(57)【要約】  蒸留によりフィッシャー・トロプシュ生成物を処理する新規方法を開示した。このような方法により、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れから可溶性(及び超微細粒子)汚染物、汚染薬剤、および／または詰まり前駆体の除去ができ、引き続いての水素化処理工程での触媒床の詰まりを実質的に回避できた。
2007521376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れから汚染物を除去する方法であって：
ａ）フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れをろ過して、ろ過済み流れを作り；
ｂ）前記ろ過済み炭化水素流れを少なくとも1つの蒸留工程に通してろ過済み炭化水素流れから汚染物を除去し、この蒸留工程は蒸留留分生成物流れと塔底流れを生成させ、しかも、実質上、汚染物をその塔底留分中に濃縮させ；そして
ｃ）ろ過済み炭化水素流れの約35体積％より少ない量の塔底留分を蒸留工程から回収する；
ことを含む方法。
【請求項２】
前記塔底留分量がろ過済み炭化水素流れの約15体積％より少ない、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記ろ過工程で約10ミクロンより大きいか、等しい平均サイズを持つ微粒子が除去される、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記ろ過工程で約1ミクロンより大きいか、等しい平均サイズを持つ微粒子が除去される、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記蒸留工程が真空蒸留塔で実施される、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記汚染物がフィッシャー・トロプシュ触媒に由来する、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
前記蒸留工程で、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れからフィッシャー・トロプシュ触媒に由来する可溶性汚染物が除去される、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
前記可溶性汚染物がアルミニウム、コバルト、チタン及び鉄からなる群から選択される物質を含む、請求項7に記載の方法。
【請求項９】
ろ過済み炭化水素流れ中に存在する汚染物の少なくとも約70重量％が塔底留分中に分離される、請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
ろ過済み炭化水素流れ中に存在する汚染物の少なくとも約85重量％が塔底留分中に分離される、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
前記フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れがC3+生成物である、請求項1に記載の方法。
【請求項１２】
前記蒸留生成物流れを、水素化処理触媒を有する水素化処理反応器に通すことをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１３】
前記蒸留工程が第一蒸留工程と第二蒸留工程から構成され、第一蒸留工程では第一塔頂流れと第一塔底流れが作られ、第二蒸留工程では第二塔頂流れと第二塔底流れが作られる、請求項1に記載の方法。
【請求項１４】
前記第一塔頂流れが約800〜950°F未満の沸点範囲を持ち、そして、前記第一塔底流れが約800〜950°Fより大きな沸点範囲を持つ、請求項13に記載の方法。
【請求項１５】
前記第一塔頂流れが水素化処理反応器に受け渡され、そして前記第一塔底流れが前記第二蒸留工程に受け渡される、請求項13に記載の方法。
【請求項１６】
前記第二蒸留工程が真空蒸留を含み、そして前記第二塔底流れが約1000°Fより大きな初期沸点を有する、請求項13に記載の方法。
【請求項１７】
前記第二塔頂流れが水素化処理反応器に受け渡される、請求項13に記載の方法。
【請求項１８】
前記第二塔底流れが、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れの約15体積％より少ない、請求項13に記載の方法。
【請求項１９】
原油中に第二塔底流れを調合すること、第二塔底流れを第三蒸留工程に受け渡すこと、前記塔底流れを燃料に加工すること、及び第二塔底流れをリサイクル工程にリサイクルすることからなる群から選択される処理法でさらに第二塔底流れを処理する工程を含む、請求項13に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の参照）
この出願は、Lucy M. Bull, William Schinski, Donald L. Kuehne,Rudi HeydenrichおよびRichard O. Moore, Jr.による米国特許出願番号10/613,422号、発明の名称「フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れの酸処理」；Jerome F. Mayer, Andrew RainisおよびRichard O. Moore, Jr.による米国特許出願番号10/61 3,058号、発明の名称「フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れの触媒ろ過」；そして、Lucy M. BullおよびDonald L. Kuehneによる米国特許出願番号10/613,421号、発明の名称「フィッシャー・トロプシュ炭化水素流れを処理するためのイオン交換法」を参照することにより、そっくりそのまま組み入れる。
（１．発明の分野）
この発明は、概して、フィッシャー・トロプシュ合成反応に由来する生成物の水素化処理に関する。さらに具体的には、この発明の実施態様は、炭化水素流れを後続処理過程に通す前に、汚染物をフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れから効果的に取り除くために考案された蒸留手段に関する。
【背景技術】
【０００２】
（２．背景技術）
現在使用されている燃料の大半は原油に由来するのものであるが、原油の供給量には制限がある。しかしながら、炭化水素燃料、潤滑油、化学薬品、及び諸化学原料を製造しうる代替原料は存在し； この供給原料として天然ガスがある。燃料などの製造に天然ガスを利用するための1つの方法として、第一に、天然ガスをシンガス(別名、合成ガス)として知られている「中間体」、すなわち、一酸化炭素 (CO) と水素 (H2)の混合物に変換し、そしてそのシンガスをフィッシャー・トロプシュ (FT:Fischer-Tropsch)合成として知られているプロセスを使って、所望の液体燃料(類) に変えることが挙げられる。天然ガスが液体燃料に変換されるので、フィッシャー・トロプシュ反応は、いわゆる、ガス→液体(GTL)プロセスの一例である。一般に、フィッシャー・トロプシュ反応はスラリー床あるいは流動床反応器で実施され、その炭化水素生成物はメタン(C1)からワックス(C20+)までの広いスペクトルの分子量を有している。
【０００３】
次いで、このフィッシャー・トロプシュ生成物は通常、またワックスは特別に、化学中間体、化学原料、ナフサ、ジェット燃料、ディーゼル油、及び潤滑油基材料などの製品に変換することができる。例えば、フィッシャー・トロプシュ生成物の水素化処理は、水素化処理反応器への供給原料が水素 (H2)あるいは水素に富んだガスとフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れで構成されているトリクルフロー固定触媒床反応器で実施できる。この水素化処理工程は、水素に富んだ流れと共に、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れを水素化処理反応器内の１つ以上の触媒床に通すことで達成される。
【０００４】
ある場合には、水素化処理される原料は上流処理工程に起源する汚染物を含んでいる。これらの汚染物は、溶解形態または触媒微粉、触媒担体材料、上流処理装置からのさびやスケールなどの微粒子形態をとることができる。フィッシャー・トロプシュワックス及び重質生成物、特にスラリー及び流動床プロセスからの生成物は、その目的のために設けられたフィルターでは適切に取り除くことができない微粒子汚染物(触媒微粉のような)を含んでいることがある。水素化処理工程前にそれらの微粒子を除去することは、フィッシャー・トロプシュ反応器から出てくるワックス流れの潜在的な高粘性と高温のため、困難である。
【０００５】
水素化処理反応器で使われる典型的な触媒は、有限なサイクルタイム、すなわち、それが新しい触媒装填物と交換されなければならない前までの有効一定時間(あるいは量)を示す。このサイクルタイムの継続時間は、通常、およそ6 ヶ月から 4 年またはそれ以上である。この分野の熟練者にとって、水素化処理触媒のサイクルタイムが長いほど、プラントの作業効率がより良いことは明白である。
【０００６】
可溶性および/または微粒子状汚染物は、もしそれらが供給原料と共に水素化処理反応器に導入される場合、深刻な問題を起こしかねない。溶解性汚染物は、水素化処理のある条件下で、溶液から沈殿して微粒子になる時、問題を引き起こす。汚染物蓄積が触媒の表面及び隙間で増えるにつれ、汚染物は触媒床を通る流路の部分的詰まりあるいは完全な詰まりさへも引き起こしかねない。事実上、前記触媒ペレットは微粒子汚染を供給原料からろ過する。供給原料中に同伴された崩壊堆積物の捕獲に加えて、この触媒床は水素化処理反応自体からの反応副産物(反応副産物の例としてコークス)も同様に捕獲しうる。詰まりは、触媒床を通る物質流れの障害と引き続いての反応器を横断する水圧低下(入口、出口ポートがそれぞれ設けられた反応器両端の圧力差を意味する)の増加を引き起こしかねない。このような圧力低下の増加は、水素化処理反応器内部の機械的完全性を脅かしかねない。
【０００７】
触媒床詰まりには、少なくとも2つの潜在的に好ましくない結果がある。1つは反応器処理量の減少であり、より深刻な結果は、触媒充填物部品または全てを取り代えるために、反応器の完全なシャットダウンが必要とされかねないことである。これらの結果のどちらも、プラントを経済的に運転することへのマイナス効果を持っている。
【０００８】
先行技術では、この水素化処理反応器の触媒床詰まりの問題を管理する試みとして、供給原料を水素化処理反応器へ導入する前に、供給原料をろ過して、供給原料中の微粒子汚染物の少なくとも一部を除くことが行われている。そのような従来のろ過方法では、通常、直径がおよそ1 ミクロンより大きな微粒子の除去が可能である。他の先行技術方法では、コークス形成が見込まれない供給原料を選んだり、コークス形成に影響する水素化処理条件(水素分圧、反応器温度、及び触媒タイプ)を賢明に選択したりして、水素化処理触媒上でのコークス生成速度を制御することが指向されてきている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、本発明者らは上記の公開技術方法が、供給原料流がフィッシャー・トロプシュ炭化水素流からなる時、水素化処理反応器への原料供給流から非常に小さいサイズの粒子(あるいは可溶性)汚染物、汚染薬剤、及び/または詰まり前駆物質(以後、「汚染物」と称される)を除去するのに有効でないことを見いだした。これは、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れがスラリー床あるいは流動床プロセスによって製造されたワックスである時、特に当てはまることである。従って、代表的な公開技術方法は、反応器の圧力低下増加が粒子状汚染物または溶液から沈殿する可溶性汚染物のいずれかで引き起こされる時、水素化処理、水素化異性化、あるいは水素化処理反応器の圧力低下増加を避ける上で有効でないことが見いだされてきた。
【００１０】
これらの典型的な公開技術方法の明らかな失敗は、水素化処理反応器供給原料中に存在する約１ミクロン未満に細かく分割された固体微粒子、及び／または、水素化処理反応器触媒床近傍または内部で溶液から沈殿可能な、多分金属質成分を持っている可溶性汚染物のいずれかに依るものとされてきた。必要とされることは、水素化処理反応器内での圧力低下増加が実質的に避けられるように、水素化処理反応器への供給原料流から微粒子、汚染物、可溶性汚染物、汚染薬剤及び詰まり前駆物質を取り除く方法である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
（発明の概要）
フィッシャー・トロプシュ合成は、いわゆるガス→液体 (GTL)プロセスの例であり、そこでは最初に天然ガスがシンガス(実質的に一酸化炭素と水素からなる混合物)に変換され、次いで前記シンガスは所望の液体燃料に変換される。一般に、フィッシャー・トロプシュ合成はスラリー床あるいは流動床反応器で実施され、炭化水素生成物はメタン (C1)からワックス(C20+)までの広いスペクトル範囲の分子量を持っている。次いで、フィッシャー・トロプシュ 生成物は一般的に、ワックスは特に、留出燃料及び潤滑油範囲の製品を生成させるために水素化処理することができる。この発明の実施態様によれば、この水素化処理は上昇流様式または下降流様式のいずれでも実施できる。本発明のプロセスは、下降流様式の操作に特に適用可能である。
【００１２】
ある場合には、水素化処理される前記供給原料は上流処理過程に起源する汚染物を含んでいる。この汚染物には、触媒微粉、触媒担体材料など、および上流処理過程装置の破片やスケールが含まれている。フィッシャー・トロプシュワックス及び重質生成物、特にスラリー床及び流動床過程に由来する重質生成物、はその目的のために設けられたフィルターでは適切に除去できない(触媒微粉のような)汚染物を含みうる。汚染物は、もしそれが供給原料と共に水素化処理反応器に導入される場合、深刻な問題を引き起こしかねない。触媒の表面上及び隙間に汚染物が蓄積するにつれ、汚染物による触媒床を通る流路の部分的または完全な詰まりさえも起こりうる。
【００１３】
本発明者らは、供給原料がフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流である時、水素化処理反応器への供給原料流から、微粒子、固化汚染物、可溶性汚染物、汚染薬剤及び/または詰まり前駆体などの汚染物を除去する有効な新規方法を見いだした。フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れ中の汚染物の結果として、一般に、水素化処理反応器での圧力低下増大が挙げられる。
【００１４】
本発明の実施態様は、このような汚染物の蒸留による除去を指向している。本発明者らは、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れを、それが水素化処理反応器へ導入される前に蒸留すると、その蒸留操作により実質的に水素化処理反応器の詰まりを減らすことができることを発見した。この蒸留は、回分的または連続的様式で遂行できる。単一蒸留操作で、実質的に詰まり問題を減少しうるが、この発明の一実施態様では、二重蒸留プロセスが有利である。二重蒸留プロセスにより、実質的に汚染物の全てが除去でき、水素化処理触媒サイクルタイムが所望の2〜4年またはそれ以上の持続期間に戻されるように、水素化処理反応器の詰まりを減らすか無くすことができる。
【００１５】
本発明の一実施態様では、汚染物は：
a)  フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れをろ過して、ろ過済み炭化水素流れを生成させ；
b)  前記ろ過済み炭化水素流れを少なくとも1つの蒸留工程に通して、ろ過済み炭化水素流れから汚染物を除去し、この蒸留工程により蒸留製品流れと塔底留分を生成させ、汚染物は実質的に塔底留分中に濃縮し；そして、
c)  前記塔底留分量がろ過済み炭化水素流れの約35容量%未満である塔底留分を蒸留工程から回収する、
ことを含む工程を用いて、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れから除去される。
他の実施態様では、前記塔底留分量は、それぞれ、ろ過済み流れ体積の約15、10、及び5％未満である。
【００１６】
この発明の他の実施態様は、汚染物除去のため、蒸留工程が第一蒸留工程と第二蒸留工程からなり、第一蒸留工程では、第一塔頂流れと第一塔底流れが生成され、そして第二蒸留工程では第二塔頂流れと第二塔底流れが生成されるフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れの蒸留方法を指向している。第一頭頂流れは、水素化処理反応器へ供給でき、第一塔底流れは第二蒸留工程へ供給でき、そして第二頭頂流れは、水素化処理反応器へ供給できる。
本実施例はさらに、第二塔底流れを原油中に調合すること、第二塔底流れを第三の蒸留工程に通すこと、第二塔底流れを燃料へと処理すること、及び第二塔底流れをリサイクル操作でリサイクルすることからなる群から選択される処理で第二塔底流れを処理する工程を含むことができる。
【００１７】
本方法は、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れから汚染物を取り除く蒸留プロセスを含む。この汚染物は微粒子または可溶性形態であっても良く、アルミニウム、コバルト、チタン、及び鉄から成る群から選ばれるフィッシャー・トロプシュ 触媒に由来する材料であってもよい。本方法によると、前記蒸留プロセスは、水素化処理触媒のサイクルタイムが少なくとも2年になるように、水素化処理反応器中の水素化処理触媒床の詰まりを実質上避けることができる。
【００１８】
（発明の詳細な説明）
本発明の実施態様は、フィッシャー・トロプシュ合成反応由来生成物の水素化処理に向けられる。本発明者らは、ある種の条件下で、微粒子汚染物または触媒床近傍または内部で溶液から沈殿する可溶性汚染物のいずれかにより、水素化処理反応器中の触媒床が詰まる傾向にあり、かくして、水素化処理反応器を通過する物質流れが妨げられることを観察した。たとえフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れをろ過して約0.1ミクロンより大きな微粒子残屑を取り除いたとしても、汚染物は依然として存在 (問題がまだ存在することを意味する)しうる。
【００１９】
特別な見解で縛られることは望まないが、本発明者らは、汚染物がフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れに可溶性形態で(少なくとも一部)存在し、次いで、その流れが、例えば水素化処理反応器に供給された後に、それら汚染物が溶液から沈殿し、固体微粒子を形成すると考えている。汚染物は、無関係の源に起源するかもしれないし、あるいは起源しないかもしれない。汚染物は、一般に、沈殿した後に、水素化処理反応器内で固体詰まりを形成する。ある種の条件下で、この詰まりは反応器中心部分で生じる。この詰まりの空間広がりは、水素化処理条件及び触媒タイプに依存し、例えば、異なる空間速度により、反応器の異なるる領域上及び/または内部への詰まりを圧縮するかあるいは拡大することができる。汚染物は、その形態にかかわりなく、水素化処理反応器を通る流路を詰める可能性があるので、水素化処理の観点から、好ましくない成分群である。
【００２０】
汚染物が可溶性種として、または超微細微粒子(多分、約 0.1 ミクロン未満のサイズを意味する)としてフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れに存在するか否かは明らかでないが、前記汚染物は従来のろ過処理によっては、一般に、水素化処理供給原料流れからは除去できないことが知られている。
【００２１】
本発明者らは、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れの蒸留が水素化処理反応器への導入前に遂行される時、このフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れの蒸留により、水素化処理反応器の詰まりを実質的に減らすことが可能なことを見いだした。前記蒸留は回分または連続モードで実施可能である。単一蒸留操作で詰まり問題は実質的に減少させることができるが、本発明の一実施態様では、二重蒸留プロセスが実施される。二重蒸留プロセスにより、実質上、汚染物の全てが除去され、水素化処理触媒サイクルタイムがそれらの所望の2〜4年またはより長い持続時間に戻されるように、水素化処理反応器の詰まりを除くことができる。
【００２２】
この技術分野では、フィッシャー・トロプシュ反応器由来炭化水素流れを商業的に適した製品に分けるための蒸留が知られている。国際公開特許 WO 00/11113では、複数の蒸留段階を持ち、サンプクエンチとして10％の塔底流れを使用した、フィッシャー・トロプシュ プロセス流出物から使用に適したワックス製品を分離するための真空蒸留塔が述べられている。EP 0579330 B1及び米国特許第5,486,542号 では、製品分離のために拭取り薄膜蒸発器を使用したフィッシャー・トロプシュ分離プロセスが記述されている。米国特許第2,852,546号では、40〜80℃の融点を持つパラフィン類を分離するための、フィッシャー・トロプシュワックスの常圧蒸留引き続いての真空蒸留が記述されている。しかしながら、本発明者らの知るかぎりでは、先行技術はフィッシャー・トロプシュ反応器生成物流れに由来する汚染物の除去あるいは管理について述べていないばかりか、先行技術はろ過済み流れの約35体積％未満の量に相当する蒸留工程塔底留分の回収をも教示していない。
【００２３】
本発明の実施態様の概要は、図 1で概略的に示される。図 1を参照すると、シンガス 10は、未ろ過スラリーが包含されているフィッシャー・トロプシュ反応器 11 に受け渡される。フィッシャー・トロプシュ由来生成物 12 の微粒子は、伝統的なろ過プロセス13で取り除かれ、ろ過済み流れ14 が作られる。従来のろ過プロセス 13 は、 フィッシャー・トロプシュ 反応器11 の中で行っても良く、フィッシャー・トロプシュ反応器 11 に一体化されていても良く、あるいはフィッシャー・トロプシュ 反応器 11 の外部にあっても良い。フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れは、従来のろ過プロセス 13 を通過した後に、ろ過済み流れ14 になり、蒸留プロセス 15 へ順送りされて蒸留液生成物流れ 16 が形成される。次いで、蒸留液生成物 16 は水素化処理反応器 17 に送られ、そしてアップグレードされた製品 18 が回収される。
【００２４】
以下の開示は、最初にフィッシャー・トロプシュ プロセス自体に注目して、次いで水素化処理反応器と水素化処理条件についての論議に進む。そして汚染物の一般的な性質と、水素化処理触媒床詰まりに関連した特定の問題が、本発明の蒸留実施態様に移る前に扱われる。
【００２５】
（フィッシャー・トロプシュ合成）
フィッシャー・トロプシュプロセスは、天然ガスを液体燃料に変える手段として応用された。この理由のために、このプロセスはまた「ガス→液体 」プロセスとして知られている。フィッシャー・トロプシュ プロセスでは、最初に触媒上でガス状炭化水素(例えばメタン)と空気(あるいはもし空気がそれを構成する成分に分けられれば酸素)の反応がなされ、実質的に一酸化炭素と水素の混合物からなる合成ガス(また「シンガス」と呼ばれる)が形成される。次いで、前記シンガスは、第二の触媒を用いて液体炭化水素の混合物に変換される。この合成から生産されるディーゼル沸点範囲材料は、高セタン価、本質的に無硫黄、無窒素または無芳香族含量などの多くの有益な属性を持っている。
【００２６】
フィッシャー・トロプシュ合成を遂行するための触媒と条件は、この分野の熟練者らには良く知られており、例えば、 EP 0 921184 A1 (その内容は参照することにより、本明細書中に完全に取り入れられる) で述べられている。フィッシャー・トロプシュ合成プロセスでは、H2とCO の混合物を含んだ合成ガス (シンガス) 10 を適当な反応条件下でフィッシャー・トロプシュ 触媒と接触させることで、液体、及びガス状の炭化水素が形成される。前記フィッシャー・トロプシュ合成は、一般に300〜700°F(149〜371℃)、好ましくは約400〜550°F(204〜228℃)；圧力約10〜600psia(0.7〜41bars)、好ましくは30〜300psia(2〜21bars)；そして触媒空間速度が約100 〜10,000 cc/g/hr、 好ましい空間速度が300〜3,000 cc/g/hrの反応器 11 で行われる。
【００２７】
フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れ (未ろ過、12、または従来どおりにろ過された、14)は、C1〜C200+の範囲にあり、その過半数の生成物はC5〜C100+の範囲にある。本発明の幾つかの実施例では、前記フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れは、C3+ 製品である。他の実施例では、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れは、550°F の製品である。フィッシャー・トロプシュ合成反応は、例えば、1個あるいはそれ以上の触媒床を含んでいる固定床反応器、スラリー反応器、流動床反応器、あるいは異なる反応器タイプの組み合わせを含む種々の反応器タイプで実施できる。そのような反応プロセスと反応器は良く知られており、文献中に文書化されている。
【００２８】
本発明の一実施例では、フィッシャー・トロプシュ 反応器 11 はスラリー型反応器からなる。このタイプの反応器 (プロセス)は強化された熱及び物質移動性を示し、そのためフィッシャー・トロプシュ 反応の強い発熱特性を利用することができる。スラリー反応器では、コバルト触媒が使われる時、比較的高分子量のパラフィン系炭化水素が生成する。運転上、水素 (H2)と一酸化炭素 (CO)の混合物からなるシンガス は、反応器内のスラリーを通って第三相としてバブルアップされ、触媒 (微粒子形状)は液体中に分散され、懸濁される。水素反応物の一酸化炭素反応物に対するモル比は0.5〜4、より一般的には、この比率は 0.7〜2.75の範囲内にある。少なくとも幾つかの反応生成物が反応条件下では液体状態であるので、前記スラリー液体は合成用反応基質だけではなく、反応で生成した炭化水素生成物も含有している。
【００２９】
適当なフィッシャー・トロプシュ触媒は、Fe、Ni、Co、Ru及びReのような第VIII族触媒金属の1つ, あるいはそれ以上を含む。触媒は助触媒を含んでいても良い。本発明の幾つかの実施例では、フィッシャー・トロプシュ触媒は適当な非有機担体上に有効量のコバルトと1つ以上の元素Re、Ru、Fe、Ni、Th、Zr、Hf、U、Mg、及びLaを含む。概して、触媒に存在するコバルトの量は、およそ1〜50 重量パーセント (触媒組成の全重量に基づいて) である。 垂範的な担体材として、アルミナ、シリカ、酸化マグネシウム、及び二酸化チタンまたはそれらの混合物等の耐火性酸化物が挙げられる。本発明の一実施例では、コバルト含有触媒用の担体材料は二酸化チタンからなる。助触媒としてZrO2も同様に例示できるが、ThO2、La2O3 、MgO及びTiO2などの塩基性酸化物、Pt、Pd、Ru、Rh、Os、及びIrなどの貴金属；Cu、Ag、及びAuのような貨幣鋳造用金属；及びFe、Mn、Ni、及びReなどの他遷移金属であっても良い。
有用な触媒とそれらの調製が知られており、説明に便利で、非制約な実施例が、例えば、米国特許第4,568,663号で見いだされる。
【００３０】
フィッシャー・トロプシュプロセス由来のいかなるC5+ 炭化水素流れも、本発明のプロセスを使って適切に処理できる。代表的な炭化水素流れは、フィッシャー・トロプシュ 反応器構成に依存して、C5-700°F流れと約550°F 以上で沸騰するワックス状流れを含む。本発明の一実施例では、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れ12、14 は反応器 11 から、分留なしで、直接回収される。
【００３１】
（蒸留されたフィッシャー・トロプシュ反応生成物の水素化処理）
フィッシャー・トロプシュ反応器由来製品流れは、水素化処理工程にかけることができる。この工程は、図1及び2で、それぞれ、参照数字17及び27で概要的に示される水素化処理反応器で実行される。ここに使われるように、用語「水素化処理」は、反応器 11で製造されたフィッシャー・トロプシュ合成反応生成物が水素含有気体で処理される、多数のプロセスのいずれをも意味し； そのようなプロセスにはヒドロワックス化 、水素化分解、ヒドロ異性化、及び水素化処理が含まれる。
【００３２】
ここに使われるように、用語「水素化加工」「水素化処理」及び「ヒドロ異性化」は伝統的な意味が与えられており、この分野の熟練者に知られたプロセスを意味している。 水素化処理は、通常、遊離水素存在下で実行される第一の目的がオレフィン飽和化と水素化処理反応器への供給原料からの酸素化物除去である触媒プロセスを意味している。前記酸素化物には、アルコール類、酸類、及びエステル類が含まれる。さらに、前記炭化水素流れが硫化触媒と接触された時、導入される可能性があるいかなる硫黄もまた除去される。
【００３３】
一般に、水素化処理反応により、水素化処理される供給原料中の個々の炭化水素分子の鎖長は減少(いわゆる、クラッキング)し、かつ/あるいは最初の供給原料の値と比較して、イソパラフィン含量は増加することがある。図2を参照すると、所望の冷温度特性(例えば流動点、曇点、及びコールドフィルター詰まり点)を与えるように選ばれる、水素化処理工程27で使われる水素化処理条件で、C5〜C20炭化水素に富む生成物流れ28が作り出される。C1〜4製品を比較的たくさん生成する傾向にある工程27 の水素化処理条件は、一般には好まれない。(従来のろ過により、10ミクロンより大きな微粒子がより容易に除去されるような)ワックス及び/または重質留分の融点を下げるのに十分なイソパラフィン含量を持つ製品を製造する条件もまた好ましい。
【００３４】
本発明の幾つかの実施態様では、より大きな炭化水素分子のクラッキング量を最低に保つことが望ましく、これらの実施態様では水素化処理工程 27 のゴールは、不飽和炭化水素の完全あるいは部分水素化形態への変換である。これらの実施例の水素化処理工程 27 のさらなるゴールは、供給原料の出発値と比較して、流れのイソパラフィン含量を増やすことである。
【００３５】
水素化処理された製品流れ 28は、場合により、軽油、潤滑剤基油、高流動点ポリアルファオレフィン類、フーツ油(油とワックス混合物から分離された油)、ノーマルアルファオレフィンワックスなどの合成ワックス、スラックワックス、脱油ワックス及び微結晶ワックスなどの他の源からの炭化水素と組み合わすことができる。
【００３６】
水素化処理触媒はこの技術分野の熟練者らには良く知られている。例えば、水素化処理、水素化異性化、水素化クラッキング、水素化処理、その他プロセスの概要、及びこれらのプロセスで使用される代表的触媒については、米国特許第4,347,121号、4,810,357号、及び6,359,018号を参照できる。
【００３７】
米国特許第6,179,995号で議論されているように、水素化処理条件には、400〜900°F  (204〜482℃)、好ましくは、650〜850°F(343〜454℃) の反応温度；500〜5000 psig (ポンド／平方インチゲージ圧)(3.5〜34.6 MPa)、好ましくは、1000〜3000 psig (7.0〜20.8 MPa)の圧力； 0.5 hr-1〜20 hr-1(v/v)の供給速度(LHSV)； そして、300 〜2000 scf／バレル-液体炭化水素供給原料(53.4〜356 m3 H2/m3供給原料)の総水素消費が含まれる。触媒床用の水素化処理触媒としては、アルミナのような多孔性耐熱性ベース上に担持された、第VI族金属の複合体またはそれらの化合物及び第VIII族金属またはそれらの化合物が代表的である。水素化処理触媒の例として、アルミナで担持されたコバルト-モリブデン、硫化ニッケル、ニッケル-タングステン、 コバルト-タングステン及びニッケル-モリブデンがあげられる。一般に、そのような水素化処理触媒は過硫化されている。非硫化及び貴金属水素化処理触媒(Ni、Pt、Pdなど)も同様に考えることができる。
【００３８】
水素化クラッキング反応ゾーンは、水素化クラッキング反応ゾーンから回収される液体水素化クラッキング物が供給原料の沸点域より低い正常な沸点域を持つように、水素化クラッキング反応へ供給されるVGO(真空ガス油)供給原料の沸点域を変換させるのに十分な条件に保つことができる。代表的な水素化クラッキング条件には：反応温度、400〜950°F(204〜510℃)、好ましくは650〜850°F(343〜454℃)；反応圧500〜5000 psig(3.5〜34.5 MPa)、好ましくは1500〜3500 psig(10.4〜24.2 MPa)；LHSV、0.1〜15 hr-1(v/v)、好ましくは0.25〜4 hr-1；及び水素消費500〜2500 scf(標準立方フィート)/バレル-液体炭化水素供給原料(89.1〜445 m3 H2/m3 供給原料)が含まれる。前記水素化クラッキング触媒は、一般には、クラッキング成分、水素化成分及びバインダーからなる。このような触媒は、この分野の熟練者に良く知られている。前記クラッキング成分には、非晶性シリカ／アルミナ相及び／またはY型またはUSYゼオライトなどのゼオライトが含まれる。前記バインダーは一般にはシリカまたはアルミナである。前記水素化成分としては、第VI族、第VII族または第VIII族金属またはそれらの酸化物、硫化物、好ましくは、モリブデン、タングステン、コバルト、またはニッケル、またはそれらの硫化物、酸化物の1つ以上が挙げられる。もし触媒中に存在する場合、これらの水素化成分は、触媒の約5〜40重量％である。代わりに、白金族金属、特に、白金及び／またはパラジウム、が水素化成分として、単独またはベース金属水素化成分モリブデン、タングステン、コバルト、またはニッケルとの組み合わせとして存在していても良い。
【００３９】
代表的水素化異性化条件は、文献中でよく知られており、非常に広く異なることができる。異性化プロセスは、通常、200〜700°F、好ましくは、300〜650°Fの温度、LHSVは約0.1〜10 hr-1、好ましくは約0.25〜5 hr-1で実施される。水素は、炭化水素に対する水素のモル比が約1:1〜15:1になるように使用される。異性化プロセスに有用な触媒は、通常、脱水素／水素化成分と酸性成分を含む二官能性触媒である。前記酸性成分には、アルミナ、シリカまたはシリカ-アルミナなどの非晶性酸化物；ゼオライトY、超安定性Y、SSZ-32、ベータ-ゼオライト、モルデナイト、ZSM-5及びその類などのゼオライト材料、またはSAPO-11、SAPO-31及びSAPO-41などの非ゼオライトモレキュラーシーブが含まれる。前記酸性成分はさらにフッ素などのハロゲン成分を含むことができる。水素化成分は白金及び／またはパラジウムなどの第VIII族貴金属、及びニッケル及びタングステンなどの第VIII族非貴金属、及びコバルト及びモリブデンなどの第VI族金属から選ぶことができる。もし存在するならば、白金属金属は、一般に、触媒の約0.1〜2重量％を構成している。もし触媒中に存在するならば、非金属水素化成分は、一般に、触媒の約5〜40重量％を構成している。
【００４０】
触媒粒子は、球状、溝付き円筒、小球、顆粒及びその類などの触媒材料として有用なことが知られているいかなる形状でも良い。非球状形状では、有効直径は触媒粒子の代表断面直径として解釈される。ゼオライト触媒粒子の前記有効直径は1/32インチから1/4インチの範囲にあり、好ましくは、幾つかの実施態様では1/20インチから1/8インチである。さらに、前記触媒粒子はさらに50〜500 m2/gの表面積を持つ。
【００４１】
（汚染物、ろ過、及び水素化処理触媒床詰まり）
再び図2を参照すると、ろ過工程 13A,13B からのろ過済み流れ 21 は、ろ過済み流れ 21中の微粒子、微粒子汚染物、可溶性汚染物、汚染薬剤、及び/または詰まり前駆体により水素化処理反応器触媒床の詰まりを起こしうる。用語、微粒子、微粒子汚染物、可溶性汚染物、汚染薬剤、及び/または詰まり前駆体は、本明細書中では互換的に使用されるが、最終的に水素化処理触媒床に詰まりを起こす実体は、詰まりを起こす前に供給原料中に可溶であることに留意しつつ、現象は一般に、「汚染物」として集合的に参照される。詰まり事象は、水素化処理反応器 27の触媒床により水素化処理供給原料からろ濾過された汚染物(最終的に微粒子形状をとる)の結果である。典型的なフィッシャー・トロプシュプロセスは通常、フィッシャー・トロプシュ反応で製造されたワックス状生成物から触媒粒子を除去するための、少なくとも1つのろ過工程 27を包含する。これらのフィルターは1ミクロンより大きな直径を持つ微粒子を効果的に除去するように設計されている。
【００４２】
本発明の典型的な実施態様において、このようなろ過工程により直径が約1ミクロンより大きいか等しい微粒子の大部分が実質上除去され、そして、水素化処理反応器 27 の触媒床の詰まりを実質上避けるために、蒸留工程 22 を使用してろ過済み流れ 21 から微粒子、可溶性汚染物、汚染薬剤も及び詰まり前駆体が挙げられる汚染物が除去される。
【００４３】
本発明の蒸留プロセスの詳細を論じる前に、汚染物に注意を向けることは有益である。ろ過済み流れ 21 中に含まれる汚染物は様々な源から発生し得るが、一般には、その形態の少なくとも幾つかを取り扱うための幾つかの方法がこの分野で知られている。前記方法として、例えば、分離、単離、濾過、酸抽出及び遠心分離が挙げられる。
【００４４】
しかしながら、一般には、シンガス 10中にメルカプタン類や他の硫黄含有化合物、ハロゲン、りん、及びヒ素系汚染物、二酸化炭素、水、及び／または非炭化水素酸ガスなどの不純物が存在することは望ましくなく、その理由のため、それらはフィッシャー・トロプシュ反応器 11 で合成反応を実施する前に、シンガス供給原料から除去されるのが望ましい。この分野で知られている一方法では、天然ガス中のメタン(及び／またはエタン及びさらに高級な炭化水素)成分を脱メタン器で単離し、次いで前記メタンを従来の合成ガス 10 を供給するシンガス発生器に送入する前に脱硫することが行われる。先行別法では、硫黄不純物を除去するためにZnO保護床を使用する場合(そして、より好ましい)もある。
【００４５】
通常、ろ過により粒子状汚染物に対する処置がなされる。フィッシャー・トロプシュスラリーまたは流動床反応器 11 で生成する触媒微粉などの微粒子は、ろ過工程 13 のような商業的に利用可能なろ過システムでろ過できる。約10ミクロンより大きな粒子を除去することが望ましい場合には、一般には、単一ろ過工程で十分である。1ミクロンよりも大きな粒子を除去するためには、多重ろ過工程が適切に使用できるであろう。
【００４６】
本発明の実施態様に従ってフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れ 12 から引き抜かれる汚染物は、有機成分並びに無機成分の両方を持っていてもよい。前記有機成分は、少なくとも炭素、水素、窒素、酸素、及び硫黄(それぞれ、C,H,N,O,及びS)元素の1つを含む元素内容を有する。前記無機成分には、少なくとも元素アルミニウム、コバルト、チタン、鉄、モリブデン、ナトリウム、亜鉛、スズ、及びけい素(それぞれ、Al,Co,Ti,Fe,Mo,Na,Zn,Sn,及びSi)の1つが含まれる。
【００４７】
（フィッシャー・トロプシュ炭化水素生成物の蒸留）
この技術分野では、フィッシャー・トロプシュ生成物流れの成分を分留するために蒸留工程を使用することが知られている。このような分留工程は、商業的に適した市場用炭化水素製品を調製するのに使用されてきた。しかしながら、発明者らが知る限りでは、今まで、引き続いてのプロセスで使用される水素化処理触媒床の詰まりを本質的に避けるためのフィッシャー・トロプシュ由来生成物流れからの汚染物除去に蒸留が使用されたことはなかった。
【００４８】
公開公報WO/00/11113では、生成物流れの残り部分から有用なワックス製品を分離するための複数蒸留ステージを持つフィッシャー・トロプシュ真空蒸留塔が説明されている。前記蒸留により、サンプクエンチとして使用される塔底流の10体積％が製造される。米国特許第5,486,542号とEP 0579330 B1では、Fischer-Tropsc生成物を分離するために拭き取り薄膜蒸発器を使用するフィッシャー・トロプシュ分離プロセスが説明されている。米国特許第2,852,546号では、融点が約40〜80℃にあるパラフィンを分離するためのフィッシャー・トロプシュワックスの常圧蒸留と引き続いての真空蒸留が説明されている。
【００４９】
前記先行技術では、蒸留によりフィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れから汚染物が特別の画分に濃縮され、該炭化水素流れから分離されるような汚染物を除去する方法の必要が教示または説明されていない。また、前記先行技術では分離される汚染物含有画分がフィッシャー・トロプシュ反応器に存在している全生成物流れの約35％より少ない体積である蒸留プロセスを教示していない。
【００５０】
好ましくは、フィッシャー・トロプシュプロセスから回収される商業的に適した生成物は、フィッシャー・トロプシュ反応器に存在している生成物流れの85体積％またはそれ以上であり、単離汚染物含有画分は15体積％未満である。さらに好ましくは、回収される商業的に適した生成物は、フィッシャー・トロプシュ反応器に存在している生成物流れの90体積％またはそれ以上であり、単離汚染物含有画分は10体積％未満である。さらに好ましくは、回収される商業的に適した生成物は、フィッシャー・トロプシュ反応器に存在している生成物流れの95体積％またはそれ以上であり、単離汚染物含有画分は5体積％未満である。
【００５１】
発明者らは、フィッシャー・トロプシュ由来生成物流れを水素化処理前に蒸留すると、水素化処理反応器触媒床の詰まりを引き起こす汚染物を、実質上、除去できることを発見した。前記蒸留は、回分的に行っても良く、連続的に行っても良い。さらに、この蒸留操作は一段階、二段階、または二段階より多い蒸留プロセスからなっていても良い。
【００５２】
蒸留形態は、フィッシャー・トロプシュプロセス(収率にも影響する)が実施される方法、および回収生成物の分子量分布によるであろう。一般に、フィッシャー・トロプシュ生成物は、最初の沸点がプロパン(すなわち、C3+)のそれに相当する全沸点範囲生成物、または最初の沸点が約550〜750°Fの範囲にある実質上ワックス状生成物であろう。
【００５３】
本発明の、特に蒸留に関して、より詳細に注目された実施態様が、図2に示されている。図2を参照すると、シンガス 10 が、フィッシャー・トロプシュ合成反応器11に通される。フィッシャー・トロプシュ反応器からの流出物は、凝縮物20と未ろ過または粗ろ過された(ここで、粗ろ過は、10ミクロンまたはそれより大きいサイズの粒子が実質上除去されたことを意味する)生成物流れ12を含み、前記生成物流れ12 は凝縮物20より大きな分子量の炭化水素類を含む。凝縮物20は、反応域を出る画分でいったんは液体に凝縮するガスを含む小さい分子量画分である。それ故、凝縮物20は、いかなる詰まり薬剤、粒子、汚染物、詰まり前駆体、及び／または望ましくない分子種を含みそうもなく、従って、凝縮液流れ20はろ過する必要はないであろう。
【００５４】
本発明の一実施態様では、図2に描かれた前記ろ過プロセス13は2個または別個のろ過工程を含みうる。例えば、最初のろ過工程では、直径が約10ミクロンより大きな粒子状汚染物の実質的部分が除去される。この最初のろ過工程はフィッシャー・トロプシュ反応器内で行うことができる。二番目のろ過で、直径が約10ミクロンより小さな、一般には直径が1ミクロンまでの、及びある場合には、直径が0.1ミクロンまでの、またはそれ以下の粒子状汚染物の少なくとも一部が除去される。
【００５５】
フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れ12のろ過に加えて、ろ過済み流れ21はまた、汚染物を抽出するために酸で処理(この工程は、図2で示されていない)することができる。この酸抽出工程は、ろ過工程13直前または直後に実施できる。
【００５６】
次いで、ろ過済み流れ21は少なくとも軽質留分23と塔底流れ24を生成する蒸留工程22に通される。塔底流れ24は、ろ過済み流れ21中に存在する汚染物の実質的部分を含む。この塔底流れ24は、汚染物除去のための処理 25が可能である。適切な処理として、付加的な従来のろ過操作、塔底流れの少なくとも一部を酸性水溶液と接触させるか、塔底流れの少なくとも一部を汚染物除去のための固体吸着剤塔に通すことが挙げられる。別法として、前記塔底流れは、原油とブレンドして燃料として使用しても良く、汚染炭化水素流れを許容する他プロセスで使用しても良く、または廃棄しても良い。処理済み塔底流れは、水素化処理反応器27への流れ29としても送ることができる。特別な実施態様では、前記流れ29、軽質留分23、及び凝縮物20は、別々に、または組み合わせ流れ26として、またはいかなる他組み合わせ(すなわち、20と23、または23と29)でも、水素化処理反応器27中でアップグレード化することが可能である。
【００５７】
本発明の好ましい蒸留では、塔底留分25として、ろ過済み流れ21の35体積％未満、さらに好ましくは15、10及び5体積％未満が回収される。汚染物の塔底留分中へのこのような高濃縮を達成するためには、初期沸点が約1000°Fの塔底流れ24を有する少なくとも1つの真空蒸留工程が蒸留プロセス22に必要なことが予想される。もちろん、供給流れに対して塔底留分の望ましい量を達成するために、蒸留プロセス、条件、及び操作が調節できるであろうこと、及び幾つかの実施態様では、汚染物を単離するために選定された塔底留分体積が5体積％よりも小さくなるであろうことは、この分野のふつうの熟練者により容易に気づかれることである。ろ過済み流れ21の塔底留分25に対する異常に高い比率は、塔底流れ中に汚染物を濃縮する本実施態様の能力の結果である。
【００５８】
本発明の実施態様において、ろ過工程で反応器11で使用されるフィッシャー・トロプシュ触媒に由来する粒子状汚染物が除去される。他の実施態様では、前記蒸留工程22で粒子状及び可溶性汚染物の両方が除去される。汚染物の両形態(可溶性及び粒子状)は、反応器11で使用されるフィッシャー・トロプシュ触媒に由来するもので、アルミニウム、コバルト、チタン及び鉄からなる群から選択される材料を含む金属成分を持つことがある。
【００５９】
図3は、多段蒸留工程を採用した蒸留プロセス22を持つ本発明のプロセスを示している。図3では、シンガス 10 はフィッシャー・トロプシュ反応器11に通され、フィッシャー・トロプシュ反応器11からの流出液には、凝縮物20と生成物流れ12が含まれる。流れ12は真空蒸留、及び好ましくは常圧蒸留と引き続いての真空蒸留からなる、最初の蒸留工程22Aに通される。最初の蒸留工程22Aで第一塔頂流れ30と第一塔底流れ31が作られる。流れ31の最初の沸点は、約800〜950°Fの範囲にある。第一塔頂流れ30は、通常、水素化処理などの従来の処理法を用いて処理されるか、燃料、石油化学原料などの他用途のために回収される。この特別の実施例においては、水素化処理用プロセスの他の流れと組み合わされたものとして示される。第一塔底流れ31は、この場合には真空蒸留工程22Bである第二蒸留工程へと通される。
【００６０】
第二蒸留工程22Bではまた、この場合には、第二塔頂流れ32と約1000°Fより大きい初期沸点を持つ第二塔底流れ33の、軽質流れと重質流れが作り出される。次いで、第二塔頂流れ32は水素化処理反応器に受け渡すことができるが、第二塔底流れ33は工程35で原油中に調合され、さらなる処理のためのリサイクル操作36に送られ、燃料またはタールが適当である他材料として使用されるか、さらなる蒸留塔(図3の典型的な二段階蒸留プロセスには描かれていない)に受け渡すことができる。本発明の幾つかの実施態様では、第二塔底流れは、フィッシャー・トロプシュ由来炭化水素流れ12の約15体積％未満である。
【００６１】
典型的実施態様では、二段階蒸留プロセスである前に開示された多重蒸留プロセスは、水素化処理反応器27の詰まりを実質上排除し、かくして、水素化処理触媒のサイクル時間を少なくとも2年間の持続時間に延ばすことが、本発明者らにより意図されている。さらなる利点として、フィッシャー・トロプシュプロセスから少なくとも70体積％の商業的に適した製品を回収することが挙げられる。
【実施例】
【００６２】
以下の実施例は、フィッシャー・トロプシュ由来生成物流れを水素化処理に送る前に処理するのに蒸留プロセスを使用する種々の方法を説明するものである。以下の実施例は本発明の実施態様を説明することを目的として与えられるものであり、この発明の範囲または精神を制限するものとして解釈されるべきではない。
【００６３】
（実施例１）
（フィッシャー・トロプシュ生成物流れの２バッチ蒸留）
この実施例は、汚染物除去のためにフィッシャー・トロプシュ由来パラフィン性生成物流れに対して実施された、第二蒸留プロセスが真空蒸留である２バッチ蒸留プロセスの結果を与えるものである。蒸留に先駆けてフィッシャー・トロプシュワックス中の、次いで、第一蒸留からの留分の2つ、及び第二蒸留からの塔底留分中のいろいろな異なる元素(大部分は金属)のレベルを測定した。
【００６４】
これら試料の身元を、実施例1で使用された2バッチ蒸留プロセスの概観とともに、図4で示した。図4を参照すると、フィッシャー・トロプシュワックス供給原料流れ41は、第一蒸留工程42へ供給され、そして第一蒸留工程42からの塔底留分43は、第二蒸留工程44へ供給される。フィッシャー・トロプシュワックス供給原料は、試料41である。試料45は第一蒸留工程に起源する750°F流れであり、試料46は同様に第一蒸留工程42に起源する750〜920°F留分である。第三の試料は第二蒸留工程44からの塔底留分47である。第四の試料48は、0.1ミクロンフィルター49を通された後の塔底留分47からなる。
【００６５】
表1は、誘導結合プラズマ原子発光分光分析(ICP-AES)により測定される汚染物レベルをppm単位で示している。
【００６６】
【表１】
2007521376.tif 000003
【００６７】
表Iは、この代表的プロセスの第二(真空)蒸留工程の塔底留分である汚染物を濃縮及び別々の留分に単離する蒸留プロセスの能力を明確に示している。図4では、この典型的操作において、ろ過済みフィッシャー・トロプシュワックス供給原料41量に対する塔底留分47量が、12液体体積％(LV%)であること；言い換えれば、蒸留工程へ供給されたフィッシャー・トロプシュワックス全量中、約12体積％が汚染物除去のために選択された塔底留分になることが留意される。
また、表1から、試料48(ろ過済み)中の汚染物レベルが実質上試料47(未ろ過)中のそれと同じ大きさであるので、汚染物が0.1ミクロンフィルターを通過することが読み取れる。
【００６８】
（実施例２）
(フィッシャー・トロプシュ生成物流れの連続蒸留)
この実施例は、汚染物を除去するために2つの分離された蒸留工程で連続蒸留が遂行される、フィッシャー・トロプシュ由来パラフィン流れに対して実施される連続蒸留プロセスの結果を与えるものである。試料の身元は図5で示される。図5を参照すると、フィッシャー・トロプシュワックス供給原料51は、St-840°F流れと840°F+流れ54を作る第一蒸留工程52に供給される。前記840°F+流れ54は、第二蒸留工程55に連続供給され、次いで、840〜960°F流れ56と960°F+流れ57にされる。
【００６９】
表IIは、再び同様に誘導結合プラズマ原子発光分光分析(ICP-AES)で測定された、この連続蒸留実施例の汚染物レベルをppm単位で示したものである。
【００７０】
【表２】
2007521376.tif 000004
【００７１】
表IIもまた、この代表的プロセスでは連続蒸留プロセスの第二蒸留工程の塔底流れである分離流れ、すなわち960°F+流れ57に、汚染物を濃縮及び単離する蒸留プロセスの能力を示している。流れ53、56、及び57の量は、ろ過済みフィッシャー・トロプシュワックス供給原料の百分率として、それぞれ、50.04、19.79、及び30.17重量％である。かくして、この代表的連続蒸留では、その蒸留条件は、汚染物を濃縮及び単離するために策定された塔底画分量がろ過済みフィッシャー・トロプシュワックス供給原料51の約35 LV％になるように設計された。
【００７２】
刊行物、特許、及び本明細書で引用された特許出願の全ては参照することにより、あたかも個々の刊行物、特許出願または特許の開示事項が、参照によりすっかり取り込まれるように具体的にかつ個々に指示される程度にまで、完全に本明細書中に取り込むことができる。
この技術分野の熟練者らは、前に開示した本発明の代表的な実施態様の多くの修飾を容易に思いつくであろう。従って、本発明は添付特許請求項の範囲内にある全ての構造と方法を含むものと解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の実施態様の概観を示すブロック図である。
【図２】フィッシャー・トロプシュ反応の生成物の少なくとも一部をろ過して、ろ過済み生成物を作ること、ろ過済み生成物の蒸留、及び蒸留済みフィッシャー・トロプシュ由来流れの水素化処理を含んだ、本発明の実施態様に従うプロセスフローを示す概念図である。
【図３】2つの連続した蒸留プロセスがフィッシャー・トロプシュ炭化水素流れに対して実施される本発明の実施態様の概念図である。
【図４】汚染物を塔底留分へと濃縮するために使用される典型的バッチ蒸留プロセスの概観である。
【図５】汚染物を塔底留分へと濃縮するために使用される典型的連続蒸留プロセスの概観である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2007521376.tif 000011