(57)【要約】干渉計（１）はビーム変位アセンブリ（５と９）を有している。該ビーム変位アセンブリは、入力ビーム（４）を、それぞれ水平と垂直の偏波である直交偏光されている、第１と第２の基本ビーム（６と８）に分割し、かつ出力ビーム（１２）を生成するために、前記基本ビームを結合させるように配備される。偏光測定位相回復アセンブリ（１１）は、出力ビームに反応し、テストピース（７）によって、基本ビーム（６と７）の内の１つに与えた他方と相対的な位相偏移の差を決定するように配備される。本発明の他の実施形態は、それぞれ直交する空間モードを有する基本ビームを生成するように配備されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力ビームを分離された第１と第２の基本ビームに分割して、前記基本ビームを結合させて、少なくとも１本の出力ビームを生成するように配備されたビーム変位アセンブリと、
少なくとも１本の出力ビームに対応し、また、テストピースによって、前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移における差を決定するように配備されたフェーズアナライザと、
を備えたことを特徴とする干渉計。
【請求項２】
該ビーム変位アセンブリは、第１と第２の偏光ビームディスプレーサを備えていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項３】
該第２の偏光ビームディスプレーサは、該第１の偏光ビームディスプレーサとは逆に向けられていることを特徴とする請求項２に記載の干渉計。
【請求項４】
半波長板が、該第１と第２の偏光ビームディスプレーサの間に配置されることを特徴とする請求項２に記載の干渉計。
【請求項５】
該フェーズアナライザは、該出力ビームに関連したストークスパラメータを表わす信号に基づいて該位相偏移を計算するように配備された偏光測定位相回復アセンブリを備えていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項６】
該ビーム変位アセンブリは、該第１と第２の基本ビームに、水平と垂直の偏光を与えるように配備されていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項７】
該フェーズアナライザは、少なくとも１本の出力ビームの左右循環型成分を、対応する垂直及び水平成分に変換するために、半波及び４分の１波長板を含む偏光測定位相回復アセンブリを備えていることを特徴とする請求項６に記載の干渉計。
【請求項８】
該垂直及び水平成分を判別する手段を備えていることを特徴とする請求項７に記載の干渉計。
【請求項９】
該垂直及び水平成分に対応する電気信号を生成するための受光素子を備えていることを特徴とする請求項８に記載の干渉計。
【請求項１０】
ストークスパラメータに対応する信号を生成するために該電気信号を結合させる手段を備えていることを特徴とする請求項９に記載の干渉計。
【請求項１１】
ストークスパラメータに対応する信号に反応し、基本ビームの内の１つに加えられる他方と相対的な位相偏移を示す信号を生成するように配備された、プロセッサを備えていることを特徴とする請求項１０に記載の干渉計。
【請求項１２】
該ビーム変位アセンブリが、該入力ビームを、該分離された第１及び第２の基本ビームに分割するように配備されたビームスプリッタを備えていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項１３】
前記第１と第２の基本ビームをそれぞれ直交空間モードにするように配備された第１と第２のホログラフィープレートを備えていることを特徴とする請求項１２に記載の干渉計。
【請求項１４】
該第１と第２の基本ビームを重畳して、前記少なくとも１本の出力ビームを生成する手段を備えていることを特徴とする請求項１３に記載の干渉計。
【請求項１５】
該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、ビームスプリッタを備えていることを特徴とする請求項１４に記載の干渉計。
【請求項１６】
該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、ホログラフィープレートを備えていることを特徴とする請求項１４に記載の干渉計。
【請求項１７】
該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、重畳した横断的な空間モードを備えた第１と第２の出力ビームを生成することを特徴とする請求項１４に記載の干渉計。
【請求項１８】
該フェーズアナライザは、前記横断的空間モードの内の望ましい方を最低位の空間モードに変換する手段を各々有している多数の空間モードアナライザを備えていることを特徴とする請求項１７に記載の干渉計。
【請求項１９】
前記横断的空間モードの内の１つを最低位の空間モードに変換する該手段は、ホログラフィープレートを備えていることを特徴とする請求項１８に記載の干渉計。
【請求項２０】
該ホログラフィープレートからの光をフィルタ処理するように配備された空間モードフィルタを備えていることを特徴とする請求項１９に記載の干渉計。
【請求項２１】
該空間モードフィルタは単一モード光ファイバを備えていることを特徴とする請求項２０に記載の干渉計。
【請求項２２】
前記光ファイバからの光は、受光素子によって、対応する電気信号に変換されることを特徴とする請求項２１に記載の干渉計。
【請求項２３】
ストークスパラメータを表わす信号を得るために、該多数の空間モードアナライザのそれぞれからの、対応する電気信号を結合させる手段を備えていることを特徴とする請求項２２に記載の干渉計。
【請求項２４】
前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移に対応する信号を生成するために、ストークスパラメータを表わす信号を処理するように配備されるプロセッサを備えていることを特徴とする請求項２３に記載の干渉計。
【請求項２５】
入力ビームを、基本ビームの第１のペアに分割するための手段と、
少なくとも１本の出力ビームを形成するために、基本ビームの前記第１のペアを再結合するための手段と、
基本ビームの該第１のペア間に加えられた相対的な位相偏移を決定するために、該少なくとも１本の出力ビームを処理するための手段と、
を備えたことを特徴とする干渉計。
【請求項２６】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交偏光ビームを含むように、配備されていることを特徴とする請求項２５に記載の干渉計。
【請求項２７】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交する水平及び垂直偏光ビームを含むように、配備されていることを特徴とする請求項２６に記載の干渉計。
【請求項２８】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交空間モードビームを含むように、配備されていることを特徴とする請求項２６に記載の干渉計。
【請求項２９】
該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、偏光測定位相回復アセンブリを備えていることを特徴とする請求項２７に記載の干渉計。
【請求項３０】
該偏光測定位相回復アセンブリは、ストークスパラメータを表わす信号から該位相偏移を計算するために、配備されていることを特徴とする請求項２９に記載の干渉計。
【請求項３１】
該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、多数の空間モードフィルタを備えていることを特徴とする請求項２８に記載の干渉計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁的位相偏移の測定のための方法、及び装置に関する。ある用途では、本発明は本質的に安定で、丈夫な干渉計を提供する。
【背景技術】
【０００２】
干渉測定法による位相測定は広範囲の診断方法の要である。非網羅的なアプリケーションのリストには、分光法、顕微鏡法、ガス分析、フロー分析、汚染監視、モニタ用薄膜デポジションと応力解析、及び距離測定が含まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来、数種類の二光束干渉計が知られている。代表例はマイケルソン、マッハツェンダ及びジャマン干渉計である。一般に、これらの装置は、振幅分割、つまり、入射レーザー光を、２つのビームに分割して、１つは参照ビームとして使用し、他方はプローブビームとして使用することで、動作する。プローブビームの光路は、テストピースを通過するか、あるいは反射するかによって、参照ビームに対して変化する。それらのビームは再結合されて干渉しあう。出力ビーム中の干渉縞の強度は、テストピースとプローブビームの相互作用による光路差のシヌソイド関数である。ある種の従来型干渉計の使用で生じる問題は、それらの動作が衝撃と振動によって損なわれるということである。
【０００４】
衝撃と振動に強くて、比較的無感応な従来型干渉計に代わるものを提供することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様によれば、
入力ビームを分離された第１と第２の基本ビームに分割して、前記基本ビームを結合させて、少なくとも１本の出力ビームを生成するように配備されたビーム変位アセンブリと、
少なくとも１本の出力ビームに対応し、また、テストピースによって、前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移における差を決定するように配備されたフェーズアナライザと、
を備えた干渉計が提供される。
【０００６】
ある実施形態においては、ビーム変位アセンブリは第１と第２の偏光ビームディスプレーサを備えている。
【０００７】
該第２の偏光ビームディスプレーサは、該第１の偏光ビームディスプレーサとは逆に向けられている場合がある。
【０００８】
半波長板は、第１と第２の偏光ビームディスプレーサの間に配置されることが好ましい。
【０００９】
該フェーズアナライザは、出力ビームに関連したストークスパラメータを表わす信号に基づく該位相偏移を計算するように配備された偏光測定位相回復アセンブリから構成されている場合がある。
【００１０】
ある実施形態では、該ビーム変位アセンブリは第１と第２の基本ビームに、水平と垂直の偏光を与えるように配備されている。
【００１１】
該フェーズアナライザは、少なくとも１本の出力ビームの左右循環型成分を、対応する垂直及び水平成分に変換するために、半波及び４分の１波長板を含む偏光測定位相回復アセンブリを備えていることが好ましい。
【００１２】
該干渉計は、垂直・水平成分を判別する手段を有しているのが好ましい。
【００１３】
実施形態では、垂直・水平成分に対応する電気信号を生成するために、受光素子が含まれていることが好ましい。
【００１４】
該干渉計は、ストークスパラメータに対応する信号を生成する電気信号を結合させる手段を有している場合がある。
【００１５】
該ストークスパラメータに対応する該信号に反応し、該基本ビームの内の１つに加えられる他方と相対的な位相偏移を示す信号を生成するように配備された、プロセッサを備えるのが好ましい。
【００１６】
該ビーム変位アセンブリが、該入力ビームを、該分離された第１及び第２の基本ビームに分割するように配備されたビームスプリッタを有している場合がある。
【００１７】
ある実施形態では、該干渉計が、前記第１と第２の基本ビームをそれぞれ直交空間モードにするように配備された第１と第２のホログラフィープレートを有している場合がある。
【００１８】
該干渉計は、該第１と第２の基本ビームを重畳して、前記少なくとも１本の出力ビームを生成する手段を有していることが好ましい。
【００１９】
該第１と第２基本ビームを重畳する該手段は、ビームスプリッタを備えている場合がある。
【００２０】
あるいは、該第１と第２基本ビームを重畳する該手段は、ホログラフィープレートを備えていてもよい。
【００２１】
ある実施形態では、該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、重畳した横断的な空間モードから成る第１と第２の出力ビームを生成する。 
【００２２】
ある実施形態では、該フェーズアナライザは、前記の横断的な空間モードの内の望ましい方を最低位の空間モードに変換する手段を各々有している多数の空間モードアナライザを備えている。
【００２３】
前記の横断的な空間モードの内の１つを最低位の空間モードに変換する該手段は、ホログラフィープレートを備えていることが好ましい。
【００２４】
該空間モードアナライザは、各々、ホログラフィープレートからの光をフィルタ処理するように配備された空間モードフィルタを有していることが好ましい。
【００２５】
該空間モードフィルタは単一モード光ファイバを備えていることがある。
【００２６】
前記光ファイバからの光は、受光素子によって対応する電気信号に変換されことが好ましい。
【００２７】
ストークスパラメータを表わす信号を得るために、干渉計は、多数の空間モードアナライザのそれぞれからの対応する電気信号を結合させる手段を有することが望ましい。
【００２８】
前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移に対応する信号を生成するために、ストークスパラメータを表わす信号を処理するように配備されるプロセッサが備えられるのは好ましい。
【００２９】
本発明の別の態様によれば、入力ビームを、基本ビームの第１のペアに分割するための手段と、
少なくとも１本の出力ビームを形成するために、前記の基本ビームの前記第１のペアを再結合するための手段と、
基本ビームの該第１のペア間に加えられた相対的な位相偏移を決定するために、該少なくとも１本の出力ビームを処理するための手段と、
を有する干渉計が提供される。
【００３０】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交偏光ビームから成るように、配備される場合がある。
【００３１】
更に具体的には、該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ水平と垂直の直交偏光ビームから成るように、配備されることがある。
【００３２】
該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、偏光測定位相回復アセンブリを備えていることが好ましい。
【００３３】
あるいは、該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交空間モードビームから成るように、配備されてもよい。その場合、該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、多数の空間モードフィルタを有していることがある。
【００３４】
該偏光測定位相回復アセンブリは、ストークスパラメータを表わす信号から位相偏移を計算するように、配備されることが好ましい。
【００３５】
以下のような多数の図面を参照する例示的な実施形態の説明で、本発明の更なる好適な特徴を以下に詳述する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
本発明に係わる干渉計１の好適な実施形態が、図１に概略的に示されている。干渉計１は、偏光ビームディスプレーサ５と、逆向きのビームディスプレーサ９とで構成されたビーム変位アセンブリを有している。偏光ビームディスプレーサ５は、レーザー３からの、既知の偏光状態を有する、光４の入力ビームを受け取るように配備される。図１の実施形態では、入力ビーム４は、垂直偏光の参照ビーム６と水平偏光のプローブビーム８の形を取った一対の基本ビームに、コヒーレントに分割されている。 
【００３７】
使用時には、テストピース７が、図示のようにプローブビーム８の経路に配置される。 位相偏移が、該ピースとの相互作用により、プローブビームに加えられる。参照ビーム６とプローブビーム８は、ディスプレーサ５と逆向きの偏光ビームディスプレーサ９によって再結合されて、コード化出力ビーム１２を形成する。出力ビーム１２は、偏光測定位相回復モジュール１１の形を取った位相偏移アナライザによって受光される。位相回復モジュール１１は、テストピース７によって加えられた位相偏移に対応する電気信号を生成する。
【００３８】
図２は、プロープと参照ビームとの経路が、適切に方向付けされた偏光コントローラの追加によって干渉の面でバランスしている、本発明に係わる干渉計２の別の実施形態のブロック図である。図２の実施形態では、偏光コントローラは、４５°の光学軸を持ち、入力ビームディスプレーサ５と同じ配向を有する出力ビームディスプレーサ１５を有する、半波長板１３を備えている。
【００３９】
本発明の更に別の実施形態に係わる干渉計１０が、図３に示されている。干渉計１０は、反射によるむらが原因の相変化を検出するように調節される。使用時には、レーザー３からの光は、ビームスプリッタ６９で、ビーム７０と７１に分離される。ビーム７０はビームダンプ７６に方向付けされて廃棄される。ビーム７１は、ビームディスプレーサ５によって、垂直偏光ビーム７２と水平偏光ビーム７３である一対の直交偏光ビームに分割される。ビーム７２は、ミラー７７によって反射されて、反転された参照ビームとして作用する。ビーム７３は、プローブビームの役割を果たし、テストピース７に入射する。プローブビーム７３の一部は、該テストピース７から反射され、該反射された参照ビーム７２と、ビームディスプレーサ５によって再結合される。ビームダンプ７８は、テストピース７を通過して伝搬されるプローブビーム７３のすべての部分を吸収する役目を果たす。該再結合されたビームは、ビームスプリッタ６９に送られ、その一部がビーム７５として位相回復段１１に方向付けされる。
【００４０】
図１、２及び３の干渉計の利点は、ｘ、ｙ及びｚ方向で、個別の要素の相対変位に無感覚であるので、それらが非常に安定しているということである。この安定性は、マイケルソン、マッハツェンダまたはサニャック干渉計と対照的である。実際、本発明の実施形態に係わる干渉計は、例えば、図２の第２のビームディスプレーサ１５の非常に小さな回転の検出が可能なように、構成され得る。同様に、テストピース７は一組の物理的要素から構成され得る。そうすると、例えば、振動が原因でテスト物理システムによって加えられた位相偏移の変化をモニタし得る。
【００４１】
ビーム４の偏光状態が分からない場合、またはデバイスの実用的な実現で系統的な位相偏移がある場合には、ピース７を除去すると、基準状態、つまり、系統的な位相偏移だけを含んでいる出力ビーム１２の状態を設けることにより、干渉計の較正が容易になる。
【００４２】
図４は、偏光測定位相回復アセンブリ１１の内部コンポーネントの、ある構成を示す。最初に、ビーム１２は、５０−５０のビームスプリッタ１７によって２つ、つまり、ビーム１４と１６に分離される。４分の１波長板２９が、ビーム１４の左右の循環型成分をビーム１８の対応する垂直・水平成分に変換する。従って、偏光ビームスプリッタ３１は、ビーム１８を、それぞれ別々の水平及び垂直の偏光成分ビーム２０と２２に分割する。該水平偏光ビーム２０の強度は、ケーブル２４に対応する電気信号を生成する受光素子３３によって検出される。垂直偏光ビーム２２の強度は、ケーブル２６に、対応する電気信号を生成する受光素子３５によって検出される。ケーブル３８にＳ３ストークスパラメータに対応する信号を生成するために、該強度信号は、プリプロセッサ３７、例えば、適切に構成された演算増幅器によって適切にスケーリングされ、区別される。
【００４３】
スプリッタ１７からのビーム１６は、ビーム１６中の対角及び非対角の成分を、ビーム２８の対応する垂直・水平直線偏光成分に変換する半波長板１９に入射する。偏光ビームスプリッタ２１は、ビーム２８を、それぞれ水平及び垂直偏光成分ビーム３２と３０に分割する。該水平偏光ビーム３２の強度は、ケーブル３６に、対応する電気信号を生成する受光素子２５によって検出される。垂直偏光ビーム３０の強度は、ケーブル３４に、対応する電気信号を生成する受光素子２３によって検出される。ケーブル４０にＳ２ストークスパラメータに対応する信号を生成するために、ケーブル３６及び３４上の該強度信号は、プリプロセッサ２７によって適切にスケーリングされ、区別される。
【００４４】
該プリプロセッサ２７と３７からのＳ２及びＳ３信号は、ピース７によって加えられた位相差であるφ＝ａｒｃｔａｎ（Ｓ３／Ｓ２）を計算する処理モジュール３９によって処理される。ある実施例では、処理モジュール３９は、アークタンジェント関数を計算するために、適切にプログラムされた高速ディジタル処理装置及び関連するＡ−Ｄ変換器を有している。該処理モジュールは、φの読取表示を生成するために、ケーブル４１によって、ディジタル表示装置４３を制御することも可能である。 
【００４５】
Ｓ２とＳ３の検出器は、出力で時間的な変形を測定するか、または出力で空間的な変形、あるいはそれらの両方を測定するように構成され得る。つまり、該検出器の光検出部は、単一の検出素子（例えば、ＰＩＮフォトダイオードまたはＰＭＴ）または空間的撮像部品（例えば、ＣＣＤあるいはＣＭＯＳカメラ）を持てるが、しかし、それらに限定されない。後者の場合では、信号処理は画素単位で使用されることになる。
【００４６】
本発明は、入力を構成するために従来使用されたものと異なるベースで分析される１対の分析ビームに、出力ビーム１２を分解することを包含していることが、理解されるであろう。新しいベースの各成分は、既知の関係を持つ、オリジナルのベースの成分、つまり、ビーム６と８の線形重畳として表現され得る。このように、この関係は参照及びプローブビーム間の相対的な位相偏移を抽出するために利用され得る。そこで、これは、正確には、調査中の物理的システムによる電磁放射に加えられた位相偏移である。当該業者は、等価な振る舞いが、何らかの２つの直交モード、例えば、該フィールドの直交横断空間モードと、ストークスパラメータの適切な相当物によってそれらから抽出された位相とで実現できることを認識するはずであり（例えば、「Ｎ．Ｋ．ラングフォード他、Physical Review Letters、９３巻、０５３６０１（２００４）」参照）、その内容については、相互参照によってその全体を組み入れている。
【００４７】
直交空間モードを利用する本発明の実施形態は、図５に実際的に表示されている。その図面を参照すると、レーザー３からのビーム４５は、ビーム４９と５７にビームを分割するビームスプリッタ４７に入射する。ビーム４９は、ビーム４９を、別の横断空間モードビーム５３に変換するホログラム５１に入射する。そのとき、ビーム５３は、発生するビーム５５に位相偏移を加えるテストピース７を通過する。同様に、ビーム５７は、該ビームを、ビーム６１に変換するホログラム５９に入射する。ビーム６１は、ビーム５５と直交する横断空間モードである。ビーム５５と６１は、重畳された出力ビーム７５と６５を形成するのに適切なように、ビームスプリッタまたはホログラムである素子６３上に重畳される。重畳されたビーム７５と６５は、フェーズアナライザ６６のビームスプリッタ７７と６７に送られる。結果として生じる４つのビーム７９、８１、６９と６８は、空間モードアナライザ８９、８３、７３と７１によってそれぞれ分析される。空間モードアナライザの構造を図６に示し、後述する。空間モードアナライザの出力は、ケーブル９１、９３、９４と９６によってそれぞれ伝達される４つの電気信号から成っている。回路８７と８５は、それぞれケーブル９１と９３、及び９４と９６に接続され、また、空間モードアナライザからの信号を処理して、ケーブル９５と９７にストークスパラメータを表わす信号を生成するように配備される。テストピース７によって加えられた位相偏移を回復するように、演算処理装置９９は、回路８７と８５からの信号で動作する。そのとき、位相偏移は表示部１０１に表示される。
【００４８】
さて、図６を参照すると、空間モードアナライザ８９、８３、７３及び７１と同一形式の空間モードアナライザのブロック図が示されている。動作では、重畳した横断空間モードを含んでいる入射ビーム１０３は、ホログラム１０５に入射する。ホログラム１０５が選択されて、ビーム１０３の望みの横断空間モードを、対応する低位空間モードを有する光線１０７に変換する。そのとき、光ビーム１０７は空間モードフィルタ１０９を通過する。本例において、フィルタ１０９は単一モード光ファイバの形で配備されている。フィルタ１０９からの出力は、対応する電気信号を生成する受光素子１１１によって検出される。フィルタ１０９は、Ｎ．Ｋ．ラングフォード他によって以前に発表された論文で説明されているように、全ての他の横断空間モードを除去する。
【００４９】
図１、２と３を再度参照すると、それらの図に示されているビームディスプレーサは、広範囲に亘る波長の変化に比較的無感覚である。このように、本発明の実施形態に係わる干渉計は、多数の波長の位相偏移を同時に測定するために使用し得る。例えば、入力ビーム４は、基本周波数とその第二高調波、数台のレーザー線の混合光、または多数のレーザーからの出力を含んでいてもよい。あるいは、それは周波数コム、例えば、光バンドギャップ材料によって生成される「白色光」コムから構成され得る。該出力は、先ず、波長成分に分離されて、次にＳ２及びＳ３検出器で分析されるか、あるいは、更に実際的に、先ず、広帯域偏光光学系を組み込んだＳ２及びＳ３検出アームに分割されて、次に、光検出素子の前に波長が分析され得る。セロハンを申し分のない広帯域波長板として使用できる。
【００５０】
ここに説明されたもの以外に、更なる変形と実施形態が可能で、例えば、図１と図２の実施形態中のビームディスプレーサ５の出力ビームは、適切な偏光回転素子を通過して逆反射素子に向けることが可能である。そのとき、この素子の形状によっては、該ビームが、入射時と同じ経路に沿って出射するか（サニャック干渉計と同様）、または別の経路に沿って（転置されたサニャック干渉計と同様）出射する場合がある。この構成は、第１のビームディスプレーサの何らかの不完全性により、両方のビームが同じ歪みを受けることを意味する。
【００５１】
ここに記載された本発明の実施形態は、それの原理を説明する目的で提供されたものであって、上記の特許請求の範囲に規定している本発明の範囲から離れることなく、多くの変更が、当業者の作業によってなされる可能性があるので、本発明を制限したり制約したりする意図はない。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の好適な実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図２】本発明の別の実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図３】本発明の更に別の実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図４】本発明の好適な実施形態に係わる偏光測定位相回復モジュールのブロック図である。
【図５】本発明の別の実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図６】図５の該干渉計で使用される空間モードアナライザのブロック図である。
【図１】
2007503578.tif 000003
【図２】
2007503578.tif 000004
【図３】
2007503578.tif 000005
【図４】
2007503578.tif 000006
【図５】
2007503578.tif 000007
【図６】
2007503578.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月12日(2005.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力ビームを直交偏光の第１と第２の基本ビームに分割して、前記基本ビームを結合させて、少なくとも１本の出力ビームを生成するように配備されたビーム変位アセンブリと、
該第１と第２の基本ビームが重畳された２つの偏光ベースにおいて、少なくとも１本の出力ビームを分析するように配備され、また、テストピースによって、前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移における差を決定するように配備されたフェーズアナライザと、
を備えたことを特徴とする干渉計。
【請求項２】
該ビーム変位アセンブリは、第１と第２の偏光ビームディスプレーサを備えていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項３】
該第２の偏光ビームディスプレーサは、該第１の偏光ビームディスプレーサとは逆に向けられていることを特徴とする請求項２に記載の干渉計。
【請求項４】
半波長板が、該第１と第２の偏光ビームディスプレーサの間に配置されることを特徴とする請求項２に記載の干渉計。
【請求項５】
該フェーズアナライザは、該出力ビームに関連したストークスパラメータを表わす信号に基づいて該位相偏移を計算するように配備された偏光測定位相回復アセンブリを備えていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項６】
該ビーム変位アセンブリは、該第１と第２の基本ビームに、水平と垂直の偏光を与えるように配備されていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項７】
該フェーズアナライザは、少なくとも１本の出力ビームの左右循環型成分を、対応する垂直及び水平成分に変換するために、半波及び４分の１波長板を含む偏光測定位相回復アセンブリを備えていることを特徴とする請求項６に記載の干渉計。
【請求項８】
該垂直及び水平成分を判別する手段を備えていることを特徴とする請求項７に記載の干渉計。
【請求項９】
該垂直及び水平成分に対応する電気信号を生成するための受光素子を備えていることを特徴とする請求項８に記載の干渉計。
【請求項１０】
ストークスパラメータに対応する信号を生成するために該電気信号を結合させる手段を備えていることを特徴とする請求項９に記載の干渉計。
【請求項１１】
ストークスパラメータに対応する信号に反応し、基本ビームの内の１つに加えられる他方と相対的な位相偏移を示す信号を生成するように配備された、プロセッサを備えていることを特徴とする請求項１０に記載の干渉計。
【請求項１２】
該ビーム変位アセンブリが、該入力ビームを、該分離された第１及び第２の基本ビームに分割するように配備されたビームスプリッタを備えていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項１３】
前記第１と第２の基本ビームをそれぞれ直交空間モードにするように配備された第１と第２のホログラフィープレートを備えていることを特徴とする請求項１２に記載の干渉計。
【請求項１４】
該第１と第２の基本ビームを重畳して、前記少なくとも１本の出力ビームを生成する手段を備えていることを特徴とする請求項１３に記載の干渉計。
【請求項１５】
該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、ビームスプリッタを備えていることを特徴とする請求項１４に記載の干渉計。
【請求項１６】
該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、ホログラフィープレートを備えていることを特徴とする請求項１４に記載の干渉計。
【請求項１７】
該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、重畳した横断的な空間モードを備えた第１と第２の出力ビームを生成することを特徴とする請求項１４に記載の干渉計。
【請求項１８】
該フェーズアナライザは、前記横断的空間モードの内の望ましい方を最低位の空間モードに変換する手段を各々有している多数の空間モードアナライザを備えていることを特徴とする請求項１７に記載の干渉計。
【請求項１９】
前記横断的空間モードの内の１つを最低位の空間モードに変換する該手段は、ホログラフィープレートを備えていることを特徴とする請求項１８に記載の干渉計。
【請求項２０】
該ホログラフィープレートからの光をフィルタ処理するように配備された空間モードフィルタを備えていることを特徴とする請求項１９に記載の干渉計。
【請求項２１】
該空間モードフィルタは単一モード光ファイバを備えていることを特徴とする請求項２０に記載の干渉計。
【請求項２２】
前記光ファイバからの光は、受光素子によって、対応する電気信号に変換されることを特徴とする請求項２１に記載の干渉計。
【請求項２３】
ストークスパラメータを表わす信号を得るために、該多数の空間モードアナライザのそれぞれからの、対応する電気信号を結合させる手段を備えていることを特徴とする請求項２２に記載の干渉計。
【請求項２４】
前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移に対応する信号を生成するために、ストークスパラメータを表わす信号を処理するように配備されるプロセッサを備えていることを特徴とする請求項２３に記載の干渉計。
【請求項２５】
入力ビームを、基本ビームの直交偏光の第１のペアに分割するための手段と、
少なくとも１本の出力ビームを形成するために、基本ビームの前記第１のペアを再結合するための手段と、
基本ビームの該第１のペア間に加えられた相対的な位相偏移を決定するために、重畳された基本ビームの該第１のペアである２つの偏光ベースにおいて、該少なくとも１本の出力ビームを処理するための手段と、
を備えたことを特徴とする干渉計。
【請求項２６】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交偏光ビームを含むように、配備されていることを特徴とする請求項２５に記載の干渉計。
【請求項２７】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交する水平及び垂直偏光ビームを含むように、配備されていることを特徴とする請求項２６に記載の干渉計。
【請求項２８】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交空間モードビームを含むように、配備されていることを特徴とする請求項２６に記載の干渉計。
【請求項２９】
該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、偏光測定位相回復アセンブリを備えていることを特徴とする請求項２７に記載の干渉計。
【請求項３０】
該偏光測定位相回復アセンブリは、ストークスパラメータを表わす信号から該位相偏移を計算するために、配備されていることを特徴とする請求項２９に記載の干渉計。  
【請求項３１】
該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、多数の空間モードフィルタを備えていることを特徴とする請求項２８に記載の干渉計。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁的位相偏移の測定のための方法、及び装置に関する。ある用途では、本発明は本質的に安定で、丈夫な干渉計を提供する。
【背景技術】
【０００２】
干渉測定法による位相測定は広範囲の診断方法の要である。非網羅的なアプリケーションのリストには、分光法、顕微鏡法、ガス分析、フロー分析、汚染監視、モニタ用薄膜デポジションと応力解析、及び距離測定が含まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来、数種類の二光束干渉計が知られている。代表例はマイケルソン、マッハツェンダ及びジャマン干渉計である。一般に、これらの装置は、振幅分割、つまり、入射レーザー光を、２つのビームに分割して、１つは参照ビームとして使用し、他方はプローブビームとして使用することで、動作する。プローブビームの光路は、テストピースを通過するか、あるいは反射するかによって、参照ビームに対して変化する。それらのビームは再結合されて干渉しあう。出力ビーム中の干渉縞の強度は、テストピースとプローブビームの相互作用による光路差のシヌソイド関数である。ある種の従来型干渉計の使用で生じる問題は、それらの動作が衝撃と振動によって損なわれるということである。
【０００４】
衝撃と振動に強くて、比較的無感応な従来型干渉計に代わるものを提供することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様によれば、
入力ビームを直交偏光の第１と第２の基本ビームに分割して、前記基本ビームを結合させて、少なくとも１本の出力ビームを生成するように配備されたビーム変位アセンブリと、
第１と第２の基本ビームを重畳した２つの偏光ベースにおける少なくとも１本の出力ビームを分析するように配備され、また、テストピースによって、前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移における差を決定するように配備されたフェーズアナライザと、
を備えた干渉計が提供される。
【０００６】
ある実施形態においては、ビーム変位アセンブリは第１と第２の偏光ビームディスプレーサを備えている。
【０００７】
該第２の偏光ビームディスプレーサは、該第１の偏光ビームディスプレーサとは逆に向けられている場合がある。
【０００８】
半波長板は、第１と第２の偏光ビームディスプレーサの間に配置されることが好ましい。
【０００９】
該フェーズアナライザは、出力ビームに関連したストークスパラメータを表わす信号に基づく該位相偏移を計算するように配備された偏光測定位相回復アセンブリから構成されている場合がある。
【００１０】
ある実施形態では、該ビーム変位アセンブリは第１と第２の基本ビームに、水平と垂直の偏光を与えるように配備されている。
【００１１】
該フェーズアナライザは、少なくとも１本の出力ビームの左右循環型成分を、対応する垂直及び水平成分に変換するために、半波及び４分の１波長板を含む偏光測定位相回復アセンブリを備えていることが好ましい。
【００１２】
該干渉計は、垂直・水平成分を判別する手段を有しているのが好ましい。
【００１３】
実施形態では、垂直・水平成分に対応する電気信号を生成するために、受光素子が含まれていることが好ましい。
【００１４】
該干渉計は、ストークスパラメータに対応する信号を生成する電気信号を結合させる手段を有している場合がある。
【００１５】
該ストークスパラメータに対応する該信号に反応し、該基本ビームの内の１つに加えられる他方と相対的な位相偏移を示す信号を生成するように配備された、プロセッサを備えるのが好ましい。
【００１６】
該ビーム変位アセンブリが、該入力ビームを、該分離された第１及び第２の基本ビームに分割するように配備されたビームスプリッタを有している場合がある。
【００１７】
ある実施形態では、該干渉計が、前記第１と第２の基本ビームをそれぞれ直交空間モードにするように配備された第１と第２のホログラフィープレートを有している場合がある。
【００１８】
該干渉計は、該第１と第２の基本ビームを重畳して、前記少なくとも１本の出力ビームを生成する手段を有していることが好ましい。
【００１９】
該第１と第２基本ビームを重畳する該手段は、ビームスプリッタを備えている場合がある。
【００２０】
あるいは、該第１と第２基本ビームを重畳する該手段は、ホログラフィープレートを備えていてもよい。
【００２１】
ある実施形態では、該第１と第２の基本ビームを重畳する該手段は、重畳した横断的な空間モードから成る第１と第２の出力ビームを生成する。 
【００２２】
ある実施形態では、該フェーズアナライザは、前記の横断的な空間モードの内の望ましい方を最低位の空間モードに変換する手段を各々有している多数の空間モードアナライザを備えている。
【００２３】
前記の横断的な空間モードの内の１つを最低位の空間モードに変換する該手段は、ホログラフィープレートを備えていることが好ましい。
【００２４】
該空間モードアナライザは、各々、ホログラフィープレートからの光をフィルタ処理するように配備された空間モードフィルタを有していることが好ましい。
【００２５】
該空間モードフィルタは単一モード光ファイバを備えていることがある。
【００２６】
前記光ファイバからの光は、受光素子によって対応する電気信号に変換されことが好ましい。
【００２７】
ストークスパラメータを表わす信号を得るために、干渉計は、多数の空間モードアナライザのそれぞれからの対応する電気信号を結合させる手段を有することが望ましい。
【００２８】
前記基本ビームの内の１つに加えられた他方と相対的な位相偏移に対応する信号を生成するために、ストークスパラメータを表わす信号を処理するように配備されるプロセッサが備えられるのは好ましい。
【００２９】
本発明の別の態様によれば、入力ビームを、基本ビームの直交偏光の第１のペアに分割するための手段と、
少なくとも１本の出力ビームを形成するために、前記の基本ビームの前記第１のペアを再結合するための手段と、
基本ビームの該第１のペア間に加えられた相対的な位相偏移を決定するために、重畳された基本ビームの該第１のペアである２つの偏光ベースにおいて、該少なくとも１本の出力ビームを処理するための手段と、
を有する干渉計が提供される。
【００３０】
該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交偏光ビームから成るように、配備される場合がある。
【００３１】
更に具体的には、該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ水平と垂直の直交偏光ビームから成るように、配備されることがある。
【００３２】
該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、偏光測定位相回復アセンブリを備えていることが好ましい。
【００３３】
あるいは、該入力ビームを分割するための該手段は、基本ビームの該第１のペアがそれぞれ直交空間モードビームから成るように、配備されてもよい。その場合、該少なくとも１本の出力ビームを処理するための該手段は、多数の空間モードフィルタを有していることがある。
【００３４】
該偏光測定位相回復アセンブリは、ストークスパラメータを表わす信号から位相偏移を計算するように、配備されることが好ましい。
【００３５】
以下のような多数の図面を参照する例示的な実施形態の説明で、本発明の更なる好適な特徴を以下に詳述する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
本発明に係わる干渉計１の好適な実施形態が、図１に概略的に示されている。干渉計１は、偏光ビームディスプレーサ５と、逆向きのビームディスプレーサ９とで構成されたビーム変位アセンブリを有している。偏光ビームディスプレーサ５は、レーザー３からの、既知の偏光状態を有する、光４の入力ビームを受け取るように配備される。図１の実施形態では、入力ビーム４は、垂直偏光の参照ビーム６と水平偏光のプローブビーム８の形を取った一対の基本ビームに、コヒーレントに分割されている。 
【００３７】
使用時には、テストピース７が、図示のようにプローブビーム８の経路に配置される。 位相偏移が、該ピースとの相互作用により、プローブビームに加えられる。参照ビーム６とプローブビーム８は、ディスプレーサ５と逆向きの偏光ビームディスプレーサ９によって再結合されて、コード化出力ビーム１２を形成する。出力ビーム１２は、偏光測定位相回復モジュール１１の形を取った位相偏移アナライザによって受光される。位相回復モジュール１１は、テストピース７によって加えられた位相偏移に対応する電気信号を生成する。
【００３８】
図２は、プロープと参照ビームとの経路が、適切に方向付けされた偏光コントローラの追加によって干渉の面でバランスしている、本発明に係わる干渉計２の別の実施形態のブロック図である。図２の実施形態では、偏光コントローラは、４５°の光学軸を持ち、入力ビームディスプレーサ５と同じ配向を有する出力ビームディスプレーサ１５を有する、半波長板１３を備えている。
【００３９】
本発明の更に別の実施形態に係わる干渉計１０が、図３に示されている。干渉計１０は、反射によるむらが原因の相変化を検出するように調節される。使用時には、レーザー３からの光は、ビームスプリッタ６９で、ビーム７０と７１に分離される。ビーム７０はビームダンプ７６に方向付けされて廃棄される。ビーム７１は、ビームディスプレーサ５によって、垂直偏光ビーム７２と水平偏光ビーム７３である一対の直交偏光ビームに分割される。ビーム７２は、ミラー７７によって反射されて、反転された参照ビームとして作用する。ビーム７３は、プローブビームの役割を果たし、テストピース７に入射する。プローブビーム７３の一部は、該テストピース７から反射され、該反射された参照ビーム７２と、ビームディスプレーサ５によって再結合される。ビームダンプ７８は、テストピース７を通過して伝搬されるプローブビーム７３のすべての部分を吸収する役目を果たす。該再結合されたビームは、ビームスプリッタ６９に送られ、その一部がビーム７５として位相回復段１１に方向付けされる。
【００４０】
図１、２及び３の干渉計の利点は、ｘ、ｙ及びｚ方向で、個別の要素の相対変位に無感覚であるので、それらが非常に安定しているということである。この安定性は、マイケルソン、マッハツェンダまたはサニャック干渉計と対照的である。実際、本発明の実施形態に係わる干渉計は、例えば、図２の第２のビームディスプレーサ１５の非常に小さな回転の検出が可能なように、構成され得る。同様に、テストピース７は一組の物理的要素から構成され得る。そうすると、例えば、振動が原因でテスト物理システムによって加えられた位相偏移の変化をモニタし得る。
【００４１】
ビーム４の偏光状態が分からない場合、またはデバイスの実用的な実現で系統的な位相偏移がある場合には、ピース７を除去すると、基準状態、つまり、系統的な位相偏移だけを含んでいる出力ビーム１２の状態を設けることにより、干渉計の較正が容易になる。
【００４２】
図４は、偏光測定位相回復アセンブリ１１の内部コンポーネントの、ある構成を示す。最初に、ビーム１２は、５０−５０のビームスプリッタ１７によって２つ、つまり、ビーム１４と１６に分離される。４分の１波長板２９が、ビーム１４の左右の循環型成分をビーム１８の対応する垂直・水平成分に変換する。従って、偏光ビームスプリッタ３１は、ビーム１８を、それぞれ別々の水平及び垂直の偏光成分ビーム２０と２２に分割する。該水平偏光ビーム２０の強度は、ケーブル２４に対応する電気信号を生成する受光素子３３によって検出される。垂直偏光ビーム２２の強度は、ケーブル２６に、対応する電気信号を生成する受光素子３５によって検出される。ケーブル３８にＳ３ストークスパラメータに対応する信号を生成するために、該強度信号は、プリプロセッサ３７、例えば、適切に構成された演算増幅器によって適切にスケーリングされ、区別される。
【００４３】
スプリッタ１７からのビーム１６は、ビーム１６中の対角及び非対角の成分を、ビーム２８の対応する垂直・水平直線偏光成分に変換する半波長板１９に入射する。偏光ビームスプリッタ２１は、ビーム２８を、それぞれ水平及び垂直偏光成分ビーム３２と３０に分割する。該水平偏光ビーム３２の強度は、ケーブル３６に、対応する電気信号を生成する受光素子２５によって検出される。垂直偏光ビーム３０の強度は、ケーブル３４に、対応する電気信号を生成する受光素子２３によって検出される。ケーブル４０にＳ２ストークスパラメータに対応する信号を生成するために、ケーブル３６及び３４上の該強度信号は、プリプロセッサ２７によって適切にスケーリングされ、区別される。
【００４４】
該プリプロセッサ２７と３７からのＳ２及びＳ３信号は、ピース７によって加えられた位相差であるφ＝ａｒｃｔａｎ（Ｓ３／Ｓ２）を計算する処理モジュール３９によって処理される。ある実施例では、処理モジュール３９は、アークタンジェント関数を計算するために、適切にプログラムされた高速ディジタル処理装置及び関連するＡ−Ｄ変換器を有している。該処理モジュールは、φの読取表示を生成するために、ケーブル４１によって、ディジタル表示装置４３を制御することも可能である。 
【００４５】
Ｓ２とＳ３の検出器は、出力で時間的な変形を測定するか、または出力で空間的な変形、あるいはそれらの両方を測定するように構成され得る。つまり、該検出器の光検出部は、単一の検出素子（例えば、ＰＩＮフォトダイオードまたはＰＭＴ）または空間的撮像部品（例えば、ＣＣＤあるいはＣＭＯＳカメラ）を持てるが、しかし、それらに限定されない。後者の場合では、信号処理は画素単位で使用されることになる。
【００４６】
本発明は、入力を構成するために従来使用されたものと異なるベースで分析される１対の分析ビームに、出力ビーム１２を分解することを包含していることが、理解されるであろう。新しいベースの各成分は、既知の関係を持つ、オリジナルのベースの成分、つまり、ビーム６と８の線形重畳として表現され得る。このように、この関係は参照及びプローブビーム間の相対的な位相偏移を抽出するために利用され得る。そこで、これは、正確には、調査中の物理的システムによる電磁放射に加えられた位相偏移である。当該業者は、等価な振る舞いが、何らかの２つの直交モード、例えば、該フィールドの直交横断空間モードと、ストークスパラメータの適切な相当物によってそれらから抽出された位相とで実現できることを認識するはずであり（例えば、「Ｎ．Ｋ．ラングフォード他、Physical Review Letters、９３巻、０５３６０１（２００４）」参照）、その内容については、相互参照によってその全体を組み入れている。
【００４７】
直交空間モードを利用する本発明の実施形態は、図５に実際的に表示されている。その図面を参照すると、レーザー３からのビーム４５は、ビーム４９と５７にビームを分割するビームスプリッタ４７に入射する。ビーム４９は、ビーム４９を、別の横断空間モードビーム５３に変換するホログラム５１に入射する。そのとき、ビーム５３は、発生するビーム５５に位相偏移を加えるテストピース７を通過する。同様に、ビーム５７は、該ビームを、ビーム６１に変換するホログラム５９に入射する。ビーム６１は、ビーム５５と直交する横断空間モードである。ビーム５５と６１は、重畳された出力ビーム７５と６５を形成するのに適切なように、ビームスプリッタまたはホログラムである素子６３上に重畳される。重畳されたビーム７５と６５は、フェーズアナライザ６６のビームスプリッタ７７と６７に送られる。結果として生じる４つのビーム７９、８１、６９と６８は、空間モードアナライザ８９、８３、７３と７１によってそれぞれ分析される。空間モードアナライザの構造を図６に示し、後述する。空間モードアナライザの出力は、ケーブル９１、９３、９４と９６によってそれぞれ伝達される４つの電気信号から成っている。回路８７と８５は、それぞれケーブル９１と９３、及び９４と９６に接続され、また、空間モードアナライザからの信号を処理して、ケーブル９５と９７にストークスパラメータを表わす信号を生成するように配備される。テストピース７によって加えられた位相偏移を回復するように、演算処理装置９９は、回路８７と８５からの信号で動作する。そのとき、位相偏移は表示部１０１に表示される。
【００４８】
さて、図６を参照すると、空間モードアナライザ８９、８３、７３及び７１と同一形式の空間モードアナライザのブロック図が示されている。動作では、重畳した横断空間モードを含んでいる入射ビーム１０３は、ホログラム１０５に入射する。ホログラム１０５が選択されて、ビーム１０３の望みの横断空間モードを、対応する低位空間モードを有する光線１０７に変換する。そのとき、光ビーム１０７は空間モードフィルタ１０９を通過する。本例において、フィルタ１０９は単一モード光ファイバの形で配備されている。フィルタ１０９からの出力は、対応する電気信号を生成する受光素子１１１によって検出される。フィルタ１０９は、Ｎ．Ｋ．ラングフォード他によって以前に発表された論文で説明されているように、全ての他の横断空間モードを除去する。
【００４９】
図１、２と３を再度参照すると、それらの図に示されているビームディスプレーサは、広範囲に亘る波長の変化に比較的無感覚である。このように、本発明の実施形態に係わる干渉計は、多数の波長の位相偏移を同時に測定するために使用し得る。例えば、入力ビーム４は、基本周波数とその第二高調波、数台のレーザー線の混合光、または多数のレーザーからの出力を含んでいてもよい。あるいは、それは周波数コム、例えば、光バンドギャップ材料によって生成される「白色光」コムから構成され得る。該出力は、先ず、波長成分に分離されて、次にＳ２及びＳ３検出器で分析されるか、あるいは、更に実際的に、先ず、広帯域偏光光学系を組み込んだＳ２及びＳ３検出アームに分割されて、次に、光検出素子の前に波長が分析され得る。セロハンを申し分のない広帯域波長板として使用できる。
【００５０】
ここに説明されたもの以外に、更なる変形と実施形態が可能で、例えば、図１と図２の実施形態中のビームディスプレーサ５の出力ビームは、適切な偏光回転素子を通過して逆反射素子に向けることが可能である。そのとき、この素子の形状によっては、該ビームが、入射時と同じ経路に沿って出射するか（サニャック干渉計と同様）、または別の経路に沿って（転置されたサニャック干渉計と同様）出射する場合がある。この構成は、第１のビームディスプレーサの何らかの不完全性により、両方のビームが同じ歪みを受けることを意味する。
【００５１】
ここに記載された本発明の実施形態は、それの原理を説明する目的で提供されたものであって、上記の特許請求の範囲に規定している本発明の範囲から離れることなく、多くの変更が、当業者の作業によってなされる可能性があるので、本発明を制限したり制約したりする意図はない。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の好適な実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図２】本発明の別の実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図３】本発明の更に別の実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図４】本発明の好適な実施形態に係わる偏光測定位相回復モジュールのブロック図である。
【図５】本発明の別の実施形態に係わる干渉計のブロック図である。
【図６】図５の該干渉計で使用される空間モードアナライザのブロック図である。
【国際調査報告】
2007503578.tif 000009
2007503578.tif 000010