Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月19日(2015.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板と、
前記透光性基板上に設けられたパターン形成用の薄膜とを備えたマスクブランクであって、
前記薄膜は、前記透光性基板側から、下層と、前記下層との間に界面を有して前記下層に接して設けられた上層とを有し、
前記下層は、遷移金属とケイ素とを含有し、さらに窒素および酸素のうち少なくともいずれかを含有し、前記下層に含まれる各元素の含有量の膜厚方向のばらつきが１０原子％以下であり、
前記上層は、その屈折率ｎｂが前記下層の屈折率ｎａよりも低く、その消衰係数ｋｂが前記下層の消衰係数ｋａよりも低い
ことを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記薄膜は、ＡｒＦエキシマレーザ光を所定の位相差で透過させる位相シフト膜である
ことを特徴とする請求項１記載のマスクブランク。
【請求項３】
前記上層は、その屈折率ｎｂと消衰係数ｋｂとが、ｎｂ≦−０．１８９ｋｂ３−０．０３８６ｋｂ２＋０．００２１ｋｂ＋２．１３の関係を満たす
ことを特徴とする請求項１または２に記載のマスクブランク。
【請求項４】
前記上層は、その屈折率ｎｂと消衰係数ｋｂとが前記下層側に向かって大きくなるように膜厚方向の組成が変化している
ことを特徴とする請求項１から３の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項５】
前記薄膜は、前記透光性基板と前記下層との間に、さらに下地層を有し、
前記下地層は、その屈折率ｎｃが前記下層の屈折率ｎａよりも低く、その消衰係数ｋｃが前記下層の消衰係数ｋａよりも低い
ことを特徴とする請求項１から４の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項６】
前記薄膜は、膜応力が３６０ＭＰａ以下である
ことを特徴とする請求項１から５の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項７】
前記上層は、ケイ素と酸素を含有し、金属元素の含有量が１原子％以下である
ことを特徴とする請求項１から６の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項８】
前記下層および上層は、スパッタ法によって形成されたものである
ことを特徴とする請求項１から７の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項９】
前記上層は、膜厚が７ｎｍ以下である
ことを特徴とする請求項１から８の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項１０】
前記下層は、膜厚が４０ｎｍ以上９０ｎｍ以下である
ことを特徴とする請求項１から９の何れかに記載のマスクブランク。
【請求項１１】
透光性基板上に薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、
前記透光性基板上に、遷移金属とケイ素とを含有し、さらに窒素および酸素のうち少なくとも何れかを含有すると共に、含まれる各元素の含有量の膜厚方向のばらつきを１０原子％以下とした下層を成膜する工程と、
前記下層に接して、屈折率ｎｂが前記下層の屈折率ｎａよりも低く、消衰係数ｋｂが前記下層の消衰係数ｋａよりも低い上層を成膜する工程と、
前記上層を成膜した後、前記下層と前記上層とを有する薄膜の膜応力を低減するための加熱処理または光照射処理を行う工程とを有する
マスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
前記薄膜を、ＡｒＦエキシマレーザ光を所定の位相差で透過させる位相シフト膜として形成する
ことを特徴とする請求項１１記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
前記上層を、その屈折率ｎｂと消衰係数ｋｂとが、ｎｂ≦−０．１８９ｋｂ３−０．０３８６ｋｂ２＋０．００２１ｋｂ＋２．１３の関係を満たすように成膜する
ことを特徴とする請求項１１または１２に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１４】
前記上層を成膜する工程は、前記上層の屈折率ｎｂと消衰係数ｋｂとが前記下層側に向かって大きくなるように膜厚方向に組成を変化させる
ことを特徴とする請求項１１から１３の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１５】
前記下層を成膜する前に、屈折率ｎｃが前記下層の屈折率ｎａよりも低く、消衰係数ｋｃが前記下層の消衰係数ｋａよりも低い下地層を、前記透光性基板の上部に成膜する工程を行ない、
前記下地層を含む前記薄膜を形成する
ことを特徴とする請求項１１から１４の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１６】
前記加熱処理または光照射処理により、前記薄膜の膜応力を３６０ＭＰａ以下に低減させる
ことを特徴とする請求項１１から１５の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１７】
前記上層を成膜する工程は、ケイ素と酸素を含有し、金属元素の含有量が１原子％以下となるように前記上層を成膜する
ことを特徴とする請求項１１から１６の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１８】
前記下層を成膜する工程および上層を成膜する工程は、スパッタ法による成膜を行う
ことを特徴とする請求項１１から１７の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１９】
前記上層を成膜する工程は、７ｎｍ以下の膜厚で前記上層を成膜する
ことを特徴とする請求項１１から１８の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２０】
前記下層を成膜する工程は、４０ｎｍ以上９０ｎｍ以下の膜厚で前記下層を成膜する
ことを特徴とする請求項１１から１９の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２１】
請求項１から１０の何れかに記載のマスクブランクにおける前記薄膜をパターニングすることによって転写パターンを形成する工程を備えた
ことを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項２２】
請求項１１から２０の何れかに記載のマスクブランクの製造方法で製造されたマスクブランクにおける前記薄膜をパターニングすることによって転写パターンを形成する工程を備えた
ことを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項２３】
請求項２１または２２に記載の転写用マスクの製造方法で製造された転写用マスクを用い、基板上のレジスト膜に対して前記転写パターンを露光転写する工程を備えた
ことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、リソグラフィーによる微細加工に適用されるマスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月12日(2015.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像情報に応じた潜像を表面に担持する潜像担持体と、
上記潜像担持体上の潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
上記潜像担持体上のトナー像を、記録材へ直接転写し、又は中間転写体を介して記録材へ転写する転写手段と、
所定のトナー強制消費制御実施条件が満たされたとき、当該現像装置内のトナーを強制的に消費するトナー強制消費制御を実施するトナー強制消費制御手段とを有する画像形成装置において、
所定の転写バイアス切替条件に従って、記録材へトナー像を転写するときに上記転写手段が印加する転写バイアスを、直流成分のみからなる直流転写バイアス、又は、直流成分に交流成分が重畳していて極性が時間変化する重畳転写バイアスへ切り替える転写バイアス切替手段を有し、
上記トナー強制消費制御手段は、連続画像形成動作中における画像情報に応じた潜像を現像する現像処理期間から外れた非現像処理期間に、上記トナー強制消費制御を実施する画像間トナー強制消費制御を行うものであり、
上記トナー強制消費制御手段は、上記連続画像形成動作の転写バイアスが上記重畳転写バイアスである場合、該連続画像形成動作の転写バイアスが上記直流転写バイアスである場合よりも、該連続画像形成動作中に行う画像間トナー強制消費制御で強制的に消費されるトナー量が少なくなるように制御することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１の画像形成装置において、
過去の所定期間内に形成した画像の画像面積率を記憶する画像面積率記憶手段を有し、
上記トナー強制消費制御手段は、上記画像面積率記憶手段に記憶された画像面積率に応じて、上記画像間トナー強制消費制御で強制的に消費させるトナー量を決定し、決定したトナー量が該連続画像形成動作中に強制的に消費されるように該画像間トナー強制消費制御を行うことを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２の画像形成装置において、
上記トナー強制消費制御手段は、上記転写バイアス切替手段が上記重畳転写バイアスから上記直流転写バイアスへ切り替えるという事前トナー強制消費制御実施条件が満たされたとき、該直流転写バイアスを用いた画像形成動作を開始する前に上記トナー強制消費制御を実施する事前トナー強制消費制御を行うことを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項２の画像形成装置において、
上記トナー強制消費制御手段は、上記転写バイアス切替手段が上記重畳転写バイアスから上記直流転写バイアスへ切り替えるという事前トナー強制消費制御実施条件が満たされたとき、該直流転写バイアスを用いた画像形成動作を開始する前に上記トナー強制消費制御を実施する事前トナー強制消費制御を行うものであり、
更に、上記トナー強制消費制御手段は、上記事前トナー強制消費制御実施条件が満たされたとき、その直前の重畳転写バイアスを用いた画像形成動作によって形成された画像の画像面積率に応じて上記事前トナー強制消費制御を行うか否かを決定し、該事前トナー強制消費制御を行わないことを決定したときは該事前トナー強制消費制御を行わないことを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置において、
上記重畳転写バイアスは、時間平均値（Ｖａｖｅ）が、トナー像を潜像担持体又は中間転写体側から記録材側に転写させる転写方向の極性に設定され、かつ、最大値と最小値の中心値（Ｖｏｆｆ）よりも該転写方向寄りに設定されたものであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
画像情報に応じた潜像を表面に担持する潜像担持体と、
上記潜像担持体上の潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
上記潜像担持体上のトナー像を、記録材へ直接転写し、又は中間転写体を介して記録材へ転写する転写手段と、
記録材へトナー像を転写するときに上記転写手段が印加する転写バイアスを、直流成分のみからなる直流転写バイアスと、直流成分に交流成分が重畳していて極性が時間変化する重畳転写バイアスとの間で切り替える転写バイアス切替手段と、
上記転写バイアス切替手段が上記転写バイアスを上記重畳転写バイアスから上記直流転写バイアスへ切り替えるとき、該直流転写バイアスを用いた画像形成動作を開始する前に上記現像装置内のトナーを強制的に消費するトナー強制消費制御手段とを有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、画像情報に応じた潜像を表面に担持する潜像担持体と、上記潜像担持体上の潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、上記潜像担持体上のトナー像を、記録材へ直接転写し、又は中間転写体を介して記録材へ転写する転写手段と、所定のトナー強制消費制御実施条件が満たされたとき、当該現像装置内のトナーを強制的に消費するトナー強制消費制御を実施するトナー強制消費制御手段とを有する画像形成装置において、所定の転写バイアス切替条件に従って、記録材へトナー像を転写するときに上記転写手段が印加する転写バイアスを、直流成分のみからなる直流転写バイアス、又は、直流成分に交流成分が重畳していて極性が時間変化する重畳転写バイアスへ切り替える転写バイアス切替手段を有し、上記トナー強制消費制御手段は、連続画像形成動作中における画像情報に応じた潜像を現像する現像処理期間から外れた非現像処理期間に、上記トナー強制消費制御を実施する画像間トナー強制消費制御を行うものであり、上記トナー強制消費制御手段は、上記連続画像形成動作の転写バイアスが上記重畳転写バイアスである場合、該連続画像形成動作の転写バイアスが上記直流転写バイアスである場合よりも、該連続画像形成動作中に行う画像間トナー強制消費制御で強制的に消費されるトナー量が少なくなるように制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月12日(2016.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
前記(１)(２)の２種の乳酸エステルからなる混合溶媒の、非水性インクジェットインクの総量中の配合割合は、次に説明するバインダ樹脂や染料等の残量である。すなわちバインダ樹脂、染料その他に、前記の割合で２種の乳酸エステルを配合した混合溶剤を加えて、総量が１００質量％となるようにすればよい。
〈バインダ樹脂〉
バインダ樹脂としては、前記乳酸エステル(１)(２)の混合溶剤に対して溶解性を有する種々のバインダ樹脂がいずれも使用可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
○：２５分以内にろ過が完了した。安定性良好。
△：２５分を超え、３５分以内にろ過が完了した。実用レベル。
×：３５分を超えてもろ過が完了しなかった。安定性不良。
〈安定性評価II〉
前記各実施例、比較例の非水性インクジェットインクを４５℃で１か月間静置したのち、２５０ｍｌを分取して、８μｍメッシュフィルタでろ過するのに要した時間を計測し、下記の基準で、貯蔵時の安定性低下の有無を評価した。この場合も、安定性の低下による析出分が多いほど、ろ過に要する時間は長くかかることになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
○：２５分以内にろ過が完了した。安定性良好。
△：２５分を超え、３５分以内にろ過が完了した。実用レベル。
×：３５分を超えてもろ過が完了しなかった。安定性不良。
〈定着性評価〉
前記ピエゾ方式のオンデマンド型のインクジェットプリンタを用いて、前記各実施例、比較例の非水性インクジェットインクにより、ポリプロピレンフィルムの表面に、幅１ポイントの罫線を印刷した。そして１日間、自然乾燥させた後、爪による引っ掻き（スクラッチ）試験をして、下記の基準で、定着性を評価した。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月25日(2016.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
射撃側の送信装置から標的側の受信装置へレーザデータを含むレーザ光を発射することによって、砲弾を模擬した射撃訓練システムにおいて、
前記送信装置は、
前記砲弾を発射する砲身の射角を検出し、射角情報を出力する射角検出手段と、
ＧＰＳから前記送信装置の位置情報を取得する第１の位置検出手段と、
砲弾発射操作をシミュレートする模擬発射装置の模擬発射操作がされた場合に前記射角情報と前記第１の位置情報とを有するレーザデータを含むレーザ光を発射するレーザ発射手段と、を備え、
前記受信装置は、
前記送信装置から発射されたレーザ光を受光し、前記レーザデータを出力する受光手段と、
ＧＰＳから前記受信装置の位置情報を取得する第２の位置検出手段と、
命中の有無及び損耗のレベル判定を行うための命中／損耗判定テーブルとを有し、
前記受光手段から出力された前記レーザデータを解析し、得られた前記射角情報及び前記第１の位置情報と、前記第２の位置情報を基に、前記命中／損耗判定テーブルを参照して命中の有無及び損耗のレベル判定を行う命中／損耗判定手段と、
を備えることを特徴とする射撃訓練システム。
【請求項２】
請求項１に記載の射撃訓練システムであって、
前記射角検出手段は、角度センサを備え、砲身の射角を検知し、方位と仰角（あるいは俯角）を示す射角情報を出力するものであって、
当該砲弾を発射する送信装置の種類に応じて、当該砲弾の自由落下する射程距離が設定されたことを特徴とする射撃訓練システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の射撃訓練システムであって、
前記レーザデータは少なくとも、射撃した送信装置を特定する個別番号である個別番号と、当該送信装置の器材を特定する器材コードと、当該送信装置の弾種を特定する弾種コードと、前記第１の位置情報と、前記射角検出手段から取得した射角情報とを含むことを特徴とする射撃訓練システム。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３に記載の射撃訓練システムであって、
前記受信装置は現示手段を備え、当該受信装置がレーザ光を受光した場合に前記命中／損耗判定手段による損耗のレベル判定に応じて、所定の現示を行うことを特徴とする射撃訓練システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月15日(2015.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、
Ｍｏ：０．１〜２．０％、
Ｆｅ：０．０５〜１％、
Ｍｎ：０．０５〜０．５％、
Ｓｉ：０．０１〜０．１％、
Ｖ：０．００１〜０．０８％、
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物からなり、不可避不純物としてのＣ：０．０５％以下であることを特徴とする硫化水素およびセレン化水素に対する耐侵食性に優れたＮｉ基合金。
【請求項２】
質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、
Ｍｏ：０．１〜２．０％、
Ｆｅ：０．０５〜１％、
Ｍｎ：０．０５〜０．５％、
Ｓｉ：０．０１〜０．１％、
Ｖ：０．００１〜０．０８％、
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
さらに
Ａｌ：０．００５〜０．３％、
Ｔｉ：０．０００５〜０．０３％
残りがＮｉおよび不可避不純物からなり、不可避不純物としてのＣ：０．０５％以下であることを特徴とする硫化水素およびセレン化水素に対する耐侵食性に優れたＮｉ基合金。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のＮｉ基合金からなることを特徴とする硫化水素およびセレン化水素に対する耐侵食性に優れた装置構成部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、
「（１）質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、Ｍｏ：０．１〜２％、Ｆｅ：０．０５〜１％、Ｍｎ：０．０５〜０．５％、Ｓｉ：０．０１〜０．１％、Ｖ：０．００１〜０．０８％、Ｂ：０．０００１〜０．０１％、Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物からなることを特徴とする硫化水素およびセレン化水素に対する耐侵食性に優れたＮｉ基合金。
（２）質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、Ｍｏ：０．１〜２％、Ｆｅ：０．０５〜１％、Ｍｎ：０．０５〜０．５％、Ｓｉ：０．０１〜０．１％、Ｖ：０．００１〜０．０８％、Ｂ：０．０００１〜０．０１％、Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
さらに、Ａｌ：０．００５〜０．３％、Ｔｉ：０．０００５〜０．０３％の内の１種または２種を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物からなることを特徴とする硫化水素およびセレン化水素に対する耐侵食性に優れたＮｉ基合金。
（３）前記（１）または（２）に記載のＮｉ基合金からなることを特徴とする硫化水素およびセレン化水素に対する耐侵食性に優れた装置構成部材。」
を特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
Ｃｒ：
Ｃｒは、Ｎｉ基合金の表面に濃縮してＣｒ２Ｏ３を主体とする不働態皮膜を形成することにより、デポジットしたＳｅやＳが直接金属と接し反応してしまうことを抑制する。特に、母材であるＮｉはＳと反応し低融点の硫化ニッケルを形成することにより急激に侵食が進むため、本来、Ｎｉ合金は耐硫化性に劣るとされる。しかし、不働態皮膜の組成中に占めるＣｒ２Ｏ３比率を高めることにより、ＮｉＯ比率を低減し、ＳがＮｉ成分と接触する機会を減じることにより耐硫化性が著しく改善される。そのためには、４３質量％（以下、「質量％」を単に「％」で示す。）を超えてＣｒを含有することが必要であるが、５０％を超えて含有すると加工が困難となる。そのため、Ｃｒの含有量を４３％を超え５０％以下とした。好ましくは、Ｃｒ：４３％を超え４５％以下である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【表１】
2014145108.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【表２】
2014145108.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月15日(2015.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、
Ｃｒ：６〜８％、  
Ｍｏ：１５〜１７％、  
Ｆｅ：０．０５〜２％、
Ｍｎ：０．０５〜０．２％、  
Ｓｉ：０．０１〜０．２％、  
Ｖ：０．００１〜０．０８％、  
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％、
Ｎ：０．００１〜０．０４％、
Ａｌ：０．００５〜０．１％、
Ｔｉ：０．００５〜０．１％  を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ： ０．０１％以下であることを特徴とするフッ化物溶融塩に対する耐食性に優れたＮｉ基合金。
【請求項２】
質量％で、
Ｃｒ：６〜８％、  
Ｍｏ：１５〜１７％、  
Ｆｅ：０．０５〜２％、
Ｍｎ：０．０５〜０．２％、  
Ｓｉ：０．０１〜０．２％、  
Ｖ：０．００１〜０．０８％、  
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％、
Ｎ：０．００１〜０．０４％、
Ａｌ：０．００５〜０．１％、
Ｔｉ：０．００５〜０．１％  を含有し、
さらに
Ｃｕ：０．０１〜０．３５％を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ： ０．０１％以下であることを特徴とするフッ化物溶融塩に対する耐食性に優れたＮｉ基合金。
【請求項３】
請求項１または２に記載のＮｉ基合金からなるフッ化物溶融塩に対する耐食性に優れた装置構成部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記知見に基づいてなされたものであって、
「（１）質量％で、
Ｃｒ：６〜８％、
Ｍｏ：１５〜１７％、
Ｆｅ：０．０５〜２％、  
Ｍｎ：０．０５〜０．２％、  
Ｓｉ：０．０１〜０．２％、  
Ｖ：０．００１〜０．０８％、  
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％、  
Ｎ：０．００１〜０．０４％、
Ａｌ：０．００５〜０．１％、
Ｔｉ：０．００５〜０．１％  を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ： ０．０１％以下であることを特徴とするフッ化物溶融塩に対する耐食性に優れたＮｉ基合金。
（２）質量％で、
Ｃｒ：６〜８％、  
Ｍｏ：１５〜１７％、  
Ｆｅ：０．０５〜２％、
Ｍｎ：０．０５〜０．２％、  
Ｓｉ：０．０１〜０．２％、  
Ｖ：０．００１〜０．０８％、  
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％、
Ｎ：０．００１〜０．０４％、
Ａｌ：０．００５〜０．１％、
Ｔｉ：０．００５〜０．１％  を含有し、
さらに
Ｃｕ：０．０１〜０．３５％を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ： ０．０１％以下であることを特徴とするフッ化物溶融塩に対する耐食性に優れたＮｉ基合金。
（３）前記（１）または（２）に記載のＮｉ基合金からなるフッ化物溶融塩に対する耐食性に優れた装置構成部材。」
を特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
Ｃｒ：
Ｃｒは、フッ化物溶融塩に対して耐食性を劣化させる元素である一方、フッ化物溶融塩に直接接しない、例えば、大気酸化を抑制する元素として最低限の含有が必要となる。高温の耐酸化性を向上させるためには、６質量％（以下、「質量％」を単に「％」で示す。）以上のＣｒを含有が必要であるが、８％を超えて含有するとフッ化物溶融塩に対する耐食性が著しく劣化する。そのため、Ｃｒの含有量を６〜８％とした。好ましくは、Ｃｒ：６．５〜７．５％である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【表１】
2014145106.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【表２】
2014145106.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【表３】
2014145106.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月15日(2015.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、
Ｍｏ：０．１〜２．０％、
Ｆｅ：０．０５〜１％、
Ｍｎ：０．０５〜０．５％、
Ｓｉ：０．０１〜０．１％、
Ｖ：０．００１〜０．０８％、
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ：０．０５％以下であることを特徴とする耐高温腐食性に優れたＮｉ基合金防食板。
【請求項２】
質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、
Ｍｏ：０．１〜２．０％、
Ｆｅ：０．０５〜１％、
Ｍｎ：０．０５〜０．５％、
Ｓｉ：０．０１〜０．１％、
Ｖ：０．００１〜０．０８％、
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
さらに
Ａｌ：０．００５〜０．３％、
Ｔｉ：０．０００５〜０．０３％
の内の１種または２種を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ：０．０５％以下であることを特徴とする耐高温腐食性に優れたＮｉ基合金防食板。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の耐高温腐食性に優れたＮｉ基合金防食板を触火面にろう付接合したことを特徴とするディーゼルエンジン用排気弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、
「（１）質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、
Ｍｏ：０．１〜２．０％、
Ｆｅ：０．０５〜１％、
Ｍｎ：０．０５〜０．５％、
Ｓｉ：０．０１〜０．１％、
Ｖ：０．００１〜０．０８％、
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ：０．０５％以下であることを特徴とする耐高温腐食性に優れたＮｉ基合金防食板。
（２）質量％で、
Ｃｒ：４３％を超え５０％以下、
Ｍｏ：０．１〜２．０％、
Ｆｅ：０．０５〜１％、
Ｍｎ：０．０５〜０．５％、
Ｓｉ：０．０１〜０．１％、
Ｖ：０．００１〜０．０８％、
Ｂ：０．０００１〜０．０１％、
Ｍｇ：０．００１〜０．０２％を含有し、
さらに
Ａｌ：０．００５〜０．３％、
Ｔｉ：０．０００５〜０．０３％
の内の１種または２種を含有し、
残りがＮｉおよび不可避不純物から成り、不可避不純物としてのＣ：０．０５％以下であることを特徴とする耐高温腐食性に優れたＮｉ基合金防食板。
（３）前記（１）または（２）に記載の耐高温腐食性に優れたＮｉ基合金防食板を触火面にろう付接合したことを特徴とするディーゼルエンジン用排気弁。」
を特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
Ｃｒ：
Ｃｒは、Ｎｉ基合金の表面に濃縮してＣｒ２Ｏ３を主体とする不働態皮膜を形成することにより、サルファーアタックやバナジウムアタックなどの高温腐食に対して優れた耐侵食性を発揮する。特に、母材であるＮｉはＳと反応し低融点の硫化ニッケルを形成することにより急激に侵食が進むため、本来、Ｎｉ合金は耐硫化性に劣るとされている。しかし、不働態皮膜の組成中に占めるＣｒ２Ｏ３比率を高めることにより、ＮｉＯ比率を低減し、ＳがＮｉ成分と接触する機会を減じることにより耐硫化性が著しく改善される。そのためには、４３質量％（以下、「質量％」を単に「％」で示す。）を超えてＣｒを含有することが必要であるが、５０％を超えて含有すると加工が困難となる。そのため、Ｃｒの含有量を４３％を超え５０％以下とした。好ましくは、Ｃｒ：４３％を超え４５％以下である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【表１】
2014145107.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【表２】
2014145107.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月25日(2015.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
人体頭部に装着される画像表示装置であって、
レーザー光を射出する光源と、
前記レーザー光を第１レーザー光と第２レーザー光とに分岐する分岐部と、
前記第１レーザー光を鏡に反射させ前記鏡を回動させて描画する描画部と、
前記鏡の回動を制御する制御部と、
前記描画部が描画していることを前記第２レーザー光を拡散させて外部に報知する報知部と、を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像表示装置であって、
前記第１レーザー光の光強度は前記第２レーザー光の光強度より弱いことを特徴とする画像表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の画像表示装置であって、
前記分岐部は前記レーザー光の一部を透過させる反射膜を用いて前記レーザー光を前記第１レーザー光と前記第２レーザー光とに分岐させることを特徴とする画像表示装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記レーザー光は色の異なる複数の光線からなり、前記分岐部は複数の前記光線の合成と分岐とを行うことを特徴とする画像表示装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記第２レーザー光は赤色であることを特徴とする画像表示装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記レーザー光は光源用光ファイバーにより導光され、前記第１レーザー光は第１光ファイバーにより導光され、前記第２レーザー光は第２光ファイバーにより導光され、
前記分岐部では前記光源用光ファイバーの端面に前記第１光ファイバーの端面と前記第２光ファイバーの端面とが接続され、前記光源用光ファイバーの端面と接続する場所の前記第１光ファイバーの端面の面積は前記第２光ファイバーの端面の面積より狭いことを特徴とする画像表示装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
撮像装置を備え、前記報知部は前記第２レーザー光を拡散させて前記撮像装置が撮影中であることを報知することを特徴とする画像表示装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記第２レーザー光の光強度を弱くする減光部を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記減光部は前記第２レーザー光の光強度に対応して前記第２レーザー光を減光し前記報知部が拡散する光強度の変動を抑制することを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記描画部を前記人体頭部に支持する支持部を備え、
前記報知部は前記人体頭部の前面及び側面から見える場所の前記支持部に設置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の画像表示装置であって、
前記報知部は前記人体頭部の前面から見て右側の前記側面と左側の前記側面とから見える場所の前記支持部に設置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１２】
人体頭部に装着される画像表示装置であって、
レーザー光を射出する光源と、
前記レーザー光を第１レーザー光と第２レーザー光とに分岐する分岐部と、
前記第１レーザー光により描画する描画部と、
前記描画部が描画していることを前記第２レーザー光により外部に報知する報知部と、を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の画像表示装置であって、
前記第１レーザー光の光強度は前記第２レーザー光の光強度より弱いことを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と、
前記第一基板に対向するように配置される第二基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第二基板に設けられた第二反射膜と、
前記第一基板に設けられた第一制御電極と、
前記第二基板に設けられ、前記第一制御電極に対向する第二制御電極と、
前記第一制御電極に、前記第一基板の基板面に沿った第一方向に第一制御電流を流し、前記第二制御電極に、前記第二基板の基板面に沿い、かつ前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記第一方向とは逆方向の第二方向に第二制御電流を流す傾斜制御部と、
を備えたことを特徴とする光学モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の光学モジュールにおいて、
前記第一制御電極と前記第二制御電極との間のギャップ寸法は、前記第一反射膜及び前記第二反射膜間のギャップ寸法よりも小さい
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項３】
請求項２に記載の光学モジュールにおいて、
前記第一制御電極は、前記平面視において前記第一反射膜の外に設けられており、
前記第二制御電極は、前記平面視において前記第二反射膜の外に設けられている
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項４】
請求項２に記載の光学モジュールにおいて、
前記第一制御電極は、前記平面視において前記第一反射膜と重畳して設けられており、
前記第二制御電極は、前記平面視において前記第二反射膜と重畳して設けられている
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項５】
請求項２から請求項４のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記第一制御電極及び前記第二制御電極の少なくともいずれか一方には、前記第一制御電極及び前記第二制御電極の他方に対向する面に絶縁膜が設けられた
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜の間のギャップ寸法を変更するギャップ変更部を備えた
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項７】
請求項６に記載の光学モジュールにおいて、
前記傾斜制御部は、前記ギャップ変更部により前記ギャップ寸法を変更した際に、前記ギャップ寸法の変動が収束するまでの間、前記第一制御電流及び前記第二制御電流を流す
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項８】
導電性の第一反射膜と、
前記第一反射膜に対向する導電性の第二反射膜と、
前記第一反射膜に、前記第一反射膜の面方向に沿う第一方向に第一制御電流を流し、前記第二反射膜に、前記第一方向とは逆方向の第二方向に第二制御電流を流す傾斜制御部と、
を備えたことを特徴とする光学モジュール。
【請求項９】
請求項８に記載の光学モジュールにおいて、
前記第一反射膜が設けられた第一基板と、
前記第二反射膜が設けられた第二基板と、
を備えたことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１０】
請求項８または請求項９に記載の光学モジュールにおいて、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜の間のギャップ寸法を変更するギャップ変更部を備える
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学モジュールにおいて、
前記傾斜制御部は、前記ギャップ変更部により前記ギャップ寸法を変更した際に、前記ギャップ寸法の変動が収束するまでの間、前記第一制御電流及び前記第二制御電流を流す
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１２】
請求項８から請求項１１のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記第一反射膜は複数設けられ、これらの複数の前記第一反射膜が電気的に接続されており、
前記第二反射膜は、複数の前記第一反射膜に対応して複数設けられ、これらの複数の第二反射膜が電気的に接続されている
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜の間のギャップ寸法を検出するギャップ検出部を備え、
前記傾斜制御部は、前記ギャップ検出部により検出されたギャップ寸法に応じて、前記第一制御電流及び前記第二制御電流を制御する
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１４】
請求項１から請求項１３のいずれかに記載の光学モジュールと、
前記光学モジュールを制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１５】
請求項１から請求項１３のいずれかに記載の光学モジュールと、
前記光学モジュールを制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１６】
第一基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第一反射膜に対向する第二反射膜と、
前記第一基板に設けられ、前記第一基板の基板面に沿った第一方向に第一制御電流が流れる第一制御電極と、
前記第二基板に設けられ、前記第一制御電極に対向して、前記第一基板の厚み方向から見た平面視において前記第一方向とは逆方向となる第二方向に第二制御電流が流れる第二制御電極と、
を備えたことを特徴とする光学モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一態様の光学モジュールは、第一基板と、前記第一基板に対向するように配置される第二基板と、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられた第二反射膜と、前記第一基板に設けられた第一制御電極と、前記第二基板に設けられ、前記第一制御電極に対向する第二制御電極と、前記第一制御電極に、前記第一基板の基板面に沿った第一方向に第一制御電流を流し、前記第二制御電極に、前記第二基板の基板面に沿い、かつ前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記第一方向とは逆方向の第二方向に第二制御電流を流す傾斜制御部と、を備えたことを特徴とする。
また、上記の本発明に係る光学モジュールは、第一基板と、前記第一基板に対向して配置される第二基板と、前記第一基板に設けられ、入射光の一部を反射し一部を透過する第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜に対向し、入射光の一部を反射し一部を透過する第二反射膜と、前記第一基板に設けられた第一制御電極と、前記第二基板に設けられ、前記第一制御電極に対向する第二制御電極と、前記第一制御電極に、前記第一基板の基板面に沿った第一方向に第一制御電流を流し、前記第二制御電極に、前記第二基板の基板面に沿い、かつ前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記第一方向とは逆方向となる第二方向に第二制御電流を流す傾斜制御部と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月19日(2016.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズを遮蔽する閉状態と前記レンズを露出する開状態との間で遷移する第１および第２の遮蔽部材と、
前記第１および第２の遮蔽部材を駆動して、前記閉状態または開状態に遷移させる駆動部材とを備え、
前記第２の遮蔽部材が備える、前記第１の遮蔽部材との第１の当接面の一部が、前記第１の遮蔽部材が備える、前記第２の遮蔽部材との第２の当接面の作動範囲内に位置する
ことを特徴とするバリア装置。
【請求項２】
前記第２の遮蔽部材は、前記第１の遮蔽部材との合わせ面が、前記駆動部材により前記開状態になるように回動する前記第１の遮蔽部材の先端部に押されることによって回動して、前記閉状態から前記開状態に遷移する
ことを特徴とする請求項１に記載のバリア装置。
【請求項３】
前記第２の遮蔽部材は、前記第１の当接面が、前記駆動部材により前記閉状態になるように回動する前記第１の遮蔽部材の前記第２の当接面に押されることによって回動して、前記開状態から前記閉状態に遷移する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のバリア装置。
【請求項４】
前記第１の遮蔽部材と前記第２の遮蔽部材は、互いに逆方向に回動する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項５】
前記第２の遮蔽部材は、前記閉状態または前記開状態のいずれの状態においても、前記第１の遮蔽部材の第２の当接面より光軸方向被写体側にある
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項６】
前記第１および第２の遮蔽部材を回転可能に保持する遮蔽筒を備え、
前記遮蔽筒は、前記第２の遮蔽部材に設けられた回転穴と嵌合する回転軸を有しており、
前記第２の遮蔽部材は、前記回転軸と前記回転穴との嵌合長より光軸方向に長い長手部を有している
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項７】
前記長手部は、前記回転軸を挟んで光軸と反対側に設けられている
ことを特徴とする請求項６に記載のバリア装置。
【請求項８】
前記閉状態の時に、前記第１の遮蔽部材と前記第２の遮蔽部材とで構成される形状は、前記遮蔽筒の被写体側へ取り付けられたカバー部材の開口部に近似する
ことを特徴とする請求項６または請求項７に記載のバリア装置。
【請求項９】
前記閉状態において、前記第１の遮蔽部材の先端部は、前記第２の遮蔽部材の前記第１の当接面より光軸方向被写体側にある
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項１０】
前記閉状態の時に、前記第２の遮蔽部材の先端部に設けられた第３の当接面が、前記第１の遮蔽部材の合わせ面と当接することで、前記開状態を維持する
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のバリア装置を備えるレンズ鏡筒。
【請求項１２】
請求項１１に記載のレンズ鏡筒を備える撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月19日(2016.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
沈胴状態から繰り出して撮影可能状態となるレンズ鏡筒のバリア装置であって、
レンズを外部に露出させる開口部を開閉する遮蔽部材と、
前記遮蔽部材を駆動する駆動部材と、
光軸方向の前記レンズと前記駆動部材との間隔が、前記レンズ鏡筒が沈胴状態のときは第１距離であり、前記レンズ鏡筒が撮影可能状態のときは前記第１距離よりも小さい第２距離であり、撮影可能状態で前記駆動部材により前記遮蔽部材が開いた後のスペースに前記レンズを移動させて前記間隔を変更する間隔変更部材を備え、
前記駆動部材は、撮影可能状態で外力が加わった場合に前記駆動部材が前記レンズを受ける受け面部を有することを特徴とするバリア装置。
【請求項２】
前記駆動部材の受け面部は、撮影可能状態で外力が加わった場合に前記レンズの光学的な有効範囲外の部分を受けることを特徴とする請求項１に記載のバリア装置。
【請求項３】
前記駆動部材は、前記開口部の短辺方向に位置する複数の前記受け面部を有することを特徴とする請求項２に記載のバリア装置。
【請求項４】
前記間隔変更部材は、光軸方向における前記レンズと前記駆動部材との相対的な位置関係を規制するカム筒および直進筒を備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項５】
前記受け面部は、前記遮蔽部材の退避スペース内に位置し、かつ前記遮蔽部材の滑走面よりも前記レンズの側に位置することを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載のバリア装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載のバリア装置を備えることを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項７】
請求項６に記載のレンズ鏡筒を備えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月19日(2016.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学素子が配置される撮影光軸上に位置する第１光学部と、前記撮影光軸上に位置する撮影位置と前記撮影光軸に沿った方向とは異なる方向に退避した退避位置との間を移動する第２光学部と、該第２光学部の駆動手段を備えたレンズ鏡筒であって、
前記第１光学部は第１光学素子及び該第１光学素子を前記第１光学部に保持する第１保持部を有し、
前記第２光学部は第２光学素子及び該第２光学素子を前記第２光学部に保持する第２保持部を有し、
前記撮影位置にて、前記第１保持部及び第２保持部は前記撮影光軸に直交する方向から見て重なっており、
前記第１光学部の前記第１保持部は切り欠き部を有し、前記駆動手段により前記第２光学部が前記撮影位置と前記退避位置との間を移動する際、前記第２保持部が前記第１保持部に形成した前記切り欠き部を通過することを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
前記第１光学部は複数の前記第１保持部を有し、前記複数の第１保持部の間に前記切り欠き部が形成され、前記第２光学部は複数の前記第２保持部を有しており、
前記駆動手段により前記第２光学部が前記撮影位置と前記退避位置との間を移動する際、前記複数の第２保持部は、前記複数の第１保持部の間に形成された前記切り欠き部をそれぞれ通過することを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
前記第２光学部は、
前記第２保持部を有する前記第２光学素子の保持枠と、
前記保持枠を前記撮影光軸に直交する方向に回転し得る状態で支持する地板と、
前記保持枠を前記撮影位置へ移動させる方向へ付勢する付勢部材を備えることを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ鏡筒。
【請求項４】
前記保持枠は前記地板へ取り付ける嵌合部を有し、
前記付勢部材は、前記保持枠を前記撮影位置へ移動させる方向へ付勢する第１付勢部、及び前記保持枠の嵌合部を前記地板に対して前記撮影光軸の方向へ付勢する第２付勢部を有することを特徴する請求項３に記載のレンズ鏡筒。
【請求項５】
前記保持枠はカム溝部を有し、前記地板は前記カム溝部に対応するカム部を有しており、前記保持枠が前記退避位置から前記撮影位置へ移動する際、前記カム溝部と前記カム部が嵌合することを特徴とする請求項３または請求項４に記載のレンズ鏡筒。
【請求項６】
前記第１保持部または前記第２保持部は前記光学素子を保持する加締め部を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項７】
前記第１保持部または前記第２保持部は前記光学素子を保持する接着部を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備えることを特徴とする光学機器。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る装置は、複数の光学素子が配置された撮影光軸上に位置する第１光学部と、前記撮影光軸上に位置する撮影位置と前記撮影光軸に沿った方向とは異なる方向に退避した退避位置との間を移動する第２光学部と、該第２光学部の駆動手段を備えたレンズ鏡筒であって、前記第１光学部は第１光学素子及び該第１光学素子を保持する第１保持部を有し、前記第２光学部は第２光学素子及び該第２光学素子を保持する第２保持部を有しており、前記撮影位置にて対向する前記第１保持部及び第２保持部は前記撮影光軸に直交する方向から見て重なっている。前記第１光学部の前記第１保持部は切り欠き部を有し、前記駆動手段により前記第２光学部が前記撮影位置と前記退避位置との間を移動する際、前記第２保持部が前記第１保持部に形成した前記切り欠き部を通過する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月21日(2016.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管状体の内部に沿って、先端が尖った物品からなる搬送物を搬送用の流体により高速で移動させる螺旋巻き管であって、
前記管状体は、その厚み方向中間位置に埋め込まれる螺旋状の補強線条体と、前記管状体の内面近傍に沿って埋設される螺旋状の硬質線と、を有し、
前記硬質線は、金属又はそれと同じ硬度の硬質材料からなり、前記補強線条体よりも前記管状体の径方向内側に、前記搬送物との接触で生じた切り溝と当接するように配置されることを特徴とする螺旋巻き管。
【請求項２】
前記補強線条体が埋め込まれた帯状体を隣接する相互面が接着されるように螺旋状に巻き付けて前記管状体が成形され、前記帯状体の隣接する前記相互面の間に配置されるように、前記硬質線を螺旋状に巻き付けたことを特徴とする請求項１記載の螺旋巻き管。
【請求項３】
前記帯状体が透明又は半透明な合成樹脂からなり、前記硬質線が前記補強線条体の外径よりも細い線体であることを特徴とする請求項２記載の螺旋巻き管。
【請求項４】
請求項１、２又は３記載の螺旋巻き管を用いた搬送物を搬送用の流体により高速で移動させる移送装置であって、
前記管状体に対し、該管状体に前記流体を供給する供給管路を接続したことを特徴とする移送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
このような従来の螺旋巻き管では、管状体の内面に軟質合成樹脂製の帯状体が露出し、管状体の厚み方向中間位置に硬質合成樹脂製の線条体が埋設されている。
しかし乍ら、回収装置や移送装置などにおいて、糸などの搬送物を圧縮空気などの流体により吸い込み高速で移動させると、管状体の内面で露出する合成樹脂の表面に搬送物が接触するため、それらの摩擦により搬送物の硬さに関係なく糸のような軟らかいものであっても、管状体の内面が部分的に摩耗して切り溝が生じる。この切り溝は、発生時において浅くても、後続する搬送物が更に引っ掛かり易くなるため、徐々に侵食して深くなる。
切り溝の深さが、管状体の厚み方向中間位置まで到達すると、硬質合成樹脂製の線条体に接触するが、管状体となる帯状体と線条体との接触部分から空気が流入して、管状体が破裂する場合がある。それにより、管状体が短期間で使用不能となるため、比較的に短い期間で頻繁に交換が必要になって、装置の稼働率が低下するばかりでなく、交換コストが高くなるという問題があった。
そこで、このような問題を解決するために、管状体の内部に金属製のスプリングが螺旋状に埋設されたスプリングホースを用いることが考えられる。
しかし、金属製のスプリングが螺旋状に埋設されたホースは、硬質合成樹脂製の線条体が螺旋状に埋設された螺旋巻き管に比べて、重く且つ可撓性が劣るため、搬送物を圧縮空気などの流体により吸い込み高速で移動させる回収機に用いた場合には、取り回しが困難になって使用勝手が悪いという問題があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的を達成するために本発明による螺旋巻き管は、管状体の内部に沿って、先端が尖った物品からなる搬送物を搬送用の流体により高速で移動させる螺旋巻き管であって、前記管状体は、その厚み方向中間位置に埋め込まれる螺旋状の補強線条体と、前記管状体の内面近傍に沿って埋設される螺旋状の硬質線と、を有し、前記硬質線は、金属又はそれと同じ硬度の硬質材料からなり、前記補強線条体よりも前記管状体の径方向内側に、前記搬送物との接触で生じた切り溝と当接するように配置されることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前述した特徴を有する本発明による螺旋巻き管は、管状体の内面近傍に沿って、螺旋状の硬質線を補強線条体よりも管状体の内側に配置されるように埋設することで、搬送物を圧縮空気などの流体により高速移動する際に、搬送物が管状体の内面に接触して切り溝が生じても、切り溝による侵食が螺旋状の硬質線によって食い止められる。
したがって、切り溝の侵食による管状体の破裂を防止することができる。
その結果、管状体の内面に合成樹脂製の帯状体が露出する従来のものに比べ、搬送物に対する耐摩耗性が優れて商品寿命が長くなるため、交換間隔が延びて移送装置の稼働率が向上し、交換コストの低減化が図れて経済的である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
硬質線４は、真鍮などの金属又はそれと同程度の硬度を有する硬質材料からなり、その取り付け位置としては、帯状体１の隣接する相互面１ａの間に配置されるように螺旋状に巻き付けることが好ましい。
硬質線４の外径は、太いものを用いた方が強度アップになるものの、太い硬質線４が視界の邪魔になり、透明又は半透明な管状体３を透して、外部から内部が見え難くなるおそれがある。
そこで、硬質線４の外径を補強線条体２の外径よりも細い、例えば直径が約０．１〜１ｍｍ、好ましくは０．３〜０．５ｍｍの線体に形成することが好ましい。