【手続補正書】
【提出日】平成28年7月8日(2016.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
シリル化液として、ウエハＷの表面を撥水化するための撥水化剤をシンナー（希釈剤）で希釈したものを用いることができる。撥水化剤としては、例えば、トリメチルシリルジメチルアミン（ＴＭＳＤＭＡ）、ジメチルシリルジメチルアミン（ＤＭＳＤＭＡ）、トリメチルシリルジエチルアミン（ＴＭＳＤＥＡ）、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、1,1,3,3,-テトラメチルジシラザン（ＴＭＤＳ）等を用いることができる。シンナーとしては、エーテル類溶媒、ケトン類の有機溶媒などを用いることができる。具体的には、シンナーとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、シクロヘキサノン、ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）等を用いることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
流量制御機構６３３は、シリル化液供給ライン６３２に上流側から順に介設された流量計、定圧弁及びニードル弁（いずれも図示せず）などから構成することができる。流量制御機構６５３、並びに供給機構６１、６２、６４の流量制御機構も同様の構成とすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
［シリル化液ノズルの第４実施形態］
上記第１〜第３実施形態では、シリル化液流路４３１に合流する遮断流体流路４３２から遮断流体をシリル化液流路４３１に供給したが、これには限定されない。遮断流体をシリル化液ノズル４３の外部、具体的には吐出口４３４からシリル化液流路４３１内に供給してもよい。これを可能とする構成を図７を参照して説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
第４実施形態に係るシリル化液ノズル４３’は、その内部にシリル化液流路４３１を有するが遮断流体流路４３２を有しない。第１〜第３実施形態と同様に、シリル化液流路４３１は、シリル化液供給源６３１に接続されるとともに流量制御機構（ＦＣ）６３３及び開閉弁６３４が介設されたシリル化液供給ライン６３２に接続されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
上記の手順の終了後は、ノズル４３’を上昇させて液溜め７０１内から取り出し、ノズル４３’を退避位置で退避させる。また、液溜め７０１内に残存している遮断流体にはシリル化液流路４３１内にあったシリル化液が溶解しているので、廃棄することが好ましい。この場合、開閉弁７０６を開いて排液ライン７０５から液溜め７０１内の遮断流体を廃棄する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にシリル化液を供給して基板を撥水化処理する処理部と、
前記処理部にある基板にシリル化液を供給する吐出口と、前記吐出口に向けてシリル化液が流れるシリル化液流路を有するノズルと、
前記ノズルの前記シリル化液流路にシリル化液を供給するシリル化液供給機構と、
前記ノズルの前記シリル化液流路に遮断流体を供給して、前記シリル化液流路内にあるシリル化液を、このシリル化液よりも前記吐出口に近い側に存在する遮断流体により前記吐出口の外部の雰囲気から遮断する遮断流体供給機構と、
を備えた基板液処理装置。
【請求項２】
前記ノズルは、前記吐出口よりも上流側に設定された接続位置において前記シリル化液流路に接続された遮断流体流路と、を有しており、
前記遮断流体流路に前記遮断流体供給機構から遮断流体を供給することにより、前記接続位置よりも上流側の前記シリル化液流路内にあるシリル化液を前記遮断流体により前記吐出口の外部の雰囲気から遮断する、請求項１記載の基板液処理装置。
【請求項３】
前記遮断流体は液体であり、前記遮断流体供給機構は前記遮断流体流路の経路上に開閉弁を有し、前記開閉弁を所定時間開けた後に閉じることにより、前記接続位置から前記吐出口までの前記シリル化液流路内を前記遮断流体により満たされた状態とする、請求項２記載の基板液処理装置。
【請求項４】
前記遮断流体は有機溶剤である、請求項１から３のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
【請求項５】
前記シリル化液は、撥水剤をシンナーにより希釈したものであり、前記遮断流体は前記シンナーである、請求項１から３のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
【請求項６】
前記遮断流体が、前記シリル化液と相溶性を有し、かつ純水とも相溶性を有する、請求項３記載の基板液処理装置。
【請求項７】
前記遮断流体は気体であり、この気体を前記遮断流体流路に供給し続けることにより、前記遮断流体流路及び前記接続位置から前記吐出口までの前記シリル化液流路内を前記遮断流体により満たされた状態とすることができる、請求項２記載の基板液処理装置。
【請求項８】
前記遮断流体は液体であり、前記遮断流体供給機構は、遮断流体を貯留する液溜めと、前記液溜めに溜められた遮断流体に前記ノズルの前記吐出口を浸漬したときに、前記シリル化液流路を介して前記吐出口に吸引力を作用させる吸引機構と、を有している、請求項１記載の基板液処理装置。
【請求項９】
吐出口と、前記吐出口に向けてシリル化液を流すためのシリル化液流路と、を有するノズルを用いて、前記ノズルの前記吐出口から基板に前記シリル化液を供給して、前記基板を撥水化処理する工程と、
前記ノズルからの前記シリル化液の供給を停止する工程と、
前記シリル化液流路に遮断流体を供給して、前記シリル化液流路内にある前記シリル化液を、このシリル化液よりも前記吐出口に近い側に存在する前記遮断流体により前記吐出口の外部の雰囲気から遮断する工程と、
を備えた基板液処理方法。
【請求項１０】
前記ノズルは、前記吐出口よりも上流側に設定された接続位置において前記シリル化液流路に接続された遮断流体流路と、を有しており、
前記遮断流体は前記遮断流体流路から前記シリル化液流路に供給され、これにより、前記接続位置よりも下流側の前記シリル化液流路内にある前記シリル化液が前記遮断流体によりパージされ、かつ、前記接続位置よりも上流側の前記シリル化液流路内にあるシリル化液が前記遮断流体により前記吐出口の外部の雰囲気から遮断される、請求項９記載の基板液処理方法。
【請求項１１】
前記遮断流体は液体であり、前記シリル化液を前記遮断流体によりパージした後に前記遮断流体の通流が停止され、これにより前記遮断流体流路及び前記接続位置から前記吐出口までの前記シリル化液流路内が前記遮断流体により満たされる、請求項１０記載の基板液処理方法。
【請求項１２】
前記遮断流体は有機溶剤である、請求項１１記載の基板液処理方法。
【請求項１３】
前記シリル化液は、撥水剤をシンナーにより希釈したものであり、前記遮断流体は前記シンナーである、請求項１１記載の基板液処理方法。
【請求項１４】
前記遮断流体が、前記シリル化液と相溶性を有し、かつ純水とも相溶性を有する、請求項１１記載の基板液処理方法。
【請求項１５】
前記遮断流体は気体であり、前記シリル化液を前記遮断流体によりパージした後にも前記遮断流体を前記遮断流体流路に供給し続けることにより、前記遮断流体流路及び前記接続位置から前記吐出口までの前記シリル化液流路内を前記遮断流体により満たされた状態とする、請求項１０記載の基板液処理方法。
【請求項１６】
前記遮断流体は液体であり、前記シリル化液流路に遮断流体を供給する工程は、前記ノズルの吐出口を液溜めに貯留された前記遮断流体の中に浸漬して前記吐出口を介して前記シリル化液流路に前記遮断流体を吸入することを含む、請求項９記載の基板液処理方法。