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【手続補正書】
【提出日】平成27年11月27日(2015.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料電池から排出される排燃料ガスをガスタービンの燃焼器の燃料として利用すると共に、前記ガスタービンの圧縮機で圧縮された一部の圧縮空気を前記燃料電池の駆動に利用する発電システムにおいて、
前記ガスタービンは、
前記排燃料ガスとは種類の異なる燃料ガスを燃焼させる第１燃焼器と、
前記第１燃焼器から供給される燃焼ガスにより駆動される第１タービンと、
前記排燃料ガスを燃焼させる第２燃焼器と、
前記第１タービンと軸連結されており前記第２燃焼器から供給される燃焼ガスにより駆動される第２タービンと、
を備え、
前記第１タービンと前記第２タービンとの軸連結を接続または切断する接断部を備えることを特徴とする発電システム。
【請求項２】
燃料電池から排出される排燃料ガスをガスタービンの燃焼器の燃料として利用すると共に、前記ガスタービンの圧縮機で圧縮された一部の圧縮空気を前記燃料電池の駆動に利用する発電システムにおいて、
前記ガスタービンは、
前記排燃料ガスとは種類の異なる燃料ガスを燃焼させる第１燃焼器と、
前記第１燃焼器から供給される燃焼ガスにより駆動される第１タービンと、
前記排燃料ガスを燃焼させる第２燃焼器と、
前記第１タービンと軸連結されており前記第２燃焼器から供給される燃焼ガスにより駆動される第２タービンと、
を備え、
前記燃料ガスを前記第１燃焼器に供給する燃料ガス供給ラインと、
前記排燃料ガスを前記第２燃焼器に供給する排燃料ガス供給ラインと、
前記燃料ガス供給ラインに設けられる燃料ガス制御弁と、
前記排燃料ガス供給ラインに設けられる排燃料ガス制御弁と、
前記燃料電池が駆動される前に、前記排燃料ガス制御弁を閉止して前記燃料ガス制御弁を開放する制御をし、前記燃料電池の駆動後に、前記排燃料ガス制御弁を開放する制御をする制御部と、
を備えることを特徴とする発電システム。
【請求項３】
前記燃料ガスを前記第１燃焼器に供給する燃料ガス供給ラインと、
前記排燃料ガスを前記第２燃焼器に供給する排燃料ガス供給ラインと、
前記燃料ガス供給ラインに設けられる燃料ガス制御弁と、
前記排燃料ガス供給ラインに設けられる排燃料ガス制御弁と、
前記燃料電池が駆動される前に、前記排燃料ガス制御弁を閉止して前記燃料ガス制御弁を開放する制御をし、前記燃料電池の駆動後に、前記排燃料ガス制御弁を開放する制御をする制御部と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の発電システム。
【請求項４】
燃料電池から排出される排燃料ガスをガスタービンの燃焼器の燃料として利用すると共に、前記ガスタービンの圧縮機で圧縮された一部の圧縮空気を前記燃料電池の駆動に利用する発電システムの駆動方法において、
前記ガスタービンは、
前記排燃料ガスとは種類の異なる燃料ガスを燃焼させる第１燃焼器と、
前記第１燃焼器から供給される燃焼ガスにより駆動される第１タービンと、
前記排燃料ガスを燃焼させる第２燃焼器と、
前記第１タービンと軸連結されており前記第２燃焼器から供給される燃焼ガスにより駆動される第２タービンと、
を備え、
前記第１燃焼器に前記燃料ガスを供給して前記第１タービンを駆動する工程と、
次に、前記燃料電池を駆動する工程と、
次に、前記第２燃焼器に前記排燃料ガスを供給して前記第２タービンを駆動する工程と、
を有することを特徴とする発電システムの駆動方法。
【請求項５】
前記第１タービンと前記第２タービンとの軸連結を接続または切断する接断部を備え、
前記接断部により前記第１タービンと前記第２タービンとの軸連結を切断する工程と、
次に、前記第１燃焼器に前記燃料ガスを供給して前記第１タービンを駆動する工程と、
次に、前記燃料電池を駆動する工程と、
次に、前記接断部により前記第１タービンと前記第２タービンとの軸連結を接続する工程と、
次に、前記第２燃焼器に前記排燃料ガスを供給して前記第２タービンを駆動する工程と、
を有することを特徴とする請求項４に記載の発電システムの駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
第１燃焼器２１Ａは、第１圧縮空気供給ライン２５及び当該第１圧縮空気供給ライン２５から２つに分岐した一方の第１圧縮空気供給分岐ライン２５Ａで圧縮機２０に連結され、圧縮機２０から圧縮空気Ａ１が供給される。また、第１燃焼器２１Ａは、第１燃料ガス供給ライン２６を通して燃料ガスＬ１が供給される。第１燃料ガス供給ライン（燃料ガス供給ライン）２６は、供給する燃料ガス量を調整可能な第１燃料ガス制御弁（燃料ガス制御弁）２８が設けられている。そして、第１燃焼器２１Ａは、これら圧縮空気Ａ１と燃料ガスＬ１とを混合して燃焼させる。なお、ここでは、第１燃焼器２１Ａに供給する燃料ガスＬ１として、例えば、液化天然ガス（ＬＮＧ）を用いている。第２燃焼器２１Ｂは、第１圧縮空気供給ライン２５及び当該第１圧縮空気供給ライン２５から２つに分岐した他方の第１圧縮空気供給分岐ライン２５Ｂで圧縮機２０に連結され、圧縮機２０から圧縮空気Ａ１が供給される。また、第２燃焼器２１Ｂは、後述する排燃料ガス供給ライン４５を通して排燃料ガスＬ３が供給される。そして、第２燃焼器２１Ｂは、これら圧縮空気Ａ１と排燃料ガスＬ３とを混合して燃焼させる。なお、第１圧縮空気供給ライン２５は、供給する空気量を調整可能な第１圧縮空気制御弁２９が設けられている。また、他方の第１圧縮空気供給分岐ライン２５Ｂは、供給する空気量を調整可能な第１圧縮空気分岐制御弁３０が設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
その後、ＳＯＦＣ１３の反応（発電）が安定し、圧縮空気Ａ３と排燃料ガスＬ３の成分・温度・圧力が安定（一定化）したら、制御装置７０は、第１圧縮空気制御弁２９及び圧縮空気排出制御弁３７を閉止する一方、圧縮空気循環制御弁３８を開放する。すると、ＳＯＦＣ１３からの圧縮空気Ａ３が圧縮空気循環ライン３６から一方の第１圧縮空気供給分岐ライン２５Ａを通じて第１燃焼器２１Ａに供給される。即ち、ＳＯＦＣ１３からの圧縮空気Ａ３を用いて第１燃焼器２１Ａで燃焼された燃焼ガスＧ１により第１タービン２２Ａが回転する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月19日(2016.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オルニチンまたはその塩、グルタミンまたはその塩、亜鉛およびビタミン類を有効成分として含有する体組成改善用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月11日(2015.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚みが１〜５０μｍである箔であって、前記箔の少なくとも下面の面粗さＲａが０．１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とするアルミニウム箔。
【請求項２】
前記下面の面粗さＲａと、上面の面粗さの差が２０％以下であることを特徴とする請求項１に記載のアルミニウム箔。
【請求項３】
前記箔の断面において、縦方向に伸びるアルミニウム結晶粒が観察され、個々のアルミニウム結晶粒は前記上面で中央が膨らむ凸部を有することを特徴とする請求項１または２に記載のアルミニウム箔。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のアルミニウム箔を集電体とし、前記集電体の少なくとも一面に活物質を形成したことを特徴とする電極。
【請求項５】
請求項４に記載の電極を用いたことを特徴とする蓄電デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アルミニウム箔、及びそれを用いた電極、蓄電デバイス
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月19日(2016.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
設置部に設置された樹脂体を加熱することで、前記樹脂体の表面に付着した染料を前記樹脂体に定着させて、前記樹脂体を染色する染色装置であって、
電磁波を発生させる電磁波発生手段と、
前記電磁波発生手段から前記樹脂体に照射される電磁波の強度分布を調整する分布調整手段と
を備えたことを特徴とする染色装置。
【請求項２】
前記分布調整手段の少なくとも一部は、前記電磁波発生手段と前記設置部との間に設けられ、前記電磁波発生手段によって発生された電磁波の一部を通過させる開口部を有することを特徴とする請求項１に記載の染色装置。
【請求項３】
前記開口部の大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の前記分布調整手段の各々を着脱可能に装着する装着部をさらに備えたことを特徴とする請求項２に記載の染色装置。
【請求項４】
前記分布調整手段は、大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の前記開口部を備え、
前記分布調整手段の姿勢または位置が切り替えられることで、前記複数の開口部のうち、電磁波の強度分布を調整する前記開口部が切り替えられることを特徴とする請求項２又は３に記載の染色装置。
【請求項５】
前記電磁波発生手段と前記分布調整手段の距離、および、前記分布調整手段と前記設置部の距離の少なくともいずれかを変化させる距離調整手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の染色装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月19日(2016.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
染色用基体に付着された昇華性の染料を、設置部に設置された樹脂体に蒸着させて定着させることで、前記樹脂体を染色する染色装置であって、
少なくとも前記設置部に設置される樹脂体の周囲を閉塞する閉塞室と、
前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下手段と、
前記染色用基体に付着された前記染料を加熱する染料加熱手段と、
電磁波によって前記樹脂体を加熱する樹脂体加熱手段と、
前記染色装置の動作を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、
前記気圧低下手段によって前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下制御手段と、
前記染料が付着した前記染色用基体の付着面が、前記樹脂体に非接触で対向した状態で、前記気圧低下制御手段によって気圧が低下した前記閉塞室内の前記染色用基体に付着している前記染料を前記染料加熱手段によって加熱することで、前記染料を昇華させて前記樹脂体に蒸着させる蒸着制御手段と、
前記樹脂体の周囲の圧力を、前記蒸着制御手段による蒸着時の圧力よりも上昇させた状態で、前記染料が蒸着された前記樹脂体に前記樹脂体加熱手段から電磁波を照射することで、前記樹脂体を加熱して前記染料を定着させる定着制御手段と、
を備えたことを特徴とする染色装置。
【請求項２】
電磁波を発生させる電磁波発生手段が、前記染料加熱手段および前記樹脂体加熱手段を兼ねることを特徴とする請求項１に記載の染色装置。
【請求項３】
前記電磁波発生手段が前記閉塞室の外部に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の染色装置。
【請求項４】
前記閉塞室のうち、少なくとも前記設置部に設置された前記樹脂体と前記電磁波発生手段との間の部位に、前記電磁波発生手段によって発生される電磁波を透過させる透過部が設けられることを特徴とする請求項３に記載の染色装置。
【請求項５】
前記樹脂体加熱手段によって加熱される位置から前記染色用基体を退避させる退避手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の染色装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る染色装置は、染色用基体に付着された昇華性の染料を、設置部に設置された樹脂体に蒸着させて定着させることで、前記樹脂体を染色する染色装置であって、少なくとも前記設置部に設置される樹脂体の周囲を閉塞する閉塞室と、前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下手段と、前記染色用基体に付着された前記染料を加熱する染料加熱手段と、電磁波によって前記樹脂体を加熱する樹脂体加熱手段と、前記染色装置の動作を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記気圧低下手段によって前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下制御手段と、前記染料が付着した前記染色用基体の付着面が、前記樹脂体に非接触で対向した状態で、前記気圧低下制御手段によって気圧が低下した前記閉塞室内の前記染色用基体に付着している前記染料を前記染料加熱手段によって加熱することで、前記染料を昇華させて前記樹脂体に蒸着させる蒸着制御手段と、前記閉塞室内の圧力を、前記蒸着制御手段による蒸着時の圧力よりも上昇させた状態で、前記染料が蒸着された前記樹脂体に前記樹脂体加熱手段から電磁波を照射することで、前記樹脂体を加熱して前記染料を定着させる定着制御手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月19日(2016.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に染料が付着した樹脂体を加熱することで、前記染料を前記樹脂体に定着させて染色樹脂体を製造する製造方法であって、
前記樹脂体に対する付着性を有する付着体を、前記樹脂体に付着させる付着ステップと、
前記付着ステップにおいて前記付着体が付着された前記樹脂体に対し、電磁波を発生させる電磁波発生手段から電磁波を照射することで、前記樹脂体を加熱して前記染料を定着させる定着ステップと
を有することを特徴とする染色樹脂体の製造方法。
【請求項２】
前記付着体の熱伝導率が前記樹脂体の熱伝導率以上であることを特徴とする請求項１に記載の染色樹脂体の製造方法。
【請求項３】
前記付着ステップにおいて前記付着体が付着された前記樹脂体に、昇華性の前記染料が付着された染色用基体の付着面を略真空中において非接触で対向させた状態で、前記染色用基体に付着した前記染料を加熱して昇華させることで、前記染料を前記樹脂体に蒸着させる蒸着ステップをさらに有し、
前記付着ステップは、前記付着体を前記樹脂体に接触させた状態で、前記付着体および前記樹脂体が存在する空間の気圧を低下させることで、前記付着体を前記樹脂体に付着させるステップであることを特徴とする請求項１または２に記載の染色樹脂体の製造方法。
【請求項４】
表面に染料が付着した樹脂体を加熱することで、前記樹脂体の表面に付着した染料を前記樹脂体に定着させて、前記樹脂体を染色する染色装置であって、
前記樹脂体が設置される設置部と、
前記設置部に設置された前記樹脂体に対し電磁波を発生させる電磁波発生手段と
を備え、
前記設置部は、
前記樹脂体に接触する部位に、前記樹脂体に対する付着性を有する付着体を装着する付着体装着部を備えたことを特徴とする染色装置。
【請求項５】
少なくとも前記設置部に設置される前記樹脂体および前記付着体の周囲を閉塞する閉塞室と、
前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下手段と、
少なくとも前記気圧低下手段および前記電磁波発生手段の動作を制御する動作制御手段とをさらに備え、
前記動作制御手段は、
前記付着体を前記樹脂体に接触させた状態で、前記気圧低下手段によって前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下制御手段と、
昇華性の前記染料が付着された染色用基体の付着面が、前記樹脂体に非接触で対向した状態で、前記気圧低下制御手段によって気圧が低下した前記閉塞室内の前記染色用基体に向けて前記電磁波発生手段から電磁波を照射させることで、前記染料を昇華させて前記樹脂体に蒸着させる蒸着制御手段と、
前記蒸着制御手段によって前記染料が蒸着された前記樹脂体に対し、前記電磁波発生手段によって電磁波を照射させることで、前記染料を前記樹脂体に定着させる定着制御手段とを備えたことを特徴とする請求項４に記載の染色装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月10日(2016.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パスワードが付加された印刷データを受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された印刷データを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された印刷データの印刷指示をユーザから受け付ける受付手段と、
ユーザを認証することが可能な認証手段と、
前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証手段により認証済みのユーザとが一致する場合は、パスワードを前記認証済みのユーザに入力させることなく印刷し、前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証手段により認証済みのユーザとが異なる場合、あるいは、前記認証手段によりユーザを認証することなしに前記受付手段が印刷指示を受け付けた場合は、ユーザから受け付けたパスワードと、前記記憶手段に記憶された印刷データに含まれるパスワードとが一致したことに応じて当該印刷データを印刷する印刷手段と、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
パスワードの入力を省略する設定を行うための設定手段を更に有し、
前記印刷手段は、前記設定手段によりパスワードの入力を省略する設定がされている場合で、かつ、前記印刷指示を行ったユーザが前記認証済みのユーザである場合は、パスワードを前記認証済みのユーザに入力させることなく印刷し、前記設定手段によりパスワードの入力を省略する設定がされていない場合は、前記印刷指示を行ったユーザが前記認証済みのユーザであっても、前記記憶手段に記憶された印刷データに含まれるパスワードと前記認証済みのユーザから受け付けたパスワードとが一致したことに応じて印刷することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記設定手段は、更に、前記認証手段によるユーザ認証を行うか否かを設定することが可能であり、
前記認証手段によるユーザ認証を行うことが前記設定手段により設定されている場合は、前記パスワードの入力を省略する設定を行えないように制御する制御手段を更に有することを特徴とする請求項２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記印刷指示を行ったユーザがゲストユーザであるか否かを判定する判定手段と、
前記印刷手段は、前記印刷指示を行ったユーザがゲストユーザであると前記判定手段により判定された場合、前記記憶手段に記憶された印刷データに含まれるパスワードと前記ゲストユーザから受け付けたパスワードとが一致したことに応じて印刷することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項５】
前記受信手段は、更に、暗号化された印刷データを受信することが可能であり、
前記受付手段により印刷指示を受け付けた場合で、かつ、印刷対象の印刷データが暗号化されている場合は、前記印刷指示を行ったユーザが認証済みのユーザであるか否かに関わらず、前記記憶手段に記憶された印刷データに含まれるパスワードと当該ユーザから受け付けたパスワードとが一致したことに応じて印刷することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項６】
前記印刷データは、前記パスワードにより暗号化されていることを特徴とする請求項５に記載の印刷装置。
【請求項７】
印刷装置の制御方法であって、
パスワードが付加された印刷データを受信する受信ステップと、
前記受信ステップで受信した印刷データを記憶する記憶ステップと、
前記記憶ステップで記憶した印刷データの印刷指示をユーザから受け付ける受付ステップと、
ユーザを認証する認証ステップと、
前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証ステップで認証済みのユーザとが一致する場合は、パスワードを前記認証済みのユーザに入力させることなく印刷し、前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証ステップで認証済みのユーザとが異なる場合、あるいは、前記認証ステップでユーザを認証することなしに前記受付ステップで印刷指示を受け付けた場合は、ユーザから受け付けたパスワードと、前記記憶ステップで記憶された印刷データに含まれるパスワードとが一致したことに応じて当該印刷データを印刷する印刷ステップと、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項８】
印刷装置に、
パスワードが付加された印刷データを受信する受信ステップと、
前記受信ステップで受信した印刷データを記憶する記憶ステップと、
前記記憶ステップで記憶した印刷データの印刷指示をユーザから受け付ける受付ステップと、
ユーザを認証する認証ステップと、
前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証ステップで認証済みのユーザとが一致する場合は、パスワードを前記認証済みのユーザに入力させることなく印刷し、前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証ステップで認証済みのユーザとが異なる場合、あるいは、前記認証ステップでユーザを認証することなしに前記受付ステップで印刷指示を受け付けた場合は、ユーザから受け付けたパスワードと、前記記憶ステップで記憶された印刷データに含まれるパスワードとが一致したことに応じて当該印刷データを印刷する印刷ステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明に係る印刷装置は、パスワードが付加された印刷データを受信する受信手段と、前記受信手段により受信された印刷データを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された印刷データの印刷指示をユーザから受け付ける受付手段と、ユーザを認証することが可能な認証手段と、前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証手段により認証済みのユーザとが一致する場合は、パスワードを前記認証済みのユーザに入力させることなく印刷し、前記印刷指示された印刷データの所有者と前記認証手段により認証済みのユーザとが異なる場合、あるいは、前記認証手段によりユーザを認証することなしに前記受付手段が印刷指示を受け付けた場合は、ユーザから受け付けたパスワードと、前記記憶手段に記憶された印刷データに含まれるパスワードとが一致したことに応じて当該印刷データを印刷する印刷手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月18日(2016.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基材とインク受容層とをこの順に有する記録媒体であって、
前記記録媒体のインク受容層側の表面の、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さが１．３μｍ以上であり、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１で規定される粗さ曲線のスキューネスが０．１以下であり、かつ、ＪＩＳ  Ｚ  ８７４１で規定される６０度鏡面光沢度が３０％以上であることを特徴とする記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明にかかる記録媒体は、基材とインク受容層とをこの順に有し、前記記録媒体のインク受容層を有する面の、ＪＩＳＢ  ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さが１．３μｍ以上であり、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１で規定される粗さ曲線のスキューネスが０．１以下であり、かつ、ＪＩＳ  Ｚ  ８７４１で規定される６０度鏡面光沢度が３０％以上であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
【表４】
2014159110.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月29日(2016.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気機器と蓄電素子との間の電流経路に互いに並列接続された複数個のスイッチを備えた回路におけるスイッチ故障診断装置であって、
前記複数個のスイッチの両端電圧に応じた両端検出信号を出力する両端電圧検出部と、前記電流経路に流れる電流を検出する電流検出手段と、前記各スイッチのオンオフを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記複数個のスイッチを異なる時期に順次指定してオープン指令信号を与えるオープン指令処理と、オープン指令信号を与えた後の前記両端電圧が故障判定範囲内である場合にスイッチ故障有りと判定する故障判定処理とを実行すると共に前記オープン指令処理において前記オープン指令信号を与えた前後における前記電流経路に流れる電流の変動量が所定範囲を越えていた場合には、前記オープン指令処理及び前記故障判定処理を実行し直す構成を有するスイッチ故障診断装置。
【請求項２】
請求項１に記載のスイッチ故障診断装置であって、
前記制御部は、
前記オープン指令信号を与える前における前記電流経路に流れる電流が所定の下限値に満たないときには、前記オープン指令処理を実行しないスイッチ故障診断装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のスイッチ故障診断装置であって、
前記制御部は、
前記オープン指令信号を与える前における前記電流経路に流れる電流が所定の上限値を越えるときには、前記オープン指令処理を実行しないスイッチ故障診断装置。
【請求項４】
電気機器と蓄電素子との間の電流経路に互いに並列接続される複数個のスイッチと、請求項１から３のいずれか一項に記載のスイッチ故障診断装置とを備える故障診断装置付きスイッチ回路。
【請求項５】
蓄電素子と、請求項４記載の故障診断装置付きスイッチ回路とを備える蓄電装置。
【請求項６】
電気機器と蓄電素子との間の電流経路に互いに並列接続された複数個のスイッチを備えた回路における スイッチ故障診断方法であって、
前記複数個のスイッチを異なる時期に順次指定してオープン指令信号を与えるオープン指令処理と、前記スイッチのオープン指令処理後の前記スイッチの両端電圧が故障判定範囲内であるか否かにより故障判定処理とを実行すると共に、前記オープン指令処理の前後における前記電流経路に流れる電流の変動量が所定範囲を越えていた場合には、前記オープン指令処理及び前記故障判定処理を実行し直すスイッチ故障診断方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本明細書によって開示されるスイッチ故障診断装置は、電気機器と蓄電素子との間の電流経路に互いに並列接続された複数個のスイッチを備えた回路における スイッチ故障診断装置であって、前記複数個のスイッチの両端電圧に応じた両端検出信号を出力する両端電圧検出部と、前記電流経路に流れる電流を検出する電流検出手段と、前記各スイッチのオンオフを制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記複数個のスイッチを異なる時期に順次指定してオープン指令信号を与えるオープン指令処理と、オープン指令信号を与えた後の前記両端電圧が故障判定範囲内である場合にスイッチ故障有りと判定する故障判定処理とを実行すると共に前記オープン指令処理において前記オープン指令信号を与えた前後における前記電流経路に流れる電流の変動量が所定範囲を越えていた場合には、電流の変動が故障判定処理に悪影響を与えることを避けるため、前記オープン指令処理及び前記故障判定処理を実行し直す構成を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記スイッチ故障診断装置では、前記オープン指令信号を与える前における前記電流経路に流れる電流が所定の下限値に満たないときには、クローズ故障の判定を精度良く行うことができないおそれがあるため、前記オープン指令処理を実行しないようにしてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記スイッチ故障診断装置では、前記オープン指令信号を与える前における前記電流経路に流れる電流が所定の上限値を越えるときには、過大な電流によりスイッチの接点を劣化させるおそれがあるため、前記オープン指令処理を実行しないようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本明細書によって開示される発明によれば、負荷や充電器等の電気機器と蓄電素子との間の電流経路が遮断されることを抑制しつつ、スイッチ故障が発生しているかどうかをより正確に判定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月29日(2016.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光により蛍光を発する蛍光体と金属酸化物とからなる、表面が励起光入射面とされた蛍光板と、当該蛍光板の裏面側に配置された反射層を有する反射積層体と、放熱基板とを具備した蛍光光源装置において、
前記蛍光板と、前記反射層の裏面および周側面を覆う封止層と、この封止層を前記反射積層体および当該蛍光板に接着する接着層と、によって前記反射積層体の封止構造が形成されていることを特徴とする蛍光光源装置。
【請求項２】
前記反射層は、金属酸化物多層膜を介して前記蛍光板の裏面側に形成された銀反射膜よりなることを特徴とする請求項１に記載の蛍光光源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の蛍光光源装置は、励起光により蛍光を発する蛍光体と金属酸化物とからなる、表面が励起光入射面とされた蛍光板と、当該蛍光板の裏面側に配置された反射層を有する反射積層体と、放熱基板とを具備した蛍光光源装置において、
前記蛍光板と、前記反射層の裏面および周側面を覆う封止層と、この封止層を前記反射積層体および当該蛍光板に接着する接着層と、によって前記反射積層体の封止構造が形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月14日(2016.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
自動二輪車１の前輪は、図示しない左右一対のフロントフォークの下端に回転自在に軸支され、フロントフォークの上部は、メインスイッチ１７が取り付けられたトップブリッジ１６によって連結固定されている。トップブリッジ１６は、図示しないステアリングステムを介して、自動二輪車１の車体フレームに回動可能に取り付けられている。フロントフォークの上端部には、運転者が両手で把持して前輪を操舵する左右一対のハンドルバー１８Ｌ，１８Ｒが固定されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
一方、左側ハンドルバー１８Ｌには、ハンドルグリップ３０Ｌの車体中心側に隣接して、ハンドルスイッチ１０が取り付けられている。ハンドルスイッチ１０は、樹脂等で形成された箱状の左側スイッチケース１１を有する。左側スイッチケース１１には、押圧操作中だけヘッドライトのハイビームを作動させるパッシングスイッチ１５、ヘッドライトのロービームとハイビームとを切り換える光軸切り換えスイッチ１２、警告音を発するホーンを作動させるホーンスイッチ１３、左右のウインカ装置を作動させるウインカスイッチ１４のほか、前記したナビゲーション表示装置４８や携帯電子機器等を操作するための複合スイッチ６０が配設されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
スイッチケース１１は、車体前方側に位置する前側ケース半体１０ａと、車体後方側である乗員側に位置する後側ケース半体１０ｂとからなる。スイッチケース１１は、前側ケース半体１０ａおよび後側ケース半体１０ｂによってハンドルバー１８Ｌ（以下、単にハンドルバー１８と示す）を前後から挟み、両者をタッピングビス等で締結することによって、ハンドルバー１８に固定される。ハンドルバー１８の左端部には、スイッチケース１１と隣接するようにハンドルグリップ３０Ｌ（以下、単にハンドルグリップ３０と示す）が固定される。各操作スイッチに接続される配線類は、前側ケース半体１０ａの側面に形成された切欠き３３から外方に導出される。前側ケース半体１０ａの底部には、ラビリンス構造を有する水抜き孔３１が設けられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
図１２を参照して、複合スイッチ６０を突出部１０ｃに取り付けた場合は、複数方向操作子である４方向スイッチ６２の延長部６２ａの端部が、ハンドルバー１８の軸線Ｏｈから距離Ｔ１の位置に配設される。これにより、他のスイッチ１２，１３，１４，１５と比較しても、延長部６２ａが軸線Ｏｈから最も離間した位置にあることとなり、より一層４方向スイッチ６２の操作がしやすくなる。また、ホーンスイッチ１３の操作面Ｓが車幅方向外側に位置するため、ロータリスイッチ６３に形成した延長部６３ａがホーンスイッチ１３に干渉することもない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2016192252.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2016192252.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月6日(2016.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置において、
外部機器からの圧縮静止画情報が入力可能な第１のインタフェース部と、
前記第１のインタフェース部に入力された圧縮静止画情報を伸張するための伸張部と、
前記外部機器からの非圧縮の動画情報が入力可能な第２のインタフェース部と、
前記第１のインタフェース部に入力された圧縮静止画情報を前記伸張部で伸張した静止画情報に基づく第１の画像、又は前記第２のインタフェース部に入力された前記動画情報に基づく第２の画像を表示可能な表示部と、を備え、
前記表示装置の入力装置に対する操作に応じて、前記第１の画像を前記表示部に表示させるか、前記第２の画像を前記表示部に表示させるかを選択可能であり、
前記第１の画像を表示させることが選択された場合において、前記表示装置の入力装置に対するスライドショー表示のための操作に基づいて、
前記第１のインタフェース部が、前記外部機器から圧縮静止画情報を出力させるための第１の信号を前記外部機器に送信し、前記外部機器から出力された圧縮静止画情報を入力することにより、前記表示部は、該入力された圧縮静止画情報を前記伸張部で伸張した静止画情報に基づく複数の第１の画像を用いた所定時間間隔のスライドショー表示を行い、
前記第２の画像を表示させることが選択された場合において、前記表示装置の入力装置に対するスライドショー表示のための操作に基づいて、
前記第２のインタフェース部が、前記外部機器により圧縮静止画情報を伸張させ、該伸張された静止画情報に基づく動画情報に変換させて出力させるための第２の信号を前記外部機器に送信し、前記外部機器から出力された動画情報を入力することにより、前記表示部は、該入力された動画情報における静止画情報に基づく複数の第２の画像を用いた所定時間間隔のスライドショー表示を行う、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置において、前記第１のインタフェース部に入力される前記圧縮静止画情報には回転に関する情報が付加されており、該回転に関する情報に基づいて、前記圧縮静止画情報に基づく画像を回転して前記表示部に表示することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の表示装置において、前記表示装置の入力装置への操作に応じて、前記外部機器の圧縮静止画情報の属性情報の付加又は変更を可能にしたことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の表示装置において、前記属性情報が前記第２のインタフェース部から前記外部機器に送信されることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
表示装置において、
外部機器からの圧縮静止画情報が入力可能なＵＳＢインタフェース部と、
前記ＵＳＢインタフェース部に入力された圧縮静止画情報を伸張するための伸張部と、
前記外部機器からの非圧縮の動画情報が入力可能なＨＤＭＩインタフェース部と、
前記ＵＳＢインタフェース部に入力された圧縮静止画情報を前記伸張部で伸張した静止画情報に基づく第１の画像、又は前記ＨＤＭＩインタフェース部に入力された前記動画情報に基づく第２の画像を表示可能な表示部と、を備え、
前記表示装置の入力装置に対する操作に応じて、前記第１の画像を前記表示部に表示させるか、前記第２の画像を前記表示部に表示させるかを選択可能であり、
前記第１の画像を表示させることが選択された場合において、前記表示装置の入力装置に対するスライドショー表示のための操作に基づいて、
前記ＵＳＢインタフェース部が、前記外部機器から圧縮静止画情報を出力させるための第１の信号を前記外部機器に送信し、前記外部機器から出力された圧縮静止画情報を入力することにより、前記表示部は、該入力された圧縮静止画情報を前記伸張部で伸張した静止画情報に基づく複数の第１の画像を用いた所定時間間隔のスライドショー表示を行い、
前記第２の画像を表示させることが選択された場合において、前記表示装置の入力装置に対するスライドショー表示のための操作に基づいて、
前記ＨＤＭＩインタフェース部が、前記外部機器により圧縮静止画情報を伸張させ、該伸張された静止画情報が切り替わる動画情報に変換させて出力させるための第２の信号を前記外部機器に送信し、前記外部機器から出力された動画情報を入力することにより、前記表示部は、該入力された動画情報における静止画情報に基づく複数の第２の画像を用いた所定時間間隔のスライドショー表示を行う、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１または５に記載の表示装置において、前記第１の画像を用いたスライドショー表示の所定時間間隔、または前記第２の画像を用いたスライドショー表示の所定時間間隔が、前記表示装置の入力装置に対する操作により変更可能であることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の表示装置において、前記ＵＳＢインタフェース部に入力される前記圧縮静止画情報には回転に関する情報が付加されており、該回転に関する情報に基づいて、前記圧縮静止画情報に基づく画像を回転して前記表示部に表示することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項５乃至７のいずれかに記載の表示装置において、前記表示装置の入力装置への操作に応じて、前記外部機器の圧縮静止画情報の属性情報の付加又は変更を可能にしたことを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置において、前記属性情報が前記ＨＤＭＩインタフェース部から前記外部機器に送信されることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の表示装置において、前記表示装置の入力装置は、前記表示装置のリモコンまたはキーボードであることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項３または４または８または９に記載の表示装置において、前記属性情報は、前記圧縮静止画情報の消去防止に関する情報を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項３または４または８または９に記載の表示装置において、前記属性情報は、前記圧縮静止画情報の回転に関する情報を含むことを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月23日(2016.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機化合物
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｇ４）で表される有機化合物。
【化１】
2014029971.tif 000001
（式中、Ａｒ１１、Ａｒ１２、Ｒ１１〜Ｒ１３、およびＲ２１〜Ｒ２３は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基のいずれかを表す。また、Ａｒ１３およびＡｒ１４は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のジベンゾチオフェン−４−イル基、置換または無置換のジベンゾフラン−４−イル基のいずれかを表す。また、α１、α２、α８、及びα９、は、それぞれ独立に、置換または無置換のフェニレン基を表す。また、ｈ、ｉ、ｘ、及びｙは、それぞれ独立に０または１を表す。また、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、硫黄または酸素を表す。）
【請求項２】
一般式（Ｇ５）で表される有機化合物。
【化２】
2014029971.tif 000002
（式中、Ａｒ１１、Ａｒ１２、Ｒ１１〜Ｒ１３、およびＲ２１〜Ｒ２３は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基のいずれかを表す。また、Ａｒ１３およびＡｒ１４は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のジベンゾチオフェン−４−イル基、置換または無置換のジベンゾフラン−４−イル基のいずれかを表す。また、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、硫黄または酸素を表す。）
【請求項３】
一般式（Ｇ６）で表される有機化合物。
【化３】
2014029971.tif 000003
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１３およびＲ２１〜Ｒ２３は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基のいずれかを表す。また、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、硫黄または酸素を表す。）
【請求項４】
一般式（Ｇ７）で表される有機化合物。
【化４】
2014029971.tif 000004
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１３およびＲ２１〜Ｒ２３は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基のいずれかを表す。また、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、硫黄または酸素を表す。）
【請求項５】
構造式（４００）で表される有機化合物。
【化５】
2014029971.tif 000005
【請求項６】
構造式（４０１）で表される有機化合物。
【化６】
2014029971.tif 000006
【請求項７】
構造式（４０２）で表される有機化合物。
【化７】
2014029971.tif 000007
【請求項８】
構造式（４１２）で表される有機化合物。
【化８】
2014029971.tif 000008
【請求項９】
構造式（４３０）で表される有機化合物。
【化９】
2014029971.tif 000009
【請求項１０】
構造式（４３１）で表される有機化合物。
【化１０】
2014029971.tif 000010
【請求項１１】
構造式（４３２）で表される有機化合物。
【化１１】
2014029971.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月27日(2016.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有する絶縁基板と、
前記第１面に設けられた第１信号線路と、前記第１信号線路に対向する領域の前記第２面に設けられた第１グランドパターンと、を有するマイクロストリップ線路と、
前記第１面に設けられ、前記第１信号線路より幅の大きい第２信号線路と、その両側の前記第１面に離間して設けられた第２グランドパターンと、を有するコプレーナ線路と、
前記第１面に設けられ、前記第１信号線路と前記第２信号線路とを接続する接続線路と、
前記接続線路に設けられた開口部と、
を具備することを特徴とするフレキシブル基板。
【請求項２】
前記第２面における、前記接続線路に対向する領域を除いて、その両側の辺に沿った領域に設けられた第３グランドパターンと、
前記第２面における、前記第２グランドパターンに対向した領域に設けられ、前記第３グランドパターンと接続する第４グランドパターンと、
を具備し、
前記第２面における前記第２信号線路に対向した領域と前記第４グランドパターンとの距離は、前記第２信号線路と前記第２グランドパターンとの離間距離より大きい、請求項１に記載のフレキシブル基板。
【請求項３】
前記接続線路の幅は、前記第１信号線路側から前記第２信号線路側に向かって連続的に大きくなり、前記開口の幅は、前記第１信号線路側から前記第２信号線路側に向かって連続的に大きくなる、請求項１または２に記載のフレキシブル基板。
【請求項４】
前記接続線路は、前記開口部により分岐された複数の分岐線路によって構成されてなり、前記分岐線路の１つは、前記第１信号線路と実質的に同じ幅で一直線上に配置されてなる、請求項１から３のいずれか一項に記載のフレキシブル基板。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月9日(2016.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に酸化物半導体膜を形成し、
前記酸化物半導体膜上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ソース電極層及び前記ドレイン電極層を形成後、前記酸化物半導体膜の一部を希フッ酸に曝し、
前記希フッ酸の濃度は、０．０００１％より高く０．２５％以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上にゲート電極層を形成し、
前記ゲート電極層上に前記酸化物半導体膜を形成し、
前記ソース電極層及び前記ドレイン電極層を形成後、前記酸化物半導体膜の一部を希フッ酸に曝し、
前記希フッ酸の濃度は、０．０００１％より高く０．２５％以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記酸化物半導体膜は、結晶構造を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は積層であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月20日(2016.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に平坦化膜を形成する工程と、
前記剥離層および前記平坦化膜に対して第１の加熱処理を行うことで、前記支持基板上に形成された膜に応力変化を生じさせる工程と、を経て作製した第１の基板と、
半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記半導体基板中に脆化領域を形成する工程と、を経て作製した第２の基板を、前記平坦化膜と前記絶縁膜が対向する状態に貼り合わせ、
前記第１の基板および前記第２の基板に対して第２の加熱処理を行い、
前記第１の基板と前記第２の基板を分離することで、前記脆化領域を界面として前記半導体基板から分離した半導体薄膜を、前記絶縁膜を挟んで前記第１の基板上に形成することを特徴とする、機能性基板の作製方法。
【請求項２】
前記第１の加熱処理の温度が前記第２の加熱処理の温度以上である、請求項１に記載の機能性基板の作製方法。
【請求項３】
支持基板上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に平坦化膜を形成する工程と、
前記剥離層および前記平坦化膜に対して室温以上かつ前記支持基板の耐熱温度未満で第１の加熱処理を行うことで、前記支持基板上に形成された膜に応力変化を生じさせる工程と、を経て作製した第１の基板と、
半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記半導体基板中に脆化領域を形成する工程と、を経て作製した第２の基板を、前記平坦化膜と前記絶縁膜が対向する状態に貼り合わせ、
前記第１の基板および前記第２の基板に対して第２の加熱処理を行い、
前記第１の基板と前記第２の基板を分離することで、前記脆化領域を界面として前記半導体基板から分離した半導体薄膜を、前記絶縁膜を挟んで前記第１の基板上に形成し、
前記半導体薄膜を半導体層として用いたトランジスタを複数含む半導体回路を形成し、
前記半導体回路上に固定基板を貼り合わせ、
前記固定基板と前記支持基板を分離することで、前記剥離層を界面として前記支持基板から分離した前記半導体回路を前記固定基板上に形成することを特徴とする、半導体装置の作製方法。
【請求項４】
支持基板上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に平坦化膜を形成する工程と、
前記剥離層および前記平坦化膜に対して室温以上かつ前記支持基板の耐熱温度未満で第１の加熱処理を行うことで、前記支持基板上に形成された膜に応力変化を生じさせる工程と、を経て作製した第１の基板と、
半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記半導体基板中に脆化領域を形成する工程と、を経て作製した第２の基板を、前記平坦化膜と前記絶縁膜が対向する状態に貼り合わせ、
前記第１の基板および前記第２の基板に対して第２の加熱処理を行い、
前記第１の基板と前記第２の基板を分離することで、前記脆化領域を界面として前記半導体基板から分離した半導体薄膜を、前記絶縁膜を挟んで前記第１の基板上に形成し、
前記半導体薄膜を半導体層として用いたトランジスタを複数含む半導体回路を形成し、
前記半導体回路上に仮固定基板を貼り合わせ、
前記仮固定基板と前記支持基板を分離することで、前記剥離層を界面として前記支持基板から分離した前記半導体回路を前記仮固定基板上に形成し、
前記半導体回路を挟んで前記仮固定基板と対向する面に固定基板を貼り合わせた後に前記仮固定基板を剥がすことで、前記半導体回路を前記固定基板上に形成することを特徴とする、半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月14日(2016.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極層と、
前記酸化物半導体膜上、前記ゲート絶縁膜上および前記ゲート電極層上にあり、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する窒化シリコン膜と、
前記窒化シリコン膜上にあり、前記開口部を介して前記酸化物半導体膜と接するソース電極層およびドレイン電極層と、を有し、
前記窒化シリコン膜は、昇温脱離ガス分光法において５００℃以下では水素分子の脱離量のピークを現さない半導体装置。
【請求項２】
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極層と、
前記酸化物半導体膜上、前記ゲート絶縁膜上および前記ゲート電極層上にあり、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する窒化シリコン膜と、
前記窒化シリコン膜上にあり、前記開口部を介して前記酸化物半導体膜と接するソース電極層およびドレイン電極層と、を有し、
前記窒化シリコン膜は、昇温脱離ガス分光法において５５０℃以下では水素分子の脱離量が１．５×１０２０個／ｃｍ３以下である半導体装置。
【請求項３】
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極層と、
前記酸化物半導体膜上、前記ゲート絶縁膜上および前記ゲート電極層上にあり、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する窒化シリコン膜と、
前記窒化シリコン膜上にあり、前記開口部を介して前記酸化物半導体膜と接するソース電極層およびドレイン電極層と、を有し、
前記窒化シリコン膜は、昇温脱離ガス分光法において、水素分子の脱離量が１．０×１０２０個／ｃｍ３以上となる温度が５００℃以上である半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜が、ｃ軸の向きが表面に対して概略垂直である結晶を含む半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜が、前記ソース電極層および前記ドレイン電極層と接する領域にリンまたはホウ素を含む半導体装置。