【手続補正書】
【提出日】平成28年10月11日(2016.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2014156461.tif 000001
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
で表される珪素化合物。
【請求項２】
一般式（２）
【化２】
2014156461.tif 000002
（式中、Ｒ１は、水素原子、または炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎ＝３である。）
で表される、請求項１に記載の珪素化合物。
【請求項３】
一般式（３）
【化３】
2014156461.tif 000003
（式中、Ｒ２は、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５の整数である。）
で表される請求項１または請求項２に記載の珪素化合物。
【請求項４】
一般式（４）
【化４】
2014156461.tif 000004
（式中、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、−ＯＳＯ２（ｐ−Ｃ６Ｈ４ＣＨ３）基または−ＯＳＯ２ＣＦ３基であり、ａは１〜５の範囲の整数である。）
で表される芳香族化合物、および
一般式（５）
【化５】
2014156461.tif 000005
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
で表される珪素化合物を、遷移金属触媒の存在下で反応させて、
一般式（１）
【化６】
2014156461.tif 000006
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
で表される珪素化合物を得る、珪素化合物の製造方法。
【請求項５】
一般式（６）
【化７】
2014156461.tif 000007
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２、およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
で表される繰り返し単位を含む、高分子化合物。
【請求項６】
一般式（７）
【化８】
2014156461.tif 000008
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、ａは１〜５、ｍは０〜２、およびｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎ＝３である。）
で表される繰り返し単位を含む、請求項５に記載の高分子化合物。
【請求項７】
一般式（１）
【化９】
2014156461.tif 000009
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３もしくは４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
で表される珪素化合物を、加水分解重縮合することで
一般式（６）
【化１０】
2014156461.tif 000010
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２、およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
で表される繰り返し単位を含む高分子化合物を得る、高分子化合物の製造方法。
【請求項８】
請求項５または請求項６に記載の高分子化合物を含む、膜。
【請求項９】
ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項５または６に記載の高分子化合物。
【請求項１０】
ａは１または２であり、ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項５または６に記載の高分子化合物。
【請求項１１】
ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項７に記載の製造方法。
【請求項１２】
ａは１または２であり、ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項７または８に記載の製造方法。
【請求項１３】
請求項９または請求項１０に記載の高分子化合物を含む、膜。