【手続補正書】
【提出日】平成28年8月18日(2016.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）１５重量％〜５０重量％の水と、
ｂ）１０重量％〜６５重量％の水混和性有機溶媒と、
ｃ）少なくとも１種類のアルカノールアミン及びアミノプロピルモルホリンからなる群より選択される１重量％〜５０重量％のアミン化合物と、
ｄ）１重量％〜２５重量％の有機酸と、
ｅ）０．０１重量％〜８重量％のフッ化物イオン供給源と
を含み、前記水混和性有機溶媒がエーテルではなく、８〜１０のｐＨを有する、半導体基材から残留物を除去するための組成物。
【請求項２】
ベンゾトリアゾール、アミノ−ベンゾトリアゾール、Ｌ−アスコルビン酸、没食子酸、バニリン、ジエチルヒドロキシルアミン、及びそれらの混合物からなる群より選択される０．１重量％〜１５重量％の腐食防止剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記水混和性有機溶媒が、プロピレングリコール、グリセロール、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記水混和性有機溶媒がジメチルアセトアミドである、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記水混和性有機溶媒がプロピレングリコールである、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
前記水混和性有機溶媒がグリセロールである、請求項３に記載の組成物。
【請求項７】
前記フッ化物イオン供給源が、フッ化アンモニウム及び第四級アンモニウム化合物からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記フッ化物イオン供給源がフッ化アンモニウムである、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記フッ化物イオン供給源が、フッ化テトラメチルアンモニウム及びフッ化テトラブチルアンモニウムからなる群より選択される第四級アンモニウム化合物である、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記アミン化合物が、Ｎ−メチルエタノールアミン（ＮＭＥＡ）、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、トリエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、シクロヘキシルアミンジエタノール、及びそれらの混合物からなる群より選択されるアルカノールアミンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記アルカノールアミンがモノエタノールアミンである、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記アミン化合物がアミノプロピルモルホリンである、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１３】
前記アミン化合物がトリエタノールアミンである、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１４】
前記アミン化合物がトリエタノールアミンと２−（２−アミノエトキシ）エタノールの混合物である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１５】
ａ）３５重量％〜５０重量％の水と、
ｂ）１０重量％〜３０重量％の水混和性有機溶媒と、
ｃ）少なくとも１種類のアルカノールアミン及びアミノプロピルモルホリンからなる群より選択される８重量％〜５０重量％のアミン化合物と、
ｄ）６重量％〜１０重量％の有機酸と、
ｅ）１重量％〜８重量％のフッ化物イオン供給源と
を含み、前記水混和性有機溶媒がエーテルではなく、８〜１０のｐＨを有する、半導体基材から残留物を除去するための組成物。
【請求項１６】
ある誘電率を有する多孔質誘電材料を含む半導体基材を請求項１に記載のクリーニング用組成物と接触させるステップと、
前記半導体基材から前記クリーニング用組成物を洗浄するステップと、
前記半導体基材を乾燥させるステップと
を含み、前記多孔質誘電材料の誘電率が０．５０を超えて増加しない、半導体基材から残留物を除去する方法。
【請求項１７】
前記多孔質誘電材料の誘電率が０．２５を超えて増加しない、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記クリーニング用組成物が、４Å／分以下の銅エッチング速度を提供する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
ａ）２０重量％〜８４重量％の水と、ｂ）エーテルではない１５重量％〜４０重量％の水混和性有機溶媒と、ｃ）少なくとも１種類のアルカノールアミン及び少なくとも１種類のアミノプロピルモルホリンからなる群より選択される１重量％〜５重量％のアミン化合物とを含む、８〜１０のｐＨを有するクリーニング用組成物に添加される補充用組成物。
【請求項２０】
４重量％〜３５重量％のジエチルヒドロキシルアミンをさらに含み、前記水が前記補充用組成物の２０重量％〜８０重量％である、請求項１９に記載の補充用組成物。
【請求項２１】
半導体基材を、ａ）１５重量％〜５０重量％の水と、ｂ）エーテルではない１０重量％〜６５重量％の水混和性有機溶媒と、ｃ）少なくとも１種類のアルカノールアミン及び少なくとも１種類のアミノプロピルモルホリンからなる群より選択される１重量％〜２０重量％のアミン化合物と、ｄ）１重量％〜２５重量％の少なくとも１種類の有機酸と、ｅ）０．０１重量％〜８重量％のフッ化物イオン供給源とを含み、８〜１０のｐＨを有するクリーニング用組成物と接触させ、その結果として前記クリーニング用組成物の一部が失われる接触ステップと、
前記クリーニング用組成物にａ）２０重量％〜８４重量％の水と、ｂ）エーテルではない１５重量％〜４０重量％の水混和性有機溶媒と、ｃ）少なくとも１種類のアルカノールアミン及び少なくとも１種類のアミノプロピルモルホリンからなる群より選択される１重量％〜５重量％のアミン化合物とを含む補充用組成物を添加するステップとを含む、半導体基材から望まない残留物を除去する方法。
【請求項２２】
前記半導体基材から前記クリーニング用組成物を洗浄する洗浄ステップと、前記半導体基材を乾燥させる乾燥ステップとをさらに含み、前記半導体基材がある誘電率を有する多孔質誘電材料を含み、前記接触ステップ、前記洗浄ステップ及び前記乾燥ステップの後に、前記多孔質誘電材料の誘電率が０．５０を超えて増加しない、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記多孔質誘電材料の誘電率が０．２５を超えて増加しない、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記クリーニング用組成物が１重量％〜１５重量％のジエチルヒドロキシルアミンをさらに含むことができ、前記補充用組成物が４重量％〜３５重量％のジエチルヒドロキシルアミンをさらに含むことができ、前記水が前記補充用組成物の２０重量％〜８０重量％である、請求項２１の方法。
【請求項２５】
ａ）１５重量％〜５０重量％の水と、
ｂ）エーテルではない１０重量％〜６５重量％の水混和性有機溶媒と、
ｃ）少なくとも１種類のアルカノールアミン及びアミノプロピルモルホリンからなる群より選択される１重量％〜５０重量％のアミン化合物と、
ｄ）１重量％〜２５重量％の有機酸と、
ｅ）０．０１重量％〜８重量％のフッ化物イオン供給源と、
ｆ）ベンゾトリアゾール、アミノ−ベンゾトリアゾール、Ｌ−アスコルビン酸、没食子酸、バニリン、ジエチルヒドロキシルアミン、及びそれらの混合物からなる群より選択される０．１重量％〜１５重量％の腐食防止剤と
からなり、８〜１０のｐＨを有する、半導体基材から残留物を除去するための組成物。
【請求項２６】
前記水混和性有機溶媒が、プロピレングリコール、グリセロール、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
前記水混和性有機溶媒がジメチルアセトアミドである、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
前記水混和性有機溶媒がプロピレングリコールである、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２９】
前記水混和性有機溶媒がグリセロールである、請求項２６に記載の組成物。
【請求項３０】
前記フッ化物イオン供給源が、フッ化アンモニウム及び第四級アンモニウム化合物からなる群より選択される、請求項２５に記載の組成物。
【請求項３１】
前記フッ化物イオン供給源がフッ化アンモニウムである、請求項３０に記載の組成物。
【請求項３２】
前記フッ化物イオン供給源が、フッ化テトラメチルアンモニウム及びフッ化テトラブチルアンモニウムからなる群より選択される第四級アンモニウム化合物である、請求項３０に記載の組成物。
【請求項３３】
前記アミン化合物が、Ｎ−メチルエタノールアミン（ＮＭＥＡ）、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、トリエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、シクロヘキシルアミンジエタノール、及びそれらの混合物からなる群より選択されるアルカノールアミンである、請求項２５に記載の組成物。
【請求項３４】
前記アルカノールアミンがモノエタノールアミンである、請求項３３に記載の組成物。
【請求項３５】
前記アミン化合物がアミノプロピルモルホリンである、請求項３３に記載の組成物。
【請求項３６】
前記アミン化合物がトリエタノールアミンである、請求項３３に記載の組成物。
【請求項３７】
前記アミン化合物がトリエタノールアミンと２−（２−アミノエトキシ）エタノールの混合物である、請求項３３に記載の組成物。