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【手続補正書】
【提出日】平成27年12月25日(2015.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触式プローブで被測定物の表面を走査することによって前記被測定物の三次元形状を測定する接触式三次元形状測定装置であって、
前記被測定物に対する前記接触式プローブの押し付け圧を制御するプローブ制御部と、
前記プローブ制御部の制御に応じて前記接触式プローブを移動可能に支持するステージと、
前記接触式プローブの位置を検出する変位計と、
メカ共振周波数による制御振動を抑えるフィルタ装置と、
前記被測定物の傾斜情報を得る手段と、
前記被測定物の傾斜情報と前記メカ共振周波数の特性から傾斜に応じたフィルタパラメータを得る手段と、
前記フィルタパラメータを前記フィルタ装置に設定する手段と、を備えることを特徴とする接触式三次元形状測定装置。
【請求項２】
前記傾斜情報は、傾斜角度及び傾斜方向を含むことを特徴とする請求項１に記載の接触式三次元形状測定装置。
【請求項３】
前記メカ共振周波数の前記特性を予め得る周波数特性計測器を更に備えた請求項１に記載の接触式三次元形状測定装置。
【請求項４】
前記変位計は、非接触式レーザー変位計であることを特徴とする請求項１に記載の接触式三次元形状測定装置。
【請求項５】
前記周波数特性計測器は、ＦＦＴアナライザであることを特徴とする請求項３に記載の接触式三次元形状測定装置。
【請求項６】
前記ＦＦＴアナライザは加振器を備えていることを特徴とする請求項５に記載の接触式三次元形状測定装置。
【請求項７】
接触式プローブの位置を検出するとともに前記接触式プローブで被測定物の表面を走査することによって前記被測定物の三次元形状を測定する三次元形状測定装置において前記接触式プローブを制御する、接触式三次元形状測定方法であって、
前記被測定物に対する前記接触式プローブの押し付け圧を制御し、
前記接触式プローブを移動させるためのステージを駆動し、
取得した前記被測定物の傾斜情報と三次元形状測定装置のメカ共振周波数の特性から前記被測定物の傾斜に応じたフィルタパラメータを得て、
得られた前記フィルタパラメータをフィルタ装置に設定し、それにより前記メカ共振周波数の制御振動を抑制する接触式三次元形状測定方法。
【請求項８】
前記傾斜情報は、傾斜角度及び傾斜方向を含むことを特徴とする請求項７に記載の接触式三次元形状測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月10日(2016.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の情報処理装置において描画された画像を重畳して表示する情報処理装置であって、
ユーザの操作により画像を描画する描画手段と、
前記描画手段により描画された画像と、他の情報処理装置の描画手段により描画された画像とを重畳することで合成した描画データを表示する表示手段と、
前記表示手段により表示された描画データに対する操作を、各情報処理装置の描画手段により描画された画像単位で受け付ける操作受付手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
各情報処理装置の描画手段において描画された画像を、当該描画された情報処理装置毎にレイヤとして管理する画像管理手段をさらに備え、
前記操作受付手段は、前記画像管理手段で管理されたレイヤ毎に操作を受け付けることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記操作受付手段は、前記レイヤ毎に、当該レイヤに含まれる画像を表示するか否かの指示を受け付けることを特徴とし、
前記表示手段は、前記操作受付手段において表示する旨の指示を受け付けたレイヤに含まれる画像を重畳して表示することを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記情報処理装置は、複数の情報処理装置が通信可能に接続された遠隔会議システムにおける情報処理装置であって、
前記描画手段は、前記遠隔会議に参加するユーザからの操作により画像を描画することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
複数の情報処理装置において描画された画像を重畳して表示する情報処理装置における情報処理方法であって、
前記情報処理装置の描画手段が、ユーザの操作により画像を描画する描画工程と、
前記情報処理装置の表示手段が、前記描画工程により描画された画像と、他の情報処理装置の描画工程により描画された画像とを重畳することで合成した描画データを表示する表示工程と、
前記情報処理装置の操作受付手段が、前記表示工程により表示された描画データに対する操作を、各情報処理装置の描画工程で描画された画像ごとに受け付ける操作受付工程と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項６】
複数の情報処理装置において描画された画像を重畳して表示する情報処理装置において実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
ユーザの操作により画像を描画する描画手段と、
前記描画手段により描画された画像と、他の情報処理装置の描画手段により描画された画像とを重畳することで合成した描画データを表示する表示手段と、
前記表示手段により表示された描画データに対する操作を、各情報処理装置の描画手段で描画された画像ごとに受け付ける操作受付手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月10日(2016.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の情報処理装置において描画された画像を重畳して表示する情報処理装置であって、
ユーザの操作により描画操作の開始から終了までを１単位とするリージョンにより構成される画像を描画する描画手段と、
前記描画手段により描画された画像と、他の情報処理装置の描画手段により描画された画像とを重畳することで合成した描画データを表示する表示手段と、
前記表示手段により表示された描画データに対する操作を、前記リージョン単位で受け付ける操作受付手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記操作受付手段は、前記リージョン毎に表示するか否かの指示を受け付けることを特徴とし、
前記表示手段は、前記操作受付手段において表示する旨の指示を受け付けたリージョンを重畳して表示することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記ユーザによる操作対象となるリージョンを描画した情報処理装置の選択を受け付ける選択受付手段と、
前記選択受付手段により選択を受け付けた情報処理装置の描画手段により描画されたリージョンを一覧表示する一覧表示手段と、
前記一覧表示手段により表示されたリージョンの一覧から、操作対象とするリージョンの選択を受け付けるリージョン選択受付手段と、
を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示手段により表示された描画データに対する操作により、当該描画データに含まれるリージョンの選択を受け付ける選択操作受付手段と、
前記選択操作受付手段により、複数のリージョンが重なる箇所に対して選択操作を受け付けた場合、当該重なり合うリージョンのうちいずれのリージョンを選択するかの指示を受け付ける選択指示受付手段と、
前記操作受付手段は、前記選択指示受付手段より選択を受け付けたリージョンに対する操作を受け付けることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
選択操作受付手段により選択操作を受け付けたリージョンにかかる情報を表示する情報表示手段をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記情報処理装置は、複数の情報処理装置が通信可能に接続された遠隔会議システムにおける情報処理装置であって、
前記描画手段は、前記遠隔会議に参加するユーザからの操作により画像を描画することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
複数の情報処理装置において描画された画像を重畳して表示する情報処理装置における情報処理方法であって、
前記情報処理装置の描画手段が、ユーザの操作により描画操作の開始から終了までを１単位とするリージョンにより構成される画像を描画する描画工程と、
前記情報処理装置の表示手段が、前記描画工程により描画された画像と、他の情報処理装置の描画工程により描画された画像とを重畳することで合成した描画データを表示する表示工程と、
前記情報処理装置の操作受付手段が、前記表示工程により表示された描画データに対する操作を、前記リージョンごとに受け付ける操作受付工程と、
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
複数の情報処理装置において描画された画像を重畳して表示する情報処理装置において実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
ユーザの操作により描画操作の開始から終了までを１単位とするリージョンにより構成される画像を描画する描画手段と、
前記描画手段により描画された画像と、他の情報処理装置の描画手段により描画された画像とを重畳することで合成した描画データを表示する表示手段と、
前記表示手段により表示された描画データに対する操作を、前記リージョンごとに受け付ける操作受付手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月17日(2015.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ操作を認識する情報処理装置であって、
表示画面上でタッチされている複数のタッチ位置を取得する取得手段と、
前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、少なくとも一部が、前記表示画面の一部である所定の範囲に含まれる場合に、前記表示画面において、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のそれぞれに対応する位置に表示されたオブジェクトを特定する特定手段と、
前記特定手段によって特定されたオブジェクトが、互いに関係する複数のオブジェクトではない場合に、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、前記所定の範囲に含まれるタッチ位置の入力を、前記情報処理装置に対するタッチ操作の入力としては無効と決定する決定手段と
を備える
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記決定手段は、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、前記所定の範囲内に含まれるタッチ位置を、当該タッチ位置による入力を無効とする候補のタッチ位置であると決定し、前記特定手段が特定したオブジェクトのうち、互いに関連するオブジェクトが表示された位置をタッチするタッチ位置を、前記候補から除外することで、前記決定を行うことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記表示画面に表示される１つ以上のオブジェクト間の関連を示す情報を保持する保持手段を更に備え、
前記決定手段は、前記保持手段に保持されている情報に基づいて、前記決定を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記所定の範囲とは、前記タッチ操作の表示画面の外縁から所定の距離の範囲であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記取得された複数のタッチ位置のうち、最も新しいタッチ位置ではないタッチ位置を前記処理の対象とする、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記決定手段は、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のそれぞれによる入力を有効とすると決定したか、あるいは無効とすると決定した後、前記複数のタッチ位置が１つになった場合、当該１つのタッチ位置に対して前記決定手段によってなされた決定の結果を維持する、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
コンピュータを、前記コンピュータを請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置として機能させるプログラム。
【請求項８】
請求項７に記載のプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【請求項９】
タッチ操作を認識する情報処理装置の制御方法であって、
取得手段により、表示画面上でタッチされている複数のタッチ位置を取得する取得工程と、
特定手段により、前記取得工程で取得した複数のタッチ位置のうち、少なくとも一部が、前記表示画面の一部である所定の範囲に含まれる場合に、前記表示画面において、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のそれぞれに対応する位置に表示されたオブジェクトを特定する特定工程と、
決定手段により、前記特定されたオブジェクトが、互いに関係する複数のオブジェクトではない場合に、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、前記所定の範囲に含まれるタッチ位置の入力を、前記情報処理装置に対するタッチ操作の入力としては無効と決定する決定工程と
を備える
ことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１０】
前記決定工程では、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、前記所定の範囲内に含まれるタッチ位置を、当該タッチ位置による入力を無効とする候補のタッチ位置であると決定し、前記特定工程で特定したオブジェクトのうち、互いに関連するオブジェクトが表示された位置をタッチするタッチ位置を、前記候補から除外することで、前記決定を行うことを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項１１】
前記表示画面に表示される１つ以上のオブジェクト間の関連を示す情報を保持する保持手段を更に備え、
前記決定手段は、前記保持手段に保持されている情報に基づいて、前記決定を行うことを特徴とする請求項９または１０に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項１２】
前記所定の範囲とは、前記タッチ操作の表示画面の外縁から所定の距離の範囲であることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項１３】
前記決定手段は、前記取得された複数のタッチ位置のうち、最も新しいタッチ位置ではないタッチ位置を前記処理の対象とする、
ことを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項１４】
前記決定手段は、前記取得工程で取得した複数のタッチ位置のそれぞれによる入力を有効とするか無効とするかを決定した後、前記複数のタッチ位置が１つに減少した場合、当該１つのタッチ位置に対する決定結果を維持する、
ことを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか１項に記載の情報処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、タッチ操作を認識する情報処理装置であって、表示画面上でタッチされている複数のタッチ位置を取得する取得手段と、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、少なくとも一部が、前記表示画面の一部である所定の範囲に含まれる場合に、前記表示画面において、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のそれぞれに対応する位置に表示されたオブジェクトを特定する特定手段と、前記特定手段によって特定されたオブジェクトが、互いに関係する複数のオブジェクトではない場合に、前記取得手段が取得した複数のタッチ位置のうち、前記所定の範囲に含まれるタッチ位置の入力を、前記情報処理装置に対するタッチ操作の入力としては無効と決定する決定手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月20日(2015.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記記憶部は、前記エリア識別指標ごとに対応する単位点検エリアの情報を関連付けて記憶し、前記表示手段は現在点検している単位点検エリアの点検項目についての情報を表示することを特徴とする請求項１または２に記載の巡回業務支援システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月20日(2015.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面視において、長手方向と、該長手方向に直交する短手方向と、を有し、
前記長手方向に並べられた第１及び第２のリードフレームと、
前記第１及び第２のリードフレームの上面に各々載置された発光素子と、
前記第１及び第２のリードフレームと一体に成形された樹脂成形体と、を備える発光装置であって、
前記第１のリードフレームは、本体部と、前記本体部から前記第２のリードフレーム側に幅狭になって延伸する延伸部と、を有し、
前記第１のリードフレームの下面には窪みが設けられており、
前記窪みを埋める樹脂成形体により、前記延伸部の下面の露出領域の少なくとも一部が前記本体部の下面の露出領域と分離されていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記延伸部の下面の露出領域の略全部が、前記窪みを埋める樹脂成形体により、前記本体部の下面の露出領域と分離されている請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記延伸部の下面の露出領域は、略矩形状である請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記延伸部は、当該発光装置の略中央に位置している請求項１乃至３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記発光装置は、前記短手方向において前記延伸部に対向するように配置された第３のリードフレームを備え、
前記第３のリードフレームの下面の少なくとも一部は、前記樹脂成形体から露出されている請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記第２のリードフレームは、本体部と、前記本体部から前記第１のリードフレーム側に幅狭になって延伸する延伸部と、を有し、
前記第２のリードフレームの下面には窪みが設けられており、
前記第２のリードフレームの前記窪みを埋める樹脂成形体により、前記第２のリードフレームの前記延伸部の下面の露出領域の少なくとも一部が、前記第２のリードフレームの前記本体部の下面の露出領域と分離されており、
前記第１及び第２のリードフレームの前記延伸部が前記短手方向において互いに対向するように配置されている請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項７】
当該発光装置の上面側において、前記樹脂成形体は、前記第１のリードフレームの前記本体部の上面の少なくとも一部と、前記第１のリードフレームの前記延伸部の上面の前記第２のリードフレーム側の少なくとも一部と、を露出させて、前記短手方向に延伸して設けられた中間壁部を有する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項８】
前記中間壁部は、前記第１のリードフレームの前記延伸部上に設けられている請求項７に記載の発光装置。
【請求項９】
前記第２のリードフレームは、本体部と、前記本体部から前記第１のリードフレーム側に幅狭になって延伸する延伸部と、を有し、
前記第１及び第２のリードフレームの前記延伸部が前記短手方向において互いに対向するように配置されており、
前記中間壁部は、前記第１及び第２のリードフレームの前記延伸部上に跨って設けられた、第１壁部と、第２壁部と、を含み、
前記第１壁部と前記第２壁部により、前記第１及び第２のリードフレームの前記延伸部の上面が其々、３つの露出領域に区切られている請求項８に記載の発光装置。
【請求項１０】
前記発光装置は、前記第１のリードフレームの前記延伸部の上面に載置された保護素子を備える請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の発光装置である第１及び第２の発光装置が前記長手方向に並べられ、
前記第１の発光装置において前記第２の発光装置に最も近く配置されている第１の発光素子と、前記第２の発光装置において前記第１の発光装置に最も近く配置されている第２の発光素子と、の間隔は、
前記第１の発光装置において、前記第１の発光素子と、前記第１の発光素子の隣に配置されている第３の発光素子と、の間隔と略等しい照明装置。
【請求項１２】
前記第１の発光装置が備ｆえる発光素子同士の間隔は、前記第２の発光装置が備える発光素子同士の間隔と略等しい請求項１１に記載の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月29日(2016.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタを有する第１の基板と、カラーフィルタを有する第２の基板と、を有する液晶表示装置の作製方法であって、
減圧下で、前記第１の基板を加熱する工程と、
減圧下で、前記第２の基板を加熱する工程と、
窒素雰囲気下で、前記第２の基板上に液晶材料を滴下する工程と、を有し、
前記第１の基板の加熱から前記液晶材料を滴下するまでの一連の工程は大気に曝されることなく行われる液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
さらに、前記液晶材料を間に挟んで、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせる工程を有し、
前記貼り合わせ工程は露点−６０℃の雰囲気で行われる、請求項１に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
前記トランジスタは、酸化物半導体膜を有する、請求項１または２に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
液晶表示装置の作製方法であって、
第１の基板上に、チャネル形成領域を含む酸化物半導体膜を有するトランジスタを形成し、
前記トランジスタ上に、絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に、前記トランジスタと電気的に接続する画素電極を形成し、
前記画素電極上に、第１の配向膜を形成し、
前記第１の配向膜の形成後に、減圧下で前記第１の基板を加熱し、
第２の基板上に、第２の配向膜を形成し、
前記第２の配向膜の形成後に、減圧下で前記第２の基板を加熱し、
前記第２の基板の加熱後に、前記第２の配向膜上に液晶材料を滴下し、
前記液晶材料を間に挟んで、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせる、液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
前記貼り合わせ工程は露点−６０℃の雰囲気で行われる、請求項４に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
前記酸化物半導体膜は、インジウム、ガリウム、亜鉛を含む、請求項３乃至５のいずれか一に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
前記酸化物半導体膜は、結晶部を有する、請求項３乃至６のいずれか一に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項８】
前記結晶部の結晶のｃ軸は、前記酸化物半導体膜の上面に対して、実質上垂直方向に配向している、請求項７に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項９】
前記第１の基板の加熱工程は、１００℃以上の温度で行われる、請求項１乃至８のいずれか一に記載の液晶表示装置の作製方法。
【請求項１０】
前記第２の基板の加熱工程は、１００℃以上の温度で行われる、請求項１乃至９のいずれか一に記載の液晶表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月28日(2016.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、前記第１の基板上の画素部と、前記画素部上の第２の基板と、前記第２の基板上の複数の電極と、を有し、
前記画素部は、第１の画素と、第２の画素と、を有し、
前記第１の画素は、第１のトランジスタと、前記第１のトランジスタ上の有機樹脂膜と、前記有機樹脂膜上の第１の共通電極と、前記第１の共通電極上の絶縁膜と、前記絶縁膜上の第１の画素電極と、前記第１の画素電極上の液晶層と、を有し、
前記第２の画素は、第２のトランジスタと、前記第２のトランジスタ上の前記有機樹脂膜と、前記有機樹脂膜上の第２の共通電極と、前記第２の共通電極上の前記絶縁膜と、前記絶縁膜上の第２の画素電極と、前記第２の画素電極上の前記液晶層と、を有し、
前記第１の共通電極は、複数の前記電極と交差する領域を有し、
前記第２の共通電極は、複数の前記電極と交差する領域を有し、
前記第１のトランジスタ及び前記第２のトランジスタは、第１の酸化物半導体膜と、前記第１の酸化物半導体膜上の第２の酸化物半導体膜と、前記第２の酸化物半導体膜上の第３の酸化物半導体膜と、を有し、
前記第２の酸化物半導体膜は、結晶性を有する液晶表示装置。
【請求項２】
第１の基板と、前記第１の基板上の画素部と、前記画素部上の第２の基板と、前記第２の基板上の複数の電極と、を有し、
前記第１の基板及び前記第２の基板は、可撓性を有し、
前記画素部は、第１の画素と、第２の画素と、を有し、
前記第１の画素は、第１のトランジスタと、前記第１のトランジスタ上の有機樹脂膜と、前記有機樹脂膜上の第１の共通電極と、前記第１の共通電極上の絶縁膜と、前記絶縁膜上の第１の画素電極と、前記第１の画素電極上の液晶層と、を有し、
前記第２の画素は、第２のトランジスタと、前記第２のトランジスタ上の前記有機樹脂膜と、前記有機樹脂膜上の第２の共通電極と、前記第２の共通電極上の前記絶縁膜と、前記絶縁膜上の第２の画素電極と、前記第２の画素電極上の前記液晶層と、を有し、
前記第１の共通電極は、複数の前記電極と交差する領域を有し、
前記第２の共通電極は、複数の前記電極と交差する領域を有し、
前記第１のトランジスタ及び前記第２のトランジスタは、第１の酸化物半導体膜と、前記第１の酸化物半導体膜上の第２の酸化物半導体膜と、前記第２の酸化物半導体膜上の第３の酸化物半導体膜と、を有し、
前記第２の酸化物半導体膜は、結晶性を有する液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月2日(2016.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を有し、
前記画素は、画素電極と、トランジスタと、を有し、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記画素電極は、第１のソース線と第２のソース線との間に配置され、
前記画素電極は、前記トランジスタを介して、前記第１のソース線と電気的に接続され、
前記第１のソース線に入力されるビデオ信号の極性は、前記第２のソース線に入力されるビデオ信号の極性と互いに異なり、
前記画素電極と前記第１のソース線との間に形成される第１の容量成分の容量値に対する、前記画素電極と前記第２のソース線との間に形成される第２の容量成分の容量値の差分が、−１０％以上１０％以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記画素は、容量素子を有し、
前記画素電極は、前記容量素子に電気的に接続され、
前記容量素子の容量値が３０ｆＦ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記画素は、容量素子を有さないことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塵埃フィルターと、
上記塵埃フィルターに空気を送り込み、または、上記塵埃フィルターから空気を吸い出す送風ファンと、
放射線遮蔽材料からなり、空気の入口および出口を有する筐体とを有し、
上記塵埃フィルターおよび上記送風ファンまたは上記塵埃フィルターが上記筐体の内部に収容され、
上記塵埃フィルターに捕集される放射性物質および／または放射性物質含有微粒子から放射される放射線が上記筐体および上記筐体の内部に設けられた放射線遮蔽部材により遮蔽されるように構成されたことを特徴とする放射性物質および放射線対応ファンフィルターユニット。
【請求項２】
上記放射線遮蔽部材は、上記筐体の空気の入口および出口の付近において、空気の流路が屈曲した形状となるように形成されていることを特徴とする請求項１記載の放射性物質および放射線対応ファンフィルターユニット。
【請求項３】
上記塵埃フィルターのどの位置に捕集される放射性物質および／または放射性物質含有微粒子から任意の方向に向かう直線について、その直線が上記筐体の壁および／または上記放射線遮蔽部材を横断する距離の合計が、上記放射性物質および／または上記放射性物質含有微粒子から放射される放射線群の最大飛程または吸収長のうちの最も大きいもの以上になるように、上記筐体の壁および上記放射線遮蔽部材の厚さが設定されていることを特徴とする請求項１または２記載の放射性物質および放射線対応ファンフィルターユニット。
【請求項４】
上記放射線遮蔽部材は、平板形状、Ｌ字断面形状、Ｚ字断面形状またはＴ字断面形状またはこれらの二つ以上を組み合わせた形状を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の放射性物質および放射線対応ファンフィルターユニット。
【請求項５】
密閉可能に構成された包囲体と、
上記包囲体の内部または上記包囲体の壁に設けられたファンフィルターユニットと、
上記包囲体の内部と上記ファンフィルターユニットの入口との間を気密性を持って接続する気体流路とを有し、
上記包囲体の内部から流出する気体の全てが上記気体流路を通って上記ファンフィルターユニットの入口に入るように構成され、
上記ファンフィルターユニットが、
塵埃フィルターと、
上記塵埃フィルターに空気を送り込み、または、上記塵埃フィルターから空気を吸い出す送風ファンと、
放射線遮蔽材料からなり、空気の入口および出口を有する筐体とを有し、
上記塵埃フィルターおよび上記送風ファンまたは上記塵埃フィルターが上記筐体の内部に収容され、
上記塵埃フィルターに捕集される放射性物質および／または放射性物質含有微粒子から放射される放射線が上記筐体および上記筐体の内部に設けられた放射線遮蔽部材により遮蔽されるように構成された放射性物質および放射線対応ファンフィルターユニットであることを特徴とする放射性物質および放射線対応高清浄環境システム。
【請求項６】
上記包囲体は部屋であり、
上記部屋内部には、閉空間である居住空間を有し、
上記部屋を構成する壁の少なくとも一つの少なくとも一部に上記居住空間に接して、ダスト微粒子を通さず、気体分子は通す膜が設けられ、
上記膜の上記居住空間と反対側の面が外気と接し、
上記膜が、上記居住空間の体積をＶ、上記膜の面積をＡ、厚さをＬ、上記膜中の酸素の拡散定数をＤとした時、｛（Ｖ／Ａ）／（Ｄ／Ｌ）｝でスケーリングさせて設定された面積Ａを持ち、
上記居住空間内部の酸素消費レートをＢ、外部と平衡状態にある時の酸素濃度をηo 、上記居住空間内部における目標酸素濃度をη（η＞０．１８）とした時、上記膜の面積Ａが、少なくとも、
2014095694.tif 000001
を満たすように設定されていることを特徴とする請求項５記載の放射性物質および放射線対応高清浄環境システム。
【請求項７】
上記居住空間の内気を排気する、ガス交換機能を有する局所排気装置を上記部屋内に有し、上記内気と、外気とが、上記局所排気装置の内部で、少なくとも一枚の、ダスト微粒子を通さず、気体分子は通す膜を介して接することで、上記内気を構成する分子の濃度と上記外気を構成する分子の濃度とが、上記膜を介した分子の濃度拡散を通じて平衡状態に近づき、その後、当該内気が、上記居住空間へ還流するように構成されていることを特徴とする請求項５記載の放射性物質および放射線対応高清浄環境システム。
【請求項８】
放射線遮蔽材料からなる処理容器を有し、
上記処理容器は、排気用の配管を介して密閉容器と接続され、
上記密閉容器には、
塵埃フィルターと、
上記塵埃フィルターに空気を送り込み、または、上記塵埃フィルターから空気を吸い出す送風ファンと、
放射線遮蔽材料からなり、空気の入口および出口を有する筐体とを有し、
上記塵埃フィルターおよび上記送風ファンまたは上記塵埃フィルターが上記筐体の内部に収容され、
上記塵埃フィルターに捕集される放射性物質および／または放射性物質含有微粒子から放射される放射線が上記筐体および上記筐体の内部に設けられた放射線遮蔽部材により遮蔽されるように構成された放射性物質および放射線対応ファンフィルターユニットが設置され、
上記処理容器の内部に放射性物質含有廃棄物を入れ、上記放射性物質含有廃棄物を押圧部材により押圧して圧縮し、および／または、上記放射性物質含有廃棄物の少なくとも一部を燃焼させることにより上記放射性物質含有廃棄物の容積を減少させることを特徴とする放射性物質含有廃棄物の減容処理システム。
【請求項９】
放射性物質含有水を濾過するフィルターと、
放射線遮蔽材料からなり、水の入口および出口を有する筐体とを有し、
上記フィルターが上記筐体の内部に収容され、
上記フィルターに捕集される放射性物質および／または放射性物質含有微粒子から放射される放射線が上記筐体および上記筐体の内部に設けられた放射線遮蔽部材により遮蔽されるように構成されたことを特徴とする放射性物質および放射線対応フィルター。
【請求項１０】
密閉可能に構成された包囲体と、
上記包囲体の内部に除染を行う放射性物質含有水を注入するための第１の注水管と、
上記包囲体の内部に水洗用の水を注入するための第２の注水管と、
上記包囲体の底部の排出口に設けられた放射性物質および放射線対応フィルターとを有し、
上記放射性物質および放射線対応フィルターが、
放射性物質含有水を濾過するフィルターと、
放射線遮蔽材料からなり、水の入口および出口を有する筐体とを有し、
上記フィルターが上記筐体の内部に収容され、
上記フィルターに捕集される放射性物質および／または放射性物質含有微粒子から放射される放射線が上記筐体および上記筐体の内部に設けられた放射線遮蔽部材により遮蔽されるように構成されたことを特徴とする水洗除染装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月12日(2016.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイブリッドカプラで、
シンセサイザによって生成された信号を受信するステップと、
受信された信号を２つの出力ポートに結合させるステップと、
パルス送信機で、
コントローラからパルス送信活性化信号を受信するステップと、
ハイブリッドカプラの２つの出力ポートのうちの第１の方から入力信号を受信するステップと、
パルス送信活性化信号が受信されたならば、受信した入力信号を増幅するステップであって、増幅が、所定の望ましいパルス出力送信設定に基づくことを特徴とする、増幅するステップと、
周波数変調連続波（ＦＭＣＷ）送信機で、
コントローラからＦＭＣＷ送信活性化信号を受信するステップと、
ハイブリッドカプラの他の出力ポートから入力信号を受信するステップと、
ＦＭＣＷ送信活性化信号が受信さているならば、受信された入力信号を増幅するステップであって、増幅が、所定の望ましいＦＭＣＷ出力送信設定に基づくことを特徴とする、増幅するステップと、
指向性カプラで、
パルス送信機またはＦＭＣＷ送信機のいずれかからローパスフィルタ（ＬＰＦ）に受信された信号を差し向けるステップと、
アイソレータで、
指向性カプラから負荷まで受信された信号を差し向けるステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
ＦＭＣＷ送信機で、
コントローラが不活性化信号をＦＭＣＷ送信機に送信するとき、ＦＭＣＷ送信機のアンプと指向性カプラとの間の減衰を増加させる、ステップを
更に有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
シンセサイザによって生成された信号を受信するように構成され、受信された信号を２つの出力ポートに結合するように構成されたハイブリッドカプラであって、該ハイブリッドカプラが２つの出力ポートを有することを特徴とするハイブリッドカプラと、
前記ハイブリッドカプラの２つの出力ポートの第１の方に結合されたパルス送信機であって、該パルス送信機が、コントローラからパルス送信活性化信号を受信し、ハイブリッドカプラの２つの出力ポートのうちの第１の方から入力信号を受信し、パルス送信活性化信号が受信されたとき受信された入力信号を増幅するように構成されるパルス送信機と、
ハイブリッドカプラの２つの出力ポートのうちの第２の方に取り付けられた周波数変調連続波（ＦＭＣＷ）送信機であって、ＦＭＣＷ送信機が、コントローラからＦＭＣＷ送信活性化信号を受信し、ハイブリッドカプラの他の出力ポートから入力信号を受信し、ＦＭＣＷ送信活性化信号が受信されたとき、所定の好ましいＦＭＣＷ出力送信設定に基づいて受信された入力信号を増幅するように構成されたことを特徴とする、ＦＭＣＷ送信機と、
パルス送信機に取り付けられたアイソレータと、
指向性カプラであって、
前記アイソレータに取り付けられた第１の入力ポートと、
ＦＭＣＷ送信機に取り付けられた第１の入力ポートと、
ローパスフィルタ（ＬＰＦ）に接続された出力ポートと、
を備え、
前記指向性カプラが、アイソレータを介したパルス送信機またはＦＭＣＷ送信機のいずれかからローパスフィルタ（ＬＰＦ）に受信された信号を差し向けるように構成されることを特徴とする、指向性カプラと、
を有し、
前記アイソレータが、指向性カプラから負荷まで受信された信号を差し向けるように構成された、ことを特徴とするシステム。
【請求項４】
ＦＭＣＷ送信機が、
ハイブリッドカプラから信号を受信するように構成されたアンプと、
前記アンプから信号を受信し、指向性カプラに信号を送信するように構成された減衰器と、
を有し、
コントローラが、指向性信号をＦＭＣＷ送信機に送信するとき、前記減衰器が、減衰を増加させる命令されることを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
コントローラと、
シンセサイザによって生成された信号を受信し、受信した信号を２つの出力ポートに結合するように構成されたハイブリッドカプラであって、該ハイブリッドカプラが２つの出力ポートを有することを特徴とするハイブリッドカプラと、
前記ハイブリッドカプラの２つの出力ポートのうちの第１の方に取り付けられたパルストランスミッタであって、該パルストランスミッタが、コントローラから制御信号を受信するように構成され、ることを特徴とするパルストランスミッタと、
前記ハイブリッドカプラの２つの出力ポートのうちの第２の方に取り付けられた周波数変調連続波（ＦＭＣＷ）送信機であって、ＦＭＣＷの送信機が、コントローラから制御信号を受信するように構成される、ことを特徴とする周波数変調連続波（ＦＭＣＷ）送信機と、
パルストランスミッタに取り付けられるアイソレータと、
アイソレータに取り付けられた第１の入力ポートと、
ＦＭＣＷ送信機に取り付けられた第２の入力ポートと、
ローパスフィルタ（ＬＰＦ）に接続された出力ポートと、
を備える指向性カプラと、
を有するシステム。
【請求項６】
ＦＭＣＷ送信機が、
ハイブリッドカプラから信号を受信するように構成されたアンプと、
前記アンプから信号を受信し、指向性カプラに信号を送信するように構成された減衰器と、
を有し、
前記減衰器が、コントローラから制御信号を受信するように構成されることを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月4日(2016.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
突出片が形成された第１環状リングおよび第２環状リングによって内部に空間部が形成されたステータと、
前記空間部に配置されるリング形状のマグネットと、
磁気素子が配置される少なくとも１つ以上の挿入空間を形成する第１コレクター部材および第２コレクター部材を含むコレクター組立体と、を含み、
前記挿入空間は、前記第１コレクター部材の終端及び前記第２コレクター部材の終端が前記空間部に向けて折り曲げられて形成され、
前記第１コレクター部材および前記第２コレクター部材は、
前記第１環状リングまたは前記第２環状リングと隣接配置されるフラックス伝達面と、
前記フラックス伝達面と連結され、前記互いに対向する方向に折り曲げられた対向面と、
前記対向面と連結され、前記第１環状リングと前記第２環状リングとの間の空間部に向けて折り曲げられ、前記磁気素子が配置される挿入面と、を含むことを特徴とするトルク測定装置。
【請求項２】
前記第１コレクター部材は、前記第１環状リングの外面に隣接配置され、前記第２コレクター部材は、前記第２環状リングの外面に隣接配置されることを特徴とする請求項１に記載のトルク測定装置。
【請求項３】
前記第１コレクター部材は、前記第１環状リングの内面に隣接配置され、前記第２コレクター部材は、前記第２環状リングの内面に隣接配置されることを特徴とする請求項１に記載のトルク測定装置。
【請求項４】
前記第１コレクター部材及び前記第２コレクター部材の挿入面の終端には、互いに対向する方向に突起が形成されることを特徴とする請求項１に記載のトルク測定装置。
【請求項５】
前記挿入面の終端は、前記第１環状リングの終端と前記第２環状リングの終端とを連結する仮想線よりも内側に突出することを特徴とする請求項１に記載のトルク測定装置。
【請求項６】
前記挿入面の終端は、前記第１環状リングの終端と前記第２環状リングの終端とを連結する仮想線と一致することを特徴とする請求項１に記載のトルク測定装置。
【請求項７】
前記第１環状リングと前記第２環状リングの突出片は、互いにずれて形成されることを特徴とする請求項１に記載のトルク測定装置。
【請求項８】
請求項１に記載のトルク測定装置を含むステアリング装置。
【請求項９】
請求項１に記載のトルク測定装置を含む車両。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月24日(2016.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチスペクトルスターリングアレイであって、
各々が異なる所定スペクトル感度で画像を検出するようにされた少なくとも２つのセンサであって、該少なくとも２つのセンサが、同一でも平行でもない像面に配置される前記少なくとも２つのセンサと、
入射スペクトル帯域を捕捉する第１のレンズと、
前記第１のレンズと前記少なくとも２つのセンサとの間の、前記入射スペクトル帯域を細分化するように構成されたスペクトルフィルタと、
前記細分化された入射スペクトル帯域を前記少なくとも２つのセンサの各々に向け、そこに合焦させる第２のレンズと、を備えるマルチスペクトルスターリングアレイ。
【請求項２】
前記少なくとも２つのセンサが単一チップ上にある請求項１に記載のアレイ。
【請求項３】
前記第２のレンズがマイクロレンズアレイである請求項１または２に記載のアレイ。
【請求項４】
前記スペクトルフィルタが前記第１のレンズと前記マイクロレンズアレイとの間にある請求項３に記載のアレイ。
【請求項５】
前記マイクロレンズアレイと前記少なくとも２つのセンサの各々の間に光導体を更に備える請求項３に記載のアレイ。
【請求項６】
前記マイクロレンズアレイから前記少なくとも２つのセンサの各々へと光を向ける固定ミラーを更に備える請求項３に記載のアレイ。
【請求項７】
前記第１のレンズと前記スペクトルフィルタとの間に作動式ミラーまたは変形可能ミラーを更に備える請求項１乃至６のいずれかに記載のアレイ。
【請求項８】
前記所定のスペクトル感度が、可視光及び近紫外光（ＶＮＩＲ）、紫外光（ＵＶ）及び赤外光（ＩＲ）の少なくとも１つで最大化される請求項１乃至７のいずれかに記載のアレイ。
【請求項９】
前記入射スペクトル帯域が連続する帯域である請求項１乃至８のいずれかに記載のアレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月19日(2016.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つまたはそれ以上の相を含む、緻密体である持続性燐光性セラミック複合材料であって、
第一の相が少なくとも１つの金属酸化物からなり、および
第二の相が低い酸化数にある少なくとも１つの活性化元素を含む金属酸化物からなる持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項２】
前記第一の相中の金属酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化バリウム、酸化ベリリウム、酸化カルシウムおよび酸化クロムから選択される請求項１記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項３】
前記第一の相中の金属酸化物が、Ｃｅ、ＭｇおよびＹからなる群より選択されるドーパントを用いて安定化されている請求項１記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項４】
前記第一の相中の金属酸化物が、イットリアで安定化されたジルコニアである請求項１記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項５】
前記第二の相中の金属酸化物が、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒおよび／またはＭｇのアルミン酸塩、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒおよび／またはＭｇのケイ酸塩、ならびに、Ｃａおよび／またはＳｒのアルミノケイ酸塩から選択される請求項１記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項６】
前記第二の相中の金属酸化物が、アルミン酸ストロンチウムである請求項１記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項７】
前記第二の相中の金属酸化物が、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕから選択される少なくとも１つの活性化元素を用いてドープされているアルミン酸ストロンチウムである請求項６記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項８】
前記第二の相中の金属酸化物が、ＥｕおよびＤｙを用いてドープされているアルミン酸ストロンチウムである請求項７記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項９】
前記第二の相が、Ｅｕ2+／Ｄｙ3+を賦活したＳｒ4Ａｌ14Ｏ25相である請求項８記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項１０】
２つの相の全重量に対して、第一の相の量が５〜９５重量％であり、そして第二の相の量が５〜９５重量％である請求項１〜９のいずれか１項に記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項１１】
２つの相の全重量に対して、第一の相の量が４０〜９５重量％であり、そして第二の相の量が５〜６０重量％である請求項１０記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項１２】
２つの相の全重量に対して、第一の相の量が５０〜９５重量％であり、そして第二の相の量が５〜５０重量％である請求項１０記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項１３】
２つの相の全重量に対して、第一の相の量が５０〜８０重量％であり、そして第二の相の量が２０〜５０重量％である請求項１０記載の持続性燐光性セラミック複合材料。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の持続性燐光性セラミック複合材料を製造する方法であって、
金属酸化物および燐光体の混合物を調製する工程、
前記混合物から素地を製造する工程、および
還元雰囲気下で前記素地を熱処理する工程を含む方法。
【請求項１５】
製造された素地を酸化雰囲気下での第一の焼結工程において処理する工程、その後に第二の焼結工程としての還元雰囲気下での熱処理工程をさらに含む請求項１４記載の持続性燐光性セラミック複合材料を製造する方法。
【請求項１６】
バインダー材料が混合された材料へと添加され、そして、製造された素地が第一の工程においてバインダー材料を除去するための熱処理によって処理される請求項１４または１５記載の持続性燐光性セラミック複合材料を製造する方法。
【請求項１７】
還元雰囲気下での熱処理が、８００〜１６００℃の範囲の温度で行われる請求項１５記載の持続性燐光性セラミック複合材料を製造する方法。
【請求項１８】
還元雰囲気下での熱処理が、Ａｒ／Ｈ2またはＮ2／Ｈ2の雰囲気中で行われる請求項１５記載の持続性燐光性セラミック複合材料を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月20日(2016.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）二酸、酸エステルおよびジエステルからなる群から選択される少なくとも１種類の化合物と、
（ｂ）少なくとも２種類のジオールとの重縮合生成物を含み、
少なくとも２種類のジオールは、不均化ロジンジオールと、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとを含む、ポリエステル樹脂。
【請求項２】
前記不均化ロジンジオールが、不均化蒸留ロジン酸から誘導される、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項３】
前記不均化蒸留ロジン酸は、酸価が約１７６ｍｇ  ＫＯＨ〜約１８０ｍｇ  ＫＯＨである、請求項２に記載のポリエステル樹脂。
【請求項４】
前記不均化蒸留ロジン酸が、未精製ロジン酸の不均化および蒸留によって得られる、請求項２に記載のポリエステル樹脂。
【請求項５】
前記不均化ロジンジオールが、ロジン酸およびグリセリンカーボネートから誘導される、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項６】
前記ポリエステル樹脂が、約５０℃〜約６５℃のガラス転移点を有する、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項７】
前記ポリエステル樹脂が、約１１０℃〜約１３０℃の軟化点温度を有する、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項８】
前記ポリエステル樹脂が、約５ｍｇ  ＫＯＨ／ｇ〜約３０ｍｇ  ＫＯＨ／ｇの酸価を有する、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項９】
前記ポリエステル樹脂は、約３〜約１００の多分散指数（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項１０】
二酸、酸エステルおよびジエステルからなる群から選択される少なくとも１種類の化合物が、コハク酸、セバシン酸およびイソフタル酸からなる群から選択される、請求項１に記載のポリエステル樹脂。
【請求項１１】
（ａ）二酸、酸エステルおよびジエステルからなる群から選択される少なくとも１種類の化合物と、
（ｂ）少なくとも２種類のジオールとの重縮合生成物を含み、
少なくとも２種類のジオールが、ロジンジオールと、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとを含む、ポリエステル樹脂を含むトナー粒子を含むトナー組成物。
【請求項１２】
前記ポリエステル樹脂はアモルファスである、請求項１１に記載のトナー組成物。
【請求項１３】
結晶性ポリエステル樹脂をさらに含む、請求項１２に記載のトナー組成物。
【請求項１４】
前記トナー粒子は、約３μｍ〜約２０μｍの粒径を有する、請求項１１に記載のトナー組成物。
【請求項１５】
前記トナー粒子は、約０．９３〜０．９９の真円度を有する、請求項１１に記載のトナー組成物。
【請求項１６】
二酸、酸エステルおよびジエステルからなる群から選択される少なくとも１種類の化合物が、コハク酸、セバシン酸およびイソフタル酸からなる群から選択される、請求項１１に記載のトナー組成物。
【請求項１７】
約５０℃〜約５５℃での前記トナー組成物の熱凝固は、０〜２０質量％である、請求項１１に記載のトナー組成物。
【請求項１８】
（ａ）二酸、酸エステルおよびジエステルからなる群から選択される少なくとも１種類の化合物と、
（ｂ）少なくとも２種類のジオールとの重縮合させることを含み、
少なくとも２種類のジオールは、ロジンジオールと、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとを含む、ポリエステル樹脂を調製する方法。
【請求項１９】
前記ロジンジオールは、ロジン酸およびグリセリンカーボネートから合成される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記ロジン酸は、未精製ロジン酸の不均化および蒸留によって得られ、前記ロジン酸は、約１７６ｍｇ  ＫＯＨ〜約１８０ｍｇ  ＫＯＨの酸価を有する、請求項１９に記載の方法。