【手続補正書】
【提出日】平成28年2月22日(2016.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
電極に接続された第１発生器であって、第１高周波（ＲＦ）信号を前記電極に供給するための第１電源と、パルス信号が第１の状態にある時に第１の周波数入力を前記第１電源に提供するための自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、を含む、第１発生器と、
前記電極に接続された第２発生器であって、第２ＲＦ信号を前記電極に供給するための第２電源と、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第２の周波数入力を前記第２電源に提供するためのＡＦＣと、前記パルス信号が第２の状態である時に第３の周波数入力を前記第２電源に提供するためのＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
前記パルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
を備える、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、
前記第２発生器は、デジタル信号プロセッサから受信した前記第２の周波数入力または前記第３の周波数入力を前記第２電源に転送するためのセレクタを含む、システム。
【請求項３】
システムであって、
基板を支持するための表面を有する下側電極と、前記下側電極の上に配置された上側電極と、を含むプラズマチャンバであって、前記上側電極は電気的に接地されている、プラズマチャンバと、
前記下側電極に接続された第１発生器であって、第１高周波（ＲＦ）信号を前記下側電極に供給するための第１電源を含む、第１発生器と、
前記下側電極に接続された第２発生器であって、第２ＲＦ信号を前記下側電極に供給するための第２電源を含む、第２発生器と、
パルス信号を生成するためのデジタルパルス源であって、前記第１発生器および前記第２発生器に接続され、前記パルス信号は２つの状態の間を移行する、デジタルパルス源と、
を備え、
前記第１発生器は、前記パルス信号が第１の状態にある時に第１の周波数入力を前記第１電源に提供するための第１の自動周波数制御部（ＡＦＣ）を含み、
前記第２発生器は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第２の周波数入力を前記第２電源に提供するための第２のＡＦＣを含み、
前記第２発生器は、前記パルス信号が第２の状態にある時に第３の周波数入力を前記第２電源に提供するための第３のＡＦＣを含む、システム。
【請求項４】
請求項３に記載のシステムであって、さらに、
前記第２のＡＦＣおよび前記第３のＡＦＣの間で選択を行って前記第２の周波数入力または前記第３の周波数入力を前記第２電源に提供するために、前記デジタルパルス源と前記第２および第３のＡＦＣとの間に接続されたセレクタを備え、
前記セレクタは、前記パルス信号の前記状態に基づいて前記第２のＡＦＣおよび前記第３のＡＦＣの間で選択を行うよう構成されている、システム。
【請求項５】
請求項３に記載のシステムであって、
前記２つの状態の一方はオン状態であり、前記２つの状態のもう一方はオフ状態である、システム。
【請求項６】
請求項３に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記第２ＲＦ信号より低い周波数を有する、システム。
【請求項７】
請求項３に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第２ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第３の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第４の電力レベルにあり、前記第３の電力レベルは前記第４の電力レベルよりも低い、システム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムであって、
前記第３の電力レベルはゼロまたは正の値である、システム。
【請求項９】
請求項３に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第２ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第３の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第４の電力レベルにあり、前記第３の電力レベルは前記第４の電力レベルと同じである、システム。
【請求項１０】
請求項９に記載のシステムであって、
前記第３の電力レベルは正の値である、システム。
【請求項１１】
請求項３に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第２ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第３の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第４の電力レベルにあり、前記第３の電力レベルは前記第４の電力レベルよりも高い、システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のシステムであって、
前記第３の電力レベルはゼロまたは正の値である、システム。
【請求項１３】
請求項３に記載のシステムであって、
前記デジタルパルス源は、クロック発振器またはトランジスタ−トランジスタロジック（ＴＴＬ）を含む、システム。
【請求項１４】
請求項３に記載のシステムであって、
前記第１の周波数入力は、前記第２の周波数入力および前記第３の周波数入力とは異なる、システム。
【請求項１５】
請求項４に記載のシステムであって、
前記セレクタは、マルチプレクサを含む、システム。
【請求項１６】
システムであって、
パルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を電極に供給するために前記電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号の２つの状態の内の第１の状態および第２の状態を識別するために前記デジタルパルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかに基づいて第１電力値を前記第１電源に提供するか否かを決定するために前記第１プロセッサに接続された電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記電極に供給するために前記電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記デジタルパルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の第１の周波数入力を提供するよう構成された第１のＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の第２の周波数入力を提供するよう構成された第２のＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載のシステムであって、
前記第２発生器は、前記第２プロセッサから受信した前記第１の周波数入力または前記第２の周波数入力を前記第２電源に転送するためのセレクタを含む、システム。
【請求項１８】
システムであって、
基板を支持するための表面を有する下側電極と、前記下側電極の上に配置された上側電極と、を含むプラズマチャンバであって、前記上側電極は電気的に接地されている、プラズマチャンバと、
２つの状態の間を移行するパルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して、前記パルス信号の前記２つの状態の内の第１の状態および前記２つの状態の内の第２の状態を識別するために、前記デジタルパルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかに基づいて第１電力値を前記第１電源に提供するか否かを決定するために前記第１プロセッサに接続された電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記デジタルパルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第１のＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第２のＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムであって、
前記２つの状態の一方はオン状態であり、前記２つの状態のもう一方はオフ状態である、システム。
【請求項２０】
請求項１８に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第１の第２電力値は前記第２の第２電力値よりも低い、システム。
【請求項２１】
請求項１８に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第１の第２電力値は前記第２の第２電力値と同じである、システム。
【請求項２２】
請求項１８に記載のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第１の第２電力値は前記第２の第２電力値よりも高い、システム。
【請求項２３】
請求項１８に記載のシステムであって、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時、前記第１電力値は正の電力値である、システム。
【請求項２４】
請求項１８に記載のシステムであって、
前記第１の第２電力値は、前記第２の第２電力値よりも低い、同じ、または、高い、システム。
【請求項２５】
システムであって、
パルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を電極に供給するために前記電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して、前記パルス信号の２つの状態の内の第１の状態および前記２つの状態の内の第２の状態を識別するために、前記デジタルパルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第１の第１電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第２の第１電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号に第１の第１周波数入力を提供するよう構成された第１の第１自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第１ＲＦ信号に第２の第１周波数入力を提供するよう構成された第２の第１ＡＦＣと、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記電極に供給するために前記電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記デジタルパルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の第２電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の第２電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号に第１の第２周波数入力を提供するよう構成された第１の第２ＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号に第２の第２周波数入力を提供するよう構成された第２の第２ＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
【請求項２６】
請求項２５に記載のシステムであって、
前記第１発生器は、前記第１プロセッサから受信した前記第１の第１周波数入力または前記第１プロセッサから受信した前記第２の第１周波数入力を前記第１電源に転送するよう構成されたセレクタを含み、
前記第２発生器は、前記第２プロセッサから受信した前記第１の第２周波数入力または前記第２プロセッサから受信した前記第２の第２周波数入力を前記第２電源に転送するよう構成されたセレクタを含む、システム。
【請求項２７】
システムであって、
基板を支持するための表面を有する下側電極と、前記下側電極の上に配置された上側電極と、を含むプラズマチャンバであって、前記上側電極は電気的に接地されている、プラズマチャンバと、
２つの状態の間を移行するパルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号の前記２つの状態の内の第１の状態および前記２つの状態の内の第２の状態を識別するために前記デジタルパルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第１の第１電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第２の第１電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第１の第１自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第２の第１の第１ＡＦＣと、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記デジタルパルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の第２電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の第２電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第１の第２ＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第２の第２ＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
【請求項２８】
請求項２７に記載のシステムであって、
前記第１の第２電力値は、前記第２の第１電力値よりも低い、同じ、または、高い、システム。
【請求項２９】
方法であって、
２つの状態を有するデジタルパルス信号を受信する工程と、
前記デジタルパルス信号が前記２つの状態の内の第１の状態にある時に第１の周波数入力を第１ＲＦ電源に印加することから、前記デジタルパルス信号が前記２つの状態の内の第２の状態にある時に第２の周波数入力を前記第１ＲＦ電源に印加することに切り換える工程と、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にある時に第３の周波数入力を第２ＲＦ電源に印加することを決定する工程と、
を備える、方法。
【請求項３０】
請求項２９に記載の方法であって、
前記方法は、半導体ウエハを処理して集積回路を製造するために利用される、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【図３】本開示に記載された一実施形態に従って、プラズマインピーダンスの変化に応じて電力コントローラおよび／または周波数チューナ（電力コントローラおよび／または周波数チューナは非ゼロ値を提供する）を調整する時間を削減するためのシステムを示す図。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図３は、プラズマインピーダンスの変化に応じて電力コントローラおよび／または周波数チューナ（電力コントローラおよび／または周波数チューナは非ゼロ値を提供する）を調整する時間を削減するためのシステム２６２の一実施形態を示す図である。システム２６２は、それぞれ非ゼロ値を提供する電力コントローラ１７２およびＡＦＴ２６４を備えることを除いては、図１のシステム１８０と同様である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
一実施形態において、状態Ｓ０中に、ＡＦＴ２６４は、ＤＳＰ１４０から受信したガンマ値に基づいて周波数値を決定する。状態Ｓ０中に、ＡＦＴ２６４は、ガンマ値から生成された周波数値に基づいて周波数値Ｆ１０を調整し、調整した周波数値を２ＭＨｚ電源に提供する。さらに、状態Ｓ０中に、電力コントローラ１７２は、ＤＳＰ１４０から受信したガンマ値に基づいて電力値を決定する。状態Ｓ０中に、電力コントローラ１７２は、ガンマ値に基づいて生成された電力値に基づいて電力値Ｐ１０を調整し、調整した電力値を２ＭＨｚ電源に提供する。また、状態Ｓ０中に、２ＭＨｚ電源は、ＡＦＴ２６４から受信した調整済みの周波数値と電力コントローラ１７２から受信した調整済みの電力値とを有する電力信号を生成し、その電力信号をインピーダンス整合回路１８２を介してプラズマチャンバ１０２に供給する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
図６は、ＴＴＬ信号１１２の状態に基づいてＡＦＴ１１４および２６４の間で選択を行うためのシステム３１１の一実施形態を示すブロック図である。ＴＴＬ信号１１２が状態Ｓ１である時、システム３１１の選択ロジック１２８はＡＦＴ１１４を選択し、ＴＴＬ信号１１２が状態Ｓ０である時、選択ロジック１２８はＡＦＴ２６４を選択する。選択ロジック１２８の例としては、マルチプレクサが挙げられる。選択ロジック１２８がマルチプレクサを含む場合、ＴＴＬ信号１１２は、マルチプレクサの選択入力で受信される。例えば、ロー状態のＴＴＬ信号がマルチプレクサの第１の選択入力で受信され、ハイ状態のＴＴＬ信号がマルチプレクサの第２の選択入力で受信される。一実施形態において、選択ロジック１２８は、プロセッサを備える。一実施形態において、選択ロジック１２８は、ＤＳＰ１４０内に実装される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
２ＭＨｚ電源は、クロック源３１３から受信したクロック信号と同期する２ＭＨｚ信号を生成する。一実施形態において、クロック源３１３のクロック信号は、ＴＴＬ信号１１２と同期する。一実施形態において、クロック源３１３のクロック信号は、ＴＴＬ信号１１２とほぼ同じ位相を有する。例えば、クロック源３１３のクロック信号の立ち上がりエッジは、ＴＴＬ信号１１２の立ち上がりエッジより一瞬、後または前にある。一実施形態において、クロック源３１３からのクロック信号の代わりに、ＴＴＬ信号１１２が２ＭＨｚ電源に提供される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
図７は、第１の組の電力値および第１の組の周波数を有するＲＦ信号を生成するか、第２の組の電力値および第２の組の周波数を有するＲＦ信号を生成するかを決定するための方法３２１の一実施形態を示すフローチャートである。動作３２３において、プラズマが、プラズマチャンバ１０２（図１）内で点火（例えば、生成）される。また、動作３２５において、ＴＴＬ信号１１２が、２ＭＨｚ発生器（例えば、発生器２７４（図１）、発生器２９２（図３）など）によって受信されると共に、６０ＭＨｚ発生器２７６（図１および図３）によって受信される。例えば、ＤＳＰ１４０（図１）が、ツールＵＩ１９０からＴＴＬ信号１１２を受信し、ＤＳＰ１５０（図１）が、ツールＵＩ１９０からＴＴＬ信号１１２を受信する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
さらに、動作３４３において、ガンマは、周波数値Ｆ２０を調整するために、ＤＳＰ１５０によってＡＦＴ１２０に提供され、電力値Ｐ２０を調整するために、ＤＳＰ１５０によって電力コントローラ１５４に提供される。一例として、ＡＦＴ１２０は、状態Ｓ０の間に伝送線路２３２の信号に基づいて測定されたガンマに対応するルックアップテーブルから、周波数値Ｆ２０以外の別の周波数値を取得し、その別の周波数値を６０ＭＨｚ電源に提供する。６０ＭＨｚ電源は、その別の周波数値を有するＲＦ信号を生成する。さらに、動作３４３において、ガンマは、電力値Ｐ２０を調整するために、ＤＳＰ１５０によって電力コントローラ１５４に提供される。一例として、電力コントローラ１５４は、状態Ｓ０の間に伝送線路２３２の信号に基づいて測定されたガンマに対応するルックアップテーブルから、電力値Ｐ２０以外の別の電力値を取得し、その別の電力値を６０ＭＨｚ電源に提供する。６０ＭＨｚ電源は、その別の電力値を有するＲＦ信号を生成する。方法３２１は、動作３４３の後に動作３２５に戻る。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
理解を深めるために、本実施形態について、ある程度詳しく説明したが、添付の特許請求の範囲内でいくらかの変更および変形を行ってもよいことは明らかである。したがって、本実施形態は、例示的なものであって、限定的なものではないとみなされ、実施形態は、本明細書に示した詳細に限定されず、添付の特許請求の範囲および等価物の範囲内で変形されてよい。
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例１：
システムであって、
電極に接続された第１発生器であって、第１高周波（ＲＦ）信号を前記電極に供給するための第１電源と、パルス信号が第１の状態にある時に第１の周波数入力を前記第１電源に提供するための自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、を含む、第１発生器と、
前記電極に接続された第２発生器であって、第２ＲＦ信号を前記電極に供給するための第２電源と、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第２の周波数入力を前記第２電源に提供するためのＡＦＣと、前記パルス信号が第２の状態である時に第３の周波数入力を前記第２電源に提供するためのＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
前記パルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
を備える、システム。
適用例２：
適用例１のシステムであって、
前記第２発生器は、デジタル信号プロセッサから受信した前記第２の周波数入力または前記第３の周波数入力を前記第２電源に転送するためのセレクタを含む、システム。
適用例３：
システムであって、
基板を支持するための表面を有する下側電極と、前記下側電極の上に配置された上側電極と、を含むプラズマチャンバであって、前記上側電極は電気的に接地されている、プラズマチャンバと、
前記下側電極に接続された第１発生器であって、第１高周波（ＲＦ）信号を前記下側電極に供給するための第１電源を含む、第１発生器と、
前記下側電極に接続された第２発生器であって、第２ＲＦ信号を前記下側電極に供給するための第２電源を含む、第２発生器と、
パルス信号を生成するためのデジタルパルス源であって、前記第１発生器および前記第２発生器に接続され、前記パルス信号は２つの状態の間を移行する、デジタルパルス源と、
を備え、
前記第１発生器は、前記パルス信号が第１の状態にある時に第１の周波数入力を前記第１電源に提供するための第１の自動周波数制御部（ＡＦＣ）を含み、
前記第２発生器は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第２の周波数入力を前記第２電源に提供するための第２のＡＦＣを含み、
前記第２発生器は、前記パルス信号が第２の状態にある時に第３の周波数入力を前記第２電源に提供するための第３のＡＦＣを含む、システム。
適用例４：
適用例３のシステムであって、さらに、
前記第２のＡＦＣおよび前記第３のＡＦＣの間で選択を行って前記第２の周波数入力または前記第３の周波数入力を前記第２電源に提供するために、前記デジタルパルス源と前記第２および第３のＡＦＣとの間に接続されたセレクタを備え、
前記セレクタは、前記パルス信号の前記状態に基づいて前記第２のＡＦＣおよび前記第３のＡＦＣの間で選択を行うよう構成されている、システム。
適用例５：
適用例３のシステムであって、
前記２つの状態の一方はオン状態であり、前記２つの状態のもう一方はオフ状態である、システム。
適用例６：
適用例３のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記第２ＲＦ信号より低い周波数を有する、システム。
適用例７：
適用例３のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第２ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第３の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第４の電力レベルにあり、前記第３の電力レベルは前記第４の電力レベルよりも低い、システム。
適用例８：
適用例７のシステムであって、
前記第３の電力レベルはゼロまたは正の値である、システム。
適用例９：
適用例３のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第２ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第３の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第４の電力レベルにあり、前記第３の電力レベルは前記第４の電力レベルと同じである、システム。
適用例１０：
適用例９のシステムであって、
前記第３の電力レベルは正の値である、システム。
適用例１１：
適用例３のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第２ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第３の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第４の電力レベルにあり、前記第３の電力レベルは前記第４の電力レベルよりも高い、システム。
適用例１２：
適用例１１のシステムであって、
前記第３の電力レベルはゼロまたは正の値である、システム。
適用例１３：
適用例３のシステムであって、
前記デジタルパルス源は、クロック発振器またはトランジスタ−トランジスタロジック（ＴＴＬ）を含む、システム。
適用例１４：
適用例３のシステムであって、
前記第１の周波数入力は、前記第２の周波数入力および前記第３の周波数入力とは異なる、システム。
適用例１５：
適用例３のシステムであって、
前記セレクタは、マルチプレクサを含む、システム。
適用例１６：
システムであって、
パルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を電極に供給するために前記電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号の２つの状態の内の第１の状態および第２の状態を識別するために前記パルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかに基づいて第１電力値を前記第１電源に提供するか否かを決定するために前記第１プロセッサに接続された電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記電極に供給するために前記電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記パルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の第１の周波数入力を提供するよう構成された第１のＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の第２の周波数入力を提供するよう構成された第２のＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
適用例１７：
適用例１６のシステムであって、
前記第２発生器は、前記第２プロセッサから受信した前記第１の周波数入力または前記第２の周波数入力を前記第２電源に転送するためのセレクタを含む、システム。
適用例１８：
システムであって、
基板を支持するための表面を有する下側電極と、前記下側電極の上に配置された上側電極と、を含むプラズマチャンバであって、前記上側電極は電気的に接地されている、プラズマチャンバと、
２つの状態の間を移行するパルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して、前記パルス信号の前記２つの状態の内の第１の状態および前記２つの状態の内の第２の状態を識別するために、前記パルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかに基づいて第１電力値を前記第１電源に提供するか否かを決定するために前記第１プロセッサに接続された電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記パルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第１のＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第２のＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
適用例１９：
適用例１８のシステムであって、
前記２つの状態の一方はオン状態であり、前記２つの状態のもう一方はオフ状態である、システム。
適用例２０：
適用例１８のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第１の第２電力値は前記第２の第２電力値よりも低い、システム。
適用例２１：
適用例１８のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第１の第２電力値は前記第２の第２電力値と同じである、システム。
適用例２２：
適用例１８のシステムであって、
前記第１ＲＦ信号は、前記パルス信号が前記第１の状態である時に第１の電力レベルにあり、前記パルス信号が前記第２の状態である時に第２の電力レベルにあり、前記第１の電力レベルは前記第２の電力レベルよりも高く、
前記第１の第２電力値は前記第２の第２電力値よりも高い、システム。
適用例２３：
適用例１８のシステムであって、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時、前記第１電力値は正の電力値である、システム。
適用例２４：
適用例１８のシステムであって、
前記第１の第２電力値は、前記第２の第２電力値よりも低い、同じ、または、高い、システム。
適用例２５：
システムであって、
パルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を電極に供給するために前記電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して、前記パルス信号の２つの状態の内の第１の状態および前記２つの状態の内の第２の状態を識別するために、前記パルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第１の第１電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第２の第１電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号に第１の第１周波数入力を提供するよう構成された第１の第１自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第１ＲＦ信号に第２の第１周波数入力を提供するよう構成された第２の第１ＡＦＣと、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記電極に供給するために前記電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記パルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の第２電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の第２電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号に第１の第２周波数入力を提供するよう構成された第１の第２ＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号に第２の第２周波数入力を提供するよう構成された第２の第２ＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
適用例２６：
適用例２５のシステムであって、
前記第１発生器は、前記第１プロセッサから受信した前記第１の第１周波数入力または前記第２プロセッサから受信した前記第２の第１周波数入力を前記第１電源に転送するよう構成されたセレクタを含み、
前記第２発生器は、前記第２プロセッサから受信した前記第１の第２周波数入力または前記第２プロセッサから受信した前記第２の第２周波数入力を前記第２電源に転送するよう構成されたセレクタを含む、システム。
適用例２７：
システムであって、
基板を支持するための表面を有する下側電極と、前記下側電極の上に配置された上側電極と、を含むプラズマチャンバであって、前記上側電極は電気的に接地されている、プラズマチャンバと、
２つの状態の間を移行するパルス信号を生成するためのデジタルパルス源と、
第１発生器であって、
第１高周波（ＲＦ）信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第１電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号の前記２つの状態の内の第１の状態および前記２つの状態の内の第２の状態を識別するために前記パルス源に接続された第１プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第１の第１電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第１電力値を前記第１電源に提供するために前記第１プロセッサに接続された第２の第１電力コントローラと、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第１の第１自動周波数制御部（ＡＦＣ）と、
前記第１プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第１プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第１ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第２の第１ＡＦＣと、を含む、第１発生器と、
第２発生器であって、
第２ＲＦ信号を前記下側電極に供給するために前記下側電極に接続された第２電源と、
前記パルス信号を受信して前記パルス信号が前記第１の状態にあるか前記第２の状態にあるかを識別するために前記パルス源に接続された第２プロセッサと、
前記パルス信号が前記第１の状態にある時に第１の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第１の第２電力コントローラと、
前記パルス信号が前記第２の状態にある時に第２の第２電力値を前記第２電源に提供するために前記第２プロセッサに接続された第２の第２電力コントローラと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第１の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第１の第２ＡＦＣと、
前記第２プロセッサから前記状態の識別を受信するために前記第２プロセッサに接続され、前記パルス信号が前記第２の状態にある時に前記第２ＲＦ信号の周波数を提供するよう構成された第２の第２ＡＦＣと、を含む、第２発生器と、
を備える、システム。
適用例２８：
適用例２７のシステムであって、
前記第１の第２電力値は、前記第２の第１電力値よりも低い、同じ、または、高い、システム。
適用例２９：
方法であって、
２つの状態を有するデジタルパルス信号を受信する工程と、
前記デジタルパルス信号が前記２つの状態の内の第１の状態にある時に第１の周波数入力を第１ＲＦ電源に印加することから、前記デジタルパルス信号が前記２つの状態の内の第２の状態にある時に第２の周波数入力を前記第１ＲＦ電源に印加することに切り換える工程と、
前記デジタルパルス信号が前記第１の状態にある時に第３の周波数入力を第２ＲＦ電源に印加することを決定する工程と、
を備える、方法。
適用例３０：
適用例２９の方法であって、
前記方法は、半導体ウエハを処理して集積回路を製造するために利用される、方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013191554.tif 000001
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013191554.tif 000002