(57)【要約】【課題】塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワがないように製造することができる光学フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】フィルム基材１６上に塗布液を塗設する塗布工程２２と、塗設した塗布液層の溶媒を乾燥させる乾燥工程２４と、溶媒を乾燥した塗布液層に紫外線を照射し硬化する硬化工程２６と、を有し、前記塗布液は、前記乾燥工程２４の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、該溶質が全固形分における重量割合の２０％以上であって、前記乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設され、前記乾燥工程２４では、塗布膜粘度が５０ｃｐ以上となった後に、前記溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下で合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間乾燥風を当て、その他の間は風速１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材上に塗布液を塗設する塗布工程と、塗設した塗布液層の溶媒を乾燥させる乾燥工程と、溶媒を乾燥した塗布液層に紫外線を照射し硬化する硬化工程と、を有し、
前記塗布液は、前記乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、該溶質が全固形分における重量割合の２０％以上であって、前記乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設され、
前記乾燥工程では、塗布膜粘度が５０ｃｐ以上となった後に、前記溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下で合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間乾燥風を当て、その他の間は風速１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記合計時間は１０ｓｅｃより長いことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風は、連続又は複数回に分けて当てることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記塗布液は、防眩性層形成用塗布液であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種ディスプレイに使用される光学フィルムの製造方法に係り、特に、走行する長尺状のフィルム基材に溶媒を含む塗布液を塗布し、溶媒を乾燥し、紫外線硬化する塗布層を、乾燥風による乾燥ムラ及び紫外線硬化による収縮シワのないように乾燥する光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、有機溶剤を含む塗布液を連続走行する支持体上に塗布して形成した塗布膜を乾燥する場合、乾燥風を給排気して乾燥を促進させている。しかし、給排気される乾燥風の乱れが塗布面に直接当たることにより塗布面を流動させるため、乾燥後の塗布面に乾燥ムラ(たとえば、膜厚ムラに起因するスジ故障)が発生するという問題がある。
【０００３】
特に、液晶表示装置等に使用される光学フィルム(例えば、反射防止フィルム、防眩性フィルム等)の塗布の乾燥においては、乾燥ムラが光学性能上致命的な欠陥となる場合がある。
【０００４】
このような乾燥ムラを抑制する対策として、特許文献１では、塗布膜粘度が２０ｃｐ以下のときに、風速のばらつきが±３０％以下、幅方向の塗布膜温度のばらつきが±１５％以下になるように乾燥することが開示されている。そして、特許文献２では、塗布膜における溶媒量の重量濃度が２５〜４５％のときに、乾燥速度を０．２ｇ／ｍ2 ・s以下にし、乾燥風速を０．１ｍ／ｓ〜０．５ｍ／ｓ、乾燥温度を２５℃〜１２０℃にして乾燥させることが開示されている。また、特許文献３では、乾燥進行中の塗布膜中央部位における溶剤の初期含有量に対する含有量をｙ（質量％）、そのｙに達するまでに要した時間をｘ（ｓ）としたとき、ｙが１０以上となる範囲において、ｙをｘで積分した値Ｓと塗布幅ｄ（ｍ）との積が１７０以下であるように乾燥することが開示されている。さらに、特許文献４では、溶媒含有量によって乾燥速度を変化させる方法が、特許文献５では、乾燥初期を無風で乾燥する方法が、特許文献６では、ある溶媒含有量での乾燥速度を規定する方法が、特許文献７では、乾燥前半では温度を１０〜４０℃で風速を０．５ｍ／ｓ以下にし、乾燥後半で温度をある範囲に上げる方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１２６７６８号公報
【特許文献２】特開２００６−３３１５６１号公報
【特許文献３】特開２００９−６８７３０号公報
【特許文献４】特開２００１−２８６８１７号公報
【特許文献５】特開２００５−８１２５６号公報
【特許文献６】特開２００６−３３４５６１号公報
【特許文献７】特開２００８−２０９９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１〜７や従来の乾燥する方法では、乾燥した塗布膜の厚みが１０μｍ以下の薄膜や、粘度が３００ｃｐ以上であるような塗布膜に限られていた。そのため、乾燥した塗布膜の厚みが１０μｍ以上で粘度が３００ｃｐ以下の場合では、乾燥工程で風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上の乾燥風を当て続けると風圧によって塗布膜が動かされて膜厚ムラが発生するため、風圧による膜厚ムラの発生しない１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てていることが通常行われていた。
【０００７】
ところが、塗布膜が厚い場合、乾燥風が１．５ｍ／ｓｅｃ未満のような弱い風速では、最終的に塗布膜内部に残留する溶媒が多く、紫外線硬化時に紫外線照射熱で残留する溶媒の蒸発が一気に起こることによる急激な塗布膜収縮のため塗布膜にシワが発生してしまうという問題が起きることが分かった。そこで、塗膜中の残留溶媒を充分減らすために、フィルム搬送速度を遅くして乾燥時間を延ばしてみたが、生産性を阻害しない程度にの搬送速度ダウンでは最終的に残留する溶媒量を充分減らすことができず、紫外線硬化工程で起きる残留溶媒起因のシワを解消できなかった。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワがないように製造することができる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記目的を達成するために、フィルム基材上に塗布液を塗設する塗布工程と、塗設した塗布液層の溶媒を乾燥させる乾燥工程と、溶媒を乾燥した塗布液層に紫外線を照射し硬化する硬化工程と、を有し、前記塗布液は、前記乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、該溶質が全固形分における重量割合の２０％以上であって、前記乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設され、前記乾燥工程では、塗布膜粘度が５０ｃｐ以上となった後に、前記溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下で合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間乾燥風を当て、その他の間は風速１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てることを特徴とする。
【００１０】
紫外線硬化型の塗布液であって、乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、その溶質が全固形分における重量割合の２０％以上であって、乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設された塗布液を、塗布膜粘度が５０ｃｐ以上となった後に、前記溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下で合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間乾燥風を当て、その他の間は風速１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てることで、紫外線での硬化工程までに塗布液層に残留する溶媒は殆んどなくなるので、紫外線硬化時の紫外線照射熱で溶媒の蒸発が一気に起こることによる急激な塗布膜収縮のための塗布膜のシワが発現するのを防ぐことができる。
【００１１】
また、乾燥工程で塗布膜粘度が５０ｃｐ以上となった後に、全固形分のうち２０重量％以上の溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風を当てているが、合計時間が１５ｓｅｃ以下であるので、塗布膜には膜厚ムラが発現しない。
【００１２】
したがって、本発明によれば、塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワとが発現しない光学フィルムを提供することができる。
【００１３】
なお、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風を当てる時間は、１５ｓｅｃ以下であって１５ｓｅｃに近いほうが好ましいが、具体的には１０ｓｅｃより長ければ、塗布液層に残留する溶媒は殆んどなくなり、収縮のための塗布膜のシワが発現するのを防ぐことができる。
【００１４】
そして、前記風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風は、連続又は複数回に分けて当てることが好ましい。
【００１５】
風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風は、合計時間が１５ｓｅｃ以下であれば良い。連続又は複数回に分けて当てるときについて実験で確認した。
【００１６】
本発明において、前記塗布液が防眩性層形成用塗布液であることが好ましい。塗布液が防眩性層形成用塗布液の際に本発明は特に有効である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光学フィルムの製造方法によれば、塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワがないように光学フィルムを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
【図２】実施例の結果を示す表図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、添付図面に従って、本発明に係る光学フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について説明する。
【００２０】
図１は、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
【００２１】
長尺状のフィルム基材１６（既に何らかの機能層が形成されているものも含む）が、フィルムロール１２から送出機１４により送り出される。フィルム基材１６の走行速度は、例えば、０．１〜１．５ｍ／秒とすることができる。
【００２２】
フィルム基材１６はガイドローラ１８によってガイドされて除塵機２０に送りこまれる。除塵機２０は、フィルム基材１６の表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。除塵機２０の下流には、塗布手段であるエクストルージョン方式の塗布装置２２が設けられており、塗布液がバックアップローラに巻き掛けられたフィルム基材１６上に塗布できるようになっている。本発明において、塗布液は、次に述べる乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、その溶質が全固形分における重量割合の２０％以上である。また、塗布層が乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設するものが本発明の対象である。
【００２３】
塗布工程２２としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法等も用いることができる。塗布装置２２は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【００２４】
塗布工程２２の下流には、乾燥工程２４が設けられている。乾燥工程２４では、形成された塗布膜の表面を乾燥風により溶媒を蒸発させ、溶媒の大部分を蒸発させて塗布層を乾燥させる。
【００２５】
この乾燥工程２４では、塗布液を、所定温度（例えば、６０℃）で溶媒を蒸発させる。例えば、溶媒の沸点に応じて、例えば、４０〜１２０℃程度の温度で乾燥させてもよい。
【００２６】
そして、本発明は、乾燥工程２４内において、塗布膜の粘度が５０ｃｐ以上となった後に、全固形分のうち２０重量％以上の溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下で合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間乾燥風を当て、その他の間は風速１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てるようにする。
【００２７】
従来は、全固形分のうち２０重量％以上の溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、乾燥工程２４で風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上の乾燥風を当て続けると風圧によって塗布膜が動かされて膜厚ムラが発生するため、とりあえず膜厚ムラの発生しない１．５ｍ／ｓｅｃ未満の乾燥風を当てていることが通常行われていた。ところが、乾燥風が１．５ｍ／ｓｅｃ未満のような弱い風速では、最終的に塗布膜内部に残留する溶媒が多く、次に述べる硬化工程２６での紫外線硬化時に紫外線照射熱で残留する溶媒の蒸発が一気に起こることによる急激な塗布膜収縮のため塗布膜にシワが発生してしまうという問題があった。
【００２８】
そこで、本発明では、塗布液が乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、その溶質が全固形分における重量割合の２０％以上であって、塗布層の乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設するものにおいて、前記溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間だけ、乾燥工程２４で塗布膜の粘度が５０ｃｐ以上となった後に風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風を当てるようにした。
【００２９】
これにより、紫外線での硬化工程までに塗布液層に残留する溶媒は殆んどなくなるので、紫外線硬化時の紫外線照射熱で溶媒の蒸発が一気に起こることによる急激な塗布膜収縮のための塗布膜のシワが発現するのを防ぐことができる。
【００３０】
また、乾燥工程で塗布膜粘度が５０ｃｐ以上となった後に風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風を当てているが、合計時間が１５ｓｅｃ以下であるので、塗布膜には膜厚ムラが発現しない。
【００３１】
したがって、本発明によれば、塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワがないように光学フィルムを製造することができる。
【００３２】
なお、全固形分のうち２０重量％以上の溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風を当てる時間は、１５ｓｅｃ以下であって１５ｓｅｃに近いほうが好ましいが、具体的には１０ｓｅｃより長ければ、塗布液層に残留する溶媒は殆んどなくなり、収縮のための塗布膜のシワが発現するのを防ぐことができる。
【００３３】
なお、乾燥風には整流した風もしくは均一な風を用いても良いし、もしくは蒸発した溶媒を塗布膜面に対向して設置された冷却凝縮板により凝縮させ取り除いても良い。また、本発明において、乾燥風は、塗布膜面に対し垂直方向に当てるだけではなく、塗布膜面に対し平行方向に風を吹かせたものであっても良い。
【００３４】
乾燥工程２４に用いる乾燥装置としては、特に限定はないが、熱風乾燥装置（例えば、特開２００１−３１４７９９に記載の乾燥装置等）等が使用できる。
【００３５】
乾燥工程の下流には、塗布層の硬化工程２６として、活性エネルギー線（紫外線や電子線など）により、塗布層を硬化又は架橋させる。硬化方法としては、硬化性化合物の種類に応じて選択できるが、紫外線照射装置２８が使用される。この紫外線照射により、所望の硬化、架橋を形成できるようになっている。
【００３６】
紫外線照射は、水銀ランプ、メタルハライドランプ等の各種の市販の紫外線照射ランプを用いて実施することができる。なお、紫外線照射を実施する際、架橋反応、又は、重合反応を酸素濃度を低下させた雰囲気下で行うことも好ましい。この際、酸素濃度は１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度や耐薬品性に優れた硬化層を形成することができる。より好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．１体積％以下である。
【００３７】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【００３８】
また、活性放射線で硬化する際、放射される塗膜の温度を制御することも好ましい。塗膜の放射線照射時の温度を制御する方法としては、活性放射線を照射する室内の雰囲気温度を制御する方法、照射する側と反対側にロールを設置し、そのロール温度により制御する方法等がある。
【００３９】
フィルム基材１６上に逐次塗布を行い２層以上の塗布層を形成させる場合には、これらを連続で行う（巻き取らず、塗布、乾燥工程を繰り返し、最終的に巻き取る）ことが生産上は好ましい。
【００４０】
以上説明したように、本発明に係る光学フィルムの製造方法を採用することにより、塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワがない光学フィルムを製造することができる。
【００４１】
以下、本発明に係る塗布液等について説明する。
【００４２】
本発明に係る塗布液は、溶質と溶媒とからなる。溶質としては、乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、その溶質が全固形分における重量割合の２０％以上である。本発明に係る溶質としては、樹脂材料として紫外線硬化性化合物が必要である。
【００４３】
紫外線硬化性化合物としては、活性エネルギー線（紫外線）により反応する官能基を有する化合物であり、活性エネルギー線により架橋して樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能な種々の紫外線硬化性化合物が使用できる。
【００４４】
紫外線硬化性化合物としては、活性光線（紫外線）により硬化可能な紫外線硬化性化合物（紫外線硬化性モノマー、オリゴマー、プレポリマーなどの紫外線硬化性化合物など）などが例示できる。なお、紫外線硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい紫外線硬化性樹脂などの紫外線硬化性化合物を、単に「紫外線硬化性樹脂」という場合がある。紫外線硬化性化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００４５】
紫外線硬化性化合物は、通常、紫外線硬化性基、例えば、重合性基（ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基など）や感光性基（シンナモイル基など）を有しており、特に重合性基を有する紫外線硬化性化合物（例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂））が好ましい。
【００４６】
重合性基を有する紫外線硬化性化合物のうち、単量体としては、例えば、単官能性単量体［（メタ）アクリル酸エステルなどの（メタ）アクリル系単量体、例えば、アルキル（メタ）アクリレート（メチル（メタ）アクリレートなどのＣ１−６アルキル（メタ）アクリレートなど）、シクロアルキル（メタ）アクリレート、橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート（イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレートなど）、グリシジル（メタ）アクリレート；酢酸ビニルなどのビニルエステル、ビニルピロリドンなどのビニル系単量体など］、少なくとも２つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体［エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの３〜６程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体］が例示できる。
【００４７】
紫外線硬化性化合物は光重合開始剤と組み合わせて用いることができる。
【００４８】
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類等を使用できる。光重合開始剤の含有量は、硬化性化合物に対して０．１〜２０重量部程度とすることができる。
【００４９】
使用される溶媒としては、用いるポリマー、硬化性化合物等の種類及び溶解性に応じて選択でき、混合溶媒の場合、少なくとも１種類は固形分（複数のポリマー及び硬化性化合物、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）などが例示できる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００５０】
また、フィルム基材の種類に応じて、フィルム基材を溶解や侵食、又は膨潤させない溶媒を選択してもよい。例えば、フィルム基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、塗布液の溶媒として、例えば、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、イソプロパノール、トルエン等を好ましく使用できる。
【００５１】
また、溶質として、充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、界面活性剤等も使用することができる。
【００５２】
なお、防眩性フィルムの塗布膜形成用液は、溶媒、粒子、樹脂材料、紫外硬化性化合物、光重合開始剤を調整することで作製される。
【００５３】
使用できる粒子としては特に制限はないが、シリカ粒子、ジルコニア粒子が特に望ましい。粒子径は１〜１５μｍほどが望ましい。
【００５４】
好ましい熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類など）などが好ましい。
【００５５】
なお、使用できる紫外硬化性化合物と光重合開始剤と溶媒は、上記と同様である。
【００５６】
［実施例］
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００５７】
以下に示す塗布液を調整し、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フイルム（株）製）上に初期膜厚（Ｗｅｔ膜厚）が３５μｍになるように、エクストルージョンダイを用いて塗布を行った。
・ＵＶ硬化性モノマー      １０質量部
・ＵＶ硬化性ポリマー      ３０質量部
・粒径８μｍシリカ粒子    １０質量部
・メチルイソブチルケトン  ３５質量部
・メチルエチルケトン      １５質量部
なお、このＵＶ硬化性モノマーの６０℃における粘度は３００ｃｐである。ここで、粘度は、UV硬化性モノマーを６０℃で保温した状態でＳＶ型(音叉振動式)粘度計により測定したものである。
【００５８】
（実施例１）
塗布後の乾燥工程において、まず塗布後最初の１５秒間は風速０．３ｍ／ｓ風温２８℃の乾燥風を当て、次の１０秒間は風速１．０ｍ／ｓ風温３７℃の乾燥風を当てた。この時点での塗布膜粘度は５０〜６０ｃｐになっている。そして、乾燥工程最後の３０秒間のうち、はじめ１５ｓは風速１．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓは風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００５９】
その後、ＵＶ硬化を行い得られた膜（膜厚１１μｍ）に対し、乾燥ムラとＵＶ照射によるシワがあるかないかを目視で評価した。評価基準は以下の通り。
【００６０】
○：乾燥ムラかＵＶ照射によるシワがまったくない。
【００６１】
×：乾燥ムラかＵＶ照射によるシワがあり、製品として成り立たない。
【００６２】
（実施例２）
実施例１において、最後の３０秒間のうち、はじめ１５ｓ間は風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓ間は風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００６３】
（比較例１）
実施例１において、最後の３０秒間はすべて、風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００６４】
（比較例２）
実施例１において、最後の３０秒間のうち、はじめ１５ｓ間は風速２．７ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓ間は風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００６５】
（比較例３）
実施例１において、最後の３０秒間のうち、はじめ１７．５ｓ間は風速１．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓ間は風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００６６】
（実施例３）
実施例１において、メチルイソブチルケトンの代わりにシクロヘキサノンを、チルエチルケトンの代わりにトルエンを用いた。
【００６７】
（実施例４）
実施例２において、メチルイソブチルケトンの代わりにシクロヘキサノンを、チルエチルケトンの代わりにトルエンを用いた。
【００６８】
（比較例４）
比較例１において、メチルイソブチルケトンの代わりにシクロヘキサノンを、チルエチルケトンの代わりにトルエンを用いた。
【００６９】
（比較例５）
比較例２において、メチルイソブチルケトンの代わりにシクロヘキサノンを、チルエチルケトンの代わりにトルエンを用いた。
【００７０】
（比較例６）
比較例３において、メチルイソブチルケトンの代わりにシクロヘキサノンを、チルエチルケトンの代わりにトルエンを用いた。
【００７１】
（実施例５）
実施例１において、ＵＶ硬化性モノマーを、６０℃における粘度が１４０ｃｐであるものを用いた。
【００７２】
（実施例６）
実施例２において、ＵＶ硬化性モノマーを、６０℃における粘度が１４０ｃｐであるものを用いた。
【００７３】
（比較例７）
比較例１において、ＵＶ硬化性モノマーを、６０℃における粘度が１４０ｃｐであるものを用いた。
【００７４】
（比較例８）
比較例２において、ＵＶ硬化性モノマーを、６０℃における粘度が１４０ｃｐであるものを用いた。
【００７５】
（比較例９）
比較例３において、ＵＶ硬化性モノマーを、６０℃における粘度が１４０ｃｐであるものを用いた。
【００７６】
（実施例７）
実施例１において、最後の３０秒間のうち、はじめ１０ｓは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓは風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、さらに次の５ｓは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００７７】
（比較例１０）
実施例７において、最後の３０秒間のうち、はじめ１０ｓは風速２．７ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓは風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、さらに次の５ｓは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００７８】
（比較例１１）
実施例７において、最後の３０秒間のうち、はじめ１０ｓは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１２ｓは風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、さらに次の８ｓは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００７９】
（比較例１２）
実施例７において、最後の３０秒間のうち、はじめ８ｓは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の２０ｓは風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、さらに次の２sは風速２．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。
【００８０】
実施例１〜７及び比較例１〜１２の評価結果を図２に示した。
【００８１】
図２の表から分かるように、塗布液が乾燥工程の最高温度下での粘度が３００ｃｐ以下を示す溶質を含有し、その溶質が全固形分における重量割合の２０％以上であって、塗布層の乾燥工程後の膜厚が１０μｍ以上となるよう塗設するものにおいて、合計時間にして１５ｓｅｃ以下の間だけ、前記溶質が粘度３００ｃｐ以下を示す温度下で、乾燥工程で塗布膜の粘度が５０ｃｐ以上となった後に風速１．５ｍ／ｓｅｃ以上２．５ｍ／ｓｅｃ以下の乾燥風を当てるようにすることで、塗布膜の膜厚ムラと収縮によるシワがないように光学フィルムを製造することができる。
【符号の説明】
【００８２】
１０…光学フィルムの製造装置、１６…フィルム基材、２２…塗布装置（塗布工程）、２４…乾燥工程、２６…硬化工程
【図１】
2011189251.tif 000003
【図２】
2011189251.tif 000004