(57)【要約】【課題】相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部の小型化を図ることができる光走査装置を提供する。【解決手段】光源は、長方形の領域内において、４行８列の行列の各点に配置され、夫々がビームを放射する。偏向器は、複数のビームＢを偏向する。複数の光源は、例えば、１行２列の点に位置する光源が放射したビームと２行１列の点に位置する前記光源が放射したビームとが、感光体ドラムにおいて副走査方向に隣り合う２本の走査線上を走査されるように、配置されている。Ｌ＋１回目の走査時において１行１列の点に位置する光源が放射したビームが走査される走査線Ｓ１は、Ｌ回目の走査時において１行１列の点に位置する光源が放射したビームが走査される走査線Ｓ１と４行６列の点に位置する光源が放射したビームが走査される走査線Ｓ２４とに挟まれた領域内を通過している。【選択図】図３
2011043754.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のビームが主走査方向に走査される感光体を備えた画像形成装置に用いられる光走査装置において、
平行四辺形状の領域内において、Ｍ行Ｎ列の行列の各点に配置されている複数の光源であって、夫々が前記ビームを放射する複数の光源と、
前記複数のビームを偏向する偏向手段と、
を備え、
前記複数の光源は、ｍ行ｎ列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームとｍ−１行ｎ＋１列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームとが、前記感光体において副走査方向に隣り合う２本の走査線上を走査されるように、配置されており、
前記複数の光源によるＬ＋１回目の走査時において１行１列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームが走査される走査線は、該複数の光源によるＬ回目の走査時において１行１列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームが走査される走査線とＭ行Ｎ列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームが走査される走査線とに挟まれた領域内を通過していること、
を特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記複数の光源は、前記感光体において同一走査線上に位置していないこと、
を特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記複数の光源によるＬ回目の走査時において前記複数のビームが通過する走査線と、該複数の光源によるＬ＋１回目の走査時において該複数のビームが通過する走査線とは、重なっていないこと、
を特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項４】
Ｍ及びＮはそれぞれ、４以上の整数であること、
を特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項５】
前記複数の光源が放射した前記ビームが走査される走査線は、副走査方向に並ぶ第１のグループないし第Ｍ＋Ｎ−１のグループに分けられ、
第１のグループないし第Ｎのグループにはそれぞれ、１本ないしＮ本の前記走査線が属し、
第Ｎ＋１のグループないし第Ｍ−１のグループにはそれぞれ、Ｎ本の前記走査線が属し、
第Ｍのグループないし第Ｍ＋Ｎ−１のグループにはそれぞれ、Ｎ本ないし１本の前記走査線が属し、
同一のグループに属する前記走査線の間隔は、前記感光体において副走査方向に隣り合う２本の前記走査線の間隔と等しいこと、
を特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関し、より特定的には、感光体に対して複数のビームを同時に照射する光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の光走査装置として、例えば、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置が知られている。図１０は、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置の光源部５００における発光源５０２の配列を示した図である。
【０００３】
特許文献１に記載のマルチビーム走査装置の光源部５００では、図１０に示すように、４行８列の行列状に複数の発光源５０２が配置されている。そして、複数の光源部５００は、同一走査線上に位置しないように、その長辺が主走査方向に対して僅かに傾いた状態で配置されている。更に、１行目に属する８つの発光源５０２の内、偶数列に属する４つの発光源５０２は、発光しない非発光源である。同様に、４行目に属する８つの発光源５０２の内、奇数列に属する４つの発光源５０２は、発光しない非発光源である。以上のような光源部５００を有する特許文献１に記載のマルチビーム走査装置では、以下に説明するように、相反則不軌による濃度むらを抑制しつつ、複数のビームを同時に感光体に対して照射することができる。
【０００４】
より詳細には、一般的な光走査装置では、複数のビームを感光体に同時に照射する場合には、例えば、Ｌ回目の走査においてビームが照射される領域とＬ＋１回目の走査においてビームが照射される領域とが重ならないようにする。しかしながら、一般的な光走査装置では、Ｌ回目の走査における副走査方向の最も下流側近傍に位置する走査線の濃度が、二重露光による相反則不軌によって、他の走査線の濃度よりも濃くなってしまう。すなわち、濃度むらが発生する。このように、一箇所の走査線において集中して相反則不軌による濃度むらが発生すると、濃度変化が急峻であるために、１本の筋としてユーザに視認されやすい。
【０００５】
そこで、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置では、Ｌ回目の走査における４行目の４つの発光源５０２が放射したビームによる走査線の間に、Ｌ＋１回目の走査における１行目の４つの発光源５０２が放射したビームによる走査線を位置させている。すなわち、Ｌ回目の走査においてビームが照射される領域の一部と、Ｌ＋１回目の走査においてビームが照射される領域の一部とを重ねている。
【０００６】
前記のように、２つの領域の一部を重ねることにより、Ｌ回目の走査における４行目の４つの発光源５０２が放射したビームによる４本の走査線の濃度が、相反則不軌によって他の走査線の濃度よりも濃くなる。ただし、Ｌ＋１回目の走査における１行目の４つの発光源５０２が放射したビームによる４本の走査線は、Ｌ回目の走査における４行目の４つの発光源５０２が放射したビームによる４本の走査線よりも薄い濃度を有し、かつ、Ｌ回目の走査における４行目の４つの発光源５０２が放射したビームによる４本の走査線と交互に並んでいる。その結果、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置では、一般的な光走査装置に比べて、濃度の変化が緩やかになる。よって、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置では、一般的な光走査装置に比べて、相反則不軌による濃度むらが、１本の筋としてユーザに視認されにくくなる。
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置では、１行目及び４行目の発光源５０２の一部を発光させていない。そのため、光源部５００では、３２個の発光源５０２を配置できるスペースが存在しているにもかかわらず、２４個の発光源５０２しか配置されていない。故に、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置は、光源部５００が大型化するという問題を有している。光源部５００が大型化すると、コリメータレンズ及びシリンドリカルレンズの中心部以外の周縁部もビームが通過するようになる。コリメータレンズ及びシリンドリカルレンズの周縁部は、これらの中心部に比べて収差が大きい。よって、マルチビーム走査装置では、光源部５００を小型化して、コリメータレンズ及びシリンドリカルレンズの中心部にビームを通過させることが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１６８２９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明の目的は、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部の小型化を図ることができる光走査装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一形態に係る光走査装置は、複数のビームが主走査方向に走査される感光体を備えた画像形成装置に用いられる光走査装置において、平行四辺形状の領域内において、Ｍ行Ｎ列の行列の各点に配置されている複数の光源であって、夫々が前記ビームを放射する複数の光源と、前記複数のビームを偏向する偏向手段と、を備え、前記複数の光源は、ｍ行ｎ列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームとｍ−１行ｎ＋１列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームとが、前記感光体において副走査方向に隣り合う２本の走査線上を走査されるように、配置されており、前記複数の光源によるＬ＋１回目の走査時において１行１列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームが走査される走査線は、該複数の光源によるＬ回目の走査時において１行１列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームが走査される走査線とＭ行Ｎ列の点に位置する前記光源が放射した前記ビームが走査される走査線とに挟まれた領域内を通過していること、を特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部の小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る画像形成装置の光走査装置及び感光体ドラムの外観斜視図である。
【図２】図２（ａ）は、光源部をビームの進行方向から平面視した図であり、図２（ｂ）は、感光体ドラムにおいて、光源部から放射されたビームが走査される走査線を示した図である。
【図３】Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図４】第１の変形例に係る光源部において、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図５】第２の変形例に係る光源部において、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図６】第３の変形例に係る光源部において、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図７】第４の変形例に係る光源部において、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図８】第５の変形例に係る光源部において、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図９】第６の変形例に係る光源部において、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームが走査される走査線を示した図である。
【図１０】特許文献１に記載のマルチビーム走査装置の光源部における発光源の配列を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明の一実施形態に係る光走査装置について図面を参照しながら説明する。
【００１４】
（画像形成装置の構成）
図１は、本発明の一実施形態に係る画像形成装置１０の光走査装置１２及び感光体ドラム１４の外観斜視図である。
【００１５】
画像形成装置１０は、図１に示すように、光走査装置１２及び感光体ドラム１４を備えている。なお、画像形成装置１０は、光走査装置１２及び感光体ドラム１４以外にも、現像装置、定着装置等の構成も備えているが、これらの構成は一般的な光走査装置の現像装置、定着装置等と同じであるので説明を省略する。
【００１６】
光走査装置１２は、光源部１６、コリメータレンズ１８、シリンドリカルレンズ２０、偏向器２２、走査レンズ２４，２６，２８，３０及び折り返しミラー３２を含んでいる。光源部１６は、複数のビームＢを同時に放射する。図１では、図面が煩雑になることを防止するために、ビームＢは１本だけ示してある。
【００１７】
コリメータレンズ１８は、光源部１６が放射したビームＢを略平行な光に整形する。シリンドリカルレンズ２０は、偏向器２２の反射面において線状となるように、ビームＢを集光する。
【００１８】
偏向器２２は、ポリゴンミラー及びポリゴンミラーを回転させるモーターにより構成され（図１では、モーターは図示せず）、ビームＢを偏向する。走査レンズ２４，２６，２８，３０は、偏向器２２が走査したビームＢを感光体ドラム１４の周面に結像させる。
【００１９】
感光体ドラム１４は、円筒形状をなしており、その周面が図示しない帯電器により帯電させられている。そして、ビームＢが感光体ドラム１４の周面上を主走査方向に繰り返し走査されることにより、感光体ドラム１４の周面には静電潜像が形成される。折り返しミラー３２は、走査レンズ３０を透過したビームＢを感光体ドラム１４側へと反射させる。
【００２０】
（光源部の構成）
次に、光源部１６の構成について図面を参照しながら説明する。図２（ａ）は、光源部１６をビームＢの進行方向から平面視した図であり、図２（ｂ）は、感光体ドラム１４において、光源部１６から放射されたビームＢが走査される走査線Ｓ１〜Ｓ２４を示した図である。
【００２１】
光源部１６は、図２（ａ）に示すように、基板３４及び光源３６（１，１）〜３６（４，６）により構成されている。基板３４は、長方形状をなしており、光源３６が実装される回路基板である。よって、基板３４には、光源３６に電力を供給するための配線等がプリントされている。
【００２２】
光源３６（１，１）〜３６（４，６）は、図２（ａ）に示すように、基板３４の長方形状の領域内において、４行６列の行列の各点に配置されており、夫々がビームＢを放射する。そして、基板３４は、光源３６（１，１）〜３６（４，６）が設けられた長方形状の領域の長辺が主走査方向と角度θをなすように、傾けられている。以下に、より詳細に説明する。なお、光源３６（ｍ，ｎ）とは、ｍ行ｎ列の点に位置する光源を示している。
【００２３】
複数の光源３６（１，１）〜３６（４，６）は、ｍ行ｎ列の点に位置する光源３６（ｍ，ｎ）が放射したビームＢとｍ−１行ｎ＋１列の点に位置する光源３６（ｍ−１，ｎ＋１）が放射したビームＢとが、感光体ドラム１４において副走査方向に隣り合う２本の走査線上を走査されるように、配置されている。例えば、光源３６（１，２）が放射したビームＢは、図２（ｂ）に示すように、感光体ドラム１４の周面上において、走査線Ｓ２上を走査される。また、光源３６（２，１）が放射したビームＢは、図２（ｂ）に示すように、感光体ドラム１４の周面上において、走査線Ｓ３上を走査される。走査線Ｓ２と走査線Ｓ３とは、隣り合っている。
【００２４】
更に、複数の光源３６（１，１）〜３６（４，６）は、図２（ａ）に示すように、同一走査線上に位置していない。すなわち、複数の光源３６（１，１）〜３６（４，６）は、副走査方向においてずらされて配置されている。よって、光源３６（１，１）〜３６（４，６）が放射したビームＢは、図２（ｂ）に示すように、光源３６（１，１）〜３６（４，６）の数（２４個）に相当する２４本の走査線Ｓ１〜Ｓ２４上を走査される。
【００２５】
ここで、走査線Ｓ１〜Ｓ２４の配列についてより詳細に説明する。図２（ｂ）に示すように、走査線Ｓ１〜Ｓ２４は、等間隔に並んでいない。具体的には、走査線Ｓ１〜Ｓ２４は、副走査方向に並ぶグループ１Ｇ〜グループ９Ｇに分けられる。グループ１Ｇには、１本の走査線Ｓ１が属している。グループ２Ｇには、２本の走査線Ｓ２，Ｓ３が属している。グループ３Ｇには、３本の走査線Ｓ４〜Ｓ６が属している。グループ４Ｇには、４本の走査線Ｓ７〜Ｓ１０が属している。グループ５Ｇには、４本の走査線Ｓ１１〜Ｓ１４が属している。グループ６Ｇには、４本の走査線Ｓ１５〜Ｓ１８が属している。グループ７Ｇには、３本の走査線Ｓ１９〜Ｓ２１が属している。グループ８Ｇには、２本の走査線Ｓ２２，Ｓ２３が属している。グループ９Ｇには、１本の走査線Ｓ２４が属している。すなわち、グループ１Ｇ〜グループ４Ｇでは、属する走査線の本数が１本から１本ずつ増加し、グループ５Ｇでは、４本の走査線が属し、グループ６Ｇ〜グループ９Ｇでは、属する走査線の本数が４本から１本ずつ減少している。
【００２６】
更に、同一のグループに属する走査線の間隔は、感光体ドラム１４において副走査方向に隣り合う２本の走査線の間隔ｄに等しい。また、グループ１Ｇ〜９Ｇの間の隙間１Ｈ〜８Ｈの間隔は、間隔ｄよりも大きい。具体的には、グループ１Ｇとグループ２Ｇとの隙間１Ｈの間隔は、間隔５ｄである。グループ２Ｇとグループ３Ｇとの隙間２Ｈの間隔は、間隔４ｄである。グループ３Ｇとグループ４Ｇとの隙間３Ｈの間隔は、間隔３ｄである。グループ４Ｇとグループ５Ｇとの隙間４Ｈの間隔は、間隔２ｄである。グループ５Ｇとグループ６Ｇとの隙間５Ｈの間隔は、間隔２ｄである。グループ６Ｇとグループ７Ｇとの隙間６Ｈの間隔は、間隔３ｄである。グループ７Ｇとグループ８Ｇとの隙間７Ｈの間隔は、間隔４ｄである。グループ８Ｇとグループ９Ｇとの隙間８Ｈの間隔は、間隔５ｄである。
【００２７】
ここで、走査線の配列をＭ行Ｎ列の行列に一般化して説明する。光源３６（１，１）〜３６（Ｍ，Ｎ）がＭ行Ｎ列の行列をなしている場合には、走査線は、Ｍ×Ｎ本存在することになる。そして、Ｍ×Ｎ本の走査線は、副走査方向に並ぶグループ１Ｇ〜グループＭ＋Ｎ−１Ｇに分けられる。具体的には、グループ１ＧないしグループＮＧにはそれぞれ、Ｎ本の走査線が属している。グループＮ＋１Ｇ〜グループＭ−１Ｇにはそれぞれ、Ｎ本の走査線が属している。グループＭＧ〜グループＭ＋Ｎ−１Ｇにはそれぞれ、Ｎ本ないし１本の走査線が属している。すなわち、グループ１Ｇ〜グループＭ＋Ｎ−１Ｇでは、属する走査線の本数が１本から１本ずつ増加し、グループＮ＋１Ｇ〜グループＭ−１Ｇでは、Ｎ本の走査線が属し、グループＭＧ〜グループＭ＋Ｎ−１Ｇでは、属する走査線の本数がＮ本から１本ずつ減少している。
【００２８】
（ビームの走査について）
以上のような光源部１６を用いたビームＢの走査について、以下に図面を参照しながら説明する。図３は、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。図３において、ばつ印のビームＢは、Ｌ−２回目の走査におけるビームを示しており、一点鎖線は、Ｌ−２回目の走査における走査線を示している。二重丸印のビームＢは、Ｌ−１回目の走査におけるビームを示しており、荒い点線は、Ｌ−１回目の走査における走査線を示している。白印のビームＢは、Ｌ回目の走査におけるビームを示しており、細かい点線は、Ｌ回目の走査における走査線を示している。黒印のビームＢは、Ｌ＋１回目の走査におけるビームを示しており、実線は、Ｌ＋１回目の走査における走査線を示している。
【００２９】
本実施形態に係る光走査装置１２では、図３に示すように、複数の光源３６（１，１）〜３６（４，６）によるＬ＋１回目の走査（以下、単に、Ｌ＋１回目の走査と称す）において光源３６（１，１）が放射したビームＢが走査される走査線Ｓ１は、Ｌ回目の走査において光源３６（１，１）が放射したビームＢが走査される走査線Ｓ１と４行６列の点に位置する光源３６（４，６）が放射したビームＢが走査される走査線Ｓ２４とに挟まれた領域内を通過している。すなわち、Ｌ回目の走査において複数の光源３６（１，１）〜３６（４，６）が放射したビームＢが通過する領域の一部と、Ｌ＋１回目の走査において複数の光源３６（１，１）〜３６（４，６）が放射したビームＢが通過する領域の一部とが重なっている。ただし、Ｌ回目の走査においてビームＢが通過する走査線Ｓ１〜Ｓ２４と、Ｌ＋１回目の走査においてビームＢが通過する走査線Ｓ１〜Ｓ２４とは、重なっていない。以下に、より具体的に説明する。
【００３０】
図２（ｂ）に示すように、Ｌ回目の走査では、全ての走査線Ｓ１〜Ｓ２４は、等間隔には並んでいない。すなわち、グループ１Ｇ〜９Ｇの間には、間隔２ｄ〜５ｄの大きさの隙間１Ｈ〜８Ｈが存在する。そこで、本実施形態に係る光走査装置１２では、Ｌ回目の走査の前後に行われるＬ−１回目の走査及びＬ＋１回目の走査によって、隙間１Ｈ〜８Ｈを補完している。
【００３１】
具体的には、図３に示すように、Ｌ−１回目の走査におけるグループ９Ｇに属する走査線Ｓ２４は、Ｌ回目の走査における隙間４Ｈに位置している。隙間４Ｈは、間隔２ｄであるので、１本の走査線Ｓ２４が位置することにより、隙間４Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。Ｌ−１回目の走査におけるグループ８Ｇに属する走査線Ｓ２２，Ｓ２３は、Ｌ回目の走査における隙間３Ｈに位置している。隙間３Ｈは、間隔３ｄであるので、２本の走査線Ｓ２２，Ｓ２３が位置することにより、隙間３Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。Ｌ−１回目の走査におけるグループ７Ｇに属する走査線Ｓ１９〜Ｓ２１は、Ｌ回目の走査における隙間２Ｈに位置している。隙間２Ｈは、間隔４ｄであるので、３本の走査線Ｓ１９〜Ｓ２１が位置することにより、隙間２Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。Ｌ−１回目の走査におけるグループ６Ｇに属する走査線Ｓ１５〜Ｓ１８は、Ｌ回目の走査における隙間１Ｈに位置している。隙間１Ｈは、間隔５ｄであるので、４本の走査線Ｓ１５〜Ｓ１８が位置することにより、隙間１Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。
【００３２】
更に、図３に示すように、Ｌ＋１回目の走査におけるグループ１Ｇに属する走査線Ｓ１は、Ｌ回目の走査における隙間５Ｈに位置している。隙間５Ｈは、間隔２ｄであるので、１本の走査線Ｓ１が位置することにより、隙間５Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。Ｌ＋１回目の走査におけるグループ２Ｇに属する走査線Ｓ２，Ｓ３は、Ｌ回目の走査における隙間６Ｈに位置している。隙間６Ｈは、間隔３ｄであるので、２本の走査線Ｓ２，Ｓ３が位置することにより、隙間６Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。Ｌ＋１回目の走査におけるグループ３Ｇに属する走査線Ｓ４〜Ｓ６は、Ｌ回目の走査における隙間７Ｈに位置している。隙間７Ｈは、間隔４ｄであるので、３本の走査線Ｓ４〜Ｓ６が位置することにより、隙間７Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。Ｌ＋１回目の走査におけるグループ４Ｇに属する走査線Ｓ７〜Ｓ１０は、Ｌ回目の走査における隙間８Ｈに位置している。隙間８Ｈは、間隔５ｄであるので、４本の走査線Ｓ７〜Ｓ１０が位置することにより、隙間８Ｈに等間隔に走査線が位置するようになる。
【００３３】
以上のように、光源３６（１，１）〜３６（４，６）によって繰り返し走査されることにより、等間隔に走査線が並んだ静電潜像を得ることができる。
【００３４】
（効果）
以上のように構成された光走査装置１２では、相反則不軌による濃度むらを低減することができる。より詳細には、光走査装置１２では、Ｌ回目の走査における隙間５Ｈ〜８Ｈのそれぞれには、Ｌ＋１回目の走査におけるグループ１Ｇ〜４Ｇが位置している。Ｌ回目の走査におけるグループ５Ｇ〜９Ｇは、Ｌ＋１回目の走査におけるグループ１Ｇ〜４Ｇに隣り合っている。よって、Ｌ回目の走査におけるグループ５Ｇ〜９Ｇに属する走査線Ｓ１１〜Ｓ２４の濃度は、相反則不軌によってＬ＋１回目の走査におけるグループ１Ｇ〜４Ｇに属する走査線Ｓ１〜Ｓ１０の濃度よりも濃くなる。
【００３５】
ただし、Ｌ＋１回目の走査におけるグループ１Ｇ〜４Ｇに属する走査線Ｓ１〜Ｓ１０の濃度は、Ｌ回目の走査におけるグループ５Ｇ〜９Ｇに属する走査線Ｓ１１〜Ｓ２４の濃度よりも薄い。更に、Ｌ＋１回目の走査におけるグループ１Ｇ〜４ＧとＬ回目の走査におけるグループ５Ｇ〜９Ｇとは副走査方向に交互に並んでいる。その結果、光走査装置１２では、一般的な光走査装置に比べて、濃度の変化が緩やかになる。その結果、光走査装置１２では、一般的な光走査装置に比べて、相反則不軌による濃度むらが、１本の筋としてユーザに視認されにくくなる。
【００３６】
また、光走査装置１２では、以下の理由によって、相反則不軌よる濃度むらを効果的に低減することができる。より詳細には、光走査装置１２では、相反則不軌により濃度が濃くなるＬ回目の走査におけるグループ５Ｇ〜９Ｇに属する走査線の本数は、副走査方向の上流側にいくにしたがって次第に多くなっている。一方、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置では、濃い走査線と薄い走査線とが１本ずつ交互に並んでいる。よって、光走査装置１２では特許文献１に記載のマルチビーム走査装置に比べて、濃度は、緩やかに変化する。その結果、光走査装置１２では、特許文献１に記載のマルチビーム走査装置に比べて、相反則不軌による濃度むらが、１本の筋としてユーザに視認されにくくなる。
【００３７】
更に、光走査装置１２では、以下に説明するように、光源部１６の小型化を図ることができる。より詳細には、光走査装置１２では、行列状に配置された光源３６（１，１）〜３６（４，６）は、主走査方向に一直線に並んでいるものが存在しない。更に、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間において、走査線Ｓ１〜Ｓ２４は重なっていない。そのため、全ての光源３６（１，１）〜３６（４，６）は、静電潜像の形成に寄与している。よって、光源部１６に無駄なスペースが発生しない。その結果、光源部１６の小型化を図ることができる。
【００３８】
以上のように構成された光走査装置１２の光源部１６の光源３６の配置は、図２に示したものに限らない。そこで、以下に、光源部１６の変形例について説明する。
【００３９】
（第１の変形例）
以下に、図面を参照しながら第１の変形例に係る光源部１６ａについて説明する。図４は、第１の変形例に係る光源部１６ａにおいて、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。
【００４０】
図４に示すように、光源部１６ａでは、複数の光源３６は、図４に示すように、４行８列の行列の各点に配置されており、夫々がビームＢを放射する。このように列の数が多くなることにより、図４に示すように、Ｌ−１回目の走査における隙間は、Ｌ−３回目の走査（図４には図示せず）、Ｌ−２回目の走査、Ｌ＋１回目の走査及びＬ＋２回目の走査によって補完されている。これにより、第１の変形例に係る光源部１６ｂが用いられた光走査装置１２では、図２の光源部１６が用いられた光走査装置１２に比べて、走査される領域の重なりが、徐々に変化するようになる。その結果、第１の変形例に係る光源部１６ｂが用いられた光走査装置１２では、図２の光源部１６が用いられた光走査装置１２に比べて、相反則不軌による濃度むらが、１本の筋としてユーザに視認されにくくなる。
【００４１】
（第２の変形例）
以下に、図面を参照しながら第２の変形例に係る光源部１６ｂについて説明する。図５は、第２の変形例に係る光源部１６ｂにおいて、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。
【００４２】
光源部１６ｂは、光源部１６ａと傾け方が異なっている。より詳細には、光源部１６ａは、基板３４（図示せず）は、光源３６が設けられた長方形状の領域の長辺が主走査方向と角度θ１をなすように、傾けられている。一方、光源部１６ｂでは、基板３４（図示せず）は、光源３６が設けられた長方形状の領域の長辺が主走査方向と角度θ２をなすように、傾けられている。角度θ２は、角度θ１よりも大きい。
【００４３】
以上のような光源部１６ｂでは、グループ３Ｇ〜９Ｇは、隙間を介することなく隣り合っている。したがって、光源部１６ｂでは、走査線Ｓ４〜Ｓ２８が連続して隣り合うように配置されている。
【００４４】
以上のような光源部１６ｂを備えた光走査装置１２においても、図２の光源部１６を備えた光走査装置１２と同様に、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部１６ｂの小型化を図ることができる。
【００４５】
（第３の変形例）
以下に、図面を参照しながら第３の変形例に係る光源部１６ｃについて説明する。図６は、第３の変形例に係る光源部１６ｃにおいて、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。
【００４６】
図６に示すように、光源部１６ｃでは、複数の光源３６は、図６に示すように、３行８列の行列の各点に配置されており、夫々がビームＢを放射する。このように列の数が多くなることにより、図６に示すように、Ｌ−１回目の走査における隙間は、Ｌ−３回目の走査（図６には図示せず）、Ｌ−２回目の走査、Ｌ＋１回目の走査及びＬ＋２回目の走査によって補完されている。これにより、第３の変形例に係る光源部１６ｃが用いられた光走査装置１２では、図２の光源部１６が用いられた光走査装置１２に比べて、走査される領域同士の重なりが大きいので、走査線の間隔を密集させることができる。
【００４７】
（第４の変形例）
以下に、図面を参照しながら第４の変形例に係る光源部１６ｄについて説明する。図７は、第４の変形例に係る光源部１６ｄにおいて、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。
【００４８】
光源部１６ｄでは、複数の光源３６は、図７に示すように、平行四辺形の領域内において３行３列の行列の各点に配置されており、夫々がビームＢを放射する。また、光源３６は、２つの正三角形を繋げてなるひし形からなる格子上に配置されている。
【００４９】
以上のような光源部１６ｄを備えた光走査装置１２においても、図２の光源部１６を備えた光走査装置１２と同様に、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部１６ｄの小型化を図ることができる。
【００５０】
また、光源部１６ｄを備えた光走査装置１２では、図２の光源部１６を備えた光走査装置１２に比べて、光源３６に隣り合っている光源３６への熱の影響を低減しつつ、光源部１６ｄの小型化を図ることができる。より詳細には、光源３６は、互いに発生する熱の影響が問題とならない最小の間隔で配置されることが望ましい。ここで、図２の光源部１６では、光源３６の周囲には、４個の光源３６が最小の間隔で配置されている。一方、図７の光源部１６ｄでは、６個の光源３６が最小の間隔で配置されている。よって、図７の光源部１６ｄでは、図２の光源部１６ｄに比べて、互いの熱の影響を低減しつつ、光源３６を密集させることができる。
【００５１】
（第５の変形例）
以下に、図面を参照しながら第５の変形例に係る光源部１６ｅについて説明する。図８は、第５の変形例に係る光源部１６ｅにおいて、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。
【００５２】
光源部１６ｅでは、複数の光源３６は、図８に示すように、平行四辺形の領域内において３行４列の行列の各点に配置されており、夫々がビームＢを放射する。また、光源３６は、２つの正三角形を繋げてなるひし形からなる格子上に配置されている。
【００５３】
以上のような光源部１６ｅでは、グループ３Ｇとグループ４Ｇとは、隙間を介することなく隣り合っている。したがって、光源部１６ｅでは、走査線Ｓ４〜Ｓ９が連続して隣り合うように配置されている。
【００５４】
以上のような光源部１６ｅを備えた光走査装置１２においても、図２の光源部１６を備えた光走査装置１２と同様に、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部１６ｅの小型化を図ることができる。
【００５５】
更に、光源部１６ｅを備えた光走査装置１２では、図８に示すように、Ｌ回目の走査における３本の走査線Ｓ１〜Ｓ３が、Ｌ−１回目の走査における走査線Ｓ１と走査線Ｓ１２とに挟まれた領域に重なっている。一方、光源部１６ｄを備えた光走査装置１２では、図７に示すように、Ｌ回目の走査における１本の走査線Ｓ１のみが、Ｌ−１回目の走査における走査線Ｓ１と走査線Ｓ９とに挟まれた領域に重なっている。よって、光源部１６ｅを備えた光走査装置１２の方が、光源部１６ｄを備えた光走査装置１２よりも、Ｌ回目の走査において走査される領域とＬ−１回目の走査において走査される領域との重なり量が大きい。その結果、光源部１６ｅを備えた光走査装置１２では、光源部１６ｄを備えた光走査装置１２に比べて、相反則不軌による濃度むらが、１本の筋としてユーザに視認されにくくなる。
【００５６】
（第６の変形例）
以下に、図面を参照しながら第６の変形例に係る光源部１６ｆについて説明する。図９は、第６の変形例に係る光源部１６ｆにおいて、Ｌ−２回目からＬ＋１回目の走査の間にビームＢが走査される走査線を示した図である。
【００５７】
光源部１６ｆでは、複数の光源３６は、図９に示すように、平行四辺形の領域内において４行４列の行列の各点に配置されており、夫々がビームＢを放射する。また、光源３６は、２つの正三角形を繋げてなるひし形からなる格子上に配置されている。
【００５８】
以上のような光源部１６ｆでは、グループ３Ｇ〜５Ｇは、隙間を介することなく隣り合っている。したがって、光源部１６ｅでは、走査線Ｓ４〜Ｓ１３が連続して隣り合うように配置されている。
【００５９】
以上のような光源部１６ｆを備えた光走査装置１２においても、図２の光源部１６を備えた光走査装置１２と同様に、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部１６ｆの小型化を図ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、光走査装置に有用であり、特に、相反則不軌による濃度むらを低減しつつ、光源部の小型化を図ることができる点において優れている。
【符号の説明】
【００６１】
Ｂ  ビーム
１Ｇ〜９Ｇ  グループ
Ｓ１〜Ｓ２８  走査線
１０  画像形成装置
１２  光走査装置
１４  感光体ドラム
１６，１６ａ〜１６ｆ  光源部
３６  光源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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