【手続補正書】
【提出日】平成28年7月19日(2016.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前処理装置から供給された基板に対して、前記基板に対するレシピ情報に基づいて、パターン形成処理をそれぞれが行う複数の処理部を有するリソグラフィ装置であって、
複数のロットにそれぞれ属する複数の前記基板が並行したパターン形成処理をされるように、前記複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて前記複数の処理部を制御し、かつ前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を前記前処理装置に送信する制御部を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記スケジュールに関する情報を、前記複数の処理部のそれぞれでそれに対応するロットを処理するのに要する処理時間に基づいて生成する、ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記処理時間を、前記レシピ情報と前記処理部の状態とに基づいて得る、ことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記処理時間を、１以上の処理済みロットの処理時間の実績値の情報に基づいて得る、ことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記複数の処理部でのパターン形成処理の状態に基づいて、前記スケジュールに関する情報を更新して前記前処理装置に送信する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記前処理装置でなく、前記リソグラフィ装置と前記前処理装置とに通信接続された情報処理装置に、前記スケジュールに関する情報を送信する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記複数の処理部は、インプリント処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項６のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記複数の処理部は、荷電粒子線でパターン形成を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項６のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前処理装置から供給された基板に対するパターン形成処理を、前記基板に対するレシピ情報に基づいて、複数の処理部で並行して行うリソグラフィ方法であって、
複数のロットにそれぞれ属する複数の前記基板に対する並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を前記複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて生成し、
前記スケジュールに関する情報を前記前処理装置に送信する、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。
【請求項１０】
請求項９に記載のリソグラフィ方法を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置と、
該リソグラフィ装置に基板を供給する前処理装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置または請求項９に記載のリソグラフィ方法を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１３】
前処理装置から供給された基板に対するパターン形成処理を、リソグラフィ装置に含まれている複数の処理部で並行して、前記基板に対するレシピ情報に基づいて行うことにより、物品を製造する方法であって、
複数のロットにそれぞれ属する複数の基板に対する並行したパターン形成処理のスケジュールを、前記複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて生成し、
前記スケジュールに関する前記情報に基づいて、前記複数の基板に対する処理を前記処理装置に行わせ、
前記前処理装置から供給された前記複数の基板に対する並行したパターン形成処理を前記リソグラフィ装置に行わせる、
ことを特徴とする方法。
【請求項１４】
リソグラフィ装置であって、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第１処理部と、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第２処理部と、
第１ロットに属する第１基板のパターン形成処理を前記第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部が行い、かつ第２ロットに属する第２基板のパターン形成処理を前記第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部が行う並行したパターン形成処理を前記第１処理部および前記第２処理部に行わせる制御部と、
を有するリソグラフィ装置。
【請求項１５】
リソグラフィ装置であって、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第１処理部と、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第２処理部と、
第１ロットに属する第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部がパターン形成処理を前記第１基板に行うべきであり、かつ第２ロットに属する第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部がパターン形成処理を前記第２基板に行うべきである並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第１処理部に前記第１基板を搬送し、かつ前記第２処理部に前記第２基板を搬送する搬送部と、
前記第１処理部および前記第２処理部に前記並行したパターン形成処理を行わせる制御部と、
を有するリソグラフィ装置。
【請求項１６】
リソグラフィ装置であって、
パターン形成処理を基板に行う第１処理部と、
パターン形成処理を基板に行う第２処理部と、
第１ロットに属する第１基板のパターン形成処理を前記第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部が行い、かつ第２ロットに属する第２基板のパターン形成処理を前記第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部が行う並行したパターン形成処理を前記第１処理部および前記第２処理部に行わせる制御部と、
を有するリソグラフィ装置。
【請求項１７】
パターン形成処理を基板に行う処理部をさらに少なくとも１つ有することを特徴とする請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第１処理部および前記第２処理部に前記第１基板および前記第２基板をそれぞれ搬送する搬送部を有することを特徴とする請求項１６または請求項１７二記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記制御部は、前記スケジュールに関する前記情報を、前記第１処理部で前記第１ロットを処理するのに要する第１処理時間と前記第２処理部で前記第２ロットを処理するのに要する第２処理時間とに基づいて生成する、ことを特徴とする請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記制御部は、前記第１基板に対する前記レシピ情報と前記第１処理部の状態とに基づいて前記第１処理時間を得る、ことを特徴とする請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記制御部は、前記第１処理時間を、前記第１処理時間の実績値の情報に基づいて得る、ことを特徴とする請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記制御部は、前記第１処理部でのパターン形成処理の状態と前記第２処理部でのパターン形成処理の状態とに基づいて、前記並行したパターン形成処理に関するスケジュールに関する情報を更新し、前記第１基板および前記第２基板に対する前処理装置に更新された前記情報を送信する、ことを特徴とする請求項１６ないし請求項２１のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
前記制御部は、前記リソグラフィ装置と前記第１基板および前記第２基板に対する前処理装置とに通信接続された情報処理装置に、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を送信する、ことを特徴とする請求項１６ないし請求項２２のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２４】
前記第１処理部および前記第２処理部は、インプリント処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項１６ないし請求項２３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２５】
前記第１処理部および前記第２処理部は、荷電粒子線でパターン形成処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項１６ないし請求項２３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２６】
第１処理部および第２処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うリソグラフィ方法であって、
第１ロットに属する第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部がパターン形成処理を前記第１基板に行うべきであり、かつ第２ロットに属する第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部がパターン形成処理を前記第２基板に行うべきである並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第１処理部に前記第１基板を搬送し、かつ前記第２処理部に前記第２基板を搬送し、
前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。
【請求項２７】
第１処理部および第２処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うリソグラフィ方法であって、
第１ロットに属する第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部がパターン形成処理を前記第１基板に行うべきであり、かつ第２ロットに属する第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部がパターン形成処理を前記第２基板に行うべきである並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を生成し、
生成された前記情報に基づいて、前記第１基板および前記第２基板に前処理を行い、
生成された前記情報に基づいて、前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。
【請求項２８】
請求項２６または請求項２７に記載のリソグラフィ方法を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項２９】
請求項１４ないし請求項２５うちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置に基板を供給する前処理装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項３０】
請求項１４ないし請求項２５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成処理を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成処理を行われた基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項３１】
第１処理部および第２処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うことにより物品を製造する方法であって、
第１ロットに属する第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部がパターン形成処理を前記第１基板に行うべきであり、かつ第２ロットに属する第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部がパターン形成処理を前記第２基板に行うべきである並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第１処理部に前記第１基板を搬送し、かつ前記第２処理部に前記第２基板を搬送し、
前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とする方法。
【請求項３２】
第１処理部および第２処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うことによって物品を製造する方法であって、
第１ロットに属する第１基板に対するレシピ情報に基づいて前記第１処理部がパターン形成処理を前記第１基板に行うべきであり、かつ第２ロットに属する第２基板に対するレシピ情報に基づいて前記第２処理部がパターン形成処理を前記第２基板に行うべきである並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を生成し、
生成された前記情報に基づいて、前記第１基板および前記第２基板に前処理を行い、
生成された前記情報に基づいて、前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、前処理装置から供給された基板に対して、基板に対するレシピ情報に基づいて、パターン形成処理をそれぞれが行う複数の処理部を有するリソグラフィ装置であって、複数のロットにそれぞれ属する複数の基板が並行したパターン形成処理をされるように、複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて複数の処理部を制御し、かつ並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を前処理装置に送信する制御部を有することを特徴とする。