(57)【要約】【課題】反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイを得る。【解決手段】光学面に反射防止構造体１４を有する複数のレンズを共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、光学面形成面１２が形成されたマスター型１０を準備する工程（Ｓ１）と、マスター型１０の光学面形成面１２に反射防止構造体１４を形成する工程（Ｓ２）と、光学面転写予定面２４を有するレンズアレイ基材２３を準備する工程（Ｓ３）と、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４にマスター型１０を用いて反射防止構造体１４を転写する工程（Ｓ７）とを含む。【選択図】図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学面に反射防止構造体を有する複数の光学素子を共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、
光学面形成面が形成されたマスター型を準備する工程と、
前記マスター型の前記光学面形成面に前記反射防止構造体を形成する工程と、
光学面転写予定面を有するレンズアレイ基材を準備する工程と、
前記レンズアレイ基材の前記光学面転写予定面に前記マスター型を用いて前記反射防止構造体を転写する工程と、
を含むことを特徴とするレンズアレイの製造方法。
【請求項２】
前記レンズアレイ基材として、前記光学面転写予定面に光硬化樹脂をレジスト層として塗布する際、前記光硬化樹脂の硬化に必要な光の波長領域に対して高透過率材料を用いることを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイの製造方法。
【請求項３】
前記反射防止構造体は錐形状の多数の微小凸部を有することを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイの製造方法。
【請求項４】
前記マスター型は、型基材に複数の前記光学面形成面をアレイ状に配置したものであることを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイの製造方法。
【請求項５】
前記マスター型は、前記光学面形成面を有する入れ子を型基材に形成された孔に嵌挿したものであることを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学面に反射防止構造体を有する複数の光学素子を二次元的に配置したレンズアレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レンズ表面の反射を抑制するために、反射防止コートが施されていた。そして近年ではレンズなど、光学素子の表面に、微細な凹凸部を形成し、入射光に対する反射を防止する反射防止構造体が提案されている。
この反射防止構造体は、光学素子の表面の屈折率分布を変化させ、光学素子の表面からの光の反射を防止することができる。
このような反射防止構造体を形成するには、例えば、光学素子の表面にレジストパターンを形成し、このレジストパターンを元にして、光学素子の表面にマスクを形成する。さらに、このマスキング以外の部分にエッチング処理を施して、反射防止構造体を形成する。
【０００３】
特許文献１には、このような反射防止構造体を有するレンズの製造方法が開示されている。この特許文献１では、Ｘ線マスクと感光性部材とを、Ｘ線マスクの異なる領域を通過したＸ線同士が回折により干渉を生じる距離だけ離して配置し、Ｘ線マスクを介して感光性部材に向けてＸ線を露光する。
次いで、露光された感光性部材を現像し、干渉と現像の際の化学的な作用との影響によって、反射防止効果に優れた反射防止構造体を形成できるというものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２３５１９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のレンズの製造方法では、反射防止構造体を作る感光性部材の表面に感光性レジストをスピンコート法などにより均一に塗布する必要がある。レジスト層の厚さにムラがあると、感光性部材の表面に転写される反射防止構造体の凸部の高さや幅が均一でなくなるためである。
しかし、複数の光学素子（レンズ）を並設したレンズアレイの場合、光学面が球面又は非球面である場合が多いため、各々の光学面に均一にレジストを塗布することは難しい。
また、レンズアレイの光学面の曲率半径が小さいと、レンズの中心部と外周部では、マスクからのＸ線の到達距離が異なる。このため、光学面に一様な反射防止構造体を形成することは困難であった。
【０００６】
本発明は、斯かる課題を解決するためになされたもので、反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、光学面に反射防止構造体を有する複数の光学素子を共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、
光学面形成面が形成されたマスター型を準備する工程と、
前記マスター型の前記光学面形成面に前記反射防止構造体を形成する工程と、
光学面転写予定面を有するレンズアレイ基材を準備する工程と、
前記レンズアレイ基材の前記光学面転写予定面に前記マスター型を用いて前記反射防止構造体を転写する工程と、を含むことを特徴とする。
【０００８】
また、請求項１に記載のレンズアレイの製造方法であって、
前記レンズアレイ基材として、前記光学面転写予定面に光硬化樹脂をレジスト層として塗布する際、前記光硬化樹脂の硬化に必要な光の波長領域に対して高透過率材料を用いることが好ましい。
また、請求項１に記載のレンズアレイの製造方法であって、
前記反射防止構造体は錐形状の多数の微小凸部を有することが好ましい。
さらに、請求項１に記載のレンズアレイの製造方法であって、
前記マスター型は、型基材に複数の前記光学面形成面をアレイ状に配置したものであることが好ましい。
また、請求項１に記載のレンズアレイの製造方法であって、
前記マスター型は、前記光学面形成面を有する入れ子を型基材に形成された孔に嵌挿したものであることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイを製造することができる。
また、同一マスター型を使用する限りは、複数の光学面間における面精度のバラツキも小さくできるので、高精度なレンズアレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１Ａ】本実施の形態のマスター型の断面図である。
【図１Ｂ】同上の外観図である。
【図２】陽極酸化法によりマスター型の光学面形成面に反射防止構造体を形成する工程を示す図である。
【図３】光学面形成面に反射防止構造体が形成されたマスター型の断面図である。
【図４】平板状のレンズアレイ基材の断面図である。
【図５】レンズアレイ基材に複数の光学面転写予定面を研削加工した状態の断面図である。
【図６】レンズアレイ基材の光学面転写予定面にレジスト層を塗布した状態を示す図である。
【図７Ａ】レンズアレイ基材の光学面転写予定面の上方にマスター型を対向配置した状態を示す図である。
【図７Ｂ】レンズアレイ基材のレジスト層にマスター型の反射防止構造体を押し付けて硬化させる状態を示す図である。
【図８】レンズアレイ基材を間欠的に移動させて全ての光学面転写予定面に反射防止構造体を転写する工程を示す図である。
【図９Ａ】レジスト層に反射防止構造体が転写された状態を示す図である。
【図９Ｂ】ドライエッチングによりレンズアレイ基材に反射防止構造体が転写された状態を示す図である。
【図１０】反射防止構造体が転写されたレンズアレイ基材を用いてレンズアレイを成形する工程を示す図である。
【図１１】本実施の形態の製造工程のフローチャートを示す図である。
【図１２】平板状のレンズアレイ基材の断面図である。
【図１３】レンズアレイ基材に多数の光学面転写予定面を研削加工した状態の断面図である。
【図１４】レンズアレイ基材の光学面転写予定面にレジスト液を滴下した状態を示す図である。
【図１５Ａ】レンズアレイ基材の光学面転写予定面の上方にマスター型を対向配置した状態を示す図である。
【図１５Ｂ】レンズアレイ基材のレジスト液にマスター型の反射防止構造体を押し付けて硬化させる状態を示す図である。
【図１６】ステップ＆リピートにより光学面転写予定面に反射防止構造体を転写する工程を示す図である。
【図１７Ａ】レジスト層に反射防止構造体を転写した状態を示す図である。
【図１７Ｂ】ドライエッチングにてレンズアレイ基材に反射防止構造体を転写した状態を示す図である。
【図１８】反射防止構造体が転写されたレンズアレイ基材を用いてレンズアレイを成形する工程を示す図である。
【図１９Ａ】１列型のマスター型の断面図である。
【図１９Ｂ】同上の外観図である。
【図２０Ａ】アレイ型の光学面形成面を有するマスター型の断面図である。
【図２０Ｂ】同上の外観図である。
【図２１Ａ】入れ子型のマスター型の断面図である。
【図２１Ｂ】同上の外観図である。
【図２２】同上の製造工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
［第１の実施の形態］
図１〜図１０は、本実施の形態のレンズアレイの製造方法の実施の形態を示す図であり、図１１は、本実施の形態の製造工程のフローチャートを示す図である。
（マスター型１０を準備する工程）（図１１のＳ１）
【００１２】
図１Ａは、本実施の形態のマスター型の断面図、図１Ｂは、その外観図である。
同図に示すように、アルミ製の円柱状（又は角柱状）の型基材１１の一端に光学面形成面１２を研削加工により形成して、マスター型１０を作成する。なお、光学面には鏡面加工が施されている。
本実施の形態では、マスター型１０の一端の平坦部１３の中央に凸非球面状の光学面形成面１２が形成されている。このマスター型１０は単型である。なお、光学面形成面１３は球面でも非球面でもよい。また、本実施の形態ではマスター型１０の型基材１１として、例えばアルミ材（Ａｌ）を用いている。
（反射防止構造体１４を形成する工程）（図１１のＳ２）
【００１３】
図２は、陽極酸化法によりマスター型１０の光学面形成面１２に反射防止構造体１４を形成する工程を示す図、図３は、光学面形成面１２に反射防止構造体１４が形成されたマスター型１０の断面図である。
この反射防止構造体１４は、ピッチと高さの比であるアスペクト比が、１以上である円錐形状（又は角錐形状）の凹部の構造単位が、反射を防止すべき光の波長以下のピッチで多数配列されている。
【００１４】
なお、反射防止構造体１４の凹部が円錐形状の場合、そのアスペクト比が高いほど（円錐部の径が小さく、また、高さが高いほど）、反射防止効果が高いと考えられている。
具体的には、図２において、シュウ酸溶液１５を満たした容器１６内にマスター型１０の光学面形成面１２を浸漬する。また、マスター型１０を陽極１７に接続し、電極板１８を陰極１９に接続する。また、マスター型１０の光学面形成面１２以外の平坦部１３はマスク２１で覆う。
なお、本実施の形態では、反射防止構造体１４の形成に陽極酸化法を用いた場合について説明したが、これに限らない。例えば、二光束干渉パターニングなどを用いてもよい。
【００１５】
この陽極酸化法では、印加電圧を変えることで反射防止構造体１４の凹部のピッチを変えることができる。例えば、反射防止構造体１４の凹部のピッチは、１５０ｎｍ〜２００ｎｍである。また、通電時間を変えることで反射防止構造体１４の凹部の深さを変えることができる。例えば、反射防止構造体１４の凹部の深さは、１５０ｎｍ〜２５０ｎｍである。
この工程により、図３に示すように、マスター型１０の光学面形成面１２に、錐形状の凹部を有する反射防止構造体１４が形成される。
（レンズアレイ基材２３を準備する工程）（図１１のＳ３）
【００１６】
図４は、薄板状のレンズアレイ基材２３の断面図である。
本実施の形態では、このレンズアレイ基材２３として石英を用いた。なお、このレンズアレイ基材２３は高透過率材料であることが好ましい。なお、後述するＵＶ硬化樹脂の硬化に必要な光の波長領域に対して高透過率材料であれば、他のガラス材料や、樹脂材料等でもよい。
また、材料の透過率は、ＵＶ硬化樹脂を硬化するに必要な光の波長やレンズアレイ基材２０の厚みなどによって異なる。
（レンズアレイ基材２３に光学面転写予定面２４を加工する工程）（図１１のＳ４）
【００１７】
図５は、レンズアレイ基材２３に複数の光学面転写予定面２４を研削加工した状態の断面図である。
この光学面転写予定面２４は、マスター型１０の光学面形成面１２を収容可能な凹球面状又は凹非球面状に形成されている。この光学面形成面１２の加工は、例えば研削盤等を用いた研削加工により行われる。
（レジスト層２５の塗布工程）（図１１のＳ５）
【００１８】
図６は、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４にレジスト層２５を塗布した状態を示す図である。
このレジスト層２５として、本実施の形態ではＵＶ硬化型樹脂を用いた。なお、レジスト層２５としてはＵＶ硬化型樹脂に限らない。例えば、熱可塑性樹脂などを用いてもよい。このＵＶ硬化型樹脂を、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４に均一な厚さに塗布するのが好ましい。
ただし、このレジスト層２５は、光学面転写予定面２４に必ずしも均一厚さに塗布する必要はない。マスター型１０を押し付けることで、反射防止構造体１４をレジスト層２５に転写するため、厚さに多少のばらつきがあってもよい。
（レジスト層２５に反射防止構造体１４’を転写する工程）（図１１のＳ６）
【００１９】
図７Ａは、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４の上方に、マスター型１０を対向配置した状態を示す図であり、図７Ｂは、レンズアレイ基材２３のレジスト層２５にマスター型１０の反射防止構造体１４を押し付けて硬化させる状態を示す図である。また、図８は、レンズアレイ基材２３を間欠的に移動させて全ての光学面転写予定面２４に反射防止構造体１４’を転写する工程を示す図である。
本実施の形態では、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４ごとに塗布されたレジスト層２５にマスター型１０を押し付ける。次いで、その状態で、レジスト層２５の１個ごとに、下方からＵＶ光源２６によりＵＶ光を照射してレジスト層２５を硬化させている。
このように、本実施の形態では、感光した部分を現像液に溶解させてレジスト層２５を除去するのではなく、マスター型１０を押し付けてレジスト層２５に凹凸を形成している。
【００２０】
また、本実施の形態では、レンズアレイ基材２３として、高透過率材料である石英を用いているので、ＵＶ光がレンズアレイ基材２３を効率よく透過してレジスト層２５を短時間で硬化させることができる。なお、硬化時間を気にしない場合には高透過率材料にこだわる必要はない。また、ここでの高透過率は例えば透過率９０％以上をいう。
【００２１】
また、転写に際しては、図８に示すように、レンズアレイ基材２３を１ステップずつ矢印Ａ方向に間欠的に移動させる。そして、ステップ＆リピートにより、全てのレジスト層２５に反射防止構造体１４’を転写する。
すなわち、まず１個目（図８の左端の１個目）のレジスト層２５にマスター型１０を押し付け、反射防止構造体１４’を転写したら、その状態でＵＶ光源２６によりＵＶ光を照射する。そして、レジスト層２５が硬化したら、マスター型１０を上方に退避移動させる。次いで、レンズアレイ基材２３をＡ方向に１ステップ移動させる。
【００２２】
続いて、２個目（図８の左端から２個目）のレジスト層２５にマスター型１０を押し付け、反射防止構造体１４’を転写したら、その状態でＵＶ光源２６によりＵＶ光を照射する。そして、レジスト層２５が硬化したら、マスター型１０を上方に退避移動させる。次いで、レンズアレイ基材２３をＡ方向に１ステップ移動させる。
以下、これを繰り返す。
（ドライエッチングによりレジスト層２５に転写された反射防止構造体１４’をレンズアレイ基材２３に転写する工程）（図１１のＳ７）
【００２３】
次に、図９Ａは、全てのレジスト層２５に反射防止構造体１４’が転写された状態を示す図であり、図９Ｂは、ドライエッチングによりレンズアレイ基材２３に反射防止構造体１４が転写された状態を示す図である。
このように、本実施の形態では、ドライエッチングによりプラズマガスやイオンを用いて、レンズアレイ基材２３からレジスト層２５を除去する。こうして、レンズアレイ基材２３の夫々の光学面転写予定面２４に反射防止構造体１４を転写する。
（反射防止構造体１４が転写されたレンズアレイ基材２３を用いてレンズアレイ３０を成形する工程）（図１１のＳ８）
【００２４】
図１０は、反射防止構造体１４が転写されたレンズアレイ基材２３を用いてレンズアレイ３０を成形する工程を示す図である。
反射防止構造体１４が転写された２つのレンズアレイ基材２３を、所定間隔で上下に対向配置する。こうして、形成された複数のキャビティ空間にＵＶ硬化樹脂２７を充填する。
次いで、下方からＵＶ光源２６により複数のキャビティ空間にまとめてＵＶ光を照射してＵＶ硬化樹脂２７を硬化させる。こうして、光学面に反射防止構造体１４を有する複数のレンズを二次元状に配置したレンズアレイ３０を得ることができる。
【００２５】
本実施の形態によれば、マスター型１０に形成された反射防止構造体１４を、レンズアレイ基材２３に塗布されたレジスト層２５に押し付けることで、反射防止構造体１４’が転写されるので、たとえレジスト層２５が均一に塗布されていなくても、エッチング処理を経てレンズアレイ基材２３のレジスト層２５に均一に反射防止構造体１４’を転写することができる。
また、この反射防止構造体１４’をエッチングしてレンズアレイ基材２３に反射防止構造体１４を転写し、このレンズアレイ基材２３を成形型として用いることで高精度なレンズアレイ３０を製造することができる。
また、１個の同一のマスター型１０を使用する限り、転写された複数の光学面のバラツキも小さいので、均一な反射防止構造体１４が得られ、高精度なレンズアレイ３０を製造することができる。
［第２の実施の形態］
【００２６】
図１２〜図１８は、本実施の形態のレンズアレイの製造方法を示す図である。
図１〜図３の反射防止構造体を有するマスター型の作製方法は、第１の実施の形態と同様である。また、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。
（レンズアレイ基材への光学面転写面の加工）
【００２７】
図１２は、平板状のレンズアレイ基材２３の断面図、図１３は、レンズアレイ基材２３に多数の光学面転写予定面２４を研削加工した状態の断面図である。
本実施の形態では、レンズアレイ基材２３として石英を用いた。なお、このレンズアレイ基材２３は高透過率材料であることが好ましい。
この光学面転写予定面２４は、マスター型１０の光学面形成面１２を収容可能な凹球面又は凹非球面に形成されている。
（レジスト塗布）
【００２８】
図１４は、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４にレジスト液２５’を滴下した状態を示す図である。
このレジスト液２５’として、本実施の形態ではＵＶ硬化型樹脂を用いた。このレジスト液２５’を均一量滴下する。
図１５Ａは、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４の上方にマスター型１０を対向配置した状態を示す図であり、図１５Ｂは、レンズアレイ基材２３のレジスト液２５’にマスター型１０の反射防止構造体１４を押し付けて硬化させる状態を示す図である。
【００２９】
本実施の形態では、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４ごとに滴下されたレジスト液２５’に対し、マスター型１０を押し付けてレジスト液２５’を押延し、形成されたレジスト層に下方からＵＶ光源２６によりＵＶ光を照射して硬化させている。
このとき、本実施の形態では、レンズアレイ基材２３として、高透過率材料である石英を用いているので、ＵＶ光がレンズアレイ基材２３を効率よく透過してレジスト層を短時間で硬化させることができる。
【００３０】
図１６は、ステップ＆リピートにより光学面転写予定面に反射防止構造体を転写する工程を示す図である。
すなわち、レンズアレイ基材２３を１ステップずつ矢印Ａ方向に間欠的に移動させて、ステップ＆リピートにより、全ての光学面転写予定面２４に反射防止構造体１４’を転写するとよい。
【００３１】
例えば、１個目（図１６の左端の１個目）の光学面転写予定面２４にマスター型１０を押し付け、反射防止構造体１４’を転写したら、その状態でＵＶ光源２６によりＵＶ光を照射する。そして、レジスト層が硬化したら、マスター型１０を上方に退避移動させる。次いで、レンズアレイ基材２３をＡ方向に１ステップ移動させる。
続いて、２個目（図１６の左端から２個目）の光学面転写予定面２４にマスター型１０を押し付け、反射防止構造体１４’を転写したら、その状態でＵＶ光源２６によりＵＶ光を照射する。そして、レジスト層が硬化したら、マスター型１０を上方に退避移動させる。次いで、レンズアレイ基材２３をＡ方向に１ステップ移動させる。以下、これを繰り返す。
【００３２】
図１７Ａは、レジスト層に反射防止構造体１４’を転写した状態を示す図、図１７Ｂは、ドライエッチングにてレンズアレイ基材２３に反射防止構造体１４を転写した状態を示す図である。
こうして、レンズアレイ基材２３の複数の光学面転写予定面２４に反射防止構造体１４が転写される。
【００３３】
図１８は、反射防止構造体１４が転写されたレンズアレイ基材２３を用いてレンズアレイ３０を成形する工程を示す図である。
反射防止構造体１４が転写された２つのレンズアレイ基材２３を、所定間隔で上下に対向配置する。こうして、形成された複数のキャビティ空間にＵＶ硬化樹脂２７を充填する。
次いで、下方からＵＶ光源２６により複数のキャビティ空間にまとめてＵＶ光を照射してＵＶ硬化樹脂２７を硬化させる。これにより、光学面に反射防止構造体１４を有する複数のレンズを二次元状に配置したレンズアレイ３０を得ることができる。
【００３４】
本実施の形態によれば、マスター型１０に形成された反射防止構造体１４をレンズアレイ基材２３に塗布されたレジスト層２５に押し付けることで、レジスト液２５’が押延されてレジスト層が形成される。このとき、均一量のレジスト液２５’を滴下するようにしたので、一様な厚さのレジスト層が形成され、均一な反射防止構造体１４’を転写することができる。
また、１個の同一のマスター型１０を使用して転写する限り、転写された複数の光学面のバラツキも小さいので、均一な反射防止構造体１４が得られ、高精度なレンズアレイ３０を製造することができる。
［第３の実施の形態］
【００３５】
図１９Ａは、１列型のマスター型１０の断面図、図１９Ｂは、その外観図である。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。
このマスター型１０は、１列に３個の光学面形成面１２を有している。また、この光学面形成面１２に、前記と同様の陽極酸化法により反射防止構造体１４を形成する（この点は、以下の実施の形態においても同様である）。
一方、レンズアレイ基材２３には、例えば３×３の９個の光学面転写予定面２４がマトリクス状に研削加工されている。
【００３６】
この９個の光学面転写予定面２４に塗布したレジスト層２５にマスター型１０を押し付けて反射防止構造体１４’を転写する場合、マスター型１０を行方向に平行移動させて行う。例えば、マスター型１０を、１行目の３個の光学面転写予定面２４に押し付け、その後、２行目の３個の光学面転写予定面２４に押し付け、さらに、その後、３行目の３個の光学面転写予定面２４に押し付けて行う。こうして、９個の反射防止構造体１４’をレジスト層２５に転写することができる。
【００３７】
また、図２０Ａは、アレイ型の光学面形成面１２を有するマスター型１０の断面図、図２０Ｂは、その外観図である。
このマスター型１０は、２×２の４個の光学面形成面１２がマトリクス状に設けられている。
一方、レンズアレイ基材２３には、例えば２×２の４個の光学面形成面１２がマトリクス状に研削加工されている。
【００３８】
本実施の形態によれば、１つのマスター型１０に、複数の光学面形成面１２が１列に又はアレイ状に配置されているので、マスター型１０をレンズアレイ基材２３のレジスト層に１回押し付けるだけで、複数の反射防止構造体１４’をレジスト層２５に転写することができる。このため、効率よくレンズアレイを製造することができる。
［第４の実施の形態］
【００３９】
図２１Ａ及び図２１Ｂは、入れ子型のマスター型１０を示し、図２２は、その製造工程を示す図である。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。
このマスター型１０は、型基材１１として矩形状のステンレス（ＳＵＳ）や超硬材（ＷＣ）などを用いている。この型基材１１に形成された複数（本実施の形態では１６個）の有底孔２９に、夫々鉄砲玉形状の入れ子２８を嵌挿する。
【００４０】
この入れ子２８は、一端に球面又は非球面の光学面形成面１２を有している。入れ子２８の材質はアルミ材などを用いている。本実施の形態では、図２１に示すように、型基材１１に４×４の円形の有底孔２９をマトリクス状に形成している。そして、この有底孔２９に夫々入れ子２８を嵌挿し、接着手段や圧入手段により固定している。
そして、嵌挿された入れ子２８の先端の光学面形成面１２に、前記と同様の陽極酸化法により反射防止構造体１４を形成する。
【００４１】
次いで、反射防止構造体１４が形成されたマスター型１０を、レンズアレイ基材２３のレジスト層２５（図６等参照）に押し付けて、レジスト層２５に４×４の１６個の反射防止構造体１４’を転写する。次いで、ドライエッチングにより、レジスト層２５に転写された反射防止構造体１４’をレンズアレイ基材２３に転写して反射防止構造体１４を得る。
さらに、反射防止構造体１４が転写された２つのレンズアレイ基材２３を上下に対向配置して、不図示のキャビティ空間にＵＶ硬化樹脂２７を充填し、硬化させてレンズアレイを得る。
【００４２】
本実施の形態によれば、先端に光学面形成面１２を有する鉄砲玉状の入れ子２８を、型基材１１とは別体に加工することができるので、入れ子２８と型基材１１の夫々の加工作業が容易であり、かつ高精度に加工することができる。
【符号の説明】
【００４３】
１０      マスター型
１１      型基材
１２      光学面形成面
１３      平坦部
１４      反射防止構造体
１４’    反射防止構造体
１５      シュウ酸溶液
１６      容器
１７      陽極
１８      電極棒
１９      陰極
２１      マスク
２３      レンズアレイ基材
２４      光学面転写面予定面
２５      レジスト層
２５’    レジスト液
２６      ＵＶ光源
２７      ＵＶ硬化樹脂
２８      入れ子
２９      有底孔
３０      レンズアレイ
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１７Ａ】
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【図１７Ｂ】
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【図１９Ａ】
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【図１９Ｂ】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【図２２】
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【図１０】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６】
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【図１８】
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