(57)【要約】【課題】処理液を用いて、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法等において、当該プロセス装置が、第１末端３０６および第２末端３０７により規定されたパイプ部を有し、第１末端３０６および第２末端３０７により所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄方法等である。【解決手段】そして、かかる洗浄方法によれば、パイプ部内の体積よりも実質的に少ない所定量の処理液を注入する工程と、パイプ部の第２末端３０７に実質的に近接した位置の内圧を減圧すると同時に、パイプ部の第１末端３０６に実質的に近接した位置の内圧を加圧することにより、パイプ部内に所定量の処理液を循環させる工程と、を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を用いて、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法において、
前記プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により所定体積が規定され、かつ、予め所定の初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄方法であって、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液であって、前記パイプ部の容積よりも小さい量の処理液を注入する工程と、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧すると同時に、前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、所定量の処理液を、パイプ部内で循環させる工程と、
を含むことを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
前記処理液を、前記パイプ部の第１末端に対して、噴霧化して導入することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記処理液を、実質的に干渉発生する量として、前記パイプ部の第１末端に対して、注入することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記パイプ部内に、所定量の処理液を循環させた後、所定量の処理液を回収する工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項５】
所定量の前記処理液を回収した後、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液を再注入する工程と、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧すると同時に、前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、所定量の処理液を、パイプ部内で再循環させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項６】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値に加圧する際に、前記パイプ部に、ガスを注入して実施することを特徴とした請求項５に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記処理液を、ガス相と、液相とに実質的に分離する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記所定量の処理液を、前記パイプ部内に注入する前に、前記処理液の特性を調節することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記処理液の特性を調節するに際して、ｐＨ、温度および溶質濃度からなる群から選択される少なくとも一つの特性を調節することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記所定量の処理液を回収する前に、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液を再注入する工程と、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置のパイプ部における内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧させると同時に、前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置のパイプ部における内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、所定量の処理液を、パイプ部内で再循環させる工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項１１】
前記プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法において、前記処理液とは異なる、さらなる別の処理液を用いた洗浄工程を含む洗浄方法であって、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、さらなる所定量の別の処理液であって、前記パイプ部よりも実質的に小さな体積の別の処理液を注入する工程と、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧すると同時に、前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、前記所定量の別の処理液を、同時にパイプ部内に循環させる工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項１２】
前記処理液と、前記別の処理液とが、実質的に同一であることを特徴とする請求項１１に記載の洗浄方法。
【請求項１３】
前記処理液と、前記別の処理液とが、実質的に異なることを特徴とする請求項１１に記載の洗浄方法。
【請求項１４】
前記回収された所定量の処理液を、当該処理液の回収に際して、さらに廃棄する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項１５】
前記パイプ部に、所定量の前記処理液を注入する前に、プロセス装置の加工品を含んでおり、当該加工品の一部を回収する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１６】
前記加工品の回収に際して、前記処理液として、水を用いることを特徴とする請求項１５に記載の洗浄方法。
【請求項１７】
前記加工品の回収に際して、パイプ部内に所定量の処理液を循環させる前に、水および加工品の組合せを回収する工程を含むことを特徴とする請求項１６に記載の洗浄方法。
【請求項１８】
前記処理液が、水、酸溶液、苛性溶液、殺菌溶液、アルカリ溶液、緩衝液、有機溶媒を含む水溶液、酵素含有溶液および生物学的活性混合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの液体物を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１９】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値に加圧する際に、前記パイプ部に、加圧条件下にガスを注入して実施することを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項２０】
前記ガスが、空気、蒸気、窒素、および二酸化炭素からなる群から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項１９に記載の洗浄方法。
【請求項２１】
前記パイプ部に、蒸気を導入する工程と、
前記パイプ部内で、蒸気を循環させる工程と、をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２２】
前記パイプ部が所定の作動温度に至るまで、前記パイプ部を加熱するために、前記蒸気をパイプ部内で循環させることを特徴としている請求項２１に記載の洗浄方法。
【請求項２３】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を上昇させるに際して、当該パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、加圧した噴霧化処理液の流れを注入することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２４】
前記所定量の処理液をパイプ部に注入される前に、前記所定量の処理液が発泡化されていることを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２５】
前記パイプ部に、最初の量の処理液が注入される前に、当該パイプ部を除く循環系において、最初の量の当該処理液を循環させることにより、最初の量の処理液の特性を調節することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２６】
最初の量の処理液の特性を調節するに際して、ｐＨ、温度および溶質濃度からなる群から選ばれる少なくとも一つの特性を調節することを特徴とする請求項２５に記載の洗浄方法。
【請求項２７】
前記パイプ部を電気的に絶縁する工程と、
第１の所定電荷で、前記噴霧化処理液を帯電させる工程と、
第１の所定電荷の逆極性の第２の所定電荷で、当該噴霧化処理液を帯電させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項２８】
前記プロセス装置が、容器をさらに含むとともに、
前記洗浄方法が、
前記パイプ部を電気的に絶縁する工程と、
第１の所定電荷で、前記噴霧化処理液を帯電させる工程と、
第１の所定電荷の逆極性の第２の所定電荷で、当該噴霧化処理液を帯電させる工程と、
帯電した当該噴霧化処理液を、前記容器に注入する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項２９】
前記パイプ部の上流側および下流側において、当該処理液の流れをモニタリングすることを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３０】
前記パイプ部の上流側の流速と、当該パイプ部の下流側の流速との差異が、所定値に至った場合に、警告を発することを特徴とする請求項２９に記載の洗浄方法。
【請求項３１】
前記パイプ部に、所定量の処理液を注入する前に、当該パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで減圧することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３２】
前記パイプ部に、少なくとも一部の所定量の処理液を注入している間に、当該パイプ部の第２末端の実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで減圧することを特徴とする請求項３１に記載の洗浄方法。
【請求項３３】
前記パイプ部に、所定量の処理液を注入する前に限り、前記パイプ部の第２末端の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで減圧することを特徴とする請求項３１に記載の洗浄方法。
【請求項３４】
前記パイプ部に、少なくとも一部の所定量の処理液を注入する前に、前記パイプ部の第２末端の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで下げることを特徴とする請求項３１に記載の洗浄方法。
【請求項３５】
前記パイプ部内に、噴霧化した所定量の処理液を、少なくとも２回循環させることを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項３６】
噴霧化した所定量の処理液の特性をモニタリングすることを特徴とする請求項３５に記載の洗浄方法。
【請求項３７】
噴霧化した所定量の処理液の特性を、所定のモニタリングした特性値に、維持するために、噴霧化した所定量の処理液をさらに調整処理することを特徴とする請求項３６に記載の洗浄方法。
【請求項３８】
第１末端および第２末端により規定された第１パイプ部と、当該第１パイプ部と流体連結された容器と、当該容器に流体連結された第２パイプ部であって、第１末端および第２末端により規定された第２パイプ部と、を含むプロセス装置による洗浄方法であって、
前記第１パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液であって、前記第１パイプ部の容積よりも小さい量の処理液を注入する工程と、
初期内圧よりも実質的に低い値まで、第１パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧すると同時に、初期内圧よりも実質的に高い値まで、第１パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することにより、第１パイプ部の第１末端から第２パイプ部の第２末端へ、当該第１パイプ部を介して、所定量の当該処理液を循環させる工程と、
初期内圧よりも実質的に低い値まで、第２パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧すると同時に、初期内圧よりも実質的に高い値まで、第２パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することにより、第２パイプ部を介して、第２パイプ部の第１末端から第２パイプ部の第２末端へ、所定量の当該処理液を循環させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３９】
前記第２パイプ部を介して、所定量の前記処理液を循環させる前に、前記第１パイプ部を介して、所定量の当該処理液を循環させることに加えて、前記容器内に所定量の当該処理液を注入することを特徴とする請求項３５に記載の洗浄方法。
【請求項４０】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内の初期内圧と、加圧した内圧との差異を第１圧力差とし、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内の初期内圧と、減圧した内圧との差異を第２圧力差としたときに、
前記第２圧力差を、前記第１圧力差に対して、０．９倍〜１．１倍の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項４１】
前記第２圧力差と、第１圧力差とを、実質的に等しくすることを特徴とする請求項４０に記載の洗浄方法。
【請求項４２】
プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置において、当該プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により、所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を含む洗浄装置であって、
コントローラーと、
処理液供給源と、
当該処理液供給源およびパイプ部の第１末端にそれぞれ流体連結してあり、さらに、前記コントローラーと連結して、当該パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に注入させるための処理液供給部と、
前記パイプ部と連結し、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、初期内圧よりも実質的に低い値まで、当該パイプ部の内圧を減圧するための低圧発生部と、
前記パイプ部と連結し、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、初期内圧よりも実質的に高い値まで、当該パイプ部の内圧を加圧するための高圧発生部と、
を含み、かつ、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置における内圧の加圧と、前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧するのを同時に生じさせ、前記パイプ部に所定量の処理液が循環するように構成したことを特徴とする洗浄装置。
【請求項４３】
前記処理液供給源が、当該処理液供給源を収容するための処理液タンクを備えることを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項４４】
前記処理液供給部が、前記パイプ部に向かって、前記処理液を送出するためのポンプを備えることを特徴とする請求項４３に記載の洗浄装置。
【請求項４５】
前記処理液供給部が、前記処理液を噴霧化するためのノズルを有し、当該ノズルが、加圧した処理液供給部に連結されていることを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項４６】
前記高圧発生部は、高圧ガス供給源を有することを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項４７】
前記高圧発生部は、高圧蒸気供給源を有することを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項４８】
前記高圧発生部は、前記処理液を噴霧化し、噴霧状態の当該処理液を、圧力条件下で、注入するためのノズルを有することを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項４９】
所定量の前記処理液を、前記パイプ部に注入する前に、所定量の当該処理液の温度を制御するための熱交換器を含むとともに、当該熱交換器が、当該処理液部の下流側と、当該パイプ部の上流側とに備え付けられていることを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項５０】
前記洗浄装置が、所定量の前記処理液の温度を感知するための温度センサーを有し、前記熱交換器および温度センサーが、前記コントローラーに所定量の当該処理液の温度を制御できるようにするために、コントローラーが連結されていることを特徴とする請求項４９に記載の洗浄装置。
【請求項５１】
前記パイプ部を除く調整回路を有し、前記パイプ部に対して、所定量の前記処理液を注入する前に、当該調整回路により、所定量の前記処理液の特性を調節することを特徴とする請求項５０に記載の洗浄装置。
【請求項５２】
前記処理液の特性が、ｐＨ、温度および溶質濃度からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする請求項５１に記載の洗浄装置。
【請求項５３】
前記調整回路が、循環ループを含み、かつ、前記パイプ部内に所定量の処理液を注入する前に、当該循環ループにおいて、処理液の特性を調整するように、所定量の処理液を循環させることを特徴とする請求項５１に記載の洗浄装置。
【請求項５４】
前記パイプ部の下流側に、発泡化装置を含むとともに、当該発泡化装置が、前記処理液を発泡化するのに選択的に作動可能であることを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項５５】
前記処理液の流れ速度を測定するための流量計を含み、当該流量計が、前記コントローラーに連結してあることを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項５６】
第１の流速計が、前記第１パイプ部の上流側に備え付けられ、第２流速計が、当該第１パイプ部の下流側に備え付けられており、当該第１流速計および当該第２流速計が、当該パイプ部内で流体の流れをモニタリングすることを特徴とする請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項５７】
経路バルブを含み、当該経路バルブが、前記処理液部と、前記低圧発生部および前記高圧発生部とを流体連結し、さらに、当該経路バルブの組合せが、前記パイプ部の第１末端および第２末端に流体連結されており、当該経路バルブの組合せが、直接的構成および逆構成の間において、選択的に可変可能であって、
前記直接的構成においては、前記低圧発生部および高圧発生部が、実質的に内圧より低い値まで、当該パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧することと、実質的に内圧より高い値までに、当該パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することと、がそれぞれ選択的に作動可能であり、
前記逆構成において、当該低圧発生部および当該高圧発生部が、実質的に内圧より低い値までに、当該パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧することと、実質的に内圧より高い値までに、当該パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することと、がそれぞれ選択的に作動可能であることを特徴とした請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項５８】
さらに、前記処理液を回収するために、前記パイプ部の下流側に、ガスと液体との分離装置であるガス／液体セパレーターを含むことを特徴とした請求項５７に記載の洗浄装置。
【請求項５９】
前記ガス／液体セパレーターが、前記パイプ部内に前記処理液を再注入する前に、回収した処理液を保持するためのセパレータータンクを含むことを特徴とした請求項５８に記載の洗浄装置。
【請求項６０】
前記低圧発生部に、イジェクターを含むことを特徴とした請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項６１】
アスピレーターおよび／またはブロアーが、前記低圧発生部および前記高圧発生部に備え付けられていることを特徴とした請求項４２に記載の洗浄装置。
【請求項６２】
プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置において、当該プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により、所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を備えた洗浄装置であって、
少なくとも一部の洗浄装置を制御するコントロール部と、
処理液供給源と、
パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に注入させるための処理液供給部と、
実質的に初期内圧よりも低い値までに、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧する低圧発生部と、
実質的に初期内圧よりも高い値までに、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧する高圧発生部と、を含み、かつ、
パイプ部内に所定量の処理液を循環させるために、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することと、パイプ部の第２末端に近接した位置における内圧を減圧すること、を同時に実施することを特徴とした洗浄装置。
【請求項６３】
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に、前記処理液とは別の所定量の処理液を注入する工程と、
初期内圧よりも実質的に低い値まで、当該第１パイプ部の末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧するとともに、初期内圧よりも実質的に高い値まで、当該第２パイプ部の末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することを同時に生じさせ、当該パイプ部に所定量の当該処理液を循環させる工程と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄方法および洗浄システムの全般的な分野に関するものであり、特に、配管システム、およびその関連装置に使用するための洗浄方法および洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
配管システム、配管機器およびそれらの関連装置は、多くの産業上の用途において、幅広く使用されている。かかる産業上の用途としては、流体物やその他の固体物を、使用、生産または変換するといった用途が挙げられ、例えば、製薬工業、酪農を含む食品加工産業等の産業において使用されている。
一方、これらの産業においては、清潔さを保持することが最も重要であるため、厳格な衛生基準によって管理がなされている。
【０００３】
したがって、かかる衛生基準を満足するため、配管システム、配管機器およびそれらの関連装置は、定期的、あるいは毎日洗浄される必要がある。また、かかる配管システム、配管機器およびそれらの関連装置をメンテナンスするため、または、メンテナンス後における衛生保持のためにも、これらを洗浄する必要が生じる。
【０００４】
また、所定の製造サイクルにおいて使用された流体物を、配管システム、配管機器およびそれらの関連装置から除去する必要が生じる場合がある。
より具体的には、例えば、食品加工産業において、同一の水圧循環系を異なった種類の製品に対して用いる場合や、同じ種類の製品ではあるが、香味（フレーバー）の異なる製品に対して用いる場合のように、異なる製品や、異なる香味が混合してしまうことを防ぐ必要がある場合である。
【０００５】
そこで、ほとんどの加工設備は、最も効果的かつ経済的に衛生基準を満足し、また、製品や香味が混合することを防止するために、いわゆる「定置洗浄（ＣＩＰ）システム」を導入している。かかるＣＩＰシステムは、通常、常設された固定配管システムであって、迅速な操作ができるとともに、ホースやポンプ等の一時的な仮設物が少なくてすむといった利点がある。
【０００６】
また、典型的なＣＩＰシステムは、一般に、多くのタンク、サイロ、機器、関連ポンプ、バルブ、および相互接続配管を有している。そして、かかる典型的なＣＩＰシステムは、通常３つの部類に分けることができる。
まず、第１の部類は、化学洗浄剤を一度使用し、使用後に廃棄するいわゆるシングルユースの部類である。
次いで、第２の部類は、使用後の化学洗浄剤を貯留し、後に再使用するいわゆるマルチユースの部類である。
そして、第３の部類は、第１の部類と、第２の部類との組み合わせである。
【０００７】
しかしながら、酪農産業のような食品加工産業においては、上述したＣＩＰシステムが使用されているにも関わらず、所定の衛生基準を維持するためには、配管システム、サイロ、濾過装置、乾燥装置、混合装置、蒸発装置、殺菌装置、セパレーター、フィルター、ポンプ等の関連装置を、定期的に洗浄、すすぎ、および消毒、殺菌または滅菌する必要がある。
かかる洗浄操作として典型的に行われる方法は、清潔な水、または回収されたすすぎ水を用いる第一リンスサイクルと、洗剤液を使用する洗剤洗浄サイクルと、洗浄後のすすぎサイクルと、消毒液、無菌液、殺菌液または滅菌液を使用する殺菌工程と、を含んでいる。かかる溶液が、推奨使用濃度を是認する、「すすぎなし」が承認されている場合、さらなるすすぎの必要はない。また、このような承認がない場合は、最終的なすすぎを、滅菌水で行わなければならない。なお、乾燥、排水または消毒空気の送風を、最終的に実施する場合もある。
【０００８】
また、異なる製品や香味を扱うためであれ、洗浄目的のためであれ、装置内の空間を空けるべく、プロセス流体物を、循環系全体から洗い流す必要がある場合、一般的に５つの典型的な方法が使用される。かかる第１の方法は、まず、水を循環装置の上流側に注入し、次いで、加工に使用されるのと同一のポンプ装置を用いて、下流側の目的位置までプロセス流体物を押し流す方法である。
【０００９】
この場合、送出される水の体積量は、流量計により、または時間によって測定される。そして、測定された水の体積量は、循環系全体に送出された後、配水管に送出されるが、さらに使用するための回収タンクに送出される場合もある。なお、かかるすすぎは、循環系外に排出される水が清潔な水となるまで続けられる。
【００１０】
一方、製品加工の最終段階において、製品を回収する方法として、別の方法、すなわち第２の方法も知られている。例えば、流量計を使用するかわりに、導電率計、濁度計またはオプトメーターのいずれかを使用して、製品加工の最終段階において、製品を回収する方法が知られている。
すなわち、かかる装置は、通常、循環系の終端部に取り付けられる。そして、まず、循環系の初端部から水が送出され、次いで、分析器（導電率計、濁度計またはオプトメーター）によって、予め設定された設定点に基づいて、流体物の行く先（さらに加工工程に送出されたり、回収タンクまたは配水管に送出されたりする。）が制御される。
しかしながら、かかる方法を用いた場合であっても、上述した流量計を用いた場合であっても、非常に大量の水を必要とするという欠点が残る。
【００１１】
すなわち、大量の水は、循環系より洗い流される製品を送出するために使用されるのであるが、それは、循環系または配管システムの大きさが大きいほど、重大な希釈係数となり、その結果、より大量の水が要求されるためである。
【００１２】
また、２種類の製品を扱う場合、所定の製品を送出する場合においては、上述した手順とは逆の手順も実施される必要が生じる。
つまり、第２の製品は、水を下流に押し流すために使用されることとなる。すなわち、明確な相の変化またはその切れ目があるまでは、水が混入して送出されていることになるためである。
ところが、実際には、希釈係数の関係で、相の変化またはその切れ目は不明確であり、実質的に純粋な製品（顕著な希釈がない）が下流側に送出されるまで、製品と水の混合物を送出しきらなければならない。
【００１３】
また、循環系の洗浄を実施する際には、循環系に対して消毒液や洗浄液を注入するため、または、それらを循環系から洗い流すためにも、上述した内容と同一の方法を実施することが必要となる。
したがって、上述したそれぞれの態様において、食物製品や洗浄液等を洗い流すためには、水が必要であり、比較的大量の水が使用されることとなる。
さらには、回収した水および残渣を、廃棄前に処理する必要がある場合もあるため、結果として著しく高コストになってしまう。
【００１４】
また、循環系の外に流体物を送出するための３番目の方法は、圧搾空気を使用する方法である。すなわち、流体物を下流に送出するために、圧搾空気を循環系の上流側から注入する方法である。なお、かかる方法は、主に、水と製品とを混合させてはならない場合において使用される。
【００１５】
しかしながら、圧搾空気を使用した方法は、多くの問題の発生原因となる場合が見られる。例えば、製品中に空気が混入して、製品を酸化させてしまい、結果として、製品の風味や賞味期限を変化させてしまう場合がある。また、製品中に空気が混入することによって、気泡が発生し、プロセス処理を不正確にしてしまう場合もある。
【００１６】
さらに、下流側に製品を送出するために空気を使用した場合、配管システム中において、特定の選択的な経路が形成され、製品の一部だけが、循環系から押し出されてしまう場合がある。その結果、特に、配管の直径が変化している箇所や、鉛直方向の配管が存在する箇所においては、空気によって製品全てを送出することが困難となって、製品の損失となる場合が多い。
【００１７】
また、製品の回収に使用される４番目の方法は、いわゆる「ピグシステム（ｐｉｇ−ｓｙｓｔｅｍ）」を使用した方法である。かかる方法は、例えば、コルク、プラグまたはボール等といった配管にフィットし、挿入ポイントＡから送出ポイントＢに、配管内をスライドすることができる回収具を使用する方法である。
すなわち、製造プロセスの終了後、Ｙ型配管を介して、回収具が圧搾空気とともに、プロセス循環系の入口から挿入される。そして、圧搾空気によって、挿入ポイントＡからＹ型配管を有する送出ポイントＢまで、回収具が押されて、送出される。なお、かかるシステムは、押し出される製品が高粘性である用途において、主に使用される。
【００１８】
しかしながら、かかる洗浄方法は、以下の欠点ｉ〜ｉｖが見られるため、あまり使用されていない。
【００１９】
ｉ：配管内で回収具が詰ってしまうことがあり、時には、回収具の回収のために、配管を切断する場合さえある。
【００２０】
ｉｉ：かかる回収具が詰っている場所を特定するために、回収具は一般的に磁石を含み、かつ、配管外部に、磁気検出器を配管に沿って備え付けなければならず、そのため、結果として、相対的に費用が高い洗浄システムとなってしまう。
【００２１】
ｉｉｉ：かかる回収具は、突出したバルブがなく、実質的に直径が一定である配管においてのみに実用的可能なものである。
すなわち、バルブ、プレート、ポンプ、フィルターおよびその他のプロセス装置を備えた配管には、かかる方法は使用できない。
【００２２】
ｉｖ：曲形配管が、比較的大きい曲率半径を有する必要があり、そのため、費用が高くなり、工場内のスペースに問題を呈する可能性がある。
【００２３】
そして、配管洗浄に使用する５番目の洗浄方法は、流体物と混合した固形顆粒物を使用する方法である。
かかる洗浄方法は、流体物および固形顆粒物の混合物を、圧搾空気で送出するか、または、配管の部分的または全体的な真空によって吸引する洗浄方法である。
しかしながら、かかる５番目の洗浄方法を用いた場合、かかる固形顆粒物が、食品残渣の回収を困難にしてしまう場合がある。
さらには、かかる洗浄方法は、各種機器が、スプレー装置に備え付けられたプロセス装置においては、一般的に適用することができないという問題がある。というのも、かかる固形顆粒物が、スプレー装置を塞いだり、配管の底面に残留したりして、相対的に除去することが困難になる場合があるためである。
【００２４】
また、５番目の洗浄方法（洗浄システム）は、相対的に複雑化しやすく、それゆえに比較的費用が高くなってしまい、また、流体物のみを使用するシステムよりも機能不調になりやすいという問題がある。さらに、再使用をする場合には、その前に、顆粒を洗浄および消毒することが、一般的に必要となるという問題がある。
【００２５】
すなわち、上述した各洗浄方法における欠点を解決し、配管システム、配管機器およびその関連装置に対して使用可能な洗浄方法および洗浄装置が求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
そこで、本発明の目的は、従来の課題を解決すべく改善された洗浄方法および改善された洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
第１の実施態様は、処理液を用いて、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法において、当該プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄方法である。
したがって、かかる洗浄方法は、以下の工程を有している。
【００２８】
パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置（第１末端そのものの位置を含む。以下、同じである）において、所定量の処理液を注入する工程
【００２９】
パイプ部に、同時に、所定量の処理液を循環させる工程
【００３０】
パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置（第２末端そのものの位置を含む。以下、同じである）において、実質的に初期内圧よりも低い値まで、パイプ部内の内圧を減圧する工程
【００３１】
その減圧工程と同時に、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、実質的に初期内圧よりも高い値まで、パイプ部内の内圧を加圧する工程
【００３２】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、処理液を、パイプ部の第１末端あるいはその近接位置に対して、噴霧化して導入することが好ましい。
また、本発明の別の態様においては、処理液を、実質的に干渉発生する量として、パイプ部の第１末端あるいはその近接位置に注入することが好ましい。
なお、処理液を噴霧化することに限定はしないものの、処理液を噴霧化することによって、プロセス装置の内面の濡れ性を向上することと、洗浄すべきプロセス装置の内面に接触する時間を長くすることと、さらに、噴霧化清浄剤（atomized sanitizer）が酸成分を含む場合には、かかるプロセス装置内における滅菌空気を、さらに循環させることに役立つと言える。
【００３３】
また、処理液の種類は、限定されないが、水、酸溶液、苛性溶液、殺菌溶液、アルカリ溶液、緩衝液、有機溶媒を含む水溶液、酵素含有溶液および生物学的活性を有する混合物または、パイプ部やパイプ部と流体連結したプロセス装置、またはその両方を洗浄するのに使用できる液体を含めた、任意の適切な液体である。
また、生物学的活性のある混合物には、限定はしないが、特に、水、もしくはバクテリア、ファージ、ウイルスまたは酵母に適した溶液の混合物を含む。
【００３４】
また、本発明の利点は、製品または製品の香味の変換、プロセス装置の洗浄またはその他の処理等の種々の処理を実施できるように、配管システム全体の一部および／または関連機器および／または関連装置に満たされる必要がある。
【００３５】
また、処理液の必要量を、多くの洗浄方法により、減らすことでき、それゆえに、すすぎ用の水や、製品や、例えば、洗浄および／または製品や溶液等の無菌処理等の溶液の必要量をより小さくさせることができる。
減少した処理液の必要量によれば、例えば、種々の溶液の加熱等に必要なエネルギー量を減らすことができる。
【００３６】
さらに、所定の生産サイクルが終わったあとで、プロセス装置内に洗浄剤を注入する前において、循環系に残留する液体は、比較的少量の水で、下流側に送出してもよい。結果として、回収された液体は、あまり希釈されておらず、より容易に再濃縮でき、経済的に、再びプロセス装置に供することができる。
また、さらに、同様な回収工程を実施するのに必要な保持体積を減らせる。それゆえに、製品の損失を減らすことばかりではなく、使用した回収水は、より濃度が高い残渣を含み、かつ、より少ない量で生産することができる。
【００３７】
さらに、処理された液体と水との間や、処理液と水との間等の様々な相分離について、比較的、明確化することができる。結果として、様々な処理液の回収効率を向上させることができる。また、複数の処理液に対しても、回収効率を向上させることができるために、処理液の多くの再利用が可能となる。
【００３８】
すなわち、提案された洗浄方法および洗浄装置は、多くの先行技術の洗浄方法および洗浄装置よりも、環境に優しいばかりではなく、より経済的でもある。
【００３９】
さらに、提案された洗浄装置または洗浄システムは、経済的で実用性があり、耐久性および作動時に比較的問題発生が少ない改善されたシステムを提供できるように、一般的な循環系の部品を使用して製造できるものである。
【００４０】
さらに、本発明の一部の態様において、一般的に製造ラインに備え付けられている一部のプロセス装置を用いて、洗浄工程を実施することができる。
このことは、製造および維持に費用があまりかからない洗浄装置で実施することができるということである。
【００４１】
さらに、本発明は、パイプ以外の装置、例えば、タンクを含むサイロ（貯蔵庫）等の洗浄に使用でき、また、先行または帰還するパイプは、完全に流体で満たされる必要がないように、比較的小さな流体の量を使用できる。
【００４２】
さらに、処理液が洗浄すべきパイプ部を完全に満たされていないで使用することにより、多くの先行技術の装置よりも、比較的迅速に処理液を循環させることができ、また、本発明の一部の態様においては、不均一の直径を有するパイプ内に処理液を循環させることもできる。
【００４３】
また、別の実施態様においては、本発明は、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置において、かかるプロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄装置である。したがって、かかる洗浄装置は、少なくとも以下の構成（１）〜（５）を含んでいる。
【００４４】
（１）コントローラー
【００４５】
（２）処理液供給源
【００４６】
（３）処理液供給源およびパイプ部の第１末端にそれぞれ流体連結してあり、かつ、コントローラーと連結して、パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、パイプ部内に注入させるための処理液供給部
【００４７】
（４）パイプ部と流体連結した低圧発生部であり、初期内圧よりも実質的に低い値までに、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧の減圧を選択的に実施することができる低圧発生部
【００４８】
（５）パイプ部と流体連結した高圧発生部であり、初期内圧よりも実質的に高い値までに、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧の加圧を選択的に実施することができる高圧発生部
【００４９】
そして、パイプ部内に所定量の処理液を循環させるために、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を加圧することと、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を減圧すること、を同時に実施する構成である。
【００５０】
さらに、また別の態様は、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置であって、プロセス装置が、パイプ部に第１末端および第２末端が規定されたパイプ部を有し、パイプ部の第１末端および第２末端により、所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄装置である。したがって、かかる洗浄装置は、少なくとも以下の構成（１´）〜（５´）を含むものである。
【００５１】
（１´）装置の少なくとも一部を制御するコントロール部
【００５２】
（２´）処理液供給源
【００５３】
（３´）パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の当該処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に注入させるための処理液供給部
【００５４】
（４´）初期内圧よりも実質的に低い値まで、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、パイプ部内の内圧を減圧する低圧発生部
【００５５】
（５´）初期内圧よりも実質的に高い値まで、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、パイプ部内の内圧を加圧する高圧発生部
【００５６】
そして、パイプ部内に所定量の処理液を循環させるために、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を加圧することと、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を減圧することを同時に実施する構成である。
【００５７】
なお、本発明のその他の目的、利点および特徴等については、添付の図面に例として与えられているように、非限定的ではあるが、以下の本発明の好ましい態様についての説明や記載から、さらに明確になるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】
以下の説明では、特に、リザーバー、タンク、サイロ等の機器の具体的な種類について言及する。また、図示を目的として、具体的な種類の機器が、使用されていることと、さらに、具体的な種類の機器が言及されている場合において、他の適当な種類の機器を使用することも、本発明の範囲内の態様であることも、当業者は容易に理解できるものである。
【００５９】
図１は、概略図であって、引用数字３０２で示すように、プロセス装置の内面を洗浄するための洗浄装置３００を図示している。また、洗浄装置３００は、プロセス装置３０２に永続的または半永続的に連結された、いわゆる、定置洗浄装置である。なお、特許請求の範囲に記載された発明に関して、洗浄すべきプロセス装置に半永続的に連結した洗浄装置としても、応用可能であることについて、当業者は、容易に理解できる。
【００６０】
まず、プロセス装置３０２は、第１パイプ部の第１末端３０６および第１パイプ部の第２末端３０７により規定される第１パイプ部３０５を有する。また、第１パイプ部の第１末端３０６と、第２末端３０７との間に延設された第１パイプ部３０５は、所定体積を有している。
【００６１】
また、プロセス装置３０２は、例えば、サイロ、その他のパイプ部または当技術分野で知られている適切な種類の機器を含むプロセス装置についても包含している。また、その他のプロセス装置部品は、引用数字３０８によって示している。そして、第１パイプ部３０５は、プロセス装置部品３０８に対して、流体循環が可能なように、流体連結（fluid communication）されている。
【００６２】
また、図１は、概略的であるものの、第１パイプ部３０５は、一般的に、かつ相対的に長いということを、しかし必ずしもそのように制限されるもので無いことも含めて、当業者ならば、容易に理解できる。
また、図１において、具体的に図示していないものの、第１パイプ部３０５は、一般的に、物質加工用の処理ラインの一部である。そして、限定するものではないが、このような物質加工例としては、人間が消費するための液状物の加工等がある。
【００６３】
また、本発明の全態様において、必ずしも備えている必要はないが、プロセス装置３０２は、プロセス装置部品３０８と流体連結された第２パイプ部３０９をも備えている。
【００６４】
一般的に、洗浄装置３００は、処理液を用いてプロセス装置３０２の内面を洗浄する方法を実施するためのものである。したがって、限定するものではないが、例えば、かかる洗浄装置３００は、第１パイプ部３０５の内面を洗浄するための設備を備えている。
【００６５】
また、処理液は、任意かつ適当な液体である。例えば、かかる処理液としては、水、処理溶液（洗浄剤）、またはその他の処理溶液を含有していることが好ましい。また、本発明のいくつかの実施態様において、１種類単独の処理液が使用されている。さらに、本発明の別の態様においては、複数の種類の処理液が使用されている。
【００６６】
また、本発明の洗浄方法は、所定量の処理液を、第１末端３０６に近接した位置にある第１パイプ部３０５中に導入する工程を有している。かかる所定量の処理液は、実質的に第１パイプ部３０５の体積よりも小さなものである。
次いで、所定量の処理液は、第１末端３０６から、第２末端３０７へ、第１パイプ部３０５を通じて循環される。
そして、第２末端３０７に近接する位置にある第１パイプ部３０５の内圧を、初期内圧以下に実質的に減圧して低い値とするのと同時に、第２末端３０６に近接する位置にある第１パイプ部３０５の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値に加圧することによって、かかる処理液の循環を実施可能とする。
【００６７】
言い換えると、この例においては、プロセス装置３０２内に導入される所定量の処理液は、洗浄するパイプ部の体積よりも、実質的に小さいものである。
そして、この所定量の処理液は、比較的高圧による押出作用（pushing action）と、比較的低圧による吸引作用(sucking action)の両方により、洗浄すべきパイプ部の内部を循環的に移動することになる。
【００６８】
また、コントローラー３１０は、少なくとも洗浄装置３００の一部であって、制御装置である。言い換えれば、少なくとも、プロセス装置３０２の構成の一部として、コントローラー３１０が連結されている。
また、これらの構成は、洗浄装置３００およびプロセス装置３０２内を循環する流体に作用するアクチュエーターを備えている。さらに、これらの構成において、プロセス装置３０２および洗浄装置３００の様々な部分に、洗浄装置３００およびプロセス装置３０２内で、循環している流体の流れ方向、すなわち、流れ方向を変化させるためのバルブを備えている。
そして、これらの構成の一部として、コントローラー３１０に、洗浄装置３００の作動を監視（モニタリング）するためのセンサーが設けてあって、本発明のいくつかの実施態様においては、かかるセンサーによって、プロセス装置３０２の状態を監視している。
【００６９】
また、本発明の具体的な態様において、洗浄装置３００の構成の大部分は、コントローラー３００に連結されているが、本発明の別の態様においては、洗浄装置３００の構成の一部分のみが、コントローラー３１０に連結されている。
また、本発明のさらに別の態様においては、コントローラー３１０が装備されておらず、使用者が手入力で実施することを意図しており、特許請求の範囲に記載した洗浄方法である。
【００７０】
なお、コントローラー３１０に連結された様々な構成と、コントローラー３１０との間において、連結自体が明確に示されていないものの、かかる連結は、構成を概略的に明確にするためのものであり、かかる図にいて、部分的省略がなされたものであるということを、当業者は容易に理解できる。
【００７１】
また、洗浄装置３００は、タンク１の形態で処理液の供給部を備えている。また、洗浄装置３００は、１つのタンク、つまりタンク１のみを有している。この場合、タンク１は、水を、洗浄すべきプロセス装置３０２内に導入できるように、供給ポンプに対して水（新鮮水）を供給するために使用することができる。また、タンク１は、プロセス装置３０２に導入する処理液を留置することもできる。さらに、タンク１は、プロセス装置３０２に再注入する所定量の処理液の回収にも使用可能である。
【００７２】
また、本発明のいくつかの実施態様において、タンクが処理液で満たされている場合、タンク１は、以下さらに詳細に説明するように、たとえ、タンクの小さな部分であっても、供給ポンプ６に処理液を供給できるように構成されている。
【００７３】
すなわち、タンク１によれば、さらに詳細に説明するように、プロセス装置３０２内への処理液の注入に先立って、処理液の特性を調節することができる。しかしながら、本発明の別の態様においては、プロセス装置３０２内への処理液の注入に先立って、処理液の特性を調整する必要がないものもある。
【００７４】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、タンク１における排出作用は、タンク出口バルブ２を通じて制御可能である。タンクの出口バルブ２が、開栓されている場合には、処理液をタンク１から排出することを可能にし、閉栓されている場合は、処理液の排出を防ぐことが可能である。
【００７５】
また、水（新鮮水）の供給バルブ３は、導管との適切な連結により（図示せず。）、タンク１の所定導管に対して、選択的に、導管水（aqueduct water）の注入を可能にする。しかしながら、本発明の別の態様では、導管との連結がなく、すなわち、これらの態様においては、水の供給バルブ３は必要でない。
【００７６】
また、本発明のいくつかの実施態様においても、タンク水位センサー４が、タンク１中の処理液の水位を測定するために、備え付けられている。かかるタンク水位センサー４によれば、タンク１内に残存している液量を制御することや、上記の方法のいずれかの工程が、タンク１を空にする必要がある場合に、タンク１が空であることを確認すること、または、好ましい本発明の態様において、最初の処理液の初期量がタンク１内に、適切に回収されていることを確認することを可能にする。
【００７７】
また、タンク水位センサー４は、タンク１に処理液が不十分な量しか貯蔵されていないような条件下においては、供給ポンプ６の作動を防ぐことを可能にする。また、本発明のいくつかの実施態様において、タンク１内における処理液の水位が、例えば、タンク１の作動することが危険または適切でない状態や、特にタンク１が作動すべきでない状態の所定の水位を超えた場合、オーバーフローパイプ５から処理液が流出するように、かかるオーバーフローパイプ５が備え付けられている。
【００７８】
また、供給ポンプ６は、タンク１に対して、流体連結しており、流体移動が可能に構成してある。そして、この供給ポンプ６は、第１パイプ部３０５に向かって、強制的に処理液を送出することができるように構成されている。また、本発明のいくつかの実施態様においては、供給ポンプ６を用いて、以下さらに詳細に説明する目的のために、プロセス装置３０２の外側に設けた閉鎖循環回路において、処理液を循環させるができる。
すなわち、供給ポンプ６は、バイパスポンプ５０を通じて供給された処理液を押し出すことを可能にするために、バイパスパイプ５０と流体連結していることが好ましい。
なお、本発明のいくつかの実施態様においては、チェックバルブ７が、供給ポンプ６の下流側に備え付けられており、タンク１に向かって処理液が流れることを防ぐように構成されている。
【００７９】
また、本発明のいくつかの実施態様において、１つまたはそれ以上の飲料可能な導管水の供給部が、プロセス装置３０２と流体連結して、備え付けられている。例えば、図１で示すように、これらの供給部の一つが、三方弁８、および締切り・抽気弁９を備えている。抽気弁９は、導管供給パイプ１０に連結されており、三方弁８に向かって、水等の液体流入を制御することができる。かかる三方弁８によれば、選択的に、洗浄装置３００内における導管水の流入を可能にする。
【００８０】
また、洗浄装置３００において、三方弁８は、しばしば供給ポンプ６から下流側に備え付けられている。しかしながら、同様の装置内で、飲料可能な導管水の供給部の位置は、その他の適当な位置であっても良い。また、本発明のほかの態様においては、１以上の導管水の供給部が備え付けられていても良い。
【００８１】
本発明のいくつかの実施態様において、残渣物が、プロセス装置３０２に向かって押し出されるのを防ぐために、濾過器１１が備え付けられている。限定はしないが、例えば、濾過器１１は、ポンプ６の下流側に備え付けられている。しかしながら、本発明の別の態様では、このような濾過器１１が備え付けられていない場合もある。
【００８２】
また、本発明のいくつかの実施態様において、供給流量計１２は、プロセス装置３０２に向かって供給ポンプ６により送出される処理液の流量を測定するために、備え付けられている。しかしながら、本発明の別の態様においては、供給流量計１２は、備え付けられておらず、プロセス装置３０２に供される処理液の定量は、ポンプ６が作動している間の時間間隔を測定することによって行われる。また、本発明のさらに別の態様において、所定量の処理液が送出された場合に、処理液が押し出されるタンク１内の水位センサーが、かかる定量に使用されている。
【００８３】
また、初期の処理液の温度を所望状態に制御する場合、処理液の温度が安定的に調節可能になるように、熱交換器１３が、ポンプ６の下流側に取り付けられている。また、かかる熱交換器１３に、コントローラー３１０に連結している蒸気遮断バルブ１４および蒸気制御バルブ１５を介して、蒸気を流入させているが、かかる蒸気遮断バルブ１４および蒸気制御バルブ１５は、必ずしもコントローラー３１０に連結している必要がないものである。さらに、温度センサー１６が、熱交換器１３の下流側に取り付けられており、これにより、処理液の温度を安定的に調節して、蒸気弁１５を安定的に調節することが可能になる。
【００８４】
また、本発明のいくつかの実施態様において、水および溶質（洗浄物質）は別々に供給され、その後、例として洗剤含有液、酸性溶液、苛性溶液、緩衝液、中性液、酵素含有液、またはプロセス装置３０２を洗浄するのに使用可能なその他の適切な処理液といった処理液を調製するために混合される。また、本発明のいくつかの実施態様においては、生物学的活性を有する混合物を形成するために、水または適切な溶液を、生物学的活性を有する成分と混合することも可能である。
【００８５】
また、これらの態様において、処理液の濃度が検出できるように、処理液濃度の調節が必要とされる。例えば、導電性センサー１７は、溶液中の溶質の導電性に依存している処理液の導電性を検出するために、備え付けられている。そして、かかる溶質の濃度が所定レベルまでに達するように、処理液に水または溶質を添加する。なお、濃度の調節について、以下詳細に説明する。
【００８６】
すなわち、熱交換器１３の下流側において、循環供給バルブ１８は、処理液をプロセス装置３０２に送出を選択的に可能にするため、またはこの送出を防止するために、備え付けられている。そして、処理液の送出が停止されている場合、本発明におけるいくつかの実施態様においては、閉鎖系の循環に、かかる処理液を循環させることができ、さらに、処理液の温度または処理液中の溶質濃度等の処理液の特性を調節することができる。
【００８７】
したがって、循環供給バルブ１８が閉鎖されている場合、処理液は、循環バルブ２０に向かって供給される。一方、循環バルブ部２０が、開放されている場合、処理液は、供給ポンプ６により、閉鎖系のループ（調整回路、循環回路）に供され、そして、タンク１に連結した回収パイプ２１に向かって循環する。この場合、処理液がタンク１に再び循環しており、そしてこの場合、特に温度、処理液中の溶質濃度等の処理液の特性を調節することが可能になる。
【００８８】
実際、温度センサー１６により提供された情報を用いることにより、処理液の温度が所定温度に達するまで、タンク１および熱交換器１３中を、処理液は循環されることになる。また、導電センサー１７によって提供されたデータ情報を用いることにより、処理液は、タンク１に再び循環され、溶質および水の供給部を通過し、そして、ここでは、処理液中の溶質濃度量を示す導電性が、所定値に達するまで、水または溶質が適切に添加するように作動する。また、かかる溶質供給部の例として、タンク１とポンプ６との間に備え付けられた注入口５９がある。かかる注入口５９によれば、上記のように、処理液を作るための適当な物質を注入することを可能にする。
【００８９】
また、循環バルブ２０が閉栓している場合、処理液がプロセス装置３０２内で循環する前に、処理液の向かう先は、回収経路に変更される。ただし、洗浄装置３００中にバルブ２２があることは、全ての本発明の態様において必要とされない。しかしながら、かかるバルブがあることで、洗浄装置３００内の液体の流れがより制御しやすくなり、特に使用時に、タンク１を完全に空にすることと、回収経路を加熱することが、便利になる。
【００９０】
また、プロセス装置３０２中において、加圧は、部分的に、処理液の循環に寄与するものであり、適切な加圧方法により与えられる。例えば、かかる加圧は、プロセス装置３０２中に、特に、噴霧化溶液、圧縮または加圧ガス、もしくは水蒸気の注入することで得られる。さらに、タンク１と、プロセス装置との間に備え付けられた加圧バルブ２３によって、バルブ２４，２６および２７はそれぞれ、噴霧化処理液、圧縮または加圧されたガスまたは蒸気の流れを制御しており、個々に制御されたこれらのバルブの使用により、加圧された流体の注入を実施できる。
【００９１】
また、加圧が、噴霧化溶液の注入により生じる場合において、ノズル２５は、溶液を噴霧化するために備え付けられている。例えば、噴霧化溶液は、プロセス装置３０２に供される処理液の構成と、実質的に類似した構成の化学品溶液（薬品溶液）である。なお、当業者は、ノズル２５が、特に、微細な、またはミスト状の噴流、気化した噴流、霧状の噴流、燻蒸状の噴流、微粉状の吹きつけが調整できる適切なノズルであることは、容易に理解できるものである。また、本発明の別の態様においては、多数の噴霧化溶液の供給部があるものも、全く噴霧化溶液の供給部がないものもある。
【００９２】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、噴霧化溶液は、処理液の構成と実質的に類似している構成であるが、本発明のその他の実施態様においては、噴霧化溶液は、洗浄液の構成を実質的に異なる構成のものである。
【００９３】
さらに、本発明の別の態様において、洗浄すべきプロセス装置３０２の一部分、例えば、第１パイプ部３０５は、電気的に絶縁されており、さらに第１番目のタイプの電荷で帯電されている。そして、噴霧化溶液は、かかる部分に洗浄するのに注入される前に、逆極性の電荷で帯電させることにより、かかる噴霧空気は、帯電したプロセス装置の内面に対して付着しやすくなる。
【００９４】
また、加圧すべく圧縮または加圧ガスを導入する場合において、例えば、空気、窒素、二酸化炭素等の適切なガスが使用される。具体的な例としては、ガスが蒸気である場合が挙げられる。他の例としては、専用の蒸気供給部が備え付けられている。
【００９５】
また、加圧している一方で、蒸気は、洗浄装置３００およびプロセス装置３０２の温度を、調節することができる。また、かかる温度が周囲の温度よりも高い時、洗浄が効果的である場合があるので、このような温度制御は、多くの洗浄工程において好ましいものである。
【００９６】
また、本発明のいくつかの実施態様として、プロセス装置３０２に導入される処理液が発泡されていることが好ましい。かかる場合において、混合チャンバー２８および制限バルブ３１が、発泡化処理液を作成するために、バルブ２３の下流側に備え付けられている。
【００９７】
また、バルブ２３と、プロセス装置３０２との間に、圧力センサー２９および流速計３０等が備え付けられている。これらのセンサー２９、３０は、洗浄工程の状態をモニタリングし、洗浄装置３００の適切な作動を確保するのに役立っている。しかしながら、本発明の別の態様においては、かかる圧力センサー２９や流速計３０は、取り付けられておらず、状態のモニタリングも実施されていない場合もある。
【００９８】
例えば、流速計３０は、プロセス装置３０２中に導入されるガスや噴霧化空気の量を測定するのに使用することができる。かかる場合、加工装置３０２の出口で回収されるガスや噴霧化空気の量のモニタリングは、洗浄工程中のプロセス装置３０２内のリークの最小化を確保するのに役立つ。
【００９９】
また、圧力センサー２９は、設備の故障や機能不全に示される圧力の降下を検知するのに使用できる。さらに、圧力センサー２９は、以下に説明するような、加圧または減圧が実施された場合において、フィードバックをすることにも使用できる。
【０１００】
すなわち、洗浄装置３００において、処理液は、２つの異なる方向で、プロセス装置３０２中を循環している。また、かかる効果のために、２つの三方向バルブ３２および３５が、バルブ２３と流体連結するように、これらのバルブが備え付けられている。なお、三方向バルブ３２および３５は、処理液を、第１パイプ部または第２パイプ部を介してプロセス装置３０２中に導入できるように構成されている。
【０１０１】
したがって、処理液が、選択的に第１パイプ部３０５に注入されて、第２パイプ部を介しての回、または、第２パイプ部３０９に注入されて、第１パイプ部３０５を介しての回収を選択できるように、第１経路バルブ３５および第２経路バルブ３２を選択する。また、プロセス装置３０２内における処理液を、確実に２方向で流入させるために、経路パイプ３７は、第１経路バルブ３５および第２経路バルブ３２に、相互連結されている。
【０１０２】
また、当業者は、本発明の別の態様において、経路バルブ３２および３５が備わっていない場合であっても良いことを容易に理解できる。また、その他の実施例において、処理液は、その他の適切な方法によって、プロセス装置３０２に送られる。
【０１０３】
また、プロセス装置３０２内の２つの異なる部分に、処理液を注入することにより、処理液が比較的到達しにくかったプロセス装置内の部分に、処理液が到達することができるように、洗浄装置３００の性能を向上させるものである。また、望まれる場合において、かかる性能は、蒸気によりプロセス装置３０２をより均一に加熱することにも役立つ。
【０１０４】
また、逆方向の処理液の循環は、真っ直ぐな方向に循環させて、最終的には回収されたり、類似または異なる処理液の他のバッチを用いたりして実施することが好ましい。
【０１０５】
また、吸引ポンプ３８は、プロセス装置３０２中の循環全体中における流体を吸引する減圧部を供するために、プロセス装置３０２の下流側に備え付けられている。但し、本願発明のいくつかの実施態様においては、吸引ポンプ３８は備え付けられておらず、代わりに、下記詳細に説明するように、別の真空部が備え付けられている。
【０１０６】
また、本発明のいくつかの実施態様において、洗浄すべきパイプ部の初期内圧と、パイプ部の第２末端との間に生じた圧力との差と、洗浄すべきパイプ部内の初期の圧力と、高圧発生部により供された圧力との差が、実質的に等しいことが好ましい。また、本発明の他の態様としては、これらの２つの圧力の差は、約１０％以下である。さらに、本発明のさらに別の態様としては、これらの２種類の圧力の差が、適切な値として約１０％である。なお、初期内圧に対して、比較的同じような圧力の加減をする利点としては、プロセス装置３０２内における、液体および気体の拡散に起因する流体的な衝撃を減少させることがある。
【０１０７】
また、本発明のいくつかの実施態様として、その他のチェックバルブ３９が、洗浄装置３００による液の逆流を防止するために、ポンプ３８の下流側に備え付けられている。しかしながら、かかるチェックバルブ３９は、本発明のほかの態様においては、備え付けられていない場合もある。
【０１０８】
また、本発明のいくつかの実施態様において、センサーが、プロセス装置３０２の下流側に、さらに備え付けられている。このようなセンサーの例としては、特に、温度センサー４０、導電センサー４１、真空または圧力センサー４２、流速計４３および流量計４４が含まれる。しかしながら、本発明の別の態様として、上記のセンサーの一部のみを備えているものもある。また、本発明のさらに別の態様として、センサーが全く備わっていないものもある。なお、本発明のいくつかの実施態様として、温度センサー４０、導電センサー４１、真空または圧力センサー４２、流速計４３、および流量計４４の出力を、時間の関数として、洗浄装置３００の過去のデータを供給できるように、記録することが好ましい。
【０１０９】
また、温度センサー４０により、プロセス装置３０２から回収した液体、ガス、またはガスと噴霧化溶液の温度を測定することが好ましい。かかる測定は、溶液またはガスが、所定の回収温度に戻っていることを確認するのに使用することができる。また、温度センサー４０は、洗浄工程が適切な温度で実施されていたことの確認にも使用できる。
【０１１０】
また、導電センサー４１とは、回収した処理液の導電性を測定するものである。このように、プロセス装置３０２から回収した処理液が、洗浄工程に適切に作用することを示す所定量の範囲内にある導電性において、導電性を有することを確認する場合に有効である。また、いくつかの化学品処理（薬品処理）を実施した後のすすぎ段階において、水が使用されており、さらに、所定のすすぎが完了した場合において、回収したすすぎ水の導電性が、ある導電性レベル以下にある場合、すすぎ段階が完了したことを確認できる。
【０１１１】
また、真空または圧力センサー４２とは、回収した液体またはガスの圧力（正圧または負圧）を測定するものである。かかる圧力測定は、洗浄装置３００の様々な部分に高い圧力または低い圧力の適用や、削除するべき場合を決定するのに有用である。
【０１１２】
また、プロセス装置３０２の通過の際に、流速計４３は、導入したガスの変位を測定したり、本発明のいくつかの実施態様では、導入した噴霧化した処理液の変位を測定したりするものである。かかる流速計の測定によれば、プロセス装置３０２全体中において、適切な流速を得ることができる。
【０１１３】
また、流量計４４とは、プロセス装置３０２の内部を通過する際の流体の流量を測定するものである。また、プロセス装置３０２に導入させる流体の実質的に完全な回収を確認することができ、そして、同様に、例えばすすぎ段階等の、所定の操作が実施できることを確認できる。さらに、流量計４４のデータ変換器であれば、プロセス装置３０２内のロスを認識することもできる。
【０１１４】
また、本発明のいくつかの実施態様において、アスピレーターおよび／またはアスピレーター（アスピレーター／ブロワーと表記する場合がある。）４５が、プロセス装置３０２の下流側に備え付けられている。かかるアスピレーター／ブロワー４５は、プロセス装置３０２において、処理液を循環させるのに使用されるものであり、プロセス装置内に、低圧を作り出すのに有用である。また、アスピレーター／ブロワー４５は、高圧条件を作り出すのに使用され、プロセス装置３０２に処理液を送出できるようにする。
【０１１５】
また、本発明のいくつかの実施態様において、噴霧化処理流体は、洗浄装置３００に導入され、その後プロセス装置３０２と、洗浄装置３００との間を循環させることが好ましい。また、これらの態様において、アスピレーター／ブロアー４５は、噴霧化した処理流体を継続的に循環させるための高圧供給源（高圧発生部）に、低圧供給源（低圧発生部）を同時に与えるものである。なお、本発明のほかの実施態様としては、アスピレーター／ブロアー４５が備え付けられていない場合もある。
【０１１６】
また、図１にアスピレーター／ブロアー４５の具体的な位置が図示されているが、当業者ならば、本発明の別の態様においては、アスピレーター／ブロアー４５が、他の適切な位置で取り付けられる場合があることが容易に理解できる。また、本発明のいくつかの実施態様として、吸引ポンプは、ガス、ガス及び噴霧化した薬物液の混合物を、吸引および送出する同一の機能を有しており、アスピレーター／ブロアー４５は必ずしも必要ない。さらに、処理液が循環する経路の長さや大きさに応じて、アスピレーター／ブロアーの組合せが、備え付けられてもよい。また、かかる装置が、本発明の範囲内の態様であれば、かかる装置が洗浄装置３００の一部としてもよい。
【０１１７】
また、回収ブロックバルブ４６および回路ループバルブ４８は、バルブ２２を通過する流体を液体／ガスセパレーター５１または直接タンク１に、再輸送するために備え付けられている。特に、回収ブロックバルブ４６が開放されていて、バルブ４７が閉鎖されている場合には、かかる流体は、プロセス装置３０２に循環する前に、ガスおよび液体を分離する液体／ガスセパレーター５１に向わせている。そして、かかる液体は、例えば、アスピレーター５１と、タンク１との間に備え付けられているバルブ５６を開放することにより、タンク１に、回収、または、他の経路を通じて廃棄される。本発明のいくつかの実施態様において、水位センサーも、セパレーター５１中に含まれる液量を測定するために、セパレーター５１に備え付けられている。
【０１１８】
また、セパレーター５１により生成されるガスに関して、かかるガスは送出されたり、真空ポンプ５４により吸引されてもよい。後者の場合、ガス排気パイプ５２は、脱気バルブ３２２または真空ポンプ５４に、かかるガスを方向付ける三叉バルブ５３に連結されている。本発明のほかの態様においては、真空ポンプ５４が省略されている。
【０１１９】
また、本発明の他の実施態様において、ポンプ５４は、吸引ポンプ３８およびアスピレーター／ブロアー４５のいずれか一つ、または両方を置換することは、上述したように洗浄装置３００に含まれる。さらに、ポンプ３８またはアスピレーター／ブロアー４５を有する本発明の態様においては、真空ポンプ５４は、プロセス装置３０２内に生じる負圧を増加させるのに使用できる。
【０１２０】
また、本発明の他の実施態様において、第１のパイプ部３０５内に生じる負圧（初期圧力に対してマイナス圧）を発生させるのに使用することができる。したがって、負圧の開放につながるように、液体や加圧された気体が第１のパイプ部３０５内に導入される。すなわち、処理液に相対的に迅速に力を付与して、第１のパイプ部３０５の相対的に迅速な洗浄を可能にすることができる。
【０１２１】
また、経路循環パイプ４９は、循環バルブ５６に連結されており、別の循環バルブ４８によって流れ方向を変えることが好ましい。別の循環バルブ４８は、流体連結しているタンク１またはタンク１にバイパスに連結しつつ、洗浄装置３００内に流体を循環させることができるバイパスパイプ５０に対して、流体の流れ方向を変換することが可能である。また、タンク１に迂回させることで、特に、洗浄装置３００の排水を可能にする排水バルブ５８に、別の循環バルブ４８を介して、流体の方向を再び変換することが可能になる。
【０１２２】
また、使用時において、プロセス装置３０２は、初め、処理液が空にされている。なお、プロセス装置が、適当な公知な方法で、空にされればよく、プロセス装置３０２の上流側の圧力を増加させることと、プロセス装置３０２の下流側の圧力を減少させることを、同時にまたは択一的に実施することで、プロセス装置内を空にすることもまた、本発明の範囲内の態様である。
【０１２３】
そして、上述したように、処理液は、プロセス装置３０２内に注入されて、循環する。なお、噴霧化処理液または単に処理液が実質的に干渉発生する量（coherent volume）の導入について、上述されているが、かかる処理液が実質的に干渉発生する量を連続的に注入することも、当業者ならば本発明の範囲内の態様であると、容易に理解できる。
また、上記に見られる記載は、いわゆる洗浄段階における処理液を注入する一つの実施形態であるが、同種または異なる種類の処理液を使用して、連続的に複数の洗浄段階を実施することも、本発明の範囲内の態様である。さらに、実質的に干渉発生する量の処理液および噴霧化処理液を使用する洗浄段階を組み合わせつつ、プロセス装置３０２を洗浄することもまた、本発明の範囲内の態様である。
【０１２４】
また、図２は、洗浄装置３００に類似した別の洗浄装置３００ａを図示している。かかる洗浄装置３００ａと、上述した洗浄装置３００との差異は、バルブ２および３、水位センサー５１、オーバーフローパイプ５およびバルブ４とともに、タンク１が、備え付けられていない点にある。
その代わりに、タンク１が洗浄装置３００で機能するように、センサー５１が、処理液の貯蔵と、洗浄装置３００に関して記載したように、ガスから液体を分離するのに、使用される。かかる使用により得られる効果のために、バルブ８および９は、導管水の導入が、経路循環パイプ４９において直接的に可能になるように、再配置される。
【０１２５】
また、洗浄装置３００ａの利点として、本発明のいくつかの実施態様においては、洗浄装置３００に必要な部材点数の多くを減らすので、かかる実施態様は、より費用効率がよいものである。
【０１２６】
また、図３は、洗浄装置３００ｂにおいて、真空ポンプ５４および関連バルブが含まれていない本発明の別の態様を図示している。代わりとして、イジェクター４０１が、真空部として備え付けられている。
かかるイジェクターによる効果を発揮するために、遠心ポンプ４０２、またはその他の適当なポンプがセパレーター５０１の出口に連結されており、かかるポンプ４０２は、セパレーター５１から出てきた流体の流れ方向を、プロセス装置３０２と流体連結しているイジェクター４０１に変換する。
【０１２７】
そして、イジェクター４０１に回収された流体の流れ方向は、バルブ４０８に向かって変えられて、かかるバルブ４０８は、バルブ４１３および５６を介して、セパレーター５１またはタンク１に、流体の流れ方向を変換するものである。そして、かかるバルブ４１３によれば、洗浄装置３００ｃから流体を除くことを可能にする。
【０１２８】
また、流体の２つの供給部は、イジェクター４０１に到達する。初めに、セパレーター５１により供された流体が、ポンプ４０２により、イジェクター４０１に送出され、それにより吸引力が発生する。二番目として、プロセス装置を通じて、送出および吸引された液体およびガスは、イジェクター４０１に到達し、ポンプ４０２により送出された液体により生じた吸引力によって、吸引される。
【０１２９】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、オーバーフローバルブも、セパレーター５１と連結しており、セパレーター５１からバルブ４１３へ、流体の流れ方向を変換する。
【０１３０】
必要ならば、セパレーター５１を、段階ごとに空にする。かかる場合、セパレーター５１が、実質的に空であることを確認するために、水位センサー４０２が、セパレーター５１の下に取り付けられている。なお、当業者であるならば、セパレーター５１を空にするための洗浄装置３００ｂの様々な構成の作動方法を容易に理解できる。
【０１３１】
また、図４に、洗浄装置３００に類似した別の洗浄装置３００ｃが図示されている。かかる洗浄装置４００ｃにおいて、真空部５４および関連バルブは備え付けられていない。また、真空ポンプ５４も、洗浄装置３００ｃにはないものである。さらに、洗浄装置３００ｃのポンプ６は、ポンプの上流側において流体の吸引をすることと、下流側において流体を送出することの、両方に作用するポンプである。
【０１３２】
したがって、洗浄装置３００ｃおよび、多くの本発明の別の態様は、２工程バッチ方式で実施することが可能である。
まず、第一工程において、ポンプ６は、所定量の処理液をタンク１から送出し、その一方で、ポンプ６を通じて、流体を流せるその他のバルブを閉栓している。そして、ポンプ６は、タンク１からの処理液を、強制的に循環供給バルブ１８からバルブ３１および第１パイプ部３０５中に向かわせる。かかる第一工程において、吸引は実施されない。
しかしながら、ガス／液体セパレーター５１に流入が可能であるプロセス装置３０２から回収したガス（液体とガスの混合、または液体）は、排気、廃棄またはタンク１の何れかに向かって方向転換される。
【０１３３】
また、２番目の工程として、バルブ２は閉栓しており、三叉バルブ４６は、位置を変更し、さらに、バルブ１は閉栓しているが、バルブ２３は開栓している。そして、加圧ガスは、第１パイプ部にバルブ３６を通じて流入して、処理液を送出する圧力の増加を生み出す。また、それと同時に、吸引力が、ポンプ６の吸引によって生じる。
【０１３４】
なお、洗浄装置３００ｃによれば、ポンプ６がガスを循環させるのに効果的である場合、噴霧化処理液を循環させることが可能になる。
【０１３５】
また、図５は、さらに別の洗浄装置の態様を図示しており、かかる態様においては、洗浄装置３００ｄが、プロセス装置の３０２に連結されている。また、かかる装置３０２ｄは、追加タンクが備え付けられているという点以外は、実質的には洗浄装置３００と類似している。なお、かかる追加タンクの例としては、限定はしないが、水（新鮮水）タンク８３、苛性タンク８４、回収すすぎ液タンク８５、酸タンク８６および製品回収サイロ８２が含まれる。
【０１３６】
そして、バルブ６９，７０，７１および７２は、セパレーター５１により生じた処理液の方向を、選択的に、上述したタンク８４，８５，８６および製品回収サイロ８２のそれぞれに向かって、方向を変換させることができる。すなわち、本発明のかかる態様においては、処理液はプロセス装置３０２を循環する前に、処理液が回収される。
【０１３７】
また、バルブ６３，６５，６６および６７は、タンク８３，８４，８５および８６からの処理液の流れを制御するものである。タンク８３からの流出する処理液は、ポンプ６に向けられている。
【０１３８】
また、図５は、洗浄装置３００ｄが、プロセス装置３０２の異なった複数の部分において、連結可能である本発明の実施態様を図示している。
かかる効果のために、いわゆるＵ字型連結１００および２００が、選択的にパイプ３０９および３０５に対して、プロセス装置部品３０８の異なる部分で連結するように、備え付けられている。また、本発明の別の実施態様においては、適当な切替可能な連結部が備え付けられている。
【０１３９】
したがって、図面で示す本発明の態様において、プロセス装置３０２は、パイプ１０１および１０３を含み、かかるパイプ１０１および１０３は、それぞれパイプ部位３０９および３０５とそれぞれ流体連結するようにＵ字連結部１００および２００に対して、それぞれ連結している。パイプ１０３は，ポンプ７４に至るものである。そして、かかるポンプ７４は、パイプ１０３を介して洗浄装置３００ｄに向かって流体を送出するものである。
【０１４０】
また、製品回収サイロ８２は、プロセス装置３０２内で残留した物質の少なくとも一部を回収することを可能にしている。実際、プロセス装置３０２を介して、一定の水を循環させて、プロセス装置３０２内に残留物により汚濁した水の流れ方向を、製品回収サイロ８２に向かうように変えることにより、回収水および製品の混合物のさらなる処理が実施可能になる。
【０１４１】
また、添付の表は、図面で示した様々な装置を使用して実施することができる方法の具体例を示している。また、当業者であれば、容易に、表に挙げられた例は、特に限定するものではなく、特許請求した発明について、適切に説明するために供されたものである。しかしながら、これらの具体例は、本発明を制限するということに使用されるものではない。
【０１４２】
また、かかる表は、明確にするために、対応させて表現している。例えば、図５に示した洗浄方法の具体例として、表１Ａおよび１Ｂは、種々のバルブおよび構成部材を含むことを示している。
【０１４３】
また、かかる表において、行は工程を、また、列は図面中に図示された部材を、それぞれ示している。かかる行列中の交差点におけるＸは、この特定の工程の間、特定の部材が、オンまたは開栓の状態であることを示している。例えば、表１Ａの工程１において、締切り・抽気導水管バルブ、経路バルブ、吸引回収ポンプ３８とともに、導水管バルブ８は開栓またはオンの状態であり、表１Ｂで示すように、経路バルブから回収サイロに向かうバルブ６２まで開栓またはオンの状態である。
なお、当業者であれば、かかる記載から、導水管バルブ８および締切り・抽気導水管バルブ９を介して水を注入し、そして、バルブ１８を介して、吸引回収ポンプ３８に向けて、かかる水を送出し、さらに製品回収サイロ８２に到達することは、容易に理解できることである。なお、表１Ａおよび１Ｂで言及されている洗浄装置３００ｄのその他の部材は、オフまたは閉栓の状態である。
【０１４４】
また、典型的には、時期の段階を意味する以下の作用が、洗浄工程中に実施される。そして、かかる段階は、１つまたはそれ以上の工程を含むものである。まず初めに、表中のＲＥＣで表示された回収工程があり、かかる工程において、プロセス装置３０２の中を空にする前に、かかる機器中の残留した製品を回収する。そして、水を使用するすすぎ工程が実施される。かかるすすぎ工程は、一般的に、プロセス装置３０２中に異なった溶液や液体を注入する段階の間に実施される。
【０１４５】
また、実施されるその他の段階の型については、いわゆる洗浄段階があり、かかる段階は、プロセス装置内に、処理液を循環させるものである。例として、工程７から１２は、苛性（強アルカリ）洗浄段階を構成しており、かかる段階においては、プロセス装置３０２中を、苛性溶液が循環する。また、必ずしも必要でないが、一般的に、本洗浄方法の最終段階においては、消毒処理、殺菌処理、除菌処理、無菌処理または滅菌処理の各段階が実施される。
【０１４６】
そして、それぞれの段階において、プロセス装置３０２内に所定量の処理液を循環させる。一般的には、しかし例外的ではないが、例として工程３および４に示されるように、処理液は、プロセス装置３０２内に注入され、そして、かかる機器内に処理液が循環することによって圧力差が生じる。
【０１４７】
また、本発明におけるいくつかの実施態様において、かかる２工程の連続処理手順は、所定の段階の間に１回以上実施され、さらに、前述したプロセス装置３０２内において、まれに、逆流を用いることもある。
【０１４８】
また、表２Ａと２Ｂ、３Ａと３Ｂ、４Ａと４Ｂ、および５Ａと５Ｂは、限定するものではないが、本発明の洗浄方法の具体例を示している。例えば、表２Ａと２Ｂは、洗浄段階において、処理液が発泡化されている場合の洗浄方法を示している。また、３Ａと３Ｂは、噴霧化処理液および実質的に干渉発生する量の処理液の、両方を用いた場合での洗浄方法である。さらに、４Ａと４Ｂは、いくつかの段階において、噴霧化処理液が、プロセス装置３０２内で加圧され、さらに、加圧された噴霧化処理液の下流側に真空装置が備わっている場合の洗浄方法である。また、減圧後の、この加圧により、プロセス装置３０２内の処理液の流速が上昇して、一部の特定のプロセス装置３０２の洗浄方法の効率を改善することができる。また、表５Ａおよび５Ｂは、一部の段階において、プロセス装置３０２内の初期内圧よりも低い圧力で噴霧化処理液を、プロセス装置３０２に注入した洗浄方法を示している。そして、加圧した噴霧化処理液の上流側に、圧力の上昇が生じる一方で、噴霧化処理液のプロセス装置３０２に流入させることができる。加圧後の、この減圧により、プロセス装置３０２内の処理液の流速が上昇して、一部の特定のプロセス装置３０２の洗浄方法の効率をあげるものである。
【０１４９】
また、図６Ａは、本発明のまた別の態様を示し、かかる態様は、洗浄装置３００ｄが、少なくともサイロ８７を含むプロセス装置３０２´に連結されている。また、図６Ａにおいて、別のサイロ１８７を示す。ただし、洗浄装置３００ｄは、適当なサイロの数を含むプロセス装置に使用可能である。
【０１５０】
また、サイロ８７および１８７は、本技術分野において公知なものであり、一般的にはスプレーボール８８、ドア８９、インプットバルブ５７５およびアウトプットバルブ５７６を有しており、そして、流体を、サイロ８７の内外に流入および廃棄することができる。また、スプレーボール８８は、サイロ８７の内部において、適当な洗浄液を吹き付けることができる。
【０１５１】
また、本発明のいくつかの実施態様によると、サイロ８７およびサイロ１８７の一つを選択的に、または複数のサイロを、洗浄ができるように、トランスファープレート（輸送板）５０３が、備え付けられている。しかしながら、本発明のその他の実施態様において、かかるトランスファープレートは、必ずしも必要ではない。
【０１５２】
端的にいえば、バルブ５７２、バルブ５７３、バルブ５７６およびバルブ５８０等のバルブは、サイロ８７内の洗浄液の流れを制御するために取り付けられている。さらに、具体的にいうと、バルブ５７２およびバルブ５７３によれば、パイプ１０１内に流入するガス、噴霧化溶液または液体を含む流体方向を、サイロ８７および１８７に迂回して流入させたり、パイプ５０３に直接的に戻ってくるようにするために、変換したりすることができる。かかる効果のために、バイパスパイプ５１０が、バルブ５７２と、パイプ１０３との間に備え付けられている。そして、バルブ５７２を開栓し、かつ、バルブ５７３を閉栓している場合、プロセス装置３０２内の処理液は、特定の経路に入ることができる。
【０１５３】
一方で、バルブ５７２を閉栓し、かつ、バルブ５７３を開栓することにより、処理液が最初にサイロ８７内を通過し、パイプ１０３に向かって排水されるように、かかる流体の方向を、サイロ８７に、変換することができる。また、バルブ５８０は、回収パイプ１０３中に取り付けられ、バルブ５８０の上流側に真空装置の適用を制御することができる。
【０１５４】
さらに、ポンプ５７４は、バルブ５７３およびスプレーボール８８の間に備え付けられている。
【０１５５】
サイロ８７の洗浄は、以下の手順で行うことができる。まず初めに、バルブ５７２を閉栓し、そして、開栓したバルブ６７３で、ポンプ５７４を作動する。すると、上述したように、洗浄装置３００ｄにより処理液が注入される。ここで、処理液の下流側のパイプ１０１内で、ポンプ５７４中に、プレッシャードロップ（圧力損失）が生じる一方、処理液の上流において、洗浄装置３００ｄにより圧力上昇が生じる。そして、かかる圧力変化により、パイプ１０１内の処理液が、スプレーボール８８に向かって循環することができる。
【０１５６】
また、処理液が、サイロに到達した場合、ポンプ５７４は、スプレーボール８８に向かって、処理液を送出する。すなわち、従来技術における洗浄装置と違って、洗浄装置３００ｄとともに、図６Ａに示されているプロセス装置は、パイプ１０１の全てを必要としないで、サイロ８７内で所定量の処理液を吹き付けることができ、そしてサイロ８７を処理液で満たすことができる。
【０１５７】
そして、サイロ８７の洗浄は、スプレーボール８８から処理液を吹き付ける工程、吹き付けの前に適当な時間待機する工程、さらに、パイプ１０３に排水をする工程を含む公知の方法で進めることができる。なお、処理液が、洗浄装置３００ｄ内で噴霧化されている本発明の態様においては、スプレーボール８８は、サイロ８７内に噴霧化処理液を導入するために使用されている。
【０１５８】
また、処理液をサイロ８７から排水する場合、バルブ５７３を閉栓し、かつ、バルブ５７２を開栓することにより、パイプ１０３内の処理液の下流側に圧力の増加を生じさせることができる。また、バルブ５８０を開栓し、さらにパイプ１０３内の処理液の上流側において、圧力の低下が生じる。そして、これらの圧力の上昇および低下は、パイプ１０３内において洗浄装置３００ｄに向かって、処理液が循環するようになり、さらに、上述したように同様の方法により処理液が処理される。なお、当業者であれば、本発明の別の態様においても、処理液が、適宜の方法により、パイプ１０１および１０３内を循環していることは容易に理解できる
【０１５９】
また、当業者であるならば、プロセス装置３０２を作動する上記の方法ならば、必ずしもサイロ８７および１８７に、加圧または減圧をする必要なく、パイプ１０１および１０３内の流体を循環できることを容易に理解できる。このことにより、特に可能であるならば、サイロドア８９を開くことができる。しかしながら、サイロ８７および１８７が加圧および減圧に耐久性があるように設計されている場合、バイパスパイプ５１０は省略してもよい。また、後者の場合、適当なバルブ５７３の操作により、サイロ８７および１８７を通じてパイプに、圧力の増加が伝播される。
【０１６０】
図６Ａに示された装置およびプロセス装置の操作方法の例は、限定されるものではないが、表６Ａおよび６Ｂに示されている。
【０１６１】
また、図６Ｂは、本発明の別の実施態様を示しており、かかる実施態様において、プロセス装置３０２´と実質的に同一の構成機器に向かって処理液が流れるように構成されているが、かかる構成機器は、洗浄するべきサイロ８７、１８７、またはその両方に、処理液の流れ方向を変換するための２つのバルブ７７３および７７３´が、トランスファープレート５０３と置き換わっている点で、プロセス装置３０２´´とは、異なっていることが分かる。一方、プロセス装置３０２´´の動作は、プロセス装置３０２´´の動作とは実質的に類似している。
【０１６２】
また、図６Ｃは、本発明のまた別の実施態様を示しており、かかる実施態様においては、プロセス装置３０２´´中のサイロ８７および１８７の下流側に、ポンプ７７４があるものである。かかるポンプ７７４は、プロセス装置３０２´´´が設計されている工程において、使用されるポンプであってよい。またバルブ７７５および７７６は、ポンプ７７４により送出された流体をサイロ８７および１８７、または洗浄装置３００ｄに流れ方向を変えることができるように備え付けられている。
【０１６３】
また、ポンプ７７４が、洗浄装置３００ｄとの連結の前に、プロセス装置３０２´´´に既にある場合、本発明のこの態様は、洗浄装置３００ｄの取り付けに関連するコストの低減に寄与する。実際、バイパスパイプ５１０によりポンプ７７４に向かわされた流体は、サイロ８７および１８７にまた流れ方向を変換させされるので、ポンプ７７４があることにより、ポンプ５７４は省略することができる。
【０１６４】
また、図７は、本発明のまた別の態様を示しており、かかる発明は、噴霧化処理液を使用することにより、別のサイロ８７´および１８７´を、洗浄する発明である。また、サイロ８７´および１８７´は、追加バルブである８７７、８７８、８７９が相互接続して取り付けられている点を除いて、サイロ８７および１８７とは類似している。
【０１６５】
そして、バルブ８７７は、ウオッシュボール８８およびバルブ５７３の間にバルブ８７７が備え付けられている。かかるバルブ８７７は、流体をウオッシュボール８７８に向かわせることを、可能にするまたは防ぐものである。流体が、ウオッシュボール８８に到達するのを防いだ場合、流体はバルブ８７８に向かい、そして次に、流体がインプットバルブ７５に向かうことを認可または防止される。
【０１６６】
また、バルブ８７９は、サイロ８７内において、圧力が安全圧の水準を越えてに上昇することを防止するために備え付けられている。安全圧の水準が認められると、バルブ８７９は、開栓し、ベント８８０を介してガスを脱気する。
【０１６７】
それゆえに、バルブ８７８，８７９および８８０によれば、サイロ８７´および１８７´内に、直接的に噴霧化処理液が向かうことを可能にする。
【０１６８】
さらに、本発明の一部の実施態様において、バイパスバルブ５１０とともに、バルブ５７２および５７３が省略され、サイロ８７´および１８７´を介して処理液の循環が、パイプ１０１および１０３を通じて、処理液が循環されるのと同様に、実施される。
【０１６９】
また、表７Ａおよび７Ｂ、８Ａおよび８Ｂならびに９Ａおよび９Ｂは、図７に示す洗浄装置および構成機器の操作方法の非限定的な方法を示す。
【０１７０】
図面に示された本発明の実施態様において、例えば、染み抜き、表面安定化処理および染色の確認等においても、洗浄方法と同様な操作で実施することも可能である。
【０１７１】
その他、本発明について、上述のように、好ましい実施態様に基づいて説明したが、添付の特許請求の範囲に規定された本発明の精神および特性を逸脱しない限り、本発明の実施態様を変更することが可能である。
【０１７２】
【表１】
2007533437.tif 000003
【０１７３】
【表２】
2007533437.tif 000004
【０１７４】
【表３】
2007533437.tif 000005
【０１７５】
【表４】
2007533437.tif 000006
【０１７６】
【表５】
2007533437.tif 000007
【０１７７】
【表６】
2007533437.tif 000008
【０１７８】
【表７】
2007533437.tif 000009
【０１７９】
【表８】
2007533437.tif 000010
【０１８０】
【表９】
2007533437.tif 000011
【０１８１】
【表１０】
2007533437.tif 000012
【０１８２】
【表１１】
2007533437.tif 000013
【０１８３】
【表１２】
2007533437.tif 000014
【０１８４】
【表１３】
2007533437.tif 000015
【０１８５】
【表１４】
2007533437.tif 000016
【０１８６】
【表１５】
2007533437.tif 000017
【０１８７】
【表１６】
2007533437.tif 000018
【０１８８】
【表１７】
2007533437.tif 000019
【０１８９】
【表１８】
2007533437.tif 000020
【図面の簡単な説明】
【０１９０】
【図１】概略図であって、本発明の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図２】概略図であって、本発明の別の態様による洗浄装置を図示している。
【図３】概略図であって、本発明のまた別の態様による洗浄装置を図示している。
【図４】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置を図示している。
【図５】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置を図示している。
【図６Ａ】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図６Ｂ】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図６Ｃ】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図７】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図１】
2007533437.tif 000021
【図２】
2007533437.tif 000022
【図３】
2007533437.tif 000023
【図４】
2007533437.tif 000024
【図５】
2007533437.tif 000025
【図６Ａ】
2007533437.tif 000026
【図６Ｂ】
2007533437.tif 000027
【図６Ｃ】
2007533437.tif 000028
【図７】
2007533437.tif 000029
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月16日(2006.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を用いて、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法において、
前記プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により所定体積が規定され、かつ、予め所定の初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄方法であって、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液であって、前記パイプ部の容積よりも小さい量の処理液を注入する工程と、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧すると同時に、前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、所定量の処理液を、パイプ部内で循環させる工程と、
を含むことを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
前記処理液を、前記パイプ部の第１末端に対して、噴霧化して導入することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記処理液を、実質的に干渉発生する量として、前記パイプ部の第１末端に対して、注入することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記パイプ部内に、所定量の処理液を循環させた後、所定量の処理液を回収する工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項５】
所定量の前記処理液を回収した後、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液を再注入する工程と、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧すると同時に、前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、所定量の処理液を、パイプ部内で再循環させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項６】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値に加圧する際に、前記パイプ部に、ガスを注入して実施することを特徴とした請求項５に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記処理液を、ガス相と、液相とに実質的に分離する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記所定量の処理液を、前記パイプ部内に注入する前に、前記処理液の特性を調節することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記所定量の処理液を回収する前に、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液を再注入する工程と、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置のパイプ部における内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧させると同時に、前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置のパイプ部における内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、所定量の処理液を、パイプ部内で再循環させる工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法において、前記処理液とは異なる、さらなる別の処理液を用いた洗浄工程を含む洗浄方法であって、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、さらなる所定量の別の処理液であって、前記パイプ部よりも実質的に小さな体積の別の処理液を注入する工程と、
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に低い値まで減圧すると同時に、前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値まで加圧することによって、前記所定量の別の処理液を、同時にパイプ部内に循環させる工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項１１】
前記パイプ部に、所定量の前記処理液を注入する前に、プロセス装置の加工品を含んでおり、当該加工品の一部を回収する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１２】
前記加工品の回収に際して、前記処理液として、水を用いることを特徴とする請求項１１１に記載の洗浄方法。
【請求項１３】
前記加工品の回収に際して、パイプ部内に所定量の処理液を循環させる前に、水および加工品の組合せを回収することを特徴とする請求項１２に記載の洗浄方法。
【請求項１４】
前記処理液が、水、酸溶液、苛性溶液、殺菌溶液、アルカリ溶液、緩衝液、有機溶媒を含む水溶液、酵素含有溶液および生物学的活性混合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの液体物を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１５】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値に加圧する際に、前記パイプ部に、加圧条件下にガスを注入して実施することを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項１６】
前記パイプ部に、蒸気を導入する工程と、
前記パイプ部内で、蒸気を循環させる工程と、をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１７】
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を上昇させるに際して、当該パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、加圧した噴霧化処理液の流れを注入することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１８】
前記所定量の処理液をパイプ部に注入される前に、前記所定量の処理液が発泡化されていることを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項１９】
前記パイプ部に、最初の量の処理液が注入される前に、当該パイプ部を除く循環系において、最初の量の当該処理液を循環させることにより、最初の量の処理液の特性を調節し、かつ、最初の量の処理液の特性を調節する際に、処理液のｐＨ、温度および溶質濃度からなる群から選ばれる少なくとも一つの特性を調節することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２０】
前記パイプ部を電気的に絶縁する工程と、
第１の所定電荷で、前記噴霧化処理液を帯電させる工程と、
第１の所定電荷の逆極性の第２の所定電荷で、当該噴霧化処理液を帯電させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項２１】
前記プロセス装置が、容器をさらに含むとともに、
前記洗浄方法が、
前記パイプ部を電気的に絶縁する工程と、
第１の所定電荷で、前記噴霧化処理液を帯電させる工程と、
第１の所定電荷の逆極性の第２の所定電荷で、当該噴霧化処理液を帯電させる工程と、
帯電した当該噴霧化処理液を、前記容器に注入する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項２２】
前記パイプ部に、所定量の処理液を注入する前に、当該パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで減圧することを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２３】
前記パイプ部に、少なくとも一部の所定量の処理液を注入している間に、当該パイプ部の第２末端の実質的に近接した位置の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで減圧することを特徴とする請求項２２に記載の洗浄方法。
【請求項２４】
前記パイプ部に、所定量の処理液を注入する前に限り、前記パイプ部の第２末端の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで減圧することを特徴とする請求項２２に記載の洗浄方法。
【請求項２５】
前記パイプ部に、少なくとも一部の所定量の処理液を注入する前に、前記パイプ部の第２末端の内圧を、初期内圧より実質的に低い値まで下げることを特徴とする請求項２２に記載の洗浄方法。
【請求項２６】
前記パイプ部内に、噴霧化した所定量の処理液を、少なくとも２回循環させることを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項２７】
第１末端および第２末端により規定された第１パイプ部と、当該第１パイプ部と流体連結された容器と、当該容器に流体連結された第２パイプ部であって、第１末端および第２末端により規定された第２パイプ部と、を含むプロセス装置による洗浄方法であって、
前記第１パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置に、所定量の処理液であって、前記第１パイプ部の容積よりも小さい量の処理液を注入する工程と、
初期内圧よりも実質的に低い値まで、第１パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧すると同時に、初期内圧よりも実質的に高い値まで、第１パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することにより、第１パイプ部の第１末端から第１パイプ部の第２末端へ、当該第１パイプ部を介して、所定量の当該処理液を循環させる工程と、
初期内圧よりも実質的に低い値まで、第２パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧すると同時に、初期内圧よりも実質的に高い値まで、第２パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することにより、第２パイプ部を介して、第２パイプ部の第１末端から第２パイプ部の第２末端へ、所定量の当該処理液を循環させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項２８】
前記第２パイプ部を介して、所定量の前記処理液を循環させる前に、前記第１パイプ部を介して、所定量の当該処理液を循環させることに加えて、前記容器内に所定量の当該処理液を注入することを特徴とする請求項２７に記載の洗浄方法。
【請求項２９】
プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置において、当該プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により、所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を含む洗浄装置であって、
コントローラーと、
処理液供給源と、
当該処理液供給源およびパイプ部の第１末端にそれぞれ流体連結してあり、さらに、前記コントローラーと連結して、当該パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に注入させるための処理液供給部と、
前記パイプ部と連結し、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、初期内圧よりも実質的に低い値まで、当該パイプ部の内圧を減圧するための低圧発生部と、
前記パイプ部と連結し、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、初期内圧よりも実質的に高い値まで、当該パイプ部の内圧を加圧するための高圧発生部と、
を含み、かつ、
前記パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置における内圧の加圧と、前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧するのを同時に生じさせ、前記パイプ部に所定量の処理液が循環するように構成したことを特徴とする洗浄装置。
【請求項３０】
前記処理液供給源が、当該処理液供給源を収容するための処理液タンクを備えることを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３１】
前記処理液供給部が、前記パイプ部に向かって当該処理液を送出するためのポンプを備えることを特徴とする請求項３０に記載の洗浄装置。
【請求項３２】
前記処理液供給部が、当該処理液を噴霧化するためのノズルを有し、当該ノズルが、加圧した処理液供給部に連結されていることを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３３】
前記高圧発生部は、高圧ガス供給源と、高圧蒸気供給源と、処理液を噴霧化するとともに、圧力条件下で、噴霧化された処理液を吹き出すためのノズルと、を備えた装置を含んでいることを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３４】
前記パイプ部を除く調整回路を有し、前記パイプ部に所定量の処理液を注入する前に、当該調整回路が、所定量の処理液の特性を調節することを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３５】
前記処理液の特性が、ｐＨ、温度および溶質濃度からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする請求項３４に記載の洗浄装置。
【請求項３６】
前記調整回路が、循環ループを含み、かつ、前記パイプ部内に所定量の処理液を注入する前に、当該循環ループにおいて、処理液の特性を調整するように、所定量の処理液を循環させることを特徴とする請求項３４に記載の洗浄装置。
【請求項３７】
前記パイプ部の上流側に、発泡化装置を含むとともに、当該発泡化装置が、前記処理液を発泡化するのに選択的に作動可能であることを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３８】
第１の流速計が、前記第１パイプ部の上流側に備え付けられ、第２流速計が、当該第１パイプ部の下流側に備え付けられており、当該第１流速計および当該第２流速計が、当該パイプ部内で流体の流れをモニタリングすることを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３９】
経路バルブを含み、当該経路バルブが、前記処理液部と、前記低圧発生部および前記高圧発生部とを流体連結し、さらに、当該経路バルブの組合せが、前記パイプ部の第１末端および第２末端に流体連結されており、当該経路バルブの組合せが、直接的構成および逆構成の間において、選択的に可変可能であって、
前記直接的構成においては、前記低圧発生部および高圧発生部が、実質的に内圧より低い値まで、当該パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧することと、実質的に内圧より高い値までに、当該パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することと、がそれぞれ選択的に作動可能であり、
前記逆構成において、当該低圧発生部および当該高圧発生部が、実質的に内圧より低い値までに、当該パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧することと、実質的に内圧より高い値までに、当該パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することと、がそれぞれ選択的に作動可能であることを特徴とした請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項４０】
さらに、前記処理液を回収するために、前記パイプ部の下流側に、ガスと液体との分離装置であるガス／液体セパレーターを含むことを特徴とした請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項４１】
前記ガス／液体セパレーターが、前記パイプ部内に前記処理液を再注入する前に、回収した処理液を保持するためのセパレータータンクを含むことを特徴とした請求項４０に記載の洗浄装置。
【請求項４２】
前記低圧発生部に、イジェクターを含むことを特徴とした請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項４３】
アスピレーターおよび／またはブロアーが、前記低圧発生部および前記高圧発生部に備え付けられていることを特徴とした請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項４４】
プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置において、当該プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により、所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を備えた洗浄装置であって、
少なくとも一部の洗浄装置を制御するコントロール部と、
処理液供給源と、
パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に注入させるための処理液供給部と、
実質的に初期内圧よりも低い値までに、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧する低圧発生部と、
実質的に初期内圧よりも高い値までに、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧する高圧発生部と、を含み、かつ、
パイプ部内に所定量の処理液を循環させるために、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することと、パイプ部の第２末端に近接した位置における内圧を減圧すること、を同時に実施することを特徴とした洗浄装置。
【請求項４５】
前記パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に、前記処理液とは別の所定量の処理液を注入する工程と、
初期内圧よりも実質的に低い値まで、当該第１パイプ部の末端に実質的に近接した位置の内圧を減圧するとともに、初期内圧よりも実質的に高い値まで、当該第２パイプ部の末端に実質的に近接した位置の内圧を加圧することを同時に生じさせ、当該パイプ部に所定量の当該処理液を循環させる工程と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄方法および洗浄システムの全般的な分野に関するものであり、特に、配管システム、およびその関連装置に使用するための洗浄方法および洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
配管システム、配管機器およびそれらの関連装置は、多くの産業上の用途において、幅広く使用されている。かかる産業上の用途としては、流体物やその他の固体物を、使用、生産または変換するといった用途が挙げられ、例えば、製薬工業、酪農を含む食品加工産業等の産業において使用されている。
一方、これらの産業においては、清潔さを保持することが最も重要であるため、厳格な衛生基準によって管理がなされている。
【０００３】
したがって、かかる衛生基準を満足するため、配管システム、配管機器およびそれらの関連装置は、定期的、あるいは毎日洗浄される必要がある。また、かかる配管システム、配管機器およびそれらの関連装置をメンテナンスするため、または、メンテナンス後における衛生保持のためにも、これらを洗浄する必要が生じる。
【０００４】
また、所定の製造サイクルにおいて使用された流体物を、配管システム、配管機器およびそれらの関連装置から除去する必要が生じる場合がある。
より具体的には、例えば、食品加工産業において、同一の水圧循環系を異なった種類の製品に対して用いる場合や、同じ種類の製品ではあるが、香味（フレーバー）の異なる製品に対して用いる場合のように、異なる製品や、異なる香味が混合してしまうことを防ぐ必要がある場合である。
【０００５】
そこで、ほとんどの加工設備は、最も効果的かつ経済的に衛生基準を満足し、また、製品や香味が混合することを防止するために、いわゆる「定置洗浄（ＣＩＰ）システム」を導入している。かかるＣＩＰシステムは、通常、常設された固定配管システムであって、迅速な操作ができるとともに、ホースやポンプ等の一時的な仮設物が少なくてすむといった利点がある。
【０００６】
また、典型的なＣＩＰシステムは、一般に、多くのタンク、サイロ、機器、関連ポンプ、バルブ、および相互接続配管を有している。そして、かかる典型的なＣＩＰシステムは、通常３つの部類に分けることができる。
まず、第１の部類は、化学洗浄剤を一度使用し、使用後に廃棄するいわゆるシングルユースの部類である。
次いで、第２の部類は、使用後の化学洗浄剤を貯留し、後に再使用するいわゆるマルチユースの部類である。
そして、第３の部類は、第１の部類と、第２の部類との組み合わせである。
【０００７】
しかしながら、酪農産業のような食品加工産業においては、上述したＣＩＰシステムが使用されているにも関わらず、所定の衛生基準を維持するためには、配管システム、サイロ、濾過装置、乾燥装置、混合装置、蒸発装置、殺菌装置、セパレーター、フィルター、ポンプ等の関連装置を、定期的に洗浄、すすぎ、および消毒、殺菌または滅菌する必要がある。
かかる洗浄操作として典型的に行われる方法は、清潔な水、または回収されたすすぎ水を用いる第一リンスサイクルと、洗剤液を使用する洗剤洗浄サイクルと、洗浄後のすすぎサイクルと、消毒液、無菌液、殺菌液または滅菌液を使用する殺菌工程と、を含んでいる。かかる溶液が、推奨使用濃度を是認する、「すすぎなし」が承認されている場合、さらなるすすぎの必要はない。また、このような承認がない場合は、最終的なすすぎを、滅菌水で行わなければならない。なお、乾燥、排水または消毒空気の送風を、最終的に実施する場合もある。
【０００８】
また、異なる製品や香味を扱うためであれ、洗浄目的のためであれ、装置内の空間を空けるべく、プロセス流体物を、循環系全体から洗い流す必要がある場合、一般的に５つの典型的な方法が使用される。かかる第１の方法は、まず、水を循環装置の上流側に注入し、次いで、加工に使用されるのと同一のポンプ装置を用いて、下流側の目的位置までプロセス流体物を押し流す方法である。
【０００９】
この場合、送出される水の体積量は、流量計により、または時間によって測定される。そして、測定された水の体積量は、循環系全体に送出された後、配水管に送出されるが、さらに使用するための回収タンクに送出される場合もある。なお、かかるすすぎは、循環系外に排出される水が清潔な水となるまで続けられる。
【００１０】
一方、製品加工の最終段階において、製品を回収する方法として、別の方法、すなわち第２の方法も知られている。例えば、流量計を使用するかわりに、導電率計、濁度計またはオプトメーターのいずれかを使用して、製品加工の最終段階において、製品を回収する方法が知られている。
すなわち、かかる装置は、通常、循環系の終端部に取り付けられる。そして、まず、循環系の初端部から水が送出され、次いで、分析器（導電率計、濁度計またはオプトメーター）によって、予め設定された設定点に基づいて、流体物の行く先（さらに加工工程に送出されたり、回収タンクまたは配水管に送出されたりする。）が制御される。
しかしながら、かかる方法を用いた場合であっても、上述した流量計を用いた場合であっても、非常に大量の水を必要とするという欠点が残る。
【００１１】
すなわち、大量の水は、循環系より洗い流される製品を送出するために使用されるのであるが、それは、循環系または配管システムの大きさが大きいほど、重大な希釈係数となり、その結果、より大量の水が要求されるためである。
【００１２】
また、２種類の製品を扱う場合、所定の製品を送出する場合においては、上述した手順とは逆の手順も実施される必要が生じる。
つまり、第２の製品は、水を下流に押し流すために使用されることとなる。すなわち、明確な相の変化またはその切れ目があるまでは、水が混入して送出されていることになるためである。
ところが、実際には、希釈係数の関係で、相の変化またはその切れ目は不明確であり、実質的に純粋な製品（顕著な希釈がない）が下流側に送出されるまで、製品と水の混合物を送出しきらなければならない。
【００１３】
また、循環系の洗浄を実施する際には、循環系に対して消毒液や洗浄液を注入するため、または、それらを循環系から洗い流すためにも、上述した内容と同一の方法を実施することが必要となる。
したがって、上述したそれぞれの態様において、食物製品や洗浄液等を洗い流すためには、水が必要であり、比較的大量の水が使用されることとなる。
さらには、回収した水および残渣を、廃棄前に処理する必要がある場合もあるため、結果として著しく高コストになってしまう。
【００１４】
また、循環系の外に流体物を送出するための３番目の方法は、圧搾空気を使用する方法である。すなわち、流体物を下流に送出するために、圧搾空気を循環系の上流側から注入する方法である。なお、かかる方法は、主に、水と製品とを混合させてはならない場合において使用される。
【００１５】
しかしながら、圧搾空気を使用した方法は、多くの問題の発生原因となる場合が見られる。例えば、製品中に空気が混入して、製品を酸化させてしまい、結果として、製品の風味や賞味期限を変化させてしまう場合がある。また、製品中に空気が混入することによって、気泡が発生し、プロセス処理を不正確にしてしまう場合もある。
【００１６】
さらに、下流側に製品を送出するために空気を使用した場合、配管システム中において、特定の選択的な経路が形成され、製品の一部だけが、循環系から押し出されてしまう場合がある。その結果、特に、配管の直径が変化している箇所や、鉛直方向の配管が存在する箇所においては、空気によって製品全てを送出することが困難となって、製品の損失となる場合が多い。
【００１７】
また、製品の回収に使用される４番目の方法は、いわゆる「ピグシステム（ｐｉｇ−ｓｙｓｔｅｍ）」を使用した方法である。かかる方法は、例えば、コルク、プラグまたはボール等といった配管にフィットし、挿入ポイントＡから送出ポイントＢに、配管内をスライドすることができる回収具を使用する方法である。
すなわち、製造プロセスの終了後、Ｙ型配管を介して、回収具が圧搾空気とともに、プロセス循環系の入口から挿入される。そして、圧搾空気によって、挿入ポイントＡからＹ型配管を有する送出ポイントＢまで、回収具が押されて、送出される。なお、かかるシステムは、押し出される製品が高粘性である用途において、主に使用される。
【００１８】
しかしながら、かかる洗浄方法は、以下の欠点ｉ〜ｉｖが見られるため、あまり使用されていない。
【００１９】
ｉ：配管内で回収具が詰ってしまうことがあり、時には、回収具の回収のために、配管を切断する場合さえある。
【００２０】
ｉｉ：かかる回収具が詰っている場所を特定するために、回収具は一般的に磁石を含み、かつ、配管外部に、磁気検出器を配管に沿って備え付けなければならず、そのため、結果として、相対的に費用が高い洗浄システムとなってしまう。
【００２１】
ｉｉｉ：かかる回収具は、突出したバルブがなく、実質的に直径が一定である配管においてのみに実用的可能なものである。
すなわち、バルブ、プレート、ポンプ、フィルターおよびその他のプロセス装置を備えた配管には、かかる方法は使用できない。
【００２２】
ｉｖ：曲形配管が、比較的大きい曲率半径を有する必要があり、そのため、費用が高くなり、工場内のスペースに問題を呈する可能性がある。
【００２３】
そして、配管洗浄に使用する５番目の洗浄方法は、流体物と混合した固形顆粒物を使用する方法である。
かかる洗浄方法は、流体物および固形顆粒物の混合物を、圧搾空気で送出するか、または、配管の部分的または全体的な真空によって吸引する洗浄方法である。
しかしながら、かかる５番目の洗浄方法を用いた場合、かかる固形顆粒物が、食品残渣の回収を困難にしてしまう場合がある。
さらには、かかる洗浄方法は、各種機器が、スプレー装置に備え付けられたプロセス装置においては、一般的に適用することができないという問題がある。というのも、かかる固形顆粒物が、スプレー装置を塞いだり、配管の底面に残留したりして、相対的に除去することが困難になる場合があるためである。
【００２４】
また、５番目の洗浄方法（洗浄システム）は、相対的に複雑化しやすく、それゆえに比較的費用が高くなってしまい、また、流体物のみを使用するシステムよりも機能不調になりやすいという問題がある。さらに、再使用をする場合には、その前に、顆粒を洗浄および消毒することが、一般的に必要となるという問題がある。
【００２５】
すなわち、上述した各洗浄方法における欠点を解決し、配管システム、配管機器およびその関連装置に対して使用可能な洗浄方法および洗浄装置が求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
そこで、本発明の目的は、従来の課題を解決すべく改善された洗浄方法および改善された洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
第１の実施態様は、処理液を用いて、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄方法において、当該プロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄方法である。
したがって、かかる洗浄方法は、以下の工程を有している。
【００２８】
パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置（第１末端そのものの位置を含む。以下、同じである）において、所定量の処理液を注入する工程
【００２９】
パイプ部に、同時に、所定量の処理液を循環させる工程
【００３０】
パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置（第２末端そのものの位置を含む。以下、同じである）において、実質的に初期内圧よりも低い値まで、パイプ部内の内圧を減圧する工程
【００３１】
その減圧工程と同時に、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、実質的に初期内圧よりも高い値まで、パイプ部内の内圧を加圧する工程
【００３２】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、処理液を、パイプ部の第１末端あるいはその近接位置に対して、噴霧化して導入することが好ましい。
また、本発明の別の態様においては、処理液を、実質的に干渉発生する量として、パイプ部の第１末端あるいはその近接位置に注入することが好ましい。
なお、処理液を噴霧化することに限定はしないものの、処理液を噴霧化することによって、プロセス装置の内面の濡れ性を向上することと、洗浄すべきプロセス装置の内面に接触する時間を長くすることと、さらに、噴霧化清浄剤（atomized sanitizer）が酸成分を含む場合には、かかるプロセス装置内における滅菌空気を、さらに循環させることに役立つと言える。
【００３３】
また、処理液の種類は、限定されないが、水、酸溶液、苛性溶液、殺菌溶液、アルカリ溶液、緩衝液、有機溶媒を含む水溶液、酵素含有溶液および生物学的活性を有する混合物または、パイプ部やパイプ部と流体連結したプロセス装置、またはその両方を洗浄するのに使用できる液体を含めた、任意の適切な液体である。
また、生物学的活性のある混合物には、限定はしないが、特に、水、もしくはバクテリア、ファージ、ウイルスまたは酵母に適した溶液の混合物を含む。
【００３４】
また、本発明の利点は、製品または製品の香味の変換、プロセス装置の洗浄またはその他の処理等の種々の処理を実施できるように、配管システム全体の一部および／または関連機器および／または関連装置に満たされる必要がある。
【００３５】
また、処理液の必要量を、多くの洗浄方法により、減らすことでき、それゆえに、すすぎ用の水や、製品や、例えば、洗浄および／または製品や溶液等の無菌処理等の溶液の必要量をより小さくさせることができる。
減少した処理液の必要量によれば、例えば、種々の溶液の加熱等に必要なエネルギー量を減らすことができる。
【００３６】
さらに、所定の生産サイクルが終わったあとで、プロセス装置内に洗浄剤を注入する前において、循環系に残留する液体は、比較的少量の水で、下流側に送出してもよい。結果として、回収された液体は、あまり希釈されておらず、より容易に再濃縮でき、経済的に、再びプロセス装置に供することができる。
また、さらに、同様な回収工程を実施するのに必要な保持体積を減らせる。それゆえに、製品の損失を減らすことばかりではなく、使用した回収水は、より濃度が高い残渣を含み、かつ、より少ない量で生産することができる。
【００３７】
さらに、処理された液体と水との間や、処理液と水との間等の様々な相分離について、比較的、明確化することができる。結果として、様々な処理液の回収効率を向上させることができる。また、複数の処理液に対しても、回収効率を向上させることができるために、処理液の多くの再利用が可能となる。
【００３８】
すなわち、提案された洗浄方法および洗浄装置は、多くの先行技術の洗浄方法および洗浄装置よりも、環境に優しいばかりではなく、より経済的でもある。
【００３９】
さらに、提案された洗浄装置または洗浄システムは、経済的で実用性があり、耐久性および作動時に比較的問題発生が少ない改善されたシステムを提供できるように、一般的な循環系の部品を使用して製造できるものである。
【００４０】
さらに、本発明の一部の態様において、一般的に製造ラインに備え付けられている一部のプロセス装置を用いて、洗浄工程を実施することができる。
このことは、製造および維持に費用があまりかからない洗浄装置で実施することができるということである。
【００４１】
さらに、本発明は、パイプ以外の装置、例えば、タンクを含むサイロ（貯蔵庫）等の洗浄に使用でき、また、先行または帰還するパイプは、完全に流体で満たされる必要がないように、比較的小さな流体の量を使用できる。
【００４２】
さらに、処理液が洗浄すべきパイプ部を完全に満たされていないで使用することにより、多くの先行技術の装置よりも、比較的迅速に処理液を循環させることができ、また、本発明の一部の態様においては、不均一の直径を有するパイプ内に処理液を循環させることもできる。
【００４３】
また、別の実施態様においては、本発明は、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置において、かかるプロセス装置が、第１末端および第２末端により規定されたパイプ部を有し、当該第１末端および第２末端により所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄装置である。したがって、かかる洗浄装置は、少なくとも以下の構成（１）〜（５）を含んでいる。
【００４４】
（１）コントローラー
【００４５】
（２）処理液供給源
【００４６】
（３）処理液供給源およびパイプ部の第１末端にそれぞれ流体連結してあり、かつ、コントローラーと連結して、パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、パイプ部内に注入させるための処理液供給部
【００４７】
（４）パイプ部と流体連結した低圧発生部であり、初期内圧よりも実質的に低い値までに、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧の減圧を選択的に実施することができる低圧発生部
【００４８】
（５）パイプ部と流体連結した高圧発生部であり、初期内圧よりも実質的に高い値までに、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧の加圧を選択的に実施することができる高圧発生部
【００４９】
そして、パイプ部内に所定量の処理液を循環させるために、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を加圧することと、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を減圧すること、を同時に実施する構成である。
【００５０】
さらに、また別の態様は、プロセス装置の内面を洗浄する洗浄装置であって、プロセス装置が、パイプ部に第１末端および第２末端が規定されたパイプ部を有し、パイプ部の第１末端および第２末端により、所定体積が規定され、かつ予め初期内圧を保持しているパイプ部を用いた洗浄装置である。したがって、かかる洗浄装置は、少なくとも以下の構成（１´）〜（５´）を含むものである。
【００５１】
（１´）装置の少なくとも一部を制御するコントロール部
【００５２】
（２´）処理液供給源
【００５３】
（３´）パイプ部の体積よりも実質的に小さい所定量の当該処理液を、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、当該パイプ部内に注入させるための処理液供給部
【００５４】
（４´）初期内圧よりも実質的に低い値まで、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置において、パイプ部内の内圧を減圧する低圧発生部
【００５５】
（５´）初期内圧よりも実質的に高い値まで、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置において、パイプ部内の内圧を加圧する高圧発生部
【００５６】
そして、パイプ部内に所定量の処理液を循環させるために、パイプ部の第１末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を加圧することと、パイプ部の第２末端に実質的に近接した位置におけるパイプ部内の内圧を減圧することを同時に実施する構成である。
【００５７】
なお、本発明のその他の目的、利点および特徴等については、添付の図面に例として与えられているように、非限定的ではあるが、以下の本発明の好ましい態様についての説明や記載から、さらに明確になるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】
以下の説明では、特に、リザーバー、タンク、サイロ等の機器の具体的な種類について言及する。また、図示を目的として、具体的な種類の機器が、使用されていることと、さらに、具体的な種類の機器が言及されている場合において、他の適当な種類の機器を使用することも、本発明の範囲内の態様であることも、当業者は容易に理解できるものである。
【００５９】
図１は、概略図であって、引用数字３０２で示すプロセス装置の内面を洗浄するための洗浄装置３００を図示している。また、かかる洗浄装置３００は、プロセス装置３０２に永続的または半永続的に連結された、いわゆる、定置洗浄装置である。なお、特許請求の範囲に記載された発明に関して、洗浄すべきプロセス装置に半永続的に連結した洗浄装置としても、応用可能であることについて、当業者は、容易に理解できる。
【００６０】
まず、プロセス装置３０２は、第１パイプ部の第１末端３０６および第１パイプ部の第２末端３０７により規定される第１パイプ部３０５を有する。また、第１パイプ部の第１末端３０６と、第２末端３０７との間に延設された第１パイプ部３０５は、所定体積を有している。
【００６１】
また、プロセス装置３０２は、例えば、サイロ、その他のパイプ部または当技術分野で知られている適切な種類の機器を含むプロセス装置についても包含している。また、その他のプロセス装置部品は、引用数字３０８によって示している。そして、第１パイプ部３０５は、プロセス装置部品３０８に対して、流体循環が可能なように、流体連結（fluid communication）されている。
【００６２】
また、図１は、概略的であるものの、第１パイプ部３０５は、一般的に、かつ相対的に長いということを、しかし必ずしもそのように制限されるもので無いことも含めて、当業者ならば、容易に理解できる。
また、図１において、具体的に図示していないものの、第１パイプ部３０５は、一般的に、物質加工用の処理ラインの一部である。そして、限定するものではないが、このような物質加工例としては、人間が消費するための液状物等のプロセス加工品がある。
【００６３】
また、本発明の全態様において、必ずしも備えている必要はないが、プロセス装置３０２は、プロセス装置部品３０８と流体連結された第２パイプ部３０９をも備えている。
【００６４】
一般的に、洗浄装置３００は、処理液を用いてプロセス装置３０２の内面を洗浄する方法を実施するためのものである。したがって、限定するものではないが、例えば、かかる洗浄装置３００は、第１パイプ部３０５の内面を洗浄するための設備を備えている。
【００６５】
また、処理液は、任意かつ適当な液体である。例えば、かかる処理液としては、水、処理溶液（洗浄剤）、またはその他の処理溶液を含有していることが好ましい。また、本発明のいくつかの実施態様において、１種類単独の処理液が使用されている。さらに、本発明の別の態様においては、複数の種類の処理液が使用されている。
【００６６】
また、本発明の洗浄方法は、所定量の処理液を、第１末端３０６に近接した位置にある第１パイプ部３０５中に導入する工程を有している。かかる所定量の処理液は、実質的に第１パイプ部３０５の体積よりも小さなものである。
次いで、所定量の処理液は、第１末端３０６から、第２末端３０７へ、第１パイプ部３０５を通じて循環される。
そして、第２末端３０７に近接する位置にある第１パイプ部３０５の内圧を、初期内圧以下に実質的に減圧して低い値とするのと同時に、第２末端３０６に近接する位置にある第１パイプ部３０５の内圧を、初期内圧よりも実質的に高い値に加圧することによって、かかる処理液の循環を実施可能とする。
【００６７】
言い換えると、この例においては、プロセス装置３０２内に導入される所定量の処理液の容量は、洗浄するパイプ部の体積よりも、実質的に小さいものである。
そして、この所定量の処理液は、比較的高圧による押出作用（pushing action）と、比較的低圧による吸引作用(sucking action)の両方により、洗浄すべきパイプ部の内部を循環的に移動することになる。
【００６８】
また、コントローラー３１０は、少なくとも洗浄装置３００の一部であって、制御装置である。言い換えれば、少なくとも、プロセス装置３０２の構成の一部として、コントローラー３１０が連結されている。
また、これらの構成は、洗浄装置３００およびプロセス装置３０２内を循環する流体に作用するアクチュエーターを備えている。さらに、これらの構成において、プロセス装置３０２および洗浄装置３００の様々な部分に、洗浄装置３００およびプロセス装置３０２内で、循環している流体の流れ方向、すなわち、流れ方向を変化させるためのバルブを備えている。
そして、これらの構成の一部として、コントローラー３１０に、洗浄装置３００の作動を監視（モニタリング）するためのセンサーが設けてあって、本発明のいくつかの実施態様においては、かかるセンサーによって、プロセス装置３０２の状態を監視している。
【００６９】
また、本発明の具体的な態様において、洗浄装置３００の構成の大部分は、コントローラー３００に連結されているが、本発明の別の態様においては、洗浄装置３００の構成の一部分のみが、コントローラー３１０に連結されている。
また、本発明のさらに別の態様においては、コントローラー３１０が装備されておらず、使用者が手入力で実施することを意図しており、特許請求の範囲に記載した洗浄方法である。
【００７０】
なお、コントローラー３１０に連結された様々な構成と、コントローラー３１０との間において、連結自体が明確に示されていないものの、かかる連結は、構成を概略的に明確にするためのものであり、かかる図にいて、部分的省略がなされたものであるということを、当業者は容易に理解できる。
【００７１】
また、洗浄装置３００は、タンク１の形態で処理液の供給部を備えている。また、洗浄装置３００は、１つのタンク、つまりタンク１のみを有している。この場合、タンク１は、水を、洗浄すべきプロセス装置３０２内に導入できるように、供給ポンプに対して水（新鮮水）を供給するために使用することができる。また、タンク１は、プロセス装置３０２に導入する処理液を留置することもできる。さらに、タンク１は、プロセス装置３０２に再注入する所定量の処理液の回収にも使用可能である。
【００７２】
また、本発明のいくつかの実施態様において、タンクが処理液で満たされている場合、タンク１は、以下さらに詳細に説明するように、たとえ、タンクの小さな部分であっても、供給ポンプ６に処理液を供給できるように構成されている。
【００７３】
すなわち、タンク１によれば、さらに詳細に説明するように、プロセス装置３０２内への処理液の注入に先立って、処理液の特性（状態）を調節することができる。しかしながら、本発明の別の態様においては、プロセス装置３０２内への処理液の注入に先立って、処理液の特性（状態）を調整する必要がないものもある。
【００７４】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、タンク１における排出作用は、タンク出口バルブ２を通じて制御可能である。タンクの出口バルブ２が、開栓されている場合には、処理液をタンク１から排出することを可能にし、閉栓されている場合は、処理液の排出を防ぐことが可能である。
【００７５】
また、水（新鮮水）の供給バルブ３は、導管との適切な連結により（図示せず。）、タンク１の所定導管に対して、選択的に、導管水（aqueduct water）の注入を可能にする。しかしながら、本発明の別の態様では、導管との連結がなく、すなわち、これらの態様においては、水の供給バルブ３は必要でない。
【００７６】
また、本発明のいくつかの実施態様においても、タンク水位センサー４が、タンク１中の処理液の水位を測定するために、備え付けられている。かかるタンク水位センサー４によれば、タンク１内に残存している液量を制御することや、上記の方法のいずれかの工程が、タンク１を空にする必要がある場合に、タンク１が空であることを確認すること、または、好ましい本発明の態様において、最初の処理液の初期量がタンク１内に、適切に回収されていることを確認することを可能にする。
【００７７】
また、タンク水位センサー４は、タンク１に処理液が不十分な量しか貯蔵されていないような条件下においては、供給ポンプ６の作動を防ぐことを可能にする。また、本発明のいくつかの実施態様において、タンク１内における処理液の水位が、例えば、タンク１の作動することが危険または適切でない状態や、特にタンク１が作動すべきでない状態の所定の水位を超えた場合、オーバーフローパイプ５から処理液が流出するように、かかるオーバーフローパイプ５が備え付けられている。
【００７８】
また、供給ポンプ６は、タンク１に対して、流体連結しており、流体移動が可能に構成してある。そして、この供給ポンプ６は、第１パイプ部３０５に向かって、強制的に処理液を送出することができるように構成されている。また、本発明のいくつかの実施態様においては、供給ポンプ６を用いて、以下さらに詳細に説明する目的のために、プロセス装置３０２の外側に設けた閉鎖循環回路において、処理液を循環させるができる。
すなわち、供給ポンプ６は、バイパスポンプ５０を通じて供給された処理液を押し出すことを可能にするために、バイパスパイプ５０と流体連結していることが好ましい。
なお、本発明のいくつかの実施態様においては、チェックバルブ７が、供給ポンプ６の下流側に備え付けられており、タンク１に向かって処理液が流れることを防ぐように構成されている。
【００７９】
また、本発明のいくつかの実施態様において、１つまたはそれ以上の飲料可能な導管水の供給部が、プロセス装置３０２と流体連結して、備え付けられている。例えば、図１で示すように、これらの供給部の一つが、三方弁８、および締切り・抽気弁９を備えている。抽気弁９は、導管供給パイプ１０に連結されており、三方弁８に向かって、水等の液体流入を制御することができる。かかる三方弁８によれば、選択的に、洗浄装置３００内における導管水の流入を可能にする。
【００８０】
また、洗浄装置３００において、三方弁８は、しばしば供給ポンプ６から下流側に備え付けられている。しかしながら、同様の装置内で、飲料可能な導管水の供給部の位置は、その他の適当な位置であっても良い。また、本発明のほかの態様においては、１以上の導管水の供給部が備え付けられていても良い。
【００８１】
本発明のいくつかの実施態様において、加工物等の残渣物が、プロセス装置３０２に向かって押し出されるのを防ぐために、濾過器１１が備え付けられている。限定はしないが、例えば、かかる濾過器１１は、ポンプ６の下流側に備え付けられている。しかしながら、本発明の別の態様では、このような濾過器１１が備え付けられていない場合もある。
【００８２】
また、本発明のいくつかの実施態様において、供給流量計１２は、プロセス装置３０２に向かって供給ポンプ６により送出される処理液の流量を測定するために、備え付けられている。しかしながら、本発明の別の態様においては、供給流量計１２は、備え付けられておらず、プロセス装置３０２に供される処理液の定量は、ポンプ６が作動している間の時間間隔を測定することによって行われる。また、本発明のさらに別の態様において、所定量の処理液が送出された場合に、処理液が押し出されるタンク１内の水位センサーが、かかる定量に使用されている。
【００８３】
また、初期の処理液の温度を所望状態に制御する場合、処理液の温度が安定的に調節可能になるように、熱交換器１３が、ポンプ６の下流側に取り付けられている。また、かかる熱交換器１３に、コントローラー３１０に連結している蒸気遮断バルブ１４および蒸気制御バルブ１５を介して、蒸気を流入させているが、かかる蒸気遮断バルブ１４および蒸気制御バルブ１５は、必ずしもコントローラー３１０に連結している必要がないものである。さらに、温度センサー１６が、熱交換器１３の下流側に取り付けられており、これにより、処理液の温度を安定的に調節して、蒸気弁１５を安定的に調節することが可能になる。
【００８４】
また、本発明のいくつかの実施態様において、水および溶質（洗浄物質）は別々に供給され、その後、例として洗剤含有液、酸性溶液、苛性溶液、緩衝液、中性液、酵素含有液、またはプロセス装置３０２を洗浄するのに使用可能なその他の適切な処理液といった処理液を調製するために混合される。また、本発明のいくつかの実施態様においては、生物学的活性を有する混合物を形成するために、水または適切な溶液を、生物学的活性を有する成分と混合することも可能である。
【００８５】
また、これらの態様において、処理液の濃度が検出できるように、処理液濃度の調節が必要とされる。例えば、導電性センサー１７は、溶液中の溶質の導電性に依存している処理液の導電性を検出するために、備え付けられている。そして、かかる溶質の濃度が所定レベルまでに達するように、処理液に水または溶質を添加する。なお、濃度の調節について、以下詳細に説明する。
【００８６】
すなわち、熱交換器１３の下流側において、循環供給バルブ１８は、処理液をプロセス装置３０２に送出を選択的に可能にするため、またはこの送出を防止するために、備え付けられている。そして、処理液の送出が停止されている場合、本発明におけるいくつかの実施態様においては、閉鎖系の循環に、かかる処理液を循環させることができ、さらに、処理液の温度または処理液中の溶質濃度等の処理液の特性を調節することができる。
【００８７】
したがって、循環供給バルブ１８が閉鎖されている場合、処理液は、循環バルブ２０に向かって供給される。一方、循環バルブ部２０が、開放されている場合、処理液は、供給ポンプ６により、閉鎖系のループ（調整回路、循環回路）に供され、そして、タンク１に連結した回収パイプ２１に向かって循環する。この場合、処理液がタンク１に再び循環しており、そしてこの場合、特に温度、処理液中の溶質濃度等の処理液の特性を調節することが可能になる。
【００８８】
実際、温度センサー１６により提供された情報を用いることにより、処理液の温度が所定温度に達するまで、タンク１および熱交換器１３中を、処理液は循環されることになる。また、導電センサー１７によって提供されたデータ情報を用いることにより、処理液は、タンク１に再び循環され、溶質および水の供給部を通過し、そして、ここでは、処理液中の溶質濃度量を示す導電性が、所定値に達するまで、水または溶質が適切に添加するように作動する。また、かかる溶質供給部の例として、タンク１とポンプ６との間に備え付けられた注入口５９がある。かかる注入口５９によれば、上記のように、処理液を作るための適当な物質を注入することを可能にする。
【００８９】
また、循環バルブ２０が閉栓している場合、処理液がプロセス装置３０２内で循環する前に、処理液の向かう先は、回収経路に変更される。ただし、洗浄装置３００中にバルブ２２があることは、全ての本発明の態様において必要とされない。しかしながら、かかるバルブがあることで、洗浄装置３００内の液体の流れがより制御しやすくなり、特に使用時に、タンク１を完全に空にすることと、回収経路を加熱することが、便利になる。
【００９０】
また、プロセス装置３０２中において、加圧は、部分的に、処理液の循環に寄与するものであり、適切な加圧方法により与えられる。例えば、かかる加圧は、プロセス装置３０２中に、特に、噴霧化溶液、圧縮または加圧ガス、もしくは水蒸気の注入することで得られる。さらに、タンク１と、プロセス装置との間に備え付けられた加圧バルブ２３によって、バルブ２４，２６および２７はそれぞれ、噴霧化処理液、圧縮または加圧されたガスまたは蒸気の流れを制御しており、個々に制御されたこれらのバルブの使用により、加圧された流体の注入を実施できる。
【００９１】
また、加圧が、噴霧化溶液の注入により生じる場合において、ノズル２５は、溶液を噴霧化するために備え付けられている。例えば、噴霧化溶液は、プロセス装置３０２に供される処理液の構成と、実質的に類似した構成の化学品溶液（薬品溶液）である。なお、当業者は、ノズル２５が、特に、微細な、またはミスト状の噴流、気化した噴流、霧状の噴流、燻蒸状の噴流、微粉状の吹きつけが調整できる適切なノズルであることは、容易に理解できるものである。また、本発明の別の態様においては、多数の噴霧化溶液の供給部があるものも、全く噴霧化溶液の供給部がないものもある。
【００９２】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、噴霧化溶液は、処理液の構成と実質的に類似している構成であるが、本発明のその他の実施態様においては、噴霧化溶液は、洗浄液の構成を実質的に異なる構成のものである。
【００９３】
さらに、本発明の別の態様において、洗浄すべきプロセス装置３０２の一部分、例えば、第１パイプ部３０５は、電気的に絶縁されており、さらに第１番目のタイプの電荷で帯電されている。そして、噴霧化溶液は、かかる部分に洗浄するのに注入される前に、逆極性の電荷で帯電させることにより、かかる噴霧空気は、帯電したプロセス装置の内面に対して付着しやすくなる。
【００９４】
また、加圧すべく圧縮または加圧ガスを導入する場合において、例えば、空気、窒素、二酸化炭素等の適切なガスが使用される。具体的な例としては、ガスが蒸気である場合が挙げられる。他の例としては、専用の蒸気供給部が備え付けられている。
【００９５】
また、加圧している一方で、蒸気は、洗浄装置３００およびプロセス装置３０２の温度を、調節することができる。また、かかる温度が周囲の温度よりも高い時、洗浄が効果的である場合があるので、このような温度制御は、多くの洗浄工程において好ましいものである。
【００９６】
また、本発明のいくつかの実施態様として、プロセス装置３０２に導入される処理液が発泡されていることが好ましい。かかる場合において、混合チャンバー２８および制限バルブ３１が、発泡化処理液を作成するために、バルブ２３の下流側に備え付けられている。
【００９７】
また、バルブ２３と、プロセス装置３０２との間に、圧力センサー２９および流速計３０等が備え付けられている。これらのセンサー２９、３０は、洗浄工程の状態をモニタリングし、洗浄装置３００の適切な作動を確保するのに役立っている。しかしながら、本発明の別の態様においては、かかる圧力センサー２９や流速計３０は、取り付けられておらず、状態のモニタリングも実施されていない場合もある。
【００９８】
例えば、流速計３０は、加工品等を処理するためのプロセス装置３０２中に導入されるガスや噴霧化空気の量を測定するのに使用することができる。かかる場合、プロセス装置３０２の出口で回収されるガスや噴霧化空気の量のモニタリングは、洗浄工程中のプロセス装置３０２内のリークの最小化を確保するのに役立つ。
【００９９】
また、圧力センサー２９は、設備の故障や機能不全に示される圧力の降下を検知するのに使用できる。さらに、圧力センサー２９は、以下に説明するような、加圧または減圧が実施された場合において、フィードバックをすることにも使用できる。
【０１００】
すなわち、洗浄装置３００において、処理液は、２つの異なる方向で、プロセス装置３０２中を循環している。また、かかる効果のために、２つの三方向バルブ３２および３５が、バルブ２３と流体連結するように、これらのバルブが備え付けられている。なお、三方向バルブ３２および３５は、処理液を、第１パイプ部または第２パイプ部を介してプロセス装置３０２中に導入できるように構成されている。
【０１０１】
したがって、処理液が、選択的に第１パイプ部３０５に注入されて、第２パイプ部を介しての回、または、第２パイプ部３０９に注入されて、第１パイプ部３０５を介しての回収を選択できるように、第１経路バルブ３５および第２経路バルブ３２を選択する。また、プロセス装置３０２内における処理液を、確実に２方向で流入させるために、経路パイプ３７は、第１経路バルブ３５および第２経路バルブ３２に、相互連結されている。
【０１０２】
また、当業者は、本発明の別の態様において、経路バルブ３２および３５が備わっていない場合であっても良いことを容易に理解できる。また、その他の実施例において、処理液は、その他の適切な方法によって、プロセス装置３０２に送られる。
【０１０３】
また、プロセス装置３０２内の２つの異なる部分に、処理液を注入することにより、処理液が比較的到達しにくかったプロセス装置内の部分に、処理液が到達することができるように、洗浄装置３００の性能を向上させるものである。また、望まれる場合において、かかる性能は、蒸気によりプロセス装置３０２をより均一に加熱することにも役立つ。
【０１０４】
また、逆方向の処理液の循環は、真っ直ぐな方向に循環させて、最終的には回収されたり、類似または異なる処理液の他のバッチを用いたりして実施することが好ましい。
【０１０５】
また、吸引ポンプ３８は、プロセス装置３０２中の循環全体中における流体を吸引する減圧部を供するために、プロセス装置３０２の下流側に備え付けられている。但し、本願発明のいくつかの実施態様においては、吸引ポンプ３８は備え付けられておらず、代わりに、下記詳細に説明するように、別の真空部が備え付けられている。
【０１０６】
また、本発明のいくつかの実施態様において、洗浄すべきパイプ部の初期内圧と、パイプ部の第２末端との間に生じた圧力との差と、洗浄すべきパイプ部内の初期の圧力と、高圧発生部により供された圧力との差が、実質的に等しいことが好ましい。また、本発明の他の態様としては、これらの２つの圧力の差は、約１０％以下である。さらに、本発明のさらに別の態様としては、これらの２種類の圧力の差が、適切な値として約１０％である。なお、初期内圧に対して、比較的同じような圧力の加減をする利点としては、プロセス装置３０２内における、液体および気体の拡散に起因する流体的な衝撃を減少させることがある。
【０１０７】
また、本発明のいくつかの実施態様として、その他のチェックバルブ３９が、洗浄装置３００による液の逆流を防止するために、ポンプ３８の下流側に備え付けられている。しかしながら、かかるチェックバルブ３９は、本発明のほかの態様においては、備え付けられていない場合もある。
【０１０８】
また、本発明のいくつかの実施態様において、センサーが、プロセス装置３０２の下流側に、さらに備え付けられている。このようなセンサーの例としては、特に、温度センサー４０、導電センサー４１、真空または圧力センサー４２、流速計４３および流量計４４が含まれる。しかしながら、本発明の別の態様として、上記のセンサーの一部のみを備えているものもある。また、本発明のさらに別の態様として、センサーが全く備わっていないものもある。なお、本発明のいくつかの実施態様として、温度センサー４０、導電センサー４１、真空または圧力センサー４２、流速計４３、および流量計４４の出力を、時間の関数として、洗浄装置３００の過去のデータを供給できるように、記録することが好ましい。
【０１０９】
また、温度センサー４０により、プロセス装置３０２から回収した液体、ガス、またはガスと噴霧化溶液の温度を測定することが好ましい。かかる測定は、溶液またはガスが、所定の回収温度に戻っていることを確認するのに使用することができる。また、温度センサー４０は、洗浄工程が適切な温度で実施されていたことの確認にも使用できる。
【０１１０】
また、導電センサー４１とは、回収した処理液の導電性を測定するものである。このように、プロセス装置３０２から回収した処理液が、洗浄工程に適切に作用することを示す所定量の範囲内にある導電性において、導電性を有することを確認する場合に有効である。また、いくつかの化学品処理（薬品処理）を実施した後のすすぎ段階において、水が使用されており、さらに、所定のすすぎが完了した場合において、回収したすすぎ水の導電性が、ある導電性レベル以下にある場合、すすぎ段階が完了したことを確認できる。
【０１１１】
また、真空または圧力センサー４２とは、回収した液体またはガスの圧力（正圧または負圧）を測定するものである。かかる圧力測定は、洗浄装置３００の様々な部分に高い圧力または低い圧力の適用や、削除するべき場合を決定するのに有用である。
【０１１２】
また、プロセス装置３０２の通過の際に、流速計４３は、導入したガスの変位を測定したり、本発明のいくつかの実施態様では、導入した噴霧化した処理液の変位を測定したりするものである。かかる流速計の測定によれば、プロセス装置３０２全体中において、適切な流速を得ることができる。
【０１１３】
また、流量計４４とは、プロセス装置３０２の内部を通過する際の流体の流量を測定するものである。また、プロセス装置３０２に導入させる流体の実質的に完全な回収を確認することができ、そして、同様に、例えばすすぎ段階等の、所定の操作が実施できることを確認できる。さらに、流量計４４のデータ変換器であれば、プロセス装置３０２内のロスを認識することもできる。
【０１１４】
また、本発明のいくつかの実施態様において、アスピレーターおよび／またはアスピレーター（アスピレーター／ブロワーと表記する場合がある。）４５が、プロセス装置３０２の下流側に備え付けられている。かかるアスピレーター／ブロワー４５は、プロセス装置３０２において、処理液を循環させるのに使用されるものであり、プロセス装置内に、低圧を作り出すのに有用である。また、アスピレーター／ブロワー４５は、高圧条件を作り出すのに使用され、プロセス装置３０２に処理液を送出できるようにする。
【０１１５】
また、本発明のいくつかの実施態様において、噴霧化処理流体は、洗浄装置３００に導入され、その後プロセス装置３０２と、洗浄装置３００との間を循環させることが好ましい。また、これらの態様において、アスピレーター／ブロアー４５は、噴霧化した処理流体を継続的に循環させるための高圧供給源（高圧発生部）に、低圧供給源（低圧発生部）を同時に与えるものである。なお、本発明のほかの実施態様としては、アスピレーター／ブロアー４５が備え付けられていない場合もある。
【０１１６】
また、図１にアスピレーター／ブロアー４５の具体的な位置が図示されているが、当業者ならば、本発明の別の態様においては、アスピレーター／ブロアー４５が、他の適切な位置で取り付けられる場合があることが容易に理解できる。また、本発明のいくつかの実施態様として、吸引ポンプは、ガス、ガス及び噴霧化した薬物液の混合物を、吸引および送出する同一の機能を有しており、アスピレーター／ブロアー４５は必ずしも必要ない。さらに、処理液が循環する経路の長さや大きさに応じて、アスピレーター／ブロアーの組合せが、備え付けられてもよい。また、かかる装置が、本発明の範囲内の態様であれば、かかる装置が洗浄装置３００の一部としてもよい。
【０１１７】
また、回収ブロックバルブ４６および回路ループバルブ４８は、バルブ２２を通過する流体を液体／ガスセパレーター５１または直接タンク１に、再輸送するために備え付けられている。特に、回収ブロックバルブ４６が開放されていて、バルブ４７が閉鎖されている場合には、かかる流体は、プロセス装置３０２に循環する前に、ガスおよび液体を分離する液体／ガスセパレーター５１に向わせている。そして、かかる液体は、例えば、アスピレーター５１と、タンク１との間に備え付けられているバルブ５６を開放することにより、タンク１に、回収、または、他の経路を通じて廃棄される。本発明のいくつかの実施態様において、水位センサーも、セパレーター５１中に含まれる液量を測定するために、セパレーター５１に備え付けられている。
【０１１８】
また、セパレーター５１により生成されるガスに関して、かかるガスは送出されたり、真空ポンプ５４により吸引されたりしてもよい。後者の場合、ガス排気パイプ５２は、脱気バルブ３２２または真空ポンプ５４に、かかるガスを方向付ける三叉バルブ５３に連結されている。本発明のほかの態様においては、真空ポンプ５４が省略されている。
【０１１９】
また、本発明の他の実施態様において、ポンプ５４は、吸引ポンプ３８およびアスピレーター／ブロアー４５のいずれか一つ、または両方を置換することは、上述したように洗浄装置３００に含まれる。さらに、ポンプ３８またはアスピレーター／ブロアー４５を有する本発明の態様においては、真空ポンプ５４は、プロセス装置３０２内に生じる負圧を増加させるのに使用できる。
【０１２０】
また、本発明の他の実施態様において、第１のパイプ部３０５内に生じる負圧（初期圧力に対してマイナス圧）を発生させるのに使用することができる。したがって、負圧の開放につながるように、液体や加圧された気体が第１のパイプ部３０５内に導入される。すなわち、処理液に相対的に迅速に力を付与して、第１のパイプ部３０５の相対的に迅速な洗浄を可能にすることができる。
【０１２１】
また、経路循環パイプ４９は、循環バルブ５６に連結されており、別の循環バルブ４８によって流れ方向を変えることが好ましい。別の循環バルブ４８は、流体連結しているタンク１またはタンク１にバイパスに連結しつつ、洗浄装置３００内に流体を循環させることができるバイパスパイプ５０に対して、流体の流れ方向を変換することが可能である。また、タンク１に迂回させることで、特に、洗浄装置３００の排水を可能にする排水バルブ５８に、別の循環バルブ４８を介して、流体の方向を再び変換することが可能になる。
【０１２２】
また、使用時において、プロセス装置３０２は、初め、処理液が満たされず、空にされている。なお、プロセス装置が、適当な公知な方法で、空にされればよく、プロセス装置３０２の上流側の圧力を増加させることと、プロセス装置３０２の下流側の圧力を減少させることを、同時にまたは択一的に実施することで、残留する加工品等を回収し、プロセス装置内を空にすることもまた、本発明の範囲内の態様である。
【０１２３】
そして、上述したように、処理液は、プロセス装置３０２内に注入されて、循環する。なお、噴霧化処理液または単に処理液が相互に干渉して、実質的に干渉発生する量（coherent volume）の導入について、上述されているが、かかる処理液が実質的に干渉発生する量を連続的に注入することも、当業者ならば本発明の範囲内の態様であると、容易に理解できる。
また、上記に見られる記載は、いわゆる洗浄段階における処理液を注入する一つの実施形態であるが、同種または異なる種類の処理液を使用して、連続的に複数の洗浄段階を実施することも、本発明の範囲内の態様である。さらに、実質的に干渉発生する量の処理液および噴霧化処理液を使用する洗浄段階を組み合わせつつ、プロセス装置３０２を洗浄することもまた、本発明の範囲内の態様である。
【０１２４】
また、図２は、洗浄装置３００に類似した別の洗浄装置３００ａを図示している。かかる洗浄装置３００ａと、上述した洗浄装置３００との差異は、バルブ２および３、水位センサー５１、オーバーフローパイプ５およびバルブ４とともに、タンク１が、備え付けられていない点にある。
その代わりに、タンク１が洗浄装置３００で機能するように、センサー５１が、処理液の貯蔵と、洗浄装置３００に関して記載したように、ガスから液体を分離するのに、使用される。かかる使用により得られる効果のために、バルブ８および９は、導管水の導入が、経路循環パイプ４９において直接的に可能になるように、再配置される。
【０１２５】
また、洗浄装置３００ａの利点として、本発明のいくつかの実施態様においては、洗浄装置３００に必要な部材点数の多くを減らすので、かかる実施態様は、より費用効率がよいものである。
【０１２６】
また、図３は、洗浄装置３００ｂにおいて、真空ポンプ５４および関連バルブが含まれていない本発明の別の態様を図示している。代わりとして、イジェクター４０１が、真空部として備え付けられている。
かかるイジェクターによる効果を発揮するために、遠心ポンプ４０２、またはその他の適当なポンプがセパレーター５０１の出口に連結されており、かかるポンプ４０２は、セパレーター５１から出てきた流体の流れ方向を、プロセス装置３０２と流体連結しているイジェクター４０１に変換する。
【０１２７】
そして、イジェクター４０１に回収された流体の流れ方向は、バルブ４０８に向かって変えられて、かかるバルブ４０８は、バルブ４１３および５６を介して、セパレーター５１またはタンク１に、流体の流れ方向を変換するものである。そして、かかるバルブ４１３によれば、洗浄装置３００ｃから流体を除くことを可能にする。
【０１２８】
また、流体の２つの供給部は、イジェクター４０１に到達する。初めに、セパレーター５１により供された流体が、ポンプ４０２により、イジェクター４０１に送出され、それにより吸引力が発生する。二番目として、プロセス装置を通じて、送出および吸引された液体およびガスは、イジェクター４０１に到達し、ポンプ４０２により送出された液体により生じた吸引力によって、吸引される。
【０１２９】
また、本発明のいくつかの実施態様においては、オーバーフローバルブも、セパレーター５１と連結しており、セパレーター５１からバルブ４１３へ、流体の流れ方向を変換する。
【０１３０】
必要ならば、セパレーター５１を、段階ごとに空にする。かかる場合、セパレーター５１が、実質的に空であることを確認するために、水位センサー４０２が、セパレーター５１の下に取り付けられている。なお、当業者であるならば、セパレーター５１を空にするための洗浄装置３００ｂの様々な構成の作動方法を容易に理解できる。
【０１３１】
また、図４に、洗浄装置３００に類似した別の洗浄装置３００ｃが図示されている。かかる洗浄装置４００ｃにおいて、真空部５４および関連バルブは備え付けられていない。また、真空ポンプ５４も、洗浄装置３００ｃにはないものである。さらに、洗浄装置３００ｃのポンプ６は、ポンプの上流側において流体の吸引をすることと、下流側において流体を送出することの、両方に作用するポンプである。
【０１３２】
したがって、洗浄装置３００ｃおよび、多くの本発明の別の態様は、２工程バッチ方式で実施することが可能である。
まず、第一工程において、ポンプ６は、所定量の処理液をタンク１から送出し、その一方で、ポンプ６を通じて、流体を流せるその他のバルブを閉栓している。そして、ポンプ６は、タンク１からの処理液を、強制的に循環供給バルブ１８からバルブ３１および第１パイプ部３０５中に向かわせる。かかる第一工程において、吸引は実施されない。
しかしながら、ガス／液体セパレーター５１に流入が可能であるプロセス装置３０２から回収したガス（液体とガスの混合、または液体）は、排気、廃棄またはタンク１の何れかに向かって方向転換される。
【０１３３】
また、２番目の工程として、バルブ２は閉栓しており、三叉バルブ４６は、位置を変更し、さらに、バルブ１は閉栓しているが、バルブ２３は開栓している。そして、加圧ガスは、第１パイプ部にバルブ３６を通じて流入して、処理液を送出する圧力の増加を生み出す。また、それと同時に、吸引力が、ポンプ６の吸引によって生じる。
【０１３４】
なお、洗浄装置３００ｃによれば、ポンプ６がガスを循環させるのに効果的である場合、噴霧化処理液を循環させることが可能になる。
【０１３５】
また、図５は、さらに別の洗浄装置の態様を図示しており、かかる態様においては、洗浄装置３００ｄが、プロセス装置の３０２に連結されている。また、かかる洗浄装置３０２ｄは、追加タンクが備え付けられているという点以外は、実質的には上述した洗浄装置３００と類似している。なお、かかる追加タンクの構成例としては、限定はしないが、水（新鮮水）タンク８３、苛性タンク８４、回収すすぎ液タンク８５、酸タンク８６および製品回収サイロ８２等が含まれる。
【０１３６】
そして、バルブ６９，７０，７１および７２は、セパレーター５１により生じた処理液の方向を、選択的に、上述したタンク８４，８５，８６および製品回収サイロ８２のそれぞれに向かって、方向を変換させることができる。すなわち、本発明のかかる態様においては、処理液はプロセス装置３０２を循環する前に、処理液が回収される。
【０１３７】
また、バルブ６３，６５，６６および６７は、タンク８３，８４，８５および８６からの処理液の流れを制御するものである。タンク８３からの流出する処理液は、ポンプ６に向けられている。
【０１３８】
また、図５は、洗浄装置３００ｄが、プロセス装置３０２の異なった複数の部分において、連結可能である本発明の実施態様を図示している。
かかる効果のために、いわゆるＵ字型連結１００および２００が、選択的にパイプ３０９および３０５に対して、プロセス装置部品３０８の異なる部分で連結するように、備え付けられている。また、本発明の別の実施態様においては、適当な切替可能な連結部が備え付けられている。
【０１３９】
したがって、図面で示す本発明の態様において、プロセス装置３０２は、パイプ１０１および１０３を含み、かかるパイプ１０１および１０３は、それぞれパイプ部位３０９および３０５とそれぞれ流体連結するようにＵ字連結部１００および２００に対して、それぞれ連結している。パイプ１０３は，ポンプ７４に至るものである。そして、かかるポンプ７４は、パイプ１０３を介して洗浄装置３００ｄに向かって流体を送出するものである。
【０１４０】
また、製品回収サイロ８２は、プロセス装置３０２内で残留した物質や加工品の少なくとも一部を回収することを可能にしている。実際、プロセス装置３０２を介して、一定の水を循環させて、プロセス装置３０２内に残留物により汚濁した水の流れ方向を、製品回収サイロ８２に向かうように変えることにより、回収水および製品の混合物のさらなる処理が実施可能になる。
【０１４１】
また、添付の表は、図面で示した様々な装置を使用して実施することができる方法の具体例を示している。また、当業者であれば、容易に、表に挙げられた例は、特に限定するものではなく、特許請求した発明について、適切に説明するために供されたものである。しかしながら、これらの具体例は、本発明を制限するということに使用されるものではない。
【０１４２】
また、かかる表は、明確にするために、対応させて表現している。例えば、図５に示した洗浄方法の具体例として、表１Ａおよび１Ｂは、種々のバルブおよび構成部材を含むことを示している。
【０１４３】
また、かかる表において、行は工程を、また、列は図面中に図示された部材を、それぞれ示している。かかる行列中の交差点におけるＸは、この特定の工程の間、特定の部材が、オンまたは開栓の状態であることを示している。例えば、表１Ａの工程１において、締切り・抽気導水管バルブ、経路バルブ、吸引回収ポンプ３８とともに、導水管バルブ８は開栓またはオンの状態であり、表１Ｂで示すように、経路バルブから回収サイロに向かうバルブ６２まで開栓またはオンの状態である。
なお、当業者であれば、かかる記載から、導水管バルブ８および締切り・抽気導水管バルブ９を介して水を注入し、そして、バルブ１８を介して、吸引回収ポンプ３８に向けて、かかる水を送出し、さらに製品回収サイロ８２に到達することは、容易に理解できることである。なお、表１Ａおよび１Ｂで言及されている洗浄装置３００ｄのその他の部材は、オフまたは閉栓の状態である。
【０１４４】
また、典型的には、時期の段階を意味する以下の作用が、洗浄工程中に実施される。そして、かかる段階は、１つまたはそれ以上の工程を含むものである。まず初めに、表中のＲＥＣで表示された回収工程があり、かかる工程において、プロセス装置３０２の中を空にする前に、かかる機器中の残留した製品を回収する。そして、水を使用するすすぎ工程が実施される。かかるすすぎ工程は、一般的に、プロセス装置３０２中に異なった溶液や液体を注入する段階の間に実施される。
【０１４５】
また、実施されるその他の段階の型については、いわゆる洗浄段階があり、かかる段階は、プロセス装置内に、処理液を循環させるものである。例として、工程７から１２は、苛性（強アルカリ）洗浄段階を構成しており、かかる段階においては、プロセス装置３０２中を、苛性溶液が循環する。また、必ずしも必要でないが、一般的に、本洗浄方法の最終段階においては、消毒処理、殺菌処理、除菌処理、無菌処理または滅菌処理の各段階が実施される。
【０１４６】
そして、それぞれの段階において、プロセス装置３０２内に所定量の処理液を循環させる。一般的には、しかし例外的ではないが、例として工程３および４に示されるように、処理液は、プロセス装置３０２内に注入され、そして、かかる機器内に処理液が循環することによって圧力差が生じる。
【０１４７】
また、本発明におけるいくつかの実施態様において、かかる２工程の連続処理手順は、所定の段階の間に１回以上実施され、さらに、前述したプロセス装置３０２内において、まれに、逆流を用いることもある。
【０１４８】
また、表２Ａと２Ｂ、３Ａと３Ｂ、４Ａと４Ｂ、および５Ａと５Ｂは、限定するものではないが、本発明の洗浄方法の具体例を示している。例えば、表２Ａと２Ｂは、洗浄段階において、処理液が発泡化されている場合の洗浄方法を示している。また、３Ａと３Ｂは、噴霧化処理液および実質的に干渉発生する量の処理液の、両方を用いた場合での洗浄方法である。さらに、４Ａと４Ｂは、いくつかの段階において、噴霧化処理液が、プロセス装置３０２内で加圧され、さらに、加圧された噴霧化処理液の下流側に真空装置が備わっている場合の洗浄方法である。また、減圧後の、この加圧により、プロセス装置３０２内の処理液の流速が上昇して、一部の特定のプロセス装置３０２の洗浄方法の効率を改善することができる。また、表５Ａおよび５Ｂは、一部の段階において、プロセス装置３０２内の初期内圧よりも低い圧力で噴霧化処理液を、プロセス装置３０２に注入した洗浄方法を示している。そして、加圧した噴霧化処理液の上流側に、圧力の上昇が生じる一方で、噴霧化処理液のプロセス装置３０２に流入させることができる。加圧後の、この減圧により、プロセス装置３０２内の処理液の流速が上昇して、一部の特定のプロセス装置３０２の洗浄方法の効率を向上させるものである。
【０１４９】
また、図６Ａは、本発明のまた別の態様を示し、かかる態様は、洗浄装置３００ｄが、少なくともサイロ８７を含むプロセス装置３０２´に連結されている。また、図６Ａにおいて、別のサイロ１８７を示す。ただし、洗浄装置３００ｄは、適当なサイロの数を含むプロセス装置に使用可能である。
【０１５０】
また、サイロ８７および１８７は、本技術分野において公知なものであり、一般的にはスプレーボール８８、ドア８９、インプットバルブ５７５およびアウトプットバルブ５７６を有しており、そして、流体を、サイロ８７の内外に流入および廃棄することができる。また、スプレーボール８８は、サイロ８７の内部において、適当な洗浄液を吹き付けることができる。
【０１５１】
また、本発明のいくつかの実施態様によると、サイロ８７およびサイロ１８７の一つを選択的に、または複数のサイロを、洗浄ができるように、トランスファープレート（輸送板）５０３が、備え付けられている。しかしながら、本発明のその他の実施態様において、かかるトランスファープレートは、必ずしも必要ではない。
【０１５２】
端的にいえば、バルブ５７２、バルブ５７３、バルブ５７６およびバルブ５８０等のバルブは、サイロ８７内の洗浄液の流れを制御するために取り付けられている。さらに、具体的にいうと、バルブ５７２およびバルブ５７３によれば、パイプ１０１内に流入するガス、噴霧化溶液または液体を含む流体方向を、サイロ８７および１８７に迂回して流入させたり、パイプ５０３に直接的に戻ってくるようにするために、変換したりすることができる。かかる効果のために、バイパスパイプ５１０が、バルブ５７２と、パイプ１０３との間に備え付けられている。そして、バルブ５７２を開栓し、かつ、バルブ５７３を閉栓している場合、プロセス装置３０２内の処理液は、特定の経路に入ることができる。
【０１５３】
一方で、バルブ５７２を閉栓し、かつ、バルブ５７３を開栓することにより、処理液が最初にサイロ８７内を通過し、パイプ１０３に向かって排水されるように、かかる流体の方向を、サイロ８７に、変換することができる。また、バルブ５８０は、回収パイプ１０３中に取り付けられ、バルブ５８０の上流側に真空装置の適用を制御することができる。
【０１５４】
さらに、ポンプ５７４は、バルブ５７３およびスプレーボール８８の間に備え付けられている。
【０１５５】
サイロ８７の洗浄は、以下の手順で行うことができる。まず初めに、バルブ５７２を閉栓し、そして、開栓したバルブ６７３で、ポンプ５７４を作動する。すると、上述したように、洗浄装置３００ｄにより処理液が注入される。ここで、処理液の下流側のパイプ１０１内で、ポンプ５７４中に、プレッシャードロップ（圧力損失）が生じる一方、処理液の上流において、洗浄装置３００ｄにより圧力上昇が生じる。そして、かかる圧力変化により、パイプ１０１内の処理液が、スプレーボール８８に向かって循環することができる。
【０１５６】
また、処理液が、サイロに到達した場合、ポンプ５７４は、スプレーボール８８に向かって、処理液を送出する。すなわち、従来技術における洗浄装置と違って、洗浄装置３００ｄとともに、図６Ａに示されているプロセス装置は、パイプ１０１の全てを必要としないで、サイロ８７内で所定量の処理液を吹き付けることができ、そしてサイロ８７を処理液で満たすことができる。
【０１５７】
そして、サイロ８７の洗浄は、スプレーボール８８から処理液を吹き付ける工程、吹き付けの前に適当な時間待機する工程、さらに、パイプ１０３に排水をする工程を含む公知の方法で進めることができる。なお、処理液が、洗浄装置３００ｄ内で噴霧化されている本発明の態様においては、スプレーボール８８は、サイロ８７内に噴霧化処理液を導入するために使用されている。
【０１５８】
また、処理液をサイロ８７から排水する場合、バルブ５７３を閉栓し、かつ、バルブ５７２を開栓することにより、パイプ１０３内の処理液の下流側に圧力の増加を生じさせることができる。また、バルブ５８０を開栓し、さらにパイプ１０３内の処理液の上流側において、圧力の低下が生じる。そして、これらの圧力の上昇および低下は、パイプ１０３内において洗浄装置３００ｄに向かって、処理液が循環するようになり、さらに、上述したように同様の方法により処理液が処理される。なお、当業者であれば、本発明の別の態様においても、処理液が、適宜の方法により、パイプ１０１および１０３内を循環していることは容易に理解できる
【０１５９】
また、当業者であるならば、プロセス装置３０２を作動する上記の方法ならば、必ずしもサイロ８７および１８７に、加圧または減圧をする必要なく、パイプ１０１および１０３内の流体を循環できることを容易に理解できる。このことにより、特に可能であるならば、サイロドア８９を開くことができる。しかしながら、サイロ８７および１８７が加圧および減圧に耐久性があるように設計されている場合、バイパスパイプ５１０は省略してもよい。また、後者の場合、適当なバルブ５７３の操作により、サイロ８７および１８７を通じてパイプに、圧力の増加が伝播される。
【０１６０】
図６Ａに示された装置およびプロセス装置の操作方法の例は、限定されるものではないが、表６Ａおよび６Ｂに示されている。
【０１６１】
また、図６Ｂは、本発明の別のプロセス装置３０２´´に関する実施態様を示しており、かかる実施態様において、プロセス装置３０２´と実質的に同一の構成機器に向かって処理液が流れるように構成されているが、かかるプロセス装置３０２´´において、洗浄するべきサイロ８７、１８７、またはその両方に、処理液の流れ方向を変換するための２つのバルブ７７３および７７３´が、トランスファープレート５０３と置き換わっている点で、プロセス装置３０２´とは、異なっていることが分かる。一方、プロセス装置３０２´´の動作は、プロセス装置３０２´の動作とは実質的に類似している。
【０１６２】
また、図６Ｃは、本発明のまた別の実施態様を示しており、かかる実施態様においては、プロセス装置３０２´´´中のサイロ８７および１８７の下流側に、ポンプ７７４があるものである。かかるポンプ７７４は、プロセス装置３０２´´´が設計されている工程において、使用されるポンプであってよい。またバルブ７７５および７７６は、ポンプ７７４により送出された流体をサイロ８７および１８７、または洗浄装置３００ｄに流れ方向を変えることができるように備え付けられている。
【０１６３】
また、ポンプ７７４が、洗浄装置３００ｄとの連結の前に、プロセス装置３０２´´´に既にある場合、本発明のこの態様は、洗浄装置３００ｄの取り付けに関連するコストの低減に寄与する。実際、バイパスパイプ５１０によりポンプ７７４に向かわされた流体は、サイロ８７および１８７にまた流れ方向を変換させされるので、ポンプ７７４があることにより、ポンプ５７４を省略することができる。
【０１６４】
また、図７は、本発明のまた別の態様を示しており、かかる発明は、噴霧化処理液を使用することにより、別のサイロ８７´および１８７´を洗浄する装置に関する発明である。また、サイロ８７´および１８７´は、追加バルブである８７７、８７８、８７９が相互接続して取り付けられている点を除いて、サイロ８７および１８７とは類似している。
【０１６５】
そして、バルブ８７７は、ウオッシュボール８８およびバルブ５７３の間にバルブ８７７が備え付けられている。かかるバルブ８７７は、流体をウオッシュボール８７８に向かわせることを、可能にするまたは防ぐものである。流体が、ウオッシュボール８８に到達するのを防いだ場合、流体はバルブ８７８に向かい、そして次に、流体がインプットバルブ７５に向かうことを認可または防止される。
【０１６６】
また、バルブ８７９は、サイロ８７内において、圧力が安全圧の水準を越えてに上昇することを防止するために備え付けられている。安全圧の水準が認められると、バルブ８７９は、開栓し、ベント８８０を介してガスを脱気する。
【０１６７】
それゆえに、バルブ８７８，８７９および８８０によれば、サイロ８７´および１８７´内に、直接的に噴霧化処理液が向かうことを可能にする。
【０１６８】
さらに、本発明の一部の実施態様において、バイパスバルブ５１０とともに、バルブ５７２および５７３が省略され、サイロ８７´および１８７´を介して処理液の循環が、パイプ１０１および１０３を通じて、処理液が循環されるのと同様に、実施される。
【０１６９】
また、表７Ａおよび７Ｂ、８Ａおよび８Ｂならびに９Ａおよび９Ｂは、図７に示す洗浄装置および構成機器の操作方法の非限定的な方法を示す。
【０１７０】
図面に示された本発明の実施態様において、例えば、染み抜き、表面安定化処理および染色の確認等においても、洗浄方法と同様な操作で実施することも可能である。
【０１７１】
その他、本発明について、上述のように、好ましい実施態様に基づいて説明したが、添付の特許請求の範囲に規定された本発明の精神および特性を逸脱しない限り、本発明の実施態様を変更することが可能である。
【０１７２】
【表１】
2007533437.tif 000030
【０１７３】
【表２】
2007533437.tif 000031
【０１７４】
【表３】
2007533437.tif 000032
【０１７５】
【表４】
2007533437.tif 000033
【０１７６】
【表５】
2007533437.tif 000034
【０１７７】
【表６】
2007533437.tif 000035
【０１７８】
【表７】
2007533437.tif 000036
【０１７９】
【表８】
2007533437.tif 000037
【０１８０】
【表９】
2007533437.tif 000038
【０１８１】
【表１０】
2007533437.tif 000039
【０１８２】
【表１１】
2007533437.tif 000040
【０１８３】
【表１２】
2007533437.tif 000041
【０１８４】
【表１３】
2007533437.tif 000042
【０１８５】
【表１４】
2007533437.tif 000043
【０１８６】
【表１５】
2007533437.tif 000044
【０１８７】
【表１６】
2007533437.tif 000045
【０１８８】
【表１７】
2007533437.tif 000046
【０１８９】
【表１８】
2007533437.tif 000047
【図面の簡単な説明】
【０１９０】
【図１】概略図であって、本発明の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図２】概略図であって、本発明の別の態様による洗浄装置を図示している。
【図３】概略図であって、本発明のまた別の態様による洗浄装置を図示している。
【図４】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置を図示している。
【図５】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置を図示している。
【図６Ａ】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図６Ｂ】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図６Ｃ】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【図７】概略図であって、本発明のさらにまた別の態様による洗浄装置であって、洗浄するためのプロセス装置であり、さらにサイロを有するプロセス装置に連結された状態の洗浄装置を図示している。
【国際調査報告】
2007533437.tif 000048
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