【手続補正書】
【提出日】平成28年7月4日(2016.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体処理機器で使用するためのシャワーヘッドであって、
第１のプレナム容積部と、
第２のプレナム容積部と、
フェイスプレートと、
プレナム分割体と
を備え、
前記プレナム分割体が、第１の面と、前記プレナム分割体の前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
前記フェイスプレートが、第１の面と、前記フェイスプレートの前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
第１のギャップを形成するように、前記フェイスプレートの前記第１の面が、前記プレナム分割体の前記第２の面に面し、前記プレナム分割体の前記第２の面から第１の距離だけずらして配され、
前記プレナム分割体の前記第１の面が、前記第１のプレナム容積部を部分的に画定し、
前記第２のプレナム容積部が、前記第１のギャップ内部で前記プレナム分割体と前記フェイスプレートとの間に位置し、
前記プレナム分割体が、複数の管状構造を含み、前記管状構造が、前記プレナム分割体の前記第２の面から第２の距離だけ突出し、各管状構造が、外面と、前記管状構造および前記プレナム分割体を通過する第１の貫通穴とを有し、
前記フェイスプレートが、複数の第２の貫通穴を含み、各第２の貫通穴が、前記複数の管状構造の異なる１つに対応し、前記対応する管状構造の前記外面から少なくとも第３の距離だけずれた内面を有し、
前記第１の距離が、前記第２の距離未満であり、
前記フェイスプレートが、前記プレナム分割体から実質的に伝熱的に隔離される、シャワーヘッド。
【請求項２】
請求項１、および３から２２のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートと前記プレナム分割体が、それらの間で０．０５Ｗ／（ｉｎ2Ｋ）以下の熱伝導率を有するように構成される、シャワーヘッド。
【請求項３】
請求項１または２に記載のシャワーヘッドであって、さらに、
バックプレートを備え、
前記第１のプレナム容積部が、前記バックプレートによっても部分的に画定され、
前記バックプレートが、複数の内部冷却経路を含み、能動的に冷却されるように構成される、シャワーヘッド。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記プレナム分割体が、前記プレナム分割体の内部でクーラントを循環させるように構成された１つまたは複数の内部冷却経路を含む、シャワーヘッド。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
さらに、無線周波数発生器に接続され、かつ第１のガス入口に流体接続されたプラズマドームを備え、
前記第１のプレナム容積部が、前記プラズマドームによっても部分的に画定され、
前記プラズマドームおよびＲＦ発生器が、前記第１のガス入口からのガスを使用して前記第１のプレナム容積部の内部でプラズマを発生するように構成される、シャワーヘッド。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートが、前記複数の第２の貫通穴に加えて、複数の追加の第２の貫通穴を有し、
前記複数の追加の第２の貫通穴が、対応する管状構造を有さない、シャワーヘッド。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記管状構造が実質的に円筒形であり、前記複数の第１の貫通穴と前記複数の第２の貫通穴が実質的に円形であり、各第２の貫通穴の内面と各対応する管状構造の外面との間のずれが、前記第２の貫通穴と前記対応する管状構造との間に環状ギャップ領域を生じる、シャワーヘッド。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記第３の距離が、約０．１インチ未満である、シャワーヘッド。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記第３の距離が、約０．００５インチ〜０．０２０インチの間である、シャワーヘッド。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
各管状構造が、前記対応する第２の貫通穴の近傍の前記フェイスプレートの前記第２の面と実質的に面一の位置で終端する、シャワーヘッド。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、さらに、
第１のガス入口と、
第２のガス入口と、を備え、
前記第１のガス入口が、前記第１のプレナム容積部にガスを供給するように構成され、
前記第２のガス入口が、前記第２のプレナム容積部にガスを供給するように構成され、
前記第２のガス入口が、実質的に管状であり、前記プレナム分割体を通過し、前記フェイスプレートの前記第１の面と前記プレナム分割体の前記第２の面との間にまたがり、
前記第２のガス入口が、複数の径方向ガス分散穴の円形アレイを有し、各径方向ガス分散穴が、前記第２のガス入口を前記第２のプレナム容積部と流体接続させる、シャワーヘッド。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、さらに、
１つまたは複数の低接触面積（ＬＣＡ）要素と、
内周を有する第１の低熱伝導バリアと、を備え、
前記１つまたは複数のＬＣＡ要素が、前記プレナム分割体に対して前記フェイスプレートを支持し、
前記第１の低熱伝導バリアが、前記第１のギャップをまたぐように、前記フェイスプレートと前記プレナム分割体との間に配されており、
前記第１の低熱伝導バリアが、前記第１の低熱伝導バリアの前記内周の内側に前記複数の第２の貫通穴が位置するように配される、シャワーヘッド。
【請求項１３】
請求項１２に記載のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートから前記シャワーヘッドの他の構成要素への熱伝導経路の実質的に全てが、前記１つまたは複数のＬＣＡ要素および前記第１の低熱伝導バリアによって提供される、シャワーヘッド。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載のシャワーヘッドであって、
前記１つまたは複数のＬＣＡ要素が、前記第１の低熱伝導バリアに巡らせて間隔を空けて配置された複数のポストによって提供され、前記ポストが、前記フェイスプレートを張力下で支持するように構成される、シャワーヘッド。
【請求項１５】
請求項１２から１４のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
さらに、カラーを含み、前記カラーが、前記フェイスプレートから少なくとも第４の距離だけずらして配されたカラー内面を有し、前記フェイスプレートよりも小さい内部アパーチャを有し、前記１つまたは複数のＬＣＡ要素が、複数のＬＣＡボールによって提供され、前記ＬＣＡボールが、圧縮下で前記フェイスプレートの前記第２の面を支持し、前記ＬＣＡボールが、前記カラー内面と前記フェイスプレートとの間に位置する、シャワーヘッド。
【請求項１６】
請求項１２から１５のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
さらに、内周を有する第２の低熱伝導バリアを備え、
前記第２の低熱伝導バリアが、前記第１のギャップをまたぐように、前記フェイスプレートと前記プレナム分割体との間に配されており、
前記第１の低熱伝導バリアが、前記第２の低熱伝導バリアの前記内周の内側に配される、シャワーヘッド。
【請求項１７】
請求項１６に記載のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートから前記シャワーヘッドの他の構成要素への熱伝導経路の実質的に全てが、前記１つまたは複数のＬＣＡ要素、前記第１の低熱伝導バリア、および前記第２の低熱伝導バリアによって提供される、シャワーヘッド。
【請求項１８】
請求項１６または１７に記載のシャワーヘッドであって、
第３のプレナム容積部が、前記フェイスプレートの前記第１の面、前記プレナム分割体の前記第２の面、前記第１の低熱伝導バリア、および前記第２の低熱伝導バリアによって少なくとも部分的に画定され、
前記フェイスプレートが、
複数の内部流路と、
前記フェイスプレートの前記第１の面にある複数の第３の穴と
を含み、
各第３の穴が、前記複数の内部流路の１つと前記フェイスプレートの前記第１の面との間をまたぎ、
各第３の穴が、前記第１の低熱伝導バリアと前記第２の低熱伝導バリアとの間の領域内で、前記フェイスプレートの前記第１の面に抜ける、シャワーヘッド。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシャワーヘッドであって、
前記第１のプレナム容積部、前記第２のプレナム容積部、および前記第３のプレナム容積部が全て、別個のガス入口から供給される、シャワーヘッド。
【請求項２０】
請求項１８または１９に記載のシャワーヘッドであって、
前記複数の第２の貫通穴が、前記複数の内部流路に交差し、それにより、前記複数の第２の貫通穴が、前記フェイスプレート内部の前記複数の内部流路と流体連絡する、シャワーヘッド。
【請求項２１】
請求項１８から２０のいずれか一項に記載のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートが、さらに、前記フェイスプレートの前記第２の面に複数の第４の穴を含み、
各第４の穴が、前記複数の内部流路の１つと、前記フェイスプレートの前記第２の面との間をまたぐ、シャワーヘッド。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシャワーヘッドであって、
前記複数の第４の穴が、前記フェイスプレート内部の前記複数の第２の貫通穴から流体的に隔離される、シャワーヘッド。
【請求項２３】
反応チャンバと、
ウェハ支持体と、
シャワーヘッドと
を備える半導体処理装置であって、
前記シャワーヘッドが、
第１のプレナム容積部と、
第２のプレナム容積部と、
フェイスプレートと、
プレナム分割体と、を含み、
前記プレナム分割体が、第１の面と、前記プレナム分割体の前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
前記フェイスプレートが、第１の面と、前記フェイスプレートの前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
第１のギャップを形成するように、前記フェイスプレートの前記第１の面が、前記プレナム分割体の前記第２の面に面し、前記プレナム分割体の前記第２の面から第１の距離だけずらして配され、
前記プレナム分割体の前記第１の面が、前記第１のプレナム容積部を部分的に画定し、
前記第２のプレナム容積部が、前記第１のギャップ内部で前記プレナム分割体と前記フェイスプレートとの間に位置し、
前記プレナム分割体が、複数の管状構造を含み、前記管状構造が、前記プレナム分割体の前記第２の面から第２の距離だけ突出し、各管状構造が、外面と、前記管状構造および前記プレナム分割体を通過する第１の貫通穴とを有し、
前記フェイスプレートが、複数の第２の貫通穴を含み、各第２の貫通穴が、前記管状構造の異なる１つに対応し、前記対応する管状構造の前記外面から少なくとも第３の距離だけずれた内面を有し、
前記第１の距離が、前記第２の距離未満であり、
前記フェイスプレートが、前記プレナム分割体から実質的に伝熱的に隔離され、
前記半導体処理装置が、前記シャワーヘッドの前記フェイスプレートの前記第２の面が前記ウェハ支持体に面するように構成され、
前記ウェハ支持体が、前記反応チャンバ内部で半導体ウェハを支持するように構成される、半導体処理装置。
【請求項２４】
１つまたは複数の反応チャンバを備える半導体処理ツールであって、少なくとも１つの反応チャンバが、ウェハ支持体と、シャワーヘッドとを有し、
前記シャワーヘッドが、
第１のプレナム容積部と、
第２のプレナム容積部と、
フェイスプレートと、
プレナム分割体と、を含み、
前記プレナム分割体が、第１の面と、前記プレナム分割体の前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
前記フェイスプレートが、第１の面と、前記フェイスプレートの前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
第１のギャップを形成するように、前記フェイスプレートの前記第１の面が、前記プレナム分割体の前記第２の面に面し、前記プレナム分割体の前記第２の面から第１の距離だけずらして配され、
前記プレナム分割体の前記第１の面が、前記第１のプレナム容積部を部分的に画定し、
前記第２のプレナム容積部が、前記第１のギャップ内部で前記プレナム分割体と前記フェイスプレートとの間に位置し、
前記プレナム分割体が、複数の管状構造を含み、前記管状構造が、前記プレナム分割体の前記第２の面から第２の距離だけ突出し、各管状構造が、外面と、前記管状構造および前記プレナム分割体を通過する第１の貫通穴とを有し、
前記フェイスプレートが、複数の第２の貫通穴を含み、各第２の貫通穴が、前記管状構造の異なる１つに対応し、前記対応する管状構造の前記外面から少なくとも第３の距離だけずれた内面を有し、
前記第１の距離が、前記第２の距離未満であり、
前記フェイスプレートが、前記プレナム分割体から実質的に伝熱的に隔離され、
前記半導体処理ツールが、前記シャワーヘッドの前記フェイスプレートの前記第２の面が前記ウェハ支持体に面するように構成され、
前記ウェハ支持体が、前記少なくとも１つの反応チャンバ内部で半導体ウェハを支持するように構成される、半導体処理ツール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【図７Ｃ】破線の長方形で囲まれた図７Ｂの部分の詳細図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
シャワーヘッド２００とシャワーヘッド１００の１つの相違点は、シャワーヘッド２００のフェイスプレート２１０が、圧縮支持ではなく張力支持を使用して支持されることである。図２に示されるように、回転可能なカムロック２６２、すなわちカム機構を介してポスト２６０と係合するように構成された受取部を有する円筒体の径方向アレイが、プレナム分割体２０８の周縁（またはシャワーヘッド２００の他の部分）に巡らせて位置することがある。ポスト２６０は、たとえば碍子２６６およびばね２６４を介してフェイスプレート２１０と接続されることがある。ばね２６４は、コイルばねでよく、または何らかの他の機構によって提供されることがあり、そのような機構は、たとえば、各ポスト２６０の周りに交互の向きで配置されたベルヴィルワッシャのスタックである。碍子２６６は、フェイスプレート２１０の内部に埋め込まれることがあり、または他の形でフェイスプレート２１０に接続されることがある。碍子２６６は、形態的特徴部、たとえば内部突起またはショルダを有することがあり、これらは、ポスト２６０がフェイスプレート２１０から引き離されるときに、ばね２６４を圧縮するように働くことがある。また、碍子２６６は、フェイスプレート２１０から突出することもある。ポスト２６０がその対応するカムロック２６２と係合され、対応するカムロック２６２が回転されるとき、カムロック２６２は、ポスト２６０および最初はフェイスプレート２１０をプレナム分割体２０８に向けて引くことを試みることがある。ポスト２６０およびフェイスプレート２１０が、最終的に十分な距離だけプレナム分割体に向けて引かれると、碍子２６６は、プレナム分割体２０８（または他の構造）に接触することがあり、ポスト２６０の残りの移動は、主にばね２６８の圧縮によって対処されることがある。したがって、ポスト２６０は、張力を受けることがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
図４は、プラズマドームと連係された、複数プレナム／２温度シャワーヘッドの一例の概念的な断面概略図を示す。図４で、シャワーヘッド４００の全体的な構造は、図３Ａおよび図３Ｂのシャワーヘッド３００の全体的な構造と同様である。以下に論じる図４の特有の構造、要素、および特徴を除いて、図３Ａおよび図３Ｂの構造、要素、および特徴と下２桁が同じ符号を付された図４の構造、要素、または特徴は、上述した図３Ａおよび図３Ｂのそれらの対応する構造、要素、または特徴と実質的に同一であり得ることを理解されたい。繰返しを避けるために、そのような要素の説明については上記の論述を参照されたい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
シャワーヘッド５００と同様に、第１のプレナム容積部６０２と第２のプレナム容積部６０４は、シャワーヘッド６００内部に位置することがあり、プレナム分割体６０８によって互いに分離されることがある。第１のプレナム容積部６０２は、第１のガス入口６４４を通してガスを供給されることがあり、プレナム分割体６０８とバックプレート６８２との間に位置することがある。第２のプレナム容積部６０４は、第２のガス入口６４６を通してガスを供給されることがあり、プレナム分割体６０８とフェイスプレート６１０との間に位置することがある。第２のガス入口６４６は、複数の径方向ガス分散穴６５０を有することがあり、ガス分散穴６５０は、ガスが第２のプレナム容積部６０４内に送給されるときに、ガスをまず径方向に流す。図６Ｃに見られる第３のプレナム容積部６０６は、１つまたは複数の第３のガス入口６４８を通してガスを供給されることがある。第３のプレナム容積部は、図６Ｃに見られる１または複数の内部流路６７４にプロセスガスを提供することができ、内部流路６７４は、たとえば、フェイスプレート６１０とフェイスプレートカバー６９４との間に形成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
図７Ａは、３プレナム／２温度シャワーヘッドの別の例の斜視図を示す。図７Ｂは、図７Ａからの３プレナム／２温度シャワーヘッドの例の断面斜視図を示す。図７Ｃは、破線の長方形で囲まれた図７Ｂの部分の詳細図を示す。図７Ｄは、図７Ａからの３プレナム／２温度シャワーヘッドの例の３次元分解断面図を示す。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
上記の特定の実装形態の任意のものにおける特徴が互いに不適合であると明示的に断定されない限り、あるいは、互いに排他的で、補完的および／または補助的な意味合いで容易に組み合わせることができないことを前後の文脈が示唆しない限り、それらの補完的な実装形態の特定の特徴を選択的に組み合わせて、広範であるがわずかに異なる１つまたは複数の技術的解決策を提供することができることを本開示の全体が企図および想定していることも理解されたい。したがって、上の説明は例として提示されているにすぎず、本開示の範囲内で細部に変更を施すことができることをさらに理解されたい。
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例１：
半導体処理機器で使用するためのシャワーヘッドであって、
第１のプレナム容積部と、
第２のプレナム容積部と、
フェイスプレートと、
プレナム分割体と
を備え、
前記プレナム分割体が、第１の面と、前記プレナム分割体の前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
前記フェイスプレートが、第１の面と、前記フェイスプレートの前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
第１のギャップを形成するように、前記フェイスプレートの前記第１の面が、前記プレナム分割体の前記第２の面に面し、前記プレナム分割体の前記第２の面から第１の距離だけずらして配され、
前記プレナム分割体の前記第１の面が、前記第１のプレナム容積部を部分的に画定し、
前記第２のプレナム容積部が、前記第１のギャップ内部で前記プレナム分割体と前記フェイスプレートとの間に位置し、
前記プレナム分割体が、複数の管状構造を含み、前記管状構造が、前記プレナム分割体の前記第２の面から第２の距離だけ突出し、各管状構造が、外面と、前記管状構造および前記プレナム分割体を通過する第１の貫通穴とを有し、
前記フェイスプレートが、複数の第２の貫通穴を含み、各第２の貫通穴が、前記複数の管状構造の異なる１つに対応し、前記対応する管状構造の前記外面から少なくとも第３の距離だけずれた内面を有し、
前記第１の距離が、前記第２の距離未満であり、
前記フェイスプレートが、前記プレナム分割体から実質的に伝熱的に隔離される、シャワーヘッド。
適用例２：
適用例１、および３から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートと前記プレナム分割体が、それらの間で０．０５Ｗ／（ｉｎ2Ｋ）以下の熱伝導率を有するように構成される、シャワーヘッド。
適用例３：
適用例１、２、および４から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、さらに、
バックプレートを備え、
前記第１のプレナム容積部が、前記バックプレートによっても部分的に画定され、
前記バックプレートが、複数の内部冷却経路を含み、能動的に冷却されるように構成される、シャワーヘッド。
適用例４：
適用例１から３、および５から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記プレナム分割体が、前記プレナム分割体の内部でクーラントを循環させるように構成された１つまたは複数の内部冷却経路を含む、シャワーヘッド。
適用例５：
適用例１から４、および６から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
さらに、無線周波数発生器に接続され、かつ第１のガス入口に流体接続されたプラズマドームを備え、
前記第１のプレナム容積部が、前記プラズマドームによっても部分的に画定され、
前記プラズマドームおよびＲＦ発生器が、前記第１のガス入口からのガスを使用して前記第１のプレナム容積部の内部でプラズマを発生するように構成される、シャワーヘッド。
適用例６：
適用例１から５、および７から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートが、前記複数の第２の貫通穴に加えて、複数の追加の第２の貫通穴を有し、
前記複数の追加の第２の貫通穴が、対応する管状構造を有さない、シャワーヘッド。
適用例７：
適用例１から６、および８から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記管状構造が実質的に円筒形であり、前記複数の第１の貫通穴と前記複数の第２の貫通穴が実質的に円形であり、各第２の貫通穴の内面と各対応する管状構造の外面との間のずれが、前記第２の貫通穴と前記対応する管状構造との間に環状ギャップ領域を生じる、シャワーヘッド。
適用例８：
適用例１から７、および９から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記第３の距離が、約０．１インチ未満である、シャワーヘッド。
適用例９：
適用例１から８、および１０から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記第３の距離が、約０．００５インチ〜０．０２０インチの間である、シャワーヘッド。
適用例１０：
適用例１から９、および１１から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
各管状構造が、前記対応する第２の貫通穴の近傍の前記フェイスプレートの前記第２の面と実質的に面一の位置で終端する、シャワーヘッド。
適用例１１：
適用例１から１０、および１２から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、さらに、
第１のガス入口と、
第２のガス入口と、を備え、
前記第１のガス入口が、前記第１のプレナム容積部にガスを供給するように構成され、
前記第２のガス入口が、前記第２のプレナム容積部にガスを供給するように構成され、
前記第２のガス入口が、実質的に管状であり、前記プレナム分割体を通過し、前記フェイスプレートの前記第１の面と前記プレナム分割体の前記第２の面との間にまたがり、
前記第２のガス入口が、複数の径方向ガス分散穴の円形アレイを有し、各径方向ガス分散穴が、前記第２のガス入口を前記第２のプレナム容積部と流体接続させる、シャワーヘッド。
適用例１２：
適用例１から１１のいずれか一項のシャワーヘッドであって、さらに、
１つまたは複数の低接触面積（ＬＣＡ）要素と、
内周を有する第１の低熱伝導バリアと、を備え、
前記１つまたは複数のＬＣＡ要素が、前記プレナム分割体に対して前記フェイスプレートを支持し、
前記第１の低熱伝導バリアが、前記第１のギャップをまたぐように、前記フェイスプレートと前記プレナム分割体との間に配されており、
前記第１の低熱伝導バリアが、前記第１の低熱伝導バリアの前記内周の内側に前記複数の第２の貫通穴が位置するように配される、シャワーヘッド。
適用例１３：
適用例１２、および１４から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートから前記シャワーヘッドの他の構成要素への前記熱伝導経路の実質的に全てが、前記１つまたは複数のＬＣＡ要素および前記第１の低熱伝導バリアによって提供される、シャワーヘッド。
適用例１４：
適用例１２、１３、および１５から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記１つまたは複数のＬＣＡ要素が、前記第１の低熱伝導バリアに巡らせて間隔を空けて配置された複数のポストによって提供され、前記ポストが、前記フェイスプレートを張力下で支持するように構成される、シャワーヘッド。
適用例１５：
適用例１２から１４、および１６から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
さらに、カラーを含み、前記カラーが、前記フェイスプレートから少なくとも第４の距離だけずらして配されたカラー内面を有し、前記フェイスプレートよりも小さい内部アパーチャを有し、前記１つまたは複数のＬＣＡ要素が、複数のＬＣＡボールによって提供され、前記ＬＣＡボールが、圧縮下で前記フェイスプレートの前記第２の面を支持し、前記ＬＣＡボールが、前記カラー内面と前記フェイスプレートとの間に位置する、シャワーヘッド。
適用例１６：
適用例１２から１５のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
さらに、内周を有する第２の低熱伝導バリアを備え、
前記第２の低熱伝導バリアが、前記第１のギャップをまたぐように、前記フェイスプレートと前記プレナム分割体との間に配されており、
前記第１の低熱伝導バリアが、前記第２の低熱伝導バリアの前記内周の内側に配される、シャワーヘッド。
適用例１７：
適用例１６、および１８から２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートから前記シャワーヘッドの他の構成要素への前記熱伝導経路の実質的に全てが、前記１つまたは複数のＬＣＡ要素、前記第１の低熱伝導バリア、および前記第２の低熱伝導バリアによって提供される、シャワーヘッド。
適用例１８：
適用例１６または１７のシャワーヘッドであって、
第３のプレナム容積部が、前記フェイスプレートの前記第１の面、前記プレナム分割体の前記第２の面、前記第１の低熱伝導バリア、および前記第２の低熱伝導バリアによって少なくとも部分的に画定され、
前記フェイスプレートが、
複数の内部流路と、
前記フェイスプレートの前記第１の面にある複数の第３の穴と
を含み、
各第３の穴が、前記複数の内部流路の１つと前記フェイスプレートの前記第１の面との間をまたぎ、
各第３の穴が、前記第１の低熱伝導バリアと前記第２の低熱伝導バリアとの間の領域内で、前記フェイスプレートの前記第１の面に抜ける、シャワーヘッド。
適用例１９：
適用例１８のシャワーヘッドであって、
前記第１のプレナム容積部、前記第２のプレナム容積部、および前記第３のプレナム容積部が全て、別個のガス入口から供給される、シャワーヘッド。
適用例２０：
適用例１８、１９、２１、および２２のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記複数の第２の貫通穴が、前記複数の内部流路に交差し、それにより、前記複数の第２の貫通穴が、前記フェイスプレート内部の前記複数の内部流路と流体連絡する、シャワーヘッド。
適用例２１：
適用例１８から２０のいずれか一項のシャワーヘッドであって、
前記フェイスプレートが、さらに、前記フェイスプレートの前記第２の面に複数の第４の穴を含み、
各第４の穴が、前記複数の内部流路の１つと、前記フェイスプレートの前記第２の面との間をまたぐ、シャワーヘッド。
適用例２２：
適用例２１のシャワーヘッドであって、
前記複数の第４の穴が、前記フェイスプレート内部の前記複数の第２の貫通穴から流体的に隔離される、シャワーヘッド。
適用例２３：
反応チャンバと、
ウェハ支持体と、
シャワーヘッドと
を備える半導体処理装置であって、
前記シャワーヘッドが、
第１のプレナム容積部と、
第２のプレナム容積部と、
フェイスプレートと、
プレナム分割体と、を含み、
前記プレナム分割体が、第１の面と、前記プレナム分割体の前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
前記フェイスプレートが、第１の面と、前記フェイスプレートの前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
第１のギャップを形成するように、前記フェイスプレートの前記第１の面が、前記プレナム分割体の前記第２の面に面し、前記プレナム分割体の前記第２の面から第１の距離だけずらして配され、
前記プレナム分割体の前記第１の面が、前記第１のプレナム容積部を部分的に画定し、
前記第２のプレナム容積部が、前記第１のギャップ内部で前記プレナム分割体と前記フェイスプレートとの間に位置し、
前記プレナム分割体が、複数の管状構造を含み、前記管状構造が、前記プレナム分割体の前記第２の面から第２の距離だけ突出し、各管状構造が、外面と、前記管状構造および前記プレナム分割体を通過する第１の貫通穴とを有し、
前記フェイスプレートが、複数の第２の貫通穴を含み、各第２の貫通穴が、前記管状構造の異なる１つに対応し、前記対応する管状構造の前記外面から少なくとも第３の距離だけずれた内面を有し、
前記第１の距離が、前記第２の距離未満であり、
前記フェイスプレートが、前記プレナム分割体から実質的に伝熱的に隔離され、
前記半導体処理装置が、前記シャワーヘッドの前記フェイスプレートの前記第２の面が前記ウェハ支持体に面するように構成され、
前記ウェハ支持体が、前記反応チャンバ内部で半導体ウェハを支持するように構成される、半導体処理装置。
適用例２４：
１つまたは複数の反応チャンバを備える半導体処理ツールであって、少なくとも１つの反応チャンバが、ウェハ支持体と、シャワーヘッドとを有し、
前記シャワーヘッドが、
第１のプレナム容積部と、
第２のプレナム容積部と、
フェイスプレートと、
プレナム分割体と、を含み、
前記プレナム分割体が、第１の面と、前記プレナム分割体の前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
前記フェイスプレートが、第１の面と、前記フェイスプレートの前記第１の面とは逆側の第２の面とを有し、
第１のギャップを形成するように、前記フェイスプレートの前記第１の面が、前記プレナム分割体の前記第２の面に面し、前記プレナム分割体の前記第２の面から第１の距離だけずらして配され、
前記プレナム分割体の前記第１の面が、前記第１のプレナム容積部を部分的に画定し、
前記第２のプレナム容積部が、前記第１のギャップ内部で前記プレナム分割体と前記フェイスプレートとの間に位置し、
前記プレナム分割体が、複数の管状構造を含み、前記管状構造が、前記プレナム分割体の前記第２の面から第２の距離だけ突出し、各管状構造が、外面と、前記管状構造および前記プレナム分割体を通過する第１の貫通穴とを有し、
前記フェイスプレートが、複数の第２の貫通穴を含み、各第２の貫通穴が、前記管状構造の異なる１つに対応し、前記対応する管状構造の前記外面から少なくとも第３の距離だけずれた内面を有し、
前記第１の距離が、前記第２の距離未満であり、
前記フェイスプレートが、前記プレナム分割体から実質的に伝熱的に隔離され、
前記半導体処理ツールが、前記シャワーヘッドの前記フェイスプレートの前記第２の面が前記ウェハ支持体に面するように構成され、
前記ウェハ支持体が、前記少なくとも１つの反応チャンバ内部で半導体ウェハを支持するように構成される、半導体処理ツール。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６Ｃ】
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