【手続補正書】
【提出日】平成28年10月18日(2016.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する保持面を含むステージと、
前記基板を前記ステージに渡す基板搬送系と、
前記保持面における前記基板の保持状態に関する情報を取得する取得部と、
前記基板搬送系が前記基板を前記ステージに渡す際の前記保持面上における搬送位置を決定する処理を行う処理部と、を有し、
前記処理部は、前記ステージが前記保持面上における複数の位置のそれぞれで前記基板を保持したときに前記取得部によって取得される情報に基づいて、前記基板搬送系が前記基板を前記ステージに渡す前記搬送位置を決定することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記保持面を介して前記基板を真空吸着する真空ラインを更に有し、
前記取得部は、前記基板を真空吸着したときの前記真空ラインの内部の圧力値を前記情報として検出する圧力検出部を含み、
前記処理部は、前記複数の位置のそれぞれで前記基板を保持したときに前記圧力検出部によって検出される圧力値が規定値以下となる位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記複数の位置は、前記搬送位置の候補位置として前記保持面の中心から第１方向及び前記第１方向とは反対方向の第２方向に沿って配列され、
前記処理部は、前記第１方向に沿って配列された候補位置のうち、前記圧力検出部によって検出される圧力値が前記規定値以下となる１つの第１候補位置を求め、前記第２方向に沿って配列された候補位置のうち、前記圧力検出部によって検出される圧力値が前記規定値以下となる１つの第２候補位置を求め、前記第１候補位置と前記第２候補位置との間の位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記第１候補位置及び前記第２候補位置は、前記圧力検出部によって検出される圧力値が前記規定値以下となる候補位置のうち、前記保持面の中心から最も遠い位置の候補位置であることを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記処理部は、前記第１候補位置と前記第２候補位置との間の中間の位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項３又は４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記取得部は、前記基板を前記保持面で保持したときの前記基板の高さを前記情報として検出する高さ検出部を含み、
前記処理部は、前記複数の位置のそれぞれで前記基板を前記ステージに渡したときに前記高さ検出部によって検出される高さが規定範囲内となる位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記高さ検出部は、前記基板を前記保持面で吸着したときの前記基板の複数箇所の高さを検出し、
前記処理部は、前記複数の位置のうち、前記高さ検出部によって検出される前記複数箇所の高さが前記規定範囲内となる箇所の数が最も多い位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記基板を前記ステージに渡す基板搬送系と、
前記ステージにおける前記基板の保持状態に関する情報を取得する取得部と、
前記基板搬送系が前記基板を前記ステージに渡す際の前記ステージ上における搬送位置を決定する処理を行う処理部と、を有し、
前記処理部は、前記ステージ上における複数の位置のそれぞれで前記ステージが前記基板を保持したときに前記取得部によって取得される情報に基づいて、前記基板搬送系が前記基板を前記ステージに渡す前記搬送位置を決定することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記ステージを介して前記基板を真空吸着する真空ラインを更に有し、
前記取得部は、前記基板を真空吸着したときの前記真空ラインの内部の圧力値を前記情報として検出する圧力検出部を含み、
前記処理部は、前記複数の位置のそれぞれで前記基板を保持したときに前記圧力検出部によって検出される圧力値が規定値以下となる位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記取得部は、前記基板を前記ステージで保持したときの前記基板の高さを前記情報として検出する高さ検出部を含み、
前記処理部は、前記複数の位置のそれぞれで前記基板を前記ステージに渡したときに前記高さ検出部によって検出される高さが規定範囲内となる位置を、前記搬送位置として決定することを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
基板を保持する保持面を含むステージと、前記基板を前記ステージに渡す基板搬送系とを有するリソグラフィ装置において、前記基板搬送系が前記基板を前記ステージに渡す際の前記保持面上における搬送位置を決定する決定方法であって、
前記ステージが前記保持面上における複数の位置のそれぞれで前記基板を保持したときに、前記保持面における前記基板の保持状態に関する情報を取得する第１ステップと、
前記複数の位置のそれぞれについて前記第１ステップで取得された情報に基づいて、前記搬送位置を決定する第２ステップと、を有することを特徴とする決定方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
フォーカス検出部（高さ検出部）１０９は、基板チャック１０５における基板１０４の保持状態に関する情報を取得する取得部として機能し、かかる情報として、基板チャック１０５に保持された基板１０４の高さを検出する。具体的には、フォーカス検出部１０９は、真空ライン１０７によって、基板チャック１０５を介して基板１０４を真空吸着したときの基板１０４の高さ（基板表面における高さ方向の位置）を検出する。また、フォーカス検出部１０９は、基板チャック１０５を介して基板１０４を真空吸着したときの基板１０４の複数箇所の高さを検出することも可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本実施形態では、例えば、圧力検出部１０８によって検出される圧力値に基づいて、基板チャック１０５に対する基板１０４の搬送位置を決定（調整）し、基板チャック１０５による基板保持能力（基板矯正力）を最大限に発揮させる。具体的には、基板１０４の送り込み位置と基板ステージ１０６の基板１０４の受け取り位置との関係を変化させ、真空ライン１０７の内部の圧力値が最も変化しない基板１０４の搬送位置を、最適な搬送位置として決定する。換言すれば、基板搬送系１１０が複数の候補位置のそれぞれで基板１０４を基板ステージ１０６に渡したときに圧力検出部１０８によって検出される圧力値が規定値以下となる候補位置を、搬送位置として決定する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
露光装置１による露光処理について説明する。光源から発せられた光は、照明光学系１０１を介して、マスク１０２を照明する。マスク１０２を通過してパターンを反映する光は、投影光学系１０３を介して、基板ステージ１０６に保持された基板１０４に結像される。本実施形態では、基板搬送系１１０が基板１０４を基板ステージ１０６に渡す際の基板チャック１０５における搬送位置が最適な位置に決定されているため、基板チャック１０５による基板保持能力を最大限に発揮させることができる。これにより、基板ステージ１０６は、基板１０４を落下させたり、基板１０４を傷つけたりすることなく、基板１０４を保持することができる。従って、露光装置１は、基板１０４の周辺部まで、所定の線幅を維持して（即ち、デフォーカスさせずに）パターンを転写することができ、高いスループットで経済性よく高品位なデバイスなどの物品を提供することができる。