【手続補正書】
【提出日】平成27年12月24日(2015.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整する調整部と、
前記基板に照射される光の照度のデータを取得する取得部と、
前記取得部で取得された照度のデータに基づいて、前記空間の酸素濃度を所定の濃度にするように前記調整部を制御する制御部と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、
前記取得部で取得された照度のデータに基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記空間の酸素濃度を決定し、
前記空間の酸素濃度が前記決定した酸素濃度となるように、前記調整部を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるための、前記基板に照射される光の照度と前記空間の酸素濃度との対応関係を表す第１情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された第１情報に基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記空間の酸素濃度を決定することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記取得部で取得された照度のデータ、及び、前記決定した酸素濃度に基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記基板上の露光量を決定することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記記憶部は、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるための、前記基板に照射される光の照度と、前記空間の酸素濃度と、前記基板上の露光量との対応関係を表す第２情報を記憶し、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された第２情報に基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記基板上の露光量を決定することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記基板に照射される光の照度を調整する照度調整部と、
前記基板に照射される光の照度を計測する第１計測部と、を更に有し、
前記制御部は、前記投影光学系からの光が前記基板に照射されている間、前記第１計測部で計測される照度が前記空間の酸素濃度を決定したときの照度を維持するように、前記照度調整部を制御することを特徴とする請求項２乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記空間の酸素濃度を計測する第２計測部を更に有し、
前記制御部は、前記投影光学系からの光が前記基板に照射されている間、前記第２計測部で計測される酸素濃度が前記決定した酸素濃度に維持されるように、前記調整部を制御することを特徴とする請求項２乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記基板に照射される光の照度を計測する第１計測部を更に有し、
前記制御部は、前記投影光学系からの光が前記基板に照射されている間、前記基板に照射される光の照度を計測するように前記第１計測部を制御し、前記第１計測部で計測された照度に基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記空間の酸素濃度を決定し、前記空間の酸素濃度が前記決定した酸素濃度となるように、前記調整部を制御することを繰り返すことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記空間の酸素濃度を計測する第２計測部と、
前記基板に照射される光の照度を調整する照度調整部と、を更に有し、
前記制御部は、前記投影光学系からの光が前記基板に照射されている間、前記空間の酸素濃度を計測するように前記第２計測部を制御し、前記第２計測部で計測された酸素濃度に基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記基板に照射される光の照度を決定し、前記基板に照射される光の照度が前記決定した照度となるように、前記照度調整部を制御することを繰り返すことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整する調整部と、
前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる、前記空間の酸素濃度、前記基板に照射される光の照度及び前記基板上の露光量の対応関係を表す情報を記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された対応関係に基づいて、前記空間の酸素濃度、前記基板に照射される光の照度又は前記基板上の露光量を求め、求められた値となるように前記酸素濃度、前記照度又は前記露光量を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整する調整部と、
前記基板に照射する光の照度に応じて前記酸素濃度を変えるように前記調整部を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記調整部は、前記空間にガスを供給することによって前記酸素濃度を調整することを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記調整部は、前記空間に不活性ガスを供給することによって前記酸素濃度を調整することを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間にガスを供給する供給部と、
前記基板に照射される光の照度のデータを取得する取得部と、
前記取得部で取得された照度のデータに基づいて、前記空間の酸素濃度を所定の濃度にするように前記供給部によるガスの供給を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間にガスを供給する供給部と、
前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる、前記空間の酸素濃度、前記基板に照射される光の照度及び前記基板上の露光量の対応関係を表す情報を記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された対応関係に基づいて、前記空間の酸素濃度、前記基板に照射される光の照度又は前記基板上の露光量を求め、求められた値となるように前記供給部によるガスの供給、前記照度又は前記露光量を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、基板を露光する露光装置であって、マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整する調整部と、前記基板に照射される光の照度のデータを取得する取得部と、前記取得部で取得された照度のデータに基づいて、前記空間の酸素濃度を所定の濃度にするように前記調整部を制御する制御部と、を有することを特徴とする。