(57)【要約】  本発明は、一般式（Ｉ）のエナンチオ濃縮された化合物の製造方法に関する。示された型の化合物を触媒系中で使用する。
2007511554.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2007511554.tif 000017
［式中、＊はステレオジェン中心を示し、
Ｒ１およびＲ４は、それぞれ互いに独立して、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルコキシ、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ互いに独立して、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルコキシ、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、
ＡはＣ２架橋であり、その際、２個の炭素原子はｓｐ２混成を有する］のエナンチオ濃縮された化合物を、一般式（ＩＩ）
【化２】
2007511554.tif 000018
［式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記に示すものであってもよく、
Ｍはアルカリ金属またはトリメチルシリル基である］の化合物と、一般式（ＩＩＩ）
Ｘ−Ａ−Ｘ      （ＩＩＩ）
［式中、Ａは前記に示すとおりであり、かつ、
基Ｘは、それぞれ互いに独立して、脱離基を示す］の化合物との反応によって、製造する方法において、一般式（ＩＩ）の化合物が、一般式（ＩＶ）
【化３】
2007511554.tif 000019
［式中、Ｒ１〜Ｒ４が前記のものであり、かつ、
基Ｙは、それぞれ互いに独立して脱離基である］の化合物と、一般式（Ｖ）
Ｍ２Ｐ−アリール      （Ｖ）
［式中、Ｍはアルカリ金属であり、かつアリールは（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリールまたは（（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル）１〜３−（Ｃ６〜Ｃ８）−アリール基である］の化合物および引き続いてアルカリ金属と反応させ、かつ適切な場合には、付加的に塩化トリメチルシリルと反応させ、その際、式（Ｖ）の化合物は、一般式（ＶＩ）
Ｈａｌ２Ｐ−アリール      （ＶＩ）
［式中、アリールは前記のものである］の化合物と、アルカリ金属とを反応させることにより得られるものであることを特徴とする、一般式（Ｉ）のエナンチオ濃縮された化合物を製造するための方法。
【請求項２】
Ａが、
【化４】
2007511554.tif 000020
［式中、ＲがＨ、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、ＱはＯ、ＮＨ、ＮＲである］から成る群からの基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｑが酸素またはＮＲであり、その際、Ｒが（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、ベンジルであってもよい、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
Ｑが酸素またはＮＲであり、その際、Ｒはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、ベンジルであってもよい、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ２およびＲ３が、それぞれＨであり、かつＲ１およびＲ４が、それぞれ互いに独立して、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキルである、式（ＩＶ）の化合物を使用する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ＸまたはＹが、ハロゲン、ＯＴｏｓ、ＯＭｅｓ、トリフレート、ノシレートから成る群から選択されている、一般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物を使用する、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
一般式（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）
【化５】
2007511554.tif 000021
［式中、基Ｙは独立して、ハロゲン、ＯＴｏｓ、ＯＭｅｓ、トリフレート、ノシレートから成る群から選択され、
Ｒ１およびＲ４は、それぞれ互いに独立して、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、
基Ｒ’は、それぞれ互いに独立して、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルである］の化合物を、一般式（ＩＶ）の化合物のために使用する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
Ｒ’はＨ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニルであり、かつ、
Ｒ１およびＲ４は、それぞれメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニルである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
使用されるアルカリ金属が、リチウムである、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
一般式（ＶＩ）とアルカリ金属との反応を、非プロトン極性溶剤の存在下で実施する、請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
化合物（ＩＶ）と化合物（Ｖ）との反応を、−２５℃〜＋４０℃の温度で実施する、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
一般式（ＶＩ）の化合物とアルカリ金属との反応を、−１０℃〜＋１０℃の温度で実施する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
反応を、ワンポット変法で実施する、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビスホスホランをベースとする二座配位子の製造方法に関する。特に本発明は、一般式（Ｉ）：
【０００２】
【化１】
2007511554.tif 000003
のエナンチオ濃縮化合物の製造方法に関する。
【０００３】
エナンチオ濃縮配位子は、不斉合成または不斉触媒反中で使用される。ここで重要であるのは、配位子の電子的および立体化学的性質を、それぞれの触媒作用の問題に最適に適合させることである。この化合物群の成功において重要であるのは、これらの配位子系に依存する金属中心周囲の不斉環境の形成が見込まれることである。キラリティーの効果的な運搬のためにこのような環境を利用することは、不斉導入の固有の制限として配位子系のフレキシビリティーを制御するのに有利である。
【０００４】
リン含有配位子の群の範囲内で、環式ホスフィン、特にホスホランは、特に重要である。二座のキラルホスホランは、たとえば、不斉触媒反応中で使用されるＤｕＰｈｏｓおよびＢＰＥである。典型的な場合には、これらは、種々の方法で改質化されてもよく、かつ立体的かつ電子的性質の点で、広い範囲で可変であってもよいキラル配位子骨格を提供する。
【０００５】
ＤＥ１０３０９３５６では、具体的な配位子系およびこれらを製造するための経路を記載している。ここで存在する合成経路は、フェニルホスフィンから出発し、この場合、これは、反応前に強塩基を用いての脱プロトン化により二金属フェノールホスリンに変換し、ホスフィンを形成することにより実施される。
【０００６】
ＥＰ５２８８６５では、ジリチオフェニルホスフィンおよび二官能性アルキル化剤から出発するホスホランの製造が記載されている。ジリチオフェニルホスフィンの製造については、挙げられていない。
【０００７】
ＥＰ１０２８９６７、ＪＯＣ２００３、６８、１７０１〜１７０７およびＯｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００３、５、１２７３〜７５では、エナンチオ濃縮ホスホランの製造方法が記載されている。さらにここでは、ホスホランへの変換が、フェノールホスフィンまたはリチエート化ビストリメチルシリルホスフィドを用いて生じる。
【０００８】
本発明の対象は、さらに、前記ホスホランおよびエナンチオ濃縮された配位子を製造するための方法を提供する。特に、方法は、経済的および環境的観点の双方から、工業的規模で、経済的なものでなければならない。特に好ましくは、簡単に市販可能な材料から出発して、かつ相対的に問題なく取り扱うことができる試薬を使用する方法により達成される。
【０００９】
このような方法は、請求項において提案されている。請求項１は、好ましい配位子系を製造するための方法を記載する。従属請求項２〜１３は、本発明の好ましい実施態様に関する。
【００１０】
一般式（Ｉ）
【００１１】
【化２】
2007511554.tif 000004
［式中、＊はステレオジェニック中心を示し、
Ｒ１およびＲ４は、それぞれ互いに独立して、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルコキシ、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ互いに独立して、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルコキシ、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、
ＡはＣ２架橋であり、その際、２個の炭素原子はｓｐ２混成を有する］のエナンチオ濃縮された化合物を製造する方法を実施する場合には、一般式（ＩＩ）
【００１２】
【化３】
2007511554.tif 000005
［式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記に示したものであってよく、
Ｍはアルカリ金属またはトリメチルシリル基である］の化合物から出発して、これを一般式（ＩＩＩ）
Ｘ−Ａ−Ｘ      （ＩＩＩ）
［式中、Ａは前記に示したものであり、かつ
基Ｘは、それぞれ互いに独立して脱離基である］の化合物と一緒に反応させ、かつ、一般式（ＩＩ）の化合物を、一般式（ＩＶ）
【００１３】
【化４】
2007511554.tif 000006
［式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記に示したものであり、かつ基Ｙは、それぞれ互いに独立して、脱離基である］の化合物を、一般式（Ｖ）
Ｍ２Ｐ−アリール      （Ｖ）
［式中、Ｍはアルカリ金属であり、かつ、アリールは（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリールまたは（（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル）１〜３−（Ｃ６〜Ｃ８）−アリール基である］の化合物、引き続いてアルカリ金属と反応させ、かつ、付加的に、適切な場合には塩化トリメチルシリルと反応させることにより製造し、その際、一般式（Ｖ）の化合物は、一般式（ＶＩ）Ｈａｌ２Ｐ−アリール      （ＶＩ）
［式中、アリールは前記に示したものである］の化合物と、アルカリ金属とを反応させることにより得られ、この場合、当該配位子系を、本発明により簡単かつ特に有利に得ることができる。特に驚くべきことに、記載された方法は、収率の点で顕著に良好な増加を達成し、この場合、これらは、技術水準により予測される程度のものではない。
【００１４】
前記に記載された方法は、好ましくはＡが、
【００１５】
【化５】
2007511554.tif 000007
［式中、ＲはＨ、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、ＱはＯ、ＮＨ、ＮＲである］から成る群からの基である、化合物に適用する。この式中、Ｑは、特に好ましくは酸素またはＮＲであり、その際、Ｒは（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、ベンジルであってもよい。特に好ましくは、基Ｒはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、ベンジルである。
【００１６】
同様に好ましくは、Ｒ２およびＲ３がそれぞれＨであり、かつＲ１およびＲ４がそれぞれ互いに独立して、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキルである、式（ＩＶ）の化合物を使用する。
【００１７】
さらに好ましくは、ＸまたはＹが、ハロゲン、Ｏｔｏｓ（ｐ−トルエンスルホネート）、ＯＭｅｓ（メチルスルホネート）、トリフレート（トリフルオロアセテート）、ｐ−ニトロベンゼンスルホネート（ノシレート、ＯＮｓ）から成る群から選択される、一般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物を、本発明による方法において使用する。
【００１８】
同様に、特に好ましくは、一般式（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）の化合物を、
【００１９】
【化６】
2007511554.tif 000008
［式中、基Ｙは、ハロゲン、ＯＴｏｓ、ＯＭｅｓ、トリフレート、ノシレートであり、Ｒ１およびＲ４は、それぞれ互いに独立して、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）−アルコキシアルキル、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルであり、
基Ｒ’は、それぞれ互いに独立して、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、ＨＯ−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル、（Ｃ６〜Ｃ８）−アリール、（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル−（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル、（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキル−（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルである］の化合物を、一般式（ＩＶ）の化合物のために使用する。
【００２０】
特に好ましくは、Ｒ’がＨ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニルであり、かつＲ１およびＲ４がそれぞれメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニルである、式（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）の化合物である。
【００２１】
原則として、元素周期律表の第１主族のすべての元素を、アルカリ金属として使用することができる。ここで、好ましくは、リチウム、ナトリウムおよびカリウムであり、その際、リチウムが使用すべき金属として特に好ましい。
【００２２】
方法の個々の工程のために使用すべき溶剤は、当業者により、その一般技術的知識に基づいて選択することができる。溶剤は、任意の副次的反応を全く促進することがなく、かつそれ自体が反応条件下で不活性である溶剤でなければならない。一般式（ＶＩ）の化合物とアルカリ金属との反応は、好ましくは非プロトン極性溶剤下で実施する。ここで特に好ましくは、エーテル、たとえばＴＨＦ、ジエチルエーテル、ジオキサン、ＤＭＥまたはＤＥＥである。
【００２３】
本発明による反応を実施する範囲内での温度窓は、同様に当業者により自由に選択することができる。ここで当業者は、効率要因、たとえば空時収量、エネルギーコストおよび副生成物スペクトルにより導かれてもよく、かつ最適な反応を確立するのに役立つ温度に設定することができる。式（ＩＶ）の化合物と式（Ｖ）の化合物との反応は、好ましくは、−５０℃〜＋１００℃、より好ましくは−３０℃〜＋８０℃、および特に好ましくは−２５℃〜＋４０℃で実施する。一般式（ＶＩ）の化合物とアルカリ金属との反応は、他方では−２５℃〜＋４０℃、好ましくは−１５℃〜＋３０℃および特に好ましくは−１０℃〜＋１０℃の温度で実施することができる。
【００２４】
本発明による方法の他の好ましい実施態様において、式（ＶＩ）の化合物とアルカリ金属との反応により、式（Ｖ）の化合物を形成し、かつ引き続いて式（ＩＶ）の化合物と反応させ、さらに得られた生成物のさらなる反応により式（ＩＩＩ）の化合物を形成し、最終的には、式（ＩＩ）の化合物と反応させることによって、式（Ｉ）の化合物を形成する反応を、単一容器中で実施することができる。したがって、全反応を、簡単な様式で、ワンポット合成として実施することができる。
【００２５】
このようにして、本発明の方法は、従来技術において開示された合成経路において極めて決定的な利点を提供する。さらに、出発物質の選択は、強く、取り扱いが困難な塩基、たとえばアルキルリチウム化合物を合成において使用しなければならないことを意味するものではない。結果として、本発明の経路は、工業的規模で、コストのかかる安全装置および特別な注意なく実施することができ、この場合、これらは、最終的な分析において、生成物をより廉価なものとし、これにより経済的により魅力的なものとするのに役立つ。
【００２６】
本発明は、一般的には以下のようにして実施する：
工程１において、式（ＩＶ）の化合物を、以下の反応式による例で示されるようにして製造する。
【００２７】
【化７】
2007511554.tif 000009
【００２８】
一般式（Ｖ）の化合物をその後に製造し、かつ引き続いて、式（ＩＶ）の化合物と反応させる。
【００２９】
【化８】
2007511554.tif 000010
【００３０】
その後に、フェニル／リチウム／トリメチルシリル交換後の他の合成を、式（ＩＩＩ）の化合物と、式（ＩＩ）の化合物との反応によって完了することができる。
【００３１】
【化９】
2007511554.tif 000011
【００３２】
全収率は、式（ＶＩ）の化合物から出発して、＞６０％の値に達することができ、好ましくは＞６５％の値、かつより好ましくは＞７０％の値に達することができる。
【００３３】
本発明の目的のために（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルまたはオクチルであり、この場合、これらはすべての結合異性体を含む。
【００３４】
用語（Ｃ１〜Ｃ８）−アルコキシは、それぞれ分子に対して酸素原子を介して結合される（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル基に関する。
【００３５】
用語（Ｃ１〜Ｃ８）−アルコキシアルキルは、その鎖中で酸素原子を有する（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル基に関する。
【００３６】
用語（Ｃ３〜Ｃ８）−シクロアルキルは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル基等を含む。
【００３７】
本発明の目的のために、（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール基は、６〜１８個の炭素原子を有する芳香族基である。特にこのような基は、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ビスフェニル基を含む。
【００３８】
（Ｃ７〜Ｃ１９）−アラルキル基は、（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキル基を介して分子と結合する（Ｃ６〜Ｃ１８）−アリール基である。
【００３９】
脱離基は、特に：ハロゲン、Ｏｔｏｓｙｌ（ＯＴｏｓ）、Ｏｍｅｓｙｌ（ＯＭｅｓ）、トリフレート、ノシレートである。
【００４０】
可能なハロゲン（Ｈａｌ）は、塩素、臭素およびヨウ素である。
【００４１】
本発明の目的のために、用語「エナンチオ濃縮」とは、その対照的なエナンチオマーとの混合物中の一方のエナンチオマーの割合が、＞５０％および＜１００％の範囲であることを意味する。
【００４２】
示された構造は、すべての可能なジアステレオマーおよびそれぞれのジアステレオマー下で生じうるエナンチオマー（R、S型）を含む。
【００４３】
示された参考文献は、本発明の開示に参考のために記載されるものである。
【００４４】
実施例
例：
以下の例は、本発明を例証するのに役立つものであって、なんら本発明を制限するものではない。
【００４５】
例１：（２S，５S）−２，５−ヘキサンジオールビスメシレート
変法１：
（２Ｓ，５Ｓ）−２，５−ヘキサンジオール  ６０ｇを、ジクロロメタン４００ｍｌおよびトリエチルアミン１７７ｍｌ中に溶解し、かつ溶液を０℃に冷却した。塩化メタンスルホニルを５０ｍｌのジクロロメタン中の溶液として、温度を３０℃未満に保持ながら滴加した。反応溶液を、室温で６０分に亘って撹拌し、その後に２００ｍｌの水を用いて、加水分解した。この相を分離し、かつ水相を、ジクロロメタンを用いて１回抽出した。有機相を、飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、乾燥させ、かつ溶剤を減圧下で除去した。
収率：１３８．５ｇ；９９％。
【００４６】
変法２：
（２Ｓ，５Ｓ）−２，５−ヘキサンジオール  １２０ｇを、トルエン４５０ｍｌおよびトリエチルアミン３５３．５ｍｌ中に懸濁し、かつ混合物を５℃に冷却した。トルエン５０ｍｌ中の塩化メタンスルホニル  ２５５．９ｍｌの溶液をこの懸濁液に滴加し、その際、温度を３０℃未満に維持した。反応溶液、室温で１時間に亘って撹拌し、その後に水２５０ｍｌを用いて加水分解した。この相を分離し、かつ、水相をトルエンを用いて１回抽出した。有機相を、飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、その後に硫酸マグネシウム上で乾燥させた。この溶剤を減圧下で除去した。
収率：２５６．７ｇ；９２％。
【００４７】
例２：（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジメチル−１−フェニルホスホラン
変法１：
リチウム４４．４ｇを、ＴＨＦ４００ｍｌ中に懸濁し、かつ混合物を０℃に冷却した。ジクロロフェニルホスフィン（ＴＨＦ２００ｍｌ中に溶解）１４３．２ｇを、ゆっくりとこの反応混合物に滴加し、その際、温度を３０℃未満に維持した。橙色の懸濁液を、１時間に亘って撹拌し、かつ、その後にＴＨＦを減圧下で除去した。残留物を６００ｍｌのジメトキシエタン中に入れ、かつ５時間に亘って還流した。室温に冷却した後に、懸濁液を他の反応溶液に移し、その際、残留リチウムは最初の容器中に残存していた。懸濁液を−２０℃に冷却し、かつ（２Ｓ，５Ｓ）−２，５−ヘキサンジオールビスメシレート  １９５ｇ（トルエン２００ｍｌ中に溶解）をその後に添加し、その際、温度を５℃未満に維持した。反応混合物を、室温でさらに８時間に亘って撹拌し、その後に溶剤を、減圧下で除去した。残留物を５００ｍｌのヘプタン中に入れ、混合物を濾過し、かつ固体をそれぞれヘプタン３００ｍｌを用いて２回に亘って洗浄した。ヘプタンを減圧下で除去し、引き続いて粗生成物を蒸留した（８７〜８９℃／１ｍｂａｒ）。
収率：９７．１ｇ；７１％
【００４８】
【表１】
2007511554.tif 000012
【００４９】
変法２：（比較例）
メチルリチウム  ３７５ｍｌ（エーテル中１．６Ｍ）を、−２０℃で、ＴＨＦ３００ｍｌ中のフェニルホスフィン３２ｇの溶液に添加した。添加後に、溶液を室温に加熱し、かつ１時間に亘って撹拌した。（２Ｓ，５Ｓ）−２，５−ヘキサンジオールビスメシレート７２．５ｇを、ＴＨＦ７５ｍｌ中に溶解し、かつ反応溶液に−２０℃で添加した。反応混合物を室温に加熱し、かつ１６時間に亘って撹拌した。その後に、溶剤を減圧下で除去し、かつ残留物を４００ｍｌのヘプタンに入れた。反応混合物を濾過し、かつ残留物をヘプタン２００ｍｌで洗浄した。溶剤を減圧下で除去し、かつ生成物を減圧下で蒸留した（７２〜７５℃／０．５ｍｂａｒ）。
収量：２６．５ｇ；５２％。
【００５０】
変法３：（比較例）
ブチルチリウム  １１３ｍｌ（ヘキサン中１．６Ｍ）を、−３０℃で、ＴＨＦ３００ｍｌ中のフェニルホスフィン９９ｇの溶液（ヘキサン中１０％濃度）に添加した。添加後に、溶液を室温に加熱し、かつ１時間に亘って撹拌した。（２Ｓ，５Ｓ）−２，５−ヘキサンジオールビスメシレート  ２２．５ｇを、ＴＨＦ５０ｍｌ中に溶解し、かつ反応溶液に−３０℃で添加した。反応混合物を、室温に加熱し、かつ１６時間に亘って撹拌した。その後に、溶剤を減圧下で除去し、かつ残留物を１００ｍｌのヘプタン中に入れた。反応混合物を濾過し、かつ残留物を１００ｍｌのヘプタンで洗浄した。溶剤を減圧下で除去し、かつ生成物を減圧下で除去した（６９〜７５℃／０．５ｍｂａｒ）。
収量：１１．６５ｇ；６７％。
【００５１】
例３：（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジメチル−１−トリメチルシリルホスホラン
リチウム１．６７ｇを、ＴＨＦ６０ｍｌ中に懸濁した。（２Ｓ，５Ｓ）−２，５−ジメチル−１−フェニルホスホラン  ７．７５ｇ（ＴＨＦ１０ｍｌ中に溶解）を、０℃で、この懸濁液に滴加した。反応溶液を、室温で１時間に亘って撹拌し、引き続いてさらに反応容器に移し、その際、リチウムは、最初の溶液中に残存していた。クロロトリメチルシラン１１．２ｍｌ（ＴＨＦ１０ｍｌ中に溶解）を、この反応混合物に添加した。２時間後に、溶剤を減圧下で除去し、かつ粗生成物を減圧下で蒸留した（８０〜９０℃／３０ｍｂａｒ）。
収量：５．１５ｇ；６８％
【００５２】
【表２】
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【００５３】
例４：２，３−ビス［（Ｒ，Ｒ）−２，５−ジメチルホスホラニル］マレイン酸無水物
（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジメチル−１−トリメチルシリルホスホラン（エーテル５ｍｌ中に溶解）４．７１ｇを、０℃で、エーテル２０ｍｌ中のジクロロマレイン酸無水物  ２．０９ｇの溶液に添加し、かつこの混合物を、この温度で、さらに１５分に亘って撹拌した。さらに室温で３０分後に、溶液を−７８℃に冷却した。生成物は、褐色結晶として晶出した。結晶を濾別し、かつ減圧下で乾燥させた。
収量：３．５６ｇ；８７％
【００５４】
【表３】
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【００５５】
例５：｛２，３−ビス［（Ｒ，Ｒ）−２，５−ジメチルホスホラニル］マレイン酸無水物｝（シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート
２，３−ビス［（Ｒ，Ｒ）−２，５−ジメチルホスホラニル］マレイン酸無水物  １．９０ｇを、ＴＨＦ１５ｍｌ中に溶解し、かつ溶液を−２０℃に冷却した。［Ｒｈ（ＣＯＤ）２］ＢＦ４  ２．４０ｇ（ＴＨＦ２０ｍｌ中に懸濁）を、溶液にゆっくりと添加した。この溶液を、室温に加熱し、かつさらに９０分に亘って撹拌した。エーテル２５ｍｌをこの反応溶液に添加し、その後に生成物を濾別した。結晶を、エーテル２５ｍｌを用いて洗浄し、かつ減圧下で乾燥させた。
収量：３．５１ｇ；９７％
【００５６】
【表４】
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【００５７】
例６：２，３−ビス［（Ｒ，Ｒ）−２，５−ジメチルホスホラニル］マレイン酸イミド
（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジメチル−１−トリメチルシリルホスホラン  ４．５０ｇ（ＴＨＦ５ｍｌ中に溶解）を、０℃で、ＴＨＦ１０ｍｌ中のＮ−メチル−２，３−ジブロモマレイン酸イミド２．７０ｇの溶液を滴加し、かつ混合物を、さらに１時間に亘って撹拌した。溶剤およびすべての揮発性成分を、減圧下で除去した。生成物を、赤褐色の油として単離した。
収量：３．２０ｇ（９４％）
【００５８】
【表５】
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【国際調査報告】
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