【手続補正書】
【提出日】平成28年10月19日(2016.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上に配設する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの一端子と接続する画素電極と、
前記画素電極と重なる支持部材と、
前記画素電極と前記支持部材との間に位置し、複数の分離されたマイクロキャビティ層と、
を備え、
前記分離されたマイクロキャビティ層のそれぞれは両周縁部にそれぞれ第１液晶注入口及び第２液晶注入口を有し、
前記第１液晶注入口の断面積は、前記第２液晶注入口の断面積よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１液晶注入口の高さは、前記第２液晶注入口の高さよりも低いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記基板の上に配設する遮光部材をさらに備え、
前記遮光部材は、前記第１液晶注入口の下に配設する第１遮光部材と、前記第２液晶注入口の下に配設する第２遮光部材と、を備え、
前記第１遮光部材の厚さは、前記第２遮光部材の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記基板の上に配設する有機膜をさらに備え、
前記第１遮光部材と前記第２遮光部材との間に前記有機膜を配設し、
前記第１遮光部材と前記有機膜の周縁部とが重なり合う幅は、前記第２遮光部材と前記有機膜の周縁部とが重なり合う幅よりも大きいことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１遮光部材を、前記マイクロキャビティ層の一辺の全体に形成することを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１遮光部材を、前記マイクロキャビティ層の一辺のうちの一部に形成することを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１遮光部材は、第１突出遮光部材及び第２突出遮光部材を備え、前記第１突出遮光部材の厚さは、前記第２突出遮光部材の厚さとは異なることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記支持部材は、前記第１液晶注入口の上に配設する第１支持部と、前記第２液晶注入口の上に配設する第２支持部と、を備え、前記第１支持部の厚さは、前記第２支持部の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記支持部材の上に配設し、前記第１液晶注入口及び前記第２液晶注入口を覆うキャッピング膜をさらに備え、
前記マイクロキャビティ層の間に溝を形成し、前記キャッピング膜は前記溝に詰め込まれることを特徴とする請求項４または８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記支持部材は、前記溝を挟んで相対向するマイクロキャビティ層のそれぞれの周縁部に対応する第３支持部及び第４支持部を備え、
前記第３支持部の厚さと前記第４支持部の厚さは、互いに同じであることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１支持部を、前記マイクロキャビティ層の一辺の全体に形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１支持部を、前記マイクロキャビティ層の一辺のうちの一部に形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１支持部は、厚さの異なる少なくとも２つの領域を有することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記マイクロキャビティ層の間に溝を形成し、前記溝は、前記薄膜トランジスタの一端子と接続する信号線と平行な方向に沿って延びることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記溝が延びる方向と平行な方向に隣り合う前記マイクロキャビティ層の間に配設するオープン部をさらに備え、
前記支持部材は、前記オープン部を覆うことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記マイクロキャビティ層の上に配設する共通電極をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記マイクロキャビティ層において前記画素電極または前記共通電極を覆う配向膜をさらに備えることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記マイクロキャビティ層は、液晶物質を含むことを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記第１液晶注入口の幅は、前記第２液晶注入口の幅よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記基板の上に配設する平坦化膜をさらに備え、前記第１液晶注入口の下に配設する前記平坦化膜の第１部分の厚さは、前記第２液晶注入口の下に配設する前記平坦化膜の第２部分の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記平坦化膜の第１部分は、前記第１液晶注入口を配設する方向に突き出た突出部を備えることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記基板の上に配設する平坦化膜をさらに備え、前記第１液晶注入口の下に配設する前記平坦化膜の第１部分の厚さは、前記第２液晶注入口の下に配設する前記平坦化膜の第２部分の厚さよりも薄いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記平坦化膜の第１部分は、前記第１液晶注入口を配設する方向とは逆方向に凹む凹部を備えることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
基板の上に薄膜トランジスタを形成するステップと、
前記薄膜トランジスタの上に画素電極を形成するステップと、
前記画素電極の上に犠牲膜を形成するステップと、
前記犠牲膜の上に支持部材を形成するステップと、
前記犠牲膜を除去して前記画素電極と前記支持部材との間に位置し、複数の分離されたマイクロキャビティ層を形成するステップと、
前記マイクロキャビティ層の内壁に配向膜を形成するステップと、
前記マイクロキャビティ層に液晶物質を注入するステップと、
前記支持部材の上に前記液晶注入口を覆うようにキャッピング膜を形成するステップと、
を含み、
前記分離されたマイクロキャビティ層のそれぞれは両周縁部にそれぞれ第１液晶注入口及び第２液晶注入口を有し、
前記第１液晶注入口の断面積は、前記第２液晶注入口の断面積よりも小さく形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第１液晶注入口の高さは、前記第２液晶注入口の高さよりも低く形成することを特徴とする請求項２４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２６】
前記基板の上に、前記第１液晶注入口の下に配設する第１遮光部材と、前記第２液晶注入口の下に配設する第２遮光部材と、を備える遮光部材を形成するステップをさらに含み、
前記第１遮光部材の厚さは、前記第２遮光部材の厚さよりも厚く形成することを特徴とする請求項２５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２７】
前記基板の上に有機膜を形成するステップをさらに含み、
前記有機膜は、前記第１遮光部材と前記第２遮光部材との間に形成し、前記第１遮光部材と前記有機膜の周縁部とが重なり合う幅は、前記第２遮光部材と前記有機膜の周縁部とが重なり合う幅よりも大きく形成することを特徴とする請求項２６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２８】
前記支持部材をパターニングして溝を形成するステップをさらに含み、前記溝を、前記マイクロキャビティ層の間に形成することを特徴とする請求項２７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２９】
前記キャッピング膜は、前記溝に詰め込まれるように形成することを特徴とする請求項２８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３０】
前記第１遮光部材を、前記マイクロキャビティ層の一辺の全体に形成することを特徴とする請求項２６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３１】
前記第１遮光部材を、前記マイクロキャビティ層の一辺のうちの一部に形成することを特徴とする請求項２６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記第１遮光部材は、厚さの異なる第１突出遮光部材と第２突出遮光部材を備えるように形成することを特徴とする請求項２６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記犠牲膜をパターニングして凹部を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記基板の上に有機膜を形成するステップと、
前記有機膜の間に遮光部材を形成するステップと、
をさらに含み、
前記遮光部材を基準として前記凹部は非対称状に形成することを特徴とする請求項３３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記支持部材をパターニングして溝を形成するステップをさらに含み、
前記溝は、前記凹部と互い違いに形成することを特徴とする請求項３４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３６】
前記支持部材は、前記第１液晶注入口の上に配設する第１支持部と、前記第２液晶注入口の上に配設する第２支持部を備えるように形成し、前記第１支持部の厚さは、前記第２支持部の厚さよりも厚く形成することを特徴とする請求項２５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３７】
前記第１支持部は、下方に突き出た突出支持部を備えるように形成することを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３８】
前記マイクロキャビティ層の間に溝を形成するステップをさらに含み、前記キャッピング膜は、前記溝に詰め込まれるように形成することを特徴とする請求項３７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３９】
前記支持部材は、前記溝を挟んで相対向するマイクロキャビティ層のそれぞれの周縁部に対応する第３支持部及び第４支持部を備えるように形成し、
前記第３支持部の厚さと前記第４支持部の厚さは、互いに同じであることを特徴とする請求項３８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４０】
前記第１支持部は、前記マイクロキャビティ層の一辺の全体に形成することを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４１】
前記第１支持部は、前記マイクロキャビティ層の一辺のうちの一部に形成することを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４２】
前記第１支持部は、厚さの異なる少なくとも２つの領域を有するように形成することを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４３】
前記犠牲膜の上に共通電極を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項２４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様による液晶表示装置は、基板と、前記基板の上に配設する薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの一端子と接続する画素電極と、前記画素電極と重なる支持部材と、前記画素電極と前記支持部材との間に位置し、複数の分離されたマイクロキャビティ層と、を備え、前記分離されたマイクロキャビティ層のそれぞれは両周縁部にそれぞれ第１液晶注入口及び第２液晶注入口を有し、前記第１液晶注入口の断面積は、前記第２液晶注入口の断面積よりも小さい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の一態様による液晶表示装置の製造方法は、基板の上に薄膜トランジスタを形成するステップと、前記薄膜トランジスタの上に画素電極を形成するステップと、前記画素電極の上に犠牲膜を形成するステップと、前記犠牲膜の上に支持部材を形成するステップと、前記犠牲膜を除去して前記画素電極と前記支持部材との間に位置し、複数の分離されたマイクロキャビティ層を形成するステップと、前記マイクロキャビティ層の内壁に配向膜を形成するステップと、前記マイクロキャビティ層に液晶物質を注入するステップと、前記支持部材の上に前記液晶注入口を覆うようにキャッピング膜を形成するステップと、を含み、前記分離されたマイクロキャビティ層のそれぞれは両周縁部にそれぞれ第１液晶注入口及び第２液晶注入口を有し、前記第１液晶注入口の断面積は、前記第２液晶注入口の断面積よりも小さく形成する。