【手続補正書】
【提出日】平成28年3月8日(2016.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物と硫黄化合物とを反応させる下記式（２）で表されるチオピラノース化合物の製造方法。
【化１】
2015155380.tif 000001
Ｘは脱離基を表す。
Ａは、酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ６−２０アリール基、またはＣ２−２０複素環式基を示す。
Ｒ５は水素原子を表す。
Ｒ２Ａ〜Ｒ４ＡおよびＲ２Ｂ〜Ｒ４Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、アミノ基、カルボキシル基、−ＯＲＯＨ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ２−６アルケニルオキシ基、Ｃ１−６アルキルチオ基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ６−２０アリールオキシ基、Ｃ６−２０アリールチオ基、Ｃ１−２０アシルオキシ基、Ｃ１−２０アシルイミノ基、Ｃ３−２０シリルオキシ基、Ｃ２−２０複素環式基、Ｃ２−２０複素環式オキシ基またはＣ２−２０複素環式チオ基を示す。
Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂ、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、一緒になって、Ｃ１−６アルキリデン基を形成してもよい。
Ｒ１Ａ〜Ｒ４ＡおよびＲ１Ｂ〜Ｒ４Ｂは、その中の２つが一緒になって、−Ｏ−Ｙ１−Ｏ−で表される基を形成してもよい。
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂは、置換基または保護基をともなっていてもよい。
ＲＯＨは、ヒドロキシル保護基を示す。
Ｙ１は、Ｃ１−６アルキレン基またはＣ２−２０シリレン基を示す。
【請求項２】
上記式中のＲ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂ、Ｒ５、およびＸが下記のリストから選定される請求項１に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【表１】
2015155380.tif 000002
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａの隣接する２つのアルコキシ基はつながって−Ｏ−Ｙ１−Ｏ−を形成していてもよい。Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂは、置換基群ＡおよびＢから選ばれる置換基をともなっていてもよい。
置換基群Ａ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ６−２０アリールオキシ基、Ｃ１−２０アシル基、Ｃ１−２０アシルオキシ基、Ｃ１−２０アシルアミノ基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ６−２０アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルオキシ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基、Ｃ１−６アルキルチオ基、Ｃ１−６アルキルスルホニル基、Ｃ６−２０アリールスルホニル基、Ｃ１−６アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ６−２０アリールスルホニルオキシ基、Ｃ１−１８シリル基、Ｃ２−２０複素環式基、オキソ基。
上記の置換基Ａは下記置換基群Ｂの基を置換していてもよい。
置換基群Ａのヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基は保護されていてもよい。
置換基群Ｂ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ２−２０複素環式基、オキソ基。
上記の置換基はさらに置換基群Ｂの基を置換していてもよい。
【請求項３】
上記式中のＡが酸素原子である請求項１または２に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項４】
上記式中のＲ２Ａ〜Ｒ４ＡおよびＲ２Ｂ〜Ｒ４Ｂが、それぞれ独立に、水素原子またはＯＲＯＨである請求項１〜３のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項５】
上記式中のＲ１Ｂ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ｂ、およびＲ４Ｂが水素原子である請求項１〜４のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項６】
上記硫黄化合物が硫化水素ナトリウムである請求項１〜５のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項７】
上記式中のＲ２Ａ、Ｒ３Ａ、およびＲ４ＡがＯＲＯＨである請求項１〜６のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項８】
上記式中のＲ２Ａが水素原子である請求項１〜６のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項９】
上記式中のＲ１Ａが水素原子、メチル基、またはＣＨ２ＯＲＯＨである請求項１〜８のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１０】
上記式中のＸがＣ１−６アルキルスルホニルオキシ基またはＣ６−２０アリールスルホニルオキシ基である請求項１〜９のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１１】
上記式中のＸがハロゲン原子である請求項１〜９のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１２】
上記式（１）で表される化合物と硫黄化合物との反応を非プロトン性極性溶媒中で行う請求項１〜１１のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１３】
上記式（１）で表される化合物と硫黄化合物との反応をプロトン性極性溶媒中で行う請求項１〜１１のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１４】
上記式（２）で表される化合物が、下記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される化合物である請求項１〜１３のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【化２】
2015155380.tif 000003
Ｒｂは、Ｃ２−６アルカノイル基、Ｃ７−２０アロイル基、またはＣ６−２０アリールＣ１−６アルキル基を表す。
【請求項１５】
上記式（２−４）〜（２−６）のＲｂがＣ２−６アルカノイル基またはＣ７−２０アロイル基である請求項１４に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１６】
上記式（２−４）〜（２−６）のＲｂがアセチル基またはベンゾイル基である請求項１５に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１７】
上記式（２）で表される化合物が、下記式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物である請求項１〜１６のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【化３】
2015155380.tif 000004
上記Ｒｂは、ベンゾイル基を表す。
【請求項１８】
上記ヒドロキシル保護基ＲＯＨの分子量が１０６以上のＣ７−２０アロイル基である請求項１〜１７のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【請求項１９】
上記式（２）で表される化合物を下記（ｉ）〜（ｉｉｉ）のいずれかの合成ルートで合成する請求項１〜１８のいずれか１項に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
（ｉ）下記式（Ａ）で表される化合物から下記（Ｃ）で表される化合物を経由して上記式（１）の化合物を合成することにより、式（２）の化合物として式（Ｅ）の化合物を得る
（ｉｉ）下記式（Ａ）で表される化合物から下記（Ｃ’）で表される化合物を経由し、さらに下記（Ｃ）で表される化合物を経由して上記式（１）の化合物を合成することにより、式（２）の化合物として式（Ｅ）の化合物を得る
（ｉｉｉ）下記式（Ａ）で表される化合物から下記（Ｃ’）で表される化合物を経由して上記式（１）の化合物を合成することにより、式（２）の化合物として式（Ｅ’）の化合物を得る
【化４】
2015155380.tif 000005
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂ、Ａは式（１）と同義である。ここでのＸはハロゲン原子である。Ｘ’は、Ｃ１−６アルキルスルホニル基またはＣ６−２０アリールスルホニル基である。Ｙは酸素原子もしくはＮＲＮを表す。ＲＮは同一または異なって、水素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ６−２０アリールＣ１−６アルキル基、またはＣ６−２０アリール基を表す。
【請求項２０】
下記式（２）で表される化合物。
【化４】
2015155380.tif 000006
Ａは、酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ１Ａ、Ｒ１ＢおよびＲ５は、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ６−２０アリール基、またはＣ２−２０複素環式基を示す。
Ｒ２Ｂ〜Ｒ４Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、アミノ基、カルボキシル基、−ＯＲＯＨ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ２−６アルケニルオキシ基、Ｃ１−６アルキルチオ基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ６−２０アリールオキシ基、Ｃ６−２０アリールチオ基、Ｃ１−２０アシルオキシ基、Ｃ１−２０アシルイミノ基、Ｃ３−２０シリルオキシ基、Ｃ２−２０複素環式基、Ｃ２−２０複素環式オキシ基またはＣ２−２０複素環式チオ基を示す。
Ｒ２Ａ〜Ｒ４Ａは−ＯＲＯＨＡであり、ＲＯＨＡは、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ６−２０アリールオキシＣ１−６アルキル基、Ｃ７−２０アロイル基、Ｃ６−２０アリールスルホニル基、またはＣ６−２０アリールＣ１−２０シリル基である。
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂ、Ｒ５は、置換基または保護基をともなっていてもよい。
ＲＯＨは、ヒドロキシル保護基を示す。
【請求項２１】
糖尿病薬の合成中間体である請求項２０に記載の化合物。
【請求項２２】
請求項１〜１９に記載の方法を介して式（２）で表される化合物を合成し、さらに式（２）で表される化合物から下記式（Ｘ−１）または（Ｘ−２）で表される化合物を合成するチオピラノース化合物の製造方法。
【化５】
2015155380.tif 000007
Ｒｃは水素原子またはヒドロキシル保護基である。Ｌは酸素原子または硫黄原子である。ＡｒはＣ６−２０アリール基である。
Ｌ１は単結合または連結基である。Ｒｄは置換基である。ｎは０以上の整数である。
Ａｒ１、Ａｒ２はＣ６−２０アリール基である。
【請求項２３】
前記ＯＲＯＨＡが、Ｃ７−２０アロイル基である請求項２０に記載の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の課題は下記の手段により解決された。
〔１〕下記式（１）で表される化合物と硫黄化合物とを反応させる下記式（２）で表されるチオピラノース化合物の製造方法。
【化１】
2015155380.tif 000008
Ｘは脱離基を表す。
Ａは、酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ６−２０アリール基、またはＣ２−２０複素環式基を示す。
Ｒ５は水素原子を表す。
Ｒ２Ａ〜Ｒ４ＡおよびＲ２Ｂ〜Ｒ４Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、アミノ基、カルボキシル基、−ＯＲＯＨ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ２−６アルケニルオキシ基、Ｃ１−６アルキルチオ基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ６−２０アリールオキシ基、Ｃ６−２０アリールチオ基、Ｃ１−２０アシルオキシ基、Ｃ１−２０アシルイミノ基、Ｃ３−２０シリルオキシ基、Ｃ２−２０複素環式基、Ｃ２−２０複素環式オキシ基またはＣ２−２０複素環式チオ基を示す。
Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂ、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、一緒になって、Ｃ１−６アルキリデン基を形成してもよい。
Ｒ１Ａ〜Ｒ４ＡおよびＲ１Ｂ〜Ｒ４Ｂは、その中の２つが一緒になって、−Ｏ−Ｙ１−Ｏ−で表される基を形成してもよい。
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂは、置換基または保護基をともなっていてもよい。
ＲＯＨは、ヒドロキシル保護基を示す。
Ｙ１は、Ｃ１−６アルキレン基またはＣ２−２０シリレン基を示す。
〔２〕上記式中のＲ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂ、Ｒ５、およびＸが下記のリストから選定される〔１〕に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【表１】
2015155380.tif 000009
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａの隣接する２つのアルコキシ基はつながって−Ｏ−Ｙ１−Ｏ−を形成していてもよい。Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂは、置換基群ＡおよびＢから選ばれる置換基をともなっていてもよい。
置換基群Ａ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ６−２０アリールオキシ基、Ｃ１−２０アシル基、Ｃ１−２０アシルオキシ基、Ｃ１−２０アシルアミノ基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ６−２０アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルオキシ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基、Ｃ１−６アルキルチオ基、Ｃ１−６アルキルスルホニル基、Ｃ６−２０アリールスルホニル基、Ｃ１−６アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ６−２０アリールスルホニルオキシ基、Ｃ１−１８シリル基、Ｃ２−２０複素環式基、オキソ基。
上記の置換基Ａは下記置換基群Ｂの基を置換していてもよい。
置換基群Ａのヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基は保護されていてもよい。
置換基群Ｂ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ２−２０複素環式基、オキソ基。
上記の置換基はさらに置換基群Ｂの基を置換していてもよい。
〔３〕上記式中のＡが酸素原子である〔１〕または〔２〕に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔４〕上記式中のＲ２Ａ〜Ｒ４ＡおよびＲ２Ｂ〜Ｒ４Ｂが、それぞれ独立に、水素原子またはＯＲＯＨである〔１〕〜〔３〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔５〕上記式中のＲ１Ｂ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ｂ、およびＲ４Ｂが水素原子である〔１〕〜〔４〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔６〕上記硫黄化合物が硫化水素ナトリウムである〔１〕〜〔５〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔７〕上記式中のＲ２Ａ、Ｒ３Ａ、およびＲ４ＡがＯＲＯＨである〔１〕〜〔６〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔８〕上記式中のＲ２Ａが水素原子である〔１〕〜〔６〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔９〕上記式中のＲ１Ａが水素原子、メチル基、またはＣＨ２ＯＲＯＨである〔１〕〜〔８〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１０〕上記式中のＸがＣ１−６アルキルスルホニルオキシ基またはＣ６−２０アリールスルホニルオキシ基である〔１〕〜〔９〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１１〕上記式中のＸがハロゲン原子である〔１〕〜〔９〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１２〕上記式（１）で表される化合物と硫黄化合物との反応を非プロトン性極性溶媒中で行う〔１〕〜〔１１〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１３〕上記式（１）で表される化合物と硫黄化合物との反応をプロトン性極性溶媒中で行う〔１〕〜〔１１〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１４〕上記式（２）で表される化合物が、下記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される化合物である〔１〕〜〔１３〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【化２】
2015155380.tif 000010
Ｒｂは、Ｃ２−６アルカノイル基、Ｃ７−２０アロイル基、またはＣ６−２０アリールＣ１−６アルキル基を表す。
〔１５〕上記式（２−４）〜（２−６）のＲｂがＣ２−６アルカノイル基またはＣ７−２０アロイル基である〔１４〕に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１６〕上記式（２−４）〜（２−６）のＲｂがアセチル基またはベンゾイル基である〔１５〕に記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１７〕上記式（２）で表される化合物が、下記式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物である〔１〕〜〔１６〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
【化３】
2015155380.tif 000011
上記Ｒｂは、ベンゾイル基を表す。
〔１８〕上記ヒドロキシル保護基ＲＯＨの分子量が１０６以上のＣ７−２０アロイル基である〔１〕〜〔１７〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
〔１９〕上記式（２）で表される化合物を下記（ｉ）〜（ｉｉｉ）のいずれかの合成ルートで合成する〔１〕〜〔１８〕のいずれか１つに記載のチオピラノース化合物の製造方法。
（ｉ）下記式（Ａ）で表される化合物から下記（Ｃ）で表される化合物を経由して上記式（１）の化合物を合成することにより、式（２）の化合物として式（Ｅ）の化合物を得る
（ｉｉ）下記式（Ａ）で表される化合物から下記（Ｃ’）で表される化合物を経由し、さらに下記（Ｃ）で表される化合物を経由して上記式（１）の化合物を合成することにより、式（２）の化合物として式（Ｅ）の化合物を得る
（ｉｉｉ）下記式（Ａ）で表される化合物から下記（Ｃ’）で表される化合物を経由して上記式（１）の化合物を合成することにより、式（２）の化合物として式（Ｅ’）の化合物を得る
【化４】
2015155380.tif 000012
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂ、Ａは式（１）と同義である。ここでのＸはハロゲン原子である。Ｘ’は、Ｃ１−６アルキルスルホニル基またはＣ６−２０アリールスルホニル基である。Ｙは酸素原子もしくはＮＲＮを表す。ＲＮは同一または異なって、水素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ６−２０アリールＣ１−６アルキル基、またはＣ６−２０アリール基を表す。
〔２０〕下記式（２）で表される化合物。
【化６】
2015155380.tif 000013
Ａは、酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ１Ａ、Ｒ１ＢおよびＲ５は、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ６−２０アリール基、またはＣ２−２０複素環式基を示す。
Ｒ２Ｂ〜Ｒ４Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、アミノ基、カルボキシル基、−ＯＲＯＨ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ２−６アルケニルオキシ基、Ｃ１−６アルキルチオ基、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ６−２０アリールオキシ基、Ｃ６−２０アリールチオ基、Ｃ１−２０アシルオキシ基、Ｃ１−２０アシルイミノ基、Ｃ３−２０シリルオキシ基、Ｃ２−２０複素環式基、Ｃ２−２０複素環式オキシ基またはＣ２−２０複素環式チオ基を示す。
Ｒ２Ａ〜Ｒ４Ａは−ＯＲＯＨＡであり、ＲＯＨＡは、Ｃ６−２０アリール基、Ｃ６−２０アリールオキシＣ１−６アルキル基、Ｃ７−２０アロイル基、Ｃ６−２０アリールスルホニル基、またはＣ６−２０アリールＣ１−２０シリル基である。
Ｒ１Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ１Ｂ〜Ｒ４Ｂ、Ｒ５は、置換基または保護基をともなっていてもよい。
ＲＯＨは、ヒドロキシル保護基を示す。
〔２１〕糖尿病薬の合成中間体である〔２０〕に記載の化合物。
〔２２〕〔１〕〜〔１９〕に記載の方法を介して式（２）で表される化合物を合成し、さらに式（２）で表される化合物から下記式（Ｘ−１）または（Ｘ−２）で表される化合物を合成するチオピラノース化合物の製造方法。
【化８】
2015155380.tif 000014
Ｒｃは水素原子またはヒドロキシル保護基である。Ｌは酸素原子または硫黄原子である。ＡｒはＣ６−２０アリール基である。
Ｌ１は単結合または連結基である。Ｒｄは置換基である。ｎは０以上の整数である。
Ａｒ１、Ａｒ２はＣ６−２０アリール基である。
〔２３〕
前記ＯＲＯＨＡが、Ｃ７−２０アロイル基である〔２０〕に記載の化合物。