Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月17日(2016.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上にカルコパイライト系化合物を含む光電変換部を備え、
前記光電変換部は、光入射面側が相対的に広い禁制帯幅を有する
撮像素子。
【請求項２】
前記光電変換部は、第１領域と、前記第１領域よりも禁制帯幅が広く、光入射面側に設けられた第２領域とを有する、請求項１に記載の撮像素子。
【請求項３】
前記光電変換部の禁制帯幅は、光入射面側が広くなるように段階的に変化する、請求項１または２に記載の撮像素子。
【請求項４】
前記光電変換部の禁制帯幅は、光入射面側が広くなるように連続的に変化する、請求項１または２に記載の撮像素子。
【請求項５】
前記光電変換部上に固定電荷膜を有する、請求項１乃至４のうちのいずれか１つに記載の撮像素子。
【請求項６】
前記光電変換部上に絶縁膜および導電膜をこの順に有する、請求項１乃至４のうちのいずれか１つに記載の撮像素子。
【請求項７】
前記光電変換部上に導電膜を有する、請求項１乃至４のうちのいずれか１つに記載の撮像素子。
【請求項８】
前記半導体基板はｎ型半導体によって構成されている、請求項１乃至７のうちのいずれか１つに記載の撮像素子。
【請求項９】
撮像素子を含み、
前記撮像素子は、
半導体基板上にカルコパイライト系化合物を含む光電変換部を備え、
前記光電変換部は、光入射面側が相対的に広い禁制帯幅を有する
撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
＜１．実施の形態＞
（撮像素子１０の構成）
図１は、本技術の一実施の形態に係る撮像素子（撮像素子１０）の断面構成を表したものである。撮像素子１０は、例えばＣＣＤイメージセンサまたはＣＭＯＳイメージセンサ等の撮像装置（例えば、撮像装置１）において１つの画素（例えば、画素Ｐ）を構成するものである（いずれも、図７参照）。この撮像素子１０は裏面照射型であり、半導体基板１１の光入射面側に集光部２０および光電変換部１２が、光入射面とは反対側の面（面Ｓ２）に多層配線層３１を設けた構成を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
半導体基板１１の表面（面Ｓ２）近傍には光電変換部１２で発生した信号電荷を、例えば垂直信号線Ｌsig（図７参照）に転送する転送トランジスタが配置されている。転送トランジスタのゲート電極は、例えば多層配線層３１に含まれている。信号電荷は、光電変換によって生じる電子および正孔のどちらであってもよいが、ここでは電子を信号電荷として読み出す場合を例に挙げて説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
半導体基板１１の面Ｓ２近傍には上記転送トランジスタと共に、例えばリセットトランジスタ、増幅トランジスタおよび選択トランジスタ等が設けられている。このようなトランジスタは例えばＭＯＳＥＦＴ（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor）であり、各画素Ｐ毎に回路を構成する。各回路は、例えば転送トランジスタ、リセットトランジスタおよび増幅トランジスタを含む３トランジスタ構成であってもよく、あるいはこれに選択トランジスタが加わった４トランジスタ構成であってもよい。転送トランジスタ以外のトランジスタは、画素間で共有することも可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（製造方法）
まず、各種トランジスタおよび周辺回路を備えた半導体基板１１を形成する。半導体基板１１は例えばＳｉ基板を用い、このＳｉ基板の表面（面Ｓ２）近傍に転送トランジスタＴ１等のトランジスタおよびロジック回路等の周辺回路を設ける。次いで、Ｓｉ基板の表面（面Ｓ２）側へのイオン注入により不純物半導体領域を形成する。具体的には、各画素Ｐに対応する位置にｎ型半導体領域を、各画素間にｐ型半導体領域を形成する。続いて、半導体基板１１の面Ｓ２上に多層配線層３１を形成する。多層配線層３１には層間絶縁膜３１Ｂを介して複数の配線３１Ａを設けたのち、この多層配線層３１に支持基板３２を貼りつける。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
撮像素子１０では、半導体基板１１に所定の電位ＶＬ（＞０Ｖ）が、電極１３には例えば電位ＶＬよりも低い電位ＶＵ（＜ＶＬ）がそれぞれ印加される。従って、電荷蓄積状態（リセットトランジスタ（図示せず）および転送トランジスタのオフ状態）では、光電変換部１２で発生した電子−正孔対のうち、電子が相対的に高電位となっている半導体基板１１のｎ型半導体領域（下部電極）に導かれる。このｎ型半導体領域から電子Ｅｇが取り出され、伝送経路を介して蓄電層（図示せず）に蓄積される。電子Ｅｇが蓄積されると、蓄電層と導通したｎ型半導体領域の電位ＶＬが変動する。この電位ＶＬの変化量が信号電位に相当する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
読み出し動作の際には、転送トランジスタがオン状態となり、蓄電層に蓄積された電子Ｅｇがフローティングディフュージョン（ＦＤ、図示せず）に転送される。これにより、光Ｌの受光量に基づく信号が、例えば画素トランジスタ（図示せず）を通じて垂直信号線Ｌsigに読み出される。その後、リセットトランジスタおよび転送トランジスタがオン状態となり、ｎ型半導体領域とＦＤとが例えば電源電圧ＶＤＤにリセットされる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
これに対して、本実施の形態の撮像素子１０では、カルコパイライト系化合物によって形成された光電変換部１２の光入射面側に、光電変換部１２の光入射面とは反対側の面を構成する第１領域１２Ａよりも禁制帯幅の広い第２領域１２Ｂを形成するようにした。これにより、光電変換部１２の受光面（面Ｓ１）近傍における光の吸収が抑制される。即ち、短波長の吸収が結晶欠陥およびダングリングボンドの少ない深い位置で行われるようになる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
画素部１ａは、例えば行列状に２次元配置された複数の単位画素Ｐ（撮像素子１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃに相当）を有している。この単位画素Ｐには、例えば画素行ごとに画素駆動線Ｌread（具体的には行選択線およびリセット制御線）が、画素列ごとに垂直信号線Ｌsigが配線されている。画素駆動線Ｌreadは、画素からの信号読み出しのための駆動信号を伝送するものであり、その一端は行走査部１３１の各行に対応した出力端に接続されている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月12日(2016.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
投影レンズ制御装置１１４は、主制御装置１０３の制御の下、駆動部１１２、及びフィールドレンズ駆動装置１１３（レンズ駆動部）を制御する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
そこでレンズ加熱によって生ずる結像特性の変動を、モデル式を用いて表現し、幾つかの、極力少ない露光条件での最大変動量Ｆ１を検査時に取得することで、露光条件毎の結像特性変動を効率的に予測する。ここで、結像特性変動の予測は、主制御装置１０３により実行される。主制御装置１０３は、結像特性変動の予測結果に基づき、照明系制御装置１０８、レチクルステージ制御装置１３０、投影レンズ制御装置１１４（投影レンズ制御部）、ステージ制御装置１２０を制御する。照明系制御装置１０８、レチクルステージ制御装置１３０、投影レンズ制御装置１１４、ステージ制御装置１２０のうち、少なくとも一つは、予測手段の予測結果を用いた制御を行うことで、結像特性を補正する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
主制御装置１０３（予測部）は、上記のモデル式により結像特性変動の予測を行行い、主制御装置１０３は、予測結果に基づき、照明系制御装置１０８、レチクルステージ制御装置１３０、投影レンズ制御装置１１４、ステージ制御装置１２０を制御する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
照明系制御装置１０８、レチクルステージ制御装置１３０、投影レンズ制御装置１１４、ステージ制御装置１２０は、予測部の予測結果により結像特性の変動を補正する補正部として機能する。照明系制御装置１０８、レチクルステージ制御装置１３０、投影レンズ制御装置１１４、ステージ制御装置１２０は、予測結果を用いた制御を行うことで、結像特性を補正することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2015037124.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月12日(2016.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の複数のショット領域の各々の上の感光材にパターンを転写するリソグラフィ装置であって、前記複数のショット領域は、第１グループの周辺ショット領域および第２グループの周辺ショット領域を含み、前記第１グループの周辺ショット領域は、第１周辺ショット領域と第２周辺ショット領域とを含み、前記第２グループの周辺ショット領域は、前記第１周辺ショット領域の隣に配置された第３周辺ショット領域と、第４周辺ショット領域とを含み、
前記リソグラフィ装置は、
開口を規定する第１縁および第２縁を有する遮蔽部材を含み、前記第１縁および前記第２縁の一方を含む前記遮蔽部材の遮蔽領域により、パターンの転写のための光が照射されないように、前記基板の周辺領域を遮蔽する遮蔽部と、
前記遮蔽部材を回転させる回転機構と、前記遮蔽部材を並進させる並進機構とを含み、パターンの転写対象の周辺ショット領域に応じて前記遮蔽部材による前記基板の遮蔽領域を変更するための駆動機構と、
パターンを転写すべき前記第１グループの周辺ショット領域の各々について前記第１縁を含む前記遮蔽領域を用いて前記周辺領域を遮蔽しながら、前記第１グループの周辺ショット領域に対して、前記第１周辺ショット領域から前記第２周辺ショット領域まで順にパターンが転写されるように前記駆動機構を制御し、その後、パターンを転写すべき前記第２グループの周辺ショット領域の各々について前記第２縁を含む前記遮蔽領域を用いて前記周辺領域を遮蔽しながら、前記第２グループの周辺ショット領域に対して、前記第３周辺ショット領域から前記第４周辺ショット領域まで順にパターンが転写されるように前記駆動機構を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記第２周辺ショット領域に対するパターンの転写と前記第３周辺ショット領域に対するパターンの転写との間における前記遮蔽部材の回転量は９０度以下であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記基板に関するレシピの情報に基づいて、前記基板の前記第１グループの周辺ショット領域および前記第２グループの周辺ショット領域を特定することを特徴とする請求項１または２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記基板に関するレシピの情報に基づいて、前記基板の前記複数のショット領域に対するパターンの転写の順序を決定し、決定した順序に従って前記駆動機構を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
各々の情報が前記複数のショット領域に対するパターンの転写の順序を示す複数の情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記レシピの情報に基づいて、前記記憶部に記憶された前記複数の情報のうちの１つを決定することを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
原版を照明するための照明系を有し、
前記回転機構は、前記照明系の光軸に平行な軸に関して前記遮蔽部材を回転させ、
前記並進機構は、前記光軸に垂直な面に沿って前記遮蔽部材を並進させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記回転機構の回転範囲は１８０度であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記第１縁と前記第２縁とは、互いに対向し、それぞれ前記開口の内側から外側に向かう方向に凸の形状をなしていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記遮蔽部材は、前記照明系において前記基板と共役な位置に配置されていることを特徴とする請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記リソグラフィ装置は、原版のパターンを前記基板に投影する投影系を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記リソグラフィ装置は、型により成形された光硬化性の前記感光材に光を照射する照射系を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パタ−ンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の１つの側面に係るリソグラフィー装置は、基板の複数のショット領域の各々の上の感光材にパターンを転写するリソグラフィ装置であって、前記複数のショット領域は、第１グループの周辺ショット領域および第２グループの周辺ショット領域を含み、前記第１グループの周辺ショット領域は、第１周辺ショット領域と第２周辺ショット領域とを含み、前記第２グループの周辺ショット領域は、前記第１周辺ショット領域の隣に配置された第３周辺ショット領域と、第４周辺ショット領域とを含み、前記リソグラフィ装置は、開口を規定する第１縁および第２縁を有する遮蔽部材を含み、前記第１縁および前記第２縁の一方を含む前記遮蔽部材の遮蔽領域により、パターンの転写のための光が照射されないように、前記基板の周辺領域を遮蔽する遮蔽部と、前記遮蔽部材を回転させる回転機構と、前記遮蔽部材を並進させる並進機構とを含み、パターンの転写対象の周辺ショット領域に応じて前記遮蔽部材による前記基板の遮蔽領域を変更するための駆動機構と、パターンを転写すべき前記第１グループの周辺ショット領域の各々について前記第１縁を含む前記遮蔽領域を用いて前記周辺領域を遮蔽しながら、前記第１グループの周辺ショット領域に対して、前記第１周辺ショット領域から前記第２周辺ショット領域まで順にパターンが転写されるように前記駆動機構を制御し、その後、パターンを転写すべき前記第２グループの周辺ショット領域の各々について前記第２縁を含む前記遮蔽領域を用いて前記周辺領域を遮蔽しながら、前記第２グループの周辺ショット領域に対して、前記第３周辺ショット領域から前記第４周辺ショット領域まで順にパターンが転写されるように前記駆動機構を制御する制御部とを有す。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月6日(2016.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、放熱性を向上させる方法として、例えば図４に示すように、第１金属板１０４及び第２金属板１０６の厚みｔｂを従来の厚みｔｂ（図３Ａ参照）より厚くすることが考えられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
［４］  この場合、前記セラミック基板の前記裏面内に、前記第２金属板の前記セラミック基板と対向する側の面全体が含まれる位置に、前記第２金属板が接合されていることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック基板と、
前記セラミック基板の表面に接合された金属板とを有し、
前記セラミック基板の表面のサイズは、前記金属板の前記セラミック基板と対向する側の面のサイズよりも小さいことを特徴とするセラミック回路基板。
【請求項２】
請求項１記載のセラミック回路基板において、
前記金属板の前記セラミック基板と対向する側の面内に、前記セラミック基板の表面全体が含まれるように、前記セラミック基板と前記金属板とが接合されていることを特徴とするセラミック回路基板。
【請求項３】
請求項１又は２記載のセラミック回路基板において、
前記セラミック基板の裏面に第２の金属板が接合され、
前記セラミック基板の裏面のサイズは、前記第２の金属板の前記セラミック基板と対向する側の面のサイズよりも大きいことを特徴とするセラミック回路基板。
【請求項４】
請求項３記載のセラミック回路基板において、
前記セラミック基板の前記裏面内に、前記第２の金属板の前記セラミック基板と対向する側の面全体が含まれる位置に、前記第２の金属板が接合されていることを特徴とするセラミック回路基板。
【請求項５】
請求項３又は４記載のセラミック回路基板において、
前記金属板の厚みは前記第２の金属板の厚みよりも大きいことを特徴とするセラミック回路基板。
【請求項６】
請求項５記載のセラミック回路基板において、
前記セラミック基板の厚みをｔａ、前記金属板の厚みをｔ１、前記第２の金属板の厚みをｔ２としたとき、
ｔ２＜ｔａ＜ｔ１
であることを特徴とするセラミック回路基板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のセラミック回路基板と、
前記セラミック回路基板の前記金属板の表面に実装されたパワー半導体とを有することを特徴とする電子デバイス。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2015037174.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月8日(2016.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にマトリクス状に配置された複数の画素と、
前記複数の画素の境界を遮光する遮光膜と、
前記複数の画素のそれぞれにおいて、下部電極及び上部電極の間に配置され、発光する有機材料からなる発光層を含む複数の層からなる有機層が、前記下部電極と接触している領域である発光領域と、を備え、
前記発光領域は、前記複数の画素のそれぞれにおいて、前記画素の形状の辺に沿って延びる辺の長さが異なる長辺及び短辺を有し、
前記遮光膜は、前記画素の辺に沿って配置され、互いに幅の異なる幅広部及び幅狭部を有し、
前記幅広部は、前記短辺に対応する前記画素の辺に沿って配置され、前記幅狭部は、前記長辺に対応する前記画素の辺に沿って配置され、
前記短辺は、平面的に見て前記遮光膜と重畳し、前記長辺は、平面的に見て前記遮光膜から露出している、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記複数の画素の一に含まれる前記発光領域と、前記複数の画素の一に隣接する他の一に含まれる前記発光領域とは、互いの短辺が対向するように隣接するか、あるいは互いの長辺が対向するように隣接し、
前記幅広部は、対向する前記互いの短辺間の距離よりも幅が大きく、
前記幅狭部は、対向する前記互いの長辺間の距離よりも幅が小さい、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記幅広部は、前記発光領域の周囲の前記有機層及び前記上部電極が前記発光領域と比較して傾斜して形成されている有機層傾斜領域を、平面視で覆う幅であり、
前記幅狭部は、前記有機層傾斜領域に達しない幅である、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記幅広部は、前記上部電極上において前記複数の画素を覆うように形成された無機封止膜が、前記無機封止膜における前記発光領域の中央部分と比較して傾斜して形成されている封止膜傾斜領域を、上面からの視野において覆う幅である、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
前記遮光膜は、前記下部電極とトランジスタを接続するコンタクトホールを平面視において覆っている、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項２乃至５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置であって、
隣接する２つの前記発光領域は、前記幅広部あるいは前記幅狭部に対して線対称形状である、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月26日(2016.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記ＬＥＤモジュールに対して出射側に、前記ライトパイプアレイに対して入射側に位置し、前記照射光の入射側と出射側とに開口し、前記照射光の照射方向に所定の長さを有する柱状のライトパイプである第１ライトパイプと、
前記第２ＣＰＣアレイに対して出射側に位置し、前記照射光の入射側と出射側とに開口し、前記照射光の照射方向に前記所定の長さ以上の長さを有する柱状のライトパイプである第２ライトパイプと
を更に備えることを特徴とする、請求項３に記載の光学系装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月1日(2016.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ入力情報に従って、表示部に表示された被写体画像上に開始フレームと終了フレームの切り出し位置を表示するとともに、前記開始フレームと終了フレームの切り出し位置を含むフレーム設定情報を設定する制御部を有し、
前記制御部は、
連続または間欠的に撮影された複数の撮影画像の各々から前記フレーム設定情報に従って画像フレームの切り出し領域を決定し、決定情報に従って画像切り出し処理を実行する撮像装置。
【請求項２】
前記フレーム設定情報は、開始フレームと終了フレームの位置とサイズ情報を含み、
前記制御部は、開始フレームと終了フレームの位置とサイズ情報を適用して撮影画像の各々について、画像フレームの切り出し領域を決定し、決定情報に従って画像切り出し処理を実行する請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記フレーム設定情報は、開始フレームと終了フレーム間の軌跡情報を含み、
前記制御部は、開始フレームと終了フレーム間の軌跡情報を適用して撮影画像の各々について、画像フレームの切り出し領域を決定し、決定情報に従って画像切り出し処理を実行する請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記フレーム設定情報は、開始フレームと終了フレーム間の移動スピード情報を含み、
前記制御部は、開始フレームと終了フレーム間の移動スピード情報を適用して撮影画像の各々について、画像フレームの切り出し領域を決定し、決定情報に従って画像切り出し処理を実行する請求項１〜３いずれかに記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御部は、
撮影画像の各々から前記フレーム設定情報に従って画像切り出し処理を実行し、切り出し画像をメモリに格納する請求項１〜４いずれかに記載の撮像装置。
【請求項６】
前記制御部は、
連続または間欠的に撮影される画像の撮影処理毎に、各撮影画像からの画像切り出し処理を実行し、切り出し画像をメモリに格納するリアルタイム処理を実行する請求項１〜５いずれかに記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御部は、
連続または間欠的な画像撮影処理の完了後にメモリに格納された画像を順次読み出して、各撮影画像からの画像切り出し処理を実行して切り出し画像をメモリに再格納するバッチ処理を実行する請求項１〜５いずれかに記載の撮像装置。
【請求項８】
前記入力部を介して入力される設定情報はメモリに格納され、
前記制御部は、
前記メモリに格納された設定情報に従って、撮影画像の各々からの画像切り出し処理を実行する請求項１〜７いずれかに記載の撮像装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記表示部に画像の撮影タイミングを示すタイムラインを表示し、タイムライン上の指示マークの設定により、任意の撮影タイミングにおけるフレーム設定を可能とした情報表示処理を実行する請求項１〜８いずれかに記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記表示部に開始フレームと終了フレーム間に設定可能な軌跡の複数のサンプルを表示し、表示された複数のサンプルから特定の軌跡を選択設定可能とした情報表示処理を実行する請求項３に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記表示部に開始フレームと終了フレーム間に設定可能な移動スピードの複数のサンプルを表示し、表示された複数のサンプルから特定の移動スピードを選択設定可能とした情報表示処理を実行する請求項４に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記入力部は、微速度撮影の撮影情報として撮影期間と撮影枚数を入力し、
前記制御部は、
前記撮影期間と撮影枚数によって算出される撮影間隔に従って複数の画像を順次撮影し、撮影画像の各々から前記フレーム設定情報に従った画像切り出し処理を実行する請求項１〜１１いずれかに記載の撮像装置。
【請求項１３】
連続または間欠的に撮影された複数画像の各々から特定領域の画像を切り出す制御部を有し、
前記制御部は、
先頭画像からの画像切り出し位置を示す開始フレーム設定情報と、最終画像からの画像切り出し位置を示す終了フレーム設定情報を適用して、撮影画像の各々から画像フレームの切り出しを実行する画像処理装置。
【請求項１４】
撮像装置において実行する画像処理方法であり、
制御部が、
入力部を介した入力情報に従って、表示部に表示された被写体画像上に開始フレームと終了フレームの切り出し位置を表示するとともに、前記開始フレームと終了フレームの切り出し位置を含むフレーム設定情報を設定する処理と、
連続または間欠的な撮影画像の各々について、前記フレーム設定情報に従って画像フレームの切り出し領域を決定し、決定情報に従って画像切り出し処理を実行する画像処理方法。
【請求項１５】
撮像装置において画像処理を実行させるプログラムであり、
制御部に、
入力部を介した入力情報に従って、表示部に表示された被写体画像上に開始フレームと終了フレームの切り出し位置を表示するとともに、前記開始フレームと終了フレームの切り出し位置を含むフレーム設定情報を設定する処理と、
連続または間欠的な撮影画像の各々について、前記フレーム設定情報に従って画像フレームの切り出し領域を決定し、決定情報に従って画像切り出し処理を実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図８（１）は、設定タイム指示マーク１１１を右端に設定し、微速度撮影の終了時間の画像フレーム、すなわち、図に示す終了フレーム（Ｅ）１０３の設定を行う場合の例を示している。図に示す文字Ｅが表示された矩形枠が終了フレーム（Ｅ）１０３である。この例では、右下の位置に終了フレーム（Ｅ）１０３を設定した例を示している。終了フレーム（Ｅ）１０３は、例えば１９２０×１０８０画素以上の画素数を持つ設定とすることが好ましい。すなわち、少なくとも表示装置の表示可能な画素数以上、例えば図２に示す表示装置５０の表示可能なＨＤ画像に相当する画素数以上の画素数を持つ設定とすることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
開始フレーム（Ｓ）撮影直後の移動スピードは低速とする。
すなわち、開始フレーム（Ｓ）１０２からの移動距離を小さくして次の画像フレームの撮影を実行する。
その後、次第に移動スピードを上げていき、終了フレーム（Ｅ）１０３の撮影に近づくに従って移動スピードを高速とした撮影を実行する。
すなわち、例えば終了フレーム（Ｅ）１０３とその前の撮影画像フレームの移動距離を大きく設定して撮影処理を実行する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月8日(2016.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換により信号を生成する画素と、
前記画素により生成される信号と時間経過に応じて変化する第１の参照信号とを比較する比較器と、
前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を変える制御部と、
前記信号と前記第１の参照信号との比較を開始してからの経過時間に対応するカウント値を出力するカウンタとを有し、
前記制御部は、前記比較器に前記信号と前記第１の参照信号とが入力されている間に前記カウント値が所定の値に達したことに応じて、前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を、第１の変化率から前記第１の変化率より大きい第２の変化率へ変えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
時間経過に応じて変化する第２の参照信号を生成する参照信号源を有し、
前記制御部は、前記第２の参照信号を基に前記第１の参照信号を生成することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第２の参照信号を減衰させることにより前記第１の参照信号を生成する減衰回路を有することを特徴とする請求項２記載の撮像装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記第２の参照信号を伝達する信号線と、前記比較器との間の電気経路に配された第１の容量素子を含む、
ことを特徴とする請求項２又は３記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第１の容量素子と前記比較器との間の電気経路に接続された第２の容量素子と、前記第２の容量素子に接続されたスイッチとを含み、
前記カウント値が所定の値に達したことに応じて、前記スイッチが制御される、
ことを特徴とする請求項４記載の撮像装置。
【請求項６】
前記カウント値が所定の値に達したことを検知する検知回路をさらに有し、
前記検知回路は、前記カウント値が所定の値に達したことに応じて、前記スイッチを制御する、
ことを特徴とする請求項５記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第２の参照信号を増幅させることにより前記第１の参照信号を生成する増幅回路を有することを特徴とする請求項２記載の撮像装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記カウント値が所定の値に達したことに応じて、前記第２の参照信号に対する前記第１の参照信号の増幅率を大きくする、
ことを特徴とする請求項７記載の撮像装置。
【請求項９】
前記増幅回路は、前記第２の参照信号を伝達する信号線と前記比較器との間の電気経路に配され、
前記制御部は、前記信号線と前記比較器とが接続された状態、及び、前記増幅回路の出力と前記比較器とが接続された状態を切り替えるスイッチを含む、
ことを特徴とする請求項８記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記カウント値が所定の値に達したことを検知する検知回路をさらに有し、
前記検知回路は、前記カウント値が所定の値に達したことに応じて、前記スイッチを制御する、
ことを特徴とする請求項９記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記カウント値の最上位ビットが変化したことに応じて、前記第１の変化率から前記第２の変化率へ前記変化率を変える、
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の参照信号の変化率が前記第１の変化率のときに前記比較器の出力が反転した場合と、前記第１の参照信号の変化率が前記第２の変化率のときに前記比較器の出力が反転した場合とで、前記カウント値に対する演算処理を変える、
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記第１の参照信号の変化率が前記第１の変化率のときに前記比較器の出力が反転した場合において、前記カウント値を出力し、
前記第１の参照信号の変化率が前記第２の変化率のときに前記比較器の出力が反転した場合において、前記カウント値に対して所定の値を加算する、及び／又は、所定の値による乗算を行う、
ことを特徴とする請求項１２記載の撮像装置。
【請求項１４】
光電変換により信号を生成する画素と、
前記画素により生成される信号と時間経過に応じて変化する第１の参照信号とを比較する比較器と、
前記比較器の比較結果に応じて、前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を変える制御部と、
前記前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を変える前において、前記比較器の出力信号が反転するまでのカウント値をカウントする第１のカウンタと、
前記前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を変えた後において、前記比較器の出力信号が反転するまでのカウント値をカウントする第２のカウンタとを有し、
前記制御部は、前記第１のカウンタのカウント値が閾値より大きい場合には前記第１の参照信号の変化率を第１の変化率に変え、前記第１のカウンタのカウント値が前記閾値より小さい場合には前記第１の参照信号の変化率の絶対値が前記第１の変化率の絶対値より小さい第２の変化率になるように変えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の撮像装置は、光電変換により信号を生成する画素と、前記画素により生成される信号と時間経過に応じて変化する第１の参照信号とを比較する比較器と、前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を変える制御部と、前記信号と前記第１の参照信号との比較を開始してからの経過時間に対応するカウント値を出力するカウンタとを有し、前記制御部は、前記比較器に前記信号と前記第１の参照信号とが入力されている間に前記カウント値が所定の値に達したことに応じて、前記第１の参照信号の時間経過に対する変化率を、第１の変化率から前記第１の変化率より大きい第２の変化率へ変えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月6日(2016.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板に形成された光電変換装置であって、
第１導電型で形成された第１の光電変換部と、
前記半導体基板の深さ方向に対して前記第１の光電変換部より深い位置に形成され、第２導電型で形成された第２の光電変換部と、
前記半導体基板の深さ方向に対して前記第２の光電変換部より深い位置に形成され、第１導電型で形成された第３の光電変換部と、
前記第１の光電変換部及び前記第３の光電変換部の電荷蓄積期間中に、前記第２の光電変換部の信号をモニタリングするモニタ部と
を有することを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記第２の光電変換部の面積は、前記第１の光電変換部の面積以上であることを特徴とする請求項１記載の光電変換装置。
【請求項３】
さらに、前記第１の光電変換部及び前記第３の光電変換部のいずれか１つの信号を出力する切り替え部を有することを特徴とする請求項１又は２記載の光電変換装置。
【請求項４】
さらに、前記第１の光電変換部及び前記第３の光電変換部の信号を加算するための加算部を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項５】
さらに、前記第２の光電変換部の出力信号に基づき、前記第１の光電変換部及び前記第３の光電変換部の出力信号の増幅率を制御するアンプ制御部を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項６】
さらに、前記第２の光電変換部の出力信号に基づき、前記第１の光電変換部及び前記第３の光電変換部の電荷蓄積時間を制御する蓄積時間制御部を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項７】
さらに、前記第２の光電変換部の電位を固定し、前記第２の光電変換部から出力される電流を時間積分した信号を出力するアンプを有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光電変換装置を複数有することを特徴とする焦点検出装置。
【請求項９】
請求項８記載の焦点検出装置と、
光学像を結像するレンズとを有し、
前記レンズは、前記焦点検出装置の出力信号に応じて駆動されることを特徴とする撮像システム。
【請求項１０】
半導体基板の第１導電型で形成された第１の光電変換部と、
前記半導体基板の深さ方向に対して前記第１の光電変換部より深い位置に形成され、第２導電型で形成された第２の光電変換部とを有する光電変換装置の駆動方法であって、
前記第１の光電変換部及び前記第２の光電変換部のうちの一方に基づく信号に応じて、他方の電荷蓄積時間を制御することを特徴とする光電変換装置の駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の光電変換装置は、半導体基板に形成された光電変換装置であって、第１導電型で形成された第１の光電変換部と、前記半導体基板の深さ方向に対して前記第１の光電変換部より深い位置に形成され、第２導電型で形成された第２の光電変換部と、前記半導体基板の深さ方向に対して前記第２の光電変換部より深い位置に形成され、第１導電型で形成された第３の光電変換部と、前記第１の光電変換部及び前記第３の光電変換部の電荷蓄積期間中に、前記第２の光電変換部の信号をモニタリングするモニタ部とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月7日(2016.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
茶水抽出物に、酸性白土と、陽イオンとを接触させる工程を含み、茶水抽出物に酸性白土を接触させる工程が、ｐＨ４．５〜５．９で処理され、該陽イオンが飲食品として許容される１価および／または２価の陽イオンであり、かつ茶水抽出物に接触させる陽イオンの濃度が、茶水抽出物に対して、０．０１〜１０ｍＭとなるように加えられる、茶飲料の製造方法。
【請求項２】
茶水抽出物に、活性白土と、陽イオンとを接触させる工程を含み、茶水抽出物に活性白土を接触させる工程が、ｐＨ４．０〜５．４で処理され、該陽イオンが飲食品として許容される１価および／または２価の陽イオンであり、かつ茶水抽出物に接触させる陽イオンの濃度が、茶水抽出物に対して、０．０１〜１０ｍＭとなるように加えられる、茶飲料の製造方法。
【請求項３】
茶水抽出物に、白土と、陽イオンとを接触させる工程が、茶抽出物と、陽イオンを加えた白土とを接触させる工程である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
茶水抽出物に、酸性白土と、陽イオンとを接触させることを特徴とし、茶水抽出物に酸性白土を接触させる工程が、ｐＨ４．５〜５．９で処理され、該陽イオンが飲食品として許容される１価および／または２価の陽イオンであり、かつ茶水抽出物に接触させる陽イオンの濃度が、茶水抽出物に対して、０．０１〜１０ｍＭとなるように加えられる、茶飲料の濁度低減方法。
【請求項５】
茶水抽出物に、活性白土と、陽イオンとを接触させることを特徴とし、茶水抽出物に活性白土を接触させる工程が、ｐＨ４．０〜５．４で処理され、該陽イオンが飲食品として許容される１価および／または２価の陽イオンであり、かつ茶水抽出物に接触させる陽イオンの濃度が、茶水抽出物に対して、０．０１〜１０ｍＭとなるように加えられる、茶飲料の濁度低減方法。
【請求項６】
茶水抽出物に、酸性白土と、陽イオンとを接触させることを特徴とし、茶水抽出物に酸性白土を接触させる工程が、ｐＨ４．５〜５．９で処理され、該陽イオンが飲食品として許容される１価および／または２価の陽イオンであり、かつ茶水抽出物に接触させる陽イオンの濃度が、茶水抽出物に対して、０．０１〜１０ｍＭとなるように加えられる、茶飲料の香味低減抑制方法。
【請求項７】
茶水抽出物に、活性白土と、陽イオンとを接触させることを特徴とし、茶水抽出物に活性白土を接触させる工程が、ｐＨ４．０〜５．４で処理され、該陽イオンが飲食品として許容される１価および／または２価の陽イオンであり、かつ茶水抽出物に接触させる陽イオンの濃度が、茶水抽出物に対して、０．０１〜１０ｍＭとなるように加えられる、茶飲料の香味低減抑制方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月10日(2016.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルスレーザ光を患者眼の組織内に集光させることで前記患者眼を処置する眼科用レーザ手術装置であって、
レーザ光源から出射されたパルスレーザ光を偏向させる偏向デバイスを少なくとも１つ有し、前記偏向デバイスによってパルスレーザ光を光軸に交差する方向に走査するＸＹ走査部と、
前記ＸＹ走査部の前記偏向デバイスの少なくともいずれかよりもパルスレーザ光の光路の下流側に設けられ、屈折力を有し、前記光路の下流側にパルスレーザ光を導光させる導光光学素子と、
前記ＸＹ走査部および前記導光光学素子を経たパルスレーザ光を前記組織内に集光させる対物レンズと、
前記光路における前記対物レンズの位置が固定された状態で、前記導光光学素子と前記対物レンズの間の光路長を変化させることで、前記パルスレーザ光の集光位置を、前記光軸に沿うＺ方向に走査させるＺ走査部と
を備えたことを特徴とする眼科用レーザ手術装置。
【請求項２】
請求項１に記載の眼科用レーザ手術装置であって、
前記Ｚ走査部よりも前記光路の下流側に配置される光学素子の前記光路上の位置が、前記Ｚ走査部の駆動に関わらず一定であり、
前記導光光学素子の物側焦点が、前記導光光学素子よりも上流側の前記偏向デバイスによって走査される全てのパルスレーザ光の主光線が通過する点であるピボット点に一致することを特徴とする眼科用レーザ手術装置。
【請求項３】
請求項２に記載の眼科用レーザ手術装置であって、
前記ＸＹ走査部によって走査される全てのパルスレーザ光の主光線が、前記対物レンズの物側焦点を通過することを特徴とする眼科用レーザ手術装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の眼科用レーザ手術装置であって、
前記光路において前記対物レンズよりも上流側に位置する光学素子のうち、前記対物レンズに最も近く且つ屈折力を有する光学素子の主平面と、前記対物レンズの主平面との距離が、互いの焦点距離の和に等しいことを特徴とする眼科用レーザ手術装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の眼科用レーザ手術装置であって、
前記ＸＹ走査部よりも下流側に位置する上流側リレー光学素子、および、前記上流側リレー光学素子と前記対物レンズとの間に位置する下流側リレー光学素子を有するリレー部をさらに備え、
前記Ｚ走査部は、
前記ＸＹ走査部と、前記導光光学素子である前記上流側リレー光学素子とを含む光学ユニットを前記光軸に沿って移動させることで、前記上流側リレー光学素子と前記対物レンズとの間の光路長を変化させることを特徴とする眼科用レーザ手術装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月27日(2016.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子データから、電子ファイルを抽出する電子ファイル抽出部と、
上記電子ファイル抽出部により抽出された上記電子ファイル又は上記電子ファイルに関連するファイルを、上記電子ファイルを実行すべき実行環境に送信する電子ファイル送信部と、
上記実行環境との間に遠隔操作可能な通信経路を確立し、上記実行環境上で上記電子ファイルを実行させるための実行指示を、上記遠隔操作可能な通信経路を介して上記実行環境に送信する遠隔操作部と、
を備える、
情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月28日(2016.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの文書間で記載事項同士の関連付けを行うためのシステムであって、
前記２つの文書に含まれる記載事項のうち、表形式で表された記載事項の少なくとも一部を、文形式の記載事項に変換する変換部と、
少なくとも一方が文形式に変換された記載事項を含む前記２つの文書間で、記載事項同士の関連付けを行う関連付処理部と、
を備え、
前記変換部は、表形式で表された記載事項に含まれる複数セルのそれぞれを、別個の文形式の記載事項に変換するシステム。
【請求項２】
文書の種別同士の間で記載の関連付けを行うか否かを定義するモデルを取得するモデル取得部と、
複数の文書のうちの第１文書に対して関連付け処理をすべき対象となる第２文書を、前記モデルにより定義された前記第１文書および前記第２文書の種別間の関係に基づき選択する選択部と、
を備え、
選択された前記第１文書および前記第２文書を前記２つの文書として記載事項同士の関連付けを行う請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記選択部は、
前記モデルから、前記第１文書の第１種別に対して関連付けを行うべき少なくとも１つの第２種別を取得し、
前記第２種別が割り当てられた複数の前記第２文書のそれぞれを、前記第１文書の記載事項からの関連付けを行うべき対象文書として選択する
請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記変換部は、
前記表形式で表された記載事項における表の種類を判別する判別部と、
判別された表の種類に応じた文を生成する生成部と、
を有する請求項１から３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記判別部は、表のセルの内容が、文章か否か、文字列か否か、および、数式か否かの少なくとも１つに基づいて、表の種類を判断する請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記生成部は、表のセルが程度を表すマークを含む場合に、当該マークに対応する程度を表す文を生成する請求項４または５に記載のシステム。
【請求項７】
表形式で表された記載事項のうち、文形式に変換しない記載事項の指定を受け付ける指定入力部を更に備え、
前記変換部は、文形式に変換しない旨が指定された表形式の記載事項については、文形式に変換しない請求項１から６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
キーワード同士の類似度が定義された辞書データを取得する辞書取得部を更に備え、
前記関連付処理部は、前記２つの文書間で、記載事項に含まれるキーワード同士における前記辞書データにより定義された類似度に基づいて、記載事項同士の関連付けを行うか否かを決定する
請求項１から７の何れか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記関連付処理部は、第１文書に含まれる記載事項と関連付けるべき第２文書の記載事項の候補を複数表示して、ユーザーにより少なくとも１つを選択させる請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記関連付処理部は、前記第１文書に含まれる記載事項と関連付けるべき第２文書の記載事項の候補を、記載事項に含まれるキーワード同士の類似度に応じた優先度で表示する請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記関連付処理部は、第２文書の記載事項の複数の候補のうちユーザーにより選択された候補と、第１文書の記載事項とに含まれるキーワードの間に定義された前記辞書データにおける類似度を増加させる請求項９または１０に記載のシステム。
【請求項１２】
２つの文書間で記載事項同士の関連付けを行うためのシステムにより、
前記２つの文書に含まれる記載事項のうち、表形式で表された記載事項の少なくとも一部を、文形式の記載事項に変換する変換段階と、
少なくとも一方が文形式に変換された記載事項を含む前記２つの文書間で、記載事項同士の関連付けを行う関連付処理段階と、
を実行し、
前記変換段階において、表形式で表された記載事項に含まれる複数セルのそれぞれを、別個の文形式の記載事項に変換する
方法。
【請求項１３】
コンピュータを２つの文書間で記載事項同士の関連付けを行う装置として機能させるプログラムであって、
当該プログラムは、前記コンピュータを、
前記２つの文書に含まれる記載事項のうち、表形式で表された記載事項の少なくとも一部を、文形式の記載事項に変換する変換部と、
少なくとも一方が文形式に変換された記載事項を含む前記２つの文書間で、記載事項同士の関連付けを行う関連付処理部と、
として機能させ、
前記変換部は、表形式で表された記載事項に含まれる複数セルのそれぞれを、別個の文形式の記載事項に変換する
プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の第１の態様においては、２つの文書間で記載事項同士の関連付けを行うためのシステムであって、２つの文書に含まれる記載事項のうち、表形式で表された記載事項の少なくとも一部を、文形式の記載事項に変換する変換部と、少なくとも一方が文形式に変換された記載事項を含む２つの文書間で、記載事項同士の関連付けを行う関連付処理部と、を備え、変換部は、表形式で表された記載事項に含まれる複数セルのそれぞれを、別個の文形式の記載事項に変換するシステム、当該システムによる方法、及び、当該システムに用いるプログラムを提供する。