【事件の表示】
　特願２０１２−　　７１５８「プラズマ処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　８月　１日出願公開、特開２０１３−１４９３７７、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２４年１月１７日の出願であって、平成２７年７月９日付けで拒絶理由が通知され、同年９月４日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされ、平成２８年１月２９日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。）がなされ、これに対して、同年５月２日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同時に手続補正がなされ、その後、当審において、平成２９年１月３０日付けで拒絶理由（以下「当審拒絶理由１」という。）が通知され、同年３月９日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされ、同年３月２７日付けで拒絶理由（以下「当審拒絶理由２」という。）が通知され、同年５月１７日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされ、同年５月２９日付けで、同年５月１７日付けで提出された手続補正書に対する手続補正指令がなされ、同年６月１日付けで手続補正書が提出されたものである。
第２　原査定の概要
　原査定（平成２８年１月２９日付けの拒絶査定）の概要は次のとおりである。
　本願の請求項１〜３に係る発明は、以下の引用文献Ａ及びＢに基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
引用文献等一覧
　Ａ．特開２０１１−１７１１５３号公報
　Ｂ．特開２０１０−２５１７０８号公報
第３　当審拒絶理由１，２の概要
　当審拒絶理由１，２の概要は次のとおりである。
１　当審拒絶理由１の概要
（１）理由（１）
　分割素片間に介在される各部材（カバープレート支持具の軸部やガス供給部におけるカバープレートの軸部）と分割素片の間に「所定の幅の隙間」が設定されていることが特定されていない本願発明１〜４は、本願の発明の詳細な説明に記載されていないものである。
　また、「所定の幅」の具体的大きさが特定されていない本願発明１〜４は、本願の発明の詳細な説明に記載されていないものである。
　よって、本願発明１〜３は発明の詳細な説明に記載されたものでないから、特許法第３６条第６項第１号に違反している。 
 　また、本願発明１〜３は明確でないから、特許法第３６条第６項第２号に違反している。 
（２）理由（２）
　本願の請求項１〜３に係る発明は、以下の引用文献Ｂに基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
引用文献等一覧
　Ｂ．特開２０１０−２５１７０８号公報（原査定の引用文献Ｂと同じ文献）
２　当審拒絶理由２の概要
　平成２９年３月９日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１における「前記カバープレートは、前記処理ガス供給部に対向する部分において、前記カバープレートを下方から支持する・・・」の記載は、明らかな矛盾を含んでおり、意味が不明である。（「前記カバープレートを下方から支持する」は、「前記誘電体カバーを下方から支持する」の誤りと思われる。） 
 　よって、請求項１に係る発明は明確でない。 
第４　本願発明
　本願の請求項１〜３に係る発明（以下、順に「本願発明１」〜「本願発明３」という。）は、平成２９年６月１日付けで提出された手続補正書に記載された特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される次のとおりの発明である。
「【請求項１】
　プラズマが発生する処理空間をなす処理室と、該処理室内において前記プラズマに晒される基板と対向して配置される誘電体カバーとを備えるプラズマ処理装置において、
　前記誘電体カバーは複数の分割素片が組み合わされて構成され、
　隣接する２つの前記分割素片の境目はカバープレートによって覆われ、
　各前記分割素片は前記カバープレートによって下方から支持され、
　前記隣接する２つの分割素片の境目には第１の所定の幅の隙間が設けられ、
　前記カバープレートは、隣接する２つの前記分割素片の全境目の９０％以上を覆い、
　各前記分割素片は正方形、若しくは矩形の誘電体部材からなり、該誘電体部材の一辺は少なくとも５００ｍｍ以上であり、
　前記カバープレートを支持するカバープレート支持具が、前記カバープレートとは別に設けられ、
　処理ガスを供給するガス供給部がさらに設けられ、
　前記カバープレートは、前記ガス供給部及び前記処理室の間に介在し、且つ前記ガス供給部及び前記処理室を連通するガス導入穴を有し、
　前記カバープレート支持具は、前記カバープレートを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面Ｔ字状の部材からなり、
　前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片の間には第２の所定の幅の隙間が設けられ、
　前記カバープレートは、前記処理ガス供給部に対向する部分において、前記誘電体カバーを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面がＴ字状の部材からなり、
　前記カバープレートの軸部及び各前記分割素片の間には第３の所定の幅の隙間が設けられ、
　前記第１の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記隣接する２つの分割素片が当接することがない程度の大きさであり、
　前記第２の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさであり、
　前記第３の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレートの軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさであることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
　前記誘電体部材の一辺は少なくとも９００ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
　前記誘電体カバーに関して前記基板と反対側に配されて高周波電力が印加される高周波アンテナと、
　前記誘電体カバー及び前記高周波アンテナの間に配される誘電体窓と、
　前記誘電体窓を支持する梁とをさらに備え、
　前記カバープレートは前記梁に取り付けられることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。」
第５　引用文献、引用発明等
１　引用文献Ｂ
　特開２０１０−２５１７０８号公報（以下「引用例１」という。）には次の事項が記載されている。（下線は当審において付されたものである。）
ア「【技術分野】
【０００１】 
　本発明は、誘導結合プラズマ処理装置において、処理室の天井部分を構成する窓部材の下面を覆うカバーを固定するためのカバー固定具およびカバー固定装置に関する。」
 イ「【００２３】 
［第１の実施の形態］ 
　以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図１ないし図４を参照して、本発明の第１の実施の形態に係るカバー固定具を含む誘導結合プラズマ処理装置の構成について説明する。図１は、誘導結合プラズマ処理装置を示す断面図である。図２は、図１における「窓部材」としての誘電体壁およびサスペンダを示す斜視図である。図３は、図１における誘電体壁および高周波アンテナを示す斜視図である。図４は、図１における「カバー」としての誘電体カバーおよび「カバー固定具」としての誘電体カバー固定具を示す底面図である。
【００２４】 
　図１に示した誘導結合プラズマ処理装置１は、例えばＦＰＤ用のガラス基板（以下、単に「基板」と記す）Ｓに対してプラズマ処理を行うものである。ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。
【００２５】 
　
誘導結合プラズマ処理装置１は、本体容器２と、この本体容器２内に配置されて、本体容器２内の空間を上下の２つの空間に区画する「窓部材」としての誘電体壁６とによって構成されたアンテナ室４と処理室５とを備えている。アンテナ室４は本体容器２内における誘電体壁６の上側の空間を画定し、処理室５は本体容器２内における誘電体壁６の下側の空間を画定する。
【００２６】 
　本体容器２は、上部と底部と４つの側部とを有する角筒形状の容器である。なお、本体容器２は、上部と底部と筒状部とを有する円筒形状の容器であってもよい。本体容器２の材料としては、アルミニウム、アルミニウム合金等の導電性材料が用いられる。本体容器２の材料としてアルミニウムを用いた場合には、本体容器２の内壁面から汚染物が発生しないように、本体容器２の内壁面にはアルマイト処理が施される。また、本体容器２は接地されている。」
ウ「【００３２】 
　
誘導結合プラズマ処理装置１は、更に、誘電体壁６の下面を覆う「カバー」としての誘電体カバー１２を備えている。誘電体カバー１２は、略正方形形状の上面および底面と、４つの側面とを有する板状をなしている。誘電体カバー１２は、誘電体材料によって形成されている。
【００３３】 
 　一例として、
誘電体カバー１２は、誘電体壁６と同様に４つの部分に分割されている。
誘電体カバー１２は、第１の部分カバー１２Ａ、第２の部分カバー１２Ｂ、第３の部分カバー１２Ｃおよび第４の部分カバー１２Ｄを有している。
【００３４】 
　図４に示したように、誘導結合プラズマ処理装置１は、更に、誘電体カバー１２を固定する本実施の形態に係る「カバー固定具」としての誘電体カバー固定具１８Ａ，１８Ｂ１，１８Ｂ２，１８Ｂ３，１８Ｂ４を備えている。後で詳しく説明するが、誘電体カバー１２は、誘電体カバー固定具１８Ａ，１８Ｂ１，１８Ｂ２，１８Ｂ３，１８Ｂ４によって固定されている。また、図示しないが、誘電体カバー１２には、支持梁１６の開口部に対応した複数の開口部が形成されている。
【００３５】 
　基板Ｓに対してプラズマ処理が行われる際には、アンテナ１３に、高周波電源１５から誘導電界形成用の高周波電力（例えば、１３．５６ＭＨｚの高周波電力）が供給される。これにより、アンテナ１３によって、処理室５内に誘導電界が形成される。この誘導電界は、後述する処理ガスをプラズマに転化させる。
【００３６】 
　
本体容器２の外部には、更に、ガス供給装置２０が設置されている。
ガス供給装置２０は、プラズマ処理に用いられる処理ガスを供給するためのものである。プラズマ処理が行われる際には、処理ガスは、ガス供給管２１、支持梁１６内のガス流路および開口部、ならびに誘電体カバー１２の開口部を通して、処理室５内に供給される。
エ「【００４２】 
　次に、図４ないし図６を参照して、本実施の形態に係る誘電体カバー固定具について詳しく説明する。図４には、誘電体カバー１２および誘電体カバー固定具１８Ａ，１８Ｂ１，１８Ｂ２，１８Ｂ３，１８Ｂ４が示されている。図５は、図４における５−５線で示される位置の断面を示す断面図である。図６は、図４における６−６線で示される位置の断面を示す断面図である。図４において、丸印は、ねじを表している。
【００４３】 
　前述のように、誘電体カバー１２は、第１ないし第４の部分カバー１２Ａ〜１２Ｄを有している。図４において、第１の部分カバー１２Ａは誘電体カバー１２全体の配置領域のうちの左上の領域に配置され、第２の部分カバー１２Ｂは誘電体カバー１２全体の配置領域のうちの右上の領域に配置され、第３の部分カバー１２Ｃは誘電体カバー１２全体の配置領域のうちの左下の領域に配置され、第４の部分カバー１２Ｄは誘電体カバー１２全体の配置領域のうちの右下の領域に配置されている。
【００４４】 
　誘電体カバー１２の中央部において、第１ないし第４の部分カバー１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄには、それぞれ、それらを合わせたときに十字形状の開口部となるＬ字形状の切り欠き部１２Ａａ，１２Ｂａ，１２Ｃａ，１２Ｄａが形成されている。」
オ「【００５４】 
　被固定部１８Ａ３は、支持部材である支持梁１６との位置関係が変化しないように固定される。具体的には、被固定部１８Ａ３は、以下のようにして、支持梁１６に対して固定されている。まず、被固定部１８Ａ３の上面は、支持梁１６の下面に当接している。誘電体カバー固定具１８Ａは、更に、被固定部１８Ａ３を支持梁１６に対して固定する複数のねじを備えている。このねじの数は、例えば、図４に示したように８つである。図６には、そのうちの２つのねじ１９Ａ１，１９Ａ２を示している。図６に示した例では、ねじ１９Ａ１，１９Ａ２の頭部は被固定部１８Ａ３の下方に配置され、ねじ１９Ａ１，１９Ａ２の軸部は被固定部１８Ａ３を貫通して支持梁１６に結合している。ねじ１９Ａ１，１９Ａ２以外のねじも、ねじ１９Ａ１，１９Ａ２と同様である。
【００５５】 
　図７は、誘電体カバー固定具１８Ａの固定方法の他の例を示す断面図である。この例では、ねじ１９Ａ１，１９Ａ２の頭部は支持梁１６の上方に配置され、ねじ１９Ａ１，１９Ａ２の軸部は支持梁１６を貫通して被固定部１８Ａ３に結合している。ねじ１９Ａ１，１９Ａ２以外のねじも、ねじ１９Ａ１，１９Ａ２と同様である。」
 カ「【００８３】 
　
図１１は、図４に対応した図であって、第３の変形例の誘電体カバーおよび誘電体カバー固定具を示す底面図である。第３の変形例の誘電体カバー固定具５８Ａ，５８Ｂ１，５８Ｂ２，５８Ｂ３，５８Ｂ４，５８Ｂ５，５８Ｂ６，５８Ｂ７，５８Ｂ８，５８Ｃ１，５８Ｃ２，５８Ｃ３，５８Ｃ４，５８Ｄ１，５８Ｄ２，５８Ｄ３，５８Ｄ４，５８Ｅ１，５８Ｅ２，５８Ｅ３，５８Ｅ４は、図４に示した誘電体カバー固定具１８Ａ，１８Ｂ１，１８Ｂ２，１８Ｂ３，１８Ｂ４に代るものである。
【００８４】 
　処理室５側から見た誘電体カバー固定具５８Ａの形状は十字形状である。処理室５側から見た誘電体カバー固定具５８Ｂ１〜５８Ｂ８，５８Ｃ１〜５８Ｃ４の形状は、いずれも長方形である。処理室５側から見た誘電体カバー固定具５８Ｄ１〜５８Ｄ４の形状は、いずれもＬ字形状である。処理室５側から見た誘電体カバー固定具５８Ｅ１〜５８Ｅ４の形状は、いずれもＴ字形状である。
【００８５】 
　誘電体カバー固定具５８Ａは、誘電体カバー１２の中央部における十字形状の開口部を覆うように配置されている。なお、誘電体カバー固定具５８Ａには、支持梁１６の開口部に対応した開口部が形成されていてもよい。
【００８６】 
　誘電体カバー固定具５８Ｂ１〜５８Ｂ８，５８Ｃ１〜５８Ｃ４は、それぞれ、図１０に示した誘電体カバー固定具４８Ｂ１〜４８Ｂ８，４８Ｃ１〜４８Ｃ４と同じ位置に配置され、誘電体カバー１２の下面の一部を支持する。
【００８７】 
　誘電体カバー固定具５８Ｄ１は、誘電体カバー固定具５８Ｂ１，５８Ｂ５を連結するように配置されている。誘電体カバー固定具５８Ｄ２は、誘電体カバー固定具５８Ｂ３，５８Ｂ６を連結するように配置されている。誘電体カバー固定具５８Ｄ３は、誘電体カバー固定具５８Ｂ２，５８Ｂ７を連結するように配置されている。誘電体カバー固定具５８Ｄ４は、誘電体カバー固定具５８Ｂ４，５８Ｂ８を連結するように配置されている。誘電体カバー固定具５８Ｄ１〜５８Ｄ４は、それぞれ、誘電体カバー１２の下面の一部を支持する。」
キ「【００９４】 
　第３の変形例では、処理室５側から見て、
誘電体カバー１２の下面における外縁全体と、隣接する２つの部分カバーの下面同士の境界全体が、複数の誘電体カバー固定具によって覆われている。そのため、第３の変形例によれば、処理室５側から見て、誘電体カバー１２の外周部と支持棚７との間に生じる隙間や、隣接する２つの部分カバーの間に生じる隙間を、完全に覆うことができる。
【００９５】 
　
第３の変形例における誘電体カバー固定具におけるその他の構成、作用および効果は、図６または図７に示した誘電体カバー固定具と同様である。
ク「【図１】 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」 
ケ「【図４】 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」 
コ「【図５】 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」 
サ「【図６】 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」 
シ「【図７】 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」 
ス「【図１１】 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」 
（２）引用例１に記載された発明（引用発明）の認定 
　上記（１）サ（【図６】）、シ（【図７】）から、誘導体カバー１２Ａ及び１２Ｂの間の開口部が誘導体カバー固定具１８Ａの被固定部１８Ａ３で埋められていること、及び誘導体１２Ａ及び１２Ｂは、それぞれ、誘導体カバー固定具１８Ａの支持部１８Ａ１及び１８Ａ２で下から支持されていること、が見て取れる。そして、上記（１）キの【００９５】における「第３の変形例における誘電体カバー固定具におけるその他の構成、作用および効果は、図６または図７に示した誘電体カバー固定具と同様である。」の記載から、第３の変形例を示す上記（１）ス（【図１１】）における誘導体カバー１２Ａ及び１２Ｂの間の境界に配置された誘電体カバー固定具５８Ｃ３についても、誘導体カバー１２Ａ及び１２Ｂの間の境界に設けられた隙間が、誘導体カバー固定具５８Ｃ３の被固定部で埋められ、また、誘導体カバー１２Ａ及び１２Ｂは、それぞれ、誘導体カバー固定具の両側の支持部の一方で下から支持されるものといえる。
　また、【図６】から、誘電体カバー固定具（【図６】においては１８Ａ）が、前記誘電体カバー（【図６】においては１２Ａ及び１２Ｂ）を下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面がＴ字状の部材からなることが見て取れる。また、誘電体カバー固定具は、ねじ１９Ａ１及び１９Ａ２によって下から取り付けられることが見て取れる。そして、ねじ１９Ａ１及び１９Ａ２は、フランジ及び軸部を有する断面Ｔ字状の部材であるといえる。
　よって、引用例１には、次に記載するように、上記【図１１】に示された誘導体カバー固定具の第３の変形例を備えたプラズマ処理装置が記載されている。 
「本体容器２と、この本体容器２内に配置されて、本体容器２内の空間を上下の２つの空間に区画する『窓部材』としての誘電体壁６とによって構成されたアンテナ室４と処理室５とを備え、アンテナ室４は本体容器２内における誘電体壁６の上側の空間を画定し、処理室５は本体容器２内における誘電体壁６の下側の空間を画定する誘導結合プラズマ処理装置１であって、 
　誘導結合プラズマ処理装置１は、更に、誘電体壁６の下面を覆う『カバー』としての誘電体カバー１２を備え、誘電体カバー１２は、第１の部分カバー１２Ａ、第２の部分カバー１２Ｂ、第３の部分カバー１２Ｃおよび第４の部分カバー１２Ｄの４つの部分に分割され、 
　２つの誘導体カバー（例えば、１２Ａ及び１２Ｂ）の間の境界に設けられた隙間が、誘導体カバー固定具の被固定部で埋められ、また、当該２つの誘導体カバーは、それぞれ、誘導体カバー固定具の両側の支持部の一方で下から支持され、 
　誘電体カバー１２Ａ〜Ｄの下面における外縁全体と、隣接する２つの部分カバーの下面同士の境界全体が、複数の誘電体カバー固定具によって覆われ、そのため、処理室５側から見て、誘電体カバー１２Ａ〜Ｄの外周部と支持棚７との間に生じる隙間や、隣接する２つの部分カバーの間に生じる隙間を、完全に覆うことができ、 
　誘電体カバー１２Ａ〜Ｄは、略正方形形状の上面および底面と、４つの側面とを有する板状をなし、誘電体カバー１２Ａ〜Ｄは、誘電体材料によって形成され、 
　誘電体カバー固定具は、更に、被固定部を支持梁１６に対して固定する複数の『ねじ１９Ａ１及び１９Ａ２』を備えており、
　本体容器２の外部には、更に、ガス供給装置２０が設置されており、ガス供給装置２０は、プラズマ処理に用いられる処理ガスを供給するためのものであり、プラズマ処理が行われる際には、処理ガスは、ガス供給管２１、支持梁１６内のガス流路および開口部、ならびに誘電体カバー１２の開口部を通して、処理室５内に供給され、
　また、誘電体カバー固定具が、前記誘電体カバーを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面がＴ字状の部材からなり、
　誘電体カバー固定具は、フランジ及び軸部を有する断面Ｔ字状の部材である『ねじ１９Ａ１及び１９Ａ２』によって下から取り付けられる誘導結合プラズマ処理装置１。」 
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。 
第６　対比・判断
１　本願発明１について
（１）対比 
　本願発明１と引用発明とを対比する。
　引用発明の「本体容器２と、この本体容器２内に配置されて、本体容器２内の空間を上下の２つの空間に区画する『窓部材』としての誘電体壁６とによって構成されたアンテナ室４と処理室５とを備え、アンテナ室４は本体容器２内における誘電体壁６の上側の空間を画定し、処理室５は本体容器２内における誘電体壁６の下側の空間を画定する誘導結合プラズマ処理装置１」であって、「更に、誘電体壁６の下面を覆う『カバー』としての誘電体カバー１２を備え」る「プラズマ処理装置１」が、本願発明１の「プラズマが発生する処理空間をなす処理室と、該処理室内において前記プラズマに晒される基板と対向して配置される誘電体カバーとを備えるプラズマ処理装置」に相当する。
　引用発明の「誘電体カバー１２は、第１の部分カバー１２Ａ、第２の部分カバー１２Ｂ、第３の部分カバー１２Ｃおよび第４の部分カバー１２Ｄの４つの部分に分割され」ることが、本願発明１の「前記誘電体カバーは複数の分割素片が組み合わされて構成され」ることに相当する。
　引用発明の「２つの誘導体カバー（例えば、１２Ａ及び１２Ｂ）の間の境界に設けられた隙間が、誘導体カバー固定具の被固定部で埋められ」ることが、本願発明１の「隣接する２つの前記分割素片の境目はカバープレートによって覆われ」ることに相当する。
　引用発明の「当該２つの誘導体カバーは、それぞれ、誘導体カバー固定具の両側の支持部の一方で下から支持され」ることが、本願発明１の「各前記分割素片は前記カバープレートによって下方から支持され」ることに相当する。
　引用発明の「誘電体カバー１２Ａ〜Ｄの下面における外縁全体と、隣接する２つの部分カバーの下面同士の境界全体が、複数の誘電体カバー固定具によって覆われ、そのため、処理室５側から見て、誘電体カバー１２Ａ〜Ｄの外周部と支持棚７との間に生じる隙間や、隣接する２つの部分カバーの間に生じる隙間を、完全に覆うことができ」ることが、本願発明１の「前記隣接する２つの分割素片の境目には第１の所定の幅の隙間が設けられ、前記カバープレートは、隣接する２つの前記分割素片の全境目の９０％以上を覆」うことに相当する。
　引用発明の「誘電体カバー１２Ａ〜Ｄは、略正方形形状の上面および底面と、４つの側面とを有する板状をなし、誘電体カバー１２Ａ〜Ｄは、誘電体材料によって形成され」ることが、本願発明１の「各前記分割素片は正方形、若しくは矩形の誘電体部材からな」ることに相当する。
　引用発明の「誘電体カバー固定具は、更に、被固定部を支持梁１６に対して固定する複数のねじを備えて」いることが、本願発明１の「前記カバープレートを支持するカバープレート支持具が、前記カバープレートとは別に設けられ」ることに相当する。
　引用発明の「本体容器２の外部には、更に、ガス供給装置２０が設置されており、ガス供給装置２０は、プラズマ処理に用いられる処理ガスを供給するためのものであり、プラズマ処理が行われる際には、処理ガスは、ガス供給管２１、支持梁１６内のガス流路および開口部、ならびに誘電体カバー１２の開口部を通して、処理室５内に供給され」ることが、本願発明１の「処理ガスを供給するガス供給部がさらに設けられ、前記カバープレートは、前記ガス供給部及び前記処理室の間に介在し、且つ前記ガス供給部及び前記処理室を連通するガス導入穴を有し」ていることに相当する。
　引用発明の「誘電体カバー固定具は、フランジ及び軸部を有する断面Ｔ字状の部材である『ねじ１９Ａ１及び１９Ａ２』によって下から取り付けられる」ことが、本願発明１の「前記カバープレート支持具は、前記カバープレートを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面Ｔ字状の部材からな」ることに相当する。
　引用発明の「誘電体カバー固定具が、前記誘電体カバーを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面がＴ字状の部材からな」ることが、本願発明１の「前記カバープレートは、前記処理ガス供給部に対向する部分において、前記誘電体カバーを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面がＴ字状の部材からな」ることに相当する。
　よって、本願発明１と引用発明とは、
「プラズマが発生する処理空間をなす処理室と、該処理室内において前記プラズマに晒される基板と対向して配置される誘電体カバーとを備えるプラズマ処理装置において、 
　前記誘電体カバーは複数の分割素片が組み合わされて構成され、 
　隣接する２つの前記分割素片の境目はカバープレートによって覆われ、 
　各前記分割素片は前記カバープレートによって下方から支持され、 
　前記隣接する２つの分割素片の境目には第１の所定の幅の隙間が設けられ、 
　前記カバープレートは、隣接する２つの前記分割素片の全境目の９０％以上を覆い、 
　各前記分割素片は正方形、若しくは矩形の誘電体部材からなり、 
　前記カバープレートを支持するカバープレート支持具が、前記カバープレートとは別に設けられ、
　処理ガスを供給するガス供給部がさらに設けられ、前記カバープレートは、前記ガス供給部及び前記処理室の間に介在し、且つ前記ガス供給部及び前記処理室を連通するガス導入穴を有し、
　前記カバープレート支持具は、前記カバープレートを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面Ｔ字状の部材からなり、
　前記カバープレートは、前記処理ガス供給部に対向する部分において、前記誘電体カバーを下方から支持するフランジ及び軸部を有する断面がＴ字状の部材からなるプラズマ処理装置。」 
の発明である点で一致し、一方で、 次の各相違点を有する。
（相違点）
（相違点１）
 　誘電体部材からなる分割素片の大きさについて、本願発明１においては「一辺は少なくとも５００ｍｍ以上」であるのに対して、引用発明においては、４つに分割された誘電体カバーの１枚当たりの大きさについては特定がない点。 
（相違点２）
　「第１の所定の幅（隣接する２つの分割素片の境目の隙間の幅）」について、本願発明１においては、「各前記分割素片が熱膨張しても前記隣接する２つの分割素片が当接することがない程度の大きさ」であるのに対して、引用発明（の「２つの誘導体カバー（例えば、１２Ａ及び１２Ｂ）の間の境界に設けられた隙間」）については、大きさについての特定がない点。
（相違点３）
　本願発明１においては、「前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片の間には第２の所定の幅の隙間が設けられ」、「前記第２の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさ」であると特定されているのに対して、引用発明においては、「ねじ１９Ａ１及び１９Ａ２」（本願発明１の「カバープレート支持具」に相当）と「誘電体カバー１２」（本願発明１の「分割素片」に相当）との間に隙間を設けることは特定されていない点。
（相違点４）
　本願発明１においては、「前記カバープレートの軸部及び各前記分割素片の間には第３の所定の幅の隙間が設けられ」、「前記第３の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレートの軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさである」と特定されているのに対して、引用発明においては、「誘電体カバー固定具」（本願発明１の「カバープレート」に相当）の軸部と「誘電体カバー１２」（本願発明１の「分割素片」に相当）との間に隙間を設けることは特定されていない点。
（２）相違点についての判断 
　上記の相違点３について検討すると、「カバープレート支持具の軸部」と「分割素片」の間に「所定の幅の隙間」を設けることについては、原査定で提示された引用文献Ａにも記載されておらず、また、それを開示する公知文献を発見することができない。ましてや、当該「所定の幅の隙間」を「各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさ」とすることについては、上記の引用文献Ａを含む公知文献から、想定し得るものではない。
　すなわち、上記相違点３に係る構成を得ることは当業者が容易に想到し得たことではない。 
  
（３）まとめ 
　以上のとおり、本願発明１は、相違点１，２，４について検討するまでもなく、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるということができない。 
 　 
３　本願発明２〜３について 
　本願発明２〜３は、本願発明１をさらに限定した発明であり、上記の相違点３に係る「前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片の間には第２の所定の幅の隙間が設けられ」、「前記第２の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさ」であるという特定事項を備える発明であるから、本願発明１と同様に、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるということができない。 
第７　原査定についての判断
　平成２９年６月１日付けで手続補正書が提出されたことにより、請求項１〜３は上記「第６」の相違点３に係る「前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片の間には第２の所定の幅の隙間が設けられ」、「前記第２の所定の幅は、各前記分割素片が熱膨張しても前記カバープレート支持具の軸部及び各前記分割素片が当接することがない程度の大きさ」であるという特定事項を備えるものとなっており、上記「第６」のとおり、引用発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるということはできない。したがって、原査定を維持することはできない。
第８　当審拒絶理由１の理由（１）及び当審拒絶理由２について
　平成２９年６月１日付けで手続補正書が提出された結果、これらの拒絶理由は、いずれも解消した。
第９　むすび
　以上のとおりであり、原査定の拒絶理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に、本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。