調整ガスのストリーム６６、６８が供給される。調整ガスのストリーム６６に加えて、コーティングダイ６２から上流に真空を用いると（図１には図示せず）、適用したコーティングを安定化させる補助となる。コーティングダイ６２（すなわち、上部筐体６０の後縁またはその近傍）から下流に配置された検査または測定ステーション７０は、操作者が、コーティング品質を監視するための透明視界窓および照射装置の形態であっても、当業者に知られた数多くのその他の装置または機器のいずれかであってもよい。
【００３５】
コーティングの沈着に続いて、コーティングを濡らし、延ばし、最終的に固化させる。例えば、冷却、加熱、反応または乾燥をはじめとする手段により固化させてもよい。これらのプロセスの適切な制御およびコーティング汚染や妨害の防止は、１つ以上の追加の密結合エンクロージャを用いることにより促進させることができる。例えば、ウェブ１４は、バッキングロール５６から、搬送ロール７７へと、下にある制御表面７４と上にある制御表面７６とがウェブ１４の主面に「平坦」ギャップ構成で近接配置された５番目の密結合エンクロージャ７２を通過する。密結合エンクロージャ７２には、入口（図１には図示せず）を通って密結合エンクロージャ７２へ流れる分離調整ガスのストリーム（図１には図示せず）を供給してもよい。分離調整ガスのストリームは、密結合エンクロージャ７２には必要でない。例えば、密結合エンクロージャ７２は、ウェブ１４の移動方向にウェブ１４と筐体６０との間を移動する調整ガスのストリーム６８の一部を単純に受けてもよい。密結合エンクロージャ７２は、例えば、不均一に適用されたコーティングを延ばし、セルフレベリングできるレベリングゾーンであってもよい。かかるレベリングゾーンにおける操作条件は、一般的に、コーティング表面から周囲密結合エンクロージャまでの物質移動を最小にすることにより（例えば、調整ガス速度、湿度または温度を制御することにより）、乾燥速度を最小にするよう設定される。これは、コーティング粘度を低く保つ作用をし、コートしたフィルムにおける不均一性をレベリングする補助となる。あるプロセスにおいては、流れによる不均一性が形成される前にできるだけ早く固化を行うのが望ましい。かかるプロセスにおいては、コーターから下流の密結合エンクロージャゾーンの操作条件は、高乾燥速度に設定される。密結合エンクロージャ７２はまた、追加の要素または層をコーティングに追加する、またはコーティング中の「かぶり」を防止する乾燥した環境を与えるように構成されていてもよい。
【００３６】
更なる制御された乾燥または溶剤回収は、下にある制御表面８０、８６と上にある制御表面８２、８８とがそれぞれウェブ１４の主面に近接配置された６番目または７番目の密結合エンクロージャ７８、８４を用いて行ってもよい。密結合エンクロージャ７８、８４は、米国特許第４，９８０，６９７号明細書、同第５，５８１，９０５号明細書、同第５，６９４，７０１号明細書、同第５，８１３，１３３号明細書、同第６，０４７，１５１号明細書および同第６，１３４，８０８号明細書に記載されているようなギャップ乾燥システムであってもよい。密結合エンクロージャ７８、８４がギャップ乾燥システムであるとき、凝縮溶剤ストリーム９０、９２は、密結合エンクロージャ７８、８４の下端で収集することができる。
【００３７】
図２に、ギャップ乾燥機２００の概略断面図を示す。乾燥機２００は、小さなギャップＧにより分離された熱板２０２と、冷却板２０４とを有している。コーティング２０８を有するウェブ２０６は、エネルギーを供給して、溶剤をコーティング２０８から蒸発させる熱板２０２に通過させることにより乾燥してもよい。冷却板２０４は、ギャップＧを超えた凝縮および溶剤蒸気移動に駆動力を与える。冷却板２０４には、凝縮溶液が、コートされた表面へ滴り戻るのを防ぐ構造化（例えば、溝付き）表面２１０を与える。その代わりに、凝縮溶剤ストリーム２１２は、冷却板２０４から、溶剤回収システム（図２には図示せず）に接続された収集トラフ２１４へとポンプオフされる。このように、ウェブ２０６をギャップＧを通して搬送する際に、乾燥と溶剤回収の両方を同時に行ってもよい。かかるギャップ乾燥システムのウェブの搬送は、米国特許第６，５１１，７０８号明細書（コルプら（Ｋｏｌｂ  ｅｔ  ａｌ．））に記載されているような角を丸めた板ウェブ浮揚を用いることにより促してもよい。角を丸めた板によるウェブ浮揚によって、フットスペースを最小にしつつ（すなわち、４ｍｍ以下）、可動基材を支持および加熱する制御可能な掻き傷のないシステムを提供することができる。
【００３８】
図１を再び参照すると、ウェブ１４は、密結合エンクロージャ８４を出て、搬送ロール９４から搬送ロール１１６まで従来の乾燥オーブン９６を通り、そこで例えば、１つ以上の対流、伝導または放射により、ウェブ１４への熱転写およびそのコーティングの固化がなされる。所望であれば、ウェブ１４およびそのコーティングの適時の温度調整を可能とするために、多数の温度ゾーンおよび制御をオーブン９６中で用いてもよい。ウェブ１４は、次に、８番目の密結合エンクロージャ９８の形態で転移ゾーンを通過する。密結合エンクロージャ９８は、平坦ギャップ構成で、ウェブ１４の主面に近接配置された、下にある制御表面１００と、上にある制御表面１０２とを含む。ウェブ１４は、密結合エンクロージャ９８を出て、搬送ロール１１６を通過する。
【００３９】
コートされた基材の中には、乾燥、硬化または乾燥と硬化の両方の組み合わせを必要とするものがある。硬化は、当業者に知られた様々な機構および硬化ステーション（例えば、ＵＶ放射を用いて１００％固体または溶剤含有（例えば、含水）コーティング組成物）を用いて実施される。硬化は、ウェブ１４の主面に近接配置された、下にある制御表面１２２と、上にある制御表面１２４とを含む９番目の密結合エンクロージャ１２０において実施してもよい。ＵＶランプ１２６は、上にある制御表面１２４へ一体化される。必要な場合、密結合エンクロージャ１２０には、入口１３０を通して不活性ガスストリーム１２８を供給してもよい。必要な場合、硬化中の温度制御は、下にある制御表面１２２等の密結合エンクロージャ１２０におけるコンポーネントの熱転写特性の適切な選択または制御により実施することができる。硬化はまた、オーブン９６での乾燥前、または開示されたウェブ取扱いプロセス内のその他の位置で、または全体に施されたコーティング組成物の性質に応じて実施することもできる。乾燥は、同様に、コーティング組成物の性質に応じて、全体に施すことができる。
【００４０】
ウェブ１４は、次に、転写ロール１３２、１４４を超えて、下にある制御表面１３６と上にある制御表面１３８とがウェブ１４の主面に近接配置された１０番目の密結合エンクロージャ１３４を通過する。光源１４０およびカメラまたは測定機器１４２（または、当業者に知られたその他測定または検査装置）は、それぞれ、下にある制御表面１３６と上にある制御表面１３８へと一体化される。
【００４１】
ウェブ１４は、転写ロール１４４、１５２を超えて、下にある制御表面１４８と上にある制御表面１５０とがウェブ１４の主面に近接配置された１１番目の密結合エンクロージャ１４６を通過してもよい。密結合エンクロージャ１４６は、平衡ゾーンとして作用して、ウェブ１４およびその固化コーティングを、テープアップリール１５４でのロール形成の前に、１つ以上の所望の条件（例えば、温度、湿度またはウェブ張力）に調整する。
【００４２】
ここで開示されるプロセスおよび装置では、図１に示す密結合エンクロージャを全て用いる必要はなく、示したものとは異なる密結合エンクロージャまたはプロセス、あるいは示したものより多い数の密結合エンクロージャまたはプロセスを用いてもよい。開示される密結合エンクロージャ２つ以上をウェブプロセスにおいて直列に相互接続して、多数の連続ゾーンまたはアプリケーションを作成してもよい。各個々の密結合エンクロージャは、異なる圧力、温度およびヘッドスペースまたはフットスペースギャップで操作して、処理および材料別形に対処させてもよい。個々の密結合エンクロージャは、１つ、または２つ以上の調整ガス入口またはガス取り出し装置を有する、または有していなくてもよい。いくつかの密結合エンクロージャにおいて正圧を、他の密結合エンクロージャにおいては負圧を維持または設定することができる。少なくともコーティング適用点から（すなわち、コーティングダイを用いるときは、コーティングビーズの後縁から）、相当の乾燥または相当の硬化がなされる少なくとも１つのステーションまで、相互接続密結合エンクロージャを用いることが推奨される。かかる相互接続によって、僅か少量の調整ガスを用いつつ、未固化コーティングの汚染を防止し、コートされた基材を直接取り巻く雰囲気中での粒子数の制御を促す連続的な保護がなされる。相当の乾燥または相当の硬化がなされる少なくともステーションを通して少なくともコーティング適用点から密結合エンクロージャを用いることにより、コーティング条件を更に制御することができる。少なくともコーティング適用点からプロセス中の少なくとも最後の乾燥または硬化ステーションまで密結合エンクロージャを用いることにより、コーティング条件を一層制御することができる。プレコーティングステーション（すなわち、クリーニングまたは下塗りステーション）からコーティング適用点まで密結合エンクロージャを用いることにより、更に制御することもできる。一つの例示的実施形態において、コートした基材は、少なくともコーティングを適用してから、コーティングが固化するまで、周囲空気に曝さない。開示された装置はまた、密結合エンクロージャに相当しない１つ以上のセクションも含んでいてもよいが、かかるセクションの数、合計体積およびガスフローパターンは、基材の望ましくない汚染が生じないようなものとするのが望ましい。
【００４３】
所望であれば、調整ガスのストリームは、ウェブライン１に沿って、図１に示したものよりも多い、または少ない位置で、注入することができる（またはガスを取り出すことができる）。一つの例示的実施形態において、調整ガスのストリームをいくつかの相互接続密結合エンクロージャの少なくとも１番目に供給して、調整ガスを可動基材に沿って下流密結合エンクロージャへ搬送する、または上流エンクロージャまたはプロセスに押すことができる。他の例示的実施形態において、調整ガスのストリームは、いくつかの相互接続密結合エンクロージャのいくつかにおいて、やや正圧を維持する、または設定する必要がある場合は注入することができる。さらに他の例示的実施形態において、調整ガスのストリームは、いくつかの相互接続密結合エンクロージャのそれぞれにおいて、やや正圧を維持する、または設定する必要がある場合は注入することができ、他の相互接続密結合エンクロージャにおいて、やや負圧またはゼロの圧力を維持する、または設定することができる。更に他の例示的実施形態において、調整ガスのストリームは、いくつかの相互接続密結合エンクロージャのそれぞれで注入することができる。
【００４４】
クリーンルームは、任意でウェブライン１を囲むことができる。しかしながら、これは、今日一般的に用いられるよりも、格付けが低く、体積が小さくなる。例えば、クリーンルームは、可撓性ハンギングパネル材料を用いたポータブルモデルとすることができる。同様のクリーンルームは、図１のキャビネット１２および１５６に加えて、またはこれに代えて用いることができる。
【００４５】
当業者であれば、ここで開示される装置は、可動基材の両主面をコートするのに容易に適用することができることが分かるであろう。当業者であればまた、ロールコーター、スライドコーター、バスコーター、スプレーコーター、流体含有コーター等をはじめとする様々なコーティング装置を用いてよいことも分かるであろう。また、多孔性空気管、エアバーおよびエアホイルをはじめとする当業者に知られた様々なウェブ支持システムを、開示したプロセスおよび装置で用いてもよい。
【００４６】
図１に示したクリーニングおよび下塗り操作に加えて、またはこれに代えて、本書と同日出願の同時係属中の米国特許出願第（代理人整理番号５５７５２ＵＳ０１９）号明細書「乾燥変換プロセスおよび装置（ＤＲＹ  ＣＯＮＶＥＲＴＩＮＧ  ＰＲＯＣＥＳＳ  ＡＮＤ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ）」に記載されているような、乾燥変換操作等の様々なその他の乾燥変換操作を、開示した装置およびプロセスに用いてもよい。
【００４７】
開示されるプロセスの一実施形態において、不定の長さの可動基材は、近接するガス相のある少なくとも一主面を有している。基材は、基材と制御表面との間の制御ギャップを画定するために、基材の表面近傍において制御表面を有する装置で処理される。制御ギャップは、基材のコート側（またはコートされる側）と制御表面との間の制御ギャップについては「ヘッドスペース」と、基材の未コート側と制御表面との間の制御ギャップについては「フットスペース」と呼ばれる。
【００４８】
ガス導入装置を有する第１のチャンバは、制御表面近くに配置される。ガス取り出し装置を有する第２のチャンバは、制御表面近くに配置される。制御表面および両チャンバは、併せて、近接するガス相がある量の質量を有する領域を画定する。近接するガス相からの質量の少なくとも一部が、領域からフローを誘導することによりガス取り出し装置を通して搬送される。質量フローが以下の成分へ分かれている。Ｍ１は、圧力勾配から得られる領域へ、または領域から基材の幅の単位当たりの合計正味時間平均質量フローを意味し、Ｍ１’は、ガス導入装置から第１のチャンバを通って領域への単位幅当たりのガスの合計正味時間平均質量フローを意味し、Ｍ２は、基材またはコーティングの少なくとも一主面から、または一主面への単位幅当たりの調整ガス、あるいは領域への、または領域からのコーティングの時間平均質量フローを意味し、Ｍ３は、材料の動きから得られる領域への単位幅当たりの合計正味時間平均質量フローを意味し、Ｍ４は、ガス取り出し装置を通る単位幅当たりの質量移動の時間平均速度を意味し、ここで「時間平均質量フロー」は、
【００４９】
【数１】
2007530254.tif 000003
【００５０】
により表され、式中、ＭＩはｋｇ／秒での時間平均質量フローであり、ｔは秒での時間であり、ｍｉはｋｇ／秒での瞬間質量フローである。
ガス相の質量フローは、式
Ｍｌ＋Ｍｌ’＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４      （式Ａ）
で表される。
【００５１】
Ｍ１、Ｍ１’、Ｍ２、Ｍ３およびＭ４を更に図３で説明する。図３は、密結合エンクロージャ３００の概略側断面図である。基材３１２は、近接するガス相（図３には図示せず）を備えた少なくとも一主面３１４を有する。基材３１２は、制御表面３１５下で、矢印「Ｖ」の方向に動いて、制御ギャップ「ＧC」を画定する。ガス導入装置３１８を有する第１のチャンバ３１７は、制御表面３１５近傍に配置されている。ガス導入装置３１８の正確な形態は色々であり、ガスナイフ、ガスカーテンまたはガスマニホルド等の手段を用いることができる。例示的実施形態には、プレナムの形態で第１のチャンバ３１７が図示されているが、ガス導入装置３１８が、必ずしも制御表面３１５のレベルから少し距離をおいて配置されている必要はない。第２のチャンバ３１９もまた、制御表面３１５近傍に配置されており、ガス取り出し装置３２０を有している。ここでも、例示的実施形態には、プレナムの形態で第２のチャンバ３１９が図示されているが、ガス取り出し装置３２０が、必ずしも制御表面３１５のレベルで配置されている必要はない。例示的実施形態において、第１のチャンバ３１７と第２のチャンバ３１９は、図３に図示する通り、制御表面３１５の対向する端部にある。第１のチャンバ３１７は、第１のチャンバ３１７と基材３１２との間に第１のギャップＧ１を画定している。第２のチャンバ３１９は、第２のチャンバ３１９と基材３１２との間に第２のギャップＧ２を画定している。ある実施形態において、第１のギャップＧ１、第２のギャップＧ２、および制御ギャップＧCは全て高さが等しいが、他の実施形態においては、第１のギャップＧ１または第２のギャップＧ２のうち少なくとも１つが制御ギャップＧCとは異なる高さを有している。第１のギャップ、第２のギャップおよび制御ギャップが全て１０ｃｍ以下のときに最良の結果が得られると考えられる。ある例示的実施形態において、第１のギャップ、第２のギャップおよび制御ギャップは全て５ｃｍ以下、３ｃｍ以下、更にこれより小さい値、例えば、２ｃｍ以下、１．５ｃｍ以下、０．７５ｃｍ以下である。所望の低粒子数を得るために必要なエアフローは、ヘッドスペースとフットスペースを組み合わせたものの二乗により一部変わるため、開示されたギャップは比較的小さな値であるのが望ましい。同様に、平均ヘッドスペースと平均フットスペースの合計が１０ｃｍ以下、５ｃｍ以下、３ｃｍ以下、更にこれより小さい値、例えば、２ｃｍ以下、１．５ｃｍ以下、０．７５ｃｍ以下のときに最良の結果が得られると考えられる。
【００５２】
ギャップＧC、Ｇ１およびＧ２に加えて、図３の伸張部３２３および３２５等の機械的特徴を用いることにより、蒸気成分の希釈を最小にしてもよい。ギャップＧ３およびＧ４を有する伸張部３２３および３２５を、装置の上流または下流両端部の一方に加えてもよい。当業者であれば、伸張部は、装置の様々な部材に固定したり、特別な目的で選択した特定の実施形態に応じて別の形状を与えてもよいことが分かるであろう。伸張部により「カバーされる」基材面積が増えるにつれて希釈は通常減少する。制御表面３１５と、第１のチャンバ３１７と、第２のチャンバ３１９と、基材３１２の表面３１４との間の近接するガス相は、ある量の質量を保持する領域を画定する。伸張部３２３および３２５は、更に、ある量の質量を保持する近接するガス相を有する制御表面下の領域を画定する。領域の質量は、通常、ガス相にある。しかしながら、当業者であれば、領域はまた、液相か固相のいずれか、または３つの相の全ての組み合わせである質量を含有することも分かるであろう。
【００５３】
ここに開示されるプロセスを実施するときに、密結合エンクロージャ３００で生じる様々なフローストリームを図３に示す。Ｍ１は、圧力勾配から得られる領域へ、または領域からの幅の単位当たりの合計正味時間平均質量フローである。Ｍ１は、符号付の数字であり、図面に示す通り、領域から小さな流出を表すときは負、図示した矢印とは逆の領域への小さな流入を表すときは正である。Ｍ１の正の値は、実質的に、希釈ストリーム、および望ましくは減じた、より望ましくは相互接続密結合エンクロージャを構成する装置の全体部分について負とさせた汚染源を表す。Ｍ１’は、ガス導入装置３１８から、領域への単位幅当たりの調整ガスの合計正味時間平均質量フローである。十分なレベルになると、Ｍ１’は密結合エンクロージャにおける粒子数を減じる。Ｍ１’は、Ｍ１’が希釈できるよう主面３１４の清浄度を十分に改善するのが望ましい。コーティング３１４の妨害を制限するために、過剰に高いＭ１’フローは、避けるのが望ましい。Ｍ２は、基材またはコーティングの少なくとも一主面から、または一主面への単位幅当たりの、あるいは領域への、またはチャンバを通るコーティングの時間平均質量フローである。Ｍ２は、実質的に、溶剤またはその他材料の密結合エンクロージャ３００への展開を表す。Ｍ３は、基材の動きから得られる領域への、およびチャンバを通る単位幅当たりの合計正味時間平均質量フローである。Ｍ３は、実質的に、動いている基材に沿ったガス掃引を表す。Ｍ４は、ガス取り出し装置３２０を通る単位幅当たりの移動した質量の時間平均速度である。Ｍ４は、Ｍ１＋Ｍ１’＋Ｍ２＋Ｍ３の合計を表す。
【００５４】
密結合エンクロージャを通る質量フローは、密結合エンクロージャの上流または下流入口または出口、あるいは密結合エンクロージャの接続鎖で可動基材に関して好適なシール（すなわち、「可動基材シール」）を用いることにより補助される。シールは、密結合エンクロージャにガスが出入りするのを防ぐために、掃引として作用する。コーティングヘッドは、コーティングビーズが基材と接触する場合には組み込み液体シールを提供することができる。シールはまた、例えば、強制ガス、機械的、または米国特許第６，５５３，６８９号明細書に示されるもの等の伸縮自在な機械的シール、あるいは対向するニップロール対も含むことができる。伸縮自在な機械的シーリング機構によって、上にある厚いコーティング、継手およびその他予期せぬ条件を通過させることができる。１つ以上の隣接する調整ガスフロー速度を増加させて（あるいは、１つ以上の隣接するガス取り出し速度を減少または切り替えて）、シール近傍の所望の雰囲気を維持するのが望ましい。一対の対向するニップロールは、例えば、コーティング装置から上流、またはコーティングが十分に固化して、ニップロール圧縮に耐える（またはそれから利点が得られる）点から下流に配置してよい。
【００５５】
基材表面近傍に制御表面を用いることにより、調整ガスの供給および正または小さな負の圧力勾配、材料粒子数減少が密結合エンクロージャ内で得られる。圧力勾配Δｐは、チャンバの下部周囲の圧力ｐｃと、チャンバ外の圧力ｐｏとの差として定義される。ここで、Δｐ＝ｐｃ−ｐｏである。調整ガスの適切な使用および圧力勾配の調整により、例えば、５０％以下、７５％以下、９０％以下、更に９９％以下の粒子数減少が得られる。例示的圧力勾配は、少なくとも約−０．５Ｐａ以上（すなわち、より正の値）である。他の例示的圧力勾配は、正の圧力勾配である。一般的に、圧力が大きいと、速い可動基材速度に耐えることができる。圧力が大きいとまた、一連の相互接続密結合エンクロージャの上流および下流端部で可動基材シールを用いるときに耐えることもできる。当業者であれば、未固化コーティングにおける不当な妨害を避けながら、開示された装置の適切な部分内を望ましい低粒子数とするために、密結合エンクロージャ圧力はこれらおよびその他因子に基づいて調整されるということが分かるであろう。
【００５６】
開示されるプロセスおよび装置はまた、実質的に、チャンバを通して搬送された希釈ガスフローＭ１も減じる。開示されたプロセスおよび装置は、例えば、０．２５ｋｇ／秒／メートル以下の絶対値にＭ１を限定している。Ｍ１は、例えば、ゼロ未満であっても（すなわち、密結合エンクロージャからの正味の流出を表す）、−０．２５ｋｇ／秒／メートルを超えてもよい。他の例示的実施形態において、Ｍ１は、ゼロ未満であっても、−０．１ｋｇ／秒／メートルを超えてもよい。以下の実施例に示す通り、エンクロージャの小さな負圧（やや正のＭ１フローに対応する）に耐えることができる。しかしながら、エンクロージャの大きな負圧（大きな正のＭ１フローに対応する）によって、近接するガス相の質量の希釈、粒子およびその他空中浮遊汚染物質の導入、ならびに、未制御の成分、温度または湿度の導入をはじめとする悪影響が引き起こされる恐れがある。
【００５７】
一つの例示的実施形態において、Ｍ１’とＭ４を適切に制御することによりプロセスを制御する。調整ガスのストリーム（例えば、制御された湿度の清浄な不活性ガス）の慎重な流入により、希釈を不当に増大することなく、密結合エンクロージャ内の清浄な制御された雰囲気を実質的に促すことができる。Ｍ１’を導入し、Ｍ４を取り出す体積および条件を慎重に制御することによって（および、例えば、密結合エンクロージャにおいてやや正圧を維持することにより）、フローＭ１を大幅に削減することができ、密結合エンクロージャ粒子数を大幅に減少することができる。更に、Ｍ１’ストリームは、反応性またはその他成分、あるいはＭ４から再生された任意で少なくとも数種の成分を含有していてもよい。
【００５８】
密結合エンクロージャの制御表面を基材主面に近接配置させること、そして圧力勾配を比較的小さくすることによって、最小の希釈で、密結合エンクロージャを通る近接するガス相における質量の搬送が可能となる。このように、高濃度での低いフロー速度で搬送し収集する。開示されたプロセスはまた、近接するガス相に配置された比較的少量の質量を搬送し収集するのにも好適である。
【００５９】
ヘッドスペースまたはフットスペースは、上流端部から下流端部まで、密結合エンクロージャの幅にわたって、実質的に均一である。ヘッドスペースまたはフットスペースはまた、特定の用途について変えても、不均一としてもよい。密結合エンクロージャは、基材より広い幅を有していてもよく、圧力勾配（Ｍ１）から単位幅当たりの時間平均質量フローを更に減じる密閉側を有しているのが望ましい。密結合エンクロージャはまた、異なる形状寸法の材料表面に沿うように設計することもできる。例えば、密結合エンクロージャは、シリンダ表面に沿う角を丸めた周囲を有することができる。
【００６０】
密結合エンクロージャはまた、密結合エンクロージャを通して搬送された質量の相を制御する１つ以上の機構を含んでいてもよく、これによって、質量中の成分の相変化を制御する。例えば、従来の温度制御装置を、密結合エンクロージャに組み込んで、密結合エンクロージャの内部で凝縮物が形成されるのを防止する。これによって、固化したコーティングにおけるかぶりを防止する補助となる。好適な温度制御装置としては、加熱コイル、電気ヒータ、外部熱源および熱転写流体が挙げられるがこれらに限られるものではない。
【００６１】
任意で、ガス相組成物の組成に応じて、取り出しガスストリーム（Ｍ４）を、通気またはろ過し、密結合エンクロージャを出た後に通気してもよい。開示されたプロセスを、ガス相組成物の連続収集に用いてもよい。ガス相組成物は、１つ以上の密結合エンクロージャから後の処理位置まで、例えば、希釈なしに流れる。後の処理には、例えば、ガス相における１種類以上の成分の分離や分解等の任意の工程が含まれる。収集した蒸気はまた、分離プロセスの前にろ過可能な液相混合物または微粒子物質も含有する。分離処理はまた、制御したやり方で密結合エンクロージャ内で内部でも生じる。好適な分離処理は、当業者に知られており、ガス状ストリーム中の蒸気組成物の濃縮、ガス状ストリーム中の希釈蒸気組成物の直接凝縮、ガス状蒸気中の濃縮蒸気組成物の直接凝縮、直接二段凝縮、活性カーボンまたは合成吸着媒体を用いたガス状ストリームにおける希釈蒸気組成物の吸着、活性カーボンまたは合成吸着媒体を用いたガス状ストリーム中の濃縮蒸気組成物の吸着、高吸収特性を備えた媒体を用いたガス状ストリーム中の希釈蒸気相成分の吸収、および高吸収特性を備えた媒体を用いたガス状ストリーム中の濃縮蒸気相成分の吸収が挙げられる。蒸気組成物の高濃度および低容積のフローは、従来の分離実施の全体的な効率を高める。例えば、蒸気成分の少なくとも一部を、０℃以上の温度で蒸気成分の後の分離が可能となるよう十分に高い濃度で捕捉してもよい。この温度は、分離プロセス中の霜の形成を防ぎ、機器とプロセス利点の両方を与える。好適な分解プロセスもまた当業者に知られており、熱酸化装置等の従来の装置が挙げられる。
【００６２】
特定のガス相組成物に応じて、密結合エンクロージャは、任意で、フレームアレスタ能力を有する。密結合エンクロージャ内の内側に配置されたフレームアレスタ装置によって、大規模火災や爆発を防ぐために、ガスは通すが、火炎は消火することができる。火炎は、自己発熱（エネルギー生成）化学反応が生じるある容積のガスである。フレームアレスタ装置は、操作環境が、酸素、高温、および可燃性混合物を作成するために、好適な比率で、酸素と混合された可燃性ガスを含むときに通常必要とされる。フレームアレスタ装置は、言及した要素のうち１つを除去することによって動作する。一つの例示的実施形態において、ガス相成分は、熱吸収材料と接する狭いギャップを通過する。ギャップと材料の両方のサイズは、特定の蒸気組成に応じて異なる。例えば、全国防火協会規格に従ったサイズのメッシュ開口部を備えた微細金属スクリーンにより下部に含まれる、例えば、アルミニウム等の膨張した金属熱吸収材料でチャンバを充填してもよい。開示されたプロセスおよび装置に用いてよい任意の分離装置および搬送機器もまたフレームアレスタ能力を有していてもよい。当業者であれば、かかる装置および機器に用いるのに好適なフレームアレスタ装置および技術を知っているであろう。
【００６３】
開示されるプロセスおよび装置を用いて作成可能な代表的な物品としては、例えば、ポリマー、顔料、セラミックスまたはペーストを含有するコーティングが挙げられる。基材は、例えば、ポリマー、織材料または不織材料、ファイバー、粉末、紙、食品、薬品またはこれらの組み合わせとしてよい。コーティングは、少なくとも１種類の蒸発成分を含んでいても、または１００％固体コーティング組成物であってもよい。存在する場合は、蒸発成分は、コートした基材から蒸発および分離可能な液体または固体組成としてもよい。水やエタノール等の、有機化合物および無機化合物またはこれらの組み合わせが例示されるがこれらに限られるものではない。十分なエネルギーを物品に供給して、少なくとも１種類の蒸発成分を蒸発させる、またはコーティングを硬化する、あるいはその両方とする。供給したエネルギーは、放射、伝導、対流またはこれらの組み合わせを伴ってもよい。例えば、伝導加熱には、基材またはコーティングを平加熱板、湾曲した加熱板へ接近させて通過させる、または基材を加熱シリンダで部分的に包むことが含まれる。対流加熱としては、ノズル、ジェットまたはプレナムにより物品にホットエアを向けることが例として挙げられる。無線周波、マイクロ波または赤外等の電磁放射線を基材またはコーティングに向けて、吸収させて、内部加熱を引き起こしてもよい。エネルギーは、基材またはコーティングのいずれか、または全ての表面に供給してもよい。更に、基材またはコーティングには、十分な内部エネルギーを供給し、例えば、予熱基材または発熱化学反応を基材またはコーティングで生じさせる。様々なエネルギー源を個別に、または組み合わせて用いてよい。当業者であれば、列挙したエネルギーが、電気、燃料の燃焼およびその他熱源をはじめとする様々な源から供給されることが分かるであろう。エネルギーは、適用点へ直接、あるいは水や油等の加熱液体、空気等の加熱ガス、不活性ガス、水蒸気等の加熱蒸気または従来の熱移動流体を通して間接的に供給してもよい。
【００６４】
密結合エンクロージャを通る合計質量フロー（Ｍ４）を選択して、基材またはコーティング（Ｍ２）からのガス相成分の生成速度に適合またはこれを超えるようにしてもよい。これは、蒸気成分の希釈か損失のいずれかを防ぐ補助となる。
【００６５】
未固化コーティングを妨害し、「斑（ｍｏｔｔｌｅ）」またはその他欠陥を生じるエアフローパターンを排除するのが望ましい。図４は、供給された調整ガス（Ｍ１’）の均一なフローを与える補助となる開示された分配マニホルド４００の斜視図である。マニホルド４００は、筐体４０２と、装着フランジ４０４と、側部スリット４０６とを有している。マニホルド４００に関する更なる詳細を図５に示す。これは、マニホルド４００および関連ガス調整システムの概略部分断面図である。ガス源５０２は、好適なガス（例えば、窒素または不活性ガス）をガス調整システム５０８にライン５０４およびバルブ５０６を介して供給する。システム５０８に、任意で、ライン５１０、５１２、５１４およびバルブ５１１、５１３、５１５を介して追加の反応性種を供給する。システム５０８は、所望の調整ガスのストリームをライン５２０、バルブ５１６およびフローセンサ５１８を介してマニホルド４００に供給する。真空ライン５２２を用いて、フローセンサ５２４、バルブ５２６および真空ポンプ５２８を介してマニホルド４００からガスを取り出してもよい。供給ラインと真空ラインの両方があると、マニホルド４００を、調整ガス導入またはガス取り出し装置として用いることができる。マニホルド４００に入ったガスは、切り替え板５３２周囲で、分配媒体５３４（例えば、３Ｍ社（３Ｍ  Ｃｏ．）より市販されているホワイトスコッチブライド（ＳＣＯＴＣＨＢＲＩＴＥ）（登録商標）不織布を用いてできたもの）を通してヘッドスペース５２０を通過し、スリット４０６に入る前に第１の穿孔板５３６、ＨＥＰＡフィルタ媒体５３８および第２の穿孔板５４０を通過する。ガスケット５４２は、フランジ４０４と穿孔板５４０との間のシールを維持するのを助ける。マニホルド４００は、密結合エンクロージャの幅にわたって、供給した調整ガスの実質的に均一なフローを供給するのを補助することができる。ヘッドスペース５２０における側面の圧力降下は、マニホルド４００の残りの要素の圧力降下に比べて無視できる。当業者であれば、ヘッドスペース５２０の寸法または形状および分配媒体５３４のポアサイズを適宜調整して、分配マニホルド４００の長さにわたり、密結合エンクロージャの幅に沿ってフロー速度を変えてもよいということが分かるであろう。分配マニホルド４００の長さに沿ったフロー速度は、切り替え板５３２に当接し、分配媒体５３４を圧縮するよう構成されたボルトまたはその他好適な装置の列を用いることにより調整することもでき、分配マニホルド４００の長さに沿って圧力降下を調整可能に変えることができる。
【００６６】
図６に、下にある制御表面６０４と上にある制御表面６０６とを有する、その上流端部でギャップ乾燥機６０２に結合した転移ゾーン６００の形態にある密結合エンクロージャを示す。転移ゾーン６００の下流端部は、圧力ｐＢで操作されるプロセス６０８に結合している。ガスケット６１０は、転移ゾーン６００の各端部にシールを提供し、例えば、クリーニングまたはウェブスレッドアップのために上にある、または下にある制御表面を除去することができる。転移ゾーン６００は、ｈ２ａ、ｈ２ｂのヘッドスペース値およびその間の値を与えるように手動または自動的に動作される固定された、上にある制御表面６１１と、配置可能な上にある制御表面６１２（その隆起位置６１３でファントムで示されている）とを有する。上部分配マニホルド６１４を用いて、調整ガスのストリームＭ１’Uを供給してもよい。転移ゾーン６００の下にある側は、筐体６１８の内側に転写ロール６１６と、下にある制御表面６２０とを有している。下部分配マニホルド６２２を用いて、調整ガスのストリームＭ１’Lを供給してもよい。転写ゾーン６００は、各操作圧力において材料差を伴う近接する接続プロセス間での大きなガスフローを防止することにより、斑またはその他欠陥を排除するのに有用である。例えば、転移ゾーンの上流または下流端部の開示された密結合エンクロージャと、転写ゾーンの他端の従来のオーブンとの間には、２倍以上、５倍以上、更に１０倍以上の圧力差がある。
【００６７】
図７および図８は、それぞれ、上にある制御表面７０２、下にある制御表面７０４および側部７０６と７０８を有する密結合エンクロージャ７００の概略断面図および断面図を示す。密結合エンクロージャ７００は長さｌeと幅ｗeを有している。ウェブ１４は、幅ｗを有しており、速度Ｖで密結合エンクロージャ７００を通して搬送される。ガスケット７０９は、上にある制御表面７０２の側部にシールを提供し、（例えば、クリーニングまたはウェブスレッドアップのために）その高さ調整または除去を行うことができる。上にある制御表面７０２と下にある制御表面７０４は、距離ｈe1の間隔が空いている。下にある制御表面７０４は、距離ｈe2、基材１４から間隔が空いている。これらの距離は、上流または下流方向で異なる。上流転移ゾーン７１０は、下および上にあるウェブスロットピース７１１および７１２を有する。これらのウェブスロットピースは、距離ｈ1aの間隔が空いており、長さｌ1を有している。下にあるウェブスロットピース７１１は、距離ｈ1b、ウェブ１４から間隔が空いている。上流プロセス（図７または図８には図示せず）は、転移ゾーン７１０と直接ガス連通しており、圧力ＰAを有している。下流転移ゾーン７１４は、下および上にあるウェブスロットピース７１６および７１８を有する。これらのウェブスロットピースは、距離ｈ2aの間隔が空いており、長さｌ2を有している。下にあるウェブスロットピース７１６は、距離ｈ2b、ウェブ１４から間隔が空いている。下流プロセス（図７または図８には図示せず）は、転移ゾーン７１４と直接ガス連通しており、圧力ＰBを有している。上流または下流プロセスは、密結合エンクロージャ７００等のエンクロージャから大きな圧力差で操作するのに必要なときは、上流または下流プロセスと、密結合エンクロージャとの間の転移ゾーンは、追加の希釈（または排出）蒸気を用いて、プロセスと密結合エンクロージャとの間の圧力差を減少してもよい。例えば、対流オーブンは、大きなガスフローを誘導する大きな負圧（−２５Ｐａは一般的でない）で操作されることが多い。
【００６８】
上部および下部マニホルド７２０および７２２は、それぞれ、密結合エンクロージャ７００の上流端部へガスフローを送る、上流端部へガスフローから出す（例えば、調整ガスのストリームＭ１’UおよびＭ１’L）。上部および下部マニホルド７２４および７２６は、それぞれ、密結合エンクロージャ７００の上流端部へガスフローを送る、上流端部へガスフローから出す（例えば、取り出しガスストリームＭ４UおよびＭ４L）。エンクロージャ内の圧力は、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ13、Ｐ23、Ｐ3およびＰ4で示されている。密結合エンクロージャ７００外の周囲空気圧力はＰatmで表されている。
【００６９】
開示されるプロセスおよび装置は、一般的に、ウェブ取扱いシステムを利用して、不定の長さの可動基材を装置を通して搬送する。当業者であれば、好適な材料取扱いシステムおよび装置を知っているであろう。
【００７０】
操作中、開示される装置の例示的実施形態は、可動コートウェブ周囲の雰囲気中の粒子数を大幅に減じる。開示された装置の例示的実施形態はまた、大幅な希釈や、乾燥システムにおける蒸気成分の凝縮なしに、未固化または固化コーティング（存在する場合）から蒸気成分の少なくとも一部を捕捉してもよい。供給された調整ガスは、コーティング周囲の装置の部分への微粒子の導入を大幅に減じ、最終製品における製品品質問題を減じる、または防ぐ。比較的低いエアフローで、コーティングに対する妨害が大幅に減じ、製品品質問題を更に減じる、または防ぐ。高濃度で蒸気成分を集めると、蒸気成分を効率的に回収することができる。乾燥システム中の凝縮がないこと、または減少することにより、凝縮液がコーティングに落ちることにより生じる製品品質問題を更に減じる、または防ぐ。
【実施例】
【００７１】
実施例１
特定の変数の影響を示すために、単一の密結合エンクロージャを構築した。図９に、密結合エンクロージャ９００の概略側面図を示す。密結合エンクロージャ９００は、上にある制御表面９０２、下にある制御表面９０４および密結合エンクロージャ９００内の圧力、粒子数および酸素レベルを測定するための試料ポートＡ、ＢおよびＣを備えた側部９０６とを有している。上にある制御表面９０２と下にある制御表面９０４は、距離ｈe1の間隔が空いている。下にある制御表面９０４は、距離ｈe2、基材１４から間隔が空いている。上流転移ゾーン９０８は、下および上にあるウェブスロットピース９１０および９１２を有する。これらのウェブスロットピースは、距離ｈ1aの間隔が空いており、長さｌ1を有している。下にあるウェブスロットピース９１０は、距離ｈ1b、ウェブ１４から間隔が空いている。下流転移ゾーン９１４は、下および上にあるウェブスロットピース９１６および９１８を有する。これらのウェブスロットピースは、距離ｈ2aの間隔が空いており、長さｌ2を有している。下にあるウェブスロットピース９１６は、距離ｈ2b、ウェブ１４から間隔が空いている。上部および下部分配マニホルド９２０および９２２は、それぞれ、密結合エンクロージャ９００の上流端部で調整ガスのストリームＭ１’UおよびＭ１’Lを供給する。ウェブ１４は、速度Ｖで密結合エンクロージャ９００を通して搬送される。
【００７２】
下流プロセス９２４は、可動の下にある制御表面９２６、周囲ガス入口９３０と真空出口９３２を備えた上にある制御表面９２８、および上下にあるウェブスロットピース９２６および９２８を有している。これらのウェブスロットピースは、距離ｈB1の間隔が空いている。下にあるウェブスロットピース９２６は、距離ｈB2、ウェブ１４から間隔が空いている。これらのウェブスロットピースは長さｌ3を有している。入口９３０および出口９３２を通るフローを適切に制御することによって、プロセス９２４は、様々な装置、例えば、従来のオーブンをシミュレートすることができる。
【００７３】
本実施例について、密結合エンクロージャ９００は、未コートウェブで用い、その上流または下流端部のいずれかは他の密結合エンクロージャには接続しなかった。このように、ゼロに画定された周囲圧力を備えた周囲の空間は、転移ゾーン９０８から上流に、プロセス９２４から下流にある。空間空気温度は約２０℃であった。
【００７４】
図１０に、上にある制御表面９０２の平面図を示す。表面９０２は、長さｌeと幅ｗeを有しており、それぞれ直径９．７８ｍｍ、面積０．７５ｃｍ2の５列の３つの番号の付いた穴を含んでいる。最低番号の穴は制御表面９０２の上流端部に位置している。穴は、エンクロージャ内の異なる位置の圧力、粒子数および酸素レベルを測定する試料ポートとして用いることができ、開放されたままとするか、または密閉して密結合エンクロージャ９００の開放通風面積を変えてもよい。
【００７５】
粒子数は、ＭＥＴ  ＯＮＥ（登録商標）型番２００Ｌ−１−１１５−１レーザー粒子カウンタ（Ｌａｓｅｒ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｃｏｕｎｔｅｒ）（メットワンインスツルメンツ社（Ｍｅｔ  Ｏｎｅ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，  Ｉｎｃ．）より市販）を用いて測定し、２８．３リットルの容積で、２８．３リットル／分フロー速度にて０．５μｍ以上の粒子の数を求めた。型番ＭＰ４０Ｄ微圧計（エア−ネオトロニクス社（Ａｉｒ−Ｎｅｏｔｒｏｎｉｃｓ  Ｌｔｄ．）より市販）を用いて圧力を測定した。ＩＳＴ−ＡＩＭ（登録商標）型番４６０１ガス検知器（イメージングセンシングテクノロジーコーポレーション（Ｉｍａｇｉｎｇ  ａｎｄ  Ｓｅｎｓｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）より市販）を用いて酸素レベルを測定した。シリーズ４９０ミニ風速計（クルツインスツルメンツ社（Ｋｕｒｚ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．）より市販）を用いてガス速度を評価した。
【００７６】
上下の分配マニホルド９２０および９２２を、窒素供給部に接続し、ドワイヤー（ＤＷＹＥＲ）（登録商標）型番ＲＭＢ−５６−ＳＳＶ流量計（ドワイヤーインスツルメンツ社（Ｄｗｙｅｒ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．）より市販）を用いてフロー速度を調整した。真空出口９３２を、ノルテック（ＮＯＲＴＥＣ）（登録商標）型番７圧縮空気駆動真空ポンプ（ノルテックインダストリーズ社（Ｎｏｒｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．）より市販）に接続した。圧力調整装置およびドワイヤー（ＤＷＹＥＲ）型番ＲＭＢ−１０６流量計（ドワイヤーインスツルメンツ社（Ｄｗｙｅｒ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．）より市販）を用いてフロー速度を調整した。
【００７７】
密結合エンクロージャ９００を、ｌe＝１５６．２ｃｍ、ｗe＝３８．１ｃｍ、ｈe1＝４．４５ｃｍ、ｈe2＝０．９５ｃｍ、ｈ1a＝０．４６ｃｍ、ｈ1b＝０．２３ｃｍ、ｌ1＝７．６２ｃｍ、ｈ2a＝１．２７ｃｍ、ｈ2b＝０．１３ｃｍ、ｌ2＝３．８ｃｍ、ｈB1＝０．４６ｃｍ、ｈB2＝０．２３ｃｍ、ｌ3＝２．５４ｃｍおよびＶ＝０となるように調整した。試料ポートＢ（図９参照）を用いてフロー速度Ｍ１’UおよびＭ１’Lおよび出口９３２でのガス取り出し速度を変えて圧力をモニターすることにより、エンクロージャ圧力を調整した。穴１１（図１０参照）を用いて粒子数をモニターし、試料ポートＣ（図９参照）を用いて酸素レベルをモニターした。入口９３０、制御表面９０２にある残りの穴、および試料ポートＡを密閉して、密結合エンクロージャ９００の開放通風面積を最小とした。図１１（対数粒子数スケールを用いている）および図１２（線形酸素濃度スケールを用いている）に結果を示す。静置ウェブについては、約−０．５Ｐａ以上の圧力で、材料粒子数減少がなされたことが示されている。エンクロージャが正圧だと、粒子数は、計器検出スレショルド以下であった。粒子数および酸素レベルの曲線は互いに非常に似ていた。
【００７８】
実施例２
１８ｍ／分のウェブ速度Ｖを用いて実施例１を繰り返した。粒子数結果を図１３（対数粒子数スケールを用いている）に示す。図１３によれば、可動ウェブについて、約−０．５Ｐａを超える圧力で、材料粒子数減少がなされたことが分かる。
【００７９】
実施例３
実施例１の方法を用いて、２４リットル／分までフロー速度Ｍ１’UおよびＭ１’Lを調整し、出口９３２のガス取り出し速度を９４リットル／分まで調整することにより、密結合エンクロージャ９００において−０．５Ｐａのエンクロージャ圧力が得られた。別の実施において、１２２リットル／分までフロー速度Ｍ１’UおよびＭ１’Lを調整し、出口９３２のガス取り出し速度を９４リットル／分まで調整することにより、＋０．５Ｐａのエンクロージャ圧力が得られた。各粒子数は、−０．５Ｐａで１０７，８８９、＋０．５Ｐａで僅か１であった。各実施について、基材上のエンクロージャ圧力を、穴２、５、８、１１および１４（図１０参照）を用いて、密結合エンクロージャ９００の長さに沿ったいくつかの点で測定した。図１４に示す通り、基材上のエンクロージャ圧力は、各実施について非常に安定しており、密結合エンクロージャ９００の長さに沿って測定できるほどには変化しなかった。ポートＡ、ＢおよびＣを用いてウェブ下で同様の測定を行った。いずれの測定においても圧力における変化は観察されなかった。
【００８０】
比較の工程では、−０．５Ｐａエンクロージャ圧力を維持するためにＨＥＰＡフィルタ給気セットを備えたＴＥＣ（登録商標）空気浮遊オーブン（サーマルイクイップメント社（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  Ｃｏｒｐ．）製）内外の異なる点で圧力測定を行った。上下浮遊エアバー圧力を２５０Ｐａに設定した。補給空気は、５１，０００リットル／分（６８００リットルのオーブン容量について約７．５換気／分に相当、オーブン内側の機器については考慮せず）で流れた。周囲空間空気粒子数は４８，４６７であった。オーブン内側約８０センチメートルで測定した粒子数は３５，４８１であった。図１５に示すように、いくつかのその他の位置での粒子数を測定した。図１５によれば、エンクロージャ圧力は様々な測定点でかなり変わり、オーブン圧力調整装置の動作のために更に変化した、ということが分かる。
【００８１】
実施例４
実施例１の方法を用いて、Ｍ１’UおよびＭ１’Lのフロー速度を１２２リットル／分に設定し、出口９３２のガス取り出し速度を９４リットル／分に設定した。ウェブスロット高さｈ1aを、０、０．４６、０．９１、１．２７、２．５４および３．８１ｃｍの値まで調整した。周囲空気粒子数は１１１，１７５であった。図１６および図１７（両方とも線形垂直軸スケールを用いている）は、それぞれ、様々なウェブスロット高さでのエンクロージャ内部の圧力と粒子数を示す。全ての場合において、材料粒子数減少がなされた（周囲空気粒子数に比べて）。
【００８２】
実施例５
実施例１の方法および０．６、または１８ｍ／分で可動する幅２３ｃｍのポリエステルフィルム基材を用いて、Ｍ１’UおよびＭ１’Lのフロー速度および出口９３２でのガス取り出し速度を調整して、異なるエンクロージャ圧力を得た。周囲空気粒子数は１１１，１７５であった。エンクロージャ粒子数を、ウェブ速度とエンクロージャ圧力の関数として測定した。結果を図１８（対数粒子数スケールを用いている）に示す。図１８によれば、−０．５Ｐａを超える圧力で、全ての測定された基材速度について材料粒子数減少がなされたことが示されている。
【００８３】
ここで開示された本発明の一般的な原理の上記の開示および先の詳細な説明から、当業者であれば、開示された本発明に行える様々な変更が容易に分かるであろう。従って、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびこの等価物によってのみ限定されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】開示される制御した環境のコーティング装置の概略側面図である。
【図２】ギャップ乾燥機の概略断面図である。
【図３】開示される密結合エンクロージャの概略側断面図である。
【図４】開示される分配マニホルドの斜視図である。
【図５】図４の分配マニホルドおよび関連の調整ガス供給およびガス取り出し要素の部分概略部分断面図である。
【図６】搬送ロールと分配マニホルドの概略断面図である。
【図７】他の開示される密結合エンクロージャの概略側面図である。
【図８】図７の密結合エンクロージャの概略断面図である。
【図９】他の開示される密結合エンクロージャの概略側面図である。
【図１０】図９の、上にある制御表面の概略平面図である。
【図１１】開示される密結合エンクロージャにおける粒子数対圧力を示すグラフである。
【図１２】開示される密結合エンクロージャにおける酸素レベル対圧力を示すグラフである。
【図１３】開示される密結合エンクロージャにおける粒子数対圧力を示すグラフである。
【図１４】開示される密結合エンクロージャ内の様々な位置での圧力を示すグラフである。
【図１５】従来のオーブン内外の様々な位置での圧力を示すグラフである。
【図１６】開示される密結合エンクロージャにおける圧力対ウェブスロット高さを示すグラフである。
【図１７】開示される密結合エンクロージャにおける粒子数対ウェブスロット高さを示すグラフである。
【図１８】開示される密結合エンクロージャについて様々な圧力での粒子数対ウェブ速度を示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【国際調査報告】
2007530254.tif 000022
2007530254.tif 000023