【手続補正書】
【提出日】平成27年12月2日(2015.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を被処理体に供給するための液供給装置において、
処理液が貯留される貯留室と、この貯留室内の処理液を吐出する吐出口と、前記貯留室内の処理液を前記吐出口から押し出すための押し出し部と、前記吐出口とは別に設けられ、前記貯留室に処理液を補充する補充口と、を有する処理液カートリッジと、
この処理液カートリッジが待機する待機領域を有する待機部と、
前記処理液カートリッジを保持し、前記待機部と、被処理体に処理液を供給する位置と、の間で搬送する搬送機構と、
この搬送機構に設けられ、前記押し出し部に処理液の押し出し動作をさせるための作動機構と、を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項２】
前記待機部には、前記処理液カートリッジに処理液を補充するための処理液補充路が設けられ、
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載の液供給装置。
【請求項３】
前記補充機構は、前記待機部に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の液供給装置。
【請求項４】
前記押し出し部は、基端側に開口部が形成されると共に内部が空洞のベローズ体を備え、前記貯留室に形成された開口部に前記ベローズ体の開口部が連結されて構成され、
前記作動機構は、前記貯留室内の容積を減少させて処理液を吐出させるために前記ベローズ体を伸長させるように構成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の液供給装置。
【請求項５】
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備え、
前記補充機構は、前記貯留室内の容積を増大させて処理液を前記補充口から吸引するために前記ベローズ体を縮退させるように構成されていることを特徴とする請求項４に記載の液供給装置。
【請求項６】
前記押し出し部は、その先端側が前記ベローズ体の先端側に取り付けられ、その基端側が前記貯留室の外側に伸び出している駆動軸部を備え、
前記作動機構は、前記ベローズ体を伸長させるために駆動軸部を前進させる前進用の駆動機構を備えたことを特徴とする請求項４または５に記載の液供給装置。
【請求項７】
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備え、
前記押し出し部は、その先端側が前記ベローズ体の先端側に取り付けられ、その基端側が前記貯留室の外側に伸び出している駆動軸部を備え、
前記補充機構は、前記ベローズ体を縮退させるために駆動軸部を後退させる後退用の駆動機構を備えたことを特徴とする請求項４ないし６のいずれか１つに記載の液供給装置。
【請求項８】
前記作動機構は、前記ベローズ体を伸長させるために前記ベローズ体の開口部を介して当該ベローズ体に気体を供給するためのガス供給機構を備えていることを特徴とする請求項４または５に記載の液供給装置。
【請求項９】
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備え、
前記補充機構は、前記ベローズ体を縮退させるために前記ベローズ体の開口部を介して当該ベローズ体内を吸引するための吸引機構を備えていることを特徴とする請求項４、５または８に記載の液供給装置。
【請求項１０】
各々の処理液カートリッジは、当該処理液カートリッジに貯留されている処理液の種別が記憶される記憶部を備えていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１つに記載の液供給装置。
【請求項１１】
前記待機領域は複数設けられ、
前記待機部は、各々の処理液カートリッジにおける前記記憶部に記憶される処理液の種別を読み出す読み出し部を備え、
この読み出し部にて読み出した情報に基づいて、被処理体に対して行われる塗布処理の種別に応じて複数の前記処理液カートリッジから一の処理液カートリッジを選択するように制御信号を出力する制御部を備えていることを特徴とする請求項１０に記載の液供給装置。
【請求項１２】
前記処理液カートリッジは、前記押し出し部を前記吐出口側から離間した位置にて固定する規制機構を備え、
前記搬送機構は、この規制機構による規制を解除する機構を備えていることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１つに記載の液供給装置。
【請求項１３】
前記処理液カートリッジの前記補充口側及び前記吐出口側には、前記貯留室内の処理液の逆流を防止するための逆流防止機構が各々設けられ、
前記吐出口側の前記逆流防止機構と当該吐出口との間には、処理液の吐出を終えた後、前記吐出口の近傍位置に残る処理液を前記貯留室側に引き上げるための液だれ抑制機構が設けられていることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか１つに記載の液供給装置。
【請求項１４】
前記処理液の粘度は、１０００ｃＰ〜４０００ｃＰであることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１つに記載の液供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】液供給装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理体に処理液を供給するための液供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスを製造する一連の工程の中で、基板（被処理体）である半導体ウエハ（以下「ウエハ」と言う）に対して、シンナー、レジスト液、ポリイミド、接着剤などの処理液を供給する工程がある。このような処理液は、粘度が高い程吐出しにくくなるため、更にはウエハの大口径化が進むにつれて当該ウエハの表面を被覆するために必要な処理液の量も多くなり、従ってスループットの低下を抑えるために速やかに吐出することが要求されている。
【０００３】
しかしながら、処理液の吐出速度を高めるにあたって、例えば大容量のポンプを設けた場合には装置のコストアップに繋がってしまうし、処理液が通流する配管の内径を大きくした場合には、当該配管の引き回しが困難になり、また装置のレイアウトや作業者の作業性が制限されてしまう。
【０００４】
また、ポンプからノズルを介して処理液を吐出した後、後続の吐出処理に備えるために当該ポンプに新たに処理液をタンク側から引き込むにあたって、当該処理液内に気泡が混入しないようにするため、即ち処理液が発泡しないようにするため、処理液の引き込み速度をそれ程速く設定できない。従って、処理液の吐出準備に要する時間についてもできるだけ短縮することが求められている。処理液の粘度が高くなる程、処理液の引き込み時に圧力損失が大きくなり、処理液が発泡しやすくなるため、高粘度の処理液を使用するプロセスでは特に処理液の吐出準備を速やかに終える必要がある。
【０００５】
特許文献１には、ウエハにレジスト液をコーティングするにあたって、複数のシリンジを設けておき、これらシリンジのうち一のシリンジをアームが把持してレジスト液を吐出した後、当該一のシリンジを元のトレイに戻す技術について記載されている。また、特許文献２には、薬液が収納された容器を保持機構が保持してウエハの上方側に移動させ、当該容器からウエハに薬液を直接吐出する技術について記載されている。しかしながら、これら特許文献１、２には、高粘度の処理液を吐出する時の課題については検討されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４２２７１７１号
【特許文献２】特開２００４−１７２２０１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、処理液を被処理体に供給するにあたって、装置の複雑化を抑えながら、当該処理液を速やかに吐出させることができる液供給装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液供給装置は、
処理液を被処理体に供給するための液供給装置において、
処理液が貯留される貯留室と、この貯留室内の処理液を吐出する吐出口と、前記貯留室内の処理液を前記吐出口から押し出すための押し出し部と、前記吐出口とは別に設けられ、前記貯留室に処理液を補充する補充口と、を有する処理液カートリッジと、
この処理液カートリッジが待機する待機領域を有する待機部と、
前記処理液カートリッジを保持し、前記待機部と、被処理体に処理液を供給する位置と、の間で搬送する搬送機構と、
この搬送機構に設けられ、前記押し出し部に処理液の押し出し動作をさせるための作動機構と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
前記待機部には、前記処理液カートリッジに処理液を補充するための処理液補充路が設けられ、
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備えていても良く、この場合に前記補充機構は、前記待機部に設けられている。
前記押し出し部は、基端側に開口部が形成されると共に内部が空洞のベローズ体を備え、前記貯留室に形成された開口部に前記ベローズ体の開口部が連結されて構成され、
前記作動機構は、前記貯留室内の容積を減少させて処理液を吐出させるために前記ベローズ体を伸長させるように構成されていても良い。
【００１０】
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備え、
前記補充機構は、前記貯留室内の容積を増大させて処理液を前記補充口から吸引するために前記ベローズ体を縮退させるように構成されていても良い。
前記押し出し部は、その先端側が前記ベローズ体の先端側に取り付けられ、その基端側が前記貯留室の外側に伸び出している駆動軸部を備え、
前記作動機構は、前記ベローズ体を伸長させるために駆動軸部を前進させる前進用の駆動機構を備えていても良い。
【００１１】
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備え、
前記押し出し部は、その先端側が前記ベローズ体の先端側に取り付けられ、その基端側が前記貯留室の外側に伸び出している駆動軸部を備え、
前記補充機構は、前記ベローズ体を縮退させるために駆動軸部を後退させる後退用の駆動機構を備えていても良い。
前記作動機構は、前記ベローズ体を伸長させるために前記ベローズ体の開口部を介して当該ベローズ体に気体を供給するためのガス供給機構を備えていても良い。
前記待機部に位置する処理液カートリッジの貯留室に前記補充口を介して処理液を補充するための補充機構を備え、
前記補充機構は、前記ベローズ体を縮退させるために前記ベローズ体の開口部を介して当該ベローズ体内を吸引するための吸引機構を備えていても良い。
【００１２】
各々の処理液カートリッジは、当該処理液カートリッジに貯留されている処理液の種別が記憶される記憶部を備えているようにしても良く、この場合には前記待機領域は複数設けられ、
前記待機部は、各々の処理液カートリッジにおける前記記憶部に記憶される処理液の種別を読み出す読み出し部を備え、
この読み出し部にて読み出した情報に基づいて、被処理体に対して行われる塗布処理の種別に応じて複数の前記処理液カートリッジから一の処理液カートリッジを選択するように制御信号を出力する制御部を備えていることが好ましい。
【００１３】
前記処理液カートリッジは、前記押し出し部を前記吐出口側から離間した位置にて固定する規制機構を備え、
前記搬送機構は、この規制機構による規制を解除する機構を備えていても良い。
前記処理液カートリッジの前記補充口側及び前記吐出口側には、前記貯留室内の処理液の逆流を防止するための逆流防止機構が各々設けられ、
前記吐出口側の前記逆流防止機構と当該吐出口との間には、処理液の吐出を終えた後、前記吐出口の近傍位置に残る処理液を前記貯留室側に引き上げるための液だれ抑制機構が設けられていても良い。
前記処理液の粘度は、１０００ｃＰ〜４０００ｃＰであっても良い。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は、処理液を被処理体に供給するにあたって、処理液を貯留する貯留室と処理液を吐出する吐出口とを処理液カートリッジとして一体化している。そして、この処理液カートリッジを待機させる待機部から被処理体側に当該処理液カートリッジを搬送して、この処理液カートリッジから被処理体に処理液を吐出している。そのため、吐出口と、貯留室内の処理液を押し出す押し出し部とを互いに近接させることができるので、長い管路の一端側に吐出口を配置して、この管路の他端側に配置したポンプにより処理液を押し出す構成と比べて、処理液が通流する部位を短縮できる。従って、圧力損失についても少なくなるので、装置の複雑化を抑えながら、処理液を速やかに吐出できる。また、処理液カートリッジの貯留室に処理液を補充する補充口について、吐出口とは別に設けていることから、処理液を貯留室に補充するにあたって当該吐出口の汚染を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の液供給装置を備えたレジスト塗布装置を示す斜視図である。
【図２】前記液供給装置を示す平面図である。
【図３】前記液供給装置に設けられるカートリッジを示す斜視図である。
【図４】前記カートリッジを示す縦断面図である。
【図５】前記カートリッジの作用を示す縦断面図である。
【図６】前記カートリッジの作用を示す縦断面図である。
【図７】前記カートリッジの作用を示す縦断面図である。
【図８】前記カートリッジにレジスト液を補充する補充機構を示す縦断面図である。
【図９】前記補充機構を示す斜視図である。
【図１０】前記補充機構の作用を示す縦断面図である。
【図１１】前記カートリッジを把持する機構を示す斜視図である。
【図１２】前記把持する機構及びカートリッジ内のレジスト液を吐出する機構を示す側面図である。
【図１３】前記吐出する機構の一部を示す斜視図である。
【図１４】前記液供給装置に設けられる制御部を示す概略図である。
【図１５】前記液供給装置の作用を示す側面図である。
【図１６】前記液供給装置の作用を示す側面図である。
【図１７】前記液供給装置の作用を示す側面図である。
【図１８】前記液供給装置の作用を示す側面図である。
【図１９】本発明の液供給装置の他の例を示す縦断面図である。
【図２０】前記他の例の液供給装置を示す縦断面図である。
【図２１】前記他の例における一部を拡大して示す縦断面図である。
【図２２】本発明の液供給装置の別の例を示す斜視図である。
【図２３】前記別の例における液供給装置のシーケンスを示すフロー図である。
【図２４】本発明の液供給装置の更に他の例を示す縦断面図である。
【図２５】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図２６】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図２７】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図２８】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図２９】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図３０】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図３１】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図３２】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【図３３】本発明の実施例にて得られた特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施の形態に係る液供給装置について、当該液供給装置を適用したレジスト塗布装置と共に図１〜図１４を参照して以下に説明する。このレジスト塗布装置は、被処理体をなす基板であるウエハＷを載置して処理液（レジスト液）の塗布処理を行う処理部１１と、レジスト液が貯留された処理液カートリッジをなすカートリッジ１２が置かれる待機部１３とを備えている。これら処理部１１と待機部１３との間には、後述するように、水平方向に移動自在に構成された搬送機構３０が設けられており、この搬送機構３０によって待機部１３からカートリッジ１２をウエハＷの直上位置に搬送して、当該ウエハＷにレジスト液を吐出するように構成されている。この例では、処理部１１は横並びに２箇所に設けられており、カートリッジ１２は複数例えば６つ配置されている。
【００１７】
図１に示すように、各々の処理部１１には、ウエハＷの裏面側を吸引保持するためのスピンチャック１４が設けられており、各スピンチャック１４は、図示しない回転機構によって鉛直軸周りに回転自在に構成されている。図１中１５はカップ体、１６はウエハＷを昇降させるための昇降ピンである。また、図１中１０は各処理部１１が配置された基部である。
【００１８】
待機部１３は、図１及び図２に示すように、概略箱型をなしており、既述の処理部１１の並びに対して直交する方向に６つのカートリッジ１２を載置するように構成されている。この待機部１３には、各カートリッジ１２に対してレジスト液を補充する機構や、各々のカートリッジ１２に貯留されているレジスト液の種別を読み出す部材が配置されているが、これら機構及び部材については後で説明する。尚、既述の図１では、搬送機構３０がカートリッジ１２を保持しており、従って待機部１３には５つのカートリッジ１２が載置されている。
【００１９】
続いて、待機部１３に載置されるカートリッジ１２について詳述する。このカートリッジ１２は、図３に示すように、概略薄板状をなしており、平面で見た時に既述の搬送機構３０の進退方向に沿って伸びるように形成されている。カートリッジ１２の上面側には、搬送機構３０によって把持される板状の被把持部１２ａが設けられており、この被把持部１２ａは、カートリッジ１２の上面に対して僅かに離間した位置にてカートリッジ１２に固定されている。この被把持部１２ａにおける下面（後述のアーム部５３に把持される部位）には、カートリッジ１２の位置決めのための図示しない突起部が設けられている。
【００２０】
カートリッジ１２の長手方向における一端側の下面には、レジスト液を吐出するための吐出口を備えたノズル２１と、当該カートリッジ１２の位置決めを行うための位置決め部材１２ｃとが設けられている。即ち、後述の図８にも示すように、待機部１３の表面には突起状の突起部１３ａが配置されており、位置決め部材１２ｃの下面は当該突起部１３ａに係合するように窪んでいる。カートリッジ１２の下面側の例えば中央部には、図４に示すように、当該カートリッジ１２に貯留されるレジスト液の種別を記録するための記憶部をなすＩＣチップ１２ｂが貼設されており、このＩＣチップ１２ｂには、このカートリッジ１２が正規品であるか否かの情報も記憶されている。
【００２１】
そして、カートリッジ１２の長手方向における他端側の側面には、当該カートリッジ１２内のレジスト液をノズル２１に向かって押し出すために、押し出し部（駆動軸部）をなすシャフト２２の先端部がカートリッジ１２の長さ方向に沿って伸び出している。即ち、カートリッジ１２内には、図４に示すように、レジスト液を貯留する貯留室２３が形成されており、貯留室２３とノズル２１との間には、これら貯留室２３とノズル２１内部の流路とを互いに連通させるための液通流路２４が形成されている。
【００２２】
貯留室２３の内壁面のうちシャフト２２側の内壁面を壁面部２５と呼ぶと、この壁面部２５は、貯留室２３の天井面、床面及び他の側面に対して各々離間するように形成されており、当該シャフト２２の基端部に接続されて進退自在に構成されている。壁面部２５の裏面（シャフト２２が接続された面）と、シャフト２２の挿入口である開口部２２ｃの周囲における貯留室２３の内壁面との間には、蛇腹状のベローズ体２６が当該シャフト２２の周方向に亘って気密に配置されている。言い換えると、貯留室２３の開口部２２ｃとベローズ体２６の開口部とが互いに連結されている。従って、シャフト２２がノズル２１側に前進すると、ベローズ体２６により囲まれる領域が貯留室２３内にて膨張（増大）するので、当該貯留室２３内のレジスト液が当該ノズル２１側に押し出される。
【００２３】
また、シャフト２２の外周面における基端部（壁面部２５側）に近接する部位には、当該外周面から突没自在に構成されたラッチ２７が規制機構として複数箇所例えば２箇所に形成されている。このラッチ２７は、貯留室２３内ではベローズ体２６に干渉しないように配置されると共に、シャフト２２の退出動作に伴って貯留室２３の外側に達すると、開口部２２ｃの縁部に係合して壁面部２５の位置を規制するように配置されている。
【００２４】
このシャフト２２の先端部には、円板状且つ中空の被係合部材２２ａが設けられており、この被係合部材２２ａにおけるシャフト２２とは反対側の側面には、後述の補充機構４６（詳しくは係合部４６ｅ）と係合するための細長い穴部２２ｂが形成されている。このシャフト２２を進退させる構成については、補充機構４６の説明と併せて後述する。
【００２５】
貯留室２３の下面には、当該貯留室２３内にレジスト液を補充するための補充口２８が形成されており、この補充口２８から伸びる流路にはレジスト液の逆流を防止するための逆流防止機構をなす逆止弁２９が配置されている。即ち、この逆止弁２９は、レジスト液が補充口２８側から貯留室２３内に向かうように、一方貯留室２３内から補充口２８側へはレジスト液が逆流しないように構成されている。
【００２６】
既述の液通流路２４には、当該液通流路２４の開閉を行うための逆流防止機構をなす開閉バルブ２４ａと、ノズル２１の先端から液を引き上げるための液だれ抑制機構をなすサックバックバルブ２４ｂとが貯留室２３側からノズル２１側に向かってこの順番で配置されている。これら開閉バルブ２４ａ及びサックバックバルブ２４ｂは、当該開閉バルブ２４ａ及びサックバックバルブ２４ｂの裏面側の領域に対して気体を流入したり、当該領域を排気（吸引）したりすることによって駆動するダイヤフラムバルブとして各々構成されている。具体的には、開閉バルブ２４ａの裏面側の領域に対して気体を供給すると、当該開閉バルブ２４ａが液通流路２４を閉止し、一方開閉バルブ２４ａの裏面側の領域を負圧に設定する（吸引する）と液通流路２４をレジスト液が通流する。
【００２７】
また、サックバックバルブ２４ｂの裏面側の領域に対して気体を供給すると、当該サックバックバルブ２４ｂが液通流路２４の内面に沿うように位置する。一方、サックバックバルブ２４ｂの裏面側の領域を吸引すると、サックバックバルブ２４ｂが液通流路２４から後退して、当該液通流路２４内のレジスト液をサックバックバルブ２４ｂ側に引き込む。尚、これら開閉バルブ２４ａ及びサックバックバルブ２４ｂに対して気体の供給や排気を行う気体通流路については、アーム部５３側に設けられていて、アーム部５３へのカートリッジ１２の着脱に伴って接続及び解除されるように構成されているが、ここでは説明を簡略化している。
【００２８】
従って、以上説明したカートリッジ１２は、図５に示すように、開閉バルブ２４ａを開放して、シャフト２２をノズル２１側に前進させると、当該ノズル２１からレジスト液が吐出される。このレジスト液の吐出量は、シャフト２２の前進量（シャフト２２の位置）に基づいて設定される。即ち、シャフト２２が前進すると、既述のようにベローズ体２６で囲まれる領域の体積が貯留室２３内で増大するので、当該領域の増大量とシャフト２２の位置とを予め実験などにより把握しておくことにより、シャフト２２の位置を介してレジスト液の吐出量が設定される。そして、図６に示すように、レジスト液の吐出処理が完了した後、サックバックバルブ２４ｂを液通流路２４側から後退させると、ノズル２１の先端側から液が引き上げられる。
【００２９】
一方、図７に示すように、開閉バルブ２４ａを閉止して、シャフト２２を後退させると、逆止弁２９が開放されて、待機部１３に設けられた処理液補充路４１及び補充口２８を介して、レジスト液が貯留室２３内に補充される。また、シャフト２２を更に後退させてラッチ２７をカートリッジ１２の外側に退避させると、当該ラッチ２７がシャフト２２の開口部２２ｃの縁部に係合して、貯留室２３内にレジスト液が充填された状態（満状態）にてシャフト２２の位置が規制される。尚、図５〜図７では、カートリッジ１２を簡略化して描画している。
【００３０】
既述の待機部１３は、以上説明したカートリッジ１２にレジスト液を補充すると共に、ＩＣチップ１２ｂに記憶された情報を読み出すように、更にはノズル２１の洗浄を行うように構成されている。具体的には、待機部１３の上面には、カートリッジ１２の待機領域３１が横並びに６箇所形成されており、各々の待機領域３１におけるノズル２１の下方側には、図８に示すように、凹部３２が形成されている。尚、図８では、カートリッジ１２について、簡略化すると共に一部切り欠いて描画している。
【００３１】
即ち、この凹部３２は、ノズル２１の外径寸法よりも一回り大きくなるように形成されている。そして、この凹部３２の内壁面には、ノズル２１の先端部に対して洗浄液や乾燥防止のための気体を供給するための供給管３３の先端部が開口している。図８中３４及び３５は、夫々バルブ及び流量調整部であり、この例では前記洗浄液及び気体として夫々液体状のシンナー及び気体状のシンナーが供給できるように各供給源３６ａ、３６ｂから伸びる供給路３７に介設されている。この凹部３２の下面側は、排液路３８として下方側に向かって管状に伸び出している。
【００３２】
凹部３２の側方側には、カートリッジ１２の位置決め部材１２ｃと係合する突起部１３ａが形成されている。従って、位置決め部材１２ｃと突起部１３ａとを互いに係合させると、待機領域３１におけるカートリッジ１２が位置決めされるので、シャフト２２を前後動させても、カートリッジ１２が位置ずれしない。尚、この突起部１３ａは、複数箇所に形成されているが、ここでは記載を簡略化している。
【００３３】
待機領域３１における逆止弁２９に対応する部位は、当該逆止弁２９に対向するように上方側に向かって突出して突出部４０をなしている。この突出部４０の上面には、カートリッジ１２にレジスト液を補充するための処理液補充路４１の一端側が開口しており、この処理液補充路４１の開口端は、平面で見た時に補充口２８と互いに重なり合う位置に形成されている。突出部４０には、処理液補充路４１の開口端の周囲を囲むようにＯ−リングなどのシール部材４０ａが埋設されており、カートリッジ１２にレジスト液を補充する時は、当該シール部材４０ａによって処理液補充路４１とカートリッジ１２（逆止弁２９）とが互いに気密に接続される。処理液補充路４１の他端側は、待機部１３の下方位置にて、例えば送液ポンプ４２を介してレジスト液が貯留された貯留部４３に接続されている。この送液ポンプ４２は、カートリッジ１２にレジスト液を補充する時は、当該送液ポンプ４２内におけるレジスト液の流路への干渉を停止して、レジスト液が当該流路を自由に通流するように、一方レジスト液の補充が完了すると、当該レジスト液の液面の高さ位置を突出部４０の上面にて維持するように構成されている。即ち、この送液ポンプ４２は、処理液補充路４１の内部を介してカートリッジ１２内に気泡ができるだけ入り込まないように、レジスト液の液面レベルが下がらないようにするためのものである。また、処理液補充路４１におけるレジスト液の逆流（下降）を防止するにあたって、このような送液ポンプ４２に代えて、逆止弁を設けても良い。
【００３４】
また、待機領域３１には、カートリッジ１２のＩＣチップ１２ｂに記憶された情報を例えば非接触にて読み出すための読み出し部４４が形成されており、この読み出し部４４にて読み出された情報は、例えば待機部１３の内部を引き回された図示しない信号路を介して後述の制御部７１に伝達される。
【００３５】
待機領域３１の側方側には、当該待機領域３１に載置されるカートリッジ１２のシャフト２２に対向するように補充機構４６が配置されており、この補充機構４６は、当該シャフト２２の伸びる方向に沿って配置されたレール４５上を進退自在に構成されている。具体的には、補充機構４６は、レール４５上を走行する基台４６ａと、この基台４６ａ上にて鉛直方向に伸び出す支持柱４６ｂと、当該支持柱４６ｂにより支持される回転機構４６ｃとを備えている。この回転機構４６ｃにおけるカートリッジ１２側の側面には、シャフト２２の長さ方向に沿って水平に伸びる回転軸（駆動機構）４６ｄの基端部が接続されており、この回転軸４６ｄは、待機領域３１上のカートリッジ１２におけるシャフト２２と同じ高さ位置にて水平軸周りに回転できるように構成されている。
【００３６】
回転軸４６ｄの先端部（カートリッジ１２側の端部）には、図９に示すように、回転軸４６ｄの長さ方向に対して直交する方向に伸びる棒状の係合部４６ｅが設けられており、この係合部４６ｅは、当該係合部４６ｅの長さ方向における中心部を回転機構４６ｃに支持されている。係合部４６ｅは、この係合部４６ｅに対向するシャフト２２の被係合部材２２ａにおける穴部２２ｂよりも一回り小さくなるように形成されている。従って、穴部２２ｂ内に係合部４６ｅが収納されるように当該係合部４６ｅ（補充機構４６）をシャフト２２側に前進させた後、この係合部４６ｅを水平軸周りに例えば９０°回転させることにより、これら係合部４６ｅと被係合部材２２ａとが互いに係合する。こうして補充機構４６を前後に移動させることにより、図１０に示すように、補充機構４６と共にシャフト２２が前後動する。尚、図１０は、シャフト２２をカートリッジ１２から引き切った状態を示しており、従ってカートリッジ１２内にはレジスト液が満たされている。
【００３７】
以上説明した待機部１３の近傍には、溶剤を貯留する図示しない液溜まりが形成されており、この液溜まりに貯留された溶剤が揮発することにより、カートリッジ１２が置かれる空間に溶剤雰囲気を形成するように構成されている。この溶剤雰囲気により、待機部１３に載置されたカートリッジ１２のノズル２１（詳しくはノズル２１の先端内部のレジスト液）の乾燥が抑制される。
【００３８】
続いて、処理部１１と待機部１３との間にてカートリッジ１２の受け渡しを行う搬送機構３０について説明する。基部１０上には、既述の図１及び図２に示すように、処理部１１の並びに沿ってレール５０が形成されており、このレール５０は、既述の待機部１３及び処理部１１の配置された領域に対して当該基部１０の端部側に寄った位置にて、各処理部１１を臨む位置から待機部１３の側方側までに亘って伸び出している。そして、搬送機構３０は、図１及び図２に示すように、このレール５０上を走行するように構成されると共に上下方向に伸びる基台５１と、この基台５１の長さ方向に沿って形成された図示しないガイド部に嵌合して昇降する梁部５２とを備えている。この梁部５２は、レール５０の長さ方向に対して直交するように水平方向に伸び出しており、待機部１３におけるレール５０側の待機領域３１から、処理部１１におけるウエハＷの中心位置までを跨ぐように形成されている。この梁部５２における待機部１３側の側面には、当該梁部５２の長さ方向に沿って移動自在に構成されたアーム部５３が設けられている。
【００３９】
このアーム部５３の先端部における下面側には、図１１に示すように、カートリッジ１２を左右方向（梁部５２の長さ方向に沿って伸びる方向）両側から把持する把持部５４が設けられている。即ち、この把持部５４は、モータなどの把持機構が収納された板状体５４ａの下面側に設けられており、前記把持機構により、カートリッジ１２の被把持部１２ａを下方側からすくい上げる位置と、当該被把持部１２ａから離間する位置との間で各々左右方向に移動自在に構成されている。把持部５４において被把持部１２ａに接触する部位（水平部の上面）には、当該被把持部１２ａにおける図示しない突起部と係合する凹部が形成されている。従って、把持部５４にカートリッジ１２が把持されると、当該カートリッジ１２は、アーム部５３に対する位置が固定される。尚、前記板状体５４ａに収納される既述の把持機構については、記載を省略している。
【００４０】
この把持部５４に対して梁部５２側に離間した位置におけるアーム部５３の下面側には、当該把持部５４に保持されたカートリッジ１２のシャフト２２をノズル２１側に前進させる作動機構５５が配置されている。具体的には、作動機構５５は、図１２に示すように、既述の補充機構４６を上下反転させた構成となっており、シャフト２２の長さ方向に沿ってアーム部５３の下面に形成されたレール５６を走行自在に構成されている。この作動機構５５は、基台５５ａ、支持柱５５ｂ、回転機構５５ｃ、回転軸（駆動機構）５５ｄ及び係合部５５ｅを備えている。回転機構５５ｃは、回転軸５５ｄをシャフト２２の長さ方向に沿って水平軸周りに回転自在に支持している。回転軸５５ｄは、アーム部５３により支持されるカートリッジ１２のシャフト２２と同じ高さ位置となるように配置されている。従って、待機部１３の補充機構４６と同様に、係合部５５ｅを穴部２２ｂ内に挿入して、この係合部５５ｅを水平軸周りに例えば９０°回転させることにより、シャフト２２を保持して前後動させるように構成されている。
【００４１】
そして、作動機構５５と把持部５４との間には、シャフト２２のラッチ２７を解除するための解除機構５８が設けられている。この解除機構５８は、図１３に示すように、作動機構５５と同様にレール５６に沿って移動する台座５８ａと、この台座５８ａの下面側からシャフト２２の両側位置を挟むように下方側に各々伸び出す進退部５８ｂ、５８ｂとを備えている。これら進退部５８ｂ、５８ｂは、台座５８ａ側に設けられた図示しない駆動機構により、左右方向（シャフト２２の長さ方向に対して直交する方向）に移動自在に構成されている。従って、把持部５４によりカートリッジ１２を保持すると共に、カートリッジ１２のシャフト２２を作動機構５５により支持した後、進退部５８ｂ、５８ｂをシャフト２２側に移動させてラッチ２７によるロックを解除すると、シャフト２２がノズル２１側に移動可能になる。また、進退部５８ｂ、５８ｂは、ラッチ２７のロックを解除した後は、作動機構５５の前進動作に干渉しないように、シャフト２２側から離間した位置まで移動させることにより、カートリッジ１２を左右方向から挟むようにノズル２１側に退避できるように構成されている。
【００４２】
把持部５４に対して例えば梁部５２の長さ方向に離間した位置におけるアーム部５３の下面側には、既述の図１に示すように、後述のプリウェット処理を行うために、ウエハＷに対してシンナーなどの溶剤を吐出するための溶剤ノズル６１が設けられている。この溶剤ノズル６１には、既述の図１に示すように、例えばフレキシブル状（蛇腹状）の液供給路６２を介して、溶剤の貯留された貯留部６３が設けられている。
【００４３】
以上説明した液供給装置には、図１４に示すように、装置全体に対して制御信号を出力する制御部７１が設けられており、この制御部７１は、ＣＰＵ７２、プログラム格納部７３、入力部７４、メモリ７５及び表示部７６を備えている。プログラム格納部７３には、レジスト液をウエハＷに吐出する吐出プログラム７３ａと、カートリッジ１２にレジスト液を補充する液補充プログラム７３ｂと、カートリッジ１２を選択するカートリッジ選択プログラム７３ｃと、真偽判定プログラム７３ｄとが格納されている。
【００４４】
入力部７４は、例えば装置の立ち上げ時などにおいて、カートリッジ１２の使用を開始する時、当該カートリッジ１２に貯留されているレジスト液の種別を作業者が入力するためのものであり、具体的にはパソコンのキーボードやマウスなどである。メモリ７５は、待機部１３に載置される夫々のカートリッジ１２の番号（ＩＣチップ１２ｂの識別番号）と、入力部７４に入力されたレジスト液の種別とを対応付けて記憶するためのものであり、各々のカートリッジ１２の残液量についてもレジスト液の種別と共に記憶されるように構成されている。
【００４５】
即ち、６つのカートリッジ１２のうち一のカートリッジ１２をレジスト液の吐出処理に使用すると、レジスト液の使用量（シャフト２２の移動量に対応する量）が分かるので、このメモリ７５には、当該一のカートリッジ１２の使用を開始した時の液量から使用量を差し引いた残液量が記憶されるように構成されている。そして、以下に説明する液補充プログラム７３ｂによってカートリッジ１２にレジスト液が補充されると、レジスト液の使用量が例えばリセットされて、残液量が満状態となる。
【００４６】
図１４では、６つのカートリッジ１２のうち、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３までのカートリッジ１２には「レジスト１」が貯留され、Ｎｏ．４、Ｎｏ．５のカートリッジ１２には、当該レジスト１とは種別の異なる「レジスト２」が貯留されているものとする。また、Ｎｏ．６のカートリッジ１２には、これらレジスト１、２とは種別の異なる「レジスト３」が貯留されている。そして、これらレジスト１〜３は、レジスト３＜レジスト２＜レジスト１の順番で粘度が高くなっている（レジスト１が最も粘度が高い）。
【００４７】
また、Ｎｏ．１、Ｎｏ．６のカートリッジ１２はレジスト液の補充が完了して使用量がゼロの状態になっていて、ＮＯ．２のカートリッジ１２についてはこの時点でウエハＷへのレジスト液の吐出処理に使用している（待機部１３には載置されておらず、従ってＩＣチップ１２ｂの読み取りができない状態となっている）ものとする。Ｎｏ．３、Ｎｏ．４のカートリッジ１２については、既にレジスト液の残量が少なくなっていて、待機部１３においてレジスト液の補充工程が行われている。Ｎｏ．５のカートリッジ１２については、当該カートリッジ１２の使用前と比べて残液量が減っていて、例えば１００ｍｌのレジスト液が残っているものとする。
【００４８】
既述の吐出プログラム７３ａは、ウエハＷに形成するレジスト膜の種別及び膜厚に応じて、使用するレジスト液の種別、レジスト液の吐出量、ウエハＷの回転数及びウエハＷの回転を維持する処理時間などのレシピに基づいて、ウエハＷの搬送やレジスト液の吐出作業を行うためのものである。液補充プログラム７３ｂは、カートリッジ１２の使用開始時からの残液量をモニター（計算）して、例えば任意の残液量を下回った時に、当該残液量をしきい値として待機部１３での補充工程を行うように構成されている。カートリッジ１２にレジスト液を補充している時には、この補充に要する時間が予め例えば実験などにより分かるので、レジスト液の補充が終わるまで、当該カートリッジ１２は使用不可の状態になり、例えば既述のメモリ７５には「補充中」なる情報が記憶される。
【００４９】
カートリッジ選択プログラム７３ｃは、レジスト液の吐出処理に使用するカートリッジ１２（アーム部５３が保持して搬送しようとするカートリッジ１２）を選択するためのものである。即ち、既に詳述したように、カートリッジ１２は、レジスト液が補充されている時は使用不可の状態になっているので、当該カートリッジ１２を後続の処理に使用する場合には、レジスト液の補充が完了するまでアーム部５３が待機することになる。アーム部５３を待機させると、装置のスループットの低下に繋がってしまう。そして、レジスト液の粘度が高い程、抵抗が大きくなると共に発泡しやすくなり、従って当該レジスト液を送液しにくくなるので、補充が完了するまでの待ち時間も長くなる。
【００５０】
そこで、本発明では、６つのカートリッジ１２のうち、３つのカートリッジ１２を粘度が最も高いレジスト１に割り当てて、次いで粘度の高いレジスト２に２つのカートリッジ１２を割り当てている。そして、レジスト１（２）の吐出を行う時に、当該レジスト１（２）用のカートリッジ１２が補充中の場合には、当該補充中のカートリッジ１２を避けて、別の使用可能な（レジスト１（２）が残っている）カートリッジ１２を選択するようにしている。
【００５１】
具体的には、既述の図１４に示したように、レジスト２を使用したい場合には、レジスト２用のカートリッジ１２のうちＮｏ．４のカートリッジ１２は充填中（使用不可）となっていて、一方Ｎｏ．５のカートリッジ１２にはレジスト２がまだ残っている。従って、カートリッジ選択プログラム７３ｃは、使用不可のカートリッジ１２を避けて、当該使用不可のカートリッジ１２と同じ種別のレジスト液が充填されたカートリッジ１２を使用するように、搬送機構３０に対して指示を行う。
【００５２】
真偽判定プログラム７３ｄは、待機部１３に載置されたカートリッジ１２が正規品であるか、あるいは改造品や模造品であるか判定するためのものである。即ち、ＩＣチップ１２ｂが設けられていないカートリッジ１２を待機部１３に置くと、当該カートリッジ１２からはレジスト液の種別を読み取ることができないので、このカートリッジ１２が置かれた待機領域３１ではカートリッジ１２が載置されていないものと取り扱われる。
【００５３】
一方、模造品のＩＣチップ１２ｂがカートリッジ１２に設けられていた場合には、このＩＣチップ１２ｂにはカートリッジ１２が正規品である旨の情報が記憶されていない。このようなカートリッジ１２が待機領域３１に載置された場合には、真偽判定プログラム７３ｄは、例えば改造品あるいは模造品のカートリッジ１２の使用を中止する旨の警告を既述の表示部７６に表示して、当該警告が表示されなくなるまで装置が停止するように制御信号を出力する。以上説明した各プログラム７３ａ〜７３ｄは、後述の装置の動作を実行するようにステップ群が組まれており、ハードディスク、コンパクトディスク、光磁気ディスク、メモリカード、フレキシブルディスクなどの記憶媒体である記憶部７７から制御部７１内にインストールされる。
【００５４】
続いて、液供給装置の作用について説明する。先ず、例えば装置を立ち上げる時には、レジスト液が各々充填されたカートリッジ１２を待機部１３に例えば作業者が載置すると共に、各待機部１３の貯留部４３についても対応するレジスト液を貯留する。各々のカートリッジ１２は、シャフト２２がノズル２１側から離間した位置にてラッチ２７により移動を規制されている。待機部１３では、各補充機構４６は、各々のカートリッジ１２から離間した位置にて待機している。また、待機部１３では、レジスト液の補充を行う時、カートリッジ１２内に空気が混入することを抑制するために、レジスト液の液面が突出部４０に達しているように、送液ポンプ４２を予め駆動しておく。そして、入力部７４を介して、各カートリッジ１２内のレジスト液の種別を作業者が入力する。メモリ７５には、各々のカートリッジ１２のＩＣチップ１２ｂの識別番号と、レジスト液の種別とが対応付けて記憶されると共に、いずれのカートリッジ１２についてもレジスト液が満たされている旨記憶される。
【００５５】
次いで、図示しない搬送アームにより、スピンチャック１４上にウエハＷを保持する。そして、搬送機構３０は、このウエハＷに形成するレジスト膜の種別に応じて、言い換えるとレシピに応じて、使用するレジスト液が貯留されたカートリッジ１２に向かって移動する。この搬送機構３０は、図１５に示すように、作動機構５５が前記カートリッジ１２のシャフト２２に干渉しないように、当該シャフト２２に対して手前側の位置にてアーム部５３を停止させる。そして、アーム部５３は、図１６に示すように、カートリッジ１２を把持できる高さ位置まで下降した後、当該把持部５４がカートリッジ１２の被把持部１２ａに対向する位置まで前進して、把持部５４によりカートリッジ１２を把持すると共に、作動機構５５を前進させて、シャフト２２を固定する。
【００５６】
従って、その後アーム部５３が上昇すると、図１７に示すように、カートリッジ１２が待機部１３から持ち上げられる。そして、搬送機構３０は、ウエハＷが保持された既述の処理部１１にこのカートリッジ１２を搬送して、溶剤ノズル６１が当該ウエハＷの中心部に対向するように位置決めする。次いで、ウエハＷを鉛直軸周りに回転させながら、溶剤をウエハＷ上に供給して、ウエハＷの表面を溶剤で被覆する、いわゆるプリウェット処理を行う。
【００５７】
続いて、図１８に示すように、カートリッジ１２のノズル２１がウエハＷの中心部に対向するようにアーム部５３を移動させると共に、ラッチ２７のロックを解除した後、作動機構５５によりシャフト２２を前進させて、当該ウエハＷの表面にレジスト液を吐出する。ウエハＷの表面では、プリウェット処理の溶剤が既に塗布されているので、レジスト液とこの溶剤とが互いに混ざり合って、レジスト液が当該ウエハＷの表面に均一に塗布される。必要量のレジスト液がウエハＷに吐出されると、作動機構５５が停止して壁面部２５の位置が規制されると共に、サックバックバルブ２４ｂによりレジスト液がノズル２１の吐出口から引き上げられるので、余分なレジスト液は吐出されない。
【００５８】
こうしてレジスト膜が塗布されたウエハＷは、図示しない搬送アームにより処理部１１から搬出されていく。次いで、別の未処理のウエハＷがこの処理部１１に搬送されて、この未処理のウエハＷのレシピと先のウエハＷのレシピとが同じ場合（同じ種別のレジスト液が塗布される場合）には、アーム部５３が既に保持しているカートリッジ１２を用いて、既述のようにレジスト液が塗布される。
【００５９】
ここで、レジスト液の種別を切り替える場合には、以下のようにしてカートリッジ１２の交換が行われる。即ち、開閉バルブ２４ａを閉じた後、アーム部５３は、当該アーム部５３が保持しているカートリッジ１２については、このカートリッジ１２の取り出し順序と逆の順序で、元の待機領域３１に戻す。具体的には、カートリッジ１２が待機領域３１の上方側に位置するように搬送機構３０を移動させて、カートリッジ１２の下面を待機領域３１に接触させた後、作動機構５５によるシャフト２２の支持及び把持部５４によるカートリッジ１２の把持を解除する。
【００６０】
次いで、作動機構５５とシャフト２２とが干渉しない位置までアーム部５３を後退させた後、アーム部５３を上昇させると、カートリッジ１２は待機領域３１に置かれたままとなる。待機領域３１に戻されたカートリッジ１２では、壁面部２５がノズル２１側に位置しており、従ってベローズ体２６の復元力によりシャフト２２側に戻ろうとする。即ち、逆止弁２９を介して大気をカートリッジ１２内に引き込もうとする。しかしながら、逆止弁２９の下方側には突出部４０が気密に接触しており、大気はほとんどあるいは全くカートリッジ１２内に引き込まれない。
【００６１】
そして、次に使用するカートリッジ１２の上方側にアーム部５３を移動させて、先のカートリッジ１２と同様に待機領域３１から持ち上げて、以上説明した処理と同様にレジスト液の塗布処理を行う。このように次に使用するカートリッジ１２を選択するにあたって、既述のように、当該次に使用するカートリッジ１２がレジスト液の補充を行っていて使用できない場合には、アーム部５３は、以下のように動作する。
【００６２】
具体的には、次に使用するレジスト液と同じ種別のレジスト液が貯留された別のカートリッジ１２が待機部１３に載置されている場合（次に使用するレジスト液がレジスト１またはレジスト２の場合）には、使用不可のカートリッジ１２ではなく、使用可能なカートリッジ１２をアーム部５３が取り出す。一方、前記使用するカートリッジ１２がレジスト液の補充中であり、同じ種別のカートリッジ１２が待機部１３に載置されていない（レジスト３を使用する）場合には、アーム部５３は当該レジスト３の補充が完了するまで例えば待機領域３１の上方位置にて待機する。
【００６３】
ここで、使用済みのカートリッジ１２が戻された待機部１３では、ノズル２１に対して液体状のシンナーが供給されて、当該ノズル２１の洗浄が行われる。また、既述の溶剤雰囲気により、待機部１３に載置されたカートリッジ１２におけるノズル２１内の乾燥が抑制される。そして、待機部１３では、既に詳述したように、当該ＩＣチップ１２ｂの識別番号から残液量を計算して、この残液量が例えば任意のしきい値以下となっている場合には、レジスト液の補充を行う。即ち、補充機構４６をカートリッジ１２側に前進させて、既述の図１０に示したように、シャフト２２を保持する。
【００６４】
そして、このシャフト２２を後退させると、カートリッジ１２の逆止弁２９と処理液補充路４１とがシール部材４０ａによって気密に接続されているので、また開閉バルブ２４ａが閉じられているので、図１０に示したように、処理液補充路４１からレジスト液が引き上げられて、貯留室２３内がレジスト液で満たされていく。こうしてカートリッジ１２における開口部２２ｃの縁部にラッチ２７が係合するまで当該シャフト２２を後退させると、カートリッジ１２へのレジスト液の充填が完了する。レジスト液の充填が完了すると、補充機構４６は、アーム部５３によるカートリッジ１２の取り出し動作に干渉しない位置まで退避（後退）する。
【００６５】
以上のようにして使用するレジスト液を種々取り替えながら、またカートリッジ１２内のレジスト液の補充を行いながら、複数のウエハＷの各々のレシピに応じてレジスト膜の塗布処理を行う。尚、アーム部５３が例えばレジスト１またはレジスト２のカートリッジ１２を保持していて、そのまま当該レジスト１またはレジスト２の塗布処理を継続する場合に、カートリッジ１２の残液量が不足してきた時には、以上説明した動作と同様にカートリッジ１２が交換される。具体的には、アーム部５３は、使用済みのカートリッジ１２を元の待機領域３１に戻した後、同じ種別のカートリッジ１２を取り出して、後続のウエハＷに対して処理を行う。そして、空になったカートリッジ１２は、既述のようにレジスト液が補充される。
【００６６】
上述の実施の形態では、レジスト液が貯留された貯留室２３と当該レジスト液を吐出するノズル２１とをカートリッジ１２として一体化すると共に、待機部１３からカートリッジ１２をウエハＷの直上位置に搬送して、このカートリッジ１２からレジスト液を直接吐出している。そして、カートリッジ１２にレジスト液を補充する補充口２８について、レジスト液を吐出するノズル２１とは別に設けている。そのため、レジスト液をカートリッジ１２に補充する時、ノズル２１の汚染を抑制できる。即ち、高粘度の処理液は、ノズル２１の外表面に付着すると、例えばシンナーなどの溶剤を当該ノズル２１に吐出しただけでは除去し難い。そのため、高粘度の処理液をノズル２１から補充すると、言い換えるとレジスト液の吐出口と補充口とを共通化すると、補充工程を終えた後、例えば作業者による拭き取り作業などが必要になるため、工数アップやスループットの低下に繋がってしまう。これに対して本発明では、レジスト液の吐出口（ノズル２１）とは別に補充口２８を設けているので、ノズル２１の汚染を抑えることができ、従ってスループットの低下を抑制できる。
【００６７】
また、処理液（レジスト液）を押し出す作動機構５５について、ノズル２１から伸びる長い管路の末端に設ける代わりに、ノズル２１に近接させて、ノズル２１を保持するアーム部５３に一体的に設けている。そのため、本発明ではいわば配管レスでレジスト液を吐出することができるので、それ程吐出能力が高くない構成（作動機構５５）であっても、高い吐出レートを確保できる。具体的な数値を挙げると、レジスト液の粘度が１００００ｃＰ、薬液の吐出速度が２ｍｌ／ｓ、ノズル２１の内径寸法及び長さ寸法が夫々φ４．５ｍｍ及び５０ｍｍの場合には、ノズル２１からレジスト液を吐出するにあたっての圧力損失は０．１ＭＰａとなり、長い配管を設けた場合よりも極めて小さくなる。従って、直径寸法が４００ｍｍもの大きさのウエハＷであっても、あるいは１０００ｃＰを越えるような高粘度（１０００ｃＰ〜４０００ｃＰ）のレジスト液（処理液）であっても、装置の複雑化を抑えながら、レジスト液を速やかに吐出できる。
【００６８】
また、複数のレジスト液の種別毎に配管やポンプを設けた従来の構成と比べて、ポンプをいわば集約してこれらレジスト液にて共通化しているので、装置の低廉化を図ることができる。更に、配管レスの構成を採ることにより、装置の各部材のレイアウトの自由度を高めることができ、またレジスト液が配管からリークすることを抑制できる。
【００６９】
そして、カートリッジ１２にレジスト液を補充する構成について、レジスト液を吐出する部材（作動機構５５）とは別に補充機構４６として設けている。更に、高粘度のレジスト液（レジスト１、２）についてはカートリッジ１２を複数配置している。そのため、レジスト液を補充している間であっても、レジスト液の吐出処理を行うことができるので、レジスト液の補充が完了するまで処理を中断しなくて済む。また、レジスト液が発泡するおそれがないレベルまで、当該レジスト液の補充速度を遅く設定できる。従って、レジスト液の吐出と補充とを１つのポンプで行う場合と比べて、泡抜き工程を削減（または低減）できるので、スループットを更に改善することができ、また泡抜き工程に伴うレジスト液の廃棄量を削減できる。
【００７０】
更に、レジスト液の管路を長く引き回す場合と比べて、作動機構５５とノズル２１との間においてレジスト液が接触する部位（カートリッジ１２内部の流路）を石英などの発塵しにくい清浄部材により構成して、パーティクルの影響などを極めて低減した配管を形成できる。即ち、前記清浄部材は高価であるため、長い管路には適用しにくいが、既述のように配管レスの構成であれば、現実的なコストにて清浄部材を使用できる。
また、レジスト液が触れる部位が少なくて済むことから、当該部位の洗浄性を高めることができる。従って、ポリイミドなどの固化しやすい処理液を用いる場合や、カートリッジ１２を長期間に亘って使用しない場合であっても、清掃を簡単に行うことができる。そのため、装置の再立ち上げも容易に行うことができる。更に、レジスト液が触れている部位が小さく抑えられていることから、低コストで当該部位全体を交換できる。
【００７１】
そして、カートリッジ１２にレジスト液を補充する図示しない補充治具（処理液補充路４１及び補充機構４６を備えた治具）を使用する場合には、装置の自由度を高めることができる。即ち、この補充治具を用いてカートリッジ１２に評価（テスト）用のレジスト液を充填することにより、待機部１３側には当該評価用のレジスト液を通流させる必要がないため、この評価用のレジスト液の評価を簡便に行うことができる。
【００７２】
続いて、本発明の他の例について説明する。図１９は、アーム部５３においてシャフト２２を前進させる構成として、機械的に駆動する既述の作動機構５５に代えて、気体を用いて当該シャフト２２を駆動する機構が設けられている。具体的には、図１９に示すように、この例ではカートリッジ１２にはシャフト２２が設けられておらず、壁面部２５の背面側には貯留室２３に対して気密に区画された広い空間２５ａが広がっている。そして、アーム部５３の下面側には、この空間２５ａに対して気体（例えば窒素ガスや大気）を流入させたり排気したりするための筐体８１が設けられており、この筐体８１の内部は中空となっている。
【００７３】
この筐体８１におけるカートリッジ１２側の側面部と下面部とには、当該筐体８１の内部に連通する開口部８３が各々形成されている。そして、カートリッジ１２側の開口部８３の周囲には、Ｏ−リングなどのシール部材８４が設けられており、カートリッジ１２の外壁面と筐体８１の外壁面とを気密に接続するように構成されている。
【００７４】
筐体８１におけるカートリッジ１２に対向する壁面には、前記気体を供給するためのガス供給機構をなす供給管８５の一端側が接続されており、この供給管８５の他端側はバルブ８５ａおよび流量調整部８５ｂを介して気体の貯留源８５ｃに接続されている。また、筐体８１の下面側の開口部８３には、真空ポンプなどの排気機構８６に向かって伸び出す排気路８６ａの一端側が接続されており、この排気路８６ａにはバタフライバルブなどの圧力調整部８６ｂが介設されている。従って、供給管８５から気体を空間２５ａに供給すると壁面部２５が前進し、一方当該空間２５ａを排気すると、壁面部２５が後退する。こうして空間２５ａへの気体の供給と排気とのバランスによって、ノズル２１からレジスト液を吐出した後、壁面部２５の前後動を停止できるように構成されている。
【００７５】
待機部１３側についても、同様に気体を用いて壁面部２５を後退させるように構成されており、具体的には図２０に示すように、補充機構４６に代えて、カートリッジ１２側の側面が開口する概略箱型の筐体９１が設けられている。この筐体９１の開口部の周囲には、Ｏ−リングなどのシール部材９２が設けられており、カートリッジ１２と筐体９１とを気密に接続するように構成されている。
【００７６】
筐体９１の外壁面におけるカートリッジ１２とは反対側の側面には、当該筐体９１の内部を排気するための吸引機構をなす排気路９３の一端側が接続されており、この排気路９３の他端側には、圧力調整部９４を介して排気機構９５が接続されている。この排気機構９５を用いて筐体９１の内部を排気することにより、同様に空間２５ａを介して壁面部２５を後退させるように構成されている。また、この筐体９１には、当該筐体９１をカートリッジ１２側から離間させるためのバネなどからなる図示しない付勢機構が設けられており、排気機構９５による排気を解除すると、筐体９１は、当該付勢機構の付勢力によってカートリッジ１２側から離れる。一方、排気機構９５による排気を開始すると、筐体９１の内部に外気が引き込まれるように気流が形成されると共に、この気流によって当該筐体９１とカートリッジ１２との間に負圧が発生して、筐体９１は、この負圧によりカートリッジ１２側に移動して当該カートリッジ１２に気密に接触する。
【００７７】
また、図１９及び図２０では説明の煩雑化を避けるために省略しているが、カートリッジ１２には壁面部２５の移動を規制するためのロック機構１００が設けられており、筐体８１、９１には、当該ロック機構１００によるロックを解除するための解除機構１０１が各々設けられている。具体的には、図２１に示すように、カートリッジ１２の開口部２２ｃには、当該カートリッジ１２の長さ方向に沿って伸びる筒状体１０３が気密に挿入されている。この筒状体１０３の長さ方向における両端部のうち壁面部２５に対向する一端側の端部は、開口部２２ｃの縁部に沿って形成されていて、当該開口部２２ｃと同程度の開口径にて開口している。一方、筒状体１０３の長さ方向におけるカートリッジ１２の外側領域を臨む他端側の端部は、開口部２２ｃよりも小さい開口径にて開口している。
【００７８】
この筒状体１０３の内部には、当該筒状体１０３の長さ方向に沿って進退自在に構成されたベローズ体１０４が収納されており、このベローズ体１０４は、当該長さ方向に沿って伸び出すように付勢されている。また、ベローズ体１０４における壁面部２５側の端部は、筒状体１０３の内周面に周方向に亘って気密に固定されている。一方、ベローズ体１０４における壁面部２５とは反対側の端部には、ベローズ体１０４の伸縮に伴って進退自在な円板状の封止部材１０５が接続されている。この封止部材１０５は、筒状体１０３における前記他端側の端部（カートリッジ１２の外側を臨む端部）に気密に接触する位置と、当該接触する位置から壁面部２５側に離れた位置との間で進退するように構成されている。従って、ベローズ体１０４や封止部材１０５に外力を加えていない状態では、封止部材１０５と筒状体１０３とが気密に接触するので、空間２５ａが外部から隔離されて、壁面部２５の移動が規制される。一方、封止部材１０５をノズル２１側に離間させると、空間２５ａとカートリッジ１２の外部とが連通して、当該空間２５ａに対して気体を供給したり排気したりすることが可能となる。
【００７９】
そして、筐体８１（９１）のシール部材８４（９２）は、図２１に示すように、カートリッジ１２に対してベローズ体１１１により進退自在に気密に接続されている。即ち、筐体８１（９１）におけるカートリッジ１２側の側面には、ベローズ体１１１の一端側が気密に固定されており、このベローズ体１１１の他端側は、シール部材８４（９２）が埋設されたリング状部材１１０に気密に接続されている。ベローズ体１１１により囲まれる領域には、筐体８１（９１）からカートリッジ１２側に向かって水平に伸びる棒状の突出軸１１２の基端部が当該筐体８１（９１）に固定されて設けられており、この突出軸１１２の先端部は、シール部材８４（９２）よりもカートリッジ１２側に伸び出している。
【００８０】
従って、筐体８１（９１）がカートリッジ１２側に近づくと、先ずシール部材８４（９２）と筒状体１０３とが気密に接触する。そして、筐体８１（９１）を更にカートリッジ１２側に移動させると、筐体８１（９１）とカートリッジ１２とが気密に接触したまま、突出軸１１２が封止部材１０５をノズル２１側に押し込んで、筐体８１（９１）の内部空間と空間２５ａとを連通させる。従って、筐体８１（９１）による気体の供給と排気とが可能になる。
以上説明した図１９〜図２１の例についても、既述の例と同様の作用及び効果が得られる。
【００８１】
続いて、本発明の更に他の例について説明する。この例では、ウエハＷに対するレジスト液の使用量（吐出量）に基づいて、当該ウエハＷに形成されるレジスト膜の膜厚を調整できるように装置を構成している。具体的には、アーム部５３の下面側には、図２２に示すように、把持部５４、溶剤ノズル６１及び作動機構５５などを一体的に支持するように例えば板状の重量測定部１２１が設けられている。
【００８２】
この重量測定部１２１は、例えば上下方向に互いに対向して２枚の板状体を配置すると共に、これら板状体同士の間にバネなどの弾性体を平面で見て複数箇所に介在させて、これら板状体同士の間の離間寸法を測定できるように構成されている。そして、前記離間寸法は、例えばカメラなどの測定部を介して既述の制御部７１に伝達されるように構成されており、重量測定部１２１により測定された測定結果から把持部５４、溶剤ノズル６１及びアーム部５３の重量を差し引くことにより、カートリッジ１２内のレジスト液の重量が算出される。尚、図２２では、重量測定部１２１について簡略化して描画している。
【００８３】
即ち、既に詳述したように、ノズル２１からウエハＷに吐出したレジスト液の流量は、壁面部２５を当該ノズル２１側に前進させた寸法を介して制御部７１側にて把握される。しかしながら、レジスト膜の膜厚を極めて精度高く制御する必要性があるプロセスでは、壁面部２５を前進させた寸法とは別系統にて、レジスト液の吐出量をモニターすると共に、レジスト膜の膜厚を調整できるようにしておくことが好ましい。そこで、この例では、アーム部５３にレジスト液の重量を測定する重量測定部１２１を設けておき、以下に説明するシーケンスにてレジスト膜の膜厚を調整している。
【００８４】
具体的には、図２３に示すように、初めにウエハＷの処理レシピ（レジスト膜の種別、膜厚）を登録して（ステップＳ１）、最小レジスト吐出量Ａｍｉｎを装置側（例えば既述の入力部７４）に入力する（ステップＳ２）。この「最小レジスト吐出量Ａｍｉｎ」とは、制御可能な最小膜厚に対応する吐出量を意味している。従って、ノズル２１から吐出されるレジスト液の吐出量がこの最小レジスト吐出量Ａｍｉｎ以上であれば以下のシーケンスにて膜厚が調整可能であり、一方最小レジスト吐出量Ａｍｉｎよりも前記吐出量が小さい場合には膜厚の制御が困難（あるいは不可能）となる。
【００８５】
次いで、処理部１１へのウエハＷの搬送を開始する（ステップＳ３）と共に、アーム部５３にはレジスト液の充填が完了したカートリッジ１２を予め把持させておき、レジスト液を吐出する前に当該カートリッジ１２の重量を測定する（ステップＳ４）。続いて、スピンチャック１４では、ウエハＷの表面にてレジスト液が広がらない程度の回転数（低速または停止）に設定しておき、既に詳述したように、ノズル２１からレジスト液を吐出した（ステップＳ５）後、再度カートリッジ１２の重量を測定する（ステップＳ６）。尚、レジスト液の吐出処理に先立って、既述のプリウェット処理が行われるが、ここでは説明を省略している。
【００８６】
そして、ノズル２１から吐出されたレジスト液の重量Ａ（重量Ａ＝（レジスト吐出前のカートリッジ１２の重量）−（レジスト吐出後のカートリッジ１２の重量））を計算する（ステップＳ７）。レジスト液の重量Ａについて、既述の最小レジスト吐出量Ａｍｉｎ以上であれば、レジスト膜の膜厚が調整可能なので、以下の工程に進む（ステップＳ８）。一方、レジスト液の重量Ａが最小レジスト吐出量Ａｍｉｎよりも小さければ、レジスト膜の膜厚を調整するためにはウエハＷの表面にはレジスト液が不足しているので、レジスト液の吐出処理及びこの吐出処理の前後におけるカートリッジ１２の重量測定を再度行う。そして、得られた重量Ａと先に計算した重量Ａとを加算して、加算結果が重量Ａ以上になるまでステップＳ４〜Ｓ８を繰り返す。
【００８７】
続いて、目標の膜厚Ｙ’と、既に計算済みの重量Ａから予想される予想膜厚Ｙとの差分を求める（ステップＳ９）。即ち、目標の膜厚Ｙ’については、レシピにて予め設定されている。一方、予想される予想膜厚Ｙについては、後述の実施例からも分かるように、式（１）のＸに重量Ａを代入することによって得られる。
【００８８】
そして、前記差分ΔＹ（ΔＹ＝Ｙ’−Ｙ）を求めた後、この差分を補正膜厚として設定する（ステップＳ１０）と共に、補正レシピを求める（ステップＳ１１）。具体的には、後述の実施例から分かるように、レジスト膜の膜厚は、ウエハＷの回転数と、ウエハＷの回転を維持する時間（以下「回転時間」と呼ぶ）との少なくとも一方のパラメータにより調整可能である。そして、ウエハＷの回転数は、回転時間と比べて、レジスト膜の膜厚への影響度合いが大きい（調整範囲が広い）。そこで、補正レシピとして、初めにウエハＷの回転数（Δｘ１）により調整可能か計算して、ウエハＷの回転数だけでは調整範囲外となっている場合には、ウエハＷの回転数と共に回転時間（Δｘ２）についても調整する。
【００８９】
しかる後、得られた補正レシピに基づいてレシピを更新する（ステップＳ１２）。具体的には、元のレシピにてウエハＷの回転数及び回転時間が夫々ｘ１及びｘ２となっている場合には、更新後のウエハＷの回転数及び回転時間は夫々（ｘ１＋Δｘ１）及び（ｘ２＋Δｘ２）となる。こうして得られたレシピに基づいてウエハＷを鉛直軸周りに回転させると、ウエハＷの表面にてレジスト液が周方向に広がっていき、余分なレジスト液が振り切られてレジスト膜が形成される（ステップＳ１３）。尚、以上説明したステップＳ７以降の各処理は、制御部７１により速やかに行われるので、ウエハＷの表面にてレジスト液が乾燥したり固化したりするおそれはない。
【００９０】
その後、カートリッジ１２におけるレジスト液が不足する場合には、既に説明したように当該カートリッジ１２にレジスト液を補充して（ステップＳ１４）、処理済みのウエハＷについては処理部１１から搬出すると共に、別の未処理のウエハＷに対してステップＳ３以降の各処理を行う。
【００９１】
このようにウエハＷに吐出した実際のレジスト液の重量に基づいてレジスト膜の膜厚を調整することにより、例えばカートリッジ１２の内部に気泡が混入していたり、あるいはノズル２１からの吐出エラーが起こったりした場合であっても、レジスト膜の膜厚をレシピに応じて設定できる。尚、以上の重量測定部１２１を用いた例において、ウエハＷ上にレジスト液を吐出した状態で補正量の計算を行ったが、当該ウエハＷについてはレシピ通りの回転数及び回転時間にて処理を行い、後続のウエハＷに対して、前段の処理にて得られた計算結果に基づいてレシピを変更しても良い。即ち、一のウエハＷに対してレジスト膜を形成した後、このウエハＷに吐出された実際のレジスト液の重量から予想される予想膜厚Ｙと目標の膜厚Ｙ’とのずれ分を計算して、このずれ分だけ後続の他のウエハＷでは膜厚が補正されるように、回転数及び回転時間を調整しても良い。
【００９２】
図２４は、以上説明したカートリッジ１２について、レジスト液が通流する部位に気泡が混入した場合に当該気泡を排出する機構を設けた例を示している。即ち、待機部１３にカートリッジ１２を載置した時、逆止弁２９の下面と処理液補充路４１の上端との間に僅かに気泡が混入していると、この気泡がレジスト液と共にカートリッジ１２内に取り込まれるおそれがある。そこで、図２４では、カートリッジ１２の天井面に、貯留室２３と連通する開口部１３１を設けておき、この開口部１３１の上方側に逆止弁１３２を形成している。尚、図２４では、以上説明したカートリッジ１２のうち、シャフト２２にて壁面部２５を前後させる構成を例示している。
【００９３】
従って、カートリッジ１２内にレジスト液を引き込むと、気泡は例えばカートリッジ１２の天井面付近、具体的には開口部１３１近傍に溜まる。そのため、開閉バルブ２４ａを閉止したままシャフト２２を前進させると、気泡が逆止弁１３２を介して排出される。その後、開閉バルブ２４ａを開放すると、カートリッジ１２内のレジスト液は、重力によって逆止弁１３２側ではなくノズル２１側に向かおうとするので、以上説明した例と同様にウエハＷへのレジスト液の吐出処理が行われる。
【００９４】
以上の各例では、待機部１３にてカートリッジ１２にレジスト液を補充したが、例えば移動自在なカートなどの搬送部を設けて置き、この搬送部にて例えば作業者がレジスト液の補充を行っても良い。
また、カートリッジ１２にレジスト液を補充する工程において、例えば補充口２８における液詰まりなどにより当該カートリッジ１２が使用できなくなった場合には、カートリッジ１２が別の未使用のカートリッジ１２と交換される。
【００９５】
また、処理液としてレジスト液を例に挙げたが、ポリイミド樹脂からなる液体あるいはウエハＷ同士を互いに厚み方向に接着する時に使用する接着剤を処理液として用いても良い。また、シンナーなどの溶剤についてもカートリッジ１２内に充填して、このカートリッジ１２を用いてウエハＷにプリウェット処理を行っても良い。このように溶剤を充填したカートリッジ１２を用いてプリウェット処理を行う場合には、既述の把持部５４の側方側に、図示しない別の把持部を設けておき、アーム部５３にてレジスト液用のカートリッジ１２と溶剤用のカートリッジ１２とを同時に把持しても良い。
【００９６】
既述のシャフト２２及び壁面部２５を用いた例については、ピストンを使用したシリンダ構造であっても良い。即ち、壁面部２５の外周面を貯留室２３の内壁面に気密に接触させて、この壁面部２５によりレジスト液を押し出すようにしても良い。この場合には、補充口２８は、壁面部２５の進退範囲よりもノズル２１側に形成される。更に、補充口２８及びノズル２１を壁面部２５の進退範囲よりもアーム部５３の基端側に配置して、シャフト２２を前進させるとレジスト液がカートリッジ１２内に補充され、シャフト２２を後退させるとレジスト液が吐出するようにしても良い。更にまた、補充口２８とノズル２１とを横並びに配置したが、ノズル２１の上方側に補充口２８を形成して、いわば縦側のカートリッジ１２を構成しても良い。
【００９７】
また、以上説明した各例において、カートリッジ１２内にレジスト液を補充するにあたって、壁面部２５を後退させることによって当該カートリッジ１２内に発生する負圧（吸引力）を用いたが、送液ポンプ４２によりレジスト液を加圧して行っても良い。開閉バルブ２４ａとしては、エア駆動により動作するダイアフラムとして構成したが、ノズル２１側から貯留室２３側にレジスト液が戻らない逆止弁を使用しても良い。
【００９８】
更に、カートリッジ１２にレジスト液を補充するにあたり、待機部１３に補充機構４６（筐体９１）を設けて、この補充機構４６により壁面部２５を後退させたが、アーム部５３の作動機構５５（筐体８１）により壁面部２５を後退させても良い。即ち、カートリッジ１２内のレジスト液をノズル２１に押し出す機構と、当該カートリッジ１２内にレジスト液を補充する機構とを共通化しても良い。
この場合には、アーム部５３は、使用済みのカートリッジ１２を待機部１３に載置した後、そのまま壁面部２５を後退させることにより、カートリッジ１２にレジスト液を補充して、次いで補充が完了したカートリッジ１２を再度処理部１１側に搬送する。このような構成であっても、レジスト液をウエハＷに吐出する管路が短縮化されるので、大がかりなポンプや耐圧性に優れた供給路が不要になる。
【実施例】
【００９９】
（実験例１）
初めに、直径寸法が例えば４５０ｍｍのウエハＷを用いて、レジスト液の吐出量を種々変えた時に、このレジスト液が当該ウエハＷ上にどの程度の大きさの領域に広がるか測定した。具体的には、任意の回転数でウエハＷを鉛直軸周りに回転させると共に、このウエハＷの中心部にレジスト液を吐出した時、ウエハＷ上に円状に広がったレジスト液（レジスト膜）の半径寸法を測定した。
【０１００】
その結果、図２５に示すように、ウエハＷの回転数が６００ｒｐｍでは、１５ｇのレジスト液を吐出すると、レジスト液は半径１５０ｍｍの円状に広がっていた。従って、直径寸法が３００ｍｍのウエハＷの表面に亘ってレジスト液を塗布するためには、レジスト液は１５ｇ程度で十分な量となっていることが分かる。一方、直径寸法が４５０ｍｍのウエハＷの表面に亘ってレジスト液を塗布するためには、３０ｇもの重量のレジスト液が必要となり、従ってレジスト液の必要量は、直径寸法が４５０ｍｍでは３００ｍｍの場合の２倍になることが分かる。ウエハＷの回転数を１０００ｒｐｍまで増やした場合であっても、直径寸法が４００ｍｍのウエハＷでは、同様に３０ｇものレジスト液が必要となっている。
【０１０１】
（実験例２）
続いて、カートリッジ側にレジスト液を貯留しておき、このカートリッジを加圧してレジスト液を吐出する場合に、このレジスト液を送り出す圧力と、レジスト液の吐出量と、の相関を確認する実験を行った。その結果、図２６に示すように、前記圧力とレジスト液の吐出量とは極めて高い相関性を持っていることが分かった。また、カートリッジの圧力を任意の値に設定した場合に、レジスト液を吐出する吐出時間とレジスト液の吐出量との相関を同様に確認したところ、図２７に示す結果が得られた。この結果についても、レジスト液の吐出時間は、レジスト液の吐出量と極めて高い相関性を持っていることが分かった。
【０１０２】
（実験例３）
ウエハＷにレジスト液を吐出するにあたって、当該レジスト液の吐出時間がレジスト膜に与える影響を確認する実験を行った。その結果、０．０８ｍｌ／秒もの極めて遅い吐出速度にてレジスト液を吐出した場合（吐出時間：約４００秒）には、図２８に「実験３−１」にて示すように、ウエハＷの面内において膜厚のばらつきが発生していた。一方、前記吐出時間を約２０秒もの短時間に設定した場合には、図２８に「実験３−２」にて示すように、均一な膜厚プロファイルが得られた。即ち、レジスト液の吐出速度を遅く設定すると、言い換えるとレジスト液の吐出開始から吐出完了までの間に長いタイムラグが発生すると、レジスト液を吐出し終えるまでの間に、既に吐出したレジスト液が乾燥固化するおそれがあると言える。従って、直径寸法が４５０ｍｍのウエハＷに対してレジスト液を吐出する場合には、直径寸法が３００ｍｍのウエハＷと吐出速度を揃えると、スループットの低下のおそれがあるだけでなく、レジスト膜の膜厚の均一性にも悪影響を及ぼす可能性がある。
【０１０３】
図２９は、直径寸法が３００ｍｍ及び４５０ｍｍのウエハＷについて、レジスト液の吐出に要する時間と共に、カートリッジにレジスト液を補充する時間についても併せて概略的に纏めたイメージを示している。即ち、カートリッジからレジスト液を吐出した後、当該カートリッジに新たなレジスト液を補充するにあたって、レジスト液の発泡を抑えるためにはそれ程吸液速度を高く設定できない。そのため、直径寸法が４５０ｍｍのウエハＷでは、直径寸法が３００ｍｍのウエハＷと比べて、吐出時間だけでなく吸液時間についても差が大きくなり、トータルで見ると３倍近い時間が必要となっていることが分かる。
図３０は、既述の「実験３−１」及び「実験３−２」として挙げた例について、レジスト膜の膜厚の均一性を数値化した結果を示しており、これら「実験３−１」及び「実験３−２」に対して夫々複数回に亘る実験を行ったところ、既述の結果の再現性が確認された。
【０１０４】
（実験例４）
図３１は、ウエハＷの回転数及び回転時間を各々任意の値に設定した時、レジスト液の吐出量（重量）と、レジスト膜の膜厚との相関を示している。横軸（Ｘ軸）に吐出量、縦軸（Ｙ軸）に膜厚を設定すると、吐出量と膜厚とは、以下の式（１）で表される。
Ｙ＝０．１Ｘ＋４０．９５      （１）
従って、既述の重量測定部１２１を設けた例において、予想膜厚Ｙは、この式（１）から算出される。
【０１０５】
図３２及び図３３は、同様に重量測定部１２１を設けた例において、予想膜厚Ｙの補正が可能となる根拠のデータを示している。即ち、図３２では、ウエハＷの回転数（Ｘ）とレジスト膜の膜厚（Ｙ）との相関を示しており、この相関は以下の式（２）にて表される。
Ｙ＝−０．０４０２Ｘ＋８２．８０１    （２）
【０１０６】
そのため、ウエハＷの回転数を変更することにより予想膜厚Ｙを補正する場合には、補正膜厚ΔＹを（−０．０４０２）にて除した値の分（Δｘ１）だけウエハＷの回転数を増加（符号がマイナスの場合には減少）させれば良いことが分かる。
また、図３３は、ウエハＷの回転を維持する時間（回転時間（Ｘ））とレジスト膜の膜厚（Ｙ）との相関を示しており、この相関は式（３）にて表される。
Ｙ＝−０．３６６Ｘ＋６５．５１      （３）
【０１０７】
回転時間にて予想膜厚Ｙを補正する時には、補正膜厚ΔＹを（−０．３６６）にて除した値の分（Δｘ２）だけ回転時間を増加（減少）させることになる。
また、ウエハＷの回転数に加えて回転時間についても予想膜厚Ｙの調整パラメータとして使用することにより、図３２及び図３３の結果を互いに足し合わせた範囲内にて補正が可能になることが分かる。
【符号の説明】
【０１０８】
１２  カートリッジ
１３  待機部
２１  ノズル
２２  シャフト
２３  貯留室
２５  壁面部
２６  ベローズ
２８  補充口
３０  搬送機構
４１  処理液補充路
５３  アーム部
５５  作動機構
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
2015115486.tif 000026
【図２７】
2015115486.tif 000027
【図２８】
2015115486.tif 000028
【図２９】
2015115486.tif 000029
【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
2015115486.tif 000032
【図３３】
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