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【手続補正書】
【提出日】平成28年4月21日(2016.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を実行して特定表示結果を導出したときに特定状態に制御する遊技機であって、
遊技の進行を制御し、当該遊技の進行に応じて情報を送信する遊技制御手段と、
前記遊技制御手段から送信される情報に基づいて演出を実行する演出実行手段と、を備え、
前記遊技制御手段は、
前記特定状態に制御されてから所定条件が成立するまでに実行可能な可変表示の回数を特定可能な回数情報を記憶し、かつ、前記遊技機への電力供給が停止しても当該回数情報を所定期間記憶可能な回数情報記憶手段と、
前記回数情報が特定値であるかを判定する判定手段と、
前記回数情報を特定可能な特定情報を送信する特定情報送信手段と、を備え、
前記演出実行手段は、先読み演出を実行可能であり、
前記特定情報送信手段は、
可変表示が実行されるときに、前記判定手段によって前記回数情報が前記特定値でないと判定された場合には前記特定情報を送信するが、前記判定手段によって前記回数情報が前記特定値であると判定された場合には前記特定情報を送信せず、
前記遊技機への電源供給が再開されたときに、前記判定手段による判定が行われることなく前記特定情報を送信し、
前記演出実行手段は、前記特定情報によって特定される前記回数情報が前記特定値でないときに特別な先読み演出を実行可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出実行手段は、前記特定情報によって特定される前記回数情報が前記特定値でないときに演出の実行を制限可能である、
ことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
（１）上記目的を達成するため本発明に係る遊技機は、
可変表示（例えば、特図ゲームなど）を実行して特定表示結果（例えば、大当り図柄など）を導出したときに特定状態（例えば、大当り遊技状態など）に制御する遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
遊技の進行を制御し、当該遊技の進行に応じて情報を送信する遊技制御手段（例えば、主基板１１など）と、
前記遊技制御手段から送信される情報に基づいて演出を実行する演出実行手段（演出制御基板１１など）と、を備え、
前記遊技制御手段は、
前記特定状態に制御されてから所定条件が成立するまでに実行可能な可変表示の回数（例えば、残回数など）を特定可能な回数情報（例えば、残回数カウント値など）を記憶し、かつ、前記遊技機への電力供給が停止しても当該回数情報を所定期間記憶可能な回数情報記憶手段（例えば、バックアップＲＡＭとしてのＲＡＭ１０２など）と、
前記回数情報が特定値（例えば、「０」など）であるかを判定する判定手段（例えば、ステップＳ２６８の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記回数情報を特定可能な特定情報（例えば、残回数指定コマンドなど）を送信する特定情報送信手段（例えば、残回数指定コマンドを送信する処理を行うＣＰＵ１０３など）と、を備え、
前記演出実行手段は、先読み演出（例えば、先読み予告など）を実行可能であり、
前記特定情報送信手段は、
可変表示が実行されるときに、前記判定手段によって前記回数情報が前記特定値でないと判定された場合には前記特定情報を送信するが、前記判定手段によって前記回数情報が前記特定値であると判定された場合には前記特定情報を送信せず（例えば、ステップＳ２６８〜Ｓ２７０など）、
前記遊技機への電源供給が再開されたときに、前記判定手段による判定が行われることなく前記特定情報を送信し（例えば、ステップＳ１７など）、
前記演出実行手段は、前記特定情報によって特定される前記回数情報が前記特定値でないときに特別な先読み演出（例えば、残回数カウント値が「１」〜「４」のときに実行される保留内連チャン演出など）を実行可能である、
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記制御部は、
前記複数の発信コイルそれぞれには時間幅Ｔ１で前記交流発生部からの交流電流が流れ、かつ、
時間幅Ｔ２の周期で、前記発信コイルと前記受信コイルの全ペア（ペア数を「Ｎ」とする。）の動作が一巡するように、前記第１の切替部による前記複数の発信コイルの切り替え、および、前記第２の切替部による前記複数の受信コイルの切り替え、を行い、
その際、前記発信コイルと前記受信コイルのいずれのペアも動作させない時間幅Ｔ３（Ｔ２−Ｔ１×Ｎ）の時間帯は、前記交流発生部を停止する制御を行う
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の運動機能評価システム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月4日(2016.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
定格未満離陸を航空機の操縦室にあるフライトディスプレイに図示する方法であって、
前記フライトディスプレイ上に、航空機が離陸する滑走路の滑走路描写を表示するステップと、
前記フライトディスプレイ上に、前記滑走路描写に対する離陸指標を表示するステップであって、前記離陸指標は、最大推力設定未満の定格未満推力設定において前記航空機が離陸し始める、前記滑走路に沿った位置を表すステップと、
前記フライトディスプレイ上に、前記離陸指標に対する前記定格未満推力設定を表示するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記定格未満推力設定での離陸に対応する費用指標を表示するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記費用指標は、前記最大推力設定での離陸に対する、前記定格未満推力設定での前記離陸の費用削減を図示する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記離陸指標は、前記航空機のすべての車輪が前記滑走路から離れるのが予測される前記位置を表す、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記離陸指標は、前記航空機が前記定格未満推力設定で前記滑走路の先にある既知のいずれの障害物をも飛び越えることになる前記位置を表す、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記離陸指標は、前記航空機が前記定格未満推力設定で離陸するのに必要とされる予測距離をさらに図示する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
各々が異なる定格未満推力設定を表す複数の離陸指標を表示するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記複数の離陸指標の各々に対する費用指標を表示するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記費用指標は、前記最大推力設定での離陸に対する、前記定格未満推力設定での前記離陸の費用削減を指示する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記離陸指標の前記位置は、航空機の性能、エンジンの性能、滑走路のデータ、滑走路の路面状態、動作不能な機器、必要な上昇勾配、障害物、および現在の天候状態のうちの少なくとも１つに基づいて予測される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記滑走路描写に対する制動指標を表示するステップであって、前記制動指標は、前記航空機が離陸を中止した後に停止すると予測される、離陸指標を越えた位置を図示するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記制動指標は、前記航空機が前記離陸指標によって指示される位置で離陸を中止した後の最大制動において滑走路上で停止することになる前記位置を少なくとも図示する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記滑走路に沿った、前記定格未満推力設定での以前の航空機の離陸についての前記位置を図示する離陸履歴指標を表示するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記以前の航空機の離陸は、現在の前記航空機、または、現在の前記航空機と同じ型の航空機のうちの少なくとも一方についてのものである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記滑走路描写に対する離陸軌道を表示するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記推力設定での離陸についての安全マージンを指示する安全指標を表示するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
定格未満離陸を航空機の操縦室にあるフライトディスプレイに図示する方法であって、
前記フライトディスプレイ上に、航空機が離陸する滑走路の滑走路描写を表示するステップと、
前記フライトディスプレイ上に、前記滑走路描写に対する離陸指標を表示するステップであって、前記離陸指標は、最大推力設定未満の定格未満推力設定において前記航空機が離陸し始める、前記滑走路に沿った位置を表すステップと、
前記フライトディスプレイ上に、前記推力設定での離陸に対応する費用指標を表示するステップと、
前記フライトディスプレイ上に、前記離陸指標に対する前記定格未満推力設定を表示するステップと、
を含む方法。
【請求項１８】
ａ）前記滑走路描写に対して、前記航空機が離陸を中止した後に停止すると予測される、前記離陸指標を越えた位置を図示する制動指標と、
ｂ）前記滑走路に沿った、以前の航空機の離陸についての前記位置を図示する離陸履歴指標と、
ｃ）前記滑走路描写に対する離陸軌道と、
ｄ）前記定格未満推力設定での離陸についての安全マージンを指示する安全指標と、
のうちの少なく１つを表示するステップをさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
複数の離陸指標を表示するステップであって、前記離陸指標の少なくともいくつかは異なる定格未満推力設定を表す、ステップをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記離陸指標の一つは最大推力設定を表す、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オートワインダの作業部の巻取り速度を最適化する方法であって、作業部において、糸を貯えボビンから引き出して、綾巻きパッケージに巻き上げており、前記作業部は、糸テンサを備える糸張力調整装置を有し、前記綾巻きパッケージは、回転数調整可能な駆動器を備える駆動装置を用いて駆動されるものにおいて、
前記作業部の巻取り速度への介入を、前記糸張力調整装置のための限界値が得られて、つまり前記糸テンサが開放終端位置に達して、さらに付加的に少なくとも１つの別のいわゆるオフセット値が満たされた場合に、初めて実施することを特徴とする、オートワインダの作業部の巻取り速度を最適化する方法。
【請求項２】
第１のオフセット値が、設定された付加的な糸張力である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
１つの別のオフセット値が、開放終端位置への糸テンサの到達後にどれだけ遅らせて、前記作業部の前記巻取り速度への介入を行うべきかを、設定する時間指示である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
第３のオフセット値が、糸長さを規定し、該糸長さによって、糸テンサの開放終端位置の到達後の、前記作業部の前記巻取り速度への介入を何時行うべきかを、設定する、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月8日(2016.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷ヘッドのトランデューサをダイアフラムに取り付ける方法であって、
印刷ヘッドのトランデューサのスラブにダイアフラムを接着剤で接着するステップと、
前記トランデューサのスラブおよび前記ダイアフラムを、前記接着剤の硬化温度まで加熱するステップと、
前記硬化温度にて前記ダイアフラムを前記スラブに押し付けて、組立体を形成するステップと、
前記ダイアフラムを前記スラブに押し付けた後、前記スラブをダイシングして前記スラブを印刷ヘッドのトランスデューサのアレイへ分離するステップと、を含み、
前記印刷ヘッドのトランスデューサのアレイが本体空洞のアレイと位置合せされて、前記印刷ヘッドのトランスデューサのアレイが前記ダイアフラムに取り付けられる、方法。
【請求項２】
ダイシング完了後、前記組立体を検査するステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
検査後に、前記組立体の位置合わせ状態を測定するステップをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
押し付けるステップには、結合させた後でダイシングする前に、前記スラブ及び前記ダイアフラムを硬化させることが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ダイアフラムが、空洞を形成する半エッチング線を有し、前記スラブをダイシングするステップには、ダイシングブレードが切削する深さを前記空洞以内の深さに対応する深さに設定することが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記スラブをダイシングするステップには、ダイシングブレードが切削する深さを、前記スラブを貫通して切削後に、前記ダイアフラムの前記上端が削られる深さに設定することが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記スラブの外縁を超える部分において、前記ダイアフラムは最小限の材料で構成されている、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記スラブの外側において前記ダイアフラムの擦り傷を埋めるステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記スラブが、上端導電層を有し、前記スラブをダイシングするステップには、ダイシングブレードが切削する深さを、前記スラブの前記導電層を切削するが、前記スラブの下端面まで切削しない深さに設定することが含まれる、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月11日(2015.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の表面のピークカウントＳＰｃ＿Ｌ（４００ｎｍ）が１００個以上７００個以下であり、ＳＰｃ＿Ｈ（４０００ｎｍ）が１０個以下であるポリエステルフィルムであって、カルボキシル末端量が０〜２５当量／ｔであり、粒径が２μｍ以上の粒子を含有する層を最外層に含むポリエステルフィルム。
【請求項２】
前記粒子の含有量が、粒径が２μｍ以上の粒子を含有する層のポリエステルに対して、０．１〜５質量％である、請求項１に記載のポリエステルフィルム。
【請求項３】
前記粒子がアルミノケイ酸塩粒子である請求項２に記載のポリエステルフィルム。
【請求項４】
分散径が５００〜３０００ｎｍである樹脂を含有する層を最外層に含む、請求項１〜３のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
【請求項５】
太陽電池バックシートに用いられる請求項１〜４のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のフィルムを用いた太陽電池バックシート。
【請求項７】
請求項６に記載の太陽電池バックシートを用いた太陽電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明は、次の（１）〜（７）を特徴とするものである。
（１）少なくとも一方の表面のピークカウントＳＰｃ＿Ｌ（４００ｎｍ）が１００個以上７００個以下であり、ＳＰｃ＿Ｈ（４０００ｎｍ）が１０個以下であるポリエステルフィルムであって、カルボキシル末端量が０〜２５当量／ｔであり、粒径が２μｍ以上の粒子を含有する層を最外層に含むポリエステルフィルム。
（２）前記粒子の含有量が、粒径が２μｍ以上の粒子を含有する層のポリエステルに対して、０．１〜５質量％である、請求項１に記載のポリエステルフィルム。
（３）前記粒子がアルミノケイ酸塩粒子である上記（２）に記載のポリエステルフィルム。
（４）分散径５００〜３０００ｎｍである樹脂を含有する層を最外層に含む、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
（５）太陽電池バックシートに用いられる上記（１）〜（４）のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載のフィルムを用いた太陽電池バックシート。
（７）上記（６）に記載の太陽電池バックシートを用いた太陽電池。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年1月6日(2016.1.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片の効果を決定する方法であって、
第二経路溶血アッセイを行うことと、第二経路溶血の阻害を検出することとを含み、
抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片の８０ｎＭ未満のＩＣ９０値が、抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片が有効であることを示し、
抗体またはその抗原結合断片は、ＩＴＳＴＤＩＤＤＤＭＮ（配列番号：３０）を含む軽鎖超可変領域（ＨＶＲ）−１、ＧＧＮＴＬＲＰ（配列番号：３５）を含む軽鎖ＨＶＲ−２、およびＬＱＳＤＳＬＰＹＴ（配列番号：３８）を含む軽鎖ＨＶＲ−３を含む軽鎖可変ドメインと、ＧＹＴＦＴＮＹＧＭＮ（配列番号：３９）を含む重鎖ＨＶＲ−１、ＷＩＮＴＹＴＧＥＴＴＹＡＤＤＦＫＧ（配列番号：４０）を含む重鎖ＨＶＲ−２、およびＥＧＧＶＮＮ（配列番号：４１）を含む重鎖ＨＶＲ−３を含む重鎖可変ドメインとを含み、
軽鎖可変ドメインは、ＦＧＱＧＴＫＶＥＩＫ（配列番号：５１）を含む軽鎖フレームワーク領域（ＦＲ）−４を含み、重鎖可変ドメインは位置１にＥを含む、方法。
【請求項２】
抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片のＩＣ５０が、３０ｎＭ未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片のＩＣ５０が、１０ｎＭ未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｄ因子に対する抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片の結合親和性を決定することを更に含み、
抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片の２０ｎＭ又はそれより良い親和性値が、抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片が有効であることを示す、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
Ｄ因子に対する抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片の結合親和性が、１０ｎＭ又はそれより良い、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
Ｄ因子に対する抗Ｄ因子抗体またはその抗原結合断片の結合親和性が、１．０ｎＭ又はそれより良い、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
抗体がモノクローナルである請求項１−６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
抗体がヒト化されている請求項１−６の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
抗原結合断片が、Ｆａｂ、Ｆａｂ’−ＳＨ、Ｆｖ、ｓｃＦｖ、又は（Ｆａｂ’）２断片である、請求項１−６の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
Ｄ因子が哺乳動物Ｄ因子である、請求項１−６の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
Ｄ因子がヒトＤ因子である、請求項１０に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１６８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１６８】
一実施態様では、本発明は、抗Ｄ因子抗体であって、かかる抗体のＦａｂ断片が８０ｎＭ未満のＩＣ９０値で第二経路溶血を阻害する抗体を提供する。一実施態様では、本発明は、抗Ｄ因子抗体であって、かかる抗体のＦａｂ断片が５０ｎＭ未満のＩＣ９０値で第二経路溶血を阻害する抗体を提供する。一実施態様では、本発明は、抗Ｄ因子抗体であって、かかる抗体のＦａｂ断片が４０ｎＭ未満のＩＣ９０値で第二経路溶血を阻害する抗体を提供する。一実施態様では、本発明は、抗Ｄ因子抗体であって、かかる抗体のＦａｂ断片が２０ｎＭ未満のＩＣ９０値で第二経路溶血を阻害する抗体を提供する。一実施態様では、本発明は、抗Ｄ因子抗体であって、かかる抗体のＦａｂ断片が１５ｎＭ未満のＩＣ５０値で第二経路溶血を阻害する抗体を提供する。一例では、本発明は、上記抗Ｄ因子抗体の断片（例えば抗原結合断片）を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月13日(2016.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のステータベーンを通って伝播するアコースティックエミッション波を表すアコースティックエミッション（ＡＥ）信号を生成するように構成された複数の検知装置と、
前記複数の検知装置と操作可能に通信する処理サブシステムとを備え、
前記処理サブシステムが、
初期閾値および前記ＡＥ信号に基づいて動的閾値を生成し、
前記動的閾値に基づいて、前記ＡＥ信号内に複数の関心信号が存在するかどうかを決定し、
前記動的閾値に基づいて、前記ＡＥ信号から前記複数の関心信号を抽出し、
前記複数の関心信号に対応する１つまたは複数の特徴を決定し、
前記複数のステータベーンの前記健全性を監視および確認するために前記１つまたは複数の特徴を解析する
ように構成されている、システム。
【請求項２】
前記処理サブシステムが、前記複数のステータベーンの前記健全性をリアルタイムに監視するように構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記複数の検知装置が、三角測量技術を使用して、前記複数のステータベーンのケーシングの外側表面を横切って、また前記外側表面の上に最適に分散されている、請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記複数の検知装置が、圧電型検知装置、磁気歪み検知装置、光学式検知装置、アコースティックエミッション検知装置、電波式ワイヤレス検知装置、または、それらの組み合わせを含む、請求項１記載のシステム。
【請求項５】
前記処理サブシステムが、累積解析技術およびパターン認識技術を使用して、前記１つまたは複数の特徴を解析するように構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項６】
前記処理サブシステムが、前記ステータベーンの前記健全性を監視し、前記複数のステータベーン内のクラック、初期クラック、または、異常を決定するように構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項７】
前記処理サブシステムが、前記複数のステータベーンのうちの１つまたは複数における前記クラックの長さを決定するようにさらに構成され、
前記処理サブシステムが、
アコースティックエミッションイベントを特定したとき、前記１つまたは複数の特徴のうちのそれぞれに対応する累積値を初期化すること、
前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する前記初期化された累積値に基づいて、前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する最終累積値を生成すること、
前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する前記最終累積値の加重平均を計算すること、および
前記加重平均を所定の長さにマッピングすることによって、前記クラックの前記長さを決定すること
によって、前記クラックの前記長さを決定するように構成されている、請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記１つまたは複数の特徴が、リングダウンカウント（ＲＤＣ）、振幅、イベント期間（ＥＤ）、ピーク振幅（ＰＡ）、立ち上がり時間（ＲＴ）、エネルギー、周波数、前記パワースペクトル密度の周波数分布、アコースティックエミッション特徴、または、それらの組み合わせを含む、請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記処理サブシステムが、前記動的閾値をリアルタイムに生成する、請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
複数のステータベーンの健全性を監視する方法であって、
前記複数のステータベーンのうちの１つまたは複数を通って伝播するアコースティックエミッション波を表すアコースティックエミッション（ＡＥ）信号を生成するステップと、
初期閾値および前記ＡＥ信号に基づいて、動的閾値を生成するステップと、
前記動的閾値に基づいて、複数の関心信号が前記ＡＥ信号内に存在するかどうかを決定するステップと、
前記動的閾値に基づいて、前記ＡＥ信号から前記複数の関心信号を抽出するステップと、
前記複数の関心信号に対応する１つまたは複数の特徴を決定するステップと、
前記複数のステータベーンの前記健全性を監視するために、前記１つまたは複数の特徴を解析するステップと
を含む、方法。
【請求項１１】
前記動的閾値を生成するステップが、
初期化された動的閾値を生成するために前記動的閾値を初期化するステップと、
ヒットロックアウト時間に基づいて、前記ＡＥ信号のうちの１つの部分を抽出するステップと、
前記ＡＥ信号のうちの１つの前記抽出された部分の２乗平均平方根値を決定するステップと、
前記２乗平均平方根値と前記初期化された閾値との比較に基づいて、前記動的閾値を更新するステップと
を含み、
前記１つまたは複数の特徴を解析するステップが、前記１つまたは複数の特徴の累積解析または、前記１つまたは複数の特徴と対応する閾値を比較するステップを含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記１つまたは複数の特徴を解析するステップが、
パターン認識技術を使用して、前記１つまたは複数の特徴を１つまたは複数の集団に分類するステップと、
前記１つまたは複数の集団がガスタービンの背景ノイズ、電気的ノイズ、または、こすれノイズを表すかどうかを特定するために、タービン運転データに基づいてチェックを実行するステップと、
前記チェックに基づいて、前記複数のステータベーンのうちの前記１つまたは複数における異常、または、クラックもしくは初期クラックを特定するステップと
を含み、
前記方法が、
アコースティックエミッションイベントを特定したとき、前記１つまたは複数の特徴のうちのそれぞれに対応する累積値を初期化すること、
前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する前記初期化された累積値に基づいて、前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する最終累積値を生成すること、
前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する前記最終累積値の加重平均を計算すること、および
前記加重平均の値を所定の長さにマッピングすることによって、クラックの長さを決定すること
によって、前記クラックの前記長さを決定するステップをさらに含み、
前記アコースティックエミッションイベントが、前記複数のステータベーンのうちの前記１つまたは複数における異常、クラック、または初期クラックの検出を含み、
前記最終累積値を生成するステップが、その後のアコースティックエミッションイベントを特定したとき、前記１つまたは複数の特徴のそれぞれに対応する前記累積値を、所定の時間まで反復して更新するステップを含む、請求項１０または１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月25日(2016.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
トナー像を担持する像担持体と、
前記像担持体から一次転写位置で転写されたトナー像を担持する中間転写体と、
前記中間転写体の外周面に当接可能に配置され、前記中間転写体からトナー像を二次転写位置で記録材に転写する転写部材と、
前記中間転写体と接地電位との間に電気的に接続され、電流が流れることで所定の電圧が維持される定電圧素子と、
前記転写部材に電圧を印加して前記定電圧素子に電流を流し前記二次転写位置に二次転写電界を形成するとともに前記一次転写位置に一次転写電界を形成する電源と、
前記転写部材へ流れる電流を検知する検知部と、
二次転写位置に記録材がないときに前記電源により前記転写部材にテスト電圧を印加して前記検知部によって電流を検知するテストモードを実行する実行部と、
前記テストモードで前記検知部により検知された電流に基づいて、前記二次転写位置に記録材があるときに前記電源により前記転写部材に印加される電圧を制御する制御部と、を有する画像形成装置において、
前記制御部は前記テストモードの期間では、前記定電圧素子が前記所定の電圧を維持するように前記電源により印加される前記テスト電圧を制御することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
トナー像を担持する像担持体と、
前記像担持体から一次転写位置で転写されたトナー像を担持する中間転写体と、
前記中間転写体の外周面に当接可能に配置され、前記中間転写体からトナー像を二次転写位置で記録材に転写する転写部材と、
前記中間転写体と接地電位との間に電気的に接続され、電流が流れることで所定の電圧が維持される定電圧素子と、
前記転写部材に電圧を印加して前記定電圧素子に電流を流し前記二次転写位置に二次転写電界を形成するとともに前記一次転写位置に一次転写電界を形成する電源と、
前記転写部材へ印加される電圧を検知する検知部と、
二次転写位置に記録材がないときに前記電源により前記転写部材にテスト電流を流して前記検知部によって電圧を検知するテストモードを実行する実行部と、
前記テストモードで前記検知部により検知された電圧に基づいて、前記二次転写位置に記録材があるときに前記電源により前記転写部材に印加される電圧を制御する制御部と、を有する画像形成装置において、
前記制御部は前記テストモードの期間では、前記定電圧素子が前記所定の電圧を維持するように前記電源により印加される前記テスト電圧を制御することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために本願発明の画像形成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体から一次転写位置で転写されたトナー像を担持する中間転写体と、前記中間転写体の外周面に当接可能に配置され、前記中間転写体からトナー像を二次転写位置で記録材に転写する転写部材と、前記中間転写体と接地電位との間に電気的に接続され、電流が流れることで所定の電圧が維持される定電圧素子と、前記転写部材に電圧を印加して前記定電圧素子に電流を流し前記二次転写位置に二次転写電界を形成するとともに前記一次転写位置に一次転写電界を形成する電源と、前記転写部材へ流れる電流を検知する検知部と、二次転写位置に記録材がないときに前記電源により前記転写部材にテスト電圧を印加して前記検知部によって電流を検知するテストモードを実行する実行部と、前記テストモードで前記検知部により検知された電流に基づいて、前記二次転写位置に記録材があるときに前記電源により前記転写部材に印加される電圧を制御する制御部と、を有する画像形成装置において、前記制御部は前記テストモードの期間では、前記定電圧素子が前記所定の電圧を維持するように前記電源により印加される前記テスト電圧を制御することを特徴とする。
また、本願の別の発明の画像形成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体から一次転写位置で転写されたトナー像を担持する中間転写体と、前記中間転写体の外周面に当接可能に配置され、前記中間転写体からトナー像を二次転写位置で記録材に転写する転写部材と、前記中間転写体と接地電位との間に電気的に接続され、電流が流れることで所定の電圧が維持される定電圧素子と、前記転写部材に電圧を印加して前記定電圧素子に電流を流し前記二次転写位置に二次転写電界を形成するとともに前記一次転写位置に一次転写電界を形成する電源と、前記転写部材へ印加される電圧を検知する検知部と、二次転写位置に記録材がないときに前記電源により前記転写部材にテスト電流を流して前記検知部によって電圧を検知するテストモードを実行する実行部と、前記テストモードで前記検知部により検知された電圧に基づいて、前記二次転写位置に記録材があるときに前記電源により前記転写部材に印加される電圧を制御する制御部と、を有する画像形成装置において、前記制御部は前記テストモードの期間では、前記定電圧素子が前記所定の電圧を維持するように前記電源により印加される前記テスト電圧を制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月1日(2016.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基層と表面層とを有する電子写真用中間転写体であって、
該表面層は、その厚み方向において、マトリックス−ドメイン構造を有し、
該マトリックスは結着樹脂を含み、
該ドメインはパーフルオロポリエーテルを含み、
該電子写真用中間転写体の表面の超微小硬度計によって測定される微小硬度が５０ＭＰａ以上である、
ことを特徴とする電子写真用中間転写体。
【請求項２】
前記ドメインの平均長径が３０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下である請求項１に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項３】
前記表面層の厚み方向の断面の１５μｍ２の単位面積における該ドメインの面積の割合が、該マトリックスの面積に対して１面積％以上５０面積％以下である請求項１又は２に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項４】
前記表面層は、該パーフルオロポリエーテルを該マトリックス中に分散させるための分散剤を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項５】
前記パーフルオロポリエーテルが下記式（ａ）で示される繰り返し構造単位１、又は、下記式（ｂ）で示される繰り返し構造単位２を有し、且つ、数平均分子量が１００以上２０，０００以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真用中間転写体。
【化１】
2013231964.tif 000001
【化２】
2013231964.tif 000002
【請求項６】
前記パーフルオロポリエーテルが下記式（１）で示される構造及び下記式（２）で示される構造の少なくとも一方を有する請求項５に記載の電子写真用中間転写体：
【化３】
2013231964.tif 000003
（式（１）中、Ａは該繰り返し構造単位１及び該繰り返し構造単位２の少なくとも一方であり、該繰り返し構造単位１の繰り返し数ｐ及び該繰り返し構造単位２の繰り返し数ｑはそれぞれ独立で０≦ｐ≦５０、０≦ｑ≦５０であり、且つ、ｐ＋ｑ≧１である。）、
【化４】
2013231964.tif 000004
（式（２）中、Ｂは該繰り返し構造単位１及び該繰り返し構造単位２の少なくとも一方であり、該繰り返し構造単位１の繰り返し数ｒ及び該繰り返し構造単位２の繰り返し数ｓはそれぞれ独立で０≦ｒ≦５０、０≦ｓ≦５０であり、且つ、ｒ＋ｓ≧１である。）。
【請求項７】
前記表面層中における前記パーフルオロポリエーテルの含有量が、該表面層の全固形分の質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下である請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項８】
前記結着樹脂はアクリル系樹脂である請求項１〜７のいずれか１項に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項９】
前記アクリル系樹脂は、
（ｉ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、エチレングリコ―ルジアクリレート及びビスフェノールＡジアクリレートからなる群より選択される少なくとも１種のアクリレート、及び、
（ｉｉ）ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、アルキルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコ―ルジメタクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレートからなる群より選択される少なくとも１種のメタクリレート
のいずれかの重合性モノマーの重合体である請求項８に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項１０】
前記基層はポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド又はポリエステルを含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の電子写真用中間転写体。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電子写真用中間転写体を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の電子写真用中間転写体の製造方法であって、
（１）前記パーフルオロポリエーテル、前記結着樹脂を形成するための重合性モノマー、前記分散剤及び重合開始剤を混合して混合物を得る混合工程、
（２）該混合物を該基層上に塗布する塗布工程、及び、
（３）該混合物に紫外線を照射して該重合性モノマーを重合させて、前記表面層を形成する工程、
を有することを特徴とする電子写真用中間転写体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子写真用中間転写体とその製造方法、および電子写真装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複写機及びプリンタの如き電子写真方式の画像形成装置（以下、「電子写真装置」ともいう）において使用できる電子写真用中間転写体とその製造方法、及び、該電子写真用中間転写体を用いた電子写真装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の目的は、繰り返し画像を転写し続けても、その転写特性を維持させることができ、長期に亘って良好な画像を得ることができる電子写真用中間転写体およびその製造方法を提供することである。また、本発明の目的は、繰り返し画像を転写し続けても、その転写特性を維持させることができ、長期に亘って良好な画像を得ることができる電子写真装置を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、基層と表面層とを有する電子写真用中間転写体であって、該表面層は、その厚み方向の断面において、マトリックス−ドメイン構造を示し、該マトリックスは結着樹脂を含み、該ドメインはパーフルオロポリエーテルを含み、該電子写真用中間転写体の表面の超微小硬度計によって測定される微小硬度が５０ＭＰａ以上であることを特徴とする電子写真用中間転写体に関する。
また、本発明は、該中間転写体の製造方法であって、
（１）前記パーフルオロポリエーテル、前記結着樹脂を形成するための重合性モノマー、分散剤及び重合開始剤を混合して混合物を得る混合工程、
（２）該混合物を該基層上に塗布する塗布工程、及び、
（３）該基層上の該混合物に紫外線を照射して、該混合物中の該重合性モノマーを重合させて前記表面層を形成する工程、
を有することを特徴とする電子写真用中間転写体の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月30日(2016.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
還元糖を第１の容積の水に添加することにより糖成分が調製され、前記還元糖がグルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、スクロースおよびマルトースからなる群から選択される、前記還元糖を含む前記糖成分を提供し；
ポリビニルピロリドンを第２の容積の水に添加することによりＰＶＰ成分が調製される、前記ＰＶＰ成分を提供し；
銅（ＩＩ）イオン源を第３の容積の水に添加することにより銅成分が調製される、前記銅（ＩＩ）イオンを含む前記銅成分を提供し；
ハロゲン化物イオン源を第４の容積の水に添加することによりハロゲン化物成分が調製される、前記ハロゲン化物イオンを含む前記ハロゲン化物成分を提供し；
銀イオン源を第５の容積の水に添加することにより銀成分が調製される、前記銀イオンを含む前記銀成分を提供し；
前記糖成分および前記ＰＶＰ成分を容器に入れ；
前記銅成分および前記ハロゲン化物成分を前記容器に入れ；
攪拌しつつ前記銀成分を前記容器に入れ；
前記銀成分を入れる間中ずっと、および前記銀成分を入れた後で８〜３０時間の保持期間にわたって、容器内容物を１１０〜１６０℃に維持して銀ナノワイヤを生じさせ；並びに、
前記銀ナノワイヤを前記容器内容物から回収する；
ことを含む、高アスペクト比の銀ナノワイヤを製造する方法であって、
前記方法の際の全ての時点で容器内容物が０．００１重量％未満の全グリコール濃度を示し；前記容器に入れられるポリビニルピロリドン：銀の重量比が４：１〜１０：１であり；前記容器に入れられるハロゲン化物イオン：銅（ＩＩ）イオンの重量比が１：１〜５：１であり；前記回収された銀ナノワイヤが６００を超える平均アスペクト比を示す；
高アスペクト比の銀ナノワイヤを製造する方法。
【請求項２】
前記銀成分を第１の部分と第２の部分とに分け、前記第１の部分が前記銀成分の１０〜３０重量％であり；
前記容器内容物を１４０〜１６０℃に加熱し、次いで前記第１の部分を前記容器に入れ；
前記容器内容物の温度を１１０〜１３５℃に下げ、次いで前記第１の部分を入れてから１〜６０分遅れた後で前記第２の部分を前記容器に入れる；
ことをさらに含む、請求項１の方法。
【請求項３】
前記第２の部分を前記容器に入れた後で８〜３０時間にわたって、前記容器内容物の温度が１１０〜１３５℃に維持される、請求項２の方法。
【請求項４】
前記糖成分に使用される前記還元糖がグルコースである請求項３の方法。
【請求項５】
前記ＰＶＰ成分に使用されるポリビニルピロリドンが４０，０００〜１５０，０００ダルトンの重量平均分子量Ｍｗを有する、請求項３の方法。
【請求項６】
前記銅成分中の前記銅（ＩＩ）イオン源が塩化銅（ＩＩ）である請求項３の方法。
【請求項７】
前記ハロゲン化物成分に使用されるハロゲン化物イオン源が塩化ナトリウムである請求項３の方法。
【請求項８】
前記銀成分に使用される銀イオン源が硝酸銀である請求項３の方法。
【請求項９】
前記銀成分を第１の部分と第２の部分とに分け、前記第１の部分が前記銀成分の１０〜３０重量％であり；
前記容器内容物を１４０〜１６０℃に加熱し、次いで前記第１の部分を前記容器に入れ；
前記容器内容物の温度を１１０〜１３５℃に下げ、次いで前記第１の部分を入れてから１〜６０分遅れた後で前記第２の部分を前記容器に入れ；並びに、
前記第２の部分を前記容器に入れた後で８〜３０時間にわたって前記容器内容物の温度を１１０〜１３５℃に維持する；ことをさらに含み、
前記糖成分に使用される前記還元糖がグルコースであり；
前記ＰＶＰ成分に使用される前記ポリビニルピロリドンが４０，０００〜６０，０００ダルトンの重量平均分子量Ｍｗを有し；
前記銅成分に使用される銅（ＩＩ）イオン源が塩化銅（ＩＩ）であり；
前記ハロゲン化物成分に使用されるハロゲン化物イオン源が塩化ナトリウムであり；並びに、
前記銀成分に使用される銀イオン源が硝酸銀である；
請求項１の方法。
【請求項１０】
前記銀成分を第１の部分と第２の部分とに分け、前記第１の部分が前記銀成分の１０〜３０重量％であり；
前記容器内容物を１４５〜１５５℃の温度に加熱し、次いで前記第１の部分を前記容器に入れ；
前記容器内容物の温度を１２５〜１３５℃に下げ、次いで前記第１の部分を入れてから５〜１５分遅れた後で前記第２の部分を前記容器に入れ；並びに、
前記第２の部分を前記容器に入れた後で１６〜２０時間にわたって前記容器内容物の温度を１２５〜１３５℃に維持する；
ことをさらに含み、
前記糖成分に使用される前記還元糖がＤ−グルコースであり；
前記ＰＶＰ成分に使用される前記ポリビニルピロリドンが４０，０００〜６０，０００ダルトンの重量平均分子量Ｍｗを有し；
前記銅成分に使用される前記銅（ＩＩ）イオン源が塩化銅（ＩＩ）であり；
前記ハロゲン化物成分に使用される前記ハロゲン化物イオン源が塩化ナトリウムであり；
前記銀成分に使用される前記銀イオン源が硝酸銀であり；並びに、
前記容器に入れられるポリビニルピロリドン：銀の重量比が６：１〜７：１であり；前記容器に入れられるハロゲン化物イオン：銅（ＩＩ）イオンの重量比が２．５：１〜３．５：１であり；前記回収された銀ナノワイヤが３５〜５０ｎｍの平均直径および４０〜１００μｍの平均長さを示し；並びに、前記回収された銀ナノワイヤが１，０００以上の平均アスペクト比を示す；
請求項１の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月1日(2016.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
９３℃の７０％硫酸及び１２１℃の５０％水酸化ナトリウムに対して耐性を有するニッケル−クロム−モリブデン−銅合金であって、
クロム：２７〜３３重量％、
モリブデン：４．９〜７．８重量％、
銅：３．５〜６．０重量％、
鉄：最大３．０重量％、
マンガン：０．３〜１．０重量％、
アルミニウム：０．１〜０．５重量％、
ケイ素：０．１〜０．８重量％、
炭素：０．０１〜０．１１重量％、
窒素：最大０．１３重量％、
マグネシウム：最大０．０５重量％、
希土類元素：最大０．０５重量％、
チタン：最大０．５６重量％、
ニオブ：最大１．１２重量％、
タンタル：最大２．２４重量％、
ハフニウム：最大２．２４重量％、
残部であるニッケル及び不純物
から本質的になる、ニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項２】
前記不純物が、コバルト、タングステン、硫黄、リン、酸素、及びカルシウムのうちの少なくとも１種を含む、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項３】
前記ニッケル−クロム−モリブデン−銅合金が、薄板、板、棒、線材、管、パイプ、及び鍛造物からなる群から選択された加工形態である、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項４】
前記ニッケル−クロム−モリブデン−銅合金が鋳造形態である、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項５】
前記ニッケル−クロム−モリブデン−銅合金が粉末冶金形態である、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項６】
クロム：３０〜３３重量％、
モリブデン：５．０〜６．２重量％、
銅：３．５〜４．０重量％、
鉄：最大１．５重量％、
マンガン：０．３〜０．７重量％、
アルミニウム：０．１〜０．４重量％、
ケイ素：０．１〜０．６重量％、
炭素：０．０２〜０．１０重量％、
から本質的になる、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項７】
クロム：３１重量％、
モリブデン：５．６重量％、
銅：３．８重量％、
鉄：１．０重量％、
マンガン：０．５重量％、
ケイ素：０．４重量％、
アルミニウム：０．３重量％
炭素：０．０３〜０．０７重量％、
残部であるニッケル、窒素、不純物、及び微量のマグネシウム
から本質的になる、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項８】
クロム：３１重量％、
モリブデン：５．６重量％、
銅：３．８重量％、
鉄：１．０重量％、
マンガン：０．５重量％、
ケイ素：０．４重量％、
アルミニウム：０．３重量％、
炭素：０．０３〜０．０７重量％、
残部であるニッケル、窒素、不純物、微量のマグネシウム及び微量の希土類元素
から本質的になる、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項９】
少なくとも１つのＭＣ型炭化物形成元素を含有する、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項１０】
前記ＭＣ型炭化物形成元素が、チタン、ニオブ、タンタル及びハフニウムから選択される、請求項９に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項１１】
０．２０〜０．５６重量％のチタンを含有する、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項１２】
０．３０〜１．１２重量％のニオブを含有する、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項１３】
０．６０〜２．２４重量％のタンタルを含有する、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【請求項１４】
０．６０〜２．２４重量％のハフニウムを含有する、請求項１に記載されたニッケル−クロム−モリブデン−銅合金。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月15日(2016.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも上位の層と下位の層とを有する防食被覆を備えた金属管から成る管材であって、
前記下位の層は、該下位の層の上位に位置する単数又は複数の層の損傷時に光信号又は電気信号が検出され得るように形成されていることを特徴とする、管材。
【請求項２】
前記上位の層の損傷を検出する検出手段を備える、請求項１記載の管材。
【請求項３】
前記検出手段は、一方が水に晒され、他方が前記下位の層に接続するように配置された抵抗測定器である、請求項２記載の管材。
【請求項４】
前記下位の層は導電性に設計され、前記上位の層は電気絶縁性に設計されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の管材。
【請求項５】
前記下位の層と前記上位の層とは、光学的にコントラスト調整されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の管材。
【請求項６】
前記コントラストは、ＤＩＮ  ＥＮ  ２０１０５−Ａ０２に基づいて少なくとも４のグレースケールに相当する、請求項５記載の管材。
【請求項７】
前記上位の層と前記下位の層とは、ポリマー材料からなる、請求項１から６までのいずれか１項記載の管材。
【請求項８】
前記上位の層は、押し出し成形により被着されるポリアミド成形材料からなる、請求項７記載の管材。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか１項記載の管材の、オフショア構造物に組み付けるためか、又は水中に敷設される配管を製造するための使用。
【請求項１０】
オフショア構造物の基礎構造への組み付けを行う、請求項９記載の使用。
【請求項１１】
前記オフショア構造物は、風力発電施設、掘削用プラットフォーム又は灯台である、請求項９又は１０記載の使用。
【請求項１２】
前記オフショア構造物は風力発電施設であり、前記基礎構造は、モノパイル、ジャケット、トリポッド、クワドロポッド又はトリパイルである、請求項１０記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月14日(2016.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気の第１の部分を受け取り且つ該空気を燃焼領域に送給するよう構成された中央本体と、
空気の第２の部分を受け取り且つ該空気を前記燃焼領域に送給するよう構成されたスワーラと、
を備え、前記スワーラが、
外側シュラウド壁と、
燃料供給ポートを有する内側ハブ壁と、
下流側縁部にて半径方向スワール輪郭を有するスワールベーンと、
を含み、前記半径方向スワール輪郭が、前記外側シュラウド壁から遷移点まで延びる第１の領域と、前記遷移点から前記内側ハブ壁まで延びる第２の領域とを含み、前記第１の領域が実質的に直線状で、前記第２の領域が弓形であり、
前記スワールベーンが、前記燃料供給ポートと流体連通する燃料噴射ポートを有する、システム。
【請求項２】
前記中央本体が、空気の前記第１の部分の小部分にスワールを誘起させるよう構成された拡散スワールを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記半径方向スワール輪郭が、前記外側シュラウド壁にて第１のスワール角を形成し、前記半径方向スワール輪郭が、前記内側ハブ壁にて第２のスワール角を形成し、前記第１のスワール角が前記第２のスワール角よりも大きい、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第１のスワール角が、約４０度と約６０度の間であり、
前記第２のスワール角が、約２０度未満である、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
空気の前記第２の部分に対する空気の前記第１の部分の比が、約０．０５〜約０．２５である、請求項１乃至４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記遷移点が、前記半径方向スワール輪郭の中心に近接して配置される、請求項１乃至５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
燃焼器及び燃料ノズルを含むガスタービンを備える、請求項１乃至６のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
空気の第１の部分を燃料ノズルの中央本体を通って配向させ、前記空気の第１の部分が前記燃料ノズルのハブ壁付近にて第１のスワール角で前記中央本体から流出するようにするステップと、
空気の第２の部分を前記燃料ノズルのスワーラを通って配向させ、前記空気の第２の部分が前記燃料ノズルのシュラウド壁付近にて第２のスワール角で前記スワーラから流出し、前記空気の第２の部分が前記燃料ノズルのハブ壁付近にて前記第２のスワール角よりも小さい第３のスワール角で前記スワーラから流出するようにするステップと、
を含み、
前記スワーラは、下流側端部にて半径方向スワール輪郭を有するスワールベーンを有し、前記半径方向スワール輪郭は、外側シュラウド壁から遷移点まで延びる第１の領域と、前記遷移点から内側ハブ壁まで延びる第２の領域とを含み、
前記第１の領域が実質的に直線状で、前記第２の領域が弓形であり、
前記内側ハブ壁が燃料供給ポートを備え、
前記スワールベーンが、前記燃料供給ポートと流体連通する燃料噴射ポートを備える、
方法。
【請求項９】
前記ハブ壁付近にて前記スワーラから流出する前記空気の第２の部分の第３のスワール角が約２０度未満の角度であるように誘起するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
外側シュラウド壁と、
燃料供給ポートを有する内側ハブ壁と、
下流側縁部にて半径方向スワール輪郭を有するスワールベーンと、
を含む燃料ノズルスワーラを備えるシステムであって、
前記半径方向スワール輪郭が、
前記外側シュラウド壁から遷移点まで延びる第１の領域と、前記遷移点から前記内側ハブ壁まで延びる第２の領域と、を含み、該第１の領域が実質的に一定なスワール角を有し、前記第２の領域が前記ハブ壁に向かって実質的に減少するスワール角を有し、
前記スワールベーンが、前記燃料供給ポートと流体連通する燃料噴射ポートを備えている、システム。