Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月17日(2016.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本技術の表示装置および電子機器では、表示層と第１基板との間に設けられたシール層に添加剤を用いるようにしたので、シール層の表面性が改善され、表示特性を向上させることが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【図１】本技術の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した電気泳動素子の構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した表示装置の動作を説明するための断面図である。
【図４】本技術の変形例に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図５Ａ】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ａに示した電子ブックの他の例を表す斜視図である。
【図６】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図７】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図８Ａ】適用例４の表側から見た外観を表す斜視図である。
【図８Ｂ】適用例４の裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図９】適用例５の外観を表す斜視図である。
【図１０】適用例６の外観を表す斜視図である。
【図１１Ａ】適用例７の閉じた状態の正面図、左側面図、右側面図および上面図である。
【図１１Ｂ】適用例７の開いた状態の正面図および側面図である。
【図１２Ａ】本技術の実施例２における添加剤の添加量と応答速度との関係を表す特性図である。
【図１２Ｂ】実施例２における添加剤の添加量と反射率との関係を表す特性図である。
【図１３Ａ】実施例２における添加剤の添加量と応答速度との関係を表す特性図である。
【図１３Ｂ】実施例２における添加剤の添加量と反射率との関係を表す特性図である。
【図１４Ａ】実施例２における添加剤の添加量と応答速度との関係を表す特性図である。
【図１４Ｂ】実施例２における添加剤の添加量と反射率との関係を表す特性図である。
【図１５Ａ】実施例２における添加剤（アニオン性）とシール層の体積抵抗率との関係を表す特性図である。
【図１５Ｂ】実施例２における添加剤（ノニオン性）とシール層の体積抵抗率との関係を表す特性図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
従って、外部から電気泳動素子３０を見ると、泳動粒子３２は、例えば黒色または黒色に近い色に視認される。このような泳動粒子３２の色はコントラストを生じさせることができれば特に限定されない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この分散剤または電荷調整剤は、例えば正（＋）または負（−）のどちらか一方、あるいは両方の電荷を有しており、絶縁性液体３１中の帯電量を増加させると共に、静電反発により泳動粒子３２を分散させるためのものである。このような分散剤としては、例えばＬｕｂｒｉｚｏｌ社製のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズ，ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製のＢＹＫシリーズ、シェブロンケミカル社製のＯＡＳシリーズまたはＡｎｔｉ−ＴｅｒｒａシリーズあるいはＩＣＩ  Ａｍｅｒｉｃａｓ社製Ｓｐａｎシリーズ等が挙げられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
隔壁３４は、絶縁性液体３１中における泳動粒子３２の存在空間を仕切るためのものである（セル３６）。隔壁３４は、駆動基板１０および対向基板２０の積層方向（Ｚ方向）に多孔質層３３を貫通するように延在しており、一方がシール層４１、他方が対向電極２２にそれぞれ接している。このような隔壁３４により、セル３６間の泳動粒子３２の移動を防ぐことができる。従って、泳動粒子３２の拡散、あるいは凝集等による表示ムラの発生を抑えて画質を向上させることが可能となる。隔壁３４の高さ（Ｚ方向）は、互いに揃っていることが好ましい。同じ高さの隔壁３４を設けることにより、シール層４１と対向電極２２との間の距離（ギャップ）が面全体で均一に保たれ、電界強度を一定に維持することができる。これにより、応答速度のムラが解消される。隔壁３４の高さは例えば１μｍ以上１００μｍ以下である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
この他、添加剤の種類および添加量等を変えた実験例１−２〜１−７を作製し、それぞれの応答速度を測定した。表１は実験例１−１〜１−７の構成および応答速度の測定結果をまとめたものである。応答速度は、白色状態の輝度を１、黒色状態の輝度を０とし、電界印加後、輝度が０．９から０．１まで変化（Ｆａｌｌ）するために要した時間である。なお、応答速度の測定には、ファンクションジェネレータ（東陽テクニカ株式会社製）を使用した。また、実験例１−４はシール層を設けずに構成したものであり、実験例１−５は一般的なシール層（母材（熱可塑性ポリウレタン；E780M128）のみ）を用いて構成したものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
図１２Ａ，１２Ｂは、それぞれ実験例２−１における応答速度（図１２Ａ）および明表示および暗表示の1分後の反射率（図１２Ｂ）を表したものである。図１３Ａ，１３Ｂは
、それぞれ実験例２−２における応答速度（図１３Ａ）および明表示および暗表示の1分
後の反射率（図１３Ｂ）を表したものである。図１４Ａ，１４Ｂは、実験例２−３における応答速度（図１４Ａ）および明表示および暗表示の1分後の反射率（図１４Ｂ）を表し
たものである。ここでいう応答速度とは電界印加した際の０．９から０．１への輝度変化である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
（実施例３）
本実施例は、隔壁幅を１６μｍ、隔壁のピッチを１６０μｍとし、シール層５１および隔壁３４に着色材を添加して着色した表示装置２を想定し、その反射率およびコントラストの変化をシミュレーションしたものである。シール層５１および隔壁３４は、その特性を＋９０〜−９５の範囲で変化させた。表２は、シール層４１および隔壁３４の特性を＋９０〜−９５の範囲で変化させた際の、表示装置２の白反射率の値を、表３は黒反射率の値を、表４はコントラストの値をまとめたものである。なお、特性「＋」は反射を、「−」は吸収を示し、各特性が０の欄がシール層５１および隔壁３４に着色材を添加せずに表示装置２を構成したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月29日(2016.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光染色された生体標本を載置し、移動可能なステージと、
前記ステージ上に載置された前記生体標本の明視野画像を撮像する明視野画像撮像部と、
前記ステージ上に載置された前記生体標本の蛍光画像を撮像する蛍光画像撮像部と、
異なる時刻において前記明視野画像撮像部に前記明視野画像を各々撮像させ、
前記明視野画像の撮像ごとに、
撮像された前記明視野画像と前回の時刻に撮像された前記明視野画像との間の動きを算出し、
前記動きを打ち消すように、前記ステージを移動させ、
前記蛍光画像撮像部に前記蛍光画像を撮像させる
ように構成された制御部と
を具備する顕微鏡システム。
【請求項２】
請求項１に記載の顕微鏡システムであって、
前記制御部は、
前記明視野画像の撮像、前記動きの算出、前記ステージの移動、および前記蛍光画像の撮像を繰り返すように構成された
顕微鏡システム。
【請求項３】
請求項１または２に記載の顕微鏡システムであって、
前記撮像に用いる対物レンズをさらに具備し、
前記制御部は、
前記対物レンズの焦点位置を探索するために用いる、前記対物レンズの光軸に直交するＸＹ平面内の領域を検波枠として設定し、
前記蛍光画像において、ＲＯＩ領域を設定し、
連続して撮像された複数の前記蛍光画像に基づいて、前記ＲＯＩ領域の動きを算出し、
前記ＲＯＩ領域の動きに基づいて、前記検波枠を前記ＸＹ平面内で移動させる
ように構成された
顕微鏡システム。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の顕微鏡システムであって、
前記ステージの温度を計測する温度センサと、
前記ステージの温度と前記ステージの前記光軸方向の歪みとの関係情報を予め記憶した記憶部と
をさらに具備し、
前記制御部は、
前記温度センサから前記ステージの温度を取得し、
取得した前記温度に基づき、前記関係情報を参照して、前記焦点位置を探索する前記光軸方向の範囲を設定する
ように構成された
顕微鏡システム。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の顕微鏡システムであって、
前記制御部は、
前記明視野画像間の前記動きを打ち消すように、前記ステージを移動させるために必要な時間を算出し、
算出した前記時間が前記明視野画像の撮影間隔より長いとき、
前記ステージの前記移動を無効化し、前記明視野画像間の前記動きを前記記憶部に記憶させる
ように構成された
顕微鏡システム。
【請求項６】
明視野画像撮像部が移動可能なステージ上に載置され蛍光染色された生体標本の明視野画像を異なる時刻において撮像し、
制御部が撮像した各時刻の前記明視野画像間の動きを算出し、
制御部が前記動きを打ち消すように、前記ステージを移動させ、
前記ステージの移動後、蛍光画像撮像部が前記生体標本の蛍光画像を撮像する
オートフォーカス方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月2日(2016.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと、
前記表示パネルの下辺の端面の一部を支持する第１支持部を有するパネルホルダと、
前記表示パネルの前記第１支持部に支持される前記一部に振動を与える振動機構と、
を備える表示装置。
【請求項２】
前記振動機構は、前記第１支持部に対し振動を与えることにより、前記表示パネルの前記第１支持部に支持される前記一部に振動を与えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記振動機構は、前記表示パネルの前記第１支持部に支持される前記一部に直接振動を加えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記振動機構は、前記第１支持部に支持される前記一部に対向して設けられており、前記表示パネルの下辺の端面に垂直の方向に振動を与える請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記振動機構は、前記表示パネルの背面側から振動を与える請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記振動機構は、前記表示パネルの画面に垂直の方向に振動を与える請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記振動機構は、モータ及びモータの駆動力を振動に変換する振動子を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記パネルホルダは複数の前記第１支持部を備え、
前記振動機構は、前記表示パネルの辺に沿って複数、配置される請求項１〜７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記振動機構を制御する制御手段を更に備え、
前記制御手段は、複数の振動機構の各々を同じタイミングで振動させる請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記振動機構を制御する制御手段を更に備え、
前記制御手段は、複数の振動機構の各々を異なるタイミングで振動させる請求項８に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記振動機構を制御する制御手段と、
ユーザからの操作入力を受け付ける操作入力手段と、
を更に備え、
前記制御手段は、ユーザが前記操作入力手段により前記振動機構を振動させる指示を入力する操作を行った場合に、前記振動機構を振動させる請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記振動機構を制御する制御手段を更に備え、
前記制御手段は、所定の条件が成立した場合に前記振動機構を振動させる請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記表示パネルのキャリブレーションを行うキャリブレーション手段を更に備え、
前記制御手段は、前記キャリブレーション手段がキャリブレーションを実行する前に前記振動機構を振動させる請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記表示パネルの輝度又は色度を検出するセンサと、
前記キャリブレーションを実行した後に、前記センサによる検出値が目標値になっているか否かを判定する判定手段と、
を更に備え、
前記制御手段は、前記判定手段により前記センサによる検出値が目標値になっていないと判定された場合、再度、振動機構を振動させた後、前記キャリブレーション手段にキャリブレーションを行わせる請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記判定手段は、前記表示パネルの表示領域を複数の領域に分け、領域毎に前記センサによる検出値が目標値になっているか否かを判定し、
前記制御手段は、前記判定手段により前記センサによる検出値が目標値になっていないと判定された領域の近傍に配置されている振動機構を振動させた後、再度、前記キャリブレーション手段にキャリブレーションを行わせる請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記表示パネルは回転可能であり、
前記表示パネルの回転を検出する検出手段を更に備え、
前記制御手段は、前記検出手段により前記表示パネルの回転が検出された場合に前記振動機構を振動させる請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記制御手段は、前記表示装置の電源をオン又はオフする操作がされた直後に前記振動機構を振動させる請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記パネルホルダは、前記表示パネルの一部を背面側から支持する第２支持部を備えることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１９】
表示パネルと、
前記表示パネルの下辺の端面の一部を支持する第１支持部を有するパネルホルダと、
前記表示パネルの前記第１支持部に支持される前記一部に振動を与える振動機構と、
を備える表示装置の制御方法であって、
前記振動機構を制御する制御工程と、
所定の条件が成立したか否かを判定する工程と、
を有し、
前記制御工程では、前記所定の条件が成立した場合に前記振動機構を振動させる表示装置の制御方法。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、表示パネルと、
前記表示パネルの下辺の端面の一部を支持する第１支持部を有するパネルホルダと、
前記表示パネルの前記第１支持部に支持される前記一部に振動を与える振動機構と、
を備える表示装置である。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、表示パネルと、
前記表示パネルの下辺の端面の一部を支持する第１支持部を有するパネルホルダと、
前記表示パネルの前記第１支持部に支持される前記一部に振動を与える振動機構と、
を備える表示装置の制御方法であって、
前記振動機構を制御する制御工程と、
所定の条件が成立したか否かを判定する工程と、
を有し、
前記制御工程では、前記所定の条件が成立した場合に前記振動機構を振動させる表示装置の制御方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月28日(2016.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にモールドを用いてインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドを保持するモールド保持部と、
前記モールド保持部に保持された前記モールドに形成されたパターンを変形させるために、前記パターンが形成されたパターン面に沿った向きに、前記モールドの側面から力を加えることが可能なモールド変形機構と、を備え、
前記モールド変形機構は、前記モールドの側面を押し付けるように接触する接触部を含み、
前記接触部の形状は、前記モールドの側面に接触する側の寸法が、モールドの側面から遠い側の寸法より小さいことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記接触部は、錐体形状であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記接触部は、錐台形状であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記接触部は屋根型形状であり、前記接触部の稜線と前記モールドの側面とが接触することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記屋根型形状の前記接触部の稜線は、前記モールドの側面と接触する際に、前記モールドの中立面と平行であることを特徴とする請求項４に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記接触部の表面は、曲面であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記接触部は、球面形状であることを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記接触部は、階段形状であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記接触部が前記モールドの側面に接触する際に、前記接触部は前記モールドの中立面から前記モールドの厚さ方向に２５０μｍ以内の位置で接触するように、前記モールド保持部は前記モールドを保持することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記接触部は中心部に開口が形成されており、
前記開口に、前記モールド変形機構が前記モールドに力を加える方向における前記モールドの位置を検出する検出部を有することを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記接触部は中心部に開口が形成されており、
前記開口に、前記モールド変形機構が前記モールドに力を加える方向における前記モールドの位置を検出する検出部を有し、前記開口の中心を通過する直線と、前記屋根型形状の前記接触部が前記モールドと接触する稜線を通過する直線とが交わるように前記開口が形成されていることを特徴とする請求項４または５に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記接触部が前記モールドの側面から力を加える方向と直交する平面と前記接触部の側面とのなす角度が、
前記接触部が前記モールドの側面から力を加える方向と直交する平面と前記モールドの側面とのなす角度よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載のインプリント装置に用いられるインプリント用モールドであって、
前記モールドの中立面と、前記モールドの側面のなす角度がπ／２−０．００１ｒａｄ以上、π／２＋０．００１ｒａｄ以下であることを特徴とするインプリント用モールド。
【請求項１５】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載のインプリント装置に用いられるインプリント用モールドであって、
前記モールドをインプリント装置に固定するために前記モールドを保持する面と、前記モールドの側面のなす角度がπ／２−０．００１ｒａｄ以上、π／２＋０．００１ｒａｄ以下であることを特徴とするインプリント用モールド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のインプリント装置は、基板上にモールドを用いてインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記モールドを保持するモールド保持部と、前記モールド保持部に保持された前記モールドに形成されたパターンを変形させるために、前記パターンが形成されたパターン面に沿った向きに、前記モールドの側面から力を加えることが可能なモールド変形機構と、を備え、前記モールド変形機構は、前記モールドの側面を押し付けるように接触する接触部を含み、前記接触部の形状は、前記モールドの側面に接触する側の寸法が、モールドの側面から遠い側の寸法より小さいことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
（凸状が錐体形状と球体形状の変形例）
また、上記の何れの先端部材２６の形状も、モールド３の側面３ｂと接触する接触面（接触点）が上記の中立位置５０の許容範囲内に接触することができれば、側面３ｂと接触する部分が、平面であっても良い。例えば、錐体状の先端部材２６ａの場合は、側面３ｂと接触する部分が平面にすると、先端部材２６ｅの形状は錐台（円錐台及び角錐台）形状になる。図９に、錐台形状の先端部材２６ｅがモールド３に接触する前の様子を示す。錐台形状の先端部材２６ｅの加圧面２１ａの幅ｄ１は、加圧面２１ａの中心を中立位置５０に一致させることができたとして、最大で５００μｍである。そのため、加圧面２１ａの幅ｄ１は５００μｍ以内にしなければならない。同様に、球面形状の先端部材２６ｂや山型形状の先端部材２６ｃ、円筒面形状の先端部材２６ｄも加圧面２１ａを平面にすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
例えば、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）には、球面形状の先端部材２６ｂに孔部２１ｂが形成されている先端部材２６ｆを示す。図１０（ａ）はモールド３側から見た押し付け部材２１を示している。押し付け部材２１が、図に示された先端部材２６ｆの形状である場合には、モールド３の側面３ｂの傾きによって、先端部材２６ｆと側面３ｂと接触する位置が異なる。モールド３の側面３ｂが、図７（ａ）のように傾いている場合は、まず初めに図１０（ａ）中の６０で示される円形上の位置６０ａと接触し、図７（ｃ）のように傾いている場合は、位置６０ｂと接触する。上述したように、モールド３の側面３ｂの中立位置５０から例えば２５０μｍ以内の領域に位置６０ａと位置６０ｂとが位置していれば良いが、実際には位置６０ａと位置６０ｂの距離を５００μｍ以下にするのは難しい。一般的に位置センサー２３の径は数ミリほどあるため、位置センサー２３を配置するための孔部２１ｂの直径も同程度必要になるので、位置６０ａと位置６０ｂとの距離も数ミリほどある。そのため、モールド３の側面３ｂが傾いている場合には、中立位置５０から離れた位置で先端部材２６ｆと側面３ｂとが接触してしまう。そのため、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示す先端部材２６ｆは、モールド３のパターン部３ａに影響を与える恐れがあるため、好ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月27日(2016.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
半導体基板２内であって、ＤＮＷ３２Ａ〜３２Ｃの水平方向にＤＰＷ（Deep P Well）
３１が形成されている。したがって、ＳＲＡＭ領域１２におけるＬＶＰＷ４１Ａ及びＬＶＮＷ４２の下方にＤＰＷ３１が形成されている。ＤＰＷ３１の上部が、ＬＶＰＷ４１Ａ及びＬＶＮＷ４２の底部（下部）と接続されていてもよい。ＤＰＷ３１の上部が、ＬＶＰＷ４１Ａ及びＬＶＮＷ４２の底部と離れていてもよい。ＤＰＷ３１は、不純物濃度が濃いＰウェルである。ＳＲＡＭ領域１２におけるＬＶＰＷ４１Ａ及びＬＶＮＷ４２の下方にＤＰＷ３１が形成されているため、半導体基板２の抵抗が下がり、ＳＲＡＭ領域１２に形成されるＳＲＡＭにおけるラッチアップの発生が抑制される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図１では、高耐圧領域１１ＢにおけるＨＶＰＷ２１Ｂ及びＨＶＮＷ２２Ｂの下方に、ＤＮＷ３２Ｂが形成されている例を示している。この例に限らず、高耐圧領域１１ＢにおけるＨＶＰＷ２１Ｂの下方に、ＤＰＷ３１が形成され、高耐圧領域１１ＢにおけるＨＶＮＷ２２Ｂの下方に、ＤＮＷ３２Ｂが形成されてもよい。また、ＨＶＮＷの近傍にＨＶＰＷが存在しない構造において、ＨＶＮＷの下方にＤＮＷが形成されてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
次いで、フォトリソグラフィにより、半導体基板２上にレジストパターン５５を形成する。レジストパターン５５をマスクとして、Ｐ型の不純物のイオン注入を行うことにより、ＳＲＡＭ領域１２における半導体基板２内にＬＶＮＷ４２を形成する。図１９では、レジストパターン５５及びＬＶＮＷ４２の図示を省略している。例えば、燐（Ｐ＋）を、加
速エネルギー：２００ｋｅＶ以上７００ｋｅＶ以下、ドーズ量：２．０Ｅ１２／ｃｍ２以上１．０Ｅ１３／ｃｍ２以下×４、の条件でイオン注入を行うことにより、ＬＶＮＷ４２を形成する。このイオン注入は、４回の注入により行われているが、これに限らず、イオン注入は、１回の注入により行われてもよい。次に、アッシングにより、レジストパターン５５を除去する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図３０に示す工程について説明する。レジストパターンの形成、不純物のイオン注入及びレジストパターンの除去を適宜行う。高耐圧領域１１ＡにおけるＨＶＰＷ２１Ａ内にソース・ドレイン領域８７が形成される。高耐圧領域１１ＢにおけるＨＶＰＷ２１Ｂ内にＮ型ソース・ドレイン領域８８Ａが形成され、高耐圧領域１１ＢにおけるＨＶＮＷ２２Ｂ内にＰ型ソース・ドレイン領域８８Ｂが形成される。高耐圧領域１１ＣにおけるＨＶＰＷ２１Ｃ内にＮ型ソース・ドレイン領域８８Ａが形成され、高耐圧領域１１ＣにおけるＨＶＮＷ２２Ｃ内にＰ型ソース・ドレイン領域８８Ｂが形成される。図３０では、高耐圧領域１１Ｃに形成されたＮ型ソース・ドレイン領域８８Ａ及びＰ型ソース・ドレイン領域８８Ｂの図示を省略している。ＳＲＡＭ領域１２におけるＬＶＰＷ４１Ａ内にＮ型ソース・ドレイン領域８９が形成される。ＳＲＡＭ領域１２におけるＬＶＮＷ４２内にＰ型ソース・ドレイン領域（図示せず）が形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月14日(2016.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面を備えたステムと、
前記上面に設けられた台座と、
前記台座に設けられた半導体光素子と、
筒部、および前記筒部の一端に設けられ表面と裏面を有し前記表面と前記裏面を貫通する穴を備えたフタ部を備え、前記筒部の他端が開放し、前記台座および前記半導体光素子に被さるように前記他端が前記上面に接続し、熱膨張材料で形成されたキャップと、
前記フタ部の前記穴に設けられ前記半導体光素子と光結合するレンズと、
を備え、
前記フタ部は、前記キャップの温度が上昇すると前記レンズを前記筒部の内側に押し下げるように膨張することを特徴とする光モジュール。
【請求項２】
前記穴の縁は、前記筒部の内側に行くほど直径が大きくなるようにテーパ状となっており、
前記レンズは、前記テーパ状となっている前記縁に固定されたことを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
【請求項３】
前記穴の縁が前記筒部の内側に向かって突き出るように前記フタ部の少なくとも一部が前記筒部の内側に凹んでおり、
前記レンズは、前記縁に固定されたことを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
【請求項４】
上面を備えたステムと、
前記上面に設けられた台座と、
前記台座に設けられた半導体光素子と、
第１側壁部および前記第１側壁部の一端に設けられた第１レンズ保持部を備え、前記台座および前記半導体光素子に被さるように前記第１側壁部の他端が前記上面に接続し、熱膨張材料で形成された内側キャップと、
前記第１レンズ保持部に設けられ前記半導体光素子と光結合する内側レンズと、
第２側壁部および前記第２側壁部の一端に設けられた第２レンズ保持部を備え、前記第２側壁部の他端が開放し、前記内側キャップおよび前記内側レンズに被さるように前記第２側壁部の他端が前記上面に接続し、熱収縮材料で形成された外側キャップと、
前記第２レンズ保持部に設けられ前記内側レンズと光結合する外側レンズと、
を備えることを特徴とする光モジュール。
【請求項５】
上面を備えたステムと、
筒部、および前記筒部の一端に設けられ表面と裏面を有し前記表面と前記裏面を貫通する穴を備えたフタ部を備え、前記筒部の他端が開放し、前記他端が前記上面に接続し、第１熱膨張材料で形成されたキャップと、
前記筒部の内側に配置されて前記裏面に接続し、前記第１熱膨張材料よりも小さな線膨張係数を有する第２熱膨張材料で形成された支持部と、
前記支持部に固定された半導体光素子と、
前記フタ部の前記穴に設けられ前記半導体光素子と光結合するレンズと、
を備えることを特徴とする光モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第１の発明にかかる光モジュールは、
上面を備えたステムと、
前記上面に設けられた台座と、
前記台座に設けられた半導体光素子と、
筒部、および前記筒部の一端に設けられ表面と裏面を有し前記表面と前記裏面を貫通する穴を備えたフタ部を備え、前記筒部の他端が開放し、前記台座および前記半導体光素子に被さるように前記他端が前記上面に接続し、熱膨張材料で形成されたキャップと、
前記フタ部の前記穴に設けられ前記半導体光素子と光結合するレンズと、
を備え、
前記フタ部は、前記キャップの温度が上昇すると前記レンズを前記筒部の内側に押し下げるように膨張することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ２ライン加算機能を持つ赤、緑、青の各画像用のイメージセンサを有する撮像部を備え、
上記撮像部は、上記２ライン加算機能を用いて、空間上のサンプル位相が垂直方向に１画素間隔だけずれた、赤、青の画像信号と緑の画像信号を出力し、
上記撮像部から出力される上記赤、青の画像信号と緑の画像信号に補間処理を施してライン数を２倍にした赤、緑、青の画像信号を得る解像度変換部をさらに備える
撮像装置。
【請求項２】
上記撮像部は、
上記赤、青の各画像用のイメージセンサと上記緑の画像用のイメージセンサのプリズムへの張り合わせ位置を垂直方向に１画素間隔だけずらしておくことで、上記空間上のサンプル位相が垂直方向に１画素間隔だけずれた、赤、青の画像信号と緑の画像信号を出力可能とする
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
上記イメージセンサは、
ＣＭＯＳイメージセンサであり、
水平方向の各画素の受光部間には１本の垂直読み出しラインを持つと共に、上記加算される２ラインの垂直方向の２画素の受光部間に、該２画素の受光部の出力信号を加算し、上記垂直読み出しラインに加算信号を供給する加算回路を持つ
請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
上記撮像部は、
上記赤、青の各画像用のイメージセンサと、上記緑の画像用のイメージセンサとで、上記加算される２ラインの組み合わせを変更することで、上記空間上のサンプル位相が垂直方向に１画素間隔だけずれた、赤、青の画像信号と緑の画像信号を出力可能とする
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
上記解像度変換部は、
上記撮像部で得られる赤、青、緑の画素信号のそれぞれに垂直方向のフィルタ処理を施してライン数を２倍とした後、各色の高域信号成分の混合信号を各色の低域信号成分に加算して、上記ライン数を２倍にした赤、緑、青の画像信号を得る
請求項１から４のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項６】
通常フレームレート撮像モードとハイフレームレート撮像モードの選択が可能とされ、
上記撮像部は、上記ハイフレームレート撮像モードが選択されるとき、上記２ライン加算機能を用いて、空間上のサンプル位相が垂直方向に１画素間隔だけずれた、赤、青の画像信号と緑の画像信号を出力し、
上記解像度変換部は、上記ハイフレームレート撮像モードが選択されるとき、上記撮像部から出力される上記赤、青の画像信号と緑の画像信号に補間処理を施してライン数を２倍にした赤、緑、青の画像信号を得る
請求項１から５のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項７】
上記解像度変換部で得られる赤、緑、青の画像信号を処理して赤、緑、青の出力画像信号を出力する信号処理部をさらに備える
請求項１から６のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項８】
それぞれ２ライン加算機能を持つ赤、緑、青の各画像用のイメージセンサを有する撮像部と、解像度変換部とを備える撮像装置の制御方法であって、
上記撮像部が、上記２ライン加算機能を用いて、空間上のサンプル位相が垂直方向に１画素間隔だけずれた、赤、青の画像信号と緑の画像信号を出力するように制御し、
上記解像度変換部が、上記撮像部から出力される上記赤、青の画像信号と緑の画像信号に補間処理を施してライン数を２倍にした赤、緑、青の画像信号を得るように制御する
撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
すなわち、イメージセンサ１２２Ａは、水平方向の各受光部１３１の間には垂直方向に延びる２本の読み出しライン１３３ａ，１３３ｂを持ち、これら２本のライン１３３ａ，１３３ｂの間に加算回路１３５を持つ構造とされ、この加算回路１３５の出力がＡ/Ｄ変換回路１３４に供給される。そして、奇数ライン（odd line）の受光部１３１の出力が読み出しライン１３３ａに供給され、偶数ライン（even line）の受光部１３１の出力が読み出しライン１３３ｂに供給される構造とされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
このハイフレームレート撮像モードの場合、フレームレートが通常フレームレート撮像モードの場合の２倍となるが、２ライン加算が行われるのでライン数は通常フレームレート撮像モードの場合の半分となる。そのため、Ａ/Ｄ変換回路１３４は、通常フレームレート撮像モードの場合と同様の時間をかけてＡ/Ｄ変換を行うことが可能となる。また、このハイフレームレート撮像モードの場合、フレームレートが通常フレームレート撮像モードの場合の２倍となって各受光部１３１の露光時間が通常フレームレート撮像モードの場合の半分となるが、２ライン加算が行われるので、感度、Ｓ/Ｎの低下はない。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月8日(2016.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、
前記ベース基板の一面に設けられた支持部と、
振動基板と、前記振動基板の主面に設けられた励振電極と、平面視で、前記振動基板の外縁と前記励振電極の外縁との間に配置され、接合材を介して前記支持部に取り付けられる取り付け部と、を含む振動素子と、を含み、
前記取り付け部は、
前記平面視において、前記振動素子の中心と前記振動素子の一端部とを結ぶ仮想線を、前記中心を軸として回転角θが−３５°以上＋３５°以下の範囲で回転させた領域内に配置され、且つ、前記取り付け部の面積が、０．７ｍｍ2以上である、振動子。
【請求項２】
請求項１において、
前記回転角θは、−３０°以上＋３０°以下である、振動子。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記振動基板は、直交座標系（Ｘ，Ｙ，Ｚ）のＸ軸の回りに所定角度回転し、この回転により得られた新たな直交座標系（Ｘ，Ｙ’，Ｚ’）のＺ’軸の回りに所定角度回転した直交座標系（Ｘ’，Ｙ’’，Ｚ’）を有するＳＣカット水晶基板であり、
前記Ｘ’軸と前記仮想線との交差角φが、−４５°以上＋９０°以下である、振動子。
【請求項４】
請求項３において、
前記交差角φが、−３０°以上＋３０°以下である、振動子。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項において、
前記取り付け部は複数設けられている、振動子。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか一項において、
前記支持部の表面には、複数の凸部が備えられている、振動子。
【請求項７】
請求項１ないし請求項５のいずれか一項において、
前記支持部は、前記ベース基板に設けられた支持本体部と、
前記支持本体部の上面から突出した前記複数の凸部と、を含む、振動子。
【請求項８】
請求項１ないし請求項５のいずれか一項において、
前記支持部は、前記ベース基板に設けられた複数の凸部を含む、振動子。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれか一項において、
前記凸部は、金属バンプである、振動子。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれか一項において、
前記ベース基板の前記一面の、前記支持部とは異なり、かつ平面視で前記振動子の端部に重なる位置に設けられた台座を含む、振動子。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記台座は、複数設けられている、振動子。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれか一項に記載の振動子と、
前記振動子と電気的に接続されている回路素子と、
前記振動子、および前記回路素子が搭載されているパッケージと、を含む、発振器。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１１のいずれか一項に記載の振動子を含む、電子機器。
【請求項１４】
請求項１ないし請求項１１のいずれか一項に記載の振動子を含む、移動体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
パッケージ１３を構成する枠状基板１１は、平面視で側壁１２よりも中心側に向かって突出した台部２８ａ，２８ｂを有している。台部２８ａと台部２８ｂとは、パッケージ１３の対角線上に対向して設けられている。台部２８ａの上面には、ＰＡＤ電極２２，２３が形成されている。また、台部２８ｂの上面には、ＰＡＤ電極３９が形成されている。ＰＡＤ電極２２，２３，３９は、例えば、銀・パラジウムなどの導電ペーストあるいはタングステンメタライズなどを用い、必要とされる形状を形成後に焼成を行い、その後ニッケルおよび金あるいは銀などをメッキすることによって形成される。ＰＡＤ電極２２，２３は、後述する振動素子１５の接続電極２７，２９と接続されるように設けられており、パッケージ１３の外底部に形成される外部接続電極（図示しない）と電気的に接続されている。ＰＡＤ電極２２は、支持部２０が接続される。また、ＰＡＤ電極３９は、振動素子１５を支えるための台座２５を接続する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
また、振動素子１５の取り付け部８の位置は、振動素子１５の一端部（振動基板５の外縁５ａ）から中心Ｐに向かって、１．２ｍｍ以内に配置されることが好ましい。この一例について図４を参照して説明する、図４は、振動素子における取り付け部の位置とＣＩ値との相関を示すグラフである。図４のグラフに示すように、振動素子１５の取り付け部８の位置が、振動基板５の外縁５ａから１．２ｍｍを超えると、振動素子１５の振動のし易さを示す特性値であるＣＩ（Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｉｍｐｅｄａｎｃｅ）値が大きくなり、特性劣化が始まることがわかる。このように、振動素子１５の取り付け部８の位置は、振動基板５の外縁５ａから１．２ｍｍ以内であることが望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
この変形例における支持部３５によれば、前述の第１実施形態の支持部２０と同様に、導電性接着剤３１が、格子状に配列されている複数の凸部としての突起部３０の上面と振動素子１５との間、複数の突起部３０のそれぞれの間の隙間の中に配設されていることにより、接続の表面積が大きくなり、接続強度を高めることができる。加えて、それぞれの突起部３０間の隙間に導電性接着剤３１が毛細管現象によって配設されるためボイドが生じ難く、ボイドによる接続強度の低下を抑制することが可能となる。また、突起部３０が格子状に複数設けられていることから、振動素子１５を平面的に安定して支持することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月9日(2016.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の太陽電池パネルと、前記太陽電池パネルの縁部を保持する枠部材と、前記太陽電池パネルの裏面に配置される補強部材と、を有する太陽電池モジュールであって、
前記枠部材は、前記太陽電池パネルの一方の対向辺側のみに設けられており、
前記補強部材の両端は、前記枠部材の切り込みに嵌り込むように配置されていることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の太陽電池モジュールであって、
前記枠部材は、該枠部材が取り付けられる太陽電池パネルの辺よりも長く形成され、前記枠部材の両端部が前記太陽電池パネルの端部から突出していることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項３】
請求項１または２に記載の太陽電池モジュールであって、
前記枠部材は、前記太陽電池パネルに対して、接着剤と両面テープとを併用して接着されていることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項４】
請求項１から３の何れか一項に記載の太陽電池モジュールであって、
前記補強部材は、前記太陽電池パネルの裏面に接着されるとともに、その両端が前記枠部材に接合されていることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項５】
請求項１から４の何れか一項に記載の太陽電池モジュールであって、
前記枠部材は、前記太陽電池パネルの受光面側の表面に溝部が形成されていることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項６】
請求項１から５の何れか一項に記載の太陽電池モジュールであって、
前記枠部材は、端部にカバー部材が設けられていることを特徴とする太陽電池モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、矩形状の太陽電池パネルと、前記太陽電池パネルの縁部を保持する枠部材と、前記太陽電池パネルの裏面に配置される補強部材とを有する太陽電池モジュールであって、上記の課題を解決するために、前記枠部材は、前記太陽電池パネルの一方の対向辺側のみに設けられており、前記補強部材の両端は、前記枠部材の切り込みに嵌り込むように配置されていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月1日(2016.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッテリの電流値を検出する電流センサと、
車速が０よりも高い車両非停止状態において前記電流センサの出力信号に基づいて前記バッテリの異常状態を検出する処理装置とを含み、
前記処理装置は、車速が所定車速以下であることを含む所定の開始条件を満たした場合に前記車両非停止状態におけるアイドリングストップ制御を開始し、
前記処理装置は、前記バッテリの異常状態を検出しない場合は、前記所定車速を第１の値に設定し、前記バッテリの異常状態を検出した場合は、前記所定車速を前記第１の値よりも低い第２の値に設定する、車両制御装置。
【請求項２】
前記処理装置は、前記バッテリの異常状態を検出した場合であっても、車両停止状態におけるアイドリングストップ制御を開始可能とする、請求項１に記載の車両制御装置。
【請求項３】
前記処理装置は、アイドリングストップ制御によるエンジン停止中に、所定の終了条件を満たした場合にエンジンを再始動し、
前記処理装置は、前記バッテリの異常状態を検出したことに伴って前記第２の値に設定した前記所定車速を、前記エンジンの再始動に伴って前記第１の値に設定する、請求項１に記載の車両制御装置。
【請求項４】
前記処理装置は、前記電流センサの出力信号のみに基づいて、前記バッテリの異常状態を検出する、請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の車両制御装置。
【請求項５】
前記処理装置は、前記電流センサの出力信号に基づいて、前記バッテリの電流値が所定範囲内である状態が所定時間継続したことを検出した場合に、前記バッテリの異常状態を検出する、請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の車両制御装置。
【請求項６】
前記処理装置は、前記バッテリの異常状態を検出した後、前記車両非停止状態において、前記電流センサの出力信号に基づいて、前記バッテリの電流値が所定範囲外である状態が所定時間継続したか否かを判定し、
前記処理装置は、前記バッテリの電流値が前記所定範囲外である状態が所定時間継続したと判定した場合に、前記バッテリの異常状態を検出したことに伴って前記第２の値に設定した前記所定車速を、前記第１の値に設定する、請求項１に記載の車両制御装置。
【請求項７】
前記処理装置は、前記車両非停止状態において、前記電流センサの出力信号に基づいて、前記バッテリの電流値が所定範囲内である状態の継続時間を算出し、
前記処理装置は、前記所定車速を、前記第１の値から前記第２の値まで、前記継続時間が長いほど低くなる態様で多段階に変化させる、請求項１に記載の車両制御装置。
【請求項８】
前記第２の値は、０である、請求項１に記載の車両制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本開示の一局面によれば、バッテリの電流値を検出する電流センサと、
車速が０よりも高い車両非停止状態において前記電流センサの出力信号に基づいて前記バッテリの異常状態を検出した場合に、前記車両非停止状態におけるアイドリングストップ制御の開始を抑制する処理装置とを含む、車両制御装置において、
前記処理装置は、車速が所定車速以下であることを含む所定の開始条件を満たした場合に前記車両非停止状態におけるアイドリングストップ制御を開始し、
前記処理装置は、前記バッテリの異常状態を検出しない場合は、前記所定車速を第１の値に設定し、前記バッテリの異常状態を検出した場合は、前記第１の値よりも低い第２の値に設定する、車両制御装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月25日(2016.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
さらに、使用者が小便器を使用したときに上記第１吐水モードを実行し、使用者が小便器を使用したときとは別に、所定時間が経過する毎に上記第２吐水モードを実行するように制御する制御部を備えている、請求項１乃至４の何れか１項に記載の小便器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月25日(2016.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
さらに、使用者が小便器を使用したときに洗浄水を上記第２吐水口部から吐水させ、使用者が小便器を使用したときとは別に、所定時間が経過する毎に洗浄水を上記第１吐水口部から吐水させるように吐水を制御する制御部を備えている、請求項１乃至５の何れか１項に記載の小便器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月23日(2016.9.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質をワークに積層する物質積層装置であって、
溶融状態又は半溶融状態にある物質が入れられた容器と、
上記容器から物質が供給され、回転しながらワーク上を移動することによって半溶融状態の物質を圧接する回転体と、
上記回転体によって圧接された物質を完全に溶融させる溶融用レーザと、
上記ワーク上で上記回転体及び上記溶融用レーザを複数回移動させることにより、上記ワークに物質が積層されるように、上記回転体及び上記溶融用レーザ、及び／又は上記ワークを移動させる移動機構と、
を有し、
上記回転体はロールであり、
上記ワークに物質を積層しない箇所に応じた、上記ロール上にある物質の部分に対して、スクライビング処理を行うスクライビング処理用レーザを更に備える、ことを特徴とする物質積層装置。
【請求項２】
上記スクライビング処理により、上記ワークに圧接されずに上記ロール上に残存した物質を、回収して上記容器に戻す回収機構を更に有する、請求項１に記載の物質積層装置。
【請求項３】
ワークに物質を積層して積層部材を製造する積層部材の製造方法であって、
溶融状態又は半溶融状態にある物質を回転体に供給する工程と、
上記回転体を回転させながらワーク上を移動させることによって半溶融状態の物質を圧接する工程と、
上記回転体によって圧接された物質を溶融用レーザによって完全に溶融させる工程と、
上記ワーク上で上記回転体及び上記溶融用レーザを複数回移動させることにより、上記ワークに物質が積層されるように、上記回転体及び上記溶融用レーザ、及び／又は上記ワークを移動させる工程と、
を有し、
上記回転体はロールであり、
上記半溶融状態の物質を圧接する工程の前に、上記ワークに物質を積層しない箇所に応じた、上記ロール上にある物質の部分に対して、スクライビング処理用レーザによってスクライビング処理を行う工程を更に備える、ことを特徴とする積層部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明の第１発明は、物質をワークに積層する物質積層装置であって、溶融状態又は半溶融状態にある物質が入れられた容器と、容器から物質が供給され、回転しながらワーク上を移動することによって半溶融状態の物質を圧接する回転体と、回転体によって圧接された物質を完全に溶融させる溶融用レーザと、ワーク上で回転体及び溶融用レーザを複数回移動させることにより、ワークに物質が積層されるように、回転体及び溶融用レーザ、及び／又はワークを移動させる移動機構と、を有し、回転体はロールであり、ワークに物質を積層しない箇所に応じた、ロール上にある物質の部分に対して、スクライビング処理を行うスクライビング処理用レーザを更に備える、ことを特徴とする。
このように構成された本発明においては、容器から回転体に物質を供給し、回転体を回転させながらワーク上を移動させることにより半溶融状態の物質を圧接し、回転体によって圧接された物質を溶融用レーザによって完全に溶融させ、ワーク上で回転体及び溶融用レーザを複数回移動させることにより、ワークに物質を積層する（つまりワーク上に物質の複数の層を積み重ねる）。そのため、従来技術のように粉体を用いて積層を行う構成と比較すると、原材料（粉体）を溶融する工程、アトマイズにより粉体を生成する工程、及び粉体を分級する工程を省くことができる。したがって、本発明によれば、物質をワークに積層するためのトータルのコスト及びエネルギーを低減することができる。また、本発明によれば、半溶融状態の物質を圧接しながら積層するため、材料の密度が高く、材質も安定している積層部材を得ることができる。
また、本発明によれば、回転体としてのロールを用いて、当該ロールの長さ分を線で積層するので、従来技術のように点による積層を行う構成と比較して、積層効率を向上させることができる。更に、本発明によれば、ワークに物質を積層しない箇所に応じた、ロール上にある物質の部分に対して、スクライビング処理を行うので、ワーク上に種々の積層パターンを適切に形成することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の第２発明は、ワークに物質を積層して積層部材を製造する積層部材の製造方法であって、溶融状態又は半溶融状態にある物質を回転体に供給する工程と、回転体を回転させながらワーク上を移動させることによって半溶融状態の物質を圧接する工程と、回転体によって圧接された物質を溶融用レーザによって完全に溶融させる工程と、ワーク上で回転体及び溶融用レーザを複数回移動させることにより、ワークに物質が積層されるように、回転体及び溶融用レーザ、及び／又はワークを移動させる工程と、有し、回転体はロールであり、半溶融状態の物質を圧接する工程の前に、ワークに物質を積層しない箇所に応じた、ロール上にある物質の部分に対して、スクライビング処理用レーザによってスクライビング処理を行う工程を更に備える、ことを特徴とする。
このように構成された本発明によっても、従来技術のように粉体を用いて積層を行う構成と比較すると、原材料（粉体）を溶融する工程、アトマイズにより粉体を生成する工程、及び粉体を分級する工程を省くことができるので、物質をワークに積層するためのトータルのコスト及びエネルギーを低減することが可能となる。また、半溶融状態の物質を圧接しながら積層するため、材料の密度が高く、材質も安定している積層部材を得ることができる。
また、本発明においては、ワークに物質を積層しない箇所に応じた、ロール上にある物質の部分に対して、スクライビング処理を行うので、ワーク上に種々の積層パターンを適切に形成することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】