(57)【要約】      （修正有）【課題】太陽光に晒される環境下においても使用できる耐光性を有する光書込型表示媒体及び光書込型表示装置を提供する。【解決手段】光書込型表示媒体１００は、光透過性を有する一対の電極２，８と、書込光照射側から順に下部電荷発生層３Ｃ／電荷輸送層３Ｂ／上部電荷発生層３Ａの３層構造を有する光スイッチング層３と、メモリ性を有する表示層７とを備え、電荷輸送層３Ｂは、電荷輸送材料として下記一般式で示される化合物を含む。2011043585.tif 000009【選択図】図１
2011043585.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する一対の電極と、
前記一対の電極間に設けられ、電荷発生層及び電荷輸送層を含む複層型の光スイッチング層と、
前記一対の電極のうち書込光照射側とは逆側の電極と前記光スイッチング層との間に設けられ、メモリ性を有する表示層とを備えた光書込型表示媒体であって、
前記電荷輸送層は、電荷輸送材料として下記一般式（１）で示される化合物を２種類以上含むことを特徴とする光書込型表示媒体。
【化１】
2011043585.tif 000007
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を表す。Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立にメチル基、又はエチル基を表す。Ｒ１およびＲ２はそれぞれ複数でも良い。ｐは０又は１を表す。）
【請求項２】
前記電荷輸送層が、前記一般式（１）で示される化合物（ｐ＝１）を２種類以上含むことを特徴とする請求項１に記載の光書込型表示媒体。
【請求項３】
前記電荷輸送層が、前記一般式（１）で示される化合物（ｐ＝１）として、下記構造式（II−１）で示される化合物（前記一般式（１）においてＲ１及びＲ３＝水素原子、Ｒ２及びＲ４＝エチル基）、及び下記構造式（II−２）で示される化合物（前記一般式（１）においてＲ１及びＲ３＝メチル基、Ｒ２及びＲ４＝エチル基）を含むことを特徴とする請求項２に記載の光書込型表示媒体。
【化２】
2011043585.tif 000008
【請求項４】
前記構造式（II−１）で示される化合物と、前記構造式（II−２）で示される化合物の含有比が、１：３〜３：１であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光書込型表示媒体。
【請求項５】
前記電荷発生層は、電荷発生材料としてジブロモアントアントロンを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光書込型表示媒体。
【請求項６】
前記複層型の光スイッチング層が、書込光照射側から順に下部電荷発生層／電荷輸送層／上部電荷発生層の３層構造を有する光スイッチング層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光書込型表示媒体。
【請求項７】
書込光照射側の前記電極よりも書込光照射側に設けられ、書込光を透過する遮光層を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光書込型表示媒体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光書込型表示媒体と、
前記表示媒体に光書込みを行う書込装置とを備えることを特徴とする光書込型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光書込型表示媒体及び光書込型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の光書込型表示媒体及び光書込型表示装置としては、例えば、少なくとも、電荷発生層と電荷輸送層とを含んで構成される複層型光スイッチング層、又は電荷発生能及び電荷輸送能を持つ単層型光スイッチング層を有する光スイッチング素子において、前記電荷輸送層、又は単層型光スイッチング層に、所定の一般式（１）で示される電荷輸送材料が含まれる光スイッチング素子と、当該光スイッチング素子と電気的に接続される機能素子（表示素子）とを備える光書込型表示媒体及び当該表示媒体を備えた光書込型表示装置が知られており、上記電荷輸送材料としては、上記一般式（１）で示される電荷輸送材料単独で用いてもよいし、他の電荷輸送材料を併用してもよいと記載されている（特許文献１参照）。
【０００３】
そして、特許文献１には、低電界での光スイッチング性を改善し、高電界から低電界まで良好にＯＮ／ＯＦＦ駆動できる光スイッチング素子を提供することを目的とする旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１８４４６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、太陽光に晒される環境下においても使用できる耐光性を有する光書込型表示媒体及び光書込型表示装置を提供することにある。特に、書込特性（書込感度、表示性能）が従来品と同等以上に良好であり、かつ、上記耐光性を有する光書込型表示媒体及び光書込型表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［１］光透過性を有する一対の電極と、
前記一対の電極間に設けられ、電荷発生層及び電荷輸送層を含む複層型の光スイッチング層と、
前記一対の電極のうち書込光照射側とは逆側の電極と前記光スイッチング層との間に設けられ、メモリ性を有する表示層とを備えた光書込型表示媒体であって、
前記電荷輸送層は、電荷輸送材料として下記一般式（１）で示される化合物を２種類以上含むことを特徴とする光書込型表示媒体。
【化１】
2011043585.tif 000003
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を表す。Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立にメチル基、又はエチル基を表す。Ｒ１およびＲ２はそれぞれ複数でも良く、それぞれ１つ又は２つが望ましい。ｐは０又は１を表す。）
【０００７】
［２］前記電荷輸送層が、前記一般式（１）で示される化合物（ｐ＝１）を２種類以上含むことを特徴とする前記［１］に記載の光書込型表示媒体。
【０００８】
［３］前記電荷輸送層が、前記一般式（１）で示される化合物（ｐ＝１）として、下記構造式（II−１）で示される化合物（前記一般式（１）においてＲ１及びＲ３＝水素原子、Ｒ２及びＲ４＝エチル基）、及び下記構造式（II−２）で示される化合物（前記一般式（１）においてＲ１及びＲ３＝メチル基、Ｒ２及びＲ４＝エチル基）を含むことを特徴とする前記［２］に記載の光書込型表示媒体。
【化２】
2011043585.tif 000004
【０００９】
［４］前記構造式（II−１）で示される化合物と、前記構造式（II−２）で示される化合物の含有比が、１：３〜３：１であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光書込型表示媒体。
【００１０】
［５］前記電荷発生層は、電荷発生材料としてジブロモアントアントロンを含むことを特徴とする前記［１］〜［４］のいずれか１つに記載の光書込型表示媒体。
【００１１】
［６］前記複層型の光スイッチング層が、書込光照射側から順に下部電荷発生層／電荷輸送層／上部電荷発生層の３層構造を有する光スイッチング層であることを特徴とする前記［１］〜［５］のいずれか１つに記載の光書込型表示媒体。
【００１２】
［７］書込光照射側の前記電極よりも書込光照射側に設けられ、書込光を透過する遮光層を有することを特徴とする前記［１］〜［６］のいずれか１つに記載の光書込型表示媒体。
【００１３】
［８］前記［１］〜［７］のいずれか１つに記載の光書込型表示媒体と、
前記表示媒体に光書込みを行う書込装置とを備えることを特徴とする光書込型表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１〜６に係る発明によれば、太陽光に晒される環境下においても使用できる耐光性を有する光書込型表示媒体を提供することができる。特に、書込特性（書込感度、表示性能）が従来品と同等以上に良好であり、かつ、上記耐光性を有する光書込型表示媒体を提供することができる。
【００１５】
請求項７に係る発明によれば、請求項１〜５に係る発明よりも更に優れた耐光性を有する光書込型表示媒体を提供することができる。特に、書込特性（書込感度、表示性能）が従来品と同等以上に良好であり、かつ、上記耐光性を有する光書込型表示媒体を提供することができる。
【００１６】
請求項８に係る発明によれば、太陽光に晒される環境下においても使用できる耐光性を有する光書込型表示装置を提供することができる。特に、書込特性（書込感度、表示性能）が従来品と同等以上に良好であり、かつ、上記耐光性を有する光書込型表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態に係る光書込型表示媒体の構成例を示す概略図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る光書込型表示装置の構成例を示す概略図である。
【図３】光スイッチング層の電気特性評価を行うための回路図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（光書込型表示媒体の構成）
図１は、本発明の実施の形態に係る光書込型表示媒体の構成例を示す概略図である。
【００１９】
本発明の実施の形態に係る光書込型表示媒体１００は、光照射側から順に、外部遮光層１０、光照射側基板１、電極２、光スイッチング層３（下部電荷発生層３Ｃ／電荷輸送層３Ｂ／上部電荷発生層３Ａ）、隔離層４、接着層５、内部遮光層６、表示層７、電極８、及び表示側基板９とを有して構成されている。ここで、内部遮光層６は接着層５と表示層７の間に形成する代わりに、隔離層４と接着層５の間に形成されている構成でもよい。あるいは、いずれの場合にも、隔離層４のない構成でもよい。以下、光書込型表示媒体１００の各部の構成について説明する。なお、「光照射」とは、特に断らない限り、「書込光の照射」を意味する。
【００２０】
（光照射側基板１、表示側基板９）
光照射側基板１及び表示側基板９は、各層を基板間に保持し、表示媒体１００の構造を維持する。当該基板１及び９は、必ずしも設ける必要はないが、表示媒体１００の形状保持や表面保護のために設けることが望ましい。
【００２１】
光照射側基板１は、書込光を透過することができる光透過性の材料からなる。具体的には、ガラス、セラミック、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）等からなる基板が用いられる。フレキシブル性、成形容易性、コストの点などからＰＥＴ等からなるシート又はフィルムを用いることが望ましい。
【００２２】
表示側基板９は、光照射側基板１と同様の材料からなるが、表示の妨げとならないよう可視領域の光を実質的に透過（透過率８０％以上）する透明性を有するガラスやＰＥＴ等を用いることが望ましい。
【００２３】
これらの基板１及び９の厚みとしては、５０μｍ以上５００μｍ以下の範囲が好適である。
【００２４】
（電極２、電極８）
電極２及び電極８は、図示していない給電端子を介して印加された電圧を、電極２，８間に設けられた各層へ印加するための部材であり、導電性を有する材料からなる。
【００２５】
電極２は、書込光を透過することができる光透過性の材料からなる。具体的には、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜、金（Ａｕ）、酸化錫（ＳｎＯ２）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）等の導電性金属酸化物や、ポリピロール等の導電性高分子が用いられ、ＩＴＯ膜を用いることが望ましい。
【００２６】
電極８は、透明電極３と同様の材料からなるが、表示の妨げとならないよう可視領域の光を透過する透明性を有するＩＴＯ膜を用いることが望ましい。
【００２７】
これらの電極２及び電極８の厚みは特に限定されないが、１０ｎｍ以上１０μｍ以下の範囲が好適である。これらの電極２及び電極８は、前述の基板１及び９上に、蒸着、スパッタリング等により形成することができる。
【００２８】
（光スイッチング層３）
光スイッチング層３は、電極２及び電極８の間に設けられ、書込光照射側から順に下部電荷発生層３Ｃ、電荷輸送層３Ｂ、上部電荷発生層３Ａが積層された構造を有する。また、光スイッチング層３としては、電荷発生層及び電荷輸送層を含む複層型の光スイッチング層又は電荷発生能及び電荷輸送能を有する単層型の光スイッチング層を用いることができ、例えば、電荷発生層／電荷輸送層の積層構造等を持つ光スイッチング構造や、電荷発生層／電荷輸送層／電荷発生層／電荷輸送層／電荷発生層の積層構造等を持つ光スイッチング構造も可能である。
【００２９】
光スイッチング層３は、書込光の照射強度に応じてインピーダンス特性が変化することにより、該書込光の照射強度分布に応じた電気的特性分布を示す。すなわち、光スイッチング層３は、書込光の波長領域の光に対して感度を有し、該波長領域の光を吸収することによって、該書込光の照射強度分布に応じた電気的特性分布を示す。
【００３０】
上部電荷発生層３Ａ及び下部電荷発生層３Ｃは、書込光を吸収して電荷を発生させる機能を有するものであり、上部電荷発生層３Ａ及び下部電荷発生層３Ｃのどちらかに電荷発生材料としてジブロモアントアントロンを含むことが望ましい。上部電荷発生層３Ａ及び下部電荷発生層３Ｃの両方に電荷発生材料としてジブロモアントアントロンを含むことがより望ましい。
【００３１】
当該ジブロモアントアントロン以外の電荷発生材料としては、金属又は無金属フタロシアニン化合物、ビス及びトリスなどアゾ化合物、ペリレン化合物、スクアリリウム化合物、アズレニウム化合物、アントロン化合物、ピリリウム化合物、多環キノン化合物、インジゴ顔料、縮合芳香族系顔料、キサンテン顔料、キナクリドン顔料、シアニン色素、ピロピロール色素などの有機材料等を用いることができるが、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン等の各種フタロシアニン結晶が好適に用いられる。
【００３２】
電荷発生層３Ａ，３Ｃには、上記ジブロモアントアントロンを電荷発生材の５０質量％以上含んでいればよく、それ以外の電荷発生材を混合しても差し支えない。上記ジブロモアントアントロンを電荷発生材の６０質量％以上含むことが望ましく、８０質量％以上含むことがより望ましい。
【００３３】
上部電荷発生層３Ａと下部電荷発生層３Ｃはキャリアと自由電子の発生が同程度生じることが必要であるため、波長、光量、電圧に対し同程度の感度が必要であり、上下とも同じ材料であることが望ましいが、同程度の感度であるなら材料が異なっていても良い。
【００３４】
電荷発生層３Ａ，３Ｃの形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などドライな膜形成法のほか、電荷発生材料及びバインダー樹脂を含む溶液あるいは分散液を用いるスピンコート法、ディップ法、バーコート法、ロールコート法、キャスティング法、ブレードコーティング法、スプレーコーティング法などウェットな膜形成法が適用可能である。上記溶液又は分散液を用いる場合、当該液中の電荷発生材料およびバインダー樹脂などの固形分濃度としては、１質量％以上３０質量％以下とすることが望ましく、１．５質量％以上１５質量％以下とすることがより望ましい。
【００３５】
電荷発生層に用いるバインダー樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂（ナイロン樹脂を含む）、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂などが使用できる。ポリビニルブチラール樹脂およびポリビニルアセタール樹脂は、ジブロモアントアントロンを良好に分散可能であり、望ましいバインダー樹脂である。また、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は、ケトアルコールに可溶であり、かつ、電荷発生材料であるヒドロキシガリウムフタロシアニン等を良好に分散させるため、望ましいバインダー樹脂である。これらは単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３６】
上記溶液又は分散液の溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の環状又は鎖状のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエチレン、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、リグロイン等の鉱油、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類などが使用できる。
【００３７】
電荷発生層３Ａ，３Ｃにおける電荷発生材料とバインダー樹脂の混合比（電荷発生材料／バインダー樹脂）は、１／１０以上２０／１以下の範囲が望ましく、１／１以上１０／１以下の範囲がより望ましい。
【００３８】
電荷発生層３Ａ，３Ｃの膜厚は、１０ｎｍ以上１μｍ以下が望ましく、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下がより望ましい。
【００３９】
電荷輸送層３Ｂは、上部電荷発生層３Ａ又は下部電荷発生層３Ｃで発生した電荷が注入されて、印加された電場方向にドリフトする機能を有するものであり、電荷輸送材料として前記一般式（１）で示される化合物を２種類以上含む。電荷輸送材料として前記一般式（１）で示される化合物（ｐ＝１）を２種類以上含むことが望ましく、前記一般式（１）で示される化合物（ｐ＝１）として、前記構造式（II−１）で示される化合物（前記一般式（１）においてＲ１及びＲ３＝水素原子、Ｒ２及びＲ４＝エチル基）、及び前記構造式（II−２）で示される化合物（前記一般式（１）においてＲ１及びＲ３＝メチル基、Ｒ２及びＲ４＝エチル基）を含むことが本発明の効果をより顕著に奏する点でより望ましい。
【００４０】
また、前記構造式（II−１）で示される化合物と、前記構造式（II−２）で示される化合物の含有比が、１：３〜３：１であることが望ましく、１：２〜２：１であることがより望ましく、１：１であることが最も望ましい。
【００４１】
また、一般式（１）で示される化合物として、下記構造式（ＩＩ−３）、（ＩＩ−４）、（ＩＩ―５）で示される化合物も好ましく使用できる。これらを使用する場合も、上記範囲の含有比で用いることが望ましい。
【化３】
2011043585.tif 000005
【００４２】
電荷輸送層３Ｂには、上記化合物を電荷輸送材の５０質量％以上含んでいればよく、それ以外の電荷輸送材を混合しても差し支えない。上記化合物を電荷輸送材の６０質量％以上含むことが望ましく、８０質量％以上含むことがより望ましい。
【００４３】
電荷輸送層３Ｂの形成方法としては、前述した電荷発生層３Ａ，３Ｃの形成方法と同様の方法を適用することができる。電荷輸送材料及びバインダー樹脂を含む溶液又は分散液を用いる場合、当該液中の電荷輸送材料およびバインダー樹脂などの固形分濃度としては、５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましく、１０質量％以上２０質量％以下とすることがより望ましい。
【００４４】
電荷輸送層に用いるバインダー樹脂としては、前述した電荷発生層に用いるバインダー樹脂と同様のものを使用できるが、ポリカーボネート樹脂が電荷輸送特性、強度、柔軟性、透明性の点で望ましい。
【００４５】
溶液又は分散液の溶媒としては、例えば、前述したケトン類、環状又は鎖状のエーテル類、脂肪族ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、芳香族ハロゲン化炭化水素類などが使用できる。
【００４６】
電荷輸送層３Ｂにおける電荷輸送材料とバインダー樹脂の混合比（電荷輸送材料／バインダー樹脂）は、１／１０以上１０／１以下の範囲が望ましく、３／７以上７／３以下の範囲がより望ましい。
【００４７】
電荷輸送層３Ｂの膜厚は、０．１μｍ以上１００μｍ以下が望ましく、１μｍ以上５０μｍ以下がより望ましく、３μｍ以上２０μｍ以下が更に望ましい。
【００４８】
（機能層）
光スイッチング層３と表示層７の間には、任意の機能層を設けることができる。例えば、以下に説明する隔離層４、接着層５、内部遮光層６をそれぞれ設けることができる。あるいは、これらの複数の機能を兼ね備えた機能層を設けてもよい。このような機能層は電流の流れを著しく妨げない範囲で適用可能である。
【００４９】
（隔離層４）
隔離層４は、接着層５の材質や形成方法によっては光スイッチング層３にダメージを与えることがあることから、これを防ぐために設けられる。
【００５０】
隔離層４の材料としては、水溶性樹脂、水／有機溶剤可溶樹脂、水系のエマルジョン・ディスパージョン・ラテックスなどが利用される。隔離層４には、接着層５の接着剤に含まれる低分子非水成分や有機溶媒などの拡散を防ぐ目的があるため、有機溶媒に膨潤しにくい水溶性樹脂が最も望ましい。
【００５１】
水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロースやエチルセルロース等のアルキルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド等のポリアクリル酸エステル、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン、澱粉、カゼイン、にかわ、ゼラチン、アラビアゴム、グアーガム、アルギン酸塩、ローカストビーンガム、カラギーナン、タマリンド、ペクチンの他、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基等の親水性基を有するウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などが利用できる。
【００５２】
水／有機溶剤可溶樹脂としては、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリグリセリンや、水／有機溶剤に可溶な各種樹脂が利用できる。
【００５３】
水系のエマルジョン・ディスパージョン・ラテックスとしては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、ポリウレタン、ポリアクリレート、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリル−ブタジエンゴムなどが利用できる。
【００５４】
（接着層５）
接着層５は、基板１及び９それぞれに形成した各層を貼り合わせる際に、凹凸吸収および接着の役割を果たす目的で設けられる。
【００５５】
接着層５は、ガラス転移点の低い高分子材料からなり、熱や圧力によって貼り合わせる対象となる層（本実施の形態では隔離層４と内部遮光層６）を密着・接着させる材料が選択される。また、本実施の形態では、接着層５は、絶縁性の層として構成されることが望ましい。
【００５６】
接着層５の材料としては、アクリレート系、ウレタン系、シアノアクリレート系、シリコーン系、イソプレンなどのゴム系、エチレン−酢酸ビニル共重合体など、公知の接着剤が利用される。接着剤のタイプは、２液硬化型、熱硬化型、湿気硬化型、紫外線硬化型、ホットメルト型、感圧型（粘着剤）など特に限定されない。
【００５７】
（内部遮光層６）
内部遮光層６は、書込光と読取光とを光学分離し、相互干渉による誤動作を防ぐと共に、表示時に表示媒体１００の非表示面側（基板１側）から入射する光と表示層７に表示された表示画像を光学分離し、画質の劣化を防ぐ目的で設けられる。読取光とは、表示媒体１００の表示面側（基板９側）から表示層７を透過して内部遮光層６に入射する光であり、太陽光や室内光等が挙げられる。
【００５８】
内部遮光層６としては、具体的には、少なくとも光スイッチング層３が光感度を有する波長領域の光について、吸光度１以上の遮光性能を示すことが望ましく、吸光度２以上の遮光性能を示すことがより望ましい。それによって、表示層７を透過した光によって光スイッチング層３が誤動作を起こすことを防ぐという効果が得られる。例えば、電荷発生材料としてジブロモアントアントロンを用いている場合には４００ｎｍから５８０ｎｍの波長領域に高い吸光度を有するものが望ましく、電荷発生材料としてクロロガリウムフタロシアニンやヒドロキシガリウムフタロシアニンを用いる場合には５７０ｎｍから７００ｎｍの波長領域に高い吸光度を有するものが望ましい。
【００５９】
内部遮光層６に用いられる材料としては、所望の波長領域に遮光性能を有する素材であれば特に限定されるものではなく、顔料を分散した樹脂、染料を溶解した樹脂、染料で染色した樹脂などが利用される。この顔料としては、カーボンブラック、アニリンブラック、及び酸化クロムなどの無機顔料、アゾ顔料やフタロシアニン顔料、ピロロピロール顔料などの有機顔料が利用される。該染料としては、ニトロソ染料、ニトロ染料、スチルベンアゾ染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、キノリン染料、ポリメチン染料、チアゾール染料、インドフェノール染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、硫化染料、アミノケトン染料、アントラキノン染料、及びインジゴイド染料などが利用される。
【００６０】
これらの顔料を分散する樹脂、または染料を溶解する樹脂としては、塗布した際の塗膜に皮膜形成能を持たせるために、重合度が１０００以上３０００以下の水溶性樹脂が利用される。この水溶性樹脂としては、例えば、完全けん化又は部分けん化ポリビニルアルコール、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、水溶性ポリ（メタ）アクリル酸共重合体、ポリアルキレンオキサイド、水溶性ポリエステル、ポリエチレングリコール、及び水溶性マレイン酸樹脂等が挙げられるが、この中でもポリビニルアルコールや、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマール等のポリビニルアルコール誘導体が特に望ましい。
【００６１】
内部遮光層６の形成方法としては、スクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が挙げられる。
【００６２】
内部遮光層６の膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下とすることが望ましい。また、内部遮光層６は、絶縁性の層として構成されることが望ましい。
【００６３】
（表示層７）
表示層７は、メモリ性のある表示層７であることが望ましく、前記一対の電極２及び８のうち書込光照射側とは逆側の電極８と上部電荷発生層３Ａとの間に設けられる。
【００６４】
メモリ性のある表示層７としては、例えば、メモリ性のある液晶表示層を挙げることができる。メモリ性のある液晶とは、液晶を電圧印加により配向制御した後、電圧印加を解除した後も、一定時間、液晶の配向が保たれる特徴を持った液晶である。例えば、ポリマー分散型液晶（ＰＤＬＣ）やカイラルスメクチックＣ相等の強誘電性液晶、あるいはコレステリック液晶等である。また、これらをカプセル化した液晶層でも適用可能である。メモリ性を有する液晶は、そのメモリ性ゆえに、画像表示保持のための電力を必要とせず、また、表示媒体１００を光書込み装置から分離して使用することを可能とする。なお、メモリ性のある表示層７としては、液晶表示層以外に、エレクトロクロミック素子、電気泳動素子、電界回転素子を挙げることができる。
【００６５】
また、本実施形態においては、光スイッチング層３と表示層７とを接続する場合において、これらを前述の接着層５により一体化させて光書込型表示媒体１００とすることが好ましい。一体化させることにより光スイッチング層３と表示層７との接続を安定化させることができる。一体化した光書込型表示媒体１００は、光書込み装置から分離させることが可能となるため、表示媒体１００を、例えば配布することが可能になる。
【００６６】
（外部遮光層１０）
外部遮光層１０は、書込側の最外層として、すなわち、光照射側基板１の外側に設けられる。外部遮光層１０は、表示媒体１００の光照射側（図１中、基板１側）から表示媒体１００内へ照射する、書込みに用いられる波長以外の波長の光を吸収する目的で設けられる。このため、外部遮光層１０には、書込光を透過（望ましくは透過率８０％以上）し、書込みに利用されない光については遮光する材料を使用する。特に、光エネルギーのより高い、低波長側の光については外部遮光層で遮光することが望ましい。例えば、書込光が４３０ｎｍ〜５５０ｎｍの波長の光である場合（電荷発生材料としてジブロモアントアントロン顔料を用いる場合など）には、より短波長の光である４３０ｎｍ未満の全波長領域について、吸光度１以上（望ましくは２以上）の遮光性能を有するものが望ましい。これにより、書込に用いられる波長以外の波長の光が光スイッチング層３に照射されることが抑制される。
【００６７】
外部遮光層１０には、顔料を分散した樹脂が利用され、例えば、非水溶性の樹脂液に顔料を分散した塗液を塗布乾燥して形成される。この顔料としては、外部遮光層１０として上記遮光性能を示すものであればよく、一般的に用いられる赤色顔料（ＰＲ２５４など）や黄色顔料（ＰＹ４２、ＰＹ１３９など）等が挙げられる。これらは、単一で用いても、２種以上を混合して用いても構わない。
【００６８】
外部遮光層１０に用いられる樹脂としては、製造性や基板１との密着性が良好なことからから、非水溶性樹脂が好ましく、アルキド（フタル酸）樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂などの樹脂が利用できる。添加物として、ポリイソシアネートなどの硬化剤や増粘剤などを含んでいてもよい。
【００６９】
外部遮光層１０の形成方法としては、スクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が用いられる。塗布法においては、上記顔料を上記樹脂とともに適当な溶剤に分散又は溶解させて調整した塗布液を用いればよい。
【００７０】
外部遮光層１０の層厚は、特に限定されないが、表示媒体１００の携帯性や可撓性を損なわない範囲であることが望ましく、例えば、１μｍ以上５０μｍ以下とすることが望ましい。
【００７１】
なお、外部遮光層１０は必ずしも光書込型表示媒体１００内に積層する必要はないが、光書込型表示媒体１００に一体的に設けることが望ましい。これにより、外部遮光層１０を設けない場合に比べて、太陽光に晒される環境下においても使用できる耐光性をより顕著に発揮することができる。
【００７２】
（光書込型表示媒体の製造）
本実施の形態に係る光書込型表示媒体１００は、下記の手順で製造される。
基板１上に形成された電極２上に、下部電荷発生層３Ｃ、電荷輸送層３Ｂ、上部電荷発生層３Ａを順次積層することにより光スイッチング層３を形成する。そして、光スイッチング層３上に、隔離層４及び接着層５を順次形成した積層体Ａを形成する。あるいは、隔離層４と接着層５の間に内部遮光層６を形成する構成でもよい。
【００７３】
一方、基板９上に形成された電極８上に、表示層７及び内部遮光層６を順に形成した積層体Ｂを形成する。ここで、内部遮光層６を積層体Ａ側に形成する構成の場合には、こちら側には不要であり、表示層７まででよい。
【００７４】
次に、積層体Ａの接着層５と、積層体Ｂの内部遮光層６（あるいは表示層７）とが接触するように、積層体Ａと積層体Ｂとを重ね合わせて積層体Ｃを形成する。
【００７５】
さらに、別途、基板上に外部遮光層１０及び接着層を積層した積層体Ｄを形成し、この積層体Ｄの接着層を、上記積層体Ｃの基板１に貼り合わせることによって、表示媒体１００が製造される。積層体Ｄの基板は除去してもよい。外部遮光層を基板１に直接形成してもよい。
【００７６】
（光書込型表示装置の構成）
図２は、本発明の実施の形態に係る光書込型表示装置の構成例を示す概略図である。
【００７７】
光書込型表示装置２００は、前述の光書込型表示媒体１００と、当該表示媒体１００に光書込みを行う書込装置（少なくとも光照射部２０１、電圧印加部２０２、制御部２０３を有する）とを備える。
【００７８】
（書込装置）
書込装置は、表示媒体１００に画像を書込む装置であり、例えば、表示媒体１００に対して書込光を走査露光する露光装置（光照射部２０１）、表示媒体１００の電極２と電極８との電極間に電圧を印加する電圧印加部２０２、及び光照射部２０１と電圧印加部２０２とに電気的に接続され、これらを制御する制御部２０３を含んで構成されている。
【００７９】
露光装置（光照射部２０１）は、表示媒体１００の非表示面側から外部遮光層１０を介して光スイッチング層３へ向かって書込光を照射する光源を有する。
【００８０】
光源としては、制御部２０３からの入力信号に基づいて、表示媒体１００の光スイッチング層３へ所望の書込光（スペクトル・強度・空間周波数）を照射するものであれば、特に制限されない。なお、光源により照射される書込光としては、光スイッチング層３の吸収波長域のエネルギーが多い光であることが望ましい。具体的には、レーザービームスキャン装置、ＬＥＤアレイ、ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどの自発光素子や、液晶シャッターなどの調光素子と蛍光管、キセノンランプ、ハロゲンランプ、水銀ランプ、ＬＥＤ、ＥＬ等の発光光源との組み合わせでもよいし、液晶プロジェクター、ＤＬＰプロジェクター等の投射光学系でもよい。さらに、ＬＥＤアレイ等を走査させる走査光学系を有するものでもよく、特に限定されるものではない。
【００８１】
電圧印加部２０２は、制御部２０３からの入力信号に基づいて、表示媒体１００の電極２と電極８との電極間に、該入力信号に応じた極性及び電圧値の電圧を、該入力信号に応じた時間、印加するものであればよい。この電圧印加部２０２としては、例えばバイポーラ高電圧アンプ等が用いられる。
【００８２】
電圧印加部２０２による表示媒体１００への電圧印加は、具体的には、接触端子（給電端子）を介して、電極２及び電極８間になされる。ここで、接触端子とは、電圧印加部２０２及び電極２，８に接触して、両者の導通を行う部材であり、高い導電性を有し、電圧印加部２０２及び電極２，８との接触抵抗が小さいものが選択される。なお、接触端子は、表示媒体１００と書込装置とを分離できるように、電極２，８と、電圧印加部２０２のどちらか、あるいは両者から分離できる構造であることが望ましい。
【００８３】
制御部２０３は、図示を省略するＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）及びＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等から構成されており、ＲＯＭに格納されたプログラムにしたがって書込装置の装置各部を制御し、無線回線又は有線回線を介して外部装置等から取得した画像データに応じた画像を表示媒体１００に表示するように、露光装置（光照射部２０１）及び電圧印加部２０２を制御する。
【００８４】
表示媒体１００は、書込装置と一体化された構成であってもよいし、書込装置と分離可能に構成されていてもよい。表示媒体１００を書込装置に対して分離可能に構成する場合には、例えば、表示媒体１００を、図示を省略するスロット等に装着することで、表示媒体１００の電極２及び電極８が電圧印加部２０２から電圧印加可能に接続されると共に、表示媒体１００が、表示媒体１００の非表示面側から光スイッチング層３の電荷発生層３Ａへ向かって露光装置から書込光の照射可能な状態とされるように構成すればよい。
【００８５】
上記のように、表示媒体１００を書込装置に対して分離可能に構成した場合には、表示媒体１００のみを単体で配布することが容易とされると共に、閲覧、回覧、配布等に容易に供される。また、表示媒体１００を再度、書込装置のスロットに装着することで、新たな画像の書き込みや書き込んだ画像の消去も可能とされる。
【００８６】
（光書込型表示装置の動作）
上記のように構成された表示装置２００においては、書込対象の画像の画像データに応じて露光装置（光照射部２０１）及び電圧印加部２０２が制御部２０３により制御されることによって、表示媒体１００に画像が書き込まれる。具体的には、制御部２０３の制御によって、電圧印加部２０２から電極２及び電極８間に電圧が印加されると共に、露光装置の光源からの書込光を表示媒体１００の非表示面側から照射する。これによって、表示媒体１００に画像が書き込まれる。
【００８７】
ここで、表示媒体１００には外部遮光層１０が設けられているため、書込光は、この外部遮光層１０を介して光スイッチング層３へ向かって照射される。また、表示媒体１００に入射する太陽や蛍光灯等の光は、外部遮光層１０によって遮光されて光スイッチング層３へ到達することが抑制される。このため、耐光性に優れた表示媒体１００が提供され、光スイッチング層３の外光による光劣化が抑制される。
【００８８】
次に実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【実施例】
【００８９】
（実施例１）
図１に示す光書込型表示媒体１００を以下のとおり作製した。
まず、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（光照射側基板１）（厚さ１２５μｍ）上に形成されたＩＴＯ膜（電極２）（厚さ８００Å）上に、下部電荷発生層Ｃを形成した。電荷発生材料としてジブロモアントアントロンを用い、また、バインダー樹脂としてポリビニルブチラール（積水化学社製、エスレックＢＭ−Ｓ）を用い、これらの質量比率を８：１として、１−ブタノールを用いてダイノーミルで分散させ、１２質量％の分散液（塗布液Ａ）を調製した。上記ＩＴＯ膜上に、塗布液Ａをスピンコート法により塗布後、乾燥させ、膜厚０．１５μｍの下部電荷発生層３Ｃを形成した。
【００９０】
次に、この下部電荷発生層３Ｃの上に電荷輸送層３Ｂを形成した。具体的には、まず、電荷輸送材料として、前述の構造式（II−１）及び（II−２）で示される化合物の混合物（質量比１：１）を用い、また、バインダー樹脂として、ポリカーボネート｛ビスフェノール−Ｚ、（ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート））｝を用い、これらの質量比率を３：２として混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ２０質量％の溶液（塗布液Ｂ）を調製した。この塗布液Ｂを、下部電荷発生層３Ｃ上にスピンコート法を用いて塗布乾燥し、膜厚６．５μｍの電荷輸送層３Ｂを形成した。この電荷輸送層の表面は目視上鏡面状に平滑であり、電荷輸送材料の析出物などは見られなかった。
【００９１】
次に、この電荷輸送層３Ｂの上に、上部電荷発生層３Ａを形成した。具体的には、前記塗布液Ａを、スピンコート法を用いて塗布乾燥し、膜厚０．２５μｍの上部電荷発生層３Ａを形成した。
以上のようにして、光スイッチング層３を形成した。
【００９２】
次に、形成した光スイッチング層３の上に、隔離層４として、ポリビニルアルコール３質量％の水溶液を、スピンコート法を用いて塗布乾燥し、膜厚０．２μｍのポリビニルアルコール膜を形成した。
【００９３】
次に、２液型ポリウレタン系接着剤であるＡ５０／Ａ３１５（武田薬品工業社製  タケラック／タケネート）の酢酸ブチル溶液を塗布し、膜厚１．２μｍの接着層５を形成した。
【００９４】
以上のようにして、積層体Ａを形成した。
作製した積層体Ａの一つを用い、その接着層５と、基板に用いたのと同じＩＴＯ付きＰＥＴ基板のＩＴＯ側とを接着することにより、光スイッチング層（遮光層と接着層を含む）のみのテスト用光スイッチングセルＥとした。
【００９５】
一方、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（表示側基板９）（厚さ１２５μｍ）上に形成されたＩＴＯ膜（電極８）（厚さ８００Å）上に、表示層（液晶）７（厚さ５０μｍ）を形成した。
【００９６】
具体的には、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）８４質量部と、カイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）１０．８質量部と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）２．７質量部とを混合して、選択反射波長が６５０ｎｍであるコレステリック液晶１００部を得た。このコレステリック液晶と、多価イソシアネートとしてタケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）１０質量部と、垂直配向成分の前駆体としてオクタデカノール３部（アルドリッチ社製）とを、酢酸エチル１０００質量部中に溶解して油相組成物を調製した。これをポリビニルアルコール１質量％水溶液１００００質量部の中に投入し、ミキサーで撹拌・分散して体積平均粒径が７μｍのエマルジョンを作製した。
これにポリアリルアミン（日東紡社製）の１０％水溶液を１００質量部加え、７０℃で２時間加熱してポリウレアを壁材とするマイクロカプセルを得た。得られたマイクロカプセルを遠沈回収後、その固形成分の質量に対して１／３となる量のポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール１０質量％水溶液を加えることにより液晶含有塗布液Ｃを調整した。
【００９７】
上記ＩＴＯ膜（電極８）上に、上記塗布液Ｃをワイヤーバーで塗布することにより表示層（液晶）７（厚さ２０μｍ）を形成した。
【００９８】
次に、この表示層（液晶）７上に、内部遮光層６を形成した。
具体的には、黒色顔料であるカーボンブラックとバインダー樹脂としてのポリビニルアルコール（クラレ社製、ポバール２１７ＥＥ）を１：５の質量比率で水に分散し、１０質量％の水分散液（塗布液Ｄ）を調整した。そして、表示層（液晶）７上に、この塗布液Ｄを、アプリケーターを用いて塗布乾燥を行い、膜厚３μｍの内部遮光層６を形成した。この内部遮光層６は、４００ｎｍから７００ｎｍの可視光領域全域において吸光度が２以上であった。
【００９９】
以上のようにして、積層体Ｂを形成した。
【０１００】
次に、上記積層体Ａと上記積層体Ｂとを、接着層５と表示層７とが接するように密着させて、９０℃の加圧ゴムローラーでラミネートを行い、積層体Ｃとした。
【０１０１】
次に、外部遮光層１０を以下のようにして作製した。
顔料ＰＹ４２をアクリル樹脂の酢酸プロピル溶液に分散し、固形分濃度２０質量％の酢酸プロピル塗布液を調整した。それを、前記積層体Ｃの光照射側基板１のＰＥＴ面にギャップ１５０μｍのアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚約１５μｍの外部遮光層１０を作製し、光書込型表示媒体１００を作製した。同様にして、テスト用光スイッチングセルＥの光照射側基板１のＰＥＴ面にも同じ外部遮光層１０を形成した。
【０１０２】
（比較例１）
実施例１で作製した表示媒体１００において、電荷輸送材料として、前述の構造式（II−１）及び（II−２）で示される化合物の混合物に替えて、前述の構造式（II−１）の単独品を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で光書込型表示媒体（比較例１）、およびテスト用光スイッチングセルを作製した。
【０１０３】
（比較例２）
実施例１で作製した表示媒体１００において、電荷輸送材料として、前述の構造式（II−１）及び（II−２）で示される化合物の混合物に替えて、前述の構造式（II−２）の単独品を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で光書込型表示媒体（比較例２）、およびテスト用光スイッチングセルを作製した。
【０１０４】
（実施例２）
実施例１で作製した表示媒体１００において、電荷輸送材料として、前述の構造式（II−１）及び（II−２）で示される化合物の混合物に替えて、前述の構造式（II−１）および（II−５）の１：１混合物を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で光書込型表示媒体（実施例２）を作製した。
【０１０５】
（実施例３）
実施例１で作製した表示媒体１００において、電荷輸送材料として、前述の構造式（II−１）及び（II−２）で示される化合物の混合物に替えて、前述の構造式（II−２）および（II−５）の１：１混合物を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で光書込型表示媒体（実施例３）を作製した。
【０１０６】
（耐光性評価）
上記実施例１及び比較例１および２で作製したテスト用光スイッチングセルを用いて、以下のようにして耐光性の評価を行った。
すなわち、光スイッチング層３の下部電荷発生層３Ｃ側を以下の擬似太陽光で光暴露し、暴露時間と光スイッチング層の電気特性（下記の評価方法）の関係により、光スイッチング層の劣化状況を評価した。結果を表１に示す。
【０１０７】
＜光スイッチング層の電気特性評価＞
図３に示すように、光スイッチング層をコンデンサ（０．４７ｎＦ）とシリアル接続し、３００Ｖの電圧を１０ｍｓｅｃ印加した際のコンデンサにかかる電圧の変化を暗時、と明時（照射光波長４８０ｎｍ、１５００μＷ/ｃｍ２）で調べた。
その際の明時のパルス終端電位とパルス積分値（＝[明時積分値]-[暗時積分値]）の対イニシャルの変化率比（初期は１）により、光スイッチング層の電気特性を評価した。
【０１０８】
＜擬似太陽光仕様＞
・装置：サンテストＣＰＳ＋（東洋精機）
・照射光：キセノンランプ/約１０万ルクス
・照射時温度：２５℃
【０１０９】
＜光書込型表示媒体の表示特性＞
実施例１および比較例１および２の光書込型表示媒体の表示特性として、視感反射率Ｙによる反射率測定を積分球型分光測色計ＣＭ−２０２２（ミノルタ製）によって測定した（初期からの変化率、初期は１）。書込条件としては、書込電圧は５０Ｈｚ、６５０Ｖ、２００ｍｓとし、照射光条件は４８０ｎｍ、１５００μＷ／ｃｍ２、２００ｍｓ（同時照射）とした。
【０１１０】
【表１】
2011043585.tif 000006
【０１１１】
テスト用光スイッチングセルの評価では、実施例１のセルは、最初の６０分で初期の９０％に低下するものの、その後１８０分照射後まで全く変化しない。一方、比較例１および２のセルでは、９０分後に８０％まで低下した後は急激に特性が劣化し、１２０分照射後にはほとんど光スイッチング特性を示さなくなっている。
【０１１２】
また、光書込型表示媒体の反射率評価でも、実施例１の表示媒体は１８０分照射後も初期の９０％を保っているのに対し、比較例１および２ではほとんど書込ができなくなっている。なお、初期の反射率Ｙは約３５％以上であり、コントラスト比も８以上と良好であった。
【０１１３】
以上のことから、実施例１は、比較例１および２と比較して疑似太陽光に対する耐光性が大幅に向上していることがわかる。
【０１１４】
同様に、実施例２の光書込型表示媒体の初期反射率および疑似太陽光１８０分照射後の反射率を測定したところ、初期反射率３５％、初期コントラスト８と良好であり、照射後の反射率の変化率比も８５％と良好であった。
【０１１５】
また、同様に、実施例３の光書込型表示媒体の初期反射率および疑似太陽光１８０分照射後の反射率を測定したところ、初期反射率３５％、初期コントラスト８と良好であり、照射後の反射率の変化率比も６０％と良好であった。
【０１１６】
なお、比較例１および２の光書込型表示媒体は疑似太陽光の下では劣化が速かったものの、数１００ルックス程度のオフィス光の下で使用する範囲内では劣化の問題はなく、十分安定に使用できるものであった。
【符号の説明】
【０１１７】
１…光照射側基板、２…電極、３…光スイッチング層、３Ａ…上部電荷発生層、３Ｂ…電荷輸送層、３Ｃ…下部電荷発生層、４…隔離層、５…接着層、６…内部遮光層、７…表示層、８…電極、９…表示側基板、１０…外部遮光層、１００…光書込型表示媒体、２００…光書込型表示装置、２０１…光照射部、２０２…電圧印加部、２０３…制御部
【図１】
2011043585.tif 000010
【図２】
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【図３】
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