(57)【要約】【課題】被照射面上に照射される光の光量を微細に調整することができる遮光装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法を提供する【解決手段】光源装置から射出される露光光ＥＬに基づいてウエハを照明する光学系に設けられ、ウエハに到達する露光光ＥＬに対する遮光量を調整可能な遮光装置２７であって、露光光ＥＬの光路途中に配置され、露光光ＥＬを透過させる透過板４５と、透過板４５における露光光ＥＬの透過領域に対して水滴を付着させる記録ヘッド４９と、を備えた。【選択図】図２
2011023656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から射出される光束に基づいて被照射面を照明する光学系に設けられ、前記被照射面に到達する光束に対する遮光量を調整可能な遮光装置であって、
前記光束の光路途中に配置され、前記光束を透過させる透過部材と、
前記透過部材における前記光束の透過領域に対して液滴を付着させる液滴付着手段と、
を備えたことを特徴とする遮光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の遮光装置であって、
前記透過部材を冷却する冷却手段を更に備えたことを特徴とする遮光装置。
【請求項３】
請求項１に記載の遮光装置であって、
前記透過部材の前記液滴が付着している面を含む空間を、前記液滴の蒸気によって飽和状態とする飽和状態化手段を更に備えたことを特徴とする遮光装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の遮光装置であって、
前記透過部材は、前記液滴を付着させる面が撥液性を有することを特徴とする遮光装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の遮光装置であって、
前記液滴付着手段は、前記透過部材に対して前記液滴を吐出する液体噴射ヘッドであることを特徴とする遮光装置。
【請求項６】
光源から射出された光束に基づいて被照射面を照明する光学系であって、
前記光束の光路途中に配置された光学素子と、
請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載の遮光装置と、
を備えたことを特徴とする光学系。
【請求項７】
請求項６に記載の光学系であって、
前記光学系の光軸と交差する面内に配列された複数の透過型のレンズ面を有するオプティカルインテグレータを更に備え、
前記遮光装置は、前記オプティカルインテグレータよりも前記被照射面側となる位置において、前記オプティカルインテグレータの射出面近傍または該射出面と光学的に共役な位置の近傍に配置されていることを特徴とする光学系。
【請求項８】
光源から射出される光で所定のパターンを照明する照明光学系と、
前記所定のパターンを感光性基板上に投影する投影光学系と、を備える露光装置であって、
前記照明光学系及び前記投影光学系のうち少なくとも一方の光学系は、請求項６又は請求項７に記載の光学系であることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
デバイスの製造方法において、
請求項８に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板に露光する工程と、
前記露光された基板を現像し、前記のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する工程と、を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源から射出される露光光に対する遮光量を調整可能な遮光装置、該遮光装置を備えた光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体集積回路などのマイクロデバイスを製造するための露光装置は照明光学系を備えており、照明光学系は、光源から出力される露光光を所定のパターンが形成されたマスクに導くようになっている。そして、マスクに照射された露光光は、投影光学系を介して感光性材料の塗布されたウエハを照射することにより、マスクに形成されたパターンをウエハ上に投影露光（転写）するようになっている。また、従来から、こうした露光装置には、光源から出力される露光光の一部を遮光して、ウエハ上に照射される露光光の光量を調整するための機構が設けられている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
すなわち、特許文献１に記載の露光装置では、照明光学系は、光量調整ロッドを備えており、光量調整ロッドは、光源から出力される露光光の光路途中に、照明光学系の光軸と直交する面に沿って配置されている。また、光量調整ロッドの先端部には、平板状の遮光板部が設けられており、遮光板部は、光源から出力される露光光の光路内に位置するように配置されている。そして、光量調整ロッドは、回転制御機構の駆動制御に基づいて回転すると、遮光板部が光源から出力される露光光の光路内で露光光の進行方向に対する傾斜角度を変化させるように回転することにより、露光光に対する遮光量を連続的に変化させて調整するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２５５７３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の露光装置では、光源から出力される露光光に対する遮光量を露光光の光束断面内での位置毎に個別に調整することができないため、ウエハ上に照射される光の光量を微細に調整することが困難となっていた。また、露光光の光束断面内での位置毎に遮光板部を設ける構成とした場合には、露光光の進行方向に対する傾斜角度を遮光板部毎に個別に制御する必要があるため、制御構成が複雑化するという問題があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、被照射面上に照射される光の光量を微細に調整することができる遮光装置、光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明は、実施形態に示す図１〜図１１に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の遮光装置は、光源（１２）から射出される光束（ＥＬ）に基づいて被照射面（Ｒａ，Ｗａ）を照明する光学系（１３，１５）に設けられ、前記被照射面（Ｒａ，Ｗａ）に到達する光束（ＥＬ）に対する遮光量を調整可能な遮光装置（２７）であって、前記光束（ＥＬ）の光路途中に配置され、前記光束（ＥＬ）を透過させる透過部材（４５）と、前記透過部材（４５）における前記光束（ＥＬ）の透過領域に対して液滴（Ａ）を付着させる液滴付着手段（４９）と、を備えたことを要旨とする。
【０００８】
上記構成によれば、液滴付着手段が透過部材における光束の透過領域に対して液滴を付着させると、光源から射出された光束は、透過部材に付着した液滴によって屈折して進行方向が変化するため、被照射面上に照射される光束の光量が変化する。したがって、液滴付着手段が透過部材に対する液滴の付着状態を変化させることにより、被照射面上に照射される光の光量を微細に調整することができる。また、被照射面上に照射される光の光量を新たに設定し直す場合には、透過部材に付着した液滴を除去した後、液滴付着手段が透過部材に対して再度液滴を付着させるだけでよい。したがって、被照射面上に照射される光の光量を簡便に調整することができる。
【０００９】
なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態に示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、被照射面上に照射される光の光量を微細に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態の露光装置の概略構成図。
【図２】（ａ）は遮光装置の横断面図、（ｂ）は（ａ）における２ｂ−２ｂ線矢視断面図。
【図３】照明瞳面上に形成される４極状の二次光源の模式図。
【図４】（ａ）はレチクル上に形成される照明領域の模式図、（ｂ）はウエハ上に形成される静止露光領域の模式図。
【図５】静止露光領域内の中心点に入射する露光光によって形成される第１瞳強度分布の模式図。
【図６】静止露光領域内の周辺点に入射する露光光によって形成される第２瞳強度分布の模式図。
【図７】（ａ）は静止露光領域内の中心点に対応する第１瞳強度分布のＺ軸方向に沿った光強度を示すグラフ、（ｂ）は静止露光領域内の周辺点に対応する第２瞳強度分布のＺ軸方向に沿った光強度分布を示すグラフ。
【図８】透過板における露光光の透過領域に水滴が付着した状態を示す模式図。
【図９】（ａ）は第１面光源からレチクルブラインドの開口部の中心点に入射する露光光に対する水滴の作用を示す模式図、（ｂ）は第１面光源からレチクルブラインドの開口部の周辺点に入射する露光光に対する水滴の作用を示す模式図。
【図１０】デバイスの製造例のフローチャート。
【図１１】半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を具体化した一実施形態について図１〜図９に基づき説明する。なお、本実施形態では、後述する投影光学系１５の光軸と平行な方向（図１における上下方向）にＺ軸方向を、図１における左右方向にＹ軸方向を、さらに、図１において紙面と直交する方向にＸ軸方向を、それぞれ設定しているものとする。
【００１３】
図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、所定の回路パターンが形成された透過型のレチクルＲに露光光ＥＬを照明することにより、表面（＋Ｚ方向側の面であって、図１では上面）にレジストなどの感光性材料が塗布されたウエハＷに回路パターンの像を投影するための装置である。こうした露光装置１１は、光源装置１２から射出された露光光ＥＬをレチクルＲの被照射面Ｒａ（＋Ｚ方向側の面）に導く照明光学系１３と、レチクルＲを保持するレチクルステージ１４と、レチクルＲを透過した露光光ＥＬをウエハＷの被照射面Ｗａに導く投影光学系１５と、ウエハＷを保持するウエハステージ１６とを備えている。なお、本実施形態の光源装置１２は、１９３ｎｍの波長の光を出力するＡｒＦエキシマレーザ光源を有し、該エキシマレーザ光源から出力される光が露光光ＥＬとして露光装置１１内に導かれる。
【００１４】
照明光学系１３は、光源装置１２から射出される露光光ＥＬを所定の断面形状（例えば、断面略矩形状）をなす平行な光束に変換するための整形光学系１７と、該整形光学系１７から射出された露光光ＥＬをレチクルＲ側（ここでは、＋Ｙ方向側であって図１における右側）に反射する第１反射ミラー１８とを備えている。この第１反射ミラー１８の射出側（レチクルＲ側）には、レチクルＲの被照射面Ｒａに対する露光光ＥＬの照射態様を調整するための回折光学素子１９が設けられている。この回折光学素子１９は、ガラス基板に露光光ＥＬの波長と同程度のピッチを有する複数の段差を形成することにより構成されており、入射側（光源装置１２側）から入射した露光光ＥＬを所定の角度に回折する作用を有している。例えば、複数極（２極、４極、８極など）照明用の回折光学素子１９を用いる場合、回折光学素子１９に入射側から断面略矩形状をなす平行な光束の露光光ＥＬが入射すると、回折光学素子１９からは、分極数に応じた複数（例えば４つ）の光束がレチクルＲ側に射出される。
【００１５】
また、照明光学系１３には、回折光学素子１９から射出される露光光ＥＬが入射するアフォーカル光学系２０（「無焦点光学系」ともいう。）が設けられている。このアフォーカル光学系２０は、第１レンズ群２１（図１では一枚のレンズのみを図示）と、該第１レンズ群２１よりも射出側に配置される第２レンズ群２２（図１では一枚のレンズのみを図示）とを有している。そして、アフォーカル光学系２０は、その入射側の焦点位置と回折光学素子１９の設置位置とがほぼ一致するように露光光ＥＬの光路上に配置されている。
【００１６】
また、アフォーカル光学系２０の射出側には、オプティカルインテグレータ２３が設けられている。そして、アフォーカル光学系２０から射出される露光光ＥＬは、アフォーカル光学系２０によって略平行な光束に変換された後、オプティカルインテグレータ２３に入射する。
【００１７】
オプティカルインテグレータ２３は、照明光学系１３の光軸ＡＸと直交する面内に複数の透過型のレンズ面が配列されている。そして、オプティカルインテグレータ２３は、入射した露光光ＥＬを複数の光束に波面分割し、その射出側（＋Ｙ方向側）に位置する照明瞳面２４に所定の光強度分布（「瞳強度分布」ともいう。）を形成するようになっている。なお、瞳強度分布が形成される照明瞳面２４のことを、多数の点光源からなる二次光源２５ともいう。また、オプティカルインテグレータ２３は、その入射面（−Ｙ方向側の面であって、図１では左面）がアフォーカル光学系２０の射出側の焦点位置（瞳面ともいう。）または該焦点位置の近傍に位置するように配置されている。
【００１８】
オプティカルインテグレータ２３の射出側には、投影光学系１５の入射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に配置され、且つ二次光源２５の照明に寄与する範囲を規定するための図示しない照明開口絞りが設けられている。この照明開口絞りは、大きさ及び形状の異なる複数の開口部を有している。そして、照明開口絞りでは、二次光源２５から射出される露光光ＥＬの断面形状が４極状である場合、照明開口絞りは、４極状に対応した形状の開口部が露光光ＥＬの光路内に位置するように駆動される。
【００１９】
オプティカルインテグレータ２３及び上記照明開口絞りの射出側には、パワー（焦点距離の逆数）を有する少なくとも一枚の光学素子（図１では一枚のみ図示）から構成される第１コンデンサ光学系２６が設けられている。なお、パワーを有する光学素子とは、露光光ＥＬが光学素子に入射することにより、該露光光ＥＬの特性が変化するような光学素子のことである。
【００２０】
また、オプティカルインテグレータ２３と第１コンデンサ光学系２６との間には、二次光源２５から射出された露光光ＥＬに対する遮光量を調整可能な遮光装置２７が設けられている。そして、遮光装置２７は、レチクルＲの被照射面Ｒａや該被照射面Ｒａと光学的に共役な関係になるウエハＷの被照射面Ｗａに照射される露光光ＥＬの光量を調整可能となっている。
【００２１】
また、第１コンデンサ光学系２６の射出側であって且つレチクルＲの被照射面Ｒａ及びウエハＷの被照射面Ｗａと光学的に共役な位置には、レチクルブラインド２８（「マスクブラインド」ともいう。）が設けられている。そして、二次光源２５から射出された露光光ＥＬは、第１コンデンサ光学系２６を介してレチクルブラインド２８の開口部２９を重畳的に照明する。
【００２２】
また、レチクルブラインド２８の射出側には、パワーを有するレンズから構成される第２コンデンサ光学系３０が設けられており、該第２コンデンサ光学系３０は、レチクルブラインド２８側から入射した露光光ＥＬを略平行な光束に変換するようになっている。また、第２コンデンサ光学系３０の射出側には、第２反射ミラー３１が設けられている。そして、第２コンデンサ光学系３０から射出される露光光ＥＬは、第２反射ミラー３１によって−Ｚ方向側（図１では下側）に反射された後、該第２反射ミラー３１の射出側に配置された、少なくとも一枚（図１では一枚のみ図示）のパワーを有する光学素子（レンズ）から構成されるレンズ群３２に入射する。そして、レンズ群３２から射出される露光光ＥＬは、レチクルＲの被照射面Ｒａを重畳的に照明するようになっている。
【００２３】
レチクルステージ１４は、投影光学系１５の物体面側において、レチクルＲの載置面が投影光学系１５の光軸方向（Ｚ軸方向）とほぼ直交するように配置されている。また、レチクルステージ１４には、保持するレチクルＲをＸ軸方向に所定ストロークで移動させる図示しないレチクルステージ駆動部が設けられている。
【００２４】
投影光学系１５は、内部が窒素などの不活性ガスで充填された鏡筒３３を備え、該鏡筒３３内には、図示しない複数のレンズが露光光ＥＬの光路に沿って設けられている。また、鏡筒３３内において、ウエハＷの被照射面Ｗａの設置位置及びレチクルＲの被照射面Ｒａの設置位置と光学的にフーリエ変換の関係となる位置には、開口絞り３４が配置されている。そして、露光光ＥＬにて照明されたレチクルＲの回路パターンの像は、投影光学系１５を介して所定の縮小倍率に縮小された状態で、ウエハステージ１６上のウエハＷに投影転写される。ここで、光路とは、投影光学系１５の使用状態において、露光光ＥＬが通ることが意図されている経路のことを示している。
【００２５】
ウエハステージ１６は、投影光学系１５の光軸とほぼ直交する平面状の載置面３５を備え、該載置面３５上には、ウエハＷが載置される。また、ウエハステージ１６には、保持するウエハＷをＸ軸方向に所定ストロークで移動させる図示しないウエハステージ駆動部が設けられている。さらに、ウエハステージ１６には、ウエハＷの被照射面Ｗａが投影光学系１５の光軸と直交するように、ウエハＷの位置を微調整させる機能が設けられている。
【００２６】
また、ウエハステージ１６の近傍には、瞳強度分布計測装置３６が設けられている。この瞳強度分布計測装置３６は、二次光源２５においてウエハＷの被照射面Ｗａに入射する入射光によって形成される瞳強度分布を点毎（位置毎）に計測する装置である。こうした瞳強度分布計測装置３６は、投影光学系１５からウエハＷに向けて射出される露光光ＥＬの一部を反射させるビームスプリッタ３７と、該ビームスプリッタ３７により反射された反射光が入射する計測用レンズ３８と、該計測用レンズ３８から射出された反射光が入射する、ＣＣＤ撮像素子やフォトダイオード等からなる検出部３９とを備えている。なお、瞳強度分布計測装置３６については、例えば、特開２００６−５４３２８号公報や特開２００３−２２９６７号公報及びこれに対応する米国特許公開２００３／００３８２２５号公報に開示されている。なお、瞳強度分布計測装置３６をレチクルステージ１４又はレチクルステージ１４とは独立した計測ステージに設けてもよい。
【００２７】
そして、本実施形態の露光装置１１を用いてウエハＷにレチクルＲの回路パターンの像を投影する場合、レチクルＲは、上記レチクルステージ駆動部の駆動によって、＋Ｘ方向側から−Ｘ方向側（図１では紙面手前側から紙面奥手側）に所定ストローク毎に移動する。すると、レチクルＲにおける照明領域ＥＲ１は、該レチクルＲの被照射面Ｒａの−Ｘ方向側から＋Ｘ方向側（図１では紙面奥手側から紙面手前側）に沿って移動する。すなわち、レチクルＲの回路パターンが−Ｘ方向側から＋Ｘ方向側に順にスキャンされる。また、ウエハＷは、上記ウエハステージ駆動部の駆動によって、レチクルＲのＸ軸方向に沿った移動に対して投影光学系１５の縮小倍率に応じた速度比で−Ｘ方向側から＋Ｘ方向側に同期して移動する。その結果、ウエハＷの一つのショット領域には、レチクルＲ及びウエハＷの同期移動に伴って、レチクルＲ上の回路パターンを所定の縮小倍率に縮小した形状のパターンが形成される。そして、一つのショット領域へのパターンの形成が終了した場合、ウエハＷの他のショット領域に対するパターンの形成が連続して行われる。
【００２８】
次に、本実施形態の遮光装置２７について図２（ａ）（ｂ）に基づき説明する。
図２（ａ）（ｂ）に示すように、遮光装置２７は、略四角箱状をなす金属製の筐体４０を備えている。また、筐体４０には、照明光学系１３の光軸ＡＸを横切る両側壁部４０ａ，４０ｂの略中央部に、一対の矩形状の開口部４１，４２が形成されている。そして、これらの開口部４１，４２にはガラス材からなる透過窓材４３，４４が嵌め込まれている。なお、透過窓材４３，４４の材料であるガラス材は、露光光ＥＬを透過させる性状を有している。そして、二次光源２５から射出された露光光ＥＬは、筐体４０の入射側（−Ｙ方向側）の側壁部４０ａの透過窓材４３を介して筐体４０内に入射した後、筐体４０の射出側（＋Ｙ方向側）の側壁部４０ｂの透過窓材４４を介して筐体４０内から第１コンデンサ光学系２６に向けて射出される。
【００２９】
また、筐体４０内には、矩形板状のガラス材からなる透過板４５が、二次光源２５から入射側の透過窓材４３を介して筐体４０内に入射する露光光ＥＬの光路内に位置するように、図示しない支持機構によって支持された状態で収容されている。また、筐体４０内における透過板４５の射出側には、一対のガイド軸４６，４７が、筐体４０のＸ軸方向両側の側壁部４０ｃ，４０ｄに形成された挿通孔４６ａ，４７ａに各々を挿通した状態で支持されている。なお、これらのガイド軸４６，４７は、透過板４５のＺ軸方向の寸法よりも同方向に大きな間隔を隔てて、Ｘ軸方向に互いに平行に延びるように配置されている。
【００３０】
また、両ガイド軸４６，４７には、平面視で矩形状をなすキャリッジ４８が、該ガイド軸４６，４７に沿ってＸ軸方向に往復移動可能な状態で支持されている。そして、キャリッジ４８は、図示しない駆動機構の駆動に基づき、両ガイド軸４６，４７上をＸ軸方向に移動するようになっている。
【００３１】
また、キャリッジ４８には、透過板４５に対して照明光学系１３の光軸方向で対向する面に、平面視で矩形状をなす記録ヘッド４９が支持されている。なお、記録ヘッド４９は、長手方向となるＺ軸方向の寸法が、同方向における両ガイド軸４６，４７の間隔と略同一となるように構成されている。また、記録ヘッド４９には、透過板４５に対して照明光学系１３の光軸方向で対向する面に、図示しない複数のノズル開口が、記録ヘッド４９の長手方向となるＺ軸方向において、透過板４５の同方向の全域に及ぶように列設されている。また、記録ヘッド４９は、筐体４０の外部に設けられたバルブユニット５０に対して液体供給チューブ５１を介して接続されている。
【００３２】
バルブユニット５０は、図示しない貯水タンクから供給される純水を一時貯留する機能を有しており、液体供給チューブ５１を介して記録ヘッド４９に純水を供給するようになっている。なお、液体供給チューブ５１は、筐体４０の上壁部４０ｅに形成された挿通孔５２を通じて筐体４０内に挿通されている。また、液体供給チューブ５１の外周面と挿通孔５２の口縁との間には図示しないシール部材が設けられており、筐体４０内を気密状に封止する役割を果たしている。
【００３３】
記録ヘッド４９は、筐体４０内であって、透過板４５に対して照明光学系１３の光軸方向で対向する第１位置（図２（ｂ）において実線で示す位置）と、透過板４５に対して照明光学系１３の光軸方向で対向しない第２位置（図２（ｂ）において例えば二点鎖線で示す位置）との間を、キャリッジ４８と共に、ガイド軸４６，４７に沿って往復移動可能となっている。ここで、第１位置とは、二次光源２５から射出される露光光ＥＬの光路内となる位置であり、記録ヘッド４９が露光光ＥＬの透過領域となる透過板４５の＋Ｙ方向側の端面４５ａに対して対向した状態となり、その端面４５ａに向けてノズル開口から水滴を噴射する位置となっている。また、第２位置とは、二次光源２５から射出される露光光ＥＬの光路外となる位置であり、ウエハＷに対する露光処理時に記録ヘッド４９を透過板４５の＋Ｙ方向側の端面４５ａに対して非対向の状態にして待機させる位置となっている。なお、液体供給チューブ５１は、可撓性を有する材質から構成されているため、記録ヘッド４９の変位に追随して容易に変形することが可能となっている。
【００３４】
また、筐体４０の外部には、冷却装置５３が筐体４０の上壁部４０ｅの外面に対して面接触するように設けられている。ここで、筐体４０は、比較的高い熱伝導率を示す金属材料によって構成されている。そして、冷却装置５３は、筐体４０内に気密状に封止された空気から筐体４０の上壁部４０ｅを介して伝達される熱を吸収して筐体４０を冷却することにより、筐体４０内に収容された透過板４５を間接的に冷却する構成となっている。
【００３５】
また、筐体４０の底壁部４０ｆには、加湿装置５４が配管５５を介して接続されている。そして、加湿装置５４は、配管５５を介して筐体４０内に水蒸気を供給することにより、筐体４０内における純水の蒸気圧を飽和蒸気圧となるように設定する。すなわち、透過板４５は、水滴が付着する射出側の端面４５ａが筐体４０内の空間域に収容されており、その筐体４０内の空間域が加湿装置５４から供給される水蒸気によって飽和状態とされている。なお、加湿装置５４から筐体４０内に供給される水蒸気は、記録ヘッド４９から透過板４５に対して噴射される液体（純水）と同一の成分を有している。
【００３６】
また、筐体４０の底壁部４０ｆには、減圧ポンプ５６が配管５７を介して接続されている。そして、減圧ポンプ５６は、配管５７を介して筐体４０内を減圧することにより、筐体４０内の透過板４５に付着した水滴を揮発させて除去する構成となっている。
【００３７】
ところで、回折光学素子１９として複数極照明用の回折光学素子が用いられる場合、オプティカルインテグレータ２３の入射側には、照明光学系１３の光軸ＡＸを中心とした複数の所定形状（円弧状、円形状など）の照野からなる複数極状の照野が形成される。その結果、オプティカルインテグレータ２３の射出側に位置する照明瞳面２４には、入射側に形成される複数極状の照野と同じ、複数極状の二次光源２５が形成される。すなわち、オプティカルインテグレータ２３の射出側に位置する照明瞳面２４には、図３に示すように、４つの円弧状の実質的な面光源（以下、単に「面光源」という。）５８ａ〜５８ｄからなる４極状の二次光源２５（瞳強度分布）が形成される。
【００３８】
そして、こうした各面光源５８ａ〜５８ｄから射出される露光光ＥＬがレチクルＲ上に導かれると、レチクルＲの被照射面Ｒａ上には、図４（ａ）に示すように、長手方向がＹ軸方向であり且つ短手方向がＸ軸方向となる矩形状の照明領域ＥＲ１が形成される。また、ウエハＷの被照射面Ｗａ上には、図４（ｂ）に示すように、レチクルＲ上の照明領域ＥＲ１と対応した矩形状の静止露光領域ＥＲ２が形成される。この際、静止露光領域ＥＲ２（及び照明領域ＥＲ１）内の各点に入射する入射光が形成する４極状の瞳強度分布の各々は、露光光ＥＬが入射する位置に依存することなく、互いにほぼ同一形状をなしている。ところが、静止露光領域ＥＲ２（及び照明領域ＥＲ１）内の各点に入射する入射する４極状の瞳強度分布の各々は、露光光ＥＬが入射する位置に依存して、光強度が互いに異なってしまう傾向がある。
【００３９】
具体的には、図４（ａ）（ｂ）及び図５に示すように、照明領域ＥＲ１内及び静止露光領域ＥＲ２内のＹ軸方向における中心点Ｐ１ａ、Ｐ１ｂに入射する露光光ＥＬによって形成される第１瞳強度分布５９では、Ｚ軸方向に沿って配置される第３面光源５９ｃ及び第４面光源５９ｄの光強度の方が、Ｘ軸方向に沿って配置される第１面光源５９ａ及び第２面光源５９ｂの光強度よりも強くなる傾向がある。
【００４０】
一方、図４（ａ）（ｂ）及び図６に示すように、照明領域ＥＲ１内及び静止露光領域ＥＲ２内において中心点Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに対してＹ軸方向に沿って離間した各周辺点Ｐ２ａ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに入射する露光光ＥＬによって形成される第２瞳強度分布６０では、Ｚ軸方向に沿って配置される第３面光源６０ｃ及び第４面光源６０ｄの光強度の方が、Ｘ軸方向に沿って配置される第１面光源６０ａ及び第２面光源６０ｂの光強度よりも弱くなる傾向がある。
【００４１】
一般に、中心点Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに対応する第１瞳強度分布５９のＺ軸方向に沿った光強度分布は、図７（ａ）に示すように、Ｚ軸方向における中央が最も弱くなると共に、中央からＺ軸方向に沿って離間するに連れて次第に強くなる凹曲線状の分布である。また、各周辺点Ｐ２ａ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに対応する第２瞳強度分布６０のＺ軸方向に沿った光強度分布は、図７（ｂ）に示すように、中央からＺ軸方向に沿って離間するに連れて次第に弱くなる凸曲面状の分布である。
【００４２】
こうした瞳強度分布５９，６０のＺ軸方向に沿った光強度分布は、照明領域ＥＲ１及び静止露光領域ＥＲ２内のＸ軸方向に沿った各点の位置にはほとんど依存しないものの、照明領域ＥＲ１及び静止露光領域ＥＲ２内のＹ軸方向に沿った各点の位置に依存して変化する傾向がある。そして、静止露光領域ＥＲ２内におけるＹ軸方向に沿った各点Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに個別に対応する瞳強度分布５９，６０がそれぞれ均一ではない場合、ウエハＷにおいて形成されるパターンの線幅にばらつきが発生する虞がある。このような課題を解決するために、本実施形態の照明光学系１３には、遮光装置２７が設けられている。
【００４３】
次に、上記のように構成された露光装置１１の作用について以下説明する。
さて、本実施形態の露光装置１１では、静止露光領域ＥＲ２内のＹ軸方向に沿った各点Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに対応する各瞳強度分布５９，６０を調整する際には、まず、瞳強度分布計測装置３６によって静止露光領域ＥＲ２内の点毎の光強度がそれぞれ計測される。ここでは、静止露光領域ＥＲ２内の中心点Ｐ１ｂ及び周辺点Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに入射する露光光ＥＬによって照明瞳面２４上に形成される第１瞳強度分布５９及び第２瞳強度分布６０が計測される。そして、操作者は、瞳強度分布計測装置３６の計測結果を確認しつつ、記録ヘッド４９から透過板４５に向けて水滴を噴射させる位置、水滴の個数、及び、水滴の大きさ等に関して、記録ヘッド４９による透過板４５に対する水滴の噴射条件を設定する。
【００４４】
そして次に、駆動機構を駆動して、記録ヘッド４９が透過板４５に対して照明光学系１３の光軸方向で対向する第１位置に変位するように、キャリッジ４８をガイド軸４６，４７に沿ってＸ軸方向にスライド移動させる。このとき、記録ヘッド４９は、透過板４５を横切るようにスライド移動しつつ、上記のように設定された透過板４５に対する水滴の噴射条件を満たすように、バルブユニット５０から供給される純水をノズル開口から噴射して、透過板４５における露光光ＥＬの透過領域となる射出側（＋Ｙ方向側）の端面４５ａに水滴を付着させる。なお、透過板４５の射出側の端面４５ａには、撥水性（撥液性）を有する材質が被覆されているため、記録ヘッド４９から噴射された水滴は凸面状をなすように透過板４５の射出側の端面４５ａに付着する。
【００４５】
ここで、本実施形態では、まず、図８に示すように、照明瞳面２４上に形成される４極状の二次光源２５のうち、Ｘ軸方向に沿った第１面光源５８ａに対して照明光学系１３の光軸方向で対向する位置に、記録ヘッド４９から透過板４５に向けて水滴Ａが噴射されたものとする。
【００４６】
すると、図９（ａ）に示すように、二次光源２５の第１面光源５８ａから射出される露光光ＥＬのうち、照明領域ＥＲ１内及び静止露光領域ＥＲ２内の中心点Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに向けて射出される露光光ＥＬ、即ち、レチクルブラインド２８の開口部２９の中心点Ｐ１に向けて射出される露光光ＥＬは、透過板４５の入射側の端面４５ｂ（即ち、透過板４５と気体との境界面）及び透過板４５の射出側の端面４５ａ（即ち、透過板４５と水滴Ａとの境界面）に対して垂直に入射する。そして、この露光光ＥＬは、透過板４５の両端面４５ａ，４５ｂで屈折作用を受けることはなく、透過板４５の射出側の端面４５ａに付着した水滴Ａに対して照明光学系１３の光軸方向と略平行に入射した後、水滴Ａにおける凸面状の液面を介して放射状に散乱される。
【００４７】
一方、図９（ｂ）に示すように、二次光源２５の第１面光源５８ａから射出される露光光ＥＬのうち、照明領域ＥＲ１内及び静止露光領域ＥＲ２内の各周辺点Ｐ２ａ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに向けて射出される露光光ＥＬ、即ち、レチクルブラインド２８の開口部２９の周辺点Ｐ２，Ｐ３に向けて射出される露光光ＥＬは、透過板４５の入射側の端面４５ｂ（即ち、透過板４５と気体との境界面）及び透過板４５の射出側の端面４５ａ（即ち、透過板４５と水滴Ａとの境界面）に対して傾斜した方向から入射する。そして、この露光光ＥＬは、透過板４５の両端面４５ａ，４５ｂで屈折作用を受けて、透過板４５の射出側の端面４５ａに付着した水滴Ａに対して照明光学系１３の光軸方向と交差する方向に入射した後、水滴Ａにおける凸面状の液面を介して放射状に散乱される。
【００４８】
なお、レチクルブラインド２８の開口部２９の各点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に入射する露光光ＥＬは、透過板４５の射出側の端面４５ａに付着した水滴Ａに対する入射角が互いに異なるため、水滴Ａにおける凸面状の液面を介して散乱される態様が相違する。そのため、レチクルブラインド２８の開口部２９の各点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に到達する露光光ＥＬが、透過板４５の射出側の端面４５ａに付着した水滴Ａによって放射状に散乱されて減光される比率は、レチクルブラインド２８の開口部２９の位置毎に相違する。すなわち、中心点Ｐ１に対応する第１瞳強度分布５９の第１面光源５９ａの光強度と、周辺点Ｐ２，Ｐ３に対応する第２瞳強度分布６０の第１面光源６０ａの光強度とは、透過板４５の射出側の端面４５ａに水滴Ａを付着させた際の変化量が相違する。
【００４９】
したがって、記録ヘッド４９から透過板４５の射出側の端面４５ａに水滴Ａが噴射されると、各瞳強度分布５９，６０の性状のばらつきを相殺するように、各瞳強度分布５９，６０の第１面光源５９ａ，６０ａの光強度が調整される。すなわち、第１面光源５８ａから静止露光領域ＥＲ２内の中心点Ｐ１ｂに入射する露光光ＥＬの光強度と、第１面光源５８ａから静止露光領域ＥＲ２内の各周辺点Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに入射する露光光ＥＬの光強度との差分を相殺するように、露光光ＥＬに対する減光量が調整される。
【００５０】
また、遮光装置２７は、二次光源２５を構成する他の面光源５８ｂ，５８ｃ，５８ｄに対しても同様に、それらの面光源５８ｂ，５８ｃ，５８ｄに対して照明光学系１３の光軸方向で対向する位置に、記録ヘッド４９から透過板４５に向けて水滴を噴射する。その結果、それらの面光源５８ｂ，５８ｃ，５８ｄから静止露光領域ＥＲ２内の中心点Ｐ１ｂに入射する露光光ＥＬの光強度と、それらの面光源５８ｂ，５８ｃ，５８ｄから静止露光領域ＥＲ２内の周辺点Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに入射する露光光ＥＬの光強度との差分を相殺するように、露光光ＥＬに対する減光量が調整される。
【００５１】
そして、この状態で露光処理が実行されると、ウエハＷ上の静止露光領域ＥＲ２内の各点Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに対応する各瞳強度分布５９，６０がほぼ同一性状となるため、ウエハＷの被照射面Ｗａに形成されるパターンの線幅にばらつきを生じることが抑制される。
【００５２】
なお、遮光装置２７は、記録ヘッド４９が透過板４５に対して水滴を噴射する際には、加湿装置５４を稼動させて、筐体４０内における純水の蒸気圧を飽和蒸気圧となるように設定する。すると、筐体４０内に収容された透過板４５上では、記録ヘッド４９から噴射された水滴が揮発することはほとんどない。したがって、本実施形態の遮光装置２７によれば、透過板４５上の水滴による露光光ＥＬに対する減光量を安定した状態で調整することができ、結果として、静止露光領域ＥＲ２内の各点Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに入射する露光光ＥＬの光強度を微細に調整することができる。
【００５３】
また、遮光装置２７は、静止露光領域ＥＲ２内の各点Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに対応する各瞳強度分布５９，６０がほぼ同一性状となるように記録ヘッド４９が透過板４５に対する水滴の噴射を完了した時点で、冷却装置５３を稼動させて、筐体４０内に気密状に封止された気体を筐体４０を介して冷却する。すると、筐体４０内に収容された透過板４５は、筐体４０内の気体を介して間接的に冷却されることになり、透過板４５に付着した水滴が透過板４５に対する付着態様を維持した状態で凝固する。したがって、本実施形態の遮光装置２７によれば、透過板４５上の水滴による露光光ＥＬに対する減光量を安定させることができる。
【００５４】
また、遮光装置２７は、記録ヘッド４９が透過板４５に対する水滴の噴射条件を変更する場合には、減圧ポンプ５６を駆動させて筐体４０内を減圧する。すると、筐体４０内に収容された透過板４５上では、記録ヘッド４９から噴射された水滴が揮発して除去される。したがって、本実施形態の遮光装置２７によれば、記録ヘッド４９による透過板４５に対する水滴の付着態様を容易に初期化することができ、結果として、透過板４５上の水滴による露光光ＥＬに対する減光量を迅速且つ簡便に調整することができる。
【００５５】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）本実施形態では、記録ヘッド４９が透過板４５における露光光ＥＬの透過領域に対して水滴を付着させると、光源装置１２から射出された露光光ＥＬは、透過板４５に付着した水滴によって屈折して進行方向が変化するため、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量が変化する。したがって、記録ヘッド４９が透過板４５に対する水滴の付着状態を変化させることにより、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量を微細に調整することができる。また、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量を新たに設定し直す場合には、透過板４５に付着した水滴を除去した後、記録ヘッド４９が透過板４５に対して再度水滴を付着させるだけでよい。したがって、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量を簡便に調整することができる。
【００５６】
（２）本実施形態では、透過板４５に付着した水滴は冷却装置５３によって冷却される。そのため、透過板４５が光源装置１２から射出される露光光ＥＬの一部を吸収して発熱した場合であっても、水滴が透過板４５から揮発することが抑制される。したがって、透過板４５に対する水滴の付着状態を維持することができるため、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量に影響が及ぶことを抑制できる。
【００５７】
（３）本実施形態では、透過板４５は、水滴が付着した端面４５ａが加湿装置５４によって飽和状態とされる筐体４０内に配置されるため、水滴が透過板４５から揮発することが抑制される。したがって、透過板４５に対する水滴の付着状態を維持することができるため、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量を安定した状態で調整することができる。
【００５８】
（４）本実施形態では、透過板４５は、水滴を付着させる端面４５ａが撥水性を有している。そのため、水滴は、透過板４５の撥水性によって凸面状をなすように透過板４５に付着する。したがって、光源装置１２から射出された露光光ＥＬには、透過板４５に付着した水滴によって屈折力が大きく作用するため、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量を大きく補正することができる。
【００５９】
（５）本実施形態では、記録ヘッド４９は、透過板４５における露光光ＥＬの透過領域に対して水滴による微細なパターンを形成することにより、ウエハＷ上に照射される露光光ＥＬの光量を精密に調整することができる。
【００６０】
（６）本実施形態では、オプティカルインテグレータ２３の射出面近傍には、所定の光強度分布を有する照明瞳面２４が形成される。そして、遮光装置２７は、透過板４５に対して水滴を付着させることにより、照明瞳面２４上における光強度分布の位置毎のばらつきを抑制する。そのため、照明瞳面２４からウエハＷに照射される露光光ＥＬの光強度がウエハＷ上の位置毎にばらつくことを抑制できる。
【００６１】
なお、本実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態において、透過板４５は、投影光学系１５を構成する鏡筒３３内における露光光ＥＬの光路上に設ける構成としてもよい。すなわち、透過板４５は、光源装置１２からウエハＷに至る露光光ＥＬの光路上であれば、照明光学系１３及び投影光学系１５のうち何れの光学系に設ける構成としてもよい。ただし、ウエハＷに照射される露光光ＥＬの光強度をウエハＷ上の位置毎に調整する場合には、オプティカルインテグレータ２３の射出側において、オプティカルインテグレータ２３の射出面と光学的に共役な位置の近傍に配置することが望ましい。
【００６２】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、透過板４５の射出側の端面４５ａに対して水滴を付着させる手段として、透過板４５の射出側の端面４５ａに対して接触しながら純水を塗布する構成を採用してもよい。
【００６３】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、透過板４５上に付着する水滴が所定の形状を保持可能であれば、透過板４５における水滴が付着する端面４５ａに撥水性を持たせることは必須の構成ではない。
【００６４】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、透過板４５における露光光ＥＬの透過領域に付着させる液体として、純水以外の他の物質を採用してもよい。ただし、減圧ポンプ５６の駆動時における筐体４０内の減圧条件下で、十分な揮発性を有する物質であることが望ましい。また、この場合、加湿装置５４から筐体４０内に供給される蒸気は、透過板４５に付着させる液体と同一成分とすることが望ましい。
【００６５】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、透過板４５に付着した液滴を除去させる手段として、透過板４５における射出側の端面４５ａに沿って空気流を発生させる機構等を採用してもよい。ただし、透過板４５が摩耗することがないように、透過板４５に対して非接触に液滴を除去させる構成を採用することが望ましい。
【００６６】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、透過板４５を冷却させる手段として、透過板４５に接触しながら放熱させる構成を採用してもよい。この構成によれば、上記実施形態のように透過板４５を間接的に冷却する構成を採用した場合と比較して、透過板４５をより迅速に冷却することができる。
【００６７】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、記録ヘッド４９に供給される液体を貯留する液体カートリッジをキャリッジ４８上に設ける構成としてもよい。この場合、液体カートリッジと記録ヘッドとを接続する液体供給流路を筐体４０の内外を挿通するように設けることが不要となるため、筐体４０内の気密性をより確実に維持することができる。
【００６８】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、透過板４５における入射側の端面４５ｂに対して液滴を付着させる構成としてもよい。
・上記実施形態において、遮光装置２７は、筐体４０における入射側の側壁部４０ａの開口部４１に嵌め込まれた透過窓材４３、又は、筐体４０における射出側の側壁部４０ｂの開口部４２に嵌め込まれた透過窓材４４に対して液滴を付着させる構成としてもよい。この場合、遮光装置２７の透過窓材４３，４４は、筐体４０内を気密状に封止するための部材としての機能と、液滴を付着させるための部材としての機能を兼備することになるため、遮光装置２７を構成する部材の部品点数を削減することができる。また、光源装置１２から射出された露光光ＥＬが遮光装置２７を透過する過程で減光される比率を低減できる。
【００６９】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、光源装置１２からウエハＷに至る露光光ＥＬの光路外となる位置で透過板４５に対して液滴を付着させた後に、透過板４５を露光光ＥＬの光路内に配置する構成としてもよい。この場合、遮光装置２７は、光源装置１２から射出された露光光ＥＬを透過させる部材が透過板４５のみとなるため、光源装置１２から射出された露光光ＥＬが遮光装置２７を透過する過程で減光される比率を低減できる。
【００７０】
・上記実施形態において、遮光装置２７は、照明光学系１３の光軸方向に対する傾斜角を変更するように透過板４５を変位させる変位機構を設ける構成としてもよい。この場合、変位機構は、照明瞳面２４上の二次光源２５から射出される露光光ＥＬが透過板４５に付着した水滴に対して入射する際の入射角を調整する。その結果、露光光ＥＬが水滴における凸面状の液面を介して散乱される態様が変化するため、静止露光領域ＥＲ２内の各点Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，Ｐ３ｂに入射する露光光ＥＬの光強度を補正することができる。
【００７１】
・上記実施形態において、回折光学素子１９は、４極照明以外の他の分極照明用（例えば、２極照明用）の回折光学素子であってもよいし、輪帯照明用の回折光学素子であってもよいし、円形状の回折光学素子であってもよい。また、露光光ＥＬの形状を変形させることが可能な光学素子であれば、回折光学素子の代わりにアキシコレンズ対などの他の任意の光学素子を配置してもよい。
【００７２】
・上記実施形態において、光源装置１２は、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１２６ｎｍ）等を供給可能な光源であってもよい。また、光源装置１２は、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を供給可能な光源であってもよい。
【００７３】
・上記実施形態において、露光装置１１は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置１１は、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。
【００７４】
次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図１０は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【００７５】
まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【００７６】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００７７】
図１１は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）においては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００７８】
基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。
【符号の説明】
【００７９】
１１…露光装置、１２…光源としての光源装置、１３…光学系としての照明光学系、１５…光学系としての投影光学系、１７…光学素子としての整形光学系、１８…光学素子としての第１反射ミラー、１９…光学素子としての回折光学素子、２０…光学素子としてのアフォーカル光学系、２６…光学素子としての第１コンデンサ光学系、３０…光学素子としての第２コンデンサ光学系、３１…光学素子としての第２反射ミラー、３２…光学素子としてのレンズ群、２３…オプティカルインテグレータ、２７…遮光装置、４５…透過部材としての透過板、４９…液滴付着手段及び液体噴射ヘッドとしての記録ヘッド、５３…冷却手段としての冷却装置、５４…飽和状態化手段としての加湿装置、Ａ…液滴としての水滴、ＥＬ…光束としての露光光、Ｒ…所定のパターンとしてのレチクル、Ｒａ…被照射面、Ｗ…感光性基板としてのウエハ、Ｗａ…被照射面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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