(57)【要約】【課題】注入口の断面積を増やし、かつ、液晶の注入方向を左右に促すことで、工程時間の短縮、及び、液晶パネル内における液晶の均一化を図る。【解決手段】注入口３２近傍において、左右方向に複数のスリット４１を形成した液晶表示装置。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と、
前記第一基板に対向して配置された第二基板と、
前記第一基板上に形成された保護膜と、
前記第一基板と前記第二基板との間に介在し、前記保護膜上に形成されたスペーサと、
前記第一基板と前記第二基板に挟持された液晶層と、
前記第一基板と前記第二基板を外周部において貼り合わせたシール部材と、
前記シール部材を貫通して設けられた注入口と、を備える液晶表示装置であって、
前記保護膜は前記注入口近傍において、複数のスリットが形成され、
前記複数のスリットは前記第一基板を前記注入口から平面視したとき、左右方向に広がりを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記スリットは前記第一基板を前記注入口から平面視したときの幅が２０〜２００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記スリットは前記第一基板を前記注入口から平面視したときの奥行きが０．１ｍｍ〜１．０ｍｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記スリットは屈曲部を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記スペーサは前記スリットが形成されていない前記保護膜上に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の製造においては、アレイ基板および対向基板の基板間に液晶を注入する真空注入法が用いられている。かかる方法により液晶表示装置を製造する場合、各液晶パネルの一部に液晶を注入するための注入口を設ける必要があり、かつ、通常は注入口の圧潰を防ぐため、注入口付近にスペーサを多く配置する必要がある。
【０００３】
しかし、この場合、配置されたスペーサにより、注入口から注入される液晶のスペーサ方向への浸入が阻害され、工程時間の延長を招く。
【０００４】
この問題に対応すべく、注入口近傍に、液晶注入方向に沿うようスリットを設け、液晶注入を阻害する原因を取り除く技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１４２０６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、スリットが液晶注入方向に沿う場合、左右方向への浸入が阻害される場合がある。この場合、液晶がパネル端部まで十分に広がりきらないことによる気泡残りを引き起こし、生産性を悪化させる原因となる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、第一基板と、前記第一基板に対向して配置された第二基板と、前記第一基板上に形成された保護膜と、前記第一基板と前記第二基板との間に介在し、前記保護膜上に形成されたスペーサと、前記第一基板と前記第二基板に挟持された液晶層と、前記第一基板と前記第二基板を外周部において貼り合わせたシール部材と、前記シール部材を貫通して設けられた注入口と、を備える液晶表示装置であって、前記保護膜は前記注入口近傍において、複数のスリットが形成され、前記複数のスリットは前記第一基板を前記注入口から平面視したとき、左右方向に広がりを有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
この発明によれば、注入口の圧潰を防止しつつ、かつ円滑な液晶注入を可能とする液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明による液晶表示装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本発明による液晶表示装置を示す平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線に沿う拡大断面図である。
【図４】図２のＢ−Ｂ線に沿う液晶注入時の拡大断面図である。
【図５】本発明の実施例を表す、スリットが形成された液晶注入口部分周辺の拡大平面図である。
【図６】本発明の他の実施例を表す、スリットが形成された液晶注入口部分周辺の拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明による液晶表示装置の実施の形態を、図面を参照して説明する。なお配線基板上に着色層を有するカラーフィルタ・オン・アレイ型（COA型）の液晶表示装置を例に説明する。
【００１１】
（実施の形態１）
本発明による液晶表示装置の実施の形態１を図１乃至図４を参照して説明する。また同一部分は同一符号で示す。
【００１２】
図１は本発明による液晶表示装置の構成を示す斜視図であり、図２は図１の液晶パネル部分を示す平面図である。また図３は図２のＡ−Ａ線に沿う拡大断面図であり、各着色層２４a、２４b、２４cとスルーホール１５の関係を示す。また図４は図２のＢ−Ｂ線に沿う拡大断面図であり、また液晶７０が注入される工程の様子を示す。
【００１３】
液晶表示装置は表示領域２５を有するアレイ基板１１０と、このアレイ基板１１０に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板１２０と、を備え、アレイ基板１１０下面には光源となりLED等からなるバックライトユニット１３が配置されている。
【００１４】
アレイ基板１１０はガラス等からなる基板（すなわち第一基板）１０と、この基板１０上に形成された着色層２４と図示しない配向膜を備えている。基板１０上には図示しない複数本の走査線及び走査線が多層薄膜を介して格子状に配置されている。また各走査線に沿って補助容量線が配列され、補助容量線と走査線がなすマス目上の画素開口にほぼ対応するようIndium-Tin-Oxide（以下ITOという）等の透明導電材料からなり表示領域２５を構成する画素電極３０が配設される。
【００１５】
走査線及び走査線の各交点部分には、画素電極３０を制御するためのスイッチング素子が形成され、スイッチング素子上に多層薄膜の一部である有機絶縁膜２４が皮膜されている。
【００１６】
有機絶縁膜２４はR（赤色）、G（緑色）、B（青色）のうちのいずれかのレジストによって着色され、第一着色層２４a、第二着色層２４b、第三着色層２４cを形成している。なお、有機絶縁膜２４は保護膜として、また表示領域以外（以下非表示領域という）の例えば注入口３２や表示領域周辺のスペーサ３１の土台として形成される場合もある。
【００１７】
各着色層２４a、２４b、２４c上には画素電極３０が配される。画素電極３０は各着色層２４a、２４b、２４cに形成されたスルーホール１５を介し、スイッチング素子と電気的に接続されている。
【００１８】
ここで、スイッチング素子はゲート電極１４b、ソース電極１４a、ドレイン電極１４cから構成される薄膜トランジスタ１４（以下TFTという）を用いる。ゲート電極１４bは走査線と、また、ソース電極１４aは信号線と夫々電気的に接続されている。
【００１９】
走査線と接続されたゲート電極１４bに電圧が印加されると、ソース電極１４aとドレイン電極１４c間が導通し、TFT１４が一定期間オン状態になる。この期間に画像表示に必要な信号が信号線から供給され所定のタイミングで書き込まれる。
【００２０】
ドレイン電極１４cは画素電極３０と有機絶縁膜２４の各着色層２４a、２４b、２４cに形成されたスルーホール１５を介し電気的に接続される。
【００２１】
対向基板１２０はガラス等からなる透明基板（すなわち第二基板）２１を有し、アレイ基板１１０と対向に配置されている。また、対向基板１２０は液晶層７０側にITOからなる透明電極２２と、図示しない配向膜を有する。
【００２２】
アレイ基板１１０と対向基板１２０とは表示領域２５の周縁である外周部においてシール部材２６を用いて接合され、注入口３２は液晶注入後に封止剤３３で封止される。そして、アレイ基板１１０と対向基板１２０とシール部材２６と封止剤３３とで囲まれた領域に液晶層７０が形成される。
【００２３】
シール部材２６内側にはブラックマトリクス層２７（以下BM層２７という）が遮光層として配置される。
【００２４】
アレイ基板１１０と対向基板１２０間の距離はスペーサ３１によって保持されている。スペーサ３１は樹脂からなり、所望する距離に合わせて３〜７μm程度の高さで形成されることが多い。また、注入口３２及びシール部材２６近傍にも注入口潰れを防止するために、また、外周部周辺の基板間の距離を保持するために、スペーサ３１が配置されている。
【００２５】
さらにアレイ基板１１０及び対向基板１２０の夫々液晶層７０側と反対に位置する面には図示しない偏光板が夫々配設されている。
【００２６】
以下、本実施の形態の特徴的部分である注入口３２について図５及び図６を参照し、詳細に説明する。なお同一部分は同一符号で示す。
【００２７】
図５は本発明の一つの実施例を示す、スリット４０が形成された注入口３２部分周辺の拡大平面図である。当該周辺部については、着色層２４を形成した後、遮光層の額縁２７、スペーサ３１が順次形成される。スリット４０については、着色層２４形成時にマスクによる露光処理により、着色層２４の一部分を除去することで形成する。なお、ハーフトーンマスクにより、着色層２４の一部を他の着色層２４よりも低くしてもよい。
【００２８】
スリット４０は第一基板１０を注入口３２から平面視したとき、左右方向に広がりを有するよう、複数形成されている。
【００２９】
スリット４０の幅は、本発明の効果を十分に達成するために、２０μｍから２００μｍが望ましいが、２０μｍ以下であっても、一定の効果は生じる。また、２００μｍ以上である場合、スペーサ３１の配置場所が少なくなり注入口の圧潰が起こる可能性があるが、液晶の広がりを十分に担保することはできる。
【００３０】
また、スリット４０の第一基板１０を注入口３２から平面視したときの奥行きは各製品の設計により０．１ｍｍから１．０ｍｍが望ましいが、この値を下回る、もしくは上回った場合であっても、本発明の効果を生じることはできる。
【００３１】
こうして作製したアレイ基板１１０を対向基板１２０とシール部材２６によって貼り合わせ、その後、注入口３２から液晶７０を注入する工程を行う。着色層２４に形成したスリット４０によって注入口断面積が増加し、液晶の広がりがスムースに進み、かつ左右方向に行き届いたため、短時間で均一に歩留り良く液晶注入を行うことが可能となった。具体的には、スリット４０を形成しなかった場合と比較し、５パーセント程度、液晶注入時間を短縮することができた。
【００３２】
図６は本発明の他の実施例を示すスリット４０が形成された注入口３２部分周辺の拡大平面図である。本実施例においては、スリット４０は屈曲部４１を有する。屈曲部４１により、注入口３２から直進した液晶７０の浸入方向が左右方向に促され、液晶パネル全体に均一に液晶を行き渡らせることができる。
【００３３】
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【符号の説明】
【００３４】
１０…基板
１４…スイッチング素子（薄膜トランジスタ）
１５…スルーホール
２１…透明基板
２２…透明電極
２４…着色層
２５…表示領域
２６…シール部材
２７…ブラックマトリクス（BM）層
３０…画素電極
３１…スペーサ
３２…注入口
３３…封止剤
４０…スリット
４１…屈曲部
７０…液晶層
１１０ …アレイ基板
１２０ …対向基板 
【図１】
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【図２】
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【図３】
2011221317.tif 000005
【図４】
2011221317.tif 000006
【図５】
2011221317.tif 000007
【図６】
2011221317.tif 000008