Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月2日(2016.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、並びに、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号に基づく再生処理を行う放送受信装置であって、
前記第１受信信号及び前記第２受信信号のいずれか一方の選局処理を行う第１選局処理部と；
前記第１選局処理部が選局処理すべき受信信号として前記第２受信信号が指定された場合に、少なくとも前記第１選局処理部に対して前記第２受信信号を供給させる第１制御を行う制御部と；
を備えることを特徴とする放送受信装置。
【請求項２】
前記第２受信信号に対する選局処理を行う第２選局処理部を更に備え、
前記第２選局処理部が前記第２受信信号に対して選局処理すべき場合には、前記制御部は、前記第１制御に際して、前記第２選局処理部に対して前記第２受信信号を供給させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の放送受信装置。
【請求項３】
前記第２受信信号に含まれるＦＭ放送帯域における特定目的のデータ放送の再生処理のための選局処理を行う第３選局処理部と；
前記第２受信信号に含まれるＶ−ＬＯＷ帯域における前記特定目的のデータ放送の再生処理のための選局処理を行う第４選局処理部と；を更に備え、
前記制御部は、前記第１制御と並行して、前記第３選局処理部及び前記第４選局処理部のいずれかに択一的に前記第２受信信号を供給させる第２制御を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載の放送受信装置。
【請求項４】
移動体に配置され、
前記Ｖ−ＬＯＷ帯域における前記特定目的のデータ放送が再生可能なエリア情報を記憶する記憶部を更に備え、
前記制御部は、前記エリア情報、及び、前記移動体の現在位置を検出する位置検出部から取得した前記移動体の現在位置情報に基づいて、前記第２制御を行う、
ことを特徴とする請求項３に記載の放送受信装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記Ｖ−ＬＯＷ帯域における前記特定目的のデータ放送を再生可能か否かの判定を行い、前記判定の結果に基づいて、前記第２制御を行う、ことを特徴とする請求項３又は４に記載の放送受信装置。
【請求項６】
前記特定目的のデータ放送は、道路交通情報を内容とする放送である、ことを特徴とする請求項３〜５のいずれか一項に記載の放送受信装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第１制御に際して、
前記第１選局処理部により選局処理すべき受信信号として前記第２受信信号が利用者により指定された場合には、前記第１選局処理部のみに対して前記第２受信信号を供給させ、
前記第１選局処理部により選局処理すべき受信信号として前記第１受信信号が利用者により指定された場合には、前記第１選局処理部に対して前記第１受信信号を供給させるとともに、前記第２選局処理部に対して前記第２受信信号を供給させる、
ことを特徴とする請求項２〜６のいずれか一項に記載の放送受信装置。
【請求項８】
前記第１選局処理部は、テレビジョン放送の再生のための選局処理を行い、
前記第２選局処理部は、ＦＭ音声放送の再生のための選局処理を行う、
ことを特徴とする請求項２〜７のいずれか一項に記載の放送受信装置。
【請求項９】
第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、及び、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号のいずれか一方の選局処理を行う第１選局処理部と；制御部と；を備える放送受信装置において使用される放送受信方法であって、
前記制御部が、選局処理すべき受信信号の指定を取得する取得工程と；
前記取得工程における取得結果に基づいて、前記制御部が、前記第１選局処理部により選局すべき受信信号として前記第２受信信号が指定された場合に、前記第１選局処理部に対して前記第２受信信号を供給させる制御を行う制御工程と；
を備えることを特徴とする放送受信方法。
【請求項１０】
第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、並びに、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号に基づく再生処理を行う放送受信装置が有するコンピュータに、請求項９に記載の放送受信方法を実行させる、ことを特徴とする放送受信プログラム。
【請求項１１】
第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、並びに、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号に基づく再生処理を行う放送受信装置が有するコンピュータにより読み取り可能に、請求項１０に記載の放送受信プログラムが記録されている、ことを特徴とする記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、並びに、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号に基づく再生処理を行う放送受信装置であって、前記第１受信信号及び前記第２受信信号のいずれか一方の選局処理を行う第１選局処理部と；前記第１選局処理部が選局処理すべき受信信号として前記第２受信信号が指定された場合に、少なくとも前記第１選局処理部に対して前記第２受信信号を供給させる第１制御を行う制御部と；を備えることを特徴とする放送受信装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項９に記載の発明は、第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、及び、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号のいずれか一方の選局処理を行う第１選局処理部と；制御部と；を備える放送受信装置において使用される放送受信方法であって、前記制御部が、選局処理すべき受信信号の指定を取得する取得工程と；前記取得工程における取得結果に基づいて、前記制御部が、前記第１選局処理部により選局すべき受信信号として前記第２受信信号が指定された場合に、前記第１選局処理部に対して前記第２受信信号を供給させる制御を行う制御工程と；を備えることを特徴とする放送受信方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項１０に記載の発明は、第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、並びに、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号に基づく再生処理を行う放送受信装置が有するコンピュータに、請求項９に記載の放送受信方法を実行させる、ことを特徴とする放送受信プログラムである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１１に記載の発明は、第１アンテナから供給されるＵＨＦ帯域の放送波の第１受信信号、並びに、第２アンテナから供給されるＶＨＦ帯域及びＦＭ放送帯域の放送波の第２受信信号に基づく再生処理を行う放送受信装置が有するコンピュータにより読み取り可能に、請求項１０に記載の放送受信プログラムが記録されている、ことを特徴とする記録媒体である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段と、
前記撮像手段により得られた画像を表示する第１の表示手段と、
前記撮像手段により得られた画像を表示する前記第１の表示手段とは異なる素材からなる第２の表示手段と、
前記第１の表示手段の表示特性を調整する指示を入力する指示手段と、
前記指示手段の指示に応じて、前記第２の表示手段に、前記第１の表示手段の表示特性に応じた補正を施した指標画像を表示させる表示制御手段とを有する
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第１の表示手段の表示特性に応じた補正は、前記第１の表示手段の初期状態における所定の色を再現するための補正であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記所定の色は、肌色または記憶色を含むことを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記指示手段の指示に応じて、前記第１の表示手段に、前記補正を施していない指標画像を表示させることを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記表示制御手段は、赤色または青色の調整をすることが可能なポインタを前記第２の表示手段に表示させることを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記表示制御手段は、赤色または青色の調整をすることが可能なポインタを前記第１の表示手段に表示させることを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第２の表示手段は、前記第１の表示手段よりも劣化しにくい素材からなることを特徴とする請求項１から６までのいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第１の表示手段は自発光型の表示手段であることを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１の表示手段は、有機ＥＬ表示デバイスであることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第２の表示手段は、液晶表示デバイスであることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１項に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月25日(2016.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前胴回り域と、後胴回り域と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域と、
前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向と、
前記製品長手方向と直交する製品幅方向と、
一対の脚回り開口部と、
前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域及び前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体と、
前記脚回り開口部に沿って、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域から前記後胴回り域まで延びるように形成されている一対のレッグ伸縮部と、を有し、
前記レッグ伸縮部よりも前記製品幅方向内側に位置し、前記製品長手方向に沿う折り目を有する、使い捨ておむつであって、
前記レッグ伸縮部が配置されたレッグ配置領域には、前記レッグ伸縮部の伸縮方向に沿う目印部が設けられており、
前記目印部は、前記使い捨ておむつの非肌当接面から視認可能に設けられている、使い捨ておむつ。
【請求項２】
前記レッグ伸縮部及び前記吸収体よりも非肌当接側に位置する外装体を更に備え、
前記外装体の前記レッグ配置領域には、前記目印部を構成する目印図柄が設けられており、
前記外装体の前記レッグ配置領域以外の領域には、前記目印図柄と異なる図柄からなる装飾図柄が設けられている、請求項１に記載の使い捨ておむつ。
【請求項３】
前記目印部は、前記レッグ伸縮部に着色された着色領域である、請求項１に記載の使い捨ておむつ。
【請求項４】
前記目印部は、前記レッグ伸縮部の伸縮方向に沿って連続して設けられている、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項５】
前記目印部は、前記レッグ伸縮部の伸縮方向に沿って間欠的に複数設けられている、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項６】
前記目印部は、前記レッグ配置領域の前記製品幅方向の外側端部に設けられている、請求項１から請求項５のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項７】
前記股下域内において前記吸収体が配置されている吸収体を構成する吸収性コアと重なる位置に配置され、少なくとも前記製品長手方向に伸縮可能なクロッチ伸縮部を備えており、
前記クロッチ伸縮部の引張係数は、前記レッグ伸縮部の引張係数よりも大きくなるように構成されている、請求項１から請求項６のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本開示に係る使い捨ておむつは、前胴回り域(前胴回り域20)と、後胴回り域（後胴回り域30）と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域（股下域25）と、前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向（製品長手方向L）と、前記製品長手方向と直交する製品幅方向（製品幅方向W）と、一対の脚回り開口部（脚回り開口部35）と、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域及び前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体（吸収体40）と、前記脚回り開口部に沿って、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域から前記後胴回り域まで延びるように形成されている一対のレッグ伸縮部（レッグ伸縮部75）と、を有し、前記レッグ伸縮部よりも前記製品幅方向内側に位置し、前記製品長手方向に沿う折り目を有する使い捨ておむつであって、前記レッグ伸縮部が配置されたレッグ配置領域 には、前記レッグ伸縮部の伸縮方向に沿う目印部(目印部31)が設けられており、前記目印部は、前記使い捨ておむつの非肌当接面から視認可能に設けられていることを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【図１】本実施形態に係る使い捨ておむつの展開平面図である。
【図２】図１に示したF1-F1線に沿った使い捨ておむつの断面図である。
【図３】図１に示したF2-F2線に沿った使い捨ておむつの断面図である。
【図４】本実施形態に係る使い捨ておむつの展開背面図である。
【図５】本実施形態に係る使い捨ておむつを折り畳んだ状態を示した図である。
【図６】変形例１に係る使い捨ておむつの展開背面図である。
【図７】変形例２に係る使い捨ておむつの展開背面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月25日(2016.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前胴回り域と、後胴回り域と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域とを有し、
前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向と、製品長手方向と直交する製品幅方向と、を有し、
前記股下域を跨ぎ、かつ前記前胴回り域と前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体と、
前記前胴回り域及び前記後胴回り域において、前記製品幅方向に沿って延び、前記使い捨ておむつを着用者の身体に保持する胴回り保持部と、
一対の脚回り開口部と、
前記脚回り開口部に沿って、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域から前記後胴回り域まで延びるように形成されているレッグ伸縮部と、
前記股下域において前記吸収体の前記製品幅方向の中心に対する前記製品幅方向両外側にそれぞれ配置され、前記製品長手方向または前記製品幅方向に伸縮可能な一対のクロッチ伸縮部と、を備え、
前記クロッチ伸縮部は、前記胴回り保持部及び前記レッグ伸縮部と離間して設けられており、
前記レッグ伸縮部と前記クロッチ伸縮部との間には、前記クロッチ伸縮部よりも伸縮率が低い低伸縮領域が形成される、使い捨ておむつ。
【請求項２】
水分と接触すると視覚的に変化するように構成されているインジケーターが備えられており、
前記インジケーターの少なくとも一部は、前記一対のクロッチ伸縮部の間に配置されている、請求項１に記載の使い捨ておむつ。
【請求項３】
前記使い捨ておむつを伸長した伸長状態において、前記各クロッチ伸縮部の前記製品幅方向の長さは、２５ｍｍ以上である、請求項１又は請求項２に記載の使い捨ておむつ。
【請求項４】
前記使い捨ておむつを伸長した伸長状態において、前記一対のクロッチ伸縮部の領域の製品幅方向の長さは、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下である、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項５】
製品長手方向に沿って延びるレッグサイドギャザーと、
前記吸収体の肌当接面側に設けられるトップシートと
を備え、
前記レッグサイドギャザーは、前記吸収体と接合される接合部分と、弾性部材が配置された自由端部分とを有し、
前記自由端部分の製品長手方向における端部は、前記トップシートに接合され、
前記接合部分は、前記製品幅方向において、前記クロッチ伸縮部と前記レッグ伸縮部との間に配置される、請求項１から請求項４のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項６】
前記各クロッチ伸縮部の伸縮率は、１．２倍以上、１．８倍以下である、請求項１から請求項４のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項７】
前記各クロッチ伸縮部の前記製品長手方向における収縮量は、前記使い捨ておむつの前記製品長手方向における長さの２％以上８％以下である、請求項１から請求項４のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項８】
前記後胴回り域において、前記製品幅方向に延びるファスニングテープと、
前記前胴回り域の非肌当接面に配置され、前記ファスニングテープが止着されるターゲット部と、
を備え、
前記後胴回り域における前記胴回り保持部は、前記ファスニングテープの係合部材が設けられた領域から前記製品幅方向に延びる範囲であり、
前記前胴回り域における前記胴回り保持部は、前記ターゲット部が設けられた領域から前記製品幅方向に延びる範囲であり、
前記製品長手方向における前記クロッチ伸縮部の中心は、前記製品長手方向における前記使い捨ておむつの中心よりも、前記前胴回り域側に配置されている、請求項１から請求項４のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項９】
前記クロッチ伸縮部は、前記使い捨ておむつの伸長状態において、前記製品長手方向における前記使い捨ておむつの中心を通って前記製品幅方向に沿って延びる仮想製品中心線を跨がって形成されており、かつ、前記使い捨ておむつの自然状態において、前記前胴回り域の前側端部と前記後胴回り域の後側端部が揃うように前記製品幅方向に沿って延びる２つ折り線と前記股下域において重なっており、
前記使い捨ておむつが伸長状態である場合に、前記製品長手方向における前記クロッチ伸縮部の中心を通り、前記製品幅方向に沿って延びる仮想クロッチ中心線は、前記仮想製品中心線よりも前側に設けられており、前記２つ折り線は、前記製品長手方向において、前記仮想製品中心線よりも後側に設けられる、請求項１から請求項４のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項１０】
前記レッグ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記前胴回り域側の端部は、前記クロッチ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記前胴回り域側の端部よりも、前記使い捨ておむつの前記前胴回り域側の端部に近接するように構成されており、
前記レッグ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記後胴回り域側の端部は、前記クロッチ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記後胴回り域側の端部よりも、前記使い捨ておむつの前記後胴回り域側の端部に近接するように構成されており、
前記クロッチ伸縮部の引張係数は、前記レッグ伸縮部の引張係数よりも大きくなるように構成されている、請求項１から請求項４のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−３７８０７号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
また、クロッチ伸縮部200の製品長手方向Ｌにおける収縮量は、使い捨ておむつ１０の製品長手方向Ｌにおける長さの２％以上８％以下となるように構成されていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月25日(2016.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前胴回り域と、後胴回り域と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域とを有し、
前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向と、前記製品長手方向と直交する製品幅方向と、を有し、
前記股下域を跨ぎ、かつ前記前胴回り域と前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体と、
前記前胴回り域、前記股下域、及び前記後胴回り域を跨ぎ、かつ前記吸収体よりも前記製品幅方向外側に配置されるサイドフラップと、
前記サイドフラップの前記後胴回り域から前記製品幅方向外側に延出し、前記前胴回り域に止着する一対のファスニングテープと、を備えており、
前記ファスニングテープは、
前記サイドフラップに接合された基材シートと、前記前胴回り域に係合する複数の係合突起が設けられ、かつ前記基材シートに接合されたフックシートと、を備え、
前記基材シートと前記フックシートが接合された複数の接合部と、前記基材シートと前記フックシートが接合されていない前記複数の非接合部と、を有しており、
前記接合部と前記非接合部は、前記製品幅方向と前記製品長手方向の一方である第１方向に沿って延びており、かつ前記製品幅方向と前記製品長手方向の他方である第２方向において交互に配置されている、使い捨ておむつ。
【請求項２】
前記フックシートの前記第２方向の両端部には、前記非接合部が設けられており、
前記フックシートの前記第２方向の両端部に位置する非接合部に隣接する各接合部の前記第２方向の長さは、当該両端部に位置する各非接合部の前記第２方向の長さよりも長い、請求項１に記載の使い捨ておむつ。
【請求項３】
前記各接合部の前記第２方向の長さは、２ｍｍ以上、１０ｍｍ以下であり、
前記各非接合部の前記第２方向の長さは、１ｍｍ以上、５ｍｍ以下である、請求項１又は請求項２に記載の使い捨ておむつ。
【請求項４】
前記ファスニングテープの係合力は、0.3N/30mm以上、1.5N/30mm以下である、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項５】
前記第１方向は、前記製品幅方向であって、
前記複数の接合部のうち最も製品幅方向内側に位置する第１接合部の前記製品幅方向の長さは、前記第１接合部よりも製品幅方向外側に位置する第２接合部の前記製品幅方向の長さよりも長い、請求項１に記載の使い捨ておむつ。
【請求項６】
前記基材シートは、前記フックシートよりも前記製品幅方向外側に延出する先端部を有しており、
前記フックシートは、前記フックシートの前記製品幅方向の内側端部における前記製品長手方向の外側端部と前記先端部の前記製品幅方向の内側端部における前記製品長手方向の外側端部との中間点よりも前記製品長手方向外側に延出している、請求項１から請求項５のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項７】
前記基材シートは、前記フックシートよりも前記製品幅方向外側に延出する先端部を有しており、
前記フックシートと前記先端部との境界における前記製品長手方向の長さは、前記基材シートの前記製品長手方向の内側端部と前記フックシートの前記製品長手方向の内側端部との前記製品長手方向における距離の２倍よりも大きい、請求項１から請求項５のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本開示に係る使い捨ておむつは、前胴回り域（前胴回り域20）と、後胴回り域（後胴回り域30）と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域（股下域25）とを有し、前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向（製品長手方向L）と、前記製品長手方向と直交する製品幅方向（製品幅方向W）と、を有し、前記股下域を跨ぎ、かつ前記前胴回り域と前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体（吸収体40）と、前記前胴回り域、前記股下域、及び前記後胴回り域を跨ぎ、かつ前記吸収体よりも前記製品幅方向外側に配置されるサイドフラップ（サイドフラップ70）と、前記サイドフラップの前記後胴回り域から製品幅方向外側に延出し、前記前胴回り域に止着する一対のファスニングテープ（ファスニングテープ90）と、を備えており、前記ファスニングテープは、前記サイドフラップに接合された基材シートと、前記前胴回り域に係合する複数の係合突起が設けられ、かつ前記基材シートに接合されたフックシート（フックシート92）と、を備え、前記基材シートと前記フックシートが接合された複数の接合部（接合部94a）と、前記基材シートと前記フックシートが接合されていない前記複数の非接合部（非接合部94b）と、を有しており、前記接合部と前記非接合部は、前記製品幅方向と前記製品長手方向の一方である第１方向に沿って延びており、かつ前記製品幅方向と前記製品長手方向の他方である第２方向において交互に配置されていることを要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月25日(2016.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前胴回り域と、後胴回り域と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域と、
前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向と、
前記製品長手方向と直交する製品幅方向と、
一対の脚回り開口部と、
前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域及び前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体と、
前記前胴回り域及び前記後胴回り域において、前記製品幅方向に沿って延び、使い捨ておむつを着用者の身体に保持する胴回り保持部と、
前記脚回り開口部に沿って、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域から前記後胴回り域まで延びるように形成されているレッグ伸縮部と、
前記股下域において前記吸収体を構成する吸収性コアと重なる位置に配置され、前記製品長手方向または前記製品幅方向に伸縮可能な伸縮性部材が配置されたクロッチ伸縮部と、
前記レッグ伸縮部よりも前記製品幅方向内側に配置され、かつ前記製品長手方向に伸縮するレッグサイド伸縮部と、を備え、
前記クロッチ伸縮部は、前記胴回り保持部及び前記レッグ伸縮部と離間して設けられており、
前記レッグサイド伸縮部は、
前記製品長手方向に伸縮するサイド弾性部材によって収縮する収縮部と、
前記収縮部よりも前記製品幅方向外側に設けられ、かつ前記レッグ伸縮部と前記クロッチ伸縮部との間に位置する中間領域において、前記レッグサイド伸縮部よりも非肌当接面側に位置する裏面側部材に接合された第１接合部分と、
前記収縮部よりも前記製品長手方向の両外側に設けられ、前記裏面側部材に接合された第２接合部分と、を有し、
前記中間領域は、前記クロッチ伸縮部よりも伸縮率が低く、かつ前記レッグ伸縮部よりも伸縮率が低い、使い捨ておむつ。
【請求項２】
前記吸収性コアは、前記製品長手方向の中央に位置する中央部と、前記中央部よりも前記製品長手方向外側に位置し、前記製品幅方向の長さが前記中央部の前記製品幅方向の長さよりも長い幅広部と、を有し、
前記第１接合部分は、前記中央部よりも前記製品幅方向外側に配置されており、
前記第２接合部分は、前記幅広部の肌当接面側に配置されている、請求項１に記載の使い捨ておむつ。
【請求項３】
前記吸収性コアの前記中央部における前記製品幅方向外側端部と、前記吸収性コアの前記幅広部における前記製品幅方向外側端部と、の距離は、１５ｍｍ以上である、請求項２に記載の使い捨ておむつ。
【請求項４】
前記クロッチ伸縮部の前記製品長手方向における収縮量は、前記使い捨ておむつの前記製品長手方向における長さの２％以上８％以下である、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項５】
前記レッグ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記前胴回り域側の端部は、前記クロッチ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記前胴回り域側の端部よりも、前記使い捨ておむつの前記前胴回り域側の端部に近接するように構成されており、
前記レッグ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記後胴回り域側の端部は、前記クロッチ伸縮部において伸縮可能な範囲の前記後胴回り域側の端部よりも、前記使い捨ておむつの前記後胴回り域側の端部に近接するように構成されており、
前記クロッチ伸縮部の引張係数は、前記レッグ伸縮部の引張係数よりも大きくなるように構成されている、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項６】
前記クロッチ伸縮部の伸長率は、１．２倍以上、１．８倍以下である、請求項１から請求項３のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【請求項７】
前記クロッチ伸縮部は、前記股下域において前記吸収体の前記製品幅方向の中心に対する前記製品幅方向両外側にそれぞれ配置されている、請求項１から請求項６のいずれかに記載の使い捨ておむつ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本開示に係る使い捨ておむつは、前胴回り域（前胴回り域20）と、後胴回り域（後胴回り域30）と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に位置する股下域（股下域25）と、前記前胴回り域から前記後胴回り域に向かう製品長手方向（製品長手方向L）と、前記製品長手方向と直交する製品幅方向（製品幅方向W）と、一対の脚回り開口部（脚回り開口部35）と、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域及び前記後胴回り域の少なくとも一方に延びる吸収体（吸収体40）と、前記前胴回り域及び前記後胴回り域において、前記製品幅方向に沿って延び、使い捨ておむつを着用者の身体に保持する胴回り保持部と、前記脚回り開口部に沿って、前記股下域を跨ぎ前記前胴回り域から前記後胴回り域まで延びるように形成されているレッグ伸縮部（レッグ伸縮部75）と、前記股下域において前記吸収体を構成する吸収性コアと重なる位置に配置され、前記製品長手方向または前記製品幅方向に伸縮可能な伸縮性部材が配置されたクロッチ伸縮部（クロッチ伸縮部200）と、前記レッグ伸縮部よりも前記製品幅方向内側に配置され、かつ前記製品長手方向に伸縮するレッグサイド伸縮部（レッグサイド伸縮部80）と、を備え、前記クロッチ伸縮部は、前記胴回り保持部及び前記レッグ伸縮部と離間して設けられており、前記レッグサイド伸縮部は、前記製品長手方向に伸縮するサイド弾性部材（サイド弾性部材71）によって収縮する収縮部（収縮部84）と、前記収縮部よりも前記製品幅方向外側に設けられ、かつ前記レッグ伸縮部と前記クロッチ伸縮部との間に位置する中間領域において、前記レッグサイド伸縮部よりも非肌当接面側に位置する裏面側部材に接合された第１接合部分（第１接合部分81A）と、前記収縮部よりも前記製品長手方向の両外側に設けられ、前記裏面側部材に接合された第２接合部分（第２接合部分81B）と、を有し、前記第１接合部分は、前記レッグ伸縮部と前記クロッチ伸縮部との間に位置する中間領域において、前記裏面側部材に接合されており、前記中間領域は、前記クロッチ伸縮部よりも伸縮率が低く、かつ前記レッグ伸縮部よりも伸縮率が低いことを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【図１】本実施形態に係る使い捨ておむつの展開平面図である。
【図２】図１に示したF1-F1線に沿った使い捨ておむつの断面図である。
【図３】図１に示したF2-F2線に沿った使い捨ておむつの断面図である。
【図４】図１に使い捨ておむつの装着状態を示す断面図である。
【図５】変形例に係る使い捨ておむつの展開平面図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５１】
吸収性コアの中央部41における製品幅方向外側端部と、吸収性コアの幅広部42における製品幅方向外側端部と、の距離W43（図１参照）は、１５ｍｍ以上である。距離W43は、中央部41において最も幅が狭い部分における製品幅方向外側端部と、幅広部42において最も幅が広い部分における製品幅方向外側端部と、の距離である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月17日(2016.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動物の毛包から採取された組織に由来するか、または動物の毛包から採取された角化細胞を三次元的に培養する培養工程を含む、三次元培養皮膚モデルの製造方法。
【請求項２】
ヒトの毛包から採取された組織に由来するか、またはヒトの毛包から採取された角化細胞を三次元的に培養する培養工程を含む、三次元培養皮膚モデルの製造方法。
【請求項３】
前記培養工程が、前記角化細胞を初期増殖する第１培養工程、および、前記第１培養工程において増殖された角化細胞を培養容器に播種し、前記培養容器内で培養する第２培養工程を含む、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記培養容器が細胞培養インサートであり、前記角化細胞および培養液を内部に含む前記細胞培養インサートを、さらに培養液中に浸漬させた状態で前記第２培養工程を行い、この際、前記細胞培養インサートの内部と外部とは培養液が透過可能なように連通している、請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記細胞培養インサートの内部における前記培養液の液面が、前記細胞培養インサートの外部における前記培養液の液面よりも高くなったときに、前記角化細胞がコンフルエントになったと判断して、培養工程を終了する、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記動物またはヒトが、生きている動物または生きているヒトである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された三次元培養モデルを用いることを特徴とする、前記動物またはヒトの皮膚の化学物質に対する反応性の評価方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された三次元培養モデルを用いることを特徴とする、工業製品、家庭用品、薬剤、皮膚外用剤または化粧料に使用するための被験物質の評価またはスクリーニング方法。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された三次元培養モデルを用いることを特徴とする、前記動物またはヒトの皮膚の表皮バリア機能の評価方法。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された三次元培養モデルを用いることを特徴とする、前記動物またはヒトの皮膚の疾患または障害に関連した遺伝子異常の同定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の一形態は、動物の毛包から採取された組織に由来するか、または動物の毛包から採取された角化細胞を三次元的に培養する培養工程を含む、三次元培養皮膚モデルの製造方法が提供される。また、本発明の他の形態によれば、ヒトの毛包から採取された組織に由来するか、またはヒトの毛包から採取された角化細胞を三次元的に培養する培養工程を含む、三次元培養皮膚モデルの製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを有し、複数の画素が配列された撮像領域と、電極領域とを含む固体撮像装置であって、
前記第２面の側から前記第１面の側に向かって順に、
絶縁性の部材および前記絶縁性の部材の中に設けられた配線パターンを含む第１部分と、
前記撮像領域において前記複数の画素に対応して設けられた複数の光電変換部を含む第２部分と、
前記撮像領域において前記複数の画素に対応して設けられた複数のマイクロレンズを含む第３部分と、を具備し、
前記電極領域には、前記配線パターンが露出するように前記第１面の側に開口が設けられており、
前記固体撮像装置は、
前記撮像領域において前記複数のマイクロレンズを覆うように、かつ、前記開口の側面を覆わないように設けられた第１の膜と、
前記撮像領域において前記第１の膜を覆いつつ、前記電極領域において前記開口の前記側面を覆って前記配線パターンの少なくとも一部を露出させるように設けられた第２の膜と、を備えている、
ことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記電極領域において、前記配線パターンの前記少なくとも一部に接触するように前記開口に設けられた電極をさらに備えている
ことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記第１の膜と、前記第２の膜のうち前記第１の膜を覆う部分とは、前記複数のマイクロレンズを覆う反射防止膜を形成している、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記第１の膜は、前記第２の膜よりも屈折率が大きい、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記第１の膜は窒化シリコンで構成されており、前記第２の膜は酸化シリコンで構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記第１の膜および前記第２の膜は、酸化シリコン、窒化シリコンおよび酸窒化シリコンのうちの少なくとも１つによって構成されている、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記第２面と前記第１部分との間に設けられた基材をさらに具備し、
前記基材は、前記第２部分よりも厚さが大きい、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記第１の膜と、前記第２の膜のうち前記第１の膜を覆う部分とは、前記複数のマイクロレンズを覆う反射防止膜を形成しており、
前記第２の膜の他の部分は、前記開口の前記側面を覆っており、前記開口の前記側面のためのパッシベーション膜として機能する
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記第２の膜は、前記開口において、前記第２部分における半導体領域であって前記複数の光電変換部が配された半導体領域に接触している
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記第１の膜は、前記開口の前記側面と同一面上に側面を有する
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【請求項１２】
第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを有し、複数の画素が配列された撮像領域と、電極領域とを含む固体撮像装置の製造方法であって、
前記固体撮像装置は、前記第２面の側から前記第１面の側に向かって順に、絶縁性の部材および前記絶縁性の部材の中に設けられた配線パターンを含む第１部分と、前記撮像領域において前記複数の画素に対応して設けられた複数の光電変換部を含む第２部分と、前記撮像領域において前記複数の画素に対応して設けられた複数のマイクロレンズを含む第３部分と、を具備し、
前記固体撮像装置の製造方法は、
前記撮像領域において前記複数のマイクロレンズを覆うように第１の膜を形成する工程と、
前記第１の膜の一部を除去して、前記電極領域において前記配線パターンが露出するように前記第１面の側に開口を形成する工程と、
前記撮像領域において残存している前記第１の膜の他の部分を覆いつつ、前記電極領域において前記開口の側面を覆って前記配線パターンの少なくとも一部が露出するように第２の膜を形成する工程と、を含む、
ことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一つの側面は固体撮像装置にかかり、前記固体撮像装置は、第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを有し、複数の画素が配列された撮像領域と、電極領域とを含む固体撮像装置であって、前記第２面の側から前記第１面の側に向かって順に、絶縁性の部材および前記絶縁性の部材の中に設けられた配線パターンを含む第１部分と、前記撮像領域において前記複数の画素に対応して設けられた複数の光電変換部を含む第２部分と、前記撮像領域において前記複数の画素に対応して設けられた複数のマイクロレンズを含む第３部分と、を具備し、前記電極領域には、前記配線パターンが露出するように前記第１面の側に開口が設けられており、前記固体撮像装置は、前記撮像領域において前記複数のマイクロレンズを覆うように、かつ、前記開口の側面を覆わないように設けられた第１の膜と、前記撮像領域において前記第１の膜を覆いつつ、前記電極領域において前記開口の前記側面を覆って前記配線パターンの少なくとも一部を露出させるように設けられた第２の膜と、を備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月4日(2016.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造方法であって、
第１面および第２面を有する半導体基板を用意する工程と、
前記第１面の上に配された、第１開口を有するマスクを使用して前記半導体基板をエッチングすることによって、前記半導体基板に第１溝を形成する工程と、
前記第１溝を形成する工程の後に、前記第１面の上に配された、第２開口を有するマスクを使用して前記半導体基板をエッチングすることによって、前記半導体基板に第２溝を形成する工程と、
を含み、
前記第２溝を形成する工程では、前記第２開口が前記第１溝の上に位置し、前記第１面に沿った方向における前記第２開口の幅が前記方向における前記第１開口の幅よりも大きく、
前記第２溝は前記第１溝よりも前記第１面に対して浅く形成される、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第２溝の中に絶縁体を充填する工程と、
前記絶縁体で取り囲まれた半導体素子を形成する工程と、を更に含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１開口の上に第３開口を有するマスクを、前記第１開口を有する前記マスクの上に形成し、
前記第３開口を有する前記マスクを使用して前記第１開口を有する前記マスクのうち前記第３開口に露出している部分を除去して前記第２開口を形成する、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第３開口に露出している前記部分の除去は前記第１溝の形成における前記半導体基板のエッチングとともに行われる、
ことを特徴とする請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２溝を通して前記半導体基板における前記第２溝と前記第２面との間に位置する領域にイオンを注入する工程を更に含む、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２溝を形成する工程の後に、
前記半導体基板の中に半導体領域を形成する工程と、
前記半導体基板を前記第２面の側から薄化する工程と、を更に含み、
前記半導体基板を薄化する工程は、前記半導体基板の前記第１面とは反対側の面に前記半導体領域が露出するようになされる、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記半導体基板を前記第２面の側から薄化する工程を更に含み、
前記半導体基板を薄化する工程は、前記半導体基板の前記第１面とは反対側の面に前記第１溝が露出するようになされる、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記半導体基板を前記第２面の側から薄化する工程を更に含み、
前記半導体基板を薄化する工程は、前記半導体基板の前記第１面とは反対側の面に前記第１溝が露出しないようになされる、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記半導体基板を薄化する工程の後に、前記半導体基板の前記第１面とは反対側の前記面の上に膜を形成する工程を更に含み、前記膜を形成する工程の後に前記第１溝の中に空間が残る、
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１面と前記第２面との間に、光電変換部を形成する工程を更に含む、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
第１面および第２面を有する半導体基板と、
前記半導体基板に対して前記第１面の側に配置された配線構造と、
前記半導体基板に設けられ、前記第１面に沿った方向において第１の幅を有する部分と、前記第１の幅を有する前記部分よりも前記第２面の側に位置し、前記第１の幅よりも小さい第２の幅を有する部分と、を有する溝と、
前記溝の前記第１の幅を有する前記部分の中に配置された絶縁体と、
前記半導体基板に配置された光電変換部と、を備え、
前記光電変換部は第１導電型の第１半導体領域と、前記第１半導体領域と前記第１面との間に位置し前記第１導電型とは反対の第２導電型の第２半導体領域と、前記第１半導体領域と前記第２面との間に位置する前記第２導電型の第３半導体領域と、を有し、
前記第１半導体領域は、前記第１面に垂直な方向において、前記絶縁体と前記第２面との間に位置する部分を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
前記第２の幅を有する前記部分の中には空間が設けられている、
ことを特徴とする請求項１１に記載の半導体装置。
【請求項１３】
前記絶縁体と前記第１半導体領域との間には前記第２導電型の第４半導体領域が配置されている、
ことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の半導体装置。
【請求項１４】
前記半導体基板には、
前記光電変換部で発生した電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、
前記フローティングディフュージョンの電位をリセットする、あるいは、前記フローティングディフュージョンの電位に応じた信号を出力するトランジスタと、が配置されており、
前記フローティングディフュージョンと前記トランジスタとの間に前記溝が位置している、
ことを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項１５】
前記半導体基板に対して前記第２面の側に配置されたマイクロレンズ層を更に備える、
ことを特徴とする請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項１６】
請求項１１乃至１５のいずれか１項に記載の半導体装置と、
前記半導体装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の１つの側面は、半導体装置の製造方法に係り、前記製造方法は、第１面および第２面を有する半導体基板を用意する工程と、前記第１面の上に配された、第１開口を有するマスクを使用して前記半導体基板をエッチングすることによって、前記半導体基板に第１溝を形成する工程と、前記第１溝を形成する工程の後に、前記第１面の上に配された、第２開口を有するマスクを使用して前記半導体基板をエッチングすることによって、前記半導体基板に第２溝を形成する工程と、を含み、前記第２溝を形成する工程では、前記第２開口が前記第１溝の上に位置し、前記第１面に沿った方向における前記第２開口の幅が前記方向における前記第１開口の幅よりも大きく、前記第２溝は前記第１溝よりも前記第１面に対して浅く形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月3日(2016.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）半導体基板を用意する工程、
（ｂ）前記半導体基板上に、第１ＭＩＳＦＥＴ用の第１ゲート電極と第２ＭＩＳＦＥＴ用のダミーゲート電極とを形成する工程、
（ｃ）前記第１ゲート電極上に部分的に第１膜を形成する工程、
（ｄ）前記半導体基板上に、前記第１ゲート電極、前記ダミーゲート電極および前記第１膜を覆うように、絶縁膜を形成する工程、
（ｅ）前記絶縁膜を研磨することにより、前記ダミーゲート電極を露出させる工程、
（ｆ）前記（ｅ）工程後、前記ダミーゲート電極を除去する工程、
（ｇ）前記（ｆ）工程で前記ダミーゲート電極が除去された領域である溝を埋めるように、前記絶縁膜上に導電膜を形成する工程、
（ｈ）前記導電膜を研磨することにより、前記溝の外部の前記導電膜を除去し、前記溝内に前記導電膜を残すことで、前記第２ＭＩＳＦＥＴ用の第２ゲート電極を形成する工程、
を有し、
前記（ｅ）工程では、前記絶縁膜の研磨速度よりも前記第１膜の研磨速度が小さくなる条件で前記絶縁膜を研磨する、半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１ゲート電極のゲート長方向の寸法は、前記ダミーゲート電極のゲート長方向の寸法よりも大きい、半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１ゲート電極の面積は、前記ダミーゲート電極の面積よりも大きい、半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、
前記第２ゲート電極はメタルゲート電極である、半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｃ）工程では、前記ダミーゲート電極上には前記第１膜は形成されない、半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｆ）工程では、前記第１ゲート電極は除去しない、半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１ゲート電極および前記ダミーゲート電極は、同層のシリコン膜により形成される、半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１膜は、絶縁材料からなる、半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｆ）工程後で、前記（ｇ）工程前に、
（ｆ１）前記溝の底部および側壁上を含む前記絶縁膜上に、高誘電率絶縁膜を形成する工程、
を含み、
前記（ｇ）工程では、前記溝を埋めるように、前記高誘電率絶縁膜上に前記導電膜を形成し、
前記（ｈ）工程では、前記導電膜および前記高誘電率絶縁膜を研磨することにより、前記溝の外部の前記導電膜および前記高誘電率絶縁膜を除去し、前記溝内に前記導電膜および前記高誘電率絶縁膜を残す、半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｄ）工程で形成された前記絶縁膜は、窒化シリコン膜と前記窒化シリコン膜上の酸化シリコン膜との積層膜からなり、
前記（ｅ）工程では、前記酸化シリコン膜よりも前記第１膜が研磨されにくい条件で前記絶縁膜を研磨する、半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｃ）工程で形成された前記第１膜は、窒化シリコンからなり、
前記（ｅ）工程は、酸化シリコンよりも窒化シリコンが研磨されにくい条件で前記絶縁膜を研磨する、半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｂ）工程では、前記半導体基板上に、前記第１ゲート電極と前記第１ゲート電極上の第１キャップ絶縁膜との第１積層体と、前記ダミーゲート電極と前記ダミーゲート電極上の第２キャップ絶縁膜との第２積層体とが形成され、
前記（ｃ）工程では、前記第１積層体上に、部分的に前記第１膜が形成され、
前記（ｄ）工程では、前記半導体基板上に、前記第１積層体、前記第２積層体および前記第１膜を覆うように、前記絶縁膜が形成され、
前記（ｅ）工程では、前記絶縁膜および前記第２キャップ絶縁膜が研磨されることにより、前記ダミーゲート電極が露出される、半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｂ）工程では、前記半導体基板上に、第３ＭＩＳＦＥＴ用の第３ゲート電極も形成され、
前記（ｃ）工程では、前記ダミーゲート電極および前記第３ゲート電極上には前記第１膜は形成されず、
前記（ｄ）工程では、前記半導体基板上に、前記第１ゲート電極、前記ダミーゲート電極、前記第３ゲート電極および前記第１膜を覆うように、前記絶縁膜を形成し、
前記第３ゲート電極のゲート長方向の寸法は、前記第１ゲート電極のゲート長方向の寸法よりも小さい、半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１ゲート電極と前記ダミーゲート電極と前記第３ゲート電極とは、同層のシリコン膜により形成され、
前記（ｅ）工程では、前記第３ゲート電極も露出される、半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｂ）工程後で、前記（ｃ）工程前に、
（ｂ１）前記半導体基板に、前記第１ＭＩＳＦＥＴ用の第１ソース・ドレイン領域と、前記第２ＭＩＳＦＥＴ用の第２ソース・ドレイン領域とを形成する工程、
を更に有する、半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｃ）工程後で、前記（ｄ）工程前に、
（ｃ１）前記第１ソース・ドレイン領域上と前記第２ソース・ドレイン領域上とに、金属シリサイド層を形成する工程、
を更に有する、半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｃ）工程では、前記第２ソース・ドレイン領域の一部上にも前記第１膜が形成され、
前記（ｃ１）工程では、前記第１膜が形成された部分の前記第２ソース・ドレイン領域上には前記金属シリサイド層は形成されない、半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月25日(2015.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１絶縁層上に形成された第１配線層と、
前記第１絶縁層上に積層され、前記第１配線層を被覆し、フィラーを含有する第２絶縁層と、
前記第２絶縁層上に積層され、フィラーを含有していない第３絶縁層と、
前記第２絶縁層及び前記第３絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通電極と、
前記第３絶縁層上に積層され、前記貫通電極を介して前記第１配線層と電気的に接続された第２配線層と、を有し、
前記第３絶縁層の上面と前記貫通電極の上面は研磨面であることを特徴とする配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
第１絶縁層上に第１配線層を形成する工程と、
前記第１絶縁層上に、前記第１配線層を被覆し、フィラーを含有する第２絶縁層を積層するとともに、前記第２絶縁層上に、フィラーを含有していない第３絶縁層を積層する工程と、
前記第２絶縁層に、前記第１配線層の一部を露出する第１貫通孔を形成するとともに、前記第３絶縁層に、前記第１貫通孔と連通する第２貫通孔を形成する工程と、
前記第１貫通孔内及び前記第２貫通孔内に導電層を形成する工程と、
前記第３絶縁層をストッパ層として前記第３絶縁層の上面から突出した前記導電層を研磨し、前記第１貫通孔内及び前記第２貫通孔内に貫通電極を形成する工程と、
前記第３絶縁層上に、前記貫通電極を介して前記第１配線層と電気的に接続される第２配線層を形成する工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一観点によれば、第１絶縁層上に形成された第１配線層と、前記第１絶縁層上に積層され、前記第１配線層を被覆し、フィラーを含有する第２絶縁層と、前記第２絶縁層上に積層され、フィラーを含有していない第３絶縁層と、前記第２絶縁層及び前記第３絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通電極と、前記第３絶縁層上に積層され、前記貫通電極を介して前記第１配線層と電気的に接続された第２配線層と、を有し、前記第３絶縁層の上面と前記貫通電極の上面は研磨面である。