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【手続補正書】
【提出日】平成28年6月10日(2016.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時刻情報を含む標準電波を受信して、第１レベルおよび前記第１レベルとは異なる第２レベルに変化する受信信号を出力する受信手段と、
前記受信信号が前記第２レベルから前記第１レベルに変化するタイミングである秒同期タイミングを基準に、サンプリング開始タイミングを設定する開始タイミング設定手段と、
前記サンプリング開始タイミングから所定期間の前記受信信号の中で、前記第１レベルの信号幅が最も大きい最大幅信号を検出する最大幅信号検出手段と、
前記最大幅信号が送信される期間内に判定タイミングを設定する判定タイミング設定手段と、
前記サンプリング開始タイミングから前記判定タイミングまでの経過時間を検出する経過時間検出手段と、
前記経過時間検出手段が検出した経過時間に基づいて、コードを判定するコード判定手段と、を備える
ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項２】
請求項１に記載の電波修正時計において、
前記判定タイミング設定手段は、前記最大幅信号の信号幅の中心のタイミングを前記判定タイミングに設定する
ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項３】
請求項１に記載の電波修正時計において、
前記判定タイミング設定手段は、前記最大幅信号の終了タイミングを前記判定タイミングに設定する
ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の電波修正時計において、
前記受信信号を所定のサンプリング周期でサンプリングして各サンプリング時の信号レベルを取得するサンプリング手段を備え、
前記最大幅信号検出手段は、
前記サンプリング手段で検出された信号レベルが前記第２レベルから前記第１レベルに変化した時点から、前記サンプリング手段で連続して前記第１レベルが検出された回数が最も大きな信号を、前記最大幅信号として検出する
ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の電波修正時計において、
前記開始タイミング設定手段は、前記秒同期タイミングの所定時間前のタイミングを前記サンプリング開始タイミングに設定し、
前記所定時間は、前記秒同期タイミングで前記受信信号が前記第２レベルから前記第１レベルに変化した場合にその信号レベルの変化を検出できる時間に設定される
ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の電波修正時計において、
前記コード判定手段は、
前記最大幅信号の信号幅が信号幅閾値未満の場合は、コードをマーカーと判定し、
前記最大幅信号の信号幅が前記信号幅閾値以上の場合は、前記経過時間検出手段が検出した経過時間を、経過時間閾値と比較して、コードを２進数の「０」または「１」と判定する  ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項７】
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の電波修正時計において、
前記コード判定手段は、前記経過時間検出手段が検出した経過時間が、第１経過時間閾値未満であるか、前記第１経過時間閾値以上かつ前記第１経過時間閾値よりも大きい値である第２経過時間閾値未満であるか、または、前記第２経過時間閾値以上であるかを判定することで、コードを２進数の「０」、「１」またはマーカーと判定する
ことを特徴とする電波修正時計。
【請求項８】
時刻情報を含む標準電波を受信して、第１レベルおよび前記第１レベルとは異なる第２レベルに変化する受信信号を出力する受信手段を有する電波修正時計のコード判定方法であって、
前記受信信号が前記第２レベルから前記第１レベルに変化するタイミングである秒同期タイミングを基準に、サンプリング開始タイミングを設定する開始タイミング設定ステップと、
前記サンプリング開始タイミングから所定期間の前記受信信号の中で、前記第１レベルの信号幅が最も大きい最大幅信号を検出する最大幅信号検出ステップと、
前記最大幅信号が送信される期間内に判定タイミングを設定する判定タイミング設定ステップと、
前記サンプリング開始タイミングから前記判定タイミングまでの経過時間を検出する経過時間検出ステップと、
前記経過時間検出ステップで検出した経過時間に基づいて、コードを判定するコード判定ステップと、を備える
ことを特徴とする電波修正時計のコード判定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアと、キャリア上に積層された中間層と、中間層上に積層された極薄銅層とを備えたキャリア付銅箔であって、
前記中間層は、タングステン−ニッケル合金、またはタングステン−コバルト合金、またはタングステン−鉄合金で構成されており、
前記中間層のタングステンの付着量が５０〜１００００μｇ／ｄｍ2、中間層にニッケルを含む場合はニッケルの付着量が５０〜４００００μｇ／ｄｍ2、中間層にコバルトを含む場合はコバルトの付着量が５０〜１００００μｇ／ｄｍ2、中間層に鉄を含む場合は鉄の付着量が５０〜１００００μｇ／ｄｍ2であり、
前記キャリア／中間層／極薄銅層の断面から、この順番でこれらを全て含む範囲で５０〜１０００ｎｍ長ＳＴＥＭ線分析を行ったとき、タングステン濃度の最大値が１〜７０質量％であるキャリア付銅箔。
【請求項２】
前記キャリア／中間層／極薄銅層の断面から、この順番でこれらを全て含む範囲で５０〜１０００ｎｍ長ＳＴＥＭ線分析を行ったとき、タングステン濃度の最大値が３〜７０質量％である請求項１に記載のキャリア付銅箔。
【請求項３】
前記キャリア／中間層／極薄銅層の断面から、この順番でこれらを全て含む範囲で５０〜１０００ｎｍ長ＳＴＥＭ線分析を行ったとき、タングステン濃度の最大値が５〜６０質量％である請求項２に記載のキャリア付銅箔。
【請求項４】
前記中間層は、前記キャリア上に、ニッケルまたはニッケル合金と、タングステン−ニッケル合金またはタングステン−コバルト合金またはタングステン−鉄合金とがこの順で積層されて構成されており、
前記銅箔キャリア／中間層／極薄銅層の断面から、この順番でこれらを全て含む範囲で５０〜１０００ｎｍ長ＳＴＥＭ線分析を行ったとき、ニッケル濃度の最大値が５０〜９５質量％である請求項１〜３のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項５】
前記極薄銅層に絶縁基板を大気中、圧力：２０ｋｇｆ／ｃｍ2、２２０℃×２時間の条件下で熱圧着させたときに、
前記銅箔キャリア／中間層／極薄銅層の断面から、この順番でこれらを全て含む範囲で５０〜１０００ｎｍ長ＳＴＥＭ線分析を行ったとき、タングステン濃度の最大値が１〜６０質量％になる請求項１〜４のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項６】
前記極薄銅層に絶縁基板を大気中、圧力：２０ｋｇｆ／ｃｍ2、２２０℃×２時間の条件下で熱圧着させたときに、
前記銅箔キャリア／中間層／極薄銅層の断面から、この順番でこれらを全て含む範囲で５０〜１０００ｎｍ長ＳＴＥＭ線分析を行ったとき、タングステンと、ニッケル及び／またはコバルト及び／または鉄と、銅とが共存する部分における銅濃度最小値が１０〜６５質量％となる請求項１〜５のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項７】
以下の（Ａ）〜（Ｃ）のいずれか一つを満たす請求項１〜６のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
（Ａ）前記極薄銅層表面に粗化処理層を有する、
（Ｂ）前記極薄銅層表面に粗化処理層を有し、且つ、当該粗化処理層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する、
（Ｃ）前記極薄銅層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する。
【請求項８】
前記極薄銅層上又は前記粗化処理層上又は前記耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層の上に樹脂層を備える請求項１〜７のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項９】
以下の（Ｄ）〜（Ｇ）のいずれか一つ以上を満たす請求項１〜８のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
（Ｄ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差ΔＬが−４０以下である、
（Ｅ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差ΔＥ＊ａｂが４５以上である、
（Ｆ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差Δａが２０以下である、
（Ｇ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差Δｂが２０以下である。
【請求項１０】
キャリア上に、又は、キャリア上に乾式めっき又は電気めっきにより、ニッケルめっき層またはニッケルを含む合金めっき層を形成した後に、乾式めっき又は電気めっきにより、タングステン−コバルト合金、タングステン−ニッケル合金、タングステン−鉄合金のいずれか１種以上を含む層を形成することで中間層を形成する工程と、前記中間層上に電解めっきにより極薄銅層を形成する工程とを含む請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を用いてプリント配線板を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を用いて銅張積層板を製造する方法。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面に回路を形成する工程、
前記回路が埋没するように前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面に樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成した後に、前記キャリアを剥離させる工程、及び、
前記キャリアを剥離させた後に、前記極薄銅層を除去することで、前記極薄銅層側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
を含むプリント配線板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャリア付銅箔、その製造方法、銅張積層板の製造方法及びプリント配線板の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアと、キャリア上に積層された中間層と、中間層上に積層された極薄銅層とを備えたキャリア付銅箔であって、
前記中間層は、モリブデン−ニッケル合金、またはモリブデン−コバルト合金、またはモリブデン−鉄合金で構成されており、
前記中間層のモリブデンの付着量が５０〜１００００μｇ／ｄｍ2、中間層にニッケルを含む場合はニッケルの付着量が５０〜４００００μｇ／ｄｍ2、中間層にコバルトを含む場合はコバルトの付着量が５０〜１００００μｇ／ｄｍ2、中間層に鉄を含む場合は鉄の付着量が５０〜１００００μｇ／ｄｍ2であり、
前記中間層／極薄銅層間で剥離させたとき、ＸＰＳによる表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向（ｘ：単位ｎｍ）のモリブデンの原子濃度（％）をf(x)とし、ニッケルの原子濃度（％）をg(x)とし、銅の原子濃度（％）をh(x)とし、鉄の原子濃度（％）をi(x)とし、コバルトの原子濃度（％）をj(x)とし、酸素の原子濃度（％）をk(x)とし、炭素の原子濃度（％）をl(x)とし、その他の原子濃度（％）をm(x)とすると、
前記中間層表面からの深さ方向分析の区間［０．０、４．０］において、∫f(x)dx/(∫f(x)dx +∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx+ ∫k(x)dx+ ∫l(x)dx+ ∫m(x)dx)が１５％〜７０％を満たすキャリア付銅箔。
【請求項２】
前記中間層／極薄銅層間で剥離させたとき、ＸＰＳによる前記中間層表面からの深さ方向分析の区間［０．０、４．０］において、∫f(x)dx/(∫f(x)dx +∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx+ ∫k(x)dx+ ∫l(x)dx+ ∫m(x)dx)が２０％〜７０％を満たす請求項１に記載のキャリア付銅箔。
【請求項３】
前記中間層／極薄銅層間で剥離させたとき、ＸＰＳによる前記中間層表面からの深さ方向分析の区間［０．０、４．０］において、∫h(x)dx/(∫f(x)dx +∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx+ ∫k(x)dx+ ∫l(x)dx+ ∫m(x)dx)が３％以下を満たす請求項１又は２に記載のキャリア付銅箔。
【請求項４】
前記中間層がモリブデン−ニッケル合金で構成されている場合は、前記キャリアと中間層との間にニッケルを備え、
前記中間層がモリブデン−コバルト合金、またはモリブデン−鉄合金で構成されている場合は、前記キャリアと中間層との間にニッケルまたはニッケル合金を備える請求項１〜３のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項５】
前記極薄銅層に絶縁基板を大気中、圧力：２０ｋｇｆ／ｃｍ2、２２０℃×２時間の条件下で熱圧着させ、前記中間層／極薄銅層間で剥離させたとき、前記中間層表面からの深さ方向分析の区間［０．０、４．０］において、∫f(x)dx/(∫f(x)dx +∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx+ ∫k(x)dx+ ∫l(x)dx+ ∫m(x)dx)が１５％〜７０％となる請求項１〜４のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項６】
前記極薄銅層に絶縁基板を大気中、圧力：２０ｋｇｆ／ｃｍ2、２２０℃×２時間の条件下で熱圧着させ、前記中間層／極薄銅層間で剥離させたとき、前記中間層表面からの深さ方向分析の区間［０．０、４．０］において、∫h(x)dx/(∫f(x)dx +∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx+ ∫k(x)dx+ ∫l(x)dx+ ∫m(x)dx)が５％以下となる請求項１〜５のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項７】
以下の（Ａ）〜（Ｃ）のいずれか一つを満たす請求項１〜６のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
（Ａ）前記極薄銅層表面に粗化処理層を有する、
（Ｂ）前記極薄銅層表面に粗化処理層を有し、且つ、当該粗化処理層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する、
（Ｃ）前記極薄銅層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する。
【請求項８】
前記極薄銅層上又は前記粗化処理層上又は前記耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層の上に樹脂層を備える請求項１〜７のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
【請求項９】
以下の（Ｄ）〜（Ｇ）のいずれか一つ以上を満たす請求項１〜８のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
（Ｄ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差ΔＬが−４０以下である、
（Ｅ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差ΔＥ＊ａｂが４５以上である、
（Ｆ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差Δａが２０以下である、
（Ｇ）前記極薄銅層表面のＪＩＳＺ８７３０に基づく色差Δｂが２０以下である。
【請求項１０】
キャリア上に、又は、キャリア上に乾式めっき又は電気めっきにより、ニッケルめっき層またはニッケルを含む合金めっき層を形成した後に、乾式めっき又は電気めっきにより、モリブデン−コバルト合金、モリブデン−ニッケル合金、モリブデン−鉄合金のいずれか１種以上を含む層を形成することで中間層を形成する工程と、前記中間層上に電解めっきにより極薄銅層を形成する工程とを含む請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を用いてプリント配線板を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を用いて銅張積層板を製造する方法。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面に回路を形成する工程、
前記回路が埋没するように前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面に樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成した後に、前記キャリアを剥離させる工程、及び、
前記キャリアを剥離させた後に、前記極薄銅層を除去することで、前記極薄銅層側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
を含むプリント配線板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャリア付銅箔及びその製造方法、銅張積層板の製造方法及びプリント配線板の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月22日(2016.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体部および当該装置本体部に対して開閉可能に取り付けられた開閉体のいずれか一方における他方に対して前記開閉体の開閉方向と交差する方向で対向する部位に設けられた傾斜面と、
前記装置本体部および前記開閉体の他方における前記傾斜面に対向する部位に設けられた摩擦面と、
当該傾斜面と前記摩擦面との間に配置されているダンパー部材と、
前記傾斜面の傾斜方向の一端側および他端側に設けられた対向する一対の壁面と、を有し、
前記傾斜面は、前記開閉体の開閉方向に沿って一端から他端に向かうに従って前記摩擦面との距離が大きくなる方向に傾斜しており、
前記ダンパー部材は、
前記一対の壁面の間において前記傾斜面の傾斜方向に移動可能に配置され、
前記傾斜面と摺接する部位には第１摺接面が形成され、当該第１摺接面の裏側の部位には、当該第１摺接面よりも摩擦係数が高い平面である第２摺接面が形成され、
少なくとも前記第２摺接面が形成された部位が弾性素材によって形成されていることを特徴とするダンパー機構。
【請求項２】
前記装置本体部に設けられた前記摩擦面と、前記ダンパー部材に形成された前記第２摺接面とは、前記開閉体の前記開状態及び前記閉状態のいずれの状態においても摺接していることを特徴とする請求項１に記載のダンパー機構。
【請求項３】
前記ダンパー部材は、
前記弾性素材からなり、前記第２摺接面が形成されたクッション材と、
当該クッション材を保持しており、前記第１摺接面が形成されたホルダーと、を備えることを特徴とする請求項１に記載のダンパー機構。
【請求項４】
前記ホルダーは、前記第１摺接面が形成されたスライド部と、当該スライド部から前記摩擦面側に突出している突出部とを備え、
当該突出部は、前記ホルダーに保持された前記クッション材に対し、前記開閉体の開方向あるいは閉方向で対向していることを特徴とする請求項３に記載のダンパー機構。
【請求項５】
前記ダンパー部材は、前記第１摺接面が形成された部位、および、前記第２摺接面が形成された部位が同一素材からなり、
前記第２摺接面の粗さが、前記第１摺接面の粗さよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のダンパー機構。
【請求項６】
前記開閉体は、前記装置本体部に対して、予め定めた開閉中心線回りに回動可能に取り付けられており、
前記装置本体部および前記開閉体は、前記開閉中心線の方向に対峙している本体部端面部分および開閉体端面部分を備え、
前記本体部端面部分に前記摩擦面が形成され、
前記開閉体端面部分に前記傾斜面および前記一対の壁面が形成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかの項に記載のダンパー機構。
【請求項７】
前記傾斜面は、前記装置本体部および前記開閉体のいずれか一方に形成された凹部の底面に設けられ、
前記一対の壁面は、前記凹部における対向する一対の内壁面であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかの項に記載のダンパー機構。
【請求項８】
装置本体部と、
当該装置本体部に対して開閉可能に取り付けられた開閉体と、
前記装置本体部と前記開閉体における対向している部位に設けられた請求項１ないし７のいずれかの項に記載のダンパー機構とを有することを特徴とする媒体処理装置。
【請求項９】
前記装置本体部は、シート状の媒体を搬送する本体側搬送路、および、前記本体側搬送路に沿って搬送される媒体に所定の処理を行う媒体処理部を備え、
前記開閉体は、
前記本体側搬送路から送り込まれる媒体を、その表裏を反転させて前記本体側搬送路に戻す反転用搬送路を備えた反転ユニットであることを特徴とする請求項８に記載の媒体処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月23日(2016.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
軸部２９は、スリーブ部２８に対して同軸状に挿入されている。軸部２９は、スプライン嵌合などによって連結されているため、周方向Ｃにスリーブ部２８と一体回転可能であり、またスリーブ部２８に対して軸方向Ｘに相対移動可能である。通常状態では、軸部２９の一端部２９Ａは、スリーブ部２８の一端部２８Ａから軸方向Ｘに外れて（図２では左側へ外れて）配置されている。軸部２９の他端部２９Ｂ（図２では左端部）は、自在継手４（図１参照）と連結されている。また、軸部２９は、後述する２次衝突などの強い衝撃を受けることで、軸方向Ｘに移動可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図４は、図２におけるIV−IV線に沿う伝達シャフト５の断面図の一部を示したものである。ここで、図４における紙面に対して直交する方向は、図２における軸方向Ｘと一致している。また、図４の左右方向は、図２における紙面に対して直交する方向（左右方向Ｙ）と一致している。また、図４の上下方向は、図２における上下方向Ｚと一致している。
以下では、図１〜図３に加えて図４も参照して説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月13日(2016.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個のセルが連結部材によって連結されて一体化され、該セル内に測定試薬が収容されているセル連結体と、
該セル連結体の各セルが差し込まれる透過率又は吸光度の測定部を有した測定器本体と
を有し、
各セルには、互いに異なる溶存成分を分析するように、それぞれ別の種類の試薬が規定量だけ収容されている溶存成分の濃度測定装置。
【請求項２】
請求項１において、各セルに着脱または開閉可能なキャップが装着されていることを特徴とする溶存成分の濃度測定装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記セル連結体には、前記セルが１列に等ピッチで配置されており、
前記測定器本体の上面に、各セルを差し込むための開口が該セル連結体の該ピッチと同ピッチで設けられていることを特徴とする溶存成分の濃度測定装置。
【請求項４】
請求項３において、前記測定器本体にセットされたセル連結体の上部を覆う遮光蓋を備えたことを特徴とする溶存成分の濃度測定装置。
【請求項５】
請求項３又は４において、各セルを挟んでそれぞれ配置された発光素子及び受光素子と、各発光素子及び受光素子の対を順次作動させる制御手段とを備えたことを特徴とする溶存成分の濃度測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月24日(2016.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定パターンの投影光を測定対象物体上に投影する投影装置と、前記投影光が投影された前記測定対象物体を撮像する撮像装置と、前記撮像装置が撮像した撮像画像を用いて前記測定対象物体の距離情報を計測する計測手段とを備える計測システムにおける、前記投影装置による投影光量を決定する情報処理装置であって、
前記投影装置に対する測定対象物体の概略的な位置を示す位置情報を取得する位置情報取得手段と、
前記位置情報に従い、前記投影光の前記測定対象物体への入射領域を推定し、当該推定された入射領域から前記撮像装置へと向かう反射光の光量が所定範囲に入るように、前記投影光の領域ごとに投影光量を決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記決定手段は、前記投影光の入射位置における前記測定対象物体の反射率の大きさを示す情報に従って、前記投影光量を決定することを特徴とする、請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記測定対象物体の領域ごとに予め用意された反射率の大きさを示す情報のうち、前記投影光の入射位置に対応する入射領域についての反射率の大きさを示す情報に従って、前記投影光量を決定することを特徴とする、請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記投影光の入射領域と前記投影装置との間の距離に従って、前記投影光量を決定することを特徴とする、請求項１乃至３の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記投影光の入射領域における前記測定対象物体への前記投影光の入射角度に従って、前記投影光量を決定することを特徴とする、請求項１乃至３の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記決定手段は、前記投影光の入射領域における前記測定対象物体への前記投影光の入射角度と、前記入射領域からの前記撮像装置への反射光の反射角度と、に従って前記投影光量を決定することを特徴とする、請求項１乃至３の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記投影光が入射していない状態で、前記測定対象物体上の各領域から前記撮像装置へと向かう、環境光の反射光の光量を取得する環境光量取得手段をさらに備え、
前記決定手段は、前記入射領域から前記撮像装置へと向かう、前記投影光の反射光の光量と前記環境光の反射光の光量との和が前記所定範囲に入るように、前記投影光の領域ごとに投影光量を決定することを特徴とする、請求項１乃至６の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記位置情報は、前記測定対象物体の形状及び位置姿勢に関する情報を示すことを特徴とする、請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記位置情報は、前記測定対象物体上の各点への概略距離を示すことを特徴とする、請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
所定パターンの投影光を測定対象物体上に投影する投影装置と、前記投影光が投影された前記測定対象物体を撮像する撮像装置と、前記撮像装置が撮像した撮像画像を用いて前記測定対象物体の距離情報を計測する計測手段とを備える計測システムにおける、前記投影装置による投影光量を決定する情報処理装置であって、
前記投影装置に対する測定対象物体の概略的な位置を示す位置情報を取得する位置情報取得手段と、
前記位置情報に従い、前記投影光の前記測定対象物体への入射領域を推定し、当該投影光の入射領域において予め用意された測定対象物体の反射率と、当該投影光の入射領域から前記投影装置への距離と、当該投影光の入射領域への入射角度と、当該投影光の入射領域から前記撮像装置への反射角度と、前記投影光の入射領域から前記撮像装置へと向かう環境光の反射光の光量と、のうちの少なくとも１つを参照して、前記投影光の領域ごとに投影光量を決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１１】
所定パターンの投影光を測定対象物体上に投影する投影装置と、
前記投影光が投影された前記測定対象物体を撮像する撮像装置と、
前記撮像装置が撮像した撮像画像を用いて前記測定対象物体の距離情報を計測する計測手段と、
前記投影装置による投影光量を決定する、請求項１乃至１０の何れか１項に記載の情報処理装置と、
を備えることを特徴とする計測システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の計測システムと、
可動軸を有するロボットと、
前記計測手段が計測した距離に従って前記ロボットの位置姿勢を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする制御システム。
【請求項１３】
所定パターンの投影光を測定対象物体上に投影する投影装置と、前記投影光が投影された前記測定対象物体を撮像する撮像装置と、前記撮像装置が撮像した撮像画像を用いて前記測定対象物体の距離情報を計測する計測手段とを備える計測システムにおける、前記投影装置による投影光量を決定する情報処理装置が行う情報処理方法であって、
前記投影装置に対する測定対象物体の概略的な位置を示す位置情報を取得する位置情報取得工程と、
前記位置情報に従い、前記投影光の前記測定対象物体への入射領域を推定し、当該推定された入射領域から前記撮像装置へと向かう反射光の光量が所定範囲に入るように、前記投影光の領域ごとに投影光量を決定する決定工程と、
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項１４】
所定パターンの投影光を測定対象物体上に投影する投影装置と、前記投影光が投影された前記測定対象物体を撮像する撮像装置と、前記撮像装置が撮像した撮像画像を用いて前記測定対象物体の距離情報を計測する計測手段とを備える計測システムにおける、前記投影装置による投影光量を決定するコンピュータに、
前記投影装置に対する測定対象物体の概略的な位置を示す位置情報を取得する位置情報取得工程と、
前記位置情報に従い、前記投影光の前記測定対象物体への入射領域を推定し、当該推定された入射領域から前記撮像装置へと向かう反射光の光量が所定範囲に入るように、前記投影光の領域ごとに投影光量を決定する決定工程と、
を実行させるためのプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のプログラムを格納した、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の情報処理装置は以下の構成を備える。すなわち、
所定パターンの投影光を測定対象物体上に投影する投影装置と、前記投影光が投影された前記測定対象物体を撮像する撮像装置と、前記撮像装置が撮像した撮像画像を用いて前記測定対象物体の距離情報を計測する計測手段とを備える計測システムにおける、前記投影装置による投影光量を決定する情報処理装置であって、
前記投影装置に対する測定対象物体の概略的な位置を示す位置情報を取得する位置情報取得手段と、
前記位置情報に従い、前記投影光の前記測定対象物体への入射領域を推定し、当該推定された入射領域から前記撮像装置へと向かう反射光の光量が所定範囲に入るように、前記投影光の領域ごとに投影光量を決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月11日(2016.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
上記前側便器補助部材及び上記後側便器補助部材は、それぞれに上記手掛け部を有し、
上記連結手段は、上記前側便器補助部材の手掛け部に形成されている係止片と、上記係
止片を係止する上記後側便器補助部材の手掛け部に形成されている係り部とを有し、
上記前側便器補助部材と上記後側便器補助部材とが連結している状態で、上記前側便器
補助部材の手掛け部と上記後側便器補助部材の手掛け部とを持って引き上げると、上記係止片が上記係り部に係止される方向に力が作用することを特徴とする請求項１記載の便器補助部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
上記前側便器補助部材と上記後側便器補助部材とが連結している状態で、上記側壁部は
、上記便器の両側に前後方向に延びるように配置され、上記手掛け部は、上記便器の前後方向の二箇所で左右対称になるように各側壁部にそれぞれ形成された前側手掛け部及び後側手掛け部からなることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の便器補助部材。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の発明は、第１の発明において、上記前側便器補助部材及び上記後側便器補助部材は、それぞれに上記手掛け部を有し、上記連結手段は、上記前側便器補助部材の手掛け部に形成されている係止片と、上記係止片を係止する上記後側便器補助部材の手掛け部に形成されている係り部とを有し、上記前側便器補助部材と上記後側便器補助部材とが連結している状態で、上記前側便器補助部材の手掛け部と上記後側補助部材の手掛け部とを持って引き上げると、上記係止片が上記係り部に係止される方向に力が作用することを特徴とする便器補助部材である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第２の発明によれば、前側便器補助部材と後側便器補助部材とが連結している状態で、
双方の便器補助部材の手掛け部を持って引き上げると、係止片が係り部に係止される方向
に力が作用するため、互いの連結を強めることができる。そのため、便器の移動中に連結
が外れることが防げるので、安定して便器を施工場所に移動させて位置決めすることがで
き、便器を施工可能な状態とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第３の発明は、第２の発明において、上記前側便器補助部材及び上記後側便器補助部材
の手掛け部は、上記側壁部に形成され、手を挿入可能な開口であり、上記係止片は、上記
前側便器補助部材における上記開口の上部の一部に切り込みを設けることで形成され、上
記係り部は、上記後側便器補助部材における上記開口の上部の一部を切り欠いた切り欠き
形状によって形成されており、上記前側便器補助部材と上記後側便器補助部材との上記開
口が重なり合う状態で、上記係止片を、上記切り欠きへ押し込むことで、上記係止片の一
部が、上記切り欠きに係止されていることを特徴とする便器補助部材である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第４の発明は、第１乃至３の何れか１つの発明において、上記前側便器補助部材と上記
後側便器補助部材とが連結している状態で、上記側壁部は、上記便器の両側に前後方向に
延びるように配置され、上記手掛け部は、上記便器の前後方向の二箇所で左右対称になるように各側壁部にそれぞれ形成された前側手掛け部及び後側手掛け部からなることを特徴とする便器補助部材である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月26日(2016.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
道路橋の遊間内に設けられる遊間用止水材であって、
前記遊間に沿って延びるとともに前記遊間の変位に追随可能である第１および第２の伸縮フォーム層と、
止水機能を有し、前記第１の伸縮フォーム層の端部に設けられる第１の止水性部材と、
止水機能を有し、前記第２の伸縮フォーム層の端部に設けられる第２の止水性部材と、
止水機能を有し、前記第１および第２の伸縮フォーム層の上面に設けられる第１および第２の止水シートとを備え、
前記第１および第２の止水シートはそれぞれ前記第１および第２の止水性部材の上面まで延び、
前記第１および第２の伸縮フォーム層は前記第１および第２の止水性部材同士を密着させて連結されることを特徴とする遊間用止水材。
【請求項２】
前記第１および第２の止水性部材がそれぞれ、連通多孔質の第１および第２の止水性伸縮フォームを有することを特徴とする請求項１に記載の遊間用止水材。
【請求項３】
前記第１および第２の止水性部材がさらに、前記第１および第２の止水性伸縮フォームの前面に設けられ、前記橋軸の方向および前記遊間の長手方向の両方に伸縮性を有する第１および第２の発泡体を有することを特徴とする請求項２に記載の遊間用止水材。
【請求項４】
前記第１および第２の止水シートがそれぞれ、前記第１および第２の止水性伸縮フォームの前面よりも突出して前記第１および第２の発泡体の上面まで延び、前記第１および第２の発泡体と接することを特徴とする請求項３に記載の遊間用止水材。
【請求項５】
前記第１および第２の止水性伸縮フォームがそれぞれ、相対的に低い弾性を有する軟質止水性フォームと相対的に高い弾性を有する硬質止水性フォームとを前記遊間の幅方向に交互に配設して構成されることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の遊間用止水材。
【請求項６】
前記第１および第２の止水性部材がそれぞれ、前記橋軸の方向および前記遊間の長手方向の両方に伸縮性を有する第１および第２の発泡体であることを特徴とする請求項１に記載の遊間用止水材。
【請求項７】
前記第１および第２の止水シートがそれぞれ、前記第１および第２の発泡体の端面まで延び、相互に近接することを特徴とする請求項６に記載の遊間用止水材。
【請求項８】
前記第１および第２の止水シートがそれぞれ、前記第１および第２の伸縮フォーム層の端面において前記第１および第２の伸縮フォーム層の少なくとも厚さ方向に折曲し、前記第１および第２の発泡体の裏面の全体に密着することを特徴とする請求項６に記載の遊間用止水材。
【請求項９】
道路橋の遊間内に設けられる遊間用止水材であって、
前記遊間に沿って延びるとともに前記遊間の変位に追随可能であり、止水機能を有する第１および第２の伸縮フォーム層と、
止水機能を有し、前記第１および第２の伸縮フォーム層の上面に設けられる第１および第２の止水シートとを備え、
前記第１および第２の伸縮フォーム層は端部同士を密着させて連結されることを特徴とする遊間用止水材。
【請求項１０】
道路橋の遊間内に設けられる遊間用止水材であって、
前記遊間に沿って延びるとともに前記遊間の変位に追随可能である第１および第２の伸縮フォーム層と、
止水機能を有し、前記第１および第２の伸縮フォーム層の少なくとも一方の端部に設けられる止水性部材と、
止水機能を有し、前記第１および第２の伸縮フォーム層の上面に設けられる第１および第２の止水シートとを備え、
前記第１および第２の止水シートはそれぞれ前記止水性部材の上面まで延び、
前記第１および第２の伸縮フォーム層は前記止水性部材を介して連結されることを特徴とする遊間用止水材。
【請求項１１】
道路橋の継目部に設けられる道路橋伸縮装置であって、
前記道路橋の遊間に沿って延びるフェースプレートと、
前記フェースプレートの下方に設けられ、前記遊間に沿って延びるとともに前記遊間の変位に追随可能である第１および第２の伸縮フォーム層と、
止水機能を有し、前記第１の伸縮フォーム層の端部に設けられる第１の止水性部材と、
止水機能を有し、前記第２の伸縮フォーム層の端部に設けられる第２の止水性部材と、
止水機能を有し、前記第１および第２の伸縮フォーム層の上面に設けられる第１および第２の止水シートとを備え、
前記第１および第２の止水シートはそれぞれ前記第１および第２の止水性部材の上面まで延び、
前記第１および第２の伸縮フォーム層は前記第１および第２の止水性部材同士を密着させて連結されることを特徴とする道路橋伸縮装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月24日(2016.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バニリルアルキルエーテルを化粧料全量に対して０．１質量％〜１質量％と、トウガラシ抽出物を化粧料全量に対して固形分として０．００１質量％〜０．１質量％とを含有する温感化粧料において、バラ科の植物抽出物を含有することを特徴とする、温感化粧料。
【請求項２】
前記バラ科の植物が、アロニア属アロニア・メラノカルパ（Aronia melanocarpa）及び／又はキイチゴ属オニイチゴ（Rubus ellipticus）であることを特徴とする、請求項１に記載の温感化粧料。
【請求項３】
バラ科の植物抽出物を化粧料全量に対して、固形分として０．０００１質量％〜１質量％含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の温感化粧料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
一方、即効性の高い温感剤としてトウガラシ抽出物が知られており、バニリルアルキルエーテルと併用した温感化粧料も知られている（例えば、特許文献３を参照）。しかしながら、トウガラシ抽出物の温感ピークの時間とバニリルアルキルエーテルの温感効果が最大になる時間にまだズレが存するため、温感の中だるみが生じるという課題が存した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
＜本発明のバニリルアルキルエーテル＞
本発明の温感化粧料は、必須成分としてバニリルアルキルエーテルを含有することを特徴とする。バニリルアルキルエーテルを構成するアルキル基としては、炭素数１〜４のものが好ましく、例えば、バニリルメチルエーテル、バニリルエチルエーテル、バニリルプロピルエーテル、バニリルイソプロピルエーテル、バニリルブチルエーテル、バニリルセ
カンダリーブチルエーテル、バニリルイソブチルエーテル、バニリルターシャリーブチルエーテル、バニリルシクロプロピルメチルエーテル、バニリルシクロブチルエーテル等が具体的に好ましく例示できる。この内、バニリルブチルエーテルは、既に市販されておりそれを用いることもできるし、バニリルアルコールを塩化チオニルなどのハロゲン化剤でハロゲン化した後、水素化ナトリウムなどのアルカリ存在下対応するアルコールと縮合させて製造し、使用することもできる。バニリルアルキルエーテルの含有量は、化粧料全量に対して、０．１質量％〜１質量％であり、好ましくは０．１質量％〜０．５質量％である。これは、少なすぎると温感効果が弱くなり、多すぎるとバニリルアルキルエーテルの刺激性が強くなり使用性が低下するからである。本発明の化粧料においては、バニリルアルキルエーテルを唯一種含有させることもできるし、二種以上組み合わせて含有させることもできる。好ましい形態は、バニリルブチルエーテルを単独で含有する形態である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のトウガラシ抽出物としては、ナス科トウガラシの果実の乾燥物を有機溶剤で抽出したもの又はその溶剤除去物が好ましく、有機溶剤としては水に可溶なものが好ましく、エタノールやイソプロパノール、１，３−ブタンジオールなどのアルコールが特に好ましい。抽出は植物体に１〜１０倍量の溶媒を加え、室温であれば数日間、沸点付近の温度であれば数時間浸漬すればよい。必要に応じて濾過して不溶物を取り除いた後、所望により減圧濃縮などにより溶媒を除去することができる。本発明の温感化粧料における、トウガラシ抽出物の含有量は、化粧料全量に対して、固形分として０．００１〜０．１質量％であり、好ましくは０．００５〜０．０５質量％である。これは、少なすぎると即時的な温感効果が発揮できない場合があり、多すぎると刺激感が強すぎる場合があるからである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月20日(2016.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
＜本発明のバニリルアルキルエーテル＞
本発明の化粧料は、必須成分としてバニリルアルキルエーテルを含有することを特徴とする。バニリルアルキルエーテルを構成するアルキル基としては、炭素数１〜４のものが好ましく、例えば、バニリルメチルエーテル、バニリルエチルエーテル、バニリルプロピルエーテル、バニリルイソプロピルエーテル、バニリルブチルエーテル、バニリルセカンダリーブチルエーテル、バニリルイソブチルエーテル、バニリルターシャリーブチルエーテル、バニリルシクロプロピルメチルエーテル、バニリルシクロブチルエーテル等が具体的に好ましく例示できる。この内、バニリルブチルエーテルは、既に市販されておりそれを用いることもできるし、バニリルアルコールを塩化チオニルなどのハロゲン化剤でハロゲン化した後、水素化ナトリウムなどのアルカリ存在下対応するアルコールと縮合させて製造し、使用することもできる。バニリルアルキルエーテルの含有量は、化粧料全量に対して、０．１質量％以上であり、上限に特に規定はないが、多すぎると刺激が強くなりすぎる場合があるため、１質量％を上限として含有することが好ましい。本発明の化粧料においては、バニリルアルキルエーテルを唯一種含有させることもできるし、二種以上組み合わせて含有させることもできる。好ましい形態は、バニリルブチルエーテルを単独で含有する形態である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月30日(2016.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
β-シクロデキストリンおよび／またはβ-シクロデキストリン誘導体を有効成分とする腎不全改善剤。
【請求項２】
前記β-シクロデキストリン誘導体が、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜２のアルキル基および１〜２残基からなる糖類から選ばれる置換基を有するβ-シクロデキストリンである、請求項１に記載の腎不全改善剤。
【請求項３】
請求項１または２に記載の腎不全改善剤を含有する腎不全改善用の医薬品。
【請求項４】
請求項１または２に記載の腎不全改善剤を含有する腎不全改善用の飲食品組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月16日(2016.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１０Ｒ）−７−アミノ−１２−フルオロ−２，１０，１６−トリメチル−１５−オキソ−１０，１５，１６，１７−テトラヒドロ−２Ｈ−８，４−（メテノ）ピラゾロ［４，３−ｈ］［２，５，１１］ベンズオキサジアザシクロテトラデシン−３−カルボニトリルの結晶性酢酸溶媒和物。
【請求項２】
１２．９°２θ±０．２°２θの２θ値でピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項１に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項３】
１２．９および１４．５°２θ±０．２°２θの２θ値でピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項１に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項４】
１１．４、１２．９および１４．５°２θ±０．２°２θの２θ値でピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項１に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項５】
１０．５、１１．４、１２．９および１４．５°２θ±０．２°２θの２θ値でピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項１に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項６】
１０．５、１１．４、１２．９、１４．５および１５．３°２θ±０．２°２θの２θ値でピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項１に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項７】
２２３４ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項８】
８０９および２２３４ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項９】
８０９、２２３４および３０５５ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項１０】
（ａ）−１０７．２ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１９Ｆ固体状態ＮＭＲスペクトル；（ｂ）１４０．７ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体状態ＮＭＲスペクトル；または（ｃ）（ａ）および（ｂ）の両方を有する、請求項１から９のいずれか一項に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項１１】
２２．８、１４０．７および１７０．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体状態ＮＭＲスペクトルを有する、請求項１から９のいずれか一項に記載の結晶性溶媒和物。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶性酢酸溶媒和物と、薬学的に許容できる添加剤とを含む、医薬組成物。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶性酢酸溶媒和物を含む、異常な細胞成長を治療するための医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月23日(2016.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤と、
遊技盤に設けられた、遊技球が入球可能な入球口と、
遊技盤から遊技者側に突出して設けられた、遊技盤上を流下する遊技球を受け入れ可能な球受部材を含み、当該球受部材の一部面に設けられた開口部から前記入球口へと遊技球を誘導可能に構成された入球口誘導部材と、
前記球受部材における遊技球の受け入れ方向の開口部に設けられた、第一位置及び第二位置に変位可能な可変部材であって、第一位置に変位したときには入球口誘導部材に遊技球が流入可能又は第二位置に変位したときと比較して流入容易であると共に、第二位置に変位したときには入球口誘導部材に遊技球が流入不能又は第一位置に変位したときと比較して入球困難に可変するスライド扉部材と
を備え、
前記球受部材における底面の少なくとも一部面であって、遊技盤上を流下する遊技球を受け入れた際に当該遊技球が接触し得る遊技球着地面においては、遊技球着地面と前記球受部材における遊技盤側の側面との角度が鋭角をなし、
スライド扉部材が第一位置に変位したときにスライド扉部材の一部によって形成される庇部においては、庇部の先端に設けられた傾斜面と前記球受部材における遊技盤側の側面との角度が鈍角をなす
ことを特徴とするぱちんこ遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本態様に係るぱちんこ遊技機は、
遊技盤と、
遊技盤に設けられた、遊技球が入球可能な入球口と、
遊技盤から遊技者側に突出して設けられた、遊技盤上を流下する遊技球を受け入れ可能な球受部材を含み、当該球受部材の一部面に設けられた開口部から前記入球口へと遊技球を誘導可能に構成された入球口誘導部材と、
前記球受部材における遊技球の受け入れ方向の開口部に設けられた、第一位置及び第二位置に変位可能な可変部材であって、第一位置に変位したときには入球口誘導部材に遊技球が流入可能又は第二位置に変位したときと比較して流入容易であると共に、第二位置に変位したときには入球口誘導部材に遊技球が流入不能又は第一位置に変位したときと比較して入球困難に可変するスライド扉部材と
を備え、
前記球受部材における底面の少なくとも一部面であって、遊技盤上を流下する遊技球を受け入れた際に当該遊技球が接触し得る遊技球着地面においては、遊技球着地面と前記球受部材における遊技盤側の側面との角度が鋭角をなし、
スライド扉部材が第一位置に変位したときにスライド扉部材の一部によって形成される庇部においては、庇部の先端に設けられた傾斜面と前記球受部材における遊技盤側の側面との角度が鈍角をなす
ことを特徴とするぱちんこ遊技機である。
＜付記＞
尚、本態様とは異なる別態様について以下に列記しておくが、これらには何ら限定されることなく実施することが可能である。
本別態様に係るぱちんこ遊技機は、
遊技盤（例えば、遊技盤Ａ）と、
遊技盤（例えば、遊技盤Ａ）に設けられた、遊技球が入球可能な入球口（例えば、大入賞口Ａ１−４ａ）と、
遊技盤（例えば、遊技盤Ａ）から遊技者側に突出して設けられた、遊技盤（例えば、遊技盤Ａ）上を流下する遊技球を受け入れ可能な球受部材（例えば、箱状部材Ａ１−４−２）を含み、当該球受部材（例えば、箱状部材Ａ１−４−２）の一部面に設けられた開口部から前記入球口（例えば、大入賞口Ａ１−４ａ）へと遊技球を誘導可能に構成された入球口誘導部材（例えば、スライド式アタッカーユニットＡ１−４）と、
前記球受部材（例えば、箱状部材Ａ１−４−２）における遊技球の受け入れ方向の開口部に設けられた、第一位置及び第二位置に変位可能な可変部材であって、第一位置に変位したときには入球口誘導部材（例えば、スライド式アタッカーユニットＡ１−４）に遊技球が流入可能又は第二位置に変位したときと比較して流入容易であると共に、第二位置に変位したときには入球口誘導部材（例えば、スライド式アタッカーユニットＡ１−４）に遊技球が流入不能又は第一位置に変位したときと比較して入球困難に構成された可変部材（例えば、スライド式アタッカー可変部材Ａ１−４−３−１−１）と
を備え、
前記球受部材（例えば、箱状部材Ａ１−４−２）における底面の少なくとも一部面であって、遊技盤（例えば、遊技盤Ａ）上を流下する遊技球を受け入れた際に当該遊技球が接触し得る遊技球着地面（例えば、遊技球着地面Ａ１−４−２ａ）においては、遊技球着地面（例えば、遊技球着地面Ａ１−４−２ａ）と前記球受部材（例えば、箱状部材Ａ１−４−２）における遊技盤側の側面との角度が鋭角をなす
ことを特徴とするぱちんこ遊技機である。