【事件の表示】
　特願２０１４−５４７６９６「タッチパネルとその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　７月　４日国際公開、ＷＯ２０１３／０９７６３１、平成２７年　２月　２日国内公表、特表２０１５−５０３７７９、請求項の数（６）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１２年（平成２４年）１２月１８日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１１年（平成２３年）１２月２５日、中華人民共和国）を国際出願日とする出願であって、平成２７年５月１９日付けで拒絶理由通知がされ、平成２７年８月１９日付けで手続補正がされ、平成２８年１月５日付けで拒絶査定（原査定）がされ、これに対し、平成２８年４月２７日に拒絶査定不服審判の請求がされると同時に手続補正がされ、平成２８年１２月２７日付けで拒絶理由通知（以下、「当審拒絶理由通知」という。）がされ、平成２９年３月３１日付けで手続補正がされたものである。
第２　原査定の概要
　原査定（平成２８年１月５日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。
　本願請求項１−１９に係る発明は、以下の引用文献Ａ−Ｇに基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
引用文献等一覧
Ａ．登録実用新案第３１６５４７０号公報
Ｂ．登録実用新案第３１６６２６７号公報
Ｃ．特開２００９−１９３５８７号公報
Ｄ．特開２０１１−０４００２８号公報
Ｅ．特開２０１１−１９８００９号公報
Ｆ．特開２００７−１７９５２０号公報
Ｇ．米国特許出願公開第２０１１／０２７９４０５号明細書
第３　当審拒絶理由の概要
　当審拒絶理由の概要は次のとおりである。
　この出願の請求項１−１０に係る発明は、本願の優先日である平成２３年１２月２５日より前の平成２３年１２月１日に出願され、優先日後の平成２５年６月１０日に出願公開がされた下記の特許出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその優先日前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。
先願１．特願２０１１−２６３５２９号（特開２０１３−１１４６５９号）
第４　本願発明
　本願請求項１−６に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」−「本願発明６」という。）は、平成２９年３月３１日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１−６に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１−６は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　表示領域と当該表示領域を囲む周辺領域とを有する上部カバー基板と、
　前記表示領域に対応して配置された第１電極アレイと、
　前記周辺領域に対応して配置されたパターンマスク層と、
　前記パターンマスク層の第１パターン領域に対応して配置された少なくとも１つの第２電極アレイとを備え、
　前記第１電極アレイ及び前記パターンマスク層は前記上部カバー基板上に配置され、さらに、前記第２電極アレイは前記パターンマスク層上に配置され、
　前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されておらず、
　前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは、同一の誘導電極層内に形成され、
　前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイはそれぞれ、第１軸と平行に配列された複数の第１誘導線と第２軸と平行に配列された複数の第２誘導線とを有し、前記第１誘導線と前記第２誘導線とは相互に絶縁され、
　個々の前記第１誘導線は、
　前記誘導電極層の導電層に属し、前記第１軸に沿って相互に間隔を空けて配置された複数の第１導電部と、
　前記導電層に属し、前記第１軸に沿って互いに隣接した２つの前記第１導電部の間の電気的接続を有する複数の第１導電線とを有し、
　互いに隣接した前記第１誘導線の間で互いに隣接した前記第１導電部で囲まれた領域がコンフィグレーション領域を形成し、
　個々の前記第２誘導線は、
　前記導電層に属し、それぞれが前記コンフィグレーション領域に配置された複数の第２導電部と、
　前記誘導電極層の配線層に属し、前記第２軸に沿って互いに隣接した２つの前記第２導電部の間の電気的接続を有して、それぞれが前記第１導電線を横切る複数の第２導電線とを有し、
　前記誘導電極層はさらに、前記第１導電線と前記第２導電線との間に対応して配置され、前記第１誘導線と前記第２誘導線とを電気的に絶縁する複数の絶縁ブロックを有し、
　前記第２電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい
　タッチパネル。
【請求項２】
　前記パターンマスク層は第２パターン領域をさらに有し、
　前記第１パターン領域及び前記第２パターン領域はそれぞれ、穿孔パターンを有する、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
　さらに、前記パターンマスク層に対応して配置されたカラーフィルムを有する、請求項１又は２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
　以下の工程を有し、
　上部カバー基板の周辺領域に対応して配置されるパターンマスク層を形成する工程。ここで、前記周辺領域は、前記上部カバー基板の表示領域を囲む。
　第１電極アレイ及び第２電極アレイを形成する工程。ここで、前記第１電極アレイは前記表示領域に対応して配置され、前記第２電極アレイは前記パターンマスク層の第１パターン領域に配置される。前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは同一の誘導電極層内に形成される。前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されていない。
　前記パターンマスク層及び前記第１電極アレイは前記上部カバー基板上に配置され、前記第２電極アレイは前記パターンマスク層上に配置される。
　前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイを形成する工程はさらに、以下の工程を有し、
　導電層を被覆形成する工程。
　第１軸と平行に配列された複数の第１誘導線及び複数の第２導電部を形成するために、前記導電層をパターニングする工程。ここで、個々の前記第１誘導線は複数の第１導電部と複数の第１導電線とを有し、複数の前記第１導電部は前記第１軸に沿って相互に間隔を空けて配置され、互いに隣接した２つの前記第１導電部の間は前記第１導電線を介して電気的に接続され、互いに隣接した前記第１誘導線の間で、互いに隣接した前記第１導電部で囲まれた領域が、コンフィグレーション領域を形成し、さらに、前記第２導電部は前記コンフィグレーション領域に配置される。
　個々の前記第１導電線に対応して配置される複数の絶縁ブロックを形成するために、絶縁層を被覆形成しパターニングする工程。
　個々の前記絶縁ブロックに対応して配置される複数の第２導電線を形成するために、配線層を被覆形成し、パターニングする工程。ここで、第２軸と平行に配列された複数の第２誘導線を形成するために、前記第２導電線はそれぞれ、前記第２軸に沿って互いに隣接した２つの前記第２導電部の間の電気的接続を有する。
　前記第２電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい
　タッチパネルの製造方法。
【請求項５】
　前記パターンマスク層はさらに第２パターン領域を有する、請求項４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項６】
　さらに、前記パターンマスク層に対応してカラーフィルムを形成する工程を有する、請求項４又は５に記載のタッチパネルの製造方法。」
第５　先願発明
　当審拒絶理由通知において、引用された先願１の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面（以下、「先願１明細書等」という。）には、次のア〜キの記載がある。なお、下線は、注目箇所に当審が付与した。
ア
「【０００７】
　しかし、このように構成した場合、ＢＭ層１８２Ａ，１８２Ｂにカーボン等の導電性物質が含まれており、複数列のＩＴＯ−１層１８３Ａ，１８３Ｂが、それぞれ、ＢＭ層１８２Ａ，１８２Ｂと、直接、接触しているため、タッチパネル１６０Ａ，１６０Ｂのセンサ性能に影響を与えてしまうといった問題が生じる。
【０００８】
　
このような黒インクに含まれる炭素質粉体の導電性に起因して誤動作または不動作が起こる問題に対応するために、特許文献１に示されているように、意匠インクとして、絶縁性黒インクを用いることが考えられる。これにより、タッチパネルに黒の意匠インクを用いる場合であっても、タッチパネルのセンサ性能に与える影響を減少させることができる。
イ
「【００１５】
　２次元タッチセンサにおいては、前形成部分と後形成部分との間のメイン側絶縁層が設けられる。この発明に従えば、
サブタッチセンサ領域にアイコンが描画された塗膜層を設け、かつ、塗膜層と１層構造のタッチセンサとの間にサブ側絶縁層を設ける場合に、メイン側絶縁層とサブ側絶縁層とを同工程で形成すること、および、後形成部分と１層構造のタッチセンサとを同工程で形成する
（中略）
【００２０】
　さらに好ましくは、２次元タッチセンサは、
導電性材料で構成される縦センサと、導電性材料で構成される横センサと、縦センサと横センサとの絶縁のためのメイン側絶縁層とを含む。サブ側絶縁層は、１層構造のタッチセンサの層に接する。メイン側絶縁層は、２次元タッチセンサを構成する部分のうちメイン側絶縁層の後に形成される後形成部分に接する。メイン側絶縁層およびサブ側絶縁層は、同じ材料で構成される。１層構造のタッチセンサの層および後形成部分は、同じ材料で構成される。
【００２１】
　
２次元タッチセンサにおいては、前形成部分と後形成部分との間のメイン側絶縁層が設けられる。この発明に従えば、サブタッチセンサ領域にアイコンが描画された塗膜層が設けられ、かつ、塗膜層と１層構造のタッチセンサとの間にサブ側絶縁層が設けられるとともに、サブ側絶縁層は、１層構造のタッチセンサの層に接し、メイン側絶縁層は、後形成部分に接し、メイン側絶縁層およびサブ側絶縁層は、同じ材料で構成され、１層構造のタッチセンサの層および後形成部分は、同じ材料で構成されるので、メイン側絶縁層とサブ側絶縁層とを同工程で形成すること、および、後形成部分と１層構造のタッチセンサとを同工程で形成する
【００２２】
　このため、塗膜層と１層構造のタッチセンサとの間に絶縁層を設けることが可能となるとともに、当該絶縁層を設けたとしても工程の増加を抑えることが可能となる。その結果、製造コストの増加を抑えて塗膜層による動作不良を防止することができる。
（中略）
【００２５】
　この発明に従えば、
サブタッチセンサ領域にアイコンが描画された塗膜層が設けられ、かつ、塗膜層と１層構造のタッチセンサとの間にサブ側絶縁層が設けられるとともに、サブ側絶縁層は、１層構造のタッチセンサの層に接し、メイン側絶縁層は、後形成部分に接し、メイン側絶縁層およびサブ側絶縁層は、同じ材料で構成され、１層構造のタッチセンサの層および後形成部分は、同じ材料で構成されるので、メイン側絶縁層とサブ側絶縁層とを同工程で形成すること、および、後形成部分と１層構造のタッチセンサとを同工程で形成すること
ウ
「【００３３】
　表示部５の表面側には、タッチパネルが設けられていて、
表示部側タッチセンサ領域６１
アイコン部７Ａ〜７Ｃにも
アイコン部側タッチセンサ領域が、それぞれのアイコン部７Ａ〜７Ｃについて設けられる
【００３４】
　
アイコン部７Ａには、「ＭＥＮＵ」の文字が描画
【００３５】
　
アイコン部７Ｂには、家を模式的な表わした図が描画
【００３６】
　
アイコン部７Ｃには、元に戻ることを示すような形状の矢印が描画
【００３７】
　なお、アイコン部７Ａ〜７Ｃには、他の機能を実行することを示す文字または図のアイコンが描画されるようにして、
アイコン部７Ａ〜７Ｃが操作されることによって、それぞれのアイコンに対応付けられた機能が実行される
エ
「【００４１】
  
タッチパネル６０
透過領域５１
ガラス基板の上に透明電極が形成されている
透過領域５１の向こう側に表示部５が設けられることによって、透過領域５１を通して、表示部５の表示内容をユーザが見ることができるようになる
【００４２】
  タッチパネル６０において、
透過領域５１の周辺は、ＢＭ（Black Mask）となっており、向こう側が透視不能
【００４３】
  なお、
表示部側タッチセンサ領域６１は
透過領域５１
とほぼ同じ大きさで形成
オ
「【００４６】
　本実施の形態においては、図３（Ｂ）で示されるように、
タッチパネル６０において、表示部側タッチセンサ領域６１を透過領域５１のみに設ける
アイコン部７Ａ〜７Ｃの側には、それぞれ、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃを設ける
【００４７】
　このように、
アイコン部７Ａ〜７Ｃのために、独立したタッチセンサ領域を設ける
表示部側タッチセンサ領域６１および複数のアイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃの間に、間隙部が存在
カ
「【００７２】
　このような問題を回避するためには、アイコン部のＩＴＯの層とＢＭ層１８２Ａ，１８２Ｂとの間に絶縁層を１層追加することが考えられる。このようにすれば、ＢＭ層１８２Ａ，１８２Ｂの導電性物質が、アイコン部のＩＴＯの層に悪影響を与えることを防止することができる。
【００７３】
　しかし、塗膜層とセンサ層との間に絶縁層を１層追加するようにした場合、絶縁層を形成するための工程が必要となるため、生産効率が低下し、製造コストが増加してしまうといった問題が生じる。
【００７４】
　なお、この実施の形態においては、
図９のタッチセンサ領域の層構造を「２層構造」といい、図１０のタッチセンサ領域の層構造を「ブリッジ構造」という。
キ
「【００８９】
　図１２は、この実施の形態のタッチパネル６０Ｂの第２の層構造を説明するための図である。図１２を参照して、図１２の
表示部側タッチセンサ領域６１は、図１０と同様、「ブリッジ構造」である
タッチパネル６０Ｂは、１つのガラス基板８１Ｂの上に形成される
【００９０】
　
ガラス基板８１Ｂは、接触された２次元の位置を検知するための表示部側タッチセンサ領域６１と、接触されたか否かを検知するための少なくとも１つのアイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃとを含む。
【００９１】
　
タッチパネル６０Ｂは、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃのガラス基板８１Ｂの上に接し、導電性を有する塗料でアイコンが描画されたＢＭ層８２Ｂと、表示部側タッチセンサ領域６１のガラス基板８１Ｂの上に接する前形成部分であるＩＴＯ−１層８３Ｂ，８３Ｃとを備える
【００９２】
　
ＢＭ層８２Ｂは、カーボンを含んだインク材を蒸着印刷する
【００９３】
　なお、２次元タッチセンサは、
ＩＴＯで構成される縦センサとしてのＩＴＯ−１層８３Ｂと、ＩＴＯで構成される横センサとしてのＩＴＯ−１層８３ＣおよびＩＴＯ−２層８６Ｂと、縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂ
【００９４】
　
タッチパネル６０Ｂは、さらに、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１ＣのＢＭ層８２Ｂ、表示部側タッチセンサ領域６１のＩＴＯ−１層８３Ｂ，８３Ｃ、および、表示部側タッチセンサ領域６１のＩＴＯ−１層８３Ｂ，８３Ｃが形成されていないガラス基板８１Ｂの上に接する絶縁層８４Ｂ，８４Ｄと、表示部側タッチセンサ領域６１の絶縁層８４Ｂの上に接する後形成部分であるＩＴＯ−２層８６Ｂとを備える。
【００９５】
　
ＩＴＯ−２層８６Ｂは、２次元タッチセンサのうち絶縁層８４Ｂの後に形成される一部分であり、導電性材料、たとえば、ＩＴＯで構成される。
【００９６】
　タッチパネル６０Ｂは、さらに、
アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃの絶縁層８４Ｄの上に接し、導電性材料、たとえば、ＩＴＯで構成される１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄを備える
【００９７】
　このように構成されているので、
アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃにアイコンが描画されたＢＭ層８２Ｂが設けられ、かつ、ＢＭ層８２Ｂと１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄとの間に、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃの絶縁層８４Ｄが設けられる
【００９８】
　アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃの絶縁層８４Ｄは、１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄに接する。表示部側タッチセンサ領域６１の絶縁層８４Ｂは、後形成部分であるＩＴＯ−２層８６Ｂに接する。絶縁層８４Ｂ，８４Ｄは、同じ材料で構成される。
１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄおよび後形成部分であるＩＴＯ−２層８６Ｂは、同じ材料で構成される。
【００９９】
　これにより、絶縁層８４Ｂ，８４Ｄを同工程で形成することができる。また、
後形成部分であるＩＴＯ−２層８６Ｂと１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄとを同工程で形成する
【０１００】
　このため、ＢＭ層８２Ｂと１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄとの間に絶縁層８４Ｄを設けることが可能となるとともに、当該絶縁層８４Ｄを設けたとしても工程の増加を抑えることが可能となる。その結果、製造コストの増加を抑えてＢＭ層８２Ｂによる動作不良を防止することができる。
【０１０１】
　なお、さらに、縦センサとしてのＩＴＯ−１層８３Ｂならびに横センサとしてのＩＴＯ−１層８３ＣおよびＩＴＯ−２層８６Ｂのそれぞれ１つ１つに接続するように、メタル配線８７Ｂが設けられる。メタル配線８７Ｂは、透過領域５１と異なるＢＭ層８２Ｂが形成された領域に設けられる。これにより、メタル配線８７Ｂを外部から視認し難くすることができる。」
ａ．
　段落【００４１】〜【００４３】の記載によれば、先願１明細書等には、
「ガラス基板の上の、表示部５を透視可能な透過領域５１に、設けられた表示部側タッチセンサ領域６１と、
透過領域５１の周辺に透視不能なＢＭ（Black Mask）とを備えた、
タッチパネル６０。」が記載されている。
ｂ．
　段落【００４６】，【００４７】の記載によれば、上記ａ．のタッチパネル６０は、アイコン部７Ａ〜７Ｃにアイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃを有し、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃは、表示部側タッチセンサ領域６１とは独立して設けられている。
ｃ．
　段落【００８９】〜【００９４】の記載によれば、上記ａ．の表示部側タッチセンサ領域６１は、ガラス基板上に縦センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｂ，横センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｃ，ＩＴＯ−２層８６Ｂ，縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂとで構成される。
ｄ．
　段落【００９１】，【００９２】，【００９４】〜【００９９】の記載によれば、上記ｂ．のアイコン側タッチセンサ領域は、ガラス基板上にアイコンの絵が描画されたＢＭ層８２Ｂと、ＢＭ層８２Ｂの上に絶縁層８４Ｄを介して、ＩＴＯ−２層８６Ｄで形成される。
ｅ．
　段落【００１５】，【００２０】〜【００２２】，【００２５】，【００９５】〜【０１００】，図１２によれば、表示部側タッチセンサ領域のＩＴＯ−２層８６Ｂとアイコン側タッチセンサ領域のＩＴＯ−２層８６Ｄとは同工程で形成され、表示部側タッチセンサ領域６１は、ガラス基板上に縦センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｂ，横センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｃ，ＩＴＯ−２層８６Ｂ，縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂとで構成され、横センサを構成するＩＴＯ−１層８３Ｃは、縦センサＩＴＯ−１層８３Ｂに囲まれた領域に形成され、図１２（Ａ）〜(Ｃ)、段落【００８９】，【００９３】，【００９４】によれば、横センサは、縦センサのＩＴＯ−１層８３Ｂの上に、絶縁層８４Ｂを形成し、その上にＩＴＯ−２層８６Ｂを形成して、ＩＴＯ−２層８６ＢによりＩＴＯ−１層８３Ｃを接続したブリッジ構造となっている。
ｆ．
　段落【００９６】によれば、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃの絶縁層８４Ｄの上に接し、ＩＴＯで構成される１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄを備える。
ｇ．
　図１２（Ｂ）、図１２（Ｃ）によれば、アイコン側タッチセンサ領域のタッチセンサ電極８６Ｄは、表示部側タッチセンサ領域の電極８３Ｃよりも大きい。
ｈ．
　以上ａ．〜ｇ．によれば、先願１明細書等には、
「ガラス基板の上の、表示部５を透視可能な透過領域５１に、設けられた表示部側タッチセンサ領域６１と、
　透過領域５１の周辺に透視不能なＢＭ（Black Mask）とを備え、
　アイコン部７Ａ〜７Ｃに、アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃを有し、
　表示部側タッチセンサ領域６１は、ガラス基板上に縦センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｂ，横センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｃ，ＩＴＯ−２層８６Ｂ，縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂとで構成され、
　アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃは、ガラス基板上に、アイコンの絵が描画されたカーボンを含んだインク材で蒸着印刷されたＢＭ層８２Ｂと、ＢＭ層８２Ｂの上に絶縁層８４Ｄを介して、ＩＴＯ−２層８６Ｄで形成され、
　アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃは、表示部側タッチセンサ領域６１とは独立して設けられ、
　表示部側タッチセンサ領域のＩＴＯ−２層８６Ｂとアイコン側タッチセンサ領域のＩＴＯ−２層８６Ｄとは同工程で形成され、
　横センサを構成するＩＴＯ−１層８３Ｃは、縦センサＩＴＯ−１層８３Ｂに囲まれた領域に形成され、
　横センサは、縦センサのＩＴＯ−１層８３Ｂの上に、絶縁層８４Ｂを形成し、その上にＩＴＯ−２層８６Ｂを形成して、ＩＴＯ−２層８６ＢによりＩＴＯ−１層８３Ｃを接続したブリッジ構造であり、
　アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃの絶縁層８４Ｄの上に接し、ＩＴＯで構成される１層構造のタッチセンサを構成するＩＴＯ−２層８６Ｄを備え、
　アイコン側タッチセンサ領域のタッチセンサ電極８６Ｄは、表示部側タッチセンサ領域の電極８３Ｃよりも大きい、
タッチパネル６０。」の発明（以下、「先願１発明」という。）が記載されている。
第６　対比・判断
１．本願発明１について
（１）対比
　本願発明１と先願１発明とを対比すると、次のことがいえる。
　先願１発明の「ガラス基板」、「透過領域５１」、「透過領域５１の周辺」、「『透過領域５１の周辺』の『透視不能なＢＭ（Black　Mask）』」、「『透過領域５１に、設けられた表示部側タッチセンサ領域６１』に形成された『縦センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｂ，横センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｃ，ＩＴＯ−２層８６Ｂ，縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂ』」、「アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃ」、「『ＢＭ層８２Ｂ上』に絶縁層８４Ｄを介して形成された『ＩＴＯ−２層８６Ｄ』」は、それぞれ、本願発明１の「上部カバー基板」、「表示領域」、「表示領域を囲む周辺領域」、「周辺領域に対応して配置されたパターンマスク層」、「表示領域に対応して配置された第１電極アレイ」、「第１パターン領域」、「第１パターンマスク層の第１パターン領域に対応して配置された少なくとも１つの第２電極アレイ」に相当する。
　また、先願１発明において、「縦センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｂ，横センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｃ，ＩＴＯ−２層８６Ｂ，縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂ」が「ガラス基板上」形成され、また、「ＢＭ層８２」が「ガラス基板上」に蒸着印刷されることは、本願発明１の「第１電極アレイ及びパターンマスク層は上部カバー基板上に配置され」ることに相当する。
　また、先願１発明において、「ＩＴＯ−２層８６Ｄ」が「ＢＭ層８２の上に絶縁層８４Ｄを介して」形成されることは、本願発明１の「第２電極アレイはパターンマスク層上に配置され」ることに相当する。
　また、先願１発明の「アイコン側タッチセンサ領域７１Ａ〜７１Ｃは、表示部側タッチセンサ領域６１とは独立して設けられた」ことは、本願発明１の「第１電極アレイ及び第２電極アレイはお互いに電気的に接続されていない」ことに相当する。
　また、先願１発明の「表示部側タッチセンサ領域のＩＴＯ−２層８６Ｂとアイコン側タッチセンサ領域のＩＴＯ−２層８６Ｄとは同工程で形成され」ることは、本願発明１の「前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは、同一の誘導電極層内に形成され」ることに相当する。
　また、先願１発明の「表示部側タッチセンサ領域６１は、ガラス基板上に縦センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｂ，横センサとしてＩＴＯ−１層８３Ｃ，ＩＴＯ−２層８６Ｂ，縦センサと横センサとの絶縁のための絶縁層８４Ｂとで構成され、横センサを構成するＩＴＯ−１層８３Ｃは、縦センサＩＴＯ−１層８３Ｂに囲まれた領域に形成され、横センサは、縦センサのＩＴＯ−１層８３Ｂの上に、絶縁層８４Ｂを形成し、その上にＩＴＯ−２層８６Ｂを形成して、ＩＴＯ−２層８６ＢによりＩＴＯ−１層８３Ｃを接続したブリッジ構造であ」ることと、本願発明１の「前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイはそれぞれ、第１軸と平行に配列された複数の第１誘導線と第２軸と平行に配列された複数の第２誘導線とを有し、前記第１誘導線と前記第２誘導線とは相互に絶縁され、個々の前記第１誘導線は、前記誘導電極層の導電層に属し、前記第１軸に沿って相互に間隔を空けて配置された複数の第１導電部と、前記導電層に属し、前記第１軸に沿って互いに隣接した２つの前記第１導電部の間の電気的接続を有する複数の第１導電線とを有し、互いに隣接した前記第１誘導線の間で互いに隣接した前記第１導電部で囲まれた領域がコンフィグレーション領域を形成し、個々の前記第２誘導線は、前記導電層に属し、それぞれが前記コンフィグレーション領域に配置された複数の第２導電部と、前記誘導電極層の配線層に属し、前記第２軸に沿って互いに隣接した２つの前記第２導電部の間の電気的接続を有して、それぞれが前記第１導電線を横切る複数の第２導電線とを有し、前記誘導電極層はさらに、前記第１導電線と前記第２導電線との間に対応して配置され、前記第１誘導線と前記第２誘導線とを電気的に絶縁する複数の絶縁ブロックを有」することとは、いずれも、「前記第１電極アレイは、第１軸と平行に配列された複数の第１誘導線と第２軸と平行に配列された複数の第２誘導線とを有し、前記第１誘導線と前記第２誘導線とは相互に絶縁され、個々の前記第１誘導線は、前記誘導電極層の導電層に属し、前記第１軸に沿って相互に間隔を空けて配置された複数の第１導電部と、前記導電層に属し、前記第１軸に沿って互いに隣接した２つの前記第１導電部の間の電気的接続を有する複数の第１導電線とを有し、互いに隣接した前記第１誘導線の間で互いに隣接した前記第１導電部で囲まれた領域がコンフィグレーション領域を形成し、個々の前記第２誘導線は、前記導電層に属し、それぞれが前記コンフィグレーション領域に配置された複数の第２導電部と、前記誘導電極層の配線層に属し、前記第２軸に沿って互いに隣接した２つの前記第２導電部の間の電気的接続を有して、それぞれが前記第１導電線を横切る複数の第２導電線とを有し、前記誘導電極層はさらに、前記第１導電線と前記第２導電線との間に対応して配置され、前記第１誘導線と前記第２誘導線とを電気的に絶縁する複数の絶縁ブロックを有」する点で共通する。
　また、先願１発明の「アイコン側タッチセンサ領域のタッチセンサ電極８６Ｄは、表示部側タッチセンサ領域の電極８３Ｃよりも大きい」ことと、本願発明１の「前記第２電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい」こととは、いずれも、「前記第２電極アレイの電極の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい」点で共通する。
　したがって、本願発明１と先願１発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
「表示領域と当該表示領域を囲む周辺領域とを有する上部カバー基板と、
　前記表示領域に対応して配置された第１電極アレイと、
　前記周辺領域に対応して配置されたパターンマスク層と、
　前記パターンマスク層の第１パターン領域に対応して配置された少なくとも１つの第２電極アレイとを備え、
　前記第１電極アレイ及び前記パターンマスク層は前記上部カバー基板上に配置され、さらに、前記第２電極アレイは前記パターンマスク層上に配置され、
　前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されておらず、
　前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは、同一の誘導電極層内に形成され、
　前記第１電極アレイは、第１軸と平行に配列された複数の第１誘導線と第２軸と平行に配列された複数の第２誘導線とを有し、前記第１誘導線と前記第２誘導線とは相互に絶縁され、
　個々の前記第１誘導線は、
　前記誘導電極層の導電層に属し、前記第１軸に沿って相互に間隔を空けて配置された複数の第１導電部と、
　前記導電層に属し、前記第１軸に沿って互いに隣接した２つの前記第１導電部の間の電気的接続を有する複数の第１導電線とを有し、
　互いに隣接した前記第１誘導線の間で互いに隣接した前記第１導電部で囲まれた領域がコンフィグレーション領域を形成し、
　個々の前記第２誘導線は、
　前記導電層に属し、それぞれが前記コンフィグレーション領域に配置された複数の第２導電部と、
　前記誘導電極層の配線層に属し、前記第２軸に沿って互いに隣接した２つの前記第２導電部の間の電気的接続を有して、それぞれが前記第１導電線を横切る複数の第２導電線とを有し、
　前記誘導電極層はさらに、前記第１導電線と前記第２導電線との間に対応して配置され、前記第１誘導線と前記第２誘導線とを電気的に絶縁する複数の絶縁ブロックを有し、
　前記第２電極アレイの電極の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい、
　タッチパネル。」
（相違点）
（相違点１）第２電極アレイの構造が、本願発明１では、第１電極アレイと同様の、第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造をしているのに対し、先願１発明では、１層構造のタッチセンサである点。
（相違点２）第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい、第２電極アレイが、本願発明１では、「第１導電部又は第２導電部」であるのに対し、先願発明１では、第１導電部、第２導電部に相当する構成がなく、１層構造のタッチセンサ電極である点。
（２）判断
　本願発明１と先願１発明とは、上記相違点１，２を有するので、同一であるということはできず、相違点１、２に係る構成が、課題解決のための具体的手段における微差ということもできないので、本願発明１と先願１発明とは、実質同一であるということもできない。
　また、先願１の図１０，段落【００６４】〜【００７４】に記載された従来技術に関して、第１電極アレイと第２電極アレイとを同一構造とし、第２電極アレイを第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造のタッチセンサが記載されているが、図１０（Ｃ）のとおり、第１電極アレイと第２電極アレイとは、電気的に接続されており、また、第１電極アレイ、第２電極アレイのそれぞれの、第１導電部、第２導電部の寸法はいずれも同じである。
　よって、本願発明１と先願１の図１０に記載された従来技術とも、同一であるとも、実質同一であるともいうことができない。
２．本願発明２，本願発明３について
　本願発明２，本願発明３も、本願発明１の「前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されておらず」、「第２電極アレイの構造が、第１電極アレイと同様の第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造」を有し、「前記第２電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい」という同一の構成を備えるものであるから、本願発明２，本願発明３は、先願１明細書等に記載された発明と同一であるということもできない。
３．本願発明４について
（１）対比
　本願発明４と先願１発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
「以下の工程を有し、
　上部カバー基板の周辺領域に対応して配置されるパターンマスク層を形成する工程。ここで、前記周辺領域は、前記上部カバー基板の表示領域を囲む。
　第１電極アレイ及び第２電極アレイを形成する工程。ここで、前記第１電極アレイは前記表示領域に対応して配置され、前記第２電極アレイは前記パターンマスク層の第１パターン領域に配置される。前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは同一の誘導電極層内に形成される。前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されていない。
　前記パターンマスク層及び前記第１電極アレイは前記上部カバー基板上に配置され、前記第２電極アレイは前記パターンマスク層上に配置される。
　前記第１電極アレイを形成する工程はさらに、以下の工程を有し、
　導電層を被覆形成する工程。
　第１軸と平行に配列された複数の第１誘導線及び複数の第２導電部を形成するために、前記導電層をパターニングする工程。ここで、個々の前記第１誘導線は複数の第１導電部と複数の第１導電線とを有し、複数の前記第１導電部は前記第１軸に沿って相互に間隔を空けて配置され、互いに隣接した２つの前記第１導電部の間は前記第１導電線を介して電気的に接続され、互いに隣接した前記第１誘導線の間で、互いに隣接した前記第１導電部で囲まれた領域が、コンフィグレーション領域を形成し、さらに、前記第２導電部は前記コンフィグレーション領域に配置される。
　個々の前記第１導電線に対応して配置される複数の絶縁ブロックを形成するために、絶縁層を被覆形成しパターニングする工程。
　個々の前記絶縁ブロックに対応して配置される複数の第２導電線を形成するために、配線層を被覆形成し、パターニングする工程。ここで、第２軸と平行に配列された複数の第２誘導線を形成するために、前記第２導電線はそれぞれ、前記第２軸に沿って互いに隣接した２つの前記第２導電部の間の電気的接続を有する。
　前記第２電極アレイの電極の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい
　タッチパネルの製造方法。」
（相違点）
（相違点１）第２電極アレイの構造が、本願発明４では、第１電極アレイと同様の第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造をしているのに対し、先願１発明では、１層構造のタッチセンサである点。
（相違点２）第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい、第２電極アレイが、本願発明４では、「第１導電部又は第２導電部」であるのに対し、先願発明１では、第１導電部、第２導電部に相当する構成がなく、１層構造のタッチセンサ電極である点。
（２）判断
　本願発明４と先願１発明とは、上記相違点１，２を有するので、同一であるということはできず、相違点１、２に係る構成が、課題解決のための具体的手段における微差ということもできないので、本願発明４と先願１発明とは、実質同一であるということもできない。
　また、先願１の図１０，段落【００６４】〜【００７４】に記載された従来技術に関して、第１電極アレイと第２電極アレイとを同一構造とし、第２電極アレイを第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造のタッチセンサが記載されているが、図１０（Ｃ）のとおり、第１電極アレイと第２電極アレイとは、電気的に接続されており、また、第１電極アレイ、第２電極アレイのそれぞれの、第１導電部、第２導電部の寸法はいずれも同じである。
　よって、本願発明４と先願１の図１０に記載された従来技術とも、同一であるとも、実質同一であるともいうことができない。
４．本願発明５，本願発明６について
　本願発明５，本願発明６も、本願発明４の「前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されておらず」、「第２電極アレイの構造が、第１電極アレイと同様の第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造」を有し、「前記第２電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい」というタッチパネルの製造方法であるから、本願発明４と同じ理由により、先願１明細書等に記載された発明と同一であるということもできない。
第７　原査定についての判断
　平成２９年３月３１日付けの補正により、補正後の請求項１−６は、「前記第１電極アレイ及び前記第２電極アレイは互いに電気的に接続されておらず」、「第２電極アレイの構造が、第１電極アレイと同様の第１軸に沿った第１の誘導線と第２軸に沿った第２の誘導線とからなる構造」を有し、「前記第２電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法は、前記第１電極アレイの第１導電部又は第２導電部の寸法よりも大きい」という技術的事項を有するものとなった。
　当該技術的事項は、原査定における引用文献Ａ−Ｇには記載されておらず、本願優先日前における周知技術でもないので、本願発明１−６は、当業者であっても、原査定における引用文献Ａ−Ｇに基づいて容易に発明できたものではない。したがって、原査定を維持することはできない。
第８　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によって、本願を拒絶することはできない。
　他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。