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【手続補正書】
【提出日】平成28年1月13日(2016.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ識別情報に関連付けられているゲームオブジェクトのうちから、当該ユーザ識別情報によって識別されるユーザによって選択されたゲームオブジェクトで構成されるゲームオブジェクトの組み合わせを用いて対戦が行われるゲームにおいて、ゲームオブジェクトを検索するためのゲームオブジェクト検索制御装置であって、
複数のゲームオブジェクトのうちから指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報に基づいて、ゲームオブジェクトの検索を実行するための検索条件を設定する検索条件設定手段と、
前記ユーザ識別情報に関連付けられていないゲームオブジェクトを含むゲームオブジェクトのうちから前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトを表示手段に表示させるための制御を実行する表示制御手段と、を含み、
前記表示制御手段は、
前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトの識別情報の各々に関連付けて記憶された文字情報又は画像情報を前記表示手段に表示させるための制御を実行し、
前記ユーザ識別情報に関連付けられていない前記ゲームオブジェクトが前記検索条件を満足する場合にも、当該ゲームオブジェクトの識別情報に関連付けて記憶された文字情報又は画像情報を前記表示手段に表示させるための制御を実行する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記検索条件設定手段は、前記指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの少なくとも一つに基づいて、前記検索条件を設定し、
前記表示制御手段は、前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトと前記指定されたゲームオブジェクトのそれぞれの表示位置又は表示態様の少なくとも一方を、前記検索条件を満足するゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの一又は複数の所定パラメータに基づく数値と、前記指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの前記一又は複数の所定パラメータに基づく数値と、の間の大小関係に基づいて制御する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記検索条件設定手段は、前記指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの少なくとも一つに基づいて、前記検索条件を設定し、
前記表示制御手段は、前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトと前記指定されたゲームオブジェクトのそれぞれの表示位置又は表示態様の少なくとも一方を、前記検索条件を満足するゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの一又は複数の所定パラメータと、前記指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの前記一又は複数の所定パラメータと、の間の高低関係に基づいて制御する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記検索条件設定手段は、前記指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報のうちの、当該ゲームオブジェクトの種別に関する種別情報に基づいて前記検索条件を設定する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記検索条件設定手段は、前記指定されたゲームオブジェクトと所定関係を有するゲームオブジェクトを検索するための前記検索条件を設定する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項６】
請求項５に記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記検索条件設定手段は、前記指定されたゲームオブジェクトの特性と同一の特性を有する種別のゲームオブジェクトを検索するための前記検索条件を設定する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記表示制御手段は、前記検索条件を満足するゲームオブジェクトの入手に関する情報を前記表示手段に表示させるための制御を実行する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記表示制御手段は、前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトを、前記検索条件を満足するゲームオブジェクトの入手に関する画面への遷移を可能に前記表示手段に表示させるための制御を実行する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載のゲームオブジェクト検索制御装置において、
前記検索条件設定手段は、前記組み合わせに含まれているゲームオブジェクトのうちから指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報に基づいて、前記検索条件を設定し、
前記表示制御手段は、前記検索条件を満足するゲームオブジェクトを前記指定されたゲームオブジェクトと入れ替えた場合の前記組み合わせの性能の変化に関する情報を前記表示手段に表示させるための制御を実行する、
ことを特徴とするゲームオブジェクト検索制御装置。
【請求項１０】
ユーザ識別情報に関連付けられているゲームオブジェクトのうちから、当該ユーザ識別情報によって識別されるユーザによって選択されたゲームオブジェクトで構成されるゲームオブジェクトの組み合わせを用いて対戦が行われるゲームを実行するゲームシステムであって、
複数のゲームオブジェクトのうちから指定されたゲームオブジェクトに関連付けられた情報に基づいて、ゲームオブジェクトの検索を実行するための検索条件を設定する検索条件設定手段と、
前記検索条件に基づいて、前記ユーザ識別情報に関連付けられていないゲームオブジェクトを含むゲームオブジェクトのうちから前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトの検索を実行する検索実行手段と、
前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトを表示手段に表示させるための制御を実行する表示制御手段と、を含み、
前記表示制御手段は、
前記検索条件を満足する少なくとも１つのゲームオブジェクトの識別情報の各々に関連付けて記憶された文字情報又は画像情報を前記表示手段に表示させるための制御を実行し、
前記ユーザ識別情報に関連付けられていない前記ゲームオブジェクトが前記検索条件を満足する場合にも、当該ゲームオブジェクトの識別情報に関連付けて記憶された文字情報又は画像情報を前記表示手段に表示させるための制御を実行する、
ことを特徴とするゲームシステム。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれかに記載のゲームオブジェクト検索制御装置、又は、請求項１０に記載のゲームシステムとしてコンピュータを機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月19日(2016.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長朔黄麻、モロヘイヤ、小松菜、三つ葉、水菜、及びほうれん草の少なくともいずれかの植物粉末の造粒物を有する水浄化剤であって、
前記水浄化剤の安息角、圧縮度、及びスパチュラ角の３項目を測定することにより得られるＣａｒｒの流動性指数が、４０以上である
ことを特徴とする水浄化剤。
【請求項２】
植物粉末の造粒物が、直径が３ｍｍ以下、または長さが２０ｍｍ以下である請求項１に記載の水浄化剤。
【請求項３】
水浄化剤の安息角、圧縮度、及びスパチュラ角の３項目を測定することにより得られるＣａｒｒの流動性指数が、５０以上である請求項１から２のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項４】
更に、植物粉末を有する請求項１から３のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項５】
植物粉末の造粒物の含有量が、植物粉末に対し質量比（造粒物／粉末）で、６／１以上である請求項４に記載の水浄化剤。
【請求項６】
植物粉末の造粒物の含有量が、植物粉末に対し質量比（造粒物／粉末）で、８／１以上である請求項４から５のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項７】
水浄化剤の圧縮度が、２０％以下である請求項１から６のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項８】
水浄化剤のスパチュラ角が、６０°以下である請求項１から７のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項９】
植物が、長朔黄麻である請求項１から８のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項１０】
植物粉末の造粒物が、乾燥植物を粉砕し、数平均粒径が４５０μｍ以下の植物粉末を得る植物粉末製造工程と、前記植物粉末に水分を加えて混練し、押出造粒により植物粉末の造粒物を得る植物粉末の造粒工程とを含む製造方法により製造される、請求項１から９のいずれかに記載の水浄化剤。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の水浄化剤を水に溶かし、植物粉末の分散液を得、該分散液を排水に供することにより排水中の無機系不要物を除去することを特徴とする水浄化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月30日(2015.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織成分を原位置で特定するシステムであって、
組織のＯＣＴ画像を原位置で撮るように構成されたＯＣＴサブシステムと、
前記ＯＣＴサブシステムと通信するプロセッサであって、前記ＯＣＴ画像における減衰及び後方散乱空間における座標のペアを測定し、測定された前記減衰及び後方散乱に応じて前記ＯＣＴ画像における前記座標のペアに対応する前記組織中の位置における前記組織の組織特性を決定するように構成されたプロセッサと、
前記ＯＣＴ画像を表示するように構成されたディスプレイとを有し、
前記プロセッサは、後方散乱−減衰空間における前記座標のペアを前記座標のペアの値のしるし（indicium）にマッピングするように構成され、
前記ディスプレイは、前記ＯＣＴ画像における減衰及び後方散乱空間における測定された座標に対応するしるしを表示するように構成されている、
システム。
【請求項２】
前記組織特性が結果として表示されることができ、前記結果は、コレステロール、繊維細胞、繊維、脂質プール、脂質、繊維脂肪、カルシウム塊、カルシウム板、カルシウム班、血栓、泡沫細胞、及びプロテオグリカンよりなる群から選択したパラメータの存在を示す、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャリッジ装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のキャリッジ装置は、ヘッドを搭載しガイド部材に案内されてシートの面に沿って移動するキャリッジを有する装置であって、前記キャリッジは、前記ガイド部材に接する第１の摺動面を備えかつ前記ヘッドを搭載する第１の構造体と、前記ガイド部材に接する第２の摺動面を備えかつ前記シートの面に垂直な方向に前記第１の構造体を位置調整可能に保持する第２の構造体と、を含み、前記ガイド部材は断面が円形であり、前記第１の摺動面は前記方向と平行な面であって前記ガイド部材の側部に接し、前記第２の摺動面は前記方向に対して傾斜した面であって前記ガイド部材の斜め上部に接し、前記第２の構造体に対する前記第１の構造体の位置調整により、前記第１の摺動面に前記ガイド部材が接する位置がずれて、前記ヘッドと前記シートとの間の距離が変わることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッドを搭載しガイド部材に案内されてシートの面に沿って移動するキャリッジを有する装置であって、
前記キャリッジは、前記ガイド部材に接する第１の摺動面を備えかつ前記ヘッドを搭載する第１の構造体と、前記ガイド部材に接する第２の摺動面を備えかつ前記シートの面に垂直な方向に前記第１の構造体を位置調整可能に保持する第２の構造体と、を含み、
前記ガイド部材は断面が円形であり、前記第１の摺動面は前記方向と平行な面であって前記ガイド部材の側部に接し、前記第２の摺動面は前記方向に対して傾斜した面であって前記ガイド部材の斜め上部に接し、
前記第２の構造体に対する前記第１の構造体の位置調整により、前記第１の摺動面に前記ガイド部材が接する位置がずれて、前記ヘッドと前記シートとの間の距離が変わることを特徴とするキャリッジ装置。
【請求項２】
前記第１の摺動面は前記方向に沿って延在する平面であることを特徴とする、請求項１に記載のキャリッジ装置。
【請求項３】
前記第１の摺動面は前記方向に沿って複数に分かれて形成されており、前記位置調整に応じて複数に分かれた前記第１の摺動面のいずれかに前記ガイド部材が接触することを特徴とする、請求項２に記載のキャリッジ装置。
【請求項４】
前記第２の摺動面は平面であり、前記位置調整にかかわらず前記第２摺動面において前記ガイド部材が接触する位置は変わらないことを特徴とする、請求項２または３に記載のキャリッジ装置。
【請求項５】
前記位置調整により、前記ヘッドのインク吐出部は前記シートの面に対して姿勢を変えることなく垂直な方向に移動することを特徴とする、請求項１から４のいずれか１項に記載のキャリッジ装置。
【請求項６】
前記第２の構造体に対して前記第１の構造体を前記方向に変位させる機構を備え、
前記機構の駆動源は前記キャリッジには搭載されておらず、前記キャリッジが所定の位置に移動したときに前記駆動源の駆動力が伝達されて、前記第２の構造体に対して前記第１の構造体が前記方向に変位することを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載のキャリッジ装置。
【請求項７】
ヘッドを搭載しガイド部材に案内されて移動するキャリッジを有する装置であって、
前記キャリッジは、前記ガイド部材に接する第１の摺動面を備えかつ前記ヘッドを搭載する第１の構造体と、前記ガイド部材に接する第２の摺動面を備えかつ前記第１の摺動面に前記ガイド部材が接触する位置をずらす方向に前記第１の構造体を位置調整可能に保持する第２の構造体と、前記第２の構造体に対して前記第１の構造体を前記方向に変位させる機構を備え、
前記機構の駆動源は前記キャリッジには搭載されておらず、前記キャリッジが所定の位置に移動したときに前記駆動源の駆動力が伝達されて、前記第２の構造体に対して前記第１の構造体が前記方向に変位することを特徴とするキャリッジ装置。
【請求項８】
前記キャリッジを移動させる移動手段を備え、
前記移動手段で前記キャリッジを前記ガイド部材に沿って移動させるための力は前記第２の構造体に与えられることを特徴とする、請求項１から７のいずれか１項に記載のキャリッジ装置。
【請求項９】
前記キャリッジが移動する方向と交差する方向にシートを搬送する搬送手段を備え、前記ヘッドで前記シートに対してプリントまたは読み取りを行うことを特徴とする、請求項８に記載のキャリッジ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される基板の表面に対して処理液を供給する第１のノズルと、
前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜して流体を吐出する一対の第２のノズルと、
を備え、
前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
他方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記第１のノズルは複数設けられており、
前記一対の第２のノズルは前記複数の第１のノズルそれぞれの前記基板の搬送方向上流側と下流側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記一方の第２のノズルから吐出される流体の量は、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の量よりも多いことを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記一方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度は、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度よりも前記基板と平行に近づく角度であることを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記一対の第２のノズルは、前記基板の表面上に形成された液膜の厚さを制御するように前記流体を吐出することを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項６】
搬送される基板の表面に対して第１のノズルから処理液を供給する工程と、
前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜する一対の第２のノズルから流体を吐出する工程と、
を有し、
前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
他方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする基板処理方法。
【請求項７】
前記第１のノズルから処理液を供給する工程では、複数の前記第１のノズルから前記処理液を供給し、
前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記複数の第１のノズルそれぞれの前記基板の搬送方向上流側と下流側に配置された前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出することを特徴とする請求項６に記載の基板処理方法。
【請求項８】
前記一方の第２のノズルから吐出される流体の量が、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の量よりも多いことを特徴とする請求項６または７に記載の基板処理方法。
【請求項９】
前記一方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度は、前記他方の第２のノズルから吐出される流体の吐出方向の傾斜角度よりも前記基板と平行に近づく角度であることを特徴とする請求項６または７に記載の基板処理方法。
【請求項１０】
前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記基板の表面上に形成された液膜の厚さを制御するように前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出することを特徴とする請求項６または７に記載の基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置及び基板処理方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明の実施形態は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の目的は、処理液を用いた基板に対する処理を良好に行うことが可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態に係る基板処理装置は、
搬送される基板の表面に対して処理液を供給する第１のノズルと、
前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜して流体を吐出する一対の第２のノズルと、
を備え、
前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
他方の第２のノズルは、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
実施形態に係る基板処理方法は、
搬送される基板の表面に対して第１のノズルから処理液を供給する工程と、
前記第１のノズルを挟むように前記基板の搬送方向に並べられ、前記基板の表面に垂直な面に対してそれぞれ傾斜する一対の第２のノズルから流体を吐出する工程と、
を有し、
前記一対の第２のノズルから前記流体を吐出する工程では、前記一対の第２のノズルのうち前記第１のノズルよりも前記基板の搬送方向において下流側にある一方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向下流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向下流側へ流し、
他方の第２のノズルから、前記基板の搬送方向上流側へ向かって前記流体を吐出し、前記第１のノズルから前記処理液が供給されている前記基板の表面に対して前記流体を前記基板の搬送方向上流側へ流すことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月1日(2016.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
各段階において、少なくとも１つの第１セグメントに沿った残留壁の第１残留壁セグメントの第１残留壁セグメント厚が、少なくとも１つの第２セグメントに沿った残留壁の第２残留壁セグメントの第２残留壁セグメント厚より速く減少するように、各段階において、少なくとも１つの第１セグメントに沿った第１残留壁セグメントの第１残留壁セグメント厚が、検出され得る少なくとも１つの第２セグメントに沿った第２残留壁セグメントのための第２残留壁セグメント厚より前に検出されるように、仮想線に沿って、少なくとも１つのスリットに沿って、１点１点（逐一）導入されるエネルギーは、第２長さを有する少なくとも１つの第２セグメントにおけるより、第１長さを有する少なくとも１つの第１セグメントにおける方が大きく、推論（結論）は、この第２残留壁セグメント厚を検出することなく、少なくとも１つの第２セグメントに沿った第２残留壁セグメントの第２残留壁セグメント厚についてこれから引き出され得ることは、本発明の鍵である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
視認側（１１）と該視認側（１１）に対して裏面（１２）を有するカバー要素（１）で、材料の除去を通じて弱化線（２）を生産する方法であって、
パルス振幅とパルス長によって決定されたエネルギーを有するレーザパルス（３）が、前記裏面（１２）に向けられ、
前記弱化線（２）が、スリット長（ｌ）を有する少なくとも１つのスリット（２１）を通じて材料の除去の結果として形成されるように、前記エネルギーが、加工サイクル（Ｚ）において、前方供給速度で、仮想線（２０）に沿って繰り返して、前記カバー要素（１）に導入され、
前記少なくとも１つのスリット（２１）の下方の前記視認側（１１）に隣接する残留壁の残留壁厚が、各加工サイクル（Ｚ）で規則的に減少し、非常に小さくなり、前記残留壁を通じて伝送する前記レーザパルス（３）のエネルギー部分が、前記残留壁厚が検出されるように、センサ装置（８）によって検出され、
前記仮想線（２０）に沿って前記少なくとも１つのスリット（２１）に沿って１点１点導入されるエネルギーが、第２長さ（ｌ５）を有する少なくとも１つの第２セグメント（５）におけるより、第１長さ（ｌ４）を有する少なくとも１つの第１セグメント（４）における方が大きく、
各段階で、前記少なくとも１つの第１セグメント（４）に沿った前記残留壁の第１残留壁セグメント（Ｒ４）の第１残留壁セグメント厚（ｒ４）が、前記少なくとも１つの第２セグメント（５）に沿った前記残留壁の第２残留壁セグメント（Ｒ５）の第２残留壁セグメント厚（ｒ５）より速く減少し、
各段階で、前記少なくとも１つの第１セグメント（４）に沿った前記第１残留壁セグメント（Ｒ４）の前記第１残留壁セグメント厚（ｒ４）が、前記少なくとも１つの第２セグメント（５）に沿った前記第２残留壁セグメント（Ｒ５）のための前記第２残留壁セグメント厚（ｒ５）が検出される前に、検出され、
推論は、この第２残留壁セグメント厚（ｒ５）を検出することなしに、前記少なくとも１つの第２セグメント（５）に沿った前記第２残留壁セグメント（Ｒ５）の前記第２残留壁セグメント厚（ｒ５）ついて、これから引き出されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月28日(2016.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
車両で用いられ、
前記車両のドライバに向けて報知を行う報知部（７２）を備える運転支援装置であって、
前記車両を、対象とする駐車領域に進入させる運転時、及び前記駐車領域から発車させる運転時の少なくともいずれかである駐車領域周辺運転時に、前記駐車領域周辺の現在の障害物の配置を取得する配置取得部（６１）と、
前記配置取得部で取得した前記駐車領域周辺の過去の障害物の配置を記憶している配置記憶部（６６）と、
今回の前記駐車領域周辺運転時よりも過去の前記駐車領域周辺運転時に前記配置記憶部に記憶された過去の障害物の配置と、今回の前記駐車領域周辺運転時に前記配置取得部で取得した現在の障害物の配置との差異をもとに、前記駐車領域周辺における定常的でない障害物を特定する障害物特定部（７０）とを備え、
前記報知部は、前記障害物特定部で特定した定常的でない障害物の存在を示す旨の報知を行うことを特徴とする運転支援装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の運転支援装置は、車両で用いられ、車両のドライバに向けて報知を行う報知部（７２）を備える運転支援装置であって、車両を、対象とする駐車領域に進入させる運転時、及び駐車領域から発車させる運転時の少なくともいずれかである駐車領域周辺運転時に、駐車領域周辺の現在の障害物の配置を取得する配置取得部（６１）と、配置取得部で取得した駐車領域周辺の過去の障害物の配置を記憶している配置記憶部（６６）と、今回の駐車領域周辺運転時よりも過去の駐車領域周辺運転時に配置記憶部に記憶された過去の障害物の配置と、今回の駐車領域周辺運転時に配置取得部で取得した現在の障害物の配置との差異をもとに、駐車領域周辺における定常的でない障害物を特定する障害物特定部（７０）とを備え、報知部は、障害物特定部で特定した定常的でない障害物の存在を示す旨の報知を行うことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月26日(2016.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
これを実現するため、本実施形態の計算機１０９は、図２に示すように、予め定めた撮像条件およびパルスシーケンスに従って、静磁場の中に置かれた被検体１０３に、高周波磁場を照射するとともに傾斜磁場を印加して、前記被検体１０３から発生するエコー信号を計測し、ｋ空間に配置するエコー計測部１２０と、前記エコー信号から画像を再構成する画像再構成部１３０と、前記パルスシーケンスに設定された傾斜磁場の波形である初期波形を調整し、調整後波形を得る傾斜磁場波形調整部１４０と、応答関数を取得する応答関数算出部１５０と、を備える。そして、エコー計測部１２０は、初期波形の代わりに調整後波形をパルスシーケンスに適用してエコー信号を計測する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
例えば、図３（ａ）に示す位相補償型ＧＥシーケンス２００では、Ａｓ０は、スライス傾斜磁場２０１、Ｂｓ０は、スライスリフェーズ傾斜磁場２０３、Ｄｓ０は、傾斜磁場２０８である。また、Ｂｐ０は、位相エンコード傾斜磁場２０４、Ｄｐ０は、傾斜磁場２０９である。そして、Ｂｆ０は、ディフェーズ用周波数エンコード傾斜磁場２０５、Ｃｆ０は、周波数エンコード傾斜磁場２０６、Ｄｆ０は、傾斜磁場２１０である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
このとき、バンドストップフィルタを適用するだけでは撮像条件を満たさない波形となる。このため、本実施形態では、バンドストップフィルタ適用後の波形（除去後波形）を、傾斜磁場の印加時間を延長せずに、撮像条件を満たすよう整形する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
［ステップＳ１１０１］
帯域除去部１４１が、図６（ａ）に示す初期波形４１０を、６５ｋＨｚでサンプリングしてフーリエ変換して得た周波数分布（スペクトル）５１０を、図６（ｂ）に示す。なお、図６（ｃ）は、図６（ｂ）の、横軸の範囲±３ｋＨｚ範囲を抽出したもの（スペクトル）５１０ａである。図６（ｂ）および図６（ｃ）では、横軸は周波数［ｋＨｚ］、縦軸は強度［ｍＴ／ｍ］を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
以上説明したように、本実施形態のＭＲＩ装置は、パルスシーケンスに予め設定された傾斜磁場の波形である初期波形を調整し、調整後波形を得る傾斜磁場波形調整部１４０、を備え、前記パルスシーケンスは、予め定めた撮像条件に従って、静磁場の中に置かれた被検体１０３に高周波磁場を照射するとともに傾斜磁場を印加して、前記被検体１０３から発生するエコー信号を計測する際に用いられ、前記傾斜磁場波形調整部１４０は、前記初期波形の周波数帯域の一部を除去し、除去後波形を生成する帯域除去部１４１と、前記除去後波形を、前記撮像条件を満たすよう整形し、前記調整後波形を得る波形整形部１４２と、を備える。
前記撮像条件と前記パルスシーケンスとに従って、前記エコー信号を計測するエコー計測部１２０をさらに備え、前記エコー計測部１２０は、前記調整後波形を前記パルスシーケンスに適用し、前記エコー信号を計測する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
例えば、図６（ａ）に示す初期波形４１０の場合、図１８（ａ）のテーブル８１０の結果から、スライス傾斜磁場ｓをｘ、ｙ、ｚ軸方向に印加する場合と、周波数エンコード傾斜磁場ｆをｙ、ｚ軸方向に印加する場合との音圧レベル（Ｏｖｅｒａｌｌ）の値が、１１０ｄＢを超える。従って、例えば、これらの場合だけ帯域除去処理を実施する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月20日(2016.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
皮膚の角層に導入する目的物質を含み、シート状基材と当該シート状基材に形成され皮膚の角層に当接される複数のマイクロニードルとを有するマイクロニードルシートであって、
複数の前記マイクロニードルの各々は、皮膚の角層の表面に刺さらずに角層の表面を押圧して角層を伸張するため前記シート状基材から隆起した皮膚伸張部を持ち、
前記皮膚伸張部は、面積が１×１０-3ｍｍ２以上であり且つ前記シート状基材の表面からの高さが３０μｍ以上３００μｍ以下の先端面を持ち、互いに隣接する前記皮膚伸張部と前記シート状基材との境界間の間隔が互いに隣接する前記皮膚伸張部の高さの２乗を１００で割った値よりも離れるように配置され、
前記先端面は、直径が４０μｍ以上２５０μｍ以下であり、
複数の前記マイクロニードルは、単位面積当たりに前記先端面の占める面積が０．３％以上になる密度で配置されている、マイクロニードルシート。
【請求項２】
皮膚の角層に導入する目的物質を含み、シート状基材と当該シート状基材に形成され皮膚の角層に当接される複数のマイクロニードルとを有するマイクロニードルシートであって、
複数の前記マイクロニードルの各々は、
皮膚の角層の表面に刺さらずに角層の表面を押圧して角層を伸張するための先端面を持つように前記シート状基材から隆起した皮膚伸張部と、
前記皮膚伸張部の前記先端面に形成され、角層の表面に刺さり且つ頂部が角層内部に留まる形状を持つ棘状突起部とを有し、
前記先端面は、直径が４０μｍ以上２５０μｍ以下であり、
複数の前記マイクロニードルは、単位面積当たりに前記先端面の占める面積が０．３％以上になる密度で配置されている、マイクロニードルシート。
【請求項３】
前記棘状突起部は、平面視における面積が５×１０-4ｍｍ２未満であり、高さが１μｍ以上２０μｍ以下である、
請求項２に記載のマイクロニードルシート。
【請求項４】
複数の前記マイクロニードルは、単位面積当たりに前記棘状突起部の占める面積が０．２％以下になる密度で配置されている、
請求項３に記載のマイクロニードルシート。
【請求項５】
前記皮膚伸張部は、前記先端面の面積が１×１０-3ｍｍ２以上であり、前記シート状基材の表面から前記先端面までの高さが３０μｍ以上３００μｍ以下であり、互いに隣接する前記皮膚伸張部と前記シート状基材との境界間の間隔が互いに隣接する前記皮膚伸張部の高さの２乗を１００で割った値よりも離れるように配置されている、
請求項２から４のいずれか一項に記載のマイクロニードルシート。
【請求項６】
前記皮膚伸張部は、前記棘状突起部の根元から前記先端面の端部までの長さが８μｍ以上２０μｍ以下である、
請求項５に記載のマイクロニードルシート。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載のマイクロニードルシートと、
前記マイクロニードルシートを皮膚に押圧した状態を維持させる押圧部とを備えた、経皮投与用貼付剤。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月5日(2016.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送されたシートの先端と当接する当接部を少なくとも一つ備え回転可能な当接部材と、付勢部材と、第１の回転方向に前記当接部材を回転させる力を前記付勢部材から受ける第一力受け部と、前記第１の回転方向と逆方向の第２の回転方向に前記当接部材を回転させる力を前記付勢部材から受ける第二力受け部と、を有し、前記当接部が前記シートの先端に押されることで、前記付勢部材から力を受ける部分が前記第二力受け部から前記第一力受け部に切り替わり、前記当接部材は前記第１の回転方向に回転することを特徴とするシート搬送装置。
【請求項２】
前記第一力受け部と前記第二力受け部を備える回転可能なカムを有することを特徴とする請求項１に記載のシート搬送装置。
【請求項３】
前記カムと前記当接部材は、共通の回転軸線を中心に回転可能であることを特徴とする請求項２に記載のシート搬送装置。
【請求項４】
前記カムと接触し前記付勢部材によって押圧されることで前記カムを押圧する押圧部材を備え、前記押圧部材は回転可能な規制部を備えることを特徴とする請求項３に記載のシート搬送装置。
【請求項５】
前記付勢部材は、弾性力により前記押圧部材を付勢するバネであることを特徴とする請求項４に記載のシート搬送装置。
【請求項６】
前記カムは、前記規制部と係合する係合部を備え、前記規制部と前記係合部が係合すると、前記当接部材は、回転移動が規制された待機位置で待機することを特徴とする請求項５に記載のシート搬送装置。
【請求項７】
前記待機位置で待機する前記当接部材の前記当接部がシートの先端によって押圧されることによって前記当接部材が前記待機位置から前記第１の回転方向に回転すると、前記第二力受け部は、前記規制部と当接し、前記バネから力を受けることを特徴とする請求項６に記載のシート搬送装置。
【請求項８】
前記当接部材が前記待機位置で待機する状態において、搬送されたシートの先端が前記当接部に当接することで、シートにループが形成されることを特徴とする請求項７に記載のシート搬送装置。
【請求項９】
搬送されたシートの先端と当接する第１、第２の当接部を少なくとも備え回転可能な当接部材と、付勢部材と、第１の回転方向に前記当接部材を回転させる力を前記付勢部材から受ける第一力受け部と、前記第１の回転方向と逆方向の第２の回転方向に前記当接部材を回転させる力を前記付勢部材から受ける第二力受け部と、を有し、前記第１の当接部が前記シートの先端に押されることで、前記付勢部材から力を受ける部分が前記第二力受け部から前記第一力受け部に切り替わり、前記当接部材は前記第１の回転方向に回転し、前記第２の当接部がシートに当接することを特徴とするシート搬送装置。
【請求項１０】
前記第一力受け部と前記第二力受け部を備える回転可能なカムを有することを特徴とする請求項９に記載のシート搬送装置。
【請求項１１】
前記カムと前記当接部材は、共通の回転軸線を中心に回転可能であることを特徴とする請求項１０に記載のシート搬送装置。
【請求項１２】
前記カムと接触し前記付勢部材によって押圧されることで前記カムを押圧する押圧部材を備え、前記押圧部材は回転可能な規制部を備えることを特徴とする請求項１１に記載のシート搬送装置。
【請求項１３】
前記付勢部材は、弾性力により前記押圧部材を付勢するバネであることを特徴とする請求項１２に記載のシート搬送装置。
【請求項１４】
前記カムは、前記規制部と係合する係合部を備え、前記規制部と前記係合部が係合すると、前記当接部材は、回転移動が規制された待機位置で待機することを特徴とする請求項１３に記載のシート搬送装置。
【請求項１５】
前記待機位置で待機する前記当接部材の前記第１の当接部がシートの先端によって押圧されることによって前記当接部材が前記待機位置から前記第１の回転方向に回転すると、前記第二力受け部は、前記規制部と当接し、前記バネから力を受けることを特徴とする請求項１４に記載のシート搬送装置。
【請求項１６】
前記当接部材が前記待機位置で待機する状態において、搬送されたシートの先端が前記第１の当接部に当接することで、シートにループが形成されることを特徴とする請求項１５に記載のシート搬送装置。
【請求項１７】
前記当接部材は、前記回転軸線に沿って複数配置される複数の当接部材であり、前記複数の当接部材は、それぞれの前記第１の当接部と前記第２の当接部が、前記回転軸線方向からみて同位相になるように配置されていることを特徴とする請求項１０から請求項１６のいずれか一項に記載のシート搬送装置。
【請求項１８】
前記複数の当接部材は回転軸を中心に回転可能であり、前記回転軸に支持され前記回転軸を中心に回転可能でありシートに接触する複数の搬送コロを有することを特徴とする請求項１７に記載のシート搬送装置。
【請求項１９】
前記複数の搬送コロに対してシートを介して対向し、駆動源から駆動力を受けて回転する駆動ローラを有することを特徴とする請求項１８に記載のシート搬送装置。
【請求項２０】
前記当接部材の回転に応じてシートを検知する検知手段と、を有することを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか１項に記載のシート搬送装置。
【請求項２１】
前記検知手段は、前記当接部材と同軸上に設けられ、前記当接部材と共に回転する被検知部材と、
前記被検知部材の回転を検知するセンサと、を有することを特徴とする請求項２０に記載のシート搬送装置。
【請求項２２】
請求項１乃至２１のいずれか１項に記載のシート搬送装置と、
前記シート搬送装置によって給送されたシートに画像を形成する画像形成手段を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、シートの紙間を短くすることが可能であり、構成がリーズナブルなシート搬送装置、およびこれを有する画像形成装置を提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、搬送されたシートの先端と当接する当接部を少なくとも一つ備え回転可能な当接部材と、付勢部材と、第１の回転方向に前記当接部材を回転させる力を前記付勢部材から受ける第一力受け部と、前記第１の回転方向と逆方向の第２の回転方向に前記当接部材を回転させる力を前記付勢部材から受ける第二力受け部と、を有し、前記当接部が前記シートの先端に押されることで、前記付勢部材から力を受ける部分が前記第二力受け部から前記第一力受け部に切り替わり、前記当接部材は前記第１の回転方向に回転することを特徴とするシート搬送装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月8日(2016.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水砕樋を経て水砕槽内に溶融高炉スラグを導入する経路で、溶融高炉スラグに加圧水（冷却水）を吹き付けて急速冷却し、その後に、加圧水と分離して水砕スラグをとり出して水砕スラグを得る水砕スラグの製造方法において、
前記経路の、溶融高炉スラグが前記水砕槽内に落下するまでの少なくともいずれかの地点で高分子凝結剤を添加することで、該高分子凝結剤を混合させ、前記水砕槽内で、スラグと水と高分子凝結剤とを共存させることを特徴とする水砕スラグの製造方法。
【請求項２】
前記高分子凝結剤を添加することで、流速が０．５ｍ／秒以上で、乱流状態で、水とスラグに、前記高分子凝結剤が混合されて共存する状態を生じている請求項１に記載の水砕スラグの製造方法。
【請求項３】
前記高分子凝結剤を、溶融高炉スラグに加圧水が吹き付けられる地点から、前記水砕槽入口又はスラグが前記水砕槽内に落下するまでの間のいずれかの地点で添加する請求項１又は２に記載の水砕スラグの製造方法。
【請求項４】
さらに、前記溶融高炉スラグを急速冷却する際に用いた水を、水砕スラグをとり出す際に分離し、分離した水を冷却して前記加圧水として循環使用するように構成し、かつ、該循環水には、前記高分子凝結剤が添加されていてもよい請求項１〜３のいずれか１項に記載の水砕スラグの製造方法。
【請求項５】
前記高分子凝結剤が、下記一般式（１）、下記一般式（２）で表されるモノマーのいずれか一方又は両方を必須成分として５モル％以上を含む原料モノマーから誘導されるカチオン性又は両性の共重合体を主成分としてなり、該共重合体の重量平均分子量とｐＨ７におけるカチオンコロイド当量の２乗を乗じた値をＮとした場合に、Ｎ値が５００万〜６０００万である請求項１〜４のいずれか１項に記載の水砕スラグの製造方法。
2015231923.tif 000001
2015231923.tif 000002
（上記式中の、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立にＣＨ3又はＣ2Ｈ5を表し、Ｒ3は、Ｈ、ＣＨ3又はＣ2Ｈ5のいずれかを表す。Ｘ-は、アニオン性対イオンを表す。）
【請求項６】
前記冷却水の流量を測定し、前記高分子凝結剤を、高分子凝結剤量（ｇ−高分子凝結剤／ｈｒ）／冷却水流量（ｔ−冷却水／ｈｒ）≧０．１となる範囲内の量で添加する請求項１〜５のいずれか１項に記載の水砕スラグの製造方法。
【請求項７】
前記溶融高炉スラグを水砕化する際の条件が、溶融高炉スラグに対する前記加圧水の量が、冷却水量（ｔ−冷却水／ｈｒ）／溶融高炉スラグ流量（ｔ−スラグ／ｈｒ）≦３０となり、且つ、前記水砕槽内の水温が９７℃未満となるようにする請求項１〜６のいずれか１項に記載の水砕スラグの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の水砕スラグの製造方法で製造した水砕スラグであって、前記高分子凝結剤で凝結された微細な水砕スラグを少なくとも含み、場合によっては凝結によって粒径が粗大になっていることを特徴とする水砕スラグ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、好ましい形態として、前記冷却水の流量を測定し、前記高分子凝結剤を、高分子凝結剤量（ｇ−高分子凝結剤／ｈｒ）／冷却水流量（ｔ−冷却水／ｈｒ）≧０．１となる範囲内の量で添加すること；前記溶融高炉スラグを水砕化する際の条件が、溶融高炉スラグに対する前記加圧水の量が、冷却水量（ｔ−冷却水／ｈｒ）／溶融高炉スラグ流量（ｔ−スラグ／ｈｒ）≦３０となり、且つ、前記水砕槽内の水温が９７℃未満となるようにすること、が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜１５０ｍｇ／ｍｌのＩＬ−１βに対する抗体を含む安定な液体医薬製剤であって、抗体がＡＣＺ８８５であり、緩衝系が１０〜５０ｍＭの濃度のヒスチジンであり、安定剤が５０〜３００ｍＭの量のマンニトールであり、前記製剤のｐＨが５．５〜７．５である、医薬製剤。
【請求項２】
ｐＨが６．２〜６．８である、請求項１に記載の製剤。
【請求項３】
レポーター遺伝子アッセイで測定される、本来の活性の８０〜１２５％を、２〜８℃で２４ヶ月以上維持する、請求項１または２に記載の製剤。
【請求項４】
ヒスチジンが１５〜４０ｍＭの濃度で使用される、請求項１から３のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項５】
ヒスチジンが２０〜３０ｍＭの濃度で使用される、請求項１から４のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項６】
マンニトールが１８０〜３００ｍＭの量で存在する、請求項１から５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項７】
マンニトールが２７０ｍＭの量で存在する、請求項１から６のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項８】
増量剤、塩、界面活性剤および保存剤を含む群から選択される１つまたは複数の賦形剤をさらに含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項９】
皮下投与される、請求項１から８のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１０】
１０〜１５０ｍｇ／ｍｌのＡＣＺ８８５、２７０ｍＭのマンニトール、２０ｍＭのヒスチジンおよび０．０４％のポリソルベート８０を含み、ｐＨが６．５である製剤。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の液体製剤を含む剤形。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の液体製剤を含む注射器。
【請求項１３】
請求項１２に記載の注射器を含む自動注入装置。
【請求項１４】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の液体製剤を含む自動注入装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
ＡＣＺ８８５  Ｌ鎖可変領域 配列番号２
ATGTTGCCATCACAA.CTCATTGGGTTTCTGCTGCTCTGGGTTCCAGCCTCCAGGGGTGAA-19
M L P S Q L I G F L L L W V P A S R G E-1 
ATTGTGCTGACTCAGTCTCCAGACTTTCAGTCTGTGACTCCAAAGGAGAAAGTCACCATC 1 V L T Q S P D F Q
S V T P K E K V T 1-21 
ACCTGCCGGGCCAGTCAGAGCATTGGTAGTAGCTTACACTGGTACCAGCAGAAACCAGAT T C R A S Q S 1 G S
S L H W Y Q Q K P D-41 
CAGTCTCCAAAGCTCCTCATCAAGTATGCTTCCCAGTCCTTCTCAGGGGTCCCCTCGAGG Q S P K L L I K Y A
S Q S P S G V P S R-61 
TTCAGTGGCAGTGGATCTGGGACAGATTTCACCCTCACCATCAATAGCCTGGAAGCTGAA F S G S G S G T D F
T L T I N S L E A E-81 
GATGCTGCAGCGTATTACTGTCATCAGAGTAGTAGTTTACCATTCACTTTCGGCCCTGGG D A A A Y Y C H Q 5
S S L P F T F G P G-101 ACCAAAGMGATATCAAA-107 T K V D I K
以下に、本願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］  配列番号１および配列番号２に記載の配列を含むＩＬ−１βに対する抗体、ならびに緩衝系を含み、ｐＨが５．５〜７．５である医薬製剤。
［２］  ｐＨが５．５〜７である、前記［１］に記載の製剤。
［３］  ｐＨが６．２〜６．８である、前記［１］に記載の製剤。
［４］  緩衝系が、クエン酸塩、ヒスチジン、コハク酸ナトリウム、ならびにリン酸ナトリウムおよび／またはリン酸カリウム緩衝系からなる群から選択される、前記［１］に記載の製剤。
［５］  緩衝系がヒスチジン緩衝系である、前記［４］に記載の製剤。
［６］  前記ヒスチジンが１５〜５０ｍＭの量である、前記［５］に記載の製剤。
［７］  さらに安定剤を含む、前記［１］に記載の製剤。
［８］  安定剤が、スクロース、トレハロース、マンニトール、ソルビトールおよび塩酸アルギニンからなる群から選択される、前記［７］に記載の製剤。
［９］  安定剤が５０〜３００ｍＭの量のスクロースまたはマンニトールである、前記［８］に記載の製剤。
［１０］  増量剤、塩、界面活性剤および保存剤を含む群から選択される１つまたは複数の賦形剤をさらに含む、前記［１］から［９］のいずれか一項に記載の製剤。
［１１］  凍結乾燥剤から再構成させた前記［１］から［１０］のいずれか一項に記載の製剤。
［１２］  前記［１］から［１１］のいずれか一項に記載の製剤から調製された凍結乾燥剤。
［１３］  （ｉ）前記［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の製剤を凍結乾燥することと、
（ｉｉ）再構成溶媒で前記凍結乾燥剤を再構成することとを含む、製剤を調製する方法。
［１４］  １０〜１５０ｍｇ／ｍｌのＡＣＺ８８５、２７０ｍＭのスクロース、３０ｍＭのヒスチジンおよび０．０６％のポリソルベート８０を含み、ｐＨが６．５である製剤。［１５］  １０〜１５０ｍｇ／ｍｌのＡＣＺ８８５、２７０ｍＭのマンニトール、２０ｍＭのヒスチジンおよび０．０４％のポリソルベート８０を含み、ｐＨが６．５である製剤。
［１６］  ＩＬ−１を媒介とした疾患または医学上の状態の治療のための、前記［１］〜［１５］のいずれか一項に記載の製剤の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月13日(2015.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
（本発明例１〜１０）
本発明例１〜１０のＭＯＳＦＥＴデバイスに用いられた半導体基板１０は、上述した実施の形態１に記載された製造方法に従って製造された。具体的には、種結晶１３としてポリタイプが４Ｈの炭化珪素を使用した。次に、成長温度が２３００℃で、かつ成長圧力が約４ｋＰａ（３０Ｔｏｒｒ）の条件で、種結晶１３の表面に炭化珪素結晶を昇華法（高周波加熱法）により成長させた。炭化珪素結晶の昇華に用いられる装置のルツボ１１はグラ ファイト製とした。ルツボ１１の外径をφ１４０ｍｍとし、ルツボ１１の内径をφ１２０ｍｍとし、ルツボ１１の高さを１００ｍｍとした。種結晶１３のサイズを口径４インチとした。種結晶１３の（０００１）面に対するオフ角を４度とした。また、種結晶１３の表面をＣＭＰ処理することにより、種結晶１３の表面の２乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）を１ｎｍ未満とした。原料１２として、炭化珪素パウダーを使用した。炭化珪素結晶１４の成長速度を毎時０．０１ｍｍ未満とした。上記の方法で製造した半導体基板１０の転位密度を実施の形態１で説明した方法により測定することで、半導体基板１０を本発明１〜５に用いられる基板と、本発明６〜１０に用いられる基板に分類した。本発明１〜５のデバイスに用いられる半導体基板１０は、１辺１ｍｍのいずれの正方形領域４においても、バーガースベクトルが＜１１−２０＞方向に平行であって、転位線が基底面内にあり、転位線は半導体基板１０の主表面１に露出している転位（以下、＜１１−２０＞方向の基底面転位と称す）の密度が１×１０5ｃｍ-2以下である基板である。本発明６〜１０のデバイスに用いられる半導体基板１０は、１辺１ｍｍのいずれの正方形領域４においても、バーガースベクトルが＜１１−２０＞方向に平行である転位の密度が１×１０5ｃｍ-2以下である基板である。言い換えれば、本発明例６〜１０のデバイスに用いられる半導体基板１０は、１辺１ｍｍのいずれの正方形領域４においても、上記＜１１−２０＞方向の基底面転位と、バーガースベクトルが＜１１−２０＞方向に平行であるその他の転位とを含む転位の合計密度が１×１０5ｃｍ-2以下である基板である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月11日(2016.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明に係るエレベータのガイドレール固定装置は、昇降路壁に固定される第１垂直部、及び前記第１垂直部に連設された第１水平部を有する壁側固定金具と、前記壁側固定金具の前記第１水平部に溶接される第２水平部、及び前記第２水平部に連設され、昇降体を案内するガイドレールが取り付けられる第２垂直部を有するレール側固定金具とを備えたエレベータのガイドレール固定装置において、前記壁側固定金具の前記第１水平部のガイドレール側端部に設けられ、前記ガイドレールの背面部の幅寸法よりも大きな幅寸法を有し、ガイドレール側に突出する突出部と、前記突出部に設けられ、前記ガイドレールの前記背面部の挿入が可能な凹部とを備えたことを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
昇降路壁に固定される第１垂直部、及び前記第１垂直部に連設された第１水平部を有する壁側固定金具と、前記壁側固定金具の前記第１水平部に溶接される第２水平部、及び前記第２水平部に連設され、昇降体を案内するガイドレールが取り付けられる第２垂直部を有するレール側固定金具とを備えたエレベータのガイドレール固定装置において、
前記壁側固定金具の前記第１水平部のガイドレール側端部に設けられ、前記ガイドレールの背面部の幅寸法よりも大きな幅寸法を有し、ガイドレール側に突出する突出部と、
前記突出部に設けられ、前記ガイドレールの前記背面部の挿入が可能な凹部とを備えたことを特徴とするエレベータのガイドレール固定装置。
【請求項２】
請求項１に記載のエレベータのガイドレール固定装置において、
前記レール側固定金具の前記第２水平部の長さ寸法と前記第２垂直部の長さ寸法を異ならせたことを特徴とするエレベータのガイドレール固定装置。