【手続補正書】
【提出日】平成28年2月25日(2016.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２基板上に、低温粘度変化(Low Temperature Viscosity Transition: LVT)無機物を含む少なくとも一つの予備無機膜を形成するステップと、
第１基板上に、少なくとも一つの有機発光部を形成するステップと、
前記第２基板及び前記第１基板のうち少なくとも一つのエッジに沿って、接着剤を塗布するステップと、
前記予備無機膜と前記有機発光部とが互いに対向するように、前記接着剤により前記第２基板と前記第１基板とを接合するステップと、
前記予備無機膜を、前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度以上の温度でヒーリングして、前記有機発光部を覆うように、無機膜を転写するステップと、を含むことを特徴とする有機発光装置の製造方法。
【請求項２】
前記無機膜を、前記第２基板から分離させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３】
前記第２基板は、ガラス、プラスチックまたはメタルを含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項４】
前記予備無機膜を形成するステップは、
前記ＬＶＴ無機物の粉末を含むペーストを、前記第２基板上に塗布するステップと、
前記ペーストを焼成するステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項５】
前記予備無機膜を形成するステップは、
前記ＬＶＴ無機物の粉末を含む分散液を、前記第２基板上にスプレー法により塗布するステップと、
前記分散液を熱処理するステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２基板と前記第１基板とを接合するステップは、真空、減圧または水分や酸素の影響がない不活性雰囲気で行われて、前記第２基板と前記第１基板との間を真空状態にするステップであることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度は、前記ＬＶＴ無機物に流動性を提供できる最小温度であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度は、前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値より低いことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記ＬＶＴ無機物は、スズ酸化物を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記ＬＶＴ無機物は、リン酸化物、リン酸ホウ素、スズフッ化物、ニオブ酸化物及びタングステン酸化物のうち一種以上をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記ＬＶＴ無機物は、ＳｎＯ；ＳｎＯ及びＰ２Ｏ５；ＳｎＯ及びＢＰＯ４；ＳｎＯ，ＳｎＦ２及びＰ２Ｏ５；ＳｎＯ，ＳｎＦ２，Ｐ２Ｏ５及びＮｂＯ；またはＳｎＯ，ＳｎＦ２，Ｐ２Ｏ５及びＷＯ３；を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記転写するステップは、前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度以上ないし前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値未満の範囲で、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１３】
前記転写するステップは、８０℃ないし１３２℃の範囲で、１時間ないし３時間、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１４】
前記転写するステップを、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１５】
前記転写するステップは、前記予備無機膜にレーザを照射してスキャニングするステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第２基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の有機膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第２基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の有機膜を形成するステップをさらに含み、
前記無機膜を、前記第２基板から分離させるステップは、前記有機膜にレーザを照射して、前記有機膜を、前記第２基板から分離させるステップを含むことを特徴とする請求項２に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１８】
前記有機膜は、前記無機膜の少なくとも一部を覆うように形成されたことを特徴とする請求項１６に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１９】
第２基板上に、ＬＶＴ無機物を含む少なくとも一つの予備無機膜を形成するステップと、
第１基板上に、少なくとも一つの有機発光部を形成するステップと、
前記第１基板及び有機発光部上に、前記有機発光部を覆うように、少なくとも一層の第１有機膜を形成するステップと、
前記第２基板及び前記第１基板のうち少なくとも一つのエッジに沿って、接着剤を塗布するステップと、
前記予備無機膜と前記第１有機膜とが互いに対向するように、前記第２基板と前記第１基板とを前記接着剤により結合するステップと、
前記予備無機膜を、前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度以上の温度でヒーリングして、前記第１有機膜を覆うように、無機膜を転写するステップと、を含むことを特徴とする有機発光装置の製造方法。
【請求項２０】
前記無機膜を、前記第２基板から分離させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第２基板は、ガラス、プラスチックまたはメタルを含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２２】
前記第１有機膜を形成するステップは、硬化性前駆体を提供するステップと、前記硬化性前駆体を硬化させるステップとを含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２３】
前記硬化性前駆体を提供するステップを、フラッシュ蒸発法を利用して行うことを特徴とする請求項２２に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２４】
前記硬化性前駆体を硬化させるステップを、ＵＶ（紫外線）硬化、赤外線硬化またはレーザ硬化を利用して行うことを特徴とする請求項２２に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２５】
前記予備無機膜を形成するステップは、
前記ＬＶＴ無機物の粉末を含むペーストを、前記第２基板上に塗布するステップと、
前記ペーストを焼成するステップと、を含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２６】
前記予備無機膜を形成するステップは、
前記ＬＶＴ無機物の粉末を含む分散液を、前記第２基板上にスプレーコーティングするステップと、
前記分散液を熱処理するステップと、を含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２７】
前記第２基板と前記第１基板とを接合するステップは、真空、減圧または水分や酸素の影響がない不活性雰囲気で行われて、前記第２基板と前記第１基板との間を真空状態にするステップであることを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２８】
前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度は、前記ＬＶＴ無機物に流動性を提供できる最小温度であることを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項２９】
前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度は、前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値より低いことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３０】
前記ＬＶＴ無機物は、スズ酸化物を含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３１】
前記ＬＶＴ無機物は、リン酸化物、リン酸ホウ素、スズフッ化物、ニオブ酸化物及びタングステン酸化物のうち一種以上をさらに含むことを特徴とする請求項３０に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３２】
前記ＬＶＴ無機物は、ＳｎＯ；ＳｎＯ及びＰ２Ｏ５；ＳｎＯ及びＢＰＯ４；ＳｎＯ，ＳｎＦ２及びＰ２Ｏ５；ＳｎＯ，ＳｎＦ２，Ｐ２Ｏ５及びＮｂＯ；またはＳｎＯ，ＳｎＦ２，Ｐ２Ｏ５及びＷＯ３；を含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３３】
前記転写するステップは、前記ＬＶＴ無機物の粘度変化温度以上ないし前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値未満の範囲で、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３４】
前記転写するステップは、８０℃ないし１３２℃の範囲で、１時間ないし３時間、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３５】
前記転写するステップを、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３６】
前記転写するステップは、前記予備無機膜にレーザを照射してスキャニングするステップを含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３７】
前記第２基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の第２有機膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３８】
前記第２基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の第２有機膜を形成するステップをさらに含み、
前記無機膜を、前記第２基板から分離させるステップは、前記第２有機膜にレーザを照射して、前記第２有機膜を、前記第２基板から分離させるステップを含むことを特徴とする請求項２０に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項３９】
前記第２有機膜は、前記無機膜の少なくとも一部を覆うように形成されたことを特徴とする請求項３７に記載の有機発光装置の製造方法。