(57)【要約】【課題】カラーフィルタの着色画素であるＲＧＢ画素の露光位置ずれを検査するカラーフィルタ基板検査装置を提供する。【解決手段】カラーフィルタ製造工程においてレッド、グリーン、ブルーの着色画素を露光、現像しパターンを形成する際に、露光の位置ずれによって起こる着色画素のずれを検査するカラーフィルタ基板検査装置であって、カラーフィルタ基板を搬送する搬送手段と、透過照明する照明手段と、照明されたカラーフィルタ基板を撮像する撮像手段と、着色画素の位置ずれのない基準画像と撮像した検査画像を用いて画像全体処理とプロジェクション比較処理と平均明度処理を行って着色画素の位置ずれを判定処理する画像比較処理手段と、撮像した撮像画像の近接した同一パターンを比較処理して外観検査する外観検査手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板検査装置。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ製造工程においてレッド、グリーン、ブルーの着色画素を露光、現像しパターンを形成する際に、露光の位置ずれによって起こる着色画素のずれを検査するカラーフィルタ基板検査装置であって、カラーフィルタ基板を搬送する搬送手段と、透過照明する照明手段と、照明されたカラーフィルタ基板を撮像する撮像手段と、着色画素の位置ずれのない基準画像と撮像した検査画像を用いて画像全体処理とプロジェクション比較処理と平均明度処理を行って着色画素の位置ずれを判定処理する画像比較処理手段と、撮像した撮像画像の近接した同一パターンを比較処理して外観検査する外観検査手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板検査装置。
【請求項２】
画像全体処理は基準画像と検査画像の撮像カメラの画素の平均の明度の差分を取り、差分を検査画像全体に加算して補正検査画像を生成した後、基準画像と補正検査画像の差分画像を求め、予め設定した閾値１を超えた場合に位置ずれと判定することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板検査装置。
【請求項３】
プロジェクション比較処理は、基準画像及び補正検査画像の垂直方向と水平方向に明度を各々撮像カメラの画素単位で積分してプロジェクションデータとし、２つのプロジェクションデータの差を求め、予め設定した閾値２を超えた場合に位置ずれと判定することを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ基板検査装置。
【請求項４】
平均明度処理は、基準画像及び補正検査画像の水平方向及び垂直方向に予め設定されたピッチで線分を設け、基準画像及び補正検査画像内の線分で囲まれた画像内の明度の平均を求め、予め設定した閾値３を超えた場合に位置ずれと判定することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のカラーフィルタ基板検査装置。
【請求項５】
位置ずれまたは外観検査によって欠陥が検出された場合には、欠陥部の画像及び判定結果を表示すると共に判定結果をフィードバックすることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のカラーフィルタ基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ製造工程においてパターンを形成する際に行われる露光処理時に発生するパターンの露光位置ずれを検査するカラーフィルタ基板検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１はカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図である。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色パターン（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色パターン（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色パターン（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００３】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ−１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ−２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ−３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ−４）、露光処理する工程（Ｃ−５）、現像処理する工程（Ｃ−６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ−７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ−８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ−９）がこの順に行われ製造される。
【０００４】
ガラス基板２上へのＢＭ３の形成は、例えば、ガラス基板２上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜にフォトレジストを塗布した後、フォトリソグラフィー法によってＢＭ形状を有したパターンを露光、現像、エッチングをして形成するといった方法や、または、ガラス基板２上に黒色のフォトレジスト樹脂を塗布し、この樹脂塗膜をフォトリソグラフィー法によってＢＭ形状を有したパターンを露光、現像して、いわゆる樹脂ＢＭと称するパターンを形成する方法がとられている。
【０００５】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ−２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ−７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００６】
上記Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素を形成する際の露光処理する工程（Ｃ−５）では、ＢＭパターンを形成する際に作成された位置決めマークをカメラで撮像して、撮像した画像から基準位置を検出し、フォトマスクを用いて露光される。
【０００７】
液晶表示装置の大型化に伴い、マザーガラス（マザーガラス：カラーフィルタのパターンを形成する素ガラス）自体も大型化の傾向にあり、且つ、一般的にカラーフィルタはマザーガラスに多面付けして形成される。最近では１辺が２ｍを超えるものもある。同様に露光処理に用いられる露光装置やフォトマスクもマザーガラスのサイズに追従して大型化の傾向にある。しかしながらフォトマスクは大型化することで高価なものとなり、しかもカラーフィルタの品種毎にフォトマスクを作製する必要があるために、フォトマスクに要する費用が高額なものとなっている。高額化に対応するために、更にフォトマスクの大きさの限界もあることから、小型のフォトマスクを使用して分割露光してカラーフィルタを
製造している。
【０００８】
また、図示していないがカラーフィルタ製造工程内では異物の検査やパターン不良の検査のために自動外観検査が適宜行われている。自動外観検査装置を用いて、カラーフィルタ製造の各工程（ＢＭ形成工程、Ｒ画素形成工程、Ｇ画素形成工程、Ｂ画素形成工程）の後に微細なパターン不良の検出を行っている。一般的に自動外観検査はカラーフィルタが同一パターンの集合であることを利用し、隣接した同一パターンを比較するいわゆるパターン比較処理によって行なわれる。比較に使用する画像信号はＣＣＤカメラを用いて、８ビット２５６階調の白黒画像として取得することが多い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−３２３１８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
図３はガラス基板４２上にカラーフィルタのパターン４１が４面配置（４面付け）されたカラーフィルタの一例を示す。４面のパターンが形成されたカラーフィルタを作成する際に、四面全体が描画されているガラス基板大の一枚のフォトマスク（図示せず）を用いて、ガラス基板上に塗布されたフォトレジストに一回の露光によりパターンを４面全体を露光する方法を一括露光法と称している。これは、ＩＣ製造におけるウエハーガラス基板上に塗布されたフォトレジストに、例えば一個のＩＣのパターンが描画されているフォトマスクを用いて、ウエハー基板の位置を変えて多数回の露光をし、多数のＩＣを面付けした状態に露光する方法、すなわちステップアンドリピート露光法に対する称し方である。前記一括露光法では、ＢＭパターン上の位置合わせ用マークと前記フォトマスク上の位置合わせ用マークをフォトマスクを載置したアライメントテーブルを移動させて両者のマークを光学的に一致させたところで露光が行われる。この際、前記両者のマークの一致が必ずしも正確に行われず、いわゆる位置ずれが発生することがある。
【００１１】
更に、このような一括露光法においては、ガラス基板が大型化するに伴い、用いられるフォトマスクも大型化することになるが、このフォトマスクの価格は、大型化に伴い飛躍的に高価なものとなる。そこで上記のようなカラーフィルタのパターンの４面を２面に分割して、２面付けされた大きさの小型フォトマスクを用いて２回分割露光が行われている。
【００１２】
図４は分割露光の場合のアライメント（位置合わせ）と、露光の一例を説明するための図である。図４に示す分割露光による露光装置は、搬入コンベア５１、アライメントステージ５２、搬入搬出ロボット５３、露光装置本体５４、および搬出コンベア５５などで構成されている。５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄは各々、搬入コンベア５１上、アライメントステージ５２上、露光装置本体５４上、および搬出コンベア５５上のガラス基板を示している。
【００１３】
図５は、図４に示す露光装置５４の矢印５７の方向から見た側面図である。図４および図５に示すように、露光装置本体５４は、露光ステージ６１と、光源６３、フォトマスク６４などからなる露光部６２を備えている。位置（ａ）は露光ステージ６１上の２回分割露光における第１露光の位置を示し、また、位置（ｂ）は第２露光の位置を示している。
【００１４】
図４、および図５に示すように、露光部６２は固定されたまま、露光ステージ６１上のガラス基板５６ｃは露光ステージ６１により移動し、（ａ）位置で第１露光が行われ、次に露光ステージ６１が一定距離移動した後停止し、（ｂ）位置で第２露光が行われるよう
になっている。すなわち、ガラス基板５６ａは、搬入コンベア５１上からアライメントステージ５２上に移動され（５６ｂ）、アライメントステージ５２上にてアライメントされる。次に、搬入搬出ロボット５３によって露光ステージ６１上に搬入される。露光ステージ６１上のガラス基板５６ｃは露光ステージ６１に固定されたまま、上記２回分割露光後、同一搬入搬出ロボット５３によって露光ステージ６１から搬出コンベア５５上に搬出される（５６ｄ）ようになっている。
【００１５】
すなわち、ガラス基板はアライメントステージ５２上にてアライメントされた後に露光ステージ６１上に搬入されるために、アライメントステージ５２上での位置ずれや搬入搬出ロボット５２の精度や露光装置５４の露光ステージの精度及びアライメントステージ５２や搬入搬出ロボット５３や露光装置５４の露光ステージの調整不良に起因したガラス基板の位置ずれが発生する。
【００１６】
図６は上記ガラス基板の位置ずれが原因となって、Ｒ画素の露光位置ずれが発生した例を示している。図６（ａ）は正常に露光されたＲ画素を示し、ＢＭ６６に対してＲ画素６７が正常に位置合わせされている。一方、図６（ｂ）は露光位置ずれが発生した場合を示したもので、ＢＭ６６に対してＲ画素６７の位置がずれ、結果としてＢＭ６６とＲ画素６７の境界には白抜け部６８が発生し、このカラーフィルタを液晶表示装置に組み込んだ場合には、コントラスト不良の表示装置となってしまう。
【００１７】
通常の大型フォトマスクを使用した一括露光であれば、パターンの露光位置ずれが生じた場合大型フォトマスクで露光したパターン全体がずれるため、パターンの一部を確認することで露光位置ずれが生じたかどうかの確認が可能であるが、小型のフォトマスクを使用する分割露光においては露光位置ずれが生じているかどうかはガラス基板全面について確認する必要がある。しかしながら顕微鏡での測定には、測定時間がかかるためガラス基板内で限られた位置しか測定ができず、また、ガラス基板全面を検査するには多くの時間を有するといった問題があった。
【００１８】
本発明は上記の問題を鑑みてなされたもので、カラーフィルタの着色画素であるＲＧＢ画素の露光位置ずれを短時間で基板全面を検査するカラーフィルタ基板検査装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の請求項１に係る発明は、カラーフィルタ製造工程においてレッド、グリーン、ブルーの着色画素を露光、現像しパターンを形成する際に、露光の位置ずれによって起こる着色画素のずれを検査するカラーフィルタ基板検査装置であって、カラーフィルタ基板を搬送する搬送手段と、透過照明する照明手段と、照明されたカラーフィルタ基板を撮像する撮像手段と、着色画素の位置ずれのない基準画像と撮像した検査画像を用いて画像全体処理とプロジェクション比較処理と平均明度処理を行って着色画素の位置ずれを判定処理する画像比較処理手段と、撮像した撮像画像の近接した同一パターンを比較処理して外観検査する外観検査手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板検査装置である。
【００２０】
本発明の請求項２に係る発明は、画像全体処理は基準画像と検査画像の撮像カメラの画素の平均の明度の差分を取り、差分を検査画像全体に加算して補正検査画像を生成した後、基準画像と補正検査画像の差分画像を求め、予め設定した閾値１を超えた場合に位置ずれと判定することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板検査装置である。
【００２１】
本発明の請求項３に係る発明は、プロジェクション比較処理は、基準画像及び補正検査画像の垂直方向と水平方向に明度を各々撮像カメラの画素単位で積分してプロジェクショ
ンデータとし、２つのプロジェクションデータの差を求め、予め設定した閾値２を超えた場合に位置ずれと判定することを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ基板検査装置である。
【００２２】
本発明の請求項４に係る発明は、平均明度処理は、基準画像及び補正検査画像の水平方向及び垂直方向に予め設定されたピッチで線分を設け、基準画像及び補正検査画像内の線分で囲まれた画像内の明度の平均を求め、予め設定した閾値３を超えた場合に位置ずれと判定することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のカラーフィルタ基板検査装置である。
【００２３】
本発明の請求項５に係る発明は、位置ずれまたは外観検査によって欠陥が検出された場合には、欠陥部の画像及び判定結果を表示すると共に判定結果をフィードバックすることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のカラーフィルタ基板検査装置である。
【発明の効果】
【００２４】
小型フォトマスクを用いた露光装置によって露光処理されたカラーフィルタについて、露光位置のずれが生じているかを基板全面の面付けに対し確認することが可能となる。
【００２５】
自動外観検査手段をも備えたことにより、既存のカラーフィルタ製造工程と同等のラインに本発明によるカラーフィルタ基板検査装置を設置することができ、設備価格の大幅な上昇なしに、着色画素の位置ずれ及び外観検査が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程のフロー図。
【図３】パターンが４面付けされたカラーフィルタの一例を示す図。
【図４】分割露光の場合の位置合わせと、露光の一例を説明するための図。
【図５】図４に示す露光装置５４の矢印５７の方向から見た側面図。
【図６】Ｒ画素の露光位置ずれが発生した例を示す図。        （ａ）は正常に露光されたＲ画素を示す図。        （ｂ）はＲ画素が露光位置ずれした場合を示す図。
【図７】本発明に係るカラーフィルタ基板検査装置の概略構成図を示す図。
【図８】本発明に係る露光位置ずれ検査方法のフローを示す図。
【図９】本発明に係る露光位置ずれ検査方法のフローを示す図。
【図１０】本発明に係る露光位置ずれ検査方法のフローを示す図。
【図１１】本発明に係る露光位置ずれ検査方法のフローを示す図。
【図１２】本発明に係る基準画像のプロジェクションデータを示す図。
【図１３】本発明に係るグリッドラインとグリッドを示す図。
【図１４】本発明に係るカラーフィルタ基板検査装置の動作フローを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明に係る露光位置ずれ検査方法及び検査装置の実施形態を説明する。
【００２８】
図７は本発明に係るカラーフィルタ基板検査装置の概略構成図を示す図である。カラーフィルタ基板検査装置は、カラーフィルタ基板７０を矢印７５の方向に搬送するための搬送手段である搬送部７３、カラーフィルタ基板７０を照明する照明手段である透過光源部７１、照明されたカラーフィルタ基板７０を撮像する撮像手段である撮像部７２、及び画像比較処理手段を備えた制御ユニット７４と、図示していないが撮像した撮像画像の近接した同一パターンを比較処理して外観検査する外観検査手段を有している。透過光源部７
１、撮像部７２、搬送部７３は制御ユニット７４に接続され演算部からの信号で制御されるが、各制御について演算部でのソフトウェア制御ではなく別途専用ハードウェアでの制御を行っても良い。
【００２９】
透過光源部７１はカラーフィルタ基板７０の搬送方向と直交する方向の全幅に対して均一な照明を行えるように設置され、例えばハロゲン光源が用いられる。撮像部７２はカラーフィルタ基板７０の搬送方向と直交する方向の全幅に対して複数台２次元ＣＣＤカメラが並べられる。ここで用いられる２次元ＣＣＤカメラはモノクロ用で良く、撮像された画像データは画像データ処理部（図示せず）で２５６階調のデジタルデータに変換される。搬送部７３は、搬送用コロ７６でカラーフィルタ基板７０を搬送しても良く、または搬送用にステージを設けてステージ上にカラーフィルタ基板７０を載置し、ステージを移動させて搬送しても良い。更にはカラーフィルタ基板７０を静止する載置台に載置したまま透過光源部７１と撮像部７２を駆動させて移動させてもよい。
【００３０】
制御ユニット７４は記憶部、演算部、位置ずれ検出部、外観検出部、操作部、表示部が備えられており、更に位置ずれ検出部は画像比較処理手段であるパターンマッチング処理部、画像切出し処理部、画像明度処理部、判定処理部を備えている。搬送部は測定対象受け渡し機構、メカアライメント機構を備えている。
【００３１】
記憶部はＨＤＤや磁気ディスクなどの記憶媒体、読み取り専用のＲＯＭ、一時記憶用のＲＡＭなどである。操作部はキーボード、マウス、各種ボタン類である。表示部はモニタ、表示ランプなどである。
【００３２】
図８、図９、図１０、図１１に本発明に係る露光位置ずれ検査方法のフローを示す。図８において、開始後（Ｓ−１）、先ず小型フォトマスクを用いて露光し現像した後のカラーフィルタ基板に対し、露光位置ずれがないことを確認した正常なカラーフィルタ基板の画像を取得する（Ｓ−２）。これを基準画像とする。次に基準画像の画像内にある特徴のあるパターン位置を特徴位置として設定し（Ｓ−３）、特徴位置周辺の画像を切り出した画像を事前に設定する（Ｓ−４）。この場合、基準画像内における特徴位置周辺の画像の位置座標を保持しておき（Ｓ−５）、画像を切り出す際の手段とする。
【００３３】
次に検査に移行する。検査を実施する場合、先ず、検査対象のカラーフィルタ基板の一部の画像を取得する（Ｓ−６）。ステップ（Ｓ−６）で取得した画像に対し、ステップ（Ｓ−４）で設定された特徴位置周辺の画像を切り出した画像を使用して、パターンマッチングを行って特徴位置を取得する（Ｓ−７）。ステップ（Ｓ−５）で保持された基準画像内における特徴位置周辺の画像の位置座標と同じ座標に当たる画像をステップ（Ｓ−６）で取得した検査画像から切り出す（Ｓ−８）。これを検査画像とする。
【００３４】
ステップ（Ｓ−２）で取得した基準画像とステップ（Ｓ−８）で切り出された検査画像のそれぞれの画像全体にわたって明度の平均値を算出し（Ｓ−９）、平均をとった基準画像の平均画像（これを基準画像の平均画像と呼ぶ）と同じく平均をとった検査画像の平均（これを検査画像の平均画像と呼ぶ）の差を算出し（Ｓ−１０）、差の値を前記ステップ（Ｓ−８）で切り出された検査画像の画像全体に加算する（Ｓ−１１）（これを補正検査画像と呼ぶ）。ステップ（Ｓ−１１）によって、基準画像を得た時と検査画像を得た時の透過光源部７１の経時による照明強度のバラツキを補正することが出来る。
【００３５】
次に図９に示されるステップ（Ｓ−１２）以降の各画像処理手法を用い、位置ずれを検出する。先ず画像全体比較を行う。画像全体比較は、先ずステップ（Ｓ−２）で取得した基準画像とステップ（Ｓ−１１）で得られた補正検査画像の差分を取る（Ｓ−１２）。これを差分画像と呼ぶ。次に差分画像について、最も明度の高い箇所（ＭＨ）、または最も
明度の低い箇所（ＭＬ）が、予め設定された閾値１である高い明度の閾値（ＭＨＳＨ）または低い明度の閾値（ＭＬＳＨ）内にない場合（（Ｓ−１３）のＹＥＳ）は、位置ずれと判定（Ｓ−１４）した後、終了する（Ｓ−２８）。一方、（Ｓ−１３）のＮＯの場合は次のステップ（Ｓ−１５）へ進む。閾値１を用いた位置ずれ判定によって、位置ずれの大きい欠陥を検出することが出来、それ以降のステップに進むことなく、検査時間を短縮することが出来る。
【００３６】
次に図１０に示されるステップ（Ｓ−１５）以降においてプロジェクションデータ比較を行う。先ず、ステップ（Ｓ−２）で得られた基準画像について、画像を構成する画素それぞれについて水平方向と垂直方向に明度の和（いわゆるプロジェクションデータ）（これを基準画像のプロジェクションデータと呼ぶ）を求める（Ｓ−１５）。図１２に基準画像のプロジェクションデータを示す。同様に、ステップ（Ｓ−１１）で得られた補正検査画像について画像を構成する画素それぞれについて水平方向と垂直方向に明度のプロジェクションデータ（これを補正検査画像のプロジェクションデータと呼ぶ）を求める（Ｓ−１６）。次にステップ（Ｓ−１５）で求められた基準画像のプロジェクションデータとステップ（Ｓ−１６）で求められた補正検査画像のプロジェクションデータの差の絶対値│Ｓ│を求め（Ｓ−１７）、事前に設定した差の閾値２である閾値（ＳＨ）以上の差の場合（（Ｓ−１８）のＹＥＳ））は、位置ずれと判定（Ｓ−１９）した後、終了する（Ｓ−２８）。一方（Ｓ−１８）のＮＯの場合は次のステップ（Ｓ−２０）に進む。閾値２によって着色画素が水平方向または垂直方向に位置ずれした場合、検出することが出来る。
【００３７】
次に図１１に示されるステップ（Ｓ−２０）以降において平均明度比較を行う。先ずステップ（Ｓ−２）で取得した基準画像について、水平方向にＸ軸、垂直方向にＹ軸をとり、各軸上に事前に設定されたピッチで線分を引き、格子状のラインを作成する（Ｓ−２０）。この格子状のラインをグリッドラインと呼び、グリッドラインに囲まれた範囲をグリッドと呼ぶ。図１３にグリッドライン７０とグリッド７１を示す。各グリッドの中にある画素の明度の平均値を求める（Ｓ−２１）。これを基準画像のグリッド明度平均画像と呼ぶ。ステップ（Ｓ−１１）で得られた補正検査画像についても水平方向にＸ軸、垂直方向にＹ軸をとり、各軸上に事前に設定されたピッチで線分を引き、格子状の線分を設け（Ｓ−２２）、各グリッドの明度の平均値を求める（Ｓ−２３）。これを補正検査画像のグリッド明度平均画像と呼ぶ。
【００３８】
次に、上記ステップ（Ｓ−２１）で求められた基準画像のグリッド明度平均画像とステップ（Ｓ−２３）で求められた補正検査画像のグリッド明度平均画像について各グリッド毎の明度の差の絶対値│ＧＳ│を求め（Ｓ−２４）、事前に設定した閾値３であるグリッド明度の閾値（ＧＳＨ）以上の場合（（Ｓ−２５）のＹＥＳの場合）、位置ずれと判定する（Ｓ−２６）。一方、（Ｓ−２５）のＮＯの場合は、位置ずれなしと判定（Ｓ−２７）した後、終了（Ｓ−２８）する。閾値３によって、水平、垂直方向の両方向に位置ずれで、しかも位置ずれ量の少ない欠陥を検出することが出来る。
【００３９】
ステップ（Ｓ−７）で特徴位置を取得するパターンマッチングに失敗した場合も、位置ずれが生じたと判定する。
【００４０】
図１４に本発明に係るカラーフィルタ基板検査装置の動作フローを示す。検査対象のカラーフィルタ基板は搬送装置ロボットやコンベア等の受け渡し機構によって搬送用コロ７３に受け渡される。撮像データ処理に使用する各種パラメータは事前に記憶部より撮像データ処理部に設定される。
【００４１】
先ず開始（Ｋ−１）後、次の事前設定が行われる。先ずパラメータとして、差分画像の上限閾値（ＭＨＳＨ）と下限閾値（ＭＬＳＨ）、基準画像のプロジェクションデータと補
正検査画像のプロジェクションデータの差の閾値（ＳＨ）、及び基準画像のグリッド明度平均画像と補正検査画像のグリッド明度平均画像の差の閾値（ＧＳＨ）が設定され（Ｋ−２）、記憶部に記憶され撮像データ処理部に設定される。更に基準画像、特徴位置、特徴位置周辺の画像が設定され（Ｋ−３）、それらの画像データ及び位置データは記憶部に記憶され撮像データ処理部に設定される。
【００４２】
次に、カラーフィルタ基板を搬送部７３に受け渡し（Ｋ−４）、搬送部のアライメント機構により基板位置を修正する（Ｋ−５）。カラーフィルタ基板は搬送部７３の搬送コロ７６上を搬送され、撮像部７２と透過光源部７１間を通過する際に撮像カメラ７２によってカラーフィルタ基板の一部の画像が撮像され（Ｋ−６）、撮像データは位置ずれ検出部によりパターンマッチング処理が行われ（Ｋ−７）、更に画像の切出し処理が行われる（Ｋ−８）。切り出された撮像データは画像明度処理部により明度が調整され（Ｋ−９）、補正検査画像が生成される（Ｋ−１０）。
【００４３】
明度が調整された撮像データは画像比較処理部により画像全体比較、プロジェクション比較、平均明度比較が行われ、位置ずれ判定処理が行われる（Ｋ−１１）。
【００４４】
次に外観検査部によって撮像データに対し、隣接した同一パターンを比較することにより欠陥検出判定処理が行われる（Ｋ−１２）。隣接同一パターン比較は従来用いられている画像処理技術を採用して行われる。
【００４５】
上記位置ずれ判定処理及び欠陥検出判定処理によって欠陥が検出された場合は、欠陥部画像と判定結果が表示部に表示される（Ｋ−１３）。判定が終了したカラーフィルタ基板は、搬送部の受け渡し機構により払い出される（Ｋ−１４）。
【００４６】
上記位置ずれ判定処理及び欠陥検出判定処理によって欠陥が表示された場合は、上記表示部に表示されると共に判定結果がフィードバックされ、製造工程内の処理装置の再調整等のメンテナンスを行うことによって、同一の欠陥の発生を防止する。
【００４７】
本発明によるカラーフィルタ基板検査装置によれば、小型フォトマスクを用いて多面付けされたカラーフィルタのＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素のパターンを露光する際に発生する露光位置ずれ検査を多面付けされた全ての面付けに対し行うことが可能となる。
【００４８】
また、外観検査の機能をも備えることによって、既存のカラーフィルタ製造工程と同等のライン構成となり、価格の大幅な上昇なしに、露光位置ずれの検出が可能となる。
【符号の説明】
【００４９】
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーテイカルアライメント（ＶＡ）
４１・・・カラーフィルタのパターン
４２・・・ガラス基板
５１・・・搬入コンベア
５２・・・アライメントステージ
５３・・・搬入搬出ロボット
５４・・・露光装置本体
５５・・・搬出コンベア
５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ・・・搬入コンベア上、アライメントステージ上、露光装置本体上、搬出コンベア上のガラス基板
５７・・・露光装置本体を側面から見た方向を示す矢印
６１・・・露光ステージ
６２・・・露光部
６３・・・光源
６４・・・フォトマスク
６６・・・ＢＭ
６７・・・Ｒ画素
６８・・・白抜け部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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