【手続補正書】
【提出日】平成28年5月17日(2016.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１ショット領域と第２ショット領域とを含む基板を保持して移動可能な基板ステージと、
マスクに形成されたパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
前記第１ショット領域の露光の終了後、前記基板ステージを移動させ、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整った状態で前記第２ショット領域を露光するように制御を行う制御部と、
を有する露光装置において、
前記制御部は、
前記投影光学系の光軸方向に直交する方向に移動する前記基板ステージの加速度の情報に基づいて、前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで前記基板ステージを移動させる間に、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整わなかった場合には、
前記第２ショット領域を露光せず、前記情報に基づいて前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで再び前記基板ステージを移動させ、その後、前記第２ショット領域の露光を行う制御部であって、
前記情報に基づいて前記基板ステージを移動させながら予め取得された補正値を用いて、前記投影光学系により前記基板に投影されたパターン像の状態を補正しながら前記第２ショット領域を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
第１ショット領域と第２ショット領域とを含む基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記第１ショット領域の露光の終了後、前記基板ステージを移動させ、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整った状態で前記第２ショット領域を露光するように制御を行う制御部と、
を有する露光装置において、
前記制御部は、
前記基板ステージの駆動情報に基づいて、前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで前記基板ステージを移動させる間に、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整わなかった場合には、
前記第２ショット領域を露光せず、前記駆動情報に基づいて前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで再び前記基板ステージを移動させ、その後、前記第２ショット領域の露光を行うことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記基板の高さ、前記マスクの高さ、およびマスクに形成されたパターンを前記基板に投影する投影光学系の投影倍率のうち少なくとも１つを変更することにより前記パターン像の状態を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記駆動情報は、前記基板ステージの加速度と時刻との関係を示す情報であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記露光条件が整った状態とは、前記第２ショット領域を照射する光の整形が完了した状態であることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記露光装置は、前記基板を露光する光によって整形された照射領域を前記基板上で走査させながら前記ショット領域の露光を行うことを特徴とする請求項１又は３に記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光装置は、前記基板を露光する光によって整形された照射領域を前記基板上で走査させながら前記ショット領域の露光を行うことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項８】
前記駆動情報は、前記照射領域を走査させる方向における前記基板ステージの加速度と時刻との関係を示す情報であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
物品の製造方法において、
請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１０】
移動可能な基板ステージに保持された第１ショット領域と第２ショット領域とを有する基板を露光するにあたり、
前記第１ショット領域の露光の終了後、前記基板ステージを移動させ、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整った状態で前記第２ショット領域を露光するように制御を行う露光方法において、
駆動情報に基づいて前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで前記基板ステージを移動させる間に、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整わなかった場合には、
前記第２ショット領域を露光せずに、前記駆動情報に基づいて前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで再び前記基板ステージを移動させ、その後、前記第２ショット領域の露光を行う、
ことを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
前記駆動情報は、前記基板ステージの加速度と時刻との関係を示す情報であることを特徴とする請求項１０に記載の露光方法。
【請求項１２】
前記露光条件が整った状態とは、前記第２ショット領域を照射する光の整形が完了した状態であることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の露光方法。
【請求項１３】
前記基板を露光する光によって整形された照射領域を前記基板上で走査させながら前記ショット領域の露光を行うことを特徴とする請求項１０乃至１２のうちいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項１４】
前記駆動情報は、前記照射領域を走査させる方向における前記基板ステージの加速度と時刻との関係を示す情報であることを特徴とする請求項１３に記載の露光方法。
【請求項１５】
物品の製造方法において、
請求項１０乃至１４のうちいずれか１項に記載の露光方法により基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
露光装置では、一般に、基板ステージの加速度に応じて事前に取得された補正値によってフォーカス計測の結果を補正しながら、基板上における複数のショット領域の露光が行われる。しかしながら、複数のショット領域の中には、露光を開始するまでに露光条件が整わずに露光が行われなかったショット領域（未露光ショット領域）が生じうる。当該露光が行われなかったショット領域を露光しようと初めて基板ステージを駆動させたときの基板ステージの駆動情報と、当該露光が行われなかったショット領域への露光を開始するまでの基板ステージの駆動情報と、が異なることによって、マスクのパターンを基板に精度よく転写することが困難になりうる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、第１ショット領域と第２ショット領域とを含む基板を保持して移動可能な基板ステージと、マスクに形成されたパターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記第１ショット領域の露光の終了後、前記基板ステージを移動させ、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整った状態で前記第２ショット領域を露光するように制御を行う制御部と、を有する露光装置において、前記制御部は、前記投影光学系の光軸方向に直交する方向に移動する前記基板ステージの加速度の情報に基づいて、前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで前記基板ステージを移動させる間に、前記第２ショット領域の露光を行うための露光条件が整わなかった場合には、前記第２ショット領域を露光せず、前記情報に基づいて前記第１ショット領域の露光の終了位置から前記第２ショット領域の露光の開始位置まで再び前記基板ステージを移動させ、その後、前記第２ショット領域の露光を行う制御部であって、前記情報に基づいて前記基板ステージを移動させながら予め取得された補正値を用いて、前記投影光学系により前記基板に投影されたパターン像の状態を補正しながら前記第２ショット領域を露光することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、露光装置１００では、ショット領域Ａ（第１ショット領域）の露光が終了してから、ショット領域Ｂ（第２ショット領域）の露光が開始されるまでの期間に、ショット領域Ｂの露光を行うための露光条件を整えている。即ち、図２における期間１２１において、ショット領域Ｂの露光を行うための露光条件を整えている。露光条件としては、例えば、照明光学系１０に含まれるマスキングブレードなどの遮光部材の駆動が完了しているか、光源における光の射出準備が完了しているかなど、ショット領域を照射するスリット光の整形が完了しているか否かが挙げられる。一般に、このような露光条件が整う時間は複数のショット領域１４ａにおいてそれぞれ異なるため、例えば、期間１２１において、ショット領域Ｂの露光を行うための露光条件が整わない場合がある。この場合、露光装置１００は、ショット領域Ｂの露光を行わない。しかしながら、露光装置１００には、収率を向上させるため、ショット領域Ｂの露光条件が期間１２１に整わずに露光が行われなかったショット領域Ｂにおいても露光を行うことが求められている。そのため、露光装置１００は、ショット領域Ｂの露光条件が期間１２１に整わなかった場合、ショット領域Ｂの露光を行うための基板ステージ１５の駆動を中断させる。そして、露光装置１００は、基板ステージ１５を駆動して、露光が行われなかったショット領域Ｂの露光を行う。ここで、露光が行われなかったショット領域Ｂの露光を行う際における基板ステージ１５の駆動について、従来の露光装置と第１実施形態の露光装置１００とを比較しながら説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
しかしながら、図８に示すように、ショット領域Ｂの露光条件を整えている時間６１３が終了する時刻は、所定の時間６００が終了する時刻よりも遅くなっている。即ち、ショット領域Ｂを露光する前における基板ステージ１５の整定時間６２２は、所定の時間６００より長くなってしまう。このような整定時間６２２をもってショット領域Ｂを時間６１４において露光してしまうと、補正値を取得した際におけるパターン像の状態と、時間６１４におけるパターン像の状態とが異なってしまう。そのため、制御部２２は、時間６１４におけるショット領域Ｂの露光を止め、基板ステージ１５に−Ｙ方向の加速度６０５を与えた後、基板ステージに＋Ｙ方向の加速度６０６を与えることで、時刻６２４において照射領域２５をショット領域Ａに配置する。その後、制御部２２は、照射領域２５がショット領域Ｂに配置されるように、基板ステージに＋Ｙ方向の加速度６０７を与えることで基板ステージ１５を＋Ｙ方向に加速する（図９の矢印３０ｃ）。そして、制御部２２は、基板ステージ１５に−Ｙ方向の加速度６０８を与えることで基板ステージ１５を−Ｙ方向に減速させて（図９の矢印３０ｄ）停止させる。基板ステージ１５が停止してから所定の時間６００（整定時間６２３）が経過した後に、制御部２２はショット領域Ｂの露光を行う。これにより、ショット領域Ｂの露光を行っている時間６１５におけるパターン像の状態を、補正値を取得した際におけるパターン像の状態に近づけることができる。したがって、時間６１５においてショット領域Ｂの露光を行う際に、事前に取得された補正値を用いてパターン像の状態を補正することによって、マスクのパターンをショット領域Ｂに正確に転写することが可能となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
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【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
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【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2014239193.tif 000004
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
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