(57)【要約】  本発明は、電極構造（12）を担持する基板（10）と、前記電極構造（12）の少なくとも一部を被覆する電気光学スタック（90）であって、層状化高分子層（44）、別の基板（20）および前記高分子層（44）と前記別の基板（20）の間に介在された電気光学材料（32）を有する電気光学スタックと、前記基板（10）と前記電気光学スタックの間の接着層（60）と、を有する電子装置、ならびに電気光学スタック（90）と基板（10）が別の処理工程で準備され、接着層（60）によって一体化される、そのような電子装置（100）を製作する方法に関する。この方法では、部品の一つに生産不具合が生じた場合であっても、電子装置（100）全体の廃棄には至らないため、そのような電子装置（100）の歩留まりが向上する。また、基板（10）上のTFT系の高分子のような壊れやすい部品が、電気光学スタック（90）の処理ステップにおいて露出されることが回避される。
2007519038.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極構造を担持する基板上に、層状化電気光学スタックを有する電子装置を製作する方法であって、
前記電極構造を担持する前記基板を提供するステップと、
別の基板を提供するステップと、
前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜するステップと、
前記高分子前駆体を高分子層として重合化させることにより、前記高分子層と前記別の基板の間に、前記電気光学材料を介在させて、前記層状化電気光学スタックを形成するステップと、
前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着する前記ステップは、前記基板に接着層を提供するステップの後に実施されることを特徴とする請求項1に記載に方法。
【請求項３】
前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着する前記ステップは、前記層状化電気光学スタックに接着層を提供するステップの後に実施されることを特徴とする請求項1に記載に方法。
【請求項４】
前記層状化電気光学スタックに接着層を提供する前記ステップは、前記層状化電気光学スタックの前記高分子層の上部に、接着剤平坦化層を提供するステップを有することを特徴とする請求項3に記載に方法。
【請求項５】
さらに、
前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、感光性剥離ラッカーによって被覆された高分子サポートを有する前記別の基板を提供するステップと、
前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着するステップの後、前記感光性剥離ラッカーに光刺激を与えることにより、前記高分子サポートを取り外すステップと、
を有することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一つに記載に方法。
【請求項６】
さらに、
前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、バリア層で前記感光性剥離ラッカーを被覆するステップを有することを特徴とする請求項5に記載に方法。
【請求項７】
さらに、
前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、前記別の基板に導電層を提供するステップを有することを特徴とする請求項1に記載に方法。
【請求項８】
さらに、
前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の前記混合物を成膜する前記ステップの前に、前記混合物に、接着剤を添加するステップを有することを特徴とする請求項1に記載に方法。
【請求項９】
前記電気光学材料は、液晶材料であり、
当該方法は、さらに、
前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、前記別の基板に整列層を提供するステップを有することを特徴とする請求項1に記載に方法。
【請求項１０】
さらに、
前記基板に偏光層を提供するステップを有することを特徴とする請求項9に記載に方法。
【請求項１１】
さらに、
圧力によって前記接着層を活性化させるステップを有することを特徴とする請求項2または3に記載に方法。
【請求項１２】
電極構造を担持する基板と、
前記電極構造の少なくとも一部を被覆する電気光学スタックであって、層状化高分子層、別の基板および前記高分子層と前記別の基板の間に介在された電気光学材料を有する電気光学スタックと、
前記基板と前記電気光学スタックの間の接着層と、
を有する電子装置。
【請求項１３】
前記高分子層は、前記接着層を有することを特徴とする請求項12に記載に電子装置。
【請求項１４】
前記接着層は、前記高分子層と前記基板との間に設置されることを特徴とする請求項13に記載に電子装置。
【請求項１５】
前記接着層は、平坦化層であることを特徴とする請求項14に記載に電子装置。
【請求項１６】
前記電気光学材料は、液晶材料を含み、
当該電子装置は、さらに、
前記電気光学材料と前記別の基板の間の整列層と、
前記電気光学材料と前記基板の間の第1の偏光層と、
前記整列層と前記別の基板の間の第2の偏光層と、
を有することを特徴とする請求項12に記載に電子装置。
【請求項１７】
前記電気光学材料は、液晶材料を含み、
当該電子装置は、さらに、
前記電気光学材料と前記別の基板の間の整列層と、
第1の偏光器および第2の偏光器であって、前記基板と前記電気光学スタックは、前記第1の偏光器と前記第2の偏光器との間に設置されるところの第1の偏光器および第2の偏光器と、
を有することを特徴とする請求項12、13または14に記載に電子装置。
【請求項１８】
前記別の基板は、カラーフィルタ板を有することを特徴とする請求項12に記載に電子装置。
【請求項１９】
さらに、前記別の基板と前記電気光学材料との間に、導電層を有することを特徴とする請求項12乃至18のいずれか一つに記載に電子装置。
【請求項２０】
前記別の基板は、プラスチック基板を有することを特徴とする請求項12乃至19のいずれか一つに記載に電子装置。
【請求項２１】
前記別の基板は、ガラス基板を有することを特徴とする請求項12乃至19のいずれか一つに記載に電子装置。
【請求項２２】
前記別の基板は、感光性剥離ラッカーを有することを特徴とする請求項12乃至19のいずれか一つに記載に電子装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極構造を担持する基板上に、層状電気化光学スタックを有する電子装置を製作する方法に関する。
【０００２】
また本発明は、電極構造を担持する基板上に、層状化電気光学スタックを有する電子装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、液晶ディスプレイ（LCD）およびイーインク装置等の電気泳動式ディスプレイ装置のような、電気光学素子を有する電子装置が、各種理由により、大きな注目を集めている。LCDの場合、ディスプレイ装置の平坦化のため、LCDは、かさばるブラウン管（CRT）ディスプレイおよび高価なプラズマディスプレイに比べて魅力的な代替候補となってきている。従来より、LCDの光スタックは、通常、予備処理されたガラス板からなる、2つの基板の間の隙間に、適当な液晶材料を充填することにより形成されている。しかしながらこの方法では、特に大型のディスプレイの場合、基板の重量のため、基板の取り扱いが極めて難しく、隙間の充填に多大な時間がかかってしまうという問題がある。別の方法で光スタックを形成することによって、これらの問題の少なくとも一部を解消することができる。欧州特許出願第EP1065553号には、アクティブマトリクス基板に、液晶材料と高分子前駆体の混合物を設置する方法が開示されている。高分子トップコートは、第1のUV露光ステップにおいて、高分子前駆体の一部からのいわゆる層状化処理によって形成され、その後、マスクを使用したUV露光ステップによって、残りの高分子前駆体から高分子の側壁が形成され、LCDの多数の画素が形成される。
【０００４】
優先日が2003年8月23日の未予備公開の英国特許出願第0319908.0号では、基板上に電気光学材料と高分子前駆体の混合物の分離液滴を設置した後、層状化処理法を用いて、UV線等の活性化手段によって、多数の液滴を露光することにより高分子層を形成し、基板と前記高分子層の間に電気光学材料を介在させることにより、電気光学素子を形成する。
【０００５】
これらの2つの技術の利点の一つは、LCDまたは電気光学材料を利用する電子装置が、軽量材料を用いて、単一の基板上に形成されることであり、これにより軽量の装置が得られ、2つの基板を有する従来の装置に比べて取り扱いが容易となる。
【０００６】
また、高分子材料が形成される層状化ステップは、比較的低温で実施することができるため、アクティブマトリクス背面の、例えば有機系薄膜トランジスタ（TFT）の有機半導体材料のような温度に敏感な材料を担持する基板に対して、この技術を適用することが可能となる。有機材料の使用は、特に興味深い。これらの材料は、可撓性背面の形成を容易にし、これを層状化光スタックと組み合わせて使用することにより、可撓性ディスプレイ装置を形成することが可能になるからである。
【０００７】
しかしながら、そのようなアクティブマトリクス背面に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を設置する際には、ある問題が生じる。すなわち、アクティブマトリクス（AM）背面の部品の、光スタックを形成する処理ステップにおいて使用される化学成分に対する感度である。例えば、液晶（LC）材料を有する光スタックの場合、LC材料の整列層は、AM背面に設置する必要がある。通常の場合、これは、溶解状態の整列材料を設置した後、溶媒を蒸発させることにより行われる。しかしながら、この処理に使用される溶媒は、AM背面の有機半導体材料に損傷を与える。
【特許文献１】欧州特許出願第EP1065553号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題の少なくとも一部を軽減するため、電極構造を担持する基板上に、層状化電気光学スタックを有する電子装置を製作する方法を提供することを課題とする。
【０００９】
また本発明は、電極構造を担持する基板上に、層状化電気光学スタックを有する改良された電子装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のある態様では、電極構造を担持する基板上に、層状化電気光学スタックを有する電子装置を製作する方法であって、前記電極構造を担持する前記基板を提供するステップと、別の基板を提供するステップと、前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜するステップと、前記高分子前駆体を高分子層として重合化させることにより、前記高分子層と前記別の基板の間に、前記電気光学材料を介在させて、前記層状化電気光学スタックを形成するステップと、前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着するステップと、を有する方法が提供される。
【００１１】
本発明は、電気光学材料を取り囲む層、すなわち別の基板および層状化高分子層、を十分に薄く維持することにより、前記層を介して電気光学材料を切り替えることができるという認識に基づくものである。前記別の基板は、高分子層であっても良く、この場合、良好な可撓性を有する電気光学スタック、または薄いガラス基板を形成することが可能となる。光スタックに感圧性接着剤のような接着層を追加することは、光スタックを別の処理工程で製作することが可能となることを意味し、光スタックの完成後に、電気光学材料を第1の状態と第2の状態の間で切り替えるための切り替え手段を有する背面に、光スタックを設置することにより、背面の例えば有機半導体材料のような切り替え手段が、光スタックの形成に使用される有害成分に対して露出されることが回避される。
【００１２】
本発明の方法には、背面のあらゆる反応性の高い部品が保護されることの他に、追加の利点がある。背面の上部に光スタックを形成することに関する問題は、光スタックの処理ステップの一つに不具合があると、これが完成後の電子装置の廃棄につながることである。しかしながら、光スタックを個別に製作することにより、光スタックと背面とを組み合わせて形成する電子装置では、生産歩留まりが向上する。光スタック製作に不具合が生じても、電子装置全体の廃棄には至らないからである。
【００１３】
電気光学スタックを基板に接着させる場合、多くの方法が利用できる。
【００１４】
前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着する前記ステップは、前記基板に接着層を提供するステップの後に実施されても良い。
【００１５】
あるいは、前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着する前記ステップは、前記層状化電気光学スタックに接着層を提供するステップの後に実施される。
【００１６】
前記層状化電気光学スタックに接着層を提供する前記ステップは、前記層状化電気光学スタックの前記高分子層の上部に、接着剤平坦化層を提供するステップを有することが好ましい。この場合、別の平坦化層が不要になり、電気光学スタックの厚さが抑制され、電気光学材料の切り替えが容易になるという利点が得られる。
【００１７】
電気光学スタックを基板に接着させる別の有意な方法は、電気光学材料と高分子前駆体の混合物に、得られる高分子層、すなわち前記別の基板上の電気光学材料を被覆する高分子層の密着性を高める材料を添加することである。この結果、光スタックを均一に薄くすることができ、電気光学材料の切り替えがさらに容易となる。
【００１８】
別の有意な実施例では、当該方法は、前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、感光性剥離ラッカーによって被覆された高分子サポートを有する前記別の基板を提供するステップと、前記基板を前記層状化電気光学スタックと接着するステップの後、前記感光性剥離ラッカーに光刺激を与えることにより、前記高分子サポートを取り外すステップと、を有する。この場合、電気光学スタックを極めて薄くすることができ、電気光学スタックの可撓性が増し、視差の影響が抑制されるという利点が得られる。
【００１９】
当該方法が、さらに、前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、バリア層で前記感光性剥離ラッカーを被覆するステップを有する場合、前記高分子サポートの除去後に、前記別の基板の構造上のロバスト性が向上するという利点が得られる。
【００２０】
別の実施例では、当該方法は、さらに、前記別の基板上に、電気光学材料と高分子前駆体の混合物を成膜する前記ステップの前に、前記別の基板に導電層を提供するステップを有する。この場合、導電層を共通電極として使用することができ、これにより電気光学材料の切り替えが容易になるという利点が得られる。
【００２１】
電気光学材料が液晶材料の場合、当該方法は、さらに、電気光学スタックに、整列層と、例えばオプティバ社から得られるコーティング偏光器のような偏光層とを提供するステップを有しても良い。あるいは、偏光層の一つは、基板上に成膜されても良い。さらに別の方法では、偏光層が提供される代わりに、従来の偏光器の間に、前記基板と前記電気光学スタックの接着配置が介在され、これにより、電極間の距離が短くなり、液晶材料の切り替えが容易になる。
【００２２】
本発明の別の態様では、電極構造を担持する基板と、前記電極構造の少なくとも一部を被覆する電気光学スタックであって、層状化高分子層、別の基板および前記高分子層と前記別の基板の間に介在された電気光学材料を有する電気光学スタックと、前記基板と前記電気光学スタックの間の接着層と、を有する電子装置が提供される。
【００２３】
そのような電子装置は、本発明の方法のステップを実行することによって形成することができる。前記方法の前述の各種有意な実施例は、本発明の電子装置の同様の有意な実施例を製作するために使用しても良いことに留意する必要がある。
【００２４】
前記別の基板が、カラーフィルタ板を有する場合、追加の利点が得られる。これにより、カラーディスプレイのような電子装置用の、追加の別のカラーフィルタ板を追加する必要がなくなり、電子装置の厚さが抑制され、特に基板が高分子材料である場合には、可撓性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
一例に過ぎない添付図面を参照して、本発明を詳細に説明する。
【００２６】
図面は、概略的なものに過ぎず、スケールは示されていないことに留意する必要がある。また、図において、同一のまたは同様の部品を示す場合、同じ参照符号が使用されていることに留意する必要がある。
【００２７】
図1aには、電極構造12を有する基板10が示されている。基板10は、ガラス基板、高分子膜等の高分子基板またはシリコン系基板であっても良い。本発明に関しては、電極構造12は、相互嵌合電極構造、パッシブマトリクス構造およびアクティブマトリクス構造を含むものとして解釈する必要がある。そのような電極構造12を基板10に設置する方法は、当業者には明らかであり、従ってここではこれ以上説明しない。本発明は、プラスチック基板10が、有機半導体層を有する薄膜トランジスタのような、有機材料を含むアクティブマトリクス状の電極構造12を担持する場合、特に有意であることに留意する必要がある。これらの有機材料は、電極構造12上での他の処理ステップに対して、特に影響を受けやすいからである。電極構造12は、偏光層14で被覆されても良いが、この詳細については後述する。
【００２８】
別のステップでは、電気光学スタック90が形成される。この最初のステップは、図1Bに示されている。別の基板20が提供されるが、この基板は、ガラス基板または高分子薄膜であっても良い。あるいは、製作される電子装置がカラーディスプレイ装置の場合、別の基板20は、カラーフィルタ板であっても良く、この場合、カラーフィルタ板の構造的な剛性を、形成される電気光学スタックの支持に利用することができるという利点が得られる。また本発明の思想から逸脱しないで、別の基板20に加えて、カラーフィルタ板を提供しても良いことは明らかである。
【００２９】
極めて薄い電気光学スタックが必要な場合、例えば視差の影響を最小限に抑制する必要がある用途の場合、別の基板20は、UV感光性剥離ラッカー等の感光性剥離ラッカーを有しても良い。通常の場合、剥離ラッカーは、高分子サポート28に接着され、この高分子サポートは、本実施例の別の基板20に必要な構造上の剛性を付与するため、電気光学スタックの形成の際の別のステップを実施することが可能となる。高分子サポート28は、将来除去されるため、高分子サポート28の厚さは、電気光学スタック90の製作において、別の基板20の構造上な剛性が最適となるように選定することができる。電気光学スタック90の製作が完了すると、感光性剥離ラッカーは、適当な波長の光に露光され、その後、電気光学スタックから高分子サポート28が除去される。別の基板20は、さらに高分子またはゾルゲル等のバリア層（図示されていない）を有しても良く、これにより別の基板20の機械的ロバスト性ならびに／または高分子サポート28を除去した後の、製作される電子装置100の水および／もしくは酸素に対する耐性が向上する。
【００３０】
必要に応じて、インジウムスズ酸化物（ITO）のような導電層22が別の基板20上に成膜されても良く、この層は、形成される電子装置100の共通の電極として機能する。通常ITO層は、電気光学層を劣化させる温度で形成されるため、電気光学層の形成の前にITO層を成膜することは有意である。従って、本発明の方法は、上部−底部電極構造が必要となる電子装置には、特に有意である。電気光学スタック90が液晶材料を含む場合、偏光層24が、ドクターブレード法またはスロットダイコーティング法等の従来の方法を用いて成膜され、配向層26が、別の基板20へのスピンコート法またはフレキソ印刷法等の従来の方法で成膜される。
【００３１】
次のステップでは、別の基板20上に、電気光学材料32と高分子前駆体34の混合物が成膜される。これは、例えば、欧州特許出願第1065553号に記載されているようなドクターブレード法、または未予備公開の英国特許出願UK第0319908.0号および図1cに示されているような、混合物を分離液滴の形態にして成膜を行う印刷法によって実施される。
【００３２】
その後、混合物がUV線のような適当な活性化手段に暴露されることにより、重合反応が開始され、高分子前駆体34が混合物から相分離して、図1dに示すように、（分散した）層状化高分子層44が形成され、層状化高分子層44と別の基板20の間に、電気光学材料32が介在される。
【００３３】
これに限られるものではないが、別の基板上に成膜される電気光学材料と高分子前駆体の混合物の一例には、以下のものがある：
50重量％の液晶混合物、例えばメルク（Merck）社から市販されている混合物E7、この液晶混合物は、電気光学材料32の実施例として使用される；
45重量％の光重合化イソボルニルメタクリレート（サルトマー（Sartomer）社から市販されている）；
4.5重量％のスチルベンジメタクリレート色素：
【００３４】
【化１】
2007519038.tif 000003
これは、本願の参照文献として取り入れられているPCT国際公開WO02／42382号に示されている合成物であり、2つのアクリレートは、高分子前駆体34の実施例として使用される；
シバゲイジー（Ciba-Geigy）社によって市販されているIrgacure  651という商品名の、0.5重量％のベンジルジメチルケタール。
【００３５】
これに限定されるものではないが、未予備公開の英国特許出願第0319908.0号に示されている印刷処理方法は、以下の通りである。評価装置において、別の基板20の実施例としての6×6インチの四角形ガラス担体に、日本JSRエレクトロニクス社からの研磨されたポリイミド整列層AI3046を設置した。別の基板20の寸法は、9インチ小型ディスプレイに合致するように選定した。ただし、印刷処理プロセスは、より大きな寸法のものも同様に可能であり、例えば、高分子膜または高分子基板上の感光性剥離ラッカーのような、別の基板20の他の実施例において実施することもできることに留意する必要がある。別の基板は、1〜30mm／sの間で速度が可変のコンピュータ制御X−Yテーブル上に設置した。
【００３６】
マイクロドロップインクジェット印刷装置を、Ｘ−Ｙテーブル上の所定位置に設置した。マイクロドロップインクジェット印刷装置の分注ヘッドは、片側がノズル状のガラスキャピラリを有し、このキャピラリは、キャピラリ全体に圧力波を生成する管状圧電活性部材で覆われている。圧力波は、キャピラリからの第1の液体の液滴放出のトリガーとなる。この液滴は、40℃において、フィリップス社製TL08UVランプからの0.1mW／cm2の光強度のUV線で30分間露光され、電気光学素子の形成が完了する。UV領域の電磁スペクトルに対して感度を有する感光性剥離ラッカーを使用する場合、電気光学スタックの層状化高分子層を形成するために使用される低強度のUV線によって、剥離ラッカーが活性化されないように留意する必要がある。
【００３７】
UV領域の電磁スペクトルを強吸収する発色団を有する化合物、すなわち前述の例のスチルベンジメタクリレート色素の介在によって、成膜液滴内でUV線強度に勾配が生じる。そのため、重合反応は、UV源と面する液滴の表面で優先的に生じる。
【００３８】
層状化高分子層44、例えば、前述の印刷処理プロセスによって得られる分散した層状化高分子層44、が十分に平坦ではない場合、図1eに示すように、層状化高分子層44の上部には、重合可能なアクリレート層等の平坦化層50がコーティングされ、これにより電気光学スタック90の更なる処理ステップが可能になる。電気光学材料32が液晶材料の場合、そのような更なる処理ステップは、別の偏光層52を成膜するステップを有する。
【００３９】
電気光学スタック90の完成後、例えば図1fに示すような接着層60を用いて、基板10に電気光学スタックを接着することにより、電子装置100が形成される。接着層60は、平坦化層50の上部に設置されても良く、あるいは第2の偏光層52が存在する場合、その上部に設置されても良い。あるいは別の方法として、接着層は、電極構造12を有する基板10の表面全体に設置されても良い。接着層は、粘着性ポリブチルアクリレートのような感圧接着剤、熱硬化性エポキシ系の接着剤、光硬化性アクリレート、嫌気性シアノアクリレートまたは他の従来の接着剤化合物等を有しても良い。
【００４０】
接着層60は、できる限り薄くして、可能であれば導電層22と協働して、電気光学材料32を切り替えるために電極構造12によって印加される必要電圧を最小化することが好ましいことに留意する必要がある。また、接着層60は、電子装置100の接触層との間で、望ましくない化学反応が生じないように留意する必要がある。これは、電子装置100の特性の劣化につながるからである。
【００４１】
この点からは、必ずしも専用の接着層60を使用する必要はないことに留意する必要がある。例えば、電気光学材料と高分子前駆体の混合物に、感圧接着剤であるn−プロピルアクリレートのような接着剤化合物を添加することによって、層状化高分子層44を接着剤として構成しても良い。前述の重合処理プロセスによって、層状化高分子層44内にn−プロピルアクリレートの濃度勾配が生じ、層状化高分子層44の外表面において、n−プロピルアクリレートの濃度が最大となる。これは、別の基板20の主表面の全体に延伸した規則的で平坦な高分子層44が形成される場合、特に有意であることは、当業者には明らかである。そのような平坦な表面は、電気光学スタックと基板10の間に、強固な密着性を得るための必須の条件であるためである。この実施例では、平坦化高分子層44の上部で別の処理ステップを行う必要がないことは明らかである。しかしながら、他の追加層が必要な場合、図1aに示す追加偏光層14のように、基板10の上部にこれらの追加層が成膜されても良い。この場合、極めて薄い電子装置10が得られ、基板10および別の基板20が高分子系である場合、極めて可撓性のある電子装置100が得られるため、この方法は、特に有意である。
【００４２】
専用の接着層60が存在しない電子装置100の別の実施例は、図2に示されている。図2では、電子装置100は、接着剤としての平坦化層50を用いて形成される。接着剤平坦化層50は、（分散した）高分子層44の上部に、アクリレート層を成膜し、接着剤平坦化層50が得られるまで、アクリレートを重合化することによって形成されても良い。粘着性平坦化層50が基板10に接着されてから、アクリレートの重合反応が完了する。電子光学スタック90が液晶材料を含む場合、平坦化層50を基板10に接着する前に、必要な偏光層14が基板10に設置されることは明らかである。
【００４３】
あるいは図3に示すように、偏光層14および24が、基板と別の基板20から除去され、代わりに、電子装置100を挟むように、通常の偏光器102および104が設置されても良い。
【００４４】
前述の実施例は、本発明を限定するものではなく、当業者には、特許請求の範囲の記載から逸脱しないで、多くの別の実施例を設計することができることに留意する必要がある。請求項において、括弧書きで示されたいかなる参照符号も、請求項を限定するものではない。「有する」という言葉は、請求項に記載された素子またはステップ以外のそれらの存在を否定するものではない。素子の前の「一つの」という言葉は、そのような素子が複数存在することを排除するものではない。本発明は、いくつかの固有の素子を有するハードウェアを用いて実施することができる。いくつかの手段を列挙した装置の請求項において、これらのいくつかの手段は、ハードウェアの同一物によっても具体化することができる。ある手段が相互に異なる従属項に記載されているという単なる事実だけで、これらの手段の組み合わせを使用することが有意ではないと解することはできない。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１Ａ】本発明の方法および電子装置の実施例を示す図である。
【図１Ｂ】本発明の方法および電子装置の実施例を示す図である。
【図１Ｃ】本発明の方法および電子装置の実施例を示す図である。
【図１Ｄ】本発明の方法および電子装置の実施例を示す図である。
【図１Ｅ】本発明の方法および電子装置の実施例を示す図である。
【図１Ｆ】本発明の方法および電子装置の実施例を示す図である。
【図２】本発明の電子装置の別の実施例を示す図である。
【図３】本発明の電子装置のさらに別の実施例を示す図である。
【図１Ａ】
2007519038.tif 000004
【図１Ｂ】
2007519038.tif 000005
【図１Ｃ】
2007519038.tif 000006
【図１Ｄ】
2007519038.tif 000007
【図１Ｅ】
2007519038.tif 000008
【図１Ｆ】
2007519038.tif 000009
【図２】
2007519038.tif 000010
【図３】
2007519038.tif 000011
【国際調査報告】
2007519038.tif 000012
2007519038.tif 000013
2007519038.tif 000014