【事件の表示】
　特願２０１２−２２９２１５「グラビア印刷用製版ロールの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　５月　８日出願公開、特開２０１４−　８１４８９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成２４年１０月１６日を出願日とする出願であって、その手続の経緯は、概略、以下のとおりである。
　平成２７年　５月２２日付け：拒絶理由通知書（同年同月２７日発送）
　平成２７年　７月２１日提出：意見書
　平成２７年　７月２１日提出：手続補正書
　平成２７年１１月　４日付け：拒絶査定（同年同月６日送達）
　平成２８年　１月２９日提出：審判請求書
　平成２８年　１月２９日提出：手続補正書
第２　平成２８年１月２９日提出の手続補正書による補正（この手続補正書による補正を、以下、「本件補正」という。）の適否
１　補正の内容
  本件補正は、平成２７年７月２１日提出の手続補正書による補正後（以下、「本件補正前」という。）の特許請求の範囲及び明細書についてするものであって、そのうち特許請求の範囲についての補正は、本件補正前の特許請求の範囲の記載が次の（１）のとおりであったものを、次の（２）のとおりに補正するものであり、特許請求の範囲についての本件補正は、（１）の請求項１〜７を削除し、請求項８〜１４を新たな請求項１〜７とし、引用関係を整理したものであるから、当該補正は、特許法第１７の２第５項１号に掲げる請求項の削除を目的とするものである（下線は、当合議体が付したものである。）。
（１）本件補正前の特許請求の範囲
「　【請求項１】
　メッキ可能な円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成し、前記非レジストパターン部にメッキ可能な金属をメッキせしめてメッキ部を形成し、前記レジストパターン部を除去せしめて凹部を形成し、前記メッキ部と、前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆されてなることを特徴とするグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項２】
　前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されることを特徴とする請求項１記載のグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項３】
　前記メッキ部の厚さが、前記レジストパターン部の厚さ以下であることを特徴とする請求項１又は２記載のグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項４】
　前記被覆したＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項５】
　前記円筒状金属基材が、ＣＦＲＰ材の上に設けられていることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項６】
　前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられていることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項７】
　前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであることを特徴とする１〜６いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロール。
　　【請求項８】
　円筒状金属基材を準備する工程と、前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程と、前記非レジストパターン部にメッキ可能な金属をメッキせしめてメッキ部を形成する工程と、前記レジストパターン部を除去せしめて凹部を形成する工程と、前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程と、を含むことを特徴とするグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項９】
　前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されることを特徴とする請求項８記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項１０】
　前記メッキ部の厚さが、前記レジストパターン部の厚さ以下であることを特徴とする請求項８又は９記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項１１】
　前記被覆したＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項８〜１０いずれか１項項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項１２】
　前記円筒状金属基材が、ＣＦＲＰ材の上に設けられていることを特徴とする請求項８〜１１いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項１３】
　前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられていることを特徴とする請求項８〜１１いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項１４】
　前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであることを特徴とする８〜１３いずれか１項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。」
（２）本件補正後の特許請求の範囲
「　【請求項１】
　円筒状金属基材を準備する工程と、前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程と、前記非レジストパターン部にメッキ可能な金属をメッキせしめてメッキ部を形成する工程と、前記レジストパターン部を除去せしめて凹部を形成する工程と、前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程と、を含むことを特徴とするグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
　　【請求項２】
　前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されることを特徴とする請求項
１
方法。
　　【請求項３】
　前記メッキ部の厚さが、前記レジストパターン部の厚さ以下であることを特徴とする請求項
１又は２
　　【請求項４】
　前記被覆したＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項
１〜３
項
　　【請求項５】
　前記円筒状金属基材が、ＣＦＲＰ材の上に設けられていることを特徴とする請求項
１〜４
　　【請求項６】
　前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられていることを特徴とする請求項
１〜４
ロールの製造方法。
　　【請求項７】
　前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであることを特徴とする
１〜６
第３　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は、概略、「この出願の請求項１〜３，５〜１４に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
引用文献１．特開昭５０−１３１０１号公報
引用文献２．特開２０１０−１０５２１７号公報
引用文献３．特開２００９−９３１７０号公報
引用文献４．国際公開第２００７／１３２７３４号
引用文献５．米国特許第６０４８４４６号明細書
引用文献６．特開平４−２８２２９６号公報 」である。
第４　本件発明
　本件補正によって補正された本件出願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、次のものである。
「円筒状金属基材を準備する工程と、前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程と、前記非レジストパターン部にメッキ可能な金属をメッキせしめてメッキ部を形成する工程と、前記レジストパターン部を除去せしめて凹部を形成する工程と、前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程と、を含むことを特徴とするグラビア印刷用製版ロールの製造方法。」
第５　引用例及びその記載事項
　本件出願の出願前に外国において頒布され、原査定の拒絶の理由に引用文献５として引用された刊行物である、米国特許第６０４８４４６号明細書（公開日：２０００年４月１１日、発明の名称「METHODS AND APPARATUSES FOR ENGRAVING GRAVURE CYLINDERS」、以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が記載されている（下線は、当合議体が付したものである。）。
ア　第１欄１１行〜第１欄１７行
「FIELD OF THE INVENTION
The present invention is related to engraving gravure cylinders, more specifically, the present invention uses a novel combination of imaging and plating to create the desired patterns of text and/or images on 
gravure cylinders for use in gravure cylinder printing
（日本語訳）
「発明の属する技術分野
本発明はグラビアシリンダーを彫刻することに関係しており、より具体的には、本発明は、
グラビアシリンダー印刷で使うグラビアシリンダー
イ　第２欄第１行−第２欄第６０行
「SUMMARY OF THE INVENTION
The present invention overcomes the described limitations of mechanically engraved gravure cylinders by employing methods and apparatuses for engraving gravure cylinders much more rapidly and at a higher resolution while, at the same time, reducing the engraving cost. The embodiments described herein employ a resist that is deposited onto the surface of a gravure cylinder. The resist is capable of being physically and/or chemically changed in response to being exposed to a form of actinic energy, such as a laser beam. The exposed areas of resist allow a material, such as chromium, to be plated onto the surface of the gravure cylinder to form walls that define cells therebetween. In use, the cells contain ink for printing the desired patterns of text and/or images.
・・・
Another embodiment of the present invention uses an electroform plate-up apparatus and method. In this embodiment, the gravure cylinder substrate is coated with a thick layer of thermally-sensitive, electrically-insulating, resist. The thickness of the resist is sufficient to remain in contact with the chromium walls as they are plated up from the gravure cylinder. In one embodiment, a conical laser beam is used to create substantially trapezoidal-shaped areas in the resist coating. As in the previously recited method, the resist layer is exposed to a laser which forms the patterns in the resist corresponding to the text and/or images ultimately desired. The exposed portions of the resist are removed, revealing the outer nickel surface of the gravure cylinder. The cylinder is then placed into the electroplating bath. An electrical current is passed between an electrode containing chromium and the gravure cylinder, causing the chromium to be plated onto the exposed portions of the gravure cylinder. The chromium plated onto the gravure cylinder is plated up to the desired thickness to form the chromium walls. The remaining resist is then removed to expose the desired pattern of cells.」
（日本語訳）
「本発明は、上述された機械的に彫刻されたグラビアシリンダーの制限を、更に速く、そしてより高解像度であり、そして同時に彫刻費用を下げることができるグラビアシリンダー彫刻の方法と装置を用いることにより克服する。ここに記載の実施形態は、グラビアシリンダーの表面に置かれたレジストを使用する。そのレジストはレーザービームのような化学作用のエネルギー形状に露光させることで反応して、物理的及び／又は化学的に変化させることが可能である。レジストの露光された範囲は、クロムのような材料がグラビアシリンダーの表面上にめっきされ、それらの間のセルを明確にする壁を形成する。使用において、セルは所望のパターンのテキスト及び／又は画像を印刷するインクを含む。
・・・
本発明の他の実施形態では電鋳めっき装置と方法を使う。この実施形態では、感熱性を持ち電気絶縁性を持つレジストの厚い層でグラビアシリンダー基板が上塗りされている。レジストの厚さは、クロム壁がグラビアシリンダーからめっきされている時に、クロム壁と接触が保たれる十分な厚みである。１つの実施形態では、コニカルレーザー光線がレジストコーティング中に実質的に台形形状の領域を作るために使用される。前に詳しく説明された方法のように、レジストの層は、最終的に求められるテキスト及び／又は画像に対応するレジスト中のパターンを形成するレーザに露光される。露光された部分のレジストの一部は除去され、グラビアシリンダーの外側のニッケル表面が現れる。そしてシリンダーは電気めっき浴に置かれる。電流はクロムを含む電極とグラビアシリンダーの間を通り、クロムがグラビアシリンダーの露出された部分上にめっきされることを引き起こす。グラビアシリンダー上にめっきされたクロムは、クロム壁を形成するために所望の厚さまでめっきされる。残ったレジストは、セルの望ましいパターンを露出させるために除去される。」
ウ　第３欄第５５行〜第４欄第１０行
「BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
Other objects and advantages of the invention will become apparent upon reading the following detailed description in conjunction with the drawings.
・・・
FIG. 3 is a two-dimensional side view of a portion of a gravure cylinder showing the patterned resist having some areas of the resist removed in accordance with the electroform plate-up method and apparatus.
FIG. 4 is a two-dimensional side view of a portion of the gravure cylinder of FIG. 3 showing the chromium plated-up to the top of the resist prior to removal of the resist.
FIG. 5 is a two-dimensional side view of a portion of the gravure cylinder of FIG. 3 showing the chromium walls subsequent to the removal of the resist. 」
（日本語訳）
「図面の簡単な説明
本発明の他の目的や利点は、図面と共に以下の詳細な説明を読むことで、明らかになる。
・・・
図３は、電鋳めっき方法と装置に従って除去されたレジストのいくつかの領域を備えたパターン化されたレジストを示すグラビアシリンダーの一部分の二次元側面図である。
図４は、レジスト除去前のレジストのトップまでめっきされたクロムを示す図３のグラビアシリンダーの一部分の二次元側面図である。
図５は、レジスト除去期のクロム壁を示す図３のグラビアシリンダーの一部分の二次元側面図である。」
エ　第５欄第４３行〜第６欄第２４行
「Referring now to FIGS. 3, 4 and 5, the electroform plate-up apparatus and method are described. More specifically, FIG. 3 illustrates a portion of a partially patterned or developed gravure cylinder 30. Only a portion of the outer surface 12 of a gravure cylinder 30 is shown. In one embodiment, 
the portion of the outer surface 12 of the gravure cylinder 30 is made of nickel
The surface of the gravure cylinder 30 is coated with a thick layer of thermally-sensitive, electrically-insulating resist 34
The resist 34 is patterned (imaged)
with
infrared laser (thermal laser)
by exposing predetermined areas of the resist 34 to
the beam of a laser
the exposed areas of the resist 36 as being removed while the unexposed areas of the resist 34 remain attached to the outer surface 12 of the gravure cylinder 30
　Referring now to FIG. 4, 
the gravure cylinder 30
 is placed into an electroplating chromium bath
the amount of chromium plated onto the gravure cylinder 12
produces the substantially trapezoidal-shaped chromium walls 44
The remaining resist is
removed to form the open cells 52
the finished gravure cylinder 50 produced according to the electroform plate-up method
（日本語訳）
「次に、図３，４と５について言及すると、電鋳めっき装置と方法が説明されている。さらに具体的に、図３は、部分的にパターン化、もしくは現像されたグラビアシリンダー３０の一部分を示す。グラビアシリンダー３０の外側表面１２の一部分のみが示されている。一つの具体例では、
グラビアシリンダー３０の外側表面１２の部分はニッケル製である
グラビアシリンダー３０の表面は、熱反応性の、電気絶縁性のレジスト３４の厚い層で上塗りされ
レジスト３４は
赤外レーザー（熱レーザー）
レーザービームで
パターン化（画像化）され
レジスト３４のあらかじめ決められた範囲を、
レーザービームにて露光することで
レジスト３６の露光された領域が除去され、同時に、レジスト３４の未露光の領域がグラビアシリンダー３０の外側表面に付着したままである
次に、図４を言及すると、図３に示されているように、
グラビアシリンダー３０は、
電気めっきクロム浴に入れられ
グラビアシリンダー１２上にめっきされるクロムの量
台形状のクロム壁４４を形成する
残りのレジストを除去して開いたセル５２を形成する
電鋳めっき法に従って製造された
グラビアシリンダー５０
オ　第７欄第３４行−第７欄第４４行
「
Materials other than chromium and/or nickel may be used to form the outer surface and/or the walls
a nickel or copper wall may be finished (coated) with, for example, a chromium or chromium-alloy layer to provide a hard and durable surface
alternative methods to plating may be used to deposit and remove the layers of material, including vacuum deposition, CVSD, plasma etching and grinding
（日本語訳）
「
クロム及び／又はニッケル以外の物質を使用して、外側の表面及び／又は壁を形成することができる
ニッケル又は銅の壁は、硬く、耐久性のある表面を提供するために、例えばクロムやクロム合金層で仕上げ(上塗り)される。
物質の層を堆積及び除去するために、めっきの代替手法を使用することができ、これには真空蒸着、ＣＶＳＤ、プラズマエッチング及び研磨が含まれる
カ 「ＦＩＧ．３
」
キ　「ＦＩＧ．４
」
ク　「ＦＩＧ．５
」
第６　引用発明
　上記記載事項（特に、ア、エ及びカ〜クのＦＩＧ．３〜５）からみて、引用例１には、電鋳めっき法に従ってグラビアシリンダー印刷で使うグラビアシリンダーを製造する方法として、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「グラビアシリンダーの外側表面の部分はニッケル製であり、
　グラビアシリンダーの表面は、熱反応性の、電気絶縁性のレジストの厚い層で上塗りされ、
　レジストは、レジストのあらかじめ決められた範囲を、赤外レーザー（熱レーザー）ビームにて露光することで、パターン化（画像化）され、
　レジストの露光された領域が除去され、同時に、レジストの未露光の領域がグラビアシリンダーの外側表面に付着したままであり、
　グラビアシリンダーは、電気めっきクロム浴に入れられ、
　グラビアシリンダー上にクロムがめっきされ、台形状のクロム壁を形成し、
　残りのレジストを除去して開いたセルを形成する、
　電鋳めっき法に従ってグラビアシリンダー印刷で使うグラビアシリンダーを製造する方法。」が記載されている。
第７　対比・判断
１　本件発明と引用発明とを対比すると、以下のとおりとなる。
（１）「シリンダー」は「円筒」を意味するから、引用発明の「グラビアシリンダー」は、円筒形状を有する。
　引用発明の「グラビアシリンダー」は「ニッケル製」であるから、引用発明の「グラビアシリンダー」は金属からなるものである。
　また、引用発明の「グラビアシリンダー」は、機能的にみて、「基材」ということができる。
　そうすると、引用発明の「グラビアシリンダー」は、円筒形状を有し、金属からなる基材であるから、本件発明の「円筒状金属基材」に相当する。
　また、引用発明においては、まず「グラビアシリンダー」を準備することが必要なことは自明のことであるから、引用発明は、本件発明の「円筒状金属基材を準備する工程」を備えている。
（２）引用発明の「熱反応性の、電気絶縁性のレジスト」は、「レジストのあらかじめ決められた範囲を、赤外レーザー（熱レーザー）ビームにて露光することで、パターン化（画像化）され、レジストの露光された領域が除去され、同時に、レジストの未露光の領域がグラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」となるものである。
　そうすると、引用発明の「熱反応性の、電気絶縁性のレジスト」は、赤外線レーザー（熱レーザー）ビームにより露光された部分が熱反応により変化し、レジストの加熱部分と非加熱部分とに現像液による溶解度に差が生じ、現像時にレジストの露光領域が除去され、レジスト未露光の領域が残され、レジストがパターン化（画像化）されるものであることが把握でき、技術的には、「サーマルレジスト」であることが分かる。
　本件出願の願書に最初に添付された明細書の発明の詳細な説明（段落【００４１】，【００４５】）によれば、実施例１，２において、塗布・乾燥、レーザー露光・現像され、所定のパターンが形成される「感光膜」として、「サーマルレジスト：ＴＳＥＲ−ＮＳ（シンク・ラボラトリー製）」を用いていることから、本件発明における「フォトレジスト」には、「サーマルレジスト」が含まれることが分かる。
　してみると、引用発明の「熱反応性の、電気絶縁性のレジスト」は、本件発明の「フォトレジスト」に相当する。
（３）引用発明において、「グラビアシリンダーの表面は、熱反応性の、電気絶縁性のレジストの厚い層で上塗りされ」る。 
　そうすると、上記（１）と（２）より、引用発明の「グラビアシリンダーの表面は、熱反応性の、電気絶縁性のレジストの厚い層で上塗りされ」の構成は、本件発明の「前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し」の構成に相当する。
（４）引用発明において、「レジストは、レジストのあらかじめ決められた範囲を、赤外レーザー（熱レーザー）ビームにて露光することで、パターン化（画像化）され、レジストの露光された領域が除去され、同時に、レジストの未露光の領域がグラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」となる。
ア　上記より、引用発明においては、「レジスト」を、「赤外レーザー（熱レーザー）ビームにて」「露光」していることが把握される。
イ　また、上記の「レジスト」が「パターン化（画像化）され」、「レジストの露光された領域が除去され、同時に、レジストの未露光の領域がグラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」とすることは、技術的には、「レジスト」を「現像」しているといえる。
ウ　引用発明においては、「レジスト」が「パターン化（画像化）され」、「レジストの露光された領域が除去され、同時に、レジストの未露光の領域がグラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」となることから、「グラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」の「レジストの未露光の領域」には、「レジスト」の「パターン」が作製されていることが把握できる。
　さらに、「レジスト」は、「グラビアシリンダーの表面」に「上塗りされ」たものであるから、「除去され」た「レジストの露光された領域」は、「グラビアシリンダーの表面」が露出した領域となることが把握できる（図３からも、除去されたレジストの露光された領域において、グラビアシリンダー１２の表面が露出していることが把握できる。）。
エ　上記（２）と上記ウとからみて、引用発明の「グラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」の「レジストの未露光の領域」は、本件発明における「レジストパターン部」に相当する。
オ　上記（２）と上記ウ，エとからみて、引用発明における、「レジストの未露光の領域」以外の、「除去され」た「レジストの露光された領域」は、本件発明の「非レジストパターン部」に相当する。
カ　上記ア〜オ及び上記（１）からみて、引用発明は、本件発明の「前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程」を備えている。
（５）引用発明において、「グラビアシリンダーは、電気めっきクロム浴に入れられ、グラビアシリンダー上にクロムがめっきされ、台形状のクロム壁を形成」されている。
　　
ア　引用発明の「クロム」は、本件発明の「メッキ可能な金属」に相当する。
　
イ　引用発明の「台形状のクロム壁」は、本件発明の「メッキ部」に相当する。
ウ　引用発明においては、「グラビアシリンダー上にクロムがめっきされ」るところ、クロムがめっきされるのは、グラビアシリンダーが露出した部分であるから、上記（４）オから、「前記非レジストパターン部」である。
エ　上記（５）ア〜ウから、引用発明の「グラビアシリンダー上にクロムがめっきされ、台形状のクロム壁を形成」することは、本件発明の「前記非レジストパターン部にメッキ可能な金属をメッキせしめてメッキ部を形成する工程」に相当する。
（６）引用発明は、「残りのレジストを除去して開いたセルを形成する」。
ア　引用発明の「開いたセル」は、本件発明の「凹部」に相当する。
イ　引用発明の「残りのレジスト」は、「グラビアシリンダーの外側表面に付着したまま」の「レジストの未露光の領域」であり、上記（４）オから、本件発明の「レジストパターン部」に相当する。
ウ　上記（６）ア〜イから、引用発明の「残りのレジストを除去して開いたセルを形成する」ことは、本件発明の「前記レジストパターン部を除去せしめて凹部を形成する工程」に相当する。
（７）上記（１）〜（６）から、引用発明の「グラビアシリンダー印刷で使うグラビアシリンダー」は、本件発明の「グラビア印刷用製版ロール」に相当し、引用発明の「電鋳めっき法に従ってグラビアシリンダー印刷で使うグラビアシリンダーを製造する方法」は、本件発明の「グラビア印刷用製版ロールの製造方法」に相当する。
２　一致点・相違点
　上記１（１）〜（７）から、本件発明と引用発明とは、
「円筒状金属基材を準備する工程と、前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程と、前記非レジストパターン部にメッキ可能な金属をメッキせしめてメッキ部を形成する工程と、前記レジストパターン部を除去せしめて凹部を形成する工程と、を含むことを特徴とするグラビア印刷用製版ロールの製造方法。」の点で一致し、以下の点で相違している。
（相違点）
　本件発明は、「前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程」を含むのに対して、
　引用発明は、「前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程」を含んでいない点。
３　判断
　上記相違点について検討する。
　
（１）上記「第５オ」によれば、引用例１には、引用発明のグラビア印刷用製版ロールの製造方法において、（ａ）クロム及び／又はニッケル以外の物質を使用して、外側の表面及び／又は壁を形成することができること、壁をニッケルや銅とした場合に、硬く、耐久性のある表面を提供するために、例えばクロムやクロム合金層で仕上げ（上塗り）することや、（ｂ）物質の層を堆積するために、めっきの代替手法として、真空蒸着、ＣＶＳＤ（化学蒸気合成（ＣＶＳ）・化学蒸着（ＣＶＤ））等を使用できることが記載されている。
　また、グラビア印刷におけるグラビア製版ロールの製造に係る技術分野において、六価クロムは毒性を有し、作業の安全性維持にコストがかかることや、メッキ液の廃液処理や、土壌・河川の汚染等公害発生の問題があるため、クロム層の使用は好ましくなく、世界的に禁止される方向にあることは、例えば、下記エ〜カ（特に、下線部を参照。）のとおり、本件出願前に当業者が有している技術常識である。
　そして、本件出願前に、表面にグラビアセル（凹部）を形成したグラビア印刷用製版ロールにおいて、グラビアセル（凹部）を含めて、製版ロールの表面全体をダイヤモンドライクカーボン層、二酸化珪素膜又はクロムめっき層からなる強化被覆層で被覆することは、例えば、下記ア〜ウ（特に、下線部を参照。）のとおり周知技術である。
　してみると、引用発明において、上記「第５オ」に記載の上記示唆（ａ）及び（ｂ）や、上記六価クロムに関する当業者の技術常識に基づき、壁（メッキ部）を、クロムに変えて、ニッケル又は銅からなる構成とし、かつ、硬く、耐久性のある表面を得るために、グラビアセル（凹部）を含めて、グラビア版の表面全体を被覆する強化被覆層として上記周知のダイヤモンドライクカーボン層、二酸化珪素被膜又はクロムめっき層の内から、ダイヤモンドライクカーボン層を採用して、ニッケル又は銅のメッキ部からなる壁とレジストパターン部の除去された部分を被覆するようにダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）で被覆する工程を備えた構成とすることは、クロムメッキ層に付随する上記の作業の安全性維持コストや廃液処理・公害発生の問題、各種の強化被覆層の採用に付随する製造・成膜工程の変更（例えば、ダイヤモンドライクカーボン層に付随する中間（下地）層形成工程の増加による成膜工程の変更）等、そのコスト及び公害発生などの考慮すべき技術的事項を総合的に勘案した上で、当業者が容易に想到し得ることである。
　また、本件発明が奏する作用・効果（本件明細書の段落【０００２】，【０００４】，【０００７】，【００２８】等）については、引用発明も、セルの形成に際し、メッキを使用していることから、引用発明も、本件発明と同様エッチングを使用しておらず、サイドエッチング・オーバーエッチングの問題が生じないという本件発明の作用・効果を当然に奏するものと認められ、また、毒性の高い六価クロムを用いないため、作業の安全維持のためのコスト、公害発生の点で優れているという本件発明の作用・効果についても、上記の当業者の技術常識から自明なことであるから、本件発明が奏する作用・効果は格別のものとは認められない。
＜周知技術を示す引用例＞
ア　特開２００９−９３１７０号公報（原査定において周知技術を示すために引用された引用文献３。以下、「引用例２」という。）
「【００２８】
　本発明のクッション性を有するグラビア版の第１及び第２の態様は、前記グラビアセルを形成した該ネガ型感光性組成物層の表面に形成された強化被覆層をさらに含むのが好ましい。
前記強化被覆層としては、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）層、二酸化珪素被膜又はクロムめっき層を用いることができる
「【０１１７】
　ついで、図１（ｅ）に示すように、
ネガ型感光性組成物層１２のセル１４が形成された表面に強化被覆層１８を形成する（図２のステップ１０６）。これによって、グラビア製版ロール（グラビア版）が完成する
【０１１８】
　
前記強化被覆層１８としてはＤＬＣ層、二酸化珪素被膜又はクロムめっき層を適用することができる。
　前記ＤＬＣ層はＣＶＤ法又はスパッタ法によって好適に形成される。前記ＤＬＣ層の厚さは０．１〜１０μｍを適用することができる。
　また、前記クロムメッキ層は常法により形成することができる。前記クロムメッキ層の厚さは０．１〜１０μｍ程度が好適である。」
「【０１５５】
　このグラビアセルを形成した被製版ロールのクッション層の上面にスパッタリング法によってタングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
　タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：６０分、成膜厚さ：０．１μｍ。
【０１５６】
　次に、タングステン層の上面に炭化タングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
　タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガスを徐々に増加、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：６０分、成膜厚さ：０．１μｍ。
【０１５７】
　さらに、炭化タングステン層の上面にスパッタリング法によって
ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被膜を被覆形成した
　ＤＬＣ試料：固体カーボンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：１５０分、成膜厚さ：１μｍ。
　このようにして、グラビア製版ロール（グラビアシリンダー）を完成した。」
「【０１６１】
（実施例１０）
　実施例１と同様の手順で被製版ロールのクッション層表面にグラビアセルを形成した。次に、グラビアセルが形成されたクッション層の表面に
二酸化珪素被膜の形成を以下のように行った
「【０１６２】
（実施例１１）
　
ＤＬＣ膜（タングステン層及び炭化タングステン層を含めて）をスパッタリングで形成した替わりにプラズマＣＶＤ法によって０．１μｍのＡｌ層及び１μｍのＤＬＣ層を形成した
【０１６３】
（実施例１２）
　
強化被覆層としてＤＬＣ層（タングステン層及び炭化タングステン層を含めて）の替わりに常法によってクロムメッキ層を形成した
イ　国際公開第２００７／１３２７３４号（原査定において周知技術を示すために引用された引用文献４。以下、「引用例３」という。）
「[0002]　グラビア印刷では、グラビア製版ロール（グラビアシリンダー）に対し、製版情報に応じた微小な凹部（グラビアセル）を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビア製版ロールにおいては、版母材としてのアルミニウムや鉄など金属で形成された重量のある金属製中空ロールの表面に版面形成用の銅メッキ層（版材)を設け、
該銅メッキ層にエッチングによって製版情報に応じ多数の微小な凹部（グラビアセル)を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版（版面の製作）が完了する
「[0012]　本発明におけるＣＦＲＰ（Ｃａｒｂｏｎ Ｆｉｂｅｒ Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）とは、炭素繊維強化樹脂（カーボンＦＲＰ）のことを指す。
前記表面強化被覆層としては、クロムメッキ被覆層などの従来の表面強化被覆層が適用できる。また、クロムメッキ被覆層の他にも、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被覆層やペルヒドロポリシラザンを原料として形成した二酸化珪素被覆層などが適用可能である。
「[0043]　
表面強化被覆層20としては、ＤＬＣ被覆層やペルヒドロポリシラザン溶液を原料として形成した二酸化珪素被覆層などを適用することが可能であり、また、グラビア製版ロールの表面強化被覆層として従来周知のクロムメッキ被覆層を適用することもできる。
「[0065] (実施例3) 
　
表面強化被覆層として二酸化珪素被覆層の代わりに
ＤＬＣ被覆層を形成
実施例1の二酸化珪素被覆層の代わりにクロムメッキ被覆層を常法により形成
ウ　特開平４−２８２２９６号公報（原査定において周知技術を示すために引用された引用文献６。以下、「引用例４」という。）
「【０００７】
画像形成の後、耐刷力を向上するため、銅層表面に硬質クロム層を形成する。
「【００２１】本発明にかかる
硬質炭素状薄膜２とは、炭素原子から構成される無定形ダイヤモンド状で、ｓｐ
３
軌道を有するダイヤモンドと類似のＣ−Ｃ結合を有し、
エ　特開２００７−１１８５９３号公報
「【００１８】
　また、グラビア印刷では、グラビア製版ロール（グラビアシリンダー）に対し、製版情報に応じた微小な凹部（グラビアセル）を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビア製版ロールにおいては、アルミニウムや鉄などの金属製又は炭素繊維強化樹脂（ＣＦＲＰ）等の強化樹脂製中空ロールの表面に版面形成用の銅メッキ層（版材）を設け、該銅メッキ層にエッチングによって製版情報に応じ多数の微小な凹部（グラビアセル）を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版（版面の製作）が完了する。しかし、
クロムメッキ工程においては毒性の高い六価クロムを用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる他、公害発生の問題もあり、クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されている
オ　特開２００４−２０２８８８号公報
「【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
クロムメッキは六価クロムという有害な化合物になるので、グラビア製版工場における作業環境への悪影響を与える原因になっている。クロムメッキ液の廃液処理は容易でなく、回収業者に高コストで引き取ってもらっていた。クロムメッキ液の廃液処理装置の故障事故等により中水に濃厚なクロム廃液が入り込み、土壌や架線の汚染等の惧れがある。
【０００４】
クロムメッキを行なうことは好ましくなく、世界的に禁止される方向にあり、従って、グラビア製版ラインからクロムメッキ工程
を排除したい
カ　特開２０１０−１３７５４０号公報　
「【０００６】
　さて、印刷用ロールのうち、最も一般的なグラビア製版ロールの場合、アルミニウム合金や鋼鉄製の中空ロールの表面に対して、版面形成用の銅めっき層を設けた後、さらにその表面に硬質クロムめっきを施すことにより、エッチングされた銅めっき層の印刷力を向上させている。但し、
硬質クロムは通常、６価クロムを含むめっき浴を使用することから、作業の安全性とともに、環境汚染源となることが指摘されており、好ましいものではない。
【０００７】
　この対策として従来、特許文献１〜４では、基本上の画像形成面（印刷パターン溝）であるエッチングされた銅めっき層の表面に対して、クロムめっきを施工するのに代えて、ダイモンドカーボン膜（以下、「ＤＬＣ膜」という）を被覆する方法が提案されている。また、特許文献５〜７では、中空ロールの表面にゴムや樹脂層を形成した後、これを印版としてその面に彫刻を施し、その上にＤＬＣ膜を形成したり、また、特許文献８では、エッチングされた銅めっき層へのＤＬＣ膜の密着性を向上させるため、銅めっき層の表面にＷ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒなどの金属とその炭化物などをスッパタリング法によって、１μｍ未満の層を形成した後、ＤＬＣ膜を被覆する技術などの提案がある。」
（２）　請求人の主張について
ア　審判請求書において、請求人は、進歩性に関し、「（２−１−８）」「（ｉｉ）」において、「上記した引用文献３（ネガ型感光性組成物層１２のセル１４を強化するために強化被覆層（ＤＬＣ層、二酸化珪素被膜、クロムめっき層）で被覆するもの）、引用文献４（グラビアセル１８を形成した銅メッキ層の表面を強化するために強化被覆層（ＤＬＣ層、二酸化珪素被膜、クロムめっき層）で被覆するもの）及び引用文献６（シリンダー状金属基体１１表面に画像形成用金属層、例えば銅層、を形成し、その上に画像（グラビアセル）をエッチング法等によって形成し、さらに強化被覆層（硬質炭素状薄膜２、即ちＤＬＣ層）を形成するもの）の記載内容からは、ＤＬＣ層を利用したグラビア版における一般的な強化被覆層の形成はあるいは周知技術と言えるかもしれませんが、本願請求項１記載の発明の構成要素（Ｅ）「前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程」においてはその被覆対象が引用文献３、４及び６の被覆対象とは全く別異であり、被覆目的も明らかに区別可能であって、構成要素（Ｅ）の創出には発明的行為があったものといえるもので、想到容易であるとは言えないものと思料します。」、「しかしながら、構成要素（Ｅ）を採用することによって従来にない本願発明特有の効果が達成されている以上、構成要素（Ｅ）自体が想到容易とは言えないし、また構成要素（Ｅ）を必須の構成要素とした本願請求項１記載の発明が特許性（進歩性）を有することは明らかであると思料します。」、「上記した議論から明らかなように、本願請求項１記載の発明の構成要素（Ｅ）「前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程」は想到容易とは言えず、また引用文献１〜６をどのように組み合わせてみても構成要素（Ｅ）はどの文献にも記載されておりませんので、当業者といえども引用文献１〜６の記載から本願請求項１記載の発明を想到することは容易にはなしえないものと思料します。」旨主張している。
　しかしながら、「第７　３（１）」において上述したように、引用例１には、引用発明のグラビア印刷用製版ロールの製造方法において、クロム及び／又はニッケル以外の物質を使用して、外側の表面及び／又は壁を形成することができること、壁をニッケル又は銅とした場合に、硬く、耐久性のある表面を提供するために、物質を上塗り・堆積することが示唆されているのであり、引用例１に記載の上記示唆や上記六価クロムに関する当業者の技術常識に基づき、引用発明において、壁（メッキ部）を、ニッケル又は銅からなる構成とし、かつ、硬く、耐久性のある表面を提供するために、強化被覆層として周知のものの中から、ダイヤモンドライクカーボンを選択して、「前記メッキ部と前記レジストパターン部の除去された部分を被覆するようにＤＬＣで被覆する工程」を備えた構成とすることは、当業者であれば容易になし得ることであり、また、「従来にない本願発明特有の効果」も、上述のとおり格別なものではない。
イ　また、請求人は、「２−１−９」の「（ｉｖ−ｉｉ）」において、
「上述したように、引用文献３は３種の強化被覆層を教示しているもので、本願発明においてはＤＬＣ層を被覆層として採用することにより、引用文献１（昭和４８年（１９７３年）出願、昭和５０年（１９７５年）公開）及び引用文献５（１９９８年出願、２０００年特許）に開示された構成では、メッキ層部分が強度に欠けるために実用化が困難であったところ、本願発明によって初めて実現されたように、ＤＬＣ層によってメッキ層とレジストパターンの除去された部分を被覆することによってその実用化が可能となったもので、このような著大な効果が達成されたことを考慮すれば、引用文献３に開示された３種の強化被覆層のうちの一つであるＤＬＣ層を選択し限定すること自体が十分発明に値するものであると思料します。また本願発明の出願日（２０１２年）からみて、引用文献１の出願日から３９年経過しかつ公開日から３７年経過し、引用文献５の出願日から１４年経過しかつ特許日から１２年経過していることを考慮すると、引用文献１や引用文献５の技術が考案されたにしてもその改良実用化については長期間進展がなく放置されていたもので、本願発明におけるようなＤＬＣ層の適用が行われることによって初めてその実用化が図られたものであってこの点からも本願発明は十分なる進歩性を備えているものと思料します。
　また上述したように、引用文献４は３種の強化被覆層を教示しているもので、本願発明においてはＤＬＣ層を被覆層として採用することにより、引用文献１（昭和４８年（１９７３年）出願、昭和５０年（１９７５年）公開）及び引用文献５（１９９８年出願、２０００年特許）に開示された構成では、メッキ層部分が強度に欠けるために実用化が困難であったところ、本願発明によって初めて実現されたように、ＤＬＣ層によってメッキ層とレジストパターンの除去された部分を被覆することによってその実用化が可能となったもので、このような著大な効果が達成されたことを考慮すれば、引用文献４に開示された３種の強化被覆層のうちの一つであるＤＬＣ層を選択し限定すること自体が発明十分発明に値するものであると思料します。また本願発明の出願日（２０１２年）からみて、引用文献１の出願日から３９年経過しかつ公開日から３７年経過し、引用文献５の出願日から１４年経過しかつ特許日から１２年経過していることを考慮すると、引用文献１や引用文献５の技術が考案されたにしてもその改良実用化については長期間進展がなく放置されていたもので、本願発明におけるようなＤＬＣ層の適用が行われることによって初めてその実用化が図られたものであってこの点からも本願発明は十分なる進歩性を備えているものと思料します。
　なお、出願人は、審査基準における「審査官は、商業的成功、長い間その実現が望まれていたこと等の事情を、進歩性が肯定される方向に働く事情があることを推認するに役立つ二次的な指標として参酌することができる。（以下省略）」という記述を基として、本願発明が長い間その実現が望まれていた技術でありかつ製品として好評をえていることから、原審審査官が主たる引用文献として挙げた引用文献１及び５の技術の完成から長期間が経過している点を主張したものであります。」旨主張している。
　しかしながら、「第７　３（１）」において上述したように、引用例１には、壁（メッキ部）に対して、硬く、耐久性のある表面とするために、物質の層を上塗り・堆積するということが既に開示され、六価クロムの使用に伴う安全性維持コスト、公害対策等の問題点も当業者にとって技術常識であり、本件発明の構成とすることが、当業者であれば容易になし得ると認められることから、仮に、請求人が主張する「本願発明が長い間その実現が望まれていた技術でありかつ製品として好評をえている」という事情が参酌できたとしても、進歩性が肯定されるものではない。
ウ　上記ア及びイより、請求人の主張を採用することができない。
（３）　まとめ
　したがって、本件発明は、引用例１に記載された発明及び引用例２〜４に例として記載された周知技術に基づいて、本件出願の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
第８　むすび
　以上のとおり、本件発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、本件出願の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。