【事件の表示】
　特願２０１１−２６３５６２「基板洗浄装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　６月１３日出願公開、特開２０１３−１１８２０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２３年１２月１日の出願であって、その手続の経緯は以下のとおりである。
　平成２６年　９月２０日　　審査請求
　平成２７年　９月３０日　　拒絶理由通知（起案日）
　平成２７年１１月　４日　　意見書及び手続補正書の提出
　平成２８年　５月２０日　　拒絶査定（起案日）
　平成２８年　６月１６日　　審判請求、手続補正書の提出
　
　
第２　補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２８年６月１６日に提出された手続補正書によりなされた手続補正を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
（１）本件補正の概要
　平成２８年６月１６日に提出された手続補正書による補正（以下「本件補正」という。）は、本願の特許請求の範囲を補正するものであって、その概要は、補正前の請求項８〜１４を削除するとともに、請求項１を補正するものである。
　そして、補正前後の請求項１の記載は以下のとおりである。
＜本件補正前＞
「【請求項１】
　基板を所定方向に搬送する搬送部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の表面を洗浄可能なブラシ部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、
　前記ブラシ部は、前記基板に対する押し込み量が調整可能なブラシ毛を有するとともに、前記基板の厚み方向に移動可能なブラシローラーを含み、
　前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする基板洗浄装置。」
＜本件補正後＞
「【請求項１】
　基板を所定方向に搬送する搬送部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の表面を洗浄可能なブラシ部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、
　前記ブラシ部は、前記基板に対する押し込み量が調整可能なブラシ毛を有するとともに、前記基板の厚み方向に移動可能なブラシローラーを含み、
　前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含み、
　前記ブラシ部と前記超音波発振部とは、それぞれ異なる収容室に収容されていることを特徴とする基板洗浄装置。」
（２）補正事項
　本件補正の補正事項は、以下のとおりである。
　ア　補正事項１
　補正前の請求項８〜１４を削除する。
　イ　補正事項２
　請求項１に「前記ブラシ部と前記超音波発振部とは、それぞれ異なる収容室に収容されている」という発明特定事項を追加する。
２　新規事項の追加の有無、及び、補正の目的等について
（１）補正事項１について
　補正事項１の本件補正は、特許法第１７条の２第５項第１号に掲げる請求項の削除を目的とすると認められる。
　そして、補正事項１の本件補正が、特許法第１７条の２第３項の規定に適合することは明らかである。
（２）補正事項２について
　ア　補正事項２は、本願明細書の段落【００３９】の「本実施形態では、ブラシ部１３０と超音波洗浄部１４０のそれぞれに収容室１３１、１４１を設けた構成について説明したが、ブラシ部１３０及び超音波洗浄部１４０間において収容室１３１、１４１を共通化しても構わない。」という記載、及び、図１に基づくと認められる。
　したがって、補正事項２の本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　イ　そして、補正事項２は、本件補正前の請求項１における「ブラシ部」と「超音波発振部」が、「それぞれ異なる収容室に収容されている」ことを限定するものである。
　したがって、補正事項２の本件補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とすると認められる。
　ウ　また、補正事項２の補正が請求項１に係る発明の特別な技術的特徴を変更しないことは、明らかである。
（１０）検討のまとめ
　以上検討したとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第３項ないし第５項に規定する要件を満たす。
　
３　独立特許要件について
（１）検討の前提
　以上のとおり、補正事項２の本件補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的としている。
　そこで、本件補正による補正後の特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、本件補正が、いわゆる独立特許要件を満たすものであるか否かを、請求項１に係る発明について検討する。
　
（２）補正発明
　本件補正後の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）は、本件補正により補正された特許請求の範囲の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるとおりのものであり、再掲すると次のとおりである。
「基板を所定方向に搬送する搬送部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の表面を洗浄可能なブラシ部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、
　前記ブラシ部は、前記基板に対する押し込み量が調整可能なブラシ毛を有するとともに、前記基板の厚み方向に移動可能なブラシローラーを含み、
　前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含み、
　前記ブラシ部と前記超音波発振部とは、それぞれ異なる収容室に収容されていることを特徴とする基板洗浄装置。」
　
（３）引用例の記載事項及び引用発明
　ア　引用例の記載事項
　原査定の根拠となった拒絶理由通知において「引用文献１」として引用され、本願の出願前に日本国内において頒布された刊行物である、特開２００６−１９８５２５号公報（以下「引用例」という。）には、「基板洗浄装置」（発明の名称）について、次の事項が記載されている（下線は当審で付加。）。
　（ア）技術分野と解決しようとする課題
・「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、基板を洗浄する基板洗浄装置に係る。特に、基板に付着した不純物を音波振動で除去する構造に特徴のある基板洗浄装置に関する。
　……（中略）……
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
　本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、ますます大型化する液晶用ガラス基板に代表されるガラス基板等の基板を洗浄する新たな基板洗浄装置を提供しようとする。」
　（イ）基板洗浄装置の構成
・「【００２０】
　以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。
【００２１】
　図１は、本発明の実施形態に係る基板洗浄ラインの全体図である。図２は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置の側面断面図である。図３は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置のライン系統図である。図４は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置の正面図である。図５は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置の平面図である。図６は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置の作用図である。
【００２２】
　基板洗浄装置１０４は、基板を洗浄する装置である。
　最初に、基板洗浄装置１０４を組み込まれた基板洗浄ライン１００の一例を説明する。
　
基板洗浄ライン１００は、全体受け槽１０１とブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とで構成される
　ブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とが、搬送方向に順に並ぶ。
　
基板１０が、全体受け槽１０１の上方を搬送方向に搬送される
　
基板１０は、ブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とを順にくぐり、洗浄される
　
ブラシ洗浄装置１０２は、ブラシにより基板の表面を洗浄する装置である
　超音波シャワー装置１０３は、ＭＨｚレベルの超音波を乗せた洗浄水で基板の表面を洗浄する装置である。
　純水シャワー装置１０５は、純水を基板の表面にかけて、基板の表面を洗浄する装置である。
【００２３】
　
基板洗浄装置１０４は、基板支持装置３０と貯留槽４０と超音波発振装置５０と下部液体供給装置６０と上部液体供給装置７０とで構成される
【００２４】
　
基板支持装置３０は、基板１０を一方の表面１１を上方に向けた姿勢を維持して支持し所定の搬送方向に搬送する装置である
　例えば、基板支持装置３０は、搬送ローラ３１と案内ローラ３２と駆動機構（図示せず）で構成される。
　搬送ローラ３１は、水平にした回転軸をもち、円周の上部の位置を所定の水平位置に揃えた複数の円盤状部材である。搬送ローラ３１は、駆動機構（図示せず）により回転する。基板１０の他方の表面１２が、搬送ローラの上部に接する。
　案内ローラ３２は、垂直にした回転軸をもち、搬送方向の直交する向きに所定の間隔を隔てて搬送方向に並んだ複数の円盤状部材である。所定の間隔は、基板１０の幅寸法に一致している。案内ローラ３２の円周部が、基板１０の幅方向の側面に接する。
　
駆動機構が搬送ローラ３１を回転させると、基板１０の側部が案内ローラ３２に案内され、基板１０が搬送方向に移動する
【００２５】
　
貯留槽４０は、第１液体２１を基板１０の他方の表面１２に接する状態で貯留可能な槽であり、平板４１と側板４２と間隙部材４５とで構成される
　
平板４１は、基板１０の下方に位置し
平面４３を形成する部材
　例えば、平板４１は、搬送方向に交差する方向に長い四辺形の一定の厚みの金属製または樹脂製の板材である。
　複数のスタッドボルト４６が、平板４１の下面の所定の位置に溶接されている。
　例えば、複数のスタッドボルトが後述する振動子５１の上部直径の数値よりも僅かに大きなピッチ距離で千鳥状に配置される。
【００２６】
　
側板４２は、平面４３と基板１０の他方の表面１２との間に液体を貯留可能な液体貯留空間Ｈを囲う側面４４を形成し、上端部と他方の表面１２との間に互いに接触させない様に僅かの寸法をもった隙間Ｇを設けられた部材である
　例えば、僅かの寸法は、１〜２ｍｍである。
　間隔Ｇは、側板４２の上端部と搬送ローラ３１の円周の上部との垂直距離に一致する。
　液体貯留空間Ｈは、上下方向に沿って伸びた一定の断面形状を持った空間であってもより。
　例えば、側板４２は、断面がＬ字状の金属製または樹脂製の長手部材である。Ｌ字状の上部の壁面が側面４４を形成する。Ｌ字状の下部は取付のためのフランジを形成する。
　液体貯留空間Ｈは、搬送方向に交差する方向に伸びて基板１０の両方の縁をはみ出た細長い形状をもっていてもよい。
　例えば、側板４２が前部側板４２ａと後部側板４２ｂと右側板４２ｃと左側板４２ｄとで構成される。
　前部側板４２ａと後部側板４２ｂとが、搬送方向に側面４４を向けて対面するＬ字状の長手部材である。
　右側板４２ｃと左側板４２ｄとが、搬送方向に交差する方向に側面４４を向けて対面するＬ字状の長手部材である。
　前部側板４２ａと後部側板４２ｂと右側板４２ｃと左側板４２ｄとが、互いの端部を繋いで液体貯留空間Ｈを囲う。
　右側板４２ｃの上端部が基板の他方の表面の位置よりも高く、左側板４２ｄの上端部が基板の他方の表面の位置よりも高くてもよい。
【００２７】
　
間隙部材４５は、側板４２と平板４１とが接触しない様に、側板４２の下端部と平板４２の周囲との間に挟まれた弾性素材製の部材であり
　例えば、間隙部材４５は、所定の厚みを持った樹脂製の板材である。例えば、間隙部材４５は、５ｍｍの厚みをもったゴム板である。
　ゴム板が、平板４１の周囲とＬ字状の側板４２の下部に挟まれる。
【００２８】
　
超音波発振装置５０は、平面４３から上方に向けて超音波を発振する装置である
　例えば、超音波発振装置５０は、振動子５１と振動子覆い構造５２と支持構造体５３と弾性体５４とで構成される。
　
振動子５１は、平板４１の下面に固定される
　雌ねじがヘッドに設けられる。雌ねじが、平板４１のスタッドボルト４６にねじ込まれる。
　例えば、端子に所定の周波数をもった交番電圧を印加すると、ヘッドと平板とが所定の周波数で振動する。
【００２９】
　振動子覆い構造５２は、振動子５１を覆う気体層を囲って平板４１の縁を支持する構造体である。
　例えば、振動子覆い構造５２は、複数の振動子５１の周囲を囲うように設けられた薄板と下部を覆う薄板でできた構造である。
　周囲を囲うように設けられた薄板は、上から見て、貯留槽４０の側板４２の輪郭形状と同寸法の輪郭形状をもっていてもよい。」
　（ウ）基板洗浄装置の作用
・「【００３９】
　次に、
本発明の実施形態に係る基板洗浄装置１０４の作用を、図を基に、説明する
　図６は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置の作用図であり、
基板１０が基板洗浄装置１０４を通過する状態
　
下部液体供給装置６０が、貯留槽４０の液体貯留空間Ｈに第１液体２１を供給する
　第１液体２１が、液体貯留空間Ｈに溜まり、側板４２の上端部から搬送方向に沿って前後方向に溢れ出る。
　基板１０が、基板支持装置３０に支持されて搬送方向に移動する。
　基板１０は、側部を案内ローラ３２に案内されて、搬送ローラ３１により搬送方向に移動する。
　
基板１０の他方の表面１２が、貯留槽４０の上に位置する
　
液体貯留空間Ｈに溜まった第１液体２１が、基板１０の他方の表面１２に接触し、他方の表面１２と側板４２の上端部との隙間Ｇから溢れ出る
下部液体供給装置６０が、第１液体を液体貯留空間Ｈに連続的に供給するので、雰囲気の気体が液体貯留空間Ｈに混入することなく、液体貯留空間Ｈは第１液体２１で充満される。
【００４０】
　振動子５１の端子に所定の周波数の交番電圧を印加する。
　
振動子５１が所定の周波数で振動して
　所定の周波数の音波が
液体貯留空間Ｈに放射され、第１液体２１を媒体として基板１０を所定の周波数で揺する
　
基板１０の一方の表面１１と他方の表面１２に付着した異物が除去される
　所定の周波数が５ＫＨｚ以上で５００ＫＨｚ以下であってもよい。
　この様な周波数であると、第一液体２１に溶存した気体が気泡になりにくい。従って、第一液体２１を媒体とする超音波の減衰が少なく、平板から基板に効率良く伝搬する。
　所定の周波数が２０ＫＨｚであってもよい。
　この様な周波数であると、特に第一液体２１に溶存した気体が気泡になりにくい。従って、特に第一液体２１を媒体とする超音波の減衰が少なく、平板から基板に効率良く伝搬する。
　この周波数に対応する第１液体の中での波長λの１／４の整数倍が前記距離Ｄに略一致する様にしてもよい。
　式に表すと、以下の様になる。
　　Ｄ＝１／４λ×ｎ
　この様にすると、基板１０の一方の表面１１で振動の振幅が大きくなり、一方の表面１１に付着した異物の除去が容易になる。
　また、超音波の周波数が５ＫＨｚ以上で５００ＫＨｚ以下であり、この周波数に対応する第１液体の中での波長λの１／４と波長λの１／２の整数倍の和が前記距離Ｄに略一致する様にしてもよい。
　式に表すと、以下の様になる。
　　Ｄ＝１／４λ＋１／４λ×ｎ
　この様にすると、基板１０の一方の表面１１で特に振動の振幅が大きくなり、一方の表面１１に付着した異物の除去がさらに容易になる。
【００４１】
　上部液体供給装置７０が、基板１０の一方の表面１１に第２液体２２を供給する。
　基板１０の一方の表面１１から浮いた異物が第２液体２２に流される。
　第２液体２２が、２液体供給ノズル７２から基板の１０の一方の表面１１に流される。第２液体２２が、前部吹き付けノズル７１ｆと後部吹き付けノズル７１ｒとの吹き付ける気体２３に押されて、基板１０の一方の表面１１の上に所定の厚みで溜まり、搬送方向に移動する。
　第２液体２２は、前部吹き付けノズル７１ｆの吹き付ける気体２３に案内されて、基板１０の縁へ移動する。第２液体２２は、基板１０の一方の表面１１から落ちて、全体受け槽１０１へ受けられる。」
　（エ）基板洗浄ラインについて
　基板洗浄ライン１００の全体図である図１には、ブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とが、この順で、全体受け槽１０１上に配置されていることが記載されている。
　また、同図には、基板１０が、ローラー上に載置されて、矢印で示される、ブラシ洗浄装置１０２から純水シャワー装置１０５へ向かう方向に搬送されることが記載されている。
　イ　引用発明
　上記の（ア）〜（エ）から、引用例には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「全体受け槽１０１とブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とで構成され、前記全体受け槽１０１の上方を搬送方向に搬送される基板１０が、前記ブラシ洗浄装置１０２と前記超音波シャワー装置１０３と前記基板洗浄装置１０４と前記純水シャワー装置１０５とを順にくぐり、洗浄される基板洗浄ライン１００であって、
　前記ブラシ洗浄装置１０２は、ブラシにより基板の表面を洗浄する装置であり、
　前記基板洗浄装置１０４は、基板支持装置３０と貯留槽４０と超音波発振装置５０と下部液体供給装置６０と上部液体供給装置７０とで構成され、
　　前記基板支持装置３０は、前記基板１０を一方の表面１１を上方に向けた姿勢を維持して支持し前記搬送方向に搬送する装置であり、
　　前記貯留槽４０は、第１液体２１を前記基板１０の他方の表面１２に接する状態で貯留可能な槽であり、前記基板１０の下方に位置して平面４３を形成する平板４１と、前記平面４３と前記基板１０の前記他方の表面１２との間に液体を貯留可能な液体貯留空間Ｈを囲う側面４４を形成し、上端部と前記他方の表面１２との間に互いに接触させない様に僅かの寸法をもった隙間Ｇが設けられた部材である側板４２と、前記側板４２と前記平板４１とが接触しない様に間に挟まれた弾性素材製の間隙部材４５とで構成され、
　　前記超音波発振装置５０は、前記平板４１の下面に固定される振動子５１により前記平面４３から上方に向けて超音波を発振する装置であり、
　前記基板洗浄装置１０４は、前記基板１０が前記基板洗浄装置１０４を通過する際に、前記下部液体供給装置６０により前記貯留槽４０に供給されて前記液体貯留空間Ｈに溜まった前記第１液体２１が、前記基板１０の前記他方の表面１２に接触し、前記他方の表面１２と前記側板４２の上端部との隙間Ｇから溢れ出る状態で、前記振動子５１が所定の周波数で振動して、前記液体貯留空間Ｈの前記第１液体２１を媒体として前記基板１０を所定の周波数で揺することで、前記基板１０の前記一方の表面１１と前記他方の表面１２に付着した異物が除去されるように作用することを特徴とする基板洗浄ライン１００。」
（４）対比
　ア　補正発明と引用発明との対比
　補正発明と引用発明とを対比する。
　（ア）引用発明においては、「前記全体受け槽１０１の上方を搬送方向に搬送される基板１０が、前記ブラシ洗浄装置１０２と前記超音波シャワー装置１０３と前記基板洗浄装置１０４と前記純水シャワー装置１０５とを順にくぐ」るのであるから、「基板洗浄ライン１００」が有する「基板洗浄装置１０４」における「基板支持装置３０」と同様の「前記基板１０を一方の表面１１を上方に向けた姿勢を維持して支持し前記搬送方向に搬送する装置」が、少なくとも「前記ブラシ洗浄装置１０２」から「前記純水シャワー装置１０５」にかけて設けられていることは、明らかである。
　そして、引用発明の少なくとも「前記ブラシ洗浄装置１０２」から「前記純水シャワー装置１０５」にかけて設けられている前記「前記基板１０を一方の表面１１を上方に向けた姿勢を維持して支持し前記搬送方向に搬送する装置」は、補正発明の「基板を所定方向に搬送する搬送部」に相当する。
　（イ）引用発明において、「ブラシ洗浄装置１０２」は、「基板１０」が「搬送方向に搬送される」際にくぐる装置である。
　ここで、引用例において、「ブラシ」により「洗浄」される「基板の表面」は、前記「上方に向け」られた「一方の表面１１」であるか、「他方の表面１２」であるか、その両方であるか、特定されていない。
　したがって、引用発明の「ブラシにより基板の表面を洗浄する装置」である「ブラシ洗浄装置１０２」と、補正発明の「前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の表面を洗浄可能なブラシ部」とは、「前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板」の「面を洗浄可能なブラシ部」である点で共通する。
　（ウ）引用発明の「前記超音波発振装置５０は、前記平板４１の下面に固定される振動子５１により前記平面４３から上方に向けて超音波を発振する装置」である。そして、前記「上方」に向けて発振された「超音波」は、「一方の表面１１を上方に向けた姿勢を維持」して「前記搬送方向に搬送」される「前記基板１０」の裏面である「他方の表面１２」に照射される。
　したがって、「前記超音波発振装置５０」を有することで「前記基板１０の前記一方の表面１１と前記他方の表面１２に付着した異物が除去されるように作用する」ことができる引用発明の「前記基板洗浄装置１０４」は、補正発明の「前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部」に相当する。
　（エ）引用発明において、「前記基板１０が前記基板洗浄装置１０４を通過する際に、前記下部液体供給装置６０により前記貯留槽４０に供給されて前記液体貯留空間Ｈに溜まった前記第１液体２１が、前記基板１０の前記他方の表面１２に接触」する。
　したがって、引用発明の「前記基板洗浄装置１０４」を構成する「前記下部液体供給装置６０」及び「前記貯留槽４０」と、補正発明の「前記超音波発振部」が含む「前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部」とは、「前記超音波発振部」が含む「前記基板の裏面に対して液体」を「接触させる液体供給部」である点で共通する。
　また、引用発明の「前記超音波発振装置５０」が「上方」に向けて発振した「超音波」は、「前記液体貯留空間Ｈの前記第１液体２１を媒体として前記基板１０を所定の周波数で揺する」。
　したがって、引用発明の「前記基板洗浄装置１０４」を構成する「前記超音波発振装置５０」は、補正発明の「前記超音波発振部」が含む「前記液体に超音波振動を付与する振動子」に相当する。
　（オ）以上から、引用発明の「基板洗浄ライン１００」は、、以下に挙げる相違点を除き、補正発明の「基板洗浄装置」に相当する。
　イ　一致点と相違点
　以上を総合すると、補正発明と引用発明とは、以下の点で一致するとともに、以下の点で相違している。
（一致点）
「基板を所定方向に搬送する搬送部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の面を洗浄可能なブラシ部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、
　前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする基板洗浄装置。」
　
（相違点）
　（相違点１）
　補正発明の「ブラシ部」は「基板の表面を洗浄可能」であるのに対して、引用発明の「ブラシ洗浄装置１０２」が洗浄する「基板の表面」は、「一方の表面１１」であるか、「他方の表面１２」であるか、あるいは、その両方であるか、特定されていない点。
　（相違点２）
　補正発明の「前記ブラシ部は、前記基板に対する押し込み量が調整可能なブラシ毛を有するとともに、前記基板の厚み方向に移動可能なブラシローラー」を含むのに対して、引用発明は、そのような特定を有していない点。
　（相違点３）
　補正発明の「液体供給部」は「表面張力により」基板の裏面に対して液体を接触させるのに対して、引用発明の「貯留槽４０」は「前記液体貯留空間Ｈに溜まった前記第１液体２１」を、「前記他方の表面１２と前記側板４２の上端部との隙間Ｇから溢れ出る状態」で「前記基板１０の前記他方の表面１２に接触」させる点。
　（相違点４）
　補正発明において、「前記ブラシ部と前記超音波発振部とは、それぞれ異なる収容室に収容されている」のに対して、引用発明は、そのような特定を有していない点。
（５）各相違点についての当審の判断
　ア　相違点１について
　（ア）引用発明において、「搬送方向に搬送される基板１０」は「前記ブラシ洗浄装置１０２」を「くぐり、洗浄される」。すなわち、前記「基板１０」は「前記ブラシ洗浄装置１０２」の中を「搬送」されると認められる。
　（イ）ここで、上下一対の回転ブラシにより基板の表面とともに裏面をブラシ洗浄することは、たとえば以下に挙げる周知例１及び周知例２に記載されるように、ブラシによる基板洗浄技術においては普通に行われる周知技術（以下「周知技術１」という。）である。
　（ウ）そうすると、第２の３（３）ア（イ）で摘記した、引用例の「基板１０は、ブラシ洗浄装置１０２……を順にくぐり、洗浄される。」（段落【００２２】）という記載に接した当業者にとって、引用発明の「ブラシ洗浄装置１０２」に、「ブラシ」により「洗浄」する「基板の表面」として、少なくとも「一方の表面１１」を「洗浄」させることで、相違点１に係る構成とすることは、普通になし得たものと認められる。
　（エ）平成２８年５月２０日付けの拒絶査定において「引用文献４」として例示した刊行物であり、本願の出願前に日本国内において頒布された特開２０００−３０６８７９号公報（以下「周知例１」という。）には、「基板洗浄装置」（発明の名称）について、次の事項が記載されている。
ａ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基板洗浄装置に関し、さらに詳細には、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板等の薄板状の基板を回転ブラシを用いて洗浄する方式の基板洗浄装置に関する。」
ｂ　「【０００２】
【従来の技術】この種の回転ブラシを用いた基板洗浄装置は、続いて行われる清浄雰囲気での精密洗浄工程に投入される前の、いわゆる投入前洗浄工程において使用される装置で、その一般的構成が図１０に示されている。
　……（中略）……
【０００６】
回転ブラシ装置ｅは、上下一対の回転ブラシｇ，ｇからなり
洗浄すべき基板ｂの厚さ寸法に応じて、その表面に所定の圧力をもって回転接触する
ｃ　「【００５２】
回転ブラシ装置４は、基板Ｗの表面をブラッシング洗浄するもので
上下一対の回転ブラシ６０，６１
を主要部として備えてなる
　（オ）平成２８年５月２０日付けの拒絶査定において「引用文献５」として例示した刊行物であり、本願の出願前に日本国内において頒布された特開２００５−１０３４５０号公報（以下「周知例２」という。）には、「表面処理装置、および、液晶表示装置の製造方法」（発明の名称）について、次の事項が記載されている。
ａ　「【０００１】
　本発明は、基板を含む製品の製造技術に係り、特に、回転体で基板の表面処理する表面処理技術に関する。」
ｂ　「【００１４】
　図１及び図２に示すように、
本実施形態に係る洗浄装置は、調整用基板３０をＸ方向に搬送する基板搬送機構、調整用基板３０を通過させるための間隔を開けて配置された上下１対のロール状洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂ
各洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂを回転
を有している
　イ　相違点２について
　（ア）ブラシによる基板洗浄技術において、回転ブラシの回転軸を基板の厚み方向に対して移動可能に軸支するとともに、前記回転ブラシの前記基板に対する押し込み量を調整可能とすることで、製品価値に直接影響する基板の表面を最適な洗浄効果をもって洗浄することは、周知例１及び周知例２に記載されるように、周知技術（以下「周知技術２」という。）である。
　そして、基板を最適な洗浄効果をもって洗浄することは、引用発明においても求められる技術課題であると認められる。
　したがって、引用発明の「ブラシ」を回転ブラシとし、その回転軸を基板の厚み方向に対して移動可能に軸支するとともに、前記回転ブラシの前記基板に対する押し込み量を調整可能とすることは、周知技術２を参酌すれば、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　（イ）周知例１には、第２の３（５）ア（エ）で摘記した事項に加え、以下の事項が記載されている。
ａ　「【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近時の基板ｂの種類の豊富化に伴い、基板ｂの厚みもかつての単一規格ではなく目的に応じて種々の寸法のものが採用されるに至っている。
【０００９】したがって、これら基板ｂを洗浄する上記従来の洗浄装置においても、これに対応した調整機構を設ける必要がある。特に、基板ｂの表裏面に直接回転接触する上下一対の回転ブラシｇ，ｇにあっては、その間隔寸法は、基板ｂの製品価値に直接影響することから精密に調節される必要がある。
【００１０】この目的のため、従来の洗浄装置においては、回転ブラシｇとその駆動部ｈを一体で上下方向へ移動可能な構造とするとともに、この移動調整は、人手による手動や、駆動モータやシリンダによる自動で行われていた。」
ｂ　「【００７１】これにより、
回転ブラシ６０の回転支軸６６は、偏心支持部１０２を介して、回転支持部１０１に対し回転可能でかつ上下方向へカム移動可能に軸支される
偏心支持部１０２の偏心ハウジクング１０２ａの回転角度位置に対応して、回転支持６６に軸支された回転ブラシ６０の上下方向位置が設定調整される
ｃ　「【００７６】そして、上記調整用駆動モータ１１０の回転駆動により、伝達機構１１１を介して、各上側回転ブラシ６０，６０，…の偏心ハウジング１０２ａ、１０２ａ、…がそれぞれ連動してかつ同期して回転調整されると、図６に示すように、
各対の上側回転ブラシ６０の回転支軸６６は、上記偏心ハウジクング１０２ａの回転角度位置に対応して上下方向位置（偏心ハウジクング１０２ａの円筒内外径面１０５，１０６の上下方向の偏心量の範囲内（最大上昇位置ｈ
ｍａｘ
 ，最大下降位置ｈ
ｍｉｎ
 ））が調整される
【００７７】この結果、
上側回転ブラシ６０の下側回転ブラシ６１に対する上下方向位置つまり上下両回転ブラシ６０，６１の間隔寸法Ｈが、洗浄すべき基板Ｗの厚さ寸法に対応して調整される
上下両回転ブラシ６０，６１が基板Ｗの表裏面に所定の圧力をもって回転接触可能となる
　（ウ）周知例２には、第２の３（５）ア（オ）で摘記した事項に加え、以下の事項が記載されている。
ａ　「図１２に、洗浄ブラシ１０Ａの位置補正処理のフローチャートを示す。
【００２４】
　図３の調整用基板３０を、導体パターン３１Ａ１〜３１Ａ３の形成面を上側に向けた状態で基板搬送機構６０にセットし、洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂの手前まで調整用基板３０を搬送させる。このとき、
洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂは、基板搬送機構６０のローラ６１上の調整用基板３０に接触しない適当な高さの位置に配置されている
【００２５】
　その後、調整用基板３０の各導体パターン３１Ａ１〜３１Ａ３に、接触検知部４０の電位測定器４１Ａ１〜４１Ａ３を１台ずつ接続する(Ｓ１００)。電位測定器４１Ａ１〜４１Ａ３の接続完了後、洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂの回転を開始してから調整用基板３０の前進を再開させ、図１及び図２に示したように、回転中の洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂ間に導体パターン３１Ａ１〜３１Ａ３が位置付けられた位置で調整用基板３０を停止させる(Ｓ１０１)。そして、
洗浄ブラシ１０Ａの調整用送りネジ５１Ａ１,５１Ａ２をそれぞれ調整することによって、洗浄ブラシ１０Ａを調整用基板３０に徐々に近づけてゆく(Ｓ１０２)
ｃ　「(３)洗浄ブラシ１０Ｂの位置補正
　
洗浄ブラシ１０Ａの位置補正が終了したら
洗浄ブラシ１０Ｂの姿勢が補正される
【００３４】
　このような、
洗浄ブラシ１０Ａ,１０Ｂの位置補正処理
位置補正後の洗浄ブラシ位置から、予め定められた押し込み量に相当する距離、洗浄ブラシを洗浄対象基板に移動させる
洗浄対象基板に対する洗浄ブラシの押し込み量のばらつきも抑制することができる。したがって、洗浄対象基板の被洗浄面内における洗浄効果のばらつきが抑制されるから、洗浄対象基板の被洗浄面をむらなく良好に洗浄することができる
　ウ　相違点３について
　（ア）引用発明においては、「前記基板１０が前記基板洗浄装置１０４を通過する際」、「第１液体２１」が「前記他方の表面１２と前記側板４２の上端部との隙間Ｇから溢れ出る」ことで「前記基板１０の前記他方の表面１２に接触」していると認められる。
　しかし、「前記他方の表面１２と前記側板４２の上端部との隙間Ｇ」は、第２の３（３）ア（イ）で摘記したように、「１〜２ｍｍ」という「僅かの寸法」（段落【００２６】）の「隙間」であることから、「溢れ出」ようとする「第１液体２１」が、表面張力により前記「上端部」を超えて略半球状に盛り上がることによって、当該「僅かの寸法」で隔てられた「基板１０」の「前記他方の表面１２」に「接触」していることも、技術常識を参酌すれば明らかである。
　（イ）これに対して、本願明細書には、段落【００４５】に「第１液体収容容器６５ａ及び第２液体収容容器６５ｂは、＋Ｚ方向側に突出した凸部６６を有し、凸部６６に形成された開口６６ａを介して洗浄液ＳＷが基板Ｓの裏面Ｓ２に表面張力により接触可能な位置に配置されている。」と、段落【００４６】に「具体的に第１液体収容容器６５ａ及び第２液体収容容器６５ｂは＋Ｚ方向における上端部（凸部６７）と基板Ｓの裏面Ｓ２との距離が３ｍｍ程度となるように配置される。」と記載されているとともに、段落【００５１】には「基板Ｓの裏面Ｓ２には、第２液体収容容器６５ｂから溢れ出した洗浄液ＳＷ及び第１液体収容容器６５ａから溢れ出した洗浄液ＳＷが順に接触し」と記載されている。
　すなわち、本願明細書には、補正発明の「基板の裏面に対して液体」を「接触させる」ための具体的な実施例として、「洗浄液ＳＷが基板Ｓの裏面Ｓ２に表面張力により接触可能な位置」として、「上端部」と「基板Ｓの裏面Ｓ２との距離が３ｍｍ程度」であるように前記「上端部」を配置するとともに、「基板Ｓの裏面Ｓ２」には「液体収容容器」から「溢れ出した」洗浄液ＳＷが「接触」することが記載されている。
　（ウ）そうすると、引用例に記載された引用発明の「前記第１液体２１が、前記基板１０の前記他方の表面１２に接触」する具体的な態様は、本願明細書に、補正発明の「基板の裏面に対して液体」を「接触させる」ための実施例として記載された態様と相違しない。
　（エ）したがって、引用発明においても、「基板１０の前記他方の表面１２」に対して「第１液体２１」は表面張力により接触しているといい得ると認められ、相違点３は実質的な相違点ではない。
　エ　相違点４について
　（ア）基板に対し、少なくとも回転ブラシによるブラシ洗浄と超音波洗浄とを行う基板洗浄装置において、ブラシ洗浄部と超音波洗浄部を独立した槽内に収容し、各洗浄部における洗浄に使用した洗浄液の受け機構も含めて、それぞれの部で独立して洗浄を行わせて、前記基板洗浄装置に、より良好な洗浄を行わせることは、以下に挙げる周知例３ないし周知例５に記載されるように、基板洗浄技術において周知技術（以下「周知技術３」という。）である。
　（イ）そして、「基板洗浄ライン１００」に、より良好な洗浄を行わせることは、引用発明においても求められる技術課題であると認められる。
　したがって、「全体受け槽１０１」を共通に持つ引用発明の「ブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とで構成され」る「基板洗浄ライン１００」において、少なくとも前記「ブラシ洗浄装置１０２」と「基板洗浄装置１０４」の各「装置」を、当該各「装置」での洗浄に使用した洗浄液の受け機構も含め独立した槽内に収容することで、それぞれの洗浄環境を独立させて、より良好な洗浄を行わせることは、周知技術３を参酌すれば、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　（ウ）本願の出願前に日本国内において頒布された特開平８−３１８２３７号公報（以下「周知例３」という。）には、「基板の洗浄装置」（発明の名称）について、次の事項が記載されている。
ａ　「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板の洗浄装置に係り、特に半導体製造工程で使用されるレチクルやフォトマスク（以下、レチクルと称する。）などのガラス基板の表面に付着した異物を実質的にゼロレベルにまで洗浄する洗浄装置に関するものである。」
ｂ　「【００１７】次にブラシスクラブ槽１０６の構造について簡単に説明する。
ブラシスクラブ槽１０６の内部には、上から順番に、レチクルＲに純水を噴射する純水噴出部１０６ａと、界面活性剤等の洗浄液を噴射してレチクルＲの被洗浄面を洗浄液で浸潤させる洗浄液噴出部１０６ｂと、レチクルＲの被洗浄面を擦るように回転するブラシ（接触部材）１０６ｃとが、飛散防止板１０６ｄ、１０６ｅによって区画されて配置されている
ブラシスクラブ槽１０６の底部１０６ｆは錐体状になっており、排液の回収効率を高めてある
【００１８】上記のような
ブラシクラブ槽１０６に隣接して水洗槽１０８が設置されている
水洗槽１０８は、レチクルＲの全体洗浄と局所洗浄を同時に行うことが可能なものであり、上から順番に、局所洗浄器１０８ａ、ライン洗浄器１０８ｂが配置されている
この水洗槽１０８の底部１０８ｄもブラシスクラブ槽１０６と同様に錐体状になっており、排液の回収効率を高めてある
【００１９】
ライン洗浄器１０８ｂは、図２に示すように、レチクルの被洗浄面を略水平方向（Ｘ方向）に横切るようにライン状の超音波水流を噴射することが可能なように構成されている
　（エ）本願の出願前に日本国内において頒布された特開平１−１４０７２７号公報（以下「周知例４」という。）には、「基板洗浄方法」（発明の名称）について、次の事項が記載されている。
ａ　「本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、粒径が２μｍ未満の粒子をも効果的に洗浄除去できる方法を提供することを目的とする。」（第２頁上左欄第２０行〜第２頁上右欄第３行）
ｂ　「＜第２実施例＞
　第３図は、本発明方法を実施する基板洗浄装置の第２実施例の概略縦断面図である。
　この第２実施例の基板洗浄装置は、ウェハＷを洗浄液中に浸漬して洗浄処理するものであり、過酸化水素またはオゾンを含む洗浄液中に浸漬してウェハＷの表裏両面を洗浄する第１処理ユニットＰ１０、
洗浄液中に浸漬しながら、回転ブラシで構成される払拭部材１１，１２を作用させてウェハＷの表裏両面を払拭洗浄する第２処理ユニットＰ２０
超音波振動を付与しながら洗浄液中に浸漬してウェハＷの表裏両面を超音波洗浄する第３処理ユニットＰ３０
ｃ　「
第２処理ユニットＰ２０には、前述の第１処理ユニットＰ１０におけると同様の浸漬槽２７と受槽２８が備えられ
バルブ３３を介装した排出管３４、および、受樋３５が設けられている
　
浸漬槽２７と受槽２８とがポンプ３６およびフィルター３７を介装した給液管３８を介して連通接続され
浸漬槽２７内の送りローラ１３…の上下それぞれに回転ブラシによる払拭部材１１，１２が並設され
ウェハＷの表裏両面それぞれを払拭洗浄し、ウェハＷに付着した、主として、粒径が２μｍ以上の粒子を除去する
　
第３処理ユニットＰ３０には、前述の第２処理ユニットＰ２０におけると同様の浸漬槽３９と受槽４０が備えられ
バルブ４５を介装した排出管４６、ポンプ４７およびフィルター４８を介装した給液管４９、ならびに、受樋５０が設けられている
　
浸漬槽３９内の送りローラ１３…の上下それぞれに超音波発振子５１，５２が設けられ
一定時間の間、洗浄液に超音波振動を与えてウェハＷの表裏両面それぞれを超音波洗浄し、ウェハＷに付着した粒径が２μｍ未満の粒子までをも除去する
　（オ）本願の出願前に日本国内において頒布された特開平１０−２６１６１２号公報（以下「周知例５」という。）には、「ウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置」（発明の名称）について、次の事項が記載されている。
ａ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶表示装置用ガラス基板や半導体基板のような極めて清浄な表面を得ることが求められる分野において、従来よりも清浄度の高い表面を得ることが可能なウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置に関する。」
ｂ　「【００２０】本例では、
オゾン水を供給するためのオゾン水用ノズル１１６，１２１と、超純水を供給するための超純水用ノズル１１７，１２０と、電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズル１２２〜１２５と、被処理物をブラシングするブラシ１０２，１０３とを有する第１の槽５０６（１０１）
電解イオン水を導入するための手段と、該電解イオン水に３０ｋＨｚ以上の超音波を照射するための手段である超音波発振子３０３，３０４とを少なくとも有する第３の槽５０５（３０９）
ｃ　図１には、第１槽５０３と、第２槽５０４〜第４槽５０６とは、それぞれ異なる排水配管に接続されることが記載されている。
ｄ　図２〜図５には、第１槽１０１、第２槽２０４、第３槽３０９、及び、第４槽４０２は、それぞれの槽の下面に、「排水・排気」方向に向かって開口する穴部を有することが記載されている。
（６）独立特許要件の検討のまとめ
　以上から、相違点３は実質的な相違点ではなく、また、引用発明を相違点１、相違点２及び相違点４に係る構成とすることは、周知技術１ないし３を参酌すれば、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　そして、補正発明の効果も、引用発明及び周知技術１ないし３から、当業者が予期し得たものと認められる。
　したがって、補正発明は、周知技術１ないし３を参酌すれば、引用発明から当業者が容易に発明することができたものと認められるから、特許法第２９条２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
４　小括
　以上検討したとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２８年６月１６日に提出された手続補正書による手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１４に係る発明は、平成２７年１１月４日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるものであり、その内の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、再掲すると、次のとおりのものである。
「基板を所定方向に搬送する搬送部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の表面を洗浄可能なブラシ部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、
　前記ブラシ部は、前記基板に対する押し込み量が調整可能なブラシ毛を有するとともに、前記基板の厚み方向に移動可能なブラシローラーを含み、
　前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする基板洗浄装置。」
　
２　引用例の記載事項及び引用発明
　引用例の記載事項は、第２の３（３）アで摘記したとおりである。
　また、引用発明は、第２の３（３）イで認定したとおりのものである。
　
３　対比
　本願発明と引用発明とは、第２の３（４）ア及びイから、以下の点で一致するとともに、以下の点で相違している。
（一致点）
「基板を所定方向に搬送する搬送部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の面を洗浄可能なブラシ部と、
　前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、
　前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする基板洗浄装置。」
　
（相違点）
　（相違点１）
　補正発明の「ブラシ部」は「基板の表面を洗浄可能」であるのに対して、引用発明の「ブラシ洗浄装置１０２」が洗浄する「基板の表面」は、「一方の表面１１」であるか、「他方の表面１２」であるか、あるいは、その両方であるか、特定されていない点。
　（相違点２）
　補正発明の「前記ブラシ部は、前記基板に対する押し込み量が調整可能なブラシ毛を有するとともに、前記基板の厚み方向に移動可能なブラシローラー」を含むのに対して、引用発明は、そのような特定を有していない点。
　（相違点３）
　補正発明の「液体供給部」は「表面張力により」基板の裏面に対して液体を接触させるのに対して、引用発明の「貯留槽４０」は「前記液体貯留空間Ｈに溜まった前記第１液体２１」を、「前記他方の表面１２と前記側板４２の上端部との隙間Ｇから溢れ出る状態」で「前記基板１０の前記他方の表面１２に接触」させる点。
４　判断
　第２の３（５）ア〜ウでの検討から、相違点３は実質的な相違点ではなく、また、引用発明を相違点１及び相違点２に係る構成とすることは、周知技術１ないし２を参酌すれば、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　そして、本願発明の効果も、引用発明及び周知技術１ないし２から、当業者が予期し得たものと認められる。
　したがって、本願発明は、周知技術１ないし２を参酌すれば、引用発明から当業者が容易に発明することができたものと認められる。
第４　結言
　以上のとおりであるから、本願発明は、引用例に記載された発明及び周知技術１ないし２に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。