(57)【要約】  プラズマディスプレイパネルを提供する。該プラズマディスプレイパネルは、互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セルが形成される下部基板及び上部基板と、下部基板と上部基板との間に設けられる複数の隔壁と、下部基板の上面に互いに平行に形成される複数のアドレス電極と、上部基板の下面にアドレス電極と交差する方向に形成される複数の放電電極と、放電セルの内壁に形成される蛍光体層と、を備え、上部基板は、アドレス電極と平行な方向に形成されて放電により放電セルで発生した可視光を集束させて出射させるものであって、入射面を備える複数のライトガイドを備える。
2007535110.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セルを定義する下部基板及び上部基板と、
前記下部基板と上部基板との間に設けられる複数の隔壁と、
前記下部基板の上面に互いに平行に形成される複数のアドレス電極と、
前記上部基板の下面に前記アドレス電極と交差する方向に形成される複数の放電電極と、
前記放電セルの内壁に形成される蛍光体層とを備え、
前記上部基板は、前記アドレス電極または放電セルに対応して形成されて放電により前記放電セルで発生した可視光を集束させて出射させるものであって、出射面より大きい面積を有する入射面を備える複数のライトガイドを備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
記ライトガイドそれぞれは、前記放電セルそれぞれに対応して形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
少なくとも二つの前記ライトガイドは、前記放電セルそれぞれに対応して形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記ライトガイドそれぞれは、二つ以上の放電セルに対応して形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記ライトガイドそれぞれは、ユニットピクセルを形成する三つの放電セルに対応して形成されることを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記上部基板は、前記ライトガイドの間に形成されて外光が前記放電セルに流入することを防止する外光遮蔽部材を備えることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記外光遮蔽部材は、電磁波干渉遮蔽用の導電膜を備えることを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記ライトガイドの出射面は、無反射処理されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記隔壁は、前記アドレス電極と平行に形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記放電電極の下面には、バス電極が形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記下部基板の上面には、前記アドレス電極を覆うように第１誘電体層が形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記上部基板の下面には、前記放電電極を覆うように第２誘電体層が形成されることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記第２誘電体層の下面には、保護膜が形成されることを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
前記ライトガイドは、前記アドレス電極と平行に形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記ライトガイドは、前記アドレス電極と直交する方向に形成されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
前記ライトガイドは、円錘状またはピラミッド状を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに係り、特に輝度及び明室コントラストを向上させる改善された構造のプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、電気的放電を利用して画像を形成する装置であって、輝度や視野角などの表示性能にすぐれる。かかるＰＤＰにおいて、直流または交流電圧が電極に印加されれば、電極の間でガス放電が起き、ガス放電の間に発生した紫外線は蛍光体を励起させることによって、可視光が励起された蛍光物質から放出する。
【０００３】
前記ＰＤＰは、ガス放電の類型によって直流型または交流型に分類されうる。直流型ＰＤＰは、あらゆる電極が放電空間に露出される構造であって、対応電極の間に電荷の移動が直接的に行われる。交流型ＰＤＰは、少なくとも一つの電極が誘電体層で覆われ、対応する電極の間に直接的な電荷の移動が行われない代わりに、壁電荷により放電が行われる。
【０００４】
また、ＰＤＰは、電極の配置構造によって対向放電型または面放電型に分類されうる。対向放電型ＰＤＰは、対をなす二つの維持電極がそれぞれ下部基板と上部基板とに配置された構造であって、放電が基板に垂直な方向に形成される。面放電型ＰＤＰは、対をなす二つの維持電極が同じ基板上に配置された構造であって、放電が基板に平行な方向に形成される。
【０００５】
前記対向放電型ＰＤＰは、発光効率が高い一方、プラズマにより蛍光体層が容易に劣化するという短所がある。これにより、最近には、面放電型ＰＤＰが主に使われている。
【０００６】
図１及び図２には、従来の一般的な面放電型ＰＤＰが示されている。図２では、ＰＤＰの内部構造をさらに分かりやすく見せるために、上部基板のみを９０°回転した状態に示されている。
【０００７】
図１及び図２に示すように、従来のＰＤＰは、相互対面する下部基板１０と上部基板２０とを備える。
【０００８】
下部基板１０の上面には、複数のアドレス電極１１がストライプ状に配列されており、このアドレス電極１１は、第１誘電体層１２により埋め込まれている。そして、第１誘電体層１２の上面には、放電セル１４間の電気的、光学的クロストークを防止するための複数の隔壁１３が互いに所定間隔をおいて形成されている。放電セル１４の内面は、隔壁１３により区画され、所定厚さの赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層１５で塗布されている。そして、放電セル１４内には、放電ガスが充填される。前記放電ガスは、プラズマ放電のために一般的に使われるガスであるネオン（Ｎｅ）ガスと少量のキセノン（Ｘｅ）ガスとの混合ガスである。
【０００９】
上部基板２０は、可視光が透過可能な透明基板であって、主にガラスで形成される。この上部基板２０は、隔壁１３が設けられた下部基板１０に結合される。上部基板２０の下面には、アドレス電極１１と直交するストライプ状の維持電極２１ａ，２１ｂが対をなして形成されている。維持電極２１ａ，２１ｂは、可視光が透過されうるように主にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）のような透明な導電性材料からなる。そして、維持電極２１ａ，２１ｂのライン抵抗を減らすために、維持電極２１ａ，２１ｂそれぞれの下面には、金属材質からなるバス電極２２ａ，２２ｂが維持電極２１ａ，２１ｂより狭く形成されている。かかる維持電極２１ａ，２１ｂとバス電極２２ａ，２２ｂとは、第２誘電体層２３により埋め込まれており、第２誘電体層２３の下面には、保護膜２４が形成されている。保護膜２４は、プラズマ粒子のスパッタリングによる第２誘電体層２３の損傷を防止し、２次電子を放出して放電電圧を低める。かかる保護膜２４は、一般的に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる。一方、上部基板２０の上面には、外部からパネルの内部に光が流入することを防止するために、複数のブラックストライプ３０が所定間隔ほど維持電極２１ａ，２１ｂと平行に形成されている。
【００１０】
かかる構成を有する従来のＰＤＰの駆動は、アドレス放電のための駆動と維持放電のための駆動とに大別される。アドレス放電は、アドレス電極１１と、維持電極２１ａ，２１ｂのうちいずれか一つの電極との間で起き、このアドレス放電時に壁電荷が形成される。維持放電は、壁電荷が形成された放電セル１４に位置する維持電極２１ａ，２１ｂの間の電位差により起きる。この維持放電時に放電ガスから発生する紫外線により該放電セル１４の蛍光体層１５が励起されて可視光が発散し、この可視光が上部基板２０を通じて出射しつつユーザーが認識できる画像を形成する。
【００１１】
しかし、前記のような構造のＰＤＰでは、外部が明るい条件、すなわち明室条件では、外光がパネルの放電セル１４の内部に流入して放電セル１４で発生した光と外部から流入された光とが重なる。その結果、明室コントラストが低下してＰＤＰの画面表示能力が劣化する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、前記のような問題点を解決するためのものであって、上部基板の構造を改善して輝度及び明室コントラストを向上させるＰＤＰを提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために、本発明の具現例によるＰＤＰが開示される。開示されたＰＤＰは、互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セルが形成される下部基板及び上部基板と、前記下部基板と上部基板との間に設けられる複数の隔壁と、前記下部基板の上面に互いに平行に形成される複数のアドレス電極と、前記上部基板の下面に前記アドレス電極と交差する方向に形成される複数の放電電極と、前記放電セルの内壁に形成される蛍光体層とを備え、前記上部基板は、前記アドレス電極と平行な方向に形成されて放電により前記放電セルで発生した可視光を集束させて出射させるものであって、入射面が出射面より大きい複数のライトガイドを備える。
【００１４】
前記ライトガイドそれぞれは、前記放電セルそれぞれに対応して形成されうる。または、少なくとも二つの前記ライトガイドが前記放電セルに対応して形成されることもある。前記ライトガイドそれぞれは、二つ以上の放電セルに対応して形成されることもある。このとき、前記ライトガイドそれぞれは、ユニットピクセルを形成する三つの放電セルに対応して形成されることが望ましい。
【００１５】
前記上部基板は、前記ライトガイドの間に形成されて外光が前記放電セルに流入することを防止する外光遮蔽部材を備えることが望ましい。前記外光遮蔽部材は、電磁波干渉（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）遮蔽用の導電膜を備えうる。
【００１６】
また、前記ライトガイドの出射面は、無反射物質で処理されることが望ましい。
【００１７】
前記隔壁は、前記アドレス電極と平行に形成され、前記放電電極の下面には、バス電極が形成されうる。
【００１８】
前記下部基板の上面には、前記アドレス電極を覆うように第１誘電体層が形成され、前記上部基板の下面には、前記放電電極を覆うように第２誘電体層が形成されうる。このとき、前記第２誘電体層の下面には、保護膜が形成されることが望ましい。
【００１９】
本発明の他の具現例によるＰＤＰが開示される。開示されたＰＤＰは、互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セルが形成される下部基板及び上部基板と、前記下部基板と上部基板との間に設けられる複数の隔壁と、前記下部基板の上面に互いに平行に形成される複数のアドレス電極と、前記上部基板の下面に前記アドレス電極と交差する方向に形成される複数の放電電極と、前記放電セルの内壁に形成される蛍光体層とを備え、前記上部基板は、前記アドレス電極と直交する方向に形成されて放電により前記放電セルで発生した可視光を集束させて出射させるものであって、入射面が出射面より大きい複数のライトガイドを備える。
【００２０】
前記ライトガイドそれぞれは、前記放電セルそれぞれに対応して形成されうる。または、少なくとも二つの前記ライトガイドが前記放電セルに対応して形成されることもある。
【００２１】
前記上部基板は、前記ライトガイドの間に形成されて外光が前記放電セルに流入することを防止する外光遮蔽部材を備えることが望ましい。
【００２２】
本発明のさらに他の具現例によるＰＤＰが開示される。開示されたＰＤＰは、互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セルが形成される下部基板及び上部基板と、前記下部基板と上部基板との間に設けられる複数の隔壁と、前記下部基板の上面に互いに平行に形成される複数のアドレス電極と、前記上部基板の下面に前記アドレス電極と交差する方向に形成される複数の放電電極と、前記放電セルの内壁に形成される蛍光体層とを備え、前記上部基板は、前記放電セルそれぞれに対応して形成されて放電により前記放電セルで発生した可視光をそれぞれ集束させて出射させるものであって、入射面が出射面より大きい複数のライトガイドを備える。
【００２３】
ここで、前記ライトガイドの形状は、円錘状またはピラミッド状となりうる。そして、前記上部基板は、前記ライトガイドの間に形成されて外光が前記放電セルに流入することを防止する外光遮蔽部材を備えることが望ましい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の実施形態によるＰＤＰによれば、次のような効果がある。
【００２５】
第１に、出射面より大きい入射面を備えるライトガイドが上部基板に形成されることによって、放電により発生する可視光の損失を減らせ、これにより、パネルの輝度を向上させる。
【００２６】
第２に、ライトガイドの間に外光遮蔽部材を形成することによって、外光が放電セルに流入することを防止でき、これにより、明室コントラストを向上させる。
【００２７】
第３に、ライトガイドを数十μmほどの大きさに形成することによって、ＸＧＡやＳＸＧＡのような解像度にも対応可能であるので、高精密の画像を具現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明は、本発明の例示的な実施形態が示された添付図面を参照してさらに詳細に説明される。
【００２９】
図３は、本発明の実施形態によるＰＤＰを一部切断して示す斜視図であり、図４は、図３に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【００３０】
図３及び図４に示すように、本発明の実施形態によるＰＤＰは、互いに離隔されて対向して配置される下部基板１１０と上部基板１３０とを備える。ここで、下部基板１１０と上部基板１３０との間には、プラズマ放電が起きる複数の放電セル１１４が形成される。
【００３１】
下部基板１１０は、望ましくは、ガラス基板からなりうる。前記下部基板の上面には、複数のアドレス電極１１１が互いに平行にストライプ状に形成される。そして、第１誘電体層１１２は、アドレス電極１１１及び下部基板１１０を覆うように形成される。かかる第１誘電体層１１２は、下部基板１１０の上面に、望ましくは、白色の誘電物質を所定厚さに塗布することによって形成されうる。
【００３２】
第１誘電体層１１２の上面には、複数の隔壁１１３がアドレス電極と所定間隔をおいてアドレス電極１１１と平行な方向に形成される。隔壁１１３は、下部基板１１０と上部基板１２０との空間を区画して放電セル１１４を形成する。また、隔壁１１３は、隣接する放電セル１１４間に電気的、光学的クロストークを防止して色純度を向上させる役割を行う。放電セル１１４の内壁をなす第１誘電体層１１２の上面及び隔壁１１３の側面には、Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体層１１５が所定厚さに塗布されている。蛍光体層１１５は、プラズマ放電により発生した紫外線により励起されて所定色相の可視光を放出する。そして、放電セル１１４の内部には、放電ガスが充填される。前記放電ガスは、プラズマ放電のために主に使われるガスであって、望ましくは、Ｎｅガスと少量のＸｅガスとの混合物である。
【００３３】
上部基板１３０は、アドレス電極１１１と平行な方向に形成されて放電により発生した可視光を集束して出射させる複数のライトガイド１３１を備える。ここで、ライトガイド１３１それぞれは、放電セル１１４それぞれに対応して形成される。かかるライトガイド１３１は、それぞれその表面から光が反射し、入射面１３１ａに入った光を出射面１３１ｂに出すように誘導する。そして、ライトガイド１３１は、放電セル１１４で発生した可視光を集束して外部に出射させるために、望ましくは、入射面１３１ａが出射面１３１ｂより大きく形成される。かかる構造のライトガイド１３１を上部基板１３０に設置することによって、放電により発生した可視光の損失を低減できてパネルの輝度を向上させる。また、ライトガイド１３１は、その幅が数十μm以下の大きさに形成されうるため、ＸＧＡまたはＳＸＧＡの解像度にも対応可能であるので、高精密の画像を具現できる。
【００３４】
ライトガイド１３１の出射面１３１ｂは、外光がライトガイド１３１の出射面１３１ｂで反射して発生する目くらみ効果を防止するために、無反射処理されることが望ましい。
【００３５】
上部基板１３０は、ライトガイド１３１の間にアドレス電極１１１と平行な方向に形成される外光遮蔽部材１３２を備えて、外光が放電セル１１４に流入することを防止する。かかる外光遮蔽部材１３２は、上部基板１３０の上面で可視光が出射される領域以外の領域に形成されるので、外光が放電セル１１４に流入することを従来より効果的に防止でき、これにより、パネルの明室コントラストを向上させる。そして、外光遮蔽部材１３２には、ＥＭＩ遮蔽用の導電膜が含まれうる。
【００３６】
上部基板１３０の下面には、維持放電のための第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂがアドレス電極１１１と直交する方向に形成される。かかる第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂは、放電セル１１４で発生した可視光が透過可能に、望ましくは、ＩＴＯのような透明な導電性材料からなる。そして、第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂの下面には、それぞれ望ましくは、金属材質からなる第１及び第２バス電極１２２ａ，１２２ｂが形成される。かかる第１及び第２バス電極１２２ａ，１２２ｂは、それぞれ第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂのライン抵抗を減らすための電極であって、望ましくは、第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂより狭く形成される。
【００３７】
上部基板１３０の下面には、第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂと第１及び第２バス電極１２２ａ，１２２ｂとを覆うように第２誘電体層１２３が形成される。かかる第２誘電体層１２３は、望ましくは、上部基板１３０の下面に透明な誘電物質を所定厚さに塗布することによって形成されうる。
【００３８】
そして、第２誘電体層１２３の下面には、保護膜１２４が形成される。かかる保護膜１２４は、プラズマ粒子のスパッタリングによる第２誘電体層１２３、第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂの損傷を防止し、２次電子を放出して放電電圧を低める役割を行う。保護膜１２４は、望ましくは、第２誘電体層１２３の下面にＭｇＯのような誘電物質を所定厚さに塗布することによって形成されうる。
【００３９】
前記のような構造のＰＤＰにおいて、まず、アドレス電極１１１と、第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂのうちいずれか一つの電極との間でアドレス放電が起きれば、壁電荷が形成される。次いで、第１及び第２放電電極１２１ａ，１２１ｂに交流電圧が印加されれば、壁電荷が形成された放電セル１１４の内部で維持放電が起きる。かかる維持放電は、放電ガスから紫外線を発生させ、このように発生した紫外線は、蛍光体層１１５を励起させて可視光を発生させる。
【００４０】
そして、放電セルそれぞれで発生した可視光は、ライトガイド１３１により上部基板１３０の上面に集束された後、外部に拡散して出射される。これにより、放電セル１１４で発生した可視光の損失が減ってパネルの輝度が向上する。
【００４１】
また、ライトガイド１３１の間には、外光遮蔽部材１３２が設けられているため、外光が放電セル１１４に流入することを効果的に防止できて明室コントラストが向上する。
【００４２】
図５は、図３及び図４に示したＰＤＰの変形例を示す断面図である。図５に示すように、上部基板２３０には、一つの放電セル１１４に対応して、放電セル１１４で発生した可視光をそれぞれ集束して出射させる二つのライトガイド２３１’，２３１”がアドレス電極１１１と平行な方向に形成されている。ここで、ライトガイド２３１’，２３１”それぞれは、出射面２３１’ｂ，２３１”ｂより大きい入射面２３１’ａ，２３１”ａを備える。一方、図５には、上部基板２３０に一つの放電セル１１４に対応する二つのライトガイド２３１’，２３１”が形成された場合が示されているが、一つの放電セル１１４に対応して三つ以上のライトガイドが形成されることもある。望ましくは、ライトガイド２３１’，２３１”の出射面２３１’ｂ，２３１”ｂは、無反射処理されている。このように、一つの放電セルに対応して二つ以上のライトガイドを形成すれば、放電セルで発生した可視光の損失を減らすと共に光集積度を高めてパネルの輝度をさらに向上させる。
【００４３】
ライトガイド２３１’，２３１”の間には、外光が放電セル１１４に流入することを防止する外光遮蔽部材２３２が形成される。これにより、上部基板２３０の上面には、外光遮蔽部材２３２が前述した実施形態の場合よりさらに広い領域にわたって形成され、その結果、パネルの明室コントラストがさらに向上する。そして、外光遮蔽部材２３２には、ＥＭＩ遮蔽用の導電膜が含まれうる。
【００４４】
図６は、図３及び図４に示したＰＤＰの他の実施形態を示す断面図である。図６に示すように、上部基板３３０には、ライトガイド３３１それぞれが二つ以上の放電セルに対応して形成される。ライトガイド３３１それぞれは、出射面３３１ｂより大きい入射面３３１ａを備える。ライトガイド３３１それぞれは、一つのピクセルに対応して形成されることが望ましい。すなわち、ライトガイド３３１それぞれは、Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体層１１５Ｒ，１１５Ｇ，１１５Ｂが形成された三つの放電セル１１４に対応して形成されることが望ましい。ライトガイド３３１それぞれは、Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体層１１５Ｒ，１１５Ｇ，１１５Ｂが形成された三つの放電セル１１４で発生する可視光を集束して外部に出射させる。ライトガイド３３１の出射面３３１ｂは、望ましくは、無反射処理されている。このように、ライトガイド３３１を一つのピクセルに対応して形成すれば、パネルの輝度を向上させるだけでなく、ライトガイド３３１の加工が向上して低価格のパネルを具現できる。
【００４５】
また、ライトガイド３３１の間には、外光が放電セル１１４に流入することを防止する外光遮蔽部材３３２が形成される。そして、外光遮蔽部材３３２には、ＥＭＩ遮蔽用の導電膜が含まれうる。
【００４６】
図７は、本発明の他の実施形態によるＰＤＰを一部切断して示す斜視図であり、図８は、図７に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【００４７】
図７及び図８に示すように、下部基板２１０と上部基板４３０とが互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セル２１４が形成される。下部基板２１０上には、アドレス電極２１１と第１誘電体層２１２とが順次に形成される。そして、第１誘電体層２１２の上面には、複数の隔壁２１３がアドレス電極２１１と所定間隔をおいてアドレス電極２１１と平行な方向に形成される。放電セル２１４の内壁をなす第１誘電体層２１２の上面及び隔壁２１３の側面には、蛍光体層２１５が塗布される。放電セル２１４は、放電ガスで充填される。
【００４８】
上部基板４３０は、前述した実施形態の場合とは異なり、アドレス電極２１１と直交する方向に形成されて放電により発生した可視光を集束して出射させる複数のライトガイド４３１を備える。ここで、ライトガイド４３１それぞれは、放電セル２１４それぞれに対応して形成される。かかるライトガイド４３１は、それぞれその表面から光が反射し、入射面４３１ａに入った光を出射面４３１ｂに出すように誘導する。そして、ライトガイド４３１は、放電セル２１４で発生した可視光を集束して外部に出射させるために、出射面４３１ｂより大きい入射面４３１ａを備える。かかる構造のライトガイド４３１を上部基板４３０に設置することによって、放電により発生した可視光の損失を減らせてパネルの輝度を向上させる。
【００４９】
ライトガイド４３１の出射面４３１ｂは、外光がライトガイド４３１の出射面４３１ｂで反射して発生する目くらみ効果を防止するために、無反射処理されていることが望ましい。
【００５０】
上部基板４３０は、ライトガイド４３１の間にアドレス電極２１１と直交する方向に形成されて外光が放電セル２１４に流入することを防止する外光遮蔽部材４３２を備える。かかる外光遮蔽部材４３２により外光が放電セル２１４に流入することを効果的に防止でき、これにより、パネルの明室コントラストを向上させる。そして、外光遮蔽部材４３２には、ＥＭＩ遮蔽用の導電膜が含まれうる。
【００５１】
上部基板４３０の下面には、維持放電のための第１及び第２放電電極２２１ａ，２２１ｂがアドレス電極２１１と直交する方向に形成される。そして、第１及び第２放電電極２２１ａ，２２１ｂの下面には、それぞれ金属材質からなる第１及び第２バス電極２２２ａ，２２２ｂが形成される。
【００５２】
上部基板４３０の下面には、第１及び第２放電電極２２１ａ，２２１ｂと第１及び第２バス電極２２２ａ，２２２ｂとを覆うように第２誘電体層２２３が形成され、第２誘電体層２２３の下面には、保護膜２２４が形成される。
【００５３】
図９は、図７及び図８に示したＰＤＰの変形例を示す断面図である。図９に示すように、上部基板５３０には、一つの放電セル２１４に対応して放電セル２１４で発生した可視光をそれぞれ集束して出射させる二つのライトガイド５３１’，５３１”がアドレス電極２１１と直交する方向に形成されている。ここで、ライトガイド５３１’，５３１”それぞれは、出射面５３１’ｂ，５３１”ｂより大きい入射面５３１’ａ，５３１”ａを備える。一方、図９には、上部基板５３０に一つの放電セル２１４に対応する二つのライトガイド５３１’，５３１”が形成された場合が示されているが、一つの放電セル２１４に対応して三つ以上のライトガイドが形成されることもある。ライトガイド５３１’，５３１”の出射面５３１’ｂ，５３１”ｂは、無反射処理されていることが望ましい。このように、一つの放電セルに対応して二つ以上のライトガイドを形成すれば、放電セルで発生した可視光の損失を減らせると共に光集積度を高めてパネルの輝度をさらに向上させる。
【００５４】
また、ライトガイド５３１’，５３１”の間には、外光が放電セル２１４に流入することを防止する外光遮蔽部材５３２が形成される。これにより、パネルの明室コントラストがさらに向上する。そして、外光遮蔽部材５３２には、ＥＭＩ遮蔽用の導電膜が含まれうる。
【００５５】
図１０は、本発明のさらに他の実施形態によるＰＤＰを一部切断して示す斜視図であり、図１１及び図１２は、図１０に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【００５６】
図１０ないし図１２に示すように、下部基板３１０と上部基板６３０とが互いに離隔されて配置されてその間に複数の放電セル３１４が形成される。下部基板３１０上には、アドレス電極３１１と第１誘電体層３１２とが順次に形成される。そして、第１誘電体層３１２の上面には、複数の隔壁３１３がアドレス電極３１１と平行な方向に形成される。放電セル３１４の内壁をなす第１誘電体層３１２の上面及び隔壁３１３の側面には、蛍光体層３１５が塗布される。放電セル３１４は、放電ガスで充填される。
【００５７】
上部基板６３０は、放電セル３１４それぞれに対応して形成されて放電により発生した可視光をそれぞれ集束して出射させる複数のライトガイド６３１を備える。かかるライトガイド６３１は、それぞれその表面から光が反射し、入射面６３１ａに入った光を出射面６３１ｂに出るように誘導する。そして、ライトガイド６３１それぞれは、出射面６３１ｂより大きい入射面６３１ａを備える。このとき、ライトガイド６３１それぞれは、円錘状、ピラミッド状または他の多様な形状に形成されうる。かかるライトガイド６３１は、放電セル３１４で発生した可視光をそれぞれ集束して外部に出射させる。これにより、放電により発生した可視光の損失は減り、その結果、パネルの輝度が向上する。望ましくは、ライトガイド６３１の出射面６３１ｂは、無反射処理されている。
【００５８】
そして、上部基板６３０は、ライトガイド６３１の間に形成されて外光が放電セル３１４に流入することを防止する外光遮蔽部材６３２をさらに備える。本実施形態では、外光遮蔽部材６３２が前述した実施形態の場合より上部基板６３０のさらに広い領域に形成されうるので、パネルの明室コントラストをさらに向上させる。そして、外光遮蔽部材６３２には、ＥＭＩ遮蔽用の導電膜が含まれうる。
【００５９】
上部基板６３０の下面には、維持放電のための第１及び第２放電電極３２１ａ，３２１ｂが、望ましくはアドレス電極３１１と直交する方向に形成される。そして、第１及び第２放電電極３２１ａ，３２１ｂの下面には、それぞれ金属材質からなる第１及び第２バス電極３２２ａ，３２２ｂが形成される。
【００６０】
上部基板６３０の下面には、第１及び第２放電電極３２１ａ，３２１ｂと第１及び第２バス電極３２２ａ，３２２ｂとを覆うように第２誘電体層３２３が形成される。第２誘電体層３２３の下面には、保護膜３２４が形成される。
【００６１】
本発明は、その例示的な実施形態を参考にして具体的に記述されたが、特許請求の範囲により定義されるように、本発明の思想及び範囲から逸脱せずに多様な変形がなされることは当業者により理解されるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、ＰＤＰ関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】従来のＰＤＰを一部切断して示す斜視図である。
【図２】図１に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【図３】本発明の実施形態によるＰＤＰを一部切断して示す斜視図である。
【図４】図３に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【図５】図３に示したＰＤＰの変形例を示す断面図である。
【図６】図３に示したＰＤＰの他の変形例を示す断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態によるＰＤＰを一部切断して示す斜視図である。
【図８】図７に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【図９】図７に示したＰＤＰの変形例を示す断面図である。
【図１０】本発明のさらに他の実施形態によるＰＤＰを一部切断して示す斜視図である。
【図１１】図１０に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【図１２】図１０に示したＰＤＰの内部構造を示す断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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