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【手続補正書】
【提出日】平成28年6月24日(2016.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１に少なくとも７０％同一のアミノ酸配列を含むイズロン酸２スルファターゼ（Ｉ２Ｓ）タンパク質をコードする第一の核酸；および
配列番号５に少なくとも７０％同一のアミノ酸配列を含むホルミルグリシン生成酵素（ＦＧＥ）タンパク質をコードする第二の核酸を含む細胞であって、第一および／または第二の核酸は外因性であり、細胞は、細胞培養条件下で一度培養されると、
（ａ）配列番号１のＣｙｓ５９に対応するシステイン残基をＣα−ホルミルグリシン（ＦＧｌｙ）に、少なくとも約７０％転換することを含むＩ２Ｓタンパク質を産生するか、または、
（ｂ）配列番号１のＣｙｓ５９に対応するシステイン残基をＣα−ホルミルグリシン（ＦＧｌｙ）に、少なくとも約６０％転換することを含むＩ２Ｓタンパク質を産生し、比生産率が約３０ピコグラム／細胞／日超である、
細胞。
【請求項２】
細胞は、細胞培養条件下で一度培養されると、配列番号１のＣｙｓ５９に対応するシステイン残基をＣα−ホルミルグリシン（ＦＧｌｙ）に、少なくとも約８０％、少なくとも約９０％、少なくとも約９５％または少なくとも約９７％転換することを含むＩ２Ｓタンパク質を産生する、請求項１に記載の細胞。
【請求項３】
（ａ）第一および／または第二の核酸は操作可能にｈＣＭＶプロモーターと結合する、および／または
（ｂ）第一の核酸は配列番号１に同一のアミノ酸配列を有するＩ２Ｓタンパク質をコードする、および／または
（ｃ）第二の核酸は配列番号５に同一のアミノ酸配列を有するＦＧＥタンパク質をコードする、
請求項１または請求項２に記載の細胞。
【請求項４】
（ａ）第一の核酸は、配列番号７に少なくとも７０％同一の配列を含む、および／または
（ｂ）第一の核酸は配列番号７の配列を含む、および／または
（ｃ）第二の核酸は配列番号８に少なくとも７０％同一の配列を含む、および／または
（ｄ）第二の核酸は配列番号８と同一の配列を含む、
請求項１〜３のいずれか１つに記載の細胞。
【請求項５】
（ａ）第一の核酸と第二の核酸の両方が外因性である、および／または
（ｂ）第一および／または第二の核酸は、細胞のゲノム内に組み込まれる、および／または
（ｃ）第一および／または第二の核酸は１つ以上の染色体外の構築物中に存在する、
請求項１〜４のいずれか１つに記載の細胞。
【請求項６】
細胞は哺乳類細胞である請求項１〜５のいずれか１つに記載の細胞であって、任意に、哺乳類細胞はヒト細胞またはＣＨＯ細胞である、細胞。
【請求項７】
細胞は懸濁培養に適応することができる請求項１〜６のいずれか１つに記載の細胞。
【請求項８】
組換えＩ２ＳおよびＦＧＥタンパク質が細胞に共発現するような条件下で前記請求項いずれか１つに記載の細胞を培養することを含む、組換えイズロン酸２スルファターゼ（Ｉ２Ｓ）タンパク質の製造方法。
【請求項９】
細胞は大規模に培養される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）大規模とはバイオリアクタープロセスである請求項９に記載の方法であって、任意に、
（１）バイオリアクタープロセスは灌流プロセスである、および／または
（２）バイオリアクターは１０Ｌ、２００Ｌ、５００Ｌ、１０００Ｌ、１５００Ｌ、または２０００Ｌから選択される規模である、
方法。
【請求項１１】
大規模とはローラーボトルプロセスである請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
（ａ）細胞は無血清培地で培養される、または
（ｂ）細胞は血清を含有する培地で培養される、または
（ｃ）細胞は懸濁液で培養される、または
（ｄ）細胞は付着性で培養される、
請求項８〜１１のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１３】
方法は組換えＩ２Ｓタンパク質を精製するステップをさらに含む、請求項８〜１２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１４】
請求項８〜１３のいずれか１つに記載の方法によって製造される組換えイズロン酸２スルファターゼ（Ｉ２Ｓ）タンパク質。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の細胞によって製造される組換えイズロン酸２スルファターゼ（Ｉ２Ｓ）タンパク質。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月30日(2016.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者に送達するための細胞が播種された組成物を調製するための方法であって、
細胞外マトリクスの粒子と液体培地とを含む流体細胞外マトリクス粒状組成物を調製するステップと、
前記流体細胞外マトリクス組成物を液体細胞懸濁液と結合させて細胞流体組成物を形成するステップと、
前記細胞流体組成物を混合するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記細胞流体組成物をゲル化するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ゲル化するステップは、前記細胞流体組成物のｐＨを変えるステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ゲル化するステップは、前記細胞流体組成物の温度を変えるステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
細胞化された粒状体を調製するための方法であって、
細胞の懸濁液を粒状細胞成長基質と結合させるステップと、
細胞の数が大幅に増えない程度の期間および条件で、前記粒状細胞成長基質と接触させて前記細胞の懸濁液をインキュベートすることにより、粒状細胞成長基質の粒子に付着した細胞を有する前記細胞化された粒状体を形成するステップとを含む、方法。
【請求項６】
前記インキュベートするステップは、前記懸濁液内の細胞の少なくとも２０％は前記粒子に付着するが前記細胞の数は増えないようにするのに有効な期間および条件で行なわれる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
細胞外マトリクス粒子に付着した細胞からなる細胞化された粒状体を含む細胞移植片を、患者の治療のために形成するステップを含む、細胞移植片を調製するための方法。
【請求項８】
粒状細胞成長基質材料と、
前記細胞成長基質材料の粒子に付着した細胞であって、前記細胞は、血管内皮前駆細胞、筋肉由来細胞、またはその組合せを含む細胞とを含む、細胞移植片材料。
【請求項９】
小型形状を有するシート形態細胞成長基質粒子を有する粒状材料を含む、細胞成長基質組成物。
【請求項１０】
シート形態基質粒子の少なくとも２５％は、シートの面で考えたとき、第１の最大断面寸法軸を有し、前記最大断面寸法軸は、この軸に対して垂直でありかつこの軸を中心とする線上の第２の断面軸の長さの約２倍以下である、請求項９に記載の基質組成物。
【請求項１１】
前記基質粒子の最大断面寸法は、約２０ミクロン〜約２０００ミクロンの範囲である、請求項９または１０に記載の組成物。
【請求項１２】
小型形状を有するシート形態細胞外マトリクス粒子を有する粒状細胞外マトリクス材料を含む、細胞外マトリクス組成物。
【請求項１３】
前記シート形態細胞外マトリクス粒子の少なくとも２５％は、前記シートの面で考えたとき、第１の最大断面寸法軸を有し、前記最大断面寸法軸は、この軸に対して垂直でありかつこの軸を中心とする線上の第２の断面軸の長さの約２倍以下である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記細胞外マトリクス粒子の最大断面寸法は、約２０ミクロン〜約２０００ミクロンの範囲である、請求項１２または１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記細胞外マトリクス粒子の最大断面寸法は、約２０ミクロン〜約２０００ミクロンの範囲である、請求項１３または１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記粒子に付着した細胞をさらに含む、請求項９〜１５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１７】
前記細胞は、前記粒子の外面の実質的に全体を覆う、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記細胞は、前記粒子の外面全体を覆う実質的にコンフルエントな単一層を形成する、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記細胞は内皮細胞、血管内皮前駆細胞、またはその混合物を含む、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記細胞はクローンである、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
前記細胞は、内皮細胞、血管内皮前駆細胞、またはその混合物からなる、請求項１９または２０に記載の組成物。
【請求項２２】
前記細胞は、混合された細胞群でありまたは混合された細胞群を含み、前記細胞群は、脂肪組織由来であり、幹細胞、血管内皮前駆細胞、白血球、内皮細胞、および血管平滑筋細胞を含む、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の細胞移植片または細胞移植片を調製するための方法。
【請求項２３】
脂肪組織由来であり、幹細胞、血管内皮前駆細胞、白血球、内皮細胞、および血管平滑筋細胞を含む、混合された細胞群と、
粒状細胞成長基質とを含む、細胞移植片。
【請求項２４】
前記粒状細胞成長基質はシート形態粒子を含む、請求項２３に記載の細胞移植片。
【請求項２５】
血管内皮前駆細胞群と、
粒状細胞成長基質とを含む、細胞移植片。
【請求項２６】
前記粒状細胞成長基質はシート形態粒子を含む、請求項２５に記載の細胞移植片。
【請求項２７】
前記基質は細胞外マトリクス材料を含む、請求項２５または２６に記載の細胞移植片。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月11日(2016.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
打錠機のダイに、コア被覆錠のコアとして用いられるフィルム状形状物（以下単にフィルムという）を移送、挿入、及び配置する方法であって、
該方法は、以下の方法ステップ、すなわち、
ａ．モジュール１（１１）により前記フィルムを供給するステップであって、前記フィルムを引継ぎ位置に運ぶことと、
ｂ．カウントセンサー（３１、３２）とストッパー（３６、３７）との相互作用の結果として、モジュール１（１１）とモジュール２（１２）との間の移行領域（３９）にキャリア（２８）を供給するステップと、
ｃ．モジュール２（１２）により前記フィルムを引き継ぐステップであって、モジュール２（１２）は取上げ要素（１６）の真空ヘッド（２５）により前記フィルムを受け取ることと、
ｄ．モジュール２（１２）によりキャリア（２８）上に前記フィルムを配置するステップであって、前記フィルムを前記キャリア（２８）上でセンタリングすることと、
ｅ．前記キャリア（２８）をモジュール３（１３）に移送するステップであって、撮像センサー（３３〜３５）により前記キャリア（２８）への該フィルムの装填を感知的に検査することと、
ｆ．モジュール３（１３）の真空ヘッド（２５）により前記フィルムを引き継ぐステップと、
ｇ．前記打錠機（１４）の前記ダイに前記フィルムを配置するステップであって、前記フィルムを挿入すること、
を含むことを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記フィルムは、情報担体、分離層、及び／又は活性物質担体であり、該フィルムは、軽量、弛緩している、軟らかい、可撓性、剛性、及び／又は帯電性であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記モジュール１（１１）により前記フィルムを供給する方法ステップ及び／又は前記モジュール２（１２）により前記フィルムを引き継ぐ方法ステップは、不連続であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
モジュール２（１２）は、前記キャリア（２８）間の間隔を整えるとともに、前記フィルムを伴う前記キャリア（２８）をモジュール３（１３）に連続して移送する取込みホイール（２２）を含むことを特徴とする、請求項１又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記フィルムは、モジュール２（１２）の前記取上げ要素（１６）によりタクト方式で引き継がれて、モジュール３（１３）により連続動作で前記打錠機（１４）の前記ダイに挿入されることを特徴とする、請求項１又は４に記載の方法。
【請求項６】
少なくとも２つの経路（１８ａ、１９）を有する少なくとも１つのコンベアベルト（１７）を用い、モジュール２（１２）の前記取上げ要素（１６）は、経路１（１８ａ）及び経路２（１９）上のフィルムを伴う前記キャリア（２８）を交互に帯電させることを特徴とする、請求項１又は５に記載の方法。
【請求項７】
２経路コンベアベルト（１７）を用いる場合、双方の経路（１８ａ、１８ｂ）の前記キャリア（２８）は１つの経路（１８ｂ）に収束し、該キャリア（２８）にフィルムが装填されていない際は、該キャリア（２８）を転轍器（２４ａ）により第２のコンベアベルト（２１）上に押し出し、これにより、空の該キャリア（２８）を該キャリア（２８）の新たなフィルム装填に供することを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
モジュール２（１２）の引継ぎユニットにより引き継がれてから、前記打錠機（１４）の前記ダイに挿入されるまで、前記フィルムを、キャリア（２８）により中心に位置するようにガイドするか、又は、前記真空ヘッド（２５）上で中心形状適合により移送することを特徴とする、請求項１又は７に記載の方法。
【請求項９】
モジュール３（１３）の前記真空ヘッド（２５）は、前記モジュール２（１２）による引継ぎ位置とは反対側の位置において、前記打錠機（１４）の前記ダイの基準円上で、ダイ位置と同期して移動することを特徴とする、請求項１又は８に記載の方法。
【請求項１０】
モジュール３（１３）による、すなわち吸引取出しによる前記フィルムの取出し後、少なくとも１つの送出しホイール（２３）により空のキャリア（２８）をモジュール２（１２）に給送し、新たなフィルム装填に供することを特徴とする、請求項１又は９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月28日(2016.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天井面等の被取付面に取り付けられる本体と、前記本体に装着されるＬＥＤモジュールとを備えた照明装置であって、
前記ＬＥＤモジュールは、ＬＥＤ基板と前記ＬＥＤ基板に実装された複数のＬＥＤ素子と、端部に装着されるキャップとを有し、
前記キャップは前記ＬＥＤ素子のうち前記ＬＥＤモジュールの端部から１列目又は１個目のＬＥＤ素子までの距離よりも薄い幅で前記ＬＥＤモジュールに被せられ、
前記ＬＥＤモジュールの両端部は、前記本体に取付られた状態で当該照明装置自体の端面の一部を形成する、照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月15日(2016.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る冷蔵庫は、少なくとも一つの貯蔵室を有する冷蔵庫本体と、冷蔵庫本体の前面に設けられ、貯蔵室を閉じる複数の扉と、隣り合った複数の扉同士の境界に設けられた隙間を閉塞する仕切部材と、を備え、仕切部材は、扉同士の境界に沿って延び、隣り合う扉間に広がる幅を有する矩形状の基部、基部の扉に対向する両側部から貯蔵室側に延びるフランジ部、及び少なくとも一方のフランジ部の端部から扉側に向かって延びる係合部を有し、熱を伝導する熱伝導部材と、熱伝導部材を加熱する加熱部と、貯蔵室の側の面に形成され基部の幅方向における少なくとも一方の側において係合部と係合する係合受け部を有し、熱伝導部材よりも貯蔵室の側に設けられ、係合部と係合受け部とが係合して熱伝導部材と共に加熱部をカバーするカバー部材と、を備え、カバー部材は、基部の幅方向における少なくとも一方の側に設けられ、貯蔵室に向かう方向に対し垂直の方向に延び、フランジ部に接触する突出部を有し、突出部に接触するフランジ部と、係合受け部に係合する係合部とで、カバー部材が挟持される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの貯蔵室を有する冷蔵庫本体と、
前記冷蔵庫本体の前面に設けられ、前記貯蔵室を閉じる複数の扉と、
隣り合った複数の前記扉同士の境界に設けられた隙間を閉塞する仕切部材と、を備え、
前記仕切部材は、
扉同士の境界に沿って延び、隣り合う扉間に広がる幅を有する矩形状の基部、前記基部の扉に対向する両側部から前記貯蔵室側に延びるフランジ部、及び少なくとも一方の前記フランジ部の端部から扉側に向かって延びる係合部を有し、熱を伝導する熱伝導部材と、
前記熱伝導部材を加熱する加熱部と、
前記貯蔵室の側の面に形成され前記基部の幅方向における少なくとも一方の側において前記係合部と係合する係合受け部を有し、前記熱伝導部材よりも前記貯蔵室の側に設けられ、前記係合部と前記係合受け部とが係合して前記熱伝導部材と共に前記加熱部をカバーするカバー部材と、を備え、
前記カバー部材は、
前記基部の幅方向における少なくとも一方の側に設けられ、前記貯蔵室に向かう方向に対し垂直の方向に延び、前記フランジ部に接触する突出部を有し、
前記突出部に接触する前記フランジ部と、前記係合受け部に係合する前記係合部とで、前記カバー部材が挟持される
冷蔵庫。
【請求項２】
前記熱伝導部材は、
一方の前記フランジ部の端部から延びる前記係合部を有し、且つ、他方の前記フランジ部の端部から前記貯蔵室に向かう方向に延び、孔が設けられた切起こし部を有し、
前記カバー部材は、
前記基部の幅方向における一方の側において前記係合受け部を有し、且つ、前記基部の幅方向における他方の側において前記孔に挿入されて前記切起こし部と係合する突起を有する
請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記熱伝導部材は、
両方の前記フランジ部の端部から延びる前記係合部を有し、
前記カバー部材は、
前記基部の幅方向における両方の側において前記係合受け部を有する
請求項１記載の冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月5日(2016.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る冷蔵庫は、前面開口部を有する本体と、該本体の側面側に設けられるヒンジと、該ヒンジに軸支され前記前面開口部を開閉自在に閉塞する回転扉と、を備え、前記回転扉は、表面を構成する平板状の強化処理ガラスまたは樹脂である外面材と、裏面を構成する内面材と、前記外面材と前記内面材との間に充填される断熱材と、前記外面材および前記内面材の四辺に取り付けられる樹脂製の枠状キャップと、前記枠状キャップの側面を補強する金属製の補強材と、前記ヒンジに軸支されるヒンジ軸受部品と、前記枠状キャップの下辺の上側に取り付けられ、前記ヒンジ軸受部品を前記枠状キャップに固定する板金と、を備え、前記補強材はＬ形状を有し、その短辺の長手方向端部に、その長辺と反対方向に突出した第一引掛部が形成され、正面視して前記第一引掛部は前記板金とラップする位置に設けられ、前記ラップする位置を側面視した状態において、前記第一引掛部は前記板金に挟み込まれる位置に配設されているものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面開口部を有する本体と、
該本体の側面側に設けられるヒンジと、
該ヒンジに軸支され前記前面開口部を開閉自在に閉塞する回転扉と、を備え、
前記回転扉は、
表面を構成する平板状の強化処理ガラスまたは樹脂である外面材と、
裏面を構成する内面材と、
前記外面材と前記内面材との間に充填される断熱材と、
前記外面材および前記内面材の四辺に取り付けられる樹脂製の枠状キャップと、
前記枠状キャップの側面を補強する金属製の補強材と、
前記ヒンジに軸支されるヒンジ軸受部品と、
前記枠状キャップの下辺の上側に取り付けられ、前記ヒンジ軸受部品を前記枠状キャップに固定する板金と、を備え、
前記補強材はＬ形状を有し、その短辺の長手方向端部に、その長辺と反対方向に突出した第一引掛部が形成され、
正面視して前記第一引掛部は前記板金とラップする位置に設けられ、
前記ラップする位置を側面視した状態において、前記第一引掛部は前記板金に挟み込まれる位置に配設されている
ことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記板金は、側面視してＵ形状であり、
前記第一引掛部は、前記板金の両端部の間に位置している
ことを特徴とする請求項１に記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記枠状キャップの下辺の一端に前記ヒンジ軸受部品を収納するスペース部を備え、
前記補強材は、その短辺および前記第一引掛部で前記スペース部を覆うように配置される
ことを特徴とする請求項１または２に記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記補強材は、短辺の短手方向端部に第二引掛部が形成されている
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【請求項５】
前記第二引掛部は、穴が形成されている
ことを特徴とする請求項４に記載の冷蔵庫。
【請求項６】
前記外面材の裏面に硬質材料を貼り付ける
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【請求項７】
前記外面材の裏面に加圧すると変色する素材を貼り付ける
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月20日(2016.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電材料を用いて構成される基板（１０）と、
前記基板に形成され、前記基板の面方向に振動する第１、第２振動片（１４ａ、１４ｂ）を有する振動体（１２）と、
前記基板に形成され、前記振動体の周囲に配置される外周部（１３）と、を備え、
前記振動体を振動させた状態で角速度が印加されると当該角速度に応じた電荷を発生する角速度センサにおいて、
前記振動体は、前記基板の面方向における一方向を第１方向とし、前記基板の面方向のうちの前記第１方向と直交する方向を第２方向としたとき、少なくとも前記第１方向に変位可能とされた第１梁構成部材（１６ａ〜１９ａ）と、前記第１梁構成部材と連結され、少なくとも前記第２方向に変位可能とされた第２梁構成部材（１６ｂ〜１９ｂ）とを有する複数の梁部（１６〜１９）を介して前記外周部に支持され、前記第１、第２振動片を同方向に突出させた状態で支持する基部（１５）を有し、
前記複数の梁部の少なくとも一部は、前記第１、第２梁構成部材のうちの前記外周部側の梁構成部材が互いに一体化されており、
前記第１、第２振動片の配列方向に沿った方向の衝撃が印加されたとき、前記第１、第２振動片および前記基部が同方向に振動する同相モードの共振周波数をｆ１、前記第１、第２振動片および前記基部が逆方向に振動する同相吸収モードの共振周波数をｆ３、ｎを整数とすると、前記同相吸収モードの共振周波数ｆ３と前記同相モードの共振周波数ｆ１より大きく、前記同相吸収モードの共振周波数ｆ３と前記同相モードの共振周波数ｆ１のｎ倍の値との差の絶対値Δｆ３が、当該絶対値Δｆ３を前記同相モードの共振周波数ｆ１から乖離させる度合いを示す回避差Ｄを前記同相モードの共振周波数ｆ１に対して掛けた値よりも大きくなる関係が成り立ち、かつ、前記回避差Ｄが０％より大きくされていることを特徴とする角速度センサ。
【請求項２】
前記振動体と前記外周部との間には、枠部（２０）が構成されており、
前記複数の梁部は、前記第１、第２梁構成部材のうちの前記外周部側の梁構成部材が前記枠部で構成されることにより、全て一体化されていることを特徴とする請求項１に記載の角速度センサ。
【請求項３】
前記複数の梁部は、バネ定数が前記第１、第２振動片の有するバネ定数より小さくされていることを特徴とする請求項１または２に記載の角速度センサ。
【請求項４】
前記第１、第２振動片に発生した電荷が差動増幅されることによって前記角速度が検出され、
前記第１、第２振動片は、前記第１方向および前記第２方向と直交する方向を第３方向としたとき、前記第１方向に駆動振動しているときに前記角速度が印加されると前記第３方向に互いに逆向きに振動し、前記第３方向に沿った方向の衝撃が印加されたとき、当該第１、第２振動片が前記第３方向において同方向に振動する同相モードの共振周波数finと、互いに逆方向に振動する逆相モードの共振周波数fantiを有し、逆相モードの共振周波数fantiと同相モードの共振周波数finの差分を逆相モードの共振周波数fantiで割った値（＝（fanti−fin）／fanti）をデカップリング率と定義したとき、当該デカップリング率の絶対値が０．２以上とされていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の角速度センサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
振動体は、基板の面方向における一方向を第１方向とし、基板の面方向のうちの第１方向と直交する方向を第２方向としたとき、少なくとも第１方向に変位可能とされた第１梁構成部材（１６ａ〜１９ａ）と、第１梁構成部材と連結され、少なくとも第２方向に変位可能とされた第２梁構成部材（１６ｂ〜１９ｂ）とを有する複数の梁部（１６〜１９）を介して外周部に支持され、第１、第２振動片を同方向に突出させた状態で支持する基部（１５）を有し、複数の梁部の少なくとも一部は、第１、第２梁構成部材のうちの外周部側の梁構成部材が互いに一体化されており、第１、第２振動片の配列方向に沿った方向の衝撃が印加されたとき、第１、第２振動片および基部が同方向に振動する同相モードの共振周波数をｆ１、第１、第２振動片および基部が逆方向に振動する同相吸収モードの共振周波数をｆ３、ｎを整数とすると、同相吸収モードの共振周波数ｆ３と同相モードの共振周波数ｆ１より大きく、同相吸収モードの共振周波数ｆ３と同相モードの共振周波数ｆ１のｎ倍の値との差の絶対値Δｆ３が、当該絶対値Δｆ３を同相モードの共振周波数ｆ１から乖離させる度合いを示す回避差Ｄを同相モードの共振周波数ｆ１に対して掛けた値よりも大きくなる関係が成り立ち、かつ、回避差Ｄが０％より大きくされていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月23日(2016.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
油圧シリンダの一端部に取り付けられた軸部材が挿入されることにより前記油圧シリンダの前記一端部を支持するボス部を有する一対の支持部材が本体に設けられた作業機の作業要素であって、
前記一対の支持部材が、前記軸部材の軸方向に平行な方向から見て、前記油圧シリンダの前記一端部の近傍に設けられた油圧ポートに対して前記ボス部側へ退くように切り欠かれた切欠き部を有し、前記ボス部から前記作業要素の本体へ至る領域に、前記支持部材を補強する補強部材を備えることを特徴とする作業機の作業要素。
【請求項２】
前記補強部材は、前記ボス部から前記作業要素の本体へ至る領域において、前記ボス部の中心を通り且つ前記油圧シリンダの延伸方向及び前記軸部材の軸方向に垂直な直線よりも前記切欠き部寄りの位置に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の作業機の作業要素。
【請求項３】
前記補強部材が、前記支持部材に溶接される溶接部と、前記支持部材に溶接されない非溶接状態であることによって前記支持部材の撓みを許容する非溶接部と、を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の作業機の作業要素。
【請求項４】
前記作業要素の本体が、左右一対の側板と、前記一対の側板をつなぐ上板及び下板とを有し、
前記一対の支持部材が、前記上板に設けられ、
前記補強部材が、前記上板と対向する基端部と、この基端部よりも前記上板から遠い側に配置された上端部とを有し、前記溶接部は前記基端部の周囲に形成され、前記非溶接部は前記上端部の周囲に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の作業機の作業要素。
【請求項５】
前記補強部材が、前記作業要素の本体の周囲に配置される油圧配管を所定位置に保持するためのクランプを取り付ける台座であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の作業機の作業要素。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記技術的課題を解決するために本発明が講じた技術的手段は、以下に示す点を特徴とする。
本発明に係る発明では、油圧シリンダの一端部に取り付けられた軸部材が挿入されることにより前記油圧シリンダの前記一端部を支持するボス部を有する一対の支持部材が本体に設けられた作業機の作業要素であって、前記一対の支持部材が、前記軸部材の軸方向に平行な方向から見て、前記油圧シリンダの前記一端部の近傍に設けられた油圧ポートに対して前記ボス部側へ退くように切り欠かれた切欠き部を有し、前記ボス部から前記作業要素の本体へ至る領域に、前記支持部材を補強する補強部材を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、前記補強部材は、前記ボス部から前記作業要素の本体へ至る領域において、前記ボス部の中心を通り且つ前記油圧シリンダの延伸方向及び前記軸部材の軸方向に垂直な直線よりも前記切欠き部寄りの位置に設けられていることを特徴とする。
また、前記補強部材が、前記支持部材に溶接される溶接部と、前記支持部材に溶接されない非溶接状態であることによって前記支持部材の撓みを許容する非溶接部と、を有することを特徴とする
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記作業要素の本体が、左右一対の側板と、前記一対の側板をつなぐ上板及び下板とを有し、前記一対の支持部材が、前記上板に設けられ、前記補強部材が、前記上板と対向する基端部と、この基端部よりも前記上板から遠い側に配置された上端部とを有し、前記溶接部は前記基端部の周囲に形成され、前記非溶接部は前記上端部の周囲に形成されていることを特徴とする。
また、前記補強部材が、前記作業要素の本体の周囲に配置される油圧配管を所定位置に保持するためのクランプを取り付ける台座であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月25日(2016.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸（Ａ）１〜３０ｗｔ％、アルキルアミンオキシド（Ｂ）２〜１０ｗｔ％、泡安定剤（Ｃ）０．０１〜３ｗｔ％、水（Ｄ）残部を含むことを特徴とする汚泥処理設備用洗浄剤組成物。
【請求項２】
さらに界面活性剤を含むことを特徴とする請求項１に記載の汚泥処理設備用洗浄剤組成物。
【請求項３】
泡吐出機構を有する容器に、請求項１又は２に記載の汚泥処理設備用洗浄剤組成物を充填してなることを特徴とする汚泥処理設備用洗浄剤。
【請求項４】
汚泥処理設備の洗浄対象物に対して、請求項１又は２に記載の汚泥処理設備用洗浄剤組成物を泡状に吹き付けることを特徴とする汚泥処理設備の洗浄方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の汚泥処理設備用洗浄剤組成物を貯留し供給するタンクと、汚泥配管内部及び汚泥脱水部に当該汚泥処理設備用洗浄剤組成物を泡状に吐出させる泡吐出装置と、を具備することを特徴とする汚泥脱水機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月12日(2016.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロオレフィンおよびパーフルオロアルキルビニルエーテルから誘導される繰り返し単位を含有する未架橋パーフルオロ重合体と処理パーフルオロ重合体とを配合してなるフッ素ゴムであって、
前記処理パーフルオロ重合体は、成形加工工程で排出された残パーフルオロ重合体を熱処理することで架橋点を分解したパーフルオロ重合体であることを特徴とするフッ素ゴム。
【請求項２】
前記未架橋パーフルオロ重合体１００質量部に対して、前記処理パーフルオロ重合体を４０質量部未満配合してなることを特徴とする請求項１記載のフッ素ゴム。
【請求項３】
フッ素ゴムと架橋剤とを配合してなる封止材用組成物であって、
前記フッ素ゴムが請求項１または請求項２記載のフッ素ゴムであることを特徴とする封止材用組成物。
【請求項４】
封止材用組成物を成形してなる封止材であって、前記封止材用組成物が請求項３記載の封止材用組成物であることを特徴とする封止材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のフッ素ゴムは、フルオロオレフィンおよびパーフルオロアルキルビニルエーテルから誘導される繰り返し単位を含有する未架橋パーフルオロ重合体と処理パーフルオロ重合体とを配合してなり、上記処理パーフルオロ重合体は、成形加工工程で排出された残パーフルオロ重合体を熱処理することで架橋点を分解したパーフルオロ重合体であることを特徴とする。
また、上記未架橋パーフルオロ重合体１００質量部に対して、上記処理パーフルオロ重合体を４０質量部未満配合することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビフィドバクテリウム属細菌を有効成分とする統合失調症治療剤。
【請求項２】
統合失調症の陽性症状の改善のために用いられる請求項１に記載の統合失調症治療剤。
【請求項３】
前記ビフィドバクテリウム属細菌がビフィドバクテリウム・ロンガム  ＡＴＣＣ  ＢＡＡ−９９９である請求項１又は２に記載の統合失調症治療剤。
【請求項４】
ビフィドバクテリウム属細菌を有効成分とする統合失調症治療用飲食品組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明においてビフィドバクテリウム属細菌としては、ビフィドバクテリウム・ロンガム  ＡＴＣＣ  ＢＡＡ−９９９を好ましく用いることができる。
ビフィドバクテリウム・ロンガム  ＡＴＣＣ  ＢＡＡ−９９９は統合失調症の治療効果に優れる。
また、本発明は、ビフィドバクテリウム属細菌を有効成分とする統合失調症治療用飲食品組成物にも関する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月1日(2016.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
Ｓｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含む半導体からなる複数のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により基板の上に形成するナノ構造の製造方法であって、
ＢｉまたはＢｉの前駆体材料を前記半導体材料の供給前、あるいは前記半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給することを特徴とするナノ構造の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のナノ構造の製造方法において、
前記基板の上に形成された複数の前記ナノドットを覆って前記基板の上に第１被覆層を形成する第１被覆層形成工程と、
前記第１被覆層の上にＳｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含む半導体からなる複数のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により、ＢｉまたはＢｉの前駆体材料を前記半導体材料の供給前、あるいは前記半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給することで、前記第１被覆層の上に形成する工程と、
前記第１被覆層の上に形成された複数の前記ナノドットを覆って前記第１被覆層の上に第２被覆層を形成する第２被覆層形成工程と
を備えることを特徴とするナノ構造の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のナノ構造の製造方法において、
前記ナノドットの原子間の価電子における未結合手を終端する工程を備えることを特徴とするナノ構造の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係るナノ構造の製造方法は、Ｓｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含む半導体からなる複数のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により基板の上に形成するナノ構造の製造方法であって、ＢｉまたはＢｉの前駆体材料を半導体材料の供給前、あるいは半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記ナノ構造の製造方法において、基板の上に形成された複数のナノドットを覆って基板の上に第１被覆層を形成する第１被覆層形成工程と、第１被覆層の上にＳｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含む半導体からなる複数のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により、ＢｉまたはＢｉの前駆体材料を半導体材料の供給前、あるいは半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給することで、第１被覆層の上に形成する工程と、第１被覆層の上に形成された複数のナノドットを覆って第１被覆層の上に第２被覆層を形成する第２被覆層形成工程とを備える、さらに同様のナノドット形成工程と被覆層形成工程を所定の層数が形成されるまで繰り返す工程を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記ナノ構造の製造方法において、上記最終となる被覆層を形成した後で、最終となる被覆層形成工程における基板温度条件以上の基板温度とする加熱工程を備えるようにしてもよい。また、ナノドット，第１被覆層，第２被覆層の原子間の価電子における未結合手を終端する工程を備えるようにしてもよい。なお、基板は、半導体基板，誘電体基板，および金属基板のいずれかであればよく、基板が、Ｓｉ基板またはＧｅ基板であれば、基板の面方位は、（１００）面、（１１１）面、（１１０）面のいずれかに等価な面から１度未満の角度だけ傾斜しているようにしてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
以上説明したように、本発明によれば、ＢｉまたはＢｉの前駆体材料を半導体材料の供給前、あるいは半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給するようにしたので、IV族半導体によるナノドットが、サイズや密度を自由に制御して形成できるようになるという優れた効果が得られる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明は、Ｓｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含む半導体からなる複数のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により基板の上に形成するナノ構造の製造方法である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
上述したように、ＢｉあるいはＢｉの前駆体となる原料を半導体材料の供給前、あるいは半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給し、Ｓｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含む半導体からなる複数のナノドットを製造することで、Ｂｉ層形成工程並びにナノドット形成工程において温度およびＢｉ層の層厚の少なくとも１を制御することで、ナノドットの大きさおよび密度を制御することができる。本発明によれば、高密度で高均一なナノドットを３００℃未満の低温で形成できるようになる。また、Ｇｅの場合、温度条件（基板温度，成長温度）を、室温（２５℃程度）としても、高密度で高均一なナノドットが、形成できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４３】
以上に説明したように、本発明によれば、ＢｉあるいはＢｉの前駆体となる原料を半導体材料の供給前、あるいは半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給し、Ｓｉ，Ｇｅ，およびＳｎのうち少なくとも１つを含むIV族半導体からなる複数のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により基板の上に形成するようにしたので、IV族半導体によるナノドットが、サイズや密度を自由に制御して形成できるようになる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４５】
なお、Ｂｉをサーファクタントとして用い、III-V族化合物半導体のナノドットを、気相堆積法または気相成長法により基板の上に形成する技術はすでに提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、特許文献２の技術においては、IV族半導体によるナノドットの形成については、何ら実現されていない。本発明は、発明者らの鋭気の検討により、IV族半導体においては、ＢｉまたはＢｉの前駆体材料を半導体材料の供給前、あるいは半導体材料の供給と同時、あるいはその双方の時点で供給することで、ナノドットが形成できるという知見を初めて得たことによりなし得たものである。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月4日(2016.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッテリー電源と、
ガスを酸化させる触媒から構成されるガス検知素子を含むブリッジ回路と、
前記ガス検知素子の温度が一定になるように前記バッテリー電源から前記ガス検知素子に流れる電流を制御するフィードバック回路と、
を備えることを特徴とするガスセンサ。
【請求項２】
請求項１に記載のガスセンサであって、
前記ガス検知素子の抵抗値を、第１の抵抗値又は第１の抵抗値より小さい第２の抵抗値のいずれかに切り替える加熱回路をさらに備える
ことを特徴とするガスセンサ。
【請求項３】
請求項２に記載のガスセンサであって、
前記加熱回路は、
前記ガス検知素子の抵抗値を前記第１の抵抗値にすることにより、前記ガス検知素子の温度を、前記触媒に吸着したシリコン化合物が脱離する温度を示す脱離温度にする
ことを特徴とするガスセンサ。
【請求項４】
請求項２に記載のガスセンサであって、
前記加熱回路は、
前記ガス検知素子の抵抗値を前記第２の抵抗値にすることにより、前記ガス検知素子の温度を、前記触媒による酸化反応が進行する温度の下限値を示す活性温度以上の一定の温度にする
ことを特徴とするガスセンサ。
【請求項５】
請求項２に記載のガスセンサであって、
前記加熱回路は、
前記ガス検知素子の抵抗値を前記第１の抵抗値に設定してから第１の期間が経過した後、前記ガス検知素子の抵抗値を前記第２の抵抗値に切り替える
ことを特徴とするガスセンサ。
【請求項６】
請求項５に記載のガスセンサであって、
前記加熱回路は、
前記ガス検知素子の抵抗値を前記第２の抵抗値に設定してから第２の期間が経過した後、前記ガス検知素子の抵抗値を前記第１の抵抗値に切り替える
ことを特徴とするガスセンサ。
【請求項７】
請求項２に記載のガスセンサであって、
前記ブリッジ回路は、
前記ガス検知素子と前記ガス検知素子に直列接続された第１の抵抗から構成される第１の直列回路と、
第２の抵抗と前記第２の抵抗に直列接続された第３の抵抗から構成される第２の直列回路と、が並列接続されて構成され、
前記加熱回路は、
前記ガス検知素子の抵抗値を、前記第２の抵抗値に設定した後、
前記第２の抵抗の電圧が減少し、所定の閾値に達したタイミングで、前記ガス検知素子の抵抗値を、前記第１の抵抗値に切り替える
ことを特徴とするガスセンサ。
【請求項８】
請求項７に記載のガスセンサであって、
前記所定の閾値は、
前記触媒による酸化反応が進行する温度の下限値を示す活性温度以上の一定の温度において検出可能な前記第２の抵抗の電圧の下限値を示す出力下限保証よりも大きい
ことを特徴とするガスセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月5日(2016.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
そして、前記波長校正部は、Ｄ2ランプの特定の輝線ピークの波長と前記基準波長入力部から入力された基準波長を用いて前記分光器の波長を校正するように構成されている。前記波長校正部は、前記回折素子を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持する変換テーブル保持部、及び前記変換テーブルからの制御パルス数を校正する制御バルス数校正部を備えている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記制御バルス数校正部は、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であってＤ2ランプの特定の輝線ピークの波長に対応する制御パルス数ｎ01、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であって前記基準波長に対応する制御パルス数ｎ02、Ｄ2ランプの輝線ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ1、及び前記Ｈｏガラスフィルタの特定の吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ2に基づいて前記変換テーブルからの制御パルス数を校正するように構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
移動相１０２が流れる流路１０６の最も上流側に移動相１０２を供給する送液部１００が配置されている。送液部１００は送液ポンプ１０４を備え、移動相を流路１０６に送り出す。送液部１００は概略的に示されており、移動相の数は１つに限らず、複数の移動相を混合する場合や、その混合比を時間とともに変化させるグラジエント分析用の送液部も含んでいる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2016003914.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月1日(2016.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（２）非常時
原子炉格納容器８内の温度が通常運転時より上昇するとともに原子炉圧力容器１内の水位が通常運転時より低下するような非常時は、バランス弁１２及び仕切り弁１３Ａ，１３Ｂを開状態に切換える。具体的には、例えば原子炉圧力容器１内の水位が有効燃料頂部（ＴＡＦ）近傍まで低下するか、若しくは原子炉格納容器８における基準圧力導管４Ａの貫通部（ペネトレーション）の高さまで低下したときに、バランス弁１２及び仕切り弁１３Ａ，１３Ｂを開状態に切換える。そして、図２で示すように、原子炉圧力容器１内の水位が基準圧力導管４Ａの分岐部９の高さより低下すれば、基準圧力導管４Ａの分岐部９より上端部側の水がバランス管１１及び水位圧力導管５Ａを介し原子炉圧力容器１に流出して、基準圧力導管４Ａの分岐部９での水面高さｈ２となる。基準圧力導管４Ａの分岐部９から基準圧力導管４Ｃの下端部（言い換えれば、差圧計７）までの部分は、原子炉格納容器８の外側に位置するので、原子炉格納容器８内の高温による影響をほとんど受けない。そのため、基準圧力導管４Ａの分岐部９の水面高さｈ２を一定に保つことが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月7日(2016.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定ガス中の粒子状物質を検出するセンサ素子（１）であって、
上記粒子状物質が付着する付着面（２１）を有する絶縁性基体（２）と、
該絶縁性基体（２）の上記付着面（２１）に形成された粒子状物質検出部（３）と有し、
該粒子状物質検出部（３）は、異なる極性を有し、相互に対向する少なくとも１対の検出電極（３１）が上記付着面（２１）において少なくとも部分的に露出してなり、
上記検出電極（３）は、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、及びＯｓからなるグループから選ばれる少なくとも１種の金属とＰｔとの合金（３１１）を主成分とし、
該合金（３１１）中の上記金属の含有量は、Ｐｔと上記金属との合計量１００質量％中に０．５〜５０質量％であり、
上記合金（３１１）を構成する合金粒子のＰｔ含有率は、該合金粒子の粒子表面部よりも粒子内部の方が高いことを特徴とする粒子状物質検出センサ素子（１）。
【請求項２】
上記検出電極（３２）は、上記合金（３１１）と、該合金（３１１）に分散された骨材（３１２）とを含有し、該骨材（３１２）は、上記絶縁性基体（２）と同じ材質のセラミックスからなることを特徴とする請求項１に記載の粒子状物質検出センサ素子（１）。
【請求項３】
上記骨材（３１２）の含有量は、上記合金１００質量部に対して５〜２０質量部であることを特徴とする請求項２に記載の粒子状物質検出センサ素子（１）。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の粒子状物質検出センサ素子（１）を備えることを特徴とする粒子状物質検出センサ（４）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様は、被測定ガス中の粒子状物質を検出するセンサ素子であって、
上記粒子状物質が付着する付着面を有する絶縁性基体と、
該絶縁性基体の上記付着面に形成された粒子状物質検出部と有し、
該粒子状物質検出部は、異なる極性を有し、相互に対向する少なくとも１対の検出電極が上記付着面において少なくとも部分的に露出してなり、
上記検出電極は、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、及びＯｓからなるグループから選ばれる少なくとも１種の金属とＰｔとの合金を主成分とし、
該合金中の上記金属の含有量は、Ｐｔと上記金属との合計量１００質量％中に０．５〜５０質量％であり、
上記合金を構成する合金粒子のＰｔ含有率は、該合金粒子の粒子表面部よりも粒子内部の方が高いことを特徴とする粒子状物質検出センサ素子にある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月14日(2016.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジアルピストン式の油圧機械であって、
前記油圧機械の半径方向に沿って配置された複数のピストンと、
前記複数のピストンをそれぞれ案内する複数のシリンダと、
前記複数のピストンのそれぞれに回転自在に設けられた複数のローラと、
前記複数のローラに当接するように構成され、前記油圧機械の中心軸周りに回転可能に構成されたカムと、
前記カムを含んで該カムとともに前記中心軸周りに回転する前記油圧機械の回転部に取り付けられ、前記カム側から前記ピストン側に前記半径方向に沿って延びる側板と、を備え、
前記ピストンの各々は、該ピストンと前記シリンダとで形成される油圧室の圧力の高圧と低圧との間の周期的な変化に対応して往復動するように構成され、
前記カムは、前記油圧室の前記圧力が前記高圧になるときに前記ローラが接するワーキング面と、前記油圧室の前記圧力が前記低圧になるときに前記ローラが接するブリージング面と、を有し、
前記側板は、少なくとも前記ワーキング面に対応する前記油圧機械の周方向範囲において、前記カムの表面と、該カムの表面から前記ローラの半径だけ離れた曲線とで囲まれる領域内においてのみ、前記ローラの端面と当接し、
前記側板のうち前記ローラ側の壁面は、第１周縁に対して、前記半径方向において前記第１周縁よりも前記カムに近い第２周縁が前記ローラの軸方向にみて前記ローラ側に位置するように、前記中心軸に直交する面に対して傾斜しており、
前記ローラの前記端面の縁部が曲率を有するように形成されており、前記縁部の曲率半径は前記ローラの半径よりも大きいことを特徴とするラジアルピストン式油圧機械。
【請求項２】
前記側板及び前記ローラの前記端面は、該側板と該端面が互いに点接触又は前記半径方向に沿って線接触するような形状を有することを特徴とする請求項１に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項３】
前記中心軸に直交する面に対する前記壁面の傾斜角は、０．１度以上１．０度以下の範囲内であることを特徴とする請求項１又は２に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項４】
前記縁部の曲率半径は、前記ローラの半径に対して１０倍以上５００倍以下であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項５】
前記側板は、
前記カムの端面に締結される基端部、および、前記カムから前記ピストン側に前記半径方向に突出する先端部を有する側板本体と、
前記側板本体の前記先端部に設けられた当接部と、
を含み、
前記当接部が、前記ローラの前記端面のうち前記ローラの回転中心よりも前記カム側の前記領域内で前記ローラの前記端面に当接するように構成されたことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項６】
前記当接部は、前記側板本体の前記先端部に取り付けられた耐摩耗性の樹脂部材であることを特徴とする請求項５に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項７】
前記側板は、前記ローラが転動する前記カムのカム面からの前記半径方向の距離が、前記ローラの直径の３０％以内となる位置で前記ローラの前記端面と当接するように構成されたことを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項８】
前記側板は、前記カムの端面に対してボルト結合されていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項９】
前記カム及び前記側板は、それぞれ、前記中心軸の周方向において複数のセクションに分割されており、前記側板のセクション数は、前記カムのセクション数以下であることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項１０】
前記カムは、前記中心軸の方向に少なくとも２列設けられており、
前記ピストン及び前記ローラが、前記カムの列に対応して配列されていることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項１１】
前記複数のピストンをそれぞれ案内するための複数のシリンダが形成されたシリンダブロックと、
前記油圧機械の両端部において、前記シリンダブロックを含む前記油圧機械の静止部と前記油圧機械の前記回転部との間に設けられ、前記静止部に前記回転部を回転自在に支持する一対のテーパ軸受と、
前記一対のテーパ軸受の少なくとも一方のテーパ軸受に対して、前記油圧機械の中央に向かう方向にプリロードを付与するための予圧部と、をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項１２】
前記プリロードは、前記ローラから前記側板に加わる前記ローラの軸方向のスラスト力以上の大きさであることを特徴とする請求項１１に記載のラジアルピストン式油圧機械。
【請求項１３】
少なくとも一本のブレードを含む風車ロータと、
前記風車ロータに連結される回転シャフトと、
前記回転シャフトによって駆動されて圧油を生成するように構成された油圧ポンプと、
前記圧油によって駆動されるように構成された油圧モータと、
前記油圧モータによって駆動されるように構成された発電機と、を備え、
前記油圧ポンプ又は前記油圧モータの少なくとも一方は、請求項１乃至１２の何れか一項に記載のラジアルピストン式油圧機械であることを特徴とする風力発電装置。