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【手続補正書】
【提出日】平成28年3月4日(2016.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧延用複合ロールの外層材であって、
質量％にて、Ｃ：１．８％以上２．５％以下、Ｓｉ：０％を越えて１．０％以下、Ｍｎ：０％を越えて１．０％以下、Ｎｉ：０％を越えて０．５％以下、Ｃｒ：３．０％を越えて８．０％以下、Ｍｏ：２．０％を越えて１０．０％以下、Ｗ：０％を越えて１０．０％以下、Ｖ：０％を越えて１０．０％以下、Ｂ：０％を越えて０．０１％未満、残部Ｆｅ及び不可避的不純物を含んでいる圧延用複合ロールの外層材であって、
溶融温度が１１００℃より大きい二次共晶炭化物を含んでいる、
ことを特徴とする圧延用複合ロールの外層材。
【請求項２】
質量％にて、Ｎｂ：０．０１％以上２．０％以下及び／又はＴｉ：０．０１％以上１．０％以下をさらに含有する、
請求項１に記載の圧延用複合ロールの外層材。
【請求項３】
外層材表面におけるＢ濃度の質量％をＢ(ｔ１)、外層材内面におけるＢ濃度の質量％をＢ(ｔ２)としたとき、Ｂ(ｔ２)−Ｂ(ｔ１)≧０．００２である、
請求項１又は請求項２に記載の圧延用複合ロールの外層材。
【請求項４】
外層材表面は、ＭＣ型炭化物の面積率が７％〜１５％である、
請求項１乃至請求項３の何れかに記載の圧延用複合ロールの外層材。
【請求項５】
外層材表面は、前記二次共晶炭化物の面積率は１％〜６％である、
請求項１乃至請求項４の何れかに記載の圧延用複合ロールの外層材。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５の何れかに記載の外層材を外層とし、該外層材の内側に内層又は中間層と内層を具える、
圧延用複合ロール。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月12日(2016.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
曲げ加工機の金型の交換を補助するための金型交換補助装置において、
前記金型に関する情報を含む所定の情報を入力する入力手段と、
前記所定の情報に基づいて、前記金型の形状を示す投影情報を生成する生成手段と、
前記投影情報に基づいて、前記金型の取り付け位置に前記金型の形状を示す画像を投影する少なくとも１つの投影機と、
を備えることを特徴とする金型交換補助装置。
【請求項２】
曲げ加工機の金型の交換を補助するための金型交換補助装置において、
前記金型に関する情報を含む所定の情報を入力する入力手段と、
前記所定の情報に基づいて、前記金型の形状を示す投影情報を生成する生成手段と、
前記投影情報に基づいて、前記曲げ加工機に前記金型の形状を示す画像を投影する少なくとも１つの投影機と、
を備えることを特徴とする金型交換補助装置。
【請求項３】
曲げ加工機の金型の交換を補助するための金型交換補助装置において、
前記金型に関する情報を含む所定の情報を入力する入力手段と、
前記所定の情報に基づいて、前記金型に関する情報を示す投影情報を生成する生成手段と、
前記投影情報に基づいて、前記金型に関する情報を示す画像を金型に投影する少なくとも１つの投影機と、
を備えることを特徴とする金型交換補助装置。
【請求項４】
前記所定の情報は、前記金型を取り付けるダイホルダーに関する情報を含み、
前記生成手段は、前記ダイホルダーに関する情報に基づいて、前記ダイホルダーを示す投影情報を生成し、
前記投影機は、前記ダイホルダーを示す投影情報に基づいて、前記ダイホルダーの形状を示す画像を投影する
ことを特徴とする請求項１記載の金型交換補助装置。
【請求項５】
前記金型に関する情報は、前記金型を識別するための金型ＩＤを含み、
前記生成手段は、前記金型ＩＤに基づいて、前記金型ＩＤを示す投影情報を生成し、
前記投影機は、前記金型ＩＤを示す投影情報に基づいて、前記金型ＩＤを投影する
ことを特徴とする請求項１又は２記載の金型交換補助装置。
【請求項６】
曲げ加工機の金型の交換を補助する金型交換補助方法において、
入力手段によって入力した前記金型に関する情報を含む所定の情報に基づいて、前記金型の形状を示す投影情報を生成する生成工程と、
前記投影情報に基づいて、前記曲げ加工機に前記金型の形状を示す画像を投影する投影工程と、
を含むことを特徴とする金型交換補助方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は上述の問題を解決するためのものであり、請求項１に係る発明は、曲げ加工機の金型の交換を補助するための金型交換補助装置において、
前記金型に関する情報を含む所定の情報を入力する入力手段と、
前記所定の情報に基づいて、前記金型の形状を示す投影情報を生成する生成手段と、
前記投影情報に基づいて、前記曲げ加工機に前記金型の形状を示す画像を投影する少なくとも１つの投影機と、を備えることを特徴とする。
また、請求項２に係る発明は、曲げ加工機の金型の交換を補助するための金型交換補助装置において、
前記金型に関する情報を含む所定の情報を入力する入力手段と、
前記所定の情報に基づいて、前記金型の形状を示す投影情報を生成する生成手段と、
前記投影情報に基づいて、前記曲げ加工機に前記金型の形状を示す画像を投影する少なくとも１つの投影機と、を備えることを特徴とする。
また、請求項３に係る発明は、曲げ加工機の金型の交換を補助するための金型交換補助装置において、
前記金型に関する情報を含む所定の情報を入力する入力手段と、
前記所定の情報に基づいて、前記金型に関する情報を示す投影情報を生成する生成手段と、
前記投影情報に基づいて、前記金型に関する情報を示す画像を金型に投影する少なくとも１つの投影機と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項４に係る発明は、前記所定の情報は、前記金型を取り付けるダイホルダーに関する情報を含み、前記生成手段は、前記ダイホルダーに関する情報に基づいて、前記ダイホルダーを示す投影情報を生成し、前記投影機は、前記ダイホルダーを示す投影情報に基づいて、前記ダイホルダーの形状を示す画像を投影することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項５に係る発明は、前記金型に関する情報は、前記金型を識別するための金型ＩＤを含み、前記生成手段は、前記金型ＩＤに基づいて、前記金型ＩＤを示す投影情報を生成し、前記投影機は、前記金型ＩＤを示す投影情報に基づいて、前記金型ＩＤを投影することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項６に係る発明は、曲げ加工機の金型の交換を補助する金型交換補助方法において、
入力手段によって入力した前記金型に関する情報を含む所定の情報に基づいて、前記金型の形状を示す投影情報を生成する生成工程と、
前記投影情報に基づいて、前記金型の取り付け位置に前記金型の形状を示す画像を投影する投影工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月28日(2016.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波送受信部と、
操作者の入力を入力する入力部と、
画像を表示可能な表示部と、
前記超音波送受信部から取得した信号に基づいて、胎児と胎盤の断層画像データを生成し、前記表示部に前記断層画像データを表示している状態において、前記入力部からの入力に従い、前記胎児と胎盤との間の領域部分を含む関心領域を設定する画像処理部と、
前記操作者が設定した前記関心領域と前記断層画像データを用いて、前記関心領域を補正し、前記補正された関心領域の妥当性を判定する関心領域補正部と、前記関心領域補正部での判定結果を提示する提示部と、を具備し、
前記補正された関心領域を用いて、３次元画像の生成を行う、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項２】
請求項１記載の超音波診断画像生成装置であって、
操作者による前記入力部からの入力は、点、線、矩形領域、もしくはそれらの組み合わせである、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項３】
請求項１記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記関心領域補正部は、
前記胎児と胎盤との間の領域部分から、探索の始点となる画素を検出する開始点検出部と、
前記開始点を起点として、エネルギーマップを生成するエネルギーマップ生成部と、
前記生成されたエネルギーマップにおいて最小値を辿る最小エネルギー経路を探索する最小エネルギー経路探索部と、
探索された前記最小エネルギー経路の妥当性を判定する妥当性判定部、とを含み、
妥当とされた前記最小エネルギー経路を用いて前記３次元画像の生成処理を行う、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項４】
請求項３記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記提示部は、前記妥当性判定部の判定結果を前記表示部に表示させる、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項５】
請求項４記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記提示部は、前記判定結果の前記表示部への表示方法として、マークの有無、色、形状、あるいは、前記関心領域の枠線の形状、色、線種、断面画像枠の色、メッセージ、数値のいずれか、もしくはそれらの組合せを利用する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項６】
請求項５記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記提示部は、前記判定結果の提示位置は、前記表示部の前記断面画像枠の内、前記断面画像枠の外、前記３次元画像の表示の枠内、もしくはそれらの組合せを利用する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項７】
請求項３記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記関心領域補正部の判定結果に基づき、前記操作者へのガイドメッセージを生成するガイドメッセージ生成部を備え、
前記提示部は、前記妥当性および生成された前記ガイドメッセージを操作者に提示する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項８】
請求項７記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記ガイドメッセージ生成部は、前記妥当性判定部の判定基準を用いる、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項９】
請求項７記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記表示部とは異なる第２表示部を備える、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項１０】
請求項９記載の超音波診断画像生成装置であって、
前記第２表示部は、前記妥当性および前記ガイドメッセージを表示する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成装置。
【請求項１１】
超音波送受信部と、前記超音波送受信部から取得した信号を処理する処理部と、操作者が入力を行う入力部と、画像を表示可能な表示部とを備える超音波診断画像生成装置における画像生成方法であって、
前記処理部は、
前記超音波送受信部から取得した信号に基づいて、胎児と胎盤の断層画像データを生成し、
前記表示部に前記断層画像データを表示している状態において、前記入力部からの操作者からの入力に従い、前記胎児と胎盤との間の領域部分を含む関心領域を設定し、
前記操作者が設定した前記関心領域と前記断層画像データを用いて、前記関心領域を補正し、
前記補正された関心領域の妥当性を判定し、当該判定結果を前記表示部に表示し、
前記補正された関心領域を用いて、前記胎児の３次元画像の生成を行う、
ことを特徴とする超音波診断画像生成方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の超音波診断画像生成方法であって、
前記処理部は、
前記胎児と胎盤との間の領域部分から、探索の始点となる画素を検出し、
前記開始点を起点として、エネルギーマップを生成し、
前記生成されたエネルギーマップにおいて最小値を辿る最小エネルギー経路を探索し、
探索された前記最小エネルギー経路の妥当性を判定し、
前記最小エネルギー経路を用いて３次元画像の生成処理を行う、
ことを特徴とする超音波診断画像生成方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の超音波診断画像生成方法であって、
前記処理部は、
前記最小エネルギー経路の妥当性の判定結果を、前記表示部に表示する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の超音波診断画像生成方法であって、
前記判定結果を前記表示部に表示する際に、マークの有無、色、形状、あるいは、前記関心領域の枠線の形状、色、線種、断面画像枠の色、メッセージ、数値のいずれか、もしくはそれらの組合せを利用する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の超音波診断画像生成方法であって、
前記処理部は、
前記判定結果に基づき、前記操作者へのガイドメッセージを生成し、前記表示部に前記判定結果および前記ガイドメッセージを表示する、
ことを特徴とする超音波診断画像生成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック振動板と少なくとも１層の圧電セラミック層とが積層されて構成されており、前記圧電セラミック層側の第１主面と、前記セラミック振動板側の第２主面とを有する積層体と、
前記第１主面に配置されている第１表面電極と、
前記積層体の内部に配置されている内部電極と、
前記圧電セラミック層に設けられた貫通孔の内部に配置されて、前記第１表面電極と前記内部電極とを接続する貫通導体と、
を備えており、
前記第１主面における前記貫通孔の縁部に、前記セラミック振動板と反対側に向かって突出している突部を有していることを特徴とする圧電アクチュエータ基板。
【請求項２】
前記突部は、前記貫通孔の縁部の１／３周〜２／３周に渡って存在することを特徴とする請求項１に記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項３】
前記貫通孔を含むように前記圧電セラミック層を厚さ方向に切断した断面において、前記突部は、前記第１主面における前記貫通孔の一方の縁部に存在し、前記第１主面における前記貫通孔の他方の縁部に存在しないことを特徴とする請求項１または２に記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項４】
前記貫通孔の内壁と接する部位の前記内部電極の厚さが、当該部位の周囲の前記内部電極の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項５】
前記セラミック振動板の前記圧電セラミック層側の表面に、前記貫通孔の内部へ向かって突出する凸部を有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項６】
前記第２主面の前記貫通孔と重なる領域に凹部を有していることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項７】
前記第１主面上にマトリクス状に配置された複数の第２表面電極を有していることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項８】
前記圧電アクチュエータ基板と対向するように配置されたフレキシブル配線基板を有しており、前記圧電セラミック層は、前記フレキシブル配線基板側に露出しており、前記貫通孔は前記フレキシブル配線基板に向かって開口しており、前記突部は前記フレキシブル配線基板側へ突出していることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項９】
前記第１主面上にマトリクス状に配置された複数の第２表面電極を有しており、該第２表面電極と、前記フレキシブル配線基板に設けられた電極とが、導電性バンプを介して電気的に接続されていることを特徴とする請求項８に記載の圧電アクチュエータ基板。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の圧電アクチュエータ基板と、該圧電アクチュエータ基板に積層されており、液体を吐出する吐出孔を有する流路部材とを含むことを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０に記載の液体吐出ヘッドと、記録媒体を前記液体吐出ヘッドに対して搬送する搬送部と、前記圧電アクチュエータ基板を制御する制御部とを備えていることを特徴とする記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月25日(2016.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属のボトル缶本体を移動させながらこれに水素含有液体を充填し金属のキャップを取り付け密閉する水素含有液体充填ラインにおける充填方法であって、
内側に突起部を有する前記キャップを用意し、前記突起部を前記ボトル缶本体に挿入しつつ前記キャップを取り付けたときに前記突起部の側面に液面があるように前記水素含有液体を前記ボトル缶本体に充填して前記キャップを取り付けることを特徴とする水素含有液体充填方法。
【請求項２】
前記ボトル缶本体の満注量から前記突起部の体積を減じた体積の前記水素含有液体を前記ボトル缶本体に充填する請求項１記載の水素含有液体充填方法。
【請求項３】
前記突起部が前記キャップと一体成形された金属からなる請求項１または２に記載の水素含有液体充填方法。
【請求項４】
水素を過飽和に含む状態の前記水素含有液体を前記ボトル缶本体に充填する請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の水素含有液体充填方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水素含有液体充填方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の水素含有液体充填方法は、金属のボトル缶本体を移動させながらこれに水素含有液体を充填し金属のキャップを取り付け密閉する水素含有液体充填ラインにおける充填方法であって、内側に突起部を有する前記キャップを用意し、前記突起部を前記ボトル缶本体に挿入しつつ前記キャップを取り付けたときに前記突起部の側面に液面があるように前記水素含有液体を前記ボトル缶本体に充填して前記キャップを取り付けることを特徴とするものである。前記ボトル缶本体の満注量から前記突起部の体積を減じた体積の前記水素含有液体を前記ボトル缶本体に充填することが好ましく、前記突起部が前記キャップと一体成形された金属からなることが好ましく、水素を過飽和に含む状態の前記水素含有液体を前記ボトル缶本体に充填することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月14日(2016.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両(１)に搭載される内燃機関(12)に設けられ、
内部を吸入空気が通過する吸気通路(21)と、
前記吸気通路(21)の内部を通過する吸入空気量を調整するスロットル装置(30)を備え、  前記スロットル装置(30)は、前記吸気通路(21)の途中に設けられて、前記吸気通路(21)の一部である通路(32)が内部に形成されたスロットルボディ(31)と、
前記スロットルボディ(31)の前記通路(32)内に回動自在に設けられ吸入空気量を調整する開閉弁(33)と、
前記スロットルボディ(31)の外部に設けられて前記開閉弁(33)に接続されて同期して回動するとともに、前記車両(１)のスロットル入力部材(４ａ)に繋がるワイヤ(36)が接続されるスロットルプーリ(35)を備えた車両の吸気装置(20)において、
前記スロットル装置(30)に設けられて、前記ワイヤ(36)を保持し、一部が延出した延出部(43)を有する支持ステー(40)と、
前記スロットルプーリ(35)を覆うように形成され、単一の締付部材(70)にて、前記支持ステー(40)に固定されるカバー部材(50)を備え、
前記カバー部材(50)には、前記締付部材(70)により締め付けられる締付部(58)と、
前記支持ステー(40)の前記延出部(43)を前記カバー部材(50)の内方から外方に延出するように嵌通させて引っ掛ける開口部(56)と、
前記開口部(56)の周縁(56ａ)の少なくとも一部に設けられ、前記支持ステー(40)の側面に当接する平坦部(57)が形成されたことを特徴とする車両の吸気装置。
【請求項２】
前記支持ステー(40)の前記延出部(43)の断面形状が、Ｌ字形状に形成され、
前記カバー部材(50)の前記平坦部(57)が、前記延出部(43)のＬ字形状の側平面(43ｂ)に当接されることを特徴とする請求項１に記載の車両の吸気装置。
【請求項３】
前記カバー部材(50)の前記開口部(56)は、前記延出部(43)の断面形状に対応したＬ字形状に形成されることを特徴とする請求項２に記載の車両の吸気装置。
【請求項４】
前記カバー部材(50)は、樹脂により形成され、
前記カバー部材(50)は、前記カバー部材(50)に設けられた前記締付部(58)において、前記支持ステー(40)に設けられた締結部(44)に、締結部材(70)により締め付けられ、
前記締結部材(70)と前記カバー部材(50)との間に、金属製のカラー(71)が介装されることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の車両の吸気装置。
【請求項５】
前記ワイヤ(36)は一対に並べて配置されて前記支持ステー(40)に固定され、
前記カバー部材(50)は、一対の前記ワイヤ(36)を挟むように、前記支持ステー(40)の前記締付部(58)と、前記支持ステー(40)の前記延出部(43)とで固定されることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の車両の吸気装置。
【請求項６】
前記カバー部材(50)は、前記カバー部材(50)の車両(１)の前方面の外縁を、前記ワイヤ(36)の延出方向に延長した延長カバー部(59)を備えることを特徴とする請求項５に記載の車両の吸気装置。
【請求項７】
前記カバー部材(50)の上縁部(50ａ)が、車両(１)の側面視において、車両(１)の車体カバー(11)の下縁部(11ａ)と重なるように、外方から車体カバー(11)で覆われることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の車両の吸気装置。
【請求項８】
前記カバー部材(50)の下部が、スロットル装置(30)からその下流のインテークパイプ(22)までの範囲で幅方向に延長されて形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれかの請求項に記載の車両の吸気装置。
【請求項９】
前記カバー部材(50)は、燃料ホース(27)の一部をカバーするよう延伸された延伸カバー部(60)が設けられることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれかの請求項に記載の車両の吸気装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
１…自動二輪車、２…車体フレーム、４ａ…アクセルグリップ、11…車体カバー、11ａ下縁部、12…内燃機関、20…吸気装置、21…吸気通路、22…インテークパイプ、27…燃料ホース、30…スロットル装置、31…スロットルボディ、31ｂ…吸気通路、33…開閉弁、35…スロットルプーリ、36…スロットルワイヤ、37…開用ワイヤ、38…閉用ワイヤ、40…支持ステー、42…ワイヤ保持部、43…延出部、43ｂ…側平面部、44…締結部、50…カバー部材、50ａ…上縁部、52…斜め上前方カバー部、53…前方カバー部、56…開口部、56ａ…開口部周縁、57…平坦部、58…締付部、59…延長カバー部、60…延伸カバー部、70…ねじ、71…カラー部材。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2016043906.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月12日(2016.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被保持物を保持する保持部と、前記保持部と着脱可能に連結される本体部とから成る部材保持装置であって、
前記本体部に設けられる第一の面と、
前記本体部に設けられ、前記第一の面と方向を異にする第二の面と、
前記本体部に設けられ、前記第一の面および前記第二の面と方向を異にする第三の面と、
前記保持部に設けられ、前記本体部における前記第一の面と当接し得る第一の当接面と、
前記保持部に設けられ、前記本体部における前記第二の面と当接し得る第二の当接面と、
前記保持部に設けられ、前記本体部における前記第三の面と当接し得る第三の当接面と、
前記第三の面と平行な方向において、前記第一の面に前記第一の当接面を当接させると共に、前記第二の面に前記第二の当接面を当接させるように、前記保持部を押圧する押圧手段と、
前記第三の面に前記第三の当接面を当接させると共に、前記保持部を前記本体部に固定する固定手段と
を備えたことを特徴とする部材保持装置。
【請求項２】
前記第一の面および前記第二の面が、前記本体部に設けられる溝部の側面であり、
前記第三の面が、前記溝部の底面であり、
前記押圧手段が、前記本体部に設けられ、前記第一の面と前記第二の面とによって形成される角部に向かって前記保持部を押圧するものである
ことを特徴とする請求項１に記載の部材保持装置。
【請求項３】
前記本体部が、前記第三の面に開口するねじ穴を有するものであり、
前記固定手段が、前記ねじ穴に螺合するねじ部と、前記ねじ部を前記ねじ穴にねじ込むことにより前記保持部に密着して前記保持部を前記本体部に押し付ける押し付け部と、前記ねじ部を前記本体部に対して回転可能または回転不可の状態に切り替える切り替え部とを備えたものである
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の部材保持装置。
【請求項４】
前記押圧手段が、スプリングプランジャである
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の部材保持装置。
【請求項５】
前記本体部における前記第一の面と前記第二の面と前記第三の面、および、前記保持部における前記第一の当接面と前記第二の当接面と前記第三の当接面を覆い、前記本体部に着脱可能に設けられるカバー部材を備えた
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の部材保持装置。
【請求項６】
加工に供するワークを搬送するワーク搬送装置を備えた工作機械において、
前記ワーク搬送装置が、前記被保持物をワークとする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の部材保持装置を備えたものである
ことを特徴とする工作機械。
【請求項７】
ワークを加工する加工用工具を保持する工具保持装置を備えた工作機械において、
前記工具保持装置が、前記被保持物を加工用工具とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の部材保持装置を備えたものである
ことを特徴とする工作機械。
【請求項８】
被加工物の形状を測定する形状測定装置を備えた工作機械において、
前記形状測定装置が、前記被保持物を被加工物の形状を測定する測定器とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の部材保持装置を備えたものである
ことを特徴とする工作機械。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決する第一の発明に係る部材保持装置は、被保持物を保持する保持部と、前記保持部と着脱可能に連結される本体部とから成る部材保持装置であって、前記本体部に設けられる第一の面と、前記本体部に設けられ、前記第一の面と方向を異にする第二の面と、前記本体部に設けられ、前記第一の面および前記第二の面と方向を異にする第三の面と、前記保持部に設けられ、前記本体部における前記第一の面と当接し得る第一の当接面と、前記保持部に設けられ、前記本体部における前記第二の面と当接し得る第二の当接面と、前記保持部に設けられ、前記本体部における前記第三の面と当接し得る第三の当接面と、前記第三の面と平行な方向において、前記第一の面に前記第一の当接面を当接させると共に、前記第二の面に前記第二の当接面を当接させるように、前記保持部を押圧する押圧手段と、前記第三の面に前記第三の当接面を当接させると共に、前記保持部を前記本体部に固定する固定手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
以下に、本発明に係る部材保持装置の実施例について、添付図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例は、本発明に係る部材保持装置をホブ盤におけるワーク搬送装置に採用したものであり、ワークを保持するためのグリッパの段取り替え作業を容易なものとし、レンチ等の工具を用いずに行うことができるようにしたものである。もちろん、本発明は以下の実施例に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各種変更が可能であることは言うまでもない。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月22日(2016.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非病原性のエルビニア・アナナス（Erwinia ananas）CTB1206菌株（FERM AP-21274）を有効成分として含有する、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びイネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、果菜類の灰色かび病、イチゴ炭疽病、イチゴうどんこ病、キュウリ褐斑病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の空気伝染性の糸状菌病からなる群より選択される植物病の防除剤。
【請求項２】
前記エルビニア・アナナス（Erwinia ananas）CTB1206菌株（FERM AP-21274）に利用能がある栄養源を含有する請求項１に記載の植物病の防除剤。
【請求項３】
請求項１または２に記載の植物病の防除剤を含む水溶液を、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、果菜類の灰色かび病、イチゴ炭疽病、イチゴうどんこ病、キュウリ褐斑病、キュウリうどんこ病、キュウリべと病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の空気伝染性の糸状菌病からなる群より選択される植物病に感染する植物に使用する、植物病の防除方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の第１の態様に係る植物病の防除剤は、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びイネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、果菜類の灰色かび病、イチゴ炭疽病、イチゴうどんこ病、キュウリ褐斑病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の空気伝染性の糸状菌病からなる群より選択される植物病の防除剤であって、非病原性のエルビニア・アナナス（Erwinia ananas）CTB 1206菌株（FERM AP-21274）を有効成分として含有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の第２の態様に係る植物病の防除方法は、第１の態様に係る植物病の防除剤を含む水溶液を、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、果菜類の灰色かび病、イチゴ炭疽病、イチゴうどんこ病、キュウリ褐斑病、キュウリうどんこ病、キュウリべと病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の空気伝染性の糸状菌病からなる群より選択される植物病に感染する植物に使用する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
第１の態様に係る植物病の防除剤は、非病原性のエルビニア・アナナス（Erwinia ananas）CTB1206菌株（FERM AP-21274）を含有しているので、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びイネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、果菜類の灰色かび病、イチゴ炭疽病、キュウリ褐斑病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の糸状菌病からなる群より選択される植物病に対して、非病原性であり、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びイネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、イチゴ炭疽病、イチゴうどんこ病、キュウリ褐斑病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の糸状菌病に対して防除効果が高く、環境汚染が無い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
第２の態様に係る植物病の防除方法は、第１の態様に係る植物病の防除剤を含む水溶液を、イネ、オオムギ、イチゴ、キュウリ、スイカ、トマト、ナス、ナシ及びチャに使用することで、イネもみ枯細菌病（もみ枯症）及びイネもみ枯細菌病（苗腐敗症）、並びに、イネいもち病（葉いもち）、イネいもち病（穂いもち）、オオムギ赤かび病、オオムギ網斑病、果菜類の灰色かび病、イチゴ炭疽病、イチゴうどんこ病、キュウリ褐斑病、スイカつる枯病、トマト葉かび病、ナスすすかび病、ナシ黒斑病、チャ輪斑病及びその他の空気伝染性の糸状菌病からなる群より選択される植物病に対して、高い防除効果を発揮する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
３．イネいもち病（葉いもち）の防除試験
試験地：鳥取県農林総合研究所農業試験場（鳥取県鳥取市橋本）の実験室内の植物育成棚）において、品種：ひとめぼれを播種した（播種日：２０１０年９月１４日、フルーツケース、試験規模：１区画１８７．０ｃｍ２（１６．４ｃｍ×１１．４ｃｍ）、２連制）。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月18日(2016.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦性を有する４Ｈ−ＳｉＣバルク単結晶基板を準備する工程と、
前記４Ｈ−ＳｉＣバルク単結晶基板上に凹部を有する第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層をエピタキシャル成長させる工程とを備え、
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の膜厚をＸ［μｍ］とすると、前記凹部の直径Ｙ［μｍ］は０．２×Ｘ以上、２×Ｘ以下であり、かつ前記凹部の深さＺ［μｍ］は（０．９５×Ｘ＋０．５）×０．００１以上、０．０１×Ｘ以下であることを特徴とする単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項２】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層を形成する際に、前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の成長表面に前記凹部が形成されるように成長炉内の圧力と温度を設定することを特徴とする請求項１に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項３】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の表面の前記凹部の密度が１０個／ｃｍ２以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項４】
前記凹部の直径Ｙ［μｍ］は２μｍ以上２０μｍ以下であり、前記凹部の深さＺ［μｍ］は０．０１μｍ以上０．１μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項５】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の膜厚Ｘ［μｍ］は０．３μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項６】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の欠陥密度は２個／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層はＮ型不純物がドーピングされていることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層上に、前記凹部を埋め込むように第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層をエピタキシャル成長させる工程を更に備えることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項９】
前記第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層はＮ型不純物がドーピングされていることを特徴とする請求項８に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の表面平均粗さは０．３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項８又は９に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法。
【請求項１１】
４Ｈ−ＳｉＣバルク単結晶基板と、
前記４Ｈ−ＳｉＣバルク単結晶基板上に形成され、凹部を有する第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層とを備え、
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の膜厚をＸ［μｍ］とすると、前記凹部の直径Ｙ［μｍ］は０．２×Ｘ以上、２×Ｘ以下であり、かつ前記凹部の深さＺ［μｍ］は（０．９５×Ｘ＋０．５）×０．００１以上、０．０１×Ｘ以下であることを特徴とする単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１２】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の表面の前記凹部の密度が１０個／ｃｍ２以上であることを特徴とする請求項１１に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１３】
前記凹部の直径Ｙ［μｍ］は２μｍ以上２０μｍ以下であり、前記凹部の深さＺ［μｍ］は０．０１μｍ以上０．１μｍ以下であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１４】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の膜厚Ｘ［μｍ］は０．３μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１１〜１３の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１５】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の欠陥密度は２個／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項１１〜１４の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１６】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層はＮ型不純物がドーピングされていることを特徴とする請求項１１〜１５の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１７】
前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層上に形成された第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層を更に備え、
前記凹部は前記第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層に埋め込まれていることを特徴とする請求項１１〜１６の何れか１項に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１８】
前記第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層はＮ型不純物がドーピングされていることを特徴とする請求項１７に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【請求項１９】
前記第２の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の表面平均粗さは０．３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１７に記載の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る単結晶４Ｈ−ＳｉＣ基板の製造方法は、平坦性を有する４Ｈ−ＳｉＣバルク単結晶基板を準備する工程と、前記４Ｈ−ＳｉＣバルク単結晶基板上に凹部を有する第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層をエピタキシャル成長させる工程とを備え、前記第１の単結晶４Ｈ−ＳｉＣ層の膜厚をＸ［μｍ］とすると、前記凹部の直径Ｙ［μｍ］は０．２×Ｘ以上、２×Ｘ以下であり、かつ前記凹部の深さＺ［μｍ］は（０．９５×Ｘ＋０．５）×０．００１以上、０．０１×Ｘ以下である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月7日(2016.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
種基板を準備する工程と、
前記種基板の表面を気相エッチングする工程と、
前記表面上に炭化珪素をエピタキシャル成長させる工程と、
前記エピタキシャル成長させる工程に先だって、前記種基板を、前記エピタキシャル成長させる工程における成膜温度にまで昇温する工程とを備え、
前記昇温する工程では、真空ベークする温度まで前記種基板を昇温後、前記種基板を前記真空ベークする温度に維持してから、前記成膜温度にまで再度昇温を開始するとともに、前記再度昇温を開始したときから前記気相エッチングする工程において用いるエッチングガスを前記種基板に対して供給し、
前記エッチングガスは水素ガスであり、
前記エッチングガスの前記種基板に対する供給を開始した後、前記エッチングガスの流量を増やすことにより、前記種基板が前記成膜温度にまで昇温された時点で、前記エッチングガスの流量は前記エピタキシャル成長させる工程においてキャリアガスとして用いられる流量と等しくなり、
前記気相エッチングする工程は、エピタキシャル成長させる工程における成膜温度において前記種基板の表面をエッチングする工程を含み、
前記成膜温度において前記種基板の表面をエッチングする工程の途中から、炭素原子含有ガスを前記種基板に供給する、炭化珪素半導体基板の製造方法。
【請求項２】
前記エピタキシャル成長させる工程に先立って、前記炭素原子含有ガス中の炭素原子が前記種基板の前記表面に導入されている、請求項１に記載の炭化珪素半導体基板の製造方法。
【請求項３】
前記炭素原子含有ガスは、前記エピタキシャル成長させる工程で用いる原料ガスの一つである、請求項１または請求項２に記載の炭化珪素半導体基板の製造方法。
【請求項４】
前記気相エッチングする工程における前記炭素原子含有ガスの流量は、前記エピタキシャル成長させる工程での前記炭素原子含有ガスの流量と等しい、請求項３に記載の炭化珪素半導体基板の製造方法。
【請求項５】
前記気相エッチングする工程において、前記炭素原子含有ガスを前記種基板に１０秒以上供給した後、続けて前記エピタキシャル成長させる工程を実施する、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の炭化珪素半導体基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の炭化珪素半導体基板の製造方法は、種基板を準備する工程と、種基板の表面を気相エッチングする工程と、表面上に炭化珪素をエピタキシャル成長させる工程と、エピタキシャル成長させる工程に先だって、種基板を、エピタキシャル成長させる工程における成膜温度にまで昇温する工程とを備え、昇温する工程では、真空ベークする温度まで種基板を昇温後、種基板を真空ベークする温度に維持してから、成膜温度にまで再度昇温を開始するとともに、再度昇温を開始したときから気相エッチングする工程において用いるエッチングガスを種基板に対して供給する。エッチングガスは水素ガスである。エッチングガスの種基板に対する供給を開始した後、エッチングガスの流量を増やすことにより、種基板が成膜温度にまで昇温された時点で、エッチングガスの流量はエピタキシャル成長させる工程においてキャリアガスとして用いられる流量と等しくなる。気相エッチングする工程は、エピタキシャル成長させる工程における成膜温度において種基板の表面をエッチングする工程を含み、成膜温度において種基板の表面をエッチングする工程の途中から、炭素原子含有ガスを種基板に供給する。気相エッチングする工程では、水素原子を含むガスを用いることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素繊維を含む補強材と、プラスチックを含むマトリックスとを有する炭素繊維強化プラスチックを用いた構造部材を備え、
前記構造部材は、前記炭素繊維強化プラスチックのプリプレグ間に導電性シートが積層され成形されており、ボルトが締結される締結孔が設けられ、
燃料が収容される内部に、前記構造部材の切削面が露出している燃料タンク。
【請求項２】
前記ボルトと前記締結孔との間に塗布された導電性を有するシーラントを更に備える請求項１に記載の燃料タンク。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の燃料タンクを構造体とする主翼。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の燃料タンクを備える航空機胴体。
【請求項５】
請求項３に記載の主翼、又は、請求項４に記載の航空機胴体を備える航空機。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の燃料タンクを備える移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月5日(2016.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物からなる成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明は次の構成を有する。
（１）（Ａ）ポリブチレンテレフタレート５〜４８重量部および（Ｂ）ポリカーボネート５２〜９５重量部の合計１００重量部に対して、（Ｃ）カルボジイミド化合物０．１〜３．５重量部、（Ｄ）α−オレフィンとα，β−不飽和酸のグリシジルエステルを共重合成分とするグリシジル基含有共重合体１〜１５重量部および（Ｅ）リン系安定剤を配合してなる熱可塑性樹脂組成物。
（２）前記（Ｅ）リン系安定剤がホスフェート化合物を含む（１）記載の熱可塑性樹脂組成物。
（３）前記（Ｅ）リン系安定剤の配合量が、前記（Ａ）ポリブチレンテレフタレートおよび前記（Ｂ）ポリカーボネートの合計１００重量部に対して、０．００５〜０．０２重量部である（１）または（２）記載の熱可塑性樹脂組成物。
（４）前記（Ｃ）カルボジイミド化合物および前記（Ｄ）グリシジル基含有共重合体の合計配合量に対する前記（Ｅ）リン系安定剤の配合量の比（重量比）が０．０４７／１００〜１．５５／１００である（１）〜（３）のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
（５）ＩＳＯ２９４に準拠してノッチ付シャルピー試験片を成形し、温度１２１℃、湿度１００％ＲＨ環境下で２０時間処理した後、ＩＳＯ１７９に準拠して測定したときのシャルピー衝撃強度が２５ｋＪ／ｍ２以上となる（１）〜（４）のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
（６）（１）〜（５）のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物からなる成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月28日(2016.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ−１）で表される化合物を含有し、一般式（ＩＩ）で表される化合物を１種又は２種以上含有し、一般式（ＩＩＩｂ）で表される化合物を含有する誘電率異方性が負の液晶組成物。
【化１】
2014189794.tif 000001
（式中、Ｒ１は炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
【化２】
2014189794.tif 000002
（式中Ｒ３ｂ及びＲ４ｂはそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていても良い。）
【請求項２】
一般式（ＩＩ）においてＲ１がエチル基である、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
式（Ｉ−２）及び式（Ｉ−３）
【化３】
2014189794.tif 000003
で表される化合物群の中から１種又は２種選ばれる化合物を含有する、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項４】
式（Ｉ−１）で表される化合物の含有量が１０〜２３質量％である請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項５】
一般式（ＩＩＩ）
【化４】
2014189794.tif 000004
（式中Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、Ａ１は１，４−シクロヘキシレン基、又はテトラヒドロピラン−２，５−ジイル基を表す。）で表される化合物を含有する請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項６】
一般式（ＩＶ）
【化５】
2014189794.tif 000005
（式中Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、Ａ２は１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基又はテトラヒドロピラン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ２が１，４−フェニレン基を表す場合、該１，４−フェニレン基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。）で表される化合物を含有する請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項７】
一般式（Ｖ）
【化６】
2014189794.tif 000006
（式中Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基及び／又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、
Ａ３は１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基又はテトラヒドロピラン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ３が１，４−フェニレン基を表す場合、該１，４−フェニレン基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子に置換されていてもよく、
Ｚ１は単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、
ｎは０又は１を表し、
Ｘ１〜Ｘ６はそれぞれ独立して水素原子、又はフッ素原子を表すが、Ｘ１〜Ｘ６の少なくとも１つはフッ素原子を表す。）で表される化合物を含有する請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項８】
反応性モノマーを含有する請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
【請求項１０】
請求項９に記載の液晶表示素子を用いた液晶ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月13日(2016.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
本発明者らの開発した前記の伸縮性布地では、布地中にスポット的に存在する繊維間の膠着または擬膠着が生じている部分は、繊維間の膠着や擬膠着の生じていない他の箇所に比べて、硬さが増し、伸長回復応力（弾性率）が増強した状態となる。
そのため、この技術を、例えば、アンダーウエアの特定の部分に応用すれば、身体の特定部分の体型を補正する機能を現出させたり、特定部分の筋肉を緊縛することで末梢血流を促進させてうっ血を解消させる機能を現出させることができる。また、この技術を靴の甲皮に応用し、靴の甲皮全体を前記した伸縮性布地から形成し、つま先部分とかかと部分に位置する布地部分の繊維同士を膠着させれば、つま先部分およびかかと部分を甲皮の他の箇所（例えば甲皮の側面部分）よりも硬くすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月4日(2016.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
光触媒層がボウル部の表面に形成された便器と、
前記便器に対して開閉可能な便座と、
前記便器に対して開閉可能に設けられ、閉じた状態において、前記便座の外周部と、前記便器の側面部のうちの少なくとも一部と、を覆う便蓋と、
前記ボウル部の表面に紫外線を照射する光源装置と、
前記便蓋が閉じた状態において、前記光源装置の動作を制御し前記ボウル部の表面に紫外線を照射させる制御を実行する制御部と、
を備えたことを特徴とするトイレ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記便器は、リム部を有し、
前記光触媒層は、前記リム部の上面にさらに形成されたことを特徴とする請求項１記載
のトイレ装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の発明は、光触媒層がボウル部の表面に形成された便器と、前記便器に対して開閉可能な便座と、前記便器に対して開閉可能に設けられ、閉じた状態において、前記便座の外周部と、前記便器の側面部のうちの少なくとも一部と、を覆う便蓋と、前記ボウル部の表面に紫外線を照射する光源装置と、前記便蓋が閉じた状態において、前記光源装置の動作を制御し前記ボウル部の表面に紫外線を照射させる制御を実行する制御部と、を備えたことを特徴とするトイレ装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の発明は、第１の発明において、前記便器は、リム部を有し、前記光触媒層は、前記リム部の上面にさらに形成されたことを特徴とするトイレ装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月18日(2016.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記内部電源の電圧を検出する電圧検出手段と、
この電圧検出手段により検出された電圧に基づいて、前記外部電源からの電力供給が停止した状態において、前記便器給水弁を駆動させ前記便器本体を洗浄することが可能な回数を表示する表示手段と、を備える請求項１又は２に記載のトイレ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、さらに、前記内部電源の電圧を検出する電圧検出手段と、この電圧検出手段により検出された電圧に基づいて、前記外部電源からの電力供給が停止した状態において、前記便器給水弁を駆動させ前記便器本体を洗浄することが可能な回数を表示する表示手段と、を備える構成としてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月4日(2016.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記水栓において、前記水栓取付孔側の端部に、前記第１突起部および前記第２突起部
が挿入される凹部が形成され、
前記凹部には、前記水栓を前記水栓設置面に固定するためのネジ孔と、前記給水管を通
す水栓給水孔が形成され、
前記第１面および前記第２面の前記挿通孔形成部の鉛直方向における高さは、前記凹部
の鉛直方向における高さと等しく、
前記第１突起部および前記第２突起部の鉛直方向における高さは、前記凹部の鉛直方向
における高さ以下であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の水栓装置。