【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造
【化１】
2016006495.tif 000001
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の各存在は独立して水素、非置換若しくは置換のＣ１−１８ヒドロカルビル、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）、又はスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９２、式中Ｒ９の各存在は独立して水素若しくはＣ１−２０ヒドロカルビル）であり；
ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つはハロゲン又はＣ１−１２フッ素化アルキルであり；
ｍは０であり；
ｑは０、１、２、３、４、又は５であり；
ｒの各々の存在は０、１、２、３、又は４であり；
Ｒ１１の各々の存在は独立して非置換又は置換のＣ１−４０ヒドロカルビルであり；
Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＯＨ）−、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）−、又は−Ｓ（＝Ｏ）２−である）
を有する、光分解性クエンチャー。
【請求項２】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つは、フッ素又はＣ１−１２フッ素化アルキルである、請求項１記載の光分解性クエンチャー。
【請求項３】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の少なくとも２つは、フッ素又はＣ１−１２フッ素化アルキルである、請求項１記載の光分解性クエンチャー。
【請求項４】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも３つは、フッ素である、請求項１記載の光分解性クエンチャー。
【請求項５】
Ｒ１の少なくとも１つの存在は酸不安定性置換基を含む、請求項１記載の光分解性クエンチャー。
【請求項６】
構造
【化２】
2016006495.tif 000002
が、
【化３】
2016006495.tif 000003
である、請求項１記載の光分解性クエンチャー。
【請求項７】
構造
【化４】
2016006495.tif 000004
を有する、請求項１記載の光分解性クエンチャー。
【請求項８】
酸感応性ポリマーと、
光酸発生剤と、
構造
【化５】
2016006495.tif 000005
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の各存在は独立して水素、非置換若しくは置換のＣ１−１８ヒドロカルビル、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）、又はスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９２、式中Ｒ９の各存在は独立して水素若しくはヒドロカルビル）であり；
ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つは、ハロゲン又はＣ１−１２フッ素化アルキルであり；
ｍは０であり；
ｑは０、１、２、３、４、又は５であり；
ｒの各々の存在は０、１、２、３、又は４であり；
Ｒ１１の各々の存在は独立して非置換又は置換のＣ１−４０ヒドロカルビルであり；
Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＯＨ）−、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）−、又は−Ｓ（＝Ｏ）２−である）
を有する光分解性クエンチャーと、
を含むフォトレジスト組成物。
【請求項９】
（ａ）請求項８記載のフォトレジスト組成物の層を基板上に塗布する工程と、
（ｂ）前記フォトレジスト組成物層を活性化放射線によってパターン露光する工程と、
（ｃ）前記露光されたフォトレジスト組成物層を現像してレジストレリーフ画像を提供する工程と、
を含む電子デバイスを形成する方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、光分解性クエンチャー及びフォトレジスト組成物におけるそれらの使用に関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
フォトレジストは光酸発生剤に加えて光分解性クエンチャーを時々含む。光酸発生剤と同様に、光分解性クエンチャーはフォトレジストの露光領域において酸を発生させる。しかし、光分解性クエンチャーによって発生した酸はフォトレジストポリマー上の酸感応基とすぐに反応するほど強くはない。（これは、露光領域においては「塩基」成分を効果的に除去し、しかし非露光領域においては活性クエンチャーシステムを残すことである。）しかし、露光領域において光酸発生剤によって発生された強い酸は非露光領域にマイグレートするため、非露光領域の光分解性クエンチャーは陰イオン交換を受け、弱い酸のアニオン（共役塩基）を失い、強酸のアニオン（共役塩基）を受け入れる。この結果、非露光領域において強酸の中和になる。このため光分解性クエンチャーは露光領域において分解されるので、塩基濃度は露光領域において低下する。だから、露光領域の塩基濃度は非露光領域の塩基濃度より低く、このことは画像コントラストを促進する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
Ｓｈｉｇｅｍａｔｓｕの日本特許出願公報第２０１１−１５４１６０Ａ号は光分解性クエンチャーとしてトリフェニルスルホニウムフェノラートを含むフォトレジスト組成物を開示している。しかし、溶液安定性の向上、吸湿特性の減少、リソグラフィのコントラストの向上、及びリソグラフィの限界寸法均一性の向上の１つ以上を示す光分解性クエンチャーの要望がある。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
（式中、Ｘはヨウ素又は硫黄であり、Ｘがヨウ素の場合ｎは２であり、Ｘが硫黄の場合３であり；Ｒ１の各存在は独立に非置換若しくは置換のＣ１−４０ヒドロカルビル、又はＲ１の２つの存在は選択的に互いに結合し環を形成し；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の各存在は独立して水素、非置換若しくは置換のＣ１−１８ヒドロカルビル、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）又はスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９２、式中Ｒ９の各存在は独立して水素若しくはＣ１−２０ヒドロカルビル）；ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つは、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホキシルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ９、式中Ｒ９はＣ１−２０ヒドロカルビル）、若しくはスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ１０２、式中Ｒ１０の各存在は独立して水素若しくはＣ１−２０ヒドロカルビル）；並びに／又はＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の隣接する存在の任意の１つ以上の対は互いに結合し、非置換若しくは置換の環を形成する）
を有する光分解性クエンチャーである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
他の実施形態は、酸感応性ポリマー、光酸発生剤、及び上記光分解性クエンチャーを含むフォトレジスト組成物である。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明者は、トリフェニルスルホニウムフェノラートに関し、溶液安定性の向上、吸湿特性の減少（即ち、水分吸収の減少）、リソグラフィスロープの向上、及びリソグラフィの限界寸法均一性の向上の１つ以上が本明細書に記載されたように置換されたフェノラートアニオンを有する光分解性クエンチャーによって供給されることを確定している。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
（式中、Ｘはヨウ素又は硫黄であり、Ｘがヨウ素の場合ｎは２であり、Ｘが硫黄の場合３であり；Ｒ１の各存在が独立に非置換若しくは置換のＣ１−４０ヒドロカルビル、又はＲ１の２つの存在は選択的に互いに結合し環を形成し；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５，及びＲ６の各存在は独立して水素、非置換若しくは置換のＣ１−１８ヒドロカルビル、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ），Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル），Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）又はスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９２、式中Ｒ９の各存在は独立して水素若しくはヒドロカルビル）；ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つは、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホキシルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ９、式中Ｒ９はＣ１−２０ヒドロカルビル）、若しくはスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ１０２、式中Ｒ１０の各存在は独立して水素若しくはＣ１−２０ヒドロカルビル）；並びに／又はＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の隣接する存在の任意の１つ以上の対は互いに結合し、非置換若しくは置換の環を形成する）
を有する光分解性クエンチャーである。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
いくつかの実施形態では、光分解性クエンチャーのフェノラートアニオンは、２３℃の水溶液中においてｐＫａが３〜９、具体的には５〜８、より具体的には６〜８の共役酸を有している。ｐＫａ値は実験で又は、例えばＡｄｖａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ  （ＡＣＤ）  Ｌａｂｓ  Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｖｅｒｓｉｏｎ  １１．０２を用いて計算で測定できる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
光分解性クエンチャーのいくつかの実施形態では、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つはフッ素又はＣ１−１２フッ素化アルキルである。いくつかの実施形態では、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも２つは、フッ素又はＣ１−１２フッ素化アルキルである。いくつかの実施形態では、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも３つは、フッ素である。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
いくつかの実施形態では、光分解性クエンチャーは構造
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
いくつかの実施形態では、光分解性クエンチャーは構造
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
いくつかの実施形態では、光分解性クエンチャーのカチオンは構造
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
きわめて特殊な実施形態では、光分解性クエンチャーは構造
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
光分解性クエンチャーはフォトレジスト組成物の成分として有効である。このため、一実施形態は、酸感応性ポリマー；光酸発生剤；及び構造
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
（式中、Ｘはヨウ素又は硫黄であり、Ｘがヨウ素の場合ｎは２であり、Ｘが硫黄の場合ｎは３であり；Ｒ１の各存在は独立に非置換若しくは置換のＣ１−４０ヒドロカルビルであり、又はＲ１の２つの存在は選択的に互いに結合し環を形成し；並びにＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の各存在は独立して水素、非置換若しくは置換のＣ１−１８ヒドロカルビル、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ），Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル），Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）若しくはスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９２、式中Ｒ９の各存在は独立して水素若しくはヒドロカルビル）；ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の少なくとも１つは、ハロゲン、ニトロ、Ｃ１−１２フッ素化アルキル、シアノ、アルデヒド（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、Ｃ２−２０エステル（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ２−２０ケトン（−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、式中Ｒ７はＣ１−１９ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホキシルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）Ｒ８、式中Ｒ８はＣ１−２０ヒドロカルビル）、Ｃ１−２０スルホニルヒドロカルビル（−Ｓ（Ｏ）２Ｒ９、式中Ｒ９はＣ１−２０ヒドロカルビル）、若しくはスルホンアミド（−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ１０２、式中Ｒ１０の各存在は独立して水素若しくはＣ１−２０ヒドロカルビル）；又はＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６の隣接する存在の任意の１つ以上の対は互いに結合し、非置換若しくは置換の環を形成する）を有する光分解性クエンチャーと；
を含むフォトレジスト組成物である。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
フォトレジスト組成物は任意に更に、第２の酸感応性ポリマー、第２の光酸発生剤化合物、第２の光分解性クエンチャー、フォトスピード及び／若しくは酸拡散を調整するアミン若しくはアミド添加物、溶剤、表面活性剤、又はそれらの組み合わせを含む。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
フォトレジスト組成物はアミン又はアミド化合物を含むことができる。これらの化合物は時々「クエンチャー」と呼ばれるが、光分解性クエンチャーとは化学的に別である。アミン又はアミド化合物はＣ１−３０有機アミン類、イミン類若しくはアミド類を含む、又は強塩基（例えば、水酸化物若しくはアルコキサイド）若しくは弱塩基（例えば、カルボキシラート）のＣ１−３０第四級アンモニウム塩であることができる。例示のアミン又はアミド化合物はトレーガ塩基のようなアミン類、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）及びジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）のようなヒンダードアミン類、Ｎ−ｔ−ブチルカルボニル−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチルアミンのようなＮ−保護アミン類、並びにテトラブチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＢＡＨ）及び乳酸四ブチルアンモニウムを含む第四級アルキルアンモニウム塩のようなイオン性化合物を含む。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
第２の光分解性クエンチャーの例はトリフェニルスルホニウムヒドロキシド、トリフェニルスルホニウム３−ヒドロキシアダマンタンカルボキシラート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホナート、及びｔ−ブチルフェニルジベンゾチオフェニウム１−アダマンタンカルボキシラートを含む。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
酸感応性ポリマーは、フォトレジスト組成物中の固形分の全重量を基準にして、フォトレジスト組成物中に５０〜９９重量％、具体的には５５〜９５重量％、より具体的には６０〜９０重量％、更に具体的には６５〜９０重量％の量で存在することができる。この文脈で使用されるフォトレジストの成分の「ポリマー」は、本明細書に記載される酸感応性ポリマーだけを、又はフォトレジストで有用な他のポリマーと酸感応性ポリマーの混合物を意味することが理解されるであろう。光酸発生剤は、フォトレジスト組成物中の固形分の全重量を基準にして０．０１〜４０重量％の量、具体的には０．１〜２０重量％の量がフォトレジスト組成物中に存在することができる。高分子結合光酸発生剤が使用される場合、高分子結合光酸発生剤は対応するモノマーとして同じ量が存在する。いくつかの実施形態では、フォトレジスト組成物は高分子結合光酸発生剤及び光酸発生剤添加物を含む。光分解性クエンチャーは、フォトレジスト組成物中の固形分の全重量を基準にして０．０１〜２０重量％、具体的には０．１〜１０重量％、更に具体的には０．５〜３重量％の量がフォトレジスト組成物中に存在することができる。界面活性剤は、フォトレジスト組成物中の固形分の全重量を基準にして０．０１〜５重量％、具体的には０．１〜４重量％、更に具体的には０．２〜３重量％の量がフォトレジスト組成物中に含まれることができる。液浸リソグラフィ応用向けの埋没バリヤ層（ＥＢＬ）材料などの他の添加物は、固形分の全重量を基準にして３０重量％、具体的には２０重量％、又は更に具体的には１０重量％以下の量が含まれることができる。フォトレジスト組成物の全固形分は、固形分及び溶剤の全重量を基準にして０．５〜５０重量％、具体的には１〜４５重量％、更に具体的には２〜４０重量％、更に具体的には５〜３５重量％であることができる。「固形分」は溶剤以外の酸感応性ポリマー、光酸発生剤、光分解性クエンチャー、界面活性剤、及び、任意の選択的な添加物を含むと見なされる。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７７】
実施例７
本実施例は本発明の実施例５の光分解性クエンチャーを含むフォトレジスト組成物の調製を説明する。調製例３のポリマー１０重量％の乳酸エチル溶液７．９０７ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−メチルアダマンチル）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネートの２重量％乳酸エチル溶液９．７９４ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミンの０．５重量％乳酸エチル溶液０．４７４ｇ；実施例５の光分解性クエンチャーの２重量％乳酸エチル溶液０．５１５ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％乳酸エチル溶液０．１５８ｇ；乳酸エチル９．４５２ｇ；及び２−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル１１．７０ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
比較例３
調製例３のポリマー１０重量％乳酸エチル溶液１５．８１５ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−メチルアダマンチル）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネート２重量％乳酸エチル溶液１９．５９０ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン０．５重量％乳酸エチル溶液０．９４９ｇ；比較例２の光分解性クエンチャー２重量％乳酸エチル溶液０．５１５ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％乳酸エチル溶液０．３１６ｇ；乳酸エチル１８．９０９ｇ；及び、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル２３．４００ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
比較例４
調製例３のポリマー１０重量％乳酸エチル溶液９．８８１ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−メチルアダマンチル）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネート２重量％乳酸エチル溶液１２．２４０ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミンの０．５重量％乳酸エチル溶液０．５９３ｇ；光分解性クエンチャー５−（４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム（１ｒ，３ｓ，５Ｒ，７Ｓ）−３−ヒドロキシアダマンタン−１−カルボキシラート２重量％乳酸エチル溶液０．５１５ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％乳酸エチル溶液０．１９８ｇ；乳酸エチル１１．８０５ｇ；及び、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル１４．６２５ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８０】
比較例５
調製例３のポリマー１０重量％の乳酸エチル溶液９．８５５ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−メチルアダマンチル）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネート２重量％乳酸エチル溶液１２．２４５ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン０．５重量％乳酸エチル溶液０．６３４ｇ；光分解性クエンチャー５フェニル−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム（（１Ｓ，４Ｓ）−７，７−ジメチル−２−オキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル）メタンスルホン酸塩２重量％乳酸エチル溶液０．５９３ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％乳酸エチル溶液０．１９８ｇ；乳酸エチル１２．４１１ｇ；及び、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル１４．０３５ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８１】
実施例８
調製例３のポリマー１０重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液８．８５５ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−メチルアダマンチル）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネート２重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１０．９６３ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン０．５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．５３１ｇ；実施例５の光分解性クエンチャーの２重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１．１５４ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．０９８ｇ；及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８．４１０ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８２】
比較例６
調製例３のポリマー１０重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１７．７１２ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−メチルアダマンチル）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネート２重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液２１．９４１ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン０．５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１．０６３ｇ；比較例２の無溶剤光分解性クエンチャー０．０２３ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．１７７ｇ；及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３９．０８４ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８３】
比較例７
調製例３のポリマー１０重量％の乳酸エチル溶液９．９７３ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−エチルシクロペンチルオキシ）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネート２重量％乳酸エチル溶液１１．６５０ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン０．５重量％乳酸エチル溶液１．１６９ｇ；光分解性クエンチャー５フェニル−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム（（１Ｓ，４Ｓ）−７，７−ジメチル−２−オキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル）メタンスルホン酸塩の２重量％乳酸エチル溶液０．６４０ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％乳酸エチル溶液０．１９９ｇ；乳酸エチル１１．７４２ｇ；及び、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルエーテル１４．６２５ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８４】
比較例８
調製例３のポリマー１０重量％の乳酸エチル溶液７．９５２ｇを合わせて、ポジ型フォトレジスト組成物を調製した；酸発生剤５−（４−（２−（１−エチルシクロペンチルオキシ）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェニウム３−ヒドロキシアダマンタン−アセトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン−１−スルホネートの２重量％乳酸エチル溶液９．２８９ｇ；テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン０．５重量％乳酸エチル溶液０．９３２ｇ；光分解性クエンチャー５−（４−（２−（（１−エチルシクロペンチル）オキシ）−２−オキソエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム（１ｒ，３ｓ，５Ｒ，７Ｓ）−３−ヒドロキシアダマンタン−１−カルボキシラート２重量％乳酸エチル溶液０．６８０ｇ；フッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰｏｌｙＦｏｘ（商標）ＰＦ−６５６）０．５重量％乳酸エチル溶液０．１５９ｇ；乳酸エチル９．２８７ｇ；及び、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル１１．７００ｇ。得られた混合物は０．０１マイクロメータのポリテトラフルオロエチレン・フィルターを通し、フォトレジスト組成物を得た。フォトレジスト組成物はシリコンウェーハ上でスピンコートされ、キャリア溶剤を除去するためにソフトベークされ、フォトマスクを通して極紫外（ＥＵＶ）放射線により露光された。そして画像化されたレジスト層は１００℃で６０秒間ベークされ、アルカリ組成水溶液で現像された。
【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８８】
吸水性
吸湿性の化合物は製剤科学、及び結果としてリソグラフィーの結果に問題を提起する。大気中の湿気を吸収する化合物は配合組成中に不正確な量の追加の原因となり、取扱いも困難となる。比較例１の化合物（トリフェニルスルホニウムフェノラート）は、実施例２の化合物（トリフェニルスルホニウムペンタフルオロフェノラート）と同様に吸湿性の化合物である。しかし、トリフェニルスルホニウムからジベンゾチオフェニウムへカチオンを変えると吸湿性を減少させたことが観察された。この特性を定量化するために、１ｍｍｏｌの各固体が開口したバイアル中に置かれ、露出した水１００ｍＬを入れた４Ｌの容器に封入された。各バイアルの重量は事前に記録され、１８時間後に再秤量され水重量増加を決定した。表２に要約された結果は、実施例１〜６の本発明の光分解性クエンチャーは比較例１のトリフェニルスルホニウムフェノラートより吸湿性が少ないことを示している。実施例２〜５の本発明の光分解性クエンチャーは、各々非置換又は置換のフェニルジベンゾチオフェニウムイオンを含み、水に曝された後、固体のままであった。本発明の化合物の低い吸湿性は合成及び分離を容易にし、並びにフォトレジスト組成物を混合する間の取扱い及び正確な秤量をより容易にする。
【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９０】
コントラスト
表３はキャノン製２４８ｎｍ露光装置を用いて、１１０℃９０秒間のソフトべーク、１００℃６０秒間のポスト露光ベーク、及び０．２６ｍｏｌ／Ｌのテトラメチルアンモニウムヒドロオキシド現像液で室温で３０秒間現像したコントラスト曲線の傾きを示す。実施例７のコントラストは１に正規化され、「◇」で示されている。実施例より０〜５％性能が低い比較例は「●」で示され、実施例より５〜１５％性能が低い比較例は「■」で示され、及び実施例より１５％を超えて性能が低い比較例は「□」で示されている。高いコントラストは、良い幅のラフネス（ＬＷＲ）及び臨界寸法均一性（ＣＤＵ）に関連があるマスクエッジにおいて良いライン忠実度に相関する。表３のフォトレジスト組成物の各々はクエンチャーの識別情報だけが異なる。最も急峻なコントラストは、実施例５のクエンチャーを含む実施例７のフォトレジスト組成物、５−（４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェノラートで観測された。表３はクエンチャーアニオンの共役酸のｐＫａ値も含む。２３℃での水溶液のｐＫａ値はＡｄｖａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ  （ＡＣＤ）  Ｌａｂｓ  Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｖｅｒｓｉｏｎ  １１．０２を用いて計算された。
【誤訳訂正３１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９１】
【表３】
2016006495.tif 000006
【誤訳訂正３２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９２】
表３のデータは１次の溶剤が乳酸エチルであるフォトレジスト組成物のデータである。表４は１次の溶剤がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートであったフォトレジスト組成物の同様なデータを示す。コントラスト値は実施例８に対して正規化された。最も急峻なコントラストは、実施例５のクエンチャーを含む実施例８のフォトレジスト組成物、５−（４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェノラートで観測された。
【誤訳訂正３３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９３】
【表４】
2016006495.tif 000007
【誤訳訂正３４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９４】
限界寸法均一性
限界寸法均一性（ＣＤＵ）値は、全てベスト露光／ベストフォーカスで取られた各ＦＯＶの３６のコンタクトホールを測定した１０視野（ＦＯＶ）から計算された３シグマ（３標準偏差）である。各データ点は、変動性及びノイズを除去するために各リソグラフィスロットにおいて動作された標準ＥＵＶフォトレジストに対して事前に正規化されている。表５に示された結果は、最も低い（最適な）ＣＤＵ値は本発明の実施例５の光分解性クエンチャー５−（４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル）−５Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−５−イウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェノラートを含む本発明の実施例７によって示されることを示している。
【誤訳訂正３５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９５】
【表５】
2016006495.tif 000008