【手続補正書】
【提出日】平成28年10月27日(2016.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の表面に形成された反射防止膜とを備えた反射防止機能を有する部材であって、
前記反射防止膜は、原子層堆積法によって形成された酸化アルミニウム膜を、６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理することにより、微細凹凸構造が形成されたものであることを特徴とする、反射防止機能を有する部材。
【請求項２】
光学部材、またはデバイス形成用もしくはフラットパネルディスプレイ用の基板として用いることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止機能を有する部材。
【請求項３】
前記酸化アルミニウム膜は、トリメチルアルミニウムと酸化剤とを交互に供給することにより形成されたものであることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の反射防止機能を有する部材。
【請求項４】
基材の表面に、原子層堆積法によって酸化アルミニウム膜を形成する工程と、
前記酸化アルミニウム膜に６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理を施して微細凹凸構造を形成し、反射防止膜とする工程と
を有することを特徴とする、反射防止機能を有する部材の製造方法。
【請求項５】
前記酸化アルミニウム膜は、トリメチルアルミニウムと、酸化剤とを交互に供給することにより形成することを特徴とする、請求項４に記載の反射防止機能を有する部材の製造方法。
【請求項６】
基材の表面に反射防止機能を有する微細凹凸部が形成されてなる反射防止機能を有する部材であって、
前記微細凹凸部は、前記基材の表面に酸化アルミニウム膜を形成し、次いで酸化アルミニウム膜を水熱処理して微細凹凸状酸化アルミニウムを形成し、その後、前記微細凹凸状酸化アルミニウムをエッチングマスクとして前記基材の表面をドライエッチングするとともに、前記微細凹凸状酸化アルミニウムを除去することにより形成されたものであることを特徴とする、反射防止機能を有する部材。
【請求項７】
前記微細凹凸部を形成する際に用いる酸化アルミニウム膜は、原子層堆積法で形成されることを特徴とする、請求項６に記載の反射防止機能を有する部材。
【請求項８】
光学部材、またはデバイス形成用もしくはフラットパネルディスプレイ用の基板として用いることを特徴とする、請求項６または請求項７に記載の反射防止機能を有する部材。
【請求項９】
基材の表面に酸化アルミニウム膜を形成する工程と、
前記酸化アルミニウム膜に６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理を施して微細凹凸状酸化アルミニウムを形成する工程と、
前記微細凹凸状酸化アルミニウムをエッチングマスクとして前記基材の表面をドライエッチングして前記基材の表面に微細凹凸部を形成するとともに、前記微細凹凸状酸化アルミニウムを除去し、反射防止構造を形成する工程と
を有することを特徴とする、反射防止機能を有する部材の製造方法。
【請求項１０】
前記酸化アルミニウム膜を形成する工程は、原子層堆積法により行われることを特徴とする、請求項９に記載の反射防止機能を有する部材の製造方法。
【請求項１１】
基材の表面に反射防止機能を有する微細凹凸部が形成されてなる反射防止機能を有する部材であって、
前記微細凹凸部は、前記基材の表面に、基板の屈折率の近傍の屈折率を有し、基材よりもエッチングされやすい易エッチング性膜を形成し、前記易エッチング性膜の表面に酸化アルミニウム膜を形成し、次いで酸化アルミニウム膜を水熱処理して微細凹凸状酸化アルミニウムを形成し、その後、前記微細凹凸状酸化アルミニウムをエッチングマスクとして前記易エッチング性膜の表面をドライエッチングするとともに、前記微細凹凸状酸化アルミニウムを除去することにより形成されたものであることを特徴とする、反射防止機能を有する部材。
【請求項１２】
前記微細凹凸部を形成する際に用いる酸化アルミニウム膜は、原子層堆積法で形成されることを特徴とする、請求項１１に記載の反射防止機能を有する部材。
【請求項１３】
前記基材は、ガラス基板、透明導電膜、またはカラーフィルターであることを特徴とする、請求項１１または請求項１２に記載の反射防止機能を有する部材。
【請求項１４】
基材の表面に、基板の屈折率の近傍の屈折率を有し、基材よりもエッチングされやすい易エッチング性膜を形成する工程と、
前記易エッチング性膜の表面に酸化アルミニウム膜を形成する工程と、
前記酸化アルミニウム膜に６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理を施して微細凹凸状酸化アルミニウムを形成する工程と、
前記微細凹凸状酸化アルミニウムをエッチングマスクとして前記易エッチング性膜の表面をドライエッチングして前記易エッチング性膜の表面に微細凹凸部を形成するとともに、前記微細凹凸状酸化アルミニウムを除去し、反射防止構造を形成する工程と
を有することを特徴とする、反射防止機能を有する部材の製造方法。
【請求項１５】
前記酸化アルミニウム膜を形成する工程は、原子層堆積法により行われることを特徴とする、請求項１４に記載の反射防止機能を有する部材の製造方法。
【請求項１６】
前記基材は、ガラス基板、透明導電膜、またはカラーフィルターであることを特徴とする、請求項１４または請求項１５に記載の反射防止機能を有する部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の第１の観点では、基材と、前記基材の表面に形成された反射防止膜とを備えた反射防止機能を有する部材であって、前記反射防止膜は、原子層堆積法によって形成された酸化アルミニウム膜を、６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理することにより、微細凹凸構造が形成されたものであることを特徴とする、反射防止機能を有する部材を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第２の観点では、基材の表面に、原子層堆積法によって酸化アルミニウム膜を形成する工程と、前記酸化アルミニウム膜に６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理を施して微細凹凸構造を形成し、反射防止膜とする工程とを有することを特徴とする、反射防止機能を有する部材の製造方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第４の観点では、基材の表面に酸化アルミニウム膜を形成する工程と、前記酸化アルミニウム膜に６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理を施して微細凹凸状酸化アルミニウムを形成する工程と、前記微細凹凸状酸化アルミニウムをエッチングマスクとして前記基材の表面をドライエッチングして前記基材の表面に微細凹凸部を形成するとともに、前記微細凹凸状酸化アルミニウムを除去し、反射防止構造を形成する工程とを有することを特徴とする、反射防止機能を有する部材の製造方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の第６の観点では、基材の表面に、基板の屈折率の近傍の屈折率を有し、基材よりもエッチングされやすい易エッチング性膜を形成する工程と、前記易エッチング性膜の表面に酸化アルミニウム膜を形成する工程と、前記酸化アルミニウム膜に６０℃以上沸騰温度以下の熱水または水蒸気により水熱処理を施して微細凹凸状酸化アルミニウムを形成する工程と、前記微細凹凸状酸化アルミニウムをエッチングマスクとして前記易エッチング性膜の表面をドライエッチングして前記易エッチング性膜の表面に微細凹凸部を形成するとともに、前記微細凹凸状酸化アルミニウムを除去し、反射防止構造を形成する工程とを有することを特徴とする、反射防止機能を有する部材の製造方法を提供する。