(57)【要約】【課題】斜入射方式の光走査装置をより簡素化し、波面収差の増大を有効に抑制して、良好な光走査を可能とする。【解決手段】斜入射方式において、走査レンズ５は、同一の偏向反射面により偏向された複数の走査ビームに共通で、単一のレンズ体であり、偏向反射面の側は単一の入射面５０をなし、被走査部側の面は、各被走査部に対応して副走査方向に分離した複数の射出面５Ａ、５Ｂをなし、入射面５０は、主走査方向の周辺に向かって、副走査方向の屈折力が減少する特殊面として形成され、射出面５Ａ、５Ｂは、主走査方向・副走査方向ともに正の屈折力を持つ面として形成されている。【選択図】図２
2011100007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏向反射面をこの偏向反射面に平行な軸の周りに回転させて光走査ビームを偏向する光偏向器の、同一の偏向反射面により、複数の被走査部を光走査する複数の光走査ビームを同時に偏向させ、偏向された光走査ビームを、走査レンズにより上記複数の被走査部にそれぞれ集光させて、上記複数の被走査部を同時に光走査する光走査装置において、
複数の被走査部を同時に光走査する複数の光走査ビームは、光偏向器の同一の偏向反射面に、副走査方向において互いに異なる入射角で入射し、  
走査レンズは、該同一の偏向反射面により偏向された複数の走査ビームに共通で、単一のレンズ体であり、上記偏向反射面の側は単一の入射面をなし、被走査部側の面は、各被走査部に対応して副走査方向に分離した複数の射出面をなし、
上記入射面は、主走査方向の周辺に向かって、副走査方向の屈折力が減少する特殊面として形成され、  
上記射出面は、主走査方向・副走査方向ともに正の屈折力を持つ面として形成されたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１記載の光走査装置において、
入射面の主走査方向中心部分が、副走査方向に曲率を持たないことを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
請求項１から５記載の光走査装置において、
走査レンズと各被走査面の間に、主走査方向・副走査方向共に曲率を持たない面に対して、主走査方向位置に応じて副走査方向のチルト偏芯角度を異ならせて与えたチルト偏芯面を少なくとも１面有する光学素子が配置されたことを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
請求項１または２または３記載の光走査装置において、
光偏向器の同一の偏向反射面により偏向される光走査ビームにより光走査される被走査部の数が２で、
前記走査レンズの射出側面が、副走査方向に分離した２つの射出面をなし、
これら２つの射出面は同一形状で、主走査方向の周辺に向かい副走査方向の曲率半径が変化する特殊面であることを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
請求項４記載の光走査装置において、
２つの異なる被走査部に向かう光走査ビームが、これらを同時に偏向させる共通の偏向反射面に、副走査方向において、対称な入射角（≠０）で入射することを特徴とする光走査装置。
【請求項６】
請求項５記載の光走査装置において、
各々の光走査ビームの光偏向器の偏向反射面における反射位置がズレ量：ηだけ副走査方向へずれており、上記ズレ量：ηが、η＝０となるときの入射角よりも０．５〜１度小さくなるように設定されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項７】
光偏向器を回転多面鏡とし、
請求項４〜６の任意の１に記載の光走査装置を２つ、上記回転多面鏡を共通として、該回転多面鏡に対して対称的に配置し、４つの被走査部に対して同時に光走査を行なうように構成したことを特徴とする光走査装置。  
【請求項８】
電子写真プロセスの実行によって画像を形成する画像形成装置であって、
電子写真プロセスにおける露光プロセスを実行する手段として、請求項１〜７の任意の１に記載の光走査装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光走査装置および画像形成装置に関する。  
光走査装置は、デジタル複写機、レーザプリンタ、レーザファクシミリ等の光走査装置に適用でき、従って、画像形成装置は、デジタル複写機、レーザプリンタ、レーザファクシミリ等として実施できる。
【背景技術】
【０００２】
レーザプリンタ等に関連して広く知られた光走査装置は一般に、光源側からの光走査ビームを光偏向器により偏向させ、ｆθレンズ等の走査結像光学系により被走査面に向けて集光して被走査面上に光スポットを形成し、この光スポットで被走査面を光走査(主走査)するように構成されている。被走査面の実体をなすものは光導電性の感光体等である感光媒体の感光面である。
【０００３】
このような光走査装置と感光媒体の組み合わせを２組以上用い、２色画像や多色画像、カラー画像等を得るようにした「タンデム式画像形成装置」が広く知られ、その１つの構成として、複数の感光媒体を光走査する光走査部が「単一の光偏向器（回転多面鏡）を共用する方式」のものが知られている。
【０００４】
このように、複数の被走査面で光偏向器を共用すると、光偏向器の数を減らすことにより、画像形成装置のコンパクト化が可能になる。  
この場合、回転多面鏡の１つの偏向反射面には、複数の光走査ビームが入射することになるが、これらを副走査方向において互いに平行に入射させるようにすると、回転多面鏡が回転軸方向に大型化し、回転多面鏡の製造コストの上昇や、画像形成装置の更なるコンパクト化の困難等の問題を招来し易い。
【０００５】
この問題を解消するものとして、回転多面鏡の同一の偏向反射面に入射する２以上の光走査ビームの「偏向反射面への副走査方向の入射角」を互いに異ならせる方式（以下「斜入射方式」と言う。）のものが提案されている（特許文献１）。
【０００６】
このようにすれば、副走査方向に狭い偏向反射面で複数の光走査ビームを同時に偏向させることができ、偏向された各走査ビームを対応する被走査面へ導光する光路相互の分離も容易になる。
【０００７】
斜入射方式では、回転多面鏡により偏向される光走査ビームは、回転多面鏡の回転軸のまわりに円錐面を掃引するように偏向するため、走査レンズに入射する光走査ビームに、偏向に伴って「光束のスキュー（捩れ）」が発生して光走査ビームの波面収差が増大し、被走査面での集光性を劣化させ、主走査方向の周辺部で光スポットのスポット径が増大して形成画像の解像度を劣化させる問題を生じやすい。
【０００８】
また、上記偏向態様のため、所謂「走査線曲がり」が大きく発生し易い。走査線曲がりの発生量は、光走査ビームの副走査方向の入射角（≠０）により異なり、各々の光走査ビームで描かれた静電潜像を各色トナーにより可視化して重ね合わせたカラー画像に「色ずれ」となって現れる。
【０００９】
出願人は先に、上記波面収差・走査線曲がりの問題を有効に解消した「斜入射方式の光走査装置」を提案した（特許文献２）。
【００１０】
特許文献２記載の光走査装置では、走査結像光学系が２枚のレンズで構成される。
【００１１】
回転多面鏡側のレンズは、複数の光走査ビームに共通化されているが、被走査面側に配置されるレンズは光走査ビームごとに個別に設けられ、長尺であるため「光偏向器から各被走査面に向かう光路」のレイアウトの自由度に対する制限となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
この発明は上述したところに鑑み、走査結像光学系のレンズを「単一のレンズ体」により構成することにより、斜入射方式の光走査装置をさらに簡素化し、波面収差の増大を有効に抑制して、良好な光走査を可能ならしむることを課題とする。また、あわせて走査線曲がりの有効な補正を可能ならしむることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この発明の光走査装置は、「偏向反射面をこの偏向反射面に平行な軸の周りに回転させて光走査ビームを偏向する光偏向器の、同一の偏向反射面により、複数の被走査部を光走査する複数の光走査ビームを同時に偏向させ、偏向された光走査ビームを、走査レンズにより複数の被走査部にそれぞれ集光させて、複数の被走査部を同時に光走査する光走査装置」である。
【００１４】
「光偏光器」は、上記の如く「偏向反射面を回転させる方式のもの」であるが、偏向反射面を回転させる回転軸は偏向反射面と平行である。  
このような光偏向器として最も一般的なものは「回転多面鏡（以下において、ポリゴンミラーとも言う。）」であるが、これに限らず、偏向反射面が２面である回転２面鏡や、単一の偏向反射面を回転させる回転単面鏡を用いることもできる。
【００１５】
光偏光器は、同一の偏向反射面により複数の光走査ビームを同時に偏向させる。
【００１６】
この用に偏向された複数の光走査ビームは、複数の被走査部を同時に光走査するのに供される。
【００１７】
即ち、光走査ビームの個々は、個別の被走査部を光走査する。  
光走査ビームの個々は「単一の光ビーム」であり得るが、これを複数の光ビームの集合とし、被走査部を「マルチビーム光走査」するようにもできる。
【００１８】
被走査部の実体をなすものは、光導電性の感光媒体の感光面であり、複数の被走査部は、互いに異なる感光媒体の感光面であることができるが、「同一の感光面の異なる位置」に設定された複数の被走査部であることもできる。
【００１９】
請求項１記載の光走査装置は、以下の如き特徴を有する。  
即ち、複数の被走査部を同時に光走査する複数の光走査ビームは、光偏向器の同一の偏向反射面に「副走査方向において互いに異なる入射角」で入射する。  
即ち、この発明の光走査装置は、前述の「斜入射方式」のものである。
【００２０】
「走査レンズ」は、同一の偏向反射面により偏向された複数の走査ビームに共通で、単一のレンズ体として形成されている。即ち、光偏向器の同一の偏向反射面に斜入射して偏向された複数の光走査ビームは、この単一の走査レンズに入射する。  
走査レンズが単一のレンズ体であるとは、走査レンズから複数の被走査部に至る、各光走査ビームの光路上において、この単一の走査レンズのみが屈折による結像機能を有することを意味する。
【００２１】
勿論、走査レンズから複数の被走査部の個々に至る光路を形成するために、１以上の反射鏡が用いられる。
【００２２】
走査レンズは、以下の如き特徴を有する。即ち、偏向反射面の側は「単一の入射面」をなし、被走査部側の面は「各被走査部に対応して副走査方向に分離した複数の射出面」をなす。
【００２３】
即ち、光偏向器により偏向された複数の光走査ビームは、走査レンズの単一の入射面に入射するが、走査レンズから射出する状態では、副走査方向に分離して、光走査すべき被走査部に応じて、所定の射出面から射出する。
【００２４】
複数の光走査ビームの数を「ｎ」とすると、被走査部の数も「ｎ」である。そして、走査レンズの射出面は副走査方向に「ｎ面の射出面」に分離している。
【００２５】
光偏向器により偏向された光走査ビームを、副走査方向に１〜ｎ番目とし、一般にｉ番目の光走査ビームについて謂えば、ｉ番目の光走査ビームは、走査レンズの共通の入射面に入射し、副走査方向にｉ番目の射出面から射出し、ｉ番目の被走査部を光走査する。
【００２６】
上記「ｎ」は最小値が２であるが、最大値としては４〜６程度である。
【００２７】
偏向されたｉ番目の光走査ビームは、従って、走査レンズにおける入射面とｉ番目の射出面とによるレンズ作用によりｉ番目の被走査部に集光する。
【００２８】
「入射面」は、主走査方向の周辺に向かって、副走査方向の屈折力が減少する特殊面として形成されている。  
射出側におけるｎ面の「射出面」の個々は、主走査方向・副走査方向ともに正の屈折力を持つ面として形成されている。
【００２９】
上記入射面に関して「主走査方向の周辺に向かって、副走査方向の屈折力が減少する」とは、主走査方向の中央部から主走査方向の周辺に向かうに連れて、入射面の副走査方向の屈折力が「負の方向」に向かうことを意味する。  
主走査方向の中央部が「副走査方向に正の屈折力」をもつ場合であれば、主走査方向の周辺部へ向かうに連れて、副走査方向の正の屈折力が次第に弱まり、主走査方向の周辺部で「弱い正の屈折力」を持つ場合や、周辺へ向かう途上で、副走査方向の屈折力が負になり、さらに「負の屈折力が増大」する場合があり得る。
【００３０】
射出面の個々は「主走査方向・副走査方向共に正の屈折力を有する。」ので、個々の射出面は「凸面形状」であるが、主走査方向・副走査方向に正の屈折力の異なる「アナモルフィックな面」であることが好ましい。
【００３１】
請求項１記載の光走査装置は「走査レンズの入射面の主走査方向中心部分」が、副走査方向に曲率を持たないものであることができる（請求項２）。この場合には、入射面の副走査方向の屈折力は「主走査方向中央部で０」であり、主走査方向周辺部へ向かうに連れて負の屈折力が次第に増大する。  
請求項１または２記載の光走査装置は、走査レンズと各被走査面の間に「主走査方向・副走査方向共に曲率を持たない面に対して、主走査方向位置に応じて副走査方向のチルト偏芯角度を異ならせて与えたチルト偏芯面」を少なくとも１面有する光学素子を配置することが好ましい（請求項３）。チルト偏心面は、光走査ビームを透過させる面でも良いし、反射させる面でもよい。このチルト偏芯面の形状は、斜入射方式に起因する走査線の曲がり（以下「走査線曲がり」という。）を補正するように定める。
【００３２】
請求項１または２または３記載の光走査装置は、光偏向器の同一の偏向反射面により偏向される光走査ビームにより光走査される被走査部の数が２で、走査レンズの射出側面が、副走査方向に分離した２つの射出面をなし、これら２つの射出面は同一形状で「主走査方向の周辺に向かい副走査方向の曲率半径が変化する特殊面」であることができる（請求項４）。
【００３３】
この請求項４記載の光走査装置においては「２つの異なる被走査部に向かう光走査ビームが、これらを同時に偏向させる共通の偏向反射面に、副走査方向において対称な入射角（≠０）で入射する」ことが好ましい（請求項５）。
【００３４】
請求項５記載の光走査装置は「各々の光走査ビームの光偏向器の偏向反射面における反射位置がズレ量：ηだけ副走査方向へずれており、ズレ量：ηが、η＝０となるときの入射角よりも０．５〜１度小さくなるように設定されている」ことができる。
【００３５】
請求項７記載の光走査装置は、光偏向器を回転多面鏡とし、請求項４〜６の任意の１に記載の光走査装置を２つ、回転多面鏡を共通として、回転多面鏡に対して対称的に配置し、４つの被走査部に対して同時に光走査を行なうように構成したことを特徴とする。  
この発明の画像形成装置は、電子写真プロセスの実行によって画像を形成する画像形成装置であって、電子写真プロセスにおける露光プロセスを実行する手段として、請求項１〜７の任意の１に記載の光走査装置を有することを特徴とする（請求項８）。
【００３６】
若干補足すると、走査レンズの個々の射出面には、主として光走査ビームを被走査部へ集光させる機能を与えており、このため、射出面は正の強い屈折力を有し、波面収差を発生させ易い。
【００３７】
入射面を「主走査方向の周辺部へ向かうに連れて屈折力の弱まる特殊面」とし、この特殊面の形状により「正の強い屈折力」を持つ個々の射出側面への、光走査ビームを構成する光線の入射高さ、入射角を補正することにより、波面収差の劣化（光束のねじれ）が補正可能となり、被走査部で光走査ビームを一点に集光させることができる。
【発明の効果】
【００３８】
以上に説明したように、この発明によれば、新規な光走査装置および画像形成装置を提供できる。この発明の光走査装置は、上記の如く、斜入射方式で複数の被走査部を同時に光走査しつつ、波面収差の発生を良好に抑制して、良好な光走査を実現できる。  
また、チルト偏芯面を１面以上有する光学素子を用いることにより、斜入射方式に起因する走査線曲がりの良好な軽減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】光走査装置の光学配置を説明するための図である。
【図２】図１における光偏向器４から被走査面Ｓ１、Ｓ２に至る光走査ビームの光路を、主走査方向から見た状態を説明図として示す図である。
【図３】走査レンズとして入射面・射出面ともに１面である場合の問題点を説明するための図である。
【図４】この発明の走査レンズを用いる場合を説明するための図である。
【図５】偏向反射面上における光走査ビームの反射位置を副走査方向にずらすことの技術的な意義を説明するための図である。
【図６】画像形成装置の実施の１形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、具体的な実施の形態に即して説明する。  
図１は、光走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【００４１】
図１（Ａ）において、光源としての半導体レーザ１Ａ、１Ｂ、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂ、シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂは、図面に直交する方向（副走査方向）に重なり合うように配置されている。
【００４２】
半導体レーザ１Ａから放射された発散性の光束はカップリングレンズ２Ａにより以後の光学系に適した光束形態に変換される。    
カップリングレンズ２Ａからの光束はシリンドリカルレンズ３Ａにより副走査方向に集光され、光偏向器としてのポリゴンミラー４の偏向反射面に入射する。
【００４３】
同様に、半導体レーザ１Ｂから放射された発散性の光束（光走査ビーム）は、カップリングレンズ２Ｂにより以後の光学系に適した光束形態に変換され、シリンドリカルレンズ３Ｂにより副走査方向に集光され、光偏向器としてのポリゴンミラー４の偏向反射面に入射する。
【００４４】
カップリングレンズ２Ａ、２Ｂにより変換された光束形態は、平行光束であることも、弱い発散性あるいは弱い集束性の光束であることもできる。
【００４５】
なお、これら光走査ビームは、カップリングレンズと偏向反射面との間の光路上で、図示されないアパーチャの開口部により「ビーム整形」される。
【００４６】
半導体レーザ１Ａ、１Ｂからの光走査ビームは、上記の如くポリゴンミラー４の「同一の偏向反射面」に入射し、偏向反射面の近傍に「主走査方向に長い線像」として結像するが、偏向反射面への入射は「斜入射」であって副走査方向に傾いて入射する。
【００４７】
光走査ビームの偏向反射面に対する斜入射の入射角（以下、斜入射角とも言う。）の設定は、光源１Ａ、１Ｂ、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂ、シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂによる光路を傾けて設定しても良いし、光源からポリゴンミラーに至る光路を「折返しミラー」で屈曲させて行なっても良い。
【００４８】
また、シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂの光軸を、副走査方向にシフトすることで、偏向反射面に向かう光ビームに斜入射角をつけても良い。
【００４９】
図１（Ｂ）は、偏向反射面に入射して反射された２本の光走査ビームの状態を、副走査方向を上下方向として説明図的に示している。
【００５０】
図１（Ｂ）に示すように、反射された光走査ビームは、副走査方向に向かって開くように進行して走査レンズ５に入射する。
【００５１】
偏向反射面により反射された２本の光走査ビームは、ポリゴンミラー４の等速回転とともに等角速度的に偏向し、走査レンズ５の作用により、「被走査部」である被走査面Ｓ１、Ｓ２に向けて集光する。これにより、２本の光走査ビームは、被走査面Ｓ１、Ｓ２上に個別の光スポットを形成し、各被走査面Ｓ１、Ｓ２の光走査を行う。
【００５２】
被走査面Ｓ１を光走査する光走査ビームの光路上には光学素子６Ａが、被走査面Ｓ２を光走査する光走査ビームの光路上には光学素子６Ｂが配設される。
【００５３】
図２は、光偏向器４から各被走査面に至る光走査ビームの光路を、主走査方向から見た状態を説明図として示している。
【００５４】
図２において、光偏向器４の回転軸に直交し、偏向反射面を副走査方向に２分する仮想的平面を破線で示し、その下方の領域を領域Ａ、上方の領域を領域Ｂとする。
【００５５】
ポリゴンミラー４の偏向反射面により「領域Ａにおいて反射」される光走査ビームは、図１（Ａ）において半導体レーザ１Ａから放射された光走査ビームであり、走査レンズ５を透過後、光路折り返しミラー７Ａにより反射され、光学素子６Ａを透過して、被走査面Ｓ１の実体をなす光導電性の感光体ドラムＳＴ２を光走査する。
【００５６】
ポリゴンミラー４の偏向反射面により「領域Ｂにおいて反射」される光走査ビームは、図１（Ａ）において半導体レーザ１Ｂから放射された光走査ビームであり、走査レンズ５を透過後、光路折り返しミラー７Ｂ１、７Ｂ２により順次反射され、光学素子６Ｂを透過して、被走査面Ｓ２の実体をなす光導電性の感光体ドラムＳＴ１を光走査する。
【００５７】
即ち、２本の光走査ビームの光路は、光路折り返しミラー７Ａ、７Ｂ１、７Ｂ２により相互に分離され、対応する被走査面としての感光体ドラムに導かれる。
【００５８】
この実施の形態においては、偏向反射面により領域Ａに反射される光走査ビームの光路を形成する光路折返しミラー７Ａの枚数は奇数枚（１枚）であり、領域Ｂに反射される光走査ビームの光路を形成する光路折り返しミラー７Ｂ１、７Ｂ２の枚数は偶数枚（２枚）として配置されている。  
かかる光学配置により「斜入射光学系で発生する走査線曲がりの方向を一致させる」ことができ、カラー画像を形成する場合の「重ね合わせ画像における色ずれ」を低減することができる。
【００５９】
図２に示すように、偏向手段としてのポリゴンミラー４の偏向反射面で反射される、複数の光源装置からの光走査ビームを、ポリゴンミラー４の「偏向反射面の法線に対して角度を持つ光走査ビーム」、即ち副走査方向に角度を持つ光走査ビームとすることにより、光走査装置を構成する部品のうちでも製造コスト比率の高いポリゴンミラーの副走査方向の幅を小さくして材料コスト・製造コストを下げ、消費電力や騒音を低減可能な、環境を考慮した光走査装置が提供可能となる。
【００６０】
次に、走査レンズ５について説明する。
【００６１】
図２に示す如く、走査レンズ５は、ポリゴンミラー４の同一の偏向反射面により同時に偏向される全ての光走査ビームに共用される。  
走査レンズ５は、１つの入射面５Ａと２つの射出面５Ａ、５Ｂを有する単一のレンズ体であり、この実施の形態においては、入射面５Ａは「主走査方向の中心で副走査方向の曲率を持たず、主走査方向（図面の直交する方向）の周辺に向かい曲率が変化する面としている。
【００６２】
入射面５０の副走査方向の曲率は、主走査方向の中心部を除き「負の屈折力」を持つ。入射面５０で、後述する波面収差補正を行なっている。
【００６３】
走査レンズ５の射出側は、異なる被走査面Ｓ１、Ｓ２に向かう光走査ビーム毎に分離した射出面５Ａ、５Ｂが形成され、対応する被走査面に光スポットを結像させるために正の屈折力を持っている。  
副走査方向に分離して形成されて２つの射出面５Ａ、５Ｂは同一形状で「主走査方向に副走査方向の曲率が変化する面」で構成されている。  
なお、図２に示された断面は、走査レンズ５の主走査方向中心から主走査方向にずれた位置であり、このため入射面５０の断面形状は直線形状ではなく凹曲線となっている。
【００６４】
以下、波面収差の補正について説明する。  
走査レンズの入射面の主走査方向の形状が「偏向反射面の、光走査ビームの反射点を中心とする円弧形状」でない限り、偏向反射面から走査レンズの入射面までの距離は、像高により異なる。
【００６５】
通常、走査レンズを前記形状（入射面の主走査方向の形状が「偏向反射面の、光走査ビームの反射点を中心とする円弧形状」となる形状）とすると、必要な光学性能を実現することが極めて困難であり、通常の走査レンズでは、光偏向器により偏向された光走査ビームは、図１に示すように、走査レンズ５の入射面に「主走査断面（図面に平行な面）における射影状態」で入射面に対して垂直に入射することはなく「主走査方向にある入射角を持って入射」する。
【００６６】
光偏向器４により偏向された光走査ビームは光束として「主走査方向に幅」を持っており、光束内における「主走査方向両端の光線」は、偏向反射面から走査レンズ入射面までの距離が異なる。  
偏向反射面への入射が「斜入射」であるため、「主走査方向両端の光線」は、副走査方向に角度を持っている。これらの光線が入射面に入射する位置は、副走査方向に異なり、このため、光走査ビームは「ねじれた状態」で走査レンズの入射面に入射する。  
この「光束のねじれ」は、特に「副走査方向に強い屈折力（屈折力を表す数値の絶対値が大きい）を持つ走査レンズ面」への入射の際に大きく発生する。
【００６７】
斜入射方式では、ポリゴンミラーの偏向反射面で反射された各光走査ビームは、走査レンズの入射面に「副走査方向に高さを異ならせて」入射する。  
しかし、中心像高に対応する「主走査方向中心部」においては、光走査ビームは、副走査方向から見て「走査レンズ入射面に略垂直に入射する」ため、光束内の各光線（例えば、ビーム整形用のアパーチャの開口部における副走査方向中心および主走査方向両端の３本の光線）は「副走査方向に高さを異ならせる」ことなく走査レンズに入射する。  
このため、中心像高へ向かう光走査ビームでは前記「光束のねじれ」がなく、波面は劣化せず良好な光スポット径を保つことができる。
【００６８】
しかし、周辺像高に対応する主走査方向周辺部では、前述した「ポリゴンミラーから走査レンズ入射面までの光路長の違い」により、光走査ビームの光束内の各光線は副走査方向に入射高さが異なり、光束がスキューした状態（ねじれた状態）となるため、波面収差が劣化し、被走査面上では各光ビームは一点に集まらず光スポット径の増大、即ち、所謂「スポット径太り」が生じる。
【００６９】
図１（Ａ）に示すように、走査レンズへの光走査ビームの入射角は「主走査方向の周辺像高」に近くなるほど大きくなり、光走査ビームの「主走査方向両端の光線」の副走査方向の入射位置のずれが大きくなるため「光束のねじれ」が大きくなり、周辺に行くほど波面収差の劣化による「スポット径太り」は顕著になる。
【００７０】
波面収差の補正のためには、副走査方向に強い屈折力を持つレンズ面への「光線の入射高さ」を補正し、光走査ビームを被走査面上で一点に集光させる必要がある。
【００７１】
説明中の実施の形態において、走査レンズにおいて「副走査方向に強い屈折力」を持つ面は射出面５Ａ、５Ｂである。  
入射面５０は、主走査方向の周辺部では「副走査方向に負の屈折力」を持ち、主走査方向の中心から周辺に向かい、曲率半径が減少する特殊面（屈折力が減少する特殊面）としている。
【００７２】
この入射面５０の特殊形状により「正の強い屈折力」を持つ射出面５Ａ、５Ｂへの、光走査ビームを構成する光線の入射高さ、入射角の補正により前述の「光束のねじれ」を補正可能であり、波面収差の劣化を抑制することが可能となり、被走査面Ｓ１、Ｓ２に各光走査ビームを良好に集光できる。
【００７３】
前述の如く、主走査方向の中心へ向かう光走査ビームには「光束のねじれ」は発生しないので、斜入射による波面収差の劣化は生じない。この点を鑑みると、走査レンズ５の入射面５０の主走査方向の中心部は「副走査方向の曲率を持たない」ようにしても良い。
【００７４】
この場合、入射面５０の副走査方向の屈折力は「主走査方向の中心部において０で、主走査方向の周辺部へ向かって負の向きに増大」する。
【００７５】
走査レンズ５０は、射出面５Ａ、５Ｂが、異なる被走査面Ｓ１、Ｓ２に向かう光走査ビームに個別に対応して設けられ、これら被走査面に光走査ビームを集光させるために正の屈折力を持つ。  
副走査方向において、被走査面に向けて光走査ビームを集光させる機能は射出面のみが有するため、射出面５Ａ、５Ｂは「正の強い屈折力」を持つことになる。  
特に、入射面５０の副走査方向の屈折力を「主走査方向中心部で０」とすると、主走査方向周辺部では負の屈折力となるため、射出面５Ａ、５Ｂの副走査方向の正の屈折力は、主走査方向周辺部で「より強く」なる。
【００７６】
図２に示したように、射出面５Ａ、５Ｂは副走査方向に隣接して形成されている。
【００７７】
射出面・入射面を共に１面構成としても、被走査面Ｓ１、Ｓ２に光スポットを結像させることは可能である。
【００７８】
図３は、このような場合を説明図的に示している。図３の上下方向が副走査方向であり、符号５Ｌは、入射面・射出面を共に１面とした単レンズ構成の走査レンズを示す。
【００７９】
射出面の副走査方向の正の屈折力は、光走査ビームを被走査面に集光するために強く、図３に示すように、斜入射方式では、光走査ビームが「副走査方向の光軸外」を透過するため、レンズ５Ｌを透過した光走査ビームは、相互に近づく向きに屈折するため、レンズ５Ｌ透過後の光走査ビームの「副走査方向の間隔」が狭くなってしまい、これら光走査ビームを異なる被走査部へ導光する光路を分離する光路屈曲ミラーの配置が困難になる。
【００８０】
このような状況で、光走査ビームの光路分離位置での「副走査方向のブーム間距離」を確保するには、斜入射角を大きくして、偏向反射面により反射された光走査ビームの副走査方向の開き角を大きくする必要があるが、このようにすると、光走査レンズ５Ｌの光学特性が大きく劣化し、補正困難となる。  
また、補正のためにはレンズ５Ｌの入射面の負の屈折力を大きくする必要があり、射出面のせいの屈折力をさらに強くする必要が生じ、このために射出面の副走査方向の曲率半径が小さくなると、射出面の加工の困難性や、レンズ５Ｌの偏芯などの誤差による光学特性の劣化が大きくなる問題を生じる。  
また、光走査ビームのレンズ５Ｌへの入射位置が、レンズ加工誤差や組付け誤差により副走査方向にシフトした場合、入射位置における「主走査方向の形状」が大きく変化し、主走査方向の像面湾曲が大きく発生するなど、安定した光学特性の確保が困難になる。
【００８１】
説明中の実施の形態においては、走査レンズ５の射出側は、２つの射出面５Ａ、５Ｂを副走査方向に隣接して形成している。
【００８２】
図４に示すように、光走査ビームを射出面５Ａ、５Ｂの光学基準軸５Ａ１、５Ｂ１の近傍を透過させることにより、射出面による副走査方向への屈折を緩和でき、レンズ透過後の光走査ビームの「副走査方向の間隔」が狭くなるのを緩和することが可能となる。  
即ち、光走査ビームに対する結像作用を維持しつつ、上記光走査ビーム間隔を保つことが可能となる。
【００８３】
一方、入射面５０は、図４の如く、２本の光走査ビームが、光学基準軸５０１の軸から離れた位置を透過するようになるため、射出面５Ａ、５Ｂに向かう光線の方向を変化させるのに最適となる。また、複数の光走査ビームで同一面を共有可能となる。
【００８４】
光学基準軸５０１、５Ａ１、５Ｂ１は「レンズ面ごと」に存在する。  
即ち、「光学基準軸」は、走査レンズ５の複数の光学面５０、５Ａ、５Ｂを表す式の原点を含む面内で、光偏向器の偏向反射面の回転軸に直交し、各光学面５０、５Ａ、５Ｂを表す式の原点を通る軸」と定義された軸である。
【００８５】
従って、光学基準軸５０１、５Ａ１、５Ｂ１は、副走査方向に互いに平行である。
【００８６】
「主走査方向に副走査方向の曲率が変化する面」は次式で表される。
【００８７】
即ち、主走査方向に平行な断面である「主走査断面」内の近軸曲率半径を「RY」、光学基準軸から主走査方向の距離を「Y」、副走査方向の距離を「Z」、高次係数を「A、B、C、D…」とし、主走査断面に直交する「副走査断面」内の近軸曲率半径を「RZ」とするとき、面形状「X(Y,Z)」は、以下の式の如くになる。
【００８８】
X(Y,Z)＝Y2・Cm／｛1+√[1-(1+K)・(Y・Cm)2]｝    
+ A・Y4 + B・Y6 + C・Y8 + D・Y10 + E・Y12…
+ Cs(Y)・Z2／｛1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]｝                  （式１）    。
【００８９】
上の式１において、
Cm＝1/RY  、
Cs(Y)＝1/RZ + aY + bY2 + cY3 + dY4 + eY5 + fY6 + gY7 + hY8 + iY9 + jY10…
であり、「ａ、ｂ、ｃ、ｄ、・・」は高次係数である。
【００９０】
上に実施の形態を説明した光走査装置では、１枚構成の走査レンズ５を、１つの入射面５０と２つの射出面５Ａ、５Ｂを有する単一のレンズとして形成し、入射面５０は「主走査方向の中心で副走査方向の曲率を持たず、主走査方向周辺に向かい「副走査方向の曲率が大きくなる凹面」とし、射出面５Ａ、５Ｂは、異なる被走査面Ｓ１、Ｓ２に向かう光走査ビームに対応させて副走査方向に隣接して形成することにより、斜入射光学系に特有の波面収差の劣化を補正可能とし、走査レンズとしての良好な光学特性を得ることが可能となる。  
また、射出側を光走査ビーム毎に射出面５Ａ、５Ｂに分け、これらの光学基準軸５Ａ１、５Ｂ１の近傍を透過させることにより、斜入射角を大きくすること無く、複数の光走査ビームを異なる被走査面Ｓ１、Ｓ２に導くための分離も可能となり、光学特性の劣化を防ぐことが可能となる。
【００９１】
更に、走査レンズを複数の光走査ビームに共用することにより、複数の被走査媒体に向かう光走査ビームごとに個別に走査レンズを設ける場合に比して、走査レンズの枚数を減らすことができ、光走査装置の低コスト化が可能である。  
斜入射光学系で「走査レンズを共用せず副走査方向に重ねて配置する場合」は、複数の光走査ビームの副走査方向の間隔を大きく取る必要があり、斜入射角が増大し、波面収差の劣化や走査線曲がりの発生が増大してしまうが、この発明のように単一の走査レンズを複数の光走査ビームに共用することにより、このような問題を有効に軽減できる。
【００９２】
走査レンズを複数の光走査ビームで共有せず、複数の走査レンズを副走査方向に並べて配置する場合、各走査レンズには「レンズ面の有効範囲外に補強用のリブ」が必要となり、副走査方向に隣り合う光走査ビーム間の距離が離れるため、斜入射角が増大し、光学性能の劣化が大きくなってしまう。  
斜入射角を変えずに隣り合う光走査ビームの間隔を広げるには、各走査レンズを光偏向器から遠ざける必要があり、特に主走査方向においては屈折力を高める必要があるためレンズ肉厚が厚くなり、走査レンズが大型化しコストも高くなる。  
また、副走査方向に重ねる走査レンズ相互の固定のための接着工程、精度良い位置決めなど、組み付けにおける課題も生じてしまう。
【００９３】
共有された走査レンズは一体的に成形可能であり、光走査装置の部品点数を減らすのみならず、部品間のばらつきを小さく抑えることも可能となる。  
カラー画像形成に用いる場合、各色に対応する光走査ビーム間での部品公差のばらつきを低減でき、各色間で安定した光学性能を得ることができる。
【００９４】
異なる被走査面に向かう光走査ビームは、光偏向器の回転軸に直交する平面に対して、副走査方向に対称な角度で走査レンズに入射することが望ましい。この時、光偏向器の偏向反射面の法線に対する副走査方向の入射角度を最も小さく設定可能となる。
【００９５】
また、各々の光走査ビームに対応する射出面の形状は、これを同一形状とすることが可能で、かつ、入射面の光学基準軸に対して副走査方向に対称な形状とすることが可能である。このような対称形状により、走査レンズは成形が容易になり、成形の際の形状精度も向上する。また、設計においても片方の射出面についてのみの光走査ビームについて実施すればよく開発効率も向上できる。
【００９６】
斜入射光学系特有の光学特性の劣化の補正に関しては前に説明した通りであり、波面収差は前記の如く補正可能であるが「補正すべき波面収差量」は小さいほうが良いことは勿論であり、この点を鑑みると、斜入射角は小さいほど良い。
【００９７】
上述の如く、異なる被走査面に向かう光走査ビームは、走査レンズ透過後に、光路折返しミラーにより各々対応する被走査面（実態的には感光体の感光面）に導光される。このとき、各々の光走査ビームを分離可能であること、即ち、光路折返しミラーが配置可能であるように、光走査ビーム間に「副走査方向の間隔」を設ける必要がある。  
上記間隔は、斜入射角により変化する。  
光走査装置の小型化のためには、走査レンズ透過後の各光走査ビームを分離する分離位置は、走査レンズ透過直後であることが好ましいが、かかる分離位置は「光偏向器からの距離」が短いため、分離に必要なビーム間隔を確保するためには、斜入射角を大きくしなければならない。  
換言すれば、光走査装置の小型化は「斜入射角の増大」を招来し易い。  
上に説明した実施の形態でも、走査レンズ５の射出面５Ａ、５Ｂは、各光走査ビームに対応させているため、各々の射出面の形成に必要な大きさを確保するためにも、走査レンズ５の射出面での「副走査方向の光走査ビーム間隔の確保」が必要となる。
【００９８】
また、光走査装置の小型化、走査レンズの小型化は、走査レンズを光偏向器に近づけて配置することによっても可能であるが、このような場合にも、斜入射角の増大を余儀なくされる。
【００９９】
上に説明した実施の形態において、図２に示されているように、光偏向器４の偏向反射面における各光走査ビームの反射位置は、走査レンズ５の入射面５０の光学基準軸（破線で示す）を含む副走査方向に直交する面に対し、偏向反射面の回転軸方向（副走査方向）に互いに離れている。
【０１００】
図５に示されたように、光偏向器としてのポリゴンミラー４の偏向反射面において、破線で示す各光走査ビームを、副走査方向に交差させた場合と、実線で示す光走査ビームのように「反射位置を副走査方向にずらした場合」とを比べてみると、図５に示された「分離に必要な間隔（光路分離を行なうための光路折返しミラーの配置に必要な間隔）」を得るのに、光走査ビームの開き角（斜入射角により定まる）は、「反射位置を副走査方向にずらした場合」の方が小さくなる。
【０１０１】
従って、図５のように、光走査ビームの偏向反射面での反射位置を副走査方向にずらすことにより、対応する被走査面への光路に分離するための「副走査方向のビーム間隔」を保ちつつ、斜入射角を、図５における破線で示す状態から実線で示す状態へ低減させることができる。  
しかし、光走査ビームの偏向反射面における反射位置を副走査方向にずらす場合、ポリゴンミラーにおける偏向反射面の「副走査方向の幅」を増大させることにつながり、ポリゴンミラーの製造コストが増大し、ポリゴンミラーの駆動消費電力や騒音の増大も考慮する必要がある。  
光走査ビームの偏向反射面における反射位置の「副走査方向のずれ」は、その結果による偏向反射面の副走査方向幅が、一般的なポリゴンミラーの厚みである３ｍｍ程度に抑えられる範囲であることが好ましい。  
斜入射方式では、斜入射角は「３〜５度程度」に設定されることが多いが、斜入射角が１度増加することによる「光学特性の劣化（波面収差の劣化）」は相当に大きい。  
従って、上記の如き「反射位置の副走査方向のずれ」による斜入射角の低減量は０．５〜１度程度と小さくても、光学特性劣化の軽減に対する効果は大きく、安定した光学特性の確保が可能となる。  
即ち、各々の光走査ビームの光偏向器の偏向反射面における反射位置を副走査方向にズレ量：ηだけずらし、ズレ量：ηを「η＝０となるとき（図５に破線で示す光走査ビームの場合）の入射角」よりも０．５〜１度小さくなるように設定することにより、ポリゴンミラーの厚みを増大させることなく、波面収差の劣化を有効に軽減し、走査レンズによる補正を容易にすることができる。
【０１０２】
この点については、後述する実施例で示す。
【０１０３】
図１に示す実施の形態では、走査レンズ５と被走査面Ｓ１、Ｓ２との間に光学素子６Ａ、６Ｂが配置されている。
【０１０４】
光学素子は、斜入射方式による「走査線曲がり」を補正するものであり、この実施の形態において用いられている光学素子６Ａ、６Ｂは、透明な板状であるが、その両面が「チルト偏芯面」に形成されている。
【０１０５】
即ち、光学素子６Ａ、６Ｂは、基本形状を平行平板とし、その両面である「主走査方向・副走査方向共に曲率を持たない面」に対して、主走査方向位置に応じて副走査方向のチルト偏芯角度を異ならせて与えてチルト偏芯面としたものである。
【０１０６】
このようにチルト偏芯面を有する光学素子６Ａ、６Ｂに光走査ビームを透過させることにより、チルト偏芯角度により光走査ビームを副走査方向に屈折させる。そして、主走査方向の位置に応じて変化するチルト偏芯角度を「光走査ビームによる走査線曲がり」を補正できるように設定することにより、走査線曲がりを補正する。
【０１０７】
走査レンズ５と被走査面Ｓ１、Ｓ２との間に「特殊チルト偏芯面」を採用するのは以下の如き理由による。  
即ち、光走査ビームは、光束として「被走査面に近づくほど絞られている」ことを利用し、光学素子におけるチルト偏芯面の影響が光束内の光線群に及び難いようにするためである。  
チルト偏芯面が光走査ビームの「光束として十分に絞られていない位置（光束を構成する光線の範囲が大きい位置）」に位置すると、光走査ビームを構成する光線に対するチルト偏芯面の作用が、光線の「主走査方向の位置」により大きく異なり、光束内の光線ごとの副走査方向の屈折角度も変化し、光走査ビームに「光束のねじれ」が発生し、波面収差を劣化させる。
【０１０８】
走査レンズ５と被走査面Ｓ１、Ｓ２との間では、光走査ビームは走査レンズの主走査方向の正の屈折力により、主走査方向に絞られているので、チルト偏芯面を用いても「光束のねじれ」の発生が有効に抑制されるので、波面収差を大きく劣化させること無く走査線曲がりを補正することが可能である。
【０１０９】
このことから明らかなように、チルト偏芯面を配する位置は、なるべく被走査面に近い部位であることが良い。
【０１１０】
また、被走査面に近い位置では、各像高に集光する光走査ビームのビーム径が小さいので、チルト偏芯面の偏心量が細かく設定可能であり、走査線曲がりの良好な補正が可能となる。
【０１１１】
「チルト偏芯面」の面形状は、以下の式により表現できる。
【０１１２】
光学基準軸を含み、主走査方向に平行な平断面である「主走査断面」内の近軸曲率半径を「RY」、光学基準軸から主走査方向の距離を「Y」、副走査方向の距離を「Z」、高次係数をA、B、C、D…とし、主走査断面に直交する「副走査断面」内の近軸曲率半径を「RZ」とする。平行平板の場合は、RY、RZともに無限大（つまり屈折力を持たないほど十分大きな曲率半径）となる。また、Aの係数はゼロとなる。
【０１１３】
X(Y,Z)＝Y2・Cm／｛1+√[1-(1+K)・(Y・Cm)2]｝
+ A・Y4 + B・Y6 + C・Y8 + D・Y10 + E・Y12…
+ Cs(Y)・Z2／｛1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]｝
+(Ｆ0+Ｆ1・Y+Ｆ2・Y2+Ｆ3・Y3+Ｆ4・Y4+・・)Z        （式２）  。
【０１１４】
但し、Cm＝ 1 / RY  、  Cs(Y) ＝  1 / RZ  である。
【０１１５】
上記式中における「(Ｆ0+Ｆ1・Y+Ｆ2・Y2+Ｆ3・Y3+Ｆ4・Y4+・・)Z」の部分が、チルト量を表す部分であり、F1、F2、..が０で無いとき、チルト量は主走査方向に変化する。  
即ち、式２右辺の最終項は、副走査方向の座標：Ｚに対する１次式であり「(Ｆ0+Ｆ1・Y+Ｆ2・Y2+Ｆ3・Y3+Ｆ4・Y4+・・)」の部分が、上記１次式の係数であり、チルト角：αと
ｔａｎα＝Ｆ0+Ｆ1・Y+Ｆ2・Y2+Ｆ3・Y3+Ｆ4・Y4+・・    
の関係にある。係数部分が主走査方向の距離：Ｙにより変化するので、チルト角：αは主走査方向に変化することになる。この変化を「走査線曲がりが補正される」ように定めるのである。
【０１１６】
平行平板に対してチルト偏芯面を与えることにより、光学素子は均肉となり、材質を樹脂とした場合において成形がしやすく形状精度が向上する。実際には、特殊なチルト面を用いているため完全なる均肉とはならないが、チルト偏芯面の「副走査方向のチルト量」は小さく、成形上は平行平板と変わらず均肉であるといえる。
【０１１７】
更に、光学素子は前述のように、被走査面つまり感光体に近い位置に配置されるのが好ましく、このような構成にすると「光走査装置内にトナーや埃が入り込まないように密閉するために配置される防塵ガラス」の機能を持たせる可能となり、部品点数を増やすことなく良好な光学性能を有する光走査装置が提供可能となる。
【０１１８】
なお、先にあげた走査レンズの入射面形状や、上記チルト偏芯面の形状を表現する解析表現は、式１や式２に限定されるものではなく、同一の面形状を別の形状式を用いて特定することも可能である。
【０１１９】
以上、２つの光走査ビームにより２つの被走査部（被走査面Ｓ１、Ｓ２）を同時に光走査する場合の実施の形態を説明した。
【０１２０】
この発明の光走査装置を用いて、フルカラー用の４つの被走査面に同時の光走査を行わせる場合は、上に説明した光走査装置を２つ、感光体の配列方向へ並列的に配置すればよいが、光走査装置の中で比較的コストの高い回転多面鏡を共通化し、この回転多面鏡の回転軸を挟むようにして、互いに逆の側に位置する偏向反射面に光走査ビームを２つづつ斜入射するようにしても良い。
【０１２１】
この時は、全ての光走査ビームの斜入射角（回転軸に直交する平面に対する角）を同一にすることで、従来４〜８枚用いていた走査レンズを２枚に低減しつつ、良好な光学特性と小型化、低コスト化を達成することが可能である。
【０１２２】
図６に、画像形成装置の実施の１形態を示す。  
この画像形成装置は、光走査装置として直上で述べた、回転多面鏡を共用するタイプのものを用いる「タンデム型フルカラーレーザプリンタ」である。
【０１２３】
図６において、装置内の下部側に給紙カセット１３が配置され、その上部に、搬送ベルト１７が設けられている。  
搬送ベルト１７の上側には、光導電性でドラム状に形成された感光体７Ｙ、７Ｍ、７Ｃ、７Ｋが、回転軸を図面に直交する方向にして右側から順次配置されている。上記符号７Ｙ〜７ＫにおけるＹはイエロー、Ｍはマゼンタ、Ｃはシアン、Ｋは黒を意味する。これらＹ〜Ｋを付された他の符号においても、同様である。
【０１２４】
即ち、感光体７Ｙは「カラー画像を構成する色成分画像としてのイエロー画像」を形成するものであり、感光体７Ｍ、７Ｃ、７Ｋは、それぞれマゼンタ画像、シアン画像、黒画像を形成するためのものである。
【０１２５】
感光体７Ｙ、７Ｍ、７Ｃ、７Ｋは全て、ドラム径を同一として形成され、各々の周囲には電子写真プロセスに従って各プロセスを実行するプロセス機材が感光体回転方向に順に配設されている。  
感光体７Ｙの場合を例に採ると、感光体７Ｙの周囲に、帯電チャージャ８Ｙ、現像装置１０Ｙ、転写チャージャ１１Ｙ、クリーニング装置１２Ｙが、時計回りの上記順序で配設されている。他の感光体７Ｍ、７Ｃ、７Ｋについても同様である。  
感光体７Ｙ〜７Ｋの上部には、光走査装置３０が配置されている。  
光走査装置３０は、図１、図２に即して説明した実施の形態のものを２組、光偏向器であるポリゴンミラーを共通化して、偏向反射面の回転軸を挟むようにして組み合わせたものである。
【０１２６】
光走査装置３０は、イエロー画像〜黒画像の画像データにより信号化された光走査ビームにより、核感光体７Ｙ〜７Ｋを、帯電チャージャと現像装置との間の光走査部で光走査を行う。
【０１２７】
光偏向器であるポリゴンミラーは、４本の光走査ビームに共通化され、図の右方において斜入射方式による２本の光走査ビームが、感光体７Ｙ、７Ｍを光走査し、図の左方において斜入射方式による２本の光走査ビームが、感光体７Ｃ、７Ｋを光走査する。  
走査レンズは、感光体７Ｙ、７Ｍを光走査する光走査ビームに共通化された１枚と、感光体７Ｃ、７Ｋを光走査する光走査ビームに共通化された１枚の２枚である。
【０１２８】
搬送ベルト１７の周囲には、感光体７Ｙよりも上流側（右側）に位置させてレジストローラ１６と、ベルト帯電チャージャ２０が設けられ、感光体７Ｋよりもベルト１７の回転方向下流側に位置させてベルト分離チャージャ２１、除電チャージャ２２、クリーニング装置２３等がベルト回転方向に上記順序で設けられている。  
ベルト分離チャージャ２１よりも転写紙搬送方向下流側に定着装置２４が設けられ、定着後の転写紙を、排紙ローラ２５により排紙トレイ２６上に排出するようになっている。
【０１２９】
フルカラーモード（複数色モード）では、感光体７Ｙ、７Ｍ、７Ｃ、７Ｋに対して帯電チャージャによる帯電と光走査装置３０による光走査により、各色画像に対応する静電潜像が形成される。  
これら静電潜像は、対応する現像装置により各色トナーにより現像されてトナー像となる。転写紙Ｓは、給紙カセット１３から給紙ローラ１４、搬送ローラ１５により給送され、レジストローラ１６により転写のタイミングを計って、搬送ベルト１７の上面に乗せ掛けられる。
【０１３０】
搬送ベルト１７の周面部はベルト帯電チャージャ２０により帯電されており、レジストローラ１６により乗せ掛けられた転写紙は、搬送ベルト１７の周面に静電的に吸着されて搬送され、感光体７Ｙ〜７Ｋから各色トナー画像を順次転写される。  
転写された各色トナー画像は転写紙上で重畳しフルカラー画像を形成する。形成されたフルカラー像は定着装置２４で転写紙に定着された後、排紙ローラ２５により排紙トレイ２６上に排紙される。
【０１３１】
以下、図１に示す実施の形態に即して、走査レンズ５の具体的な形状・配置の１例を説明する。
【０１３２】
光源である半導体レーザ１Ａ、１Ｂは発光波長：６５９ｎｍのものであり、これらから射出した光走査ビームをカップリングするカップリングレンズ２Ａ、２Ｂは焦点距離：２７ｍｍのものであり、各光走査ビームはこれらカップリングレンズにより「略平行光束」に変換され、副走査方向にのみ屈折力を持つシリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂにより光偏向器４の偏向反射面近傍に「主走査方向に長い線像」として結像する。
【０１３３】
シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂは、副走査方向の焦点距離：４６．６７ｍｍ（波長：６５９ｎｍ）のものである。
【０１３４】
光偏向器４は内接円半径：７ｍｍで偏向反射面数：４のポリゴンミラーである。
【０１３５】
なお、上記カップリングレンズ２Ａ、２Ｂは、光源波長：６５９ｎｍに対し、屈折率：１．６８９４を有するガラス材料である。また、シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂは、上記光源波長：６５９ｎｍに対し屈折率１．５２７１を持つ樹脂材料であり、温度変動による「線像の結像位置」の変動を補正する回折面を形成されている。
【０１３６】
走査レンズ５は副走査方向の倍率が高いことを考慮し、温度変動による「線像の結像位置の変動」が光走査に影響しないようにしたものである。
【０１３７】
光源側からポリゴンミラーへ入射する光走査ビームは、偏向反射面に対し、斜入射角：３度を持つ。偏向反射面上では、各光走査ビームの反射点は、副走査方向に約１ｍｍ離れている。即ち、各反射位置は、走査レンズ５の入射面の光学基準軸に対し各々約０．５ｍｍ副走査方向へシフトしている。偏向反射面で反射された各光走査ビームは「副走査方向に６度の開き角」をなして走査レンズ入射面へ向かう。
【０１３８】
偏向反射面には、異なる被走査面に対応する２つの光走査ビームが±３度の斜入射角で斜入射する。各光走査ビームは、図１（Ａ）の如く副走査方向から見た状態においては、走査レンズ５の入射面の光学基準軸に対し、約６８度の「主入射角」で入射している。
【０１３９】
ポリゴンミラー４から被走査面Ｓ１、Ｓ２までの領域において、走査レンズ５は、ポリゴンミラー４の回転中心から入射面までの距離が３２ｍｍである。上記回転中心から入射面の光学基準軸までの主走査方向の距離は２．９ｍｍである。
【０１４０】
走査レンズ５は、光源波長６５９ｎｍに対して１．５２７１を持つ材質により形成され、中心肉厚：１３．８ｍｍであり、射出面から被走査面Ｓ１、Ｓ２までの距離：１５４．２ｍｍとなるように配設されている。  
被走査面Ｓ１、Ｓ２から光走査レンズ側へ９０ｍｍの位置には、光学素子６Ａ、６Ｂが配置されている。
【０１４１】
光学素子６Ａ、６Ｂは厚さ：１．９ｍｍ、光源波長：６５９ｎｍに対する屈折率：１．５１４２５の平行平板の両面に後述のチルト偏芯面形状を与えたものであり、光走査装置ハウジングの防塵を兼ねている。
【０１４２】
走査レンズ５の入射面・射出面（射出面は２面で同一形状である。）を前記式１で表現したときの各パラメータの値を表１に示す。
【０１４３】
【表１】
2011100007.tif 000003
【０１４４】
走査レンズ５の各射出面の光学基準軸は、入射面の光学基準軸に対し「副走査方向に±２．５ｍｍシフト」し、副走査方向の光学基準軸間隔（図４のΔＺ）が５ｍｍとなっている。射出面は、表１に示すレンズ面形状が副走査方向に隣接する。
【０１４５】
光学素子６Ａの両面に形成されたチルト偏芯面形状を式２で現したときの各パラメータの値を表２に示す。
【０１４６】
【表２】
2011100007.tif 000004
【０１４７】
光学素子６Ｂの形状は、表２に示された形状を副走査方向に反転させた形状となることは容易に理解されるであろう。
【０１４８】
光学素子６Ａは、走査レンズの入射面の光学基準軸に対し、図１（Ｂ）に示すように、入射光に対して、副走査方向に１４度、チルト偏芯させて配置している。このチルト偏芯面を用いることで、走査線曲がり（被走査面上での副走査方向の走査位置のＰＶ値）を２０μｍ以下と小さく補正することができる。  
走査レンズ上段を透過する光走査ビームに対応する光学素子は、配置、面形状ともに走査レンズ入射面の光学基準軸を含み、光偏向器の回転軸に直交する面に対して対称的にすればよい。
【０１４９】
この具体例においては、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂとシリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂの間に、主走査方向に２．３ｍｍ、副走査方向に２．７ｍｍの矩形状開口を持つアパーチャを設けてビーム整形を行うことにより、被走査面Ｓ１、Ｓ２上に「主走査方向に約６５μｍ、副走査方向に約７０μｍ程度のサイズの良好なスポット径を持つ光スポットを得ることができる。
【符号の説明】
【０１５０】
１Ａ，１Ｂ      光源（半導体レーザ）
２Ａ，２Ｂ      カップリングレンズ
３Ａ、３Ｂ      シリンドリカルレンズ
４              光偏向器（ポリゴンミラー）
５              走査レンズ  
５０            走査レンズの入射面
５Ａ，５Ｂ      走査レンズの射出面
Ｓ１、Ｓ２      被走査面（被走査部）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１５１】
【特許文献１】特開２００３−５１１４号公報
【特許文献２】特開２００６−７２２８８号公報
【図１】
2011100007.tif 000005
【図２】
2011100007.tif 000006
【図３】
2011100007.tif 000007
【図４】
2011100007.tif 000008
【図５】
2011100007.tif 000009
【図６】
2011100007.tif 000010