Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月20日(2016.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉計測装置であって、
光源からの光を分割し、前記分割された光の一方を参照面で反射させることで生成された参照光と、前記分割された光の他方を被検物に斜入射させ該被検物で反射させることで生成された測定光と、を合成して干渉光を生成する光学系と、
前記光学系により生成された干渉光を検出する検出器と、
前記光源からの光が前記検出器に検出される前に前記光源からの光に空間コヒーレンスを与える光学部材と、を備え、
前記光学部材は、前記光源からの光、前記参照光、前記測定光および前記干渉光の光路を含む平面に垂直な第１方向よりも前記光学部材に入射する前記光源からの光の光束の断面と前記平面との交線の方向である第２方向に高い空間コヒーレンスを与える、
ことを特徴とする干渉計測装置。
【請求項２】
前記光学系により生成された干渉光を分光する分光部をさらに備え、
前記分光部による波長分解方向が、前記第２方向と平行である、
ことを特徴とする請求項１に記載の干渉計測装置。
【請求項３】
前記光学部材は、前記第１方向および前記第２方向に互いに異なる長さの開口が形成されている開口絞りを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の干渉計測装置。
【請求項４】
前記開口絞りは、前記光学系のうち前記光源からの光を前記被検物に入射させる照明光学系の瞳位置に配置されることを特徴とする請求項３に記載の干渉計測装置。
【請求項５】
前記開口絞りの開口の短手方向により決定される開口数ＮＡは、前記光源からの光の中心波長をλｃ、前記被検物への入射角度をθｉｎ、前記被検物の前記第２方向の計測レンジをＺｒとするとき、ＮＡ≦０．６１λｃ／（Ｚｒ・sinθｉｎ）を満たすことを特徴とする請求項３または４に記載の干渉計測装置。
【請求項６】
前記開口絞りの開口の短手方向により決定される開口数ＮＡは、前記光源からの光の中心波長をλｃ、前記被検物への入射角度をθｉｎ、前記被検物の第２方向の計測レンジをＺｒとするとき、ＮＡ≦０．３０５λｃ／（Ｚｒ・sinθｉｎ）を満たすことを特徴とする請求項３または４に記載の干渉計測装置。
【請求項７】
前記光学部材は、前記第１方向および前記第２方向に異なる屈折力を有することを特徴とする請求項１または２に記載の干渉計測装置。
【請求項８】
前記光学部材は、シリンドリカルレンズを含むことを特徴とする請求項７に記載の干渉計測装置。
【請求項９】
前記光学部材は、前記光学系のうち前記測定光と前記参照光とを前記検出器に導く受光光学系に配置されることを特徴とする請求項７または８に記載の干渉計測装置。
【請求項１０】
前記分光部は、回折格子または分散プリズムを含むことを特徴とする請求項２に記載の干渉計測装置。
【請求項１１】
前記検出器は、二次元撮像素子であることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
【請求項１２】
前記被検物を支持して移動するステージと、前記ステージを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記二次元撮像素子の１フレームの撮像の間、前記被検物を移動させることを特徴とする請求項１１に記載の干渉計測装置。
【請求項１３】
前記光源からの光の前記被検物への入射角度を６０度以上とすることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
【請求項１４】
前記干渉計測装置は、前記被検物の表面形状を計測することを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
【請求項１５】
前記被検物は、半透明膜が形成された基板であり、前記干渉計測装置は、前記半透明膜の膜厚を計測することを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
【請求項１６】
前記光源からの光は白色光であることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
【請求項１７】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板ステージと、
前記基板ステージに保持された基板の表面形状を計測する請求項１４に記載の干渉計測装置と、
を備える、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記リソグラフィ装置は、基板を計測する計測処理を行う計測ステーションと、前記計測処理が行われた基板に露光処理を行う露光ステーションと、を備えた露光装置を含み、
前記干渉計測装置は、前記計測ステーションに配置されている、
ことを特徴とする請求項１７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンが形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、干渉計測装置であって、光源からの光を分割し、前記分割された光の一方を参照面で反射させることで生成された参照光と、前記分割された光の他方を被検物に斜入射させ該被検物で反射させることで生成された測定光と、を合成して干渉光を生成する光学系と、前記光学系により生成された干渉光を検出する検出器と、前記光源からの光が前記検出器に検出される前に前記光源からの光に空間コヒーレンスを与える光学部材と、を備え、前記光学部材は、前記光源からの光、前記参照光、前記測定光および前記干渉光の光路を含む平面に垂直な第１方向よりも前記光学部材に入射する前記光源からの光の光束の断面と前記平面との交線の方向である第２方向に高い空間コヒーレンスを与える、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月6日(2016.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリンダライナの内部に摺動自在に配置されたピストンの上方に形成される燃焼空間に潤滑油を噴射するシリンダ注油装置において、
前記ピストンが上死点から下降したとき前記燃焼空間に曝される前記シリンダライナの上部摺動面に形成された注油孔に挿着され、前記シリンダライナの内部へ潤滑油を噴射する少なくとも１つの注油器と、
前記ピストンが前記注油孔より下方に位置した時、前記注油器から潤滑油を前記燃焼空間に噴射させる制御装置と、を備え、
前記少なくとも１つの注油器は、小径開口、および前記小径開口よりも大きい口径を有する大径開口を含む複数の注油口を有することを特徴とするシリンダ注油装置。
【請求項２】
前記小径開口は、前記大径開口より前記シリンダライナの半径方向から前記シリンダライナの上方へ向いた傾斜角度が大きくなるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のシリンダ注油装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの注油器の先端に設けられたノズル部には、前記小径開口および前記大径開口が形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のシリンダ注油装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの注油器は、少なくとも２つの注油器を含み、前記２つの注油器のうち、一方の注油器の先端に設けられたノズル部には前記小径開口が形成され、他方の注油器の先端に設けられたノズル部には前記大径開口が形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のシリンダ注油装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの注油器は、複数の注油器を含み、
前記複数の前記注油器が前記シリンダライナの周方向に分散配置され、
前記複数の注油器は、グループ毎に共通の潤滑油供給系統を備えた複数のグループに分かれ、
前記シリンダライナが設けられた内燃機関の負荷検出器を備え、
前記制御装置は、前記負荷検出器で検出された検出値に基づいて、前記内燃機関が高負荷運転のとき、前記潤滑油供給系統の全部から潤滑油を噴射させ、前記内燃機関が低負荷運転のとき、前記潤滑油供給系統のうちの一部のみから潤滑油を噴射させるように制御することを特徴とする請求項１又は２に記載のシリンダ注油装置。
【請求項６】
前記シリンダライナが舶用ディーゼル機関に設けられたシリンダライナであることを特徴とする請求項１に記載のシリンダ注油装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月16日(2016.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質の流れによって回転軸を中心に回転可能な車を基準にして前記物質の流れ方向の上流側に配された遮断部材であって、
前記物質の流れ方向からみた場合、前記回転軸よりも一方側のエリアを第１エリアと、前記回転軸よりも他方側のエリアを第２エリアと、それぞれ定義した場合、
前記遮断部材は、主として前記第２エリアの前記羽根へ前記物質を流す第１状態と、前記第２エリア及び前記第１エリアの双方の前記羽根へ向かって前記物質を流す第２状態と、との間で遷移可能であることを特徴とする遮断部材。
【請求項２】
回転軸を中心に回転可能な車と、
前記車に設けられた羽根と、を備え、
前記羽根は、
前記車に対して相対的位置が固定された固定部と、
前記固定部を支点にして弾性変形する弾性部と、
発電素子に対して接触可能な接触部と、を有し、
前記発電素子は、前記接触部との接触によって発電することを特徴とする羽根車。
【請求項３】
請求項２に記載の羽根車と、
発電素子とを備え、
前記発電素子による発電は、前記羽根車の回転に基づいて行なわれることを特徴とする発電装置。
【請求項４】
請求項３に記載の発電装置と、
前記発電装置と電気的に接続された照明素子、または、前記発電装置と電気的に接続された蓄電素子のうち少なくともいずれか一方とを備えたことを特徴とする電気製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月25日(2016.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮前または圧縮中の作動流体に対して液滴を供給する液滴供給装置と、
ケーシングに設けた孔に挿入された回動軸を有し、当該回動軸が回動されることで前記ケーシングと相対摺動して迎え角が変更される可変静翼と、
前記回動軸の回動時に前記ケーシングに対して相対摺動される部材と前記ケーシングとの摺動部に設けられたシール構造とを備えることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項２】
請求項１に記載の軸流圧縮機において、
前記回動軸と翼部の間に位置するように前記可変静翼に設けられ、前記ケーシングの内周面に対向配置される静翼台座をさらに備え、
前記シール構造は、前記静翼台座と前記ケーシングとの摺動部に設けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項３】
請求項１に記載の軸流圧縮機において、
前記回動軸と翼部の間に位置するように前記可変静翼に設けられ、前記ケーシングの内周面側に配置される静翼台座と、
当該静翼台座と前記ケーシングの内周面の間に位置するように前記回動軸に挿入されたワッシャとをさらに備え、
前記シール構造は、前記ケーシングにおいて、前記ワッシャにおけるロータ径方向外側の面が対向する場所に設けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項４】
請求項１に記載の軸流圧縮機において、
前記回動軸と翼部の間に位置するように前記可変静翼に設けられ、前記ケーシングの内周面側に配置される静翼台座と、
当該静翼台座と前記ケーシングの内周面の間に位置するように前記回動軸に挿入されたワッシャとをさらに備え、
前記シール構造は、前記静翼台座において、前記ワッシャにおけるロータ径方向内側の面が対向する場所に設けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項５】
請求項１に記載の軸流圧縮機において、
前記ケーシングの外周面上における前記回動軸の周囲に設けた座ぐり溝と、
当該座ぐり溝に収納されたフランジ部とをさらに備え、
前記シール構造は、前記フランジ部が前記回動軸と相対摺動する摺動部に設けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項６】
請求項１に記載の軸流圧縮機において、
前記シール構造は、前記相対摺動される部材と前記ケーシングの下半側との摺動部に設けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項７】
請求項１に記載の軸流圧縮機において、
前記シール構造は、作動媒体の圧力が前記ケーシングの近傍で大気圧力より高圧になる部分に設けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項８】
ケーシングに設けた孔に挿入された回動軸を有し、当該回動軸が回動されることで前記ケーシングと相対摺動して迎え角が変更される可変静翼と、
当該可変静翼と前記ケーシングの摺動部に設けられたシール構造とを備えることを特徴とする軸流圧縮機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービン設備であって、
燃料および酸化剤を燃焼させるように構成された燃焼器と、
前記燃焼器から排出された燃焼ガスによって回動されるように構成されたタービンと、
前記タービンから排出された燃焼ガスの一部を、前記酸化剤を供給するように構成された酸化剤供給管に導くように構成された燃焼ガス供給管と、
前記酸化剤および前記燃焼ガスの一部からなる混合ガスを前記燃焼器に導くように構成された混合ガス供給管と、
前記燃焼ガスの他の一部を、前記タービンの作動流体として前記燃焼器に導くように構成された作動流体供給管と、
前記燃焼ガスの残部を外部に排出するように構成された排出管と、
を具備する、ガスタービン設備。
【請求項２】
前記酸化剤が、前記混合ガスの質量の１５乃至４０％を含む、請求項１に記載のガスタービン設備。
【請求項３】
前記燃焼器に供給される燃料の流量を検知するように構成された燃料流量検知部と、
前記酸化剤供給管を流れる酸化剤の流量を検知するように構成された酸化剤流量検知部と、
前記酸化剤供給管を流れる酸化剤の流量を調整するように構成された酸化剤流量調整弁と、
前記燃料流量検知部および前記酸化剤流量検知部からの検知信号に基づいて、前記酸化剤流量調整弁の開度を制御するように構成された制御部と、
をさらに具備する、請求項１または２に記載のガスタービン設備。
【請求項４】
前記ガスタービン設備が、
前記燃焼ガス供給管を流れる燃焼ガスの流量を検知するように構成された燃焼ガス流量検知部と、
前記燃焼ガス供給管を流れる燃焼ガスの流量を調整するように構成された燃焼ガス流量調整弁と、
をさらに具備し、
前記制御部が、前記酸化剤流量検知部および前記燃焼ガス流量検知部からの検知信号に基づいて、前記燃焼ガス流量調整弁の開度を制御するように構成される、請求項３に記載のガスタービン設備。
【請求項５】
前記ガスタービン設備が、
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を検知するように構成された作動流体流量検知部と、
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を調整するように構成された作動流体流量調整弁と、
をさらに具備し、
前記制御部が、前記燃料流量検知部、前記燃焼ガス流量検知部、および前記作動流体流量検知部からの検知信号に基づいて、前記作動流体流量調整弁の開度を制御するように構成される、請求項４に記載のガスタービン設備。
【請求項６】
前記燃料が炭化水素であり、前記酸化剤が酸素である、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【請求項７】
前記燃焼ガスが二酸化炭素である、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【請求項８】
前記タービンから排出された燃焼ガスを冷却するように構成された熱交換器をさらに具備する、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【請求項９】
前記熱交換器を通過した燃焼ガスから水蒸気を除去してドライ燃焼ガスとするように構成された水蒸気除去器をさらに具備する、請求項８に記載のガスタービン設備。
【請求項１０】
前記混合ガス供給管が、前記混合ガスを前記熱交換器を通じて前記燃焼器に導くように構成される、請求項８に記載のガスタービン設備。
【請求項１１】
前記燃焼ガス供給管を流れる燃焼ガスの流量を調整するように構成された燃焼ガス流量調整弁をさらに具備する、請求項１０に記載のガスタービン設備。
【請求項１２】
前記酸化剤供給管を流れる酸化剤の流量を調整するように構成された酸化剤流量調整弁をさらに具備する、請求項１０に記載のガスタービン設備。
【請求項１３】
前記作動流体供給管が、前記作動流体を前記熱交換器を通じて前記燃焼器に導くように構成される、請求項８に記載のガスタービン設備。
【請求項１４】
前記作動流体供給管を前記熱交換器の上流に流れる作動流体の流量を調整するように構成された作動流体流量調整弁をさらに具備する、請求項１３に記載のガスタービン設備。
【請求項１５】
ガスタービン設備であって、
燃料および酸化剤を燃焼させるように構成された燃焼器と、
前記燃焼器から排出された燃焼ガスによって回動されるように構成されたタービンと、
前記酸化剤を供給するように構成された酸化剤供給管と、
前記タービンから排出された燃焼ガスを冷却するように構成された熱交換器と、
前記熱交換器を通じて前記燃焼器に戻るように流れる燃焼ガスの少なくとも一部の流量を調整するように構成された燃焼ガス流量調整弁であって、前記燃焼ガス流量調整弁は前記熱交換器の上流に配置される、燃焼ガス流量調整弁と、
前記熱交換器を通じて前記燃焼器に流れる酸化剤の流量を調整するように構成された酸化剤流量調整弁であって、前記酸化剤流量調整弁は前記熱交換器の上流に配置される、酸化剤流量調整弁と、
を具備する、ガスタービン設備。
【請求項１６】
前記タービンから排出された燃焼ガスの一部を、前記酸化剤を供給するように構成された酸化剤供給管に導くように構成された燃焼ガス供給管と、
前記酸化剤および前記燃焼ガスの一部からなる混合ガスを、前記熱交換器を通じて前記燃焼器に導くように構成された混合ガス供給管と、
をさらに具備する、請求項１５に記載のガスタービン設備。
【請求項１７】
前記燃焼ガス流量調整弁が前記燃焼ガス供給管に配置され、前記酸化剤流量調整弁が前記酸化剤供給管に配置される、請求項１６に記載のガスタービン設備。
【請求項１８】
前記燃焼ガスの他の一部を、前記タービンの作動流体として前記熱交換器を通じて前記燃焼器に戻るように導くように構成された作動流体供給管をさらに具備する、請求項１６または１７に記載のガスタービン設備。
【請求項１９】
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を調整するように構成された作動流体流量調整弁であって、前記作動流体流量調整弁は前記熱交換器の上流に配置される、作動流体流量調整弁
をさらに具備する、請求項１８に記載のガスタービン設備。
【請求項２０】
前記燃焼器に供給される燃料の流量を検知するように構成された燃料流量検知部と、
前記酸化剤供給管を流れる酸化剤の流量を検知するように構成された酸化剤流量検知部と、
前記燃料流量検知部および前記酸化剤流量検知部からの検知信号に基づいて、前記酸化剤流量調整弁の開度を制御するように構成された制御部と、
をさらに具備する、請求項１６乃至１９のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【請求項２１】
前記ガスタービン設備が、前記燃焼ガス供給管を流れる燃焼ガスの流量を検知するように構成された燃焼ガス流量検知部をさらに具備し、前記制御部が、前記酸化剤流量検知部および前記燃焼ガス流量検知部からの検知信号に基づいて、前記燃焼ガス流量調整弁の開度を制御するように構成される、請求項２０に記載のガスタービン設備。
【請求項２２】
前記ガスタービン設備が、前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を検知するように構成された作動流体流量検知部をさらに具備し、前記制御部が、前記燃料流量検知部、前記燃焼ガス流量検知部、および前記作動流体流量検知部からの検知信号に基づいて、前記作動流体流量調整弁の開度を制御するように構成される、請求項２１に記載のガスタービン設備。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検面の位置を計測する計測装置であって、
光を射出する射出口を有する光源と、
前記射出口から射出された光を受光して該射出された光の射出角度を検出する検出部と、
前記射出口から射出され前記被検面で反射した第１の光と前記射出口から射出され参照面で反射した第２の光との干渉光と、前記検出部の検出結果とに基づいて、前記被検面の位置を決定する処理部と、
を有することを特徴とする計測装置。
【請求項２】
前記処理部は、前記第１の光が前記射出角度を伴うことにより生じる前記被検面の位置の計測誤差を、前記検出結果を用いて補正することにより前記被検面の位置を決定する、ことを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項３】
前記検出部は、前記射出口から射出された光のうち一部の光を受光して前記射出角度を検出し、
前記第１の光および前記第２の光は、前記射出口から射出された光のうち前記一部の光以外の光を含む、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の計測装置。
【請求項４】
前記処理部は、前記射出口から射出されてから前記第１の光が前記被検面で反射されるまでに進んだ距離をＬ、前記射出角度をθ１としたとき、Ｃ１＝Ｌ・（１−ｃｏｓθ１）なる第１補正値Ｃ１を用いて前記被検面の位置を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項５】
基準面に対する前記被検面の傾きを検知する検知部を有し、
前記処理部は、前記干渉光と前記検出部の検出結果と前記検知部の検知結果とに基づいて前記被検面の位置を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項６】
前記処理部は、前記被検面の傾きをθ２としたとき、Ｃ２＝Ｌ・ｔａｎθ１・ｔａｎθ２なる第２補正値Ｃ２を決定し、前記第１補正値Ｃ１と前記第２補正値Ｃ２との和を用いて前記被検面の位置を決定する、ことを特徴とする請求項４に従属する請求項５に記載の計測装置。
【請求項７】
前記検出部は、前記射出口からの光路の長さが互いに異なる第１受光面と第２受光面とを有し、前記第１受光面において前記射出された光の第１分割光が入射する位置の変化と前記第２受光面において前記第１分割光と同時に分割された第２分割光が入射する位置の変化との差が閾値以下であるときに、前記射出口から射出される光が平行にシフトしたことを検出する、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項８】
前記処理部は、前記被検面の位置を逐次的に決定する、ことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項９】
前記基準面は、前記射出口からの光が垂直に前記被検面に入射するときの前記被検面と平行な面である、ことを特徴とする請求項５に記載の計測装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の計測装置と、
前記被検面を有し移動可能なステージと、
を含むことを特徴とするステージ装置。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置であって、
請求項１０に記載のステージ装置を含み、
前記ステージは前記基板を保持する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含む、ことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、被検面の位置を計測する計測装置であって、光を射出する射出口を有する光源と、前記射出口から射出された光を受光して該射出された光の射出角度を検出する検出部と、前記射出口から射出され前記被検面で反射した第１の光と前記射出口から射出され参照面で反射した第２の光との干渉光と、前記検出部の検出結果とに基づいて、前記被検面の位置を決定する処理部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月28日(2016.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
ここで、紫外線硬化型の接着剤が、ラジカル重合型である場合には、その硬化現象に停止反応があるため、紫外線が照射された部分のみが硬化することになる。これに対して、紫外線硬化型の接着剤が、カチオン重合型の場合には、硬化現象の停止反応が無いため、紫外線が照射された部分の架橋硬化反応が周辺部にも伝搬して、硬化反応が行きわたる。すなわち、制御ライン２ｃ１やデータライン２ｃ２などの影になる部分の硬化反応も生じさせることができる。そのため、封止品質のより高い側面防湿層８を形成することができる。
カチオン重合型の紫外線硬化型のエポキシ系の接着剤としては、例えば、ナガセケムテックス（株） ＸＮＲ−５５１６ＺＨＶ−Ｂ１などを例示することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月9日(2016.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隙を有して隣接する部材のそれぞれの間隙側面に相互に対向するように設けたシール溝の双方に架かるようにシールプレートを設置したシール装置であって、
前記シールプレートは、
前記シールプレートの長手方向と交差する断面を基準として、両端部側に前記シール溝のシール溝面との接触部が円弧状となるように形成された剛体プレートと、板バネとを貼り合わせて、前記断面の形状がＸ字状となるように構成され、
前記シール溝内に配置された際に、前記シール溝の低圧側に前記剛体プレートが位置し、前記シール溝の高圧側に前記板バネが位置するように配置され、
前記シール溝と前記剛体プレートの接触部、及び、前記シール溝と前記板バネの接触部が、対向するシール溝面に形成されるように配置されていることを特徴とするシール装置。
【請求項２】
請求項１に記載のシール装置において、
前記剛体プレートは、前記断面を基準として、前記シール溝面側とは反対側の中央部に直線部が形成され、前記直線部の両端から前記剛体プレートの両端部側に向けて前記シール溝面側に近づくように傾斜が形成され、
前記板バネは、前記剛体プレートの前記直線部に固定されていることを特徴とするシール装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のシール装置において、
前記断面を基準として、前記板バネの両側端距離が、前記剛体プレートの両側端距離以下となるように構成されていることを特徴とするガスタービンのシール装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載のシール装置において、
前記板バネは、前記断面を基準として、前記剛体プレートの前記直線部への固定部から両側端に向けてそれぞれ前記シール溝面との接触部に近づくような直線形状を有し、前記接触部の近傍から、前記剛体プレート側へ偏向するように形成されていることを特徴とするシール装置。
【請求項５】
請求項２に記載のシール装置において、
前記シールプレートは、
前記シールプレートの長手方向を基準として、前記剛体プレートの長さをＬ１、前記板バネの長さをＬ２、前記傾斜が形成された面の長さをＬ３とするとき、
Ｌ１とＬ２とＬ３が等しくなるように形成されていることを特徴とするシール装置。
【請求項６】
請求項２に記載のシール装置において、
前記シールプレートは、
前記シールプレートの長手方向を基準として、前記剛体プレートの長さをＬ１、前記板バネの長さをＬ２、前記傾斜が形成された面の長さをＬ３とするとき、
Ｌ１≧Ｌ３＞Ｌ２の関係が成立し、前記傾斜が形成された面の長さ方向の領域内に前記板バネの長さ方向の全てが位置するように形成されていることを特徴とするシール装置。
【請求項７】
請求項６に記載のシール装置において、
前記剛体プレートは、
前記剛体プレートの長さＬ１と前記傾斜が形成された面の長さＬ３の関係がＬ１＞Ｌ３となるように形成され、
前記剛体プレートの長さ方向の端部に平面が形成されていることを特徴とするシール装置。
【請求項８】
複数の前記シール溝が交差するように形成され、前記複数のシール溝にそれぞれ前記シールプレートが設置され、
前記複数のシール溝の一方に請求項５に記載の前記シールプレートを配置し、前記複数のシール溝の他方に請求項７に記載の前記シールプレートを配置し、
請求項５に記載の前記シールプレートの終端面が、請求項７に記載の前記シールプレートの前記平面に対向するように配置されていることを特徴とするシール装置。
【請求項９】
請求項１から８の何れかに記載のシール装置において、
前記間隙を有して隣接する部材は、ガスタービンを構成し、複数のセグメントに分割されたセグメント部材であることを特徴とするシール装置。
【請求項１０】
圧縮機、燃焼器、及び、タービンで構成されるガスタービンであって、
前記ガスタービンの静翼体の隣接するエンドウォール部の間隙面に、請求項１から８の何れかに記載のシール装置を設けたことを特徴とするガスタービン。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月13日(2016.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
土間部分と立上り部分を鉄筋コンクリートで一体に構築するベタ基礎工法であって、
前記土間部分に鉄筋を組み、立上り部分に鉛直方向の鉄筋(Ｒ)を設置した状態で底盤コンクリート(Ｃ1)を打設するステップと；その後、立上り部分から突き出した鉛直方向の鉄筋(Ｒ)に水平方向の鉄筋(Ｒ’)を連結して鉄筋を格子状に組むステップと；その後、前記打設された底盤コンクリート(Ｃ1)上に、下側が開口した断面コ字状のＰＣユニット(１)(１)…を、立上り部分の鉄筋(Ｒ)が被覆されるように並置するステップと；この並置されたＰＣユニット(１)(１)…の上面に設けられた注入口(11)から流体状の後打ちコンクリート(Ｃ2)を流し込んで、ＰＣユニット(１)の中空部内に前記後打ちコンクリート(Ｃ2)を充填するステップとを含むことを特徴とするＰＣユニットを用いたベタ基礎工法。
【請求項２】
底盤コンクリート(Ｃ1)上にＰＣユニット(１)(１)…を並置する際、ＰＣユニット(１)の底部に設けられた支持脚(15)(15)…の高さを調節して、ＰＣユニット(１)の水平を出すと共に、ＰＣユニット(１)と底盤コンクリート(Ｃ1)との間に所定大きさの隙間を形成することを特徴とする請求項１記載のＰＣユニットを用いたベタ基礎工法。
【請求項３】
底盤コンクリート(Ｃ1)上にＰＣユニット(１)(１)…を並置した後、ＰＣユニット(１)(１)…の両側に、棒状または板状の基部型枠(Ｍ)(Ｍ)をＰＣユニット(１)と底盤コンクリート(Ｃ1)間の隙間を塞ぐように配置して、ＰＣユニット(１)内に後打ちコンクリートを流し混んだ際、下縁部(13)の凹部(13a)を含むＰＣユニット(１)と底盤コンクリート(Ｃ1)間の隙間から後打ちコンクリート(Ｃ2)が外に漏れ出ないようにすることを特徴とする請求項２記載のＰＣユニットを用いたベタ基礎工法。
【請求項４】
底盤コンクリート(Ｃ1)上にＰＣユニット(１)(１)…を並置した後、ＰＣユニット(１)(１)同士の境目部分にコ字型の型板部材(Ａ)を、境目の隙間を塞ぐように被せて、ＰＣユニット(１)内に後打ちコンクリート(Ｃ2)を流し混んだ際、両側縁部(12)(12)の凹部(12a)(12a)を含むＰＣユニット(１)(１)間の隙間から後打ちコンクリート(Ｃ2)が外に漏れ出ないようにすることを特徴とする請求項１〜３の何れか一つに記載ＰＣユニットを用いたベタ基礎工法。
【請求項５】
ベタ基礎の立上り部分に沿って底盤コンクリート(Ｃ1)上に並置されるＰＣユニット(１)であって、
下側が開口した断面コ字状の形状を成し、かつ、上面側には流体状の後打ちコンクリート(Ｃ2)を中空部に流し込むための注入口(11)が設けられ、更に底部には、高さ調節が自在な支持脚(15)(15)…が設けられていることを特徴とするＰＣユニット。
【請求項６】
ベタ基礎の立上り部分に沿って底盤コンクリート(Ｃ1)上に並置されるＰＣユニット(１)であって、
下側が開口した断面コ字状の形状を成し、かつ、上面側には流体状の後打ちコンクリート(Ｃ2)を中空部に流し込むための注入口(11)が、下側に向かって開口スペースが狭まるテーパ状に形成されていることを特徴とするＰＣユニット。
【請求項７】
ベタ基礎の立上り部分に沿って底盤コンクリート(Ｃ1)上に並置されるＰＣユニット(１)であって、
下側が開口した断面コ字状の形状を成し、かつ、上面側には流体状の後打ちコンクリート(Ｃ2)を中空部に流し込むための注入口(11)が設けられ、更に両側縁部(12)(12)には、化粧面(Ｋ)の外観が損なわれないように中空内壁(14)側にのみ凹部(12a)が形成されていることを特徴とするＰＣユニット。
【請求項８】
ベタ基礎の立上り部分に沿って底盤コンクリート(Ｃ1)上に並置されるＰＣユニット(１)であって、
下側が開口した断面コ字状の形状を成し、かつ、上面側には流体状の後打ちコンクリート(Ｃ2)を中空部に流し込むための注入口(11)が設けられ、更に下縁部(13)には、化粧面(Ｋ)の外観が損なわれないように中空内壁(14)側にのみ凹部(13a)が形成されていることを特徴とするＰＣユニット。
【請求項９】
ベタ基礎の立上り部分に沿って底盤コンクリート(Ｃ1)上に並置されるＰＣユニット(１)であって、
下側が開口した断面コ字状の形状を成し、かつ、上面側には流体状の後打ちコンクリート(Ｃ2)を中空部に流し込むための注入口(11)が設けられ、更に上側の厚みが下側の厚みよりも大きくなっていることを特徴とするＰＣユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
即ち、本発明は、土間部分と立上り部分を鉄筋コンクリートで一体に構築するベタ基礎工法であって、
前記土間部分に鉄筋を組み、立上り部分に少なくとも鉛直方向の鉄筋Ｒを設置した状態で底盤コンクリートＣ1を打設するステップと；；その後、立上り部分から突き出した鉛直方向の鉄筋Ｒに水平方向の鉄筋Ｒ’を連結して鉄筋を格子状に組むステップと；その後、前記打設された底盤コンクリートＣ1上に、下側が開口した断面コ字状のＰＣユニット１・１…を、底盤コンクリートＣ1との間に所定大きさの隙間を空けた状態で、かつ、立上り部分の鉄筋Ｒが被覆されるように並置するステップと；この並置されたＰＣユニット１・１…の上面に設けられた注入口11から流体状の後打ちコンクリートＣ2を流し込んで、ＰＣユニット１の中空部およびＰＣユニット１の両側縁部12・12と下縁部13に形成された各凹部12a・13a内に後打ちコンクリートＣ2を充填するステップとを含む方法を採用した点に特徴がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
一方、上記ベタ基礎工法を実施する際に、ベタ基礎の立上り部分に沿って底盤コンクリートＣ1上に並置するＰＣユニット１としては、下側が開口した断面コ字状の形状を成し、かつ、上面側には流体状の後打ちコンクリートＣ2を中空部に流し込むための注入口13が設けられ、更に底部に高さ調節が自在な支持脚15・15…が付設されたものを使用することが好ましい。またＰＣユニット１としては、注入口11が、下側に向かって開口スペースが狭まるテーパ状に形成されたもの、或いは両側縁部12・12や下縁部13に、凹部13aが化粧面Ｋの外観が損なわれないように中空内壁14側にのみ形成されたもの、或いは上側の厚みが下側の厚みよりも大きくなっているものも好適に使用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記シェルを外側からパンチングすることにより、該シェルの内側に凸部を形成する工程と、該凸部と前記ヒーター外殻の先端外周面をロウ付け又は溶接により接合する工程を備えることを特徴とする請求項１に記載の流体加熱装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記ヒーター外殻の外周面に乱流発生用のフィンをロウ付け又は溶接により接合する工程を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の流体加熱装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流体加熱装置の製造方法及び流体加熱装置
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、流体加熱装置の製造方法及び流体加熱装置に関し、特に、シーズヒーターを用いた流体加熱装置の製造方法及び流体加熱装置に関する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、シェル１０の流体流入口１１に、流入口１５Ｂを有した流入管体１５Ａをロウ付け又はＴＩＧ溶接により取り付ける。流入管体１５Ａの流入口１５Ｂは、シェル１０の流体流入口１１を介して、シェル１０の内部空間に連通している。シェル１０の流体流出口１２にも、流出口１６Ｂを有した流出管体１６Ａをロウ付け又はＴＩＧ溶接により取り付ける。流出管体１６Ａの流出口１６Ｂも、シェル１０の流体流出口１２を介して、シェル１０の内部空間に連通している。ヒーター外殻２０の先端外周面は、凸部１４に固定させるために、ロウ付け又はＴＩＧ溶接により、凸部１４に接合することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
そして、本実施形態の流体加熱装置の使用時には、ヒーター線２３を通電し、発熱させた状態で、流入管体１５Ａの流入口１５Ｂから流体をシェル１０内に流入する。シェル１０内に流入された流体は、ヒーター外殻２０とシェル１０の間の空間をシェル１０の長手方向に沿って加熱されながら流れ、流出管体１６Ａの流出口１６Ｂから流出する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月20日(2015.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
２種類のスチレン系ブロック共重合体を構成する互いに異なる第１のスチレン系ブロック共重合体と第２のスチレン系ブロック共重合体の質量比は、適度なゲル状態と適切なオイル（基油）の分離量の両方を兼ね備えるために、８０：２０〜２０：８０の範囲であることが好ましい。これら２種類のスチレン系ブロック共重合体を含有するゲル化剤は、前記ゲル状潤滑剤全量に対して１．５〜１０質量％含まれる。ゲル化剤の配合量をこの範囲とすることで、適量のオイルが滲み出る（分離する）ゲル状潤滑剤を得ることができる。更に、２〜９質量％であることが好ましい。尚、本実施形態のゲル化剤は、本実施形態の効果を得られる範囲で、２種類のスチレン系ブロック共重合体以外のゲル化剤を含有してもよいが、その場合、配合量、配合の順序等の調整が複雑となるため、２種類のスチレン系ブロック共重合体のみからなることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本実施形態に用いられる保持器４は、第１の例として、図２に示す冠型の保持器４を使用することができる。保持器４は、回転軸ｍを中心とする円筒形の環状部材４１を有し、環状部材４１は回転軸ｍと平行な外周面及び内周面と、外周面及び内周面を連結し、回転軸ｍとほぼ垂直である２つの端面４１ａを有する。環状部材４１の一方の端面４１ａには、ボールを回転可能に収容する複数のポケット（凹部）４２が、回転軸ｍを中心とする周方向に沿って所定間隔で形成される。更に、環状部材４１は、各ポケット４２の両端部に、上記一方の端面４１ａから回転軸ｍ方向へ延びる一対の爪４３を備える。一対の爪４３は、各ポケット４２に収容されるボール３の曲面に沿うように、互いに近づくように湾曲しており、これにより、各ポケット４２に収容されるボール３の脱落を防止することができる。本実施形態の保持器４の一方の端面４１ａには、隣接するポケット４２，４２の間に、隣接する爪４３，４３に挟まれた空間、潤滑剤保持部４４が形成され、潤滑剤保持部４４にゲル状潤滑剤を保持できる。ゲル状潤滑剤のうち、ゲル分は潤滑剤保持部４４に保持され、ゲルから分離したオイルのみがボール３の表面に油膜を形成するので、転がり軸受１１は、低トルクで且つトルク変動を抑えながら回転できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
【表６】
2015021117.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
更に、図１３の領域ｂの範囲内に、破線で囲んだ領域ｃを示す。領域ｃの範囲内の組成を有するゲル状潤滑剤は、全て総合評価が「○」であり、転がり軸受に用いる潤滑剤としてより好ましい。即ち、横軸を基油の配合比率、縦軸をゲル化剤の配合量とした図（図１３）において、エステル系合成油と合成炭化水素油との質量比が５０：５０で且つゲル化剤の配合量が６質量％の第１の点と、エステル系合成油と合成炭化水素油との質量比が５０：５０で且つゲル化剤の配合量が２質量％の第２の点と、エステル系合成油と合成炭化水素油との質量比が７０：３０で且つゲル化剤の配合量が４質量％の第３の点と、エステル系合成油と合成炭化水素油との質量比が７０：３０で且つゲル化剤の配合量が９質量％の第４の点とを破線により結んで形成される領域（領域ｃ）の範囲内の組成を有するゲル状潤滑剤は、転がり軸受に用いる潤滑剤としてより好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潤滑油組成物であって、多量の基油および少量の添加剤パッケージを含有して成っていて、前記添加剤パッケージが約０．２から１．８重量％の式Ｉ：
【化２】
2015021126.tif 000001
［式中、Ｘは−ＮＲ1であり、そしてＲおよび各Ｒ1は独立して炭素原子数が約８から約２２の直鎖もしくは分枝、飽和、不飽和または部分飽和ヒドロカルビルから選択されかつＲおよびＲ1の両方ではなく一方が水素であってもよくそしてｍは約１から約４の整数である］
で表される１種以上の化合物、および、潤滑油組成物に約５００から１０００ｐｐｍの燐を供給するに充分な量の少なくとも１種類の金属ジアルキルジチオ燐酸塩、ただし前記少なくとも１種類の金属ジアルキルジチオ燐酸塩の少なくとも９０モルパーセントじは各アルキル基が４−メチル−２−ペンタノールに由来する金属ジアルキルジチオ燐酸塩である、を含有して成る潤滑油組成物。
【請求項２】
前記添加剤パッケージが少なくとも２種類の摩擦調整剤を含有して成る請求項１記載の潤滑油組成物。
【請求項３】
前記添加剤パッケージが式Ｉで表される少なくとも２種類の摩擦調整剤を含有して成る請求項２記載の潤滑油組成物。
【請求項４】
Ｒの炭素原子数が約８から約１８である請求項１−３のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項５】
Ｘが−ＮＨである請求項１−４のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項６】
ｍが１から３の整数である請求項１−５のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項７】
前記添加剤パッケージが更に抗酸化剤、消泡剤、チタン含有化合物、燐含有化合物、粘度指数向上剤、流動点降下剤および希釈用油から成る群より選択される少なくとも１種の添加剤も含有して成る請求項１−６のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項８】
潤滑油がエンジンオイルである請求項１−７のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項９】
更に少なくとも１種の分散剤も含有して成る請求項１−７のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項１０】
更に少なくとも１種の洗浄剤も含有して成る請求項１−７のいずれか１項記載の潤滑油組成物。
【請求項１１】
エンジンにおける薄膜摩擦および／または境界摩擦を改良する方法であって、前記エンジンに請求項１−１０のいずれか１項記載の潤滑油を差す段階を含んで成る方法。
【請求項１２】
前記薄膜摩擦および境界層摩擦を改良する請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
改良された薄膜摩擦および境界摩擦が前記１種以上の摩擦調整剤が存在しない同一の組成物を基準にして測定したものである請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
前記境界層摩擦を改良する請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
前記改良された境界層摩擦が前記１種以上の摩擦調整剤が存在しない同一の組成物を基準にして測定したものである請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記薄膜摩擦を改良する請求項１１記載の方法。
【請求項１７】
前記改良された薄膜摩擦が前記１種以上の摩擦調整剤が存在しない同一の組成物を基準にして測定したものである請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
エンジンにおける薄膜摩擦および／または境界層摩擦を改良する方法であって、請求項１０記載の潤滑油組成物で潤滑する段階から成り、改良された薄膜摩擦および境界層摩擦が１種以上の摩擦調整剤が存在しない同一の組成物を基準にして測定したものである方法。
【請求項１９】
少なくとも薄膜摩擦を改良する請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
少なくとも境界層摩擦を改良する請求項１８記載の方法。
【請求項２１】
Ｒの炭素原子数が約８から約１８であり、Ｘが−ＮＨであり、ｍが１から３の整数である請求項１記載の潤滑油組成物。
【請求項２２】
Ｒの炭素原子数が約８から約１２である請求項１記載の潤滑油組成物。
【請求項２３】
ｍが１から３の整数である請求項２２記載の潤滑油組成物。
【請求項２４】
Ｒの炭素原子数が約８から約１５である請求項１記載の潤滑油組成物。
【請求項２５】
ｍが１である請求項２１記載の潤滑油組成物。
【請求項２６】
Ｘが−ＮＨでｍが１である請求項２２記載の潤滑油組成物。
【請求項２７】
Ｘが−ＮＨでｍが１である請求項２３記載の潤滑油組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月8日(2016.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリデバイスであって
複数のビットセルを備え、該ビットセルは、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第１のインバータと、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第２のインバータと、ここで、前記第２のインバータは前記第１のインバータと交差結合され、
パストランジスタとして前記第１のインバータおよび前記第２のインバータに結合された第１の低閾値電圧金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）と、
パストランジスタとして前記第１のインバータおよび前記第２のインバータに結合された第２の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴとを含み、ここで、前記第１の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴおよび前記第２の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴの閾値電圧は、前記第１のインバータおよび前記第２のインバータのＮＭＯＳトランジスタの閾値電圧よりも実質的に小さい、前記複数のビットセルと、
プリチャージ動作中に選択されたビット線に約１／２ＶＤＤを提供するように結合される電源電圧（ＶＤＤ）とを含み、前記第１のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しく、前記第２のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しい、メモリデバイス。
【請求項２】
メモリデバイスであって
複数のビットセルを備え、該ビットセルは、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第１のインバータと、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第２のインバータと、ここで、前記第２のインバータは前記第１のインバータと交差結合され、
パストランジスタとして前記第１のインバータおよび前記第２のインバータに結合された第１の低閾値電圧金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）と、
パストランジスタとして前記第１のインバータおよび前記第２のインバータに結合された第２の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴとを含み、ここで、前記第１の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴおよび前記第２の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴの閾値電圧は、前記第１のインバータおよび前記第２のインバータのＮＭＯＳトランジスタの閾値電圧よりも実質的に小さい、前記複数のビットセルと、
プリチャージ動作中に選択されたビット線に約１／２ＶＤＤを提供するように結合される電源電圧（ＶＤＤ）とを含み、前記第１のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しく、前記第２のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しく、
前記第１の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴおよび前記第２の低閾値電圧ＭＯＳＦＥＴは、接地電圧を下回る電圧に結合されるワード線信号を受信するように構成される、メモリデバイス。
【請求項３】
ＳＲＡＭビットセルであって、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第１のインバータと、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第２のインバータと、ここで、前記第１のインバータおよび前記第２のインバータは互いに交差結合され、
前記インバータをビット線に結合する複数のパストランジスタと、
供給電圧（ＶＤＤ）とを備え、前記ＳＲＡＭビットセルが選択されるとき、プリチャージ動作中に該供給電圧のほぼ二分の一が前記ビット線に提供され、
前記第１のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しく、前記第２のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しい、ＳＲＡＭビットセル。
【請求項４】
ＳＲＡＭビットセルであって、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第１のインバータと、
ＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタを含む第２のインバータと、ここで、前記第１のインバータおよび前記第２のインバータは互いに交差結合され、
前記インバータをビット線に結合する複数のパストランジスタと、
供給電圧（ＶＤＤ）であって、前記ＳＲＡＭビットセルが選択されるとき、プリチャージ動作中に該供給電圧のほぼ二分の一が前記ビット線に提供され、ここで、前記第１のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しく、前記第２のインバータにおける前記ＰＭＯＳトランジスタおよび前記ＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しい、前記供給電圧と、
前記複数のパストランジスタのうちの第１のパストランジスタの制御ゲート端子に結合される第１のワード線と、
前記複数のパストランジスタのうちの第２のパストランジスタの制御ゲート端子に結合される第２のワード線と
を備えるＳＲＡＭビットセル。
【請求項５】
方法であって、
選択されたＳＲＡＭビットセルのプリチャージ動作中に供給電圧のほぼ二分の一をビット線信号およびビット線バー信号に印加するステップを含み、前記ビット線信号は第１の低閾値電圧トランジスタの第１の電流電極に結合され、前記ビット線バー信号は第２の低閾値電圧トランジスタの第１の電流電極に結合され、前記第１の低閾値電圧トランジスタおよび前記第２の低閾値電圧トランジスタはパストランジスタとして前記ビットセル内の第１のインバータおよび第２のインバータに結合され、前記第１のインバータにおけるＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しく、前記第２のインバータにおけるＰＭＯＳトランジスタおよびＮＭＯＳトランジスタの相互コンダクタンスはほぼ等しい、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月29日(2016.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不揮発性メモリ装置の消去方法において、
消去モードを設定する段階と、
前記設定された消去モードにしたがって正常消去動作及び緊急消去動作の中でいずれか１つを実行する段階と、を含み、
前記正常消去動作はメモリセルの閾値電圧を第１消去検証レベルより低い消去状態にセットし、
前記緊急消去動作はメモリセルの閾値電圧を第２消去検証レベルより低い擬似消去状態にセットし、
前記第２消去検証レベルは前記第１消去検証レベルより高い消去方法。
【請求項２】
前記消去モードは外部から入力された命令に応答して設定される請求項１に記載の消去方法。
【請求項３】
前記消去モードは前記不揮発性メモリ装置の使用者により設定される請求項１に記載の消去方法。
【請求項４】
前記正常消去動作は増加形ステップパルス消去方式による複数のサイクルを実行する請求項１に記載の消去方法。
【請求項５】
前記複数のサイクルの各々は、
消去されるメモリブロックのワードラインにバイアスを設定する段階と、
消去されるメモリブロックのビットライン及び消去されないワードラインをフローティングさせるバイアスの設定段階と、
前記メモリブロックのウェルへ消去電圧を印加する実行段階と、
前記ビットラインの電圧、前記ワードラインの電圧、及び前記ウェルの電圧を放電するリカバリ段階と、
前記メモリブロックのメモリセルの閾値電圧が前記消去状態に存在するか否かを判別する検証段階とを含む請求項４に記載の消去方法。
【請求項６】
前記緊急消去動作は、前記複数のサイクル全てが、前記複数のサイクルの中で一部或いは前記複数のサイクルの中でいずれか１つの実行段階で一部を実行する請求項５に記載の消去方法。
【請求項７】
前記緊急消去動作は、前記正常消去動作の前記消去電圧より低いレベルを有する消去電圧を印加し、前記複数のサイクル、前記複数のサイクルの中で一部、或いは前記複数のサイクルの中でいずれか１つの実行段階で一部を実行する請求項５に記載の消去方法。
【請求項８】
前記緊急消去動作は、前記複数のサイクル各々の区間より短い区間を有する少なくとも１つのサイクル、或いは前記少なくとも１つのサイクルの一部を実行する請求項５に記載の消去方法。
【請求項９】
前記緊急消去動作は、前記正常消去動作の前記消去電圧より低いレベルを有する消去電圧を印加し、前記複数のサイクル各々の区間より短い区間を有する少なくとも１つのサイクル或いは前記少なくとも１つのサイクルの一部を実行する請求項５に記載の消去方法。
【請求項１０】
少なくとも１つの不揮発性メモリ装置と、
前記少なくとも１つの不揮発性メモリ装置を制御するメモリ制御器と、を含み、
前記少なくとも１つの不揮発性メモリ装置は、
ページデータをメモリセル当たり１−ビットプログラムする複数の第１メモリセルを有する第１メモリブロックを含む第１メモリセルアレイと、
前記第１メモリセルアレイの複数のページデータをいずれか１つのページにマルチ−ビットプログラムする複数の第２メモリセルを有する第２メモリブロックを含む第２メモリセルアレイと、
前記第１メモリブロックを第１消去モード及び第２消去モードの中のいずれか１つで消去し、前記第２メモリブロックを前記第１消去モードで消去する制御ロジックと、を含み、
前記第１消去モードは前記第１メモリセル或いは前記第２メモリセルを消去状態にセットし、
前記第２消去モードは前記第１メモリセルを擬似消去状態にセットし、
前記消去状態は第１消去検証レベルより低く、
前記擬似消去状態は第２消去検証レベルより低く、
前記第２消去検証レベルは前記第１消去検証レベルより高いメモリシステム。