(57)【要約】  印刷レリーフを、レーザーを使用してレリーフ形成層内で彫刻し、及び結果として得られた印刷版を液体洗浄剤で洗浄することによる、直接レーザー彫刻を使用したフレキソ印刷版の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用する出発材料として、少なくとも寸法安定性が良好な基体及び厚さが少なくとも０．２ｍｍのエラストマー性レリーフ形成層を含むレーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素を用い、且つ少なくとも以下の工程：
（１）レーザーを使用してレリーフ形成層に、レーザーで彫刻されるレリーフ要素の高さが少なくとも０．０３ｍｍである印刷レリーフを彫刻する工程、及び、
（２）得られた印刷版を液体の洗浄剤で洗浄する工程、
を含む、直接レーザー彫刻によりフレキソ印刷版を製造する方法において、
前記洗浄剤が、該洗浄剤の全成分の量に対して少なくとも５０質量％の、以下の成分（Ａ１）〜（Ａ６）、
（Ａ１）５員、６員又は７員の環を有するラクトン、
（Ａ２）一般式がＲ1−ＣＯＯ−Ｒ2のヒドロキシモノカルボン酸エステル（但し、Ｒ1及びＲ2が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、アリール又はアルキルアリール基であり、及び当該エステルが５個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、基Ｒ1又はＲ2の少なくとも１個が、少なくとも１個のＯＨ基で置換されている）、
（Ａ３）一般式がＲ3−ＣＯＯ−Ｒ4のアルコキシモノカルボン酸エステル（但し、Ｒ3及びＲ4が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基であり、及び当該エステルが５個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、上記基の少なくとも１個の基における１個以上の非隣接、非末端脂肪族炭素原子が、酸素原子で置換され、そして残りのものは、端末ＯＨ基を有することもできる）、
（Ａ４）一般式がＲ5−ＣＯＯ−Ｒ6のケトモノカルボン酸エステル（但し、Ｒ5及びＲ6が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基であり、及び当該エステルが５個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、上記基の少なくとも１種の基における１個以上の非隣接、非末端脂肪族炭素原子がケト基、＞Ｃ＝Ｏで置換されている）、
（Ａ５）一般式がＲ7ＯＯＣ−Ｒ8−ＣＯＯＲ7'及び／又はＲ7ＣＯＯ−Ｒ8−ＯＯＣＲ7,のジカルボン酸エステル、（但し、当該エステルが６個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、Ｒ7及びＲ7,が、互いに独立して、１〜４個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり、及びＲ4が、２〜１２個の炭素原子を有する二価の炭化水素原子であり、且つ、Ｒ7又はＲ7'及びＲ8はまた、場合によっては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ又は＝Ｏからなる群から選ばれる別の置換基を有していても良く、及び／又は上記基内の非隣接炭素原子が任意に酸素原子で置換されて良い）、
（Ａ６）一般式が、Ｒ9Ｏ−（−Ｒ10−Ｏ）nＨのエーテルアルコール（但し、ｎが、２〜５の自然数であり、Ｒ9が、Ｈ又は１〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基であり、及びＲ10が、２〜４個の炭素原子を有する、同一又は異なるアルキレン基である）、
から選択される１種以上の成分（Ａ）を含み、且つ、成分（Ａ１）〜（Ａ６）が、それぞれ、沸点を１５０℃〜３００℃の範囲に有していることを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄剤が少なくとも１種の助剤（Ｂ）を含むことを特徴とする請求項１に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項３】
助剤（Ｂ）の少なくとも１種が、界面活性材であることを特徴とする請求項２に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄剤が、成分Ａ１〜Ａ６とは異なり、且つ沸点を１５０℃〜３００℃の範囲に有する少なくとも１種の別の溶媒（Ｃ）を含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項５】
追加の溶媒（Ｃ）が、全成分の合計量に対して２５質量％以下で存在することを特徴とする請求項４に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項６】
前記洗浄剤が、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４及びＡ５から成る群から選ばれる１種以上の成分を５０〜９９質量％含み、及び少なくとも１種の化合物Ａ６を１〜５０質量％含むことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項７】
前記洗浄剤が、成分Ａ５と成分Ａ６の混合物であることを特徴とする請求項６に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項８】
Ｒ1及びＲ2が、互いに独立して、１〜６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項９】
Ｒ8が、２〜６個の炭素原子を有する二価の直鎖状アルキレン基であることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項１０】
成分（Ａ５）が、一般式Ｈ3ＣＯＯＣ−Ｒ8−ＣＯＯＣＨ3（但し、Ｒ8が、２〜６個の炭素原子を有する二価の炭化水素基である）の異なるジエステルの混合物であることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項１１】
Ｒ10が、プロピレン基であることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項１２】
成分（Ａ６）が、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルであることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項１３】
洗浄がブラシ洗浄器で行なわれることを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項１４】
洗浄が、高圧力下に、印刷板の上に洗浄剤を吹き付けることによって行われることを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項１５】
液体洗浄剤の残留物を、後の工程で、水又は水性洗浄剤を使用して除去することを特徴とする請求項１〜１４の何れか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザーを使用してレリーフ形成層に印刷レリーフを彫刻し、及び得られた印刷版を液体洗浄剤で洗浄する、直接レーザー彫刻によりフレキソ印刷版を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキソ印刷版を製造するための直接レーザー彫刻においては、印刷レリーフが、レーザーを使用して、フレキソ印刷要素のレリーフ形成層に彫刻される。フレキソ印刷版を製造するための通常の方法におけるものとして、次の現像工程はもはや必要とされない。直接レーザー彫刻を使用したフレキソ印刷版の製造は、例えば、特許文献１（ＵＳ５２５９３１１）、特許文献２（ＷＯ９３／２３２５２）、特許文献３（ＷＯ０２／４９８４２）、特許文献４（ＷＯ０２／７６７３９）又は特許文献５（ＷＯ０２／８３４１８）によって原則として公知である。
【０００３】
直接レーザー彫刻において、レリーフ形成層は、十分な強度のレーザービームに露光された部分が除去されるか、又は少なくとも分離（剥離）される範囲でレーザー照射を吸収する。レーザー照射（放射）の影響下に、レリーフ形成層の材料が、一方では蒸発し、及び、他方では、より大きい部分又は小さい部分に分離する。これは、中でも、粒径が通常＜１μｍの粘着性の、有機煙霧質、及びまた、揮発性有機物質を生じ、及びダストを発生させる。特に、例えば、ＣＯ2レーザー又はＮｄ−ＹＡＧレーザー等の強力ＩＲレーザーが、彫刻のために通常使用される。フレキソ印刷版を彫刻するための適切な装置は、例えば、特許文献６（ＥＰ１１６２３１５）及び特許文献７（ＥＰ１１６２３１６）に開示されている。
【０００４】
フレキソ印刷版の一般的なレリーフ層厚さは、通常、０．４〜７ｍｍである。レリーフ内の印刷されない窪み(well)は、少なくとも０．０３ｍｍのスクリーン領域であり、及び、他のネガティブ要素の場合には、実質的に０．０３ｍｍ以上であり、そして、厚い版の場合には、最大３ｍｍまで厚くなっても良い。彫刻深さが０．７ｍｍしかない場合、及び平均７０％切除（アブレーション）の場合、印刷版の単位ｍ2につき約５００ｇが除去（融除）される。従って、直接レーザー彫刻の場合、レーザーを使用することにより大量の材料が除去される。
【０００５】
直接レーザー彫刻のための装置は、分解生成物を採集（採取）するための、適切な採取（抽出）装置を有している。採取装置は、分解生成物による環境汚染を回避することに加え、彫刻の過程で生じた非常に粘着性の煙霧が版の印刷表面上に再度沈殿することをも防止するべきである。表面上での煙霧の再沈殿は、極めて望ましくないものであるが、この理由は、印刷レリーフの品質がこれにより劣化し、従って印刷の間、印刷画像(printed image)が、実質的に悪化（劣化）するからである。この効果は、当然、それぞれのレリーフ要素が微細になる程顕著になる。
【０００６】
しかしながら、採取が非常に良好な場合であっても、分解生成物の表面上への再沈殿は、必ずしも完全には防止できない。このことは、彫刻が非常に迅速に行なわれる場合（彫刻が非常に迅速に行なわれることは、経済的理由から非常に好ましいことであるが）に特にあてはまる。
【０００７】
従って、レーザー彫刻の後に、レーザー彫刻されたフレキソ印刷版の表面を、液体洗浄剤を使用して洗浄することが提案される。特許文献８（ＷＯ０３／４５６９３）、特許文献９（ＷＯ０３／１０６１７２）又は特許文献１０（ＷＯ０３／１０７０９２）は、この目的のために、通常の洗浄剤(washout agent)を感光性のフレキソ印刷要素に使用することを提案している。通常、このような洗浄剤は、レーザー彫刻によって生成した、層の分解生成物に関して良好な洗浄効果を有している。
【０００８】
しかしながら、通常の洗浄剤を使用すると、印刷版が洗浄剤の中で膨潤するという不利な点を有している。洗浄の後、従って、印刷版は、印刷にすぐに使用することができず、使用の前に注意深く乾燥させる必要がある。そして、乾燥には通常２〜３時間かかり、このため、通常のフレキソ印刷版の製造と比較した場合に直接レーザー彫刻が有する時間的な利点をなくしてしまい、非常に好ましくない。
【０００９】
従って、引用文献は、実質的に水性洗浄剤、特許文献１１（ＥＰ−Ａ４６３０１６）に開示されたオイル中水（water−in−oil）乳濁液、又は特許文献１２（ＷＯ９９／６２７７２３）に開示されたマイクロ乳濁洗浄剤、及び水、飽和及び不飽和の脂肪酸のアルキルエステル、及び界面活性剤を使用することも提案している。しかしながら、これらは、必ずしも望ましい洗浄効果を有しているわけではない。これに加え、例えば、長鎖脂肪酸アルキル等の実質的に水性の洗浄剤のある成分も、フレキソ印刷版を膨潤させる傾向がある。
【００１０】
【特許文献１】ＵＳ５２５９３１１
【特許文献２】ＷＯ９３／２３２５２
【特許文献３】ＷＯ０２／４９８４２
【特許文献４】ＷＯ０２／７６７３９
【特許文献５】ＷＯ０２／８３４１８
【特許文献６】ＥＰ１１６２３１５
【特許文献７】ＥＰ１１６２３１６
【特許文献８】ＷＯ０３／４５６９３
【特許文献９】ＷＯ０３／１０６１７２
【特許文献１０】ＷＯ０３／１０７０９２
【特許文献１１】ＥＰ−Ａ４６３０１６
【特許文献１２】ＷＯ９９／６２７７２３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、彫刻された層を洗浄するために、極めて良好な洗浄効果を有し、それにもかかわらず、レリーフ層が洗浄剤の中で過度に膨潤することのない液体洗浄剤が使用される、直接レーザー印刷によるフレキソ印刷版の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
従って、使用する出発材料として、少なくとも寸法安定性が良好な基体及び厚さが少なくとも０．２ｍｍのエラストマー性レリーフ形成層を含むレーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素を用い、且つ、
少なくとも以下の工程：
（１）レーザーを使用してレリーフ形成層に、レーザーで彫刻されるレリーフ要素の高さが少なくとも０．０３ｍｍである印刷レリーフを彫刻する工程、及び、
（２）得られた印刷版を液体の洗浄剤で洗浄する工程、
を含む、直接レーザー彫刻によりフレキソ印刷版を製造する方法において、
前記洗浄剤が、該洗浄剤の全成分の量に対して少なくとも５０質量％の、以下の成分（Ａ１）〜（Ａ６）、
（Ａ１）５員、６員又は７員の環を有するラクトン、
（Ａ２）一般式がＲ1−ＣＯＯ−Ｒ2のヒドロキシモノカルボン酸エステル（但し、Ｒ1及びＲ2が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、アリール又はアルキルアリール基であり、及び当該エステルが５個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、基Ｒ1又はＲ2の少なくとも１個が、少なくとも１個のＯＨ基で置換されている）、
（Ａ３）一般式がＲ3−ＣＯＯ−Ｒ4のアルコキシモノカルボン酸エステル（但し、Ｒ3及びＲ4が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基であり、及び当該エステルが５個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、上記基の少なくとも１個の基における１個以上の非隣接、非末端脂肪族炭素原子が、酸素原子と置換され、そして残りのものは、端末ＯＨ基を有することもできる）、
（Ａ４）一般式がＲ5−ＣＯＯ−Ｒ6のケトモノカルボン酸エステル（但し、Ｒ5及びＲ6が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基であり、及び当該エステルが５個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、上記基の少なくとも１種の基における１個以上の非隣接、非末端脂肪族炭素原子がケト基、＞Ｃ＝Ｏで置換されている）、
（Ａ５）一般式がＲ7ＯＯＣ−Ｒ8−ＣＯＯＲ7'及び／又はＲ7ＣＯＯ−Ｒ8−ＯＯＣＲ7,のジカルボン酸エステル、（但し、当該エステルが６個〜２０個の炭素原子を有しているという条件で、Ｒ7及びＲ7,が、互いに独立して、１〜４個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり、及びＲ4が、２〜１２個の炭素原子を有する二価の炭化水素原子であり、且つ、Ｒ7又はＲ7'及びＲ8はまた、場合によっては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ又は＝Ｏからなる群から選ばれる別の置換基を有していても良く、及び／又は上記基内の非隣接炭素原子が任意に酸素原子で置換されて良い）、
（Ａ６）一般式が、Ｒ9Ｏ−（−Ｒ10−Ｏ）nＨのエーテルアルコール（但し、ｎが、２〜５の自然数であり、Ｒ9が、Ｈ又は１〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基であり、及びＲ10が、２〜４個の炭素原子を有する、同一又は異なるアルキレン基である）、
から選択される１種以上の成分（Ａ）を含み、且つ成分（Ａ１）〜（Ａ６）が、それぞれ、沸点を１５０℃〜３００℃の範囲に有していることを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法が見出された。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明に関し、特に以下の事項が説明される。
【００１４】
本発明に従う方法を行うために使用される出発材料は、レーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素であり、該フレキソ印刷要素は、少なくとも１種の寸法安定性基体（寸法安定性が良好な基体）及び厚さが少なくとも０．２ｍｍ、好ましくは０．３ｍｍ及び特に好ましくは少なくとも０．５ｍｍであるエラストマー性レリーフ形成層を、原則として公知の方法で含んでいる。通常、その厚さは０．５〜３．０ｍｍである。
【００１５】
寸法安定性基体(dimensionally stable substrate)は、原則として公知の方法によるポリマーフィルム、又は金属箔、又は金属又はポリマー製材料の円筒状スリーブであって良い。円形印刷版を製造するための後者のスリーブは、スリーブとも称されている。
【００１６】
レリーフ形成層は、少なくとも１種のエラストマー性バインダー、及び架橋に適切な成分、例えば、エチレン不飽和のモノマー、及び適切な開始剤(initiator)を含む架橋可能層を架橋することにより原則として公知の方法で得ることができる。架橋は、例えば光化学的に行うことができる。更に、例えば、カーボンブラック等のレーザー照射のための吸収剤、及び／又は可塑剤、及び染料、分散剤、これに類似するもの等の他の助剤を任意に使用できる。
【００１７】
レーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素は原則として公知である。レーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素は、レリーフ形成層を１枚だけ含んでも良く、又は同一、類似した、又は異なる構造の複数のレリーフ形成層を含んでも良い。レーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素の構造の詳細及び構成の詳細は、例えば、ＷＯ９３／２３２５２、ＷＯ９３／２３２５３、ＵＳ５２５９３１１、ＷＯ０２／４９８４２、ＷＯ０２／７６７３９又はＷＯ０２／８３４１８に開示されており、本願に参照として挙げるものである。
【００１８】
本発明に従う方法は、出発材料として極めて特殊なフレキソ印刷要素を使用することには限られない。しかしながら、これらレーザー彫刻フレキソ印刷要素のレリーフ形成層が、実質的に疎水性(hydrophobic)のバインダーを原則として公知の方法で含む場合に、本方法の有利な点が特に発揮される。このようなエラストマー性バインダーの例は、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレン／ブタジエンゴム、ニトリル／ブタジエンゴム、アクリレート／ブタジエンゴム、ブチルゴム、スチレン／イソプレンゴム、ポリノルボルネン(polynorbornene)ゴム、ポリオクテネーマー、エチレン／プロピレン／ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、又は例えば、ＳＢＳ又はＳＩＳブロックコポリマー又は星状(star-like)スチレン／ブタジエン及び／又はスチレン／イソプレンブロックコポリマー等のスチレン／ブタジエン型又はスチレン／イソプレン型の熱可塑性エラストマーブロックコポリマーである。
【００１９】
例えば、ＷＯ０３／１０６１７２に開示されている、比較的大量の適切な可塑剤と結びついたスチレン／ブタジエン型のバインダーが特に好ましい。
【００２０】
本発明に従う方法の工程（１）では、印刷レリーフは、レーザーを使用した原則として公知の方法で、レーザー彫刻可能な層に彫刻される。レーザーは、特にＩＲレーザー例えば、ＣＯ2又はＮｄ／ＹＡＧレーザーであって良い。１本のレーザービームのみを扱うか又は複数のレーザービームを扱う装置を使用して良い。回転シリンダーを有する装置であることが好ましい。このような装置は、原則として公知である。これらの設計と操作方式は、例えば、ＥＰ−Ａ１２６２３１５、ＥＰ−Ａ１２６２３１６又はＷＯ９７／１９７８３に記載されている。詳細は、特にＥＰ−Ａ１２６２３１５の１４〜１７頁に記載されている。
【００２１】
彫刻するべき要素の高さはレリーフの合計高さに依存し、そして彫刻するべき要素の種類に依存し、そして印刷版の所望の特性に従いこの技術分野の当業者によって決定される。彫刻するべきレリーフ要素の高さは、少なくとも０．０３ｍｍ、好ましくは少なくとも０．０５ｍｍであるが、ここでは個々のドット間の最小高さを記載した。レリーフ高さが不十分な印刷版は、通常、フレキソ印刷技術を使用した印刷には不適切であり、この理由は、ネガティブ要素が印刷インキで一杯になってあふれるからである。個々のネガティブドットは、通常、深さがより深く；直径０．２ｍｍのものでは、通常０．０７〜０．０８ｍｍの深さが望ましい。彫刻された領域では、０．１５ｍｍを超える深さ、好ましくは０．３ｍｍを超える深さ、及び特に好ましくは０．４ｍｍを超える深さが望ましい。後者は、当然、比較的厚いレリーフの場合にのみ可能である。
【００２２】
レリーフ形成層の分解(degradation)又は変質(decomposition)生成物は、レリーフの彫刻の間に、吸引によって可能な限り採取されるべきである。この目的のために、出願人が行った、未公開の出願ＤＥ１０３５５９９１．４に記載された装置が、吸引による採取に使用するのに極めて有利である。しかしながら、他の採取装置も当然使用可能である。
【００２３】
レリーフ層を彫刻した後は、得られた印刷版又はその表面が、液体洗浄剤を使用して工程（２）で洗浄される。
【００２４】
本発明に従えば、洗浄剤は、洗浄剤の全成分の合計に対して、少なくとも５０質量％の１種以上の成分（Ａ）を含んでいる。成分は、成分（Ａ１）〜（Ａ６）から成る群から選ばれる１種以上の成分である。
【００２５】
成分（Ａ１）は、５員、６員又は７員の環を有するラクトンであり、ラクトンは、任意に例えば、ＯＨ基で更に置換されても良い。好ましくは、□−ブチロラクトン（Ｄ−ブチロラクトン）、□−バレロラクトン（Ｏ−バレロラクトン）又は□−カプロラクトン（#Ca-prolacton）である。
【００２６】
（Ａ２）は、一般式がＲ1−ＣＯＯ−Ｒ2のヒドロキシモノカルボン酸エステルである。ここで、Ｒ1及びＲ2が、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、アリール又はアルキルアリール基であり、少なくとも１個の基Ｒ1及び／又はＲ2が、少なくとも１個の追加的なＯＨ基を有している。更に、ヒドロキシモノカルボン酸エステルの炭素原子の合計数が、５個〜２０個である。
【００２７】
直鎖状又は分岐(branched)アルキル基の例は、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、１−ペンチル、１−ヘキシル、２−エチル−１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシル、又は１−ドデシル基である。直鎖状アルキル基が好ましい。
【００２８】
アラルキル基は、公知の方法でアリール基によって置換されてアルキル基になる。例は、ベンジル又はフェニルエチル基を含む。アリール基は、例えば、フェニル基であって良い。アルキルアリール基は、公知の方法でアルキル置換されたアリール基になる。例えば、これらは、４−アルキルフェニル基、特に４−メチルフェニル基であって良い。
【００２９】
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、好ましくは、１〜６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基である。
【００３０】
ＯＨ基の数は、洗浄剤の所望の特性に従い当業者によって選択される。通常、成分（Ａ２）は、１〜４個のＯＨ基、好ましくは１個又は２個のＯＨ基、及び特に好ましくは１個のＯＨ基を有している。
【００３１】
成分（Ａ２）は、その基Ｒ1及びＲ2が、アルキル基、特に好ましくは直鎖状アルキル基であるヒドロオキシカルボン酸エステルであることが好ましい。ＯＨ基は、アルキル基上の隣位に、及び末端位に配列されて良い。ＯＨ基は、好ましくは、末端位又は□位(Ｏ位)に配列されることが好ましい。
【００３２】
適切なヒドロキシモノカルボン酸エステルの例は、特に、乳酸Ｈ3ＣＣＨ（ＯＨ）−ＣＯＯＲ2'（但し、Ｒ2'が、２〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基である）、及び一般式Ｒ1ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨのエステルを含む。更なる例は、グリコール性エステルＨＯ−ＣＨ2ＣＯＯＲ2'又は３−ヒドロキシブチル性エステルＣＨ3−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＣＯＯＲ2'、特にそれぞれのエチルエステルを含む。
【００３３】
成分（Ａ３）は、一般式がＲ3−ＣＯＯ−Ｒ4のアルコキシモノカルボン酸エステルを含む。ここで、Ｒ3及びＲ4は、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基であり、少なくとも１個の基における１個以上の非隣接、非末端脂肪族炭素原子が、酸素原子と置換されている。換言すれば、この基（遊離基：ラジカル）は、１個以上のエーテル基を有している。アルコキシモノカルボン酸エステルの炭素原子の合計数は、５〜２０個である。
【００３４】
「非末端」という用語（概念）は、それぞれの基に単独的に関連するものであり、すなわち、末端脂肪族炭素原子も、エステル基に直接的に結合した脂肪族炭素原子も酸素原子によって置換されるべきではない。
【００３５】
エーテル基の数は、洗浄剤の所望の特性に基づいて、この技術分野の当業者によって選択されるべきである。しかしながら、通常、成分（Ａ３）は、４個を超過するエーテル基を有しておらず、好ましくは、１〜３個及び特に好ましくは１個又は２個エーテル基を有している。複数のエーテル基が基内に存在する場合には、これらは、少なくとも２個の炭素原子で互いに分離されることが好ましい。
【００３６】
エーテル基を有する基は、末端ＯＨ基も有している。
【００３７】
２個の基Ｒ3又はＲ4の１個のみがエーテル基を有していることが好ましく、基Ｒ4のみがエーテル基を有していることが特に好ましい。
【００３８】
適切なアルコキシモノカルボン酸エステルの例は、２−エトキシエチルアセテート又は２−ブトキシエチルアセテートを含む。
【００３９】
本発明の更なる好ましい実施の形態では、Ｒ4は、カルボン酸Ｒ3ＣＯＯＨをエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド及び／又はブチレンオキシドでアルコキシル化(alkoxylation)することにより、原則として公知の方法で得ることができるポリオキシアルキレン基である。末端ＯＨ基をエーテル化し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、又はブトキシ基を得ても良い。
【００４０】
ポリオキシアルキレン基を有する適切な成分（Ａ３）の例は、一般式Ｒ3ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）kＨ、Ｒ3ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）kＣＨ3、Ｒ3ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ）3Ｏ）kＨ、又は−（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ）3Ｏ）kＣＨ3（但し、ｎが、２又は３及びＲ3が、２〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基である）の化合物を含む。
【００４１】
成分（Ａ４）は、一般式がＲ5−ＣＯＯ−Ｒ6のケトモノカルボン酸エステルである。ここで、Ｒ5及びＲ6は、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する、直鎖状（線状）又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基であり、少なくとも１個の基における非隣接、非末端脂肪族炭素原子がケト基、＞Ｃ＝Ｏで置換されている。更に、ケトモノカルボン酸エステルの全炭素原子の合計数が５個〜２０個である。
【００４２】
ケト基の数は、洗浄剤の所望の特性に従い、この技術分野の当業者によって選択される。しかしながら、通常、成分（Ａ４）は、ケト基を４個を超過しない範囲で有し、好ましくは１個又は２個のケト基を有し、及び特に好ましくは、ケト基を１個のみ有している。
【００４３】
成分（Ａ４）は、好ましくは、一般式が、Ｒ5'−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ6のケトエステル（但し、Ｒ5'が、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル、アラルキル、又はアルキルアリール基、好ましくは、１〜６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基である）である。Ｒ5'は、特に好ましくはメチル基である。好ましい化合物において、Ｒ6は、１〜６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基、例えば、エチル基である。
【００４４】
（Ａ５）は、一般式がＲ7ＯＯＣ−Ｒ8−ＣＯＯＲ7'及び／又はＲ7ＣＯＯ−Ｒ8−ＯＯＣＲ7,のジカルボン酸エステルである。ここで、Ｒ7及びＲ7,が、互いに独立して、１〜４個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり、及びＲ4が、２〜１２個の炭素原子を有する２価の炭化水素原子である。換言すれば、これらは、ジカルボン酸又はジアルコールから誘導されるジエステルである。ジカルボン酸エステルの全炭素原子の合計数は、６個〜２０個である。
【００４５】
ここで、Ｒ7及びＲ7,は、互いに独立して、１〜４個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基である。例は、メチル、エチル、１−プロピル−、２−プロピル−、１−ブチル−、２−ブチル又はｔｅｒｔ−ブチル基を含む。メチル、エチル及び１−プロピル基が好ましく、及びメチル基が特に好ましい。
【００４６】
Ｒ8は、２〜１２個の炭素原子を有する二価の炭化水素基である。Ｒ8は、直鎖状、分岐、又は環式の脂肪族炭化水素基又は芳香族基のいずれでも良い。Ｒ8は、２〜１２個の炭素原子、好ましくは２〜６個の炭素原子を有する二価の直鎖状アルキレン基であることが好ましい。
【００４７】
適切なジエステルの例は、ジメチルブタンジカルボキシレート、ジメチルヘキサンジカルボキシレート、ジメチルオクタンジカルボキシレート、ジエチルオクタンジカルボキシレート、プロピレングリコールジアセテート又はエチレングリコールジアセテートを含む。
【００４８】
当然、異なるジエステルの混合物も可能である。一般式Ｈ3ＣＯＯＣ−Ｒ8'−ＣＯＯＣＨ3（但し、Ｒ8'が、２〜６個の炭素原子を有する二価の直鎖状炭化水素基、特に−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）6−である）の異なるジエステル混合物が特に好ましい。このようなエステル混合物は市販されてもいる。
【００４９】
任意に、基Ｒ7又はＲ7'及びＲ8は、別の置換基、特に−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ又は＝Ｏからなる群から選ばれる別の置換基をも有し、及び／又は任意に、基内の非隣接炭素原子が酸素原子で置換されて良い。適切である場合には、この技術分野の当業者は、洗浄剤の所望の特性に従い、このような置換基の種類と数に基づいて適切な選択を行う。
【００５０】
成分（Ａ６）は、一般式が、Ｒ9Ｏ−（−Ｒ10−Ｏ）nＨのエーテルアルコールである。ここで、ｎは、２〜５、好ましくは２又は３の自然数である。Ｒ9は、Ｈ又は例えば、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、１−ペンチル、又は１−ヘキシル基等の、１〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基である。Ｒ10は、２〜４個の炭素原子を有する、直鎖又は分岐アルキレン基であり、特に１、２−エチレン、１、３−プロピレン、１、２−プロピレン、１、２−ブチレン、又は１、４−ブチレン基である。エーテルアルコール中のＲ10は、同一又は異なるもので良い。当然、上述した式の異なるエーテルアルコールの混合物も使用して良い。
【００５１】
Ｒ10は、プロピレン基であることが好ましい。特に好ましい実施の形態は、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを含む。ジプロピレングリコールモノメチルエーテル及びこれの異性体混合物は市販されている。
【００５２】
この技術分野の当業者は、洗浄剤の所望の特性に従い、成分（Ａ１）〜（Ａ６）のそれぞれが１５０℃〜３００℃の範囲に沸点を有しているという条件で、成分Ａ１〜Ａ６の中から適切な選択を行う。沸点の好ましい範囲は、１６０〜２８０℃であり、及び特に好ましくは１７０℃〜２５０℃である。
【００５３】
成分（Ａ１）〜（Ａ６）に共通することは、分子中の官能基のために、これらは、特に強い親水性（hydrophilic）であることなく、ある程度親水性(hydrophilicity)であるということである。この特性のために、この化合物は、疎水性のレリーフ層を実質的な（重要な）範囲にまで膨潤させることがない。しかしながら、それにもかかわらず、洗浄工程の後、洗浄剤の残留物は、レリーフ印刷版の表面から洗浄除去される。レリーフ印刷版は、十分に疎水性であり、レリーフ印刷版の表面から層の分解生成物を洗浄除去できる。
【００５４】
更に、成分（Ａ１）〜（Ａ６）は、１２個を超過する長鎖の疎水性アルキル基を有していない。このような長鎖の基は、通常、レリーフ層上で高い可塑作用を有し、そして、望ましくないことに硬度の低下をもたらす。このことは、本発明に従い、成分（Ａ１）〜（Ａ６）を使用することにより回避される。
【００５５】
親水性の所望の程度は、成分（Ａ１）〜（Ａ６）の種類と量の選択することにより、この技術分野の当業者によって設定することができる。通常、洗浄剤は、水に対して実質的に非混合性であるべきであり、しかし、フレキソ印刷版の表面を水で洗浄可能なように、十分に親水性であるべきである。
【００５６】
本発明に従えば、洗浄剤は、成分（Ａ１）〜（Ａ６）から成る群から選ばれる１種以上の成分（Ａ）を、洗浄剤の全成分の量に対して少なくとも５０質量％の量で含む。この洗浄剤は、好ましくは、少なくとも７０質量％、及び特に好ましくは少なくとも８０質量％の成分Ａ１〜Ａ６を含む。
【００５７】
本発明の好ましい実施の形態では、洗浄剤は、成分Ａ１〜Ａ６の少なくとも２種類のものの混合物から成る。
【００５８】
ここで、５０〜９９質量％の（Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４及びＡ５から成る群から選ばれる）１種以上の成分と、１〜５０質量％の少なくとも１種類の成分Ａ６の混合物が特に有用であることがわかった。
【００５９】
このような混合物において、成分Ａ１〜Ａ５の量は、好ましくは５５〜９５質量％であり、そして極めて好ましくは６０〜９０質量％である。成分Ａ６の量は、好ましくは５〜４５質量％であり、そして極めて好ましくは１０〜４０質量％である。
【００６０】
Ａ５とＡ６の１種以上の化合物が特に好ましい。
【００６１】
成分Ａ１〜Ａ６に加え、洗浄剤は、任意に１種以上の助剤（Ｂ）を含むこともできる。助剤は、例えば、界面活性剤、乳化剤、静電気防止剤、消泡剤(antifoams)、染料、又は相溶化剤である。洗浄剤は、少なくとも１種の界面活性剤を含むことが好ましい。適切な界面活性剤の例は、脂肪性アルコールポリグリコールエーテル、脂肪性アルコールポリグリコールエーテルスルホン酸の塩、脂肪性アルコールポリグリコールエーテルカルボン酸及びモノ−及びジカルボン酸のエステルを含み、エステルは、エトキシ基を含むものである。
【００６２】
助剤（Ｂ）の種類と量は、洗浄剤の所望の特性に従い、この技術分野の当業者によって設定ざれる。しかしながら、その量は、洗浄剤の全成分の量に対して、通常、１５質量％を超えるべきではなく、好ましくは１０質量％を超えるべきではなく、特に好ましくは５質量％を超えるべきではない。
【００６３】
更に、本発明に従う洗浄剤は、成分Ａ１〜Ａ６とは異なる別の溶媒（Ｃ）を含んでも良い。これらは、特に、洗浄剤の特性の微調整のために使用して良い。このような付加的な溶媒も、好ましくは１５０〜３００℃の範囲に沸点を有しているべきであり、好ましくは、１６０℃〜２８０℃の範囲に沸点を有している。例は、例えば、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、Ｃ７−Ｃ１２−アルコール、テルペンアルコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、又はプロピルヘプタノール等の高沸点アルコール又はグリコール、例えば、１５０℃〜３００℃の範囲に沸点を有する脱芳香族化鉱油部分、水素化した芳香族炭化水素、ジイソプロピルベンゼン又はテルペン及びＮ−メチルピロロリドン等の高沸点炭化水素である。
【００６４】
付加的な溶媒（Ｃ）の種類と量は、洗浄剤の所望の特性に従い、この技術分野の当業者によって設定される。しかしながら、その量は、洗浄剤の全成分の量に対して、２０質量％を超えるべきではなく、好ましくは１５質量％を超えるべきではなく、及び特に好ましくは１０質量％を超えるべきではない。
【００６５】
洗浄剤は、成分を単純に混合することにより製造することができる。
【００６６】
この製造は、例えば、印刷業者又は彫刻者等の末端使用者自身によって現場で行うことができる。しかしながら、この製造は、第三者によっても行うことができる。
【００６７】
工程（２）における印刷版の洗浄は、例えば、印刷版を洗浄剤に単に浸すか、又は洗浄剤をスプレー（吹きつけ）することによって行うことができる。
【００６８】
しかしながら、工程（２）における印刷版の洗浄は、機械的手段によって補助されることが好ましく、機械的手段は、例えば、ブラシがけ及び／又はフラシパッドがけ等である。通常、光重合可能なフレキソ印刷要素の現像用のものである、ブラシ洗浄器を洗浄工程に使用することが特に好ましい。
【００６９】
フレキソ印刷版の場合、例えば、回転する丸ブラシ、可動性平坦ブラシ、又はフラシパッドを有する連続システムを使用することが可能である。
【００７０】
円筒状基体上に既に搭載されている、継目無しスリーブ又は版の場合、円形印刷版のための少なくとも１台の維持器及び円形印刷版からの距離が調整可能であることが好ましい少なくとも１個の回転ブラシを備えた洗浄装置が有用でることがわかった。装置は、例えば、回転ブラシ、エアスクイージ（空気乾燥器）、絞りロール等の乾燥用の追加的な構成要素（部品）を有していても良い。円形印刷版用の維持器は、そのギャップに円形印刷版が配置され、そして、異なる回転速度／異なる回転方向に運転されるブラシで構成ざれていても良い。円形印刷版は、それ自身の質量で又は付加的なロールを使用して取り外すことができる。
【００７１】
スプレー洗浄器を使用し、高圧力下に彫刻されたフレキソ印刷版の表面に洗浄剤を吹きつけることにより、洗浄工程を補助することも可能である。
【００７２】
洗浄剤との接触は、１５分を超えるべきではなく、好ましくは１０分を超えるべきではなく、及び接触時間は特に好ましくは２〜８分である。
【００７３】
使用の前に、通常、洗浄されたフレキソ印刷版の表面から洗浄剤の残っている残留物を除去することが望ましい。膨潤（膨張）する傾向が低いため、乾燥工程に時間を費やす必要がなくなる。乾燥工程は、通常、３０分を超過せず、好ましくは２０分を超過せず、特に好ましくは１０分を超過しない。
【００７４】
除去は、例えば、織物又は紙等の吸収性材料で単に軽くたたくか、又は空気交換をせずに、又は空気交換して単に室温で乾燥させるか、又は約６５℃に上げて乾燥させることにより行われる。円形（円筒形）印刷版の場合、洗浄剤の残留物は、迅速な回転によっても投げ飛ばされて除去される。更に、ブラシ、エアスクイージ及び／又は絞りロールも使用して良い。
【００７５】
本発明に従う方法は、当然、別の工程も含む。
【００７６】
特に、本方法は、別の洗浄工程を含んで良い。例えば、彫刻の後、ダストの残留物又はこれに類似するものを、圧縮空気を吹き付けることにより、又はブラシがけすることにより除去することができる。
【００７７】
別の洗浄工程では、水又は水性洗浄工程が特に有利に使用される。この工程は、工程（２）の前に行うことができるが、工程（２）の後に行うことが好ましい。工程（２）の後の洗浄工程により、本発明に従い使用された洗浄剤の残留物は、特に有利に除去される。
【００７８】
別の洗浄工程（３）のための水性洗浄剤は、実質的に水及び任意に少量のアルコール及び／又は例えば界面活性剤、乳化剤、分散剤又は塩基等の助剤を含む。水のみを使用することが好ましい。従って、水の残留物又は水性洗浄剤の残留物を、例えば、単に圧縮空気を吹き付けるだけで除去することができる。
【００７９】
本発明に従い使用され、そしてカルボン酸エステルとエーテルアルコールを含んだ、洗浄剤は、僅かにしか膨潤活性(swelling activity)を有していないので、印刷版の面倒な乾燥は必要とされない。一方では、表面における有機不純物に関して、この洗浄剤は、非常に良好な洗浄効果を有しており、それにも関わらず、印刷版の表面を水で洗浄することができる。
【００８０】
通常の洗浄剤を使用することにより発生する、膨潤と乾燥による、追加的な層厚さの許容誤差(thickness tolerance)を、効果的に回避することができる。これは、より均一なインキ輸送と、従って高品質の印刷複写をもたらす。
【００８１】
洗浄剤を使用した、本発明に従う直接レーザー彫刻方法を使用することにより、洗浄の後、直ちに使用できるフレキソ印刷版が得られる。従って、通常の洗浄剤を使用した場合と比較して、加工時間(processing time)は実質的に短くなる。
【００８２】
以下に実施例を使用して本発明をより詳細に説明する。
【００８３】
一般的方法
未補強(未補力：unamplified)フレキソ印刷要素の製造
本発明に従う方法に使用されるフレキソ印刷要素の製造を、通常の方法で行った。以下に記載する実施例において、光重合可能な材料が押し出しされ、フラットシートダイを通して排出され、そして基体(substrate)とリリース要素との間にカレンダーがけされた。この方法は、ＥＰ−Ｂ０８４８５１に詳細に記載されている。以下に記載した実施例では、リリース要素は、シリコン被覆した１２５μｍの厚さのＰＥＴカバーシートから成っている。
【００８４】
使用した押出し成型装置は、ツインスクリュー押出し装置（ＺＳＫ５３，Ｗｅｒｎｅｒ＆Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ）で、処理量(throughput)が、３０ｋｇ／ｈであった。基体フィルムを上部カレンダーロール側から、リリース要素を下部カレンダーロール側から供給して、９０℃に加熱した２台のカレンダーロールの間でカレンダーがけを行った。
【００８５】
得られたサンドイッチ複合体を、吸引ベルトを介して輸送し、冷却し、そして整理した。
【００８６】
光重合可能な材料の組成(composition)、製造パラメーター、及び基体及び使用したリリース要素の詳細は、それぞれの実施例に記載した。
【００８７】
フレキソ印刷要素の光化学的補強
フレキソ印刷要素の光化学的補強を、長波のＵＶライト（ＵＶＡ）を使用し、リリース要素を通して、未補強のフレキソ印刷要素に放射することによって行った。厚さが１．４ｍｍのフレキソ印刷要素の場合に使用したＵＶドーズ(UV dose)は、約１２Ｊ／ｃｍ2であった。リリース要素の除去の後、短波のＵＶライト（ＵＶＣ）を使用して、レリーフ層を非粘着性にした。
【００８８】
補強したフレキソ印刷要素のレーザー彫刻
補強したフレキソ印刷要素を３−ビームＣＯ2レーザー（ＢＤＥ４１３１、Ｓｔｏｒｋ  Ｐｒｉｎｔｓ  Ａｕｓｔｒｉａより）を使用して、解像度１２７０ｄｐｉのテストモチーフをレーザー彫刻した。使用したパラメーターを以下に示す。
【００８９】
表面速度                    １０ｍ／ｓ
レリーフ高さ              ５５０μｍ
側面角度(Flank angle)       ５９°
ファーストステップ          ６０μｍ
【００９０】
テストモチーフは、フレキソ印刷に適切であるテスト要素を含んでいた。該テスト要素は、微細ポジティブ及びネガティブライン（ライン（線）の幅が６０μｍ〜１ｍｍ）、及びドット（直径が６０μｍ〜１ｍｍ）、スクリーン（１００及び１３３ｌｐｉで、１〜９９％）、微細表意文字、グリッド（ライン幅６０μｍ）及び５００μｍのエッジ長さを有するチェス盤パターン等のものである。
【００９１】
レーザー彫刻したフレキソ印刷要素の洗浄
レーザー彫刻したフレキソ印刷要素の洗浄を、市販の平坦ブラシ洗浄器（Ｗ３２ｘ４０，ＢＡＳＦ  Ｄｒｕｃｋｓｙｓｔｅｍｅ  ＧｍｂＨ）を使用して、上述した洗浄時間の間、それぞれの洗浄剤を使用して行った。
【００９２】
使用した出発材料
ＫＲＡＴＯＮ（登録商標）Ｄ−１１０２：ＳＢＳ  ブロックコポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）  Ｍw≒１２５０００ｇ／ｍｏｌ、１７％ＳＢ  ２−ブロック部分  ３０％スチレン単位、６３％１，４−ブタジエン単位、７％１，２−ブタジエン単位
Ｎｉｓｓｏ（登録商標）ＰＢ−１０００：オリゴマー性ポリブタジエンオイル（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｓｏｄａ）
Ｏｎｄｉｎａ（登録商標）９３４：医療用ホワイトオイル（Ｓｈｅｌｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）
Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＨＤＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＢＡＳＦ）
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）６５１：ベンジルジメチルケタル（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）
Ｋｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫ：２，６−Ｄｉ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（Ｒａｓｃｈｉｇ）
Ｂｕｔｙｒｏｌａｃｔｏｎｅ：ブチロラクトン（ＢＡＳＦ）
Ｓｔａｒｓｏｌ（登録商標）：以下のものの商業用混合物、ジメチルスシネート、ジメチルグルタレート、及びジメチルアジペート（ジベーシックエステル混合物）
Ｓｏｌｖｅｎｏｎ（登録商標）ＤＰＭ：ジプロピレングリコールエーテル、異性体混合物（ＢＡＳＦ）
【００９３】
実施例１
最初に、ＷＯ０３／１０６１７２に類似して、リリース要素を含んだ合計厚さが１．２９ｍｍの未補強のフレキソ印刷要素を、上述した押出し工程により製造した。レリーフ層は以下の構成を有していた。
【００９４】
【表１】
2007537897.tif 000002
【００９５】
このように製造された未補強のフレキソ印刷要素を、上述のように光化学的に補強(amplify)し、そして、テストモチーフをレーザー彫刻した。
【００９６】
図１から明らかなように、フレキソ印刷版は、表面と側面（側部）の両方にかなりの堆積（沈殿）があった。粘着性沈殿物は、側面の広範囲に形成され、この沈殿物は、印刷の間、ぼやけた印刷画像をもたらすものである。
【００９７】
実施例２
８０質量部のブチロラクトンと２０質量部のＳｏｌｖｅｎｏｎ（登録商標）ＤＰＭから、混合により本発明に従う洗浄剤を製造した。実施例１に類似した、レーザー彫刻した未洗浄のフレキソ印刷要素を、ブラシ洗浄器内で、この洗浄混合物を使用して１分間洗浄し、そして、圧縮空気を使用して吹きつけ乾燥した。
【００９８】
層厚さの増加は、僅か３μｍであった。
【００９９】
図２から明らかなように、表面上と側面上の不純物は、実質的に完全に除去された。洗浄した印刷版は、印刷画像がにじむことなくフレキソ印刷することができた。
【０１００】
実施例３
実施例１に類似した、レーザー彫刻した未洗浄のフレキソ印刷要素を、ブラシ洗浄器内で、実施例２からの本発明に従う洗浄混合物を使用して５分間洗浄し、そして、圧縮空気を使用して吹きつけ乾燥した。
【０１０１】
層厚さの増加は、僅か４μｍであった。
【０１０２】
図３から明らかなように、表面上と側面上の不純物は、両方とも実質的に完全に除去された。洗浄した印刷版は、印刷画像がにじむことなく、フレキソ印刷することができた。
【０１０３】
実施例４
８０質量部のＳｔａｒｓｏｌ（登録商標）と２０質量部のＳｏｌｖｅｎｏｎＤＰＭから、混合により本発明に従う洗浄剤を製造した。実施例１に類似した、レーザー彫刻した未洗浄のフレキソ印刷要素を、ブラシ洗浄器内で、この洗浄混合物を使用して５分間洗浄し、次に水で２分間洗浄し、そして、圧縮空気を使用して吹きつけ乾燥した。水で洗浄することによりフレキソ印刷要素の表面から洗浄剤を容易に除去することができた。
【０１０４】
層厚さの増加は、僅か１７μｍであった。
【０１０５】
図４から明らかなように、表面上と側面上の両方の不純物の大半が除去された。洗浄した印刷版は、印刷画像がにじむことなく、フレキソ印刷することができた。
【０１０６】
実施例５（比較例）
比較のために、ＷＯ９９／６２７２３に従うマイクロ乳濁洗浄剤を以下の成分から製造した。該成分は、すなわち、アブラナ油メチルエステル、水、乳化剤、及び助剤である。
【０１０７】
実施例１に類似した、レーザー彫刻した未洗浄のフレキソ印刷要素を、ブラシ洗浄器内で、マイクロ乳濁洗浄剤を使用して５分間洗浄し、次に水で２分間洗浄し、そして、圧縮空気を使用して吹きつけ乾燥した。水で洗浄することによりフレキソ印刷要素の表面から洗浄剤を容易に除去することができた。
【０１０８】
層厚さの増加は、２８μｍであった。
【０１０９】
図５から明らかなように、表面上の不順物は主に除去されたが、しかし、側面上の不順物は依然としてはっきりと存在していた。ヒレキソ印刷に使用した場合、印刷版の絞り(squeeze)により縁部(edge)の不純物も印刷されるので、にじんだ印刷画像が得られるものと考えられる。
【０１１０】
実施例６（比較例）
比較のために、実施例１に類似した、レーザー彫刻した未洗浄のフレキソ印刷要素を、ブラシ洗浄器内で、流水（水道水）を使用して５分間洗浄し、そして、圧縮空気を使用して吹きつけ乾燥した。
【０１１１】
層厚さの増加は観察されなかった。
【０１１２】
図６から明らかなように、表面上においてのみ、微粒子状の不純物の一部が純粋に機械的に引き離された。側面上の粘着性の沈殿物は、依然として完全に存在していた。この方法で洗浄されたフレキソ印刷要素は、フレキソ印刷には不適切であった。
【０１１３】
実施例７（比較例）
比較のために、フレキソ印刷版用の通常の洗浄剤（ｎｙｌｏｓｏｌｖ  Ａ，ＢＡＳＦ  Ｄｒｕｃｋｓｙｓｔｅｍｅ  ＧｍｂＨ）を使用した。
【０１１４】
実施例１に類似した、レーザー彫刻した未洗浄のフレキソ印刷要素を、ブラシ洗浄器内で、ｎｙｌｏｓｏｌｖ  Ａを使用して３分間洗浄し、そして、圧縮空気を使用して吹きつけ乾燥した。
【０１１５】
層厚さの増加は、４６μｍであった。
【０１１６】
層厚さが大きく増加したので、フレキソ印刷に使用する前に、先ず、洗浄したフレキソ印刷版を乾燥させる必要があったが、この乾燥は時間を浪費するものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】実施例１に従う、レーザー彫刻したフレキソ印刷要素（未洗浄）である。
【図２】実施例２に従う、レーザー彫刻したフレキソ印刷要素であり、ＢＬ／ＤＰＭ８：２で１分間洗浄したものである。
【図３】実施例３に従う、レーザー彫刻したフレキソ印刷要素であり、ＢＬ／ＤＰＭ８：２で５分間洗浄したものである。
【図４】実施例４に従う、レーザー彫刻したフレキソ印刷要素であり、Ｓｔａｒｓｏｌｖ／ＤＰＭ８：２で５分間洗浄したものである。
【図５】実施例５に従う、レーザー彫刻したフレキソ印刷要素であり、Ｐｒｉｎｔｃｌｅａｎ  ｃｌａｓｓｉｃで５分間洗浄したものである。
【図６】実施例６に従う、レーザー彫刻したフレキソ印刷要素であり、水で５分間洗浄したものである。
【図１】
2007537897.tif 000003
【図２】
2007537897.tif 000004
【図３】
2007537897.tif 000005
【図４】
2007537897.tif 000006
【図５】
2007537897.tif 000007
【図６】
2007537897.tif 000008
【国際調査報告】
2007537897.tif 000009
2007537897.tif 000010
2007537897.tif 000011
2007537897.tif 000012