Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月28日(2016.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図示するように、接触部材２０の突出部２０ｂは端部の断面が凸円弧状である。符号ＯCは当該円弧の曲率中心を表し、符号Ｒは当該円弧の曲率半径を表している。ダイヤフラムスプリング４０との接触面積を減らし、接触位置を安定させ、異音の発生を抑制することに寄与する。曲率半径Ｒの具体例を挙げるならば、加工上の観点から、下限は１ｍｍ、好ましくは１．５ｍｍ、上限は３ｍｍとするのが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
接触部材２０は鋼材製で、旋削、研削の後、熱処理を施し、少なくとも突出部２０ｂの表面に硬化層を設けるのが好ましい。硬化層の硬さを例示するならば、ＨＲＣ５８〜ＨＲＣ６４が好ましい。また、少なくとも突出部２０ｂの表面に、硬化層に代えて、あるいは硬化層に加えて、固体潤滑被膜を設けてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図３は低トルクタイプの樹脂製冠形保持器の例で、従来の技術と実施例を対比して示す。
従来、玉１６のＰＣＤと保持器１８のポケット１８ｂのＰＣＤは図３（Ｂ）に示すように同心状とするのが一般的である。この場合、内径側、外径側ともに、ポケット１８ｂの端部と玉１６との間にすきまが形成されるため、玉１６に付着したグリースが保持器によって掻き取られる量は少なく、そのため玉１６のグリース付着量が多い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
これに対して、図３（Ａ）に示すように、玉１６のＰＣＤに対して保持器１８のポケット１８ｂのＰＣＤを小さくすることにより、玉１６をポケット１８ｂの外径側の端部で抱え込むようにすると、玉１６に付着したグリースを掻き取りやすくなり、玉１６へのグリースの付着量が少なくなる。逆に、外径側に対して内径側では玉１６との間のすきまが大きくなるため、グリースを掻き取りにくくなる。軸受の回転に伴う遠心力の作用で、グリースも内径側から外径側に移動する傾向にある。したがって、玉へのグリースの付着量を少なくするためには、玉１６に付着したグリースを外径側で掻き取ることが有効である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、低トルクタイプでは、図３（Ｃ）（Ｄ）に示すように、玉１６を収容するポケットの内壁面に玉非接触部を設けることもある。玉非接触部としては、ポケットの内壁面に形成した凹部（図３（Ｃ））や、ポケットの側壁を貫通するスリット（図３（Ｄ））の形態などがある。いずれの形態でも、ポケットの内壁面のうち玉と接触する領域の面積が減少するため、トルクが低下する。一つにはポケット内部を潤滑剤が通過する際の抵抗が減少するためであり、もう一つは玉とポケット内壁面との間に形成される油膜量が減少するためである。特開２００９−２９９８１３号公報に低トルクタイプの一例が記載されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
弾性部材３０として鋼板製の波座金を採用する場合、摩耗防止のため、カバー２８の弾性部材３０と接触する表面に固体潤滑被膜処理を施すのが好ましい。弾性部材３０としては、皿ばねや合成樹脂を採用することも可能である。この場合の合成樹脂はスラストを受ける一種のすべり軸受であって、一例としてＮＴＮ株式会社のベアリーＥＲ３２０１を挙げることができる。ベアリーＥＲ３２０１は、エラストマーをベースとし、弾性をもったふっ素樹脂系摺動材であって、その特性から「すべるゴム」と呼ばれることもある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2015025534.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月28日(2016.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ｉ）
【化１】
2015025129.tif 000001
で表される化合物を含有し、式（ＸＩ−１−２）又は（ＸＩ−１−４）
【化２】
2015025129.tif 000002
【化３】
2015025129.tif 000003
で表される化合物を含有し、式（ｉ）で表される化合物が２０〜５０質量％含有する誘電率異方性が負の液晶組成物。
【請求項２】
式（Ｉ）
【化４】
2015025129.tif 000004
（式中、Ｒ９１からＲ９２はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表すが、式（ｉ）で表される化合物は除く。）で表される化合物を含有し、式（Ｉ）と式（ｉ）で表される化合物の含有量の合計が２５〜６０質量％である請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
一般式（Ｉ−ｃ）
【化５】
2015025129.tif 000005
（式中、Ｒ１３は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ１５は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）又は一般式（ＩＶ−ａ）
【化６】
2015025129.tif 000006
（Ｒ２５は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ２４は炭素原子数１〜５のアルキル基表す。）で表される化合物から選ばれる１種又は２種以上含有する請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項４】
一般式（ＸＩ−１）
【化７】
2015025129.tif 000007
（式中、ＲＸ１１及びＲＸ２１はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基又は炭素原子数２〜５のアルケニルオキシ基を表すが、式（ＸＩ−１−２）及び式（ＸＩ−１−４）で表される化合物は除く。）で表される化合物を含有し、一般式（ＸＩ−１）、式（ＸＩ−１−２）及び（ＸＩ−１−４）で表される化合物の含有量の合計が５〜４０質量％である請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項５】
一般式（ＩＩ−ａ）
【化８】
2015025129.tif 000008
（式中、Ｒ１１は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）で表される化合物を１種又は２種以上含有する請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項６】
一般式（ＸＩＩ−１）、一般式（ＸＩＩ−２）又は一般式（ＸＩＩＩ）
【化９】
2015025129.tif 000009
（式中、ＲＸ１及びＲＸ２はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表すが、これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていても良く、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。）
【化１０】
2015025129.tif 000010
（式中、ＲＸ１及びＲＸ２はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、ＭＸ３１は、
（ａ）トランス−１，４−シクロへキシレン基(この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−O−又は−S−に置き換えられてもよい)、
（ｂ）１，４−フェニレン基(この基中に存在する１個の−CH＝又は隣接していない２個以上の−CH＝は窒素原子に置き換えられてもよい)
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）又は基（ｂ）に含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良いが、ＭＸ３が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、Ｗは０又は１を表し、Ｘ３１〜Ｘ３６は水素原子又はフッ素原子を表すが、Ｘ３１及びＸ３２の組み合わせ、Ｘ３３及びＸ３４の組み合わせ、Ｘ３５及びＸ３６の組み合わせ、のうち少なくとも１組の組み合わせがともにフッ素原子である。）で表される化合物群から選ばれる化合物を１種又は２種以上含有する請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項７】
式（ｉ）、式（ＸＩ−１−２）、式（ＸＩ−１−４）、一般式（ＸＩ−１）、式（Ｉ）、一般式（ＩＩ−ａ）、一般式（ＸＩＩ−１）、一般式（ＸＩＩ−２）又は一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物を含有し、その含有量が９０〜１００質量％である請求項６記載の液晶組成物。
【請求項８】
反応性モノマーを含有する請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
【請求項１０】
請求項８に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の液晶表示素子を用いた液晶ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月17日(2016.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
＜下地層２＞
本発明において、図１に示す薄膜コンデンサ１０は、好ましくは、絶縁処理を施した支持基板１表面に、下地層２を有している。下地層２は、支持基板１と下部電極３の密着性向上を目的として挿入される。一例として、下部電極３にＣｕを使用する場合には下地層２はＣｒを、下部電極３にＰｔを使用する場合にはＴｉを下地層２として挿入することが一般的である。密着性向上を目的としていることから、前記材料に限定されるものではなく、また支持基板１と下部電極３の密着性を保つことが出来れば、下地層２は省略しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月1日(2016.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の請求項１に係る現像装置は、回転しながら現像剤を保持する現像部材と、前記現像部材の軸方向に沿って延び、前記現像部材に保持された現像剤の層厚を規制する層厚規制部材と、前記現像部材及び前記層厚規制部材を保持して収容する保持部材と、前記層厚規制部材の長手方向の両側で前記層厚規制部材を挟み込むように前記保持部材に固定され、前記保持部材側に開口して内部に現像剤が収容される収容部が形成され、前記収容部に収容された現像剤が前記保持部材側に供給されるのを抑制するシート状のシート部材が前記収容部の開口縁の周囲に貼り付けられ、前記層厚規制部材の少なくとも一方の端面と前記軸方向で対向する対向面が形成される収容部材と、前記対向面と前記端面との間に配置され、前記収容部材が前記保持部材に対して前記軸方向に変形した際に前記端面又は前記対向面に当たって前記収容部材の前記軸方向の変形を規制する隙間部材と、を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
また、取付部位１６２には、円状の貫通孔１６２Ａ（図５参照）が形成され、この貫通孔１６２Ａを通してネジ１６４が、筐体１１６の装置奥行方向の手前側に形成された取付部１７４のねじ孔１１７に締め込まれるようになっている。これにより、収容部材１１８が、保護部１３４における装置奥行方向の手前側の部分で筐体１１６に固定されるようになっている。換言すれば、収容部材１１８は、層厚規制部材１０４の長手方向の一端側で筐体１１６に固定されるようになっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
取付部位１７０には、図２（Ｂ）に示されるように、貫通する貫通孔１７０Ａが形成されている。一方、筐体１１６において装置奥行方向の奥側には、図２（Ａ）に示されるように、支持部１５４から上方に突出するように取付部１７６が形成されている。そして、図２（Ａ）（Ｂ）に示されるように、前述した貫通孔１７０Ａを通してネジ１７２が、取付部１７６に形成されたねじ孔１７６Ａに締め込まれるようになっている。これにより、収容部材１１８が、保護部１３４における装置奥行方向の奥側の部分で筐体１１６に固定されるようになっている。換言すれば、収容部材１１８は、層厚規制部材１０４の長手方向の他端側で筐体１１６に固定されるようになっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転しながら現像剤を保持する現像部材と、
前記現像部材の軸方向に沿って延び、前記現像部材に保持された現像剤の層厚を規制する層厚規制部材と、
前記現像部材及び前記層厚規制部材を保持して収容する保持部材と、
前記層厚規制部材の長手方向の両側で前記層厚規制部材を挟み込むように前記保持部材に固定され、前記保持部材側に開口して内部に現像剤が収容される収容部が形成され、前記収容部に収容された現像剤が前記保持部材側に供給されるのを抑制するシート状のシート部材が前記収容部の開口縁の周囲に貼り付けられ、前記層厚規制部材の少なくとも一方の端面と前記軸方向で対向する対向面が形成される収容部材と、
前記対向面と前記端面との間に配置され、前記収容部材が前記保持部材に対して前記軸方向に変形した際に前記端面又は前記対向面に当たって前記収容部材の前記軸方向の変形を規制する隙間部材と、
を備える現像装置。
【請求項２】
前記層厚規制部材は、円柱状とされ、
前記隙間部材は、前記層厚規制部材の中心線上に配置される請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記隙間部材は、前記収容部材と一体的に形成され、前記対向面から前記端面に向けて突出する突出部である請求項１又は２に記載の現像装置。
【請求項４】
静電潜像が形成される像保持体と、
前記像保持体に形成された静電潜像をトナー画像として現像する請求項１〜３の何れか１項に記載の現像装置と、
を備える画像形成ユニット。
【請求項５】
請求項４に記載の画像形成ユニットと、
前記画像形成ユニットの現像装置によって形成されたトナー画像を記録媒体に転写する転写部材と、
を備える画像形成装置。
【請求項６】
静電潜像が形成される像保持体と、
前記像保持体に形成された静電潜像をトナー画像として現像する請求項１〜３の何れか１項に記載の現像装置と、
前記現像装置によって現像されたトナー画像を記録媒体に転写する転写部材と、
を備える画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線発生手段から照射された放射線を検出する放射線検出パネルと、
前記放射線の入射方向側に配置された第一の部材および第二の部材と、
前記放射線の入射方向の反対側に配置された第三の部材および第四の部材と、
を備え、
前記第二の部材は前記第一の部材と前記放射線検出パネルとの間に配置され、
前記第三の部材は前記放射線検出パネルと前記第四の部材との間に配置され、
前記第二の部材および前記第三の部材の弾性率は、前記第一の部材および前記第四の部材の弾性率よりも低く、
前記第二の部材の弾性率は、前記第三の部材の弾性率と等しいか、あるいは前記第三の部材の弾性率より低い
ことを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
前記第二の部材の板厚は、前記第三の部材の板厚と等しいか、あるいは前記第三の部材の板厚より厚いことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
前記第二の部材の剛性は、前記第三の部材の剛性と等しいか、あるいは前記第三の部材の剛性より低いことを特徴とする請求項１または２に記載の放射線撮影装置。
【請求項４】
前記第四の部材は、前記第一の部材より高い剛性を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記放射線検出パネルの剛性は、前記第一の部材の剛性および前記第四の部材の剛性より低いことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記第一の部材および前記第四の部材のそれぞれの面積は、前記放射線の入射方向からみて、前記放射線検出パネルの面積以上であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項７】
前記放射線検出パネルは、前記第一の部材、前記第二の部材、前記第三の部材、および前記第四の部材を含む部材と一体として構成されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項８】
前記放射線の入射方向に配置されている前記第一の部材および前記第二の部材を一体化した構造の剛性は、前記放射線の入射方向の反対側に配置されている前記第三の部材および前記第四の部材を一体化した構造の剛性よりも低いことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
前記第一の部材は、前記放射線検出パネルを収納する筐体を構成する部材であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１０】
前記第四の部材は、前記放射線検出パネルで検出されたデータを処理する制御部を支持する部材であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１１】
前記第四の部材と前記第三の部材との間には、放射線遮蔽部材が配置されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１２】
前記放射線遮蔽部材は、鉛（Ｐｂ）、バリウム（Ｂａ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）のうち少なくともいずれか一つの重金属を含む材料、またはステンレス鋼を用いて構成されることを特徴とする請求項１１に記載の放射線撮影装置。
【請求項１３】
前記第二の部材および前記第三の部材は、緩衝材で構成されていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１４】
前記第四の部材は、前記放射線検出パネルを収納する筐体と締結されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月31日(2016.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射性物質を含有する被処理水（放射能汚染水）を接触させて該被処理水中の放射性物質を吸着除去して放射能濃度を低減させる、難溶性フェロシアン化合物を含有する第一の放射性物質吸着層（１）と、
前記放射性物質吸着層（１）からの放射能濃度が低減された被処理水を接触させて放射性物質を吸着除去する、難溶性フェロシアン化合物の含有率が前記放射性物質吸着層（１）よりも高い第二の放射性物質吸着層（２）と、
を有することを特徴とする放射能汚染水の処理装置。
【請求項２】
少なくともいずれかの前記放射性物質吸着層（１）、（２）は、水溶性フェロシアン化合物を吸着する作用を有する水溶性フェロシアン化合物吸着剤を含有することを特徴とする請求項１記載の放射能汚染水の処理装置。
【請求項３】
前記両放射性物質吸着層（１）、（２）を通水した前記被処理水を、更に通水させる水溶性フェロシアン化合物吸着剤を含有したＣＮ吸着層（３）を有することを特徴とする請求項１又は２記載の放射能汚染水の処理装置。
【請求項４】
前記第一の放射性物質吸着層（１）は、前記被処理水を通水する経路内に、充填容積に対する難溶性フェロシアン化合物の含有質量の比率が０．４ｇ／Ｌ以上、且つ１１ｇ／Ｌ以下であり、
前記第二の放射性物質吸着層（２）は、充填容積に対する難溶性フェロシアン化合物の含有質量の比率が１１ｇ／Ｌよりも高く、且つ５５０ｇ／Ｌ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の放射能汚染水の処理装置。
【請求項５】
放射性物質を含有する被処理水（放射能汚染水）を、充填容積に対する難溶性フェロシアン化合物の含有質量の比率が０．４ｇ／Ｌ以上、且つ１１ｇ／Ｌ以下の放射性物質吸着層（１）に通水し、
その後、充填容積に対する難溶性フェロシアン化合物の含有質量の比率が１１ｇ／Ｌよりも高く、且つ５５０ｇ／Ｌ以下の放射性物質吸着層（２）に通水することを特徴とする放射能汚染水の処理方法。
【請求項６】
少なくともいずれかの前記放射性物質吸着層（１）、（２）は、難溶性フェロシアン化合物のほかに、粘土鉱物およびゼオライトのうちの一種以上を含有することを特徴とする請求項５に記載の放射能汚染水の処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、放射性物質を含有する被処理水（放射能汚染水）を接触させる、該被処理水中の放射性物質を吸着除去して放射能濃度を低減させる難溶性フェロシアン化合物を含有する第一の放射性物質吸着層（１）と、前記放射性物質吸着層（１）からの放射能濃度が低減された被処理水を接触させる、放射性物質を吸着除去する難溶性フェロシアン化合物の含有率が前記放射性物質吸着層（１）よりも高い第二の放射性物質吸着層（２）と、を有することを特徴とする放射能汚染水の処理装置を提案する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明はまた、放射性物質を含有する被処理水（放射能汚染水）を、充填容積に対する難溶性フェロシアン化合物の含有質量の比率が０．４ｇ／Ｌ以上、且つ１１ｇ／Ｌ以下の放射性物質吸着層（１）に通水し、その後、充填容積に対する難溶性フェロシアン化合物の含有質量の比率が１１ｇ／Ｌよりも高く、且つ５５０ｇ／Ｌ以下の放射性物質吸着層（２）に通水することを特徴とする放射能汚染水の処理方法を提案する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに本発明は、放射能汚染水の除洗方法および処理装置において、放射性物質吸着層１又は放射性物質吸着層２又はこれら両方の層が、水溶性フェロシアン化合物を吸着剤する作用を有する水溶性フェロシアン化合物吸着剤を含有するか、或いは、放射性物質吸着層１及び放射性物質吸着層２とは異なる層として、水溶性フェロシアン化合物吸着剤を含有するＣＮ吸着層３を備えた放射能汚染水の除洗方法および処理装置を提案する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、難溶性フェロシアン化合物を放射能汚染水に加えると、水溶性フェロシアン化合物が処理水中に一部溶解する場合がある。フェロシアン化合物自体には毒性は無いものの、環境基準や排水基準で規定されている全シアン量が増えることになるため、好ましいことではない。そこで、放射能汚染水の除洗方法および処理装置において、放射性物質吸着層１又は放射性物質吸着層２又はこれら両方の層が、水溶性フェロシアン化合物を吸着剤する作用を有する水溶性フェロシアン化合物吸着剤を含有するか、或いは、放射性物質吸着層１及び放射性物質吸着層２とは異なる層として、水溶性フェロシアン化合物吸着剤を含有するＣＮ吸着層３を備えることにより、フェロシアン化合物が処理水中に溶解するのを抑制することができ、処理水の全シアン量を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月21日(2016.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この過程において、水回収装置中に配置された充填剤の表面においてタービン排ガスと気液接触させて、一部蒸発した水の蒸発潜熱も利用して排ガスを冷却することにより、排ガス中の湿分を凝縮させて凝縮水として回収している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
仮に、より最適な充填剤の配置によって排ガス流速分布の均一化を図ることによって整
流ノズルを省くことができれば、水回収装置寸法低減について改善の余地があると考えら
れる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
充填層７に到達した排ガスＧは、充填剤表面において、散水ノズル８から散水された冷
却水Ｗと気液接触し、一部蒸発した水の蒸発潜熱も利用して約３５度まで冷却される。凝
縮した排ガス中の湿分は凝縮水として回収される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上昇した排ガスＧ１は最初に下層の第１充填層１１に到達する。第１充填層１１に到達
した排ガスは、充填剤表面において、散水ノズル８より散水された冷却水と気液接触し、
一部蒸発した水の蒸発潜熱も利用して約８０度まで冷却される。凝縮した排ガス中の湿分
は凝縮水として回収される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
これに対し、先に説明したように、流速分布に合せて排ガス導入部から遠い方に向けて
第１充填層１１の厚さを大きくするように充填剤を敷設している。このことにより、充填
剤の圧力損失の差異によって、第１充填層１１上部の排ガス流速分布が流速Ｇ０に均一化
される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
次に、第２充填層１２に排ガスが到達した段階では、排ガスの流速分布は均一であるため、第２充填層１２の厚さは均一とされている。ただし、第１充填層１１にて排ガスが約８０度まで冷却されているため、設計温度を第１充填層１１のそれより小さくとることができ、高温用ステンレス系以外の材質の充填剤使用も選択可能である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
なお、第２充填層１２の充填剤表面において散水ノズル８より散水された冷却水と気液接触し、約３５度まで冷却され、湿分を回収された排ガスは、装置内上部に設置されたデミスタ９によって液体微粒子が取り除かれた後、装置最上部の出口より大気に排気される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
このように本発明では、水回収装置入口の整流ノズルを省くかわりに、充填層を２つの
層に分けて、第１の充填層の厚さを、排ガスの流速分布に合せて排ガス導入部から遠い方
に向けて厚く配置した。これにより第２の充填層に流入するガス流速の分布を均一化した
ものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高湿分空気利用ガスタービンからの排ガスを受けて水回収を行う高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置であって、
水回収装置は、高湿分空気利用ガスタービンからの排ガスを下部から受け、上部から排出するとともに、上段に散水ノズル、中段に水とガスの気液接触を行う第１と第２の充填層、下部に前記排ガスの導入口を配置し、
中段下側の第１の充填層は、前記排ガスの導入口から遠い位置の上方にあるほど充填層内の充填剤の厚さが厚くなるように配置されており、中段上側の第２の充填層は、充填層内の充填剤の厚さが均一に配置されていることを特徴とする高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置。
【請求項２】
請求項１に記載の高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置であって、
水回収装置の下部には、前記排ガスの導入口から流入した排ガスを上方に向けるための整流板を備えていることを特徴とする高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置であって、
水回収装置の散水ノズルの上段に液体微粒子を取り除くためのデミスタを配置していることを特徴とする高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置であって、
第１と第２の充填層内の充填剤が、第１の充填層では高温用ステンレス系材料であり、第２の充填層では高温用ステンレス系以外の材質の充填剤を使用することを特徴とする高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置。
【請求項５】
高湿分空気利用ガスタービンからの排ガスを受けて水回収を行う高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置であって、
水回収装置は、高湿分空気利用ガスタービンからの排ガスを下部から受け、上部から排出するとともに、上段に散水ノズル、中段に第１と第２の充填層、下部に前記排ガスの導入口を配置し、
中段上側の第２の充填層に流入する排ガスの流速分布が均一化するように、前記第１の充填層内の充填剤の厚さが配置されていることを特徴とする高湿分空気利用ガスタービンの水回収装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービン設備であって、
燃料および酸化剤を燃焼させるように構成された燃焼器と、
前記燃焼器から排出された燃焼ガスによって回動されるように構成されたタービンと、
前記タービンから排出された前記燃焼ガスを冷却するように構成された熱交換器と、
前記燃焼ガスの一部を、作動流体として前記熱交換器を通して前記燃焼器に導くように構成された作動流体供給管と、
燃料を前記燃焼器に供給するように構成された燃料供給管と、
前記酸化剤を、前記熱交換器を通して前記燃焼器に供給するように構成された酸化剤供給管と、
前記熱交換器の上流にある酸化剤供給管内の酸化剤の流量を調整するように構成された酸化剤流量調整弁と、
を具備する、ガスタービン設備。
【請求項２】
前記酸化剤供給管から分岐され、前記熱交換器をバイパスして、前記熱交換器と前記燃焼器との間で前記酸化剤供給管に連結され、前記酸化剤供給管に酸化剤を導入するように構成される酸化剤バイパス供給管をさらに具備する、請求項１に記載のガスタービン設備。
【請求項３】
前記ガスタービン設備が、前記酸化剤供給管の、前記酸化剤バイパス供給管が分岐される位置の下流側に、前記燃焼ガスの一部を導くように構成された燃焼ガス供給管をさらに具備し、前記酸化剤および前記燃焼ガスからなる混合ガスが、前記燃焼ガス供給管が連結される位置の下流側に位置する酸化剤供給管を流れる、請求項２に記載のガスタービン設備。
【請求項４】
前記ガスタービン設備が、
前記酸化剤供給管内に配置された混合部と、
前記燃焼ガスの一部を前記混合部に導くように構成された燃焼ガス供給管と、
をさらに具備し、
前記酸化剤バイパス供給管が、前記混合部から分岐され、
前記混合部内で混合された、前記酸化剤および前記燃焼ガスからなる混合ガスが、前記酸化剤バイパス供給管および前記混合部の下流側に位置する酸化剤供給管を流れる、請求項２に記載のガスタービン設備。
【請求項５】
前記燃料供給管を流れる燃料の流量を検知するように構成された燃料流量検知部と、
前記酸化剤供給管を流れる酸化剤の流量を検知するように構成された酸化剤流量検知部と、
前記酸化剤バイパス供給管を流れる酸化剤の流量を検知するように構成された酸化剤バイパス流量検知部と、
前記酸化剤バイパス供給管を流れる酸化剤の流量を調整するように構成された酸化剤バイパス流量調整弁と、
前記燃料流量検知部、前記酸化剤流量検知部、および前記酸化剤バイパス流量検知部からの検知信号に基づいて、前記酸化剤バイパス流量調整弁の開度を制御するように構成された制御部と、
をさらに具備する、請求項２に記載のガスタービン設備。
【請求項６】
前記燃料供給管を流れる燃料の流量を検知するように構成された燃料流量検知部と、
前記酸化剤供給管に供給される燃焼ガスの流量を検知するように構成された燃焼ガス流量検知部と、
前記酸化剤供給管を流れる前記混合ガスの流量を検知するように構成された混合ガス流量検知部と、
前記酸化剤バイパス供給管を流れる酸化剤の流量を検知するように構成された酸化剤バイパス流量検知部と、
前記酸化剤バイパス供給管を流れる酸化剤の流量を調整するように構成された酸化剤バイパス流量調整弁と、
前記燃料流量検知部、前記燃焼ガス流量検知部、前記混合ガス流量検知部、および前記酸化剤バイパス流量検知部からの検知信号に基づいて、前記酸化剤バイパス流量調整弁の開度を制御するように構成された制御部と、
をさらに具備する、請求項３に記載のガスタービン設備。
【請求項７】
前記燃料供給管を流れる燃料の流量を検知するように構成された燃料流量検知部と、
前記混合部の上流側にある酸化剤供給管を流れる酸化剤の流量を検知するように構成された酸化剤流量検知部と、
前記混合部に供給される燃焼ガスの流量を検知するように構成された燃焼ガス流量検知部と、
前記酸化剤供給管を流れる混合ガスの流量を検知するように構成された混合ガス流量検知部と、
前記酸化剤バイパス供給管を流れる前記混合ガスの流量を検知するように構成された混合ガスバイパス流量検知部と、
前記酸化剤バイパス供給管を流れる混合ガスの流量を調整するように構成された混合ガスバイパス流量調整弁と、
前記燃料流量検知部、前記酸化剤流量検知部、前記燃焼ガス流量検知部、前記混合ガス流量検知部、および前記混合ガスバイパス流量検知部からの検知信号に基づいて、前記混合ガスバイパス流量調整弁の開度を制御するように構成された制御部と、
をさらに具備する、請求項４に記載のガスタービン設備。
【請求項８】
前記ガスタービン設備が、
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を検知するように構成された作動流体流量検知部と、
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を調整するように構成された作動流体流量調整弁と、
をさらに具備し、
前記制御部が、前記燃料流量検知部および前記作動流体流量検知部からの検知信号に基づいて、前記作動流体流量調整弁の開度を制御するように構成される、請求項５に記載のガスタービン設備。
【請求項９】
前記ガスタービン設備が、
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を検知するように構成された作動流体流量検知部と、
前記作動流体供給管を流れる作動流体の流量を調整するように構成された作動流体流量調整弁と、
をさらに具備し、
前記制御部が、前記燃料流量検知部、前記燃焼ガス流量検知部、および前記作動流体流量検知部からの検知信号に基づいて、前記作動流体流量調整弁の開度を制御するように構成される、請求項６または７に記載のガスタービン設備。
【請求項１０】
前記燃焼ガスが二酸化炭素である、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【請求項１１】
前記熱交換器を通過した燃焼ガスから水蒸気を除去するように構成された水蒸気除去器をさらに具備する、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【請求項１２】
前記熱交換器の上流にある酸化剤供給管内に配置された混合部と、
前記燃焼ガスの一部を前記混合部に導くように構成された燃焼ガス供給管と、
をさらに具備する、請求項１に記載のガスタービン設備。
【請求項１３】
前記混合部に流れる燃焼ガスの流量を調整するように構成された燃焼ガス流量調整弁をさらに具備する、請求項１に記載のガスタービン設備。
【請求項１４】
前記熱交換器を通じて前記燃焼器に流れる作動流体の流量を調整するように構成された作動流体流量調整弁であって、前記作動流体流量調整弁は、前記熱交換器の上流にある作動流体供給管に配置される、作動流体流量調整弁
をさらに具備する、請求項１に記載のガスタービン設備。
【請求項１５】
前記燃焼ガスの残部を外部に排出するように構成された排出管をさらに具備する、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のガスタービン設備。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月25日(2016.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸であるロータと、前記ロータに取付けられた複数の動翼と、前記ロータ及び前記動翼を覆う圧縮機ケーシングと、前記圧縮機ケーシングに取り付けられた複数の静翼とを備え、前記動翼および前記静翼がそれぞれ前記回転軸の周方向に複数枚配置されて動翼列および静翼列が形成され、前記動翼列および前記静翼列が前記回転軸の軸方向に複数列配置された軸流圧縮機であって、
前記静翼が翼部を支持するための土台であるダブテイルを備え、前記ダブテイルを挿入して前記静翼を取り付けるための前記回転軸の周方向に延びるダブテイル溝が前記圧縮機ケーシングに形成され、一つの前記ダブテイル溝に、属する静翼列の異なる２以上の静翼が取り付けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項２】
請求項１に記載の軸流圧縮機であって、
前記ダブテイルとして、属する静翼列の異なる２以上の静翼を一体で支持するダブテイルを備えたことを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項３】
請求項１または２に記載の軸流圧縮機であって、
前記回転軸の周方向に隣接する前記静翼のチップ側を連結するシュラウドを備えたことを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項４】
請求項３の記載の軸流圧縮機であって、
前記シュラウドが、属する静翼列の異なる２以上の静翼のチップ側を連結するシュラウドであることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項５】
請求項１に記載の軸流圧縮機であって、
一つの前記ダブテイル溝に、前記回転軸の軸方向に複数の前記ダブテイルが挿入され、
前記回転軸の軸方向に並んだ前記ダブテイルには、それぞれ互いに対向する側面にダブテイルキー溝が向かい合うように形成され、向かい合う２つの前記ダブテイルキー溝に跨るダブテイルキーが挿入されていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項６】
請求項１に記載の軸流圧縮機であって、
前記ダブテイル溝の底面に設けられたスペーサーキー溝に嵌め込まれることで前記圧縮機ケーシングに支持されたスペーサーキーを備え、
前記回転軸の軸方向について複数の前記ダブテイルが、一つの前記ダブテイル溝に挿入され、前記スペーサーキーと前記圧縮機ケーシングとの間に形成される空間と前記ダブテイルに形成される凸部との嵌め合いを利用して前記圧縮機ケーシングに取り付けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項７】
請求項６に記載の軸流圧縮機であって、
前記回転軸の径方向について、前記スペーサーキーの内周側端の径が、前記軸流圧縮機の作動媒体の流路であるガスパスの外周側の径と同等であることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項８】
請求項６に記載の軸流圧縮機であって、
前記回転軸の径方向について、前記スペーサーキーの内周側端の径が、前記軸流圧縮機の作動媒体の流路であるガスパスの外周側の径よりも大きく、
一つの前記ダブテイル溝に挿入された前記ダブテイルが前記スペーサーキーの内周側端と前記軸流圧縮機のガスパス外周の間の空間に延びていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか１項に記載の軸流圧縮機であって、
一つの前記ダブテイル溝の底面に前記スペーサーキーを嵌め込むためのスペーサーキー溝を前記回転軸の軸方向について複数備えたことを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項１０】
請求項１に記載の軸流圧縮機であって、
前記ダブテイルが、前記静翼に直接取りつけられた第１段ダブテイルを、前記第１段ダブテイルを挿入して保持するための第１段ダブテイル溝が形成された第２段ダブテイルのダブテイル溝に挿入した構造であることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項１１】
回転軸であるロータと、前記ロータに取付けられた複数の動翼と、前記ロータ及び前記動翼を覆う圧縮機ケーシングと、前記圧縮機ケーシングに取り付けられた複数の静翼とを備え、前記動翼および前記静翼がそれぞれ前記回転軸の周方向に複数枚配置されて形成される動翼列および静翼列が前記回転軸の軸方向に複数列配置された軸流圧縮機であって、
前記静翼を支持するための土台であるダブテイルを備え、前記ダブテイルを挿入して前記静翼を取り付けるための前記回転軸の周方向に延びるダブテイル溝が前記圧縮機ケーシングに形成され、
前記回転軸の軸方向について複数の前記ダブテイルを有する静翼が、前記回転軸の軸方向について複数設けられた前記ダブテイル溝に渡って取り付けられていることを特徴とする軸流圧縮機。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の軸流圧縮機と、前記軸流圧縮機で圧縮された圧縮空気と燃料を混合して燃焼させる燃焼器と、前記燃焼器で生成された燃焼ガスによって駆動されるタービンとを備えたことを特徴とするガスタービン。
【請求項１３】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の軸流圧縮機の改造方法であって、
一つの前記ダブテイル溝に取り付けられた属する静翼列が異なる２以上の前記静翼を、コード長および翼厚みを増加させた１以上の静翼に置き換えることを特徴とする軸流圧縮機の改造方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の軸流圧縮機の改造方法であって、
一つの前記ダブテイル溝に取り付けられた属する静翼列が異なる２以上の前記静翼を、複数の静翼を一体で支持するダブテイルを用いて、複数の静翼を回転軸方向の前後に近接させて配置したタンデム翼、または前置翼と前記前置翼の近傍に取り付けた前記前置翼に対して比較的翼弦長の短い翼からなるスプリッタ翼に変更することを特徴とする軸流圧縮機の改造方法。
【請求項１５】
請求項５ないし９のいずれか１項に記載の軸流圧縮機の改造方法であって、
一つの前記ダブテイル溝に挿入された複数の前記ダブテイルを、属する静翼列の異なる２以上の静翼を一体で支持するダブテイルに変更することを特徴とする軸流圧縮機の改造方法。
【請求項１６】
回転軸であるロータと、前記ロータに取付けられた複数の動翼と、前記ロータ及び前記動翼を覆う圧縮機ケーシングと、前記圧縮機ケーシングに取り付けられた複数の静翼と、前記静翼を支持するための土台であるダブテイルとを備え、前記ダブテイルを挿入して前記静翼を取り付けるための前記回転軸の周方向に延びるダブテイル溝を前記圧縮機ケーシングに有し、前記動翼および前記静翼がそれぞれ前記回転軸の周方向に複数枚配置されて形成される動翼列および静翼列が前記回転軸の軸方向に複数列配置された軸流圧縮機の改造方法であって、
前記回転軸の回転軸方向について前後に並んだ前記ダブテイル溝を隔てるダブテイル溝間の隔壁を切削して複数の前記ダブテイル溝を連通するようケーシングを改造することを特徴とする軸流圧縮機の改造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月4日(2016.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記外径側スリーブの内周面と、前記内径側スリーブの外周面との間に、軸受が設けられている、請求項１に記載した一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記一方向クラッチは、前記プーリの内周面に直接若しくはこのプーリに締り嵌めにより内嵌したクラッチ用外輪の内周面に設けた円筒面と、前記外径側スリーブの外周面に直接若しくはこの外径側スリーブの外周面に締り嵌めにより外嵌したクラッチ用内輪の外周面に形成したカム面と、このカム面と前記円筒面との間に設けた複数個のロック部材とを備えたものである、請求項１〜３のうちの何れか１項に記載した一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月9日(2016.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板が電気的に接続される実装構造であって、
第１端子を切り欠いた第１のアライメントマークを有する第１基板と、
第２端子を切り欠いた第２のアライメントマークを有する第２基板と、を備え、
前記第１のアライメントマークと前記第２のアライメントマークとを用いて、前記第１端子と前記第２端子とを相対的に位置合わせして、前記第１端子と前記第２端子とが電気的に接続されていることを特徴とする実装構造。
【請求項２】
前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれは、第１の方向に並んで設けられた２つ以上の端子を有し、
アライメントマークは前記第１の方向に並んだ前記２つ以上の端子のうち両端側に位置する端子に設けられ、
前記第１基板において、前記両端側に位置する端子のうちの少なくとも一方の端子が前記第１端子であり、
前記第２基板において、前記両端側に位置する端子のうちの少なくとも一方の端子が前記第２端子であることを特徴とする請求項１に記載の実装構造。
【請求項３】
前記２つ以上の端子のうち、他の端子に比べて幅の広い端子にアライメントマークが形成されていることを特徴とする請求項２に記載の実装構造。
【請求項４】
前記幅の広い端子は、電源用として用いられることを特徴とする請求項３に記載の実装構造。
【請求項５】
前記第１基板は、前記第１端子に隣り合う第３端子を有し、
前記第１のアライメントマークは、前記第１端子の形成領域における前記第３端子と隣り合う側に形成され、
前記第２のアライメントマークは、前記第１のアライメントマークと相対する位置に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の実装構造。
【請求項６】
前記第１のアライメントマークは、前記２つ以上の端子の形成領域に跨って形成され、
前記第２のアライメントマークは、前記第１のアライメントマークと相対する位置に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の実装構造。
【請求項７】
前記第１基板は、前記第１端子に隣り合う第３端子を有し、
前記第１のアライメントマークは、前記第１端子の形成領域と、前記第３端子の形成領域とに跨って形成され、
前記第２のアライメントマークは、前記第１のアライメントマークと相対する位置に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の実装構造。
【請求項８】
前記第１基板は、前記第１端子に隣り合う第３端子と、前記第３端子に隣り合う第５端子を有し、
前記第２基板は、前記第２端子に隣り合う第４端子と、前記第４端子に隣り合う第６端子を有し、
前記第１のアライメントマークは、前記第１端子の形成領域と、前記第５端子の形成領域とに跨って形成され、
前記第２のアライメントマークは、前記第２端子の形成領域と、前記第６端子の形成領域とに跨って形成されていることを特徴とする請求項６に記載の実装構造。
【請求項９】
前記第１のアライメントマーク及び前記第２のアライメントマークは、前記第１の方向の位置合わせ部位を備えていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の実装構造。
【請求項１０】
前記第１のアライメントマーク及び前記第２のアライメントマークは、
前記第１の方向の位置合わせ部位と、
前記第１の方向と交差する第２の方向の位置合わせ部位と、を備えていることを特徴とする請求項９に記載の実装構造。
【請求項１１】
前記第１のアライメントマークは、前記第１端子の形成領域を切り欠いてなり、
前記第２のアライメントマークは、前記第２端子を構成する導電膜の一部からなり、前記導電膜の一部の周辺を切り欠いてなることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の実装構造。
【請求項１２】
前記第１基板と前記第２基板との少なくとも一方は光透過性を有していることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の実装構造。
【請求項１３】
電気光学素子が形成された第１基板に第２基板が電気的に接続された構造を有する電気光学装置であって、
前記第１基板は、第１端子と、前記第１端子を切り欠いた第１のアライメントマークとを有し、
前記第２基板は、第２端子と、前記第２端子を切り欠いた第２のアライメントマークとを有し、
前記第１のアライメントマークと前記第２のアライメントマークとを用いて、前記第１端子と前記第２端子とが相対的に位置合わせされ、前記第１端子と前記第２端子とが電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれは、第１の方向に並んで設けられた２つ以上の端子を有し、
アライメントマークは前記第１の方向に並んだ前記２つ以上の端子のうち両端側に位置する端子に設けられ、
前記第１基板において、前記両端側に位置する端子のうちの少なくとも一方の端子が前記第１端子であり、
前記第２基板において、前記両端側に位置する端子のうちの少なくとも一方の端子が前記第２端子であることを特徴とする請求項１３に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
前記第１基板は、前記第１端子に隣り合う第３端子を有し、
前記第１のアライメントマークは、前記第１端子の形成領域における前記第３端子と隣り合う側に形成され、
前記第２のアライメントマークは、前記第１のアライメントマークと相対する位置に設けられていることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の電気光学装置。
【請求項１６】
前記第１のアライメントマークは、前記２つ以上の端子の形成領域に跨って形成され、
前記第２のアライメントマークは、前記第１のアライメントマークと相対する位置に設けられていることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の電気光学装置。
【請求項１７】
前記第１のアライメントマーク及び前記第２のアライメントマークは、前記第１の方向の位置合わせ部位を備えていることを特徴とする請求項１３乃至１６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１８】
前記第１のアライメントマーク及び前記第２のアライメントマークは、
前記第１の方向の位置合わせ部位と、
前記第１の方向と交差する第２の方向の位置合わせ部位と、を備えていることを特徴とする請求項１７に記載の電気光学装置。
【請求項１９】
前記電気光学素子が有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶素子又は電気泳動素子のいずれかであることを特徴とする請求項１３乃至１８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項２０】
請求項１３乃至１９のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動回路により、表示領域の各画素に配置された複数の副画素の発光領域を発光させ、画像を表示する発光素子表示パネルを備え、
前記各画素は、
赤色の波長領域の光を発する第１Ｒ（赤）副画素及び第２Ｒ副画素と、
緑色の波長領域の光を発する第１Ｇ（緑）副画素及び第２Ｇ副画素と、
青色の波長領域の光を発する第１Ｂ（青）副画素及び第２Ｂ副画素と、を有し、
前記第１Ｒ副画素、前記第１Ｇ副画素及び前記第１Ｂ副画素は、電位の印加によりそれぞれ独立に発光を制御するＲ電極、Ｇ電極及びＢ電極を有し、
前記第２Ｒ副画素、前記第２Ｇ副画素及び前記第２Ｂ副画素は、電位の印加により同時に発光させる共通の電極であるＷ（白）電極を有し、
前記駆動回路は、映像信号を取得して、前記映像信号に基づく画面におけるピーク輝度を算出し、前記ピーク輝度に基づいて前記複数の副画素を制御する副画素制御部を有する、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光素子表示装置であって、
前記副画素制御部は、
前記ピーク輝度を算出するピーク輝度算出部と、
前記ピーク輝度算出部により算出された前記ピーク輝度に基づいて、表示領域を複数の領域に分けた各エリア内の画素に配置されたＷ電極を有するＷ副画素の輝度を決定するエリア輝度決定部と、
前記Ｗ副画素の輝度を用いて前記各エリア内の画素に配置された前記Ｗ電極に対し電位を印加するＷ副画素制御部と、を有することを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の発光素子表示装置であって、
前記エリア輝度決定部は、前記電位が印加される時間である発光時間についても更に決定する、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の発光素子表示装置であって、
前記エリア輝度決定部は、前記ピーク輝度に基づいてエリアの分割についても更に決定する、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光素子表示装置であって、
前記副画素制御部は、前記エリア輝度決定部の決定に基づいて、前記第１Ｒ副画素、前記第１Ｇ副画素及び前記第１Ｂ副画素の輝度を決定し、それぞれ決定した輝度に基づいて前記Ｒ電極、前記Ｇ電極及び前記Ｂ電極に電位を印加するＲＧＢ副画素制御部を更に備える、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光素子表示装置であって、
前記Ｒ電極、前記Ｇ電極、前記Ｂ電極及び前記Ｗ電極に電位を印加するためのそれぞれのトランジスタが接続される走査信号線は共通である、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光素子表示装置であって、
前記Ｒ電極、前記Ｇ電極、前記Ｂ電極に電位を印加するためのそれぞれのトランジスタが接続される走査信号線は、共通であり、Ｗ電極に電位を印加するためのトランジスタが接続される走査信号線とは異なっている、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至５に記載の発光素子表示装置であって、
前記発光素子表示装置は、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれの波長領域の光を発する自発光素子を有する、
ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光素子表示装置であって、
前記第１Ｒ副画素及び前記第２Ｒ副画素が交互に第１の方向に並び、
前記第１Ｇ副画素及び前記第２Ｇ副画素が交互に前記第１の方向に並び、
前記第１Ｂ副画素及び前記第２Ｂ副画素が交互に前記第１の方向に並び、
前記第１の方向と交差する第２の方向には異なる波長領域の光を発光する副画素が隣り合って並ぶ、ことを特徴とする発光素子表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光素子表示装置であって、
前記第１Ｒ副画素は前記第２Ｒ副画素の開口部より大きく、
前記第１Ｇ副画素は前記第２Ｇ副画素の開口部より大きく、
前記第１Ｂ副画素は前記第２Ｂ副画素の開口部より大きい、ことを特徴とする発光素子表示装置。