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【手続補正書】
【提出日】平成28年1月29日(2016.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタンアルミナイド合金含有物品から材料を取り除くための方法であって、
チタンアルミナイド系のγ相およびα２（Ｔｉ3Ａｌ）相を含むチタンアルミナイド合金含有物品を用意することと、
高圧下の流体を前記チタンアルミナイド合金含有物品の表面の端から端まで通過させることと、
を含み、
前記流体が前記物品の前記表面の端から端まで通過する前に、約５０ミクロンから約４００ミクロンまでの範囲の粒子が前記流体中に懸濁され、
前記方法は、さらに、
前記チタンアルミナイド合金含有物品の表面を変形することと、
前記チタンアルミナイド合金含有物品から材料を取り除くことと
を含み、
前記チタンアルミナイド合金含有物品の前記表面から、前記物品の表面にひびを入れたり、損傷したりすることなく、凹凸および点食を取り除く
方法。
【請求項２】
高圧下の流体が出てくるノズルの運動は、回転運動、平行移動、振動、またはこれらの組み合わせからなる群から選択される請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記流体の固形物負荷は、質量流量で約１０％から約４０％までの範囲内である請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記流体は、毎分約２インチから毎分約１００インチまでの速さで前記チタンアルミナイド合金含有物品の前記表面上を通過する請求項１乃至３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
チタンアルミナイド合金含有物品の表面を変えるための方法であって、
構造物上の、チタンアルミナイド系のγ相およびα２（Ｔｉ3Ａｌ）相を含む前記チタンアルミナイド合金含有物品を安定化することと、
流体を前記安定化されたチタンアルミナイド合金含有物品の表面の端から端まで高い直線速度で通過させることと、
を含み、
前記流体が前記物品の前記表面の端から端まで通過する前に、約５０ミクロンから約４００ミクロンまでの範囲の粒子が前記流体中に懸濁され、
前記方法は、さらに、
チタンアルミナイド系γ相と前記チタンアルミナイド合金のα２（Ｔｉ3Ａｌ）相の両方を変形すること
を含み、
前記チタンアルミナイド合金含有物品の前記表面から材料が取り除かれ、それにより、前記物品の表面にひびを入れたり損傷したりすることなく前記物品の前記表面を変える
方法。
【請求項６】
高圧下の前記流体は、前記物品の前記表面上で１平方インチ当たり約５０００から約１０，０００ポンドまでの範囲内である、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記高い直線速度は、毎分約５インチから毎分約１０００インチまでの速さである、請求項５又は６記載の方法。
【請求項８】
前記流体は高圧下にあり、前記流体が前記チタンアルミナイド合金含有物品の前記表面の端から端までの通過が、前記物品の前記表面を、前記物品の前記表面から、また垂直に前記物品内に約１００ミクロン未満の深さにわたって変形させる、請求項５乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記チタンアルミナイド合金含有物品は、チタンアルミナイド合金含有タービンブレードである、請求項５乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記流体は高圧下にあり、アルミナ、ザクロ石、シリカ、炭化ケイ素、炭化ホウ素、ダイヤモンド、炭化タングステン、およびこれらの組成物のうち少なくとも１つの粒子をさらに含む請求項５乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記流体は、水、油、グリコール、アルコール、またはこれらの組み合わせからなる群から選択される請求項５乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記流体の固形物負荷は、質量で約１０％から約４０％までの範囲内である請求項５乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
物品の表面を機械加工するための方法であって、
チタンアルミナイド系のγ相およびα２（Ｔｉ3Ａｌ）相を含むチタンアルミナイド合金含有物品を用意することと、
高圧下で流体を７から１２度までの配向角度の範囲内で前記チタンアルミナイド合金含有物品の表面の端から端まで通過させることと、
を含み、
前記流体が前記物品の前記表面の端から端まで通過する前に、約５０ミクロンから約４００ミクロンまでの範囲の粒子が前記流体中に懸濁され、
前記方法は、さらに、
前記チタンアルミナイド合金含有物品の表面を変形することと、
前記チタンアルミナイド合金含有物品の前記表面から前記物品の表面にひびを入れたり損傷したりすることなく材料を取り除くことと
を含む方法。
【請求項１４】
チタンアルミナイド合金含有タービンブレードの凸状表面からオーバーストック材料を取り除くための方法であって、
チタンアルミナイド系のγ相およびα２（Ｔｉ3Ａｌ）相を含む チタンアルミナイド合金含有タービンブレードの凸状表面の端から端まで、７から１２度までの配向角度の範囲内で流体を高圧で通過させること
を含み、
前記流体が前記ブレードの前記凸状表面の端から端まで通過する前に、約５０ミクロンから約４００ミクロンまでの範囲の粒子が前記流体中に懸濁され、
前記方法は、さらに、
前記チタンアルミナイド合金含有タービンブレードの前記凸状表面からオーバーストック材料を約０．０２５ｍｍから約５．０ｍｍ、前記物品の表面にひびを入れたり損傷したりすることなく取り除くこととを含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年12月22日(2015.12.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
本発明の医薬組成物に使用され得るプロゲストゲンは、次の物質である：レボノルゲストレル、ノルゲスチメート、ノルエチステロン、ジドロゲステロン、ドロスピレノン、３−β−ヒドロキシデソゲストレル、３−ケトデソゲストレル（＝エトノゲストレル）、17-デアセチルノルゲスチメート、19-ノルプロゲステロン、アセトキシプレグネノロン、アリルエストレノール、アムゲストン、クロルマジノン、シプロテロン、デメゲストン、デソゲストレル、ジエノゲスト、ジヒドロゲステロン、ジメチステロン、エチステロン、二酢酸エチノジオール、酢酸フルオロゲストン、ガストリノン、ゲストデン、ゲストリノン、ヒドロキシメチルプロゲステロン、ヒドロキシプロゲステロン、リネストレノール（＝リノエストレノール）、メシロゲストン、メドロキシプロゲステロン、メゲストロール、メレンゲストロール、ノメゲストロール、ノルエチンドロン、（＝ノレチステロン）、ノルエチノドレル、ノルゲストレル（ｄ−ノルゲストレル及びdl−ノルゲストレルを包含する）、ノルゲストリエノン、ノルメチステロン、プロゲステロン、キンゲスタノール、（17α）−17−ヒドロキシ−11−メチレン−19−ノルプレグナ−４，14−ジエン−20−イン−３−オン、チボロン、トリメゲストン、アルゲストンアセトフェニド、ネストロン、プロメゲストン、17−ヒドロキシプロゲステロンエステル、19−ノル−17ヒドロキシプロゲステロン、17α−エチニルテストステロン、17α−エチニル−19−ノルテストステロン、ｄ−17β−アセトキシ−13β−エチル−17α−エチニルゴン−４−エン−３−オンオキシム又はWO00/66570号に開示される化合物、特にタナプロゲット。レボノルゲストレル、ノルゲスチメート、ノルエチステロン、ドロスピレノン、ジヒドロゲステロンが好ましい。ドロスピレノンが特に好ましい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
造粒工程を含む医薬の製剤化方法において、
当該医薬が、
0.4〜１mgの日用量の5−メチル−(6S)−テトラヒドロ葉酸のカルシウム塩、及び更にエストロゲン及び／又はプロゲストゲン；
任意には、ビタミンB6及び／又はビタミンB2；並びに
医薬として許容される賦形剤／キャリアー；
を含んで成り、該医薬はビタミンB12を含まず、そして
前記5−メチル−(6S)−テトラヒドロ葉酸のカルシウム塩を造粒後にのみ添加することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記医薬が、エチニルエストラジオール、メストラノール、キニンエストラノール、エストラジオール、エストロン、エストリオール、エステトロール及び接合ウマエストロゲンから成る群から選択される、１又は複数のエストロゲンを含んでなる、請求項１に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項３】
レボノルゲストレル、ノルゲスチメート、ノルエチステロン、ジドロゲステロン、ドロスピレノン、３−β−ヒドロキシデソゲストレル、３−ケトデソゲストレル（＝エトノゲストレル）、17-デアセチルノルゲスチメート、19-ノルプロゲステロン、アセトキシプレグネノロン、アリルエストレノール、アムゲストン、クロルマジノン、シプロテロン、デメゲストン、デソゲストレル、ジエノゲスト、ジヒドロゲステロン、ジメチステロン、エチステロン、二酢酸エチノジオール、酢酸フルオロゲストン、ガストリノン、ゲストデン、ゲストリノン、ヒドロキシメチルプロゲステロン、ヒドロキシプロゲステロン、リネストレノール（＝リノエストレノール）、メシロゲストン、メドロキシプロゲステロン、メゲストロール、メレンゲストロール、ノメゲストロール、ノルエチンドロン、（＝ノレチステロン）、ノルエチノドレル、ノルゲストレル（ｄ−ノルゲストレル及びdl−ノルゲストレルを包含する）、ノルゲストリエノン、ノルメチステロン、プロゲステロン、キンゲスタノール、（17α）−17−ヒドロキシ−11−メチレン−19−ノルプレグナ−４，14−ジエン−20−イン−３−オン、チボロン、トリメゲストン、アルゲストンアセトフェニド、ネストロン、プロメゲストン、17−ヒドロキシプロゲステロンエステル、19−ノル−17ヒドロキシプロゲステロン、17α−エチニルテストステロン、17α−エチニル−19−ノルテストステロン、ｄ−17β−アセトキシ−13β−エチル−17α−エチニルゴン−４−エン−３−オンオキシム又はタナプロゲットから成る群から選択される少なくとも１つのプロゲストゲンを含んで成る、請求項１に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項４】
前記医薬が、５−メチル−（6S）−テトラヒドロ葉酸の結晶性カルシウム塩を含んで成る、請求項１に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項５】
前記医薬が、５−メチル−（6S）−テトラヒドロ葉酸のカルシウム塩、ドロスピレノン及びエチニルエストラジオールを含んで成る、請求項１に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項６】
前記医薬が、451μgの日用量の５−メチル（6S）−テトラヒドロ葉酸のカルシウム塩を含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項７】
前記医薬が、３mgの日用量のドロスピレノンを含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項８】
前記医薬が、10〜50μgの日用量のエチニルエストラジオールを含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項９】
前記医薬が、10〜30μgの日用量のエチニルエストラジオールを含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項１０】
前記医薬が、20μgの日用量のエチニルエストラジオールを含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項１１】
前記医薬が、30μgの日用量のエチニルエストラジオールを含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項１２】
前記医薬が、
451μgの日用量の５−メチル−（6S）−テトラヒドロ葉酸のカルシウム塩、
３mgの日用量のドロスピレノン、及び
20μgの日用量のエチニルエストラジオール、
を含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【請求項１３】
前記医薬が、
451μgの日用量の５−メチル−（6S）−テトラヒドロ葉酸のカルシウム塩、
３mgの日用量のドロスピレノン、及び
30μgの日用量のエチニルエストラジオール、
を含んで成る、請求項５に記載の医薬の製剤化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月5日(2016.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体入口および流体出口を有するハウジングを含むガス精製器であって、前記流体入口および流体出口は、不活性ガスからおよび還元ガスから水分および酸素を除去する前記ハウジング中に収容されている精製器のベッドの中を通って流体接続しており、前記精製器のベッドは、
不活性ガスおよび還元ガスから水分を除去する、０．７ミリメートル±２０パーセント未満の最大寸法を有するマクロ細孔物質移動制限モレキュラーシーブを含む第一の材料ベッド、ならびに
不活性ガスおよび還元ガスから酸素を除去する、室温で還元ガスによって還元された形に少なくとも部分的に再生される担体担持金属触媒を含む第二の材料ベッド
を含む、ガス精製器。
【請求項２】
１０億分の１体積部（ｐｐｂｖ／ｖ）から２０ｐｐｂｖ／ｖの間の酸素および１ｐｐｂｖ／ｖから２０ｐｐｂｖ／ｖの間の水分を含有する窒素ガスを、２６．６６ｋＰａ（２００トル）の圧力および２標準リットル毎分（ｓｌｐｍ）のガス流で６時間にわたってガス精製器の中に流した後、２６．６６ｋＰａ（２００トル）の圧力での２ｓｌｐｍの水素ガス流中の流体出口における水分濃度が５ｐｐｂｖ／ｖ以下であることを特徴とする、請求項１に記載のガス精製器。
【請求項３】
モレキュラーシーブが、アルカリ金属ゼオライトＸモレキュラーシーブである、請求項１または請求項２に記載のガス精製器。
【請求項４】
アルカリ金属ゼオライトＸモレキュラーシーブが、１３Ｘモレキュラーシーブである、請求項３に記載のガス精製器。
【請求項５】
第一の材料ベッドが、精製器のベッドの３０体積パーセントから７０体積パーセントであり、第二の材料ベッドが、精製器のベッドの７０体積パーセントから３０体積パーセントである、請求項１から４のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項６】
第一の材料ベッドが、精製器のベッドの５０±５体積パーセントであり、第二の材料ベッドが、精製器のベッドの５０±５体積パーセントである、請求項５に記載のガス精製器。
【請求項７】
第一の材料ベッドが、精製器のベッドの３０体積パーセントから４０体積パーセントであり、第二の材料ベッドが、精製器のベッドの７０体積パーセントから６０体積パーセントである、請求項５に記載のガス精製器。
【請求項８】
１００万分の１２体積部の水分を含有する不活性ガスを１０標準リットル毎分の流速で精製器の中に流した後、４０００分後に流体出口における水分濃度が１兆分の１００体積部以下であることをさらに特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の精製器。
【請求項９】
金属触媒が、ニッケルを含有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の精製器。
【請求項１０】
第一の材料ベッドが、第二の材料ベッドの下流である、請求項１から９のいずれか一項に記載の精製器。
【請求項１１】
精製器のベッドが、不活性ガスおよび還元ガスから水分および酸素を準大気圧で除去する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の精製器。
【請求項１２】
精製器のベッドが、不活性ガスおよび還元ガスから水分および酸素を大気圧で除去する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の精製器。
【請求項１３】
ガス精製器が、第一の材料ベッドおよび第二の材料ベッドを分離している媒体保持性多孔質膜をさらに含み、媒体保持性膜が、該ハウジング内にこの端部分で、内周、外周、および型締め機構が作動されるときに、リングをハウジングの内壁に対する半径方向の力によって拡張し保持するための型締め機構を含む拡張可能なリングによって固定されている、請求項１から１２のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項１４】
媒体保持性多孔質膜が、精製媒体の粒子がその中を通過することを防ぐ孔径を有するガス透過膜である、請求項１３に記載のガス精製器。
【請求項１５】
媒体保持性多孔質膜が、精製媒体の第一ベッドと近接しており、接触を保持している、請求項１３または請求項１４に記載のガス精製器。
【請求項１６】
媒体保持性多孔質膜が、拡張可能なリングの表面と精製媒体の下流のベッドの表面との間に固定されている、請求項１３から１５のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項１７】
媒体保持性多孔質膜が、金属性、半金属性、炭素系、セラミック性、ポリマー性、または熱伝導性である材料を含む、請求項１３から１６のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項１８】
媒体保持性多孔質膜が、フェルト、金網、焼結粒子、エレクトロブローン繊維、織られた膜、または不織膜である、請求項１３から１７のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項１９】
型締め機構が、ばね止め機構である、請求項１３から１８のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２０】
拡張可能なリングが、該拡張可能なリングの外径と該ハウジングの内壁との間の半径方向の力によって固定されている、請求項１３から１９のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２１】
拡張可能なリングが、金属、プラスチック、または金属合金を含む、請求項１３から２０のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２２】
拡張可能なリングが、０．０６インチから０．１２インチまでの厚さを有する、請求項１３から２１のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２３】
媒体保持性多孔質膜が、０．０５ミクロンから１．０ミクロンまでの孔径を有する、請求項１３から２２のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２４】
使用中、垂直にまたは水平に方向付けられている、請求項１から２３のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２５】
材料の１つ以上のさらなるベッドをさらに含み、および１つ以上のさらなる媒体保持性多孔質膜をさらに含むことがあり、さらなる膜が、存在する場合、任意の２つの材料ベッドを分離する、請求項１から２４のいずれか一項に記載のガス精製器。
【請求項２６】
０．７ミリメートル±２０パーセントの粒径を有するアルカリ金属ゼオライトＸモレキュラーシーブのベッド、および
不活性ガスから酸素を除去する担体担持ニッケル触媒のベッド、
から本質的になるガス精製器媒体であって、
前記モレキュラーシーブのベッドが、該精製器媒体の３０体積パーセントから７０体積パーセントであり、前記担体担持ニッケル触媒のベッドが、該精製器媒体の７０体積パーセントから３０体積パーセントである、ガス精製器媒体。
【請求項２７】
モレキュラーシーブのベッドが、精製器媒体の３０体積パーセントから４０体積パーセントであり、担体担持ニッケル触媒のベッドが精製器媒体の７０体積パーセントから６０体積パーセントである、請求項２６に記載のガス精製器媒体。
【請求項２８】
アルカリ金属ゼオライトＸモレキュラーシーブが、１３Ｘモレキュラーシーブである、請求項２６または２７に記載のガス精製器媒体。
【請求項２９】
チャンバーをパージする方法であって、
前記チャンバーを請求項１から２５のいずれか一項に記載のガス精製器により精製された不活性ガスで第一の時間帯の間パージするステップ、ならびに
前記チャンバーを前記ガス精製器により精製された還元ガスで第二の時間帯の間パージするステップ
を含む方法。
【請求項３０】
不活性および／または還元ガスの精製が、準大気圧で起こる、請求項２９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリントヘッドを形成する方法であって、
犠牲型部をベース上に形成するステップと、
前記犠牲型部を液体コーティング部材によってコーティングするステップであって、前記コーティングする方法は、
前記液体コーティング部材内を通る複数のインクチャネルを形成するように、前記犠牲型部の第１部分を前記液体コーティング部材によってコーティングするステップであって、前記複数のインクチャネルは前記プリントヘッドを通してインクを流すように構成されるステップと、
前記液体コーティング部材内を通る複数のノズルを形成するように、前記犠牲型部の第２部分を前記液体コーティング部材によってコーティングするステップであって、前記複数のノズルは、印刷中に前記プリントヘッドから前記複数のノズルを通してインクを吐出するように構成され、前記犠牲型部の前記第２部分をコーティングする前記ステップ後、前記犠牲型部の前記第２部分は少なくとも一部が露出されたまま前記液体コーティング部材内を通って延伸されるステップと、
前記犠牲型部の前記第１部分と前記第２部分とをコーティングする前記ステップに続き、前記液体コーティング部材を硬化させて硬化した液体コーティング部材を形成するステップとを含み、
前記プリントヘッドを形成する方法はさらに、
前記ベース全体を前記硬化した液体コーティング部材と前記犠牲型部から分離させるステップと、
前記ベース全体を前記硬化した液体コーティング部材と前記犠牲型部から分離した後で、前記硬化した液体コーティング部材内を通る前記複数のインクチャネルを形成するように、前記硬化した液体コーティング部材から前記犠牲型部の前記第１部分を除去するステップと、
前記複数のノズルを形成するように、前記硬化した液体コーティング部材から前記犠牲型部の前記第２部分を除去するステップと、を含み、
前記犠牲型部の前記第１部分と前記第２部分を除去する前記ステップによって、前記硬化した液体コーティング部材を含むプリントヘッド部分組立品を設ける、
方法。
【請求項２】
前記犠牲型部の前記第１部分と前記第２部分を前記硬化した液体コーティング部材から除去するように、前記犠牲型部を溶解するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記犠牲型部の前記第１部分と前記第２部分を前記硬化した液体コーティング部材から除去するように、溶媒を用いて前記犠牲型部を溶解するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ベース上に複数の犠牲層を積み重ねて３次元パターニング型を設けるステップを含む方法を用いて、前記犠牲型部を製作するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ベース上に複数のワックス層を積み重ねて３次元パターニング型を設けるステップを含む方法を用いて、前記犠牲型部を製作するステップと、
前記３次元パターニング型を前記液体コーティング部材によってコーティングするステップと、
前記犠牲型部を前記硬化した液体コーティング部材から除去するように、前記ワックス層を溶解するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ベース上に複数の熱可塑性層を積み重ねて３次元パターニング型を前記ベース上に設けるステップを含む方法を用いて、前記犠牲型部を製作するステップと、
前記３次元パターニング型を前記液体コーティング部材によってコーティングするステップと、
前記ベースを前記硬化した液体コーティング部材と前記犠牲型部から分離した後で、前記熱可塑性層を溶媒内で溶解して前記硬化した液体コーティング部材から前記犠牲型部を除去するステップと、をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月21日(2016.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される構造を有することを特徴とする非水溶性色素化合物。
【化１】
2013166370.tif 000001
（一般式（１）中、Ｒ１はアルキル基、アリール基またはアミノ基を表す。Ｒ２はカルボン酸エステル、カルボン酸ジアルキルアミドまたはカルボン酸モノアルキルアミドを表す。Ａは、カルボニル基またはスルホニル基を表す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、ｎ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基またはフェニル基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）中のＲ３及びＲ４が同一の官能基であることを特徴とする請求項１に記載の非水溶性色素化合物。
【請求項３】
前記一般式（１）中のＲ３及びＲ４が２−エチルヘキシル基であることを特徴とする請求項１に記載の非水溶性色素化合物。
【請求項４】
前記一般式（１）中のＲ２がカルボン酸エステルであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の非水溶性色素化合物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の非水溶性色素化合物を含有することを特徴とするインク。
【請求項６】
基材と、該基材上に請求項１〜４のいずれか１項に記載の非水溶性色素化合物を含有する色材層とを有することを特徴とする感熱転写記録用シート。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の非水溶性色素化合物を含有することを特徴とするカラーフィルター用レジスト組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（一般式（１）中、Ｒ１はアルキル基、アリール基またはアミノ基を表す。Ｒ２はカルボン酸エステル、カルボン酸ジアルキルアミドまたはカルボン酸モノアルキルアミドを表す。Ａは、カルボニル基またはスルホニル基を表す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、ｎ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基またはフェニル基を表す。）
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月28日(2015.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縮小側の第１の像面から拡大側の第２の像面へ投射する投射光学系であって、
複数のレンズを含む第１の光学系であって、前記縮小側から入射した光により当該第１の光学系の内部に結像される第１の中間像を当該第１の光学系よりも前記拡大側に第２の中間像として結像する第１の光学系と、
前記第２の中間像よりも前記拡大側に位置する正の屈折力の第１の反射面を含む第２の光学系とを有し、
前記第１の光学系の前記縮小側のイメージサークルＩＣと、前記第１の光学系の最も前記拡大側のレンズの有効径ＬＬＤとが以下の条件を満たす投射光学系。
０．１≦ＬＬＤ／ＩＣ≦２．０
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の光学系の前記縮小側のイメージサークルＩＣと、前記第１の反射面の有効径ＭＤとが以下の条件を満たす、投射光学系。
１．０≦ＭＤ／ＩＣ≦６．０
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の光学系は、前記第１の中間像を結像する第１の屈折光学系と、前記縮小側の前記第１の中間像を前記拡大側に前記第２の中間像として結像する第２の屈折光学系とを含む、投射光学系。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の屈折光学系の光軸、前記第２の屈折光学系の光軸は共通である、投射光学系。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の投射光学系と、
前記第１の像面に画像を形成する光変調器とを有する、プロジェクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の態様の１つは、縮小側の第１の像面から拡大側の第２の像面へ投射する投射光学系である。投射光学系は、複数のレンズを含む第１の光学系であって、縮小側から入射した光により当該第１の光学系の内部に結像される第１の中間像を当該第１の光学系よりも拡大側に第２の中間像として結像する第１の光学系と、第２の中間像よりも拡大側に位置する正の屈折力の第１の反射面を含む第２の光学系とを有し、第１の光学系の縮小側のイメージサークルＩＣと、第１の光学系の最も拡大側のレンズの有効径ＬＬＤとが以下の条件を満たす。
０．１≦ＬＬＤ／ＩＣ≦２．０
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この投射光学系においては、イメージサークルＩＣのサイズに対して第１の光学系の最も広角側のレンズ径（有効径）を小さくすることにより、第１の反射面で反射された光束（投影光）とレンズとの干渉を抑制でき、さらにコンパクトな投射光学系を提供できる。また、イメージサークルＩＣのサイズに対して第１の反射面を小さくすることができ、イメージサークルＩＣと、第１の反射面の有効径ＭＤとが以下の条件を満たすものであってもよい。
１．０≦ＭＤ／ＩＣ≦６．０
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この投射光学系においては、第１の光学系は、第１の中間像を結像する第１の屈折光学系と、縮小側の第１の中間像を拡大側に第２の中間像として結像する第２の屈折光学系とを含み、第１の反射光学系は、縮小側の第２の中間像を第１の反射面により第２の像面へ投射することが望ましい。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年12月16日(2015.12.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内側電導コアと、
前記内側電導コアを取り囲む第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層を取り囲む外側電導ワイヤ層と、
を含む、ワイヤケーブルと、
長手方向軸を有する内側フェルール及び外側フェルールであって、前記ワイヤケーブルの端部に受け入れられ、前記外側電導ワイヤ層が前記内側フェルールと前記外側フェルールとの間に配置されるように前記端部に近接して嵌合する、内側フェルール及び外側フェルールとを備える、
ワイヤケーブル組立体であって、
前記内側フェルール及び外側フェルールの両方の部分が１対の凹面状窪みを画定するように形成され、前記１対の凹面状窪みは、第２の凹面弓形形状窪みの直径方向反対側にある第１の凹面弓形形状窪みを備え、前記内側フェルール及び外側フェルールの両方が、平坦な側部を４つのみ有する実質的な六角形状を画定するように形成されており、
前記外側フェルールは、外側の溝深さを有し、前記内側フェルールは、内側の溝深さを有し、前記外側の溝深さは、前記内側の溝深さよりも大きく、前記１対の凹面状窪みは、鋭角の隅部または縁部を有しない弓形状を形成する、ワイヤケーブル組立体。
【請求項２】
前記第１の凹面弓形形状窪み及び第２の凹面弓形形状窪みは、前記長手方向軸に向かって内側方向に配置される、請求項１に記載のワイヤケーブル組立体。
【請求項３】
前記ワイヤケーブル組立体は、モータ付き車両に配置される、請求項１に記載のワイヤケーブル組立体。
【請求項４】
さらに、前記ワイヤケーブルを軸方向に受け入れるように構成された接触要素を含み、前記接触要素は、前記ワイヤケーブルを前記接触要素に取り付けるように形成され、前記接触要素の一部分は、前記１対の凹面弓形形状窪みを画定するように形成される、請求項１に記載のワイヤケーブル組立体。
【請求項５】
前記接触要素の前記１対の凹面状窪みは、前記内側フェルール及び外側フェルールの前記１対の凹面状窪みに対応する、請求項４に記載のワイヤケーブル組立体。
【請求項６】
前記接触要素の一部分は、前記１対の凹面状窪みを有する実質的な六角形状を画定するように形成される、請求項４に記載のワイヤケーブル組立体。
【請求項７】
ワイヤケーブル組立体に圧着接続部を形成する方法であって、
ワイヤケーブル、内側フェルールおよび外側フェルールを提供するステップであって、前記ワイヤケーブルは、内側電導コアと、前記内側電導コアを取り囲む第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層を取り囲む外側電導ワイヤ層と、を含む、ステップと、
前記外側電導ワイヤ層の一部分を前記内側フェルールおよび外側フェルールとの間に受け入れるステップと、
前記内側フェルールおよび前記外側フェルールを前記ワイヤケーブルに取り付ける圧着接続部を形成するように前記ワイヤケーブル、前記内側フェルールおよび前記外側フェルールを共に圧着するステップであって、前記圧着接続部の少なくとも一部分は、１対の凹面状窪みを画定するように形成され、前記１対の凹面状窪みは、第２の凹面弓形形状窪みの直径方向反対側にある第１の凹面弓形形状窪みを備え、前記内側フェルール及び外側フェルールの両方が、平坦な側部を４つのみ有する実質的な六角形状を画定するように形成され、前記外側フェルールは、外側の溝深さを有し、前記内側フェルールは、内側の溝深さを有し、前記外側の溝深さは、前記内側の溝深さよりも大きく、前記１対の凹面状窪みは、鋭角の隅部または縁部を有しない弓形状を形成する、ステップと
を含む、方法。
【請求項８】
前記提供するステップは、
前記圧着するステップにおいて前記１対の凹面状窪みを形成するのに使用される圧着工具を提供するステップを含み、前記圧着工具は、複数の平坦な側部と前記複数の平坦な側部の間に延びる１対の突出部材とを有しており、前記圧着工具の前記１対の突出部材が前記１対の凹面状窪みを形成する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記方法は、
圧着工具により、前記圧着接続部が前記圧着接続部の継目から離れる方向に形成されるとき、前記外側フェルールに沿って材料を押し出すステップであって、前記圧着工具により押し出された前記材料に形成される１つまたは複数の突起が、前記継目に隣接して形成されないようにする、ステップ
をさらに含む、請求項７に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
[0029]あるいは、凸部の対の一方は、それぞれの溝５４、５６に関連する凸部の対の他方よりも深い深さを有することができる。凸部および溝は、望ましくない欠点を生成する、フェルール材料中に穴を開けることなく窪み部を構築することができる十分な形状を有することができる。溝と凸部の頂部との間の深さは、フェルール材料の原材料厚さと関係するように選ぶことができる。あるいは、凸部および溝は、圧着接続部が形成されるとき、フェルール材料に穴が開かないように、どんな形状も呈することができる。鋭角の隅部すなわち縁部を有しない弓形状が、好ましく、圧着接続部の形成中、フェルール材料の穴を生成しそうにないことがわかる。圧着接続部形成中に接触要素に穴が開けば、このことは、望ましくない品質不良をもたらす。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月30日(2016.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面板と、
第２面板と、
前記第１面板と前記第２面板の間に接合されたコルゲートコア
とを具備し、
前記第１面板と前記第２面板と前記コルゲートコアは、炭素繊維又はガラス繊維と樹脂とを組み合わせた複合材で形成され、
前記コルゲートコアが、
前記第１面板に接合され、前記第１面板に沿った第１方向に延伸する第１接合部と、
前記第２面板に接合され、前記第１方向に延伸する第２接合部と、
前記第１接合部と前記第２接合部との間に連結され、前記第１方向に延伸する連結部
とを備え、
前記コルゲートコアは、前記第２接合部と前記連結部と前記第１面板に囲まれた第１空間が前記第１方向に延伸し、前記第１接合部と前記連結部と前記第２面板に囲まれた第２空間が前記第１方向に延伸し、且つ、前記第１空間と前記第２空間とが前記第１方向とは異なる前記第１面板に沿った第２方向において交互に並んで配置されるような形状を有しており、
前記コルゲートコアが少なくとも一の開口を有しており、
前記少なくとも一の開口は、前記連結部に設けられた
複合材構造。
【請求項２】
請求項１に記載の複合材構造であって、
前記少なくとも一の開口は、複数の開口を含み、
前記コルゲートコアに前記複数の開口が形成されることで前記コルゲートコアにトラス構造が形成されている
複合材構造。
【請求項３】
請求項１に記載の複合材構造であって、
前記少なくとも一の開口は、前記第２方向に並んで配置された複数の開口を含み、
前記コルゲートコアは、
前記第１接合部に連結し、前記第１方向に延伸する第１基部と、
前記第２接合部に連結し、前記第１方向に延伸する第２基部と、
前記第１方向に対して斜めに延伸して前記第１基部と前記第２基部を連結する第１斜柱部と、
前記第１方向に対して斜めに延伸して前記第１基部と前記第２基部を連結する第２斜柱部
とを備え、
前記第１斜柱部が前記第２基部に連結している位置は、前記第１斜柱部が前記第１基部に連結している位置に対して前記第１方向にずれており、
前記第２斜柱部が前記第１基部に連結している位置は、前記第２斜柱部が前記第２基部に連結している位置に対して前記第１方向にずれている
複合材構造。
【請求項４】
請求項１に記載の複合材構造であって、
前記少なくとも一の開口は、円形である
複合材構造。
【請求項５】
請求項１に記載の複合材構造であって、
前記少なくとも一の開口は、長円形である
複合材構造。
【請求項６】
請求項１に記載の複合材構造を備え、前記第１面板と前記第２面板の間に液体を保持する
液体タンク。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月19日(2016.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を含む、タンパク質の精製Ｎ末端ポリシアル酸誘導体を製造する方法：
（ｉ）ｐＨが７．０〜８．０の水溶液中でタンパク質のＮ末端のアミン基でポリシアル酸を反応させる工程であって、実質的にタンパク質のＮ末端誘導体のみからなる集団を生成する、工程、及び
（ｉｉ）ｐＨが６．５〜７．５の水溶液中で、得られたタンパク質のＮ末端誘導体を精製する工程、
該タンパク質のＮ末端誘導体が、２〜２００個のシアル酸ユニットを含み、
該タンパク質がエリスロポエチン（ＥＰＯ）である、方法。
【請求項２】
前記ポリシアル酸が反応性アルデヒド基を有し、工程（ｉ）を還元条件下で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記反応性アルデヒド基が前記ポリシアル酸の非還元性末端にある、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記反応性アルデヒドが前記ポリシアル酸の還元性末端にあり、前記非還元性末端が、タンパク質のＮ末端と反応しないように不動態化している、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
製剤添加剤が、工程（ｉ）における前記水溶液に添加される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記製剤添加剤が、バッファー、安定剤、界面活性剤、塩、ポリマー、金属イオン、糖、ポリオール又はアミノ酸のうちの１つ又は複数から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記糖が、ソルビトール、トレハロース又はスクロースである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記界面活性剤が、非イオン性界面活性剤である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記ポリマーが、ＰＳＡ、ＰＥＧ又はヒドロキシ−β−シクロデキストリンから選択されるポリマーである、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記金属イオンが、二価の金属イオンである、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記バッファーが、リン酸ナトリウム／酢酸ナトリウムバッファーである、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
水素化ホウ素が工程（ｉ）における前記水溶液中に存在することにより、前記還元条件が得られる、請求項２に記載の方法。
【請求項１３】
工程（ｉ）の前記水溶液のｐＨが７．４である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
工程（ｉｉ）の前記水溶液のｐＨが７．０である、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記ＥＰＯが、グリコシル化されていない、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記ＥＰＯが、グリコシル化されている、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月16日(2015.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノミアレルギー皮膚炎を抑制するための組成物であって、
ａ）ノミ唾液抗原タンパク質をコードするヌクレオチド配列を含む真核細胞発現ベクター、又は、前記ノミ唾液抗原タンパク質の抗原エピトープを含むポリペプチドをコードするヌクレオチド配列を含む真核細胞発現ベクター；及び
ｂ）ノミ唾液抗原タンパク質を含むポリペプチド、又は、前記ノミ唾液抗原タンパク質の抗原エピトープを含むポリペプチド
を含み、４００μｇの前記真核細胞発現ベクター、及び４００μｇの前記ポリペプチドをむ、前記組成物。
【請求項２】
ノミ唾液抗原タンパク質が配列番号２に示されるものである請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ノミ唾液抗原タンパク質の抗原エピトープを含むポリペプチドが配列番号２２又は２３に示されるものである請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ノミ唾液抗原タンパク質の抗原エピトープを含むポリペプチドをコードするヌクレオチド配列が配列番号２４又は２５に示されるものである請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
非ヒト動物においてノミ唾液抗原タンパク質に対する即時型過敏症を抑制するための方法であって、前記非ヒト動物に請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物を投与する工程を含む、前記方法。
【請求項６】
前記非ヒト動物がネコである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
組成物の投与回数が３回である請求項５又は６に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年6月15日(2016.6.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
１つの好適な実施態様では、比較した測定値間に重大な差があるときのみ、ＴＰＭＳシステム１００は、圧力情報を送信する。１つの実施態様では、正確な測定間の時間的周期（および、結果として、無線送信間の周期）を約１５分、一方で、近似的な測定の測定頻度を６秒毎にすることができる。一般に、測定又は送信のいずれか一方あるいは双方の頻度を少なくすれば、電力消費が抑えられ、ＴＰＭＳシステム１００のバッテリ１０４の寿命を延ばすことができる。換言すれば、ＴＰＭＳシステム１００は、温度あるいは補償係数のような因子を考慮せず、また、車両制御装置を備えずに、測定値を相互に比較することができるので、短い時間間隔で局所的に圧力を比較することができる。このように、送信頻度を少なくすることで、使用電力を抑えてかつ車両制御装置の計算負荷をも抑える。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月13日(2016.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステアリングホイールから入力される操舵トルクを検出するトルクセンサの検出結果に基づいて演算されるアシスト指令値によって電動モータを駆動し、ドライバによる前記ステアリングホイールの操舵を補助する電動パワーステアリング装置であって、
前記ステアリングホイールの操舵角に基づいて、前記ステアリングホイールを中立位置へ戻す方向の基本戻し指令値を演算する基本戻し指令値演算部と、
前記ステアリングホイールの切り込みと戻りを判定する切り戻り判定部と、
前記切り戻り判定部にて前記ステアリングホイールの戻りが判定された間、徐々に増加する徐変戻し指令値を演算する徐変戻し指令値演算部と、
前記基本戻し指令値に前記徐変戻し指令値を加算して戻し指令値を演算する戻し指令値演算部と、を備え、
前記戻し指令値を前記アシスト指令値に加算して前記電動モータを駆動することを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【請求項２】
前記徐変戻し指令値演算部は、所定時間毎に一定値を積算して徐変戻り指令値を演算することを特徴とする請求項１に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項３】
前記電動パワーステアリング装置が搭載される車両の車速に基づいて、前記徐変戻し指令値を補正する補正ゲインを演算する補正ゲイン演算部をさらに備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項４】
前記切り戻り判定部は、前記操舵トルクの極性と前記電動モータの回転速度の極性とが異極性、又は、前記電動モータの回転速度がゼロの場合には、前記ステアリングホイールの戻りを判定することを特徴とする請求項１から３のいずれか一つに記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項５】
前記切り戻り判定部は、前記操舵トルクの極性と前記電動モータの回転速度の極性とが同極性で、かつ、前記操舵トルクが中立付近である場合にも、前記ステアリングホイールの戻りを判定することを特徴とする請求項４に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項６】
前記徐変戻し指令値演算部は、前記切り戻り判定部にて前記ステアリングホイールの戻りが判定され、かつ、前記ステアリングホイールの操舵角が所定範囲内である間、前記徐変戻し指令値を演算することを特徴とする請求項１から５のいずれか一つに記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項７】
前記徐変戻し指令値演算部は、前記切り戻り判定部にて前記ステアリングホイールの戻りが判定され、かつ、前記ステアリングホイールの操舵角が所定範囲内であり、かつ、前記電動パワーステアリング装置が搭載される車両の車速が所定速度以下である間、前記徐変戻し指令値を演算することを特徴とする請求項１から５のいずれか一つに記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項８】
前記徐変戻し指令値演算部は、前記切り戻り判定部にて前記ステアリングホイールの戻りが判定され、かつ、前記ステアリングホイールの操舵角が所定範囲内であり、かつ、前記電動パワーステアリング装置が搭載される車両の車速が所定速度以下であり、かつ、前記ステアリングホイールの操舵角の検出値の前回値と今回値とが同極性である間、前記徐変戻し指令値を演算することを特徴とする請求項１から５いずれか一つに記載の電動パワーステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
徐変戻し電流は中立位置付近でのステアリングホイール１の残舵角の左右差を解消することを目的とするものであり、残舵角の左右差はセルフアライニングトルクが小さい車両の低速域で発生し易い。したがって、第２補正ゲインにて徐変戻し電流を補正することによって、残舵角の左右差が発生し易い低速域で徐変戻し電流が効果的に作用する一方、微低速域や中高速域では徐変戻し電流を作用させずに操舵フィーリングの悪化を防止できる。このように、徐変戻し電流は、セルフアライニングトルクが小さい低速域で特に必要とするものであるため、第２補正マップにおけるｄの値を、第１補正マップにおけるｄの値よりも小さい速度に設定してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月13日(2016.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステアリングホイールから入力される操舵トルクを検出するトルクセンサの検出結果に基づいて演算されるアシスト指令値によって電動モータを駆動し、ドライバによる前記ステアリングホイールの操舵を補助する電動パワーステアリング装置であって、
前記ステアリングホイールの操舵角に基づいて、前記ステアリングホイールを中立位置へ戻す方向の基本戻し指令値を演算する基本戻し指令値演算部と、
前記電動パワーステアリング装置が搭載される車両の車速に基づいて、前記基本戻し指令値を補正する第１補正ゲインを演算する第１補正ゲイン演算部と、
前記基本戻し指令値を前記第１補正ゲインにて補正して戻し指令値を演算する戻し指令値演算部と、
前記電動モータの角加速度に基づいて、前記ステアリングホイールを中立位置へ戻さない方向の反戻し指令値を演算する反戻し指令値演算部と、を備え、
前記戻し指令値と前記反戻し指令値とに基づいて補正戻し指令値を演算し、当該補正戻し指令値を前記アシスト指令値に加算して前記電動モータを駆動することを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【請求項２】
前記反戻し指令値演算部には、前記電動モータの角加速度と前記反戻し指令値との関係が規定されたマップが記憶され、
前記マップは、前記ステアリングホイールが右回りに回転している際には、前記反戻し指令値は前記ステアリングホイールを左回りに回転させる方向の値となる一方、前記ステアリングホイールが左回りに回転している際には、前記反戻し指令値は前記ステアリングホイールを右回りに回転させる方向の値となる特性に設定されることを特徴とする請求項１に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項３】
前記マップは、前記電動モータの角加速度の絶対値が大きいほど前記反戻し指令値の絶対値が大きくなるように設定されることを特徴とする請求項２に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項４】
前記電動パワーステアリング装置が搭載される車両の車速に基づいて、前記反戻し指令値を補正する第２補正ゲインを演算する第２補正ゲイン演算部をさらに備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか一つに記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項５】
前記第２補正ゲインは、低速域では１．０の一定値に設定され、中高速域では車速が大きいほど小さい値に設定されることを特徴とする請求項４に記載の電動パワーステアリング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月6日(2016.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
次に図１を用いて本発明の孔明け加工の工程を説明する。尚、図の簡略化のため矢は１３本のみを図示している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
ところで、極薄プレート８が矢７から容易に外れる理由は次のように考えられる。図１を用いて説明すると、孔明け加工の時矢７に超音波振動を付与しているので、孔明け速度がゆっくりとなると同時に超音波の振幅の分上下動しながら孔明けが実行される。このため、極薄プレート８に与える変形抵抗を大きく低減させることができる。従って、図８の従来技術で述べたように孔８ａの周囲には弾性力４８ａは残っておらず、孔８ａは完全に塑性変形させられた状態となる。それ故に矢７は孔８ａからスムーズに抜くことが出来るものと考えられる。従って、量産加工が可能となり、これにより安価なバリアメンブレンを得ることができるようになった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
（第２実施の形態）
本発明の第２実施の形態について説明する。図４は、パンチ６に超音波振動５ａを付与すると共に駆動装置４でもパンチ６を上下動させながら極薄プレート８に孔明け加工を施す断面図である。簡略化のため矢７は１３本のみを示す。（ａ）工程は、矢７がダイ９上の極薄プレート８に接触する直前の状態で、このときに制御部１３により６μｍの振幅を有する超音波振動５ａの縦振動がパンチ６に与えられる。（ｂ）工程は、押圧力４ｂと共に超音波振動５ａを付与しながら矢７が極薄プレート８に孔明け加工を開始した状態である。（ｃ）工程は、駆動装置４により超音波振動５ａを付与したままパンチ６を一旦上昇させた状態を示す。極薄プレート８には有底の孔８ａａが明いている。