(57)【要約】  本発明は、均一分布層（２）を片面または両面に有する被膜付きステンレス鋼ストリップ（１）製品に関する。この層は装飾的な外観を有し、層の厚さは１０μｍ以下、その許容誤差は層厚さの±３０％以下、パラメータ値Ｌ*、ａ*、ｂ*はそれぞれ０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、−９０＜ｂ*＜７０、装飾性外観の許容誤差はΔＥで１５以下、層の密着性は優れており被膜付き鋼ストリップが軟化焼鈍状態で５×ｔ以下の半径（ｔはストリップ厚さ）の曲げ試験でフレーキングなどの徴候を示さない。
2007521401.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
均一に分布した層を片面または両面に有する被膜付きステンレス鋼ストリップ製品において、
上記層は装飾的外観を有し、該層の厚さは１０μｍ以下であって許容誤差が該層厚さの±３０％、パラメータ値Ｌ*、ａ*、ｂ*はそれぞれ０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、−９０＜ｂ*＜７０、該装飾的外観の許容誤差がΔＥで１５以下であり、かつ、
上記被膜付きステンレス鋼ストリップを軟化焼鈍状態で曲げ試験したときに、フレーキングなどの徴候無しに、該ストリップの厚さをｔとして５×ｔ以下の半径で９０°以上曲げることができるほど該層の密着性が高いことを特徴とする被膜付きステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項２】
請求項１において、該ストリップ基材の厚さが０．０１５ｍｍ〜３．０ｍｍであることを特徴とする製品。
【請求項３】
請求項１または２において、該被膜の厚さと該ストリップの厚さとの比が７％以下であることを特徴とする製品。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項において、該ストリップ基材の材料が、フライトステンレス鋼、オーステナイトステンレス鋼、ステンレススプリング鋼、２相ステンレス鋼、焼入れ用クロム鋼、または析出硬化ステンレス鋼であることを特徴とする製品。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項において、上記基材の軟化焼鈍状態での引張強さが１４００ＭＰａ以下であることを特徴とする製品。
【請求項６】
請求項１から４までのいずれか１項において、上記基材の冷間圧延状態での引張強さが５００ＭＰａ以上であることを特徴とする製品。
【請求項７】
請求項１から４までのいずれか１項において、上記基材の焼入れおよび／または焼き戻しした状態での引張強さが１０００ＭＰａ以上であることを特徴とする製品。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか１項において、上記被膜は２元金属酸化物または３元金属酸化物または該２元金属酸化物の混合物あるいは固溶体であり、該混合物または該固溶体の主成分がＡｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、またはＣｒ２Ｏ３であることを特徴とする製品。
【請求項９】
請求項１から７までのいずれか１項において、上記被膜は金属炭化物または金属窒化物であり、望ましくはＴｉＮ，ＴｉＡｌＮ，ＺｒＮ、ＴｉＣまたはＣｒＮ、またはこれらの混合物であることを特徴とする製品。
【請求項１０】
請求項９において、焼き戻しまたは焼入れの際に適当なガス雰囲気を用いて引き続き熱処理されており、該熱処理前後の上記装飾的外観の差がΔＥで１５以下であることを特徴とする製品。
【請求項１１】
請求項１０において、該基材の該熱処理後の引張強さが１０００ＭＰａ以上であることを特徴とする製品。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか１項において、上記層が１０層以下から成る多層構造を有することを特徴とする製品。
【請求項１３】
請求項１２において、上記多層構造の個々の層は厚さが０．０１〜１０μｍであることを特徴とする製品。
【請求項１４】
請求項１３において、上記多層構造の個々の層がＴｉＮ、ＴｉＣのような窒化物または炭化物の異種被膜から成り、更に、必要に応じて、Ｃｒ２Ｏ３またはＡｌ２Ｏ３またはＴｉＯ２またはこれらの混合物の形態の酸化物の層と組み合わされていることを特徴とする製品。
【請求項１５】
請求項１４において、厚さ２μｍ以下のニッケルまたはクロムまたはアルミニウムまたはチタンの被覆層を少なくとも１層、更に備えていることを特徴とする製品。
【請求項１６】
請求項１から７までのいずれか１項において、被膜を施す第１段階と次いでこの被膜を処理して望みの色にする第２段階の２段階処理により得た望みの装飾的外観を備えており、上記第１段階の被膜が、アルミニウム、クロム、チタン、ジルコニウムのような金属、またはこれら金属の２元酸化物であるＡｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、または上記金属と上記２元酸化物との混合物から成る被覆層であることを特徴とする製品。
【請求項１７】
請求項１６において、上記第２段階の処理後の上記基材の引張強さが１０００ＭＰａ以上であることを特徴とする製品。
【請求項１８】
請求項１６または１７において、上記第２段階において熱処理の際に反応ガスを用いることにより、上記第１段階で施された上記被膜に酸素、炭素、窒素のような元素が添加されていることを特徴とする製品。
【請求項１９】
請求項１６から１８までのいずれか１項において、上記第２段階の処理後の最終製品の望みの色を有する被膜が、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、または金属酸窒化物、金属酸炭化物または金属炭窒化物の混合物から成ることを特徴とする製品。
【請求項２０】
請求項１６から１９までのいずれか１項において、上記層が１０層以下から成る多層構造を有することを特徴とする製品。
【請求項２１】
請求項１６から２０までのいずれか１項において、上記多層構造の個々の層は厚さが０．０１〜１０μｍであることを特徴とする製品。
【請求項２２】
請求項１から２１までのいずれか１項において、上記装飾的外観が通常典型的には２０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、−８３＜ｂ*＜０の青色であることを特徴とする製品。
【請求項２３】
請求項１から２１までのいずれか１項において、上記装飾的外観が通常典型的には２０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜０、−８３＜ｂ*＜７０の緑色であることを特徴とする製品。
【請求項２４】
請求項１から２１までのいずれか１項において、上記装飾的外観が通常典型的には２０＜Ｌ*＜９５、０＜ａ*＜６４、−４０＜ｂ*＜３５の赤色であることを特徴とする製品。
【請求項２５】
請求項１から２１までのいずれか１項において、上記装飾的外観が通常典型的には２０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、０＜ｂ*＜７０の金色であることを特徴とする製品。
【請求項２６】
請求項１から２１までのいずれか１項において、上記装飾的外観が典型的には０＜Ｌ*＜５０、−２０＜ａ*＜２０、−２０＜ｂ*＜２０の黒色であることを特徴とする製品。
【請求項２７】
請求項１から２１までのいずれか１項において、上記装飾的外観が通常典型的には２０＜Ｌ*＜９５、２０＜ａ*＜６０、−２５＜ｂ*＜−６０の紫色であることを特徴とする製品。
【請求項２８】
請求項１から２７までのいずれか１項において、消費者関連用途の装飾性部品として用いるのに適しており、具体的例としては、野外生活用品、スポーツおよび海洋生活用品、家庭用品、カメラ用品、携帯電話などの電気通信用品、ナイフ・鋸・髭剃りなどの刃物用品、携帯時計・眼鏡・化粧用具などの身の回り品、衣料品のボタン・ジッパー、香水瓶のような、消費者関連用途への高いコスト効率と生産性での製造に適していることを特徴とする製品。
【請求項２９】
請求項１から２８までのいずれか１項記載の被膜付きステンレス鋼ストリップ製品の製造方法において、ストリップ製造ラインに組み込んだ最小ストリップ速度３ｍ／ｍｉｎの連続多段ロールプロセスにより、エッチングチャンバラインを備えたスパッタリングおよび／または電子ビーム蒸着を用いて、上記製品を製造することを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、装飾表面仕上げを施した被覆層を有する新規な被膜付きステンレス鋼ストリップ材料に関する。本発明は更に、連続多段ロールプロセスにより、金属ストリップ基材上に非常に密着性の良い装飾被覆層を有する上記の被膜付き鋼ストリップを製造する方法に関する。特に、本発明は、良好な成形性を有し、消費者関連用品を始め様々な用途に適した良好な密着性を持つ装飾層を有する被膜付き鋼ストリップに関する。
【背景技術】
【０００２】
装飾被膜を施すことにより消費者関連用品の表面仕上げを魅力的にできることは知られている。しかし、寸法の小さい部品は、良好なコスト効率と生産性で製造すべきであるが、品質と生産性を両立できる方法を見つけることが困難である。生産性の観点からは多段ロール被覆プロセスを使う必要があり、品質の観点からは密着性の優れた薄層が必要である。
【０００３】
最終製品の機能的品質を確保するには優れた密着性が必要であるが、各部品をコスト効率良く高い生産性で製造する必要もある。被膜付きストリップ材料の密着性が低いと、例えばフレーキング（片状剥離）といった問題が生じるため、歩留まりが悪いばかりでなく、特に製造プロセスが連続ラインの場合にはフレーク（剥離片）自体が製造プロセスの妨げになる。更に、品質検査とプロセスラインからのフレーク除去のための停止回数が多くなる。被膜の密着性が悪いと、結局は製造コストが膨大になり品質も低下するので実用性がなくなる。
【０００４】
装飾表面仕上げを施すには一般的な方法が幾つかある。その例を下記に列挙する。
【０００５】
◆  陽極酸化は種々の色に用いることができる方法として知られている。通常、この方法はアルミニウムまたはアルミニウム合金に用いられる。明らかな欠点として、そのままステンレス鋼には適用できない。
【０００６】
◆  蒸着法は金属製品の着色に用いる場合が幾つかある。多くの場合、色の生成は部品表面に金属窒化物を施すことにより行なう。しかし、ほとんどの方法がバッチ式プロセスであるため、仕上げ部品１個毎に被覆を行なう。この方法の明らかな欠点として、連続プロセスではないため非常に高価である。消費者関連用品のバッチ被覆については、アメリカ合衆国特許6197438B1、アメリカ合衆国特許5510012、ヨーロッパ公開特許公報1033416に開示されている。
【０００７】
◆  近年のＰＶＤ技術の発達の結果、種々の理由で連続ＰＶＤ被覆ラインが作られ、いわゆるウェブ・コーターを用いてチップ袋などの食品パッケージ用のプラスチック・フォイルに被覆を施すことが一般に行なわれている。連続ＰＶＤラインはアルミニウムストリップの高反射表面の製造にも用いられているし、半連続ＰＶＤラインも窓ガラスの被覆に用いられている。やや一般的ではないが、連続ＰＶＤラインを用いてステンレス鋼材料に機能層を被覆することが行なわれている。アメリカ合衆国特許6197132には、ステンレス鋼ストリップにアルミニウムを被覆するための連続ＰＶＤラインが記載されている。また、「Innovative steel strip coatings by means of PVD in a continuous pilot line: process technology and coating development」B. Schuhmacher et al., Surface and Technology 163-164, (2003) pp 703-709には、耐食用にＺｎ合金を堆積させるための連続ＰＶＤラインが記載されている。更に、アメリカ合衆国特許4763601には、鋼ストリップに被覆を施すための連続ラインが記載されている。この被覆ラインは幾つかの異なる被覆ゾーンを組み合せたものであり、イオンプレーティング、スパッタリング、プラズマＣＶＤによる被覆ゾーンが含まれている。しかし、アメリカ合衆国特許4763601に用いているストリップ速度では生産性が非常に低くなる。その上、ベルトの供給速度が遅いために、被覆ゾーンでの滞在時間が長くなり、最終製品の品質が低下する。
【０００８】
◆  一般的な方法の一つとして、有色ラッカーなどを金属表面に塗布する。しかし、ほとんどの塗布プロセスでは、仕上がり品の1個毎に塗布を行なう。この方法の明らかな欠点として、連続多段ロールプロセスではないため、非常に高価になる。通常、連続塗布プロセスを用いることができない。それは、密着性が不十分なため、後工程として例えば欠陥やフレーキングを生ぜずに成形処理を行うことができないからである。また、通常、塗料は熱処理に耐えられない。
【０００９】
このように、上記に列挙した方法は本発明には用いることができない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで本発明の主たる目的は、装飾被膜と基材との密着性が良好な装飾被膜付き金属ストリップを提供することである。
【００１１】
本発明のもう一つの目的は、ステンレス鋼ストリップの製造ラインに組み込んだ連続多段ロールプロセスにより最小ストリップ速度３ｍ／ｍｉｎで高いコスト効率の装飾被膜を実現することである。
【００１２】
本発明の更にもう一つの目的は、消費者関連製品の製造を可能とする良好な成形性を備えた装飾被膜を有する被膜付きステンレス鋼ストリップ製品を提供することである。
【００１３】
更に、本発明の目的の一つは、必要に応じて焼き戻しあるいは焼入れの熱処理を施しても変色が生ずることのない、装飾層を有する被膜付きステンレス鋼ストリップを提供することである。
【００１４】
本発明の別の目的は、ストリップ製造ラインに組み込んだ多段ロールプロセスでの連続被覆処理と関連して表面仕上げを施す方法であって、この表面仕上げは後工程において適当な熱処理により装飾被膜に変成できる方法を提供することである。
【００１５】
本発明の更に別の目的は、厚さを極力均一にした被膜を得ることである。
【００１６】
上記およびその他の目的は、請求項１による被膜付き鋼製品を提供することにより達成された。更に望ましい実施形態は従属請求項に規定してある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、優れた密着性を有する薄い装飾被覆層を生成する多段ロールプロセスによる被膜付きステンレス鋼の製造方法である。装飾層は例えば色を発現する被膜を施すことにより得られる。本発明の被膜付きステンレス鋼ストリップは、消費者関連用途の部品を高いコスト効率と生産性で製造するのに適する良好な密着性を備えている。最終製品は、装飾性ステンレスストリップ材料の形態であり、湿度の高い環境中や高耐食性を必要とする条件下でも用いられる消費者関連用途の装飾性部品として用いるのに適している。
【００１８】
装飾層は、多段ロールプロセスにおいて物理蒸着法（ＰＶＤ）により堆積させ、望ましくは１０μｍ未満の厚さの均一分布層として形成する。望ましいＰＶＤ法は、電子ビーム蒸着法（ＥＢ）またはスパッタリング法など、当業者に周知の方法である。
【００１９】
基材としては、Ｃｒ含有量１０％（質量％）以上でストリップ厚さが通常は３ｍｍ以下のステンレス鋼が望ましい。第１工程として、多段ロールプロセスにエッチングチャンバを装備してもよく、これによりステンレス鋼に通常存在する自然酸化膜を除去することができる。
【００２０】
変形態様として、装飾表面仕上げを２段階プロセスで形成しても良い。第１段階では、上述した方法を用いて良好な成形性を維持できる条件下でステンレス鋼ストリップ材料に適当な被膜を施し、第２段階で、上記被膜付与した材料に適当な熱処理を施すことにより薄い被膜層を装飾性表面仕上げ層に変成させる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
被膜とその用途の説明
最終製品は、被膜付きストリップ材料の形態であり、消費者関連用途の装飾性部品として用いるのに適しており、具体的例としては、野外生活用品、スポーツおよび海洋生活用品、家庭用品、カメラ用品、携帯電話などの電気通信用品、ナイフ・鋸・髭剃りなどの刃物用品、携帯時計・眼鏡・化粧用具などの身の回り品、衣料品のボタン・ジッパー、香水瓶等々に用いることができる。基本的に、これらの用途は全て、装飾的にすることによって最終製品にデザイン上の価値が付け加わる魅力的な表面仕上げを付与できる用途である。また、湿気の多い環境中や良好な耐食性を必要とする条件下の用途もある。同時に、こういったタイプの用途は多くの場合その使用寿命を通して光沢があって「高級な」外観を持ち見栄えの良いことを期待されている。光沢が無くて斑点や錆などがあるものは不合格となる。
【００２２】
片面被覆も両面被覆も用いることができるが、本発明の部品は通常は最終的な消費者関連製品で用いられ片面すなわち外面のみが見えるので、できるだけ片面被覆にする方がコスト面から望ましい。これは基材にステンレス鋼を用いることで可能になる。それは、被膜で耐食性を発揮させる必要がないので、耐食性のために部品の全面を被覆する必要がないからである。
【００２３】
本発明の方法は特に薄膜の被覆に適しており、片面について、合計１０μｍ以下、通常は合計７μｍ以下、望ましくは合計５μｍ以下、最良は３μｍ以下であり、コスト面から合計２μｍ以下でも望ましい。厚い層を被覆する場合には、コスト対特性の最適化をするには１０層までの多層構造を用いればよく、その場合に個々の層の厚さは０．０１〜１０μｍ、適切には０．０１〜５μｍ、望ましくは０．０１〜３μｍ、更に望ましくは０．００１〜２μｍである。
【００２４】
ＰＶＤ法により得られる厚さの許容差は普通は非常に良好である。個々の層の許容差はストリップ幅４００ｍｍ以下の場合、層厚さの±３０％以下、通常は±２０％以下、望ましくは±１０％以下、最も望ましくは±７％以下である。すなわち非常に狭い許容差が得られるので、使用時の精度および製品の品質にとって価値がある。層厚さの許容差が狭いことは、色の一貫性を確保する上でも有利である。すなわち、被膜厚さの許容精度が高いので、５ｋｍあるいはそれ以上の長尺品のベルトでも、優れた色の一貫性が得られた。このような長尺ベルトは供給速度を比較的速くすることで得ることができた。上記の長尺ベルトで、ΔＥで表わした色差（定義は後に説明）として１０未満の値が得られた。これよりも短いベルト、例えば１００ｍ以下のベルトでは、５未満のΔＥ値を得ることもできる。
【００２５】
更に、ベルトを被覆処理中に同時に特別な冷却手段で冷却できるので、被覆している面とは反対側の面を冷却して、ベルトに対する熱影響を概ね抑制し、基材の特性が実質的に維持されるようにできる。
【００２６】
薄い被膜層は高い密着性を有することが必要である。これは、種々の部品を製造する際に被膜付きストリップ製品の高い成形性を確保し、層のフレーキング等の問題を起こさないためである。薄膜層は用途および使用に関しても良好な密着性を持たなくてはならない。使用中に装飾層がフレーキングし始めたら不良品となる。密着性の合格基準は、軟化焼鈍状態の基材を用いた場合に、本発明の被膜付きステンレス鋼ストリップはストリップ厚さｔとして半径５×ｔ以下で所定角度までフレーキング等の徴候なしに曲げ可能なことである。このタイプの曲げにおける最小角度は典型的には最小９０°、通常最小１２０°、望ましくは最小１５０°、更に望ましくは１８０°である（図１〜２を参照）。本発明の一実施形態によれば、被膜付きストリップはストリップ厚さと等しい半径で最小９０°、望ましくは最小１８０°、フレーキング等の徴候なしに曲げ可能とする。
【００２７】
被覆層は処理された材料から負荷される摩耗および剪断に耐えるために十分な耐摩耗性を備えていなくてはならないが、経済的な理由および割れ易さ・脆さの観点から厚過ぎてもいけない。消費者関連用途向けには、被膜と基材の厚さの比率は、０．００１％〜７％、通常は０．００１〜５％、普通は０．００１〜４％、最も望ましくは０．００１〜３％とする。
【００２８】
装飾的な外観は何種類かの異種の化合物あるいは元素を堆積させることにより得られる。金属酸化物が装飾的な外観を持つことは良く知られており、本発明に適した装飾被膜としてＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＶＯ、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｕ２Ｏ、ＣｕＯのような２元系金属酸化物を用いるが、ＢａＴｉＯ３、ＰｂＣｒＯ４、Ｐｂ２ＣｒＯ５、ＮａＷＯ３、ＮａＷＯ２、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＴｉＭｇ２Ｏ４、ＬａＣｒＯ３のような３元系金属酸化物も装飾性がある。更に、金属酸化物の固溶体および／または混合物をストリップ基材に堆積させて装飾被膜を得ることもできる。そのような金属酸化物の混合物または固溶体は、望ましくはＡｌ２Ｏ３系、ＴｉＯ２系、Ｃｒ２Ｏ３系である。３元系金属酸化物などの３元系金属化合物は共蒸着またはスパッタリングにより堆積させることができる。
【００２９】
上記以外の被膜としては、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＣｒＮ、ＴｉＡｌＮのような金属窒化物の堆積層も装飾被膜を得る良い手段の例である。更に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮのような金属炭化物や金属炭窒化物も装飾的な外観を持つ層である。このタイプの被膜を用いると、被膜付きストリップ材料は、必要に応じて、後工程として適当なガス雰囲気中で熱処理することができる。通常の適当なガス雰囲気は、金属酸化物用にはＮ２、ＮＨ３、Ｎ２Ｈ４またはこれらの混合ガスなどの窒素含有ガス、金属炭化物用にはＣＨ４、ＣＨ３ＣＨ３、Ｃ２Ｈ４またはこれらの混合ガスなどの炭素含有雰囲気、金属炭窒化物用には窒素含有ガスと炭素含有ガスとの混合ガスである。被膜中の装飾層はＬ*値、ａ*値、ｂ*値で表わした色を上記の熱処理後に維持することが可能である。すなわち、熱処理前後の装飾的外観すなわち色の差をΔＥで表わすと、ストリップ幅４００ｍｍまでの場合には、１５以下、普通は１２以下、通常は８以下、望ましくは５以下、更に望ましくは３以下、最良は１以下である。
【００３０】
このタイプの被膜は、高機械強度も必要な消費者関連用途、例えばナイフ用、鋸用、髭剃り用等の刃物用途、または野外用途やガラスまたは香水瓶等の高強度用途での使用に特に関連がある。こういった用途は全て典型的には、焼入れ用クロム鋼、析出硬化性ステンレス鋼、冷間圧延ステンレススプリング鋼などの材料で製造されるものであり、通常行なわれる熱処理は、３２５〜５２５℃、望ましくは３７５〜５００℃で行う焼き戻し、あるいは、普通は４００℃以上、通常は８００℃以上、場合によっては９５０℃以上で行う焼入れである。これらの熱処理を行った後は、基材の機械（引張）強度が普通は１０００ＭＰａ以上、典型的には１２００ＭＰａ以上、通常は１４００ＭＰａ以上に上昇する。この熱処理は、連続多段ロールプロセスで被膜付きストリップ材料に施してもよいし、被膜付きストリップ材料から作製された部品に施してもよい。後者の場合、第２段階である熱処理は個別プロセスとして行う。
【００３１】
多層構造を用いて酸化物および／または窒化物または炭化物を組み合せることが可能であり、その際に各層に種々の酸化物および／窒化物または炭化物を用いた１０層以内を組み合せることにより、色スペクトル、反射率および色の一貫性を最適化することができる。
【００３２】
通常、別個の層間接合被膜は必要ではないが、靭性向上などの技術的な観点から必要な場合には層のうちの少なくとも一層として用いることができる。適した接合被膜はニッケル、アルミニウム、クロム、チタンなどの純金属である。別個の金属質接合被膜は余分なコストを伴うので、普通は非常に薄い層のみとして用いる。すなわち、０〜２μｍ、望ましくは０〜１μｍ、最も望ましくは０〜０．５μｍである。層間接合被膜は基材と装飾被膜の第１層との間に用いることもできる。これは特に第１層が非金属被膜で形成されている場合が該当する。
【００３３】
上記以外の方法として、装飾性表面仕上げの形成を２段階法で行なう。第１段階では既に説明したような方法を用いて鋼ストリップ材料に適当な被膜を施す。この場合、適当な被膜はアルミニウム、クロム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ハフニウム、銅、ニッケル、コバルトのような金属の被覆層か、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３のような上記金属の２元系酸化物の被覆層であるが、上記金属およびその金属酸化物の混合物であってもよい。この場合、個々の被膜の厚さおよび組成が第１段階において最も重要なのであり、その色自体ではない。この段階において被膜付き鋼製品は良好な成形性と、基材と薄膜層との良好な密着性とが必要であり、それにより、本明細書中で既述し図１〜２にも示したように種々の成形プロセスで成形可能でなくてはならない。後続の工程で、選択した化学処理および／または熱処理を行うことにより、層の化学組成が変成して材料表面に所望の色が形成される。望ましくは、この後続処理を通常プロセスと関連付け、例えば冷間圧延スプリング鋼または析出硬化鋼の焼き戻し処理中に、あるいは焼入れクロム鋼の焼入れ処理中に行なう。前述の焼き戻し処理を利用できる。被膜との反応性を持つように炉内雰囲気を選択することにより、被膜に所望の変成を起こすことができる。
【００３４】
最終被膜付きストリップに酸化被膜を設けたい場合には、金属の被覆層および／または２元系酸化物を酸化性雰囲気中で熱処理する。酸化性雰囲気としては、水蒸気、純酸素ガス、Ｏ２、または酸素とＡｒ、Ｎ２、Ｈｅのような不活性ガスとの混合ガス、または最良なのは空気であり、それぞれ適当な温度で用いる。
【００３５】
金属被膜および／または金属酸化物被膜に窒素を添加したい場合は、Ｎ２、ＮＨ３、Ｎ２Ｈ４またはＮ２／Ｈ２の混合ガスのようなガスを含む窒素含有反応性ガスを熱処理時に用いることができる。このような熱処理後の最終的な装飾層は、金属窒化物または金属酸窒化物に変成している。
【００３６】
金属被膜および／または金属酸化物被膜に炭素を添加したい場合は、ＣＨ４、ＣＨ３ＣＨ３、Ｃ２Ｈ４、Ｃ２Ｈ２またはこれらの混合ガスのようなガスを含む炭素含有反応性ガスを反応性雰囲気として熱処理時に用いることができる。最終的な装飾層を金属の炭窒化物とする場合には、上記の炭素含有ガスを窒素含有ガスと混合し、高温で熱処理する。
【００３７】
このタイプの２段階プロセスを用いることにより、堆積済の層に酸素、窒素、炭素のような付加的な元素に添加して該堆積済層を金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物またはこれらが混合した層に変成し、これにより普通は酸窒化物、酸炭化物、炭窒化物の層が形成され、表面に魅力的な装飾色を持った最終製品が得られる。上記の後続処理は、連続多段ロールプロセスにおいて被膜付きストリップに施すこともできるし、被膜付きストリップから作製した部品に施すこともできる。後者の場合、第２段階である熱処理などは個別プロセスとして行う。
【００３８】
本発明の被膜付きストリップ材料の形態の最終製品は、深絞り、打ち抜き、スタンピングなどの成形工程（図１、２を参照）を含むコスト効率良く生産性の高いプロセスで、前述の種々の用途に適した部品に直接作製可能でなくてはならない。
【００３９】
〔装飾表面仕上げの説明〕
色は、人間の視覚システム（human visual system:ＨＶＳ）が電磁波スペクトルの一部、概ね波長３００〜８３０ｎｍの範囲を測定する手段である。人間の視覚システムの特性のために、人間は可視スペクトルの全ての組合せを知覚することはできず、種々のスペクトルを色としてグループ化している。色空間は人間が色を特定する標記法であり、可視電磁波スペクトルの人間による区分である。
【００４０】
ＣＩＥは国際照明学会（International Commission on Illumination）のフランス語表記「Commission Internationale d'Eclairage」の略称であり、照明の科学および技術に関する全ての事柄について会員間の国際的な協力および情報交換に貢献する機構である。
【００４１】
ＣＩＥはＸＹＺ各値を三刺激値として標準化しており、これが平均的な人間が知覚できる全ての色を既述する。これらの初期値は非現実的なものであり、実際の色刺激では実現され得ない。この色空間は、全ての知覚可能な視覚刺激が正のＸＹＺ値で既述されるように選択されている。ＣＩＥ ＸＹＺ色空間の非常に重要な特徴は、装置独立であることである。
【００４２】
ＣＩＥ ＸＹＺからＣＩＥ Ｌａｂへの変換は下記の等式により行なわれる。
【００４３】
Ｌ*＝１１６（Ｙ／Ｙｎ）１／３−１６
ａ*＝５００〔（Ｘ／Ｘｎ）１／３−（Ｙ／Ｙｎ）１／３〕
ｂ*＝２００〔（Ｙ／Ｙｎ）１／３−（Ｚ／Ｚｎ）１／３〕
三刺激値Ｘｎ、Ｙｎ、Ｚｎは、正常な白色対象物の色刺激の値である。Ｌ*値は黒から白までの明るさであり、ａ*値は緑から赤まで、ｂ*値は青から黄色まで示す（図５を参照）。
【００４４】
２色間の知覚上の線形色差は下記のように定義される。
【００４５】
ΔＥ＝（（ΔＬ）２＋（Δａ）２＋（Δｂ）２）１／２
色はＬ*、ａ*、ｂ*の値で既述できる。
【００４６】
本発明の装飾被膜はパラメータＬ*、ａ*、ｂ*の色空間に適している。パラメータＬ*、ａ*、ｂ*は普通、０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、−９０＜ｂ*＜７０である。通常、青色は２０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、−８３＜ｂ*＜０である。通常、緑色は２０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜０、−８３＜ｂ*＜７０である。通常、赤色は２０＜Ｌ*＜９５、０＜ａ*＜６４、−４０＜ｂ*＜３５である。通常、金色は２０＜Ｌ*＜９５、−６６＜ａ*＜６４、０＜ｂ*＜７０である。通常、黒色は０＜Ｌ*＜５０、−２０＜ａ*＜２０、−２０＜ｂ*＜−２０である。通常、紫色は２０＜Ｌ*＜９５、２０＜ａ*＜６０、−２５＜ｂ*＜−６０である。
【００４７】
望ましくは、青色は２０＜Ｌ*＜５０、−１５＜ａ*＜５０、−７０＜ｂ*＜０である。望ましくは、緑色は６０＜Ｌ*＜９０、−６０＜ａ*＜−７、−８３＜ｂ*＜７０である。望ましくは、赤色は４０＜Ｌ*＜６０、２０＜ａ*＜４０、−１０＜ｂ*＜１０である。望ましくは、金色は６０＜Ｌ*＜９５、−１０＜ａ*＜２５、３０＜ｂ*＜５０である。望ましくは、黒色は０＜Ｌ*＜４０、−１０＜ａ*＜１０、−１０＜ｂ*＜１０である。望ましくは、紫色は２０＜Ｌ*＜５０、２０＜ａ*＜６０、−２５＜ｂ*＜−６０である。
【００４８】
本発明の方法は、色の一貫性に対する要請が強い場合に特に適している。
【００４９】
〔被覆対象とする基材の説明〕
基材は基本的な耐食性が良好であることが必要であり、望ましくはクロム含有量１２wt％以上、少なくとも１１wt％、最小でも１０wt％で、他の合金元素の組合せに依存する。また、成形性の良い状態で用いることが必要であり、Ａ５０として測定した軟化焼鈍状態での伸びが１％以上、通常は２％以上、望ましくは３％以上である。基材に適した合金は例えばＡＩＳＩ４００系のフェライトクロム鋼、ＡＩＳＩ３００系のオーステナイトステンレス鋼、焼入れ用クロム鋼、２相ステンレス鋼、または析出硬化ステンレス鋼であり、ＷＯ  ９３／０７３０３に開示されているような合金である。すなわち、普通は下記の基本組成（wt％）である。
【００５０】
●  フェライトステンレス鋼またはオーステナイトステンレス鋼または２相ステンレス鋼であって：０．００１〜０．７wt％Ｃ、１０〜２６wt％Ｃｒ、０．０１〜８wt％Ｍｎ、０．０１〜２wt％Ｓｉ、０．００１〜１６wt％Ｎｉ、６wt％以下Ｍｏ、０．００１〜０．５wt％Ｎ、１．５wt％以下Ａｌ、２wt％以下Ｃｕ、合計量１wt％以下のＮｂ＋Ｗ＋Ｖ、残部実質的にＦｅであるか、または、
●  焼入れ用クロム鋼であって：０．１〜１．５wt％Ｃ、１０〜１６wt％Ｃｒ、０．００１〜１wt％Ｎｉ、０．０１〜１．５wt％Ｍｎ、０．０１〜１．５wt％Ｓｉ、３wt％以下Ｍｏ、０．００１〜０．５wt％Ｎ、合計量１wt％以下のＮｂ＋Ｗ＋Ｖ、残部実質的にＦｅであるか、または、
●  析出硬化鋼であって：０．００１〜０．３wt％Ｃ、１０〜１６wt％Ｃｒ、４〜１２wt％Ｎｉ、０．１〜１．５wt％Ｔｉ、０．０１〜１．０wt％Ａｌ、０．０１〜６wt％Ｍｏ、０．００１〜４wt％Ｃｕ、０．００１〜０．３wt％Ｎ、０．０１〜１．５wt％Ｍｎ、０．０１〜１．５wt％Ｓｉ、合計量２wt％以下のＮｂ＋Ｗ＋Ｖ＋Ｔａ、残部実質的にＦｅである。
【００５１】
他のステンレス鋼、例えばＣｏ添加鋼、高Ｎｉ合金、Ｎｉ基合金も用いることができる。基材の状態は、所要機械特性に応じて種々の状態であって良く、軟化焼鈍状態、冷間圧延状態、焼入れ状態などであってよい。基材は軟化焼鈍状態の場合に引張強さ１４００ＭＰａ以下、望ましくは１０００ＭＰａ以下とし、それにより良好な成形性を確保する。基材は冷間圧延状態の場合に、引張強さ５００ＭＰａ以上、通常は７００ＭＰａ以上、望ましくは１０００ＭＰａ以上とし、焼入れ状態の場合に引張強さ１０００ＭＰａ以上、通常は１２００ＭＰａ以上とする。本発明の被覆を施す基材は上記のタイプのステンレス鋼製の製品であればよく、製品の形態はストリップ、バー、ワイヤ、チューブ、フォイル、ファイバー等々であってよく、望ましくはストリップまたはフォイルであり、良好な熱間加工性を有し、かつ、薄サイズまで冷間圧延も可能であるものとする。合金は、成形、深絞り、打ち抜き、スタンピングなどの工程を含む工場生産プロセスで直接に部品に作製できることが必要である。
【００５２】
ストリップ基材の厚さは、普通は０．０１５〜３．０ｍｍ、適切には０．０３〜２ｍｍである。望ましくは、厚さは０．０３〜１．５ｍｍ、更に望ましくは０．０３〜１ｍｍである。基材の幅は、被覆処理が予定されるスリット加工の前なのか後なのかによって変わる。また、基材の幅は、消費者関連用途で用いる部品の最終幅に更に処理するのに適した幅を選択することが望ましい。原則的には、基材の幅は１〜１５００ｍｍ、適切には１〜１０００ｍｍ、望ましくは１〜５００ｍｍ、更に望ましくは５〜５００ｍｍである。基材の長さは、適切には１０ｍ以上、通常は５０〜２００００ｍ、望ましくは１００〜２００００ｍｍである。一実施形態によれば、基材の長さは５００ｍ以上である。
【００５３】
〔被覆方法の説明〕
連続した均一な密着した層を形成できる限り、被覆媒体を施すために種々の物理的または化学的な蒸着法を用いることができる。堆積方法としては例えば、化学蒸着法（ＣＶＤ）、有機金属化学蒸着法（ＭＯＣＶＤ）、物理蒸着法（ＰＶＤ）があり、ＰＶＤとしては例えばスパッタリング法や、抵抗加熱、電子ビーム、誘導加熱、アーク抵抗加熱などによる蒸着法、更にレーザ堆積法などがあるが、本発明で用いる堆積法としては特に２つのＰＶＤ法、すなわち電子ビーム蒸着法（ＥＢ）またはスパッタリング法が適している。任意な形態として、ＥＢ蒸着においてプラズマ励起を行うことにより、緻密な装飾層から成る高品質の被膜を得ることができる。
【００５４】
本発明では前提として、被覆処理を多段ロール式ストリップ製造ラインに組み込み、ストリップ速度を３ｍ／ｍｉｎ以上として、高いコスト効率と生産性を確保し、同時に、最終製品の特性を劣化させないように基材への熱影響を最小限にして基材特性を維持する。この前提下で、多段ロールプロセスにて電子ビーム蒸着（ＥＢ）またはスパッタリングにより被膜層を堆積させる。多層被膜が必要な場合には、複数のＥＢ堆積チャンバまたはスパッタリングチャンバをインラインに配列することにより多層化できる。金属質被膜を堆積させるには、圧力１×１０−２ｍｂａｒの減圧下で、反応ガスを添加せずに、実質的に純金属の薄膜を維持する。金属酸化物を堆積させるには、減圧下のチャンバに反応ガスを酸素源として添加する。酸素分圧は１〜１００×１０−４ｍｂａｒの範囲内とする。上記以外のタイプの被膜、例えばＴｉＮ、ＴｉＣ、ＣｒＮのような金属炭化物や金属窒化物あるいはこれらの混合物の被膜を形成するには、被覆処理中に反応ガス分圧について条件を調節して、意図した化合物が生成できるようにする。酸素の場合、反応ガスとしてＨ２Ｏ、Ｏ２、Ｏ３などを用いてよいが、Ｏ２が望ましい。窒素の場合、反応ガスとしてＮ２、ＮＨ３、Ｎ２Ｈ４などを用いてよいが、Ｎ２が望ましい。炭素の場合、反応ガスとしてはどのような炭素含有ガスを用いてもよく、例えばＣＨ４、Ｃ２Ｈ２、Ｃ２Ｈ４などを用いてよい。これらの反応性ＥＢ蒸着法は、プラズマ励起を行なってもよい。
【００５５】
良好な密着性を確保するには、種々のタイプの清浄化処理を用いる。先ず、基材の表面に残留している油分は、被覆処理の効率を低下させる上、被膜層の密着性と品質を低下させるので、適切な方法で完全に除去する必要がある。また、通常は鋼の表面に非常に薄い自然酸化膜が存在するので、これも除去しなくてはならない。これは被膜を堆積させる前に表面の前処理を付加することによって実行できる。したがって、この多段ロール式製造ラインにおいては、製造プロセスの第１工程として金属ストリップ表面のイオンエッチングを行なって、最初の被覆層の良好な密着性を確保することが望ましい（図３を参照）。
【実施例】
【００５６】
以下に本発明の実施形態を６つの実施例により詳細に説明する。
【００５７】
先ず、通常の冶金製鋼法により、各実施例に示す化学組成の基材を作製した。次に、熱間圧延を行なって中間サイズまで圧下し、その後、多数回のパス間再結晶処理を含む従来法の冷間圧延を行なって最終厚さ３ｍｍ以下、最大幅４００ｍｍに仕上げた。次に、基材の表面を適切な方法で清浄化することにより圧延由来の残留油分を除去した。その後、連続処理ラインとしての被覆処理プロセスが、デコイリング設備から開始する。多段ロールプロセスの第１工程は真空チャンバ、または入口真空ロックと後続のエッチングチャンバとすることができ、このチャンバ内でイオンエッチングを行なってステンレス鋼基材表面にある薄い酸化層を除去する。その後、ストリップは電子ビーム（ＥＢ）蒸着チャンバ（単数または複数）またはスパッタリングチャンバ（単数または複数）内に進入し、このチャンバ内で堆積を行なう。通常は厚さ０．０１〜１０μｍの層を堆積させる。この厚さは被膜厚さとストリップ厚さとの比が７％以下となる厚さであり、用途に応じて望ましい厚さとする。後述する６つの実施例においては、特定の厚さの層を堆積させるのに１個の電子ビーム蒸着チャンバおよび／または１個のスパッタリングチャンバを用いる。
【００５８】
上述の多段ロールＰＶＤプロセスを図３〜４に図解した。図３においては、本発明の一実施形態として、堆積法は電子ビーム蒸着であり、製造ラインの第１部分はアンコイラ１３が真空チャンバ１４内に配設され、次いで、インラインイオンエッチングチャンバ１５、次に、一連のＥＢ蒸着チャンバ１６があり、ＥＢ蒸着チャンバの必要個数は１個〜１０個であり、望みの多層構造を形成するための個数である。全てのＥＢ蒸着チャンバ１６にＥＢガン１７と蒸着用の水冷銅坩堝１８とが装備されている。これらのチャンバの次に、出口真空チャンバ１９と被覆済ストリップ材料のためのリコイラ２０とが配設されており、リコイラは真空チャンバ１９内に配置されている。真空チャンバ１４および１９は、それぞれ入口真空ロックシステムおよび出口真空ロックシステムに置き換え可能である。後者の場合、アンコイラ１３およびリコイラ２０は大気中に配置される。ＥＢ蒸着後の被覆済ストリップ材料は出口真空チャンバまたは出口真空ロックシステムを通った後にリコイラに巻き取られる。図４においては、本発明の別の実施形態として、堆積法はスパッタリングであり、製造ラインの第１部分はアンコイラ２３が真空チャンバ２４内に配設され、次いで、インラインイオンエッチングチャンバ２５、次に、一連のスパッタリングチャンバ２１があり、スパッタリングチャンバの必要個数は１個〜１０個であり、望みの多層構造を形成するための個数である。全てのスパッタリングチャンバ２１に堆積用の２極マグネトロン(dual magnetron)２２が装備されている。これらのチャンバの次に、出口真空チャンバ２７と被覆済ストリップ材料のためのリコイラ２８とが配設されており、リコイラは真空チャンバ２７内に配置されている。真空チャンバ２４および２７は、それぞれ入口真空ロックシステムおよび出口真空ロックシステムに置き換え可能である。後者の場合、アンコイラ２３およびリコイラ２８は大気中に配置される。スパッタリング後の被覆済ストリップ材料は出口真空チャンバまたは出口真空ロックシステムを通った後にリコイラに巻き取られる。
【００５９】
本発明の更にもう一つの実施形態として、堆積法は電子ビーム蒸着チャンバ１６とスパッタリングチャンバ２１の両方を一連の堆積チャンバとして組み合せて図３、４に示したのと類似の製造プロセスを構成する。
【００６０】
被覆済ストリップ材料は、必要に応じて例えば焼鈍、圧延またはスリット加工を行なって、部品製造のための望ましい最終の寸法と状態にする。
【００６１】
６つの実施例で説明する最終製品は、各実施例に記載したように特定のストリップ厚さと薄い被覆層を有する被膜付きステンレス鋼ストリップ材料であり、被覆層の密着性が非常に高いので、消費者関連用途の部品を高いコスト効率と生産性で製造するために用いるのに適している。層の高い密着性は図１〜２に示した。基材であるステンレス鋼ストリップ１に薄い被覆層２を被覆して製造した本発明の被膜付きストリップ製品を、支持具４に載せた状態である。支持具４は、頂部が５×ｔ以下の半径５になっており、ｔはストリップの厚さ３である。この状態で曲げ試験を行なった。試験方法は、ストリップを半径５に沿って１８０°までの範囲で所定の曲げ角度まで曲げる方法であり、曲げ角度が１８０°の場合はストリップの両端が６で接触するまで曲げる。被膜の密着性を試験する曲げ試験の場合、基材の成形性を試験するのではなくて被膜の密着性を試験するためなので、曲げ試験時の基材は通常は軟化焼鈍状態である。したがって、被膜付きストリップ材料の試験における成形性の限界は被膜に関する限界であり、基材に関する限界ではない。この曲げ試験で曲げが完了したら、特に曲げ７の状態での層の品質、曲げ８の状態での基材の品質、層と基材との密着性について試験片を調べる。６つの実施例による各試験片を全て試験した結果を表１に示す。被膜付きストリップ試験片の形態の種々のサンプルを図１〜２の曲げ試験で曲げ角度９０°〜１８０°で試験した。試験後、全ての試験片を外観検査して、層のフレーキングや割れの徴候などを調べた。また、曲げ角度１８０°で試験した全ての試験片について、スコッチ粘着テープで密着性を調べ、テープに被膜層からフレーク（片）が転写されているかどうかを検査した。被膜付きストリップ材料は、上記のように試験した際に、５×ｔ以下、普通は３×ｔ以下、通常は２×ｔ以下、望ましくは１．５×ｔ以下、更に望ましくは１×ｔ以下の半径に対して層のフレーキングなどの徴候なしに用いることができることが必要である。表１に示したように、ここで説明する種々のサンプルはフレーキングなどの徴候が全く認められなかった。全ての曲げ試験サンプルは「受入可」にランク付けされて試験に合格した。
【００６２】
以下に、６つの実施例を個々の特徴について更に詳細に説明する。
【００６３】
〔実施例１〕
公称組成が０．０８wt％以下Ｃ、１wt％以下Ｓｉ、２wt％以下Ｍｎ、１８．０〜２０．０wt％Ｃｒ、８．０〜１０．０wt％Ｎｉ、残部実質的にＦｅであり、焼鈍状態の厚さ０．２８０ｍｍのＡＩＳＩ ３０４基材にストリップ速度約１０ｍ／ｍｉｎで電子ビーム蒸着により被覆処理して、基材上に直接約１μｍのＴｉＯを形成しブロンズ色を得た。ＴｉＯ層を有する被膜付き試験片は、曲げ試験およびスコッチテープ試験に合格した。表１中のサンプル１の曲げ試験結果、スコッチテープ試験、Ｌ*、ａ*、ｂ*の各実測色値を参照。
【００６４】
〔実施例２〕
公称組成が０．０８wt％以下Ｃ、１wt％以下Ｓｉ、２wt％以下Ｍｎ、１８．０〜２０．０wt％Ｃｒ、８．０〜１０．０wt％Ｎｉ、残部実質的にＦｅであり、冷間圧延状態の厚さ０．３１７ｍｍのＡＩＳＩ ３０４基材にストリップ速度最小３ｍ／ｍｉｎでスパッタリングによりＴｉＮ，ＴｉＡｌＮを数工程で被覆して多層構造を得た。この多層被膜材料は色が青、緑、紫になる。合計層厚さが、青色ストリップは４５ｎｍ、紫色ストリップは５０ｎｍ、緑色ストリップは１００ｎｍであった。色付き層を有する試験片は全て曲げ試験およびスコッチテープ試験に合格した。表１中のサンプル２〜４の曲げ試験結果、スコッチテープ試験、Ｌ*、ａ*、ｂ*の各実測色値を参照。
【００６５】
〔実施例３〕
公称組成が０．０８wt％以下Ｃ、１wt％以下Ｓｉ、２wt％以下Ｍｎ、１８．０〜２０．０wt％Ｃｒ、８．０〜１０．０Ｎｉ、残部実質的にＦｅであり、冷間圧延状態の厚さ０．３１７ｍｍのＡＩＳＩ ３０４基材にストリップ速度最小３ｍ／ｍｉｎでスパッタリングによりＴｉＡｌＮを被覆して黒色を得た。黒色層を有する被膜付き試験片は、曲げ試験およびスコッチテープ試験に合格した。表１中のサンプル５の曲げ試験結果、スコッチテープ試験、Ｌ*、ａ*、ｂ*の各実測色値を参照。
【００６６】
〔実施例４〕
公称組成が０．７wt％Ｃ、１３wt％Ｃｒ、０．４wt％Ｓｉ、０．７wt％Ｍｎ、残部実質的にＦｅであり、厚さ０．１３７ｍｍのサンドビック １３Ｃ２６基材にストリップ速度最小３ｍ／ｍｉｎでスパッタリングにより鋼表面に直接ＴｉＮを被覆した。被覆層は金色であった。次いで、Ｎ２／Ｈ２雰囲気中で１１００℃、１０ｓの熱処理を施した。これはこの鋼種の通常の焼入れ処理である。表１中のサンプル６〜７の曲げ試験結果、スコッチテープ試験、Ｌ*、ａ*、ｂ*の各実測色値を参照。金色試験片の熱処理前後の色差は実測値でΔＥ＝６．５であった。
【００６７】
〔実施例５〕
公称組成が０．７wt％Ｃ、１３wt％Ｃｒ、０．４wt％Ｓｉ、０．７wt％Ｍｎ、残部実質的にＦｅであり、厚さ０．１３７ｍｍのサンドビック １３Ｃ２６基材にストリップ速度約１０ｍ／ｍｉｎで電子ビーム蒸着により基材表面に直接、約０．１μｍの二酸化チタンを被覆して明るいターコイズカラーを得た。ＴｉＯ２層を有する試験片は、スコッチテープ試験に合格した。表１中のサンプル８の曲げ試験結果、スコッチテープ試験、Ｌ*、ａ*、ｂ*の各実測色値を参照。
【００６８】
〔実施例６〕
公称組成が０．７wt％Ｃ、１３wt％Ｃｒ、０．４wt％Ｓｉ、０．７wt％Ｍｎ、残部実質的にＦｅであり、厚さ０．１３７ｍｍのサンドビック １３Ｃ２６基材にストリップ速度最小３ｍ／ｍｉｎで電子ビーム蒸着により、予め被覆済のＴｉＮ上に直接、Ｃｒ２Ｏ３を被覆して黒色を得た。ＴｉＯ２層を有する試験片は、曲げ試験およびスコッチテープ試験に合格した。表１中のサンプル９の曲げ試験結果、スコッチテープ試験、Ｌ*、ａ*、ｂ*の各実測色値を参照。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の試験片の模式図であり、高い密着性の装飾層を備えた被膜付きステンレス鋼ストリップの試験片について、ストリップ厚さｔとして５×ｔ以下の半径での曲げ試験により密着性を試験する状態を示す。
【図２】本発明の試験片の模式図であり、高い密着性の薄い装飾層を備えた被膜付きステンレス鋼ストリップの試験片について、図１に示した曲げ試験により１８０°曲げた後の状態を示す。
【図３】本発明の被膜付き金属ストリップ材料を製造するための電子ビーム蒸着製造ラインの模式図である。
【図４】本発明の被膜付き金属ストリップ材料を製造するためのスパッタリング製造ラインの模式図である。
【図５】ＣＩＥlab座標Ｌ*、ａ*、ｂ*の図解であり、Ｌ*値は黒から白までの明るさ、ａ*値は緑から赤までの色、ｂ*値は青から黄色までの色をそれぞれ示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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