【事件の表示】
　特願２０１４−５４２７０４「透明導電膜の導電構造、透明導電膜、およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　５月　１日国際公開、ＷＯ２０１４／０６３４１７、平成２７年　１月１５日国内公表、特表２０１５−５０１５０２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１２年１２月２０日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１２年１０月２５日、中華人民共和国）を国際出願日とする出願であって、平成２７年３月１２日付けで拒絶理由が通知され、平成２７年６月１１日付けで意見書が提出されるとともに手続補正がされ、平成２７年８月４日付けで拒絶理由が通知され、平成２７年１０月２８日に意見書が提出され、平成２８年２月９日付けで拒絶査定がされ、これに対し、平成２８年６月１５日に拒絶査定不服審判が請求され、同時に手続補正がされたものである。
第２　補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２８年６月１５日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　補正後の本願発明
　本件補正により、補正前の特許請求の範囲の請求項１は、
　「透明導電膜の導電構造であって、該導電構造は透明基板上に配置され、前記導電構造は、グリッド形状の第１の金属埋め込み層と、前記第１の金属埋め込み層上に隣接して配置されたグリッド形状の第２の金属埋め込み層とを備え、前記第１の金属埋め込み層と前記第２の金属埋め込み層とは互いに絶縁されており、
　前記第１の金属埋め込み層及び／又は前記第２の金属埋め込み層のグリッド形状は、直線状のグリッド線を含む不規則な多角形状であり、前記グリッド線は右方向の水平Ｘ軸に対して均一に分布した角度θを形成し、
　
前記透明導電膜は、第１のポリマー層と第２のポリマー層とを更に含み、
　前記第１の金属埋め込み層は前記第１のポリマー層に配置され、前記第１の金属埋め込み層は３．０μｍの深さと、２．２μｍの幅を有するグリッド形状の凹部に配置された、銀インクの固体成分が３５％であり、焼結温度が１５０℃であるナノ銀インクからなり、
　前記第２の金属埋め込み層は前記第２のポリマー層に配置され、前記第２の金属埋め込み層は３．０μｍの深さと、２．２μｍの幅を有するグリッド形状の凹部に配置された、銀インクの固体成分が３５％であり、焼結温度が１５０℃であるナノ銀インクからなり、前記第２の金属埋め込み層の厚さは前記第２のポリマー層の厚さより小さい、
と補正された。
　なお、本願の特許請求の範囲の請求項１には、「前記透明伝導膜」と記載されているが、当該記載より前には、「透明導電膜」の記載はあっても「透明伝導膜」の記載はないこと、出願人が平成２８年６月１５日付け審判請求書において当該「透明伝導膜」の補正の根拠としている本願の明細書段落【００１４】には、「透明導電膜」について記載されていることから、「前記透明伝導膜」は「前記透明導電膜」の誤記と認め、上記のように認定した。
　さらに、本願の特許請求の範囲の請求項１には、「銀インクの個体成分」と記載されているが（２箇所）、「個体」とは、一般に一つの独立した生物体の意味であり、そのまま解釈すると請求項１の技術的意味が理解できないこと、また、出願人が平成２８年６月１５日付け審判請求書において当該「銀インクの個体成分」の補正の根拠としている本願の明細書段落【００２９】及び【００３２】には、「銀インクの固体成分」について記載されていることから、「銀インクの個体成分」は「銀インクの固体成分」の誤記と認め、上記のように認定した。
２　新規事項の有無、補正の目的要件について
　本件補正は、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、補正前の特許請求の範囲の請求項１に記載された「透明導電膜の導電構造」について、「前記透明導電膜は、第１のポリマー層と第２のポリマー層とを更に含み、前記第１の金属埋め込み層は前記第１のポリマー層に配置され、前記第１の金属埋め込み層は３．０μｍの深さと、２．２μｍの幅を有するグリッド形状の凹部に配置された、銀インクの固体成分が３５％であり、焼結温度が１５０℃であるナノ銀インクからなり、前記第２の金属埋め込み層は前記第２のポリマー層に配置され、前記第２の金属埋め込み層は３．０μｍの深さと、２．２μｍの幅を有するグリッド形状の凹部に配置された、銀インクの固体成分が３５％であり、焼結温度が１５０℃であるナノ銀インクからなり、前記第２の金属埋め込み層の厚さは前記第２のポリマー層の厚さより小さい」との限定を付加して特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１７条の２第３項（新規事項）及び第５項第２号（補正の目的）の規定に適合している。
　また、特許法第１７条の２第４項（シフト補正）に違反するものでもない。
　
３　独立特許要件について
　上記本件補正は特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるから、補正後の請求項１に係る発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるのかどうかについて以下に検討する。　
（１）補正発明
　本件補正により補正された請求項１に係る発明（以下、「補正発明」という。）は、上記「１　補正後の本願発明」に記載したとおりのものである。
（２）引用発明及び周知技術
ア　引用例及び引用発明
　原審の拒絶理由に引用された特開２０１２−１１９１６３号公報（以下、「引用例」という。）には図面とともに以下の事項が記載されている。
（ア）「【背景技術】
【０００２】
　近時、基体上にメッシュ状の線材が形成された導電シートが開発されている。この導電シートは、電極や発熱シートとして使用可能である。例えば、タッチパネル用電極、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子又は太陽電池の電極のみならず、車両のデフロスタ（霜取り装置）や電磁波シールド材にも適用してもよい。
【０００３】
　上記した各種物品の使用者にとって、その用途の性質上、
メッシュパターンの模様は、観察対象物の視認性を妨げる粒状ノイズに相当する場合がある
メッシュ形状を規則的又は不規則的に配置することで、粒状ノイズを抑止
（…中略…）
【００１３】
　本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、
パターンに起因するノイズ粒状感を低減することで観察対象物の視認性を大幅に向上可能
導電シート
（イ）「【００３０】
　図１は、本実施の形態に係る導電シート１４を製造するための製造装置１０の概略構成ブロック図である。
【００３１】
　製造装置１０は、メッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する画像処理装置１２と、該画像処理装置１２により作成された前記出力用画像データＩｍｇＯｕｔに基づいて製造工程下の導電シート１４に光１６を照射して露光する露光部１８と、前記画像データＩｍｇを作成するための各種条件（メッシュパターンＭや後述する構造パターンの視認情報を含む。）を画像処理装置１２に入力する入力部２０と、該入力部２０による入力作業を補助するＧＵＩ画像や、記憶された出力用画像データＩｍｇＯｕｔ等を表示する表示部２２とを基本的に備える。
（…中略…）
【００３６】
　図１の
導電シート１４は、図２Ａに示すように、複数の導電部５０と複数の開口部５２とを有している。複数の導電部５０は、複数の金属細線５４が互いに交叉したメッシュパターンＭ（メッシュ状の配線）を形成している。すなわち、１つの開口部５２と、該１つの開口部５２を囲む少なくとも２つの導電部５０の組み合わせ形状がメッシュ形状となっている。このメッシュ形状は開口部５２毎に異なっており、それぞれ不規則（すなわち非周期的）に配列されている。
【００３７】
　図３に示すように、
導電シート１４は、第１導電シート１４ａと第２導電シート１４ｂとが積層して構成されている。第１導電シート１４ａは、第１透明基体５６ａ（基体）と、該第１透明基体５６ａ上に形成された複数の第１導電部５０ａ及び複数の第１開口部５２ａを備える。
第２導電シート１４ｂは、第２透明基体５６ｂ（基体）と、該第２透明基体５６ｂ上に形成された複数の第２導電部５０ｂ及び複数の第２開口部５２ｂを備える。第１導電シート１４ａと第２導電シート１４ｂとを積層することで、複数の第１導電部５０ａと複数の第２導電部５０ｂとが重畳して複数の導電部５０が形成されるともに、複数の第１開口部５２ａと複数の第２開口部５２ｂとが重畳して複数の開口部５２が形成される。
【００３８】
　
導電シート１４は、タッチパネルの電極、電磁波シールドの他、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子又は太陽電池の電極として使用可能な導電シート
導電シート１４をタッチパネルの電極として使用する場合の概略分解斜視図を図２Ｂに示す。導電シート１４の一面側（本図手前側）にはフィルタ部材６０が
配置されている。
（…中略…）
【００４１】
　タッチ位置の検出方式としては、自己容量方式や相互容量方式を好ましく採用することができる。これらの公知の検出方法を採用することで、
保護層６１の上面に同時に２つの指先を接触又は近接させても
（ウ）「【００６８】
　出力用画像データＩｍｇＯｕｔの作成方法の説明に先立って、画像データＩｍｇの評価方法について始めに説明する。本実施の形態では、人間の標準視覚応答特性を考慮した粒状ノイズ特性に基づいて評価を行う。
【００６９】
　図７Ａは、メッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇを可視化した概略説明図である。以下、この画像データＩｍｇを例に挙げて説明する。
【００７０】
　先ずは、図７Ａに示す画像データＩｍｇに対して高速フーリエ変換（以下、ＦＦＴという。）を施す。これにより、メッシュパターンＭの形状について、部分的形状ではなく、全体の傾向（空間周波数分布）として把握できる。
【００７１】
　
図７Ｂは、図７Ａの画像データＩｍｇに対してＦＦＴを施して得られるスペクトルＳｐｃの分布図である。ここで、当該分布図の横軸はＸ軸方向に対する空間周波数を示し、その縦軸はＹ軸方向に対する空間周波数を示す。
スペクトルＳｐｃの分布は、等方的
【００７２】
  
図７Ｃは、図７Ｂに示すスペクトルＳｐｃの分布のＶＩＩＣ−ＶＩＩＣ線に沿った断面図である。スペクトルＳｐｃは等方的であるので、図７Ｃはあらゆる角度方向に対する動径方向分布に相当する。
（エ）「【００８９】
　先ず、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの初期位置を選択する（ステップＳ２１）。
【００９０】
　
初期位置の選択に先立って、乱数発生部２６は、擬似乱数の発生アルゴリズムを用いて乱数値を発生する。
初期位置選択部２８は、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、シード点ＳＤの初期位置をランダムに決定する。
（…中略…）
【００９６】
  次いで、画像データ作成部４０は、初期データとしての画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する（ステップＳ２２）。画像データ作成部４０は、記憶部２４から供給されたシード点ＳＤの個数や位置データＳＤｄ、並びに画像情報推定部３８から供給された画像情報に基づいて、メッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇＩｎｉｔ（初期データ）を作成する。
【００９７】
　複数のシード点ＳＤからメッシュ状の模様を決定するアルゴリズムは、種々の方法を採り得る。以下、図１２Ａ〜図１３Ｂを参照しながら詳細に説明する。
【００９８】
　図１２Ａに示すように、例えば、正方形状の二次元画像領域２００内に８つの点Ｐ１〜Ｐ８を
無作為に選択
【００９９】
　図１２Ｂは、
ボロノイ図を用いて８つの点Ｐ
１
〜Ｐ
８
をそれぞれ囲繞する８つの領域Ｖ
１
〜Ｖ
８
を画定した結果を示す説明図である。なお、距離関数としてユークリッド距離を用いた。本図から諒解されるように、領域Ｖ
ｉ
（ｉ＝１〜８）内の任意の点において、点Ｐ
ｉ
が最も近接する点であることを示している。
（…中略…）
【０１０５】
  
このようにして、画像データ作成部４０は、画像データＩｍｇのデータ定義と、画像情報推定部３８で推定された画像情報（ステップＳ１の説明を参照）に基づいて、メッシュパターンＭの模様を表す初期の画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する
【０１０６】
  以下、画像データＩｍｇ（画像データＩｍｇＩｎｉｔを含む。）は、光学濃度ＯＤ、色値Ｌ＊、色値ａ＊、色値ｂ＊の４チャンネルの各データを備える画像データであるとする。
【０１０７】
  次いで、メッシュ模様評価部４２は、
評価値ＥＶＰＩｎｉｔを算出
【０１０８】
  具体的には、図４に示すＦＦＴ演算部１００は、画像データＩｍｇＩｎｉｔに対してＦＦＴを施す。そして、畳み込み演算部１０２は、ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに対して人間の標準視覚応答特性（図８参照）を畳み込み、新たなスペクトルＳｐｃｃを算出する。そして、評価値算出部１０４は、畳み込み演算部１０２から供給された新たなスペクトルＳｐｃｃに基づいて評価値ＥＶＰを算出する。
【０１０９】
  画像データＩｍｇのうち、色値Ｌ＊、色値ａ＊、色値ｂ＊の各チャンネルに対して、上述した評価値ＥＶＰ（Ｌ＊）、ＥＶＰ（ａ＊）、ＥＶＰ（ｂ＊）をそれぞれ算出する｛（２）式を参照｝。そして、所定の重み係数を用いて積和演算することで、評価値ＥＶＰを得る。
（…中略…）
【０１１３】
  次いで、記憶部２４は、ステップＳ２２で作成された画像データＩｍｇＩｎｉｔと、ステップＳ２３で算出された評価値ＥＶＰＩｎｉｔとを一時的に記憶する（ステップＳ２４）。あわせて、擬似温度Ｔに初期値ｎΔＴ（ｎは自然数、ΔＴは正の実数である。）を代入する。
【０１１４】
  次いで、カウンタ１０８は、変数Ｋを初期化する（ステップＳ２５）。すなわち、Ｋに０を代入する。
【０１１５】
  次いで、
シード点ＳＤの一部（第２シード点ＳＤＳ）を候補点ＳＰに置き換えた状態で、画像データＩｍｇＴｅｍｐを作成し、評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出した後に、シード点ＳＤの「更新」又は「非更新」を判断する
【０１１６】
  先ず、更新候補位置決定部３０は、所定の二次元画像領域２００から候補点ＳＰを抽出し、決定する（ステップＳ２６１）。更新候補位置決定部３０は、例えば、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、シード点ＳＤのいずれの位置とも重複しない位置を決定する。なお、候補点ＳＰの個数は１つであっても複数であってもよい。図１７Ａに示す例では、現在のシード点ＳＤが８個（点Ｐ１〜Ｐ８）に対して、候補点ＳＰは２個（点Ｑ１と点Ｑ２）である。
【０１１７】
  次いで、
シード点ＳＤの一部と候補点ＳＰとを無作為に交換する
【０１１８】
  次いで、画像データ作成部４０は、
交換された新たなシード点ＳＤ（図１７Ｂ参照）を用いて、画像データＩｍｇＴｅｍｐを作成する
このとき、ステップＳ２２（図１０参照）の場合と同一の方法を用いる
【０１１９】
  次いで、メッシュ模様評価部４２は、画像データＩｍｇＴｅｍｐに基づいて、評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出する（ステップＳ２６４）。このとき、ステップＳ２３（図１０参照）の場合と同一の方法を用いるので、説明を割愛する。
（…中略…）
【０１２８】
  一方、
シード点ＳＤを更新する場合は、記憶部２４は、現在記憶している画像データＩｍｇに対し、ステップＳ２６３（図１６参照）で求めた画像データＩｍｇＴｅｍｐを上書き更新する
【０１２９】
  次いで、カウンタ１０８は、現時点でのＫの値を１だけ加算する（ステップＳ２９）。
【０１３０】
  次いで、カウンタ１０８は、現時点でのＫの値と予め定められたＫｍａｘの値との大小関係を比較する（ステップＳ３０）。Ｋの値の方が小さい場合はステップＳ２６まで戻り、以下ステップＳ２６〜Ｓ３０を繰り返す。なお、この最適化演算における収束性を十分確保するため、例えば、Ｋｍａｘ＝１００００と定めることができる。
（…中略…）
【０１３３】
  一方、Ｔが０に等しい場合は、擬似温度管理部１１０は、出力用画像データ決定部１１６に対し、ＳＡ法によるメッシュ模様の評価が終了した旨を通知する。そして、記憶部２４は、ステップＳ２８で最後に更新された画像データＩｍｇの内容を出力用画像データＩｍｇＯｕｔに上書き更新する（ステップＳ３３）。
【０１３４】
  このようにして、ステップＳ２を終了する。なお、
この出力用画像データＩｍｇＯｕｔは、その後、露光データ変換部３４側に供給され、露光部１８の制御信号に変換される画像データである。
（オ）「【０１３６】
　
図１８は、最適化された出力用画像データＩｍｇＯｕｔを用いて、導電シート１４の模様を表すメッシュパターンＭ１を可視化した概略説明図
（…中略…）
【０１３９】
　図６に戻って、露光部１８は、メッシュパターンＭの露光処理を行い（ステップＳ３）、その後、現像処理を行う（ステップＳ４）。
【０１４０】
  作業者は、未露光の第１シート（第１導電シート１４ａ）を所定の位置にセットする。そして、露光開始の指示操作に応じて、画像分割部３２（図１参照）は、記憶部２４から取得した出力用画像データＩｍｇＯｕｔを２つの画像データに分割する。ここでは、第１導電シート１４ａを形成するための第１画像データＩｍｇＯ１について、図２０Ａ及び図２１を参照しながら説明する。
【０１４１】
  図２０Ａは、第１画像データＩｍｇＯ１を可視化した概略説明図である。図２１は、図２０Ａに示す二次元画像領域２１０の部分拡大図である。説明の便宜上、第１画像データＩｍｇＯ１を右回りに４５度だけ回転させた状態で表記している。
【０１４２】
  
第１画像データＩｍｇＯ１が表す二次元画像領域２１０上には、略同サイズの第１基本格子２１２が交互に且つ周期的に配置された市松模様状の第１画像領域Ｒ１（ハッチングを付した領域）が形成されている。第１基本格子２１２は、それぞれ略正方形状（菱形状）を有している。
た残余の領域（余白の領域）は、その対応位置に第１導電部５０ａ（同参照）が形成されない露光データに設定する。
【０１４３】
  なお、第１基本格子２１２の一辺の長さは、実寸で３〜１０ｍｍに相当する画素数であることが好ましい。さらに、実寸で４〜６ｍｍに相当する画素数であることが一層好ましい。
【０１４４】
  図１に戻って、画像分割部３２は、第１画像データＩｍｇＯ１を露光データ変換部３４に供給する。露光データ変換部３４は、画像分割部３２から取得した第１画像データＩｍｇＯ１を、露光部１８の出力特性に応じた露光データに変換する。そして、露光部１８は、前記第１シートに向けて光１６を照射することで、露光処理を行う。
【０１４５】
  次いで、作業者は、露光済みの第１シート（第１導電シート１４ａ）に換えて未露光の第２シート（第２導電シート１４ｂ）をセットする。そして、露光開始の指示操作に応じて、画像分割部３２（図１参照）は、記憶部２４から取得した出力用画像データＩｍｇＯｕｔを２つの画像データに分割する。ここでは、第２導電シート１４ｂを形成するための第２画像データＩｍｇＯ２について、図２０Ｂを参照しながら説明する。
【０１４６】
  図２０Ｂは、第２画像データＩｍｇＯ２を可視化した概略説明図である。説明の便宜上、第２画像データＩｍｇＯ２を右回りに４５度だけ回転させた状態で表記している。
【０１４７】
  
第２画像データＩｍｇＯ２が表す二次元画像領域２２０上には、略同サイズの第２基本格子２２２が交互に配置された市松模様状の第２画像領域Ｒ２（ハッチングを付した領域）が形成されている。略正方形状（菱形状）の第２基本格子２２２は、第１基本格子２１２と同じ形状をそれぞれ有する。
【０１４８】
  矢印Ｙ方向に隣接する各第２基本格子２２２の間には、相互に接続する第２接続部２２４が形成されている。一方、矢印Ｘ方向に隣接する各第２基本格子２２２の間には、所定の幅の隙間２２６が形成されている。すなわち、各第２基本格子２２２は、矢印Ｙ方向に対してのみ相互に連結されている。これにより、第２画像データＩｍｇＯ２に応じた第２導電シート１４ｂに関し、複数の第２導電部５０ｂ（図２Ａ及び図３参照）を構成する各第２基本格子２２２は、矢印Ｙ方向に対してのみ相互に電気的に接続される。二次元画像領域２２０のうち第２画像領域Ｒ２を除外した残余の領域（余白の領域）は、その対応位置に第２導電部５０ｂ（同参照）が形成されない露光データに設定する。
【０１４９】
  図２０Ａ及び図２０Ｂに示すように、二次元画像領域２１０及び２２０を破線で示した矩形領域で重ね合わせた場合、第１画像領域Ｒ１及び第２画像領域Ｒ２が互い違いの配置関係になるような、換言すれば、各第１基本格子２１２及び各第２基本格子２２２が相互に重複しない位置関係下にある。
【０１５０】
  このように、メッシュパターンＭの模様を合成することにより、例えばタッチパネル用途のように、複数の導電シート１４ａ、１４ｂを積層する構成を採る場合であっても、ノイズ干渉（モアレ）の発生を防止できる。
【０１５１】
  なお、接続部２１４（図２０Ａ参照）及び接続部２２４（図２０Ｂ参照）の一部領域が重複しているが、その面積（二次元画像領域２１０、２２０に対する面積比）を微小にすることで、視覚的な悪影響を無くすることができる。
【０１５２】
　図１に戻って、露光データ変換部３４は、画像分割部３２から取得した第２画像データＩｍｇＯ２を、露光部１８の出力特性に応じた露光データに変換する。そして、露光部１８は、前記第２シートに向けて光１６を照射することで、露光処理を行う。
【０１５３】
　続いて、第１導電シート１４ａや第２導電シート１４ｂを製造する具体的方法について説明する。
【０１５４】
　例えば、第１透明基体５６ａ上及び第２透明基体５６ｂ上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ金属銀部及び光透過性部を形成して第１導電部５０ａ及び第２導電部５０ｂを形成するようにしてもよい。なお、さらに金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。
【０１５５】
　あるいは、第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂ上に形成された銅箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、第１導電部５０ａ及び第２導電部５０ｂを形成するようにしてもよい。
【０１５６】
　あるいは、第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂ上に金属微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行うことによって、第１導電部５０ａ及び第２導電部５０ｂを形成するようにしてもよい。
【０１５７】
　第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂ上に、第１導電部５０ａ及び第２導電部５０ｂをスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成するようにしてもよい。
【０１５８】
　第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂ上に、第１導電部５０ａ及び第２導電部５０ｂをインクジェットにより形成するようにしてもよい。」（段落【０１３６】−【０１５８】）
（カ）「【０１７０】
［第１透明基体５６ａ、第２透明基体５６ｂ］
　
第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂとしては、プラスチックフイルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。
【０１７１】
　上記プラスチックフイルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。
【０１７２】
　第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂとしては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフイルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。第１導電シート１４ａ及び第２導電シート１４ｂのような導電シートは透明性が要求されるため、第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂの透明度は高いことが好ましい。」（段落【０１７０】−【０１７２】）
（キ）「【０１９５】
［導電性金属部］
　本実施の形態の
導電性金属部の線幅（第１導電部５０ａ及び第２導電部５０ｂの線幅）は、下限は１μｍ以上、３μｍ以上、４μｍ以上、もしくは５μｍ以上が好ましく、上限は１５μｍ、１０μｍ以下、９μｍ以下、８μｍ以下が好ましい。
【０１９６】
　本実施の形態における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率（透過率）は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、第１基本格子２１２、第１接続部２１４、第２基本格子２２２、第２接続部２２４等（図２０Ａ及び図２０Ｂ参照）の導電部を除いた透光性部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅１５μｍ、ピッチ３００μｍの正方形の格子状の開口率は、９０％である。」（段落【０１９５】−【０１９６】）
（ク）「【０１９９】
［第１導電シート１４ａ及び第２導電シート１４ｂ］
　本実施の形態に係る
第１導電シート１４ａ及び第２導電シート１４ｂにおける第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂの厚さは、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【０２００】
　第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂ上に設けられる金属銀部の厚さは、第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂ上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。
金属銀部の厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。
【０２０１】
  導電性金属部の厚さは、タッチパネルの用途としては、薄いほど表示パネルの視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属部に担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ未満であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ未満であることがさらに好ましい。」（段落【０１９９】−【０２０１】）
　上記引用例の記載及び図面ならびにこの分野における技術常識を考慮すると、次のことがいえる。
ａ　上記（イ）の段落【００３７】には図３を参照すると、導電シート１４が、透明基体と複数の導電部５０から形成されることが記載されており、引用例には「導電シート１４の複数の導電部５０」が記載されているといえる。
ｂ　上記（イ）の段落【００３８】には図２Ｂを参照すると、導電シート１４の一面側にフィルタ部材６０を配置することが記載されており、また、上記ａから導電シート１４は複数の導電部５０を含んでいるから、引用例には「複数の導電部５０はフィルタ部材６０上に配置され」ることが記載されているといえる。
ｃ　上記（イ）の段落【００３６】、【００３７】には図３を参照すると、複数の導電部５０は、複数の第１導電部５０ａと複数の第２導電部５０ｂとを備えることが記載されており、前記複数の第１導電部５０ａ及び複数の第２導電部５０ｂの形状については、上記（エ）の【００９８】−【００９９】、【０１１８】には図１２を参照すると、無作為に選択された複数の点をボロノイ図を用いてそれぞれ囲繞する複数の多角形の領域を画定することでメッシュ形状の模様として形成すること、さらに上記（オ）の段落【０１４０】−【０１４２】、【０１４６】−【０１４９】には図２０Ａ、２０Ｂ、２１を参照すると、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第１基本格子２１２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第１導電部５０ａと、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂをそれぞれ相互に重複しない互い違いの位置関係で配置することが記載されている。
　以上のことから、引用例には、「複数の導電部５０は、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂと、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第１基本格子２１２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第１導電部５０ａとを備え、前記複数の第２導電部５０ｂと前記複数の第１導電部５０ａとはそれぞれ相互に重複しない互い違いの位置関係で配置され」ることが記載されているといえる。
ｄ　上記（イ）の段落【００３７】には図３を参照すると、複数の第１導電部５０ａが複数の第２導電部５０ｂと第１透明基体５６ａを介して配置されることが記載されており、また、上記（カ）の段落【０１７０】によれば、第１透明基体５６ａはプラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等であること、すなわち絶縁体であることが記載されているから、引用例には「複数の第２導電部５０ｂと複数の第１導電部５０ａとは互いに絶縁されて」いることが記載されているといえる。
ｅ　上記（ウ）、（エ）には図１２、１６、１７を参照すると、複数の第１導電部５０ａ及び複数の第２導電部５０ｂのメッシュ形状は、無作為に選択された複数の点をボロノイ図を用いてそれぞれ囲繞する複数の多角形の領域を画定し、人間の標準視覚応答特性を考慮した粒状ノイズ特性を評価しつつ、点を入れ替えながら、より粒状ノイズが少なくなるよう生成することが記載されていること、から、複数の第１導電部５０ａ及び複数の第２導電部５０ｂのメッシュ形状はランダムな多角形状であり、点の配置に特定の方向性がないから、これらの点を囲繞する多角形を形成する線分の方向もまたランダムになるといえる。したがって、引用例には、「複数の第１導電部５０ａ及び複数の第２導電部５０ｂのメッシュ形状は、直線状のメッシュ線を含むランダムな多角形状であり、前記メッシュ線は前記複数の第１導電部５０ａ及び前記複数の第２導電部５０ｂそれぞれの面内においてランダムな方向に形成され」ることが記載されているといえる。
ｆ　上記（イ）の段落【００３７】によれば図３を参照すると、引用例には、導電シート１４は、第２透明基体５６ｂと第１透明基体５６ａとを含むことが記載されている。
ｇ　上記（イ）の段落【００３７】によれば図３を参照すると、引用例には、複数の第２導電部５０ｂは第２透明基体５６ｂ上に配置され、複数の第１導電部５０ａは第１透明基体５６ａ上に配置されることが記載されている。
　以上を総合すると、引用例には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　「導電シート１４の複数の導電部５０であって、該複数の導電部５０はフィルタ部材６０上に配置され、前記複数の導電部５０は、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂと、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第１基本格子２１２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第１導電部５０ａとを備え、前記複数の第２導電部５０ｂと前記複数の第１導電部５０ａとはそれぞれ相互に重複しない互い違いの位置関係で配置され、前記複数の第２導電部５０ｂと前記複数の第１導電部５０ａとは互いに絶縁されており、
　前記複数の第１導電部５０ａ及び前記複数の第２導電部５０ｂのメッシュ形状は、直線状のメッシュ線を含むランダムな多角形状であり、前記メッシュ線は前記複数の第１導電部５０ａ及び前記複数の第２導電部５０ｂそれぞれの面内においてランダムな方向に形成され、
　前記導電シート１４は、第２透明基体５６ｂと第１透明基体５６ａとを更に含み、
　前記複数の第２導電部５０ｂは前記第２透明基体５６ｂ上に配置され、
　前記複数の第１導電部５０ａは前記第１透明基体５６ａ上に配置された、導電構造。」
イ　周知例及び周知技術
（ア）原審の拒絶理由に周知例として挙げられた、本願の優先日前に頒布された刊行物である中国特許出願公開第１０２２２２５３８号明細書（平成２３年１０月１９日公開、以下、「周知例１」という。）には図面とともに以下の事項が記載されている。
ａ
（段落[0002]-[0007]）
（パテントファミリー文献である特表２０１４−５１１５４９号公報に基づく当審訳：背景技術
[0002]  透明な導電性シートは、良好な導電率を有すると共に可視光において高い透過率を有するシートの一種である。現在、
透明な導電性シート
[0003]  柔軟性の透明な導電性シートは、一般に、２つの形式、即ち、パターン付け型と非パターン付け型に区分される場合がある。最も実用的な用途、例えばタッチスクリーンでは、前者は、使用前に透明な導電性膜（フィルム）をパターン付けするために露光、現像、エッチング及び洗浄プロセスを必要とする場合が多い。他方、後者は、疑いもなく、生産効率が高いこと及び複雑であり且つ容易に環境汚染を生じさせるパターン付けプロセスが省かれていることにより透明な導電性シートの主要な開発方向である。
[0004]  ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）は、透明な導電性シートの市場を席巻している。パターン付けＩＴＯ膜を製造する方法は、主として、スクリーン印刷、インクジェット印刷、及び半導体製造プロセスにおけるリフトオフ法を含む。しかしながら、インジウム鉱物資源の制限及びＩＴＯの貧弱な耐曲げ性に起因して、ナノメタル（nano-metal）材料を利用しているパターン付けされた透明な導電性シートは、上述の技術背景下において最適な解決手段となっている。
[0005]  ナノメタル材料を利用しているパターン付けされた透明な導電性シートの製造方法は、通常、次のステップ、即ち、まず最初に、ナノ粒子サイズを有する金属材料で導電性インキを調製するステップ、及び、次に改良型印刷法を実施して導電性インキを透明な基板の柔軟性表面上に印刷するステップ、最後に導電性インキを焼結して所望の導電性網状構造を形成するステップを含む印刷法である。網状組織のネットワーク電線の幅は、人間の目の解像力の限度を超えており、網状組織電線なしの柔軟性表面は、光透過領域である。表面抵抗率（surface square resistance ）及び光透過率は、電線の幅及び幾何学的形状を変えることによって或る特定の範囲内で制御可能である。優れた性能を有するパターン付けされた柔軟性の透明な導電性シートは、日本の企業である大日本印刷（Dai Nippon Printing）、富士フィルム（Fujifilm）及びグンゼ（Gunze）並びにドイツ国企業であるポリアイシー（PolyIC）により印刷法を用いて得られている。これらのうちで、ポリアイシー社により得られるシートは、１５μｍのグラフィックス解像力、０．４〜１Ω／ｓｑの表面抵抗率及び８０％を超える光透過率を有する。
[0006]  それにもかかわらず、
印刷法によって製造された透明な導電性シートの導電性網状構造は、透明な基板の表面上に露出した突出構造体であり、かくして、導電性網状構造の耐引掻き性及び掻き傷（スクラッチ）防止性能は、貧弱である。加うるに、この構造体のグラフィックス解像力は、印刷技術によって制限されており、これを高めることが殆どできない。
印刷技術の制限に起因して、固定線幅の導電性インキの量も又、増やすのが困難であり、換言すると、線幅及び導電性インキが決定されていることを前提として、導電性材料の量を増大させたりシートの導電性を向上させたりすることは困難
発明の開示
[0007]  先行技術の欠点を解決するため、本発明は、
パターン付けされた柔軟性の透明な導電性シート及び導電性網状構造を透明なポリマーの層のトレンチ中に埋め込み、導電性シートの耐引掻き性を向上させ、固定線幅中の導電性シートの体積を増大させ、かくして導電性シートの導電性を一段と向上させる
透明な導電性シート
ｂ
（段落[0028]-[0035]）
（当審訳：[0028]  実施例１：基本ユニットとして正六角形トレンチを用いたトレンチ組み合わせによって透明な導電性シートを製造する。
[0029]  図示の実施形態では、
図２及び図３を参照すると、パターン付けされた透明な導電性シートは、柔軟性の透明な基板１１、基板１１に一体に結合された透明なインプリントグルー１２の層及び透明なインプリントグルー１２のトレンチの底部に均一に充填された導電性膜１３を有する。
[0030]  
柔軟性の透明な基板１１は、厚さ１００μｍのＰＥＴである。透明なインプリントグルー１２は、厚さ５μｍの無溶剤のＵＶ硬化性アクリル樹脂である。透明なインプリントグルー１２の表面上に構成されたトレンチ網状構造は、六角形アレイを形成している。
トレンチ幅ｄは、５００ｎｍ〜１０μｍ、好ましくは１μｍであり、深さｈは、２μｍ
[0031]  図４を参照すると、パターン付けされた柔軟性の透明な導電性シートを製造する方法は、特に、以下のステップを有する。
[0032]  Ｉ．導電性網状組織、即ちトレンチ網状組織の二次元パターンを要望に従って設計し、所望のトレンチ深さを定める。図３に示されているように、設計プロセスでは、特に、(1)光透過率が９０％を超えるＰＥＴを選択し、この実施形態では、ＰＥＴは、可視光においてａ＝９０％の光透過率及び１００μｍの厚さを有し、透明なインプリントグルー１２は、粘度が１００ｃＰの無溶剤ＵＶ硬化性アクリル樹脂であり、導電性インキは、粒子サイズが２〜１０ｎｍ、固形分が約４１％、粘度が５３ｃＰ、表面張力が３０ダイン／ｃｍのナノ銀導電性インキであり、(2)厚さ５μｍのＵＶインプリントグルー１２がＰＥＴ１１の表面上に塗布され、可視光における透明な複合基板の光透過率は、ａ＝９０％として定められ、(3)ｔ＞７２％（ｔは、絶対透過率を表す）の透明な導電性シートの透過率及びａ×ｂ＞ｔの設計仕様に従って、ｂ＞８０％を得、良好な等方性抵抗を備えた六角形ハニカムトレンチ網状構造を選択し、ｂを前提として、
トレンチ幅ｄ＝１μｍ
銀インキの固形分は、約３２％であり、焼結温度は、１４０℃であり
[0033]  ＩＩ．ＤＭＤを利用したレーザ直接書込プレートセッタ（platesetter）を用いて、トレンチ網状構造を扁平なガラスの表面上に塗布されたフォトレジスト層中に構成し、次に、マイクロエレクトロフォーミング技術を用いてトレンチ網状構造と相補する微細構造を有するＮｉ膜ダイを製造し、このダイをローラの表面上に塗布してローラダイを形成する。
[0034]  ＩＩＩ．ロールツーロールＵＶインプリンティング技術を用いて、設計済みのトレンチ網状構造をＰＥＴ１１の表面の透明なインプリントグルー１２上に形成する。透明なインプリントグルー１２の硬化波長は、３６５ｎｍであり、累積照射エネルギーが３６０〜５００ｍｊ／ｃｍ２に達すると、グルーが硬化する。
[0035]  ＩＶ．
スクラッチ法を用いて導電性銀インキをトレンチ網状構造内に充填する。具体的に説明すると、このスクラッチ法は、次のステップ、即ち、（１）厚さ５μｍの銀インキを透明なインプリントグルー１２の表面上に塗布するステップ、（２）トレンチの外側に位置した銀インキを鋼スクレーパで掻き取るステップ、（３）赤外線補助熱風オーブンを用いて銀インキを焼結し、導電性インキ網状構造を形成するステップを含み、焼結温度は、１４０℃であり、焼結時間は、５分である。
（イ）原審の拒絶理由に周知例として挙げられた、原出願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である中国特許出願公開第１０２０６３９５１号明細書（平成２３年５月１８日公開、以下、「周知例２」という。）には図面とともに以下の事項が記載されている。
ａ
（段落[0001]-[0002]）
（当審訳：技術分野
[0001]　本発明は
透明導電膜
背景技術
[0002]　透明導電膜はタッチコントロール液晶パネル、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）及び電磁シールドなどの分野に広く用いられている。現在、比較的一般的な透明導電膜は、ＩＴＯ膜と金属膜の２種類があり、前者は透明なガラスまたはプラスチック基板表面に、インジウム−スズ酸化物膜（ＩＴＯ）などの透明導電性材料を蒸着あるいはスパッタリングによって形成するものであり、後者は透明なガラスまたはプラスチック基板表面に、金属メッキあるいは蒸着によって、全表面に金属薄膜を形成し、その後フォトエッチングすることによって、微細な金属メッシュを形成するものである。）
ｂ
（段落[0035]）
（当審訳：[0035]　図１、図２をともに参照すると、図１は本発明の透明導電膜概略図であり、図２は図１中透明基板の概略図である。図示するように、
この透明導電膜１００は透明基板１１０と導電性金属１２０を含む。透明基板１１０は導電領域１１１と透光性領域１１２を含み、導電領域１１１は互いに連通する網状の凹溝とし、導電性金属１２０を導電領域１１１中に埋め込み、透光性領域１１２を網状の凹溝で囲まれたグリッドとする。この導電性金属１２０は、銀ペーストを焼結した銀粒子の線でもよく
導電領域１１１に形成する導電線でもよい。
ｃ
（段落[0050]-[0055]）
（当審訳：[0050]　図５を再び参照すると、図５は本発明の透明導電膜の製造フロー図である。図示するように、この方法は主に三つの大プロセスを含む：まずインプリントプロセスであり、一方の表面にはメッシュパターンを有する金属パンチがあり、透明基板面に圧力を加えるのと同時に、加熱または紫外固化などの手段を用いて、
パンチ表面のパターンを透明基板上へ転写し、凹溝のメッシュパターンを形成する。
[0051]　次に金属化プロセスについて、このプロセスの目的は導電領域の凹溝に導電性金属を埋め込んで、凹溝からあふれ出させることにある。具体的に、この金属化プロセスは以下の方法で行うことができる：
[0052]　第１種類の方法はウェットコーティングプロセスとすることができる。この方法は以下を含む：
[0053]　連続式塗布方法を用いて、透明基板面に疎水性溶媒を混ぜたナノ銀ペーストを塗布して、このナノ銀ペースト中の銀粒子の直径は５０ｎｍ−７０ｎｍ程度に、その疎水性溶媒の比重は１０％−２０％間とする；
[0054]　セルフレベリング効果によって、銀ペーストは凹溝中に自動的に堆積されて、あるいは透明基板の表面に１０％の疎水性層を塗布することができて、この疎水性層の厚み制御は２００ｎｍ以内に制御して凹溝の深さよりずっと小さくし、その後、銀ペースト自身に含まれる疎水剤成分と連携して、
銀粒子が凹溝へ集まるのを加速して、連続式に塗布後、凹溝中に銀粒子が充満することを確実にする
[0055]　
加熱焼成は、銀ペーストを凝結させ、最終的に凹溝の中に金属ワイヤグリッドを形成
　したがって、上記周知例１及び周知例２の上記記載から、「透明導電膜の導電構造における金属線の形成のため、基板に形成した溝にナノ銀インクを導入すること」は、周知の技術（以下、「周知技術」という。）ということができる。
（３）対比・判断
　補正発明と引用発明とを対比する。
ア　上記引用例の段落【００３７】、【００３８】及び図２Ｂ、３によれば、導電シート１４はタッチパネルの電極として使用可能で、透明基体を含むものであって、全体として透明なものであることが明らかであるから、引用発明の「導電シート１４」は補正発明の「透明導電膜」に相当する。
イ　引用発明の「複数の導電部５０」は補正発明の「導電構造」に相当する。
ウ　引用発明の「フィルタ部材６０」は、補正発明の「透明基板」と、「板状の部材」である点で共通する。
エ　引用発明の「交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂ」は、市松模様状に配置された第２基本格子２２２が複数連なって構成されているから、全体として第２基本格子２２２に形成される細かなメッシュと残余の部分に形成される大きなメッシュの組合せから構成された「メッシュ形状の金属層」といえ、他方、補正発明の「グリッド形状の第１の金属埋め込み層」は「グリッド形状の金属層」である。
　そして、引用発明のボロノイ図によって画定した線分で構成された「メッシュ形状」と補正発明の「グリッド形状」とは、表現上差異があるものの、いずれも複数の線分が集まって形成された網目形状を意味しており、実質的に同義であるから、引用発明の「交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂ」と補正発明の「グリッド形状の第１の金属埋め込み層」とは、「グリッド形状の第１の金属層」である点で共通する。
オ　上記エと同様に、引用発明の「交互かつ周期的に市松模様状に配置された第１基本格子２１２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第１導電部５０ａ」は、補正発明の「グリッド形状の第２の金属埋め込み層」と、「グリッド形状の第２の金属層」である点で共通する。
カ　さらに、上記エ及びオに記載のとおり、「交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂ」及び「交互かつ周期的に市松模様状に配置された第１基本格子２１２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第１導電部５０ａ」をそれぞれ全体として「メッシュ形状の金属層」と捉えると、後者は前者の上に配置されているといえる。
キ　したがって、引用発明の「導電シート１４の複数の導電部５０であって、該複数の導電部５０はフィルタ部材６０上に配置され、前記複数の導電部５０は、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第２基本格子２２２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第２導電部５０ｂと、交互かつ周期的に市松模様状に配置された第１基本格子２１２内にメッシュ形状の模様をなして形成された複数の第１導電部５０ａとを備え、前記複数の第２導電部５０ｂと前記複数の第１導電部５０ａとはそれぞれ相互に重複しない互い違いの位置関係で配置され、前記複数の第２導電部５０ｂと前記複数の第１導電部５０ａとは互いに絶縁されて」いることは、補正発明の「透明導電膜の導電構造であって、該導電構造は透明基板上に配置され、前記導電構造は、グリッド形状の第１の金属埋め込み層と、前記第１の金属埋め込み層上に隣接して配置されたグリッド形状の第２の金属埋め込み層とを備え、前記第１の金属埋め込み層と前記第２の金属埋め込み層とは互いに絶縁されて」いることと、「透明導電膜の導電構造であって、該導電構造は板状の部材上に配置され、前記導電構造は、グリッド形状の第１の金属層と、前記第１の金属層上に配置されたグリッド形状の第２の金属層とを備え、前記第１の金属層と前記第２の金属層とは互いに絶縁されて」いる点で共通するといえる。
ク　引用発明の「直線状のメッシュ線を含むランダムな多角形状」と補正発明の「直線状のグリッド線を含む不規則な多角形状」とは、「ランダム」、「不規則」という表現上の相違があるだけで、実質的に相当関係にある。
ケ　したがって、引用発明の「前記複数の第１導電部５０ａ及び前記複数の第２導電部５０ｂのメッシュ形状は、直線状のメッシュ線を含むランダムな多角形状であ」ることは、補正発明の「前記第１の金属埋め込み層及び／又は前記第２の金属埋め込み層のグリッド形状は、直線状のグリッド線を含む不規則な多角形状であ」ることと、「前記第１の金属層及び／又は前記第２の金属層のグリッド形状は、直線状のグリッド線を含む不規則な多角形状であ」る点で共通する。
コ　上記引用例の段落【０１７０】−【０１７１】には、第１透明基体５６ａ及び第２透明基体５６ｂの材料として、ポリマーの一種であるプラスチックとすることが記載されているから、引用発明の「第２透明基体５６ｂ」、「第１透明基体５６ａ」はそれぞれ補正発明の「第１のポリマー層」、「第２のポリマー層」に相当する。
サ　したがって、引用発明の「前記導電シート１４は、第２透明基体５６ｂと第１透明基体５６ａとを更に含」むことは、補正発明の「前記透明導電膜は、第１のポリマー層と第２のポリマー層とを更に含む」ことに相当する。
シ　さらに引用発明の「前記複数の第２導電部５０ｂは前記第２透明基体５６ｂ上に配置されること」、「前記複数の第１導電部５０ａは前記第１透明基体５６ａ上に配置され」ることは、それぞれ補正発明の「前記第１の金属埋め込み層は前記第１のポリマー層に配置される」こと、「前記第２の金属埋め込み層は前記第２のポリマー層に配置され」ることと、それぞれ「前記第１の金属層は前記第１のポリマー層に配置され」る点、「前記第２の金属層は前記第２のポリマー層に配置され」る点で共通する。
　以上を総合すると、補正発明と引用発明とは、次の一致点、相違点を有する。
（一致点）
　「透明導電膜の導電構造であって、該導電構造は板状の部材上に配置され、前記導電構造は、グリッド形状の第１の金属層と、前記第１の金属層上に隣接して配置されたグリッド形状の第２の金属層とを備え、前記第１の金属層と前記第２の金属層とは互いに絶縁されており、
　前記第１の金属層及び／又は前記第２の金属層のグリッド形状は、直線状のグリッド線を含む不規則な多角形状であり、
　前記透明導電膜は、第１のポリマー層と第２のポリマー層とを更に含み、
　前記第１の金属層は前記第１のポリマー層に配置され、
　前記第２の金属層は前記第２のポリマー層に配置された、導電構造。」　
　
（相違点１）
　一致点の「板状の部材」に関し、補正発明は「透明基板」であるのに対し、引用発明は「フィルタ部材６０」である点。
（相違点２）
　補正発明の導電構造は、「第１の金属埋め込み層上に
隣接して配置された
（相違点３）
　補正発明においては「グリッド線は右方向の水平Ｘ軸に対して均一に分布した角度θを形成」するのに対し、引用発明においては「メッシュ線は前記複数の第１導電部５０ａ及び前記複数の第２導電部５０ｂそれぞれの面内においてランダムな方向に形成され」る点。
（相違点４）
　一致点の「グリッド形状の第１の金属層」及び「グリッド形状の第２の金属層」に関し、補正発明は「第１のポリマー層」及び「第２のポリマー層」におけるグリッド形状の凹部に埋め込み層として配置されるのに対し、引用発明の「複数の第１導電部５０ａ」及び「複数の第２導電部５０ｂ」は、それぞれ「第１透明基体５６ａ上」及び「第２透明基体５６ｂ上」に配置される点。
（相違点５）
　補正発明の「第１の金属埋め込み層」及び「第２の金属埋め込み層」は、「３．０μｍの深さと、２．２μｍの幅を有するグリッド形状の凹部に配置された、銀インクの固体成分が３５％であり、焼結温度が１５０℃であるナノ銀インクからな」るのに対し、引用発明においては、係る事項について特定されていない点。
（相違点６）
　補正発明は「第２の金属埋め込み層の厚さは前記第２のポリマー層の厚さより小さい」のに対し、引用発明においては、係る事項について特定されていない点。
（４）判断
　上記相違点につき検討する。
（相違点１）について
　一般にタッチパネルに用いられる、ディスプレイからの光を透過するカラーフィルタが透明なガラス基板を含むことは、広く知られるところであるから、引用発明の「フィルタ部材６０」は当然に「透明基板」を含むといえる。
　してみれば、補正発明、引用発明のいずれにおいても導電構造が透明基板上に配置される点で差異はなく、相違点１は実質的な相違点ではない。
（相違点２）について
　補正発明における「隣接して配置された」の技術的意味は、本願明細書の段落【００２４】の「導電構造における第１の金属埋め込み層は、図に示されるように基板上に直接的に作られ、透明導電膜は、透明基板１０と基板上に配置される透明なポリマー層２０とを含む。導電構造は、基板１に配置されるグリッド形状の第１の金属埋め込み層１１と、透明なポリマー層２０に配置されるグリッド形状の第２の金属埋め込み層２１とを含む。第１の金属埋め込み層１１と第２の金属埋め込み層２１とを互いに確実に絶縁させるために、第２の金属埋め込み層２１の厚さはポリマー層２０の厚さよりも小さくされ、これによって第１の金属埋め込み層１１と第２の金属埋め込み層２１との間にポリマー層２０の一部が配置され、絶縁効果が実現される。」との実施例の記載と図１とを参酌すれば、一般的な「隣接」の意味、すなわち、近くで隣り合っている程度の意味であって、直接接しないがある程度近くにという状態も含まれるものと理解される。
　してみれば、引用発明においても、複数の第１導電部５０ａは複数の第２導電部５０ｂと第１透明基体５６ａを介してある程度近く、引用例の段落【０１９９】を参酌すれば第１透明基体５６ａの厚さである５〜３５０μｍよりも近くに配置されているから、相違点２は実質的な相違点ではない。
　なお、平成２６年６月１１日付け意見書の「（ｉｉ）出願人の意見」の「（イ）」を参酌すれば、第２の金属埋め込み層が第１の金属埋め込み層と「接着層」を介さないで配置されることを意味している。
　他方、引用発明においても、複数の第１導電部５０ａは複数の第２導電部５０ｂと接着層を介さないで配置されている。
　してみれば、「隣接」の意を当該意見書のように理解したとしても、相違点２は実質的な相違点とはならない。
（相違点３）について
　補正発明において「グリッド線は右方向の水平Ｘ軸に対して均一に分布した角度θを形成」することは、本願明細書の段落【００２５】を参酌すれば、「ランダムなグリッドの各々のθを統計して、５°のステップ角度での角度区間の各々に入るグリッド線の確率パイについての統計を収集し、０°〜１８０°内の３６の角度区間におけるｐ１、ｐ２、…ｐ３６を得て、パイの標準偏差が算術平均の２０％未満であること」を意味している。
　一方、引用発明において「メッシュ線は前記複数の第１導電部５０ａ及び前記複数の第２導電部５０ｂそれぞれの面内においてランダムな方向に形成され」る。
　しかるに、補正発明、引用発明ともに、程度の差こそあれ、グリッド線あるいはメッシュ線をランダムな方向に形成する点で差異がなく、相違点３は実質的な相違点とはならない。仮にこの点で相違するとしても、当業者が適宜選択すべき設計事項に過ぎない。
（相違点４乃至６）について
　上記「（２）引用発明及び周知技術」の「イ　周知例及び周知技術」のとおり、「透明導電膜の導電構造における金属線の形成のため、基板に形成した溝にナノ銀インクを導入すること」は、周知技術である。
　そして、引用例の「複数の第１導電部５０ａ」及び「複数の第２導電部５０ｂ」は透明基体上に形成されること、周知例１の段落[0006]、[0007]に記載されるように、基板上に形成した導電性網状構造の諸課題を解決するために、基板に溝を形成し、当該溝にナノ銀インクを導入することが記載されていることに鑑みれば、上記周知技術に接した当業者であれば、引用発明における「複数の第１導電部５０ａ」及び「複数の第２導電部５０ｂ」を、それぞれ「第１透明基体５６ａ上」及び「第２透明基体５６ｂ上」に配置する構成に代えて、基板に形成した溝にナノ銀インクを導入することは、容易に想到し得ることである。
　また、この際の溝の深さ、ナノ銀インクの固体成分比率、焼結温度等は当業者が必要に応じて適宜選択すべき事項であって、周知例１の段落[0032]にも、溝の幅を１μｍとすること、銀インクの固形分を約３２％、焼結温度を１４０℃とすることが記載されていることに鑑みれば、補正発明のように金属埋め込み層を「３．０μｍの深さと、２．２μｍの幅」のものとし、ナノ銀インクを「銀インクの固体成分が３５％であり、焼結温度が１５０℃である」ものとすることは、格別の限定ということはできない。
　さらに、引用発明における「複数の第１導電部５０ａ」及び「複数の第２導電部５０ｂ」を、それぞれ「第１透明基体５６ａ上」及び「第２透明基体５６ｂ上」に配置する構成に代えて、基板に形成した溝にナノ銀インクを導入するに当たり、溝の深さ、すなわち金属埋め込み層の厚さを「第１透明基体５６ａの厚さより小さくすること」は、第１透明基体５６ａを溝が貫通しないようにするために当然に当業者が配慮すべき事項である。
（５）まとめ
　以上のとおり、補正発明は、引用発明に基づいて周知技術を参酌することにより当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２８年６月１５日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２７年６月１１日付けで提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
　「透明導電膜の導電構造であって、該導電構造は透明基板上に配置され、前記導電構造は、グリッド形状の第１の金属埋め込み層と、前記第１の金属埋め込み層上に隣接して配置されたグリッド形状の第２の金属埋め込み層とを備え、前記第１の金属埋め込み層と前記第２の金属埋め込み層とは互いに絶縁されており、
　前記第１の金属埋め込み層及び／又は前記第２の金属埋め込み層のグリッド形状は、直線状のグリッド線を含む不規則な多角形状であり、前記グリッド線は右方向の水平Ｘ軸に対して均一に分布した角度θを形成する、導電構造。」
２．引用発明及び周知技術
　引用発明及び周知技術は、上記「第２　補正却下の決定」の項中の「３　独立特許要件について」の項中の「（２）引用発明及び周知技術」の項で認定したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は上記補正後の発明から当該本件補正に係る限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成に当該本件補正に係る限定を付加した補正後の発明が、上記「第２　補正却下の決定」の項中の「３．独立特許要件について」の項で検討したとおり、引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明できたものであるから、本願発明も同様の理由により、容易に発明できたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について審理するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。