【手続補正書】
【提出日】平成28年10月26日(2016.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの一端子と接続する画素電極と、
前記画素電極上に配置された支持部材と、
前記画素電極と前記支持部材との間に位置する複数の微細空間層（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）で形成される液晶層と、
前記支持部材の一端部及び前記液晶層上に位置する前記支持部材上に配置された第１疎水性膜と、
互いに隣接する前記微細空間層の領域の間に配置された第２疎水性膜と、
前記支持部材上に配置されるキャッピング膜と、を含む、ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２疎水性膜と前記画素電極との重なる面積は、前記基板と対向する前記第２疎水性膜の表面積及び前記基板と対向する前記画素電極の表面積より小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記複数の微細空間層の間にグルーブが形成され、前記キャッピング膜は前記グルーブを覆っている、ことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記グルーブで前記第２疎水性膜と前記キャッピング膜が接触する、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１疎水性膜は、前記支持部材の上部面に位置する第１部分と、前記第１部分から延在して前記グルーブ内の側面に沿って位置する第２部分とを含む、ことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記基板上に配置された複数の有機膜の部分（ｐｏｒｔｉｏｎ）と、
互いに隣接する前記有機膜の部分の間に配置された遮光部材と、をさらに含み、
前記第２疎水性膜は前記遮光部材と重なる、ことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記微細空間層上に配置された共通電極をさらに含む、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記微細空間層を取り囲む前記画素電極の表面及び前記共通電極の表面に親水性処理が施こされている、ことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記画素電極と前記微細空間層又は前記共通電極と前記微細空間層の間に配置された配向膜をさらに含む、ことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記微細空間層は液晶物質を含む、ことを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１疎水性膜は、炭素、水素又はフッ素を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
基板上に薄膜トランジスタを形成する段階と、
前記薄膜トランジスタの上に画素電極を形成する段階と、
前記画素電極上に犠牲膜を形成する段階と、
前記犠牲膜上に支持部材を形成する段階と、
前記犠牲膜を除去して、前記画素電極と前記支持部材との間に複数の微細空間層を形成する段階と、
前記支持部材の一端部と、前記複数の微細空間層のうちのいずれか一つの微細空間層と重なる部分に第１疎水性膜を形成する段階と、
前記複数の微細空間層の領域のうち、互いに隣接する微細空間層の領域の間に位置する第２疎水性膜を形成する段階と、
前記微細空間層に液晶物質を注入する段階と、
前記支持部材上にキャッピング膜を形成する段階と、を含む、ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第２疎水性膜と前記画素電極との重なる面積は、前記基板と対向する前記第２疎水性膜の表面積及び前記基板と対向する前記画素電極の表面積より小さいことを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記複数の微細空間層の間にグルーブを形成し、前記キャッピング膜は前記グルーブを覆うように形成する、ことを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記グルーブ内において前記第２疎水性膜と前記キャッピング膜が接触するように形成する、ことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１疎水性膜は、前記支持部材の上部面の上に位置する第１部分と、前記第１部分から延在して前記グルーブ内の側面を覆うように位置する第２部分とを含むように形成する、ことを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記基板上に複数の部分からなる有機膜を形成する段階と、
隣接する前記有機膜の部分の間に遮光部材を形成する段階と、をさらに含み、
前記第２疎水性膜は前記遮光部材と重なるように形成する、ことを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記犠牲膜の上に共通電極を形成する段階をさらに含む、ことを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記微細空間層を取り囲む前記画素電極の表面及び前記共通電極の表面に親水性処理を施す段階をさらに含む、ことを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記親水性処理の段階は、酸素を含むプラズマ処理を施す段階をさらに含む、ことを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、基板と、前記基板上に配置された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの一端子と接続する画素電極と、前記画素電極上に配置された支持部材と、前記画素電極と前記支持部材との間に位置する複数の微細空間層（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）で形成される液晶層と、前記支持部材の一端部及び前記液晶層上に位置する前記支持部材上に配置された第１疎水性膜と、互いに隣接する前記微細空間層の領域の間に配置された第２疎水性膜と、前記支持部材上に配置されるキャッピング膜と、を含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記第２疎水性膜と前記画素電極との重なる面積は、前記基板と対向する前記第２疎水性膜の表面積及び前記基板と対向する前記画素電極の表面積より小さいことが好ましい。
前記複数の微細空間層の間にグルーブが形成され、前記キャッピング膜は前記グルーブを覆ってもよい。
前記グルーブで前記第２疎水性膜と前記キャッピング膜が接触してもよい。
前記第１疎水性膜は、前記支持部材の上部面に位置する第１部分と、前記第１部分から延在して前記グルーブ内の側面に沿って位置する第２部分とを含んでもよい。
前記基板上に配置する有機膜と、前記有機膜の間に配置する遮光部材とをさらに含み、前記第２疎水性膜は前記遮光部材と重なってもよい。
前記微細空間層上に配置する共通電極をさらに含んでもよい。
前記微細空間層を取り囲む前記画素電極の表面及び前記共通電極の表面に親水性処理を施してもよい。
前記画素電極と前記微細空間層又は前記共通電極と前記微細空間層の間に配置する配向膜をさらに含んでもよい。
前記微細空間層は液晶物質を含んでもよい。
前記第１疎水性膜は、炭素、水素又はフッ素を含んでもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法は、基板上に薄膜トランジスタを形成する段階と、前記薄膜トランジスタの上に画素電極を形成する段階と、前記画素電極上に犠牲膜を形成する段階と、前記犠牲膜上に支持部材を形成する段階と、前記犠牲膜を除去して、前記画素電極と前記支持部材との間に複数の微細空間層を形成する段階と、前記支持部材の一端部と、前記複数の微細空間層のうちのいずれか一つの微細空間層と重なる部分に第１疎水性膜を形成する段階と、前記複数の微細空間層の領域のうち、互いに隣接する微細空間層の領域の間に位置する第２疎水性膜を形成する段階と、前記微細空間層に液晶物質を注入する段階と、前記支持部材上にキャッピング膜を形成する段階と、を含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記第２疎水性膜と前記画素電極との重なる面積は、前記基板と対向する前記第２疎水性膜の表面積及び前記基板と対向する前記画素電極の表面積より小さいことが好ましい。
前記複数の微細空間層の間にグルーブを形成し、前記キャッピング膜は前記グルーブを覆うように形成してもよい。
前記グルーブで前記第２疎水性膜と前記キャッピング膜が接触するように形成してもよい。
前記第１疎水性膜は、前記支持部材の上部面に上に位置する第１部分と、前記第１部分から延在して前記グルーブ内の側面を覆うように位置する第２部分とを含むように形成してもよい。
前記基板上に有機膜を形成する段階と、前記有機膜の間に遮光部材を形成する段階とをさらに含み、前記第２疎水性膜は前記遮光部材と重なるように形成してもよい。
前記犠牲膜上に共通電極を形成する段階をさらに含んでもよい。
前記微細空間層を取り囲む前記画素電極の表面及び前記共通電極の表面に親水性処理を施す段階をさらに含んでもよい。
前記親水性処理の段階は、酸素を含むプラズマ処理を施す段階をさらに含んでもよい。