Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示画面に注がれる操作者の視線を検出する視線検出部と、
前記視線検出部により検出された視線の検出精度を判定する検出精度判定部と、
前記検出精度判定部により判定された検出精度に応じて、前記表示画面に表示する表示オブジェクトの表示形態を異ならせる表示制御部と、
を備える、情報処理装置。
【請求項２】
前記表示制御部は、前記検出精度に応じて、前記表示画面に表示する表示オブジェクトの位置、大きさ、形の少なくともいずれかを異ならせる、
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記表示制御部は、前記表示画面において前記検出精度が高いと判定された領域に、前記表示オブジェクトを表示させる、
請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示制御部は、前記表示画面において前記検出精度が高い領域ほど、複数の表示オブジェクトを密に表示させる、
請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示制御部は、前記表示画面において前記検出精度が低いと判定された領域に、前記表示オブジェクトを表示させる、
請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項６】
視線検出のキャリブレーションを行うキャリブレーション実行部を更に備え、
前記表示制御部は、前記表示画面において前記キャリブレーションが行われていない領域に、前記表示オブジェクトを表示させる、
請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記キャリブレーション実行部は、前記表示制御部により前記表示画面に表示された表示オブジェクトに基づいて、キャリブレーションを行う、
請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記表示制御部は、前記検出精度に応じて、前記表示画面に表示する表示オブジェクトの数を異ならせる、
請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記表示制御部は、前記検出精度が高いほど、前記表示オブジェクトを細かく表示させる、
請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
視線検出のキャリブレーションを行うキャリブレーション実行部を更に備え、
前記検出精度判定部は、前記キャリブレーション実行部による前記キャリブレーションの回数に応じて、前記視線の検出精度を判定する、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
表示画面に注がれる操作者の視線を検出することと、
検出された視線の検出精度を判定することと、
判定された検出精度に応じて、前記表示画面に表示する表示オブジェクトの表示形態を異ならせることと、
を含む、情報処理方法。
【請求項１２】
コンピュータに、
表示画面に注がれる操作者の視線を検出することと、
検出された視線の検出精度を判定することと、
判定された検出精度に応じて、前記表示画面に表示する表示オブジェクトの表示形態を異ならせることと、
を実行させるための、プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
第１収集例においては、図２に示すように、表示画面１６０において、視線感知領域１６１とＵＩ表示領域１６２が設定されている。視線感知領域１６１は、操作者Ｕの視線を感知する領域である。図２には、表示画面１６０の左右にそれぞれ視線感知領域１６１が設定されている。このように視線感知領域１６１を設けることで、操作者Ｕが表示画面１６０の左右のいずれに視線を向けているかを感知できる。視線感知領域１６１は、表示画面１６０に表示されない。ただし、これに限定されず、視線感知領域１６１が表示画面１６０に表示されることとしても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
なお、視線検出誤差の初期値としては、使用する視線検出アルゴリズムで見込まれる平均誤差を用いる。例えば、瞳孔角膜反射法を用いた場合、支配的なズレは視軸と眼軸のズレであり、この場合のズレ量は平均約５度であることが分かっている。また、表示画面１６０の横Ｗ×縦Ｈ（ｍｍ）と、操作者と表示画面１６０の距離Ｚ（ｍｍ）とが分かっている場合には、初期値ｄは下記の式で求められる。なお、正規化する場合には、縦横でそれぞれ横Ｗと縦Ｈで割った値を用いる。
ｄ＝Ｚ×ｔａｎ（５．０×円周率／１８０）
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月11日(2016.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱機関の排ガス中に含まれるＣＯ，ＨＣ，ＮＯを酸化する酸化触媒を備え、前記酸化触媒は、多孔質担体に担持される触媒活性成分として、Ｐｔと、Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐから選ばれる少なくとも一種とを含み、前記Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐの含有量が、担体２ｍｏｌ部に対して、Ｂａの場合は０．０２〜０．５ｍｏｌ部、Ｃａの場合は０．０２〜０．５ｍｏｌ部、Ｚｎの場合は０．０２〜０．７ｍｏｌ部、Ｐの場合は０．０２〜１．４ｍｏｌ部であることを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項２】
請求項１に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐの含有量を、これら触媒活性成分の種類に関わりなく、担体２ｍｏｌ部に対して、０．０２〜０．５ｍｏｌ部としたことを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項３】
請求項１及び請求項２のいずれか１項に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記酸化触媒の触媒活性成分として、Ｐｔと、Ｐと、Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａから選ばれる少なくとも一種とを含むことを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記排ガスの流れ方向に関し、前記酸化触媒の後段にＮＯｘ浄化触媒を設置することを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項５】
請求項４に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記ＮＯｘ浄化触媒の前段にＮＨ３を添加することを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項６】
請求項４及び請求項５のいずれか１項に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記ＮＯｘ浄化触媒の後段に、排ガス中のＣＯ，ＨＣ又はＮＨ３を酸化する触媒を更に設置したことを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記酸化触媒には、触媒活性成分として、Ｐｄ，Ｃｅから選ばれる少なくとも一種を更に含むことを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項８】
請求項４から請求項７のいずれか１項に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記ＮＯｘ浄化触媒は、ゼオライト担体上に、触媒活性成分として、Ｖ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｒから選ばれる少なくとも１種を担持してなることを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の熱機関の排ガス浄化装置において、前記酸化触媒に流入する排ガスは、常に、ＣＯ及びＨＣの酸化反応における化学量論量よりも酸素過剰な雰囲気に保つことを特徴とする熱機関の排ガス浄化装置。
【請求項１０】
ＣＯ及びＨＣの酸化反応における化学量論量よりも過剰な酸素雰囲気で燃料を燃焼する熱機関の排ガス流路に、多孔質担体に担持される触媒活性成分として、Ｐｔと、Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐから選ばれる少なくとも一種とを含み、前記Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐの含有量が、担体２ｍｏｌ部に対して、Ｂａの場合は０．０２〜０．５ｍｏｌ部、Ｃａの場合は０．０２〜０．５ｍｏｌ部、Ｚｎの場合は０．０２〜０．７ｍｏｌ部、Ｐの場合は０．０２〜１．４ｍｏｌ部に調整された酸化触媒を設置し、排ガス中のＣＯ，ＨＣ，ＮＯを酸化することを特徴とする排ガス浄化方法。
【請求項１１】
多孔質担体と該多孔質担体上に担持された触媒活性成分を有し、前記触媒活性成分として、Ｐｔと、Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐから選ばれる少なくとも一種とを含み、前記Ｚｎ，Ｂａ，Ｃａ，Ｐの含有量が、担体２ｍｏｌ部に対して、Ｂａの場合は０．０２〜０．５ｍｏｌ部、Ｃａの場合は０．０２〜０．５ｍｏｌ部、Ｚｎの場合は０．０２〜０．７ｍｏｌ部、Ｐの場合は０．０２〜１．４ｍｏｌ部であることを特徴とするＣＯ，ＨＣ，ＮＯの酸化触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月25日(2016.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータ軸周りに設置され、ディフューザの前記ロータ軸側の側壁であるフローガイドを備え、
前記フローガイドは、半円弧状の横断面を有する第１部分と、半円弧状の横断面を有し、前記第１部分に比べ熱変形量が小さい第２部分が組み合わされて、円錐台形状に形成され、
前記第２部分と合わさる前記第１部分の結合部は、前記ロータ軸側が前記ディフューザの蒸気流路側よりも周方向に突出した第１突出部を有し、
前記第１部分と合わさる前記第２部分の結合部は、前記ディフューザの蒸気流路側が前記ロータ軸側よりも周方向に突出し、前記フローガイドの径方向で前記第１突出部と重なり合う第２突出部を有する蒸気タービン。
【請求項２】
前記第２部分の板厚は、前記第１部分の板厚よりも大きい請求項１に記載の蒸気タービン。
【請求項３】
前記第２部分の前記ロータ軸側の内面と接続されて、前記第２部分の熱変形を前記第１部分よりも小さくする拘束部材を有する請求項１に記載の蒸気タービン。
【請求項４】
前記拘束部材は、前記第２部分との間に空間を形成する面部材を有する請求項３に記載の蒸気タービン。
【請求項５】
前記ロータ軸の軸線に対して垂直な面内に、前記第２部分の内面に周方向に接触して配置され、前記第２部分に接続される複数のリブを有する請求項１又は２に記載の蒸気タービン。
【請求項６】
前記ロータ軸に干渉せず、かつ、前記ロータ軸の軸線が通過する水平面に対して平行に前記第２部分の内側に配置され、前記第２部分の内面に接続される仕切り板を有する請求項１又は２に記載の蒸気タービン。
【請求項７】
辺縁が前記仕切り板と前記第２部分の内側と周方向に接触して接続される側壁と、
前記第２部分と前記仕切り板と前記側壁とに囲まれる空間と、を有する請求項６に記載の蒸気タービン。
【請求項８】
前記第１突出部が、前記ロータ軸の軸線を含む水平面に対して所定の角度で交差する面内に形成された第１接触面を有し、
前記第２突出部が、前記第１接触面に対向するよう形成された第２接触面を有する請求項１から請求項４のいずれかに記載の蒸気タービン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
上半フローガイド７２を備えるフローガイドは、フローガイド軸側空間１５の蒸気により加熱されるときに、上半フローガイド７２が下半フローガイド３１より熱変形しにくいことにより、既述の第１実施形態におけるフローガイド１６と同様にして、接触面４２が接触面７５に押し付けられる。このとき、下半フローガイド３１と上半フローガイド７２は、内側段差部４１と外側段差部７４によって、径方向で重なりあった状態である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2015183579.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月6日(2016.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
特性（９）フルノッチクリープ試験による８０℃、１．９ＭＰａにおける破断時間（ＦＮＣＴ）：
本発明のポリエチレンは、フルノッチクリープ試験による８０℃、１．９ＭＰａにおける破断時間（ＦＮＣＴ）が５０時間以上であることが好ましく、更に好ましくは１００時間以上である。ＦＮＣＴが５０時間未満では、製品としての耐久性が低く、実用上、クラックが入りやすく容器としての性能を満たさないため、高純度薬品容器としての性能が低下する傾向がある。
ＦＮＣＴは、ＩＳＯ  ＤＩＳ  １６７７０に準拠した全ノッチ付クリープ試験（ＦＮＣＴ、８０℃、１．９ＭＰａ）により測定することができる。ここで、ＩＳＯ  ＤＩＳ  １６７７０に準拠した全ノッチ付クリープ試験（ＦＮＣＴ）は、長期機械的物性の評価であって、試料としては、６ｍｍ×６ｍｍ×１１ｍｍの大きさの角柱の、全周囲にカミソリ刃にて１ｍｍのノッチが付けられ、４ｍｍ×４ｍｍの大きさの断面を有した試験片を用意し、８０℃の純水中で、１．９ＭＰａに相当する引張応力を検体に与え、検体が破断するまでの時間を計測した値である。
ＦＮＣＴの破断時間は、ポリエチレンの高分子量の成分であるエチレン系重合体の、分子量、密度、及び配合量により調整することができ、具体的には、分子量の高分子量化、密度の低密度化、及び配合量の増量により、上記ＦＮＣＴの破断時間を向上させることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
以下に、本発明を実施例で説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の試験方法は、以下の通りである。
（１）密度：ＪＩＳ−Ｋ６９２２−１，２：１９９７年に準じて測定した。
（２）ＨＬＭＦＲ：ＪＩＳ−Ｋ６９２２−２：１９９７年に準拠して測定した。
（３）ＭＦＲ：ＪＩＳ−Ｋ６９２２−２：１９９７年に準拠して測定した。
（４）ゲルパーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求められる重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）：分子量、重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎの測定は、以下の方法で行なった。即ち、下記条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
装置：ＷＡＴＥＲＳ社製１５０Ｃ
カラム：昭和電工社製ＡＤ８０Ｍ／Ｓを３本
測定温度：１４０℃
濃度：１ｍｇ／１ｍｌ
溶媒：ｏ−ジクロロベンゼン
なお、分子量の計算及びカラムの較正は、以下の方法に準拠して行なった。
ＧＰＣクロマトデータは、１点／秒の頻度でコンピュータに取り込み、森定雄著・共立出版社発行の「サイズ排除クロマトグラフィー」第４章の記載に従ってデータ処理を行ない、Ｍｗ、Ｍｎ値を計算した。
（５）ＧＰＣにより測定され、ポリエチレン全体の検出面積に対する分子量１０，０００以下の成分の検出面積の割合：上記のＧＰＣによる分子量の測定方法により求めた。
（６）ＧＰＣにより測定され、ポリエチレン全体の検出面積に対する分子量１，０００，０００以上の成分の検出面積の割合：上記のＧＰＣによる分子量の測定方法により求めた。
（７）Ｔｉの含有量：石英製ビーカーに試料約０．５ｇを採取し、これに２ｍｌの硫酸を添加し加熱して試料を炭化後、加熱しながら、無色〜淡黄色の透明な溶液が得られるまで、「加熱、放冷、硝酸添加」を繰り返した。冷却後、純水により５０ｍｌに定容、更に１０倍に希釈して、ＩＣＰ−ＭＳ（Inductively Coupled Plasma - Mass Spectrometry。誘導結合プラズマ質量分析法）により目的の金属元素を測定し、試料中濃度に換算した。
（８）Ａｌの含有量：：石英製ビーカーに試料約０．５ｇを採取し、これに２ｍｌの硫酸を添加し加熱して試料を炭化後、加熱しながら、無色〜淡黄色の透明な溶液が得られるまで、「加熱、放冷、硝酸添加」を繰り返した。冷却後、純水により５０ｍｌに定容、更に１０倍に希釈して、ＩＣＰ−ＭＳ（Inductively Coupled Plasma - Mass Spectrometry。誘導結合プラズマ質量分析法）により目的の金属元素を測定し、試料中濃度に換算した。
（９）灰分：ＪＩＳ Ｋ２２７２−１９８５に準拠し測定した。
（１０）フルノッチクリープ試験による８０℃、１．９ＭＰａにおける破断時間（ＦＮＣＴ）：ＩＳＯ  ＤＩＳ  １６７７０に準拠した全ノッチ付クリープ試験（ＦＮＣＴ、８０℃、１．９ＭＰａ）により測定した。
（１１）曲げ弾性率：試験片として２１０℃で射出成形した４×１０×８０ｍｍの板状体を用い、ＪＩＳ−Ｋ６９２２−２：１９９７年に準拠して測定した。
以上
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月19日(2016.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
製造例（Ａ１）〔重合体（Ａ）の製造〕：
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、滴下管を備えた反応装置に窒素雰囲気下、２−エチルヘキシルアクリレート１５部、イソオクチルアクリレート３０部、メチルアクリレート４．７５部、４−ヒドロキシブチルアクリレート０．２５部、重合開始剤であるアゾビスイソブチロニトリルを適量、さらに溶剤として酢酸エチルを仕込んだ。溶液温度が８０℃になるまで加熱した。
次いで、滴下管に２−エチルヘキシルアクリレート１５部、イソオクチルアクリレート３０部、メチルアクリレート４．７５部、４−ヒドロキシブチルアクリレート０．２５部、アゾビスイソブチロニトリルを適量、酢酸エチルを仕込んだ。
前記反応装置を溶液温度が８０℃になるまで加熱し、反応装置内で反応が開始したことを確認後、前記滴下管から溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後、反応温度を約８０℃に保持し５時間反応を継続した後、冷却を開始した。次いで酢酸エチルで希釈し、不揮発分を４０％に調整した。これにより重量平均分子量は９０万の重合体（Ａ１）溶液を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月19日(2016.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量平均分子量６０万〜１５０万の重合体（Ａ）、および重量平均分子量５万〜４０万の重合体（Ｂ）を含み、
前記重合体（Ａ）は、２−エチルヘキシルアクリレート、および２−エチルヘキシルアクリレート以外の炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ）を含むモノマー混合物を共重合してなり、
前記重合体（Ｂ）は、炭素数１〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ｂ）、および水酸基含有モノマー（ｃ）を含むモノマー混合物を共重合してなり、
前記重合体（Ａ）と重合体（Ｂ）との合計１００重量％中、重合体（Ａ）を７０〜９５重量％含む、
周波数１００ｋＨｚにおける誘電率が３．５以下の粘着剤層を形成可能な粘着剤。
【請求項２】
８５℃−９０％ＲＨの条件下に２４０時間放置した後のヘイズが３以下である粘着剤層を形成可能な請求項１記載の粘着剤。
【請求項３】
前記重合体（Ａ）の重量平均分子量が８０万〜１２０万、前記重合体（Ｂ）の重量平均分子量が１０万〜２５万である、請求項１または２に記載の粘着剤。
【請求項４】
前記（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ）のアルキル基の炭素数が８〜１８である、請求項１〜３いずれか１項に記載の粘着剤。
【請求項５】
基材と、請求項１〜４いずれか１項に記載の粘着剤から形成されてなる粘着剤層とを備えた粘着シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
本発明の粘着シートの粘着剤層を８５℃−９０％ＲＨの条件下に２４０時間放置した後、そのヘイズを３以下にできる。本発明の粘着剤は、前記のようにヘイズが生じ難い粘着剤層を形成できる。このため本発明の粘着シートを使用したタッチパネルは、高温高湿度環境下に置かれた場合でも、視認性の低下を抑制できる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月28日(2016.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
請求項３記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキを活性エネルギー線照射によって硬化させた印刷物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
塗料用ビヒクルは、樹脂と溶剤とから成るものである。これらの混合割合は、ビヒクル
成分の合計質量を基準（１００質量％）として、樹脂：溶剤＝５〜４５質量％：５５〜９
５質量％の範囲が好ましい。
樹脂としては、例えば、ニトロセルロース、アミノアルキド樹脂、アクリル樹脂、アミ
ノアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、フッ化ビニル樹脂、ポリエーテルスル
ホン樹脂等が挙げられる。
溶剤としては、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、ハロゲン化炭化水素系、アルコ
ール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、エーテル・アルコール系、エーテル・エス
テル系等の有機溶剤、水等が挙げられる。
塗料には、必要に応じて、体質顔料、顔料分散剤、レベリング改良剤、増粘剤、硬化剤
等の公知の添加剤を適宜配合することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
上記淡色塗料を金属板（冷間圧延鋼板SPCC-SD、片面水研塗装板、灰色電着塗装）の塗
装面に６ミルのアプリケーターで塗工して、１５０℃のオーブンで硬化させた塗板を作製
した。塗工面を測色計（Ｓｐｅｃｔｒｏ  Ｃｏｌｏｒ  Ｍｅｔｅｒ  ＳＥ２０００、日本
電色工業社製）で測色したところ、鮮明性Ｃ＊＝４９．５であった。後述するように、比
較例２で得られた塩素化銅フタロシアニンを用いた場合よりも高い数値を示し、高鮮明で
あった。
次に、濃色塗料を同じ金属板に６ミルのアプリケーターで塗工して１５０℃のオーブン
で硬化させた塗板を作製し、更に６ミルのアプリケーターで白塗料を重ね塗りして１８０
℃のオーブンで硬化させた塗板を作製した。塗工面を測色したところ、明度Ｌ＊＝９６．
６であった。後述するように、比較例２で得られた塩素化銅フタロシアニンを用いた場合よ
りも高い数値を示した。
比較例１や比較例２で得られた塩素化銅フタロシアニンは青色のアルミニウムフタロシ
アニンを不純物として含むため、この不純物が濃色塗膜から白塗膜にマイグレーション（
＝ブリード）して着色し、明度が小さくなったものと推定される。すなわち、本発明の塩
素化銅フタロシアニンを用いた塗料は、耐久性の一種である耐マイグレーション性に優れていることが明らかとなった。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月9日(2016.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
以上説明したように、本実施形態の駆動システム１Ａでは、アームシリンダ２５の伸長時（アーム引き操作時）に、アームシリンダ２５のヘッド側の圧力が小さい場合（例えば、空中でアーム１３を作動させる場合）には、逃しライン７が遮断される。このため、アーム第１制御弁６１およびアーム第２制御弁６２におけるシリンダ伸長時のタンク戻し用の開口面積を小さくしておけば、タンクに戻る作動油を絞ることができ、アームシリンダ２５のロッド側の背圧を十分高く保つことができる。これにより、アーム１３の重心が揺動中心１３ａ（図２参照）の真下に到達するまでにアームシリンダ２５のヘッド側でキャビテーションが発生することを防止できるとともに、アーム１３の重心が揺動中心１３ａの真下に到達した後にアーム１３の揺動が一時的に停止することを防止できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、本実施形態の駆動システム１Ｂは、アーム１３の位置を検出するための位置検出器９３を含む。本実施形態では、位置検出器９３が、ブームシリンダ２４に設けられたストロークセンサ９４とアームシリンダ２５に設けられたストロークセンサ９５で構成されている。ただし、位置検出器９３としては、例えばアーム１３に設けられた傾斜センサを用いてもよい。あるいは、位置検出器９３は、ブーム１２の俯仰角およびブーム１２とアーム１３の間の角度を検出する２つの角度センサで構成されていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
より詳しくは、アーム１３の重心が遠方領域Ａ（図２参照）にあると判定される場合であって、負荷検出器９１で検出される圧力が所定値Ｐ１以上の場合には、制御装置９は、図８に示すように、第１実施形態で説明した一定の傾きの電流／パイロット圧関係線９ａにより定まる電流を電磁比例弁８２へ送給する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（４）前記第３実施形態と同様に、位置調整弁８１は、中継ライン７５によりバケットイン供給ライン２６ａと接続されており、バケットアウト供給ライン２６ｂを通じてバケットシリンダ２６へ作動油が供給される際に、中継ライン７５を逃しライン７を通じてタンクへ連通させるように構成されていてもよい。この構成によれば、バケットアウト操作時に、バケットシリンダ２６のヘッド側から流出する作動油の一部をバケット制御弁７１を経由せずにタンクへ戻すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月18日(2016.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料を噴射する燃焼器のノズルであって、
先端部に向けてその外径が漸次縮小する円錐状をなし、
前記円錐状の先端から空気を噴射させる空気噴射部を備えるノズル。
【請求項２】
請求項１に記載のノズルを先端部に備え燃料を噴射する燃料ノズルを有するバーナ。
【請求項３】
請求項２に記載のバーナを備える燃焼器であって、
前記ノズルを外周側から覆うと共に、前記ノズルとの間に空気流路を形成する筒状部材と、
前記空気流路に設けられ、前記空気流路を流れる空気に圧力損失を生じさせる圧力損失部と、を備え、
前記ノズルは、
前記圧力損失部よりも上流側の外周面から空気を取り入れる空気取入部と、
前記空気取入部から取り入れた空気を前記空気噴射部まで導く流路を形成する流路形成部と、
を備える燃焼器。
【請求項４】
前記空気取入部は、前記ノズルの外周面に複数設けられ、
前記流路形成部は、複数の前記空気取入部から取り入れた空気を、前記空気噴射部の上流側で合流させる合流部を備える請求項３に記載の燃焼器。
【請求項５】
前記流路形成部は、断面円環状の流路を形成する請求項３に記載の燃焼器。
【請求項６】
前記流路形成部は、同心円上に配される複数の流路を形成する請求項３に記載の燃焼器。
【請求項７】
請求項３から５の何れか一項に記載の燃焼器と、
前記燃焼器から送り出された燃焼ガスにより回転するロータを備えたタービン本体と、を備えるガスタービン。
【請求項８】
請求項１に記載のノズルを備える燃焼器と、
前記燃焼器から送り出された燃焼ガスにより回転するロータを備えたタービン本体と、
前記タービン本体の車室内の空気を前記空気噴射部に供給する車室空気供給部と、
前記車室空気供給部における前記車室から前記空気噴射部への前記空気の供給を制御する制御弁と、
前記燃焼器における逆火の発生を検出する検出部と、
前記検出部の検出結果に基づいて前記制御弁を開閉制御する制御装置と、
を備えるガスタービンシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明の第一態様において、ノズルは、燃料を噴射する燃焼器のノズルであって、先端部に向けてその外径が漸次縮小する円錐状をなし、前記円錐状の先端から空気を噴射させる空気噴射部を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明の第二態様において、バーナは、上記のノズルを先端部に備え燃料を噴射する燃料ノズルを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月26日(2016.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部で所定の原料ガスを反応させて複数の基板を処理する処理室を形成する反応管であって、
前記反応管は、円筒状に形成されて上端が閉塞し、下端が開口しているアウターチューブと、
前記アウターチューブの内部に設けられ、前記所定の原料ガスを排気する排気スリットを前記複数の基板が配列された基板配列領域と基板配列領域よりも下方の領域のそれぞれに少なくとも１つ設けたインナーチューブと、
を有する反応管。
【請求項２】
前記基板配列領域よりも下方の領域に設けられた排気スリットは、前記基板配列領域に設けられた排気スリットよりも開口面積が小さくなるように設けられる請求項１に記載の反応管。
【請求項３】
前記基板配列領域に設けられた排気スリットと、前記基板配列領域よりも下方の領域に設けられた排気スリットはそれぞれ離間して設けられる請求項１または２に記載の反応管。
【請求項４】
前記基板配列領域に設けられた排気スリットと、前記基板配列領域よりも下方の領域に設けられた排気スリットは前記インナーチューブの側壁に設けられる請求項１から３のいずれか１つに記載の反応管。
【請求項５】
前記基板配列領域に設けられた排気スリットは、開口中心角が６０度〜９０度である請求項１から４のいずれか１つに記載の反応管。
【請求項６】
複数の基板を処理する処理室を形成し、円筒状に形成されて上端が閉塞し下端が開口しているアウターチューブと、前記アウターチューブの内部に設けられ、前記所定の原料ガスを排気する排気スリットを前記複数の基板が配列された基板配列領域と基板配列領域よりも下方の領域のそれぞれに少なくとも１つ設けたインナーチューブで構成される反応管と、
前記反応管内に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記処理ガスを排気するガス排気部と、
を有する基板処理装置。
【請求項７】
複数の基板を処理する処理室を形成し、円筒状に形成されて上端が閉塞し下端が開口しているアウターチューブと、前記アウターチューブの内部に設けられ、前記所定の原料ガスを排気する排気スリットを前記複数の基板が配列された基板配列領域と基板配列領域よりも下方の領域のそれぞれに少なくとも１つ設けたインナーチューブで構成される反応管内に複数の基板を搬送する工程と、
前記反応管内に所定の処理ガスを供給して前記複数の基板を処理する工程と、
前記所定の処理ガスを前記インナーチューブに設けられた前記排気スリットを介して排気する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月7日(2016.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、
前記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、
前記記憶層と前記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
を有する層構造を備え、
前記層構造の積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、前記記憶層の磁化の向きが変化して、前記記憶層に対して情報の記憶が行われるとともに、
前記磁化固定層が少なくとも２層の強磁性層と、非磁性層とから成る積層フェリ構造を有しており、
前記磁化固定層における磁性材料として、ＰｔとＣｏとを用いた合金又は積層構造であってＹを含む磁性材料が用いられている
記憶素子。
【請求項２】
前記磁化固定層内において前記中間層とは接しない磁性材料として、ＰｔとＣｏとを用いた合金又は積層構造とされ且つＹを含むが磁性材料が用いられている
請求項１に記載の記憶素子。
【請求項３】
前記Ｙ元素の添加量が１２ａｔ％以下である
請求項２に記載の記憶素子。
【請求項４】
前記Ｙ元素の添加量が１ａｔ％以上１０ａｔ％以下である
請求項２又は請求項３に記載の記憶素子。
【請求項５】
前記磁化固定層内における、前記中間層と接する磁性材料がＣｏＦｅＢ磁性層で構成されている
請求項２乃至請求項４のいずれかに記載の記憶素子。
【請求項６】
膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、
前記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、
前記記憶層と前記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
を有する層構造を備え、
前記層構造の積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、前記記憶層の磁化の向きが変化して、前記記憶層に対して情報の記憶が行われるとともに、
前記磁化固定層における磁性材料として、ＰｔとＣｏとを用いた合金又は積層構造であってＹを含む磁性材料が用いられている
記憶素子。
【請求項７】
前記Ｙ元素の添加量が１２ａｔ％以下である
請求項６に記載の記憶素子。
【請求項８】
前記Ｙ元素の添加量が１ａｔ％以上１０ａｔ％以下である
請求項６又は請求項７に記載の記憶素子。
【請求項９】
情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶素子と、
互いに交差する２種類の配線とを備え、
前記記憶素子は、
膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、
前記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、
前記記憶層と前記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
を有する層構造を備え、
前記層構造の積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、前記記憶層の磁化の向きが変化して、前記記憶層に対して情報の記憶が行われるとともに、
前記磁化固定層が少なくとも２層の強磁性層と、非磁性層とから成る積層フェリ構造を有しており、
前記磁化固定層における磁性材料として、ＰｔとＣｏとを用いた合金又は積層構造であってＹを含む磁性材料が用いられており、
前記２種類の配線の間に前記記憶素子が配置され、
前記２種類の配線を通じて、前記記憶素子に上記積層方向の電流が流れ、スピン偏極した電子が注入される
記憶装置。
【請求項１０】
膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、
前記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、
前記記憶層と前記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
を有する層構造を備え、
前記層構造の積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、前記記憶層の磁化の向きが変化するとともに、
前記磁化固定層が少なくとも２層の強磁性層と、非磁性層とから成る積層フェリ構造を有しており、
前記磁化固定層における磁性材料として、ＰｔとＣｏとを用いた合金又は積層構造であってＹを含む磁性材料が用いられている
磁気ヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
本実験試料については、上記の全ての膜を成膜したのち、熱処理を行った。
磁化固定層１２のＣｏＦｅＢ合金の組成は、ＣｏＦｅ８０％（Ｃｏ３０％−Ｆｅ７０％）−Ｂ２０％（いずれもａｔ％）とした。
酸化マグネシウム（ＭｇＯ）膜から成る中間層１３は、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用いて成膜し、その他の膜はＤＣマグネトロンスパッタ法を用いて成膜した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
以上のような磁気抵抗効果型磁気ヘッドの上に積層形成されたインダクティブ型磁気ヘッドは、第２の磁気シールド１２７及び上層コア１３２によって構成される磁気コアと、当該磁気コアを巻回するように形成された薄膜コイル１３３とを備えている。
上層コア１３２は、第２の磁気シールド１２７と共に閉磁路を形成して、このインダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアとなるものであり、Ｎｉ−Ｆｅ等のような軟磁性材からなる。ここで、第２の磁気シールド１２７及び上層コア１３２は、それらの前端部が磁気記録媒体対向面に露呈し、且つ、それらの後端部において第２の磁気シールド１２７及び上層コア１３２が互いに接するように形成されている。ここで、第２の磁気シールド１２７及び上層コア１３２の前端部は、磁気記録媒体対向面において、第２の磁気シールド１２７及び上層コア１３２が所定の間隙ｇをもって離間するように形成されている。
すなわち、この複合型磁気ヘッド１００において、第２の磁気シールド１２７は、磁気抵抗効果素子１２６の上層側を磁気的にシールドするだけでなく、インダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアも兼ねており、第２の磁気シールド１２７と上層コア１３２によってインダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアが構成されている。そして間隙が、インダクティブ型磁気ヘッドの記録用磁気ギャップとなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
また、第２の磁気シールド１２７上には、絶縁層１２３に埋設された薄膜コイル１３３が形成されている。ここで、薄膜コイル１３３は、第２の磁気シールド１２７及び上層コア１３２からなる磁気コアを巻回するように形成されている。図示していないが、この薄膜コイル１３３の両端部は、外部に露呈するようになされ、薄膜コイル１３３の両端に形成された端子が、このインダクティブ型磁気ヘッドの外部接続用端子となる。すなわち、磁気記録媒体への磁気信号の記録時には、これらの外部接続用端子から薄膜コイル１３３に記録電流が供給されることとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月10日(2016.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基材と、
前記シリコン基材の上に積層された第１の電極と、
前記第１の電極の上に積層された第１の圧電体膜と、
前記第１の圧電体膜の上に積層された第２の電極と、
前記第２の電極の上に積層された密着層と、
前記密着層の上に前記第２の電極とは異なる材料により０．４μｍ以上１０μｍ以下の膜厚で積層された中間層と、
前記中間層の上に積層された第３の電極と、
前記第３の電極の上に積層された第２の圧電体膜と、
前記第２の圧電体膜の上に積層された第４の電極と、
を備える圧電体素子。
【請求項２】
前記中間層が振動板となり、膜厚方向に撓み変形する撓みモードで用いられ、前記第１の圧電体膜及び前記第２の圧電体膜の圧電定数ｄ３１方向の変位を利用して動作する請求項１に記載の圧電体素子。
【請求項３】
前記撓み変形における応力中性面が前記中間層の中に存在する請求項２に記載の圧電体素子。
【請求項４】
前記密着層の材料が、遷移金属元素、若しくは遷移金属元素の酸化物、又はそれらの組み合わせである請求項１から３のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項５】
前記中間層の材料が、シリコンを含む材料である請求項１から４のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項６】
前記第１の圧電体膜及び前記第２の圧電体膜のそれぞれは０．３μｍ以上１０μｍ以下の膜厚で構成される請求項１から５のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項７】
前記第１の圧電体膜と前記第２の圧電体膜の結晶配向性が同じ方向性である請求項１から６のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項８】
前記第１の圧電体膜及び前記第２の圧電体膜が（１００）方位、若しくは（００１）方位に配向している請求項７に記載の圧電体素子。
【請求項９】
前記第１の圧電体膜の分極方向と前記第２の圧電体膜の分極方向とが同じ向きである請求項１から８のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項１０】
前記第１の圧電体膜の残留応力と前記第２の圧電体膜の残留応力のそれぞれが絶対値で２００ＭＰａ以下である請求項１から９のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項１１】
前記中間層の熱膨張係数が前記第１の圧電体膜及び前記第２の圧電体膜の熱膨張係数の２倍以下である請求項１から１０のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項１２】
前記第１の圧電体膜の膜厚に対して、前記第２の圧電体膜の膜厚が０．５倍以上２倍以下である請求項１から１１のいずれか１項に記載の圧電体素子。
【請求項１３】
シリコン基材の上に第１の電極を形成する第１の電極形成工程と、
前記第１の電極の上に第１の圧電体膜を形成する第１の圧電体膜形成工程と、
前記第１の圧電体膜の上に第２の電極を形成する第２の電極形成工程と、
前記第２の電極の上に密着層を形成する密着層形成工程と、
前記密着層の上に前記第２の電極とは異なる材料により０．４μｍ以上１０μｍ以下の膜厚の中間層を形成する中間層形成工程と、
前記中間層の上に第３の電極を形成する第３の電極形成工程と、
前記第３の電極の上に第２の圧電体膜を形成する第２の圧電体膜形成工程と、
前記第２の圧電体膜の上に第４の電極を形成する第４の電極形成工程と、
前記シリコン基材の一部をエッチングにより除去する除去加工工程と、
を有し、
前記第１の電極、前記第１の圧電体膜、前記第２の電極、前記中間層、前記密着層、前記第３の電極、前記第２の圧電体膜、前記第４の電極の各層がそれぞれ薄膜形成法により形成される圧電体素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月21日(2016.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図２に示す平面視においては、金属抵抗素子層Ｒｍ１〜Ｒｍ４は、それぞれＸ方向に延び、Ｙ方向において相互に所定の間隙を有するように配置されている。金属抵抗素子層Ｒｍ１〜Ｒｍ４は、それぞれの両端部において、導電層としてのコンタクトプラグＣＰ１を介在してタップ層Ｍｉ，Ｍａ〜Ｍｃ，Ｍｏに連結されている。なお金属抵抗素子層Ｒｍ１〜Ｒｍ４（Ｒｍｎ）と電極パッドＳＰとの間には一定の間隔Ｓ１が設けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図９の配線領域においては、第１の配線層Ｍ１が多層配線構造の最上層となっており、この上層側にたとえば第２の配線層Ｍ２および第２の絶縁膜ＳＯ１３は形成されていない。第３の絶縁膜ＳＯ１４は、配線領域においては層間絶縁膜ＳＯ１１の上面を覆うように、金属抵抗素子領域においては金属抵抗素子層Ｒｍｎおよび第１の絶縁膜ＳＯ１２の上面を覆うように、形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
再度図２７を参照して、次に第２の絶縁膜ＳＯ１３（第２の絶縁膜上層ＳＯ１３ｂ）の上面のうち各領域の第２の配線層Ｍ２の真上の領域から、Ｚ方向に延びて第２の配線層Ｍ２に達するように、複数のコンタクトプラグＣＰ２が形成される。具体的にはまず第２の絶縁膜ＳＯ１３の上面のうち図３１の各領域の第２の配線層Ｍ２の真上の領域から、Ｚ方向に延びて第２の配線層Ｍ２に達するようにコンタクトホールＶａ２が形成される。その後、コンタクトホールＶａ２内に側底面層ＣＰ２１および内部充填層ＣＰ２２が形成されることにより、コンタクトプラグＣＰ２が形成される。側底面層ＣＰ２１および内部充填層ＣＰ２２は、側底面層ＣＰ１１および内部充填層ＣＰ１２と同様の処理により形成されてもよい。このようにして、保護用および配線用第２の配線層Ｍ２のそれぞれの上面から、Ｚ方向に関して上側（基板ＳＵＢと反対方向）に延びるコンタクトプラグＣＰ２が形成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
その後、第３の配線層Ｍ３の上面を覆うように、第２の絶縁膜ＳＯ１３上に第３の絶縁膜ＳＯ１４およびパッシベーション膜ＳＮ１１がこの順に形成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
再度図３２を参照して、その後、第２の配線層Ｍ２の上面を覆うように、第２の絶縁膜ＳＯ１３上に第３の絶縁膜ＳＯ１４およびパッシベーション膜ＳＮ１１がこの順に形成される。なお省略した工程の詳細については基本的に上記の各実施の形態と同様である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６１】
再度図３５を参照して、その後、第２の配線層Ｍ２の上面を覆うように、第２の絶縁膜ＳＯ１３上に第３の絶縁膜ＳＯ１４およびパッシベーション膜ＳＮ１１がこの順に形成される。なお省略した工程の詳細については基本的に上記の各実施の形態と同様である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４２】
2015088585.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４３】
2015088585.tif 000002
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４６】
2015088585.tif 000003
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４７】
2015088585.tif 000004
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４９】
2015088585.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月26日(2016.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを基板に投影して基板を露光する露光装置であって、
前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系の光路内に配置され、変形可能な板状の光学部材と、
前記光学部材を第１位置で支持する第１支持部材と、
前記光学部材を前記第１位置とは異なる第２位置で支持する第２支持部材と、
前記第１支持部材を移動させる第１駆動機構と、
前記第２支持部材を移動させる第２駆動機構と、を有し、
前記第１駆動機構の駆動量に対する前記光路内の複数の位置のそれぞれにおける前記光学部材の移動量と、前記第２駆動機構の駆動量に対する前記光路内の複数の位置のそれぞれにおける前記光学部材の移動量と、を含む情報を用いて、前記光学部材が目標形状になるように前記第１駆動機構及び前記第２駆動機構を制御することによって、前記マスクのパターンの像の歪みを制御する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記駆動機構により前記投影光学系の光軸方向に前記支持部材を移動させて、前記光学部材を変形させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記情報は、前記光学部材を支持する複数の支持部材を駆動する複数の駆動機構の駆動量と前記光路内の複数の位置のそれぞれにおける前記光学部材の移動量との関係を表す行列式を含む、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明は、板状の光学部材の変形量の計測結果を用いることなく光学部材を変形させる駆動機構を駆動するだけで、光学部材を目標形状に変形してマスクのパターン像の歪みを制御することが可能な露光装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
その目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、マスクのパターンを基板に投影して基板を露光する露光装置であって、前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系の光路内に配置され、変形可能な板状の光学部材と、前記光学部材を第１位置で支持する第１支持部材と、前記光学部材を前記第１位置とは異なる第２位置で支持する第２支持部材と、前記第１支持部材を移動させる第１駆動機構と、前記第２支持部材を移動させる第２駆動機構と、を有し、前記第１駆動機構の駆動量に対する前記光路内の複数の位置のそれぞれにおける前記光学部材の移動量と、前記第２駆動機構の駆動量に対する前記光路内の複数の位置のそれぞれにおける前記光学部材の移動量と、を含む情報を用いて、前記光学部材が目標形状になるように前記第１駆動機構及び前記第２駆動機構を制御することによって、前記マスクのパターンの像の歪みを制御する、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、板状の光学部材の変形量の計測結果を用いることなく光学部材を変形させる駆動機構を駆動するだけで、光学部材を目標形状に変形してマスクのパターン像の歪みを制御することが可能な露光装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月14日(2016.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷装置と非同期の双方向通信を行う通信経路を確立し、確立した前記通信経路に識別情報を付与する通信管理部と、
前記通信経路が確立したときに前記印刷装置の識別情報と前記通信経路の識別情報とを対応付けて記憶する記憶部と、
前記印刷装置の識別情報を含む印刷情報データを受信する接続部と、
前記接続部で受信した印刷情報データに含まれる前記印刷装置の識別情報と対応付けられる前記通信経路の識別情報を前記記憶部から取得し、取得した前記通信経路の識別情報が付与された前記通信経路に前記印刷情報データに基づいて生成される制御データを送信する印刷データ処理部と、
を有する印刷制御装置。
【請求項２】
前記通信管理部は、前記通信経路が確立されたときに前記印刷装置から前記印刷装置の識別情報を取得する請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項３】
前記印刷データ処理部は、前記接続部で前記印刷情報データを受信したときに、前記印刷情報データに基づいて前記制御データを生成する請求項１又は２に記載の印刷制御装置。
【請求項４】
前記非同期の双方向通信は、ＷｅｂＳｏｃｋｅｔ通信である請求項１から３のいずれか一項に記載の印刷制御装置。
【請求項５】
印刷装置と、
前記印刷装置の識別情報を含む印刷情報データを送信する管理装置と、
前記印刷装置と非同期の双方向通信を行う通信経路を確立して、確立した前記通信経路に識別情報を付与する通信管理部、前記通信経路が確立したときに前記印刷装置の識別情報と前記通信経路の識別情報とを対応付けて記憶する記憶部、前記管理装置から前記印刷情報データを受信する接続部、及び前記接続部で受信した前記印刷情報データに含まれる前記印刷装置の識別情報と対応付けられる前記通信経路の識別情報を前記記憶部から取得し、取得した前記通信経路の識別情報が付与された前記通信経路に前記印刷情報データに基づいて生成される制御データを送信する印刷データ処理部を有する印刷制御装置と、
を備える印刷制御システム。