Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月7日(2015.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザの動きを検出するように構成されたセンサと、
プロセッサによって実行された場合に、装置に、
ユーザによる運動活動パフォーマンス中に前記センサからデータセットを受信すること、
前記データセット中の欠損データの量を決定することによって、前記データセットからの欠損データの量が第一の閾値を超える場合に、妥当でないと決定され、かつ前記データセットからの欠損データの量が前記第一の閾値以下である場合に、妥当であると決定される、前記データセットの妥当性を決定すること、
前記データセットと関連した少なくとも1つのセンサデータの大きさを決定すること、
前記少なくとも1つのセンサデータの大きさが第二の閾値より大きいことに応答して、音楽再生モードをトリガすること、および
前記少なくとも1つのセンサデータの大きさが前記第二の閾値以下であることに応答して、前記音楽再生モードの休止コマンドをトリガすること
をさせるように構成されているコンピュータ実行可能な命令を含む非一時的コンピュータ読取り可能な媒体と
を備える、ユーザの運動パフォーマンスをモニタするための装置。
【請求項２】
前記センサは加速度計である、請求項1記載の装置。
【請求項３】
前記少なくとも1つのセンサデータの大きさは、力の大きさに相当する、請求項2記載の装置。
【請求項４】
前記コンピュータ実行可能命令が、前記プロセッサによって実行されると、前記装置に、
前記力が第三の閾値を超える第一の軸に沿った第一の成分を有する場合に、次の曲機能をトリガすることを
させるようにさらに構成されている、請求項3記載の装置。
【請求項５】
前記センサが位置認識センサを含む、請求項1記載の装置。
【請求項６】
前記データセットの妥当性を決定することが、前記データセット中のデータが取得されたときの信号強度を決定すること、および前記信号強度を閾値信号強度と比較することをさらに含み、前記閾値信号強度未満の信号強度で前記データセット中の指定された量のデータが取得された場合に、前記データセットが妥当でないと決定される、請求項1記載の装置。
【請求項７】
前記センサから受信された前記データセットの妥当性を決定することが、前記データセットから妥当でないデータを除去することを含む、請求項1記載の装置。
【請求項８】
実行された場合に装置に、
ユーザによる運動活動パフォーマンス中にセンサからデータセットを受信すること；
前記データセットと関連する少なくとも1つのセンサデータの大きさを決定すること；
前記少なくとも1つのセンサデータの大きさが閾値を超えていることに応答して、音楽再生モードをトリガすること；および
前記少なくとも1つのセンサデータの大きさが前記閾値以下であることに応答して、運動パフォーマンス記録休止コマンドをトリガすること
をさせるコンピュータ読取り可能な命令を記憶する、非一時的コンピュータ読取り可能媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月21日(2015.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発熱層を有する筒状のベルトと、
前記ベルトに接触してニップ部を形成する加圧部材と、
前記発熱層に電力を供給するための給電部材と、を有し、
前記発熱層は前記発熱層に流れる電流によって発熱しており、
前記ニップ部で画像が形成された記録材を搬送しながら加熱して前記画像を記録材に定着する定着装置において、
前記給電部材は、前記ベルトの長手方向における前記ベルトの両端部の外周面又は内周面のいずれか一方に接触するように設けられており、
前記ベルトの両端部には、前記ベルトの厚み方向に関し前記発熱層の前記給電部材がある面と反対側の面に前記ベルトの回転方向に沿って導電層が設けられ、
前記ベルトは、前記ベルトの長手方向において、前記ベルトの両端部の間に前記導電層が設けられていない領域を有することを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記給電部材と前記ベルトとが接触する領域の少なくとも一部は、前記ベルトの長手方向において前記導電層と重なっていることを特徴とする請求項１に記載の定着装置。
【請求項３】
前記給電部材と前記ベルトとが接触する全領域は、前記ベルトの長手方向且つ前記ベルトの回転方向に関し前記導電層と重なっていることを特徴とする請求項１又は２に記載の定着装置。
【請求項４】
前記導電層は、前記ベルトの回転方向の全周に設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の定着装置。
【請求項５】
前記導電層は、前記発熱層よりも表面抵抗値が小さいことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の定着装置。
【請求項６】
前記給電部材は前記ベルトの内周面に接触し、前記導電層は前記発熱層の外周面に設けられ、前記ベルトには、前記導電層の外周面を被覆する被覆層が設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の定着装置。
【請求項７】
前記発熱層は、導電性フィラーが分散されたポリイミド樹脂の層であることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の定着装置。
【請求項８】
前記導電層は、前記発熱層にコーティングされた銀ペーストの層であることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の定着装置。
【請求項９】
定着装置に用いられる筒状のベルトにおいて、
発熱層と、
前記発熱層の前記ベルトの長手方向の端部が前記ベルトの外部に対して露出するように前記発熱層を覆う被膜層と、
を有し、
前記ベルトの前記長手方向の端部のうち、前記ベルトの厚み方向に関し前記発熱層の前記端部が露出している側と反対側の面に前記ベルトの回転方向に沿って導電層が設けられていることを特徴とするベルト。
【請求項１０】
前記導電層は、前記ベルトの回転方向の全周に設けられていることを特徴とする請求項９に記載のベルト。
【請求項１１】
前記発熱層は、導電性フィラーが分散されたポリイミド樹脂の層であることを特徴とする請求項９又は１０に記載のベルト。
【請求項１２】
前記導電層は、前記発熱層にコーティングされた銀ペーストの層であることを特徴とする請求項９〜１１の何れか１項に記載のベルト。
【請求項１３】
前記導電層は、前記発熱層よりも表面抵抗値が小さいことを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載のベルト。
【請求項１４】
前記導電層は前記ベルトの長手方向における前記ベルトの両端部に設けられ、
前記ベルトは、前記ベルトの長手方向に関し前記ベルトの両端部の間に前記導電層が設けられていない領域を有することを特徴とする請求項９に記載のベルト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の好適な実施形態の一つ目は、発熱層を有する筒状のベルトと、前記ベルトに接触してニップ部を形成する加圧部材と、前記発熱層に電力を供給するための給電部材と、を有し、前記発熱層は前記発熱層に流れる電流によって発熱しており、前記ニップ部で画像が形成された記録材を搬送しながら加熱して前記画像を記録材に定着する定着装置において、
前記給電部材は、前記ベルトの長手方向における前記ベルトの両端部の外周面又は内周面のいずれか一方に接触するように設けられており、前記ベルトの両端部には、前記ベルトの厚み方向に関し前記発熱層の前記給電部材がある面と反対側の面に前記ベルトの回転方向に沿って導電層が設けられ、前記ベルトは、前記ベルトの長手方向において、前記ベルトの両端部の間に前記導電層が設けられていない領域を有することを特徴とするものである。
本発明の好適な実施形態の二つ目は、定着装置に用いられる筒状のベルトにおいて、
発熱層と、前記発熱層の前記ベルトの長手方向の端部が前記ベルトの外部に対して露出するように前記発熱層を覆う被膜層と、を有し、前記ベルトの前記長手方向の端部のうち、前記ベルトの厚み方向に関し前記発熱層の前記端部が露出している側と反対側の面に前記ベルトの回転方向に沿って導電層が設けられていることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月6日(2016.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＡｒＦエキシマレーザ露光光が適用されるハーフトーン型の位相シフトマスクを製造するために用いられるマスクブランクスであって、
透明基板と、前記透明基板上に形成され、ＳｉおよびＮのみからなる光半透過膜、またはＳｉ、Ｎ、およびＯのみからなる光半透過膜と、前記光半透過膜上に形成された遮光膜と、を有し、
前記光半透過膜は、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における消衰係数が０．２〜０．４５の範囲内であり、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における屈折率が２．３〜２．７の範囲内であり、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における光透過率が１５％〜３８％の範囲内であり、さらに、膜厚が５７ｎｍ〜６７ｎｍの範囲内であり、
前記遮光膜は、ＡｒＦエキシマレーザ露光光に対する光吸収機能を有する光吸収層を含み、
前記光吸収層が、ＭｏＳｉまたは珪素（Ｓｉ）単体から構成されることを特徴とするマスクブランクス。
【請求項２】
前記光吸収層が、珪素（Ｓｉ）単体から構成されることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランクス。
【請求項３】
前記遮光膜は、前記光半透過膜上に形成され、前記光半透過膜に対するエッチングバリア機能をさらに有する前記光吸収層を含む単層構造を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマスクブランクス。
【請求項４】
前記遮光膜は、前記光半透過膜上に形成され、前記光半透過膜に対するエッチングバリア機能をさらに有する前記光吸収層と、前記光吸収層上に形成され、前記光吸収層に対するエッチングバリア機能を有するハードマスク層と、を含む２層構造を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマスクブランクス。
【請求項５】
前記遮光膜は、前記光半透過膜上に形成され、前記光半透過膜に対するエッチングバリア機能を有するエッチングバリア層と、前記エッチングバリア層上に形成された前記光吸収層と、前記光吸収層上に形成され、前記光吸収層に対するエッチングバリア機能を有するハードマスク層と、を含む３層構造を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマスクブランクス。
【請求項６】
前記遮光膜は、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における光学濃度（ＯＤ値）が、前記光半透過膜と合わせて３．０以上となるよう調整したものであることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載のマスクブランクス。
【請求項７】
前記光半透過膜は、前記透明基板上に直接形成されたことを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載のマスクブランクス。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載のマスクブランクスと、前記マスクブランクス上に形成されたネガ型レジスト膜と、を有することを特徴とするネガ型レジスト膜付きマスクブランクス。
【請求項９】
ＡｒＦエキシマレーザ露光光が適用されるハーフトーン型の位相シフトマスクであって、
透明基板と、前記透明基板上に形成され、ＳｉおよびＮのみからなる光半透過膜パターン、またはＳｉ、Ｎ、およびＯのみからなる光半透過膜パターンと、前記光半透過膜パターン上に形成された遮光膜パターンと、を有し、
前記光半透過膜パターンは、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における消衰係数が０．２〜０．４５の範囲内であり、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における屈折率が２．３〜２．７の範囲内であり、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における光透過率が１５％〜３８％の範囲内であり、さらに、膜厚が５７ｎｍ〜６７ｎｍの範囲内であり、
前記遮光膜パターンは、ＡｒＦエキシマレーザ露光光に対する光吸収機能を有する光吸収層パターンを含み、
前記光吸収層パターンが、ＭｏＳｉまたは珪素（Ｓｉ）単体から構成されることを特徴とする位相シフトマスク。
【請求項１０】
前記光吸収層パターンが、珪素（Ｓｉ）単体から構成されることを特徴とする請求項９に記載の位相シフトマスク。
【請求項１１】
前記遮光膜パターンは、前記光半透過膜パターン上に形成され、前記光半透過膜パターンに対するエッチングバリア機能をさらに有する前記光吸収層パターンを含む単層構造を有することを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の位相シフトマスク。
【請求項１２】
前記遮光膜パターンは、前記光半透過膜パターン上に形成され、前記光半透過膜パターンに対するエッチングバリア機能を有するエッチングバリア層パターンと、前記エッチングバリア層パターン上に形成された前記光吸収層パターンと、を含む２層構造を有することを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の位相シフトマスク。
【請求項１３】
前記遮光膜パターンは、ＡｒＦエキシマレーザ露光光の波長における光学濃度（ＯＤ値）が、前記光半透過膜パターンと合わせて３．０以上となるよう調整したものであることを特徴とする請求項９から請求項１２までのいずれかの請求項に記載の位相シフトマスク。
【請求項１４】
前記光半透過膜パターンは、幅または奥行きが６０ｎｍ以下である凸状のパターンを有することを特徴とする請求項９から請求項１３までのいずれかの請求項に記載の位相シフトマスク。
【請求項１５】
前記光半透過膜パターンは、ウェハに解像されるメインパターンおよび前記メインパターンの解像を補助するウェハに解像されない補助パターンを有し、前記補助パターンは、幅または奥行きが６０ｎｍ以下である凸状のパターンであることを特徴とする請求項９から請求項１３までのいずれかの請求項に記載の位相シフトマスク。
【請求項１６】
前記光半透過膜パターンは、前記透明基板上に直接形成されたことを特徴とする請求項９から請求項１５までのいずれかの請求項に記載の位相シフトマスク。
【請求項１７】
前記位相シフトマスクは、ネガ型の位相シフトマスクであることを特徴とする請求項９から請求項１６までのいずれかの請求項に記載の位相シフトマスク。
【請求項１８】
請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載のマスクブランクスから形成された位相シフトマスクを用いるパターン形成体の製造方法であって、
前記位相シフトマスクを用いて、ネガティブトーン現像によって、レジストパターンを形成する工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月11日(2016.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に形成された遮光膜及び半透光膜がそれぞれパターニングされることによって形成された、遮光部、半透光部、及び透光部を備えた転写用パターンを有する、多階調フォトマスクの製造方法において、
前記転写用パターンは、前記遮光部と透光部が隣接する部分と、前記半透光部と透光部が隣接する部分とを有し、
前記透明基板上に前記遮光膜が形成されたフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記遮光部となる領域以外の領域の遮光膜をエッチング除去して前記遮光部を形成する工程と、
前記遮光部が形成された前記透明基板上に、前記半透光膜を成膜する工程と、
前記半透光膜上において、透光部となる領域を含む領域に開口をもつレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンをマスクとして、前記半透光膜をエッチングする、半透光膜エッチング工程と、
前記レジストパターンを除去する工程とを有し、
前記レジストパターン形成工程では、前記遮光部と隣接する透光部となる領域の寸法に、アライメントマージンを加えた寸法の開口をもつレジストパターンを形成し、
前記半透光膜エッチング工程では、前記レジストパターンの開口内において、前記透光部となる領域の透明基板が露出し、かつ、前記遮光部の、前記透光部と隣接するエッジ部分において、前記遮光膜上の前記半透光膜が、厚さ方向に少なくとも一部エッチングされることを特徴とする、多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項２】
前記半透光膜エッチング工程において、前記半透光膜が厚さ方向に少なくとも一部エッチングされた遮光部のエッジ部分の、前記多階調フォトマスクの露光光に対する光学密度（OD）が２以上であることを特徴とする、請求項１に記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項３】
前記半透光膜及び前記遮光膜が、同一のエッチング液によってエッチングされうる材料からなることを特徴とする、請求項１又は２に記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項４】
前記半透光膜及び前記遮光膜が、同一のエッチング液によってエッチングされうる材料からなり、前記同一のエッチング液に対する、前記半透光膜と前記遮光膜のエッチングレート比が、５：１〜５０：１であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項５】
前記アライメントマージンが0.25〜0.75μmであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項６】
前記半透光膜と前記遮光膜のエッチング所要時間の比が1：5〜1：50であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項７】
前記半透光膜エッチング工程では、前記レジストパターンの開口内において、前記透光部となる領域の前記透明基板が露出し、かつ、前記遮光部の、前記透光部と隣接するエッジ部分において、前記遮光膜上の前記半透光膜が、エッチングにより除去されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項８】
前記半透光膜エッチング工程において、前記遮光膜上の前記半透光膜が除去された前記エッジ部分は、前記多階調フォトマスクの露光光に対する光学密度（OD）を２以上とする範囲で、前記遮光膜がエッチングによる損傷を受けることを特徴とする、請求項７に記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項９】
前記半透光膜エッチング工程においては、前記遮光部に隣接する前記透光部、及び、前記半透光部に隣接する前記透光部に相当する部分の半透光膜が除去されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項１０】
前記半透光膜エッチング工程は、ウェットエッチングを適用することを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の多階調フォトマスクの製造方法。
【請求項１１】
透明基板上に形成された遮光膜及び半透光膜がそれぞれパターニングされることによって形成された、遮光部、半透光部、及び透光部を備えた転写用パターンを有する、多階調フォトマスクにおいて、
前記転写用パターンは、前記遮光部と透光部が隣接する部分と、前記半透光部と透光部が隣接する部分とを有し、
前記透光部は、前記透明基板が露出し、
前記半透光部は、前記透明基板上に形成された前記半透光膜が露出し、
前記遮光部は、前記遮光膜と前記半透光膜が積層してなる積層部分と、前記遮光膜上の半透光膜が厚さ方向に少なくとも一部エッチングされたエッジ部分とを有し、
前記エッジ部分は、前記透光部に隣接し、前記エッジ部分の露光光に対する光学密度（OD）が２以上であることを特徴とする、多階調フォトマスク。
【請求項１２】
前記転写用パターンは、前記半透光部に挟まれた前記透光部と、前記遮光部に挟まれた前記透光部とを備えることを特徴とする、請求項１１に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１３】
前記半透光膜及び前記遮光膜が、同一のエッチング液によってエッチングされうる材料からなることを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１４】
前記半透光膜及び前記遮光膜が、同一のエッチング液によってエッチングされうる材料からなり、前記同一のエッチング液に対する、前記半透光膜と前記遮光膜のエッチングレート比が、５：１〜５０：１であることを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１５】
前記エッジ部分の幅は０．２５〜０．７５μmであることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１６】
前記エッジ部分は、前記遮光膜上の前記半透光膜がエッチングにより除去されたものであることを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１７】
前記エッジ部分は、前記遮光膜上の前記半透光膜がエッチングにより除去され、かつ、前記多階調フォトマスクの露光光に対する光学密度（OD）を２以上とする範囲で、前記遮光膜がエッチングによる損傷を受けたものであることを特徴とする、請求項１６に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１８】
請求項１１〜１７のいずれかに記載の多階調フォトマスクを用意する工程と、
露光装置によって前記多階調フォトマスクに露光し、前記転写用パターンを、被転写体に転写する工程とを有することを特徴とする、表示装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
なお、一方の疲労度のみが目標疲労度から外れていた場合、第二補充液の選択は前記基準に準じて選択する。そして、その補充量はその外れていた疲労度から算出される補充量を用いればよい。すなわち、第一疲労度のみが目標第一疲労度から外れていた場合には第一補充量を用い、第二疲労度のみが目標第二疲労度から外れていた場合には第二補充量を用いる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月18日(2016.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
ボディ１２は、図１及び図２に示されるように、例えば、金属製材料から断面略長方形状に形成され、その内部には軸方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って延在した第１シリンダ孔２２及び第１ロッド孔２４が形成される。この第１シリンダ孔２２及び第１ロッド孔２４は所定間隔離間して略平行に形成されると共に、前記第１シリンダ孔２２が前記ボディ１２の他端部側に開口し、一方、前記第１ロッド孔２４は、前記ボディ１２の一端部から他端部まで貫通し、その一端部には負圧流体の供給される負圧供給ポート２５が形成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
第２ロッド孔７４は、ボディ１２の第１ロッド孔２４と同軸となるように形成され、変位ブロック２０の他端部側（矢印Ａ方向）が拡径するように形成されると共に、その内部には断面Ｕ字状のカバー部材８２が装着される。カバー部材８２には、その内部にサクションロッド１８の他端部が挿入されると共に、その略中央部には負圧通路６０と連通する接続ポート８４が形成されている。そして、カバー部材８２を介して変位ブロック２０の他端部に、例えば、ワークＷを把持するための吸着パッド（保持部材）８６（図１及び図３中、二点鎖線形状）が装着され、該吸着パッド８６の内部に対してサクションロッド１８を通じて負圧流体が供給される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、変位ブロック２０が変位することで、該変位ブロック２０に連結されているサクションロッド１８が軸受２７に支持された状態で軸方向（矢印Ａ方向）に一体的に変位し、その他端部に連結された吸着パッド８６がワークＷ（図４参照）側へと接近する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2015212560.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月7日(2016.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部記憶装置のデータベースからメモリに明細データを格納してインメモリデータベースを構築するインメモリ管理システムであって、
上記外部記憶装置のデータベースに格納された明細データを用いてアプリケーションソフトにより集計またはチャート作成を行っている画面において、インメモリ化を指示する操作を受け付ける操作受付部と、
上記操作受付部が上記インメモリ化の操作を受け付けた場合、上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記外部記憶装置のデータベースから取得して上記メモリに格納する明細データインメモリ化部と、
上記操作受付部が上記インメモリ化の操作を受け付けた場合、上記集計の内容を表す集計定義ファイルまたは上記チャートの内容を表すチャート定義ファイルの複製を、上記アプリケーションソフトが保持しているオリジナルの定義ファイルから生成し、当該複製を上記メモリに格納された明細データに紐付けて保持する定義ファイル複製部とを備えたことを特徴とするインメモリ管理システム。
【請求項２】
上記明細データインメモリ化部により上記メモリに格納された明細データを用いて、上記定義ファイル複製部により複製された定義ファイルに基づく集計またはチャート作成の処理を実行する処理実行部を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載のインメモリ管理システム。
【請求項３】
外部記憶装置のデータベースからメモリに明細データを格納してインメモリデータベースを構築するインメモリ管理システムであって、
上記外部記憶装置のデータベースに格納された明細データを用いてアプリケーションソフトにより集計またはチャート作成を行っている画面において、インメモリ化を指示する操作を受け付ける操作受付部と、
上記操作受付部が上記インメモリ化の操作を受け付けた場合、上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記外部記憶装置のデータベースから取得して上記メモリに格納する明細データインメモリ化部とを備え、
上記明細データインメモリ化部により上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記データベースから取得して上記メモリに格納した後、上記操作受付部が明細データ削除の操作を受け付けた場合、上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記データベースから削除することを特徴とするインメモリ管理システム。
【請求項４】
外部記憶装置のデータベースからメモリに明細データを格納してインメモリデータベースを構築するためのインメモリ管理用プログラムであって、
上記外部記憶装置のデータベースに格納された明細データを用いてアプリケーションソフトにより集計またはチャート作成を行っている画面において、インメモリ化を指示する操作を受け付ける操作受付手段、
上記操作受付手段が上記インメモリ化の操作を受け付けた場合、上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記外部記憶装置のデータベースから取得して上記メモリに格納する明細データインメモリ化手段、および
上記操作受付手段が上記インメモリ化の操作を受け付けた場合、上記集計の内容を表す集計定義ファイルまたは上記チャートの内容を表すチャート定義ファイルの複製を、上記アプリケーションソフトが保持しているオリジナルの定義ファイルから生成し、当該複製を上記メモリに格納された明細データに紐付けて保持する定義ファイル複製手段
としてコンピュータを機能させるためのインメモリ管理用プログラム。
【請求項５】
上記明細データインメモリ化手段により上記メモリに格納された明細データを用いて、上記定義ファイル複製手段により複製された定義ファイルに基づく集計またはチャート作成の処理を実行する処理実行手段
としてコンピュータを更に機能させるための請求項４に記載のインメモリ管理用プログラム。
【請求項６】
外部記憶装置のデータベースからメモリに明細データを格納してインメモリデータベースを構築するためのインメモリ管理用プログラムであって、
上記外部記憶装置のデータベースに格納された明細データを用いてアプリケーションソフトにより集計またはチャート作成を行っている画面において、インメモリ化を指示する操作を受け付ける操作受付手段、および
上記操作受付手段が上記インメモリ化の操作を受け付けた場合、上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記外部記憶装置のデータベースから取得して上記メモリに格納する明細データインメモリ化手段
としてコンピュータを機能させるようになされ、さらに、
上記明細データインメモリ化手段により上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記データベースから取得して上記メモリに格納した後、上記操作受付手段が明細データ削除の操作を受け付けた場合、上記集計またはチャート作成に関わっている明細データを上記データベースから削除するように上記コンピュータを機能させるためのインメモリ管理用プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記した課題を解決するために、本発明では、外部記憶装置のデータベースに格納された明細データを用いて集計またはチャート作成を行っている画面において、インメモリ化を指示する操作が行われた場合、集計またはチャート作成に関わっている明細データを外部記憶装置のデータベースから取得してメモリに格納するようにしている。ここで、本発明では、インメモリ化を指示する操作が行われた場合、集計の内容を表す集計定義ファイルまたはチャートの内容を表すチャート定義ファイルの複製を、アプリケーションソフトが保持しているオリジナルの定義ファイルから生成し、当該複製をメモリに格納された明細データに紐付けて保持するようにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月12日(2016.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２５℃から１１０℃の範囲の融点を有するプロピレン／α−オレフィンコポリマー、またはオレフィンブロックコポリマーであるベースポリマーを含むコア；
エチレン−アクリル酸（ＥＡＡ）、エチレンメチルメタクリレート（ＥＭＭＡ）、エチレンブチルアクリレート（ＥＢＡ）およびそれらの組合せからなる群から選択される極性ポリマー性安定剤を含み、前記コアを少なくとも部分的に取り囲むシェル；および
前記シェル中に少なくとも部分的に埋め込まれた少なくとも１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤
を含む分散体を含むコーティング組成物であって、
乾燥した前記分散体によりコートされたセルロース系基材である２４０ｇ／ｍ２の坪量を有する厚紙が、最大で４．４ｇ／ｍ２のＣｏｂｂ試験による吸水値、及び、２５℃の温度および５０パーセントの相対湿度（ＲＨ）において２４時間当り１３．７ｇ／ｍ２以下の水蒸気透過速度を示すものである、コーティング組成物。
【請求項２】
基材及び前記基材の少なくとも１つの表面上にある分散体を含む、コートされた物品であり、
前記分散体は、
２５℃から１１０℃の範囲の融点を有するプロピレン／α−オレフィンコポリマー、またはオレフィンブロックコポリマーであるベースポリマーを含むコア；
エチレン−アクリル酸（ＥＡＡ）、エチレンメチルメタクリレート（ＥＭＭＡ）、エチレンブチルアクリレート（ＥＢＡ）およびそれらの組合せからなる群から選択される極性ポリマー性安定剤を含み、前記コアを少なくとも部分的に取り囲むシェル；および、
前記シェル中に少なくとも部分的に埋め込まれた１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤を含み、
前記コートされた物品が、乾燥した前記分散体によりコートされたセルロース系基材である２４０ｇ／ｍ２の坪量を有する厚紙であって、最大で４．４ｇ／ｍ２のＣｏｂｂ試験による吸水値、及び、２５℃の温度および５０パーセントの相対湿度（ＲＨ）において２４時間当り１３．７ｇ／ｍ２以下の水蒸気透過速度を示すものである、物品。
【請求項３】
コーティング組成物を製造する方法であって、
２５℃から１１０℃の範囲の融点を有するプロピレン／α−オレフィンコポリマー、またはオレフィンブロックコポリマーであるベースポリマーを選択するステップ；
エチレン−アクリル酸（ＥＡＡ）、エチレンメチルメタクリレート（ＥＭＭＡ）、エチレンブチルアクリレート（ＥＢＡ）およびそれらの組合せからなる群から選択される極性ポリマー性安定剤を選択するステップ；
１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤を選択するステップ；
前記ベースポリマー、前記極性ポリマー性安定剤、および前記１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤を溶融ブレンドするステップ；
前記溶融ブレンドされたベースポリマー、極性ポリマー性安定剤および１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤を、水の存在下におよび場合により中和剤の存在下に溶融混練するステップ；
それにより、前記ベースポリマーを含むコア；前記極性ポリマー性安定剤を含み、前記コアを少なくとも部分的に取り囲むシェル；および、前記シェル中に少なくとも部分的に埋め込まれた前記１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤を含む前記分散体を形成するステップ
を含み、
乾燥した前記分散体によりコートされたセルロース系基材である２４０ｇ／ｍ２の坪量を有する厚紙が、最大で４．４ｇ／ｍ２のＣｏｂｂ試験による吸水値、及び、２５℃の温度および５０パーセントの相対湿度（ＲＨ）において２４時間当り１３．７ｇ／ｍ２以下の水蒸気透過速度を示すものである、方法。
【請求項４】
コートされた物品を作製する方法であって、
セルロース系材料を含む基材を提供するステップ；
２５℃から１１０℃の範囲の融点を有するプロピレン／α−オレフィンコポリマー、またはオレフィンブロックコポリマーであるベースポリマーを含むコア；エチレン−アクリル酸（ＥＡＡ）、エチレンメチルメタクリレート（ＥＭＭＡ）、エチレンブチルアクリレート（ＥＢＡ）およびそれらの組合せからなる群から選択される極性ポリマー性安定剤を含み、前記コアを少なくとも部分的に取り囲むシェル；および、前記シェル中に少なくとも部分的に埋め込まれた１種または複数種の無機疎水性粒子状充填剤；を含む分散体を含むコーティング組成物を提供するステップ；
前記コーティング組成物を前記基材の少なくとも１つの表面に塗布するステップ；および
それにより前記コートされた物品を作製するステップ
を含み、
乾燥した前記分散体によりコートされたセルロース系基材である２４０ｇ／ｍ２の坪量を有する厚紙が、最大で４．４ｇ／ｍ２のＣｏｂｂ試験による吸水値、及び、２５℃の温度および５０パーセントの相対湿度（ＲＨ）において２４時間当り１３．７ｇ／ｍ２以下の水蒸気透過速度を示すものである、方法。
【請求項５】
無機疎水性粒子状充填剤が、水酸化アルミニウム、アラゴナイト、硫酸バリウム、方解石、硫酸カルシウム、ドロマイト、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、マグネサイト、粉砕炭酸カルシウム、沈殿炭酸カルシウム、酸化チタン、サチンホワイト、酸化亜鉛、シリカ、アルミナ三水和物、雲母、タルク、粘土、焼成粘土、珪藻土、バテライト、およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１に記載のコーティング組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月13日(2016.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
2015212353.tif 000001
［式（１）中、Ｒ1は、エポキシ基を含有する基を示す。］
で表される構成単位を有し、下記式（Ｉ）
【化２】
2015212353.tif 000002
［式（Ｉ）中、Ｒaは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。］
で表される構成単位と、下記式（ＩＩ）
【化３】
2015212353.tif 000003
［式（ＩＩ）中、Ｒbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Ｒcは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。］
で表される構成単位のモル比［式（Ｉ）で表される構成単位／式（ＩＩ）で表される構成単位］が５以上１８以下であり、シロキサン構成単位の全量（１００モル％）に対する上記式（１）で表される構成単位及び下記式（４）
【化４】
2015212353.tif 000004
［式（４）中、Ｒ1は、式（１）におけるものと同じ。Ｒcは、式（ＩＩ）におけるものと同じ。］
で表される構成単位の割合が５５〜１００モル％であり、数平均分子量が１０００〜３０００、分子量分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が１．０〜３．０であることを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサン。
【請求項２】
さらに、下記式（２）
【化５】
2015212353.tif 000005
［式（２）中、Ｒ2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。］
で表される構成単位を有する請求項１に記載のポリオルガノシルセスキオキサン。
【請求項３】
上記Ｒ1が、下記式（１ａ）
【化６】
2015212353.tif 000006
［式（１ａ）中、Ｒ1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。］
で表される基、下記式（１ｂ）
【化７】
2015212353.tif 000007
［式（１ｂ）中、Ｒ1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。］
で表される基、下記式（１ｃ）
【化８】
2015212353.tif 000008
［式（１ｃ）中、Ｒ1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。］
で表される基、又は、下記式（１ｄ）
【化９】
2015212353.tif 000009
［式（１ｄ）中、Ｒ1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。］
で表される基である請求項１又は２に記載のポリオルガノシルセスキオキサン。
【請求項４】
上記Ｒ2が、置換若しくは無置換のアリール基である請求項２又は３に記載のポリオルガノシルセスキオキサン。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物。
【請求項６】
さらに、硬化触媒を含む請求項５に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
前記硬化触媒が光カチオン重合開始剤である請求項６に記載の硬化性組成物。
【請求項８】
前記硬化触媒が熱カチオン重合開始剤である請求項６に記載の硬化性組成物。
【請求項９】
さらに、ビニルエーテル化合物を含む請求項５〜８のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
【請求項１０】
さらに、分子内に水酸基を有するビニルエーテル化合物を含む請求項５〜９のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
【請求項１１】
ハードコート層形成用硬化性組成物である請求項５〜１０のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
【請求項１２】
接着剤用組成物である請求項５〜１０のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
【請求項１３】
請求項５〜１２のいずれか１項に記載の硬化性組成物の硬化物。
【請求項１４】
基材と、該基材の少なくとも一方の表面に形成されたハードコート層とを有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層が、請求項１１に記載の硬化性組成物の硬化物層であることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項１５】
前記ハードコート層の厚さが１〜２００μｍである請求項１４に記載のハードコートフィルム。
【請求項１６】
ロールトゥロール方式での製造が可能な請求項１４又は１５に記載のハードコートフィルム。
【請求項１７】
さらに、前記ハードコート層表面に表面保護フィルムを有する請求項１４〜１６のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
【請求項１８】
ロール状に巻いた基材を繰り出す工程Ａと、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に請求項１１に記載の硬化性組成物を塗布し、次いで、該硬化性組成物を硬化させることによりハードコート層を形成する工程Ｂと、その後、得られたハードコートフィルムを再びロールに巻き取る工程Ｃとを含み、工程Ａ〜Ｃを連続的に実施することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
【請求項１９】
基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、
前記接着剤層が、請求項１２に記載の硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シート。
【請求項２０】
３層以上で構成される積層物であって、
２層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、請求項１２に記載の硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月4日(2016.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子を用いて画像を表示する表示装置を製造する方法であって、
ガラス基板の第１面を、弗化水素を含む水溶液に曝し、
前記ガラス基板の前記第１面上に、前記第１面に直に接して、極性基を有する有機樹脂膜を形成し、
前記有機樹脂膜上に前記表示素子を含む層を形成する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記表示素子を含む前記層を形成した後に、前記ガラス基板側から前記有機樹脂膜に対して光を照射し、
前記光を照射した後に、前記ガラス基板を前記有機樹脂膜から剥離することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記表示素子を含む層を形成するときには、熱処理が施され、
前記熱処理の後に、前記ガラス基板側から前記有機樹脂膜に対して光を照射し、
前記ガラス基板を前記有機樹脂膜から剥離することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記有機樹脂膜はポリイミドを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記表示素子を形成するときに、少なくとも３００℃以上の熱処理が施されることを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記表示素子を含む前記層を形成した後に、前記表示素子を覆うように対向基板を貼り合わせることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記表示素子を含む前記層を形成した後に、前記表示素子を覆うように対向基板を貼り合わせ、
前記対向基板を貼り合せた後に、前記ガラス基板側から前記有機樹脂膜に対して光を照射することを特徴とする請求項２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記光を照射した後に、前記表示素子を覆うように対向基板を貼り合わせ、
前記対向基板を貼り合せた後に、前記ガラス基板を前記有機樹脂膜から剥離することを特徴とする請求項３に記載の表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一態様は、表示素子を用いて画像を表示する表示装置を製造する方法であって、ガラス基板の第１面を、弗化水素を含む水溶液に曝し、前記ガラス基板の前記第１面上に、前記第１面に直に接して、極性基を有する有機樹脂膜を形成し、前記有機樹脂膜上に前記表示素子を含む層を形成することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月5日(2016.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を射出する半導体レーザよりなる光源と、
前記光源を、所定のデューティ比を有し、駆動電流値を増減させるパルスよりなる駆動信号によって駆動する駆動部と、
前記駆動部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記光源が出力するレーザ光によって、所定のレーザ出力パワーである閾値を超える第１のレーザ出力パワーに対応した輝度を表現させる場合には、前記光源が前記第１のレーザ出力パワーを有するレーザ光を射出するよう、前記光源に第１のレーザ出力パワーに対応した第１の駆動電流値で第１のデューティ比を有するパルスよりなる駆動信号を供給するよう前記駆動部を制御し、
前記光源が出力するレーザ光によって、前記閾値以下の第２のレーザ出力パワーに対応した輝度を表現させる場合には、前記光源が前記第２のレーザ出力パワーに代えて前記閾値を超える第３のレーザ出力パワーを有するレーザ光を射出するよう、前記光源に前記第３のレーザ出力パワーに対応した第２の駆動電流値で、前記第１のデューティ比より小さい第２のデューティ比を有するパルスよりなる駆動信号を供給するよう前記駆動部を制御し、
前記閾値は、前記半導体レーザが有するＩ−Ｌ特性におけるキンク領域内の最大のレーザ出力パワー以上のレーザ出力パワーとして設定される
ことを特徴とする光源駆動装置。
【請求項２】
前記制御部は、
ｎは１を超える数として、前記第２のレーザ出力パワーをｎ倍して前記第３のレーザ出力パワーとし、
前記第１のデューティ比を１／ｎ倍して前記第２のデューティ比とする
ことを特徴とする請求項１に記載の光源駆動装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光源駆動装置と、
前記光源より発せられたレーザ光を水平方向及び垂直方向に偏向して画像を表示させる光偏向器と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上述した従来の技術の課題を解決するため、レーザ光を射出する半導体レーザよりなる光源と、前記光源を、所定のデューティ比を有し、駆動電流値を増減させるパルスよりなる駆動信号によって駆動する駆動部と、前記駆動部を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記光源が出力するレーザ光によって、所定のレーザ出力パワーである閾値を超える第１のレーザ出力パワーに対応した輝度を表現させる場合には、前記光源が前記第１のレーザ出力パワーを有するレーザ光を射出するよう、前記光源に第１のレーザ出力パワーに対応した第１の駆動電流値で第１のデューティ比を有するパルスよりなる駆動信号を供給するよう前記駆動部を制御し、前記光源が出力するレーザ光によって、前記閾値以下の第２のレーザ出力パワーに対応した輝度を表現させる場合には、前記光源が前記第２のレーザ出力パワーに代えて前記閾値を超える第３のレーザ出力パワーを有するレーザ光を射出するよう、前記光源に前記第３のレーザ出力パワーに対応した第２の駆動電流値で、前記第１のデューティ比より小さい第２のデューティ比を有するパルスよりなる駆動信号を供給するよう前記駆動部を制御し、前記閾値は、前記半導体レーザが有するＩ−Ｌ特性におけるキンク領域内の最大のレーザ出力パワー以上のレーザ出力パワーとして設定されることを特徴とする光源駆動装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図５を用いて、複数の画素で構成される画像のうち、画素Ｐｘ１〜Ｐｘ３を表示する場合を説明する。光偏向器１００によって水平方向及び垂直方向にレーザ光を走査してそれぞれの画素を表示させるとき、光源駆動装置２５０は、それぞれの画素の輝度を、画像信号を構成する画素信号の輝度値に応じて制御する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
以上のようにして、光源５１より発せられたレーザ光を水平方向及び垂直方向に偏向して画像を表示させる光偏向器１００と、光源駆動装置２５０とを備える本実施形態の画像表示装置は、低輝度の画像を表示する場合でも色ずれの発生を抑えることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
本発明は以上説明した本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。光偏向器１００はMEMS技術を用いて構成されることが好ましいが、それに限定されるものではない。光偏向器１００はレーザ光を水平方向及び垂直方向に偏向する機能を有すればよく、具体的な構成は特に限定されない。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月1日(2016.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
車両（３００）で用いられ、
前記車両において乗員に用いられ目的地検索機能を備えている複数の携帯端末（２００）との間で無線通信を行う通信部（１１０）と、
前記通信部を介して、前記複数の携帯端末からそれぞれ目的地検索条件を取得する検索条件取得部（１７１）と、
前記検索条件取得部が前記複数の携帯端末からそれぞれ取得した複数の前記目的地検索条件を組み合わせた組み合わせ検索条件のＡＮＤ検索で目的地検索を行う検索部（１７２）と、
前記検索部が前記組み合わせ検索条件で行った目的地検索の検索結果を出力する検索結果出力部（１７３）と
を備えることを特徴とする車両用目的地決定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するための車両用目的地決定装置に係る発明は、車両（３００）で用いられ、車両において乗員に用いられ目的地検索機能を備えている複数の携帯端末（２００）との間で無線通信を行う通信部（１１０）と、通信部を介して、複数の携帯端末からそれぞれ目的地検索条件を取得する検索条件取得部（１７１）と、検索条件取得部が複数の形態端末からそれぞれ取得した複数の目的地検索条件を組み合わせた組み合わせ検索条件のＡＮＤ検索で目的地検索を行う検索部（１７２）と、検索部が組み合わせ検索条件で行った目的地検索の検索結果を出力する検索結果出力部（１７３）とを備えることを特徴とする車両用目的地決定装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月22日(2016.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車載カメラ（１１ａ〜１１ｄ）が所定の角度で取り付けられた車両（１）に設けられて、前記車載カメラが撮影した画像に基づいて運転支援を実行する運転支援装置（１０）であって、
前記車両の前部の左右および後部の左右にそれぞれ取り付けられて、取り付けられた箇所での車高を検出するハイトセンサー（１２ａ〜１２ｄ）と、
前記ハイトセンサーの検出結果に基づいて前記車両の姿勢を検出する姿勢検出手段（１６）と、
前記車載カメラが撮影した画像を取得する取得手段（１７、２０）と、
前記取得手段が取得した前記画像を、前記姿勢検出手段が検出した前記車両の姿勢に基づいて補正する補正手段（１７）と、
前記補正手段によって補正された前記画像に基づいて、運転支援を実行する実行手段（１８、３０）と
を備える運転支援装置。
【請求項２】
請求項１に記載の運転支援装置であって、
１又は複数の複数の前記車載カメラを備え、
前記補正手段は、１又は複数の前記車載カメラが撮影したそれぞれの画像を、前記車両の姿勢を考慮しつつ前記車両上方から見た１又は複数の鳥瞰画像に変換する手段であり、
前記運転支援実行手段は、前記１又は複数の鳥瞰画像を表示する手段である運転支援装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の運転支援装置であって、
前記姿勢検出手段は、前記車両のドアおよびトランクが閉鎖されると、前記車両の姿勢を検出する手段である運転支援装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３の何れか一項に記載の運転支援装置であって、
前記姿勢検出手段は、踏み込まれていたブレーキペダルが踏み込まれる前の状態に復帰すると、前記車両の姿勢を検出する手段である運転支援装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４の何れか一項に記載の運転支援装置であって、
前記姿勢検出手段は、サイドブレーキが解除されると、前記車両の姿勢を検出する手段である運転支援装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５の何れか一項に記載の運転支援装置であって、
前記姿勢検出手段は、前記車両が走行を開始すると、前記車両の姿勢を検出する手段である運転支援装置。
【請求項７】
車両（１）に所定の角度で取り付けられた車載カメラ（１１ａ〜１１ｄ）が撮影した画像に基づいて運転支援を実行する運転支援方法であって、
前記車両の前部の左右および後部の左右にそれぞれ取り付けられたハイトセンサーの検出結果に基づいて車両の姿勢を検出する工程（Ｓ２１２）と、
前記車載カメラが撮影した画像を取得する工程（Ｓ１０２）と、
取得した前記画像を、前記車両の姿勢に基づいて補正する工程（Ｓ１０４）と、
補正された前記画像に基づいて、運転支援を実行する工程（Ｓ１０６、Ｓ１０８）と
を備える運転支援方法。
【請求項８】
車載カメラ（１１ａ〜１１ｄ）が所定の角度で取り付けられた車両（１）に設けられて、前記車載カメラが撮影した画像を補正する画像補正装置（１３）であって、
前記車両の前部の左右および後部の左右にそれぞれ取り付けられて、取り付けられた箇所での車高を検出するハイトセンサー（１２ａ〜１２ｄ）と、
前記ハイトセンサーの検出結果に基づいて前記車両の姿勢を検出する姿勢検出手段（１６）と、
前記車載カメラが撮影した画像を取得する取得手段（１７、２０）と、
前記取得手段が取得した前記画像を、前記姿勢検出手段が検出した前記車両の姿勢に基づいて補正する補正手段（１７）と、
を備える画像補正装置。
【請求項９】
車両（１）に所定の角度で取り付けられた車載カメラ（１１ａ〜１１ｄ）が撮影した画像を補正する画像補正方法であって、
前記車両の前部の左右および後部の左右にそれぞれ取り付けられたハイトセンサーの検出結果に基づいて車両の姿勢を検出する工程（Ｓ２１２）と、
前記車載カメラが撮影した画像を取得する工程（Ｓ１０２）と、
取得した前記画像を、前記車両の姿勢に基づいて補正する工程（Ｓ１０４）と、
を備える運転支援方法。
【請求項１０】
車載カメラ（１１ａ〜１１ｄ）が所定の角度で取り付けられた車両（１）に設けられて、前記車載カメラが撮影した画像に基づいて運転支援を実行する運転支援装置（１０）であって、
前記車両の複数箇所に取り付けられて、取り付けられた箇所での車高を検出するハイトセンサー（１２ａ〜１２ｄ）と、
前記車両のドアおよびトランクが閉鎖され、且つ前記車両が走行を開始すると、前記ハイトセンサーの検出結果に基づいて前記車両の姿勢を検出する姿勢検出手段（１６）と、
前記車載カメラが撮影した画像を取得する取得手段（１７、２０）と、
前記取得手段が取得した前記画像を、前記姿勢検出手段が検出した前記車両の姿勢に基づいて補正する補正手段（１７）と、
前記補正手段によって補正された前記画像に基づいて、運転支援を実行する実行手段（１８、３０）と
を備える運転支援装置。
【請求項１１】
車載カメラ（１１ａ〜１１ｄ）が所定の角度で取り付けられた車両（１）に設けられて、前記車載カメラが撮影した画像を補正する画像補正装置（１３）であって、
前記車両の複数箇所に取り付けられて、取り付けられた箇所での車高を検出するハイトセンサー（１２ａ〜１２ｄ）と、
前記車両のドアおよびトランクが閉鎖され、且つ前記車両が走行を開始すると、前記ハイトセンサーの検出結果に基づいて前記車両の姿勢を検出する姿勢検出手段（１６）と、
前記車載カメラが撮影した画像を取得する取得手段（１７、２０）と、
前記取得手段が取得した前記画像を、前記姿勢検出手段が検出した前記車両の姿勢に基づいて補正する補正手段（１７）と、
を備える画像補正装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題を解決するために、本発明の運転支援装置および運転支援方法は、車両の前部の左右および後部の左右にそれぞれ取り付けられたハイトセンサーの検出結果に基づいて車両の姿勢を検出し、この車両の姿勢に基づいて、車載カメラが撮影した画像を補正する。そして、この補正された画像に基づいて運転支援を実行する。