Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
介入器具の画像を含む超音波画像を生成するための超音波機械の作動方法であって、前記作動方法は、
第１の撮像操向角度を含む１つ以上のパラメータを含む第１の超音波撮像識別特性を確立することと、
第２の撮像操向角度を含む１つ以上のパラメータを含む第２の超音波撮像識別特性を確立することと、
前記第１の超音波撮像識別特性の適用から生じる画像データを用いて複数の第１のサブフレームを生成することと、
前記第２の超音波撮像識別特性の適用から生じる画像データを用いて複数の第２のサブフレームを生成することであって、前記複数の第１のサブフレームのそれぞれは、前記複数の第２のサブフレームのいずれかとも異なる、ことと、
前記複数の第１のサブフレームを空間複合することにより、第１の画像フレームを生成することと、
前記複数の第２のサブフレームを空間複合することにより、第２の画像フレームを生成することであって、前記第２の画像フレームは、前記介入器具を含む、ことと、
前記第１の画像フレームと前記第２の画像フレームの一部とからのピクセルを混合することにより、最終超音波画像を形成することと
を含む、作動方法。
【請求項２】
前記第２の画像フレームの一部は、前記第１のフレームより少ないピクセルを有する、請求項１に記載の作動方法。
【請求項３】
前記第２の撮像操向角度は、前記第１の撮像操向角度より急角度である、請求項１に記載の作動方法。
【請求項４】
前記第１の撮像操向角度は、プラス２０度またはマイナス２０度の操向角度規模を含み、前記第２の撮像操向角度は、プラス２０度超またはマイナス２０度超の操向角度規模を含む、請求項１に記載の作動方法。
【請求項５】
前記第１および第２の超音波撮像識別特性の適用から生じる画像データを含む前記最終超音波画像の領域のグラフィック指示を前記最終超音波画像上に生成することをさらに含む、請求項１に記載の作動方法。
【請求項６】
前記第２の超音波撮像識別特性の適用から生じる画像データを含む前記混合された最終超音波画像の領域のグラフィック指示を前記最終超音波画像上に生成することをさらに含む、請求項１に記載の作動方法。
【請求項７】
前記第１の超音波撮像識別特性のみの適用から生じる画像データを含む前記混合された最終超音波画像の領域のグラフィック指示を前記最終超音波画像上に生成することをさらに含む、請求項１に記載の作動方法。
【請求項８】
前記最終超音波画像内の前記介入器具の属性を表すグラフィック指示を前記最終超音波画像上に生成することをさらに含む、請求項１に記載の作動方法。
【請求項９】
前記複数の第１のサブフレームは、総計第１の数の第１のサブフレームを含み、前記複数の第２のサブフレームは、総計第２の数の第２のサブフレームを含み、前記第２の数は、前記第１の数より少なく、前記第２の撮像操向角度は、前記第１の撮像操向角度より急角度である、請求項１に記載の作動方法。
【請求項１０】
介入器具の画像を含む超音波画像を生成するための超音波機械の作動方法であって、前記作動方法は、
第１の撮像操向角度を含む１つ以上のパラメータを含む第１の超音波撮像識別特性を確立することと、
第２の撮像操向角度を含む１つ以上のパラメータを含む第２の超音波撮像識別特性を確立することと、
前記第１の超音波撮像識別特性の適用から生じる画像データを用いて複数の第１のサブフレームを生成することと、
前記第２の超音波撮像識別特性の適用から生じる画像データを用いて複数の第２のサブフレームを生成することであって、前記複数の第１のサブフレームのそれぞれは、前記複数の第２のサブフレームのいずれかとも異なる、ことと、
前記複数の第１のサブフレームを組み合わせることにより、第１の画像フレームを生成することと、
前記複数の第２のサブフレームを組み合わせることにより、第２の画像フレームを生成することであって、前記第２の画像フレームは、前記介入器具を含む、ことと、
前記第１の画像フレームと前記第２の画像フレームの一部とからのピクセルを混合することにより、最終超音波画像を形成することと、
前記第２の撮像操向角度を示すグラフィックを前記最終超音波画像上に生成することと
を含む、作動方法。
【請求項１１】
前記介入器具の終点を示すグラフィックを前記最終超音波画像上に生成することをさらに含む、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１２】
前記最終超音波画像内の有効範囲面積の境界を表示することをさらに含み、前記有効範囲面積内において、前記第２の超音波撮像識別特性の撮像パラメータのうちの１つ以上は、前記介入器具の画像を生成するために選択される、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１３】
前記複数の第１のサブフレームを組み合わせることにより、前記第１の画像フレームを生成することと、前記複数の第２のサブフレームを組み合わせることにより、前記第２の画像フレームを生成することとは、それぞれ、前記第１および第２のサブフレームを空間複合することにより、前記第１および第２の画像フレームを生成することを含む、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１４】
前記第２の画像フレームの一部は、前記第１のフレームより少ないピクセルを有する、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１５】
前記第２の撮像操向角度は、前記第１の撮像操向角度より急角度である、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１６】
前記第１の撮像操向角度は、プラス２０度またはマイナス２０度の操向角度規模を含み、前記第２の撮像操向角度は、プラス２０度超またはマイナス２０度超の操向角度規模を含む、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１７】
前記複数の第１のサブフレームは、総計第１の数の第１のサブフレームを含み、前記複数の第２のサブフレームは、総計第２の数の第２のサブフレームを含み、前記第２の数は、前記第１の数より少なく、前記第２の撮像操向角度は、前記第１の撮像操向角度より急角度である、請求項１０に記載の作動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月26日(2016.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲームを進行させるサーバ装置を制御して、
複数のプレイヤに共通のゲーム空間内に各プレイヤからの指示に応じて配置されるオブジェクトと当該オブジェクトの種類に応じて設定された重みとを対応付けて前記サーバ装置の記憶部に記憶する記憶ステップと、
前記ゲーム空間におけるオブジェクトの重みの合計値に、前記複数のプレイヤで共有される閾値を設定する閾値設定ステップと、
前記ゲーム空間内に現在配置されているオブジェクトの重みの合計値を算出する算出ステップと、
前記ゲーム空間を示す前記複数のプレイヤに共通のゲーム進行画面であって、前記閾値及び前記合計値の情報を示したゲーム進行画面を前記複数のプレイヤの端末装置に表示させる表示ステップと、
前記ゲーム空間内に新たなオブジェクトを配置する指示をプレイヤの端末装置から受け付けたときに、前記新たなオブジェクト及び前記ゲーム空間内に現在配置されているオブジェクトの重みの合計値と前記閾値との比較結果に応じて、前記新たなオブジェクトの配置を許可する否かを判定する判定ステップと、
前記新たなオブジェクトの配置が許可されない場合に、前記新たなオブジェクトを配置できない旨を前記ゲーム進行画面上でプレイヤに通知する通知ステップと、
を実行させることを特徴とする制御方法。
【請求項２】
前記新たなオブジェクトの配置が許可される場合に、前記複数のプレイヤの端末装置にそれぞれ表示されている前記ゲーム進行画面を前記新たなオブジェクトが表示された共通のゲーム進行画面に更新させる更新ステップを、前記サーバ装置にさらに実行させる、請求項１に記載の制御方法。
【請求項３】
前記閾値設定ステップでは、前記サーバ装置が、前記ゲーム空間におけるオブジェクトの重みの合計値に、前記ゲーム空間内の同じフィールドマップを選択しかつ同一グループに属する複数のプレイヤで共有される閾値を設定する、請求項１又は２に記載の制御方法。
【請求項４】
前記閾値設定ステップでは、前記サーバ装置が、前記ゲーム空間におけるオブジェクトの重みの合計値に、前記ゲーム空間内の同じフィールドマップを選択しかつ同一グループに属するプレイヤと、当該グループの対戦相手となる他グループに属するプレイヤとで共有される閾値を設定する、請求項１又は２に記載の制御方法。
【請求項５】
前記共通のゲーム空間にて前記ゲームをプレイ可能なプレイヤの人数には上限が設定されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項６】
前記記憶ステップでは、前記サーバ装置が、前記オブジェクトと当該オブジェクトの種類に応じて異なる値に設定された重みとを対応付けて前記記憶部に記憶する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項７】
前記記憶部は、プレイヤ同士の親密度を示すパラメータをさらに記憶し、
前記閾値設定ステップでは、前記サーバ装置が、前記閾値として、前記ゲームに参加しているプレイヤ同士の親密度に応じて異なる上限値を設定する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項８】
前記記憶部は、プレイヤ同士の親密度を示すパラメータをさらに記憶し、
前記オブジェクトのそれぞれに設定されている重みを前記ゲームに参加しているプレイヤ同士の親密度に応じて変更するステップを前記サーバ装置にさらに実行させる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項９】
前記記憶部は、プレイヤのレベルを示すパラメータをさらに記憶し、
前記閾値設定ステップでは、前記サーバ装置が、前記閾値として、前記ゲームに参加しているプレイヤのレベルに応じて異なる上限値を設定する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項１０】
前記記憶部は、プレイヤのレベルを示すパラメータをさらに記憶し、
前記オブジェクトのそれぞれに設定されている重みを前記ゲームに参加しているプレイヤのレベルに応じて変更するステップを前記サーバ装置にさらに実行させる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項１１】
前記算出ステップでは、前記サーバ装置が、前記ゲーム空間内に配置されたオブジェクトが消滅した場合には、消滅したオブジェクトの重みを除いて前記合計値を算出する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項１２】
ゲームを進行させるサーバ装置の制御プログラムであって、前記サーバ装置に、
複数のプレイヤに共通のゲーム空間内に各プレイヤからの指示に応じて配置されるオブジェクトと当該オブジェクトの種類に応じて設定された重みとを対応付けて前記サーバ装置の記憶部に記憶する機能と、
前記ゲーム空間におけるオブジェクトの重みの合計値に、前記複数のプレイヤで共有される閾値を設定する機能と、
前記ゲーム空間内に現在配置されているオブジェクトの重みの合計値を算出する機能と、
前記ゲーム空間を示す前記複数のプレイヤに共通のゲーム進行画面であって、前記閾値及び前記合計値の情報を示したゲーム進行画面を前記複数のプレイヤの端末装置に表示させる機能と、
前記ゲーム空間内に新たなオブジェクトを配置する指示をプレイヤの端末装置から受け付けたときに、前記新たなオブジェクト及び前記ゲーム空間内に現在配置されているオブジェクトの重みの合計値と前記閾値との比較結果に応じて、前記新たなオブジェクトの配置を許可する否かを判定する機能と、
前記新たなオブジェクトの配置が許可されない場合に、前記新たなオブジェクトを配置できない旨を前記ゲーム進行画面上でプレイヤに通知する機能と、
を実現させることを特徴とする制御プログラム。
【請求項１３】
ゲームを進行させるサーバ装置であって、
複数のプレイヤに共通のゲーム空間内に各プレイヤからの指示に応じて配置されるオブジェクトと当該オブジェクトの種類に応じて設定された重みとを対応付けて記憶する記憶部と、
前記ゲーム空間におけるオブジェクトの重みの合計値に、前記複数のプレイヤで共有される閾値を設定する閾値設定部と、
前記ゲーム空間内に現在配置されているオブジェクトの重みの合計値を算出する合計値算出部と、
前記ゲーム空間を示す前記複数のプレイヤに共通のゲーム進行画面であって、前記閾値及び前記合計値の情報を示したゲーム進行画面を前記複数のプレイヤの端末装置に表示させる表示制御部と、
前記ゲーム空間内に新たなオブジェクトを配置する指示をプレイヤの端末装置から受け付けたときに、前記新たなオブジェクト及び前記ゲーム空間内に現在配置されているオブジェクトの重みの合計値と前記閾値との比較結果に応じて、前記新たなオブジェクトの配置を許可する否かを判定し、前記新たなオブジェクトの配置が許可されない場合に、前記新たなオブジェクトを配置できない旨を前記ゲーム進行画面上でプレイヤに通知する進行制御部と、
を有することを特徴とするサーバ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月15日(2016.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザーの腕と接触し、前記ユーザーの脈波信号を検出する脈波検出部と、
前記脈波信号を処理する処理部と、
前記脈波検出部及び前記処理部を備えるベース部と、
前記ベース部を前記ユーザーの身体に装着するための保持部と、
を含み、
前記処理部は、
前記ベース部が前記ユーザーの身体から取り外されたことを検出した場合に、前記脈波信号に基づく脈波情報の記録又は外部電子機器との通信の停止指示、又は、取り外し期間中に取得されたことを表す情報を関連づけた前記脈波情報の記録又は前記外部電子機器との通信の指示を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記処理部は、
前記ベース部の取り外しが検出された後に、前記ベース部の再装着が検出され、且つ、前記脈波信号に基づく前記脈波情報の計測処理が成功した場合に、前記脈波情報の記録又は前記外部電子機器との通信の指示を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記処理部は、
前記ベース部が装着されている場合に対応する装着状態と、前記ベース部が取り外されている場合に対応する非装着状態と、前記装着状態及び前記非装着状態の中間的な場合に対応する中間状態と、を含む複数の状態を設定し、設定した前記複数の状態間の遷移処理に基づいて、前記脈波信号の記録又は前記外部電子機器との通信の前記停止指示又は前記脈波信号の記録又は前記外部電子機器との通信の前記指示を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記処理部は、
前記非装着状態において装着検出イベントが検出された場合に、前記非装着状態から前記中間状態への前記遷移処理を行い、
前記中間状態において脈波情報計測成功イベントが検出された場合に、前記中間状態から前記装着状態への前記遷移処理を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項５】
請求項３又は４において、
前記処理部は、
前記装着状態において、取り外しイベントが検出された場合に、前記装着状態から前記非装着状態への前記遷移処理を行い、
衝撃発生イベントが検出された場合に、前記装着状態から前記中間状態への前記遷移処理を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記処理部は、
所与の期間における前記脈波信号のＤＣ成分の変化値、及び、前記所与の期間を含み且つ前記所与の期間よりも長い期間である第２の期間における、前記脈波信号の前記ＤＣ成分の変化を表す第２の変化値に基づいて、前記ベース部の前記ユーザーの身体からの取り外し検出処理を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項７】
請求項６において、
体動信号を出力する体動センサーをさらに含み、
前記処理部は、
前記所与の期間における前記脈波信号の前記ＤＣ成分の前記変化値が、所与の閾値を超え、且つ、前記所与の期間に対応する期間における前記体動信号が所与の体動閾値以下の場合に、前記ベース部が前記ユーザーの身体から取り外されたと判定することを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項８】
ユーザーの腕と接触し、前記ユーザーの脈波信号を検出する脈波センサーを有する脈波検出部と、
前記脈波信号に対して処理を行う処理部と、
を含み、
前記処理部は、
前記脈波センサーが前記ユーザーの身体から取り外されたことを検出した場合に、前記脈波信号に基づく脈波情報の表示の停止指示、又は、表示の切り替え処理を行い、
前記ユーザーの身体からの取り外しが検出された後に、前記脈波センサーの再装着が検出され、且つ、前記脈波信号に基づく前記脈波情報の計測処理が成功した場合に、前記脈波情報の表示の指示を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記処理部は、
所与の期間における前記脈波信号のＤＣ成分の変化値、及び、前記所与の期間を含み且つ前記所与の期間よりも長い期間である第２の期間における、前記脈波信号の前記ＤＣ成分の変化を表す第２の変化値に基づいて、前記脈波センサーの前記ユーザーの身体からの取り外し検出処理を行うことを特徴とする生体情報検出装置。
【請求項１０】
請求項９において、
体動信号を出力する体動センサーをさらに含み、
前記処理部は、
前記所与の期間における前記脈波信号の前記ＤＣ成分の前記変化値が、所与の閾値を超え、且つ、前記所与の期間に対応する期間における前記体動信号が所与の体動閾値以下の場合に、前記脈波センサーが前記ユーザーの身体から取り外されたと判定することを特徴とする生体情報検出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月8日(2016.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出する液体吐出部に供給される液体を保有し、前記液体吐出部との間で液体を循環可能に接続された液室を構成するケーシングと、
前記ケーシングに液体を補充する液体補充部と、
前記ケーシングに気体を補充する気体補充部と、を備え、
前記液体補充部で前記ケーシングに前記液体を補充することと、前記気体補充部で前記ケーシングに前記気体を補充することと、により前記ケーシング内の圧力を加圧することを特徴とする液体循環装置。
【請求項２】
前記気体補充部は、前記液室の前記気体を排出可能であり、前記液体の補充、前記気体の補充、及び前記気体の排出により前記ケーシング内の圧力を調整することを特徴とする請求項１の液体循環装置。
【請求項３】
前記ケーシング内の圧力を検出する圧力検知部と、
前記圧力検知部で検出される前記液室の圧力に基づき前記気体補充部を制御する、制御部と、を備える請求項１または２記載の液体循環装置。
【請求項４】
前記ケーシングは、前記液体吐出部からの液体を回収する回収室と、前記液体吐出部に液体を供給する供給室とを形成する、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか記載の液体循環装置。
【請求項５】
前記ケーシングは前記液体吐出部の上にあり、前記液体吐出部と一体に設けられることを特徴とする請求項1乃至４のいずれか記載の液体循環装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の液体循環装置と、
液体を吐出するノズルを備える液体吐出部と、
前記ノズルから前記液体が吐出される位置に記録媒体を搬送する搬送部と、
前記液体を循環させる循環部と、
を備えることを特徴とする液体吐出装置。
【請求項７】
液体を吐出する液体吐出部と、前記液体吐出部に供給する液体を保有するケーシングとで、前記液体を循環させ、
前記液体吐出部に液体を補充することと、前記液体吐出部に気体を補充することと、により前記ケーシング内の圧力を加圧することを特徴とする液体吐出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
実施形態の液体循環装置は、液体を吐出する液体吐出部に供給される液体を保有し、前記液体吐出部との間で液体を循環可能に接続された液室を構成するケーシングと、前記ケーシングに液体を補充する液体補充部と、前記ケーシングに気体を補充する気体補充部と、を備え、前記液体補充部で前記ケーシングに前記液体を補充することと、前記気体補充部で前記ケーシングに前記気体を補充することと、により前記ケーシング内の圧力を加圧することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
実施形態によれば、圧力調整の応答性が早く、液体吐出時の圧力の変動値を小さくすることができる。このため、吐出体積のばらつきを減らし、画像乱れを抑制することができる。インクジェット記録部４は、ノズル５１圧力値Ｐを加圧調整するために、第１の圧力調整ポンプ９１ａ及び第２の圧力調整ポンプ９２ａの駆動と、インク供給ポンプ７１ｂの駆動とを併用する。図１１に示すように、併用して加圧調整を行った場合、実施形態における環境下において、圧力平均値の変動値は約０．０８ｋＰａであった。これに対し、比較例として図１２に示すように、インクカートリッジ８１からインク回収室７１に新しいインクを補充することのみによって加圧調整をした場合、圧力平均値の変動値は約０．１８ｋＰａとなる。インクジェット記録装置は、圧力の変動値が小さい程、ノズル５１より吐出されるインクＩの吐出体積ばらつきは小さく、良好な画像が得られる。よって、上記実施形態のようにインクケーシング７０内に外気を取り入れることと、インクカートリッジ８１からインク回収室７１に新しいインクを補充することと、を併用した方が、良好な画像が得やすい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
この発明の実施形態を説明したが、実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことが出来る。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
（１）
液体を吐出する液体吐出部に供給する液体を保有する液室と、
前記液室と前記液体吐出部とで前記液体を循環させる循環部と、
前記液室に液体を補充する液体補充部と、
前記液室に気体を補充する気体補充部と、
前記液室の圧力を検知する圧力検知部と、
前記液体補充部で前記液室に前記液体を補充することと、前記気体補充部で前記液室に前記気体を補充することと、により前記液体吐出部の圧力を調整する制御部と、を備えることを特徴とする液体循環装置。
（２）
前記気体補充部は前記気体を放出することにより前記液体吐出部を減圧できることを特徴とする（１）の液体循環装置。
（３）
前記液室は前記液体吐出部の上にあり、前記液体吐出部と一体に設けられることを特徴とする（１）または（２）の液体循環装置。
（４）
（１）または（２）に記載の液体循環装置と、
液体を吐出するノズルを備える液体吐出部と、
前記ノズルから前記液体が吐出される位置に記録媒体を搬送する搬送部と、を備えることを特徴とする液体吐出装置。
（５）
液体を吐出する液体吐出部と、前記液体吐出部に供給する液体を保有する液室とで、前記液体を循環させ、
前記液体吐出部に液体を補充することと、前記液体吐出部に気体を補充することにより前記液体吐出部の圧力を調整する、ことを特徴とする液体吐出方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2016052741.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2016052741.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シェルとコアとを備え、
前記コアが、トナー粒子の約１０重量％〜約３５重量％の量の結晶性樹脂を含み、
前記シェルが、前記コアを包むアモルファス樹脂を含み、
前記シェルが、前記結晶性樹脂を実質的に含まず、
前記シェルが、トナー粒子の約４５重量％〜約７０重量％の量で存在する、トナー粒子。
【請求項２】
前記シェルが、トナー粒子の約５０重量％〜約６５重量％の量で存在する、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項３】
前記結晶性樹脂が、トナー粒子の約１５重量％〜約３５重量％の量で存在する、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項４】
前記シェルが、前記結晶性樹脂を完全に含まない、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項５】
前記シェルが、トナー粒子の約４５重量％〜約７０重量％の量で存在し、前記結晶性樹脂が、トナー粒子の約１５重量％〜約３５重量％の量で存在する、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項６】
着色剤、ワックス、硬化剤、電荷制御剤、及び表面添加剤のうち少なくとも１つを含む、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項７】
前記トナー粒子は、乳化凝集トナー粒子である、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項８】
前記トナー粒子は、約８０℃〜約１４０℃の最小融合温度を有する、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項９】
前記トナー粒子は、１×１０１１ｏｈｍ−ｃｍ〜１×１０１４ｏｈｍ−ｃｍの抵抗を示す、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項１０】
前記コアは、前記結晶性樹脂、ワックス、着色剤、及び凝集剤からなる群から選択される成分を含む、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項１１】
前記トナー粒子は、３〜５．９μｍの体積平均粒径を有する、請求項１０に記載のトナー粒子。
【請求項１２】
画像を作製する方法であって、
潜像を保持する部材の表面に静電潜像を作製することと、
前記潜像を保持する部材の表面に作製された静電潜像を、トナーを含む現像剤で現像し、トナー画像を作製することと、
前記潜像を保持する部材の表面に作製された前記トナー画像を、転写材料の表面に転写することと、
前記転写材料の表面に転写された前記トナー画像を加熱することによって融合させることとを含み、
前記トナーが、シェルとコアとを備えるトナー粒子を含み、
前記コアが、トナー粒子の約１０重量％〜約３５重量％の量の結晶性樹脂を含み、
前記シェルが、前記コアを包むアモルファス樹脂を含み、
前記シェルが、前記結晶性樹脂を実質的に含まず、
前記シェルが、トナー粒子の約４５重量％〜約７０重量％の量で存在する、方法。
【請求項１３】
前記トナー粒子の前記シェルが、トナー粒子の約５０重量％〜約６５重量％の量で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記トナー粒子の前記結晶性樹脂が、トナー粒子の約１５重量％〜約３５重量％の量で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
トナー粒子のシェルが、結晶性樹脂を完全に含まない、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記シェルが、トナー粒子の約４５重量％〜約７０重量％の量で存在し、前記結晶性樹脂が、トナー粒子の約１５重量％〜約３５重量％の量で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記トナー粒子は、１×１０１１ｏｈｍ−ｃｍ〜１×１０１４ｏｈｍ−ｃｍの抵抗を示す、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
前記トナー粒子は、約８０℃〜約１４０℃の最小融合温度を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】
前記コアは、前記結晶性樹脂、ワックス、着色剤、及び凝集剤からなる群から選択される成分を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
前記トナー粒子は、３〜５．９μｍの体積平均粒径を有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
トナー粒子を作製する方法であって、この方法が、
トナー粒子の約１０重量％〜約３５重量％の量の結晶性樹脂を含むコアを提供することと、
コアを包むアモルファス樹脂を含むシェルを提供することとを含み、
前記シェルが、前記結晶性樹脂を実質的に含まず、
前記シェルが、トナー粒子の約４５重量％〜約７０重量％の量で存在する、方法。
【請求項２２】
前記トナー粒子は、乳化凝集法によって融着される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記コアは、前記結晶性樹脂、ワックス、着色剤、及び凝集剤からなる群から選択される成分を含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記トナー粒子は、３〜５．９μｍの体積平均粒径を有する、請求項２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月16日(2016.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シェルとコアとを備え、前記シェルが、電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子を含み、これによりトナー粒子表面に突起部を生じる、トナー粒子であって、
前記スペーサー粒子は、ラテックス粒子、ポリマー粒子、およびアルキルトリアルコキシシラン粒子からなる群から選択され、
前記電荷制御剤は、前記トナー粒子の０．００１〜２０重量％の量であり、
前記電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子は、一般的に球状であって、平均粒径が５０〜１５００ｎｍであり、
前記トナー粒子は、８０°Ｆおよび相対湿度８０〜８５％の環境で３５μＣ／ｇｍより大きな粒子電荷を受け入れ、７０°Ｆおよび相対湿度５０％の環境で６５μＣ／ｇｍより大きな粒子電荷を受け入れ、７０°Ｆおよび相対湿度１０％の環境で８５μＣ／ｇｍより大きな粒子電荷を受け入れる、トナー粒子。
【請求項２】
前記スペーサー粒子が、ゴム、アクリル、スチレンアクリル、ポリアクリルおよびポリエステルから選択される材料を含むラテックス粒子である、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項３】
前記スペーサー粒子が、ポリメタクリル酸メチル、フッ素化ポリメタクリル酸メチル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンおよびメラミンから選択される材料を含むポリマー粒子である、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項４】
前記スペーサー粒子が、メチルトリメトキシシランおよびメチルトリエトキシシランから選択される材料を含む、請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項５】
前記電荷制御剤が、四級アンモニウム化合物、有機サルフェート化合物、有機スルホネート化合物、セチルピリジニウムテトラフルオロボレート、ジステアリルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、アルミニウム塩、亜鉛塩、およびトリアリールアミンからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載のトナー粒子。
【請求項６】
着色剤およびワックスの少なくとも１つを更に含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のトナー粒子。
【請求項７】
乳化／凝集粒子である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のトナー粒子。
【請求項８】
請求項１に記載のトナー粒子を製造する方法であって、この方法は、
樹脂、場合によりワックス、場合により着色剤、場合により界面活性剤、場合により凝固剤、１つ以上のさらなる任意要素の添加剤を含有する第１のエマルションを混合することによってスラリーを作製することと、
スラリーを加熱し、スラリー中に凝集コア粒子を作製することと、
スラリーに、樹脂を含む第２のエマルションを加えることによって、凝集コア粒子の上にシェルを作製することと、
シェルを作製する工程中に、スラリーに対し、電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子を加え、シェル中に突起部を作製することと、
ｐＨを調節することによって、粒子の凝集を凍結させることと、
スラリー中の凝集粒子を加熱し、粒子を融着させてトナー粒子にすることと、
場合により、トナー粒子を洗浄し、乾燥することとを含み、
前記シェルは、電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子を含み、これによりトナー粒子表面に突起部を生じ、
前記スペーサー粒子は、ラテックス粒子、ポリマー粒子、およびアルキルトリアルコキシシラン粒子からなる群から選択され、
前記電荷制御剤は、前記トナー粒子の０．００１〜２０重量％の量であり、
前記電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子は、一般的に球状であって、平均粒径が５０〜１５００ｎｍであり、
前記トナー粒子は、８０°Ｆおよび相対湿度８０〜８５％の環境で３５μＣ／ｇｍより大きな粒子電荷を受け入れ、７０°Ｆおよび相対湿度５０％の環境で６５μＣ／ｇｍより大きな粒子電荷を受け入れ、７０°Ｆおよび相対湿度１０％の環境で８５μＣ／ｇｍより大きな粒子電荷を受け入れる、方法。
【請求項９】
前記のシェルを作製する工程において、前記シェルの第１の部分を作製した後ではあるが、完全なシェルが作製される前に、前記電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子が、スラリーに添加される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記のシェルを作製する工程において、シェルの厚みが前記シェルの１０〜８０％に達した後、前記電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子を前記スラリーに加える、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記電荷制御剤が、四級アンモニウム化合物、有機サルフェート化合物、有機スルホネート化合物、セチルピリジニウムテトラフルオロボレート、ジステアリルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、アルミニウム塩、亜鉛塩、およびトリアリールアミンからなる群から選択される、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子が、溶媒中、電荷制御剤とスペーサー粒子とを混合することによって作製される、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電荷制御剤で処理されたスペーサー粒子を含むトナー粒子、およびその製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月19日(2016.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＶＷＦ−ＧＰＩｂ相互作用障害を有する試料を見出すための方法であって、
（ａ）試料を、単離ＧＰＩｂαタンパク質と、ＶＷＦタンパク質と、そして前記単離ＧＰＩｂαタンパク質に対して特異的な抗体と連結された固相と、接触させるステップ、並びに
（ｂ）ＶＷＦタンパク質、ＧＰＩｂαタンパク質及び前記固相間の複合体の形成を判定するステップを含んでなる方法。
【請求項２】
前記ＧＰＩｂαタンパク質が、ヒト野生型ＧＰＩｂαタンパク質又はその機能性断片であり、前記試料を、更に、リストセチン又はボトロセチンと接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ＧＰＩｂαタンパク質が、突然変異されており、ヒトＧＰＩｂαタンパク質の野生型配列（配列番号１）と比較して、少なくともアミノ酸残基１〜２６８を含有し、２３３、２３５及び２３９位のうちの少なくとも２か所のそれぞれにおいてＸａａ置換を有し、そして、前記試料をリストセチンともボトロセチンとも接触させない、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記突然変異ＧＰＩｂαタンパク質が、Ｇ２３３Ｖ、Ｇ２３３Ｓ、Ｄ２３５Ｙ、Ｍ２３９Ｖ及びＭ２３９Ｓからなる群から選択される置換を有する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記試料を、複合体形成を判定するアッセイ混合物中で、１．４μｇ／ｍＬ未満のＧＰＩｂαタンパク質の最終濃度が得られるような量のＧＰＩｂαタンパク質と接触させる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記試料を、複合体形成を判定するアッセイ混合物中で、正常ＶＷＦ活性の０．１〜２０％の最終濃度が得られるような量のＶＷＦタンパク質と接触させる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記固相が粒子状固相である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
ＶＷＦタンパク質、ＧＰＩｂαタンパク質及び前記固相間の複合体の形成が、前記粒子状固相の凝集に基づき判定される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記固相が、非粒子状固相である請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
ＶＷＦタンパク質、ＧＰＩｂαタンパク質及び前記固相間の複合体の形成が、前記固相に結合されたＶＷＦタンパク質を決定することに基づき判定される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
単離ＧＰＩｂαタンパク質を含有する第１試薬、ＶＷＦタンパク質を含有する第２試薬、及び前記単離ＧＰＩｂαタンパク質に対して特異的な抗体と連結された固相を含有する第３試薬を、含んでなる、請求項１に記載の方法を実施するための試験キット。
【請求項１２】
リストセチン又はボトロセチンを含有する第４試薬を更に含む、請求項１１に記載の試験キット。
【請求項１３】
前記ＧＰＩｂαタンパク質が、ヒト野生型ＧＰＩｂαタンパク質又はその機能性断片である、請求項１１に記載の試験キット。
【請求項１４】
前記ＧＰＩｂαタンパク質が突然変異されており、ヒトＧＰＩｂαタンパク質の野生型配列（配列番号１）と比較して、少なくともアミノ酸残基１〜２６８を含有し、２３３、２３５、２３９位のうちの少なくとも２か所のそれぞれにおいてＸａａ置換を有する、請求項１１に記載の試験キット。
【請求項１５】
抗ＶＷＦ抗体を含有する第５試薬を更に含む、請求項１１に記載の試験キット。
【請求項１６】
試料中のグリコカリシンの濃度を決定するための方法であって、
（ａ）前記試料を、単離ＧＰＩｂαタンパク質と、ＶＷＦタンパク質と、そして前記単離ＧＰＩｂαタンパク質に対して特異的な抗体と連結された固相と、接触させるステップ、並びに
（ｂ）ＶＷＦタンパク質、ＧＰＩｂαタンパク質及び前記固相間の複合体の形成を判定するステップを含んでなり、
前記試料を、複合体形成を判定するアッセイ混合物中で、少なくとも正常ＶＷＦ活性の５０％の最終濃度が得られるような量のＶＷＦタンパク質と接触させることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月9日(2015.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ処理システムであって、
少なくとも符号語の第１の読取り結果及び前記符号語の第２の読取り結果からの対応するデータサンプルを平均化して、フレーミング信号に少なくとも部分的に基づいて平均化された出力を得るように動作可能なサンプル平均化回路と、
前記平均化された出力及び前記符号語の第１の読取り結果のうちの一方を選択出力として選択するように動作可能な選択器回路と、
前記選択出力を等化して等化出力を得るように動作可能な等化器回路と、
前記等化出力内のロケーションマークを識別して前記フレーミング信号を得るように動作可能なマーク検出器回路と
を含む、データ処理システム。
【請求項２】
前記サンプル平均化回路は、
前記符号語の第２の読取り結果を記憶するように動作可能な整列バッファーと、
前記符号語の第１の読取り結果を組み込んだ平均化された出力を記憶するように動作可能な平均化バッファーと、
前記平均化された出力と前記符号語の第２の読取り結果とを整列して平均化し、前記平均化バッファーに記憶される更新済みの平均化された出力を得るように動作可能な平均化回路と
を含む、請求項１に記載のデータ処理システム。
【請求項３】
前記データ処理システムは、
前記等化出力を処理して処理済みの出力を得るように動作可能なデータ処理回路と、
前記処理済みの出力内のエラーに少なくとも部分的に基づいて再試行条件を生じさせるように動作可能な再試行制御回路と
を更に含む、請求項１に記載のデータ処理システム。
【請求項４】
前記選択器回路は、前記再試行条件が生じると、前記平均化された出力を前記選択出力として選択するように動作可能である、請求項３に記載のデータ処理システム。
【請求項５】
前記データ処理システムは、
前記再試行条件が生じると、記憶媒体の同じ領域から前記第１の符号語及び前記第２の符号語の取出しを引き起こすように動作可能な再読取り制御回路
を更に含む、請求項４に記載のデータ処理システム。
【請求項６】
前記等化器回路の動作は、目標入力に少なくとも部分的に基づいて制御され、
前記データ処理システムは、
前記目標入力を適応的に変更するように動作可能な目標適応化回路
を更に含む、請求項３に記載のデータ処理システム。
【請求項７】
前記目標入力の適応的な変更は、前記再試行条件が生じたときにのみ実行される、請求項６に記載のデータ処理システム。
【請求項８】
前記データ処理回路は、
データ検出アルゴリズムを前記等化出力に適用して検出出力を得るように動作可能なデータ検出器回路と、
データ復号化アルゴリズムを、前記検出出力から導出された復号化器入力に適用して、復号化された出力を得るように動作可能なデータ復号化器回路であって、前記処理済みの出力は、前記復号化された出力から導出される、データ復号化器回路と
を含む、請求項３に記載のデータ処理システム。
【請求項９】
前記データ検出器回路は、ビタビアルゴリズムデータ検出器回路及び最大事後データ検出器回路からなる一群の中から選択される、請求項８に記載のデータ処理システム。
【請求項１０】
前記データ復号化器回路は、低密度パリティチェック復号化器回路である、請求項８に記載のデータ処理システム。
【請求項１１】
前記データ処理システムは、集積回路として実装される、請求項１〜１０の何れか一項に記載のデータ処理システム。
【請求項１２】
前記データ処理システムは、記憶デバイスに組み込まれる、請求項１〜１０の何れか一項に記載のデータ処理システム。
【請求項１３】
データ処理のための方法であって、
符号語の第１のインスタンスに対応する第１のデータセットを受信することと、
前記符号語の第２のインスタンスに対応する第２のデータセットを受信することと、
少なくとも前記第１のデータセット及び前記第２のデータセットをサンプル単位で平均化して、平均化された出力を得ることと、
前記第２のデータセット及び前記平均化されたデータセットのうちの一方を選択データセットとして選択することと、
等化器回路を用いて前記選択データセットを等化して、等化出力を得ることと
含む、データ処理のための方法。
【請求項１４】
前記選択データセットを等化することは、目標入力に少なくとも部分的に基づいて制御され、
前記方法は、
前記目標入力を適応的に変更すること
を更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも第１のデータセット及び第２のデータセットを平均化することは、
前記第１のデータセット及び前記第２のデータセットにおける対応するサンプルを整列することと、
前記対応するサンプルを平均化することと
を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記方法は、
前記等化出力を処理して、処理済みの出力を得ることと、
前記処理済みの出力におけるエラーに少なくとも部分的に基づいて再試行条件をトリガーすることと
を更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記第２のデータセット及び前記平均化されたデータセットのうちの一方を選択データセットとして選択することは、前記再試行条件がトリガーされると、前記平均化されたデータセットを選択することを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記選択データセットを等化することは、目標入力に少なくとも部分的に基づいて制御され、
前記方法は、
前記再試行条件がトリガーされると、前記目標入力を適応的に変更すること
を更に含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記等化出力を処理することは、
データ検出アルゴリズムを前記等化出力に適用して、検出出力を得ることと、
データ復号化アルゴリズムを前記検出出力から導出された復号化器入力に適用して、復号化された出力を得ることと
を含み、前記処理済みの出力は、前記復号化された出力から導出される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
記憶デバイスであって、
記憶媒体と、
前記記憶媒体に対して配置されるとともに、前記記憶媒体上の情報に対応する検知信号を与えるように動作可能なヘッドアセンブリと、
読取りチャネル回路と
を含み、前記読取りチャネル回路は、
前記検知信号から取り出されるアナログ信号をサンプリングして、符号語の第１のインスタンスの一連のデジタルサンプルと、前記符号語の第２のインスタンスの一連のデジタルサンプルとを得るように動作可能なアナログ／デジタル変換器回路であって、前記符号語は、前記記憶媒体上の特定のロケーションから取り出される、アナログ／デジタル変換器回路と、
対応する前記符号語の第１のインスタンスのデジタルサンプル及び前記符号語の第２のインスタンスのデジタルサンプルを平均化して、フレーミング信号に少なくとも部分的に基づいて平均化された出力を得るように動作可能なサンプル平均化回路と、
前記平均化された出力及び前記符号語の第１のインスタンスのうちの一方を選択出力として選択するように動作可能な選択器回路と、
前記選択出力を等化して、等化出力を得るように動作可能な等化器回路と、
前記等化出力におけるロケーションマークを識別して、前記フレーミング信号を得るように動作可能なマーク検出器回路と
を含む、記憶デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月10日(2016.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、およびデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光により第１面に設置された所定のパターンを照明するための照明系と、複数の反射鏡を有し前記所定のパターンを第２面に設置された感光性基板に投影する投影光学系とを備え、
前記投影光学系は、第１方向に関する前記第１面側の開口数を規定するとともに、前記第１方向と直交する第２方向に関する前記第１面側の開口数を規定する開口絞りを備え、
前記照明系は、
複数の反射要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系からの光を反射する複数の反射要素を有し、前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置に配置された第２フライアイ光学系とを備え、
前記投影光学系の前記第１方向に関する前記第１面側の開口数は、前記第２方向に関する前記第１面側の開口数よりも大きく、
前記第２方向に対応する第３方向の大きさよりも前記第１方向に対応する第４方向の大きさの方が大きい領域に、前記第２フライアイ光学系の前記複数の反射要素が配置されている、露光装置。
【請求項２】
前記開口絞りは、前記第１方向に関する前記第２面側の開口数を規定すると共に、前記第２方向に関する前記第２面側の開口数を規定する、請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２方向における前記投影光学系の前記第１面側開口数は、前記照明系からの照明光が照射される領域内の一点に達する前記照明光と前記投影光学系の光軸と平行な軸とのなす角度の正弦よりも大きい、請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１面に形成される照明領域の各点に対応する主光線と前記第１面の垂線とのなす角の平均値をαとし、前記第１面における最大開口数をＮＡmaxとすると、
ＮＡmax＞sinα
の条件を満たす、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
走査方向に沿った前記投影光学系と前記感光性基板との相対的な位置を変更しつつ露光を行い、
前記第３方向は前記走査方向に対応している、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第２面上における結像領域は円弧状である、請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記投影光学系は、前記円弧状の結像領域の短辺方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む面に沿って光束を折り曲げるように配置された複数の反射鏡を備える、請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２面上における結像領域は矩形状である、請求項５に記載の露光装置。
【請求項９】
前記投影光学系は、前記矩形状の結像領域の短辺方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む面に沿って光束を折り曲げるように配置された複数の反射鏡を備える、請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記結像領域の長手方向は、前記走査方向と直交する、請求項６乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第２フライアイ光学系の前記複数の反射要素が配列される領域の形状は、楕円形状である、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記投影光学系は、前記第２面側にテレセントリックな光学系である、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記投影光学系の入射瞳は、前記第１面を挟んで前記投影光学系の反対側に位置している、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記光源から供給される光は波長が５ｎｍ乃至４０ｎｍのＥＵＶ光であり、
前記投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板に投影露光する、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含む、デバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月14日(2016.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、を有し、
前記第１の基板は、画素領域と、前記画素領域の外側に周辺駆動回路領域を有し、
前記第１の基板上に、絶縁層を有し、
前記絶縁層は、開口部を有し、
前記開口部は、前記画素領域を囲むように設けられ、
前記周辺駆動回路領域の前記絶縁層の上方に、シール材を有し、
前記第２の基板は、前記シール材を介して前記第１の基板に固着され、
前記開口部は、封止膜により被覆され、
前記絶縁層は、有機樹脂材料を有し、
前記画素領域は、画素電極を有し、
前記封止膜は、前記画素電極と同時に形成された導電膜であり、
前記画素領域の前記有機樹脂材料は、前記絶縁層に設けられた前記開口部により、前記画素領域と外気の間を分断されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１の基板と、第２の基板と、を有し、
前記第１の基板は、画素領域と、前記画素領域の外側に周辺駆動回路領域を有し、
前記第１の基板上に、絶縁層を有し、
前記絶縁層は、開口部を有し、
前記開口部は、前記画素領域と前記周辺駆動回路領域の間に設けられ、
前記開口部は、封止膜により被覆され、
前記画素領域は、画素電極を有し、
前記封止膜は、前記画素電極と同時に形成された導電膜であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月4日(2016.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板と対向し、第１防湿性を有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に位置する発光素子と、
前記第２基板上に配置され、前記第１防湿性よりも高い第２防湿性を有する第１バリア層と、
前記第１バリア層の前記第２基板とは反対の側にに配置された有機層と、
前記有機層の第１バリア層とは反対の側にに配置され、前記第１防湿性よりも高い第３防湿性を有する第２バリア層と、を有し、
前記発光素子は、前記第１基板と前記第２バリア層との間に位置することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記有機層は特定の波長帯の光を透過するカラーフィルタ部を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１バリア層はシリコン及び窒素を含有し、前記第２防湿性を有する第１防湿膜を含み、
前記第２バリア層はシリコン及び窒素を含有し、前記第３防湿性を有する第２防湿膜を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１バリア層は、
前記第１防湿膜と前記第２基板との間に前記第１防湿膜よりも前記第２基板との密着性が高い第１密着性膜と、
前記第１防湿膜と前記有機層との間に前記第１防湿膜よりも前記有機層との密着性が高い第２密着性膜と、
を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１防湿膜は前記第１密着性膜及び前記第２密着性膜よりも防湿性が高いことを特徴とする請求項４の記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２バリア層は、前記第２防湿膜と前記有機層との間に前記第２防湿膜よりも前記有機層との密着性が高い第３密着性膜を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第２防湿膜は前記第３密着性膜よりも防湿性が高いことを特徴とする請求項６の記載の表示装置。
【請求項８】
前記有機層は、前記第１バリア層と前記第２バリア層とによって覆われており、
平面的に見て前記有機層を囲む領域で、前記第１バリア層と前記第２バリア層とは直に接していることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第２バリア層と前記発光素子の間に位置する第３バリア層と、
前記第１基板と前記発光素子の間に位置する第４バリア層と、
をさらに有し、
前記発光素子は、前記第３バリア層と前記第４バリア層とによって覆われており、
平面的に見て前記発光素子を囲む領域で、前記第３バリア層と前記第４バリア層とは直に接していることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか一に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図４Ａは、本発明の実施形態２に係る表示装置のＡ−Ｂ断面図を示す図である。図４Ａに示すように、実施形態２に係る表示装置２０は、フレキシブルな第１基板１００と、第１基板１００上に配置され、第１基板１００よりも防湿性が高く、第１基板１００からの不純物拡散を抑制する下地バリア層１０２と、第１基板１００の表示領域１３０に配置された発光素子１１１、１１２、１１３と、上記の各々の発光素子を覆うように表示領域１３０及び周辺領域１４０に配置され、周辺領域１４０において下地バリア層１０２と接して発光素子１１１、１１２、１１３を封止する保護層１２０とを有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
次に、第１基板１００上に、第１基板１００からの不純物や第１基板１００側から侵入する水分がトランジスタ層及び発光層に拡散することを抑制する下地バリア層１０２を形成する。下地バリア層１０２としては、実施形態１で説明した材料を使用することができる。次に、下地バリア層１０２上にトランジスタ層及び発光層を有する発光素子１１１、１１２、１１３を形成する。ここで、下地バリア層１０２及びトランジスタ層の製造プロセスにおける熱処理工程の温度は、第１基板１００のガラス転移点よりも低い温度とすることが望ましい。次に、発光素子１１１、１１２、１１３上に保護層１２０を形成する。ここで、保護層１２０の成膜温度は、発光素子１１１、１１２、１１３の発光層に含まれる有機層のガラス転移点よりも低い温度とすることが望ましい。