(57)【要約】【目的】ユーザのアクセス制限が可能な描画装置を提供することを目的とする。【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、データアクセス可能なユーザを識別する識別子を含む複数の描画データを記憶する記憶装置１４２と、描画データ毎にユーザＩＤと識別子とを相関させた相関リストを記憶する記憶装置１４０と、外部からユーザＩＤを入力し、記憶装置１４０に記憶された相関リストを参照して、対応する識別子を取得するアクセスコントロール制御ユニット１１０と、取得された識別子の描画データを第１の記憶装置から読み出し、読み出された描画データを用いてデータ処理を行なう描画データ処理ユニット１２０と、データ処理されたデータに沿って、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図１
2011108830.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データアクセス可能なユーザを識別する識別子を含む複数の描画データを記憶する第１の記憶装置と、
描画データ毎にユーザＩＤと前記識別子とを相関させた相関リストを記憶する第２の記憶装置と、
外部からユーザＩＤを入力し、前記第２の記憶装置に記憶された相関リストを参照して、対応する識別子を取得する取得部と、
取得された識別子の描画データを前記第１の記憶装置から読み出し、読み出された描画データを用いてデータ処理を行なうデータ処理部と、
データ処理されたデータに沿って、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記第１の記憶装置は、さらに、前記識別子が含まれない別の描画データを記憶し、
前記別の描画データに対して、前記識別子を属性情報として追記する追記部と、
追記された識別子と当該識別子に対応するユーザＩＤとを追加するように前記相関リストを更新する更新部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記相関リストは、描画データ毎に、さらに、有効期限を相関させ、
前記取得部は、前記識別子を取得する際に、有効期限内の識別子を取得することを特徴とする請求項１又は２記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記データ処理部は、データ処理の際に生じた現象について経過情報を生成し、
前記経過情報は、前記識別子毎に異なるディレクトリに格納されることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
前記取得部は、前記データ処理部と通信し、
通信される情報は、前記識別子毎に異なるキーを用いて暗号化されることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置に係り、例えば、所有者の異なる複数の描画データを記憶する荷電粒子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
図８は、可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）描画装置は、以下のように動作する。まず、第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口４２１の一部を通過して、ステージ上に搭載された試料に照射される。ステージは、描画中、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動している（例えば、特許文献１参照）。このように、開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、試料３４０の描画領域に描画される。開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
【０００４】
描画装置は、一般に高額であるため、１台の装置を複数のユーザ（複数の企業等）が使用したいという要求がある。しかし、ユーザにとって機密情報である描画データ（レイアウトデータ）を、共有する描画装置に入力してしまうと他のユーザにその内容が漏洩してしまう恐れがある。近年、特に、情報に関する機密性が問われており、機密情報の漏洩が発生した場合、企業としての信頼を大きく損なってしまう。例えば、マスクショップと呼ばれる会社等が描画装置を用意する場合に、複数のユーザの描画データを扱うことになる。そのため、装置の運用上、ユーザ毎に限定されたオペレータに対応するユーザに関する描画オペレーションを許可したり、特定の操作のみを許可するなどの制約を設ける必要が生じている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−０６４８６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、描画装置を複数のユーザが使用する場合に、描画データの機密性を保持することが必要である。しかしながら、従来の描画装置では、一旦、描画装置内に描画データが格納されてしまうと、いずれのユーザからも全ての描画データにアクセスすることができてしまっていた。そのため、機密情報の漏洩が発生し得る状態であった。
【０００７】
そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、ユーザのアクセス制限が可能な描画装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
データアクセス可能なユーザを識別する識別子を含む複数の描画データを記憶する第１の記憶装置と、
描画データ毎にユーザＩＤと識別子とを相関させた相関リストを記憶する第２の記憶装置と、
外部からユーザＩＤを入力し、第２の記憶装置に記憶された相関リストを参照して、対応する識別子を取得する取得部と、
取得された識別子の描画データを第１の記憶装置から読み出し、読み出された描画データを用いてデータ処理を行なうデータ処理部と、
データ処理されたデータに沿って、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
【０００９】
かかる構成により、相関リストで対応していないユーザは、かかる描画データを用いることができないようにすることができる。
【００１０】
また、第１の記憶装置は、さらに、かかる識別子が含まれない別の描画データを記憶し、
別の描画データに対して、識別子を属性情報として追記する追記部と、
追記された識別子と当該識別子に対応するユーザＩＤとを追加するように相関リストを更新する更新部と、
をさらに備えると好適である。
【００１１】
また、相関リストは、描画データ毎に、さらに、有効期限を相関させ、
取得部は、識別子を取得する際に、有効期限内の識別子を取得するように構成すると好適である。
【００１２】
また、データ処理部は、データ処理の際に生じた現象について経過情報（ログ情報）を生成し、
経過情報は、識別子毎に異なるディレクトリに格納されるようにすると好適である。
【００１３】
また、取得部は、データ処理部と通信し、
通信される情報は、識別子毎に異なるキーを用いて暗号化されると好適である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、描画データにアクセスできるユーザを制限できる。よって、機密情報の漏洩を防げる。その結果、複数のユーザによって描画装置を共有できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
【図２】実施の形態１における描画装置の共有化を説明するための概念図である。
【図３】実施の形態１におけるアクセスコントロールリストの一例を示す図である。
【図４】実施の形態１におけるアクセスコントロールの仕方の概要を説明するための概念図である。
【図５】実施の形態１における描画方法の各工程を示すフローチャート図である。
【図６】実施の形態１におけるレイアウトデータリストの一例を示す図である。
【図７】実施の形態１における複数の描画装置を複数のユーザが共有する場合の一例を示す図である。
【図８】従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子を用いたビームでも構わない。
【００１７】
実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。図１において、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例となる。そして、描画装置１００は、試料１０１に所望するパターンを描画する。描画部１５０は、電子鏡筒１０２、描画室１０３を有している。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、ブランキング（ＢＬＫ）偏向器２１２、ブランキング（ＢＬＫ）アパーチャ２１４、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、及び偏向器２０８が配置されている。また、描画室１０３内には、移動可能に配置されたＸＹステージ１０５が配置されている。また、ＸＹステージ１０５上には、試料１０１が配置されている。試料１０１として、例えば、ウェハにパターンを転写する露光用のマスク基板が含まれる。マスク基板としては、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。
【００１８】
制御部１６０は、アクセスコントロール制御ユニット１１０（取得部）、メモリ１１１、描画データ処理ユニット１２０（データ処理部）、制御回路１３０、及び記憶装置１４０，１４２，１４４を有している。アクセスコントロール制御ユニット１１０、メモリ１１１、描画データ処理ユニット１２０、制御回路１３０、及び記憶装置１４０，１４２，１４４は、図示しないバスにより互いに接続されている。また、かかる制御部１６０には、外部から複数の操作端末（端末３００，３１０等）が接続されている。各端末３００，３１０にはそれぞれモニタ３０２，３１２が接続されている。
【００１９】
アクセスコントロール制御ユニット１１０は、入力部１０、アクセスコントロールリスト（ＡＣＬ）復号部１２、判定部１４、属性情報取得部１６、レイアウトデータリスト（ＬＡＬ）復号部１８、レイアウトデータ（ＬＡ）情報取得部２０、表示処理部２２、実行指示部２４、暗号化部２６、更新部２８、及び追記処理部２９が配置される。入力部１０、アクセスコントロールリスト（ＡＣＬ）復号部１２、判定部１４、属性情報取得部１６、レイアウトデータリスト（ＬＡＬ）復号部１８、レイアウトデータ（ＬＡ）情報取得部２０、表示処理部２２、実行指示部２４、暗号化部２６、更新部２８、及び追記処理部２９といった各機能は、ソフトウェアにより構成され、その処理をコンピュータに実行させるようにしてもよい。或いは、電気的な回路によるハードウェアにより実施させても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。アクセスコントロール制御ユニット１１０に入力される情報或いは演算処理中及び処理後の各情報はその都度メモリ１１１に記憶される。
【００２０】
また、記憶装置１４０，１４２，１４４は、例えば、磁気ディスク装置が該当する。その他、ＤＶＤ装置等のその他の記憶装置であっても構わない。記憶装置１４０には、アクセスコントロールリスト（ＡＣＬ）５０、及びレイアウトデータリスト（ＬＡＬ）５２が格納される。ＡＣＬ５０及びＬＡＬ５２は、それぞれ暗号化されて格納される。暗号化されることで外部の他のユーザの端末３００（或いは端末３１０）から読み出されることを防止できる。ＡＣＬ５０及びＬＡＬ５２は、描画装置１００の外部で作成されても良いし、描画装置１００内で作成されても構わない。記憶装置１４２には、複数のレイアウトデータ（描画データ）が外部から入力され、格納される。複数のレイアウトデータは、それぞれ暗号化されて格納される。暗号化されることで外部の他のユーザの端末３００（或いは端末３１０）から読み出されることを防止できる。記憶装置１４４には、描画データを用いてデータ処理を行なった際に生じた経過情報（ログ情報）がユーザ毎に異なるディレクトリに分かれて格納される。ユーザ毎にログ情報は、それぞれ暗号化されて格納される。暗号化されることで外部の他のユーザの端末３００（或いは端末３１０）から読み出されることを防止できる。
【００２１】
図１では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分について記載している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。
【００２２】
図２は、実施の形態１における描画装置の共有化を説明するための概念図である。描画データ（レイアウトデータ）には、レイアウト名、チップ名、マスクの材質、及び描画時のパラメータ等の機密性の高い情報が含まれる。ここで、図２に示すように、１台の描画装置１００を企業Ａ，Ｂ，Ｃといった複数のユーザで使用すると、上述したように、ユーザにとって機密情報であるレイアウトデータを、共有する描画装置に単に入力してしまうと他のユーザにその内容が漏洩してしまう恐れがある。そこで、実施の形態１では、アクセスコントロール制御ユニット１１０を配置して、ユーザのアクセス制限を行なう。
【００２３】
図３は、実施の形態１におけるアクセスコントロールリストの一例を示す図である。まず、レイウアウトデータには、属性情報として、かかるレイウアウトデータにアクセスを許可するユーザを識別する識別子を定義する。そして、かかる識別子を含むレイウアウトデータを外部から入力し、記憶装置１４２に格納する。そして、かかるレイウアウトデータ毎に定義された識別子と端末３００，３１０からユーザが入力するユーザＩＤと有効期限との少なくとも３つの情報が相関されたアクセスコントロールリスト（ＡＣＬ）５０を作成する。作成されたＡＣＬ５０は記憶装置１４０に格納される。ＡＣＬ５０は、図３に示すように、「オペレータ」で示すユーザＩＤとなる例えば「ａｋａｍａｔｓｕ」と、「属性情報」で示す識別子となる例えば「ＵｓｅｒＡ」と、有効期限となる例えば「２０１０／１２／３１」とが相関関係を持つようにリスト（相関リストあるいは相関テーブルともいう。）が作成される。同様に、「オペレータ」で示すユーザＩＤとなる例えば「ｈｉｇａｓｈｉｄｅ」と、「属性情報」で示す識別子となる例えば「ＵｓｅｒＡ，ＵｓｅｒＢ」と、有効期限となる例えば「２０１０／１２／３１」とが相関関係を持つようにリスト（相関リストあるいは相関テーブルともいう。）が作成される。同様に、「オペレータ」で示すユーザＩＤとなる例えば「ｋｕｒｉｈａｒａ」と、「属性情報」で示す識別子となる例えば「ＵｓｅｒＢ」と、有効期限となる例えば「２０１１／１０／３１」とが相関関係を持つようにリスト（相関リストあるいは相関テーブルともいう。）が作成される。これらの相関は、１つのＡＣＬ５０に列記されると好適である。
【００２４】
図４は、実施の形態１におけるアクセスコントロールの仕方の概要を説明するための概念図である。例えば、ユーザＡがＵｓｅｒＡで識別されるレイアウトデータ（例えばレイアウトデータ１）をデータ処理（例えばアプリケーション１）で使用したい場合、この処理が可能かどうか判定される。ユーザＡのユーザＩＤが「ａｋａｍａｔｓｕ」であった場合、アクセスコントロール制御ユニット１１０に端末３００から「ａｋａｍａｔｓｕ」と入力する。アクセスコントロール制御ユニット１１０内では、ＡＣＬ５０を参照し、入力日がユーザＩＤ「ａｋａｍａｔｓｕ」の有効期限である２０１０年１２月３１日以内か判定し、有効期限内であれば、描画データ処理ユニット１２０に対応する識別子「ＵｓｅｒＡ」を属性情報に持つレイアウトデータ１のレイアウトデータ名を表示する。ここでは、ユーザＡがレイアウトデータ１にアクセス可能であるため、レイアウトデータ１のレイアウトデータ名が表示される。ここで、例えば、アクセス権限を持たないユーザＣが例えばユーザＣのユーザＩＤ「ｋｕｒｉｈａｒａ」を入力した場合、アクセス権限を持たないので、レイアウトデータ１のレイアウトデータ名は表示されず、使用できないことになる。そして、アクセスコントロール制御ユニット１１０は、描画データ処理ユニット１２０に使用可能なレイアウトデータ１を使ったアプリケーション１の実行指示を出す。そして、描画データ処理ユニット１２０は、レイアウトデータ１を使ってアプリケーション１の処理内容を実行する。その際、経過情報（ログ情報）が生じた場合には、識別子「ＵｓｅｒＡ」の専用ディレクトリにログ情報を格納する。以上のように、アクセスコントロール制御ユニット１１０でユーザＩＤによるアクセス制限を行なうことで、他のユーザへの機密漏洩を防止できる。以下、さらに具体的な動作を説明する。
【００２５】
図５は、実施の形態１における描画方法の各工程を示すフローチャート図である。図５において、実施の形態１における描画方法は、ユーザＩＤ入力工程（Ｓ１０２）、ＡＣＬ入力／復号工程（Ｓ１０４）、期限判定工程（Ｓ１０６）、属性情報取得工程（Ｓ１０８）、ＬＡＬ入力／復号工程（Ｓ１１０）、ＬＡ情報取得工程（Ｓ１１２）、表示／選択要求工程（Ｓ１１４）、実行指示工程（Ｓ１１６）、実行工程（Ｓ１１８）、及び描画工程（Ｓ１２０）という一連の工程を実施する。
【００２６】
ユーザＩＤ入力工程（Ｓ１０２）として、ユーザは、外部の端末３００等から自身のユーザＩＤをアクセスコントロール制御ユニット１１０に送信する。アクセスコントロール制御ユニット１１０内では、入力部１０がユーザＩＤを入力する。
【００２７】
ＡＣＬ入力／復号工程（Ｓ１０４）として、ＡＣＬ復号部１２は、記憶装置１４０から暗号化されたＡＣＬ５０を読み出し、復号化する。
【００２８】
期限判定工程（Ｓ１０６）として、判定部１４は、復号化されたＡＣＬ５０を参照し、入力されたユーザＩＤに関する相関関係について有効期限内かどうかを判定する。判定の結果、有効期限を過ぎている場合は、ＮＧとして、端末３００に出力する。
【００２９】
属性情報取得工程（Ｓ１０８）として、属性情報取得部１６は、前工程で有効期限内である場合に、復号化されたＡＣＬ５０を参照し、入力されたユーザＩＤに対応する識別子を取得する。
【００３０】
ＬＡＬ入力／復号工程（Ｓ１１０）として、ＬＡＬ復号部１８は、記憶装置１４０から暗号化されたＬＡＬ５２を読み出し、復号化する。
図６は、実施の形態１におけるレイアウトデータリストの一例を示す図である。レイアウトデータリスト（ＬＡＬ）５２には、「ＬＡＹＯＵＴ１」で示すレイアウト名と、「ＵｓｅｒＡ」で示す識別子が相関関係になるように定義される。同様に、「ＬＡＹＯＵＴ２」で示すレイアウト名と、「ＵｓｅｒＢ」で示す識別子が相関関係になるように定義される。これらのレイウアト名とアクセス可能なユーザを識別する識別子が相関関係を持つようにリスト（相関リストあるいは相関テーブルともいう。）が作成される。
【００３１】
ＬＡ情報取得工程（Ｓ１１２）として、ＬＡ情報取得部２０は、復号化されたＬＡＬ５２を参照し、取得された識別子に対応するレイアウト名を取得する。
【００３２】
表示／選択要求工程（Ｓ１１４）として、表示処理部２２は、取得されたレイアウト名を端末３００に出力し、モニタ３０２に表示させる。例えば、取得された識別子に対応するレイアウト名が複数存在する場合には、複数のレイアウト名を列記して表示させる。そして、端末３００を操作するユーザに表示されたレイアウト名の中から自身が使用したいレイアウト名を選択するように要求する。さらに、実施したい処理内容（アプリケーション）の入力を要求する。これに対し、端末３００を操作するユーザが使用したいレイアウト名を選択して、アクセスコントロール制御ユニット１１０に送信する。もし、使用したいレイアウト名が表示されなければ、終了となる。このように、アクセス可能なレイアウト名しか表示しないので、他のユーザ所有のレイアウトデータの漏洩を防止できる。
【００３３】
実行指示工程（Ｓ１１６）として、実行指示部２４は、端末３００を操作するユーザからのレイアウト名の選択信号と実施したいアプリケーションの設定信号を受けて、描画データ処理ユニット１２０にかかるレイアウト名のレイアウトデータを使ったアプリケーション実行指示を出力する。その際、暗号化部２６は、かかるアプリケーション実行指示信号をユーザの識別子毎に異なるキーで暗号化する。これにより、アクセスコントロール制御ユニット１１０と描画データ処理ユニット１２０との間での通信の秘匿性を保持できる。
【００３４】
実行工程（Ｓ１１８）として、描画データ処理ユニット１２０は、識別子毎に異なるキーで暗号化されたアプリケーション実行指示を復号化し、指定されたレイアウト名のレイアウトデータを記憶装置１４２から読み出し、読み出されたレイアウトデータを使ってアプリケーション実行指示が示すアプリケーションを実行する。読み出されたレイアウトデータが暗号化されている場合には復号する。アプリケーションの内容として、例えば、描画処理、レイアウト情報の取得要求、及び後述するログ情報要求等が挙げられる。例えば、アプリケーション１が描画処理である場合、かかるアプリケーション１が要求された際には、描画データ処理ユニット１２０は、内部の複数のＣＰＵ等を用いて該当するレイアウトデータに対して複数段のデータ変換処理を行なって、描画装置１００固有のショットデータを生成する。或いは、例えば、アプリケーション２がレイアウト（ＬＡ）情報の取得要求である場合、描画データ処理ユニット１２０は、内部のＣＰＵ等を用いて該当するレイアウトデータから必要なレイアウト情報を抽出して、要求を出した端末３００等に出力する。或いは、例えば、アプリケーション３がログ情報の取得要求である場合、描画データ処理ユニット１２０は、内部のＣＰＵ等を用いて記憶装置１４４の該当するディレクトリからログ情報を抽出して、要求を出した端末３００等に出力する。ログ情報はアクセスコントロール制御ユニット１１０を介して要求を出した端末３００等に出力することが望ましい。また、描画データ処理ユニット１２０は、レイアウト情報やログ情報を暗号化した上で出力するように構成すると好適である。
【００３５】
また、描画データ処理ユニット１２０は、各アプリケーションを実行する過程で生じた現象について経過情報（ログ情報）を生成する。そして、ログ情報は、記憶装置１４４に出力され、記憶装置１４４内で識別子毎に異なるディレクトリに格納される。描画データ処理ユニット１２０は、ログ情報を出力する際に、暗号化してから出力する。これにより、他のユーザへの漏洩を防げる。
【００３６】
描画工程（Ｓ１２０）として、描画データ処理ユニット１２０は、データ処理して生成したショットデータを制御回路１３０に出力する。そして、制御回路１３０は、描画データ処理ユニット１２０によって実行されたアプリケーションに従って生成されたショットデータ等の制御信号を入力する。制御回路１３０は、入力された制御信号に従って描画部１５０を制御する。描画部１５０は、具体的には次のように動作する。照射部の一例となる電子銃２０１から電子ビーム２００が照射される。電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。その結果、電子ビーム２００は成形される。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、偏向器２０８により偏向される。その結果、連続移動するＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。
【００３７】
ここで、試料１０１上の電子ビーム２００が、所望する照射量を試料１０１に入射させる照射時間ｔに達した場合、以下のようにブランキングする。すなわち、試料１０１上に必要以上に電子ビーム２００が照射されないようにするため、例えば静電型のＢＬＫ偏向器２１２で電子ビーム２００を偏向すると共にＢＬＫアパーチャ２１４で電子ビーム２００をカットする。これにより、電子ビーム２００が試料１０１面上に到達しないようにする。
【００３８】
ビームＯＮ（ブランキングＯＦＦ）の場合、電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、図１における実線で示す軌道を進むことになる。一方、ビームＯＦＦ（ブランキングＯＮ）の場合、電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、図１における点線で示す軌道を進むことになる。また、電子鏡筒１０２内および描画室１０３内は、図示していない真空ポンプにより真空引きされ、大気圧よりも低い圧力となる真空雰囲気となっている。
【００３９】
以上のように、実施の形態１によれば、描画データにアクセスできるユーザを制限できる。よって、機密情報の漏洩を防げる。その結果、複数のユーザによって描画装置を共有できる。よって、描画装置１００を購入せずにレンタルするという形態も可能となる。また、秘匿する必要のないレイアウトデータには、識別子の属性情報を定義しないようにすれば、必要に応じた秘匿性を確保できる。よって、顧客のコンプライアンスに柔軟に対応できる。
【００４０】
ここで、属性情報となる識別子が含まれない別のレイアウトデータが既に記憶装置１４２に格納されている場合もあり得る。かかる場合には、追記処理部２９が、当該別のレイアウトデータを読み出し、当該別のレイアウトデータに対して、識別子を属性情報として追記する。そして、更新部２８は、追記された識別子と当該識別子に対応するユーザＩＤとを追加するようにＡＣＬ５０とＬＡＬ５２を更新する。これにより、識別子が含まれない別のレイアウトデータが既に記憶装置１４２に格納されている場合でもかかるレイアウトデータの今後の漏洩を防げる。
【００４１】
また、上述した例では、描画装置１００が１台の場合について説明したが、これに限るものではない。
図７は、実施の形態１における複数の描画装置を複数のユーザが共有する場合の一例を示す図である。図７では、例えば、マスクショップとなる１つの企業体が複数の描画装置（Ａ，Ｎ，Ｘ・・・）を所有し、複数のユーザから発注を受けて、指定された描画装置で描画処理を行なう場合を示している。かかる場合でも、上述したように装置毎にアクセスコントロールを行なっておけば、ある特定の装置に複数のユーザのレイアウトデータが格納された場合も機密性を確保できる。
【００４２】
以上の説明において、「〜部」或いは「〜工程」と記載したものの処理内容或いは動作内容は、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ファームウェアとの組合せでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、或いはＲＯＭ（リードオンリメモリ）等の記録媒体に記録される。例えば、記憶装置１４０に記録される。
【００４３】
また、アクセスコントロール制御ユニット１１０或いは描画データ処理ユニット１２０がコンピュータとなる制御計算機で構成される場合、さらに、図示していないバスを介して、記憶装置の一例となるＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＲＯＭ、磁気ディスク（ＨＤ）装置、入力手段の一例となるキーボード（Ｋ／Ｂ）、マウス、出力手段の一例となるモニタ、プリンタ、或いは、入力出力手段の一例となる外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）、ＦＤ、ＤＶＤ、ＣＤ等に接続されていても構わない。
【００４４】
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、アクセスコントロール制御ユニット１１０と描画データ処理ユニットは、同一のユニット内に構成されても良い。
【００４５】
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
【００４６】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置及び方法は、本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００４７】
１０  入力部
１２  ＡＣＬ復号部
１４  判定部
１６  属性情報取得部
１８  ＬＡＬ復号部
２０  ＬＡ情報取得部
２２  表示処理部
２４  実行指示部
２６  暗号化部
２８  更新部
２９  追記処理部
５０  ＡＣＬ
５２  ＬＡＬ
１００  描画装置
１０１，３４０  試料
１０２  電子鏡筒
１０３  描画室
１０５  ＸＹステージ
１１０  アクセスコントロール制御ユニット
１１１  メモリ
１２０  描画データ処理ユニット
１３０  制御回路
１４０，１４２，１４４  記憶装置
１５０  描画部
１６０  制御部
２００  電子ビーム
２０１  電子銃
２０２  照明レンズ
２０３，４１０  第１のアパーチャ
２０４  投影レンズ
２０５，２０８  偏向器
２０６，４２０  第２のアパーチャ
２０７  対物レンズ
２１２  ＢＬＫ偏向器
２１４  ＢＬＫアパーチャ
３３０  電子線
４１１  開口
４２１  可変成形開口
４３０  荷電粒子ソース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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