【事件の表示】
　特願２０１４−１５２９３７「リトグラフ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年１２月２５日出願公開、特開２０１４−２４１４２５、請求項の数（１０）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１６年（２００４年）７月１５日（パリ条約による優先権主張　２００３年７月１６日、欧州特許庁）に出願された特願２００４−２０７９５９号（以下「原出願」という。）の一部を平成２１年７月６日に新たな特許出願とした特願２００９−１５９６２３号の一部を平成２２年３月２５日に新たな特許出願とした特願２０１０−７００９２号の一部を平成２４年３月１９日に新たな特許出願とした特願２０１２−６１７８８号の一部を平成２６年５月２８日に新たな特許出願とした特願２０１４−１１０００８号の一部を、平成２６年７月２８日に新たな特許出願とした特願２０１４−１５２９３７号であって、平成２７年４月２８日付け（発送同年５月１２日）で拒絶理由が通知され、同年７月１７日に手続補正がされるとともに意見書が提出され、同年９月３０日付け（発送同年１０月６日）で拒絶理由が通知され、平成２８年２月５日に手続補正がされるとともに意見書が提出されたが、同年４月２１日付けで拒絶査定（謄本送達日　同年同月２６日、以下「原査定」という。）がされ、これに対し、同年８月１０日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、これと同時に手続補正がされた後、当審において、平成２９年５月３０日付け（発送同年６月６日）で拒絶理由が通知され、同年７月３日に意見書が提出されるとともに手続補正がされたものである。
　
第２　本願発明
　本願請求項１ないし１０に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」ないし「本願発明１０」という。）は、平成２９年７月３日にされた手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１０に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１ないし１０は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　可動テーブルと、
　放射線ビームを基板の放射線感受目標部分に投影する投影装置であって、最終部材を備える投影装置と、
　前記投影装置と前記基板及び／または前記可動テーブルとの間のスペースを温度制御された液体で少なくとも部分的に満たすよう構成されている液体供給装置であって、前記温度制御された液体の流れを前記スペース及び／または対象物の局所的な領域へと誘導するためのアウトレットを備える液体供給装置と、
　前記投影装置の光学特性を複数のロケーションでの温度情報に基づいて調整するよう構成されている投影装置補償器と、
　前記スペースが前記液体で少なくとも部分的に満たされているときに前記基板及び／または前記テーブルの前記複数のロケーションでの前記投影装置補償器で使用される温度情報を測定する温度センサと、を備え、
　前記投影装置補償器は、測定された温度情報と目標温度との差を用いて前記投影装置に配設された一つ以上の調整可能素子により前記投影装置の結像特性を調整するよう構成され、
　前記最終部材は、前記基板及び／または前記可動テーブルに直接面する前記投影装置の最終レンズであり、
　前記液体供給装置は、前記最終部材の下で該最終部材を囲んで配置されたシール部材を備え、該シール部材は、前記基板及び／または前記可動テーブルの局所的な領域に前記液体を閉じ込めるよう構成され、
　前記シール部材は、液面が前記最終部材の底端部より高くなるよう前記最終部材より上方に伸長しているリトグラフ装置。
【請求項２】
　前記投影装置は、放射線ビームの経路における前記最終レンズの上流に配設された複数の調整可能素子をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
　前記シール部材は、前記投影装置の光軸の方向に移動可能である、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
　前記シール部材の底面の少なくとも一部は、前記基板及び／または前記可動テーブルに面する平面を備える、請求項１から３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
　前記基板及び／または前記可動テーブルの温度を調整する温度制御器をさらに備える、請求項１から４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
　前記投影装置補償器は、前記測定された温度情報と前記目標温度との前記差によって生じる、前記基板上に生成されるパターンにおけるゆがみに応じて、前記投影装置の光学特性を調整するよう構成されている、請求項１から５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
　前記温度情報に基づいて前記温度制御された液体の温度を調整する温度制御器をさらに備える、請求項１から６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
　前記投影装置補償器は、較正データを処理するよう構成されており、前記較正データは、前記温度情報に応じて前記投影装置の光学特性に適用する調整を表す、請求項１から７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
　前記液体及び／または前記最終部材の前記複数のロケーションでの前記投影装置補償器で使用される温度情報を測定する温度センサをさらに備える、請求項１から８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
　前記液体供給装置は、前記最終部材、前記基板、及び前記液体の温度を共通の目標温度に調整する温度制御器を備える、請求項１から９のいずれかに記載の装置。」
　
　なお、本願発明２ないし１０は、本願発明１を減縮した発明である。
　
第３　引用文献、引用発明等
１　引用文献１について
（１）原査定の拒絶の理由に引用された、原出願の優先日前に頒布された刊行物である引用文献１（特開平１０−３０３１１５号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている（下線は当審が付した。）。
ア　「【請求項１】　
露光位置において基板を保持するステージおよびこのステージ上に前記基板を搬送するためのアームを有し、露光される基板の温度を測定するためのセンサが前記ステージ上あるいはアーム上に設けられ
【請求項２】　
前記センサは複数個設けられ
【請求項３】　
露光パターンを前記基板上に投影するための投影光学系を備え、その倍率を前記基板の測定温度に応じて補正する倍率補正手段を有
【請求項４】　
前記倍率補正手段は、前記基板上の寸法が、前記基板の温度が所定の基準温度から前記測定温度へ変化した場合に変化する量に対応するように前記投影光学形の倍率を変化させる
露光装置
　
イ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置およびこれを用いることができるデバイス製造方法に関し、特に、被露光基板の温度を測定し、さらにはその測定温度に応じて被露光基板への投影倍率を補正するようにしたものに関する。」
　
ウ　「【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため本発明の露光装置では、露光位置において基板を保持するステージおよびこのステージ上に前記基板を搬送するためのアームを有し、露光される基板の温度を測定するためのセンサが前記ステージ上あるいはアーム上に設けられていることを特徴とする。また、本発明のデバイス製造方法では、基板の温度を測定してからその基板の露光を行うことを特徴とする。基板の測定温度は、露光に際しての倍率補正等のために用いられる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施形態においては、前記センサは前記ステージ上あるいはアーム上に複数設けられ、それらの上に保持される基板の温度を測定する。
【００１１】また、基板の測定温度に応じて、露光パターンの基板上への投影倍率を補正し、そして前記基板の露光を行う。この倍率補正は、基板上の寸法が、基板の温度が所定の基準温度から測定温度へ変化した場合に変化する量に対応する量だけ投影倍率を変化させることにより行うことができる。基準温度として、露光すべき基板のロット中の最初に露光すべき基板の前記測定温度、あるいは基板に関する処理の工程における基準温度を採用することができる。このようにして倍率補正を行うことにより、クーリングプレートで基板を所定の温度に制御したり、基板への投影倍率の補正値を基板毎に光学的に計測したりする必要性を排除することができる。」　
　
エ　「【００１３】
【実施例】
［第１の実施例］図１は、本発明の第１の実施例に係る露光機を示す斜視図である。同図に示すように、ワーク（被露光基板）は、複数枚を１ロットとして、各カセット４ａ〜４ｃ内に、ロット単位で収納されている。各カセット４ａ〜４ｃに収納されているワークは、毎葉で取り出され、インターフェース・アーム５によって露光機内の露光ステージ２へ送り込まれる。
【００１４】図２は、この露光機における温度センサの配置を示す斜視図である。同図に示すように、ワーク裏面を直接支持するインターフェース・アーム５あるいは露光ステージ２に温度センサ６ｂあるいは６ａを配置する。
【００１５】図３はこの露光機における倍率補正手段を示す斜視図である。同図において、７はワーク３上に露光すべきパターンを有するマスク、８はこのパターンの像をワーク３上に投影する投影光学系、９はマスク７と投影光学系８との間に配置したＸ方向の倍率補正機構、１０は投影光学系８とワーク３との間に位置するＹ方向の倍率補正機構である。倍率補正機構９、１０は例えば、透明な板状部材と、これを彎曲させる手段とを有し、その曲率を変化させることにより投影倍率を補正するものであり、これらにより倍率補正手段を構成している。
【００１６】この構成において、図４に示すように、露光機は、セカンド・レーヤ以降についての露光を行うために、カセット４ａ〜４ｃのいずれかのロットの最初のワークをインターフェース・アーム５により投入すると（ステップＳ１）、そのワークの温度をセンサ６ａまたは６ｂで測定し（ステップＳ２）、その測定温度を、基準温度として露光機に登録しておく（ステップＳ３）。次に、測定温度が所定の許容範囲内の値か否かを判定し（ステップＳ４）、許容範囲内でなければ警告を発生する（ステップＳ５）。次に、露光シーケンスに従い、ワークとマスク・パターンとの合せを行った後、ワークの倍率計測を行い（ステップＳ６）、その結果に基づいて倍率補正を行いながら、露光を行う（ステップＳ８）。計測したワークの倍率は、基準倍率として露光機に登録しておく（ステップＳ７）。
【００１７】次に、次のワークをインターフェース・アーム５により露光ステージ２上に搬送すると共に（スップＳ９）、ワークの温度をセンサ６ａまたは６ｂで測定し（ステップＳ１０）、その温度を記憶する（ステップＳ１１）。また、測定温度が所定の許容範囲内であるか否かを判定し（ステップＳ１２）、許容範囲外であればその旨の警告を発生する（ステップＳ１３）。
【００１８】次に、ワークとマスクとのパターン合せを行った後、倍率計測を行うことなく、ステップＳ８で記憶した基準倍率と、ステップＳ１０における測定温度のステップＳ３で登録した基準温度からの温度差とに基づいて倍率補正を行い、露光を行う。つまり、基準温度からの温度差に応じて変化する分の倍率を計算し（ステップＳ１４）、この倍率を基準倍率に対して増減した倍率となるような補正データにより倍率補正手段を駆動し、露光を行う（ステップＳ１５）。この後、ステップＳ９に戻り、ステップＳ９〜Ｓ１５の処理を繰り返すことにより、順次、ロット中の残りの各ワークについての露光を行う。なお、ステップＳ１１において、毎葉で記憶したワークの温度は、後の工程で発見された合せ不良等の問題に対して、各ワークがどのような倍率補正によって露光されたかの履歴を検証するのに用いられる。」
　
オ　図１ないし３は次のものである。
　図１
　図２
　
（２）引用発明
　上記（１）によれば、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
「露光位置において基板を保持するステージおよびこのステージ上に前記基板を搬送するためのアームを有し、露光される基板の温度を測定するためのセンサが前記ステージ上あるいはアーム上に設けられ、
　前記センサは複数個設けられ、
　露光パターンを前記基板上に投影するための投影光学系を備え、その倍率を前記基板の測定温度に応じて補正する倍率補正手段を有し、
　前記倍率補正手段は、前記基板上の寸法が、前記基板の温度が所定の基準温度から前記測定温度へ変化した場合に変化する量に対応するように前記投影光学形の倍率を変化させる露光装置。」
　
２　引用文献２について
　原査定の拒絶の理由に引用された、原出願の優先日前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となつた引用文献２（国際公開第９９／４９５０４号）には、図面とともに次の事項が記載されている。
ア　「技術分野
　本発明は、例えば、半導体素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、液晶表示素子、又は薄膜磁気へッド等のデバイスを製造するためのリソグラフフィ工程でマスクパターンを感光性の基板上に転写するために用いられる投影露光方法、及び装置に関し、更に詳しくは液浸法を用いた投影露光方法及び装置に関する。」（１頁５〜１０行）
　
イ　「そこで液体７と接触する光学素子を、例えばレンズ４よりも安価な平行平面板とするようにしてもよい。この場合、投影露光装置の運搬、組立、調整時等において投影光学系ＰＬの透過率、ウエハＷ上での露光光の照度、及び照度分布の均一性等を低下させる物質（例えばシリコン系有機物等）がその平行平面板に付着しても、液体７を供給する直前にその平行平面板を交換するだけでよく、液体７と接触する光学素子をレンズとする場合に比べてその交換コストが低くくなるという利点もある。」（１１頁１９〜２６行）
　
ウ　「その液体７は、その液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置等からなる液体供給装置５によって、所定の排出ノズル等を介してウエハＷ上に温度制御された状態で供給され、その液体のタンク及び吸引ポンプ等からなる液体回収装置６によって、所定の流入ノズル等を介してウエハＷ上から回収される。液体７の温度は、例えば本例の投影露光装置が収納されているチャンバ内の温度と同程度に設定されている。そして、投影光学系ＰＬのレンズ４の先端部をＸ方向に挟むように先端部が細くなった排出ノズル２１ａ、及び先端部が広くなった２つの流入ノズル２３ａ，２３ｂ（図２参照）が配置されており、排出ノズル２ｌａは供給管２１を介して液体供給装置５に接続され、流入ノズル２３ａ，２３ｂは回収管２３を介して液体回収装置６に接続されている。更に、その１対の排出ノズル２１ａ、及び流入ノズル２３ａ，２３ｂをほぼ１８０°回転した配置の１対のノズル、及びそのレンズ４の先端部をＹ方向に挟むように配置された２対の排出ノズル、及び流入ノズルも配置されている。
　図２は、図１の投影光学系ＰＬのレンズ４の先端部４Ａ及びウエハＷと、その先端部４ＡをＸ方向に挟む２対の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示し、この図２において、先端部４Ａの＋Ｘ方向側に排出ノズル２１ａが、−Ｘ方向側に流入ノズル２３ａ，２３ｂがそれぞれ配置されている。また、流入ノズル２３ａ，２３ｂは先端部４Ａの中心を通りＸ軸に平行な軸に対して扇状に開いた形で配置されている。そして、１対の排出ノズル２１ａ、及び流入ノズル２３ａ，２３ｂをほぼ１８０°回転した配置で別の１対の排出ノズル２２ａ、及び流入ノズル２４ａ，２４ｂが配置され、排出ノズル２２ａは供給管２２を介して液体供給装置５に接続され、流入ノズル２４ａ，２４ｂは回収管２４を介して液体回収装置６に接続されている。
　また、図３は、図１の投影光学系ＰＬのレンズ４の先端部４Ａと、その先端部４ＡをＹ方向に挟む２対の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示し、この図３において、先端部４Ａの＋Ｙ方向側に排出ノズル２７ａ、−Ｙ方向側に流入ノズル２９ａ，２９ｂがそれぞれ配置され、排出ノズル２７ａは供給管２７を介して液体供給装置５に接続され、流入ノズル２９ａ，２９ｂは回収管２９を介して液体回収装置６に接続されている。」（１２頁１３行〜１３頁１８行）
　
エ　図１〜４は次のものである。
　
３　引用文献３について
　原査定の拒絶の理由に引用された、原出願の優先日前に頒布された刊行物である引用文献３（旧東ドイツ国経済特許第２２１５６３号明細書）には、図面とともに次の事項が記載されている（なお、Umlautはそれぞれ、「ae」、「oe」、「ue」、Eszettは「ss」とそれぞれ表記した。訳は当審が付した。）。
ア　「Die OEffnungen 10;11 sind in Abhaengigkeit von der Bewegungsrichtung des Halbleitersubstrates 25 wahlweise als Zufuehrungen fuer die Immersionsfluessigkeit 4.1 jeweils vor der Vorsatzeinrichtung 7, bzw. als Absaugung jeweils nach der Vorsatzeinrichtung 7 waehrend der Bewegung des Halbleitersubstrates 25 einsetzbar.
 Die gemaess der Fig.1 verwendete Immersionsflussigkeit 4.1 ist sowohl innerhalb der Vorsatzeinrichtung 7 als auch zwischen der Vorsatzeinrichtung 7 und der Oberfiaeche des beschichteten Fotoresists 26; 27 thermostatiert, wobei vorzugsweise eine Temperatur von 22±1℃ konstant gehalten ist. 」（１２頁９〜２１行）
（開口部１０；１１は、任意のアタッチメント７の正面にそれぞれの場合の液侵液４．１の供給線として、半導体基板２５の移動方向に応じて使用することができ、また、アタッチメント７は、半導体基板２５の移動中に、それぞれの場合の吸引に用いる。
　図１によれば、使用される液侵液４．１を、アタッチメント７内及びアタッチメント７を２２±１℃の一定の温度に保つことで、コーティングされたフォトレジスト２６；２７の表面と間の両方の温度を調節する。）
　
イ　図１及び３は次のものである。
　図１（Ｆｉｇ．１）
　図３（Ｆｉｇ．３）
　
４　引用文献４について
　原査定の拒絶の理由に引用された、原出願の優先日前に頒布された刊行物である引用文献４（特開平１０−３０３１１４号公報）には、次の事項が記載されている。
ア　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける露光装置に関し、特に液浸型の露光装置に関する。」
　
イ　「【００３７】
【第２の実施例の説明】次に、本発明の第２の実施例について図４を参照して説明する。本実施例は、先の第１の実施例にも同様に適用可能な液体ＬＱの温度制御法とウエハＷの交換時の液体ＬＱの取り扱い方法とを示す。従って、図４において先の図１，３中の部材と同じものには同一の符号をつけてある。さて、図４においてホルダテーブルＷＨの内底部に円形の凹部として形成されたウエハ載置部には複数の吸着面１１３が形成されている。そして円形のウエハ載置部の周辺には、液体ＬＱの供給と排出に用いる溝５１が環状に形成され、その溝５１の一部は、テーブルＷＨ内に形成された通路５２を介して、外部のパイプ５３につながれている。またホルダテーブルＷＨ内のウエハ載置部の直下と補助プレート部ＨＲＳの直下には、ペルチェ素子等の温度調整器５０Ａ，５０Ｂが埋め込まれ、ホルダテーブルＷＨ上の適当な位置（望ましくは複数ケ所）には温度センサー５５が取り付けられて、液体ＬＱの温度が精密に検出される。そして温度調整器５０Ａ，５０Ｂは、温度センサー５５によって検出される液体ＬＱの温度が一定値になるように、制御器６０によって制御される。」
　
第４　対比・判断
１　本願発明１について
（１）対比
　本願発明１と引用発明とを対比すると、次のことがいえる。
　引用発明における「基板」、「基板を保持するステージ」、「露光される基板の温度を測定するための」「複数個設けられる」「センサ」、「露光パターンを前記基板上に投影するための投影光学系」、「投影光学系を備え、その倍率を前記基板の測定温度に応じて補正する倍率補正手段」、「基板上の寸法が、前記基板の温度が所定の基準温度から前記測定温度へ変化した場合に変化する量に対応するように前記投影光学形の倍率を変化させる倍率補正手段」及び「露光装置」は、本願発明１における「基板」、「テーブル」、「複数のロケーションでの投影装置補償器で使用される温度情報を測定する温度センサ」、「目標部分に投影する」「投影装置」、「前記投影装置の光学特性を複数のロケーションでの温度情報に基づいて調整するよう構成されている投影装置補償器」、「測定された温度情報と目標温度との差を用いて前記投影装置に配設された一つ以上の調整可能素子により前記投影装置の結像特性を調整するよう構成される」「投影装置補償器」及び「リトグラフ装置」に相当する。
　また、「目標部分に投影する投影装置」が、本願発明１では「放射線ビームを基板の放射線感受目標部分に投影する投影装置であって、最終部材を備える」ものであって、「前記最終部材は、前記基板及び／または前記可動テーブルに直接面する前記投影装置の最終レンズであ」ると特定されるのに対して、引用発明では「投影光学系」がこのように特定されないが、引用発明の投影光学系もこのようなレンズは当然に備える構成にすぎないから、実質的な相違点ではない。
　
　したがって、本願発明１と引用発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
　
（一致点）
「テーブルと、
　目標部分に投影する投影装置であって、最終部材を備える投影装置と、
　前記投影装置の光学特性を複数のロケーションでの温度情報に基づいて調整するよう構成されている投影装置補償器と、
　前記基板の前記複数のロケーションでの前記投影装置補償器で使用される温度情報を測定する温度センサと、を備え、
　前記投影装置補償器は、測定された温度情報と目標温度との差を用いて前記投影装置に配設された一つ以上の調整可能素子により前記投影装置の結像特性を調整するよう構成され、
　前記最終部材は、前記基板及び／または前記可動テーブルに直接面する前記投影装置の最終レンズである、リトグラフ装置。」
（相違点）
（相違点１）「テーブル」が、本願発明１では「可動テーブル」と特定されるのに対して、引用発明では「ステージ」が可動であると特定されない点。
　
（相違点２）本願発明１は、「前記投影装置と前記基板及び／または前記可動テーブルとの間のスペースを温度制御された液体で少なくとも部分的に満たすよう構成されている液体供給装置であって、前記温度制御された液体の流れを前記スペース及び／または対象物の局所的な領域へと誘導するためのアウトレットを備える液体供給装置」を備え、「前記液体供給装置は、前記最終部材の下で該最終部材を囲んで配置されたシール部材を備え、該シール部材は、前記基板及び／または前記可動テーブルの局所的な領域に前記液体を閉じ込めるよう構成され、前記シール部材は、液面が前記最終部材の底端部より高くなるよう前記最終部材より上方に伸長している」のに対して、引用発明は露光装置が液侵式とは特定されないため、液体供給装置及びシール部材を備えない点。
　
（相違点３）「温度センサ」が、本願発明１では「前記スペースが前記液体で少なくとも部分的に満たされているときに」温度情報を測定するものであると特定されるのに対して、引用発明は露光装置が液侵式とは特定されないため、液体で少なくとも部分的に満たされているときに温度情報を測定するとは特定されない点。
　
（２）相違点についての判断
　事案に鑑みて上記相違点２について検討すると、引用発明に関して、引用文献１には、露光装置を液侵式として用いることの記載や示唆はない。
　また、引用文献２〜４には、液侵式の露光装置において、「基板及び／または前記可動テーブルの局所的な領域に前記液体を閉じ込めるよう構成され」、「液面が前記最終部材の底端部より高くなるよう前記最終部材より上方に伸長している」「シール部材」は記載されていない。
　したがって、引用発明に、引用文献２〜４に記載された「液体供給装置」を適用して液侵式となしても、上記相違点２に係る「基板及び／または前記可動テーブルの局所的な領域に前記液体を閉じ込めるよう構成され」、「液面が前記最終部材の底端部より高くなるよう前記最終部材より上方に伸長している」「シール部材」を備える構成を、当業者が容易に想到し得たとは認められない。
　したがって、上記相違点１及び３について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても引用発明、引用文献２ないし４に記載された事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。
　
２　本願発明２ないし１０について
　本願発明２ないし１０も、本願発明１の「基板及び／または前記可動テーブルの局所的な領域に前記液体を閉じ込めるよう構成され」、「液面が前記最終部材の底端部より高くなるよう前記最終部材より上方に伸長している」「シール部材」を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明、引用文献２ないし４に記載された事項に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
　
第５　原査定の概要及び原査定についての判断
　原査定は、平成２８年２月５日にされた手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１２について上記引用文献１ないし４に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　しかしながら、平成２９年７月３日にされた手続補正により補正された請求項１ないし１０は、それぞれ、「基板及び／または前記可動テーブルの局所的な領域に前記液体を閉じ込めるよう構成され」、「液面が前記最終部材の底端部より高くなるよう前記最終部材より上方に伸長している」「シール部材」を備えるものとなっており、上記のとおり、本願発明１ないし１０は、上記引用発明及び上記引用文献２ないし４に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明できたものではない。
　したがって、原査定を維持することはできない。
　
第６　当審拒絶理由について
・特許法第３６条第６項第２号について
　当審では、本件の特許請求の範囲の請求項１の記載では、「液体」と温度センサの関係が特定されないため発明の構成が不明確であるとの拒絶の理由を通知しているが、平成２９年７月３日付けの補正において、「前記スペースが前記液体で少なくとも部分的に満たされているときに前記基板及び／または前記テーブルの前記複数のロケーションでの前記投影装置補償器で使用される温度情報を測定する温度センサ」と補正された結果、この拒絶の理由は解消した。
　
第７　むすび
　以上のとおり、本願発明１ないし１０は、当業者が引用発明及び引用文献２ないし４に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたものではない。
　したがって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。