Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月4日(2016.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転位クラスターおよびＣＯＰを含まないシリコンウェーハの表面上にエピタキシャル層を有するエピタキシャルシリコンウェーハであって、
当該エピタキシャルシリコンウェーハに対して、１０００℃で１６時間の熱処理を行う酸素析出物評価熱処理を施して酸素析出物密度を評価した場合に、当該シリコンウェーハの厚み方向中央部での酸素析出物の密度が、当該シリコンウェーハの径方向全域にわたって、５×１０４個／ｃｍ２以上であるエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項２】
エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法であって、
酸素濃度が９×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３〜１６×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３の範囲にあり、転位クラスターおよびＣＯＰを含まず、かつ酸素析出抑制領域を含むシリコンウェーハに対して、酸素析出物の密度を高くするための熱処理を施す予備熱処理工程と、
前記予備熱処理工程の後、前記シリコンウェーハの表面上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル層形成工程とを含み、
前記予備熱処理工程を実施する前の前記シリコンウェーハの酸素析出抑制領域の割合に基づいて、前記予備熱処理工程での熱処理条件を決定する熱処理条件決定工程をさらに含む、エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法であって、
前記熱処理条件決定工程では、前記予備熱処理工程での熱処理の温度（℃）をＴとし、前記シリコンウェーハの半径に対する前記シリコンウェーハ半径方向の酸素析出抑制領域の幅の割合（％）をＸとし、前記シリコンウェーハの酸素濃度(ａｔｏｍｓ／ｃｍ３)をＣｏとすると、下記（１）〜（３）の関係式のいずれかを満足するように前記熱処理条件を決定する、エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法。
９×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３≦Ｃｏ＜１１．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３の場合：（Ｃｏ×（１００−Ｘ）／５．３×１０５１）（−１／１１．２９）＜Ｔ≦８００  （１）
１１．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３≦Ｃｏ＜１３．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３の場合：（Ｃｏ×（１００−Ｘ）／５．３×１０５１）（−１／１１．２９）＜Ｔ≦９００−（１３．５×１０１７−Ｃｏ）×５×１０−１６  （２）
１３．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３≦Ｃｏ≦１６×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３の場合：（Ｃｏ×（１００−Ｘ）／５．３×１０５１）（−１／１１．２９）＜Ｔ≦９００  （３） 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
シリコン単結晶の引き上げ速度をＶ、引き上げ直後の単結晶内の成長方向の温度勾配をＧとすると、ＣＯＰが現れるか、転位クラスターが現れるか、これらのいずれも現れないかは、Ｖ／Ｇに依存する。シリコン単結晶の中心軸からの距離が同じであれば、Ｖ／Ｇが大きくなるに従って、転位クラスターを含む領域、Ｐｉ領域、Ｐｖ領域、およびＣＯＰを含む領域が順に現れる。ウェーハに複数種類の領域が混在するとき、各領域は、ウェーハの中心に対して同心状に分布する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（Ｉ）転位クラスターおよびＣＯＰを含まないシリコンウェーハの表面上にエピタキシャル層を有するエピタキシャルシリコンウェーハであって、
当該エピタキシャルシリコンウェーハに対して、１０００℃で１６時間の熱処理を行う酸素析出物評価熱処理を施して酸素析出物密度を評価した場合に、当該シリコンウェーハの厚み方向中央部での酸素析出物の密度が、当該シリコンウェーハの径方向全域にわたって、５×１０４個／ｃｍ２以上であるエピタキシャルシリコンウェーハ。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明のエピタキシャルシリコンウェーハは、厚み方向中央部で径方向全域にわたって５×１０４個／ｃｍ２以上の酸素析出物密度を有するようにできる。このような酸素析出物密度を有するエピタキシャルシリコンウェーハは、ウェーハの全面にわたってゲッタリング能力に優れる。 
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上述のように、本発明のエピタキシャルシリコンウェーハは、転位クラスターおよびＣＯＰを含まないシリコンウェーハの表面上にエピタキシャル層を有する。当該エピタキシャルシリコンウェーハに対して、１０００℃で１６時間の酸素析出物評価熱処理を施して酸素析出物密度を評価した場合に、当該シリコンウェーハの厚み方向中央部での酸素析出物の密度が、当該シリコンウェーハの径方向全域にわたって、５×１０４個／ｃｍ２以上である。 
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明のエピタキシャルシリコンウェーハは、厚み方向中央部で径方向全域にわたって５×１０４個／ｃｍ２以上の酸素析出物密度を有するようにすることができる。このような密度の酸素析出物を有するエピタキシャルシリコンウェーハは、その全面にわたってゲッタリング能力に優れる。 
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の要件に従って予備熱処理工程での熱処理が施されたシリコンウェーハは、エピタキシャル層形成工程で加熱されても、酸素析出物は消失せず、エピタキシャル層形成工程実施後に適切な条件で加熱することにより、ウェーハの厚み方向中央部で径方向全域にわたって５×１０４個／ｃｍ２以上の密度で酸素析出物が形成される。したがって、本発明の方法により、全面にわたってゲッタリング能力に優れるエピタキシャルシリコンウェーハを製造することができる。 
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
エピタキシャル層形成工程で形成するエピタキシャル層としては、シリコンエピタキシャル層が挙げられる。エピタキシャル層を形成する方法は、特に限定されず、たとえば、ＣＶＤ法などにより一般的な条件で形成することができる。たとえば、水素ガスをキャリアガスとして、ジクロロシラン、トリクロロシランなどのソースガスを、シリコンウェーハが収容されたチャンバー内に導入し、概ね１０００〜１２００℃の範囲の温度（成長温度）でＣＶＤ法によりシリコンウェーハ上にシリコンエピタキシャル層を成長させることができる。成長温度は、使用するソースガスの種類によっても異なる。エピタキシャル層の厚みは、０．５〜１５μｍの範囲内とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月5日(2016.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
請求項３に記載の生体認証装置において、さらに、
前記記憶部には、ユーザごとに認証限界温度が記録され、
装置周辺の温度または認証生体の温度を取得する温度取得部を備え、
前記認証制御部は、
準本人の認証状態と判定し、かつ、前記温度取得部で取得した認証時の温度が前記認証限界温度以下のときに、前記通知部により案内表示を行う
ことを特徴と生体認証装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月17日(2016.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さが１μｍ以上２６μｍ以下である偏光フィルムの少なくとも片面に、厚さが５μｍ以上５０μｍ以下である第一の保護フィルムが積層された偏光板であって、
偏光フィルムの厚さに対する第一の保護フィルムの厚さの比が１．９より大きく４０以下であり、かつ、
偏光フィルムが、温度２３℃で相対湿度５５％の雰囲気下で２４時間調湿し、次いでオーブン内で２５℃から２℃／分の速度で８５℃まで加熱した後、０．３ｍＬの２３℃の純水を付着させて１分間経過したときに生じる偏光フィルムの透過軸方向におけるひずみ量が７００με以下である偏光フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項２】
偏光フィルムの片面に第一の保護フィルムが積層され、他方の面に、第一の保護フィルムと同じ厚さ又は第一の保護フィルムより薄い第二の保護フィルムが積層されている請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
第一及び第二の保護フィルムの少なくとも一方が、波長５９０ｎｍにおける面内レターデーションＲeが１０ｎｍ以下で、同波長における厚み方向のレターデーションＲthの絶対値が１０ｎｍ以下であり、かつ波長４８０〜７５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲthの絶対値が１５ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項４】
第一及び第二の保護フィルムは、それぞれ独立してセルロース系樹脂又はポリオレフィン系樹脂から構成される請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板が、液晶セルの少なくとも片面に積層されている液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月22日(2016.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
ここで、サーモスタット弁開度ＶＯＤの変化について図６を参照して説明する。サーモスタット弁開度ＶＯＤがいったん１００％になると、サーモスタット弁開度ＶＯＤが０％になるまでは、サーモスタット弁開度ＶＯＤは図６の実線Ａに沿って変化する。すなわち、サーモスタット弁温度ＴＶが閉弁開始温度ＴＶＣＬＳよりも高いときには、サーモスタット弁温度ＴＶが上昇し又は低下しても、サーモスタット弁開度ＶＯＤは１００％に維持される。サーモスタット弁温度ＴＶが閉弁開始温度ＴＶＣＬＳよりも低く閉弁終了温度ＴＶＣＬＥよりも高いときには、サーモスタット弁温度ＴＶが低下するにつれてサーモスタット弁開度ＶＯＤは小さくなる。一方、サーモスタット弁開度ＶＯＤがいったん０％になると、サーモスタット弁開度ＶＯＤが１００％になるまでは、サーモスタット弁開度ＶＯＤは図６の実線Ｂに沿って変化する。すなわち、サーモスタット弁温度ＴＶが開弁開始温度ＴＶＯＰＳよりも低いときには、サーモスタット弁温度ＴＶが上昇し又は低下しても、サーモスタット弁開度ＶＯＤは０％に維持される。サーモスタット弁温度ＴＶが開弁開始温度ＴＶＯＰＳよりも高く開弁終了温度ＴＶＯＰＥよりも低いときには、サーモスタット弁温度ＴＶが上昇するにつれてサーモスタット弁開度ＶＯＤは大きくなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
図２０は、本発明による第１１実施例の冷却水導電率制御のルーチンを示している。このルーチンは次の点で図１５に示されるルーチンと相違している。すなわち、ステップ２０４に続いてステップ２２０に進み、図１８に示される冷却水ポンプ制御ルーチンが実行される。次いで、ステップ２０５に進む。ステップ２０５ではラジエータ５３周りの冷却水の導電率ＣＮＲが閾値ＣＮＲＴＨ以下か否かが判別される。ＣＮＲ≦ＣＮＲＴＨのときにはプロセスはステップ２０６へ進み、ＣＮＲ＞ＣＮＲＴＨのときにはプロセスはステップ２２０へ戻る。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タービン・システムのマイクロミキサであって、
各々が流れを受け取って該流れを燃焼器へ分散させる入口及び出口を持つ複数のパイプと、
前記複数のパイプの複数の入口によって画成された非一様入口配置構成と、
を有し、
前記複数のパイプの最も長いものが、前記マイクロミキサの中心線から半径方向で最も外側に配置され、前記複数のパイプの最も短いものが、前記中心線に最も近くから半径方向で最も外側に配置されるように、前記複数のパイプの前記複数の入口が放物線形状に配置される、マイクロミキサ。
【請求項２】
更に、各々が前記複数のパイプの一部分を含んでいる複数のパイプ扇形部分を有している請求項１記載のマイクロミキサ。
【請求項３】
外側ライナを持つ燃焼器と、
前記燃焼器のヘッドエンドに近接して前記外側ライナを取り囲む流れスリーブであって、流れが当該流れスリーブと前記外側ライナとの間を上流へ進行する、流れスリーブと、
前記ヘッドエンドに近接して配置されたマイクロミキサであって、複数のパイプ入口を含む、マイクロミキサと、
を有し、
前記複数のパイプの最も長いものが、前記マイクロミキサの中心線から半径方向で最も外側に配置され、前記複数のパイプの最も短いものが、前記中心線に最も近くから半径方向で最も外側に配置されるように、前記複数のパイプの前記複数の入口が放物線形状に配置される、タービン・システム。
【請求項４】
燃焼器と、
前記燃焼器のヘッドエンドに近接して配置されたマイクロミキサであって、当該マイクロミキサは複数のパイプを含み、前記複数のパイプの各々は縦軸に沿って延在し、また前記複数のパイプの各々は入口及び出口を持っている、マイクロミキサと、
前記縦軸に対して相対的に垂直に整列し且つ前記複数のパイプの入口に近接して位置する横方向平面と、
を有し、
前記複数のパイプの各入口が前記横方向平面を通り抜け、他のパイプとは異なる軸方向位置となるように、上流へ延在し、これによって前記複数のパイプの最も長いものが、前記マイクロミキサの中心線から半径方向で最も外側に配置され、前記複数のパイプの最も短いものが、前記中心線に最も近くから半径方向で最も外側に配置されるように、前記複数のパイプの前記複数の入口が放物線構成を備える非一様入口配置構成を画成している、横方向平面と、
を有するタービン・システム。
【請求項５】
更に、各々が前記複数のパイプ入口の一部分を含んでいる複数のパイプ扇形部分を有している請求項３または４に記載のタービン・システム。
【請求項６】
前記外側ライナは上流側軸方向端を含んでおり、この場合、流れが前記外側ライナの上を通って前記上流側軸方向端の周りを流れる、請求項３乃至５のいずれかに記載のタービン・システム。
【請求項７】
前記複数の入口の少なくとも１つが前記外側ライナの前記上流側軸方向端まで軸方向に延在している、請求項６記載のタービン・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端シュラウドを備えたターボ機械ブレードを含むシステムであって、
前記先端シュラウドが、前記ターボ機械ブレードの半径方向の先端に配置され、
第１の正圧側面部分が第１の負圧側面部分よりも少なくとも５０％大きな表面積を有する前縁部分であって、前記前縁部分が、前記ターボ機械ブレードの全翼弦長さの少なくとも５パーセントだけ前記タービンブレードの先端から延び、前記ターボ機械ブレードの前縁にわたって延びる前縁突出部を含む、前記前縁部分と、
第２の正圧側面部分が第２の負圧側面部分よりも少なくとも５０％大きな表面積を有する後縁部分と、を含む、システム。
【請求項２】
正圧側面部分及び負圧側面部分を含むターボ機械ブレード先端シュラウドを備えたシステムであって、前記正圧側面部分及び前記負圧側面部分が、ターボ機械ブレードの平均キャンバ線によって分割されており、前記正圧側面部分が前記負圧側面部分よりも少なくとも５０％大きな表面積を有し、
前記正圧側面部分及び前記負圧側面部分が、前記ターボ機械ブレード先端シュラウドの前縁部分を含み、
前記前端縁部分が、前記ターボ機械ブレードの全翼弦長さの少なくとも１０パーセントだけ前記タービンブレードの先端から延び、前記ターボ機械ブレードの前縁にわたって延びる前縁突出部を含む、
システム。
【請求項３】
前記前縁部分及び前記後縁部分が、ラビリンスシールの少なくとも１つのレールによって分離される、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記ターボ機械ブレードの平均キャンバ線が、前記第１の正圧側面部分と前記第１の負圧側面部分との間で延びる、請求項１乃至３のいずれかに記載のシステム。
【請求項５】
前記ターボ機械ブレードの平均キャンバ線が、前記第２の正圧側面部分と前記第２の負圧側面部分との間で延びる、請求項１乃至３のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記先端シュラウドが、少なくとも１つのスカラップ状部分を含む、請求項１乃至５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
ターボ機械ブレードを有するターボ機械を備える、請求項１乃至６のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
前記ターボ機械が、ガスタービン又は蒸気タービンである、請求項７記載のシステム。
【請求項９】
前記ターボ機械ブレード先端シュラウドが半径方向端部上に配置されたターボ機械ブレードを備える、請求項１乃至８のいずれかに記載のシステム。
【請求項１０】
正圧側面部分及び負圧側面部分を含むタービンブレード先端シュラウドを備えたタービンブレードであって、前記正圧側面部分及び前記負圧側面部分が、前記タービンブレードの平均キャンバ線によって分割されており、前記正圧側面部分が前記負圧側面部分よりも少なくとも５０％大きな表面積を有し、
前記正圧側面部分及び前記負圧側面部分が、前記タービンブレード先端シュラウドの前縁部分を含み、
前記前縁部分が、前記タービンブレードの回転方向に前記タービンブレードの前縁にわたって延びる前縁突出部を含み、
前記前縁突出部の先端が前記タービンブレードの全翼弦長さの少なくとも１０パーセントだけ前記タービンブレードの先端から延びて位置する、
タービンブレード。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンであって、少なくとも２つの燃料缶を備え、第１の燃料缶が第１の複数の燃料ノズルを含み、第２の燃料缶が第２の複数の燃料ノズルを含み、ガスタービンの作動を、燃料缶の希薄ブローアウトに応答して制御する方法であって、
前記第１の燃料缶が、前記ガスタービンの全負荷作動中に消火したことを検知するステップと、
前記第１の燃料缶の前記複数の第１の燃料ノズルの少なくとも１つと第２の燃料缶の前記複数の第２の燃料ノズルの少なくとも１つとの間の燃料比を調整するステップと、
クロスファイアチューブに最も近い燃料ノズルである前記複数の第２の燃料ノズルの少なくとも１つに濃厚燃料混合物を送出するステップと、
前記クロスファイアチューブを介して前記第２の燃料缶から前記第１の燃料缶へクロスファイアを生成するステップと、
前記タービンの全負荷運転の回復を検出するステップと、
前記燃料比を、前記複数の第１及び第２の燃料ノズル間で均等化された燃料分布になるよう調整するステップとを含む方法。
【請求項２】
燃料比を調整するステップは、
作動負荷のアップセットを検知することに応答して、再点火を始動することをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
燃料比を調整するステップは、燃料ノズル間での燃料分割を調整するコマンドをコントローラによって生成することをさらに含む請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
クロスファイアを生成するステップは、
前記第２の燃焼缶からの火炎を、前記第１の燃焼缶まで届くようにして前記第１の燃焼缶を再点火することをさらに含む請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
短い間隔を待ち、負荷の回復を検知することをさらに含む請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記燃料分割を燃焼燃料ノズル間の前記通常の均等化された燃料分布になるよう調整するステップは、前記燃料分割を前記通常の均等化された燃料分布に戻す信号を前記コントローラから生成することをさらに含む請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
各ステップは、自動的に実施される請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
ガスタービン用の制御システムにおいて、
圧縮機、第１の複数の燃料ノズルを含む第１の燃料缶、第２の複数の燃料ノズルを含む第２の燃料缶、前記圧縮機に駆動可能に結合されたタービン、および制御システムを備える、制御システムであって、
コントローラをさらに備え、前記コントローラは、
第１の燃料缶が、前記ガスタービンの全負荷作動中に消火したことを検知し、
前記第１の燃料缶の前記複数の第１の燃料ノズルの少なくとも１つと前記第２の燃料缶の前記複数の第２の燃料ノズルの少なくとも１つとの間の燃料比を調整し、
前記第１の燃料缶に連通するクロスファイアチューブに最も近い前記複数の第２の燃料ノズルの少なくとも１つに濃厚燃料混合物を送出し、
前記第２の燃料缶から前記第１の燃料缶へクロスファイアを生成し、
前記タービンの全負荷運転の回復を検出し、
前記燃料比を、前記複数の第１及び第２の燃料ノズル間で均等化された燃料分布になるよう調整し、
前記作動負荷の不均等化を検知することに応答して、再点火を始動する
ように構成されたコントローラをさらの備える制御システム。
【請求項９】
前記コントローラは、燃焼燃料ノズル間での燃料分割を調整するコマンドを生成するようにさらに構成される請求項８記載の制御システム。
【請求項１０】
前記コントローラは、前記第２の燃焼缶からの火炎を、前記第１の燃焼缶まで届くように誘導して前記第１の燃焼缶を再点火するとによってクロスファイアを生成するようにさらに構成される請求項８または９に記載の制御システム。
【請求項１１】
前記コントローラは、短い間隔の間、一時休止し、タービンパラメータを検知し、前記発電機負荷が回復したかどうかを判定するようにさらに構成される請求項８乃至１０のいずれかに記載の制御システム。
【請求項１２】
前記コントローラは、燃焼缶の間で均等に前記燃料を分配する信号を前記コントローラから生成するようにさらに構成される請求項８乃至１１のいずれかに記載の制御システム。
【請求項１３】
前記タービンパラメータは、前記タービン内の所定の場所における温度、圧力、およびガス流量を含む請求項１１記載の制御システム。
【請求項１４】
前記タービンパラメータは、所与のタービン作動条件を表す請求項１３記載の制御システム。
【請求項１５】
燃料制御システムをさらに備え、前記燃料制御システムは、燃料供給部から前記第１の燃焼缶および前記第２の燃焼缶に流れる燃料、１次燃料ノズルと２次燃料ノズルとの間の燃料流の分割、および、燃焼室内に流れる２次空気と混合される燃料の少なくとも１つを調節するように構成され、
前記燃料制御システムは、前記燃焼缶について燃料のタイプを選択するようにさらに構成される請求項８乃至１４のいずれかに記載の制御システム。
【請求項１６】
前記燃料制御システムは、複数の１次燃料ノズルに流れる燃料の部分および複数の２次燃料ノズルに流れる燃料の部分を決定する燃料比コマンドを生成し実装するように構成される請求項８乃至１５のいずれかに記載の制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月12日(2016.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンのための近流路シール（１００）であって、
第１タービンステージの第１のバケットと第２タービンステージの第２のバケットとの間に位置づけられた基部（１３０）と、
前記基部（１３０）の半径方向外側の端に取り付けられ、前記基部（１３０）から他方に対して反対方向に延在する一対のアーム（１１０、１２０）と、
軸方向において前記一対のアーム（１１０、１２０）の間に配置される湾曲窪み（１６０）と
を含み、
前記一対のアーム（１１０、１２０）の第１のアームが、前記ガスタービンの停止時に前記第１のバケットから離れて位置する一方、前記ガスタービンの運転時に、半径方向外側に撓み、前記第１のバケットに接触し、前記第１のバケットをシールするように構成され、
前記一対のアーム（１１０、１２０）の第２のアームが、前記ガスタービンの停止時に前記第２のバケットから離れて位置する一方、前記ガスタービンの運転時に、半径方向外側に撓み、前記第２のバケットに接触し、前記第２のバケットをシールするように構成され、
前記一対のアーム（１１０、１２０）が前記基部（１３０）に対して軸方向に可撓性を持つように、前記湾曲窪み（１６０）は、前記基部（１３０）に向かって半径方向内側に延在し、
前記近流路シール（１００）は、軸の周りで、円周方向に分割される、近流路シール（１００）。
【請求項２】
ガスタービンのための近流路シール（１００）であって、
第１タービンステージの第１のバケットと第２タービンステージの第２のバケットとの間に位置づけられた分割された基部（１３０）と、
前記基部（１３０）の半径方向外側の端に取り付けられ、前記基部（１３０）から他方に対して反対方向に延在する一対のアーム（１１０、１２０）と、
軸方向において前記一対のアーム（１１０、１２０）の間に配置される湾曲窪み（１６０）と
を含み、
前記一対のアーム（１１０、１２０）の第１のアームが、前記ガスタービンの停止時に前記第１のバケットから離れて位置する一方、前記ガスタービンの運転時に、半径方向外側に撓み、前記第１のバケットに接触し、前記第１のバケットをシールするように構成され、
前記一対のアーム（１１０、１２０）の第２のアームが、前記ガスタービンの停止時に前記第２のバケットから離れて位置する一方、前記ガスタービンの運転時に、半径方向外側に撓み、前記第２のバケットに接触し、前記第２のバケットをシールするように構成され、
前記第１及び第２のアームが、前記基部（１３０）から延在してフォーク状の形状を形成し、
前記一対のアーム（１１０、１２０）が前記基部（１３０）に対して軸方向に可撓性を持つように、前記湾曲窪み（１６０）は、前記基部（１３０）に向かって半径方向内側に延在し、
前記近流路シール（１００）は、軸の周りで、円周方向に分割される、近流路シール（１００）。
【請求項３】
ガスタービンのための近流路シール（１００）であって、
第１タービンステージの第１のバケットと第２タービンステージの第２のバケットとの間に位置づけられた基部（１３０）と、
前記基部（１３０）の半径方向外側の端に取り付けられ、前記基部（１３０）から他方に対して反対方向に延在する一対のアーム（１１０、１２０）と、
軸方向において前記一対のアーム（１１０、１２０）の間に配置される湾曲窪み（１６０）と
を含み、
前記一対のアーム（１１０、１２０）の第１のアームが、前記ガスタービンの停止時に前記第１のバケットから離れて位置する一方、前記ガスタービンの運転時に、半径方向外側に撓み、前記第１のバケットに接触し、前記第１のバケットをシールするように構成され、
前記一対のアーム（１１０、１２０）の第２のアームが、前記ガスタービンの停止時に前記第２のバケットから離れて位置する一方、前記ガスタービンの運転時に、半径方向外側に撓み、前記第２のバケットに接触し、前記第２のバケットをシールするように構成され、
前記第１及び第２のアームが、互いに平行であり、
前記第１のアームが、前記第２のアームよりも近流路の軸から外側に延び、
前記一対のアーム（１１０、１２０）が前記基部（１３０）に対して軸方向に可撓性を持つように、前記湾曲窪み（１６０）は、前記基部（１３０）に向かって半径方向内側に延在し、
前記近流路シール（１００）は、軸の周りで、円周方向に分割される、近流路シール（１００）。
【請求項４】
前記近流路シール（１００）がガルウィング構成（１４０）を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【請求項５】
第１のアーム（１１０）が第２のアーム（１２０）より長い及び／又は、厚い、請求項１乃至４のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【請求項６】
第１のアーム（１１０）および第２のアーム（１２０）が角度が付けられた構成（１９０）を含み、前記第１のアーム（１１０）が前記第２のアーム（１２０）より高い位置にある、請求項１乃至４のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【請求項７】
前記近流路シール（１００）が円筒形構成（２１０）を含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【請求項８】
第１のアーム（１１０）および第２のアーム（１２０）が角度が付けられた構成（３６０）を含み、前記第１のアーム（１１０）が前記第２のアーム（１２０）より高い位置にある、請求項１乃至７のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【請求項９】
第１のアーム（１１０）が第１のフォークアーム（３４０）を含み、第２のアーム（１２０）が第２のフォークアーム（３５０）を含む、請求項１乃至８のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【請求項１０】
前記湾曲窪み（１６０）が半円の接合部（３７０）を含む、請求項１乃至９のいずれかに記載の近流路シール（１００）。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月5日(2016.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を形成する装置であって、
重合体を組み込んだ１つ以上の光熱学的要素を含むトナー画像をその上に含む画像受取部であって、前記重合体は光学的に透明であって前記１つ以上の光熱学的要素の吸収範囲内で、約１０％〜約１００％までの透明度を有する、画像受取部と、
前記画像受取部から画像受取基材に前記トナー画像を転写する中間転写部と、
前記１つ以上の光熱学的要素を含む前記トナー画像に近接して、前記１つ以上の光熱学的要素を光学的に誘導して、前記画像受取基材の上の前記トナー画像を加熱するよう設定された１つ以上の光源と、を含み、
前記１つ以上の光熱学的要素は、カーボンナノチューブ、グラフェン、金属ナノシェル、金属ナノ構造物、及びそれらの組合せからなる群から選択される、装置。
【請求項２】
前記装置が定着サブシステムを含まず、前記１つ以上の光源により、前記トナー画像が前記画像受取基材の上に溶解され固定される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記１つ以上の光源は、約０．１Ｗ／ｃｍ２〜約５０Ｗ／ｃｍ２の範囲の出力を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記１つ以上の光源により加熱された、前記トナー画像を、前記画像受取基材の上で、溶解し、固定させる定着サブシステムをさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記１つ以上の光源は、約０．０１Ｗ／ｃｍ２〜約１０Ｗ／ｃｍ２の範囲の出力を有する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記１つ以上の光熱学的要素は、カーボンナノチューブを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記１つ以上の光熱学的要素は前記重合体に対して約０．１％〜約６０％の範囲の量で存在している、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記１つ以上の光熱学的要素に、少なくとも部分的に前記１つ以上の光源により供給される光信号が照射される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記重合体は、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリオレフィン、ラテックスポリマー、又はそれらの混合物のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記光学的に透明な重合体は、ポリカーボネート、ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、ナノ複合重合体、又は、ポリチオフェンとポリアニリンとその派生物を含む導電性重合体のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
それぞれの前記１つ以上の光源には、ＵＶランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、レーザアレイ、発光ダイオードアレイ、又は有機発光ダイオードアレイのうちの少なくとも１つ以上が含まれる、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
それぞれの前記１つ以上の光熱学的要素は約＜１ｎｍ〜約５００ｎｍの平均粒子サイズの範囲を有するナノ粒子を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
画像を形成する方法であって、
１つ以上の光熱学的要素をトナー配合に組み込んで、光熱学的トナーを形成するステップであって、前記１つ以上の光熱学的要素は、カーボンナノチューブ、グラフェン、金属ナノシェル、金属ナノ構造物、及びそれらの組合せからなる群から選択される、ステップと、
前記光熱学的トナーを画像受取部の上に塗布して、トナー画像を形成するステップと、
画像受取部から画像受取基材に前記トナー画像を転写するステップと、
前記トナー画像内の１つ以上の光熱学的要素に光信号を照射して、熱を生成して、前記画像受取基材の上に前記トナー画像を固定させるステップと、を含み、
前記１つ以上の光熱学的要素に光信号を照射して、熱を生成する段階において、約５０℃〜約１５００℃の範囲の温度で前記光熱学的要素を加熱するステップを含む、方法。
【請求項１４】
前記光信号は約０．１Ｗ／ｃｍ２〜約５０Ｗ／ｃｍ２の範囲の出力を有する１つ以上の光源により供給される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
画像を形成する方法であって、
トナー画像を画像受取部の上に塗布するステップであって、前記トナー画像はカーボンナノチューブ、グラフェン、金属ナノシェル、金属ナノ構造物、及びそれらの組合せからなる群から選択される１つ以上の光熱学的要素を含む、ステップと、
前記画像受取部から画像受取基材に前記トナー画像を転写するステップと、
前記トナー画像内の前記１つ以上の光熱学的要素に光信号を照射して、前記画像受取基材の上の前記トナー画像を加熱するステップと、
定着部と圧力部とにより形成された接触アーク内に前記画像受取基材を通過させて、前記画像受取基材の上に前記トナー画像を固定させるステップと、を含み、
前記１つ以上の光熱学的要素に光信号を照射する段階において、約５０℃〜約１５００℃の範囲の温度で前記光熱学的要素を加熱するステップを含む、方法。
【請求項１６】
前記定着部及び前記圧力部により、約１１０ｏＦ〜約４５０ｏＦの範囲の温度で前記トナー画像を溶解させるステップをさらに含む請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記定着部及び前記圧力部により、約２０Ｐｓｉ〜約１３０Ｐｓｉの範囲の圧力で前記トナー画像を定着するステップをさらに含む請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記光信号が約０．０１Ｗ／ｃｍ２〜約１０Ｗ／ｃｍ２の範囲の低い出力を有する１つ以上の光源により供給される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記１つ以上の光熱学的要素はカーボンナノチューブを含む請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記１つ以上の光熱学的要素はカーボンナノチューブを含む請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置に使用するための運搬装置であって、  円筒状の支持部材と、  外面を備え、前記支持部材上に配置された外層であって、前記外面が第１の表面部と第２の表面部とを含み、前記第１の表面部は、機能性材料が中に分散された弾性マトリックスを備え、前記第２の表面部は、クリーニング材料を備え、前記機能性材料がパラフィン油を含む外層と、を備える運搬装置。
【請求項２】
前記第１の表面部が前記外面の約１０パーセントから約９０パーセントを含む、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項３】
第２の表面部が、円形、棒状、卵形、正方形、三角形、多角形およびそれらの組合せからなる群から選択される形状を有する不連続の断片を備える、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項４】
第２の表面部が、外面の周囲の螺旋状条片を備える、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項５】
前記第２の表面部が少なくとも１つの縦長の条片を備える、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項６】
前記第２の表面部が前記第１の表面部に埋め込まれている、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項７】
前記第２の表面部が前記第１の表面部の周囲に貼付されている、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項８】
前記弾性マトリックスが、ポリシロキサン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリフルオロシロキサン、ポリオレフィン、フルオロエラストマー、合成ゴム、天然ゴムおよびそれらの混合物からなる群から選択される材料を含む、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項９】
前記機能性材料が、アルカン、フルオロアルカン、アルキルシラン、フルオロアルキルシランアルコキシ−シラン、シロキサン、グリコールまたはポリグリコール、鉱油、合成油、天然油、及びそれらの混合物からなる群から選択される材料をさらに含む、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１０】
前記クリーニング材料が、ポリウレタン、ポリアミド、メラミン樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリエチレン、ポリアクリレート、天然ゴムおよび合成ゴムからなる群から選択される材料を含む、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１１】
前記クリーニング材料がブラシを含む、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１２】
前記クリーニング材料が、発泡材及び布からなる群から選択される材料を含む、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１３】
前記外層が約０．１μｍから約５０ｍｍの厚さを有する、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１４】
前記弾性マトリックスが約０．０１ミクロンから約５０ミクロンの大きさの孔を備える、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１５】
前記支持部材と前記外層との間に配置された内層をさらに備える、請求項１に記載の運搬装置。
【請求項１６】
画像形成装置であって、  ａ）基材と、基材上に配置された光伝導性部材とを備え、静電潜像をその表面に現像するための電荷保持面を有する、画像化部材と、  ｂ）静電荷を画像化部材上に所定の電位まで印加するための帯電ユニットと、  ｃ）前記帯電ユニットの表面に接触して配置された運搬部材であって、    ｉｉ）円筒状の支持部材と、    ｉｉｉ）前記支持部材上に配置され、外面を含む外層であって、前記外面が第１の表面部と第２の表面部とを含み、該第１の表面部は、機能性材料が分散された弾性マトリックスを備え、該第２の表面部は、クリーニング材料を備える外層と、を備え、  前記運搬部材が前記帯電ユニットの前記表面に機能性材料を約０．１ｎｇ／ｃｍ2から約１μｇ／ｃｍ2の割合で提供する、画像形成装置。
【請求項１７】
前記弾性マトリックスが架橋性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含み、前記機能性材料がパラフィン油を含む、請求項１６に記載の画像形成装置。
【請求項１８】
画像形成装置であって、  ａ）基材と、基材上に配置された光伝導性部材とを備え、静電潜像をその表面に現像するための電荷保持面を有する、画像化部材と、  ｂ）静電荷を画像化部材上に所定の電位まで印加するための帯電ユニットと、  ｃ）前記画像化部材の表面に接触して配置された運搬部材であって、    ｉｉ）円筒状の支持部材と、    ｉｉｉ）前記支持部材上に配置され、外面を含む外層であって、前記外面が第１の表面部と第２の表面部とを含み、該第１の表面部は、機能性材料が分散された弾性マトリックスを備え、該第２の表面部は、クリーニング材料を備える外層と、を備え、  前記運搬部材が前記画像化部材の前記表面に機能性材料を約０．１ｎｇ／ｃｍ2から約１μｇ／ｃｍ2の割合で提供する、画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月30日(2015.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１の画素部と、出力信号を使って相関演算可能な複数の第２の画素部とを含む撮像素子と、
第１の信号処理手段とを有し、
前記第１の信号処理手段は、
撮像条件において第２の画素部が第１の種類の欠陥画素と判定されるならば、該第２の画素部に隣接する複数の第１の画素部からの出力信号に対して、該第２の画素部の出力信号を用いて補正処理を実行し、
前記撮像条件において該第２の画素部が第２の種類の欠陥画素と判定されるならば、該第２の画素部に隣接する複数の第１の画素部からの出力信号に対して前記補正処理を実行しない、
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記複数の第２の画素部の各々について、出力信号に基づいて欠陥画素か否かを判定し、欠陥画素と判定された第２の画素部の各々についてはさらに欠陥画素の種類を判定して、判定結果を示す情報をメモリに記録する判定手段をさらに有することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第２の画素部の各々は、前記撮像条件および前記メモリに記録された前記情報に基づいて、前記第１の種類の欠陥画素か、前記第２の種類の欠陥画素かを判定されることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第２の種類の欠陥画素が点滅欠陥画素であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第１の種類の欠陥画素が定常欠陥画素であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記撮像条件は、前記撮像素子の電荷蓄積時間または、前記撮像素子もしくはその近傍の温度を含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第２の画素部は規則的に配置されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第１の信号処理手段が実行する前記補正処理は、前記第１の画素部と前記第２の画素部との構造の差異によって生じる差を軽減するための補正処理であることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
さらに、前記第２の画素部を遮光するアルミ配線を有することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第１の信号処理手段が実行する前記補正処理は、前記第１の画素部と前記第２の画素部とのクロストーク量の差異を補正するための処理であることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記第１の信号処理手段によって前記補正処理が行われた信号、または前記第１の信号処理手段により前記補正処理が行われていない信号に対して画像処理を実行し、記録する第２の信号処理手段をさらに有することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記判定手段が、前記欠陥画素と判定された前記第２の画素部の各々について欠陥レベルをさらに判定し、
前記撮像条件に基づく範囲に含まれる前記欠陥レベルを有する前記第２の画素部が、前記第１の種類の欠陥画素または前記第２の種類の欠陥画素と判定されることを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記第１の種類の欠陥画素と前記第２の種類の欠陥画素の判定には異なる前記欠陥レベルの範囲が用いられ、
前記第１の種類の欠陥画素の判定に用いられる前記欠陥レベルの範囲は、前記第２の種類の欠陥画素の判定に用いられる前記欠陥レベルの範囲よりも、前記撮像素子の電荷蓄積時間に対する依存性が大きい、
ことを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記第１の種類の欠陥画素と前記第２の種類の欠陥画素の判定には異なる前記欠陥レベルの範囲が用いられ、
前記第１の種類の欠陥画素の判定に用いられる前記欠陥レベルの範囲は、前記第２の種類の欠陥画素の判定に用いられる前記欠陥レベルの範囲よりも、前記撮像素子またはその近傍の温度に対する依存性が大きい、
ことを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記第１の信号処理手段は、第２の画素部に隣接する、あるいは第２の画素部の近傍の第１の画素部からの出力信号であって、前記補正処理が行われていない出力信号を、該第１の画素部とは別の、複数の第１の信号部の出力信号を用いて補正することを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１６】
複数の第１の画素部と、出力信号を使って相関演算可能な複数の第２の画素部とを含む撮像素子とを有する撮像装置の制御方法であって、
撮像条件において第２の画素部が第１の種類の欠陥画素と判定されるならば、該第２の画素部に隣接する複数の第１の画素部からの出力信号に対して、該第２の画素部の出力信号を用いて補正処理を実行し、
前記撮像条件において該第２の画素部が第２の種類の欠陥画素と判定されるならば、該第２の画素部に隣接する複数の第１の画素部からの出力信号に対して前記補正処理を実行しない、
ことを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述の目的は、複数の第１の画素部と、出力信号を使って相関演算可能な複数の第２の画素部とを含む撮像素子と、第１の信号処理手段とを有し、第１の信号処理手段は、撮像条件において第２の画素部が第１の種類の欠陥画素と判定されるならば、第２の画素部に隣接する複数の第１の画素部からの出力信号に対して、第２の画素部の出力信号を用いて補正処理を実行し、撮像条件において第２の画素部が第２の種類の欠陥画素と判定されるならば、第２の画素部に隣接する複数の第１の画素部からの出力信号に対して補正処理を実行しない、ことを特徴とする撮像装置によって達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月2日(2015.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、電荷輸送層とを有する電子写真感光体の製造方法において、
２５℃１気圧における水に対する溶解度が１．０質量％以下の第１の液体、２５℃１気圧における水に対する溶解度が５．０質量％以上の第２の液体、電荷輸送物質、及び結着樹脂を含有する溶液を調製する工程、
該溶液を水に分散させて乳化液を調製する工程、ならびに
該乳化液の塗膜を形成し、該塗膜を加熱することにより、該電荷輸送層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記第２の液体が、テトラヒドロフラン、ジメトシキメタン、１，２−ジオキサン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサン、メタノール、２−ペンタノン、エタノール、テトラヒドロピラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテートおよびエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記結着樹脂が、前記第１の液体に可溶な結着樹脂である請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記第２の液体が、２５℃１気圧における水に対する溶解度が２０．０質量％以上の液体である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記乳化液における、前記水の質量（ｗ）と、前記第１の液体の質量（ａ）、前記第２の液体の質量（ｂ）、前記電荷輸送物質の質量（ｃｔ）および前記結着樹脂の質量（ｒ）の合計質量（ａ＋ｂ＋ｒ＋ｃｔ）との比（ｗ／（ａ＋ｂ＋ｒ＋ｃｔ））が、５／５〜７／３である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記乳化液における、前記第１の液体の質量（ａ）と、前記第２の液体の質量（ｂ）との比（ａ／ｂ）が、１／９〜９／１である請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記第１の液体が、トルエンおよびキシレンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項８】
前記第２の液体が、テトラヒドロフランおよびジメトキシメタンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１〜７のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項９】
前記乳化液が、界面活性剤を含有し、
前記乳化液における、該界面活性剤の含有量が、０．５質量％以下である請求項１〜８のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１０】
電荷輸送層を有する有機デバイスを製造する方法において、
２５℃１気圧における水に対する溶解度が１．０質量％以下の第１の液体、２５℃１気圧における水に対する溶解度が５．０質量％以上の第２の液体、電荷輸送物質、及び結着樹脂を含有する溶液を調製する工程、
該溶液を水に分散させて乳化液を調製する工程、ならびに
該乳化液の塗膜を形成し、該塗膜を加熱することにより、該電荷輸送層を形成する工程を有することを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１１】
前記有機デバイスが、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項１０に記載の有機デバイスの製造方法。
【請求項１２】
２５℃１気圧における水に対する溶解度が１．０質量％以下の第１の液体、２５℃１気圧における水に対する溶解度が５．０質量％以上の第２の液体、電荷輸送物質、及び結着樹脂が水に分散されてなる電荷輸送層用乳化液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、支持体と、電荷輸送層とを有する電子写真感光体の製造方法において、
２５℃１気圧における水に対する溶解度が１．０質量％以下の第１の液体、２５℃１気圧における水に対する溶解度が５．０質量％以上の第２の液体、電荷輸送物質、及び結着樹脂を含有する溶液を調製する工程、
該溶液を水に分散させて乳化液を調製する工程、ならびに
該乳化液の塗膜を形成し、該塗膜を加熱することにより、該電荷輸送層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法に関する。