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【手続補正書】
【提出日】平成28年5月23日(2016.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められた情報がコード化されている情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取る読取手段（１０ａ、１５）と、
前記読取手段（１０ａ、１５）で前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取った際の状況を取得する状況取得手段（１０ｂ）と、
読み取った前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）をデコードすることで得られる読取情報と、前記状況取得手段（１０ｂ）で取得した状況とに基づいて、当該情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取った際の状況を判断する判断手段（２０ｂ）と、
前記判断手段（２０ｂ）の判断結果に基づいて、前記読取情報とは異なる情報であって当該情報コードが読み取られた際の状況に即した情報である提供情報を生成する提供情報生成手段（２０ｃ）と、
前記提供情報生成手段で生成した前記提供情報を提示する提示手段（１０ｅ、１３）と、
を備えることを特徴とする情報提供システム。
【請求項２】
前記読取手段（１０ａ、１５）で読み取った前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）、または読み取った前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）から得られる前記読取情報を記憶する記憶手段（１１）を備え、
前記状況取得手段（１０ｂ）は、前記読取手段（１０ａ、１５）で前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取った際、および、前記記憶手段（１１）に記憶されている前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）または当該情報コードから得られた前記読取情報を読み出した際に、状況を取得することを特徴とする請求項１記載の情報提供システム。
【請求項３】
前記提供情報は、前記情報コードの読み取り操作を行ったユーザが移動を伴う行動をする際に利用する情報であることを特徴とする請求項１または２記載の情報提供システム。
【請求項４】
前記提供情報生成手段（２０ｃ）は、同一の前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）に対して、前記判断手段（２０ｂ）の判断結果に基づいて異なる提供情報を生成することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項記載の情報提供システム。
【請求項５】
前記状況取得手段（１０ｂ）が取得する状況には、前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取った際の位置が含まれていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項記載の情報提供システム。
【請求項６】
前記状況取得手段（１０ｂ）が取得する状況には、前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取った際の時刻が含まれていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項記載の情報提供システム。
【請求項７】
前記状況取得手段（１０ｂ）が取得する状況には、前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）の読み取り操作を行ったユーザの属性、当該ユーザの行動履歴、および当該ユーザの行動予定のうち少なくとも一方が含まれていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項記載の情報提供システム。
【請求項８】
前記状況取得手段（１０ｂ）が取得する状況には、前記情報コード（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３）を読み取った端末（２）の種類が含まれていることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項記載の情報提供システム。
【請求項９】
前記読取手段（１０ａ、１５）、前記状況取得手段（２０ｂ）、前記提示手段（１０ｅ、１３）、および外部のサーバ（３）との間で通信を行う端末側通信手段（１４）を備えた通信端末（２）と、
前記通信端末（２）との間で通信を行う通信手段（２３）、前記判断手段（２０ｂ）、前記提供情報生成手段（２０ｃ）、および、前記判断手段（２０ｂ）による判断ならびに前記提供情報生成手段（２０ｃ）による提供情報の生成に用いる各種の情報が互いに関連付けられて登録されているデータベース（２２）を備えたサーバ（３）と、
によって構成されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項記載の情報提供システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報提供システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、状況に即した情報を提供する情報提供システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、予め定められた情報がコード化されている情報コードを読み取ったときの様々な状況に即した情報を提供することができる情報提供システムを提供することにある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月28日(2016.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内に基板を搬入する工程と、
前記処理室内において、ヒータを備える支持台により前記基板を支持する工程と、
前記基板を支持した前記支持台を第１のポジションに配置し、前記ヒータをオンとした状態で、前記処理室内へ処理ガスを供給し、前記基板上に膜を形成する工程と、
膜形成後の前記基板を前記処理室内から搬出する工程と、
前記支持台を前記第１のポジションよりも前記処理室内の天井部に近い第２のポジションに配置し、前記ヒータをオンとした状態で、前記処理室内へ反応性ガスを供給する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記反応性ガスを供給する工程は、前記処理室内へ前記反応性ガスとして改質ガスを供給し、前記基板上に膜を形成する際に前記処理室内に付着した堆積物を改質する工程を含む請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記反応性ガスを供給する工程は、前記処理室内へ前記反応性ガスとしてクリーニングガスを供給し、前記基板上に膜を形成する際に前記処理室内に付着した堆積物を除去する工程を含む請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記堆積物を改質する工程における前記支持台と前記天井部との距離を、前記堆積物を除去する工程における前記支持台と前記天井部との距離と、異ならせる請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記反応性ガスを供給する工程では、前記ヒータをオンとした状態で、前記支持台を前記第２のポジションに保持する請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記反応性ガスを供給する工程では、前記ヒータをオンとした状態で、
前記支持台を、一旦、前記第２のポジションよりも更に前記処理室内の前記天井部に近い第３のポジションに配置した後、前記第２のポジションに配置する請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記反応性ガスを供給する工程では、前記ヒータをオンとした状態で、前記支持台を、前記第２のポジションと、前記第２のポジションとは異なる第４のポジションと、の間で移動させる請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記反応性ガスを供給する工程では、前記処理室内へ前記反応性ガスを供給する前に、前記処理室内へ前記反応性ガスよりも熱伝導率の高いガスを供給する請求項１〜７のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記反応性ガスを供給する工程では、前記処理室内へ前記反応性ガスを供給する前に、前記処理室内へ水素ガスおよびヘリウムガスのうち少なくともいずれかを供給する請求項１〜８のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記処理ガスは、前記天井部に設けられたガス供給部から前記処理室内へ供給される請求項１〜９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記処理ガスは、前記天井部に設けられたシャワーヘッドから前記処理室内へ供給される請求項１〜９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記処理ガスは、前記処理室の側部に設けられたガス供給部から前記処理室内へ供給される請求項１〜９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
前記処理ガスは、第１の元素と炭素との化学結合を有する原料ガスを含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
前記処理ガスは、第１の元素と炭素との化学結合を有する原料ガスと、第２の元素を含む反応ガスと、を含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
前記処理ガスは、第１の元素を含む原料ガスと、炭素を含む反応ガスと、を含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
前記処理ガスは、第１の元素を含む原料ガスと、炭素を含む反応ガスと、第２の元素を含む反応ガスと、を含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
基板を収容する処理室と、
前記処理室内で基板を支持する支持台と、
前記支持台に備えられたヒータと、
前記支持台を移動させる支持台移動部と、
前記処理室内へガスを供給するガス供給系と、
前記処理室内外に基板を搬送する搬送ユニットと、
前記処理室内に基板を搬入する処理と、前記処理室内において、前記支持台により前記基板を支持する処理と、前記基板を支持した前記支持台を第１のポジションに配置し、前記ヒータをオンとした状態で、前記処理室内へ処理ガスを供給し、前記基板上に膜を形成する処理と、膜形成後の前記基板を前記処理室内から搬出する処理と、前記支持台を前記第１のポジションよりも前記処理室内の天井部に近い第２のポジションに配置し、前記ヒータをオンとした状態で、前記処理室内へ反応性ガスを供給する処理と、を行わせるように、前記搬送ユニット、前記支持台移動部、前記ヒータ、および前記ガス供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。
【請求項１８】
基板処理装置の処理室内に基板を搬入する手順と、
前記処理室内において、ヒータを備える支持台により前記基板を支持する手順と、
前記基板を支持した前記支持台を第１のポジションに配置し、前記ヒータをオンとした状態で、前記処理室内へ処理ガスを供給し、前記基板上に膜を形成する手順と、
膜形成後の前記基板を前記処理室内から搬出する手順と、
前記支持台を前記第１のポジションよりも前記処理室内の天井部に近い第２のポジションに配置し、前記ヒータをオンとした状態で、前記処理室内へ反応性ガスを供給する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月29日(2016.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置の電力状態を制御する方法であって、当該装置は２つ以上の他の装置に接続されており、
前記２つ以上の他の装置のうちの関連装置の電力状態を監視するステップと、
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置の全てが低電力モードにある場合に、前記装置を低電力モードに切り替えるステップと、
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記装置が低電力モードにあるとき、前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置が通常電力モードに移行したか否かを監視するステップと、
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置が前記通常電力モードに移行した場合に前記装置を通常電力モードに切り替えるステップと、
を更に含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
装置の電力状態を制御する方法であって、当該装置は２つ以上の他の装置に接続されており、
前記２つ以上の他の装置のうちの関連装置の電力状態を監視するステップと、
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置の全てが低電力モードにある場合に、前記装置を通常電力モードに切り替えるステップと、
を含む、前記方法。
【請求項４】
前記装置が通常電力モードにあるとき、前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置が通常電力モードに移行したか否かを監視するステップと、
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置が前記通常電力モードに移行した場合に前記装置を低電力モードに切り替えるステップと、
を更に含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記関連装置についての情報はメモリから取り出される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置の電力状態は、プロトコルメッセージまたはハンドシェイクを監視すること、およびアクティブプロービングのうちの少なくとも１つを用いて監視される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
装置の電力状態制御を設定する方法であって、当該装置は１つ以上の他の装置に接続されており、
電力状態設定モードを活性化するステップと、
前記接続された前記１つ以上の他の装置のうちのどれが通常電力モードにあるかを検出するステップと、
前記電力状態設定モードを終了するステップと、
前記通常電力モードにあると検出された前記他の装置を関連装置としてメモリに格納するステップと、
を含み、
前記電力状態制御は、前記関連装置の全てが前記低電力モードにあるとき前記装置を低電力モードに切り替え、あるいは前記関連装置の１つ以上が前記通常電力モードにあるとき前記装置を低電力モードに切り替えるように設定される、前記方法。
【請求項８】
装置の電力状態制御を設定する方法であって、当該装置は１つ以上の他の装置に接続されており、
電力状態設定モードを活性化するステップと、
前記接続された前記１つ以上の他の装置のうちのどれが低電力モードにあるかを検出するステップと、
前記電力状態設定モードを終了するステップと、
前記低電力モードにあると検出された前記他の装置を関連装置としてメモリに格納するステップと、
を含み、
前記電力状態制御は、前記関連装置の１つ以上が前記通常電力モードにあるとき前記装置を低電力モードに切り替えるように設定される、前記方法。
【請求項９】
前記通常電力モードまたは前記低電力モードにある前記接続された他の装置だけが、少なくとも特定の時間期間に、前記メモリに格納される、請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
前記１つ以上の接続された他の装置のうちのどれが前記通常電力モードまたは前記低電力モードにあるかを検出するステップは、プロトコルメッセージまたはハンドシェイクを監視すること、およびアクティブプロービングのうちの少なくとも１つを用いる、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記電力状態設定モードは、電力状態設定モード時間ウインドウの満了後に自動的に終了する、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
装置の電力状態を制御するコントローラであって、該装置は２つ以上の他の装置に接続されており、
当該コントローラが、
前記２つ以上の他の装置のうちの関連装置の電力状態を監視するステップと、
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置の全てが低電力モードにある場合に前記装置を低電力モードに切り替えるステップと、
を実行するように構成される、前記コントローラ。
【請求項１３】
装置の電力状態を制御するコントローラであって、該装置は２つ以上の他の装置に接続されており、
当該コントローラが、
前記２つ以上の他の装置のうちの関連装置の電力状態を監視するステップと、
前記２つ以上の他の装置のうちの前記関連装置の全てが低電力モードにある場合に前記装置を通常電力モードに切り替えるステップと、
を実行するように構成される、前記コントローラ。
【請求項１４】
装置の電力状態制御を設定するコントローラであって、該装置は１つ以上の他の装置に接続されており、
当該コントローラが、
電力状態設定モードを活性化するステップと、
前記接続された前記１つ以上の他の装置のうちのどれが通常電力モードにあるかを検出するステップと、
前記電力状態設定モードを終了するステップと、
前記通常電力モードにあると検出された前記他の装置を関連装置としてメモリに格納するステップと、
を実行するように構成され、
前記電力状態制御は、前記関連装置の全てが前記低電力モードにあるとき前記装置を低電力モードに切り替え、あるいは前記関連装置の１つ以上が前記通常電力モードにあるとき前記装置を低電力モードに切り替えるように設定される、前記コントローラ。
【請求項１５】
装置の電力状態制御を設定するコントローラであって、該装置は１つ以上の他の装置に接続されており、
当該コントローラが、
電力状態設定モードを活性化するステップと、
前記接続された前記１つ以上の他の装置のうちのどれが低電力モードにあるかを検出するステップと、
前記電力状態設定モードを終了するステップと、
前記低電力モードにあると検出された前記他の装置を関連装置としてメモリに格納するステップと、
を実行するように構成され、
前記電力状態制御は、前記関連装置の１つ以上が前記通常電力モードにあるとき前記装置を低電力モードに切り替えるように設定される、前記コントローラ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月29日(2016.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒径が約４μｍ以下のトナー粒子を製造するための連続した化学トナープロセスであって、
（ａ）１つ以上のラテックスと、任意要素の着色剤と、任意要素のワックスと、任意要素の界面活性剤とを混合し、粒子を含有するトナー反応混合物を製造することと；
（ｂ）前記混合物を、試薬を導入するための押出機の長さ方向に沿った複数のポートと、反応剤をモニタリングするための押出機の長さ方向に沿った複数のポートとを備える二軸スクリュー押出機に加え、前記二軸スクリューが、前記押出機の長さ方向に沿って前記混合物を移動させることと；
（ｃ）前記混合物のｐＨを約４に調節することと；
（ｄ）約４のｐＨで前記混合物に凝集剤を加えることと；
（ｅ）前記混合物の温度を、約４８℃を超えない温度まで上げることと；
（ｆ）粒子を凝集させて凝集粒子を形成するために前記混合物を前記押出機の長さ方向に沿って移動させ；場合により、前記凝集粒子の上にシェルを作成し；前記凝集粒子の凝集を凍結させ；前記凝集粒子を融着させ、トナー粒子を前記押出機内で作成することと；
（ｇ）前記押出機から前記融着したトナー粒子を取り出し、前記トナー粒子の反応を止めることと；
を含み、場合により、
（ｈ）前記反応を止めたトナー粒子を分級すること；
（ｉ）前記反応を止めたトナー粒子または分級したトナー粒子を洗浄すること；または
（ｊ）前記反応を止めたトナー粒子、分級したトナー粒子、または洗浄したトナー粒子を乾燥させることのうち、１つ以上を行い、
得られたトナー粒子の粒径が約４μｍ以下である、プロセス。
【請求項２】
前記凍結することは、前記混合物のｐＨを約７．７まで上げることによって行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
工程（ａ）の前記混合物が、約４．２のｐＨを有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
融着を約８５℃で行う、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
シェル樹脂を加えることをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記凍結の後に界面活性剤を加えることをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
前記１つ以上のラテックスが、アモルファスポリエステル樹脂、結晶性ポリエステル樹脂または両者を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
直列に接続された少なくとも２つの二軸スクリュー押出機を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記反応を止めたトナー粒子を分級することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記分級が粗粒子を除去するものである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記反応を止めたトナー粒子または分級したトナー粒子を洗浄することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記反応を止めたトナー粒子、分級したトナー粒子、または洗浄したトナー粒子を乾燥させることをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記乾燥したトナー粒子をさらに添加剤と混合する、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記乾燥したトナー粒子をさらに担体と混合する、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記１つ以上のラテックスが、低分子量アモルファス樹脂と、高分子量アモルファス樹脂とを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１６】
ワックスを加えることをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記１つ以上のラテックスがさらに結晶性樹脂を含む、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記乾燥がスプレー乾燥またはトーラス式乾燥を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記分級が湿式分級を含む、請求項１に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】微細トナーの連続した製造プロセス
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
トナー粒子をフィルタまたはふるいによって分級し、例えば、湿式分級デバイスにスラリーを通し、所望でない、例えば粗粒子をトナー粒子スラリーから分離することによって、所望でない粒径の粒子を分離してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月6日(2016.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）細胞培養培地及び、
（ｂ）少なくとも８０×１０６懸濁細胞／ｍＬ培養培地の生存細胞密度を有する、培養時に凝集体を容易に又は本質的に形成する動物細胞の懸濁物と、
を含む、バイオリアクター中に含まれた灌流培養物であって、
少なくとも５個の細胞の凝集体が、最大でも細胞の総量の５％を構成する、灌流培養物。
【請求項２】
前記細胞培養培地および前記動物細胞を含む細胞培養物の連続的灌流培養による細胞の培養のための方法によって得られる、請求項１に記載の灌流培養物であって、
前記細胞培養培地が前記細胞培養物に添加され、
前記細胞培養物が、中空繊維を含むフィルタモジュールにわたって循環され、結果として前記細胞培養物よりも低い細胞密度を有する液体の流出が生じ、かつ前記フィルタモジュール内の流れが交互接線流であり、
当該方法が、少なくとも８０×１０６細胞／ｍｌの生存細胞密度に達するまで続けられる、灌流培養物。
【請求項３】
前記動物細胞が、前記灌流培養物中に、少なくとも１００×１０６細胞／ｍＬの生存細胞密度で存在する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項４】
前記動物細胞が、前記灌流培養物中に、少なくとも１１０×１０６細胞／ｍＬの生存細胞密度で存在する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項５】
前記動物細胞が、前記灌流培養物中に、少なくとも１２０×１０６細胞／ｍＬの生存細胞密度で存在する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項６】
前記動物細胞が、前記灌流培養物中に、少なくとも１３０×１０６細胞／ｍＬの生存細胞密度で存在する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項７】
前記動物細胞が、前記灌流培養物中に、少なくとも１４０×１０６細胞／ｍＬの生存細
胞密度で存在する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項８】
少なくとも５個の細胞の凝集体が、最大でも細胞の総量の４％を構成する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項９】
少なくとも５個の細胞の凝集体が、最大でも細胞の総量の３％を構成する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【請求項１０】
少なくとも５個の細胞の凝集体が、最大でも細胞の総量の２％を構成する、請求項１又は２に記載の灌流培養物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月25日(2015.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ型半導体層と、ｐ型半導体層と、前記ｎ型半導体層及び前記ｐ型半導体層に挟持されて構成された活性層とを有する窒化物半導体発光素子であって、
前記ｎ型半導体層はＧａＮ層を含み、前記ＧａＮ層のｎ型ドーパント濃度が５×１０１８／ｃｍ３以下であることを特徴とする窒化物半導体発光素子。
【請求項２】
基板上に、ｎ型半導体層と、ｐ型半導体層と、前記ｎ型半導体層及び前記ｐ型半導体層に挟持されて構成された活性層とを有する窒化物半導体発光素子であって、
前記基板と前記活性層の間にＧａＮ層を含み、前記ＧａＮ層のｎ型ドーパント濃度が５×１０１８／ｃｍ３以下であることを特徴とする窒化物半導体発光素子。
【請求項３】
前記ＧａＮ層は、ｎ型ドーパント濃度が１×１０１７／ｃｍ３以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項４】
主たる発光波長が４０５ｎｍ以下の発光素子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項５】
黄色の可視光波長の発光強度が、主たる発光波長の発光強度に対して強度比が０．１％以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項６】
前記ｎ型半導体層は、ＡｌＧａＮ層と、前記ＡｌＧａＮ層の上層に形成されたＧａＮ層とを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項７】
前記ｎ型半導体層に含まれる前記ＧａＮ層の厚みは、前記ｎ型半導体層に含まれる前記ＡｌＧａＮ層の厚みよりも薄いことを特徴とする請求項６に記載の窒化物半導体発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月6日(2016.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の無線通信端末間の通信接続を補助する無線補助接続装置であって、
前記無線通信端末間の通信を経由させるケーブルと、
当該ケーブルの末端に構成され、前記無線通信端末の電波を送受信するアンテナ部と、
前記ケーブル及び前記アンテナ部を前記無線通信端末に固定するアンテナ取付部材と、
前記無線通信端末が当該アンテナ部との電波以外を検知できないようにする電波遮断部と、
を備えることを特徴とする無線補助接続装置。
【請求項２】
前記電波遮断部は前記無線通信端末、前記アンテナ部及び前記アンテナ取付部の全体を覆う全体を補助接続装置カバーであり、当該補助接続装置カバーは電波吸収反射材で構成されると共に、前記ケーブルを当該補助接続装置カバーの外部に取り出すための取出口を備えていることを特徴とする請求項１記載の無線補助接続装置。
【請求項３】
前記アンテナ取付部は電波吸収反射材で構成されて前記電波遮断部をなし、前記ケーブル及び前記アンテナ部を覆うようにして前記無線通信端末に固定されることを特徴とする請求項１記載の無線補助接続装置。
【請求項４】
前記アンテナ部は、前記ケーブルの末端を加工することによって構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の無線補助接続装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月21日(2016.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板を有する半導体装置であって、
前記半導体基板の上面に形成された複数のトレンチと、
前記各トレンチの内面を覆うトレンチ絶縁膜と、
前記各トレンチの内部に配置されており、前記トレンチ絶縁膜によって前記半導体基板から絶縁されているトレンチ電極と、
前記複数のトレンチのうちの隣り合うトレンチに挟まれた第１範囲内の前記半導体基板に形成されており、前記半導体基板の前記上面に露出しており、前記トレンチ絶縁膜に接している第１導電型の第１半導体層と、
前記第１範囲内の前記半導体基板に形成されており、一部が前記半導体基板の前記上面に露出しており、前記第１半導体層の下側で前記トレンチ絶縁膜に接している第２導電型の第２半導体層と、
前記半導体基板に形成されており、前記第２半導体層の下側に配置されており、前記第２半導体層によって前記第１半導体層から分離されており、前記第２半導体層の下側で前記トレンチ絶縁膜に接している第１導電型の第３半導体層と、
前記半導体基板の前記上面及び前記トレンチ電極上に配置されており、前記第１範囲内に配置された複数のコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、
前記各コンタクトホール内に配置されており、前記第１半導体層と前記第２半導体層の少なくとも一方に接続されている第１導電体層と、
前記第１導電体層上及び前記層間絶縁膜上に配置されており、前記各第１導電体層に接続されている表面電極、
を有する半導体装置。
【請求項２】
前記第１範囲とは異なる前記複数のトレンチのうちの隣り合うトレンチに挟まれた範囲である第２範囲内の前記半導体基板に形成されており、前記半導体基板の前記上面に露出している第２導電型の第４半導体層と、
第２導電体層、
をさらに有しており、
前記第３半導体層の一部が、前記第４半導体層の下側に配置されており、前記第４半導体層に接しており、
前記層間絶縁膜が、前記第２範囲内に配置されたコンタクトホールを有しており、
前記第２導電体層が、前記第２範囲内の前記コンタクトホール内に配置されており、前記第４半導体層に接続されており、
前記表面電極の一部が、前記第２導電体層上に配置されており、前記第２導電体層に接続されており、
前記複数の第１導電体層の前記半導体基板に対するコンタクト面積を前記第１範囲の面積で除算した値が、前記第２導電体層の前記半導体基板に対するコンタクト面積を前記第２範囲の面積で除算した値よりも大きい、
請求項１の半導体装置。
【請求項３】
前記第１導電体層のヤング率は、前記表面電極のヤング率よりも高い請求項１または２の半導体装置。
【請求項４】
前記第１導電体層は、ＣＶＤ、メッキ、スパッタによって形成可能な材料によって構成されている請求項１〜３のいずれか一項の半導体装置。
【請求項５】
前記第１導電体層は、Ｗ、Ａｌ、Ｃｕのいずれかを含む金属によって構成されている請求項１〜４のいずれか一項の半導体装置。
【請求項６】
前記各トレンチ電極上の前記層間絶縁膜の幅が、前記第１範囲内の複数のコンタクトホールに挟まれた前記層間絶縁膜の幅よりも広い請求項１〜５のいずれか一項の半導体装置。
【請求項７】
加工用ウエハから半導体装置を製造する方法であって、
前記加工用ウエハが、
上面に複数のトレンチが形成された半導体基板と、
前記各トレンチの内面を覆うトレンチ絶縁膜と、
前記各トレンチの内部に配置されており、前記トレンチ絶縁膜によって前記半導体基板から絶縁されているトレンチ電極、
を有しており、
前記半導体基板が、
前記複数のトレンチのうちの隣り合うトレンチに挟まれた範囲内に形成されており、前記半導体基板の前記上面に露出しており、前記トレンチ絶縁膜に接している第１導電型の第１半導体層と、
前記範囲内に形成されており、一部が前記半導体基板の前記上面に露出しており、前記第１半導体層の下側で前記トレンチ絶縁膜に接している第２導電型の第２半導体層と、
前記第２半導体層の下側に配置されており、前記第２半導体層によって前記第１半導体層から分離されており、前記第２半導体層の下側で前記トレンチ絶縁膜に接している第１導電型の第３半導体層、
を有しており、
前記方法が、
前記加工用ウエハの上面に、層間絶縁膜を形成する工程と、
前記範囲内の前記層間絶縁膜に、複数のコンタクトホールを形成する工程と、
前記複数のコンタクトホール内及び前記層間絶縁膜上に、導電体層を成長させる工程と、
前記複数のコンタクトホール内に前記導電体層が残存するように前記層間絶縁膜上の前記導電体層をエッチングする工程と、
前記エッチングの後に、前記導電体層上及び前記層間絶縁膜上に、表面電極を形成する工程、
を有する製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月23日(2016.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンコーダにおいて一連の画像に対応する画像データを受け取る段階と、
前記エンコーダによって、前記画像データの処理を行って、コード化されたデータを生成する段階を含み、
前記エンコーダは、網膜の１つ又はそれよりも多くの網膜細胞の入出力変換を実質的に模倣する入出力変換によって特徴付けられ、
前記画像データの前記処理は、
前記画像データに時空間変換を適用する段階と、
前記時空間変換から生成されたデータに基づいて、前記コード化されたデータを生成する段階とを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記エンコーダによって、前記画像データの処理を行って、コード化されたデータを生成する段階は、
前記画像データを処理して複数の値Ｘを生成する段階と、
前記複数のＸ値を、前記網膜の網膜細胞ｍの対応する応答を表す複数の応答値λｍに変換する段階とを含み、
前記応答値に基づいて、前記コード化されたデータを生成する段階は、スパイクバーストを防止するために、前記応答値を修正する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記応答値は、網膜細胞発火率に対応し、
前記方法は、前記網膜細胞発火率に基づいて、スパイク列信号を生成する段階をさらに含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記エンコーダによって、前記画像データの処理を行って、コード化されたデータを生成する段階は、
画像データから画像を受け取り、各画像に対して、照明又はコントラストを再スケーリングし、再スケーリングされた画像ストリームを生成する段階と、
前記再スケーリングされた画像ストリームからＮ個の再スケーリングされた１組の画像を受け取る段階と、
前記Ｎ個の再スケーリングされた１組の画像に前記時空間変換を適用して、１組の網膜応答値であって、各値がそれぞれ１つの網膜細胞に対応する１組の網膜応答値を生成する段階と、
前記網膜応答値に基づいて、前記コード化されたデータを生成する段階とを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記時空間変換を適用することは、
時空的カーネルに前記Ｎ個の再スケーリングされた画像を畳み込んで、Ｎ個の時空間的に変換された画像を生成する段階と、
前記時空間的に変換された画像に非線形関数を適用して、前記１組の応答値を生成する段階とを含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記時空間変換を適用することは、
空間的カーネルに前記Ｎ個の再スケーリングされた画像を畳み込んで、Ｎ個の空間的に変換された画像を生成する段階と、
時間的カーネルに前記Ｎ個の空間的に変換された画像を畳み込んで、時間的変換出力を生成する段階と、
前記時間的変換出力に非線形関数を適用して、前記１組の応答値を生成する段階とを含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記エンコーダは、１組のパラメータによって特徴付けられ、
前記パラメータの値は、哺乳類の網膜から、該網膜が白色ノイズと自然情景刺激に露出されている間に、実験的に得られた応答データを使用して判断される、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記時空間変換を適用する段階は、
前記一連の画像に時空的カーネルを適用して、時空間的に変換された画像を生成する段階と、
前記時空間的に変換された画像に非線形関数を適用して、１組の網膜応答値を生成する段階と、
前記１組の網膜応答値に基づいて、前記コード化されたデータを生成する段階とを含み、
前記方法は、前記コード化されたデータに従って高解像度信号送信デバイスを活性化する段階をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記時空間変換を適用する段階は、
前記一連の画像に時空的カーネルを適用して、時空間的に変換された画像を生成する段階を含み、
前記画像データの処理は、前記時空間的に変換された画像に線形関数及び非線形関数の一方又は両方を適用して、網膜応答値を生成する段階をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
視力を、それを必要とする被検者において回復又は改善するためのシステムにおいて、
刺激を受け取るためのデバイスと、
処理デバイスであって、
前記刺激から、それぞれ個々の網膜細胞の入出力変換を模倣するように構成された、コード化されたデータのための１組のエンコーダを格納する記憶媒体と、
少なくとも１つのプロセッサであって、
一連の画像に対応し、前記刺激に関連する画像データを受け取り、
前記画像データの処理であって、
前記画像データに時空間変換を適用する段階、及び、
前記時空間変換から生成されたデータに基づいて、前記コード化されたデータを生成する段階を含む、前記画像データの処理を行って、前記コード化されたデータを生成するように構成された、前記少なくとも１つのプロセッサと
を含む、前記処理デバイスと、
前記コード化されたデータを出力に変換するためのインタフェースとを含む、
ことを特徴とするシステム。
【請求項１１】
それぞれの網膜細胞を個別に活性化するための高解像度光応答トランスデューサをさらに含み、
前記高解像度光応答トランスデューサは、前記出力に従ってそれぞれ個々の網膜細胞を活性化するための前記インタフェースと結合され、
前記それぞれ個々の網膜細胞を活性化することは、同じ刺激に対する正常な網膜からの網膜神経節細胞の応答と実質的に類似である、白色ノイズ刺激を含む広範囲の刺激に対する網膜神経節細胞応答をもたらす、
ことを特徴とする請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記時空間変換を適用するために、前記少なくとも１つのプロセッサは、さらに、
前記一連の画像に時空的カーネルを適用して、時空間的に変換された画像を生成し、
前記時空間的に変換された画像に非線形関数を適用して、１組の網膜応答値を生成し、
前記１組の網膜応答値に基づいて、前記コード化されたデータを生成するように構成された、
ことを特徴とする請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】
前記時空間変換を適用するために、前記少なくとも１つのプロセッサは、さらに、
前記一連の画像に時空的カーネルを適用して、時空間的に変換された画像を生成するように構成され、
前記画像データの処理は、前記時空間的に変換された画像に線形関数及び非線形関数の一方又は両方を適用して、網膜応答値を生成する、
ことを特徴とする請求項１０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月24日(2016.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技の演出に係る制御を行う演出制御手段と、
前記遊技の演出を行う演出装置を制御するための単位制御手段と、を備え、
前記演出制御手段を、前記単位制御手段を統括的に制御する統括制御手段として構成し、
前記統括制御手段と前記単位制御手段の間に、タイミング信号を伝達するタイミング信号線、及び、データ信号を伝達するデータ信号線を備えることによって前記統括制御手段から前記単位制御手段にデータの送信を可能とし、
前記単位制御手段は、前記統括制御手段からの初期化指令によって初期化可能に構成されていることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
演出装置を制御するための単位制御手段と、単位制御手段を統括的に制御する統括制御手段とを備えた遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
特許文献１に記載の遊技機は、統括制御手段と単位制御手段とを接続する接続線の数を削減することができなかった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、統括制御手段と単位制御手段とを接続する接続線の数を削減することのできる遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、遊技の演出に係る制御を行う演出制御手段と、前記遊技の演出を行う演出装置を制御するための単位制御手段と、を備え、前記演出制御手段を、前記単位制御手段を統括的に制御する統括制御手段として構成し、前記統括制御手段と前記単位制御手段の間に、タイミング信号を伝達するタイミング信号線、及び、データ信号を伝達するデータ信号線を備えることによって前記統括制御手段から前記単位制御手段にデータの送信を可能とし、前記単位制御手段は、前記統括制御手段からの初期化指令によって初期化可能に構成されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明によれば、統括制御手段と単位制御手段とを接続する接続線の数を削減することのできる遊技機を提供することができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月14日(2016.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら、上記遊技機には、例えば、第１始動口よりも第２始動口への入賞に基づいて大当たり判定が行われた場合の方が、遊技者にとって有利な大当たりに当選し易い設定が行われているものもあるが、次に上記所定の領域を通過した遊技球がどちらの始動口に入賞するのかわからない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
それ故に、本発明の目的は、遊技機における状態を遊技者に報知することができる遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の遊技機の一構成例は、可変入賞手段、および報知手段を備える。可変入賞手段は、第１始動条件が成立しやすい第１状態と第２始動条件が成立しやすい第２状態とに変化可能である。特別遊技判定手段は、第１始動条件または第２始動条件の成立を条件として、遊技者にとって有利な特別遊技を行うか否かを判定する。報知手段は、第１状態であることの報知を行う第１報知態様と第２状態であることの報知を行う第２報知態様とを、それぞれ異なる報知態様で報知する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、遊技機における状態を遊技者に報知することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１始動条件が成立しやすい第１状態と第２始動条件が成立しやすい第２状態とに変化可能な可変入賞手段と、
前記第１始動条件または前記第２始動条件の成立を条件として、遊技者にとって有利な特別遊技を行うか否かを判定する特別遊技判定手段と、
前記第１状態であることの報知を行う第１報知態様と前記第２状態であることの報知を行う第２報知態様とを、それぞれ異なる報知態様で報知する報知手段とを備える、遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月21日(2016.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下側に通気のための空間を有するように支持される上板部と、
上板部を支持するための支持部と、
上板部の上側に設けられた多数の上向きの膨出部と、
それらの膨出部間において上板部を上下に貫通する多数の通気孔部を備えてなり、
前記膨出部は、間隔おきに所定方向に並んで列を形成し、この膨出部の列が間隔おきに複数並列し、並列した膨出部の列における膨出部が間隔おきに並んでおり、
上板部の上面は、前記膨出部が所定方向に並んだ列に沿って波形状をなすと共に、前記並列した膨出部の列における膨出部の並びに沿って波形状をなすものであることを特徴とするスノコ。
【請求項２】
上記支持部として、上板部における上記多数の通気孔部のうち全て又は一部の通気孔部の周縁部のうち相対する部分からそれぞれ垂下した一対の垂下部同士が連結してなるものを有する請求項１記載のスノコ。
【請求項３】
上記一対の垂下部同士の連結が、両垂下部の下端部同士を連結する下端連結部により行われ、その下端連結部が被載置面上に接して上板部を支持するものである請求項２記載のスノコ。
【請求項４】
膨出部の平面視形状が、上記所定方向に交差する方向を長手方向とし、前記所定方向を短手方向とする縦長形状である請求項１乃至３の何れか１項に記載のスノコ。
【請求項５】
上記膨出部の平面視形状の縦横比が、４：３乃至２：１以上３：１乃至４：１以下である請求項４記載のスノコ。
【請求項６】
上記膨出部の平面視形状の寸法が、縦１０乃至９０ｍｍ、横５乃至５０ｍｍである請求項１乃至５の何れか１項に記載のスノコ。
【請求項７】
上記間隔おきに並んだ膨出部における隣り合う膨出部の間に通気孔部を有する請求項１乃至６の何れか１項に記載のスノコ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月31日(2016.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１構造体、前記第１構造体と係合する第２構造体及び前記第１構造体と前記第２構造体とを相対移動不能に連結する連結手段を含む連結構造体を備える遊技機であって、
前記第１構造体は、本体部と、前記本体部の外側に位置する被連結部と、前記本体部から外方向に延出して前記本体部と前記被連結部とを接続し、前記第１構造体の被連結部と前記第２構造体の被連結部とが前記連結手段で連結されている相対移動阻止状態を解除する場合に切断される接続部とを含み、
前記第２構造体は、本体部と、前記連結手段により前記第１構造体の被連結部と連結される被連結部とを含み、
前記第１構造体の本体部、被連結部及び接続部は、光透過性物質で一体成形されており、
前記連結構造体に対して移動可能であり、移動可能な範囲のうちの一部の特定の範囲に位置している場合に前記接続部に光を照射可能である発光手段を備え、
前記発光手段と、前記連結構造体とが、遊技機本体に対して着脱可能に取り付けられた遊技部材に設けられていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記遊技機は、パチンコ機またはスロットマシンであることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決すべく、本発明に係る遊技機は、
第１構造体、前記第１構造体と係合する第２構造体及び前記第１構造体と前記第２構造体とを相対移動不能に連結する連結手段を含む連結構造体を備える遊技機であって、
前記第１構造体は、本体部と、前記本体部の外側に位置する被連結部と、前記本体部から外方向に延出して前記本体部と前記被連結部とを接続し、前記第１構造体の被連結部と前記第２構造体の被連結部とが前記連結手段で連結されている相対移動阻止状態を解除する場合に切断される接続部とを含み、
前記第２構造体は、本体部と、前記連結手段により前記第１構造体の被連結部と連結される被連結部とを含み、
前記第１構造体の本体部、被連結部及び接続部は、光透過性物質で一体成形されており、
前記連結構造体に対して移動可能であり、移動可能な範囲のうちの一部の特定の範囲に位置している場合に前記接続部に光を照射可能である発光手段を備え、
前記発光手段と、前記連結構造体とが、遊技機本体に対して着脱可能に取り付けられた遊技部材に設けられていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月29日(2016.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体に対して前方側に開閉可能に支持される開閉体と、該開閉体の背面側に設けられ、外部機器の配線を接続することにより遊技機に関する情報を遊技機外部に出力可能とする外部出力手段とを備えた遊技機において、
前記開閉体は、該開閉体の背面側に設けられる遊技装置と、
該遊技装置が配置される収容空間を形成する部材であって、該収容空間の背面側であって上側部分を少なくとも覆う背面カバー手段とを備え、
前記外部出力手段は、前記背面カバー手段の上端部であって前記開閉体の上面の一部を構成する位置に設けられていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記遊技機は、パチンコ遊技機、又はスロットマシン等の回胴式遊技機であることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決すべく、請求項１記載の発明は、
支持体に対して前方側に開閉可能に支持される開閉体と、該開閉体の背面側に設けられ
、外部機器の配線を接続することにより遊技機に関する情報を遊技機外部に出力可能とす
る外部出力手段とを備えた遊技機において、
前記開閉体は、該開閉体の背面側に設けられる遊技装置と、
該遊技装置が配置される収容空間を形成する部材であって、該収容空間の背面側であっ
て上側部分を少なくとも覆う背面カバー手段とを備え、
前記外部出力手段は、前記背面カバー手段の上端部であって前記開閉体の上面の一部を構成する位置に設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月18日(2016.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が転動する転動領域と、
遊技状態の移行抽選を行う移行抽選手段と、
遊技球が検知されることを条件に、前記移行抽選手段による移行抽選を行うための始動情報を出力する始動情報出力手段と、
前記移行抽選手段による移行抽選の結果に基づいて識別情報を可変表示する可変表示手段と、
遊技球の入賞が不可能な閉鎖状態と遊技球の入賞が可能な開放状態との間で変化させられる第１の可変入賞手段及び前記第１の可変入賞手段の遊技球転動領域下流側に配置された第２の可変入賞手段と、
前記移行抽選手段における移行抽選の結果が特別の抽選結果であるときに、前記第１及び第２可変入賞手段を所定の態様で開放状態と閉鎖状態との間で変化させる特別遊技状態に遊技状態を移行させて制御する遊技状態制御手段と、
前記第１の可変入賞手段及び前記第２の可変入賞手段のそれぞれへの遊技球を検出する第１の入賞検出手段及び第２の入賞検出手段と、
を備えた遊技機であって、
前記遊技状態制御手段は、
前記特別遊技状態に遊技状態を移行した際、前記第１の可変入賞手段及び前記第２の可変入賞手段を、所定の時間を空けて交互に開放状態とし、
前記第１の可変入賞手段が所定の閉鎖条件を満たすまで開放状態とされている間に、開放状態から閉鎖状態とされた前記第２の可変入賞手段において開放状態中に入賞したものの前記第２の入賞検出手段により検出されていない未検出の遊技球を当該第２の入賞検出手段に検出させ、
前記第２の可変入賞手段が所定の閉鎖条件を満たすまで開放状態とされている間に、開放状態から閉鎖状態とされた前記第１の可変入賞手段において開放状態中に入賞したものの前記第１の入賞検出手段により検出されていない未検出の遊技球を当該第１の入賞検出手段に検出させ、
前記所定の時間は、前記第１の可変入賞手段が閉鎖したときに前記第１の可変入賞手段上部に存在する遊技球がその後開放される前記第２の可変入賞手段に入賞可能となる時間に設定される
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
遊技球が転動する転動領域と、
遊技状態の移行抽選を行う移行抽選手段と、
遊技球が検知されることを条件に、前記移行抽選手段による移行抽選を行うための始動情報を出力する始動情報出力手段と、
前記移行抽選手段による移行抽選の結果に基づいて識別情報を可変表示する可変表示手段と、
遊技球の入賞が不可能な閉鎖状態と遊技球の入賞が可能な開放状態との間で変化させられる第１の可変入賞手段及び前記第１の可変入賞手段の遊技球転動領域下流側に配置された第２の可変入賞手段と、
前記移行抽選手段における移行抽選の結果が特別の抽選結果であるときに、前記第１及び第２可変入賞手段を所定の態様で開放状態と閉鎖状態との間で変化させる特別遊技状態に遊技状態を移行させて制御する遊技状態制御手段と、
前記第１の可変入賞手段及び前記第２の可変入賞手段のそれぞれへの遊技球を検出する第１の入賞検出手段及び第２の入賞検出手段と、
を備えた遊技機であって、
前記遊技状態制御手段は、
前記特別遊技状態に遊技状態を移行した際、前記第１の可変入賞手段及び前記第２の可変入賞手段を、所定の時間を空けて交互に開放状態とし、
前記第１の可変入賞手段が所定の閉鎖条件を満たすまで開放状態とされている間に、開放状態から閉鎖状態とされた前記第２の可変入賞手段において開放状態中に入賞したものの前記第２の入賞検出手段により検出されていない未検出の遊技球を当該第２の入賞検出手段に検出させ、
前記第２の可変入賞手段が所定の閉鎖条件を満たすまで開放状態とされている間に、開放状態から閉鎖状態とされた前記第１の可変入賞手段において開放状態中に入賞したものの前記第１の入賞検出手段により検出されていない未検出の遊技球を当該第１の入賞検出手段に検出させ、
前記所定の時間は、前記第１の可変入賞手段が閉鎖したときに前記第１の可変入賞手段上部に存在する遊技球がその後開放される前記第２の可変入賞手段に入賞可能となる時間に設定される
ことを特徴とする遊技機。