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【手続補正書】
【提出日】平成28年2月9日(2016.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気共鳴装置（５）により任意に形成されたボリューム（３５）を励起するために傾斜磁場波形（Ｇｘ’，Ｇｙ’）と一緒に高周波励起パルス（３２）を生成する方法であって、
ＭＲ信号（３３）を検出する後続のステップにおいて前記ボリューム（３５）内のスピンのみがＭＲ信号成分を生じるように、内部に前記ボリューム（３５）が存在するボリューム部分（３４）を準備するステップと、
このボリューム部分（３４）からｋ空間軌跡に沿ってＭＲ信号（３３）を検出し、その検出期間中に前記軌跡に沿ってｋ空間を走査するために少なくとも１つの傾斜磁場（Ｇｘ，Ｇｙ）を印加するステップと、
検出されたＭＲ信号（３３）を時間反転した信号に相当する高周波励起パルス（３２）を生成すると共に、ｋ空間を走査するための前記少なくとも１つの傾斜磁場（Ｇｘ，Ｇｙ）を時間反転した波形に相当する傾斜磁場波形（Ｇｘ’，Ｇｙ’）を生成するステップと、を含む高周波励起パルスを生成する方法。
【請求項２】
ボリューム部分（３４）の準備がボリューム部分（３４）内のスピンの飽和又は反転を含み、ＭＲ信号（３３）の検出が準備ステップ後に前記ボリューム（３５）内に流入した移動スピンのＭＲ信号成分の検出を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
３０°よりも小さいフリップ角を有する高周波励起パルス（３２）が生成されることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
３０°以上のフリップ角を有する高周波励起パルス（３２）が生成され、高周波励起パルス（３２）が前記ボリューム（３５）のみを励起するためにそのフリップ角の大きさと検出されたＭＲ信号（３３）とに依存して調整されることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項５】
生成されるべき高周波励起パルス（３２）が複数の高周波アンテナ（４）により同時に照射され、
ＭＲ信号（３３）の検出ステップにおいて各高周波アンテナ（４）がＭＲ信号（３３）を検出し、
各高周波アンテナ（４）によって照射されるべき高周波励起パルス（３３）が、各高周波アンテナ（４）によって検出されたＭＲ信号（３３）の時間的反転に相当することを特徴とする請求項１乃至４の１つに記載の方法。
【請求項６】
ボリューム部分（３４）の準備がボリューム部分（３４）を次のように決定すること、即ち、決定されたボリューム部分（３４）が前記ボリューム（３５）のほかに前記ボリューム（３５）と類似した特性を有する他のボリュームを含まないように決定することを含むことを特徴とする請求項１乃至５の１つに記載の方法。
【請求項７】
磁気共鳴装置（５）により血管（３５）内のスピンを励起する方法であって、
血管が任意に形成されたボリュームに相当し、請求項１乃至６の１つに記載の方法による傾斜磁場波形（Ｇｘ’，Ｇｙ’）と一緒に高周波励起パルス（３２）を生成するステップと、
傾斜磁場波形（Ｇｘ’，Ｇｙ’）と一緒に高周波励起パルス（３２）を照射し、それによって血管（３５）内のスピンのみを励起するステップと、
を含む血管内のスピンを的確に励起する方法。
【請求項８】
高周波励起パルス（３２）が複数の高周波アンテナ（４）により同時に照射されることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
磁気共鳴装置（５）により生きた被検体（Ｏ）の予め定められたボリューム部分（３４）のＭＲアンギオグラフィ画像を作成する方法であって、請求項７又は８記載の方法によりボリューム部分（３４）の内部における血管（３５）内のスピンを的確に励起するステップと、
ボリューム部分（３４）内のＭＲデータを検出するステップと、該ＭＲデータに基づいてＭＲアンギオグラフィ画像を作成するステップとを含むＭＲアンギオグラフィ画像を作成する方法。
【請求項１０】
任意に形成されたボリューム（３５）を励起するために傾斜磁場波形（Ｇｘ’，Ｇｙ’）と一緒に高周波励起パルス（３２）を生成する磁気共鳴装置であって、
磁気共鳴装置は、静磁場磁石（１）と、傾斜磁場システム（３）と、少なくとも１つの高周波アンテナ（４）と、少なくとも１つの受信コイル要素と、傾斜磁場システム（３および少なくとも１つの高周波アンテナ（４）を制御し、少なくとも１つの受信コイル要素によって収集された測定信号を受信し、かつ該測定信号を解析してＭＲデータを作成する制御装置（１０）とを含み、
磁気共鳴装置（５）は、ＭＲ信号（３３）の後続の検出時に前記ボリューム（３５）内のスピンのみがＭＲ信号成分を生じるように前記ボリューム（３５）が存在するボリューム部分（３４）を準備するように構成されており、
磁気共鳴装置（５）は、該磁気共鳴装置（５）がｋ空間軌跡に沿ってｋ空間を走査するための少なくとも１つの傾斜磁場（Ｇｘ，Ｇｙ）を印加している期間中に、ボリューム部分（３４）からＭＲ信号（３３）をｋ空間軌跡に沿って検出するように構成されており、
前記制御装置（１０）は、検出されたＭＲ信号（３３）を時間反転した信号に相当する高周波励起パルス（３２）を生成すると共に、前記少なくとも１つの傾斜磁場（Ｇｘ，Ｇｙ）を時間反転した波形に応じてｋ空間を走査するための傾斜磁場波形（Ｇｘ’，Ｇｙ’）を生成するように構成されている、磁気共鳴装置。
【請求項１１】
磁気共鳴装置（５）が請求項１乃至９の１つに記載の方法を実施するように構成されていることを特徴とする請求項１０記載の磁気共鳴装置。
【請求項１２】
プログラムを含みかつ磁気共鳴装置（５）のプログラミング可能な制御装置（１０）のメモリ内に直接にロード可能であるコンピュータプログラム製品であって、プログラムが磁気共鳴装置（５）の制御装置（１０）において実行される際に請求項１乃至９の１つに記載の方法の全てのステップを実施するためのプログラム手段を備えているコンピュータプログラム製品。
【請求項１３】
電子的に読取可能な制御情報が記憶された電子的に読取可能なデータ媒体であって、データ媒体の使用時に磁気共鳴装置（５）の制御装置（１０）において請求項１乃至９の１つに記載の方法を実行するように構成されている電子的に読取可能なデータ媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月19日(2015.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
該第１係合部を該傾斜溝に係合させ、該平板状本体部をパネル面に対して６０度傾斜する姿勢としたことを特徴とする請求項７記載の商品展示台。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
該第２係合部を該傾斜溝に係合させ、該平板状本体部をパネル面の直交方向に延出する姿勢としたことを特徴とする請求項７記載の商品展示台。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
該第２係合部を該水平溝に係合させ、該平板状本体部をパネル面に対して３０度傾斜する姿勢としたことを特徴とする請求項７記載の商品展示台。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月25日(2015.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の髭進入口が形成された環状の髭剃り面を上面に有する外刃と、前記外刃の下面に前記髭剃り面の下方から摺接しつつ回転する小刃を持つ内刃とを有し、前記外刃には複数且つ同心の環状髭剃り面が一体に形成されていると共に、少なくとも一つの前記環状髭剃り面に丸孔状の髭進入口が形成されているロータリー式電気かみそりの該外刃の製造方法であって、
（ａ）前記環状髭剃り面において前記丸孔状の髭進入口が形成される所定位置を、該丸孔の内径寸法よりも小さい値の厚さ寸法となるように研削もしくは研磨加工を行う工程；
（ｂ）前記（ａ）工程よりも後に、前記研削もしくは研磨加工を行った位置に、プレス加工によって前記丸孔状の髭進入口を形成する工程；
を備えることを特徴とするロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項２】
前記（ｂ）工程は、該丸孔状の髭進入口を、前記環状髭剃り面の周方向に沿って内周側の丸孔と外周側の丸孔とが交互に配置される千鳥状となるように形成する工程であることを特徴とする請求項１記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項３】
前記（ｂ）工程は、前記内周側もしくは外周側の一方に配置される複数の丸孔を一回のプレスによりプレス加工を行い、その後、前記内周側もしくは外周側の他方に配置される丸孔を一回のプレスによりプレス加工を行う工程であることを特徴とする請求項２記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項４】
（ｃ）前記（ｂ）工程よりも後に、前記環状髭剃り面の所定位置に、研削加工によってスリット状の髭進入口を形成する工程；
を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項５】
前記（ｂ）工程よりも前に、前記外刃の所定位置に位置マークを形成する工程を備え、前記（ｂ）工程および前記（ｃ）工程は該位置マークを共通の加工基準位置としてそれぞれの工程における加工を行うことを特徴とする請求項４記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項６】
前記位置マークは、前記外刃の外周縁に形成されたＤカット部であることを特徴とする請求項５記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項７】
前記（ｂ）工程および前記（ｃ）工程を行うことによって、所定の前記環状髭剃り面において周方向に沿って所定数の前記丸孔状の髭進入口からなる丸孔形成領域と所定数の前記スリット状の髭進入口からなるスリット形成領域とが交互に配設されるように、該丸孔状の髭進入口および該スリット状の髭進入口を形成することを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【請求項８】
前記丸孔状の髭進入口を、最外周以外の前記環状髭剃り面に形成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項記載のロータリー式電気かみそりの外刃の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ケース５４の上部にはヘッド部５８が開閉可能且つ着脱可能に取り付けられている。なおヘッド部５８は、その髭剃り面（後述する刃枠体６０の上面）が斜め前上方を指向するようにケース５４のグリップ部５２に対して傾いている。前記電気モータはその回転出力軸がこのヘッド部５８の内部に向かってケース５４の上面から突出し、内刃１２Ａを回転駆動すると共に、内刃１２Ａを上方に弾性を持って押し上げて小刃２２Ａ、２４Ａの髭剃り面１６Ａ、１８Ａの下面に対する接触圧を適正に保持している。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月4日(2015.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の特定演出を導出可能な演出手段と、
各前記特定演出に対する遊技者の主観的情報を記憶可能な記憶手段とを備え、
前記演出手段において前記特定演出が導出される場合に、前記記憶手段に記憶された前記主観的情報に基づいて前記特定演出の設定が行われることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
符号化された前記主観的情報を入力可能とする入力手段を備え、
前記入力手段により入力された前記主観的情報が複合されて前記記憶手段に記憶されることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記記憶手段に記憶されている前記主観的情報を符号化して出力可能な出力手段を備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
遊技者が操作する携帯通信端末を介して、遊技情報をサーバに送信可能な遊技機において、
前記遊技情報を蓄積記憶可能な蓄積記憶手段と、
前記蓄積記憶手段に蓄積記憶されている前記遊技情報を符号化して出力可能な出力手段と、
パスワードを入力可能とする入力手段とを備え、
前記パスワードとして、
前記遊技情報、及び、前記主観的情報のうち前記遊技情報を含む第１パスワードと、
前記遊技情報、及び、前記主観的情報の両方を含む第２パスワードと、
前記遊技情報、及び、前記主観的情報のうち前記主観的情報を含む第３パスワードとが設定され、
前記入力手段により前記第３パスワードが入力された場合に、前記蓄積記憶手段に蓄積記憶されている前記遊技情報を変更することなく、前記記憶手段に記憶されている前記主観的情報を変更可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の遊技機は、
複数の特定演出を導出可能な演出手段と、
各前記特定演出に対する遊技者の主観的情報を記憶可能な記憶手段とを備え、
前記演出手段において前記特定演出が導出される場合に、前記記憶手段に記憶された前記主観的情報に基づいて前記特定演出の設定が行われることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月4日(2015.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
基板２は、バルカナイズドファイバー３とメッシュ状のガラスクロス４とを貼り合わせたものである。バルカナイズドファイバー３とガラスクロス４とは、レゾール型フェノール樹脂や、エポキシ樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を用いて接着される。熱硬化性樹脂には、炭酸カルシウムなどの充填剤や溶剤が適宜混合される。基板２の中央部には、ディスクサンダーへの取り付けに用いるための開口６が形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
研磨材層５は、基板２のガラスクロス４上に研磨材粒子を熱硬化性樹脂で付着させることにより形成される。研磨材粒子の材質及び粒径は、研削対象物及び研削目的に応じて任意に選択できる。例えば、研磨材粒子の材質としては、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｒＯ）、石英、ダイアモンドを利用できる。また、研磨材粒子の粒径は、鉄やコンクリートの塗装前下地研削処理の用途では、例えば、ＪＩＳ  Ｒ６１１１で規定される＃３０より小さいものが好適である。この範囲内でも、研削対象物の研削の効率化と、研磨材層５の目詰まり防止とを両立するために、研磨材粒子の粒径が＃１０〜＃３０であることが好ましく、＃１０〜１６であることがより好ましい。研磨材粒子をガラスクロス４に付着させるために用いる熱硬化性樹脂としては、バルカナイズドファイバー３とガラスクロス４との接着の用途で例示したものを利用できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
このような研磨材層５は、基板２に研磨材粒子を付着させる前に、非付着領域９及び１０ａ〜１０ｄに対応する形状のマスキングテープを用いてマスキングすることによって、勘弁に形成することができる。より具体的には、バルカナイズドファイバー３上にガラスクロスを載置し、接着剤となる熱硬化性樹脂を、ガラスクロス４が隠れる程度に塗布する。次に、加熱により熱硬化性樹脂を少し硬化させてから、基板２のガラスクロス４上に非付着領域９及び１０ａ〜１０ｄに対応する形状のマスキングテープを貼り付ける。次に、マスキングされていない領域上に研磨材粒子を散布して、まだ完全に硬化していない熱硬化性樹脂に研磨材粒子を付着させる。次に、マスキングテープを除去してから加熱により熱硬化性樹脂を硬化させる。その後、研磨材粒子上に少量の熱硬化性樹脂を塗布し、再度加熱を行うことにより、熱硬化性樹脂を完全に硬化させる。以上のような手順により、本実施形態に係る研削紙円板１１を製造することができる。尚、ここで述べた以外の研削紙円板２の材料及び製造条件は、実公平５−２９８１７号公報に記載のものを採用すれば良い。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月19日(2015.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御されたキャビン環境における空気流ダイナミクスのモデルを生成するシステムであって、
前記制御されたキャビン環境（１２２）のテンプレート（１１０）と、物理オブジェクト（４０２、４０４、４０６、４０８、４１０）を表す複数の論理オブジェクト（１１２）と、を格納するデータストア（１１０）であって、前記論理オブジェクト（１１２）は、前記論理オブジェクトに関連付けられた空気流特性を備える、データストア（１１０）と、
プロセッサ（２２２）であって、前記プロセッサ（２２２）は、
前記テンプレート（１１０）および前記複数の論理オブジェクト（１１２）から前記キャビン環境の２次元レイアウトを構築し（３１５）、
前記キャビン環境の前記２次元レイアウト（３１５）から、前記キャビン環境の３次元空気流モデルを構築するスクリプト（１４０）を生成する（３２０）、プロセッサ（２２２）と、を備えるシステム。
【請求項２】
前記データストア（１１０）が、固定のオブジェクト（４０２、４０４、４０６、４０８、４１０）と、所定のモデル（１４０）に従って前記キャビン環境（１２２）において１つまたは複数の所定の経路に沿って移動する移動性のオブジェクト（１１２）と、前記所定のモデル（１４０）に従って空気流パターンを生成する１つまたは複数の人間オブジェクト（１１２）と、を備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記テンプレート（１１０）は、キャビンにおける流体の流量と流れの向き、壁の温度、熱流束パラメータ、および１つまたは複数の拡散源のうちの少なくとも１つを指定する、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記プロセッサ（２２２）は、前記スクリプトを実行して、前記制御されたキャビン環境（１２２）における空気流ダイナミクスのシミュレーション（１４６）を実施し、前記プロセッサ（２２２）は、オブジェクト（１１２）の１つまたは複数のアイコン表現をユーザがキャビンレイアウトテンプレート（１１０）の中にドラッグアンドドロップすることを可能にするグラフィカルユーザインターフェース（１０４、１６０）を生成する、請求項１ないし３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記シミュレーション（１４６）は、前記オブジェクト（１１２）に関連付けられた前記空気流特性を使用して、所定のモデル（１４０）に従って前記キャビンにおける空気流ダイナミクスをモデル化し、前記プロセッサ（２２２）は、オブジェクト（１１２）の１つまたは複数のアイコン表現をユーザがキャビンレイアウトテンプレート（１１０）の中にドラッグアンドドロップすることを可能にするグラフィカルユーザインターフェース（１０４、１６０）を生成し、前記アイコン表現は、内部キャビン構成（１２２）を規定する、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
制御されたキャビン環境（１２２）における空気流ダイナミクスをモデル化する方法であって、
プロセッサにより、前記制御されたキャビン環境のテンプレート（１１０）と、物理オブジェクト（１１２、４０２、４０４、４０６、４０８、４１０）を表す複数の論理オブジェクト（１１２）と、から前記キャビン環境の２次元レイアウトを構築するステップ（３１５）であって、前記テンプレート（１１０）と前記複数の論理オブジェクト（１１２）は、データストア（１１０）に格納されており、前記論理オブジェクト（１１２）が、前記論理オブジェクトに関連付けられた空気流特性を備えている、ステップ（３１５）と、
プロセッサにより、前記キャビン環境の前記２次元レイアウト（３１５）から、前記キャビン環境の３次元空気流モデルを構築するスクリプトを生成するステップ（３２０）と、を備える方法。
【請求項７】
前記データストア（１１０）は、固定のオブジェクト（１１２、４０２、４０４、４０６、４０８、４１０）と、所定のモデル（１４０）に従って前記キャビン環境（１２２）において１つまたは複数の所定の経路に沿って移動する移動性のオブジェクト（１１２）と、所定のモデル（１４０）に従って空気流パターンを生成する１つまたは複数の人間オブジェクト（１１２）と、を備える、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記テンプレート（１１０）は、キャビンにおける流体の流量と流れの向き、壁の温度、熱流束パラメータ、および１つまたは複数の拡散源のうちの少なくとも１つを指定する、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
プロセッサにより、前記スクリプト（１４０）を実行して、前記制御されたキャビン環境（１２２）における空気流ダイナミクスのシミュレーション（１４６）を実施するステップをさらに備え、
前記シミュレーション（１４６）が、前記オブジェクト（１１２）に関連付けられた前記空気流特性を使用して、所定のモデル（１４０）に従って前記キャビンにおける空気流ダイナミクスをモデル化する、請求項６ないし８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ユーザがオブジェクト（１１２）の１つまたは複数のアイコン表現をキャビンレイアウトテンプレート（１１０）の中にドラッグアンドドロップすることを可能にするグラフィカルユーザインターフェース（１０４、１６０）を、プロセッサにより生成するステップをさらに備え、前記アイコン表現は、内部キャビン構成（１２２）を規定する、請求項６ないし９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月22日(2016.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の画像処理装置は、撮像装置から出力される各フレームの画像を順次取得する手段と、
前記画像中に写っている状況を該画像に対する認識処理によって認識し、該認識した状況が規定の状況であれば、該画像及び該画像よりも過去のフレームにおいて該規定の状況が認識された画像から、該規定の状況に関連する種別のオブジェクトを検出する検出手段と、
前記検出手段が検出したそれぞれのオブジェクトの画像からの検出位置を用いて、オブジェクト同士が現実空間中で接触しているのか否かを判断する判断手段と
を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
ステップＳ５０７では、結果表示部２０７は、ステップＳ５０６における判定結果に係る表示を行う。図１４の例では、置き去り物体６０７と接触している手６１３の、最も近傍にある人体６０９を、置き去った人物として特定し、該人体６０９を画面上で強調表示する。例えば、各フレームの画像を表示する際に、人体６０９のバウンディングボックスを表示したり、これを点滅表示させたりする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
図１７に戻って、ステップＳ６０２で読み出した全てのフレームについてステップＳ６０３〜Ｓ６０７までの処理を行うと、処理はステップＳ６０８に進む。ステップＳ６０８では、結果表示部２０７は、結果の表示を行う。すべてのフレームについて、客の手と従業員の体に接触が見られなかった場合には、何の表示も行われない。客の手と従業員の体に接触があった（従業員の体の領域が、ステップＳ６０６で検出された客の手の領域と重なる）場合には、該当するフレームの画像において、検出された人体領域を示すバウンディングボックスを赤色で描画し、画像に合成する。もちろん、表示形態はこれに限るものではない。これに加えて若しくは代わりに、客の領域を示すバウンディングボックスを赤色で描画し、画像に合成してもよいし、もちろん、表示形態はこれに限るものではない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置から出力される各フレームの画像を順次取得する手段と、
前記画像中に写っている状況を該画像に対する認識処理によって認識し、該認識した状況が規定の状況であれば、該画像及び該画像よりも過去のフレームにおいて該規定の状況が認識された画像から、該規定の状況に関連する種別のオブジェクトを検出する検出手段と、
前記検出手段が検出したそれぞれのオブジェクトの画像からの検出位置を用いて、オブジェクト同士が現実空間中で接触しているのか否かを判断する判断手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記判断手段は、
前記規定の状況にあると認識された画像及び該画像よりも過去のフレームにおいて該規定の状況が認識された画像のうち、前記規定の状況を構成する第１のオブジェクト及び第２のオブジェクトのそれぞれの該画像上の検出位置の間の距離が閾値以下となる画像を対象画像とし、
前記第１のオブジェクトの前記対象画像上の加速度の大きさが閾値以上且つ、該加速度を表すベクトルと、前記第２のオブジェクトの前記対象画像上の速度を表すベクトルと、のなす角が閾値よりも小さい場合には、前記第１のオブジェクトと前記第２のオブジェクトとが現実空間中で接触していると判断することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記検出手段は、
複数台の撮像装置のそれぞれから出力された画像中に写っている状況を該画像に対する認識処理によって認識し、該認識した状況が規定の状況であれば、前記複数台の撮像装置のそれぞれから出力された画像のうち該認識の際に計算した状況生起確率が最も大きい画像及び該画像よりも過去のフレームにおいて該規定の状況が認識された画像から、該規定の状況に関連する種別のオブジェクトを検出することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記検出手段は、物体の置き去り若しくは持ち去りを行った人物、を検出することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記判断手段は、暴力行為があったか否かを判断することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
更に、
前記判断手段が接触していると判断した結果に対応する情報を通報する通報手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
画像処理装置が行う画像処理方法であって、
前記画像処理装置の取得手段が、撮像装置から出力される各フレームの画像を順次取得する工程と、
前記画像処理装置の検出手段が、前記画像中に写っている状況を該画像に対する認識処理によって認識し、該認識した状況が規定の状況であれば、該画像及び該画像よりも過去のフレームにおいて該規定の状況が認識された画像から、該規定の状況に関連する種別のオブジェクトを検出する検出工程と、
前記画像処理装置の判断手段が、前記検出工程で検出したそれぞれのオブジェクトの画像からの検出位置を用いて、オブジェクト同士が現実空間中で接触しているのか否かを判断する判断工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータを、請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013232181.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2013232181.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物絶縁膜上に金属膜の設けられた積層膜の処理方法であって、
酸素を含む雰囲気下で、圧力を５Ｐａ以上１５Ｐａ以下とし、前記積層膜側に電力密度０．５９Ｗ／ｃｍ２以上１．１８Ｗ／ｃｍ２以下の高周波電力を印加することで酸素イオンを含むプラズマを生成し、前記酸素イオンによって、前記金属膜を酸化させて金属酸化物膜を形成し、かつ前記酸化物絶縁膜に酸素を供給することで過剰酸素を有する酸化物絶縁膜を形成することを特徴とする積層膜の処理方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記金属膜として、マグネシウム、アルミニウム、イットリウム、ハフニウムまたはジルコニウムを一種以上含む、厚さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下の、単体膜、窒化物膜、酸化物膜または合金膜を設けることを特徴とする積層膜の処理方法。
【請求項３】
酸化物絶縁膜上に金属膜を成膜し、
酸素を含む雰囲気下で酸素イオンを含むプラズマを生成し、前記酸素イオンによって、前記金属膜を酸化させることで金属酸化物膜を形成し、かつ前記酸化物絶縁膜に酸素を供給することで過剰酸素を有する酸化物絶縁膜を形成した後、前記金属酸化物膜上に酸化物半導体膜を形成し、
前記酸化物半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
酸化物絶縁膜上に金属膜を成膜し、
酸素を含む雰囲気下で酸素イオンを含むプラズマを生成し、前記酸素イオンによって、前記金属膜を酸化させることで金属酸化物膜を形成し、かつ前記酸化物絶縁膜に酸素を供給することで過剰酸素を有する酸化物絶縁膜を形成した後、前記金属酸化物膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項３または請求項４において、
前記金属膜として、マグネシウム、アルミニウム、イットリウム、ハフニウムまたはジルコニウムを一種以上含む、厚さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下の、単体膜、窒化物膜、酸化物膜または合金膜を成膜することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項３乃至請求項５のいずれか一において、
前記プラズマは、圧力を５Ｐａ以上１５Ｐａ以下とし、前記金属膜側に電力密度０．５９Ｗ／ｃｍ２以上１．１８Ｗ／ｃｍ２以下の高周波電力を印加することで生成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月11日(2016.2.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極との間に発光層を有し、
前記発光層は、第１の発光層と、第２の発光層とを有し、
前記第１の発光層は、前記陽極と、前記第２の発光層との間に位置し、
前記第１の発光層は、第１の燐光性化合物と、電子輸送性を有する第１の有機化合物と、正孔輸送性を有する第２の有機化合物とを含み、
前記第２の発光層は、第２の燐光性化合物と、前記第１の有機化合物とを含み、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物は励起錯体を形成することを特徴とする発光素子。
【請求項２】
陽極と陰極との間に発光層を有し、
前記陽極と前記発光層との間に正孔輸送層を有し、
前記陰極と前記発光層との間に電子輸送層を有し、
前記発光層は、前記正孔輸送層と接する第１の発光層と、前記電子輸送層と接する第２の発光層とを有し、
前記第１の発光層は、第１の燐光性化合物と、電子輸送性を有する第１の有機化合物と、正孔輸送性を有する第２の有機化合物とを含み、
前記第２の発光層は、第２の燐光性化合物と、前記第１の有機化合物とを含み、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物は励起錯体を形成することを特徴とする発光素子。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の燐光性化合物は、前記第２の燐光性化合物よりも短波長の光を呈することを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１の有機化合物のアニオンおよび前記第２の有機化合物のカチオンから前記励起錯体が形成されることを特徴とする発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の燐光性化合物および第２の燐光性化合物は、有機金属錯体であり、
前記第１の有機化合物は、π電子不足型複素芳香族化合物であり、
前記第２の有機化合物は、π電子過剰型複素芳香族化合物または芳香族アミン化合物であることを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の発光素子を有する発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の発光装置を有する電子機器。
【請求項８】
請求項６に記載の発光装置を有する照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月9日(2016.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室に基板を搬入する工程と、
液体原料を気化器で気化し、気化された原料ガスおよび前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を、異なる位置に複数の穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚ずつ少なくとも一部を接着した状態で組み合わせて隣り合う穴が互いに重ならないように構成されるミストフィルタに流すことにより気化補助し、気化器による気化およびミストフィルタによる気化補助により得られた原料ガスを前記処理室に供給して前記基板を処理する工程と、
前記処理室から基板を搬出する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記ミストフィルタは、外周付近に穴が複数設けられた第１のプレートと、中心付近に穴が複数設けられた第２のプレートとを隣り合う穴が互いに重ならないように交互に配置された構造を有し、
前記基板を処理する工程において、前記気化器を通過した原料を前記第１のプレートの穴と前記第２のプレートの穴に交互に通過させることにより気化させる請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
処理室に基板を搬入する工程と、
液体原料を気化器で気化し、気化された原料ガスおよび前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を、隣接する主面の異なる位置に穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚重ね合わせて構成され隣接する前記２種のプレート間の流体経路が前記主面と対向方向よりも前記主面と平行方向のほうが長く構成される本体と該本体を加熱するヒータとを備えるミストフィルタ
に流すことにより気化補助し、気化器による気化およびミストフィルタによる気化補助により得られた原料ガスを前記処理室に供給して前記基板を処理する工程と、
前記処理室から基板を搬出する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項４】
基板を収容する処理室と、
前記処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
前記処理室を排気する排気系と、
を備え、
前記処理ガス供給系は、
液体原料を気化する気化器と、
前記気化器の下流に配置され、前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を気化補助するミストフィルタと、
を有し、
前記ミストフィルタは、異なる位置に複数の穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚ずつ少なくとも一部を接着した状態で隣り合う穴が互いに重ならないように組み合わせて構成される基板処理装置。
【請求項５】
前記ミストフィルタは、外周付近に穴が複数設けられた第１のプレートと、中心付近に穴が複数設けられた第２のプレートとを隣り合う穴が互いに重ならないように交互に配置された構造を有する請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記処理ガス供給系は、
前記ミストフィルタの下流に配置されたガスフィルタを有する請求項４または５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記気化器、前記ミストフィルタ、前記ガスフィルタは、夫々分離して構成される請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記ミストフィルタは、前記少なくとも２種のプレートを加熱するヒータを備える請求項４または５に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記少なくとも２種のプレートは、前記穴が形成されるプレート部と、前記プレート部の外周に形成された外周部とを有し、前記外周部の厚さは前記プレート部の厚さよりも大きく設定され、前記外周部同士が接することによって前記少なくとも２種のプレートのプレート部間に空間が形成される請求項４または５に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
基板を収容する処理室と、
前記処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
前記処理室を排気する排気系と、
を備え、
前記処理ガス供給系は、
液体原料を気化する気化器と、
前記気化器の下流に配置され、前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を気化補助するミストフィルタと、
を有し、
前記ミストフィルタは、隣接する主面の異なる位置に穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚重ね合わせて構成され、隣接する前記２種のプレート間の流体経路が前記主面と対向方向よりも前記主面と平行方向のほうが長く構成される本体と、該本体を加熱するヒータと、を備える基板処理装置。
【請求項１１】
液体原料が供給される気化器と、
前記気化器の下流に配置され、前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を気化補助するミストフィルタと、
を有し、
前記ミストフィルタは、異なる位置に複数の穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚ずつ少なくとも一部を接着した状態で隣り合う穴が互いに重ならないように組み合わせて構成される気化システム。
【請求項１２】
液体原料が供給される気化器と、
前記気化器の下流に配置され、前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を気化補助するミストフィルタと、
を有し、
前記ミストフィルタは、隣接する主面の異なる位置に穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚重ね合わせて構成され、隣接する前記２種のプレート間の流体経路が前記主面と対向方向よりも前記主面と平行方向のほうが長く構成される本体と、該本体を加熱するヒータと、を備える気化システム。
【請求項１３】
気化器の下流に配置され、異なる位置に複数の穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚ずつ少なくとも一部を接着した状態で隣り合う穴が互いに重ならないように組み合わせて構成され、前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を気化補助するミストフィルタ。
【請求項１４】
気化器の下流に配置され、異なる位置に複数の穴を有する少なくとも２種のプレートを複数枚ずつ少なくとも一部を接着した状態で隣り合う穴が互いに重ならないように組み合わせて構成され、前記気化器での気化不良や再液化により発生した液滴を気化補助するミストフィルタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法、基板処理装置、気化システムおよびミストフィルタ
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月1日(2016.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多視点から撮影された複数の画像で構成される画像群を用いて撮影に係るパラメータを調整した加工画像を生成する画像生成手段と、
前記画像生成手段によって生成された加工画像の中から特定の被写体を認識する第１の画像認識手段と、
前記画像群に基づいて、当該画像群に出現する各被写体を認識する第２の画像認識手段と、
前記第１の画像認識手段による認識結果と、前記第２の画像認識手段による認識結果とを比較し、前記画像群における着目した被写体と着目しなかった被写体とを判定する判定手段と、
前記加工画像における前記判定手段による判定結果を含む属性情報を生成する属性生成手段と
を有する画像処理装置。
【請求項２】
前記画像生成手段は、さらに前記画像群を用いて所定の間隔で焦点調整を行って、複数の比較用の加工画像を生成し、
前記第２の画像認識手段は、前記複数の比較用の加工画像のそれぞれからすべての被写体を認識する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第２の画像認識手段は、被写体ごとに前記複数の比較用の加工画像の中で最も高い尤度を算出することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１の画像認識手段は、被写体ごとに尤度を算出することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
画像処理装置の制御方法であって、
画像生成手段が、多視点から撮影された複数の画像で表わされる画像群を用いて撮影に係るパラメータを調整した加工画像を生成する画像生成工程と、
第１の画像認識手段が、前記画像生成工程において生成された加工画像の中から特定の被写体を認識する第１の画像認識工程と、
第２の画像認識手段が、前記画像群に基づいて、当該画像群に出現する各被写体を認識する第２の画像認識工程と、
判定手段が、前記第１の画像認識工程における認識結果と、前記第２の画像認識工程における認識結果とを比較し、前記画像群における着目した被写体と着目しなかった被写体とを判定する判定工程と、
属性生成手段が、前記加工画像における前記判定工程の判定結果を含む属性情報を生成する属性生成工程と
を有することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項６】
コンピュータが読み込み実行することで、前記コンピュータに、請求項５に記載の方法の各工程を実行させるためのプログラムを格納したコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【請求項７】
多視点から撮影された画像群を用いて撮影に係るパラメータを調整した合成画像を生成する画像生成手段と、
前記画像生成手段によってユーザの操作により生成された合成画像から被写体を検出し認識する画像認識手段と、
前記画像認識手段による検出結果に基づいて、前記画像群における着目した被写体と着目しなかった被写体とを判定する判定手段と、
前記合成画像における前記判定手段による判定結果を含む属性情報を生成する属性生成手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項８】
前記画像群を用いて所定の間隔ごとに焦点調整を行って複数の比較用の合成画像を生成し、前記複数の比較用の合成画像のそれぞれから被写体を検出し認識する第２の画像認識手段を更に備え、
前記判定手段は、前記画像認識手段による検出結果と、前記第２の画像認識手段による検出結果とを比較し、前記画像群における着目した被写体と着目しなかった被写体とを判定することを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記所定の間隔は、前記画像群の焦点距離の分布により決定することを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記第２の認識手段は、深度幅を広くしたパンフォーカス画像を生成して被写体を検出し認識することを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記第２の認識手段は、被写体ごとに前記複数の比較用の合成画像の中で最も高い尤度を算出することを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記属性情報を前記合成画像または前記画像群の少なくともいずれか１つに付与することを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
画像処理装置の制御方法であって、
画像生成手段が、多視点から撮影された画像群を用いて撮影に係るパラメータを調整した合成画像を生成する画像生成工程と、
画像認識手段が、前記画像生成工程によってユーザの操作により生成された合成画像から被写体を検出し認識する画像認識工程と、
判定手段が、前記画像認識工程による検出結果に基づいて、前記画像群における着目した被写体と着目しなかった被写体とを判定する判定工程と、
属性生成手段が、前記合成画像における前記判定工程による判定結果を含む属性情報を生成する属性生成工程と
を有することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１４】
コンピュータが読み込み実行することで、前記コンピュータに、請求項１３に記載の方法の各工程を実行させるためのプログラムを格納した、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月26日(2016.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の回路と、
第２の回路と、
スイッチと、
トランジスタと、を有し、
前記第１の回路は、第１の信号を内部において無線で伝送する機能と、前記第１の信号に応じた電位を前記トランジスタのゲートに供給する機能と、を有し、
前記第２の回路は、第２の信号を内部において無線で伝送する機能と、前記第２の信号に応じた電位を前記スイッチに供給する機能と、を有し、
前記トランジスタは、電力の出力を制御する機能を有し、
前記スイッチは、前記第２の信号に応じた電位に従って、前記トランジスタのゲートとソース又はドレインの一方との間の導通状態を制御する機能を有する半導体装置。
【請求項２】
第１の回路と、
第２の回路と、
スイッチと、
トランジスタと、を有し、
前記第１の回路は、第１の信号を内部において無線で伝送する機能と、前記第１の信号に応じた電位を前記スイッチに供給する機能と、を有し、
前記第２の回路は、第２の信号を内部において無線で伝送する機能と、前記第２の信号に応じた電位を前記スイッチに供給する機能と、を有し、
前記トランジスタは、電力の出力を制御する機能を有し、
前記スイッチは、前記第２の信号に応じた電位に従って、前記トランジスタのゲートへの前記第１の信号の供給を制御する機能を有する半導体装置。
【請求項３】
第１の受光素子と、
第２の受光素子と、
第１のスイッチと、
第２のスイッチと、
トランジスタと、を有し、
前記第１の受光素子は、第１の信号を受信する機能を有し、
前記第２の受光素子は、第２の信号を受信する機能を有し、
前記トランジスタは、電力の出力を制御する機能を有し、
前記第２のスイッチは、前記第２の信号に従って前記トランジスタのゲートとソース又はドレインの一方との間の導通状態を制御する機能を有し、
前記第１のスイッチは、前記第１の受光素子によって与えられた前記トランジスタのゲートとソース又はドレインの一方との間の電位差を保持する機能を有する半導体装置。
【請求項４】
請求項３において、前記第１のスイッチが有するトランジスタは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含む半導体装置。
【請求項５】
請求項３または４において、前記第２のスイッチが有するトランジスタは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含む半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記トランジスタは、チャネル形成領域に酸化物半導体または酸化ガリウムを含む半導体装置。
【請求項７】
第１の受光素子と、
第２の受光素子と、
第１のトランジスタと、
第２のトランジスタと、
第３のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方に電気的に接続されており、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第１の受光素子の第２の電極に電気的に接続されており、
前記第１の受光素子の第１の電極は前記第３のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第２の受光素子の第１の電極に電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２の受光素子の第２の電極に電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第３のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方と、前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方と、前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方とは、互いに電気的に接続されている半導体装置。
【請求項８】
第１の受光素子と、
第２の受光素子と、
第１のトランジスタと、
第２のトランジスタと、
第３のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方に電気的に接続されており、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第１の受光素子の第１の電極に電気的に接続されており、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第３のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第２の受光素子の第１の電極に電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２の受光素子の第２の電極に電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第３のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
前記第１の受光素子の第２の電極と、前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方と、前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方とは、互いに電気的に接続されている半導体装置。
【請求項９】
請求項７または請求項８において、前記第１のトランジスタまたは前記第２のトランジスタは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含む半導体装置。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか一において、前記第３のトランジスタはチャネル形成領域に酸化物半導体または酸化ガリウムを含む半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月17日(2016.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置の画面の領域を構成する複数の分割領域のそれぞれについて、前記画面上のムラを補正する補正処理で使用する補正テーブルを記憶する記憶手段と、
前記画面上の位置毎に、前記記憶手段に記憶されている前記分割領域毎の補正テーブルのうち、その位置を含む分割領域の補正テーブルを含む少なくとも１つの補正テーブルを用いて、前記表示装置で表示する画像データに前記補正処理を施す補正手段と、
を有し、
前記画面の縁部に設定された分割領域は、前記画面の中央部に設定された分割領域よりも小さい
ことを特徴とするムラ補正装置。
【請求項２】
前記縁部は、前記画面の上端部を含む
ことを特徴とする請求項１に記載のムラ補正装置。
【請求項３】
前記縁部は、前記画面の下端部をさらに含む
ことを特徴とする請求項２に記載のムラ補正装置。
【請求項４】
前記上端部では、前記下端部よりも小さい分割領域が設定されている
ことを特徴とする請求項３に記載のムラ補正装置。
【請求項５】
前記縁部は、前記画面の左端部と右端部を含む
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のムラ補正装置。
【請求項６】
前記縁部は、前記画面の隅部を含む
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のムラ補正装置。
【請求項７】
前記隅部では、それ以外の縁部よりも小さい分割領域が設定されている
ことを特徴とする請求項６に記載のムラ補正装置。
【請求項８】
前記分割領域は、１色の画像データを前記表示装置で表示したときの前記画面上のムラに基づいて前記画面の領域を分割して得られる領域である
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のムラ補正装置。
【請求項９】
前記分割領域は、前記表示装置の温度分布に基づいて前記画面の領域を分割して得られる領域である
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のムラ補正装置。
【請求項１０】
前記補正手段は、前記補正処理の対象の位置が、その位置を含む分割領域と、他の分割領域との境界部分の位置である場合に、当該位置を含む分割領域の補正テーブルと、前記他の分割領域の補正テーブルとを用いて、前記補正処理を行う
ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のムラ補正装置。
【請求項１１】
表示装置の画面の領域を構成する複数の分割領域のそれぞれについて、前記画面上のムラを補正する補正処理で使用する補正テーブルが予め記憶された記憶部を有するムラ補正装置の制御方法であって、
前記表示装置で表示する画像データを入力するステップと、
前記画面上の位置毎に、前記記憶部に記憶されている前記分割領域毎の補正テーブルのうち、その位置を含む分割領域の補正テーブルを含む少なくとも１つの補正テーブルを用いて、前記画像データに前記補正処理を施す補正ステップと、
を有し、
前記画面の縁部に設定された分割領域は、前記画面の中央部に設定された分割領域よりも小さい
ことを特徴とするムラ補正装置の制御方法。
【請求項１２】
前記縁部は、前記画面の上端部を含む
ことを特徴とする請求項１１に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１３】
前記縁部は、前記画面の下端部をさらに含む
ことを特徴とする請求項１２に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１４】
前記上端部では、前記下端部よりも小さい分割領域が設定されている
ことを特徴とする請求項１３に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１５】
前記縁部は、前記画面の左端部と右端部を含む
ことを特徴とする請求項１１〜１４のいずれか１項に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１６】
前記縁部は、前記画面の隅部を含む
ことを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか１項に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１７】
前記隅部では、それ以外の縁部よりも小さい分割領域が設定されている
ことを特徴とする請求項１６に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１８】
前記分割領域は、１色の画像データを前記表示装置で表示したときの前記画面上のムラに基づいて前記画面の領域を分割して得られる領域である
ことを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか１項に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項１９】
前記分割領域は、前記表示装置の温度分布に基づいて前記画面の領域を分割して得られる領域である
ことを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか１項に記載のムラ補正装置の制御方法。
【請求項２０】
前記補正ステップでは、前記補正処理の対象の位置が、その位置を含む分割領域と、他
の分割領域との境界部分の位置である場合に、当該位置を含む分割領域の補正テーブルと、前記他の分割領域の補正テーブルとを用いて、前記補正処理を行う
ことを特徴とする請求項１１〜１９のいずれか１項に記載のムラ補正装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のムラ補正装置は、
表示装置の画面の領域を構成する複数の分割領域のそれぞれについて、前記画面上のムラを補正する補正処理で使用する補正テーブルを記憶する記憶手段と、
前記画面上の位置毎に、前記記憶手段に記憶されている前記分割領域毎の補正テーブルのうち、その位置を含む分割領域の補正テーブルを含む少なくとも１つの補正テーブルを用いて、前記表示装置で表示する画像データに前記補正処理を施す補正手段と、
を有し、
前記画面の縁部に設定された分割領域は、前記画面の中央部に設定された分割領域よりも小さい
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明のムラ補正装置の制御方法は、
表示装置の画面の領域を構成する複数の分割領域のそれぞれについて、前記画面上のムラを補正する補正処理で使用する補正テーブルが予め記憶された記憶部を有するムラ補正装置の制御方法であって、
前記表示装置で表示する画像データを入力するステップと、
前記画面上の位置毎に、前記記憶部に記憶されている前記分割領域毎の補正テーブルのうち、その位置を含む分割領域の補正テーブルを含む少なくとも１つの補正テーブルを用いて、前記画像データに前記補正処理を施す補正ステップと、
を有し、
前記画面の縁部に設定された分割領域は、前記画面の中央部に設定された分割領域よりも小さい
ことを特徴とする。