【手続補正書】
【提出日】平成28年5月10日(2016.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、液体の比抵抗を比抵抗計で計測することと、比抵抗が調整された液体を前記投影光学系の下方に供給して液浸領域を形成することと、前記液浸領域の界面に気体を吹き付けることと、前記投影光学系と前記液浸領域を形成する液体とを介して露光光で基板を露光することと、を含む露光方法である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
これによれば、比抵抗が調整された液体により投影光学系の下方に液浸領域が形成される。また、液浸領域の界面に気体が吹き付けられる。そして、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して露光光で基板が露光される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、第２の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、基板が載置される基板ステージと、液体の比抵抗を計測する比抵抗計と、比抵抗が調整された液体を前記投影光学系の下方に供給して前記投影光学系と対向する前記基板ステージに載置された前記基板上に液浸領域を形成する液浸装置と、を備え、前記液浸領域の界面に気体が吹き付けられる第１の露光装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
これによれば、液浸装置により、比抵抗が調整された液体が投影光学系の下方に供給され投影光学系と対向する基板ステージに載置された基板上に液浸領域が形成される。また、液浸領域の界面に気体が吹き付けられる。そして、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して露光光で基板が露光される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、第３の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、基板が載置される基板ステージと、液体にその液体の比抵抗を調整可能な所定物質を溶解させる第１機構と、前記所定物質を溶解させた液体を前記投影光学系の下方に供給可能なノズル部材と、該ノズル部材に送られる液体の温度調整及び流量制御の少なくとも一方を行う第２機構と、を有し、前記第２機構を経て前記ノズル部材から供給される液体により前記投影光学系と対向する前記基板ステージに載置された前記基板上に液浸領域を形成する液浸装置と、前記所定物質を溶解させた液体の比抵抗を計測可能な比抵抗計と、を備え、前記第１機構は、前記第２機構により温度調整と流量制御の少なくとも一方が行われた液体に前記所定物質を溶解させる第２の露光装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、第４の観点からすると、液体を介して基板に露光ビームを照射して、前記基板を露光することによって、該基板上に所定のパターンを形成する露光装置であって、投影光学系と、前記投影光学系の下方に供給された比抵抗を調整した液体を介して、露光光と同一波長の光を受光するセンサと、を備える第３の露光装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、リソグラフィ工程において、本発明の露光方法を用いることで、基板上にパターンを精度良く形成することができる。したがって、本発明は、第５の観点からすると、本発明の露光方法を用いて基板を露光することによって、前記基板上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であるとも言える。また、リソグラフィ工程において、本発明の第１ないし第３の露光装置のいずれかを用いることで、基板上にパターンを精度良く形成することができる。したがって、本発明は、第６の観点からすると、本発明の第１ないし第３の露光装置のいずれかを用いて基板上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であるとも言える。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
液体の比抵抗を比抵抗計で計測することと、
比抵抗が調整された液体を前記投影光学系の下方に供給して液浸領域を形成することと、
前記液浸領域の界面に気体を吹き付けることと、
前記投影光学系と前記液浸領域を形成する液体とを介して露光光で基板を露光することと、
を含む露光方法。
【請求項２】
請求項１に記載の露光方法において、
前記気体は、除電機能を有する気体である露光方法。
【請求項３】
請求項２に記載の露光方法において、
前記除電機能を有する気体は、イオンを含む気体である露光方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方に供給される液体の比抵抗を調整することによって、前記液体の帯電に起因する前記基板上の膜の劣化を防止する露光方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方に供給される液体に、その比抵抗を調整可能な所定物質を溶解させることをさらに含む露光方法。
【請求項６】
請求項５に記載の露光方法において、
前記所定物質の溶解に起因する前記液体の屈折率変動を考慮して前記投影光学系の少なくとも一部を調整することを更に含む露光方法。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の露光方法において、
前記所定物質の溶解に起因する前記液体の前記露光光と同一波長の光に対する透過率変動を考慮して前記基板に対するドーズ制御を行うことを更に含む露光方法。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記所定物質は前記液体に溶解可能な気体を含む露光方法。
【請求項９】
請求項８に記載の露光方法において、
前記気体は、二酸化炭素を含む露光方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方に供給される液体の比抵抗の調整は、前記比抵抗計の計測結果に基づいて行われる露光方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することによって、前記基板上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
【請求項１２】
投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
基板が載置される基板ステージと、
液体の比抵抗を計測する比抵抗計と、
比抵抗が調整された液体を前記投影光学系の下方に供給して前記投影光学系と対向する前記基板ステージに載置された前記基板上に液浸領域を形成する液浸装置と、を備え、
前記液浸領域の界面に気体が吹き付けられる露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記気体は、除電機能を有する気体である露光装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の露光装置において、
前記除電機能を有する気体は、イオンを含む気体である露光装置。
【請求項１５】
請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸装置は、前記比抵抗計の計測結果に基づいて、前記投影光学系の下方に供給される液体の比抵抗を調整する露光装置。
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸装置は、前記投影光学系の下方に供給される液体に、その比抵抗を調整可能な所定物質を溶解させる第１機構を有する露光装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記第１機構は、前記比抵抗計の計測結果に基づいて、前記液体に対する前記所定物質の溶解量を調整可能である露光装置。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載の露光装置において、
前記液浸装置は、液体の温度調整及び流量制御の少なくとも一方を行う第２機構を有し、
前記第１機構は、前記第２機構により温度調整と流量制御の少なくとも一方が行われる液体、又は前記第２機構により温度調整と流量制御の少なくとも一方が行われた液体に、前記所定物質を溶解させる露光装置。
【請求項１９】
投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
基板が載置される基板ステージと、
液体にその液体の比抵抗を調整可能な所定物質を溶解させる第１機構と、前記所定物質を溶解させた液体を前記投影光学系の下方に供給可能なノズル部材と、該ノズル部材に送られる液体の温度調整及び流量制御の少なくとも一方を行う第２機構と、を有し、前記第２機構を経て前記ノズル部材から供給される液体により前記投影光学系と対向する前記基板ステージに載置された前記基板上に液浸領域を形成する液浸装置と、
前記所定物質を溶解させた液体の比抵抗を計測可能な比抵抗計と、を備え、
前記第１機構は、前記第２機構により温度調整と流量制御の少なくとも一方が行われた液体に前記所定物質を溶解させる露光装置。
【請求項２０】
請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記所定物質の溶解に起因する前記液体の屈折率変動を考慮して前記投影光学系の少なくとも一部を調整する調整装置を更に備える露光装置。
【請求項２１】
請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記所定物質の溶解に起因する前記液体の前記露光光と同一波長の光に対する透過率変動を考慮して前記基板に対するドーズ制御を行う制御装置を更に備える露光装置。
【請求項２２】
請求項１６〜２１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記所定物質は前記液体に溶解可能な気体を含む露光装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記所定物質は、二酸化炭素を含む露光装置。
【請求項２４】
請求項１２〜２３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することによって、前記基板上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
【請求項２５】
液体を介して基板に露光ビームを照射して、前記基板を露光することによって、該基板上に所定のパターンを形成する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の下方に供給された比抵抗を調整した液体を介して、露光光と同一波長の光を受光するセンサと、
を備える露光装置。
【請求項２６】
請求項１２〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下方に供給される液体の比抵抗を調整することによって、前記液体の帯電に起因する、前記投影光学系の下方に供給される液体と接触する膜の劣化を防止する露光装置。