【事件の表示】
　特願２０１０−２３６４２１「有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年６月２３日出願公開，特開２０１１−１２４２１９〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特願２０１０−２３６４２１号（優先権主張　平成２１年１２月１０日　大韓民国，以下「本件出願」という。）は，平成２２年１０月２１日の特許出願であって，その手続の概要は，以下のとおりである。
平成２６年　６月２５日付け：拒絶理由通知書（同年７月１日発送）
平成２６年　９月３０日差出：意見書
平成２６年　９月３０日差出：手続補正書
平成２６年１１月１２日付け：拒絶理由通知書（同年同月１８日発送）
（以下，この拒絶理由通知書による拒絶の理由を，「原査定の拒絶の理由」という。）
平成２７年　３月　５日差出：意見書
平成２７年　３月　５日差出：手続補正書
平成２７年　８月　７日付け：拒絶査定（同年同月１８日送達）
（以下「原査定」という。）
平成２７年１２月１７日差出：審判請求書
平成２７年１２月１７日差出：手続補正書
（以下，この手続補正書による補正を「本件補正」という。）
第２　補正の却下の決定
［結論］
　本件補正を却下する。
［理由］
　１　補正の内容
　(1) 本件補正前の特許請求の範囲の請求項１の記載は，以下のとおりである（以下，この記載に係る発明を，「本願発明」という。）。
「　基板と，
　前記基板上に配されるディスプレイ部と，
　前記ディスプレイ部の上部に配される封止基板と，
　前記基板と前記封止基板とを接合させるシーラントと，
　パッシベーション膜，前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に形成されるゲッターと，を備え，
　前記ゲッターは，前記パッシベーション膜上に形成され，
　前記空間は前記ディスプレイ部を含まない有機発光ディスプレイ装置。」
　(2) 本件補正後の特許請求の範囲の請求項１の記載は，以下のとおりである（以下，この記載に係る発明を，「本件補正後発明」という。）。なお，下線は当合議体が付したものであり，補正箇所を示す。
「　基板と，
　前記基板上に配されるディスプレイ部と，
　前記ディスプレイ部の上部に配される封止基板と，
　前記基板と前記封止基板とを接合させるシーラントと，
　
前記ディスプレイ部の全体を覆うように形成されるパッシベーション膜と，
　前記
　前記ゲッターは，前記パッシベーション膜上に形成され，
　前記空間は前記ディスプレイ部を含ま
ず，
　前記パッシベーション膜によって前記ゲッターと前記ディスプレイ部は接しない
　(3) 本件補正について
　本件補正は，本願発明の「パッシベーション膜」，「ディスプレイ部」及び「ゲッター」の構成（位置関係）を，本件出願の願書に最初に添付した明細書の段落【００１０】に記載された事項及び【図３】から看取される事項，並びに，技術常識に基づいて，「前記ディスプレイ部の全体を覆うように形成されるパッシベーション膜」及び「前記パッシベーション膜によって前記ゲッターと前記ディスプレイ部は接しない」に限定するものである。
　また，本願発明と本件補正後発明の，産業上の利用分野及び解決しようとする課題は，「酸素または水分のような外部の不純物の浸透が防止された有機発光ディスプレイ装置…に関する。」（段落【０００１】）及び「酸素または水分のような外部の不純物の浸透が防止された有機発光ディスプレイ装置…を提供することである。」（段落【０００６】）という点において，同一である。
　したがって，本件補正は，特許法１７条の２第３項に規定する要件を満たすとともに，同条５項２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そこで，本件補正後発明が特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反しないか（特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか）について，以下，検討する。
　２　独立特許要件について
　(1) 引用例の記載
　本件出願の優先権主張の日（以下「優先日」という。）前に頒布され，原査定の拒絶の理由において引用文献１として引用された刊行物である，特開２００２−８８５２号公報（【公開日】平成１４年１月１１日，【発明の名称】有機エレクトロルミネッセント素子，【出願番号】特願２０００−１８４００９号，【出願日】平成１２年６月２０日，【出願人】大日本印刷株式会社，以下「引用例１」という。）には，以下の事項が記載されている。なお，下線は当合議体が付したものであり，引用発明の認定に利用した記載箇所を示す。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】　
基体と，この基体表面上に形成された第１電極層と，この第１電極層上に形成された有機エレクトロルミネッセント層と，この有機エレクトロルミネッセント層を前記第１電極層と挟むように上記有機エレクトロルミネッセント層上に形成された第２電極層と，前記有機エレクトロルミネッセント層を密封するように形成された密封部材とを少なくとも有し，前記密封部材により密封された空間内のいずれかの位置に，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有する脱酸素脱水部が形成され
…（省略）…
【請求項４】　
前記脱酸素脱水部が，前記有機エレクトロルミネッセント層を介して基体と反対側の位置に形成され
…（省略）…
【請求項９】　
前記脱酸素脱水部が，前記第２電極層上および前記密封部材内面に形成されている
エレクトロルミネッセント素子。
　イ　「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，各種情報産業機器のディスプレーや発光素子等に好適に用いられる有機エレクトロルミネッセント素子に関し，特に長期にわたって安定した発光特性を維持する有機エレクトロルミネッセント素子に関するものである。」
　ウ　「【０００２】
【従来の技術】近年，大きな占有面積と大きな重量を有するＣＲＴ（Cathode-Ray-Tube）ディスプレイに代わるディスプレイとして，フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が実用化されている。そして，ＦＰＤとしては，例えば，液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が各種携帯型電子機器やノート型パソコンや小型テレビのディスプレイとして一般に広く普及しているとともに，プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のＬＣＤ以外のＦＰＤも実用化されている。
【０００３】そのようなＦＰＤの一つとして，エレクトロルミネッセント（以下，ＥＬと省略する場合がある。）ディスプレイがあり，ＥＬディスプレイは，比較的古くから開発が進められているが，フルカラー化や輝度や寿命などの点に課題があり，未だあまり普及していない。
…（省略）…
【０００５】このような有機ＥＬ素子は，連続または不連続に一定期間駆動した場合，発光輝度，発光効率および発光の均一性等の発光特性が初期の場合に比べ著しく低下することが知られている。このような発光特性の劣化の原因としては，有機ＥＬ素子内に侵入した酸素による電極の酸化，駆動時の発熱による有機材料の酸化分解，また，有機ＥＬ素子内に侵入した空気中に水分による電極の酸化，有機物の変性等を挙げることができる。さらに酸素や水分の影響で構造体の界面が剥離したり，駆動時の発熱や駆動時の環境が高温であったこと等が引き金となって，各構成要素の熱膨張率の違いにより構造体の界面で応力が発生し，界面が剥離する等の構造体の機械的劣化等をその原因として挙げることができる。
…（省略）…
【０００８】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は，上記問題点に鑑みてなされたものであり，単一の部材により脱酸素および脱水を行うことが可能であり，薄膜化等に対しても十分に対応可能な有機ＥＬ素子を提供することを主目的とするものである。」
　エ　「【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために，本発明は，請求項１に記載するように，基体と，この基体表面上に形成された第１電極層と，この第１電極層上に形成された有機ＥＬ層と，この有機ＥＬ層を上記第１電極層と挟むように上記有機ＥＬ層上に形成された第２電極層と，上記有機ＥＬ層を密封するように形成された密封部材とを少なくとも有し，上記密封部材により密封された空間内のいずれかの位置に，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有する脱酸素脱水部が形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子を提供する。
…（省略）…
【００１４】上記請求項４に記載する場合において，脱酸素脱水部を形成する部位としては，請求項５に記載するように，上記第２電極層上，もしくは，請求項８に記載するように，上記密封部材内面であることが好ましい。上述したように有機ＥＬ層を介して基体と反対側の位置に脱酸素脱水部を形成する場合は，上記第２電極層上および密封部材内面が主たる形成部位となるからである。さらにこの場合は，請求項９に記載するように，上記脱酸素脱水部が，上記第２電極層上および上記密封部材内面に形成されていてもよい。両方に形成することにより，さらに脱酸素および脱水の効果を向上させることができるからである。」
　オ　「【００１９】（脱酸素脱水部）本発明の特徴は，上述したように，有機ＥＬ層を密封するように形成された空間内のいずれかの位置に脱酸素脱水部を形成したところにあり，この脱酸素脱水部は，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有するものである。このアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属は，酸素および水の両者と反応するものであるので，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有する脱酸素脱水部を形成することにより，酸素および水の両者を密封部材により密封された空間内から除去することが可能となる。
【００２０】本発明に用いることができるアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属としては，これに属する金属，すなわち，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｆｒ，Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｒａ等を挙げることができるが，中でも反応性や取扱性等を考慮すると，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｃａ，Ｓｒ，およびＢａからなる群から選択される少なくとも１種の金属が好ましい。
【００２１】本発明に用いられる脱酸素脱水部は，上記アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有するものであれば特に限定されるものでなく，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属以外のもの，例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属が表面に蒸着された多孔質体等が含まれたものであってもよいが，一般的には，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のみで構成されたものが用いられる。
【００２２】このような脱酸素脱水部の形成方法としては，例えば，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の微粒子等を，酸素および水分子を通過させることができる程度の微細な孔を有するフィルム内に充填して取り付ける方法や，多孔質担体表面にアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を真空蒸着等により付着させ，これを接着させる方法等，密封部材により密封された空間内に上記脱酸素脱水部を配置することができる方法であれば特に限定されるものではない。しかしながら，近年の有機ＥＬ素子に対する薄型化，フィルム化等の要請に対応することが可能である点等を考慮すると，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を密封部材により密封された空間内のいずれかの位置に真空蒸着させる方法により形成する方法が好ましい。このように真空蒸着させることにより，脱酸素脱水部の薄膜化が可能となり，有機ＥＬ素子を薄膜化もしくはフィルム化する場合においても，脱酸素脱水部の形成に際して問題が生じることがないからである。」
　カ　「【００２８】さらに，脱酸素脱水部を第２電極層上に形成する場合は，図３に示すように，第２電極層４上に絶縁層８を形成し，この絶縁層８上に脱酸素脱水部７を形成するようにしてもよい。このように絶縁層８を形成するようにすれば，ショート等の不具合が生じる可能性が低いことから，脱酸素脱水部７の形成位置が絶縁層上であれば特に限定する必要がなくなる。したがって，脱酸素脱水部の形成位置の自由度が大きくなることから，有機ＥＬ素子自体の設計の自由度が向上するといった利点がある。また絶縁層を広範囲に設けるようにすれば，脱酸素脱水部の表面積を広く形成することが可能となるので，脱酸素脱水部の脱酸素および脱水の能力を向上させることが可能となる。」
（当合議体注：図３は，以下の図である。）
　キ　「【００２９】上記絶縁層に用いることができる材料としては，絶縁性を有するものであれば特に限定されるものでなく，具体的には，例えば，ＳｉＯ，ＳｉＯ2，ＧｅＯ，ＧｅＯ2，Ｓｉ3Ｎ4，Ａｌ2Ｏ3，Ａｌ2Ｏ3＋ＳｉＯ2，ＣｅＦ3，ＣｅＯ3，ＺｎＳ，Ｔａ2Ｏ5，Ｔａ2Ｏ3＋ＳｉＯ，ＴｉＯ2，ＨｆＯ2，Ｌａ2Ｏ3，Ｎｂ2Ｏ5，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＰＺＴ，ＢａＴｉＯ3，ＰｂＴｉＯ3，ＬｉＦ，ＮａＦ，ＫＦ，ＲｂＦ，ＢｅＦ2，ＭｇＦ2，ＣａＦ2，ＳｒＦ2，ＢａＦ2，パリレン，ポリカーボネート，ポリエステル，ポリアミド，ポリイミド，エポキシ樹脂，ウレタン樹脂，シリコン樹脂，ダイヤモンド，酸化ナトリウム（Ｎａ2Ｏ），酸化カリウム（Ｋ2Ｏ），酸化カルシウム（ＣａＯ），酸化バリウム（ＢａＯ），酸化マグネシウム（ＭｇＯ），硫酸リチウム（Ｌｉ2ＳＯ4），硫酸ナトリウム（Ｎａ2ＳＯ4），硫酸カルシウム（ＣａＳＯ4），硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ4），硫酸コバルト（ＣｏＳＯ4），硫酸ガリウム（Ｇａ2（ＳＯ4）3），硫酸チタン（Ｔｉ（ＳＯ4）2），硫酸ニッケル（ＮｉＳＯ4），塩化カルシウム（ＣａＣｌ2），塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ2），塩化ストロンチウム（ＳｒＣｌ2），塩化イットリウム（ＹＣｌ3），塩化銅（ＣｕＣｌ2），ふっ化セシウム（ＣｓＦ），ふっ化タンタル（ＴａＦ5），ふっ化ニオブ（ＮｂＦ5），臭化カルシウム（ＣａＢｒ2），臭化セリウム（ＣｅＢｒ3），臭化セレン（ＳｅＢｒ4），臭化バナジウム（ＶＢｒ2），臭化マグネシウム（ＭｇＢｒ2），よう化バリウム（ＢａＩ2），よう化マグネシウム（ＭｇＩ2），過塩素酸バリウム（Ｂａ（ＣｌＯ4）2），過塩素酸マグネシウム（Ｍｇ（ＣｌＯ4）2）等が挙げられる。これらは，単独あるいは複合膜として使用できる。
【００３０】このような絶縁層の形成方法は，特に限定されるものではなく，用いる材質に応じて，湿式塗布法や蒸着法等種々の方法により形成することができる。」
　(2) 引用発明
　引用例１には，請求項９に係る発明として，次の発明が記載されている（以下「引用発明」という。）。
「　基体と，この基体表面上に形成された第１電極層と，この第１電極層上に形成された有機エレクトロルミネッセント層と，この有機エレクトロルミネッセント層を前記第１電極層と挟むように上記有機エレクトロルミネッセント層上に形成された第２電極層と，前記有機エレクトロルミネッセント層を密封するように形成された密封部材とを少なくとも有し，前記密封部材により密封された空間内のいずれかの位置に，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有する脱酸素脱水部が形成され，
　前記脱酸素脱水部が，前記有機エレクトロルミネッセント層を介して基体と反対側の位置に形成され，
　前記脱酸素脱水部が，前記第２電極層上および前記密封部材内面に形成されている，
　有機エレクトロルミネッセント素子。」
　(3) 対比
　ア　基板
　引用発明の「有機エレクトロルミネッセント素子」は，「基体と，この基体表面上に形成された第１電極層と，この第１電極層上に形成された有機エレクトロルミネッセント層と，この有機エレクトロルミネッセント層を前記第１電極層と挟むように上記有機エレクトロルミネッセント層上に形成された第２電極層」を具備する。ここで，引用発明の「基体」は，「第１電極層」，「有機エレクトロルミネッセント層」及び「第２電極層」の基礎となるものであり，また，層の基礎となる形状であるから，板状のものである。
　したがって，引用発明の「基体」は，本件補正後発明の「基板」に相当する。
　イ　ゲッター
　引用発明の「有機エレクトロルミネッセント素子」は，「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有する脱酸素脱水部」を具備する。
　また，本件補正後発明の「ゲッター」は，「ゲッターとは，真空装置内に残っているガスを吸収するか，またはそのガスとの化合物を作る物質を称す。」（段落【００３６】）とされ，具体的には，アルカリ土類金属に属する物質であるＢａ等が例示されている（段落【００３７】）。
　したがって，引用発明の「脱酸素脱水部」と，本件補正後発明の「ゲッター」は，「ゲッター手段」の点で共通する。
　ウ　有機発光ディスプレイ装置
　引用発明全体の構成と本件補正後発明の全体の構成からみて，引用発明の「有機エレクトロルミネッセント素子」と本件補正後発明の「有機発光ディスプレイ装置」は，「有機発光装置」の点で共通する。
　(4) 一致点及び相違点
　ア　一致点
　本件補正後発明と引用発明は，次の構成において一致する。
「基板と，
　ゲッター手段とを備える，
　有機発光装置。」
　イ　相違点
　本件補正後発明と引用発明は，以下の点で，（一応）相違する。
（相違点１）
　本件補正後発明は，「基板上に配されるディスプレイ部」を具備するのに対して，引用発明は，基体上に形成されるものが，ディスプレイ部であるとは特定されていない点。
（相違点２）
　本件補正後発明は，「前記ディスプレイ部の上部に配される封止基板と，前記基板と前記封止基板とを接合させるシーラント」を具備するのに対して，引用発明は，「前記ディスプレイ部の上部に配される封止基板と，前記基板と前記封止基板とを接合させるシーラント」を具備するとは特定されていない点。
（相違点３）
　本件補正後発明は，「前記ディスプレイ部の全体を覆うように形成されるパッシベーション膜」を具備するのに対して，引用発明は，「前記ディスプレイ部の全体を覆うように形成されるパッシベーション膜」を具備するとは特定されていない点。
（相違点４）
　本件補正後発明は，「前記パッシベーション膜，前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に形成されるゲッター」を具備し，「前記ゲッターは，前記パッシベーション膜上に形成され，前記空間は前記ディスプレイ部を含まず，前記パッシベーション膜によって前記ゲッターと前記ディスプレイ部は接しない」のに対して，引用発明は，「前記パッシベーション膜，前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に形成されるゲッター」を具備するとは特定されておらず，また，「前記ゲッターは，前記パッシベーション膜上に形成され，前記空間は前記ディスプレイ部を含まず，前記パッシベーション膜によって前記ゲッターと前記ディスプレイ部は接しない」とも特定されていない点。
　(5) 判断
　ア　相違点１について
　引用例１の段落【０００１】には，発明の属する技術分野として，「本発明は，各種情報産業機器のディスプレーや発光素子等に好適に用いられる有機エレクトロルミネッセント素子…に関するものである。」と記載されている。また，引用例１の段落【０００２】及び【０００３】には，従来の技術として，「近年，大きな占有面積と大きな重量を有するＣＲＴ（Cathode-Ray-Tube）ディスプレイに代わるディスプレイとして，フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が実用化されている。…そのようなＦＰＤの一つとして，エレクトロルミネッセント（以下，ＥＬと省略する場合がある。）ディスプレイがあり，ＥＬディスプレイは，比較的古くから開発が進められているが，フルカラー化や輝度や寿命などの点に課題があり，未だあまり普及していない。」と記載されている。
　これら記載からみて，引用発明は，有機エレクトロルミネッセントディスプレイを前提とした発明といえるから，引用発明の「基体表面上に形成された第１電極層と，この第１電極層上に形成された有機エレクトロルミネッセント層と，この有機エレクトロルミネッセント層を前記第１電極層と挟むように上記有機エレクトロルミネッセント層上に形成された第２電極層」（以下「有機ＥＬ部」という。）は，当業者からみれば，ディスプレイ部を表すものといえる。あるいは，引用例１の記載に接した当業者において，引用発明の有機ＥＬ部をディスプレイ部として具体化することは，当然のことにすぎない。
　相違点１は，相違点ではないか，あるいは，相違点１に係る構成は，当業者が当然採用する構成にすぎない。
　イ　相違点２について
　引用発明は「密封部材」の構成を具備するところ，引用例１の段落【０００５】には，従来の技術として，「有機ＥＬ素子は，連続または不連続に一定期間駆動した場合，発光輝度，発光効率および発光の均一性等の発光特性が初期の場合に比べ著しく低下することが知られている。このような発光特性の劣化の原因としては，有機ＥＬ素子内に侵入した酸素による電極の酸化，駆動時の発熱による有機材料の酸化分解，また，有機ＥＬ素子内に侵入した空気中に水分による電極の酸化，有機物の変性等を挙げることができる。」と記載されている。また，引用例１の段落【０００８】には，発明が解決しようとする課題として，「本発明は，上記問題点に鑑みてなされたものであり，単一の部材により脱酸素および脱水を行うことが可能であり，薄膜化等に対しても十分に対応可能な有機ＥＬ素子を提供することを主目的とするものである。」と記載されている。
　これら記載からみて，引用発明の「密封部材」は酸素及び水分が外部から侵入しないようにするための気密封止手段と理解されるところ，高い気密封止性能が得られる手段として，封止基板又は有機ＥＬ素子基板に低融点ガラス等からなるシーラントを立設したものを，有機ＥＬ素子基板又は封止基板にレーザー等により接合することは，本件出願の優先日時点の当業者における周知慣用技術である（以下「周知慣用技術」という。必要ならば，特表２００６−５２４４１９号公報の段落【０００９】〜【００１３】等，特開２００３−３３２０６１号公報の【請求項１】，特開２００７−２００８５８号公報の【請求項１５】，特開２００４−１２７６０７号公報の段落【００４９】及び【００８３】，特開２００３−１２３９６６号公報の【請求項８】を参照。）。
　また，「ディスプレイ部」に関しては，上記アで述べたとおりである。
　したがって，引用発明の具体化にともない，周知慣用技術の構成を密封部材として採用することは，高い気密封止性能を得ようとする当業者が当然採用する構成にすぎない。
　相違点２に係る構成は，引用発明の具体化にともない当業者が当然採用する構成にすぎない。
　ウ　相違点３及び相違点４について
　引用発明は，「前記第２電極層上および前記密封部材内面に形成されている」，「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を有する脱酸素脱水部」の構成を具備するところ，引用例１の段落【００２２】には，「近年の有機ＥＬ素子に対する薄型化，フィルム化等の要請に対応することが可能である点等を考慮すると，アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を密封部材により密封された空間内のいずれかの位置に真空蒸着させる方法により形成する方法が好ましい。」と記載されている。また，引用例１の段落【００１４】及び段落【００２８】には，それぞれ「請求項９に記載するように，上記脱酸素脱水部が，上記第２電極層上および上記密封部材内面に形成されていてもよい。両方に形成することにより，さらに脱酸素および脱水の効果を向上させることができるからである。」及び「脱酸素脱水部を第２電極層上に形成する場合は，図３に示すように，第２電極層４上に絶縁層８を形成し，この絶縁層８上に脱酸素脱水部７を形成するようにしてもよい。…また絶縁層を広範囲に設けるようにすれば，脱酸素脱水部の表面積を広く形成することが可能となるので，脱酸素脱水部の脱酸素および脱水の能力を向上させることが可能となる。」と記載されている。
　これら記載からみて，引用発明において，有機ＥＬ部や基体上の配線等をくまなく覆うように絶縁層を形成した上で，絶縁層及び密封部材内面の全表面に脱酸素脱水部を形成することにより，脱酸素及び脱水の効果を最大限度まで向上させることは，引用例１の記載が示唆するところである。また，当合議体は上記イのとおり判断したところ，例えば，(A)特開２００３−２１７８３４号公報（以下「周知例１」という。）の段落【００５４】及び【００５５】には，隔壁１３０及び第２電極６６のそれぞれ端部を含む，アレイ基板１００の表面全体を覆うように乾燥剤を配置する構成が記載され，(B)特開２００３−２１７８３１号公報（以下「周知例２」という。）の段落【００１４】には，封止キャップの内面全体に乾燥剤層１２及び１３を設ける構成が開示され，(C)特開２００１−３０７８７２号公報（以下「周知例３」という。）の段落【００１８】には，封止剤７と同じ高さで枠状に配置された除去剤８の構成が開示されている。
　そうしてみると，周知例１〜３を心得た当業者が，上記イの周知慣用技術の構成を採用するにともない，有機ＥＬ部や基体上の配線等をくまなく覆うように絶縁層を形成した上で，絶縁層，封止基板及びシーラントによって形成される空間の内側壁面全体に脱酸素脱水部を形成することは，引用例１の記載が示唆する範囲内の創意工夫にすぎない。また，このようにしてなるものは，脱酸素脱水部が，絶縁層上に形成され，空間は有機ＥＬ部を含まず，絶縁層によって脱酸素脱水部と有機ＥＬ部は接しないものとなる。
　加えて，絶縁層に関して，引用例１の段落【００２８】及び【００２９】には，それぞれ「絶縁層８を形成するようにすれば，ショート等の不具合が生じる可能性が低い」及び「上記絶縁層に用いることができる材料としては，…ＳｉＯ2，…Ｓｉ3Ｎ4，…ポリイミド，…等が挙げられる。」と記載されている。また，本件補正後発明の「パッシベーション膜」に関して，本件出願の発明の詳細な説明の段落【００３２】には，「ディスプレイ部２００の上部には，パッシベーション膜４２０が形成される。前記パッシベーション膜４２０は，アクリル，ポリイミド，ＢＣＢ(Ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ)のような有機物質で形成されることもあり，ＳｉＯ２，ＳｉＮｘのような無機物質で形成されることもある。」と記載されている。
　そうしてみると，材料の面からみて，引用例１に記載された絶縁層は，本件補正後発明の「パッシベーション層」に相当するものといえる。あるいは，機能的にみても，引用例１に記載された絶縁層は，有機ＥＬ部を保護する層といえるものであるから，「パッシベーション層」といえる。
　以上のとおりであるから，引用発明において，相違点３及び相違点４に係る構成を採用することは，当業者における，引用例１の記載が示唆する範囲内の創意工夫にすぎない。
　(6) 効果について
　本件補正後発明の効果に関して，本件出願の発明の詳細な説明の段落【００１９】には，「本発明の有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法によれば，酸素または水分のような外部の不純物の浸透が防止されうる。」と記載されている。
　本件補正後発明の効果は，引用発明が奏する効果にすぎないか，少なくとも，引用発明の記載が示唆する範囲内において，予測可能な効果にすぎない。
　(7) 請求人の主張について
　請求人は，審判請求書の「（３）拒絶査定に対する意見」において，以下のとおり主張する。
　「指摘された引用文献のいずれにおいても，パッシベーション膜とディスプレイ部とゲッターとの関係，すなわちパッシベーション膜によってゲッターとディスプレイ部は接しない構成である，補正後の独立請求項である請求項１における「前記パッシベーション膜によって前記ゲッターと前記ディスプレイ部は接しない」点…については全く言及していません。」
　しかしながら，引用例１の段落【００２８】及び【００２９】等には絶縁層が開示されている。そして，引用発明において上記(5)ウの如く創意工夫してなるものは，絶縁層（「パッシベーション層」に相当）によって脱酸素脱水部と有機ＥＬ部が接しない構成となる。
　したがって，請求人の主張は採用できない。
　(8) 小括
　本件補正後発明は，引用例１に記載された発明及び周知慣用技術に基づいて，当業者が容易に発明できたものであるから，特許法２９条２項の規定により，特許出願の際に独立して特許を受けることができない。
　３　補正却下のまとめ
　本件補正は，特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するものである。
　したがって，本件補正は，同法１５９条１項の規定において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。
第３　本願発明について
　１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので，本件出願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（本願発明）は，前記「第２」１(1)に記載のとおりのものである。
　２　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は，概略，本願発明は，本件出願の優先日前に日本国又は外国において頒布された引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて，本件出願の優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
　３　引用例１に記載の事項及び引用発明について
　引用例１に記載の事項，並びに，引用発明については，前記「第２」２(1)及び(2)に記載したとおりである。
　４　対比及び判断
　本願発明は，本件補正後発明の「パッシベーション膜」，「ディスプレイ部」及び「ゲッター」の構成（位置関係）について，「前記ディスプレイ部の全体を覆うように形成されるパッシベーション膜」及び「前記パッシベーション膜によって前記ゲッターと前記ディスプレイ部は接しない」という限定を削除したものである。
　そうしてみると，本願発明の構成に，さらに前記限定を付加した発明である本件補正後発明が，引用例１に記載された発明及び周知慣用技術に基づいて，当業者が容易に発明できたものであるから，本願発明も，同様に，引用例１に記載された発明及び周知慣用技術に基づいて，当業者が容易に発明できたものである。
第４　まとめ
　以上のとおりであるから，本願発明は，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって，他の請求項に係る発明について審理するまでもなく，本件出願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。