【手続補正書】
【提出日】平成28年1月28日(2016.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
上記基材の表面上に形成されている、クロムを主成分とする硬質クロムめっき層と、
上記硬質クロムめっき層上に形成されている、炭素元素を主として構成される硬質炭素層と
を有し、
上記硬質クロムめっき層の水素濃度が、１０〜１４０質量ｐｐｍである
ことを特徴とする摺動部材。
【請求項２】
上記硬質炭素層の水素濃度が、４０原子％以下であることを特徴とする請求項１に記載の摺動部材。
【請求項３】
上記硬質炭素層の最表層の水素濃度が、０原子％超、２原子％以下である、
又は上記硬質炭素層の最表層が、水素を含まない
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の摺動部材。
【請求項４】
上記摺動部材がピストンリングであり、
上記硬質炭素層が、該ピストンリングの少なくとも外周面上に形成されている
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つの項に記載の摺動部材。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つの項に記載の摺動部材を作製するに当たり、
表面上にクロムを主成分とする硬質クロムめっき層が形成された基材の表面を、２６０℃以上４００℃未満の温度で加熱処理して、該硬質クロムめっき層の水素濃度を１０〜１４０質量ｐｐｍとし、しかる後、該硬質クロムめっき層上に炭素元素を主として構成される硬質炭素層を形成する
ことを特徴とする摺動部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明の摺動部材は、基材と、基材の表面上に形成されている、クロムを主成分とする硬質クロムめっき層と、硬質クロムめっき層上に形成されている、炭素元素を主として構成される硬質炭素層とを有するものである。そして、本発明の摺動部材においては、硬質クロムめっき層の水素濃度が、１０〜１４０質量ｐｐｍである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の摺動部材の製造方法は、上記本発明の摺動部材を作製する方法の一形態である。そして、本形態においては、表面上にクロムを主成分とする硬質クロムめっき層が形成された基材の表面を、２６０℃以上４００℃未満の温度で加熱処理して、硬質クロムめっき層の水素濃度を１０〜１４０質量ｐｐｍとし、しかる後、硬質クロムめっき層上に炭素元素を主として構成される硬質炭素層を形成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、基材と、基材の表面上に形成されている、クロムを主成分とする硬質クロムめっき層と、硬質クロムめっき層上に形成されている、炭素元素を主として構成される硬質炭素層とを有し、硬質クロムめっき層の水素濃度が、１０〜１４０質量ｐｐｍである構成とした。そのため、優れた耐剥離性を実現し得る摺動部材及びその製造方法を提供することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【図１】本発明の一形態に係る摺動部材の概略を示す説明図である。
【図２】加熱処理温度とクロムめっき層の硬度及び摩耗量との関係を示すグラフである。
【図３】本発明の一形態に係る摺動部材の一例であるピストンリングの一例を示す平面図（ａ）及び部分断面図（ｂ）である。
【図４】本発明の一形態に係る摺動部材の一例であるピストンリングの他の一例を示す平面図（ａ）及び部分断面図（ｂ）である。
【図５】参考例１の摺動部材における表面状態を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図６】実施例２の摺動部材における表面状態を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図７】比較例１の摺動部材における表面状態を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図８】比較例３の摺動部材における表面状態を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５９】
（参考例１）
自動車用エンジンのピストンリング基材の表面上に、厚さ約１００μｍの硬質クロムめっき層を電解めっきにより形成した。次いで、硬質クロムめっき層を形成したピストンリング基材を、大気中、２５０℃で加熱処理した。しかる後、ピストンリング基材の硬質クロムめっき層上に、水素を含まない硬質炭素層をＰＶＤ法により形成して、本例のピストンリングを得た。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６１】
（実施例２）
加熱処理の温度を２８０℃としたこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６２】
（実施例３）
加熱処理の温度を３００℃としたこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６３】
（実施例４）
加熱処理の温度を３５０℃としたこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６４】
（参考例５）
加熱処理の温度を４００℃としたこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
（比較例１）
加熱処理を行わなかったこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
（比較例２）
加熱処理の温度を１００℃としたこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
（比較例３）
加熱処理の温度を２００℃としたこと以外は、参考例１と同様の操作を繰り返して、本例のピストンリングを得た。また、その際、同様の操作を繰り返して、硬質クロムめっき層の水素濃度を調べた。
上記各例の仕様の一部を表１に示す。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６８】
【表１】
2014145098.tif 000001
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７０】
なお、図５、図６、図７及び図８は、それぞれ参考例１、実施例２、比較例１及び比較例３の摺動部材であるピストンリングにおける表面状態を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７１】
参考例１のピストンリングにおいては、摺動面の硬質炭素層にごく微小な剥離が観察されたものの、実用上問題のないレベルであり、硬質炭素層は高い密着力、すなわち優れた耐剥離性を有することが分かった（図５参照。）。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７３】
参考例５のピストンリングにおいては、摺動面の硬質炭素層に剥離は観察されず、硬質炭素層は高い密着力、すなわち優れた耐剥離性を有することが分かった。しなしながら、硬質クロムめっき層の硬さが処理前と比較して２００Ｈｖ以上低下し、硬質クロムめっき中に存在するマイクロクラックが拡大したため、硬質クロムめっき層本来の耐摩耗性の機能が著しく低下していると推測された。