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【手続補正書】
【提出日】平成28年7月29日(2016.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１絶縁層と、
前記複数の第１絶縁層のうち、最上層の第１絶縁層の上面に積層された複数の第２絶縁層と、を有し、
前記複数の第１絶縁層間には第１配線層が形成され、
前記最上層の第１絶縁層の上面及び前記複数の第２絶縁層間には第２配線層が形成され、
前記複数の第１絶縁層は非感光性樹脂からなり、
前記複数の第２絶縁層は感光性樹脂からなり、
前記複数の第１絶縁層にはビアホールに金属が充填された第１ビア配線が埋設され、
前記複数の第２絶縁層にはビアホールに金属が充填された第２ビア配線が埋設され、
前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は、前記最上層の第１絶縁層の上面から露出し、前記複数の第２配線層うち、前記最上層の第１絶縁層の上面に形成された最下層の前記第２配線層と直接接合されており、
前記最上層の第１絶縁層の上面及び前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は研磨された面であり、
前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は、前記最上層の第１絶縁層の上面と面一であり、
前記複数の第２配線層は、前記第１配線層よりも配線密度が高く形成されている配線基板。
【請求項２】
前記第１ビア配線の一方の端面は、他方の端面よりも面積が小さく、
前記第１ビア配線の他方の端面は、前記最上層の第１絶縁層と前記最上層の第１絶縁層に隣接する他の第１絶縁層との間に形成された前記第１配線層と一体に形成されている請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記第１ビア配線の一方の端面は、他方の端面よりも面積が大きく、
前記第１ビア配線の他方の端面は、前記最上層の第１絶縁層と前記最上層の第１絶縁層に隣接する他の第１絶縁層との間に形成された前記第１配線層と直接接合されている請求項１記載の配線基板。
【請求項４】
前記最上層の第１絶縁層の上面は、前記第１配線層が形成された前記他の第１絶縁層の面よりも平坦面である請求項２又は３記載の配線基板。
【請求項５】
前記複数の第２配線層は、シード層上に電解めっき層を積層した構造であり、
前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は、前記最上層の第１絶縁層の上面に形成された最下層の第２配線層を構成する前記シード層と直接接合されている請求項１乃至４の何れか一項記載の配線基板。
【請求項６】
前記複数の第１絶縁層はフィラーを含有しており、
前記複数の第２絶縁層は、前記複数の第１絶縁層よりも少ない量のフィラーを含有しているか、又は、フィラーを含有していない請求項１乃至５の何れか一項記載の配線基板。
【請求項７】
前記複数の第２配線層のそれぞれの配線の厚さは、前記第１配線層の配線の厚さよりも薄く、
前記複数の第２絶縁層のそれぞれの絶縁層の厚さは、前記複数の第１絶縁層のそれぞれの絶縁層の厚さよりも薄い請求項１乃至６の何れか一項記載の配線基板。
【請求項８】
前記複数の第２配線層のそれぞれの配線幅及び配線間隔は、前記第１配線層の配線幅及び配線間隔よりも小さい請求項１乃至７の何れか一項記載の配線基板。
【請求項９】
支持体上に、非感光性樹脂からなる第１絶縁層を形成する工程と、
前記第１絶縁層に、前記第１絶縁層を貫通して前記支持体の表面を露出するビアホールを形成する工程と、
前記第１絶縁層に形成された前記ビアホールに金属を充填して第１ビア配線を形成すると共に、前記第１ビア配線から前記第１絶縁層上に延在する第１配線層を形成する工程と、
前記第１絶縁層上に、非感光性樹脂からなる他の第１絶縁層を、前記第１配線層を被覆するように積層する工程と、
前記支持体を除去し、前記支持体と接していた前記第１絶縁層の一方の面及び前記第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面を露出する工程と、
前記第１絶縁層の一方の面及び前記第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面を研磨し、前記第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面と、前記第１絶縁層の一方の面とを面一とする工程と、
前記第１絶縁層の一方の面に、前記第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面と直接接合された第２配線層を形成する工程と、
前記第１絶縁層の一方の面に、感光性樹脂からなる第２絶縁層を、前記第２配線層を被覆するように積層する工程と、
前記第２絶縁層に、前記第２絶縁層を貫通して前記第２配線層の表面を露出するビアホールを形成する工程と、
前記第２絶縁層に形成された前記ビアホールに金属を充填して第２ビア配線を形成すると共に、前記第２ビア配線から前記第２絶縁層上に延在する他の第２配線層を形成する工程と、
前記第２絶縁層上に、感光性樹脂からなる他の第２絶縁層を、前記他の第２配線層を被覆するように積層する工程と、を有し、
前記第２配線層及び前記他の第２配線層は、前記第１配線層よりも配線密度が高く形成される配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】配線基板及びその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、配線基板及びその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本配線基板は、複数の第１絶縁層と、前記複数の第１絶縁層のうち、最上層の第１絶縁層の上面に積層された複数の第２絶縁層と、を有し、前記複数の第１絶縁層間には第１配線層が形成され、前記最上層の第１絶縁層の上面及び前記複数の第２絶縁層間には第２配線層が形成され、前記複数の第１絶縁層は非感光性樹脂からなり、前記複数の第２絶縁層は感光性樹脂からなり、前記複数の第１絶縁層にはビアホールに金属が充填された第１ビア配線が埋設され、前記複数の第２絶縁層にはビアホールに金属が充填された第２ビア配線が埋設され、前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は、前記最上層の第１絶縁層の上面から露出し、前記複数の第２配線層うち、前記最上層の第１絶縁層の上面に形成された最下層の前記第２配線層と直接接合されており、前記最上層の第１絶縁層の上面及び前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は研磨された面であり、前記最上層の第１絶縁層に埋設された前記第１ビア配線の一方の端面は、前記最上層の第１絶縁層の上面と面一であり、前記複数の第２配線層は、前記第１配線層よりも配線密度が高く形成されていることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月14日(2016.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
他方、ルーバー構造の異方性光学フィルム２０では、図１（ｂ）の透過光の様子を見ればわかるように、透過光は、略針状となっており、ＭＤ方向とＴＤ方向とで光拡散性が大きく異なる。すなわち、ルーバー構造の異方性光学フィルム２０では、拡散は異方性を有する。具体的には、図１に示す例では、ＭＤ方向ではピラー構造の場合よりも拡散が広がっているが、ＴＤ方向ではピラー構造の場合よりも拡散が狭まっている。また、図３の破線で示すように、入射光角度を変えると、（本形態の場合、ＴＤ方向において）光拡散性（特に、非拡散領域と拡散領域との境界付近における光学プロファイル）の変化が極めて急峻であるため、異方性光学フィルム２０を表示装置に適用した場合、輝度の急激な変化やギラツキとなって現れ、視認性を低下させるおそれがあった。加えて、ルーバー構造の異方性光学フィルムは光の干渉（虹）が生じやすい、という問題もある。しかしながら、異方性光学フィルム２０では、非拡散領域における直線透過率が高く、表示特性を向上させることができるという効果がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
（柱状領域１１３）
本形態に係る柱状領域１１３は、マトリックス領域１１１中に、複数の柱状の硬化領域として設けられており、各々の柱状領域１１３は、それぞれ配向方向が散乱中心軸と平行になるように形成されたものである。したがって、同一の異方性光拡散層１１０における複数の柱状領域１１３は、互いに平行となるように形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（柱状領域１２３）
本形態に係る柱状領域１２３は、マトリックス領域１２１中に、複数の柱状の硬化領域として設けられており、各々の柱状領域１２３は、それぞれ配向方向が散乱中心軸と平行になるように形成されたものである。したがって、同一の異方性光拡散層１２０における複数の柱状領域１２３は、互いに平行となるように形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
ラジカル重合性化合物は、主に分子中に１個以上の不飽和二重結合を含有するもので、具体的には、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、シリコーンアクリレート等の名称で呼ばれるアクリルオリゴマーと、２−エチルヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソノルボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキシフタル酸、ジシクロペンテニルアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のアクリレートモノマーが挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。なお、同様にメタクリレートも使用可能であるが、一般にはメタクリレートよりもアクリレートの方が光重合速度が速いので好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月24日(2016.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、結着樹脂（Ａ）と、着色剤（Ｂ）と、高分子分散剤（Ｃ）と、及びキャリア液（Ｄ）とからなる液体現像剤を複数有する液体現像剤セットであって、
少なくとも、着色剤（Ｂ）が、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５であるイエロー液体現像剤と、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６、１４７、１５０、２６９、およびＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９からなる群より選択されるマゼンタ液体現像剤とを含むことを特徴とする液体現像剤セット。
【請求項２】
結着樹脂（Ａ）の着色剤（Ｂ）に対する質量比率［結着樹脂（Ａ）／着色剤（Ｂ）］が、２．６〜１２であることを特徴とする請求項１記載の液体現像剤セット。
【請求項３】
着色剤（Ｂ）が、少なくとも、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１５０を含むことを特徴とする請求項１または２記載の液体現像剤セット。
【請求項４】
結着樹脂（Ａ）が、少なくとも、ポリエステル樹脂を含むことを特徴とする、請求項１〜３いずれか記載の液体現像剤セット。
【請求項５】
結着樹脂（Ａ）が、ポリエステル樹脂と、スチレン樹脂、アクリル樹脂、および、スチレン−アクリル共重合樹脂から選ばれる少なくとも１つとを含むことを特徴とする、請求項１〜４いずれか記載の液体現像剤セット。
【請求項６】
結着樹脂（Ａ）の軟化温度が、８０〜１４０℃であり、重量平均分子量Ｍｗが、２０００≦Ｍｗ≦１０００００であることを特徴とする請求項１〜５いずれかに記載の液体現像剤セット。
【請求項７】
高分子分散剤（Ｃ）が、少なくとも、アミノ基を有するエチレン性不飽和単量体と、炭素数９〜２４のアルキル基を含有するエチレン性不飽和単量体とを共重合してなり、アミン価が５〜１５０ｍｇＫＯＨ/ｇであることを特徴とする請求項１〜６いずれか記載の液体現像剤セット。
【請求項８】
高分子分散剤（Ｃ）が、少なくとも、下記一般式（１）のエチレン性不飽和単量体を共重合してなることを特徴とする請求項１〜７いずれか記載の液体現像剤セット。
一般式（１）
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯ（ＡＯ）ｎＲ2
（式中、Ｒ1はＨまたはＣＨ3、Ｒ2は水素または炭素数が１〜２２の炭化水素基、ｎは１〜２００の整数、Ａは炭素数が２〜４のアルキレン基を表す。）
【請求項９】
高分子分散剤（Ｃ）の重量平均分子量Ｍｗが、５００≦Ｍｗ≦４００００であることを特徴とする請求項１〜８いずれか記載の液体現像剤セット。
【請求項１０】
キャリア液（Ｄ）が、脂肪族系炭化水素であることを特徴とする請求項１〜９いずれか記載の液体現像剤セット。
【請求項１１】
請求項１〜１０いずれかに記載の液体現像剤セットを用いて印刷してなる印刷物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明は、結着樹脂（Ａ）と、着色剤（Ｂ）と、高分子分散剤（Ｃ）と、及びキャリア液（Ｄ）とからなる液体現像剤を複数有する液体現像剤セットであって、
少なくとも、着色剤（Ｂ）が、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５であるイエロー液体現像剤と、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６、１４７、１５０、２６９、およびＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９からなる群より選択されるマゼンタ液体現像剤とを含むことを特徴とする液体現像剤セット。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明は、結着樹脂（Ａ）が、ポリエステル樹脂と、スチレン樹脂、アクリル樹脂、および、スチレン−アクリル共重合樹脂から選ばれる少なくとも１つとを含むことを特徴とする、上記液体現像剤セットに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月28日(2016.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を有する光学フィルムの製造方法であって、
配向能を付与した配向膜上の一部の領域に溶媒を塗布して、前記一部の領域の配向能を消失させる溶媒塗布工程と、
前記配向膜上に液晶材料を含む液晶性組成物を塗布し、加熱により前記液晶材料を配向させた後、配向を固定して前記液晶層を形成する液晶層形成工程と、
を含む光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記液晶材料がコレステリック液晶を含む、請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記配向膜の前記配向能がラビングにより付与されたものである、請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記配向膜がポリビニルアルコールを含み、且つ、前記溶媒が水を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
液晶層を有する光学フィルムであって、
前記液晶層の一部の領域の液晶材料と他の領域の液晶材料とは同一の材料であり、且つ、前記一部の領域の液晶材料と前記他の領域の液晶材料とは配向状態が異なる、光学フィルム。
【請求項６】
前記一部の領域の液晶材料と前記他の領域の液晶材料との配向状態が異なることで前記液晶層に図柄が形成された、請求項５記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記液晶材料がコレステリック液晶を含む、請求項５又は６記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記液晶層の一方の面上に透光性保護フィルムを更に有する、請求項５〜７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記液晶層の前記透光性保護フィルムとは反対側の面上に粘着剤又はホットメルト剤を更に有する、請求項８に記載の光学フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学フィルムの製造方法及び光学フィルム
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月10日(2016.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性多孔質基材の少なくとも片面に、微多孔層が形成された、高分子電解質型電池に用いるガス拡散電極の製造方法であって、導電性多孔質基材に、撥水材および分散媒を含む撥水材ディスパージョンで撥水処理を施す工程（ａ）、および導電性多孔質基材に、導電性微粒子、撥水性樹脂および分散媒が混練された微多孔層塗液を塗布する工程（ｂ）を、順不同で連続的に行ったのち、撥水材ディスパージョンおよび微多孔層塗液を一括して乾燥する工程（ｃ）を行う、ガス拡散電極の製造方法。
【請求項２】
前記工程（ａ）の前に、長尺に巻かれた導電性多孔質基材巻回体から導電性多孔質基材を巻きだす工程（Ａ）、前記工程（ｃ）の後に、ガス拡散電極を巻き取る工程（Ｂ）を有する、請求項1に記載のガス拡散電極の製造方法。
【請求項３】
前記工程（ｃ）のあとに、撥水材ディパージョンに含有される撥水材および微多孔層塗液に含有される撥水性樹脂を溶融してそれぞれ導電性多孔質基材、導電性微粒子に結着させる工程（ｄ）を有する、請求項１または２に記載のガス拡散電極の製造方法。
【請求項４】
工程(a)において撥水処理を施す際の導電性多孔質基材の面と、工程(b)において塗布する際の導電性多孔質基材の面とが、互いに異なる、請求項１〜３のいずれかに記載のガス拡散電極の製造方法。
【請求項５】
導電性多孔質基材の少なくとも片面に微多孔層が形成された、高分子電解質型燃料電池に用いるガス拡散電極基材の製造装置であって、ロール状に巻いた長尺の導電性多孔質基材を巻き出すための巻き出し機を備えるとともに、撥水材および分散媒を含有する撥水材ディスパージョンで撥水処理するための第1のコーターと、導電性微粒子、撥水性樹脂および分散媒を含有する多孔層塗液を塗布するための第２のコーターを順不同で備え、撥水材ディスパージョンおよび微多孔層塗液が塗布された導電性多孔質基材から分散媒を一括して乾燥するための乾燥機、乾燥炉を経由して得られるガス拡散電極基材を巻き取るための巻き取り機を備える、ガス拡散電極基材の製造装置。
【請求項６】
乾燥機を経由した導電性多孔質基材をさらに熱処理し撥水性樹脂を焼結するための焼結炉を備える、請求項５に記載のガス拡散電極基材の製造装置。
【請求項７】
第１のコーターと第２のコーターが、導電性多孔質基材の通過面に対して互いに反対側に設置された、請求項５又は６に記載のガス拡散電極の製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月13日(2016.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化物塩と、前記フッ化物塩を溶解する溶媒とを含有し、
前記溶媒が、芳香族カチオンと、アニオンとを有する芳香族性材料を少なくとも含有し、
フッ化物イオンに対する前記芳香族カチオンのモル比が１より大きいことを特徴とするフッ化物イオン電池用電解液。
【請求項２】
前記芳香族性材料が、イオン液体であることを特徴とする請求項１に記載のフッ化物イオン電池用電解液。
【請求項３】
前記芳香族カチオンが、下記一般式で表されるカチオンであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフッ化物イオン電池用電解液。
【化１】
2015191797.tif 000001
前記一般式において、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に、水素、アルキル基またはフルオロアルキル基である。
【請求項４】
前記芳香族性材料の前記アニオンが、ビスフルオロスルホニルアミド（ＦＳＡ）アニオンであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のフッ化物イオン電池用電解液。
【請求項５】
前記電解液に存在する全アニオンに対するＦ（ＨＦ）ｘ−アニオンの割合が、０．５ｍｏｌ％以下であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載のフッ化物イオン電池。
【請求項６】
正極活物質層と、負極活物質層と、前記正極活物質層および前記負極活物質層の間に形成された電解質層とを有するフッ化物イオン電池であって、
前記電解質層が、請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載のフッ化物イオン電池用電解液を含有することを特徴とするフッ化物イオン電池。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月22日(2016.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信ノードと、この通信ノードにコマンドを提供して、前記通信ノードを制御するコマンド提供装置と、を含むコマンド提供システムにおいて、
前記通信ノードは、予め定めた第１の条件を満たしたとき、前記コマンド提供装置にイベント通知を送信し、
前記コマンド提供装置は、前記イベント通知を受信し、予め定めた第２の条件を満たしたとき、前記通信ノードに前記コマンドを送信し、
前記通信ノードは、前記コマンドを受信したとき、前記コマンドを設定することを特徴とするコマンド提供システム。
【請求項２】
請求項１に記載のコマンド提供システムであって、
前記第１の条件は、障害発生、設定変更または状態変化であることを特徴とするコマンド提供システム。
【請求項３】
請求項１に記載のコマンド提供システムであって、
前記第２の条件は、通知回数の閾値超または範囲内、もしくはスケジュールであることを特徴とするコマンド提供システム。
【請求項４】
通信ノードとネットワークを介して接続され、前記通信ノードにコマンドを提供して制御するコマンド提供装置であって、
コマンドを登録し、コマンド適用可否を動的に変更させるコマンド登録テーブルと、
イベントの種別、イベントの取得内容、イベントの通知元の通信ノード、通知方法を登録するイベント登録テーブルと、
事前に登録したイベント情報を基に通知回数を動的に変更するイベント通知テーブルと、
前記通信ノードからイベント通知を受信するイベント取得部と、
前記通信ノードへ、前記コマンドを送信するコマンド送信部と、
コマンド管理部と、
を備え、
前記コマンド管理部は、受信した前記イベント通知の数が予め定めた条件を満たすとき、前記コマンド送信部に前記コマンドの送信を指示することを特徴とするコマンド提供装置。
【請求項５】
請求項４に記載のコマンド提供装置であって、
前記コマンド送信部は、前記コマンド登録テーブルに保持された前記コマンドを前記通信ノードに送信することを特徴とするコマンド提供装置。
【請求項６】
請求項４に記載のコマンド提供装置であって、
前記コマンド管理部は、前記イベント通知テーブルに基づいて、前記コマンド送信部に前記コマンドの送信を指示することを特徴とするコマンド提供装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月10日(2016.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
台座の上に取り付けられる機器のための筐体であって、当該筐体が、
台座の周縁部に取り付けられる複数のモジュラ拡張ユニットであって、モジュラ拡張ユニットの各々が、台座の周縁部に取り付けられて台座の周縁部から外側に延在する下パネルと、下パネルに垂直に取り付けられた複数の外壁であって各々台座の周縁部から離れて配置された複数の外壁と、複数の外壁と結合した上パネルとを備える、複数のモジュラ拡張ユニットと、
複数のモジュラ拡張ユニットの各々の上パネルと結合した屋根と、
屋根と台座と複数のモジュラ拡張ユニットとによって形成され、機器を保持する大きさの室であって、台座及び複数のモジュラ拡張ユニットの水平上面によって画定される単一の床を有する室と
を備えており、室の水平断面積が台座の水平上面の面積よりも大きい、筐体。
【請求項２】
台座に取り付けられる骨組構造をさらに備え、複数の外壁は骨組構造に取り付けられる、請求項１記載の筐体。
【請求項３】
複数の外壁の１つがアクセスドアをさらに備える、請求項１又は請求項２記載の筐体。
【請求項４】
複数の外壁は、防音及び／又は断熱を筐体に提供する遮断パネルをさらに備える、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の筐体。
【請求項５】
台座を少なくとも部分的に取り囲む被覆をさらに備える、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の筐体。
【請求項６】
複数のモジュラ拡張ユニットが３つ以上のモジュラ拡張ユニットを備える、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の筐体。
【請求項７】
筐体内に入れられた機器であって、
台座の周縁部に取り付けられる複数のモジュラ拡張ユニットであって、モジュラ拡張ユニットの各々が、台座の周縁部に取り付けられて台座の周縁部から外側に延在する下パネルと、下パネルに垂直に取り付けられた複数の外壁であって各々台座の周縁部から離れて配置された複数の外壁と、複数の外壁と結合した上パネルとを備える、複数のモジュラ拡張ユニットと、
複数のモジュラ拡張ユニットの各々の上パネルと結合した屋根と、
屋根と台座と複数のモジュラ拡張ユニットとによって形成され、機器を保持する大きさの室であって、台座及び複数のモジュラ拡張ユニットの水平上面によって画定される単一の床を有する室と
を備えており、室の水平断面積が台座の水平上面の面積よりも大きい、筐体内に入れられた機器。
【請求項８】
台座に取り付けられる骨組構造をさらに備え、複数の外壁は骨組構造に取り付けられる、請求項７記載の筐体内に入れられた機器。
【請求項９】
複数の外壁の１つがアクセスドアをさらに備える、請求項７又は請求項８記載の筐体内に入れられた機器。
【請求項１０】
複数の外壁は、防音及び／又は断熱を筐体に提供する遮断パネルをさらに備える、請求項７乃至請求項９のいずれか１項記載の筐体内に入れられた機器。
【請求項１１】
台座を少なくとも部分的に取り囲む被覆をさらに備える、請求項７乃至請求項１０のいずれか１項記載の筐体内に入れられた機器。
【請求項１２】
複数のモジュラ拡張ユニットが３つ以上のモジュラ拡張ユニットを備える、請求項７乃至請求項１１のいずれか１項記載の筐体内に入れられた機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月23日(2016.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）混合容器に少なくとも１つのモノマーおよび少なくとも１つの分散剤を添加し；
ｂ）前記混合容器を加熱し；
ｃ）撹拌しながら少なくとも１つの顔料をゆっくり添加して均一な混合物を生成させ；
ｄ）混合しながら、少なくとも開始剤および熱安定剤および場合によっては均染剤を前記均一な混合物に添加して有色放射線硬化性液体インク組成物を生成させ；
ｅ）前記有色放射線硬化性インク組成物を室温前後に冷却し；
ｆ）前記有色放射線硬化性インク組成物を粉砕して組成物の粒径を約１μｍ未満に縮小させて、有色硬化性インク組成物を調製すること、を含む、有色硬化性液体インク組成物の調製方法。
【請求項２】
組成物の総重量に対して約１０重量％から約４０重量％の量、前記顔料が添加される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記インク組成物の粘度が、５ラジアン／ｓおよび２５℃で約１５，０００センチポイズから約１，０００，０００センチポイズの範囲内である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記混合容器が、タンク直径に対するインペラ直径が約０．５から約０．９であるアンカー翼を含み、場合によっては高せん断翼での混合が続く、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有色硬化性液体インク組成物の調製方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月10日(2016.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェットプリントヘッドを洗浄するための方法において、
少なくとも１種のセルラーゼ又はセルラーゼの触媒活性誘導体を含む第１の洗浄液を提供する工程と、
汚染又は閉塞されたインクジェットプリントヘッドを提供する工程と、
前記第１の洗浄液を使用して前記プリントヘッドを洗浄する工程とを含む方法。
【請求項２】
第２の洗浄液を提供し、前記第２の洗浄液を使用して前記プリントヘッドをすすぐ追加の工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の洗浄液を使用してすすぐ工程が、前記第１の洗浄液を使用して洗浄する工程の後に続くことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の洗浄液が、セルラーゼ又はセルラーゼの触媒活性誘導体を含有しないことを特徴とする、請求項２又は請求項３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記第１の洗浄液を使用して洗浄する工程が、５℃〜６０℃の範囲内の温度で実施されることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の洗浄液を使用して洗浄する工程が、４０℃〜５０℃の範囲内の温度で実施されることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の洗浄液が、前記第１の洗浄液を使用して前記プリントヘッドを洗浄した後に、前記プリントヘッドから除去されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１種のセルラーゼ又はセルラーゼの触媒活性誘導体が、前記第１の洗浄液が除去されるのと同時に、前記プリントヘッドから除去されることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の洗浄液を使用して前記プリントヘッドを洗浄した後、第３の洗浄液を提供し、前記第３の洗浄液を使用して前記プリントヘッドをすすぐ工程を含むことを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の洗浄液が、
−  少なくとも１種の界面活性剤と、
−  蒸留水と、
−  イソプロパノールと、
−  インクジェットプリントヘッドにおいて蓄積するインクと紙粉との混合物を溶解させるように構成された少なくとも１種のセルラーゼ又はセルラーゼの触媒活性誘導体と、を少なくとも含有することを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の洗浄液が、セルラーゼ又はセルラーゼの触媒活性誘導体以外にいかなる他の酵素も含まないことを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の洗浄液が、
洗浄液１００重量％に基づいて、
−  ５５重量％〜９５重量％の蒸留水と、
−  ３重量％〜３０重量％のイソプロパノールと、
−  １．９重量％〜１２重量％の界面活性剤と、
−  ０．１重量％〜３重量％のセルラーゼと、を含有することを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の洗浄液が、ｐＨ調整剤、緩衝剤、錯化剤、保存剤、乳化剤及び湿潤剤、及び追加の溶媒から選択される少なくとも１つの追加の添加剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の洗浄液を使用した洗浄の前又は後に、すすぐ工程がさらに実施されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月19日(2016.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の硬化可能化合物を含むインク組成物であって、前記インク組成物は、約０．４から約０．６２までの容量平均ハンセン分画分散力パラメータ（ｆｄ）、約０．１から約０．３までの容量平均ハンセン分画極性パラメータ（ｆｐ）、および約０．２から約０．４までの容量平均ハンセン分画水素結合パラメータ（ｆｈ）を有し、
前記複数の硬化可能化合物は、四官能性アクリラート化ポリエステルを含む、インク組成物。
【請求項２】
前記複数の硬化可能化合物は、ポリエチレングリコールジアクリラートを含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記複数の硬化可能化合物は、トリプロピレングリコールジアクリラートを含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記インク組成物は、さらに、約０．２ｗｔ％から約５ｗｔ％までのポリエーテル修飾アクリル官能性ポリジメチルシロキサンを含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記複数の硬化可能化合物は、前記インク組成物の総重量に対して、
約４０から約５５ｗｔ％までの四官能化アクリラート化ポリエステル、
約９から約１１ｗｔ％までのポリエチレングリコールジアクリラート、
及び０から約１１ｗｔ％までのトリプロピレングリコールジアクリラートを含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項６】
前記インク組成物は、さらに、０より大きく２０ｗｔ％までの脂肪族アクリラートエステルを含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項７】
前記インク組成物は、さらに、分散剤、増粘剤、光開始剤、及び安定剤からなる群から選択される少なくとも１つの添加剤を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項８】
前記インク組成物は、さらに、前記インク組成物の総重量に対して、
約２から約１０ｗｔ％までの分散剤、
約０．２から約５ｗｔ％までの増粘剤、
０から約１０ｗｔ％までの光開始剤、
及び約０．１から１ｗｔ％までの熱安定剤を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項９】
前記インク組成物は、２５℃で約５，０００から１，０００，０００センチポイズまでの粘度及び５秒−１のずり速度を有する、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項１０】
前記インク組成物は、約０．１から約０．６までの２５℃におけるずり減粘指数（５０／５）を有する、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項１１】
前記インク組成物は、２５℃で約２５ダイン／ｃｍから約４０ダイン／ｃｍまでの表面張力を有する、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項１２】
前記複数の硬化可能化合物は、前記インク組成物の５０ｗｔ％より多く含まれる、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項１３】
前記インク組成物は、さらに着色剤を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項１４】
前記インク組成物は、前記インク組成物の総重量に対して、約１０から約４０ｗｔ％までの前記着色剤を含む、請求項１３に記載のインク組成物。
【請求項１５】
１つ以上の前記硬化可能化合物は、架橋可能である、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項１６】
可変平版印刷のためのプロセスであって、以下：
画像形成部材上に湿し液を適用し、
前記画像形成部材上の選択的位置から前記湿し液を蒸発させることによって潜像を形成し、疎水性非画像領域および親水性画像領域を形成すること；
インクコンポーネントを含むインク組成物を親水性画像領域に適用することによって、前記潜像を現像すること；および
前記現像された前記潜像を、受容基材に転写すること
を包含し、ここで、前記インク組成物は、複数の硬化可能化合物を含み、前記インク組成物は、約０．４から約０．６２までの容量平均ハンセン分画分散力パラメータ（ｆｄ）、約０．１から約０．３までの容量平均ハンセン分画極性パラメータ（ｆｐ）、および約０．２から約０．４までの容量平均ハンセン分画水素結合パラメータ（ｆｈ）を有し、
前記複数の硬化可能化合物は、四官能性アクリラート化ポリエステルを含む、プロセス。
【請求項１７】
前記インク組成物は、湿し液に対し１６を超える相互作用の半径を有する少なくとも１種の硬化可能化合物を含む、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
１種以上の前記硬化可能化合物は、架橋可能である、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１９】
複数の硬化可能化合物を含むインク組成物であって、各硬化可能化合物は、約０．４から約０．６２までの容量平均ハンセン分画分散力パラメータ（ｆｄ）、約０．１から約０．３までの容量平均ハンセン分画極性パラメータ（ｆｐ）、および約０．２から約０．４までの容量平均ハンセン分画水素結合パラメータ（ｆｈ）を有し、
前記複数の硬化可能化合物は、四官能性アクリラート化ポリエステルを含む、インク組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月6日(2016.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタルリソグラフィインク印刷に有用な熱接触式画像形成装置であって、
溶液を受け取る表面を有する画像形成ローラと、
前記画像形成ローラが１回転する間に、前記画像形成ローラを第１の温度（Ｔｐ）に加熱するよう配置された発熱体と、
前記溶液を前記画像形成ローラの前記表面に吐出して、潜熱画像を生成する前記画像形成ローラの表面を選択的に冷却する滴吐出システムであって、前記加熱及び前記溶液の塗布によって、前記画像形成ローラの前記表面上に、前記第１の温度を有するＴｐ領域と前記第１の温度より低い第２の温度を有するＴｃ領域とが生成される、滴吐出システムと、
画像形成プレートであって、該画像形成プレートと前記画像形成ローラとによって形成されたニップを通過する湿し水（ＦＳ）膜を受け取ることができる画像形成プレートと、
を備え、
前記画像形成ニップを通過することで前記Ｔｐ領域が十分な熱エネルギを前記画像形成プレート上の前記ＦＳ膜に伝えて前記ＦＳ膜を気化させ、
前記画像形成ローラの表面の対応するＴｃ領域が接触した前記画像形成プレート上の部分には前記湿し水膜が残る、
熱接触式画像形成装置。
【請求項２】
選択的な冷却が、前記加熱された画像形成ローラの前記表面から熱エネルギを吸収することである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記滴吐出システムから吐出された溶液が、前記画像形成ローラの表面を、前記第１の温度より低い第２の温度まで局所的に冷却するのに十分な温度である、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの発熱体及び前記画像形成ローラが、前記画像形成ローラが１回転する間に、前記画像形成ローラを加熱するように構成されている、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの発熱体及び前記画像形成ローラが、前記画像形成ローラの前記表面を第１の温度まで加熱するよう構成され、前記滴吐出メカニズムが、前記画像形成ローラの表面の選択領域に前記溶液を吐出して前記画像形成ローラの表面の前記選択領域を前記第１の温度より低い第２の温度まで冷却し、前記第１の温度の前記表面領域、及び前記第２の温度の前記表面領域が潜熱画像を形成する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記溶液の温度が、前記加熱された画像形成ローラの前記第１の温度より低く、前記溶液が、デジタル画像データに従って、前記画像形成ローラの表面の所望の部分に接触する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記画像形成ローラの表面の前記所望の部分が、デジタルリソグラフィインク印刷処理においてインク画像を形成するために、前記画像形成プレートの表面に塗布されるインクが弾かれる画像形成プレートの部分に対応する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記溶液が水を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記滴吐出メカニズムがプリントヘッドを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
デジタルリソグラフィインク印刷に有用な熱接触式画像形成方法であって、
画像形成ローラの表面を第１の温度（Ｔｐ）に加熱するステップと、
前記第１の温度を有する領域（Ｔｐ領域）と前記第１の温度より低い第２の温度を有する領域（Ｔｐ領域）とを含む潜熱画像を形成する、前記画像形成ローラの前記表面の選択領域に溶液を吐出するステップと、
画像形成プレート上に湿し水（ＦＳ）膜を受け取るステップであって、前記溶液が、該画像形成プレートと前記画像形成ローラとによって形成されたニップを通過する際に、前記画像形成プレート上に画像を形成するステップと、
を含み、
前記画像形成ニップを通過することで前記Ｔｐ領域が十分な熱エネルギを前記画像形成プレート上の前記ＦＳ膜に移動させて前記ＦＳ膜を気化させ、
前記画像形成ローラの表面の対応するＴｃ領域が接触した前記画像形成プレート上部分には前記湿し水膜が残る、
熱接触式画像形成方法。
【請求項１１】
前記吐出がデジタル画像データに従い、前記溶液がプリントヘッドによって吐出される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の温度を有する前記画像形成ローラの表面領域から、画像形成プレート上に形成された湿し水膜に熱エネルギを伝達して、インク画像の形成のためにインクが堆積される前記画像形成プレートの領域から湿し水を選択的に除去する、請求項１０に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】熱接触式画像形成装置及び熱接触式画像形成方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
従来技術の画像形成システムを含むデジタル平板インク印刷システムの特性は、湿し水を蒸発させるのに必要な電力量により制限される。水ベースの湿し水は平板印刷業界では一般的であり、その低コストのために好まれているが、水の蒸発潜熱が高温のため、かなりの電力要求条件が必要となる。赤外線レーザ光源を用いる画像形成装置では、これらの電力要求条件を満たすことができるが、かなりの製造コストがかかる。従来技術の画像形成装置は、平行レーザ光源と、マイクロミラー変調器のアレイと、投影光学系とを含むことができ、レーザからの光エネルギーが、個々のマイクロミラーから画素単位で反射され、次いで光学系により、画像形成プレート１０５の表面の最上段の画像面上に集められる。プレート１０５により光エネルギーが吸収されて、湿し水を局所的に加熱し蒸発させる。極端に薄い湿し水の層を表面に均一に塗布することができない場合、全ての水ベースの湿し水では、その処理速度が制限される。そのため、より低い蒸発潜熱を有する代替的な湿し水の材料が検討されてきたが、そのような湿し水の材料はコストが高く、その使用に関して独自の健康や環境に対する懸念がある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月25日(2016.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医薬の製造における、下記一般式（ １ ） で表されるトランス− ２ − デセン酸誘導体又はその薬学的に許容される塩の使用。
【化１】
2013241408.tif 000001
〔式中、Ｙは、−Ｏ−、−ＮＲ−又は−Ｓ−を表し、
Ｗは、Ｙが−Ｏ−のときはＷ１を、Ｙが−ＮＲ−のときはＷ２を、又はＹが−Ｓ−のときはＷ３を表し、
（１）Ｗ１はジアルキルアミノアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基又はジアルキルアミノアルコキシアルキル基を表し、
（２−１）Ｒがジアルキルアミノアルキル基のとき、Ｗ２は水素原子、アルキル基又はジアルキルアミノアルキル基を表し、
（２−２）Ｒがアルキル基のとき、Ｗ２はＲと各々同一若しくは異なったアルキル基を表し、又は
（２−３）Ｒが水素原子のとき、Ｗ２はアルキル基、シクロアルキル基、ピロリジンアルキル基、フェニル基又はフェニルアルキル基を表し、
（３）Ｗ３はアルキル基、シクロアルキル基、フェニルアルキル基又はジアルキルアミノアルキル基を表す。〕
【請求項２】
Ｙが−ＮＲ−で、Ｒがジアルキルアミノアルキル基で、Ｗ２が水素原子、アルキル基又はジアルキルアミノアルキル基である請求項１記載の使用。
【請求項３】
Ｙが−ＮＲ−で、Ｒが水素原子で、Ｗ２がアルキル基、シクロアルキル基、ピロリジンアルキル基、フェニル基又はフェニルアルキル基である請求項１記載の使用。
【請求項４】
Ｙが−Ｓ−で、Ｗ３がアルキル基、シクロアルキル基、フェニルアルキル基又はジアルキルアミノアルキル基である請求項１記載の使用。
【請求項５】
医薬が、神経栄養因子様作用剤、神経障害の予防若しくは治療剤、脊髄損傷の治療剤若しくは修復剤、又は、抗がん剤投与による副作用の軽減剤である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月12日(2016.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体が始動領域を通過したことにもとづいて、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御する遊技機であって、
遊技媒体が所定領域を通過したことにもとづいて、可変入賞装置を遊技媒体が進入しやすい開放状態に制御する可変入賞装置制御手段と、
前記可変表示が行われているときに、前記有利状態となることを示唆する示唆演出を実行する示唆演出実行手段と、
前記可変入賞装置が開放状態に制御されるか否かを報知するための所定演出を実行する所定演出実行手段と、
前記示唆演出が実行される前記可変表示中に前記所定演出の実行を制限する所定演出制限手段と、を備え、
前記可変入賞装置制御手段は、前記可変入賞装置を複数の開放態様により開放状態に制御可能であり、
前記所定演出実行手段は、前記可変入賞装置が前記複数の開放態様のうち特定の開放態様により開放状態に制御されるときに、前記可変入賞装置が開放状態に制御されることを報知するための前記所定演出を実行可能である
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技媒体が始動領域を通過したことにもとづいて、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御するパチンコ遊技機等の遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載された遊技機では、遊技に対する興趣を十分に向上できない可能性がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は、遊技に対する興趣を向上させることができる遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明による遊技機は、遊技媒体が始動領域を通過したことにもとづいて、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御する遊技機であって、遊技媒体が所定領域を通過したことにもとづいて、可変入賞装置を遊技媒体が進入しやすい開放状態に制御する可変入賞装置制御手段と、可変表示が行われているときに、有利状態となることを示唆する示唆演出を実行する示唆演出実行手段と、可変入賞装置が開放状態に制御されるか否かを報知するための所定演出を実行する所定演出実行手段と、示唆演出が実行される可変表示中に所定演出の実行を制限する所定演出制限手段と、を備え、可変入賞装置制御手段は、可変入賞装置を複数の開放態様により開放状態に制御可能であり、所定演出実行手段は、可変入賞装置が複数の開放態様のうち特定の開放態様により開放状態に制御されるときに、可変入賞装置が開放状態に制御されることを報知するための所定演出を実行可能であることを特徴とする。
（手段１）また、本発明によるその他の遊技機は、あらかじめ定められた始動条件が成立（例えば、第２始動入賞口１４への遊技球の入賞）したことにもとづいて識別情報（例えば、飾り図柄）の可変表示を行い、当該識別情報の可変表示の表示結果として特定表示結果（例えば、大当り図柄）が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態（例えば、大当り遊技状態）に制御する遊技機であって、遊技媒体（例えば、遊技球）が入賞しやすい開放状態に変化し、該入賞に応じて始動条件を成立させる可変入賞装置（例えば、可変入賞球装置１５）と、識別情報とは異なる普通識別情報（例えば、普通図柄）の可変表示を開始し、当該普通識別情報の可変表示の表示結果として所定表示結果（例えば、当り図柄、はずれ図柄）が導出表示されたときに、可変入賞装置を開放状態に変化させる可変入賞装置制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ４５５を実行する部分）と、開放状態中に可変入賞装置に遊技媒体が入賞したことに応じて成立した始動条件にもとづく識別情報の可変表示において、特定演出（例えば、図６７（Ｂ），（Ｅ）に示すような態様の特定演出）を実行するか否かを決定する特定演出決定手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ８００１を実行する部分）と、特定演出決定手段により特定演出を実行することが決定されたことにもとづいて、識別情報の可変表示中に特定演出を実行する特定演出実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ８０１５で選択したプロセステーブルにもとづいてステップＳ８０１８，Ｓ８５１を実行する部分）とを備え、特定演出決定手段は、可変入賞装置が開放状態に変化しているときに、当該可変入賞装置に遊技媒体が入賞したことに応じて成立した始動条件の成立数に応じて、異なる割合で特定演出を実行すると決定する（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００は、ステップＳ６０１０でＹのときのみステップＳ６０１１，Ｓ６０１２の処理を行って特定演出を実行すると決定する場合がある）ことを特徴とする。
そのような構成により、遊技に対する興趣を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月20日(2016.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に設けられるインク吐出エネルギー発生素子と、該基板上に設けられインク流路を形成する流路形成部材と、該インク吐出エネルギー発生素子と対向する位置にインク吐出口を有する吐出口形成部材と、を備えるインク吐出ヘッドの製造方法であって、
前記インク吐出口が、外部に開口する側に断面積が一定である部分と、該部分から前記インク吐出エネルギー発生素子側に向けて断面積が大きくなる部分とを有し、
基板上に流路形成部材となる第一のネガ型感光性レジストを形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト上に吐出口形成部材となる第二のネガ型感光性レジストを形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性レジストと前記第二のネガ型感光性レジストとを一部混合して相溶層を形成する工程と、
前記第二のネガ型感光性レジスト及び前記相溶層を一括露光し、現像することでインク吐出口を形成する工程と、を含むインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記基板上に前記第一のネガ型感光性レジストを塗布又は転写により形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性レジストを選択的に露光して、インク流路パターンを潜像させる工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト上に前記第二のネガ型感光性レジストを塗布または転写により形成する工程と、
前記第二のネガ型感光性レジスト上に溶媒を塗布することで、前記第一のネガ型感光性レジストと前記第二のネガ型感光性レジストとを一部混合して前記相溶層を形成する工程と、
前記第二のネガ型感光性レジスト及び前記相溶層を選択的に一括露光してインク吐出口パターンを潜像させる工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト、前記第二のネガ型感光性レジスト及び前記相溶層を一括現像してインク流路及び前記インク吐出口を形成する工程と、を含む請求項１に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記基板上に前記第一のネガ型感光性レジストを塗布又は転写により形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性レジストを選択的に露光して、インク流路パターンを潜像させる工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト上に前記第二のネガ型感光性レジストを塗布または転写により形成する工程と、
前記第二のネガ型感光性レジスト上に溶媒を含む第三の材料を塗布することで、前記第一のネガ型感光性レジストと前記第二のネガ型感光性レジストとを一部混合して前記相溶層を形成する工程と、
前記第二のネガ型感光性レジスト、前記第三の材料及び前記相溶層を選択的に一括露光してインク吐出口パターンを潜像させる工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト、前記第二のネガ型感光性レジスト、前記第三の材料及び前記相溶層を一括現像してインク流路及び前記インク吐出口を形成する工程と、を含む請求項１に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記第三の材料が撥水性を有する請求項３に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記第三の材料に含まれる前記溶媒の割合が５質量％以上、７０質量％以下である請求項３又は４に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記第二のネガ型感光性レジストと、前記溶媒との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の差の絶対値が３．０以下である請求項２から５のいずれか１項に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記溶媒の沸点が２２０℃以下である請求項２から６のいずれか１項に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記第二のネガ型感光性レジストが溶媒を含有し、前記第二のネガ型感光性レジスト上に塗布される溶媒の沸点が、前記第二のネガ型感光性レジストに含まれる溶媒の沸点以下の温度である請求項２から７のいずれか１項に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記第二のネガ型感光性レジストが溶媒を含有し、該溶媒が、前記第二のネガ型感光性レジスト上に塗布される溶媒と同一である請求項２から８のいずれか１項に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記基板上に前記第一のネガ型感光性レジストを塗布又は転写により形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性レジストを選択的に露光して、インク流路パターンを潜像させる工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト上に前記第二のネガ型感光性レジストを加熱しながら塗布または転写し、前記第一のネガ型感光性レジストと前記第二のネガ型感光性レジストとを一部混合して前記相溶層を形成する工程と、
前記第二のネガ型感光性レジスト及び前記相溶層を選択的に一括露光してインク吐出口パターンを潜像させる工程と、
前記第一のネガ型感光性レジスト、前記第二のネガ型感光性レジスト及び前記相溶層を一括現像してインク流路及び前記インク吐出口を形成する工程と、を含む請求項１に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記第二のネガ型感光性レジストの露光に対する感度が、前記第一のネガ型感光性レジストの露光に対する感度よりも高い請求項１から１０のいずれか１項に記載のインク吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】