【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年5月24日(2016.5.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光酸発生剤を含む感光層において当該感光層の一部分を照射することにより発生した酸を隣の下層の部分に拡散させる工程、
前記下層は酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含み、
前記アタッチメント基は基体の親水性表面に共有結合されているか、架橋されてポリマー間架橋を形成しているか、または基体の表面に共有結合されかつ架橋されてポリマー間架橋を形成しており、該官能基は該酸感受性コポリマーの中性度を調節するように機能し、
前記中性度を調節することは、脱保護前の、もしくは脱保護が起こらなかった領域における下層の表面エネルギーが、ブロックコポリマーの少なくとも１つのブロックの表面エネルギーと実質的に同じであることを意味し、
感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層および感光層を加熱することを含み、下層中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する；
感光層を除去する工程；
下層の表面上に自己組織化層を形成する工程、
前記自己組織化層は極性領域に対する親和性を有する第１のブロックと、極性領域に対する親和性が第１のブロックよりも低い第２のブロックとを有するブロックコポリマーを含み、
第１のブロックは極性領域に対して整列する第１のドメインを形成し、および第２のブロックは第１のドメインの隣に整列する第２のドメインを形成する；並びに
第１のもしくは第２のドメインのいずれかを除去して下にある下層の部分を露出させる工程；
を含むパターンを形成する方法。
【請求項２】
感光層がポジ型フォトレジストである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
酸感受性コポリマーの溶液をスピンコーティング、ディップコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、もしくはドクターブレーディングによって基体の表面に接触させる工程、
加熱して溶媒を除去し、かつ酸感受性コポリマーのアタッチメント基と親水性表面との間に共有結合を形成する工程、並びに
下層の表面を溶媒で洗浄して、結合していないブラシコポリマーを除去する工程、
を含む工程により下層が形成される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
自己組織化層を形成する工程が、ブロックコポリマーの溶液をスピンコーティング、ディップコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、もしくはドクターブレーディングによって下層の表面に接触させる工程、およびアニールして溶媒を除去し、かつ第１のドメインおよび第２のドメインを形成する工程を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
選択的な照射が、レチクルを通した化学線に感光層を露光することによって、または感光層上へのｅ−ビーム照射によるパターンの直接描画によって達成される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
下層の照射される部分が、第１のドメインおよび第２のドメインのインターバル間隔よりも大きなインターバルを有するまばらなパターンを形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記まばらなパターンのインターバル間隔を満たすように下層上に形成される追加の第１のドメインおよび第２のドメインであって、極性領域に対してではなく第２のドメインに対して整列する前記追加の第１のドメイン、および前記追加の第１のドメインに対して整列する前記追加の第２のドメインをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
酸感受性コポリマーが式：
【化１】
2012078828.tif 000001
を有し、式中、Ｒ１はターシャリーアルキルエステル基を含むＣ１−３０酸分解可能基であり、Ｒ３はヒドロキシ基を含むＣ１−３０アタッチメント基であり、Ｒ５およびＲ７は独立して芳香族基もしくはエステル基を含むＣ１−３０官能基であり、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６およびＲ８は独立してＨもしくはＣ１−１０有機基であり、モル分率ｗおよびｘは０．００１〜０．９９９であり、モル分率ｙおよびｚは０〜０．９であり、モル分率ｗ、ｘ、ｙおよびｚの合計は１である、請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
【図１Ａ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｂ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｃ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｄ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｅ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｆ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｇ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｈ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｉ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図１Ｊ】図１Ａ〜１Ｊは上塗りされた感光層から下層に酸が拡散される一実施形態における、下層上にパターンを形成する典型的な方法を示す。
【図２】図２は、シリンダー形自己組織化ドメインを有するようにパターン形成された下層上の典型的なパターン形成された自己組織化ブロックコポリマー層の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）像である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
次いで、パターン形成された下層の表面上に自己組織化層が形成される。自己組織化層は下層の極性領域に対する親和性を有する第１のブロック、および下層の極性領域に対する親和性を有しない第２の分散（「中性」とも称される）ブロックを有するブロックコポリマーを含む。本明細書において使用される場合、「に対する親和性を有する」とは第１のブロックが極性領域と適合した表面エネルギーであり、かつキャストおよびアニール中に移動性の第１のブロックが選択的に極性領域上に堆積しかつ極性領域に対して整列するように極性領域に引き付けられる。この方法においては、第１のブロックは下層上に第１のドメインを形成し、それは下層の極性領域に対して整列している（すなわち、酸分解可能基の分解によって形成されるパターンに整列している）。同様に、下層の極性領域に対する親和性がより低いブロックコポリマーの第２の分散ブロックは第１のドメインの隣に整列した下層上の第２のドメインを形成する。本明細書において使用される場合、「ドメイン」とは、ブロックコポリマーの対応するブロックによって形成されるコンパクトな結晶質もしくは半結晶質領域であって、この領域はラメラもしくはシリンダー形であってよく、かつ下層の表面の面に対して垂直で、かつ下にある下層の表面と少なくとも部分的に接触していることを意味する。ある実施形態においては、このドメインは１〜１００ｎｍ、具体的には５〜７５ｎｍ、さらにより具体的には１０〜５０ｎｍの最も短い平均寸法を有しうる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
次いで、図１Ｆはパターン形成された下層１２０ａの表面上での自己組織化層１４０の配置を示す。自己組織化層１４０は異なる表面エネルギーを有するブロックを有するブロックコポリマーを含むことができ、これらブロックは相分離し、かつ少なくとも１つのブロックはパターン、すなわち、パターン形成された下層１２０ａの極性基１２４を有する領域に対して整列した離散したドメインを形成する。自己組織化層１４０は溶媒からのスピンキャスティングによって溶液として適用され、キャスティング後にベーキングによって加熱されて残留する溶媒を除去しかつ自己組織化層をコンパクトにしアニールする。ブロックコポリマーのブロックを秩序化するためのポリマー鎖の移動性を必要とするドメイン形成は、加熱中の可塑化溶媒の喪失と同時に起こり、個々のブロックの鎖の秩序化は秩序化されたシリンダー形もしくはラメラ構造を形成すると考えられる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８５】
次いで、一般構造：
【化１２】
2012078828.tif 000002
を有する比較例２のブロックコポリマーが２−ヘプタノン（全溶液重量を基準にして２重量％）に溶解され、すでに実施例３のポリマーを含む下層でコーティングされ、上記方法によって像形成された３０ｃｍウェハ上に約１００ｎｍの厚さにスピンキャストされ、そして２５０℃で３０分間ベークされ、自己組織化層をアニールし、シリンダーとしての相分離ドメインを提供した。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８７】
サンプル上にシリンダー形ドメインを有するサンプルは、次いで、ＡＦＭによって画像化された。図２は、１μｍ×１μｍスキャン領域におけるウェハのＡＦＭ像を示す。シリンダー形ドメインが図中に認められることができる。それぞれのシリンダー形ドメインは直径約０．０６μｍ（６０ｎｍ）、ドメイン間の全間隔０．１２μｍで、１：１ピッチであった。よって、図２Ａおよび２Ｂには、ほぼ同じ極性比率を有し、かつ互いに中性であるように適合した酸感受性メタクリラートコポリマー組成物は、露光された上塗りフォトレジスト中のコンタクトホールパターンに発生した酸が下層に拡散することにより画定された極性領域に対して整列した相分離したドメインを提供することができることが認められうる。