(57)【要約】【課題】隣接するパターン膜同士の接触を防止する。【解決手段】基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域のうち、液滴の着弾を許可する着弾許可領域と液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域とを設定する液滴着弾領域設定工程と、基材に対して液滴吐出ヘッドを移動させながら、着弾許可領域に向けて、パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出し、パターン膜形成領域に機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、液滴着弾領域設定工程では、着弾許可領域に対して液滴吐出ヘッドの移動方向側の第１着弾禁止領域と、着弾許可領域に対して液滴吐出ヘッドの移動方向の反対側の第２着弾禁止領域とを設定するとともに、第１着弾禁止領域を、第２着弾禁止領域よりも広く設定する。【選択図】図７
2011189267.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に向けて機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドと前記基材とを相対的に移動させ、前記基材上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、
前記基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域のうち、前記液滴の着弾を許可する着弾許可領域と前記液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域とを設定する液滴着弾領域設定工程と、
前記基材に対して前記液滴吐出ヘッドを移動させながら、前記着弾許可領域に向けて、前記パターン膜の材料を含む前記機能液を前記液滴として吐出し、前記パターン膜形成領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、
前記液滴着弾領域設定工程では、
前記着弾許可領域に対して前記液滴吐出ヘッドの移動方向側の第１着弾禁止領域と、前記着弾許可領域に対して前記液滴吐出ヘッドの移動方向の反対側の第２着弾禁止領域とを設定するとともに、前記第１着弾禁止領域を、前記第２着弾禁止領域よりも広く設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記液滴着弾領域設定工程では、
前記液滴吐出ヘッドの移動方向における前記第１着弾禁止領域の幅を、前記液滴吐出ヘッドの移動方向における前記第２着弾禁止領域の幅よりも広く設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記液滴着弾領域設定工程では、
前記第１着弾禁止領域と前記第２着弾禁止領域とを、前記液滴吐出ヘッドと前記基材との相対的な移動方向に応じて設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記液滴着弾領域設定工程では、
前記液滴の尾引き部の長さに応じて前記第１着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記液滴着弾領域設定工程では、
前記液滴吐出ヘッドと前記基材とが相対的に移動した際に吐出した前記液滴が前記基材の面に着弾した形状に応じて前記第１着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン膜形成部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの製造方法では、基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域に向けて、パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出して、機能液をパターン膜形成領域に付着させる方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１４２４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のカラーフィルターの製造方法では、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら、液滴を吐出して、当該液滴を基材面に着弾させ、機能液を基材上に付着させている。ところで、液滴吐出ヘッドのノズルから機能液を液滴として吐出した際、液滴の主滴に追随して尾引き部やサテライト等が発生することがある。この場合、液滴吐出ヘッドと基材とが相対的に移動しているため、尾引き部やサテライトは、主滴が基材に着弾するタイミングよりも遅れて着弾する。その結果、尾引き部やサテライトは、主滴が着弾された位置からずれた位置に付着することになる。すなわち、所望した位置からずれた位置に付着してしまうことになる。この場合、例えば、尾引き部やサテライトが位置ずれによって区画部に乗り上がって付着してしまった場合には、隣接するパターン膜形成領域内に塗布された機能液同士が接触して混色が発生してしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法は、基材に向けて機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドと前記基材とを相対的に移動させ、前記基材上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域のうち、前記液滴の着弾を許可する着弾許可領域と前記液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域とを設定する液滴着弾領域設定工程と、前記基材に対して前記液滴吐出ヘッドを移動させながら、前記着弾許可領域に向けて、前記パターン膜の材料を含む前記機能液を前記液滴として吐出し、前記パターン膜形成領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、前記液滴着弾領域設定工程では、前記着弾許可領域に対して前記液滴吐出ヘッドの移動方向側の第１着弾禁止領域と、前記着弾許可領域に対して前記液滴吐出ヘッドの移動方向の反対側の第２着弾禁止領域とを設定するとともに、前記第１着弾禁止領域を、前記第２着弾禁止領域よりも広く設定することを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、区画されたパターン膜形成領域には、着弾許可領域と着弾禁止領域とが設定される。そして、着弾許可領域に向けて液滴吐出ヘッドから液滴が吐出される。ここで、着弾禁止領域のうち、着弾許可領域に対して液滴吐出ヘッドの移動方向側に設定された第１着弾禁止領域が、着弾許可領域に対して液滴吐出ヘッドの移動方向の反対側に設定された第２着弾禁止領域よりも広く設定される。このため、液滴吐出ヘッドと基材とが相対的に移動しながら液滴が吐出された際、液滴の主滴に追随する尾引き部やサテライト等が着弾する領域を確保することが可能となる。すなわち、液滴の主滴が着弾した後に、遅れて着弾する尾引き部やサテライト等の着弾領域が確保される。従って、尾引き部やサテライトが区画部に乗り上がって付着することがないので、隣接するパターン膜形成領域に塗布された機能液同士の接触がなく、隣接するパターン膜同士の混色不良を低減することができる。また、上記の構成では、当初の着弾許可領域の広さを変えることなく基材の移動方向に対して下流側にずらした（オフセットした）構成とも言える。従って、一回の走査でパターン膜形成領域内に塗布する所定の機能液の量を減らすことなく、生産性を維持しながら、品質を向上させることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記液滴着弾領域設定工程では、前記液滴吐出ヘッドの移動方向における前記第１着弾禁止領域の幅を、前記液滴吐出ヘッドの移動方向における前記第２着弾禁止領域の幅よりも広く設定することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、液滴吐出ヘッドの移動方向における第１着弾禁止領域の幅が、液滴吐出ヘッドの移動方向における第２着弾禁止領域の幅よりも広く設定される。このため、液滴吐出ヘッドと基材とが相対的に移動しながら液滴が吐出された際、液滴の主滴に追随する尾引き部やサテライト等の着弾する領域をパターン膜形成領域内に均等に確保することが可能となる。すなわち、液滴の主滴が着弾した後に、遅れて着弾する尾引き部分やサテライト等の着弾領域が均等に確保される。これにより、隣接するパターン膜同士の混色不良を低減することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記液滴着弾領域設定工程では、前記第１着弾禁止領域と前記第２着弾禁止領域とを、前記液滴吐出ヘッドと前記基材との相対的な移動方向に応じて設定することを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、液滴吐出ヘッドと基材の走査回数が複数の場合であっても、基材の移動方向に対して上流側の第１着弾禁止領域が、下流側の第２着弾禁止領域よりも広く設定されるため、液滴の主滴に追随する尾引き部やサテライト等の着弾する領域を確実に確保することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記液滴着弾領域設定工程では、前記液滴の尾引き部の長さに応じて前記第１着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、第１着弾禁止領域が尾引き部の長さに応じて設定されるので、確実に隣接するパターン膜の混色不良を低減することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記液滴着弾領域設定工程では、前記液滴吐出ヘッドと前記基材とが相対的に移動した際に吐出した前記液滴が前記基材の面に着弾した形状に応じて前記第１着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、第１着弾禁止領域が基材に着弾した際の形状に応じて設定されるので、確実に隣接するパターン膜の混色不良を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】カラーフィルターの構成を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図。
【図２】液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図３】液滴吐出ヘッドの構成を示す断面図。
【図４】液滴吐出装置の制御部の構成を示すブロック図。
【図５】液滴の吐出状態及び着弾状態を示す説明図。
【図６】カラーフィルターの製造方法を示すフローチャート。
【図７】カラーフィルターの製造方法を示す説明図。
【図８】カラーフィルターの製造方法を示す説明図。
【図９】液晶ディスプレイの構成を示す断面図。
【図１０】テレビ受像機の構成を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮尺を異ならせて図示している。
【００１８】
（パターン膜形成部材の構成）
まず、パターン膜形成部材の構成について説明する。なお、本実施形態では、パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの構成について説明する。図１は、カラーフィルターの構成を示し、図１（ａ）は、平面図であり、同図（ｂ）は、同図（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【００１９】
図１（ａ），（ｂ）において、カラーフィルター１は、基材１０と、基材１０の上に形成された区画部１１と、区画部１１によって区画されたパターン膜形成領域としての色素膜形成領域１６と、色素膜形成領域１６に形成されたパターン膜としての色素膜１４と、区画部１１と色素膜１４の上に形成された保護膜１８等で構成されている。
【００２０】
基材１０は、透明性を有し、一般にガラス基材が用いられるが、他にプラスチック等も使用可能であり、カラーフィルター機能として透過率、強度等の必要特性を有するものであれば特に限定されるものではない。区画部１１は、遮光性を有し、金属、樹脂等を用いることができる。
【００２１】
（液滴吐出装置の構成）
次に、カラーフィルター１の製造に用いられる液滴吐出装置の構成について説明する。図２は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。
【００２２】
図２において、液滴吐出装置３０は、色素膜１４の材料となる液状体を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド５０を有するヘッド機構部３２と、液滴吐出ヘッド５０から吐出された液滴の吐出対象である基材１０を載置するワーク機構部３３と、液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給する材料供給部３４と、液滴吐出ヘッド５０の保守を行うメンテナンス機構部３５と、これら各機構部および供給部を統括的に制御する制御部３６等を備えている。
【００２３】
液滴吐出装置３０は、床上に設置された複数の支持脚４１と、支持脚４１の上側に設置された定盤４２を備えている。定盤４２の上側には、ワーク機構部３３が定盤４２の長手方向（Ｘ軸方向）に延在するように配置されている。ワーク機構部３３の上方には、定盤４２に固定された２本の支持柱５２で支持されているヘッド機構部３２が、ワーク機構部３３と直交する方向（Ｙ軸方向）に延在して配置されている。また、定盤４２の一方の端部には、ヘッド機構部３２の液滴吐出ヘッド５０から連通して液状体を供給する材料供給部３４が配置されている。そして、ヘッド機構部３２の一方の支持柱５２近傍には、メンテナンス機構部３５がワーク機構部３３と並んでＸ軸方向に延在するように配置されている。さらに、定盤４２の下側には、制御部３６が備えられている。
【００２４】
ヘッド機構部３２は、液状体を吐出する液滴吐出ヘッド５０と、液滴吐出ヘッド５０を懸架したヘッドキャリッジ５１と、ヘッドキャリッジ５１のＹ軸方向への移動をガイドするＹ軸ガイド５３と、Ｙ軸ガイド５３の側方にＹ軸ガイド５３と平行に設置されたＹ軸リニアモーター５４等を備えている。
【００２５】
ワーク機構部３３は、ヘッド機構部３２の下方に位置し、ヘッド機構部３２とほぼ同様の構成でＸ軸方向に延在するように配置されており、基材１０を載置している載置台６１と、載置台６１の移動をガイドするＸ軸ガイド６３と、Ｘ軸ガイド６３の側方にＸ軸ガイド６３と平行に設置されたＸ軸リニアモーター６４等を備えている。
【００２６】
これらの構成により、液滴吐出ヘッド５０と基材１０とは、それぞれＹ軸方向およびＸ軸方向に往復自在に移動することができる。最初に、液滴吐出ヘッド５０の移動について説明する。液滴吐出ヘッド５０を懸架したヘッドキャリッジ５１は、Ｙ軸ガイド５３に移動可能に取り付けられている。図示しないが、ヘッドキャリッジ５１からＹ軸リニアモーター５４側へ張り出している突起部が、Ｙ軸リニアモーター５４と係合して駆動力を得ることにより、ヘッドキャリッジ５１がＹ軸ガイド５３に沿って任意の位置に移動する。同様に、載置台６１に搭載された基材１０もＸ軸方向に自在に移動する。
【００２７】
このように、液滴吐出ヘッド５０は、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動して停止し、下方にある基材１０のＸ軸方向の移動に同調して、液滴を吐出する構成となっている。Ｘ軸方向に移動する基材１０と、Ｙ軸方向に移動する液滴吐出ヘッド５０とを相対的に制御することにより、基材１０上に機能液を吐出することができる。
【００２８】
液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給する材料供給部３４は、タンク７５と、ポンプ７４と、タンク７５からポンプ７４を経て液滴吐出ヘッド５０までを接続する流路チューブ７９とを備えている。
【００２９】
図３は、液滴吐出ヘッドの構成を示す断面図である。図３に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、ノズルプレート１１５を備え、ノズルプレート１１５には、ノズル１２０が形成されている。ノズルプレート１１５の上側であってノズル１２０と相対する位置には、ノズル１２０に連通するキャビティ１１１が形成されている。そして、キャビティ１１１には、材料供給部３４から機能液が供給される。
【００３０】
キャビティ１１１の上側には、上下方向（Ｚ方向：縦振動）に振動して、キャビティ１１１内の容積を拡大縮小する振動板１１４と、上下方向に伸縮して振動板１１４を振動させる加圧手段としての圧電素子１１３が配設されている。そして、液滴吐出ヘッド５０が圧電素子１１３を制御駆動するための駆動信号を受けると、圧電素子１１３が伸張して、振動板１１４がキャビティ１１１内の容積を縮小する。その結果、ノズル１２０から縮小した容積分の機能液が液滴１２１として吐出される。なお、本実施形態では、加圧手段として、縦振動型の圧電素子１１３を用いたが、特に、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子を用いてもよい。また、圧力発生手段として、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用してもよい。さらには、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液を液滴として吐出させる構成を有する吐出ヘッドであってもよい。
【００３１】
図２に戻り、次に、メンテナンス機構部３５について説明する。メンテナンス機構部３５は、キャッピングユニット８６、ワイピングユニット８７、およびフラッシングユニット８８のメンテナンスユニットを備えている。さらに、メンテナンスユニットを載置するメンテキャリッジ８１と、メンテキャリッジ８１の移動をガイドするメンテキャリッジガイド８２と、メンテキャリッジ８１と一体の螺合部８５と、螺合部８５が螺合するボールねじ８４と、ボールねじ８４を回転させるメンテモーター８３とを備えている。これにより、メンテモーター８３が正逆回転すると、ボールねじ８４が回転し、螺合部８５を介してメンテキャリッジ８１が、Ｘ軸方向に移動する。メンテキャリッジ８１が液滴吐出ヘッド５０のメンテナンスのために移動するときには、Ｙ軸ガイド５３に沿って液滴吐出ヘッド５０が移動して、メンテナンスユニットの直上部に臨んでいる。
【００３２】
メンテナンスユニットのキャッピングユニット８６は、液滴吐出装置３０が稼動していない時に、液滴吐出ヘッド５０に密着してキャッピングし、液状体が乾燥してノズル１２０が詰まるなどの不具合が生じないようにする。ワイピングユニット８７は、液状体の連続吐出後やキャッピング時にノズル１２０に付着した液状体などを、洗浄液を含むワイピング布で拭い、全ノズルの清浄な状態を維持する。フラッシングユニット８８は、液滴吐出装置３０の稼動開始時や基材１０への加工前に、ノズル１２０から吐出される液状体を受け、ノズル１２０の吐出状態を常に良好な状態にする。
【００３３】
これらのメンテナンスユニットにより、液滴吐出装置３０の非稼動時や基材１０を交換載置している加工待ち時などに、液滴吐出ヘッド５０の状態を保全して良好な吐出状態を保つことができる。
【００３４】
次に、以上述べた構成を制御する制御部３６の構成について説明する。図４は、制御部３６の構成を示すブロック図である。制御部３６は、指令部１３０と駆動部１４０とを備え、指令部１３０は、ＣＰＵ１３２、記憶手段としてのＲＯＭ１３３、ＲＡＭ１３４および入出力インターフェース１３１からなり、ＣＰＵ１３２が入出力インターフェース１３１を介して入力される各種信号を、ＲＯＭ１３３、ＲＡＭ１３４のデータに基づき処理し、入出力インターフェース１３１を介して駆動部１４０へ制御信号を出力する。
【００３５】
駆動部１４０は、ヘッドドライバー１４１、モータードライバー１４２、ポンプドライバー１４３、メンテドライバー１４５を備えている。モータードライバー１４２は、指令部１３０の制御信号により、Ｘ軸リニアモーター６４、Ｙ軸リニアモーター５４を制御し、基材１０、液滴吐出ヘッド５０の移動を制御する。さらに、メンテモーター８３を制御してメンテナンス機構部３５の必要なユニットをメンテナンス位置へ移動させる。ヘッドドライバー１４１は、液滴吐出ヘッド５０からの液状体の吐出を制御し、モータードライバー１４２の制御と同調して、基材１０上の所定位置に吐出などが行えるようにする。また、ポンプドライバー１４３は、液状体の吐出状態に対応してポンプ７４を制御し、液滴吐出ヘッド５０への供給を最適に制御する。そして、メンテドライバー１４５は、メンテナンス機構部３５のキャッピングユニット８６、ワイピングユニット８７およびフラッシングユニット８８を制御する。
【００３６】
ここで、液滴吐出ヘッド５０から液滴１２１が吐出される状態等について説明する。図５は、液滴の吐出状態及び着弾状態を示す説明図である。
【００３７】
まず、液滴の吐出状態について説明する。図５（ａ）は、液滴吐出ヘッド５０のノズル１２０から液滴１２１が吐出された状態を示している。液滴１２１は、主滴１２１ａと、主滴１２１ａに追随して形成された尾引き部１２１ｂが形成される。また、尾引き部１２１ｂに追随してサテライト１２１ｃ等が形成される場合もある。
【００３８】
次に、液滴の着弾状態について説明する。図５（ｂ）〜（ｆ）は、吐出された液滴が基材の面に着弾する状態を示したものである。なお、図５（ｂ）〜（ｆ）では、液滴吐出ヘッド５０を固定して、基材１０をＸ軸方向に移動させた場合を例にして説明する。また、図５（ｂ）〜（ｆ）において、基材１０に着弾した液滴１２１、主滴１２１ａ、尾引き部１２１ｂ、サテライト１２１ｃを液滴１２１’、主滴１２１ａ’、尾引き部１２１ｂ’、サテライト１２１ｃ’と表している。
【００３９】
まず、図５（ｂ）では、液滴吐出ヘッド５０と基材１０とを相対的に移動させながら、基材１０に向けて液滴１２１が吐出された状態を示している。吐出された液滴１２１は、基材１０に向けて、主滴１２１ａ、尾引き部１２１ｂ、サテライト１２１ｃの順で移動する。
【００４０】
図５（ｃ）では、基材１０の表面に液滴１２１が着弾した状態を示している。図５（ｃ）に示すように、まず、主滴１２１ａが基材１０の面に着弾する。このとき、尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃは、主滴１２１ａに比べて遅れて進んでいるため、基材１０の面に着弾していない。
【００４１】
次に、図５（ｄ）に示すように、主滴１２１ａに続いて尾引き部１２１ｂが基材１０の面に着弾する。主滴１２１ａが基材１０に着弾して尾引き部１２１ｂが基材１０に着弾するまでの間、基材１０がＸ軸方向に移動しているため、尾引き部１２１ｂは、主滴１２１ａの着弾位置に対して、Ｘ軸の負方向側にずれて着弾される。換言すれば、基材１０の移動方向に対して上流側にずれて着弾される。
【００４２】
次に、図５（ｅ）に示すように、尾引き部１２１ｂに続いてサテライト１２１ｃが基材１０の面に着弾する。尾引き部１２１ｂが基材１０に着弾してサテライト１２１ｃが基材１０に着弾するまでの間、基材１０がＸ軸方向に移動しているため、サテライト１２１ｃは、尾引き部１２１ｂの着弾位置に対して、Ｘ軸の負方向側にずれて着弾される。換言すれば、基材１０の移動方向に対して上流側にずれて着弾される。また、図５（ｆ）は、図５（ｅ）の液滴１２１の着弾状態を平面視したものである。図５（ｆ）に示すように、尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃは、主滴１２１ａの着弾位置からずれた位置に着弾する。
【００４３】
以上、図５に示したように、液滴吐出ヘッド５０から吐出された液滴１２１は、主滴１２１ａの着弾位置に対して尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃの着弾位置がずれてしまう傾向にある。従って、例えば、液滴吐出ヘッド５０をカラーフィルター等の製造に適用して吐出した場合に、液滴１２１の着弾位置がずれて区画部１１上に着弾されてしまい、隣接するパターン膜形成領域に塗布された機能液と接触し、混色を起こしてしまうおそれがある。そこで、本実施形態では、このような不具合の発生を防止する。以下、パターン膜形成部材の製造方法において具体的に説明する。
【００４４】
（パターン膜形成部材の製造方法）
次に、パターン形成部材の製造方法について説明する。パターン膜形成部材の製造方法は、機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させ、基材上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域のうち、液滴の着弾を許可する着弾許可領域と前記液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域とを設定する液滴着弾領域設定工程と、着弾許可領域に向けて、パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出し、パターン膜形成領域に機能液を塗布する機能液塗布工程と、含むものである。なお、本実施形態では、パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの製造方法について説明する。図６は、カラーフィルターの製造方法を示すフローチャートである。
【００４５】
まず、基材載置工程Ｓ１では、区画部１１が形成された基材１０を液滴吐出装置３０の載置台６１上に載置する。
【００４６】
次いで、液滴着弾領域設定工程Ｓ２では、基材１０上に形成された区画部１１によって区画された色素膜形成領域１６のうち、液滴１２１の着弾を許可する着弾許可領域２０１と液滴１２１の着弾を禁止する着弾禁止領域２０２とを設定する。着弾許可領域２０１は、液滴１２１の主滴１２１ａの着弾を許可する領域である。そして、当該液滴着弾領域設定工程Ｓ２では、着弾許可領域２０１に対して液滴吐出ヘッド５０の移動方向側の第１着弾禁止領域２０２ａと、着弾許可領域２０１に対して液滴吐出ヘッド５０の移動方向の反対側の第２着弾禁止領域２０２ｂとを設定するとともに、第１着弾禁止領域２０２ａを、第２着弾禁止領域２０２ｂよりも広く設定する。さらには、液滴吐出ヘッド５０の移動方向における第１着弾禁止領域２０２ａの幅Ｗ１を、液滴吐出ヘッド５０の移動方向における第２着弾禁止領域２０２ｂの幅Ｗ２よりも広く設定する。具体的には、液滴吐出ヘッド５０と基材１０とが相対的に移動する場合、例えば、図７（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０に対して基材１０がＸ軸の正方向に移動する場合、基材１０が移動する上流側（Ｘ軸の負方向側）に第１着弾禁止領域２０２ａが設けられ、下流側（Ｘ軸の正方向側）に第２着弾禁止領域２０２ｂが設けられる。
【００４７】
なお、第１着弾禁止領域２０２ａの広さや幅は適宜設定が可能である。例えば、図５（ａ）に示した様に、液滴１２１の尾引き部１２１ｂの長さ分に応じて第１着弾禁止領域２０２ａの広さや幅Ｗ１を設定してもよい。また、図５（ｅ），（ｆ）に示した様に、液滴吐出ヘッド５０と基材１０とが相対的に移動した際に吐出した液滴１２１が基材１０の面に着弾した形状に応じて第１着弾禁止領域２０２ａの広さや幅Ｗ１を設定してもよい。
【００４８】
次いで、機能液塗布工程Ｓ３では、図８（ａ）に示すように、着弾許可領域２０１に向けて、パターン膜の材料を含む機能液を液滴１２１として吐出し、色素膜形成領域１６に機能液を塗布する。この際、図５で示したように、主滴１２１ａに追随して尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが形成される。そして、液滴吐出ヘッド５０と基材１０とが相対的に移動しながら液滴吐出するため、図８（ｂ）に示すように、基材１０の面に対する主滴１２１ａの着弾位置からずれた位置に尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが着弾する。しかしながら、本実施形態では、第１着弾禁止領域２０２ａが、尾引き部１２１ｂの長さや液滴１２１の着弾形状に応じて広く確保されているため、機能液が区画部１１上に乗り上げて付着することがないので、隣接する色素膜形成領域１６に塗布された機能液同士が接触することが無い。すなわち、混色しない。塗布された機能液は、基材１０の面に濡れ広がり、色素膜形成領域１６内が機能液で満たされる。
【００４９】
この後、さらに、同一の色素膜形成領域１６内に機能液を塗布する必要がある場合等は、液滴着弾領域設定工程Ｓ２に再度移行する。一方、機能液の塗布が終了した場合には、固化工程Ｓ４に移行する。
【００５０】
ここで、同一の色素膜形成領域１６内に機能液を塗布する必要がある場合について説明する。この場合、先に説明したように液滴着弾領域設定工程Ｓ２に移行する。そして、液滴着弾領域設定工程Ｓ２では、第１着弾禁止領域２０２ａと第２着弾禁止領域２０２ｂを再設定する。具体的には、第１着弾禁止領域２０２ａと第２着弾禁止領域２０２ｂとを液滴吐出ヘッド５０と基材１０との相対的な移動方向に応じて設定する。すなわち、図７（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０に対して基材１０がＸ軸の負方向に移動する場合、基材１０が移動する上流側（Ｘ軸の正方向側）に第１着弾禁止領域２０２ａが設けられ、下流側（Ｘ軸の負方向側）に第２着弾禁止領域２０２ｂが設けられる。
【００５１】
次に、機能液塗布工程Ｓ３に移行する。そして、図８（ｃ）に示すように、着弾許可領域２０１に向けて、パターン膜の材料を含む機能液を液滴１２１として吐出し、色素膜形成領域１６に機能液を塗布する。この際、図５で示したように、主滴１２１ａに追随して尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが形成される。そして、液滴吐出ヘッド５０と基材１０とが相対的に移動しながら液滴吐出するため、図８（ｄ）に示すように、基材１０の面に対する主滴１２１ａの着弾位置からずれた位置に尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが着弾する。しかしながら、本実施形態では、第１着弾禁止領域２０２ａが、尾引き部１２１ｂの長さや液滴１２１の着弾形状に応じて広く確保されているため、機能液が区画部１１上に乗り上げて付着することがないので、隣接する色素膜形成領域１６に塗布された機能液同士が接触することが無い。すなわち、混色しない。塗布された機能液は、基材１０の面に濡れ広がり、色素膜形成領域１６内が機能液で満たされる。
【００５２】
この後、さらに、同一の色素膜形成領域１６内に機能液を塗布する必要がある場合等は、液滴着弾領域設定工程Ｓ２に再度移行し、色素膜形成領域１６内が所望の機能液の塗布量に達するまで繰り返す。
【００５３】
そして、機能液の塗布が終了した場合には、固化工程Ｓ４に移行する。固化工程Ｓ４では、塗布された機能液を、例えば、乾燥等により固化する。これにより、パターン膜としての色素膜１４が形成される。その後、必要に応じて、区画部１１と色素膜１４の上に保護膜１８を形成する。保護膜１８の形成方法としては、スピンコート法等が用いられ、材料としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。以上、上記の製造方法によって、カラーフィルター１（図１参照）が形成される。
【００５４】
（電気光学装置）
次に、本実施形態にかかる電気光学装置について説明する。図９は、電気光学装置としての液晶ディスプレイの構成を示す断面図である。
【００５５】
図９において、液晶ディスプレイ１５０は、カラーフィルター１と、カラーフィルター１に対向して配置された素子基材１５１と、シール材１５２によって接着されたカラーフィルター１と素子基材１５１の隙間に充填された液晶１５３等で構成されている。
【００５６】
カラーフィルター１の保護膜１８の上には共通電極１６１が形成され、共通電極１６１の上には配向膜１６２が形成されている。また、基材１０の色素膜１４が形成された面の反対面には偏光板１７５が備えられている。
【００５７】
素子基材１５１は、透明性を有する基材１７０と、基材１７０の上に形成されたＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）素子１７１と、基材１７０とＴＦＴ素子１７１の上に形成された配向膜１７２等で構成されている。また、基材１７０のＴＦＴ素子１７１が形成された面の反対面には偏光板１７６が備えられている。
【００５８】
（電子機器）
次に、本実施形態にかかる電子機器について説明する。図１０は、電子機器としてのテレビ受像機の構成を示す斜視図である。図１０において、テレビ受像機１８０の表示部に液晶ディスプレイ１５０が搭載されている。
【００５９】
従って、上記の実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００６０】
色素膜形成領域１６において、液滴１２１を着弾させる着弾許可領域２０１と液滴１２１の着弾を禁止する着弾禁止領域２０２とが設定される。さらに、着弾禁止領域２０２は、液滴吐出ヘッド５０に対して相対的に移動する基材１０の上流側における区画部１１の近傍の第１着弾禁止領域２０２ａと、液滴吐出ヘッド５０に対して相対的に移動する基材１０の下流側における区画部１１の近傍の第２着弾禁止領域２０２ｂとが設定される。そして、第１着弾禁止領域２０２ａは、第２着弾禁止領域２０２ｂよりも広く設定される。これにより、液滴吐出ヘッド５０から基材１０に向けて液滴１２１を吐出した際に、液滴１２１の主滴１２１ａに追随する尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが、主滴１２１ａが着弾した位置からずれた位置に着弾されるが、尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが区画部１１上に乗り上がって着弾されることはないので、隣接する色素膜形成領域１６に塗布された機能液同士が接触しないので、混色を防止することができる。
【００６１】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００６２】
（変形例）上記の実施形態では、パターン膜形成部材としてカラーフィルター１を例として説明したが、これに限定されることなく、例えば、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）発光部材、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電部材、誘電体部材等についても適用することができる。
【符号の説明】
【００６３】
１…パターン膜形成部材としてのカラーフィルター、１０…基材、１１…区画部、１４…パターン膜としての色素膜、１６…パターン膜形成領域としての色素膜形成領域、３０…液滴吐出装置、５０…液滴吐出ヘッド、１２１…液滴、１２１ａ…主滴、１２１ｂ…尾引き部、１２１ｃ…サテライト、１５０…電気光学装置としての液晶ディスプレイ、１８０…電子機器としてのテレビ受像機、２０１…着弾許可領域、２０２…着弾禁止領域、２０２ａ…第１着弾禁止領域、２０２ｂ…第２着弾禁止領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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