【事件の表示】
　特願２０１０−５３７０６２「反射防止部材、およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　３月２４日国際公開、ＷＯ２０１１／０３３９７６、請求項の数（８）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１０年９月８日（優先権主張２００９年９月１８日　日本国、２００９年９月１８日　日本国、２００９年９月１８日　日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２６年５月２６日付けで拒絶理由が通知され、同年７月２５日に手続補正がなされ、同年１２月１９日付けで拒絶理由が通知され、平成２７年３月２日に手続補正がなされたが、同年７月１５日付けで同年３月２日になされた手続補正が却下されるとともに拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月３０日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がなされたものである。
　
第２　本願発明
　本願の請求項１ないし８に係る発明は、平成２７年１０月３０日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された事項により特定される、次のとおりのものであると認められる（以下、請求項１に係る発明を「本願発明」という。）。
　
「　【請求項１】
　支持基材の少なくとも第１の面に、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を有し、これら屈折率の異なる２つの隣接する層が、前記支持基材から遠い側より第１層および第２層であり、
支持基材がポリエステルであり、
前記第１層が低屈折率層であり、前記第２層が高屈折率層であり、
前記支持基材の第１の面の表面粗さが８ｎｍ以上２２ｎｍ以下であり、
　前記反射防止層が、構成元素が異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含み、
　前記第１層と第２層との界面上の直線距離が５００ｎｍ以上の任意の２点をＡ１、Ａ２としたとき、このＡ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さａと、この線分Ａ１Ａ２を、前記支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さｂとの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満である反射防止部材。
　　【請求項２】
　前記第２層の厚みが５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下である、請求項１の反射防止部材。
　　【請求項３】
　前記第２層中に存在する粒子の数平均粒子径が２５ｎｍ以下である、請求項１または２の反射防止部材。
　　【請求項４】
　前記長さｂと、前記線分Ａ１Ａ２を、前記支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記反射防止層の前記支持基材側とは反対側の面へ投影した線の長さｃとの比ｂ／ｃが、１．０５より大きく１．４０未満である、請求項１から３のいずれかの反射防止部材。
　　【請求項５】
　前記第１層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度ＦＬと、前記第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度ＦＨとの比ＦＬ／ＦＨが、２以上１５０以下である、請求項１から４のいずれかの反射防止部材。
　　【請求項６】
　前記第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによる酸素原子のイオン強度ＯＨと、前記ＦＨとの関係が、ＦＨ≧ＯＨである、請求項５の反射防止部材。
　　【請求項７】
　請求項１から６のいずれかの反射防止部材を製造する方法であって、前記支持基材の少なくとも第１の面上に、塗料組成物を１回のみ塗工することで、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を形成する反射防止部材の製造方法。
　【請求項８】
　前記支持基材の第１の面のＪＩＳ−Ｂ−０６０１（２００１年版）で規定される表面粗さが８ｎｍ以上２２ｎｍ以下である、請求項７の反射防止部材の製造方法。」
　
第３　原査定の理由の概要
（理由１）本願の請求項１ないし８に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
１．特開２００５−２２７４７２号公報
２．特開２００５−２０１９８６号公報
３．国際公開第２００９／０９８９４１号
４．特開２００９−１９８７４８号公報
　
備考：
　引用文献３には、実施例５として、「支持基板フィルム１／Ｓｂ２Ｏ５粒子を含む高屈折率層２／シリカ微粒子を含む低屈折率層３」の積層構造を有し、高屈折率層２の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１３２、低屈折率層３の算術表面粗さ（Ｒａ）が０．０６７である反射防止フィルムが記載されており（[0147]  [表1]）、算術平均粗さの定義（例えば、特開２００７−２８８１６０号公報の段落【００３１】、図２参照。）に照らして、投影線長さの下限値は、算術平均粗さ（Ｒａ）×２＋基準長さＬであるから、引用文献３の実施例５において、高屈折率層２における基準長さａ当たりの投影線長さｂは最小で１．２６４、低屈折率層３における測定長さａ当たりの投影線長さｃは最小で１．１３４である。
　引用文献１の実施例（特に、【０１９８】〜【０２１８】、【表１】のフィルムＮｏ．ＣＡ−１参照。）には、表面粗さ（Ｒａ）が５ｎｍであるセルロースアシレート支持基材に、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射防止膜ＡＦ−１が記載され、また、形成された反射防止膜について輝度ムラ防止効果が得られることが記載され（【０２４０】、【表４】参照。）、一方、引用文献３の実施例５には、算術平均粗さの定義に基づいて、ｂ／ａが１．２６４、ｂ／ｃが１．１１５である高屈折率層、低屈折率層の反射防止膜積層技術が記載されており、また、支持基材としてセルロース誘導体を用いること（[0022]参照。）、表示装置に用いられたときの表示ムラ防止が課題であることが記載されている（[0004]、[0007]参照。）から、表示ムラ防止という共通の課題に基づいて、引用文献１に記載された発明において、セルロースアシレート支持基材上に形成する高屈折率層及び低屈折率層の積層構造として、引用文献３の実施例５の高屈折率層及び低屈折率層を用いることにより、請求項１に係る発明の構成を得ることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（理由２）この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
　発明の詳細な説明に実質的に記載されているのは、下限値が８ｎｍである表面粗さの支持基材である（段落【０２３２】、【表１−３】参照）のに対して、請求項１、８には、支持基材の第１の面の表面粗さについて、「２２ｎｍ以下」として記載され、下限値が特定されておらず、このため、発明の詳細な説明に記載された内容を超えている。よって、請求項１及び８に係る発明、並びに、請求項１を引用する請求項２ないし７に係る発明は、発明の詳細な説明に記載されたものでない。
　
第４　当審の判断（理由１について）
１　引用文献１の記載事項
（１）本願の優先権主張の日（以下「優先日」という。）前に頒布された、原査定の引用文献１（特開２００５−２２７４７２号公報）には、次のアないしカの事項が記載されている（下線は審決で付した。以下同じ。）。
　ア「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、偏光板を用いた液晶表示素子、及びこれらを用いた液晶表示装置に関し、更に詳細には、表示画像の画像鮮明性が良好で視認性に優れ、且つ高い輝度を達成しうる液晶表示素子、並びに液晶表示装置に関する。」
　
　イ「【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
　液晶表示装置の高視野角化、高速応答化と並び、明るくて高精細なフルカラー画像に対する要求が非常に高い。特に、表示装置の２０インチ以上の大画面では輝度ムラの無い高輝度の鮮明画像が強く望まれるようになり、さらには供される偏光板の耐久性への要求及び低コスト化が望まれている。
　特に、前記のような種々の液晶表示装置に対応できる光学特性に優れた耐久性良好な液晶表示素子が強く望まれている。
　一方、上記したような表示画面の大型化やモバイル化の進展に対して、液晶表示装置の薄型・軽量化が一層求められている。
　従来の液晶表示装置ではこれらの近年要求されている性能をすべて満足することができないため、これらの要求されている性能をすべて満足しうる液晶表示素子の開発が要望されている。
【０００６】
　従って、本発明の目的は、大画面の液晶表示装置でも外光の写りこみやギラツキが無く表示画像が明るくて鮮明であり、耐久性が良好な液晶表示素子を提供することである。また、本発明の他の目的は、耐久性に優れた薄くて軽量化された液晶表示素子を提供することである。
　さらに、本発明の他の目的は、輝度向上フィルムを偏光素子の片側に配置した偏光板及び
反射防止膜を偏光素子の片側に塗設した偏光板
　
　ウ「【００１３】
　
偏光素子の両側に設ける保護フィルムとしては、通常下記の透明支持体が用いられるが、本発明においては、後述する特定のセルロースアシレートフィルムであることが好ましい
また、上側偏光板の上側保護フィルムは、透明支持体と該透明支持体上に設けられた反射防止膜とからなる
　
〔透明支持体〕
　
上記透明支持体としては、適宜な透明フィルムを用いることができ
中でも、透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーからなるフィルム等が好ましく用いられ
そのポリマーの例としては、例えば、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、あるいはアクリル系、ウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型の樹脂等が挙げられ、これらは単独で又は２種以上組み合せて使用できる
　透明支持体の厚さは、１０〜２００μｍであることが好ましく、２０〜１２０μｍであることがより好ましく、２０〜１００μｍであることがさらに好ましい。特に好ましくは２０〜８０μｍである。
　透明支持体は、偏光素子の保護フィルムとして使用するために、フィルムの疎水性／親水性のバランス、偏光素子のビニルアルコール系膜との貼合性やフィルム面内全体の光学特性の均一性が重要であり、セルロースエステル系樹脂フィルムが好ましく挙げられる。特に、セルロースの脂肪酸エステル（セルロースアシレート）フィルムが好ましく、さらにはセルロースアシレート、可塑剤および微粒子を含有するフィルムであるのが好ましい。以下に透明支持体の原料としてのセルロースアシレートについて説明する。」
　
　エ「【００５７】
[セルロースアシレートフィルムの特性]
（フィルム表面の性状）
　
支持体として用いるセルロースアシレートフィルムが特定の表面形状を有するのが好ましい
　
前記セルロースアシレートフィルムの反射防止層を設ける側の表面は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に基づくフィルムの表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０００１〜０．１μｍ、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０００１〜０．３μｍ、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であり、好ましくは算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０００１〜０．０８μｍ、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０００１〜０．１μｍ、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であり、更に好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０００２〜０．０１５μｍ、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．００２  〜０．０５μｍ、且つ最大高さ（Ｒｙ）が０．０５μｍ以下であり、特に好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．０１０μｍ、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．００２〜０．０２５μｍ、且つ最大高さ（Ｒｙ）が０．０４μｍ以下である
　上記の範囲内において、塗布ムラの無い均一な塗布面状で、且つ支持体と塗布膜の密着性が良好な反射防止層が設けられる。
　表面の凹と凸の形状は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により評価することが出来る。
　また、上記セルロースアシレートフィルムにおける視覚的な大きさが１００μｍ以上である光学的欠陥の数は、１ｍ2当たり１個以下であるのが、均一で鮮明なフィルムを得率よく生産できる等の点から好ましい。
　この光学的な欠陥は、偏光顕微鏡を用い、クロスニコル下でフィルムの遅相軸を偏光子の吸収軸と平行にして観察することができる。輝点として見える欠点を円形に面積近似し、その直径が１００μｍ以上のものを数える。１００μｍ以上の輝点は、肉眼で容易に観測できる。
　即ち、上記セルロースアシレートフィルムは、その表面が、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づく表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０００１〜０．１μｍ、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０００１〜０．３μｍ、且つ視覚的な大きさが１００μｍ以上である光学的欠陥の数が１ｍ2当たり１個以下であるのが好ましい。
（他方の表面形状）
　また、上記支持体の反射防止層側と反対側の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｙ）が、反射防止層側表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｙ）の３倍以下であることが好ましい。更に好ましくは１〜２倍であり、特に好ましくは１〜１．５倍である。このような範囲において、フィルムの透明性、ロール形態での耐接着性等が良好となる。
　以上のような表面形状としたフィルムとすることで、光学的な欠陥や輝度向上のムラ等の表示画像の不均一さが著しく軽減される。
　本発明に用いる透明支持体の動摩擦係数は０．４以下であることが好ましく、０．３以下であることが特に好ましい。動摩擦係数が大きいと搬送ロールとの間で強く擦られる結果支持体から発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学フィルムとしての点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えてしまう。動摩擦係数は５ｍｍφの鋼球を用いる鋼球法により測定することができる。
　又、本発明に用いる透明支持体の表面抵抗率は、１．２ｘ１０12Ω／□以下であることが好ましく、１．０ｘ１０12Ω／□以下であることがより好ましく、０．８ｘ１０12Ω／□以以下であることが特に好ましい。表面抵抗率を本発明の範囲内とすることにより透明支持体や光学フィルムへの異物の付着が抑えられる。」
　
　オ「【０１９８】
［実施例１］
＜支持体の作製＞
・・・（略）・・・
【０１９９】
【化１１】
・・・（略）・・・
【０２００】
（セルロースアシレート溶液（Ａ−１）の調整）
・・・（略）・・・
【０２０１】
【化１２】
・・・（略）・・・
【０２０２】
（ドープの調製）
・・・（略）・・・
【０２０３】
（溶液流延方法）
・・・（略）・・・
【０２０４】
・・・（略）・・・
【０２０５】
（フィルム表面の凹凸形状）
　得られた
セルロースアシレートフィルムＣＡ−１試料のバンド側面の表面形状を測定した
その結果を表１に示す
（フィルムの光学特性）
・ヘイズ
　ヘイズはヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。フィルム１サンプルにつき、５点を測定し、その平均値を採用した。
・・・（略）・・・
【０２０７】
【表１】
【０２０８】
＜反射防止膜（ＡＦ−１）の作製＞
（ハードコート層用塗布液の調製）
　トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）５０．０質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０２０９】
（二酸化チタン微粒子分散液Ａの調製）
　二酸化チタン微粒子としては、
コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）
　
この粒子２５７．１質量部に、下記分散剤３８．６質量部、およびシクロヘキサノン７０４．３質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン微粒子分散液Ａを調製し
【０２１０】
【化１３】
【０２１１】
（中屈折率層用塗布液の調製）
　
上記の二酸化チタン微粒子分散液Ａ  ８８．９質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．４質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１質量部、メチルエチルケトン４８２．４質量部、及びシクロヘキサノン１８６９．８質量部を添加して攪拌し
十分に攪拌して得られた溶液を、孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製し
【０２１２】
（高屈折率層用塗布液の調製）
　
上記の二酸化チタン微粒子分散液Ａ：５８６．８質量部に、ＤＰＨＡ：４７．９質量部、イルガキュア９０７：４．０質量部、カヤキュアーＤＥＴＸ：１．３質量部、メチルエチルケトン４５５．８質量部、およびシクロヘキサノン１４２７．８質量部を添加して攪拌して溶液を得
孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液を調製し
【０２１３】
（低屈折率層用塗布液の調製）
　
ＤＰＨＡ、１．４質量部、下記構造の含フッ素樹脂（ＰＦ−１）５．６質量部、中空シリカ（平均粒径４０ｎｍ、シェル層厚７ｎｍ、屈折率１．３１、イソプロパノール１８質量％）２０．０質量部、反応性シリコーンＲＭＳ−０３３（Ｇｅｌｅｓｔ（株）製）０．７質量部、下記内容のゾル液ａ：６．２質量部、及びイルガキュア９０７：０．２質量部をメチルエチルケトン３１５．９質量部に投入して攪拌して溶液を得
得られた溶液を孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製し
【０２１４】
【化１４】
【０２１５】
（ゾル液ａの調製）
　
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得
【０２１６】
（反射防止膜（ＡＦ−１）の作製）
　
上記のロール形態のセルロースアシレートフィルム上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し
１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ
2
、照射量３００ｍＪ／ｃｍ
2
の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成し
　
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布し
【０２１７】
　
中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ
2
、照射量４００ｍＪ／ｃｍ
2
の照射量とし
硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍ
【０２１８】
　
高屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ
2
、照射量６００ｍＪ／ｃｍ
2
の照射量とし
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ
　
上記の高屈折率層上に、上記低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ
2
、照射量９００ｍＪ／ｃｍ
2
の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層（ＡＬ−１）を形成し、反射防止膜（ＡＦ−１）を作成した
　
　カ「【０２２９】
（反射防止性偏光板（上側偏光板））
　
上記の反射防止膜（ＡＦ−１）の反射防止層の反対側のセルロースアシレートフィルム表面を、水酸化カリウム５７質量部、プロピレングリコール１２０質量部、イソプロピルアルコール５３５質量部、および２８８水質量部からなるアルカリ溶液を４０℃に保温した鹸化液を塗布して１５秒間鹸化処理し
　
鹸化処理した支持体表面のアルカリ溶液を、水で十分に洗浄した後、１００℃で十分に乾燥させ
【０２３０】
　膜厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（（株）クラレ製）を水１０００質量部、ヨウ素７質量部、ヨウ化カリウム１０５質量部からなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、このフィルムを４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して
偏光素子を作製し
　接着剤として
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光素子の一方の面に上記反射防止膜（偏光板用表面保護フィルム、ＡＦ−１）の鹸化処理したセルロースアシレート面を貼り合わせ
偏光素子のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ
【０２３１】
（光学補償機能付反射防止性偏光板（視認側偏光板／上側偏光板））
　
ディスコティック構造単位の円盤面が支持体面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する光学補償フィルム（ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂ、富士写真フィルム（株）製）において、光学補償層を有する側とは反対側の表面を上記のアルカリ鹸化処理と同様の条件で鹸化処理し
　
上記の反射防止性偏光板の反射防止層とは反対側のセルロースアシレートフィルムの表面を同様にしてアルカリ鹸化処理し
　接着剤として
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償フィルム及び反射防止性偏光板の各鹸化処理したセルロースアシレートフィルム面を貼り合わせ
　以上の様にして、
上側偏光板（ＳＨＢ−１）を作製し
【０２３２】
（下側偏光板）
　
上側偏光板で作成した偏光素子と同じ偏光素子にその両面の保護フィルムとして、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）の片面を上記と同様にしてアルカリ鹸化処理した面にポリビニル系接着剤を用いて貼り合わせて偏光板を作製し
　次に、
作製した偏光板の片面に、２５μｍ厚の光拡散粘着材を貼り合わせ
次いで、輝度向上フィルム：ＰＣＦ４００（基材は５０μｍ厚ＰＥＴフィルム、全体厚みは約５３μｍ；日東電工社製）を貼り合わせ
　
この偏光板の輝度向上フィルムを設けたのとは反対側のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）面側の表面、及び光学補償フィルム：ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂの支持体側表面を、上記のアルカリ溶液の塗布鹸化処理で表面処理し
　
接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、各鹸化処理した面を貼り合わせ
　以上の様にして、
下側偏光板（ＢＨＢ−１）を作製し
【０２３３】
＜液晶表示素子及び液晶表示装置＞
（ＴＮモード液晶表示装置）
　
ＴＮモードで２０インチの液晶表示装置：ＴＨ−２０ＴＡ３型（松下電器（株）製）に設けられている視認側の偏光板の代わりに本発明の偏光板（ＳＨＢ−１）の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付け
バックライト側には、光学異方性層側が液晶セル側となるように粘着剤を介して上記のバックライト側偏光板（ＢＨＢ−１）を貼り付けて、液晶表示素子を得
観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置し
【０２３４】
＜液晶表示装置の描画性能＞
・・・（略）・・・
【０２３５】
（描画画像ムラ）
・・・（略）・・・
【０２３６】
（外光写り込み）
・・・（略）・・・
（黒表示の色味評価）
・・・（略）・・・
（輝度向上性）
　輝度計（（株）トプコン製、ＢＭ−７）を用いて、正面方向の輝度（ｃｄ/ｍ2）を測定した。比較用の試料として、実施例の輝度向上フィルムを用いなかった場合の輝度を測定し、これを基準にして輝度向上比を求めて、下記段階評価を行った。
　　　Ａ：輝度向上比が１．５を越える
　　　Ｂ：輝度向上比が１．２５以上から１．５未満
　　　Ｃ：輝度向上比が１．２５未満
　又、
輝度の均一性を、斜め視覚方向（角度４５度）のムラの有無を目視で評価し
【０２３７】
（コントラスト、及び視野角）
・・・（略）・・・
【０２３８】
（色味変化）
・・・（略）・・・
【０２３９】
　
実施例１及び比較例１−１〜１−３の各表示装置について、実施例１と同様にして描画画像の画像品位を評価した
その結果を表４
【０２４０】
【表４】
」
　
（２）上記（１）からみて、引用文献１には、実施例１として、次の構成を備える反射防止膜の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
「下記工程（ａ）ないし（ｈ）を順次実施することにより作成された反射防止膜（ＡＦ−１）。
（ａ）セルロースアシレートフィルムＣＡ−１を用意する工程
　バンド側面の表面形状を測定した結果、その算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００５μｍであったセルロースアシレートフィルムＣＡ−１試料を用意する工程。
（ｂ）二酸化チタン微粒子分散液Ａを調製する工程
　コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）を用い、当該二酸化チタン粒子２５７．１質量部に、下記【化１３】の分散剤３８．６質量部、およびシクロヘキサノン７０４．３質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン微粒子分散液Ａを調製する工程。
【化１３】
（ｃ）中屈折率層用塗布液を調製する工程
　前記二酸化チタン微粒子分散液Ａ  ８８．９質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．４質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１質量部、メチルエチルケトン４８２．４質量部、及びシクロヘキサノン１８６９．８質量部を添加して攪拌し、十分に攪拌して得られた溶液を、孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製する工程。
（ｄ）高屈折率層用塗布液を調製する工程
　前記二酸化チタン微粒子分散液Ａ：５８６．８質量部に、ＤＰＨＡ：４７．９質量部、イルガキュア９０７：４．０質量部、カヤキュアーＤＥＴＸ：１．３質量部、メチルエチルケトン４５５．８質量部、およびシクロヘキサノン１４２７．８質量部を添加して攪拌して溶液を得て、これを孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液を調製する工程。
（ｅ）低屈折率層用塗布液を調製する工程
　ＤＰＨＡ、１．４質量部、下記【化１４】の構造の含フッ素樹脂（ＰＦ−１）５．６質量部、中空シリカ（平均粒径４０ｎｍ、シェル層厚７ｎｍ、屈折率１．３１、イソプロパノール１８質量％）２０．０質量部、反応性シリコーンＲＭＳ−０３３（Ｇｅｌｅｓｔ（株）製）０．７質量部、下記内容のゾル液ａ：６．２質量部、及びイルガキュア９０７：０．２質量部をメチルエチルケトン３１５．９質量部に投入して攪拌して溶液を得て、得られた溶液を孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製する工程。
【化１４】
　ここで、前記ゾル液ａは、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却して得たものである。
（ｆ）ハードコート層を形成する工程
　前記ロール形態のセルロースアシレートフィルムＣＡ−１上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成する工程。
（ｇ）ハードコート層上に中屈折率層、高屈折率層を形成する工程
　前記ハードコート層の上に、前記中屈折率層用塗布液、前記高屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布する工程。
　ここで、中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とし、硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであり、
　また、高屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とし、硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍである。
（ｈ）高屈折率層上に低屈折率層（ＡＬ−１）を形成する工程
　前記高屈折率層上に、前記低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層（ＡＬ−１）を形成する工程。」
　
２　引用文献３の記載事項
（１）本願の優先日前に頒布された、原査定の引用文献３（国際公開第２００９／０９８９４１号）には、次のアないしクの事項が記載されている。
　ア「反射防止フィルム
技術分野
[0001]　
本発明は、
表示装置のコントラストおよび鮮明性の低下を伴うことなく色ムラが抑制された反射防止フィルムに関する
　
背景技術
[0002] 　従来、透明基材上に透明薄膜層を形成させた積層フィルムにおいて、透明基材表面で反射した光と積層フィルム表面で反射した光とが干渉することにより、干渉縞と呼ばれる模様（干渉ムラ）が視認されて、表示ムラとなる問題があった。
　そこで、上記問題を解決するために様々な提案がなされてきた。
[0003]　例えば、特許文献１（特開２００１−０８００１３号公報）には、積層フィルムを得る際に、干渉縞を防止するための手段として、屈折率の差がある２層の境界面の粗さを制御する方法が開示されている。この方法によれば、干渉縞の無くヘイズが１％以下の積層体が得られることが記載されている。
[0004] 　
特許文献２
には、凹凸面を有する透明基材フィルム上にハードコート層と反射防止層とを設け、ハードコート層の屈折率を反射防止層の屈折率よりも高くしたヘイズの小さい反射防止フィルムが開示されており、ここでは、その凸凹の表面粗さを０．０５〜０．１５μｍの範囲とすることが記載されている
この反射防止フィルムは、表示装置の干渉ムラ（色ムラ）や面のギラツキを抑制することができ
[0005]　また、特許文献３（特開２００５−１０７００５号公報、対応外国公報ＵＳ２００５０９４２７３　（Ａ１））には、第一の透明層と第二の透明層との接触界面を光散乱性界面とした光学フィルムが開示されており、ここでは、その接触界面を１０点平均粗さで０．４μｍ以上とすることが記載されている。そして、この光学フィルムは、干渉縞の発生を抑制できるとあり、好ましい態様として反射防止層を備えることが記載されている。
　
発明の開示
発明が解決しようとする課題
[0006]　しかしながら、特許文献１に記載の積層体を表示装置に適用すると、境界面の粗さを制御する事により干渉ムラは解消されるものの、平均粗さが０．５μｍ以上と大きい為に表示画像の鮮明性が低下し、高精細のディスプレイ用途としては不向きなものであった。
[0007]　また、特許文献２や特許文献３に記載の反射防止フィルムにおいては、凹凸は、微粒子を含む層を支持体上に塗布することで付与されるものとなっている。従って、特許文献２や特許文献３に開示された方法では、少なくとも支持体上に干渉縞を防止する為の層を塗布・硬化する工程を別途設ける必要があり、また、支持体の性状によっては防止層の剥離を防止するための表面処理等の手段を施すことが必要になる等、製造工程はより複雑となり、生産性の低下を招く恐れがある。
　従って、
本発明の目的は、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のない反射防止フィルムを提供することにある
　
課題を解決するための手段
[0008] 　そこで、本発明者は、上記目的を達成するために検討した結果、
表面形状に関する指標の内、凹凸の平均の高さ／深さに加え、凹凸の平均間隔を制御し、更にこの二つの指標が一定の関係を満たすような凹凸を、透明基材を変形することによって透明フィルムに付与し、この透明フィルムに設けられた凹凸上に反射防止層を積層することによって、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のないディスプレイに好適な反射防止フィルムが得られることを見出し
　
　イ「[0013] 　
本発明の反射防止フィルムは、透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、［１］〜［２］を満たすもの
［１］
０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
［２］
０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
（
ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である
　透明フィルムの凹凸を有する面のＲａが上記値以上であると、反射防止フィルムを表示装置に適用した際、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。
透明フィルムの凹凸を有する面のＲａが上記値以下であると、後述する高屈折率層および低屈折率層を形成した際に干渉ムラが発生し、表示装置の視認性が低下する傾向がある
　透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍが上記値以上であると、反射防止フィルムを表示装置に適用した際、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍが上記値以下であると、後述する高屈折率層および低屈折率層を形成した際に干渉ムラが発生し、表示装置の視認性が低下する傾向がある。」
　
　ウ「[0022]　本発明の透明フィルムを得る為に用いることのできる透明基材は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものである。
透明基材を構成する材料としては、透明樹脂があげられる
　
本発明で用いることのできる透明樹脂は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものである
例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる
　
　エ「実施例
[0080]　本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び％は特に断りのない限り重量基準である。
（透明フィルムの膜厚）
　フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（大和工業社製、製品名「ＲＵＢ−２１００」）を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し、測定した。
（透明基材の屈折率）
　透明基材の材料を単層で凹凸を設けずにをフィルム状に成形し、プリズムカプラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、製品名「ｍｏｄｅｌ２０１０」）を用い、波長６３３ｎｍ，温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した。
（高屈折率層および低屈折率層の屈折率）
　高速分光エリプソメトリ(Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、製品名「Ｍ−２０００Ｕ」)を用い,入射角度をそれぞれ５５，６０，６５°、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した場合の、波長領域４００〜１０００ｎｍのスペクトルから算出した。
（耐擦傷性）
　スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、反射防止フィルムの低屈折率層の表面を１０往復させ、往復させた後の表面状態を目視で観測した。
Ａ：良好。傷が認められない。
Ｂ：中等度。スジ傷が３本以上ある。
Ｃ：不良。スジ傷が８本以上ある。
（ヘイズ）
　濁度計（日本電色社製、製品名「ＮＤＭ　２０００」）を用いて測定した。
（最小反射率）
　分光光度計（日本分光社製、製品名「Ｖ−５５０」）を用いて、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５°での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長域における最小反射率を算出した。
（Ｒａ、Ｓｍ測定）
　
表面粗さ計（ミツトヨ社製、製品名「ＳＪ４００」）を用い、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：１９９４に基づき測定
　
Ｓｍ（凹凸の平均間隔）とは、測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、粗さ曲線の平均線に対して基準長さ（Ｌ）を抜き取り、基準長さ上の隣り合う山と谷の長さ（Ｘｓｉ）の平均値
Ｒａ（算術平均粗さ）とは、前記したような方法で粗さ曲線を求め、その曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値
（接触角測定）
　接触角測定器（協和界面科学社製、製品名「ＤＭ５００」）にて蒸留水を滴下し、２秒後の接触角を測定した。
（干渉ムラ（検査方法１））
　反射防止フィルムの裏面に黒ビニールテープ（日東電工社製、Ｎｏ．２１）を貼り、暗室内で３波長の光源下に置き、反射防止フィルムの法線方向から方位角０°で観察し、干渉ムラの有り無しを目視検査する。
良：干渉ムラ無
不良：干渉ムラ有
（干渉ムラ（検査方法２））
　反射防止フィルムの裏面に黒ビニールテープ（日東電工社製、Ｎｏ．２１）を貼り、暗室内で３波長の光源下に置き、反射防止フィルムの法線方向から方位角３０〜６０°の範囲で観察し、干渉ムラの有り無しを目視検査する。
なし：良好。干渉ムラ無
あり：不良。干渉ムラ有
（鮮明性）
　ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準じ、写像鮮明性測定装置（スガ試験機社製）により、０．５ｍｍ幅の光学くしで測定した。数値が高いほど鮮明性が高いことを意味する。
　写像鮮明性は、試料からの透過光を移動する光学クシを通して測定し、その値を計算によって求めるものである。試料がボケを生じるものの場合、光学クシ上に結像されるスリットの像は、そのボケの影響で太くなるため、透過部の位置ではスリット像の両端が不透明部にかかり、１００％あった光量が減少する。また、不透明部の位置ではスリット像の両端は不透明部から光が漏れて、０％の光量が増加する。
　鮮明性の値は、光学クシの透明部の透過光最大値Ｍと、不透明部の最小値ｍから次式によって定義される。
　鮮明性の値 Ｃ（％）＝[（Ｍ−ｍ）／（Ｍ＋ｍ）] × １００
（コントラスト）
　市販の液晶表示装置から反射防止フィルムを外して試験装置とした。
　反射防止フィルムの反射防止層が形成されていない側をグリセリン（屈折率１．４９）を介して表示装置と密着させ、表示装置の黒表示、白表示を行い、輝度計（トプコン社製、製品名「ＢＭ−５」）にて反射防止フィルムの中心部分の輝度をはかり、コントラスト比＝白表示時の輝度／黒表示時の輝度として算出した。
（輝度）
　市販の液晶表示装置から反射防止フィルムを外して試験装置とした。反射防止フィルムの反射防止層が形成されていない側をグリセリン（屈折率１．４９）を介して表示装置と密着させ、表示装置の白表示を行い、輝度計（トプコン社製、製品名「ＢＭ−５」）にて反射防止フィルムの中心部分の輝度を測定した。
[0081]　（製造例１）透明フィルムＳ１の作製
　
２種３層の多層共押出装置を使用して、両表面層を構成するポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＨＴ２０Ｙ」）、中間層を構成する耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＭＨ」）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、これを直後に線圧９ｋＮ／ｍ、ロール速度２０ｍ／ｍｉｎで、表面温度９０℃に加熱したＳｍが２５μｍの凹凸を有する賦形ロールと、表面温度９０℃に加熱した鏡面ロールでニップし、凹凸をフィルムに転写したのち、冷却を行い、３層構成の透明フィルム１を得
　透明フィルムＳ１を構成する各層の厚みは、凹凸が形成された側の表面層（表面層１）の厚みが４０μｍ、中間層が４０μｍ、凹凸が形成されていない側の表面層（表面層２）が４０μｍであり、透明フィルム１の総厚は１２０μｍであった。
　透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは２５μｍであり、表面層１の屈折率は１．４９、透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面の接触角は８０°であった。
・・・（略）・・・
[0085]　（製造例５）
透明フィルムＳ５の作製
　
製造例１において、線圧１３ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが１６５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ５を得
透明フィルムＳ５の凹凸が形成された面のＲａは０．１８μｍ
　
　オ「[0106] 　（製造例２６）
高屈折率層形成用組成物Ｈ１の調製
　
アクリロイル基を含有するオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、Ｓｂ
２
Ｏ
５
粒子（触媒化成工業社製、平均粒径３０ｎｍ）２００部と、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２部とを加え、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ−２２−１６４Ａ」）を１部加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、高屈折率層形成用組成物Ｈ１を得
　
 カ「[0109] 　（製造例２９）
低屈折率層形成用組成物Ｌ１の調製
　
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン社製、商品名「ＴＳＬ８２５７」）４部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより液１を調製し
　
次に、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）を前記液１の固形分に対し８０重量％になるように添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製し
　
　キ 「[0113]  （
実施例１
　
製造例１で得られた透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面に、製造例２６で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１をバーコーターで塗布した後、紫外線照射機を用いて波長３００〜３９０ｎｍの範囲において積算光量２００ｍＪ／ｃｍ
２
となるように紫外線照射を行い硬化させ、厚み３μｍの項屈折率層を形成させて、透明フィルム／高屈折率層となる積層体を得
　
次に、高屈折率層の上に、製造例２９で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ１をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥・硬化させ、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成し、本発明の反射防止フィルム１を得
　得られた反射防止フィルム１を、上記評価方法に従って評価した。干渉ムラは、上記検査方法１及び検査方法２のうち、検査方法１に従って評価した。反射防止フィルム１の評価結果を表１に示す。
・・・（略）・・・
[0117]  （実施例５）
　
実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ５を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム５を得
　反射防止フィルム５を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。」
　
　ク「[0147]  [表1]
」
　
（２）上記（１）からみて、引用文献３には、実施例５として、次の構成を備える反射防止フィルム５の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
　
「表面形状に関する指標のうち、凹凸の平均の高さ／深さに加え、凹凸の平均間隔を制御し、更にこの二つの指標が一定の関係を満たすような凹凸を、透明基材を変形することによって透明フィルムに付与し、この透明フィルムに設けられた凹凸上に反射防止層を積層することによって、生産性に優れ、干渉ムラ（色ムラ）が抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なうことのないディスプレイに好適な反射防止フィルムが得られることを見出してなされた反射防止フィルムであって、
　透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形することにより形成されたものであり、表面粗さ計（ミツトヨ社製、製品名「ＳＪ４００」）を用い、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、粗さ曲線の平均線に対して基準長さ（Ｌ）を抜き取り、基準長さ上の隣り合う山と谷の長さ（Ｘｓｉ）の平均値をＳｍ（凹凸の平均間隔）とし、前記粗さ曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値をＲａ（算術平均粗さ）としたとき、算術平均粗さ（Ｒａ）および凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が、
　０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
　０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
　を満たすものであり、
　２種３層の多層共押出装置を使用して、両表面層を構成するポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＨＴ２０Ｙ」）、中間層を構成する耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＭＨ」）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、これを直後に線圧１３ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎで、表面温度９０℃に加熱したＳｍが１６５μｍの凹凸を有する賦形ロールと、表面温度９０℃に加熱した鏡面ロールでニップし、凹凸をフィルムに転写したのち、冷却を行い、３層構成の透明フィルムＳ５を得、
　アクリロイル基を含有するオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、Ｓｂ２Ｏ５粒子（触媒化成工業社製、平均粒径３０ｎｍ）２００部と、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２部とを加え、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ−２２−１６４Ａ」）を１部加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、高屈折率層形成用組成物Ｈ１を得、
　還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン社製、商品名「ＴＳＬ８２５７」）４部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより液１を調製し、次に、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）を前記液１の固形分に対し８０重量％になるように添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製し、
　前記透明フィルムＳ５の凹凸が形成された面に、製造例２６で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１をバーコーターで塗布した後、紫外線照射機を用いて波長３００〜３９０ｎｍの範囲において積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させ、厚み３μｍの高屈折率層を形成させて、透明フィルム／高屈折率層となる積層体を得、次に、高屈折率層の上に、製造例２９で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ１をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥・硬化させ、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成して得た、
　前記透明フィルムＳ５の凹凸が形成された面、前記高屈折率層及び前記低屈折率層のＲａが、ぞれぞれ、０．１８μｍ、０．１３２μｍ及び０．０６７μｍである、
　反射防止フィルム５。」
　
３　対比
　本願発明と引用発明１とを対比する。
（１）引用発明１の「セルロースアシレートフィルムＣＡ−１」、「高屈折率層」、「低屈折率層（ＡＬ−１）」及び「反射防止膜（ＡＦ−１）」は、本願発明の「支持基材」、「高屈折率層」、「低屈折率層」及び「反射防止部材」に相当する。
　
（２）引用発明１は、ロール形態の「セルロースアシレートフィルムＣＡ−１」（本願発明の「支持基材」に相当。以下、「」で括った引用発明１の構成の後の丸括弧内に本願発明の相当する構成を記す。）上に、厚さ８μｍのハードコート層を形成し、当該ハードコート層上に、屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍの中屈折率層及び屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍの「高屈折率層」を順次形成し、当該「高屈折率層」上に厚さ１００ｎｍの「低屈折率層（ＡＬ−１）」を形成するものであり（工程（ｆ）ないし（ｈ））、当該「高屈折率層」及び「低屈折率層（ＡＬ−１）」が引用発明１の「反射防止膜（ＡＦ−１）」（反射防止部材）において反射防止層としての機能を有していることは技術上明らかである。
　そうすると、引用発明１において、「セルロースアシレートフィルムＣＡ−１」（支持基材）はその一方の面側に、「高屈折率層」及び「低屈折率層」、すなわち屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を有し、これら屈折率の異なる２つの隣接する層を「セルロースアシレートフィルムＣＡ−１」（支持基材）から遠い側より第１層及び第２層と名付けた場合、前記「高屈折率層」と前記「低屈折率層」の形成順序を考慮すると、前記第１層が「低屈折率層」となり、前記第２層が「高屈折率層」となる。
　したがって、本願発明と引用発明１とは、「支持基材」について、その「少なくとも第１の面」に、「屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層」を有し、これら「屈折率の異なる２つの隣接する層」が、「前記支持基材から遠い側より第１層および第２層」であり、かつ、「前記第１層が低屈折率層であり、前記第２層が高屈折率層であ」る点で一致する。
　
（３）引用発明１の「高屈折率層」及び「低屈折率層」は、それぞれ、二酸化チタン微粒子分散液Ａに、ＤＰＨＡ、イルガキュア９０７、カヤキュアーＤＥＴＸ、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノンを添加して攪拌して得た溶液をポリプロピレン製フィルターで濾過して得た高屈折率層用塗布液（工程（ｄ））、及び、ＤＰＨＡ、含フッ素樹脂（ＰＦ−１）、中空シリカ粒子、反応性シリコーンＲＭＳ−０３３、ゾル液ａ、及びイルガキュア９０７をメチルエチルケトンに投入して攪拌して得た溶液をポリプロピレン製フィルターでろ過してして得た低屈折率用塗布液（工程（ｅ））を塗布・乾燥・紫外線硬化して形成した層（工程（ｇ）及び（ｈ））であるから、当該「高屈折率層」及び「低屈折率層」を含む引用発明１の反射防止層は、構成元素が異なる２種類の粒子（二酸化チタン微粒子及び中空シリカ粒子）と１種類のバインダー（ＤＰＨＡ）とを含むものである。
　したがって、引用発明１は、本願発明の「反射防止層が、構成元素が異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含」むとの構成を備える。
　
（４）上記（１）ないし（３）からみて、本願発明と引用発明１は、
「支持基材の少なくとも第１の面に、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を有し、これら屈折率の異なる２つの隣接する層が、前記支持基材から遠い側より第１層および第２層であり、
　前記第１層が低屈折率層であり、前記第２層が高屈折率層であり、
　前記反射防止層が、構成元素が異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含む、
　反射防止部材。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点１：
　前記「支持基材」が、
　本願発明では、「ポリエステル」であるのに対し、
　引用発明１では、セルロースアシレートフィルムＣＡ−１である点。
　
相違点２：
　前記「支持基材の第１の面の表面粗さ」が、
　本願発明では、「８ｎｍ以上２２ｎｍ以下」であるのに対し、
　引用発明１では、「支持基材」に相当する「セルロースアシレートフィルムＣＡ−１」のバンド側面の表面形状を測定した結果、その算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００５μｍ、すなわち５ｎｍである点。
　
相違点３：
　本願発明では、「第１層と第２層との界面上の直線距離が５００ｎｍ以上の任意の２点をＡ１、Ａ２としたとき、このＡ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さａと、この線分Ａ１Ａ２を、支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さｂとの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満」であるのに対し、
　引用発明１では、ｂ／ａが何ら特定されておらず、不明である点。
　
４　判断
　上記相違点１及び３について検討する。
（１）相違点１について
　ア　引用文献１には、「偏光素子の両側に設ける保護フィルムとしては、通常下記の透明支持体が用いられるが、本発明においては、後述する特定のセルロースアシレートフィルムであることが好ましい。また、上側偏光板の上側保護フィルムは、透明支持体と該透明支持体上に設けられた反射防止膜とからなる。
　〔透明支持体〕
　上記透明支持体としては、適宜な透明フィルムを用いることができる。・・・・・・中でも、透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーからなるフィルム等が好ましく用いられる。そのポリマーの例としては、例えば、
ポリエステル系樹脂
　イ　また、本願の優先日前に、反射防止部材を含む光学フィルムの支持基材の材料としてポリエステル系樹脂（例えばポリエチレンテレフタレート）は、証拠を挙げるまでもなく多用されており、光学フィルムにおけるポリエステル系樹脂からなる支持基材は周知慣用技術であったといえる。
　ウ　そうすると、引用発明１の上記記載による示唆及び周知慣用技術に基づいて、引用発明において、「支持基材」であるセルロースアシレートフィルムＣＡ−１の材料であるセルロースアシレートをポリエステル系樹脂に変更することは、当業者が容易になし得たことであるといえる。
　もっとも、その場合において、材料をポリエステル系樹脂に変更した後の「支持基材」の表面凹凸の形状（算術平均粗さ（Ｒａ）を含む）がどのようになるかは不明である。引用文献１の【００５７】（上記１（１）エ参照。）には、支持体として用いるセルロースアシレートフィルムの表面形状について、反射防止層を設ける側の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は０．０００１〜０．０８μｍ等が好ましい等の一般的記載があるが、当該記載は、あくまで材料がセルロースアシレートである場合の表面凹凸形状についての示唆を与えるに止まり、引用文献１には、材料がポリエステル系樹脂のフィルムの場合の表面凹凸形状についての記載や示唆はない。
　エ　したがって、引用発明１において「支持基材」の材料をポリエステル系樹脂に変更した後の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が「８ｎｍ以上２２ｎｍ以下」であるか否かは不明であるから、この点が本願発明と上記変更後の引用発明１との新たな相違点（以下「相違点４」とする。）となる。
　
（２）相違点３について
　ア　引用発明２の反射防止フィルム５は、透明フィルムＳ５の凹凸が形成された面、高屈折率層及び低屈折率層のＲａが、それぞれ、０．１８μｍ、０．１３２μｍ及び０．０６７μｍである。
　イ　引用発明２の高屈折率層の表面粗さを考慮すると、引用発明１に引用発明２の高屈折率の構造を適用することができれば、適用後の引用発明１は、相違点３に係る本願発明の構成要件を満たす可能性がある。
　しかしながら、引用文献１の【０２４０】【表４】に記載された「輝度ムラ」が「無」いという評価結果は、単体の反射防止膜（ＡＦ−１）を対象としたものではなく、前記反射防止膜（ＡＦ−１）を備えた上側偏光板（ＳＨＢ−１）を備えた
液晶表示素子
反射防止フィルム
　ウ　仮に、引用発明１の反射防止膜（ＡＦ−１）と引用発明２の反射防止フィルム５が表示ムラ防止という共通の課題を有するとしても、引用発明２は、表面形状に関する指標のうち、凹凸の平均の高さ／深さに加え、凹凸の平均間隔を制御し、更にこの二つの指標が一定の関係を満たすような凹凸を、透明基材を変形することによって透明フィルムに付与し、この透明フィルムに設けられた凹凸上に反射防止層を積層することによって、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のないディスプレイに好適な反射防止フィルムが得られることを見出して完成された発明であって（引用文献３の[0008]（上記２（１）アに摘記）参照。）、透明フィルム５の一方の面に形成した凹凸の算術平均粗さＲａが、０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ（すなわち、４０≦Ｒａ≦２５０ｎｍ）を満たすものである（引用文献３の[0013]（上記２（１）イに摘記）参照。）から、透明フィルムのＲａが４０ｎｍ未満のものに対して引用発明２の高屈折率層の構造を適用することには阻害要因がある。
　エ　仮に、引用発明１に引用発明２の高屈折率層の構造を適用することができたとしても、その場合には、「セルロースアシレートフィルムＣＡ−１」（本願発明の「支持基材」、引用発明２の「透明フィルム」に相当。）の表面のＲａを少なくとも４０ｎｍ以上として、干渉ムラを回避するはずであるから、「支持基材」の表面粗さ（Ｒａ）が「８ｎｍ以上２２ｎｍ以下」という構成に至らない。
　
（３）上記（１）からみて、引用発明１において、相違点１に係る本願発明の構成となすことは、当業者が容易に想到し得たことではない。また、上記（２）からみて、引用発明１及び引用発明２に基づいて、相違点３に係る本願発明の構成となすことは、当業者が容易に想到し得たことではない。
　本願発明は、「第１層と第２層との界面上の直線距離が５００ｎｍ以上の任意の２点をＡ１、Ａ２としたとき、このＡ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さａと、この線分Ａ１Ａ２を、支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さｂとの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満」であることにより、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性及び干渉ムラの抑制の特性と、低反射率及び高透明性の特性とを両立するという効果を奏するものである（本願明細書の【００２１】参照。）。
　したがって、本願発明は、当業者が引用発明１、引用発明２及び周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
（４）本願の請求項２ないし８に係る発明は、本願発明をさらに限定したものであるので、本願発明と同様に、当業者が引用発明１、引用発明２及び周知慣用技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
５　引用文献２及び４について
　原査定の、引用文献２及び４の記載事項についても検討しておく。
（１）引用文献２（特に、【０２８５】〜【０３０８】、【表７】、【表９】、【表１１】参照。））には、表面粗さ（Ｒａ）が０．００７〜０．００９μｍ（７〜９ｎｍ）であるセルロースアシレートフィルム（フィルムＮｏ．ＣＡ２−１、ＣＡ２−２、ＣＡ２−６、ＣＡ２−７）を「支持体」にして、その上にハードコート層、高屈折率層−１、高屈折率層−２、低屈折率層を塗設した実施例３−１８ないし３−２１及び実施例４−１７ないし４−２０の反射防止フィルム（ＨＫ−２８ないしＨＫ−３１、ＨＫ−４７ないしＨＫ−５０）が記載されており、「支持体」が本願発明の「支持基材」に相当する。引用発明１と同様に、「支持体」の材料をセルロースアシレートからポリエステルに変更したときに、変更後の「支持体」の表面粗さ（Ｒａ）がどのようになるかは不明である。
　また、引用文献２記載の反射防止フィルム（ＨＫ−２８ないしＨＫ−３１、ＨＫ−４７ないしＨＫ−５０）に対して引用発明２の反射防止フィルム５の表面凹凸形状を適用した発明においては、引用発明１と同様に、本願発明の「支持基材」の表面粗さ（Ｒａ）が「８ｎｍ以上２２ｎｍ以下」という構成を備えないものとなる。
　したがって、本願発明は、当業者が引用文献２に記載された発明、引用発明２及び周知慣用技術に基いて容易に発明をすることができたとはいえない。
　
（２）また、引用文献４の例えば実施例１には、高屈折率粒子を有する高屈折率成分と、低屈折率粒子を有する低屈折率成分と、アクリロイル基個数６のフッ素化アルキル基含有メタアクリレートとを有する塗剤１を用いて、支持基材であるＰＥＴ樹脂フィルム上に１回の塗工工程で高屈折率層及び低屈折率層を形成する反射防止技術が記載され（【００９５】、【０１０１】、【表１−２】参照。）、また、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートとして、（ｉ）〜（ｘｘｖ）で表される化合物を用いる旨が記載されている（【００７５】〜【００７９】参照。）。
　しかしながら、引用文献４には、支持基材の表面粗さや、高屈折率層及び低屈折率層におけるｂ／ａ、ｂ／ｃに相当するパラメータについては何ら記載されていない。
　したがって、本願発明は、当業者が引用文献４に記載された発明、引用発明２及び周知慣用技術に基いて容易に発明をすることができたとはいえない。
　
第５　当審の判断（理由２について）
　平成２７年１０月３０日になされた手続補正により、本願の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「支持基材の第１の面の表面粗さ」について、その下限値が「８ｎｍ以上」に限定された。
　当該限定事項は、本願明細書の【０２３２】の【表１−３】に記載された実施例１−１ないし実施例１−１３の支持基材の表面粗さ（Ｒａ）の値のうち最小の値が８ｎｍであることを根拠とするものである。
　したがって、上記補正後の請求項１に係る発明が、発明の詳細な説明に記載したものでないということはできない。
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１ないし８に係る発明は、当業者が引用文献１ないし４に記載された発明及び周知慣用技術に基づいて容易に発明をすることができたものではなく、また、発明の詳細な説明に記載したものであるから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。