(57)【要約】【課題】二枚のパネルの間に充填された放電ガスの純度を保つことができる封止構造を有するＰＤＰの製造方法および製造装置、並びに、ＰＤＰを提供する。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、一面に電極が設けられた二枚のガラス基板３１，３２を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置し、これらの二枚のガラス基板３１，３２間の外縁域を封止材３３により封止する工程を少なくとも備えてなり、封止材３１として、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面に電極が設けられた二枚のガラス基板を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置し、これらの二枚のガラス基板間の外縁域を封止材により封止する工程を少なくとも備えてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記封止材として、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記組成物に占める無機系ビーズの割合は、体積％単位において、１５以上、５０以下であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
一面に電極が設けられた二枚のガラス基板が、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置され、前記二枚のガラス基板間の外縁域が封止材により封止され、前記二枚のガラス基板間に放電ガスが充満されてなるプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
真空排気手段およびガス供給手段を備え、減圧可能な内部空間を有するチャンバと、
前記チャンバの内部空間にあって、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いて、前記封止材を両ガラス基板間の外縁域に形成する手段と、
両ガラス基板間の外縁域に配された前記封止材に対して、光エネルギーおよび／または熱エネルギーを加える手段と、を少なくとも備えたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。
【請求項４】
一面に電極が設けられた二枚のガラス基板が、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置され、前記二枚のガラス基板間の外縁域が封止材により封止され、前記二枚のガラス基板間に放電ガスが充満されてなるプラズマディスプレイパネルであって、
前記封止材が、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造装置、および、プラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）は、電極が形成された２枚のガラス板であるフロントパネルとリアパネルとが平行に重ねられ、封止材によって互いに固定された構造をなしている。
【０００３】
フロントパネルの表面には、維持電極および表示電極が設けられている。さらに、この維持電極および表示電極を覆うように透明誘電体層が設けられている。そして、この透明誘電体層を覆うように保護膜が形成されている。
【０００４】
一方、リアパネルには、アドレス電極が設けられるとともに、仕切部によって仕切られた多数の小さなセルが設けられている。そして、これらのセルにはそれぞれ、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体が塗布されている。
【０００５】
また、フロントパネルとリアパネルの間の隙間の中には、ネオン（Ｎｅ）−キセノン（Ｘｅ）の混合ガス（放電ガス）が封入されている。
そこで、セルに電圧を加えると、フロントパネルの表示電極と、リアパネルのアドレス電極との間にガス放電が生じ、このガス放電により発生した紫外線により、セルに塗布された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体が発光してカラー表示がなされる。
【０００６】
従来、ＰＤＰの製造工程において、フロントパネルとリアパネルを封止する封止材としては、ガラスフリットが用いられていた。このガラスフリットでフロントパネルとリアパネルを封止する場合、４００℃以上の温度でガラスフリットを溶融させる必要があるため、設備が少々大掛かりになるとともに、加工時のエネルギー消費量が多くなるおそれがあった。
【０００７】
そこで、近年、省エネルギー化を図るために、封止材としては、１００℃以下の比較的低温で硬化する熱硬化型樹脂、または、紫外線硬化型樹脂が用いられるようになっている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−３２４０２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ＰＤＰの使用中に、封止材のコンタミネーションに起因するガスが発生するという問題があった。
このようなガスが発生すると、上記の放電ガスと混ざって、放電ガスの純度が低下するという問題があった。このように放電ガスの純度が低下すると、所定のガス放電が生じなくなり、セルに塗布された各蛍光体が適正に発光しなくなって、適正なカラー表示ができなくなるという問題があった。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、二枚のガラス基板の間に充填された放電ガスの純度を保つことができる封止構造を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法、および、プラズマディスプレイパネルの製造装置、並びに、これらの製造方法および製造装置によって製造されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、一面に電極が設けられた二枚のガラス基板を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置し、これらの二枚のガラス基板間の外縁域を封止材により封止する工程を少なくとも備えてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記封止材として、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いることを特徴とする。
【００１２】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記組成物に占める無機系ビーズの割合は、体積％単位において、１５以上、５０以下であることが好ましい。
【００１３】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造装置は、一面に電極が設けられた二枚のガラス基板が、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置され、前記二枚のガラス基板間の外縁域が封止材により封止され、前記二枚のガラス基板間に放電ガスが充満されてなるプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、真空排気手段およびガス供給手段を備え、減圧可能な内部空間を有するチャンバと、前記チャンバの内部空間にあって、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いて、前記封止材を両ガラス基板間の外縁域に形成する手段と、両ガラス基板間の外縁域に配された前記封止材に対して、光エネルギーおよび／または熱エネルギーを加える手段と、を少なくとも備えたことを特徴とする。
【００１４】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、一面に電極が設けられた二枚のガラス基板が、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置され、前記二枚のガラス基板間の外縁域が封止材により封止され、前記二枚のガラス基板間に放電ガスが充満されてなるプラズマディスプレイパネルであって、前記封止材が、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、得られたプラズマディスプレイパネルでは、封止材をなす組成物において、単位体積あたりの熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂の量が減るから、その組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から二枚のガラス基板間の空間へ放出される放出ガスの放出量が、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減され、二枚のガラス基板間に充満された放電ガスを高純度に保つことができる。また、封止材をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から放出される放出ガスの放出速度も、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減される。さらに、二枚のガラス基板間の外縁域が、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズを含有する封止材により封止されているので、二枚のガラス基板間を所定の距離に離間した状態に保つことができる。
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造装置によれば、得られたプラズマディスプレイパネルでは、封止材をなす組成物において、単位体積あたりの熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂の量が減るから、その組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から二枚のガラス基板間の空間へ放出される放出ガスの放出量が、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減され、二枚のガラス基板間に充満された放電ガスを高純度に保つことができる。また、封止材をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から放出される放出ガスの放出速度も、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減される。さらに、二枚のガラス基板間の外縁域が、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズを含有する封止材により封止されているので、二枚のガラス基板間を所定の距離に離間した状態に保つことができる。
【００１７】
本発明のプラズマディスプレイパネルによれば、封止材をなす組成物において、単位体積あたりの熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂の量が減るから、その組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から二枚のガラス基板間の空間へ放出される放出ガスの放出量が、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減され、二枚のガラス基板間に充満された放電ガスを高純度に保つことができる。また、封止材をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から放出される放出ガスの放出速度も、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減される。さらに、二枚のガラス基板間の外縁域が、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズを含有する封止材により封止されているので、二枚のガラス基板間を所定の距離に離間した状態に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造装置を示す概略断面図である。
【図２】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によって製造されたプラズマディスプレイパネルの一実施形態を示す概略平面図である。
【図３】本発明の実施例および比較例のプラズマディスプレイパネルについて、８０℃における封止材からの放出ガスの放出速度を測定した結果を示すグラフである。
【図４】本発明の実施例および比較例のプラズマディスプレイパネルについて、室温（２０℃）から８０℃までの封止材からの放出ガスの放出量を測定した結果を示すグラフである。
【図５】本発明の実施例および比較例のプラズマディスプレイパネルについて、２２０℃における封止材からの放出ガスの放出速度を測定した結果を示すグラフである。
【図６】本発明の実施例および比較例のプラズマディスプレイパネルについて、室温（２０℃）から２２０℃までの封止材からの放出ガスの放出量を測定した結果を示すグラフである。
【図７】本発明の実施例１および比較例のプラズマディスプレイパネルについて、種々の加熱条件で加熱した後に放電電圧を測定した結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造装置、および、プラズマディスプレイパネルの実施の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００２０】
「プラズマディスプレイパネルの製造装置」
図１は、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造装置の一実施形態を示す概略断面図である。
図１中、符号１０はプラズマディスプレイパネルの製造装置、３０は積層パネル、３１，３２は一面に電極が設けられたガラス基板、３３は封止材をそれぞれ示している。
プラズマディスプレイパネルの製造装置１０は、二枚のガラス基板３１，３２が、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置され、ガラス基板３１，３２間の外縁域が封止材３３により封止され、ガラス基板３１，３２間に放電ガスが充満されてなるプラズマディスプレイパネルを製造する装置である。
【００２１】
プラズマディスプレイパネルの製造装置１０は、チャンバ１１と、チャンバ１１の内部空間２１にあって、二枚のガラス基板３１，３２間を所定の間隔を空けて重なるように配置して支持する手段（支持手段）１２と、チャンバ１１の内部空間２１にあって、後述する封止材３３を両ガラス基板３１，３２間の外縁域に形成する手段（封止材形成手段、図示略）と、両ガラス基板３１，３２間の外縁域に配された封止材３３に対して、光エネルギーを加える手段（光エネルギー印加手段）１３とから概略構成されている。
【００２２】
また、チャンバ１１は、その内部空間２１内に配置された二枚のガラス基板３１，３２の内部空間を、後述する直管３６を介して真空状態とする真空排気手段２２と、真空状態となったガラス基板３１，３２の内部空間に、直管３６を介して放電ガスを供給するガス供給手段２３とを備えている。
さらに、チャンバ１１の上面には、光エネルギー印加手段１３から放出された光エネルギーを透過して、その光エネルギーを封止材３３に照射するための窓２４が設けられている。
【００２３】
チャンバ１１の内部空間２１は、所定の間隔を空けて重なるように配置された二枚のガラス基板３１，３２を水平状態で収容することができる大きさをなしている。また、チャンバ１１は、内部空間２１に二枚のガラス基板３１，３２を収容した状態で、密閉することができるようになっている。
【００２４】
ここで、二枚のガラス基板３１，３２はそれぞれ平面視略四角形状であり、ガラス基板３１，３２のうち、一方がプラズマディスプレイパネル用のフロントパネルであり、他方がプラズマディスプレイパネル用のリアパネルである。
一方のガラス基板３１の一面（ガラス基板３２と対向する面）には、背面電極（図示略）、誘電体層（図示略）、隔壁３４がこの順に形成され、隔壁３４の間に蛍光体図示略）が配設されている。
また、他方のガラス基板３２の一面（ガラス基板３１と対向する面）には、主電極（図示略）、補助電極（図示略）、誘電体層（図示略）、保護膜（図示略）がこの順に形成されている。さらに、ガラス基板３２には、その厚み方向に貫通する細孔３５が設けられている。そして、ガラス基板３２の他面（ガラス基板３１と対向する面とは反対側の面）において、細孔３５に、二枚のガラス基板３１，３２の間の空間に連通する直管３６が連設されている。
他方のガラス基板３２は、一方のガラス基板３１に設けられた隔壁３４の上端に密着されており、ガラス基板３１，３２間は隔壁３４の高さ（厚み）分離間されている。
【００２５】
支持手段１２は、チャンバ１１の内部空間２１に水平に設けられた台１２Ａと、この台１２Ａの一面（上面）１２ａ上に設けられたクランプなどの固定治具（図示略）とを有している。そして、この固定治具が、台１２Ａの一面（上面）１２ａ上にて、二枚のガラス基板３１，３２間を所定の間隔を空けて重なるように水平に配置して支持、固定するようになっている。また、封止材３３が、ガラス基板３１，３２間の所定位置から落下（移動）しないように、ガラス基板３１，３２は、封止材３３が配置された面を上向きにして（図１では、ガラス基板３１の封止材３３が配置された面を上向きにして）、固定治具によって台１２Ａ上に水平に配置されるようになっている。
【００２６】
封止材形成手段としては、チャンバ１１の内部空間２１に水平に設けられたノズル（図示略）、チューブなどを介してノズルに接続され、封止材３３をノズルに供給するロータリーポンプなどの封止材供給装置、および、ノズルからの封止材の吐出量を制御する制御装置を備えたディスペンサ（液体定量吐出装置）などが挙げられる。
【００２７】
封止材形成手段によって、ガラス基板３１，３２間の外縁域に形成される封止材３３としては、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物が用いられる。
【００２８】
無機系ビーズとしては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなるビーズ（ガラスビーズ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、ジルコン（ＺｒＳｉＯ４）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れ、加熱しても変形することがないとともに、不純物としてのガスを放することがないなどの点から、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなるビーズ、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）からなるビーズなどが好ましい。
【００２９】
また、無機系ビーズの平均粒径は７０μｍ以上、１００μｍ以下であるが、最大粒径は１４０μｍ以上、１５５μｍ以下であることが好ましい。
無機系ビーズの平均粒径が大き過ぎると、ガラス基板３１，３２間の距離が大きくなりすぎて、ガラス基板３１，３２のそれぞれに設けられた電極間において、安定に放電させることができなくなる。
【００３０】
封止材３３をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。
封止材３３をなす組成物を構成する紫外線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリウレタン樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性イミドアクリレート樹脂などが挙げられる。
【００３１】
さらに、封止材３３をなす組成物に占める無機系ビーズの割合は、体積％単位において、１５以上、５０以下であることが好ましく、１５以上、２８以下であることがより好ましい。
上記の組成物に占める無機系ビーズの割合が、体積％単位において、１５未満では、封止材３３をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂に含まれる揮発成分のガラス基板３１，３２間の空間への放出量が多くなり、ガラス基板３１，３２間に充満される放電ガスの純度が低下することがある。一方、上記の組成物に占める無機系ビーズの割合が、体積％単位において、５０を超えると、封止材３３をガラス基板３１，３２に塗布できなくなることがある。
【００３２】
直管３６には、真空排気手段２２とガス供給手段２３が１つのラインを介して接続されており、これらはラインの途中に設けられた図示しないバルブにより切り替えられるようになっている。
封止材３３が設けられた後、この真空排気手段２２により、ガラス基板３２の他面に設けられた直管３６を介して、二枚のガラス基板３１，３２間の空間が真空排気される。
【００３３】
また、二枚のガラス基板３１，３２間の空間が真空排気された後、ラインを切り替えて、ガス供給手段２３により、直管３６を介して、真空排気後の二枚のガラス基板３１，３２間の空間内にプラズマディスプレイパネルの放電ガスが導入され、ガラス基板３１，３２間が放電ガスによって充満される。
ガス供給手段２３としては、放電ガスが充填されたガスボンベ、このガスボンベとチャンバ１１を接続するガス管に設けられた電磁バルブ、および、電磁バルブの開閉量によって放電ガスの供給量を制御する制御装置を備えたガス供給装置などが挙げられる。
放電ガスとしては、キセノンガス（Ｘｅ）や、キセノンガス（Ｘｅ）とネオンガス（Ｎｅ）の混合ガスなどが用いられる。
【００３４】
光エネルギー印加手段１３は、チャンバ１１の上面に設けられた光透過性の窓２４に対向する位置に配置されている。
光エネルギー印加手段１３としては、紫外線ランプなどが挙げられる。
ここで、窓２４は、チャンバ１１の上面であって、チャンバ１１の外部からこの窓２４を介して封止材３３の上面が見える位置に配置されている。したがって、光エネルギー印加手段１３から紫外線を出射すると、その紫外線は窓２４を透過し、封止材３３に照射される。
なお、窓２４は、チャンバ１１の側壁に配置されていてもよい。
【００３５】
このプラズマディスプレイパネルの製造装置１０によれば、一面に電極が設けられた二枚のガラス基板３１，３２が、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置され、ガラス基板３１，３２間の外縁域が封止材３３により封止され、ガラス基板３１，３２間に放電ガスが充満されてなり、封止材３３としては、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いてプラズマディスプレイパネルを製造することができるので、得られたプラズマディスプレイパネルでは、封止材３３をなす組成物において、単位体積あたりの熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂の量が減るから、その組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂からガラス基板３１，３２間の空間へ放出される放出ガスの放出量が、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減され、ガラス基板３１，３２間に充満された放電ガスを高純度に保つことができる。また、封止材３３をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から放出される放出ガスの放出速度も、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減される。さらに、二枚のガラス基板３１，３２間の外縁域が封止材３３により封止されているので、ガラス基板３１，３２間を所定の距離に離間した状態に保つことができる。
【００３６】
なお、この実施形態では、プラズマディスプレイパネルの製造装置１０が、封止材３３に対して、光エネルギーを加える光エネルギー印加手段１３を備えた場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。本発明にあっては、封止材をなす組成物が熱硬化型樹脂から構成される場合、二枚のパネル間の外縁域に配された封止材に対して、熱エネルギーを加える手段が設けられ、あるいは、封止材をなす組成物が紫外線硬化型樹脂から構成される場合、光エネルギーおよび熱エネルギーを加える手段が設けられる。
封止材に対して、熱エネルギーを加える手段としては、例えば、上記の二枚のパネルを固定、配置するための台に設けられたヒーターなどの加熱装置、上記の紫外線ランプの代わりに設けられたレーザ照射装置などが挙げられる。
また、封止材に対して、光エネルギーおよび熱エネルギーを加える手段としては、例えば、紫外線ランプとレーザ照射装置を備えた装置などが挙げられる。
【００３７】
「プラズマディスプレイパネルの製造方法」
図１を参照して、この実施形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する。
この実施形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法では、上述のプラズマディスプレイパネルの製造装置を用いる。
【００３８】
まず、所定の電極が設けられた二枚のガラス基板３１，３２を用意する。
次いで、プラズマディスプレイパネルの製造装置１０のチャンバ１１の内部空間２１において、台１２Ａの一面（上面）１２ａ上に、固定治具により、二枚のガラス基板３１，３２間を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を空けて重なるように、水平に配置して支持、固定する。
なお、二枚のガラス基板３１，３２を、両者を重ねた方向に見た場合、一方のガラス基板が、他方のガラス基板からはみ出るように配置する。
【００３９】
次いで、封止材形成手段により、二枚のガラス基板３１，３２間に、ガラス基板３１，３２間の外縁域にあって、枠状をなすように、所定の幅の封止材３３を設け、さらに、封止材３３を硬化させて積層パネル３０を作製する。
なお、この状態では、ガラス基板３１，３２間の空間と、真空排気手段２２およびガス供給手段２３とは、細孔３５と直管３６を介して連通している。
【００４０】
封止材３３をなす組成物が熱硬化型樹脂から構成される場合、その熱硬化型樹脂の種類に応じて、封止材３３の加熱温度と加熱時間は適宜調整される。
また、封止材３３をなす組成物が紫外線硬化型樹脂から構成される場合、その紫外線硬化型樹脂の種類に応じて、封止材３３に照射する紫外線の強度は適宜調整される。
【００４１】
次いで、真空排気手段２２を作動させて、ガラス基板３２の他面に設けられた直管３６と、ガラス基板３２に設けた細孔３５とを介して、二枚のガラス基板３１，３２間の空間を真空排気する。
【００４２】
次いで、二枚のガラス基板３１，３２間の空間を真空排気した後、ラインを切り替えて、ガス供給手段２３により、直管３６と細孔３５を介して、真空排気後の二枚のガラス基板３１，３２間の空間内にプラズマディスプレイパネルの放電ガスを導入し、ガラス基板３１，３２間に放電ガスを充満する。
【００４３】
次いで、直管３６を、その途中（ガラス基板３２の近傍）で封止する。
【００４４】
次いで、チャンバ１１の内部空間２１から、積層パネル３０を取り出して、重ね合わせられた二枚のガラス基板のはみ出している部分を所定の形状に裁断するなどの仕上げ加工を施して、図２に示すようなプラズマディスプレイパネル４０を得る。
【００４５】
このプラズマディスプレイパネル４０は、所定の間隔を空けて重なるように配置された二枚のガラス基板３１，３２と、このガラス基板３１，３２間に充満させた放電ガスと、ガラス基板３１，３２の外縁域を封止する封止材３３とから概略構成されている。
そして、封止材３３が、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物から構成されている。
【００４６】
この実施形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、二枚のガラス基板３１，３２を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置し、これらのガラス基板３１，３２間の外縁域を封止材により封止し、ガラス基板３２に設けられた細孔３５と直管３６を介して、ガラス基板３１，３２間の気体を真空排気し、次いで、真空状態としたガラス基板３１，３２間に放電ガスを導入させて、ガラス基板３１，３２間に放電ガスを充満させた後、直管３６を封止するので、得られたプラズマディスプレイパネルでは、封止材３３をなす組成物において、単位体積あたりの熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂の量が減るから、その組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂からガラス基板３１，３２間の空間へ放出される放出ガスの放出量が、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減され、ガラス基板３１，３２間に充満された放電ガスを高純度に保つことができる。また、封止材３３をなす組成物を構成する熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から放出される放出ガスの放出速度も、従来の樹脂のみから構成される封止材を用いた場合よりも大幅に低減される。さらに、二枚のガラス基板３１，３２間の外縁域が封止材３３により封止されているので、ガラス基板３１，３２間を所定の距離に離間した状態に保つことができる。
【００４７】
なお、この実施形態では、二枚のガラス基板３１，３２を、両者を重ねた方向に見た場合、一方のガラス基板が、他方のガラス基板からはみ出るように配置した場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。本発明にあっては、二枚のガラス基板を、一方のガラス基板が、他方のガラス基板からはみ出ないように配置してもよい。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４９】
「実施例１」
図１に示したようなプラズマディスプレイパネルの製造装置を用いて、プラズマディスプレイパネルを作製した。
所定の電極が設けられた二枚のガラス基板を用意した。
プラズマディスプレイパネルの製造装置のチャンバの内部空間において、台の一面上に、固定治具により、二枚のガラス基板間を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を空けて重なるように、水平に配置して支持、固定した。
次いで、封止材形成手段により、二枚のガラス基板間に、これらのガラス基板間の外縁域にあって、枠状をなすように、所定の幅の封止材を設け、さらに、その封止材を硬化させて積層パネルを作製した。
次いで、真空排気手段により、一方のガラス基板に設けられた細孔と直管を介して、二枚のガラス基板間の空間を真空排気した。
次いで、二枚のガラス基板間の空間の真空排気が完了した後、ラインを切り替えて、ガス供給手段により、直管と細孔を介して、真空排気後の二枚のガラス基板間の空間内に、放電ガスとしてキセノンガス（Ｘｅ）とネオンガス（Ｎｅ）の混合ガスを導入し、二枚のガラス基板間の空間に、この混合ガスを充満させた。
次いで、二枚のガラス基板間への放電ガスの充満が完了した後、直管を封止して、実施例１のプラズマディスプレイパネルを得た。
なお、封止材としては、平均粒径が９０μｍ〜１００μｍの二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなるビーズと、エポキシ樹脂系の紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いた。この組成物に占める二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなるビーズの割合を、体積％単位において２８とした。
また、封止材を硬化させるために、封止材に照射する紫外線の強度を、６Ｊ／ｃｍ２とした。
【００５０】
「実施例２」
封止材をなす組成物として、この組成物に占める二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなるビーズの割合を、体積％単位において１５とした以外は実施例１と同様にして、実施例２のプラズマディスプレイパネルを作製した。
【００５１】
「比較例」
封止材をなす組成物として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなるビーズを含まないエポキシ樹脂系の紫外線硬化型樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして、比較例のプラズマディスプレイパネルを作製した。
【００５２】
「プラズマディスプレイパネルの評価」
実施例１、２および比較例のプラズマディスプレイパネルの各々について、封止材からの放出ガスの放出速度および放出量、放電電圧の変化の測定を下記の方法により行った。
【００５３】
（１）封止材からの放出ガスの放出速度および放出量（８０℃）の測定
チャンバ内にプラズマディスプレイパネルを収容し、チャンバ内の圧力が１．０×１０−５Ｐａとなるまで真空排気した。
その後、室温（２０℃）から８０℃まで、昇温速度１℃／ｍｉｎで昇温し、昇温開始から８０℃になるまでの封止材からの放出ガスの放出量と、８０℃における封止材からの放出ガスの放出速度を、四極質量分析計（Ｑ−ｍａｓｓ）により測定した。
放出ガスの放出速度の測定結果を表１と図３に示す。また、放出ガスの放出量の測定結果を表１と図４に示す。
【００５４】
（２）封止材からの放出ガスの放出速度および放出量（２２０℃）の測定
チャンバ内にプラズマディスプレイパネルを収容し、チャンバ内の圧力が１．０×１０−５Ｐａとなるまで真空排気した。
その後、室温（２０℃）から２２０℃まで、昇温速度１℃／ｍｉｎで昇温し、昇温開始から２２０℃になるまでの封止材からの放出ガスの放出量と、２２０℃における封止材からの放出ガスの放出速度を、四極質量分析計（Ｑ−ｍａｓｓ）により測定した。
放出ガスの放出速度の測定結果を表２と図５に示す。また、放出ガスの放出量の測定結果を表２と図６に示す。
【００５５】
（３）放電電圧の変化の測定
プラズマディスプレイパネルを、下記の条件で加熱した後、一方のガラス基板に設けられた主電極に電圧を印加し、放電開始電圧Ｖｆｎを測定した。
（ａ）温度８０℃にて１時間、（ｂ）温度７０℃にて７２時間、（ｃ）温度７０℃にて１４４時間、（ｄ）温度７０℃、湿度８５％にて７２時間、（ｅ）温度７０℃、湿度８５％にて１４４時間、（ｆ）温度７０℃、湿度８５％にて２１６時間。
なお、（ａ）温度８０℃にて１時間の加熱は、封止材の熱硬化促進に相当する。
（ｂ）温度７０℃にて７２時間の加熱は、温度３０℃の１０倍に相当する。
（ｃ）温度７０℃にて１４４時間の加熱は、温度３０℃の１０倍に相当する。
（ｄ）温度７０℃、湿度８５％にて７２時間の加熱は、温度３０℃、湿度６０％の１００倍に相当する。
（ｅ）温度７０℃、湿度８５％にて１４４時間の加熱は、温度３０℃、湿度６０％の１００倍に相当する。
（ｆ）温度７０℃、湿度８５％にて２１６時間の加熱は、温度３０℃、湿度６０％の１００倍に相当する。
放電電圧の変化の測定結果を表３と図７に示す。
【００５６】
【表１】
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【００５７】
【表２】
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【００５８】
【表３】
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【００５９】
（１）封止材からの放出ガスの放出速度および放出量（８０℃）の測定結果
表１および図３の結果から、８０℃における放出ガスの放出速度は、比較例に対して、実施例１および２では大幅に低減することが確認された。
詳細には、実施例１では、四極質量分析計のバックグラウンド以下まで低減することが確認された。これは、放出ガスの放出速度が約９０％低減したことになる。また、実施例２では、放出ガスの放出速度が約７４％低減した。
表１および図４の結果から、室温（２０℃）から８０℃までの放出ガスの放出量は、比較例に対して、実施例１および２では大幅に低減することが確認された。
詳細には、実施例１では、四極質量分析計のバックグラウンド以下まで低減することが確認された。これは、放出ガスの放出量が９０％低減したことになる。また、実施例２では、放出ガスの放出量が約７１％低減した。
【００６０】
（２）封止材からの放出ガスの放出速度および放出量（２２０℃）の測定結果
表２および図５の結果から、２２０℃における放出ガスの放出速度は、比較例に対して、実施例１および２では低減することが確認された。
詳細には、実施例１では、放出ガスの放出速度が約１２％低減した。また、実施例２では、放出ガスの放出速度が約４％低減した。
表２および図６の結果から、室温（２０℃）から８０℃までの放出ガスの放出量は、比較例に対して、実施例１および２では低減することが確認された。
詳細には、実施例１では、放出ガスの放出量が４４％低減した。また、実施例２では、放出ガスの放出量が約１８％低減した。
【００６１】
（３）放電電圧の変化の測定
表３および図７の結果から、実施例１のプラズマディスプレイパネルは、比較例のプラズマディスプレイパネルと比較すると、加速試験における放電電圧の上昇割合が少ないことが確認された。これは、実施例１のプラズマディスプレイパネルを構成する封止材からの放出ガスの放出量が、比較例のプラズマディスプレイパネルを構成する封止材からの放出ガスの放出量よりも少ないことによるものであると考えられる。
【符号の説明】
【００６２】
１０・・・プラズマディスプレイパネルの製造装置、１１・・・チャンバ、１２・・・支持手段、１２・・・台、１３・・・光エネルギー印加手段、２１・・・内部空間、２２・・・真空排気手段、２３・・・ガス供給手段、２４・・・窓、３０・・・積層パネル、３１，３２・・・ガラス基板、３３・・・封止材、３４・・・隔壁、３５・・・細孔、３６・・・直管、４０・・・プラズマディスプレイパネル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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