Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月5日(2016.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオルガノシロキサンを含むゴムに１種以上のビニル単量体をグラフトしたゴム含有グラフト共重合体（ａ）からなるポリオレフィン樹脂用摺動性向上剤（Ａ）とポリオレフィン樹脂（Ｂ）とを含むポリオレフィン樹脂組成物であって、
前記ポリオレフィン樹脂用摺動性向上剤（Ａ）の含有量が０．１〜７質量％（ただし、（Ａ）と（Ｂ）の合計を１００質量％とする）であるポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項２】
ゴム含有グラフト共重合体（ａ）のトルエン不溶分が１０質量%以上である請求項１記
載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項３】
ポリオルガノシロキサンを含むゴムがポリオルガノシロキサンからなるゴムである請求項１または２に記載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項４】
ポリオルガノシロキサンを含むゴムがポリオルガノシロキサンとポリアルキル（メタ）アクリレートを含有する複合ゴムである請求項１または２に記載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項５】
ゴム含有グラフト共重合体（ａ）中のポリオルガノシロキサン含有量が１０〜９５質量％である請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項６】
ポリオレフィン樹脂（Ｂ）がポリプロピレンである請求項１〜５のいずれか一項に記載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項７】
さらに充填材（Ｃ）を含む請求項１〜６のいずれか１項に記載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項８】
充填材（Ｃ）がタルク、炭酸カルシウム、マイカのいずれかである請求項７に記載のポリオレフィン樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のポリオレフィン樹脂組成物を成形してなる成形体。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月16日(2016.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）基板の第１領域を囲む領域にマスクを形成する工程、
（ｂ）前記基板の第１領域に、第１半導体層を成長させる工程、
（ｃ）前記第１半導体層上に、第２半導体層を成長させる工程、
を有し、
前記基板は、（１００）面から［１−１−１］方向へ、０．５°〜１．０°の範囲で傾斜しており、
前記基板、前記第１半導体層および前記第２半導体層は、ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体よりなる、半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｃ）工程は、ＩＩＩ族元素の原料ガスおよびＶ族元素の原料ガスを用いたエピタキシャル成長により、前記第２半導体層を形成する工程であり、
前記ＩＩＩ族元素の原料ガスの流量に対する前記Ｖ族元素の原料ガスの流量の比であるＶ／ＩＩＩ比が２０００以上である、半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置の製造方法において、
前記基板および前記第２半導体層は、ＩｎＰよりなる、半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、
前記第２半導体層の側面は、（０−１１）面を有する、半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、
（ｄ）前記（ｃ）工程の後、前記第２半導体層の上方に、第１電極を形成し、前記基板の裏面に、第２電極を形成する工程、
を有する、半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層の積層部は、第１方向に延在し、
前記積層部の前記第１方向と交差する第２方向の断面形状は、略矩形状である、半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層の積層部の側面は、前記（１００）面に対してほぼ垂直である、半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層は、第１方向に延在し、
前記第２半導体層の上面の前記第１方向と交差する第２方向の幅は、前記第１半導体層の上面の前記第２方向の幅より大きい、半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項５記載の半導体装置の製造方法において、
前記（ｃ）工程と前記（ｄ）工程との間に、
（ｅ）前記第１半導体層および前記第２半導体層の積層部の両側に、前記積層部より絶縁性を有する半絶縁層を形成する工程、
を有する、半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の半導体装置の製造方法において、
前記半絶縁層は、Ｆｅを含有するＩｎＰよりなる、半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
基板、前記基板の第１領域に配置された第１半導体層および前記第１半導体層上に配置された第２半導体層を有し、
前記基板は、（１００）面から［１−１−１］方向へ、０．５°〜１．０°の範囲で傾斜しており、
前記基板、前記第１半導体層および前記第２半導体層は、ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体よりなる、半導体装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の半導体装置において、
前記基板および前記第２半導体層は、ＩｎＰよりなる、半導体装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の半導体装置において、
前記第２半導体層の側面は、（０−１１）面を有する、半導体装置。
【請求項１４】
請求項１１記載の半導体装置において、
前記第２半導体層の上方に配置された第１電極および前記基板の裏面に配置された第２電極を有する、半導体装置。
【請求項１５】
請求項１３記載の半導体装置において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層の積層部は、第１方向に延在し、
前記積層部の前記第１方向と交差する第２方向の断面形状は、略矩形状である、半導体装置。
【請求項１６】
請求項１３記載の半導体装置において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層の積層部の側面は、前記（１００）面に対してほぼ垂直である、半導体装置。
【請求項１７】
請求項１３記載の半導体装置において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層は、第１方向に延在し、
前記第２半導体層の上面の前記第１方向と交差する第２方向の幅は、前記第１半導体層の上面の前記第２方向の幅より大きい、半導体装置。
【請求項１８】
請求項１３記載の半導体装置において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層の積層部の両側に、Ｆｅを含有するＩｎＰよりなる層を有する、半導体装置。
【請求項１９】
請求項１３記載の半導体装置において、
前記第１半導体層および前記第２半導体層の第１積層部と離間して配置された第２積層部を有し、
前記第２積層部は、前記基板の第２領域に配置された第３半導体層および前記第３半導体層上に配置された第４半導体層を有し、
前記第１半導体層の層厚は、前記第３半導体層の層厚より大きい、半導体装置。
【請求項２０】
請求項１９記載の半導体装置において、
前記第２半導体層の層厚は、前記第４半導体層の層厚より大きい、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月10日(2016.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耳軟骨との接触により軟骨伝導を得るための軟骨伝導部を有することを特徴とする腕時計型送受話装置。
【請求項２】
腕時計にはめた手を顔の前でクロスさせて反対側の耳に腕時計を接触させることにより軟骨伝導を得る請求項１記載の腕時計型送受話装置の送受話方法。
【請求項３】
表示部を有し、前記表示部を耳に接触させることを特徴とする請求項２記載の送受話方法。
【請求項４】
手首に巻きつけるベルト部を有し、前記ベルト部を耳に接触させることを特徴とする請求項２記載の送受話方法。
【請求項５】
腕時計の手の平側を腕時計を嵌めた手と同じ側の耳に接触させることにより軟骨伝導を得る請求項１記載の腕時計型送受話装置の送受話方法。
【請求項６】
腕時計を嵌めた手を耳に接触させることにより軟骨伝導を得る請求項１記載の腕時計型送受話装置の送受話方法。
【請求項７】
請求項２から６のいずれかの送受話方法の情報とともに提供されることを特徴とする腕時計型送受話装置。
【請求項８】
送受話方法の情報を表示する手段を有することを特徴とする請求項７記載の腕時計型送受話装置。
【請求項９】
送受話方法の情報を有する取扱説明媒体とともに提供されることを特徴とする請求項７または８記載の腕時計型送受話装置。
【請求項１０】
送受話方法の情報を有する広告媒体とともに提供されることを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載の腕時計型送受話装置。
【請求項１１】
手首から肘側への指向性を有するマイクを有することを特徴とする請求項１および７から１０のいずれかに記載の腕時計型送受話装置。
【請求項１２】
携帯電話との近距離通信部を有し、携帯電話との連携のため相互の電源状態の情報を交換することを特徴とする請求項１、および７から１１のいずれかに記載の腕時計型送受話装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月14日(2016.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体基体と、
前記誘電体基体の上面に形成された信号線路と、
前記誘電体基体の下面に形成され、基準電位を有する第１導電層と、
前記誘電体基体の上面に形成され、前記信号線路の複数の位置から延出しその先端が前記信号線路と並行して配置された導体部により電気的に共通に接続され、前記導体部と前記信号線路の間に開口が設けられたスタブと、
前記誘電体基体の上面に形成され、前記基準電位と接続され、前記導体部と並行して配置された第２導体層と、
を具備することを特徴とする信号伝送路。
【請求項２】
前記スタブは、前記信号伝送路の両側の領域に配置されてなることを特徴とする請求項１記載の信号伝送路。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月14日(2016.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発振素子を発振させて発振信号を生成する発振用増幅回路と、
前記発振用増幅回路と電気的に接続される補正回路と、
を含み、
前記発振用増幅回路は、入力される電源電圧の変動に応じて前記発振信号の周波数が変動する周波数変動特性を有し、
前記補正回路は、前記電源電圧の変動を利用して前記周波数変動特性を補正する、発振回路。
【請求項２】
前記補正回路は、第１の可変容量素子を含み、
前記第１の可変容量素子は、前記電源電圧の変動に応じて前記周波数の変動を低減させる容量電圧特性を有する、請求項１に記載の発振回路。
【請求項３】
前記発振用増幅回路は、第２の可変容量素子を含み、
前記第１の可変容量素子は、前記電源電圧の変動による前記第２の可変容量素子の容量の変動と逆の向きの容量変化となるように制御される、請求項２に記載の発振回路。
【請求項４】
前記第１の可変容量素子は、
一端に前記電源電圧が印加される、請求項２または３に記載の発振回路。
【請求項５】
前記発振用増幅回路は、
第２の可変容量素子を含み、
前記補正回路は、
前記電源電圧および第１の制御電圧に基づく第２の制御電圧を生成し、
前記第２の可変容量素子は、
一端が前記発振用増幅回路と電気的に接続され、
他端に前記第２の制御電圧が印加される、請求項１に記載の発振回路。
【請求項６】
前記補正回路は、一端が前記発振用増幅回路と電気的に接続されている複数の可変容量素子と選択回路とを含み、
前記選択回路は、前記複数の可変容量素子の他端への前記電源電圧に基づく電圧の印加を制御する、請求項１に記載の発振回路。
【請求項７】
発振素子を発振させて発振信号を生成する発振用増幅回路と、一端が前記発振用増幅回路と電気的に接続される複数の可変容量素子を含む可変容量回路を備える補正回路と、を含む発振回路の製造方法であって、
前記発振用増幅回路に電源電圧を入力し、
前記電源電圧の変動に応じて前記発振信号の周波数が変動する周波数変動特性を測定し、
前記可変容量回路が、前記電源電圧の変動により、前記周波数変動特性を低減させる容量電圧特性を有するように調整する、発振回路の製造方法。
【請求項８】
請求項１から６のいずれか１項に記載の発振回路と、前記発振素子と、を含む発振器。
【請求項９】
請求項１から６のいずれか１項に記載の発振回路を含む電子機器。
【請求項１０】
請求項１から６のいずれか１項に記載の発振回路を含む移動体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発振回路、発振器、電子機器、移動体および発振回路の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、発振回路、発振器、電子機器、移動体および発振回路の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［適用例１］
本適用例に係る発振回路は、発振素子を発振させて発振信号を生成する発振用増幅回路と、前記発振用増幅回路と電気的に接続される補正回路と、を含み、前記発振用増幅回路は、入力される電源電圧の変動に応じて前記発振信号の周波数が変動する周波数変動特性を有し、前記補正回路は、前記電源電圧の変動を利用して前記周波数変動特性を補正する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［適用例２］
上記適用例に係る発振回路において、前記補正回路は、第１の可変容量素子を含み、前記第１の可変容量素子は、前記電源電圧の変動に応じて前記周波数の変動を低減させる容量電圧特性を有してもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［適用例３］
上記適用例に係る発振回路において、前記発振用増幅回路は、第２の可変容量素子を含み、前記第１の可変容量素子は、前記電源電圧の変動による前記第２の可変容量素子の容量の変動と逆の向きの容量変化となるように制御されてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
［適用例８］
本適用例に係る発振器は、前記適用例に係る発振回路を含む。
［適用例９］
本適用例に係る電子機器は、前記適用例に係る発振回路を含む。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［適用例１０］
本適用例に係る移動体は、前記適用例に係る発振回路を含む。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本適用例に係る発振器、電子機器、および移動体によれば、電源電圧の変動があっても安定した周波数の発振信号を生成する前記の発振回路を含んでいるため、安定性に優れ、信頼性の高い発振器、電子機器、および移動体を実現できる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月16日(2015.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
制御装置６は、まず砥石２をワークピースＷの近傍まで迅速に接近させた後、所定の空走速度での送りを開始する。空走は、砥石２をワークピースＷに接触させるときの衝撃を緩和するための動作であり、砥石２を回転させながら、接触時にワークピースＷや砥石２にダメージを与えない程度の送り速度でワークピースＷ側に送る。一般的には、次の荒研削加工と同じ速度としている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月1日(2016.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の操作により遊技が進行する遊技機であって、
前記遊技に関する演出を所定の表示装置に表示する演出表示手段と、
通常遊技状態と該通常遊技状態よりも遊技者に有利な有利遊技状態とを少なくとも含む複数の遊技状態のうちから何れかの遊技状態に制御する遊技状態制御手段と、
前記遊技状態制御手段によって制御される前記有利遊技状態は有利量に応じた期間に亘って制御されるものであり、
所定の条件を満たした場合に、前記有利量を増加させる特典として有利度合いの異なる複数種類の特典の中からいずれかの特典を決定し、該決定された特典を付与する特典付与手段と、
を備え、
前記特典付与手段によって決定された特典を示す特典演出を前記所定の表示装置に表示する特典演出実行手段と、
前記特典演出実行手段は前記特典付与手段によって決定された特典の一部の情報が示された限定特典演出として前記所定の表示装置に表示することを可能とし、
前記限定特典演出が前記所定の表示装置に表示されたあとの所定のタイミングで、表示されていない前記特典を全て表示し、
前記限定特典演出が前記所定の表示装置に表示されたあとの所定のタイミングより前のタイミングで、示されていない前記特典の情報に関連する演出を実行する
ことを特徴とする遊技機
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この種の遊技機においては、特典の付与を行う際に見せ方の趣向が足りず、興趣の低下を招くおそれがあった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明の課題は、特典の付与の見せ方の工夫によって興趣の低下を抑制できる遊技機を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明に係る遊技機は、所定の操作により遊技が進行する遊技機であって、前記遊技に関する演出を所定の表示装置に表示する演出表示手段と、通常遊技状態と該通常遊技状態よりも遊技者に有利な有利遊技状態とを少なくとも含む複数の遊技状態のうちから何れかの遊技状態に制御する遊技状態制御手段と、前記遊技状態制御手段によって制御される前記有利遊技状態は有利量に応じた期間に亘って制御されるものであり、所定の条件を満たした場合に、前記有利量を増加させる特典として有利度合いの異なる複数種類の特典の中からいずれかの特典を決定し、該決定された特典を付与する特典付与手段と、を備え、前記特典付与手段によって決定された特典を示す特典演出を前記所定の表示装置に表示する特典演出実行手段と、前記特典演出実行手段は前記特典付与手段によって決定された特典の一部の情報が示された限定特典演出として前記所定の表示装置に表示することを可能とし、前記限定特典演出が前記所定の表示装置に表示されたあとの所定のタイミングで、表示されていない前記特典を全て表示し、前記限定特典演出が前記所定の表示装置に表示されたあとの所定のタイミングより前のタイミングで、示されていない前記特典の情報に関連する演出を実行することを特徴とする遊技機
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このように、本発明によれば、特典の付与の見せ方の工夫によって興趣の低下を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月7日(2016.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
便器のボウル部であって光触媒層が形成されたボウル部に紫外線を照射する光源装置と
、
着座面を有する便座と、
前記便座の内部に設けられ前記着座面を加熱する加熱手段と、
前記光源装置と前記加熱手段を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記光源装置が前記紫外線を照射している場合には、前記加熱手段への通電を停止する制御または前記加熱手段への投入電力を低下させる制御を実行することを特徴とするトイレ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第１の発明は、便器のボウル部であって光触媒層が形成されたボウル部に紫外線を照射する光源装置と、着座面を有する便座と、前記便座の内部に設けられ前記着座面を加熱する加熱手段と、前記光源装置と前記加熱手段を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記光源装置が前記紫外線を照射している場合には、前記加熱手段への通電を停止する制御または前記加熱手段への投入電力を低下させる制御を実行することを特徴とするトイレ装置である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年1月21日(2016.1.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
発明の概要
本発明は、特異性標的タンパク質の、制御された誘発可能タンパク質凝集のための技術に関する。本発明はまた、デノボで設計された分子を提供し、該分子は本明細書ではインターフェラー分子に指定されており、少なくとも１つの凝集領域を含んでおり、前記凝集領域は標的タンパク質由来である。好ましい実施態様では、インターフェラー分子は、前記自己会合領域の凝集を防止する部分と融合する少なくとも１つの自己会合領域を含む。選択された標的タンパク質と特異的に設計されたインターフェラー分子との間で接触が起こると、標的とインターフェラーとの間に特異的な共凝集が生じ、その結果、前記標的タンパク質に対する生物学的機能の機能的ノックアウトまたは下方制御が起こる。このタンパク質ノックダウンは、インターフェラー分子の存在により誘発される凝集体の存在を条件としている。さらに利点として、タンパク質干渉の強度はインターフェラー分子内の凝集領域の数を変化させることで実験的に制御可能である。本発明は、特定の細胞内外のタンパク質の生物学的機能を下方制御する効率的なツールを提供するだけでなく、重要な治療上の、農業への、診断上の応用をも有する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
明らかであるべきは、タンパク質の生物学的機能を下方制御する方法を使用して、１、２、３、４、５またはそれ以上のタンパク質でさえも同時に生物学的機能を阻害できることである。特に、Ｂ部は少なくとも１つの自己会合領域を含むことから、例えばＢ部は異なるタンパク質に各々特異的である異なる自己会合領域を含む。少なくとも１つの標的タンパク質の生物学的機能を阻害するために使用されるインターフェラーは本来、天然に存在せず、化学合成または組み換えタンパク質発現もしくは後者の組み合わせによって作製できる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月24日(2016.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御する遊技機であって、
可変表示に関する情報を保留情報として記憶可能な保留記憶手段と、
可変表示の表示結果を導出する以前に、前記保留記憶手段から読み出した保留情報に基づいて、前記有利状態に制御するか否かを決定する事前決定手段と、
可変表示時間が異なる複数の可変表示パターンが記憶された複数種類の可変表示パターン決定用データのうちから、所定の可変表示パターン決定用データ選択条件が成立したことに基づいて、前記可変表示パターン決定用データ選択条件に対応する可変表示パターン決定用データを選択する可変表示パターン決定用データ選択手段と、
前記有利状態となるか否かおよび前記可変表示パターン決定用データ選択条件が成立するか否かを前記事前決定手段による決定前に判定する開始前判定手段と、
前記開始前判定手段による判定結果が特定の判定結果である場合に、当該判定の対象となった保留情報に対応する可変表示により前記有利状態に制御される可能性を予告する演出であって、当該判定の対象となった保留情報に対応する可変表示が実行される以前の複数回の可変表示に亘って実行される予告演出を実行する予告演出実行手段と、を備え、
前記予告演出実行手段は、前記開始前判定手段において前記可変表示パターン決定用データ選択条件が成立すると判定された保留情報が、前記予告演出の対象となった保留情報よりも以前に前記保留記憶手段に記憶されている場合、前記可変表示パターン決定用データが選択されるまでに行われる可変表示において前記予告演出の実行を制限し、前記可変表示パターン決定用データが選択された後に行われる可変表示において前記予告演出を実行し、
前記可変表示パターン決定用データ選択条件が成立した際に、前記可変表示パターン決定用データ選択手段により選択された可変表示パターン決定用データに応じて複数種類の演出モードからいずれかの演出モードを決定する演出モード決定手段をさらに備え、
前記予告演出実行手段は、前記演出モードに応じて異なる予告演出を実行可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）上記目的を達成するため、本発明に係る他の遊技機は、
可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば大当り遊技状態など）に制御する遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、
可変表示に関する情報を保留情報として記憶可能な保留記憶手段（例えば第１、第２特図保留記憶部１５１Ａ、１５１Ｂなど）と、
可変表示の表示結果を導出する以前に、前記保留記憶手段から読み出した保留情報に基づいて、前記有利状態に制御するか否かを決定する事前決定手段（例えばステップＳ２４０の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
可変表示時間が異なる複数の可変表示パターンが記憶された複数種類の可変表示パターン決定用データのうちから、所定の可変表示パターン決定用データ選択条件が成立したことに基づいて、前記可変表示パターン決定用データ選択条件に対応する可変表示パターン決定用データを選択する可変表示パターン決定用データ選択手段（例えばステップＳ３０６やステップＳ３２６の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記有利状態となるか否かおよび前記可変表示パターン決定用データ選択条件が成立するか否かを前記事前決定手段による決定前に判定する開始前判定手段（例えばステップＳ２１２の入賞時乱数値判定処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記開始前判定手段による判定結果が特定の判定結果である場合に、当該判定の対象となった保留情報に対応する可変表示により前記有利状態に制御される可能性を予告する演出であって、当該判定の対象となった保留情報に対応する可変表示が実行される以前の複数回の可変表示に亘って実行される予告演出を実行する予告演出実行手段（例えばステップＳ５３５の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、を備え、
前記予告演出実行手段は、前記開始前判定手段において前記可変表示パターン決定用データ選択条件が成立すると判定された保留情報が、前記予告演出の対象となった保留情報よりも以前に前記保留記憶手段に記憶されている場合、前記可変表示パターン決定用データが選択されるまでに行われる可変表示において前記予告演出の実行を制限し（例えばステップＳ６０６の処理などを実行し）、前記可変表示パターン決定用データが選択された後に行われる可変表示において前記予告演出を実行し（例えばステップＳ６０９の処理の後にステップＳ６１０の処理を実行するなど）、
前記可変表示パターン決定用データ選択条件が成立した際に、前記可変表示パターン決定用データ選択手段により選択された可変表示パターン決定用データに応じて複数種類の演出モードからいずれかの演出モードを決定する演出モード決定手段（例えばステップＳ７１０やステップＳ７４１の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）をさらに備え、
前記予告演出実行手段は、前記演出モードに応じて異なる予告演出を実行可能である（例えばステップＳ６１０の処理などを実行する）、
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このような構成によれば、可変表示パターン決定用データ選択条件が成立した場合であっても予告演出を実行することができ、遊技興趣を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月25日(2016.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
受信用の超音波素子列ＳＲＡには、スキャン方向Ｄ１（第１の方向）に直交するスライス方向Ｄ２（第２の方向）に沿って、ｍ＝８個の超音波素子１０が配列される。送信用の超音波素子列ＳＴＡには、スライス方向Ｄ２に沿ってｍ＝８個の超音波素子１０が配列される。この受信用の超音波素子列ＳＲＡと送信用の超音波素子列ＳＴＡは、スキャン方向Ｄ１に１列毎に交互に配置される。即ち、超音波素子アレイ１００は、ｍ＝８行、ｎ＝６４列のマトリックス状のアレイである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
例えばリニアスキャンを行う場合には、第１の送信期間では、送信システムのスイッチ素子Ｓｍｔ１１、Ｓｍｔ２１、Ｓｍｔ３１、Ｓｍｔ４１がオンになり、パルサーＰＬＳ１、ＰＬＳ２、ＰＬＳ３、ＰＬＳ４が送信端子ＸＴ１、ＸＴ２、ＸＴ３、ＸＴ４に対して駆動パルスを出力する。そして、第１の受信期間では、受信システムのスイッチ素子Ｓｍｒ１１、Ｓｍｒ２１、Ｓｍｒ３１、Ｓｍｒ４１がオンになり、増幅回路ＡＭＲ１、ＡＭＲ２、ＡＭＲ３、ＡＭＲ４が受信端子ＸＲ１、ＸＲ２、ＸＲ３、ＸＲ４からの受信信号を受ける。次の第２の送信期間では、送信システムのスイッチ素子Ｓｍｔ２１、Ｓｍｔ３１、Ｓｍｔ４１、Ｓｍｔ１２がオンになり、パルサーＰＬＳ２、ＰＬＳ３、ＰＬＳ４、ＰＬＳ１が送信端子ＸＴ２、ＸＴ３、ＸＴ４、ＸＴ５に対して駆動パルスを出力する。そして、第２の受信期間では、受信システムのスイッチ素子Ｓｍｒ２１、Ｓｍｒ３１、Ｓｍｒ４１、Ｓｍｒ１２がオンになり、増幅回路ＡＭＲ２、ＡＭＲ３、ＡＭＲ４、ＡＭＲ１が受信端子ＸＲ２、ＸＲ３、ＸＲ４、ＸＲ５からの受信信号を受ける。以降１チャネルずつ順次ずらしながら駆動パルスの送信と受信信号の受信を行うことにより、リニアスキャンを行う。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月13日(2016.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で示される化合物並びにその薬学上許容される塩、溶媒和物及び水和物。
【化４０】
2014144922.tif 000001
式中、
Ｒ1は、それぞれ置換されてもよいアリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を意味し、
Ｒ2は、それぞれ置換されてもよいアルキルカルボニル基、アルキル基、又はアリール基を意味し、
Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれが水素、ヒドロキシ基、又は置換されてもよいアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、若しくはアルコキシ基を意味するか、或いはＲ3とＲ4は一緒になって−Ｏ−ＣＲ7Ｒ8−Ｏ−で示される基を意味していてもよく、ここでＲ7とＲ8は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素、又は置換されていてもよいアリール基若しくはアルキル基を意味し、そして
Ｒ6は、−Ｃ(ＣＨ3)2−又は−ＣＨ2−を意味する。
【請求項２】
請求項１に記載された化合物又はその薬学上許容される塩、溶媒和物若しくは水和物を有効成分とするＡＣＡＴ２阻害剤。
【請求項３】
請求項１に記載された化合物又はその薬学上許容される塩、溶媒和物若しくは水和物をと薬学上許容される担体とを含むＡＣＡＴ２阻害用薬剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
上記原水供給ホース１２の上流端、つまり３方弁１１に接続された端部と反対側の端部には夾雑物を捕捉するストレーナ１４が取り付けられ、この部分は、浄化対象の原水Ｗが存在する例えば川、沼等の水源１５内に沈められる。そして原水供給ホース１２の途中には、原水ポンプ１６が介設されている。この原水ポンプ１６はハドルレバー１７を有する手動操作型のものであり、架台１８の上に取り付けられている。原水ポンプ１６は、作業者によってハドルレバー１７が図３の矢印Ｃ方向に往復揺動されると、水源１５内の原水Ｗを汲み上げ、原水供給ホース１２および３方弁１１を介して濾過槽３内に供給する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
また図８に示すように、同じくモータで駆動される水中ポンプからなる電動逆洗ポンプ８８が処理水槽１の中に配設されている。この電動逆洗ポンプ８８の吐出口には逆洗水供給ホース８９が接続され、この逆洗水供給ホース８９は逆洗水供給ホース６６と並列的に逆止弁６７の１つの口に接続されている。なお、このように２つの逆洗水供給ホース８９、６６を並列的に１つの口に接続するためには、上記と同様に各ホースに適宜配管を接続した上で、それらの配管を例えばティー等に接続させればよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
《第５の実施形態》
図１０および図１１はそれぞれ、本発明の第５の実施形態による無電源浄水システムを示す一部破断側面図および側面図であり、各図の表示箇所はそれぞれ図８、図９に対応している。本実施形態の無電源浄水システムは、上述した第４の実施形態の無電源浄水システムと比べると、手動操作型の原水ポンプ１６および逆洗ポンプ６３が取り除かれ、電動原水ポンプ８５だけで原水供給を、そして電動逆洗ポンプ８８だけで逆洗水供給を行うように構成されている。このような浄水システムは、年間を通して十分な日照がある地域で使用するのに適している。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月15日(2016.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ＳＯｘ（ＳＯ２およびＳＯ３）濃度の低減方法としては、アルカリ水溶液などに吸収させる方法や、硫黄含有量が少ない燃料を使用する方法がある。前者の方法では、排ガス温度の低下のため熱交換器での熱回収効率が低下するため好ましくない。後者の方法では、燃料費の増加を招くため好ましくない。よって、ＳＯｘ低減方法としては、現在まで効果的な方法が見当たらない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
排ガスとしては、下記の表１に示すように、酸素（Ｏ２）を１３．８〔ｖｏｌ％−ｄｒｙ〕、水（Ｈ２Ｏ）を４．９５〔ｖｏｌ％−ｗｅｔ〕、窒素酸化物（ＮＯｘ）を１０２０〔ｐｐｍｖｄ〕、アンモニア（ＮＨ３）を８５０〔ｐｐｍｖｄ〕、硫黄酸化物（ＳＯｘ）を６００〔ｐｐｍｖｄ〕、それぞれ含有する合成ガスを、３７０〔℃〕の温度で排ガスとして供給してアンモニア分解処理工程を行った。
【表１】
2014144424.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
面積速度＝処理ガス量（Ｎｍ３／ｈ）／ガス接触面積（ｍ２）
そして、各触媒を充填したアンモニア分解反応器について、ＳＯｘ添加前のアンモニア分解率（％）と、ＳＯｘ添加５００時間後のアンモニア分解率（％）とを測定し、得られた結果を下記の表２にあわせて記載した。
【表２】
2014144424.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月29日(2016.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動ねじ切り装置であって、
選択的に両方向に回転するように構成されたロータ（３）を備える電気モータ（２）と、
軸線（４）周りの回転運動の動作と前記軸線（４）に沿った平行移動の動作とが可能なツールホルダスピンドル（７）と、
を備え、
前記ロータ（３）は、前記軸線（４）周りのツールホルダスピンドル（７）の前記回転運動を制御し、
前記ツールホルダスピンドル（７）は、前記ロータ（３）により支持されるとともに、前記軸線（４）周りの前記回転運動において前記ロータ（３）と一体になって動作し、
前記電気モータ（２）の前記ロータ（３）は、前記軸線（４）周りで回転し、
前記ロータ（３）は、チャンバ（５）を有し、前記ツールホルダスピンドル（７）は前記チャンバ（５）に従って前記軸線（４）に沿って平行移動し、前記チャンバ（５）は、前記ツールホルダスピンドル（７）により選択された少なくとも１つの位置において前記ツールホルダスピンドル（７）を少なくとも部分的に収容するのに適しており、
前記自動ねじ切り装置は、ねじ切りされる部品に接近する方向（１４）に、前記軸線（４）に沿った前記ツールホルダスピンドルの平行移動の動作を発生させるために、前記チャンバ（５）内を封止方式で摺動するように構成されたピストン（１１）を備え、前記チャンバ（５）は、前記ピストンと前記ピストンを介して前記ツールホルダスピンドル（７）とを動作させるように構成された加圧流体源（１３）に接続する手段（１２）を備え、
前記自動ねじ切り装置は、前記ツールホルダスピンドル（７）の周囲において前記チャンバ（５）の内部に配置されたスプリング（１５）であって、ねじ切りされる部品から遠ざかる方向（１６）に、前記軸線（４）に沿った前記平行移動の動作を発生させるために前記ツールホルダスピンドル（７）を動作させる、スプリング（１５）を備え、
前記スプリング（１５）は、少なくとも部分的に、前記ロータ（３）を動かすための前記電気モータ（２）により生じる磁界又は電磁界内に配置されることを特徴とする、自動ねじ切り装置。
【請求項２】
前記ツールホルダスピンドル（７）は、前記軸線（４）周りの相対的な回転を防ぐことができ、且つ前記ツールホルダスピンドルの前記軸線（４）に沿った相対的な平行移動を可能にする形状連結によって、前記ロータ（３）に接続される、請求項１に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項３】
前記ロータ（３）は、前記ツールホルダスピンドル（７）の少なくとも１つの部分（９）に連結するための空胴（６）を備え、前記空胴（６）および前記ツールホルダスピンドル（７）の前記部分（９）は、前記ツールホルダスピンドル（７）の前記軸線（４）周りの回転を誘引し、且つ前記ロータ（３）に対して前記軸線（４）に沿って前記ツールホルダスピンドル（７）を平行移動させるのに適した、個々の接合形材を有する、請求項２に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項４】
前記ロータ（３）の前記空胴（６）と前記ツールホルダスピンドル（７）の前記部分（９）とは、前記軸線（４）に対して垂直な平面において六角形の形材を有する、請求項３に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項５】
前記空胴（６）は、前記軸線（４）に沿って延伸する前記チャンバ（５）の少なくとも１つの伸張によって形成される、請求項３または４に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項６】
前記空胴（６）は、前記軸線（４）に対して横断する方向の寸法が前記チャンバ（５）の残りの部分より小さい、請求項５に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項７】
前記ロータ（３）は中空であり、前記ツールホルダスピンドル（７）が平行移動できる前記軸線（４）に沿って延伸する前記チャンバ（５）を内部に形成する、請求項１から６のいずれか１項に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項８】
前記電気モータ（２）は、前記ロータ（３）および前記チャンバ（５）の半径方向外側に配置された固定子巻線（１０）を備え、前記固定子巻線（１０）、前記ロータ（３）、および前記チャンバ（５）が、少なくとも１つの共通の伸張のために前記軸線（４）に沿って延伸する、請求項１から７のいずれか１項に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項９】
前記電気モータ（２）は、前記ツールホルダスピンドル（７）の位置、前記ロータ（３）の回転方向、前記ロータ（３）の回転速度、前記ツールホルダスピンドル（７）の前記平行移動の動作を発生させるための任意の加圧流体（１３）の注入、及び、前記電気モータ（２）のトルク、のパラメータのうち１つ以上を制御する電子制御装置によって制御される、請求項１から８のいずれか１項に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項１０】
穴部にねじ山をカットするための、前記ツールホルダスピンドル（７）に取り付けられる雄ねじツール（８）を備えることを特徴とする、請求項１から９のいずれか１項に記載の自動ねじ切り装置。
【請求項１１】
前記ツールホルダスピンドル（７）に取り付けられ、且つ部品の外部にねじ山をカットするための雌ネジ開口部を備えるツール（８）を備えることを特徴とする、請求項１から９のいずれか１項に記載の自動ねじ切り装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月17日(2015.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の被溶接材を溶接するための溶接装置であって、
前記複数の被溶接材が接近した又は交差するように組み合わされた被溶接部を溶接する溶接トーチと、
前記溶接トーチを保持するトーチホルダーを直線的に案内する直線案内部材と、該直線案内部材に沿って前記トーチホルダーを往復駆動する直線駆動モーターと、を有する直線駆動機構と、
少なくとも直線案内部材を回動させる回動モーターを有する回動機構と、
前記直線駆動機構と回動機構を搭載した台車と、
前記台車が予め設定された溶接区間よりも短い走行区間だけ走行したことを認識したとき、前記溶接トーチを被溶接材からの距離を保持させると共に溶接速さを保持させるように前記直線駆動モーターと前記回動モーターの駆動を制御する制御装置と、
を有することを特徴とする溶接装置。
【請求項２】
前記制御装置は、溶接トーチが予め設定された溶接区間の終端位置に達した後、該溶接トーチを被溶接材からの距離を保持させて前記溶接トーチが前記終端位置に達する前の前記溶接速さと逆方向に同じ大きさの溶接速さで逆戻りさせるように前記直線駆動モーターと前記回動モーターの駆動を制御するものであることを特徴とする請求項１に記載した溶接装置。
【請求項３】
前記複数の被溶接材が底板と該底板に起立する起立板からなり、被溶接部が前記底板と起立板下端との隅部であり、
前記底板上であって前記台車の走行方向下流側に配置された当接部材と、
前記台車の走行方向の端部に配置され前記当接部材と当接して信号を発生するスイッチと、
前記スイッチからの信号に基づいて、前記溶接トーチを前記被溶接部からの距離を保持させると共に溶接速さを保持させるように前記直線駆動モーターと前記回動モーターの駆動を制御する制御装置と、
を有することを特徴とする請求項１又は２に記載した溶接装置
【請求項４】
前記複数の被溶接材が底板と該底板に起立する第１起立板及び前記底板上であって前記台車の走行方向下流側に配置され且つ前記第１起立板と当接した第２起立板からなり、
前記被溶接部が、前記底板と前記第１起立板の下端とが当接する第１隅部、及び前記底板と前記第２起立板の下端とが当接する第２隅部、及び前記第１隅部と前記第２隅部が接続する隅角部を含み、前記第１隅部から前記隅角部を経て前記第２隅部に於ける前記隅角部の近傍までであり、
前記台車の走行方向の端部に配置され前記第２起立板と当接して信号を発生するスイッチと、
前記スイッチからの信号に基づいて、溶接トーチを被溶接部からの距離を保持させると共に溶接速さを保持させて前記第１隅部から前記隅角部を経て前記第２隅部まで連続させるように前記直線駆動モーターと前記回動モーターの駆動を制御する制御装置と、
を有することを特徴とする請求項１又は２に記載した溶接装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重金属イオンおよびその放射性同位体を結合するための成形リヨセルセルロース物品であって、１つ以上のヘキサシアノフェレートが、セルロース系マトリックス中に組み込まれ、均一に分布している、成形リヨセルセルロース物品。
【請求項２】
前記ヘキサシアノフェレートが、ヘキサシアノフェレートアニオン、およびカチオンから構成される中性電荷の化学化合物であり、０．００１μｍから１００μｍの粒子サイズを有する、請求項１に記載の成形リヨセルセルロース物品。
【請求項３】
前記セルロース系マトリックスが、セルロース単独、または、５０％を超えるセルロースと、ポリマー添加剤、ならびに／または微粒子添加剤との混合物のいずれかからなる、請求項１に記載の成形リヨセルセルロース物品。
【請求項４】
前記ヘキサシアノフェレートが、組成物全体の０．１から８０重量％含まれる、請求項１に記載の成形リヨセルセルロース物品。
【請求項５】
前記重金属イオンの結合容量は、すべて存在する前記ヘキサシアノフェレートに基づき、前記ヘキサシアノフェレート単独と比較して、２０％から４００％である、請求項１に記載の成形リヨセルセルロース物品。
【請求項６】
フィブリド、繊維、繊維系不織ウェブ、顆粒、ビーズ、自立性フィルム、チューブ状フィルム、フィラメント、スポンジ、または剛毛繊維である、請求項１に記載の成形リヨセルセルロース物品。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の組成物を、絶対１％超の割合で含んでなる、物質。
【請求項８】
水系または湿潤系中の一価の金属イオンを収着するための、請求項１から６のいずれか一項に記載の成形セルロース物品または請求項７に記載の物質の使用。
【請求項９】
水処理および水浄化、金属選鉱、創傷被覆材による創傷の治療、空気ろ過、ガスろ過、ならびに防護衣のためのものである、請求項８に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月4日(2016.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＲ（磁気共鳴）信号の収集時に検査対象（１３）の少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）からＭＲ信号が同時に検出されるスライス多重化方式において検査対象のＭＲ信号の収集時の信号位相を補正する方法であって、
少なくとも２つのスライス（１４、１５）のそれぞれについてスライス選択方向の線形補正位相を決定し、
少なくとも２つの異なるスライスのそれぞれに、スライス固有の周波数を有するＨＦ（高周波）励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）を照射し、
異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）に照射されるスライス選択期間（２７）の間、スライス選択グラジエント（２６、６１）を照射し、スライス選択期間（２７）がスライス選択期間の中心に時間中心（２８）を持ち、少なくとも２つの異なるスライスのための異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が時間的にオーバーラップしており、
各スライスの線形補正位相に相当するスライス選択方向のスライス固有の補正グラジエントモーメントが各スライス（１４、１５）の磁化に影響するように、ＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）のそれぞれについて時間中心（２８）に対するＨＦ励起パルスの時間的ずれを決定する
検査対象のＭＲ信号の収集時の信号位相の補正方法。
【請求項２】
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれについて、スライスに属する補正グラジエントモーメントが決定され、各スライスに属する補正グラジエントモーメントに基づいて、少なくとも２つの異なるスライスの全てに適用される平均補正グラジエントモーメントが決定され、少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれについて、当該スライス固有の補正グラジエントモーメントと平均補正グラジエントモーメントとの偏差が決定され、この偏差がそれぞれ１つのスライス個別の追加グラジエントモーメントに相当し、少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれについて、各スライスにスライス個別の追加グラジエントモーメントが影響するように時間的ずれが算出されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、同時に撮影されるスライスの数が、少なくとも１つの選択基準に関係して選択されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
線形補正位相を有する補正グラジエントモーメントが、マクスウェル場によるスライス方向に沿ったデフェージングを補正することを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
平均補正グラジエントモーメントが、スライス方向に追加的補正グラジエントを照射することにより、少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）に印加されることを特徴とする請求項２を引用する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
複数のＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）がＭＲ信号の収集前に１つのスライスに照射され、複数のＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）がそれぞれのスライス選択期間の間に照射され、複数のＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）およびそれに属するスライス選択期間は、スライス固有の補正グラジエントモーメントが複数のＨＦ励起パルスの照射後の各スライスにおける磁化の全体に印加されるように選択されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれに、単独のスライス固有の補正グラジエントモーメントが印加されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれに、複数の異なる補正グラジエントモーメントが印加され、少なくとも２つのスライス（１４、１５）のそれぞれに、少なくとも２つのスライスに使用された全ての異なる補正グラジエントモーメントが印加されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項９】
Ｊ個の補正グラジエントモーメントが各スライスに印加され、Ｊ≧２であり、Ｎは同時に撮影されたスライスの数であり、かつＮはＪの整数倍であり、第１ステップにおいて各スライスにスライス固有の補正グラジエントモーメントが印加され、第１ステップは、スライス順序を変更して、各スライスにＪ個の補正グラジエントモーメントが印加されるまで繰り返されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が、検査対象からスライスを選択するための励起パルスであることを特徴とする請求項１から９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１１】
ＨＦ励起パルスが、スピンエコー信号発生時のリフォーカシングパルスであることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１つに記載の方法。
【請求項１２】
ＨＦ励起パルスが、刺激エコーによる信号発生時の記憶パルスであることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１つに記載の方法。
【請求項１３】
ＭＲ（磁気共鳴）信号の収集時に検査対象の少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）からＭＲ信号が同時に検出されるスライス多重化方式において検査対象のＭＲ信号の収集時に信号位相を補正するように構成された磁気共鳴設備（１０）であって、
少なくとも２つのスライス（１４、１５）のそれぞれについてスライス選択方向の第１の線形補正位相を決定するモジュール（２４）と、
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれに、スライス固有の周波数を有するＨＦ（高周波）励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）を照射するように構成され、かつ、異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が少なくとも２つの異なるスライスに照射されるスライス選択期間（２７）の間、スライス選択グラジエント（２６、６１）を照射するように構成され、スライス選択期間（２７）がスライス選択期間（２７）の中心に時間中心（２８）を持ち、少なくとも２つの異なるスライスのための異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が時間的にオーバーラップしており、かつ、各スライスの線形補正位相に相当するスライス選択方向のスライス固有の補正グラジエントモーメントが各スライスの磁化に影響するように、ＨＦ励起パルスのそれぞれについて時間中心に対するＨＦ励起パルスの時間的ずれを決定するように構成されたＭＲ撮影シーケンス制御装置（２０）と
を有する磁気共鳴設備。
【請求項１４】
ＭＲ撮影シーケンス制御装置が請求項２から１１のいずれか１つに記載の方法を実施するように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の磁気共鳴設備。