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【手続補正書】
【提出日】平成28年10月24日(2016.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造物の振動の情報に関する出力データを収集する出力データ収集工程と、
収集した前記出力データから、平均値、最大値、および最小値の少なくとも一つを選択する出力データ選択工程と、を備えることを特徴とする振動情報収集方法。
【請求項２】
前記出力データ選択工程において、収集した前記出力データが閾値以下の場合は、前記出力データの平均値を算出し、算出した前記平均値を選択することを特徴とする請求項１に記載の振動情報収集方法。
【請求項３】
前記出力データ選択工程において、収集した前記出力データが前記閾値を超える場合は、前記出力データの最大値および最小値のいずれかを選択することを特徴とする請求項１に記載の振動情報収集方法。
【請求項４】
前記出力データは、複数の検出軸で測定されたデータを含み、
前記複数の検出軸毎に前記出力データ選択工程を行うことを特徴とする請求項１に記載の振動情報収集方法。
【請求項５】
選択した前記出力データをサーバーに送信する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の振動情報収集方法。
【請求項６】
前記出力データ以外の情報を前記サーバーに送信する工程を含み、
前記送信のタイミングにおいて、前記選択した出力データを前記サーバーに送信することを特徴とする請求項５に記載の振動情報収集装置。
【請求項７】
前記サーバーに送信する前記出力データには、前記測定装置に付与された識別情報が含まれていることを特徴とする請求項５に記載の振動情報収集装置。
【請求項８】
前記構造物は建物であり、前記建物には振動を測定する測定装置が配置され、前記測定装置からの出力データを収集することを特徴とする請求項１に記載の振動情報収集方法。
【請求項９】
構造物の振動の情報に関する出力データを収集する受信部と、
判定条件に基づいて、前記出力データの平均値、最大値、および最小値の少なくとも一つを選択する選択部と、
を備えていることを特徴とする振動情報収集装置。
【請求項１０】
構造物に設けられ前記構造物の振動を測定する測定装置を含むことを特徴とする請求項９に記載の振動情報収集装置。
【請求項１１】
選択された前記出力データをサーバーへ送信する送信部を備えていることを特徴とする請求項９に記載の振動情報収集装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】振動情報収集方法、振動情報収集装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、振動情報収集方法および振動情報収集装置に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月17日(2016.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
一方、色変調用駆動信号出力部８３Ｒは、画像処理部８０Ｒから入力されたタイミング信号Ｔｒが示すタイミングに準じて、サブメモリー８１Ｒに一時記憶された赤色フレーム画像データＰｒを読み出す。
次いで、色変調用駆動信号出力部８３Ｒは、読み出した赤色フレーム画像データＰｒに基づいて、駆動信号Ｆｒを生成し、入力されたタイミング信号Ｔｒに基づく適切なタイミングで、色変調用液晶ライトバルブ駆動回路６３Ｒに出力する。
上述したように、色変調用液晶ライトバルブ駆動回路６３Ｒは、入力された駆動信号Ｆｒに基づいて、適切なタイミングで色変調用液晶ライトバルブ１７Ｒに駆動電圧を印加し、当該液晶ライトバルブを駆動する。この結果、色変調用液晶ライトバルブ１７Ｒを透過する光が、投影すべき画像に応じて変調される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、本実施形態に係るプロジェクター１は、輝度変調用液晶ライトバルブ１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂ（輝度変調部）と、色変調用液晶ライトバルブ１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂ（色変調部）とを備えている。そして、サブ信号処理回路６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂは、入力された輝度情報Ｋに基づいて、対応する輝度変調用液晶ライトバルブ１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを駆動する駆動信号を生成して出力すると共に、入力された色ごとの映像信号に基づいて、対応する色変調用液晶ライトバルブ１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂを駆動する駆動信号を生成して出力する。
この構成によれば、サブ信号処理回路６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂに入力されるデータ量の低減を図りつつ、輝度変調用液晶ライトバルブ１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂ、及び、色変調用液晶ライトバルブ１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂの適切な駆動が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月2日(2016.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数種類の輝度モードのいずれかが設定される各投射型映像表示装置から構成されるマルチ画面表示装置に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
映像表示デバイス３１は、映像処理回路４２から受信する、前述の変換済デジタル信号にしたがって、照射された光を強度変調し、変調後の光を、投射レンズ３２へ導く。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９７】
また、以下においては、前述の制御電流値ＩＲＴｎ＿βに対応する、色度特性ＣＲ１が示す色度値を、ｘＲ０ｎ＿β，ｙＲ０ｎ＿βとも表記する。また、以下においては、前述の制御電流値ＩＧＴｎ＿βに対応する、色度特性ＣＧ１が示す色度値を、ｘＧ０ｎ＿β，ｙＧ０ｎ＿βとも表記する。また、以下においては、前述の制御電流値ＩＢＴｎ＿βに対応する、色度特性ＣＢ１が示す色度値を、ｘＢ０ｎ＿β，ｙＢ０ｎ＿βとも表記する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７７】
スレーブ装置Ｓｃのマイコン４３は、映像処理回路４２が、算出された補正係数ＲＲｎ＿β、ＲＧｎ＿β、ＲＢｎ＿β、ＧＲｎ＿β、ＧＧｎ＿β、ＧＢｎ＿β、ＢＲｎ＿β、ＢＧｎ＿β、ＢＢｎ＿βを使用して前述の画質調整を行うように、映像処理回路４２を制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９９】
次に、図１１（ｂ）の状態において、ユーザーが、スレーブ装置Ｓｃの設定輝度モードを、通常モードから省電力モードに変更するための操作を、外部制御装置６に対して行ったとする。この場合、スレーブ装置Ｓｃのマイコン４３は、スレーブ装置Ｓｃの設定輝度モードを、通常モードから省電力モードに変更する輝度モード変更処理（Ｓ２２０）を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３３０】
次に、図１３（ｂ）の状態において、ユーザーが、スレーブ装置Ｓｃの設定輝度モードを、通常モードから省電力モードに変更するための操作を、外部制御装置６に対して行ったとする。この場合、スレーブ装置Ｓｃのマイコン４３は、スレーブ装置Ｓｃの設定輝度モードを、通常モードから省電力モードに変更する輝度モード変更処理（Ｓ２２０）を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月4日(2016.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図２（Ａ）〜（Ｄ）には検出用画像６３をスクリーンＳＣ上に１つだけ投射する例を示したが、検出領域の数は任意であり、例えば複数の検出領域を設定し、それぞれの検出領域を示す検出用画像を投射してもよい。この場合、それぞれの検出領域に同一の動作を対応付けてもよいし、異なる動作を対応付けてもよい。つまり、複数の検出領域のいずれかに対する操作を検出した場合に、設定された１つの動作を実行してもよく、操作を検出した検出領域に対応付けられた動作を実行してもよい。さらに、複数の操作領域の組合せに対応付けて動作を設定し、操作された操作領域の組合せに対応する動作を実行してもよい。スクリーンＳＣに設けられる投射領域の数、及び、投射領域に対応付けて設定される動作は、予め設定され、条件記憶部１７３に記憶される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上に端部が閉止されたスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してＴＦＴのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するＴＦＴ基板と、
前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有する対向基板を有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記スルーホールは、前記液晶側である大穴と前記ＴＦＴ基板側である小穴と、前記大穴と前記小穴を結ぶ内壁を有し、
前記画素電極は、前記スルーホールの前記画素の内側方向で前記スルーホールを覆っており、前記画素の外側方向では、前記スルーホールの大穴周辺を覆っていないことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上に端部が閉止されたスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してＴＦＴのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するＴＦＴ基板と、
前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有する対向基板を有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記スルーホールは、上前記液晶側である大穴と前記ＴＦＴ基板側である小穴と、前記大穴と前記小穴を結ぶ内壁を有し、前記大穴の平面形状は長径と短径を有し、
前記画素は長方形であり、前記スルーホールの大穴の前記長径は前記画素の長径方向であり、前記スリットは、前記スルーホールの前記内壁にも延在していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上に端部が閉止されたスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してＴＦＴのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するＴＦＴ基板と、
前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有する対向基板を有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記スルーホールは、前記液晶側である大穴と前記ＴＦＴ基板側である小穴と、前記大穴と前記小穴を結ぶ内壁を有し、前記大穴の平面形状は長径と短径を有し、
前記画素電極は、前記スリットを有するメイン画素電極と前記メイン画素電極とはギャップを有して配置したサブ画素電極とを有し、
前記画素は長方形であり、前記スルーホールの大穴の前記長径は前記画素の短径方向であり、
前記ギャップにおいて、前記スルーホールの前記大穴の周辺は画素電極によって覆われていないことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上に端部が閉止されたスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してＴＦＴのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するＴＦＴ基板と、
前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有する対向基板を有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記スルーホールは、前記液晶側である大穴と前記ＴＦＴ基板側である小穴と、前記大穴と前記小穴を結ぶ内壁を有し、
前記スルーホールの前記小穴は前記大穴に対して偏心していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記スルーホールの前記小穴は前記大穴に対して画素の中心方向に偏心していることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記画素は長方形であり、前記スルーホールの前記大穴は長径と短径を有し、前記大穴の前記長径は前記画素の長径方向であり、前記スルーホールの前記小穴は前記大穴に対して画素の中心方向に偏心していることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上に端部が閉止されたスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してＴＦＴのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するＴＦＴ基板と、
前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有する対向基板を有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記ＴＦＴ基板と前記対向基板の間隔は前記対向基板に形成された柱状スペーサによって規定され、
前記スルーホールは、前記液晶側である大穴と前記ＴＦＴ基板側である小穴と、前記大穴と前記小穴を結ぶ内壁を有し、
前記スルーホールの前記小穴は前記大穴に対して、前記スルーホールに最も近い前記柱状スペーサの側に偏心していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記スルーホールの前記大穴は短径と長径を有し、前記スルーホールの前記長径の方向は前記柱状スペーサと前記スルーホールの前記大穴の中心を結ぶ方向であり、
前記スルーホールの前記短径は、前記長径に対して前記柱状スペーサの側に偏心していることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月12日(2016.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極が形成されたＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板を有するＩＰＳ方式の液晶表示パネルと、第１の方向に延在して第２の方向に第１のピッチで配列するバリア電極が形成されたバリア基板と対向電極が形成された対向基板を有するＴＮ方式の液晶パネルであるパララックスバリアパネルを積層したパララックスバリア方式の３次元表示装置であって、
前記パララックスバリアパネルは、第１の数の隣接する前記バリア電極に電圧を印加することによってバリア領域を形成し、前記バリア領域に隣接し、前記第１の数の隣接するバリア電極には電圧を印加しないことによって開口領域を形成し、前記バリア領域と前記開口領域が第２のピッチで形成され、前記電圧を印加する前記バリア電極を変えることによって、前記バリア領域の位置を変えることが出来、
前記ＴＦＴ基板の下には第１偏光板が配置し、前記カラーフィルタ基板の上には第２偏光板が配置し、前記バリア基板の上には第３偏光板が配置し、
前記対向基板の配向軸方向は、表示画面の水平方向と４５度±１０度の角度をなし、
前記カラーフィルタ基板の配向軸の方向と前記対向基板の配向軸方向とは、４５度±１０度の角度をなすことを特徴とする３次元表示装置。
【請求項２】
前記バリア電極の下に、絶縁膜を介して、第２のバリア電極が前記バリア電極と前記バリア電極の隙間を埋めるように配置し、前記第１の数のバリア電極と前記第１の数の前記第２のバリア電極によって、前記バリア領域が形成されることを特徴とする請求項１に記載の３次元表示装置。
【請求項３】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項１に記載の３次元表示装置。
【請求項４】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極と前記第２のバリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項２に記載の３次元表示装置。
【請求項５】
前記カラーフィルタ基板の上には第２偏光板が配置し、前記第２偏光板と前記対向基板との間にλ/２位相差板が配置していることを特徴とする請求項１に記載の３次元表示装置。
【請求項６】
前記バリア電極の下に、絶縁膜を介して、第２のバリア電極が前記バリア電極と前記バリア電極の隙間を埋めるように配置し、前記第１の数のバリア電極と前記第１の数の前記第２のバリア電極によって、前記バリア領域が形成されることを特徴とする請求項５に記載の３次元表示装置。
【請求項７】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項５に記載の３次元表示装置。
【請求項８】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極と前記第２のバリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項６に記載の３次元表示装置。
【請求項９】
前記λ/２位相差板と前記対向電極との間には第４偏光板が配置していることを特徴とする請求項５に記載の３次元表示装置。
【請求項１０】
前記バリア電極の下に、絶縁膜を介して、第２のバリア電極が前記バリア電極と前記バリア電極の隙間を埋めるように配置し、前記第１の数のバリア電極と前記第１の数の前記第２のバリア電極によって、前記バリア領域が形成されることを特徴とする請求項９に記載の３次元表示装置。
【請求項１１】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項９に記載の３次元表示装置。
【請求項１２】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極と前記第２のバリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項１０に記載の３次元表示装置。
【請求項１３】
画素電極が形成されたＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板を有するＩＰＳ方式の液晶表示パネルと、第１の方向に延在して第２の方向に第１のピッチで配列するバリア電極が形成されたバリア基板と対向電極が形成された対向基板を有するＴＮ方式の液晶パネルであるパララックスバリアパネルを積層したパララックスバリア方式の３次元表示装置であって、
前記パララックスバリアパネルは、第１の数の隣接する前記バリア電極に電圧を印加することによってバリア領域を形成し、前記バリア領域に隣接し、前記第１の数の隣接するバリア電極には電圧を印加しないことによって開口領域を形成し、前記バリア領域と前記開口領域が第２のピッチで形成され、前記電圧を印加する前記バリア電極を変えることによって、前記バリア領域の位置を変えることが出来、
前記ＴＦＴ基板の下には第１偏光板が配置し、前記カラーフィルタ基板の上には第２偏光板が配置し、前記バリア基板の上には第３偏光板が配置し、
前記対向基板の配向軸方向は、表示画面の水平方向と４５度±１０度の角度をなし、
前記カラーフィルタ基板の配向軸の方向と前記対向基板の配向軸方向とは、０度±１０度であることを特徴とする３次元表示装置。
【請求項１４】
前記バリア電極の下に、絶縁膜を介して、第２のバリア電極が前記バリア電極と前記バリア電極の隙間を埋めるように配置し、前記第１の数のバリア電極と前記第１の数の前記第２のバリア電極によって、前記バリア領域が形成されることを特徴とする請求項１３に記載の３次元表示装置。
【請求項１５】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項１３に記載の３次元表示装置。
【請求項１６】
人間の眼の動きを感知するカメラを有し、前記人間の眼の動きに対応して前記電圧を印加する前記バリア電極と前記第２のバリア電極を変化させることにより、前記バリア領域の位置を変化させる請求項１４に記載の３次元表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月1日(2016.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の反射膜と、
前記第１の反射膜に対向する第２の反射膜と、
前記第１の反射膜と前記第２の反射膜との間の距離を変更するギャップ変更部と、
を含む波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターからの光が入射するバンドパスフィルターと、
を含み、
前記バンドパスフィルターは、複数の波長帯域の光を透過させ、
前記複数の波長帯域のうちの１つと、前記複数の波長帯域のうちの他の１つは異なることを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項２】
請求項１に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記複数の波長帯域の各々の幅は、前記波長可変干渉フィルターからの光の半値幅よりも小さいことを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記複数の波長帯域のうちの１つと、前記複数の波長帯域のうちの１つに隣り合う前記複数の波長帯域のうちの他の１つと、の間隔は、前記波長可変干渉フィルターからの光の半値幅の半分よりも大きいことを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記バンドパスフィルターは、複数個配置されていることを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項５】
第１の反射膜と、
前記第１の反射膜に対向する第２の反射膜と、
前記第１の反射膜と前記第２の反射膜との間の距離を変更するギャップ変更部と、
を含む波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターへの光が通過するバンドパスフィルターと、
を含み、
前記バンドパスフィルターは、複数の波長帯域の光を透過させ、
前記複数の波長帯域のうちの１つと、前記複数の波長帯域のうちの他の１つは異なることを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記バンドパスフィルターは、誘電体多層膜を含むことを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記バンドパスフィルターの前記複数の波長帯域以外の波長帯域における光の透過
率は１０％以下であることを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記波長可変干渉フィルターは、前記第１の反射膜及び前記第２の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を備え、
前記バンドパスフィルターは、前記基板に設けられていることを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記波長可変干渉フィルターを収納する筐体を含むことを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記筐体は、光を透過させる部材を備え、
前記バンドパスフィルターは、前記部材に設けられていることを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれかに記載の光学フィルターデバイスと、
前記光学フィルターデバイスからの光を受光する受光部と、
を含むことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１２】
請求項１から請求項１０のいずれかに記載の光学フィルターデバイスと、
前記光学フィルターデバイスを制御する制御部と、
を含むことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様の光学フィルターデバイスは、第１の反射膜と、前記第１の反射膜に対向する第２の反射膜と、前記第１の反射膜と前記第２の反射膜との間の距離を変更するギャップ変更部と、を含む波長可変干渉フィルターと、前記波長可変干渉フィルターからの光が入射するバンドパスフィルターと、を含み、前記バンドパスフィルターは、複数の波長帯域の光を透過させ、前記複数の波長帯域のうちの１つと、前記複数の波長帯域のうちの他の１つは異なることを特徴とする。
上記の本発明に係る光学フィルターデバイスは、互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のギャップ寸法を変更するギャップ変更部を有する波長可変干渉フィルターと、前記一対の反射膜の光軸上に設けられたバンドパスフィルターと、を備え、前記バンドパスフィルターは、光を透過させる複数の透過波長帯域を含む光学特性を備え、かつ前記各透過波長帯域がそれぞれ異なることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１光出射部を有する第１導光体と、
第２光出射部を有する第２導光体と、
前記第１導光体の前記第１光出射部に設けられた第１回折光学素子と、
前記第２光出射部と前記第１導光体との間に設けられた第１偏光素子と、を有し、
前記第１導光体の内部を導光する光及び前記第２導光体の内部を導光する光は、互いに異なる分光分布の光であり、
前記第１導光体の内部を導光する光の少なくとも一部は、前記第１回折光学素子で回折されて前記第１導光体の外部に出射し、
前記第２導光体の内部を導光する光の少なくとも一部は、前記第１偏光素子を透過することで所定の方向に偏光した後、前記第１回折光学素子に入射し、
前記第１偏光素子は、前記第１偏光素子を透過した光の前記第１回折光学素子での回折効率が、前記所定の方向に直交する方向に偏光した光を前記第１回折光学素子で回折させた場合の回折効率よりも低い回折効率となるように偏光させる素子であることを特徴とする光学デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載の光学デバイスにおいて、
前記第１導光体の第１光導入部に設けられた第２回折光学素子と、
前記第２導光体の第２光導入部に設けられた第３回折光学素子と、
前記第２導光体の前記第２光出射部に設けられた第４回折光学素子と、を有し、
前記第１光導入部に向かう光は、
一部が前記第２回折光学素子で回折されて前記第１導光体の内部を導光し、
他の一部が前記第２回折光学素子を透過して前記第３回折光学素子で回折された後前記第２導光体の内部を導光し、
前記第２導光体の内部を導光した光の少なくとも一部は、前記第４回折光学素子で回折されて前記第１偏光素子に入射し、
前記第２回折光学素子は、前記第２回折光学素子に入射した光のうち第１波長の光を最も多く回折する素子であり、
前記第３回折光学素子は、前記第３回折光学素子に入射した光のうち前記第１波長とは異なる波長である第２波長の光を最も多く回折する素子である
ことを特徴とする光学デバイス。
【請求項３】
請求項２に記載の光学デバイスにおいて、
第３光出射部と第３光導入部を有する第３導光体と、
前記第３導光体の前記第３光導入部に設けられた第５回折光学素子と、
前記第３導光体の前記第３光出射部に設けられた第６回折光学素子と、
前記第３光出射部と前記第２導光体との間に設けられた第２偏光素子と、を有し、
前記第１光導入部に向かう光のうち、一部の光は前記第３回折光学素子を透過して前記第５回折光学素子で回折された後前記第３導光体の内部を導光し、
前記第３導光体の内部を導光した光の少なくとも一部は、前記第６回折光学素子で回折されて前記第２偏光素子に入射し、
前記第５回折光学素子は、前記第５回折光学素子に入射した光のうち前記第１波長及び前記第２波長とは異なる波長である第３波長の光を最も多く回折する素子である
ことを特徴とする光学デバイス。
【請求項４】
請求項２または３に記載の光学デバイスにおいて、
前記第１光導入部に向かう光、前記第１導光体の内部を導光する光及び前記第２導光体の内部を導光する光は、それぞれ第１偏光方向に偏光した光であることを特徴とする光学デバイス。
【請求項５】
請求項１または２に記載の光学デバイスにおいて、
前記第１偏光素子は、２分の１波長板である、
ことを特徴とする光学デバイス。
【請求項６】
請求項４に記載の光学デバイスにおいて、
前記第１回折光学素子、前記第２回折光学素子、前記第３回折光学素子及び前記第４回折光学素子は、少なくとも１つが表面レリーフ型回折格子であり、
前記第１偏光方向は、光がＴＥ波となる偏光方向である、
ことを特徴とする光学デバイス。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れかに記載の光学デバイスと画像光を発する画像形成部とを備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月18日(2016.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板の主面の第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成され、互いに並列に接続されてパワーＭＩＳＦＥＴを構成する複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子と、
前記半導体基板の前記主面の第１制御回路形成領域に形成され、前記パワーＭＩＳＦＥＴのゲート電圧を制御する制御回路と、
前記半導体基板上に形成された、同種の金属材料からなる複数の配線層を有する配線構造と、
を有し、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子のゲート電極同士は、前記複数の配線層の全ての配線層にそれぞれ形成されたゲート配線を介して互いに電気的に接続されている、半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置において、
前記複数の配線層のうちの最上層の配線層における配線厚みは、前記複数の配線層のうちの前記最上層の配線層以外の配線層における配線厚みよりも大きい、半導体装置。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置において、
前記最上層の配線層に形成された前記ゲート配線は、前記制御回路から前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された複数の前記ゲート電極の少なくとも一部への導電経路として機能する、半導体装置。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置において、
前記複数の配線層のそれぞれは、アルミニウム配線層である、半導体装置。
【請求項５】
請求項１記載の半導体装置において、
前記複数の配線層のうちのいずれかに形成された前記ゲート配線は、前記制御回路に接続されている、半導体装置。
【請求項６】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子のソース領域同士は、前記複数の配線層の全ての配線層にそれぞれ形成されたソース配線を介して互いに電気的に接続され、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子のドレイン領域同士は、前記複数の配線層の全ての配線層にそれぞれ形成されたドレイン配線を介して互いに電気的に接続されている、半導体装置。
【請求項７】
請求項６記載の半導体装置において、
前記最上層の配線層において、前記ソース配線と前記ドレイン配線との間に前記ゲート配線が配置されている、半導体装置。
【請求項８】
請求項６記載の半導体装置において、
外部端子として機能するソース用バンプ電極とドレイン用バンプ電極とを更に有し、
前記ソース用バンプ電極は、前記複数の配線層のそれぞれに形成された前記ソース配線を介して、前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子の前記ソース領域に電気的に接続され、
前記ドレイン用バンプ電極は、前記複数の配線層のそれぞれに形成された前記ドレイン配線を介して、前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子の前記ドレイン領域に電気的に接続されている、半導体装置。
【請求項９】
請求項８記載の半導体装置において、
前記配線構造は、前記最上層の配線層よりも上層で、かつ前記複数の配線層とは異なる種類の金属材料からなる異種配線層を有し、
前記ソース用バンプ電極は、前記異種配線層に形成されたソース用異種配線上に形成され、前記ソース用異種配線を介して、前記複数の配線層のうちの前記最上層の配線層に形成された前記ソース配線に電気的に接続され、
前記ドレイン用バンプ電極は、前記異種配線層に形成されたドレイン用異種配線上に形成され、前記ドレイン用異種配線を介して、前記複数の配線層のうちの前記最上層の配線層に形成された前記ドレイン配線に電気的に接続されている、半導体装置。
【請求項１０】
請求項９記載の半導体装置において、
前記異種配線層は、銅配線層である、半導体装置。
【請求項１１】
請求項９記載の半導体装置において、
前記ソース用バンプ電極は、前記最上層の配線層に形成された、前記ソース用バンプ電極とは異なる電位の配線と平面視で重なっている、半導体装置。
【請求項１２】
請求項９記載の半導体装置において、
前記ドレイン用バンプ電極は、前記最上層の配線層に形成された、前記ドレイン用バンプ電極とは異なる電位の配線と平面視で重なっている、半導体装置。
【請求項１３】
請求項９記載の半導体装置において、
前記ソース用異種配線と前記最上層の配線層に形成された前記ソース配線との接続領域に、前記ソース用バンプ電極が平面視で重なっておらず、
前記ドレイン用異種配線と前記最上層の配線層に形成された前記ドレイン配線との接続領域に、前記ドレイン用バンプ電極が平面視で重なっていない、半導体装置。
【請求項１４】
請求項１記載の半導体装置において、
前記複数の配線層は、最下層の配線層である第１配線層と、前記第１配線層よりも上層の第２配線層と、前記第２配線層よりも上層の第３配線層とからなり、
前記最上層の配線層は、前記第３配線層であり、
前記第１配線層は、前記第１配線層に形成された前記ゲート配線である第１ゲート配線と、前記第１配線層に形成された前記ソース配線である第１ソース配線と、前記第１配線層に形成された前記ドレイン配線である第１ドレイン配線と、を含み、
前記第２配線層は、前記第２配線層に形成された前記ゲート配線である第２ゲート配線と、前記第２配線層に形成された前記ソース配線である第２ソース配線と、前記第２配線層に形成された前記ドレイン配線である第２ドレイン配線と、を含み、
前記第３配線層は、前記第３配線層に形成された前記ゲート配線である第３ゲート配線と、前記第３配線層に形成された前記ソース配線である第３ソース配線と、前記第３配線層に形成された前記ドレイン配線である第３ドレイン配線と、を含み、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子の前記ゲート電極同士は、前記第１ゲート配線、前記第２ゲート配線および前記第３ゲート配線を介して互いに電気的に接続され、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子の前記ソース領域同士は、前記第１ソース配線、前記第２ソース配線および前記第３ソース配線を介して互いに電気的に接続され、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域に形成された前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子の前記ドレイン領域同士は、前記第１ドレイン配線、前記第２ドレイン配線および前記第３ドレイン配線を介して互いに電気的に接続されている、半導体装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の半導体装置において、
前記第１ＭＩＳＦＥＴ形成領域において、前記複数の単位ＭＩＳＦＥＴ素子の前記ゲート電極は、それぞれ第１方向に延在し、かつ前記第１方向に交差する第２方向に並んでおり、
前記第３ゲート配線は、前記第３ソース配線と前記第３ドレイン配線の間を前記第１方向に延在している、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月30日(2016.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
施与器具に連結する少なくとも１つの出口を有するとともに、制御装置（５１）を有する供給システムであって、前記制御装置（５１）が、少なくとも１つの弁（５５、５５’、５５’’、５５’’’）を制御し、それにより、４秒未満の施与時間インターバル内で、
ａ）第１の流体が、少なくとも１つの第１の搬送インターバル（Ｔ１）中、第１の圧力（ｐｈ）によって第１の供給ライン（１１）内で搬送され、
ｂ）第２の流体が、前記第１の搬送インターバル（Ｔ１）に続く第２の搬送インターバル（Ｔ２）中、第２の圧力（ｐｚ）によって第２の供給ライン（１２）内で搬送され、
ｃ）前記第１の流体が、少なくとも１つの第３の搬送インターバル（Ｔ３）中、第３の圧力（ｐｌ）によって前記第１の供給ライン（１１）内で搬送される、供給システム。
【請求項２】
前記制御装置（５１）によって制御される、少なくとも１つのポンプ（５２）であって、それにより、前記第１の流体の本質的に一定の体積流が達成されることを特徴とする、請求項１に記載の供給システム。
【請求項３】
前記流体を排出するためのバイパスダクト（ＢＹ１）であって、絞り要素を備え、前記制御装置（５１）が、少なくとも１つの第１の弁（５５）を制御し、それにより、前記第１の流体のパルス式送出のために、前記出口において、送出段階では前記ポンプ（５２）と圧力ダクト（５４）の間、および１つの／前記バイパス段階（ＵＤ１、ＵＤ２）では前記ポンプ（５２）と前記バイパスダクト（ＢＹ１）の間に流体連通が交互に確立される、バイパスダクト（ＢＹ１）を特徴とする、請求項１または２に記載の供給システム。
【請求項４】
前記制御装置（５１）が、前記少なくとも１つの第１の弁（５５）を制御し、それにより、前記施与時間インターバル内で、少なくとも１つの送出段階および少なくとも１つのバイパス段階（ＵＤ１，ＵＤ２）が実行されることを特徴とする、請求項３に記載の供給システム。
【請求項５】
前記少なくとも１つの第１の弁（５５、）が電気弁であり、当該電気弁は、励起された段階において、前記ポンプ（５２）と前記圧力ダクトの間に流体連通（送出段階）が存在するように配置され形成されることを特徴とする、請求項３または４に記載の供給システム。
【請求項６】
前記絞り要素が設定され、および／または前記制御装置（５１）が、前記／１つのバイパスダクトのところで第３の弁（５５’’）を設定し、それにより、当該第３の弁（５５’’）において、前記第３の圧力（ｐｌ）より大きく、すなわち前記第３の圧力（ｐｌ）の少なくとも５０％または少なくとも１００％大きいバイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）が印加され、および／または
前記絞り要素が設定され、および／または前記制御装置（５１）が、前記バイパスダクト（ＢＹ１）のところで前記第３の弁（５５’’）を設定し、それにより、前記第１の圧力（ｐｈ）より大きいバイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）が、印加されることを特徴とする、請求項３から５のいずれか一項に記載の供給システム。
【請求項７】
前記制御装置（５１）が、少なくとも１つの第２の弁（５５’）を制御し、それにより、前記／１つの圧力ダクト（５４）と前記第１の供給ライン（１１）の間、および前記圧力ダクト（５４）と前記第２の供給ライン（１２）の間の流体連通が、交互に確立されることを特徴とする、請求項３から６のいずれか一項に記載の供給システム。
【請求項８】
前記制御装置（５１）によって制御される、第４の弁（５４’’’）を介して、前記／１つの圧力ダクト（５４）との流体連通にもっていかれて前記圧力ダクト（５４）をベント段階（ＥＮＴ１、ＥＮＴ２）においてベントするように適合された１つの（他の）バイパスダクト（ＢＹ２）を特徴とする、請求項３から７のいずれか一項に記載の供給システム。
【請求項９】
前記制御装置（５１）が、前記第４の弁（５４’’’）を制御し、それにより、前記施与時間インターバル内で、少なくとも１つのベント段階（ＥＮＴ１、ＥＮＴ２）が、前記ステップａ）の終了時および／または前記ステップｃ）の終了時に実施されることを特徴とする、請求項８に記載の供給システム。
【請求項１０】
前記絞り要素が絞り弁（５８）であることを特徴とする、請求項３に記載の供給システム。
【請求項１１】
施与システムであって、
ａ）施与器具と、
ｂ）請求項１から１０のいずれか一項に記載の供給システム（５０）とを備え、
前記弁（５５、５５’、５５’’、５５’’’）の少なくとも１つが、前記施与器具内に配置され、少なくとも１つの制御ダクトを介して、前記制御装置（５１）によって制御される、施与システム。
【請求項１２】
供給システム（５０）を作動させるための制御方法であって、
ａ）バイパス段階（ＵＤ１，ＵＤ２）において、バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）が蓄積されるように第１のポンプ（５２）を起動させるステップと、
ｂ）送出段階において、第１の流体が、前記バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）によって圧力ダクト（５４）内へと送出されるように少なくとも１つの弁を開くステップと、
ｃ）前記バイパス段階（ＵＤ１，ＵＤ２）に続いて、および前記送出段階中、前記圧力ダクト（５４）内に、前記バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）より低い圧力が存在するように前記ポンプ（５２）を作動させるステップとを含む、制御方法。
【請求項１３】
前記ポンプ（５２）は、前記圧力ダクト（５４）内に、前記バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）より少なくとも５％または少なくとも６％低い圧力が存在するように作動する、請求項１２に記載の制御方法。
【請求項１４】
ｄ）前記第１の流体が一時的に第２の流体を駆動するように少なくとも１つの弁を切り替えるステップを特徴とする、請求項１２または１３に記載の制御方法。
【請求項１５】
請求項１２から１４のいずれか一項に記載の前記方法を実施するための指示を有し、当該指示がコンピュータ装置上で実行される場合の、コンピュータ可読の記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月17日(2016.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却することによって液化される液化ガスを流すガス流路と、
前記ガス流路内を流れる液化ガスを冷却する蒸発器、および、圧縮機構と電動モータを内蔵した密閉型の圧縮機、凝縮器、絞り膨張器とで冷凍サイクルを構成する冷凍装置と、を備え、
前記冷凍装置は、
前記圧縮機の吸入流路および吐出流路にそれぞれ設けられる吸入側開閉弁および吐出側開閉弁と、
前記吸入側開閉弁と前記吐出側開閉弁との間の冷媒流路に設けられたサービス用開閉弁を有するサービスポートと、
を備えた液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法であって、
前記圧縮機を停止状態とした後、前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁を閉成するステップと、
前記サービスポートに冷媒回収機を接続して前記サービス用開閉弁を開くステップと、
前記圧縮機内部の冷媒を前記冷媒回収機に回収するステップと、
前記圧縮機に対してメンテナンスを実施するステップと、
を備える液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法。
【請求項２】
前記サービスポートに真空ポンプを接続して前記圧縮機内の空気を真空引きして排気するステップと、
前記サービスポートに冷媒充填機を接続して必要量の冷媒を補充するステップと、
前記サービス用開閉弁を閉じるとともに、前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁を開くステップと、
を備える請求項１に記載の液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法。
【請求項３】
前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁を閉成するステップの前に、前記圧縮機の運転時間をカウントし、予め設定された運転時間が経過すると、前記運転時間が経過したことを報知するステップを更に備える請求項１又は２に記載の液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法。
【請求項４】
前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁と、前記サービス用開閉弁とを備えたサービスポートおよび前記圧縮機がモジュール化され、その圧縮モジュールが前記冷凍サイクルに対して複数台並列に接続されており、
前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁を閉成するステップの前に、前記複数台の圧縮モジュールの前記圧縮機のうち、予め設定された運転時間を経過した前記圧縮機が運転を停止するステップを更に備える請求項１から３のいずれか１項に記載の液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法。
【請求項５】
前記冷凍装置が冷凍サイクル単位でモジュール化され、その冷凍モジュールが前記液化ガスのガス流路に対して複数台並列又は直列に接続されており、
前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁を閉成するステップの前に、前記複数台の冷凍モジュールのうち、予め設定された運転時間を経過した前記圧縮機を有する前記冷凍装置が運転を停止するステップを更に備える請求項１から３のいずれか１項に記載の液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法。
【請求項６】
前記複数台の冷凍モジュールが前記ガス流路に対して並列に接続され、各冷凍モジュールの蒸発器に対する前記ガス流路の入口側および出口側のいずれか一方又は双方に各々流路開閉弁が設けられており、
停止状態とされた前記冷凍モジュールの前記流路開閉弁を閉成するステップを更に備える請求項５に記載の液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法。
【請求項７】
冷却することによって液化される液化ガスを流すガス流路と、
前記ガス流路内を流れる液化ガスを冷却する蒸発器、および、圧縮機構と電動モータを内蔵した密閉型の圧縮機、凝縮器、絞り膨張器とで冷凍サイクルを構成する冷凍装置と、を備え、
前記冷凍装置は、
前記圧縮機の吸入流路および吐出流路にそれぞれ設けられる吸入側開閉弁および吐出側開閉弁と、
前記吸入側開閉弁と前記吐出側開閉弁との間の冷媒流路に設けられたサービス用開閉弁と、
を備えた液化ガス用冷却装置。
【請求項８】
前記吸入側開閉弁および前記吐出側開閉弁と、前記サービス用開閉弁とを備えたサービスポートおよび前記圧縮機がモジュール化され、その圧縮モジュールが前記冷凍サイクルに対して複数台並列に接続されている請求項７に記載の液化ガス用冷却装置。
【請求項９】
前記冷凍装置が冷凍サイクル単位でモジュール化され、その冷凍モジュールが前記液化ガスのガス流路に対して複数台並列又は直列に接続されている請求項７に記載の液化ガス用冷却装置。
【請求項１０】
前記複数台の冷凍モジュールが前記ガス流路に対して並列に接続され、各冷凍モジュールの蒸発器に対する前記ガス流路の入口側および出口側のいずれか一方又は双方に各々流路開閉弁が設けられている請求項９に記載の液化ガス用冷却装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法及び液化ガス用冷却装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、液化ガスを冷却して液化するための冷却装置（以下、単に液化ガス用冷却装置と云う。）のメンテナンス方法及び液化ガス用冷却装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、圧縮機メンテナンスの容易化およびそのメンテナンス時間の短縮、並びに一部圧縮機のメンテナンスを行いながらシステムを稼動することが可能な液化ガス用冷却装置のメンテナンス方法及び液化ガス用冷却装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本実施形態の液化ガス用冷却装置１は、図３に示されるように、圧縮機４がその吸入流路９Ａおよび吐出流路９Ｂに設けられる開閉弁２１，２２、吸入側開閉弁２１および吐出側開閉弁２２間の冷媒流路９に設けられるサービス用開閉弁２３を備えたサービスポート２４等と共に一体にモジュール化され、その圧縮モジュールＡ１，Ｂ１，Ｃ１・・・が冷凍サイクル１０に対して複数台並列に接続された構成とされている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月9日(2016.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記主弁体に背圧を印加するための背圧室を備え、
前記背圧室は前記バイパス流路を介して前記二次側流路と繋がれており、
前記リフィル水供給動作において、前記第２時間は、前記背圧室から前記二次側流路への水の流出が、前記一次側流路から前記背圧室への水の流入と等しくなる前に前記電磁弁が閉じられるように設定されていることを特徴とする請求項１に記載の流路開閉装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月12日(2016.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼器であって、
ａ．  前記燃焼器の内部に円周方向に延びており、少なくとも１つの吸入路を規定するシュラウドと、
ｂ．  前記少なくとも１つの吸入路の下流の前記シュラウドの内部に半径方向に延びており、少なくとも１つの吸入口、少なくとも１つの排出口、及び少なくとも１つの燃料ノズル通路を規定する第１のプレートと、
ｃ．  前記シュラウドによって少なくとも部分的に囲まれ、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路の周りに半径方向に延びており、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路から半径方向外側で前記第１のプレートから延びるスリーブと、
ｄ．  前記スリーブによって少なくとも部分的に囲まれ、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路を通って延びるチューブであって、前記チューブ、前記スリーブ、及び前記第１のプレートは、排出路を少なくとも部分的に規定する前記チューブと、
ｅ．  前記少なくとも１つの吸入路から前記少なくとも１つの吸入口までの第１の流体流路と、
ｆ．  前記少なくとも１つの排出口から前記排出路までの第２の流体流路とを備えている、
燃焼器。
【請求項２】
前記チューブと前記燃料ノズル通路の間に半径方向に延びており、前記排出路を更に規定するシールを更に備えている、請求項１に記載の燃焼器。
【請求項３】
前記少なくとも１つの吸入口は前記シュラウドと前記スリーブの間に配置され、前記少なくとも１つの排出口は前記少なくとも１つの燃料ノズル通路と前記スリーブの間に配置される、請求項１に記載の燃焼器。
【請求項４】
前記シュラウド、前記スリーブ、及び前記第１のプレートは、前記シュラウドの内部に入口プレナムを少なくとも部分的に規定し、
前記第１のプレートと前記チューブは、前記入口プレナムの下流の出口プレナムを少なくとも部分的に規定する、請求項１乃至３のいずれかに記載の燃焼器。
【請求項５】
前記チューブは、前記第１のプレートの前記少なくとも１つの排出口の上流の１つ以上の流体通路を少なくとも部分的に規定する、請求項４に記載の燃焼器。
【請求項６】
前記少なくとも１つの吸入口の下流且つ前記少なくとも１つの排出口の上流の前記第１のプレートの周りに半径方向に延びる第２のプレートを更に備え、
前記第１のプレート及び前記第２のプレートは、前記入口プレナムの下流且つ前記出口プレナムの上流の中間プレナムを少なくとも部分的に規定する、請求項４に記載の燃焼器。
【請求項７】
前記シュラウドの前記少なくとも１つの吸入路と流体連通している冷却媒体供給部を更に備えている、請求項１乃至６のいずれかに記載の燃焼器。
【請求項８】
燃焼器であって、
ａ．  前記燃焼器の内部に円周方向に延びており、少なくとも１つの吸入路を規定するシュラウドと、  ｂ．  前記少なくとも１つの吸入路の下流の前記シュラウドの内部に半径方向に延びており、少なくとも１つの吸入口、少なくとも１つの排出口、及び少なくとも１つの燃料ノズル通路を規定する第１のプレートと、
ｃ．  前記少なくとも１つの吸入口の下流且つ前記少なくとも１つの排出口の上流の前記第１のプレートの周りに半径方向に延びる第２のプレートと、
ｄ．  前記シュラウドによって少なくとも部分的に囲まれ、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路の周りに半径方向に延びており、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路から半径方向外側で前記第１のプレートから延びるスリーブと、
ｅ．  前記少なくとも１つの燃料ノズル通路を通って延びるチューブであって、前記チューブ、前記スリーブ、及び前記第１のプレートは、排出路を少なくとも部分的に規定する前記チューブと、
ｆ．  前記シュラウドの内部に、前記シュラウド、前記第１のプレート、及び前記スリーブによって少なくとも部分的に規定される入口プレナムと、
ｇ．  前記入口プレナムの下流に、前記スリーブ、前記第１のプレート、及び前記チューブによって少なくとも部分的に規定される出口プレナムとを備えている、
燃焼器。
【請求項９】
前記チューブと前記燃料ノズル通路の間に半径方向に延びており、前記出口プレナムを更に規定するシールを更に備え、
前記少なくとも１つの吸入口は前記シュラウドと前記スリーブの間に配置され、前記少なくとも１つの排出口は前記少なくとも１つの燃料ノズル通路と前記スリーブの間に配置される、請求項８に記載の燃焼器。
【請求項１０】
前記チューブは、前記第１のプレートの前記少なくとも１つの排出口の上流の少なくとも１つの流体通路を少なくとも部分的に規定し、
前記チューブによって少なくとも部分的に囲まれた複数の旋回羽根を有する燃料ノズルを更に備えており、前記チューブの前記少なくとも１つの流体通路のうちの少なくとも１つは前記複数の旋回羽根の上流にある、請求項８または９に記載の燃焼器。
【請求項１１】
前記第１のプレート及び前記第２のプレートは、前記入口プレナムの下流且つ前記出口プレナムの上流の中間プレナムを少なくとも部分的に規定し、
前記少なくとも１つの吸入路は、冷却媒体供給部と前記入口プレナムの間に流体連通を提供する、請求項８乃至１０のいずれかに記載の燃焼器。
【請求項１２】
燃焼器であって、
ａ．  前記燃焼器の内部に円周方向に延びており、少なくとも１つの吸入路を規定するシュラウドと、
ｂ．  前記少なくとも１つの吸入路の下流の前記シュラウドの内部に半径方向に延びており、少なくとも１つの吸入口、少なくとも１つの排出口、及び少なくとも１つの燃料ノズル通路を規定する第１のプレートと、
ｃ．  前記少なくとも１つの吸入口の下流且つ前記少なくとも１つの排出口の上流の前記第１のプレートの周りに半径方向に延びる第２のプレートと、
ｄ．  前記シュラウドによって少なくとも部分的に囲まれ、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路の周りに半径方向に延びており、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路から半径方向外側で前記第１のプレートから延びるスリーブと、
ｅ．  前記少なくとも１つの吸入路、前記シュラウド、前記スリーブ、及び前記少なくとも１つの吸入口によって少なくとも部分的に規定される第１の流体流路と、
ｆ．  前記スリーブによって少なくとも部分的に囲まれ、前記少なくとも１つの燃料ノズル通路を通って延びるチューブと、
ｇ．  前記少なくとも１つの排出口、前記スリーブ、及び前記チューブによって少なくとも部分的に規定されており、前記第１の流体流路と反対且つ略平行方向に流れる第２の流体流路とを備えている、
燃焼器。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの吸入口は前記シュラウドと前記スリーブの間に配置され、前記少なくとも１つの排出口は前記少なくとも１つの燃料ノズル通路と前記スリーブの間に配置され、
前記チューブは、前記第１のプレートの前記少なくとも１つの排出口の上流で、前記第２の流体流路と流体連通している、少なくとも１つの流体通路を少なくとも部分的に規定し、
前記シュラウドの前記少なくとも１つの吸入路と流体連通している冷却媒体供給部を更に備えている、請求項１２に記載の燃焼器。