【手続補正書】
【提出日】平成28年1月28日(2016.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理システムのための蒸気供給システムであって、
液体前駆体を収容するためのアンプルと、
前記アンプルを所定の温度まで選択的に加熱して、前記液体前駆体を少なくとも部分的に気化させ気化前駆体を形成するためのヒータと、
流入口および流出口を備えた加熱注入マニホルドと、
プッシュガス源と流体連通する流入口および前記アンプルと流体連通する流出口を有する第１のバルブと、
前記アンプルから前記気化前駆体を受け入れるための流入口および前記加熱注入マニホルドの前記流入口と流体連通する前記流出口を有する第２のバルブと、
バルブマニホルドであって、
前記加熱注入マニホルドの流出口と流体連通する第１のノードと、
前記第１のノードと流体連通する流入口およびバキュームと流体連通する流出口を有する第３のバルブと、
前記第１のノードと流体連通する流入口および第２のノードと流体連通する流出口を有する第４のバルブと、
前記第２のノードと流体連通する流出口を有する第５のバルブと、
前記第２のノードと流体連通する流出口を有する第６のバルブと、を備えた、バルブマニホルドと、
前記第２のノードと流体連通するガス分配装置と、
を備える、蒸気供給システム。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸気供給システムであって、前記ガス分配装置は、シャワーヘッドを含む、蒸気供給システム。
【請求項３】
請求項１に記載の蒸気供給システムであって、さらに、
前記第２のバルブの前記流出口と流体連通する流入口を有する第７のバルブと、
前記第２のバルブの前記流出口と流体連通する制限オリフィスと、
前記制限オリフィスと流体連通する流入口および前記加熱注入マニホルドと流体連通する流出口を有する第８のバルブと、
を備える、蒸気供給システム。
【請求項４】
請求項３に記載の蒸気供給システムであって、さらに、
第１のガスマニホルドと流体連通する流入口および前記第５のバルブの流入口と流体連通する流出口を有する第９のバルブを備える、蒸気供給システム。
【請求項５】
請求項４に記載の蒸気供給システムであって、さらに、前記第１のガスマニホルドと流体連通する流入口および前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置の背面にガスを供給する流出口を有する第１０のバルブを備える、蒸気供給システム。
【請求項６】
請求項４に記載の蒸気供給システムであって、さらに、第２のガスマニホルドおよび前記第６のバルブの流入口と流体連通する流入口ならびにバキュームと流体連通する流出口を有する第１０のバルブを備える、蒸気供給システム。
【請求項７】
請求項６に記載の蒸気供給システムであって、さらに、
ドーズ段階中に、
前記第１のバルブを用いて、前記アンプルにプッシュガスを供給し、
前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記アンプルから前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を供給し、
前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドから前記ガス分配装置に前記気化前駆体を供給し、
前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドを迂回させるよう構成されたコントローラを備える、蒸気供給システム。
【請求項８】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、
前記第１のバルブを用いて、前記アンプルに前記プッシュガスを供給し、
前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記アンプルから前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を供給し、
前記前記第３のバルブおよび前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドからバキュームに前記気化前駆体を迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項９】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに、そして、前記第４のバルブを用いて、前記ガス分配装置に、前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１０】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第３のバルブおよび前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドからバキュームに前記プッシュガスを迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１１】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記プッシュガスをバキュームに迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１２】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記プッシュガスをバキュームに迂回させ、第３のガスマニホルドから前記加熱注入マニホルドにガスを供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力をバキュームに迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１３】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、前記第８のバルブ、および、前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドおよび前記ガス分配装置に前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階および前記ＲＦ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させ、
前記ＲＦ後段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させ、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１４】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、前記第８のバルブ、および、前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドおよび前記ガス分配装置に前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ドーズパージ後段階および前記ＲＦ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させ、
前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第１のバルブ、前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１５】
請求項７に記載の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズ段階中に、前記第９のバルブが閉じられた状態で、第３のマニホルドから第１１のバルブおよび前記第５のバルブを通して前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ段階中に、前記加熱注入マニホルドにパージガスも前記気化前駆体も供給せず、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記加熱注入マニホルドに前記パージガスも前記気化前駆体も供給せず、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記加熱注入マニホルドに前記パージガスも前記気化前駆体も供給せず、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ後段階中に、前記加熱注入マニホルドに前記パージガスも前記気化前駆体も供給せず、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給するよう構成されている、蒸気供給システム。
【請求項１６】
請求項１に記載の蒸気供給システムであって、さらに、
前記アンプル内の前記液体前駆体のレベルを検知するためのレベルセンサと、
前記レベルに基づいて、前記アンプル内の前記液体前駆体のレベルを自動的に維持するための前駆体供給源と、を備える、蒸気供給システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載の蒸気供給システムであって、さらに、
前記アンプル内の第１の位置で前記液体前駆体の温度を検知するための第１の温度センサと、
前記アンプル内の第２の位置で前記液体前駆体の温度を検知するための第２の温度センサと、
を備え、
前記第１の位置は、目標充填レベルに配置され、前記第２の位置は、前記目標充填レベルと補充位置との間に配置される、蒸気供給システム。
【請求項１８】
請求項１に記載の蒸気供給システムであって、前記ガス分配装置は、基板処理チャンバ内に配置され、原子層蒸着および化学蒸着の少なくとも一方が、前記基板処理チャンバ内で実行される、蒸気供給システム。
【請求項１９】
請求項１８に記載の蒸気供給システムであって、さらに、前記基板処理チャンバ内でプラズマを発生させるためのプラズマ発生器を備える、蒸気供給システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
別の特徴において、第１０のバルブが、第２のガスマニホルドおよび第６のバルブの流入口と流体連通する流入口ならびにバキュームと流体連通する流出口を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
１または複数のガス供給システム２０が提供されてよい。例えば、ガス供給システム２０は、１または複数のガス源２２−１、２２−２、・・・、および、２２−Ｎ（集合的に、ガス源２２）を備えてよく、ここで、Ｎはゼロより大きい整数である。バルブ２４−１、２４−２、・・・、および、２４−Ｎ（集合的に、バルブ２４）、マスフローコントローラ（ＭＦＣ）２６−１、２６−２、および、２６−Ｎ（集合的に、ＭＦＣ２６）、または、その他の流量制御装置が、前駆体、反応ガス、不活性ガス、パージガス、および、それらの混合物を、処理チャンバ１２にガス混合物を供給するマニホルド３０に、制御可能に供給するために用いられてよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
一部の例では、マニホルド１７１が、バルブＶ４４によってバルブＶ８９およびＶ１６５Ｂの間のノード１７３に選択的に接続される。マニホルド１７１は、バルブＶ３６にバキュームによって選択的に接続される。一部の例において、このマニホルドはアルゴン（Ａｒ）を供給するが、その他のガスが供給されてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図３および図３Ｂにおいて、ドーズパージ段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、バルブＶ２１０、および、バルブＶ２１４を用いて、アンプル１１８に供給される。気化した前駆体が、バルブＶ２０５を用いてアンプル１１８を出て、バルブＶ２０６、制限オリフィス１４２、および、バルブＶ５５を用いて、ＨＩＭ１３４に流れる。ＨＩＭ１３４の流出口は、バルブＶ１６６および制限オリフィス１４５によってバキュームに迂回される。さらに、マニホルド１６０の出力は、バルブＶ８９およびＶ１６５によってノード１６３を経てシャワーヘッド１４に方向付けられる。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ１６７によって迂回される。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図３および図３Ｃにおいて、ドーズパージ後段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、バルブＶ２１０、および、バルブＶ２１４を用いて、アンプル１１８に供給される。気化した前駆体が、バルブＶ２０５を用いてアンプル１１８を出て、バルブＶ２０６、制限オリフィス１４２、および、バルブＶ５５を用いて、ＨＩＭ１３４に流れる。ＨＩＭ１３４の流出口は、バルブＶ１６６および制限オリフィス１４５によってバキュームに迂回される。さらに、マニホルド１６０の出力は、バルブＶ８９およびＶ１６５によってノード１６３を経てシャワーヘッド１４に方向付けられる。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ６９によってノード１６３を経てシャワーヘッド１４に方向付けられる。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
図３および図３Ｄにおいて、ＲＦ段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、バルブＶ２１０、および、バルブＶ２１４を用いて、アンプル１１８に供給される。気化した前駆体が、バルブＶ２０５を用いてアンプル１１８を出て、バルブＶ２０６、制限オリフィス１４２、および、バルブＶ５５を用いて、ＨＩＭ１３４に流れる。ＨＩＭ１３４の流出口は、バルブＶ１６６および制限オリフィス１４５によってバキュームに迂回される。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ６９によってシャワーヘッド１４に方向付けられる。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図３および図３Ｅにおいて、ＲＦ後段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、バルブＶ２１０、および、バルブＶ２１４を用いて、アンプル１１８に供給される。気化した前駆体が、バルブＶ２０５を用いてアンプル１１８を出て、バルブＶ２０６、制限オリフィス１４２、および、バルブＶ５５を用いて、ＨＩＭ１３４に流れる。ＨＩＭ１３４の流出口は、バルブＶ１６６および制限オリフィス１４５によってバキュームに迂回される。マニホルド１６０の出力は、バルブＶ８９およびＶ１６５によってシャワーヘッド１４に方向付けられる。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ１６７によって迂回される。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
単に例として、ドーズ段階は、０．４秒の持続期間を有してよく、ドーズパージ段階は、０秒の持続期間を有してよく、ドーズパージ後段階は、０．４秒の持続期間を有してよく、ＲＦ段階は、０．６秒の持続期間を有してよく、ＲＦ後段階は、０．１秒の持続期間を有してよいが、その他の持続期間が用いられてもよい。ドーズパージ段階は、一部の例において、ゼロまたは非ゼロの持続期間を有してよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
単に例として、ドーズ段階は、０．４秒の持続期間を有してよく、ドーズパージ段階は、０秒の持続期間を有してよく、ドーズパージ後段階は、０．４秒の持続期間を有してよく、ＲＦ段階は、０．６秒の持続期間を有してよく、ＲＦ後段階は、０．１秒の持続期間を有してよいが、その他の持続期間が用いられてもよい。ドーズパージ段階は、一部の例において、ゼロまたは非ゼロの持続期間を有してよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
図１１および図１１Ｂにおいて、ドーズパージ段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、および、バルブＶ２１０を用いて、バルブＶ２１４、Ｖ２１３、および、Ｖ２０２の片側に供給される。マニホルド１４４によって供給されたガスは、バルブＶ４６によってＨＩＭ１３４に方向付けられる。ＨＩＭ１３４の出力は、バルブＶ１６６ＢおよびＶ１６４Ｂの片側に供給される。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ１６７によって迂回される。ガスが、バルブＶ８９およびＶ１６５Ｂを介してマニホルド１６０からシャワーヘッド１４へ供給される。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。マニホルド１７１は、バルブＶ３６によってバキュームに迂回される。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
図１１および図１１Ｃにおいて、ドーズパージ後段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、および、バルブＶ２１０を用いて、バルブＶ２１４、Ｖ２１３、および、Ｖ２０２の片側に供給される。マニホルド１４４によって供給されたガスは、バルブＶ４６によってＨＩＭ１３４に方向付けられる。ＨＩＭ１３４の出力は、バルブＶ１６６ＢおよびＶ１６４Ｂの片側に供給される。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ６９Ｂによってシャワーヘッド１４に供給される。ガスが、バルブＶ８９およびＶ１６５Ｂを介してマニホルド１６０からシャワーヘッド１４へ供給される。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。マニホルド１７１は、バルブＶ３６によってバキュームに迂回される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
図１１および図１１Ｄにおいて、ＲＦ段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、および、バルブＶ２１０を用いて、バルブＶ２１４、Ｖ２１３、および、Ｖ２０２の片側に供給される。マニホルド１４４によって供給されたガスは、バルブＶ４６によってＨＩＭ１３４に方向付けられる。ＨＩＭ１３４の出力は、バルブＶ１６６ＢおよびＶ１６４Ｂの片側に供給される。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ６９Ｂによってシャワーヘッドに供給される。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。マニホルド１７１は、バルブＶ３６によってバキュームに迂回される。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
図１１および図１１Ｅにおいて、ＲＦ後段階中に、プッシュガスが、バルブＶ２１５、ＭＦＣ１１４、および、バルブＶ２１０を用いて、バルブＶ２１４、Ｖ２１３、および、Ｖ２０２の片側に供給される。マニホルド１４４によって供給されたガスは、バルブＶ４６によってＨＩＭ１３４に方向付けられる。ＨＩＭ１３４の出力は、バルブＶ１６６ＢおよびＶ１６４Ｂの片側に供給される。マニホルド１５０の出力は、バルブＶ１６７によってバキュームに迂回される。ガスが、バルブＶ８９およびＶ１６５Ｂを介してマニホルド１６０からシャワーヘッド１４へ供給される。パージガスが、バルブＶ１６２を用いて、シャワーヘッド１４の背面に供給されてよい。マニホルド１７１は、バルブＶ３６によってバキュームに迂回される。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
単に例として、ドーズ段階は、０．４秒の持続期間を有してよく、ドーズパージ段階は、０．３秒の持続期間を有してよく、ドーズパージ後段階、０．１秒の持続期間を有してよく、ＲＦ段階は、０．４秒の持続期間を有してよく、ＲＦ後段階は、０．１５秒の持続期間を有してよいが、その他の持続期間が用いられてもよい。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
ここで、図１２を参照すると、コントローラ４０は、温度フィードバックを提供してヒータ１２１を制御するために、温度センサすなわち熱電対１２３および１２５に接続されてよい。コントローラ４０は、さらに、アンプル１１８の前駆体充填レベルを制御するために、レベルセンサ１２７と通信してよい。コントローラ４０は、さらに、蒸気供給システムのラインの内の１または複数のラインに配置された圧力調整器２７１の調節を可能にするために、１または複数の圧力センサ２７０を監視してよい。コントローラ４０は、さらに、制限オリフィス１４２を制御してラインのコンダクタンスを調節するために用いられてもよい。一部の例において、制限オリフィス１４２は、１または複数のシステムセンサからのフィードバックに基づいて調節されてよい。コントローラ４０は、さらに、集合的に符号２７４で示したバルブおよびＭＦＣ１１４と通信する。コントローラ４０は、マニホルド１４４、１５０、および、１６０に関連するものなど、１または複数のガス供給システム（集合的に符号２８０で示す）と通信する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
要素が明確に「ｍｅａｎｓ  ｆｏｒ（ための手段）」という表現を用いて記載されていない限りは、もしくは、「ｏｐｒａｔｉｏｎ  ｆｏｒ（ための動作）」または「ｓｔａｇｅ  ｆｏｒ（ための段階）」という表現を用いた方法請求項の場合には、請求項に記載の要素は、米国特許法第１１２条（ｆ）の意義の範囲内でミーンズ・プラス・ファンクション要素であることを意図されていない。
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例１：
基板処理システムのための蒸気供給システムであって、
液体前駆体を収容するためのアンプルと、
前記アンプルを所定の温度まで選択的に加熱して、前記液体前駆体を少なくとも部分的に気化させるためのヒータと、
流入口および流出口を備えた加熱注入マニホルドと、
プッシュガス源と流体連通する流入口および前記アンプルと流体連通する流出口を有する第１のバルブと、
前記アンプルから気化前駆体を受け入れるための流入口および前記加熱注入マニホルドの前記流入口と流体連通する流出口を有する第２のバルブと、
バルブマニホルドであって、
前記加熱注入マニホルドの流出口と流体連通する第１のノードと、
前記第１のノードと流体連通する流入口およびバキュームと流体連通する流出口を有する第３のバルブと、
前記第１のノードと流体連通する流入口および第２のノードと流体連通する流出口を有する第４のバルブと、
前記第２のノードと流体連通する流出口を有する第５のバルブと、
前記第２のノードと流体連通する流出口を有する第６のバルブと、を備えた、バルブマニホルドと、
前記第２のノードと流体連通するガス分配装置と、
を備える、蒸気供給システム。
適用例２：
適用例１の蒸気供給システムであって、前記ガス分配装置は、シャワーヘッドを含む、蒸気供給システム。
適用例３：
適用例１の蒸気供給システムであって、さらに、
前記第２のバルブの前記流出口と流体連通する流入口を有する第７のバルブと、
前記第２のバルブの前記流出口と流体連通する制限オリフィスと、
前記制限オリフィスと流体連通する流入口および前記加熱注入マニホルドと流体連通する流出口を有する第８のバルブと、
を備える、蒸気供給システム。
適用例４：
適用例３の蒸気供給システムであって、さらに、
第１のガスマニホルドと流体連通する流入口および前記第５のバルブの流入口と流体連通する流出口を有する第９のバルブを備える、蒸気供給システム。
適用例５：
適用例４の蒸気供給システムであって、さらに、前記第１のガスマニホルドと流体連通する流入口および前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置の背面にガスを供給する流出口を有する第１０のバルブを備える、蒸気供給システム。
適用例６：
適用例４の蒸気供給システムであって、さらに、第２のガスマニホルドおよび前記第６のバルブの流入口と流体連通する流入口ならびにバキューム源と流体連通する流出口を有する第１０のバルブを備える、蒸気供給システム。
適用例７：
適用例６の蒸気供給システムであって、さらに、
ドーズ段階中に、
前記第１のバルブを用いて、前記アンプルにプッシュガスを供給し、
前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記アンプルから前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を供給し、
前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドから前記ガス分配装置に前記気化前駆体を供給し、
前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドを迂回させるよう構成されたコントローラを備える、蒸気供給システム。
適用例８：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、
前記第１のバルブを用いて、前記アンプルにプッシュガスを供給し、
前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記アンプルから前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を供給し、
前記前記第３のバルブおよび前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドからバキュームに前記気化前駆体を迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例９：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに、そして、前記第４のバルブを用いて、前記ガス分配装置に、前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１０：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第３のバルブおよび前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドからバキュームに前記プッシュガスを迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１１：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記プッシュガスをバキュームに迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１２：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階、前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記プッシュガスをバキュームに迂回させ、第３のガスマニホルドから前記加熱注入マニホルドにガスを供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの前記流出口を迂回させ、
前記ドーズパージ段階中に、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブおよび前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１３：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、前記第８のバルブ、および、前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドおよび前記ガス分配装置に前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階および前記ＲＦ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させ、
前記ＲＦ後段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに気化前駆体を供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させ、
前記ドーズパージ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１４：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズパージ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、前記第８のバルブ、および、前記第４のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドおよび前記ガス分配装置に前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ドーズパージ後段階および前記ＲＦ段階中に、前記第７のバルブ、前記制限オリフィス、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに前記気化前駆体を含まない前記プッシュガスを供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させ、
前記ドーズパージ後段階、前記ＲＦ段階、および、前記ＲＦ後段階中に、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給せず、
前記ＲＦ後段階中に、前記第１のバルブ、前記第２のバルブ、前記第７のバルブ、および、前記第８のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドに気化前駆体を供給し、前記第３のバルブを用いて、前記加熱注入マニホルドの出力を迂回させるよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１５：
適用例７の蒸気供給システムであって、前記コントローラは、さらに、
前記ドーズ段階後に、順次、ドーズパージ段階、ドーズパージ後段階、高周波（ＲＦ）段階、および、ＲＦ後段階で動作し、
前記ドーズ段階中に、前記第９のバルブが閉じられた状態で、第３のマニホルドから第１１のバルブおよび前記第５のバルブを通して前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ段階中に、前記加熱注入マニホルドにパージガスも気化前駆体も供給せず、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ドーズパージ後段階中に、前記加熱注入マニホルドにパージガスも気化前駆体も供給せず、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ段階中に、前記加熱注入マニホルドにパージガスも気化前駆体も供給せず、前記第６のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給し、
前記ＲＦ後段階中に、前記加熱注入マニホルドにパージガスも気化前駆体も供給せず、前記第１０のバルブを用いて、前記第２のガスマニホルドからガスを迂回させ、前記第９のバルブおよび前記第５のバルブを用いて、前記第１のガスマニホルドから前記ガス分配装置にガスを供給するよう構成されている、蒸気供給システム。
適用例１６：
適用例１の蒸気供給システムであって、さらに、
前記アンプル内の前記液体前駆体のレベルを検知するためのレベルセンサと、
前記レベルに基づいて、前記アンプル内の前記液体前駆体のレベルを自動的に維持するための前駆体供給源と、を備える、蒸気供給システム。
適用例１７：
適用例１６の蒸気供給システムであって、さらに、
前記アンプル内の第１の位置で前記液体前駆体の温度を検知するための第１の温度センサと、
前記アンプル内の第２の位置で前記液体前駆体の温度を検知するための第２の温度センサと、
を備え、
前記第１の位置は、目標充填レベルに配置され、前記第２の位置は、前記目標充填レベルと補充位置との間に配置される、蒸気供給システム。
適用例１８：
適用例１の蒸気供給システムであって、前記ガス分配装置は、基板処理チャンバ内に配置され、原子層蒸着および化学蒸着の少なくとも一方が、前記基板処理チャンバ内で実行される、蒸気供給システム。
適用例１９：
適用例１８の蒸気供給システムであって、さらに、前記基板処理チャンバ内でプラズマを発生させるためのプラズマ発生器を備える、蒸気供給システム。