【手続補正書】
【提出日】平成28年11月14日(2016.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
造影剤流入前の被写体を撮像したマスク像と造影剤流入後のライブ像との間で差分処理を行うことで第一の差分画像を生成する第一の差分処理手段と、
前記第一の差分画像における画素値の分布を用いて、造影剤が流入した領域を示す線状領域を取得する第一の取得処理手段と、
前記線状領域に隣接する画素の画素値を用いて、前記線状領域の周辺領域を前記第一の差分画像から取得する第二の取得処理手段と、
前記線状領域と前記周辺領域とを用いた位置の比較により、前記ライブ像および前記マスク像の画素間の位置合わせを行う位置合わせ処理手段と、
を備えることを特徴とするＸ線画像処理装置。
【請求項２】
前記位置合わせがなされた、前記ライブ像および前記マスク像の間で差分処理を行うことで第二の差分画像を生成する第二の差分処理手段を更に備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項３】
前記位置合わせ処理手段は、
前記位置の比較により、前記ライブ像および前記マスク像における画素間の位置ずれを最小にする補正量を求め、前記補正量を用いて前記ライブ像およびマスク像の位置合わせを行う
ことを特徴とする請求項１または２に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項４】
前記位置合わせ処理手段は、
前記ライブ像と、画素をずらしたマスク像との間の画素値の差を示す項と、前記線状領域および前記周辺領域に対して異なる重みづけを設定した係数の項と、を有する評価関数を最小にする画素のずらし量を、前記補正量として取得することを特徴とする請求項３に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項５】
前記位置合わせ処理手段は、
前記補正量に応じて、前記ライブ像およびマスク像の間で対応する画素の位置をずらして、前記ライブ像およびマスク像の位置合わせを行うことを特徴とする請求項３または４に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項６】
前記位置合わせ処理手段は、
前記補正量に応じて、回転、拡大、または縮小による画像変形により、前記ライブ像およびマスク像の位置合わせを行うことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項７】
前記位置合わせ処理手段は、
前記位置の比較結果を用いた非剛体レジストレーション処理により、前記マスク像および前記ライブ像の間で対応する位置の移動量と、前記対応する位置の間を補間した移動量と、を前記補正量として取得して、前記ライブ像およびマスク像の位置合わせを行うことを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項８】
前記位置合わせ処理手段は、
前記ライブ像および前記マスク像に対してエッジ検出処理を施し、得られたエッジ情報の比較により前記ライブ像および前記マスク像の位置合わせを行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項９】
前記位置合わせ処理手段は、
前記補正量を用いた位置合わせ処理として、前記マスク像を基準として、前記ライブ像を前記マスク像に対して位置合わせすることを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１０】
前記位置合わせ処理手段は、
前記補正量を用いた位置合わせ処理として、前記ライブ像を基準として、前記マスク像を前記ライブ像に対して位置合わせすることを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１１】
前記位置合わせ処理手段は、前記補正量を用いた位置合わせ処理として、前記ライブ像および前記マスク像を変形し、前記ライブ像および前記マスク像の位置合わせを行うことを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１２】
前記位置合わせ処理手段は、
前記線状領域と前記周辺領域とを用いた位置の比較により、複数のマスク像の中から、前記ライブ像との間の位置ずれが最も小さくなるマスク像を選択し、
前記第二の差分処理手段は、
前記ライブ像および前記選択されたマスク像の間で差分処理を行うことで前記第二の差分画像を生成する
ことを特徴とする請求項２に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１３】
前記第一の取得処理手段は、
前記第一の差分画像における画素値の分布から最頻値となる画素値を、前記第一の差分画像の背景領域の画素値として算出する算出手段と、
前記背景領域の画素値を閾値とした閾値処理により、前記線状領域および前記周辺領域を表す二値画像を取得する閾値処理手段と、
を有することを特徴とする請求項１に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１４】
前記第一の取得処理手段は、
前記二値画像において孤立した線状領域を示す画素を、前記背景領域を示す画素に置き換える収縮処理を行う収縮処理手段を更に有することを特徴とする請求項１３に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１５】
前記第一の取得処理手段は、
前記閾値処理手段により取得された前記二値画像、または、前記収縮処理が行われた前記二値画像に対して、前記線状領域に隣接する背景領域を示す画素を、前記線状領域を示す画素に置き換える膨張処理を行う膨張処理手段を更に有することを特徴とする請求項１４に記載のＸ線画像処理装置。  
【請求項１６】
前記第一の取得処理手段は、
前記第一の差分画像において座標指定された画素の画素値を参照画素値として取得する取得手段と、
取得対象の二値画像の画素値を初期化する初期化手段と、
前記座標指定された画素を始点とした注目画素を取得する取得手段と、
前記注目画素の近傍画素を取得する取得手段と、
前記近傍画素の二値画像上の画素値と、前記近傍画素に対応する前記第一の差分画像上の画素の画素値とを取得する取得手段と、
前記第一の差分画像上の画素の画素値と参照画素値との比較結果、および前記二値画像上の画素値、を用いて、前記二値画像上の画素値の値を更新する更新手段と、
を有することを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１７】
前記参照画素値は、前記座標指定された画素の周辺画素の画素値の平均値として取得されることを特徴とする請求項１６に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１８】
前記近傍画素の周辺画素の画素値の平均値を用いて、前記第一の差分画像上の画素の画素値は取得されることを特徴とする請求項１６に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項１９】
前記第二の取得処理手段は、
前記膨張処理手段から出力された二値画像に対して、前記膨張処理を行う第二の膨張処理手段と、
前記第二の膨張処理手段で前記膨張処理された二値画像から、前記膨張処理手段で前記膨張処理された二値画像を差分することで、前記周辺領域を取得する差分処理手段と、  
を更に有することを特徴とする請求項１５に記載のＸ線画像処理装置。  
【請求項２０】
前記第一の差分画像あるいは前記第二の差分画像を表示する表示手段と、
前記表示手段に表示された画像上の一部の画素を指定する指定手段と、
を更に備え、  
前記第一の取得処理手段は、前記第一の差分画像における画素値の分布および前記指定された画素を用いて、前記線状領域を取得し、
前記第二の取得処理手段は、前記線状領域に隣接する画素の画素値および前記指定された画素の画素値を用いて、前記線状領域の周辺領域を前記第一の差分画像から取得し、
前記位置合わせ処理手段は、前記線状領域と前記周辺領域とを用いた位置の比較により、前記ライブ像および前記マスク像の画素間の位置合わせを行い、
前記第二の差分処理手段は、前記位置合わせがなされた、前記ライブ像および前記マスク像の間で差分処理を行うことで前記第二の差分画像を生成することを特徴とする請求項２に記載のＸ線画像処理装置。
【請求項２１】
Ｘ線画像処理方法であって、
造影剤流入前の被写体を撮像したマスク像と造影剤流入後のライブ像との間で差分処理を行うことで第一の差分画像を生成する第一の差分処理工程と、
前記第一の差分画像における画素値の分布を用いて、造影剤が流入した領域を示す線状領域を取得する第一の取得処理工程と、
前記線状領域に隣接する画素の画素値を用いて、前記線状領域の周辺領域を前記第一の差分画像から取得する第二の取得処理工程と、
前記線状領域と前記周辺領域とを用いた位置の比較により、前記ライブ像および前記マスク像の画素間の位置合わせを行う位置合わせ処理工程と、
を有することを特徴とするＸ線画像処理方法。
【請求項２２】
前記位置合わせがなされた、前記ライブ像および前記マスク像の間で差分処理を行うことで第二の差分画像を生成する第二の差分処理工程を更に有することを特徴とする請求項２１に記載のＸ線画像処理方法。
【請求項２３】
コンピュータを、請求項１乃至２０のいずれか１項に記載のＸ線画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。