【手続補正書】
【提出日】平成28年3月2日(2016.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天板上に配置され、基板を保持するホルダであって、
前記基板側の表面と、前記表面とは反対側の裏面と、を含む基台と、
前記基台を貫通する貫通孔を囲むように前記裏面に形成され、前記天板に接する第１支持部と、
前記第１支持部を全周的に囲むように前記裏面に形成され、前記天板に接する第２支持部と、
前記第２支持部と前記基台の外縁との間の前記裏面の領域に形成され、前記天板に接する複数の裏面側ピンと、
を有することを特徴とするホルダ。
【請求項２】
前記表面に形成され、前記基板を支持可能な周状の第３支持部を更に有し、
前記第３支持部は、前記第３支持部の少なくとも一部が前記第２支持部の上方において前記第２支持部に重なるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のホルダ。
【請求項３】
前記第３支持部は、前記第３支持部の全部が前記第２支持部の上方において前記第２支持部に重なるように形成されていることを特徴とする請求項２に記載のホルダ。
【請求項４】
前記第３支持部と前記基台の外縁との間の前記表面に形成され、前記基板と接する複数の表面側ピンを更に有し、
前記複数の表面側ピンのうち少なくとも１つの表面側ピンは、前記複数の裏面側ピンのうち前記少なくとも１つの表面側ピンに対応する１つの裏面側ピンの上方において該１つの裏面側ピンに重なるように形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載のホルダ。
【請求項５】
前記複数の表面側ピンのそれぞれは、前記複数の裏面側ピンのうちの前記それぞれの表面側ピンに対応する１つの裏面側ピンの上方において該１つの裏面側ピンに重なるように形成されていることを特徴とする請求項４に記載のホルダ。
【請求項６】
前記表面に形成され、前記基板を支持可能な周状の第３支持部を更に有し、
前記第３支持部は、前記第２支持部の上方の前記表面の領域と前記基台の外縁との間の前記表面の領域に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のホルダ。
【請求項７】
前記第３支持部は、前記表面に形成されている前記基板に接する部材のうち最も前記基台の外縁側に形成されている部材であることを特徴とする請求項６に記載のホルダ。
【請求項８】
移動可能なステージ装置であって、
請求項２乃至７のうちいずれか１項に記載のホルダと、
前記第３支持部と前記基板が接触している状態で、前記基板と前記表面との間の空間を排気する排気機構と、
を備えたことを特徴とするステージ装置。
【請求項９】
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のホルダを有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１０】
投影光学系を有し、前記投影光学系を介して前記基板を露光して前記パターンを前記基板に形成する、ことを特徴とする請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ホルダ、ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ホルダ、ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのホルダは、天板上に配置され、基板を保持するホルダであって、前記基板側の表面と、前記表面とは反対側の裏面と、を含む基台と、前記基台を貫通する貫通孔を囲むように前記裏面に形成され、前記天板に接する第１支持部と、前記第１支持部を全周的に囲むように前記裏面に形成され、前記天板に接する第２支持部と、前記第２支持部と前記基台の外縁との間の前記裏面の領域に形成され、前記天板に接する複数の裏面側ピンと、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
リソグラフィ装置１において、光源（不図示）からの光は、照明光学系１０２を介して、レチクルステージに保持されたレチクル１０４を照明する。レチクル１０４を通過した光は、投影光学系１０６を介して、基板１０８に照射される（即ち、レチクル１０４のパターンの像が基板１０８に結像する）。基板ステージ１１０は、基板１０８を保持して移動可能な保持装置であって、ホルダ（チャック）１１２と、ホルダ１１２を載置するステージ天板（天板）１１４とを含む。以下、各実施形態において、基板ステージ１１０の具体的な構成を説明する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ホルダ１１２は、熱伝導性に優れた材料、例えば、ＳｉＣセラミックスで構成され、基板側の表面２０２ａ及び表面２０２ａとは反対側の裏面２０２ｂを含む基台２０２を有する。基台２０２には、基台２０２を貫通する貫通孔として、１つ又は複数の基板バキューム孔３０２が形成されている。また、ステージ天板１１４には、基板バキューム孔３０２と連通する基板バキューム用孔が形成され、真空源（排気機構）（不図示）と接続されている。更に、ステージ天板１１４には、ホルダ１１２をステージ天板１１４に吸着するためのホルダバキューム用孔も形成され、真空源（不図示）と接続されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、基台２０２の表面２０２ａには、基板１０８を吸着（保持）するために、リフトピン孔３０４を全周的に取り囲むような周状の第１保持部（不図示）と、かかる第１保持部を取り囲むような周状の第２保持部（第３支持部）２０４とが形成されている。第２保持部２０４は、基台２０２の表面２０２ａと基板１０８との間の空間を封止する。第１保持部及び第２保持部２０４のそれぞれは、基板１０８と接し、基板１０８を保持する基板保持面を規定する。第２保持部２０４は、基台２０２の裏面２０２ｂに形成され第２支持部２０８を基台２０２の表面２０２ａに投影した投影領域と基台２０２の外縁との間の表面２０２ａの領域に形成されている。換言すれば、第２保持部２０４は、第２支持部２０８の上の表面２０２ａの領域と基台２０２の外縁との間に形成されている。また、第２保持部２０４は、本実施形態では、基台２０２の表面２０２ａに形成されている基板１０８に接する部材のうち最も外側に形成されている部材である。更に、第２保持部２０４は、基板１０８の径よりも小さな径となるように形成されている。第２保持部２０４で囲まれた表面２０２ａの領域、詳細には、第２保持部２０４と第１保持部との間の表面２０２ａの領域には、基板１０８と接する複数のピン（ピン状の突起）２０６が形成されている。複数のピン２０６も、第１保持部や第２保持部２０４とともに、基板１０８を保持する基板保持面を規定する。このように、第１保持部、第２保持部２０４及びピン２０６が基板保持面を規定することによって、基板１０８を真空吸着する際に、高い平坦度を維持しながら基板１０８を保持することができる。