(57)【要約】  生産物はプレーナ形にコンタクト形成されている光電素子を備えた基板を有している。
2007511914.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電素子（３）を備えた基板を有している生産物において、
光電素子（３）はプレーナ形にコンタクト形成されている
ことを特徴とする生産物。
【請求項２】
基板（２）は導電エレメント（７）、殊に導体路を有しており、該導電エレメントに光電素子（３）がプレーナ形にコンタクト形成されている
請求項１記載の生産物。
【請求項３】
基板（２）および／または光電素子（３）は少なくとも部分的にアイソレーション層（５）を備えており、該アイソレーション層上に光電素子（３）のプレーナ形のコンタクト形成のためにプレーナ形の導電ストラクチャ（６）が配置されている
請求項１または２記載の生産物。
【請求項４】
アイソレーション層（５）はフィルム、ラッカおよび／またはポリマー層である
請求項３記載の生産物。
【請求項５】
アイソレーション層（５）は光電素子（３）の出射および／または入射開口の領域において透明である
請求項３または４記載の生産物。
【請求項６】
アイソレーション層中、光電素子（３）の出射および／または入射開口の領域においてウィンドウが開口されている
請求項３または４記載の生産物。
【請求項７】
アイソレーション層中、光電素子（３）のコンタクト箇所の領域においてウィンドウが開口されており、該ウィンドウを通ってプレーナ形の導電ストラクチャが光電素子のコンタクト箇所に導かれている
請求項３から６までのいずれか１項記載の生産物。
【請求項８】
アイソレーション層（５）は光電素子（３）によって放出されるまたは吸収される光を色付けるための顔料を含んでいる
請求項３から７までのいずれか１項記載の生産物。
【請求項９】
プレーナ形のコンタクト形成は光電素子の出射および／または入射開口を少なくとも部分的に被覆している
請求項３から８までのいずれか１項記載の生産物。
【請求項１０】
光電素子（３）はＬＥＤ、例えばＯＬＥＤおよび／または光電池素子である
請求項３から９までのいずれか１項記載の生産物。
【請求項１１】
基板（２）はプリント基板、フレックスまたはリードフレームである
請求項３から１０までのいずれか１項記載の生産物。
【請求項１２】
生産物（１）の高さは０．４ｍｍより低い
請求項３から１１までのいずれか１項記載の生産物。
【請求項１３】
光電素子（３）を備えた基板を有している生産物（１）の製造方法において、
光電素子（３）をプレーナ形にコンタクト形成する
ことを特徴とする生産物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
個々のＬＥＤおよび照明モジュール（コンパクトな光源＝Compact Light Source）の製造の際に、チップと基板との間の電気的なコンタクト形成技術として主に、ワイヤボンディングおよびはんだ付けもしくは導電性接着剤を用いたチップマウントが使用される。このような仕方で、照明モジュール用の実装可能な素子またはＬＥＤアレイも形成される。通例のコンストラクションプロセスは次の通りである：
−  ダイボンディング：単数または複数のチップを充填されている導電性接着剤中に置き（接着する）かつ接着剤を硬化させるまたは
−  チップをはんだを用いて、高温中におよび場合によっては加圧しながらマウントする（はんだ付けする／合金化する）、
−  ワイヤボンディング：ワイヤコンタクト形成によりチップを電気的に接続する、
−  鋳込みまたは射出成形技術により透明な材料（エポキシ、シリコーン、アクリラート、ポリウレタンおよびその他のポリマー）を用いてチップをカプセル化し、
−  ソーイング、ウオータービーム切断またはレーザ分離によりパネルを個別化する。
【０００２】
小型化が進む中で市場ではますます小さくなった高さの部品が求められる。その際製品はエコノミーでありかつ信頼性の高いものでなければならない。しかもチップ・アレイの場合には非常に高い信頼性が要求される。さらに連結技術は高いフレキシビリティを提供して、デザイン変化にフレキシブルかつエコノミーに対応できるようでなければならない。
【０００３】
このことから出発して本発明の課題は、上に述べた要求に応える、基板および光電素子を備えたモジュール並びにその製造もしくは作製方法を提供することである。
【０００４】
この課題は、独立請求項に記載の本発明により解決される。有利な実施形態は従属請求項に記載されている。
【０００５】
これによれば基板は、プレーナ形にコンタクト形成されている光電素子を有している。すなわちコンタクト形成はもはや、場合によっては基板および素子から間隔をおいてガイドされている厚いワイヤを介してではなく、例えば銅層の形のプレーナ形の、平面的な、扁平な導体ストラクチャによって行われる。
【０００６】
プレーナ形のコンタクト形成によって、基板および光電素子から成るモジュールの特別僅かな構造高さが生じる。
【０００７】
光電素子は例えば、基板上の別の光電素子とコンタクト形成されていることができる。殊に導電エレメント、例えば基板の導体路にプレーナ形にコンタクト形成されている。
【０００８】
プレーナ形のコンタクト形成を基板および／または光電素子からできるだけ僅かな間隔をおいてガイドするために、基板および／または光電素子は少なくとも部分的にアイソレーション層を備えており、該アイソレーション層上に光電素子のプレーナ形のコンタクト形成のためにプレーナ形の導電ストラクチャが配置されている。
【０００９】
アイソレーション層はフィルム、ラッカおよび／またはポリマー層によって形成されていてよい。この層をラミネート加工、蒸着、プリントおよび／または吹き付けにより形成することができる。アイソレーション層の構造化は例えばレーザ、（プラズマ）エッチング、インクジェットおよび／またはホト構造化を用いて行うことができる。ポリマーとして殊にパリレンを使用することができる。
【００１０】
光電素子に対して環境との光相互作用が行われるようにすることが可能である。このことは特別有利には２つの形式で実現される：
−  一方においてアイソレーション層は全体としてまたは殊に光電素子の出射および／または入射開口の領域において（高度に）透明であるようにする。
【００１１】
−  他方においてアイソレーション層中に光電素子の出射および／または入射開口の領域においてウィンドウが開口されているようにする。ウィンドウは、例えばアイソレーション層がフィルムによって形成されるとき、層を被着する前に既にフィルム中に存在しているものであってよい。しかし択一的に、層の被着後であっても上述の手法を用いて層の相応の構造化によって開口される。
【００１２】
この種のウィンドウは有利にはアイソレーション層において光電素子の１つまたは複数の電気的なコンタクト箇所の領域においても設けられている。その場合ウィンドウを通して、プレーナ形の導電ストラクチャは光電素子のコンタクト箇所までガイドされていることができる。
【００１３】
このような構造を採用しようとする場合、アイソレーション層および／またはプレーナ形の導電ストラクチャは光電素子の出射および／または入射開口も被覆していることができる。このために殊にプレーナ形の導電ストラクチャは反射性に実現されており、その結果例えば光が光電素子に再反射されかつこの光は別の出射開口で離れることができる。こうしてプレーナ形のコンタクト形成を介して付加的に光ガイドが実現される。
【００１４】
光電素子は例えば、ＬＥＤ、殊にＯＬＥＤおよび／または光電池素子である。基板としてプリント基板、セラミック、殊に両側において銅が貼り付けられているフレックス、例えば打ち抜かれたまたはエッチングされたリードフレームまたは、例えばチップカードまたはフレキシブルな回路の製造の際に使用されるような層構成を使用することができる。
【００１５】
有利には基板および光電素子を有する生産物の高さは０．４ｍｍより低い。
【００１６】
光電素子を備えた基板を有している生産物を製造するための方法において光電素子はプレーナ形にコンタクト形成される。方法の有利な実施形態は生産物の有利な実施形態に対応しており、その逆も当てはまる。
【００１７】
本発明の別の利点および特徴は図面に基づいた実施例の説明から分かってくる。その際：
図１はプレーナ形コンタクト形成された光電素子を備えている基板を有している生産物の断面を略示し、
図２はプレーナ形コンタクト形成された光電素子を備えている基板を有している択一的な生産物の断面を略示し、
図３はプレーナ形コンタクト形成された光電素子と従来のコンタクト形成された光電素子との比較を平面にて示し、
図４はプレーナ形コンタクト形成された光電素子と従来のコンタクト形成された光電素子との、出射に関する比較を示している。
【００１８】
最初に、コンストラクションおよびコネクション技術のいくつかの基本的な特徴について説明したい。
【００１９】
例えばチップの形における１つまたは複数の光電素子は接着またははんだ付けにより基板に固定される。その際にコンタクトパッドの形のコンタクト箇所の、光電素子の上面への電気的な結合はプレーナ形コンタクト形成法によって行われる。このことは例えば電気的な絶縁フィルムのラミネート加工およびこのフィルムに対する金属ストラクチャの形のプレーナ形の導電ストラクチャによるコンタクト形成に基づいている。絶縁フィルムの形のものに代わって絶縁性の層を、例えばラッカ塗り、蒸着またはプリントのような別の方法によって生成することもできる。
【００２０】
アイソレーションフィルムの形のアイソレーション層のために：
−  例えばオートクレーブにおけるアイソスタチックラミネート加工によるまたはホット・ロール・ラミネータの使用によるまたは真空中ホット・プレスにおける被着。
【００２１】
−  フィルムは光電素子から放出されるまたは吸収される光の波長領域において透明とすることができる。その場合フィルムの部分的な除去が必要である。フィルムはその場合クリア・モールド・コンパウンドの保護機能も引き受けることができる。
【００２２】
−  フィルムが十分に透明でない場合、フィルムは、ＬＥＤタイプに応じてチップ側面および／またはチップ上面での出射が最大化されるように構造化することができる。このことは例えばレーザアプレーションによってフレキシブルかつトポグラフィーに無関係に行うことができる。
【００２３】
−  適当なラミネート加工法により、アイソレーションフィルムがチップ表面をなぞるように実現することができる。これにより、エッジおよびコーナ領域においても信頼性を高めるために完全なアイソレーション機能が生じるようにすることができる。
【００２４】
金属構造体の形のプレーナ形の導電ストラクチャによるコンタクト形成のために種々の態様がある：
−  適当な金属化プロセス、例えばスパッタリングまたは蒸着による薄いスタート層の被着、引き続く、例え銅の無電流または電気メッキ析出による選択的な増強を介する電気的な結合。
【００２５】
−  絶縁フィルムは例えば金属フィルムの貼り付けにより導電的に成膜される。それからこの金属フィルムはラミネート加工プロセスの前または後ろで構造化される。チップと金属構造との間の結合はチップ・パッド上の高められた、特別ラフなバンプの場合機械的な圧力によってまたは部分的な電気メッキまたは無電流析出によっても行うことができる。この場合ウェハレベルにおけるアルミニウム・チップ・パッドの精密加工が有利である。
【００２６】
−  結合は市販のプレスにおける予め成型されたプレス工具の使用によって行うことができる。
【００２７】
−  導電性の金属構造体は圧力プロセスによって被着することができる。
【００２８】
図１においてエッチングされた銅のリードフレームの形における基板２を有している生産物１が分かる。その際リードフレームの銅はニッケル−金メッキによって取り囲まれていて、はんだ付け特性が改善されるようになっている。基板２にチップの形の光電素子３が配置されておりかつ基板２と導電接着剤またははんだ４を介して電気的および機械的にコネクションされている。
【００２９】
基板２および光電素子３の上にフィルムの形のアイソレーション層５がガイドされている。アイソレーション層５は光電素子３の出射開口の領域においてウィンドウによって開口されている。光電素子３のコンタクト形成のために金属化部の形のプレーナ形の導電ストラクチャ６がアイソレーション層５の上に、光電素子のコンタクト箇所および基板２の導体路７までガイドされている。
【００３０】
基板２は光電素子３、アイソレーション層５およびプレーナ形の導電ストラクチャ６と一緒にクリア・モールド・コンパウンドの形の保護成形材８中に鋳込まれている。生産物１は約１５０μｍ高である。
【００３１】
図２に図示の生産物１は図１に図示のものに、アイソレーション層５が透明であり、それ故に光電素子３の出射開口の領域においても通っている点を除いて対応している。そこにはウィンドウは開口されておらず、光電素子３の、該光電素子がプレーナ形の導電ストラクチャ６と電気的に接続されているコンタクト箇所にだけ開口されている。透明なアイソレーション層５は光電素子３の出射開口の領域において殊に顔料を含んでいて出射光がカラーになるようになっている。
【００３２】
図３において左側に、大きな中央の出射部およびこの出射部を完全に取り囲んでいる縁コンタクト形成部を備えているプレーナ形にコンタクト形成された光電素子３が示されており、エッジコンタクト形成部はプレーナ形の導電ストラクチャ６とその下に隠れているアイソレーション層とから成っている。択一的にエッジコンタクト形成部は光電素子３のコンタクト箇所および意図的な光ガイドの構成に応じて、完全には周りを取り囲んでおらず、光電素子３の、基板２とは反対の側の端面に対する単数または複数の個々の箇所においてだけ延在している。
【００３３】
図３の右側には、従来技術に従って１２０μｍのワイヤボンディングを介してワイヤ９にコンタクト形成されている光電素子３が分かる。明らかであるように、光電素子３の出射開口の大部分が覆われる。
【００３４】
光ガイドの際のプレーナ形のコンタクト形成の利点は図４において特別明らかになる。ここでも左側に、アイソレーション層５およびプレーナ形の導電ストラクチャ６によってプレーナ形にコンタクト形成されている、基板２上の光電素子３が示されている。光電素子３の、出射が所望されないすべての出射開口は絶縁フィルム５およびプレーナ形の導電ストラクチャ６によって被覆される。これらが反射性に実現されているならば、光は光電素子３に再反射されて、ついには設けられている出射開口で出射されることになる。
【００３５】
これに対して図４に図示の、右側の従来技術の場合には、所望の出射領域の大部分がボンディングワイヤによって被覆される。その代わりに光は不都合にも基板２に対して平行に光電素子３の側面から出射する。
【００３６】
これに対してプレーナ形にコンタクト形成された光電素子３の場合光は所望通り、光電素子３の、基板２とは反対側の端面にてしかも基板２に対してほぼ垂直に出射する。
【００３７】
説明してきたコンストラクションおよびコネクション技術は次の利点を有している：
−  小面積のコンタクト形成および可変のレイアウトにより発光効率を最大限高めることができる。
【００３８】
−  選択されるコンタクト導体ディメンジョンによる均質な電流分布の結果で発光効率が高められる。
【００３９】
−  極めて薄い、小型化されたコンストラクション。
【００４０】
−  プレーナ形のコンタクト形成により、被覆するモールド材を薄くすることができる。
【００４１】
−  プレーナ形のコンタクト形成により、面状に取り付けられる冷却体による効率のよい放熱が可能になる。
【００４２】
−  整合されている材料特性、例えばＣＴＥ（Coeffizient of Thermal Expansion）、Ｔｇ（Temeratur des Glasuebergangs）などによる高い信頼性。
【００４３】
−  アイソレーションフィルムの光学特性が適当に選択されている場合、アイソレーションフィルムはクリア・モールド・コンパウンドの保護機能を一緒に引き受けることができ、その結果該クリア・モールド・コンパウンドは必要でない。
【００４４】
−  ブルーから白への光変換のための蛍光物質を顔料としてフィルム内に入れておくことができる。このようにして正確に所定なフィルム厚およびフィルムにおける顔料濃度を介して色座標の申し分ない制御が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】プレーナ形コンタクト形成された光電素子を備えている基板を有している生産物の断面略図
【図２】プレーナ形コンタクト形成された光電素子を備えている基板を有している択一的な生産物の断面略図
【図３】プレーナ形コンタクト形成された光電素子と従来のコンタクト形成された光電素子との比較を示す平面略図
【図４】プレーナ形コンタクト形成された光電素子と従来のコンタクト形成された光電素子との、出射に関する比較を示す略図
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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