Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技の進行に合わせて装飾態様を変化させることが可能な装飾装置を備えた遊技機に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
遊技機には、遊技領域を有する遊技盤の周囲にＬＥＤ等の装飾ランプやスピーカ等が設けられ、遊技盤の中央に電飾ランプやモータで駆動する可動役物、液晶表示装置等を備えるセンターケースが設けられていることが多い（特許文献１参照）。また、この種の遊技機の中には、これらの電飾ランプや可動役物等を遊技の進行に応じて駆動させることにより、変動表示ゲームで特別結果態様が導出されることに対する遊技者の期待感を高めるための演出を行うようにしたものがある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−５０４７４号公報
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
昨今の社会的な節電機運の高まりにより、遊技機における消費電力が問題視されるようになってきた。遊技店においても低消費電力化への関心は高まっており、遊技機における消費電力の低減が望まれている。
本発明は、上記の課題に鑑みなされたもので、消費電力を低減することが可能な遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明は、
遊技の進行に合わせて装飾態様を変化させることが可能な装飾装置を備えた遊技機において、
所定の節電開始条件が成立したことに対応して、前記装飾装置の装飾態様が所定の節電装飾態様となる節電状態を発生させることが可能な節電制御手段を備え、
前記節電制御手段は、前記所定の節電開始条件が成立してから所定期間が経過した場合に前記節電状態を発生させるようにしたことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、消費電力を低減することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０５８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０５８１】
次に、遊技機１０の節電機能のオン／オフ動作の流れについて説明する。
本実施形態の遊技機１０は、例えば、遊技場管理装置Ｈに接続され、スピーカ１９ａ，１９ｂの音量レベルが「４」に設定された状態では、図１２０に示すように動作する。具体的には、遊技場管理装置Ｈに所定の操作がなされると、遊技場管理装置Ｈが遊技機１０へ出力している節電制御信号がハイに変化し、節電機能をオンにすることが可能（節電機能が有効）な状態となる（ｔ１）。なお、節電制御信号の状態（ハイ／ロウ）によって節電機能の有効期間を決めるのではなく、所定の開始コマンドが送信されてから終了コマンドが送信されるまでの間を有効期間としてもよい。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０５８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０５８６】
ところで、遊技制御装置１００または遊技制御装置１００が管理する装置においてエラー状態が発生した場合は、遊技機１０は図１２１に示すように動作する。具体的には、エラー状態が発生すると、遊技制御装置１００から演出制御装置３００へエラー報知コマンドが送信される（ｔ１４）。そして、音源ＬＳＩ３１４からアンプ回路３３７ａ，３３７ｂにエラー報知音の出力を指示するコマンドが送信され（ｔ１５）、スピーカ１９ａ，１９ｂからは音量レベル「５」でエラー報知音が出力されるようになる（ｔ１６）。
発生していたエラー状態が収まると（ｔ１７）、その後も節電機能がオフとなった状態が第３所定時間（Ｔｅｒｒｏｒ）継続する。この第３所定時間経過後に節電機能がオンになり（ｔ１８）、スピーカ１９ａ，１９ｂは音声を出力しなくなる（ｔ１９）。
このように、エラー状態が収まってから装飾装置の装飾態様をエラー非報知態様に戻すまでにある程度の時間を置くと、エラー状態が収まった直後にエラー状態が再び発生して、装飾装置の装飾態様が頻繁に変更されるのを防止することができる。なお、ここでは、第３所定時間の長さについて特に規定しなかったが、第２所定時間と同様に、第３所定時間（Ｔｅｒｒｏｒ）を、第１所定時間（Ｔｗａｉｔ１）よりも短くするようにしても良い。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技の進行に合わせて装飾態様を変化させることが可能な装飾装置を備えた遊技機において、
所定の節電開始条件が成立したことに対応して、前記装飾装置の装飾態様が所定の節電装飾態様となる節電状態を発生させることが可能な節電制御手段を備え、
前記節電制御手段は、前記所定の節電開始条件が成立してから所定期間が経過した場合に前記節電状態を発生させるようにしたことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月25日(2016.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
特許文献1では、これを解決するために圧迫力を設定するボリュームを設け、都度設定可能とする構成が開示されている。しかしながら、再度同一人物を検査する場合に、またその設定を行う必要があった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
圧迫状態検出手段２０２は圧迫筒支持腕部４０２に設けた力検出手段２０３のひずみセンサ２０４、２０５と、その出力を受けた圧迫状態分類手段２０７とで、圧迫力と圧迫状態を検出する。なお、図３Ｂの概略フローにおいては、被検体別の個別の制限値との比較のみ行う場合を図示したものであり、このフローは、圧迫力設定情報登録時に個別の制限値が規格値より低く設定されているとの前提で用いられる他、図３Ａと同様の動作フローである。すなわち、図３Ａの規格値、例えば、ＪＩＳなどの規格によって定められた基準値との比較（３０３）、規格値で設定した圧迫力を超えないように制限（３０４）する操作が省略された以外は、図３Ａの動作フローと同一であるので、数番の図示を含め、ここでは詳細な説明を省略する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2014239818.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧迫装置を有するＸ線透視撮影部と、前記Ｘ線透視撮影部に電圧を供給する電圧発生部と、前記Ｘ線透視撮影部からの出力を処理する画像処理部と、入出力部とを備え、
前記Ｘ線透視撮影部は前記圧迫装置を制御する制御部を有し、
前記制御部は、
被検者毎に管理された圧迫力設定情報に基づき、前記圧迫装置の圧迫力を設定し、
前記圧迫装置の圧迫状態を検出した検出信号に基づき、前記圧迫装置の圧迫力を前記圧迫力設定情報に含まれる圧迫力設定値以下に制限する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記制御部は、
前記検出信号を用いて、意図された圧迫方法・圧迫力で圧迫しているか否かを判定する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項３】
請求項１に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記入出力部として、前記圧迫装置を操作する操作レバーを備え、
前記操作レバーを操作することにより、前記圧迫装置の圧迫筒を操作可能である、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項４】
請求項３に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記操作レバーは、圧迫操作レバーとしごき操作レバーを含み、
前記圧迫操作レバーおよびしごき操作レバーにはそれぞれ複数のひずみセンサが設置されており、
前記制御部は、前記複数のひずみセンサの出力を、前記検出信号として制御する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項５】
請求項１に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記入出力部として、前記画像処理部が出力する撮影画像を表示可能な表示部を備え、
前記表示部は、前記圧迫力設定値と前記検出信号に基づき算出される圧迫力を表示する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項６】
請求項５に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記表示部は、被検者毎に管理された前記圧迫力設置値に加え、圧迫力規格値を表示可能である、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項７】
請求項２に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記入出力部として、前記圧迫装置を操作する圧迫操作レバーとしごき操作レバーを備え、
前記圧迫操作レバーと前記しごき操作レバーを操作することにより、前記圧迫装置の圧迫筒を操作可能であり、
前記圧迫操作レバーおよびしごき操作レバーにはそれぞれ複数のひずみセンサが設置されており、
前記制御部は、前記複数のひずみセンサの出力を前記検出信号として制御する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項８】
請求項７に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記制御部は、前記複数のひずみセンサの出力を前記検出信号として、意図された圧迫方法・圧迫力で圧迫しているか否かを判定する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項９】
請求項８に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記入出力部として、前記画像処理部が出力する撮影画像を表示可能な表示部を備え、
前記表示部は、前記圧迫力設定値と、前記検出信号に基づき算出される圧迫力を表示する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のＸ線透視撮影装置であって、
前記表示部は、前記制御部が前記複数のひずみセンサの出力を前記検出信号として、意図された圧迫方法・圧迫力で圧迫しているか否かを判定した結果を表示する、
ことを特徴とするＸ線透視撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月6日(2016.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの音声信号を、周波数毎または周波数帯域毎の相関信号に分離する分離部と、
該分離部で分離された各相関信号について、音像方向及び信号電力値を算出する算出部と、
各相関信号について前記音像方向に基づき予め定められた複数の音像方向グループに割り当てられた前記信号電力値に応じて、前記複数の音像方向グループのそれぞれに対応する表示を行う音像表示部と、
を備えたことを特徴とする音声信号再生装置。
【請求項２】
前記音像表示部は、棒グラフ形式で表示することを特徴とする請求項１に記載の音声信号再生装置。
【請求項３】
前記音像表示部は、複数の発光部を有し、前記割り当てられた信号電力値に応じて前記発光部の発光色を変化させることを特徴とする請求項１または２に記載の音声信号再生装置。
【請求項４】
前記音像表示部は、複数の発光部を有し、前記割り当てられた信号電力値に応じて前記発光部の発光強度を変化させることを特徴とする請求項１または２に記載の音声信号再生装置。
【請求項５】
分離部が、２つの音声信号を、周波数毎または周波数帯域毎の相関信号に分離する分離ステップと、
算出部が、前記分離ステップで分離された各相関信号について、音像方向及び信号電力値を算出する算出ステップと、
音像表示部が、各相関信号について前記音像方向に基づき予め定められた複数の音像方向グループに割り当てられた前記信号電力値に応じて、前記複数の音像方向グループのそれぞれに対応する表示を行う音像表示ステップと、
を含む事を特徴とする音声信号再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月27日(2016.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記セル滞在検出部は、
前記ユーザ装置が前記第１セルから前記第２セルへの滞在を開始することを検出した場合、現在時刻を前記第２セルの暫定滞在開始時刻として前記バタツキ判定部に供給し、
前記バタツキ判定部は、
前記バタツキ状態が生じていると判定した場合、前記バタツキ状態に関与する前記第２セルを含む複数セルに対して１つの見做しセル識別子を付与し、前記見做しセル識別子を有する滞在情報要素を前記滞在情報記憶部に記憶し、前記滞在情報記憶部に記憶される複数の前記滞在情報要素のうち前記見做しセル識別子に対応する最新の滞在に相当する滞在情報要素が示す滞在開始時刻を真の滞在開始時刻として設定し、前記見做しセル識別子および前記真の滞在開始時刻を前記算定部に供給する一方で、
前記バタツキ状態が生じていないと判定した場合、前記暫定滞在開始時刻を真の滞在開始時刻として設定し、前記第２セルのセル識別子および前記真の滞在開始時刻を前記算定部に供給し、
前記算定部は、
前記バタツキ判定部から供給された前記見做しセル識別子または前記第２セルの前記セル識別子に対応する１以上の滞在情報要素が示す１以上の滞在開始時刻に前記真の滞在開始時刻が含まれない場合に、当該真の滞在開始時刻および前記供給された見做しセル識別子または前記第２セルのセル識別子を含む新たな滞在情報要素を前記滞在情報記憶部に書き込む一方で、前記供給された見做しセル識別子または前記第２セルのセル識別子に対応する１以上の滞在情報要素が示す１以上の滞在開始時刻に前記真の滞在開始時刻が含まれる場合に、新たな滞在情報要素を前記滞在情報記憶部に書き込まず、
その後、前記セル滞在検出部は、
前記ユーザ装置が前記第２セルから他セルへの滞在を開始することを検出した場合、現在時刻を前記第２セルの滞在終了時刻として取得して前記算定部に供給し、
前記算定部は、
前記第２セルに対応する前記見做しセル識別子に対応する滞在情報要素のうち最新の滞在に相当する滞在情報要素が示す滞在開始時刻を取得し、前記滞在開始時刻と前記滞在終了時刻との差分を前記第２セルへの滞在時間長として算定する
請求項２の無線通信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の好適な態様において、前記セル滞在検出部は、前記ユーザ装置が前記第１セルから前記第２セルへの滞在を開始することを検出した場合、現在時刻を前記第２セルの暫定滞在開始時刻として前記バタツキ判定部に供給し、前記バタツキ判定部は、前記バタツキ状態が生じていると判定した場合、前記バタツキ状態に関与する前記第２セルを含む複数セルに対して１つの見做しセル識別子を付与し、前記見做しセル識別子を有する滞在情報要素を前記滞在情報記憶部に記憶し、前記滞在情報記憶部に記憶される複数の前記滞在情報要素のうち前記見做しセル識別子に対応する最新の滞在に相当する滞在情報要素が示す滞在開始時刻を真の滞在開始時刻として設定し、前記見做しセル識別子および前記真の滞在開始時刻を前記算定部に供給する一方で、前記バタツキ状態が生じていないと判定した場合、前記暫定滞在開始時刻を真の滞在開始時刻として設定し、前記第２セルのセル識別子および前記真の滞在開始時刻を前記算定部に供給し、前記算定部は、前記バタツキ判定部から供給された前記見做しセル識別子または前記第２セルの前記セル識別子に対応する１以上の滞在情報要素が示す１以上の滞在開始時刻に前記真の滞在開始時刻が含まれない場合に、当該真の滞在開始時刻および前記供給された見做しセル識別子または前記第２セルのセル識別子を含む新たな滞在情報要素を前記滞在情報記憶部に書き込む一方で、前記供給された見做しセル識別子または前記第２セルのセル識別子に対応する１以上の滞在情報要素が示す１以上の滞在開始時刻に前記真の滞在開始時刻が含まれる場合に、新たな滞在情報要素を前記滞在情報記憶部に書き込まず、その後、前記セル滞在検出部は、前記ユーザ装置が前記第２セルから他セルへの滞在を開始することを検出した場合、現在時刻を前記第２セルの滞在終了時刻として取得して前記算定部に供給し、前記算定部は、前記第２セルに対応する前記見做しセル識別子に対応する滞在情報要素のうち最新の滞在に相当する滞在情報要素が示す滞在開始時刻を取得し、前記滞在開始時刻と前記滞在終了時刻との差分を前記第２セルへの滞在時間長として算定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
以上のように、滞在セルの変更時に、元セルの滞在終了処理（S200）および新セルの滞在開始処理（S300）が実行される。他方、１つのセルＣ（Ｃａ）について見ると、図８に示すように、滞在開始処理（S300）の後、新たな滞在セルの変更に伴う滞在終了処理（S200）が実行されることにより、一連の処理が完結する。そこで、以下では、セルＣａについて、滞在開始処理を先に説明した後に滞在終了処理が説明される。また、以下では、図５で説明した時系列を援用して、時刻ｔ＝２５のセルＣａへの滞在開始および時刻ｔ＝５０のセルＣａへの滞在終了における動作が説明される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
なお、バタツキ判定フラグが偽（FALSE）を示す場合（S231；NO）、算定部１２６は、新たな滞在情報要素ＳＥ４が示す滞在開始時刻と、ステップS210で取得された滞在終了時刻との差分を、セルＣａへの滞在時間長（Ｌ＝３５）として算定する（S251）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
そして、算定部１２６は、ステップS210で取得された滞在終了時刻と、ステップS241またはS251で算定された滞在時間長とを、新たな滞在情報要素ＳＥ４に書き込む（S261）。本例（バタツキ判定フラグが真である場合）における書き込み後の滞在情報ＳＩを図２０に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月4日(2016.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱を電気に変換する熱電変換部と、
前記熱電変換部を囲う絶縁体と、
を備え、
前記熱電変換部の内部に、熱膨張緩和層を有する、熱電変換素子。
【請求項２】
前記熱膨張緩和層は、空間を形成する内壁と、前記内壁の少なくとも一部に形成された内壁層と、を備え、
前記内壁層は、前記熱電変換部を構成する材料より延性が大きい材料で形成された、請求項１に記載の熱電変換素子。
【請求項３】
前記内壁層は、前記内壁の端部に形成された、請求項２に記載の熱電変換素子。
【請求項４】
前記内壁層は、前記熱電変換部を構成する材料の成分から形成された純金属相を母相として有する、請求項２又は３に記載の熱電変換素子。
【請求項５】
前記内壁層は、前記熱電変換部を構成する材料の成分から形成された固溶体相を母相として有する、請求項２又は３に記載の熱電変換素子。
【請求項６】
前記熱電変換部は、前記絶縁体より大きい熱膨張率を有する材料で形成された、請求項１〜５のいずれか一項に記載の熱電変換素子。
【請求項７】
前記熱膨張緩和層は、前記熱電変換部を流れる電流の方向に向かって延在する、隙間状の細長い層である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の熱電変換素子。
【請求項８】
前記熱膨張緩和層の延在方向と前記熱電変換部を流れる前記電流の方向とで成す角度が±３０°以内の範囲である、請求項７に記載の熱電変換素子。
【請求項９】
前記熱電変換部は、Ｂｉ−Ｔｅ系材料を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の熱電変換素子。
【請求項１０】
前記熱電変換部は、Ｂｉ−Ｔｅ系材料を含み、
前記内壁層は、Ｔｅを主成分とする相を母相として含む、請求項２に記載の熱電変換素子。
【請求項１１】
前記内壁層に含まれるＴｅ濃度は、９０ｗｔ％以上である、請求項１０に記載の熱電変換素子。
【請求項１２】
熱を電気に変換する熱電変換部と、前記熱電変換部を囲う絶縁体とを有し、前記熱電変換部の内部に熱膨張緩和層を含む、複数の熱電変換素子と、
前記複数の熱電変換素子をそれぞれ電気的に接続する複数の電極と、
前記複数の熱電変換素子と前記複数の電極を挟むように対向して配置される第１の基板及び第２の基板と、
を備えた、熱電変換モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月25日(2015.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面との間を貫通する開口部を有するコア部と、
前記コア部の第１面に形成された第１配線層と、
前記コア部の第２面に形成された第２配線層と、
前記開口部内に配置された電子部品と、
前記電子部品の側面の一部を被覆するように前記開口部内を充填するとともに、前記コア部の第２面を被覆する第１絶縁層と、
前記コア部の第２面上に積層された前記第１絶縁層を被覆する第２絶縁層と、
前記コア部の第１面を被覆するとともに、前記コア部の第１面より前記第２面とは反対側の第１方向に向かって突出され前記第１絶縁層から露出された前記電子部品を被覆する第３絶縁層と、
前記第３絶縁層上に形成され、前記第３絶縁層を貫通する第１ビア配線を介して前記電子部品と電気的に接続される第３配線層と、
前記第２絶縁層上に形成され、前記第２絶縁層と前記第１絶縁層とを貫通する第２ビア配線を介して前記第２配線層と電気的に接続される第４配線層と、を有し、
前記第１配線層上に形成された前記第３絶縁層の厚さと、前記第２配線層上に形成された前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層の厚さとが等しくなるように設定されていることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記第３絶縁層は、
前記コア部の第１面を被覆し、前記第１絶縁層から露出された前記電子部品の少なくとも一部を被覆する第４絶縁層と、
前記第４絶縁層を被覆する第５絶縁層と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記第４絶縁層は、前記第１絶縁層よりも前記コア部に対する粘着力が強いことを特徴とする請求項２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記第１絶縁層から露出された前記電子部品の表面の表面粗度は、前記第１絶縁層に被覆された前記電子部品の表面の表面粗度よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項５】
前記電子部品は、前記第１配線層よりも前記第１方向に向かって突出されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の配線基板。
【請求項６】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有し、前記第１面に形成された第１配線層と前記第２面に形成された第２配線層とを有するコア部に、前記第１面と前記第２面との間を貫通する開口部を形成する工程と、
前記開口部を覆う粘着剤とテープ基材とを含むテープを前記コア部の第１面に貼着する工程と、
前記開口部に露出された前記テープの粘着剤に電子部品の一部を埋設する工程と、
前記開口部内に配置された前記電子部品を被覆するように前記開口部を充填するとともに、前記コア部の第２面を被覆する第１絶縁層を形成する工程と、
前記テープを剥離する工程と、
前記コア部の第２面側に形成された前記第１絶縁層を被覆する第２絶縁層を形成するとともに、前記コア部の第１面を被覆するとともに、前記コア部の第１面より前記第２面とは反対側の第１方向に向かって突出され前記第１絶縁層から露出された前記電子部品を被覆する第３絶縁層を形成する工程と、
前記第３絶縁層を貫通して前記電子部品の一部を露出する第１貫通孔を形成するとともに、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層を貫通して前記第２配線層を露出する第２貫通孔を形成する工程と、
前記第１貫通孔に第１ビア配線を形成し、前記第３絶縁層上に前記第１ビア配線を介して前記電子部品と電気的に接続される第３配線層を形成するとともに、前記第２貫通孔に第２ビア配線を形成し、前記第２絶縁層上に前記第２ビア配線を介して前記第２配線層と電気的に接続される第４配線層を形成する工程と、を有し、
前記第１配線層上に形成された前記第３絶縁層の厚さと、前記第２配線層上に形成された前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層の厚さとが等しくなるように設定されていることを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項７】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有し、前記第１面に形成された第１配線層と前記第２面に形成された第２配線層とを有するコア部に、前記第１面と前記第２面との間を貫通する開口部を形成する工程と、
前記開口部を覆う粘着剤とテープ基材とを含むテープを前記コア部の第１面に貼着する工程と、
前記開口部に露出された前記テープの粘着剤に電子部品の一部を埋設する工程と、
前記開口部内に配置された前記電子部品を被覆するように前記開口部を充填するとともに、前記コア部の第２面を被覆する第１絶縁層を形成する工程と、
前記テープのうちテープ基材のみを剥離する工程と、
前記コア部の第２面側に形成された前記第１絶縁層を被覆する第２絶縁層を形成するとともに、前記粘着剤を被覆するとともに、前記粘着剤から露出された前記電子部品を被覆する第５絶縁層を形成する工程と、
前記粘着剤及び前記第５絶縁層を貫通して前記電子部品の一部を露出する第１貫通孔を形成するとともに、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層を貫通して前記第２配線層を露出する第２貫通孔を形成する工程と、
前記第１貫通孔に第１ビア配線を形成し、前記第５絶縁層上に前記第１ビア配線を介して前記電子部品と電気的に接続される第３配線層を形成するとともに、前記第２貫通孔に第２ビア配線を形成し、前記第２絶縁層上に前記第２ビア配線を介して前記第２配線層と電気的に接続される第４配線層を形成する工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１配線層上に形成された前記粘着剤及び前記第５絶縁層の厚さと、前記第２配線層上に形成された前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層の厚さとが等しくなるように設定されていることを特徴とする請求項７に記載の配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記電子部品を前記粘着剤に埋設する工程では、
前記電子部品の接続端子が前記テープ基材に接触するまで前記電子部品を前記粘着剤に埋設することを特徴とする請求項６〜８のいずれか１つに記載の配線基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月6日(2016.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、
第１の電極を含む第１の面と、第２の電極を含み前記支持基板及び前記第１の面の間に配置された第２の面とを有し、半導体からなる発光層と、
前記支持基板と前記第２の面との間に配置され、前記発光層を前記支持基板に接合する接合層と、
前記第１の面上に形成された第１の無機膜と、
前記接合層と前記第２の面との間に形成された第２の無機膜と、
前記第１の無機膜から前記支持基板に達する深さで形成され素子間を分離する分離溝部と、
前記第１の無機膜と前記第２の無機膜との間を接続する第３の無機膜と
を具備する発光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の発光素子であって、
前記第１の無機膜は、前記第１の面と平行に形成され前記分離溝部に突出する第１の端部を含み、
前記第３の無機膜は、前記第１の端部に倣って前記分離溝部に突出する第２の端部を含む
発光素子。
【請求項３】
請求項２に記載の発光素子であって、
前記第２の無機膜と前記第３の無機膜とは、
前記発光層に隣接して形成される第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層の上に形成される金属層と、
前記金属層上に形成される第２の絶縁層とを有し、連続して形成される
発光素子。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の発光素子であって、
前記発光層は、前記第１の面に形成された第１の凹凸部を有し、
前記第１の無機膜は、前記第１の凹凸部に倣って形成された第２の凹凸部を有する
発光素子。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の発光素子であって、
前記発光層は、赤色光を発する
発光素子。
【請求項６】
請求項５に記載の発光素子であって、
前記半導体は、ＡｓＰ系化合物半導体、ＡｌＧａＩｎＰ系化合物半導体及びＧａＡｓ系化合物半導体のうちの少なくともいずれか１つの材料を含む
発光素子。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の発光素子であって、
前記第１の無機膜は、透明導電性材料で形成された前記第１の電極である
発光素子。
【請求項８】
第１の電極を有する第１の面と、第２の電極を有し前記第１の面の反対側の第２の面と、前記第１の面と前記第２の面とを連接する周面とを有し、半導体からなる発光層と、
前記第１の面上に形成された第１の無機膜と、
前記第２の面上に形成された第２の無機膜と、
前記周面を被覆して形成され前記第１の無機膜と前記第２の無機膜との間を接続する第３の無機膜と
を具備する発光素子。
【請求項９】
駆動回路が形成された基板と、
前記駆動回路に接続される第１の電極を有する第１の面と、前記駆動回路に接続される第２の電極を有し前記基板及び前記第１の面の間に配置された第２の面と、前記第１の面と前記第２の面とを連接する周面とを有し、半導体からなる発光層と、
前記第１の面上に形成された第１の無機膜と、
前記接合層と前記第２の面との間に形成された第２の無機膜と、
前記周面を被覆して形成され前記第１の無機膜と前記第２の無機膜との間を接続する第３の無機膜と
を有し、前記基板上に配置された少なくとも１つの第１の半導体発光素子と
を具備する電子機器。
【請求項１０】
請求項８に記載の電子機器であって、
前記第１の半導体発光素子は、赤色光を発する複数の第１の半導体発光素子を有し、
前記電子機器は、
青色光を発する複数の第２の半導体発光素子と、
緑色光を発する複数の第３の半導体発光素子とをさらに具備し、
前記複数の第１、第２及び第３の半導体発光素子が前記基板上に配列される
電子機器。
【請求項１１】
第１の基板上に半導体の積層構造からなる発光層を形成し、
前記発光層の第１の面上に第１の無機膜を形成し、
前記第１の基板を除去して前記第１の面の反対側の前記発光層の第２の面を露出し、
前記第１の無機膜をエッチングストップ層として前記第２の面から前記発光層をエッチングして、前記発光層を素子毎に分離する第１の分離溝を形成し、
前記第１の分離溝の壁面及び底面と前記第２の面とを被覆する第２の無機膜を形成する
発光素子の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の発光素子の製造方法であって、
前記第１の分離溝を形成する工程は、ドライエッチング法により前記発光層をエッチングする
発光素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の発光素子の製造方法であって、
前記第１の分離溝を形成する工程は、前記発光層の前記素子毎の断面積が前記第２の面から前記第１の面に向かって次第に大きくなるように形成する
発光素子の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれか１つに記載の発光素子の製造方法であって、
前記第２の無機膜を形成する工程は、
前記第１の分離溝の壁面及び底面と前記第２の面との上に前記第１の絶縁層を形成する工程と、
前記第１の絶縁層の上に金属層を形成する工程と、
前記金属層の上に第２の絶縁層を形成する工程とを含む
発光素子の製造方法。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のいずれか１つに記載の発光素子の製造方法であって、さらに
前記発光層を形成する工程の後、前記第１の無機膜を形成する工程の前に、前記第１の面に第１の凹凸構造を形成する工程を含む
発光素子の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の発光素子の製造方法であって、
前記第１の無機膜を形成する工程は、前記第１の凹凸構造に倣って前記第２の凹凸構造を形成する工程を含む
発光素子の製造方法。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれか１つに記載の発光素子の製造方法であって、さらに
前記第１の無機膜を形成する工程の後、前記第２の面を露出する工程の前に、第２の基板を前記第１の無機膜上に仮接合層を介して分離自在に接合する工程を含む
発光素子の製造方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の発光素子の製造方法であって、さらに
前記第２の面を露出する工程の後、前記第１の分離溝を形成する工程の前に、前記第２の面上に前記素子毎に電極を形成する工程を含み、
前記第２の無機膜を形成する工程の後、前記第２の無機膜の一部を除去して前記電極を露出する工程と、
前記第２の面上に前記電極各々と電気的に接続する外部接続端子を形成する工程と、
前記外部接続端子上に接合層を介して第３の基板を分離自在に接合する工程とを含む
発光素子の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の発光素子の製造方法であって、
前記第３の基板を接合する工程の後、さらに
前記第２の基板を除去し前記第１の無機膜を露出する工程と、
前記第１の分離溝の前記底面に残存した前記第１の無機膜をエッチングして、前記第１の無機膜を前記素子毎に分離する第２の分離溝を形成する工程とを含む
発光素子の製造方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の発光素子の製造方法であって、
前記第２の分離溝を形成する工程の後、さらに
前記第１の無機膜と対向して配置された転写用基板を用意し、
前記第３の基板側から前記接合層をレーザアブレーションにより前記外部接続端子と前記第３の基板とを分離し、前記素子各々を前記転写用基板に移載する工程を含む
発光素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子、電子機器及び発光素子の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月18日(2015.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
複数の表示画面を用いて効果的な演出を行うことが望まれる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
それ故、本発明の目的は、複数の表示画面を用いて効果的な演出を行うことである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の構成を採用した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る遊技機は、遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かを判定し、当該判定結果に応じて特別遊技を実行する遊技機であって、演出画像を表示する第１の表示画面と、第１の表示画面の前側において第１の表示画面の一端側に配置される、第２の表示画面と、第１の表示画面の前側において、第１の表示画面を基準とした第２の表示画面の反対側となる他端側に第２の表示画面から離れて配置される、第３の表示画面とを備え、第２の表示画面および第３の表示画面は、第１の表示画面の一端側および他端側において離れて配置される第１状態から互いに近づいた第２状態となるように動作することが可能であり、かつ、当該第２状態から互いに離れるように動作することが可能であり、第２の表示画面および第３の表示画面が第２状態から離れる動作に伴って、当該第２状態となる前に表示されていた演出画像とは異なる演出画像を第１の表示画面に表示可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明によれば、複数の表示画面を用いた効果的な演出を行うことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かを判定し、当該判定結果に応じて特別遊技を実行する遊技機であって、
演出画像を表示する第１の表示画面と、
前記第１の表示画面の前側において前記第１の表示画面の一端側に配置される、第２の表示画面と、
前記第１の表示画面の前側において、前記第１の表示画面を基準とした前記第２の表示画面の反対側となる他端側に前記第２の表示画面から離れて配置される、第３の表示画面とを備え、
前記第２の表示画面および前記第３の表示画面は、前記第１の表示画面の前記一端側および他端側において離れて配置される第１状態から互いに近づいた第２状態となるように動作することが可能であり、かつ、当該第２状態から互いに離れるように動作することが可能であり、
前記第２の表示画面および前記第３の表示画面が前記第２状態から離れる動作に伴って、当該第２状態となる前に表示されていた演出画像とは異なる演出画像を前記第１の表示画面に表示可能である、遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月10日(2015.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の端部及び第２の端部を有するシャフト高圧セクションと、
シャフト高圧セクションの第２の端部に結合したシャフト中圧セクションと
を含むセクション型ロータであって、
シャフト高圧セクションが、第１の高圧セクションと、第１の溶接部で第１の高圧セクションに結合した第２の高圧セクションと、第２の溶接部で第２の高圧セクションに結合した第３の高圧セクションとを含んでいて、
シャフト中圧セクションが、第１の中圧セクションと、第１の中圧セクションに結合した第２の中圧セクションとを含んでおり、
第２の高圧セクションの少なくとも一部分が、０．１〜１．２重量％のＭｎ、１．５重量％以下のＮｉ、８．０〜１５．０重量％のＣｒ、４．０重量％以下のＣｏ、０．５〜３．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、０．０２〜０．５重量％のＮｂ、０．００５〜０．１５重量％のＮ、０．０４重量％以下のＢ、３．０重量％以下のＷ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる高クロム合金鋼からなり、第１の溶接部が主蒸気流路に沿っており、シャフト中圧セクションがボルト締めによってシャフト高圧セクションの第３の高圧セクションに結合しており、第３の高圧セクションが低合金鋼からなる、ロータ。
【請求項２】
高クロム合金鋼が、０．１〜１．２重量％のＭｎ、０．０５〜１．００重量％のＮｉ、７．０〜１１．０重量％のＣｒ、０．５〜４．０重量％のＣｏ、０．５〜３．０重量％のＭｏ、０．１〜１．０重量％のＶ、０．０２〜０．５重量％のＮｂ、０．００５〜０．０６重量％のＮ、０．００２〜０．０４重量％のＢ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる、請求項１記載のロータ。
【請求項３】
高クロム合金鋼が、０．２〜１．２重量％のＭｎ、０．２〜１．５重量％のＮｉ、８．０〜１５．０重量％のＣｒ、０．５〜３．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、０．０２〜０．５重量％のＮｂ、０．０２〜０．１５重量％のＮ、０．２〜３．０重量％のＷ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる、請求項１記載のロータ。
【請求項４】
第１及び第３の高圧セクションが、０．０５〜１．５重量％のＭｎ、０．１〜３．０重量％のＮｉ、０．０５〜５．０重量％のＣｒ、０．２〜４．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、３．０重量％以下のＷ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる低合金鋼で形成されている、請求項１記載のロータ。
【請求項５】
第１及び第３の高圧セクションが、０．３〜１．２重量％のＭｎ、０．１〜１．５重量％のＮｉ、０．５〜３．０重量％のＣｒ、０．４〜３．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる低合金鋼で形成されている、請求項１記載のロータ。
【請求項６】
第１及び第３の高圧セクションが、０．２〜１．５重量％のＭｎ、０．２〜１．６重量％のＮｉ、１．０〜３．０重量％のＣｒ、０．２〜２．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、０．２〜３．０重量％のＷ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる低合金鋼で形成されている、請求項１記載のロータ。
【請求項７】
第１の中圧セクションが、０．１〜１．２重量％のＭｎ、１．５重量％以下のＮｉ、８．０〜１５．０重量％のＣｒ、４．０重量％以下のＣｏ、０．５〜３．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、０．０２〜０．５重量％のＮｂ、０．００５〜０．１５重量％のＮ、０．０４重量％以下のＢ、３．０重量％以下のＷ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる高クロム合金鋼で形成されている、請求項１記載のロータ。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載のロータを備える蒸気タービン。
【請求項９】
さらに、ロータ高圧セクションを囲繞する高圧ケーシングとロータ中圧セクションを囲繞する中圧ケーシングとを含んでいて、高圧ケーシングと中圧ケーシングとが一体型ではない、請求項８記載の蒸気タービン。
【請求項１０】
中圧セクションが二重壁ケーシングを含む、請求項８又は請求項９記載の蒸気タービン。
【請求項１１】
中圧セクションが一重壁ケーシングを含む、請求項８又は請求項９記載の蒸気タービン。
【請求項１２】
ロータの製造方法であって、
第１、第２及び第３の高圧セクションを準備する工程と、
第１、第２及び第３の高圧セクションを接合してシャフト高圧セクションを形成する工程であって、第２の高圧セクションを第１の溶接部で第１の高圧セクションに接合し、第３の高圧セクションを第２の溶接部で第２の高圧セクションに接合する工程と、
第１及び第２の中圧セクションを準備する工程と、
第１及び第２の中圧セクションを接合してシャフト中圧セクションを形成する工程と、
シャフト高圧ロータセクション及びシャフト中圧セクションを接合してロータを形成する工程と
を含んでおり、
第２の高圧セクションの少なくとも一部分が、０．１〜１．２重量％のＭｎ、１．５重量％以下のＮｉ、８．０〜１５．０重量％のＣｒ、４．０重量％以下のＣｏ、０．５〜３．０重量％のＭｏ、０．０５〜１．０重量％のＶ、０．０２〜０．５重量％のＮｂ、０．００５〜０．１５重量％のＮ、０．０４重量％以下のＢ、３．０重量％以下のＷ、残部のＦｅ及び不可避不純物からなる高クロム合金鋼からなり、第１の溶接部が主蒸気流路に沿っており、シャフト中圧セクションがボルト締めによってシャフト高圧セクションの第３の高圧セクションに結合しており、第３の高圧セクションが低合金鋼からなる、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月5日(2016.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の構成部品と、
前記第１の構成部品に円周方向に隣接した第２の構成部品であって、前記第１及び第２の構成部品の各々が高温ガス流路に近接した表面を持っている、第２の構成部品と、
前記第２の構成部品の第２の側面に突合せ接触する前記第１の構成部品の第１の側面と、
前記第１の側面に縦方向に形成された第１のスロットと、
前記第２の側面に縦方向に形成された第２のスロットであって、前記第１及び第２のスロットが封止部材を受け入れるように構成されている、第２のスロットと、
前記第１のスロットの高温側の面に形成された第１の溝であって、前記第１の構成部品に沿って軸方向に延在する第１の溝と、
前記第２のスロットの高温側の面に形成された第２の溝であって、前記第２の構成部品に沿って軸方向に延在する第２の溝と、
前記タービン集成体は、前記第１のスロットの前記高温側の面に形成された横方向溝と、
前記第２の構成部品内を円周方向の延びて、冷却流体を前記第２の溝に送る流入通路と、
を有し、
前記横方向溝は前記第１のスロットの内壁近くから延在し、そこで、前記横方向溝は、前記第１の溝の中に流す冷却流体を送り、
前記冷却流体は、前記第１の溝の後縁側の近くで前記第１の溝に入って、前記第１の溝の前縁側の近くで前記第１の溝を出る、
タービン集成体。
【請求項２】
前記第１の溝はＵ字形断面形状を有している、請求項１に記載のタービン集成体。
【請求項３】
前記第１の溝はテーパーを付けた断面形状を有している、請求項１に記載のタービン集成体。
【請求項４】
前記テーパーを付けた断面形状は前記高温側の面に狭い通路を有し、該狭い通路は該狭い通路の半径方向内側の相対的に大きい空洞へ繋がっている、請求項３に記載のタービン集成体。
【請求項５】
前記タービン集成体は、前記第１のスロットの前記高温側の面に形成された複数の第１の溝を有しており、該複数の第１の溝の各々は前記第１の構成部品の前縁から後縁へ軸方向に延在している、請求項１に記載のタービン集成体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月21日(2015.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の不規則な窪みおよび突起を有する、ガスタービンの起伏のある非平面状の表面に使用するインピンジメント冷却システムであって、
冷却導管内の冷却流と連通するインピンジメントプレナムを有するノズルであって、前記冷却流は前記インピンジメントプレナムを通って第１の方向に流れる、ノズルと、
前記起伏のある表面に面し、ほぼ平坦な形状を有するインピンジメントプレートと、
前記インピンジメントプレートとほぼ平行に位置するカバープレートと、
を備え、
前記冷却流が、前記カバープレートに衝突し、前記インピンジメントプレートを通って第２の方向に流れるように、前記インピンジメントプレナムは、前記インピンジメントプレートと前記カバープレートとの間に画成されたキャビティを備え、
前記インピンジメントプレートがその上に複数の投影領域を有し、
前記投影領域は、前記起伏のある表面の前記複数の不規則な窪みおよび突起に対応し、
前記複数の投影領域のそれぞれが、前記複数の投影領域のそれぞれに対してインピンジメント孔間で寸法および間隔が可変の複数のインピンジメント孔を有する、
インピンジメント冷却システム。
【請求項２】
前記複数の投影領域が、第１の寸法のインピンジメント孔がある第１の領域と、第２の寸法のインピンジメント孔がある第２の領域とを備える、請求項１に記載のインピンジメント冷却システム。
【請求項３】
前記複数の投影領域が、第１の間隔のインピンジメント孔がある第１の領域と、第２の間隔のインピンジメント孔がある第２の領域とを備える、請求項１に記載のインピンジメント冷却システム。
【請求項４】
前記複数の投影領域が、第１の寸法および第１の間隔のインピンジメント孔がある第１の領域と、第２の寸法および第２の間隔のインピンジメント孔がある第２の領域とを備える、請求項１に記載のインピンジメント冷却システム。
【請求項５】
前記起伏のある表面の複数の突起が、前記インピンジメントプレートから複数の距離に位置する先端を有する複数の突起を含む、請求項１に記載のインピンジメント冷却システム。
【請求項６】
前記複数の投影領域のそれぞれにある前記複数のインピンジメント孔の寸法および間隔が、対向する起伏のある領域までの距離によって変化する、請求項５に記載のインピンジメント冷却システム。
【請求項７】
前記インピンジメントプレートが、前記起伏のある表面全体にわたって熱伝達係数を実質的に一定に維持する、請求項１に記載のインピンジメント冷却システム。
【請求項８】
タービンであって、
タービンノズルと、
インピンジメント冷却システムであって、
複数のインピンジメント孔間で複数の寸法および間隔の複数のインピンジメント孔と、
前記複数のインピンジメント孔を中に備えたインピンジメントプレートを有するインピンジメントプレナムと、
を有する、インピンジメント冷却システムと、
前記インピンジメント冷却システムまわりに配置されるタービン構成要素であり、複数の不規則な窪みおよび突起を有する起伏のある表面を有する、タービン構成要素と、
を備え、
前記インピンジメント冷却システムの前記複数のインピンジメント孔が、前記起伏のある表面の前記複数の不規則な窪みおよび突起に対応する、
タービン。
【請求項９】
前記インピンジメントプレートが、ほぼ平坦な形状を備える、請求項８に記載のタービン。
【請求項１０】
前記インピンジメントプレートが、複数の投影領域があるグリッドを備える、請求項８に記載のタービン。
【請求項１１】
前記複数の投影領域が、前記複数のインピンジメント孔を中に備える、請求項１０に記載のタービン。
【請求項１２】
前記複数の投影領域が、第１の寸法のインピンジメント孔がある第１の領域と、第２の寸法のインピンジメント孔がある第２の領域とを備える、請求項１０に記載のタービン。
【請求項１３】
前記複数の投影領域が、第１の間隔のインピンジメント孔がある第１の領域と、第２の間隔のインピンジメント孔がある第２の領域とを備える、請求項１０に記載のタービン。
【請求項１４】
前記複数の投影領域が、第１の寸法および第１の間隔のインピンジメント孔がある第１の領域と、第２の寸法および第２の間隔のインピンジメント孔がある第２の領域とを備える、請求項１０に記載のタービン。
【請求項１５】
前記起伏のある表面の複数の突起が、前記インピンジメントプレートから複数の距離に位置する先端を有する複数の突起を含む、請求項１０に記載のタービン。
【請求項１６】
前記インピンジメント冷却システムが、前記起伏のある表面全体にわたって熱伝達係数を実質的に一定に維持する、請求項８に記載のタービン。
【請求項１７】
タービンであって、
タービンノズルと、
インピンジメント冷却システムであって、
複数のインピンジメント孔間で複数の寸法および間隔の複数のインピンジメント孔がある直線状のインピンジメントプレートと、
前記複数のインピンジメント孔を中に備えたインピンジメントプレートを有するインピンジメントプレナムと、
を有する、インピンジメント冷却システムと、
前記インピンジメント冷却システムまわりに配置されるタービン構成要素であり、起伏のある表面を有し、したがって前記インピンジメント冷却システムが、前記起伏のある表面全体にわたって熱伝達係数を実質的に一定に維持するようになる、タービン構成要素と、
を備え、
前記起伏のある表面は、複数の不規則な窪みおよび突起を有し、
前記インピンジメント冷却システムの前記複数のインピンジメント孔が、前記起伏のある表面の前記複数の不規則な窪みおよび突起に対応する、
タービン。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月15日(2015.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラットフォーム空洞であって、該プラットフォーム空洞の対向する面に複数のフックを備える前記プラットフォーム空洞と、
前記プラットフォーム空洞内に配置されたインピンジメントプレナムと、
前記プラットフォーム空洞内で連結され、前記インピンジメントプレナムの第１の側に配置された保持板と、
前記インピンジメントプレナムの第２の側に配置された柔軟性シールと
を備え、
前記保持板は、前記プラットフォーム空洞の対向する面の前記複数のフックに係合することにより前記プラットフォーム空洞内で保持される、
ノズル内部プラットフォーム。
【請求項２】
前記保持板がシールキャリアを備える、請求項１記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項３】
前記保持板が前記プラットフォーム空洞内で保持されるように、前記保持板が円筒形輪郭部を備える、請求項１または２に記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項４】
前記保持板が前記プラットフォーム空洞内で保持されるように、前記プラットフォーム空洞内へ延在する１つまたは複数のピンをさらに備える、請求項１乃至３のいずれかに記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項５】
前記柔軟性シールが柔軟性シールガスケットを備える、請求項１乃至４のいずれかに記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項６】
前記プラットフォーム空洞が、前記柔軟性シールの周囲に配置された保持シェルフを備える、請求項１乃至５のいずれかに記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項７】
スラッシュ面をさらに備え、前記スラッシュ面がその面上にシールまたは複数のシールを備える、請求項１乃至６のいずれかに記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項８】
前記インピンジメントプレナムが、空気流と連通する冷却導管を備える、請求項１乃至７のいずれかに記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項９】
前記インピンジメントプレナムが、ノズルプラットフォームの周囲に配置された複数の開口部を備える、請求項１乃至８のいずれかに記載のノズル内部プラットフォーム。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載のノズル内部プラットフォームを備えるノズルベーン。