(57)【要約】例えば前述の銀合金である金属を処理する際に使用するために開示したものは、アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、前記処理剤を可溶化する上で有用な濃度の、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含む水性組成物である。好ましくは、本組成物が、少なくとも非イオン性であり比較的疎水性である界面活性剤（例えばココアミドDEA）を含む。本組成物は、 Ag-Cu-Ge 合金の処理に際して特に適している。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属を処理するための水性組成物であって、
アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、
前記処理剤を可溶化させる上で有用である濃度の、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種と
を含むことを特徴とする、組成物。
【請求項２】
前記処理剤が、ヘキサデシルメルカプタンであることを特徴とする、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤を含むことを特徴とする、請求項１もしくは２に記載の組成物。
【請求項４】
前記界面活性剤が、単独の C10-C24アルキル基もしくはアルケニル基である疎水性部分と、単独の非イオン性極性部とを含むことを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
前記界面活性剤が、単独の C12-C18アルキル基もしくはアルケニル基である疎水性部分と、単独の非イオン性極性部とを含むことを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項６】
前記界面活性剤が、下記の構造式の化合物
R1CONHm(CH2CH2OH)n
を含み、ここで式中のR1はC10-C24アルキル基もしくはアルケニル基を示し、また、mは0もしくは1であり、また、nは1もしくは2であることを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項７】
前記界面活性剤が、ココアミドDEAを含むことを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項８】
前記界面活性剤が、下記の構造式のエトキシ化脂肪酸モノグリセリド
【化１】
2007537354.tif 000008
を含み、ここで式中のR1はC10-C24アルキル基もしくはアルケニル基であることを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項９】
前記界面活性剤が、R1がC12-C18アルキル基もしくはアルケニル基である化合物であることを特徴とする、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
前記界面活性剤が、グリセレス-2-ココアートであることを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項１１】
前記界面活性剤が、スルホキシド界面活性剤、ホスフィンオキシド界面活性剤、アミンオキシド界面活性剤、アルキルフェノールのポリエチレンオキシド凝縮物、脂肪族アルコールとエチレンオキシドとの凝縮生成物、または、エチレンオキシドと、プロピレンオキシドおよびエチレンジアミンの反応からの生成物との凝縮生成物、であることを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項１２】
前記相対的に疎水性である界面活性剤を0.5〜10wt%含むことを特徴とする、請求項３〜１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記相対的に疎水性である界面活性剤を1〜6wt%含むことを特徴とする、請求項３〜１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記相対的に疎水性である界面活性剤を2〜5wt%含むことを特徴とする、請求項３〜１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
ポリオールをさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記ポリオールを、0.5〜10wt%含むことを特徴とする、請求項１５記載の組成物。
【請求項１７】
前記ポリオールを、1〜8wt%含むことを特徴とする、請求項１５記載の組成物。
【請求項１８】
前記ポリオールを、1〜5wt%含むことを特徴とする、請求項１５記載の組成物。
【請求項１９】
前記ポリオールが、グリセロールであることを特徴とする、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２０】
アニオン性界面活性剤をさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記アニオン性界面活性剤が、構造式 RO-(CH2CH2)nSO3M であって、ここで式中のRはC10-C18アルキル基であり、また、nは2〜6であり、また、Mは一価のカチオンであることを特徴とする、請求項２０記載の組成物。
【請求項２２】
前記アニオン性界面活性剤が、ラウレス硫酸一価カチオン塩であることを特徴とする、請求項２０記載の組成物。
【請求項２３】
前記アニオン性界面活性剤（固体）の量が、0.1〜15wt%であることを特徴とする、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２４】
前記アニオン性界面活性剤（固体）の量が、0.3〜10wt%であることを特徴とする、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２５】
前記アニオン性界面活性剤（固体）の量が、0.5〜1wt%であることを特徴とする、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２６】
ベタイン類界面活性剤、イミダゾリンに基づく界面活性剤、アミノアルカノアート類界面活性剤、およびイミノジアルカノアート類界面活性剤、から選択された双性界面活性剤をさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２７】
ココアミドプロピルベタインを含むことを特徴とする、請求項２６記載の組成物。
【請求項２８】
前記双性界面活性剤が、0.3〜6wt%の量で存在することを特徴とする、請求項２６もしくは２７に記載の組成物。
【請求項２９】
前記双性界面活性剤が、0.6〜3wt%の量で存在することを特徴とする、請求項２６もしくは２７に記載の組成物。
【請求項３０】
前記双性界面活性剤が、0.9〜1.5wt%の量で存在することを特徴とする、請求項２６もしくは２７に記載の組成物。
【請求項３１】
処理剤を、0.1〜5wt%の量で含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３２】
処理剤を、0.5〜2wt%の量で含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３３】
処理剤を、約1wt%の量で含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３４】
強塩基と強鉱酸との塩をさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３５】
前記塩が、塩化ナトリウムもしくは硫酸ナトリウムであることを特徴とする、請求項３４記載の組成物。
【請求項３６】
前記塩を、0.1〜3wt%含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３７】
前記塩を、0.5〜2wt%含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３８】
前記塩を、約1wt%含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３９】
研磨浸漬液であって、酸およびチオ尿素をさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項４０】
クリームもしくはペーストである研磨剤であって、固体の研磨媒質をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜３８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項４１】
前記研磨媒質が、化学的沈澱岩の白亜、滴虫土、シリカ、もしくはγ-アルミナであることを特徴とする、請求項４０記載の組成物。
【請求項４２】
銀-銅合金、銀-銅-ゲルマニウム合金、銅、真鍮、もしくはニッケルを処理するための、請求項１〜４１のいずれか一項に記載の組成物の使用方法。
【請求項４３】
アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含んだ水性組成物の製造方法であって、
前記処理剤と、相対的に疎水性であり非イオン性であるような少なくとも一種の界面活性剤とを混合し、また、混合時に存在しうるかまたは後で加えることができるようなアニオン性および双性の界面活性試薬と混合し、ここで前記界面活性試薬は、前記処理剤を可溶化する上で有用な濃度であるというステップと、
得られる溶液もしくは分散液を、任意に水でさらに希釈するステップと
を含むことを特徴とする、方法。
【請求項４４】
水で希釈をする前に、前記処理剤および前記界面活性剤が、強アルカリと強鉱酸との塩と混合されることを特徴とする、請求項４３記載の方法。
【請求項４５】
前記希釈された混合液のpHが、弱有機酸を用いて、4〜8に調節されることを特徴とする、請求項４３もしくは４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記希釈された混合液のpHが、弱有機酸を用いて、6〜7に調節されることを特徴とする、請求項４３もしくは４４に記載の方法。
【請求項４７】
前記弱有機酸が、枸櫞酸であることを特徴とする、請求項４５もしくは４６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀合金または耐曇性付与のための表面処理を要するその他の金属（例えば銅、真鍮、もしくはニッケル）といった金属を処理するために使用することができるような、水性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
［銀合金とその耐曇性］
標準スターリング銀（standard Sterling silver）は、用途の広い信頼できる物質として製造業者および銀細工師へと提供されているが、仕上がった製品には、望まざる曇りを一時的に除くためのさらなる洗浄および研磨が必要になってしまうことが避けられない。銀および銀合金は、空気中に連日曝すことにより、曇りとして知られる光沢を損なう黒ずんだ薄膜をつくることが知られている。
【０００３】
混ぜ物の無い「純粋な」銀は柔らかすぎて通常の使用に耐えないということは古代より知られており、卑金属を混ぜ加えて硬度と強度を増進することが行われてきた。英国においては、十四世紀から存在する法律により、銀製品として販売できる製品が含む最小限の比率は、92.5%（標準スターリング）と定められているが、卑金属の含有量については規定が無い。古代の銀細工師は、入手可能な金属のうち、銅が、銀に加える上でもっとも適切な金属であることを経験的に知っていた。現代の銀板金（silver-sheet）製造業者も、より大きな延性を得るために銅の代わりにカドミウムを加えたりすることがあるものの、一般的にはこの組成物にこだわっている。2.5%のカドミウム成分を含むスターリング銀は、紡績および型打に用いられる標準物質である。低品位の銀合金は、食器類および金物類の製造用に、欧州の多くの国で使われている。南欧・中欧では、品位800の合金（千分率で銀の比率を示す）が主に用いられるが、一方、スカンジナビアでは品位830のものが主に用いられている。
【０００４】
大規模製造会社での場合を除き、組み立てが完了／半完了した製品の焼き鈍し（アニーリング）と半田づけの作業のほとんどは、エア-ガスブロートーチの炎によって行う。炎の酸化性もしくは還元性、ならびに製品の温度は、銀細工師の技術によってのみ制御されている。純銀は、特に赤熱するまで加熱されると、酸素を容易に透過する。銀は大気中では酸化されないが、銀／銅合金中の銅は酸化されて酸化第一銅（酸化銅(I)）もしくは酸化第二銅（酸化銅(II)）になる。製品の酸化された表面を熱希硫酸で酸洗（pickling）することにより、上層は除去できるが、内部に沈潜した酸化銅は除去することができないため、製品の表面は、銀／銅酸化物の混合物の層を、純銀もしくは非合金の銀から成る表面が包むような構成となる。さらなる加熱によって純銀はたやすく透過され、表面下の深部に在る銅が酸化されることになる。連続的な焼き鈍し・冷間加工（コールドワーキング）・酸洗によって、軽い研磨で純銀光沢を出せる表面をつくることができるが、しっかりと研磨をすると、「火焼け」（'firestain'）もしくは「火傷」（'fire'）と言われる黒ずんだ醜い染みが顕われてしまう。さらなる高温を伴う半田づけ作業では、より多くの深い火焼けをつくってしまう可能性がある。火焼けの深さが0.025mm（0.010インチ）に達すると、合金は罅割れやすくなり、且つ、酸化物の表面が半田に濡れなくなって適切な金属結合が形成されなくなるために、半田づけが難しくなってしまう。
【０００５】
特許 GB-B-2255348（Rateau, Albert and Johns; Metalcurop Recherche）は、銅成分の酸化されやすさから来る問題を低減しつつ、 Ag-Cu 合金固有の硬度と光沢を保持するような、新規な銀合金を開示している。この合金は、 Ag-Cu-Ge 三元合金であって、92.5wt%以上の Ag と、0.5〜3wt%の Ge と、不純物を除く残りとして銅とを含んでいた。この合金は、従来の製造、変形、および仕上げ作業の間に大気中で銹びることがなく、冷却しても容易に変形することができ、また、容易に鑞づけすることができ、また、鋳造時に大きく収縮することがない。さらに、優れた延性と引っ張り強度も示し、また、所望の硬度になるように焼き鈍すこともできた。ゲルマニウムは、この新規な合金が呈する特性の有用な組み合わせによる保護性能を引き出しており、また、銀の相と銅の相の双方に固溶していた。この合金の微細構造は、繊維状ゲルマニウム=銀=銅固溶体に囲まれた、銀の中のゲルマニウム=銅固溶体という二つの相から構成されている。銅リッチ相のゲルマニウムは、鑞づけおよび火炎焼き鈍しの間に高温で銅が酸化されて生じる火焼けを抑えるような GeO もしくは GeO2 の薄い保護被膜を形成することによって、その相の表面酸化を抑止すると考えられる。さらに、ゲルマニウムを添加することによって、曇りの拡大を大幅に遅らせることができ、また表面が黒よりも若干黄みがかったようになって、曇りを普通の水道水で容易に除去できた。この合金は、とりわけ宝飾品類に有用である。しかしながら、上記の特許に開示されている合金は、結晶粒度が大きくなるという制限があり、これにより変形特性が劣り、且つ、合金がエアトーチの熱を受けて局所的に表面が融けた際には、生じる低融点共晶によって大きな液溜まり（pools）ができてしまう。
【０００６】
特許 US-A-6168071 および EP-B-0729398 （Johns）は、銀を77wt%以上含み、ゲルマニウムを0.4〜7%含み、不純物を除く残りが主に銅であって、0ppmよりも多く20ppmよりも少ない濃度の硼素元素を結晶微細化剤（grain refiner）として含むような、銀／ゲルマニウム合金を開示している。2wt%の硼素元素を有する銅／硼素のマスター合金中の硼素を与えることによって、この合金の硼素の含有量が実現できる。このような低濃度の硼素により、銀／ゲルマニウム合金を良好に結晶微細化することができ、硼素を含まない銀／ゲルマニウム合金に較べて、より大きな強度と延性を合金に付加できるということが報告されている。合金中の硼素は、宝石商が半田づけする温度での結晶成長を抑え、また、この合金を、従来の合金では合金中の銅／ゲルマニウム共晶が融け出してしまう温度までくりかえし加熱しても、孔蝕（pitting）に対して抵抗性を持つと報告された例がある。合金の個々の元素の間に、二つの元素の自由表面（free surfaces）の間に充填物質を用いることなく、強靭で美的に満足できる熔接部（joint）をつくることができ、また、拡散法（diffusion process）もしくは抵抗熔接（resistance welding）もしくはレーザー熔接の技術によって、突き合わせ熔接部（butt joint）もしくは重ね熔接部（lap joint）をつくることができる。スターリング銀の熔接と比較すると、上述の合金の熔接では、結晶粒の大きさの平均値が小さくなっており、熔接時の変形性および延性が改善されている。したがって、品位830の合金をプラズマ熔接でき、また、研磨に砥石（グラインダー）を要しない。
【０００７】
例えば、 Ag-Cu-Ge 合金および Ag-Cu-Zn-Ge 合金といった三元合金および四元合金は、貴金属地金である Ag 中に、混入元素である二つの卑金属 Cu および Ge を含む。酸化雰囲気下に曝す場合には、二種の酸化反応が考えられる。第一としては、銅から酸化銅(I)への酸化であって、
4[Cu]alloy + O2 (g)  ->  2Cu2O (s)        (1)
第二には、ゲルマニウムから（二）酸化ゲルマニウムへの酸化であって、
[Ge]alloy + O2 (g)  ->  GeO2(s)         (2)
上記の反応式は、酸化ゲルマニウム(IV) GeO2 の形成を示しているが、酸化ゲルマニウム(II) GeO 、もしくは中間物質 GexOy（x = 1、yは1よりも大きく2未満）も生成していると考えられる。標準状態、即ち、純Cuと純Geのそれぞれが1atmの純酸素ガスと化合して純酸化物相を形成するような状態においては、双方の反応が進むことになり、反応式 (2) の化学推進力は、反応式 (1) のそれの1.65倍を超える。
【０００８】
WO 02/095082（Johns）では、熔融混合物を鋳って合金をつくり、例えば H2/H2O もしくは CO/CO2 のような選択的酸化雰囲気下で合金を焼き鈍して結晶を再結晶し、 Cu2O の形成を阻害しつつ、 GeO2 の形成を促進することによって、銀・銅・ゲルマニウムの三元合金、または、銀・銅・亜鉛・ゲルマニウムの四元合金の耐曇性を向上させることを可能としている。
【０００９】
EP-B-0729398 および US-A-6168071 が開示している銀合金は、ArgentiumTM（商標）として市販されており、また、本願明細書においては、 "Argentium" という語はこれらの合金のことを指す。ArgentiumTM（商標）銀は、例えば一般的なスターリング銀に較べて良好な耐曇性を示し、生じた曇りを簡単に除去することができるが、耐曇性にはいまだ改善の余地がある。 
【００１０】
［銀の曇りを除去・抑制するための処理組成物］
スターリング銀および他の公知の品位の銀から、曇りを除去するおよび／もしくは曇りの形成を抑制するための、清掃または保護を行うためのさまざまな提案が為されてきた。
【００１１】
US-A-2841501 は、研磨粉と、無毒とされ微香性であって銀と大気中の反応性成分との間の物理的障壁となる R-S-Ag （Rはチオールのアルカン鎖）の単分子層を形成して銀の曇りを抑制するような C12-C20 n-アルカンチオールとに基づいた、銀の研磨剤について開示している。
【００１２】
GB-A-1130540 は、製造工程中の一ステップとしての、スターリング銀もしくはブリタニア銀（Britannia silver）の仕上げ済表面の保護手法に関するものであって、以下のステップを含む方法を開示している。
【００１３】
即ち、99wt%の揮発性有機溶媒（例えば、トリクロロエチレンもしくは 1,1,1-トリクロロエタン）と、0.1〜1.8wt%の無色透明の保護層を銀表面に形成する能力を有するような -SH 基を含む有機溶質（例えば、ステアリルメルカプタン、セチルメルカプタン、ステアリルチオグリコラート、もしくはセチルチオグリコラート）とを含む溶液を用いて、製品の清浄な銀表面を湿すステップと、
前記溶液と前記表面を反応させて前述した層を形成し、前記溶媒を揮発させるステップと、
前記表面を洗浄溶液で洗い、湯で濯いで、乾燥させるステップ、である。上述の方法は、製品がユーザーのもとに届けられるまでの間、予定した保存期間中に持続する「長持ち仕上げ」（"long-term finish"）を提供すると謳っている。ハロハイドロカーボン類（ハロゲン化炭化水素類）は、最適な良溶媒であるとされているが、その環境面での適性は現在疑問視されている。エーテル類は可燃性且つ有毒とされており、低級アルコールは貧溶媒であるとされている。水は溶媒としては言及されていない。メルカプタン類の水への溶解度は、メチルメルカプタンの 23.30g/l からノニルメルカプタンの 0.00115g/l へと漸減してゆき、また、ヘキサデシルメルカプタンおよびオクタデシルメルカプタン（CAS 2885-00-9）が水に不溶であるということを、本出願人はインターネット上の ATOFINA Chemicals Inc の報告から得た。
【００１４】
US-A-6183815（Enick）は、硫黄原子が金属表面に接していてアルキル基末端がその金属表面から離れる方向に向いているようなチオール化合物から誘導された、自己組織化型被膜（self-assembled coating）の形成による、上述の類の処理について開示している。その明細書の実施例では、例えばイソプロパノール水溶液などのアルコール水溶液に溶かした、例えば CF3(CF2)5CONH(CH2)2SH であるフルオロアルキルアミド類を、濯いで柔らかい布で拭いて乾かした銀表面に噴霧している。このフルオロアルキルアミド類は、検出できるような臭いを持たず、また、明細書および実施例には必ずしもアルコール性溶媒では良い薄膜をつくれるというわけではないと記載されてはいるが、低級アルコール、もしくは、アルコール／水混合液に可溶である。
【００１５】
Yousong Kim et al. は、アノード酸化反応を通じてチオール類の銀への吸着が進行し、このアノード酸化反応によって、基金属の開回路電位（open circuit potential）が負方向へシフトするか、もしくは、電位が固定された場合にはアノード電流がピークとなることを報告している。
【００１６】
RSH + M(0)  ->  RS-M(I) + H+ + e-(M)    (M = Au or Ag)
（参照： http://www.electrochem.org/meetings/past/200/abstracts/symposia/h1/1026.pdf ）
また、 Kwan Kim, Adsorption and Reaction of Thiols and Sulfides on Noble Metals, Raman SRS-2000, 14-17 August 2000, Xaimen, Fujian, China, http://pcoss.org/icorsxm/paper/kuankim.pdf も、自己組織化型単分子層の構造を開示しており、また、銀表面上において、二つの Ag-S 結合を形成してジチオラート類を形成するような脂肪族ジチオール類とともに、アルカンチオール類、ジアルキルスルフィド類、およびジアルキルジスルフィド類が自己組織化することも開示している。
【００１７】
対照的に、ゲルマニウムのアルキルチオール類の構造についての文献は比較的乏しい。 Ge の 100 面への H2S の解離吸着によって、吸着した -SH基および吸着した水素化合物が得られることが、 Nelen et al., Applied Surface Science, 150, 65-72 (1999) （ http://www.chem.missouri.edu/Greenlief/pubs/00005797.pdf を参照）に報告されており、また、 Ge(100) を室温の H2S に曝露して解離吸着した結果を、紫外線光電子分光法（ultraviolet photoelectron spectroscopy）によって容易に追跡できるという、 the University of Missouri-Columbia の Michael Greenlief 教授のレポート http://www.chem.missouri.edu/Greenlief/Research.html も参照されたい。アルカンチオール類が Ge との反応によって高品質な単分子層を形成することは、 Han et al., J. Am. Chem. Soc., 123, 2422 (2001) に、半導体およびナノテクノロジーの文脈で報告されている。実験の節には、アルカンチオールのイソプロパノール溶液に浸漬してプロパノール中で超音波処理して乾燥した Ge(111) ウェハを、アセトン中で超音波処理して有機不純物を溶かし、濃HFに浸漬して残留酸化物を除去して水素終端面（hydrogen-terminated surface）をつくる、と記載されている。
【発明の開示】
【００１８】
出願人は、処理剤を有機溶媒に溶かして、その溶液を水溶液と併せて攪拌するという準備段階を必要とすること無く、処理剤を水性界面活性剤に直接溶解もしくは分散させることができるという、予期せざる発見をした。得られる溶液はArgentium銀の処理に有用であるが、さらにまた、従来のスターリング銀ならびに表面が劣化するような他の金属（例えば、銅、真鍮、およびニッケル）のための処理溶液または研磨剤としても使用できることが見出された。上述の組成物の実施例は、光学的に透明であって、週単位もしくは月単位の期間に亘って室温で安定して貯蔵できる。
【００１９】
したがって、さらなる特徴としては、本発明は、アルカンチオール、アルキルチオグリコラート（チオグリコール酸=アルキルエステル）、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択される処理剤と、この処理剤を可溶化する上で有用な濃度の両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを、含むような金属処理用の水性組成物を含む。
【００２０】
なおも別の特徴としては、本発明は、前述した水性組成物の製造方法を提供し、この方法には、処理剤を、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤を処理剤を可溶化する上で有用な濃度で含んだ水の中に直接に溶解または分散させるステップと、得られた溶液もしくは分散液を任意にさらに希釈するステップとが含まれる。
【００２１】
なおも別の特徴としては、本発明は、アルカンチオール、アルキルチオグリコラート、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択される処理剤と、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含むような金属処理用の水性組成物の製造方法であって、
前記処理剤と、相対的に疎水性であり（relatively hydrophobic）非イオン性であるような少なくとも一種の界面活性剤とを混合し、また、混合時に存在しうるかまたは後で加えることができるようなアニオン性および双性の界面活性試薬と混合し、ここで前記界面活性試薬は、前記処理剤を可溶化する上で有用な濃度であるというステップと、
得られる溶液もしくは分散液を、任意に水でさらに希釈するステップと
を含む方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
［銀-銅-ゲルマニウム合金］
本発明に係る処理を施すことができる合金は、標準スターリング銀、ならびに、火焼けおよび／もしくは曇りを効果的に低減するに足る量のゲルマニウムを含んだ銀合金、を含む。
【００２３】
Ag-Cu-Ge 三元合金および Ag-Cu-Zn-Ge 四元合金は、本発明に係る方法で処理する上で適当であり、合金の重量に対して銀を30%以上、好ましくは60%以上、より好ましくは80%以上、最も好ましくは92.5%以上含み、その上限は98%以下であり、好ましくは97%以下である。
【００２４】
Ag-Cu-(Zn)-Ge 合金のゲルマニウム成分は、合金の重量に対して0.1%以上であり、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは1.1%以上であり、最も好ましくは1.5%以上であって、その上限は6.5%以下であり、好ましくは4%以下である。
【００２５】
所望であれば、ゲルマニウム成分の一部を、火焼けおよび／もしくは曇りへの耐久性を提供するゲルマニウムの影響を過度に妨げないような Al 、 Ba 、 Be 、 Cd 、 Co 、 Cr 、 Er 、 Ga 、 In 、 Mg 、 Mn 、 Ni 、 Pb 、 Pd 、 Pt 、 Si 、 Sn 、 Ti 、 V 、 Y 、 Yb 、 および Zr からひとつもしくは複数選択される酸化ポテンシャルを有する元素で置き換えることもできる。ゲルマニウムと置換元素との重量比は、100:0〜60:40の範囲とすることができ、好ましくは100:0〜80:20とすることができる。ゲルマニウム成分のすべてがゲルマニウムである（則ち重量比が100:0である）ことが好ましい。
【００２６】
不純物とすべての結晶微細化剤とを除く Ag-Cu-Ge 三元合金の残余分は、銅から構成されることになり、この銅は合金の重量に対して0.5%以上存在し、好ましくは1%以上、より好ましくは2%以上、最も好ましくは4%以上存在する。「品位800」の三元合金では、例えば、銅の含有量は18.5%が適切である。不純物とすべての結晶微細化剤を除く Ag-Cu-Zn-Ge 四元合金の残余分は、合金の重量に対して0.5%以上存在し、好ましくは1%以上、より好ましくは2%以上、最も好ましくは4%以上存在するような、銅と、この銅との重量比が 1:1 を超えないように存在する亜鉛とから構成されている。つまり、亜鉛は、銀-銅合金中に、銅成分の重量の0〜100%として任意に存在するということである。「品位800」の四元合金では、例えば、銅の含有量は10.5%、亜鉛の含有量は8%が適切である。
【００２７】
銀、銅、およびゲルマニウム、ならびにオプションとしての亜鉛、に加えて、合金には、合金の工程中での結晶粒の成長を阻害するような結晶微細化剤を含めることが好ましい。適切な結晶微細化剤としては、硼素、イリジウム、鉄、およびニッケルが含まれ、特に好ましいのは硼素である。好ましくは硼素である結晶微細化剤は、 Ag-Cu-(Zn)-Ge 合金中に、合金の重量に対して1〜100ppm、好ましくは2〜50ppm、より好ましくは4〜20ppmの範囲で存在させることができる。
【００２８】
好ましい実施例においては、合金は三元合金であって、不純物とすべての結晶微細化剤を除き、合金の重量に対して、80%〜96%の銀と、0.1%〜5%のゲルマニウムと、1%〜19.9%の銅とを含む。より好ましい実施例においては、合金は三元合金であって、不純物とすべての結晶微細化剤を除き、合金の重量に対して、92.5%〜98%の銀と、0.3%〜3%のゲルマニウムと、1%〜7.2%の銅とを含み、さらに結晶微細化剤として1ppm〜40ppmの硼素を含む。さらに好ましい実施例においては、合金は三元合金であって、不純物とすべての結晶微細化剤を除き、合金の重量に対して、92.5%〜96%の銀と、0.5%〜2%のゲルマニウムと、1%〜7%の銅とを含み、さらに結晶微細化剤として1ppm〜40ppmの硼素を含む。
【００２９】
本発明により処理することができるさらなる合金としては、 US Patent 6726877（Eccles）に開示されているものがあり、これには、焼け曇り（fire scale）への抵抗性を有するような硬化性宝飾用銀合金組成物であって、86wt%以上の銀と、0.5〜7.5wt%の銅と、0.07〜6wt%の亜鉛・珪素混合物（この珪素は約0.02〜約2.0wt%存在する）と、約0.01〜2.0wt%のゲルマニウムとを含むものが開示されている。開示された合金のうちの或るものは、92.5wt%の銀と、3.14wt%の亜鉛と、3.0wt%の銅と、1.0wt%のゲルマニウムと、0.2wt%のインジウムと、0.15wt%の珪素と、0.01wt%の硼素とを含む。このゲルマニウム成分によって、本発明に係る組成物の保護効果が、Argentiumにおいて観られたものと同様となることが予想される。
【００３０】
本発明により処理することができ、且つそのゲルマニウム成分によって有用となりうるようななおも別の合金が、 US-A-6406664（Diamond）に開示されている。0.1wt%程度の少ないゲルマニウムの量によって、有効に、実質的な量の錫が存在するようにさせることができる。しかしながら、構成の例は示されてはいるが、鋳造した製品についても、板金から組み上げた製品についても、腐蝕もしくは火焼けに関する実験データが示されていない。本発明者は、0.5wt%の Ge が、好ましく且つより現実的な下限であると考えており、また、実地での使用においては、1wt%未満を用いることは望ましいことでは無いと考える。二成分系であり銅を含まないような合金では、99%の Ag と1%の Ge とを含めることが可能であり、また、宝飾に用いる耐曇性の鋳造合金については、2.5%の Pt と、1%の Ge と、その残りとしての Ag とを含み、さらに任意に Zn 、 Si 、もしくは Sn を含む、ということが報告されている。
【００３１】
本発明に係る組成物を使って有効に処理することができるような、ゲルマニウムを含むさらなる合金としては、商標名 Steralite B として販売されているものがあり、これは、約92.63wt%の銀と、5.17wt%の銅と、0.87wt%の亜鉛と、0.77wt%の錫と、0.4wt%の珪素と、0.4wt%のゲルマニウムとを含むと思われる。
【００３２】
本発明に係る組成物で研磨することができる他の合金としては、 US-A-3811876（Harigawa）、 US-A-4973446（Bernhard, United Precious Metals; 商標名 Steralite A として市販されている物質を包含する）、および US-A-6406664（Diamond）に開示されているものが含まれる。
【００３３】
［保護剤（Protective agents）］
保護剤としては、長鎖アルキル基と、 -SH 基もしくは -S-S- 基とを含むような、例えば、アルカンチオール、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドであるような化合物が使用されていると考えられ、その鎖の長さは好ましくは炭素原子数10個以上であって、C12-C24とすることができる。多用されている -SH 基もしくは -S-S- 基の化合物は、鎖に16〜24個の炭素原子を含んだ直鎖飽和脂肪族化合物であって、例えば、以下の構造式の、セチルメルカプタン（ヘキサデシルメルカプタン）およびステアリルメルカプタン（オクタデシルメルカプタン）、ならびに、チオグリコール酸=セチルエステル（セチルチオグリコラート）およびチオグリコール酸=ステアリルエステル（ステアリルチオグリコラート）である。
【００３４】
【化２】
2007537354.tif 000002
オクタデシルメルカプタンは、白色〜淡黄色のワックス状固体であって、水に不溶であり、融点は30℃である。また、ヘキサデシルメルカプタンは、白色もしくは淡黄色のワックス状固体であって、融点は17℃である。
処理剤は、最終的に希釈した組成物において、0.1〜5wt%、より好ましくは0.5〜2wt%、最も好ましくは約1wt%含むことができる。
【００３５】
［水性液に基づく組成物］
驚くべきことに、両性、非イオン性、もしくはカチオン性の界面活性剤バンド（surfactant band）を含み、水不溶性有機溶媒を含まず、好ましくは他のすべての溶媒を含まないような水性液に、処理剤を直接溶かすことによって、処理剤の有効量を含んだ構成を作成することができることが発見された。この処理剤は、比較的高い濃度の界面活性剤を含む水性液にも溶かすこともでき、これをそのまま用いることも、また、水でさらに希釈して用いることもできる。
【００３６】
したがって、本発明のさらなる特徴では、金属を処理するための水性組成物であって、アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、その処理剤を可溶化する上で有用な濃度の、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含む組成物を提供する。
【００３７】
特に、驚くべきことに、単独のもしくはポリオール（例えばグリセロール）と混合した、非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤の中に、処理剤を溶かすことができ、また、こうして得られた混合物を、イオン性親水性界面活性剤と混合することによって、水に分散させることができるようになる、ということが発見されている。非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤の一種は、単独の C10-C24アルキル基もしくはアルケニル基（好ましくは C12-C18アルキル基もしくはアルケニル基）である疎水性部分と、単独の非イオン性極性部とを含む。
【００３８】
非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤の好ましい種は、下記の構造式の化合物として提供されるものであって、
R1CONHm(CH2CH2OH)n
ここで、式中のR1は、C10-C24アルキル基もしくはアルケニル基（好ましくは C12-C18 である）であり、また、mは、0もしくは1であり、また、nは、1もしくは2である。この種類の化合物としては、カプルアミドMEA、カプルアミドDEA、ラウリルアミドMEA、ラウリルアミドDEA、ミリストアミドMEA、ミリストアミドDEA、パームアミドMEA（palmamide MEA）、パームアミドDEA、ステアルアミドMEA、ステアルアミドDEA、オレイン酸アミドMEA、オレイン酸アミドDEA、リノール酸アミドMEA、リノール酸DEA、アラキジン酸アミドMEA、アラキジン酸アミドDEA、ココアミドMEA（cocamide MEA）、およびココアミドDEA、が含まれ、後に挙げた化合物が好ましい。
【００３９】
相対的に疎水性である界面活性剤のさらなる種類は、例えば下記の構造式の、エトキシ化脂肪酸モノグリセリドとして提供され、
【００４０】
【化３】
2007537354.tif 000003
ここで、式中のR1は、C10-C24アルキル基もしくはアルケニル基（好ましくはC12-C18）である。この種類の好ましい化合物は、グリセレス-2-ココアート（glycereth-2-cocoate）である。
【００４１】
また、単独のC10-C24アルキル基もしくはアルケニル基（好ましくは C12-C18アルキル基もしくはアルケニル基）である疎水性部分と、単独の非イオン性極性部とを含むような他の半極性非イオン性界面活性試薬も使用することができ、これには、アミンオキシド類、ホスフィンオキシド類、およびスルホキシド類が含まれる。適切な種類の化合物としては、以下が含まれる。
【００４２】
・スルホキシド類界面活性剤：例えば、ドデシルメチルスルホキシド、テトラデシルメチルスルホキシド、オクタデシルメチルスルホキシド、 3-ヒドロキトリデシル=メチルスルホキシド、 3-メトキシトリデシル=メチルスルホキシド、 3-ヒドロキシ-4-ドデコキシブチル=メチルスルホキシド、オクタデシル=2-ヒドロキシエチルスルホキシド、およびドデシルエチルスルホキシド。
【００４３】
・ホスフィンオキシド類界面活性剤：例えば、ジメチルドデシルホスフィンオキシド、ジメチルテトラデシルホスフィンオキシド、エチルメチルテトラデシルホスフィンオキシド、セチルジメチルホスフィンオキシド、ジメチルステアリルホスフィンオキシド、セチルエチルプロピルホスフィンオキシド、ジエチルドデシルホスフィンオキシド、ジエチルテトラデシルホスフィンオキシド、ジプロピルドデシルホスフィンオキシド、ジプロピルドデシルホスフィンオキシド、ビス-(ヒドロキシメチル)ドデシルホスフィンオキシド、ビス-(2-ヒドキシエチル)ドデシルホスフィンオキシド、 (2-ヒドロキシプロピル)メチルテトラデシルホスフィンオキシド （ (2-hydroxypropyl)methy-tetradecylphosphine oxide ） 、ジメチルオレイルホスフィンオキシド、およびジメチル-(2-ヒドロキシドデシル)ホスフィンオキシド、ならびに、上記の化合物に対応したデシル、ヘキサデシル、およびオクタデシルの同族体。
【００４４】
・アミンオキシド類界面活性剤：例えば、ジメチルドデシルアミン=オキシド、ジメチルテトラデシルアミン=オキシド、エチルメチルテトラデシルアミン=オキシド、セチルジメチルアミン=オキシド、ジメチルステアリルアミン=オキシド、セチルエチルプロピルアミン=オキシド、ジエチルドデシルアミン=オキシド、ジエチルテトラデシルアミン=オキシド、ジプロピルドデシルアミン=オキシド、ビス-(2-ヒドロキシエチル)ドデシルアミン=オキシド、ビス-(2-ヒドロキシエチル)-3-ドデコキシ-2-ヒドロキシプロピルアミン=オキシド、 (2-ヒドロキシプロピル)メチルテトラデシルアミン=オキシド、ジメチルオレイルアミン=オキシド、ジメチル-(2-ヒドロキシドデシル)アミン=オキシド、ならびに、上記の化合物に対応したデシル、ヘキサデシル、およびオクタデシルの同族体。
【００４５】
単独もしくは混合物中で使用することができる他の非イオン性界面活性試薬としては、アルキレンオキシドと、疎水性有機化合物（脂肪族、もしくはアルキル芳香族とすることができる）との凝縮から得られる化合物が含まれる。特定の任意の疎水性化合物と凝縮される、この親水性もしくはポリオキシアルキレン部分の長さを調節して、親水性部分と疎水性部分との所望するバランスを有する水溶性化合物を得ることができる。この種類の化合物としては、以下が含まれる。
【００４６】
・アルキルフェノール類のポリエチレンオキシド凝縮物。これらの化合物としては、炭素原子を6〜12個持つ直鎖もしくは分鎖のアルキル基を有するアルキルフェノール類と、このアルキルフェノールのモルあたりに5〜25モル当量存在するエチレンオキシドとの凝縮生成物、が含まれる。こうした化合物のアルキル置換基は、例えば、重合プロピレン、ジイソブチレン、オクテン、もしくはノネンから誘導することができる。
【００４７】
・脂肪族アルコールとエチレンオキシドとの凝縮生成物。この脂肪族アルコールのアルキル鎖は、直鎖であっても分鎖であってもよく、一般に約8〜約22個の炭素原子を含む。
【００４８】
・エチレンオキシドと、プロピレンオキシドとエチレンジアミンの反応から得られた生成物との凝縮生成物。
最終的に希釈された組成物中に存在しうる非イオン性界面活性剤の量は、0.5〜10wt%であり、より好ましくは1〜6wt%、最も好ましくは2〜5wt%である。
【００４９】
グリセリンなどのポリオールを組み込んだ場合には、最終的に希釈された組成物中にそれが存在する量は、0.5〜10wt%であるのが好ましく、好ましくは1〜8wt%、最も好ましくは1〜5wt%である。
【００５０】
非イオン性界面活性試薬およびポリオール（存在するならば）中に処理剤を溶かした後に、イオン性界面活性剤（アニオン性、両性、または好ましくは無いがカチオン性とすることができる）を加えて水への分散性を高めることが可能である。特に、アニオン性界面活性剤と両性界面活性剤との混合物が有用であることが見出されている。所望であれば、処理剤を添加する前に、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、および双性界面活性剤を共に混合することができるが、いずれにせよこの混合は最終的な組成物を得るための希釈の前に行うのが最適であって、そうしない場合には本発明に係る組成物の保護能力は完全には発揮されないと思われる。
【００５１】
広汎な硫酸アルキル類をアニオン性界面活性試薬として使用することができ、これには、脂肪アルコールスルファート類、脂肪アルコールエーテルスルファート類、アルキルフェノールエーテルスルファート類、アルキルアリールスルホン酸およびそれらの塩、クメンスルホナート、トルエンスルホナート、キシレンスルホナートおよびそれらの塩、ならびに、アルキルスルホスクシナート（例えば、ラウリル硫酸ナトリウムもしくはラウリル硫酸アンモニウム）、が含まれる。しかしながら、好ましい種類のアニオン性界面活性試薬は、構造式 RO-(CH2CH2)nSO3M のポリオールモノアルキルエーテルスルファートであって、ここで式中のRは、C10-C18アルキル基であり、また、nは2〜6（好ましくは約2〜3）の数であり、また、Mは一価のカチオンである。このような化合物は、ココナツ油もしくは獣脂から誘導するか、または合成することができる、スルホン化エトキシ化 C10-C18アルコール類である。本発明において成功裡に使用することができるラウレス硫酸ナトリウムは、ラウリン酸のモルあたりに平均して二モルのエチレンオキシドになるようにエトキシ化して硫酸化したラウリルエーテル硫酸ナトリウムであり、その構造式は CH3(CH2)10CH2(OCH2CH2)2OSO3Na である。
【００５２】
最終的に希釈した組成物中のアニオン性界面活性剤の量（固体）は、好ましくは0.1〜15wt%、より好ましくは0.3〜10wt%、最も好ましくは0.5〜1wt%である。 Simple Shower Gel のような、比較的高濃度のアニオン性界面活性剤が良好に機能することが発見されているが、実地においては充分に低い濃度でも許容できる結果が得られるということが見出されており、経済的な見地からもアニオン性界面活性剤を必要量よりも多く使うことには利点が無い。
【００５３】
単独、または、或る別の界面活性剤および／もしくは非イオン性界面活性剤および／もしくはアニオン性界面活性剤との混合物として使用することができるような、両性界面活性剤もしくは双性界面活性剤は、二級アミンもしくは三級アミンの誘導体、複素環である二級アミンもしくは三級アミンの誘導体、あるいは、四級アンモニウム化合物、四級ホスホニウム化合物、もしくは三級スルホニウム化合物の誘導体、とすることができる。この四級化合物中のカチオン原子は、複素環の一部とすることができる。これらの化合物のすべてにおいては、約3〜18個の炭素原子を含んだ少なくともひとつの脂肪族基（直鎖もしくは分鎖）と、アニオン性水溶性基（例えば、カルボキシ基、スルホナート、スルファート、ホスファート、もしくはホスホナート）を含んだ少なくともひとつの脂肪族置換基とが存在する。
【００５４】
使用することができる双性界面活性剤の例としては、ベタイン類界面活性剤（好ましい）、イミダゾリンに基づく界面活性剤、アミノアルカノアート類界面活性剤、およびイミノジアルカノアート類界面活性剤、が含まれる。このような適切な界面活性剤は、アミドカルボキシベタイン類を含み、例えば、ココアミドジメチルカルボキシメチルベタイン（cocoamidodimethylcarboxymethylbetaine）、ラウリルアミドジメチルカルボキシメチル-ベタイン（laurylamidodimethylcarboxymethyl-betaine）、セチルアミドジメチルカルボキシメチル-ベタイン（cetylamidodimethylcarboxymethyl-betaine）、および、ココアミド-ビス-(2-ヒドロキシエチル)カルボキシメチル-ベタイン（cocoamido-bis-(2-hydroxyethyl)carboxymethyl-betaine）、が含まれる。特に好ましいのは、下記の構造式（ここで、式中のRは、C8-C18アルキル基）のアミドカルボキシベタイン-ベタイン類（amidocarboxybetaines betaines）であって、例えば、ココアミドプロピルベタインである。この化合物は一般的に安全と見做されており、BASFが実施する復帰変異試験（Ames test）においてサルモネラ指標（Salmonella indicator organisms）の変異原性を呈さず、また、ヒト反復パッチ発作テスト（human repeated patch insult test; HRIPT）において、接触性過敏症も光アレルギーも示さなかった（BASF発行の the MAFO CAB cocamidopropyl amino betaine data sheet を参照のこと）。
【００５５】
【化４】
2007537354.tif 000004
また、スルホベタイン類界面活性剤も有用であり、例えば、以下の構造式を有するラウリルアミド-スルホプロピルベタイン（lauramido-sulfopropylbetaine）、
【００５６】
【化５】
2007537354.tif 000005
ココアミド-2-ヒドロキシプロピルスルホベタイン、ココアミドジメチルスルホプロピル-ベタイン、ステアリルアミド-ジメチルスルホプロピルベタイン、および、ラウリルアミド-ビス-(2-ヒドロキシエチル)-スルホプロピルベタイン、である。また、グリシン酸化合物（gylcinate）およびアムホ酢酸化合物（amphoacetate）を含むイミダゾリンに基づく界面活性剤も有用であって、例えば、ココアムホカルボキシプロピオナート、ココアムホカルボキシプロピオン酸、 ココアムホカルボキシグリシナート、およびココアムホアセタート、がある。また、アミノアルカノアート類界面活性剤も有用であり、例えば、 N-ラウリル-β-アミノプロピオン酸およびその塩、ならびに、 N-ラウリル-β-イミノ-ジプロピオン酸およびその塩のような、 n-アルキルアミノ-プロピオン酸化合物（n-alkylamino-propionates）および n-アルキルイミノジプロピオン酸化合物（n-alkyliminodipropionates）が含まれる。
【００５７】
最終的に希釈した組成物中には、双性界面活性剤を例えば15wt%まで入れることができ、典型的には0.3〜6wt%、好ましくは0.6〜3wt%、最も好ましくは0.9〜1.5wt%とすることができる。
【００５８】
カチオン性界面活性剤には、窒素原子に結合したひとつもしくは二つの疎水性鎖を有する四級アンモニウム化合物と、窒素に結合した疎水性鎖（例えば、C40を上限とするアルキル基、アルキアリール基（alkaryl）、もしくはアラルキル基であって、好ましくは約C12-C18の下記の構造式のカチオンである）を有するピリジニウム化合物とが含まれる。
【００５９】
【化６】
2007537354.tif 000006
上述の種類の代表的な化合物としては、アルキルベンジルジメチルアンモニウム=クロリド、ココナツアルキルアミンアセタート（coconut alkylamine acetate）、ラウリルトリメチルアンモニウム=クロリド、セチルトリメチルアンモニウム=クロリド、ステアリルトリメチルアンモニウム=クロリド、ジ-ステアリル-ジメチルアンモニウム=クロリド、二水素化獣脂ジメチルアンモニウム=クロリド（di-hydrogenated tallow dimethyl ammonium chloride; DHTDMAC）、N-ドデシルピリジニウム=クロリド、およびセチルピリジニウム=クロリド、が含まれる。また、ポリエトキシ化四級アンモニウム塩も使用することができ、例えば、下記の構造式
【００６０】
【化７】
2007537354.tif 000007
であって、ここで式中のRはC10-C40であり、特にC12-C18アルキル基（例えば、オレイル基もしくはココ基（coco-））である。さらに他の界面活性剤は、ジエチレントリアミン（DETA）に基づく四級化合物に基づくものとすることができ、例えば、ジアミドアミンエトキシラート類およびイミダゾリン類、ならびにエステルクォーター類（esterquats）に基づくものとすることができる。或る分類として、エステルクォーター類は、メチルジエタノールアミン（MDEA）、トリエタノールアミン（TEA）、およびN,N-ジメチル-3-アミノプロパン-1,2-ジオール（DMAPD）を含む化合物に基づくものとすることができる。
【００６１】
また、この本発明に係る組成物は、強アルカリと強鉱酸との塩（例えば、塩化ナトリウムもしくは硫酸ナトリウム）を含むことが好ましい。この塩は、最終的な希釈の前に添加することも後に添加することもできるが、標準スターリング銀とArgentium銀（ Ge を含む）との双方に対して最良の耐曇性を得るためには、この塩を希釈に先立って添加する。最終的に希釈した組成物中の塩の量は、典型的には0.1〜3wt%、好ましくは0.5〜2wt%、最も好ましくは約1wt%である。一価カチオンの塩と、一価もしくは二価のカチオンの塩とを、それぞれ独立に使用することも、併せて使用することもでき、例えば、組成物は、塩化ナトリウムと硫酸ナトリウムの混合物を含んでもよい。例えば、混合物には、塩化ナトリウムによって齎される耐曇性と、硫酸ナトリウムによって齎される分散性および清澄性とを併せ持たせることができる。
【００６２】
希釈するステップの前もしくは後のいずれかにおいて、枸櫞酸もしくは別の弱有機酸を使用し、溶液のpHを4〜8（好ましくは6〜7）に調節することができる。
希釈に先立って本組成物中に存在しうる処理剤の量は、0.1wt%以上であり、好ましくは1wt%以上であって、また、本組成物の固体成分は5wt%以上、典型的には10〜40wt%、可能であれば50wt%以上である。こうした比較的高濃度の高級アルキルチオールおよび水に対して強い不溶性であることが知られている他の処理剤を溶解または分散させるような、界面活性剤の水性液の能力については、これまでは記載されていない。得られる凝縮物は、水で希釈して、上述した用途に使われる、水性処理浸漬液、または脱脂溶液と浸漬液とを併せたものにすることができ、また、希釈した後の溶液中もしくは懸濁液中に処理剤を残存させることができ、且つ、銀-銅合金、もしくは銀-銅-ゲルマニウム合金、さらには（可能であれば）銅、真鍮、およびニッケルといった表面保護膜によって腐蝕を抑えることができるような他の金属の表面処理についての有用性を保たせることができる、ということが発見されている。安定性および有効性の点に鑑みて特に良好な結果が得られるのは、ヘキサデシルメルカプタン（液体状態）を直接に界面活性剤「担体（キャリアー）」中に混合して、この溶液をそのまま使うかまたは水で希釈して使う場合である。
【００６３】
特に、本発明に係る処理剤は、中性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物を含んだ水性液（界面活性剤全体のうち、中性界面活性剤は例えば約25〜50%、例えば33wt%とする）に良好に分散させることが可能である。このような薬剤中に分散させることができる処理剤には、n-ヘキサデシルチオールおよびn-オクタデシルチオールが含まれる。また、これらを両性界面活性剤もしくは双性界面活性剤と、アニオン性界面活性剤との混合物を含んだ水性液中に良好に分散させることもでき、こうした混合物からは、保存する上で比較的安定であり光学的に透明で、処理剤が再沈澱しづらい、もしくは再沈澱しないような溶液が得られる。この場合には、両性界面活性剤もしくは双性界面活性剤と、アニオン性界面活性剤との重量比は、1:1.5〜1.5:1の範囲とし、典型的には1:1の近傍とする。
【００６４】
単純な処理剤に加えて、上述の組成物を金属研磨剤（例えば銀用もしくは真鍮用）として構成することもできる。このような製品は、宝飾品もしくは刃物類といった対象物を浸漬するための液体製品として構成することができる。浸漬した後には、通常は、対象物を水洗して、柔らかい布を使って乾かす。別の構成としては、クリームもしくはペーストの形態があり、これらは柔らかい布を使って塗布し、その後除去することができる。
【００６５】
浸漬組成物の構成とするためには、通常は、活性成分をpKaが5以下である酸（例えば、リン酸、枸櫞酸、蓚酸、もしくは酒石酸）と、チオ尿素もしくはその誘導体（例えば、メチルチオ尿素、エチルチオ尿素といったアルキル誘導体）とを併せたものとする。クリームもしくはペーストの構成とするために、例えば、化学的沈澱岩の白亜（precipitated chalk）、滴虫土（珪藻土）、珪砂（シリカ）、もしくはγ-アルミナ（例えば粒径0.05μm）のような軟研磨剤（mild abrasive）を、例えば約25wt%含めることができる。これらの成分は、界面活性剤および処理試薬と共存できると思われ、単純な混合によって好ましく組み合わせることができる。
【００６６】
また、本発明に係る組成物は、柔らかい織布、編布、もしくは不織布（例えば、ソフトコットンの布）である拭き布または研磨布に含浸させて使うことも可能であり、非透水性の容器（例えば、ホイルラップ）に湿った状態で収めておくこともでき、乾燥させることもできる。
【００６７】
［処理手順］
表面処理は、合金から成形製品を製造する製造段階が完了した後に行うことができる。この製品は、平皿類、食器類、もしくは宝飾品とすることができる。組立ステップには、紡糸（spinning）、圧接（pressing）、鍛造（forging）、鋳造（casting）、彫金（chasing）、板金の鎚打（hammering from sheet）、均し（planishing）、半田づけ・鑞づけ・熔接による接合、焼き鈍し、ならびに、バフ／モップ（buffs/mops）および、例えば酸化アルミニウムもしくはベンガラ（酸化鉄）を用いた研磨、が含まれる。
【００６８】
処理される製品は、以下のようなさまざまな方法で脱脂することができる。
・ 超音波を伴うか、もしくは伴わない、蒸気脱脂（vapour degreasing）
・ 超音波を伴うか、もしくは伴わない、水による脱脂（aqueous degreasing）
・ 超音波を伴うか、もしくは伴わない、有機溶媒脱脂（organic solvent degreasing） （例えば、チオール処理に先立って行う、エタノールもしくはアセトンによる脱脂は、曇り促成試験において非常に優れた結果を齎しうる）
・ 脱脂とチオール処理を同時に行う。このとき、チオールは、有機脱脂媒体もしくは水性脱脂媒体中に存在している。
【００６９】
例えば、製品を、処理槽内で超音波を用いて脱脂してから、水性のヘキサデシルメルカプタン処理組成物（例えば、100gの Simple Shower Gel に対して1gのヘキサデシルメルカプタン）を入れた槽内に浸漬し、界面活性剤を入れたひとつもしくは複数の槽（但し、チオールを含まない）内で濯ぎ、蒸発によって乾燥させることができる。その後、余剰分のチオールを、水／界面活性剤溶液で濯いで除くことによって、金属表面と反応せずに残っていたチオールが除去され、チオールが他の何かと反応を起こさないようにすることができる。必要であれば、その後に製品を水で洗うことができる。メルカプタン処理の適用によって、製品は良好な疎水性を得ることができ、これによって濯ぎ・乾燥プロセスが容易になっている。その後に製品を包装して流通網に乗せることができる。このことには、製品をひとつもしくは複数の保護シートにくるむこと、贈答用箱への収納、ならびに、例えば熱収縮性樹脂フィルムである保護包装で贈答用箱を包むこと、を含むことができる。前述の -SH 基もしくは -S-S- 基を含んだ有機化合物によって処理されて包装された製品は、販売拠点へと良好な状態で届けることができるというだけではなく、期待されるところでは6ヶ月以上、ことによると12ヶ月以上という長期間に亘って、重篤な曇りを生長させないままに例えば棚やキャビネットに展示しておくことができる。
【００７０】
本発明を、以下の実施例を参照しながら例示のみによって記載してゆく。実施例を通して、オクタデシルメルカプタンもしくはヘキサデシルメルカプタンで処理した試料の「耐曇性向上」（"enhanced tarnish resistance"）という語は、研磨と脱脂以外の処理を施していないArgentium銀の試料と対比して言うものである。
【００７１】
以下に示すポリ硫化アンモニウムによる曇り促成試験の手順を、以下の実施例で言及した曇り促成試験のすべてとして使用した。即ち、約40mlのポリ硫化アンモニウム溶液（含量約20%、スルフィドからの (NH4)2S として）を、皿（内寸：幅8cm、深さ6cm、高さ3cm）に注ぎ入れ、溶液が皿内で約1cmの深さとなるようにした。ガラス片（幅11.5cm、深さ2.5cm、高さ0.2cm）を皿の上に置いて、溶液に被せるようにし、その後、実施例中で示した時間に亘って、試験する試料をガラス片上に置いた。試験は、ヒュームキャビネット（fume cabinet）の内部で行った。
【実施例】
【００７２】
［実施例1： Fairy liquid 中のヘキサデシルメルカプタン］
液体状態のヘキサデシルメルカプタン（1g）を、以下に示す量の Fairy liquid （アニオン性界面活性試薬および非イオン性界面活性試薬を含んだ界面活性剤）と水と混合した。
参照番号    Fairy liquid（ml）    脱イオン水（ml）
1.1              40                 無し
1.2             100                 無し
1.3             200                 無し
1.4              40                  100
1.5              40                  200
溶液 1.2 の成分は、予めヘキサデイスルメルカプタンを有機溶媒に溶かしておかなくても、充分に混合できるのが明らかであった。Argentium銀の試料を、調製した溶液に10分間浸してから濯いだ。このArgentium銀の試料の表面は疎水性となり、Argentium銀の試料の表面に結合したヘキサデシルメルカプタンの層が形成されたことを窺わせる。水でよく濯いだが、濯いだ後の表面には特記するような析出物は見られなかった。
【００７３】
試料の一部を EnSolv 765 を含浸させたコットンウールで擦った後に、希釈していないポリ硫化アンモニウムを用いた曇り試験に45分間以上に亘ってかけた。 EnSolv 765 は、オクタデシルメルカプタンおよびヘキサデシルメルカプタンの優れた溶媒であって、それがこの溶媒をチオール「擦り」試験（金属表面へのチオールの結合強度試験）に使った理由である。 EnSolv 765 は、臭化 n-プロピルに基づく溶媒であって、綿密な清掃の広汎な要求に応えるように構成されたものであり、 Enviro Tech International Inc. が製造している。米国特許 5,616,549 、 5,824,162 、 5,938,859 、および 6,176,942 を参照のこと。優れた耐曇性が見られ、 EnSolv 765 で処理した部分と処理していない部分との間に重大な差異はなかった。オクタデシルメルカプタンと Fairy liquid とから類似の溶液を調製した。これらは初めは透明であったが、安定性に劣り、数ヶ月後にはオクタデシルメルカプタンの表層が剥がれてしまった。
［実施例2： Simple shower gel 中のヘキサデシルメルカプタン］
透明なジェル状石鹸（ボディソープ）である Simple shower gel を、 Accentia Health and Beauty Ltd, Birmingham, UK から得た。これには、ラウレス硫酸ナトリウム（10.0%）、ココアミドプロピルベタイン（2.8%）、ココナツ脂肪酸ジエタノールアミド（1.8%）、塩化ナトリウム（0.95%）、およびグリセリンと残余分として水とが含まれる。分析は、ボディソープを窒素の一様な蒸気を使った蒸気浴で乾燥させた後、真空乾燥機で処理することで行った。乾燥させた試料を重メタノールに溶かして、プロトンNMRで分析を行った。プロトンNMRを、既知の試料であるラウレス硫酸ナトリウム、ココアミドプロピルベタイン、およびココナツ脂肪酸ジエタノールアミドのスペクトルと比較して、これらの成分の比率を見積った。ボディソープの塩の含量を、 Corning chloride analyser 926 を使って定量し、また、ナトリウムの含量を、原子吸光分光法を使って定量した。
【００７４】
ボディソープを、以下に示す量の液体ヘキサデシルメルカプタンと水と混合した。
参照番号    HDM（g）    Simple（ml）    脱イオン水（ml）
2.1      1            100                無し
2.2      1            100                 100
2.3      5            100                 100
2.4      1            200                 100
混合した数日後には、溶液 2.1 および 2.4 は完全に透明な粘性ゲルとなっており、ヘキサデシルメルカプタンの特記すべき分離は見られなかった。また、試料 2.2 も、完全に透明であったが、水様の粘度であり、またヘキサデシルメルカプタンの分離は見られなかった。また、試料 2.3 も、水様の粘度であり振盪すると乳化エマルションが見られたが、静置した表面にヘキサデシルメルカプタンが分離しているのが観察された。
【００７５】
予備実験において、研磨して脱脂したArgentium銀の試料を、溶液 2.1 に10分間浸漬して濯いだ。このArgentium銀の試料の表面は疎水性となり、このArgentium銀の表面に結合したヘキサデシルメルカプタン層の形成が窺えた。水でよく洗ったところ、疎水性が観察された。希釈していないポリ硫化アンモニウムを用いてテストしたところ、優れた耐曇性が見られた。
【００７６】
Argentium銀の試料、および従来のスターリング銀の試料を、以下のように準備した。各試料をSteelbright研磨剤で研磨し、続いてベンガラで研磨した後、54℃の水の 2wt% Fairy liquid 水溶液中で2分間超音波脱脂した。さらにエタノール中で5分間脱脂した後、外気温の検査溶液に浸漬した。溶液から出した後、 EnSolv 765 を染ませた織布で各試料の一部を擦ってから、希釈していないポリ硫化アンモニウムを用いた曇りテストに45分間以上かけた。Argentiumの試料では、優れた耐曇性とチオール結合とが観察され、特に溶液 2.1 および 2.4 では、水成分の多い溶液 2.2 および 2.3 に較べて良好な結果が得られた。溶液 2.1 および 2.4 を用いて、標準スターリング銀でも幾許かの耐曇性が観察されたが、チオール層は容易に剥がれてしまい、処理しない試料と EnSolv 765 で処理した試料との差異が明らかになった。
【００７７】
［実施例3： ココアミドプロピルベタイン（CPB）とラウレス硫酸ナトリウム（SLS）との混合物］
上述の物質は、 Surfachem Ltd of Leeds, United Kingdom から、液体として注げる程度に薄い水溶液と、ややゼラチン状である高濃度液体（70%活性）として供給された。液体状態のヘキサデシルメルカプタン（1ml）を、以下に示す量のこれらの物質と混合した。
参照番号    SLS（ml）    CPB（ml）    水（ml）
3.1     40           40         100
3.2     40           20         100
3.3     30           10         100
3.4     10           30          50
3.5     30           10         160
溶液 3.1 においては、ヘキサデシルメルカプタンを、ラウレス硫酸ナトリウムとココアミドプロピルベタインとの薄い混合液に加えた後に、水を添加して溶液を冷却しながら混合した。得られた溶液には、当初は薄い泡状の白い肌理があったが、静置すると透明なゲルに変わった。溶液 3.2 も、大体同様であった。溶液 3.3 は水様であり、当初は液面に多数の水泡が見られる若干透明な溶液であったが、一晩静置すると透明になった。溶液 3.4 は、約35℃までゆるやかに加熱しながら攪拌した。加熱することで攪拌工程を若干助成されるようであった。攪拌して数分後には、混合液が若干泡立ってきた。混合液を一晩静置したところ、粘性のある溶液が得られた。溶液 3.5 は、攪拌しながら約35℃まで加熱した。水は最後に加えた。加熱によって攪拌がしやすくなった。溶液は微細泡状となったが、数時間（12時間以内）静置すると、水よりも少し薄い透明な溶液となった。
【００７８】
Argentium銀の試料を、Steelbrightで研磨した後にベンガラで研磨して、 2wt% Fairy Liquid 水溶液中で2分間超音波脱脂した後、さらにアセトン中で脱脂し、外気温の検査溶液に10分間浸漬し、冷たい水道水を流して洗うことで調製した。チオールをすべて除去する試みとして、各試料の下部を EnSolv 765 を染ませた織布で擦った後に、試料を45分間放置してから、希釈していないポリ硫化アンモニウムによる曇り促成試験に45分間かけた。
【００７９】
すべての試料は、水洗プロセスにおいて非常に優れた疎水性を示し、チオール類の存在が示唆された。水滴ははじかれたので、各試料を乾燥させる必要は無かった。試料は曇り試験において良好な耐曇性を示し、擦った部分と擦っていない部分との間にはほとんど差異は無かった。試験した各試料に関して、ヘキサデシルメルカプタンが、Argentium銀の表面上に曇りを防止するチオール結合層を形成している、と結論した。しかしながら、溶液は適度な安定性を示したのみであって、メルカプタンが再沈澱しやすかった。
［実施例4］
以下の処理溶液を、各成分を挙げた順番に加えて混合した。即ち、ココアミドDEA（ >90%、4g）、グリセリン（1g）、ラウレス硫酸ナトリウム（10%水溶液、10g）、ココアミドプロピルベタイン（30%水溶液、3g）、塩化ナトリウム（1g）、枸櫞酸（ pH 6.5 にするため）、精製水（1Og）、ヘキサデシルメルカプタン（1g）、精製水（7Og）。得られた溶液を静置したところ、水よりも若干粘性のある透明な溶液となり、冷蔵温度においてさえも良好な安定性を示した（不安定な溶液では、約15℃以下の温度でヘキサデシルメルカプタンの沈澱が見られた）。
【００８０】
Argentiumスターリング、および標準スターリングの脱脂して研磨した試料を、上述の溶液に5分間浸漬し、その後に水道水を流して濯いだ。各試料の下部を EnSolv 765 を含浸させたコットンウールで擦って表面上のチオールをすべて拭い去ろうとしてから、試料を上述のポリ硫化アンモニウムによる曇り促成試験にかけた。Argentiumスターリングの試料を、試験開始から1時間後に取り除いたところ、観察できる曇りは呈していなかった（処理していないArgentiumスターリングの試料では、同じ条件下に5分間曝露すれば、いくらか黄変すると思われる）。したがって、チオールがArgentium合金に結合しており、このチオールは Ensolv 765 で擦っても除去されない、ということが結論された。標準スターリングの試料を、10分間曝露した時点で観察したところ、 Ensolv 765 で擦らなかった部分には中程度の曇りが観察され、その一方、擦った部分には重篤な曇りが観察された。したがって、標準スターリング合金の表面にチオールが析出しており、曇りに対して幾許かの保護となっているものの、このチオールはArgentiumスターリング銀の試料での場合に較べて、結合の安定性が低い、ということが結論された。1時間の曝露の後、標準スターリングの試料では、表面全体を覆う重篤な変色を呈した。
［実施例5］
液体状態のヘキサデシルメルカプタン（1g）を、ココアミドDEA（ >90%、4g）と混合した。この混合物に、ラウレス硫酸ナトリウム（10%、水溶液、10g）、ココアミドプロピルベタイン（30%水溶液、3g）、グリセリン（5g）、塩化ナトリウム（1g）を（挙げた順に）加えて、混合物を調製した。混合物を精製水（76g）で希釈した後、枸櫞酸で pH 6.5 に調節した。得られた溶液を24時間静置したところ、透明となり、冷蔵温度で良好な安定性を示した（前述したように、不安定な溶液では、約15℃以下の温度でヘキサデシルメルカプタンの沈澱が見られる）。ヘキサデシルメルカプタンを、ココアミドDEAとよく混ぜ合わせて、その他の成分を添加した際に溶液中に残存しているようにした（ヘキサデシルメルカプタンを有機溶媒に最初に溶かす必要は無い）。
【００８１】
上述の手順を繰り返して、塩化ナトリウムを水での希釈の後に添加したところ、溶液の安定性が減少した。このことから、水での希釈の前に塩を添加するほうが良いということが結論された。
【００８２】
Argentiumスターリング、および標準スターリングの研磨して脱脂した試料を、（上述のように調製した）溶液に5分間浸漬し、その後に水道水を流して濯いだ。双方の処理した試料の底部を EnSolv 765 を含浸させたコットンウールで擦って、各合金へのチオールの結合強度を試験した。銀試料を上述のポリ硫化アンモニウムによる曇り促成試験に1時間に亘ってかけた。Argentiumスターリングの試料は、試験期間を通じて曇りを呈さず、外観が非常に輝いている状態が保たれていた。その一方、標準スターリングの試料の擦っていない部分は、10分間以内の曝露で中程度の変色を呈し、1時間経つと重篤な変色を示した。Argentiumスターリングの試料では、1時間の曝露にかけても、 Ensolv 765 で擦った部分と擦らなかった部分とには違いが見られず、優れたチオール結合が示された。標準スターリング試料の Ensolv 765 で擦った部分は、試料を曇り試験にかけた直後から重篤に曇りはじめた。このことは、チオールを合金の表面から容易に除去できるということを示している。
【００８３】
さらに繰り返し上述の溶液を調製し、但し塩成分を含まないようにした。得られた溶液は非常に安定であり光学的に透明であったが、Argentiumスターリングの試料と標準スターリングの試料とをこの溶液で処理（浸漬時間5分間）して、その後に水道水を流して濯いだ後に上述の曇り促成試験にかけたところ、試料は期待外れの試験結果を示した。Argentiumスターリングの試料は、ポリ硫化アンモニウムに曝露させると黄変し、また、標準スターリングの試料は、即座に重篤な変色をした。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月3日(2005.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属を処理するための水性組成物であって、
アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、
前記処理剤を可溶化させる上で有用である濃度の、
下記の構造式
R1CONHm(CH2CH2OH)n
の化合物であって、ここで式中のR1はC10-C24アルキル基もしくはアルケニル基であり、また、mは0もしくは1であり、また、nは1もしくは2であるような非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤か、あるいは、エトキシ化脂肪酸モノグリセリドである非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤と、
アニオン性界面活性剤と、
ベタイン類界面活性剤、イミダゾリンに基づく界面活性剤、アミノアルカノアート類界面活性剤、およびイミノジアルカノアート類界面活性剤、から選択される双性界面活性剤と
を含むことを特徴とする、組成物。
【請求項２】
前記処理剤が、ヘキサデシルメルカプタンもしくはオクタデシルメルカプタンであることを特徴とする、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤が、ココアミドDEAを含むことを特徴とする、請求項１もしくは２に記載の組成物。
【請求項４】
前記非イオン性であり相対的に疎水性である界面活性剤が、下記の構造式であって
【化１】
2007537354.tif 000009
式中の R1 が C10-C24アルキル基もしくはアルケニル基を示すようなエトキシ化脂肪酸モノグリセリドを含むことを特徴とする、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
前記界面活性剤が、 R1 が C12-C18アルキル基もしくはアルケニル基である化合物であることを特徴とする、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
前記界面活性剤が、グリセレス-2-ココアートであることを特徴とする、請求項５記載の組成物。
【請求項７】
前記相対的に疎水性である界面活性剤を、0.5〜10wt%含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記相対的に疎水性である界面活性剤を、1〜6wt%含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記相対的に疎水性である界面活性剤を、2〜5wt%含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
ポリオールをさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリオールを、0.5〜10wt%含むことを特徴とする、請求項１０記載の組成物。
【請求項１２】
前記ポリオールを、1〜8wt%含むことを特徴とする、請求項１０記載の組成物。
【請求項１３】
前記ポリオールを、1〜5wt%含むことを特徴とする、請求項１０記載の組成物。
【請求項１４】
前記ポリオールが、グリセロールであることを特徴とする、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
前記アニオン性界面活性剤が、構造式 RO-(CH2CH2)nSO3M であって、ここで式中の R は C10-C18アルキル基であり、また、 n は 2〜6 であり、また、 M は一価のカチオンであることを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記アニオン性界面活性剤が、ラウレス硫酸一価カチオン塩であることを特徴とする、請求項１５記載の組成物。
【請求項１７】
前記アニオン性界面活性剤（固体）の量が、0.1〜15wt%であることを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１８】
前記アニオン性界面活性剤（固体）の量が、0.3〜10wt%であることを特徴とする、請求項１７記載の組成物。
【請求項１９】
前記アニオン性界面活性剤（固体）の量が、0.5〜1wt%であることを特徴とする、請求項１７記載の組成物。
【請求項２０】
前記双性界面活性剤が、ココアミドプロピルベタインを含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記双性界面活性剤が、0.3〜6wt%の量で存在することを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２２】
前記双性界面活性剤が、0.6〜3wt%の量で存在することを特徴とする、請求項２１記載の組成物。
【請求項２３】
前記双性界面活性剤が、0.9〜1.5wt%の量で存在することを特徴とする、請求項２１記載の組成物。
【請求項２４】
処理剤を、0.1〜5wt%の量で含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２５】
処理剤を、0.5〜2wt%の量で含むことを特徴とする、請求項２４記載の組成物。
【請求項２６】
処理剤を、約1wt%の量で含むことを特徴とする、請求項２４記載の組成物。
【請求項２７】
強塩基と強鉱酸との塩をさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２８】
前記塩が、塩化ナトリウムもしくは硫酸ナトリウムであることを特徴とする、請求項２７記載の組成物。
【請求項２９】
前記塩を、0.1〜3wt%含むことを特徴とする、請求項２７もしくは２８に記載の組成物。
【請求項３０】
前記塩を、0.5〜2wt%含むことを特徴とする、請求項２７もしくは２８に記載の組成物。
【請求項３１】
前記塩を、約1wt%含むことを特徴とする、請求項２７もしくは２８に記載の組成物。
【請求項３２】
研磨浸漬液であって、酸およびチオ尿素をさらに含むことを特徴とする、上述の請求項のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３３】
クリームもしくはペーストである研磨剤であって、固体の研磨媒質をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜３１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３４】
前記研磨媒質が、化学的沈澱岩の白亜、滴虫土、シリカ、もしくはγ-アルミナであることを特徴とする、請求項３３記載の組成物。
【請求項３５】
銀-銅合金、銀-銅-ゲルマニウム合金、銅、真鍮、もしくはニッケルを処理するための、請求項１〜３４のいずれか一項に記載の組成物の使用方法。
【国際調査報告】
2007537354.tif 000010
2007537354.tif 000011
2007537354.tif 000012