Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月18日(2016.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶性化合物および非晶質ジウレタン化合物を含む相変化インクであって、
前記結晶性化合物は、下記式を有し、
【化１】
2013227569.tif 000001
（式中、Ｑは、アルカンジイルであり；Ｒ６およびＲ７のそれぞれは、独立に、１つ以上のアルキルで置換されていてもよいフェニルまたはシクロヘキシルであり；ｉは０または１であり；ｊは０または１であり；ｐは１〜４であり；ｑは１〜４である。）
前記結晶性化合物は、前記相変化インクの総重量の６０重量％〜９５重量％の量で存在し、
前記非晶質ジウレタン化合物は、
2013227569.tif 000002
を含む、
相変化インク。
【請求項２】
顔料、染料、およびこれらの混合物からなる群から選択される着色剤を更に含む、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項３】
前記結晶性化合物と前記非晶質ジウレタン化合物との重量比が、６０：４０〜９５：５である、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項４】
前記非晶質ジウレタン化合物が、１４０℃の温度にて１００ｃｐｓ未満の粘度を有する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項５】
前記非晶質ジウレタン化合物が、室温にて１×１０５ｃｐｓを超える粘度を有する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項６】
１００℃〜１４０℃の噴出温度範囲で１ｃｐｓ〜１５ｃｐｓの粘度を有する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項７】
室温にて１０６ｃｐｓを超える粘度を有する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項８】
１５秒未満で結晶化する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項９】
前記非晶質ジウレタン化合物は、前記相変化インクの総重量の５重量％〜４０重量％の量で存在する、請求項１に記載の相変化インク。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月15日(2016.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉで表される酒石酸エステルを含む非晶質化合物と、式ＶＩで表される脂肪族線状二酸のエステルを含む結晶性化合物とを含み、さらに着色剤を含んでいてもよい、相変化インク：
【化１】
2013227567.tif 000001

式Ｉ中、Ｒ１およびＲ２のうち一方が２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシルであり、他方が２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、もしくはシクロヘキシルであるか、または、
Ｒ１およびＲ２のうち一方が４−ｔ−ブチルシクロヘキシルであり、他方がシクロヘキシルである；
【化２】
2013227567.tif 000002
式ＶＩ中、Ｒ１２は、置換されていても置換されていなくてもよいアルキル鎖であり、−（ＣＨ２）１−から−（ＣＨ２）１２−からなる群から選択され、式中、Ｒ１３およびＲ１４のそれぞれは、互いに独立に、アルキル基を含む置換基で置換されていても置換されていなくてもよい、芳香族基及びヘテロ芳香族基からなる群から選択され、ここで前記置換基のアルキル部位は直鎖、分岐状または環状である。
【請求項２】
前記相変化インクの合計結晶化時間が、前記結晶性化合物の単独の合計結晶化時間の５倍以下である、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項３】
２種以上の結晶性化合物を含む、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項４】
２種以上の非晶質化合物を含む、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項５】
前記非晶質化合物が、前記相変化インクの総重量の５重量％〜４０重量％の量で存在する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項６】
前記非晶質化合物の重量に対する前記結晶性化合物の重量の比（結晶性化合物／非晶質化合物）が、６０／４０〜９５／５である、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項７】
１４０℃の温度にて２２ｃｐｓ未満の粘度を有し、室温にて１×１０６ｃｐｓを超える粘度を有する、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項８】
式Ｉで表される酒石酸エステルを含む非晶質化合物と、式ＶＩで表される脂肪族線状二酸のエステルを含む結晶性化合物と、着色剤とを含み、
前記非晶質化合物の重量に対する前記結晶性化合物の重量の比（結晶性化合物／非晶質化合物）が、６０／４０〜９５／５であり、
合計結晶化時間が、前記結晶性化合物の単独の合計結晶化時間の５倍以下である、相変化インク：
【化３】
2013227567.tif 000003

式Ｉ中、Ｒ１およびＲ２のうち一方が２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシルであり、他方が２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、もしくはシクロヘキシルであるか、または、
Ｒ１およびＲ２のうち一方が４−ｔ−ブチルシクロヘキシルであり、他方がシクロヘキシルである；
【化４】
2013227567.tif 000004
式ＶＩ中、Ｒ１２は、置換されていても置換されていなくてもよいアルキル鎖であり、−（ＣＨ２）１−から−（ＣＨ２）１２−からなる群から選択され、式中、Ｒ１３およびＲ１４のそれぞれは、互いに独立に、アルキル基を含む置換基で置換されていても置換されていなくてもよい、芳香族基及びヘテロ芳香族基からなる群から選択され、ここで前記置換基のアルキル部位は直鎖、分岐状または環状である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月22日(2016.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】化合物、液晶組成物、液晶素子および液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｇ１）で表される化合物。
【化１】
2013227512.tif 000001
（一般式（Ｇ１）中、ｋは２または３であり、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項２】
下記一般式（Ｇ２）で表される化合物。
【化２】
2013227512.tif 000002
（一般式（Ｇ２）中、ｋは２または３であり、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。）
【請求項３】
下記一般式（Ｇ３）で表される化合物。
【化３】
2013227512.tif 000003
（一般式（Ｇ３）中、ｋは２または３であり、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項４】
下記一般式（Ｇ４）で表される化合物。
【化４】
2013227512.tif 000004
（一般式（Ｇ４）中、ｋは２または３であり、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。）
【請求項５】
下記一般式（Ｇ１１）で表される化合物。
【化５】
2013227512.tif 000005
（一般式（Ｇ１１）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項６】
下記一般式（Ｇ１２）で表される化合物。
【化６】
2013227512.tif 000006
（一般式（Ｇ１２）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項７】
下記一般式（Ｇ１３）で表される化合物。
【化７】
2013227512.tif 000007
（一般式（Ｇ１３）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項８】
下記一般式（Ｇ１４）で表される化合物。
【化８】
2013227512.tif 000008
（一般式（Ｇ１４）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項９】
下記一般式（Ｇ２１）で表される化合物。
【化９】
2013227512.tif 000009
（一般式（Ｇ２１）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。）
【請求項１０】
下記一般式（Ｇ２２）で表される化合物。
【化１０】
2013227512.tif 000010
（一般式（Ｇ２２）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。）
【請求項１１】
下記一般式（Ｇ２３）で表される化合物。
【化１１】
2013227512.tif 000011
（一般式（Ｇ２３）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。）
【請求項１２】
下記一般式（Ｇ２４）で表される化合物。
【化１２】
2013227512.tif 000012
（一般式（Ｇ２４）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。）
【請求項１３】
下記一般式（Ｇ３１）で表される化合物。
【化１３】
2013227512.tif 000013
（一般式（Ｇ３１）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項１４】
下記一般式（Ｇ３２）で表される化合物。
【化１４】
2013227512.tif 000014
（一般式（Ｇ３２）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項１５】
下記一般式（Ｇ３３）で表される化合物。
【化１５】
2013227512.tif 000015
（一般式（Ｇ３３）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項１６】
下記一般式（Ｇ３４）で表される化合物。
【化１６】
2013227512.tif 000016
（一般式（Ｇ３４）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項１７】
下記一般式（Ｇ４１）で表される化合物。
【化１７】
2013227512.tif 000017
（一般式（Ｇ４１）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。）
【請求項１８】
下記一般式（Ｇ４２）で表される化合物。
【化１８】
2013227512.tif 000018
（一般式（Ｇ４２）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。）
【請求項１９】
下記一般式（Ｇ４３）で表される化合物。
【化１９】
2013227512.tif 000019
（一般式（Ｇ４３）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。）
【請求項２０】
下記一般式（Ｇ４４）で表される化合物。
【化２０】
2013227512.tif 000020
（一般式（Ｇ４４）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。）
【請求項２１】
請求項１乃至２０のいずれか一項に記載の化合物、ネマティック液晶およびカイラル剤を含有してなる液晶組成物。
【請求項２２】
下記一般式（Ｈ１）で表される化合物、ネマティック液晶およびカイラル剤を含有してなる液晶組成物。
【化２１】
2013227512.tif 000021
（一般式（Ｈ１）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項２３】
下記一般式（Ｈ２）で表される化合物、ネマティック液晶およびカイラル剤を含有してなる液晶組成物。
【化２２】
2013227512.tif 000022
（一般式（Ｈ２）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数である。）
【請求項２４】
下記一般式（Ｈ３）で表される化合物、ネマティック液晶およびカイラル剤を含有してなる液晶組成物。
【化２３】
2013227512.tif 000023
（一般式（Ｈ３）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。また、Ｒ１、Ｒ２は、水素またはメチル基を表す。）
【請求項２５】
下記一般式（Ｈ４）で表される化合物、ネマティック液晶およびカイラル剤を含有してなる液晶組成物。
【化２４】
2013227512.tif 000024
（一般式（Ｈ４）中、ｎおよびｍは１〜２０の整数であり、ｎ＝ｍである。）
【請求項２６】
前記液晶組成物が、ブルー相を発現するものである請求項２１乃至２５のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項２７】
請求項２１乃至２６のいずれか一項に記載の液晶組成物を用いることを特徴とする液晶素子。
【請求項２８】
請求項２１乃至２６のいずれか一項に記載の液晶組成物を用いることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月8日(2016.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式（Ｉ）
【化１】
2013227296.tif 000001
（式中、Ｓは、ヘマグルチニン結合能を有するレセプター擬似シアロ糖鎖部分であり、Ｌは５オングストローム以上の構造を有するリンカー部分であり、Ｃは分岐構造や２重結合を有しても良い炭素数３〜３５のアルキル基である疎水性部分であり、Ｐは鎖長１００オングストローム以上のポリマー部分を表す）で示される化合物又はその塩。
【請求項２】
ヘマグルチニン結合能を有するレセプター擬似シアロ糖鎖部分が、Ｎｅｕ５Ａｃα２−６Ｇａｌβ１−４（３）ＧｌｃＮＡｃβ１構造を含むことを特徴とする請求項１に記載の化合物又はその塩。
【請求項３】
ポリマー部分が、ポリグルタミン酸であることを特徴とする請求項１又は２に記載の化合物又はその塩。
【請求項４】
リンカー部分が、リジンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の化合物又はその塩。
【請求項５】
下記の式（II）
【化２】
2013227296.tif 000002
（式中、ＰＧＡは式（III）
【化３】
2013227296.tif 000003
を表し、ｍ及びｎは、ｍは整数であって（ｍ＋１）ｎが５０〜１０００である。）で示される化合物又はその塩を有効成分とする、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物又はその塩。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を有効成分とする、インフルエンザウイルスのヘマグルチニン機能及びシアリダーゼ阻害剤。
【請求項７】
シアリダーゼがノイラミニダーゼであることを特徴とする、請求項６に記載の阻害剤。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を有効成分とする、インフルエンザウイルスの感染及び出芽、並びに細胞表面への吸着阻害剤。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を有効成分とする、インフルエンザ予防又は治療薬。
【請求項１０】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を有効成分とするインフルエンザウイルスの吸着剤。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を担持させたインフルエンザウイルスの吸着材。
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を担持させたインフルエンザウイルスの変異を調べるためのキット。
【請求項１３】
請求項１〜５のいずれかに記載の化合物又はその塩を有効成分とするインフルエンザウイルスの生体内動態を調べるためのキット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【化３】
2013227296.tif 000004
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【化１０】
2013227296.tif 000005
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
【化１１】
2013227296.tif 000006
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
【化１３】
2013227296.tif 000007
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
【化１５】
2013227296.tif 000008
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
【化１８】
2013227296.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月15日(2015.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−アミノ−３−（４−ブロモベンゾイル）フェニル酢酸又はその塩、そして場合によりベンザルコニウム塩化物及び／又はポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルを含有する水性組成物であって、２−アミノ−３−（４−ブロモベンゾイル）フェニル酢酸１００質量部に対するベンザルコニウム塩化物の含有量A（質量部）とポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの含有量B(質量部)が、
０≦A＜１のとき、０≦B＜９６A＋５
A=１のとき、１＜B≦１００
１＜A＜３のとき、５＜B≦１００
３≦A≦１０のとき、２０＜B≦１００
の範囲内である、水性組成物、但し
ゲンタマイシン塩酸塩またはトブラマイシンを含有しない。
【請求項２】
ベンザルコニウム塩化物の含有量Aとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの含有量B が、
０≦A＜１のとき、０≦B＜２６A＋５
A=１のとき、２≦B≦３０
１＜A＜３のとき、５＜B≦３０
３≦A≦５のとき、２０＜B≦３０
の範囲内である、請求項１記載の水性組成物。
【請求項３】
ベンザルコニウム塩化物の含有量Aとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの含有量B が、
１＜A＜３、及び５＜B≦３０
の範囲内である、請求項１記載の水性組成物。
【請求項４】
ベンザルコニウム塩化物の含有量Aとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの含有量B が、
１．２≦A≦２．５、及び７≦B≦２０
の範囲内である、請求項１記載の水性組成物。
【請求項５】
ベンザルコニウム塩化物の含有量Aとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの含有量B が、
A=０、及びB=０である、請求項１記載の水性組成物。
【請求項６】
２−アミノ−３−（４−ブロモベンゾイル）フェニル酢酸又はその塩、そして場合によりベンザルコニウム塩化物及び／又はポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルを含有する水性組成物であって、ベンザルコニウム塩化物の濃度X（ｗ／ｖ％）とポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの濃度Y(ｗ／ｖ％)が、
０≦X＜０．００１のとき、０≦Y＜９６X＋０．００５
X=０．００１のとき、０．００１＜Y≦０．１
０．００１＜X＜０．００３のとき、０．００５＜Y≦０．１
０．００３≦X≦０．０１のとき、０．０２＜Y≦０．１
の範囲内である、水性組成物、但し
ゲンタマイシン塩酸塩またはトブラマイシンを含有しない。
【請求項７】
ベンザルコニウム塩化物の濃度Xとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの濃度Yが、
０≦X＜０．００１のとき、０≦Y＜２６X＋０．００５
X=０．００１のとき、０．００２≦Y≦０．０３
０．００１＜X＜０．００３のとき、０．００５＜Y≦０．０３
０．００３≦X≦０．００５のとき、０．０２＜Y≦０．０３
の範囲内である、請求項６記載の水性組成物。
【請求項８】
ベンザルコニウム塩化物の濃度Xとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの濃度Yが、
０．００１＜X＜０．００３、及び０．００５＜Y≦０．０３
の範囲内である、請求項６記載の水性組成物。
【請求項９】
ベンザルコニウム塩化物の濃度Xとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの濃度Yが、
０．００１２≦X≦０．００２５、及び０．００８≦Y≦０．０２
の範囲内である、請求項６記載の水性組成物。
【請求項１０】
ベンザルコニウム塩化物の濃度Xとポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの濃度Yが、
X=０、及びY=０である、請求項６記載の水性組成物。
【請求項１１】
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルが、ポリソルベート８０である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１２】
水性組成物中の２−アミノ−３−（４−ブロモベンゾイル）フェニル酢酸の濃度が、０．０１〜１．０％（ｗ／ｖ）である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１３】
０．０１〜３．０％（ｗ／ｖ）の塩化ナトリウムを更に含有する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１４】
ホウ酸及び／又はホウ砂を更に含有する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１５】
０．０１〜１５％（ｗ／ｖ）のホウ酸及び／又はホウ砂を更に含有する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１６】
水性組成物のｐＨが、７．０より大きく９．５以下である、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１７】
医薬的に許容される期間の貯蔵後、水性組成物の外観に変化が認められない、医薬的に安定な請求項１〜１６のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１８】
２５℃で３か月間の貯蔵後、水性組成物の外観に変化が認められない、医薬的に安定な請求項１〜１７のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１９】
４０℃で１か月間の貯蔵後、水性組成物の外観に変化が認められない、医薬的に安定な請求項１〜１８のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項２０】
６０℃で１か月間の貯蔵後、水性組成物の外観に変化が認められない、医薬的に安定な請求項１〜１９のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項２１】
水性組成物が澄明、黄色、沈殿不含有である、医薬的に安定な請求項１〜２０のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項２２】
水性組成物が、注射剤、輸液、点鼻剤、点耳剤又は点眼剤である請求項１〜２１のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項２３】
眼科用注射剤である、請求項２２記載の水性組成物。
【請求項２４】
点眼剤である、請求項２２記載の水性組成物。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれか一項記載の水性組成物の製造方法であって、２−アミノ−３−（４−ブロモベンゾイル）フェニル酢酸若しくはその塩又はそれらの水和物、並びに場合によりベンザルコニウム塩化物及び／又はポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルを水性溶媒に溶解させることを特徴とする製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月23日(2016.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム化合物の加水分解物および／またはその縮合物を成分として含有する粒子と、溶媒と、下記一般式（１）で表される有機アルミニウム化合物とを含有する酸化アルミニウム前駆体ゾルであって、前記酸化アルミニウム前駆体ゾルのパルスＮＭＲ測定によって得られた１Ｈ核のＴ２緩和曲線が、異なるＴ２緩和時間を持つ二つの緩和曲線の成分に分離され、そのうちより長いＴ２緩和時間を有する緩和曲線の成分をＣＬ（％）とし、より短いＴ２緩和時間を有する緩和曲線の成分をＣＳ（％）とし、下記式（１）によって求められるＣＳの割合をＲＣＳ（％）と定義した場合、ＲＣＳが２３．５％以上５０．０％以下であることを特徴とする酸化アルミニウム前駆体ゾル。
【化１】
2013227209.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１以上６以下のアルキル基もしくはパーフルオロアルキル基、またはアリル基を表す。Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基もしくはパーフルオロアルキル基、またはアリル基もしくはアリール基を表す。ｎは１以上３以下の整数である。）
【数１】
2013227209.tif 000002
【請求項２】
前記アルミニウム化合物の加水分解物および／またはその縮合物を成分として含有する粒子の平均粒子径が７．５ｎｍ以上３５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾル。
【請求項３】
（Ａ）溶媒に、β−ジケトン化合物と、アルミニウムアルコキシドまたはアルミニウム塩化合物を添加し、混合して、アルミニウム化合物を含有する溶液を作製する工程と、
（Ｂ）前記（Ａ）の工程で得られた溶液に水、または触媒を含む水を添加し、混合して、前記アルミニウムアルコキシドまたはアルミニウム塩化合物の縮合物及び下記一般式（１）で表される有機アルミニウム化合物を形成する工程と、
（Ｃ）前記（Ｂ）の工程で得られた溶液を６０℃以上１５０℃以下に加熱して酸化アルミニウム前駆体ゾルを得る工程と、
を有する、アルミニウム化合物の加水分解物および／またはその縮合物を成分として含有する粒子と、溶媒と、下記一般式（１）で表される有機アルミニウム化合物を含む酸化アルミニウム前駆体ゾルを製造する方法であって、
前記酸化アルミニウム前駆体ゾルのパルスＮＭＲ測定によって得られた１Ｈ核のＴ２緩和曲線が、異なるＴ２緩和時間を持つ二つの緩和曲線の成分に分離され、そのうちより長いＴ２緩和時間を有する緩和曲線の成分をＣＬ（％）とし、より短いＴ２緩和時間を有する緩和曲線の成分をＣＳ（％）とし、下記式（１）によって求められるＣＳの割合をＲＣＳ（％）と定義した場合、ＲＣＳが２３．５％以上５０．０％以下となるように、前記β−ジケトン化合物の添加量、前記水、または触媒を含む水に含まれる水の添加量、または前記（Ｂ）の工程で得られた溶液を加熱する温度、を調整することを特徴とする酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【化２】
2013227209.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１以上６以下のアルキル基もしくはパーフルオロアルキル基、またはアリル基を表す。Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基もしくはパーフルオロアルキル基、またはアリル基もしくはアリール基を表す。ｎは１以上３以下の整数である。）
【数２】
2013227209.tif 000004
【請求項４】
前記β−ジケトン化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項３に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
一般式（２）
Ｒ１ＣＯＣＨＲ３ＣＯＲ２
（式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１以上６以下のアルキル基もしくはパーフルオロアルキル基、またはアリル基を表す。Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基もしくはパーフルオロアルキル基、またはアリル基もしくはアリール基を表す。）
【請求項５】
前記溶液を加熱する温度を７５℃以上１３０℃以下とすることを特徴とする請求項４に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【請求項６】
前記βジケトン化合物が、３−メチル−２，４−ペンタンジオンであることを特徴とする請求項５に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【請求項７】
前記水、または触媒を含む水に含まれる水の添加量を、前記アルミニウム化合物１モルに対し１．６５モル以上２モル未満とすることを特徴とする請求項３乃至６いずれか一項に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【請求項８】
前記βジケトン化合物が、アセチルアセトンであることを特徴とする請求項４または５に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【請求項９】
前記βジケトン化合物が、３−エチル−２，４−ペンタンジオンであることを特徴とする請求項４または７に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【請求項１０】
前記溶媒は炭素数５以上８以下の一価のアルコールであることを特徴とする請求項３乃至９いずれか一項に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法。
【請求項１１】
光学用部材の製造方法であって、（ａ）基材の少なくとも一方の面上に、請求項１に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルを供給する工程、（ｂ）前記基材上に供給した酸化アルミニウム前駆体ゾルの乾燥および／または焼成を行うことにより酸化アルミニウム膜を形成する工程、（ｃ）前記酸化アルミニウム膜を６０℃以上１００℃以下の温水または水蒸気と接触させて酸化アルミニウムを含む結晶を析出させ酸化アルミニウムの結晶を含む凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする光学用部材の製造方法。
【請求項１２】
前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に供給する工程は、スピンコート法を用いることを特徴とする請求項１１に記載の光学用部材の製造方法。
【請求項１３】
前記酸化アルミニウム膜の膜厚は、１６０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の光学用部材の製造方法。
【請求項１４】
前記凹凸構造は、酸化アルミニウムのナノ構造であって、酸化アルミニウム固有の屈折率より低い見かけの屈折率がコーティングの厚さ方向に変化している反射防止膜であることを特徴とする請求項１１乃至１３いずれか１項に記載の光学用部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】酸化アルミニウム前駆体ゾル、その製造法、光学用部材の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月28日(2016.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回動することによって外周面に表記された複数種類の図柄を可変表示する複数のリールと、遊技状況に応じた演出を実行可能な演出手段と、所定の抽選確率に基づいて役の当否を抽選すると共に、当該抽選の結果に応じた態様で前記リールを停止制御し、停止した際の前記リールにおいて停止表示された図柄の組み合わせによる遊技結果に応じて、所定の処理を実行する制御部とを備えた遊技機において、
前記制御部は、
第１遊技状態における遊技回数を計数可能であって、所定の条件が達成されたことに基づいて、計数した値が初期化されない第１カウント手段と、計数した値が初期化される第２カウント手段とを含む複数のカウンタを有し、
前記条件が達成された後に、前記第１カウント手段の値に基づいて前記第１遊技状態とは異なる第２遊技状態への移行に係る処理を行うことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記制御部は、
前記第２カウント手段の値が所定の規定値に達した場合に前記第２遊技状態への移行を可能とし、
前記規定値を、前記条件を達成した際の前記第１カウント手段の値に基づいて決定することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記条件の達成は、遊技機の有利度を変化させる設定変更を実行することであることを特徴とする請求項１または２記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第１の発明は、回動することによって外周面に表記された複数種類の図柄を可変表示する複数のリールと、遊技状況に応じた演出を実行可能な演出手段と、所定の抽選確率に基づいて役の当否を抽選すると共に、当該抽選の結果に応じた態様で前記リールを停止制御し、停止した際の前記リールにおいて停止表示された図柄の組み合わせによる遊技結果に応じて、所定の処理を実行する制御部とを備えた遊技機において、前記制御部は、第１遊技状態における遊技回数を計数可能であって、所定の条件が達成されたことに基づいて、計数した値が初期化されない第１カウント手段と、計数した値が初期化される第２カウント手段とを含む複数のカウンタを有し、前記条件が達成された後に、前記第１カウント手段の値に基づいて前記第１遊技状態とは異なる第２遊技状態への移行に係る処理を行うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第１の発明において、所定の条件が達成された（例えば、遊技機の設定変更がされた）際に、第２遊技状態への移行契機である第２カウント手段の値が初期化される仕様の遊技機の場合、設定変更がされたとしても第１カウント手段の値を維持（初期化されないように）して、維持した（設定変更前の）値に基づいて第２遊技状態への移行に係る処理（例えば、設定変更の際の、第１カウント手段の計数済みの値に基づいて規定値（天井値）を決定することにより、最適な規定値を設定すること）が可能となる。
ここで、第１遊技状態とは、制御部が管理する遊技状態の一つである通常状態と、演出状態の一つである通常演出状態（ＡＴ状態ではない状態）とが重複して進行する遊技状態である。一方、第２遊技状態とは、例えば、制御部が管理するＡＴ状態である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第２の発明は、第１の発明において、前記制御部は、前記第２カウント手段の値が所定の規定値に達した場合に前記第２遊技状態への移行を可能とし、前記規定値を、前記条件を達成した際の前記第１カウント手段の値に基づいて決定することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第２の発明において、規定値（天井値）を、初期化されない第１遊技回数に係るカウント値（第１カウント手段の値）に基づいて（例えば抽選により）決定するため、当該値に応じて様々な規定値を設定することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第３の発明は、第１または２の発明において、前記条件の達成は、遊技機の有利度を変化させる設定変更を実行することであることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第３の発明において、遊技者は、カウント手段の初期化の有無や設定された規定値等の状況から、遊技機の設定変更の有無を判断することは困難となる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月29日(2016.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の半導体チップと第２の半導体チップとが互いに積層された撮像素子であって、
前記第１の半導体チップは、
第１の画素群及び第２の画素群からなる画素部と、
前記第１の画素群の画素を駆動する第１の駆動回路と、
を有し、
前記第２の半導体チップは、
前記第２の画素群の画素を駆動する第２の駆動回路
を有することを特徴とする撮像素子。
【請求項２】
前記第１の画素群は複数の撮像用画素により構成され、前記第２の画素群は複数の非撮像用画素により構成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像素子。
【請求項３】
前記複数の撮像用画素の出力信号を用いて撮影画像の表示または記録が行われることを特徴とする請求項２に記載の撮像素子。
【請求項４】
前記複数の非撮像用画素の出力信号に基づいて焦点検出動作が行われることを特徴とする請求項２又は３に記載の撮像素子。
【請求項５】
前記第１の半導体チップは、前記第１の画素群の信号を読み出す第１の読出し回路を更に有し、前記第２の半導体チップは、前記第２の画素群の信号を読み出す第２の読出し回路を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像素子。
【請求項６】
前記第２の読出し回路は、前記第２の画素群の異なる行に配置された画素を同時に読み出すことを特徴とする請求項５に記載の撮像素子。
【請求項７】
前記第２の画素群が画素ごとに有するトランジスタの一部が、前記第２の半導体チップに配置されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像素子。
【請求項８】
前記第１の読出し回路及び前記第２の読出し回路は、前記第１の画素群の信号と前記第２の画素群の信号とを時間的に並列に読み出すことを特徴とする請求項５に記載の撮像素子。
【請求項９】
前記複数の撮像用画素の出力信号を用いて撮影画像の表示または記録を行う際に、前記複数の非撮像用画素の各画素の周辺に位置する撮像用画素の画素値を前記複数の非撮像用画素の画素値として用いることを特徴とする請求項３に記載の撮像素子。
【請求項１０】
前記複数の非撮像用画素の各画素の周辺に位置する撮像用画素の画素値の加算平均値を前記複数の非撮像用画素の画素値として用いることを特徴とする請求項９に記載の撮像素子。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像素子を有する携帯電話機。
【請求項１２】
請求項１に記載の撮像素子を有する撮像装置。
【請求項１３】
第１の半導体チップと第２の半導体チップが互いに積層された撮像素子であって、
前記第１の半導体チップは、第１の画素群及び第２の画素群からなる画素部を有し、
前記第１の画素群は複数の撮像用画素により構成され、前記第２の画素群は複数の非撮像用画素により構成される
ことを特徴とする撮像素子。
【請求項１４】
前記複数の非撮像用画素の出力信号に基づいて焦点検出動作が行われることを特徴とする請求項１３に記載の撮像素子。
【請求項１５】
前記複数の撮像用画素の出力信号を用いて撮影画像の表示または記録が行われることを特徴とする請求項１４に記載の撮像素子。
【請求項１６】
前記複数の撮像用画素の出力信号を用いて撮影画像の表示または記録を行う際に、前記複数の非撮像用画素の各画素の周辺に位置する撮像用画素の画素値を前記複数の非撮像用画素の画素値として用いることを特徴とする請求項１５に記載の撮像素子。
【請求項１７】
前記複数の非撮像用画素の各画素の周辺に位置する撮像用画素の画素値の加算平均値を前記複数の非撮像用画素の画素値として用いることを特徴とする請求項１６に記載の撮像素子。
【請求項１８】
請求項１３に記載の撮像素子を有する携帯電話機。
【請求項１９】
請求項１３に記載の撮像素子を有する撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像素子、撮像装置及び携帯電話機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮像素子、並びに、撮像素子を用いた撮像装置及び携帯電話機に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで本発明は、焦点検出用画素を備えた撮像素子を用いて良好な画質の撮像画像を取得することが可能な構成を実現する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面によれば、第１の半導体チップと第２の半導体チップとが互いに積層された撮像素子であって、前記第１の半導体チップは、第１の画素群及び第２の画素群からなる画素部と、前記第１の画素群の画素を駆動する第１の駆動回路とを有し、前記第２の半導体チップは、前記第２の画素群の画素を駆動する第２の駆動回路を有することを特徴とする撮像素子が提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、焦点検出用画素を備えた撮像素子を用いて良好な画質の撮像画像を取得することが可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月17日(2015.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス層及び前記ガラス層の両面に積層された絶縁層を有するコアと、
前記コアを貫通する貫通孔と、
前記貫通孔の内壁に形成されたシード層と、
を含む印刷回路基板。
【請求項２】
前記貫通孔内に形成されるめっき層をさらに含む、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項３】
前記ガラス層の厚さが２５〜２００μｍである、請求項１又は請求項２に記載の印刷回路基板。
【請求項４】
前記コアの全体厚さに対する前記ガラス層の厚さの割合が３５％〜８０％である、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項５】
前記絶縁層上に形成される回路層をさらに含む、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項６】
前記シード層は前記回路層に対応するように、前記絶縁層と前記回路層との間にさらに形成される、請求項５に記載の印刷回路基板。
【請求項７】
前記シード層は複数の層で形成される、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項８】
前記ガラス層と前記絶縁層との間にコーティング層が介在される、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項９】
前記コーティング層の厚さは２μｍ以下である、請求項８に記載の印刷回路基板。
【請求項１０】
前記絶縁層はガラス布が含浸された樹脂で形成される、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項１１】
ガラス層の両面に絶縁層を積層してコアを形成する段階と、
前記コアに貫通孔を形成する段階と、
前記貫通孔の内壁にシード層を形成する段階と、
を含む印刷回路基板の製造方法。
【請求項１２】
前記貫通孔の内部にめっき層を形成する段階をさらに含む、請求項１１に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１３】
前記絶縁層上に回路層を形成する段階をさらに含む、請求項１１又は請求項１２に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１４】
前記シード層を形成する段階において、前記シード層は前記回路層に対応して前記絶縁層上にさらに形成される、請求項１３に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１５】
前記シード層は複数の層で形成される、請求項１１から請求項１４のいずれか１項に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１６】
前記コアを形成する段階は、
前記絶縁層を積層する前に、前記ガラス層にコーティング層を形成する段階を含む請求項１１から請求項１５のいずれか１項に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１７】
前記貫通孔を形成する段階の後に、
前記ガラス層の表面及び前記貫通孔の内壁をクリーニングする段階をさらに含む、請求項１１から請求項１６のいずれか１項に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１８】
前記クリーニングする段階はエッチングにより行われる、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１９】
前記コアを形成する段階において、
前記ガラス層の両面に前記絶縁層を配置し、加熱及び加圧する、請求項１１から請求項１８のいずれか１項に記載の印刷回路基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月24日(2016.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、前記基体に実装された複数の発光素子と、を備え、前記複数の発光素子は、光反射性部材により側面が覆われていない第１発光素子と、光反射性部材により側面が覆われている第２発光素子と、を有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第２発光素子は、前記光反射性部材により覆われている側面が前記第１発光素子の側面に面していることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第２発光素子は、前記第１発光素子に挟まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記基体は凹部を有し、
前記凹部の内壁が前記光反射性部材に覆われている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記光反射性部材は、前記複数の発光素子を囲む周辺領域から前記第２発光素子の一方の面までは溝を通るように設けられており、前記第２発光素子の一方の面から他方の面までは前記第２発光素子の側面を沿うように設けられており、前記第２発光素子の他方の面からは溝を通るように設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記第２発光素子は、前記光反射性部材を前記第２発光素子に導く溝を跨いで配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項７】
溝が形成された基体を準備する工程と、
前記準備された基体に複数の発光素子を実装する工程と、
前記基体に光反射性部材を配置して、前記配置した光反射性部材を前記溝を利用して複数の発光素子の一部に導きその側面を前記光反射性部材で覆う工程と、
を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記光反射性部材により側面を覆われる少なくとも１つの発光素子は、その光反射性部材により覆われる側面が、前記光反射性部材により側面を覆われない発光素子の側面に面することを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記光反射性部材により側面を覆われる少なくとも１つの発光素子は、前記光反射性部材により側面を覆われない発光素子に挟まれることを特徴とする請求項７または８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記光反射性部材により側面を覆われる少なくとも１つの発光素子の一方の面及び他方の面が前記溝の端部にそれぞれ隣接することを特徴とする請求項７から９のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記溝は、前記複数の発光素子を囲む周辺領域に繋がっていることを特徴とする請求項７から１０のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記基体は、凹部を有することを特徴とする請求項７から１１のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１３】
前記基体の凹部の内壁を前記光反射性部材で覆うことを特徴とする請求項１２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１４】
前記光反射性部材を、前記複数の発光素子を囲む周辺領域から前記複数の発光素子の一部の一方の面までは前記溝を通るように形成し、前記複数の発光素子の一部の一方の面から他方の面までは発光素子の側面を沿うように形成し、前記複数の発光素子の一部の他方の面からは前記溝を通るように形成することを特徴とする請求項７から１３のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１５】
前記光反射性部材により側面を覆われる少なくとも１つの発光素子を前記溝を跨ぐように配置することを特徴とする請求項７から１４のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月23日(2016.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを噴出してインク粒子を形成するノズルと、
該インク粒子に帯電電圧を印加し帯電させる帯電電極と、
該帯電したインク粒子を変更させる偏向電極と、
印字に使用しない前記インク粒子を回収するガターとから成る印字構成を複数個有するインクジェット記録装置であって、
前記複数個の印字構成をそれぞれ独立に印字制御を行う制御部を有し、
該制御部は、各印字構成の印字要素の現在値を定期的にチェックできる入力部および次回印字時の印字要素を変更できる出力部を有し、
さらに、前記制御部は、次回印字時の帯電電圧、偏向電圧、インク圧力を基準値に近づけるように印字ごとに各ノズルを調整することを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
請求項１記載のインクジェット記録装置であって、
次回印字時の帯電電圧、偏向電圧、インク圧力を個別に微調整するための入力項目を設定できる入力部と、
該入力部で入力した内容を記憶し保存するメモリと、を有し、
前記入力した内容に応じて次回印字時の帯電電圧、偏向電圧、インク圧力の設定値を変更することを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項３】
請求項１記載のインクジェット記録装置であって、
各ノズルの次回印字時の帯電電圧、偏向電圧、インク圧力の設定値を自動で補正する制御方法の実施有無を選択できる入力部と、
基準値を設定するための方法を選択できる入力部と、
入力した内容を保存するメモリを有し、
前記設定にて選択した方法に応じて各ノズルの次回印字時の帯電電圧、偏向電圧、インク圧力の設定値を自動補正することを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項４】
請求項３記載のインクジェット記録装置であって、
前記基準値を設定するための方法を選択できる入力部で、予めテスト印字を行なってそのときの設定値を基準値とする第１の方法と、予め基準値とするノズルを指定して、その前回の印字設定値を基準値とする第２の方法とを選択できるようにしたことを特徴とするインクジェット記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月9日(2016.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定金型と可動金型とでモールド品の成形を行うモールド射出成形金型において、該モールド射出成形金型から成形品を突き出して排出するエジェクタピンと、このエジェクタピンを支持するエジェクタプレートと、このエジェクタプレートを案内するエジェクタガイドピンと、前記エジェクタピンの移動方向に沿って前記エジェクタプレートを前記エジェクタガイドピンに沿って摺動案内するために前記エジェクタプレートに形成する貫通孔に組み付けたエジェクタガイドブッシュとを備えており、
前記エジェクタガイドピンを摺動案内する前記エジェクタガイドブッシュは、前記エジェクタガイドブッシュと前記貫通孔との間に水平方向のクリアランスを形成して、前記エジェクタガイドブッシュの水平方向への移動を許容することを特徴とするエジェクタガイド構造を備えたモールド樹脂射出成形金型。
【請求項２】
前記エジェクタガイドブッシュは、前記エジェクタピンを摺動案内する筒部と、この筒部の外周から突出するフランジ部とを備え、前記エジェクタプレートを上下分割して構成し、この上下のエジェクタプレートで前記フランジ部を保持することによって、前記エジェクタガイドブッシュを上下各エジェクタプレートに沿ってスライド移動自在に組み付けたことを特徴とする請求項１記載のエジェクタガイドブッシュの水平方向への移動を許容するエジェクタガイド構造を備えたモールド樹脂射出成形金型。
【請求項３】
前記エジェクタガイドブッシュと前記貫通孔との間の水平クリアランスを０．１〜０．５ｍｍとしたことを特徴とする請求項１又は２記載のエジェクタガイドブッシュの水平方向への移動を許容するエジェクタガイド構造を備えたモールド樹脂射出成形金型。
【請求項４】
前記フランジ部と前記エジェクタプレートとの間に前記エジェクタガイドブッシュのスライド移動を可能とする０．００１ｍｍ〜０．００５ｍｍの垂直クリアランスを形成したことを特徴とする請求項２又は３記載のエジェクタガイドブッシュの水平方向への移動を許容するエジェクタガイド構造を備えたモールド樹脂射出成形金型。
【請求項５】
前記フランジ部と前記エジェクタプレートとの間の前記垂直クリアランスを維持するために、前記上下のエジェクタプレートの間に前記筒部より厚めのリングプレートを介在させたことを特徴とする請求項４記載のエジェクタガイドブッシュの水平方向への移動を許容するエジェクタガイド構造を備えたモールド樹脂射出成形金型。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月18日(2015.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一演出部材と第二演出部材の組み合わせにより演出体の少なくとも一部を形成する遊技機において、
前記第一演出部材と前記第二演出部材は、
前記第一演出部材と前記第二演出部材の少なくとも一方が移動することで、前記第一演出部材と前記第二演出部材が接近して前記演出体の少なくとも一部を形成する演出体形成状態と、前記演出体形成状態よりも前記第一演出部材と前記第二演出部材とが離間して前記演出体の少なくとも一部を形成しない演出体非形成状態とに変位するように構成され、
前記第一演出部材と前記第二演出部材の両方には、主装飾部が形成されるとともに、前記第一演出部材と前記第二演出部材の一方には、主装飾部の前方に位置し、前記演出体形成状態の際に前記第一演出部材と前記第二演出部材の主装飾部間の境目および前記第一演出部材と前記第二演出部材の他方の主装飾部の少なくとも一部を覆う補助装飾部が形成され、
前記演出体形成状態において、前記第一演出部材と前記第二演出部材の主装飾部同士は当接せずに両者の間に隙間が形成されるように規制されているとともに、当該隙間の少なくとも一部が前方から視認できないように前記補助装飾部に覆われていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
少なくとも前記演出体形成状態において、前記第一演出部材および前記第二演出部材の主装飾部は同一平面上に位置することを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記第一演出部材と前記第二演出部材によって形成される演出体の少なくとも一部は、境目の中央を通る直線を対称軸として左右対称であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するためになされた請求項１の発明にかかる遊技機は、第一演出部材と第二演出部材の組み合わせにより演出体の少なくとも一部を形成する遊技機において、前記第一演出部材と前記第二演出部材は、前記第一演出部材と前記第二演出部材の少なくとも一方が移動することで、前記第一演出部材と前記第二演出部材が接近して前記演出体の少なくとも一部を形成する演出体形成状態と、前記演出体形成状態よりも前記第一演出部材と前記第二演出部材とが離間して前記演出体の少なくとも一部を形成しない演出体非形成状態とに変位するように構成され、前記第一演出部材と前記第二演出部材の両方には、主装飾部が形成されるとともに、前記第一演出部材と前記第二演出部材の一方には、主装飾部の前方に位置し、前記演出体形成状態の際に前記第一演出部材と前記第二演出部材の主装飾部間の境目および前記第一演出部材と前記第二演出部材の他方の主装飾部の少なくとも一部を覆う補助装飾部が形成され、前記演出体形成状態において、前記第一演出部材と前記第二演出部材の主装飾部同士は当接せずに両者の間に隙間が形成されるように規制されているとともに、当該隙間の少なくとも一部が前方から視認できないように前記補助装飾部に覆われていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の遊技機において、少なくとも前記演出体形成状態時に、前記第一演出部材と前記第二演出部材は境目の中央を通る直線を対称軸として左右対称であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１に記載の発明では、第一演出部材と第二演出部材の少なくとも一方に設けられた補助装飾部によって、演出体形成状態の際に第一演出部材と第二演出部材の境目および演出部材の他方が覆われるから、両演出部材により少なくとも一部が形成される演出体の一体感を向上させること、すなわち両演出部材による演出効果を向上させることが可能となる。
また、複数の演出部材によって演出体が構成される場合、演出部材同士を接触させることにより、できるだけ当該演出体の一体感が損なわれないようにすることが考えられるが、演出部材同士を接触させることとすると、当該接触によって演出部材が損傷する、接触による騒音が発生する、といった問題が生ずる。上記本発明のように、第一演出部材と第二演出部材は当接せずに隙間が形成されるように規制される構成とすれば、このような問題が生じない。また、演出体形成状態において当該隙間は補助装飾部に覆われることになるから、隙間が存在することによる演出体の一体感の低下を抑制することも可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
左右対称の演出体を形成する場合、上記特許文献１に記載のように単純に各演出部材を左右対称形状に形成するのが通常であるが、単純に各演出部材を左右対称形状にするのではなく、請求項３に記載の発明のように一方の演出体に補助装飾部を設けた上で、第一演出部材と第二演出部材によって形成される演出体の少なくとも一部を左右対称形状にすることが可能である。