(57)【要約】【課題】溶液を均一に塗布する。【解決手段】２連ノズルプレートＮｐ２は、２つのノズルが設けられたノズルプレートであり、３連ノズルプレートＮｐ３は、３つのノズルが設けられたノズルプレートである。溶液の供給源は、溶液タンクからの１系統であり、この溶液タンクから溶液が供給されて、各ノズルから溶液が吐出される。そして、２つ以上の液柱が形成される。液圧を上げて液柱の出射速度を上げなくても、溶液を均一に塗布することができ、また、塗幅を広げることもでき、塗りムラを低減させることができる。【選択図】図１３
2011049002.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液を貯蔵する溶液タンクと、
前記溶液タンクから前記溶液が供給されて、前記溶液を吐出する吐出部と、を備え、
前記吐出部は、
前記溶液タンクから供給された前記溶液が充填されるヘッドシリンダと、
前記ヘッドシリンダの一端側に設けられ、前記溶液を吐出する複数のノズル孔が設けられたノズルプレートと、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記溶液を塗布する塗布領域が設けられた対象物に対して前記吐出部を相対的に移動させるノズル移動部を有し、
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔の中心点の間隔及び前記ノズル孔のノズル径は、前記対象物に対する前記吐出部の移動方向に直交する方向の前記塗布領域の幅からなる塗幅に対応して設定されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記ノズルプレートにおける前記ノズル孔の数は、前記塗幅に基づいて設定されていることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔の配列方向の、前記対象物に対する前記吐出部の移動方向に対する回転角度を変更可能とする回転機構部を備えることを特徴とする請求項２又は３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記回転機構部による前記回転角度は、前記塗幅に応じた値に設定されることを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔は、ノズル径が相互に異なる第１のノズル孔と第２のノズル孔とを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔は、前記溶液を吐出する吐出方向の中心線が前記ノズルプレートの上面に垂直な方向に対して傾斜したノズル孔を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔は、前記中心線の前記ノズルプレートの上面に垂直な方向に対する傾斜角度が相互に異なる第１のノズル孔と第２のノズル孔とを含むことを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（electroluminescence）素子（有機ＥＬ素子）は、電場を加えることによって発光する蛍光性の有機化合物によって形成されたものであり、これを用いた有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：以下、ＯＬＥＤと記す）素子を各画素に有してなる表示パネルを備えた表示装置は次世代ディスプレイデバイスとして注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、アノード電極とカソード電極とのこれらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層、等を有する有機ＥＬ層（有機層）と、を備える。有機ＥＬ素子は、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子の発光層、正孔注入層等は、隔壁によって仕切られた領域に、溶液を塗布し、溶媒を乾燥させることによって形成される。溶液の塗布には、例えばノズルプリンティング方式等の塗布装置が用いられる。
【０００５】
この塗布装置は、ノズルヘッド部を備え、ノズルヘッド部の先端には、塗布する溶液を吐出する１つのノズル孔が設けられている。そして、加圧することによって、吐出する溶液が液柱となって塗布される。
【０００６】
例えば、特許文献１には、ノズルプリンティング方式等の塗布装置を用い、有機ＥＬ材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じた溝を基板上に形成しておき、この溝にノズル孔を沿わせるように基板とノズルヘッド部とを相対的に移動させて、前記ノズル孔からの有機ＥＬ材料を前記溝内に流し込んで塗布する過程を備えたことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ層の膜厚が不均一であると、発光が不均一となるという問題がある。このため、有機ＥＬ層の膜厚を良好に制御し、良好な均一性を有する膜とすることが求められている。
【０００９】
特許文献１に記載されたノズルプリンティング方式の塗布装置では、ノズルヘッド部のノズル孔から液柱を安定して出射させる条件はあまり広くない。よって画素サイズが小さく、画素精細度の高い小さなパネルの狭い塗布領域に有機ＥＬ材料を塗布する場合と、大型ＴＶ等の画素サイズの大きな画素精細度の低い比較的広い塗布領域に有機ＥＬ材料を塗布する場合とでは塗布条件は大きくかわる。
【００１０】
例えば、１画素が大きい場合で塗布量を増やすためには、液圧を上げて液柱の出射速度を上げることが考えられるが、液柱を形成又は維持する速度は限界がある。また出射速度を上げることができたとしても被塗布部への溶液の衝突速度は大きくなり飛び散りやはみ出しの発生にもつながる。
【００１１】
また、一つのノズル孔のサイズを大きくすることが考えられるが、吐出量はノズル孔の面積に比例するためノズル孔を加工する直径に対してノズル面積は二乗の大きさとなり、ノズル孔の加工に精度を有する。またノズル孔の径に対して液柱を形成させる条件出しが再度必要となり、それぞれの液柱を形成できるパラメータ範囲は大きくない。
【００１２】
また、一つのノズル孔の径を大きくすることにより、吐出量は増やすことが出来ても１点に着地するため、広い塗布領域に対して薄く均一に塗り広げることは難しく、塗布ムラの発生につながってしまう。
【００１３】
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたもので、溶液を均一に塗布することが可能な塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る塗布装置は、
溶液を貯蔵する溶液タンクと、
前記溶液タンクから前記溶液が供給されて、前記溶液を吐出する吐出部と、を備え、
前記吐出部は、
前記溶液タンクから供給された溶液が充填されるヘッドシリンダと、
前記ヘッドシリンダの一端側に設けられ、前記溶液を吐出する複数のノズル孔が設けられたノズルプレートと、を備えることを特徴とする。
【００１５】
前記溶液を塗布する塗布領域が設けられた対象物に対して前記吐出部を相対的に移動させるノズル移動部を有し、
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔の中心点の間隔及び前記ノズル孔のノズル径は、前記対象物に対する前記吐出部の移動方向に直交する方向の前記塗布領域の幅からなる塗幅に対応して設定されていてもよい。
【００１６】
前記ノズルプレートにおける前記ノズル孔の数は、前記塗幅に基づいて設定されていてもよい。
【００１７】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔の配列方向の、前記対象物に対する前記吐出部の移動方向に対する回転角度を変更可能とする回転機構部を備えてもよい。
【００１８】
前記回転機構部による前記回転角度は、前記塗幅に応じた値に設定されてもよい。
【００１９】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔は、ノズル径が相互に異なる第１のノズル孔と第２のノズル孔とを含むものであってもよい。
【００２０】
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔は、前記溶液を吐出する吐出方向の中心線が前記ノズルプレートの上面に垂直な方向に対して傾斜したノズル孔を有するものであってもよい。
前記ノズルプレートにおける前記複数のノズル孔は、前記中心線の前記ノズルプレートの上面に垂直な方向に対する傾斜角度が相互に異なる第１のノズル孔と第２のノズル孔とを含むものであってもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、溶液を均一に塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態１に係る塗布装置を用いて製造された発光装置が組み込まれる電子機器（デジタルカメラ）を示す図である。
【図２】塗布装置を用いて製造された発光装置が組み込まれる電子機器（コンピュータ）を示す図である。
【図３】塗布装置を用いて製造された発光装置が組み込まれる電子機器（携帯電話）を示す図である。
【図４】塗布装置を用いて製造された発光装置が組み込まれる電子機器（大画面テレビ）を示す図である。
【図５】発光装置の構成を示す図である。
【図６】図５に示す各画素回路の構成を示す回路図である。
【図７】図６に示す画素回路の断面図である。
【図８】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９】ノズルプリンティング方式の塗布装置の構成の概略を示す図である。
【図１０】ノズルプリンティング方式の塗布装置の具体的な構成の全体を示す図である。
【図１１】図９に示すノズルヘッド部の構成を示す図である。
【図１２】図９に示すノズルヘッド部の断面図である。
【図１３】ノズルプレートとして２連ノズルプレート、３連ノズルプレートを示す図である。
【図１４】本発明の実施形態２に係るノズルプレートとして、回転させた２連ノズルプレート、３連ノズルプレートを示す図である。
【図１５】回転機構部を備えたノズルヘッド部の構成例（１）を示す図である。
【図１６】図１５に示す回転機構部を構成するベースユニットを示す図である。
【図１７】図１６に示すベースユニットにヘッドシリンダを挿入する様子を示す図である。
【図１８】ノズルキャップに３連ノズルプレートがセットされる様子を示す図である。
【図１９】回転機構部を備えたノズルヘッド部の構成例（２）を示す図である。
【図２０】応用例として、ノズル径が異なる３連ノズルプレートを示す図である。
【図２１】応用例として、プレート面に対してノズル孔の中心線が傾斜したノズルを有する多連ノズルプレートを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態に係る電子機器、発光装置、発光装置の製造方法、そして、この発光装置の製造に用いられる塗布装置を図面を参照して説明する。
本実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子は、有機ＥＬ素子の光を有機ＥＬ素子が形成された基板を介して外部に出射する構造を有するものである。尚、本実施形態の発光装置は表示装置としても用いられる。
（実施形態１）
発光装置１０は、図１に示すようなデジタルカメラ、図２に示すようなコンピュータ、図３に示すような携帯電話、図４に示すような大画面テレビ等の電子機器に組み込まれる。
【００２４】
デジタルカメラ２００は、図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、レンズ部２０１と操作部２０２と表示部２０３とファインダー２０４とを備える。この表示部２０３に発光装置１０が用いられる。
【００２５】
図２に示すコンピュータ２１０は、表示部２１１と操作部２１２とを備え、この表示部２１１に発光装置１０が用いられる。
【００２６】
図３に示す携帯電話２２０は、表示部２２１と、操作部２２２と受話部２２３と送話部２２４とを備え、この表示部２２１に発光装置１０が用いられる。
【００２７】
図４に示す大画面テレビ２３０は、表示部２３１を備え、この表示部２３１に発光装置１０が用いられる。
【００２８】
このような発光装置１０は、図５に示すように、ＴＦＴパネル１１と、表示信号生成回路１２と、システムコントローラ１３と、セレクトドライバ１４と、電源ドライバ１５と、データドライバ１６と、によって構成される。
【００２９】
ＴＦＴパネル１１は、複数の画素回路１１(i,j)（ｉ＝１〜ｍ，ｊ＝１〜ｎ、尚、ｍ、ｎ；自然数）を備えたものである。
【００３０】
各画素回路１１(i,j)は、それぞれ、画像の１画素に対応する表示画素であり、行列配置される。各画素回路１１(i,j)は、例えば、図６に示すように、有機ＥＬ素子Ｅと、トランジスタＴ１，Ｔ２と、キャパシタＣｓと、を備える。ここで、トランジスタＴ１，Ｔ２と、キャパシタＣｓと、は画素駆動回路ＤＣをなす。
【００３１】
有機ＥＬ素子Ｅは、有機化合物に注入された電子と正孔との再結合によって生じた励起子によって発光する現象を利用して発光する電流制御型の発光素子（表示素子）であり、供給された電流の電流値に対応する輝度で発光する。
【００３２】
画素駆動回路ＤＣにおけるトランジスタＴ１，Ｔ２は、ｎチャンネル型のＦＥＴ（Field Effect Transistor；電界効果トランジスタ）によって構成されたＴＦＴ（Thin Film Transistor）である。
【００３３】
トランジスタＴ１は、有機ＥＬ素子Ｅの駆動用トランジスタであり、そのドレインは、アノードラインＬa(j)に接続され、ソースは、有機ＥＬ素子Ｅのアノード電極に接続される。
【００３４】
トランジスタＴ２は、有機ＥＬ素子Ｅを選択するスイッチとして機能するトランジスタであり、そのドレインはデータラインＬd(i)に接続され、ソースがトランジスタＴ１のゲートに接続され、ゲートが行方向（Ｘ方向）に沿って配設されたセレクトラインＬs(j)に接続される。
【００３５】
キャパシタＣｓは、トランジスタＴ１のゲート−ソース間電圧を保持するためのものであり、トランジスタＴ１のゲート−ソース間に接続される。
【００３６】
各画素回路１１(i,j)の有機ＥＬ素子Ｅが、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、の３色の何れかの発光色を有する場合、同じ色の発光色の有機ＥＬ素子Ｅを有する画素回路１１(i,j)（ｊ＝１〜ｎ）がデータラインＬd(i)に沿った、列方向（Ｙ方向）に配列される。
また、画素回路１１(i,j)は３つ以上のトランジスタを備えたものであってもよい。
【００３７】
表示信号生成回路１２は、例えば、コンポジット映像信号、コンポーネント映像信号のような映像信号Imageが外部から供給され、供給された映像信号Imageから輝度信号のような表示データＰic、同期信号Ｓyncを取得するものである。表示信号生成回路１２は、取得した表示データＰic、同期信号Ｓyncをシステムコントローラ１３に供給する。
【００３８】
システムコントローラ１３は、表示信号生成回路１２から供給された表示データＰic、同期信号Ｓyncに基づいて、表示データＰicの補正処理、書き込み動作、発光動作を制御するものである。
【００３９】
表示データＰicの補正処理は、表示信号生成回路１２から供給された表示データＰicを各画素回路１１(i,j)の駆動トランジスタ（トランジスタＴ１）の閾値電圧Ｖthや電流増幅率βの値に基づいて補正した階調信号を生成する処理である。
【００４０】
また、書き込み動作は、各画素回路１１(i,j)のキャパシタＣｓに生成された階調信号に応じた電圧を書き込む動作であり、発光動作は、キャパシタＣｓに保持された電圧に応じた電流を有機ＥＬ素子Ｅに供給して、有機ＥＬ素子Ｅを発光させる動作である。
【００４１】
システムコントローラ１３は、このような制御を行うため、各種制御信号を生成してセレクトドライバ１４、電源ドライバ１５、データドライバ１６に供給するとともに、データドライバ１６に、生成した階調信号を供給する。
【００４２】
セレクトドライバ１４は、ＴＦＴパネル１１の行を、順次、選択するドライバであり、例えば、シフトレジスタによって構成される。セレクトドライバ１４は、それぞれ、セレクトラインＬs(j)（ｊ＝１〜ｎ）を介して各画素回路１１(i,j)のトランジスタＴ１，Ｔ２のゲートに接続される。
【００４３】
セレクトドライバ１４は、システムコントローラ１３から供給された制御信号に基づいて、順次、第１行目の画素回路１１(1,1)〜１１(m,1)、・・・、第ｎ行目の画素回路１１(1,n)〜１１(m,n)に、Ｈｉレベルのセレクト信号Ｖselect(j)を出力することにより、ＴＦＴパネル１１の行を、順次、選択する。
【００４４】
電源ドライバ１５は、アノードラインＬa(j)（ｊ＝１〜ｎ）に、それぞれ、電圧VL又はVHの信号Ｖsource(1)〜Ｖsource(n)を出力するドライバである。電源ドライバ１５は、それぞれ、アノードラインＬa(j)を介して、各画素回路１１(i,j)のトランジスタＴ１のドレインに接続される。
【００４５】
データドライバ１６は、システムコントローラ１３から供給された階調信号に基づいて、各データラインＬd(1)〜Ｌd(m)に電圧信号Ｓv(1)〜Ｓv(m)を印加するドライバである。
【００４６】
図７は、この発光装置１０の画素回路１１(i,j)の断面図であり、この発光装置１０は、この図７に示すように、画素電極（アノード電極）４２と、発光層４５と、対向電極（カソード電極）４６と、を備える。
【００４７】
尚、３０Ｒは、赤色の発光画素（有機ＥＬ素子Ｅ）を示し、４５Ｇ１，４５Ｇ２は、緑色の発光層を示す。本実施形態では、便宜上、発光に寄与する有機ＥＬ層（有機層）として発光層４５のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、有機ＥＬ層は、正孔注入層と発光層とを備えてもよく、正孔注入層とインターレイヤと発光層とを備えてもよい。
【００４８】
各発光画素の基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなるトランジスタＴ１、トランジスタＴ１のゲート電極Ｔ１ｇが形成されている。各発光画素に隣接した基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインＬd(i)が形成されている。
【００４９】
画素電極４２は、透光性を備える導電材料、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ等から構成される。各画素電極４２は隣接する他の発光画素の画素電極４２と層間絶縁膜４７によって絶縁されている。
【００５０】
層間絶縁膜４７は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成され、画素電極４２間に形成され、トランジスタＴ１、Ｔ２やセレクトラインＬs(j)、アノードラインＬa(j)を絶縁保護する。層間絶縁膜４７には略方形の開口部４７ａが形成されており、この開口部４７ａによって発光画素の発光領域が画される。更に層間絶縁膜４７上の隔壁４８に沿って列方向に延びる溝状の開口部４８ａが複数の発光画素にわたって形成されている。
【００５１】
隔壁４８は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜４７上に形成される。隔壁４８は、列方向に沿った複数の発光画素の画素電極４２をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁４８の平面形状は、これに限られず、画素電極４２毎に開口部をもった格子状であってもよい。
【００５２】
なお、隔壁４８の表面、層間絶縁膜４７の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれも弾く性質を示す。
【００５３】
発光層４５は、画素電極４２上に形成されている。発光層４５は、アノード電極４２と対向電極４６との間に電圧を印加することにより光を発生する機能を有する。
【００５４】
発光層４５は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解（又は分散）した溶液（分散液）をノズルプリンティング方式やインクジェット方式等により塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。
【００５５】
ここで、有機ＥＬ層として、正孔注入層を設ける場合、正孔注入層は、画素電極４２と発光層４５との間に設ける。正孔注入層は発光層４５に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層は正孔（ホール）注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）から構成される。
【００５６】
更に、インターレイヤを設ける場合、インターレイヤは正孔注入層と発光層４５との間に設ける。インターレイヤは、発光層４５から正孔注入層への正孔注入性を抑制して発光層４５内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層４５の発光効率を高める。
【００５７】
また、対向電極４６は、ボトムエミッション型の場合、発光層４５側に設けられ、導電材料、例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Ａｌ等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。
【００５８】
本実施形態では、対向電極４６は複数の発光画素に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である共通電圧Ｖｓｓが印加されている。なお、有機ＥＬ素子Ｅをトップエミッション型とする場合、対向電極４６は、発光層４５側に設けられ、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００５９】
次に、本実施形態に係る発光装置１０の製造方法を図８を用いて説明する。ここでは、図６に示すトランジスタＴ２はトランジスタＴ１と同一工程によって形成されるので、トランジスタＴ２の形成の説明を一部省略する。
【００６０】
まず、ガラス基板等からなる基板３１を用意する。次に、この基板３１上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図８（ａ）に示すようにトランジスタＴ１のゲート電極Ｔ１ｇの形状にパターニングする。
【００６１】
この際、図示はしていないが、トランジスタＴ２のゲート電極Ｔ２ｇ、及びデータラインＬd(i)も形成する。続いて、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等によりゲート電極Ｔ１ｇ及びデータラインＬd(i)上に絶縁膜３２を形成する。
【００６２】
次に、絶縁膜３２上に、ＣＶＤ法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層１１４を形成する。次に、半導体層１１４上に、ＣＶＤ法等により、例えばＳｉＮ等からなる絶縁膜を形成する。
【００６３】
続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜１１５を形成する。更に、半導体層１１４及びストッパ膜１１５上に、ＣＶＤ法等により、ｎ型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層１１４とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図８（ｂ）に示すように、半導体層１１４とオーミックコンタクト層１１６，１１７とを形成する。
【００６４】
次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜３２上に、ＩＴＯ等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びＩＴＯ等の透明導電膜を被膜後、フォトリソグラフィによってパターニングして画素電極４２を形成する。
【００６５】
続いて、絶縁膜３２に貫通孔であるコンタクトホールを形成してから、例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜して、フォトリソグラフィによってパターニングして図８（ｂ）に示すようにドレイン電極Ｔ１ｄ及びソース電極Ｔ１ｓを形成する。これと同時に、アノードラインＬa(j)を形成する。このとき、トランジスタＴ１のソース電極Ｔ１ｓはそれぞれ画素電極４２の一部と重なるように形成される。
【００６６】
続いて、トランジスタＴ１等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜４７をＣＶＤ法等により形成後、フォトリソグラフィにより、図８（ｃ）に示すように開口部４７ａを形成する。
【００６７】
次に、感光性ポリイミドを層間絶縁膜４７を覆うように塗布し、隔壁４８の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図８（ｃ）に示すように開口部４８ａを有する隔壁４８を形成する。
【００６８】
次に、発光ポリマー材料（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を含有する有機化合物含有液をノズル孔から連続して流すノズルプリンティング方式の塗布装置を用いて、隔壁４８の間に設けられ、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に塗布する。塗布は、隔壁４８に沿って列方向に行われる。
【００６９】
以下、本発明をノズルプリンティング方式の塗布装置に適用した場合について説明するが、本発明はインクジェット方式の塗布装置に対しても好適に適用可能なものである。
ノズルプリンティング方式の塗布装置は、図９に示すように、概略、ノズル孔（吐出孔）を有するノズルヘッド部（吐出部）７８を有する。そして、ノズルプリンティング方式の塗布装置は、有機化合物含有液である溶液５１をノズル孔から吐出し、基板３１上でノズルヘッド部７８を、基板３１に対して相対的に移動させることで、基板３１上に塗布する。
【００７０】
ここで、図９に示すＸ方向は基板３１の列方向に対応し、Ｙ方向は基板３１の行方向に対応し、ノズルプリンティング方式の塗布装置は、ノズルヘッド部７８より隔壁４８間に溶液５１を吐出しながら、隔壁４８が延在する列方向に沿ってノズルヘッド部７８を移動させることにより、隔壁４８間に溶液５１を塗布する。
【００７１】
複数列塗布する場合、ノズルプリンティング方式の塗布装置は、図９（ａ）に示すように、ノズルヘッド部７８が基板３１外にある間に基板３１の行方向に対応する方向に移動させる。なお、ノズルヘッド部７８が基板３１外にある間、ノズルヘッド部７８から溶液５１を吐出させたままとしてもよい。
【００７２】
なお、図９（ａ）は、ノズルヘッド部７８を１つだけ有して、１列毎に塗布する場合の塗布装置の構成の概要を示すものであるが、これに限るものではなく、ノズルプリンティング方式の塗布装置は、ノズルヘッド部７８を２個以上の所定数有して、対応する所定数の列を同時に塗布するように構成されているものであってもよい。
【００７３】
図９（ｂ）は、ノズルヘッド部７８を２つ有して、２列を同時に塗布する場合の塗布装置の構成の概要を示すものである。この場合、ノズルヘッド部７８が基板３１外にある間の基板３１の行方向への移動量が増加する以外は、図９（ａ）と同様の動作となる。
【００７４】
なお、正孔注入層を形成する場合は、発光層４５を形成する前に、正孔注入材料を含む溶液５１を、連続して流すノズルプリンティング方式あるいは個々に独立した複数の液滴として吐出するインクジェット方式の塗布装置によって開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に選択的に塗布する。続いて、基板３１を大気雰囲気下で加熱し溶液５１の溶媒を揮発させて、正孔注入層を形成する。溶液５１は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００７５】
また、更にインターレイヤを形成する場合は、ノズルプリンティング方式またはインクジェット方式の塗布装置を用いてインターレイヤとなる材料を含有する溶液５１を正孔注入層上に塗布する。窒素雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤを形成する。溶液５１は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００７６】
続いて、発光層４５まで形成した基板３１に真空蒸着やスパッタリングで、Ｌｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる層と、Ａｌ等の光反射性導電層からなる２層構造の対向電極４６を形成する。
【００７７】
次に、複数の発光画素が形成された発光領域の外側において、基板３１上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる封止樹脂を塗布し、図示しない封止基板と基板３１と貼り合わせる。次に紫外線もしくは熱によって封止樹脂を硬化させて、基板３１と封止基板とを接合する。
【００７８】
本実施形態におけるノズルプリンティング方式の塗布装置（ノズルプリンタ）の具体的な構成について説明する。図１０は、本実施形態における塗布装置の全体を示す図である。
【００７９】
この塗布装置は、溶液タンク７１と、供給管７２と、加圧部７３と、流量検知・制御部７４と、リニア駆動部７５と、ステージ７６と、制御部７７と、ヘッド部７８と、を備える。リニア駆動部７５とステージ７６は本発明におけるノズル移動部をなす。
【００８０】
溶液タンク７１は、塗布する有機化合物含有液等の溶液５１を貯留するためのものである。
供給管７２は、溶液タンク７１に貯留された溶液をノズルヘッド部７８へと導くものであり、フレキシブルな材料で形成される。
【００８１】
加圧部７３は、溶液タンク７１に貯留された溶液に圧力を加えるためのものである。
【００８２】
流量検知・制御部７４は、ノズルヘッド部７８から定量の溶液が吐出されるように溶液の圧力及び流量を制御するものであり、供給管７２の周囲に取り付けられる。
【００８３】
リニア駆動部７５は、ノズルヘッド部７８を図９中の左右方向（Ｘ方向：これを主走査方向とする）に走査するためのものである。この主走査方向は基板３１の列方向に対応する。
ステージ７６は、基板３１を固定するものであり、図９中のＹ方向（これを副走査方向とする）に移動可能なものである。この副走査方向は基板３１の行方向に対応する。
【００８４】
制御部７７は、塗布装置全体を制御して基板３１に溶液を塗布するものである。制御部７７は、リニア駆動部７５を稼働させてノズルヘッド部７８を基板３１に対して主走査方向に移動させ、溶液を基板３１の列方向に１ライン塗布した後、ステージ７６をステップ移動させて基板３１を副走査方向に移動させる。
【００８５】
制御部７７は、このような制御を順次行い、基板３１のすべてのラインに溶液を塗布する。
【００８６】
なお、この構成に限るものではなく、例えば、ノズルヘッド部７８の位置を固定して、基板３１を主走査方向及び副走査方向に移動させるものであってもよいし、基板３１の位置を固定して、ノズルヘッド部７８を主走査方向及び副走査方向に移動させるものであってもよいし、ノズルヘッド部７８を副走査方向に移動させ、基板３１を主走査方向に移動させるものであってもよい。
【００８７】
要するに、ノズルヘッド部７８を基板３１に対して相対的に、主走査方向及び副走査方向に移動させる構成を有するものであればよい。
【００８８】
ノズルヘッド部７８は、溶液を吐出する機構部であり、リニア駆動部７５に取り付けられる。ノズルヘッド部７８は、図１１、図１２に示すように、ヘッドシリンダ８１と、シリンダフランジ８２と、連結ユニット８３と、フィルタ８４と、ノズルプレートＮｐと、ノズルキャップＮｃと、によって構成される。
【００８９】
ヘッドシリンダ８１は、ノズルヘッド部７８の本体部であり、供給管７２によって導かれた溶液が内部に充填される。
【００９０】
シリンダフランジ８２は、フランジ形状を有したものであり、ヘッドシリンダ８１の外周部に設けられたものである。シリンダフランジ８２は、ヘッドシリンダ８１と一体加工されるか、あるいはヘッドシリンダ８１に接合される。
【００９１】
ベースユニット７５ａは、塗布装置本体のリニア駆動部７５の走査部を構成する部品であり、ノズルヘッド部７８を取り付けるための開口部７５ｂが設けられている。ヘッドシリンダ８１は、この開口部７５ｂに挿入され、シリンダフランジ８２がベースユニット７５ａにネジ止めされる。
【００９２】
連結ユニット８３は、供給管７２の先端とヘッドシリンダ８１とを連結するものである。
【００９３】
フィルタ８４は、ノズルヘッド部７８に供給された溶液をろ過するためのものであり、ヘッドシリンダ８１の内部に固定される。
【００９４】
ノズルプレートＮｐは、溶液を吐出するものであり、溶液を吐出するノズル孔が設けられている。加圧部７３が配管内に圧力を加えることにより、ノズルプレートＮｐのノズル孔から吐出された溶液が液柱Ｌｐとなる。
【００９５】
ノズルキャップＮｃは、ノズルプレートＮｐをヘッドシリンダ８１に固定配置するためのものである。
【００９６】
本実施形態１に係るノズルプレートＮｐは、同じサイズ径の複数のノズル孔が形成されたものであり、１つの溶液タンク７１から１系統液圧系で溶液が供給される。
【００９７】
図１３（ａ），（ｂ）は、それぞれ、複数のノズルとして、２つのノズルが設けられた２連ノズルプレートＮｐ２、３つのノズルが設けられた３連ノズルプレートＮｐ３を示す。
【００９８】
２連ノズルプレートＮｐ２の各ノズル、３連ノズルプレートＮｐ３の各ノズルは、ほぼ同じ径を有しており、そのノズル径は、10〜20μm程度である。各ノズルは、２連ノズルプレートＮｐ２，３連ノズルプレートＮｐ３の中心点を中心として設けられている。３連ノズルプレートＮｐ３の場合、３つのノズルは、ほぼ１直線上に並ぶように形成される。
【００９９】
各ノズルの中心を通る中心線をｃ−ｃ'、副走査方向をｚ−ｚ'として、実施形態１では、中心線ｃ−ｃ'と副走査方向ｚ−ｚ'とが一致するように、２連ノズルプレートＮｐ２、３連ノズルプレートＮｐ３が、図１０に示すノズルヘッド部７８にセットされる。
【０１００】
２連ノズルプレートＮｐ２の場合、２つのノズルの中心点の間隔、各ノズルの直径を、それぞれ、Ｗ２，Ｒ２として、２連ノズルプレートＮｐ２によって塗布される塗幅をｗ２１（０）とすると、塗幅ｗ２１（０）は、次式（１）に示すようになる。
ｗ２１（０）＝Ｗ２＋Ｒ２  ・・・（１）
【０１０１】
３連ノズルプレートＮｐ３の場合、両側のノズルの中心点の間隔、各ノズルの直径を、それぞれ、Ｗ３，Ｒ３として、３連ノズルプレートＮｐ３によって塗布される塗幅をｗ３１（０）とすると、塗幅ｗ３１（０）は、次式（２）に示すようになる。
ｗ３１（０）＝Ｗ３＋Ｒ３  ・・・（２）
【０１０２】
１つのノズルを有するノズルプレートＮｐにより液柱Ｌｐを形成でき、均一塗布可能となるように設定された吐出条件において、塗幅を２倍にするときは、図１３（ａ）に示すような２連ノズルプレートＮｐ２が選択され、塗幅を３倍にするときは、図１３（ｂ）に示すような３連ノズルプレートＮｐ３が選択される。これにより、塗幅が変わっても均一な成膜が可能となる。
【０１０３】
尚、図１３（ａ）に示す２連ノズルプレートＮｐ２の場合、図１３（ｂ）に示す３連ノズルプレートＮｐ３の場合、隔壁４８の間隔に応じて、ぞれぞれ、間隔Ｗ２，Ｗ３を調節することにより、隔壁４８の間において適切な塗幅にすることも可能である。
【０１０４】
以上説明したように、本実施形態１によれば、ノズルプレートＮｐに複数のノズル孔を形成し、１系統の溶液タンク７１から、溶液を供給して、複数の液柱Ｌｐを形成させるようにした。
【０１０５】
従って、液圧を上げて液柱Ｌｐの出射速度を上げなくても、溶液を均一に塗布することができ、また、塗幅を広げることもでき、塗りムラを低減させることができる。また、隔壁を乗り越えることによる混色を防止することができる。
【０１０６】
また、ノズルの中心点の間隔、ノズルのノズル径、ノズルの数を変えることにより、溶液の塗幅を調整することもできる。
【０１０７】
このため、画素解像度が異なる複数種類のパネルに対して、それぞれに対応した適切なノズルプレートを選択することにより、それぞれに適応した塗幅にすることができる。
【０１０８】
すなわち、従来の一つのノズル孔のみを有するノズルヘッド部を備える塗布装置を用いて、仕様の異なる複数種類の基板、例えば、画素精細度が高くて画素サイズが小さく、比較的狭い塗幅の塗布領域を有する比較的小さな基板と、画素精細度が低くて画素サイズが大きく、比較的広い塗幅の塗布領域を有する大型ＴＶ用等の比較的大きい基板と、に塗布する場合、両者で最適な塗布条件が大きく異なるために、一方の基板に対して安定して塗布できる塗布条件のままでは、他方の基板両者に対しては安定した塗布を行うことができず、仕様の異なる基板毎に塗布条件を再調整する必要があった。
【０１０９】
しかし、本実施形態によれば、各基板に対応した適切なノズルプレートを選択するだけで、他の塗布条件を再調整することなく、各基板の塗布領域に対して、安定して溶液を塗布することができる。
【０１１０】
（実施形態２）
実施形態２に係る塗布装置は、上記の実施形態１の塗布装置に対して、更に、多連ノズルを回転させる回転機構部を備えるようにしたものである。
【０１１１】
実施形態２に係る多連ノズルプレートは、主走査方向、副走査方向を含む面上で回転可能に構成されている。
【０１１２】
２連ノズルプレートＮｐ２の場合、図１４（ａ）に示すように、２連ノズルプレートＮｐ２を、副走査方向ｚ−ｚ'に対する中心線ｃ−ｃ'の角度が０°〜９０°になるように回転させて固定させることができる。角度を０°，３０°，６０°，９０°に設定したときの塗幅を、それぞれ、ｗ２１（０），ｗ２１（３０），ｗ２１（６０），ｗ２１（９０）としたとき、それぞれの値は次式（３）〜（５）に示す値となり、ｗ２１（０）＞ｗ２１（３０）＞ｗ２１（６０）＞ｗ２１（９０）となる。
ｗ２１（３０）＝ｗ２１（０）×４／５      ・・・（３）
ｗ２１（６０）＝ｗ２１（０）×３／５      ・・・（４）
ｗ２１（９０）＝Ｒ２                      ・・・（５）
【０１１３】
３連ノズルプレートＮｐ３の場合も同様、図１４（ｂ）に示すように、主走査方向、副走査方向を含む面上で回転可能となるように構成され、３連ノズルプレートＮｐ３を、副走査方向ｚ−ｚ'に対する中心線ｃ−ｃ'の角度が０°〜９０°になるように回転させて固定させることができる。角度を０°，３０°，６０°，９０°に設定したときの塗幅を、それぞれ、ｗ３１（０），ｗ３１（３０），ｗ３１（６０），ｗ３１（９０）としたとき、それぞれの値は次式（６）〜（８）に示す値となり、ｗ３１（０）＞ｗ３１（３０）＞ｗ３１（６０）＞ｗ３１（９０）となる。
ｗ３１（３０）＝ｗ３１（０）×４／５      ・・・（６）
ｗ３１（６０）＝ｗ３１（０）×３／５      ・・・（７）
ｗ３１（９０）＝Ｒ３                      ・・・（８）
【０１１４】
塗幅と各隔壁との間隔とが一致していないと、塗布した溶液が隔壁を乗り越えて隣接する他色の塗布領域にはみ出してしまう問題が発生する。しかし、このように２連のノズルを配置したノズルプレートＮｐ２、３連のノズルを配置したノズルプレートＮｐ３を、このように回転させることにより塗幅を細かく調整することが可能となり、種々のパネルに対して塗幅を適切な値に設定することができる。また、色の違う隣接画素へのはみ出しの抑制調整にも有効となる。
【０１１５】
この３連ノズルプレートＮｐ３を回転させる回転機構部を有するノズルヘッド部７８の構成例としては、構成例（１），（２）が考えられる。
【０１１６】
構成例（１）は、図１５（ａ），（ｂ）に示すように、ベースユニット７５ａに対するヘッドシリンダ８１の回転角度を任意の角度に調整して固定できるようにした構成を有するものである。ここで、ベースユニット７５ａに対してヘッドシリンダ８１が回転機構部に相当する。尚、図１５（ａ）は、このノズルヘッド部７８の上面図であり、図１５（ｂ）は、その側面図である。
【０１１７】
図１６（ａ），（ｂ）に示すように、ベースユニット７５ａの中心部には、開口部７５ｂが設けられ、上面には、このノズルヘッド部７８の副走査方向ｚ−ｚ'に対する中心線ｃ−ｃ'の角度を示す刻印が記されている。
【０１１８】
また、図１６（ａ）に示すように、シリンダフランジ８２には、角度合わせを行うための三角印が記されている。
【０１１９】
このノズルヘッド部７８を組み立てるには、図１７に示すように、ベースユニット７５ａの開口部７５ｂにヘッドシリンダ８１が挿入される。ヘッドシリンダ８１は、ベースユニット７５ａに回転自由に保持される。
【０１２０】
ノズルプレートとして３連ノズルプレートＮｐ３を用いる場合、図１８に示すように、３連ノズルプレートＮｐ３が、ノズルキャップＮｃにセットされる。ヘッドシリンダ８１の下端の外周面には、雄ネジが設けられ、ノズルキャップＮｃの内周面には、雌ネジが形成される。
【０１２１】
そして、ヘッドシリンダ８１の雄ネジと、ノズルキャップＮｃの雌ネジとを噛み合わせ、３連ノズルプレートＮｐ３がセットされたノズルキャップＮｃがヘッドシリンダ８１にネジ込まれることにより、３連ノズルプレートＮｐ３は、ヘッドシリンダ８１とノズルキャップＮｃとに挟まれて固定される。
【０１２２】
尚、３連ノズルプレートＮｐ３を固定する場合、３連ノズルプレートＮｐ３の中心線ｃ−ｃ'と副走査方向ｚ−ｚ'とを一致させ、さらに、このとき、シリンダフランジ８２に記された三角印とベースユニット７５ａの角度０°とが一致するようにする。
【０１２３】
例えば、塗幅を図１４（ｂ）に示すｗ３１（３０）とする場合、シリンダフランジ８２に記されている三角印とベースユニット７５ａに記されている３０°の刻印とを合わせることにより、中心線ｃ−ｃ'が副走査方向ｚ−ｚ'に対して３０°傾いた状態になる。このようにして、溶液５１を基板３１に塗布すると、塗幅は、ｗ３１（３０）となる。
【０１２４】
次に、構成例（２）は、図１９（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、３連ノズルプレートＮｐ３をノズルヘッド部７８の先端部分にセットして、副走査方向ｚ−ｚ'に対する中心線ｃ−ｃ'の角度を任意の角度に調整して固定できるようにした構成を有するものである。
【０１２５】
なお、ここではノズルプレートとして３連ノズルプレートＮｐ３を用いる場合について示すが、ノズルプレートとして２連ノズルプレートＮｐ２等を用いてもよい。
【０１２６】
このノズルヘッド部７８は、図１９（ａ）に示すように、本体部と、３連ノズルプレートＮｐ３と、ノズルキャップＮｃと、プレート押さえネジ９１と、回転止めナット９２と、によって構成される。
【０１２７】
本体部は、ヘッドシリンダ８１と、連結ユニット８３と、によって構成される。ヘッドシリンダ８１の先端側は、径が小さい小径部８１ａになっており、この小径部８１ａの外周面には、雄ネジが形成される。
【０１２８】
プレート押さえネジ９１は、３連ノズルプレートＮｐ３を押さえるためのものであり、内周面、外周面に、それぞれ、雌ネジ、雄ネジが形成される。
【０１２９】
回転止めナット９２は、プレート押さえネジ９１の回転を止めるためのナットであり、内周面に、ヘッドシリンダ８１の小径部８１ａの外周面に形成された雄ネジと噛み合う雌ネジが形成される。
【０１３０】
このノズルヘッド部７８を組み立てる場合、図１９（ａ）に示すように、３連ノズルプレートＮｐ３がノズルキャップＮｃにセットされる。このノズルキャップＮｃの内周面には、雌ネジが形成される。
【０１３１】
そして、図１９（ｂ）に示すように、ノズルキャップＮｃの内周面に形成された雌ネジとプレート押さえネジ９１の外周面に形成された雄ネジとを噛み合わせて、ノズルキャップＮｃをプレート押さえネジ９１にネジ込むことにより、３連ノズルプレートＮｐ３は、ノズルキャップＮｃとプレート押さえネジ９１とに挟まれて固定される。
【０１３２】
また、回転止めナット９２の内周面に形成された雌ネジとヘッドシリンダ８１の小径部８１ａの外周面に形成された雄ネジとを噛み合わせ、回転止めナット９２は、ヘッドシリンダ８１の小径部８１ａにネジ込まれる。
【０１３３】
そして、図１９（ｃ）に示すように、プレート押さえネジ９１の内周面に形成された雌ネジと、ヘッドシリンダ８１の小径部８１ａの外周面に形成された雄ネジと、を噛み合わせてプレート押さえネジ９１がヘッドシリンダ８１にネジ込まれ、回転止めナット９２がプレート押さえネジ９１に突き当たるまでネジ込まれて、プレート押さえネジ９１とノズルキャップＮｃとが固定される。
【０１３４】
このプレート押さえネジ９１のネジ込み位置が調節されて、副走査方向ｚ−ｚ'に対する３連ノズルプレートＮｐ３の中心線ｃ−ｃ'の角度が調節される。このヘッドシリンダ８１とプレート押さえネジ９１と回転止めナット９２とが回転機構部に相当する。
【０１３５】
以上説明したように、本実施形態２によれば、多連ノズルを回転させるようにした。
【０１３６】
このため、ベースユニット７５ａとノズルヘッド部７８の位置関係を任意の回転角度で取り付けることにより多連ノズルの角度を調整することが出来る。
【０１３７】
尚、本発明を実施するにあたっては、種々の形態が考えられ、上記実施形態に限られるものではない。
例えば、上記実施形態１では、複数のノズルは、同じノズル径を有しているものとして説明した。しかし、図２０（ａ），（ｂ）に示すように、３連ノズルプレートＮｐ３は、１系統の液圧系において、異なるノズル径を有する複数のノズルを配置したものであってもよい。
【０１３８】
図２０（ａ）は、中心のノズルのノズル径を、両側のノズルのノズル径よりも大きくした３連ノズルプレートＮｐ３を示すものである。主に、中心のノズルで溶液を塗布して、両サイドのノズルから吐出した溶液による液柱Ｌｐにより、隣接画素へのはみ出しを防止する効果が期待できる。
【０１３９】
また、この３連ノズルプレートＮｐ３を、９０°回転させて溶液を塗布することにより、細いノズルの液柱Ｌｐで事前に塗布して、直後に太いノズルの液柱Ｌｐで塗布することにより、溶液の飛び散り、飛散防止の効果が期待できる。
【０１４０】
図２０（ｂ）は、その逆パターンの３連ノズルプレートＮｐ３を示すものであり、両側のノズルのノズル径が中心のノズルのノズル径よりも大きくなっている。この３連ノズルプレートＮｐ３では、塗布部の溶液拡散効果を期待できる。
【０１４１】
また、図２１（ａ），（ｂ）に示すように、複数のノズル孔の吐出方向の中心線ｄ−ｄ'を、ノズルプレートの上面に垂直な方向ｖ−ｖ'に対して傾斜させるようにしてもよい。このような多連ノズルプレートでは、各ノズル孔のノズルプレートの上面に垂直な方向に対する傾斜角度を異ならせることで、複数のノズルから溶液を吐出したときに、塗布領域を絞り込む効果を期待できる。また、ノズルから塗布面までの距離を調節することにより、絞り込むだけでなく拡散させる効果も期待できる。
【０１４２】
また、複数のノズルはノズルプレートに対して一直線上に配置するだけでなく、任意のサイズで任意の位置に任意の角度で配置することにより、収束や拡散や渦などを発生させることも可能となる。
【０１４３】
また、上記実施形態では、２連ノズルプレートＮｐ２，３連ノズルプレートＮｐ３について説明した。しかし、ノズル孔の数は、３つ以上であってもよい。
【符号の説明】
【０１４４】
１０・・・発光装置、７８・・・ノズルヘッド部、８１・・・ヘッドシリンダ、８２・・・シリンダフランジ、Ｎｐ・・・ノズルプレート、Ｎｃ・・・ノズルキャップ、９１・・・プレート押さえネジ、９２・・・回転止めナット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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