Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月9日(2016.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
負荷を位置決め角度だけ回転させるモータのモータ出力軸が回転する位置決め時間と前記モータ出力軸が停止する停止時間とにより規定されるモータの動作パターンのうち、複数の選択可能なモータを選び最適な動作パターンを示唆するモータの最適動作パターン選定方法であって、
選定されたモータにおいてシミュレーションにより得られた動作パターンの、前記位置決め時間と前記停止時間とのうち前記停止時間が、入力された要求停止時間及び要求位置決め時間に基づいた、前記要求停止時間と、前記要求位置決め時間と前記位置決め時間との差分との加算値である閾値の範囲外である場合、当該モータの出力トルク及び最高回転速度の１つ以上を制限する調整処理ステップを含むことを特徴とするモータの最適動作パターン選定方法。
【請求項２】
動作条件として前記位置決め角度の入力値及び前記負荷の慣性モーメントの入力値と、要求条件として前記要求位置決め時間の入力値及び前記要求停止時間の入力値の少なくとも１つとを含むシミュレーション条件の情報を取得するシミュレーション条件の入力ステップと、
前記選択可能なモータ毎に機械的諸元データ情報が記憶されており、記憶している当該モータ毎に前記シミュレーション条件での動作パターンをシミュレートするシミュレーションステップと、
前記シミュレーションステップにより得られた前記モータ毎の各動作パターンを、前記動作条件及び前記要求条件と比較し、項目毎に所定の閾値と比較し適合可否の判定結果を記憶する、比較ステップと、
前記比較ステップで得られた適合可能な項目に応じて、総合判定結果を演算し、前記総合判定結果を前記モータ毎に紐付けて記憶する総合判定ステップと、
をさらに含み、
前記総合判定ステップにおける、前記動作条件の項目が適合可能であり、かつ前記要求条件の項目が適合不可の場合に、前記調整処理ステップを実行する、請求項１に記載のモータの最適動作パターン選定方法。
【請求項３】
請求項２に記載のモータの最適動作パターン選定方法における、前記シミュレーション条件の入力ステップと、前記シミュレーションステップと、前記比較ステップと、前記総合判定ステップと、前記調整処理ステップと、を含む処理がコンピュータにより実行されることを特徴とするモータの最適動作パターン選定プログラム。
【請求項４】
負荷を位置決め角度だけ回転させるモータのモータ出力軸が回転する位置決め時間と前記モータ出力軸が停止する停止時間とにより規定されるモータの動作パターンのうち、複数の選択可能なモータを選び最適な動作パターンを示唆するモータ選定装置であって、
動作条件として前記位置決め角度の入力値及び前記負荷の慣性モーメントの入力値と、要求条件として要求位置決め時間の入力値及び要求停止時間の入力値の少なくとも１つとを含むシミュレーション条件の情報を入力受付処理する入力アクセス手段と、
前記選択可能なモータ毎に機械的諸元データ情報を記憶する記憶手段と、
記憶している前記モータ毎に前記シミュレーション条件での動作パターンをシミュレートし、得られたモータ毎の前記動作パターンを、前記動作条件及び前記要求条件と比較し、前記動作パターンの、前記位置決め時間と前記停止時間とのうち前記停止時間が、入力された要求停止時間及び要求位置決め時間に基づいた、前記要求停止時間と、前記要求位置決め時間と前記位置決め時間との差分との加算値である閾値の範囲外である場合、当該モータの出力トルク及び最高回転速度の１つ以上を制限する調整処理を演算する演算手段と、
を含むことを特徴とするモータ選定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題を解決し目的を達成するために、モータの最適動作パターン選定方法は、負荷を位置決め角度だけ回転させるモータのモータ出力軸が回転する位置決め時間と前記モータ出力軸が停止する停止時間とにより規定されるモータの動作パターンのうち、複数の選択可能なモータを選び最適な動作パターンを示唆するモータの最適動作パターン選定方法であって、選定されたモータにおいてシミュレーションにより得られた動作パターンの、前記位置決め時間と前記停止時間とのうち前記停止時間が、入力された要求停止時間及び要求位置決め時間に基づいた、前記要求停止時間と、前記要求位置決め時間と前記位置決め時間との差分との加算値である閾値の範囲外である場合、当該モータの出力トルク及び最高回転速度の１つ以上を制限する調整処理ステップを含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の望ましい態様として、動作条件として前記位置決め角度の入力値及び前記負荷の慣性モーメントの入力値と、要求条件として前記要求位置決め時間の入力値及び前記要求停止時間の入力値の少なくとも１つとを含むシミュレーション条件の情報を取得するシミュレーション条件の入力ステップと、前記選択可能なモータ毎に機械的諸元データ情報が記憶されており、記憶している当該モータ毎に前記シミュレーション条件での動作パターンをシミュレートするシミュレーションステップと、前記シミュレーションステップにより得られた前記モータ毎の各動作パターンを、前記動作条件及び前記要求条件と比較し、項目毎に所定の閾値と比較し適合可否の判定結果を記憶する、比較ステップと、前記比較ステップで得られた適合可能な項目に応じて、総合判定結果を演算し、前記総合判定結果を前記モータ毎に紐付けて記憶する総合判定ステップと、をさらに含み、前記総合判定ステップにおける、前記動作条件の項目が適合可能であり、かつ前記要求条件の項目が適合不可の場合に、前記調整処理ステップを実行することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上述した課題を解決し目的を達成するために、モータ選定装置は、負荷を位置決め角度だけ回転させるモータのモータ出力軸が回転する位置決め時間と前記モータ出力軸が停止する停止時間とにより規定されるモータの動作パターンのうち、複数の選択可能なモータを選び最適な動作パターンを示唆するモータ選定装置であって、動作条件として前記位置決め角度の入力値及び前記負荷の慣性モーメントの入力値と、要求条件として要求位置決め時間の入力値及び要求停止時間の入力値の少なくとも１つとを含むシミュレーション条件の情報を入力受付処理する入力アクセス手段と、前記選択可能なモータ毎に機械的諸元データ情報を記憶する記憶手段と、記憶している前記モータ毎に前記シミュレーション条件での動作パターンをシミュレートし、得られたモータ毎の前記動作パターンを、前記動作条件及び前記要求条件と比較し、前記動作パターンの、前記位置決め時間と前記停止時間とのうち前記停止時間が、入力された要求停止時間及び要求位置決め時間に基づいた、前記要求停止時間と、前記要求位置決め時間と前記位置決め時間との差分との加算値である閾値の範囲外である場合、当該モータの出力トルク及び最高回転速度の１つ以上を制限する調整処理を演算する演算手段と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月27日(2015.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
楽曲を再生すると共に、プレイヤに対して当該楽曲のリズムに合わせた操作入力を促す操作標識を表示装置の表示画面に表示することでリズムゲームの進行を制御する機能をコンピュータに実現させるためのリズムゲーム制御プログラムであって、
複数の基礎譜面と、前記操作標識を配置できない位置（以下「配置禁止位置」という。）と、前記操作標識を配置できる位置（以下「配置許容位置」という。）とを含む基礎譜面情報を記憶する記憶手段を備えた前記コンピュータに、
前記基礎譜面を編集可能な譜面編集画面を前記表示画面に表示する表示機能と、
前記譜面編集画面においてプレイヤの配置操作による操作標識の配置要求を受け付ける受付機能と、
前記配置要求による配置要求位置が、前記配置禁止位置である場合には操作標識を配置せず、前記配置許容位置である場合には当該配置要求に従い前記基礎譜面に操作標識を配置する配置機能とを
実現させるためのリズムゲーム制御プログラム。
【請求項２】
前記配置禁止位置は、前記譜面における楽曲の演奏開始直後を含む
請求項１記載のリズムゲーム制御プログラム。
【請求項３】
前記配置機能では、前記配置要求位置が前記配置許容位置から所定距離の位置である場合、当該配置許容位置に操作標識を配置する機能を
実現させる請求項１または請求項２記載のリズムゲーム制御プログラム。
【請求項４】
楽曲を再生すると共に、プレイヤに対して当該楽曲のリズムに合わせた操作入力を促す操作標識を表示装置の表示画面に表示することでリズムゲームの進行を制御するリズムゲーム制御装置であって、
複数の基礎譜面と、前記操作標識を配置できない位置（以下「配置禁止位置」という。）と、前記操作標識を配置できる位置（以下「配置許容位置」という。）とを含む基礎譜面情報を記憶する記憶手段と、
前記基礎譜面を編集可能な譜面編集画面を前記表示画面に表示する表示手段と、
前記譜面編集画面においてプレイヤの配置操作による操作標識の配置要求を受け付ける受付手段と、
前記配置要求による配置要求位置が、前記配置禁止位置である場合には操作標識を配置せず、前記配置許容位置である場合には当該配置要求に従い前記基礎譜面に操作標識を配置する配置手段とを含む
ことを特徴とするリズムゲーム制御装置。
【請求項５】
サーバと、通信ネットワークを介して前記サーバと通信可能なユーザ端末とを備え、楽曲を再生すると共に、プレイヤに対して当該楽曲のリズムに合わせた操作入力を促す操作標識をユーザ端末の表示画面に表示することでリズムゲームの進行を制御するビデオゲーム処理システムであって、
複数の基礎譜面と、前記操作標識を配置できない位置（以下「配置禁止位置」という。）と、前記操作標識を配置できる位置（以下「配置許容位置」という。）とを含む基礎譜面情報を記憶する記憶手段と、
前記基礎譜面を編集可能な譜面編集画面を前記表示画面に表示する表示手段と、
前記譜面編集画面においてプレイヤの配置操作による操作標識の配置要求を受け付ける受付手段と、
前記配置要求による配置要求位置が、前記配置禁止位置である場合には操作標識を配置せず、前記配置許容位置である場合には当該配置要求に従い前記基礎譜面に操作標識を配置する配置手段とを含む
ことを特徴とするリズムゲーム制御システム。
【請求項６】
請求項１記載のリズムゲーム制御プログラムがインストールされたコンピュータと通信する端末に、前記リズムゲームの進行に応じたゲーム画面を表示する機能を実現させるための端末用プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月2日(2016.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレイヤが操作する端末装置に通信回線を介して接続され、前記端末装置に、ゲームの画像情報を提供するサーバ装置の制御方法であって、
前記サーバ装置は、
前記ゲームにおいて、前記プレイヤに関連付けられた複数のグループ、及び、該複数のグループ間で行なわれる対戦イベントの情報を記憶部に記憶するステップと、
前記記憶部に記憶される情報に基づいて、前記対戦イベントに参加する各グループに所属するプレイヤキャラクタを、他のグループに所属するプレイヤキャラクタから攻撃を受ける第１サブグループ、または、前記他のグループに所属するプレイヤキャラクタから攻撃を受けない第２サブグループに所属させるステップと、
前記対戦イベントの開始後に、一のグループに所属するプレイヤキャラクタのうち対戦不能状態になったプレイヤキャラクタの所属を前記第１サブグループから前記第２サブグループに変更すると共に、前記他のグループにおいて、所定数のプレイヤキャラクタの所属を前記第２サブグループから前記第１サブグループに変更する所属変更ステップとを実行し、
前記所属変更ステップにおいて、前記対戦不能状態になったプレイヤキャラクタの所属を、所定の時間または期間の経過後に、前記第１サブグループに変更可能にする、
サーバ装置の制御方法。
【請求項２】
前記記憶するステップにおいて、前記プレイヤが操作するプレイヤキャラクタに設定される防御値を前記記憶部に記憶し、
前記所属変更ステップにおいて、前記防御値に基づいて前記第１サブグループにプレイヤキャラクタの所属を変更可能にする、
請求項１に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項３】
前記所属変更ステップにおいて、前記第２サブグループから前記第１サブグループに所属を変更可能なプレイヤキャラクタのうち、最も優れた防御値を有するプレイヤキャラクタを前記第１サブグループに変更可能にする、請求項２に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項４】
前記所定数は、前記一のグループにおいて、前記第１サブグループから前記第２サブグループに所属させるプレイヤキャラクタの数と同数である、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項５】
前記サーバ装置は、
前記ゲームの画像情報に基づいて前記端末装置に表示させる画像内に各グループの表示領域を設け、前記グループに所属するプレイヤキャラクタを１つの表示領域内に表示するステップを、
更に実行する請求項１乃至４のいずれか一項に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項６】
前記表示領域内に表示されるプレイヤキャラクタは、前記第１サブグループと前記第２サブグループのいずれに所属するかに応じて、表示態様が変化する、
請求項５に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項７】
前記第１サブグループの所属プレイヤキャラクタ数と、前記第２サブグループの所属プレイヤキャラクタ数とに応じて、前記表示領域内の前記第１サブグループ及び前記第２サブグループの表示領域の割合が変更される、
請求項５に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項８】
前記対戦イベントは一定期間継続させた後、終了される、
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のサーバ装置の制御方法。
【請求項９】
プレイヤが操作する端末装置に通信回線を介して接続され、前記端末装置に、ゲームの画像情報を提供するサーバ装置であって、
前記ゲームにおいて、前記プレイヤに関連付けられた複数のグループ、及び、該複数のグループ間で行なわれる対戦イベントの情報を記憶部に記憶する手段と、
前記記憶部に記憶される情報に基づいて、前記対戦イベントに参加する各グループに所属するプレイヤキャラクタを、他のグループに所属するプレイヤキャラクタから攻撃を受ける第１サブグループ、または、前記他のグループに所属するプレイヤキャラクタから攻撃を受けない第２サブグループに所属させる手段と、
前記対戦イベントの開始後に、一のグループに所属するプレイヤキャラクタのうち対戦不能状態になったプレイヤキャラクタの所属を前記第１サブグループから前記第２サブグループに変更すると共に、前記他のグループにおいて、所定数のプレイヤキャラクタの所属を前記第２サブグループから前記第１サブグループに変更する所属変更手段とを備え、
前記所属変更手段は、前記対戦不能状態になったプレイヤキャラクタの所属を、所定の時間または期間の経過後に、前記第１サブグループに変更可能にする、
サーバ装置。
【請求項１０】
コンピュータに、
プレイヤが操作する端末装置に通信回線を介して接続され、前記端末装置に、ゲームの画像情報を提供する機能と、
前記ゲームにおいて、前記プレイヤに関連付けられた複数のグループ、及び、該複数のグループ間で行なわれる対戦イベントの情報を記憶部に記憶する機能と、
前記記憶部に記憶される情報に基づいて、前記対戦イベントに参加する各グループに所属するプレイヤキャラクタを、他のグループに所属するプレイヤキャラクタから攻撃を受ける第１サブグループ、または、前記他のグループに所属するプレイヤキャラクタから攻撃を受けない第２サブグループに所属させる機能と、
前記対戦イベントの開始後に、一のグループに所属するプレイヤキャラクタのうち対戦不能状態になったプレイヤキャラクタの所属を前記第１サブグループから前記第２サブグループに変更すると共に、前記他のグループにおいて、所定数のプレイヤキャラクタの所属を前記第２サブグループから前記第１サブグループに変更する所属変更機能とを実現させるプログラムであって、
前記所属変更機能は、前記対戦不能状態になったプレイヤキャラクタの所属を、所定の時間または期間の経過後に、前記第１サブグループに変更可能にする、
プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】サーバ装置の制御方法、サーバ装置、及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、サーバ装置の制御方法、サーバ装置、及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明によれば、グループ対戦イベントの興趣性や趣向性を十分に確保することができ、その結果、そのグループ対戦イベント延いてはゲーム全体の活性化を図ることが可能なソーシャルゲームを提供するサーバ装置の制御方法、サーバ装置、及びプログラムを実現することが可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月27日(2016.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲーム内においてプレイヤが使用可能な複数のキャラクタ、及び当該キャラクタが有する属性をそれぞれ記憶する手段と、
プレイヤの操作に応じて、前記複数のキャラクタのうち一部をメインキャラクタとし、前記複数のキャラクタのうち一部を前記メインキャラクタに対応付けたサポートキャラクタとして設定する手段と、
前記ゲーム内において前記属性に関する条件を満たしたことに基づく第一の値を決定する手段と、
前記条件を満たした属性を有する前記設定されたメインキャラクタの有無と、前記条件を満たした属性を有する前記設定されたサポートキャラクタの有無と、前記第一の値とに応じて第二の値を決定し、当該第二の値に基づきゲーム行動を実行する手段と、
を備え、
前記ゲーム行動を実行する手段は、前記条件を満たした属性を有する前記設定されたメインキャラクタが１キャラクタ増えることによる前記第二の値の変動が、前記条件を満たした属性を有する前記設定されたサポートキャラクタが１キャラクタ増えることによる前記第二の値の変動よりも大きくなるように、前記第二の値を決定する
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記記憶する手段は、前記キャラクタのステータスを記憶し、
前記ゲーム行動を実行する手段は、前記第二の値に基づいて、前記メインキャラクタのステータスを変更することを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
コンピュータに対して、
ゲーム内においてプレイヤが使用可能な複数のキャラクタ、及び当該キャラクタが有する属性をそれぞれ記憶するステップと、
プレイヤの操作に応じて、前記複数のキャラクタのうち一部をメインキャラクタとし、前記複数のキャラクタのうち一部を前記メインキャラクタに対応付けたサポートキャラクタとして設定するステップと、
前記ゲーム内において前記属性に関する条件を満たしたことに基づく第一の値を決定するステップと、
前記条件を満たした属性を有する前記設定されたメインキャラクタの有無と、前記条件を満たした属性を有する前記設定されたサポートキャラクタの有無と、前記第一の値とに応じて第二の値を決定し、当該第二の値に基づきゲーム行動を実行するステップと、
を実行させ、
前記ゲーム行動を実行するステップは、前記条件を満たした属性を有する前記設定されたメインキャラクタが１キャラクタ増えることによる前記第二の値の変動が、前記条件を満たした属性を有する前記設定されたサポートキャラクタが１キャラクタ増えることによる前記第二の値の変動よりも大きくなるように、前記第二の値を決定するステップを含む、
プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月22日(2016.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼を撮影して前記被検眼に係る画像を撮像する眼科撮像装置であって、
前記被検眼の前眼部における前記撮影の目的に応じた異なる２つ以上の撮影モードの中から所定の撮影モードを設定する設定手段と、
前記設定手段において前記所定の撮影モードとして第１の撮影モードが設定された場合に、撮影光軸上から前記被検眼の前眼部を照明する第１の照明手段と、
前記設定手段において前記所定の撮影モードとして第２の撮影モードが設定された場合に、撮影光軸外から前記被検眼の前眼部を照明する第２の照明手段と、
を有することを特徴とする眼科撮像装置。
【請求項２】
前記第１の照明手段は、環状光を前記被検眼に集光させるように構成された照明光学系を介して照明を行うことを特徴とする請求項１に記載の眼科撮像装置。
【請求項３】
前記第１の照明手段は、
撮影光源からの撮影光を前記環状光として通過させる撮影リングスリットと、
前記撮影光源からの撮影光が前記被検眼の水晶体で反射した反射光が、前記被検眼の眼底像に混入するのを防ぐために設けられた撮影水晶体バッフルと、
を含み構成されており、
前記照明光学系は、前記撮影光源からの撮影光を反射して当該撮影光を前記被検眼に導くミラー部と、前記被検眼で反射した前記撮影光を通過させて撮影光学系に導く穴部とを具備する穴あきミラーを含み構成されていることを特徴とする請求項２に記載の眼科撮像装置。
【請求項４】
前記第２の照明手段は、光を拡散させるための光拡散部材を介して照明を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項５】
前記第２の撮影モードは、前眼虹彩像を撮影することを目的とする撮影モードであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項６】
前記第２の撮影モードは、前眼周辺像を撮影することを目的とする撮影モードであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項７】
前記第１の撮影モードは、前眼徹照像を撮影することを目的とする撮影モードであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項８】
前記撮影光軸上から前記被検眼を観察するための観察光を前記被検眼に照明する第３の照明手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項９】
前記第３の照明手段は、
前記観察光を発光する観察光源と、
前記観察光源からの観察光を前記被検眼の眼底に向けて集光させる観察コンデンサレンズと、
前記観察光源からの観察光を環状光として通過させる観察リングスリットと、
前記観察光源からの観察光が前記被検眼の水晶体で反射した反射光が、前記被検眼の眼底像に混入するのを防ぐために設けられた観察水晶体バッフルと、
を含み構成されていることを特徴とする請求項８に記載の眼科撮像装置。
【請求項１０】
前記第３の照明手段の光路と前記第１の照明手段の光路とを波長分離する第１の波長分離手段を更に有することを特徴とする請求項８または９に記載の眼科撮像装置。
【請求項１１】
前記第１の照明手段により前記前眼部が照明される光は、可視光であり、
前記第２の照明手段により前記前眼部が照明される光は、赤外光であり、
前記第３の照明手段により前記被検眼が照明される光は、赤外光であることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の照明手段により前記前眼部が照明される光は、可視光であり、
前記第２の照明手段により前記前眼部が照明される光は、可視光であり、
前記第３の照明手段により前記被検眼が照明される光は、赤外光であることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項１３】
前記第２の照明手段は、
前記前眼部を可視光で照明する複数の可視光源と、
前記前眼部を赤外光で照明する複数の赤外光源と、
を含み構成されており、
前記複数の可視光源及び前記複数の赤外光源は、基板上に円環状に実装されていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項１４】
前記第１の照明手段により照明された前記前眼部の画像を撮像する撮像素子と、前記第２の照明手段により照明された前記前眼部の画像を撮像する撮像素子とが共通である撮像素子を含む撮影光学系を更に有することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の眼科撮像装置。
【請求項１５】
前記撮影光学系は、合焦手段と、前記合焦手段と前記撮像素子との間に設けられた第２の波長分離手段とを更に含み構成されており、
前記第２の波長分離手段により波長分離された光路に設けられ、前記被検眼を固視させるための光を前記被検眼に照明する第４の照明手段を更に有することを特徴とする請求項１４に記載の眼科撮像装置。
【請求項１６】
被検眼を撮影して前記被検眼に係る画像を撮像する眼科撮像装置の制御方法であって、
前記被検眼の前眼部における前記撮影の目的に応じた異なる２つ以上の撮影モードの中から所定の撮影モードを設定手段で設定するステップと、
前記設定手段において前記所定の撮影モードとして第１の撮影モードが設定された場合に、撮影光軸上から前記被検眼の前眼部を照明するステップと、
前記設定手段において前記所定の撮影モードとして第２の撮影モードが設定された場合に、撮影光軸外から前記被検眼の前眼部を照明するステップと、
を有することを特徴とする眼科撮像装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月27日(2016.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体を収容する空間に均一な静磁場を発生させる静磁場発生部と、
前記被検体を前記空間の水平方向に移動させる水平方向移動部と、
前記空間内に配置された前記被検体を該空間の鉛直方向に移動させる鉛直方向移動部と、
を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記被検体を搭載する天板と、
前記天板を搭載する寝台と、
を備え、
前記水平方向移動部は、前記被検体を搭載した前記天板を水平方向へ移動して前記空間内に該被検体を配置することを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記鉛直方向移動部は、前記静磁場発生部の外において、前記寝台に搭載された前記天板を前記鉛直方向に移動させ、
前記水平方向移動部は、前記静磁場発生部の外において前記鉛直方向に移動された前記天板を、前記水平方向に移動して前記空間内に配置することを特徴とする請求項２に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記鉛直方向移動部は、前記天板の前記空間内での前記鉛直方向の位置を変更する変更部を備えたことを特徴とする請求項２又は３に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
前記空間内で前記天板を支持して該天板の水平方向の移動をガイドする天板受けを備え、
前記変更部は、前記天板受けを前記鉛直方向に移動させることを特徴とする請求項４に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
前記変更部は、一つ以上の板を前記鉛直方向に重ねて構成されたものであることを特徴とする請求項４に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項７】
被検体を収容する空間に均一な静磁場を発生させる静磁場発生部と、前記被検体を前記空間の水平方向に移動させる水平方向移動部と、前記空間内に配置された前記被検体を該空間の鉛直方向に移動させる鉛直方向移動部と、を備えた磁気共鳴イメージング装置おいて、
（１）前記静磁場発生部の外において前記被検体を、寝台に配置する工程と、
（２）前記被検体を、前記静磁場発生部の中へ移動させる工程と、
（３）前記被検体の配置高さを調整する工程と、
（４）前記被検体の撮像を行う工程と
を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明によれば、被検体を収容する空間に均一な静磁場を発生させる静磁場発生部と、被検体を前記空間の水平方向に移動させる水平方向移動部と、前記空間内に配置された前記被検体を該空間の鉛直方向に移動させる鉛直方向移動部と、を備えたことを特徴とするMRI装置が提供される。
また、上記MRI装置において、(1)前記静磁場発生手段の外において前記被検体を、寝台に配置する工程と、(2)前記被検体を、前記静磁場発生手段の中へ移動させる工程と、(3)前記被検体の配置高さを調整する工程と、(4)前記被検体の撮像を行う工程とを備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
傾斜磁場発生系3は、静磁場に重畳して傾斜磁場を発生させる傾斜磁場発生部であり、MRI装置の座標系(静止座標系)であるX，Y，Zの3軸方向に傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイル9と、それぞれの傾斜磁場コイル9を駆動する傾斜磁場電源10とから成り、後述のシ−ケンサ4からの命令に従ってそれぞれのコイルの傾斜磁場電源10を駆動することにより、X，Y，Zの3軸方向に傾斜磁場Gx，Gy，Gzを印加する。撮影時には、スライス面(撮影断面)に直交する方向にスライス方向傾斜磁場パルス(Gs)を印加して被検体1に対するスライス面を設定し、そのスライス面に直交して且つ互いに直交する残りの2つの方向に位相エンコード方向傾斜磁場パルス(Gp)と周波数エンコード方向傾斜磁場パルス(Gf)を印加して、エコー信号にそれぞれの方向の位置情報をエンコードする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
8は、CPUであり、制御回路56及び後述する操作部25に接続されている。
25は、操作部であり、操作者が撮像画像から被検体の高さを確認し、それに基づいて位置を変更するように操作部を操作すると、その指令をCPU8と制御回路56を介してモータに伝えるために用いられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図2の場合、天板移動後の被検体1’は、大きな撮像空間60への配置はできるが、高さ方向において小さな撮像空間61に配置できていない。正確には、被検体11は撮影空間61の鉛直方向下側に配置されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
この場合、静磁場発生系2と被検体1’との距離62は広く取れるため閉所感が低減され居住性が向上するが、脂肪抑制撮像や機能撮像など磁場均一性を特に必要とする撮像において、被検体11の撮像部位が撮像空間61から離れているため、質の良い画像が得られない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
シリンダ(モータ)105が伸びるとシザーズ機構106が上昇し、縮むとシザース機構は下降する。被検体1’、天板102’、天板受けその1(103)は、上下動機構部104の上に乗っているため、一体となって上下動が可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
ここで、被検体1'と天板102(、102')の間に例えばマットやタオル等を用いることで被検体の高さを調整し磁場均一空間に被検体の関心領域を配置することで対応可能な場合もある。しかしながら受信コイル14bが天板102(102’)に内蔵され、天板と受信コイルを一体化構造としている場合は、受信コイルと被検体との距離を空けることは画質が低下する影響がある。その点、上述した本実施例では画質を下げることなく関心領域を磁場均一空間に配置できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本実施例によれば、(5)静磁場発生部の外において被検体を、寝台に配置する工程と、(6)前記被検体の配置高さを、前記静磁場発生部の外において、調整する工程と、(7)前記被検体を、前記静磁場発生部の中へ移動させる工程と、(8)前記被検体の撮像を行う工程とを備える磁気共鳴イメージング方法も提供できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2015027314.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月4日(2016.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記渦形成部の前記衝突面は、前記空気導入孔と対向する領域から前記凸部が突出する領域まで、前記空気導入孔の方向とほぼ直交するように形成されている請求項３に記載のシャワーヘッド装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記通水路に吐水と止水を切替える弁が設けられていて、その弁がシャワーヘッドに設けられたクリックボタンによって開閉される請求項１乃至５に記載のシャワーヘッド装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不連続繊維、熱硬化性樹脂及び硬化剤を含む組成物を塑性域で押出成形する工程を有し、
前記組成物は、前記不連続繊維の含有量が１体積％以上５０体積％以下であり、
前記不連続繊維は、数平均繊維長が０．１ｍｍ以上４０ｍｍ以下であり、数平均繊維径が０．４ｎｍ以上１０μｍ以下であり、
前記組成物を塑性域で押出成形する際のストロークに対する圧力の勾配が０ＭＰａ／ｍｍ以上４ＭＰａ／ｍｍ以下であることを特徴とする熱硬化性棒状体の製造方法。
【請求項２】
前記組成物を塑性域で押出成形する際の押出し比が２５以上４５以下であることを特徴とする請求項１に記載の熱硬化性棒状体の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の熱硬化性棒状体の製造方法を用いて、熱硬化性棒状体を製造する工程と、
該熱硬化性棒状体を所定の方向に配置する工程と、
該所定の方向に配置された熱硬化性棒状体を加圧する工程を有することを特徴とする熱硬化性シートの製造方法。
【請求項４】
前記熱硬化性棒状体を所定の方向に配置する際に、積層することを特徴とする請求項３に記載の熱硬化性シートの製造方法。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の熱硬化性シートの製造方法を用いて、熱硬化性シートを製造する工程と、
該熱硬化性シートを硬化させる工程を有することを特徴とする熱硬化性シートの硬化体の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の熱硬化性シートの硬化体の製造方法を用いて、熱硬化性シートの硬化体を製造する工程を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、熱硬化性棒状体の製造方法、熱硬化性シートの製造方法、熱硬化性シートの硬化体の製造方法及び物品の製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
次に、２層目の熱硬化性棒状体が１層目の熱硬化性棒状体に対して９０°になるように、延伸した熱硬化性棒状体を配置した以外は、熱硬化性シート１と同様にして、厚さが４ｍｍの熱硬化性シート３を得た。熱硬化性シート３は、不連続炭素繊維の配向度が７０％であった。
＜不連続炭素繊維の配向度＞
熱硬化性棒状体の表面を、光学顕微鏡を用いて、倍率１５倍で、二次元撮影した後、２５０個の不連続炭素繊維の方向を、任意の方向に対して、−９０°〜＋９０°の角度で測定した。次に、分布の頻度が最大である角度を０°として、１０°間隔のヒストグラムを作成した後、−２０〜２０°の範囲に配向している不連続炭素繊維の割合を算出し、不連続炭素繊維の配向度とした。
熱硬化性シートの両面を、光学顕微鏡を用いて、倍率１５倍で、二次元撮影した後、片面１２５個、合計２５０個の不連続炭素繊維の方向を、任意の方向に対して、−９０°〜＋９０°の角度で測定した。次に、分布の頻度が最大である角度を０°として、１０°間隔のヒストグラムを作成した後、−２０〜２０°の範囲に配向している不連続炭素繊維の割合を算出し、不連続炭素繊維の配向度とした。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月28日(2016.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動源を収容するハウジングと、
該ハウジングから突出し、該駆動源によって駆動され、先端工具が着脱可能に取り付けられる出力軸と、
該出力軸の軸方向と交差する方向に延出するように該ハウジングに着脱可能に装着され、被加工材と当接した状態において該先端工具による加工を案内するガイドと、を備え、
該ハウジングには、該ガイドが装着可能な装着部が設けられ、
該ガイドは、作業時に該被加工材と当接する被加工材当接部を有し、
該ガイドには、該被加工材当接部によって囲われた空間が形成されることを特徴とする電動工具。
【請求項２】
該出力軸は、該装着部から突出し、
該ガイドは、該出力軸を中心として該ガイドを回転させた複数の位置で該装着部に装着可能であることを特徴とする請求項１に記載の電動工具。
【請求項３】
該ガイドは、該装着部を中心として該ガイドを回転させた複数の位置で該装着部に装着可能であることを特徴とする請求項１に記載の電動工具。
【請求項４】
該ガイドは、該装着部に対して該ガイドの延出方向に所定の範囲内でスライド可能であり、該範囲内において複数のスライド位置で該装着部に装着可能であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電動工具。
【請求項５】
該ガイドは、同一方向に延びる少なくとも２本の棒状部と、該装着部に装着可能な装着片と、を有し、
該棒状部の一端は、該装着片に接続され、
該棒状部の他端は、該被加工部材当接部に接続されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電動工具。
【請求項６】
該駆動源は、回転軸を有し、
該ハウジング内には、該回転軸の回転力を該出力軸の往復回転運動に変換することで、該先端工具を振動させる振動変換機構が設けられ、
該先端工具の振動により該被加工材を加工することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電動工具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、駆動源を収容するハウジングと、該ハウジングから突出し、該駆動源によって駆動され、先端工具が着脱可能に取り付けられる出力軸と、該出力軸の軸方向に交差する方向に延出するように該ハウジングに着脱可能に装着され、被加工材と当接した状態において該先端工具による加工を案内するガイドと、を備え、該ハウジングには、該ガイドが装着可能な装着部が設けられ、該ガイドは、外部部材に引掛け可能な引掛け部を有することを特徴とする電動工具を提供している。
また、上記課題を解決するために、駆動源を収容するハウジングと、該ハウジングから突出し、該駆動源によって駆動され、先端工具が着脱可能に取り付けられる出力軸と、該出力軸の軸方向と交差する方向に延出するように該ハウジングに着脱可能に装着され、被加工材と当接した状態において該先端工具による加工を案内するガイドと、を備え、該ハウジングには、該ガイドが装着可能な装着部が設けられ、該ガイドは、作業時に該被加工材と当接する被加工材当接部を有し、該ガイドには、該被加工材当接部によって囲われた空間が形成されることを特徴とする電動工具を提供している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
このような構成によると、先端工具が振動する電動工具に加工案内用ガイドを装着することができるため、加工方向の案内、加工深さの調整等をすることができ、先端工具が振動する電動工具における作業性の向上を図ることができる。
また、該ガイドは、同一方向に延びる少なくとも２本の棒状部と、該装着部に装着可能な装着片と、を有し、該棒状部の一端は、該装着片に接続され、該棒状部の他端は、該被加工部材当接部に接続されることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月6日(2016.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロデキストリンで包接し可溶化したファイトアレキシンを含有する眼疾患の点眼治療薬。
【請求項２】
点眼治療薬におけるファイトアレキシン濃度が０．０１〜０．１重量％である請求項１記載の点眼治療薬。
【請求項３】
シクロデキストリン：フィトアレキシンの包接重量比率が１：１〜１０である、請求項１又は２記載の点眼治療薬。
【請求項４】
ファイトアレキシンがトランススチルベノイドである請求項１〜３のいずれか１項記載の点眼治療薬。
【請求項５】
トランススチルベノイドがトランスレスベラトロールである請求項４記載の点眼治療薬。
【請求項６】
シクロデキストリンが２−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン又はγ−シクロデキストリンである請求項１〜５のいずれか１項記載の点眼治療薬。
【請求項７】
眼疾患が、血管新生を伴う眼疾患、黄斑円孔、黄斑上膜、視力障害、水晶体乱視、老眼、遠視、近視、硝子体混濁又は眼底出血、あるいは、網膜感度の低下、眼精疲労である請求項１〜６のいずれか１項記載の点眼治療薬。
【請求項８】
血管新生を伴う眼疾患が、未熟児網膜症、黄斑変性症、糖尿病性網膜症、隅角血管新生、ＳＬＥ，中心性網脈絡膜症、網膜中心静脈閉塞症、動脈硬化症、血管新生緑内障、内頸動脈閉塞症、乳頭血管新生、虹彩ルベオーシス、モーレンズ角膜潰瘍、シーグレン症候群、又は角膜血管新生である請求項７記載の点眼治療薬。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月27日(2015.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）で表される含窒素芳香族基を有する複素芳香環化合物、その塩及びその水和物から選択される少なくとも一種と、無機金属塩を含む前駆体を焼成する工程を含む含窒素カーボンアロイの製造方法；
【化１】
2015027934.tif 000001
一般式（２）中、Ｑ１〜Ｑ３はそれぞれ独立にヘテロ原子又は炭素原子を表し、Ｑ１〜Ｑ３のうち少なくとも１つは窒素原子であり、ｂ１〜ｂ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換の芳香族基、又は置換または無置換の含窒素芳香族基を表し、ｂ１〜ｂ３の少なくともいずれか１つは置換または無置換の含窒素芳香族基であり、含窒素芳香族基の少なくとも１つにおいて、結合部位に対して３位及び４位の環骨格構成原子のいずれか一方又は両方は窒素原子である。Ｑ１〜Ｑ３を含む非縮合複素芳香環におけるヘテロ原子数は、ｂ１〜ｂ３の含窒素芳香族基１つ当たりにおけるヘテロ原子数と同じであるか又は多い。
【請求項２】
前記一般式（２）において、Ｑ1〜Ｑ3は窒素原子である請求項１に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項３】
前記一般式（２）において、ｂ１〜ｂ３は６員の置換または無置換の含窒素芳香族基である請求項１または２に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項４】
前記一般式（２）において、ｂ１〜ｂ３はピリジル基またはピリミジル基である請求項１〜３のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項５】
前記含窒素芳香族基を有する複素芳香環化合物は、下記式（３）または（４）で表される化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【化２】
2015027934.tif 000002
【請求項６】
前記無機金属塩は、無機金属塩化物である請求項１〜５のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項７】
前記無機金属塩の金属種が、ＦｅまたはＣｏである請求項１〜６のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項８】
前記無機金属塩は、含水塩である請求項１〜７のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項９】
有機金属錯体をさらに含む請求項１〜８のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１０】
前記有機金属錯体は、金属アセタート錯体、またはβ−ジケトン金属錯体である請求項９に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１１】
前記有機金属錯体は、アセチルアセトン鉄（ＩＩ）錯体である請求項９または１０に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１２】
前記焼成する工程は、前記前駆体を４００℃以上で焼成する工程である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１３】
前記焼成する工程は、前記前駆体を７００〜１０００℃で焼成する工程である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１４】
前記焼成する工程の前に、前記前駆体を粉砕する工程をさらに含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１５】
前記焼成する工程の後に、焼成された含窒素カーボンアロイを酸で洗浄する酸洗浄工程を含む請求項１〜１４のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１６】
前記焼成する工程の後に、焼成された含窒素カーボンアロイを粉砕する工程と、再焼成する工程とをさらに含む請求項１〜１５のいずれか１項に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１７】
前記再焼成する工程は、１０００〜１５００℃で焼成する工程である請求項１６に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１８】
前記再焼成する工程の前に、脱気及び窒素置換する工程をさらに含む請求項１６または１７に記載の含窒素カーボンアロイの製造方法。
【請求項１９】
下記一般式（２）で表される含窒素芳香族基を有する複素芳香環化合物、その塩及びその水和物から選択される少なくとも一種と、無機金属塩を含む前駆体を焼成し、含窒素カーボンアロイを得る工程と、
前記含窒素カーボンアロイを含む燃料電池触媒を製造する工程と、を含む燃料電池触媒の製造方法；
【化３】
2015027934.tif 000003
一般式（２）中、Ｑ１〜Ｑ３はそれぞれ独立にヘテロ原子又は炭素原子を表し、Ｑ１〜Ｑ３のうち少なくとも１つは窒素原子であり、ｂ１〜ｂ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換の芳香族基、又は置換または無置換の含窒素芳香族基を表し、ｂ１〜ｂ３の少なくともいずれか１つは置換または無置換の含窒素芳香族基であり、含窒素芳香族基の少なくとも１つにおいて、結合部位に対して３位及び４位の環骨格構成原子のいずれか一方又は両方は窒素原子である。Ｑ１〜Ｑ３を含む非縮合複素芳香環におけるヘテロ原子数は、ｂ１〜ｂ３の含窒素芳香族基１つ当たりにおけるヘテロ原子数と同じであるか又は多い。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
金属酸化物からなり、第１の面と、前記第１の面と反対側の第２の面と、前記第１の面と前記第２の面に連通する複数の貫通孔とを備える誘電体層と、
前記第１の面に配設された第１の外部電極層と、
前記第２の面に配設された第２の外部電極層と、
前記複数の貫通孔に形成され、前記第１の外部電極層に接続された第１の内部電極と、
前記複数の貫通孔に形成され、前記第２の外部電極層に接続された第２の内部電極と
を具備するコンデンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月16日(2015.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記めっき層は、Ｘ線源としてＡｌＫα（モノクロメータ）を用い、光電子取り出し角度を４５度とし、測定領域を直径約１００μｍの領域とし、帯電中和機構を使用する条件で前記めっき層の最表面をＥＳＣＡ分析したときに、シリコーンが検出されないことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
そこで、図７（ａ）に示す工程において、図６（ｄ）に示した構造体に対して、上記めっき層４０上に形成されたシリコーン膜をワイヤボンディングが行える状態に変質させるための表面処理を施す。このような表面処理は、例えばめっき層４０の上面４２Ａに酸素活性種を作用させることにより行われる。これにより、めっき層４０上に形成されたシリコーン膜が除去され、その代わりにめっき層４０上にシリカ膜Ｓ１が形成されることになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
例えば図７（ａ）に示した例では、図６（ｄ）に示した構造体に対して紫外線処理を施すことにより、シリコーン膜をシリカ膜Ｓ１に変化（変質）させてシリコーン膜を除去している。すなわち、図６（ｄ）に示した構造体の上面（少なくとも、めっき層４０の上面４２Ａ）に紫外線光Ｌを照射するようにした。紫外線光Ｌにより酸素が励起され、ワーク（ここでは、図６（ｄ）に示した構造体）が置かれる処理室の酸素濃度、紫外線波長及び照度によって決まる量の酸素活性種が生成される。そして、その酸素活性種がシリコーン膜と反応してＳｉＯ２膜が形成され、めっき層４０の上面４２Ａからシリコーン膜が除去される。ここで、上記紫外線光Ｌとしては、酸素の吸収が大きい、波長１７２ｎｍの紫外線光（エキシマＵＶ光）を好適に用いることができる。紫外線光ＬとしてエキシマＵＶ光を用いる場合には、上記酸素濃度は例えば０．０１〜５％程度とすることができる。また、エキシマＵＶ光の照射量（＝照度×照射時間）は、例えば５００〜４０００ｍＪ／ｃｍ２程度とすることができる。なお、照射量は、エキシマＵＶ光を照射する照射ランプ（例えば、誘電体バリア放電エキシマランプ）とワーク表面との間の間隔と酸素濃度に依存している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
また、図６（ｄ）に示した構造体に対して酸素プラズマ処理を施すことにより、シリコーン膜をシリカ膜（ＳｉＯ２）Ｓ１に変質させてシリコーン膜を除去するようにしてもよい。すなわち、酸素ガスのプラズマ（つまり、酸素をソースとしたプラズマ）により生成された酸素活性種を利用してめっき層４０を表面処理するようにしてもよい。具体的には、酸素プラズマ処理では、高周波電界中に酸素ガスを導入すると、その酸素ガスが例えばプラズマ化されて解離され、酸素活性種が生成される。そして、その酸素活性種がシリコーン膜と反応してＳｉＯ２膜が形成され、めっき層４０の上面からシリコーン膜が除去される。なお、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、ＲＦ出力を２５０Ｗ、酸素流量を１５ｓｃｃｍ、真空度を２０Ｐａ、処理時間を３０秒程度とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
本工程においてボンディングワイヤ８３をめっき層４０に接続する際には、めっき層４０の上面４２Ａの一部にシリカ膜Ｓ１は形成されているが、めっき層４０の上面４２Ａにシリコーン膜は形成されていない。すなわち、上述した酸素活性種による表面処理によってめっき層４０上からシリコーン膜が除去されているため、ボンディングワイヤ８３をめっき層４０に接続する際に、シリコーン膜に起因してワイヤボンディングの障害が起こることはない。但し、めっき層４０上にはシリコーン膜の代わりに絶縁膜であるシリカ膜Ｓ１が形成されているため、このシリカ膜Ｓ１がワイヤボンディング障害を引き起こすとも考えられる。しかし、めっき層４０上にシリカ膜Ｓ１を形成した場合には、後述する実験結果にも示すように、めっき層４０上にシリコーン膜が形成されている場合よりもワイヤボンディング性を向上させることができる。すなわち、めっき層４０上に形成されたシリコーン膜をシリカ膜Ｓ１に変質させることにより、めっき層４０とボンディングワイヤ８３との間で接合不良が発生しにくくなり、ワイヤボンディング強度を向上させることができる。これは、以下のように考察することができる。すなわち、ＳｉＯ２の分子構造は剛直であるため、ワイヤボンディングの超音波振動でめっき層４０上に残存するシリカ（ＳｉＯ２）は容易に破壊される、と考えられる。そして、せん断破壊された分子がボンディングワイヤ８３（Ａｕワイヤ）やＡｕ層４２に散乱し、ＡｕワイヤとＡｕ層４２の界面が一体化されるため、ワイヤボンディング強度の低下が抑制されるものと考察される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
図１７の結果から明らかなように、エキシマＵＶ光の照射量が増えるほど、Ａｕ層２５３の上面におけるシリコーン（Ｓｉ−Ｏ）の量が減少し、シリカ（ＳｉＯ２）の量が増加する。これは、上述したように、Ａｕ層２５３にエキシマＵＶ光を照射することにより、そのエキシマＵＶ光により生成された酸素活性種とＡｕ層２５３上に形成されたシリコーン膜とが反応してＳｉＯ２膜が形成されたことによるものと考えられる。さらに、エキシマＵＶ光の照射量が増えるほど、そのエキシマＵＶ光により生成される酸素活性種の量が増加するため、Ａｕ層２５３上に形成されていたシリコーンが大量に変質され、その分だけシリカが大量に生成されたものと考えられる。そして、本実験結果では、エキシマＵＶ光の照射量が２３４０ｍＪ／ｃｍ２以上になると、ＥＳＣＡ分析でＡｕ層２５３の上面からシリコーンを検出できなくなった（サンプル４，５）。