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【手続補正書】
【提出日】平成28年7月11日(2016.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放熱板を有する電子部品が実装される表層において前記電子部品の前記放熱板に相対する位置に配置された伝熱パターンと、前記伝熱パターンの表面に形成されたソルダーレジストと、を備えたプリント配線板において、
前記伝熱パターンは、前記ソルダーレジストから露出する複数の接続用ランドを有し、
前記各接続用ランドは、円形状に形成された円形部と、前記円形部の外縁から突出する突出部と、を有することを特徴とするプリント配線板。
【請求項２】
前記伝熱パターンの外周に直線状に互いに間隔をあけて配列され、前記電子部品の電極が接合される複数の電極用ランドを備え、
前記突出部は、前記電極用ランドの配列方向に対して交差する方向に直線状に延びることを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項３】
前記各接続用ランドは、前記突出部を複数有することを特徴とする請求項１又は２に記載のプリント配線板。
【請求項４】
前記複数の突出部のうち２つの突出部のそれぞれは、前記円形部の外縁から、前記円形部の中心を通過する第１直線に沿って突出することを特徴とする請求項１又は２に記載のプリント配線板。
【請求項５】
前記複数の突出部のうち、前記２つの突出部とは別の２つの突出部のぞれぞれは、前記円形部の外縁から、前記第１直線に対して交差するように前記円形部の中心を通過する第２直線に沿って突出することを特徴とする請求項４に記載のプリント配線板。
【請求項６】
前記複数の接続用ランドのうち互いに隣接する接続用ランドの突出部同士が連結されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のプリント配線板。
【請求項７】
前記複数の接続用ランドが、正方格子状に配列されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のプリント配線板。
【請求項８】
前記複数の接続用ランドが、三角格子状に配列されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のプリント配線板。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のプリント配線板と、
前記プリント配線板の表層に実装された、放熱板を有する電子部品と、
前記電子部品の前記放熱板と前記プリント配線板の前記伝熱パターンとを接合するはんだ接合部と、を備えたことを特徴とするプリント回路板。
【請求項１０】
前記電子部品が、ＱＦＰ型の半導体パッケージであることを特徴とする請求項９に記載のプリント回路板。
【請求項１１】
前記電子部品が、ＳＯＰ型の半導体パッケージであることを特徴とする請求項９に記載のプリント回路板。
【請求項１２】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のプリント配線板の表層に、放熱板を有する電子部品を実装するプリント回路板の製造方法において、
前記プリント配線板の伝熱パターンにクリームはんだを一括して印刷し、
前記クリームはんだを加熱溶融し、固化することで、前記電子部品を前記プリント配線板に実装することを特徴とするプリント回路板の製造方法。
【請求項１３】
請求項９乃至１１のいずれか１項に記載のプリント回路板を備えた電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プリント配線板、プリント回路板、プリント回路板の製造方法、及び電子機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プリント配線板、電子部品を備えたプリント回路板、プリント回路板の製造方法、及び電子機器に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は、はんだによる放熱板と各接続用ランドとの未接合を解消できるプリント配線板、プリント回路板、プリント回路板の製造方法、及び電子機器を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月14日(2016.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内部の処理室と、この処理室内で形成したプラズマからの特定の波長の発光の強度の変化を検出する検出器と、この検出器からの出力を用いて前記プラズマの形成または前記処理室内に配置されたウエハを処理する条件を調節するプラズマ処理装置であって、
前記検出器が、前記処理中の任意の時刻以前の複数の時刻で検出された前記特定の波長の発光の強度の信号から得られる前記特定の波長の発光の強度の変化を示す時系列のデータからノイズの成分を除去する第１のフィルタと、前記ノイズの成分が除去された信号から当該信号の所定の値より長い周期で時間変化する前記発光の強度の成分を除く第２のフィルタと、前記所定の値より長い周期で時間変化する成分が除去された信号の前記所定の値より短い周期で時間変化する成分の当該変化に基づいて前記処理の目標への到達を判定する判定部とを含み、この判定部の判定の結果に基づいて前記プラズマの形成または前記ウエハを処理する条件を調節するプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第２のフィルタが無限インパルス応答フィルタであるプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第１のフィルタが無限インパルス応答フィルタであるプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載のプラズマ処理装置であって、
前記無限インパルス応答フィルタがカルマンフィルタであるプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第１のフィルタが前記第２のフィルタより大きな外挿次数を用いたカルマンフィルタであり、前記第２のフィルタが前記第１のフィルタより小さな外挿次数を用いたカルマンフィルタであるプラズマ処理装置。
【請求項６】
真空容器内部の処理室と、この処理室内で形成したプラズマからの特定の波長の発光の強度の変化を検出する検出器と、この検出器からの出力を用いて前記プラズマの形成または前記処理室内に配置されたウエハを処理する条件を調節するプラズマ処理装置の運転方法であって、
前記検出器が、前記処理中の任意の時刻以前の複数の時刻で検出した前記特定の波長の発光の強度の信号から得られる前記特定の波長の発行の強度の変化を示す時系列のデータからノイズの成分を除去した後、前記ノイズの成分が除去された信号から当該信号の所定の値より長い周期で時間変化する前記発光の強度の成分を除いた信号から前記所定の値より短い周期で時間変化する前記発光の強度の成分の当該変化を検出し前記処理の目標への到達を判定するものであって、この判定の結果に基づいて前記プラズマの形成または前記ウエハを処理する条件を調節するプラズマ処理装置の運転方法。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマ処理装置の運転方法であって、
前記ノイズの成分が除去された信号から当該信号の所定の値より長い周期で時間変化する前記発光の強度の成分を無限インパルス応答フィルタを用いて検出するプラズマ処理装置の運転方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載のプラズマ処理装置の運転方法であって、
前記ノイズの成分を無限インパルス応答フィルタを用いて除去するプラズマ処理装置の運転方法。
【請求項９】
請求項７または８に記載のプラズマ処理装置の運転方法であって、
前記無限インパルス応答フィルタがカルマンフィルタであるプラズマ処理装置の運転方法。
【請求項１０】
請求項６に記載のプラズマ処理装置の運転方法であって、
前記検出器は、前記ノイズを第１の外挿次数を用いたカルマンフィルタを用いて低減させた後、この雑音を低減させた信号から前記所定の値より長い周期で時間変化する前記発光の強度の成分を前記第１の外挿次数より小さな第２の外挿次数を用いたカルマンフィルタを用いて検出してこれを低減するプラズマ処理装置の運転方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月14日(2016.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハを真空容器内部の処理室内に配置して、前記ウエハ上に予め配置された処理対象の膜層及びこの膜層上方に配置されたマスク層とを含む複数の膜層を有した膜構造を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
処理対象のウエハの処理の前に予め別のウエハ上の前記膜構造を処理して得られた前記処理対象の膜から検出される干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとマスク層からの干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて合成されて得られた複数の合成パターンと、前記ウエハの処理対象の膜の処理中に検出された当該処理対象の膜からの干渉光の波長をパラメータとする強度のパターンとを比較し、前記複数の合成パターンのうちでこれらの間の差が最小となる１つに対応する膜厚さを検出して、当該膜厚さと目標の膜厚さとを比較して、前記処理対象の膜の厚さの前記目標の膜厚さへの到達を判定するプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記処理対象の膜及びマスク層のうち前記処理中の膜厚さの小さい一方の膜層について、当該膜当該膜からの干渉光についての前記波長をパラメータとする強度のパターンを予め算出して、この予め算出されたパターンと前記処理対象の膜及びマスク層のうちの他方の膜からの干渉光から得られる前記波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて前記複数のパターンを作成するプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記複数の膜のうち上方に配置されたマスク層が光を透過する材料から構成されたプラズマ処理装置。
【請求項４】
ウエハを真空容器内部の処理室内に配置して、前記ウエハ上に予め配置された処理対象の膜層及びこの膜層上方に配置されたマスク層とを含む複数の膜層を有した膜構造を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理方法であって、
処理対象のウエハの処理の前に予め別のウエハ上の前記膜構造を処理して得られた前記処理対象の膜から検出される干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとマスク層からの干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて合成されて得られた複数の合成パターンと、前記ウエハの処理対象の膜の処理中に検出された当該処理対象の膜からの干渉光の波長をパラメータとする強度のパターンとを比較し、前記複数の合成パターンのうちでこれらの間の差が最小となる１つに対応する膜厚さを検出して、当該膜厚さと目標の膜厚さとを比較して、前記処理対象の膜の厚さの前記目標の膜厚さへの到達を判定するプラズマ処理方法。
【請求項５】
請求項４に記載のプラズマ処理方法であって、
前記処理対象の膜及びマスク層のうち前記処理中の膜厚さの小さい一方の膜層について、当該膜当該膜からの干渉光についての前記波長をパラメータとする強度のパターンを予め算出して、この予め算出されたパターンと前記処理対象の膜及びマスク層のうちの他方の膜からの干渉光から得られる前記波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて前記複数のパターンを作成するプラズマ処理方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載のプラズマ処理方法であって、
前記複数の膜のうち上方に配置されたマスク層が光を透過する材料から構成されたプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的は、ウエハを真空容器内部の処理室内に配置して、前記ウエハ上に予め配置された処理対象の膜層及びこの膜層上方に配置されたマスク層とを含む複数の膜層を有した膜構造を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置またはプラズマ処理方法において、処理対象のウエハの処理の前に予め別のウエハ上の前記膜構造を処理して得られた前記処理対象の膜から検出される干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとマスク層からの干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて合成されて得られた複数の合成パターンと、前記ウエハの処理対象の膜の処理中に検出された当該処理対象の膜からの干渉光の波長をパラメータとする強度のパターンとを比較し、前記複数の合成パターンのうちでこれらの間の差が最小となる１つに対応する膜厚さを検出して、当該膜厚さと目標の膜厚さとを比較して、前記処理対象の膜の厚さの前記目標の膜厚さへの到達を判定することにより達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月29日(2016.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のチャンバを備える成膜装置を用いて、前記複数のチャンバのうち第１チャンバで第１の厚さの第１の膜を半導体ウエハに第１基板温度、第１圧力、および第１電力で形成する第１工程と、
前記第１の膜を形成した前記半導体ウエハを前記複数のチャンバのうち第２チャンバへ真空雰囲気で搬送し、前記第２チャンバ内において前記第１基板温度、前記第１圧力、および前記第１電力で、前記第１の膜上に前記第１の膜と同じ材料からなる第２の厚さの第２の膜を形成する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記半導体ウエハの温度が低下するように前記真空雰囲気で前記半導体ウエハを搬送することを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の厚さと前記第２の厚さが等しいことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記複数のチャンバが第３チャンバを含み、前記第２の膜を形成した前記半導体ウエハを前記第３チャンバへ真空雰囲気で搬送し、前記第３チャンバ内において前記第１基板温度、前記第１圧力、および前記第１電力で前記第２の膜上に前記第１、２の膜と同じ材料からなる第３の厚さの第３の膜を形成する工程を、
さらに備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記成膜装置がスパッタ装置であり、
前記第１の膜および前記第２の膜が、スパッタ膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記半導体ウエハに前記第１の膜を成膜した後または前記第２の膜を成膜した後に、前記第１チャンバ内または前記第２チャンバ内に不活性ガスを導入することで前記第１、２チャンバ内の部品および前記半導体ウエハを冷却することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月2日(2016.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体撮像素子が搭載された光学膜層と、
前記光学膜層において前記固体撮像素子の周辺領域に、前記光学膜層と金属体を介して電気的に接続された状態で積層される多機能チップと、
前記光学膜層上で、前記多機能チップが積層される周辺領域を封止する封止樹脂層と、
前記封止樹脂層の周辺領域において、前記封止樹脂層が形成される際の液状の封止樹脂の流れ止め用の凹型流れ止め構造と
を含む固体撮像装置。
【請求項２】
前記凹型流れ止め構造は、前記多機能チップの周囲を囲むように表面が堀込まれて構成される堀込段差である
請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記凹型流れ止め構造は、前記多機能チップの周囲を多重に囲むように構成される
請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記凹型流れ止め構造は、ウェハ工程のドライエッチングにより前記光学膜層のみが堀込加工されて形成される
請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記凹型流れ止め構造を構成する前記堀込段差の内壁は、前記光学膜層の表面に対して略６０乃至９０°の傾斜角範囲で、前記多機能チップの周囲を囲むように堀込段差加工される
請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記光学膜層の配線上と配線間上では、前記光学膜層の前記堀込段差加工により形成される形状が異なる
請求項１乃至５のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記光学膜層の堀込段差加工は、積層される前記多機能チップの周辺を囲むパターンである
請求項１乃至６のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項８】
固体撮像素子が搭載された光学膜層と、
前記光学膜層において前記固体撮像素子の周辺領域に、前記光学膜層と金属体を介して電気的に接続された状態で積層される多機能チップと、
前記光学膜層上で、前記多機能チップが積層される周辺領域を封止する封止樹脂層と、
前記封止樹脂層の周辺領域において、前記封止樹脂層が形成される際の液状の封止樹脂の流れ止め用の凹型流れ止め構造と
を含む固体撮像装置の製造方法において、
前記光学膜層を形成し、
前記光学膜層の前記多機能チップが積層される周辺を取り囲むように前記凹型流れ止め構造を形成し、
前記多機能チップを前記光学膜層上に積層し、
前記凹型流れ止め構造で囲まれた範囲内において、前記封止樹脂を塗布供与し、硬化させて、前記多機能チップの周辺に前記封止樹脂層を形成する
工程を含む固体撮像素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図１の最上段で示されるように、一般的な固体撮像素子チップは、シリコン（Si）およびシリコン上配線１１上に、光学膜層としての固体撮像素子２１を構成する周辺回路領域２１ａおよび光学画素領域２１ｂ、並びに、光学画素領域２１ｂに設けられた撮像素子により生成される画素信号を出力するためのワイヤ２２が接続されるワイヤボンド領域から構成されている。光学画素領域２１ｂには、画素単位で、撮像素子が設けられており、それぞれの上部にRGB（Red,Green,Blue）のカラーフィルタおよびオンチップレンズが配設されている。撮像素子は、入射光を受光すると光電変換により画素信号を生成して周辺回路領域２１ａに設けられている信号処理回路に出力する。周辺回路領域２１ａには、光学画素領域２１ｂ上に設けられた撮像素子より画素単位で供給されてくる画素信号に所定の処理を施す信号処理回路が設けられている。この信号処理回路は、画素信号に各種の処理を施してワイヤボンド領域にボンディングされたワイヤ２２を介して出力する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
尚、図７の分布は、図６の下段で示されるように、ハロゲン光源からなる光線Ｌ１を発光させ、レンズ群１０１を透過させて固体撮像素子チップを照射した場合の光学画素領域２１ｂをXY空間で表したときの各座標上における光強度分布（放射照度分布）の例である。図７の上部の分布は、凸型流れ止め構造３３が利用されている場合のものである。また、このときの凸型流れ止め構造３３は、図６の下段上部で示されるように、半径50μmの半球状の金属材（Sn）であるものとしている。一方、図７の下部の分布は、凹型流れ止め構造４１が利用されている場合のものであり、このときの凹型流れ止め構造４１は、図６の下段下部で示されるように、幅3μmで深さ1μmの堀込段差であるものとしている。そして、いずれにおいても、多機能チップ３１の端部から光学画素領域２１ｂにおける有効画素の存在する位置までの最短距離が50μmであるものとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月15日(2016.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置の被処理体を戴置するためのステージ製造方法であって、
化学気相成長法あるいは物理気相成長法で、前記ステージの表面に多数の突起を有するＹ２Ｏ３膜を形成する、
ことを特徴とするステージ製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のステージ製造方法であって、
前記ステージ表面に、化学気相成長法あるいは物理気相成長法で、Ｙ２Ｏ３膜を形成する工程と、
前記Ｙ２Ｏ３膜表面に、多数の開口部を有するマスクを設置する工程と、
前記マスクを設置した前記Ｙ２Ｏ３膜表面に、化学気相成長法あるいは物理気相成長法で、Ｙ２Ｏ３からなる突起を成膜する工程と、
前記マスクを除去する工程と、含む、
ことを特徴とするステージ製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のステージ製造方法であって、
前記開口部の高さをｈ、径をｄとした場合のアスペクト比（ｈ／ｄ）を調整することにより、前記化学気相成長法あるいは物理気相成長法のカバレッジ効果を出現させる、
ことを特徴とするステージ製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載のステージ製造方法であって、
前記アスペクト比（ｈ／ｄ）を１以上とする、
ことを特徴とするステージ製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載のステージ製造方法であって、
前記ステージ表面に、多数の開口部を有するマスクを設置する工程と、
前記マスクを設置した前記ステージ表面に、化学気相成長法あるいは物理気相成長法で、Ｙ２Ｏ３からなる突起を成膜する工程と、
前記マスクを除去する工程と、
前記突起を成膜した前記ステージ表面に、化学気相成長法あるいは物理気相成長法で、Ｙ２Ｏ３膜を形成する工程とを、含む、
ことを特徴とするステージ製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ処理装置のステージ製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月22日(2016.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の送り機構は以上説明した第１実施例に限定されるものではなく、図４に示すような送り出し腕型ミシンに実施することができる（以下、第２実施例とする）。図４に示す第２実施例については、第１実施例と異なる構成についてのみ説明し、第１実施例と同じ構成については第１実施例と同じ符号をつけている。図４に示すように、第２実施例に係る送り出し腕型ミシンはシリンダ１０１，ベッド１０２およびアーム１０３を有する。シリンダ１０１はベッド１０２の下部から生地送り方向Ｆに延びている。ベッド１０２はシリンダ１０１の基端から立設している。アーム１０３はベッド１０２の端部から生地送り方向とは交差する方向に沿って延び、アーム１０３の中途は屈曲しており、その先端はシリンダ１０１の上方に位置する。アーム１０３には水平に延びる主軸１０７が回転自在に軸支されている。主軸１０７には偏心部１０８が固定され、この偏心部１０８に送り機構１０６の上下用ロッド１０９および前後用ロッド１１０の一端が連結されている。上下用ロッド１０９の他端はピン１３を介して主送り台１４の基端に形成されるブロック片１４ａに連結されている。前後用ロッド１１０の他端にはクランク２５の連結部が連結されている。以上より、第２実施例のように、第１実施例とは異なるタイプの送り出し腕型ミシンについても本発明の送り機構を実施することができ、第２実施例は第１実施例と同様の作用や効果を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月19日(2016.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を識別する遊技媒体識別装置において、
磁気センサの検知部分の内部を通過する判定対象遊技媒体から、前記判定対象遊技媒体を特徴付ける複数の要素のうち異なる要素をそれぞれ特定するための判定用磁気信号を少なくとも２つ以上取得する信号取得部と、
前記少なくとも２つ以上の判定用磁気信号から所定のアルゴリズムにより求めた値と、前記少なくとも２つ以上の判定用磁気信号が特定する前記異なる要素について正規遊技媒体から予め取得した少なくとも２つ以上の基準磁気信号から所定のアルゴリズムにより求めた値とが一致するか否かという所定の比較、または、
前記異なる要素のそれぞれについて、前記判定磁気信号および前記基準磁気信号の相関度が、所定の閾値を超えるか否かという所定の比較をすることで、前記判定対象遊技媒体が前記正規遊技媒体であるか非正規遊技媒体であるかを判定する判定部と、を備える
ことを特徴とする遊技媒体識別装置。
【請求項２】
複数種類ある遊技媒体から１つ以上の遊技媒体を前記正規遊技媒体として設定可能とする設定部を備え、
前記判定部は、前記設定部が設定した前記正規遊技媒体を参照して、前記判定対象遊技媒体が正規遊技媒体であるか非正規遊技媒体であるかを判定する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技媒体識別装置。
【請求項３】
前記判定部が前記正規遊技媒体であると判定した前記判定対象遊技媒体と、前記判定部が前記非正規遊技媒体であると判定した前記判定対象遊技媒体とを振分ける振分け部を備える
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技媒体識別装置。
【請求項４】
前記判定対象遊技媒体を特徴付ける複数の要素は、前記判定対象遊技媒体の材質、外径、厚さのうち少なくとも２つ以上である
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の遊技媒体識別装置。
【請求項５】
前記設定部によって、前記遊技媒体識別装置にティーチングさせる前記遊技媒体であるティーチング対象遊技媒体を前記正規遊技媒体として設定する場合、
前記信号取得部が、前記ティーチング対象遊技媒体から、前記異なる要素をそれぞれ特定するためのティーチング用磁気信号を少なくとも２つ以上取得し、
前記判定部が、前記少なくとも２つ以上のティーチング用磁気信号を、前記少なくとも２つ以上の基準磁気信号とし、前記判定対象遊技媒体が前記正規遊技媒体であるか否かを判定する
ことを特徴とする請求項２に記載の遊技媒体識別装置。
【請求項６】
前記設定部は、前記遊技媒体を使用して動作する遊技媒体使用機が備えるスイッチであること
を特徴とする請求項２又は請求項５に記載の遊技媒体識別装置。
【請求項７】
前記設定部は、前記遊技媒体を使用して動作する遊技媒体使用機の上位装置が備えており、前記遊技媒体使用機に対して、前記ティーチング対象遊技媒体を前記正規遊技媒体として設定するように前記上位装置が指令するためのプログラムであること
を特徴とする請求項５に記載の遊技媒体識別装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月6日(2016.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗濯水を溜める有底円筒形の水槽と、該水槽の内部に、奥から手前に向かうほど高くなる軸の周りに回転し洗濯物を投入する開口を有する有底円筒形の回転ドラムとを備え、前記回転ドラムの内部の洗濯物を洗濯水に浸して洗濯する洗濯機において、
前記回転ドラムの底面側では、前記回転ドラムの底面の中央部における高さが最大であり、前記中央部の外周には、該中央部の高さ以下の高さを持つ隆起部が設けられている洗濯機。
【請求項２】
洗濯水を溜める有底円筒形の水槽と、該水槽の内部に、奥から手前に向かうほど高くなる軸の周りに回転し洗濯物を投入する開口を有する有底円筒形の回転ドラムとを備え、前記回転ドラムの内部の洗濯物を洗濯水に浸して洗濯する洗濯機において、
前記回転ドラムの底面側に、
前記回転ドラムと一体に回転し、中央部が前記開口側に突出した底面カバーと、
隆起部とが設けられ、
前記回転ドラムの前記底面に対する前記隆起部の高さは、前記底面カバーの前記中央部における最大高さ以下である洗濯機。
【請求項３】
前記底面カバーの前記中央部と、前記回転ドラムの前記底面の半径方向における中間位置から隆起する前記隆起部との間に段差が形成されている請求項２に記載の洗濯機。
【請求項４】
前記隆起部の数は、３以上であり、
前記回転ドラムの前記底面の周方向に等間隔で設けられている請求項１から３のいずれか１項に記載の洗濯機。
【請求項５】
前記隆起部は、前記回転ドラムの外周に向かって伸びている請求項１から４のいずれか１項に記載の洗濯機。
【請求項６】
前記底面カバーは、その直径を、前記回転ドラムの前記開口の径よりも小さくした請求項２または３に記載の洗濯機。
【請求項７】
前記底面の中心位置に、前記回転ドラムを前記軸に固定するねじ孔が設けられている請求項１から６のいずれか１項に記載の洗濯機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
したがって、回転ドラム３の回転により、洗濯物の撹拌を行うスペースを確保し、第１および第２の実施形態において説明した作用、効果を実現することができる。
（構成１）
洗濯水を溜める有底円筒形の水槽と、該水槽の内部で横軸又は斜め横軸周りに回転し洗濯物を投入する開口を有する有底円筒形の回転ドラムとを備え、前記回転ドラムの内部の洗濯物を洗濯水に浸して洗濯する洗濯機において、
前記回転ドラムの底面に、椀型形状の表面から突出させた隆起部を設けた底面カバーを設け、
前記隆起部は、前記底面カバーの外周縁に向かって湾曲形状で隆起してなる洗濯機。
（構成２）
前記隆起部は、底面カバーの半径の略中間位置から突出するように形成されていることを特徴とする構成１記載の洗濯機。
（構成３）
前記洗濯機は、乾燥装置を備え、
前記乾燥装置は、前記回転ドラムの底面側で、中心部付近から乾燥風を吹き出し、
前記底面カバーは、中心部分に乾燥風を通す貫通孔を設けた構成１または２に記載の洗濯機。
（構成４）
前記底面カバーは、中心部分に形成された貫通孔とは別に、前記隆起部にも乾燥風を通す第２の貫通孔、また前記隆起部に形成された第２の貫通孔に沿うよう前記カバー表面に形成した第３の貫通孔を有した構成３記載の洗濯機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月28日(2016.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＯＳカーネル層のオペレーティングシステムによって動作し、接続される電子機器に動作を実行させるコマンド群のデータを第一単位毎に出力するアプリケーションをアプリケーション層に備え、前記アプリケーションから出力されるデータを前記電子機器へ送信する通信ポートを物理層に備えるコンピューターにおいて、通信制御の処理を実行させる通信制御方法であって、
前記アプリケーションから出力されるデータを、前記通信ポートが受け取る前に、前記ＯＳカーネル層で受信する受信工程と、
前記受信されたデータを蓄積し、前記第一単位よりも大きい第二単位のデータとする生成工程と、
前記生成されたデータを前記第二単位毎に前記通信ポートへ出力する出力工程と、を有する
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第一単位は、１バイトであり、
前記第二単位は、１コマンドである
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記第二単位は、前記コマンドが画像の描画を指示するコマンドである場合には、前記電子機器に備えられるデータ記憶容量に基づいて決定されたデータ量とする
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項４】
請求項１において、更に、
前記生成工程の後、前記アプリケーションに前記データの出力を停止させる信号を送信する工程と、
前記出力工程で出力されたデータが前記電子機器に送信された後、前記アプリケーションに前記データの出力を再開させる信号を送信する工程と、を有する
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項５】
請求項４において、更に、
前記アプリケーションからの前記データの出力中に、前記電子機器からビジー信号が発せられた場合に、前記アプリケーションに前記データの出力を停止させる信号を送信し、前記出力工程での出力がなされていないデータを前記通信ポートへ出力する工程を、有する
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項６】
請求項１において、
前記コンピューターと前記電子機器間の通信がＵＳＢに則って行われる
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項７】
請求項１において、
前記電子機器は、プリンターである
ことを特徴とする通信制御方法。
【請求項８】
ＯＳカーネル層のオペレーティングシステムによって動作し、接続される電子機器に動作を実行させるコマンド群のデータを第一単位毎に出力するアプリケーションをアプリケーション層に備え、前記アプリケーションから出力されるデータを前記電子機器へ送信する通信ポートを物理層に備える情報処理装置であって、
前記アプリケーションから出力されるデータを、前記通信ポートが受け取る前に、前記ＯＳカーネル層で受信する受信部と、
前記受信されたデータを蓄積し、前記第一単位よりも大きい第二単位のデータとする生成部と、
前記生成されたデータを前記第二単位毎に前記通信ポートへ出力する出力部と、を有する
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記第一単位は、１バイトであり、
前記第二単位は、１コマンドである
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１０】
請求項８において、
前記第二単位は、前記コマンドが画像の描画を指示するコマンドである場合には、前記電子機器に備えられるデータ記憶容量に基づいて決定されたデータ量とする
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１１】
請求項８において、更に  前記生成部は、
前記第二単位のデータを生成した後、前記アプリケーションに前記データの出力を停止させる信号を送信し、
前記出力部で出力されたデータが前記電子機器に送信された後、前記アプリケーションに前記データの出力を再開させる信号を送信する
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１２】
請求項１１において、更に、前記生成部は、
前記アプリケーションからの前記データの出力中に、前記電子機器からビジー信号が発せられた場合に、前記アプリケーションに前記データの出力を停止させる信号を送信し、前記出力部から出力がなされていないデータを前記通信ポートへ出力させる
ことを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信制御方法、及び、情報処理装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の目的を達成するために、本発明の一つの側面は、ＯＳカーネル層のオペレーティングシステムによって動作し、接続される電子機器に動作を実行させるコマンド群のデータを第一単位毎に出力するアプリケーションをアプリケーション層に備え、前記アプリケーションから出力されるデータを前記電子機器へ送信する通信ポートを物理層に備えるコンピューターにおいて、通信制御の処理を実行させる通信制御方法であって、前記アプリケーションから出力されるデータを、前記通信ポートが受け取る前に、前記ＯＳカーネル層で受信する受信工程と、前記受信されたデータを蓄積し、前記第一単位よりも大きい第二単位のデータとする生成工程と、前記生成されたデータを前記第二単位毎に前記通信ポートへ出力する出力工程と、を有する、ことである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
更に、上記発明において、その好ましい態様は、更に、前記生成工程の後、前記アプリケーションに前記データの出力を停止させる信号を送信する工程と、前記出力工程で出力されたデータが前記電子機器に送信された後、前記アプリケーションに前記データの出力を再開させる信号を送信する工程と、を有する、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、上記発明において、その好ましい態様は、更に、前記アプリケーションからの前記データの出力中に、前記電子機器からビジー信号が発せられた場合に、前記アプリケーションに前記データの出力を停止させる信号を送信し、前記出力工程での出力がなされていないデータを前記通信ポートへ出力する工程を、有する、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月25日(2016.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
他の通信装置に対して信号を送信する送信手段と、
前記送信手段により送信された信号に対する応答を前記他の通信装置から受信したか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段により前記応答を受信しなかったと判定されたことに応じて、前記他の通信装置のアドレスを設定する設定装置に対して、前記他の通信装置のアドレスを要求する要求手段と、
前記要求手段による要求に応答した前記設定装置から、前記他の通信装置のアドレスを取得する取得手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記要求手段が前記設定装置に対して前記他の通信装置のアドレスを要求するタイミングを設定する設定手段を更に有し、
前記判定手段により前記応答を受信しなかったと判定された場合、前記要求手段は、前記設定手段により設定されたタイミングに従って、前記設定装置に対して前記他の通信装置のアドレスを要求することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記要求手段は、前記他の通信装置に固有の識別情報を利用して、前記他の通信装置のアドレスを要求することを特徴とする請求項１または２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記識別情報は、前記他の通信装置のMACアドレスであることを特徴とする請求項３に記載の通信装置。
【請求項５】
前記要求手段が要求するアドレスは、前記他の通信装置のIPアドレスであることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記設定装置はDHCPサーバであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
前記他の通信装置はDNSサーバであることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記送信手段は、DNSサーバに対する名前解決を要求するための信号を送信し、
前記判定手段は、DNSサーバに対する名前解決を要求するための信号に対する応答が、前記他の通信装置から受信したか否かを判定することを特徴とする請求項７に記載の通信装置。
【請求項９】
前記通信装置と前記他の通信装置とがゲートウェイを介して接続されている場合、前記要求手段は、前記他の通信装置のアドレスを設定する設定装置に代えて、前記ゲートウェイのアドレスを設定する設定装置に対して、前記他の通信装置のアドレスを要求することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１０】
通信装置の制御方法であって、
他の通信装置に対して信号を送信する送信工程と、
送信した前記信号に対する応答を前記他の通信装置から受信したか否かを判定する判定工程と、
前記応答を受信しなかったと判定されたことに応じて、前記他の通信装置のアドレスを設定する設定装置に対して、前記他の通信装置のアドレスを要求する要求工程と、
当該要求に応答した前記設定装置から、前記他の通信装置のアドレスを取得する取得工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを請求項１から９のいずれか１項に記載の通信装置として動作させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信装置およびその制御方法、コンピュータプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ネットワークを介して他の通信装置との通信を行う通信装置およびその制御方法、コンピュータプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するための一手段として、本発明の通信装置は以下の構成を備える。すなわち、通信装置であって、他の通信装置に対して信号を送信する送信手段と、前記送信手段により送信された信号に対する応答を前記他の通信装置から受信したか否かを判定する判定手段と、前記判定手段により前記応答を受信しなかったと判定されたことに応じて、前記他の通信装置のアドレスを設定する設定装置に対して、前記他の通信装置のアドレスを要求する要求手段と、前記要求手段による要求に応答した前記設定装置から、前記他の通信装置のアドレスを取得する取得手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月1日(2016.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局であって、
二重接続により前記基地局及び他の基地局へ無線信号を送信可能なユーザ端末へ情報を送信する送信部と、
前記基地局への第１の無線信号を前記ユーザ端末から受信する受信部と、を備え、
前記情報は、第１の情報と第２の情報とを含み、
前記第１の情報は、前記基地局への第１の無線信号の送信電力を制御するための情報であり、
前記第２の情報は、前記他の基地局への第２の無線信号の送信電力を制御するための情報である基地局。
【請求項２】
前記情報は、前記ユーザ端末が前記第１の無線信号を送信する際に用いる無線リソースの情報を含む請求項１に記載の基地局。
【請求項３】
基地局を制御するプロセッサであって、
二重接続により前記基地局及び他の基地局へ無線信号を送信可能なユーザ端末へ情報を送信する処理と、
前記基地局への第１の無線信号を前記ユーザ端末から受信する処理と、を実行し、
前記情報は、第１の情報と第２の情報とを含み、
前記第１の情報は、前記基地局への第１無線信号の送信電力を制御するための情報であり、
前記第２の情報は、前記他の基地局への第２の無線信号の送信電力を制御するための情報であるプロセッサ。
【請求項４】
ユーザ端末であって、
基地局から情報を受信する受信部と、
二重接続において、前記基地局へ第１の無線信号を送信し、かつ、他の基地局へ第２の無線信号を送信する送信部と、を備え、
前記情報は、第１の情報と第２の情報とを含み、
前記第１の情報は、前記基地局への前記第１の無線信号の送信電力を制御するための情報であり、
前記第２の情報は、前記他の基地局への前記第２の無線信号の送信電力を制御するための情報であるユーザ端末。
【請求項５】
前記情報は、前記ユーザ端末が前記第１の無線信号を送信する際に用いる無線リソースの情報を含む請求項４に記載の基地局。
【請求項６】
ユーザ端末を制御するプロセッサであって、
基地局から情報を受信する処理と、
二重接続において、前記基地局へ第１の無線信号を送信し、かつ、他の基地局へ第２の無線信号を送信する処理と、を実行し、
前記情報は、第１の情報と第２の情報とを含み、
前記第１の情報は、前記基地局への前記第１の無線信号の送信電力を制御するための情報であり、
前記第２の情報は、前記他の基地局への前記第２の無線信号の送信電力を制御するための情報であるプロセッサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ユーザ端末、プロセッサ及び基地局
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月2日(2016.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光量に応じた電荷を発生して内部に蓄積する光電変換素子と、
前記光電変換素子に蓄積された電荷を転送する第１転送ゲートと、
前記第１転送ゲートによって前記光電変換素子から転送される電荷を保持する電荷保持領域と、
前記電荷保持領域に保持された電荷を転送する第２転送ゲートと、
前記第２転送ゲートによって前記電荷保持領域から転送される電荷を信号として読み出すために保持する浮遊拡散領域と
を有する複数の単位画素を備え、
前記電荷保持領域は、電荷を保持するための複数段の領域を有し、
前記複数段の領域間は、Ｎ型の領域となる
固体撮像素子。
【請求項２】
前記複数段の領域は、前記光電変換素子に蓄積された電荷の読み出しに用いられる第１の領域と、前記第１の領域以外の第２の領域のいずれかの領域からなる
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項３】
前記第１の領域では、前記第１転送ゲートによるゲートバイアスによって、前記光電変換素子と前記電荷保持領域との素子分離がなされ、
前記第２の領域では、前記第１の領域と異なる素子分離構造により素子分離がなされる
請求項２に記載の固体撮像素子。
【請求項４】
前記第２の領域では、ｐ＋不純物拡散領域により素子分離がなされる
請求項３に記載の固体撮像素子。
【請求項５】
前記第２の領域では、酸化膜の領域により素子分離がなされる
請求項３に記載の固体撮像素子。
【請求項６】
前記複数段の領域は、２段構成である
請求項１乃至５のいずれかに記載の固体撮像素子。
【請求項７】
前記第１転送ゲートは、前記複数段の領域に対応する複数の電極から構成されている
請求項１乃至６のいずれかに記載の固体撮像素子。
【請求項８】
入射光量に応じた電荷を発生して内部に蓄積する光電変換素子と、
前記光電変換素子に蓄積された電荷を転送する第１転送ゲートと、
前記第１転送ゲートによって前記光電変換素子から転送される電荷を保持する電荷保持領域と、
前記電荷保持領域に保持された電荷を転送する第２転送ゲートと、
前記第２転送ゲートによって前記電荷保持領域から転送される電荷を信号として読み出すために保持する浮遊拡散領域と
を有する複数の単位画素と、
前記単位画素の駆動を制御する駆動制御部と
を備える固体撮像素子の駆動方法であって、
前記駆動制御部が、前記電荷保持領域における電荷を保持するための複数段の領域であって、その間の領域がＮ型の領域となる前記複数段の領域に対応する複数の電極から構成されている前記第１転送ゲートの駆動を、電極ごとに制御する
ステップを含む駆動方法。
【請求項９】
入射光量に応じた電荷を発生して内部に蓄積する光電変換素子と、
前記光電変換素子に蓄積された電荷を転送する第１転送ゲートと、
前記第１転送ゲートによって前記光電変換素子から転送される電荷を保持する電荷保持領域と、
前記電荷保持領域に保持された電荷を転送する第２転送ゲートと、
前記第２転送ゲートによって前記電荷保持領域から転送される電荷を信号として読み出すために保持する浮遊拡散領域と
を有する複数の単位画素を備え、
前記電荷保持領域は、電荷を保持するための複数段の領域を有し、
前記複数段の領域間は、Ｎ型の領域となる
固体撮像素子を搭載した電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月19日(2016.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を用いて、前記基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持可能な型保持部と、
前記型保持部に保持された前記型の側面に対向するように配置され、アクチュエータの駆動により前記型の側面を押圧可能な複数の押圧ユニットを有する押圧機構と、
前記複数の押圧ユニットの押圧面をクリーニングするクリーニング手段と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記押圧機構は、前記型の、第１方向に沿う１対の側面に対向するように配置された第１押圧ユニット群と、前記型の、前記第１方向に交差する第２方向に沿う１対の側面に対向するように配置された第２押圧ユニット群と、を有し、
前記クリーニング手段は、前記型保持部にクリーニング部材を保持させた状態で前記第１押圧ユニット群に属する押圧ユニットの押圧面に対して、該押圧面に対向して配置された前記クリーニング部材が摺動するように、前記第２押圧ユニット群に属する押圧ユニットの動作を制御する制御部を有することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記押圧機構を用いて前記型を変形させた状態で前記基板上のインプリント材と前記型を接触させるインプリントモードと、前記複数の押圧ユニットの押圧面をクリーニングするクリーニングモードと、を選択的に実行することを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記クリーニング手段は前記型保持部にクリーニング部材を保持させた状態で、前記クリーニングモードのクリーニング時において、前記型保持部は、前記インプリントモード時よりも弱い保持力で前記クリーニング部材を保持することを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記押圧機構は、前記型の、第１方向に沿う１対の側面に対向するように配置された第１押圧ユニット群と、前記型の、前記第１方向に交差する第２方向に沿う１対の側面に対向するように配置された第２押圧ユニット群と、を有し、
前記インプリント装置は更に、前記型に対向して基板を保持する基板保持機構と、前記基板保持機構の本体部を前記第１方向及び第２方向とそれぞれ交差する第３方向に移動させる駆動部とを有し、
前記クリーニング手段は、前記第１及び第２押圧ユニット群に属する少なくとも一部の押圧ユニットの押圧面に対向するように前記基板保持機構に基板に代えてクリーニング部材を保持させた状態で、前記押圧面にクリーニング部材のクリーニング面が摺動するように、前記駆動部を制御する制御部を有することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記クリーニング部材を収納する収納部と、
前記収納部に収納されたクリーニング部材を搬送する搬送機構と、を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記クリーニング部材は砥石であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記型を前記クリーニング部材と兼用して用いることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のインプリント装置。
【請求項９】
デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項１乃至８のいずれかに記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンが転写された基板をエッチング処理する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程で使用されるリソグラフィ装置として、インプリント装置が注目されている。インプリント装置は、凹凸構造のパターンが形成されたモールドと、ウエハ上に塗布された樹脂（インプリント材）とを接触させた状態で樹脂を硬化することで、インプリント材のパターンをウエハ上に形成するものである。微細な凹凸構造を有するモールドを用いれば、ウエハ上に微細なパターンを形成することが可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、型を用いて、前記基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記型を保持可能な型保持部と、前記型保持部に保持された前記型の側面に対向するように配置され、アクチュエータの駆動により前記型の側面を押圧可能な複数の押圧ユニットを有する押圧機構と、前記複数の押圧ユニットの押圧面をクリーニングするクリーニング手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
インプリントモードにおいては、モールドチャック２２に保持されたモールド２０に、図３（Ａ）、（Ｂ）で説明したような押圧力が加わるように、制御部１７が押圧機構２を制御する。本実施形態では、制御部１７は、所望の押圧力でモールド２０を押圧するために、指令値と、歪ゲージ５の検出結果とを用いて押圧機構２を制御する。押圧機構２を用いてモールド２０を変形させた状態でウエハ１１上の樹脂（インプリント材）にモールド２０を接触させる（押印する）ことで、ウエハ１１上の被インプリント領域の形状に合わせて樹脂のパターンを形成することができる。