Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月18日(2016.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、印刷が不完全な状態で排出されるシートの量とともに提示する提示手段と、
前記提示手段により提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる制御手段と、を有することを特徴とする印刷制御装置。
【請求項２】
前記提示手段は、割込み印刷のための複数のオプションを、印刷が不完全な状態で排出されるシートの量及び先行する両面印刷ジョブのシートの排出方法とともに提示することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、先行する両面印刷ジョブのシートの排出方法とともに提示する提示手段と、
前記提示手段により提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる制御手段と、を有することを特徴とする印刷制御装置。
【請求項４】
前記排出方法は、先行する両面印刷ジョブにおけるシート群が複数の排出先に分割されて排出されるか否かであることを特徴とする請求項２又は３に記載の印刷制御装置。
【請求項５】
前記提示手段は、さらに割込み開始時間を示す情報を複数のオプション毎に提示することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項６】
先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、割込み開始時間を示す情報とともに提示する提示手段と、
前記提示手段により提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる制御手段と、を有することを特徴とする印刷制御装置。
【請求項７】
前記オプションは割込み方法であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項８】
前記タイミングは、先行する両面印刷ジョブが複数部数の印刷である場合、部の切れ目であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項９】
前記タイミングは、先行する両面印刷ジョブのページの切れ目であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項１０】
印刷を実行する印刷部をさらに有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項１１】
先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、印刷が不完全な状態で排出されるシートの量とともに提示する提示工程と、
前記提示工程において提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる工程と、を有することを特徴とする印刷制御方法。
【請求項１２】
先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、先行する両面印刷ジョブのシートの排出方法とともに提示する提示工程と、
前記提示工程において提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる工程と、を有することを特徴とする印刷制御方法。
【請求項１３】
先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、割込み開始時間を示す情報とともに提示する提示工程と、
前記提示工程において提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる工程と、を有することを特徴とする印刷制御方法。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の印刷制御方法をコンピュータにより実行することを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の印刷制御装置は、先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、印刷が不完全な状態で排出されるシートの量とともに提示する提示手段と、前記提示手段により提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる制御手段と、を有する。本発明の他の印刷制御装置は、先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、先行する両面印刷ジョブのシートの排出方法とともに提示する提示手段と、前記提示手段により提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる制御手段と、を有する。本発明の他の印刷制御装置は、先行する両面印刷ジョブに従って連続シートに画像を印刷させている際、割込み印刷のための複数のオプションを、割込み開始時間を示す情報とともに提示する提示手段と、前記提示手段により提示された複数のオプションのいずれかが指定された場合に、指定されたオプションに応じたタイミングで前記先行ジョブを中断させ、割込みジョブを実行させる制御手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月5日(2016.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】医用装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施の形態の医用装置は、タッチパネルと、表示部と、記憶手段と、制御手段とを備える。タッチパネルは、ＧＵＩ（Graphical  User  Interface）を表示するとともに、使用者によるタッチ操作を受け付ける。表示部は、前記タッチパネルとは異なる装置であって、医用画像を表示する。記憶手段は、前記タッチパネルによって受け付けられる所定の操作ごとに、前記表示部に表示される画像に関する所定の機能を対応付けて記憶する。制御手段は、前記タッチパネルによって前記所定の操作を受け付ける場合において、前記タッチパネルに表示されたＧＵＩに対する操作に対応する機能を実行せず、前記所定の操作に対応する前記所定の機能を前記記憶手段から読み出して実行する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＧＵＩ（Graphical  User  Interface）を表示するとともに、使用者によるタッチ操作を受け付けるタッチパネルと、
前記タッチパネルとは異なる装置であって、医用画像を表示する表示部と、
前記タッチパネルによって受け付けられる所定の操作ごとに、前記表示部に表示される画像に関する所定の機能を対応付けて記憶する記憶手段と、
前記タッチパネルによって前記所定の操作を受け付ける場合において、前記タッチパネルに表示されたＧＵＩに対する操作に対応する機能を実行せず、前記所定の操作に対応する前記所定の機能を前記記憶手段から読み出して実行する制御手段と、
を備える医用装置。
【請求項２】
前記所定の操作は、複数本の指による同時操作である請求項１に記載の医用装置。
【請求項３】
前記所定の操作は、ピンチイン及びピンチアウトを含む請求項２に記載の医用装置。
【請求項４】
前記所定の操作は、複数本の指によるスワイプである請求項２又は３に記載の医用装置。
【請求項５】
前記所定の機能は、前記医用画像の保存を含む請求項１に記載の医用装置。
【請求項６】
カメラを有する端末と、
前記端末とは異なる装置であって、医用画像を表示する第一表示部と、
前記カメラによって撮影された画像に基づいて、前記端末の移動量を算出する算出手段と、
前記算出手段によって算出された前記端末の移動量に基づいて、前記第一表示部の表示に関する処理を行う制御手段と、
を備える医用装置。
【請求項７】
前記第一表示部の表示に関する処理は、前記第一表示部に表示されたポインタの移動である請求項６に記載の医用装置。
【請求項８】
前記端末は、第二表示部をさらに有し、前記第二表示部で表示された３次元画像と、前記第一表示部で表示された透視画像又は前記透視画像が撮影された被検体とを、前記第二表示部内で位置合わせするための位置合わせ操作を受け付け、
前記算出手段は、前記端末によって受け付けられた前記位置合わせ操作時の前記３次元画像と前記透視画像とのずれを算出し、
前記制御手段は、前記算出手段によって算出されたずれを補正して、前記３次元画像と前記透視画像とを重畳させた重畳画像を表示させる請求項６に記載の医用装置。
【請求項９】
前記制御手段は、３次元の医用画像データから生成され、前記第一表示部にて表示された医用画像を、前記算出手段によって算出された移動量で生成位置を変化させて前記３次元の医用画像データから生成された医用画像に変更する請求項６に記載の医用装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月24日(2016.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数ゲームに亘って継続し得る特定状態における遊技内容に応じて、遊技者に有利な有利遊技状態に滞在させるか否か又は当該有利遊技状態に移行させるか否かを決定する決定手段と、
前記特定状態において特定状態中演出が実行されるように演出実行手段を制御する演出制御手段と、
を備え、
当該演出制御手段は、
前記決定手段により前記有利遊技状態に滞在させること又は当該有利遊技状態に移行させることが決定された場合に、前記特定状態において当該決定に対応した内容の演出が実行されるようにする状態中実行手段と、
前記決定手段により前記有利遊技状態に滞在させること又は当該有利遊技状態に移行させることが決定された後の有利遊技状態である状況であっても、前記特定状態中演出を継続させる継続手段と、
を備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出制御手段は、前記有利遊技状態の滞在又は移行を発生させることなく前記特定状態を終了させる契機となり得る所定契機が発生した場合に、前記継続手段により継続されている前記特定状態中演出を終了させて前記有利遊技状態であることを遊技者に認識させる演出が実行されるようにする継続終了手段を備えていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記継続終了手段は、前記継続手段により前記特定状態中演出が継続されている状況において前記所定契機とは異なる契機が発生した場合にも当該特定状態中演出を終了させるものであることを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
絵柄を可変表示する絵柄表示手段と、
前記絵柄の可変表示を開始させるべく操作される始動操作手段と、
当該始動操作手段が操作された場合に役抽選処理を実行する役抽選実行手段と、
前記絵柄の可変表示を停止させるべく操作される停止操作手段と、
前記始動操作手段が操作されたことに基づいて前記絵柄の可変表示が開始され、前記停止操作手段が操作されたことに基づいて前記絵柄の可変表示が停止されるように、前記絵柄表示手段を制御する可変表示制御手段と、
前記絵柄の可変表示が停止された場合に前記役抽選処理の結果に対応した停止絵柄が表示されたことに基づいて入賞対応特典を遊技者に付与する入賞対応付与手段と、
を備え、
前記所定契機及び前記異なる契機は、前記役抽選処理のそれぞれ異なる抽選結果、又はそれぞれ異なる入賞結果となったことに基づき発生することを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記有利遊技状態は所定ゲーム数が消化された場合に１単位の実行回が終了する構成であり、
前記決定手段は、前記特定状態における遊技内容に応じて、前記有利遊技状態の前記１単位の実行回を開始させるか否かを決定するものであり、
前記継続手段により前記特定状態中演出の実行が継続されている状況であっても前記有利遊技状態の継続ゲーム数が消化される構成であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載の遊技機。
【請求項６】
前記有利遊技状態において当該有利遊技状態の残りの継続ゲーム数が表示されるようにするゲーム数表示手段を備え、
当該ゲーム数表示手段は、前記継続手段により前記特定状態中演出の実行が継続されている状況が終了した場合、当該タイミングにおける残りの継続ゲーム数が表示されるようにするものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決すべく請求項１記載の発明は、複数ゲームに亘って継続し得る特定状態における遊技内容に応じて、遊技者に有利な有利遊技状態に滞在させるか否か又は当該有利遊技状態に移行させるか否かを決定する決定手段と、
前記特定状態において特定状態中演出が実行されるように演出実行手段を制御する演出制御手段と、
を備え、
当該演出制御手段は、
前記決定手段により前記有利遊技状態に滞在させること又は当該有利遊技状態に移行させることが決定された場合に、前記特定状態において当該決定に対応した内容の演出が実行されるようにする状態中実行手段と、
前記決定手段により前記有利遊技状態に滞在させること又は当該有利遊技状態に移行させることが決定された後の有利遊技状態である状況であっても、前記特定状態中演出を継続させる継続手段と、
を備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月21日(2016.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体に対して光を照射する発光手段と、
前記生体からの戻り光を受光する受光手段と、
前記生体が有する所定のパラメータに基づいて、前記受光手段で受光される前記戻り光の量が目標値となるように、前記発光手段から照射する光の量を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする生体装置。
【請求項２】
前記所定のパラメータは、光の透過率又は光の反射率であることを特徴とする請求項１に記載の生体装置。
【請求項３】
前記制御手段は、
前記所定のパラメータに基づいてサーボゲインを設定するサーボゲイン設定手段と、
前記設定されたサーボゲインにより、前記発光手段から照射する光の量に対する追従制御を実行するサーボ制御手段と、を有し、
前記サーボゲイン設定手段は、
前記所定のパラメータを測定して測定値を取得する測定手段と、
前記所定のパラメータの第１基準値及び前記第１基準値で第１追従特性を実現する第１基準サーボゲインを夫々記憶する第１記憶手段と、
前記測定値で前記第１追従特性が実現されるように、前記第１基準サーボゲインに対し前記第１基準値及び前記測定値を含む係数を乗じて、第１修正サーボゲインを算出する第１サーボゲイン算出手段と
を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の生体装置。
【請求項４】
前記第１サーボゲイン算出手段は、前記第１基準値をＧ１ｍ、前記測定値をＧ１ｘ、前記第１基準サーボゲインをＧ３ｍとした場合に、前記第１修正サーボゲインＧ３ｘを、以下の数式
Ｇ３ｘ＝（Ｇ１ｍ／Ｇ１ｘ）Ｇ３ｍ
を用いて算出することを特徴とする請求項３に記載の生体装置。
【請求項５】
前記サーボゲイン設定手段は、
前記発光手段から照射する光の量を制御するために前記制御手段から出力される制御信号のレベルを検出して検出値を取得する検出手段と、
前記制御信号のレベルの第２基準値及び前記第２基準値で第２追従特性を実現する第２基準サーボゲインを夫々記憶する第２記憶手段と、
前記検出値で前記第２追従特性が実現されるように、前記第２基準サーボゲインに対し前記第２基準値及び前記検出値を含む係数を乗じて、第２修正サーボゲインを算出する第２サーボゲイン算出手段と
を有することを特徴とする請求項３に記載の生体装置。
【請求項６】
前記第２サーボゲイン算出手段は、前記第２基準値をＶＤ、前記検出値をＶＤ’、前記第２基準サーボゲインをＧ３とした場合に、前記第２修正サーボゲインＧ３’を、以下の数式
Ｇ３’＝（ＶＤ’／ＶＤ）Ｇ３
を用いて算出することを特徴とする請求項５に記載の生体装置。
【請求項７】
前記受光手段で受光された前記戻り光から、前記生体の容積脈波を検出する脈波検出手段を更に備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の生体装置。
【請求項８】
生体に対して光を照射する発光手段と、
前記生体からの戻り光を受光する受光手段と、
前記生体の前記光の透過率又は反射率を測定する測定手段と、
前記測定手段によって測定された前記透過率又は前記反射率に基づいて、前記発光手段から照射する光の量を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする生体装置。
【請求項９】
前記測定手段は、前記発光手段による光の照射量をスイープさせながら、前記受光手段で受光される前記戻り光の量を監視することで、前記透過率又は前記反射率を測定する、ことを特徴とする請求項８に記載の生体装置。
【請求項１０】
生体装置において利用される制御方法であって、
生体に対して光を照射する発光ステップと、
前記生体からの戻り光を受光する受光ステップと、
前記生体が有する所定のパラメータに基づいて、前記受光手段で受光される前記戻り光の量が目標値となるように、前記発光手段から照射する光の量を制御する制御ステップと
を含むことを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】生体装置及び制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するための第１の生体装置は、生体に対して光を照射する発光手段と、前記生体からの戻り光を受光する受光手段と、前記生体が有する所定のパラメータに基づいて、前記受光手段で受光される前記戻り光の量が目標値となるように、前記発光手段から照射する光の量を制御する制御手段とを備える。
上記課題を解決するための第２の生体装置は、生体に対して光を照射する発光手段と、前記生体からの戻り光を受光する受光手段と、前記生体の前記光の透過率又は反射率を測定する測定手段と、前記測定手段によって測定された前記透過率又は前記反射率に基づいて、前記発光手段から照射する光の量を制御する制御手段とを備えることを特徴とする生体装置。
上記課題を解決するための制御方法は、生体装置において利用される制御方法であって、生体に対して光を照射する発光ステップと、前記生体からの戻り光を受光する受光ステップと、前記生体が有する所定のパラメータに基づいて、前記受光手段で受光される前記戻り光の量が目標値となるように、前記発光手段から照射する光の量を制御する制御ステップとを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月1日(2016.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】蓄電装置および電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する基板と、
前記基板上の正極リードと、
前記基板上の負極リードと、
前記基板上の複数の蓄電素子と、を有し、
前記複数の蓄電素子は、前記基板上において二次元的かつ周期的に配列され、
前記複数の蓄電素子のそれぞれは、シート状の正極と、シート状の負極と、前記正極と前記負極との間の電解質と、外装体と、正極タブと、負極タブと、を有し、
前記外装体は、内部に、前記正極と前記負極と前記電解質との積層体を有し、
前記外装体は、外部に、前記正極タブと、前記負極タブと、を有し、
前記正極は、前記正極タブを介して、前記正極リードと電気的に接続し、
前記負極は、前記負極タブを介して、前記負極リードと電気的に接続することを特徴とする蓄電装置。
【請求項２】
可撓性を有する基板と、
前記基板上の正極リードと、
前記基板上の負極リードと、
前記基板上の複数の蓄電素子と、を有し、
前記複数の蓄電素子は、二次元的かつ周期的に配列され、
前記複数の蓄電素子のそれぞれは、シート状の正極と、シート状の負極と、前記正極と前記負極との間の電解質と、外装体と、正極タブと、負極タブと、を有し、
前記外装体は、内部に、前記正極と前記負極と前記電解質との積層体を有し、
前記外装体は、外部に、前記正極タブと、前記負極タブと、を有し、
前記外装体は、第１の側面と、前記第１の側面と対向する第２の側面と、底面と、を有し、
前記正極タブは、前記第１の側面と、前記底面と、に配置され、
前記負極タブは、前記第２の側面と、前記底面と、に配置され、
前記正極は、前記正極タブを介して、前記正極リードと電気的に接続し、
前記負極は、前記負極タブを介して、前記負極リードと電気的に接続することを特徴とする蓄電装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記電解質はポリマー固体電解質であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記正極は、第１の正極と、第２の正極と、を有し、
前記負極は、前記第１の正極と、前記第２の正極との間に位置し、
前記電解質は、第１の電解質と、第２の電解質と、を有し、
前記第１の電解質は、前記第１の正極と、前記負極との間に位置し、
前記第２の電解質は、前記第２の正極と、前記負極との間に位置することを特徴とする蓄電装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記蓄電素子は、前記外装体上に蓋部材を有し、
前記蓋部材は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一に記載の蓄電装置を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月23日(2016.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、第２の電極と、第１の発光層と、第２の発光層と、を有し、
前記第１の発光層は、前記第１の電極と前記第２の発光層との間に設けられ、
前記第２の発光層は、前記第１の発光層と前記第２の電極との間に設けられ、
前記第１の発光層は、第１のりん光性化合物と、第１のホスト材料と、を有し、
前記第２の発光層は、第２のりん光性化合物と、第２のホスト材料と、を有し、
前記第２のりん光性化合物の発光は、前記第１のりん光性化合物の発光よりも長波長であり、
前記第２のりん光性化合物のε（λ）λ４で表される関数の最も長波長側のピークは、前記第１のりん光性化合物のりん光発光スペクトルＦ（λ）と重なる発光素子。
（ただし、ε（λ）はモル吸光係数を表し、波長λの関数である。）
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の発光層は、さらに第１の有機化合物を有し、
前記第１のホスト材料と前記第１の有機化合物とは励起錯体を形成し、
前記第１のりん光性化合物の発光は、前記励起錯体の発光より長波長である発光素子。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１のりん光性化合物のε（λ）λ４で表される関数の最も長波長側のピークは、前記励起錯体の発光スペクトルと重なる発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記第１のりん光性化合物は、５００ｎｍ乃至６００ｎｍの範囲にりん光の発光ピークを有し、
前記第２のりん光性化合物は、６００ｎｍ乃至７００ｎｍの範囲にりん光の発光ピークを有する発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
電子と正孔の再結合領域が前記第１の発光層である発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記第１の発光層と前記第２の発光層とは互いに接している発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を有する照明装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子と、前記発光素子を制御する手段と、を有する発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を表示部に有し、前記発光素子を制御する手段を有する表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月14日(2016.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、
第１半導体層と発光層と第２半導体層とを有してなり、前記支持基板上に設けられた半導体積層構造体と、
前記第１半導体層と電気的に接続される第１電極と、
前記第２半導体層と電気的に接続される第２電極と、
前記半導体積層構造体の上面の一部及び側面を覆い、前記第１及び第２電極と電気的に分離された遮光部材と、
前記遮光部材で覆われていない前記半導体積層構造体の上面を覆う波長変換部材と、
を有することを特徴とする半導体発光素子。
【請求項２】
前記支持基板と前記半導体積層構造体の間に、前記第１電極と前記第２電極とを有する請求項１に記載の半導体発光素子。
【請求項３】
前記波長変換部材は、さらに前記遮光部材の少なくとも一部を覆っていることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体発光素子。
【請求項４】
前記半導体積層構造体の側面は傾斜が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【請求項５】
前記半導体積層構造体の上面の一部及び側面を覆う前記遮光部材は、同一材料であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【請求項６】
前記第１電極と前記第２電極とが、絶縁膜を介して重なっている請求項２に記載の半導体発光素子。
【請求項７】
前記第２電極は、前記支持基板上において前記半導体積層構造体外部に延在するように形成されており、その外部に延在した第２電極上にパッド電極が形成された請求項１乃至６のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【請求項８】
前記半導体発光素子が矩形状であって、前記パッド電極が前記半導体発光素子の角部以外の領域に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の半導体発光素子。
【請求項９】
前記遮光部材は、金属を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【請求項１０】
前記遮光部材は、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｒｈ、Ａｌ、Ａｇ、Ｐｔからなる群から選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項９に記載の半導体発光素子。
【請求項１１】
前記遮光部材は、反射性物質を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【請求項１２】
前記反射性物質は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化シリコンからなる群から選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１１に記載の半導体発光素子。
【請求項１３】
前記半導体積層構造体の上面は、粗面又は凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【請求項１４】
前記遮光部材で被覆された前記半導体積層構造体の上面は、平坦面であることを特徴とする請求項１３に記載の半導体発光素子。
【請求項１５】
前記半導体積層構造体の上面の一部は、保護膜を介して前記遮光部材で覆われていることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一つに記載の半導体発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月6日(2016.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に、正孔輸送層と、発光層と、を有し、
前記発光層は、
電子輸送性を有する第１の有機化合物と、
正孔輸送性を有する第２の有機化合物と、
三重項励起エネルギーを発光に変える第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物は、励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記正孔輸送層は、第４の有機化合物と、第５の有機化合物と、を有し、
前記第４の有機化合物のＨＯＭＯ準位は、前記第２の有機化合物のＨＯＭＯ準位以下であり、
前記第５の有機化合物のＨＯＭＯ準位は、前記第２の有機化合物のＨＯＭＯ準位よりも高い
ことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
一対の電極間に、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、電子注入層と、を有し、
前記発光層は、
電子輸送性を有する第１の有機化合物と、
正孔輸送性を有する第２の有機化合物と、
三重項励起エネルギーを発光に変える第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物は、励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記正孔輸送層は、第４の有機化合物と、第５の有機化合物と、を有し、
前記第４の有機化合物のＨＯＭＯ準位は、前記第２の有機化合物のＨＯＭＯ準位以下であり、
前記第５の有機化合物のＨＯＭＯ準位は、前記第２の有機化合物のＨＯＭＯ準位よりも高い
ことを特徴とする発光素子。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第４の有機化合物のＴ１準位は、前記第１の有機化合物のＴ１準位よりも高い
ことを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第４の有機化合物のＴ１準位は、前記第２の有機化合物のＴ１準位よりも高い
ことを特徴とする発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の有機化合物は、π不足型複素芳香族化合物であり、
前記第２の有機化合物、前記第４の有機化合物、及び前記第５の有機化合物は、π過剰型複素芳香族化合物または芳香族アミン化合物であり、
前記第３の有機化合物は、燐光性化合物である
ことを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の発光素子を有する発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の発光装置を有する電子機器。
【請求項８】
請求項６に記載の発光装置を有する照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月6日(2016.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に、正孔輸送層と、発光層と、を有し、
前記発光層は、
電子輸送性を有する第１の有機化合物と、
正孔輸送性を有する第２の有機化合物と、
三重項励起エネルギーを発光に変える第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物は、励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記正孔輸送層は、２種類以上の有機化合物を有し、かつ、少なくとも前記第２の有機化合物を有する
ことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
一対の電極間に、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、電子注入層と、を有し、
前記発光層は、
電子輸送性を有する第１の有機化合物と、
正孔輸送性を有する第２の有機化合物と、
三重項励起エネルギーを発光に変える第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物は、励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記正孔輸送層は、２種類以上の有機化合物を有し、かつ、少なくとも前記第２の有機化合物を有する
ことを特徴とする発光素子。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記正孔輸送層は、
前記第１の有機化合物よりもＴ１準位が高い第４の有機化合物を有する
ことを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記正孔輸送層は、
前記第２の有機化合物よりもＴ１準位が高い第４の有機化合物を有する
ことを特徴とする発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の有機化合物は、π不足型複素芳香族化合物であり、
前記第２の有機化合物は、π過剰型複素芳香族化合物または芳香族アミン化合物であり、
前記第３の有機化合物は、燐光性有機金属錯体である
ことを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の発光素子を有する発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の発光装置を有する電子機器。
【請求項８】
請求項６に記載の発光装置を有する照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月11日(2016.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
区画された複数の住居域を有する住居の空調システムであって、
空調機室に設置され、空調室内の空調を行う空調機と、
前記空調機にて空調済みの空調室内空気を、前記住居の１階の床下の床下空間まで前記空調機室から延びる送気用区画部に設けた複数の送風機を用いて、前記空調機室から前記送気用区画部を経て前記床下空間に送り出す空調空気送出機構とを備え、
前記複数の住居域のうち、住居域の占有容積が他の住居域より大きい大容積住居域は、前記床下空間に前記空調空気送出機構により送り出された前記空調室内空気を、前記大容積住居域の住居床に設けた送気口までの前記床下空間を流路として利用して、前記送気口から導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記空調機室にリターンさせ、
前記他の住居域のうち、前記送気用区画部と隣接する前記他の住居域は、前記隣接する前記他の住居域の住居床の床下空間を経て、前記空調室内空気を前記他の住居域の住居床に設けた送気口から導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させる
空調システム。
【請求項２】
前記他の住居域のうち、前記送気用区画部と隣接しない前記他の住居域は、前記空調空気送出機構により送り出される前記空調室内空気を、前記送気用区画部から前記他の住居域の住居床に設けた送気口まで接続したダクトを用いて導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させる請求項１に記載の空調システム。
【請求項３】
区画された複数の住居域を有する住居の空調システムであって、
空調機室に設置され、空調室内の空調を行う空調機と、
前記空調機にて空調済みの空調室内空気を、前記住居の１階の床下の床下空間まで前記空調機室から延びる送気用区画部に設けた複数の送風機を用いて、前記空調機室から前記送気用区画部を経て前記床下空間に送り出す空調空気送出機構とを備え、
前記複数の住居域のうち、住居域の占有容積が他の住居域より大きい大容積住居域は、前記床下空間に前記空調空気送出機構により送り出された前記空調室内空気を、前記大容積住居域の住居床に設けた送気口までの前記床下空間を流路として利用して、前記送気口から導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記空調機室にリターンさせ、
前記大容積住居域より前記占有容積が小さく前記大容積住居域と区画された複数の他の住居域に含まれる住居２階の２階住居域は、前記空調空気送出機構により送り出される前記空調室内空気を、前記送気用区画部から前記２階住居域の住居床に設けた送気口まで前記２階住居域の床下空間において接続したダクトを用いて導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させ、
前記区画された複数の他の住居域に含まれると共に前記２階住居域と前記２階住居域の床下空間を隔てた１階住居領域は、前記空調空気送出機構により送り出される前記空調室内空気を、前記送気用区画部から前記１階住居域の天井に設けた送気口まで前記２階住居域の床下空間において接続したダクトを用いて導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させる
空調システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記した課題の少なくとも一部を達成するために、本発明は、以下の形態として実施することができる。
区画された複数の住居域を有する住居の空調システムであって、
空調機室に設置され、空調室内の空調を行う空調機と、
前記空調機にて空調済みの空調室内空気を、前記住居の１階の床下の床下空間まで前記空調機室から延びる送気用区画部に設けた複数の送風機を用いて、前記空調機室から前記送気用区画部を経て前記床下空間に送り出す空調空気送出機構とを備え、
前記複数の住居域のうち、住居域の占有容積が他の住居域より大きい大容積住居域は、前記床下空間に前記空調空気送出機構により送り出された前記空調室内空気を、前記大容積住居域の住居床に設けた送気口までの前記床下空間を流路として利用して、前記送気口から導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記空調機室にリターンさせ、
前記他の住居域のうち、前記送気用区画部と隣接する前記他の住居域は、前記隣接する前記他の住居域の住居床の床下空間を経て、前記空調室内空気を前記他の住居域の住居床に設けた送気口から導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させる。
この他、区画された複数の住居域を有する住居の他の空調システムであって、
空調機室に設置され、空調室内の空調を行う空調機と、
前記空調機にて空調済みの空調室内空気を、前記住居の１階の床下の床下空間まで前記空調機室から延びる送気用区画部に設けた複数の送風機を用いて、前記空調機室から前記送気用区画部を経て前記床下空間に送り出す空調空気送出機構とを備え、
前記複数の住居域のうち、住居域の占有容積が他の住居域より大きい大容積住居域は、前記床下空間に前記空調空気送出機構により送り出された前記空調室内空気を、前記大容積住居域の住居床に設けた送気口までの前記床下空間を流路として利用して、前記送気口から導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記空調機室にリターンさせ、
前記大容積住居域より前記占有容積が小さく前記大容積住居域と区画された複数の他の住居域に含まれる住居２階の２階住居域は、前記空調空気送出機構により送り出される前記空調室内空気を、前記送気用区画部から前記２階住居域の住居床に設けた送気口まで前記２階住居域の床下空間において接続したダクトを用いて導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させ、
前記区画された複数の他の住居域に含まれると共に前記２階住居域と前記２階住居域の床下空間を隔てた１階住居領域は、前記空調空気送出機構により送り出される前記空調室内空気を、前記送気用区画部から前記１階住居域の天井に設けた送気口まで前記２階住居域の床下空間において接続したダクトを用いて導き入れ、該導き入れた前記空調室内空気を前記大容積住居域に流出させる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月11日(2016.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チルド室が設けられた冷蔵室と野菜室とを有する冷蔵庫本体と、
水を霧化させてミストを発生するミスト発生手段と、を備え、
前記ミスト発生手段で発生されたミストは、前記冷蔵室と前記チルド室と前記野菜室とにそれぞれ供給される、
冷蔵庫。
【請求項２】
前記ミスト発生手段で発生されたミストを前記冷蔵室へ供給する経路と、
前記ミスト発生手段で発生されたミストを前記チルド室へ供給する経路と、
前記ミスト発生手段で発生されたミストを前記野菜室へ供給する経路と、を備えている、
請求項１に記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記ミスト発生手段で発生されたミストを前記冷蔵室へ供給するための開口と、
前記ミスト発生手段で発生されたミストを前記チルド室へ供給するための開口と、
前記ミスト発生手段で発生されたミストを前記野菜室へ供給するための開口と、を備えている、
請求項２に記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記冷蔵庫本体に設けられ風を発生する送風手段を備え、
前記ミスト発生手段で発生されたミストは、前記送風手段の送風作用によって前記冷蔵室と前記チルド室とに供給される、
請求項１から３のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、従来では、ミストが含まれる風の流れについて検討されていない。
そこで、ミスト発生手段で生成されたミストを、効率よく各貯蔵室に供給することができる冷蔵庫を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本実施形態の冷蔵庫は、チルド室が設けられた冷蔵室と野菜室とを有する冷蔵庫本体と、水を霧化させてミストを発生するミスト発生手段と、を備えている。前記ミスト発生手段で発生されたミストは、前記冷蔵室と前記チルド室と前記野菜室とにそれぞれ供給される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月24日(2016.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉内に設けたシリコン芯棒を通電加熱し、炉内に供給した原料ガスを反応させて、前記シリコン芯棒表面に多結晶シリコンを生成させる多結晶シリコン反応炉であって、炉の底板部に、該底板部に対して電気絶縁状態に設けた電極ホルダと、該電極ホルダに下端部が着脱可能に連結され、前記シリコン芯棒を上方に向けて保持する芯棒保持電極とを備え、前記芯棒保持電極の外周側面の全域に炉内雰囲気に露呈する凹凸部が設けられていることを特徴とする多結晶シリコン反応炉。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】多結晶シリコン反応炉
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、シーメンス法によって多結晶シリコンを製造する際に用いられる多結晶シリコン反応炉に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたもので、シリコン芯棒を保持する電極の表面に析出した多結晶シリコンが、ロッドの自重を支えるとともに、シリコン芯棒から剥がれ落ちることを防止することができる多結晶シリコン反応炉を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するため、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の多結晶シリコン反応炉は、炉内に設けたシリコン芯棒を通電加熱し、炉内に供給した原料ガスを反応させて、前記シリコン芯棒表面に多結晶シリコンを生成させる多結晶シリコン反応炉であって、炉の底板部に、該底板部に対して電気絶縁状態に設けた電極ホルダと、該電極ホルダに下端部が着脱可能に連結され、前記シリコン芯棒を上方に向けて保持する芯棒保持電極とを備え、前記芯棒保持電極の外周側面の全域に炉内雰囲気に露呈する凹凸部が設けられている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る多結晶シリコン反応炉を用いて多結晶シリコンを製造する場合、前記芯棒保持電極の前記凹凸部にも多結晶シリコンが付着するように、前記シリコン芯棒に多結晶シリコンを析出させる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係る多結晶シリコン反応炉によれば、多結晶シリコン反応炉に設置された電極の芯棒保持電極の外周側面全域に凹凸部を設けることによって、芯棒保持電極に析出する多結晶シリコンが、芯棒保持電極から剥がれ落ちることを防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月3日(2016.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
【化１】
2016033160.tif 000001
（式中、Ｒ１は、水素原子又はアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、直鎖若しくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す）
で示される化合物又はその塩、および一種又は二種以上の金属含有化合物を含有するがん性貧血の改善及び／又は予防剤であって、
前記がん性貧血は、赤血球、およびさらに白血球、リンパ球、好中球、および血小板から選択される１つ以上の血液細胞の減少によって特徴付けられ、
前記がんは白血病ではない、
がん性貧血の改善及び／又は予防剤。
【請求項２】
Ｒ１及びＲ２が、水素原子であることを特徴とする請求項１記載のがん性貧血の改善及び／又は予防剤。
【請求項３】
金属含有化合物が、鉄、マグネシウム、亜鉛、ニッケル、バナジウム、銅、クロム、モリブデン又はコバルトを含有する化合物であることを特徴とする請求項１記載のがん性貧血の改善及び／又は予防剤。
【請求項４】
金属含有化合物が、鉄、マグネシウム又は亜鉛を含有する化合物であることを特徴とする請求項３記載のがん性貧血の改善及び／又は予防剤。
【請求項５】
金属含有化合物が、鉄を含有する化合物であることを特徴とする請求項３記載のがん性貧血の改善及び／又は予防剤。
【請求項６】
がん性貧血を改善及び／又は予防するための医薬の製造における、下記式（Ｉ）：
【化２】
2016033160.tif 000002
（式中、Ｒ１は、水素原子又はアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、直鎖若しくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す）
で示される化合物若しくはその塩と金属含有化合物の使用であって、
前記がん性貧血は、赤血球、およびさらに白血球、リンパ球、好中球、および血小板から選択される１つ以上の血液細胞の減少によって特徴付けられ、
前記がんは白血病ではない、
使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月12日(2016.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）出発原料とする二水石膏を湿式焼成して半水石膏にする半水化工程、
（ｂ）前記半水石膏を再結晶化反応槽内の水性スラリーへ供給する仕込み工程、
（ｃ）前記半水石膏を水和・再結晶化させて前記原料とする二水石膏とは別の結晶形態である改質二水石膏とする再結晶化工程、
（ｄ）前記改質二水石膏の一部を前記再結晶化反応槽より抜き出す抜き出し工程を有する二水石膏の連続式改質方法であって、
少なくとも前記（ｂ）乃至（ｄ）の工程を連続的又は間歇的に行うこと、
前記（ｂ）の仕込み工程における前記半水石膏の供給量と、前記（ｄ）の抜き出し工程における前記改質二水石膏の抜き出し量とをいずれも、一時間当り、前記再結晶化反応槽内の全石膏量の２０％以下にすること、
前記（ｃ）の再結晶化工程において、再結晶化反応槽中で水性スラリーが固液分離しないよう均一になるように攪拌しつつ一定の温度に保持すること、
前記（ｃ）の再結晶化工程において、前記再結晶化反応槽中における水性スラリーの温度を、９０℃以下にすること、
を特徴とする二水石膏の連続式改質方法。
【請求項２】
前記（ｃ）の再結晶化工程における前記再結晶化反応槽中における前記水性スラリーの濃度（固形分濃度）が、質量基準で１０〜５０質量％である請求項１に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項３】
前記（ｂ）の仕込み工程における前記半水石膏が、ｐＨ７．０±２．０の水性スラリーである請求項１又は２に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項４】
前記（ｃ）の再結晶化工程における再結晶化反応槽中における水性スラリーの温度が、８０℃よりも高く、かつ、９０℃以下の温度である請求項１〜３のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項５】
前記（ｃ）の再結晶化工程における再結晶化反応槽中に、種晶として添加する二水石膏の平均粒径が、４０μｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項６】
前記（ａ）の半水化工程、又は前記（ｃ）の再結晶化工程における水性スラリー中の少なくとも一方に、前記原料とする二水石膏中に含まれる黒ずみ成分を除去するための界面活性剤及び／又は消泡剤を、前記原料とする二水石膏に対して０．０１〜０．２質量％の範囲で添加する請求項１〜５のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項７】
前記界面活性剤が、アルキルベンゼンスルフォン酸系界面活性剤、アルキルサルフェート系界面活性剤、アルキルエーテルサルフェート系界面活性剤、リグニンスルフォン酸系界面活性剤、ナフタレンスルフォン酸系界面活性剤、ビスフェノール系界面活性剤及びポリカルボン酸系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項６に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項８】
前記消泡剤が、ポリエーテル系消泡剤、脂肪酸エステル型消泡剤、鉱油配合型消泡剤、シリコーン系消泡剤及びエマルジョン型消泡剤からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項６に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項９】
さらに、前記（ｃ）の再結晶化工程において、再結晶化した二水石膏スラリーを再結晶化反応槽から抜き出した後に、（ｅ）不溶性不純物の少ない、粒径の大きい二水石膏を分別する分別工程、を設けた請求項１〜８のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項１０】
前記（ｅ）の分別工程において、再結晶化した二水石膏スラリーを再結晶化反応槽から抜き出した後に、不溶性不純物の少ない、粒径の大きい二水石膏を分別する工程として、二水石膏を水中で撹拌及び静置し、その沈降速度の速い大きい結晶を分離する工程と、前記で分別した二水石膏を脱水・洗浄して最終生成物とする脱水洗浄工程とを設ける請求項９に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項１１】
前記（ａ）の半水化工程において、焼成装置を２基以上使用する多段式で、湿式焼成を連続的に行う請求項１〜１０のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項１２】
前記（ｃ）の再結晶化工程において、再結晶化反応槽を２基以上直列につないで、再結晶化を多段式に行う請求項１〜１１のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項１３】
前記原料とする二水石膏の平均粒径が、３０μｍ以下の大きさである請求項１〜１２のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項１４】
前記改質二水石膏の平均粒径が６４μｍ以上である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【請求項１５】
前記改質二水石膏の軽装嵩密度が０．８以上である請求項１〜１４のいずれか１項に記載の二水石膏の連続式改質方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月15日(2016.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
剥離処理されたセパレータの剥離処理面に、（メタ）アクリル系ポリマー、過酸化物およびフェノール系酸化防止剤を含有する粘着剤組成物の層を形成する第１工程と、
前記第１工程の後に前記粘着剤組成物を加熱し、架橋させて、粘着剤層を形成する第２工程と、
偏光フィルムに粘着剤層を介して前記セパレータを貼り合わせる工程と、
前記セパレータを剥離する工程と、
前記偏光フィルムに前記粘着剤層を介して、剥離した前記セパレータを再度貼合せる工程と、
をこの順に含むことを特徴とするセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記セパレータ付粘着剤層付偏光フィルムを保管して、前記粘着剤層のセパレータに対する剥離力を０．０３〜０．１０Ｎ／５０ｍｍにする工程を更に含む、
請求項１に記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記偏光フィルムの総厚みが９０μｍ以下である請求項１又は２に記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、前記フェノール系酸化防止剤を０．０５〜３重量部含有する請求項１〜３のいずれかに記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、前記過酸化物を０．０５〜２重量部含有する請求項１から４のいずれかに記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記（メタ）アクリル系ポリマーが、モノマー単位として、アルキル（メタ）アクリレートおよびヒドロキシル基含有モノマーを含有するものである請求項１〜５のいずれかに記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量が、５０万〜３００万である請求項１〜６のいずれかに記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、さらに、シランカップリング剤を０．００１〜５重量部含有する請求項１〜７のいずれかに記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記第２工程が、前記粘着剤組成物を温度７０〜１７０℃で、３０〜２４０秒間加熱し、架橋させる工程である請求項１〜８のいずれかに記載のセパレータ付粘着剤層付偏光フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月9日(2016.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不飽和カルボン酸及び／又はその塩由来の構成単位を含む架橋構造を有し、その表面近傍が表面架橋剤により表面架橋処理されて得られる吸水性樹脂を主成分とする、粒子径３００〜８５０μｍの粒子と粒子径３００μｍ未満の粒子とを含んでなる粒子状の吸水剤であって、
粒子径３００〜８５０μｍの粒子と粒子径３００μｍ未満の粒子との質量比が、２０／８０以上８０／２０以下であり、
硫黄含有還元剤を含み、且つ含水量（１８０℃で３時間加熱したときの乾燥減量で規定）が１〜１５質量％であり、
無加圧下吸収倍率（ＣＲＣ）が３１ｇ／ｇ以上５５ｇ／ｇ以下で、且つ生理食塩水に対する、下記数式（２）で算出されるトータル吸収倍率（ＴＡＣ）が６５ｇ／ｇ以上であり、
ＴＡＣ（ｇ／ｇ）＝ＣＲＣ＋ＳＡＡＰ・・・（２）  但し、ＣＲＣは無加圧下吸収倍率（ｇ／ｇ）、ＳＡＡＰ（Single-layer ＡＡＰ）は１．９ｋＰａ加圧下での単層加圧下吸収倍率（ｇ／ｇ）を示す。
残存モノマー量が０以上３００ｐｐｍ以下であり、
下記数式（１）で算出される残存モノマー粒度指数（ＲＭＩ）が０．３０以下である吸水剤。
ＲＭＩ＝｜ＲＭ１−ＲＭ２｜／ＲＭＡ              ・・・（１）
但し、ＲＭ１  は吸水剤を構成する粒子のうち３００μｍ未満の粒子径を有する吸水剤の残存モノマー量、ＲＭ２  は吸水剤を構成する粒子のうち粒子径が３００〜８５０μｍの粒子径を有する吸水剤の残存モノマー量、ＲＭＡは吸水剤の残存モノマー量を示す。
【請求項２】
上記不飽和カルボン酸の主成分がアクリル酸であり、上記残存モノマーが、アクリル酸及び／又はその塩である請求項１に記載の吸水剤。
【請求項３】
生理食塩水に対する４．８ｋＰａ加圧下での高加圧下吸収倍率（ＡＡＰ４．８ｋＰａ）が２０ｇ／ｇ以上である請求項１又は２に記載の吸水剤。
【請求項４】
粒子径１５０μｍ未満の粒子の含有量が２質量％以下である請求項１から３の何れか１項に記載の吸水剤。
【請求項５】
粒子形状が不定形破砕状である請求項１から４の何れか１項に記載の吸水剤。
【請求項６】
上記無加圧下吸収倍率（ＣＲＣ）が３２ｇ／ｇ以上であり、
生理食塩水に対する４．８ｋＰａ加圧下での高加圧下吸収倍率（ＡＡＰ４．８ｋＰａ）が２０ｇ／ｇ以上であり、
ガス検知管にて規定される雰囲気濃度としての硫黄系揮発成分の含有量が０以上２．５ｐｐｍ以下である請求項１から５の何れか１項に記載の吸水剤。
【請求項７】
請求項１から６の何れか１項に記載の吸水剤を含む吸収性物品。