(57)【要約】【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。【解決手段】光導波路構造体１は、コア層９３の両面にクラッド層９１、９２を積層してなる光導波路９と、その両面にそれぞれ接合された導体層５１、５２と、光導波路９の光路をほぼ直角に屈曲させる光路変換部９６と、発光素子１０と電気素子１２とを備えている。コア層９３は、コア部９４とクラッド部９５とを有し、コア部９４は、（Ａ）環状オレフィン樹脂と、（Ｂ）前記（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、（Ｃ）光酸発生剤と、を含む組成物で構成された層に対し光を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものである。【選択図】図１
2011221142.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに屈折率が異なるコア部とクラッド部とを備える光導波路と、前記コア部の光路を屈曲させる光路変換部と、を有し、
前記コア部は、
（Ａ）環状オレフィン樹脂と、
（Ｂ）前記（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、
（Ｃ）光酸発生剤と、
を含む組成物で構成されたコア層に対し活性放射線を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものであることを特徴とする光導波路構造体。
【請求項２】
前記（Ｂ）の環状エーテル基は、オキセタニル基またはエポキシ基である請求項１に記載の光導波路構造体。
【請求項３】
前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、ノルボルネン系樹脂である請求項１または２に記載の光導波路構造体。
【請求項４】
前記（Ｂ）は、前記（Ａ）よりも屈折率が低く、
前記環状オレフィン樹脂は、前記（Ｃ）の光酸発生剤から発生する酸により脱離し、脱離により、前記（Ａ）の屈折率を低下させる脱離性基を有するものである請求項１ないし３のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項５】
前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、側鎖に前記（Ｃ）の光酸発生剤から発生する酸により脱離する脱離性基を有し、
前記（Ｂ）は、下記式（１００）に記載の第１モノマーを含むものである請求項２に記載の光導波路構造体。
【化１】
2011221142.tif 000052
【請求項６】
前記（Ｂ）は、さらに、エポキシ化合物およびオキセタニル基を２つ有するオキセタン化合物のうち、少なくとも一方を第２モノマーとして含むものである請求項５に記載の光導波路構造体。
【請求項７】
前記第２モノマーと前記第１モノマーとの割合は、重量比（前記第２モノマーの重量／前記第１モノマーの重量）で、０．１〜１．０である請求項６に記載の光導波路構造体。
【請求項８】
前記脱離性基は、−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものである請求項４ないし６のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項９】
前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、ノルボルネン系樹脂である請求項５ないし８のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１０】
前記ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネンの付加重合体である請求項９に記載の光導波路構造体。
【請求項１１】
前記ノルボルネンの付加重合体は、下記式（１０１）に記載の繰り返し単位を有するものである請求項１０に記載の光導波路構造体。
【化２】
2011221142.tif 000053
［式中のｎは、０以上９以下の整数である。］
【請求項１２】
前記ノルボルネンの付加重合体は、下記式（１０２）に記載の繰り返し単位を有するものである請求項１０または１１に記載の光導波路構造体。
【化３】
2011221142.tif 000054
【請求項１３】
前記式（１００）に記載の第１モノマーの含有量は、前記環状オレフィン樹脂１００重量部に対して、１重量部以上５０重量部以下である請求項５ないし１２のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１４】
前記コア層の活性放射線が照射された領域と、未照射領域とで、前記（Ｂ）由来の構造体濃度が異なっている請求項１ないし１３のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１５】
前記コア層の活性放射線が照射された領域と未照射領域の屈折率差が０．０１以上である請求項１ないし１４のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１６】
前記コア層の活性放射線が照射された領域を前記クラッド部の少なくとも一部とし、未照射領域を前記コア部の少なくとも一部とする請求項１ないし１５のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１７】
前記光路変換部は、前記コア部を伝送される伝送光の少なくとも一部を反射する反射面を有するものである請求項１ないし１６のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１８】
前記コア部に設けられた空孔を有し、前記反射面は、前記コア部と前記空孔との界面の一部または全部で構成されている請求項１７に記載の光導波路構造体。
【請求項１９】
前記反射面は、前記伝送光を全反射させる傾斜角に設定されている請求項１７または１８に記載の光導波路構造体。
【請求項２０】
前記反射面を前記コア部方向に投影した場合の投影と前記コア部の断面とが重なる面積が、前記コア部の断面積よりも小さく、前記コア部を伝送される伝送光を、前記反射面で反射される伝送光と、前記反射面以外の前記コア部を伝送され直進する伝送光とに分岐させる分岐部を有する請求項１７ないし１９のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項２１】
前記反射面を前記コア部方向に投影した場合の投影と前記コア部の断面とが重なる面積が、前記コア部の断面積と同一であり、
前記コア部の前記反射面が存在する部分においてのみ前記コア部が大きく設定されている請求項１７ないし２０のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項２２】
前記反射面は、前記コア部に対して傾斜しており、前記反射面の斜面方向における両端部の少なくとも一方が、前記コア部の外郭部延伸線よりも外側に位置し、前記コア部は、前記反射面を取り囲む状態で膨らんでいる請求項１７ないし２１のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項２３】
前記コア層の両面に前記クラッド部を構成するクラッド層がそれぞれ接合され、両クラッド層とこれらの間に介挿されたコア層との積層体により前記光導波路が構成される請求項１ないし２２のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項２４】
前記クラッド層は、前記コア層と同種の材料で構成されている請求項２３に記載の光導波路構造体。
【請求項２５】
前記光路変換部は、前記コア部と、少なくとも一方の前記クラッド層とにまたがって形成されている請求項２３または２４に記載の光導波路構造体。
【請求項２６】
前記光路変換部は、前記コア層内にのみ形成されている請求項１ないし２４のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項２７】
前記コア層において、前記コア部は、その端部または途中で途切れるよう形成されており、
前記光路変換部は、前記コア部が途切れた部分に形成されている請求項１ないし１７のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項２８】
前記コア部が途切れた部分に設けられた空孔を有し、前記反射面が、前記コア部が途切れた部分と前記空孔との界面の一部または全部で構成されている請求項２７に記載の光導波路構造体。
【請求項２９】
前記光導波路に少なくとも１層の導体層が接合されている請求項１ないし２８のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３０】
前記光導波路の両面にそれぞれ導体層が接合されている請求項１ないし２８のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３１】
発光部または受光部と、端子とを有する素子を有する請求項１ないし３０のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３２】
発光部または受光部と、端子とを有する素子を有し、前記端子が前記導体層と電気的に接続されている請求項２９または３０に記載の光導波路構造体。
【請求項３３】
前記素子と前記光導波路との間に空隙部を有さない請求項３１または３２に記載の光導波路構造体。
【請求項３４】
前記素子は、その外表面が封止材により封止されている請求項３１ないし３３のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３５】
前記光路変換部は、平面視で前記発光部または受光部と重なるような位置に形成されている請求項３１ないし３４のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３６】
前記素子は、当該素子を少なくとも１個搭載するチップキャリアとして構成されている請求項３１ないし３５のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３７】
前記チップキャリアは、別の光導波路を有する請求項３６に記載の光導波路構造体。
【請求項３８】
前記光導波路に少なくとも１つの基板が接合されており、
前記基板は、前記コア部を伝送される伝送光に対する透光性を有する透光部を有し、前記透光部を介して前記基板の厚さ方向に前記伝送光を伝送し得るよう構成されている請求項１ないし３７のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項３９】
前記基板自体が前記伝送光の透過率が８０％以上であり、これにより前記基板の一部が前記透光部を構成する請求項３８に記載の光導波路構造体。
【請求項４０】
前記透光部は、前記基板を貫通する貫通孔で構成されている請求項３８または３９に記載の光導波路構造体。
【請求項４１】
前記貫通孔内に前記伝送光の透過率が８０％以上の材料が充填されている請求項４０に記載の光導波路構造体。
【請求項４２】
前記透光部は、前記基板の厚さ方向に前記伝送光を伝送する垂直光導波路で構成されている請求項３８に記載の光導波路構造体。
【請求項４３】
前記透光部は、前記伝送光を集光または拡散し得るレンズ部を有する請求項３８ないし４２のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項４４】
前記活性放射線は、２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものである請求項１ないし４３のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項４５】
前記活性放射線の照射量は、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２である請求項１ないし４４のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項４６】
前記活性放射線は、マスクを介して前記コア層に照射される請求項１ないし４５のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項４７】
前記コア層は、さらに、酸化防止剤を含む請求項１ないし４６のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項４８】
前記コア層は、さらに、増感剤を含む請求項１ないし４７のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項４９】
請求項１ないし４８のいずれかに記載の光導波路構造体を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路構造体および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光通信の分野における光部品として、光分岐結合器（光カプラ）、光合分波器等が開発されており、これらに用いる光導波路型素子が有望視されている。この光導波路型素子（以下、単に「光導波路」ともいう。）としては、従来の石英系光導波路の他、製造（パターニング）が容易で汎用性に富むポリマー系光導波路があり、最近では後者の開発が盛んに行われている。
【０００３】
このような光導波路は、通常、基板上に所定の配置（パターン）で形成され、光導波路構造体として取り扱われる。この光導波路構造体としては、基板上に所定の配線回路と、コア部およびクラッド部で構成される光導波路とを形成し、さらにこの光導波路に発光素子および受光素子を取り付けたものが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載の光導波路構造体では、次のような問題点がある。
１．光導波路の形成工程が複雑であり、伝送光の光路を構成するコア部のパターン形状の設計、選択の自由度が狭い。
２．コア部のパターン形状の精度や寸法精度が悪い。
３．配線パターンと組み合わせた場合に、該配線パターンの設計における自由度が狭い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１４６６０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記（１）〜（４９）の本発明により達成される。
（１）  互いに屈折率が異なるコア部とクラッド部とを備える光導波路と、前記コア部の光路を屈曲させる光路変換部と、を有し、
前記コア部は、
（Ａ）環状オレフィン樹脂と、
（Ｂ）前記（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、
（Ｃ）光酸発生剤と、
を含む組成物で構成されたコア層に対し活性放射線を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものであることを特徴とする光導波路構造体。
【０００８】
（２）  前記（Ｂ）の環状エーテル基は、オキセタニル基またはエポキシ基である上記（１）に記載の光導波路構造体。
【０００９】
（３）  前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、ノルボルネン系樹脂である上記（１）または（２）に記載の光導波路構造体。
【００１０】
（４）  前記（Ｂ）は、前記（Ａ）よりも屈折率が低く、
前記環状オレフィン樹脂は、前記（Ｃ）の光酸発生剤から発生する酸により脱離し、脱離により、前記（Ａ）の屈折率を低下させる脱離性基を有するものである上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００１１】
（５）  前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、側鎖に前記（Ｃ）の光酸発生剤から発生する酸により脱離する脱離性基を有し、
前記（Ｂ）は、下記式（１００）に記載の第１モノマーを含むものである上記（２）に記載の光導波路構造体。
【化１】
2011221142.tif 000003
【００１２】
（６）  前記（Ｂ）は、さらに、エポキシ化合物およびオキセタニル基を２つ有するオキセタン化合物のうち、少なくとも一方を第２モノマーとして含むものである上記（５）に記載の光導波路構造体。
【００１３】
（７）  前記第２モノマーと前記第１モノマーとの割合は、重量比（前記第２モノマーの重量／前記第１モノマーの重量）で、０．１〜１．０である上記（６）に記載の光導波路構造体。
【００１４】
（８）  前記脱離性基は、−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものである上記（４）ないし（６）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００１５】
（９）  前記（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、ノルボルネン系樹脂である上記（５）ないし（８）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００１６】
（１０）  前記ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネンの付加重合体である上記（９）に記載の光導波路構造体。
【００１７】
（１１）  前記ノルボルネンの付加重合体は、下記式（１０１）に記載の繰り返し単位を有するものである上記（１０）に記載の光導波路構造体。
【化２】
2011221142.tif 000004
［式中のｎは、０以上９以下の整数である。］
【００１８】
（１２）  前記ノルボルネンの付加重合体は、下記式（１０２）に記載の繰り返し単位を有するものである上記（１０）または（１１）に記載の光導波路構造体。
【化３】
2011221142.tif 000005
【００１９】
（１３）  前記式（１００）に記載の第１モノマーの含有量は、前記環状オレフィン樹脂１００重量部に対して、１重量部以上５０重量部以下である上記（５）ないし（１２）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２０】
（１４）  前記コア層の活性放射線が照射された領域と、未照射領域とで、前記（Ｂ）由来の構造体濃度が異なっている上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２１】
（１５）  前記コア層の活性放射線が照射された領域と未照射領域の屈折率差が０．０１以上である上記（１）ないし（１４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２２】
（１６）  前記コア層の活性放射線が照射された領域を前記クラッド部の少なくとも一部とし、未照射領域を前記コア部の少なくとも一部とする上記（１）ないし（１５）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２３】
（１７）  前記光路変換部は、前記コア部を伝送される伝送光の少なくとも一部を反射する反射面を有するものである上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２４】
（１８）  前記コア部に設けられた空孔を有し、前記反射面は、前記コア部と前記空孔との界面の一部または全部で構成されている上記（１７）に記載の光導波路構造体。
【００２５】
（１９）  前記反射面は、前記伝送光を全反射させる傾斜角に設定されている上記（１７）または（１８）に記載の光導波路構造体。
【００２６】
（２０）  前記反射面を前記コア部方向に投影した場合の投影と前記コア部の断面とが重なる面積が、前記コア部の断面積よりも小さく、前記コア部を伝送される伝送光を、前記反射面で反射される伝送光と、前記反射面以外の前記コア部を伝送され直進する伝送光とに分岐させる分岐部を有する上記（１７）ないし（１９）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２７】
（２１）  前記反射面を前記コア部方向に投影した場合の投影と前記コア部の断面とが重なる面積が、前記コア部の断面積と同一であり、
前記コア部の前記反射面が存在する部分においてのみ前記コア部が大きく設定されている上記（１７）ないし（２０）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２８】
（２２）  前記反射面は、前記コア部に対して傾斜しており、前記反射面の斜面方向における両端部の少なくとも一方が、前記コア部の外郭部延伸線よりも外側に位置し、前記コア部は、前記反射面を取り囲む状態で膨らんでいる上記（１７）ないし（２１）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００２９】
（２３）  前記コア層の両面に前記クラッド部を構成するクラッド層がそれぞれ接合され、両クラッド層とこれらの間に介挿されたコア層との積層体により前記光導波路が構成される上記（１）ないし（２２）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３０】
（２４）  前記クラッド層は、前記コア層と同種の材料で構成されている上記（２３）に記載の光導波路構造体。
【００３１】
（２５）  前記光路変換部は、前記コア部と、少なくとも一方の前記クラッド層とにまたがって形成されている上記（２３）または（２４）に記載の光導波路構造体。
【００３２】
（２６）  前記光路変換部は、前記コア層内にのみ形成されている上記（１）ないし（２４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３３】
（２７）  前記コア層において、前記コア部は、その端部または途中で途切れるよう形成されており、
前記光路変換部は、前記コア部が途切れた部分に形成されている上記（１）ないし（１７）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３４】
（２８）  前記コア部が途切れた部分に設けられた空孔を有し、前記反射面が、前記コア部が途切れた部分と前記空孔との界面の一部または全部で構成されている上記（２７）に記載の光導波路構造体。
【００３５】
（２９）  前記光導波路に少なくとも１層の導体層が接合されている上記（１）ないし（２８）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３６】
（３０）  前記光導波路の両面にそれぞれ導体層が接合されている上記（１）ないし（２８）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３７】
（３１）  発光部または受光部と、端子とを有する素子を有する上記（１）ないし（３０）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００３８】
（３２）  発光部または受光部と、端子とを有する素子を有し、前記端子が前記導体層と電気的に接続されている上記（２９）または（３０）に記載の光導波路構造体。
【００３９】
（３３）  前記素子と前記光導波路との間に空隙部を有さない上記（３１）または（３２）に記載の光導波路構造体。
【００４０】
（３４）  前記素子は、その外表面が封止材により封止されている上記（３１）ないし（３３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００４１】
（３５）  前記光路変換部は、平面視で前記発光部または受光部と重なるような位置に形成されている上記（３１）ないし（３４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００４２】
（３６）  前記素子は、当該素子を少なくとも１個搭載するチップキャリアとして構成されている上記（３１）ないし（３５）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００４３】
（３７）  前記チップキャリアは、別の光導波路を有する上記（３６）に記載の光導波路構造体。
【００４４】
（３８）  前記光導波路に少なくとも１つの基板が接合されており、
前記基板は、前記コア部を伝送される伝送光に対する透光性を有する透光部を有し、前記透光部を介して前記基板の厚さ方向に前記伝送光を伝送し得るよう構成されている上記（１）ないし（３７）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００４５】
（３９）  前記基板自体が前記伝送光の透過率が８０％以上であり、これにより前記基板の一部が前記透光部を構成する上記（３８）に記載の光導波路構造体。
【００４６】
（４０）  前記透光部は、前記基板を貫通する貫通孔で構成されている上記（３８）または（３９）に記載の光導波路構造体。
【００４７】
（４１）  前記貫通孔内に前記伝送光の透過率が８０％以上の材料が充填されている上記（４０）に記載の光導波路構造体。
【００４８】
（４２）  前記透光部は、前記基板の厚さ方向に前記伝送光を伝送する垂直光導波路で構成されている上記（３８）に記載の光導波路構造体。
【００４９】
（４３）  前記透光部は、前記伝送光を集光または拡散し得るレンズ部を有する上記（３８）ないし（４２）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００５０】
（４４）  前記活性放射線は、２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものである上記（１）ないし（４３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００５１】
（４５）  前記活性放射線の照射量は、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２である上記（１）ないし（４４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００５２】
（４６）  前記活性放射線は、マスクを介して前記コア層に照射される上記（１）ないし（４５）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００５３】
（４７）  前記コア層は、さらに、酸化防止剤を含む上記（１）ないし（４６）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００５４】
（４８）  前記コア層は、さらに、増感剤を含む上記（１）ないし（４７）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【００５５】
（４９）  上記（１）ないし（４８）のいずれかに記載の光導波路構造体を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の効果】
【００５６】
本発明によれば、光の照射という簡単な方法でコア部のパターニングをすることができ、コア部のパターン形状の設計の自由度が広く、しかも寸法精度の高いコア部が得られる。
【００５７】
また、コア層を所望の材料で構成した場合には、光導波路に応力が作用したり変形が生じたりした場合、特に、繰り返し湾曲変形した場合でも、コア部とクラッド部との層間剥離や、コア部内にマイクロクラックが発生すること等の欠陥が生じ難く、その結果、光導波路の光伝送性能が維持され、耐久性に優れる。
【００５８】
さらに、コア部をノルボルネン系樹脂（環状オレフィン系樹脂）を主とする樹脂組成物で構成した場合には、前記変形に対し特に強く欠陥が生じ難いという効果が高い他、コア部とクラッド部との屈折率の差をより大きくすることができ、しかも、耐熱性に優れ、その結果、より高性能で耐久性に優れる光導波路が得られる。
【００５９】
また、光路変換部を有するので、伝送光の光路を所望の方向へ屈曲させることができ、そのため、光路の設計の自由度が広がり、光回路の集積化にも寄与する。
【００６０】
そして、基板が透光部を有する場合には、基板を通過する光路を形成することができるので、光路の設計の自由度がさらに広がる。また、透光部がレンズ部を有する場合には、光路において必要に応じ伝送光の集光、拡散が可能となり、光路の屈曲等と相まって、光回路の設計の自由度がさらに広がる。
【００６１】
また、光導波路構造体が素子（発光素子または受光素子）を有する場合には、光導波路と光学的に接続することにより、素子の発光部から発せられた光を光導波路により他所へ導くことあるいは他所からの光を光導波路により素子の受光部へ導くことができ、小型で集積された光回路を形成することができ、また当該光回路の作動の信頼性も高い。
【００６２】
また、導体層を形成した場合には、前記素子への配線が容易であるとともに、素子の種類（端子の設置箇所）等にかかわらずそれに適した配線が可能となり、汎用性に富む。しかも、このような導体層による配線回路のパターンは、設計の自由度（例えば、端子の設置箇所の選択の自由度）が広い。
【００６３】
このような本発明の光導波路構造体は、光回路（光導波路のパターン）や電気回路の設計の幅が広く、歩留まりが高く、光伝送性能を高く維持し、信頼性、耐久性に優れ、汎用性に富む。そのため、本発明の光導波路構造体を備えることにより、信頼性の高い種々の電子部品および電子機器が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の光導波路構造体の第１実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の光導波路構造体の第２実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の光導波路構造体の第３実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明の光導波路構造体の第４実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の光導波路構造体の第５実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の光導波路構造体の第６実施形態を示す断面図である。
【図７】本発明の光導波路構造体の第７実施形態を示す断面図である。
【図８】本発明の光導波路構造体の第８実施形態を示す断面図である。
【図９】本発明の光導波路構造体の第９実施形態を示す断面図である。
【図１０】本発明の光導波路構造体の第１０実施形態を示す断面図である。
【図１１】本発明の光導波路構造体の第１１実施形態を示す断面図である。
【図１２】本発明の光導波路構造体の第１２実施形態を示す平面図である。
【図１３】第１２実施形態の他の構成例を示す平面図である。
【図１４】第１２実施形態の他の構成例を示す平面図である。
【図１５】本発明の光導波路構造体の第１３実施形態を示す斜視図である。
【図１６】光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【図１７】光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【図１８】光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【図１９】実施例における曲げ損失の測定方法を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
以下、本発明の光導波路構造体および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づき詳細に説明する。
【００６６】
図１〜図１１は、それぞれ、本発明の光導波路構造体の実施形態を示す断面図である。以下これらの図を参照しつつ、光導波路構造体の構成例について説明する。なお、以下の説明では、図１〜図１１中の上側を「上」または「上方」とし、下側を「下」または「下方」とする。また、各図は、層の厚さ方向（各図の上下方向）が誇張して描かれている。
【００６７】
＜第１実施形態：図１＞
図１に示すように、本発明の光導波路構造体１は、光導波路９と、光導波路９の両面にそれぞれ接合された導体層５１、５２と、光導波路９の光路を屈曲させる光路変換部９６と、発光素子１０と、電気素子１２とを備えている。
【００６８】
光導波路９は、図１中下側からクラッド層（下側クラッド層）９１、コア層９３およびクラッド層（上側クラッド層）９２をこの順に積層してなるものであり、コア層９３には、所定パターンのコア部９４とクラッド部９５とが形成されている。コア部９４は、伝送光の光路を形成する部分であり、クラッド部９５は、コア層９３に形成されているものの伝送光の光路を形成せず、クラッド層９１、９２と同様の機能を果たす部分である。
【００６９】
図１に示す構成では、コア層９３の後述する反射面９６１より図１中左側の部位は、コア部９４が形成され、コア層９３のそれ以外の部分は、クラッド部９５が形成されている。
【００７０】
コア層９３の構成材料としては、光（例えば紫外線）の照射により、あるいはさらに加熱することにより屈折率が変化する材料とされる。このような材料の好ましい例としては、ベンゾシクロブテン系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー（樹脂）等の環状オレフィン系樹脂を含む樹脂組成物を主材料とするものが挙げられ、ノルボルネン系ポリマーを含む（主材料とする）ものが特に好ましい。
【００７１】
このような材料で構成されたコア層９３は、曲げ等の変形に対する耐性に優れ、特に繰り返し湾曲変形した場合でも、コア部９４とクラッド部９５との剥離や、コア層９３と隣接する層（クラッド層９１、９２）との層間剥離が生じ難く、コア部９４内やクラッド部９５内にマイクロクラックが発生することも防止される。その結果、光導波路９の光伝送性能が維持され、耐久性に優れた光導波路９が得られる。
【００７２】
また、コア層９３の構成材料には、例えば、酸化防止剤、屈折率調整剤、可塑剤、増粘剤、補強剤、増感剤、レベリング剤、消泡剤、密着助剤および難燃剤等の添加剤が含まれていてもよい。酸化防止剤の添加は、高温安定性の向上、耐候性の向上、光劣化の抑制という効果がある。このような酸化防止剤としては、例えば、モノフェノール系、ビスフェノール系、トリフェノール系等のフェノール系や、芳香族アミン系のものが挙げられる。また、可塑剤、増粘剤、補強剤の添加により、曲げに対する耐性をさらに増大させることもできる。
【００７３】
前記酸化防止剤に代表される添加剤の含有率（２種以上の場合は合計）は、コア層９３の構成材料全体に対し、０．５〜４０重量％程度が好ましく、３〜３０重量％程度がより好ましい。この量が少なすぎると、添加剤の機能を十分に発揮することができず、量が多すぎると、添加剤の種類や特性によっては、コア部９４を伝送する光（伝送光）の透過率の低下、パターニング不良、屈折率不安定等を生じるおそれがある。
【００７４】
コア層９３の形成方法としては、塗布法が挙げられる。塗布法としては、コア層形成用組成物（ワニス等）を塗布し硬化（固化）させる方法、硬化性を有するモノマー組成物を塗布し硬化（固化）させる方法が挙げられる。また、塗布法以外の方法、例えば、別途製造されたシート材を接合する方法を採用することもできる。
【００７５】
以上のようにして得られたコア層９３に対し、マスクを用いて光（活性放射線）を選択的に照射し、所望の形状のコア部９４をパターニングする。
【００７６】
露光に用いる光としては、可視光、紫外光、赤外光、レーザー光等の活性エネルギー光線が挙げられる。また、光を用いるのではなく、Ｘ線等の電磁波や、電子線等の粒子線を用いるようにしてもよい。
【００７７】
コア層９３において、光が照射された部位は、その屈折率が低下し、光が照射されなかった部位との間で屈折率の差が生じる。例えば、コア層９３の光が照射された部位がクラッド部９５となり、照射されなかった部位がコア部９４となる。クラッド部９５の屈折率は、クラッド層９１、９２の屈折率とほぼ等しい。
【００７８】
また、コア層９３に対し光を所定のパターンで照射した後、加熱することにより、コア部９４を形成する場合もある。この加熱工程を付加することにより、コア部９４とクラッド部９５との屈折率の差がより大きくなるので好ましい。なお、この原理等については、後に詳述する。
【００７９】
形成されるコア部９４のパターン形状としては、特に限定されず、直線状、湾曲部を有する形状、異形、光路の分岐部、合流部または交差部を有する形状、集光部（幅等が減少している部分）または光拡散部（幅等が増大している部分）、あるいはこれらのうちの２以上を組み合わせた形状等、いかなるものでもよい。光の照射パターンの設定により、いかなる形状のコア部９４をも容易に形成することができる点が、本発明の特徴である。
【００８０】
光導波路９の各部の構成材料およびコア部９４の形成方法等については、後に詳述する。
【００８１】
光導波路９の下面に接合された導体層５１および上面に接合された導体層５２は、それぞれ、所定の形状にパターニングされて、所望の配線または回路を構成している。導体層５１、５２の構成材料としては、例えば、銅、銅系合金、アルミニウム、アルミニウム系合金等の各種金属材料が挙げられる。導体層５１、５２の厚さは、特に限定されないが、通常、３〜１２０μｍ程度が好ましく、５〜７０μｍ程度がより好ましい。
【００８２】
導体層５１、５２は、例えば、金属箔の接合（接着）、金属メッキ、蒸着、スパッタリング等の方法により形成されたものである。導体層５１、５２へのパターニングは、例えばエッチング、印刷、マスキング等の方法を用いることができる。
【００８３】
発光素子１０は、図１中下面側に、発光部１０１と、一対の端子１０３、１０５とを有している。発光部１０１は、端子１０３と端子１０５の間に位置している。端子１０３、１０５間に通電がなされると、発光部１０１が発光する。
【００８４】
なお、発光素子１０における発光部は、１つの発光点で構成されているものの他、発光点が複数個集合したものでもよい。発光点が複数個集合したものとしては、例えば、発光点が列状（例えば発光点が１×４個、１×１２個）または行列状（例えば発光点がｎ×ｍ個：ｎ、ｍは２以上の整数）に配置されたものや、複数の発光点がランダム（不規則）に配置されたもの等が挙げられる。後述する受光素子１１における受光部１１１についても同様である。
【００８５】
発光素子１０は、それらの端子１０３、１０５がそれぞれ導体層５２の所定部位に接合（電気的に接続）されるようにして光導波路９上に搭載されている。
【００８６】
電気素子（電子回路素子）１２は、例えば半導体素子（半導体チップ）で構成されている。電気素子１２の機能は特に限定されないが、一例として、発光素子１０を駆動するための回路を構成するものが挙げられる。この電気素子１２は、図１中下面側に、２つの端子１２３、１２５を有している。
【００８７】
電気素子１２は、それらの端子１２３、１２５がそれぞれ導体層５２の所定部位に接合（電気的に接続）されるようにして光導波路９上に搭載されている。
【００８８】
発光素子１０および電気素子１２は、それらの端子１０３、１０５、1２３、１２５を含む下部がアンダーフィル材４により封止されている。これにより、発光素子１０および電気素子１２と、光導波路９との間には、空隙部が形成されることなくアンダーフィル材４により封止されることとなる。さらに、発光素子１０および電気素子１２は、その全体（外表面）が封止材６により覆われ、封止されている。このように、発光素子１０および電気素子１２は、その全体が封止され、特に発光部１０１が外部に露出することなく封止された構造であるため、汚れ、損傷、酸化劣化等から保護され、電子部品の信頼性向上に寄与する。
【００８９】
アンダーフィル材４は、発光部１０１から発せられる光（伝送光）を実質的に透過する材料で構成されており、好ましくは、透明な材料で構成されている。
【００９０】
アンダーフィル材４の構成材料としては、絶縁性を有する樹脂材料が好ましく、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００９１】
また、封止材６の構成材料としては、絶縁性を有する樹脂材料が好ましく、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノルボルネン樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。
【００９２】
図１に示すように、光導波路９には、その厚さ方向に貫通する４つの貫通孔（スルーホール）８が形成されている。各貫通孔８には、導電材料（例えば、銅、銅系合金、アルミニウム、アルミニウム系合金等の各種金属材料）が充填され、導体ポスト８１を形成している。これらの導体ポスト８１を介して、導体層５１と導体層５２の所定部位同士が導通している。すなわち、発光素子１０および電気素子１２の端子１０３、１０５、1２３、１２５への通電は、光導波路９の下面側の導体層５１を介して行うことができるようになっている。なお、端子１０５と端子１２３とは導通し、これらはグランド側に接続されている。
【００９３】
光導波路９のコア部９４は、平面視で（図１の上方から見たとき）発光素子１０の発光部１０１と重なるような（すなわち、発光部１０１の真下を通過するような）パターン形状で形成されている。このコア部９４は、クラッド部９５に比べて屈折率が高く、また、クラッド層９１、９２に対しても屈折率が高い。クラッド層９１および９２は、それぞれ、コア部９４の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、コア部９４は、その外周の全周をクラッド部に囲まれた導光路として機能する。
【００９４】
このような光導波路９は、コア部９４の光路を屈曲させる光路変換部９６を有している。この光路変換部９６は、伝送光の少なくとも一部を反射する反射面（ミラー）９６１で構成されている。この反射面９６１は、発光部１０１の真下の位置に設けられている。
【００９５】
反射面９６１は、光導波路９の光路、すなわちコア部９４の長手方向に対しほぼ４５°傾斜しており、伝送光の大半（例えば９０％以上）を反射する機能を有している。
【００９６】
このような光路変換部９６は、光導波路９の一部を除去（欠損）することにより、例えば断面が下方を底辺とする三角形の凹部（空孔）を形成し、その１つの傾斜面を反射面９６１として用いるものである。反射面９６１は、例えば多層光学薄膜や金属薄膜（例えばアルミ蒸着膜）のような反射膜あるいは反射増加膜を有していてもよい。また、図示しないが、光路変換部９６の凹部には、充填材、特にコア部９４と屈折率の異なる充填材が充填されていてもよい。
【００９７】
図示の構成では、反射面９６１（光路変換部９６）は、コア層９３とクラッド層９２とにまたがって形成されているが、コア層９３内のみに形成されていてもよい。
【００９８】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図１中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４およびクラッド層９２を順次透過し、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図１中左方向）に沿って進む。
【００９９】
また、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して電気素子１２の端子１２３、１２５間へ通電がなされると、電気素子１２が駆動する。
【０１００】
なお、図１では、図中最も左側にある導体ポスト８１とコア部９４とが交差しているように示されているが、これらは図１の紙面の前後方向にずれており、コア部９４の光路は、導体ポスト８１と干渉しないようになっている。
【０１０１】
＜第２実施形態：図２＞
図２には、本発明の光導波路構造体１の第２実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１０２】
本実施形態の光導波路構造体１は、光路変換部９６の構成が前記と異なり、それ以外は同様である。すなわち、光路変換部９６を構成する反射面（ミラー）９６１は、発光部１０１の真下に位置しているが、この反射面９６１は、クラッド層９１とコア層９３とクラッド層９２の３層にまたがって形成されている。すなわち、光路変換部９６の三角形の凹部は、光導波路９の下面に開放している。
【０１０３】
なお、反射面９６１が、多層光学薄膜や金属薄膜のような反射膜あるいは反射増加膜を有していてもよいことや、光路変換部９６の凹部に、充填材が充填されていてもよいことは、前記と同様である。
【０１０４】
＜第３実施形態：図３＞
図３には、本発明の光導波路構造体１の第３実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１０５】
本実施形態の光導波路構造体１は、基板２を有し、この基板２の下面に接着層３を介して光導波路９が接着されている。基板２は、アンダーフィル材４と同様に、発光部１０１から発せられる光（伝送光）を実質的に透過する材料（伝送光に対する透光性を有する材料）で構成されており、好ましくは、実質的に透明な材料で構成された透明基板である。
【０１０６】
詳述すると、基板２の光学的特性は、伝送光の透過率が８０％以上であるのが好ましく、９０％以上であるのがより好ましく、９５％以上であるのがさらに好ましい。基板２がこのような光学的特性を有することから、基板２における発光部１０１の真下の部位は、伝送光を透光する透光部２１を構成している。
【０１０７】
接着層３についても同様に、発光部１０１から発せられる伝送光を実質的に透過する材料で構成されており、好ましくは、透明な材料で構成されている。
【０１０８】
基板２の構成材料としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂、トリアゾール樹脂、ポリシアヌレート樹脂、ポリイソシアヌレート樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンザオキサゾール樹脂、ノルボルネン樹脂等が挙げられる。また、これらの材料は、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。
【０１０９】
また、基板２は、例えばガラス繊維、樹脂繊維等の繊維基材（織布、不織布、織物、編物等）に前述したような樹脂材料を含浸させたもの（プリプレグ等）であってもよい。例えば、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたものをガラスエポキシ基板と言うが、このようなものを基板２として用いることができる。このような繊維基材を含む基板２は、比較的薄くても高強度で、また、熱膨張率も低いため、基板２に光導波路９や導体層（金属層）を接合した場合に特に有利である。
【０１１０】
また、基板２は、複数の層の積層体であってもよい。例えば、それぞれ組成（種類）が異なる樹脂材料からなる第１の層と第２の層とを積層したもの、前記繊維基材に樹脂材料を含浸させた層（シート材）と、樹脂材料からなる層とを積層したものが挙げられる。なお、積層体における層構成は、これに限定されないことは言うまでもない。
【０１１１】
基板２の厚さは、特に限定されないが、通常、５０μｍ〜１．２ｍｍ程度が好ましく、１００〜６００μｍ程度がより好ましい。
【０１１２】
基板２は、硬質（リジッド）のものでも、可撓性（フレキシブル）を有するものでもよい。また、硬質の基板と可撓性を有する基板の双方を有していてもよい。この場合、光導波路９は、硬質の基板と可撓性を有する基板の少なくとも一方に形成されていればよく、双方にまたがって形成されていてもよい。
【０１１３】
接着層３としては、シート材（ボンディングシート）を用いることができ、その構成材料としては、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、シアネート樹脂系接着剤、マレイミド樹脂系接着剤等が挙げられる。特に、酸化防止等のために、フラックス活性を有する材料で構成されているのが好ましい。
【０１１４】
接着層３としてシート材を用いず、基板２の下面または光導波路９の上面に塗膜による接着層３を形成してもよい。また、接着層３は、２層以上を積層したものでもよい。
【０１１５】
接着層３の厚さは、特に限定されないが、０．５〜１５０μｍ程度が好ましく、１０〜７０μｍ程度がより好ましい。
【０１１６】
導体層５２は、基板２の上面に形成されている。この場合、導体層５２の一部は、封止材６より外方に露出している。また、光導波路９の下面に形成された導体層５１は、前記第１実施形態のそれとは配線パターンが異なっている。
【０１１７】
図３に示すように、２つの導体ポスト８１が光導波路９、接着層３および基板２を貫通して設けられており、これらの導体ポスト８１を介して、導体層５１と導体層５２の所定部位同士が導通している。すなわち、発光素子１０の端子１０５と、電気素子１２の端子１２３とが、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して導通し、これらはグランド側に接続されている。
【０１１８】
封止材６より外方に露出した一方の導体層５２と導体層５１との間に通電すると、発光部１０１が発光し、封止材６より外方に露出した他方の導体層５２と導体層５１との間に通電すると、電気素子１２が駆動する。
【０１１９】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が点灯し、図３中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４、基板２（基板２の透光部）、接着層３およびクラッド層９２を順次透過し、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図３中左方向）に沿って進む。
【０１２０】
＜第４実施形態：図４＞
図４には、本発明の光導波路構造体１の第４実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１および第３実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１２１】
本実施形態の光導波路構造体１は、接着層３を有さず、基板２と光導波路９とが直接接合されている点、および光路変換部９６の構成が異なる点を除き、前記第３実施形態と同様である。基板２と光導波路９とが直接接合されているため、光導波路構造体１の薄型化に寄与する。
【０１２２】
光路変換部９６を構成する反射面（ミラー）９６１は、発光部１０１の真下に位置しているが、この反射面９６１は、クラッド層９１とコア層９３とクラッド層９２の３層にまたがって形成されている。すなわち、光路変換部９６は、上方を底辺とする三角形の凹部で構成され、その斜面に反射面９６１が形成されている。このような光路変換部９６は、基板２に隣接して設けられている。
【０１２３】
なお、反射面９６１が、多層光学薄膜や金属薄膜のような反射膜あるいは反射増加膜を有していてもよいことや、光路変換部９６の凹部に、充填材が充填されていてもよいことは、前記と同様である。
【０１２４】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図４中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４および基板２を順次透過し、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図４中左方向）に沿って進む。
【０１２５】
＜第５実施形態：図５＞
図５には、本発明の光導波路構造体１の第５実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１および第３実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１２６】
本実施形態の光導波路構造体１は、基板２の構成が異なり、それ以外は前記第３実施形態と同様である。すなわち、基板２は、伝送光の透過性を十分に有さないものであり、基板２における発光部１０１の真下の位置には、基板２を貫通する貫通孔２２が形成されている。この貫通孔２２は、伝送光を透光する透光部２１を構成するものである。すなわち、この貫通孔２２が、伝送光を基板２の厚さ方向に導光（伝送）する導光路となる。
【０１２７】
なお、図示されていないが、貫通孔２２の内部（全部または一部）に、伝送光の透過率が８０％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上の材料による充填材が充填されていてもよい。また、図示されていないが、貫通孔２２の内面等に導電材料による層を形成することによって、光伝送機能の他に、電気信号を伝送する機能を持たせてもよい。
【０１２８】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図５中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過し、貫通孔２２内を通り、接着層３およびクラッド層９２を透過し、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図５中左方向）に沿って進む。
【０１２９】
＜第６実施形態：図６＞
図６には、本発明の光導波路構造体１の第６実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１、第４および第５実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１３０】
本実施形態の光導波路構造体１は、前記第４実施形態の光導波路構造体１において、基板２を、前記第５実施形態の基板２に置き換えたものである。すなわち、本実施形態の光導波路構造体１における基板２は、伝送光の透過性を十分に有さないものであり、発光部１０１の真下の位置に、基板２を貫通する貫通孔（基板２の厚さ方向の導光路）２２が形成されている。この貫通孔２２は、透光部２１を構成するものである。
【０１３１】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が点灯し、図６中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過し、貫通孔２２内を通り、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図６中左方向）に沿って進む。
【０１３２】
＜第７実施形態：図７＞
図７には、本発明の光導波路構造体１の第７実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１および第５実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１３３】
本実施形態の光導波路構造体１は、基板２の透光部（厚さ方向に形成された導光路）２１の構成が前記第５実施形態と異なり、その他は第５実施形態と同様である。すなわち、基板２の発光部１０１の真下の位置に形成された貫通孔２２内には、コア部２４と、該コア部２４の外周を囲むクラッド部２５とで構成された垂直光導波路２３が挿入されている。
【０１３４】
コア部２４の構成材料や形成方法は、コア部９４と同様とすることができる。あるいは、コア部２４は、前記第５実施形態において述べた貫通孔２２内への充填材と同様のものを用いてもよい。クラッド部２５の構成材料は、クラッド部９５またはクラッド層９１、９２と同様とすることができる。
【０１３５】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図７中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過し、垂直光導波路２３のコア部２４内を通り、接着層３およびクラッド層９２を透過し、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図７中左方向）に沿って進む。
【０１３６】
＜第８実施形態：図８＞
図８には、本発明の光導波路構造体１の第８実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１および第６実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１３７】
本実施形態の光導波路構造体１は、前記第６実施形態の光導波路構造体１において、基板２の厚さ方向に形成された導光路の構成を第７実施形態のそれと同様としたものである。すなわち、基板２の発光部１０１の真下の位置に形成された貫通孔２２内には、コア部２４と、該コア部２４の外周を囲むクラッド部２５とで構成された垂直光導波路２３が挿入されている。
【０１３８】
本実施形態の光導波路構造体１では、導体層５１、導体ポスト８１および導体層５２を介して発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図８中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過し、垂直光導波路２３のコア部２４内を通り、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、クラッド部（クラッド層９１、９２および側方のクラッド部９５）との界面で反射を繰り返しながら、コア部９４内をその長手方向（図８中左方向）に沿って進む。
【０１３９】
＜第９実施形態：図９＞
図９には、本発明の光導波路構造体１の第９実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１および第８実施形態と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１４０】
本実施形態の光導波路構造体１は、透光部２１に、伝送光を集光または拡散し得るレンズ部２６を設けた以外は、前記第８実施形態と同様のものである。すなわち、垂直光導波路２３の上端面（入射側）に凸レンズ（正確には、平凸レンズ）で構成されるレンズ部２６が設けられている。
【０１４１】
これにより、発光部１０１から図９中下方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過した後、レンズ部２６で集光されてその光束（ビーム）が絞られ、この光束が垂直光導波路２３のコア部２４内を通り、反射面９６１で反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図９中左方向）に沿って進む。このようなレンズ部２６を設けることにより、より明確な（シャープな）伝送光を得ることができ、より優れた光伝送特性を得ることができる。
【０１４２】
なお、レンズ部２６は、伝送光を拡散し得るものでもよい。この場合には、凹レンズを用いればよい。
【０１４３】
また、レンズ部２６の設置位置は、図９に示す位置に限らず、例えば透光部２１の途中や下部であってもよく、あるいは、その他の箇所、例えばコア部９４の入射側端部や出射側端部であってもよい。
【０１４４】
＜第１０実施形態：図１０＞
図１０には、本発明の光導波路構造体１の第１０実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１、第２実施形態等と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１４５】
クラッド層９１、９２とそれらの間に位置する（介挿された）コア層９３とで構成された光導波路９の下面および上面には、それぞれ、所定のパターン形状の導体層５１および５２が接合されており、導体層５１および導体層５２の所定の部位同士は、光導波路９を貫通して形成された２つの導体ポスト８１によりそれぞれ電気的に接続されている。
【０１４６】
また、光導波路９には、２つの光路変換部９６ａ、９６ｂが形成されている。これらの光路変換部９６ａ、９６ｂは、それぞれ、前記と同様の反射面９６１ａ、９６１ｂを有している。光導波路９において、コア層９３の反射面９６１ａより図１０中左側および反射面９６１ｂより図１０中右側の部位は、コア部９４が形成され、コア層９３のそれ以外の部分は、クラッド部９５が形成されている。
【０１４７】
このような光導波路９の上部には、チップキャリア（素子）１３が搭載されている。チップキャリア１３は、基板２’と、光導波路９とは別の光導波路９’と、発光素子１０と、受光素子１１と、導体層５４、５５と、電気素子１２とを備えている。以下、チップキャリア１３の構成について詳述する。
【０１４８】
基板２’の下面には、クラッド層９１、９２とそれらの間に位置する（介挿された）コア層９３とで構成された光導波路９’が接合されており、光導波路９’の下面および基板２’の上面には、それぞれ、所定のパターン形状の導体層５４および５５が接合されている。導体層５４、５５の構成材料、形成方法、パターニング方法等については、前記導体層５１、５２と同様である。
【０１４９】
基板２’は、実質的に透明のものでも、不透明のものでもよく、また、硬質（リジッド）のものでも、可撓性（フレキシブル）を有するものでもよい。
【０１５０】
導体層５４および導体層５５の所定の部位同士は、基板２’および光導波路９’を貫通して形成された４つの導体ポスト８２によりそれぞれ電気的に接続されている。
【０１５１】
また、光導波路９’には、４つの光路変換部９６ｃ、９６ｄ、９６ｅ、９６ｆが形成されている。これらの光路変換部９６ｃ、９６ｄ、９６ｅ、９６ｆは、それぞれ、前記と同様の反射面９６１ｃ、９６１ｄ、９６１ｅ、９６１ｆを有している。
【０１５２】
光導波路９’において、コア層９３の反射面９６１ｃと反射面９６１ｄとの間の部位、および反射面９６１ｅと反射面９６１ｆとの間の部位は、コア部９４が形成され、コア層９３のそれ以外の部分は、クラッド部９５が形成されている。
【０１５３】
基板２’の上部には、４つの端子１２３、１２５、１２７、１２９を備える電気素子（半導体素子）１２が搭載されている。電気素子１２は、それらの端子１２３、１２５、１２７、１２９がそれぞれ導体層５５の所定部位に接合（電気的に接続）されるようにして基板２’上に搭載されている。
【０１５４】
電気素子１２の機能は特に限定されないが、一例として、発光素子１０を駆動するための回路を構成するものが挙げられる。また、電気素子１２は、さらに、受光素子１１が出力した電気信号を処理（例えば信号の増幅）する機能（回路）を備えていてもよい。
【０１５５】
このような電気素子１２は、その全体（外表面）が前記封止材６と同様の封止材６１により覆われ、封止されている。
【０１５６】
光導波路９’の下部には、発光素子１０および受光素子１１が搭載されている。発光素子１０は、前記と同様のものである。受光素子１１は、図１０中上面側に、受光部１１１と、一対の端子１１３、１１５とを有している。受光部１１１は、端子１１３と端子１１５の間に位置している。受光部１１１が受光する（伝送光が照射される）と、その光が光電変換され、端子１１３、１１５間に電位差が生じ、電気信号が出力される。
【０１５７】
発光素子１０は、それらの端子１０３、１０５がそれぞれ導体層５４の所定部位に接合（電気的に接続）されるようにして光導波路９’の下部に搭載されている。受光素子１１は、それらの端子１１３、１１５がそれぞれ導体層５４の所定部位に接合（電気的に接続）されるようにして光導波路９’の下部に搭載されている。
【０１５８】
発光素子１０および受光素子１１は、それらの端子１０３、１０５、1１３、１１５を含む上部がアンダーフィル材４により封止されており、さらに、発光素子１０および受光素子１１の全体（外表面）が封止材６により覆われ、封止されている。
【０１５９】
光導波路９’のコア部９４は、平面視で（図１０の上方から見たとき）発光素子１０の発光部１０１と重なるとともに受光素子１１の受光部１１１と重なるような（すなわち、発光部１０１の真上および受光部１１１の真上を通過するような）パターン形状で形成されている。
【０１６０】
また、反射面９６１ｄは、発光部１０１の真上の位置に設けられ、反射面９６１ｅは、受光部１１１の真上の位置に設けられ、反射面９６１ｃは、反射面９６１ａの真上の位置に設けられ、反射面９６１ｆは、反射面９６１ｂの真上の位置に設けられている。
【０１６１】
このようなチップキャリア１３は、導体層５２と導体層５４の所定部位同士が半田（半田ボール）７により電気的に接続されるようにして光導波路９上に搭載されている。この場合、光導波路９、９’間は、前記アンダーフィル材４と同様のアンダーフィル材４１により封止されている。
【０１６２】
導体層５２の一部は、アンダーフィル材４１により封止され、導体層５２の一部は、アンダーフィル材４１で封止されずに外部に露出している。
【０１６３】
本実施形態の光導波路構造体１では、発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図１０中上方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過し、反射面９６１ｄで反射されて９０°屈曲し、光導波路９’のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図１０中左方向）に沿って進む。さらに、コア部９４の端部から出射した伝送光は、反射面９６１ｃで反射されて９０°屈曲し、下方へ向かい、アンダーフィル材４１およびクラッド層９２を透過し、反射面９６１ａで反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図１０中左方向）に沿って進む。
【０１６４】
一方、光導波路９の図１０中右側からコア部９４に入った光は、コア部９４内をその長手方向（図１０中左方向）に沿って進み、反射面９６１ｂで反射されて９０°屈曲し、上方へ向かい、クラッド層９２およびアンダーフィル材４１を透過し、反射面９６１ｆで反射されて９０°屈曲し、光導波路９’のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図１０中左方向）に沿って進む。さらに、コア部９４の端部から出射した伝送光は、反射面９６１ｅで反射されて９０°屈曲し、下方へ向かい、アンダーフィル材４を透過して受光部１１１で受光される。これにより、端子１１３、１１５間に電位差が生じ、電気信号が出力される。
【０１６５】
＜第１１実施形態：図１１＞
図１１には、本発明の光導波路構造体１の第１１実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１、第６および第１０実施形態等と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１６６】
基板２の下面には、クラッド層９１、９２とそれらの間に位置する（介挿された）コア層９３とで構成された光導波路９が接合されており、基板２の上面には、所定のパターン形状の導体層５２が接合されている。
【０１６７】
また、光導波路９には、２つの光路変換部９６ａ、９６ｂが形成されている。光路変換部９６ａおよび９６ｂは、前記第４、第８、第９実施形態における光路変換部９６と同様の構成であり、それぞれ、前記と同様の反射面９６１ａ、９６１ｂを有している。
【０１６８】
光導波路９において、コア層９３の反射面９６１ａより図１１中左側および反射面９６１ｂより図１１中右側の部位は、コア部９４が形成され、コア層９３のそれ以外の部分は、クラッド部９５が形成されている。
【０１６９】
基板２は、伝送光の透過性（透光性）を十分に有さないものであり、基板２における反射面９６１ａ、９６１ｂの真上の位置（反射面９６１ｃ、９６１ｆの真下の位置）には、それぞれ、基板２を貫通する貫通孔２２が形成されている。これらの貫通孔２２は、伝送光を透光する透光部２１を構成するものである。すなわち、これらの貫通孔２２が、伝送光を基板２の厚さ方向に導光（伝送）する導光路となる。
【０１７０】
また、両貫通孔２２（透光部２１）の上部には、それぞれ、前記第９実施形態と同様のレンズ部２６が設けられている。例えば、貫通孔２２内に比較的屈折率の低い透明な第１の樹脂材料を充填し、その上面を湾曲凹面に形成し、該凹面内に前記第１の樹脂材料より高屈折率の透明な第２の樹脂材料を充填することにより、前記第２の樹脂材料の部分が凸レンズ（平凸レンズ、両凸レンズ等）として機能するレンズ部２６を形成することができる。また、これに限らず、貫通孔２２内に凸レンズ（平凸レンズ、両凸レンズ等）のみを設置してもよい。
【０１７１】
また、貫通孔２２（透光部２１）に対するレンズ部２６の設置位置は、図示のような上部に限らず、貫通孔２２の途中や下部であってもよい。
【０１７２】
なお、図示されていないが、貫通孔２２の内部（全部または一部）に、伝送光の透過率が８０％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上の材料による充填材が充填されていてもよい。また、前記第７、第８実施形態と同様に、貫通孔２２の内部に垂直光導波路２３が形成されていてもよい。
【０１７３】
このような基板２付きの光導波路９の上部には、前記第１０実施形態と同様のチップキャリア（素子）１３が搭載されている。
【０１７４】
本実施形態の光導波路構造体１では、発光素子１０の端子１０３、１０５間へ通電がなされると、発光部１０１が発光し、図１１中上方へ向かって発せられた光は、アンダーフィル材４を透過し、反射面９６１ｄで反射されて９０°屈曲し、光導波路９’のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図１１中左方向）に沿って進む。さらに、コア部９４の端部から出射した伝送光は、反射面９６１ｃで反射されて９０°屈曲し、下方へ向かい、アンダーフィル材４１を透過した後、レンズ部２６で集光されてその光束（ビーム）が絞られ、この光束が貫通孔２２内を通り、反射面９６１ａで反射されて９０°屈曲し、光導波路９のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図１１中左方向）に沿って進む。
【０１７５】
一方、光導波路９の図１１中右側からコア部９４に入った光は、コア部９４内をその長手方向（図１１中左方向）に沿って進み、反射面９６１ｂで反射されて９０°屈曲し、貫通孔２２内を上方へ向かい、レンズ部２６で集光されてその光束（ビーム）が絞られ、この光束がアンダーフィル材４１を透過し、反射面９６１ｆで反射されて９０°屈曲し、光導波路９’のコア部９４に入り、コア部９４内をその長手方向（図１１左方向）に沿って進む。さらに、コア部９４の端部から出射した伝送光（集光された光束）は、反射面９６１ｅで反射されて９０°屈曲し、下方へ向かい、アンダーフィル材４を透過して受光部１１１で受光される。これにより、端子１１３、１１５間に電位差が生じ、電気信号が出力される。
【０１７６】
＜第１２実施形態：図１２＞
図１２には、本発明の光導波路構造体１の第１２実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１実施形態等と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１７７】
図１２は、光導波路構造体１の平面図である。図１２に示す光路変換部を有する光導波路９（光導波路構造体１）は、そのコア部９４の途中に、コア部９４を直角方向に分岐する分岐部９４１を有している。分岐部９４１からは、コア部９４２が図１２の下方に向かって形成されている。
【０１７８】
また、分岐部９４１には、光導波路９を厚さ方向に貫通する貫通孔９４３が形成されている。貫通孔９４３は、平面視で三角形の形状をなしており、そのうちの１辺は、コア部９４の軸線およびコア部９４２の軸線の双方に対してそれぞれ４５°をなす角度（傾斜角）で形成されており、コア部９４の光路を屈曲させる光路変換部として機能する。すなわち、この１辺は、コア部９４を通過する伝送光の一部を反射する反射面９４４である。一方、残る２辺のうちの１辺は、コア部９４の軸線に平行になっており、残る１辺は、コア部９４２の軸線に平行になっている。
【０１７９】
反射面９４４では、コア部９４を図１２の右方から左方へと進む伝送光の一部を反射させ、進行方向を下方に変更する。また、反射面９４４により反射されない伝送光は、分岐部９４１をそのまま直進する。このようにして、分岐部９４１では、伝送光を２つに分岐することができる。
【０１８０】
なお、反射面９４４は、例えば多層光学薄膜や金属薄膜（例えばアルミ蒸着膜）のような反射膜あるいは反射増加膜を有していてもよい。また、図示しないが、貫通孔９４３には、充填材、特にコア部９４やコア部９４２と屈折率の異なる充填材が充填されていてもよい。
【０１８１】
ここで、貫通孔９４３内に充填材を充填しない場合には、通常、空気が存在している。反射面９４４は、コア部９４やコア部９４２の屈折率と、空気の屈折率との差に基づいて、コア部９４やコア部９４２の光路を屈曲させるものである。本発明に用いられる感光性樹脂組成物と空気との屈折率差は比較的大きいため、反射面９４４における全反射可能な角度の許容範囲も、比較的大きくなる。したがって、スネルの法則に基づくことで、反射面９４４の傾斜角を、コア部９４またはコア部９４２を伝搬する光を全反射させる角度に設定することが可能になる。その結果、反射面９４４での反射に伴う光の減衰が抑制され、光の伝搬効率の低下を抑制することができる。
【０１８２】
また、分岐部９４１において、下方に分岐される伝送光と、分岐されずに直進する伝送光との比率は、反射面９４４をコア部９４方向に投影した場合の投影像（以下、「反射面９４４の投影像」という。）と、コア部９４の横断面との重なり方に応じて変化する。具体的には、反射面９４４の投影像が、コア部９４の横断面を完全に覆うものでなければ、分岐部９４１における伝送光の分岐が可能になる。すなわち、コア部９４の横断面積よりも、反射面９４４の投影像とコア部９４の横断面との重複面積が小さければ、分岐部９４１において分岐されずに直進する伝送光が生じるため、分岐部９４１における分岐が可能になる。そして、コア部９４の横断面積に対する、反射面９４４の投影像とコア部９４の横断面との重複面積の割合が、分岐される伝送光の割合となる。このようにして、貫通孔９４３の面積や形成位置を単に設定することのみで、分岐部９４１における分岐率を設定することができるので、分岐部９４１の形成が容易になる。
【０１８３】
図１３、１４は、それぞれ、第１２実施形態の他の構成例を示す平面図である。
図１３に示す反射面９４４は、その投影像が、コア部９４の横断面を完全に覆うよう構成されており、かつ、コア部９４の横断面積は、反射面９４４の投影像とコア部９４の横断面との重複面積と同じである。したがって、図１３に示す分岐部９４１では、コア部９４を通過する全ての伝送光が反射面９４４で反射されることとなる。
【０１８４】
また、図１３に示すコア部９４は、分岐部９４１において、幅が拡大された拡幅部９４５を有している。拡幅部９４５では、コア部９４の外郭が貫通孔９４３と干渉しないように膨らんでいる。具体的には、拡幅部９４５にコア部９４の外郭の延伸線（外郭部延伸線）Ｓを仮想したとき、反射面９４４の斜面方向における両端部は、延伸線Ｓより外側に位置している。このようになっていると、コア部９４を通過する伝送光について、反射面９４４による伝送光の反射効率がより確実に向上する。
【０１８５】
さらに、この場合、反射面９４４のうち、面精度の低い斜面方向の両端部付近は伝送光の反射に寄与せず、面精度の高い中央付近が伝送光を反射させる。このため、反射角度の精度も高くなり、意図しない反射が抑制されることとなる。その結果、意図しない角度で反射した伝送光の一部がクラッド部９５へ漏れ出てしまうのを大幅に低減する。なお、反射面９４４のうち、斜面方向の両端部付近は、貫通孔９４３を形成する際に、加工精度が低下することが避けられず、表面粗さが高くなったり、反射面９４４の傾斜角が目的とする角度からずれてしまうおそれがあるので、上記拡幅部９４５を設けることは、伝送効率の低下を防止するという観点から有効である。
【０１８６】
一方、図１４に示すコア部９４も、図１３に示す拡幅部９４５と同様のもの有している。図１４に示す反射面９４４は、その投影像が、コア部９４の横断面の一部を覆うよう構成されている。コア部９４を通過する伝送光は、その一部が、反射面９４４の投影像とコア部９４の横断面との重複部分において反射され、残る伝送光は、反射されずにそのまま直進する。よって、図１４に示す分岐部９４１では、コア部９４を通過する伝送光を２つに分岐することができる。
【０１８７】
また、図１４に示す拡幅部９４５にコア部９４の外郭の延伸線Ｓを仮想したとき、反射面９４４の斜面方向における両端部のうち、一方が延伸線Ｓより外側に位置している。この場合、前述した図１３の場合と同様、反射面９４４のうち、面精度の低い斜面方向の一方の両端部付近は伝送光の反射に寄与せず、主に面精度の高い中央付近が伝送光を反射させる。このため、反射角度の精度も高くなり、意図しない反射が抑制されることとなる。その結果、反射光の一部がクラッド部９５へ漏れ出てしまうのを大幅に低減する。
【０１８８】
以上の第１２実施形態では、いずれも、１つの反射面９４４で伝送光を反射する場合について説明したが、２つ以上の反射面９４４で伝送光を反射させるようにしてもよい。
【０１８９】
＜第１３実施形態：図１５＞
図１５には、本発明の光導波路構造体１の第１３実施形態が示されている。以下、この光導波路構造体１について説明するが、前記第１実施形態等と同様の事項についてはその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１９０】
図１５は、光導波路構造体１の斜視図である。図１５に示す光路変換部を有する光導波路９（光導波路構造体１）では、コア部９４がその端部において途切れており、この途切れ部分９４６は、コア部９４の側方に位置するクラッド部９５と一体化している。そして、コア層９３の途切れ部分９４６の一部と、その両面側に位置する各クラッド層９１、９２の一部とを除去することにより、クラッド層９１側を底辺とする三角形の凹部を形成する。この凹部の幅は、コア部９４の幅以上とされる。また、凹部の斜辺に相当する２面のうちの一方は、反射面９６１となる。
【０１９１】
このような反射面９６１は、クラッド層９１の露出面、途切れ部分９４６の露出面、およびクラッド層９２の露出面で構成される。これらの露出面は、いずれもクラッド材料を加工して形成されたものであるため、反射面９６１の形成に際して加工時の加工レートに差が付き難い。このため、加工ムラが生じ難く、平滑性の高い反射面９６１を形成することができる。反射面９６１の平滑性が高くなると、反射面９６１の面精度および光学特性が向上するため、反射面９６１は、光路変換時の伝送効率の低下を防止し得るものとなる。
【０１９２】
これに対して、反射面９６１にコア部９４の露出面が含まれていると、コア材料とクラッド材料との間で加工レートに差が付き易いため、加工ムラが生じ、反射面９６１の面精度および光学特性が低下するおそれがある。
【０１９３】
なお、凹部の斜辺に相当する２面のうち、反射面９６１以外のもう１面についても、反射面としての機能を有していてもよい。
【０１９４】
以上、第１〜第１３実施形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない限り、他の構成のものでもよい。また、本発明は、第１〜第１３実施形態のうちの任意の２以上の実施形態が備える構成を組み合わせたものでもよい。
【０１９５】
上述したような本発明の光導波路構造体は、光伝送効率および耐久性に優れたものとなる。このため、本発明の光導波路構造体を備えることにより、２点間で高品質の光通信を行うことができ、信頼性の高い電子機器（本発明の電子機器）が得られる。
【０１９６】
なお、本発明の光導波路構造体を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、ＷＤＭ装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路構造体を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消されるため、その性能の飛躍的な向上が期待できる。
【０１９７】
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、基板内の集積度を高めて小型化が図られるとともに、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。
【０１９８】
＜光導波路の製造方法＞
次に、前記各実施形態における、光導波路９、９’の製造方法および各部の構成材料等について説明するが、特にコア部９４の形成方法について詳細に説明する。
【０１９９】
まず、コア部９４の形成方法の説明に先立って、コア部９４の形成に用いられる感光性樹脂組成物について説明する。
【０２００】
（感光性樹脂組成物）
本実施形態に用いられる感光性樹脂組成物は、
（Ａ）環状オレフィン樹脂と、
（Ｂ）（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうち少なくともいずれか一方と、
（Ｃ）光酸発生剤と、
を備える。
【０２０１】
なかでも、光の伝搬損失の発生を確実に抑制するという観点から、
側鎖に（Ｃ）光酸発生剤から発生する酸により脱離する脱離性基を有する環状オレフィン樹脂（Ａ）と、
下記式（１００）のモノマーとを含むことが好ましい。
【０２０２】
【化４】
2011221142.tif 000006
【０２０３】
このような感光性樹脂組成物は、フィルム状に成形されて光導波路形成用フィルムとされ、さらに、屈折率が異なる領域を含むフィルム、例えば、光導波路フィルムとして使用される。
【０２０４】
すなわち、このような感光性樹脂組成物を使用することで、光の伝搬損失の発生が抑制された光導波路フィルム等を提供することができる。なかでも、湾曲した光導波路を形成した場合において、光の伝搬損失の発生を顕著に抑制することができる。
【０２０５】
さらに、このような光導波路フィルムを使用した光配線、前記光配線と、電気回路とを備える光電気混載基板を提供することができる。このような光配線および光電気混載基板によれば、従来の電気配線で問題となっていたＥＭＩ（電磁波障害）の改善が可能となり、従来よりも信号伝達速度を大幅に向上することができる。
【０２０６】
また、光導波路フィルムを使用した電子機器も提供できる。光導波路フィルムを用いることにより、省スペース化が図られるため、電子機器の小型化に寄与する。
【０２０７】
このような電子機器としては、具体的には、コンピューター、サーバー、携帯電話、ゲーム機器、メモリーテスター、外観検査ロボット等を挙げることができる。
【０２０８】
以下、感光性樹脂組成物の成分について順次詳述する。
（（Ａ）環状オレフィン樹脂）
成分（Ａ）の環状オレフィン樹脂は、感光性樹脂組成物のフィルム成形性を確保するために添加されるものであり、ベースポリマーとなるものである。
【０２０９】
ここで、環状オレフィン樹脂は、無置換のものであってもよいし、水素が他の基により置換されたものであってもよい。
【０２１０】
環状オレフィン樹脂としては、例えばノルボルネン系樹脂、ベンゾシクロブテン系樹脂等が挙げられる。
【０２１１】
なかでも、耐熱性、透明性等の観点からノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
【０２１２】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、
（１）ノルボルネン型モノマーを付加（共）重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加（共）重合体、
（２）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との付加共重合体、
（３）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体のような付加重合体、
（４）ノルボルネン型モノマーの開環（共）重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、
（５）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、
（６）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加したポリマーのような開環重合体が挙げられる。これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。
【０２１３】
これらのノルボルネン系樹脂は、例えば、開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）、ＲＯＭＰと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤（例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤）を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。
【０２１４】
これらの中でも、ノルボルネン系樹脂としては、付加（共）重合体が好ましい。付加（共）重合体は、透明性、耐熱性および可撓性に富むことからも好ましい。たとえば、感光性樹脂組成物によりフィルムを形成した後、電気部品等を、半田を介して実装することがある。このような場合において、高い耐熱性、すなわち、耐リフロー性を有することが必要となるため、付加（共）重合体が好ましい。また、感光性樹脂組成物によりフィルムを形成し、製品に組み込んだ際に、たとえば、８０℃程度の環境下にて使用される場合がある。このような場合においても、耐熱性を確保するという観点から、付加（共）重合体が好ましい。
【０２１５】
なかでも、ノルボルネン系樹脂は、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。
【０２１６】
重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位がのうちの少なくとも１種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。
【０２１７】
また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、２種以上含むものを用いれば、可撓性と耐熱性の両立を図ることができる。
【０２１８】
一方、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、アリール基に由来する極めて高い疎水性によって、吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。
【０２１９】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【０２２０】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高くなるため、高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【０２２１】
また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、特定の波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることからも好ましい。
【０２２２】
このようなことから、ノルボルネン系樹脂としては、以下の式（１）〜（４）、（８）〜（１０）で表されるものが好適である。
【０２２３】
【化５】
2011221142.tif 000007
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ａは、０〜３の整数を表し、ｂは、１〜３の整数を表し、ｐ１／ｑ１が２０以下である。）
【０２２４】
式（１）のノルボルネン系樹脂は、以下のようにして製造することができる。
Ｒ１を有するノルボルネンと、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物（Ａ）を触媒として用いて溶液重合させることで（１）を得る。
【０２２５】
【化６】
2011221142.tif 000008
【０２２６】
なお、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンの製造方法は、たとえば、（i）（ii）の通りである。
【０２２７】
（i）ノルボルネンメタノール（ＮＢ−ＣＨ２−ＯＨ）の合成
ＤＣＰＤ（ジシクロペンタジエン）のクラッキングにより生成したＣＰＤ（シクロペンタジエン）とαオレフィン（CH2=CH-CH2-OH）を高温高圧下で反応させる。
【０２２８】
【化７】
2011221142.tif 000009
【０２２９】
（ii）エポキシノルボルネンの合成
ノルボルネンメタノールとエピクロルヒドリンとの反応により生成する。
【０２３０】
【化８】
2011221142.tif 000010
【０２３１】
なお、式（１）において、ｂが２もしくは３の場合には、エピクロルヒドリンのメチレン基がエチレン基、プロピレン基等になったものを使用する。
【０２３２】
式（１）で表されるノルボルネン系樹脂の中でも、可撓性と耐熱性の両立を図ることが可能との観点から、特に、Ｒ１が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ａおよびｂがそれぞれ１である化合物、例えば、ブチルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。
【０２３３】
【化９】
2011221142.tif 000011
（式（２）中、Ｒ２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ３は、水素原子またはメチル基を表し、ｃは、０〜３の整数を表し、ｐ２／ｑ２が２０以下である。）
【０２３４】
式（２）のノルボルネン系樹脂は、Ｒ2を有するノルボルネンと、側鎖にアクリルおよびメタクリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したＮｉ化合物（Ａ）を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【０２３５】
なお、式（２）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、可撓性と耐熱性との両立の観点から、特に、Ｒ２が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ｃが１である化合物、例えば、ブチルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー、デシルノルボルネンとアクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルとのコポリマー等が好ましい。
【０２３６】
【化１０】
2011221142.tif 000012
（式（３）中、Ｒ４は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、各Ｘ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｄは、０〜３の整数を表し、ｐ３／ｑ３が２０以下である。）
【０２３７】
式（３）の樹脂は、Ｒ4を有するノルボルネンと、側鎖にアルコキシシリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したＮｉ化合物（Ａ）を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【０２３８】
なお、式（３）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、特に、Ｒ４が炭素数４〜１０のアルキル基であり、ｄが１または２、Ｘ３がメチル基またはエチル基である化合物、例えば、ブチルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ブチルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ブチルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。
【０２３９】
【化１１】
2011221142.tif 000013
（式中、Ｒ５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、下記式（５）〜（７）で表される置換基を表すが、同時に同一の置換基であることはない。また、ｐ４／ｑ４＋ｒが２０以下である。）
【０２４０】
Ｒ5を有するノルボルネンと、側鎖にＡ1およびＡ2を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物（Ａ）を触媒に用いて溶液重合させることで（４）を得る。
【０２４１】
【化１２】
2011221142.tif 000014
（式（５）中、ｅは、０〜３の整数を表し、ｆは、１〜３の整数を表す。）
【０２４２】
【化１３】
2011221142.tif 000015
（式（６）中、Ｒ６は、水素原子またはメチル基を表し、ｇは、０〜３の整数を表す。）
【０２４３】
【化１４】
2011221142.tif 000016
（式（７）中、Ｘ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｈは、０〜３の整数を表す。）
【０２４４】
なお、式（４）で表されるノルボルネン系ポリマーとしては、例えば、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルと、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー、ブチルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸２−（５−ノルボルネニル）メチルと、メチルグリシジルエーテルノルボルネンとのターポリマー、ブチルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、メチルグリシジルエーテルノルボルネン、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー等が挙げられる。
【０２４５】
【化１５】
2011221142.tif 000017
（式（８）中、Ｒ７は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ８は、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、Ａｒは、アリール基を表し、Ｘ１は、酸素原子またはメチレン基を表し、Ｘ２は、炭素原子またはシリコン原子を表し、ｉは、０〜３の整数を表し、ｊは、１〜３の整数を表し、ｐ５／ｑ５が２０以下である。）
【０２４６】
Ｒ７を有するノルボルネンと、側鎖に-(CH2)-X1-X2(R8)3-j(Ar)jを含むノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物を触媒に用いて溶液重合させることで（８）を得る。
【０２４７】
なお、式（８）で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基であるものが好ましい。
【０２４８】
さらには、可撓性、耐熱性および屈折率制御の観点から特に、Ｒ７が炭素数４〜１０のアルキル基であり、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基、Ｒ８がメチル基、ｉが１、ｊが２である化合物、例えば、ブチルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー等が好ましい。
具体的には、以下のようなノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
【０２４９】
【化１６】
2011221142.tif 000018
（式（９）におけるＲ７、Ｒ８，ｐ５、ｑ５、ｉは、式（８）と同じである。）
【０２５０】
また、可撓性と耐熱性および屈折率制御の観点から、式（８）において、Ｒ７が炭素数４〜１０のアルキル基であり、Ｘ１がメチレン基、Ｘ２が炭素原子、Ａｒがフェニル基、Ｒ８が水素原子、ｉが０、ｊが１である化合物、例えば、ブチルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー等であってもよい。
さらに、ノルボルネン系樹脂として、次のようなものを使用してもよい。
【０２５１】
【化１７】
2011221142.tif 000019
（式（１０）において、Ｒ１０は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ１１は、アリール基を示し、ｋは０以上、４以下である。ｐ６／ｑ６は２０以下である。）
【０２５２】
また、ｐ１／ｑ１〜ｐ３／ｑ３、ｐ５／ｑ５、ｐ６／ｑ６またはｐ４／ｑ４＋ｒは、２０以下であればよいが、１５以下であるのが好ましく、０．１〜１０程度がより好ましい。これにより、複数種のノルボルネンの繰り返し単位を含む効果が如何なく発揮される。
【０２５３】
以上のようなノルボルネン系樹脂は、脱離性基を有するものであることが好ましい。ここで、脱離性基とは、酸の作用により離脱するものである。
【０２５４】
具体的には、分子構造中に、−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものが好ましい。かかる酸離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。
【０２５５】
このうち、離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。
【０２５６】
例えば、式（８）で表されるノルボルネン系ポリマーの中で、Ｘ１が酸素原子、Ｘ２がシリコン原子、Ａｒがフェニル基であるものが脱離性基を有するものとなる。
【０２５７】
また、式（３）においては、アルコキシシリル基のＳｉ−O−Ｘ３の部分で脱離する場合がある。
【０２５８】
例えば、式（９）のノルボルネン系樹脂を使用した場合、光酸発生剤（ＰＡＧと表記）から発生した酸により、以下のように反応が進むと推測される。なお、ここでは、脱離性基の部分のみを示し、また、ｉ＝１の場合で説明している。
【０２５９】
【化１８】
2011221142.tif 000020
【０２６０】
さらに、式（９）の構造に加えて、側鎖にエポキシ基を有するものであってもよい。このようなものを使用することで密着性に優れたフィルムが形成可能という効果がある。
具体例として以下のようなものとなる。
【０２６１】
【化１９】
2011221142.tif 000021
（式（３１）において、ｐ７／ｑ７＋ｒ２は、２０以下である。）
【０２６２】
式（３１）で示される化合物は、たとえば、ヘキシルノルボルネンと、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（側鎖に-CH2-O-Si(CH3)(Ph)2を含むノルボルネン）およびエポキシノルボルネンをトルエンに溶かし、Ｎｉ化合物を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。
【０２６３】
（（Ｂ）環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマー）
次に、（Ｂ）の成分について説明する。
【０２６４】
成分（Ｂ）は、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方である。この成分（Ｂ）は、成分（Ａ）の樹脂と屈折率が異なり、かつ、成分（Ａ）の樹脂と相溶性のあるものであればよい。成分（Ｂ）と、成分（Ａ）の樹脂との屈折率差は、０．０１以上であることが好ましい。
【０２６５】
なお、成分（Ｂ）の屈折率は、成分（Ａ）の樹脂よりも高いものであってもよいが、成分（Ｂ）は、成分（Ａ）の樹脂よりも屈折率が低いことが好ましい。
【０２６６】
成分（Ｂ）の環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。モノマー、オリゴマーの拡散性を考慮すると、このモノマーの分子量（重量平均分子量）、オリゴマーの分子量（重量平均分子量）は、それぞれ１００以上、４００以下であることが好ましい。
【０２６７】
成分（Ｂ）は、たとえば、オキセタニル基あるいは、エポキシ基を有する。このような環状エーテル基は、酸により開環しやすいため、好ましい。
【０２６８】
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーとしては、下記式（１１）〜（２０）の群から選ばれるものが好ましい。これらを使用することで波長８５０ｎｍ近傍での透明性に優れ、可撓性と耐熱性の両立が可能という利点がある。また、これらを単独でも混合して用いても差し支えない。
【０２６９】
【化２０】
2011221142.tif 000022
【０２７０】
【化２１】
2011221142.tif 000023
【０２７１】
【化２２】
2011221142.tif 000024
【０２７２】
【化２３】
2011221142.tif 000025
【０２７３】
【化２４】
2011221142.tif 000026
【０２７４】
【化２５】
2011221142.tif 000027
【０２７５】
【化２６】
2011221142.tif 000028
【０２７６】
【化２７】
2011221142.tif 000029
（式（１８）においてｎは０以上、３以下である。）
【０２７７】
【化２８】
2011221142.tif 000030
【０２７８】
【化２９】
2011221142.tif 000031
【０２７９】
以上のようなモノマーおよびオリゴマーのなかでも、成分（Ａ）の樹脂との屈折率差を確保する観点から式（１３）、（１５）、（１６）、（１７）、（２０）で表される化合物を使用することが好ましい。
【０２８０】
さらには、成分（Ａ）の樹脂との屈折率差がある点、分子量が小さく、モノマーの運動性が高い点、モノマーが容易に揮発しない点を考慮すると、式（２０）、式（１５）で表される化合物を使用することが特に好ましい。
【０２８１】
また、オキセタニル基を有する化合物としては、以下の式（３２）、式（３３）で表される化合物を使用することができる。式（３２）で表される化合物としては、東亞合成製の商品名ＴＥＳＯＸ等、式（３３）で表される化合物としては、東亞合成製の商品名ＯＸ−ＳＱ等を使用することができる。
【０２８２】
【化３０】
2011221142.tif 000032
【０２８３】
【化３１】
2011221142.tif 000033
（式（３３）において、ｎは１または２である）
【０２８４】
また、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、たとえば、以下のようなものがあげられる。このエポキシ基を有するモノマー、オリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。
【０２８５】
エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、以下の式（３４）〜（３９）で表されるものを使用することができる。なかでも、エポキシ環のひずみエネルギーが大きく反応性に優れるという観点から式（３６）〜（３９）で表される脂環式エポキシモノマーを使用することが好ましい。
【０２８６】
なお、式（３４）で表される化合物は、エポキシノルボルネンであり、このような化合物としては、たとえば、プロメラス社製  ＥｐＮＢを使用することができる。式（３５）で表される化合物は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランであり、この化合物としては、たとえば、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製  Ｚ−６０４０を使用することができる。また、式（３６）で表される化合物は、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランであり、この化合物としては、たとえば、東京化成製  Ｅ０３２７を使用することができる。
【０２８７】
さらに、式（３７）で表される化合物は、３、４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３、’４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートであり、この化合物としては、たとえば、ダイセル化学社製  セロキサイド２０２１Ｐを使用することができる。また、式（３８）で表される化合物は、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサンであり、この化合物としては、たとえば、ダイセル化学社製  セロキサイド２０００を使用することができる。
【０２８８】
さらに、式（３９）で表される化合物は、１，２：８，９ジエポキシリモネンであり、この化合物としては、たとえば、（ダイセル化学社製  セロキサイド３０００）を使用することができる。
【０２８９】
【化３２】
2011221142.tif 000034
【０２９０】
【化３３】
2011221142.tif 000035
【０２９１】
【化３４】
2011221142.tif 000036
【０２９２】
【化３５】
2011221142.tif 000037
【０２９３】
【化３６】
2011221142.tif 000038
【０２９４】
【化３７】
2011221142.tif 000039
【０２９５】
さらに、（Ｂ）の成分として、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとが併用されていてもよい。
【０２９６】
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーは重合を開始する開始反応が遅いが、生長反応が速い。これに対し、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーは、重合を開始する開始反応が速いが、生長反応が遅い。そのため、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとを併用することで、光を照射した際に、光照射部分と、未照射部分との屈折率差を確実に生じさせることができる。
【０２９７】
この（Ｂ）成分の添加量は、（Ａ）成分１００重量部に対し、１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましく、２重量部以上、２０重量部以下であることがより好ましい。これにより、コア／クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れるという効果がある。
【０２９８】
（（Ｃ）光酸発生剤）
光酸発生剤としては、光のエネルギーを吸収してブレンステッド酸あるいはルイス酸を生成するものであればよく、例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウム−トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、ｐ−ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、（トリキュミル）ヨードニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタンなどのジアゾメタン類、１−フェニル−１−（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ−１−ベンゾイルメタン、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス（２，４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３．４−メチレンジオキシフェニル）−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン類などの化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤は、単独、または複数を組み合わせて使用することができる。
【０２９９】
光酸発生剤の含有量は、（Ａ）成分１００重量部に対し０．０１重量部以上、０．３重量部以下であることが好ましく、０．０２重量部以上、０．２重量部以下であることがより好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。
【０３００】
感光性樹脂組成物は、以上の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の成分に加えて、増感剤等の添加剤を含有していてもよい。
【０３０１】
増感剤は、光に対する光酸発生剤の感度を増大して、光酸発生剤の活性化（反応または分解）に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、光酸発生剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。
【０３０２】
このような増感剤としては、光酸発生剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＣＡＳ番号第７６２７５−１４−４番）のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類（fluoranthenes）、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−９−オン類（thioxanthen-9-ones）等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。
【０３０３】
増感剤の具体例としては、例えば、２−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、４−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン（phenothiazine）またはこれらの混合物が挙げられる。
【０３０４】
増感剤の含有量は、感光性樹脂組成物中で、０．０１重量％以上であるのが好ましく、０．５重量％以上であるのがより好ましく、１重量％以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、５重量％以下であるのが好ましい。
【０３０５】
以上の感光性樹脂組成物のうち、成分（Ａ）として側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂と、成分（Ｃ）の光酸発生剤と、成分（Ｂ）として下記式（１００）に記載の第１モノマーと、を含む感光性樹脂組成物が特に好ましい。
【０３０６】
【化３８】
2011221142.tif 000040
【０３０７】
以下、特に好ましいこの感光性樹脂組成物について説明する。
前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂を構成する環状オレフィン樹脂（Ａ）としては、前述したようなものを使用できるが、例えばシクロヘキセン、シクロオクテン等の単環体モノマーの重合体、ノルボルネン、ノルボルナジエン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロペンタジエン、ジヒドロトリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエン、ジヒドロテトラシクロペンタジエン等の多環体モノマーの重合体等が挙げられる。これらの中でも多環体モノマーの重合体の中から選ばれる１種以上の環状オレフィン樹脂が好ましく用いられる。これにより、樹脂の耐熱性を向上することができる。
【０３０８】
なお、重合形態としては、ランダム重合、ブロック重合等の公知の形態を適用することができる。例えばノルボルネン型モノマーの重合の具体例としては、ノルボルネン型モノマーの（共）重合体、ノルボルネン型モノマーとα−オレフィン類などの共重合可能な他のモノマーとの共重合体、およびこれらの共重合体の水素添加物などが具体例に該当する。これら環状オレフィン樹脂は、公知の重合法により製造することが可能であり、その重合方法には付加重合法と開環重合法とがあり、前述の中でも付加重合法で得られる環状オレフィン樹脂（特にノルボルネン系樹脂）が好ましい（すなわち、ノルボルネン系化合物の付加重合体）。これにより、透明性、耐熱性および可撓性に優れる。
【０３０９】
前記脱離性基としては、光酸発生剤から発生する酸（Ｈ＋）の作用により分子の一部が切断されて離脱するものである。具体的には、分子構造中（側鎖）に、前述したような−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものが好ましい。上述したような離脱性基は、酸（Ｈ＋）の作用により比較的容易に離脱する。
【０３１０】
上述した脱離性基の中でも離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。
【０３１１】
前記脱離性基の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂中の１０〜８０重量％であるのが好ましく、特に２０〜６０重量％であるのがより好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に可撓性と屈折率変調機能（屈折率差を大きくする効果）との両立に優れる。
【０３１２】
このような側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂としては、下記式（１０１）および／または下記式（１０２）で示される繰り返し単位を有するものが好ましい。これにより、樹脂の屈折率を高くすることができる。
【０３１３】
【化３９】
2011221142.tif 000041
（式１０１においてｎは、０以上、９以下の整数である。）
【０３１４】
【化４０】
2011221142.tif 000042
【０３１５】
前記感光性樹脂組成物は、上記式（１００）に記載のモノマー（以下、第１モノマーという）を含む。これにより、さらに左右のコア／クラッド間の屈折率差を拡大することができる。
【０３１６】
第１モノマーの含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂１００重量部に対して１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましく、特に２重量部以上、２０重量部以下であることが好ましい。これにより、コア／クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図られる。
【０３１７】
このように、上述した第１モノマーを側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン樹脂と併用した場合に、コア／クラッド間の屈折率変調と、可撓性とのバランスに優れることの理由は、以下の通りと考えられる。
【０３１８】
まず、以上のような感光性樹脂組成物を用いた場合に、コア／クラッド間の屈折率変調に優れるのは、光照射等によって発生した酸により、第１モノマーが重合反応を開始するとき、第１モノマーがその反応性に優れているからである。第１モノマーの反応性が優れていると、第１モノマーの硬化性が高くなり、第１モノマーの濃度勾配によって生じる第１モノマーの拡散性が向上する。それによって、光照射領域と、未照射領域との屈折率差を大きくすることができる。
【０３１９】
また、第１モノマーは一官能であるために、重合反応が進行して感光性樹脂組成物としての架橋密度はそれほど高くはならない。そのため、可撓性にも優れている。
【０３２０】
前記感光性樹脂組成物は、特に限定されないが、前記第１モノマーと異なる第２モノマーを含んでいてもよい。なお、前記第１モノマーと異なる第２モノマーとは、構造が異なるモノマーでもよく、分子量が異なるモノマーでもよい。
【０３２１】
なかでも、第２モノマーは、成分（Ｂ）として含まれており、例えばエポキシ化合物、式（１００）で示されるものと異なる他のオキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらの中でもエポキシ化合物（特に脂環式エポキシ化合物）および２官能のオキセタン化合物（オキセタニル基を２つ有するモノマー）の少なくとも１種が好ましい。これにより、前記第１モノマーと前記環状オレフィン樹脂との反応性を向上させることができ、それによって透明性を保持しつつ、導波路の耐熱性を向上させることができる。
【０３２２】
第２モノマーとしては、具体的には、上記式（１５）の化合物、上記式（１２）の化合物、上記式（１１）の化合物、上記式（１８）の化合物、上記式（１９）の化合物、上記式（３４）〜（３９）の化合物が挙げられる。
【０３２３】
前記第２モノマーの含有量は、特に限定されないが、前記環状オレフィン樹脂１００重量部に対して１重量部以上、５０重量部以下であることが好ましく、特に２重量部以上、２０重量部以下であることがより好ましい。これにより、前記第１モノマーとの反応性を向上させることができる。
【０３２４】
また、前記第２モノマーと前記第１モノマーとの併用割合も特に限定されないが、重量比（前記第２モノマーの重量／前記第１モノマーの重量）で、０．１〜１が好ましく、特に０．１〜０．６が好ましい。併用割合が前記範囲内であると、反応性の速さと導波路の耐熱性とのバランスに優れる。
【０３２５】
光酸発生剤の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂１００重量部に対して０．０１重量部以上、０．３重量部以下であることが好ましく、特に０．０２重量部以上、０．２重量部以下であることがより好ましい。含有量が下限値未満であると反応性が低下する場合があり、前記上限値を超えると光導波路に着色が生じて光損失が低下する場合がある。
【０３２６】
前記感光性樹脂組成物は、上述した環状オレフィン系樹脂、光酸発生剤、第１モノマーおよび第２モノマー以外に、硬化触媒、酸化防止剤等を含んでいてもよい。
【０３２７】
また、本発明に用いられる感光性樹脂組成物は、コア部９４の形成用の組成物として用いることができる。
【０３２８】
（光導波路の製造方法）
図１６〜１８は、それぞれ、光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。
【０３２９】
ここでは、成分（Ｂ）が成分（Ａ）の環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低いものである場合の感光性樹脂組成物を用いて光導波路を製造する方法を例にして説明する。なお、光導波路９‘の製造方法は、光導波路９と同様であるため、光導波路９で代表する。
【０３３０】
まず、図１６（Ａ）に示すように、感光性樹脂組成物を溶媒に溶かしてワニス９００を調製し、このワニス９００をクラッド層９１上に塗布する。
【０３３１】
感光性樹脂組成物をワニス状に調製する溶媒としては、たとえば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）などのエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、メシチレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドンなどの芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）などのアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチルなどのエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランなどの硫黄化合物系溶媒の各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒が挙げられる。
【０３３２】
次に、光導波路９のクラッド層９１上にワニス９００を塗布した後、乾燥させて、溶媒を蒸発（脱溶媒）させる。これにより、図１６（Ｂ）に示すように、ワニス９００は、光導波路形成用のフィルム９１０となる。このフィルム９１０は、後述する光の照射により、コア部９４とクラッド部９５とが形成されたコア層９３となる。
【０３３３】
ここで、ワニス９００を塗布する方法としては、たとえば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法の方法が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。クラッド層９１としては、たとえば、後述するコア部９４よりも屈折率が低いシートが使用され、たとえば、ノルボルネン系樹脂と、エポキシ樹脂とを含むシートが使用される。
【０３３４】
次に、フィルム９１０に対し、選択的に光（たとえば、紫外線）を照射する。
この際、図１７（Ａ）に示すように、フィルム９１０の上方に開口が形成されたマスクＭを配置する。このマスクＭの開口を介して、フィルム９１０に対し、光を照射する。
【０３３５】
用いられる光としては、例えば、波長２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものが挙げられる。これにより、光酸発生剤の組成にもよるが、光酸発生剤を比較的容易に活性化させることができる。
【０３３６】
また、光の照射量は、特に限定されないが、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、０．２〜６Ｊ／ｃｍ２程度であるのがより好ましく、０．２〜３Ｊ／ｃｍ２程度であるのがさらに好ましい。
【０３３７】
なお、レーザー光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスクＭの使用を省略することもできる。
【０３３８】
フィルム９１０のうち、光が照射された領域では、光酸発生剤から酸が発生することとなる。発生した酸により、成分（Ｂ）が重合する。
【０３３９】
光が照射されていない領域では、光酸発生剤から酸が発生しないため、成分（Ｂ）は重合しない。照射部分では、成分（Ｂ）が重合しポリマーとなるため、成分（Ｂ）量が少なくなる。これに応じて、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じる。
【０３４０】
ここで、成分（Ｂ）が、環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低い場合には、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散することで、未照射部分の屈折率が高くなるとともに、照射部分の屈折率は低くなる。
【０３４１】
なお、成分（Ｂ）が重合したポリマーと、環状エーテル基を有するモノマーとの屈折率差は、０以上、０．００１以下程度であり、屈折率は略同じであると考えられる。
【０３４２】
このような感光性樹脂組成物を使用した場合には、光酸発生剤から発生する酸により、成分（Ｂ）の重合を開始させることが可能である。
【０３４３】
さらに、本発明に用いられる環状オレフィン樹脂は必ずしも脱離性基を有していなくてもよいが、成分（Ａ）として、脱離性基を有する環状オレフィン樹脂を使用している場合には、以下の作用が生じる。
【０３４４】
光を照射した部分では、光酸発生剤から発生した酸により、環状オレフィン樹脂の脱離性基が脱離することとなる。−Ｓｉ−アリール構造、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造等の脱離性基の場合、離脱により樹脂の屈折率が低下することとなる。そのため、照射部分の屈折率は脱離性基の脱離前に比べてさらに低下することとなる。
【０３４５】
次に、フィルム９１０を加熱する。この加熱工程において、光を照射した照射部分の成分（Ｂ）がさらに重合する。一方で、この加熱工程において、未照射部分の成分（Ｂ）は揮発することとなる。これにより、未照射部分では、成分（Ｂ）が少なくなり、環状オレフィン樹脂に近い屈折率となる。
【０３４６】
このフィルム９１０においては、図１７（Ｂ）に示すように、光が照射された領域がクラッド部９５となり、未照射領域がコア部９４となる。コア部９４における前記成分（Ｂ）由来の構造体濃度と、クラッド部９５における前記成分（Ｂ）由来の構造体濃度とが異なる。具体的には、コア部９４における成分（Ｂ）由来の構造体濃度は、クラッド部９５における成分（Ｂ）由来の構造体濃度より低い。
【０３４７】
また、クラッド部９５は、コア部９４よりも屈折率が低くなり、クラッド部９５とコア部９４との屈折率差は、０．０１以上となる。以上のようにして、フィルム９１０には、コア部９４とクラッド部９５とが形成され、コア層９３が得られる。
【０３４８】
この加熱工程における加熱温度は、特に限定されないが、３０〜１８０℃程度であるのが好ましく、４０〜１６０℃程度であるのがより好ましい。
【０３４９】
また、加熱時間は、光を照射した照射部分の成分（Ｂ）の重合反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、０．１〜２時間程度であるのが好ましく、０．１〜１時間程度であるのがより好ましい。
【０３５０】
その後、このコア層９３上に、クラッド層９１と同様のフィルムを貼り付ける。このフィルムがクラッド層９２となる。一対のクラッド層９１、９２は、クラッド部９５とは異なる方向から、コア部９４を挟むように配置されることとなる。
【０３５１】
なお、クラッド層９２は、フィルム状のものを貼り付けるのではなく、コア層９３上に液状材料を塗布し硬化（固化）させる方法によっても形成することができる。
【０３５２】
以上の工程により、図１８に示す光導波路９が得られる。
また、本発明に用いられる感光性樹脂組成物により光導波路９を得た場合には、特に半田耐リフロー性に優れる。さらに、光導波路９を曲げた場合であっても光損失を少なくすることができる。
【０３５３】
なお、上記の説明では、クラッド層９１上に直接、感光性樹脂組成物を供給し、フィルム９１０（コア層９３）を形成する場合について説明したが、別の基材上にフィルム９１０（コア層９３）を形成した後、得られたコア層９３をクラッド層９１またはクラッド層９２上に転写し、その後、コア層９３を介してクラッド層９１とクラッド層９２とを重ね合わせるようにしてもよい。
【０３５４】
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
本実施形態に用いられる感光性樹脂組成物に光を当てると、光酸発生剤から酸が発生し、照射部分のみにおいて、成分（Ｂ）が重合されることとなる。そうすると、照射部分における成分（Ｂ）の量が少なくなるため、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じる。具体的には、本実施形態では、ベースポリマーとして、成分（Ｂ）よりも屈折率が高い置換または無置換の環状オレフィン樹脂を使用しているため、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散することで、未照射部分の屈折率が、照射部分の屈折率よりも高くなる。
【０３５５】
これに加え、光照射後、感光性樹脂組成物の加熱を行うと、未照射部分から成分（Ｂ）が揮発する。これにより、照射部分と未照射部分とでさらに屈折率差が生じる。
【０３５６】
このように感光性樹脂組成物を使用することで、照射部分と未照射部分とで確実に屈折率差を形成することができる。また、本発明によれば、単に光を照射するという簡単な方法でコア部をパターニングすることができる。例えば、フォトマスク等の露光パターンを適宜選択することにより、どのような形状や配置の光路（コア部）でも形成することができ、また、細い光路でもシャープに形成することができるので、回路の集積化に寄与し、デバイスの小型化が図られる。すなわち、本発明によれば、コア部のパターン形状の設計の自由度が広く、しかも寸法精度の高いコア部が得られる。
【０３５７】
なお、従来、オキセタニル基等を有するノルボルネン系樹脂を、熱酸発生剤により架橋させる技術が知られている。しかしながら、このような技術に用いられる組成物は、ベースポリマーとして、オキセタニル基等を有するノルボルネン系樹脂を含有する。そして、組成物全体を加熱させ、組成物全体において架橋構造を生じさせるものである。そのため、従来用いられていたこの組成物には、選択的に光を照射し、酸を発生させることで、選択的に重合を生じさせ、モノマー濃度が少なくなった領域にモノマーが拡散して、濃度差ができるという技術的思想は全くない。
【０３５８】
これに対し、本実施形態に用いられる感光性樹脂組成物は、選択的に光を照射すると、酸の発生により照射部分における成分（Ｂ）の量が少なくなるため、未照射部分の成分（Ｂ）が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じることを見出したものである。
【０３５９】
また、環状オレフィン樹脂を、光酸発生剤から発生する酸により脱離し、脱離により、成分（Ａ）の環状オレフィン樹脂の屈折率を低下させる脱離性基を有するものとした場合には、光を照射した領域の屈折率を、未照射領域に比べ確実に低下させることができる。
【０３６０】
一方で、環状オレフィン樹脂を脱離性基を有しないものとした場合には、側鎖が化学的に安定となるため、光照射や、加熱等の条件により、コア部、クラッド部の屈折率が変動してしまうことを抑制できる。
【０３６１】
さらに、本実施形態では、成分（Ａ）としてノルボルネン系樹脂を使用している。これにより、特定波長における光透過性を確実に高めることができ、伝搬損失の低減を確実に図ることができる。
【０３６２】
また、クラッド部９５は、コア部９４よりも屈折率が低く、クラッド部９５とコア部９４との屈折率差を０．０１以上とすることで、確実に光をコア部９４に閉じ込めることができ、光の伝搬損失の発生を抑制できる。
【０３６３】
一方、従来、光導波路形成用の組成物として、ポリマー、モノマー、助触媒および触媒前駆体を含むものが知られている。
【０３６４】
このうち、モノマーは、光の照射により反応物を形成し、光を照射した領域の屈折率を、未照射領域の屈折率と異ならせ得るものである。
【０３６５】
また、触媒前駆体は、モノマーの反応（重合反応、架橋反応等）を開始させ得る物質であり、光の照射により活性化した助触媒の作用により、活性化温度が変化する物質である。この活性化温度の変化により、光の照射領域と未照射領域との間で、モノマーの反応を開始させる温度が異なり、その結果、照射領域のみにおいて反応物を形成させることができる。
【０３６６】
このような従来の組成物を用いた場合でも光照射によりコア部とクラッド部とを作り分けることができるが、本実施形態に用いられる感光性樹脂組成物によれば、コア部９４とクラッド部９５との屈折率差をより拡大するとともに、耐熱性が向上するため、より信頼性の高い光導波路９が得られる。これは主に、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の組成を最適化したことによるものである。
【０３６７】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【０３６８】
また、前記実施形態では、感光性樹脂組成物を使用して、光導波路フィルムを形成したが、これに限らず、ホログラム等に使用してもよい。前述の感光性樹脂組成物は、屈折率が高い領域と、屈折率が低い領域とが混在するフィルムを形成するのに適している。
【実施例】
【０３６９】
次に、本発明の実施例について説明する。
Ａ．光導波路の製造
（実施例１）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０３７０】
次に、１００ｍＬバイアルビン中に下記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
【０３７１】
この下記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０３７２】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０３７３】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃１を得た。ポリマー＃１の分子量分布は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝１０万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃１中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５５（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３７４】
【化４１】
2011221142.tif 000043
【０３７５】
【化４２】
2011221142.tif 000044
【０３７６】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０（式１００）で示した第１モノマー、東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ１を得た。
【０３７７】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
シリコンウエハ上に感光性ノルボルネン樹脂組成物（プロメラス社製  Ａｖａｔｒｅｌ２０００Ｐワニス）をドクターブレードにより均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、塗布された全面に紫外線を１００ｍJ照射し、乾燥機中１２０℃で１時間加熱して、塗膜を硬化させて、下側クラッド層を形成させた。形成された下側クラッド層は、厚みが２０μｍであり、無色透明であり、屈折率は１．５２（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３７８】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ１をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３７９】
（上側クラッド層の形成）
ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）フィルム上に、予め乾燥厚み２０μｍになるようにＡｖａｔｒｅｌ２０００Ｐを積層させたドライフィルムを、上記コア層に貼り合わせ、１４０℃に設定された真空ラミネーターに投入して熱圧着を行った。その後、紫外線を１００ｍＪ全面照射し乾燥機中１２０℃で１時間加熱して、Ａｖａｔｒｅｌ２０００Ｐを硬化させて、上側クラッド層を形成させ、光導波路を得た。このとき、上側クラッド層は、無色透明であり、その屈折率は１．５２であった。
【０３８０】
（４）評価
（光導波路の損失評価）
８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して上記光導波路に導入し、２００μｍφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。なお、測定にはカットバック法を採用した。光導波路の長手方向を横軸にとり、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍと算出することができた。
【０３８１】
（コア部とクラッド部との屈折率差）
上記（コア層の形成）で形成した、水平方向に隣接する左右のコア部−クラッド部間の屈折率差は、次のように求めた。
【０３８２】
カナダ国  EXFO社製 Optical waveguide analyzer OWA-9500により波長６５６ｎｍのレーザー光を光導波路に照射し、コア領域およびクラッド領域の屈折率をそれぞれ実測して、それらの差を算出した。その結果、屈折率差は０．０２であった。
【０３８３】
（実施例２）
（１）脱離性基を有しないノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）９．４ｇ（５３．１ｍｍｏｌ）、フェニルエチルノルボルネン１０．５ｇ（５３．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０３８４】
次に、１００ｍＬバイアルビン中に上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒２．０６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
【０３８５】
上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０３８６】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０３８７】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃２を得た。ポリマー＃２の分子量分布は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝９万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃２中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、フェニルエチルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５４（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０３８８】
【化４３】
2011221142.tif 000045
【０３８９】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃２  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ２を得た。
【０３９０】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３９１】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ２をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３９２】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した
【０３９３】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０３９４】
（実施例３）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０３９５】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、２官能オキセタンモノマー（式（１５）で示したもの、東亜合成製、ＤＯＸ、ＣＡＳ＃１８９３４−００−４、分子量２１４、沸点１１９℃／０．６７ｋＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ３を得た。
【０３９６】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０３９７】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ３をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０３９８】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０３９９】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０４００】
（実施例４）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０４０１】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、脂環式エポキシモノマー（式（３７）で示したもの、ダイセル化学製、セロキサイド２０２１Ｐ、ＣＡＳ＃２３８６−８７−０、分子量２５２、沸点１８８℃／４ｈＰａ）２ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ４を得た。
【０４０２】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０４０３】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ４をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０４０４】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０４０５】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０４０６】
（実施例５）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０４０７】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ）１ｇ、脂環式エポキシモノマー（ダイセル化学製、セロキサイド２０２１Ｐ）１ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ５を得た。
【０４０８】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０４０９】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ５をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０４１０】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０４１１】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０４１２】
（実施例６）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
実施例１と同様の方法でノルボルネン系樹脂を作製した。
【０４１３】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ）１．５ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ６を得た。
【０４１４】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０４１５】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ６をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０４１６】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した。
【０４１７】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０１であった。
【０４１８】
（実施例７）
（１）脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）６．４ｇ（３６．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（ｄｉＰｈＮＢ）８．７ｇ（２７．１ｍｍｏｌ）、エポキシノルボルネン（ＥｐＮＢ）４．９ｇ（２７．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０４１９】
次に、１００ｍＬバイアルビン中に上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒１．７５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
【０４２０】
この上記化学式（Ｂ）で表わされるＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記３種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０４２１】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０４２２】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールイソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃３を得た。ポリマー＃３の分子量分布は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝８万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃３中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が４０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が３０ｍｏｌ％、エポキシノルボルネン構造単位が３０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５３（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０４２３】
【化４４】
2011221142.tif 000046
【０４２４】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃３  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式２０で示したもの、東亜合成製  ＣＨＯＸ）１．０ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスＶ７を得た。
【０４２５】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に感光性樹脂組成物ワニスＶ７をドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０４２６】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上層クラッドを作製した。
【０４２７】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．０２であった。
以上、実施例１〜７で得られた光導波路フィルムの評価結果を表１に示す。
【０４２８】
【表１】
2011221142.tif 000047
【０４２９】
実施例１〜７では、感光性樹脂組成物に光を当てると、光酸発生剤から、酸が発生し、照射部分のみにおいて、環状エーテル基を有するモノマーが重合する。そして、照射部分における未反応モノマー量が少なくなるため、照射部分／未照射部分間で生じた濃度勾配を解消するために未照射部分のモノマーが照射部分に拡散する。
また、光照射後、加熱を行うと、未照射部分からモノマーが揮発する。
【０４３０】
以上より、コア部とクラッド部との間でモノマー由来の構造体濃度が異なり、クラッド部では、環状エーテル基を有するモノマー由来の構造体が多くなり、コア部では、環状エーテル基を有するモノマー由来の構造体が少なくなる。このことは、コア部とクラッド部との間で０．０１以上の比較的大きな屈折率差が生じることから認められる。
【０４３１】
なお、実施例１〜７では、直線状の光導波路を形成したが、曲線状（曲率半径１０ｍｍ程度）の光導波路を形成した場合には、光損失が少ないことが顕著になる。
【０４３２】
さらには、実施例１〜７で得られた光導波路フィルムは、耐熱性が高く、２６０℃の耐リフロー性を有している。
【０４３３】
（実施例８）
（１）脱離性基を有するノルボルネン樹脂の合成
脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成において、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）に代えて、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン１０．４ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にした。得られた側鎖に脱離性基を有するノルボルネン系樹脂Ｂ（式１０３）の分子量は、ＧＰＣ測定により、Ｍｗ＝１１万、Ｍｎ＝５万であった。また、各構造単位のモル比は、ＮＭＲによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。また屈折率はメトリコンにより１．５３（測定波長；６３３ｎｍ）であった。
【０４３４】
（２）感光性樹脂組成物の製造
ポリマー＃１に変えて、ノルボルネン系樹脂Ｂを使用した点以外は、実施例１と同様に感光性樹脂組成物を得た。
【０４３５】
（３）光導波路フィルムの製造
ノルボルネン系樹脂Ｂを含む上記感光性樹脂組成物を使用した点以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを得た。
【０４３６】
実施例１と同様に、光導波路の損失評価を行ったところ、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は０．０３ｄＢ／ｃｍであった。
【０４３７】
【化４５】
2011221142.tif 000048
【０４３８】
（実施例９）
（１）感光性樹脂組成物として以下のものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【０４３９】
実施例１で得られたノルボルネン系樹脂１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（式（１００）で示した第１モノマー、東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）１ｇ、２官能オキセタンモノマー（式（１０４）で示した第２モノマー、東亜合成製、ＤＯＸ、ＣＡＳ＃１８９３４−００−４、分子量２１４、沸点１１９℃／０．６７ｋＰａ）１ｇ、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（１．３６Ｅ−２ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層用の感光性樹脂組成物ワニスを調製した。
【０４４０】
（２）光導波路フィルムの製造
上記（１）の感光性樹脂組成物を使用した点以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを得た。
【０４４１】
実施例１と同様に、光導波路の損失評価を行ったところ、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は０．０４ｄＢ／ｃｍであった。
【０４４２】
【化４６】
2011221142.tif 000049
【０４４３】
（実施例１０）
環状オレフィンとして以下のものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【０４４４】
（１）ノルボルネン系樹脂Ｃの合成
公知の手法（例えば特開２００３−２５２９６３号公報）を用いてフェニルエチルノルボルネン（ＰＥＮＢ）モノマーの開環メタセシス重合を行い、下記式（１０５）で表されるノルボルネン系樹脂Ｃを得た。
【０４４５】
（２）感光性樹脂組成物製造
ポリマー＃１に変えて、ノルボルネン系樹脂Ｃを使用した点以外は、実施例１と同様に感光性樹脂組成物を得た。
【０４４６】
（３）光導波路フィルムの製造
ノルボルネン系樹脂Ｃを含む上記感光性樹脂組成物を使用した点以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを得た。
【０４４７】
実施例１と同様に、光導波路の損失評価を行ったところ、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は０．０５ｄＢ／ｃｍであった。
【０４４８】
【化４７】
2011221142.tif 000050
【０４４９】
（実施例１１）
第１モノマーの配合量を０．５ｇにした以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを作製した。
なお、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は、０．１０ｄＢ／ｃｍであった。
【０４５０】
（実施例１２）
第１モノマーの配合量を４．０ｇに以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを作製した。
なお、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は、０．１０ｄＢ／ｃｍであった。
【０４５１】
（比較例１）
第１モノマーを用いなかった以外は、実施例１と同様にして、光導波路フィルムを作製した。
なお、得られた光導波路フィルムの伝搬損失は、０．９０ｄＢ／ｃｍであった。
【０４５２】
（比較例２）
（１）各成分の合成
＜触媒前駆体：Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２の合成＞
漏斗を装備した２口丸底フラスコで、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（５．００ｇ、２２．３ｍｍｏｌ）とＣＨ２Ｃｌ２（３０ｍＬ）からなる赤茶色懸濁液を−７８℃で攪拌した。
【０４５３】
漏斗に、Ｐ（Ｃｙ）３（１３．１２ｍＬ（４４．６ｍｍｏｌ））のＣＨ２Ｃｌ２溶液（３０ｍＬ）を入れ、そして、１５分かけて上記攪拌懸濁液に滴下した。その結果、徐々に赤褐色から黄色に変化した。
【０４５４】
−７８℃で１時間攪拌した後、懸濁液を室温に温め、さらに２時間攪拌して、ヘキサン（２０ｍＬ）で希釈した。
【０４５５】
次に、この黄色の固体を空気中でろ過し、ペンタンで洗浄し（５×１０ｍＬ）、真空乾燥させた。
【０４５６】
２次収集物は、ろ液を０℃に冷却して分離し、上記と同様に洗浄して乾燥させた。これにより、触媒前駆体を得た。
【０４５７】
（２）感光性樹脂組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１  １０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、ジメチルビス（ノルボルネンメトキシ）シラン（ＳｉＸ）２．４ｇ、上記触媒前駆体（2.6E-2g）、光酸発生剤  ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（1.36E-2g、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加え均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物ワニスを得た。
【０４５８】
（３）光導波路フィルムの製造
（下側クラッド層の作製）
実施例１と同様の下側クラッド層を作製した。
【０４５９】
（コア層の形成）
上記下側クラッド層上に調製したワニスをドクターブレードによって均一に塗布した後、４５℃の乾燥機に１５分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中４５℃で３０分、８５℃で３０分、１５０℃で１時間と三段階で加熱を行った。加熱後、導波路パターンが現れているのが確認された。また、コア部およびクラッド部の形成が確認された。
【０４６０】
（上側クラッド層の形成）
実施例１と同様の上側クラッド層を作製した
【０４６１】
（４）評価
実施例１と同じ方法により、評価を行った。伝搬損失は０．０５ｄＢ／ｃｍと算出することができた。コア部とクラッド部の屈折率差は０．００５であった。
【０４６２】
Ｂ．光導波路の評価
各実施例および比較例で得られた光導波路について、以下の評価を行った。評価項目を内容とともに示す。得られた結果を表２に示す。
【０４６３】
１．光損失
８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して上記光導波路に導入し、２００μｍφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。なお、測定にはカットバック法を採用し、導波路長を横軸、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失を算出した。
【０４６４】
２．耐熱性
上記光導波路を高温高湿槽（８５℃、８５％ＲＨ）に投入し、湿熱処理５００時間後の伝搬損失を評価した。また、リフロー処理（Ｎ２雰囲気下、最大温度２６０℃／６０秒）による伝搬損失の劣化の有無も並行して確認した。
なお、ここでの伝搬損失の測定は、１の光損失の測定方法と同じである。
【０４６５】
３．光導波路の曲げ損失
１０ｍｍの曲率半径を有する光導波路フィルムの光強度の曲げ損失を評価した。８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍφの光ファイバーを経由して上記光導波路フィルムの端面に導入し、２００μｍφの光ファイバーで他端から受光を行って光の強度を測定した（下記式参照）。長さの等しい光導波路フィルムを曲げたときに生じる損失の増分を「曲げ損失」と定義し、図１９に示すように、光導波路フィルムを曲線状にした場合の挿入損失と光導波路フィルムを直線状にした場合の挿入損失との差で「曲げ損失」を表した。
【０４６６】
挿入損失［ｄＢ］＝  −１０ｌｏｇ（出射光強度／入射光強度）
曲げ損失＝（曲線での挿入損失）−（直線での挿入損失）
【０４６７】
【表２】
2011221142.tif 000051
【０４６８】
表２から明らかなように実施例１，８−１２は、光損失が低く、光導波路の性能が優れていることが示された。
【０４６９】
また、実施例１，８−１２は、高温高湿処理後およびリフロー処理後の光損失も小さく、耐熱性にも優れていることが示された。
【０４７０】
また、特に実施例１，８，９，１０は、曲げ損失も小さく、光導波路を屈曲させて用いても十分な性能を発揮することが示唆された。
【０４７１】
さらに、各実施例および比較例で得られた光導波路フィルムを用いて、前記第１実施形態にかかる光導波路構造体を作製したところ、各実施例で得られた光導波路フィルムを用いた光導波路構造体は、それぞれ、各比較例で得られた光導波路フィルムを用いた光導波路構造体に比べて、伝送損失の低いものが得られた。
【符号の説明】
【０４７２】
１          光導波路構造体
２、２’    基板
２１        透光部
２２        貫通孔
２３        垂直光導波路
２４        コア部
２５        クラッド部
２６        レンズ部
３          接着層
４、４１    アンダーフィル材
５１、５２、５４、５５      導体層
６、６１    封止材
７          半田
８          貫通孔（スルーホール）
８１、８２  導体ポスト（導電材料）
９、９’    光導波路
９１        クラッド層
９２        クラッド層
９３        コア層
９４        コア部
９５        クラッド部
９６        光路変換部
９６１      反射面
９６ａ、９６ｂ、９６ｃ、９６ｄ、９６ｅ、９６ｆ  光路変換部
９６１ａ、９６１ｂ、９６１ｃ、９６１ｄ、９６１ｅ、９６１ｆ  反射面
１０        発光素子
１０１      発光部
１０３      端子
１０５      端子
１１        受光素子
１１１      受光部
１１３      端子
１１５      端子
１２        電気素子（半導体素子）
１２３      端子
１２５      端子
１２７      端子
１２９      端子
１３        チップキャリア
９００      ワニス
９１０      フィルム
９４１      分岐部
９４２      コア部
９４３      貫通孔（空孔）
９４４      反射面
９４５      拡幅部
９４６      途切れ部分
Ｍ          マスク
Ｓ          延伸線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2011221142.tif 000067
【図１４】
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【図１５】
2011221142.tif 000069
【図１６】
2011221142.tif 000070
【図１７】
2011221142.tif 000071
【図１８】
2011221142.tif 000072
【図１９】
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