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【手続補正書】
【提出日】平成28年7月26日(2016.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管であって、
内面に複数の突条型のフィンが形成され、Ｍｎ：０.８〜１．８質量％（以下、質量％を、％と記載）、Ｍｇ：０．１〜０．６％を含有し、残部がＡｌと不可避的不純物からなることを特徴とする拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管。
【請求項２】
拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管であって、
内面に複数の突条型のフィンが形成され、Ｍｎ：０.８〜１．８％、Ｍｇ：０．１〜０．６％を含有し、更にＦｅ：０．６０％以下、Ｓｉ：０．６０％以下、Ｃｕ：０．３０％以下、Ｚｎ：０．３０％以下、Ｃｒ：０．２０％以下、Ｔｉ：０．２０％以下、Ｚｒ：０．２０％以下の中から１種又は２種以上を含有し、残部がＡｌと不可避的不純物からなることを特徴とする拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管。
【請求項３】
請求項１または２に記載の伝熱管であって、
前記突条型のフィンの硬さがＨＶ３３以上であることを特徴とする拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれかに記載の伝熱管であって、
外面に犠牲防食材として純ＡｌまたはＡｌ−Ｚｎ系合金層を形成したことを特徴とするアルミニウム合金製内面溝付き伝熱管。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれかに記載の伝熱管であって、
前記伝熱管の外径が、４．０〜９．５４ｍｍである拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかに記載の伝熱管であって、
前記伝熱管の底肉厚が、０．３〜０．６ｍｍである拡管加工用アルミニウム合金製内面溝付き伝熱管。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれかに記載の伝熱管を備える、熱交換器。
【請求項８】
請求項１乃至６いずれかに記載の伝熱管を備える、空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックライトと、
前記バックライト上の遮光層と、
前記遮光層上の第２のフォトダイオードと、
前記第２のフォトダイオード上の第１のフォトダイオードと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと前記第２のフォトダイオードとは重なる領域を有するように設けられ、
前記遮光層は、前記バックライトからの光が前記第１のフォトダイオードと前記第２のフォトダイオードに直接入射しないように設けられ、
前記第１のフォトダイオードは、可視光を吸収し赤外光を透過する機能を有し、
前記第２のフォトダイオードは、前記赤外光及び前記可視光を吸収する機能を有することを特徴とする光検出回路。
【請求項２】
請求項１において、
前記バックライトは、赤外光と可視光とを発光することができる機能を有することを特徴とする光検出回路。
【請求項３】
請求項１において、
前記第１のフォトダイオード上に、赤外光を発光することができる光源を有し、
前記バックライトは、可視光とを発光することができる機能を有することを特徴とする光検出回路。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月29日(2016.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを担持する物体に入射する照明放射線を生成するように構成された照明系と、
前記パターンの像を放射線感応基板上に投影するように構成された投影対物系と、
走査作動中に、前記投影対物系の有効物体視野に対して前記物体を第１の方向に移動させ、かつ同時に該投影対物系の有効像視野に対して前記基板を第２の方向に移動させるように構成された走査システムと、
前記投影対物系の視野曲率を変化させ、かつ、前記投影対物系の歪曲を変化させるように構成される制御システムと、
を含み、
前記投影対物系は、各々が対応する一つ以上のマニピュレータに結合した複数の光学要素を備え、前記複数の光学要素は、少なくとも一つの凹ミラーと少なくとも一つの透過光学要素を備え、
前記少なくとも一つの凹ミラーは、曲率半径を有する反射面を備え、投影ビーム経路に配置され、前記ミラーに結合した前記一つ以上のマニピュレータは、第１の値から第２の値に前記曲率半径を調整し、それによって、前記有効像視野における前記投影対物系の視野曲率を変化させるように構成され、
前記制御システムは、前記走査作動中に、前記複数の光学要素の少なくとも一つを操作するように構成される、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記制御システムは、前記ミラーを操作して、前記走査作動中に、第１の値から第２の値に前記曲率半径を調整し、それによって、前記有効像視野における前記投影対物系の視野曲率を変化させるように構成された、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項３】
前記曲率半径の調整は、約１０ｍｓと２００ｍｓとの間の範囲の時間に渡って行う走査作動中に行う、
ことを特徴とする請求項２に記載される装置。
【請求項４】
前記曲率半径の調整は、単一のダイの走査中に行う、
ことを特徴とする請求項２に記載される装置。
【請求項５】
前記制御システムは、前記放射線感応基板の表面の局所的な非平坦についての情報に基づいて、前記視野曲率を変化させる、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項６】
前記視野曲率の前記変化が、前記放射線感応基板の表面の局所的な非平坦の影響を補償する、
ことを特徴とする請求項５に記載される装置。
【請求項７】
前記制御システムと通信し、前記放射線感応基板の前記表面のトポグラフィを測定するための測定デバイスを更に備え、
前記放射線感応基板の前記表面の前記局所的な非平坦についての前記情報は、前記測定デバイスによるトポグラフィの測定に基づいて、前記制御システムに提供される、
ことを特徴とする請求項６に記載される装置。
【請求項８】
前記放射線感応基板の前記表面の前記局所的な非平坦についての前記情報は、
予め定められた基板表面データに基づく、
ことを特徴とする請求項５に記載される装置。
【請求項９】
前記制御システムは、前記物体の非平坦についての情報に基づいて前記視野曲率を変化させる、
ことを特徴とする請求項８に記載される装置。
【請求項１０】
前記透過光学要素は、レンズである、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項１１】
前記透過光学要素は、視野要素である、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項１２】
前記制御システムは、前記複数の光学要素の少なくとも一つを操作して、前記投影対物系の非点収差を変化させる、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項１３】
前記制御システムは、前記複数の光学要素の少なくとも一つを操作して、前記投影対物系の非焦点収差及び前記投影対物系の歪曲によって構成される群から選択される少なくとも一つのパラメータを変化させるように構成される、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項１４】
前記複数の光学要素は、一対の折り返しミラーを備える、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項１５】
前記少なくとも一つの凹ミラーは、前記物体から前記放射線感応基板への前記放射線の経路において、前記折り返しミラーの間に配置される、
ことを特徴とする請求項１４に記載される装置。
【請求項１６】
前記少なくとも一つの凹ミラーは、前記投影対物系の瞳面に位置する、
ことを特徴とする請求項１５に記載される装置。
【請求項１７】
前記少なくとも一つの凹ミラーは、二つの凹ミラーを備える、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項１８】
前記凹ミラーは、前記投影対物系の各視野表面に光学的に近接した場所に位置する、
ことを特徴とする請求項１７に記載される装置。
【請求項１９】
前記投影対物系は、
前記パターンを第一の中間像に結像するように構成された第一の部分投影対物系と、
前記第一の中間像を第二の中間像に結像するように構成された第二の部分投影対物系と、
前記第二の中間像を前記像視野に結像するように構成された第三の部分投影対物系と、
を備える、
ことを特徴とする請求項１に記載される装置。
【請求項２０】
前記装置は、前記走査作動中に前記照明放射線の経路にある前記投影対物系と前記放射線感応基板との間に液体を備える、
ことを特徴とする請求項１９に記載される装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月30日(2016.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記可撓性基板の曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方の側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項２】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記可撓性基板の曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方の側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層は、前記絶縁層上方の下地膜と、前記下地膜上方のトランジスタと、を有し、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項３】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記可撓性基板の曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方の側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層は、前記絶縁層上方の酸化物層と、前記酸化物層上方のトランジスタと、を有し、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項４】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記可撓性基板の曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方の側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層は、前記絶縁層上方の酸化物層と、前記酸化物層上方の画素部及び駆動回路部と、を有し、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項５】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、
前記素子層上方の偏光部材と、を有する電子機器であって、
前記素子層と前記絶縁層と前記偏光部材とは、前記可撓性基板の曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方のも側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項６】
樹脂と、
前記樹脂上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記樹脂の曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方の側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項７】
プラスチックと、
前記プラスチック上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記プラスチックの曲面及び平面に沿って、前記電子機器の一方の側面から他方の側面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項８】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上方に絶縁層を介して設けられた素子層と、を有する電子機器であって、
前記素子層及び前記絶縁層は、前記電子機器の一の曲面、平面、及び他の一の曲面にかけて連続的に設けられており、
前記素子層の端部は、前記絶縁層の端部の内側に配置された部分を有することを特徴とする電子機器。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記絶縁層は、前記素子層への水分または不純物の侵入を低減する機能を有することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月18日(2016.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレームと、前記フレーム内に配置された第一のレンズと、前記フレーム内に配置された第二のレンズとを有する3D眼鏡であって、
当該眼鏡は会場での使用のために利用者に配布されるよう構成されており、前記会場は前記会場にいる前記利用者による閲覧のために3D画像を表示するよう構成されており、
前記3D眼鏡はさらにテンプルを有し、前記テンプルは、前記テンプルと前記フレームとの交差部のところで前記フレームのどの部分よりも有意に幅広くなっており、前記テンプルは前記交差部のところで、当該眼鏡の耳にかかる部分においてよりも有意に幅広くなっており、
前記3D眼鏡はさらに、前記会場に関係したアカウンティング・システムにおける使用のために構成された少なくとも一つの電子タグ・デバイスを有しており、前記会場は当該眼鏡を洗浄および再使用のために固定するよう構成された洗浄システムを含む、
3D眼鏡。
【請求項２】
前記会場はさらに、前記少なくとも一つの電子タグを介して眼鏡を識別する少なくとも一つのスキャン・ステーションを有する、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項３】
前記レンズが前記フレーム中にクリップ留めされる、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項４】
前記レンズが前記フレーム中にクリップを介して保持され、前記レンズは取り外され、もとの位置にはめることによって再配置されることができる、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項５】
前記3D眼鏡は前記少なくとも一つの電子タグを実質的に覆うカバーを含む、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項６】
当該眼鏡をかけるとき、前記テンプルは、前記フレームから前記テンプルに沿って耳にかかる部分に向けて利用者の頭のほうに曲げられている、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項７】
前記テンプルの前記曲がりは、前記テンプルの幅広くなった部分より後であり、耳にかかる部分より前である、請求項６記載の3D眼鏡。
【請求項８】
当該眼鏡の耳にかかる部分の端部が利用者の頭から離れるほうに曲げられている、請求項７記載の3D眼鏡。
【請求項９】
前記電子タグはRFIDタグである、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項１０】
前記レンズはスペクトル分離フィルタを有する、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項１１】
前記会場はさらに、前記3D眼鏡をまとめて回収し、洗浄し、スキャンするためのトレーを有する、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項１２】
前記トレーは、当該眼鏡の前記レンズを垂直な配向で維持するようさらに構成されている、請求項１１記載の3D眼鏡。
【請求項１３】
当該眼鏡は、畳まれた配位で前記トレー内に固定される、請求項１２記載の3D眼鏡。
【請求項１４】
当該眼鏡は、当該眼鏡を複数保持する洗浄ラックから直接利用者に配布される、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項１５】
当該眼鏡は、当該眼鏡を複数保持する洗浄ラックから直接利用者に配布され、前記洗浄ラックは、当該眼鏡が前の使用ののちにその中で洗浄された洗浄ラックである、請求項１記載の3D眼鏡。
【請求項１６】
前記洗浄ラックが同様の構造の他の洗浄ラックと積み重ねられる、請求項１５記載の3D眼鏡。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月22日(2016.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
配線１２は、例えば、ＴＦＴ１１のソース・ドレイン電極１１４と同層に設けられている。配線１２は、例えば信号線ＤＴＬ、走査線ＷＳＬ、第１電源線ＤＳＬまたは第２電源線ＤＰＬに対応する配線である。このようなＴＦＴ１１および配線１２は、配線層１０ｂにおいて、平坦化層１３により被覆されている。ピラー２４と対向する位置に設けられた配線１２、即ち、平面視でピラー２４と重なる位置にある配線１２は、第２電極１７の電位と同じ電位であることが好ましい。例えば、接地配線３５Ｈ(補助電極２３)に電気的に接続された第２電極１７はＧＮＤ電位であり、平面視でピラー２４と重なる位置にある配線１２（第１配線）は、ＧＮＤ電位に設定された第２電源線ＤＰＬである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
有機層１６と第２電極１７との間に高抵抗層（図示せず）を設けるようにしてもよい。高抵抗層は、第１電極１４と第２電極１７との間の短絡の発生を防止するためのものであり、全ての有機発光素子１Ａに共通して設けられている。高抵抗層は、第１電極１４および第２電極１７よりも電気抵抗が高く、電荷の輸送機能あるいは電荷の注入機能を備えている。第１電極１４上に意図せずパーティクル（異物）や突起物が付着し、その状態で有機発光素子１Ａを形成した場合、第１電極１４と第２電極１７との接触による短絡が生じるおそれがある。高抵抗層により、このような第１電極１４と第２電極１７との接触を防ぐことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
カラーフィルタ２２は、例えば、赤色フィルタ、緑色フィルタおよび青色フィルタを含み、これらが遮光膜２１および有機発光素子１Ａのパターン毎に配色されている。遮光膜２１に重なる位置にカラーフィルタ２２が設けられていてもよい。赤色フィルタ、緑色フィルタおよび青色フィルタは、例えば顔料または染料を混入した樹脂により構成されている。この顔料または染料の種類を適宜選択することにより、赤色フィルタ、緑色フィルタおよび青色フィルタではそれぞれ、赤色、緑色または青色それぞれの波長域の光透過率が高くなるように調整されている。赤色、緑色および青色の目的とする波長域以外では、カラーフィルタ２２の光透過率は低くなっている。カラーフィルタ２２の厚みは例えば、１〜４μｍである。カラーフィルタ２２は、封止基板２０のどちらの面（駆動基板１０との対向面あるいはその反対側の面）に設けられてもよいが、駆動基板１０との対向面に設けられることが好ましい。カラーフィルタ２２が表面に露出せず、保護層１８等により保護することができるからである。また、有機層１６とカラーフィルタ２２との間の距離が狭くなることにより、有機層１６から出射した光が隣接する他の色のカラーフィルタに入射して混色を生じることを避けることができるからである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
続いて、第１電極１４上および平坦化層１３上に、例えばプラズマＣＶＤ法により例えば窒化シリコン膜を成膜した後、この窒化シリコン膜に開口を設けて画素間絶縁膜１５を形成する。その後、例えば真空蒸着法等の物理的気相成長法（PVD法:Physical Vapor Deposition）により発光層を含む有機層１６および第２電極１７を駆動基板１０上の表示領域３０の全面に形成する（図５Ｃ）。有機層１６および第２電極１７は、スクリーン印刷法およびインクジェット印刷法等の印刷法、レーザ転写法あるいは塗布法等により形成するようにしてもよい。レーザ転写法は、転写用基板上に形成されたレーザ吸収層と有機層１６との積層構造にレーザを照射し、有機層１６を駆動基板１０上に転写する方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
[封止基板２０]
封止基板２０上には、例えば以下のようにして遮光膜２１、カラーフィルタ２２、補助電極２３およびピラー２４を形成する。まず、封止基板２０の全面に遮光膜２１の構成材料を成膜したのち、これを例えばフォトリソグラフィ工程を用いてマトリクス状にパターニングすることで、有機発光素子１Ａの配置に合わせて開口を複数形成する。次いで、図６Ａに示したように、この遮光膜２１を設けた封止基板２０上に赤色フィルタ、緑色フィルタおよび青色フィルタを順次パターニングしてカラーフィルタ２２を形成する。続いて、封止基板２０の全面にオーバーコート層（図示せず）を成膜し、さらにオーバーコート層上に導電膜を成膜する。次いで、この導電膜の表示領域３０を例えばマトリクス状にパターニングして、補助電極２３を形成する（図６Ｂ）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
［モジュール］
上記表示装置（表示装置１，２，３）は、例えば図１２に示したようなモジュールとして、後述の適用例１〜７などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、駆動基板１０または封止基板２０の一辺に、封止基板２０または駆動基板１０から露出した領域６１を設け、この露出した領域６１に、水平セレクタ３１と、ライトスキャナ３２と、電源スキャナ３３の配線を延長して外部接続端子を形成したものである。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）６２が設けられていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月29日(2016.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顕微鏡を用いた生体細胞の経時観察により得られた、時間的に連続する複数の画像を取得し、
前記取得した各々の画像の特徴量を解析し、
前記解析結果に基づいて、時間的に連続する各々の前記画像間における前記特徴量の変化の度合いの指標を算出し、
前記指標が予め定められた閾値を超えている画像を選択し、
前記選択した画像を時系列で表示部に表示する
ように構成された制御部
を具備する画像処理装置。
【請求項２】
請求項１の画像処理装置であって、
前記制御部は、
前記取得した画像内にＲＯＩ領域を設定し、
前記設定されたＲＯＩ領域の前記特徴量を解析し、
前記指標を、前記ＲＯＩ領域ごとに算出する
画像処理装置。
【請求項３】
請求項２の画像処理装置であって、
前記制御部は、
少なくとも１つの前記ＲＯＩ領域に対して、算出された前記指標が前記閾値を超えている画像を選択する
画像処理装置。
【請求項４】
請求項２に記載の画像処理装置であって、
前記制御部は、
入力部を介してユーザから前記ＲＯＩ領域の指定を受け付け、
前記指定されたＲＯＩ領域の前記指標が前記閾値を超えている画像を選択する
画像処理装置。
【請求項５】
請求項２ないし４のいずれか１項に記載の画像処理装置であって、
前記制御部は、
前記各々の画像のうち、前記ＲＯＩ領域の部分を拡大して表示する
画像処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の画像処理装置であって、
前記制御部は、
前記閾値を、入力部を介して受け付けた入力により設定する
画像処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の画像処理装置であって、
前記制御部は、
前記閾値を、前記特徴量の前記変化の量に基づいて設定する
画像処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の画像処理装置であって、
前記制御部は、
前記複数の画像を動画として再生する場合に、
前記入力部を介して受け付けた再生時間に応じた前記画像が選択されるように、前記閾値を調整する
画像処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の画像処理装置であって、
前記特徴量は、輝度、エッジ、動きベクトル、および密度のうち少なくとも１つである
画像処理装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の画像処理装置であって、
前記制御部は、
前記指標を、前記特徴量の変化量と、当該変化量を正規化した正規化変化量と、正規化変化量の合計とを用いて、以下の式で算出する
画像処理装置。
（指標）＝Σ（（前記特徴量の変化量）×（前記特徴量の正規化変化量）／（正規化変化量の合計））
【請求項１１】
制御部が、
顕微鏡を用いた生体細胞の経時観察により得られた、時間的に連続する複数の画像を取得し、
前記取得した各々の画像の特徴量を解析し、
前記解析結果に基づいて、時間的に連続する各々の前記画像間における前記特徴量の変化の度合いの指標を算出し、
前記指標が予め定められた閾値を超えている画像を選択し、
前記選択した画像を時系列で表示部に表示する
画像処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月7日(2016.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性の基板上に連続な繰り返し配線パターンを有し、前記基板の長手方向と垂直な方向の前記配線パターンの配線部分が、前記基板を該基板の長手方向に折り曲げることにより形成される山部または谷部に配置するように、前記基板を折り曲げることで構成されたことを特徴とするコイル素子。
【請求項２】
請求項１記載のコイル素子であって、
前記山部および谷部は、９０°以下で複数回折り曲げ、合計１８０°となるように折り曲げることで構成されたことを特徴とするコイル素子。
【請求項３】
請求項１記載のコイル素子であって、
前記山部は９０°づつ２回山折りして折り曲げ、前記谷部は９０°づつ２回谷折りして折り曲げることで構成されたことを特徴とするコイル素子。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載のコイル素子であって、
前記配線パターンは、矩形波状であることを特徴とするコイル素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載のコイル素子を互いにかみ合わせるか、並べて構成した１組のコイルからなることを特徴とする磁心内磁界測定用Ｈコイル素子。
【請求項６】
請求項５記載のＨコイル素子を、固定子を励磁する励磁磁界を検知する方向に取り付けたことを特徴とするモーター。
【請求項７】
請求項６記載のモーターであって、
前記検知する方向は固定子軸方向であり、前記モーターはアキシャルギャップモーターであることを特徴とするモーター。
【請求項８】
請求項６記載のモーターであって、
前記検知する方向は固定子軸方向と垂直な方向であり、前記モーターはラジアルギャップモーターであることを特徴とするモーター。
【請求項９】
請求項４に記載のコイル素子であって、
前記基板を前記矩形波状の配線パターンにそって打ち抜き、該基板を折り曲げることで形成する中心部に開口部を有することを特徴とするコイル素子。
【請求項１０】
請求項９に記載のコイル素子を２つ組み合わせて、それぞれを挟み込み、前記開口部を共通部として磁性体コアをはさんだことを特徴とするトランス。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月12日(2016.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップと、
前記半導体チップの主面を覆う絶縁層と、
前記絶縁層を覆うオーバーコート層と、
前記絶縁層と前記オーバーコート層との間に設けられた配線層と、
前記配線層に設けられ、外部回路との接続を図る接続パッドを含む配線パターンと、
前記配線層に設けられた下地パターンと、
前記オーバーコート層の前記接続パッドと重なる位置に配置された第１の開口部が埋まるように形成された半田端子と、
前記オーバーコート層の前記下地パターンと重なる位置に配置された第２の開口部が埋まるように形成された半田部と、を備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記絶縁層及び前記オーバーコート層は、樹脂材料を用いて形成され、
前記絶縁層の破断点強度が前記オーバーコート層の破断点強度に比べて大きいことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記絶縁層は、破断点強度が異なる第１樹脂層と第２樹脂層とを含み、
前記主面上において、前記第１樹脂層、前記第２樹脂層、前記配線層、前記オーバーコート層の順に形成され、
破断点強度は、前記オーバーコート層＜前記第１樹脂層＜前記第２樹脂層の関係を満たしていることを特徴とする請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記絶縁層は、ポリイミド樹脂を用いて形成されていることを特徴とする請求項２または３に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第１の開口部の大きさは、前記第２の開口部の大きさよりも大きいことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記配線層には、複数の前記配線パターンが設けられ、
前記下地パターンは、複数の前記配線パターンのうち特定の配線パターンの近傍に設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記下地パターンは、前記配線層において電気的に独立していることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項８】
半導体装置の製造方法であって、
半導体チップの主面を覆う絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に配線層を形成する工程と、
前記配線層をパターニングして、接続パッドを含む配線パターンと、下地パターンとを形成する工程と、
前記配線パターンと前記下地パターンとを覆うオーバーコート層を形成する工程と、
前記オーバーコート層をパターニングして、前記接続パッドと重なる位置に第１の開口部を形成すると共に、前記下地パターンと重なる位置に第２の開口部を形成する工程と、
前記第１の開口部と前記第２の開口部とを半田で埋める工程と、
前記半田を加熱して、前記第１の開口部に半田端子を形成すると共に、前記第２の開口部に半田部を形成する工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記絶縁層を形成する工程では、感光性のポリイミド樹脂を含む溶液を前記主面に塗布して乾燥することにより、前記絶縁層を形成し、
前記オーバーコート層を形成する工程では、前記絶縁層よりも破断点強度が小さい前記オーバーコート層を形成することを特徴とする請求項８に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の開口部及び前記第２の開口部を形成する工程では、前記第１の開口部の大きさよりも小さい前記第２の開口部を形成し、
前記第１の開口部と前記第２の開口部とを半田で埋める工程は、印刷法により半田ペーストを用いて前記第１の開口部と前記第２の開口部を埋めることを特徴とする請求項８または９に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の開口部及び前記第２の開口部を形成する工程では、前記第１の開口部の大きさよりも大きい前記第２の開口部を形成し、
前記第１の開口部と前記第２の開口部とを半田で埋める工程は、半田ボールを前記第１の開口部と前記第２の開口部とに配置することを特徴とする請求項８または９に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記下地パターンを形成する工程では、前記配線層をパターニングして電気的に独立した前記下地パターンを形成することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月23日(2016.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工体にプラズマを利用した所定の加工処理を行う際の加工条件を取得し、
前記加工条件に基づいて、前記被加工体の表面の所定の評価点における、当該評価点からプラズマ空間を見通すことができる視野領域に相当する立体角を算出し、
前記立体角と、前記評価点に入射するラジカルの当該評価点との反応確率とを引数とする関数を用いて、フラックス法により前記評価点に入射する入射ラジカル量を算出する
シミュレーション方法。
【請求項２】
請求項１に記載のシミュレーション方法であって、
前記入射ラジカル量を算出する処理は、前記プラズマ空間から前記評価点へ直接入射する第１のラジカル量と、前記被加工体の表面から放出されて前記評価点へ入射する第２のラジカル量との総和を算出する
シミュレーション方法。
【請求項３】
請求項２に記載のシミュレーション方法であって、
前記入射ラジカル量を算出する処理は、前記立体角が所定の閾値以下のとき、前記立体角が前記閾値であるときのラジカル量を前記入射ラジカル量として算出する
シミュレーション方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載のシミュレーション方法であって、
前記立体角をｄΩ、前記反応確率をＳn、前記プラズマ空間で生成されるラジカル量をΓn0としたとき、ｄΩ＞Ｌの場合において、前記評価点における入射ラジカル量Γ（ｄΩ，Ｓｎ）は、ｍ１（Ｓｎ）およびｍ２（Ｓｎ）をそれぞれ前記反応確率に依存するパラメータとして、
Γ（ｄΩ，Ｓｎ）／Γn0＝［ｄΩ／（２π）＋ｍ１（Ｓｎ）ｄΩｍ２（Ｓｎ）］
の式で算出されるシミュレーション方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載のシミュレーション方法であって、
前記立体角をｄΩ、前記反応確率をＳn、前記プラズマ空間で生成されるラジカル量をΓn0としたとき、ｄΩ＞Ｌの場合において、前記評価点における入射ラジカル量Γ（ｄΩ，Ｓｎ）は、ｍ１（Ｓｎ）およびｍ２（Ｓｎ）をそれぞれ前記反応確率に依存するパラメータとして、
Γ（ｄΩ，Ｓｎ）／Γn0＝ｍ１（Ｓｎ）［ｄΩ／（２π）＋ｄΩｍ２（Ｓｎ）］
の式で算出されるシミュレーション方法。
【請求項６】
請求項４又は５に記載のシミュレーション方法であって、
ｄΩ≦Ｌの場合において、前記評価点における入射ラジカル量Γ（ｄΩ，Ｓｎ）は、ｄΩ＝Ｌのときの値で一定とするシミュレーション方法。
【請求項７】
被加工体にプラズマを利用した所定の加工処理を行う際の加工条件に基づいて、前記被加工体の表面の所定の評価点における、当該評価点からプラズマ空間を見通すことができる視野領域に相当する立体角を算出する処理と、
前記立体角と、前記評価点に入射するラジカルの当該評価点との反応確率とを引数とする関数を用いて、フラックス法により前記評価点に入射する入射ラジカル量を算出する処理と
を含む計算を情報処理装置に実行させるシミュレーションプログラム。
【請求項８】
被加工体にプラズマを利用した所定の加工処理を行う加工部と、
前記加工部におけるプラズマ状態をモニタリングする検出部と、
前記所定の加工処理をシミュレーションするシミュレータと、
前記シミュレータによるシミュレーション結果に基づいて前記加工部を制御する制御部と
を具備し、
前記シミュレータは、
前記所定の加工処理を行う際の加工条件を取得するように構成された入力部と、
前記加工条件に基づいて、前記被加工体の表面の所定の評価点における、当該評価点からプラズマ空間を見通すことができる視野領域に相当する立体角を算出し、前記立体角と、前記評価点に入射するラジカルの当該評価点との反応確率とを引数とする関数を用いて、フラックス法により前記評価点に入射する入射ラジカル量を算出するように構成された演算部と、
前記入射ラジカル量に基づいて生成された前記加工条件の補正信号を前記制御部へ出力する出力部と
を有する
加工装置。
【請求項９】
請求項８に記載の加工装置であって、
前記シミュレータの出力に基づいて、前記加工処理の異常を報知するように構成された管理システムをさらに具備する
加工装置。
【請求項１０】
被加工体にプラズマを利用した所定の加工処理を行う際の加工条件を取得するように構成された入力部と、
前記加工条件に基づいて、前記被加工体の表面の所定の評価点における、当該評価点からプラズマ空間を見通すことができる視野領域に相当する立体角を算出し、前記立体角と、前記評価点に入射するラジカルの当該評価点との反応確率とを引数とする関数を用いて、フラックス法により前記評価点に入射する入射ラジカル量を算出するように構成された演算部と
を具備するシミュレータ。
【請求項１１】
被加工体にプラズマを利用した所定の加工処理を行う際の加工条件を取得し、
前記加工条件に基づいて、前記被加工体の表面の所定の評価点における、当該評価点からプラズマ空間を見通すことができる視野領域に相当する立体角を算出し、
前記立体角と、前記評価点に入射するラジカルの当該評価点との反応確率とを引数とする関数を用いて、フラックス法により前記評価点に入射する入射ラジカル量を算出し、
前記入射ラジカル量に基づいて予測された加工形状を評価し、
前記加工形状の評価結果に基づいて前記加工条件およびチップ内レイアウトの少なくとも１つを変更する
設計方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月20日(2016.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係る画像処理装置の構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示すダイナミックレンジ補正部の構成を示すブロック図である。
【図３】第１実施形態に係る画像処理方法を説明するためのフローチャートである。
【図４】１エリア分割拡大部、４エリア分割拡大部、及び９エリア分割拡大部によるヒストグラムの生成対象の領域を示す図である。
【図５】エリア分割拡大部が生成するヒストグラムの一例を示す図である。
【図６】バイリニア補間処理を説明するための図である。
【図７】透過率補正部による透過率補正処理を示すフローチャートである。
【図８】第２実施形態に係る画像処理装置の構成を示すブロック図である。
【図９】第２実施形態に係る画像処理方法を説明するためのフローチャートである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
レンジ算出部１２ｂも、４つの領域（エリア０、エリア１、エリア２、エリア３）のそれぞれに対して、レンジ算出部１１ｂと同様に、加算した画素数が設定値画素数を超えたか否かを判定して最小値Ｙｍｉｎと最大値Ｙｍａｘを算出する。また、レンジ算出部１３ｂも、９つの領域（エリア０、エリア１、エリア２、エリア３、エリア４、エリア５、エリア６、エリア７、エリア８）のそれぞれに対して、レンジ算出部１１ｂと同様に、加算した画素数が設定値画素数を超えたか否かを判定して最小値Ｙｍｉｎと最大値Ｙｍａｘを算出する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
なお、レンジ算出部１１ｂ〜１３ｂは、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれにおいて（Ｙｍａｘ−Ｙｍｉｎ）＜ｍｉｎｖａｌ（ｍｉｎｖａｌは５〜１５の範囲内の値）である場合は、最小値Ｙｍｉｎを０（Ｙｍｉｎ＝０）とし、最大値Ｙｍａｘを２５５（Ｙｍａｘ＝２５５）とする。本実施形態では、ｍｉｎｖａｌを１０としている。このように、画素値（輝度）の変化がほとんどない領域（色がほとんど均一な領域）についてはダイナミックレンジの拡大を行わないようにする。これにより、誤ったダイナミックレンジの拡大（誤動作）を防止することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図６は、バイリニア補間処理を説明するための図である。図６において、Ｐはバイリニア補間処理を行う画素を示す。Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは、４つの領域の中心位置の画素を示している。図４（Ｃ）に示す領域においては、Ａはエリア０の中心位置の画素、Ｂはエリア１の中心位置の画素、Ｃはエリア２の中心位置の画素、Ｄはエリア３の中心位置の画素となる。また、図４（Ｄ）においては、例えば、Ａはエリア３の中心位置の画素、Ｂはエリア４の中心位置の画素、Ｃはエリア６の中心位置の画素、Ｄはエリア７の中心位置の画素となる。ａは画素Ｐから画素Ａ又はＢまでのｙ方向の距離、ｂは画素Ｐから画素Ｃ又はＤまでのｙ方向の距離、ｃは画素Ｐから画素Ａ又はＣまでのｘ方向の距離、ｄは画素Ｐから画素Ｂ又はＤまでのｘ方向の距離を示している。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月16日(2016.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置によって撮影された顔画像を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得した顔画像と、あらかじめ登録された顔画像との類似度を判定する類似度判定手段と、
前記類似度判定手段により判定された類似度に基づき、前記取得手段により取得した顔画像を用いてイベントを検出するか、前記あらかじめ登録された顔画像を用いてイベントを検出するかを決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された顔画像と、前記撮像装置により撮影された画像とを用いてイベントを検出する検出手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記決定手段は、前記類似度判定手段により判定された類似度が第１の閾値を満たす場合、および、第１の閾値と第２の閾値とを満たさない場合には、前記あらかじめ登録された顔画像を用いてイベントを検出すると決定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記類似度判定手段により判定された類似度が、第１の閾値を満たさず第２の閾値を満たす場合には、前記取得手段により取得した顔画像を用いてイベントを検出すると決定することを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記類似度判定手段により判定された類似度が、第１の閾値を満たさず、第２の閾値を満たす場合、前記取得手段により取得した顔画像を前記検出手段によるイベント検出に用いるか否かの指示を管理者から受け付ける受付手段をさらに備え、
前記検出手段は、前記受付手段により管理者から前記取得手段により取得した顔画像を前記検出手段によるイベント検出に用いる旨の指示を受け付けた場合、当該顔画像と、前記撮像装置によって撮影された画像とを用いてイベントを検出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記類似度判定手段により判定された類似度が、第１の閾値および第２の閾値を満たさない場合、前記取得手段により取得した顔画像を前記検出手段によるイベント検出に用いるか否かの指示を管理者から受け付ける受付手段をさらに備え、
前記検出手段は、前記受付手段により管理者から前記取得手段により取得した顔画像を前記検出手段によるイベント検出に用いる旨の指示を受け付けた場合、当該顔画像と、前記撮像装置によって撮影された画像とを用いてイベントを検出することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記検出手段により検出されたイベントを管理者に通知する通知手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
情報処理装置における情報処理方法であって、
前記情報処理装置の取得手段が、撮像装置によって撮影された顔画像を取得する取得工程と、
前記情報処理装置の類似度判定手段が、前記取得工程において取得した顔画像と、あらかじめ登録された顔画像との類似度を判定する類似度判定工程と、
前記情報処理装置の決定手段が、前記類似度判定工程において判定された類似度に基づき、前記取得工程において取得した顔画像を用いてイベントを検出するか、前記あらかじめ登録された顔画像を用いてイベントを検出するかを決定する決定工程と、
前記情報処理装置の検出手段が、前記決定工程において決定された顔画像と、前記撮像装置により撮影された画像とを用いてイベントを検出する検出工程と、
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
情報処理装置において実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
撮像装置によって撮影された顔画像を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得した顔画像と、あらかじめ登録された顔画像との類似度を判定する類似度判定手段と、
前記類似度判定手段により判定された類似度に基づき、前記取得手段により取得した顔画像を用いてイベントを検出するか、前記あらかじめ登録された顔画像を用いてイベントを検出するかを決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された顔画像と、前記撮像装置により撮影された画像とを用いてイベントを検出する検出手段として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月20日(2016.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、本願発明の目的は、ユーザの操作に応じて、表示されている表示データの拡大方法を切り替え、ユーザが閲覧しやすい仕組みを提供することである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の目的を達成するための、表示部品であるオブジェクトを含む表示データを記憶する情報処理装置であって、前記オブジェクトを含む表示データを表示制御する表示制御手段と、前記表示制御手段により表示された前記オブジェクトを含む表示データへのタッチ操作を受け付けるタッチ操作受付手段と、前記タッチ操作受付手段により受け付けたタッチ操作が、拡大対象となる前記オブジェクトに対する拡大表示のタッチ操作である場合に、前記オブジェクトを拡大し、前記表示データに対する拡大表示のタッチ操作である場合に、前記表示データ全体を拡大する拡大手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、ユーザの操作に応じて、表示されている表示データの拡大方法を切り替え、ユーザが閲覧しやすくすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部品であるオブジェクトを含む表示データを記憶する情報処理装置であって、
前記オブジェクトを含む表示データを表示制御する表示制御手段と、
前記表示制御手段により表示された前記オブジェクトを含む表示データへのタッチ操作を受け付けるタッチ操作受付手段と、
前記タッチ操作受付手段により受け付けたタッチ操作が、拡大対象となる前記オブジェクトに対する拡大表示のタッチ操作である場合に、前記オブジェクトを拡大し、前記表示データに対する拡大表示のタッチ操作である場合に、前記表示データ全体を拡大する拡大手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記表示データは複数の前記オブジェクトを含み、
前記タッチ操作受付手段により受け付けたタッチ操作が、拡大対象となる前記オブジェクトに対するタッチ操作であるかを判定する判定手段と、
前記拡大手段は、前記判定手段により拡大対象となる前記オブジェクトに対するタッチ操作であると判定され、拡大表示のタッチ操作がされた場合に、前記オブジェクトを拡大することを特徴とすることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記判定手段により拡大対象となる前記オブジェクトに対するタッチ操作であると判定され、前記オブジェクトに関連する他のオブジェクトの表示操作がされた場合に、前記表示制御手段は、前記タッチ操作がされたオブジェクトと他のオブジェクトとを対比可能に表示制御することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記他のオブジェクトは、他の表示データに含まれるオブジェクトであって、
前記表示制御手段で前記他のオブジェクトを対比可能に表示制御し、前記他のオブジェクトに対するタッチ操作がされた場合に、当該タッチ操作がされた他のオブジェクトを含む他の表示データを取得する表示データ取得手段を更に備え、
前記表示制御手段は、前記表示データ取得手段により取得した他の表示データを表示制御することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
表示部品であるオブジェクトを含む表示データを記憶する情報処理装置の処理方法であって、
前記情報処理装置が、
前記オブジェクトを含む表示データを表示制御する表示制御ステップと、
前記表示制御ステップにより表示された前記オブジェクトを含む表示データへのタッチ操作を受け付けるタッチ操作受付ステップと、
前記タッチ操作受付ステップにより受け付けたタッチ操作が、拡大対象となる前記オブジェクトに対する拡大表示のタッチ操作である場合に、前記オブジェクトを拡大し、前記表示データに対する拡大表示のタッチ操作である場合に、前記表示データ全体を拡大する拡大ステップと
を実行することを特徴とする処理方法。
【請求項６】
オブジェクトを含む表示データを記憶する情報処理装置のプログラムであって、
前記情報処理装置を、
前記表示データを表示制御する表示制御手段と、
前記表示制御手段により表示された表示データへのタッチ操作を受け付けるタッチ操作受付手段と、
前記タッチ操作受付手段により受け付けたタッチ操作が、前記オブジェクトの範囲内におけるタッチ操作である場合に、前記オブジェクトを拡大し、前記オブジェクトの範囲内におけるタッチ操作と一致するタッチ操作であって、前記タッチ操作受付手段により受け付けたタッチ操作が前記オブジェクトを含まず、前記表示データの範囲内におけるタッチ操作である場合に、前記表示データ全体を拡大する拡大手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月27日(2016.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の撮像領域を有し、前記撮像領域毎に撮像条件の設定が可能な撮像素子において、
被写体を撮像する第１撮像領域および第２撮像領域と、
前記第１撮像領域と前記第２撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を、それぞれ生成する第１画素および第２画素と、
を備える撮像素子。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像素子において、
前記第１撮像領域と前記第２撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を、それぞれ生成する第３画素および第４画素と、
をさらに備える撮像素子。
【請求項３】
請求項２に記載の撮像素子において、
前記第１画素および前記第２画素は第１の色の光を受光し、前記第３画素および前記第４画素は第２の色の光を受光する撮像素子。
【請求項４】
請求項３に記載の撮像素子において、
前記第１画素と前記第３画素から複数回出力される信号に基づいて前記第１撮像領域の露光条件が設定され、前記第２画素と前記第４画素から複数回出力される信号に基づいて前記第２撮像領域の露光条件が設定される撮像素子。
【請求項５】
請求項４に記載の撮像素子において、
前記第１画素と前記第２画素から複数回出力される信号をそれぞれ加算した信号のうち、一方が閾値を超えたら前記第１撮像領域の露光時間が設定され、前記第２画素と前記第４画素から複数回出力される信号をそれぞれ加算した信号のうち、一方が前記閾値を超えたら前記第２撮像領域の露光時間が設定される撮像素子。
【請求項６】
請求項４に記載の撮像素子において、
前記第１撮像領域は、前記第１の色の光を受光する第５画素と、前記第２の色の光を受光する第６画素とを有し、
前記第２撮像領域は、前記第１の色の光を受光する第７画素と、前記第２の色の光を受光する第８画素とを有し、
前記第１画素からの信号により前記第５画素の露光条件が設定され、
前記第３画素からの信号により前記第６画素の露光条件が設定され、
前記第２画素からの信号により前記第７画素の露光条件が設定され、
前記第４画素からの信号により前記第８画素の露光条件が設定される撮像素子。
【請求項７】
請求項１に記載の撮像素子において、
前記第１撮像領域は、前記第１画素を有し、
前記第２撮像領域は、前記第２画素を有する撮像素子。
【請求項８】
請求項２から６の何れか一項に記載の撮像素子において、
前記第１撮像領域は、前記第３画素を有し、
前記第２撮像領域は、前記第４画素を有する撮像素子。
【請求項９】
請求項１から８の何れか一項に記載の撮像素子において、
前記第１画素は、前記第２撮像領域以外に設けられ、前記第２画素は、前記第１撮像領域以外に設けられている撮像素子。
【請求項１０】
撮像領域毎に撮像条件の設定が可能な撮像素子において、
被写体を撮像する第１撮像領域と、
前記第１撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を生成する第２撮像領域と、
前記被写体を撮像する第３撮像領域と、
前記第３撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を生成する第４撮像領域と、
を備える撮像素子。
【請求項１１】
請求項１から１０の何れか一項に記載の撮像素子を備える撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
第１の態様による撮像素子は、複数の撮像領域を有し、前記撮像領域毎に撮像条件の設定が可能な撮像素子において、被写体を撮像する第１撮像領域および第２撮像領域と、前記第１撮像領域と前記第２撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を、それぞれ生成する第１画素および第２画素と、を備える。
第２の態様による撮像素子は、撮像領域毎に撮像条件の設定が可能な撮像素子において、被写体を撮像する第１撮像領域と、前記第１撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を生成する第２撮像領域と、前記被写体を撮像する第３撮像領域と、前記第３撮像領域の撮像条件の設定に用いられる信号を生成する第４撮像領域と、を備える。
第３の態様による撮像装置は、第１または第２の態様の撮像素子を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月29日(2016.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
意思の伝達に係るアイコン画像情報を送信または受信する通信装置であって、
１以上の単語または語句または文節を含む言葉情報と前記意思の伝達に係るアイコン画像情報を対応付けて予め登録するアイコン情報登録手段と、
音声信号が入力された場合に、前記入力された音声信号を処理して前記言葉情報を抽出する言葉情報抽出手段と、
前記アイコン情報登録手段を参照し、前記言葉情報抽出手段が抽出した言葉情報に対応するアイコン画像情報を通信中の相手装置へ送信するアイコン画像送信手段と、
前記相手装置から前記アイコン画像情報のいずれかを受信した場合に、前記受信したアイコン画像情報を自通信装置が備える表示部に表示するアイコン画像表示手段と、を有することを特徴とするアイコンを介して会話する通信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明は、意思の伝達に係るアイコン画像情報を送信または受信する通信装置であって、１以上の単語または語句または文節を含む言葉情報と前記意思の伝達に係るアイコン画像情報を対応付けて予め登録するアイコン情報登録手段と、音声信号が入力された場合に、前記入力された音声信号を処理して前記言葉情報を抽出する言葉情報抽出手段と、前記アイコン情報登録手段を参照し、前記言葉情報抽出手段が抽出した言葉情報に対応するアイコン画像情報を通信中の相手装置へ送信するアイコン画像送信手段と、前記相手装置から前記アイコン画像情報のいずれかを受信した場合に、前記受信したアイコン画像情報を自通信装置が備える表示部に表示するアイコン画像表示手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2015103992.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2015103992.tif 000002