(57)【要約】【課題】地震などの振動による被害を抑えること。【解決手段】物体が載置されるペデスタルと、当該ペデスタルの複数位置に点接触するように設けられ、当該点接触によりペデスタルとの間に発生する静止摩擦力及び動摩擦力によってペデスタルの移動を抑制する移動抑制部とを備える。【選択図】図１
2011106635.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体が載置されるペデスタルと、
前記ペデスタルの複数位置に点接触するように設けられ、前記点接触により前記ペデスタルとの間に発生する静止摩擦力及び動摩擦力によって前記ペデスタルの移動を抑制する移動抑制部と
を備える免震装置。
【請求項２】
前記ペデスタルは、前記物体の載置部を有し、
前記複数位置は、前記ペデスタルのうち前記載置部とは異なる部分に設けられる
請求項１に記載の免震装置。
【請求項３】
前記複数位置は、前記ペデスタルの側部に設けられる
請求項１又は請求項２に記載の免震装置。
【請求項４】
前記ペデスタルは、平面視で矩形に形成されており、
前記複数位置は、前記ペデスタルの角部近傍に設けられる
請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項５】
前記複数位置は、前記ペデスタルのうち地震による振動方向に沿った所定面上に設けられる
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項６】
前記所定面は、重力方向に直交する面である
請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項７】
前記移動抑制部は、前記ペデスタルとは異なる位置に固定される
請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項８】
前記ペデスタルは、床部に支持されており、
前記移動抑制部は、前記床部に固定される
請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項９】
前記ペデスタルは、ペデスタル本体及び当該ペデスタル本体に固定された固定部材を有し、
前記複数位置は、前記固定部材に設けられる
請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項１０】
前記固定部材は、複数の面を有し、
前記複数位置は、前記複数の面に設けられる
請求項９に記載の免震装置。
【請求項１１】
前記移動抑制部は、前記複数位置に対応する複数の当接部を有する
請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項１２】
複数の前記当接部は、マトリクス状に配置される
請求項１１に記載の免震装置。
【請求項１３】
複数の前記当接部は、同心円状に配置される
請求項１１に記載の免震装置。
【請求項１４】
前記移動抑制部は、前記当接部を前記ペデスタル側に押圧する押圧部を有する
請求項１１から請求項１３のうちいずれか一項に記載の免震装置。
【請求項１５】
前記当接部は、前記ペデスタルを挟む位置に設けられる
請求項１４に記載の免震装置。
【請求項１６】
請求項１から請求項１５のうちいずれか一項に記載の免震装置と、
前記免震装置の前記ペデスタルに載置された露光装置と
を備える露光装置システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、免震装置及び露光装置システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置などの大型の装置は、例えばベースプレート（ペデスタル）などを介して工場などの床部に設置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２３８８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
地震などの発生により床部が振動した場合、ベースプレートを介して露光装置に振動が伝わり、露光装置に被害を与えるおそれがある。  
以上のような事情に鑑み、本発明は、地震などの振動による被害を抑えることができる免震装置及び露光装置システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様に従えば、物体が載置されるペデスタルと、当該ペデスタルの複数位置に点接触するように設けられ、当該点接触によりペデスタルとの間に発生する静止摩擦力及び動摩擦力によってペデスタルの移動を抑制する移動抑制部とを備える露光装置が提供される。
【０００６】
本発明の第２の態様に従えば、本発明の免震装置と、当該免震装置の前記ペデスタルに載置された露光装置とを備える露光システムが提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、地震などの振動による被害を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光システムの全体構成を示す図。
【図２】本実施形態に係る免震装置の構成を示す平面図。
【図３】本実施形態に係る免震装置の構成を示す側面図。
【図４】地震発生時の免震装置の動作例を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る露光装置システムＳＹＳの一例を示す概略構成図である。図１において、露光装置システムＳＹＳは、露光装置ＥＸ及び免震装置ＩＳを備えている。
【００１１】
露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによってレチクルＲ上の照明領域を照明する照明光学系ＩＬと、レチクルＲを保持して移動させるレチクルステージ装置ＲＳＴと、露光光ＥＬによって照明されたレチクルＲのパターンの像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、ウエハＷを保持して移動させるウエハステージ装置ＷＳＴと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。制御装置ＣＯＮＴは、例えばコンピュータシステムを含む。
【００１２】
本実施形態の露光装置ＥＸは、レチクルＲとウエハＷとを所定の走査方向に同期移動しつつ、レチクルＲを介した露光光ＥＬでウエハＷを露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、ウエハＷの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、レチクルＲの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。
【００１３】
本実施形態において、レチクルＲは、例えばガラス板等の透明板にクロム等の遮光膜を用いて所定のパターンが形成された透過型マスクである。この透過型マスクは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。また、本実施形態においては、レチクルＲとして透過型マスクを用いるが、反射型マスクでもよい。
【００１４】
本実施形態において、ウエハＷは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光膜が形成されたものを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、ウエハＷにおいて、感光膜上に保護膜（トップコート膜）のような各種の膜が形成されていてもよい。
【００１５】
照明光学系ＩＬは露光光ＥＬを照明する光源である。照明光学系ＩＬは、所定の位置関係で配置されたミラー、可変減光器、ビーム成形光学系、オプティカルインテグレータ、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、ビームスプリッタ、リレーレンズ系、及びブラインド機構（設定装置）等を備えている。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えばＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などが用いられている。
【００１６】
レチクルステージ装置ＲＳＴは、レチクルＲを保持した状態でレチクル定盤２０のガイド面２０ａ上を移動可能なステージ２を有している。ガイド面２０ａは、ＸＹ平面とほぼ平行に設けられている。レチクルステージ装置ＲＳＴは、例えばリニアモータなどを含む駆動システム２１を有している。レチクルステージ装置ＲＳＴは、当該駆動システム２１の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の３つの方向にステージ２を移動させる構成になっている。
【００１７】
投影光学系ＰＬは、レチクルＲを透過した露光光ＥＬをウエハＷ上に投影する光学系であり、１／４（または１／５）縮小倍率の屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬの内部には、複数の光学素子が設けられている。光学素子としては、例えば物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や蛍石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）が用いられている。
【００１８】
ウエハステージ装置ＷＳＴは、ウエハＷを保持した状態でウエハ定盤４０のガイド面４０ａ上を移動可能なステージ４を有している。ガイド面４０ａは、ＸＹ平面とほぼ平行に設けられている。ウエハステージ装置ＷＳＴは、例えばリニアモータなどを含む駆動システム４１を有している。ウエハステージ装置ＷＳＴは、当該駆動システム４１の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθＺ方向の３つの方向にステージ４を移動させる構成になっている。ウエハ定盤４０は、免震装置ＩＳ上に載置されている。
【００１９】
免震装置ＩＳは、ベースプレートＢＰ及び移動抑制機構７０を有している。ベースプレートＢＰは、本実施形態におけるペデスタルである。ベースプレートＢＰは、例えば不図示のエアマウントなどの防振装置を介して床部ＦＬ上に載置されている。床部ＦＬには複数の根太部材６０が配置されており、ベースプレートＢＰは例えば当該複数の根太部材６０上に跨るように載置されている。ベースプレートＢＰ上には、露光装置ＥＸの各構成要素を支持する不図示のフレーム部材が配置されている。
【００２０】
ベースプレートＢＰの＋Ｘ側の面及び−Ｘ側の面には、固定部材６１が設けられている。固定部材６１は、例えば板状に形成されており、不図示の固定機構などを介してベースプレートＢＰに固定されている。固定部材６１はベースプレートＢＰと一体的に設けられている。固定部材６１の＋Ｚ側の面６１ａ及び−Ｚ側の面６１ｂは、それぞれＸＹ平面に平行になっている。
【００２１】
ベースプレートＢＰの＋Ｘ側及び−Ｘ側には、それぞれ固定部材６１に対応する位置に移動抑制機構７０が設けられている。移動抑制機構７０は、ベースプレートＢＰを支持する根太部材６０とは異なる根太部材６０上にそれぞれ固定されている。移動抑制機構７０は、ベースプレートＢＰに対向する面に凹部７０ａが形成された構成になっている。凹部７０ａ内には、固定部材６１の一部が挿入されている。
【００２２】
図２は、免震装置ＩＳを＋Ｚ側から見たときの構成を示す図である。  
図２に示すように、ベースプレートＢＰは、＋Ｚ側から見て矩形に形成されている。固定部材６１は、例えばベースプレートＢＰの角部に１つずつ、合計で４つ設けられている。固定部材６１の配置及び個数については、上記に限られることは無い。固定部材６１の配置については、例えばベースプレートＢＰの各辺の中央部など、他の位置に配置されていても構わない。固定部材６１の個数については、３つ以下であっても５つ以上であっても構わない。固定部材６１は、例えばベースプレートＢＰを中心としてＸ方向及びＹ方向の少なくとも一方について対称となる位置に設けられることが好ましい。
【００２３】
図３は、移動抑制機構７０の構成を示す図である。図３は、図２に示される４つの移動抑制機構７０のうち、例えば右下の移動抑制機構７０の構成を示す図である。当該４つの移動抑制機構７０は、それぞれ同一の構成となっているため、ここでは図３に示す移動抑制機構７０の構成を代表して説明する。
【００２４】
図３に示すように、移動抑制機構７０は、下側保持部材７１、間挿部材７２、上側保持部材７３、固定部材７４、下側押圧機構７５及び上側押圧機構７６を有している。  
下側保持部材７１及び上側保持部材７３は、例えばステンレスなどの剛性の高い材料によってそれぞれ板状に形成されており、間挿部材７２をＺ方向に挟んで配置されている。下側保持部材７１は間挿部材７２の−Ｚ側に配置されており、上側保持部材７３は間挿部材７２の＋Ｚ側に配置されている。下側保持部材７１及び上側保持部材７３は、例えば間挿部材７２に対して−Ｘ側にはみ出すように設けられている。下側保持部材７１及び上側保持部材７３は、ほぼ同一の形状及び寸法に形成されている。
【００２５】
固定部材７４は、上側保持部材７３の＋Ｚ側から当該上側保持部材７３及び間挿部材７２を貫通し下側保持部材７１に食い込むように設けられている。当該固定部材７４によって、これら上側保持部材７３、間挿部材７２及び下側保持部材７１が一体的に固定されている。下側保持部材７１の−Ｚ側の面は、例えば不図示の接着材などを介して根太部材６０の上面６０ａに固定されている。
【００２６】
下側押圧機構７５は、下側保持部材７１に保持されており、固定部材６１の下面６１ｂを押圧する。下側押圧機構７５は、複数設けられており、例えば平面視でマトリクス状に配置されている。下側押圧機構７５は、それぞれヘッド部７５ａ、軸部７５ｂ、押圧部７５ｃ及び付勢部７５ｄを有している。
【００２７】
軸部７５ｂにはネジ山７５ｆが形成されている。軸部７５ｂは、ネジ山７５ｆを介して下側保持部材７１に螺合されている。押圧部７５ｃは、−Ｚ側端部が例えば筒状に形成されている。押圧部７５ｃの−Ｚ側端部には、軸部７５ｂが嵌め込まれた状態になっている。押圧部７５ｃは、軸部７５ｂが嵌め込まれた状態において、Ｚ方向に移動可能に設けられている。また、押圧部７５ｃの−Ｚ側の端部にはフランジ部が形成されている。
【００２８】
押圧部７５ｃの＋Ｚ側の端部は例えば半球状に形成されており、固定部材６１の下面６１ｂに当接する当接部７５ｅとなっている。付勢部７５ｄは、下側保持部材７１と押圧部７５ｃのフランジ部との間に設けられた弾性部材である。付勢部７５ｄとしては、例えばバネ部材などが用いられている。付勢部７５ｄの＋Ｚ側端部は押圧部７５ｃのフランジ部に固定されており、付勢部７５ｄの−Ｚ側端部は下側保持部材７１の＋Ｚ側の面に固定されている。付勢部７５ｄは、下側保持部材７１とフランジ部との間に収縮された状態で配置されている。本実施形態では、下側保持部材７１が剛性の高い材料によって形成されているため、付勢部７５ｄの弾性力によって押圧部７５ｃが＋Ｚ方向に押圧されるようになっている。
【００２９】
下側押圧機構７５は、ヘッド部７５ａを回転させることで、軸部７５ｂのＺ方向における位置が調節可能になっている。この軸部７５ｂのＺ方向の位置を調節することにより、押圧部７５ｃと下側保持部材７１との間の距離を調節できるようになっている。押圧部７５ｃと下側保持部材７１との間の距離を調節することで、付勢部７５ｄの付勢力（弾性力）を調節できるようになっている。
【００３０】
上側押圧機構７６は、上側保持部材７３に保持されており、固定部材６１の上面６１ａを押圧する。上側押圧機構７６は複数設けられており、平面視でマトリクス状に配置されている。本実施形態では、上側押圧機構７６は、平面視で下側押圧機構７５に重なる位置に配置されている。上側押圧機構７６と下側押圧機構７５とが平面視でずれた位置に設けられる構成であっても勿論構わない。上側押圧機構７６は、それぞれヘッド部７６ａ、軸部７６ｂ、押圧部７６ｃ及び付勢部７６ｄを有している。上側押圧機構７６の各構成要素は、下側押圧機構７５の各構成要素と同一の構成になっているため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００３１】
押圧部７６ｃの−Ｚ側の端部は当接部７６ｅとなっている。当接部７６ｅは、例えば半球状に形成されている。押圧部７６ｃの＋Ｚ側の端部にはフランジ部が形成されている。付勢部７６ｄは、上側押圧機構７６と押圧部７６ｃのフランジ部とにそれぞれ固定されている。付勢部７６ｄとしては、例えばバネ部材などの弾性部材が用いられている。付勢部７６ｄは、弾性力によって押圧部７６ｃを−Ｚ方向に付勢する。
【００３２】
したがって、固定部材６１は、複数の下側押圧機構７５及び複数の上側押圧機構７６によって上面６１ａ及び下面６１ｂがそれぞれ点接触された状態で押圧されている。この点接触により、上面６１ａ及び下面６１ｂと当接部７５ｅ及び当接部７６ｅとの間には静止摩擦力が発生した状態になっている。この静止摩擦力の大きさとしては、例えばベースプレートＢＰ上の露光装置ＥＸに悪影響を与えない程度の力とすることができる。露光装置ＥＸに悪影響を与えるおそれのある大きさの力がベースプレートＢＰに対して加えられた場合、ベースプレートＢＰは静止せずに当該力によって移動することになるため、ベースプレートＢＰに作用する力が逃がされることになる。
【００３３】
次に、本実施形態に係る露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。制御装置ＣＯＮＴは、レチクルＲをレチクルステージ装置ＲＳＴのステージ２に吸着させて保持させ、マスクアライメント、ベースライン計測等の準備作業を行わせる。その後、制御装置ＣＯＮＴは、ウエハＷをウエハステージ装置ＷＳＴのステージ３に保持させ、アライメントセンサを用いたウエハＷのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）などの準備作業を行わせる。
【００３４】
制御装置ＣＯＮＴは、上記準備作業の結果を用いて走査開始位置にステージ３を移動させる。制御装置ＣＯＮＴは、ステージ２とステージ３とのＹ方向の走査を開始させ、両ステージがそれぞれの目標走査速度に達すると、露光用照明光によってレチクルＲのパターン領域を照明させ、走査露光を開始させる。制御装置ＣＯＮＴは、この走査露光時に、ステージ２のＹ方向の移動速度と、ステージ３のＹ方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率に応じた速度比に維持されるように制御する。
【００３５】
レチクルＲのパターン領域の異なる領域が照明光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハＷ上の第１ショットの走査露光が完了する。これにより、レチクルＲのパターンが投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の第１ショット領域に縮小転写される。
【００３６】
このようにして、第１ショットの走査露光が終了すると、制御装置ＣＯＮＴは、ステージ３をＸ、Ｙ方向にステップ移動させ、第２ショットの露光のため走査開始位置に移動させる。制御装置ＣＯＮＴは、上記第１ショット領域と同様に、第２ショット領域に対して走査露光を行わせる。当該制御により、ウエハＷ上のショット領域の走査露光と次ショット露光のためのステップ移動とが繰り返し行われ、ウエハＷ上の露光対象ショット領域の全てにレチクルＲのパターンが順次転写される。
【００３７】
この状態において、例えば地震の発生等により床部ＦＬが振動すると、床部ＦＬの振動がベースプレートＢＰに伝達される。当該床部Ｆの振動によってベースプレートＢＰに作用される振動方向の力がベースプレートＢＰの固定部材６１と移動抑制機構７０の当接部７５ｅ、７６ｅとの間の静止摩擦力よりも小さい場合、当該静止摩擦力によってベースプレートＢＰは静止した状態を維持する。また、地震以外に起因する振動であっても、ベースプレートＢＰに作用される振動方向の力が上記静止摩擦力よりも小さい場合、ベースプレートＢＰは静止した状態を維持する。
【００３８】
また、地震や地震以外に起因する振動の発生により、ベースプレートＢＰに対して上記静止摩擦力を超える力が作用する場合には、図４に示すように、ベースプレートＢＰは振動方向に移動する。したがって、ベースプレートＢＰはＸＹ平面に沿って床部ＦＬ上を滑るように移動することとなる。図４では、Ｙ方向に振動する場合を例に挙げているが、これに限られることは無く、Ｘ方向の振動であっても同様のことが言える。
【００３９】
図４に示すように、ベースプレートＢＰが床部ＦＬ上を滑るように移動することにより、ベースプレートＢＰに加えられる力の一部が移動方向に逃がされることになる。このため、床部ＦＬからベースプレートＢＰへの衝撃が緩和されることになる。また、この場合、移動抑制機構７０と固定部材６１の複数位置との間に発生する動摩擦力によってベースプレートＢＰの移動が規制されることになるため、滑りによるベースプレートＢＰのずれ量及び滑り速度が一定範囲に抑えられることになる。
【００４０】
ベースプレートＢＰが移動した場合、制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸの動作を停止させる。露光装置ＥＸの動作が停止し振動が収まった後、ベースプレートＢＰの位置を設置時の位置に戻す動作を行う。この動作は、例えばベースプレートＢＰにアクチュエータを設けておき、当該アクチュエータを駆動させることによりベースプレートＢＰを移動させても構わないし、例えば露光装置ＥＸの管理者が搬送装置などを用いてベースプレートＢＰを移動させても構わない。
【００４１】
以上のように、本実施形態によれば、ベースプレートＢＰの固定部材６１の複数位置に点接触するように移動抑制機構７０が設けられているため、地震などに伴う振動の大きさに応じてベースプレートＢＰ上に載置される露光装置ＥＸの振動を抑制することができる。これにより、地震による被害を抑えることができる。
【００４２】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態では、免震装置ＩＳのベースプレートＢＰに露光装置ＥＸを載置する場合を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、露光装置ＥＸ以外の他の装置を載置する構成であっても、本発明と同様の効果を得ることができる。
【００４３】
また、上記実施形態においては、下側押圧機構７５の当接部７５ｅ及び上側押圧機構７６の当接部７６ｅが平面視でマトリクス状に配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば当接部７５ｅ及び当接部７６ｅの少なくとも一方が平面視で同心円状に配置された構成としても構わない。この場合、同心円の中心に対して対称に配置されることが好ましい。このように配置することで、当接部７５ｅ、７６ｅと固定部材６１との間の静止摩擦力及び動摩擦力が均一に発生することになる。これにより、振動の方向によらずベースプレートＢＰの移動を各方向において均一に抑制することができる。
【００４４】
また、上記実施形態においては、移動抑制機構７０が固定部材６１に当接する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば移動抑制機構７０がベースプレートＢＰを直接的に当接する構成としても構わない。この場合、例えば上記の下側押圧機構７５又は上側押圧機構７６に相当する押圧機構をベースプレートＢＰの側面に配置し、当該ベースプレートＢＰの側面に当接する構成としても構わない。
【００４５】
また、上記実施形態においては、移動抑制機構７０がＸＹ平面に沿った面（面６１ａ、面６１ｂ）上の複数個所に当接する構成としたが、これに限られることは無く、例えばＹＺ平面に沿った面上の複数個所や、ＺＸ平面に沿った面上の複数個所に当接する構成としても構わないし、これらを組み合わせた構成としても構わない。
【００４６】
また、上記実施形態においては、移動抑制機構７０のヘッド部７５ａ、７６ａを回転させることで付勢部７５ｄ、７６ｄにおける弾性力を調整する構成としたが、これに限られることは無く、他の構成としても構わない。また、ヘッド部７５ａ、７６ａの回転については、自動であっても手動であっても構わない。
【００４７】
また、上記実施形態においては、移動抑制機構７０の当接部７５ｅ、７６ｅが半球状に形成された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、他の曲面形状に形成されていても構わないし、当接部７５ｅ、７６ｅが角部となっていても構わない。また、当接部７５ｅ、７６ｅを半球状に形成する場合、径の大きさは適宜設定することができる。
【００４８】
また、例えば、露光装置ＥＸとしては、レチクルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、レチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００４９】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンとウエハＷとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像をウエハＷ上に転写した後、第２パターンとウエハＷとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねてウエハＷ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、ウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、ウエハＷを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００５０】
また、例えば米国特許第第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【００５１】
また、露光装置ＥＸとして、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６４００４４１号明細書、米国特許第６５４９２６９号明細書、米国特許第６５９０６３４号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、及び米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【００５２】
また、例えば国際公開第９９／４９５０４号パンフレット等に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置に適用することもできる。また、極端紫外光でウエハＷを露光するＥＵＶ光光源露光装置にも適用することができる。
【００５３】
露光装置ＥＸの種類としては、ウエハＷに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００５４】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。  
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【００５５】
ＳＹＳ…露光装置システム  ＦＬ…床部  ＥＸ…露光装置  ＩＳ…免震装置  ＢＰ…ベースプレート  ６０…根太部材  ６１…固定部材  ７０…移動抑制機構  ７１…下側保持部材  ７２…間挿部材  ７３…上側保持部材  ７４…固定部材  ７５…下側押圧機構  ７６…上側押圧機構  ７５ａ、７６ａ…ヘッド部  ７５ｂ、７５ｂ…軸部  ７５ｃ、７５ｃ…押圧部  ７５ｄ、７５ｄ…付勢部  ７５ｆ、７５ｆ…ネジ山  ７５ｅ、７６ｅ…当接部
【図１】
2011106635.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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