Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅箔キャリアと、銅箔キャリア上に積層された剥離層と、剥離層上に積層された極薄銅層とを備えたキャリア付銅箔であって、以下の（Ａ）〜（Ｃ）のいずれか一つ以上を満たすキャリア付銅箔。
（Ａ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＭＤ方向）×１５０ｍｍ（ＴＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が６．１５％以下である、
（Ｂ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＴＤ方向）×１５０ｍｍ（ＭＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が９．３０％以下である、
（Ｃ）前記極薄銅層を５ｃｍ角シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が２．９０％以下である。
【請求項２】
以下の（Ｄ）〜（Ｆ）のいずれか一つ以上を満たす請求項１に記載のキャリア付銅箔。
（Ｄ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＭＤ方向）×１５０ｍｍ（ＴＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が４％以下である、
（Ｅ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＴＤ方向）×１５０ｍｍ（ＭＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が７％以下である、
（Ｆ）前記極薄銅層を５ｃｍ角シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が２％以下である。
【請求項３】
以下の（Ｇ）〜（Ｉ）のいずれか一つを満たす請求項１または２に記載のキャリア付銅箔。
（Ｇ）前記極薄銅層表面に粗化処理層を有する、
（Ｈ）前記極薄銅層の表面に粗化処理層を有し、かつ、当該粗化処理層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する、
（Ｉ）前記極薄銅層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する。
【請求項４】
前記極薄銅層上または前記粗化処理層上または前記耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層の上に樹脂層を備える請求項１〜３のいずれかに記載のキャリア付銅箔。
【請求項５】
ロール・ツウ・ロール搬送方式により長さ方向に搬送される長尺状の銅箔キャリアの表面を処理することで、銅箔キャリアと、銅箔キャリア上に積層された剥離層と、剥離層上に積層された極薄銅層とを備えたキャリア付銅箔を製造する方法であり、
搬送ロールで搬送される銅箔キャリアの表面に剥離層を形成する工程と、
搬送ロールで搬送される前記剥離層が形成された銅箔キャリアをドラムで支持しながら、電解めっきにより前記剥離層表面に極薄銅層を形成する工程と、
を含む請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔の製造方法。
【請求項６】
銅箔キャリア上に積層された剥離層上に積層されて、前記銅箔キャリア及び前記剥離層と共にキャリア付銅箔を構成するための、電解銅箔による極薄銅層であって、以下の（Ｊ）〜（Ｌ）のいずれか一つ以上を満たす極薄銅層。
（Ｊ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＭＤ方向）×１５０ｍｍ（ＴＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が６．１５％以下である、
（Ｋ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＴＤ方向）×１５０ｍｍ（ＭＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が９．３０％以下である、
（Ｌ）前記極薄銅層を５ｃｍ角シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が２．９０％以下である。
【請求項７】
以下の（Ｍ）〜（Ｏ）のいずれか一つ以上を満たす請求項６に記載の極薄銅層。
（Ｍ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＭＤ方向）×１５０ｍｍ（ＴＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が４％以下である、
（Ｎ）前記極薄銅層を１５ｍｍ（ＴＤ方向）×１５０ｍｍ（ＭＤ方向）シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が７％以下である、
（Ｏ）前記極薄銅層を５ｃｍ角シートとして、重量厚み法にて重量厚み測定値の平均値及び標準偏差（σ）を測定し、下記式：
厚み精度（％）＝３σ×１００／重量厚み測定値の平均値
で求めた重量厚み精度が２％以下である。
【請求項８】
銅箔キャリア上に積層された剥離層上に積層されて、前記銅箔キャリア及び前記剥離層と共にキャリア付銅箔を構成するための、電解銅箔による極薄銅層であって、
表面に粗化処理層を有する請求項６または７に記載の極薄銅層。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔、または、請求項５に記載のキャリア付銅箔の製造方法により製造されたキャリア付銅箔、または、請求項６若しくは７に記載の極薄銅層を用いてプリント配線板を製造する方法。
【請求項１０】
請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔、または、請求項５に記載のキャリア付銅箔の製造方法により製造されたキャリア付銅箔、または、請求項６若しくは７に記載の極薄銅層を用いて銅張積層板を製造する方法。
【請求項１１】
請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔、または、請求項５に記載のキャリア付銅箔の製造方法により製造されたキャリア付銅箔、または、請求項６若しくは７に記載の極薄銅層と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、及び、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔の銅箔キャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャリア付銅箔及びその製造方法、極薄銅層、銅張積層板の製造方法、並びにプリント配線板の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアと、キャリア上に積層された剥離層と、剥離層上に積層された極薄銅層と、極薄銅層上に積層された絶縁基板との接着層とを備えたキャリア付銅箔であって、
前記極薄銅層は１０ｃｍ角シートとして、重量厚み法で算出した重量厚み測定値の平均値をW10とし、標準偏差をσ10としたときの厚み精度：P10＝３σ10×１００／W10としたとき、P10が３．０％以下であり、
極薄銅層の絶縁基板との接着層において、接触式粗さ計でＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準拠して測定した粗さＲｚが１．５μm以下を満たすキャリア付銅箔。
【請求項２】
以下の（Ａ）または（Ｂ）のいずれか一つ以上を満たすキャリア付銅箔。
（Ａ）前記極薄銅層は５ｃｍ角シートとして、重量厚み法で算出した重量厚み測定値の平均値をW5とし、標準偏差をσ3としたときの厚み精度：P5＝３σ5×１００／W5としたとき、P5が３．０％以下である、
（Ｂ）前記極薄銅層は四探針法で測定した厚みの平均値をＴとし、標準偏差をσTとしたときの厚み精度：PT＝３σT×１００／Tとしたとき、PTが１０．０％以下である。
【請求項３】
前記極薄銅層の絶縁基板との接着層には、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｐ、Ｆｅ及びＣｒの単体、またはＮｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｐ、Ｆｅ及びＣｒの少なくともいずれか１種を含む合金、または酸化物、または水和酸化物が存在する請求項１または２に記載のキャリア付銅箔。
【請求項４】
前記極薄銅層の絶縁基板との接着層は、極薄銅層表面から順に積層した、金属の単体又は合金からなる中間層、及び、Ｃｒの金属単体、または酸化物、または水和酸化物からなる表層で構成され、表層のＣｒの付着量が１０〜２００μｇ／ｄｍ２であり、
前記中間層が、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｐ、Ｆｅ及びＣｒの少なくともいずれか１種を含む請求項１〜３のいずれかに記載のキャリア付銅箔。
【請求項５】
前記中間層が、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｎ及びＣｏのいずれか１種の単体で構成され、該中間層には、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｎ及びＣｏのいずれか１種が１０〜２０００μｇ／ｄｍ2の付着量で存在する請求項４に記載のキャリア付銅箔。
【請求項６】
前記中間層が、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｐ、Ｆｅの少なくともいずれか２種の合金で構成され、該中間層には、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｐ、Ｆｅ及びＣｒのいずれか２種が１０〜２０００μｇ／ｄｍ2の付着量で存在する請求項４に記載のキャリア付銅箔。
【請求項７】
前記中間層が、Ｎｉと、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｐ、Ｆｅ、Ｍｎ及びＣｒのいずれか１種とからなるＮｉ合金で構成された請求項４または６に記載のキャリア付銅箔。
【請求項８】
以下の（Ｃ）〜（Ｅ）のいずれか一つを満たす請求項１〜７のいずれかに記載のキャリア付銅箔。
（Ｃ）前記接着層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する、
（Ｄ）前記接着層上に樹脂層を備える、
（Ｅ）前記接着層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有し、且つ、前記耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層の上に樹脂層を備える。
【請求項９】
ロール・ツウ・ロール搬送方式により長さ方向に搬送される長尺状のキャリアの表面を処理することで、キャリアと、キャリア上に積層された剥離層と、剥離層上に積層された極薄銅層とを備えたキャリア付銅箔を製造する方法であり、
搬送ロールで搬送されるキャリアの表面に剥離層を形成する工程と、
搬送ロールで搬送される前記剥離層が形成されたキャリアをドラムで支持しながら、電解めっきにより前記剥離層表面に極薄銅層を形成する工程と、
を含む請求項１〜８のいずれかに記載のキャリア付銅箔の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載のキャリア付銅箔を用いてプリント配線板を製造する方法。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれかに記載のキャリア付銅箔を用いて銅張積層板を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載のキャリア付銅箔と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法及びプリント配線板の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月22日(2016.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーシング内に、希塩酸が供給され塩素ガスを発生する陰陽両電極を有する電解室を形成すると共に、該ケーシング内を貫通する送水通路を形成し、前記電解室で生成された塩素ガスを前記送水通路内を流動する水に混入して前記塩素ガスを前記送水通路内で溶かすようにし、 前記ケーシング内に、前記電解室と前記送水通路との間にガス溜り室を形成したことを特徴とする次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【請求項２】
前記ケーシング内に、一端部が前記ガス溜り室に連通すると共に他端部が前記送水通路の混入箇所に連通する混入通路を設けたことを特徴とする請求項２に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【請求項３】
前記ケーシングの厚さは、前記電解室から前記送水通路まで流動する塩素ガスが該ケーシング外部に漏れ出ない厚さに形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【請求項４】
前記電解室の互いに対向する側面に前記陽極板と前記陰極板をそれぞれ設けると共にこれら陽極板と陰極板間に隔膜が存在しないことを特徴とする請求項１又は請求項２又は請求項３に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【請求項５】
水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内から水を流入循環して該貯留タンク内に戻す循環管路とを更に設け、前記循環管路に、前記送水通路を介在させた請求項１又は請求項２又は請求項３又は請求項４に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【請求項６】
ケーシング内に、希塩酸が供給され塩素ガスを発生する陰陽両電極を有する電解室を形成すると共に、該ケーシング内を貫通する送水通路を形成し、前記電解室で生成された塩素ガスを前記送水通路内を流動する水に混入して前記塩素ガスを前記送水通路内で溶かすようにし、前記電解室の互いに対向する側面に前記陽極板と前記陰極板をそれぞれ設けると共にこれら陽極板と陰極板間に隔膜が存在しないことを特徴とする次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【請求項７】
樹脂製の矩形状のケーシング内に、希塩酸が供給され塩素ガスを発生する陰陽両電極を有する電解室を形成すると共に、該ケーシング内に管状の送水通路を貫通して設け、前記電解室に一端部を連通する混入通路を前記ケーシング内に形成し、該混入通路の他端部を前記送水通路の中間部の混入個所に連通し、前記電解室で生成された塩素ガスを前記混入通路を介して前記送水通路内を流動する水に混入して溶かすようにし、前記ケーシングを、前記電解室、前記混入通路、前記送水通路の塩素ガスが流動する個所と該ケーシング外表面との距離が塩素ガスが該ケーシングの外部に漏れ出ないだけの厚みをもった樹脂製に形成したことを特徴とする次亜塩素酸水の生成用電解槽。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月30日(2016.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅箔キャリアと、銅箔キャリア上に積層された中間層と、中間層の上に積層された極薄銅層とを備えたキャリア付銅箔であって、以下の（Ａ）または（Ｂ）のいずれかを満たし、
（Ａ）重量厚み法にて測定した前記極薄銅層の厚み精度が３．０％以下である、
（Ｂ）四探針法にて測定した前記極薄銅層の厚み精度が１０．０％以下である、
且つ、前記極薄銅層バルクの平均結晶粒径が０．５μｍ以下であるキャリア付銅箔。
【請求項２】
前記極薄銅層バルクの平均結晶粒径が０．００５〜０．４５μｍである請求項１に記載のキャリア付銅箔。
【請求項３】
以下の（Ｃ）〜（Ｅ）のいずれか一つを満たす請求項１又は２に記載のキャリア付銅箔。
（Ｃ）前記極薄銅層の表面に粗化処理層を有する、
（Ｄ）前記極薄銅層の表面に粗化処理層を有し、且つ、当該粗化処理層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する、
（Ｅ）前記極薄銅層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層を有する。
【請求項４】
前記極薄銅層上または前記粗化処理層上または前記耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された１種以上の層の上に樹脂層を備える請求項１〜３のいずれかに記載のキャリア付銅箔。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔を用いてプリント配線板を製造する方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔を用いて銅張積層板を製造する方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付銅箔と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、及び、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔の銅箔キャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャリア付銅箔、銅張積層板の製造方法及びプリント配線板の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月1日(2016.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の実施例１としての可動シンカー１０を備える横編機１の概略的な構成および動作を示す側面断面図である。
【図２】図２は、実施例１の横編機１に使用するキャリッジに搭載するカムの配置を簡略化して示すカム配置図である。
【図３】図３は、図１の可動シンカー１０を構成するシンカー１１およびトルクばね１２と、針床３を構成する基板４およびニードルプレート５の形状を示す側面図および側面断面図である。
【図４】図４は、本発明の実施例２としての可動シンカー３０を備える横編機２１の概略的な構成および動作を示す側面断面図である。
【図５】図５は、図４の可動シンカー３０を構成するシンカー３１およびトルクばね３２と、針床２３を構成する基板２４およびニードルプレート２５の形状を示す側面図および側面断面図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
以上のようなトルクばね制御カム１３および開閉制御カム１４は、たとえば特許文献１の第１図の「前部カム４」および「後部カム３」と同様の位置に配置する。開状態で「押さえ板３４」が「線バネ２８の遊端部２８ａが押し下げ付勢される」位置よりも高い位置に付勢カム面１３ａの凹部を設けて、トルクばね１２の先端１２ａの上昇を規制し、開閉時の応力振幅が大きくならないようにすることができる。なお、本実施例でも、シンカー１１は、ニードルプレート５に設ける帯金貫通部５ｃを紙面に垂直な方向に貫通する帯金１５で、上方に浮上しないように押えられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図２は、実施例１の横編機１で、キャリッジに搭載され、編針としてべら針を使用する場合に用いるカムの配置を簡略化して示す。図２（ａ）は、トルクばね制御カム１３および開閉制御カム１４の配置を示し、上方が針床３に臨む方向となる。図２（ｂ）は、編目形成用カム１８および目移し用カム１７の配置を含む。編目形成用カム１８には、度山１８ａ，１８ｂとニードルレイジングカム１８ｃとが含まれる。カムは、キャリッジが左行する場合も右行する場合も同等の作用を行うけれども、以下の説明は、キャリッジが左行する場合を想定して行う。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
開閉制御カム１４は、開閉カム面１４ａの凸部分が移動カム１４ｂに設けられる。移動カム１４ｂは、左行開始後にシンカー１２の受動腕１２ｃに当接すると、溝１４ｃに沿って右方に移動し、歯口２で編針に給糸を受ける位置Ａで、シンカー１１の作用腕１１ｂを歯口２から退出させてシンカー１２を開状態にする。また、開閉制御カム１４には、キャリッジの走行方向の先行側で、いったんシンカー１１の編糸受け部１１ｄを歯口２から退出させるための可動カム１４ｄも設けられている。キャリッジが右行する場合は、可動カム１４ｅに切換えられる。なお、度山１８ｂが編針を引込む位置Ｂでは、付勢カム面１３ａの凸の部分が対応するようにしている。付勢カム面１３ａの位置で、トルクばね１２の先端１２ａに作用する押圧力を調整することができ、付勢カム面１３ａの位置が針床３に近いと大きくなり、針床３から離れると小さくなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図３は、図１の可動シンカー１０を構成するシンカー１１およびトルクばね１２と、針床３を構成する基台４およびニードルプレート５の形状を示す。トルクばね１２では、先端１２ａと基端１２ｂとの間で折返す湾曲部１２ｃを設けることができる。湾曲部１２ｃは、シンカー１１の支承部１１ａの内側で、支点１１ｆを迂回する形状にすることができる。支点１１ｆは、支承部１１ａの外周となる円弧の仮想的な中心である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図４は、実施例２として、可動シンカー３０を備える横編機２１の概略的な構成および動作を、図４（ａ）は閉状態、図４（ｂ）は開状態でそれぞれ示す。本実施例では、シンカー３１の受動腕３１ｃは、作用腕３１ｂと支承部３１ａとの間から分岐して、ニードルプレート２５の上方に突出する。トルクばね３２の先端３２ａは、受動腕３１ｃよりも後方の位置で、ニードルプレート２５の上方に突出する。ニードルプレート２５は、基台２４とともに針床２３を形成し、受動腕３１ｃとトルクばね３２の先端３２ａとが突出するのは、針床２３の外方となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
シンカーカムは、シンカー３１の受動腕３１ｃの先端とトルクばね３２の先端３２ａとを、針床２３から突出する二つのバットとして、開閉制御カム３４の開閉カム面３４ａと、トルクばね制御カム３３の付勢カム面３３ａとが対向する間に収容する。本実施例は、実施例１とはカムの配置が異なるけれども、それぞれ対応するものが設けられ、作用する方向に関するカム面の凹凸のパターンも同様にすることができる。圧力調整手段３６は、実施例１の押圧力調整手段１６と同様に、トルクばね３２の先端３２ａに作用する押圧力を調整することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2014201861.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月13日(2016.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乳脂肪球皮膜とアミノ酸を組み合わせてなる筋タンパク質合成シグナル増強剤。
【請求項２】
乳脂肪球皮膜とアミノ酸を組み合わせてなる筋量増加剤。
【請求項３】
乳脂肪球皮膜とアミノ酸を組み合わせてなる筋萎縮抑制剤。
【請求項４】
アミノ酸がロイシン、イソロイシン及びバリンから選ばれる分岐アミノ酸である、請求
項１記載の筋タンパク質合成シグナル増強剤、請求項２記載の筋量増加剤、又は請求項３
記載の筋萎縮抑制剤。
【請求項５】
乳脂肪球皮膜とアミノ酸を組み合わせてなる筋タンパク質合成シグナル増強用食品又は食品組成物。
【請求項６】
乳脂肪球皮膜とアミノ酸を組み合わせてなる筋量増加用食品又は食品組成物。
【請求項７】
乳脂肪球皮膜とアミノ酸を組み合わせてなる筋萎縮抑制用食品又は食品組成物。
【請求項８】
アミノ酸がロイシン、イソロイシン及びバリンから選ばれる分岐アミノ酸である、請求項５記載の筋タンパク質合成シグナル増強用食品又は食品組成物、請求項６記載の筋量増加用食品又は食品組成物、又は請求項７記載の筋萎縮抑制用食品又は食品組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月26日(2016.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記加熱は、前記二分子膜成分及び油剤が一相の等方性溶液を形成する温度まで行われる、請求項１〜４の何れかに記載の逆ベシクル組成物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記油剤が２種以上の油剤を含み、前記加熱は、前記二分子膜成分が前記油剤の少なくとも１種と一相の等方性溶液を形成する温度まで行われる、請求項５に記載の逆ベシクル組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月13日(2016.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とするＧＬＰ−１分泌促進剤。
【請求項２】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とする食欲抑制剤。
【請求項３】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とする心機能悪化の予防及び／又は改善剤。
【請求項４】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とする動脈硬化の予防及び／又は改善剤。
【請求項５】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とするＧＬＰ−１分泌促進用食品組成物。
【請求項６】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とする食欲抑制用食品組成物。
【請求項７】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とする心機能悪化の予防及び／又は改善用食品組成物。
【請求項８】
カシュウイモ又はその抽出物を有効成分とする動脈硬化の予防及び／又は改善用食品組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月24日(2016.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分Ａ）〜Ｃ）を含有することを特徴とする皮膚外用剤（ただし、成分Ａ）〜Ｃ）は互いに異なる）。
Ａ）メントール
Ｂ）メンチル基及びＯＨ基を有する化合物
Ｃ）カルボン酸のメントールエステル
【請求項２】
更にポリオキシエチレン付加ヒマシ油を含有することを特徴とする請求項１に記載の皮膚外用剤。
【請求項３】
更にエタノールを皮膚外用剤全量に対して２０〜５０質量％含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の皮膚外用剤。
【請求項４】
成分Ｂ）がメントキシプロパンジオールであり、かつ成分Ｃ）がピロリドンカルボン酸メンチルであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の皮膚外用剤。
【請求項５】
全身に適用することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の皮膚外用剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
＜試験例２＞冷感スコアの評価
試験例１の各時点における冷感の強さを以下の６段階で評価した。２０名のスコアの平均値をその時間における冷感スコアとした。結果を表２に示す。
評価基準    かなり冷感を感じる・・・・・５点
冷感を感じる・・・・・・・・４点
やや冷感を感じる・・・・・・３点
わずかに冷感を感じる・・・・２点
ほとんど冷感を感じない・・・１点
全く冷感を感じない・・・・・０点
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月28日(2016.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
始動条件の成立に伴い遊技を実行する遊技制御手段を備えた遊技機において、
前記遊技制御手段は、
前記遊技での抽選に用いられる乱数値を生成する乱数生成手段と、
所定の乱数取得条件の成立に基づいて前記乱数生成手段が生成した乱数値を取り込んで保持する乱数値保持手段と、
前記乱数値保持手段から取得される乱数値を記憶する乱数値記憶手段と、
前記乱数値保持手段に乱数値が保持されているか否かを示す保持状態情報を記憶する保持状態情報記憶手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動条件の成立に伴い遊技を実行する遊技制御手段を備えた遊技機において、
前記遊技制御手段は、
前記遊技での抽選に用いられる乱数値を生成する乱数生成手段と、
所定の乱数取得条件の成立に基づいて前記乱数生成手段が生成した乱数値を取り込んで保持する乱数値保持手段と、
前記乱数値保持手段から取得される乱数値を記憶する乱数値記憶手段と、
前記乱数値保持手段に乱数値が保持されているか否かを示す保持状態情報を記憶する保持状態情報記憶手段と、を備えたことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月8日(2016.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明に係る医用画像診断支援装置は、心臓を含む３次元医用画像データに基づいて、上行大動脈を含む血液流路を特定する特定手段と、前記特定手段により特定された血液流路の断面であって、該血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭に関する計測値を算出する算出手段と、前記計測値に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定する決定手段と、を有することを特徴とする。この態様の本発明によれば、画像データ上において大動脈弁輪位置を再現性良く高精度に特定することができる。また、大動脈弁輪位置を高精度に特定することにより、この大動脈弁輪位置の情報に基づいて医師や技師等が、大動脈弁輪部に関する所望の情報を取得し易くなるように支援することが可能となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る医用画像診断支援方法は、心臓を含む３次元医用画像データに基づいて、上行大動脈を含む血液流路を特定する特定工程と、前記特定工程により特定された血液流路の断面であって、該血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭に関する計測値を算出する算出工程と、前記計測値に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定する決定工程と、を有することを特徴とする。この態様の本発明によれば、画像データ上において大動脈弁輪位置を再現性良く高精度に特定することができ、この大動脈弁輪位置の情報に基づいて医師や技師等が、大動脈弁輪部に関する所望の情報を取得し易くなるように支援することが可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係るコンピュータプログラムは、心臓を含む３次元医用画像データに基づいて、上行大動脈を含む血液流路を特定する特定工程と、前記特定工程により特定された血液流路の断面であって、該血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭に関する計測値を算出する算出工程と、前記計測値に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定する決定工程と、を医用画像診断支援装置において実行せしめることを特徴とする。この態様の本発明によれば、画像データ上において大動脈弁輪位置を再現性良く高精度にコンピュータに特定させることができ、この大動脈弁輪位置の情報に基づいて医師や技師等が、大動脈弁輪部に関する所望の情報を取得し易くなるように支援することが可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
心臓を含む３次元医用画像データに基づいて、上行大動脈を含む血液流路を特定する特定手段と、
前記特定手段により特定された血液流路の断面であって、該血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭に関する計測値を算出する算出手段と、
前記計測値に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定する決定手段と、
を有することを特徴とする医用画像診断支援装置。
【請求項２】
前記血液流路は、前記３次元医用画像データに含まれる心臓の上行大動脈から左心室心尖部までの領域を少なくとも含むことを特徴とする請求項１に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記長手方向に沿う複数の断面における前記計測値の比較結果に基づいて、前記大動脈弁輪の位置を決定することを特徴とする請求項１または２に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項４】
前記算出手段は、前記３次元医用画像データに基づいて、前記血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭の周囲長を算出し、
前記決定手段は、前記算出手段により算出された輪郭の周囲長に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項５】
前記特定手段により特定された血液流路の長手方向に延在する流路芯線を設定する設定手段を更に有し、
前記算出手段は、前記設定手段により設定された流路芯線に垂直な断面における血液流路の輪郭に関する計測値を算出することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項６】
前記決定手段により決定された前記大動脈弁輪の位置と前記計測値に基づいて、前記大動脈弁輪の弁輪径に関する値を推定する推定手段を更に有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項７】
前記推定手段は、前記弁輪径に関する値として、前記大動脈弁輪の最大径、最小径、平均径、周囲長および面積の少なくともいずれか１つの値を推定することを特徴とする請求項６に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項８】
前記決定手段により決定された前記大動脈弁輪の位置に基づいて、前記３次元データにおける冠動脈起始部から前記大動脈弁輪部までの最短距離を算出する距離算出手段を更に備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項９】
前記血液流路の輪郭に関する計測値の長手方向における変化状態を表示手段に表示させる表示制御手段を更に有することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項１０】
前記表示制御手段は、前記決定手段により決定された前記大動脈弁輪の位置における断面であって、前記血液流路の長手方向に対して直交する断面の断面画像を表示手段に表示させることを特徴とする請求項９に記載の医用画像診断支援装置。
【請求項１１】
心臓を含む３次元医用画像データに基づいて、上行大動脈を含む血液流路を特定する特定工程と、
前記特定工程により特定された血液流路の断面であって、該血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭に関する計測値を算出する算出工程と、
前記計測値に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定する決定工程と、
を有することを特徴とする医用画像診断支援装置の制御方法。
【請求項１２】
医用画像診断支援装置上で実行可能なコンピュータプログラムであって、
心臓を含む３次元医用画像データに基づいて、上行大動脈を含む血液流路を特定する特定工程と、
前記特定工程により特定された血液流路の断面であって、該血液流路の長手方向に対して直交する断面における輪郭に関する計測値を算出する算出工程と、
前記計測値に基づいて、大動脈弁輪の位置を決定する決定工程と、
を有することを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月13日(2016.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体を載置する天板と、
前記被検体に対してＸ線を発生するＸ線管と、
前記Ｘ線管を移動可能に支持するＸ線管支持機構と、
を具備し、
前記Ｘ線管支持機構及び前記Ｘ線管は、前記天板の下方に配置され、
前記Ｘ線管支持機構は、
前記Ｘ線管をスライド可能に支持し、円弧形状を有する第１アームと、
前記第１アームを、前記天板に直交する回転軸まわりに回転可能に支持する第２アームと、を有すること、
を特徴とするＸ線診断装置。
【請求項２】
前記第１アームは、略半円形状を有すること、
を特徴とする請求項１記載のＸ線診断装置。
【請求項３】
前記第１アームは、略四半円形状を有すること、
を特徴とする請求項１記載のＸ線診断装置。
【請求項４】
前記Ｘ線を検出するＸ線検出面が前記天板に対向するように配置されるＸ線検出部をさらに具備すること、
を特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のＸ線診断装置。
【請求項５】
前記Ｘ線検出部は、前記Ｘ線を検出する円弧形状のＸ線検出面を有すること、
を特徴とする請求項４記載のＸ線診断装置。
【請求項６】
前記Ｘ線検出面の逆面に配置される表示部をさらに具備すること、
を特徴とする請求項４または請求項５に記載のＸ線診断装置。
【請求項７】
前記表示部は、前記被検体に関するＸ線画像を前記被検体と同一スケールで表示すること、
を特徴とする請求項６記載のＸ線診断装置。
【請求項８】
前記Ｘ線管支持機構を駆動する支持機構駆動部と、
前記表示部に表示されたＸ線画像上のユーザ操作に従って、前記被検体の撮影方向または撮影位置を変更するために、前記支持機構駆動部を制御する制御部と、
をさらに具備することを特徴とする請求項６または請求項７に記載のＸ線診断装置。
【請求項９】
前記表示部は、前記表示部の表示画面が前記天板の直交上向きになるように配置され、
前記制御部は、前記表示部に表示されたＸ線画像上で、ユーザにより指定された位置と、前記被検体の撮影中心位置とを結んだ方向から前記被検体に対してＸ線が照射される位置に前記Ｘ線管を移動させるために、前記支持機構駆動部を制御すること、
を特徴とする請求項８記載のＸ線診断装置。
【請求項１０】
前記Ｘ線検出面に対して斜めに入射したＸ線のデータを、前記Ｘ線検出面に対して直交するデータに変換処理する処理部をさらに具備すること、
を特徴とする請求項４乃至請求項９のいずれか１項に記載のＸ線診断装置。
【請求項１１】
前記Ｘ線検出部から出力に基づいて前記被検体に関するＸ線画像のデータを発生する画像発生部と、
前記Ｘ線画像を構成する複数の画素のうち、基準画素値より高い画素値を有する画素の画素値を前記基準画素値より低い画素値に変換したＸ線画像と散乱関数とに基づいて散乱線画像を発生し、前記Ｘ線画像から前記散乱線画像を差分することにより、散乱線を低減した散乱線低減画像を発生する処理部と、
をさらに具備することを特徴とする請求項４乃至請求項９のいずれか１項に記載のＸ線診断装置。
【請求項１２】
前記処理部は、前記Ｘ線検出部と前記天板との位置関係に基づいて決定した被検体厚と前記被検体に関するＸ線撮影条件とに基づいて、前記散乱関数を決定すること、
を特徴とする請求項１１記載のＸ線診断装置。
【請求項１３】
前記Ｘ線管を収納し、前記Ｘ線管から放射され、散乱されたＸ線を遮蔽するための遮蔽カバーをさらに具備すること、
を特徴とする請求項１記載のＸ線診断装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本実施形態によるＸ線診断装置は、被検体を載置する天板と、前記被検体に対してＸ線を発生するＸ線管と、前記Ｘ線管を移動可能に支持するＸ線管支持機構とを具備し、前記Ｘ線管支持機構及び前記Ｘ線管は、前記天板の下方に配置され、前記Ｘ線管支持機構は、前記Ｘ線管をスライド可能に支持し、円弧形状を有する第１アームと、前記第１アームを、前記天板に直交する回転軸まわりに回転可能に支持する第２アームと、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月25日(2016.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞培養工場に設置される自動培養システムであって、細胞を自動で培養する自動培養装置と、前記自動培養装置で培養された細胞の状態に関する情報を管理する細胞管理部と、を有する自動培養システムと、
前記自動培養システムに通信接続され、前記自動培養装置で培養された細胞の状態に関する情報を記憶する記憶部と、
を備え、
前記自動培養システムは、前記細胞管理部で管理されている細胞の状態に関する情報を前記記憶部にリアルタイムで送り、
前記記憶部は、発注者の元に設置された外部コンピュータと通信接続可能であり、この通信接続を介して、前記記憶部に記憶された前記細胞の状態に関する情報を前記外部コンピュータの表示部に表示させることができ、かつ、前記外部コンピュータの操作部から、前記記憶部を介して前記細胞培養工場内の培養中の細胞に対して発注をかけることができることを特徴とする細胞管理システム。
【請求項２】
細胞を培養する前記自動培養装置の情報を管理し、処理を実行させる製造実行システムを備え、前記外部コンピュータからの発注情報をもとに、前記製造実行システムが行う前記培養装置の実行処理に関する情報を補正する請求項１に記載の細胞管理システム。
【請求項３】
前記自動培養システムは、前記自動培養装置で培養された細胞の良否を自動で判断する判断部を有することを特徴とする請求項１に記載の細胞管理システム。
【請求項４】
前記自動培養システムは、前記細胞のプロファイルデータを前記記憶部にリアルタイムで送り、
前記記憶部は、前記自動培養システムから送られる前記細胞のプロファイルデータを記憶し、
前記表示部は、前記記憶部に記憶された前記細胞のプロファイルデータを表示することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の細胞管理システム。
【請求項５】
前記自動培養システムは、前記自動培養装置に関する情報を管理する装置管理部を有するとともに、前記装置管理部で管理されている前記自動培養装置に関する情報を前記記憶部にリアルタイムで送り、
前記記憶部は、前記自動培養システムから送られる前記自動培養装置に関する情報を記憶し、
前記表示部は、前記記憶部に記憶された前記自動培養装置に関する情報を表示することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の細胞管理システム。
【請求項６】
前記自動培養システムは、前記細胞培養工場内で細胞を収容した容器を搬送する搬送部と、少なくとも前記搬送部に関する情報を管理する搬送管理部と、を有するとともに、前記搬送管理部で管理されている前記搬送部に関する情報を前記記憶部にリアルタイムで送り、
前記記憶部は、前記自動培養システムから送られる前記搬送部に関する情報を記憶し、
前記表示部は、前記記憶部に記憶された前記搬送部に関する情報を表示することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の細胞管理システム。
【請求項７】
前記自動培養システムは、前記自動培養装置で培養されている細胞の出荷可能時期を管理するとともに、前記出荷可能時期を前記記憶部にリアルタイムで送り、
前記記憶部は、前記自動培養システムから送られる前記出荷可能時期を記憶し、
前記表示部は、前記記憶部に記憶された前記出荷可能時期を表示することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の細胞管理システム。
【請求項８】
前記自動培養装置で培養される細胞が、ｉＰＳ細胞又は分化細胞であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の細胞剥離装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月13日(2016.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明のネイルプリント装置は、
描画対象領域に複数種類のインクを塗布してデザインの描画を施す描画部と、
前記デザインの描画データに基づいて前記描画部を制御する描画制御部と、
を備え、
前記描画制御部は、
前記画像データに基づいて、前記描画対象領域に、互いに接する接触部分を有する複数の単位領域を設定し、
前記複数の単位領域における特定の単位領域について、該特定の単位領域に接している前記単位領域の全てが、少なくとも、前記インクが塗布され且つ当該インクの乾燥が終了している既乾燥の単位領域、又は、前記インクが塗布されていない未描画の単位領域、の何れかであると判断したときに、前記特定の単位領域に前記描画を施すように制御することを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明のネイルプリント装置の印刷方法は、
描画対象領域に複数種類のインクを塗布してデザインの描画を施すネイルプリント装置の印刷方法であって、
前記デザインの画像データに基づいて、前記描画対象領域に、互いに接する複数の単位領域を設定し、
前記複数の単位領域における特定の単位領域について、該特定の単位領域に接している前記単位領域の全てが、少なくとも、前記インクが塗布され且つ当該インクの乾燥が終了している既乾燥の単位領域、又は、前記インクが塗布されていない未描画の単位領域、の何れかであると判断したときに、前記特定の単位領域に前記描画を施すことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画対象領域に複数種類のインクを塗布してデザインの描画を施す描画部と、
前記デザインの描画データに基づいて前記描画部を制御する描画制御部と、
を備え、
前記描画制御部は、
前記画像データに基づいて、前記描画対象領域に、互いに接する接触部分を有する複数の単位領域を設定し、
前記複数の単位領域における特定の単位領域について、該特定の単位領域に接している前記単位領域の全てが、少なくとも、前記インクが塗布され且つ当該インクの乾燥が終了している既乾燥の単位領域、又は、前記インクが塗布されていない未描画の単位領域、の何れかであると判断したときに、前記特定の単位領域に前記描画を施すように制御することを特徴とするネイルプリント装置。
【請求項２】
前記複数の単位領域は、それぞれ、前記描画部により、単一種類の前記インクで描画される領域であり、
前記複数の単位領域における、互いに接している２つの前記単位領域の各々は、前記描画部により、互いに異なる種類の前記インクで描画される領域であることを特徴とする請求項１に記載のネイルプリント装置。
【請求項３】
乾燥告知タイマを有し、
前記画像データは、前記複数の単位領域の各々に塗布する前記インクの乾燥に要する乾燥時間の情報を有し、
前記乾燥告知タイマは、前記各単位領域に対して、前記乾燥時間が予め設定されていて、前記各単位領域における前記描画部による前記描画の終了時からの経過時間をカウントし、該経過時間が当該単位領域に設定されている前記乾燥時間に達したときにこれを告知する信号を前記描画制御部に出力し、
前記描画制御部は、前記乾燥告知タイマにより前記告知がされている前記単位領域を前記既乾燥の単位領域と判断することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のネイルプリント装置。
【請求項４】
前記描画制御部は、
前記画像データに基づいて、前記複数の単位領域の各々に互いに異なるエリア番号を付し、
互いに接している前記各単位領域の前記エリア番号の情報を周囲関連情報として有し、
前記周囲関連情報に基づいて、前記特定の単位領域に接している前記単位領域の前記エリア番号を取得し、取得した前記エリア番号の前記単位領域について、前記既乾燥の単位領域又は前記未描画の単位領域であるか否かを判断することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のネイルプリント装置。
【請求項５】
前記描画制御部は、前記各単位領域を、前記エリア番号の順に、前記特定の単位領域に順次設定し、前記特定の単位領域に接している前記単位領域が、前記インクが塗布され且つ当該インクの乾燥が終了していない未乾燥の単位領域を含んでいると判断したとき、当該特定の単位領域には前記描画を施さないように制御することを特徴とする請求項４に記載のネイルプリント装置。
【請求項６】
前記描画部は、先端部が前記描画対象領域に接触して前記描画を施す描画具を備えていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のネイルプリント装置。
【請求項７】
描画対象領域に複数種類のインクを塗布してデザインの描画を施すネイルプリント装置の印刷方法であって、
前記デザインの画像データに基づいて、前記描画対象領域に、互いに接する複数の単位領域を設定し、
前記複数の単位領域における特定の単位領域について、該特定の単位領域に接している前記単位領域の全てが、少なくとも、前記インクが塗布され且つ当該インクの乾燥が終了している既乾燥の単位領域、又は、前記インクが塗布されていない未描画の単位領域、の何れかであると判断したときに、前記特定の単位領域に前記描画を施すことを特徴とするネイルプリント装置の印刷方法。
【請求項８】
前記描画装置は、乾燥告知タイマを有し、
前記画像データは、前記複数の単位領域の各々に塗布する前記インクの乾燥に要する乾燥時間の情報を有し、
前記感想告知タイマに、前記各単位領域に対する、前記乾燥時間を設定し、
前記乾燥告知タイマにより、前記各単位領域における前記描画の終了時からの経過時間をカウントし、
前記経過時間が当該単位領域に設定されている前記乾燥時間に達したときに、これを告知する信号を出力させ、
前記告知がされている前記単位領域を前記既乾燥の前記単位領域と判断することを特徴とする請求項７に記載のネイルプリント装置の印刷方法。
【請求項９】
前記画像データに基づいて、前記複数の単位領域の各々に、互いに異なるエリア番号を付し、
互いに接している前記各単位領域の前記エリア番号の情報を周囲関連情報として有し、
前記周囲関連情報に基づいて、前記特定の単位領域に接している前記単位領域の前記エリア番号を取得し、
取得した前記エリア番号の前記単位領域について、前記既乾燥の単位領域又は前記未描画の単位領域であるか否かを判断することを特徴とする請求項７又は請求項８に記載のネイルプリント装置の印刷方法。
【請求項１０】
前記各単位領域を、前記エリア番号の順に、前記特定の単位領域に順次設定し、
前記特定の単位領域に接している前記単位領域が、前記インクが塗布され且つ当該インクの乾燥が終了していない未乾燥の単位領域を含んでいると判断したとき、当該特定の単位領域には前記描画を施さないことを特徴とする請求項９に記載のネイルプリント装置の印刷方法。