Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月28日(2016.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に、前記ゲート電極と重なる領域を有する酸化物半導体膜を形成し、
前記酸化物半導体膜上にソース電極及びドレイン電極を形成する半導体装置の作製方法であって、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極を形成する工程は、
前記ゲート絶縁膜上及び前記酸化物半導体膜上に、第１の金属膜を形成する工程と、
前記第１の金属膜上に第２の金属膜を形成する工程と、
第１のマスクを用いて、前記第２の金属膜の一部を第１のエッチングにより除去する工程と、
前記第１のエッチング後に、前記第１の金属膜上及び前記第２の金属膜上に、前記第２の金属膜を覆うように第３の金属膜を形成する工程と、
第２のマスクを用いて、前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜の一部を第２のエッチングにより除去する工程と、を有し、
前記第２のエッチング後の前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜の端部は、前記第１のエッチング後の前記第２の金属膜の端部より外側に延び、
前記第２のエッチング後の前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜の端部同士は接し、
前記第２の金属膜は、銅元素を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
ゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に、前記ゲート電極と重なる領域を有する酸化物半導体膜を形成し、
前記酸化物半導体膜上にソース電極及びドレイン電極を形成し、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極を形成後に、前記酸化物半導体膜上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜に酸素ガスを用いたプラズマ処理を行う半導体装置の作製方法であって、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極を形成する工程は、
前記ゲート絶縁膜上及び前記酸化物半導体膜上に、第１の金属膜を形成する工程と、
前記第１の金属膜上に第２の金属膜を形成する工程と、
第１のマスクを用いて、前記第２の金属膜の一部を第１のエッチングにより除去する工程と、
前記第１のエッチング後に、前記第１の金属膜上及び前記第２の金属膜上に、前記第２の金属膜を覆うように第３の金属膜を形成する工程と、
第２のマスクを用いて、前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜の一部を第２のエッチングにより除去する工程と、を有し、
前記第２のエッチング後の前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜の端部は、前記第１のエッチング後の前記第２の金属膜の端部より外側に延び、
前記第２のエッチング後の前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜の端部同士は接し、
前記第２の金属膜は、銅元素を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１の金属膜及び前記第３の金属膜は、タングステン、タンタル、チタン、及びモリブデンの中から選択される一以上の元素を含む金属膜、または金属窒化物膜である半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月21日(2015.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子が支持体にフリップチップ実装された発光装置の製造方法であって、
（ａ）基板と、前記基板上に形成された第１半導体層と第２半導体層と、を含む半導体層と、前記第１半導体層と電気的に接続されるｎ側電極と、前記第２半導体層と電気的に接続されるｐ側電極と、前記基板と反対側の面において、前記第１半導体層と前記第２半導体層に重なるよう設けられた金属部材を有する構造体を準備し、
（ｂ）ｐ側配線およびｎ側配線を同一面上に有する支持体を準備し、
（ｃ）前記構造体のｐ側電極およびｎ側電極と前記支持体のｐ側配線およびｎ側配線とを、導電性粒子および第１樹脂を含む異方性導電材料を用いて、それぞれ電気的に接続し、その後、
（ｄ）前記基板を前記構造体から除去して発光素子とすることを含む、発光装置の製造方法。
【請求項２】
前記金属部材は、絶縁層を挟んで前記第２半導体層と重なるように設けられる請求項１に記載の発光装置の製造方法。
【請求項３】
前記金属部材が、前記第２半導体層と重なるよう設けられた前記ｎ側電極である請求項１または２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項４】
前記異方性導電材料は、前記構造体と前記支持体との間にほぼ完全に充填されている請求項１ないし３のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項５】
前記基板を除去する工程は、前記基板を透過する波長のレーザー照射によって行われる請求項１ないし４のいずれか１項記載の発光装置の製造方法。
【請求項６】
前記第ｎ側電極と前記ｐ側電極との高さの差が、前記第１半導体層と前記第２半導体層との高さの差よりも小さくなるよう設けられる請求項１から５のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記支持体は、前記支持体が複数連結した集合基板として準備される請求項１から６のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記集合基板を分割して発光装置を得る工程を含む請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
第１半導体層と、第２半導体層と、を含む半導体層と、前記第１半導体層と電気的に接続されるｎ側電極と、前記第２半導体層と接続されるｐ側電極とを有し、最上面が前記半導体層である発光素子と、ｐ側配線およびｎ側配線を同一面上に有する支持体と、を備え、前記発光素子のｐ側電極およびｎ側電極と前記支持体のｐ側配線およびｎ側配線とが、異方性導電材料によって、それぞれ電気的に接続されており、前記発光素子は、前記第１半導体層の反対側の面において、前記第１半導体層と前記第２半導体層に重なるよう設けられた金属部材を備えることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
前記金属部材は、絶縁層を挟んで前記第２半導体層と重なるように設けられる請求項９に記載の発光装置。
【請求項１１】
前記金属部材が、前記第２半導体層と重なるよう設けられた前記ｎ側電極である請求項９または１０に記載の発光装置。
【請求項１２】
前記異方性導電材料は、前記発光素子と前記支持体との間にほぼ完全に充填されている請求項９からに記載の発光装置。
【請求項１３】
前記第ｎ側電極と前記ｐ側電極との高さの差が、前記第１半導体層と前記第２半導体層との高さの差よりも小さい請求項８から１０のいずれか１項に記載の発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月7日(2016.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に実装される発光素子と、
前記発光素子を封止する封止部材と、を備える発光装置の封止部材の取り外し方法であって、
前記基板と前記封止部材との間に剥離層を有し、
前記剥離層は前記封止部材の下面全域に設けられ、
前記剥離層において、前記封止部材を前記基板から取り外す工程を有する、
発光装置の封止部材の取り外し方法。
【請求項２】
前記剥離層と前記封止部材との界面で前記封止部材が剥離されることを特徴とする、請求項１に記載の発光装置の封止部材の取り外し方法。
【請求項３】
前記剥離層と前記基板との界面で前記封止部材が剥離されることを特徴とする、請求項１に記載の発光装置の封止部材の取り外し方法。
【請求項４】
基板と、
前記基板上に実装される発光素子と、
前記発光素子を封止する封止部材と、を備える発光装置の封止部材の取り外し方法であって、
前記基板と前記封止部材との間には空気層が設けられており、
前記空気層において、前記封止部材を前記基板から取り外す工程を有する、
発光装置の封止部材の取り外し方法。
【請求項５】
前記発光装置は、前記基板または前記基板上の配線と前記発光素子とを接合する接合部材を備え、
前記封止部材を前記基板から取り外す工程において、前記接合部材を溶融させ、前記溶融させた状態で前記封止部材を前記基板から取り外す、
請求項１から４のいずれか１項に記載の発光装置の封止部材の取り外し方法。
【請求項６】
前記接合部材は半田である請求項５に記載の発光装置の封止部材の取り外し方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月4日(2016.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体が配置された処理容器の内部に処理ガスを供給するガス供給工程と、
前記処理容器の内部に供給された処理ガスのプラズマを生成するための電力であり、周波数が１００ＭＨｚ〜１５０ＭＨｚであるプラズマ生成用電力と、前記プラズマ生成用電力よりも周波数が低い電力であるバイアス用電力とを供給する電力供給工程と、
デューティ比が１０％〜７０％となり、かつ、周波数が５ｋＨｚ〜２０ｋＨｚとなるように前記バイアス用電力をパルス変調しながら、前記処理ガスのプラズマにより被処理体をエッチングするエッチング工程と
を含むことを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
前記エッチング工程は、デューティ比が４０％〜６０％となり、かつ、周波数が５ｋＨｚ〜１０ｋＨｚとなるように前記バイアス用電力をパルス変調しながら、前記処理ガスのプラズマにより被処理体をエッチングすることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項３】
前記バイアス用電力の周波数が４００ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚであることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理方法。
【請求項４】
前記被処理体は、ポリシリコン膜と、ＳｉＯ２膜又は有機膜とを含み、
前記エッチング工程は、前記ＳｉＯ２膜又は前記有機膜をマスクとして前記処理ガスのプラズマにより前記ポリシリコン膜をエッチングすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項５】
前記被処理体は、ＳｉＯ２膜と、有機膜又はポリシリコン膜とを含み、
前記エッチング工程は、前記有機膜又は前記ポリシリコン膜をマスクとして前記処理ガスのプラズマにより前記ＳｉＯ２膜をエッチングすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項６】
前記被処理体は、ＳｉＯ２膜とポリシリコン膜との積層膜と、有機膜とを含み、
前記エッチング工程は、前記有機膜をマスクとして前記処理ガスのプラズマにより前記積層膜をエッチングすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項７】
前記積層膜は、少なくとも２４層以上積層されることを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理方法。
【請求項８】
前記処理ガスは、臭素又は塩素と、フッ素と、酸素とを含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項９】
前記処理ガスは、アルゴンをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１０】
前記処理ガスは、ＣＦ系ガスを含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項１１】
前記バイアス用電力は、５００Ｗ〜３０００Ｗであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項１２】
前記エッチング工程によってエッチングされた前記被処理体の中心位置のエッチングレートと、当該被処理体の中心位置から径方向に沿って周縁側に所定距離だけシフトした位置のエッチングレートとの差は、−１．２（ｎｍ／ｍｉｎ）〜１．２（ｎｍ／ｍｉｎ）であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項１３】
被処理体が配置された処理容器と、
前記処理容器の内部を減圧するための排気部と、
前記処理容器の内部に処理ガスを供給するためのガス供給部と、
前記処理容器の内部に処理ガスを供給する工程と、前記処理容器の内部に供給された処理ガスのプラズマを生成するための電力であり、周波数が１００ＭＨｚ〜１５０ＭＨｚであるプラズマ生成用電力と、前記プラズマ生成用電力よりも周波数が低い電力であるバイアス用電力とを供給する工程と、デューティ比が１０％〜７０％となり、かつ、周波数が５ｋＨｚ〜２０ｋＨｚとなるように前記バイアス用電力をパルス変調しながら、前記処理ガスのプラズマにより被処理体をエッチングする工程とを実行する制御部と
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本実施形態に係るプラズマ処理方法は、１つの実施形態において、バイアス用電力の周波数が４００ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚである。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、下部電極３１には、例えば周波数が１００ＭＨｚ〜１５０ＭＨｚの高周波電力を供給する第１の高周波電源４５ａと、例えば第１の高周波電源４５ａよりも周波数の低い４００ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚの高周波電力を供給する第２の高周波電源４５ｂと、が夫々整合器４６ａ、４６ｂを介して接続されている。第１の高周波電源４５ａより供給される高周波電力は、後述する処理ガスをプラズマ化する役割を果たし、第２の高周波電源４５ｂより供給される高周波電力は、ウエハＷにバイアス電力を印加することでプラズマ中のイオンをウエハＷ表面に引き込む役割を果たす。以下では、説明の便宜を図るため、第１の高周波電源４５ａより供給される高周波電力をプラズマ生成用電力と呼び、第２の高周波電源４５ｂより供給される高周波電力をバイアス用電力と呼ぶことがあるものとする。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
また、本実施形態によれば、バイアス用電力の周波数が４００ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚである。その結果、プラズマ中のイオンを効率良く引き込むことができるので、被処理体の被処理面の均一性を更に精度良く維持するようにプロセス条件の設定範囲、つまり、処理装置及び処理のマージン（許容範囲）を広く出来、装置を停止することなく処理することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月8日(2016.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面と前記第２下面の周囲の少なくとも一部に配置された流体回収部とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を備える液浸部材。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月17日(2015.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
この成形金型１００を構成するこれらのホールド体１１０、ピアスパンチ１２０およびピアスダイス１３０は、予備成形品９０をプレス加工することによりプレス部品８０を成形する図示しないプレス加工機に取り付けられて用いられる。この場合、受け支持体１３７を含むピアスダイス１３０は、プレス加工機に固定的に設けられる。一方、ホールド体１１０およびピアスパンチ１２０は、プレス加工機内においてピアスダイス１３０に対して同軸上でかつピアスダイス１３０に対して接近および離隔する方向に変位可能な状態で設けられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
したがって、作業者は、予備成形金型２００にブランクＢＬをセットして図示しない絞り加工機を操作することによって予備成形品９０を成形する。これにより、作業者は、平板状のブランクＢＬに筒状部９１および傾斜部９２をそれぞれ成形したカップ状の予備成形品９０を得ることができる。この場合、予備成形品９０は、傾斜部９２を円弧状に形成することによって筒状部９１および傾斜部９２の板厚の減少を抑えながら成形することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、上記実施形態においては、成形金型１００は、受け支持体１３７を含むピアスダイス１３０がプレス加工機に固定的に設けられるとともに、ホールド体１１０およびピアスパンチ１２０がピアスダイス１３０に対して可動的に設けられている。しかし、ピアスダイス１３０に対するホールド体１１０およびピアスパンチ１２０の移動は相対的なものであるため、いずれが移動側および固定側であってもよいことは当然である。例えば、ホールド体１１０およびピアスパンチ１２０に対して受け支持体１３７を含むピアスダイス１３０が移動するように構成されていてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
ＢＬ…ブランク、ＦＳ…成形空間、Ｗ…成形空間の幅
８０…プレス部品、８１…本体、８２…製品筒状部、８３…角部、８４…抜き孔、
９０…予備成形品、９１…筒状部、９２…傾斜部、９３…位置決め孔、
１００…成形金型、
１１０…ホールド体、１１１…外側延伸規制部、１１２…外側固定支持部、
１２０…ピアスパンチ、１２１…押圧部、１２２…外側切れ刃、
１３０…ピアスダイス、１３１…ダイス本体、１３２…内側固定支持部、１３３…受け部、１３４…突出体、１３５…内側切れ刃、１３６…内側延伸規制部、１３７…受け支持体、
２００…金型、２１０…予備成形パンチ、２２０…予備成形ダイス、２３０…イジェクタピン。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集光レンズによって集光するレーザ光の焦点位置を、被加工物における被加工部と所定の距離に設定することにより、前記被加工部に高精度なレーザ加工を施す三次元レーザ加工機であって、
前記被加工物の三次元形状を測定する三次元形状測定器と、前記被加工物を加工するためのテーブルと、前記加工用テーブルとは別の前記被加工物の形状を測定するためのプレートと、前記テーブルに設置される前記被加工物と前記プレートに設置される前記被加工物とを入替える入替え装置とを備え、
前記被加工物にレーザ加工を施す前に、前記三次元形状測定器によって前記プレートに設置された前記被加工物の三次元形状を測定し、前記入替え装置によって前記プレートに設置された前記被加工物を前記テーブル上に位置させ、前記三次元形状測定器によって測定した前記被加工物の三次元形状データに基づいて、レーザ加工における前記レーザ光の焦点位置を、前記被加工部と所定の距離に設定して、前記テーブルに設置された前記被加工物を加工する
ことを特徴とする三次元レーザ加工機。
【請求項２】
前記被加工物にレーザ加工を施した後に、前記三次元形状測定器によって前記被加工物の三次元形状を測定し、
レーザ加工後における前記被加工物の三次元形状データによってレーザ加工の加工精度を確認する
ことを特徴とする請求項１に記載の三次元レーザ加工機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記課題を解決する第一の発明に係る三次元レーザ加工機は、集光レンズによって集光するレーザ光の焦点位置を、被加工物における被加工部と所定の距離に設定することにより、前記被加工部に高精度なレーザ加工を施す三次元レーザ加工機であって、前記被加工物の三次元形状を測定する三次元形状測定器と、前記被加工物を加工するためのテーブルと、前記加工用テーブルとは別の前記被加工物の形状を測定するためのプレートと、前記テーブルに設置される前記被加工物と前記プレートに設置される前記被加工物とを入替える入替え装置とを備え、前記被加工物にレーザ加工を施す前に、前記三次元形状測定器によって前記プレートに設置された前記被加工物の三次元形状を測定し、前記入替え装置によって前記プレートに設置された前記被加工物を前記テーブル上に位置させ、前記三次元形状測定器によって測定した前記被加工物の三次元形状データに基づいて、レーザ加工における前記レーザ光の焦点位置を、前記被加工部と所定の距離に設定して、前記テーブルに設置された前記被加工物を加工することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記課題を解決する第二の発明に係る三次元レーザ加工機は、第一の発明に係る三次元レーザ加工機において、前記三次元形状測定器によってレーザ加工後における前記被加工物の三次元形状を測定し、レーザ加工後における前記被加工物の三次元形状データによってレーザ加工の加工精度を確認することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第一の発明に係る三次元レーザ加工機によれば、被加工物の三次元形状を測定する三次元形状測定器を備えたことにより、被加工物の形状や被加工部の位置を正確に把握することができるので、ギャップセンサによる加工部位毎のギャップの検出等を必要としない。よって、ギャップセンサによるギャップ検出時間等を削減し、三次元レーザ加工機におけるレーザ加工の加工効率を向上させることができる。また、三次元形状測定器によって測定した被加工物の三次元形状データに基づいて、レーザ光の焦点位置と被加工部との距離を設定するので、被加工部におけるレーザ光の照射面積が設定どおりであるレーザ加工を施すことができ、レーザ加工の加工精度が低下することはない。また、ワークにレーザ加工を施すと同時に別のワークの三次元形状を測定することができるので、三次元レーザ加工機におけるレーザ加工の加工効率を向上させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第二の発明に係る三次元レーザ加工機によれば、三次元形状測定器によってレーザ加工後における被加工物の三次元形状を測定することにより、被加工物が設定どおりにレーザ加工を施されているか否か、すなわち、三次元レーザ加工機におけるレーザ加工の加工精度を確認することができる。よって、レーザ加工の際に生じる加工誤差等を検知することができ、その加工誤差等のデータを次の被加工物の加工データに織り込むことで、被加工物毎に加工誤差等を補正したレーザ加工を施すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月13日(2016.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】酸化物膜の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多結晶酸化物を含むスパッタリング用ターゲットから平板状の、複数のスパッタ粒子を剥離させて、前記複数のスパッタ粒子を正に帯電させて、互いに反発させながら被成膜面に輸送し、
前記被成膜面において、前記複数のスパッタ粒子の一を、前記複数のスパッタ粒子の他が堆積していない領域に、前記一のスパッタ粒子の平板面が上を向くように敷き詰めることを特徴とする酸化物膜の作製方法。
【請求項２】
多結晶酸化物を含むスパッタリング用ターゲットにイオンを衝突させて、前記スパッタリング用ターゲットから平板状の、複数のスパッタ粒子を剥離させて、前記複数のスパッタ粒子を正に帯電させて、互いに反発させながら被成膜面に輸送し、
前記被成膜面において、前記複数のスパッタ粒子の一を、前記複数のスパッタ粒子の他が堆積していない領域に、前記一のスパッタ粒子の平板面が上を向くように敷き詰めることを特徴とする酸化物膜の作製方法。
【請求項３】
劈開面を有する多結晶酸化物を含むスパッタリング用ターゲットにイオンを衝突させて、前記劈開面から平板状の、複数のスパッタ粒子を剥離させて、前記複数のスパッタ粒子を正に帯電させて、互いに反発させながら被成膜面に輸送し、
前記被成膜面において、前記複数のスパッタ粒子の一を、前記複数のスパッタ粒子の他が堆積していない領域に、前記一のスパッタ粒子の平板面が上を向くように敷き詰めることを特徴とする酸化物膜の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記スパッタ粒子は、結晶性を有することを特徴とする酸化物膜の作製方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記平板状は、六角柱状であって、
前記結晶性を有するスパッタ粒子の結晶のｃ軸は、前記六角柱状における平板面と垂直な方向に沿うように、配向していることを特徴とする酸化物膜の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月14日(2015.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ポリアミドから形成されるファイブリッド、短繊維、又はこれらの混合物から形成され、カレンダー加工を経て製造されたアラミド紙を、高圧噴射処理してアラミド紙の構成材料に解砕することを特徴とする抄紙用原料の製造方法。
【請求項２】
高圧噴射処理により解砕されたアラミド紙の体積平均粒度分布において１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲に粒径ピークを発生させることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
高圧噴射処理前にアラミド紙を粉砕し、得られた粉砕アラミド紙の体積平均粒度分布において１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲と１００μｍ以上１０００μｍ未満の範囲にそれぞれ粒径ピークがあり、該粉砕アラミド紙に高圧噴射処理した後のそれぞれの粒径ピークにおける頻度が１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲では増加し、１００μｍ以上１０００μｍ未満の範囲では減少することを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
高圧噴射処理前のアラミド紙を構成する材料に対して、高圧噴射処理後の解砕されたアラミド紙を構成する材料の長さ平均繊維長の保持率が８０％以上であることを特徴とする請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法により製造された抄紙用原料。
【請求項６】
請求項５に記載の抄紙用原料を含有することを特徴とする耐熱性電気絶縁シート材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（体積平均粒度分布、粒径ピーク）
本発明において体積平均粒度分布とは、粒子の分布を体積基準で測定した分布である。また、体積平均粒径とは、粒径を体積基準で測定した粒径である。また、粒径ピークとは、体積平均粒度分布のピークである。なお、本発明の抄紙用原料は、繊維形状、粒子形状または不定形状などの立体形状を有しているため、粒径ピークを用いて抄紙用原料の大きさ、形状を特定した。
また、体積平均粒度分布において１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲の粒径ピークは主に分離したアラミド短繊維の相対的な量を表していると考えられ、高圧噴射処理後に上記粒径ピークが発生するということはアラミド短繊維が発生していると考えられる。
従って、本発明では、高圧噴射処理後にアラミド紙の体積平均粒度分布において１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲に粒径ピークを発生させるように高圧噴射処理を行うのが好ましく、短繊維としての絡みが発生しやすく、耐熱性電気絶縁シート材料の強度が向上する。
さらに好ましくは高圧噴射処理前にアラミド紙を粉砕し、高圧噴射処理前のアラミド紙の体積平均粒度分布において１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲と１００μｍ以上１０００μｍ未満の範囲にそれぞれ粒径ピークがあり、高圧噴射処理後のそれぞれの粒径ピークにおける頻度が１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲では増加し、１００μｍ以上１０００μｍ未満の範囲では減少するように高圧噴射処理を行うのがよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記のカレンダー加工されたアラミド紙の体積平均粒度分布において１０μｍ以上１００μｍ未満の範囲の粒径ピークは主に分離したアラミド短繊維の相対的な量を表し、１００μｍ以上１０００μｍ未満の範囲の粒径ピークは主に分離していないアラミド短繊維とアラミドファイブリッドの混合物の相対的な量を表していると考えられ、高圧噴射処理後に前者の粒径ピークの頻度が増加し、後者の粒径ピークの頻度が減少するということはアラミド短繊維の量が相対的に増加し、分離していないアラミド短繊維とアラミドファイブリッドの混合物の量が相対的に減少していると考えられる。
これにより、短繊維としての絡みが発生しやすく、耐熱性電気絶縁シート材料の強度が向上するだけでなく、耐熱性電気絶縁シート材料の厚みむらも低減される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
表１
2014133951.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月25日(2015.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面側に位置し且つ前記主面に対して直交する方向から見てスパイラル状に延びる溝部を含む、シリコン基材と、
前記溝部に配置され且つ前記主面に対して直交する方向から見てスパイラル状に延びるコイル配線部と、
前記主面上及び前記コイル配線部上に配置された第１の絶縁層とを備え、
前記コイル配線部の内側端部には、引き出し導体の一端が電気的に接続されており、
前記引き出し導体の他端は、前記コイル配線部の外側に引き出されており、
前記引き出し導体は、前記第１の絶縁層を介して前記コイル配線部と立体的に交差しており、
前記第１の絶縁層のうち前記コイル配線部に対応する領域が平坦ではない、電子部品。
【請求項２】
前記シリコン基材は、前記主面と前記溝部の内壁面とに沿って配置された第２の絶縁層を有する、請求項１に記載の電子部品。
【請求項３】
前記第２の絶縁層は前記シリコン基材が熱酸化された酸化シリコンで構成されている、請求項２に記載の電子部品。
【請求項４】
シード層が、前記第２の絶縁層と前記コイル配線部のうち前記溝部内に配置された部分との間に配置されている、請求項２又は３に記載の電子部品。
【請求項５】
前記シード層はＴｉＮにより構成されている、請求項４に記載の電子部品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月2日(2016.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
［（Ｂ）光重合開始剤］
本発明の光硬化性組成物に含まれる光重合開始剤としては、特に限定されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。例えば、ベンゾイン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテルなどのベンゾイン類；ベンゾインアルキルエーテル類；ベンゾフェノン、ｐ−メチルベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、メチルベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）-ブタノン−１、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノンなどのアセトフェノン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；アントラキノン、クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−アミルアントラキノン、２−アミノアントラキノンなどのアントラキノン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ｐ−ジメチル安息香酸エチルエステルなどの安息香酸エステル類；１．２−オクタンジオン，１−[４−(フェニルチオ)−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム)]、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム)などのオキシムエステル類、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２−（１−ピロール−１−イル）エチル）フェニル］チタニウムなどのチタノセン類、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(２，４，６−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイドなどのアシルホスフィンオキサイド類、フェニルジスルフィド２−ニトロフルオレン、ブチロイン、アニソインエチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル、テトラメチルチウラムジスルフィド等を挙げることができる。これらの光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。（Ｂ）光重合開始剤は、（Ａ）光硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは、０．１〜１５質量部、より好ましくは０．１〜１０質量部、さらにより好ましくは０．３〜８質量部の割合で含まれる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
赤色着色剤としてはモノアゾ系、ジスアゾ系、アゾレーキ系、ベンズイミダゾロン系、ペリレン系、ジケトピロロピロール系、縮合アゾ系、アントラキノン系、キナクリドン系化合物などが挙げられる。
青色着色剤としては金属置換もしくは無置換のフタロシアニン系、アントラキノン系化合物などが挙げられる。
緑色着色剤としては、金属置換もしくは無置換のフタロシアニン系、アントラキノン系、ペリレン系化合物などが挙げられる。
黄色着色剤としてはモノアゾ系、ジスアゾ系、縮合アゾ系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、アントラキノン系化合物などが挙げられる。
黒色着色剤としては、カーボンブラックなどが挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
表５、６および８に示すように、実施例１から１２は、光硬化性樹脂、光重合開始剤、リン酸エステル構造を有する（メタ）アクリレートモノマー、リン酸エステル構造を有しない（メタ）アクリレートモノマー、および、ルチル型酸化チタンを含有するため、低粘度、高反射率、高密着性を有していた。一方、表７に示すように、比較例１〜３は、リン酸エステル構造を有する（メタ）アクリレートモノマーを含有しないため、低粘度、高反射率ではあるが、密着性が低い。さらに比較例４は、酸化チタンがルチル型ではなくアナターゼ型であるため、密着性は良好であるが、粘度が高く、反射率が低かった。そして、比較例５は、リン酸エステル構造を有さない（メタ）アクリレートモノマーを含有しないため、粘度が高かった。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月21日(2016.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
複数の特定演出のうちいずれかの特定演出を実行する特定演出実行手段と、
特定演出が実行されるよりも所定期間前から、該特定演出が実行されるタイミングを示唆する示唆演出を実行する示唆演出実行手段とを備え、
前記示唆演出実行手段は、前記示唆演出として、第１示唆演出と該第１示唆演出とは演出態様の異なる第２示唆演出とを実行可能であり、
前記示唆演出実行手段によって前記第１示唆演出が実行されたときと前記第２示唆演出が実行されたときとで、複数の特定演出のうちのいずれが実行されるかの割合が異なる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（手段１）本発明による遊技機は、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、複数の特定演出（例えば、ウィンドウ演出、役物演出、一発告知演出）のうちいずれかの特定演出を実行する特定演出実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００において、ステップＳ８１０８の処理を実行する部分）と、特定演出が実行されるよりも所定期間（例えば、５秒）前から、該特定演出が実行されるタイミングを示唆する示唆演出（例えば、カウントダウン演出）を実行する示唆演出実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００において、ステップＳ８１１１の処理を実行する部分）とを備え、示唆演出実行手段は、示唆演出として、第１示唆演出（例えば、小表示の示唆演出）と該第１示唆演出とは演出態様の異なる第２示唆演出（例えば、大表示の示唆演出）とを実行可能であり、示唆演出実行手段によって第１示唆演出が実行されたときと第２示唆演出が実行されたときとで、複数の特定演出のうちのいずれが実行されるかの割合が異なる（例えば、実行する特定演出に基づいて選択（ステップＳ２５０９参照）された示唆演出がステップＳ８１１１にて実行された後に、ステップＳ８１０８にて特定演出を実行する）。そのような構成によれば、示唆演出の実行後に複数種類の特定演出が実行可能なので、遊技者の期待感を維持することができ、興趣の向上を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月7日(2015.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体を搬送する媒体搬送機構と、
前記媒体搬送機構によって搬送される前記記録媒体に印刷を行う印刷ヘッドと、
前記媒体搬送機構に向けて前記記録媒体を供給可能な媒体供給機構と、
前記媒体搬送機構と前記媒体供給機構の間に位置し、前記記録媒体に作用する張力変動に追従して移動可能な移動部材と、
前記移動部材の移動を無段階あるいは多段階に検出する検出器と、
前記検出器の検出結果に基づき、前記移動部材が予め定めた位置に保持されるように、前記媒体供給機構を制御する制御部と、
を有していることを特徴とするプリンター。
【請求項２】
前記移動部材は、前記記録媒体の前記張力変動に応じて移動可能なレバーと、
前記レバーと一体に移動するエンコード盤と、
を備えていることを特徴とする請求項１に記載のプリンター。
【請求項３】
前記検出器は、前記エンコード盤と、当該エンコード盤に対峙する位置に配置した検出部と、を備えるロータリーエンコーダーであることを特徴とする請求項２に記載のプリンター。
【請求項４】
前記移動部材は、前記レバーに配置された媒体架け渡し部と、前記レバーに連結した付勢部材と、を備え、
前記媒体架け渡し部には、前記媒体供給機構および前記媒体搬送機構の間にある前記記録媒体が架け渡され、
前記媒体架け渡し部は、前記付勢部材によって、前記媒体架け渡し部に架け渡されている前記記録媒体を付勢した状態となるように保持されている請求項２に記載のプリンター。
【請求項５】
前記媒体搬送機構は、搬送モーターと、当該搬送モーターによって駆動される搬送ローラーあるいは搬送ベルトとを備え、
前記媒体供給機構は、供給モーターと、当該供給モーターによって駆動される供給ローラーあるいは供給ベルトとを備えている請求項１ないし４のうちのいずれか一つの項に記載のプリンター。
【請求項６】
前記制御部は、前記移動部材が予め定めた許容移動範囲を超えて移動する場合に、前記記録媒体の供給に異常が発生したものと判断して、所定の異常対応処理を行う請求項１ないし５のうちのいずれか一つの項に記載のプリンター。
【請求項７】
前記異常対応処理には、前記印刷ヘッドが印刷を行っている間に行われる第１処理および第２処理が含まれており、
前記第１処理は、前記移動部材が、前記許容移動範囲から、前記張力が減少する移動方向に外れた場合に、前記媒体供給機構の駆動を強制的に止め、前記媒体搬送機構による媒体搬送および前記印刷ヘッドによる印刷を継続する処理であり、
前記第２処理は、前記移動部材が、前記許容移動範囲から、前記張力が増加する移動方向に外れた場合に、前記媒体供給機構、前記媒体搬送機構および前記印刷ヘッドの動作を強制的に停止する処理である請求項６に記載のプリンター。
【請求項８】
前記媒体供給機構を駆動する動作モードおよび前記媒体供給機構を駆動しない非動作モードを選択的に設定可能なモード設定部を有し、
前記制御部は、前記動作モードが設定されている場合には、前記媒体供給機構に前記記録媒体の供給を行わせる請求項１ないし７のうちのいずれか一つの項に記載のプリンター。
【請求項９】
前記媒体搬送機構によって前記印刷ヘッドの印刷位置を経由して送り出される前記記録媒体を巻き取る媒体巻き取り機構を有している請求項１ないし８のうちのいずれか一つの項に記載のプリンター。
【請求項１０】
前記媒体巻き取り機構によって巻き取られる前記記録媒体の張力の変動に追従して移動可能な第２移動部材、および、前記第２移動部材の移動を検出する第２検出器を有し、
前記制御部は、前記第２検出器の検出結果に基づき、前記媒体巻き取り機構を制御する請求項９に記載のプリンター。
【請求項１１】
前記印刷ヘッドは、搬送される前記記録媒体の幅を包含する長さに亘って印刷素子が配列されているライン型の印刷ヘッドである請求項１ないし１０のうちのいずれか一つの項に記載のプリンター。
【請求項１２】
前記媒体供給機構によって供給される媒体を収納する媒体収納部を有している請求項１ないし１１のうちのいずれか一つの項に記載のプリンター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明のプリンターは、
記録媒体を搬送する媒体搬送機構と、
前記媒体搬送機構によって搬送される前記記録媒体に印刷を行う印刷ヘッドと、
前記媒体搬送機構に向けて前記記録媒体を供給可能な媒体供給機構と、
前記媒体搬送機構と前記媒体供給機構の間に位置し、前記記録媒体に作用する張力の変動に追従して移動可能な移動部材と、
前記移動部材の移動を無段階あるいは多段階に検出する検出器と、
前記検出器の検出結果に基づき、前記移動部材が予め定めた位置に保持されるように、前記媒体供給機構を制御する制御部と、
を有していることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月4日(2015.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グアバ（Psidium  guajava）抽出物、プーアール茶（Puer  tea）抽出物、ラフマ（Apocynum venetum）抽出物、ダイダイ（Citrus aurantium）抽出物、セイヨウネズ（Juniperus communis）抽出物、及びコガネバナ（Scutellaria baicalensis）抽出物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有効成分とする、CGI-58発現促進剤。
【請求項２】
グアバ（Psidium  guajava）抽出物、プーアール茶（Puer  tea）抽出物、ラフマ（Apocynum venetum）抽出物、ダイダイ（Citrus aurantium）抽出物、セイヨウネズ（Juniperus communis）抽出物、及びコガネバナ（Scutellaria baicalensis）抽出物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有効成分とする、皮膚機能改善剤。
【請求項３】
グアバ（Psidium  guajava）抽出物、プーアール茶（Puer  tea）抽出物、ラフマ（Apocynum venetum）抽出物、ダイダイ（Citrus aurantium）抽出物、セイヨウネズ（Juniperus communis）抽出物、及びコガネバナ（Scutellaria baicalensis）抽出物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有効成分とする、毛髪形成異常予防又は改善剤。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月2日(2016.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のシート収納部の少なくとも一つからシートを搬送し、そのシートに画像を印刷する印刷装置であって、
１以上の印刷ジョブを格納する格納手段と、
前記複数のシート収納部のうち、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録された少なくとも一つのシート収納部があるかどうかを判定する判定手段と、
前記判定手段による判定に基づいて、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録されたシート収納部がないことを通知する通知手段と、
前記格納手段に格納された印刷ジョブから少なくとも一つの印刷ジョブを選択するための選択指示をユーザから受け付ける選択指示受付手段と、
前記選択指示によって選択された前記少なくとも一つの印刷ジョブの実行指示をユーザから受け付ける実行指示受付手段と、
前記実行指示受付手段によって受け付けた前記実行指示に従って、前記選択指示によって選択された前記少なくとも一つの印刷ジョブを実行する実行手段と、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記通知手段は、前記判定手段が、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録されたシート収納部が前記複数のシート収納部にないと判定すると、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録されたシート収納部がないことを通知することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記通知手段は、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録されたシート収納部がないことを、マークを表示することにより通知することを特徴とする請求項２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記判定手段が、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録された少なくとも一つのシート収納部があると判定した場合に、当該シート収納部にシートがあるかどうか判別する判別手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項５】
前記判定手段が、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録された少なくとも一つのシート収納部があると判定し、かつ前記判別手段が前記シート収納部にシートがないと判別した場合に、前記シート収納部にシートがないことを通知する第２通知手段を更に有することを特徴とする請求項４に記載の印刷装置。
【請求項６】
前記第２通知手段は、前記シート収納部にシートがないことを、マークを表示することにより通知することを特徴とする請求項５に記載の印刷装置。
【請求項７】
前記判定手段は、前記実行指示受付手段が前記実行指示を受け付ける前に、記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録された少なくとも一つのシート収納部があるか否かを判定することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項８】
前記格納手段に格納された複数の印刷ジョブの一覧を表示する表示手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項９】
前記判定手段に判定を実行させるための判定指示を受付ける指示受付手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項１０】
前記シートの属性は、シートサイズ或いはシートの種類であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項１１】
複数のシート収納部の少なくとも一つからシートを搬送し、そのシートに画像を印刷する印刷装置を制御する制御方法であって、
格納手段が、１以上の印刷ジョブを格納する格納工程と、
判定手段が、前記複数のシート収納部のうち、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録された少なくとも一つのシート収納部があるかどうかを判定する判定工程と、
通知手段が、前記判定工程による判定に基づいて、前記格納工程で格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録されたシート収納部がないことを通知する通知工程と、
選択指示受付手段が、前記格納工程で格納された印刷ジョブから少なくとも一つの印刷ジョブを選択するための選択指示をユーザから受け付ける選択指示受付工程と、
実行指示受付手段が、前記選択指示によって選択された前記少なくとも一つの印刷ジョブの実行指示をユーザから受け付ける実行指示受付工程と、
実行手段が、前記実行指示受付工程で受け付けた前記実行指示に従って、前記選択指示によって選択された前記少なくとも一つの印刷ジョブを実行する実行工程と、
を有することを特徴とする印刷装置の制御方法。
【請求項１２】
コンピュータに、請求項１１に記載の制御方法の各工程を実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、印刷装置に格納された印刷ジョブを選択して実行する際、当該印刷ジョブの実行に必要なシートの属性情報がシート収納部に登録されていないことによるエラーの発生を事前に軽減する技術を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る印刷装置は以下のような構成を備える。即ち、
複数のシート収納部の少なくとも一つからシートを搬送し、そのシートに画像を印刷する印刷装置であって、
１以上の印刷ジョブを格納する格納手段と、
前記複数のシート収納部のうち、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録された少なくとも一つのシート収納部があるかどうかを判定する判定手段と、
前記判定手段による判定に基づいて、前記格納手段に格納された印刷ジョブで使用されるシートの属性情報が登録されたシート収納部がないことを通知する通知手段と、
前記格納手段に格納された印刷ジョブから少なくとも一つの印刷ジョブを選択するための選択指示をユーザから受け付ける選択指示受付手段と、
前記選択指示によって選択された前記少なくとも一つの印刷ジョブの実行指示をユーザから受け付ける実行指示受付手段と、
前記実行指示受付手段によって受け付けた前記実行指示に従って、前記選択指示によって選択された前記少なくとも一つの印刷ジョブを実行する実行手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば、印刷装置に格納された印刷ジョブを選択して実行する際、当該印刷ジョブの実行に必要なシートの属性情報がシート収納部に登録されていないことによるエラーの発生を事前に軽減することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
図２３は、本実施形態５に係る印刷装置１８００のコントローラ１９００がジョブリスト画面を表示する処理を説明するフローチャートである。この処理を実行するプログラムはプログラムＲＯＭ１９０３に記憶されており、ＣＰＵ１９０１がそのプログラムを実行することにより、この処理が達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月2日(2015.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーバーおよびクライアントを含む無線ネットワークにおいてリソースを管理する方法であって、
前記サーバーによって、スーパーフレームのビーコンにおいて前記リソースを定義するステップであって、前記リソースは、タイムスロットおよび周波数チャネルであるものと、
前記クライアントによって前記リソースを割り当てるステップであって、前記タイムスロットは、バックアップタイムスロットを含み、前記サーバーは、異なる周波数チャネル上の前記バックアップタイムスロットを定義するものと、
前記サーバーによって、各サイクル中に、前記サーバーによって定義された前記各リソースを監視して、前記サーバーが前記各サイクル中に前記各クライアントと通信することを確実にする、監視するステップと、
を含む、サーバーおよびクライアントを含む無線ネットワークにおいてリソースを管理する方法。
【請求項２】
前記無線ネットワークは、アドホック無線ネットワークである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記クライアントは、リソースを動的に割り当てる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記クライアントは、前記クライアントによって選択された最適な周波数ホッピングシーケンスに従う、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記クライアントは、成功するまでホップすることなくチャネル上に留まり、前記方法は、
成功しなかった場合、前記クライアントによって別のチャネルを選択するステップ
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記クライントは、現在のスーパーフレーム内で、前記タイムスロットおよび前記周波数チャネルを完全に自律的に選択し割り当てる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記クライアントは、バックアップタイムスロットおよびバックアップ周波数を選択し割り当てる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記クライアントは、前記サーバーに知られていないスペアタイムスロットを、前記クライアントが前記スペアタイムスロットを割り当てるまで選択する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記リソースは、前記クライアントによって共有されるように定義される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記リソースは、特定のクライアントに専用であるように定義される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記サーバーによって、サイクル中にチャネルごとに少なくとも１回、前記スーパーフレームを送信するステップであって、前記サイクルの持続時間は、前記スーパーフレームの持続時間より長い、送信するステップ
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記定義するステップは、前記サーバーと前記クライアントとの間の通信履歴に従う、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記クライアントは、複数のタイムスロットを割り当てる、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記クライアントは、前記クライアントによって判断される最適な性能が達成されるまで前記周波数チャネルを変更し続ける、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
特定のクライアントが、前記周波数チャネル上での所定の数の失敗の後、前記チャネルを放棄し、別の周波数チャネルにホップする、請求項１に記載の方法。