【手続補正書】
【提出日】平成28年6月10日(2016.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
傾斜がつけられた表面を有する底部層と、
前記底部層の前記傾斜がつけられた表面の上に設けられたキャップ層と、
前記キャップ層の上に設けられた書込み磁極層とを備える、磁気記録ヘッド。
【請求項２】
前記底部層は、空気軸受面における前記ヘッドの前端から遠端にかけて延在し、前記底部層は、前端厚さと、前記前端厚さとは異なる遠端厚さとを有し、
前記キャップ層は、前記底部層の前記傾斜がつけられた表面に接し、前記キャップ層は、前記前端及び前記遠端に達するまでは延在しないが前記前端から前記遠端との間に延在し、
前記書込み磁極層は、前記前端から前記遠端にかけて延在する、請求項１に記載の磁気記録ヘッド。
【請求項３】
前記キャップ層は、前記書込み磁極層に近づくにつれて前記底部層における幅よりも広がる空気軸受面における幅を有する、請求項１または２に記載の磁気記録ヘッド。
【請求項４】
前記キャップ層は、前記書込み磁極層の硬度未満の硬度を有する材料から形成される、請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気記録ヘッド。
【請求項５】
底部層の一方の側に、傾斜がつけられた表面を形成することと、
前記底部層の傾斜がつけられた側において軟質層を設けることと、
前記傾斜がつけられた表面の角度より低い角度で前記軟質層をミリングすることとを備える、磁気記録ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
書込み磁極の１つの実現例においては、書込み磁極層１３２は、ＮｉＦｅ、ＦｅＣｏ、ＮｉＦｅＣｏ、ＦｅＮなどのような強磁性材料から形成される。トランスデューサ１０４の動作中において、書込み磁極層１３２のまわりで位置決めされたコイルおよびトランスデューサヘッド１０４の一部であるヨークにおける電流は、ディスク１０２のトラック１１４に沿って関連の媒体の磁化に影響するよう用いられる磁界を書込み磁極層１３２において形成する。書込み磁極層１３２は台形の断面を有し、台形は、より狭い側１５０はダウントラック方向に沿って前縁上にあり、対して、より広い側１５２はダウントラック方向に沿って後縁上にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図３Ｂは、アルミニウム層３３２および軟質キャップ層３３４を含む別の部分的な磁極構造３３０を示す。具体的には、磁極構造３３０は、図３Ａの部分的な書込み磁極構造３１０上におけるミリング動作３２０の結果生成される。ミリング動作３２０のミリング角度は傾斜３１６の角度より低いので、軟質層３１４の一部はアルミニウム層３１２上に保存されている。軟質キャップ層３１４のそのような保存された部分は、図３Ｂにおける参照符号３３４によって示される。軟質層３３４は、アルミニウム層３３２に沿った内部の傾斜がつけられた縁部３３６、および外部の傾斜がつけられた縁部３３８を有するように示される。図３Ｂに示された磁極構造の実現例は、互いに実質的に平行な内部縁部３３６および外部縁部３３８を有している一方で、代替的な実現例においては、外部縁部３３８は、内部縁部３３６に比較して、より小さいスロープを有することに注目されたい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
アルミニウム層３３２上の軟質キャップ層３３４の位置および形状の結果、書込み磁極構造３３０を用いて製造された書込み磁極の断面レイアウトは、そのような断面が生成される水平位置に依存する。たとえば、磁極構造３３０の断面が３４０によって示された位置でとられる場合、そのような断面は少なくともいくらかの軟質層３３４を断面レイアウトの一部として含む。他方、断面が３４２または３４４によって示された位置でとられる場合、そのような断面レイアウトは軟質層３３４を含まない。さらに、断面レイアウトにおける軟質層３３４の幅は、さらに、断面の水平位置に依存する。したがって、軟質キャップ層３３４の位置および形状は、書込み磁極の製造における柔軟性に、結果として生じる書込み磁極における異なる構成の軟質キャップ層を与える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図５は、書込み磁極構造５００の空気軸受面図および側面図である。具体的には、書込み磁極構造の側面図５０２は、アルミニウム層５１２、書込み磁極層５１４、硬質マスク層５１６およびフォトレジスト層５１８を含む磁極構造のさまざまな層を含む。さらに、磁極構造５００は、軟質キャップ層５２０も含む。１つの実現例においては、軟質キャップ層５２０は、アルミニウム層５１２の硬度未満の硬度をともなう材料から形成される。代替的な実現例においては、軟質キャップ層５２０の硬度は書込み磁極層５１４の硬度未満である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ＡＢＳ図６０４、６０６および６０８の各々は、それぞれ、断面Ａ、ＢおよびＣに沿ったＡＢＳ図を示す。その結果、書込み磁極のＡＢＳ図輪郭は、ＡＢＳ図６０４、６０６および６０８の各々に対して異なる。具体的には、書込み磁極のＡＢＳ図６０４は、アルミニウム層６２１、軟質キャップ層６２３、書込み磁極層６２４、および硬質マスク層６２６を含む。軟質キャップ層６２３は、書込み磁極層６２４の硬度未満の硬度をともなう材料から形成される。代替的な実現例においては、軟質キャップ層６２２は、アルミニウム層６２０の硬度未満の硬度をともなう材料から形成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
書込み磁極のＡＢＳ図６０６も、アルミニウム層６３０、軟質キャップ層６３２、書込み磁極層６３４、および硬質マスク層６３６を含む。軟質キャップ層６３２は、書込み磁極層６３４の硬度未満の硬度をともなう材料から形成される。代替的な実現例においては、軟質キャップ層６３２は、アルミニウム層６３０の硬度未満の硬度をともなう材料から形成される。図６において示されるように、軟質キャップ層６１８のスロープのため、断面Ｂでは、軟質キャップ層６３２の高さは軟質キャップ層６２３の高さより高い。図６の実現例は凹状に湾曲したスロープを有する軟質キャップ層６１８を有するよう示されている一方で、代替的な実現例においては、軟質キャップ層６１８は線形スロープ、段差構造などを有してもよい。さらに、代替的な実現例においては、頂部表面６２０および底面６２２は互いに平行であってもよく、軟質キャップ層６１８にそのスロープの全体にわたって一様な幅を与える。他方、断面Ｃでは、軟質キャップ層６１８は、ミリングプロセスのため、除去される。その結果、ＡＢＳ図６０８は、アルミニウム層６４０、書込み磁極層６４４および硬質マスク層６４６を示すだけである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ｂ】
2014006954.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2014006954.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
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