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【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】エレクトロルミネッセンス表示装置並びにその製造方法及びその製造用母基板
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はエレクトロルミネッセンス表示装置並びにその製造方法及びその製造用母基板に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、歩留り低下を抑制可能なエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を実現することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）本発明のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、表示領域と端子形成領域とを有する、エレクトロルミネッセンス表示装置形成領域が第１方向及び第２方向にマトリクス状に配列された母基板の、前記表示領域それぞれの上に薄膜トランジスタを形成する工程と、前記薄膜トランジスタ上に下部電極を形成する工程と、前記下部電極上に、発光層を有する有機層を形成する工程と、前記有機層上に上部電極を形成する工程と、前記母基板を前記表示領域同士の境界に沿って切断することで複数の個片に分割する工程と、を備え、前記上部電極を形成する工程が、枠状のフレームと前記端子形成領域に対応する領域を覆う帯状の遮蔽部とを有するマスクを用いて前記表示領域上に前記上部電極の材料を成膜する工程を有し、前記遮蔽部が前記フレームの対向する辺同士の間に架け渡されて前記第１方向への張力が印加された状態で固定され、平面視で前記フレームの内周の内側において前記第１方向にのみ延在する、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（２）本発明のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、前記遮蔽部が、遮蔽部材に前記第１方向に延在する開口が設けられることにより形成されたものであってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明におけるエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法によれば、遮蔽部が基板や上部電極に接触して製品に不良が発生することが抑えられ、歩留りの高い製造方法を実現することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と端子形成領域とを有する、エレクトロルミネッセンス表示装置形成領域が第１方向及び第２方向にマトリクス状に配列された母基板の、前記表示領域それぞれの上に薄膜トランジスタを形成する工程と、
前記薄膜トランジスタ上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、発光層を有する有機層を形成する工程と、
前記有機層上に上部電極を形成する工程と、
前記母基板を前記表示領域同士の境界に沿って切断することで複数の個片に分割する工程と、を備え、
前記上部電極を形成する工程が、
枠状のフレームと前記端子形成領域に対応する領域を覆う帯状の遮蔽部とを有するマスクを用いて前記表示領域上に前記上部電極の材料を成膜する工程を有し、
前記遮蔽部が前記フレームの対向する辺同士の間に架け渡されて前記第１方向への張力が印加された状態で固定され、平面視で前記フレームの内周の内側において前記第１方向にのみ延在する、
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記遮蔽部が、遮蔽部材に前記第１方向に延在する開口が設けられることにより形成されたものである、
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項３】
表示領域と端子形成領域とを有する複数のエレクトロルミネッセンス表示装置形成領域が第１方向及び第２方向にマトリクス状に配置された母基板であって、
前記表示領域は、
複数の薄膜トランジスタと、
前記複数の薄膜トランジスタに電気的に接続された複数の下部電極と、
前記複数の下部電極上に形成された有機層と、
前記有機層上に形成された上部電極と、
前記上部電極上に形成された封止膜と、を有し、
前記上部電極は、前記複数のエレクトロルミネッセンス表示装置形成領域のうち、前記第１方向に隣接する２つに亘って連続的に形成されると共に、前記第２方向に隣接する２つの間では離間して形成されていることを特徴とする、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造用母基板。
【請求項４】
請求項３に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置の製造用母基板において、
前記端子形成領域は、互いに離間した複数の端子を有し、
前記複数の端子は、前記第１方向に配列されていることを特徴とする、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造用母基板。
【請求項５】
第１方向に延びる、互いに対向する２端と、前記第１方向と交差する第２方向に延びる、互いに対向する２端と、を有する基板上に、
複数のエレクトロルミネッセンス表示素子がマトリクス状に配置された表示領域と、
複数の端子が、前記第１方向に配列された端子形成領域と、を有し、
前記複数のエレクトロルミネッセンス表示素子はそれぞれ、
薄膜トランジスタに接続された下部電極と、
前記下部電極上に形成された有機層と、
前記有機層上に形成された上部電極と、
前記上部電極上に形成された封止膜と、を有し、
前記上部電極は、前記第１方向に延びる、互いに対向する前記２端よりも前記表示領域に近い側に端部を有すると共に、前記第２方向に延びる、互いに対向する前記２端の一方から他方まで連続的に設けられていることを特徴とする、エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記端子形成領域の、前記表示領域を挟んで反対側に、
前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン電極と同層で形成された配線をさらに有し、
前記上部電極は、前記配線を覆う平坦化膜に開口されたコンタクトホールを介して、前記配線と電気的に接続され、
前記封止膜は、前記コンタクトホールを覆うように、前記表示領域から連続的に形成されていることを特徴とする、エレクトロルミネッセンス表示装置。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2015069806.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2015069806.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2015069806.tif 000003
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2015069806.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月26日(2016.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明のリチウムイオン電池は、負極活物質が、SiとSiOとの質量比の合計を100質量％とした場合、Siを0〜60％、SiOを40〜100％を含有することが好ましいが、Siを20〜50％、SiOを50〜80％を含有することがより好ましい。SiOの含有量が80％以上である場合は、正極の不可逆容量に対する負極の不可逆容量の比を十分に小さくすることができないため好ましくない。SiOの含有量が50％以下である場合は、反対に負極材料のSiの含有量が多くなり、負極活物質の充放電時における体積膨張を十分に緩和することができないため好ましくない。上記のような質量比を採用することにより、リチウムイオンの吸蔵及び放出に伴う体積変化を緩和できる負極材料となり、高容量で、充放電サイクル特性に優れたリチウムイオン電池を得ることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
(3)負極の作製
SiOとSiとを50：50で複合化した負極活物質粉末に対し、バインダーとしてポリイミド(PI)、導電性物質としてABを、負極活物質粉末：導電性物質：バインダー＝80：2：18（重量比）の割合となるように秤量し、N−メチルピロリドン(NMP)に分散した後、自転・公転ミキサーで十分に撹拌してスラリー化した。得られたスラリーを負極集電体である高強度銅箔上に塗布し、正極と同様の方法で負極を作製した。この電極シートを電極打ち抜き機で直径１１ｍｍの円板状に打ち抜き、350℃で1時間減圧乾燥を行い、負極板を得た。ここで、高強度銅箔上に塗布したスラリーの厚みは３０μｍである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性の表面に設けられた第１の電極と、該第１の電極と対向する第２の電極との間に有機エレクトロルミネセンス層が設けられた発光素子を有する複数の画素が離間して配置され、前記第１の電極の外周端部を覆うように隔壁層が設けられた画素領域を有する素子基板と、
前記素子基板と間隙をもって、前記発光素子を挟んで対向配置された対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間隙部に設けられた充填材と、
前記素子基板と前記対向基板との間にあって、前記充填材の中に立設するように設けられた突起部と、
を有し、
前記突起部は、前記隔壁層と重なる位置に、前記画素の少なくとも一辺と沿うように分割して設けられていることを特徴とするエレクトロルミネセンス装置。
【請求項２】
絶縁性の表面に設けられた第１の電極と、該第１の電極と対向する第２の電極との間に有機エレクトロルミネセンス層が設けられた発光素子を有する複数の画素が離間して配置され、前記第１の電極の外周端部を覆うように隔壁層が設けられた画素領域を有する素子基板と、
前記素子基板と間隙をもって、前記発光素子を挟んで対向配置された対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間隙部に設けられた充填材と、
前記素子基板と前記対向基板との間にあって、前記充填材の中に立設するように設けられた突起部と、
を有し、
前記突起部は、前記画素の外周部に沿うように設けられると共に、前記充填材の流動を阻害しないように開放端を有することを特徴とするエレクトロルミネセンス装置。
【請求項３】
前記突起部の長手方向の端部は錐形状であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のエレクトロルミネセンス装置。
【請求項４】
前記突起部の長手方向の端部は流線型であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のエレクトロルミネセンス装置。
【請求項５】
前記突起部の両隣に位置する前記画素は、互いに異なる表示色を呈することを特徴とする、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のエレクトロルミネセンス装置。
【請求項６】
前記突起部は光吸収性を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のエレクトロルミネセンス装置。
【請求項７】
前記突起部の屈折率は、前記充填の屈折率より小さいことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のエレクトロルミネセンス装置。
【請求項８】
絶縁性の表面に第１の電極と、該第１の電極との間に有機エレクトロルミネセンス層が設けられた発光素子を有する画素を複数個離間して配置すると共に、前記第１の電極の外周端部を覆うように前記画素が離間する領域隔壁層が設けられた素子基板を形成し、
前記隔壁層と重なる位置に、前記画素の少なくとも一辺に沿うように突起部を複数に分割して形成し、
前記素子基板と対向基板とを、前記突起部が内設されるように対向させ、前記素子基板と対向基板との間に充填材を介在させて減圧下で貼り合わせることを特徴とするエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【請求項９】
絶縁性の表面に第１の電極と、該第１の電極との間に有機エレクトロルミネセンス層が設けられた発光素子を有する画素を複数個離間して配置すると共に、前記第１の電極の外周端部を覆うように前記画素が離間する領域隔壁層が設けられた素子基板を形成し、
対向基板上に突起部を形成し、
前記素子基板と前記対向基板とを、前記突起部が内設され、かつ前記突起部が前記隔壁層と重なるように対向させ、前記素子基板と対向基板との間に充填材を介在させて減圧下で貼り合わせる工程を有し、
前記突起部は、前記画素の外周部に沿って配設すると共に、前記充填材の流動性を阻害しないように開放端を有するように形成することを特徴とするエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【請求項１０】
前記突起部の長手方向の端部が錐形状となるように形成することを特徴とする請求項８または請求項９に記載のエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【請求項１１】
前記突起部の長手方向の端部が流線型となるように形成することを特徴とする請求項８または請求項９に記載のエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【請求項１２】
前記突起部の両隣には、互いに異なる表示色を呈する前記画素が形成されることを特徴とする、請求項８乃至請求項１１のいずれか一項に記載のエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【請求項１３】
前記突起部を光吸収性の材料で形成することを特徴とする請求項８乃至請求項１２のいずれか一項に記載のエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【請求項１４】
前記突起部を、前記充填の屈折率より小さい材料で形成することを特徴とする請求項８乃至請求項１２のいずれか一項に記載のエレクトロルミネセンス装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月25日(2016.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板と、
前記絶縁基板上に配置された有機ＥＬ層と、
前記絶縁基板の端部に配置された複数の接続端子と、
前記有機ＥＬ層を覆う第一の無機膜と、
前記第一の無機膜上に配置された有機膜と、
前記有機膜上に配置された第二の無機膜と、
前記複数の接続端子の間に配置され、無機材料によって設けられた凸部と、
前記凸部の側面に設けられた凹部と、
前記凹部に位置すると共に前記凸部に接し、有機材料によって設けられた有機構造体とを有する、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記凸部は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって形成される、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を含み、
前記凸部の側面に形成される前記凹部は、前記第一の無機絶縁層が、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
前記凸部は、前記第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、前記第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を、更に含み、
前記凸部の側面に形成される前記凹部は、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁及び前記第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている、ことを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
前記第二の無機絶縁層と、前記第三の無機絶縁層と、は同種の無機絶縁材料によって形成される、ことを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
前記第一の無機膜と前記第一の無機絶縁層とは同じ材料であり、
前記第二の無機膜と前記第二の無機絶縁層とは同じ材料である、ことを特徴とする請求項２から請求項４の何れか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
前記有機膜と前記有機構造体とは、同じ材料である、ことを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項７】
絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板を形成する、第一の基板形成工程と、
平面視において、前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域と離間し、かつ前記複数の画素回路が配置される領域の上に積層される有機ＥＬ層を形成する、有機ＥＬ層形成工程と、
前記有機ＥＬ層形成工程によって形成された前記有機ＥＬ層の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機ＥＬ層と接する側から順に積層された封止膜を形成する、封止膜形成工程と、を含み、
前記第一の基板形成工程は、前記複数の該接続端子の間に、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部を形成する凸部形成工程を含み、
前記凸部形成工程は、前記凸部の側面に凹部を形成する、凹部形成工程を含み、
前記封止膜形成工程は、前記有機封止膜と、前記凹部に位置し前記凸部に接する有機構造体とを、一括形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記封止膜形成工程は、
前記第一の無機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記第一の無機封止膜の形成に用いられる第一の無機封止膜材料によって、第一の無機膜を、該第一の無機膜の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面を前記前記凹部形成工程によって形成された凹部のへこみの部分に位置するように形成する工程と、
前記有機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記有機封止膜の形成に用いられる有機封止膜材料を塗布し、前記凹部に該有機封止膜材料を凹部に収納した後、前記有機構造体を形成する工程と、
前記第二の無機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記第二の無機封止膜の形成に用いられる第二の無機封止膜材料によって、第二の無機膜を該第二の無機膜の前記第一の基板と対向する側の面を、前記前第一の無機膜の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面と直接接触させて形成する工程と、
平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に形成された、記前第一の無機膜と、記前第二の無機膜と、を除去する工程と、を含むことを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記凸部形成工程は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を形成する工程を含み、
前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、前記第一の無機絶縁層を、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に形成し、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁を、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に形成することによって形成される、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記凸部形成工程は、前記第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、前記第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を形成する工程を更に含み、
前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁及び前記第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている、ことを特徴とする請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第二の無機絶縁層と、前記第三の無機絶縁層と、は同種の無機絶縁材料によって形成される、ことを特徴とする請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項１２】
絶縁基板と、
前記絶縁基板の端部に配置された複数の接続端子と、
前記絶縁基板上の前記端部とは異なる領域に配置された発光層を含む画素と、
前記複数の接続端子の間に配置され、無機材料によって設けられた凸部と、
前記凸部の側面に設けられた凹部と、
前記凹部に位置すると共に前記凸部に接し、有機材料によって設けられた有機構造体とを有する、ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１３】
前記発光層の前記絶縁基板とは反対の側には、前記発光層を覆う第一無機膜と有機膜とが配置され、
前記凸部の少なくとも一部と前記第一無機膜とは同じ材料であり、
前記有機膜と前記有機構造体とは同じ材料である、ことを特徴とする請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月26日(2016.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素と、
前記複数の画素毎に配置され、第１の層と第２の層とを含む下部電極と、
前記下部電極の上に配置された上部電極と、
前記下部電極と前記上部電極との間に配置された第１有機層と、
前記複数の画素の間に位置し、少なくとも第１補助配線と前記第１補助配線に直に接する第２補助配線とを含む積層補助配線と、
前記第２補助配線に設けられた第１の接続孔と、
前記第１有機層と同じ層からなり、前記第１の接続孔において前記第１補助配線と直に接し、前記第１有機層とは非接触である第２有機層とを有し、
前記第１補助配線は、前記第１の層と同層に位置し、
前記第２補助配線は、前記第２の層と同層に位置し、
前記第１有機層と前記第２有機層の間には、所定の間隔が備えられ、
前記間隔には、前記上部電極が位置し、
前記第１補助配線は前記上部電極と直に接していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１有機層には、第２の接続孔が設けられ、
第１の接続孔は前記第２の接続孔と重畳することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記上部電極の一部は、前記第２有機層と前記第２補助配線との間に位置することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記下部電極の下には平坦化膜が配置され、
前記平坦化膜と前記第２有機層との間隔は、前記平坦化膜と前記第１有機層との間隔よりも小さいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の接続孔の側面は、前記第１補助配線に近づくにつれて前記第２有機層からの距離が大きくなる傾斜面であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記積層補助配線は、前記第１有機層と前記第２補助配線との間に位置する第３補助配線を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の接続孔は、前記第１補助配線の側に位置する第１開口部と前記第３補助配線の側に位置する第２開口部とを有し、
前記第１開口部は前記第２開口部よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記上部電極は前記積層補助配線の側へ窪む凹部を有し、
前記凹部は前記第２有機層と重畳することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記凹部は前記第１有機層と重畳しないことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
複数の画素と、
前記複数の画素毎に配置され、第１の層と第２の層とを含む下部電極と、
前記下部電極の上に配置された上部電極と、
前記下部電極と前記上部電極との間に配置された第１有機層と、
前記複数の画素の間に位置し、少なくとも第１補助配線と前記第１補助配線に直に接する第２補助配線とを含む積層補助配線と
前記第１有機層と同じ層からなり、前記第１補助配線の第１表面と直に接する第２有機層とを有し、
前記第１補助配線は、前記第１の層と同層に位置し、
前記第２補助配線は、前記第２の層と同層に位置し、
前記第２補助配線は、前記第１表面と直に接する下面と前記下面の反対側に位置する上面とを有し、
前記第２補助配線には、前記上面から前記下面へ貫通し、且つ前記第１表面を露出する第１の接続孔が配置され、
前記第２有機層は、前記第１の接続孔の中に位置し、且つ前記第１有機層と所定の間隔で離間し、
前記上部電極の一部は、前記第１の接続孔の中に位置し、
前記上部電極は、前記第２有機層の前記第１補助配線とは反対側の表面を覆い、且つ前記第１表面の一部と直に接し、
前記第１表面の前記一部は、前記第１の接続孔によって露出され、且つ前記第２有機層とは接触しておらず、
前記間隔は前記上部電極で充填されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の層と前記第１補助配線とは透明導電材料であり、
前記第２の層と前記第２補助配線とはＡｇ又はＡｌであることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１有機層には、前記第１の接続孔と重畳する第２の接続孔が配置され、
前記上部電極の一部は、前記第２の接続孔の中に位置することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１３】
請求項１０から請求項１２の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記下部電極の端部を覆い、且つ前記複数の画素の間に位置する絶縁バンクを備え、
前記絶縁バンクには、前記複数の画素の間に第３の接続孔が配置され、
前記積層補助配線は、前記第３の接続孔の中に位置することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第２有機層の一部と前記上部電極の一部とは、記第３の接続孔の中に位置することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１５】
請求項１０から請求項１２の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記下部電極の端部を覆い、且つ前記複数の画素の間に位置する絶縁バンクと、
前記絶縁バンクの下に位置する絶縁層を備え、
前記絶縁バンクには、前記複数の画素の間に第３の接続孔が設けられ、
前記絶縁層には、前記第３の接続孔と重畳する第４の接続孔が設けられ、
前記積層補助配線は、前記第４の接続孔の中に位置し、
前記第１有機層の一部は、前記第３の接続孔と前記第４の接続孔との中に位置することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記上部電極の一部は、前記第３の接続孔と前記第４の接続孔との中に位置し、
前記上部電極と前記第２有機層とは、前記第４の接続孔の中で直に接し、
前記上部電極と前記第１表面の前記一部とは、前記第４の接続孔の中で直に接していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１７】
請求項１５又は請求項１６に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記絶縁層の前記絶縁バンクとは反対の側には、金属配線が配置され、
前記金属配線と前記第１補助配線とは、前記第４の接続孔を介して直に接していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１８】
請求項１０から請求項１７の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の接続孔の側面は、前記第１補助配線に近づくにつれて前記第２有機層からの距離が大きくなる傾斜面であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１９】
請求項１０から請求項１８の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記積層補助配線は、前記第１有機層と前記第２補助配線との間に位置する第３補助配線を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月29日(2016.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された複数の画素と、
前記複数の画素の各々に備えられた下部電極、発光層、及び上部電極と、
前記複数の画素を区画し、前記下部電極の第１領域を露出する隔壁と、
前記基板と前記下部電極との間に位置する配線と、
前記配線と前記下部電極との間に位置する絶縁膜と、
前記複数の画素の少なくとも一つの画素に配置され、前記発光層を貫通し前記下部電極の第２領域を露出する貫通孔と、
前記絶縁膜に配置され、前記貫通孔とは異なるコンタクトホールとを備え、
前記貫通孔は、前記第１領域の上に位置し、前記絶縁膜へは突出せず、
前記コンタクトホールは、平面的に見て前記貫通孔と重なり、前記配線の一部を露出し、
前記下部電極は前記配線と前記コンタクトホールで直に接し、
前記上部電極は前記下部電極と前記貫通孔で直に接し、且つ前記下部電極を介して前記配線と電気的に接続していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記上部電極は、前記複数の画素に共通して配置され、
前記配線は、前記上部電極に共通電圧を供給することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記少なくとも一つの画素は、発光部を備える第１サブピクセルと、前記貫通孔に対応する非発光部を備え、発光部を備えない第２サブピクセルとを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記隔壁は、前記発光部を露出する第１開口と前記非発光部を露出する第２開口とを、前記少なくとも一つの画素に有することを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記複数の画素は、複数の第１の画素と複数の第２の画素を含み、
前記第１の画素は前記貫通孔を備えず、
前記第２の画素は、前記貫通孔を備えない第１サブピクセルと、前記貫通孔を備える第２サブピクセルとを含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記発光層は、平面的に見て前記貫通孔の外周に相当する端部を有し、
前記隔壁は、前記第１領域を囲う側面を有し、
前記端部は前記側面の上に位置していることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
基板と、
前記基板上に配置された複数の画素と、
前記複数の画素の各々に備えられた下部電極、発光層、及び上部電極と、
前記複数の画素を区画し、前記下部電極の第１領域を露出する隔壁と、
前記基板と前記下部電極との間に位置する配線と、
前記配線と前記下部電極との間に位置する絶縁膜とを備え、
前記複数の画素は、複数の第１の画素と複数の第２の画素を含み、
前記複数の第１の画素の各々は、平面的に見て前記第１領域と重なる発光部を有し、
前記複数の第２の画素の各々は、前記発光層を貫通し前記下部電極の第２領域を露出する貫通孔を有し、
前記貫通孔は、前記第１領域の上に位置し、前記絶縁膜へは突出せず、
前記複数の第２の画素の各々において、前記上部電極は前記下部電極と前記貫通孔で直に接し、且つ前記下部電極を介して前記配線と電気的に接続していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記上部電極は、前記複数の画素に共通して配置され、
前記配線は、複数本配置されて、前記上部電極に共通電圧を供給し、
複数の前記配線の各々は第１の方向に延びると共に、前記複数の画素のうち前記第１の方向に配列した複数個の画素と重なり、
前記複数個の画素は、前記第２の画素を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記絶縁膜には、前記貫通孔とは異なるコンタクトホールが配置され、
前記コンタクトホールは、平面的に見て前記貫通孔と重なり、前記配線の一部を露出し、
前記下部電極は前記配線と前記コンタクトホールで直に接することを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記複数の第１の画素の各々は前記貫通孔を備えず、
前記数の第２の画素の各々は、前記貫通孔を備えない第１サブピクセルと、前記貫通孔を備える第２サブピクセルとを含むことを特徴とする請求項７から請求項９の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
前記発光層は、平面的に見て前記貫通孔の外周に相当する端部を有し、
前記隔壁は、前記第１領域を囲う側面を有し、
前記端部は前記側面の上に位置していることを特徴とする請求項７から請求項１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月31日(2016.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、該感光層が、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するブラッグ角（２θ±０．２°）が９．６°、２４．２±０．２°、２７．２°に主たる回折ピークを有し、イオンクロマトグラフィーによる硫黄含有量が１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下であるオキシチタニウムフタロシアニンと、下記式（１）で表される電荷輸送物質とを含有することを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2015069062.tif 000001
（式（１）Ａｒ１〜Ａｒ５はそれぞれ独立して置換基を有していても良いアリール基を表し、Ａｒ６〜Ａｒ９はそれぞれ独立して置換基を有していても良いアリーレン基を表す。ｍ、ｎはそれぞれ独立して１以上３以下の整数を表す。）
【請求項２】
前記導電性支持体が陽極酸化処理を施されていることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、該帯電した電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、及び、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置からなる群から選ばれる少なくとも１つ、を備えたことを特徴とする電子写真感光体カートリッジ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、該帯電した電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、及び、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
[塗布液Ｃ４］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いた電荷輸送物質ＣＴ８の代わりに、ＣＴ５を用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ４を調製した。
[塗布液Ｃ５］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いた電荷輸送物質ＣＴ８の代わりに、ＣＴ１を用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ５を調製した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
[塗布液Ｃ６］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いたポリアリレート樹脂Ｘの代わりに、下記の繰り返し構造で表されるポリアリレート樹脂１００部（樹脂Ｙ、粘度平均分子量７０，０００）を用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ６を調製した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
[塗布液Ｃ７］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いたポリアリレート樹脂Ｘの代わりに、下記の繰り返し構造で表されるポリカーボネート樹脂１００部（樹脂Ｚ、粘度平均分子量５０，０００）を用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ７を調製した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
[塗布液Ｃ８］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いた電荷輸送物質ＣＴ８の代わりに、ＣＴＡを用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ８を調製した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
[塗布液Ｃ９］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いた電荷輸送物質ＣＴ８の代わりに、ＣＴＢを用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ９を調製した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
[塗布液Ｃ１０］
電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１に用いた電荷輸送物質ＣＴ８の代わりに、ＣＴＣを用いた以外は、Ｃ１と同様にして電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１０を調製した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
［実施例１〜１０、比較例１〜７］
表−２に示す下引き層形成用塗布液又は陽極酸化処理、電荷発生層形成用塗布液、電荷輸送層形成用塗布液を用いて感光体ドラムを作製し、評価を行った。結果を表−２に示す。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
実施例１、５、６の比較により、式（１）で表される電荷輸送物質の中でも、Ａｒ１の置換基がアルコキシ基である場合に、フィルミング及びドット再現性の両方が特に良好であった。また、実施例１、８、９の比較から、ポリアリレート樹脂を用いた場合に、より良好なフィルミングの結果が得られた。更に、実施例１と１０の比較から、下引き層を有する感光体よりも、陽極酸化処理をした感光体がより良好なドット再現性が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
結着樹脂、顔料、離型剤および顔料分散剤を含有するトナーであって、
前記顔料が、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ３１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １５０およびＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２６９からなる群より選ばれる１種以上の顔料であり、
前記顔料分散剤は、顔料に吸着する吸着成分と、該吸着成分と結合しているポリマー成分とで構成された顔料分散剤であり、
該吸着成分が下記式（１）で表される構造を有することを特徴とするトナー。
【化１】
2015069078.tif 000001
［前記式（１）中、Ａｒ１、Ａｒ２、およびＡｒ３のいずれかは、単結合または連結基を介して、ポリマー成分と結合する部位を示し、
ポリマー成分と結合しないＡｒ１、Ａｒ２、およびＡｒ３は、アリール基を示し、
ポリマー成分と結合するＡｒ１、Ａｒ２、およびＡｒ３は、アリール基から水素を１つ脱離して形成される基を示す。
前記連結基は、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレア基、アルキレン基、フェニレン基、−Ｏ−、−ＮＲ１−および−ＮＨＣＨ（ＣＨ２ＯＨ）−からなる群より選ばれる２価の連結基であり、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す。］
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
結着樹脂、顔料、離型剤および顔料分散剤を含有するトナーの製造方法であって、
前記顔料が、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ３１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １５０およびＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２からなる群より選ばれる１種以上の顔料であり、
前記顔料分散剤は、顔料に吸着する吸着成分と、該吸着成分と結合しているポリマー成分とで構成された顔料分散剤であり、
該吸着成分が下記式（１）で表される構造を有し、
【化４】
2015069078.tif 000002
［前記式（１）中、Ａｒ１、Ａｒ２、およびＡｒ３のいずれかは、単結合または連結基を介して、ポリマー成分と結合する部位を示し、
ポリマー成分と結合しないＡｒ１、Ａｒ２、およびＡｒ３は、アリール基を示し、
ポリマー成分と結合するＡｒ１、Ａｒ２、およびＡｒ３は、アリール基から水素を１つ脱離して形成される基を示す。
前記連結基は、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレア基、アルキレン基、フェニレン基、−Ｏ−、−ＮＲ１−および−ＮＨＣＨ（ＣＨ２ＯＨ）−からなる群より選ばれる２価の連結基であり、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す。］
ｉ）重合性単量体、顔料と前記式（１）の化合物を含有する重合性単量体組成物を、水系媒体中にて造粒し、造粒された粒子中に含有される重合性単量体を重合することによってトナー粒子を得る工程、
または
ｉｉ）結着樹脂、顔料と前記式（１）の化合物を含有するトナー組成物を、有機溶媒中に溶解または分散させた混合溶液を、水系媒体中にて造粒し、造粒された粒子中に含有される有機溶媒を除去することによってトナー粒子を得る工程
を有することを特徴とするトナーの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、結着樹脂、顔料、離型剤および顔料分散剤を含有するトナーであって、
前記顔料が、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ３１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １５０およびＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２６９からなる群より選ばれる１種以上の顔料であり、
前記顔料分散剤は、顔料に吸着する吸着成分と、該吸着成分と結合しているポリマー成分とで構成された顔料分散剤であり、
該吸着成分が下記式（１）で表される構造を有することを特徴とするトナーに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、以下のトナーによって上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、結着樹脂、顔料、離型剤および顔料分散剤を含有するトナーであって、
前記顔料が、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ３１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １５０およびＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２６９からなる群より選ばれる１種以上の顔料であり、前記顔料分散剤は、顔料に吸着する吸着成分と、該吸着成分と結合しているポリマー成分とで構成された顔料分散剤であり、該吸着成分が下記式（１）で表される構造を有することを特徴とするトナーである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月29日(2016.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素を主成分とし、式１および式２の少なくとも一方を満たすことを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質。
式１：  １．２≦Ａ／Ｂ
式２：  ６．０≦Ａ／Ｃ
ただし、式１および式２において、
Ａは、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対して、４００℃から１２５０℃までの温度上昇における昇温脱離ガス分析（ＴＤＳ）において測定された、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質から脱離した水素分子（Ｈ２）数（個／ｍｇ）、
Ｂは、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対して、３００℃から１２５０℃までの温度上昇における昇温脱離ガス分析（ＴＤＳ）において測定された、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質から脱離した一酸化炭素分子（ＣＯ）数（個／ｍｇ）、
Ｃは、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対して、３００℃から１２５０℃までの温度上昇における昇温脱離ガス分析（ＴＤＳ）において測定された、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質から脱離した二酸化炭素分子（ＣＯ２）数（個／ｍｇ）、
である。
【請求項２】
請求項１に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質において、
さらに式３を満たすことを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質。
式３：  ０．８≦Ａ／Ｄ
ただし、式３において、
Ａは、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対して、４００℃から１２５０℃までの温度上昇における昇温脱離ガス分析（ＴＤＳ）において測定された、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質から脱離した水素分子（Ｈ２）数（個／ｍｇ）、
Ｄは、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対して、２５℃から１２５０℃までの温度上昇における昇温脱離ガス分析（ＴＤＳ）において測定された、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質から脱離した水分子（Ｈ２Ｏ）数（個／ｍｇ）、
である。
【請求項３】
請求項１および２のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質において、
前記炭素についてラマン分光法より求めたＲ値が０．１５以上であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質において、
さらに式４を満たすことを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質。 
式４：  ２０≦Ｓ４−１０／Ｓ１−１０×１００
ただし、式４において、
Ｓ４−１０は、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対してガス吸着法により求めた、直径４ｎｍ以上、かつ１０ｎｍ以下の細孔表面積、
Ｓ１−１０は、前記リチウムイオン二次電池用負極活物質に対してガス吸着法により求めた、直径１ｎｍ以上、かつ１０ｎｍ以下の細孔表面積、
である。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質において、
比表面積は、０．５ｍ2／ｇ以上、かつ２０ｍ2／ｇ以下であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質において、
前記炭素についてＸ線回折（ＸＲＤ）により測定した００２面の面間隔が、０．３３４ｎｍ以上、かつ０．３３８ｎｍ以下であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質。 
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質を有するリチウムイオン二次電池用負極。
【請求項８】
請求項７に記載のリチウムイオン二次電池用負極において、
請求項１〜６のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質以外の物質であって、かつ、リチウムイオンを吸蔵放出可能な材料を含むことを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極。
【請求項９】
請求項７または８のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極を備えたリチウムイオン二次電池。
【請求項１０】
リチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法であって、
炭素を主成分とする炭素粒子を雰囲気温度１３００℃以上の水素含有雰囲気に所定時間保持して、前記炭素粒子の炭素官能基を水素化する水素化処理工程を有することを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０のリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法であって、
前記炭素粒子の表面に非晶質炭素材料により被覆層を形成して被覆炭素粒子とする被覆工程をさらに有し、
前記水素化処理工程において、前記被覆炭素粒子を雰囲気温度１３００℃以上の水素含有雰囲気に所定時間保持して、前記被覆炭素粒子の炭素官能基を水素化することを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法であって、
前記水素含有雰囲気は水素１００％雰囲気であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法であって、
前記雰囲気温度は１５００℃以上であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月9日(2016.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
絶縁ガスの封入された密封容器、可動接点及び固定接点を有し上記密封容器内に収納され接点開閉操作機構により開閉操作される真空バルブ、及び上記可動接点の可動接点軸を気密に貫通させた蛇腹状ベローズ体を備え、上記可動接点軸に連結された絶縁ロッドと、この絶縁ロッドを介し上記可動接点軸に内端部が連結され上記接点開閉操作機構により上記可動接点及び上記固定接点を開閉駆動する作動軸と、この作動軸に設けられ上記可動接点及び上記固定接点を開離方向に付勢する開放ばねとをそれぞれ連結配置し、上記作動軸の外端部には、上記作動軸の荷重を測定する荷重測定装置を着脱自在に設けると共にこの荷重測定装置によって、真空遮断器の製作完了時に、上記荷重の初期測定値を記録保存し且つ真空遮断器のメンテナンス時に、上記初期測定値とメンテナンス時における測定値とを比較照合することによりメンテナンス時における上記真空バルブの真空度を検知確認することを特徴とする真空遮断器の真空度確認装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明に係る真空遮断器の真空度確認装置は、絶縁ガスの封入された密封容器、可動接点及び固定接点を有し上記密封容器内に収納され接点開閉操作機構により開閉操作される真空バルブ、及び上記可動接点の可動接点軸を気密に貫通させた蛇腹状ベローズ体を備え、上記可動接点軸に連結された絶縁ロッドと、この絶縁ロッドを介し上記可動接点軸に内端部が連結され上記接点開閉操作機構により上記可動接点及び上記固定接点を開閉駆動する作動軸と、この作動軸に設けられ上記可動接点及び上記固定接点を開離方向に付勢する開放ばねとをそれぞれ連結配置し、上記作動軸の外端部には、上記作動軸の荷重を測定する荷重測定装置を着脱自在に設けると共にこの荷重測定装置によって、真空遮断器の製作完了時に、上記荷重の初期測定値を記録保存し且つ真空遮断器のメンテナンス時に、上記初期測定値とメンテナンス時における測定値とを比較照合することによりメンテナンス時における上記真空バルブの真空度を検知確認することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
この荷重測定装置７は、真空遮断器の製作完了時に、荷重の初期測定値を記録保存し且つメンテナンス時に、初期測定値とメンテナンス時における測定値との比較照合によりメンテナンス時における真空バルブ２の真空度を検知確認するものである。なお、荷重測定装置７としては、例えばプッシュプルゲージなどの汎用品が使用可能である。なお又、メンテナンス器具は、荷重測定装置７、固定フレーム８、及びねじ棒９等によって構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月12日(2016.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め決められた所定のデータ構造に調整して、生産情報として収集したプロセスデータを管理装置に送信するデータ処理部を備えた基板処理装置であって、
前記データ処理部は、前記データ構造を構成する項目データのうち、前記プロセスデータを収集することが出来ない項目をダミーデータとして前記項目データに定義して前記所定のデータ構造に調整して、前記プロセスデータを前記管理装置に送信する基板処理装置。
【請求項２】
基板を処理する基板処理工程と、予め決められた固定形式のデータ構造に調整して、生産情報として収集したプロセスデータを管理装置に送信するデータ処理を行うデータ処理工程と、を有する半導体装置の製造方法であって、
前記データ処理工程の際は、前記データ構造を構成する項目データのうち、前記プロセスデータを収集することが出来ない項目をダミーデータとして前記項目データに付加して前記固定形式のデータ構造に調整して、前記プロセスデータを前記管理装置に送信する半導体装置の製造方法。
【請求項３】
予め決められた固定形式のデータ構造に調整して、生産情報として収集したプロセスデータを管理装置に送信するデータ処理工程を有するデータ処理プログラムであって、前記データ処理では、データ構造を構成する項目データのうち、プロセスデータを収集することが出来ない項目をダミーデータとして前記項目データに定義して前記固定形式のデータ構造に調整して、前記プロセスデータを前記管理装置に送信する処理を行うプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置及び半導体装置の製造方法並びにプログラム
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月1日(2016.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
管理処理部１４１は、以下の入力データを入力処理部１１０又は記憶部１６０から取得する。
・ＦＰＬ又はＦＯ：出発機情報、到着機情報、トーイング情報である。機上装備情報を含む。
・気象データ：風ベクトル（風向及び風速）、視程、悪天、気象（降雨量、降雪量、凍結情報等）の情報を含む。
・空域・飛行場面データ：利用可能、利用不可能、あるいは、制約が課される空域や飛行場面（誘導路、滑走路等）を示す情報を含む。
・処理容量値：滑走路や飛行場面又は空域の特定地点の処理容量値である。ユーザ入力値又はデフォルト値とする。
・地上設備情報：設置の灯火、航法施設等、及び、その運用状態の情報を含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
管理処理部１４１は、以下の処理を実行する。
（１）入力処理部１１０で取得したＦＰＬ又はＦＯから出発機の情報（出発空港、出発予定時刻、ＳＩＤやＴＲＡＮＳＩＴＩＯＮ等の標準経路、到着空港）、到着機の情報（到着空港、到着予定時刻、ＳＴＡＲ等の標準経路、出発空港）、トーイング機情報（移動元・移動先のＳＰＯＴ情報等）を取り出す。
（２）処理対象空港について、気象データ、空域・飛行場面データから利用する滑走路、空域、経路を特定する。例えば、利用する滑走路（到着用滑走路と向き、出発用滑走路と向き）は、風ベクトル（風向及び風速）から決まるので、取得した気象データの風ベクトルと滑走路割り当てルールを用いて利用滑走路を決める。これによって、当該空港の滑走路運用構成が決まる。この滑走路運用構成の決定は、ユーザ入力によって実施してもよい。
（３）航空機に滑走路（出発機に出発滑走路、到着機に到着滑走路）が割り当てられていない場合は、滑走路を割り当てる。例えば、到着機には上記（２）で決めた到着用滑走路を割り当てる。また、飛行場面移動経路ルールを用いて、到着、出発、トーイング等の各航空機に飛行場面移動経路を割り当てる。上記の滑走路や飛行場面移動経路の割り当ては、ユーザ入力によって実施してもよい。仮に割り当てられた滑走路とＦＰＬ又はＦＯにおける標準経路の整合性がとれない場合、新規で標準経路の割り当てが必要な場合、あるいは、標準経路の詳細を割り当てる必要がある場合は、標準経路の割り当てを行う。標準経路は飛行の方式を含んでいるため、視程、地上施設、機上装備等の情報を利用する。割り当ては、ユーザ入力又は標準経路割り当てルールに従う。なお、飛行場面移動経路は、可能な限り最短の経路を割り当てるものとする。
（４）入力処理部１１０が受け付けて記憶部１６０に格納した処理容量値、又は、記憶部１６０に格納してあるデフォルトの処理容量値を取得する。
（５）上記（４）までで、処理対象空港の各滑走路における仮の交通量需要値が求められる。上記（４）の処理容量値と需要値を比較して「需要値＞容量値」となる場合は、ユーザにその旨を通知する表示を行い、ユーザにいずれか又は両方の値を調整させる。ここで、需要値を調整するには、例えば、ある時間帯で容量値を超える需要を構成する航空機を前後の時間帯の需要にスライドさせればよく、この場合、管理処理部１４１がＦＯ又はＦＰＬを変更することになる。なお、「需要値＞容量値＋α」又は「需要値＞容量値×β」のようにパラメータα，βを用いて比較判定のためのバッファを設けてもよい。