【事件の表示】
　特願２０１４−５１０６５３「導電性構成要素およびその準備方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年１０月２４日国際公開、ＷＯ２０１３／１５５８５４、平成２６年　６月　５日国内公表、特表２０１４−５１３８４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　
　本願は、２０１２年１２月２１日（パリ条約による優先権主張外国庁受理　２０１２年４月１９日　中国、２０１２年４月１９日　中国）を国際出願日とする出願であって、平成２７年１月７日付けで拒絶査定がされ、これに対して同年５月１日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正がなされ、当審において同年１２月２５日付けで拒絶理由通知がなされ、平成２８年３月９日付けで手続補正がされ、同年４月７日付けで拒絶理由通知がなされ、同年６月７日付けで手続補正がされたものである。
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２８年６月７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】
　容量性タッチスクリーンに適用される、インジウムスズ酸化物を含まない導電性構成要素であって：
　絶縁層と、前記絶縁層に置かれた、金属メッシュとを含み、前記金属メッシュは、アレイ状に配置された複数の間隙を規定し、前記金属メッシュの前記間隙の開口比Ｋと、前記導電性構成要素の光透過率Ｔ１と、前記絶縁層の光透過率Ｔ２との関係は、式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載され、
　前記間隙は正方形または菱形であり、前記金属メッシュは複数の平行な第１の金属線と複数の平行な第２の金属線とを含み、前記第１の金属線と前記第２の金属線とは前記間隙を形成するように互いと交差し、
　前記第１の金属線および前記第２の金属線の少なくとも一方は、交差する金属ワイヤにより形成された網目状の線であり、
　前記絶縁層の表面は、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられ、前記金属メッシュは前記機能層の表面上に形成され、
　前記機能層は、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能をそれぞれ有する複数の塗料のコーティングにより形成され、前記機能層の前記反射防止の機能を有する層はフッ化マグネシウムコーティングまたはフッ化カルシウムコーティングにより形成されており、
　前記絶縁層はガラス基板であり、該ガラス基板は、無機ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される材料からなる、導電性構成要素。」
　
　
２．引用発明・周知事項
　
（１）引用例１
　当審で通知した平成２８年４月７日付け拒絶理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０１０−２７７３９２号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の記載がある。（下線部は当審において付加した。以下同じ）　
　
ア．「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、タッチパネルおよびタッチパネルを備えた表示装置に関するものである。」（２頁４８−５０行）
　
イ．「【背景技術】
【０００２】
　従来より、指などによるタッチパネルへのタッチを検出し、そのタッチ位置の座標を特定することにより入力操作を行うタッチパネル機能が知られており、優れたインターフェース手段の一つとして注目されている。このようなタッチパネルでは、指などによるタッチの位置を検出する方法として、抵抗膜方式や静電容量方式などの様々な方式を用いて製品化されている。
【０００３】
　
静電容量方式の一つとして、タッチセンサを内蔵したタッチスクリーンの前面側を数ｍｍ厚程度のガラス板等の保護板で覆い、指などによる保護板へのタッチを検出するＰＣＴ（Projected Capacitive Touch screen）方式が知られている
【０００４】
　下記特許文献１に記載の
ＰＣＴ方式を用いたタッチパネルにおけるタッチスクリーンは、静電容量を検出するための検出導体として薄い誘電膜で形成された第１シリーズの導電材料パターン（導体エレメント）と、絶縁膜を隔てて形成された第２シリーズの誘電材料パターン（審判注：「誘電材料パターン」とあるは「導電材料パターン」の誤記であると認められる。）とを備えている
【０００５】
　
誘導性材料（審判注：「誘電性材料」とあるは「導電性材料」の誤記であると認められる。）として最適な材料は、例えば銀などの金属材料である。一方、タッチパネルは主に表示装置に付加して利用されることから、表示特性として導電材料パターンの可視性が問題になることがあり、導電材料パターンの可視性を低くするという観点からは、酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明導電膜が用いられる
ウ．「【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
　このようなタッチパネルにおいては、パネルの大型化を図るにあたり、タッチパネルに生じる寄生容量あるいは配線抵抗を低減して良好な検出精度を得ること、あるいは表示品質を向上して良好な表示を得ることが求められている。
【０００９】
　
透明導電膜からなる検出用配線で構成されたタッチパネルでは
検出用配線を成す透明導電膜の抵抗値は一般的に高いことから、検出精度の低下を招くという問題があった。したがって、透明導電膜からなる検出用配線で構成されたタッチパネルを大型化することは困難であった
【００１０】
　一方、金属膜からなる検出用配線で構成されたタッチパネルでは、透明導電膜からなる検出用配線と比べて配線抵抗が低いため、タッチパネルを大型化しても良好な検出精度を得ることができる。
【００１１】
　しかし、ベタ配線を用いて検出用配線を構成すると、配線の面積の大きさから視認性の悪化を招くこととなり、検出用配線を金属膜で構成するためには、個々の検出用配線を視認し難い、おおよそ配線幅が数μｍ〜２０μｍ程度の細い金属線の束で形成することが望ましい。
【００１２】  ・・・（中略）・・・
【００１３】　・・・（中略）・・・
【００１４】
　そこで、本発明は上記問題に鑑みてなされてものであり、検出感度を高め、かつ、表示品質が向上したタッチパネルおよびそれを備えた表示装置を得ることを目的とする。」（３頁４４行〜４頁３３行）
エ「【発明の効果】
【００１６】
　
本発明に係るタッチパネルによれば、検出用配線に網目形状の金属配線を用いることで表示光を透過する開口面積を大きくとることができ、表示光の透過率の低下を抑制することができる。また、検出用配線に物理的、電気的に接続された網目形状の金属配線を用いることで、配線抵抗が低下して検出感度が向上することができ、かつ、パターン不良が生じた場合でも、検出感度の低下および歩留まりの低下を抑制することができる。
　
オ．「【発明を実施するための形態】
【００１８】
　はじめに、
本発明の実施の形態に係るタッチパネル１００におけるタッチスクリーン１
【００１９】
　図１ａは、本発明の実施の形態に係るタッチスクリーン１の概略の構成を示した平面図である。図１ｂは、図１ａにおける領域Ｂを拡大した図である。
タッチスクリーン１は、列方向（図１中、ｙ方向）に伸在し、行方向（図１中、ｘ方向）に所定の間隔を有して並列配置された複数の検出用列配線２と、行方向に伸在し、列方向に所定の間隔を有して並列配置された複数の検出用行配線３と、検出用配線と外部部品とを電気的に接続するための複数の端子６とを備える。図１ｂに示すように、検出用列配線２および検出用行配線３は、規則的に配列された網目形状の導線で構成されている
【００２０】
　また、
タッチスクリーン１は、隣接する複数の検出用列配線２の間に配置され、検出用列配線２の網目形状の一部の形状を有する複数の第１のダミーパターン４と、隣接する複数の検出用行配線３の間に配置され、検出用行配線３の網目形状の一部の形状を有する複数の第２のダミーパターン５とを備える
　
カ．「【００２２】
　次に、本発明の実施の形態に係るタッチパネル１００の構成について説明する。
【００２３】
　図２は、タッチパネル１００の構成を示した平面図である。
タッチパネル１００は、上述したタッチスクリーン１と、タッチパネル１００として機能するための制御を行う複数の部品が実装されたコントローラ基板１１
【００２４】
　
コントローラ基板１１には、検出用列配線２および検出用行配線３を順次選択して接続するスイッチ回路１２と、スイッチ回路１２により選択された検出用配線に接続され、指示体と検出用配線との間に形成される静電容量に応じて発振周期が変化する発振回路１３と、発振回路１３の発振周期に基づいて指示体と検出用配線との間に形成される静電容量を検出し、検出結果に基づいて指示体のタッチ位置を算出するタッチ位置演算回路１４等が実装されている
　
キ．「【００２６】
　
図３（ａ）は、図１（ｂ）に示すタッチスクリーン１のＣ−Ｃ′に示す領域の断面を示した図である。また、図３（ｂ）は、図１（ａ）に示すタッチスクリーン１のＡ−Ａ′に示す領域の断面の一部を示した図である
【００２７】
　
タッチスクリーン１は、透明なガラスや樹脂からなる透明基板（以下、ベース基板７とも記載）と、ベース基板７の上に形成された検出用列配線２と
第２のダミーパターン５と、ベース基板７の上に検出用列配線２および第２のダミーパターン５を覆うように形成された層間絶縁膜８と、層間絶縁膜８の上に形成された検出用行配線３と、層間絶縁膜８の上に検出用行配線３を覆うように形成された保護膜９とを備える。
Ｃ−Ｃ′の領域には存在しないため図示されていないが、層間絶縁膜８の上には、検出用行配線３と同層の金属パターンで形成された第１のダミーパターン４が形成されている
　
　
ク．「【００４０】
　次に、本発明の実施の形態に係るタッチパネルの製造方法について説明する。
【００４１】
　図５は、タッチパネルを製造する際の、図１（ｂ）に示すＣ−Ｃ′領域の断面の様子を示した図である。
【００４２】
　はじめに、
透明なガラスや樹脂からなる透明基板（ベース基板７）を準備する。次に、ベース基板７の上にアルミを主成分とする金属層２０（例えば、Ｎｉを含むＡｌ合金等であり、本実施の形態ではＡｌＮｉＮｄを用いる）をスパッタリング法を用いて、１５０〜５００ｎｍの膜厚で形成する
【００４３】
　また、金属層２０には、現像液との反応を抑えるために、ＡｌＮｉＮｄ層の上に窒化したＡｌＮｉＮｄＮ層を形成してもよい。また、Ａｌ以外にも低抵抗金属材料としてＣｕもしくはＣｕ合金を用いることができ、この場合もＡｌ同様にスパッタリング法を用いて成膜することができる。
【００４４】
　次に、金属層２０の上にレジストを塗布し、レジストが検出用列配線２と第２のダミーパターン５を形成する形状となるようにフォトリソグラフィ工程を行う。次に、燐酸・硝酸・酢酸の混酸を用いてエッチング工程を行い、
金属層２０をパターニングして検出用列配線２および第２のダミーパターン５を形成する
【００４５】　・・・（中略）・・・
【００４６】　・・・（中略）・・・
【００４７】
　次に、
層間絶縁膜８の上にアルミを主成分とする金属層３０（例えば、Ｎｉを含むＡｌ合金等であり、本実施の形態ではＡｌＮｉＮｄを用いる）をスパッタリング法を用いて、２００〜１０００ｎｍ形成する（図５（ｄ））
【００４８】
　また、金属層３０には、現像液との反応を抑えるために、ＡｌＮｉＮｄ層の上に窒化したＡｌＮｉＮｄＮ層を形成してもよい。また、Ａｌ以外にも低抵抗金属材料としてＣｕもしくはＣｕ合金を用いることができ、この場合もＡｌ同様にスパッタリング法を用いて成膜することができる。本実施の形態のように、検出用列配線２と検出用行配線３に同じ材料を用いることで生産効率を向上することができる。
【００４９】
　次に、金属層３０の上にレジストを塗布し、レジストが検出用行配線３と第１のダミーパターン４を形成する形状となるようにフォトリソグラフィ工程を行う。次に、燐酸・硝酸・酢酸の混酸を用いてエッチング工程を行い、
金属膜３０をパターニングして検出用行配線３および第１のダミーパターン４を形成する
　
　上記引用例１の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると次のことがいえる。
　
ａ．上記オ．の段落【００１８】の記載によれば、引用例１には「タッチスクリーン１」が記載されている。
　さらに、上記カ．の段落【００２３】、【００２４】の記載によれば、上記「タッチスクリーン１」は、「コントローラ基板」と合わさって「タッチパネル」を構成しており、そして、該「コントローラ基板」が静電容量を検出しタッチ位置を算出していることから、引用例１には、静電容量方式のタッチスクリーンが記載されているといえる。
　また、上記イ．には、従来の静電容量方式のタッチスクリーンでは、酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明導電膜が用いられていたことが、さらに、上記ウ．の段落【０００９】の記載によれば、従来の透明導電膜を用いたものは検出精度が低いことが、そして、上記エ．には、そこで、引用例１では、網目形状の金属配線を用いる検出用配線で検出感度および歩留まりを高めたことが記載されている。
　したがって、引用例１には、静電容量方式のタッチスクリーンにおいて、酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明導電膜を用いずに網目形状の金属配線を用いる検出用配線で検出感度および歩留まりを高めたタッチスクリーン、が記載されているといえる。
ｂ．上記オ．の段落【００１９】には、「複数の検出用列配線２」が「列方向（図１中、ｙ方向）に伸在し、行方向（図１中、ｘ方向）に所定の間隔を有して並列配置され」、また、「複数の検出用行配線３」が「行方向に伸在し、列方向に所定の間隔を有して並列配置され」ることが記載され、図１の記載を合わせて参酌すると、「検出用配線２」と「検出用配線３」が交差して複数の長方形を規定していると認められ、引用例１には、検出用配線２と検出用配線３が交差して複数の長方形を規定することが記載されているといえる。　　
　したがって、引用例１には、タッチスクリーン１は、列方向に伸在し、行方向に所定の間隔を有して並列配置された複数の検出用列配線２と、行方向に伸在し、列方向に所定の間隔を有して並列配置された複数の検出用行配線３と、検出用配線と外部部品とを電気的に接続するための複数の端子６とを備え、前記検出用列配線２および前記検出用行配線３は、規則的に配列された網目形状の導線で構成され、前記検出用配線２と前記検出用配線３が交差して複数の長方形を規定していること、が記載されているといえる。
ｃ．上記オ．の段落【００２０】には、タッチスクリーン１は、隣接する複数の検出用列配線２の間に配置され、検出用列配線２の網目形状の一部の形状を有する複数の第１のダミーパターン４と、隣接する複数の検出用行配線３の間に配置され、検出用行配線３の網目形状の一部の形状を有する複数の第２のダミーパターン５とを備えること、が記載されている。
ｄ．上記キ．の段落【００２７】には、タッチスクリーン１は、透明なガラスや樹脂からなる透明基板（以下、ベース基板７とも記載）と、ベース基板７の上に形成された検出用列配線２、および第２のダミーパターン５と、ベース基板７の上に検出用列配線２および第２のダミーパターン５を覆うように形成された層間絶縁膜８と、層間絶縁膜８の上に形成された検出用行配線３および前記第１のダミーパターン４と、層間絶縁膜８の上に検出用行配線３および前記第１のダミーパターン４を覆うように形成された保護膜９とを備えること、が記載されている。
　また、上記ク．の段落【００４２】には、透明基板は透明なガラスからなってもよいことが記載されており、引用例１には、透明なガラスからなる透明基板、が記載されているといえる。
　さらに、上記ク．の段落【００４２】には、透明基板の上にＡｌＮｉＮｄからなる金属層２０を形成することが、そして、段落【００４４】には、該金属層２０をパターニングして検出用列配線２および第２のダミーパターン５を形成することが記載されており、引用例１には、検出用列配線２および第２のダミーパターン５をＡｌＮｉＮｄで形成することが記載されているといえる。
　また、段落【００４７】には、層間絶縁膜８の上にＡｌＮｉＮｄからなる金属層を形成することが、そして、段落【００４９】には、該金属層３０パターニングして検出用行配線３および第１のダミーパターン４を形成することが記載されており、引用例１には、検出用列配線３および第１のダミーパターン４をＡｌＮｉＮｄで形成することが記載されているといえる。
　したがって、引用例１には、タッチスクリーン１は、透明なガラスからなる透明基板と、該透明基板の上に形成されたＡｌＮｉＮｄからなる前記検出用列配線２および前記第２のダミーパターン５と、前記透明基板の上に前記検出用列配線２および前記第２のダミーパターン５を覆うように形成された層間絶縁膜８と、該層間絶縁膜８の上に形成されたＡｌＮｉＮｄからなる前記検出用行配線３および前記第１のダミーパターン４と、前記層間絶縁膜８の上に前記検出用行配線３を覆うように形成された保護膜９とを備えることが、記載されているといえる。
　
　上記引用例１の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、結局、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が開示されていると認められる。
　
「静電容量方式のタッチスクリーンにおいて、酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明導電膜を用いずに網目形状の金属配線を用いる検出用配線で検出感度および歩留まりを高めたタッチスクリーンであって、
　タッチスクリーン１は、列方向に伸在し、行方向に所定の間隔を有して並列配置された複数の検出用列配線２と、行方向に伸在し、列方向に所定の間隔を有して並列配置された複数の検出用行配線３と、検出用配線と外部部品とを電気的に接続するための複数の端子６とを備え、前記検出用列配線２および前記検出用行配線３は、規則的に配列された網目形状の導線で構成され、
　前記検出用配線２と前記検出用配線３が交差して複数の長方形を規定しており、
　隣接する複数の前記検出用列配線２の間に配置され、前記検出用列配線２の網目形状の一部の形状を有する複数の第１のダミーパターン４と、隣接する複数の前記検出用行配線３の間に配置され、前記検出用行配線３の網目形状の一部の形状を有する複数の第２のダミーパターン５とを備え
　タッチスクリーン１は、透明なガラスからなる透明基板と、該透明基板の上に形成されたＡｌＮｉＮｄからなる前記検出用列配線２および前記第２のダミーパターン５と、前記透明基板の上に前記検出用列配線２および前記第２のダミーパターン５を覆うように形成された層間絶縁膜８と、該層間絶縁膜８の上に形成されたＡｌＮｉＮｄからなる前記検出用行配線３および前記第１のダミーパターン４と、前記層間絶縁膜８の上に前記検出用行配線３を覆うように形成された保護膜９とを備える、
　静電容量方式のタッチスクリーン１。」
　　
 　
（２）引用例２
　当審で通知した平成２８年４月７日付け拒絶理由に引用された、本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である米国特許出願公開第２０１２／００３１７４６号明細書（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の記載がある。（当審仮訳：当審仮訳は、引用例２の公表公報である特表２０１２−５１７０６３号公報の記載に基ずく。）
　
ア．「[0113]The conductive pattern of the touch screen according to the present invention may be divided by a straight line and a curved line. Herein, the division means that the conductive pattern is disconnected by a specific pattern. By the division, the recognition of an external touch may be increased and the transparency may be improved. A divided shape is not particularly limited and may be a straight line, a curved line, a zigzag, or the like considering easiness in the manufacturing process and for example, may be shapes shown in  FIGS. 22 and 23 . A visibility evaluation result was shown in  FIG. 38 , when a mesh having a line width of 15 micrometers and a pitch of 200 micrometers is divided into a line in which each line width is changed up to 5 to 90 and when the conductive wire is placed on the mesh. Further, a visibility evaluation result was shown in  FIG. 39 , when a mesh having a line width of 30 micrometers and a pitch of 200 micrometers is divided into a line in which each line width is changed up to 5 to 90 and when the conductive wire is placed on the mesh. A shade-marked area of the visibility evaluation result (right) corresponds to an area where a person does not easily recognize.」（７頁右欄）
（当審仮訳：
[0113] 
本発明によるタッチスクリーンの導電性パターンは直線
によって分割されることができる
ここで、分割とは、導電性パターンが特定パターンによって途切れていることを意味する。このような分割によって外部タッチの認識度を高めることができ、透明度を向上させることができる
線幅１５マイクロメートル、ピッチ２００マイクロメートルのメッシュ
イ．「[0119]A is a sheet resistance in a thickness t of the conductive pattern. The conductive pattern according to the present invention may satisfy the following equations 2 and 3.
a/[1-(R-L)2/R2]=A                           [Equation 2] 
(R-L)2/R2*Ts=Tc      　                     [Equation 3] 
[0120]In Equations 2 and 3, R is a pitch of the conductive pattern, L is a line width of the conductive pattern, a is a sheet resistance in a thickness t of a layer made of a material constituting the conductive pattern, A is a sheet resistance in a thickness t of the conductive pattern, Ts is transmittance of the substrate in itself, and Tc is transmittance of the substrate having the conductive pattern.
[0121]In this specification, the aperture ratio means a ratio of an area in which the conductive pattern is not formed in an overall laminated body and the transmittance means a transmission ratio of light shown when visible light passes through the substrate.」（８頁右欄）
（当審仮訳：
[0119]
本発明による導電性パターンは下記式２および式３を満足することが好ましい
  
  
ａ／［１−（Ｒ−Ｌ）
２
／Ｒ
２
］＝Ａ
  
  
（Ｒ−Ｌ）
２
／Ｒ
２
×Ｔｓ＝Ｔｃ
　　
[0120]
前記式２および式３において
  
Ｒは、導電性パターンのピッチであり、
  Ｌは、導電性パターンの線幅であり、
  ａは、導電性パターンを構成する物質からなる層の厚さｔにおける面抵抗であり、
  Ａは、導電性パターンの厚さｔにおける面抵抗であり、
  Ｔｓは、基板そのものの透過率であり、
  Ｔｃは、導電性パターンを有する基板の透過率である
[0121]本明細書において、
開口率とは、積層体の全面において、導電性パターンが形成されない面積の比率を意味し、透過率とは、可視光が基板を通過しながら表れる光の透過比率を意味する
　上記段落[0121]には、「開口率とは、積層体の全面において、導電性パターンが形成されない面積の比率を意味する」ことが記載されている。
　また、段落[0119]における[式２]の（Ｒ−Ｌ）２／Ｒ２  は、導電パターン１ピッチにおける導電パターンが形成されない面積の比率であるが、導電パターンは積層体の全面に一様に設けられるものであるから、（Ｒ−Ｌ）２／Ｒ２ は、積層体の「開口率」と認められる。
　以上、上記引用例２の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例２には、結局、次の技術事項（以下、「技術事項１」という。）が開示されていると認められる。
「タッチスクリーンにメッシュ状に導電性パターンを設ける際に、開口率が「（Ｒ−Ｌ）２／Ｒ２」（Ｒは導電性パターンのピッチ、Ｌは導電性パターンの線幅）で表され、開口率と、導電性パターンを有する基材の透過率Ｔｃと、基材そのものの透過率Ｔｓとの関係が、［式］Ｔｃ＝Ｔｓ×（開口率）を満足することが好ましいこと。」
（３）引用例３
　当審で通知した平成２８年４月７日付け拒絶理由に引用された、本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である特開２００３−９４５５２号公報（以下、「引用例３」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
ア．「【００２８】本発明に用いられるハードコート層（Ｄ）を構成する材料としては硬化性樹脂が挙げられる。例えば、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のケイ素アルコキシドの重合体やエーテル化メチロールメラミン等のメラミン系熱硬化性樹脂、フェノキシ系熱硬化性樹脂、エポキシ系熱硬化性樹脂、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレート系放射線硬化性樹脂等がある。これらの中でも、多官能アクリレート系樹脂等の放射線硬化性樹脂は、放射線の照射により比較的短時間に架橋度の高い層が得られることから、製造プロセスへの負荷が少なくまた膜強度が強い特徴があり、最も好ましく用いられる。」（５頁８欄）
イ．「【００４４】なお、
ハードコート層（Ｄ）は透明高分子フィルム（Ａ）上に直接
アンカー層を介して積層される。こうしたアンカー層としては例えば
各種の位相補償層、水分や空気の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機能を有する層、紫外線や赤外線を吸収する機能を有する層、基板の帯電性を低下させる機能を有する層等が好ましく挙げられる
【００４５】・・・（中略）・・・
【００４６】
タッチパネルの作製工程或いはタッチパネルがディスプレイ上に取り付けられた使用形態において、透明導電性積層体の傷つきまたは溶剤ダメージを防止するため、該透明基材（Ｃ）の透明高分子フィルム（Ａ）を積層した側と反対面に耐擦傷性及び／又は耐溶剤性を有する重合体層を設けることが好ましい。重合体層中に微粒子を含有させることにより、滑り性、干渉縞防止性、アンチグレア性を付与することも可能である
【００４７】・・・（中略）・・・
【００４９】・・・（中略）・・・
【００５０】また、
該ハードコート層（Ｄ）と該架橋重合体層（Ｅ）との間に、該架橋重合体層（Ｅ）より屈折率が高い架橋重合体層（Ｇ）を設けることにより、透明導電性積層体の可視光領域の反射率が低下し透過率が向上する
【００５１】上記平均反射率及びｂ＊値を実現するための条件は、以下の通りである。即ち、該架橋重合体層（Ｇ）はその屈折率が１．７以上で該透明導電層の屈折率＋０．３以下の範囲にありその膜厚が２０〜９０ｎｍの範囲にあり、該架橋重合体層（Ｅ）はその屈折率が１．３５〜１．５の範囲にありその膜厚が３０〜１１０ｎｍの範囲にあり、該透明導電層（Ｆ）は膜厚が１２〜３０ｎｍの範囲にあり、そして該架橋重合体層（Ｇ）、該架橋重合体層（Ｅ）及び透明導電層（Ｆ）の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍの範囲である（ここで光学膜厚は層の屈折率に膜厚を乗じた値である）。または、該架橋重合体層（Ｇ）はその屈折率が１．７以上で該透明導電層（Ｆ）の屈折率＋０．３以下の範囲にあり、該架橋重合体層（Ｅ）はその屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり、該透明導電層（Ｆ）は膜厚が１２〜３０ｎｍの範囲にあり、該架橋重合体層（Ｅ）表面の反射率が波長２６０〜３９０ｎｍの範囲内に極小点を有する
。該架橋重合体層（Ｇ）及び該架橋重合体層（Ｅ）は、主として金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合してなる重合体層であることが好ましい。金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合してなる重合体層の中でも、機械的強度や安定性、透明導電層や基板等との密着性等に優れているといった観点から、チタニウムアルコキシド
ウ．「【００５６】
本発明のハードコート層（Ｄ）、架橋重合体層（Ｇ）、（Ｅ）の少なくとも一層中に微粒子を含有させることが出来る
本発明においては、好ましくはハードコート層（Ｄ）、架橋重合体層（Ｇ）、（Ｅ）の少なくとも一層中に微粒子を含有させることにより、透明導電層表面に微小な凹凸が形成され、上記干渉縞の発生及び引っ付き現象を抑制することができる
発明の透明導電性積層体の透明導電層表面が極めて平坦であっても相手側の透明導電層表面に微小な凹凸があれば上記干渉縞発生、引っ付き現象を抑制することは可能である
エ．「【００７２】［実施例１、実施例４、比較例１］図１は、実施例１又は４、図２は比較例１の透明導電性積層体を用いたタッチパネルである。図中１はガラス基板、２と１０は透明導電層、３はドットスペーサ、４と６はポリエチレンテレフタレートフィルム、５は透明弾性層、７と８はハードコート層、９は架橋重合体層を示す。そして、実施例１又は４の透明導電性積層体を用いたタッチパネルはガラス基板１、透明導電層２とドットスペーサ３とによって固定電極基板が構成され、ポリエチレンテレフタレートフィルム４と６、透明弾性層５、ハードコート層７と８、架橋重合体層９、透明導電層１０とによって可動電極基板が構成される。比較例１の透明導電性積層体を用いたタッチパネルはガラス基板１、透明導電層２とドットスペーサ３とによって固定電極基板が構成され、ポリエチレンテレフタレートフィルム４と６、透明弾性層５、ハードコート層７と８、透明導電層１０とによって可動電極基板が構成される。
【００７３】・・・（中略）・・・
【００７４】・・・（中略）・・・
【００７５】・・・（中略）・・・
【００７６】次に、ハードコート層７及び８を形成するために、ポリエステルアクリレート（東亜化学株式会社製  アロニックスＭ８０６０）５０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製  ＤＰＨＡ）５０重量部、光開始剤（チバガイギー社製  イルガキュア１８４）７重量部、希釈剤として1−メトキシ−2−プロパノール２００重量部からなる塗工液Ｂを用意した。該積層体Ｒの片面に該塗工液Ｂを塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ2の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約３μｍのハードコート層７を設けた。同様にして、該積層体Ｒのハードコート層７と反対面にハードコート層８を設けることにより、ハードコート層７、ポリエチレンテレフタレートフィルム６、透明弾性層５、ポリエチレンテレフタレートフィルム４、ハードコート層８からなる積層体Ｓを作製した。
【００７７】次に、架橋重合体層９用塗工液Ｃを以下の手順で準備した。即ち、水７２０重量部と２−プロパノール１０８０重量部と酢酸４６重量部を混合した後に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製  ＫＢＭ４０３）４８０重量部とメチルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製  ＫＢＭ１３）２４０重量部とＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製  ＫＢＭ６０３）１２０重量部を順次混合し、３時間攪拌して前記アルコキシシラン混合液の加水分解、部分縮合を行い、さらに２−プロパノールと１−メトキシ−２−プロパノールの重量比率１：１の混合溶媒で希釈して架橋重合体層９用塗工液Ｃを作製した。該塗工液Ｃを該積層体Ｓのハードコート層８上に塗付し、１３０℃で５分間熱処理して、膜厚約３５ｎｍの架橋重合体層９を設けることにより、
ハードコート層７、ポリエチレンテレフタレートフィルム６、透明弾性層５、ポリエチレンテレフタレートフィルム４、ハードコート層８、架橋重合体層９からなる積層体Ｔを作製した
【００７８】先ず、
前記積層体Ｔの架橋重合体層９上に結晶質のＩＴＯ膜からなる膜厚が約２０ｎｍの透明導電層１０を以下の方法で積層して実施例１又は４の可動電極基板を作製した
【００７９】・・・（中略）・・・
【００８０】・・・（中略）・・・
【００８１】［実施例２］図３は、実施例２の透明導電性積層体を用いたタッチパネルである。図中１はガラス基板、２と１０は透明導電層、３はドットスペーサ、４と６はポリエチレンテレフタレートフィルム、５は透明弾性層、７と８はハードコート層、９と１１は架橋重合体層を示す。そして、ガラス基板１、透明導電層２とドットスペーサ３とによって固定電極基板が構成され、
ポリエチレンテレフタレートフィルム４と６、透明弾性層５、ハードコート層７と８、架橋重合体層９と１１、透明導電層１０とによって可動電極基板が構成される
【００８２】こうしたタッチパネルを作製するためには、実施例１と同様にしてガラス電極基板からなる固定電極基板を作製した。
【００８３】次に、実施例１と同様にして、
ハードコート層７、ポリエチレンテレフタレートフィルム６、透明弾性層５、ポリエチレンテレフタレートフィルム４、ハードコート層８からなる積層体Ｓを作製した
【００８４】ついて、架橋重合体層１１用塗工液Ｄを以下の手順で準備した。即ち、テトラブトキシチタネート（日本曹達株式会社製  Ｂ−４）をリグロインとブタノールの混合溶媒で希釈して架橋重合体層１１用の塗工液Ｄとした。該
積層体Ｓのハードコート層８上に、該架橋重合体層１１用塗工液Ｄを塗付し、１３０℃で２分間熱処理して、膜厚約４１ｎｍの架橋重合体層１１を形成した
【００８５】つづいて、実施例１と同様にして、
架橋重合体層９用の塗工液Ｃを、架橋重合体層１１上に塗付し、１３０℃で５分間熱処理して、膜厚約３５ｎｍの架橋重合体層９を形成した
【００８６】さらに、
前記架橋重合体層９上に実施例１と同様にして、膜厚が約２０ｎｍで、最小粒径２５０ｎｍ、最大粒径１４００ｎｍの範囲に結晶粒径が分布している結晶質のＩＴＯ膜からなる透明導電層１０を積層して実施例２の可動電極基板を作製した
ａ．上記イ．の段落【００４４】には、「ハードコート層（Ｄ）は、アンカー層を介して積層される。こうしたアンカー層としては例えば、各種の位相補償層、水分や空気の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機能を有する層、紫外線や赤外線を吸収する機能を有する層、基板の帯電性を低下させる機能を有する層が挙げられる」と記載されている。
ｂ．上記イ．の段落【００４６】には、「重合層」を設け「干渉縞」の防止を行うことが記載されている。
　
ｃ．上記イ．の段落【００５０】には、ハードコート層（Ｄ）と該架橋重合体層（Ｅ）との間に、該架橋重合体層（Ｅ）より屈折率が高い架橋重合体層（Ｇ）を設けることにより、透明導電性積層体の可視光領域の反射率が低下し透過率が向上すことが記載されており、反射率が低下し透過率が向上すことは反射防止の機能と認められ、引用例３には、架橋重合体層で反射防止の機能を行うことが記載されているといえる。
　上記引用例３の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例３には、結局、次の技術事項（以下、「技術事項２」という。）が開示されていると認められる。
「透明高分子フィルム４及び透明基板１６の表面に、各種の位相補償の機能や、水分や空気の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機能や、紫外線や赤外線を吸収する機能や、基板の帯電性を低下させる機能等を有するアンカー層、硬化、干渉縞の防止、アンチグレア（防眩）、反射防止の機能を有するハードコート層８及び架橋重合体層１１、９を形成し、その表面上に導電層１０を設けること。」
（４）引用例４　
　当審で通知した平成２８年４月７日付け拒絶理由に引用された、本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である国際公開２０１１／１２２３０７号（以下、「引用例４」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
ア．「[0048]　図４及び図５に示すように、支持体４を用いる場合には、
支持体４として
ガラス板としては、例えばケイ酸塩ガラス
イ．[0066]　
タッチパネル５０
（５）引用例５
　当審で通知した平成２８年４月７日付け拒絶理由に引用された、本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である特開２００９−９５７４号公報（以下、「引用例５」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
ア．「【００２８】
　〔発明の実施の形態〕
　本発明に係る、液晶パネル８０に使用される容量方式のタッチパネルの第一の好ましい実施形態について、図３〜図５に示す。
本発明に係る容量方式のタッチパネルは、透明基板３
イ．「【００３２】
　
透明基板３は
ポリメタクリル酸メチル
　上記引用例４の記載及び図面、上記引用例５の記載及び図面、並びにこの分野の技術常識を考慮すると、上記引用例４または引用例５には以下の周知技術（以下、「周知技術１」という。）が開示されている。
　
「タッチスクリーンのガラス基板の材料をケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択すること。」
　
　
３．対　比
　
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
ａ．引用発明の「静電容量方式のタッチスクリーン１」は、本願発明の「容量性タッチスクリーン」に相当する。
　　
ｂ．引用発明の「透明基板」は、「透明なガラス」であることから、本願発明の「絶縁層」に相当し、どちらも「ガラス基板」である点で共通する。
　
ｃ．引用発明の「検出用列配線２」、及び「検出用行配線３」は、「所定の間隔を有して並列配置され」「ＡｌＮｉＮｄからな」り「透明基板の上に形成され」「交差して」いることから、引用発明の「検出用列配線２」、及び「検出用行配線３」は、本願発明の「複数の平行な第１の金属線」及び「複数の平行な第２の金属線」に相当し、また、引用発明の「検出用列配線２」、及び「検出用行配線３」は、「規則的に配列された網目形状の導線」であるから、本願発明の「第１の金属線および前記第２の金属線の少なくとも一方は、交差する金属ワイヤにより形成された網目状の線」に相当する。
ｄ．そして、引用発明の「前記検出用列配線２と前記検出用行配線３」は、「互いと交差して」おり、金属のメッシュを形成しているものと認められ、さらに、「複数の長方形を規定」するものであるから、引用発明と本願発明は、「絶縁層に置かれた、金属メッシュとを含」む点、及び、「前記第１の金属線と前記第２の金属線とは前記間隙を形成するように互いと交差」する点で共通する。
　さらに、引用発明の「複数の長方形」は、「検出用列配線２」と「検出用行配線３」が交差して規定するものであり、アレイ状に配置されているものと認められ、引用発明の「複数の長方形」は、本願発明の「アレイ状に配置された複数の間隙」に相当し、また、引用発明の「長方形」と、本願発明の「間隙」は、「間隙は四角形」である点で共通する。
　
ｅ．引用発明１の「静電容量方式のタッチスクリーン１」は、「酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明導電膜を用いずに網目形状の金属配線を用いる検出用配線で検出感度および歩留まりを高めた」ものであり、さらに、「透明基板の上」の「検出用列配線２」、及び「検出用行配線３」は、「ＡｌＮｉＮｄからな」っていることから、引用発明１の「静電容量方式のタッチスクリーン１」は、本願発明の「インジウムスズ酸化物を含まない導電性構成要素」に相当する。
　　
　そうすると、本願発明と引用発明とは次の点で一致するものと認められる。
　
（一致点）
　
「容量性タッチスクリーンに適用される、インジウムスズ酸化物を含まない導電性構成要素であって：
　絶縁層と、前記絶縁層に置かれた、金属メッシュとを含み、前記金属メッシュは、アレイ状に配置された複数の間隙を規定し、
　前記間隙は四角形であり、前記金属メッシュは複数の平行な第１の金属線と複数の平行な第２の金属線とを含み、前記第１の金属線と前記第２の金属線とは前記間隙を形成するように互いと交差し、
　前記第１の金属線および前記第２の金属線の少なくとも一方は、交差する金属ワイヤにより形成された網目状の線であり、
　前記絶縁層はガラス基板である、
　導電性構成要素。」
　
　一方、次の各点で相違すると認める。
　
（相違点１）
　本願発明では、「前記金属メッシュの前記間隙の開口比Ｋと、前記導電性構成要素の光透過率Ｔ１と、前記絶縁層の光透過率Ｔ２との関係は、式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載され」ているのに対して、引用発明では、そのような特定がない点。
（相違点２）
　本願発明では、金属メッシュが規定する複数の間隙が「正方形または菱形であ」るのに対し、引用発明では、検出用列配線２及び検出用行配線３が規定するものは複数の「長方形」である点。 
　
（相違点３）
   本願発明では、「前記絶縁層の表面は、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられ、前記金属メッシュは前記機能層の表面上に形成され、前記機能層は、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能をそれぞれ有する複数の塗料のコーティングにより形成され、前記機能層の前記反射防止の機能を有する層はフッ化マグネシウムコーティングまたはフッ化カルシウムコーティングにより形成されて」いる構成であるのに対し、引用発明１では、そのような構成を有していない点。 
　
（相違点４）
　本願発明では、「該ガラス基板は、無機ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される材料からなる」ものであるのに対し、引用発明では、そのような特定がない点。 
　
　
４．検討
　
　そこで、上記各相違点について検討する。
（相違点１）について
　上記引用例２には、「タッチスクリーンにメッシュ状に導電性パターンを設ける際に、開口率が「（Ｒ−Ｌ）２／Ｒ２」（Ｒは導電性パターンのピッチ、Ｌは導電性パターンの線幅）で表され、開口率と、導電性パターンを有する基材の透過率Ｔｃと、基材そのものの透過率Ｔｓとの関係が、［式］Ｔｃ＝Ｔｓ×（開口率）を満足することが好ましいこと。」という技術事項１が記載されている。
　ここで、引用発明は、タッチスクリーンに検出用列配線２及び検出用行配線３がメッシュ状に導電パターンを形成するものである。
　してみれば、引用発明１における、「タッチスクリーン」の透過率と、「透明基板」の透過率の関係に上記技術事項１を適用して、「タッチスクリーン」が、透過率「透明基板」の透過率と「四角形（長方形）」の開口率の積として記載することは、当業者が容易に想到し得たことである。
　以上のことは、引用発明において、相違点１に係る本願発明の構成を採用することが、当業者にとって容易であったことを意味する。
（相違点２）について
　通常、複数の平行な配線同士が交差して規定する金属メッシュの形状は、正方形、長方形、平行四辺形、または、菱形のいずれかでる。
　また、引用発明において、金属メッシュの縦横の間隔や角度などに基づく形状として、具体的にどのような形状を選択するかは、当業者が適宜選択なし得たものであり、さらに、引用発明において、正方形または菱形を選択できない理由はない。
　してみれば、引用発明において、検出用列配線２及び検出用行配線３が規定する金属メッシュの形状を、正方形または菱形とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（相違点３）について
　上記引用文献３には、「透明高分子フィルム４の及び透明基板１６の表面に、各種の位相補償の機能や、水分や空気の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機能や、紫外線や赤外線を吸収する機能や、基板の帯電性を低下させる機能等を有するアンカー層、硬化、干渉縞の防止、アンチグレア（防眩）、反射防止の機能を有するハードコート層８及び架橋重合体層１１、９を形成し、その表面上に導電層１０を設けること」という技術事項２が記載され、ここで、「アンカー層、硬化、干渉縞の防止、アンチグレア（防眩）、反射防止の機能を有するハードコート層８及び架橋重合体層１１、９」はいわゆるタッチスクリーンパネルにおける機能層と認められ、そして、タッチスクリーンパネルにおける機能層に、霧化の機能膜が含まれることは周知の事項（例えば、登録実用新案第３１５３９７０号公報（例えば、段落【０００４】参照。）、登録実用新案第３１６３４３０号公報（例えば、段落【００２０】参照。）、登録実用新案第３１５３９７１号公報（例えば、段落【０００６】参照。）である。
　また、反射防止層を、フッ化マグネシウムコーティングまたはフッ化カルシウムコーティングにより形成することは、常套手段（例えば、特開２０００−２９６３１号公報（特に、段落【００２０】等参照）、特開２０１０−１５９３６５号公報（特に、段落【００９１】等参照）等参照。）に過ぎない。
　そして、タッチスクリーンパネルにおいて、硬化、霧化、防眩、または、反射防止等の機能を有する層をコーティングすることは、普通に行われることである。
　してみれば、引用発明のタッチスクリーンにおいて技術事項２を適用して、透明基材の表面に、硬化、霧化、防眩、反射防止の機能を有するハードコート層及び架橋重合体層９を形成し、その際に、反射防止の機能を有する層を、フッ化マグネシウムコーティングまたはフッ化カルシウムコーティングにより形成することは、業者が容易に想到し得たことである。
　以上のことは、引用発明において、相違点３に係る本願発明の構成を採用することが、当業者にとって容易であったことを意味する。
  
 　
（相違点４）について
　上記引用例４、及び引用例５にも記載されるように、タッチスクリーンのガラス基板の材料をケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択すること、周知の技術である。
　ここで、引用発明における透明なガラスからなる透明基板を、具体的にどのような材料で構成するかは、当業者が適宜選択なし得たことであり、また、引用発明における透明基板の材料として、引用例４のものを採用できないものでもないことは明らかである。
　してみれば、引用発明における透明なガラスからなる透明基板の材料として、ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択することは、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
　そして、本願発明の効果も、引用発明から想到される構成から当業者が予想できる範囲のものである。
　　
５．むすび
　
　以上のとおりであって、本願発明は、上記引用例１に記載された発明、引用例２、及び引用例３の技術事項、並びに周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　
　よって、結論のとおり審決する。