【手続補正書】
【提出日】平成28年7月5日(2016.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、
気泡を除去する手段を備え、前記基板に異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第１ノズルと、
前記異方性向上液を前記基板に供給するノズルであって、前記第１ノズルとは別の、少なくとも一つの第２ノズルと、
前記基板と、前記第１ノズルおよび第２ノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
前記第２ノズルは、第１ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記基板の表面上に前記第１ノズルによって形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする接液処理装置。
【請求項２】
前記異方性向上液は、エチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の接液処理装置。
【請求項３】
前記搬送手段は、前記基板が前記第１ノズルの下に存在しなくなるタイミングで前記第１ノズルからの前記異方性向上液の供給を停止するとともに、前記搬送手段は、前記基板の搬送を一定時間停止し、
前記第２ノズルは、前記停止している状態の前記基板に対して、前記異方性向上液の供給を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の接液処理装置。
【請求項４】
前記第２ノズルは、前記基板に供給された後に回収された前記異方性向上液を、再度前記基板に供給することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の接液処理装置。
【請求項５】
前記第２ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第２ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に、未使用の異方性向上液を供給する第３ノズルを有することを特徴とする請求項４に記載の接液処理装置。
【請求項６】
前記第１ノズルと前記第２ノズルと前記第３ノズルから供給され前記基板の表面に供給された前記異方性向上液が回収されるタンクを有し、
前記タンクは、前記第１ノズルから供給された前記異方性向上液を主に回収する第１の領域と、前記第３ノズルから供給された前記異方性向上液を主に回収する第２の領域とに分けるための仕切りを有し、
前記タンクの壁面には、前記第１の領域に貯留される前記異方性向上液を前記第１ノズルに供給するための循環配管を有することを特徴とする請求項５に記載の接液処理装置。
【請求項７】
光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、
気泡を除去する手段を備え、前記基板に、エチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第１ノズルと、前記第１ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を除去するべく前記基板の表面に気体を供給する液膜除去ノズルと、を備える第１の処理ユニットと、
前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルである、少なくとも１つの第２ノズルを備える第２の処理ユニットと、
前記基板と前記第１の処理ユニットおよび第２の処理ユニットとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
前記第１の処理ユニットは、複数連続して設けられていることを特徴とする接液処理装置。
【請求項８】
光配向法によって形成された配向膜を有する基板を処理する基板処理装置であって、
気泡を除去する手段を備え、前記基板にエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第１ノズルと、前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルであって、前記第１ノズルとは別の、少なくとも一つの第２ノズルと、を備える接液処理ユニットと、
リンス液を供給するシャワーノズルを有し、前記リンス液を供給して、前記接液処理ユニットで前記基板上に形成された前記液膜を前記リンス液に置換するリンス処理ユニットと、
前記リンス処理ユニットにてリンス液が供給された前記基板に気体を供給するスリットノズルを有する乾燥ユニットと、
前記基板と、前記第１ノズルと前記第２ノズルと前記シャワーノズルおよび前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
前記第２ノズルは、第１ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第１ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、
前記基板に第１ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、
前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、
を有することを特徴とする接液処理方法。
【請求項１０】
光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、
前記基板に第１ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、
前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を液膜除去ノズルによって除去する工程と、
前記異方性向上液の液膜が除去された前記基板に対して、少なくとも１つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、
を有し、
前記第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程の前に、前記液膜を形成する工程と前記液膜を除去する工程との組み合わせを複数回行うことを特徴とする接液処理方法。
【請求項１１】
光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送しながら処理する基板処理方法であって、
前記基板に第１ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有する接液処理工程と、
前記接液処理工程で前記基板上に形成された前記液膜をリンス液に置換するリンス処理工程と、
前記リンス処理工程にてリンス液が供給された前記基板に気体を供給する乾燥工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
実施の形態に係る接液処理装置は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、気泡を除去する手段を備え、前記基板に異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第１ノズルと、前記異方性向上液を前記基板に供給するノズルであって、前記第１ノズルとは別の、少なくとも一つの第２ノズルと、前記基板と、前記第１ノズルおよび第２ノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、前記第２ノズルは、第１ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記基板の表面上に前記第１ノズルによって形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
実施の形態に係る接液処理装置は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、気泡を除去する手段を備え、前記基板に、エチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第１ノズルと、前記第１ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を除去するべく前記基板の表面に気体を供給する液膜除去ノズルと、を備える第１の処理ユニットと、前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルである、少なくとも１つの第２ノズルを備える第２の処理ユニットと、前記基板と前記第１の処理ユニットおよび第２の処理ユニットとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、前記第１の処理ユニットは、複数連続して設けられていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
実施の形態に係る基板処理装置は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を処理する基板処理装置であって、気泡を除去する手段を備え、前記基板にエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第１ノズルと、前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルであって、前記第１ノズルとは別の、少なくとも一つの第２ノズルと、を備える接液処理ユニットと、リンス液を供給するシャワーノズルを有し、前記リンス液を供給して、前記接液処理ユニットで前記基板上に形成された前記液膜を前記リンス液に置換するリンス処理ユニットと、前記リンス処理ユニットにてリンス液が供給された前記基板に気体を供給するスリットノズルを有する乾燥ユニットと、前記基板と、前記第１ノズルと前記第２ノズルと前記シャワーノズルおよび前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、前記第２ノズルは、第１ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第１ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
実施の形態に係る接液処理方法は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、前記基板に第１ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
実施の形態に係る接液処理方法は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、前記基板に第１ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を液膜除去ノズルによって除去する工程と、前記異方性向上液の液膜が除去された前記基板に対して、少なくとも１つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有し、前記第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程の前に、前記液膜を形成する工程と前記液膜を除去する工程との組み合わせを複数回行うことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
実施の形態に係る基板処理方法は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送しながら処理する基板処理方法であって、前記基板に第１ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有する接液処理工程と、前記接液処理工程で前記基板上に形成された前記液膜をリンス液に置換するリンス処理工程と、前記リンス処理工程にてリンス液が供給された前記基板に気体を供給する乾燥工程と、有することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図２は、基板処理装置１００の接液処理ユニットＵ１の概略構成図である。第１ノズルＮ１は、スリットノズルであり、処理液であるエチルラクテート液をカーテン状に吐出する構成となっている。さらに第１ノズルＮ１は、吐出されるエチルラクテート液に気泡が含まれることを防止するために、余剰気体を抜くための弁を有するなど、公知の気泡防止のための構成を有するノズルである（例えば、特開２００８−５３６８９号公報）。なお、ここでいう「防止」とは、ノズルから吐出されるエチルラクテート液の中に気泡が含まれることを防ぐことであって、一度発生した気泡を除去してから吐出する機構も含まれる。