【手続補正書】
【提出日】平成28年9月13日(2016.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ヘッド素子の形状を測定する方法であって、
測定対象の磁気ヘッド素子と該磁気ヘッド素子の表面を走査するカンチレバーとの光学
像を撮像し、
該撮像して得た画像から前記磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域を推定し、
前記書込み磁界発生領域に磁界を発生させた状態で前記カンチレバーを上下に振動させ
ながら前記カンチレバーの先端部付近に形成されて表面に磁性膜が形成されている探針の
上下に振動する下端が前記磁気ヘッド素子の表面から一定の高さで前記推定した書込み磁
界発生領域を含む第１の領域を走査し、
該走査して得たデータから前記第１の領域の内部で前記書込み磁界が発生している領域
を特定し、
前記第１の領域の内部で前記特定した書込み磁界が発生している領域を含む第２の領域
を前記カンチレバーの前記探針を上下に振動させて前記磁気ヘッド素子の表面に接触させ
ながら走査し、
前記磁気ヘッド素子の表面に接触させながら走査して得たデータに基づいて前記磁気ヘッド素子の表面の書込み磁界発生領域の形状を測定する
ことを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定方法。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する方法であって、前記書込み磁界発生領
域の形状を検査することが前記書込み磁界発生領域の段差または表面の粗さを測定するこ
とであって、前記第２の領域を前記カンチレバーの前記探針を上下に振動させて前記磁気
ヘッド素子の表面に接触させながら走査するときに、前記探針に形成した磁性膜の残留磁
界を消去しながら走査することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定方法。
【請求項３】
請求項２記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する方法であって、前記探針に形成した磁
性膜の残留磁界を消去することを、前記磁性膜に該磁性膜の材料の磁気共鳴周波数とほぼ
同じ周波数のマイクロ波を照射することにより行うことを特徴とする磁気ヘッド素子の表
面形状測定方法。
【請求項４】
請求項２記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する方法であって、前記探針には貴金属又
は貴金属の合金の薄膜と前記磁性膜とが積層されて形成されており、前記第１の領域を走
査した後に前記探針にレーザを照射して前記探針と前記貴金属又は貴金属の合金の薄膜と
の間にプラズモンを発生させ、該発生したプラズモンにより前記磁性膜を加熱して前記第
１の領域を走査した後に前記磁性膜に残っている残留磁界を消去することを特徴とする磁
気ヘッド素子の表面形状測定方法。
【請求項５】
請求項２記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する方法であって、前記探針には熱を吸収
する光学多層膜と前記磁性膜とが積層されて形成されており、前記第１の領域を走査した
後に前記探針にレーザを照射して前記光学多層膜で熱を吸収し、該吸収した熱により前記
磁性膜を加熱して前記第１の領域を走査した後に前記磁性膜に残っている残留磁界を消去
することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定方法。
【請求項６】
請求項１記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する方法であって、前記書込み磁界発生領
域の形状を検査することが前記書込み磁界発生領域の寸法または形状を測定することであ
って、前記第２の領域を前記カンチレバーの前記探針を上下に振動させて前記磁気ヘッド
素子の表面に接触させながら走査するときに、前記探針に形成した磁性膜に残留磁界が残
った状態で走査することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定方法。
【請求項７】
磁気ヘッド素子の形状を測定する装置であって、
測定対象の磁気ヘッド素子を載置して平面内で移動可能なテーブル部と、
先端部付近に表面に磁性膜が形成された探針を有するカンチレバーと、
該カンチレバーを上下に振動させる加振部と、
該テーブル部に載置された前記測定対象の磁気ヘッド素子の上面に対して前記カンチレ
バーの高さ方向の位置を調整するＺステージと、
前記カンチレバーに光ビームを照射して該カンチレバーからの反射光を検出することに
より該カンチレバーの振動の状態を検出する変位検出部と、
前記テーブル部に載置された前記測定対象の磁気ヘッド素子と前記カンチレバーとの光学像を撮像する光学撮像部と、
該光学撮像部で撮像して得た画像から前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域を推定する光学画像処理部と、
前記Ｚステージで前記カンチレバーの高さを調整した状態で前記カンチレバーを前記加
振部で上下に振動させながら前記テーブル部で前記測定対象の磁気ヘッド素子を平面内で移動させることにより前記変位検出部で検出される前記カンチレバーの振動の状態の情報に基づいて前記測定対象の磁気ヘッド素子の形状を測定する情報処理部と、
前記テーブル部と前記加振部と前記Ｚステージと前記変位検出部と前記光学撮像部と前
記光学画像処理部と前記情報処理部とを制御すると共に、磁気ヘッド素子に励磁信号を印
加して前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域に書込み磁界を発生させる制御部とを備え、
該制御部は、前記測定対象の磁気ヘッド素子に励磁信号を印加して前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域に書込み磁界を発生させた状態で、前記光学画像処理部で推定した前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域を含む第１の領域を前記Ｚステージを制御して前記カンチレバーの探針が前記測定対象の磁気ヘッド素子の表面に対して所定の間隔離れるように設定して前記カンチレバーを前記加振部で上下に振動させながら前記テーブル部で前記測定対象の磁気ヘッド素子を平面内で移動させたときに前記変位検出部で検出される前記カンチレバーの振動の状態の情報に基づいて前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域を特定し、前記測定対象の磁気ヘッド素子への励磁信号の印加を停止させた状態で、前記Ｚステージを制御して前記カンチレバーの探針が前記測定対象の磁気ヘッド素子の表面に接触させた状態で前記カンチレバーを上下に振動させながら前記特定した前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域を含む第２の領域を走査することにより前記変位検出部で検出される前記カンチレバーの振動の状態の情報に基づいて前記測定対象の磁気ヘッド素子の書込み磁界発生領域を含む領域の形状を測定することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定装置。
【請求項８】
請求項７記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する装置であって、前記探針に形成した磁
性膜の残留磁界を消去する残留磁界消去手段を更に備え、前記書込み磁界発生領域の形状
を検査することが前記書込み磁界発生領域の段差または表面の粗さを測定することであっ
て、前記第２の領域を前記カンチレバーの前記探針を上下に振動させて前記測定対象の磁気ヘッド素子の表面に接触させながら走査するときに、前記残留磁界消去手段で前記探針に形成した磁性膜の残留磁界を消去しながら走査することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定装置。
【請求項９】
請求項８記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する装置であって、前記残留磁界消去手段
は、前記磁性膜に該磁性膜の材料の磁気共鳴周波数とほぼ同じ周波数のマイクロ波を照射
することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定装置。
【請求項１０】
請求項８記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する装置であって、前記探針には貴金属又
は貴金属の合金の薄膜と前記磁性膜とが積層されて形成されており、前記探針にレーザを
照射するレーザ照射部を更に備え、前記第１の領域を走査した後に前記探針に前記レーザ
照射部からレーザを照射して前記探針と前記貴金属又は貴金属の合金の薄膜との間にプラ
ズモンを発生させ、該発生したプラズモンにより前記磁性膜を加熱して前記第１の領域を
走査した後に前記磁性膜に残っている残留磁界を消去することを特徴とする磁気ヘッド素
子の表面形状測定装置。
【請求項１１】
請求項８記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する装置であって、前記探針には熱を吸収
する光学多層膜と前記磁性膜とが積層されて形成されており、前記探針にレーザを照射す
るレーザ照射部を更に備え、前記第１の領域を走査した後に前記探針に前記レーザ照射部
からレーザを照射して前記光学多層膜で熱を吸収し、該吸収した熱により前記磁性膜を加
熱して前記第１の領域を走査した後に前記磁性膜に残っている残留磁界を消去することを
特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定装置。
【請求項１２】
請求項７記載の磁気ヘッド素子の形状を測定する装置であって、前記書込み磁界発生領
域の形状を検査することが前記書込み磁界発生領域の寸法または形状を測定することであ
って、前記第２の領域を前記カンチレバーの前記探針を上下に振動させて前記測定対象の磁気ヘッド素子の表面に接触させながら走査するときに、前記探針に形成した磁性膜に残留磁界が残った状態で走査することを特徴とする磁気ヘッド素子の表面形状測定装置。