【手続補正書】
【提出日】平成28年6月20日(2016.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】機能膜の製造方法、有機ＥＬ機能膜、有機太陽電池機能膜、有機半導体機能膜、有機ＥＬ素子、有機太陽電池素子、有機半導体素子、照明装置、及び表示装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布ヘッドの複数回の走査による機能膜の製造方法、当該製造方法によって製造される有機ＥＬ機能膜、有機太陽電池機能膜、及び有機半導体機能膜、並びにこれらの機能膜を備える有機ＥＬ素子、有機太陽電池素子、有機半導体素子、照明装置、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイパネルの製造においては、各画素をバンクと呼ばれる隔壁で区画し、かかるバンク内の微小な領域に、有機ＥＬ素子の有機機能層を構成するための塗布液（インク）をインクジェット法にて吐出し、当該バンクによって区画されたそれぞれの微小な領域に有機機能層を形成する方法が一般的に用いられている。例えば、特許文献１には、インクジェット装置を使用して、ディスプレイ用の基板の所定の区画領域に有機発光材料を含有するインクの液滴を吐出し、有機機能層を形成する技術が開示されている。
【０００３】
近年においては、大型ディスプレイパネルの製造及び研究が盛んに行われており、このような大型ディスプレイにおいては、インクジェット装置の塗布ヘッドの幅（一回の塗布可能領域）よりも基板上の塗布領域の幅が広くなることがあり、このような場合には塗布ヘッドを複数回走査して有機機能層を形成する必要がある。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子を利用した照明である有機ＥＬ照明パネルにおいては、バンクによって区画された塗布領域の幅が数ミクロン〜数百ミクロン程度となる有機ＥＬディスプレイパネルとは異なり、基板上の塗布領域は数センチメートルから数１０センチメートルとなる。従って、有機ＥＬ照明パネルの製造においても、上述したような大型ディスプレイと同様に、インクジェット装置の塗布ヘッドの幅よりも基板上の塗布領域の幅が広くなるため、塗布ヘッドを複数回走査して有機機能層を形成する必要がある。
【０００５】
このような複数回の塗布ヘッドの走査によって有機機能層を形成する場合には、塗布ヘッドの１回目の走査によって形成される有機機能層と、２回目の走査によって形成される有機機能層との境界部分で発光ムラが生じる問題があった。これは、１回目の走査によって塗布されるインクが、２回目の走査が行われる前に流動してしまうことや、１回目の走査によって塗布されるインクと、２回目の走査によって塗布されるインクとの乾燥状態等の相違により、２つの有機機能層の境界部分に凹凸が生じるためである。すなわち、２つの有機機能層の境界部分における膜厚ムラによって、発光ムラが生じる問題があった。このような問題に対して、特許文献２には、１回目の塗布領域と２回目の塗布領域との境界部分における膜厚ムラの抑制を目的とした機能膜の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３６２８１８号公報
【特許文献２】特開２０１１−１２９３３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献２に開示された機能膜の製造方法においては、１回目の塗布領域と２回目の塗布領域との境界近傍における塗布量を各回の塗布領域の中央部における塗布量よりも少なくしている。しかしながら、このような塗布量の制御だけでは、２つの有機機能層の境界部分における膜厚ムラを十分に抑制するは困難であった。
【０００８】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、区画された１つの塗布領域に対して塗布ヘッドを複数回走査して機能膜を形成する場合において、機能膜の膜厚ムラを十分に抑制し、機能膜の発光ムラの発生を十分に防止できる機能膜の製造方法を提供することにある。
【０００９】
また、本発明は、当該機能膜の製造方法を利用することによって製造される、有機ＥＬ機能膜、有機太陽電池機能膜、及び有機半導体機能膜、並びにこれら機能膜を備える有機ＥＬ素子、有機太陽電池素子、有機半導体素子、照明装置、及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した目的を達成するため、本発明に係る機能膜の製造方法は、基板の表面上に区画された１つの領域内にインクを塗布して機能膜を形成する機能膜の製造方法であって、前記インクが充填された塗布ヘッドを前記基板に対して相対的に走査し、前記塗布ヘッドの複数のノズルから前記区画された１つの領域の一部に前記インクを吐出して第１塗布領域を形成する第１塗布工程と、前記第１塗布工程における前記塗布ヘッドの走査経路に対して平行、且つ走査範囲の一部が重複するように前記塗布ヘッドを前記基板に対して相対的に走査し、前記区画された１つの領域の残部の少なくとも一部に前記インクを吐出して第２塗布領域を形成する第２塗布工程と、を有し、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程における重複走査範囲に対応する前記基板の重複塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量が、前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域及び前記第２塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量の−３０％から＋３０％の範囲内となるように、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程における前記インクの吐出量を調整する。
【００１１】
上述した機能膜の製造方法において、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程のそれぞれで、前記重複塗布領域における前記インクの単位面積当たりの吐出点の数量が前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域及び前記第２塗布領域における前記インクの単位面積当たりの吐出点の数量よりも少なくしてもよい。このようにすることで、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程における重複走査範囲に対応する前記基板の重複塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量を、前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域及び前記第２塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量の−３０％から＋３０％の範囲内に確実に設定することができ、機能膜の膜厚ムラを十分に抑制し、機能膜の発光ムラの発生を十分に防止できる。
【００１２】
上述したいずれかの機能膜の製造方法において、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程のそれぞれで、前記重複塗布領域における前記インクの１回の吐出量が、前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域及び前記第２塗布領域における前記インクの１回の吐出量よりも少なくしてもよい。このようにすることで、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程における重複走査範囲に対応する前記基板の重複塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量を、前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域及び前記第２塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量の−３０％から＋３０％の範囲内に確実に設定することができ、機能膜の膜厚ムラを十分に抑制し、機能膜の発光ムラの発生を十分に防止できる。
【００１３】
上述したいずれかの機能膜の製造方法において、前記複数のノズルは、前記塗布ヘッドにおいて直線上に一定のピッチで並設され、前記第２塗布工程においては、３つ以上の前記ノズルが前記重複走査範囲内を走査してもよい。このように、重複走査範囲内を走査するノズル数を３以上にすると、重複塗布領域における機能膜の膜厚ムラをより抑制することができ、機能膜の発光ムラの発生をより一層防止できる。
【００１４】
上述したいずれかの機能膜の製造方法において、前記第２塗布工程で前記重複塗布領域における前記インクの単位面積当たりの吐出量を前記第１塗布工程よりも増加させてもよい。このような場合に、前記第２塗布工程においては、前記重複塗布領域における前記インクの吐出点の数量、及び１つの前記ノズルからの前記インクの１回の吐出量の少なくとも一方の量を前記第１塗布工程よりも多くしてもよい。このように、前記第１塗布工程に比して、前記第２塗布工程における前記重複塗布領域についてのインクの単位面積当たりの吐出量を増加させると、前記第１塗布工程において塗布されたインクが、前記重複塗布領域以外の前記第２塗布領域にまで広がることを抑制することができ、区画された１つの領域内に形成される機能膜の膜厚をより均一にすることができる。
【００１５】
上述したいずれかの機能膜の製造方法において、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程のそれぞれで、前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域又は前記第２塗布領域と前記重複塗布領域との境界から前記重複塗布領域の端部に向かって、同一走査経路上における、前記インクの吐出点の数量、及び１つの前記ノズルからの前記インクの１回の吐出量の少なくとも一方の量を徐々に減らしてもよい。このようにすることで、前記重複塗布領域においても、前記第１塗布工程のインクの吐出の時点で、吐出されたインクの流動後の形状に近似した形状を形成することができ、前記第２塗布工程のインクの吐出によって前記重複塗布領域における機能膜の膜厚を増加することで、前記重複塗布領域における機能膜の膜厚をより均一にすることができる。
【００１６】
上述したいずれかの機能膜の製造方法において、前記第２塗布工程における前記重複塗布領域における前記インクの吐出点を前記第１塗布工程における吐出点と異ならせてもよく、あるいは前記重複塗布領域における前記インクの吐出点を前記第１塗布工程における吐出点と同一にしてもよい。このようにすることで、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程における重複走査範囲に対応する前記基板の重複塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量を、前記重複塗布領域以外の前記第１塗布領域及び前記第２塗布領域における前記インクの単位面積当たりの全吐出量の−３０％から＋３０％の範囲内に確実に設定することができ、機能膜の膜厚ムラを十分に抑制し、機能膜の発光ムラの発生を十分に防止できる。
【００１７】
上述したいずれかの機能膜の製造方法において、前記第１塗布工程及び前記第２塗布工程で、互いに異なる塗布ヘッドを使用してもよい。このように異なる塗布ヘッドを使用すると、第１塗布工程の終了を待つことなく、第２塗布工程を開始することができ、機能膜の製造時間及び製造コストを低減することができる。
【００１８】
上述したいずれかの機能膜の製造方法を用いて有機ＥＬ機能膜を形成してもよい。また、当該有機ＥＬ機能膜を有機ＥＬ素子に適用してもよい。更に、当該有機ＥＬ素子を照明装置又は表示装置に適用してもよい。これにより、優れた特性を備える有機ＥＬ機能膜、有機ＥＬ素子、照明装置、及び表示装置を提供することができる。
【００１９】
上述したいずれかの機能膜の製造方法を用いて有機太陽電池機能膜を形成してもよい。また、当該有機太陽電池機能膜を有機太陽電池素子に適用してもよい。これにより、優れた特性を備える有機太陽電池機能膜、及び有機太陽電池素子を提供することができる。
【００２０】
上述したいずれかの機能膜の製造方法を用いて有機半導体機能膜を形成してもよい。また、当該有機半導体機能膜を有機半導体素子に適用してもよい。これにより、優れた特性を備える有機半導体機能膜、及び有機半導体素子を提供することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る機能膜の製造方法によれば、１つの塗布領域に対して塗布ヘッドを複数回走査して機能膜を形成する場合においても、機能膜の膜厚ムラを十分に抑制し、機能膜の発光ムラの発生を十分に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態例１に係る機能膜の製造方法を説明するための概略図である。
【図２】実施形態例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【図３】実施形態例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【図４】変形例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【図５】変形例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【図６】変形例２に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布領域の拡大図である。
【図７】変形例３に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布領域の拡大図である。
【図８】変形例４に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【図９】変形例４に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【図１０】比較例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。（もとの明細書の「図１５」の説明を記載）
【図１１】比較例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。（もとの明細書の「図１６」の説明を記載）
【図１２】比較例２に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。（もとの明細書の「図１７」の説明を記載）
【図１３】比較例２に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。（もとの明細書の「図１８」の説明を記載）
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照し、本発明による機能膜の製造方法の実施の形態について、実施形態例又は変形例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する内容に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において任意に変更して実施することが可能である。また、実施形態例又は変形例の説明に用いる図面は、いずれも本発明による機能膜の製造方法によって製造される機能膜又はその中間体を模式的に示すものであって、理解を深めるべく部分的な強調、拡大、縮小、又は省略等を行っており、各機能膜又はその中間体の縮尺や形状等を正確に表すものとはなっていない場合がある。更に、実施形態例又は変形例で用いる様々な数値は、いずれも一例を示すものであり、必要に応じて様々に変更することが可能である。
【００２４】
＜実施形態例１＞
先ず、図１乃至図３を参照しつつ、本発明の実施形態例１に係る機能膜の製造方法を説明する。図１は、本実施形態例に係る機能膜の製造方法を説明するための概略図である。また、図２及び図３は、本実施形態例に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。
【００２５】
図１に示すように、基板１１の表面１１ａ上には機能膜の材料である有機材料からなるインクを塗布するための塗布領域１２（実線で示す）があらかじめ区画されている。本発明における区画された１つの領域とは、機能膜を形成するために塗布されたインクが、塗布直後のインクにより形成された膜（以下、塗布膜と記載）の状態で、連続した１つの塗布膜となる領域のことを指す。例えば、基板上に形成された隔壁等により、塗布膜が分断されて形成されるような場合は、隔壁の両側の領域（すなわち、隔壁を挟むように位置する領域）は異なる２つの領域であって、区画された１つの領域とは呼ばない。また、連続した１つの塗布膜を形成する領域であれば、周囲にバンク等が形成されていない平坦な領域であっても、区画された１つの領域とみなすものとする。また、基板上に隔壁が形成されていたとしても、塗布膜がその隔壁を完全に覆ってしまい、隔壁上で塗布膜が連続した状態となっていれば、隔壁の両側の領域をまとめて区画された１つの領域とみなす。
【００２６】
また、有機ＥＬ素子を例にとると、有機ＥＬ素子は一般に２つの電極の間に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層といった複数の層が設けられているが、これらの層１つ１つが本発明の機能膜に相当しうる。つまり、本発明における基板の表面上とは、基板の直接の表面上のみでなく、基板上に何らかの機能膜が形成された表面であってもよい。例えば、発光層を本発明の機能膜として形成する場合は、基板上に正孔輸送層等が形成された表面に、発光層を形成するためのインクを塗布することになるが、正孔輸送層を本発明の機能膜として形成する場合には、基板上に正孔注入層が形成された表面に、正孔輸送層を形成するためのインクを塗布することになる。
【００２７】
塗布領域１２は、塗布されるインクが塗布領域１２の外側に濡れ広がらないように、バンク、隔壁又はその他の部材（例えば、塗布領域１２よりも撥液性の高い表面を有する部材）によって囲まれていることが好ましい。本実施形態例においては、有機ＥＬ照明パネルを構成する機能膜を形成することが想定されているため、塗布領域１２が広く区画されている。より具体的に、インクが充填された塗布ヘッド１３の走査方向に直交する方向における塗布領域１２の幅が、塗布ヘッド１３の幅よりも広くなっており、１度の塗布ヘッド１３の走査では、塗布領域１２の全体にインクを塗布することができない。このため、本実施形態例においては、塗布ヘッド１３の走査を２回施すことにより、塗布領域１２におけるインクの塗布が完了することになる。
【００２８】
具体的な塗布ヘッド１３の走査としては、先ず、塗布ヘッド１３を基板１１に対して相対的に走査し、塗布領域１２の第１端部１１ｂから第２端部１１ｃ（図１の矢印Ａの方向）に向かって移動させる。ここで、かかる塗布ヘッド１３の走査の際に、塗布ヘッド１３からインクが吐出されることになるが、当該インクの吐出については後述する。塗布ヘッド１３が第１端部１１ｂから第２端部１１ｃまで移動しつつ、塗布領域１２の一部にインクを吐出することで第１塗布工程が完了する。なお、図１において、第１塗布工程における塗布ヘッド１３の走査範囲を第１走査範囲１４（破線で囲まれた範囲）として示す。
【００２９】
次に、塗布領域１２の第２端部１１ｃに到達した塗布ヘッド１３は、インクの塗布の走査方向に直交する方向（図１の矢印Ｂの方向）に移動する。そして、塗布ヘッド１３を基板１１に対して相対的に走査し、塗布領域１２の第２端部１１ｃから第１端部１１ｂ（図１の矢印Ｃの方向）に向かって移動させつつ、インクを塗布ヘッド１３から吐出する。このように、塗布ヘッド１３が第２端部１１ｃから第１端部１１ｂまで移動しつつ、塗布領域１２の残部（塗布領域１２のうち第１塗布工程によってインクの塗布が完了していない部分）にインクを吐出することで第２塗布工程が完了する。なお、図１において、第２塗布工程における塗布ヘッド１３の走査範囲を第２走査範囲１５（点線で囲まれた範囲）として示す。
【００３０】
ここで、第２塗布工程において、塗布ヘッド１３の走査経路は第１塗布工程における塗布ヘッド１３の走査経路に対して平行である（すなわち、矢印Ａと矢印Ｃは平行である）。また、第２塗布工程における塗布ヘッド１３の第２走査範囲１５は、第１塗布工程における塗布ヘッド１３の第１走査範囲１４と一部が重複している。換言すれば、第１塗布工程と第２塗布工程とは、インクの吐出範囲が部分的に重複している。ここで、図１において、当該重複する走査範囲を重複走査範囲１６（ハッチングされた範囲）として示す。なお、第２塗布工程におけるインクの具体的な吐出については、第１塗布工程におけるインクの吐出と合わせて説明するため、後述することとする。
【００３１】
以上のような第１塗布工程及び第２塗布工程を経て、塗布領域１２内にインクが均一に塗布されることとなり、機能膜の形成が完了する。なお、本実施形態例においては、１つの塗布ヘッド１３を使用して第１塗布工程及び第２塗布工程を行ったが、第１塗布工程及び第２塗布工程の塗布ヘッド１３を別々に準備し、第１塗布工程と第２塗布工程とを同時又は順次に行うようにしてもよい。すなわち、互いに異なる塗布ヘッドを使用して、第１塗布工程及び第２塗布工程を行ってもよい。このように異なる塗布ヘッドを使用すると、第１塗布工程の終了を待つことなく、第２塗布工程を開始することができ、機能膜の製造時間及び製造コストを低減することができる。
【００３２】
また、第１塗布工程及び第２塗布工程において、塗布ヘッド１３の走査方向が正反対であったが、第１塗布工程及び第２塗布工程における塗布ヘッド１３の走査方向を同一にしてもよい。
【００３３】
次に、図２及び図３を参照しつつ各塗布工程におけるインクの吐出について詳細に説明する。先ず、図２に示すように、塗布ヘッド１３は、直線上に一定のピッチで並設された２１６個のノズル２１ａ１、２１ａ２・・・、２１ａ２１６（以下において、任意のノズルを示す場合には、ノズル２１とも称する）を有しており、隣接するノズル２１同士の間隔（塗布ヘッド１３の幅方向におけるノズルピッチ）は、約２８２μｍである。また、本実施形態例において、ノズル２１の開口径は、円形であるが、これに限定されることなく、インクの広がり等を考慮して様々な形状とすることができる。そして、塗布ヘッド１３は、図示しない制御装置に接続されており、当該制御装置から供給される制御信号に応じて、所望のノズル２１から所望の量のインクを所望のタイミングで吐出することができる。本実施形態例においては、各ノズル２１から１回に吐出されるインク量は同一に調整されている。なお、ノズル２１の数量は、上記数量に限定されることなく、塗布領域１２の寸法等に応じて適宜変更することができる。
【００３４】
次に、図２に示すように、第１塗布工程においては、塗布ヘッド１３が第１端部１１ｂから第２端部１１ｃまで矢印Ａに沿って走査すると、所望の間隔（走査方向における吐出ピッチ）にてノズル２１からインクが吐出される。本実施形態例においては、約５０μｍの吐出ピッチにてインクが吐出される。そして、第１塗布工程においては、第１、第３、第５、第７、及び第９回目（奇数回目）のインクの吐出については、全て（２１６個）のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出するが、第２、第４、第６、第８、及び第１０回目（偶数回目）のインクの吐出については、ノズル２１ａ１、２１ａ２を除く２１４個のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出する。すなわち、ノズル２１ａ１、２１ａ２については、１回おきに（１００μｍの間隔にて）インクを吐出することになる。そして、ノズル２１から吐出されたインクは、塗布領域１２内の一部に広がり、第１塗布領域２２（図２において破線で囲まれた領域）を形成する。
【００３５】
なお、本実施形態例においては、説明の便宜上、走査方向の吐出回数が１０回で塗布領域１２全体の塗布が完了するものとしているが、吐出回数は走査方向の幅に応じて適宜選択されるものであり、例えば、塗布領域１２の走査方向の幅が約１００ｍｍであり、吐出ピッチが約５０μｍである場合、走査方向における吐出回数は２０００回程度必要となる。後述の他の実施形態例及び変形例についても同様である。
【００３６】
次に、図３に示すように、第２塗布工程においては、塗布ヘッド１３が第２端部１１ｃから第１端部１１ｂまで矢印Ｃに沿って走査すると、所望の間隔（走査方向における吐出ピッチ）にてノズル２１からインクが吐出される。第２塗布工程においても、第１塗布工程と同様に、約５０μｍの吐出ピッチにてインクが吐出される。そして、第２塗布工程においては、第１、第３、第５、第７、及び第９回目（奇数回）のインクの吐出については、全て（２１６個）のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出するが、第２、第４、第６、第８、及び第１０回目（偶数回）のインクの吐出については、ノズル２１ａ２１５、２１ａ２１６を除く２１４個のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出する。すなわち、ノズル２１ａ２１５、２１ａ２１６については、１回おきに（１００μｍの間隔にて）インクを吐出することになる。そして、ノズル２１から吐出されたインクは、塗布領域１２内の一部に広がり、第２塗布領域２３（図３において点線で囲まれた領域）を形成する。
【００３７】
また、上述したように、第１塗布工程における塗布ヘッド１３の第１走査範囲１４と、第２塗布工程における塗布ヘッド１３の第２走査範囲１５とは部分的に重複している。当該走査範囲が重複する部分である重複走査範囲１６に対応して、基板１１の塗布領域１２内には重複塗布領域２４（図３において一点鎖線で囲まれた領域）が存在することになる。そして、かかる重複塗布領域２４における第１塗布工程又は第２塗布工程の各ノズル２１のインクの単位面積当たりの吐出点の数量は、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２又は第２塗布領域２３における各ノズル２１のインクの単位面積当たりの吐出点の数量よりも少なく、具体的には吐出点の数量が半分になっている。このため、重複塗布領域２４においては、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経ることにより、重複塗布領域２４以外の領域と同一の吐出量となる。換言すれば、重複塗布領域２４におけるインクの単位面積当たりの全吐出量は、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経ることにより、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量と同一となる。
【００３８】
このように、第１塗布工程による第１塗布領域２２と、第２塗布工程による第２塗布領域２３の境界部分に、重複塗布領域２４を一定の幅（本実施形態例においては、２つのノズルを用いて重複領域を形成するため、２８２μｍのノズルピッチの２倍である５６４μｍ）で設け、当該重複塗布領域２４におけるインクの全吐出量を２回のインクの塗布工程によって他の塗布領域におけるインクの全吐出量と同一とすることにより、塗布領域１２内に形成される機能膜の膜厚を均一にすることができる。これにより、当該膜厚が均一な機能膜を用いた有機ＥＬ素子等においては、発光ムラの発生が抑制されることになる。
【００３９】
上述したことを換言すると、本実施形態例においては、第１塗布工程によって吐出されたインクが、第１塗布領域から第２塗布領域に向かって徐々に減少するなだらかな傾斜を形成しつつ広がることになり、第２塗布工程によって吐出されたインクが、第２塗布領域から第１塗布領域に向かって徐々に減少するなだらかな傾斜を形成しつつ広がることになる。すなわち、本実施形態例においては、第１塗布工程のインクの吐出の時点で、吐出されたインクの流動後の形状（端部に向かって徐々に膜厚が薄くなる形状）に近似した形状を形成することができ、第２塗布工程のインクの吐出によって機能膜の膜厚を増加することで、塗布領域１２における機能膜の膜厚を均一にすることができる。
【００４０】
そして、このような機能膜を備える有機ＥＬ素子を、有機ＥＬ発光パネルを含む照明装置及び表示装置に適用することで、優れた電気的特性及び信頼性を備える照明装置及び表示装置を実現することができる。
【００４１】
なお、重複塗布領域２４におけるインクの単位面積当たりの全吐出量は、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量と完全に一致する必要はなく、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量の−３０％から＋３０％の範囲内に調整されれば良く、好ましくは±１０％以内、更に好ましくは±１％以内、特に好ましくは±０．１％以内の範囲で調整されればよい。
【００４２】
また、本実施形態例においては、重複走査範囲１６（重複塗布領域２４）内を走査する各塗布工程のノズル２１の数量は２つ（第１塗布工程においてはノズル２１ａ１、２１ａ２、第２塗布工程においてはノズル２１ａ２１５、２１ａ２１６）であったが、重複走査範囲１６内を走査する各塗布工程のノズル２１の数量を好ましくは３つ、特に好ましくは４つ以上にしてもよい。すなわち、重複走査範囲１６内を走査する各塗布工程のノズル２１の数量を出来る限り多くすることが好ましく、これによって塗布領域１２内に形成される機能膜の膜厚をより均一にすることができる。
【００４３】
更に、本実施形態例においては、重複塗布領域２４（重複走査範囲１６）内において、第１塗布工程におけるインクの吐出点と、第２塗布工程におけるインクの吐出点が異なっていたが、インクの吐出点を同一にしてもよい。このような場合であっても、重複塗布領域２４内のインクは均一に広がることになり、塗布領域１２内に形成される機能膜の膜厚を均一にすることができる。
なお、本発明の趣旨を逸脱しない範囲においては、第１の塗布工程におけるインクの吐出点と、第２塗布工程におけるインクの吐出点がノズルピッチ方向に異なっていても良い。
【００４４】
そして、本実施形態例においては、塗布領域１２内にインクを塗布するために、塗布ヘッド１３を２回走査していたが、走査回数を３回以上に設定してもよい。走査回数を３回以上に設定する場合であっても、塗布ヘッド１３の１回目及び２回目の走査において重複走査範囲１６（重複塗布領域２４）を設定し、２回目及び３回目の走査においても重複走査範囲１６（重複塗布領域２４）を設定することになる。
【００４５】
また、本実施形態例においては、有機ＥＬ素子に用いられる機能膜の製造が前提となっていたが、有機太陽電池に用いられる機能膜、及び有機半導体に用いられる機能膜の製造にも上述した機能膜の製造方法を適用することができる。これにより、膜厚が均一な有機太陽電池機能膜及び有機半導体機能膜を提供することができる。そして、このような有機太陽電池機能膜を有機太陽電池素子に適用し、或いは有機半導体機能膜を有機半導体素子に適用することで、優れた電気的特性及び信頼性を備える有機太陽電池素子及び有機半導体素子を実現することができる。
【００４６】
＜変形例１＞
上述した実施形態例１においては、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経て、重複塗布領域２４におけるインクの単位面積当たりの全吐出量が、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量と同一になるように、重複塗布領域２４における第１塗布工程及び第２塗布工程の各ノズル２１のインクの吐出点を、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２又は第２塗布領域２３における各ノズル２１のインクの吐出点よりも少なく設定していた。ここで、重複塗布領域におけるインクの単位面積当たりの全吐出量と、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量とを同一又は所定の範囲内の差とするために、各塗布工程の重複塗布領域２４に対するインクの１回の吐出量を、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２又は第２塗布領域２３に対するインクの１回の吐出量よりも少なくしてもよい。
【００４７】
以下において、図４及び図５を参照しつつ、このような１回のインクの吐出量を調整する機能膜の製造方法を変形例１として説明する。ここで、図４及び図５は、本変形例に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。なお、実施形態例１と同一の構成等については、実施形態例１と同一の符号を付し、その内容についての説明は省略するものとする。
【００４８】
先ず、図４に示すように、変形例１の製造方法に係る第１塗布工程においては、塗布ヘッド１３が第１端部１１ｂから第２端部１１ｃまで矢印Ａに沿って走査すると、約５０μｍの吐出ピッチにてノズル２１からインクが吐出される。また、変形例１の第１塗布工程においては、全てのインクの吐出回（図４においては、第１〜第１０回目）において、全て（２１６個）のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出する。ここで、ノズル２１ａ１、２１ａ２の１回のインクの吐出量は、他のノズル２１ａ３〜２１ａ２１６の吐出量よりも少なく、例えば半分に設定されている。当該吐出量の設定は、制御装置（図示せず）が制御し、当該制御装置から供給される制御信号に応じて、ノズル２１ごとに吐出量を自在に変更することが可能になっている。
【００４９】
そして、ノズル２１から吐出されたインクは、塗布領域１２内の一部に広がり、第１塗布領域２２（図４において破線で囲まれた領域）を形成する。ここで、ノズル２１ａ１、２１ａ２から吐出されたインクによって形成される塗布部分と、ノズル２１ａ３〜２１ａ２１６から吐出されたインクによって形成される塗布部分とは、その膜厚が異なっている。例えば、ノズル２１ａ１、２１ａ２から吐出されたインクによって形成される塗布部分の膜厚は、ノズル２１ａ３〜２１ａ２１６から吐出されたインクによって形成される塗布部分の膜厚の約半分となる。
【００５０】
次に、図５に示すように、変形例１の製造方法に係る第２塗布工程においては、塗布ヘッド１３が第２端部１１ｃから第１端部１１ｂまで矢印Ｃに沿って走査すると、約５０μｍの吐出ピッチにてノズル２１からインクが吐出される。また、変形例１の第２塗布工程においては、全てのインクの吐出回（図５においては、第１〜第１０回目）において、全て（２１６個）のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出する。ここで、ノズル２１ａ２１５、２１ａ２１６の１回のインクの吐出量は、他のノズル２１ａ１〜２１ａ２１４の吐出量よりも少なく、例えば半分に設定されている。そして、ノズル２１から吐出されたインクは、塗布領域１２内の一部に広がり、第２塗布領域２３（図５において点線で囲まれた領域）を形成する。
【００５１】
ここで、第１塗布工程における塗布ヘッド１３の第１走査範囲１４と、第２塗布工程における塗布ヘッド１３の第２走査範囲１５とは、実施形態例１と同様に部分的に重複している。当該走査範囲が重複する部分である重複走査範囲１６に対応して、基板１１の塗布領域１２内には重複塗布領域２４（図５において一点鎖線で囲まれた領域）が存在することになる。そして、かかる重複塗布領域２４における第１塗布工程及び第２塗布工程の各ノズル２１のインクの１回の吐出量は、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２又は第２塗布領域２３における各ノズル２１のインクの１回の吐出量よりも少なく、具体的には吐出量が半分になっている。このため、重複塗布領域２４においては、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経ることにより、重複塗布領域２４以外の領域と同一の吐出量となる。換言すれば、重複塗布領域２４におけるインクの単位面積当たりの全吐出量は、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経ることにより、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量と同一となる。
【００５２】
このように、変形例１においても、第１塗布工程による第１塗布領域２２と、第２塗布工程による第２塗布領域２３の境界部分に、重複塗布領域２４を一定の幅で設け、当該重複塗布領域２４におけるインクの全吐出量を２回のインクの塗布工程によって他の塗布領域におけるインクの全吐出量と同一とすることにより、塗布領域１２内に形成される機能膜の膜厚を均一にすることができる。
【００５３】
＜変形例２＞
上述した実施形態例１において、重複塗布領域２４におけるインクの吐出は、第１塗布工程によるインクの吐出点と第２塗布工程によるインクの吐出点とが、塗布ヘッド１３の走査方向において交互に配置されていたが、重複塗布領域２４におけるインクの吐出点の位置を様々なパターンを形成するように調整してもよい。このような吐出点の他のパターン形成の一例を、図６を参照しつつ、変形例２として説明する。ここで、図６は、本変形例に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布領域の拡大図である。なお、実施形態例１と同一の構成等については、実施形態例１と同一の符号を付し、その内容についての説明は省略するものとする。
【００５４】
図６に示すように、重複塗布領域２４においては、第１塗布工程における第１吐出点３１及び第２塗布工程における第２吐出点３２によって市松模様が形成されている。すなわち、第１吐出点３１及び第２吐出点３２は、塗布ヘッド１３の走査方向及びこれに直交する方向において、交互に配置されていることになる。そして、このような配置により、第１吐出点３１と第２吐出点３２との数量が同一となっている。なお、図６においては、各塗布工程において各ノズル２１の吐出点が１０個になっているが、実施形態例１と同様に塗布領域１２の走査方向の幅によって吐出点の数を変更してもよく、場合によってはより多数の吐出点が存在することになり、吐出点の数量によって、第１吐出点３１と第２吐出点３２との数量が異なっていてもよい。
【００５５】
このようにインクの吐出点によって様々なパターンを形成する場合であっても、第１塗布工程による第１塗布領域２２と、第２塗布工程による第２塗布領域２３の境界部分に、重複塗布領域２４を一定の幅で設け、当該重複塗布領域２４におけるインクの全吐出量を２回のインクの塗布工程によって他の塗布領域におけるインクの全吐出量と同一とすることにより、塗布領域１２内に形成される機能膜の膜厚を均一にすることができる。
【００５６】
＜変形例３＞
重複塗布領域２４におけるインクの吐出のパターンとして、市松模様の例を変形例２として説明したが、更に複雑なパターンを形成する場合を、変形例３として図７を参照しつつ説明する。ここで、図７は、本変形例に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布領域の拡大図である。なお、実施形態例１及び変形例２と同一の構成等については、実施形態例１及び変形例２と同一の符号を付し、その内容についての説明は省略するものとする。
【００５７】
図７から分かるように、変形例３においては、重複塗布領域２４（重複走査範囲１６）において移動するノズル２１の数量は、第１塗布工程及び第２塗布工程ともに４個となっている。すなわち、４つのノズル２１の幅が重複塗布領域２４に対応していることになる。また、重複塗布領域２４において、第１塗布工程における第１吐出点３１は、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２と重複塗布領域２４との境界（すなわち、重複塗布領域２４と一端部）から重複塗布領域２４以外の第２塗布領域２３と重複塗布領域２４との境界（すなわち、重複塗布領域２４と他端部）に向かって、同一走査経路上にインクの吐出点の数量が徐々に減少している。同様に、重複塗布領域２４において、第２塗布工程における第２吐出点３２は、重複塗布領域２４以外の第２塗布領域２３と重複塗布領域２４との境界から重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２と重複塗布領域２４との境界に向かって、同一走査経路上にインクの吐出点の数量が徐々に減少している。ここで、徐々に減少するとは、完全な単調減少のみに限定されず、本変形例のように重複塗布領域２４の中央部において吐出点の数量が変化しない場合や、吐出点の数量が若干増加する場合も含まれるものとする。
【００５８】
このように重複塗布領域２４における第１及び第２塗布工程のインクの吐出点のパターンを調整することにより、重複塗布領域２４においては、第１塗布工程によって吐出されたインクが、第１塗布領域から第２塗布領域に向かって徐々に減少するなだらかな傾斜を形成しつつ広がることになり、第２塗布工程によって吐出されたインクが、第２塗布領域から第１塗布領域に向かって徐々に減少するなだらかな傾斜を形成しつつ広がることになる。すなわち、本変形例においては、重複塗布領域２４内においても、第１塗布工程のインクの吐出の時点で、吐出されたインクの流動後の形状（端部に向かって徐々に膜厚が薄くなる形状）に近似した形状を形成することができ、第２塗布工程のインクの吐出によって重複塗布領域２４における機能膜の膜厚を増加することで、重複塗布領域２４における機能膜の膜厚をより均一にすることができる。
【００５９】
なお、本変形例においては、重複塗布領域２４における各塗布工程のインクの吐出点のパターンを調整することで、重複塗布領域２４内のインクの形状（すなわち、膜厚の傾斜）を制御したが、このような吐出点の数量以外の調整を行ってもよい。例えば、重複塗布領域２４における各塗布工程のインクの１回の吐出量を調整することで、重複塗布領域２４内のインクの形状を制御してもよく、当該吐出点の調整、及び当該１回の吐出量の調整を組み合わせて行うことで、重複塗布領域２４内のインクの形状を制御してもよい。
【００６０】
＜変形例４＞
上述した実施形態例１及び変形例１においては、重複塗布領域２４における第１塗布工程のインクの単位面積当たりの全吐出量と、重複塗布領域２４における第２塗布工程のインクの単位面積当たりの全吐出量とが同一となるように、各工程のインクの吐出点又は吐出量を調整していたが、第１塗布工程よりも第２塗布工程におけるインクの単位面積当たりの全吐出量を多くしてもよい。
【００６１】
以下において、図８及び図９を参照しつつ、重複塗布領域２４における第２塗布工程におけるインクの単位面積当たりの全吐出量を第１塗布工程におけるインクの単位面積当たりの全吐出量よりも増加させる機能膜の製造方法を変形例４として説明する。ここで、図８及び図９は、本変形例に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図である。なお、実施形態例１と同一の構成等については、実施形態例１と同一の符号を付し、その内容についての説明は省略するものとする。
【００６２】
先ず、図８に示すように、第１塗布工程においては、塗布ヘッド１３が第１端部１１ｂから第２端部１１ｃまで矢印Ａに沿って走査すると、約５０μｍの吐出ピッチにてノズル２１からインクが吐出される。また、第１塗布工程においては、第３、第６、及び第９回目（３の倍数の回）のインクの吐出については、全て（２１６個）のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出するが、第１、第２、第４、第５、第７、第８、及び第１０回目（３の倍数以外の回）のインクの吐出については、ノズル２１ａ１、２１ａ２を除く２１４個のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出する。すなわち、ノズル２１ａ１、２１ａ２については、１５０μｍの間隔にてインクを吐出することになる。そして、ノズル２１から吐出されたインクは、塗布領域１２内の一部に広がり、第１塗布領域２２（図８において破線で囲まれた領域）を形成する。
【００６３】
次に、図９に示すように、第２塗布工程においては、塗布ヘッド１３が第２端部１１ｃから第１端部１１ｂまで矢印Ｃに沿って走査すると、約５０μｍの間隔にてノズル２１からインクが吐出される。また、第２塗布工程においては、第１、第３、第４、第６、第７、第９、及び第１０回目のインクの吐出については、全て（２１６個）のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出するが、第２、第５、及び第８回目のインクの吐出については、ノズル２１ａ２１５、２１ａ２１６を除く２１４個のノズル２１からインクを所望の量だけ吐出する。すなわち、ノズル２１ａ２１５、２１ａ２１６については、３回に１回の割合でインクを吐出しないことになる。そして、ノズル２１から吐出されたインクは、塗布領域１２内の一部に広がり、第２塗布領域２３（図９において点線で囲まれた領域）を形成する。
【００６４】
また、上述したように、第１塗布工程における塗布ヘッド１３の第１走査範囲１４と、第２塗布工程における塗布ヘッド１３の第２走査範囲１５とは部分的に重複しており、当該走査範囲が重複する部分である重複走査範囲１６に対応した重複塗布領域２４においては、第１塗布工程及び第２塗布工程の各ノズル２１のインクの吐出点は、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２又は第２塗布領域２３における各ノズル２１のインクの吐出点よりも少なく調整されている。そして、重複塗布領域２４においては、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経ることにより、重複塗布領域２４以外の領域と同一の吐出量となる。換言すれば、重複塗布領域２４におけるインクの単位面積当たりの全吐出量は、第１塗布工程及び第２塗布工程の２回のインクの吐出を経ることにより、重複塗布領域２４以外の第１塗布領域２２及び第２塗布領域２３におけるインクの単位面積当たりの全吐出量と同一となる。
【００６５】
ここで、重複塗布領域２４においては、第２塗布工程によるインクの塗布点が、第１塗布工程によるインクの塗布点の約２倍になっている。すなわち、第２塗布工程においては、重複塗布領域２４におけるインクの単位面積当たりの吐出量が第１塗布工程よりも増加していることになる。このように第１塗布工程に比して、第２塗布工程における重複塗布領域２４についてのインクの単位面積当たりの吐出量を増加させると、第１塗布工程において塗布されたインクが、重複塗布領域２４以外の第２塗布領域にまで広がることを抑制することができ、塗布領域１２内に形成される機能膜の膜厚をより均一にすることができる。これにより、当該膜厚が均一な機能膜を用いた有機ＥＬ素子等においては、発光ムラの発生がより一層抑制されることになる。
【００６６】
なお、本変形例においては、重複塗布領域２４について、第２塗布工程におけるインクの吐出点の数量を第１塗布工程におけるインクの吐出点の数量よりも多くすることで、第２塗布工程におけるインクの単位面積当たりの吐出量を第１塗布工程よりも多くしていたが、このような吐出点の数量以外の調整を行ってもよい。例えば、重複塗布領域２４について、第２塗布工程におけるインクの１回の吐出量を、第２塗布工程におけるインクの１回の吐出量よりも多くすることで、第２塗布工程におけるインクの単位面積当たりの吐出量を第１塗布工程によりも多くしてもよい。また、当該吐出点の調整、及び当該１回の吐出量の調整を組み合わせて行い、第２塗布工程におけるインクの単位面積当たりの吐出量を第１塗布工程によりも多くしてもよい。
【００６７】
＜実施例＞
次に、本発明に係る機能膜の製造方法及び従来の機能膜の製造方法によって製造された機能膜の評価結果について説明する。機能膜の評価については、本発明に係る機能膜の製造方法により製造された実施例１〜６、及び従来の機能膜の製造方法によって製造された比較例１、２の合計８種類の実施例及び比較例を用いて行った。以下に、各実施例及び比較例の具体的な製造方法を説明する。
【００６８】
（実施例１）
ＩＴＯ（約１５０ｎｍ)を形成したガラス基板にＵＶ／Ｏ３洗浄を行い、インクジェット法で機能膜の溶液（２ｗｔ％）を膜厚４０ｎｍになるように、上述した実施形態例１の製造方法によって機能膜の形成を行った。より具体的には、当該塗布の際、ノズル間ピッチは２８２μｍ、走査方向における液滴の吐出ピッチは５０μｍとした。塗布に使用したノズルの数量は２１６個であり、双方向塗布によって２ノズル分が重複走査範囲（重複塗布領域）となるように、塗布ヘッドを調整した。また、重複走査範囲では、走査方向における液滴の吐出ピッチは１００μｍとし、２回の塗布（第１塗布工程及び第２塗布工程）で交互に液滴を吐出し、重複塗布領域における吐出点の数は、第１塗布工程及び第２塗布工程で同一とした。１回の吐出量は全領域で同一とし、重複塗布領域と他の塗布領域とで単位面積当たりの吐出量が同等となるように設定した。上記の条件において２回の走査による全塗布領域の大きさは、約１２１ｍｍ（ノズルピッチ方向）×約１１９ｍｍ（吐出ピッチ方向）とした。その後、機能膜を真空乾燥した。
【００６９】
（実施例２）
上述した実施例１と基本的に製造方法は同一とした。実施例１と異なる点としては、双方向塗布において、３ノズル分の重複走査範囲を設けた。すなわち、重複塗布領域上を走査するノズルの数量が、実施例１と比較して１つ多くなっている。
【００７０】
（実施例３）
上述した実施例１と基本的に製造方法は同一とした。実施例１と異なる点としては、双方向塗布において、５ノズル分の重複走査範囲を設けた。すなわち、重複塗布領域上を走査するノズルの数量が、実施例１と比較して３つ多くなっている。
【００７１】
（実施例４）
上述した実施例１と基本的に製造方法は同一とした。実施例１と異なる点としては、双方向塗布において、１０ノズル分の重複走査範囲を設けた。すなわち、重複塗布領域上を走査するノズルの数量が、実施例１と比較して８つ多くなっている。
【００７２】
（実施例５）
上述した実施例１と基本的に製造方法は同一とした。実施例１と異なる点としては、双方向塗布において、２０ノズル分の重複走査範囲を設けた。すなわち、重複塗布領域上を走査するノズルの数量が、実施例１と比較して１８個多くなっている。
【００７３】
（実施例６）
ＩＴＯ（約１５０ｎｍ)を形成したガラス基板にＵＶ／Ｏ３洗浄を行い、インクジェット法で機能膜の溶液（２ｗｔ％）を膜厚４０ｎｍになるように、上述した変形例４の製造方法を応用して機能膜の形成を行った。具体的には、１回の吐出量は全領域で同一とし、第１塗布工程における重複走査範囲（重複塗布領域）の吐出ピッチを１５０μｍとし、第２塗布工程における重複走査範囲（重複塗布領域）の吐出ピッチを７５μｍとすることで、重複塗布領域における吐出点の数を異ならせ、第１塗布工程で吐出される重複塗布領域の単位面積当たりの吐出量を第２塗布工程で吐出される重複塗布領域の単位面積当たりの吐出量よりも少なくした。なお、その他の製造工程の条件は、上述した実施例４と同一とした。
【００７４】
（比較例１）
図１０及び図１１に示すように、実施例１〜６のような重複走査範囲を設定せずに、第１塗布工程及び第２塗布工程を行い、重複して塗布されることがないようにして機能膜を形成した。なお、その他の製造工程の条件は、上述した実施例１と同一とした。また、図１０及び図１１は、比較例１に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図であり、上述した実施形態例１と同一の構成については同一の符号が付されている。
【００７５】
（比較例２）
比較例１と同様に、重複走査範囲を設定せずに、第１塗布工程及び第２塗布工程を行い、且つ、図１２及び図１３に示すように、第１塗布工程の第１走査範囲と第２塗布工程における第２走査範囲とが近接する部分において、インクの吐出を行わないノズルを設け、第１塗布領域と第２塗布領域との境界部分の単位面積当たりの吐出量を減少させて、機能膜を形成した。より具体的には、第１塗布工程においてノズル２１ａ２からはインクを吐出せず、第２塗布工程においてノズル２１ａ２１５からはインクを吐出しなかった。なお、その他の製造工程の条件は、上述した比較例１と同一とした。また、図１２及び図１３は、  比較例２に係る機能膜の製造方法を説明するための塗布ヘッドの走査範囲の拡大図であり、上述した実施形態例１と同一の構成については同一の符号が付されている。
【００７６】
そして、本評価方法として、上述した製造方法によって製造された実施例１〜６及び比較例１、２の機能膜に対し、蛍光灯又はＮａランプを照射して第１塗布領域と第２塗布領域との境界部分（継ぎ目領域）の目視観察を行った。評価結果をまとめた表を以下に示す。なお、機能膜の膜厚変動が大きい箇所では、目視観察により、塗布ヘッドの走査方向に沿ったスジ状のムラ（以下スジムラ）が観測され、変動幅が大きいほど、濃いスジムラが観測される傾向にある。また、蛍光灯よりＮａランプを照射して観察した方が、スジムラが見えやすい傾向にある。
【００７７】
【表１】
2015220179.tif 000001
【００７８】
上記表１における記号の意味は以下の通りである。
××  明確なスジムラが３本以上発見された。
×    明確なスジムラが２本発見された。
△    ×よりも明らかに薄いスジムラが１本発見された。
〇    非常に薄いスジムラが１本発見された。
◎    スジムラが全く発見されなかった。
【００７９】
上記の表に示すように、本発明の製造方法によって形成された機能膜（実施例１〜６）については、蛍光灯及びＮａランプを照射して観察しても、第１塗布領域と第２塗布領域との境界部分にスジムラが発見されないか、或いは機能膜の特性に影響がない程度の微小のスジムラのみが発見され、膜厚ムラが十分に抑制されていた。そして、重複走査範囲おけるノズルの重複数量を増加することによって、形成される機能膜の膜厚ムラがより一層抑制されていた。
【００８０】
一方、従来の製造方法によって形成された機能膜（比較例１、２）については、蛍光灯及びＮａランプを照射して観察すると、複数のスジムラが観測された。すなわち、比較例１及び２の機能膜は、膜厚ムラが抑制されておらず、機能膜の特性にも影響があると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明による機能膜の製造方法によって製造される機能膜は、有機ＥＬ機能膜、有機太陽電池機能膜、及び有機半導体機能膜として用いることができる。また、これらの機能膜を有機ＥＬ素子、有機太陽電池素子、有機半導体素子、照明装置、及び表示装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００８２】
１１  基板
１１ａ    表面
１１ｂ    第１端部
１１ｃ    第２端部
１２    塗布領域
１３    塗布ヘッド
１４    第１走査範囲
１５    第２走査範囲
１６    重複走査範囲
２１（２１ａ１、・・・、２１ａ２１６）    ノズル
２２    第１塗布領域
２３    第２塗布領域
２４    重複塗布領域
３１    第１吐出点
３２    第２吐出点
４１    バンク
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2015220179.tif 000002
【図２】
2015220179.tif 000003
【図３】
2015220179.tif 000004
【図４】
2015220179.tif 000005
【図５】
2015220179.tif 000006
【図６】
2015220179.tif 000007
【図７】
2015220179.tif 000008
【図８】
2015220179.tif 000009
【図９】
2015220179.tif 000010
【図１０】
2015220179.tif 000011
【図１１】
2015220179.tif 000012
【図１２】
2015220179.tif 000013
【図１３】
2015220179.tif 000014