(57)【要約】【課題】複数の分光結晶を用いた波長分散型Ｘ線分析装置において表示されるＸ線スペクトルの視認性を上げると共に、エネルギー分散型Ｘ線分析装置で得られるＸスペクトルとの比較評価を容易にする。【解決手段】各分光結晶（LiF, PET等）に対応したＸ線スペクトルに対し、分光範囲がオーバーラップする波長範囲内に適宜の切替波長を設定し、その前後でそれぞれスペクトルデータを選択する。これにより、同一波長に対するスペクトルは一意に決まる。また、分光結晶の分光範囲の波長幅や波長分解能に応じて、各測定波長範囲の波長目盛り間隔を適宜に設定する。波長分解能が低い長波長側では波長軸が圧縮される。これにより、グラフ上、各分光結晶に対応した測定波長範囲の表示幅が略同一になり、目盛り間隔も極端に変化しないので、分析者にとって違和感が少ない視認性の高いＸ線スペクトルとなる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
分光特性が互いに相違する複数の分光結晶を装備した１乃至複数のＸ線分光器を用い、１つの試料に対して測定波長範囲及び波長分解能が相違する複数のＸ線スペクトルを取得するＸ線分析装置にあって、それら複数のＸ線スペクトルを処理して表示するためのＸ線スペクトル表示処理装置において、
a)前記複数のＸ線スペクトルに対し、オーバーラップする測定波長範囲内で、Ｘ線スペクトルを繋ぐ切替波長を設定し、該切替波長に応じてオーバーラップするＸ線スペクトルの一方を選択するオーバーラップ範囲処理手段と、
b)分光結晶に対応するＸ線スペクトルの波長範囲毎に、測定波長範囲及び／又は波長分解能に応じた波長軸の波長目盛り間隔を設定する波長軸設定手段と、
c)前記波長軸設定手段により波長目盛り間隔が設定された波長軸を有するグラフ上に、前記オーバーラップ範囲処理手段によりオーバーラップ範囲のデータが処理された複数のＸ線スペクトルを描画するグラフ形成手段と、
を備えることを特徴とするＸ線スペクトル表示処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線スペクトル表示処理装置であって、
利用され得る様々な分光結晶の組み合わせに対し、その組み合わせ毎に予め決められた切替波長及び波長目盛り間隔を記憶しておくデータベース、を備え、
前記オーバーラップ範囲処理手段及び前記波長軸設定手段は、前記データベースを利用して、分析に使用された分光結晶の組み合わせから切替波長及び波長目盛り間隔を導出することを特徴とするＸ線スペクトル表示処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線微小部分析装置、走査電子顕微鏡、蛍光Ｘ線分析装置等、電子線やＸ線などを励起線として試料から特性Ｘ線を放出させ、これを分光結晶により波長分散して特定波長のＸ線を検出する波長分散型のＸ線分析装置に関し、特に、そうしたＸ線分析装置で取得されるＸ線スペクトルを表示するための表示処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子線微小部分析装置（以下、「ＥＰＭＡ」と称す）による元素分析では、加速した電子線を励起線として試料表面に照射し、それによって試料の含有元素の内殻電子の遷移が生じる際に外部に放出される特性Ｘ線を波長分散型のＸ線分光器で検出する。このＸ線分光器を波長走査することで得られた特性Ｘ線スペクトルのピーク波長やＸ線強度から試料の含有元素の種類を特定する分析方法が定性分析である。
【０００３】
ＥＰＭＡは、一般的に、ベリリウムＢｅ（原子番号４）〜ウランＵ（原子番号９２）に亘る幅広い範囲の元素を分析可能である。しかしながら、Ｘ線分光器の構造上の制約等から、上記のような元素の全てを１つのＸ線分光器を用いて分析することはできない。そこで、ＥＰＭＡには通常、複数のＸ線分光器が搭載され、各Ｘ線分光器には互いに異なる種類（分光波長範囲及び波長分解能）の分光結晶が装備されている（特許文献１など参照）。これら複数のＸ線分光器を適宜組み合わせて用いることにより、上記元素の全て又は殆どを対象とした定性分析を可能としている。
【０００４】
上述のようなＥＰＭＡでは、Ｘ線分光器毎にそれぞれ異なる波長範囲のＸ線スペクトルが得られるから、様々な元素に対する定性分析を行う際に、分析者は、波長範囲や波長分解能の相違する複数のＸ線スペクトルを評価する必要がある。そのため、従来のこの種の装置では、複数のＸ線分光器に対応して得られた複数のＸ線スペクトルを並べて同一画面上に表示できるようになっている。図５はこうした表示の一例であり、上から順に、分光結晶が、ＬｉＦ、ＰＥＴ（Penta erythritol）、ＲＡＰ（Rubidium Acid Phthalate）、ＰｂＳＴ（ステアリン酸鉛）、であるＸ線分光器に対応するＸ線スペクトルである。
【０００５】
図５に示したような並列表示の場合、１つのＸ線スペクトルの縦軸範囲が狭く、Ｘ線強度の数値が読み取りにくい。これに対し、従来の別の表示例として、図６に示すように、複数の波長軸−強度軸を１つのグラフに持たせ、４つのＸ線スペクトルを重ねて（実際には各スペクトルの表示色を異なるものとして）描画するものもある。
【０００６】
ところで、波長分散型Ｘ線分析装置とは異なる他の種類の分析装置では、１つの検出器によって殆ど全ての元素に対する分析を行えることが多く、その場合には、分析結果として、１つのスペクトルに全ての分析元素の情報が反映される。例えばエネルギー分散型Ｘ線分析装置を利用した分析装置（例えばエネルギー分散型Ｘ線分析装置）では、全ての分析元素をカバーするエネルギー範囲のＸ線スペクトルを測定することができる。図７はこうしたＸ線スペクトルの一例である。この種の分析装置はエネルギー分解能は低いものの、全元素のピークが１つのＸ線スペクトルに現れるため、様々な元素の定性分析の際の評価が容易である。
【０００７】
これに対し、図５や図６に示した表示結果では、上述したように、測定波長範囲や波長分解能が相違する複数のＸ線スペクトルを分析者自らが総合的に評価する必要があり、見にくく作業にも手間が掛かる。また、同一の試料に対するＥＰＭＡの分析結果とエネルギー分散型Ｘ線分析装置の分析結果とをクロスチェックするような場合に、図５や図６に示したＥＰＭＡの表示結果では比較作業がたいへんに面倒で、見落としや見間違いも起こり易い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−２６２５１号公報（図１、段落[0018]〜[0021]）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記課題を解決するために成されたものであり、その目的とするところは、ＥＰＭＡなどの波長分散型Ｘ線分析装置で得られるＸ線スペクトルの視認性を向上するとともに、エネルギー分散型Ｘ線分析装置などの他の分析装置で得られるスペクトルとの比較を容易に行うことができる表示を可能としたＸ線スペクトル表示処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために成された本発明は、分光特性が互いに相違する複数の分光結晶を装備した１乃至複数のＸ線分光器を用い、１つの試料に対して測定波長範囲及び波長分解能が相違する複数のＸ線スペクトルを取得するＸ線分析装置にあって、それら複数のＸ線スペクトルを処理して表示するためのＸ線スペクトル表示処理装置において、
a)前記複数のＸ線スペクトルに対し、オーバーラップする測定波長範囲内で、Ｘ線スペクトルを繋ぐ切替波長を設定し、該切替波長に応じてオーバーラップするＸ線スペクトルの一方を選択するオーバーラップ範囲処理手段と、
b)分光結晶に対応するＸ線スペクトルの波長範囲毎に、測定波長範囲及び／又は波長分解能に応じた波長軸の波長目盛り間隔を設定する波長軸設定手段と、
c)前記波長軸設定手段により波長目盛り間隔が設定された波長軸を有するグラフ上に、前記オーバーラップ範囲処理手段によりオーバーラップ範囲のデータが処理された複数のＸ線スペクトルを描画するグラフ形成手段と、
を備えることを特徴としている。
【００１１】
上記Ｘ線分析装置は、１つのＸ線分光器に１つの分光結晶が搭載されており、分光結晶の種類数と同数のＸ線分光器を備えるものでもよいが、１つのＸ線分光器に機械的に交換自在に２つ以上の分光結晶が搭載されているものでもよい。いずれにしても、分光特性が互いに相違する分光結晶と同数のＸ線スペクトルを取得することができる。
【００１２】
一般的に、隣接する測定波長範囲をカバーする２つの分光結晶に対応するＸ線スペクトルの一部（測定波長範囲の端部）ではスペクトルがオーバーラップする。そこで、オーバーラップ範囲処理手段は、オーバーラップ波長範囲内で切替波長を設定し、切替波長を境にしてその前後の波長範囲でそれぞれ一方のスペクトルを選択する。例えば、オーバーラップする２つのスペクトルのうちの感度が高いほうを選択するように切替波長を決めることができる。ＥＰＭＡで用いられる化合物結晶の場合には、構成上原理的に、短波長側のほうが高い感度が得られる。このオーバーラップ範囲処理手段による処理の実行により、同一波長に対して複数存在するデータのいずれか一方が排除される。
【００１３】
波長軸設定手段は、分光結晶に対応するＸ線スペクトルの波長範囲毎に、測定波長範囲又は波長分解能の少なくとも一方に応じた波長目盛り間隔を設定する。例えば、各分光結晶の格子間隔で決まる波長分解能の比に基づいて、波長分解能が低いほど波長目盛り間隔当たりの波長幅を大きく設定するようにする。通常、長波長側で波長分解能は低くなるから、長波長側になるほど同一波長目盛り間隔に対する波長幅が大きく（つまり粗く）なる。また、グラフ上に表示される各分光結晶に対する測定波長範囲の幅が略同じ程度になるようにそれぞれの波長目盛り間隔を設定してもよい。
【００１４】
グラフ形成手段が、上記のように波長目盛り間隔が設定された波長軸を有するグラフ上に複数のＸ線スペクトルを描画することにより、例えば分析可能な元素をほぼ網羅するような広い波長範囲に亘る見易いＸ線スペクトルを作成することができる。
【００１５】
本発明の一態様として次のような構成とすることができる。即ち、分光結晶には様々なものが用いられているが、各分光結晶の分光範囲や波長分解能は既知であるから、様々な分光結晶の組み合わせに対して、それらの分光範囲や波長分解能を考慮して、適切な切替波長や波長目盛り間隔を予め決めてデータベース化しておく。そして、オーバーラップ範囲処理手段及び波長軸設定手段は、そのデータベースを利用して、分析に使用された分光結晶の組み合わせから切替波長及び波長目盛り間隔を導出し、これを利用すればよい。これにより、複雑な判断を伴わない簡単な処理により、見易いＸ線スペクトルを表示することが可能である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係るＸ線スペクトル表示処理装置によれば、波長分散型Ｘ線分析装置で同一試料に対して得られた複数のＸ線スペクトルを集約して、例えばエネルギー分散型Ｘ線分析装置で得られるような、分析可能なほぼ全ての元素を網羅する広い波長範囲に亘る１つのＸ線スペクトルを画面上に表示させることができる。またその際に、波長軸はリニアでなく、各分光結晶の特性等に応じて適宜に縮小又は拡大されるので、Ｘ線スペクトル全体を一目で確認しつつ、ピークの波長間隔が狭く込み入った短波長の範囲でも各ピークを明確に表示することができる。これにより、Ｘ線スペクトルを利用した定性分析の作業効率が改善され、特に、波長分散型Ｘ線分析装置の分析結果とエネルギー分散型Ｘ線分析装置の分析結果とをクロスチェックするような場合に、Ｘ線スペクトルの比較対照が容易になり、評価や判断のミスの発生も減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施例である表示処理装置を用いたＥＰＭＡの要部の構成図。
【図２】本実施例の表示処理装置における処理フローチャート。
【図３】分光結晶の分光範囲及び波長分解能の例を示す図。
【図４】本実施例による複数のＸ線スペクトルの表示例を示す図。
【図５】従来のＥＰＭＡにおける複数のＸ線スペクトルの表示例を示す図。
【図６】従来のＥＰＭＡにおける複数のＸ線スペクトルの別の表示例を示す図。
【図７】エネルギー分散型Ｘ線分析装置におけるＸ線スペクトル表示例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に係るＸ線スペクトル表示処理装置の一実施例について、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は本実施例によるＸ線スペクトル表示処理装置を用いたＥＰＭＡの要部の構成図である。
【００１９】
図１において、電子銃１から出射された励起線としての電子線Ｅは、偏向コイル２により形成される磁場を通り対物レンズ３で微小径に収束され、試料ステージ４上に載置された試料Ｓに照射される。これにより、試料Ｓの表面から特性Ｘ線が周囲に放出される。試料Ｓの上方には、複数のＸ線分光器が互いに干渉しないように配設されている。この図では２つのＸ線分光器６ａ、６ｂのみを描いているが、試料Ｓを取り囲むように全部で４つのＸ線分光器（図示しないＸ線分光器の符号を６ｃ、６ｄとする）が配設されている。
【００２０】
各Ｘ線分光器６ａ〜６ｄはそれぞれ、分光結晶６１ａ（６１ｂ〜６１ｄ）と、Ｘ線検出器６３ａ（６３ｂ〜６３ｄ）と、スリット６４ａ（６４ｂ〜６４ｄ）とを備え、試料Ｓから放出された特性Ｘ線は分光結晶６１ａ〜６１ｄで波長分散され、特定の波長の回折Ｘ線がスリット６４ａ〜６４ｄを通過してＸ線検出器６３ａ〜６３ｄで検出される。例えばＸ線分光器６ａにおいて、試料Ｓ上の電子線照射位置と分光結晶６１ａとＸ線検出器６３ａとは常に図示しないローランド円上に位置しており、図示しない駆動機構により分光結晶６１ａは結晶移動直線６２ａ上を移動しつつ傾斜され、この移動に連動してＸ線検出器６３ａは図示するように回動される。これにより、ブラックの回折条件を満たすように、つまり分光結晶６１ａ、６１ｂに対する特性Ｘ線の入射角と回折Ｘ線の出射角とが等しい状態が維持されつつ分析対象のＸ線の波長走査が達成される。なお、Ｘ線分光器の構成はこれに限るものではなく、従来知られている各種の構成を採ることができる。
【００２１】
各Ｘ線検出器６３ａ〜６３ｄによるＸ線強度の検出信号は並行してデータ処理部８に入力され、データ処理部８は、波長走査に応じたＸ線スペクトルを作成する。試料ステージ４は試料ステージ駆動部５により水平面内で移動可能となっており、これにより試料Ｓ上で電子線Ｅの照射位置は走査可能である。また、偏向コイル２により形成される磁場は偏向コイル制御部７から供給される駆動電流により変化し、それにより電子線Ｅは曲げられて試料Ｓ上での照射位置がずれる。このように、試料ステージ４の駆動、偏向コイル２の駆動のいずれでも試料Ｓ上における電子線照射位置（つまりは微小分析位置）は２次元的に走査可能である。
【００２２】
分析制御部９は試料Ｓに対する分析を実行するために、試料ステージ駆動部５、Ｘ線分光器６ａ〜６ｄ、偏向コイル制御部７、データ処理部８などの動作を制御する。中央制御部１０には分析者が指示を与える操作部１２や分析者に情報を提供する表示部１３が接続され、分析条件の設定などを行うとともに分析結果などを出力する機能を有する。通常、中央制御部１０、データ処理部８、及び、分析制御部９の全て又は一部は、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）により構成され、ＰＣにインストールされた専用の制御／処理ソフトウエアを実行することでそれぞれの機能が達成されるようにすることができる。
【００２３】
中央制御部１０は本発明に係る表示処理装置に相当する機能を表示処理部１１として含む。この表示処理部１１の動作も、上記制御／処理ソフトウエアに含まれるプログラムの実行により達成することができる。以下、この表示処理部１１を中心とする特徴的な処理動作を図２〜図４を参照して説明する。
【００２４】
上記ＥＰＭＡにおいて使用される４つの分光結晶６１ａ〜６１ｄの種類と、分光範囲（測定波長範囲）、波長分解能、などを、図３に示す。分光結晶６１ａ〜６１ｄは、前述した、ＬｉＦ、ＰＥＴ、ＲＡＰ、ＰｂＳＴの４種類であり、これにより、ほぼ全ての分析元素をカバーしている。即ち、これら分光結晶６１ａ〜６１ｄを装備したＸ線分光器６ａ〜６ｄでそれぞれ分光範囲に亘り波長走査を実行しつつ試料Ｓ上の所定位置に対するＸ線分析を行うことにより、データ処理部８では、例えば、図５に示した４つの異なる測定波長範囲に対するＸ線スペクトルを構成するスペクトルデータを取得することができる。
【００２５】
表示処理部１１は上記のように複数の測定波長範囲毎に得られたスペクトルデータを集約して、例えば図７に示したエネルギー分散型Ｘ線分析装置で得られるような全波長（エネルギー）範囲に亘る１本のＸ線スペクトルを作成して描画する処理を行う。
【００２６】
図３に示したように、各分光結晶の分光範囲にはオーバーラップしている部分がある。例えばＬｉＦとＰＥＴとでは、０．２６〜０．３８nmの波長範囲がオーバーラップしており、図５で明らかなように、このオーバーラップ範囲では異なる２つのＸ線スペクトルのいずれにもスペクトルデータが存在する。同一波長位置に対する２つのスペクトルデータの強度値は多くの場合、同一ではないから、単純に各分光結晶のＸ線スペクトルを同一グラフ上に表示しようとすると、オーバーラップ範囲で２本のＸ線スペクトルが表示されてしまい、分析者にとってはかなり見にくく使いにくいグラフとなる。
【００２７】
一方、図３に示したように、各分光結晶の波長分解能は、最も波長分解能が高いＬｉＦを基準として、長波長（低エネルギー）側になるに従って低くなる（粗くなる）ことも分かる。波長分解能の差異は最大で約２５倍にもなる。また、各分光結晶の分光範囲の波長広さも大きく相違する。そのため、全ての分光範囲をカバーするような波長範囲（例えば０．１〜１０nm）のリニアな波長軸を用いて各Ｘ線スペクトルを同一グラフに表示しようとすると、各分光結晶に対応するＸ線スペクトルの表示幅が分光範囲の波長広さに比例して大きく相違し、結果的に、非常に見にくいグラフとなる。具体的には、表示する際に横スクロール機能などを用いる必要があるような横幅が非常に大きなグラフとなるか、或いは、短波長側で複数のピークが判別できないほど込み入ったグラフとなってしまう。
【００２８】
そこで、表示処理部１１は図２に示すフローチャートに従ったデータ処理を実行することで、最終的に、分析者にとって見易く使い易いグラフを作成するようにしている。
【００２９】
まず、表示処理部１１は、データ処理部８から各分光結晶６１ａ〜６１ｄに対応したスペクトルデータを取得する（ステップＳ１）。このスペクトルデータは新たな分析により取得されたデータである場合もあるし、過去に分析が実施され、データ処理部８内部又はその外部の記憶装置に保存されていたデータである場合もある。いずれにしても、１つの試料に対する分析により取得された、各分光結晶６１ａ〜６１ｄに対応するスペクトルデータが得られる。
【００３０】
上述したように、ＬｉＦとＰＥＴ、ＰＥＴとＲＡＰ、では、スペクトルデータが重なるオーバーラップ範囲が存在する。そこで、このオーバーラップ範囲内で適宜の波長位置を切替波長とし、その切替波長を境に２つのスペクトルデータの選択を切り替える処理を実行する（ステップＳ２）。
【００３１】
好ましくは、異なる分光結晶に対応した２つのスペクトルデータのうち、感度が良好であるほうのデータを選択するとよい。一般的に、ＥＰＭＡにおいて分光範囲が重なるオーバーラップ範囲では、短波長側となる分光結晶のほうが感度が良好である。また、スペクトル上のピーク出現位置の近傍に切替波長を設定することはあまり好ましくない。そこで、例えばＬｉＦとＰＥＴとのオーバーラップ範囲では、０．３nmを切替波長とし、この波長以下の範囲ではＬｉＦに対応したスペクトルデータを採用し、それよりも長い波長範囲でＰＥＴに対応したスペクトルデータを採用するようにしている。また、ＰＥＴとＲＡＰのオーバーラップ部では、０．８nmを切替波長とし、この波長以下の範囲ではＰＥＴに対応したスペクトルデータを採用し、それよりも長い波長範囲ではＲＡＰに対応したスペクトルデータを採用するようにしている。これにより、オーバーラップ範囲においても、１つの波長位置に対するスペクトルデータは１つになる。
【００３２】
次に、表示処理部１１は上記切替波長を境に定められた各分光結晶６１ａ〜６１ｄに対応したスペクトルの表示波長範囲毎に、波長目盛り間隔を決定する（ステップＳ３）。即ち、上述したように、分光結晶６１ａ〜６１ｄの波長分解能や分光範囲の波長広さの差異によるグラフの見にくさを軽減するために、基本的に、波長分解能が低くなるほど１つの波長目盛り間隔に対する波長幅が大きくなるように波長目盛り間隔を決めている。この例では、上記の４種の分光結晶の組み合わせの場合に、各分光結晶の分解能や分光範囲を考慮して、予め、次のように、波長目盛り間隔を決めておくものとする。
・ＬｉＦ    ：  ０．０１nm
・ＰＥＴ    ：  ０．０２nm
・ＲＡＰ    ：  ０．１nm
・ＰｂＳＴ  ：  ０．５nm
【００３３】
波長目盛り間隔が決まったならば、波長軸がその波長目盛り間隔に設定された１つのグラフ枠に対し、ステップＳ２でデータ選択されたあとの各Ｘ線スペクトルのスペクトルデータに基づくスペクトルを描画する処理を行う（ステップＳ４）。このとき、分光結晶毎にＸ線スペクトルの表示色を変えるようにしている。これにより、図４に示すようなグラフが作成され、これが表示部１３の画面上に表示される。
【００３４】
図４を見れば明らかなように、４種の分光結晶に対応した波長範囲はグラフ上でほぼ同じ程度の横幅になっている。また、波長軸の目盛りの間隔も極端に狭い箇所や広い箇所がなく、見易くなっている。また、図５に示したように、もともと長波長側（例えばでＰｂＳＴ）では波長分解能が低いためにピークの幅が広いが、図４の表示では長波長側で波長軸が圧縮された状態になるので、みかけ上、ピークの幅が狭い線状のピークとして表される。このため、分析者にとって違和感が少ないＸ線スペクトルが得られるという付随的な効果もある。
【００３５】
なお、図４に示したグラフは、各分光結晶に対応するスペクトルデータをそのままグラフ表示したものであるため、切替波長（例えば０．３nm）でスペクトルが不連続になっているが、バックグラウンド除去処理を施すことにより各スペクトルのベースラインをほぼゼロにすれば、切替波長の前後でもほぼ連続するスペクトルとすることができる。また、ＲＡＰとＰｂＳＴとの間にスペクトルデータの存在しない空白波長範囲（２．４５〜２．８nm）があるが、この範囲でもみかけ上スペクトルが連続することになる。
【００３６】
上記説明で挙げた切替波長や波長表示目盛り間隔の数値は一例である。例えば、上記の波長表示目盛り間隔は波長分解能の差異よりも分光範囲の広さの差異を重視して決められたものであるが、波長分解能の差異を重視して、次のように決めてもよい。
・ＬｉＦ    ：  ０．０２５nm
・ＰＥＴ    ：  ０．０５nm
・ＲＡＰ    ：  ０．１５nm
・ＰｂＳＴ  ：  ０．７５nm
これは、ＬｉＦにおける１波長表示目盛り間隔を基準として、ＰＥＴ、ＲＡＰ、ＰｂＳＴにおける１波長表示目盛り間隔をそれぞれ、２倍、６倍、３０倍に設定したものである。
【００３７】
また、上記実施例では、ＬｉＦ、ＰＥＴ、ＲＡＰ、ＰｂＳＴ、の４種の分光結晶を用いていたが、それ以外にも、Ｇｅ、ＴＡＰ（Thallium Acid Phthate）、ＥＤＤＴ（エチレンジアミン四酢酸）、など、様々なものが用いられる。そうした場合でも、分光結晶の分光範囲や波長分解能は既知であるから、様々な分光結晶の組み合わせに対し、予め切替波長と波長表示目盛り間隔とを定めてデータベース化しておき、上記ステップＳ２及びＳ３において、使用された分光結晶の組み合わせからデータベースを参照して切替波長と波長目盛り間隔とを求めるのが実用的である。
【００３８】
図４に示した例では、縦軸を各分光結晶に共通のＸ線強度軸（絶対的な計数値）としていたが、これは相対強度でもよい。また、分光結晶によって感度が大きく相違する場合には、強度軸を各分光結晶に共通とせずに、複数の強度目盛りを用いてもよい。
【００３９】
また上記実施例はＥＰＭＡを例に挙げて説明したが、本発明に係るＸ線スペクトル表示処理装置は、複数の分光結晶を装備したＸ線分光器を用いた波長走査型Ｘ線分析装置を利用した、他の分析装置に適用できることも明らかである。
【符号の説明】
【００４０】
１…電子銃
１０…中央制御部
１１…表示処理部
１２…操作部
１３…表示部
２…偏向コイル
３…対物レンズ
４…試料ステージ
５…試料ステージ駆動部
６ａ〜６ｄ…Ｘ線分光器
６１ａ〜６１ｄ…分光結晶
６２ａ〜６２ｄ…結晶移動直線
６３ａ〜６３ｄ…Ｘ線検出器
６４ａ〜６４ｄ…スリット
７…偏向コイル制御部
８…データ処理部
９…分析制御部
Ｅ…電子線
Ｓ…試料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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