【手続補正書】
【提出日】平成28年3月24日(2016.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂組成物層とをこの順で有し、
前記感光性樹脂組成物層が（Ａ）酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体を含む重合体成分および（Ｂ）光酸発生剤を含むことを特徴とする感光性転写材料。
【請求項２】
前記酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）が、カルボキシ基またはフェノール性水酸基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位であることを特徴とする請求項１に記載の感光性転写材料。
【請求項３】
前記（Ｂ）光酸発生剤が、下記一般式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の感光性転写材料。
一般式（Ｂ１）
【化１】
2014085643.tif 000001
（一般式（Ｂ１）中、Ｒ21は、アルキル基またはアリール基を表す。波線は他の基との結合を表す。）
【請求項４】
前記感光性樹脂組成物層が、（Ｃ）ヘテロ環状化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項５】
前記（Ｃ）ヘテロ環状化合物の含有量が、前記感光性樹脂組成物層の全固形分量に対して０．１質量％〜１０質量％であることを特徴とする請求項４に記載の感光性転写材料。
【請求項６】
前記（Ｃ）ヘテロ環状化合物がエポキシ基を有することを特徴とする請求項４または５に記載の感光性転写材料。
【請求項７】
前記酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体が、下記一般式（Ａ１）または一般式（Ａ１’）で表される構成単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
一般式（Ａ１）
【化２】
2014085643.tif 000002
（一般式（Ａ１）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、少なくともＲ1およびＲ2のいずれか一方がアルキル基またはアリール基であり、Ｒ3はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ4は水素原子またはメチル基を表す。）
一般式（Ａ１’）
【化３】
2014085643.tif 000003
（一般式（Ａ１’）中、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、少なくともＲ11およびＲ12のいずれか一方がアルキル基またはアリール基であり、Ｒ13はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ11またはＲ12と、Ｒ13とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ14はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルキル基、アリールカルボニル基またはシクロアルキル基を表す。）
【請求項８】
前記酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体が、下記一般式（Ａ２’）で表される構成単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【化４】
2014085643.tif 000004
（一般式（Ａ２’）中、Ｒ31およびＲ32はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、少なくともＲ31およびＲ32のいずれか一方がアルキル基またはアリール基であり、Ｒ33はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ31またはＲ32と、Ｒ33とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ34は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ0は単結合またはアリーレン基を表す。）
【請求項９】
前記酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体が、下記一般式（Ａ２’’）で表される構成単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【化５】
2014085643.tif 000005
（式中、Ｒ121は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ122〜Ｒ128はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【請求項１０】
前記感光性樹脂組成物層が、前記重合体成分として前記酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体を２種以上含有し、かつ、
前記酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体として、下記一般式（Ａ２’）で表される構成単位を有する重合体を含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
一般式（Ａ２’）
【化６】
2014085643.tif 000006
（一般式（Ａ２’）中、Ｒ31およびＲ32はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、少なくともＲ31およびＲ32のいずれか一方がアルキル基またはアリール基であり、Ｒ33はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ31またはＲ32と、Ｒ33とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ34は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ0は単結合またはアリーレン基を表す。）
【請求項１１】
前記熱可塑性樹脂層と前記感光性樹脂組成物層の間に、さらに中間層を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項１２】
前記感光性樹脂組成物層の膜厚が０．５〜１０μｍであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項１３】
前記感光性樹脂組成物層に、さらに増感剤を含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項１４】
前記感光性樹脂組成物層に、さらに塩基性化合物を含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項１５】
前記感光性樹脂組成物層の保護フィルムをさらに含むことを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項１６】
除去可能なエッチング用レジストを形成するための感光性転写材料であることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
【請求項１７】
基板の少なくとも一方の面に、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂組成物層を形成する感光性樹脂組成物層形成工程と、
前記感光性樹脂組成物層を露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂組成物層を現像する現像工程と、
を有することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１８】
さらに、前記現像して得られた感光性樹脂組成物層からなるパターン画像を加熱処理するポストベーク工程を有することを特徴とする請求項１７に記載のパターン形成方法。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載のパターン形成方法により作製したパターンをエッチング用レジストとして用いてエッチングを行う工程と、
前記エッチング処理後に前記パターンを薬品処理により除去する工程と、
を含むことを特徴とするエッチング方法。
【請求項２０】
導電性要素を有する基板の前記導電性要素を有する面に、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂組成物層を形成する感光性樹脂組成物層形成工程と、
前記感光性樹脂組成物層を露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂組成物層を現像する現像工程と、
前記現像工程で作製したパターンをエッチング用レジストとして用いてエッチングを行って前記導電性要素をパターニングするエッチング工程と、
をこの順に有することを特徴とする入力装置の導電パターン形成方法。