Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月13日(2016.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
青色帯域の光を入射し、少なくとも青色帯域、赤色帯域および緑色帯域の光を発生させる回転体であって、
前記回転体は、第１の面と、当該第１の面に対向する第２の面とを有し、
前記第１の面には、少なくとも青色帯域の光を反射する反射領域と、青色帯域の光を透過し少なくとも赤色帯域および緑色帯域の光を反射するダイクロイック領域とが形成され、
前記第２の面には、前記ダイクロイック領域を透過した青色帯域の光に基づき赤色帯域の光を発光する第１の蛍光体領域および緑色帯域の光を発光する第２の蛍光体領域が形成される、回転体。
【請求項２】
前記第１および第２の蛍光体領域は、前記第２の面の半径方向に複数組形成される、請求項１に記載の回転体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の回転体と、
青色帯域の光を発する光源と、
前記回転体と前記光源の間に配され、前記光源からの青色帯域の光を第１の光軸に集光する第１の光学系と、
前記第１の光軸からシフトされた第２の光軸を有し、前記第１の光学系によって集光された青色帯域の光を前記回転体に集光させる第２の光学系とを有し、前記第１の光学系によって集光された光は、前記第２の光学系のレンズの片側半分に入射される、照明光学系。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月5日(2016.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像剤を排出するための開口を有する可撓性容器、及び、前記開口を覆う封止部材を有し、現像剤を収納可能で可撓性を有する現像剤収納容器と、
前記封止部材に取り付けられ、回転すると前記封止部材を前記可撓性容器から剥離して前記開口を開放する回転部材と、
を備え、
前記封止部材は、前記開口の周りに前記可撓性容器と接着する接着部を有し、
前記現像剤収納容器は、前記可撓性容器の外形から突出して延伸する延伸部を有し、
前記接着部の一部は、前記延伸部に設けられ、
前記回転部材に取付けられる前記封止部材の基端側から先端側へと向かう方向と前記延伸部が突出する方向とは、同方向に設定されることを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記可撓性容器は、前記開口を有する可撓性容器本体と、前記開口に対応する切れ込みを有するシート状部材と、を有し、
前記延伸部は、前記シート状部材が前記可撓性容器本体の側面から突出する突出部、及び、前記封止部材が接着されて形成されることを特徴とする請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記可撓性容器は、前記開口及び前記開口から外側に向かって突出する突出部を有する可撓性容器本体であり、
前記延伸部は、前記突出部及び前記封止部材が接着されて形成されることを特徴とする請求項１に記載の現像装置。
【請求項４】
像担持体と、
前記像担持体に形成された静電像を現像する請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の現像装置と、
を有することを特徴とする画像形成装置に着脱可能なプロセスカートリッジ。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の現像装置、請求項４に記載のプロセスカートリッジのうちの少なくとも１つと、
現像された現像剤像を記録材に転写する転写手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】現像装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月24日(2015.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体を帯電させる帯電工程と、帯電された感光体を露光することによって静電潜像を形成させる露光工程と、前記静電潜像を負帯電性トナーによって現像する現像工程と、現像されたトナー像を転写材に転写する転写工程と、トナー像を転写した後に感光体上をクリーニングブレードにてクリーニングするクリーニング工程とを有する画像形成方法において、
前記帯電工程における感光体の帯電が、帯電ローラによって行われ、
前記現像工程にて使用される負帯電性トナーが、トナー母体粒子に外添剤が添加されてなり、前記外添剤が、少なくともポリテトラフルオロエチレン粒子とチタン酸カルシウム粒子とを含有し、
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径をａμｍ、チタン酸カルシウム粒子の数平均粒径をｂμｍとしたときに、ａ＞ｂであることを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径が０．５〜２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径とチタン酸カルシウム粒子の数平均粒径との比ｂ／ａが０．０２〜０．９であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の添加量が、トナー母体粒子１００質量部に対して０．０１〜１．０質量部であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項５】
前記チタン酸カルシウム粒子の添加量が、トナー母体粒子１００質量部に対して０．１〜２．０質量部であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項６】
前記外添剤が、さらに脂肪酸金属塩またはアミドワックスを含有することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項７】
前記感光体は有機感光層上に保護層を有してなるものであり、
前記保護層が、少なくともアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する重合性化合物の硬化物を含む樹脂成分と、重合性官能基を有する表面処理剤によって処理されたものである無機微粒子とを含有することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項８】
トナー母体粒子に外添剤が添加されてなるトナーであって、
前記外添剤が、少なくともポリテトラフルオロエチレン粒子とチタン酸カルシウム粒子とを含有し、
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径をａμｍ、チタン酸カルシウム粒子の数平均粒径をｂμｍとしたときに、ａ＞ｂであることを特徴とするトナー。
【請求項９】
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径が０．５〜２０μｍであることを特徴とする請求項８に記載のトナー。
【請求項１０】
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径とチタン酸カルシウム粒子の数平均粒径との比ｂ／ａが０．０２〜０．９であることを特徴とする請求項８または請求項９に記載のトナー。
【請求項１１】
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の添加量が、トナー母体粒子１００質量部に対して０．０１〜１．０質量部であることを特徴とする請求項８〜請求項１０のいずれかに記載のトナー。
【請求項１２】
前記チタン酸カルシウム粒子の添加量が、トナー母体粒子１００質量部に対して０．１〜２．０質量部であることを特徴とする請求項８〜請求項１１のいずれかに記載のトナー。
【請求項１３】
前記外添剤が、さらに脂肪酸金属塩またはアミドワックスを含有することを特徴とする請求項８〜請求項１２のいずれかに記載のトナー。
【請求項１４】
前記トナーが負帯電性トナーであることを特徴とする請求項８〜請求項１３のいずれかに記載のトナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成方法およびトナー
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の画像形成方法およびトナーに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、以上のような事情を考慮してなされたものであって、その目的は、帯電ローラによって感光体の帯電を行う画像形成装置に適用した場合にも、長期間にわたって優れたクリーニング性が得られると共に高温高湿環境においても黒点状の画像不良の発生が抑制された良好な画像を形成することができる画像形成方法およびトナーを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の画像形成方法においては、前記感光体は有機感光層上に保護層を有してなるものであり、
前記保護層が、少なくともアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する重合性化合物の硬化物を含む樹脂成分と、重合性官能基を有する表面処理剤によって処理されたものである無機微粒子とを含有することが好ましい。
本発明のトナーは、トナー母体粒子に外添剤が添加されてなるトナーであって、
前記外添剤が、少なくともポリテトラフルオロエチレン粒子とチタン酸カルシウム粒子とを含有し、
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径をａμｍ、チタン酸カルシウム粒子の数平均粒径をｂμｍとしたときに、ａ＞ｂであることを特徴とする。
本発明のトナーにおいては、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径が０．５〜２０μｍであることが好ましい。
本発明のトナーにおいては、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の数平均粒径とチタン酸カルシウム粒子の数平均粒径との比ｂ／ａが０．０２〜０．９であることが好ましい。
本発明のトナーにおいては、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の添加量が、トナー母体粒子１００質量部に対して０．０１〜１．０質量部であることが好ましい。
本発明のトナーにおいては、前記チタン酸カルシウム粒子の添加量が、トナー母体粒子１００質量部に対して０．１〜２．０質量部であることが好ましい。
本発明のトナーにおいては、前記外添剤が、さらに脂肪酸金属塩またはアミドワックスを含有することが好ましい。
本発明のトナーにおいては、前記トナーが負帯電性トナーであることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の画像形成方法およびトナーによれば、トナー母体粒子に対して少なくとも特定のポリテトラフルオロエチレン粒子およびチタン酸カルシウム粒子を含む外添剤が添加されていることによって、帯電ローラによって感光体の帯電を行う画像形成装置に適用した場合にも、長期間にわたって優れたクリーニング性が得られると共に、高温高湿環境においても黒点状の画像不良の発生が抑制された良好な画像を形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月15日(2016.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に高分子液晶層をシール材によって封止した高分子液晶表示素子において、表示領域の外周位置に対応する見切り枠を設定し、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内側であって、かつ、前記見切り枠の外側となる領域に、前記シール材に沿って、絶縁膜を設けたことを特徴とする高分子液晶表示素子。
【請求項２】
前記絶縁膜を前記一対の基板の両方の基板に設けたことを特徴とする請求項１に記載の高分子液晶表示素子。
【請求項３】
前記高分子液晶表示素子の前記見切り枠の外側における前記高分子液晶層の厚さは前記見切り枠の内側の前記高分子液晶層の厚さより小さいことを特徴とする請求項１又は２に記載の高分子液晶表示素子。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
計測対象物に計測光を照射して、前記計測対象物の位置を計測する干渉計システムであって、
レーザー光を出射する出射口を含むレーザー光源と、
前記出射口を通過した前記レーザー光が入射する第１開口を含み、前記レーザー光の光路を取り囲む部材と、
前記部材が貫通する開口を含み、前記レーザー光源および前記部材の一部の周囲を覆う光源カバーと、
前記第１開口を通過した前記レーザー光を、前記計測光と参照光とに分離する干渉計と、を有し、
前記レーザー光源に設けられかつ前記出射口を含む出射部は、前記部材に設けられかつ前記第１開口を含む第１部分と接続されていることを特徴とする干渉計システム。
【請求項２】
前記部材は前記第１部分からのレーザー光が通過する第２開口を有し、前記第２開口を含む前記第２部分は開放されていることを特徴とする請求項１に記載の干渉計システム。
【請求項３】
前記第１部分は、密封部材を介して前記出射部に接続されることを特徴とする請求項１に記載の干渉計システム。
【請求項４】
前記部材は、内部空間の温度を一定に調整する温調部を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の干渉計システム。
【請求項５】
前記温調部は、温度が調整された流体または気体を環流させる流路と、
前記流路に対して前記流体または前記気体を供給する供給部と、
前記流路から前記流体または前記気体を回収する回収部と、
を有することを特徴とする請求項４に記載の干渉計システム。
【請求項６】
前記部材は、内壁または外壁の少なくとも一方に断熱材を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の干渉計システム。
【請求項７】
前記光源カバーの内部を排気する排気部を有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の干渉計システム。
【請求項８】
前記レーザー光源からのレーザーが通過する空間の温度を調整するための温調部を有することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の干渉計システム。
【請求項９】
前記レーザー光源は前記レーザー光の増幅に用いられるミラーが両端部に設けられたレーザー発光源であって、
前記光源カバーは筐体であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の干渉計システム。
【請求項１０】
前記部材は前記第１開口を通過したレーザー光が出射される第２開口を有し、
前記第２開口から出射されたレーザー光は前記干渉計に入射することを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の干渉計システム。
【請求項１１】
パターンを基板に形成するリソグラフィー装置であって、
原版または前記基板を保持して移動する保持部と、
前記保持部を計測対象物として、前記保持部の位置を計測する請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の干渉計システムと、
を有することを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載のリソグラフィー装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、計測対象物に計測光を照射して、計測対象物の位置を計測する干渉計システムであって、レーザー光を出射する出射口を含むレーザー光源と、出射口を通過したレーザー光が入射する第１開口を含み、レーザー光の光路を取り囲む部材と、部材が貫通する開口を含み、レーザー光源および部材の一部の周囲を覆う光源カバーと、第１開口を通過したレーザー光源の出射口から出射されるレーザー光を計測光と参照光とに分離する干渉計と、を有し、レーザー光源に設けられかつ出射口を含む出射部は、部材に設けられかつ第１開口を含む第１部分と接続されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
なお、図３に示すように、筺体３に、内部の気体を外部に排気する排気部（排気機構）１５を設けてもよい。これにより、筺体３内部の気体を効率よく回収することができる。また、筺体３に、温調部１８を設けてもよい。温調部１８は、光路保護部材１０が貫通する筐体３の開口の近くに設けられるのが望ましい。温調部１８は、筐体３の開口近傍の温度が所定の温度になるように温調を行う。所定の温度は、例えば、筐体３を囲む空間の雰囲気温度である。温調部１８は、筺体３内外における開口近くの空間の温度を調整することができるので、レーザーチューブ１６を起因とする熱対流をより効果的に抑えられる。これにより、開口部近傍のレーザー光周辺に発生する温度勾配を小さくすることができ、これに起因する計測誤差を抑制できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2014137303.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2014137303.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2014137303.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月25日(2015.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工機の周囲であって該加工機の加工軸に直交する平面上に４つ以上配置されると共に、各々の測定軸と前記加工軸とが交差し、加工物の加工面までの距離を測定する距離測定手段と、
各前記距離測定手段による測定値及び各前記距離測定手段の前記加工軸に対する角度に基づいて前記加工面の近似面を算出し、該近似面の法線を前記加工面の法線として求める演算手段と、
を備え、
前記演算手段は、前記近似面と前記距離測定手段との距離が所定範囲から外れる前記距離測定手段による前記測定値を、前記近似面の算出に適さない前記測定値と判定する法線検出装置。
【請求項２】
前記所定範囲は、前記加工物の曲率が大きいほど大きく設定される請求項１記載の法線検出装置。
【請求項３】
前記演算手段は、前記近似面の算出に適さない前記測定値を除外して再び近似面を求める請求項１又は請求項２記載の法線検出装置。
【請求項４】
前記加工軸に対する角度は、前記距離測定手段の測定軸と前記加工軸との交差角度、前記平面を構成する所定軸を基準とした前記距離測定手段までの方位角度である請求項１から請求項３の何れか１項記載の法線検出装置。
【請求項５】
加工物を加工する加工機と、
請求項１から４の何れか１項記載の法線検出装置と、
を備え、
前記法線検出装置によって検出された法線に前記加工機の加工軸が倣うように、前記加工機と前記加工物とを相対的に移動させる加工装置。
【請求項６】
前記加工軸の軸線を前記加工面の法線に倣わせた後に、前記加工機の先端を前記加工物に対する加工点に接触させた状態で、前記距離測定手段によって距離の測定を行い、前記近似面の算出に適さない前記測定値を除外した前記距離測定手段の測定値のばらつきが予め定められた許容範囲内に含まれている場合に、前記加工機による加工を行う請求項５記載の加工装置。
【請求項７】
加工機の周囲であって該加工機の加工軸に直交する平面上に４つ以上配置されると共に、各々の測定軸と前記加工軸とが交差し、加工物の加工面までの距離を距離測定手段によって測定する第１工程と、
各前記距離測定手段による測定値及び各前記距離測定手段の前記加工軸に対する角度に基づいて前記加工面の近似面を算出し、該近似面の法線を前記加工面の法線として求める第２工程と、
を含み、
前記第２工程は、前記近似面と前記距離測定手段との距離が所定範囲から外れる前記距離測定手段による前記測定値を、前記近似面の算出に適さない前記測定値と判定する法線検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月20日(2015.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス中の成分を検出するための電気化学センサー（１）であって、
該センサーは、
参照電極（２）、
対電極（３）、
通路に沿って伸びる壁（６、６ａ、６ｂ）によって輪郭が作られる複数の通路（５）を含む構造体（４）、
構造体の壁を被覆する作用電極（７）、及び
構造体の壁に沿って作用電極の少なくとも一部分を被覆するイオノマーの層（８）を含み、
前記通路は、少なくとも２のアスペクト比を有しており、
前記イオノマーの層は、作用電極とイオン伝導性の接触をしており、
該センサーは、イオノマーの層ならびに参照電極及び対電極に接触している液体電解質（１１）をさらに含む
ことを特徴とする、センサー。
【請求項２】
該センサーは、第１の表面（９）及び第２の表面（１０）を含み、
第１の表面がガスにさらされ、かつ、
前記通路が第１の表面から第２の表面へと伸びている
ことを特徴とする、請求項１に記載のセンサー。
【請求項３】
第２の表面が液体電解質と接触している
ことを特徴とする、請求項２に記載のセンサー。
【請求項４】
構造体は、多孔質構造であり、
前記通路が、構造体全体にわたって平行に伸びている細孔として、形成されている
ことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項５】
細孔が密充填配置で設けられており、
密充填配置が、六角形配置、長方形配置、正方形配置、及び三角形配置のうちの少なくとも１つである
ことを特徴とする、請求項４に記載のセンサー。
【請求項６】
イオノマーが、スルホン化テトラフルオロエチレン系のフルオロポリマー−コポリマーである
ことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項７】
作用電極を被覆するイオノマー層の厚みが、１０〜２０００ｎｍ、又は１００〜１０００ｎｍ、又は３００〜７００ｎｍの範囲である
ことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載
のセンサー。
【請求項８】
イオノマーがナノ構造固体材料を含む
ことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項９】
液体電解質の体積のための筐体を含む
ことを特徴とする、請求項８に記載のセンサー。
【請求項１０】
作用電極が、白金、金、パラジウム、炭素、及びルテニウムから成る群から選択される材料を含む
ことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項１１】
作用電極が、絶縁層（１２）によって構造体から絶縁されており、
絶縁層が、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＨｆＯ２、及びＬａＯから成る群から選択される材料を含む
ことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のセンサー。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の電気化学センサーを含む、呼気中のＮＯの含量を測定するためのデバイス。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の電気化学センサーを製造する方法であって、
該方法は、
通路に沿って伸びる壁によって輪郭が作られる複数の通路を含む構造体を提供するステップと、
構造体の壁を作用電極で被覆するステップと、
構造体の壁に沿って作用電極の少なくとも一部分を被覆するイオノマーの層を配置するステップと、
イオノマーの層に接触している液体電解質を設けるステップと、
液体電解質と接触している、参照電極及び対電極を設けるステップを含む
ことを特徴とする、方法。
【請求項１４】
構造体が、シリコン材料の反応性イオンディープエッチング加工によって提供される
ことを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
イオノマーの層が、浸漬塗工によって成膜され、そして、低圧下で乾燥される
ことを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月13日(2016.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸方向に沿って撮影位置と退避位置との間を移動する光学素子および該光学素子の保持部材を備えるレンズ鏡筒であって、
光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第１案内部を有する第１鏡筒と、
光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第２案内部を有し、光軸方向に移動する第２鏡筒を備え、
前記保持部材は前記第１案内部により案内される第１の被案内部、および前記第２案内部により案内される第２の被案内部を有し、
光軸方向にて前記第２の被案内部は第１の被案内部よりも被写体側に位置することを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
前記第１案内部および第２案内部は、光軸方向から見た場合、光軸回り方向にて異なる位置に配置されたことを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
光軸方向に沿って撮影位置と退避位置との間を移動するレンズおよび該レンズの保持部材を備えるレンズ鏡筒であって、
光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第１の案内部材を有する第１鏡筒と、
光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第２の案内部材を有し、光軸方向に移動する第２鏡筒を備え、
前記保持部材は前記第１の案内部材により案内される第１嵌合部、および前記第２の案内部材により案内される第２嵌合部を有し、
光軸方向にて前記第２嵌合部は前記第１嵌合部よりも被写体側に位置することを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項４】
前記第１の案内部材および第２の案内部材は、光軸方向から見た場合、光軸回り方向にて異なる位置に配置されたことを特徴とする請求項３に記載のレンズ鏡筒。
【請求項５】
前記第１鏡筒に設けられて前記保持部材を案内する第３の案内部材と、
前記保持部材に設けられて前記第３の案内部材により案内される第３嵌合部と、
前記保持部材を光軸方向に沿って駆動するねじ部を有する駆動部をさらに備え、
前記第３の案内部材は、光軸方向から見た場合、光軸回り方向にて前記第１の案内部材および第２の案内部材とは異なる位置に配置されたことを特徴とする請求項４に記載のレンズ鏡筒。
【請求項６】
光軸方向に沿って撮影位置と退避位置との間を移動するレンズおよび該レンズの保持部材を備えるレンズ鏡筒であって、
光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第１ガイド溝部を有する第１鏡筒と、
光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第２ガイド溝部を有し、光軸方向に移動する第２鏡筒を備え、
前記保持部材は前記第１ガイド溝部により案内される第１の被案内部、および前記第２ガイド溝部により案内される第２の被案内部を有し、
光軸方向にて前記第２の被案内部は前記第１の被案内部よりも被写体側に位置することを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項７】
前記第１ガイド溝部および第２ガイド溝部は、光軸方向から見た場合、光軸回り方向にて異なる位置に配置されたことを特徴とする請求項６に記載のレンズ鏡筒。
【請求項８】
前記第１鏡筒に設けられて前記保持部材を案内する第３ガイド溝部と、
前記保持部材に設けられて前記第３ガイド溝部により案内される第３の被案内部と、
前記保持部材を光軸方向に沿って駆動するねじ部を有する駆動部をさらに備え、
前記第３ガイド溝部は、光軸方向から見た場合、光軸回り方向にて前記第１ガイド溝部および第２ガイド溝部とは異なる位置に配置されたことを特徴とする請求項７に記載のレンズ鏡筒。
【請求項９】
前記第１鏡筒に対して光軸回りに回転し得る状態で配置された第３鏡筒を備え、
前記第３鏡筒はカム溝部を有し、
前記第２鏡筒は前記カム溝部に対応するカムフォロアを有しており、
前記第３鏡筒の回転により、前記カム溝部に従って前記カムフォロアが光軸方向に沿って移動することを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項１０】
前記撮影位置にて前記カムフォロアの移動を阻止するロック機構を前記第３鏡筒に設けたことを特徴とする請求項９に記載のレンズ鏡筒。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備えることを特徴とする光学機器。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明に係る装置は、光軸方向に沿って撮影位置と退避位置との間を移動する光学素子および該光学素子の保持部材を備えるレンズ鏡筒であって、光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第１案内部を有する第１鏡筒と、光軸方向に沿って前記保持部材を案内する第２案内部を有し、光軸方向に移動する第２鏡筒を備える。前記保持部材は前記第１案内部により案内される第１の被案内部、および前記第２案内部により案内される第２の被案内部を有し、光軸方向にて前記第２の被案内部は第１の被案内部よりも被写体側に位置する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月7日(2016.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のズームレンズ系は、物体側から順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、及び正の屈折力の第４レンズ群からなり、短焦点距離端から長焦点距離端への変倍に際し、第１レンズ群ないし第４レンズ群の全てのレンズ群が移動するズームレンズ系において、第１レンズ群は、物体側から順に、負レンズ及び正レンズからなり、次の条件式（１）、（２）、（５）及び（６）を満足することを特徴としている。
（１）０．８６≦ｆｔ／ｆ１＜１．１７
（２）１．７＜ｍ２ｔ／ｍ２ｗ＜３．２
（５）ｎ１２＞１．５５
（６）３７．４８≦ν１２−ν１１＜５０
但し、
ｆｔ：長焦点距離端における全系の焦点距離、
ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、
ｍ２ｔ：長焦点距離端における無限遠合焦時の第２レンズ群の横倍率、
ｍ２ｗ：短焦点距離端における無限遠合焦時の第２レンズ群の横倍率、
ｎ１２：第１レンズ群中の正レンズのｄ線に対する屈折率、
ν１２：第１レンズ群中の正レンズのｄ線に対するアッベ数、
ν１１：第１レンズ群中の負レンズのｄ線に対するアッベ数、
である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、及び正の屈折力の第４レンズ群からなり、短焦点距離端から長焦点距離端への変倍に際し、第１レンズ群ないし第４レンズ群の全てのレンズ群が移動するズームレンズ系において、
第１レンズ群は、物体側から順に、負レンズ及び正レンズからなり、
次の条件式（１）、（２）、（５）及び（６）を満足する、
ことを特徴とするズームレンズ系。
（１）０．８６≦ｆｔ／ｆ１＜１．１７
（２）１．７＜ｍ２ｔ／ｍ２ｗ＜３．２
（５）ｎ１２＞１．５５
（６）３７．４８≦ν１２−ν１１＜５０
但し、
ｆｔ：長焦点距離端における全系の焦点距離、
ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、
ｍ２ｔ：長焦点距離端における無限遠合焦時の第２レンズ群の横倍率、
ｍ２ｗ：短焦点距離端における無限遠合焦時の第２レンズ群の横倍率、
ｎ１２：第１レンズ群中の正レンズのｄ線に対する屈折率、
ν１２：第１レンズ群中の正レンズのｄ線に対するアッベ数、
ν１１：第１レンズ群中の負レンズのｄ線に対するアッベ数。
【請求項２】
請求項１記載のズームレンズ系において、
次の条件式（３）を満足するズームレンズ系。
（３）−６．０＜ｆ１／ｆ２＜−４．０
但し、
ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、
ｆ２：第２レンズ群の焦点距離。
【請求項３】
請求項１または２記載のズームレンズ系において、
次の条件式（４）を満足するズームレンズ系。
（４）−３．４＜ｆ２／｛（Ｄ１２ｔ−Ｄ１２ｗ）／（ｆｔ／ｆｗ）｝＜−２．８
但し、
ｆ２：第２レンズ群の焦点距離、
Ｄ１２ｔ：長焦点距離端における第１レンズ群と第２レンズ群の空気間隔、
Ｄ１２ｗ：短焦点距離端における第１レンズ群と第２レンズ群の空気間隔、
ｆｔ：長焦点距離端における全系の焦点距離、
ｆｗ：短焦点距離端における全系の焦点距離。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載のズームレンズ系において、
第１レンズ群中の正レンズは少なくとも一方の面が非球面からなるズームレンズ系。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項記載のズームレンズ系において、
第３レンズ群は、物体側から順に、少なくとも一方の面が非球面からなる正レンズ、及び少なくとも一方の面が非球面からなる負レンズからなり、次の条件式（７）及び（８）を満足するズームレンズ系。
（７）２．８＜ｍ３ｔ／ｍ３ｗ＜３．５
（８）ν３１−ν３２＞４７
但し、
ｍ３ｔ：長焦点距離端における無限遠合焦時の第３レンズ群の横倍率、
ｍ３ｗ：短焦点距離端における無限遠合焦時の第３レンズ群の横倍率、
ν３１：第３レンズ群中の正レンズのｄ線に対するアッベ数、
ν３２：第３レンズ群中の負レンズのｄ線に対するアッベ数。
【請求項６】
請求項５記載のズームレンズ系において、
第２レンズ群は、物体側から順に、負レンズ、負レンズ及び正レンズからなり、第２レンズ群中の正レンズ及び第３レンズ群中の負レンズはプラスチックレンズからなり、次の条件式（９）を満足するズームレンズ系。
（９）−１．２＜ｆ２ｐ／ｆ３ｐ＜−０．８
但し、
ｆ２ｐ：第２レンズ群中の正プラスチックレンズの焦点距離、
ｆ３ｐ：第３レンズ群中の負プラスチックレンズの焦点距離。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項記載のズームレンズ系において、
第４レンズ群は正単レンズからなり、この正単レンズはフォーカシング時に移動するフォーカシングレンズであるズームレンズ系。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気信号を光信号に変換する光電変換素子と、
前記光電変換素子を駆動する光電変換素子駆動用ＩＣと、
前記光電変換素子から出射された光信号を伝送する光ファイバと、
前記光ファイバを位置決めして保持するガイド保持部材と、
前記光電変換素子および／または前記光電変換素子駆動用ＩＣに電源または信号を供給するケーブルと、
前記光電変換素子および前記光電変換素子駆動用ＩＣを実装する基板と、
を備え、前記基板は、少なくとも第１面と第２面とを有し、該第１面と該第２面は直交し、
前記第１面には前記光電変換素子が実装され、前記第１面の裏面には、前記光ファイバが前記ガイド保持部材を介して前記光ファイバの光軸が前記第１面に対して垂直となるよう接続され、
前記第２面には前記ケーブルが前記光ファイバの光軸と平行に直接的に接続されることを特徴とする光伝送モジュール。
【請求項２】
前記基板は、前記光ファイバの光軸に垂直に配置される第１基板と、前記光ファイバの光軸に平行に配置される第２基板とを接続してなることを特徴とする請求項１に記載の光伝送モジュール。
【請求項３】
前記基板は、折り曲げ部を有し、前記第１面と前記第２面は、この折り曲げ部において前記基板を折り曲げることによって構成される直交する２つの面であることを特徴とする請求項１に記載の光伝送モジュール。
【請求項４】
前記光電変換素子駆動用ＩＣは、前記光電変換素子駆動用ＩＣの上面が前記光ファイバの光軸と平行に実装されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の光伝送モジュール。
【請求項５】
前記光電変換素子駆動用ＩＣは、前記光電変換素子駆動用ＩＣの上面が前記光ファイバの光軸と垂直に実装されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の光伝送モジュール。
【請求項６】
前記光電変換素子と、前記光電変換素子駆動用ＩＣとを、前記光ファイバの光軸方向でオーバーラップするよう実装することを特徴とする請求項４に記載の光伝送モジュール。
【請求項７】
電気信号を光信号に変換する光電変換素子と、
前記光電変換素子を駆動する光電変換素子駆動用ＩＣと、
前記光電変換素子から出射された光信号を伝送する光ファイバと、
前記光ファイバを位置決めして保持するガイド保持部材と、
前記光電変換素子および／または前記光電変換素子駆動用ＩＣに電源または信号を供給するケーブルと、
撮像により画像信号を取得する撮像素子と、
前記光電変換素子、前記光電変換素子駆動用ＩＣ、および前記撮像素子を実装する基板と、
を備え、前記基板は、第１面、第２面、および第３面を有し、該第１面と該第２面、および該第２面と該第３面は直交し、かつ該第１面と該第３面は平行をなし、
前記第１面には前記光電変換素子が実装されるとともに、前記第３面には前記撮像素子が実装され、前記第１面の裏面には、前記光ファイバが前記ガイド保持部材を介して前記光ファイバの光軸が前記第１面に対して垂直となるよう接続され、
前記第２面には前記ケーブルが前記光ファイバの光軸と平行に直接的に接続されることを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
前記基板は、前記光電変換素子を実装する前記第１面を少なくとも有する第１基板と、前記撮像素子を実装する前記第３面を少なくとも有する第２基板とを接続してなることを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記基板は、前記光電変換素子を実装する前記第１面と、前記第１面と垂直な面とを有する前記第１基板と、前記撮像素子を実装する前記第３面と、前記第３面に垂直な面とを有する前記第２基板とを接続してなり、前記ケーブルは、前記第２基板に前記光ファイバの光軸と平行となるよう接続されることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月18日(2016.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標本に照射する観察用のレーザ光を発生する観察用光源と、
該観察用光源から発せられた観察用のレーザ光を標本上で走査させる走査部と、
標本を光刺激する刺激用のレーザ光を発生する刺激用光源と、
前記走査部によりレーザ光が走査された標本からの光を受光し、受光した光の輝度に相当する光強度信号を出力する受光回路と、
前記観察用光源および前記刺激用光源がＯＦＦされている状態で前記受光回路から出力される光強度信号を基準値として記憶する記憶部を有し、前記走査部による観察用のレーザ光の所定の走査間隔ごとに、前記観察用光源および前記刺激用光源がＯＦＦされている場合に基準値を更新する基準値設定部と、
前記走査部による観察用のレーザ光の走査ごとに、該観察用のレーザ光が照射された前記標本からの光を受光した前記受光回路から出力される光強度信号を前記記憶部に記憶されている基準値に基づいて補正する信号補正部とを備える走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項２】
前記基準値設定部が、前記走査部による１つの走査ライン中に複数回にわたり光強度信号を取得して前記記憶部に記憶し、該記憶部に記憶している光強度信号を前記走査部による１つまたは複数の走査ライン単位または光強度信号を画像化して得られる画像の１つまたは複数のフレーム単位で平均化した平均値を前記基準値とする請求項１に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項３】
前記基準値設定部が、前記走査部による１つの走査ライン毎に前記光強度信号を取得して前記記憶部に記憶し、該記憶部に記憶している前記光強度信号を、前記走査部により前記観察用のレーザ光が走査された前記標本からの光に基づく前記光強度信号を画像化して得られる画像のフレーム単位で平均化した平均値を前記基準値とする請求項１に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の走査型レーザ顕微鏡では、標本に光刺激を与えながら観察する場合は、標本からの刺激用のレーザ光の反射光の影響が含まれてしまうため、画像の黒レベルの検出を正しく行うことができない。そのため、特許文献１に記載の走査型レーザ顕微鏡は、そのような場合に黒レベルの補正量を正確に算出することができず、所望の画像を得られないという不都合がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記発明においては、前記基準値設定部が、前記走査部による１つの走査ライン中に複数回にわたり光強度信号を取得して前記記憶部に記憶し、該記憶部に記憶している光強度信号を前記走査部による１つまたは複数の走査ライン単位または光強度信号を画像化して得られる画像の１つまたは複数のフレーム単位で平均化した平均値を前記基準値とすることとしてもよい。
このように構成することで、黒レベルのばらつき成分を抑制して光強度信号を精度よく補正することができる。
上記発明においては、前記基準値設定部が、前記走査部による１つの走査ライン毎に前記光強度信号を取得して前記記憶部に記憶し、該記憶部に記憶している前記光強度信号を、前記走査部により前記観察用のレーザ光が走査された前記標本からの光に基づく前記光強度信号を画像化して得られる画像のフレーム単位で平均化した平均値を前記基準値とすることとしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月18日(2016.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
支持体と、電荷発生層と、表面層である電荷輸送層とをこの順に有する電子写真感光体において、
該表面層が、
（α）下記式（１）で示される化合物、下記式（２）で示される化合物、下記式（３）で示される化合物、下記式（４）で示される化合物および下記式（５）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも一種の電荷輸送物質、
（β）ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ニトロベンゼン、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、３−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチルおよびスルホランからなる群より選択される少なくとも１種の化合物、及び
（γ）末端にシロキサン構造を有するポリカーボネート樹脂、および末端にシロキサン構造を有するポリエステル樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂
を含有することを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2014137541.tif 000001
（式（１）および式（２）中、Ａｒ１およびＡｒ３は、それぞれ独立に、フェニル基、または置換基としてメチル基、エチル基もしくはエトキシ基を有するフェニル基を示す。Ａｒ２およびＡｒ４は、それぞれ独立に、フェニル基、置換基としてメチル基を有するフェニル基、置換基として−ＣＨ＝ＣＨ−Ｔａ（式中、Ｔａは、トリフェニルアミンのベンゼン環から水素原子１個を除いて導き出される１価の基、または置換基としてメチル基、もしくはエチル基を有するトリフェニルアミンのベンゼン環から水素原子１個を除いて導き出される１価の基を示す。）で示される１価の基を有するフェニル基、またはビフェニリル基を示す。Ｒ１は、フェニル基、置換基としてメチル基を有するフェニル基、または置換基として−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ５）Ａｒ６（式中、Ａｒ５およびＡｒ６は、それぞれ独立にフェニル基、または置換基としてメチル基を有するフェニル基を示す。）で示される１価の基を有するフェニル基を示す。Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、フェニル基、または置換基としてメチル基を有するフェニル基を示す。）
【化２】
2014137541.tif 000002
（式（３）中、Ａｒ２１およびＡｒ２２はそれぞれ独立にフェニル基、または置換基としてメチル基を有するフェニル基を示す。式（４）中、Ａｒ２３およびＡｒ２６は、それぞれ独立にフェニル基、または置換基としてメチル基を有するフェニル基を示す。Ａｒ２４、Ａｒ２５、Ａｒ２７、およびＡｒ２８は、それぞれ独立にフェニル基、または置換基としてメチル基を有するフェニル基を示す。
式（５）中、Ａｒ３１は、トリフェニルアミンのベンゼン環から水素原子１個を除いて導き出される１価の基を有するフェニル基、置換基としてメチル基またはエチル基を有するトリフェニルアミンのベンゼン環から水素原子１個を除いて導き出される１価の基を有するフェニル基、もしくはメチルカルバゾリル基である。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、支持体と、電荷発生層と、表面層である電荷輸送層とをこの順に有する電子写真感光体において、
該表面層が、
（α）下記式（１）で示される化合物、下記式（２）で示される化合物、下記式（３）で示される化合物、下記式（４）で示される化合物および下記式（５）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の電荷輸送物質、
（β）ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ニトロベンゼン、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、３−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチルおよびスルホランからなる群より選択される少なくとも１種の化合物、及び
（γ）末端にシロキサン構造を有するポリカーボネート樹脂、および末端にシロキサン構造を有するポリエステル樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂
を含有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の制御軸の各々に設けられ、回転軸に対して対向配置された一対の電磁石と、
前記各電磁石に印加される電圧をＰＷＭ制御し、前記回転軸の浮上位置変化を検知するためのセンサキャリア信号が重畳された電磁石電流を、前記電磁石のそれぞれに供給する複数の励磁アンプと、
前記電磁石電流を検出する複数の電流センサと、
前記電流センサによって検出された電流検出信号をＡＤサンプリングして前記回転軸の磁気浮上情報を取得し、前記磁気浮上情報に基づいて前記励磁アンプをＰＷＭ制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、ＰＷＭキャリア信号のオンデューティ区間またはオフデューティ区間の長さが、電磁石電流に生じるスパイクノイズの減衰特性に基づく所定時間幅よりも長くなるようにＰＷＭ制御し、前記オンデューティ区間または前記オフデューティ区間の開始タイミングから前記所定時間幅が経過した後に前記ＡＤサンプリングを行う、磁気軸受装置。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気軸受装置において、
前記電流検出信号に対して、ＰＷＭキャリア周波数よりも高い帯域を有するローパスフィルタを備え、
前記制御部は、前記ローパスフィルタを通過した電流検出信号をＡＤサンプリングする、磁気軸受装置。
【請求項３】
請求項２に記載の磁気軸受装置において、
前記制御部は、前記複数の電流センサからの電流検出信号、および前記一対の電磁石に関する一対の前記電流検出信号を加算した和信号をＡＤサンプリングして前記回転軸の磁気浮上情報を取得し、
前記和信号から直流成分を除去するハイパスフィルタを備え、
前記制御部は前記ハイパスフィルタを通過した和信号をＡＤサンプリングする、磁気軸受装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の磁気軸受装置において、
前記ＰＷＭキャリア信号の周波数ｆpwm、前記センサキャリア信号の周波数ｆc、および、前記ＡＤサンプリングの周波数ｆsが整数倍の関係に設定され、
前記制御部は、前記複数の電磁石の各々に関する前記電流検出信号を同時一括してＡＤサンプリングする、磁気軸受装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の磁気軸受装置において、
ＰＷＭキャリア周波数ｆpwm、ＡＤサンプリング周波数ｆsおよびセンサキャリア周波数ｆcが、ｆpwm＞ｆs＞ｆcのように設定されている、磁気軸受装置。
【請求項６】
排気機能部が形成されたポンプロータと、
前記ポンプロータを回転駆動するモータと、
前記ポンプロータの回転軸を磁気浮上支持する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の磁気軸受装置と、を備える真空ポンプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の好ましい実施形態による磁気軸受装置は、複数の制御軸の各々に設けられ、回転軸に対して対向配置された一対の電磁石と、各電磁石に印加される電圧をＰＷＭ制御し、回転軸の浮上位置変化を検知するためのセンサキャリア信号が重畳された電磁石電流を、電磁石のそれぞれに供給する複数の励磁アンプと、電磁石電流を検出する複数の電流センサと、電流センサによって検出された電流検出信号をＡＤサンプリングして回転軸の磁気浮上情報を取得し、磁気浮上情報に基づいて励磁アンプをＰＷＭ制御する制御部と、を備え、制御部は、ＰＷＭキャリア信号のオンデューティ区間またはオフデューティ区間の長さが、電磁石電流に生じるスパイクノイズの減衰特性に基づく所定時間幅よりも長くなるようにＰＷＭ制御し、オンデューティ区間またはオフデューティ区間の開始タイミングから所定時間幅が経過した後にＡＤサンプリングを行う。
さらに好ましい実施形態では、電流検出信号に対して、ＰＷＭキャリア周波数よりも高い帯域を有するローパスフィルタを備え、制御部は、ローパスフィルタを通過した電流検出信号をＡＤサンプリングする。
さらに好ましい実施形態では、制御部は、複数の電流センサからの電流検出信号、および一対の電磁石に関する一対の電流検出信号を加算した和信号をＡＤサンプリングして回転軸の磁気浮上情報を取得し、和信号から直流成分を除去するハイパスフィルタを備え、制御部はハイパスフィルタを通過した和信号をＡＤサンプリングする。
さらに好ましい実施形態では、ＰＷＭキャリア信号の周波数ｆpwm、センサキャリア信
号の周波数ｆc、および、ＡＤサンプリングの周波数ｆsが整数倍の関係に設定され、制御部は、複数の電磁石の各々に関する電流検出信号を同時一括してＡＤサンプリングする。  さらに、fpwm＞fs＞fcのように設定するのが好ましい。
本発明の好ましい実施形態による真空ポンプは、排気機能部が形成されたポンプロータと、ポンプロータを回転駆動するモータと、ポンプロータの回転軸を磁気浮上支持する前記磁気軸受装置と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定液体が流入する内部空間を有する外装部と、
前記外装部内に設けられ、前記内部空間に臨む感圧面を有する感圧部と、
前記外装部に設けられ、前記内部空間と前記外装部の外側とを連通する複数の孔と、を含み、
前記感圧面を含む平面を区分面として前記内部空間を２つの領域に区分した場合の該２つの領域のそれぞれに、少なくとも１つの前記孔が開口するように配置されていることを特徴とする液圧計。
【請求項２】
前記２つの領域の一方である前記感圧面に臨む領域の前記内部空間に開口して設けられている前記少なくとも１つの孔は、前記内部空間側の開口が、前記感圧面の法線方向からの平面視にて前記感圧面の中央と重ならない位置に配置されている請求項１に記載の液圧計。
【請求項３】
前記２つの領域の一方である前記感圧面に臨む領域の前記内部空間に開口して設けられている前記少なくとも１つの孔は、前記外装部の外側の開口が、前記感圧面の法線方向からの平面視にて前記感圧面と重ならない位置に配置されている請求項１または２に記載の液圧計。
【請求項４】
前記感圧面に臨む領域の前記内部空間に開口して設けられている前記少なくとも１つの孔は、前記外装部の外側の開口から前記感圧面の法線に交わる方向に延在している部分を有する請求項３に記載の液圧計。
【請求項５】
前記２つの領域の一方である前記感圧面に臨む領域の前記内部空間に開口して設けられている前記少なくとも１つの孔は、前記外装部の外側の開口から前記内部空間側の開口までの間に、曲がっている部分を有している請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液圧計。
【請求項６】
前記２つの領域の他方である前記感圧面に臨まない領域の前記内部空間に開口して設けられている前記少なくとも１つの孔は、前記外装部の周方向に沿って離間して配置されている２つの孔を含んでいる請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液圧計。
【請求項７】
被測定液体が流入する内部空間を有する外装部と、
前記外装部内に設けられ、前記内部空間に臨む感圧面を有する感圧部と、
前記外装部に設けられ、前記内部空間と前記外装部の外側とを連通する複数の孔と、を含み、
被測定液体中に配置した状態にて、前記感圧面の中央部よりも鉛直方向下側の前記内部空間および鉛直方向上側の前記内部空間に、それぞれ、少なくとも１つの前記孔が開口するように配置されていることを特徴とする液圧計。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の液圧計を備えることを特徴とする液位計。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の液圧計を備えることを特徴とする警報システム。