Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月26日(2016.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版に形成されているパターンを、第１のパターン形成領域として基板上に露光する露光装置であって、
前記原版を保持する原版保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記原版保持部と前記基板保持部との走査を制御し、前記基板上に予め形成された複数の第２のパターン形成領域に、前記第１のパターン形成領域を重ね合わせて露光させる制御部と、を備え、
前記原版には、前記第１のパターン形成領域として前記基板上に露光される複数の前記パターンが形成され、
前記制御部は、前記原版保持部と前記基板保持部とを走査させ、前記第１のパターン形成領域を前記複数の第２のパターン形成領域に一括して重ね合わせる露光を複数回行う間に、前記基板上に予め形成された前記第２のパターン形成領域の状態、または前記原版に形成されている前記パターンの状態に基づいて、前記原版保持部または前記基板保持部の動作を前記複数回行われる露光間で変更させる、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２のパターン形成領域の状態には、前記第２のパターン形成領域の形状または配列を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第２のパターン形成領域の状態に基づいて、前記第１のパターン形成領域と前記第２のパターン形成領域との間で、倍率誤差または回転誤差が許容範囲を超えて発生しているときに、前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作を変更させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記原版における前記パターンの状態には、前記パターンの形状または配列を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記原版における前記パターンの状態に基づいて、前記パターンの製造誤差が許容範囲を超えて発生しているときに、前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作を変更させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記原版保持部の前記動作の変更には、走査速度、走査方向および走査位置、または前記複数の第２のパターン形成領域に前記第１のパターン形成領域を投影する投影光学系の光軸方向に対する垂直平面内における角度の少なくともいずれかの変更を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記基板に形成された前記複数の第２のパターン形成領域の前記形状または前記配列を計測する計測器を備えることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項８】
前記原版は、前記複数のパターンの形成位置に合わせたマークを有し、
前記マークの位置を計測する位置計測器を備え、
前記制御部は、前記位置計測器が計測した前記マークの位置から前記パターンの形状または配列を求める、
ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項９】
原版に形成されているパターンを、第１のパターン形成領域として基板上に露光する露光方法であって、
前記原版を保持する原版保持部と、前記基板を保持する基板保持部とを走査させつつ、前記基板上に予め形成された複数の第２のパターン形成領域に、前記第１のパターン形成領域を重ね合わせて露光する工程を含み、前記原版が前記第１のパターン形成領域として前記基板上に露光される複数の前記パターンを複数有する場合、
前記工程では、前記原版保持部と前記基板保持部とを走査させ、前記第１のパターン形成領域を前記複数の第２のパターン形成領域に一括して重ね合わせる露光を複数回行う間に、前記基板上に予め形成された前記第２のパターン形成領域の状態、または前記原版に形成されている前記パターンの状態に基づいて、前記原版保持部または前記基板保持部の動作を前記複数回行われる露光間で変更する、
ことを特徴とする露光方法。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
その露光した基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、原版に形成されているパターンを、第１のパターン形成領域として基板上に露光する露光装置であって、原版を保持する原版保持部と、基板を保持する基板保持部と、原版保持部と基板保持部との走査を制御し、基板上に予め形成された複数の第２のパターン形成領域に、第１のパターン形成領域を重ね合わせて露光させる制御部と、を備え、原版には、第１のパターン形成領域として基板上に露光される複数のパターンが形成され、制御部は、原版保持部と基板保持部とを走査させ、第１のパターン形成領域を複数の第２のパターン形成領域に一括して重ね合わせる露光を複数回行う間に、基板上に予め形成された第２のパターン形成領域の状態、または原版に形成されているパターンの状態に基づいて、原版保持部または基板保持部の動作を複数回行われる露光間で変更させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月21日(2016.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板保持具および基板処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を上下に所定の間隔をもって保持する基板保持具であって、
前記基板が載置される載置部が設けられた複数本の基板保持柱と、
前記基板保持柱の下部に接続されたベースプレートと、を備え、
前記基板保持柱は、少なくとも前記ベースプレートとの接続部分に第１の曲面加工部を有する基板保持具。
【請求項２】
前記基板保持具は、上下方向に前記基板を保持する基板保持領域と、前記基板保持領域の下方に設けられ、断熱板を保持する断熱板保持領域と、をさらに有し、
前記断熱板保持領域は、少なくとも前記断熱板を保持する断熱板保持柱と、前記ベースプレートと対向するように設けられた断熱板保持プレートから構成され、
前記断熱板保持柱は、少なくとも前記断熱板保持プレートとの接続部分に第２の曲面加工部を有する請求項１に記載の基板保持具。
【請求項３】
前記基板保持具は、前記第１の曲面加工部と前記第２の曲面加工部の半径が異なるように構成される請求項２に記載の基板保持具。
【請求項４】
前記基板保持具は、前記複数本の基板保持柱の間の少なくとも一箇所に前記基板保持具補強用の補強柱をさらに備え、
前記補強柱は、外面と内面を貫通するように高さ方向に亘ってガス通過のためのスリットを有する請求項１から３のいずれか１つに記載の基板保持具。
【請求項５】
前記基板保持具は、前記補強柱と前記ベースプレートとの接続部分に前記第１の曲面加工部を有する請求項４に記載の基板保持具。
【請求項６】
前記基板保持具を収容する処理室と、
前記処理室内に所定の処理ガスを供給するガス供給部と、
を有する請求項１から５のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月31日(2016.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収容する処理室と、
基板に電磁波を照射する電磁波照射部と、
前記基板の温度を測定する温度測定部と、
前記基板を処理する際に、前記電磁波照射部により照射される前記電磁波の電力を制御するように構成されたコントローラと、を有し、
前記コントローラは、前記温度測定部で測定された前記基板の温度に基づいて、予め設定された最大電力値以下となるように前記電力を調整する、
基板処理装置。
【請求項２】
前記コントローラは、
前記電磁波の照射を開始した時点から後の第１の期間の間、前記予め設定された最大電力値が第１の最大電力値となるように設定される、
請求項１に記載された基板処理装置。
【請求項３】
前記コントローラは、
前記電磁波の照射を開始した時点から後の第１の期間の間、前記予め設定された最大電力値が第１の最大電力値となるように設定され、
前記第１の期間の後の第２の期間の間、前記予め設定された最大電力値が、前記第１の最大電力値よりも大きい第２の最大電力値となるように設定される、
請求項１に記載された基板処理装置。
【請求項４】
前記コントローラは、
前記第１の期間の間、前記電力を上昇させる際の上昇レートが第１のレートとなるように設定され、
前記第２の期間の間、前記上昇レートが前記第１のレートよりも大きい第２のレートとなるように設定される、
請求項３に記載された基板処理装置。
【請求項５】
前記温度測定部は放射温度計により構成される、請求項１〜４のいずれかに記載された基板処理装置。
【請求項６】
前記コントローラは、前記温度測定部で測定された前記基板の温度が予め設定された温度となるように前記電力を調整する、請求項１〜５のいずれかに記載された基板処理装置。
【請求項７】
処理室に収容された基板に電磁波を照射する電磁波照射工程と、
前記基板の温度を測定する温度測定工程と、
前記基板の温度に基づいて前記基板に供給される電磁波の電力を調整する電力調整工程と、を有し、
前記電力調整工程では、前記温度測定工程で測定された前記基板の温度に基づいて、予め設定された最大電力値以下となるように前記電力を調整する、
半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記電力調整工程では、
前記電磁波照射工程において前記電磁波の照射を開始した時点から後の第１の期間の間、前記予め設定された最大電力値が第１の最大電力値となるように前記電力を調整し、
前記第１の期間の後の第２の期間の間、前記予め設定された最大電力値が、前記第１の最大電力値よりも大きい第２の最大電力値となるように前記電力を調整する、
請求項７に記載された半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記電力調整工程では、
前記第１の期間の間、前記電力を上昇させる際の上昇レートが第１のレートとなるように前記電力を調整し、
前記第２の期間の間、前記上昇レートが前記第１のレートよりも大きい第２のレートとなるように前記電力を調整する、
請求項８に記載された半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
処理室に収容された基板に電磁波を照射する電磁波照射手順と、
前記基板の温度を測定する温度測定手順と、
前記基板の温度に基づいて前記基板に供給される電磁波の電力を調整する電力調整手順と、
を含む手順をコンピュータにより基板処理装置に実行させるプログラムであって、
前記電力調整手順では、前記温度測定手順で測定された前記基板の温度に基づいて、予め設定された最大電力値以下となるように前記電力を調整する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月13日(2016.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物に形成された凹部に向け、塗布液の液滴を吐出する塗布部と、
前記凹部の容量より多い量の塗布液を前記凹部に供給し、この供給された塗布液が前記凹部の周囲の前記塗布対象物上で環状の壁を形成するように前記塗布液が乾燥した状態で、その環状の壁から溢れ出さない量の塗布液を前記凹部に供給するように前記塗布部を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記環状の壁から溢れ出さない量の塗布液を前記凹部に供給することを繰り返すように前記塗布部を制御することを特徴とする請求項１に記載の液滴塗布装置。
【請求項３】
前記塗布対象物は、半導体ウェーハであり、前記塗布液は、導電性物質及び揮発性溶媒を含むことを特徴とする請求項２に記載の液滴塗布装置。
【請求項４】
前記凹部の容量より多い量は、前記凹部の周囲の前記半導体ウェーハ上に前記塗布液を溢れさせて前記環状の壁を形成する量であって、前記塗布液に含まれる導電性物質が溶融したときの表面張力によって、前記壁を形成する前記塗布液に含まれる導電性物質が、前記凹部の周囲から前記凹部上に戻ることが可能な量であることを特徴とする請求項３に記載の液滴塗布装置。
【請求項５】
塗布対象物に形成された凹部に向け、塗布液の液滴を吐出する塗布部を用いて、前記凹部の容量より多い量の塗布液を前記凹部に供給する工程と、
前記凹部に供給された塗布液が前記凹部の周囲の前記塗布対象物上で環状の壁を形成するように前記塗布液を乾燥させる工程と、
前記凹部の周囲の前記塗布対象物上に前記塗布液による環状の壁が形成された状態で、前記塗布部を用いて前記環状の壁から溢れ出さない量の塗布液を前記凹部に供給する工程と、
を有することを特徴とする液滴塗布方法。
【請求項６】
前記塗布対象物には、前記凹部が複数形成され、前記凹部の容量より多い量の塗布液を前記凹部に供給する工程においては、隣接する前記凹部からそれぞれ漏れ出した前記溶液が互いに接触しない量の前記塗布液を供給することを特徴とする請求項５記載の液滴塗布方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月7日(2016.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板本体と、
前記基板本体の一方の面から他方の面に貫通する貫通孔と、
前記貫通孔内に形成された貫通配線と、を有し、
前記貫通配線は、
前記貫通孔の内側面の前記一方の面側に形成された第１金属層と、
前記第１金属層を被覆して前記貫通孔の前記一方の面側を埋める第１配線層と、
前記貫通孔の内側面の前記他方の面側及び前記第１配線層の前記他方の面側の端部に連続的に形成された第２金属層と、
前記第２金属層を被覆して前記貫通孔の前記他方の面側を埋める第２配線層と、を備え、
前記貫通孔内の前記第１配線層の前記他方の面側の端部には前記他方の面側に開口する凹部が形成され、
前記貫通孔内の前記第２配線層の前記一方の面側の端部には前記一方の面側に突起する凸部が形成され、
前記凸部は前記凹部内に配され、
前記第１配線層と前記第２配線層とが、前記貫通孔内で前記第２金属層を介して導通している配線基板。
【請求項２】
前記基板本体と前記第１金属層との間に第１密着層が形成され、
前記基板本体と前記第２金属層との間、及び、前記第１配線層の前記他方の面側の端部と前記第２金属層との間に第２密着層が形成され、
前記第１配線層と前記第２配線層とは、前記貫通孔内で前記第２密着層及び前記第２金属層を介して導通している請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記基板本体の材料はシリコンであり、
前記貫通孔の内側面はシリコン酸化膜で被覆され、
前記第１密着層は、前記第１金属層よりも前記シリコン酸化膜との密着性が良好な材料から構成され、
前記第２密着層は、前記第２金属層よりも前記シリコン酸化膜との密着性が良好な材料から構成されている請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記第１配線層は、前記第２配線層の前記一方の面側の端部上に、複数の導電層が積層された構造を有する請求項１乃至３の何れか一項記載の配線基板。
【請求項５】
前記貫通孔の内側面に形成された前記第１金属層の厚さは、前記一方の面側から前記貫通孔の深い部分にいくにつれて薄くなり、
前記貫通孔の内側面に形成された前記第２金属層の厚さは、前記他方の面側から前記貫通孔の深い部分にいくにつれて薄くなる請求項１乃至４の何れか一項記載の配線基板。
【請求項６】
基板本体の一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔内に貫通配線を形成する工程と、を有し、
前記貫通配線を形成する工程は、
前記貫通孔の内側面の前記一方の面側に第１金属層を形成する工程と、
前記第１金属層を給電層とする電解めっき法により、前記第１金属層を被覆して前記貫通孔の前記一方の面側を埋める第１配線層を形成する工程と、
前記貫通孔の内側面の前記他方の面側及び前記第１配線層の前記他方の面側の端部に連続的に第２金属層を形成する工程と、
前記第２金属層を給電層とする電解めっき法により、前記第２金属層を被覆して前記貫通孔の前記他方の面側を埋める第２配線層を形成する工程と、を備え、
前記第１配線層を形成する工程では、コンフォーマルめっきにより、前記貫通孔内の前記第１配線層の他部となる導電層の前記他方の面側の端部に前記他方の面側に開口する凹部を形成し、
前記第２配線層を形成する工程では、前記貫通孔内の前記第２配線層の前記一方の面側の端部に前記一方の面側に突起する凸部を形成し、前記凸部を前記凹部内に配し、
前記第１配線層と前記第２配線層とを、前記貫通孔内で前記第２金属層を介して導通させる配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１配線層を形成する工程は、
前記基板本体の一方の面側に、前記貫通孔の前記一方の面側の端部を塞ぐ保護膜を形成する工程と、
前記貫通孔の内側面の前記他方の面側、前記第１金属層、及び前記保護膜の前記貫通孔内に露出する部分を連続的に被覆するレジスト層を形成する工程と、
前記保護膜を除去し、前記レジスト層の一部を前記貫通孔の前記一方の面側の端部から露出させる工程と、
前記レジスト層の前記貫通孔の前記一方の面側の端部から露出する部分上に、前記第１金属層を給電層とする電解めっき法により前記第１配線層の一部となる導電層を形成する工程と、
前記レジスト層を除去した後、前記第１金属層を給電層とする電解めっき法により、前記貫通孔の前記一方の面側を埋めるように、前記第１配線層の一部となる導電層の前記他方の面側に、前記第１配線層の他部となる導電層を形成する工程と、を含む請求項６記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１金属層及び前記第２金属層は、スパッタ法により形成される請求項６又は７記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本配線基板は、基板本体と、前記基板本体の一方の面から他方の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成された貫通配線と、を有し、前記貫通配線は、前記貫通孔の内側面の前記一方の面側に形成された第１金属層と、前記第１金属層を被覆して前記貫通孔の前記一方の面側を埋める第１配線層と、前記貫通孔の内側面の前記他方の面側及び前記第１配線層の前記他方の面側の端部に連続的に形成された第２金属層と、前記第２金属層を被覆して前記貫通孔の前記他方の面側を埋める第２配線層と、を備え、前記貫通孔内の前記第１配線層の前記他方の面側の端部には前記他方の面側に開口する凹部が形成され、前記貫通孔内の前記第２配線層の前記一方の面側の端部には前記一方の面側に突起する凸部が形成され、前記凸部は前記凹部内に配され、前記第１配線層と前記第２配線層とが、前記貫通孔内で前記第２金属層を介して導通していることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月26日(2016.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体フィルムの一面の幅方向に間隔を空けて長手方向に複数の帯状の導体箔を形成した第１と第２の誘電体フィルムを重ねてロール状に巻き付けて形成され、前記第１と第２の誘電体フィルムは、前記導体箔の幅及び前記間隔がそれぞれ同一に形成され、かつ、誘電体フィルムを挟んで重なり合う一方の前記導体箔の両端部が他方の隣り合う２つの導体箔と対向するように互いに幅方向の位置をずらして形成され、前記第１と第２の誘電体フィルムの巻き付け両端部を覆って前記導体箔に電極が接続され、該電極に接続されたリード線が外部に引き出され、前記電極及び前記リード線の接続部がレジン層で覆われてなるコンデンサ本体を備え、
前記コンデンサ本体の外周に不織布にレジンを含浸したレジン含浸シートを巻き付けてなるレジン絶縁層が形成され、前記レジン絶縁層と前記コンデンサ本体との境界面に該レジン絶縁層を熱処理して形成された接着層が介在されている高電圧コンデンサ。
【請求項２】
さらに、前記レジン絶縁層の外周に絶縁油の浸透性を有するコンデンサ間絶縁層を有することを特徴とする請求項１に記載の高電圧コンデンサ。
【請求項３】
前記コンデンサ間絶縁層は、両端に開口した絶縁油通路が形成されてなることを特徴とする請求項２に記載の高電圧コンデンサ。
【請求項４】
前記コンデンサ本体を互いに直列接続する前記リード線を、電界緩和導体を介して接続してなることを特徴とする請求項２に記載の高電圧コンデンサ。
【請求項５】
前記レジン含浸シートは、絶縁材の不織布にエポキシ樹脂を含浸して形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の高電圧コンデンサ。
【請求項６】
高電圧変圧器と、該高電圧変圧器の出力を整流する高電圧整流器と、該高電圧整流器の出力を平滑する複数の高電圧コンデンサを直列接続してなるコンデンサスタックとを収容してなる筐体内に絶縁油を充填して形成され、前記コンデンサスタックの出力をＸ線発生装置に供給する高電圧発生装置において、前記高電圧コンデンサは、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の高電圧コンデンサであることを特徴とする高電圧発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】高電圧コンデンサ及び高電圧発生装置
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月29日(2016.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の表面に有機溶剤を含むレジストを形成する工程と、
前記レジストをパターニングすることにより第１レジストパターンを形成する工程と、
対象物を加熱可能な処理装置のチャンバー内において、前記半導体基板上の前記第１レジストパターンを前記チャンバーより容積が小さい空間内に面して配置する工程と、
前記処理装置内で前記第１レジストパターンを加熱することにより、前記第１レジストパターンを変形させる工程と、
前記第１レジストパターンを変形させる工程の後、前記第１レジストパターンを前記半導体基板に転写することにより前記半導体基板にレンズを形成する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記チャンバーよりも容積が小さい空間は、前記チャンバー内において被処理対象物を配置するステージに前記第１レジストパターンが対向するように前記半導体基板を配置することにより形成された空間であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記チャンバーよりも容積が小さい空間は、前記第１レジストパターンが配置された前記半導体基板の上面を覆う蓋によって形成された空間であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月29日(2016.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に順に配置された第１導電型の半導体層、活性層、第２導電型の半導体層を有する光閉じ込め構造と、光出力側に向けて配置される第１端面と、前記第１端面と対向した第２端面と、前記第１端面と前記第２端面とが対向する方向における中央が、前記第１端面と前記第２端面の距離の半分よりも前記第２端面に近い位置に配置され、前記第１導電型の半導体層あるいは前記第２導電型の半導体層の何れか一方と接続された第１電極パッドと、前記第１電極パッドよりも前記第１端面と前記第２端面とが対向する方向において長く延在し、前記第１導電型の半導体層あるいは前記第２導電型の半導体層の何れか他方と接続された第２電極パッドと、を備える半導体レーザチップと、
前記半導体レーザチップの前記第２端面の後方に配置された駆動用ＩＣチップと、
前記第２電極パッドの前記第２端面側の領域と前記駆動用ＩＣチップの変調器信号端子とを接続する第１ワイヤと、
前記第１電極パッドと前記駆動用ＩＣチップの基準電位端子とを接続する第２ワイヤと、
前記第２電極パッドの前記第１端面側の領域と前記駆動用ＩＣチップの直流端子とを接続する第３ワイヤと、を備えることを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記基準電位端子から前記第１電極パッドに入力される信号は、前記第２電極パッドに入力される変調信号と逆相の変調信号であることを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記半導体レーザチップが搭載された搭載部を備え、
前記第３ワイヤは、前記第１電極パッドと前記搭載部に設けられた接続用パッドとの間に接続されたワイヤと、前記接続用パッドと前記直流端子との間に接続されたワイヤと、によって構成されていることを特徴とする請求項１または２記載の半導体レーザ装置。
【請求項４】
基板上に順に配置された第１導電型の半導体層、活性層、第２導電型の半導体層を有する光閉じ込め構造と、
光出力側に向けて配置される第１端面と、
前記第１端面と対向した第２端面と、
前記第１端面と前記第２端面とが対向する方向における中央が、前記第１端面と前記第２端面の距離の半分よりも前記第２端面に近い位置に配置され、前記第１導電型の半導体層あるいは前記第２導電型の半導体層の何れか一方と接続された第１電極パッドと、
前記第１電極パッドよりも前記第１端面と前記第２端面とが対向する方向において長く延在し、前記第１導電型の半導体層あるいは前記第２導電型の半導体層の何れか他方と接続された第２電極パッドと、を備えることを特徴とする半導体レーザチップ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月29日(2016.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハポケットを有し、熱伝導性を有するサセプタと、
前記サセプタの前記ウェハポケットとは反対側に配置された、熱源となるヒータと、を具備し、
前記サセプタの厚さは、前記ウェハポケットの中心部よりも前記ウェハポケットの周縁部において小さく、前記ウェハポケットの下における前記サセプタの下面は、傾斜部を有する凸部形状であることを特徴とする成長装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月15日(2016.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、通信ネットワークを介して接続された通信機能を有する情報処理装置との間で接続確立のための処理を行う通信制御手段と、前記接続が確立された前記情報処理装置から画像データを前記通信ネットワークを介して受信する画像データ受信部と、前記画像データ受信部で受信された前記画像データに基づいて表示用画像データを作成する画像データ作成部と、前記画像データ作成部で作成された前記表示用画像データに対応する画像を表示するための表示手段と、を備える画像処理装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信ネットワークを介して接続された通信機能を有する情報処理装置との間で接続確立のための処理を行う通信制御手段と、
前記接続が確立された前記情報処理装置から画像データを前記通信ネットワークを介して受信する画像データ受信部と、
前記画像データ受信部で受信された前記画像データに基づいて表示用画像データを作成する画像データ作成部と、
前記画像データ作成部で作成された前記表示用画像データに対応する画像を表示するための表示手段と、
を備える画像処理装置。
【請求項２】
前記通信制手段は、前記情報処理装置との接続中に、前記情報処理装置とは別の情報処理装置から接続要求があった場合、前記別の情報処理装置との接続確立のための処理を実行し、接続が確立したとき接続先を前記情報処理装置から前記別の情報処理装置に切り換える請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記表示手段にはタッチパネルが設けられ、
前記タッチパネルに対するタッチ操作により入力されるイベントを取得するとともに、取得したイベントの種類を判別するイベント取得手段と、
前記イベント取得手段でジェスチャ操作であると判別されたイベントに含まれる拡大又は縮小の指示に基づいて拡大又は縮小の倍率を算出するジェスチャ処理部と、を更に備え、
前記画像データ作成部は、前記算出された倍率に基づいて、前記画像データ受信部で受信した画像データに対応する画像を前記表示手段に拡大又は縮小表示させるための画像データを、前記表示用画像データとして作成する請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記入力されるイベントに応じた操作を行うための操作対象機器を設定可能な設定手段と、
前記情報処理装置に、取得したイベントの情報を前記ネットワーク回線を介して送信するイベント送信部と、をさらに備え、
前記操作対象機器が、前記設定手段を介して、前記情報処理装置に設定された場合に、前記イベント取得手段は、取得したイベントの情報を前記イベント送信部に送る請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記イベント取得手段でＵＩ操作と判別されたイベントの情報を受信し、そのイベントが生じたＵＩの要素に従って各種操作を実行する操作処理部をさらに備え、
前記設定手段は、前記操作対象機器を、前記情報処理装置と画像処理装置自身とに選択的に設定可能であり、
前記イベント取得手段は、設定された操作対象機器に応じて、取得したイベントの情報の送信先を、前記操作処理部、前記ジェスチャ処理部及び前記画像データ作成部のいずれか、又は前記イベント送信部に切り替える請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記タッチパネル上にキーボードを表示可能であり、該キーボードの操作に応じたキーイベントが入力されるキーイベント入力部をさらに備え、
前記イベント取得手段は、前記キーイベント入力部からのキーイベントをさらに取得する請求項４又は５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記操作対象機器が、前記情報処理装置に設定された場合に、前記イベント取得手段は、前記キーイベントを取得した場合には、前記情報処理装置のキーボード操作のため、前記キーイベントの情報を前記イベント送信部に送信し、前記キーイベント以外の前記タッチパネルのタッチ操作により入力されるイベントを取得した場合には、前記情報処理装置のマウス操作のため、取得したイベントの情報を前記イベント送信部に送信する請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
第１の通信制御手段を有し、通信機能を有する情報処理装置と、
前記第１の通信制御手段に通信ネットワークを介して接続され、前記第１の通信制御手段との間で接続の確立のための処理を行う第２の通信制御手段と、前記両通信制御手段間で接続が確立された際に前記情報処理装置から画像データを前記通信ネットワークを介して受信する画像データ受信部と、前記画像データ受信部で受信された前記画像データに基づいて表示用画像データを作成する画像データ作成部と、前記画像データ作成部で作成された前記表示用画像データに対応する画像を表示するための表示手段とを有する画像処理装置と、を備える画像処理システム。
【請求項９】
前記接続の確立のための処理を含む、前記情報処理装置と前記画像処理装置との間の通信に関する処理を行うためのプログラムが、前記画像処理装置が有する記憶装置内にダウンロード用のプログラムとして格納されている請求項８に記載の画像処理システム。
【請求項１０】
前記接続認の確立のための処理を含む、前記情報処理装置と前記画像処理装置との間の通信に関する処理を行うためのプログラムが格納された情報記録媒体を更に備える請求項８又は９に記載の画像処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月11日(2016.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる複信形式の複数のセルにおけるＤＬ信号に対する送達確認信号を特定のセルの上り制御チャネルを用いて送信する送信部と、
前記特定のセルの複信形式に対応するテーブルを用いて、前記送達確認信号の送信に用いられるＰＵＣＣＨリソースとＱＰＳＫシンボル点とを決定する制御部と、
を有することを特徴とするユーザ端末。
【請求項２】
前記テーブルでは、前記複数のセルにおけるＤＬ信号のＡＣＫ／ＮＡＣＫ／ＤＴＸの状態と、ＰＵＣＣＨリソースと、ＱＰＳＫシンボル点とが対応付けられ、
該テーブルは、複信形式毎に規定されることを特徴とする請求項１に記載のユーザ端末。
【請求項３】
前記複数のセルは、周波数分割複信（ＦＤＤ）のセルと、時間分割複信（ＴＤＤ）のセルと、を含み、
前記特定のセルは、前記ＦＤＤのセル又は前記ＴＤＤのセルであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のユーザ端末。
【請求項４】
前記ＦＤＤのセルと前記ＴＤＤのセルとのキャリアアグリゲーションが適用されることを特徴とする請求項３に記載のユーザ端末。
【請求項５】
前記制御部は、ＰＵＣＣＨフォーマット１ｂに基づくチャネルセレクションを適用することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のユーザ端末。
【請求項６】
異なる複信形式の複数のセルにおけるＤＬ信号に対する送達確認信号を上り制御チャネルを用いて受信する受信部と、
前記特定のセルの複信形式に対応するテーブルを用いて、前記送達確認信号の送信に用いられるＰＵＣＣＨリソースとＱＰＳＫシンボル点とを決定する制御部と、
を有することを特徴とする基地局。
【請求項７】
ユーザ端末において、異なる複信形式の複数のセルにおけるＤＬ信号に対する送達確認信号を特定のセルの上り制御チャネルを用いて送信する工程と、
前記特定のセルの複信形式に対応するテーブルを用いて、前記送達確認信号の送信に用いられるＰＵＣＣＨリソースとＱＰＳＫシンボル点とを決定する工程と、
を有することを特徴とする無線通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のユーザ端末は、異なる複信形式の複数のセルにおけるＤＬ信号に対する送達確認信号を特定のセルの上り制御チャネルを用いて送信する送信部と、前記特定のセルの複信形式に対応するテーブルを用いて、前記送達確認信号の送信に用いられるＰＵＣＣＨリソースとＱＰＳＫシンボル点とを決定する制御部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月23日(2016.9.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置であって、
撮像素子で取得した画像間の動きベクトルを検出する検出手段と、
撮像光学系の光軸に直交する軸周りの回転方向の振れに関する振れ情報を取得する取得手段と、
前記振れ情報および前記動きベクトルに基づいて、前記画像間の変化量を算出する算出手段と、
前記振れ情報および前記変化量に基づいて振れ補正量を決定する決定手段と、
前記撮像素子で取得した画像を前記振れ補正量に基づいて幾何変形する変形手段とを有し、
前記算出手段は、前記動きベクトルに含まれる、前記撮像素子の露光期間ずれの影響により生じる画像間の変化を、前記振れ情報に基づいて除去した後、前記撮像装置の前記光軸に直交する方向の振れ成分を前記変化量として算出することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記振れ情報に、前記光軸周りの回転方向の振れに関する情報が含まれていない場合、前記算出手段は、前記幾何変形を除去した後、前記撮像装置の前記光軸周りの回転方向の振れ成分を前記変化量としてさらに算出することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】
前記算出手段は、前記動きベクトルに含まれる、前記撮像光学系の光学収差により生じる画像間の変化をさらに除去してから、前記変化量を算出することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記算出手段は、前記撮像光学系のパラメータに応じた幾何変形パラメータを用いて前記光学収差により生じる画像間の変化を除去することを特徴とする請求項３記載の撮像装置。
【請求項５】
光学防振部材を前記光軸とは異なる方向に駆動し、画像の振れを抑制する光学防振機能をさらに有し、
前記算出手段は、前記光学防振機能による振れの抑制が画像間の変化に与える影響を除去した後、前記振れ成分を算出することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記振れ情報は、前記撮像装置のヨー軸およびピッチ軸周りの回転量を測定するセンサの出力に基づくものであることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記撮像装置の前記光軸に直交する方向の振れ成分が、前記撮像装置の並進運動によって生じる振れ成分であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記撮像素子がＣＭＯＳイメージセンサであり、前記撮像素子の露光期間ずれの影響により生じる画像間の変化が、ローリングシャッタ歪みであることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
撮像装置の制御方法であって、
撮像素子で取得した画像間の動きベクトルを検出する検出工程と、
撮像光学系の光軸に直交する軸周りの回転方向の振れに関する振れ情報を取得する取得工程と、
前記振れ情報および前記動きベクトルに基づいて、前記画像間の変化量を算出する算出工程と、
前記振れ情報および前記変化量に基づいて振れ補正量を決定する決定工程と、
前記撮像素子で取得した画像を前記振れ補正量に基づいて幾何変形する変形工程とを有し、
前記算出工程では、前記動きベクトルに含まれる、前記撮像素子の露光期間ずれの影響により生じる画像間の変化を、前記振れ情報に基づいて除去した後、前記撮像装置の前記光軸に直交する方向の振れ成分を前記変化量として算出することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１０】
撮像装置が有するコンピュータに、請求項９に記載の撮像装置の制御方法の各工程を実施させるためのプログラム。
【請求項１１】
撮像装置であって、
撮像素子で取得した画像間の動きベクトルを検出する検出手段と、
撮像光学系の光軸に直交する軸周りの回転方向の振れに関する振れ情報を取得する取得手段と、
前記振れ情報および前記動きベクトルに基づいて、前記画像間の変化量を算出する算出手段と、
前記振れ情報および前記変化量に基づいて振れ補正量を決定する決定手段と、
前記撮像素子で取得した画像を前記振れ補正量に基づいて幾何変形する変形手段とを有し、
前記算出手段は、前記撮像光学系の光学収差により生じる画像間の変化を除去した後、前記撮像装置の前記光軸に直交する方向の振れ成分を前記変化量として算出することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
撮像装置の制御方法であって、
撮像素子で取得した画像間の動きベクトルを検出する検出工程と、
撮像光学系の光軸に直交する軸周りの回転方向の振れに関する振れ情報を取得する取得工程と、
前記振れ情報および前記動きベクトルに基づいて、前記画像間の変化量を算出する算出工程と、
前記振れ情報および前記変化量に基づいて振れ補正量を決定する決定工程と、
前記撮像素子で取得した画像を前記振れ補正量に基づいて幾何変形する変形工程とを有し、
前記算出工程では、前記撮像光学系の光学収差により生じる画像間の変化を除去した後、前記撮像装置の前記光軸に直交する方向の振れ成分を前記変化量として算出することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１３】
撮像装置が有するコンピュータに、請求項１２に記載の撮像装置の制御方法の各工程を実施させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述の目的は、撮像装置であって、撮像素子で取得した画像間の動きベクトルを検出する検出手段と、撮像光学系の光軸に直交する軸周りの回転方向の振れに関する振れ情報を取得する取得手段と、振れ情報および動きベクトルに基づいて、画像間の変化量を算出する算出手段と、振れ情報および変化量に基づいて振れ補正量を決定する決定手段と、撮像素子で取得した画像を振れ補正量に基づいて幾何変形する変形手段とを有し、算出手段は、動きベクトルに含まれる、撮像素子の露光期間ずれの影響により生じる画像間の変化を、振れ情報に基づいて除去した後、撮像装置の光軸に直交する方向の振れ成分を変化量として算出することを特徴とする撮像装置によって達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月25日(2016.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の無線基地局と通信を行うユーザ端末であって、
前記複数の無線基地局それぞれに上りリンク信号を送信する送信部と、
同時に送信が割り当てられる前記複数の無線基地局への上りリンク信号の送信電力が許容最大送信電力に達した場合に、前記複数の無線基地局の少なくとも１つから設定される前記許容最大送信電力の分配比率に基づいて、前記上りリンク信号の少なくとも１つの送信電力を補正する制御部と、を有することを特徴とするユーザ端末。
【請求項２】
前記制御部は、同時に送信が割り当てられる前記複数の無線基地局への上りリンク信号の送信電力が許容最大送信電力に達した場合、かつ、所定のコンポーネントキャリアで送信が割り当てられる上りリンク信号の送信電力が当該所定のコンポーネントキャリアの最大送信電力を超える場合に、当該所定のコンポーネントキャリアで送信が割り当てられる上りリンク信号の送信電力を補正することを特徴とする請求項１に記載のユーザ端末。
【請求項３】
前記分配比率は、前記複数の無線基地局のコンポーネントキャリアごとに設定されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のユーザ端末。
【請求項４】
前記分配比率は、前記複数の無線基地局それぞれにつき１つのコンポーネントキャリアが設定される場合、前記複数の無線基地局ごとに設定されることを特徴とする請求項３に記載のユーザ端末。
【請求項５】
前記許容最大送信電力は、ＰＣＭＡＸであることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のユーザ端末。
【請求項６】
ユーザ端末と通信を行う複数の無線基地局の１つであって、
前記ユーザ端末の許容最大送信電力の分配比率を決定する制御部と、
前記ユーザ端末に前記分配比率を通知する送信部と、を有し、
前記分配比率は、前記ユーザ端末において、同時に送信が割り当てられる前記複数の無線基地局への上りリンク信号の送信電力が前記許容最大送信電力に達した場合に、前記上りリンク信号の少なくとも１つの送信電力を補正するために用いられることを特徴とする無線基地局。
【請求項７】
複数の無線基地局と通信を行うユーザ端末の無線通信方法であって、
前記複数の無線基地局それぞれに上りリンク信号を送信する工程と、
同時に送信が割り当てられる前記複数の無線基地局への上りリンク信号の送信電力が許容最大送信電力に達した場合に、前記複数の無線基地局の少なくとも１つから設定される前記許容最大送信電力の分配比率に基づいて、前記上りリンク信号の少なくとも１つの送信電力を補正する工程と、を有することを特徴とする無線通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ユーザ端末、無線基地局及び無線通信方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、次世代移動通信システムにおけるユーザ端末、無線基地局及び無線通信方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、特に基地局間ＣＡを適用する場合の送信電力制御を適切に行うことができるユーザ端末、無線基地局及び無線通信方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一態様に係るユーザ端末は、複数の無線基地局と通信を行うユーザ端末であって、前記複数の無線基地局それぞれに上りリンク信号を送信する送信部と、同時に送信が割り当てられる前記複数の無線基地局への上りリンク信号の送信電力が許容最大送信電力に達した場合に、前記複数の無線基地局の少なくとも１つから設定される前記許容最大送信電力の分配比率に基づいて、前記上りリンク信号の少なくとも１つの送信電力を補正する制御部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月25日(2016.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出測定信号を受信するための情報を受信する受信部と、
前記情報に基づいて、データ信号及び／又は報知信号がマッピングされないリソースで、前記検出測定信号を取得する検出部と、を備えることを特徴とするユーザ端末。
【請求項２】
前記検出部は、報知信号及び／又はページング信号が送信されるサブフレームでは、前記検出測定信号を無送信と認識することを特徴とする請求項１に記載のユーザ端末。
【請求項３】
前記検出部は、上りサブフレームで前記検出測定信号を取得することを特徴とする請求項１に記載のユーザ端末。
【請求項４】
前記検出部は、既存の同期信号がマッピングされないリソースで、前記検出測定信号を取得することを特徴とする請求項１に記載のユーザ端末。
【請求項５】
データ信号及び／又は報知信号がマッピングされないリソースに、検出測定信号をマッピングするマッピング部と、
前記検出測定信号を送信する送信部と、を備えることを特徴とする無線基地局。
【請求項６】
検出測定信号を受信するための情報を受信するステップと、
前記情報に基づいて、データ信号及び／又は報知信号がマッピングされないリソースで、前記検出測定信号を取得するステップと、を有することを特徴とする無線通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ユーザ端末、無線基地局及び無線通信方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、次世代移動通信システムにおけるユーザ端末、無線基地局及び無線通信方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、既存のシステムに影響を与えることなく、スモールセルの検出測定用信号を導入することができるユーザ端末、無線基地局及び無線通信方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一態様に係るユーザ端末は、検出測定信号を受信するための情報を受信する受信部と、前記情報に基づいて、データ信号及び／又は報知信号がマッピングされないリソースで、前記検出測定信号を取得する検出部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、既存のシステムに影響を与えることなく、スモールセルの検出測定用信号を導入することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月2日(2016.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子機器であって、
衛星測位システムの人工衛星からの信号を受信する第１受信アンテナと、
第２受信アンテナを有するマルチアンテナと、
前記第１及び第２受信アンテナに共通の第１給電点と
を備え、
前記第１受信アンテナは、前記第２受信アンテナよりも前記電子機器の外縁部に近い側に配置されている、電子機器。
【請求項２】
請求項１に記載の電子機器であって、
前記第１及び第２受信アンテナの開放端の少なくとも一方は、前記第１給電点よりも外側に位置する、電子機器。
【請求項３】
請求項１及び請求項２のいずれか一つに記載の電子機器であって、
前記第２受信アンテナで受信される無線信号の周波数帯は、前記第１受信アンテナで受信される無線信号の周波数帯よりも低く、
前記第２受信アンテナは、前記第１給電点よりも内側を通って、当該第２受信アンテナの開放端が当該第１給電点よりも外側に位置するように配置されている、電子機器。
【請求項４】
請求項１及び請求項２のいずれか一つに記載の電子機器であって、
前記第２受信アンテナで受信される無線信号の周波数帯は、前記第１受信アンテナで受信される無線信号の周波数帯よりも高く、
前記第２受信アンテナは、前記第１給電点よりも内側を通らずに、当該第２受信アンテナの開放端が当該第１給電点よりも外側に位置するように配置されている、電子機器。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一つに記載の電子機器であって、
第３アンテナと、
前記第３アンテナよりも要求性能が高い第４アンテナと、
前記第３及び第４アンテナに共通の第２給電点と
を備え、
前記第４アンテナは、前記第３アンテナよりも前記電子機器の外縁部に近い側に配置されている、
電子機器。
【請求項６】
電子機器であって、
長さの短い第５受信アンテナと、
前記第５受信アンテナより長い第６受信アンテナを有するマルチアンテナと、
前記第５及び第６受信アンテナに共通の第１給電点と
を備え、
前記第５受信アンテナは、前記第６受信アンテナよりも前記電子機器の外縁部に近い側に配置されている、電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月15日(2016.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平行四辺形の基台の１組の辺に平行にブレードまたはブラシを固着あるいは植設した清掃体を、複数枚、ロータに固定した電気掃除機用吸込口の回転ロータであって、複数枚の前記清掃体のそれぞれの前記基台の平行四辺形の他の１組の辺の前記ロータに接触している部分の合計を、前記ロータの周長と略一致させて、複数枚の前記清掃体を前記ロータに固定したことを特徴とする電気掃除機用吸込口の回転ロータ。
【請求項２】
平行四辺形の基台の１組の辺に平行に複数列のブレード又はブラシを固着あるいは植設した清掃体がロータに固定されてあることを特徴とする請求項１に記載の電気掃除機用吸込口の回転ロータ。
【請求項３】
清掃体は、基台を所定幅重ね合わせてロータに固定されてあることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気掃除機用吸込口の回転ロータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記従来の課題を解決する為に、請求項１の回転ロータの発明は、平行四辺形の基台の１組の辺に平行にブレードまたはブラシを固着あるいは植設した清掃体を、複数枚、ロータに固定した電気掃除機用吸込口の回転ロータであって、複数枚の前記清掃体のそれぞれの前記基台の平行四辺形の他の１組の辺の前記ロータに接触している部分の合計を、前記ロータの周長と略一致させて、複数枚の前記清掃体を前記ロータに固定したことを特徴としている。請求項１の発明では、予め複数枚の平行四辺形の基台を有する清掃体を作成しておくことで、複数種類の清掃体をロータに固定するだけで回転ロータを作成することができ、端部をカットするような余分な作業を必要としないことから、製造コストを低減させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１に記載の構成よりなる回転ロータにおいて、平行四辺形の基台の１組の辺に平行に複数列のブレード又はブラシを固着あるいは植設した清掃体がロータに固定されてあることを特徴としている。請求項２の発明では、複数列のブレード又はブラシを固着あるいは植設する場合に、平行四辺形の基台の１組の辺に平行に配置することで、ロータに固定した場合には、一定の捻り角度の螺旋状のブレード又はブラシを容易に形成させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１又は２に記載の構成よりなる回転ロータにおいて、清掃体は、基台を所定幅重ね合わせてロータに固定されてあることを特徴としている。請求項３の発明では、複数枚の清掃体をロータに固定する場合に、基台を所定幅重ね合わせて作成することによって、清掃体が剥がれてロータから分離するのを防ぐことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項１の発明では、複数種類の清掃体をロータに固定するだけで回転ロータを作成することができ、端部をカットするような余分な作業を必要としないことから、製造コストを低減させることができる。