【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーの支持体のためのクロムをベースとする反射被膜であって、この被膜は２００ｎｍ以下の厚さを有し、またクロムとドーパント物質との二元合金であり、ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるチタン、コバルト、ハフニウム、ルビジウム、イットリウムおよびオスミウムから選択され、該合金は二次オメガ稠密六方晶の相と共存している一次体心立方晶の相からなる結晶構造を有し、前記二元合金におけるドーパント物質の原子パーセントは１．９原子％から５．８原子％までの範囲である、前記反射被膜。
【請求項２】
前記ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるチタンおよびコバルトから選択される、請求項１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項３】
前記ドーパント物質はチタンであり、ここで、該二元合金におけるチタンの原子パーセントは１．９原子％から５．８原子％までの範囲である、請求項１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項４】
前記ドーパント物質はコバルトであり、ここで、該二元合金におけるコバルトの原子パーセントは１．９原子％から５．７原子％までの範囲である、請求項１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項５】
前記被膜の厚さは１００ｎｍ以下である、請求項１から４までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項６】
前記被膜の厚さは４０ｎｍから８０ｎｍまでの範囲である、請求項１から４までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項７】
前記被膜の厚さは５０ｎｍから７０ｎｍまでの範囲である、請求項１から４までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項８】
前記被膜の厚さは６０ｎｍである、請求項１から４までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
【請求項９】
ポリマーの支持体の上にクロムをベースとする反射被膜を形成する方法であって、該ポリマーの支持体にクロムとドーパント物質とを物理蒸着によって付与することを含み、該ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるチタン、コバルト、ハフニウム、ルビジウム、イットリウムおよびオスミウムから選択され、それによって２００ｎｍ以下の厚さを有する合金被膜が形成され、その合金被膜は、二次オメガ稠密六方晶の相と共存している一次体心立方晶の相からなる結晶構造を有するように付与され、前記合金はクロムとドーパント物質との二元合金であり、前記二元合金におけるドーパント物質の原子パーセントは１．９原子％から５．８原子％までの範囲である、前記方法。
【請求項１０】
前記ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるチタンおよびコバルトから選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ドーパント物質はコバルトであり、ここで、前記二元合金におけるコバルトの原子パーセントは１．９原子％から５．７原子％までの範囲である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記被膜の厚さは１００ｎｍ以下である、請求項９から１１までのいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記被膜の厚さは４０ｎｍから８０ｎｍまでの範囲である、請求項９から１１までのいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記被膜の厚さは５０ｎｍから７０ｎｍまでの範囲である、請求項９から１１までのいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記被膜の厚さは６０ｎｍである、請求項９から１１までのいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記物理蒸着はマグネトロンスパッタ法によって行われる、請求項９から１５までのいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
前記マグネトロンスパッタ法において一次合金のターゲットまたは二つの合金のターゲットを用い、二つの合金のターゲットの各々はクロムまたはドーパント物質のうちの一つから製造されたものである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記物理蒸着は加熱蒸発または電子ビーム蒸発を用いることによって行われる、請求項９から１５までのいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
クロムをベースとする反射被膜で被覆されたポリマーの支持体であって、該クロムをベースとする反射被膜は請求項１から８までのいずれかに従うものである、前記支持体。
【請求項２０】
前記ポリマーの支持体は、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、フェノール樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン、アクリロニトリル-スチレン-アリレート、アセタールおよびこれらの混合物からなる群から選択される物質で形成される、請求項１９に記載の被覆されたポリマーの支持体。
【請求項２１】
前記ポリマーの支持体は、ポリカーボネート、ポリ(２,２’-ジヒドロキシフェニルプロパン)カーボネート、ポリジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンまたはこれらの混合物からなる群から選択される物質で形成される、請求項１９に記載の被覆されたポリマーの支持体。
【請求項２２】
前記ポリマーの支持体は、ハードコート、無機酸化物または薄い金属膜のいずれかの形の下塗りした膜、またはこれらの下塗りした膜の組み合わせを含んでいる、請求項１９から２１までのいずれかに記載の被覆されたポリマーの支持体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
ここで説明した構成には他の変形や改良形であってやはり本発明の範囲内であるものがあり得ることが認識されるであろう。
以下に、出願時の特許請求の範囲の内容を記載する。
［１］
ポリマーの支持体のためのクロムをベースとする反射被膜であって、この被膜は２００ｎｍ以下の厚さを有し、またクロムとドーパント物質との合金であり、ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属から選択され、該合金は二次オメガ稠密六方晶の相と共存している一次体心立方晶の相からなる結晶構造を有する、前記反射被膜。
［２］
前記合金はクロムとドーパント物質との二元合金である、１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
［３］
前記二元合金におけるドーパント物質の原子パーセントは約１．９原子％から約５．８原子％までの範囲である、１または２に記載のクロムをベースとする反射被膜。
［４］
前記ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるジルコニウム、チタン、コバルト、ハフニウム、ルビジウム、イットリウムおよびオスミウムから選択される、１から３までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
［５］
前記ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるジルコニウム、チタンおよびコバルトから選択される、請求項１から３までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
［６］
前記合金は二元合金であってドーパント物質はジルコニウムであり、ここで、該二元合金におけるジルコニウムの原子パーセントは約４．５原子％から約５．８原子％までの範囲である、１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
［７］
前記合金は二元合金であってドーパント物質はチタンであり、ここで、該二元合金におけるチタンの原子パーセントは約１．９原子％から約５．８原子％までの範囲である、１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
［８］
前記合金は二元合金であってドーパント物質はコバルトであり、ここで、該二元合金におけるコバルトの原子パーセントは約１．９原子％から５．７原子％までの範囲である、１に記載のクロムをベースとする反射被膜。
［９］
前記被膜の厚さは１００ｎｍ以下である、１から８までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
［１０］
前記被膜の厚さは４０ｎｍから８０ｎｍまでの範囲である、１から８までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
［１１］
前記被膜の厚さは５０ｎｍから７０ｎｍまでの範囲である、１から８までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
［１２］
前記被膜の厚さは約６０ｎｍである、１から８までのいずれかに記載のクロムをベースとする反射被膜。
［１３］
ポリマーの支持体の上にクロムをベースとする反射被膜を形成する方法であって、該ポリマーの支持体にクロムとドーパント物質とを物理蒸着によって付与することを含み、該ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属から選択され、それによって２００ｎｍ以下の厚さを有する合金被膜が形成され、その合金被膜は、二次オメガ稠密六方晶の相と共存している一次体心立方晶の相からなる結晶構造を有するように付与される、前記方法。
［１４］
前記合金はクロムとドーパント物質との二元合金である、１３に記載の方法。
［１５］
前記二元合金におけるドーパント物質の原子パーセントは約１．９原子％から約５．８原子％までの範囲である、１３または１４に記載の方法。
［１６］
前記ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるジルコニウム、チタン、コバルト、ハフニウム、ルビジウム、イットリウムおよびオスミウムから選択される、１３から１５までのいずれかに記載の方法。
［１７］
前記ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属であるジルコニウム、チタンおよびコバルトから選択される、１３から１５までのいずれかに記載の方法。
［１８］
前記合金は二元合金であってドーパント物質はジルコニウムであり、ここで、該二元合金におけるジルコニウムの原子パーセントは約４．５原子％から約５．８原子％までの範囲である、１３に記載の方法。
［１９］
前記合金は二元合金であってドーパント物質はコバルトであり、ここで、該二元合金におけるコバルトの原子パーセントは約１．９原子％から約５．７原子％までの範囲である、１３に記載の方法。
［２０］
前記被膜の厚さは１００ｎｍ以下である、１３から１９までのいずれかに記載の方法。
［２１］
前記被膜の厚さは４０ｎｍから８０ｎｍまでの範囲である、１３から１９までのいずれかに記載の方法。
［２２］
前記被膜の厚さは５０ｎｍから７０ｎｍまでの範囲である、１３から１９までのいずれかに記載の方法。
［２３］
前記被膜の厚さは約６０ｎｍである、１３から１９までのいずれかに記載の方法。
［２４］
前記物理蒸着はマグネトロンスパッタ法によって行われる、１３から２３までのいずれかに記載の方法。
［２５］
前記マグネトロンスパッタ法において一次合金のターゲットまたは二つの合金のターゲットを用い、二つの合金のターゲットの各々はクロムまたはドーパント物質のうちの一つから製造されたものである、２４に記載の方法。
［２６］
前記物理蒸着は加熱蒸発または電子ビーム蒸発を用いることによって行われる、１３から２３までのいずれかに記載の方法。
［２７］
クロムをベースとする反射被膜で被覆されたポリマーの支持体であって、該クロムをベースとする反射被膜は１から１２までのいずれかに従うものである、前記支持体。
［２８］
前記ポリマーの支持体は、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、フェノール樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン、アクリロニトリル-スチレン-アリレート、アセタールおよびこれらの混合物からなる群から選択される物質で形成される、２７に記載の被覆されたポリマーの支持体。
［２９］
前記ポリマーの支持体は、ポリカーボネート、ポリ(２,２’-ジヒドロキシフェニルプロパン)カーボネート、ポリジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンまたはこれらの混合物からなる群から選択される物質で形成される、２７に記載の被覆されたポリマーの支持体。
［３０］
前記ポリマーの支持体は、ハードコート、無機酸化物または薄い金属膜のいずれかの形の下塗りした膜、またはこれらの下塗りした膜の組み合わせを含んでいる、２７から２９までのいずれかに記載の被覆されたポリマーの支持体。
［３１］
１３から２６までのいずれかに記載の方法に従って被覆されたポリマーの支持体。