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【手続補正書】
【提出日】平成28年7月5日(2016.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
摩耗検知機能を有する管体であって、
透明材料からなる管本体と、
前記管本体の内部に前記管本体の全長に亘って設けられた着色材料からなる摩耗検知部と、
前記管本体に設けられた透明材料からなる補強線材と、を備え、
前記摩耗検知部が、前記管本体の周方向一部を部分的に覆う線状又は帯状に形成され、前記補強線材の内部に前記摩耗検知部を埋設し、前記補強線材において厚み方向中間位置よりも内側に前記摩耗検知部を配置したことを特徴とする管体。
【請求項２】
前記摩耗検知部を線状に形成したことを特徴とする請求項１記載の管体。
【請求項３】
前記管本体に対して前記摩耗検知部を螺旋状に配置したことを特徴とする請求項１又は２記載の管体。
【請求項４】
前記補強線材は、前記摩耗検知部よりも厚み方向外側に配置される前記補強線材の中央部位を径方向外側へ最も膨出させ、前記中央部位から前記管本体の軸方向両端部位へ向け徐々に肉薄にして透明の凸レンズとなるように形成したことを特徴とする請求項１、２又は３記載の管体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的を達成するために本発明は、摩耗検知機能を有する管体であって、透明材料からなる管本体と、前記管本体の内部に前記管本体の全長に亘って設けられた着色材料からなる摩耗検知部と、前記管本体に設けられた透明材料からなる補強線材と、を備え、前記摩耗検知部が、前記管本体の周方向一部を部分的に覆う線状又は帯状に形成され、前記補強線材の内部に前記摩耗検知部を埋設し、前記補強線材において厚み方向中間位置よりも内側に前記摩耗検知部を配置したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タービン（１００）で使用される排気システム（２００）を組み立てる方法であって、
入力（２０２）及び出力（２０４）を含む排気フード（１１０）をタービンに結合して、タービンから吐出された流体を排気フードに流入させる段階であって、排気フードが、入力から出力に延在する少なくとも第１の側壁（６０２）によって画成され、第１の側壁（６０２）に１以上の開口（６１２）が画成されている、段階と、
多段エジェクタ（５００）を排気フードに結合し、排気フード内を流れる流体の流れ剥離を低減させる段階であって、多段エジェクタ（５００）がハウジング（５０２）を含んでいて、前記ハウジング（５０２）が、第１の端部（５２０）と、第２の端部（５２４）と、第１の端部から第２の端部に延在する中間セクション（５２２）とを有しているとともに、前記ハウジングが、複数の入口（５０６、５０８、５１２）及び１以上の出口（５１０）を含んでいる、段階と、
前記１以上の開口（６１２）を介して排気フードから吐出される流体を受けるように前記複数の入口の少なくとも１つを排気フード（１１０）に結合する段階と
を含む方法。
【請求項２】
多段エジェクタを排気フードに結合する段階がさらに、１以上のポート（６１４）を１以上の出口に結合する段階を含み、１以上のポートが、排気フードの入力と出力の間に延在する第２の側壁（６０４）に画成される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
当該方法がさらに、前記複数の入口の少なくとも１つを１以上の開口と流体連通して結合し、流体が１以上の開口から前記複数の入口の少なくとも１つに送られるようにする段階を含む、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
当該方法がさらに、排気フードを復水器（１１４）に結合し、復水器が排気フードから吐出された流体を受け入れる段階を含む、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
当該方法がさらに、ヘッダ（１１６）を前記複数の入口の少なくとも１つと流体連通して結合し、高圧蒸気がヘッダから前記複数の入口の少なくとも１つに送られるようにする段階を含む、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
タービン（１００）で使用されるための排気システム（２００）であって、
タービンから吐出された流体を受けるように配置された入力（２０２）と、出力（２０４）とを含む排気フード（１１０）であって、入力と出力の間に延在する第１の側壁（６０２）にして１以上の開口（６１２）が画成された第１の側壁（６０２）を含む排気フード（１１０）と、
排気フードに結合された多段エジェクタ（５００）であって、多段エジェクタ（５００）がハウジング（５０２）を含んでいて、前記ハウジング（５０２）が、第１の端部（５２０）と、第２の端部（５２４）と、第１の端部から第２の端部に延在する中間セクション（５２２）とを有しているとともに、前記ハウジングが、複数の入口（５０６、５０８、５１２）と１以上の出口（５１０）を含んでおり、複数の入口の少なくとも１つが、排気フードに流体連通して結合されて、１以上の開口を介して排気フードから吐出された流体を受け入れる、多段エジェクタ（５００）と
を備える、排気システム。
【請求項７】
排気フードがさらに、排気フードの入力と出力の間に延在する第２の側壁（６０４）を含み、第２の側壁が１以上のポート（６１４）が画成され、該ポートが多段エジェクタから吐出された流体を受けるように構成される、請求項６記載の排気システム。
【請求項８】
複数の入口のうちの１つが、開口を介して排気フードから吸い込まれた流体を受け、該流体が、複数の入口のうちの別の入口に流入する流体によって発生される真空により吸い込まれる、請求項７記載の排気システム。
【請求項９】
排気フードが復水器（１１４）と流体連通している、請求項６乃至請求項８のいずれか１項記載の排気システム。
【請求項１０】
多段エジェクタの複数の入口の少なくとも１つと中間セクション入口（５１２）とが各々、ヘッダ（１１６）から流体を受け取る、請求項６乃至請求項９のいずれか１項記載の排気システム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷した画像の一部分を電磁放射線にさらすように構成された、レーザーによる艶出し撮像素子を用いて光沢差のある画像を作成するためのマーキング材料システムであって、
前記印刷した画像を作成するためのマーキング材料と、
前記電磁放射線を吸収するように構成され、マーキング材料の一構成要素である吸収素子と、を備え、
前記吸収素子は、前記マーキング材料中、０．５〜１０μｍの減衰長を付与するのに十分な濃度で前記マーキング材料中に配置されている、マーキング材料システム。
【請求項２】
前記マーキング材料が、樹脂またはバインダーをさらに含み、前記樹脂またはバインダーが、２５０℃未満の温度で溶融する樹脂またはバインダーである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記マーキング材料が、樹脂またはバインダーをさらに含み、前記樹脂またはバインダーが、１５０℃未満の温度で溶融する樹脂またはバインダーである、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記マーキング材料が、熱可塑性プラスチックまたはワックスをさらに含み、前記熱可塑性プラスチックまたはワックスが、２５０℃未満の温度で溶融する熱可塑性プラスチックまたはワックスである、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記マーキング材料が、少なくとも１つの着色剤素子を含み、前記吸収素子が、少なくとも１つの着色剤素子のうち、少なくとも１つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記吸収素子が顔料をさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記吸収素子が染料をさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
前記吸収素子がカーボンブラックをさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項９】
前記レーザーによる艶出し撮像素子がＩＲレーザーを含み、前記吸収素子がＩＲ光吸収性である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ＩＲ光吸収性の吸収素子が、可視光に対して透明である、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記吸収素子は、前記レーザーによる艶出し撮像素子からの電磁放射線にさらされた時に、前記マーキング材料の一部を不均一に加熱することができるように、前記マーキング材料中に不均一な分布を有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記吸収素子は、前記マーキング材料中に０．１〜５％の濃度で配置されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
光沢差のある画像を作成するためのマーキング材料システムであって、
可視光に対して透明であり、ＩＲ光吸収性の吸収素子を有する、印刷した画像を作成するためのマーキング材料と、
前記吸収素子によって吸収するために、前記印刷した画像の一部をＩＲ光にさらすように構成されたレーザーによる艶出し撮像素子と、を備え、
前記吸収素子は、前記マーキング材料中、０．５〜１０μｍの減衰長を付与するのに十分な濃度で前記マーキング材料中に配置されている、マーキング材料システム。
【請求項１４】
前記吸収素子が顔料である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記吸収素子が染料である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１６】
前記マーキング材料中に粒状の分布を有する前記吸収素子を含む、請求項１３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月25日(2016.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性層の上面に対して垂直な垂直方向の成分を含む第１の方向に前記磁性層の一部が磁化されてサーボ信号が記録され、前記サーボ信号が記録される前に、前記垂直方向の成分を含む、前記第１の方向とは反対方向の第２の方向に磁化される磁性層
を具備する磁気記録媒体。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体を回転させて磁化量を測定したときの磁化量の最大値を基準としたときの前記垂直方向における磁化量の割合と、前記上面に平行な長手方向における前記磁性層の角形比との積の絶対値が０．０５以上０．２５以下である
磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、無配向又は垂直配向の磁性粉を内部に含む
磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項３に記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性粉は、バリウムフェライト又は針状メタルである
磁気記録媒体。
【請求項５】
磁気記録媒体が有する磁性層の一部に対して磁場を印加することで、前記磁性層の上面に垂直な垂直方向の成分を含む第１の方向に前記磁性層の一部を磁化させてサーボ信号を記録するサーボ信号記録部と、
前記サーボ信号記録部によってサーボ信号が記録される前に、前記磁性層に磁場を印加することで、前記垂直方向の成分を含む、前記第１の方向とは反対方向の第２の方向に前記磁性層を磁化させる前処理部と
を具備するサーボ信号記録装置。
【請求項６】
請求項５に記載のサーボ信号記録装置であって、
前記前処理部は、回転可能であり、前記回転に応じて磁性層に印加される磁場を変化可能な磁石を有する
サーボ信号記録装置。
【請求項７】
磁気記録媒体が有する磁性層の一部に対して磁場を印加することで、前記磁性層の上面に垂直な垂直方向の成分を含む第１の方向に前記磁性層の一部を磁化させてサーボ信号を記録し、
前記サーボ信号が記録される前に、前記磁性層に磁場を印加することで、前記垂直方向の成分を含む、前記第１の方向とは反対方向の第２の方向に前記磁性層を磁化させる
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
ギャップ自体の間隔が１μｍ以下で構成された磁気ギャップの漏れ磁界によってサーボ信号が記録された磁性層を有し、前記サーボ信号を読み取ったときの再生波形における、互いに隣接する正出力ピーク及び負出力ピークの間隔が示す距離が、１．２μｍ以下である
磁気記録媒体。
【請求項９】
請求項８に記載の磁気記録媒体であって、
互いに隣接する前記正出力ピーク及び前記負出力ピークの間隔が示す前記距離が、１．１μｍ以下である
磁気記録媒体。
【請求項１０】
請求項９に記載の磁気記録媒体であって、
互いに隣接する前記正出力ピーク及び前記負出力ピークの間隔が示す前記距離が、１．０μｍ以下である
磁気記録媒体。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１つに記載の磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、その上面に対して垂直な垂直方向の成分を含む第１の方向に前記磁性層の一部が磁化されて前記サーボ信号が記録され、前記サーボ信号が記録される前に、前記垂直方向の成分を含む、前記第１の方向とは反対方向の第２の方向に磁化される
磁気記録媒体。
【請求項１２】
磁気記録媒体の磁性層に記録されたサーボ信号を読み取ったときの再生波形における、互いに隣接する正出力ピーク及び負出力ピークの間隔が示す距離が、１．２μｍ以下となるように、ギャップ自体の間隔が１μｍ以下で構成された磁気ギャップの漏れ磁界によって前記磁性層に前記サーボ信号を記録するサーボ信号記録部
を具備するサーボ信号記録装置。
【請求項１３】
磁気記録媒体の磁性層に記録されたサーボ信号を読み取ったときの再生波形における、互いに隣接する正出力ピーク及び負出力ピークの間隔が示す距離が、１．２μｍ以下となるように、ギャップ自体の間隔が１μｍ以下で構成された磁気ギャップの漏れ磁界によって前記磁性層に前記サーボ信号を記録する
磁気記録媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月29日(2016.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述の目的を達成するため、本発明は、反射面を備える第１、第２反射部と、複数の光源とを備え、複数の光源は、第２反射部の周囲に配置され、第１反射部の反射面と前記第２反射部の反射面とは対向して配置され、複数の光源から出射された光線は、第１反射部と第２反射面のそれぞれで複数回の反射をすることを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射面を備える第１、第２反射部と、複数の光源とを備え、前記複数の光源は、前記第２反射部の周囲に配置され、前記第１反射部の反射面と前記第２反射部の反射面とは対向して配置され、
前記複数の光源から出射された光線は、前記第１反射部と前記第2反射面のそれぞれで複数回の反射をすることを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記複数の光源は、略円状もしくは多角形状の外周をなすように配列され、
前記第１反射部は、前記複数の光源から射出される光線の射出方向に配置され、各光源から射出された光線を、前記光源側に反射する反射鏡部と反射しないで透過する透過部とを備えていて、
前記第２反射部は、前記光源側に該第１反射部と対向した状態で配置され、前記複数の光源からの光線を前記第１反射部の反射鏡部に向けて反射するものであり、
前記第１反射部と前記第２反射部間で光反射をしてから前記透過部から光線束として放出されるように構成されたことを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項３】
前記第１反射部の透過部は、透過可能な平行平板で形成されていることを特徴とする請求項２記載の光源装置。
【請求項４】
前記第１反射部の透過部が曲率を有したレンズ形状で形成されていることを特徴とする請求項２記載の光源装置。
【請求項５】
前記複数の光源は、前記第１反射部に対して射出光軸が各々同一の角度傾斜して配置されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光源装置。
【請求項６】
前記複数の光源は、レーザ素子と該レーザ素子からの射出光を平行光又は集束光に変換するコリメータレンズとがそれぞれ組み合わされて形成されていることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光源装置。
【請求項７】
前記複数の光源は、前記各コリメータレンズのそれぞれの曲率中心軸と前記光源の各光軸とが、円周方向内側にオフセットして配置されていることを特徴とする請求項６記載の光源装置。
【請求項８】
前記複数の光源が、同一中心を持つ多重円環状に配列されていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の光源装置。
【請求項９】
前記複数の光源を支持する支持部材に装着される放熱部と、
前記放熱部を送風により冷却する送風手段を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記複数の光源は、少なくとも前記送風手段の空気が流れる領域にその一部が位置するように配置されていることを特徴とする請求項９記載の光源装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の光源装置と、前記光源装置の各光源からの光量を均一化する光量均一化手段と、前記光量均一化手段で光量を均一化された出射光を画像形成パネルに伝達する照明光伝達光学系と、前記画像形成パネルに形成された前記画像を拡大投射する投射光学系とを備えた画像投射装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の光源装置と、  前記光源装置の各光源からの光量を均一化する光量均一化手段と、
前記光源からの光を用いて画像を形成する画像形成パネルと、
前記光量均一化手段で光量を均一化された出射光を前記画像形成パネルに伝達する照明光伝達光学系とを備えたことを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月18日(2016.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子の作製方法であって、
減圧下の成膜室内で、成膜材料を加熱し気化させる第１の工程と、
前記成膜室内で、前記発光性の有機化合物を含む層に含まれる層を成膜する第２の工程と、
を、排気、及び質量分析計での前記成膜室内の水の分圧の測定をしながら行い、
前記第２の工程の開始時における前記水の分圧が、前記第１の工程における前記水の分圧の平均値より小さい値である発光素子の作製方法。
【請求項２】
一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子の作製方法であって、
減圧下の成膜室内で、成膜材料を加熱し気化させる第１の工程と、
前記成膜室内で、前記発光性の有機化合物を含む層に含まれる層を成膜する第２の工程と、
を、排気、及び質量分析計での前記成膜室内の水の分圧の測定をしながら行い、
前記第２の工程における前記水の分圧の平均値は、前記第１の工程における前記水の分圧の平均値より小さい発光素子の作製方法。
【請求項３】
一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子の作製方法であって、
減圧下の成膜室内で、成膜材料を加熱し気化させる第１の工程と、
前記成膜室内で、前記発光性の有機化合物を含む層に含まれる層を成膜する第２の工程と、
を、排気、及び質量分析計での前記成膜室内の水の分圧の測定をしながら行い、
前記第２の工程を、水の分圧が１×１０−４Ｐａ以下の前記成膜室内で行う発光素子の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の工程の前に、減圧下の前記成膜室内で、前記成膜材料が気化する温度未満で前記成膜材料を加熱する工程を有する発光素子の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記第１の工程と前記第２の工程の間に、前記成膜材料を加熱しない期間、又は前記成膜材料が気化する温度未満で前記成膜材料を加熱する期間を有する発光素子の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記成膜室の壁を冷却しながら前記第２の工程を行う発光素子の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記第２の工程の開始時における酸素原子の分圧が、前記第１の工程における酸素原子の分圧の平均値より小さい値である発光素子の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、
前記第２の工程を、酸素原子の分圧が２×１０−６Ｐａ以下の前記成膜室内で行う発光素子の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記質量分析計は、四重極質量分析計である発光素子の作製方法。
【請求項１０】
加熱機構を備えた成膜材料保持部を有し、排気機構及び質量分析計と接続する成膜室と、
前記質量分析計で測定した前記成膜室の水の分圧の値に基づき、前記加熱機構を制御する制御部と、を有する成膜装置。
【請求項１１】
加熱機構を備えた成膜材料保持部、壁面を加熱する機構、及び前記壁面を冷却する機構を備え、排気機構及び質量分析計と接続する成膜室と、
前記質量分析計で測定した前記成膜室の水の分圧の値に基づき、前記加熱機構を制御する制御部と、を有する成膜装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１において、
前記質量分析計は、四重極質量分析計である成膜装置。
【請求項１３】
成膜材料室を有する成膜室を備え、
前記成膜室は、第１の排気機構と接続し、
前記成膜材料室は、仕切り弁によって前記成膜室の他の部分と仕切られ、質量分析計及び第２の排気機構と接続し、加熱機構を備える成膜材料保持部を有する成膜装置。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記成膜材料室が、前記成膜材料室の内壁を加熱する機構を備える成膜装置。
【請求項１５】
請求項１３又は１４において、
前記成膜材料室が、前記成膜材料室の内壁を冷却する機構を備える成膜装置。
【請求項１６】
請求項１３乃至１５のいずれか一項において、
前記成膜室が、前記成膜室の内壁を加熱する機構を備える成膜装置。
【請求項１７】
請求項１３乃至１６のいずれか一項において、
前記成膜室が、前記成膜室の内壁を冷却する機構を備える成膜装置。
【請求項１８】
請求項１３乃至１７のいずれか一項において、
前記質量分析計は、四重極質量分析計である成膜装置。
【請求項１９】
請求項１３乃至１８のいずれか一項に記載の成膜装置を用いて、一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子を作製する方法であって、
前記仕切り弁が閉じられた減圧下の前記成膜材料室内で、前記加熱機構を用いて、前記成膜材料保持部に保持された成膜材料を加熱する第１の工程と、
前記仕切り弁を開く第２の工程と、
を、前記第１の排気機構及び前記第２の排気機構による排気、並びに、前記質量分析計での前記成膜材料室内の水の分圧の測定をしながら行った後、
前記成膜材料を用いて、前記成膜室内に配置された基板上に、前記発光性の有機化合物を含む層に含まれる層を成膜し、
前記第２の工程の開始時における前記水の分圧が、前記第１の工程における前記水の分圧の平均値より小さい値である発光素子の作製方法。
【請求項２０】
請求項１３乃至１８のいずれか一項に記載の成膜装置を用いて、一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子を作製する方法であって、
前記仕切り弁が閉じられた減圧下の前記成膜材料室内で、前記加熱機構を用いて、前記成膜材料保持部に保持された成膜材料を加熱する第１の工程と、
前記仕切り弁を開く第２の工程と、
を、前記第１の排気機構及び前記第２の排気機構による排気、並びに、前記質量分析計での前記成膜材料室内の水の分圧の測定をしながら行った後、
前記成膜材料を用いて、前記成膜室内に配置された基板上に、前記発光性の有機化合物を含む層に含まれる層を成膜し、
前記第２の工程の開始時における前記水の分圧が、１×１０−４Ｐａ以下である発光素子の作製方法。
【請求項２１】
請求項１９又は２０において、
前記第１の工程における前記加熱機構の温度は、前記成膜材料が気化する温度以上である発光素子の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月3日(2016.5.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
負極集電体と、
前記負極集電体上の、複数の粒状の負極活物質と、
前記粒状の負極活物質の表面の一部に接する第１の膜と、
前記粒状の負極活物質の表面の一部及び前記第１の膜の表面の一部に接する第２の膜と、を有し、
前記第１の膜は、第１の無機化合物を有し、
前記第２の膜は、有機化合物及び第２の無機化合物を有し、
前記第１の無機化合物と前記第２の無機化合物は、異なる化合物であることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項２】
請求項１において、前記粒状の負極活物質は、粒状の黒鉛であることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の無機化合物は、ニオブ、チタン、バナジウム、タンタル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、ハフニウム、クロム、アルミニウム若しくはシリコンのいずれか一の酸化物、またはこれら元素のいずれか一とリチウムとを含む酸化物であることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の無機化合物は、六方晶系の結晶構造を有するＮｂ２Ｏ５であることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記第２の無機化合物は、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリウム、若しくはマグネシウムの一を有するフッ化物、炭酸塩、酸化物、または水酸化物であることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記第２の無機化合物は、フッ化リチウム、炭酸リチウム、酸化リチウム、または水酸化リチウムであることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記第１の膜の膜厚は、キャリアイオンが通過する厚さであることを特徴とする蓄電装置用負極。
【請求項８】
正極と、
電解液を介して前記正極と対向する負極とを有し、
前記負極は、
負極集電体と、
前記負極集電体上の、複数の粒状の負極活物質と、
前記粒状の負極活物質の表面の一部に接する第１の膜と、
前記粒状の負極活物質の表面の一部及び前記第１の膜の表面の一部に接する第２の膜と、
前記第１の膜は、第１の無機化合物を有し、
前記第２の膜は、有機化合物及び第２の無機化合物を有し、
前記第１の無機化合物と前記第２の無機化合物は、異なる化合物であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項９】
請求項８において、前記粒状の負極活物質は、粒状の黒鉛であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項１０】
請求項８または９において、
前記第１の無機化合物は、ニオブ、チタン、バナジウム、タンタル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、ハフニウム、クロム、アルミニウム若しくはシリコンのいずれか一の酸化物、またはこれら元素のいずれか一とリチウムとを含む酸化物であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか一項において、
前記第１の無機化合物は、六方晶系の結晶構造を有するＮｂ２Ｏ５であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項１２】
請求項８乃至１１のいずれか一項において、
前記第２の無機化合物は、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリウム、若しくはマグネシウムの一を有するフッ化物、炭酸塩、酸化物、または水酸化物であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項１３】
請求項８乃至１２のいずれか一項において、
前記第２の無機化合物は、フッ化リチウム、炭酸リチウム、酸化リチウム、または水酸化リチウムであることを特徴とする蓄電装置。
【請求項１４】
請求項８乃至１３のいずれか一項において、
前記第１の膜の膜厚は、キャリアイオンが通過する厚さであることを特徴とする蓄電装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月12日(2016.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動流体が封入されたシリンダと、該シリンダ内に摺動可能に嵌装されたピストンと、該ピストンに連結され前記シリンダの外部に延出されたピストンロッドと、前記ピストンの摺動によって生じる作動流体の流れを制御して減衰力を発生させる減衰力発生機構と、を備え、
前記減衰力発生機構は、減衰力を発生させるメインバルブと、該メインバルブを閉じる方向に背圧を作用させる背圧室と、該背圧室に背圧を導く導入路と、前記背圧室の背圧を排出する排出路と、該排出路中に設けた制御弁と、を有し、
前記制御弁は、前記排出路中に設けた弁体と弁座と、電流に対応して前記弁体を移動させる力を発生するアクチュエータと、前記弁体を前記アクチュエータによる移動に対向する方向に付勢するバネ装置と、を有し、
前記バネ装置は、前記弁体が移動する全範囲で作用する一つのバネ部材と、該バネ部材の撓みにより該バネ部材の当接部が当接して該バネ部材の一部の撓みを制限する規制部材と、を有し、
前記バネ部材は、前記規制部材による該バネ部材の撓みの制限後、該バネ部材の撓みが制限されない他の部分が撓んで前記弁体に作用するバネ定数が前記バネ部材の撓みの制限前に比して高くなること特徴とする緩衝器。
【請求項２】
前記バネ部材は、環状の板状ばねからなり、
前記規制部材は、前記弁座側に設けられ、前記板状ばねが所定量撓んだときに、前記板状ばねの外周と内周との間の前記当接部が当接するように構成されたことを特徴とする請求項１に記載の緩衝器。
【請求項３】
前記バネ部材を、内周側には前記弁体が取付けられ、外周側は前記弁座側に拘束されるように設けたことを特徴とする請求項２に記載の緩衝器。
【請求項４】
前記バネ部材の前記当接部よりも外周側のバネ定数を内側のバネ定数より小さくしたことを特徴とする請求項２または３に記載の緩衝器。
【請求項５】
前記バネ部材は、前記弁座側に拘束される外側環状部と前記弁体が設けられる内側環状部とからなり、前記外側環状部と前記内側環状部との間には、一端が前記外側環状に接続されて周方向に延びる周方向延設バネ部と、一端が前記周方向延設バネ部と接続され他端が前記内側環状部と接続され径方向に延びる径方向延設バネ部とからなることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の緩衝器。
【請求項６】
前記規制部材を、前記板状ばねが所定量撓む前から徐々にたわみを規制するように構成したことを特徴とする請求項１乃至５に記載の緩衝器。
【請求項７】
前記バネ部材は、前記周方向延設バネ部と前記径方向延設バネ部とが接続される接続部位が前記当接部であることを特徴とする請求項５に記載の緩衝器。
【請求項８】
前記アクチュエータは、前記弁体を前記弁座に向けて移動させる力を発生し、前記バネ部材は、前記弁体を前記弁座から離す方向に付勢することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の緩衝器。
【請求項９】
前記バネ部材は、前記規制部材によって該バネ部材の一部の撓みが制限された位置から前記弁体が前記弁座に着座する位置まで移動する範囲が減衰力制御で使用し得る範囲であることを特徴とする請求項８に記載の緩衝器。
【請求項１０】
前記減衰力発生機構は、前記アクチュエータが力を発生していない場合、前記バネ部材の付勢力によって前記弁体が後退して閉弁されるフェイルバルブを備えることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の緩衝器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明に係る緩衝器は、作動流体が封入されたシリンダと、該シリンダ内に摺動可能に嵌装されたピストンと、該ピストンに連結され前記シリンダの外部に延出されたピストンロッドと、前記ピストンの摺動によって生じる作動流体の流れを制御して減衰力を発生させる減衰力発生機構と、を備え、前記減衰力発生機構は、減衰力を発生させるメインバルブと、該メインバルブを閉じる方向に背圧を作用させる背圧室と、該背圧室に背圧を導く導入路と、前記背圧室の背圧を排出する排出路と、該排出路中に設けた制御弁と、を有し、前記制御弁は、前記排出路中に設けた弁体と弁座と、電流に対応して前記弁体を移動させる力を発生するアクチュエータと、前記弁体を前記アクチュエータによる移動に対向する方向に付勢するバネ装置と、を有し、前記バネ装置は、前記弁体が移動する全範囲で作用する一つのバネ部材と、該バネ部材の撓みにより該バネ部材の当接部が当接して該バネ部材の一部の撓みを制限する規制部材と、を有し、前記バネ部材は、前記規制部材による該バネ部材の撓みの制限後、該バネ部材の撓みが制限されない他の部分が撓んで前記弁体に作用するバネ定数が前記バネ部材の撓みの制限前に比して高くなること特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月26日(2016.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンプレッサホイールとタービンホイールとを連結したシャフトを回転可能に支持する軸受部へと潤滑油を供給するターボチャージャの潤滑油供給機構であって、
オイルポンプから圧送される潤滑油を前記軸受部へと案内する供給油路と、
前記供給油路に設けられ、当該供給油路を流通する潤滑油の圧力に基づいて当該供給油路における前記潤滑油の流路を絞ることによって、前記供給油路から潤滑油を逃がすことなく当該潤滑油の流量を調整する流量制御弁と、
を具備することを特徴とする、
ターボチャージャの潤滑油供給機構。
【請求項２】
前記流量制御弁は、前記軸受部が形成されるベアリングハウジングに設けられることを特徴とする、
請求項１に記載のターボチャージャの潤滑油供給機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
即ち、請求項１においては、コンプレッサホイールとタービンホイールとを連結したシャフトを回転可能に支持する軸受部へと潤滑油を供給するターボチャージャの潤滑油供給機構であって、オイルポンプから圧送される潤滑油を前記軸受部へと案内する供給油路と、前記供給油路に設けられ、当該供給油路を流通する潤滑油の圧力に基づいて当該供給油路における前記潤滑油の流路を絞ることによって、前記供給油路から潤滑油を逃がすことなく当該潤滑油の流量を調整する流量制御弁と、を具備したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月5日(2016.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変容量型オイルポンプと、該ポンプと油路を介して接続された複数の油圧作動装置と、前記ポンプの容量を変更してオイルの吐出量を制御するポンプ制御手段とを備えたエンジンのオイル供給装置において、
前記吐出量に応じて変わる前記油路の油圧を検出する油圧検出手段を備え、
前記複数の油圧作動装置は、メタルベアリングを含み、
前記ポンプ制御手段は、エンジンの運転状態ごとに前記各油圧作動装置の要求油圧のうちで最も高い要求油圧を目標油圧として設定するとともに、前記油圧検出手段で検出された油圧が前記目標油圧に一致するように前記ポンプの容量を変更して前記吐出量を制御する
ことを特徴とするエンジンのオイル供給装置。
【請求項２】
前記エンジンは、多気筒エンジンであり、
前記複数の油圧作動装置として、前記メタルベアリングの他、
前記エンジンの運転状態に応じて油圧により吸気弁と排気弁のうち少なくとも一方の弁の特性を変更する油圧作動式弁特性制御装置と、
前記エンジンの運転状態に応じて油圧により吸気弁と排気弁のうち少なくとも一方の弁を停止して減気筒運転する油圧作動式弁停止装置と、
各ピストンへオイルを噴射するオイル噴射弁と、を備える
ことを特徴とする請求項１に記載のエンジンのオイル供給装置。
【請求項３】
前記ポンプ制御手段は、エンジン回転速度、エンジン負荷及び油温のパラメータにより、前記油圧作動式弁停止装置が作動するエンジンの運転領域の隣接領域では前記最も高い要求油圧よりも高い補正油圧に設定する
ことを特徴とする請求項２に記載のエンジンのオイル供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
まず、本願の請求項１に係る発明は、
可変容量型オイルポンプと、該ポンプと油路を介して接続された複数の油圧作動装置と、前記ポンプの容量を変更してオイルの吐出量を制御するポンプ制御手段とを備えたエンジンのオイル供給装置において、
前記吐出量に応じて変わる前記油路の油圧を検出する油圧検出手段を備え、
前記複数の油圧作動装置は、メタルベアリングを含み、
前記ポンプ制御手段は、エンジンの運転状態ごとに前記各油圧作動装置の要求油圧のうちで最も高い要求油圧を目標油圧として設定するとともに、前記油圧検出手段で検出された油圧が前記目標油圧に一致するように前記ポンプの容量を変更して前記吐出量を制御する
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本願の請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において、
前記エンジンは、多気筒エンジンであり、
前記複数の油圧作動装置として、前記メタルベアリングの他、
前記エンジンの運転状態に応じて油圧により吸気弁と排気弁のうち少なくとも一方の弁の特性を変更する油圧作動式弁特性制御装置と、
前記エンジンの運転状態に応じて油圧により吸気弁と排気弁のうち少なくとも一方の弁を停止して減気筒運転する油圧作動式弁停止装置と、
各ピストンへオイルを噴射するオイル噴射弁と、を備える
ことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本願の請求項３に係る発明は、請求項２に係る発明において、
前記ポンプ制御手段は、エンジン回転速度、エンジン負荷及び油温のパラメータにより、前記油圧作動式弁停止装置が作動するエンジンの運転領域の隣接領域では前記最も高い要求油圧よりも高い補正油圧に設定する
ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項１に係る発明によれば、エンジンの運転状態ごとにメタルベアリングを含む各油圧作動装置の要求油圧のうちで最も高い要求油圧が現時点の目標油圧として設定されているため、油路の油圧をこの目標油圧に一致させることで、各油圧作動装置の要求油圧を確保することができる。また、この目標油圧を実現するように油路の油圧を検出値に基づいてフィードバック制御するため、ポンプの容量を精度良く制御できる。したがって、エンジンの更なる燃費向上を実現できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項２に係る発明によれば、油圧作動装置としてメタルベアリングの他、油圧作動式弁特性制御装置、油圧作動式弁停止装置及びオイル噴射弁を備えるため、これらの作動油圧及びオイル噴射圧を確保しながら、可変容量型オイルポンプの容量を適切にできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項３に係る発明によれば、ポンプ制御手段は、エンジン回転速度、エンジン負荷及び油温のパラメータにより、油圧作動式弁停止装置が作動するエンジンの運転領域の隣接領域では最も高い要求油圧よりも高い補正油圧に設定するため、このポンプ制御手段によってポンプを制御することで、油圧作動式弁停止装置の作動応答性を高めて減気筒運転への移行を促進でき、燃費低減効果を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月9日(2016.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に燃料供給路が形成され、先端部に燃料噴射孔が形成されるハウジングと、
前記ハウジングの内部に配置され、燃料油圧に応じて前記燃料供給路を開閉するニードル弁と、
前記ニードル弁の先端に設けられ、外周面が前記ハウジングの内周面と接触して摺動するスプール弁と、
前記ハウジングの内周面において前記燃料噴射孔と異なる位置に形成され、前記燃料供給路に連通する溝部と、
を備え、
前記スプール弁には燃料油が流通する燃料油導入空間が形成され、
前記燃料供給路の開放時に、前記燃料油導入空間が前記溝部と連通し、かつ、前記燃料油導入空間が前記燃料噴射孔と連通する位置に移動し、
前記燃料供給路の閉鎖時に、前記スプール弁の外周面が前記燃料噴射孔に面し、前記燃料油導入空間が前記燃料噴射孔と連通しない位置に移動する燃料噴射装置。
【請求項２】
前記スプール弁の上部外周面が、前記燃料供給路の開閉動作において、常に前記ハウジングの内周面に接触している請求項１に記載の燃料噴射装置。
【請求項３】
前記燃料油導入空間は、前記スプール弁にて環状に形成される請求項１又は２に記載の燃料噴射装置。
【請求項４】
前記燃料噴射孔は、前記ハウジングにて軸方向に上段燃料噴射孔と下段燃料噴射孔が設けられ、
前記スプール弁内部に、前記スプール弁の下方の空間に燃料を供給する第２燃料供給路が形成され、
前記燃料供給路の開放時に、前記燃料油導入空間が前記溝部と連通し、かつ、前記燃料油導入空間が前記上段燃料噴射孔と連通する位置に移動するとともに前記スプール弁の下方の空間は、前記溝部と連通し、かつ、前記スプール弁の下方の空間が前記下段燃料噴射孔と連通する請求項１から３のいずれか１項に記載の燃料噴射装置。
【請求項５】
前記溝部は、前記ハウジングの内周面にて複数本形成され、複数本の前記溝部は、均等の間隔で前記ハウジングの内周面に設けられる請求項１から４のいずれか１項に記載の燃料噴射装置。
【請求項６】
前記溝部と前記燃料噴射孔とは、前記燃料噴射孔の口径以上の間隔に保たれて形成されている請求項１から５のいずれか１項に記載の燃料噴射装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の燃料噴射装置をシリンダヘッドに備えることを特徴とするディーゼル機関。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記発明において、前記燃料噴射孔は、前記ハウジングにて軸方向に上段燃料噴射孔と下段燃料噴射孔が設けられ、前記スプール弁内部に、前記スプール弁の下方の空間に燃料を供給する第２燃料供給路が形成され、前記燃料供給路の開放時に、前記燃料油導入空間が前記溝部と連通し、かつ、前記燃料油導入空間が前記上段燃料噴射孔と連通する位置に移動するとともに前記スプール弁の下方の空間は、前記溝部と連通し、かつ、前記スプール弁の下方の空間が前記下段燃料噴射孔と連通してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
以下に、本発明に係る実施形態について、図面を参照して説明する。
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態に係る燃料噴射装置１０について説明する。燃料噴射装置１０は、例えば２サイクル型の船舶用大型ディーゼル機関等の内燃機関に適用される。
燃料噴射装置１０は、円筒形状を有するハウジング１４が内燃機関のシリンダヘッド１２に設置される。図１は、本発明の第１実施形態に係る燃料噴射装置を示す概略図及び縦断面図であり、ニードル弁２６の閉弁時を示す。図２は、ニードル弁２６の開弁時を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月23日(2016.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二導体で負性抵抗素子と誘電体とを挟むように構成されたマイクロストリップ共振器によって規定された周波数ｆｏｓｃのテラヘルツ波が発振される発振器であって、
前記負性抵抗素子と並列に設けられた抵抗素子を備え、
前記抵抗素子は、発振されるテラヘルツ波の周波数ｆｏｓｃにおいて前記共振器内を定在する電界の強度が最大電界強度の１／ｅ２（ｅは自然対数の底）以下となる位置に配置される
ことを特徴とする発振器。
【請求項２】
前記抵抗素子は、前記共振器内に配置される
ことを特徴とする請求項１に記載の発振器。
【請求項３】
前記共振器は、パッチアンテナを含み構成される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の発振器。
【請求項４】
前記負性抵抗素子のバイアス電圧を調整するための電源と配線とを含むバイアス回路と、
前記共振器と前記バイアス回路を接続する為のストリップ導体をさらに備え、
前記抵抗素子は、前記ストリップ導体と接地との間に配置される
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項５】
前記抵抗素子は、半導体と金属の接触抵抗を含み構成される
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項６】
前記抵抗素子は、非線形抵抗である
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項７】
前記抵抗素子は、ショットキーバリアダイオードを含み構成される
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項８】
前記抵抗素子の抵抗は、有限な値であり、前記共振器の特性インピーダンスの１／１０〜１０倍の範囲である
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項９】
前記抵抗素子の抵抗は、有限な値であり、０．１〜１０００Ωの範囲である
ことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項１０】
前記抵抗素子は、前記共振器の中心より前記負性抵抗素子に近い位置に配置される
ことを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の発振器。
【請求項１１】
前記抵抗素子は、発振されるテラヘルツ波の周波数ｆｏｓｃ付近の周波数帯を高インピーダンスにし、且つ、寄生発振の周波数ｆｏｓｃより低い周波数ｆｓｐを含む周波数帯を低インピーダンスとするように設定される
ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の発振器。
【請求項１２】
前記抵抗素子は、発振されるテラヘルツ波の周波数ｆｏｓｃ付近の周波数帯でＲｅ［ＹＲＴＤ］＋Ｒｅ［ＹＡＮＴ］＜＝０を満たし、且つ、寄生発振の周波数ｆｏｓｃより低い周波数ｆｓｐを含む周波数帯でＲｅ［ＹＲＴＤ］＋Ｒｅ［ＹＡＮＴ］＞０を満たすように設定されることを特徴とする発振器。ここで、Ｒｅ［ＹＲＴＤ］は前記負性抵抗素子のアドミタンスの実部、Ｒｅ［ＹＡＮＴ］は前記共振器のアドミタンスの実部である
ことを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の発振器。
【請求項１３】
二導体で負性抵抗素子と誘電体とを挟むように構成されたマイクロストリップ共振器によって規定された周波数ｆｏｓｃのテラヘルツ波が発振される発振器であって、
前記負性抵抗素子と並列に設けられた抵抗素子を備え、
前記抵抗素子は、前記共振器の中心より前記負性抵抗素子に近い位置に配置される
ことを特徴とする発振器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一側面としての発振器は、二導体で負性抵抗素子と誘電体とを挟むように構成されたマイクロストリップ共振器によって規定された周波数ｆｏｓｃのテラヘルツ波が発振される発振器であって、前記負性抵抗素子と並列に設けられた抵抗素子を備え、前記抵抗素子は、発振されるテラヘルツ波の周波数ｆｏｓｃにおいて前記共振器内を定在する電界の強度が最大電界強度の１／ｅ２（ｅは自然対数の底）以下となる位置に配置されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の酸化物層と、酸化物半導体層と、第２の酸化物層と、を有する酸化物積層を形成し、
前記第１の酸化物層は、インジウムを有し、
前記酸化物半導体層は、前記第１の酸化物層の上に位置し、且つインジウムを有し、
前記第２の酸化物層は、前記酸化物半導体層の上に位置し、且つインジウムを有し、
１００Ｐａ以上３００Ｐａ以下の圧力で、前記酸化物積層上に第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層上にゲート電極層を形成する半導体装置の作製方法。
【請求項２】
第１の酸化物層と、酸化物半導体層と、第２の酸化物層と、を有する酸化物積層を形成し、
前記第１の酸化物層はインジウムを有し、
前記酸化物半導体層は、前記第１の酸化物層の上に位置し、且つインジウムを有し、
前記第２の酸化物層は、前記酸化物半導体層の上に位置し、且つインジウムを有し、
前記酸化物半導体層の電子親和力は、前記第１の酸化物層及び前記第２の酸化物層の電子親和力よりも大きく、
１００Ｐａ以上３００Ｐａ以下の圧力で、前記酸化物積層上に、酸素を有する第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層上にゲート電極層を形成する半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の絶縁層は、酸化窒化シリコンである半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１の酸化物層、前記酸化物半導体層、または前記第２の酸化物層は、ガリウムを有する半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の酸化物層、前記酸化物半導体層、または前記第２の酸化物層は、亜鉛を有する半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第１の絶縁層をプラズマＣＶＤ法により形成する半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月20日(2016.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のゲート電極と、
前記ゲート電極上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲート電極と重なる多層膜と、
前記多層膜に接する一対の電極と、
前記ゲート絶縁膜、前記多層膜、及び前記一対の電極を覆う第１の酸化物絶縁膜と、
前記第１の酸化物絶縁膜上の第２の酸化物絶縁膜とを有し、
前記多層膜は、酸化物半導体膜及び酸化物膜を有し、
前記第１の酸化物絶縁膜は、酸素を透過する酸化物絶縁膜であり、
前記第２の酸化物絶縁膜は、化学量論的組成を満たす酸素よりも多くの酸素を含む酸化物絶縁膜であり、
前記酸化物半導体膜はｃ軸配向性を有し、かつｃ軸が被形成面又は前記酸化物半導体膜の上面の法線ベクトルに平行な方向を向いており、
前記第１の酸化物絶縁体の膜厚は、前記第２の酸化物絶縁膜の膜厚より小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記酸化物膜は、Ｉｎ又はＧａを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記酸化物膜の伝導帯の下端のエネルギー準位が、前記酸化物半導体膜の伝導帯の下端のエネルギー準位よりも真空準位に近く、そのエネルギー準位の差が０．０５ｅＶ以上２ｅＶ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜及び前記酸化物膜が、Ｉｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、またはＨｆ）であり、前記酸化物半導体膜と比較して、前記酸化物膜に含まれる前記Ｍの原子数比が大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記多層膜は、エネルギーが１．５ｅＶ以上２．３ｅＶ以下の範囲において、一定光電流測定法で導出された吸収係数が、１×１０−３／ｃｍ未満であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜と前記酸化物膜との間におけるシリコン濃度が、２×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３未満であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月10日(2016.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に設けられた振動板と、該振動板上に設けられ少なくとも白金またはイリジウムの金属膜を含む下部電極と、該下部電極上に設けられ多結晶体からなる圧電体膜と、該圧電体膜上に設けられた上部電極とを備えた圧電体薄膜素子であって、
前記下部電極は、前記振動板上に形成された酸化チタン膜の上部に設けられ、
前記酸化チタン膜の上に形成された白金またはイリジウムの金属膜を含み、
前記白金またはイリジウムの金属膜は、１５０ｎｍ以上で２５０ｎｍ以下の厚みを有し、かつ結晶の平均粒径が２５０ｎｍ以上であり、かつ空穴等のない緻密な膜で形成されていることを特徴とする圧電体薄膜素子。
【請求項２】
前記白金またはイリジウムの金属膜の上に導電性酸化物を有し、前記導電性酸化物は、ルテニウム酸ストロンチウムＳＲＯ（ＳｒＲｕＯ3）であることを特徴とする請求項１に記載の圧電体薄膜素子。
【請求項３】
前記圧電体膜は、ＰＺＴ（Ｐｂ（ＺｒxＴｉ1-x）Ｏ3、ここでｘ＝０.５２近傍）のＭＰＢ（Morphotropic Phase Boundary）組成であることを特徴とする請求項１又は２に記載の圧電体薄膜素子。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の圧電体薄膜素子が設けられたことを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【請求項５】
請求項４に記載のインクジェット記録ヘッドを搭載したことを特徴とするインクジェット式画像形成装置。
【請求項６】
基板上に振動板と、前記振動板上に設けられ少なくとも白金またはイリジウムの金属膜を含んで構成された下部電極と、前記下部電極上に設けられ多結晶体からなる圧電体膜と、前記圧電体膜上に設けられた上部電極とを有する圧電体薄膜素子であって、
前記下部電極は、前記振動板上に形成された酸化チタン膜の上部に形成され、
前記白金またはイリジウムの金属膜は、１５０ｎｍ以上の厚みを持ち、かつ平均粒径２５０ｎｍ以上であり、かつ空穴等のない緻密な膜であり、
前記下部電極上に形成された圧電体膜が（１００）優先配向であることを特徴とする圧電体薄膜素子。
【請求項７】
ＸＲＤで得られた(１１１)（１００）（１１０）各配向のピークの総和を１としたときのそれぞれの配向比率ρが、
ρ  ＝  Ｉ  （ｈ  ｋ  ｌ）  ／  Σ  Ｉ  （ｈ  ｋ  ｌ）
ここで、分母：（１１１）（１００）（１１０）各ピーク強度の総和
分子：（１００）配向のピーク強度
で求められる場合、
前記圧電体膜の（１００）配向成分が、配向率９０％以上であることを特徴とする請求項６に記載の圧電体薄膜素子。
【請求項８】
前記酸化チタン膜は、前記下部電極に近い側でＴｉ比率が高くなっていることを特徴とする請求項６又は７に記載の圧電体薄膜素子。
【請求項９】
前記圧電体膜は、ＰＺＴ（Ｐｂ（ＺｒxＴｉ1-x）Ｏ3、ここでｘ＝０.５２近傍）のＭＰＢ（Morphotropic Phase Boundary）組成であることを特徴とする請求項６に記載の圧電体薄膜素子。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれか一項に記載の圧電体薄膜素子が設けられたことを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０に記載のインクジェット記録ヘッドを搭載したことを特徴とするインクジェット式画像形成装置。
【請求項１２】
基板上に振動板と、前記振動板上に設けられ少なくとも白金またはイリジウムの金属膜を含んで構成された下部電極と、前記下部電極上に設けられ多結晶体からなる圧電体膜と、前記圧電体膜上に設けられた上部電極とを有し、前記下部電極が前記振動板上に形成された酸化チタン膜の上部に形成された圧電体薄膜素子を製造する際に、
下部電極上に薄層の酸化チタンを形成後に前記圧電体膜を形成することで、前記白金またはイリジウムの金属膜として、１５０ｎｍ以上の厚みを持ち、かつ平均粒径２５０ｎｍ以上であり、かつ空穴等のない緻密な膜を形成することを特徴とする圧電体薄膜素子の製造方法。