(57)【要約】      （修正有）【課題】単位地紋画像のサイズを小さく抑えて、地紋画像データの生成処理を短縮する画像処理プログラムを提供する。【解決手段】地紋画像データを生成する画像処理をコンピューターに実行させる画像処理プログラムにおいて、画像処理は、潜像部と背景部とにより形成される潜像を規定する潜像マスクであって、各画素に潜像部または背景部の何れかを示す情報を有する潜像マスクを取得する潜像マスク取得工程と、取得した潜像マスクのサイズを、潜像部の画像データ生成時に参照される潜像ディザマトリクスまたは背景部の画像データ生成時に参照される背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正潜像マスクを生成する潜像マスク補正工程と、補正潜像マスクと潜像ディザマトリクスと背景ディザマトリクスとに基づいて画素毎の画像データを生成し補正潜像マスクのサイズに対応する単位地紋画像データを生成する単位地紋画像生成工程とを有する。【選択図】図１３
2011023964.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複写時に出力濃度に差が生じる潜像部と背景部とを含む地紋画像を印刷媒体上に形成するための地紋画像データを生成する画像処理をコンピューターに実行させる画像処理プログラムにおいて、
前記画像処理は、
前記潜像部と前記背景部とにより形成される潜像を規定する潜像マスクであって、各画素に前記潜像部または前記背景部の何れかを示す情報を有する前記潜像マスクを取得する潜像マスク取得工程と、
前記取得した潜像マスクのサイズを、前記潜像部の画像データ生成時に参照される潜像ディザマトリクスまたは前記背景部の画像データ生成時に参照される背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正潜像マスクを生成する潜像マスク補正工程と、
前記補正潜像マスクと、前記潜像ディザマトリクスと、前記背景ディザマトリクスとに基づいて画素毎の画像データを生成し、前記補正潜像マスクのサイズに対応する単位地紋画像データを生成する単位地紋画像生成工程とを有することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項２】
請求項１において、
前記潜像マスク補正工程は、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクの場合は前記背景ディザマトリクスの倍数サイズに、前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクの場合は前記潜像ディザマトリクスの倍数サイズに、前記潜像マスクのサイズを補正することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項３】
請求項２において、
前記潜像マスク補正工程は、前記第１の潜像マスクの場合は前記潜像マスクの周辺の前記背景部の領域を、前記第２の潜像マスクの場合は前記潜像マスクの周辺の前記潜像部の領域を拡大または縮小して、前記潜像マスクのサイズを補正することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
さらに、前記地紋画像に合成されるカモフラージュ模様画像を構成し、各画素についてカモフラージュ模様画像の画像データを有するカモフラージュマスクを取得するカモフラージュマスク取得工程を有し、
前記潜像マスク補正工程は、前記潜像マスクのサイズを、前記潜像ディザマトリクスまたは前記背景ディザマトリクスに加えて、前記取得したカモフラージュマスクの倍数サイズに補正し、
前記単位地紋画像生成工程は、前記補正潜像マスクに加えて、前記取得したカモフラージュマスクに基づいて前記単位地紋画像データを生成することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項５】
請求項４において、
さらに、前記取得した前記カモフラージュマスクのサイズを、前記潜像ディザマトリクスまたは前記背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正カモフラージュマスクを生成するカモフラージュマスク補正工程を有し、
前記潜像マスク補正工程は、前記潜像マスクのサイズを、前記補正カモフラージュマスクの倍数サイズに補正し、
前記単位地紋画像生成工程は、前記補正潜像マスクに加えて、前記補正カモフラージュマスクに基づいて前記単位地紋画像データを生成することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項６】
請求項５において、
前記カモフラージュマスク補正工程は、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクの場合は前記背景ディザマトリクスの倍数サイズに、前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクの場合は前記潜像ディザマトリクスの倍数サイズに、前記カモフラージュマスクのサイズを補正することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項７】
請求項６において、
前記カモフラージュマスク補正工程は、前記カモフラージュマスクのサイズを、前記カモフラージュマスクの横辺と縦辺のサイズ比率が維持されるように拡大または縮小して補正することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項８】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記潜像マスク取得工程は、前記潜像と、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクかまたは前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクかの指定とを含む潜像情報に基づいて、前記潜像マスクを生成して取得する工程、または、予め生成された前記潜像マスクから選択し取得する工程のいずれかまたは両方を有することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項９】
請求項４乃至７のいずれかにおいて、
前記カモフラージュマスク取得工程は、前記カモフラージュ模様画像を含むカモフラージュ模様情報に基づいて、前記カモフラージュマスクを生成して取得する工程、または、予め生成された前記カモフラージュマスクから選択し取得する工程のいずれかまたは両方を有することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかにおいて、
前記単位地紋画像データは、印刷対象の画像データと前記地紋画像データとを合成する処理、または、印刷サイズの前記地紋画像データを生成する処理において、繰り返し使用されることを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項１１】
複写時に出力濃度に差が生じる潜像部と背景部とを含む地紋画像を印刷媒体上に形成するための地紋画像データを生成する画像処理方法において、
前記潜像部と前記背景部とにより形成される潜像を規定する潜像マスクであって、各画素に前記潜像部または前記背景部の何れかを示す情報を有する前記潜像マスクを取得する潜像マスク取得工程と、
前記取得した潜像マスクのサイズを、前記潜像部の画像データ生成時に参照される潜像ディザマトリクスまたは前記背景部の画像データ生成時に参照される背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正潜像マスクを生成する潜像マスク補正工程と、
前記補正潜像マスクと、前記潜像ディザマトリクスと、前記背景ディザマトリクスとに基づいて画素毎の画像データを生成し、前記補正潜像マスクのサイズに対応する単位地紋画像データを生成する単位地紋画像生成工程と、
前記単位地紋画像データを繰り返し使用して、印刷対象の画像データと前記地紋画像データとを合成し、または、印刷サイズの前記地紋画像データを生成する単位地紋画像使用工程とを有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記単位地紋画像使用工程は、前記単位地紋画像データを、行単位に、第１の長さ分副走査方向にずらして配置させ、当該第１の長さは、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクの場合は前記背景ディザマトリクスの横辺の倍数サイズ、前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクの場合は前記潜像ディザマトリクスの横辺の倍数サイズであり、
または、前記単位地紋画像データを、列単位に、第２の長さ分主走査方向にずらして配置させ、当該第２の長さは前記第１の潜像マスクの場合は前記背景ディザマトリクスの縦辺の倍数サイズ、前記第２の潜像マスクの場合は前記潜像ディザマトリクスの縦辺の倍数サイズであることを特徴とする画像処理方法。
【請求項１３】
請求項１１において、
さらに、前記地紋画像に合成されるカモフラージュ模様画像を構成し、各画素についてカモフラージュ模様画像の画像データを有するカモフラージュマスクを取得するカモフラージュマスク取得工程を有し、
前記潜像マスク補正工程は、前記潜像マスクのサイズを、前記潜像ディザマトリクスまたは前記背景ディザマトリクスに加えて、前記取得したカモフラージュマスクの倍数サイズに補正し、
前記単位地紋画像生成工程は、前記補正潜像マスクに加えて、前記補正したカモフラージュマスクに基づいて前記単位地紋画像データを生成することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記単位地紋画像使用工程は、前記単位地紋画像データを、行単位に、前記補正したカモフラージュマスクの横辺の倍数サイズ分、副走査方向にずらして配置させ、
または、前記単位地紋画像データを、列単位に、前記補正したカモフラージュマスクの縦辺の倍数サイズ分、主走査方向にずらして配置させることを特徴とする画像処理方法。
【請求項１５】
複写時に出力濃度に差が生じる潜像部と背景部とを含む地紋画像を印刷媒体上に形成するための地紋画像データを生成する画像処理装置において、
前記潜像部と前記背景部とにより形成される潜像を規定する潜像マスクであって、各画素に前記潜像部または前記背景部の何れかを示す情報を有する前記潜像マスクを取得する潜像マスク取得手段と、
前記取得した潜像マスクのサイズを、前記潜像部の画像データ生成時に参照される潜像ディザマトリクスまたは前記背景部の画像データ生成時に参照される背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正潜像マスクを生成する潜像マスク補正手段と、
前記補正潜像マスクと、前記潜像ディザマトリクスと、前記背景ディザマトリクスとに基づいて画素毎の画像データを生成し、前記補正潜像マスクのサイズに対応する単位地紋画像データを生成する単位地紋画像生成手段と、
前記単位地紋画像データを繰り返し使用して、印刷対象の画像データと前記地紋画像データとを合成し、または、印刷サイズの前記地紋画像データを生成する単位地紋画像使用手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、地紋画像生成プログラム及び地紋画像生成装置に関し、特に、印刷媒体に印刷するための地紋画像データを生成するプログラム及び装置に関する。さらに、この地紋画像データに基づいて地紋画像を印刷した印刷媒体（原本）の複写による偽造を抑止する効果、あるいは、原本と複写物とを区別する効果を有する地紋画像の生成プログラム及び生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
地紋は、原本の本来の画像に背景として合成され、印刷された文書が原本か複写物かを区別することを可能にする。地紋は、原本では識別することが難しいが、複写すると地紋の文字や画像が浮かび上がる。それを利用して、原本と複写物とを容易に区別することが可能になる。また、複写によって地紋の文字や画像が浮かび上がるので、地紋を合成して原本を生成すれば、心理的に原本の複写を抑止する効果が得られる。
【０００３】
地紋の一般的な構成は、複写によって原本に印刷されたドットが残るまたはドットの減少が少ない「潜像部」と、複写によって原本に印刷されたドットが消失またはドットが大きく減少する「背景部」の２つの領域からなる。つまり、潜像部は複写による濃度変化が少なく原本の画像がそのまま再現され、背景部は複写による濃度変化が大きく原本の画像が消失する。この２つの領域により地紋の文字や画像が形成され、この地紋の文字や画像を「潜像」と称する。
【０００４】
この潜像部と背景部の２つの領域は濃度がほぼ同等であり、原本の状態では一見すると「複写」などの地紋の文字や画像が隠れていることが判別困難であるが、ミクロ的には背景部と潜像部の各々が異なる特性を持っている。そして、複写されるとそれらの濃度変化の差により、潜像部と背景部との間に濃度差が生じてこの２つの領域で形成された地紋の文字や画像の判別が容易になる。
【０００５】
潜像部は複写時(コピーによるスキャニング時)にドットを読み取り易くするために、各々のドットを集中した固まりのドットで構成し、逆に背景部は複写時にドットを読み取り難くするために、各々のドットを分散したドットで構成する。このようにすることにより、潜像部は複写後にドットが残り易く、背景部は潜像部よりもドットが消え易い特性になる。集中したドットや分散したドットは、異なる線数の網点を用いた網点処理によって実現することができる。すなわち、集中したドット配置を得るためには低い線数の網点を用い、分散したドット配置を得るためには高い線数の網点を用いる。
【０００６】
一般に複写機には、複写対象の原稿の微小なドットをスキャナーで読み取る工程での入力解像度と、スキャナーで読み取った微小なドットを印刷エンジンで再現する工程での出力解像度とに依存した画像再現能力の限界が存在する。従って、複写機の画像再現能力の限界を超えた孤立した微小なドットが原稿中に存在すると、その複写物では微小なドットを完全には再現できず、孤立した微小なドットの部分が消失する。即ち、地紋の背景部が複写機で再現できるドットの限界を超えるように作成されている場合、地紋の大きなドット(集中したドット)は複写によって再現できるが、小さなドット(分散したドット)は複写によって再現できず、複写原稿に隠された潜像が浮かび上がる。また、複写により背景部の分散したドットが完全に消えなくとも、潜像部の集中したドットと比較してドットの消失の程度が大きければ、複写後に背景部と潜像部で濃度差が発生し、複写原稿において隠された潜像が浮かび上がる。
【０００７】
また、地紋では、潜像として隠されている文字や画像をより判別し難くするために、「カモフラージュ」と言う技術が利用される。このカモフラージュ技術は、潜像部や背景部とは濃度が異なる模様を地紋画像全体に配置する方法であり、マクロ的には一見すると潜像部や背景部とは異なる濃度のカモフラージュ模様が目立ち、潜像が更に目立たなくなる効果がある。つまり、カモフラージュ模様のコントラストが大きく、それに比較して潜像部と背景部のコントラストが小さいため、目の錯覚により潜像がより効果的に隠蔽される。さらに、カモフラージュ模様は印刷物に装飾的な印象を与えることができ、意匠性に優れた地紋を作成することができるといった利点もある。尚、一般的にカモフラージュ模様は２値で作成されており、カモフラージュ模様に相当する領域で地紋のドットを発生させないことでカモフラージュ模様を形成している。以上が地紋の概要である。
【０００８】
図１は、地紋の潜像とカモフラージュ模様の例を示す図である。文字「複」の潜像マスクパターン１０は、その拡大図１０Ｘにも示されるとおり、例えば黒い部分が地紋の潜像部ＬＩに対応し白い部分が地紋の背景部ＢＩに対応する。一方、カモフラージュ模様１２は、その拡大図１２Ｘにも示されるとおり、例えば黒い部分ＣＡＭが地紋のドットが形成されない領域となり、白い部分には地紋のドットが形成される。言い換えると、図１の例におけるカモフラージュ模様のデータは、画素毎に地紋画像を印刷する部分と印刷しない部分とを示す２値の画像データである。
【０００９】
図２は、地紋を印刷した原本の例を示す図である。地紋１４は、図１の潜像マスク１０に基づいて潜像部ＬＩと背景部ＢＩとが形成されている。潜像部ＬＩは、ドット集中型ディザ法による低網点線数（５３ｌｐｉ）のドットで形成され、背景部ＢＩは、ドット分散型ディザ法による高網点線数（２１２ｌｐｉ）のドットで形成されている。拡大された地紋１４Ｘから明らかなとおり、地紋全体が一定の出力濃度になっているが、潜像部ＬＩのドットは低い網点線数のスクリーンにより形成されているので大きなドットであり、背景部ＢＩのドットは高い網点線数のスクリーンにより形成されているので微少なドットである。
【００１０】
地紋１６は、図１の潜像マスク１０とカモフラージュ模様１２に基づいて潜像部ＬＩと背景部ＢＩとがカモフラージュ模様の黒い部分ＣＡＭの領域を除いて形成されている。拡大された地紋１６Ｘに示されるとおり、地紋全体は一定の出力濃度であり、カモフラージュ模様の領域ＣＡＭにはドットが形成されず、それ以外の領域では、図１と同様に大きなドットからなる潜像部ＬＩと微少なドットからなる背景部ＢＩとが形成されている。カモフラージュ模様のコントラストが大きいため、コントラストが小さい潜像部ＬＩと背景部ＢＩとで形成される潜像（文字「複」）が目立たない。
【００１１】
図２の地紋の原本は、潜像部ＬＩと背景部ＢＩの出力濃度が同じであるので、それにより形成される潜像「複」が隠蔽される。これを原本における潜像の隠蔽性が高いと称する。
【００１２】
図３は、地紋の複写物の例を示す図である。複写物１８は、コピーによるスキャニング工程とドット形成工程（スキャニング工程によって生成されたスキャンデータに基づき、印刷媒体に印刷する工程）を経て形成され、その拡大図１８Ｘに示されるとおり、潜像部ＬＩの大きなドットはほとんど消失していないが、背景部ＢＩの微少なドットはかなり消失している。その結果、複写物１８において、潜像部ＬＩの出力濃度はほとんど低下しないが、背景部ＢＩの出力濃度はかなり低下し、潜像「複」が浮き上がって見える。つまり、複写物における潜像の識別性が高くなっている。
【００１３】
複写物２０も同様に、カモフラージュ模様の領域ＣＡＭを除いて、複写物１８と同じである。背景部ＢＩの出力濃度が低下したことでカモフラージュ模様のコントラストが低下し、潜像「複」が浮き上がって見えている。
【００１４】
図４は、図２の原本の拡大図と図３の複写物の拡大図とを更に拡大した図である。（ａ）原本では、潜像部ＬＩは網点線数が低く面積が大きなドット（網点）で構成され、背景部ＢＩは網点線数が高く微少なドットで構成される。そして、カモフラージュ模様の黒い部分ＣＡＭにはいずれのドットも形成されていない。一方、（ｂ）複写物では、潜像部ＬＩの大きなドット（網点）のサイズはそれほど変化していないのに対して、背景部ＢＩの微少なドットはかなりの数が消失している。その結果、複写物では、潜像部ＬＩの出力濃度の低下はほとんどなく、背景部ＢＩの出力濃度の低下は大きく、地紋の潜像「複」が顕在化される。
【００１５】
図５は、地紋効果の例を示す図である。地紋画像には、二種類の地紋効果がある。二種類の地紋効果とは、複写時において、潜像である「複写」という文言の領域の濃度を周囲の領域より濃くする浮き出し効果と、「複写」という潜像の領域の濃度を周囲よりも薄くする白抜き効果である。地紋パターン５０、５１は、複写物における「複写」「コピー」という潜像の浮き出し効果の例を示し、地紋パターン５２、５３は、白抜き効果の例を示す。浮きだし効果の場合、潜像の領域（黒の部分）は潜像部５４、潜像の周囲の領域（白の部分）は背景部５５となり、白抜きの効果の場合、潜像の領域（白の部分）は背景部５５、潜像の周囲の領域（黒の部分）は潜像部５４となる。
【００１６】
図６は、潜像部のドットを形成する時に参照される潜像ディザマトリクス６０の例と、生成される潜像部の画像ＬＩとを示す図である。潜像ディザマトリクス６０は、１６×１６ドットのマトリクスであり、網点線数が５３ｌｐｉのドット集中型ディザマトリクスである。また、各セルに閾値１〜１２８が配置されている。閾値１のセルが網点の中心であり、入力階調値が０〜１２８と大きくなるに伴い、網点の中心からドット面積が徐々に大きくなる。
【００１７】
潜像部の画像ＬＩは、入力階調が２１に対して生成される複数のドットＤ１により所望の出力濃度を持つ。ドットＤ１は入力階調に対応したサイズを有する網点であり、ディザマトリクス内の入力階調以下の閾値を有するセルに対応する画素のドット（以下画素ドットと称する。）の固まりである。
【００１８】
潜像ディザマトリクスの入力階調値は、原本における潜像部と背景部の出力濃度が等しくなるように設定される。出力濃度は、単に、地紋画像での単位面積当たりの画素ドットの数に比例するものではなく、ドットサイズやドットの分散態様などにも依存する。そのため、印刷した地紋画像における潜像部と背景部とを測色機器で測定し、その出力濃度が等しくなるように潜像ディザマトリクス６０に対する入力階調値を選択される場合もあり、測色器を使用せずに、目視における出力濃度が等しくなるように入力階調値を選択される場合もある。
【００１９】
図７は、背景部のドットを形成する時に参照される背景ディザマトリクス７０、７１の例と、生成される背景部の画像Ｂ１、Ｂ２とを示す図である。この背景ディザマトリクス７０、７１は、閾値１と２５５とが配置された、１４×１４ドット、１２×１２ドットの閾値マトリクスである。閾値１の画素は、十字型に隣接する５つの画素と、その５つの隣接画素の間に分散して配置されている単独の画素とで構成されている。入力階調値が１〜２５４のいずれかと仮定すると、背景部の画像ＢＩ１、ＢＩ２は、十字型である５つの画素ドットの固まりで構成されるドットＤ２と、ドットＤ２の間に分散して配置される１つの画素ドットで構成される微少のドットＤ３とを有する。
【００２０】
ここでは、背景ディザマトリクス７０は、ドットＤ２が網点線数６１ｌｐｉを有するのに対して、背景ディザマトリクス７１は、ドットＤ２が網点線数７１ｌｐｉを有する。よって、背景ディザマトリクス７０、７１はそれぞれ異なる網点線数を有し、背景ディザマトリクス７０を使用して生成された背景部の画像の出力濃度は、背景ディザマトリクス７１を使用して生成された背景部の画像の出力濃度よりも低くなる。これらの背景ディザマトリクス７０、７１は、ユーザーインターフェイス等により設定された地紋の出力濃度に基づいて選択される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２１】
【特許文献１】特開２００８−１７８１４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
図８は、地紋画像データ生成処理を説明する図である。印刷サイズ（Ａ４）の地紋画像８０は、複数の潜像マスク８１、８３が正方配置された例を表しており、横４７２０×縦６７７６ドットの画素を有する。潜像マスク（カモフラージュ模様無）８１は、カモフラージュ模様を合成する場合の潜像マスクであり、潜像マスク（カモフラージュ模様無）８３は、カモフラージュ模様を合成しない場合の潜像マスクであり、いずれの例も、横２０８０×縦２０４０ドットの画素を有する。
【００２３】
図８の潜像マスク８１、８３は、「複写」という文言の潜像を形成し、潜像マスク８１、８３の各画素は、潜像部の領域と背景部の領域とを区別可能な情報を有する。例えば、地紋効果を浮き出しにする場合、潜像部は黒、背景部は白を示す情報を有し、「複写」の文言に当たる潜像の領域は潜像部、潜像の周辺の領域は背景部に設定される。地紋効果を白抜きにする場合、反対に、「複写」の文言に当たる潜像の領域は背景部、潜像の周辺の領域は潜像部に設定される。
【００２４】
ディザマトリクスの配置図８４は、潜像マスク（カモフラージュ模様無）８３の左上端部領域を拡大したものである。潜像ディザマトリクス８５は、１８×１８ドットのマトリクスであり、潜像マスク８３の左上位置から順にタイル状に並べられたように各画素に対応する。背景ディザマトリクス８６は、１６×１６ドットのマトリクスであり、同様に、潜像マスク８３の左上位置から順にタイル状に並べられたように各画素に対応する。
【００２５】
地紋画像データの各画素は、潜像マスク８３に基づいて、当画素が潜像部に当たる場合は潜像ディザマトリクス８５、背景部に当たる場合は背景ディザマトリクス８６の対応する各セルの閾値と比較され、ドットのＯＮ／ＯＦＦが決定される。
【００２６】
潜像マスク（カモフラージュ模様有）８１は、カモフラージュ模様を合成する場合の潜像マスクであり、カモフラージュマスク８２との位置関係が示されている。カモフラージュマスク８２の画素数は、この例では、横２１０×縦２１０ドットであり、カモフラージュマスク８２の各画素は、カモフラージュ模様の領域とそれ以外の領域とを区別可能な情報を有し、例えば、カモフラージュ模様の領域は黒、それ以外の領域は白を示す情報を有する。
【００２７】
本例におけるカモフラージュ模様のデータは２値の画像データであるが、カラーまたは多値階調の画像データである場合もある。カラーのカモフラージュ模様データの場合、まず、各画素における複数色の階調値データをグレイの多階調値データに変換する。ＲＧＢの多階調のカモフラージュ模様のデータでは、階調値０（黒）に近いほど出力濃度が低く、階調値２５５（白）に近いほど出力濃度が高いことを示す。そこで、当該階調値を最大階調値（２５５）で除算し、それに、カモフラージュ模様を付加しない地紋の出力濃度を乗算して、カモフラージュ模様のデータの階調値を補正する。つまり、カモフラージュ模様データにおける当画素の階調値が２５５（白）の場合、出力階調値はカモフラージュ模様を付加しない地紋と同じとなり、階調値が０の場合、出力階調値は０となりドットは形成されない。これにより、多階調のカモフラージュ模様が形成される。
【００２８】
カモフラージュマスク８２の左上端部領域を拡大したものが、ディザマトリクスの配置図８４である。地紋画像データの各画素は、カモフラージュマスク８２に基づいて、当画素がカモフラージュ模様の領域に当たる場合はドットがＯＦＦに設定される。カモフラージュ模様の領域に当たらない画素については、潜像マスク８１に基づいて、当画素が潜像部に当たる場合は潜像ディザマトリクス８５、背景部に当たる場合は背景ディザマトリクス８６に対応する各セルの閾値と比較され、ドットのＯＮ／ＯＦＦが決定される。
【００２９】
印刷サイズ（Ａ４）の地紋画像８０から見てとれるように、印刷サイズの地紋画像（Ａ４）８０は、「複写」という潜像を構成する潜像マスク８１、８３が繰り返し配置され、構成されている。
【００３０】
任意の潜像やカモフラージュ模様の利用をユーザーに許容することは、地紋の利用促進に有効である。そのような場合、潜像マスクやカモフラージュマスクのサイズはまちまちになり、潜像マスクの横・縦の各画素数は、潜像ディザマトリクスおよび背景ディザマトリクスの横・縦の画素数の倍数と必ずしも一致しないことがある。そのため、潜像マスクのサイズの地紋画像データ（以下、単位地紋画像データ）を生成すると、その端部領域において、ディザマトリクスが途切れてしまう。これにより、当該単位地紋画像データを繰り返し使用して配置させ、印刷サイズの地紋画像を生成した場合、単位地紋画像の境界領域において、当該ディザマトリクスによって形成される網点パターンが不連続となり単位地紋画像の境界が顕在化してしまう。
【００３１】
カモフラージュマスクについても同様に、潜像マスクの横・縦の各画素数がカモフラージュマスクの横・縦の画素数の倍数と一致しない場合、潜像マスクのサイズの単位地紋画像データを生成すると、その端部領域において、カモフラージュマスクが途切れてしまう。これにより、当該単位地紋画像データを繰り返し使用して配置させ、印刷サイズの地紋画像を生成した場合、単位地紋画像の境界領域において、カモフラージュ模様が不連続となり単位地紋画像の境界が顕在化してしまう。
【００３２】
図９は、カモフラージュ模様を合成しない場合の単位地紋画像データの端部領域を表す図である。潜像マスク（左上部分）９２は、潜像マスク９１の左上端部領域を、潜像マスク（左下部分）９４は、左下端部領域を拡大したものであり、背景ディザマトリクス９３との対応関係を表している。
【００３３】
この場合、潜像マスクの横方向の画素数「２０８０」は、背景ディザマトリクスの横方向の画素数「１６」の倍数に一致するが（２０８０÷１６＝１３）、縦方向の画素数「２０４０」は、背景ディザマトリクスの縦方向の画素数「１６」の倍数に一致しない（２０４０÷１６＝１２７.５）。そのため、背景ディザマトリクス９３を潜像マスク９１の左上位置から順にタイル状に並べるように対応させると、潜像マスク（左下部分）９４における単位地紋画像の境界領域９５において、背景ディザマトリクス９３が途切れてしまう。
【００３４】
図１０は、カモフラージュ模様を合成する場合の単位地紋画像データの端部領域を表す図である。潜像マスク（左下部分）１０２は、潜像マスク１０１の左下端部領域を拡大したものであり、背景ディザマトリクス１０３との対応関係を表している。図９と同様に、潜像マスクの縦方向の画素数が背景ディザマトリクスの縦方向の画素数の倍数に一致しないため、潜像マスク（左下部分）１０２における単位地紋画像の境界領域１０４において、背景ディザマトリクス１０３が途切れてしまう。
【００３５】
また、カモフラージュマスク１０６については、潜像マスク１０１の横方向の画素数「２０８０」は、カモフラージュマスク１０２の横方向の画素数「２１０」の倍数ではなく（２０８０÷２１０＝９．９０４）、縦方向の画素数「２０４０」もまた、カモフラージュマスクの縦方向の画素数「２１０」の倍数ではない（２０４０÷２１０＝９．７１４）。そのため、カモフラージュマスク１０２を潜像マスク１０１の左上位置から順にタイル状に並べるように対応させると、単位地紋画像の境界領域１０７において、カモフラージュマスク１０６が途切れてしまう。
【００３６】
そのため、潜像マスクとカモフラージュマスクとディザマトリクスとのサイズが整合していない場合は、印刷サイズ（Ａ４）全体の地紋画像データを生成する必要がある。
【００３７】
特許文献１には、背景閾値パターン（地紋画像の背景部を構成する２値画像）、潜像閾値パターン（地紋画像の潜像部を構成する２値画像）、潜像マスク、カモフラージュマスクの横・縦それぞれの画素数の最小公倍数を算出し、縦・横それぞれの最小公倍数の画素数で構成される最小単位の地紋画像データを生成し、当該最小単位の地紋画像データを、入力画像の大きさにタイル状に繰り返し並べることが記載されている。
【００３８】
しかし、特許文献１では、潜像マスクやカモフラージュマスクが任意のサイズを有する場合、最小公倍数は必ずしも小さくならず、最小単位の地紋画像が印刷サイズ（Ａ４）を超えることが予想される。
【００３９】
そこで、本発明の目的は、単位地紋画像のサイズを小さく抑えて、地紋画像データの生成処理を短縮する画像処理プログラムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００４０】
上記の目的を達成するために、本発明の第１の側面によれば、複写時に出力濃度に差が生じる潜像部と背景部とを含む地紋画像を印刷媒体上に形成するための地紋画像データを生成する画像処理をコンピューターに実行させる画像処理プログラムにおいて、前記画像処理は、前記潜像部と前記背景部とにより形成される潜像を規定する潜像マスクであって、各画素に前記潜像部または前記背景部の何れかを示す情報を有する前記潜像マスクを取得する潜像マスク取得工程と、前記取得した潜像マスクのサイズを、前記潜像部の画像データ生成時に参照される潜像ディザマトリクスまたは前記背景部の画像データ生成時に参照される背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正潜像マスクを生成する潜像マスク補正工程と、前記補正潜像マスクと、前記潜像ディザマトリクスと、前記背景ディザマトリクスとに基づいて画素毎の画像データを生成し、前記補正潜像マスクのサイズに対応する単位地紋画像データを生成する単位地紋画像生成工程とを有する。
【００４１】
この態様によれば、潜像ディザマトリクスまたは背景ディザマトリクスのサイズの倍数に一致するように、潜像マスクのサイズを補正し、補正した潜像マスクのサイズに対応した単位地紋画像データを生成するため、単位地紋画像データのサイズを小さく抑えることができる。また、印刷サイズの地紋画像データではなく、単位地紋画像データを生成すればよいため、地紋画像データの生成処理にかかる時間を大幅に短縮することができ、また、地紋画像データの保存に要するメモリーを節約することができる。
【００４２】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記潜像マスク補正工程は、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクの場合は前記背景ディザマトリクスの倍数サイズに、前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクの場合は前記潜像ディザマトリクスの倍数サイズに、前記潜像マスクのサイズを補正する。
【００４３】
この態様によれば、単位地紋画像の境界領域において隣接する領域に対応するディザマトリクスのサイズの倍数に一致するように潜像マスクのサイズを補正するため、単位地紋画像の境界領域において、当該ディザマトリクスが途切れることがない。これにより、単位地紋画像の境界領域において、隣接する網点パターンが不連続となり単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。
【００４４】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記潜像マスク補正工程は、前記第１の潜像マスクの場合は前記潜像マスクにおける前記背景部の領域を、前記第２の潜像マスクの場合は前記潜像マスクにおける前記潜像部の領域を拡大して、前記潜像マスクのサイズを補正する。
【００４５】
この態様によれば、潜像の周辺の領域部分についてのみ拡大することにより、ユーザーまたはプリンタードライバー等によって指定された潜像自体のサイズを維持でき、また、潜像を拡大することによる潜像のゆがみ等を防止できる。
【００４６】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記地紋画像に合成されるカモフラージュ模様画像を構成し、各画素についてカモフラージュ模様画像の画像データを有するカモフラージュマスクを取得するカモフラージュマスク取得工程を有し、前記潜像マスク補正工程は、前記潜像マスクのサイズを、前記潜像ディザマトリクスまたは前記背景ディザマトリクスに加えて、前記取得したカモフラージュマスクの倍数サイズに補正し、前記単位地紋画像生成工程は、前記補正潜像マスクに加えて、前記取得したカモフラージュマスクに基づいて前記単位地紋画像データを生成する。
【００４７】
この態様によれば、カモフラージュ模様を合成する場合であっても、単位地紋画像の境界領域において、当該ディザマトリクス、およびカモフラージュマスクが途切れないため、ディザマトリクスによって形成される網点パターンおよびカモフラージュ模様が不連続となり単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。
【００４８】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記取得した前記カモフラージュマスクのサイズを、前記潜像ディザマトリクスまたは前記背景ディザマトリクスの倍数サイズに補正して補正カモフラージュマスクを生成するカモフラージュマスク補正工程を有し、前記潜像マスク補正工程は、前記潜像マスクのサイズを、前記補正カモフラージュマスクの倍数サイズに補正し、前記単位地紋画像生成工程は、前記補正潜像マスクに加えて、前記補正カモフラージュマスクに基づいて前記単位地紋画像データを生成する。
【００４９】
この態様によれば、ディザマトリクスのサイズの倍数に一致するようにカモフラージュマスクのサイズを補正し、補正したカモフラージュマスクのサイズの倍数に一致するように潜像マスクのサイズを補正するため、単位地紋画像の境界領域において、当該ディザマトリクスによって形成される網点パターンが不連続となり単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。また、カモフラージュマスクの隣接領域において、当該ディザマトリクスによって形成させる網点パターンを連続させることができる。
【００５０】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記カモフラージュマスク補正工程は、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクの場合は前記背景ディザマトリクスの倍数サイズに、前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクの場合は前記潜像ディザマトリクスの倍数サイズに、前記カモフラージュマスクのサイズを補正する。
【００５１】
この態様によれば、単位地紋画像の境界領域において隣接する領域に対応するディザマトリクスのサイズの倍数に一致するようにカモフラージュマスクのサイズを補正し、補正したカモフラージュマスクのサイズの倍数に一致するように潜像マスクのサイズを補正するため、単位地紋画像の境界領域において、隣接する網点パターンが不連続となり単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。また、カモフラージュマスクの隣接領域において、当該ディザマトリクスによって形成させる網点パターンを連続させることができる。
【００５２】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記カモフラージュマスク補正工程は、前記カモフラージュマスクのサイズを、前記カモフラージュマスクの横辺と縦辺のサイズ比率が維持されるように拡大または縮小して補正する。
【００５３】
この態様によれば、補正後のカモフラージュマスクのサイズは、補正前のカモフラージュマスクの横・縦の比率が維持されるように補正されるため、カモフラージュマスクの補正処理によって発生するカモフラージュ模様のゆがみ等を抑えることができる。
【００５４】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記潜像マスク取得工程は、前記潜像と、前記潜像の領域を前記潜像部とし前記潜像の周辺の領域を前記背景部とする第１の潜像マスクかまたは前記潜像の領域を前記背景部とし前記潜像の周辺の領域を前記潜像部とする第２の潜像マスクかの指定とを含む潜像情報に基づいて、前記潜像マスクを生成して取得する工程、または、予め生成された前記潜像マスクから選択し取得する工程のいずれかまたは両方を有する。
【００５５】
この態様によれば、ユーザーやプリンタードライバー等によって入力された潜像情報に基づいて、潜像マスクを生成、または選択し、単位地紋画像データを生成することができる。
【００５６】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記カモフラージュマスク取得工程は、前記カモフラージュ模様画像を含むカモフラージュ模様情報に基づいて、前記カモフラージュマスクを生成して取得する工程、または、予め生成された前記カモフラージュマスクから選択し取得する工程のいずれかまたは両方を有する。
【００５７】
この態様によれば、ユーザーやプリンタードライバー等によって入力されたカモフラージュ模様情報に基づいて、カモフラージュマスクを生成、または選択し、単位地紋画像データを生成することができる。
【００５８】
上記の第１の側面において好ましい態様によれば、さらに、前記単位地紋画像データは、印刷対象の画像データと前記地紋画像データとを合成する処理、または、印刷サイズの前記地紋画像データを生成する処理において、繰り返し使用される。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】地紋の潜像とカモフラージュ模様の例を示す図である。
【図２】地紋の原本の例を示す図である。
【図３】地紋の複写物の例を示す図である。
【図４】図２の原本の拡大図と図３の複写物の拡大図とを更に拡大した図である。
【図５】地紋効果の例を示す図である。
【図６】潜像ディザマトリクスとそれにより形成される潜像部の画像とを示す図である。
【図７】背景ディザマトリクスとそれにより形成される背景部の画像とを示す図である。
【図８】地紋画像データ生成処理を説明する図である。
【図９】カモフラージュ模様を非合成時の単位地紋画像データの端部を表す図である。
【図１０】カモフラージュ模様を合成時の単位地紋画像データの端部を表す図である。
【図１１】本実施の形態における地紋画像形成装置の構成を示す図である。
【図１２】本実施の形態における地紋の生成方法を示すフローチャート図である。
【図１３】単位地紋画像データの生成処理工程を表すフローチャート図である
【図１４】潜像マスクのサイズの補正行程を表すフローチャート図である。
【図１５】カモフラージュ模様を非合成時の潜像マスクの補正処理を説明する図である。
【図１６】地紋画像データの生成処理の詳細を説明するフローチャート図である。
【図１７】単位地紋画像データの印刷までの処理を表すフローチャート図である。
【図１８】単位地紋画像の配置例を表す図である。
【図１９】カモフラージュマスクの補正処理を説明する図である。
【図２０】潜像マスクの補正処理を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００６０】
以下、図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。ただし、本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。
【００６１】
図１１は、本実施の形態における地紋画像形成装置を含む印刷システムの構成を示す図である。地紋画像形成装置は、ホストコンピューター３０にインストールされているプリンタードライバー３２と、潜像ディザマトリクス３３と、背景ディザマトリクス３４と、プリンター４０とで構成される。
【００６２】
潜像ディザマトリクス３３と背景ディザマトリクス３４は、プリンターメーカーによって、記録媒体もしくはインターネット等のネットワーク回線を介してユーザーに配布されるプリンタードライバー３２に含まれ、プリンタードライバー３２をホストコンピューター３０にインストールするときに、ホストコンピューター３０内の記録媒体に保存される。
【００６３】
ホストコンピューター３０は、ＣＰＵとＲＡＭとアプリケーションプログラム３１をさらに有し、アプリケーションプログラム３１を実行して文字、イメージ、グラフィックスなどからなる画像データを生成する。
【００６４】
さらに、ホストコンピューター３０は、ユーザーからの要求に応答して、プリンタードライバー３２を実行して単位地紋画像データ３７を生成する。そして、アプリケーション３１が生成した画像データについて、ユーザーから印刷要求を受けると、プリンタードライバー３２はプリンター装置４０が解釈可能なプリンター制御言語に基づき、印刷対象の画像データ３６の印刷ジョブデータを生成する。もし、印刷要求に、画像データ３６に対して地紋データを付加することが含まれていた場合には、プリンタードライバー３２は、画像データ３６と単位地紋画像データ３７とを含む印刷ジョブデータをプリンター４０のインターフェイスＩＦに送信する。
【００６５】
画像データ３６は、例えば、ページ記述言語で記述されたデータ、プリンターの中間コードに展開されたデータ、または画素に展開したＲＧＢのビットマップデータなど様々な形態をとりうる。
【００６６】
単位地紋画像データ３７は、潜像マスクのサイズに対応した地紋画像データであり、印刷サイズの地紋画像データの生成処理や、印刷サイズの画像データ３６との合成処理において、繰り返し使用される。単位地紋画像データ３７のサイズは、潜像マスクのサイズであることが望ましいが、潜像マスクの倍数サイズであってもよく、その場合でも当該単位地紋画像データ３７を繰り返し使用することにより地紋画像データの生成処理を短縮することができる。
【００６７】
また、単位地紋画像データ３７は、例えば画素毎のドットの有無（ＯＮ／ＯＦＦ）を示すデータで構成され、画素毎に０と１の２値で表現される。または、印刷対象の画像データがＲＧＢ各色８ビット階調値で表現される場合は、単位地紋画像データ３７のドットの有無は、画素毎に色変換後の色がＣ、Ｍ、Ｋの各色の最大階調値に対応する値（０，２５５，２５５）、（２５５，０，２５５）、（０，０，０）と最小階調値に対応する値（２５５，２５５，２５５）として８ビットで表現してもよい。
【００６８】
一方、プリンター４０は、画像を生成する印刷エンジン４６と、受信した画像データ３６と単位地紋画像データ３７について所定の画像処理を行いさらに印刷エンジン４２の制御を行うコントローラー４１とを有する。コントローラー４１のＣＰＵは、画像形成プログラム４２を実行して、受信した画像データ３６から画素に展開したビットマップデータを生成する。受信した画像データ３６がビットマップデータの形態であればそのビットマップデータがそのまま利用できる。
【００６９】
そして、合成部４４は、画像データ３６と単位地紋画像データ３７とを合成する。具体的には、合成部４４は、単位地紋画像データ３７における地紋のドット有り、ドット無しの情報を、地紋の色の濃度最大値、濃度最小値に変換して、画像データ３６と合成する。また、合成後の画像データがＲＧＢの階調値データである場合、色変換ユニット４３は、ＲＧＢからＣＭＹＫに階調値データを色変換する。
【００７０】
さらに、二値化ユニット４５が地紋データ合成後の画像データのＣＭＹＫの階調値データを画素内のドットのデータに変換し、印刷エンジン４６に出力する。その結果、印刷エンジン４６は、アプリケーションプログラムにより生成された画像データと地紋画像データとを合成した画像を印刷媒体上に印刷する。これが地紋の原本である。
【００７１】
図１１の実施の形態では、ホストコンピューター３０のプリンタードライバー３２が、地紋画像生成プログラムにより、単位地紋画像データ３７を生成している。ただし、変型例として、プリンタードライバー３２が、地紋とカモフラージュ模様生成の指定をする印刷ジョブデータを生成し、プリンター４０のコントローラー４１が、当該印刷ジョブデータに基づいて潜像ディザマトリクスと背景ディザマトリクスとを使用して単位地紋画像データ３７を生成してもよい。当該印刷ジョブデータは、複写時に消失するもしくは再現される文字やパターンの指定、地紋の濃度の指定、カモフラージュ模様の指定など、カモフラージュ模様付き地紋データ生成するために必要な情報を含むデータである。
【００７２】
また、別の形態として、ホストコンピューター３０のプリンタードライバー３２が、単位地紋画像データ３７を繰り返し使用して配置し所定の印刷サイズの地紋画像データを生成し、印刷サイズの地紋画像データと画像データ３６を含む印刷ジョブデータをプリンター４０に送信してもよい。あるいは、プリンタードライバー３２において画像データ３６と単位地紋画像データ３７とを合成し、合成した画像データを含む印刷ジョブデータをプリンター４０に送信してもよい。
【００７３】
［第１の実施の形態例］
本実施の形態例は、カモフラージュ模様を合成しない場合であって、プリンタードライバー３２において単位地紋画像データ３７を生成し、当該単位地紋画像データ３７を画像データ３６と共にプリンター４０に送信し、プリンター４０において単位地紋画像データ３７と画像データ３６とを合成して印刷する処理の流れを説明するものである。
【００７４】
図１２は、本実施の形態における地紋の生成方法を示すフローチャート図である。ユーザーは、ホストコンピューター３０のプリンタードライバー３２において、地紋生成メニューを選択する。プリンタードライバー３２は、図１２のフローチャートに従って、地紋の設定を取得し、単位地紋画像データ３７を生成する。
【００７５】
まず、プリンタードライバー３２は、地紋印刷の設定のためのユーザーインターフェイスをユーザーに提供する。プリンタードライバー３２は、このユーザーインターフェイスを介して、ユーザーに文言や図を入力させ、潜像を取得する（Ｓ１０）。文言とは、例えば、「複写」「コピー」「社外秘」などであり、図とは、複写禁止であることを想起させる図などである。この文言や図が地紋の潜像になる。
【００７６】
さらに、ユーザーが入力した４８ポイントなどの文言や図のサイズ、文言や図の角度、地紋効果の配置に対応し、プリンタードライバー３２は文言や図のサイズ、文言や図の角度、地紋効果と地紋の配置を取得する（Ｓ１１、Ｓ１２、Ｓ１３）。地紋の効果について、本実施の形態例においては、浮き出し効果を指定したものとする。また、地紋の配置とは、後述する正方配置、斜交配置、反転配置などを指す。
【００７７】
工程Ｓ１０〜Ｓ１３によりユーザーによる入力または選択が終わると、プリンタードライバー３２は潜像マスクを生成する（Ｓ１４、Ｓ１５、Ｓ１６）。ユーザーがデフォルト設定を選択した場合は（Ｓ１４のＮＯ）、プリンタードライバー３２は、予め用意された潜像マスクから、設定に基づいた潜像マスクを選択する（Ｓ１６）。一方、ユーザーが独自に潜像を生成することを選択した場合は、プリンタードライバー３２はその設定に基づいて潜像マスクを生成する（Ｓ１５）。
【００７８】
次に、プリンタードライバー３２は、カモフラージュ模様の選択を受け付ける（Ｓ１７）。本実施の形態例では、カモフラージュ模様を合成しない（Ｓ１７のＮＯ）。カモフラージュ模様を合成する場合、ユーザーはカモフラージュ模様を選択する（Ｓ１７のＹＥＳ）。ユーザーがデフォルト設定を選択した場合は（Ｓ１８のＮＯ）、プリンタードライバー３２は、予め用意されたカモフラージュマスクから、設定に基づいたカモフラージュマスクを選択する（Ｓ２０）。一方、ユーザーが独自にカモフラージュ模様を指定した場合は、プリンタードライバー３２は当該指定に基づいてカモフラージュマスクを生成する（Ｓ１９）。
【００７９】
次に、プリンタードライバー３２は、ユーザーの選択要求に応じて、地紋の色（ブラック、シアン、マゼンタなど）の選択を促す（Ｓ２１）。地紋の色は、単色であることが望ましい。
【００８０】
以上のユーザーによる入力などＳ１０〜Ｓ２１が終了して、プリンタードライバー３２が地紋の情報を取得する。地紋の情報を取得後、プリンタードライバー３２は、単位地紋画像データ３７を生成する（Ｓ３０）。
【００８１】
図１３は、単位地紋画像データ３７の生成処理工程を表すフローチャート図である。単位地紋画像データ３７の生成処理工程は、潜像マスクおよび選択されたカモフラージュマスクのサイズの補正工程（Ｓ３１）と、補正した潜像マスク、カモフラージュマスクに基づいた単位地紋画像データ３７の生成処理工程（Ｓ３２）からなる。本実施の形態例では、カモフラージュマスクを合成しないため、Ｓ３１の工程においてカモフラージュマスクを補正しない。
【００８２】
図１４は、潜像マスクのサイズの補正工程を表すフローチャート図である。プリンタードライバー３２は、はじめに、カモフラージュ模様を合成するかどうか判定する（Ｓ３１０１）。本実施の形態例では、カモフラージュ模様を合成しないため、Ｓ３１０１でＮＯと判定され、次に、地紋効果が浮き出しかどうか判定する（Ｓ３１０２）。
【００８３】
地紋効果が浮き出しの場合は（Ｓ３１０２のＹＥＳ）、潜像マスクにおいて潜像部は背景部に囲まれているため、単位地紋画像の境界領域において潜像部は隣接しない。そのため、単位地紋画像の境界領域で隣接する単位地紋画像内において背景部の網点パターンが連続するように、潜像マスクの横・縦の画素数（サイズ）を背景ディザマトリクスの横・縦の画素数（サイズ）の倍数に補正する（Ｓ３１０３）。一方、地紋効果が白抜きの場合は（Ｓ３１０２のＮＯ）、単位地紋画像の境界領域で隣接する単位地紋画像内において潜像部の網点パターンが連続するように、潜像マスクの横・縦の画素数を潜像ディザマトリクスの横・縦の画素数の倍数に補正する（Ｓ３１０４）。
【００８４】
潜像マスクのサイズを、ディザマトリクスのサイズの倍数に補正する処理（Ｓ３１０３、Ｓ３１０４）は、次のように行われる。
【００８５】
はじめに、潜像マスクの横・縦それぞれの補正サイズを算出する。潜像マスクの補正サイズを求める計算式は以下の通りであり、ディザマトリクスのサイズの倍数であって、補正前の潜像マスクのサイズに近い値が算出される。また、この計算式では、補正前と同じか大きい値が算出されるが、これは潜像マスクが縮小されることにより、潜像が一部欠けるなど潜像が判別し難くなることを防ぐためである。そのため、潜像が判別可能な範囲で縮小されても良い。
【００８６】
式中のＳｅｃＭ_ｘは補正前の潜像マスクの画素数、ＳｅｃＭ_ｘ‘は補正潜像マスクの画素数、Ｄtｈ_ｘはディザマトリクスの画素数である。また、ＭＯＤ（＊）は余りを求める演算式、ＩＮＴ（＊）は切り捨て処理の表す演算式である。なお、補正サイズを求める式は、横・縦方向ともに同じである。
【００８７】
ＭＯＤ（ＳｅｃＭ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）＝ ０の場合
ＳｅｃＭ_ｘ‘＝ＳｅｃＭ_ｘ
ＭＯＤ（ＳｅｃＭ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）≠ ０の場合
ＳｅｃＭ_ｘ‘＝｛ＩＮＴ（ＳｅｃＭ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）＋１．０｝×Ｄtｈ_ｘ
上記の計算式では、潜像マスクのサイズをディザマトリクスのサイズで除算した余りが０の場合、潜像マスクのサイズは既にディザマトリクスのサイズの倍数に一致するため、サイズを補正しない。一方、当該除算した余りが０でない場合、つまり潜像マスクのサイズがディザマトリクスのサイズの倍数に一致しない場合、潜像マスクのサイズをディザマトリクスのサイズで除算した値を切り上げ、当該値にディザマトリクスのサイズを乗算した値を補正サイズとしている。このため、上述したように、上記の計算式では補正前と同じか大きい値が算出される。
【００８８】
図１５は、カモフラージュ模様を合成しない場合の潜像マスクの補正処理を説明する図である。補正前の潜像マスク１５０は、横２０８０×縦２０４０ドットの画素を有し、背景ディザマトリクス１５３は、横１６×縦１６ドットの画素を有する。地紋効果は浮き出し効果であり（Ｓ３１０２のＹＥＳ）、潜像マスクにおいて潜像の周辺の領域には背景ディザマトリクスが適用されるため、潜像マスクのサイズを、背景ディザマトリクスのサイズの倍数であって、補正前の潜像マスクのサイズに近い値に補正する（Ｓ３１０３）。
【００８９】
潜像マスクの横方向について上記計算式に当てはめると、ＭＯＤ（２０８０／１６）＝０ であり、補正サイズは「２０８０」のままとなる。同様にして、縦方向について計算式に当てはめると、ＭＯＤ（２０４０／１６）≠０であるため、左側の補正前の潜像マスク１５０、１５１では、背景ディザマトリクス１５２が途切れてしまう。よって、｛ＩＮＴ（２０４０／１６）＋１．０｝×１６ を演算し、補正サイズ「２０４８」が算出される。この結果、補正後の潜像マスクの画素数は横２０８０×縦２０４８ドットに決定される。これにより、右側の補正後の潜像マスク１５４、１５７では、背景ディザマトリクス１５８は途切れることはない。
【００９０】
次に、算出した補正サイズに基づいて、潜像マスクを補正する。この場合、横２０８０×縦２０４０ドットから横２０８０×縦２０４８ドットに、潜像マスクを縦方向に８画素分拡大する。拡大の方法としてはニアレストレイバー法等があるが、望ましくは、潜像の周辺の領域部分を拡大することにより、潜像自体のサイズを変えずに潜像マスクを拡大する。これにより、指定された潜像自体のサイズを維持でき、ユーザーの指定を尊重することができる。また、潜像を拡大することによる潜像のゆがみ等を防止できる。
【００９１】
補正後の潜像マスク１５４は、縦方向に８画素分拡大した例である。本実施の形態例における地紋効果は浮き出し効果であるため、補正後の潜像マスク１５４は、潜像の周辺の領域である背景部領域が縦方向に４画素ずつ図中１５５、１５６のように追加して拡大されている。潜像マスクが補正されたことにより、単位地紋画像の境界領域における、背景ディザマトリクス１５３、１５８が途切れていない。これにより、単位地紋画像の境界領域において、背景ディザマトリクス１５８によって形成される網点パターンが連続するため、単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。
【００９２】
上記の例では、潜像マスクを拡大して補正する計算式とその補正例を挙げているが、潜像マスクを縮小して補正する場合は、潜像マスクにおける潜像の周辺の端部領域を数画素ずつ削減することによって縮小してもよい。
【００９３】
図１３に戻り、潜像マスクの補正が終わると（図１３のＳ３１）、補正した潜像マスクのサイズの単位地紋画像データを生成する（Ｓ３２）。地紋画像データの生成処理（Ｓ３２）は、図１６のフローチャートに従って行われる。
【００９４】
図１６は、地紋画像データの生成処理の詳細を説明するフローチャート図である。はじめに、地紋画像データの画素のインデックスｉ、ｊをそれぞれｉ＝０、ｊ＝０に初期化する（Ｓ３２０１）。次に、カモフラージュ模様が合成されるかどうか判断する（Ｓ３２０２）。カモフラージュ模様が合成される場合（Ｓ３２０２のＹＥＳ）、当画素のカモフラージュマスクの値が判定される（Ｓ３２０３）。当画素（ｉ、ｊ）におけるカモフラージュマスクの値が黒である場合（Ｓ３２０３のＹＥＳ）、無条件で当画素（ｉ、ｊ）はドットＯＦＦ（ドットなし）に設定される（Ｓ３２０４）。
【００９５】
本実施の形態例のようにカモフラージュ模様を合成しない場合（Ｓ３２０２のＮＯ）、または、当画素におけるカモフラージュマスクの値が黒でない場合は（Ｓ３２０３のＮＯ）、次に、当画素（ｉ、ｊ）における潜像マスクの値が判断される（Ｓ３２０９）。
【００９６】
潜像マスクが黒の場合（Ｓ３２０９のＹＥＳ）、当画素（ｉ、ｊ）に対応する潜像ディザマトリクスのセルの閾値と地紋画像の入力階調値とが比較され（Ｓ３２１０）、潜像マスクが黒でない場合は（Ｓ２８のＮＯ）、対応する背景ディザマトリクスのセルの閾値と地紋画像の入力階調値とが比較される（Ｓ３２１２）。いずれの比較でも、入力階調値が閾値以上だった場合（Ｓ３２１０、Ｓ３２１２のＹＥＳ）、当画素（ｉ、ｊ）のドットはＯＮ（ドットあり）に設定され（Ｓ３２１１）、入力階調値が閾値未満だった場合は（Ｓ３２１０、Ｓ３２１２のＮＯ）、ドットがＯＦＦに設定される（Ｓ３２１３）。
【００９７】
上記の処理が完了すると、画素の行方向のインデックスｊがインクリメントされ（Ｓ３２０５）、インデックスｊが潜像マスクの横サイズに達するまで（Ｓ３２０６）同じ処理が繰り返される。インデックスｊが潜像マスクの横サイズに達すると（Ｓ３２０６のＹＥＳ）、列方向のインデックスｉがインクリメントされ、かつ、行方向のインデックスｊが０にリセットされる（Ｓ３２０７）。そして、列方向のインデックスｉが潜像マスクの縦サイズに達するまで、同じ処理が繰り返される（Ｓ３２０８）。
【００９８】
列方向のインデックスｉが潜像マスクの縦サイズに達すると（Ｓ３２０８のＹＥＳ）、単位地紋画像データ３７の生成処理が終了する。このように処理の対象画素が、補正された潜像マスクの左上位置からラスタスキャン方向に移動し、各画素がドットＯＮかＯＦＦに設定される。
【００９９】
このようにして生成された画像データは、画素毎にドットＯＮ／ＯＦＦのいずれかを有する単位地紋画像データ３７となる。単位地紋画像データ３７は、その後、入力画像データ３６と共にプリンター４０に送信され、画像データ３６と合成され、印刷される。
【０１００】
図１７は、単位地紋画像データ３７と印刷対象の画像データ３６とを合成して印刷する処理を表すフローチャート図である。
【０１０１】
プリンター４０は、プリンタードライバー３２から送信された印刷ジョブ内の画像データ３６と単位地紋画像データ３７とを合成する（Ｓ４１）。単位地紋画像データ３７は画像データ３６のサイズに満たないため、単位地紋画像データ３７を繰り返し使用して画像データ３６の各画素に対応させて合成する。そして、プリンター４０は、合成後の画像データを、ＲＧＢの階調値を持つＲＧＢビットマップデータからプリンターの色であるＣＭＹＫビットマップデータに変換する（Ｓ４２）。
【０１０２】
合成方法（Ｓ４１）については、例えば、次のような方法がある。地紋画像データ３７のドットＯＮのデータを上記ビットマップデータの最大濃度に対応する階調値に変換し、ドットＯＦＦのデータを上記ビットマップデータの最小濃度「０」に対応する階調値に変換する。プリンター４０における画素毎のＲＧＢの各色が８ビットの階調値である場合は、地紋画像データの色変換後の色がＣ、Ｍ、Ｋの各色の最大濃度に対応するＲＧＢ階調値は（０，２５５，２５５）、（２５５，０，２５５）、（０，０，０）、最小濃度に対応するＲＧＢ階調値は（２５５，２５５，２５５）となる。そして、この最大階調値もしくは最小階調値に変換された単位地紋画像データ３７を用いて、印刷対象の画像データ３６においてＲＧＢ階調値（２５５，２５５，２５５）の画素（白）について、地紋画像データの階調データを上書きする。これにより、印刷対象の画像の階調値（２５５，２５５，２５５）の画素（白）には地紋画像が形成され、それ以外の画素には印刷対象画像が形成される。
【０１０３】
または、画像データ３６を、ＲＧＢの階調値を持つＲＧＢビットマップデータからＣＭＹＫビットマップデータに変換した後（Ｓ４２）、画像データのＣＭＹＫビットマップデータのうち、ユーザーが指定した地紋の色（本実施の形態例では、Ｃ、Ｍ、Ｋのいずれか）のビットマップデータに対して、単位地紋画像データ３７を合成してもよい（Ｓ４１）。
【０１０４】
ＣＭＹＫのビットマップデータに対して単位地紋画像データ３７を合成する場合、ユーザーが指定した地紋指定色のビットマップデータにおいて、印刷対象の画像データ３６の階調値「０」の画素に、地紋画像データを上書きする。または、印刷対象の画像データ３６のうち地紋指定色のビットマップデータに、地紋画像データを上書きする方法もある。例えば、印刷対象の画像データが黒色の文字を形成するデータの場合、印刷対象の画像データのＣＭＹのビットマップデータにおける全画素の階調値は「０」である。したがって、ＣＭＹのうち地紋指定色のビットマップデータは印刷対象画像データとしての情報を有していないため、地紋指定色のビットマップデータは全て地紋画像データに置き換えられる。
【０１０５】
なお、合成方法（Ｓ４１）は上記の上書きの方法に限定されず、印刷対象の画像データ３６の各画素の画像種別（テキスト、イメージ、グラフィックなど）と階調値とに基づき、印刷対象の画像と地紋画像とを所定の割合でブレンディング処理してもよい。
【０１０６】
図１８は、印刷サイズの地紋画像における単位地紋画像の配置例を表す図である。単位地紋画像データ３７と画像データ３６とを合成する際、例えば、次のように単位地紋画像を配置できる。正方配置２１０では、単位地紋画像がタイル状に左端部位置から配置されている。斜交配置２１１では、単位地紋画像が、改行の度に所定の長さ１８３だけ副走査方向にずらして配置されている。反転配置２１２では、さらに、改行の度に単位地紋画像が上下反転して配置されている。このように、配置を変えることによって、単位地紋画像における潜像マスクの規則性を減らし、原本における潜像の隠蔽性を向上させる。
【０１０７】
なお、図１８の斜交配置１８１では、行単位に、副走査方向に所定の長さ１８３だけずらして単位地紋画像を配置しているが、列単位に、主走査方向に所定の長さだけずらして配置してもよい。同様に、反転配置１８２においても、列単位に、単位地紋画像を上下反転させて配置してもよい。
【０１０８】
また、斜交配置１８１における所定の長さ１８３、１８４は、地紋効果に対応して潜像、または背景ディザマトリクスのサイズの倍数に設定することが望ましい。具体的には、浮き出し効果の場合は背景ディザマトリクス、白抜き効果の場合は潜像ディザマトリクスの画素数（副走査方向にずらす場合はその横辺、主走査方向にずらす場合はその縦辺）の倍数に、所定の長さ１８３、１８４を設定する。これにより、単位地紋画像の境界領域１８５、１８６において、ディザマトリクスによって形成される網点パターンが連続するため、単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。
【０１０９】
図１７に戻り、合成された画像データは、通常のプリンターの２値化処理（スクリーン処理）を経て（Ｓ４３）、印刷媒体に印刷される（Ｓ４４）。合成された画像データのうち、地紋画像のみからなる部分は、最大濃度階調値と最小階調値からなる階調値を持つ画素で構成されることになるので、スクリーン処理の閾値マトリクスがどのようなものであろうと、スクリーン処理後も最高濃度「２５５」の部分はその濃度値が保存されるように階調変換され、最小濃度「０」の部分は濃度が「０」となるように階調変換される。その結果、単位地紋データ生成処理で生成した地紋画像が印刷媒体上に印刷される。
【０１１０】
このように、本発明では、ユーザーインターフェイスを介してユーザーが指定した地紋の情報に基づいた潜像マスクのサイズを補正し、補正した潜像マスクのサイズに対応した単位地紋画像データ３７を形成する。これにより、潜像マスクのサイズ分の地紋画像データを生成すればよいため、地紋画像データの生成処理にかかる時間を大幅に短縮することができ、さらに、地紋画像データの保存に要するメモリーを節約することができる。また、本実施の形態例のようにホストコンピューター３０からプリンター４０に、単位地紋画像データ３７と画像データ３６が送信される場合において、通信データ量を減らすことができる。
【０１１１】
また、補正された潜像マスクのサイズは、ディザマトリクスのサイズの倍数に一致するため、単位地紋画像の境界領域において、当該ディザマトリクスによって形成される網点パターンが連続せずに単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐ。
【０１１２】
さらに、潜像マスクのサイズを、ディザマトリクスのサイズの倍数に一致させるように補正するため、各サイズの最小公倍数によって補正サイズを算出するよりも、潜像マスクの補正サイズを小さく抑えることができ、単位地紋画像データ３７のサイズを小さく抑えることができる。潜像ディザマトリクスと背景ディザマトリクスとは、形成する網点線数が異なるため、そのディザマトリクスのサイズも異なる。そのため、両ディザマトリクスのサイズの最小公倍数を単位地紋画像データ３７のサイズとすると、そのサイズが大きくなり過ぎてしまう。
【０１１３】
さらに、潜像マスクの補正処理の基準となるディザマトリクスを、地紋効果に基づいて潜像ディザマトリクスまたは背景ディザマトリクスのいずれかに限定するため、潜像マスクの補正サイズを小さく抑えることができ、単位地紋画像データ３７のサイズを小さく抑えることができる。
【０１１４】
このように、潜像マスクの補正サイズは、潜像ディザマトリクスと背景ディザマトリクスのサイズが異なる場合、地紋効果が浮き出し効果であるか白抜き効果であるかに応じて異なる。また、潜像ディザマトリクス、背景ディザマトリクスのサイズは地紋画像の入力階調に応じて異なり、それに対応して潜像マスクの補正サイズも異なる。このため、デフォルトの潜像マスクを使用する場合であっても、潜像マスクの補正処理が必要となる。
【０１１５】
［第２の実施の形態例］
第２の実施の形態例では、カモフラージュ模様を合成しない第１の実施の形態例に対して、カモフラージュ模様を合成する場合の単位地紋画像データの生成処理について説明する。カモフラージュ模様の設定を除く地紋の設定、潜像マスク、潜像ディザマトリクス、背景ディザマトリクスの画素数は、第１の実施例と同様である。
【０１１６】
カモフラージュ模様を合成する場合における潜像マスクの補正処理には、次の二つの方法がある。第１の方法は、まず、カモフラージュマスクのサイズをディザマトリクスのサイズの倍数に補正し、さらに、潜像マスクのサイズを、補正したカモフラージュマスクのサイズの倍数に補正する方法である。これにより、カモフラージュ模様の境界領域において、当該ディザマトリクスによって形成される網点パターンが連続し、カモフラージュマスクの境界が顕在化することを抑える。また、単位地紋画像の境界領域においても、ディザマトリクス、およびカモフラージュマスクが途切れないため、その境界が顕在化することを防ぐことができる。
【０１１７】
第２の方法は、潜像マスクのサイズを、ディザマトリクスのサイズおよびカモフラージュマスクのサイズの倍数に補正する方法である。この場合、カモフラージュマスクはディザマトリクスのサイズの倍数である必要はない。地紋効果に基づいた潜像ディザマトリクスまたは背景ディザマトリクス、カモフラージュマスクのサイズの倍数に一致するように、潜像マスクのサイズを補正する。第１の方法と同様に、単位地紋画像の境界領域において、ディザマトリクス、およびカモフラージュマスクが途切れないため、単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐことができる。
【０１１８】
本実施の形態例では、第１の方法に基づいて、カモフラージュマスクを補正し、補正したカモフラージュマスクのサイズの倍数になるように潜像マスクを補正して単位地紋画像データ３７を生成する処理の流れについて説明する。
【０１１９】
まず、第１の実施の形態例と同様に、プリンタードライバー３２は、ユーザーインターフェイスを介して地紋の情報を取得する（図１２のＳ１０〜Ｓ２１）。第２の実施の形態例ではカモフラージュ模様を合成するため、ユーザーはカモフラージュ模様を選択し（Ｓ１７のＹＥＳ）、プリンタードライバー３２は、カモフラージュマスクを生成（Ｓ１９）、または選択する（Ｓ２０）。本実施の形態例におけるカモフラージュ模様の画像データは２値の画像データとする。
【０１２０】
続いて、単位地紋画像データ３７の生成処理（Ｓ３０、図１３）に進み、プリンタードライバー３２は、カモフラージュマスクおよび、潜像マスクのサイズを補正する（Ｓ３１）。補正処理については、図１４のフローチャート図に則って説明する。
【０１２１】
図１４に戻り、プリンタードライバー３２は、はじめに、カモフラージュ模様を合成するかどうか判定する（Ｓ３１０１）。本実施の形態例では、カモフラージュ模様を合成するため、Ｓ３１０１でＹＥＳと判定され、次に、地紋効果が浮き出しかどうか判定する（Ｓ３１０５）。地紋効果が浮き出しの場合は（Ｓ３１０５のＹＥＳ）、単位地紋画像の境界領域で隣接する単位地紋画像内において背景部の網点パターンが連続するように、カモフラージュマスクのサイズを背景ディザマトリクスのサイズの倍数に補正する（Ｓ３１０６）。一方、地紋効果が白抜きの場合は（Ｓ３１０５のＮＯ）、単位地紋画像の境界領域で隣接する単位地紋画像内において潜像部の網点パターンが連続するように、カモフラージュマスクのサイズを潜像ディザマトリクスのサイズの倍数に補正する（Ｓ３１０７）。
【０１２２】
カモフラージュマスクのサイズをディザマトリクスのサイズの倍数に補正する処理（Ｓ３１０６、Ｓ３１０７）は、次のように行われる。
【０１２３】
まず、カモフラージュマスクの横・縦それぞれの補正サイズを算出する。カモフラージュマスクの補正サイズを求める計算式は以下の（ａ）〜（ｃ）の通りである。これらの計算式では、ディザマトリクスの画素数の倍数であって、カモフラージュマスクの画素数に近い値が算出される。また、この（ａ）〜（ｃ）の算出結果から、その横・縦辺の画素数の比率が補正前のカモフラージュマスクの横・縦の比率と最も近い算出結果を、補正サイズとする。なお、（ａ）〜（ｃ）の算出結果の縦・横の比率が同じ場合は、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の優先順に従って、補正サイズを決定する。
【０１２４】
式中のＣａｍ_ｘは補正前のカモフラージュマスクの画素数、Ｃａｍ_ｘ‘はカモフラージュマスクの補正画素数である。また、第１の実施の形態例と同様に、Ｄtｈ_ｘはディザマトリクスの画素数であり、ＭＯＤ（＊）は余りを求める演算式、ＩＮＴ（＊）は切り捨て処理を表す。補正サイズを求める式は、横・縦方向ともに同じである。
【０１２５】
（a）四捨五入に基づく計算式
Ｃａｍ_ｘ‘＝ＩＮＴ｛Ｃａｍ_ｘ／Ｄｔｈ_ｘ＋０．５｝×Ｄｔｈ_ｘ
（b）切り上げに基づく計算式
ＭＯＤ（Ｃａｍ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）＝ ０の場合
Ｃａｍ_ｘ‘＝Ｃａｍ_ｘ
ＭＯＤ（Ｃａｍ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）≠ ０の場合
Ｃａｍ_ｘ‘＝｛ＩＮＴ（Ｃａｍ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）＋１．０｝×Ｄｔｈ_ｘ
（c）切り捨てに基づく計算式
ＭＯＤ（Ｃａｍ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）＝ ０の場合
Ｃａｍ_ｘ‘＝Ｃａｍ_ｘ
ＭＯＤ（Ｃａｍ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）≠ ０の場合
Ｃａｍ_ｘ‘＝ＩＮＴ（Ｃａｍ_ｘ／Ｄtｈ_ｘ）×Ｄｔｈ_ｘ
（ａ）の計算式では、カモフラージュマスクのサイズをディザマトリクスのサイズで除算した値を四捨五入し、当該値にディザマトリクスのサイズを乗算した値を補正サイズとする。（ｂ）の計算式では、当該除算した余りが０の場合、カモフラージュマスクのサイズは既にディザマトリクスのサイズの倍数であるため、サイズを補正しない。一方、当該除算した余りが０でない場合、除算した値を切り上げ、当該値にディザマトリクスのサイズを乗算した値を補正サイズとする。（ｃ）の計算式も（ｂ）と同様に、余りが０の場合はサイズを補正せず、余りが０でない場合、除算した値を切り捨て、当該値にディザマトリクスのサイズを乗算した値を補正サイズとする。
【０１２６】
（ａ）の計算式は四捨五入に基づいているため、サイズの補正幅は（ｂ）（ｃ）と比較して同じか小さくなる。また、（ｂ）の計算式は切り上げに基づいているため、カモフラージュマスクは補正前と同じサイズか、または拡大される。（ｃ）の計算式では切り捨てに基づいているため、カモフラージュマスクは補正前と同じサイズか、または縮小される。
【０１２７】
図１９は、カモフラージュ模様を合成する場合のカモフラージュマスクの補正処理を説明する図である。補正前のカモフラージュマスク１９０は、横２１０×縦２１０ドットの画素を有し、背景ディザマトリクス１９２は、横１６×縦１６ドットの画素を有する。地紋効果は浮き出し効果であり（Ｓ３１０５のＹＥＳ）、潜像マスクにおいて潜像の周辺の領域には背景ディザマトリクスが適用されるため、カモフラージュマスクのサイズを、背景ディザマトリクスのサイズの倍数であって、補正前のカモフラージュマスクのサイズに近い値に補正する（Ｓ３１０６）。
【０１２８】
（ａ）の計算式に当てはめ、ＩＮＴ｛２１０／１６＋０．５｝×１６ を演算すると、補正サイズ「２０８」が算出される。次に、（b）の計算式に当てはめると、ＭＯＤ（２１０／１６）≠０であるため、｛ＩＮＴ（２１０／１６）＋１．０｝×１６ を演算すると、補正サイズ「２２４」が算出される。最後に、（c）の計算式に当てはめると、ＭＯＤ（２１０／１６）≠０であるため、ＩＮＴ（２１０／１６）×１６ を演算すると、補正サイズ「２０８」が算出される。
【０１２９】
本実施の形態例では、カモフラージュマスク、背景ディザマトリクス共に、横・縦の画素数の比率が１対１であるため、横・縦の算出結果は同値となる。そのため、（a）〜（c）の計算結果における補正後の横・縦の画素数の比率も全て１対１となる。比率が同じであるため、（a）の計算式による算出結果「２０８」がカモフラージュマスクの補正サイズに採用される。
【０１３０】
次に、算出した補正サイズに基づいて、カモフラージュマスクを補正する。この場合、横２１０×縦２１０ドットから横２０８×縦２０８ドットに、カモフラージュマスクを横・縦方向に２画素分縮小する。この例では、カモフラージュマスクを縮小するが、カモフラージュマスクを拡大するケースもある。カモフラージュマスクを拡大、縮小する方法として、ここではニアレストレイバー法を利用する。ただし、拡大、縮小の方法はニアレストレイバー法に限定されるものではない。例えば、潜像マスクの補正と同様に、カモフラージュ模様の周辺の領域を追加、削除することによって、拡大、縮小してもよい。
【０１３１】
ニアレストレイバー法による拡大、縮小方法は以下のとおりである。次の計算式によって、補正後の各画素に対応する補正前の座標が得られる。式中のＣａｍ_ｗは、カモフラージュマスクの横方向における補正前の画素数であり、Ｃａｍ_ｗ‘は補正後の画素数である。同様に、Ｃａｍ_ｈは、カモフラージュマスクの縦方向における補正前の画素数であり、Ｃａｍ_ｈ‘は補正後の画素数である。
【０１３２】
ｉ、ｊは、補正後のカモフラージュマスク上の座標を、ｍ、ｎは、補正前のカモフラージュマスク上の座標を表し、Ｃａｍ‘［ｉ］［ｊ］（０≦ｉ＜Ｃａｍ_ｗ‘，０≦ｊ＜Ｃａｍ_ｈ‘）並びにＣａｍ［ｍ］［ｎ］（０≦ｍ＜Ｃａｍ_ｗ，０≦ｎ＜Ｃａｍ_ｈ）の関係にある。
【０１３３】
ｍ＝ＩＮＴ（ｉ／Ｃａｍ_ｗ‘×Ｃａｍ_ｗ＋０．５）
ｎ＝ＩＮＴ（ｊ／Ｃａｍ_ｈ‘×Ｃａｍ_ｈ＋０．５）    
算出したカモフラージュマスクのサイズを当てはめると以下のような計算式が得られる。補正後のカモフラージュマスクの座標を［ｉ］［ｊ］に指定すると、当該座標に対応する補正前のカモフラージュマスク上の座標［ｍ］［ｎ］が得られる。これにより、カモフラージュマスクを拡大、または縮小できる。
【０１３４】
ｍ＝ＩＮＴ（ｉ／２０８×２１０＋０．５）
ｎ＝ＩＮＴ（ｊ／２０８×２１０＋０．５）
上記の計算式に基づいてカモフラージュマスクを縮小したのが、図１９の補正後のカモフラージュマスク１９３である。カモフラージュマスクが補正されたことにより、補正後の背景ディザマトリクス１９４は途切れていない。これによって、カモフラージュマスクの境界領域において、背景ディザマトリクス１９４によって形成される網点パターンが連続し、カモフラージュマスクの境界が顕在化することを防ぐことができる。
【０１３５】
また、補正後のカモフラージュマスク１９３のサイズは、補正前のカモフラージュマスク１９０の横・縦の比率（この場合は１対１）に近い値が選択されるため、カモフラージュマスクの拡大、縮小処理によるカモフラージュ模様のゆがみ等を抑えることができる。
【０１３６】
図１４に戻り、カモフラージュマスクの補正が終わると（図１４のＳ３１０６、Ｓ３１０７）、次に、補正したカモフラージュマスクに基づいて潜像マスクのサイズを補正する（Ｓ３１０８）。潜像マスクの補正サイズを求める計算式は以下の通りである。この式では、カモフラージュマスクのサイズの倍数であって、潜像マスクのサイズに近い値が算出される。また、この計算式は、第１の実施の形態例における潜像マスクの補正サイズを算出する計算式と同様であり、第１の実施の形態例における計算式のＤtｈ_ｘが、第２の実施の形態例ではＣｏｍ_ｘ‘（補正後のカモフラージュマスクのサイズ）に置き代わる。
【０１３７】
ＭＯＤ（ＳｅｃＭ_ｘ／Ｃｏｍ_ｘ‘）＝ ０の場合
ＳｅｃＭ_ｘ‘＝ＳｅｃＭ_ｘ
ＭＯＤ（ＳｅｃＭ_ｘ／Ｃｏｍ_ｘ‘）≠ ０の場合
ＳｅｃＭ_ｘ‘＝｛ＩＮＴ（ＳｅｃＭ_ｘ／Ｃｏｍ_ｘ‘）＋１．０｝×Ｃｏｍ_ｘ‘
図２０は、カモフラージュ模様を合成する場合の潜像マスクの補正処理を説明する図である。補正前の潜像マスク２００は、横２０８０×縦２０４０ドットの画素を有し、補正後のカモフラージュマスク２０２は、横２０８×縦２０８ドットの画素を有する。潜像マスク２００には、左上位置からカモフラージュマスク２０２がタイル状に並べられたように対応している。
【０１３８】
潜像マスクの横方向について計算式に当てはめると、ＭＯＤ（２０８０／２０８）＝０ であり、補正後のサイズは「２０８０」のままとなる。同様にして、縦方向について計算式に当てはめると、ＭＯＤ（２０４０／２０８）≠０であるため、さらに｛ＩＮＴ（２０４０／２０８）＋１．０｝×２０８ を演算し、補正サイズ「２０８０」が算出される。これにより、補正後の潜像マスクの画素数が横２０８０×縦２０８０ドットに決定される。
【０１３９】
次に、算出した補正サイズに基づいて、潜像マスクを補正する。この場合、横２０８０×縦２０４０ドットから横２０８０×縦２０８０ドットに、潜像マスクを縦方向に４０画素分拡大する。第１の実施例で前述したとおり、潜像の周辺の領域部分について拡大することにより、潜像自体のサイズを変えることなく、潜像マスクを拡大することができる。
【０１４０】
補正後の潜像マスク２０３は、縦方向に４０画素分拡大した例である。この場合の地紋効果は浮き出し効果であるため、補正後の潜像マスク２０３は、潜像の周辺の領域である背景部領域について縦方向に２０画素ずつ２０５、２０６拡大されている。また、潜像マスクが補正されたことにより、単位地紋画像の境界領域において、補正後のカモフラージュマスク２０４は途切れない。また、カモフラージュマスク２０４は、背景ディザマトリクスのサイズの倍数に設定されているため、当然に、潜像マスクのサイズは、背景ディザマトリクスのサイズの倍数となり、背景ディザマトリクスも途切れない。これによって、単位地紋画像の境界領域において、カモフラージュ模様、およびディザマトリクスによって形成される網点パターンが連続するため、単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐ。
【０１４１】
図１３に戻り、潜像マスクの補正が終わると（図１３のＳ３１）、単位地紋画像データ３７を生成する（Ｓ３２）。単位地紋画像データの生成処理は、第１の実施例と同様に、図１６のフローチャートに従って行われる。
【０１４２】
カモフラージュ模様を合成する場合（図１６のＳ３２０２のＹＥＳ）、処理の対象画素に対応するカモフラージュマスクが黒の情報を示す場合は（Ｓ３２０３のＹＥＳ）、当画素（ｉ、ｊ）はドットＯＦＦに設定される。処理の対象画素に対応するカモフラージュマスクが白の情報を示す場合は（Ｓ３２０３のＮＯ）、カモフラージュマスクを合成しない場合と同様に、対応するディザマトリクスの閾値と比較されて、当画素（ｉ、ｊ）のドットのＯＮ、ＯＦＦが決定される。図１６の処理が終わると、単位地紋画像データ３７が生成される。
【０１４３】
その後の、プリンター４０において単位地紋画像データ３７と画像データ３６とを合成して印刷する処理（図１７）は第１の実施の形態例と同様である。ただし、図１７の単位地紋画像データを繰り返し使用して画像データと合成する処理（Ｓ４２）において、斜交配置（図１８の１８１）または反転配置（図１８の１８２）を行う場合は、所定の長さ１８３、１８４を、さらに、カモフラージュマスクの画素数の倍数に設定すると、単位地紋画像の境界領域１８５、１８６において、カモフラージュ模様を連続させることができ単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐ。
【０１４４】
また、反転配置１８２の場合、カモフラージュマスクが点対象に構成されていることが望ましい。カモフラージュマスクが点対象に構成されていることにより、反転した単位地紋画像と、反転しない単位地紋画像との境界領域１８６において、カモフラージュ模様が連続するため、単位地紋画像の境界が顕在化することを防ぐ。
【０１４５】
このように、カモフラージュ模様を合成する場合であっても、さらに、カモフラージュマスクのサイズの倍数に一致させるように潜像マスクのサイズを補正し、補正した潜像マスクのサイズに対応する単位地紋画像データ３７を形成する。これにより、潜像マスクのサイズ分の単位地紋画像データ３７を生成すればよいため、地紋画像データの生成処理にかかる時間を大幅に短縮することができ、また、地紋画像データの保存に要するメモリーを節約することができる。
【０１４６】
また、補正された潜像マスクのサイズは、カモフラージュマスク、およびディザマトリクスのサイズの倍数に一致するため、単位地紋画像の境界領域において、当該ディザマトリクスによって形成される網点パターン、および、カモフラージュ模様が連続せずに単位地紋画像データ３７の境界が顕在化することを防ぐ。
【０１４７】
また、カモフラージュマスクのサイズを、ディザマトリクスのサイズの倍数に補正し、さらに、潜像マスクのサイズを補正したカモフラージュマスクのサイズの倍数に補正する場合、カモフラージュマスクの境界領域において、当該ディザマトリクスによって形成される網点パターンを連続させることができる。
【０１４８】
さらに、カモフラージュマスクのサイズをディザマトリクスのサイズの倍数に、または、潜像マスクのサイズをカモフラージュマスクのサイズの倍数に一致させるように補正するため、カモフラージュマスクのサイズを含めた各サイズの最小公倍数によって補正サイズを算出するよりも、潜像マスクの補正サイズを小さく抑えることができ、地紋画像データ３７のサイズを小さく抑えることができる。
【符号の説明】
【０１４９】
１４，１６：原本、１８，２０：複写物、１４Ｘ，１６Ｘ：原本の拡大画像、１８Ｘ，２０Ｘ：複写物の拡大画像、ＬＩ：潜像部、ＢＩ：背景部、
３０：ホストコンピューター、３１：アプリケーションプログラム、３２：プリンタードライバー、３３：潜像ディザマトリクス、３４：背景ディザマトリクス、３６：画像データ、３７：単位地紋画像データ、４０：プリンター、４１：コントローラー、４２：画像形成プログラム、４３：合成部、４４：色変換、４５：二値化ユニット、４６：印刷エンジン
【図１】
2011023964.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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