(57)【要約】  本発明のＬＤＭＯＳトランジスタは、段付きシールド構造及び／又は第１及び第２ドレイン延長領域を具備し、前記第１ドレイン延長領域は、前記第２ドレイン延長領域よりも高いドーパント濃度を有し、前記シールドによって被われている。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の表面に設けられるトランジスタを有する電子装置であって、前記トランジスタが、チャネルを介して相互に接続されるソース及びドレインを有し、前記トランジスタが、前記チャネルにおける電子分布の影響を及ぼすゲート電極と前記ゲート及び前記ドレイン間において存在するシールドとを更に具備し、前記ドレインが、前記基板において前記チャネルに向かって延在するドレイン延長部を具備し、前記ドレインが接触部を有し、前記ドレイン接触部及び前記ゲートが、延長領域を介して相互に分離される電子装置において、前記シールドが、前記延長部において段付き構造を有することを特徴とする電子装置。
【請求項２】
Ｌ型形状スペーサが、前記ゲート電極及び前記シールド間において存在する、請求項１に記載の電子装置。
【請求項３】
前記シールドが、金属シリサイドとして形成される、請求項１及び２の何れか一項に記載の電子装置。
【請求項４】
前記ドレイン延長部が、第１及び第２領域を具備し、前記第１領域が、前記チャネル及び前記第２領域との界面を有し、前記第２領域が、前記ドレイン内において接触領域との界面を有し、前記第１領域が、前記第２領域よりも高いドーパント濃度を有し、
前記第１領域が、前記基板において前記シールドの垂直投影によって規定されるシールド領域内に略存在する、請求項１及び２の何れか一項に記載の電子装置。
【請求項５】
半導体基板の表面に設けられるトランジスタを有する電子装置であって、前記トランジスタが、チャネルを介して相互に接続されるソース及びドレインを有し、前記トランジスタが、前記チャネルにおける電子分布の影響を及ぼすゲート電極と前記ゲート及び前記ドレイン間において存在するシールドとを更に具備し、前記ドレインが、前記基板において前記チャネルに向かって延在するドレイン延長部を具備し、前記ドレインが接触部を有し、前記ドレイン接触部及び前記ゲートが、延長領域を介して相互に分離され、前記ドレイン延長部が、第１及び第２領域を具備し、前記第１領域が、前記チャネル及び前記第２領域との界面を有し、前記第２領域が、前記ドレイン内において接触領域との界面を有し、
前記第１領域が、前記第２領域より高いドーパント濃度を有し、前記第１領域が、前記基板における前記シールドの垂直投影によって規定されるシールド領域内において略存在する電子装置。
【請求項６】
前記第１及び前記第２領域間における界面が、前記シールド領域内に存在する、請求項４及び５の何れか一項に記載の電子装置。
【請求項７】
前記第１及び前記第２領域における前記ドーパント濃度の比率が、1.2から2.5の範囲にある、請求項４、５及び６の何れか一項に記載の電子装置。
【請求項８】
前記シールドが、電気的接続を介して前記ソースに電気的に接続される、請求項１及び５の何れか一項に記載の電子装置。
【請求項９】
前記電気的接続が、コンデンサを有する、請求項８に記載の電子装置。
【請求項１０】
前記半導体基板がシリコン製であり、前記トランジスタがＬＤＭＯＳタイプである、請求項１及び５の何れか一項に記載の電子装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の電子装置を製造する方法であって、
−ソース、ドレイン及びゲートを含むトランジスタであって、前記ドレインがドレイン延長部を具備するトランジスタを設けるステップと、
−前記ゲートの上にあり且つ前記ゲートに隣接する絶縁材料を設けるステップと、
−前記絶縁材料に金属蒸着によって段付きシールド構造を設けるステップと
を有する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板の表面に設けられるトランジスタを有する電子装置であって、前記トランジスタが、チャネルを介して相互に接続されるソース及びドレイン電極と、前記チャネルにおける電子分布に影響を及ぼすゲート電極と、前記ゲート及び前記ドレイン電極間において存在するシールドとを有し、前記ドレイン電極が、前記基板において前記チャネルへ向かって延在するドレイン延長部を具備し、前記ドレインが、接触部を有し、前記ドレイン接触部及び前記ゲートが、延長領域を介して相互に離隔される、電子装置に関する。
【０００２】
更に本発明は、前記電子装置を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＲＦ電力増幅器は、パーソナル通信システム（ＧＳＭ，ＥＤＧＥ，ＣＤＭＡ）用の基地局における主要な構成要素の１つである。これらの電力増幅器に関して、通常ＬＤＭＯＳと略称されるＲＦ横方向拡散金属酸化膜半導体トランジスタは、その優れた高電力能力、ゲイン及び線形性により、現在好ましい技術選択である［１］。ＬＤＭＯＳトランジスタの性能は、新たな通信標準によって課される要求を満たすことが可能にするために継続した向上を続ける［２］。特にＷ−ＣＤＭＡシステムに関して、増幅器を十分にバックオフにおける離れたところで動作させることによってのみ満たされ得る線形性は非常に厳密である。しかし、このことは、効率が通常３０％近くに低下することを意味し、問題になる。現在多大の注目を集めるのは、線形性と効率の間におけるこのトレードオフである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、本発明の目的は、向上された線形性／効率のトレードオフを有する、冒頭の段落に記載の種類の電子装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、シールドが、延長領域において段付き構造を有することにおいて達成される。前記段付き構造は、良好な電流容量を有する向上された場分布とオン抵抗の有利な点を組み合わせる。段付き構造は、チャネル付近のシールドのピンチ作用を減らし、向上されたオン抵抗を与える。同時に、絶縁破壊電圧は、ゲート電極から離れて対面する側において段付きシールド構造の低部によって課されるので、変更されないままにある。
【０００６】
前記目的は、ドレイン延長部が、第１及び第２領域を具備し、前記第１領域が、チャネル及び前記第２領域との界面を有し、前記第２領域が、ドレイン電極内に接触領域との界面を有し、前記第１領域が、前記第２領域より高いドーパント濃度を有し、前記第１領域が、基板における前記シールドの垂直投影によって規定されるシールド領域内に略存在することにおいて達成される。
【０００７】
非常に適した実施例において、両方の対策は、最適性能を提供するように組み合わせられる。この組合せは、約６％の線形動作における全体効率向上に導く。
【０００８】
前記対策は、シリコン基板を基本として、いわゆるＬＤＭＯＳトランジスタにおいて用いるのに特に適している。しかし、これらは、他の技術に関しても同様に適している。結果は、例えば800MHzから2.4GHzのＲＦ領域における広範囲な周波数に関して用いられるのに適し得るトランジスタである。このトランジスタは、電力増幅器において用いられるのに特に適している。
【０００９】
更に、本発明は、異なるチャネル長及び延長領域の異なるサイズを有するトランジスタにおいて実装され得る。これらは、当該装置の最適化に関して適したパラメータである。適した実施例において、(４端子装置を提供する)個別の接触部によって駆動され得る追加的なコンデンサが使用される。別の適した実施例において、前記トランジスタは、並列にスイッチされるトランジスタセグメントの配列であって、前記セグメントの各々が第１及び第２閾値電圧を有する配列として設けられる。これらの実施例は、参照に含まれる非事前公開出願の欧州特許出願第03101224.8号(PHNL030460)及び欧州特許出願第03101096.0号(PHNL030398)からそれ自体既知である。
【００１０】
本発明の装置のこれら及び他の態様は、縮尺通りに描かれておらず純粋に概略的である図面を参照にして更に説明される。
【００１１】
図面は縮尺通りに描かれてはおらず、また同一の参照符号は同一の部分を参照する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１は、従来の最新術技術のＬＤＭＯＳトランジスタ９９の断面図を示す。トランジスタ９９は、第１側面１１及び反対側の第２側面１２を有する、この場合シリコンである半導体材料の基板１０を有する。前記基板は、高濃度にドーピングされている。第１側面１１において、エピタキシャル層２０が存在する。これは、ｐ型ドーピングのシリコンエピ層であり、代替的にＳｉＧｅ、ＳｉＣ又は同様なものでもあり得る。エピタキシャル層２０の上に、酸化膜層３０が存在する。トランジスタ９９は、ソース１２０、ドレイン２２０及びゲート４３を有する。チャネル２１は、ソース１２０及びドレイン２２０の間において且つゲート４３によって影響されるべき領域において存在する。このチャネル２１は、この例において、横方向拡散ｐウェルである。
【００１３】
この出願の文脈において、語句ソース１２０及びドレイン２２０は、接触部及び延長部を含むソース及びドレインのそれぞれの部分として機能する全ての要素に及ぶように理解される。ソース１２０は、ソース接触部４２、接続部３２及び高濃度ドープ接触領域２３を具備する。またｐシンカ（p−sinker）２２は、ソース電極３２を高濃度ドープ基板１０に接続するのに存在する。ドレイン２２０は、ドレイン接触部４１、接続部３１、高濃度ドープ接触領域２４並びに第１及び第２ドレイン延長部２５・２６を具備する。これらドレイン延長部２５・２６は、低濃度にドープされる。第１ドレイン延長部２５は、チャネル２１から第２ドレイン延長部２６に延在する。第２ドレイン延長部は、ドレイン接触領域２４に延在する。第２接触領域２３及びドレイン接触領域２４は、この例において両方ともＮ＋にドープされる。ゲート電極４３は、シリサイド化領域(silicidated  area)４４を有する。シールド構造５０は、電気的絶縁層４５によってゲート４３から分離化される。
【００１４】
ドレイン延長部２５・２６の設計は、集中的な設計分野である。第１選択肢は、単一均一ドープドレイン延長部の使用である。斯様なドレイン延長部は、最大出力電力に関して最適化される。しかし、不利な点は、ソース３２及びゲート４３の間の一定電圧(Vgs)における静止電流(Idq)におけるドリフトによって現れるホットキャリア低下が発生することである。
【００１５】
第２選択肢は、図１に示される段付き型ドーピングプロファイルである。斯様な段付き型ドーピングプロファイルは、第１及び第２低濃度ドープ延長領域２５・２６を有する。この選択肢は、ホットキャリア低下の問題を解決するが、ある程度のＲＦ性能の犠牲を伴う。
【００１６】
更なる改善は、非事前公開の出願である欧州特許公開第03101096.0号において記載の、シールドとしてのダミーゲートの挿入である。このことは、Idq低下とも称されるホットキャリア低下とＲＦ性能との間におけるよりよいトレードオフになり得る。このシールドは、図１において記載されていない。このシールドは、(図面１において記載されないが、第３次元的に)ソース４２に接続され、ゲート４３付近のフィールドプレートとして稼働する。ゲート４３及びドレイン延長部２６へのシールドの近接さが原因により、ドレイン延長部２５・２６における電界分布は、Idq低下を低減し、フィードバックキャパシタンスを向上する。この改善により、別のトレードオフである、絶縁破壊電圧（ＢＶ）対電流容量(Idsx)とオン抵抗値(Ron)との間におけるトレードオフがここで支配的になる。
【００１７】
図２は、本発明１００の装置の概略的断面図を示す。ここにおいて、２つの主な改良がされている。当該改良は、両方とも最適性能に貢献する。改良の１つは、シールド構造５０に関係し、もう１つの改良は、ドレイン延長部２５・２６の設計に関係する。これらは、組み合わせられて適用されるのが好ましいが、２つの改良が、別々に適用されることを除外しない。このことは、本例が基地局において用いるのに適しているトランジスタに関係するという事実を鑑みて特に当てはまる場合である。これらは、非常に高い絶縁破壊電圧並びに高電力及び高電圧を有するように設計される。同一の改良は、例えば携帯電話応用例における電力増幅器に関して適用され得る。線形性及び効率に関する要件はここにおいて同一であるが、絶縁破壊電圧はより低く、電力消費が非常に重要である。設計は、例えばドレイン延長部２５・２６におけるドーピング濃度を変化させることによって、特定の応用例に関して最適化され得る。基地局に関して、斯様な濃度は、１０１２のオーダであり、携帯電話に関して濃度は、概してより高い。
【００１８】
第１の改良は、段付きシールド構造５０である。段付き構造は、ゲート４３及びドレイン接触部４１との間に存在する延長部１４０に設けられる。段付き構造５０は、ゲート電極４３の近傍に存在することが好ましい。段付き構造は、最も好適にはゲート電極４３の上に部分的に且つゲート電極４３に部分的に隣接し蒸着され、絶縁材料４５・５１によってゲート電極から分離される。この構造は、向上された場分布の有利な点をより良い電流容量及びオン抵抗値Ronと組み合わせる。段付き構造は、チャネル付近におけるシールドのピンチ作用を低減し、向上したRon及び向上した電流容量Idsxを与える（図７）。同時に絶縁破壊電圧は、例えばゲート電極４３及びドレイン接触部４２の間における側面においてなど、図面における右手側におけるシールドの下部により変更されない。示される実施例の装置１００は、ＬＤＭＯＳ技術でシリコン基板１０において作製される。しかし、ＳｉＧｅ基板又はＧａＡｓ等のIII−V族材料基板のような代替の半導体基板が利用されることは除外されない。
【００１９】
図２において確認され得るように、段付きシールド５０は、Ｌ型スペーサ５１、この場合窒化物Ｌ型スペーサ５１の上においてシールド層の蒸着によって有利な仕方で設けられる。斯様なＬ型スペーサ５１の規定は、それ自体、本文書において参照に含まれる国際特許出願第02/049092号から既知である。当該装置のゲート４３は、0.6mmのゲート長を有するポリシリコン製である。しかし、金属ゲートが、代替的に用いられてもよい。シールド５０は、層４５及び５１の酸化膜／窒化物スタックの上に、低抵抗金属又はシリサイドポリシリコン層の何れかを蒸着することによって形成される。シールド５０の低抵抗値は、ゲート４３及びドレイン３１によってシールド５０に課されるＲＦ電流を引き出し、ＲＦシールド作用になる。段付き構造は、従来技術において用いられる段付きプロファイルが、ホットキャリア低下を制御したままに保つのをもはや必要とされないという大きな有利な点を有する。したがって、延長部は、所望に又は好適に、したがって均一に又は低いドーパントプロファイルを有して若しくは高いドーパントプロファイルを有して段付きされてドープされ得る。
【００２０】
示される段付きシールド構造５０は、逆Ｌ型形状部５０Ａ及びｚ型形状部５０Ｂの２つの部分に細分され得る。同一の又は同様な絶縁破壊電圧において効率を維持又は向上する一方で、ｚ型形状部５０Ｂが、ソース接触部４１及びゲート４３の間における寄生容量を最小化するように装置の性能に関して必須であることは、本発明の洞察である。ｚ型形状部５０Ｂがソース接触部４１から一層遠い距離において位置する点において寄生容量の低減が達成される。
【００２１】
逆Ｌ型形状部５０Ａは、本発明に導く実験において用いた技術の結果として存在する。この技術において、窒化物Ｌ型スペーサが利用される。しかし、逆Ｌ型形状部は、更なる技術的な発展において、高解像度を可能にするフォトレジストを特に用いることによって、サイズを低減され得るか又は完全に欠くことさえもされ得る。このことは、寄生キャパシタンスの低減に関して有利であり得る。更なる実施例において、段付きシールド構造５０は、基板表面１１に略横断する延長部を具備する。斯様な延長部は、シールド機能に有益な影響を有すると考慮される。セクション５０Ａは、Ｌ型形状の代わりに、この場合Ｉ形状を有する。シールド機能は、斯様なＩ形状部５０Ａがゲート電極４３より上に突き出る場合、特に向上され得る。
【００２２】
図３及び４は、18nmのチャネル長を有する装置の２トーン大型信号ＲＦ性能を示す。このＲＦ性能は、段付きシールドを有する装置１００及び標準シールドを有する従来の装置９９に関して示される。ＲＦ性能は、線形性に関して測定される。線形性は、ＲＦ性能に関して根本的に重要であり、この線形性は、（偶数でない（uneven））より高次の相互変調歪みとして概して測定される。特に、３次相互変調歪みが重大であり、これは、目安として用いられる。またこの歪みは、ＩＭＤ３としても称される。ＩＭＤ３に関する更なる説明は、参照によって含まれる係属中の欧州特許出願第03101224.8号(PHNL030460)及び欧州特許出願第03101096.0号(PHNL030398)に記載される。
【００２３】
図３において、ＩＭＤ３は、平均出力電力Po−avgの関数としてdBmで示される。
【００２４】
図４において、ＩＭＤ３は、装置の効率の関数として示される。線形動作における−40dBcのIMD3において、段付きシールドに関して、出力電力は増加し、同時に線形性−効率トレードオフも向上する。−40dBcは、基地局における応用例に関してＩＭＤ３に関する許容レベルとして現在許容されている。図３は、本発明の装置が、1dBm（＝２６％）の電力の向上を導くことを示す。図４は、本発明の装置が、２％の効率の向上を導くことを示す。
【００２５】
本発明の第２の主な向上点は、低濃度ドープドレイン領域２６と組み合わせて高濃度ドープドレイン領域２５を使用する態様に属する。高濃度ドープ領域２５は、第１領域であり、すなわちゲート電極４３の最も近傍に位置される領域である。この高濃度ドープドレイン領域(heavily  doped  drain  region)２５は、ＨＤＤとも称される。低ドープドレイン領域(lowly  doped  drain  region)２６は、ドレイン電極３１のより近くに位置される第２領域であり、ＬＤＤとしても称される。「高濃度（heavy）」という観念は、「低濃度(low)」と比較して考慮されるべきである。好ましくは、高濃度及び低濃度の間の比率は、1.2から3の間であり、更に好適には1.3から2.5の間であり、最も好適には1.5から2の範囲にある。十分な絶縁破壊電圧を実現するために、更に高い制限があって当然である。いくつかの応用例に関して、このことは、それほど重大ではない。高濃度及び低濃度ドープドレイン領域２５・２６の使用は、好ましくは、ＨＤＤ２５がシールド５０によって覆われる領域内に横方向に延在する方法と組み合わせられる。しかし、ＬＤＤ２６に隣接するＨＤＤ２５の使用は、何のシールド５０も全く存在しない場合でさえも、有益な効果を有することが分かるが、ＲＦ応用例に関しては実現しそうにない。好ましくは、ＨＤＤ２５は、シールド５０によって覆われる領域よりも幾分小さくさえある。
【００２６】
当該装置は、ＬＤＤ又はＨＤＤの効果を検討するために、均一ドレイン延長部、ＬＤＤ及びＨＤＤの３つの異なるドーピングプロファイルで処理された。これらのプロファイルは、図５に示される。ドーピングプロファイルは、距離ｘの関数としてドーピング濃度ｃとして表現される。この距離ｘは、基板１０の表面１１に沿った横方向の位置として規定され、ｘ=0は、ソース１２０の左側部を規定する。ドーピングプロファイルは、図２の概略的断面図に示されるよりも段階的である。これは、放出(outdiffusion)の結果である。
【００２７】
図６において、電界Ｅは、ドーピングプロファイルの各々に関して前記横方向の位置ｘの関数として提示される。通常、より高濃度のドープは、より低い絶縁破壊電圧も意味する。しかし、ＨＤＤ領域２５が、シールド５０の下の領域に制限される場合、残りのドレイン延長部２６におけるピーク電界は、図６において確認されるように変化せず、絶縁破壊電圧は変化しないままでいる。
【００２８】
図７は、シールド構造の、オン抵抗値(Ron)に対する影響を示す。図７は、ドレイン構造の電流容量(Idsx)に対する影響を更に示す。しかし、ＨＤＤ領域２５における、より高いドープ濃度は、Ron及び電流容量Idsxに大きな影響を有する。ＨＤＤ２５を使用すると、どちらも著しく向上する。
【００２９】
左側向きの矢印によって示される線は、オン抵抗値Ronを示す。右側向きの矢印によって示される線は、電流容量Idsxの値を示す。RonはIdsxに反比例するので、両方の線の傾きは反対である。当該図は、ＬＤＤから均一へのさらにＨＤＤへの変更態様がRonの低下及びIdsxの増加になることを示している。このことは、有利な効果である。同一の効果は、標準型から段付きシールド構造への変更態様に関して発生する。
【００３０】
図８及び９は、２トーンの大型信号ＲＦ性能を示す。ＩＭＤ３は、ここにおいて、図３及び４と関連するパラメータであり、平均出力電力Po−avg及び効率のそれぞれに対して提示される。線形動作における−40dBcのIMD3において、ＨＤＤに対して、出力電力は、この場合も増加し、線形性−効率トレードオフも向上する。高濃度のドープがある場合、フィードバックキャパシタンスは増加するが、このことは、低電圧に制限される。第１ドレイン延長部（ＨＤＤ）が、従来のドレイン延長部よりも高濃度にドープされるので、第１ドレイン延長部は、ソース及びドレイン間の電圧Vdsの増加においてより少ない早さで空乏になる(deplete)。その結果、ゲート及びドレイン間のキャパシタンスCgdの低下は、開始において遅くなる。しかし、完全にＨＤＤが空乏になる場合、ドレイン延長部は、均一にドープされたドレイン延長部として振る舞い得る。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】図１は、従来技術のＬＤＭＯＳ装置の概略的な断面図を示す。
【図２】図２は、高ドーピング領域及び段付きシールドの両方を含む、本発明の装置の概略的な断面図を示す。
【図３】図３は、従来の及び段付き形状におけるシールドを具備する装置のＩＭＤ３性能を示す。
【図４】図４は、従来の及び段付き形状におけるシールドを具備する装置に関するＩＭＤ３性能対効率を示す。
【図５】図５は、図１に示される従来技術の装置と図２に記載される本発明の装置とに関する、均一ドレイン延長部の表面に沿ったドーピングプロファイルを示す。
【図６】図６は、図５のドーピングプロファイルに関するドレイン延長領域における表面に沿った26Vにおける電界分布を示す。
【図７】図７は、異なるシールド構造及び異なるドレイン延長構造に関するオン抵抗値Ron及び電流容量Idsxを示す。
【図８】図８は、ＬＤＤを具備する装置、ＨＤＤを具備する装置及び均一ドレイン延長部を具備する装置のＩＭＤ３性能を示す。
【図９】図９は、ＬＤＤを具備する装置、ＨＤＤを具備する装置及び均一ドレイン延長部を具備する装置のＩＭＤ３性能対効率を示す。
【図１０】図１０は、ＬＤＤを具備する装置、ＨＤＤを具備する装置及び均一ドレイン延長部を具備する装置に関するフィードバックキャパシタンスCgdを示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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2007503717.tif 000014
2007503717.tif 000015
2007503717.tif 000016
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