【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４８７８６６０号発明「エンボス模様を有する長尺材の製造方法」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
第１　請求
　
　特許第４８７８６６０号（設定登録時の請求項の数は４。）の請求項１に係る発明についての特許を無効とする，審判費用は被請求人の負担とする旨の審決を求める。
　 
第２　主な手続の経緯等
　
　１　被請求人は，発明の名称を「エンボス模様を有する長尺材の製造方法」とする特許第４８７８６６０号の請求項１にかかる特許（以下，「本件特許」という。）の特許権者である。 
　
　本件特許は，平成２３年９月１２日に出願された特許出願（特願２０１１−１９８４４１号）に係るものであり，平成２３年１２月９日に設定登録されたものである。 
　
　２(1)　請求人らは，平成２６年３月３１日，本件特許について特許無効審判（無効２０１４―８０００５４号，以下「第一次特許無効審判」という。）を請求し，これに対して被請求人は，平成２６年６月１６日に答弁書を提出した。 
　
　　(2)　審判長は，平成２６年７月８日付けで両当事者に対し口頭審理における審理事項を通知し（審理事項通知書），これに対して，被請求人は同年８月２０日に，請求人らは同月２１日に，口頭審理陳述要領書を提出した。さらに，請求人らは，同年９月４日に，上申書を提出した。
　
　　(3)　平成２６年９月４日，請求人代理人ら，被請求人会社代表者らの出頭のもと，第１回口頭審理が行われ，以後，審理は書面審理とするものとされ，被請求人は，同月１８日に上申書を提出した。
　
　３　平成２６年１０月７日付けで特許法第１６４条の２第１項所定の審決の予告がされた。その際，同条２項の相当の期間として６０日が指定された。
　
　４(1)　被請求人は，平成２６年１１月２８日，訂正請求書を提出して，特許第４８７８６６０号に係る明細書及び特許請求の範囲の訂正を請求した。
　
　　(2)　審判長は，請求人らに対し，平成２６年１２月９日付けで，上記(1)の訂正請求に対する意見の有無を確認したところ，請求人らは，平成２７年１月９日，審判事件弁駁書を提出した。
　
 　 (3)　審判長は，上記(2)の請求人らによる弁駁書の内容を確認し，平成２７年１月１６日付けで，請求の理由の補正を許可するとの補正拒否の決定をすると共に，被請求人に対し，上記弁駁書に対する答弁書を提出する機会を与えた。
　
　　(4)　被請求人は，平成２７年２月１３日，訂正請求書（以下，「本件訂正請求書」という。）を提出して，特許第４８７８６６０号に係る明細書及び特許請求の範囲の訂正（以下「本件訂正」という。）を請求した。
　
　　(5)　審判長は，請求人らに対し，平成２７年２月２３日付けで，本件訂正に対する意見の有無を確認したところ，請求人らは，平成２７年３月２６日，審判事件弁駁書を提出した。
　 　
　５(1)　合議体は，平成２７年６月２６日付けで「請求のとおり訂正を認める。本件審判の請求は，成り立たない。」との審決をした。
  　
　　(2)　請求人らは，平成２７年８月３日，上記審決を不服として，知的財産高等裁判所に出訴した（平成２７年（行ケ）１０１５１号）。
　
　６　請求人らは，平成２７年１２月２日，本件特許について，特許無効審判（無効２０１５−８００２２０号，以後「本件無効審判」という。）を請求した。
　
　７　請求人らは，平成２７年１２月１０日，第一次特許無効審判に係る知的財産高等裁判所への請求について，請求の放棄を行った。これにより，第一次特許無効審判についての審決は確定したので，当該第一次特許無効審判において請求された本件訂正についても確定した。
　
　８　合議体は，被請求人に対して，本件無効審判の請求書を送付したところ，被請求人は，平成２８年２月１２日，答弁書を提出した。 
　
　９　審判長は，平成２８年４月６日付けで両当事者に対し口頭審理における審理事項を通知し（審理事項通知書），これに対して，被求人らは同年５月１９日，被請求人は同月２０日，口頭審理陳述要領書を提出した。
　
　１０　平成２８年６月２日，請求人代理人ら，被請求人会社代表者らの出頭のもと，第１回口頭審理が行われた。
　
第３　本件発明の要旨
 
　上記第２のとおり第一次無効審判事件は確定したから，審決が判断の対象とすべき特許に係る発明は，本件訂正において訂正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである（以下，「本件発明」という。）。
 
　「加熱されたエンボスロールとその受けロール間に長尺材を通過させることにより，前記エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部を長尺材表面を押圧し，上下方向から挟圧することによって長尺材表面に凹部を部分的に形成させる長尺材の製造方法であって，
前記エンボスロールとその受けロール間を，テンションを付加させながら直線状に長尺材を通過させ，長尺材表面の光沢度を確認することによって，
長尺材が前記エンボスロールを通過する際に，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにすることを特徴とするエンボス模様を有する長尺材の製造方法。」
　 
第４　当事者の主張
　
　１　無効理由に係る請求人らの主張
　
　　本件発明は，下記(1)〜(4)のとおりの無効理由があるから，特許法第１２３条第１項第２号に該当し，無効とすべきものである（審判請求書，口頭審理陳述要領書，第一回口頭審理調書，及び主張の全趣旨。）。なお，請求人らは，第一回口頭審理において，本件訂正前の特許についての無効にすべきである理由に関する主張を撤回している。
 
　　また，証拠方法として書証を申出，下記(5)のとおりの文書（甲１〜甲１０）を提出する。
　
　　(1)　無効理由１（進歩性欠如について）
　
　　本件発明は，甲第１号証を主引用例とし，甲第４号証に記載の技術事項を組み合わせることで，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない発明である。
　
　　(2)　無効理由２（進歩性欠如について）
　
　　本件発明は，甲第２号証を主引用例とし，甲第４号証に記載の技術事項を組み合わせることで，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない発明である。 
　
　　(3)　無効理由３（進歩性欠如について）
 
　　本件発明は，甲第３号証を主引用例とし，甲第４号証に記載の技術事項を組み合わせることで，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない発明である。
　
　　(4)　無効理由４（新規事項の追加について）
　
　　本件発明は，本件訂正により，新規事項の追加がなされているので，特許法第１２３条第１項第８号（準用される特許法第１２６条第５項）の規定により特許を受けることができない発明である。
　
　　(5)　証拠方法（なお，甲１〜１０は，本件特許に係る出願の前に頒布された刊行物であると認められる。）
　
　　・甲１　国際公開第９８／１８９９０号　
　　・甲２　特開２００８−１６９５０５号公報　
　　・甲３　特開２００８−２１４８２２号公報　
　　・甲４　国際公開第２００６／１６００６号　
　　・甲５　特開２００９−２３３９５６号公報　
　　・甲６　特開２００５−１０５４５９号公報　
　　・甲７　特開２００９−１５５７９１号公報　
　　・甲８　特開２０１０−１８０１２号公報　
　　・甲９　特許第４３３８５７８号公報　
　　・甲１０　特開２００９−１９６０９５号公報
　　  
　２　被請求人の主張
　
　　本件審判の請求は成り立たない，審判費用は請求人らの負担とする旨の審決を求める。請求人ら主張の無効理由は，いずれも理由がない。
　
第６　当合議体の判断
　
　当合議体は，本件特許について，以下述べるように，無効理由１〜４はいずれも理由がなく，よって本件特許を無効とすることはできないと解する。
　
　１　本件発明の要旨
　
　　上記第４で認定のとおりである。
　
　２　証拠について
　
　　(1)　甲１の記載
　
　　甲１には，次の記載がある。（なお，原文は英語であり，訳文は請求人らが作成したとおりのものと合議体が認めた。また，下線については，当審において付与した。以下同じ。）
　
　　ア　「布張りされ，エンボス加工された布地の製造において，業界を悩ませる１つの共通な問題点は，パイル表面がエンボスされたときに生じるテカリのある，光沢のある，平坦な領域に関するものである。これらのテカリのある，光沢のある，平坦な表面は，布地を安っぽく見せ，材料の全体的な価値を低下させる。通常は，エンボス加工された物品を湿式又は乾式の処理によりさらに処理するか，あるいは，エンボスの美しい領域のみを見せる設計とすることにより，これらのテカリのある，光沢のある，平坦な領域を避けようとする試みがなされている。」（第３頁第２４行〜第２９行）
　
　　イ　「これらのテカリのある平坦領域を有する布の問題点は，エンボス加工中に用いられる高温及び圧力が合成繊維を可塑化してテカリのある領域を生じさせるため，合成繊維を用いるフロック加工された布において特に大きな問題となっている。また，織布，編布，又はタフト加工されたパイル布をエンボス加工する際に，布地は，当初，不規則なパイル表面領域又はテクスチャを有した状態で形成され得るが，これをエンボス加工すると，望ましくないテカリを減少させる。」（第４頁第３行〜第８行）
　
　　ウ　「本発明の目的はまた，エンボスされたパターンにおいて望ましくないテカリ領域をなくすテクスチャを背景中に有する，非常に柔らかな手触りを得ることにある。」（第４頁第１３行〜第１５行）
　
　　エ　「本発明の好ましい形態においては，好ましくは１平方ヤードあたり６．５〜９．０オンスオーダーの総重量，好ましくは０．６〜３．５ＤＰＦ（フィラメントあたりのデニール）オーダーのデニールを有する布について１平方ヤードあたり１．０〜３．５オンスオーダーのパイル重量を有し得る，エンボス加工されたフロック布であって，シリンダ又はロール上の切削工具又は酸エッチングによる彫刻パターンにより形成される背景と同シリンダ又はロール上のルータ加工による彫刻パターンにより形成される前景とを有するパターンをなすようにエンボス加工されたフロック布が提供される。」（第５頁第２７行〜第６頁第２行）
　 
　　オ　「図１は，本発明に従い，本発明の特徴を実現する，典型的なフロック布を示す。フロック布１は，フロック布を形成するための従来の手段を用いて形成され得る。このようなフロック布は，通常，ナイロンパイル面２と，接着層４及び基材又はバッカー層６とからなり得る。パイル面２は，例えば，パイル重量が通常は１平方ヤードあたり１．０〜３．５オンス，繊維デニールが約０．６〜３．５ＤＰＦの範囲の１００％ナイロンファイバーからなっていてもよい。従来のアクリルポリマー接着剤であり得る接着層４は，通常，１平方ヤードあたり２．０〜３．０オンスの均一の厚さで適用されてもよく，基材は，１平方ヤードあたり３．０〜３．５オンスオーダーの重量を有するポリエステル６５％・綿３５％の混紡生地からなっていてもよい。布構成要素の様々なパラメータは，フロック部分の重量，接着剤重量，又は基材重量を変更することにより，及び，フロック繊維のカット長やそのデニールを変更することにより，変更されてもよい。これらの組み合わせを変更することにより，様々な顧客又は市場要求を満足させる多種多様な製品が生産され得る。所望される製品の性質に応じて，通常は０．０２５〜０．０８０インチの範囲である製品の厚さ，後述するエンボスプロセスにおけるエンボス圧，熱，ラインスピードが決定される。
　
図１に示されるように，本発明により製造される布は，凹凸のある背景１２上にパターン１０を有してなる。パターン１０は，当然ながら，無限にある可能なパターンを有するように変更され得る。例示される実施形態においては，パターンは，花のパターンである。凹凸のある背景１２は，好ましくは，非反復性のパターンであり，例においては，基本的には，布の長さ方向に延びる一連の平行な隆起部１４からなる条線をなしている。
　
　　カ　「図２に示されるように，本発明において使用される好ましい装置は，３ロール式エンボス加工システムである。このようなシステムは，例えば，ドイツ国，Kriefeldに所在するRamisch Kleinwefer社により製造されている。他のシステムを使用することも可能である。
　エンボス加工は，滞留時間，熱，及び圧力の関数であり，エンボス加工される材料が，所望の結果を達成するために用いられるべき滞留時間，熱，及び圧力を決定する。通常使用されるおおよそのロール圧は，３００〜４５０ＰＬＩであり，表面ロール温度は好ましくは３７５°Ｆ〜５００°Ｆであり，ライン速度は５〜２０ヤード／分である。使用される圧力，熱及び速度の正確な組み合わせは，材料の厚さや使用される材料の特定の種類を含め，エンボスされる材料に依存する。
　本発明とともに用いるために，様々なタイプのエンボス加工装置が利用できる。特定の装置の選択は，エンボス加工される材料，使用される彫刻シリンダ又はロールの深さ，布が処理されるスピードに依存する。市販される装置は，２ロール又は３ロール構成であるエンボス部を備え得る。２ロール構成においては，装置は，彫刻シリンダ又はロールとベースロールとを含むことになる。ベースロールは通常，鋼又は紙／木タイプのロールからなる。より高度なより新しい装置においては，プラスチック製のベースロールが使用される。２ロール構成においては，過度の圧力がかかると彫刻シリンダ又はロールが歪みや曲がりを生じて不均一なエンボスが形成されるため，生成され得る圧力は制限される。
　図２に示される３ロール式エンボス機においては，切削や染料を用いる彫刻プロセス及びルータ加工プロセスによって形成されたデザインを有する彫刻シリンダ又はロール５０は，２つの紙／木が充填されたベースロール５２，５４の間に配置される。この３ロール式システムにおいては，上側ロール５２及び下側ロール５３が彫刻シリンダ５０を安定させて歪みに関する問題を最小限にするため，生成され得る圧力は，２ロール式システムで可能な圧力に比べてかなり大きい。より最近に開発された装置の中には，歪みを実質的になくす空間補正ベースロールが利用可能である。このシステムは，本発明を実施するのに好ましい。」（第８頁第５行〜第３１行）
　
　　キ　「エンボス加工中におけるロール，シリンダ，フロック加工された布地の関係を図３に示す。この関係において，
エンボスシリンダ５０は，凹凸のある背景１２を形成するための彫り込み部分１２Ａと，パイル部分１６を形成するための彫り込み部分１６Ａとを有する。エンボス加工中に，部分１２Ａは，熱及び圧力の存在下で，パイルの表面領域と係合して圧迫し，前景パターン（原文ママ）１２を形成する。同時に，背景パターン（原文ママ）又はパイル部分１６は，彫り込み部分１６Ａから離間されており，該彫り込み部分と係合しない
これにより，前景パターンの表面が接触されない状態のままとなる。
　本発明は，ナイロン製のフロック加工された布のエンボス加工について説明しているが，織布，編布，シェニール織物，タフト加工された布を含め，他のタイプの布も，本発明の特徴を用いてエンボス加工してもよい。さらに，例えば，プロピレン，アクリル，ポリエステル，及びレーヨンの布も同様に処理されてもよい。しかしながら，これらの他の材料の各々を用いる場合には，必然的に，エンボス加工が行われる速度，ならびに熱及び圧力を，材料の特定の物理的特性と釣り合いをとるように調節しなければならないであろう。」（第９頁第９行〜第２６行）
　
　　ク　「
」（図１）
　
　　ケ　「
」（図２）
　　
　　コ　「
 」（図３） 
　
　　(2)　甲１に記載された発明
　
　　上記(1)キにおいて，「エンボス加工中に，部分１２Ａは，熱及び圧力の存在下で，パイルの表面領域と係合して圧迫し，前景パターン（原文ママ）１２を形成する。同時に，背景パターン（原文ママ）又はパイル部分１６は，彫り込み部分１６Ａから離間されており，該彫り込み部分と係合しない」と記載されているが、上記(1)オの記載とク，コの図面の記載を併せ見れば，前記記載の「前景パターン（原文ママ）１２」は、「背景パターン１２」の誤記であり，同じく「背景パターン（原文ママ）」は，「前景パターン」の誤記と認められる。そうすると，上記(1)特にオ〜コに記載の装置を利用したエンボス加工された布地の製造方法として，甲１には，次のとおりの発明（以下「甲１発明」という。）が記載されていると認めることができる。 
　
「エンボスシリンダ５０とベースロール５４間にフロック加工された布地を通過させることにより，
　エンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａを除く部分が，フロック加工された布地におけるパイル部分１６の上面を圧迫し，パイルの表面に背景１２を部分的に形成させる，エンボス加工された布地の製造方法であって，
　エンボスシリンダ５０は，凹凸のある背景１２を形成するための彫り込み部分１２Ａと，パイル部分１６を形成するための彫り込み部分１６Ａとを有し，エンボス加工中に，部分１２Ａは，熱及び圧力の存在下で，パイルの表面領域と係合して圧迫し，背景パターン１２を形成し，同時に，前景パターン又はパイル部分１６は，彫り込み部分１６Ａから離間されており，該彫り込み部分と係合しない，エンボス加工された布地の製造方法。」
　
　　(3)　甲２の記載
　
　　甲２には，次の記載がある。
　
　　ア　「【技術分野】
　本発明は，衣料用途などに好適の押圧加工布に関する。さらに詳しくはフィルム状の平滑性と光沢をもった全面押圧（カレンダー）加工布および押圧された領域もしくは凹部がフィルム状の平滑性かつ光沢を持ち，凸部が極細繊維の外観かつダル光沢を有する部分押圧（エンボス）加工布に関する。」（段落【０００１】）
　
　　イ　「繊維径が７００ｎｍ未満の極細繊維から構成された布帛から得られた押圧加工布であって，少なくとも片面にエンボス加工による凹凸形状を有しており，該エンボス加工面の，押圧されていない凸面領域は極細繊維からなり，一方，押圧された凹面領域の表層部は極細繊維同士が合一してなるフィルム状であることを特徴とするものである。」（段落【００１１】）
　
　　ウ　「本発明において極細繊維を合一化しフィルム上（フィルム状の誤記と思われる。）にする手段としては，押圧加工を用いることが好ましい。本発明における押圧加工について述べると，全面押圧加工とは，表面が平滑なカレンダーロールの間に布帛を通して加熱しながら加圧し布を押し固めるカレンダー加工，部分的押圧加工とは凹凸模様を彫刻した金属製ローラーと弾力性のある圧縮コットン，圧縮ペーパーもしくはゴム製等のローラー間に布帛を通して一定の温度に保ちながら布に凹凸模様をつけるエンボス加工を例示することができる。」（段落【００３０】）　
　
　　エ　「実施例１
　島成分をＮ６（４０重量％），溶出する海成分をポリ乳酸（６０重量％）としてブレンド紡糸により複合繊維１３３ｄｔｅｘ−４８ｆｉｌのマルチフィラメントを２／１ツイルで製織し生機を得た。該生機の織密度は経糸密度１３８本／２．５４ｃｍ，緯糸密度９３本／２．５４ｃｍであった。
　該生機にアルカリ減量加工（ＮａＯＨ濃度３％  ９８℃×４５分）を行ない，乾燥して
ポリアミドの極細繊維の集合体である束状物で構成される織物
　次いで，ピンテンターで幅方向に１％の伸長下にて１６０℃×４５秒の熱セットを施した。その後，酸性染料（１：２型の含金染料）で染色し湯洗いを行った後にフィックス処理ならびに帯電防止処理を施した。続いて
梨地彫刻したエンボスローラー（表面に１平方ｃｍあたり１２０個の凸部を有するもの）を１８０℃に加熱して，エンボス加工（上部：エンボスローラ，下部：ゴム硬度９２度のゴムローラー，線圧１２５ｋｇ／ｃｍ，エンボスローラーの表面温度は１８０℃，加工速度は１ｍ／分にてエンボスローラー２回通しとした）を施した
ゴム硬度はアスカーゴム硬度計Ａ型で測った値
　本実施例で得られた製品の物性は次のとおりであった。
厚さ（ｍｍ）　　　　　：０．１１８
目付（ｇ／ｍ２）　　　：６６．７
見掛密度（ｇ／ｃｍ３）：０．５６５
　なお，凹凸部をＳＥＭにて，それぞれ観測したところ，
凹部は極細繊維が合一する形でフィルム様の平滑性と高光沢外観を呈し，凸部は極細繊維の集合体からなる束状物外観を呈する
凹凸形状を有する梨地調のエンボス布帛
　 
　　(4)　甲２に記載された発明
　
　　上記(3)，特にエに記載の実施例１のエンボス布帛の製造方法として，甲２には，次のとおりの発明（以下「甲２発明」という。）が記載されていると認めることができる。 
　
「表面に１平方ｃｍあたり１２０個の凸部を有し梨地彫刻した，表面温度が１８０°となるように加熱され，上部にあるエンボスローラと，下部にあるアスカーゴム硬度計Ａ型で測ったゴム硬度９２であるゴムローラ間に，ポリアミドの極細繊維の集合体である束状物で構成される織物を通過させ，
　線圧１２５ｋｇ／ｃｍ，加工速度は１ｍ／分，エンボスローラー２回通しの条件でエンボス加工を行うことで，極細繊維が合一する形でフィルム様の平滑性と高光沢外観を呈する凹部と，極細繊維の集合体からなる束状物外観を呈する凸部とから成る凹凸形状を有する梨地調のエンボス布帛の製造方法。」 
　
　　(5)　甲３の記載
　
　　甲３には，次の記載がある。
　
　　ア　「【請求項６】
（カ）  
パイル表面（１２）を単繊維繊度が５ｄｔｅｘ以下の熱可塑性合成繊維によるカットパイルによって構成し
（ヨ）  
そのカットパイルのパイル密度（Ｍ）を９００本／（２５．４ｍｍ）
2
 以上にし，
（タ）  
パイル密度（Ｍ）とパイル糸の総繊度（Ｄ）（ｄｔｅｘ）との積（Ｍ×Ｄ）で示されるパイル／デシテックス換算密度（ρ）を２０００００ｄｔｅｘ／（２５．４ｍｍ）
2
 以上にし，
（レ）  
パイルを係止する基布（１１）からパイル表面（１２）に到るパイル層（１３）のパイル層厚み（ｔ）を０．７〜３．５ｍｍにしてカットパイル布帛を構成し
（ソ）  
加熱エンボスロール（２３）の凸部（２５）の先端（２６）とバックアップロール（２７）の間の隙間の寸法（ｃ；クリアランス）を，パイル層厚み（ｔ）と基布（１１）の厚みを加えたカットパイル布帛の総厚み（ｅ）よりも０．３〜１．２ｍｍ狭く設定し，
（ツ）  
加熱エンボスロール（２３）の凹部底面（２４）からパイル表面（１２）を離し，パイル層厚み（ｔ）の４５％以下となる範囲内において加熱エンボスロールの凸部の先端（２６）をパイル層１３に０．３〜１．２ｍｍ食い込ませて
（ネ）  
その加熱エンボスロール（２３）とバックアップロール（２７）の間にカットパイル布帛を通す
カットパイル布帛の柄出し加工法
　
　　イ　「【技術分野】
　本発明は，パイル面に模様が立体的に刻設されており，主として椅子張地や車両内装材に使用されるカットパイル布帛に関するものである。」（段落【０００１】） 
　
　　ウ　「【発明が解決しようとする課題】
　エンボス（例えば，特許文献１〜７参照）によって刻設された凹部では，パイルが融着または圧縮されていて固く，肌触りのよいカットパイル布帛は得られない。抜触（例えば，特許文献８〜１３参照）によると，肌触りのよいカットパイル布帛は得られるものの，その扱う抜触剤（繊維溶解剤）によって抜触加工設備が損傷を受け，その排液処理も問題になる。パイルが一定方向に傾斜したヘタラシ・モケット（例えば，特許文献１４〜１６参照）では，パイルが根元から傾倒しているので，その傾斜している方向には滑り易く肌触りはよいものの，その逆方向には逆毛が立って滑り難く，チョークマークとかフインガーマークと言われる逆毛の跡がパイル表面に付き易く，パイルが根元から傾倒していることからしてクッション性を欠き，肌触りのよいカットパイル布帛は得られない。
　そこで，本発明は，ループパイル布帛のようにパイル表面が滑らかで肌触りがよく，又，加工設備の損傷や排液処理による公害問題を伴うことなくパイル表面に模様が立体的に刻設されたカットパイル布帛を得ることを目的とする。」（段落【０００５】〜【０００７】） 
　
　　エ　「【発明の効果】
　カットパイルは，パイル繊維長（ｑ）が長ければ長いほど，又，パイル密度（Ｍ）が粗ければ粗いほど倒れ易く，又，倒れたままセットされ易い。
　その点，本発明では，パイル層厚み（ｔ）が３．５ｍｍ以下であり，パイル／デシテックス換算密度（ρ）が２０００００ｄｔｅｘ／（２５．４ｍｍ）2 以上となっているので，パイル繊維が，その根元２０から押し倒されると言うことは起き難く，仮に，パイル表面１２が押圧されて根元２０に到るパイル全体が押し倒されたとしても，その根元２０が押し倒された状態でそのまま固定されると言うことは起き難い。
　ループパイル布帛（図４参照）のパイル表面には，カットパイル布帛のパイル表面に見られる所謂フィンガーマークやチョークマークは発生しない。
　本発明のカットパイル布帛のパイル先端部２１は，加熱エンボスロール２３によって押圧されて傾斜し，そのまま熱セットされるので，恰も，熱セットしてカットしたループパイル２９（図４−a 参照）の先端のパイル繊維３０（図４−ｂ参照）のように，パイル繊維１６の側面がパイル表面１２に露になる。」（段落【００１３】〜【００１５】）
　 
　　オ　「パイル繊維には，捲縮率が１０％以下で略無捲縮の熱可塑性合成繊維，好ましくは艶消剤の含有量が０．７重量％以下のブライト繊維を用い，加熱エンボスロール２３の凸部２５に触れて柄部のパイル繊維１６の先端部２１が曲折変形したままセットされるようにする。
　パイル繊維には，略無捲縮であっても加熱されて捲縮を顕現する潜在捲縮性繊維を使用することが出来る。
　そのような潜在捲縮性繊維では，加熱エンボスロール２３の凸部２５に触れて曲折変形すると同時に捲縮が顕現し，彎曲変形したままセットされることになる。
　柄部１４のパイル繊維１６の先端部２１を，地部１５のパイル繊維１８の先端部（１９）に比して曲折した形状にするためには，パイル糸を単繊維繊度が５ｄｔｅｘ以下の熱可塑性合成繊維によって構成し，カットパイル布帛を加熱エンボスロール２３とバックアップロール２７の間に通すとよい。
　そのエンボスロールの凸部先端２６とバックアップロール２７の間の隙間（ｃ）の寸法（クリアランス）は，パイル層１３の厚み（ｔ）と基布１１の厚みを加えたカットパイル布帛の総厚み（ｅ）よりも０．３〜１．２ｍｍ，好ましくは，０．４〜０．７ｍｍ（概して０．５ｍｍ前後）に狭くし，エンボスロールの凸部先端２６のパイル層１３への食込深さ（ｄ）が０．３〜１．２ｍｍ（概して０．５ｍｍ前後）になるようにする。
　そのエンボスロールの凸部２５の高さは，エンボスロールの凹部底面２４とカットパイル布帛のパイル表面１２が触れ合わず，それらの間に０．５ｍｍ以上の隙間（ｇ）を設けることが出来るように設定される。
　そうすると，パイル表面１２のエンボスロールの凸部２５に触れて押圧される部分では，パイル繊維１６の先端部２１が押し倒されて曲折・彎曲したまま熱セットされる。
　その場合，先端１７から根元２０に到るパイル繊維（１６）全体が押圧されて傾倒せず，根元部２２が隣り合うパイル繊維に確り支えられて基布１１から直立した状態で保持され，エンボスロールの凸部２５に触れる先端部２１だけが押し倒されるようにするためにも，パイル層厚み（ｔ）を２ｍｍ以下とし，パイル／デシテックス換算密度（ρ）を３０００００ｄｔｅｘ／（２５．４ｍｍ）2 以上にしてパイル層１３の繊維密度を緻密にし，パイルが押し倒れたとしても，その根元部２２までもが押し倒された状態でそのままセットされることがないようにする。
　エンボスロール２３の加熱温度は，パイル繊維の熱溶融温度以下にする。」（段落【００２３】〜【００２５】）
　
　　カ　「エンボスロール２３に凸部２５を緻密に突設するときは，パイル先端部２１が曲折した柄部１４が隣り合い，パイル表面全体がパイル先端部２１が曲折したパイル繊維１６で覆われることになる。
　凸部２５の突設されていない円柱状の加熱ロールによってパイル表面１２を撫でて全てのパイル繊維のパイル先端部２１を曲折させることも出来る。
　しかし，パイル層１３の全てのパイル繊維のパイル先端部２１を曲折させるためには，凸部２５が緻密に突設されたエンボスロール２３を使用することが望ましい。
　それは，全てのパイル繊維のパイル先端部２１が曲折するとしても，凸部２５が緻密に突設されたエンボスロール２３を使用する場合には，隣り合う柄部１４と柄部１４の間の僅かな隙間から，曲折しないパイル繊維１８の先端１９が突出し，パイル表面１２に僅かな起伏が生じ，又，パイル先端部２１の側面が現われて光沢のパイル表面に光沢のないパイル繊維の断面が霜降模様状に細かく現われてパイル表面の色彩が深みを帯び，感触の柔らかいカットパイル布帛が得られるからである。」（段落【００３０】）
　
　　キ　「【実施例】
　３５／２番手のレーヨン紡績糸を地縦糸と地緯糸に用い、単繊維繊度１．２ｄｔｅｘのポリエステル繊維Ａと単繊維繊度２．４ｄｔｅｘのポリエステル繊維Ｂを、前者７５％・後者２５％の比率で混繊した総繊度３３６ｄｔｅｘ・繊維総本数２５２本のポリエステルマルチフィラメント糸をパイル糸に用いた経糸密度１２７．１本／２５．４ｍｍ、緯糸密度４６．２本／２５．４ｍｍ、パイル密度１４６９本／（２５．４ｍｍ）2 、パイル繊維密度３７０１８８本／（２５．４ｍｍ）2 、パイル／デシテックス換算密度４９０４９９ｄｔｅｘ／（２５．４ｍｍ）2 のパイル繊維長（ｑ) をシヤーリングに通して変えた６種類のモケット（実施例１〜６）を、バックアップロール２７と凸部２５の先端２６の間のクリアランス（ｃ）を１．３〜１．５ｍｍに設定したエンボスロール２３とバックアップロール２７の間に、エンボスロール２３の表面温度を変えて通し、パイル表面に直径２ｍｍの内接円に輪郭が触れる大きさの柄部１４をパイル表面１２に描出し、その裏面にバッキング剤を塗布して裏打ち加工して仕上げた。
　６種類の各モケットの柄部１４は地部１５よりも概して０．３〜０．４ｍｍ程度窪んでいたが、柄部１４のパイル繊維１６の先端１７は溶融しておらず、又、隣り合うパイル繊維とパイル繊維（１６・１６）の間も融着し合っておらず、柄部１４に触れて地部１５よりも粗硬に感じることはなかった。
　６種類の各モケットに対するエンボスロール２３の加熱温度、および、６種類の各モケットの総厚み（ｅ) 、柄部１４パイル層厚み（ｓ) 、パイル先端部２１の長さ（ｋ）、パイル根元部２２の長さ（ｈ) 、パイル根元部２２の傾斜角度（θ) 、パイル先端部２１の傾斜角度（α）、パイル根元部２２とパイル先端部２１の傾斜角度の差（β）は、それぞれ［表１］に示す通りである。
【表１】
」（【００３１】【００３２】表１）
　
　　ク　「【図面の簡単な説明】
　・・・
【図２】本発明に係るカットパイル布帛のエンボスロール通過時の断面側面図である。
【図３】本発明に係るカットパイル布帛の斜視図であり，一部を円で囲んで拡大して図示している。」（段落【００３６】〜【００３７】）
　
　　ケ　「【図２】
【図３】
 」（１１頁図２，図３） 
　
　　(6)　甲３に記載された発明
　
　　上記(5)，特にアの摘記から，甲３には，次のとおりの発明（以下「甲３発明」という。）が記載されていると認めることができる。 
　
「加熱エンボスロールとバックアップロールの間に，パイル表面を単繊維繊度が５ｄｔｅｘ以下の熱可塑性合成繊維によるカットパイル，当該カットパイルのパイル密度（Ｍ）を９００本／（２５．４ｍｍ）2 以上にし，パイル密度（Ｍ）とパイル糸の総繊度（Ｄ）（ｄｔｅｘ）との積（Ｍ×Ｄ）で示されるパイル／デシテックス換算密度（ρ）を２０００００ｄｔｅｘ／（２５．４ｍｍ）2 以上にし，パイルを係止する基布（１１）からパイル表面（１２）に到るパイル層（１３）のパイル層厚み（ｔ）を０．７〜３．５ｍｍにしてカットパイルを係止する基布から構成されるカットパイル布帛を通すカットパイル布帛の柄出し加工法であって，
　加熱エンボスロールの凸部の先端とバックアップロールの間の隙間の寸法（ｃ；クリアランス）を，パイル層厚みと基布の厚みを加えたカットパイル布帛の総厚みよりも０．３〜１．２ｍｍ狭く設定し，
　加熱エンボスロールの凹部底面からパイル表面を離し，パイル層厚みの４５％以下となる範囲内において加熱エンボスロールの凸部の先端をパイル層１３に０．３〜１．２ｍｍ食い込ませる，
カットパイル布帛の柄出し加工法。」 
　
　　(7)　甲４の記載
　
　　甲４には，次の記載がある。 （なお，原文は英語であり，訳文は，下記アについて合議体が作成し，その余は請求人らが作成したとおりのものと合議体が認めた。）
　
　　ア　「この発明は，裏当て部材を含む基板の表面層に微細光学グリッド構造を製造する装置に関し，・・・
　本発明の主要な目的は，エンボス加工プロセスにおける動作上の問題を最小にすることである。本発明の別の目的は，可能な限り経済的に，微細光学グリッド構造の製造を可能とすることである。本発明の別の目的は，局所的に，基板の異なる点で，微細光学グリッド構造によって生成される光学効果の強度を制御することでもある。」（第１頁第４行〜第２頁第１５行）
　
　　イ　「これらの目的を達成するために，本発明のエンボス装置及び該エンボス装置の調整方法は，第１に，エンボス圧を調節する少なくとも１つの調節手段及び／又はエンボス温度を調節する少なくとも１つの調節手段が，少なくとも１つの回折信号に基づいて制御されるように構成されることを特徴とする。
　回折信号は，製造されたグリッド構造のパターンの深さに依存し，一方，パターンの深さは，例えば，エンボス圧，エンボス温度，及びエンボス圧がかけられる時間に依存する。」（第２頁第２２行〜第３４行）
　
　　ウ　「図３を参照すると，基材３０及びその表面層４０は，エンボス装置１０００のエンボス部材１０とバッキング部材２０との間で押圧される。図３に示す実施形態では，エンボス部材及びバッキング部材は，回転するロールである。エンボス部材１０及びバッキング部材２０は，回転速度を調節可能な回転機構によって回転される。したがって，基材３０は，ｈの方向に移動し，エンボス部材１０とバッキング部材２０との間で押圧される。部材１０，２０又は回転機構は，例えば，角度位置及び回転速度を判定するための光学センサを有する。エンボス温度は，基材３０の表面層４０を加熱する赤外線ヒータの出力を調節することにより，かつ／又は，エンボス部材１０を加熱する誘導加熱器の出力を調節することにより，制御してもよい。エンボス部材１０の加熱は，全体として，又は部分的に，熱伝導媒体，例えば熱いオイル，の使用に基づくものであってもよい。温度は，例えば，高温測定器１０１，１２１によって監視される。
　エンボス部材１０とバッキング部材２０とにより基材の表面層４０に与えられるエンボス圧は，調節されてもよい。調節は，例えば，バッキング部材２０のベアリング１４２に連結された調節手段１４０により行われ，該ベアリング１４２により，バッキング部材２０がｕ方向に動かされてもよい。圧力制御手段１４０は，例えば，１つ以上の油圧式又は空圧式シリンダ１４０であってもよい。シリンダ１４０は，エンボス力，又は間接的にエンボス圧も監視するために，センサ１４１を備えていてもよい。
　少なくとも１つの光学測定手段２００は，基材の表面４０から回折された光の強さに応じて，少なくとも１つの回折信号２１１が生成されるように構成される。基材は，測定装置２００により一度では監視できない大きさであってもよい。したがって，測定装置は，移動機構１６０により，ガイド１６２に沿って，基材の全幅又は全領域をスキャンするために横方向に移動されてもよい。
　制御装置４００は，温度制御手段１００，１２０及び又は圧力制御手段１４０を，光学測定装置２００からの回折信号２２１に基づいて，いわゆるオンライン調整により制御する。その結果，第１実施形態では，エンボス圧及び／又はエンボス温度を制御するための，光学測定装置２００を備える構成は，フィードバック結合される。換言すれば，該構成は，閉ループ制御回路を形成する。」（第５頁第３１行〜第７頁第２行）
　
　　エ　「図５を参照すると，制御装置４００は，光学測定装置２００の信号２２１に基づいて，温度，圧力，及び回転速度の値を調節する。しかしながら，制御装置４００は，必ずしもエンボス加工プロセスを直接制御する必要はなく，温度，圧力，及び回転速度用の別個の制御装置と通信して目標値を設定する。制御装置は，実際値が目標値に一致するように実際値を調節する。制御装置４００はまた，同時にアクティブ状態にある別のプロセス，例えば印刷プロセスやコーティングプロセスと通信し，問題のない協働作業を行う。制御装置４００はまた，様々なセンサ及び測定装置からの信号を監視する。制御装置４００は，システムの保護対策を行い，故障が生じた場合には警報を出す。
　光学測定手段２００を移動させるための機構１６０及びエンボスロールの位置センサ１０２は，基材に関する測定装置２００の監視スポット又は領域の位置についての情報を提供する。該位置に基づいて，相対参照値が参照値ファイル４２０からの信号２２１について選択される。制御装置４００では，光学測定装置２００の信号２２１が，参照値と比較される。参照値は，例えば信号レベルの９０％であってもよく，これは，微細構造のパターン深さｒがエンボス部材１０のパターン深さｓとちょうど等しい場合に達成される。例えば，測定装置２００からの信号２２１が，目標レベルよりも高い場合，エンボス部材１０の表面温度が下げられる。これは，エンボス部材の加熱要素１００の加熱出力を低下させることにより達成されてもよい。温度を調節するために，高温センサ１０１も用いられてもよい。あるいは，エンボス部材の回転機構１１０の回転速度を増大させることも可能であり，又は，圧力調節手段１４０によって，生成されるエンボス圧を低下させることも可能である。また，異なる制御手段の組み合わせ，例えば，温度変化と圧力変化，を組み合わせて使用することも可能である。調節において，エンボス部材の位置センサ１０２から得られた位置及び回転速度に関する情報と，エンボス圧１４１のセンサ（これらのセンサは，油圧シリンダ１４０に関するものである）からの情報が用いられる。基材の表面温度も，加熱要素１２０及び高温センサ１２１を用いて調節されてもよい。」（第９頁第２１行〜第１０頁第２５行）
　
　　オ　「エンボス圧は，例えば，バッキング部材２０に作用する圧力制御手段の空圧又は油圧を変更することにより制御されてもよい。あるいは，エンボス圧は，電気機械的サーボ機構により制御されてもよい。エンボス圧は，エンボス部材１０とバッキング部材２０との間の距離が一次的に調節されている場合にも調節されるべきである。これは，この場合，グリッド構造が形成されるときに，エンボス部材が圧力を生じさせるためである。
　圧力調節手段は，バッキング部材２０ではなく，エンボス部材１０に作用してもよい。さらに，圧力調節手段は，エンボス部材１０とバッキング部材２０の両方に作用してもよい。」（第１３頁第３３行〜第１４頁第９行）
　
　　カ「調節は，調節作業が測定信号２２１の絶対値，測定信号２２１の相対的変動，又は測定信号２２１と参照値との差に基づいてなされるように，自動的に行われてもよい。調節は，いわゆるＰＩＤ制御を用いて行われてもよく，これにより，実際値と目標値との間の差に基づいて，該差の時間積分に基づいて，かつ／又は，該差の時間微分に基づいて行われる。」（第１６頁第３３行〜第１７頁第５行）
　
　　キ　「圧力用，温度用，回転速度用の調節手段１００，１２０，１４０，１１０は，測定信号２２１に基づいて圧力及び温度の目標値を変更できるように，制御回路を備えていてもよい。したがって，別個の制御回路が，実際値が目標値に一致するように実際値を調節する。」（第１７頁第１４〜第１９行）
　 
　　ク　「
」（図３）
　
　３　甲１及び甲４に基づく無効理由１について
　
　　(1)　本件発明と甲１発明の対比
　
　　上記２(1)カにおける「エンボス加工は，滞留時間，熱，及び圧力の関数であり，エンボス加工される材料が，所望の結果を達成するために用いられるべき滞留時間，熱，及び圧力を決定する。通常使用されるおおよそのロール圧は，３００〜４５０ＰＬＩであり，表面ロール温度は好ましくは３７５°Ｆ〜５００°Ｆであり」との記載，及び上記２(1)キにおける「エンボス加工中に，部分１２Ａは，熱及び圧力の存在下で，パイルの表面領域と係合して圧迫し，前景パターン（原文ママ）１２を形成する。」との記載から明らかなように，甲１発明の「エンボスシリンダ５０」は加熱されるものであるから，本件発明の「加熱されたエンボスロール」に相当する。
　　甲１発明の「ベースロール５４」は，本件発明の「受けロール」に相当する。
　　甲１発明の「フロック加工された布地」は，上記２(1)エに記載されたとおりのものであり，明らかに，本件発明の「長尺材」に相当する。
　　甲１発明における「パイル部分１６の上面」は，本件発明の「長尺材表面」に相当する。
　　甲１発明におけるエンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａは，本件発明の「前記エンボスロールのベース面」に相当する。
　　甲１発明におけるエンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａを除く部分は，本件発明の「前記エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部」に相当する。
　　甲１発明において，エンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａを除く部分がパイル部分１６の上面を圧迫することは，本件発明の「凸部を長尺材表面を押圧すること」に相当する。　
　　甲１発明において，エンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａを除く部分がパイル部分１６の上面を圧迫するから，必然的にフロック加工された布地は，ベースロール５４に押し付けられ，ベースロール５４は，フロック加工された布地に反力を付与する。よって，甲１発明のエンボスシリンダ５０とベースロール５４とは，フロック加工された布地を「上下方向から挟圧する」ものである。
　　甲１発明における「背景１２」は，本件発明の「凹部」に相当する。
　　上記１(1)ケに記載されているように，甲１発明において，エンボスシリンダ５０とベースロール５４との間を通過するフロック加工された布地は直線状である。また，上記１(1)エ，オに記載された重量を有し，自由に屈曲できるフロック布を直線状に通過させるために，フロック布にテンションを付加させる必要があることは自明である。よって，甲１発明は，エンボスシリンダ５０とベースロール５４との間を，テンションを付加させながら直線状にフロック布を通過させるものである。　
　　甲１発明において，エンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａは，パイル部分１６の上面から離れて配置されているから，甲１発明のエンボスシリンダ５０の表面のうち，彫り込み部分１６Ａとパイル部分１６の上面との関係は，「エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない」と特定する点で，本件発明のエンボスロールのベース面と長尺材表面との関係と一致する。
　　本件発明の「エンボス模様」は，本件明細書における「本発明は，・・・その表面に凹凸模様（エンボス模様）を有する長尺材の製造方法に関する。」（【０００１】）との記載から，表面の凹凸模様といえる。また，甲１発明におけるフロック布上の「背景１２」と「パターン１０」も，表面の凹凸模様である。よって，甲１発明の「エンボス加工された布地の製造方法」は，本件発明の「エンボス模様を有する長尺材の製造方法」に相当する。
　
　　(2)　一致点及び相違点
　
　　そうすると，本件発明と甲１発明との一致点及び相違点は，それぞれ次のとおりである。
　
　・　一致点
「加熱されたエンボスロールとその受けロール間に長尺材を通過させることにより，
前記エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部を長尺材表面を押圧し，上下方向から挟圧することによって長尺材表面に凹部を部分的に形成させる長尺材の製造方法であって，
　前記エンボスロールとその受けロール間を，テンションを付加させながら直線状に長尺材を通過させ，
　長尺材が前記エンボスロールを通過する際に，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない，エンボス模様を有する長尺材の製造方法。」
　
　・　相違点１−１
　
　　長尺材がエンボスロールを通過する際に，本件発明は「長尺材表面の光沢度を確認すること」によって「エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする」と特定するのに対して，甲１発明においては，このような特定はされていない点。
　
　　(3)　相違点１−１の検討
　
　　ア　甲４に記載の技術事項
　
　　甲４には，「エンボス部材１０」と「バッキング部材２０」との間に「基材３０」を通過させることにより，エンボス加工を行うエンボス装置と，そのエンボス装置の調整方法が記載されている。
　　甲４の上記２(7)イには，回折信号に基づきエンボス圧を制御することが記載されている。また，甲４の上記２(7)ウには，「バッキング部材２０」をｕ方向に動かすことでエンボス圧を調節することが記載されている。「バッキング部材２０」をｕ方向に動かすとは，上記２(7)クの記載から明らかなように，「バッキング部材２０」と「エンボス部材１０」との間隔を変更することである。また，上記２(7)ウには，「回折信号２２１」を，エンボス加工を施す対象である「基材３０」の「表面４０」から回折された光の強さに応じて生成することが記載されている。
　　以上をまとめると，甲４には，「基材３０」の「表面４０」からの光の強さに応じて「回折信号２２１」を生成し，その「回折信号２２１」に基づき「バッキング部材２０」と「エンボス部材１０」との間隔を変更して，エンボス圧を調整することが記載されている。
　　ここで，甲４における，「基材３０」の「表面４０」からの光の強さは，本件発明における「長尺材表面の光沢度」に相当する。また，甲４において，光の強さに応じて，エンボス圧を調整するための「回折信号２２１」を生成することは，本件発明における「光沢度を確認すること」に相当する。
　　
　　以上のことを総合すると，甲４には以下の技術事項が記載されているといえる。
　
「長尺材（基材（３０））の表面層（４０）に微細光学グリッド構造を生成するエンボス加工装置において，長尺材表面の光沢度を確認することによって，エンボス圧の調整を行い，エンボスの深さを変化させる」という技術事項。
　
　　イ　判断
　　
　　甲１発明は「パイル部分１６は，彫り込み部分１６Ａから離間され」るものである。すなわち，甲１には，目的とするエンボスを得るために，エンボスの速度，温度，圧力を調整すること（上記２(1)オ），また，エンボスの高温及び高圧による合成繊維の可塑化によるテカリが問題であること（上記２(1)ア，イ），さらに，表面を可塑化させたり表面に悪影響を及ぼさないように，彫り込み部分１６の上面のスペースは彫り込み部分１６Ａの表面から十分に離間されること（上記２(1)キ）についての記載はあるが，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触することは記載も示唆もされていない。
　　一方，甲４は，微細光学グリッド（請求人らによれば「ホログラム」）を生成するエンボス加工に係るものであるから，甲１発明のパイル布帛に対するエンボス加工とは，エンボスという用語においては共通しているものの，エンボスのスケールが大きく異なるものであることを踏まえると，その技術分野が相違している。
　　また，甲４は，基板の表面層に微細光学グリッド構造を製造する装置に関し，エンボス加工プロセスにおける動作上の問題を最小にすること，微細光学グリッド構造に関しての効率的な製造方法を得ること，長尺材の位置毎での異なる微細光学グリッド構造を形成することを目的とするものであるから，甲１発明に適用する動機がない。
　　仮に，動機があって適用できたとしても，甲１発明のエンボスロールは長尺材表面に接触しないものであり，接触するのは凹凸のある背景１２を形成するための彫り込み部分１２Ａに留まるから，光沢度を確認するのは，甲１発明の凹凸のある背景パターン部分のエンボスの深さを変化させるものではあっても，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにするものとはならない。　
　　したがって，相違点１−１は甲４に記載の技術事項に基いて想到容易とはいえない。
　
　　(4)　まとめ
　
　　そうすると，上記相違点１−１は，甲４に記載の技術事項に基いて想到容易でないから，本件発明は，甲１発明及び甲４に記載の技術事項に基いて当業者が容易に想到できたものではない。
　
　　甲１及び甲４に基づく無効理由１には，理由がない。
　
　４　甲２及び甲４に基づく無効理由２について
　
　　(1)　本件発明と甲２発明の対比
　
　　甲２発明における「表面に１平方ｃｍあたり１２０個の凸部を有し，表面温度が１８０°となるように加熱され，上部にあるエンボスローラ」は，本件発明の「加熱されたエンボスロール」に相当する。
　　甲２発明における「下部にあるゴムローラ」は，本件発明の「受けロール」に相当する。
　　甲２発明における「ポリアミドの極細繊維の集合体である束状物で構成される織物」は，ポリアミドの極細繊維の集合体である束状物で構成され，エンボスローラとゴムローラとの間を通すことで連続的に加工されるものであるから，本件発明の「長尺材」に相当することは明らかである。
　　甲２発明における「織物」の表面は，本件発明の「長尺材表面」に相当する。
　　甲２発明において，エンボスローラの表面に設けられた「１平方ｃｍあたり１２０個の凸部」は，本件発明の「前記エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部」に相当する。
　　甲２発明がエンボス加工を行うとき，エンボスローラの凸部が織物の表面を押圧することは自明である。
　　甲２発明において，エンボスローラは上部にあり，ゴムローラは下部にある。また，織物は，エンボスローラとゴムローラとの間を通過する。また，甲２発明において，エンボス加工時の線圧は１２５ｋｇ／ｃｍである。線圧とは，エンボスローラが織物に加える圧力であるから，エンボスローラは織物に対し，１２５ｋｇ／ｃｍの圧力を加えており，エンボスローラが織物に圧力を加えると，織物はゴムローラに押し付けられ，ゴムローラは，織物に反力を付与することは明らかである。よって，引用発明においても，エンボスローラとゴムローラとは，織物を「上下方向から挟圧する」ものである。
　　甲２発明において，エンボスローラーを２回通過したエンボス布帛は，凹部と凸部とを有する。よって，甲２発明は，織物の表面に凹部を部分的に形成させるものである。
　　上記２(4)ア〜エに記載されているように，エンボス加工において押圧された部分では，極細繊維同士が合一してなるフィルム状の形態を有するところ，甲２発明により製造されたエンボス布帛において，凸部は，極細繊維の集合体からなる束状物外観を呈すのであるから，凸部はエンボスローラによって押圧されていない領域であることは明らかである。
　　ここで，エンボス布帛における凸部は，エンボスローラを通過する際に，エンボスローラにおける凸部を除く部分（すなわちベース面）に対向する部分であることは明らかである。
　　よって，甲２発明において，エンボス布帛における凸部は，エンボスローラのベース面に対向する部分であり，エンボスローラに押圧されていないのであるから，甲２発明において，織物がエンボスローラを通過する際に，エンボスローラのベース面は，エンボス布帛に接触しない。
　　本件発明の「エンボス模様」は，本件明細書における「本発明は，・・・その表面に凹凸模様（エンボス模様）を有する長尺材の製造方法に関する。」（【０００１】）との記載から，表面の凹凸模様といえる。また，甲２発明における「凹凸形状を有する梨地調のエンボス布帛」は，織物の表面に部分的に凹凸模様が設けられた柄である。
　　よって，甲２発明における「凹凸形状を有する梨地調のエンボス布帛の製造方法」は，本件発明の「エンボス模様を有する長尺材の製造方法」に相当する。
　
　　(2)　一致点及び相違点
　
　　そうすると，本件発明と甲２発明との一致点及び相違点は，それぞれ次のとおりである。
　
　・　一致点
「加熱されたエンボスロールとその受けロール間に長尺材を通過させることにより，
前記エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部を長尺材表面を押圧し，上下方向から挟圧することによって長尺材表面に凹部を部分的に形成させる長尺材の製造方法であって，
長尺材が前記エンボスロールを通過する際に，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない，エンボス模様を有する長尺材の製造方法。」
　
　・　相違点２−１
　
　　長尺材がエンボスロールを通過する際に，本件発明は「長尺材表面の光沢度を確認すること」によって「エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする」と特定するのに対して，甲２発明においては，このような特定はされていない点。
　
　・　相違点２−２
　
　　本件発明は「テンションを付加させながら直線状に長尺材を通過させ」と特定するのに対して，甲２発明は，この点を特定しない点。
　
　　(3)　相違点２−１の検討
　　
　　甲４には，上記３(3)アに記載の技術事項が記載されている。
　　甲２発明は，エンボスローラを２回通しの条件で凹凸模様を付与するものであり，上記２(3)ア〜エに記載のように，エンボスローラの凸部が布帛に接触することで極細繊維が合一する形でフィルム様の平滑性と高光沢外観を呈するものであって，２回同じエンボスロールを通過させることを前提としている。ここで，甲２発明の長尺材は「ポリアミドの極細繊維の集合体である束状物で構成される織物」であって，少しでもエンボスロールの凸部に触れれば極細繊維が合一してしまうから，甲２発明は，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないような彫り込み深さのエンボスロールが用いられていることを前提としているといえ，言い換えれば，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触することは全く想定していないものであるといえる。　
　　一方，甲４は，微細光学グリッド（請求人らによれば「ホログラム」）に係るエンボス加工に係るものであるから，甲２発明の極細繊維の集合体である束状物で構成される織物に対するエンボス加工とは，上記３(3)イのとおり，その技術分野が相違する。
　　甲４は，基板の表面層に微細光学グリッド構造を製造する装置に関し，エンボス加工プロセスにおける動作上の問題を最小にすること，微細光学グリッド構造に関しての効率的な製造方法を得ること，長尺材の位置毎での異なる微細光学グリッド構造を形成することを目的とするものであるから，甲２発明に適用する動機がない。
　　仮に，動機があって適用できたとしても，上記での検討のとおり，甲２発明のエンボスローラーは，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないことを前提としているから，甲２発明の凹凸部分の調整のための適用となり，凹凸パターンの深さの調整を光沢度を確認することでおこなうことになるに留まり，光沢度を検出することにより，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにするものとはならない。　
　　したがって，相違点２−１は甲４に記載の技術事項に基いて想到容易とはいえない。
　
　　(4)　まとめ
　
　　そうすると，上記相違点２−１は，甲４に記載の技術事項に基いて想到容易でないから，相違点２−２を検討するまでもなく，本件発明は，甲２発明及び甲４に記載の技術事項に基いて当業者が容易に想到できたものではない。
　
　　甲２及び甲４に基づく無効理由２には，理由がない。
　
　５　甲３及び甲４に基づく無効理由３について
 
　　(1)　本件発明と甲３発明の対比
　
　　甲３発明の「バックアップロール」，「凹部底面」は，それぞれ本件発明の「受けロール」，「ベース面」に相当する。 
　　甲３発明の「カットパイル布帛」は，単繊維繊度が５ｄｔｅｘ以下の熱可塑性合成繊維によるカットパイルとカットパイルを係止する基布から構成されるものであるが，当該カットパイル布帛自体は例えば椅子張地や車両内装材に使用される（上記２(5)イ）ものであり，加熱エンボスロールとバックアップロールの間を通すことで連続的に加工されるものであるから，本件発明の「長尺材」に相当する。さすれば，甲３発明のカットパイル布帛を構成するカットパイルの「パイル表面」が，本件発明の「長尺材表面」に対応することになるのは明らかである。
　　甲３発明において，エンボスロールの凹部底面はパイル表面から離れて配置されているから，甲３発明のエンボスロールの凹部底面とパイル表面との関係は，「エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない」と特定する点で，本件発明のエンボスロールのベース面と長尺材表面との関係と一応相違しない。
　　甲３発明の「加熱エンボスロールの凸部の先端を」パイル層に「食い込ませる」の意味は，上記２(5)オの記載からみて，カットパイルが加熱エンボスロールの凸部により曲折変形すると同時に捲縮が顕現し，カットパイル布帛のパイル表面に凹部を部分的に形成させて，加熱エンボスロールの凸部をパイル表面に押圧することをいうと解される。そうすると，甲３発明の加熱エンボスロールの凸部とカットパイル布帛のカットパイル表面との関係は，「凸部を長尺材表面を押圧し」と特定する本件発明と相違しない。
　　本件発明の「エンボス模様」は，本件明細書における「本発明は・・・その表面に凹凸模様（エンボス模様）を有する長尺材の製造方法に関する」（段落【０００１】）との記載から，表面の凹凸模様といえる。また，甲３発明の「カットパイル布帛の柄」は，加熱エンボスロールの凸部の先端をカットパイル布帛に食い込ませて，パイル表面に模様が立体的に刻設されたカットパイル布帛が製造されたものである（上記２(5)ウ，ク，ケ）ので，パイル表面に部分的に凹凸模様が設けられた柄といえる。してみれば，甲３発明の「カットパイル布帛の柄出し加工法」は，本件発明の「エンボス模様を有する長尺材の製造方法」に相当する。
　
　　(2)　一致点及び相違点
　
　　そうすると，本件発明と甲３発明との一致点及び相違点は，それぞれ次のとおりである。
　
　・　一致点
　
「加熱されたエンボスロールとその受けロール間に長尺材を通過させることにより，
前記エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部を長尺材表面に押圧することによって長尺材表面に凹部を部分的に形成させる長尺材の製造方法であって，
前記エンボスロールとその受けロール間を，長尺材を通過させ，
長尺材が前記エンボスロールを通過する際に，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない，エンボス模様を有する長尺材の製造方法。」である点。
　
　・　相違点３−１
　　
　　長尺材がエンボスロールを通過する際に，本件発明は「長尺材表面の光沢度を確認すること」によって「エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする」と特定するのに対して，甲３発明においては，このような特定はされていない点。
　
　・　相違点３−２
　
　　加熱されたエンボスロールとその受けロール間に長尺材を通過させるにことにより，エンボスロールのベース面から立設するように形成された凸部を長尺材表面に押圧することによって長尺材表面に凹部を部分的に形成させるに際し，本件発明は，「上下方向から挟圧する」と特定するのに対して，甲３発明においては，このような特定はされていない点。
　
　・　相違点３−３
　
　　加熱されたエンボスロールとその受けロール間に長尺材を通過させるに際して，本件発明は，「テンションを付加させながら直線状に長尺材を通過させ」と特定するに対して，甲３発明においては，このような特定はされていない点。
　　(3)　相違点３−１の検討
　 
　　甲３発明は，「加熱エンボスロールの凹部底面からパイル表面を離」すものであって，甲３発明の具体的な実施例の記載となる上記２(5)オには「そのエンボスロールの凸部２５の高さは，エンボスロールの凹部底面２４とカットパイル布帛のパイル表面１２が触れ合わず，それらの間に０．５ｍｍ以上の隙間（ｇ）を設けることが出来るように設定される。」，及び「凹部底面−パイル表面の間隔（ｇ）」の値が，有効数字が小数点以下２位である中での１．１１〜１．３２（ｍｍ）という数値となっている。
　そうすると，甲３発明は，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないような彫り込み深さのエンボスロールが用いられていることを前提として利用されているといえ，言い換えれば，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触することは想定していないものといえる。
　
　　ここで，甲４には，上記３(3)アに記載の技術事項が記載されている。
　　一方，甲４は，微細光学グリッド（請求人らによれば「ホログラム」）に係るエンボス加工に係るものであるから，甲３発明のカットパイル布帛に対するエンボス加工とは，上記３(3)イのとおり，その技術分野が相違する。
　　また，甲４は，基板の表面層に微細光学グリッド構造を製造する装置に関し，エンボス加工プロセスにおける動作上の問題を最小にすること，微細光学グリッド構造に関しての効率的な製造方法を得ること，長尺材の位置毎での異なる微細光学グリッド構造を形成することを目的とするものであるから，甲３発明に適用する動機がない。
　　仮に，動機があって適用できたとしても，甲３発明のエンボスローラーは，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないことを前提としているから，甲３発明の凹凸部分の調整のためのみの適用となり，凹凸パターンの深さの調整を光沢度を確認することでおこなうことになるに留まり，光沢度を検出することにより，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにするものとはならない。　
　　したがって，相違点３−１は甲４に記載の技術事項に基いて想到容易とはいえない。
　
　　(4)　相違点３−２の検討
　
　　甲３発明のエンボス加工は，パイル密度（Ｍ）が９００本／（２５．４ｍｍ）2 以上であり，パイル密度（Ｍ）とパイル糸の総繊度（Ｄ）（ｄｔｅｘ）との積（Ｍ×Ｄ）で示されるパイル／デシテックス換算密度（ρ）が２０００００ｄｔｅｘ／（２５．４ｍｍ）2 以上であるカットパイル布帛を，加熱エンボスロールの凹部底面からパイル表面を離して，エンボスロールとバックアップロールの間を通過させるものであって，押圧時には「パイル表面１２のエンボスロールの凸部２５に触れて押圧される部分では，パイル繊維１６の先端部２１が押し倒されて曲折・彎曲したまま熱セットされる」（段落【００２５】）ものといえる。
　　ここで，甲３発明のカットパイル布帛のパイル表面は単繊維繊度が５ｄｔｅｘ以下の熱可塑性繊維によって構成されているから，エンボスロールの凸部がカットパイル布帛に「触れて押圧」することにより，カットパイル布帛が「押し倒されて屈曲・湾曲したまま熱セットされる」ときにおいても，エンボスロールの凸部からの押圧力は，当該繊維の基端部である長尺材の他面までは達しているとはいえない。すなわち，甲３発明のカットパイル布帛のエンボス加工においては，エンボスロール凸部と受けロールとの間で長尺材を上下方向から挟むと共に長尺材に対しての一面からの押圧力が長尺材の他面まで達するようにしてエンボス加工している，すなわち，「上下方向から挟圧する」ものであるということはできない。
　　そして，エンボス加工において上下方向から挟圧するものが周知であっても，上記単繊維繊度からなるカットパイル布帛を前提とする甲３発明において，上下方向から挟圧するものとすることはできない。
　　したがって，相違点３−２は，当業者においても想到容易とはいえない。
　
　　(5)　まとめ
　
　　そうすると，上記相違点３−１は，甲４に記載の技術事項に基いて想到容易でなく，相違点３−２も想到容易でないから，相違点３−３を検討するまでもなく，本件発明は，甲３発明及び甲４に記載の技術事項に基いて当業者が容易に想到できたものではない。
　
　　甲３及び甲４に基づく無効理由３には，理由がない。
　
　６　新規事項の追加に関する無効理由４について
　
　　(1)　請求人の主張
　　ア　新規事項の理由（その１）
　
　　本件発明の第一次無効審判事件における「通過後の長尺材の光沢度を確認することによって」を追加する訂正は，その訂正の根拠である願書に添付した明細書の【００２３】，【００２４】に記載されていない方法（例えば，加熱されたエンボスロールとその受けロール間を通過した長尺材表面の光沢度の値のみを測定し，通過前の長尺材表面の光沢度は測定しない方法等）を含む非常に広範な範囲を含む構成であって，「通過後の長尺材の光沢度を確認することによって」なる構成は，願書に添付した明細書に記載されていない。また上記の構成を追加する訂正は，新たな技術的事項（例えば，加熱されたエンボスロールとその受けロール間を通過した長尺材表面の光沢度の値のみを測定し，通過前の長尺材表面の光沢度は測定しない方法等）を本件発明に導入する訂正である。
　
　　イ　新規事項の理由（その２）
　
　　本件発明の第一次無効審判事件における訂正後の本件発明は，「長尺材表面の光沢度を確認することによって，長尺材が前記エンボスロールを通過する際に，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにすること」なる構成を含む。
　　一方，願書に添付した明細書の【００２３】，【００２４】には，「前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しているか否かを
検出する
　　また，願書に添付した明細書の【００２３】，【００２４】に記載された，長尺材に負荷される温度，圧力，加工速度の調整方法は，「前記エンボスロール及び前記受けロールから排出される長尺材表面の光沢度と，エンボス加工前の長尺材表面の光沢度とが等しくなる」という状態が実現するように調整するというものであって，「長尺材が前記エンボスロールを通過する際に，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない」という状態が実現されるように調整するものではない。
　　よって，「長尺材表面の光沢度を確認することによって」を含む訂正は，新たな技術的事項（「前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しない」という状態が実現するように調整を行うこと）を本件発明に導入する訂正である。
　
　　ウ　請求人の主張のまとめ
　
　上記ア及びイから，第一次無効審判事件における「通過後の長尺材の光沢度を確認することによって」を追加する訂正を含む本件発明は，特許法第１２３条第１項第８号（準用される特許法第１２６条第５項）の規定により特許を受けることができない発明である。
　
　　(2)　願書に添付した明細書の記載
　
　　本件特許の願書に添付した明細書の段落【００２２】〜【００２４】には，下記のとおり記載されている。なお、下線については，当審において付与した。
　
「【００２２】
　また，本実施形態の長尺材の製造方法においては，前記長尺材が前記エンボスロールを通過する際の一方側（供給側）から前記長尺材表面とエンボスロールのベース面との
隙間に光を照射して
光を他方側で確認することによって
接触しているか否かを検出する
　これによって，エンボス装置稼働中において，ベース面を介して長尺材に付与される熱の影響を効果的に除去することができる。
【００２３】
　さらに，本実施形態の長尺材の製造方法においては，前記加熱されたエンボスロールとその受けロール間を
通過した長尺材表面の光沢度の値を測定して
測定した光沢度の値と比較して，前記エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しているか否かを検出する
　これによって，例えば，前記エンボスロール及び前記受けロールから排出される長尺材表面の光沢度と，エンボス加工前の長尺材表面の光沢度とが等しくなるように，前記エンボスロール及び受けロールを介して前記長尺材に負荷される温度，圧力，加工速度を調整することもできる。
こうして，加熱されたエンボスロールと長尺材とが接触して生じる溶融や焼けなどの欠陥を効率的に防止して，品質の優れた長尺材の製造方法を提供することができる。
【００２４】
　さらに，本実施形態の長尺材の製造方法においては，前記加熱されたエンボスロールとその受けロール間を通過した長尺材の上下に投光器及び受光器を設け，エンボス加工部にピンホールが発生していないことを検知するもできる。これによって，エンボス加工後における長尺材のピンホールチェックを迅速かつ効率的に行うことができる。
　なお，上記
長尺材表面の光沢度
は，作業者が直接目視で確認することもできる
　
　　(3)　判断
　
　　本件発明の「長尺材表面の光沢度を確認すること」によって「エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする」とは，その字義からすれば，エンボス加工後の光沢度を確認することによって，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触していることが認識されたときには，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにするものであって，また，この場合の「確認」とは，上述の光沢度に関する記載（【００１８】〜【００２４】）から，その光沢度の数値を測定することを含む意味であるといえる。すなわち，本件発明においては，長尺材表面の光沢度を確認し，当該確認された長尺材表面の光沢度に基づいて，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触していることが認識されたときには，エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにするものと解される。
　　当該判断を踏まえて上記(2)の記載をみれば，上記ア（その１）の観点については，段落【００２４】に作業者が直接目視で確認することが記載されているから，新たな技術的事項を導入するものとはいえない。
　　次に，段落【００２３】においては，たしかに，「前記エンボスロール及び前記受けロールから排出される長尺材表面の光沢度と，エンボス加工前の長尺材表面の光沢度とが等しくなる」という状態が実現するように調整するとの記載ではある。しかし，段落【００２３】の前の段落【００２２】においては，光を利用して直接エンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しているかどうかを検出することが記載され，それに続く段落【００２３】において，上記記載があり，その後に「こうして，加熱されたエンボスロールと長尺材とが接触して生じる溶融や焼けなどの欠陥を効率的に防止して」との記載があることから，当業者であれば，上記の記載であっても，前後の光沢度の変化から接触しているかどうかを検出するものが記載されていると理解できる。そうすると，上記イ（その２）の観点においても，新たな技術的事項を導入するものとはいえない。
　　よって，無効理由４は，理由がない。
　
第６　むすび
　
　　以上の次第であるから，請求人らの主張する無効理由１〜４はいずれも理由がないので，本件特許を無効とすることはできない。
 
　　審判に関する費用については，特許法第１６９条第２項で準用する民事訴訟法第６１条の規定により，請求人らが負担すべきものである。
 
　　よって，結論のとおり審決する。