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　特願２０１１−１０６６８４「変位検出装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２４年１２月　６日出願公開、特開２０１２−２３７６４４、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　本願は、２０１１年（平成２３年）５月１１日の出願であって、その手続の経緯は以下のとおりである。
　平成２６年　７月　４日付け：拒絶理由の通知
　平成２６年　９月　３日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２７年　２月　９日付け：拒絶理由（最後の拒絶理由）の通知
　平成２７年　３月２７日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２７年　７月１６日付け：平成２７年３月２７日の手続補正について
　　　　　　　　　　　　　　　の補正却下の決定、拒絶査定
　平成２７年　９月２８日　　：審判請求書、手続補正書の提出
　平成２８年　５月２７日付け：当審拒絶理由の通知
　平成２８年　７月　８日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２８年　８月２６日付け：当審拒絶理由（最後の拒絶理由）の通知
　平成２８年１０月２４日　　：意見書、手続補正書の提出
第２　本願発明
　本願の請求項１ないし３に係る発明は、平成２８年１０月２４日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるものと認められるところ、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は以下のとおりである。
「　　【請求項１】
　台形または矩形のレリーフが形成された基板の全面を反射膜で覆ってなる回折格子と、
　可干渉光を出射する光源部と、前記光源部から出射された光束を二つの光束に分割する光束分割部と、を含み、前記二つの光束をＰ偏光として前記回折格子上に照射させる照射光学系と、
　前記二つの光束が前記回折格子により回折されることによって生じる二つの第１回折光をそれぞれ反射し、前記回折格子上にＰ偏光として再入射させるレンズとミラーとからなる反射光学系と、
　前記回折格子に再入射した二つの前記第１回折光が回折されて生じる二つの第２回折光を干渉させる干渉光学系と、
　前記干渉光学系により干渉した光を受光する受光部と、
　前記受光部において取得した干渉信号に基づいて、前記回折格子の位置情報を検出する位置情報検出部と、を備え、
　前記回折格子のレリーフの周期は、前記回折格子に入射する前記可干渉光の波長の１．５倍以下であり、
　前記レリーフの周期構造は、前記回折格子の２次元方向に形成され、
　前記２次元方向の一つの方向ごとに、前記照射光学系と前記反射光学系と前記干渉光学系と前記受光部とがそれぞれ配設され、
　前記反射光学系は、前記レンズの光軸を前記第１回折光の光軸からずらすか、あるいは前記第１回折光の光軸と一致させた前記レンズの光軸に対して前記ミラーの反射面を垂直から傾けることにより、前記第１回折光が生じた位置に対して前記回折格子の周期方向上に変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる構成であって、前記レンズの焦点が前記回折格子上に配置され、
　前記２次元方向のそれぞれの方向に配置される照射光学系、反射光学系、干渉光学系及び受光素子は、２次元方向のうちの一方の方向に配置された照射光学系、反射光学系によって前記回折格子に入射される異なる２点を接続する線分と、２次元方向のうちの他方に配置された照射光学系、反射光学系によって前記回折格子に入射される異なる２点を接続する線分とが交差するように配列される
　ことを特徴とする変位検出装置。」　
第３　原査定の理由について
１　原査定の理由の概要
　本願発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　刊行物１：特開２００６−１７７８７６号公報
　刊行物２：特開平１−２６９００２号公報
　刊行物３：特開２００７−２１８８３３号公報
　刊行物１の図１から、第１のコーナーキューブ１９１で再帰反射されて出射された光波Ｌ９が回折格子１１１へ入射する位置（以下、「位置１Ｂ」という。）と、第１のコーナーキューブ１９１へ入射する回折光Ｌ７を生成している回折格子１１１上の位置（換言すれば、光波Ｌ５が回折格子１１１へ入射している位置、以下、「位置１Ａ」という。）が、異なる位置であること、及び、第２のコーナーキューブ１９２で再帰反射されて出射された光波Ｌ１０が回折格子１１１へ入射する位置（位置１Ａ）と、第２のコーナーキューブ１９２へ入射する回折光Ｌ８を生成している回折格子１１１上の位置（換言すれば、光波Ｌ６が回折格子１１１へ入射している位置である、位置１Ｂ）が、異なる位置であることが、視認される。また、図１から、これらの位置１Ａ、１Ｂでは、光波Ｌ９及び光波Ｌ１０が回折格子１１１の格子周期Ｐに対して十分収束しているとみなせることは、当業者にとって自明なことである。
　Ｘ、Ｙの各方向毎に変位検出系を設けて、Ｘ、Ｙの２次元方向の変位を検出する技術は、本願出願前に当業者にとって周知の技術（例えば、刊行物２（特に、第３ページ左上欄第９行〜第５ページ左下欄第７行及び第１〜３図）を参照）である。
　刊行物３（特に、段落【０１０２】〜【０１１４】及び図１１〜１５を参照）には、２次元の回折格子を用いた変位検出装置において、第１の測定ラインと第２の測定ラインとが交差するように、照射（光源、レンズ等）、反射（ミラー等）、干渉（メイン偏光ビームスプリッタ）の各光学系及び光電変換器を含む受光処理系を配置する技術が、開示されている。また、刊行物３の段落【０１０５】には、「回折格子１１２は、２次元的に対称構造となっている。これにより、第１のラインＬ１上での測定中心と、第２のラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させることができる。」という技術が、開示されている。
２　原査定の理由の判断
（１）刊行物の記載事項
ア　刊行物１（特開２００６−１７７８７６号公報）の記載事項
　刊行物１には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
　
（ａ）「【０００１】
　
本発明は、変位検出装置に関する。
 
（ｂ）「【００２６】
　以下、本発明の実施の形態を図示するとともに図中の各要素に付した符号を参照して説明する。
　（第１実施形態）
　本発明の変位検出装置に係る第１実施形態について説明する。
　図１は、本発明の変位検出装置に係る第１実施形態の構成を示す図である。
　変位検出装置１００は、スケール１１０と、検出ヘッド部１２０と、を備える。
　スケール１１０は、水平に配設されており、測長方向となる長手方向に沿ってスライド移動可能に設けられている。ここで、説明の都合上、スケール１１０の長手方向（測長方向）をｘ軸とし、スケール１１０の法線方向をｚ軸とし、スケール１１０の短手方向（図１の紙面に垂直方向）をｙ軸とする。
【００２７】
　
スケール１１０において検出ヘッド部１２０に対向する面には、長手方向（ｘ軸方向）に沿って反射型の回折格子１１１が設けられている。
　
回折格子１１１の表面には偏光特性を有する金属薄膜が蒸着されており、入射光の偏光方向をそのまま維持した状態で光を反射回折する。
　回折格子１１１のピッチＰは、ブラッグの回折条件を満たす格子周期であり、使用する光の波長が可視域から近赤外域であれば、格子ピッチＰは０．４μｍ〜１．０μｍとすることが例として挙げられる。そして、このようにブラッグの回折条件を満たす回折格子１１１は、ｘｚ面内に振動方向を有する偏光（以下、Ｐ波と称する）に対して高い回折効率を示す。
【００２８】
　検出ヘッド部１２０は、発光受光部１３０と、光学デバイスユニット部１６０と、を備える。
　発光受光部１３０は、光学デバイスユニット部１６０を介してスケール１１０に向けてレーザー光（可干渉光）Ｌ１を発射する光源部１４０と、スケール１１０の回折格子１１１で回折されて光学デバイスユニット部１６０を介して合波された光Ｌ１５を受光する受光部１５０と、を備える。
　
光源部１４０は、レーザーダイオードである光源１４１およびレンズ１４２によって構成され、
　レーザー光源１４１からの光（Ｌ１）は、可視域から近赤外域の可干渉光とし、例えば赤色レーザー光（波長６５０ｎｍ近傍）とすることが例として挙げられる。
【００２９】
　受光部１５０は、回折格子１１１で回折されたのち光学デバイスユニット部１６０で合波された光（Ｌ１５）を四光波（Ｌ１９〜Ｌ２２）に分波する分波部１５１と、
分波された４つの光（Ｌ１９〜Ｌ２２）を受光する四つのフォトダイオード１５６Ａ〜１５６Ｄと、を備えている。
【００３０】
　
分波部１５１は、光学デバイスユニット部１６０で合波された光（Ｌ１５）を二光束（Ｌ１７、Ｌ１８）に分波する無偏光ビームスプリッタ１５２と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの一方の光（Ｌ１７）をさらに二光束（Ｌ１９、Ｌ２０）に分波する偏光ビームスプリッタ１５３と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの他方の光（Ｌ１８）を二光束（Ｌ２１、Ｌ２２）に分波する偏光ビームスプリッタ１５４と、無偏光ビームスプリッタ１５２と偏光ビームスプリッタ１５４との間に配置された位相差板１５５と、を備えている。
（ｃ）「【００３３】
  導波ミラー１６１は、三角柱状のプリズムであり、光源部１４０から水平に発射された光（Ｌ１）を斜め４５°下方に向けて反射（Ｌ２）するとともにスケール１１０からの反射回折光（Ｌ１５）を反射して受光部１５０に導く。
  偏光ビームスプリッタ１７０は、Ｐ波のみを透過させて、光源部１４０からのレーザー光（Ｌ１）を二光束（Ｌ３、Ｌ４）に分波する。光源部１４０からのレーザー光（Ｌ１）は４５度偏光で偏光ビームスプリッタ１７０に入射するところ、
偏光ビームスプリッタ１７０にて反射されるＳ波（−ｘ方向への光Ｌ３）と、ビームスプリッタ１７０を透過するＰ波（＋ｘ方向への光Ｌ４）
（ｄ）「【００３５】
　反射ミラー部１８０は、偏光ビームスプリッタ１７０で分波された一方の光（−ｘ方向への光Ｌ３）をスケール１１０に向けて反射（Ｌ５）する第１ミラー（光学素子）１８１と、偏光ビームスプリッタ１７０で分波された他方の光（＋ｘ方向への光Ｌ４）をスケール１１０に向けて反射（Ｌ６）する第２ミラー（光学素子）１８２と、を備える。
　第１ミラー１８１および第２ミラー１８２にて反射された光（Ｌ５、Ｌ６）は、スケール１１０上の同一点に入射する。ただし、図１中では説明の都合上、多少ずらして描いている。
　また、
本実施形態においては、例えば波長λと格子周期Ｐとがλ≒１．５９Ｐを満たす
【００３６】
　
再帰反射部１９０は、第１ミラー１８１からの入射光（Ｌ５）がスケール１１０で反射回折された回折光（Ｌ７）を再帰反射（Ｌ９）する第１コーナーキューブ（再帰反射手段）１９１と、第２ミラー１８２からの入射光（Ｌ６）がスケール１１０で反射回折された回折光（Ｌ８）を再帰反射（Ｌ１０）する第２コーナーキューブ（再帰反射手段）１９２と、を備える。
　第１コーナーキューブ１９１および第２コーナーキューブ１９２は、第１ミラー１８１および第２ミラー１８２よりもスケール１１０から離間した位置であって、かつ、偏光ビームスプリッタ１７０と第１ミラー１８１、第２ミラー１８２のそれぞれとを結ぶ線よりもスケール１１０から離間した位置に配置されている。
【００３７】
　第１ミラー１８１および第２ミラー１８２からスケール１１０に入射した入射光（Ｌ５、Ｌ６）が回折格子１１１で回折されて生じる回折光のうち、−１次の回折光（Ｌ７、Ｌ８）を再帰反射（Ｌ９、Ｌ１０）するように第１コーナーキューブ１９１および第２コーナーキューブ１９２が配置されている。
　また、第１コーナーキューブ１９１および第２コーナーキューブ１９２の内面には、偏光特性を有する金属の膜、例えば、銀、アルミニウム等の金属膜が蒸着されており、
第１、第２コーナーキューブ１９１、１９２からの再帰反射光の偏光方向は入射光の偏光方向と一致する。
【００３８】
　なお、本実施形態では、−１次の回折光（Ｌ７、Ｌ８）が出射される角度は４５°であり、すなわち、第１コーナーキューブ１９１および第２コーナーキューブ１９２から再帰される
再帰光（Ｌ９、Ｌ１０）
第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２からスケール１１０に再帰する光（Ｌ９、Ｌ１０）
【００３９】
　ここで、図２は第１実施形態の一部の斜視図であって、図２に示されるように、
コーナーキューブ（１９１、１９２）によって光（Ｌ９）が再帰されるとき、再帰光（Ｌ９）の光路は、−１次の回折光（Ｌ７）に対してスケール１１０の短手方向（ｙ方向）にシフトされる。
【００４０】
　
カバーガラス１６２は、入射光（Ｌ５、Ｌ６）に対してブルースター角に配置されており、Ｐ波のみを透過させることによってブルースター窓として機能する。
　１／２波長板１６３は、偏光ビームスプリッタ１７０を通過して導波ミラー１６１で反射された光の偏光方向を４５度回転させて受光部１５０に光（Ｌ１６）を入射させる。
【００４１】
　このような構成において、光源部１４０から発射された光が受光部１５０で受光されるまでの光路について簡単に説明する。
　
光源部１４０から発射されたレーザー光Ｌ１は、導波ミラー１６１で反射（Ｌ２）されたのち、偏光ビームスプリッタ１７０で分波され（Ｌ３、Ｌ４）、第１ミラー１８１および第２ミラー１８２で反射されてスケール１１０に入射される（Ｌ５、Ｌ６）。
　ここで、光源部１４０から発射される光（Ｌ１）は４５度の偏光で導波ミラー１６１に入射し、導波ミラー１６１からの反射光（Ｌ２）が偏光ビームスプリッタ１７０で分波されるとき、Ｐ波（Ｌ４）が透過し、Ｓ波が反射される。さらに、このＳ波は1/2波長板１７５ＡによってＰ波（Ｌ３）となる。そして、
カバーガラス１６２はＰ波だけを透過させるので、偏光ビームスプリッタ１７０からの二光波（Ｌ３、Ｌ４）がフィルタリングされて、Ｐ波のみがスケール１１０に照射される。
【００４２】
　この入射光（Ｌ５、Ｌ６）がスケール１１０で反射回折されて生じる−１次の回折光（Ｌ７、Ｌ８）が第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２により再帰反射されてスケール１１０に再度入射する（Ｌ９、Ｌ１０）。この再帰光（Ｌ９、Ｌ１０）がスケール１１０で反射回折された光（Ｌ１１、Ｌ１２）が、第１および第２ミラー１８１、１８２で反射（Ｌ１３、Ｌ１４）されて偏光ビームスプリッタ１７０で合波される。
【００４３】
　ここで、
スケール１１０の回折格子１１１には偏光特性を有する金属薄膜（例えば、アルミニウム薄膜）が蒸着されており、第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２の内面には偏光特性を有する金属膜（例えば、銀）が蒸着されているので、スケール１１０およびコーナーキューブ１９１、１９２での反射では光の偏光方向は変化せずに保たれ、スケール１１０に入射する二光波（Ｌ５、Ｌ６）がＰ波ならば、偏光ビームスプリッタに戻る光（Ｌ１３、Ｌ１４）もＰ波のままである。
　また、反射ミラー１８１、１８２で反射されて偏光ビームスプリッタ１７０へ向かう光（Ｌ１３、Ｌ１４）のうち一方（Ｌ１３）は1/2波長板１７５Ａによって偏光方向が回転されてＰ波からＳ波になるので、偏光ビームスプリッタ１７０で総て反射されることになり、他方の光（Ｌ１４）は、透明媒体１７５Ｂを介して光路長の調整は受けるが偏光方向は変化せずにＰ波のまま偏光ビームスプリッタ１７０に入射してそのまま偏光ビームスプリッタ１７０を透過する。すなわち、スケール１１０で反射回折された二光束は偏光ビームスプリッタ１７０で合波されて総て同じ方向に進行する光（Ｌ１５）となる。
【００４４】
　偏光ビームスプリッタ１７０で合波された光（Ｌ１５）は、一方がＳ波であり他方がＰ波であるところ、導波ミラー１６１で反射され、さらに１／２波長板１６３にて偏光方向
が回転されることで二光束の振動方向がそれぞれ４５回転されて45度偏光と135度偏光とからなる光（Ｌ１６）になって受光部１５０に入射する。
【００４５】
　受光部１５０では、導波ミラー１６１からの光束（Ｌ１６）がまず無偏光ビームスプリッタ１５２で分波される（Ｌ１７、Ｌ１８）。分波された光のうち一方（Ｌ１７）は偏光ビームスプリッタ１５３によってさらに分波される（Ｌ１９、Ｌ２０）。このとき、導波ミラー１６１から受光部１５０に入射する光束は４５度偏光と135度偏光とが合波された光であるので、
偏光ビームスプリッタ１５３で透過光（Ｌ１９）と反射光（Ｌ２０）とに分波されるときに互いに干渉して
　この180度位相差の二光束がそれぞれフォトダイオード１５６Ａ，１５６Ｂで受光されるので、例えば、フォトダイオード１５６Ａで正弦信号（Ｓｉｎ）が得られるとすると、フォトダイオード１５６Ｂではマイナスの正弦信号（-Ｓｉｎ）が得られる。
【００４６】
　また、無偏光ビームスプリッタ１５２で分波された他方の光（Ｌ１８）は、位相差板（1/2波長板）１５５で振動方向が90度回転されたのち偏光ビームスプリッタ１５４で分波されて（Ｌ２１、Ｌ２２）、それぞれの光束がフォトダイオード１５６Ｃ、１５６Ｄで受光される。そして、
偏光ビームスプリッタ１５４で透過光（Ｌ２１）と反射光（Ｌ２２）とに分波されるときに互いに干渉して
【００４７】
　そして、
フォトダイオード１５６Ａとフォトダイオード１５６Ｂとからの信号が差動増幅され、フォトダイオード１５６Ｃとフォトダイオード１５６Ｄとからの信号が差動増幅され、これら差動増幅された二つの信号からリサージュ図形が描かれる。このリサージュ図形の変化からスケール１１０と検出ヘッド部１２０との相対変位量が検出される。
（ｅ）「【００５１】
　このように、スケール１１０の揺動に伴う回折角変動が小さくなる結果、
スケール１１０の揺動が多少あった場合でも、＋ｘ方向の光路長と−ｘ方向の光路長とのずれが小さくなる。
　また、スケール１１０の揺動に伴う回折角変動が小さくなる結果、ビームスプリッタ１７０における回折光の合波が精密に行われ、十分な強度の干渉光が受光部１５０で受光される。すると、スケール１１０の揺動があった場合でも干渉光による受光信号のレベルが保たれるので、高精度な解析が可能になり、検出精度が維持される。
　そして、回折格子１１１での回折光の回折効率が十分に高いので、干渉光による受光信号レベルが高くなり、検出精度が向上される。」
（ｆ）【図１】および【図２】より、「回折格子１１１が矩形のレリーフ形状をしている」ことが見てとれる。
（ｇ）【図１】より、「第１コーナーキューブ１９１と第２コーナーキューブ１９２とが対称に配置されている」ことが見てとれる。
（ア）刊行物１には「変位検出装置」（【０００１】）が記載されている。
（イ）刊行物１の「スケール１１０において検出ヘッド部１２０に対向する面には、長手方向に沿って反射型の回折格子１１１が設けられている」（【００２７】）、「回折格子１１１の表面には偏光特性を有する金属薄膜が蒸着されており、入射光の偏光方向をそのまま維持した状態で光を反射回折する」（【００２７】）という記載と、上記（ｆ）とを踏まえれば、刊行物１には、「矩形のレリーフ形状をしている回折格子１１１であって、スケール１１０において検出ヘッド部１２０に対向する面に、長手方向（ｘ軸方向）に沿って設けられ、金属薄膜が蒸着された反射型の回折格子１１１」が記載されているということができる。 
（ウ）
ａ　刊行物１の「光源部１４０は、レーザーダイオードである光源１４１およびレンズ１４２によって構成され」（【００２８】）という記載より、刊行物１には、「レーザーダイオードである光源１４１およびレンズ１４２によって構成される光源部１４０」が記載されているといえる。
ｂ　刊行物１の「光源部１４０から発射されたレーザー光Ｌ１は、導波ミラー１６１で反射（Ｌ２）されたのち、偏光ビームスプリッタ１７０で分波され（Ｌ３、Ｌ４）」（【００４１】）という記載より、刊行物１には、「光源部１４０から発射されたレーザー光Ｌ１が導波ミラー１６１で反射された光波Ｌ２を光波Ｌ３と光波Ｌ４へ分波する偏光ビームスプリッタ１７０」が記載されているといえる。
ｃ　刊行物１の「レーザー光Ｌ１は、・・・（略）・・・偏光ビームスプリッタ１７０で分波され（Ｌ３、Ｌ４）、第１ミラー１８１および第２ミラー１８２で反射されてスケール１１０に入射される（Ｌ５、Ｌ６）」（【００４１】）、「カバーガラス１６２はＰ波だけを透過させるので、偏光ビームスプリッタ１７０からの二光波（Ｌ３、Ｌ４）がフィルタリングされて、Ｐ波のみがスケール１１０に照射される」（【００４１】）、「カバーガラス１６２は、入射光（Ｌ５、Ｌ６）に対してブルースター角に配置されており、Ｐ波のみを透過させる」（【００４０】）という記載より、刊行物１には、「偏光ビームスプリッタ１７０からの二光波（Ｌ３、Ｌ４）をフィルタリングして、Ｐ波のみをスケール１１０に照射する、Ｐ波だけを透過するカバーガラス１６２」が記載されているといえる。
（エ）
ａ　刊行物１の「再帰反射部１９０は、第１ミラー１８１からの入射光（Ｌ５）がスケール１１０で反射回折された回折光（Ｌ７）を再帰反射（Ｌ９）する第１コーナーキューブ（再帰反射手段）１９１と、第２ミラー１８２からの入射光（Ｌ６）がスケール１１０で反射回折された回折光（Ｌ８）を再帰反射（Ｌ１０）する第２コーナーキューブ（再帰反射手段）１９２と、を備える」（【００３６】）、「再帰光（Ｌ９、Ｌ１０）」（【００３８】）、「第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２からスケール１１０に再帰する光（Ｌ９、Ｌ１０）」（【００３８】）という記載より、刊行物１には、「回折された回折光Ｌ７を再帰反射して再帰光Ｌ９として回折格子１１１に入射させる第１コーナーキューブ１９１と、回折された回折光Ｌ８を再帰反射して再帰光Ｌ１０として回折格子１１１に入射させる第２コーナーキューブ１９２」が記載されているといえる。
ｂ　刊行物１の「第１、第２コーナーキューブ１９１、１９２からの再帰反射光の偏光方向は入射光の偏光方向と一致する」（【００３７】）、「スケール１１０の回折格子１１１には偏光特性を有する金属薄膜（例えば、アルミニウム薄膜）が蒸着されており、第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２の内面には偏光特性を有する金属膜（例えば、銀）が蒸着されているので、スケール１１０およびコーナーキューブ１９１、１９２での反射では光の偏光方向は変化せずに保たれ、スケール１１０に入射する二光波（Ｌ５、Ｌ６）がＰ波ならば、偏光ビームスプリッタに戻る光（Ｌ１３、Ｌ１４）もＰ波のままである」（【００４３】）という記載より、刊行物１には、「第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２からの再帰反射光の偏光方向はＰ波のままである」ことが記載されているといえる。
ｃ　上記ａおよびｂより、刊行物１には、「回折された回折光Ｌ７を再帰反射してＰ波のまま再帰光Ｌ９として回折格子１１１に入射させる第１コーナーキューブ１９１と、回折された光波Ｌ８を再帰反射してＰ波のまま再帰光Ｌ１０として回折格子１１１に入射させる第２コーナーキューブ１９２」が記載されているといえる。
（オ）刊行物１の「分波部１５１は、光学デバイスユニット部１６０で合波された光（Ｌ１５）を二光束（Ｌ１７、Ｌ１８）に分波する無偏光ビームスプリッタ１５２と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの一方の光（Ｌ１７）をさらに二光束（Ｌ１９、Ｌ２０）に分波する偏光ビームスプリッタ１５３と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの他方の光（Ｌ１８）を二光束（Ｌ２１、Ｌ２２）に分波する偏光ビームスプリッタ１５４と、無偏光ビームスプリッタ１５２と偏光ビームスプリッタ１５４との間に配置された位相差板１５５と、を備えている」（【００３０】）、「偏光ビームスプリッタ１５３で透過光（Ｌ１９）と反射光（Ｌ２０）とに分波されるときに互いに干渉して」（【００４５】）、「偏光ビームスプリッタ１５４で透過光（Ｌ２１）と反射光（Ｌ２２）とに分波されるときに互いに干渉して」（【００４６】）という記載から、刊行物１には、「光学デバイスユニット部１６０で合波された光（Ｌ１５）を二光束（Ｌ１７、Ｌ１８）に分波する無偏光ビームスプリッタ１５２と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの一方の光（Ｌ１７）をさらに二光束（Ｌ１９、Ｌ２０）に分波して二光束（Ｌ１９、Ｌ２０）を干渉させる偏光ビームスプリッタ１５３と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの他方の光（Ｌ１８）を二光束（Ｌ２１、Ｌ２２）に分波して二光束（Ｌ２１、Ｌ２２）を干渉させる偏光ビームスプリッタ１５４と、無偏光ビームスプリッタ１５２と偏光ビームスプリッタ１５４との間に配置された位相差板１５５と、を備えている分波部１５１」が記載されているといえる。
（カ）刊行物１の「分波された４つの光（Ｌ１９〜Ｌ２２）を受光する四つのフォトダイオード１５６Ａ〜１５６Ｄと、を備えている」（【００２９】）という記載より、刊行物１には、「分波された４つの光（Ｌ１９〜Ｌ２２）を受光する４つのフォトダイオード１５６Ａ〜１５６Ｄ」が記載されているといえる。
（キ）刊行物１の「フォトダイオード１５６Ａとフォトダイオード１５６Ｂとからの信号が差動増幅され、フォトダイオード１５６Ｃとフォトダイオード１５６Ｄとからの信号が差動増幅され、これら差動増幅された二つの信号からリサージュ図形が描かれる。このリサージュ図形の変化からスケール１１０と検出ヘッド部１２０との相対変位量が検出される」（【００４７】）という記載より、刊行物１には、「フォトダイオード１５６Ａとフォトダイオード１５６Ｂとからの信号を差動増幅し、フォトダイオード１５６Ｃとフォトダイオード１５６Ｄとからの信号を差動増幅し、これら差動増幅された二つの信号からリサージュ図形を描き、このリサージュ図形の変化からスケール１１０と検出ヘッド部１２０との相対変位量を検出する手段」が記載されているといえる。
（ク）刊行物１の「本実施形態においては、例えば波長λと格子周期Ｐとがλ≒１．５９Ｐを満たす」（【００３５】）という記載より、刊行物１には、「波長λと格子周期Ｐとがλ≒１．５９Ｐを満たす」ことが記載されているといえる。
（ケ）
ａ　刊行物１の「コーナーキューブ（１９１、１９２）によって光（Ｌ９）が再帰されるとき、再帰光（Ｌ９）の光路は、−１次の回折光（Ｌ７）に対してスケール１１０の短手方向（ｙ方向）にシフトされる」（【００３９】）、「スケール１１０において検出ヘッド部１２０に対向する面には、長手方向（ｘ軸方向）に沿って反射型の回折格子１１１が設けられている」（【００２７】）という記載より、刊行物１には、「第１コーナーキューブ１９１で再帰反射されて出射された再帰光Ｌ９が回折格子１１１へ入射する位置が、第１コーナーキューブ１９１へ入射する回折光Ｌ７を生成している回折格子１１１上の位置に対して、回折格子１１１の短手方向にシフトされる」ことが記載されているといえる。
ｂ　刊行物１には、再帰光（Ｌ１０）の光路が回折光（Ｌ８）に対してスケール１１０の短手方向（ｙ方向）にシフトされる点は明記されていないものの、刊行物１には、「偏光ビームスプリッタ１７０にて反射されるＳ波（−ｘ方向への光Ｌ３）と、ビームスプリッタ１７０を透過するＰ波（＋ｘ方向への光Ｌ４）」（【００３３】）について、「＋ｘ方向の光路長と−ｘ方向の光路長とのずれが小さくなる」（【００５１】）べきことが記載されており、上記（ｇ）のとおり「第１コーナーキューブ１９１と第２コーナーキューブ１９２とが対称に配置されている」ことも踏まえれば、刊行物１において、スケールの揺動がない場合には＋ｘ方向の光路長と−ｘ方向の光路長とは一致すべきものであり、「コーナーキューブ（１９１、１９２）によって光（Ｌ９）が再帰されるとき、再帰光（Ｌ９）の光路は、−１次の回折光（Ｌ７）に対してスケール１１０の短手方向（ｙ方向）にシフトされる」（【００３９】）という記載は、「コーナーキューブ（１９２）」、「再帰光（Ｌ１０）」および「回折光（Ｌ８）」にも当てはまるものであるといえる。
　よって、上記ａと同様に、刊行物１には、「第２コーナーキューブ１９２で再帰反射されて出射された再帰光Ｌ１０が回折格子１１１へ入射する位置が、第２コーナーキューブ１９２へ入射する回折光Ｌ８を生成している回折格子１１１上の位置に対して、回折格子１１１の短手方向にシフトされる」ことが記載されているといえる。
　したがって、上記の刊行物１に記載された事項と上記（ア）ないし（ケ）とを総合すると、刊行物１には以下の発明が記載されている（以下、「引用発明」という。）。 
　
 「矩形のレリーフ形状をしている回折格子１１１であって、スケール１１０において検出ヘッド部１２０に対向する面に、長手方向に沿って設けられ、金属薄膜が蒸着された反射型の回折格子１１１と、
　レーザーダイオードである光源１４１およびレンズ１４２によって構成される光源部１４０と、光源部１４０から発射されたレーザー光Ｌ１が導波ミラー１６１で反射された光波Ｌ２を光波Ｌ３と光波Ｌ４へ分波する偏光ビームスプリッタ１７０と、偏光ビームスプリッタ１７０からの二光波（Ｌ３、Ｌ４）をフィルタリングして、Ｐ波のみをスケール１１０に照射する、Ｐ波だけを透過するカバーガラス１６２と、
　回折された回折光Ｌ７を再帰反射してＰ波のまま再帰光Ｌ９として回折格子１１１に入射させる第１コーナーキューブ１９１と、回折された回折光Ｌ８を再帰反射してＰ波のまま再帰光Ｌ１０として回折格子１１１に入射させる第２コーナーキューブ１９２と、
　光学デバイスユニット部１６０で合波された光（Ｌ１５）を二光束（Ｌ１７、Ｌ１８）に分波する無偏光ビームスプリッタ１５２と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの一方の光（Ｌ１７）をさらに二光束（Ｌ１９、Ｌ２０）に分波して二光束（Ｌ１９、Ｌ２０）を干渉させる偏光ビームスプリッタ１５３と、無偏光ビームスプリッタ１５２からの他方の光（Ｌ１８）を二光束（Ｌ２１、Ｌ２２）に分波して二光束（Ｌ２１、Ｌ２２）を干渉させる偏光ビームスプリッタ１５４と、無偏光ビームスプリッタ１５２と偏光ビームスプリッタ１５４との間に配置された位相差板１５５と、を備えている分波部１５１と、
　分波された４つの光（Ｌ１９〜Ｌ２２）を受光する４つのフォトダイオード１５６Ａ〜１５６Ｄと、
　フォトダイオード１５６Ａとフォトダイオード１５６Ｂとからの信号を差動増幅し、フォトダイオード１５６Ｃとフォトダイオード１５６Ｄとからの信号を差動増幅し、これら差動増幅された二つの信号からリサージュ図形を描き、このリサージュ図形の変化からスケール１１０と検出ヘッド部１２０との相対変位量を検出する手段と、
　を備え、
　波長λと格子周期Ｐとがλ≒１．５９Ｐを満たし、
　第１コーナーキューブ１９１で再帰反射されて出射された再帰光Ｌ９が回折格子１１１へ入射する位置が、第１コーナーキューブ１９１へ入射する回折光Ｌ７を生成している回折格子１１１上の位置に対して、回折格子１１１の短手方向にシフトされ、第２コーナーキューブ１９２で再帰反射されて出射された再帰光Ｌ１０が回折格子１１１へ入射する位置が、第２コーナーキューブ１９２へ入射する回折光Ｌ８を生成している回折格子１１１上の位置に対して、回折格子１１１の短手方向にシフトされる、
　変位検出装置。」
イ　刊行物２（特開平１−２６９００２号公報）の記載事項
　刊行物２には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
（ａ）「２．特許請求の範囲
（１）
相互に直交するＸ−Ｙ方向の目盛が形成され、相対的にＸ−Ｙ方向に移動する２つの部材の一方に配設される２次元スケールと、前記目盛に対向して前記他方の部材に設けられ、第１の光ビームを射出する第１の光源及び第２の光ビームを射出する第２の光源と、前記第１の光ビームの前記Ｘ方向の目盛による複数の回折光の混合波を光電変換して前記第１の検出信号を得るＸ方向変位検出器と、前記第２の光ビームの前記Ｙ方向の目盛による複数の回折光の混合波を光電変換して前記第２の検出信号を得るＹ方向変位検出器と、を有してなる２次元変位検出装置。
（２）前記２次元スケールは、ガラス基板に互いに直交する縦縞状のパターンの金属膜を蒸着して形成されてなる請求項１の２次元変位検出装置。
（３）前記２次元スケールは、重クロム酸ゼラチンに２光束レーザの干渉縞を複数回露光した後現像することにより形成されたボリュームタイプホログラムとされた請求項１の２次元変位検出装置。」
（ｂ）「【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】
この発明は、投影検査機や測定顕微鏡あるいは工作機械等で測定対象物あるいはワークの変位量、寸法等を２次元的に捉える２次元変位検出装置に関する。」
　したがって、上記の刊行物２に記載された事項を総合すると、刊行物２には以下の技術が記載されている（以下、「刊行物２に記載の技術」という。）。 
「相互に直交するＸ−Ｙ方向の目盛が形成され、相対的にＸ−Ｙ方向に移動する２つの部材の一方に配設される２次元スケールと、前記目盛に対向して前記他方の部材に設けられ、第１の光ビームを射出する第１の光源及び第２の光ビームを射出する第２の光源と、前記第１の光ビームの前記Ｘ方向の目盛による複数の回折光の混合波を光電変換して前記第１の検出信号を得るＸ方向変位検出器と、前記第２の光ビームの前記Ｙ方向の目盛による複数の回折光の混合波を光電変換して前記第２の検出信号を得るＹ方向変位検出器と、を有してなる２次元変位検出装置。」
ウ　刊行物３（特開２００７−２１８８３３号公報）の記載事項
　刊行物３には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
（ａ）「【０００１】
　
本発明は、光の干渉を利用してスケールの変位（移動）量を検出する変位検出装置
に関する。
（ｂ）「【０００６】
　本発明の別の目的は、正確な２次元の変位を検出することができる変位検出装置等を提供することにある。」
（ｃ）「【００２９】
　図１は、本発明の一実施の形態に係る変位検出装置の原理を説明するための光学系を示す図である。図２は、変位検出装置の実際の光学系を示す斜視図である。図１は、原理を説明するための図であるので、図１に示す光学部品と図２に示す光学部品の配置が異なる場合もある。
【００３０】
　
変位検出装置１は、第１の位相検出部１０と、第２の位相検出部１１と、反射型の回折格子（スケール）１２と、
を備える。
【００３１】
　
第１の位相検出部１０は、図１に示すように、可干渉光の光源２０と、第１のレンズ２１と、第１のビームスプリッタ（ＢＳ）４と、メイン偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ：Polarization Beam Splitter）２２と、第１の１／４波長板２３と、ミラー２４と、第２の１／４波長板１２３と、ミラー１２４と、第２のレンズ２６と、第１の受光処理系３７とを備える。
（ｄ）「【００３３】
　
第１の受光処理系３７は、第２のビームスプリッタ（ＢＳ）２７と、第２のＰＢＳ２８と、第１の光電変換器２９と、第２の光電変換器３０と、
第３のＰＢＳ３２と、第３の光電変換器３３と、第４の光電変換器３４と、
を備えている。
【００３４】
　図１に示すように、
第２の位相検出部１１は、上記光源２０、上記第１のレンズ２１、第１のビームスプリッタ（ＢＳ）４及びメインＰＢＳ２２を共用する。また、第２の位相検出部１１は、第３の１／４波長板４３　と、ミラー４４と、第４の１／４波長板１４３と、ミラー１４４と、第３のレンズ４６と、第２の受光処理系３８とを備える。
（ｅ）「【００３６】
　第２の受光処理系３８は、第１の受光処理系３７と同様の構成をしており、第２のビームスプリッタ（ＢＳ）４７と、第２のＰＢＳ４８と、第１の光電変換器４９と、第２の光電変換器５０と、第５の１／４波長板５１と、第３のＰＢＳ５２と、第３の光電変換器５３と、第４の光電変換器５４と、第１の差動増幅器５５と、第２の差動増幅器５６とを備えている。第２の位相検出部１１は、回折格子１２上の回折格子を読み取り、読み取った結果を第２の位相検出器１５に出力する。
【００３７】
　ここで、回折格子１２について説明する。図３は、回折格子１２を示す平面図である。回折格子１２は、格子ピッチがΛでなる第１の領域Ａ１及びＡ２を有し、第１の領域Ａ１及びＡ２の領域の格子ピッチΛとは異なる格子ピッチΛ＋Λ／ｎ（ｎは０以外の実数）でなる第２の領域Ｂ１及びＢ２を有する。第１の領域Ａ１及びＡ２、第２の領域Ｂ１及びＢ２は、測定方向であるｘ方向に１つのラインＬ１上に配置されており、
回折格子１２が変位の測定対象に取り付けられ、変位検出装置１はその測定対象がｘ方向に動くときの変位を検出する。
【００３８】
　図３に示す
回折格子１２において、点Ｊは回折格子１２の中心となる点であり、ｘ方向及びこれに直交するｙ方向での中心となる点である。ここでは、ラインＬ１を仮想的に点Ｊを通るラインとすると、後述するように、メインＰＢＳ２２で生成される複数の偏光ビームのすべてが、点Ｊを通るラインＬ１上に入射されるように、光源２０からのビームのメインＰＢＳ２２への入射角度が設定され、あるいはメインＰＢＳ２２が設計されている。
（ｆ）「【００４６】
　次に、第１の位相検出部１０の動作を説明する。
光源２０は、第１のレンズ２１にレーザビームを出射する。第１のレンズ２１は、入射したビームを適度に絞り、第１のＢＳ４にレーザビームを出射する。第１のＢＳ４は、２つのレーザビーム（第１のレーザビームＭ１及び第２のレーザビームＭ２）に分割して、それら２つのビームを平行にしてメインＰＢＳ２２に出射する。
【００４７】
　
メインＰＢＳ２２は、上記偏光分割面５により、入射された第１のレーザビームＭ１をＰ偏光成分を有するビームとＳ偏光成分を有するビームの２つに分割する。
メインＰＢＳ２２は、回折格子１２の第１の領域Ａ１のＰ１点までの光路と、Ａ２のＰ２までの光路が中心対称となるように、Ｐ偏光成分を有するビームをＰ１点に入射し、Ｓ偏光成分を有するビームをＰ２点に入射する。
（ｇ）「【００５３】
　
Ｐ１点で回折されたビームは、第１の１／４波長板２３を通過し、ミラー２４で垂直に反射される。つまり、ミラー２４は再び第１の１／４波長板２３へビームを導き、第１の１／４波長板２３は回折格子１２のＰ１点へ向けて再びビームを出射する。
（ｈ）「【００５５】
　また、
Ｐ２点で回折されたビームは、第２の１／４波長板１２３を通過し、ミラー１２４で垂直に反射され、再び第２の１／４波長板１２３を通過して回折格子１２のＰ２点へ戻る。
（ｉ）「【００５７】
　Ｐ１点から戻ってきたビームは、Ｓ偏光成分を有しているので、メインＰＢＳ２２の偏光分割面５を通過し、また、Ｐ２点から戻ってきたビームは、Ｐ偏光成分を有しているので、偏光分割面５で反射される。したがって、
Ｐ１点及びＰ２点から戻ってきたビームは、偏光分割面５で重ね合わされて、第２のレンズ２６に入射する。
（ｊ）「【００６６】
　
第２のレンズ２６は、入力されたビームを適度に絞り、ＢＳ２７に入射する。
ＢＳ２７は、分割した一方のビームを第２のＰＢＳ２８に入射し、他方のビームを第５の１／４波長板３１に入射する。
第２のＰＢＳ２８は入射されるビームの偏光方向が４５度傾くように配置されている。これにより互いのビームが干渉するようになる。また、第２のＰＢＳ２８は、Ｓ偏光成分を有する干渉光を反射させ、Ｐ偏光成分を有する干渉光を透過させるように分割する。反射したＳ偏光成分を有する干渉光は第１の光電変換器２９に入射し、透過したＰ偏光成分を有する干渉光は第２の光電変換器３０に入射する。
（ｋ）「【００６８】
　第５の１／４波長板３１は、上記第２のＰＢＳ２８と同様に、Ｐ偏光成分を有する光及びＳ偏光成分を有するビームの干渉光を得るために、入射されるビームの偏光方向が４５度傾くように配置されている。
第５の１／４波長板３１に入射されたビームは、Ｐ偏光成分を有するビームとＳ偏光成分を有するビームとが互いに逆回りの円偏光となり、重ね合わされて直線偏光となり、第３のＰＢＳ３２に入射する。
したがって、第３の光電変換器３３及び第４の光電変換器３４は、第１の光電変換器２９及び第２の光電変換器３０と同様にＡｃｏｓ（４Ｋｘ＋δ’）の干渉信号を得ることができる。
（ｌ）「【０１０２】
　図１１は、本発明のさらに別の実施の形態に係る変位検出装置の光学系を示す斜視図である。これ以降の説明では、図１及び図２等に示した実施の形態に係る変位検出装置１の部材や機能等について同様のものは説明を簡略または省略し、異なる点を中心に説明する。
【０１０３】
　上記実施の形態に係る変位検出装置では、測定ラインがｘ軸方向のみの１次元の回折格子１２が用いられた。
図１１に示す形態に係る変位検出装置２は、測定ラインがｘ軸方向及びｙ軸方向のみの２次元の回折格子１１２を用いる。
【０１０４】
　図１２は、その回折格子１１２を示す平面図である。回折格子１１２の中央の格子部分は正方形でなり、点Ｊは回折格子１１２の中心点である。回折格子１１２は、
ｘ軸に平行な第１のラインＬ１
ｙ軸に平行な第２のラインＬ２
【０１０５】
　また、回折格子１１２は上述したように正方形でなり、第１の格子領域Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２がラインＬ１上で点Ｊを中心に対称的に配置され、かつ、第２の格子領域Ｃ１、Ｃ２、Ｄ１及びＤ２が点Ｊを中心に対称的に配置されている。つまり、
回折格子１１２は、２次元的に対称構造となっている。これにより、第１のラインＬ１上での測定中心と、第２のラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させることができる。
【０１０６】
　なお、このスケールの一辺の長さｓは、例えば１０ｍｍであり、回折格子部分の一辺の長さｔは、例えば５．７ｍｍであるが、これに限られない。
【０１０７】
　図１３は、この２次元の変位検出装置２に搭載されるメインＰＢＳを示す斜視図である。図１４は、そのメインＰＢＳ１２２を示す平面図である。メインＰＢＳ１２２は、ｘ軸の変位検出で用いられた第１の偏光分割面５に対して直交する第２の偏光分割面６を有する。具体的には、第２の偏光分割面６は、回折格子１１２の面（ｘ−ｙ平面）に直交し、かつ、第１の偏光分割面５に対して直交する。
【０１０８】
　なお、図１４では、上記第１の位相検出部１０の光学系及び第２の位相検出部１１の光学系（光源２０、１／４波長板２３等、ミラー２４等）の図示を省略している。
【０１０９】
　
変位検出装置２は、上記変位検出装置１が備える第１の位相検出部１０及び第２の位相検出部１１と同様の位相検出部（第３及び第４の位相検出部）をさらにそれぞれ備えている。
【０１１０】
　同様に、変位検出装置２の第４の位相検出部は、上記光源１２０、上記第１のレンズ１２１、第１のビームスプリッタ（ＢＳ）１０４及びメインＰＢＳ１２２を共用する。第１のビームスプリッタ（ＢＳ）１０４により第３のレーザビームＮ１及び第４のレーザビームＮ２が生成される。また、第２の位相検出部は、第３の１／４波長板２４３と、ミラー２４４と、第４の１／４波長板３４３と、ミラー３４４と、第３のレンズ１４６と、第４の受光処理系１３８とを備える。
【０１１１】
　
第３の受光処理系１３７及び第４の受光処理系１３８の構成については、上記第１の受光処理系３７及び第２の受光処理系３８と同様であり、
【０１１２】
　すなわち、
第３の位相検出部の光学系及び第４の位相検出部の光学系は、上記第１の位相検出部１０の光学系及び第２の位相検出部１１の光学系の配置からｘ−ｙ平面内で９０°変えて配置されたものである。
【０１１３】
　図１５は、第１〜第４の受光処理系３７、３８、１３７及び１３８で得られる信号の処理システムを示すブロック図である。第３の受光処理系１３７で得られる信号は、位相検出器１１４で位相検出され、第４の受光処理系１３８で得られる信号は、第１の位相検出器１１５で位相検出される。なお、変位検出装置１では、インクリメンタル信号発生器１３が第１の受光処理系３７及び第２の受光処理系３８からの信号を入力していた。しかし、本実施の形態では、インクリメンタル信号発生器１３では、第１の位相検出器１４と第２の位相検出器１５の位相の加算を変位量とすることで、さらに細かく信号を発生することが可能となる。インクリメンタル信号発生器１１３についても同様である。
【０１１４】
　以上のように、本実施の形態に係る変位検出装置２によれば、ｘ軸での測定中心とｙ軸での測定中心とを一致させることができるので、測定誤差を発生することなく、２次元の変位を検出することができる。」
（ｍ）【図１】および【図３】より「Ｐ１点およびＰ２点が回折格子１２にある」ことが見てとれる。
（ア）刊行物３の「本発明は、・・・（略）変位検出装置・・・（略）・・・に関する。」（【０００１】）という記載より、刊行物３には、「変位検出装置」が記載されているといえる。
（イ）刊行物３の「変位検出装置１は、第１の位相検出部１０と、第２の位相検出部１１と、反射型の回折格子（スケール）１２と、・・・（略）・・・を備える」（【００３０】）、「図１１に示す形態に係る変位検出装置２は、測定ラインがｘ軸方向及びｙ軸方向のみの２次元の回折格子１１２を用いる」（【０１０３】）、「変位検出装置２は、上記変位検出装置１が備える第１の位相検出部１０及び第２の位相検出部１１と同様の位相検出部（第３及び第４の位相検出部）をさらにそれぞれ備えている」（【０１０９】）という記載より、刊行物３には、「変位検出装置が、反射型の２次元の回折格子と、第１ないし第４の位相検出部とを備える」ことが記載されているといえる。
（ウ）
ａ　刊行物３の「第１の位相検出部１０は、図１に示すように、可干渉光の光源２０と、第１のレンズ２１と、第１のビームスプリッタ（ＢＳ）４と、メイン偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ：Polarization Beam Splitter）２２と、第１の１／４波長板２３と、ミラー２４と、第２の１／４波長板１２３と、ミラー１２４と、第２のレンズ２６と、第１の受光処理系３７とを備える」（【００３１】、「第２の位相検出部１１は、上記光源２０、上記第１のレンズ２１、第１のビームスプリッタ（ＢＳ）４及びメインＰＢＳ２２を共用する。また、第２の位相検出部１１は、第３の１／４波長板４３　と、ミラー４４と、第４の１／４波長板１４３と、ミラー１４４と、第３のレンズ４６と、第２の受光処理系３８とを備える」（【００３４】）、「変位検出装置２は、上記変位検出装置１が備える第１の位相検出部１０及び第２の位相検出部１１と同様の位相検出部（第３及び第４の位相検出部）をさらにそれぞれ備えている」（【０１０９】）という記載より、刊行物３には、「各位相検出部は、光源と、レンズと、ビームスプリッタと、メイン偏光ビームスプリッタと、ミラーと、受光処理系とを備える」ことが記載されているといえる。
ｂ　刊行物３の「光源２０は、第１のレンズ２１にレーザビームを出射する。第１のレンズ２１は、入射したビームを適度に絞り、第１のＢＳ４にレーザビームを出射する。第１のＢＳ４は、２つのレーザビーム（第１のレーザビームＭ１及び第２のレーザビームＭ２）に分割して、それら２つのビームを平行にしてメインＰＢＳ２２に出射する」（【００４６】）、「メインＰＢＳ２２は、上記偏光分割面５により、入射された第１のレーザビームＭ１をＰ偏光成分を有するビームとＳ偏光成分を有するビームの２つに分割する。・・・（略）・・・メインＰＢＳ２２は、回折格子１２の第１の領域Ａ１のＰ１点までの光路と、Ａ２のＰ２までの光路が中心対称となるように、Ｐ偏光成分を有するビームをＰ１点に入射し、Ｓ偏光成分を有するビームをＰ２点に入射する」（【００４７】）という記載および上記（ｍ）より、刊行物３には、「位相検出部における光源、レンズ、ビームスプリッタおよびメイン偏光ビームスプリッタは、２つのビームをそれぞれ回折格子の２つの点に入射する」ことが記載されているといえる。
ｃ　刊行物３の「Ｐ１点で回折されたビームは、第１の１／４波長板２３を通過し、ミラー２４で垂直に反射される。つまり、ミラー２４は再び第１の１／４波長板２３へビームを導き、第１の１／４波長板２３は回折格子１２のＰ１点へ向けて再びビームを出射する」（【００５３】）、「Ｐ２点で回折されたビームは、・・・（略）・・・ミラー１２４で垂直に反射され、・・・（略）・・・回折格子１２のＰ２点へ戻る」（【００５５】）という記載および上記（ｍ）より、刊行物３には、「位相検出部における２つのミラーは、回折された２つのビームをそれぞれ反射して回折格子の２つの点に再び入射する」ことが記載されているといえる。
ｄ　したがって、上記ａないしｃを総合すれば、刊行物３には、「各位相検出部は、それぞれ、２つのビームを回折格子上の２つの点に入射する光源、レンズ、ビームスプリッタおよびメイン偏光ビームスプリッタと、回折された２つのビームをそれぞれ反射して回折格子の前記２つの点に再び入射する２つのミラーと、受光処理系とを備える」ことが記載されているといえる。
（エ）
ａ　刊行物３の「第１の受光処理系３７は、第２のビームスプリッタ（ＢＳ）２７と、第２のＰＢＳ２８と、第１の光電変換器２９と、第２の光電変換器３０と、・・・（略）・・・第３のＰＢＳ３２と、第３の光電変換器３３と、第４の光電変換器３４と、・・・（略）・・・を備えている」（【００３３】）、「第２の受光処理系３８は、第１の受光処理系３７と同様の構成をしており」（【００３６】）、「第３の受光処理系１３７及び第４の受光処理系１３８の構成については、上記第１の受光処理系３７及び第２の受光処理系３８と同様であり」（【０１１１】）という記載より、刊行物３には、「各受光処理系は、ビームスプリッタと、２つのメイン偏光ビームスプリッタと４つの光電変換器を備える」ことが記載されているといえる。
ｂ　刊行物３の「Ｐ１点及びＰ２点から戻ってきたビームは、偏光分割面５で重ね合わされて、第２のレンズ２６に入射する」（【００５７】）、「第２のレンズ２６は、入力されたビームを適度に絞り、ＢＳ２７に入射する。・・・（略）・・・ＢＳ２７は、分割した一方のビームを第２のＰＢＳ２８に入射し、他方のビームを第５の１／４波長板３１に入射する」（【００６６】）、「第５の１／４波長板３１に入射されたビームは、Ｐ偏光成分を有するビームとＳ偏光成分を有するビームとが互いに逆回りの円偏光となり、重ね合わされて直線偏光となり、第３のＰＢＳ３２に入射する」（【００６８】）という記載より、刊行物３には、「受光処理系におけるビームスプリッタは、回折格子の点から戻ってきて重ね合わせられた２つのビームを分割して２つのメイン偏光ビームスプリッタに入射する」ことが記載されているといえる。
ｃ　刊行物３の「第２のＰＢＳ２８は入射されるビームの偏光方向が４５度傾くように配置されている。これにより互いのビームが干渉するようになる。また、第２のＰＢＳ２８は、Ｓ偏光成分を有する干渉光を反射させ、Ｐ偏光成分を有する干渉光を透過させるように分割する。反射したＳ偏光成分を有する干渉光は第１の光電変換器２９に入射し、透過したＰ偏光成分を有する干渉光は第２の光電変換器３０に入射する」（【００６６】）、「第３のＰＢＳ３２に入射されたビームは、上記第２のＰＢＳ２８の場合と同様に、Ｓ偏光成分を有するビームとＰ偏光成分を有するビームに分割され、Ｓ偏光成分を有するビームを第３の光電変換器３３に入射し、Ｐ偏光成分を有するビームを第４の光電変換器３４に入射する。・・・（略）・・・したがって、第３の光電変換器３３及び第４の光電変換器３４は、第１の光電変換器２９及び第２の光電変換器３０と同様にＡｃｏｓ（４Ｋｘ＋δ’）の干渉信号を得ることができる」（【００６８】）という記載より、刊行物３には、「受光処理系における２つのメイン偏光ビームスプリッタは、回折格子の２つの点から戻ってきて重ね合わせられた２つのビームをそれぞれ干渉させ分割し、４つの干渉光を４つの光電変換器に入射する」ことが記載されているといえる。
ｄ　上記ａないしｃを総合すれば、刊行物３には、「各受光処理系は、それぞれ、回折格子の２つの点から戻ってきて重ね合わせられた２つのビームを分割して２つのメイン偏光ビームスプリッタに入射するビームスプリッタと、分割された２つのビームをそれぞれ干渉させ分割し、４つの干渉光を４つの光電変換器に入射する２つのメイン偏光ビームスプリッタとを備える」ことが記載されているといえる。
（オ）刊行物３の「回折格子１２が変位の測定対象に取り付けられ、変位検出装置１はその測定対象がｘ方向に動くときの変位を検出する」（【００３７】）、「変位検出装置２は、上記変位検出装置１が備える第１の位相検出部１０及び第２の位相検出部１１と同様の位相検出部（第３及び第４の位相検出部）をさらにそれぞれ備えている」（【０１０９】）、「第３の位相検出部の光学系及び第４の位相検出部の光学系は、上記第１の位相検出部１０の光学系及び第２の位相検出部１１の光学系の配置からｘ−ｙ平面内で９０°変えて配置されたものである」（【０１１２】）という記載より、刊行物３には、「第１および第２の位相検出部は、回折格子がｘ方向に動くときの変位を検出し、第３および第４の位相検出部は、回折格子がｙ方向に動くときの変位を検出する」ことが記載されているといえる。
（カ）刊行物３の「第１の位相検出部１０は、・・・（略）・・・メイン偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ：Polarization Beam Splitter）２２と、・・・（略）を備える」（【００３１】）、「回折格子１２において、点Ｊは回折格子１２の中心となる点であり、ｘ方向及びこれに直交するｙ方向での中心となる点である。ここでは、ラインＬ１を仮想的に点Ｊを通るラインとすると、後述するように、メインＰＢＳ２２で生成される複数の偏光ビームのすべてが、点Ｊを通るラインＬ１上に入射されるように、光源２０からのビームのメインＰＢＳ２２への入射角度が設定され、あるいはメインＰＢＳ２２が設計されている」（【００３８】）、「ｘ軸に平行な第１のラインＬ１」（【０１０４】）、「ｙ軸に平行な第２のラインＬ２」（【０１０４】）、「回折格子１１２は、２次元的に対称構造となっている。これにより、第１のラインＬ１上での測定中心と、第２のラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させることができる」（【０１０５】）という記載と、メイン偏光ビームスプリッタ２２は位相検出部に備えられるものであることと上記（オ）とを踏まえると、刊行物３には、「第１および第２の位相検出部のメイン偏光ビームスプリッタで生成される複数の偏光ビームのすべてが、回折格子１２の中心となる点Ｊを通るｘ軸に平行なラインＬ１に入射され、第３および第４の位相検出部のメイン偏光ビームスプリッタで生成される複数の偏光ビームのすべてが、回折格子１２の中心となる点Ｊを通るｙ軸に平行なラインＬ２に入射されるように、設定または設計され、第１のラインＬ１上での測定中心と、第２のラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させる」ことが記載されているといえる。
　したがって、上記の刊行物３に記載された事項と上記（ア）ないし（カ）とを総合すると、刊行物３には以下の技術が記載されている（以下、「刊行物３に記載の技術」という。）。 
「反射型の２次元の回折格子と、
　第１ないし第４の位相検出部とを備え、
　各位相検出部は、それぞれ、２つのビームをそれぞれ回折格子上の２つの点に入射する光源、レンズ、ビームスプリッタおよびメイン偏光ビームスプリッタと、回折された２つのビームをそれぞれ反射して回折格子の前記２つの点に再び入射する２つのミラーと、受光処理系とを備え、
　各受光処理系は、それぞれ、回折格子の２つの点から戻ってきて重ね合わせられた２つのビームを分割して２つのメイン偏光ビームスプリッタに入射するビームスプリッタと、分割された２つのビームをそれぞれ干渉させ分割し、４つの干渉光を４つの光電変換器に入射する２つのメイン偏光ビームスプリッタとを備え、
　第１および第２の位相検出部は、回折格子がｘ方向に動くときの変位を検出し、第３および第４の位相検出部は、回折格子がｙ方向に動くときの変位を検出し、
　第１および第２の位相検出部のメイン偏光ビームスプリッタで生成される複数の偏光ビームのすべてが、回折格子１２の中心となる点Ｊを通るｘ軸に平行なラインＬ１に入射され、第３および第４の位相検出部のメイン偏光ビームスプリッタで生成される複数の偏光ビームのすべてが、回折格子１２の中心となる点Ｊを通るｙ軸に平行なラインＬ２に入射されるように、設定または設計され、第１のラインＬ１上での測定中心と、第２のラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させる、
　変位検出装置。」
（２）対比
ア　本願発明と引用発明とを対比する。 
イ　引用発明の「光源部１４０」、「偏光ビームスプリッタ１７０」、「カバーガラス１６２」、「分波部１５１」、「４つのフォトダイオード１５６Ａ〜１５６Ｄ」、「相対変位量を検出する手段」は、それぞれ、本願発明の「光源部」、「光束分割部」、「照射光学系」、「干渉光学系」、「受光部」、「位置情報検出部」に相当する。
ウ　引用発明の「回折格子１１１」と本願発明の「回折格子」とは、「矩形のレリーフが形成された基板の全面を反射膜で覆ってなる回折格子」であって、「前記回折格子のレリーフの周期は、前記回折格子に入射する前記可干渉光の波長の１．５倍以下であ」る点で共通する。
エ　引用発明において、再帰光が回折格子へ入射する位置が、コーナーキューブへ入射する回折光を生成している回折格子上の位置に対して、回折格子の短手方向にシフトされるということは、再帰光が回折格子へ入射する位置が、コーナーキューブへ入射する回折光を生成している回折格子上の位置に対して変位することといえるため、引用発明の「第１および第２コーナーキューブ１９１、１９２」と、本願発明の「反射光学系」とは、「前記二つの光束が前記回折格子により回折されることによって生じる二つの第１回折光をそれぞれ反射し、前記回折格子上にＰ偏光として再入射させるミラーからなる反射光学系」であって、「前記反射光学系は、前記第１回折光が生じた位置に対して変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる構成であ」る点で共通する。
オ　すると、本願発明と引用発明とは、次の一致点および相違点を有する。
＜一致点＞
「矩形のレリーフが形成された基板の全面を反射膜で覆ってなる回折格子と、
　可干渉光を出射する光源部と、前記光源部から出射された光束を二つの光束に分割する光束分割部と、を含み、前記二つの光束をＰ偏光として前記回折格子上に照射させる照射光学系と、
　前記二つの光束が前記回折格子により回折されることによって生じる二つの第１回折光をそれぞれ反射し、前記回折格子上にＰ偏光として再入射させるミラーとからなる反射光学系と、
　前記回折格子に再入射した二つの前記第１回折光が回折されて生じる二つの第２回折光を干渉させる干渉光学系と、
　前記干渉光学系により干渉した光を受光する受光部と、
　前記受光部において取得した干渉信号に基づいて、前記回折格子の位置情報を検出する位置情報検出部と、を備え、
　前記回折格子のレリーフの周期は、前記回折格子に入射する前記可干渉光の波長の１．５倍以下であり、
　前記反射光学系は、前記第１回折光が生じた位置に対して変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる構成である、
　変位検出装置。」
＜相違点＞
【相違点１】
　本願発明における「反射光学系」は、「レンズとミラーとからなる」ものであり、「前記レンズの光軸を前記第１回折光の光軸からずらすか、あるいは前記第１回折光の光軸と一致させた前記レンズの光軸に対して前記ミラーの反射面を垂直から傾けることにより」、前記第１回折光が生じた位置に対して「前記回折格子の周期方向上に」変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる構成であって、「前記レンズの焦点が前記回折格子上に配置され」るのに対し、引用発明にはそのような特定がない点。
【相違点２】
　本願発明では、「前記レリーフの周期構造は、前記回折格子の２次元方向に形成され」、「前記２次元方向の一つの方向ごとに、前記照射光学系と前記反射光学系と前記干渉光学系と前記受光部とがそれぞれ配設され」、「前記２次元方向のそれぞれの方向に配置される照射光学系、反射光学系、干渉光学系及び受光素子は、２次元方向のうちの一方の方向に配置された照射光学系、反射光学系によって前記回折格子に入射される異なる２点を接続する線分と、２次元方向のうちの他方に配置された照射光学系、反射光学系によって前記回折格子に入射される異なる２点を接続する線分とが交差するように配列される」のに対し、引用発明にはそのような特定がない点。
（３）判断
ア　上記相違点１について検討する。
イ　引用発明は、再帰光が回折格子へ入射する位置が、コーナーキューブへ入射する回折光を生成している回折格子上の位置に対して、回折格子の短手方向にシフトされる、すなわち、回折格子の周期方向と直交する方向に変位させるものであって、回折格子の周期方向に変位させるものではない。また、刊行物２および３に記載の技術は、いずれも「前記第１回折光が生じた位置に対して前記回折格子の周期方向上に変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる」構成に関するものではなく、当該構成は周知技術であるともいえないため、相違点１に係る本願発明の構成は、当業者が引用発明、刊行物２および３に記載された事項および周知技術から容易に想到できたものとはいえない。
ウ　したがって、上記相違点２について検討するまでもなく、本願発明は、引用発明、刊行物２および３に記載された事項および周知技術に基づいて、当業者が容易に想到できたものとはいえない。
（４）小括
　したがって、本願発明は、当業者が引用発明、刊行物２および３に記載された事項および周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　本願の請求項２および３に係る発明は、本願発明をさらに限定したものであるから、本願の請求項２および３に係る発明は、本願発明と同様に、当業者が引用発明、刊行物２および３に記載された事項および周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　よって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
第４　平成２８年　５月２７日付け当審拒絶理由について
１　平成２８年　５月２７日付け当審拒絶理由の概要
　本願発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　刊行物１：特開２００６−１７７８７６号公報
　刊行物３：特開２００７−２１８８３３号公報
　刊行物４：特開２００７−２６３７１１号公報
　刊行物５：特開平７−４９９３号公報
　刊行物６：Hagen Schweitzer, LightTrans GmbH、Rigorous analysis of general 2D and 3D gratings with VirtualLab(TM) 4、ドイツ、2010.11.15、http://www.lighttrans.com/fileadmin/MDB/Download/Talks/Webinar_November_2010_Grating_Simulation.pdf
　刊行物４の段落【００２５】−【００３５】には、合波干渉型光学装置において、ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled Wave Analysis：厳密結合波解析）法などを用い、入射波長以下の周期をもつ回折格子（反射型回折格子を含む）に対して、デューティ比および凸部高さを変えることにより、種々の波長、偏光に対する回折効率などを適宜設定する発明が記載されている。
　本件出願の明細書及び図面を参照しても、請求項１に係る発明においてＤ（レリーフの突起の幅）／Λ（レリーフの周期）を０．７〜０．９にすることによる有利な効果が顕著性等を有することを示すデータ等は開示されていないため、刊行物１に記載された発明において、刊行物４に記載された発明に倣ってＲＣＷＡ法などを用い、実験的に回折格子のデューティ比等の数値範囲を最適化又は好適化し、デューティ比を請求項１に記載された数値範囲内にすることは、当業者にとって通常の創作能力の発揮である。
　刊行物３の段落【０１０２】〜【０１１４】及び図１１〜１５には、２次元の回折格子を用いた変位検出装置において、第１の測定ラインＬ１と第２の測定ラインＬ２とが交差するように、光源、レンズ等（請求項１の「照射光学系」に相当）、ミラー等（請求項１の「反射光学系」に相当）、メイン偏光ビームスプリッタ（請求項１の「干渉光学系」に相当）の各光学系及び光電変換器を含む受光処理系を配置する発明が記載されており、刊行物１に記載された発明に刊行物３に記載された発明を適用することに特段の困難性はない。また、刊行物３の段落【０１０５】には、第１の測定ラインＬ１上での測定中心と、第２の測定ラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させることが記載されている。
　刊行物５の段落【０００９】，図３や、刊行物６のｐ．４，５に記載されているように、２次元方向に周期構造を形成するように回折格子を設計する技術は当業者によく知られたものであり、その点は特段のことではない。
２　平成２８年　５月２７日付け当審拒絶理由の判断
（１）刊行物の記載事項
　平成２８年　５月２７日付け当審拒絶理由で引用された刊行物１および３の記載事項は、上記「第３」の「２（１）」の「ア　刊行物１（特開２００６−１７７８７６号公報）の記載事項」および「ウ　刊行物３（特開２００７−２１８８３３号公報）の記載事項」に記載したとおりである。
ア　刊行物４（特開２００７−２６３７１１号公報）の記載事項
　刊行物４には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
（ａ）「【０００１】
　本発明は、プレナー回折格子を含む光学装置に関し、より詳細には、
本発明は、
合波干渉型光学装置
に関する。
（ｂ）「【００２５】
　図１は、本発明に使用するプレナー回折格子の実施の形態を示した図である。図１に示すように、本発明で使用するプレナー回折格子は、軟質ガラス、パイレックス（登録商標）、石英ガラス、ゼロ膨張ガラスなどの基板１０上に、周期的に櫛歯型の凹凸部が形成されている。凹部は、互いに隣接する凸部の間に光学キャビティ１２を形成し、複数の凹部が凸部により分離されて周期的な屈折率変調を与えている。本発明では、この凹部を他の誘電体で充填することもできる。図１（ａ）に示した実施の形態は、フォトリソグラフィーや電子線リソグラフィーで作製したマスクパターンを用いて、基板１０を直接エッチングして光学キャビティ（凹部）１２が形成されており、現在の微細加工技術を用いれば、半導体レーザなどの出力波長以下の０．２μm程度の周期まで高精度に作製が可能である。また、この回折格子を分波、回折、合波するために用いるためには、通常、デューティ比は１程度が適しており、加工精度も高くでき、ヘリウム−ネオンレーザ、アルゴンイオン・レーザ、半導体レーザなどの出力波長領域で、光学キャビティを提供する。なお、
本発明では、入射波長以下の周期をもつ回折格子に対して、デューティ比および凸部高さを変えることにより、種々の波長、偏光に対する回折効率などを適宜に設定することができる。
【００２６】
　図１（ｂ）は、本発明のプレナー型回折格子の第２の実施形態を示す。図１（ｂ）に示した実施の形態は、基板１４上に光学的に透明なポリマー膜、酸化膜などを形成し、フォトリソグラフィーや電子線リソグラフィーで作製したマスクパターンを用いて、ポリマー膜１６をエッチングすることにより、凹部を形成し、隣接した凸部１６の間に光学キャビティ１８を形成して透過型回折格子を作製している。また、反射型回折格子を作製する場合には、基板１４に、誘電体多層膜や反射金属膜２０などの光反射膜をコーティングした上に、凸部１６および凹部１８のプレナー回折格子を作製して、反射型回折格子としている。
本発明では、光学装置の構成に応じて、透過型または反射型の両方の回折格子を使用することができる。
（ｃ）「【００３３】
　図２（ｃ）は、回折格子の格子周期が、入射波長以下になった場合の入射光に対する回折現象の様子を示している。平面波が入射した場合には、回折格子の凹部と凸部での位相差が生じないので、回折光は発生せず平面波がそのまま透過することになる。よって、垂直に入射に対しては回折格子として使用できないが、図２（ｄ）のように入射光を傾けていくと回折光が発生するようになる。
【００３４】
　この現象の説明は難しく、古くはブラッグ反射でこの現象を説明していたが、デューティ比の依存性、入射角度依存性、格子高さの依存性等の説明は難しかった。それに対して、この周期的な凹凸格子の横方向の周期的境界条件を満足する伝播導波モードをマクスウエル方程式によって厳密に解く方法がある。この考えに基づくと、垂直入射の場合には、基本モードのみが励起され伝播モードに位相差が生じないため回折光が生じない。それに対して、斜め入射にすることにより多重のモードが励起され、しかも回折格子の出口まで伝播してきたこれらのモードを合成した波面が、凹凸の１周期内で位相分布をもつため回折光が生じると考えられる。現在は、このような考え方で回折効率が定量的に計算できるようになってきている。このように、従来はこの回折特性を定量的に明確にするのが困難であったため、リニアエンコーダに適したスケールの設計ができなかった。
【００３５】
　そのため、これと類似の現象である参照光と物体光の２光束干渉でホログラフィック回折格子を作製して、参照光を照明すると物体光に対応する回折光が生じることを利用して、アナログ的な位相変調によるスケールが作製されていた。このスケールでは、この回折角に精度よく合致したデジタル的な凹凸回折格子の作製が困難なため、分波器と合波干渉器の両方にデジタル的な凹凸回折格子を用いて、合波干渉型リニアエンコーダを構成することは難しかった。それに対して
本発明では、厳密な電磁波解析理論であるＲＣＷＡ(Rigorous Coupled Wave Analysis：厳密結合波解析)法などを用いて解析した結果、この回折特性を定量的に評価できるようになり、リニアエンコーダ用のスケールを設計できることを見出し実験的にも確認ができた。本発明において、回折格子の周期を波長以下にし、偏光面、入射角の設定に対してスケールの凹凸型回折格子の周期、格子高さ最適化すれば、波長以上の周期の回折格子を用いる場合よりも、回折効率を高く、より小型で調整の容易なリニアエンコーダを構成できることを開示した。
（ア）刊行物４の「本発明は、・・・（略）・・・合波干渉型光学装置・・・（略）・・・に関する」という記載より、刊行物４には「合波干渉型光学装置」（【０００１】）が記載されているといえる。
（イ）刊行物４の「本発明では、光学装置の構成に応じて、透過型または反射型の両方の回折格子を使用することができる」（【００２６】）という記載より、刊行物４には、「透過型または反射型の回折格子を備える」ことが記載されているといえる。
（ウ）刊行物４の「本発明では、・・・（略）・・・ＲＣＷＡ(Rigorous Coupled Wave Analysis：厳密結合波解析)法などを用いて解析した結果、この回折特性を定量的に評価できるようになり、リニアエンコーダ用のスケールを設計できることを見出し実験的にも確認ができた。本発明において、回折格子の周期を波長以下にし、偏光面、入射角の設定に対してスケールの凹凸型回折格子の周期、格子高さ最適化すれば、波長以上の周期の回折格子を用いる場合よりも、回折効率を高く、より小型で調整の容易なリニアエンコーダを構成できることを開示した」（【００３５】）、「本発明では、入射波長以下の周期をもつ回折格子に対して、デューティ比および凸部高さを変えることにより、種々の波長、偏光に対する回折効率などを適宜に設定することができる」（【００２５】）という記載より、刊行物４には、「ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled Wave Analysis：厳密結合波解析）法などを用い、入射波長以下の周期をもつ回折格子に対して、デューティ比および凸部高さを変えることにより、種々の波長、偏光に対する回折効率などを適宜に設定する」ことが記載されているといえる。
　したがって、上記の刊行物４に記載された事項と上記（ア）ないし（ウ）とを総合すると、刊行物４には以下の技術が記載されている（以下、「刊行物４に記載の技術」という。）。 
「透過型または反射型の回折格子を備える合波干渉型光学装置において、ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled Wave Analysis：厳密結合波解析）法などを用い、入射波長以下の周期をもつ回折格子に対して、デューティ比および凸部高さを変えることにより、種々の波長、偏光に対する回折効率などを適宜に設定する技術。」
イ　刊行物５（特開平７−４９９３号公報）の記載事項
　刊行物５には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
（ａ）「【０００９】図２，図３はそれぞれ本発明において用いられる回折格子２の斜視図，平面図である。なお、以下では、ｘ，ｙ，ｚの直交座標系を想定して説明する。
図２，図３の回折格子２は、同一平面上（ｘ−ｙ平面上）に格子が直交するように配列形成されている所謂クロスグレ−ティング構造(２次元回折格子)となっており、ｘ方向，ｙ方向の格子間の間隔，すなわちピッチはそれぞれΛ
x
，Λ
y
に設定されている。また、図２，図３の例では、
表面に格子（凹凸）の形成された（山と谷が縦横に形成された）表面レリ−フグレ−ティングとなっている。
（ア）刊行物５の「図２，図３の回折格子２は、同一平面上（ｘ−ｙ平面上）に格子が直交するように配列形成されている所謂クロスグレ−ティング構造(２次元回折格子)となっており、ｘ方向，ｙ方向の格子間の間隔，すなわちピッチはそれぞれΛx，Λyに設定されている。また、図２，図３の例では、・・・（略）・・・表面に格子（凹凸）の形成された（山と谷が縦横に形成された）表面レリ−フグレ−ティングとなっている」（【０００９】）という記載より、刊行物５には「ｘ方向およびｙ方向に所定のピッチの格子が配列形成された表面レリ−フグレ−ティング」が記載されているといえる。
　したがって、上記の刊行物５に記載された事項と上記（ア）とを総合すると、刊行物５には以下の技術が記載されている（以下、「刊行物５に記載の技術」という。）。 
「ｘ方向およびｙ方向に所定のピッチの格子が配列形成された表面レリ−フグレ−ティング。」
ウ　刊行物６（Rigorous analysis of general 2D and 3D gratings with VirtualLab(TM) 4）の記載事項
（ａ）刊行物６の第５頁には、「Periodic in x-direction（当審訳：ｘ方向に周期的）」かつ「Periodic in y-direction（当審訳：ｙ方向に周期的）」である「3D Grating（当審訳：三次元回折格子）」が開示されていることが見てとれる。
（ア）上記（ａ）より、刊行物６には、「ｘ方向およびｙ方向に周期的な回折格子」が記載されているといえる。
　したがって、上記の刊行物６に記載された事項と上記（ア）とを総合すると、刊行物６には以下の技術が記載されている（以下、「刊行物６に記載の技術」という。）。 
「ｘ方向およびｙ方向に周期的な回折格子。」
（２）対比・判断
ア　平成２８年　５月２７日付け当審拒絶理由で引用された刊行物１と原査定の理由で引用された刊行物１とは、同一の刊行物であるところ、本願発明と引用発明とは、上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示したとおりの一致点および相違点を有する。
イ　上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示した相違点１について検討する。
ウ　引用発明は、再帰光が回折格子へ入射する位置が、コーナーキューブへ入射する回折光を生成している回折格子上の位置に対して、回折格子の短手方向にシフトされる、すなわち、回折格子の周期方向と直交する方向に変位させるものであって、回折格子の周期方向に変位させるものではない。また、刊行物３ないし６に記載の技術は、いずれも「前記第１回折光が生じた位置に対して前記回折格子の周期方向上に変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる」構成に関するものではなく、当該構成は周知技術であるともいえないため、上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示した相違点１に係る本願発明の構成は、当業者が引用発明、刊行物３ないし６に記載された事項および周知技術から容易に想到できたものとはいえない。
エ　したがって、上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示した相違点２について検討するまでもなく、本願発明は、引用発明、刊行物３ないし６に記載された事項および周知技術に基づいて、当業者が容易に想到できたものとはいえない。
（３）小括
　したがって、本願発明は、当業者が引用発明、刊行物３ないし６に記載された事項および周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　本願の請求項２および３に係る発明は、本願発明をさらに限定したものであるから、本願の請求項２および３に係る発明は、本願発明と同様に、当業者が引用発明、刊行物３ないし６に記載された事項および周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　そうすると、平成２８年　５月２７日付け当審拒絶理由によって本願を拒絶することはできない。
第５　平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由について
１　平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由の概要
　本願発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　刊行物１：特開２００６−１７７８７６号公報
　刊行物３：特開２００７−２１８８３３号公報
　刊行物５：特開平７−４９９３号公報
　刊行物６：Hagen Schweitzer, LightTrans GmbH、Rigorous analysis of general 2D and 3D gratings with VirtualLab(TM) 4、ドイツ、2010.11.15、http://www.lighttrans.com/fileadmin/MDB/Download/Talks/Webinar_November_2010_Grating_Simulation.pdf
　刊行物７：特開２００９−２５７８４１号公報
　刊行物７の【請求項１】，段落【０００１】，【００１５】，【００１６】，【００５７】，【００５９】，【００８６】−【００９６】，【０１１２】−【０１１４】，【０１１８】，【０１１９】，図１−図６には、光学式変位測定装置において、移動位置検出方向以外への回折格子の変位の影響を抑えるため、レンズ等の光学素子からなる結像素子と光を反射する反射器とから反射光学系を構成し、結像素子の焦点位置に回折格子と反射器とを配置する技術が記載されている。
　刊行物１に記載された発明において、移動位置検出方向以外への回折格子の変位の影響を抑えるため、刊行物７に記載された技術を適用し、レンズ等の光学素子からなる結像素子と光を反射する反射器とから反射光学系を構成し、結像素子の焦点位置に回折格子と反射器とを配置することは、当業者が容易に想到し得ることである。
　その際、光波Ｌ９が回折格子１１１へ入射する位置と、回折光Ｌ７を生成している回折格子１１１上の位置とを異なる位置とし、光波Ｌ１０が回折格子１１１へ入射する位置と、回折光Ｌ８を生成している回折格子１１１上の位置とを異なる位置とするため、結像素子の光軸を回折光の光軸からずらすか、あるいは回折光の光軸と一致させた結像素子の光軸に対して反射器の反射面を垂直から傾けることは、当業者が適宜なし得る事項である。
　刊行物３の段落【０１０２】−【０１１４】および図１１−図１５には、２次元の回折格子を用いた変位検出装置において、第１の測定ラインＬ１と第２の測定ラインＬ２とが交差するように、光源、レンズ等（請求項１の「照射光学系」に相当）、ミラー等（請求項１の「反射光学系」に相当）、メイン偏光ビームスプリッタ（請求項１の「干渉光学系」に相当）の各光学系及び光電変換器を含む受光処理系を配置する発明が記載されており、引用文献１に記載された発明に引用文献３に記載された発明を適用することに特段の困難性はない。また、刊行物３の段落【０１０５】には、第１の測定ラインＬ１上での測定中心と、第２の測定ラインＬ２上での測定中心とを点Ｊに一致させることが記載されている。
　刊行物５の段落【０００９】，図３や、刊行物６のｐ．４，５に記載されているように、２次元方向に周期構造を形成するように回折格子を設計する技術は当業者によく知られたものであり、その点は特段のことではない。
２　平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由の判断
（１）刊行物の記載事項
　平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由で引用された刊行物１および３の記載事項は、上記「第３」の「２（１）」の「ア　刊行物１（特開２００６−１７７８７６号公報）の記載事項」および「ウ　刊行物３（特開２００７−２１８８３３号公報）の記載事項」に記載したとおりである。
　また、平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由で引用された刊行物５および６の記載事項は、上記「第４」の「２（１）」の「イ　刊行物５（特開平７−４９９３号公報）の記載事項」および「ウ　刊行物６（Rigorous analysis of general 2D and 3D gratings with VirtualLab(TM) 4）の記載事項」に記載したとおりである。
ア　刊行物７（特開２００９−２５７８４１号公報）の記載事項
　刊行物７には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
（ａ）「【請求項１】
　
可干渉光が照射され、この可干渉光に対して格子ベクトルに平行な方向に相対移動し、この可干渉光を回折する回折格子と、
　
可干渉光を発光する発光部と、
　
前記発光部により発光された可干渉光を２つの可干渉光に分割して、前記回折格子に各可干渉光を照射し、２つの１回回折光を生じさせると共に、２つの１回回折光を前記回折格子により回折させて生じさせた２つの２回回折光を干渉させる照射受光光学系と、
　
２つの可干渉光を前記回折格子により回折させて生じさせた２つの１回回折光をそれぞれ反射して、前記回折格子に２つの１回回折光を照射する反射光学系と、
　
前記照射受光光学系により２つの２回回折光を干渉させた干渉光を受光して干渉信号を検出する受光部とを備え、
　
前記照射受光光学系は、前記発光部により発光された可干渉光を集光する第１の結像素子を備えると共に、前記回折格子で回折された２回回折光を前記受光部に結像する第２の結像素子を備え、
　
前記反射光学系は、前記回折格子により回折させて生じさせた２つの１回回折光の一方を反射して、前記回折格子に照射する一方の反射器と前記回折格子の間に第３の結像素子を備えると共に、２つの１回回折光の他方を反射して、前記回折格子に照射する他方の反射器と前記回折格子の間に第４の結像素子を備え、
　
前記第３の結像素子と前記第４の結像素子の焦点距離が等しく、かつ、前記回折格子を前記第３の結像素子及び前記第４の結像素子の一方の焦点位置に配置し、一方の前記反射器を前記第３の結像素子の他方の焦点位置に配置し、他方の前記反射器を前記第４の結像素子の他方の焦点位置に配置した光学式変位測定装置。
（ｂ）「【０００１】
　本発明は、工作機械や半導体製造装置等の可動部分の相対移動位置を検出する光学式変位測定装置に関する。詳しくは、回折格子で回折された２つの回折光を再度回折格子に照射する反射光学系で、それぞれの反射光学系で結像素子の焦点距離を等しくすると共に、結像素子の焦点位置付近に回折格子と反射器を配置することで、移動位置検出方向以外への回折格子の変位の影響を抑えるものである。」
（ｃ）「【００６４】
　偏光ビームスプリッタ２２で反射した一方の可干渉光Ｌａ１はＳ偏光の光で、反射器２３により反射され、回折格子１１Ｔの格子面１１ａ上の所定の点Ｐに照射される。そして、この所定の点Ｐに照射された一方の可干渉光Ｌａ１が回折され、回折格子１１Ｔを透過した１回回折光Ｌｂ１が生じる。この
１回回折光Ｌｂ１は、この所定の点Ｐから発生する。
【００６５】
　回折格子１１Ｔで発生した１回回折光Ｌｂ１は、反射光学系１６で第３の結像素子２７を通過して集光され、１/４波長板２８を通過して反射器２６に結像される。
反射器２６に結像された１回回折光Ｌｂ１は、反射器２６により反射面に対して垂直に反射され、
回折格子１１Ｔの格子面１１ａ上の所定の点Ｐに照射される。
【００６６】
　そして、この所定の点Ｐに照射された１回回折光Ｌｂ１が回折され、回折格子１１Ｔを透過した２回回折光Ｌｃ１が生じる。この２回回折光Ｌｃ１は、可干渉光Ｌａ１と同一の光路を戻り、偏光ビームスプリッタ２２に入射する。
【００６７】
　偏光ビームスプリッタ２２を透過した他方の可干渉光Ｌａ２はＰ偏光の光で、反射器２４により反射され、回折格子１１Ｔの格子面１１ａ上において、一方の可干渉光Ｌａ１の照射位置と同じ所定の点Ｐに照射される。そして、この所定の点Ｐに照射された他方の可干渉光Ｌａ２が回折され、回折格子１１Ｔを透過した１回回折光Ｌｂ２が生じる。この
１回回折光Ｌｂ２は、この所定の点Ｐから発生する。
【００６８】
　回折格子１１Ｔで発生した１回回折光Ｌｂ２は、反射光学系１７で第４の結像素子３０を通過して集光され、１/４波長板３１を通過して反射器２９に結像される。
反射器２９に結像された１回回折光Ｌｂ２は、反射器２９により反射面に対して垂直に反射され、
回折格子１１Ｔの格子面１１ａ上の所定の点Ｐに照射される。
【００６９】
　そして、この所定の点Ｐに照射された１回回折光Ｌｂ２が回折され、回折格子１１Ｔを透過した２回回折光Ｌｃ２が生じる。この２回回折光Ｌｃ２は、可干渉光Ｌａ２と同一の光路を戻り、偏光ビームスプリッタ２２に入射する。」
（ア）刊行物７の「１回回折光Ｌｂ１は、この所定の点Ｐから発生する」（【００６４】）、「反射器２６に結像された１回回折光Ｌｂ１は、反射器２６により反射面に対して垂直に反射され、・・・（略）・・・回折格子１１Ｔの格子面１１ａ上の所定の点Ｐに照射される」（【００６５】）、「１回回折光Ｌｂ２は、この所定の点Ｐから発生する」（【００６７】）、「反射器２９に結像された１回回折光Ｌｂ２は、反射器２９により反射面に対して垂直に反射され、・・・（略）・・・回折格子１１Ｔの格子面１１ａ上の所定の点Ｐに照射される」（【００６８】）という記載から、刊行物７には、「２つの１回回折光が発生する回折格子上の点と、反射された２つの第１回回折光が照射される回折格子上の点とが同じである」ことが記載されているといえる。
　したがって、上記の刊行物７に記載された事項と上記（ア）とを総合すると、刊行物７には以下の技術が記載されている（以下、「刊行物７に記載の技術」という。）。 
「可干渉光が照射され、この可干渉光に対して格子ベクトルに平行な方向に相対移動し、この可干渉光を回折する回折格子と、
　可干渉光を発光する発光部と、
　前記発光部により発光された可干渉光を２つの可干渉光に分割して、前記回折格子に各可干渉光を照射し、２つの１回回折光を生じさせると共に、２つの１回回折光を前記回折格子により回折させて生じさせた２つの２回回折光を干渉させる照射受光光学系と、
　２つの可干渉光を前記回折格子により回折させて生じさせた２つの１回回折光をそれぞれ反射して、前記回折格子に２つの１回回折光を照射する反射光学系と、
　前記照射受光光学系により２つの２回回折光を干渉させた干渉光を受光して干渉信号を検出する受光部とを備え、
　前記照射受光光学系は、前記発光部により発光された可干渉光を集光する第１の結像素子を備えると共に、前記回折格子で回折された２回回折光を前記受光部に結像する第２の結像素子を備え、
　前記反射光学系は、前記回折格子により回折させて生じさせた２つの１回回折光の一方を反射して、前記回折格子に照射する一方の反射器と前記回折格子の間に第３の結像素子を備えると共に、２つの１回回折光の他方を反射して、前記回折格子に照射する他方の反射器と前記回折格子の間に第４の結像素子を備え、
　前記第３の結像素子と前記第４の結像素子の焦点距離が等しく、かつ、前記回折格子を前記第３の結像素子及び前記第４の結像素子の一方の焦点位置に配置し、一方の前記反射器を前記第３の結像素子の他方の焦点位置に配置し、他方の前記反射器を前記第４の結像素子の他方の焦点位置に配置した光学式変位測定装置であって、
　２つの１回回折光が発生する回折格子上の点と、反射された２つの第１回回折光が照射される回折格子上の点とが同じである、
　光学式変位測定装置。」
（２）対比・判断
ア　平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由で引用された刊行物１と原査定の理由で引用された刊行物１とは、同一の刊行物であるところ、本願発明と引用発明とは、上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示したとおりの一致点および相違点を有する。
イ　上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示した相違点１について検討する。
ウ　引用発明は、再帰光が回折格子へ入射する位置が、コーナーキューブへ入射する回折光を生成している回折格子上の位置に対して、回折格子の短手方向にシフトされる、すなわち、回折格子の周期方向と直交する方向に変位させるものであって、回折格子の周期方向に変位させるものではない。また、刊行物３、５ないし７に記載の技術は、いずれも「前記第１回折光が生じた位置に対して前記回折格子の周期方向上に変位させた前記回折格子上の位置に前記第１回折光を再入射させる」構成に関するものではなく、当該構成は周知技術であるともいえないため、上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示した相違点１に係る本願発明の構成は、当業者が引用発明、刊行物３、５ないし７に記載された事項および周知技術から容易に想到できたものとはいえない。
エ　したがって、上記「第３」の「２（２）対比」の「オ」において示した相違点２について検討するまでもなく、本願発明は、引用発明、刊行物３、５ないし７に記載された事項および周知技術に基づいて、当業者が容易に想到できたものとはいえない。
（３）小括
　したがって、本願発明は、当業者が引用発明、刊行物３、５ないし７に記載された事項および周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　本願の請求項２および３に係る発明は、本願発明をさらに限定したものであるから、本願の請求項２および３に係る発明は、本願発明と同様に、当業者が引用発明、刊行物３、５ないし７に記載された事項および周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　そうすると、もはや、平成２８年　８月２６日付け当審拒絶理由によって本願を拒絶することはできない。
第６　むすび
　以上のとおり、原査定の理由および当審で通知した拒絶理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。