【手続補正書】
【提出日】平成28年11月11日(2016.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを照明光学系で照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンの像を基板上に投影するために使用する前記マスクのパターンをコンピュータを用いて作成する作成方法において、
前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定するステップと、
前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成する生成ステップと、
該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義する定義ステップと、
前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行って、前記物体面におけるパターンの像を計算するステップと、
該計算された像を用いて前記物体面におけるパターンの補助パターンを生成し、前記物体面におけるパターンと前記補助パターンを含むマスクのパターンを作成するステップとを備えることを特徴とする作成方法。
【請求項２】
前記定義ステップにおいて、前記生成ステップで生成された複数の瞳関数のそれぞれを各行または各列に配列することによって行列を定義することを特徴とする請求項１に記載の作成方法。
【請求項３】
前記点光源からの光が偏光光であって、前記瞳関数は３次元の座標の各軸に対応する３つの関数を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の作成方法。
【請求項４】
物体面のパターンを照明光学系で照明し、投影光学系を介して像面に投影される前記パターンの光学像をコンピュータを用いて計算する計算方法において、
前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定するステップと、
前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成する生成ステップと、
該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義する定義ステップと、
前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行うことにより、前記パターンの光学像を計算する計算ステップとを備えることを特徴とする計算方法。
【請求項５】
前記計算ステップにおいて、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行って得られた結果の絶対値を２乗して、前記パターンの光学像を計算することを特徴とする請求項４に記載の計算方法。
【請求項６】
請求項１乃至３の何れか１項に記載の作成方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項７】
請求項４又は５に記載の計算方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項８】
請求項１乃至３の何れか１項に記載の作成方法を用いて、マスクのパターンを作成するステップと、
作成されたマスクのパターンのデータを用いて、マスクを製造するステップとを有することを特徴とするマスク製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載のマスク製造方法を用いて、マスクを製造するステップと、
製造されたマスクを用いて基板にマスクのパターンを投影して露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光方法を用いて、基板を露光するステップと、
露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１１】
マスクを照明光学系で照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンの像を基板上に投影するために使用する前記マスクのパターンを作成するプロセッサを有する情報処理装置において、
前記プロセッサは、
前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定し、
前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成し、
該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義し、
前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行って、前記物体面におけるパターンの像を計算し、
該計算された像を用いて前記物体面におけるパターンの補助パターンを生成し、前記物体面におけるパターンと前記補助パターンを含むマスクのパターンを作成する、ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１２】
物体面のパターンを照明光学系で照明し、投影光学系を介して像面に投影される前記パターンの光学像を計算するプロセッサを有する情報処理装置において、
前記プロセッサは、
前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定し、
前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成し、
該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義し、
前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行うことにより、前記パターンの光学像を計算する、ことを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の一側面は、マスクを照明光学系で照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンの像を基板上に投影するために使用する前記マスクのパターンをコンピュータを用いて作成する作成方法において、前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定するステップと、前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成する生成ステップと、該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義する定義ステップと、前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行って、前記物体面におけるパターンの像を計算するステップと、計算された像を用いて前記物体面におけるパターンの補助パターンを生成し、前記物体面におけるパターンと前記補助パターンを含むマスクのパターンを作成するステップとを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決する本発明の別の側面は、物体面のパターンを照明光学系で照明し、投影光学系を介して像面に投影される前記パターンの光学像をコンピュータを用いて計算する計算方法において、前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定するステップと、前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成する生成ステップと、該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義する定義ステップと、前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行うことにより、前記パターンの光学像を計算する計算ステップとを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
コンピュータ（情報処理装置）１は、バス配線１０、制御部２０、表示部３０、記憶部４０、入力部６０及び媒体インターフェース７０を備える。制御部２０、表示部３０、記憶部４０、入力部６０及び媒体インターフェース７０は、バス配線１０を介して相互に接続されている。媒体インターフェース７０は、記憶媒体８０を接続可能に構成されている。制御部２０は、ＣＰＵ、ＧＰＵ、ＤＳＰ又はマイコンで構成され、一時記憶のためのキャッシュメモリなどを含む。表示部３０は、例えば液晶ディスプレイなどの表示デバイスで構成される。記憶部４０は、例えば、メモリやハードディスクで構成される。入力部６０は、例えば、キーボードやマウスなどである。媒体インターフェース７０は、例えば、ＣＤ−ＲＯＭドライブやＵＳＢインターフェースなどである。記録媒体８０は、ＣＤ−ＲＯＭやＵＳＢメモリなどである。記憶部４０には、パターンデータ４０ａ、マスクパターンの情報４０ｂ、近似空中像データ４０ｃ、マスクのデータ４０ｄ、有効光源情報４０ｅ、ＮＡ情報４０ｆ、λ情報４０ｇ、収差情報４０ｈ、偏光情報４０ｉ、レジスト情報４０ｊが記憶される。さらに、マスク作成プログラム４０ｋも記憶されている。これらの情報は、制御部２０による計算処理のために随時読み出される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
マスキングブレード１２８は、マスク１３０と略共役な位置に配置され、複数の可動遮光板で構成される。マスキングブレード１２８は、投影光学系１４０の有効面積に対応する略矩形形状の開口を形成する。マスキングブレード１２８を通過した光束は、マスク１３０を照明する照明光として使用される。結像レンズ１２９は、マスキングブレード１２８の開口を通過した光束をマスク１３０に結像させる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
マスクステージ１３５は、マスクチャックを介してマスク１３０を支持し、図示しない駆動機構に接続されている。図示しない駆動機構は、例えば、リニアモーターなどで構成され、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向及び各軸の回転方向にマスクステージ１３５を駆動する。なお、マスク１３０又はウエハ１５０の面内で走査方向をＹ軸、それに垂直な方向をＸ軸、マスク１３０又はウエハ１５０の面に垂直な方向をＺ軸とする。