【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
第１のＲＦ信号を生成するためのベースＲＦ生成器であって、前記第１のＲＦ信号は、ある状態から別の状態へ遷移し、前記第１のＲＦ信号のある状態から別の状態への遷移は、プラズマインピーダンスの変化をもたらす、ベースＲＦ生成器と、
第２のＲＦ信号を生成するための二次ＲＦ生成器であって、前記第２のＲＦ信号は、前記プラズマインピーダンスの変化を安定化させるために、ある状態から別の状態へ遷移する、二次ＲＦ生成器と、
前記二次ＲＦ生成器につながれたコントローラであって、前記第２のＲＦ信号がある状態から別の状態へ遷移するときに前記第２のＲＦ信号のエッジランピングを実施するために、前記二次ＲＦ生成器にパラメータ値を提供するためのものであるコントローラと、
を備えるシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、
前記エッジランピングは、正または負の傾きを有する、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、
前記パラメータ値は、周波数値、電力値、またはそれらの組み合わせを含む、システム。
【請求項４】
無線周波数（ＲＦ）信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するためのシステムであって、
一次生成器と、
二次生成器と、を備え、
前記一次生成器は、
一次ＲＦ信号を生成するための一次駆動・増幅器と、
デジタルパルス信号の状態を識別するための一次デジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）であって、前記状態は、第１の状態と、第２の状態とを含み、前記一次ＤＳＰは、前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときの第１の一次周波数入力を識別するため、および前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときの第２の一次周波数入力を識別するため、のものである、一次ＤＳＰと、
前記一次ＤＳＰにおよび前記一次駆動・増幅器につながれた第１の一次自動周波数調整器（ＡＦＴ）であって、前記第１の一次ＡＦＴは、前記一次ＤＳＰから前記第１の一次周波数入力を受信するため、および前記第１の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次ＲＦ信号を調整するため、のものである、第１の一次ＡＦＴと、
前記一次ＤＳＰにおよび前記一次駆動・増幅器につながれた第２の一次ＡＦＴであって、前記第２の一次ＡＦＴは、前記一次ＤＳＰから前記第２の一次周波数入力を受信するため、および前記第２の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次ＲＦ信号を調整するため、のものである、第２の一次ＡＦＴと、を含み、
前記一次ＲＦ信号は、前記第１の一次周波数入力から前記第２の一次周波数入力への一次遷移速度を有し、
前記二次生成器は、
二次ＲＦ信号を生成するための二次駆動・増幅器と、
前記デジタルパルス信号の状態を識別するための二次デジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）であって、前記二次ＤＳＰは、前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときの第１の二次周波数入力を識別するため、および前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときの第２の二次周波数入力を識別するため、のものである、二次ＤＳＰと、
前記二次ＤＳＰにおよび前記二次駆動・増幅器につながれた第１の二次ＡＦＴであって、前記第１の二次ＡＦＴは、前記二次ＤＳＰから前記第１の二次周波数入力を受信するため、および前記第１の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次ＲＦ信号を調整するため、のものである、第１の二次ＡＦＴと、
前記二次ＤＳＰにおよび前記二次駆動・増幅器につながれた第２の二次ＡＦＴであって、前記第２の二次ＡＦＴは、前記二次ＤＳＰから前記第２の二次周波数入力を受信するため、および前記第２の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次ＲＦ信号を調整するため、のものである、第２の二次ＡＦＴと、を含み、
前記二次ＤＳＰは、前記第１の二次周波数入力から前記第２の二次周波数入力への二次遷移速度を決定するように構成され、前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、システム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、システム。
【請求項６】
請求項４に記載のシステムであって、
前記第１の二次周波数入力から前記第２の二次周波数入力への遷移にかかる第１の時間の長さは、前記第１の一次周波数入力から前記第２の一次周波数入力への遷移にかかる第２の時間の長さよりも長い、システム。
【請求項７】
請求項６に記載のシステムであって、
前記第１の時間の長さは、プラズマインピーダンスが安定化するためにかかる第３の時間の長さよりも短い、システム。
【請求項８】
請求項６に記載のシステムであって、
前記第１の時間の長さは、インピーダンス整合回路が前記二次生成器の１つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの１つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第３の時間の長さよりも短い、システム。
【請求項９】
請求項４に記載のシステムであって、
前記第１の状態は、ハイの状態であり、前記第２の状態は、ロウの状態である、システム。
【請求項１０】
請求項４に記載のシステムであって、
前記第１の状態は、オン状態であり、前記第２の状態は、オフ状態である、システム。
【請求項１１】
無線周波数（ＲＦ）信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するためのシステムであって、
一次生成器と、
二次生成器と、を備え、
前記一次生成器は、
一次ＲＦ信号を生成するための一次駆動・増幅器と、
前記一次駆動・増幅器につながれた１つまたはそれ以上の一次コントローラであって、
デジタルパルス信号の状態を識別することであって、前記状態は、第１の状態と、第２の状態とを含む、前記デジタルパルス信号の状態の識別と、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときに、第１の一次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次ＲＦ信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときに、第２の一次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次ＲＦ信号を調整することと、を行うように構成された１つまたはそれ以上の一次コントローラと、を含み、
前記一次ＲＦ信号は、前記第１の一次電力入力から前記第２の一次電力入力への一次遷移速度を有し、
前記二次生成器は、
二次ＲＦ信号を生成するための二次駆動・増幅器と、
前記二次駆動・増幅器につながれた１つまたはそれ以上の二次コントローラであって、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときに、第１の二次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次ＲＦ信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときに、第２の二次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次ＲＦ信号を調整することと、
前記第１の二次電力入力から前記第２の二次電力入力への二次遷移速度を決定することと、を行うように構成された１つまたはそれ以上の二次コントローラと、を含み、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のシステムであって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、システム。
【請求項１３】
請求項１１に記載のシステムであって、
前記第１の二次電力入力から前記第２の二次電力入力への遷移にかかる第１の時間の長さは、前記第１の一次電力入力から前記第２の一次電力入力への遷移にかかる第２の時間の長さよりも長い、システム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のシステムであって、
前記第１の時間の長さは、プラズマインピーダンスが前記第２の状態で安定化するためにかかる第３の時間の長さよりも短い、システム。
【請求項１５】
請求項１３に記載のシステムであって、
前記第１の時間の長さは、インピーダンス整合回路が前記二次生成器の１つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの１つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第３の時間の長さよりも短い、システム。
【請求項１６】
請求項１１に記載のシステムであって、
前記第１の状態は、ハイの状態であり、前記第２の状態は、ロウの状態である、システム。
【請求項１７】
請求項１１に記載のシステムであって、
前記第１の状態は、オン状態であり、前記第２の状態は、オフ状態である、システム。
【請求項１８】
無線周波数（ＲＦ）信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するための方法であって、
デジタルパルス信号の状態を識別することであって、前記状態は、第１の状態と、第２の状態とを含む、前記デジタルパルス信号の状態の識別と、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときの第１の一次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときの第２の一次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときに、前記第１の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように一次ＲＦ信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときに、前記第２の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次ＲＦ信号を調整することであって、前記一次ＲＦ信号は、前記第１の一次周波数入力から前記第２の一次周波数入力への一次遷移速度を有する、前記一次ＲＦ信号の調整と、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときの第１の二次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときの第２の二次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にあるときに、前記第１の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように二次ＲＦ信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第２の状態にあるときに、前記第２の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次ＲＦ信号を調整することと、
前記第１の二次周波数入力から前記第２の二次周波数入力への二次遷移速度を決定することであって、前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、二次遷移速度の決定と、を備える方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、方法。
【請求項２０】
請求項１８に記載の方法であって、
前記第１の二次周波数入力から前記第２の二次周波数入力への遷移にかかる第１の時間の長さは、前記第１の一次周波数入力から前記第２の一次周波数入力への遷移にかかる第２の時間の長さよりも長い、方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法であって、
前記第１の時間の長さは、プラズマインピーダンスが前記第２の状態で安定化するためにかかる第３の時間の長さよりも短い、方法。
【請求項２２】
請求項２０に記載の方法であって、
前記第１の時間の長さは、二次ＲＦ信号を生成する生成器の１つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの１つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第３の時間の長さよりも短い、方法。
【請求項２３】
請求項２０に記載の方法であって、
前記第１の状態は、ハイの状態であり、前記第２の状態は、ロウの状態である、方法。