(57)【要約】【課題】基板の搬送を停止させることなく浮上ステージから搬出し、基板の被処理面に対する転写痕の発生を抑制し、スループットを向上する。【解決手段】基板Ｇを浮上させた状態で搬送する浮上搬送部２Ａと、前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部２Ｂとを備え、前記浮上搬送部は、前記基板を浮上させる浮上ステージ３と、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレール５と、前記ガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な基板キャリア６とを有し、前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、基板キャリアによる吸着が解除される。【選択図】図１
2011049434.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアとを有し、
前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記基板キャリアによる吸着が解除されることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられ、前記基板の後端部を押すことにより、前記基板を基板搬送方向に移動可能な押出部とを有し、
前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板キャリアによる吸着が解除された後、前記押出部により押されて搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記押出部の移動が停止されることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板が前記浮上ステージ上を搬送される間に、前記基板キャリアによる前記基板への吸着が解除されることを特徴とする請求項２に記載された基板搬送装置。
【請求項４】
被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設された第１のガイドレールと、前記第１のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側縁部を下方から吸着保持可能な基板キャリアとを有し、
前記コロ搬送部は、前記搬送コロによって形成される基板搬送路の左右側方に敷設された第２のガイドレールと、前記第２のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の前縁部を下方から吸着保持可能なスライダとを有し、
前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記第１のガイドレールに沿って搬送され、
前記基板の先端が前記スライダの待機位置に到達すると、前記スライダが、前記基板キャリアの移動速度に同期して、前記第２のガイドレールに沿って移動し、
前記スライダにより前記基板が吸着保持されると、前記基板キャリアによる吸着が解除されることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項５】
前記スライダにより吸着保持され、前記コロ搬送部を搬送される前記基板は、その先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記スライダによる吸着が解除されることを特徴とする請求項４に記載された基板搬送装置。
【請求項６】
気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設されたガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記ガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、
さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、前記基板キャリアから前記基板を受け取り、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、
前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記ガイドレールに沿って搬送するステップと、
前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記基板キャリアによる吸着を解除するステップとを実行することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項７】
気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設されたガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記ガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、
さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、前記基板キャリアから前記基板を受け取り、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、
前記浮上搬送部において、前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記ガイドレールに沿って搬送するステップと、
前記基板キャリアによる前記基板への吸着を解除するステップと、
前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられた押出部により前記基板の後端部を押して前記基板を搬送するステップと、
前記基板の先端が、前記コロ搬送部の所定位置に到達すると、前記押出部の移動を停止するステップとを実行することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項８】
前記基板が前記浮上搬送部を搬送される間に、前記基板キャリアによる前記基板への吸着を解除するステップを実行することを特徴とする請求項７に記載された基板搬送装置。
【請求項９】
気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設された第１のガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の側縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記第１のガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、
さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、基板搬送方向に敷設された第２のガイドレールに沿って移動可能なスライダにより前記基板の前縁部を吸着保持し、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、
前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記第１のガイドレールに沿って搬送するステップと、
前記基板の先端が前記スライダの待機位置に到達すると、前記スライダを、前記基板キャリアの移動速度に同期させ、前記第２のガイドレールに沿って移動させるステップと、
前記スライダにより前記基板を吸着保持するステップと、
前記基板キャリアによる吸着を解除するステップとを実行することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項１０】
前記スライダにより吸着保持され、前記コロ搬送部を搬送される前記基板に対し、その先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記スライダによる吸着を解除するステップを実行することを特徴とする請求項９に記載された基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置及び基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
前記フォトリソグラフィ工程は、具体的には次のように行われる。
先ず、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜が形成される。そして、回路パターンに対応してレジスト膜が露光され、これが現像処理される。
【０００３】
ところで近年、このフォトリソグラフィ工程では、スループット向上の目的により、被処理基板を略水平姿勢の状態で搬送しながら、その被処理面に対しレジストの塗布、乾燥、加熱、冷却処理等の各処理を施す構成が多く採用されている。
前記基板搬送の構成としては、基板を略水平姿勢の状態で所定の高さに浮上させ、基板搬送方向に搬送する浮上搬送が注目されている。
【０００４】
この浮上搬送を用いた基板搬送装置は、特許文献１に開示されるように例えばレジスト塗布処理装置に採用されている。その従来の構成例について図１４に基づいて説明する。
図１４の基板搬送装置２００は、被処理基板であるＬＣＤ基板（液晶ディスプレイ基板）Ｇを浮上搬送するための浮上ステージ２０１と、浮上ステージ２０１の左右両側に敷設されたレール２０２と、基板Ｇの四隅付近を下方から吸着保持し、レール２０２上をスライド移動する４つの基板キャリア２０３とを備えている。
【０００５】
浮上ステージ２０１の上面には、上方（Ｚ方向）に向かって所定のガスを噴射するための多数のガス噴射口２０１ａと、吸気を行うための多数の吸気口２０１ｂとが夫々、Ｘ方向とＹ方向に一定間隔で交互に設けられている。そして、ガス噴射口２０１ａから噴射されるガス噴射量と吸気口２０１ｂからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、基板Ｇを浮上ステージ２０１の表面から一定の高さに浮上させるように構成されている。
【０００６】
さらに、浮上ステージ２０１の後段にはコロ搬送路２１０が設けられ、このコロ搬送路２１０においては、Ｙ方向に所定間隔を空けて設けられた複数のコロ軸２１１に複数の搬送コロ２１２が回転可能に設けられている。
また、このコロ搬送路２１０の左右両側にはレール２１５が敷設され、このレール２１５上を、基板Ｇの下面を吸着保持可能なスライダ２１６が移動可能に設けられている。このスライダ２１６は、基板Ｇを浮上ステージ２０１から搬送コロ２１２上に引き込むために用いられる。
【０００７】
また、この塗布処理装置にあっては、浮上ステージ２０１上で浮上搬送されるＬＣＤ基板Ｇの表面にレジスト液を供給するレジストノズル２０４と、レジストノズル２０４を洗浄するためのノズル洗浄ユニット２０５と、レジストノズル２０４を待機させるノズル待機部２０６とをさらに備えている。
【０００８】
レジスト液の塗布処理に際しては、浮上ステージ２０１上を浮上する基板Ｇは、レール２０２上をスライド移動する基板キャリア２０３により四隅が保持され、Ｙ方向に移動する。そして、基板Ｇがレジストノズル２０４の下方を移動する際、スリット状のノズル口（図示せず）よりレジスト液が帯状に供給され、レジスト液が基板Ｇの被処理面に塗布される。
【０００９】
浮上ステージ２０１上でのレジスト液の塗布処理が終了すると、基板Ｇは図１５（ａ）に示すように、基板キャリア２０３によって四隅が保持されたまま、コロ搬送路２１０に向けて移動する。
そして、図１５（ｂ）に示すように、基板Ｇの先端がコロ搬送路２１０の開始位置に達すると、基板キャリア２０３は移動を停止する。
ここで、コロ搬送路２１０の開始位置には、スライダ２１６が待機しており、スライダ２１６に昇降可能に設けられた吸着部２１６ａが上昇し、図１５（ｃ）に示すように基板Ｇの先端部下面を吸着保持する。
【００１０】
スライダ２１６の吸着部２１６ａによって基板Ｇの先端部が吸着保持されると、それまで基板Ｇを吸着保持していた基板キャリア２０３は、図１５（ｄ）に示すように基板吸着を解除する。
そして、図１５（ｅ）に示すように、レール２１５に沿ってスライダ２１６が基板搬送方向に移動し、基板Ｇの所定領域（例えば、基板Ｇの３分の１程度）を基板搬送路２１０上に引き込むと、スライダ２１６の吸着部２１６ａは吸着を解除する。ここで、基板Ｇは、搬送コロ２１２の駆動力によってコロ搬送路２１０上を搬送される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−２３７４８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
前記のように基板Ｇは、浮上ステージ２０１上でレジスト塗布された後、図１５（ｂ）〜図１５（ｄ）のように浮上ステージ２０１上で一時停止され、その後、搬送コロ２１２に引き渡されて搬送される。
しかしながら、そのように浮上ステージ２０１上で基板Ｇが一定期間停止されると、浮上ステージ２０１のガス噴射口２０１ａから噴射されるエアが基板下面の一定箇所に当たり続け、レジスト膜に温度変化等によって転写痕が生じる虞があった。
また、浮上搬送からコロ搬送に移行する際に、前記のように基板Ｇの搬送を一時停止するために、スループットが低下するという課題もあった。
【００１３】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板の搬送を停止させることなく浮上ステージから搬出し、基板の被処理面に対する転写痕の発生を抑制し、スループットを向上することのできる基板搬送装置及び基板搬送方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアとを有し、前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記基板キャリアによる吸着が解除されることに特徴を有する。
【００１５】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられ、前記基板の後端部を押すことにより、前記基板を基板搬送方向に移動可能な押出部とを有し、前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板キャリアによる吸着が解除された後、前記押出部により押されて搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記押出部の移動が停止されることに特徴を有する。
【００１６】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設された第１のガイドレールと、前記第１のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側縁部を下方から吸着保持可能な基板キャリアとを有し、前記コロ搬送部は、前記搬送コロによって形成される基板搬送路の左右側方に敷設された第２のガイドレールと、前記第２のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の前縁部を下方から吸着保持可能なスライダとを有し、前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記第１のガイドレールに沿って搬送され、前記基板の先端が前記スライダの待機位置に到達すると、前記スライダが、前記基板キャリアの移動速度に同期して、前記第２のガイドレールに沿って移動し、前記スライダにより前記基板が吸着保持されると、前記基板キャリアによる吸着が解除されることに特徴を有する。
【００１７】
前記のいずれかの構成によれば、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、被処理基板を一時停止することなく、高速な搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板に形成されたレジスト膜において、浮上搬送部でのエア噴射（吸引）による転写痕の発生を防止することができる。
【００１８】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送方法は、気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設されたガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記ガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、前記基板キャリアから前記基板を受け取り、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記ガイドレールに沿って搬送するステップと、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記基板キャリアによる吸着を解除するステップとを実行することに特徴を有する。
【００１９】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送方法は、気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設されたガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記ガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、前記基板キャリアから前記基板を受け取り、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、前記浮上搬送部において、前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記ガイドレールに沿って搬送するステップと、前記基板キャリアによる前記基板への吸着を解除するステップと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられた押出部により前記基板の後端部を押して前記基板を搬送するステップと、前記基板の先端が、前記コロ搬送部の所定位置に到達すると、前記押出部の移動を停止するステップとを実行することを特徴とする特徴を有する。
【００２０】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送方法は、気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設された第１のガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の側縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記第１のガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、基板搬送方向に敷設された第２のガイドレールに沿って移動可能なスライダにより前記基板の前縁部を吸着保持し、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記第１のガイドレールに沿って搬送するステップと、前記基板の先端が前記スライダの待機位置に到達すると、前記スライダを、前記基板キャリアの移動速度に同期させ、前記第２のガイドレールに沿って移動させるステップと、前記スライダにより前記基板を吸着保持するステップと、前記基板キャリアによる吸着を解除するステップとを実行することに特徴を有する。
【００２１】
前記のいずれかの方法によれば、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、被処理基板を一時停止することなく、高速な搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板に形成されたレジスト膜において、浮上搬送部でのエア噴射（吸引）による転写痕の発生を防止することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、基板の搬送を停止させることなく浮上ステージから搬出し、基板の被処理面に対する転写痕の発生を抑制し、スループットを向上することのできる基板搬送装置及び基板搬送方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、本発明にかかる第１の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる第１の実施形態の全体概略構成を示す断面図である。
【図３】図３は、図１の基板搬送装置のＡ−Ａ矢視図である。
【図４】図４は、本発明にかかる第１の実施形態の動作を示すフローである。
【図５】図５は、本発明にかかる第１の実施形態の動作を説明するための側面図である。
【図６】図６は、本発明にかかる第２の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図７】図７は、図６の基板搬送装置のＢ−Ｂ矢視図である。
【図８】図８は、本発明にかかる第２の実施形態の動作を示すフローである。
【図９】図９は、本発明にかかる第２の実施形態の動作を説明するための側面図である。
【図１０】図１０は、本発明にかかる第３の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図１１】図１１は、図１０の基板搬送装置のＣ−Ｃ矢視図である。
【図１２】図１２は、本発明にかかる第３の実施形態の動作を示すフローである。
【図１３】図１３は、本発明にかかる第３の実施形態の動作を説明するための側面図である。
【図１４】図１４は、従来の基板搬送装置（レジスト塗布処理ユニット）の概略構成を示す平面図である。
【図１５】図１５は、図１４の基板搬送装置の動作を説明するための側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の基板搬送装置にかかる実施形態を、図に基づいて説明する。先ず、図１乃至図４に基づき基板搬送装置の第１の実施形態について説明する。尚、この実施形態にあっては、基板搬送装置を、被処理基板であるガラス基板に対しレジスト塗布を行うレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明する。
【００２５】
この基板搬送装置１は、ガラス基板Ｇを浮上搬送するための浮上搬送部２Ａと、前記浮上搬送部２Ａから基板Ｇを受け取り、コロ搬送するコロ搬送部２Ｂとを備え、基板Ｇが所謂平流し搬送されるように構成されている。
前記浮上搬送部２Ａにおいては、基板搬送方向であるＹ方向に延長された浮上ステージ３が設けられている。浮上ステージ３の上面には、図示するように多数のガス噴出口３ａとガス吸気口３ｂとがＸ方向とＹ方向に一定間隔で交互に設けられ、ガス噴出口３ａからのガス噴出量と、ガス吸気口３ｂからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Ｇを浮上させている。尚、この実施形態においては、ガスの噴出及び吸気により基板Ｇを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
【００２６】
また、前記浮上ステージ３の幅方向（Ｘ方向）の左右側方には、Ｙ方向に平行に延びる一対のガイドレール５が設けられている。この一対のガイドレール５には、ガラス基板Ｇの四隅を下方から吸着保持してガイドレール５上を移動する４つの基板キャリア６が設けられている。これら基板キャリア６により浮上ステージ３上に浮上したガラス基板Ｇを搬送方向に沿って移動させる構成となされている。尚、この一対のガイドレール５は、浮上ステージ３の左右側方だけでなく、コロ搬送部２Ｂの側方にまで延設されている。
【００２７】
各基板キャリア６は、図３に示すように、ガイドレール５に沿って移動可能に設けられたスライド部材６ａと、基板Ｇの下面に対し吸引・開放動作により吸着可能な吸着部材６ｂと、吸着部材６ｂを昇降移動させるシリンダ部６ｃとを有する。尚、図３（ａ）は、吸着部材６ｂが上昇して基板Ｇに吸着した状態、図３（ｂ）は、吸着部材６ｂが基板Ｇに吸着せずに下降した状態を示している。また、吸着部材６ｂには、吸引ポンプ１３が接続され、基板Ｇとの接触領域の空気を吸引して真空状態に近づけることにより、基板Ｇに吸着するようになされている。
尚、前記スライド部材６ａと、シリンダ部６ｃと、吸引ポンプ１３は、それぞれコンピュータからなる制御部５０によって、その駆動が制御される。
【００２８】
また、基板搬送装置１のステージ３上には、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル７が設けられている。ノズル７は、例えばＸ方向に向けて長い略直方体形状に形成されている。また、ノズル７は、例えばガラス基板ＧのＸ方向の幅よりも長く形成されている。
また、図２に示すようにノズル７の下端部には、スリット状の吐出口７ａが形成され、このノズル７には，レジスト液供給源（図示せず）からレジスト液が供給されるようになされている。
【００２９】
図１に示すようにノズル７の両側には、Ｙ方向に延びるガイドレール８が形成されている。ノズル７は、ガイドレール８上を移動するノズルアーム９によって保持されている。このノズル７は、ノズルアーム９が有する駆動機構により、ガイドレール８に沿ってＹ方向に移動可能となされている。
また、ノズルアーム９には、昇降機構が設けられており、ノズル７は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図２に示すように、ノズル７は、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール１０及び待機部１２との間を移動可能となされている。
【００３０】
前記回転ロール１０は、洗浄タンク１１内に軸周りに回転可能に収容されている。尚、図２に示すノズル７の吐出口７ａを洗浄する際には、回転ロール１０の最上部にノズル７の吐出口７ａを近接させる。そして、回転ロール１０を回転させながら、吐出口７ａから回転ロール１０にレジスト液を吐出することにより、ノズル７の吐出口７ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられる。これにより、ノズル７の吐出口７ａにおけるレジスト液の吐出状態を安定させることができる。
前記回転ロール１０のさらに上流側には，ノズル７の待機部１２が設けられている。この待機部１２には，例えばノズル７を洗浄する機能やノズル７の乾燥を防止する機能が設けられている。
【００３１】
前記のように前記浮上搬送部２Ａの後段には、コロ搬送部２Ｂが設けられている。
このコロ搬送部２Ｂにおいては、ステージ３の後段に、コロ駆動部２５によって回転駆動される複数本のコロ軸１６が並列に設けられている。各コロ軸１６には、複数の搬送コロ１７が取り付けられ、これら搬送コロ１７の回転によって基板Ｇを搬送する構成となされている。
【００３２】
このように構成された基板搬送装置１においては、ステージ３上に搬入されたガラス基板Ｇは、先ず基板キャリア６によって吸着保持され、待機状態となされる（図４のステップＳ１、図５（ａ）の状態）。
この待機中において、ノズル７は図２に示すように待機部１２から回転ロール１０上に移動する。回転ロール１０が回転した状態で、ノズル７から回転ロール１０にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル７は、所定の吐出位置に移動する。
【００３３】
ステージ３上で待機していた基板Ｇは、基板キャリア６がレール５に沿って移動することによりステージ３上を浮上しながら、例えば５００ｍｍ／ｓの速度で搬送される（図４のステップＳ２）。
そして、ノズル７の吐出口７ａからはレジスト液が吐出され、ノズル７の下方を通過する基板Ｇの上面にレジスト液が塗布される（図４のステップＳ３、図５（ｂ）の状態）。
【００３４】
基板Ｇの全面にレジスト液が塗布されると、基板キャリア６により基板Ｇの四隅を吸着保持した状態で、速度を落とすことなく搬送を継続する（図４のステップＳ４、図５（ｃ）の状態）。
基板キャリア６がコロ搬送部２Ｂに達すると、図５（ｄ）に示すように、基板Ｇは次第に、その先端から後端に向けて搬送コロ１７上に載置され始める。
ここで、搬送コロ１７上に載置された基板先端からの長さＬが、センサ等の検出手段、或いは搬送速度をパラメータに用いた演算により検出開始される（図４のステップＳ５）。そして、前記長さＬが、所定長さ（例えば基板全長に対し１／３〜１／２程度）に達すると（即ち、基板Ｇの先端がコロ搬送部２Ｂの所定位置に到達すると（図４のステップＳ６））、基板キャリア６の吸着部材６ｂによる吸着が解除される（図５のステップＳ７）。また、吸着部材６ｂはシリンダ部６ｃにより下降される。
これにより、その後、基板Ｇは搬送コロ１７の駆動力のみで搬送され、浮上搬送からコロ搬送に搬送停止されることなく移行する（図４のステップＳ９、図５（ｅ）の状態）。
また、基板キャリア６は、ガイドレール５に沿って浮上搬送部２Ａの開始位置まで戻り、次の基板Ｇを吸着保持する。
【００３５】
以上のように、本発明に係る第１の実施形態によれば、基板Ｇは、浮上搬送部２Ａにおいて基板キャリア６により吸着保持されて搬送され、レジスト液塗布後も速度を落とすことなく、そのままコロ搬送部２Ｂへ搬送される。そして、基板Ｇの先端からの所定領域が搬送コロ１７上に載ると、基板キャリア６による吸着保持が解除され、基板Ｇは搬送コロ１７に引き渡される。
この構成により、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、基板Ｇを一時停止することなく、高速な搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板Ｇに形成されたレジスト膜において、浮上ステージ２０１でのエア噴射（吸引）による転写痕の発生を防止することができる。
【００３６】
続いて、本発明に係る第２の実施の形態について図６、図７を用いて説明する。尚、この第２の実施の形態において、前記第１の実施形態との共通部分については、同じ符号で示し、その詳細な説明は省略する。
この第２の実施の形態では、第１の実施形態での構成に加え、図６に示すように、ガイドレール５に沿って移動する４つの基板キャリア６の後方に（即ち、基板Ｇの後方に）、同じくガイドレール５に沿って移動可能に設けられた一対の押出部１５を備える。
この押出部１５は、前記基板キャリア６による基板保持が解除された際、基板Ｇの左右両側の後端部を基板搬送方向に押し続け、基板Ｇをコロ搬送部２Ｂに引き渡すために用いられる。
【００３７】
図７に示すように各押出部１５は、ガイドレール５に沿って移動可能に設けられたスライド部材１５ａと、基板後端部に当接可能に設けられた押板１５ｂと、押板１５ｂを昇降移動させるシリンダ部１５ｃとを備えている。
尚、図７（ａ）は、押板１５ｂが上昇し、基板後端部に当接した状態を示し、図７（ｂ）は、押板１５ｂが下降し、基板Ｇに接していない状態を示している。
また、スライド部材１５ａとシリンダ部１５ｃは、制御部５０の制御により駆動するように構成されている。
【００３８】
このように構成された基板搬送装置１においては、ステージ３上に搬入されたガラス基板Ｇは、先ず基板キャリア６によって吸着保持され、待機状態となされる（図８のステップＳｔ１、図９（ａ）の状態）。
この待機中において、ノズル７は図２に示すように待機部１２から回転ロール１０上に移動する。回転ロール１０が回転した状態で、ノズル７から回転ロール１０にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル７は、所定の吐出位置に移動する。
【００３９】
ステージ３上で待機していた基板Ｇは、基板キャリア６がレール５に沿って移動することによりステージ３上を浮上しながら、例えば５００ｍｍ／ｓの速度で搬送される（図８のステップＳｔ２）。尚、基板キャリア６に続いて、押出部１５もガイドレール５に沿って移動する。このとき、押出部１５の押板１５ｂは基板Ｇに接しないよう下降した状態となされる。
そして、ノズル７の吐出口７ａからはレジスト液が吐出され、ノズル７の下方を通過する基板Ｇの上面にレジスト液が塗布される（図８のステップＳｔ３、図９（ｂ）の状態）。
【００４０】
基板Ｇの全面にレジスト液が塗布されると、基板キャリア６の吸着部材６ｂによる基板Ｇへの吸着状態が解除される（図８のステップＳｔ４）。
ここで、基板Ｇの後ろに続いて移動していた押出部１５の押板１５ｂが上昇し（図８のステップＳｔ５）、押板１５ｂが基板後端部に当接する。
この押板１５ｂが基板後端部を押して浮上ステージ３上の基板Ｇを移動させることにより、基板搬送が速度を低下することなく継続して行われる（図８のステップＳｔ６、図９（ｄ）の状態）。
【００４１】
吸着保持が解除された基板キャリア６がコロ搬送部２Ｂに達すると、図９（ｄ）に示すように、その吸着部材６ｂが下降する。
ここで、搬送コロ１７上に載置された基板先端からの長さＬが、センサ等の検出手段、或いは搬送速度をパラメータに用いた演算により検出開始される（図８のステップＳｔ７）。そして、前記長さＬが所定長さ（例えば基板全長に対し１／３〜１／２程度）に達すると（即ち、基板Ｇの先端がコロ搬送部２Ｂの所定位置に到達すると（図８のステップＳｔ８））、押出部１５のガイドレール５に沿った移動が停止する（図８のステップＳｔ９）。
その後、基板Ｇは搬送コロ１７の駆動力のみで搬送され、浮上搬送からコロ搬送に搬送停止されることなく移行する（図８のステップＳｔ１０、図９（ｅ）の状態）。
また、押出部１５及び基板キャリア６は、ガイドレール５に沿って浮上搬送部２Ａの開始位置まで戻り、基板キャリア６は、次の基板Ｇを吸着保持する。
【００４２】
以上のように、本発明に係る第２の実施形態によれば、基板Ｇは、浮上搬送部２Ａにおいて基板キャリア６により吸着保持されて搬送され、吸着解除後に押出部１５の押板１５ｂにより後端部が押されコロ搬送部２Ｂへ引き渡される。
この構成により、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、基板Ｇを一時停止することなく、高速な搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板Ｇに形成されたレジスト膜において、浮上ステージ２０１でのエア噴射（吸引）による転写痕の発生を防止することができる。
【００４３】
尚、前記第２の実施の形態において、押出部１５の押板１５ｂは、シリンダ部１５ｃにより昇降移動する構成としたが、それに限定されず、押板１５ｂがロータリーアクチュエータ（図示せず）により回転して立ち上がり、基板Ｇの後端部に当接するよう構成してもよい。
【００４４】
続いて、本発明に係る第３の実施の形態について図１０、図１１を用いて説明する。尚、この第３の実施の形態において、前記第１、第２の実施形態との共通部分については、同じ符号で示し、その詳細な説明は省略する。
【００４５】
この第３の実施の形態にあっては、第１の実施形態の構成とは、コロ搬送部２Ｂの構成が異なる。
図１０に示すように、コロ搬送部２Ｂにおいては、複数本のコロ軸１６が並列に敷設され、第１、第２の実施形態と同様に各コロ軸１６に取り付けられた搬送コロ１７の回転によって基板Ｇを搬送するようになされている。尚、図１０においては、コロ軸１６を回転駆動するコロ駆動部２５（図１，図６参照）の図示を省略している。
複数のコロ軸１６によって形成される基板搬送路の左右両側には、一対のレール２６（第２のガイドレール）が敷設されている。また、各レール２６に沿って移動可能な一対のスライダ２７が設けられている。
【００４６】
各スライダ２７は、図１１に示すように、レール２６に沿ってスライド移動可能なスライド部材２７ｂと、このスライド部材２７ｂの上に設けられたシリンダ部２７ｃと、シリンダ部２７ｃによって昇降移動される保持部２７ａとからなる。前記保持部２７ａの上面には、基板Ｇの下面に対し吸着可能な吸着パッド（図示せず）が設けられている。
このスライダ２７は、浮上搬送部２Ａにおけるレジスト液の塗布終了後、保持部２７ａにより基板Ｇの下面を吸着保持し、レール２６に沿って移動して、基板Ｇをコロ搬送部２Ｂに引き渡すために用いられる。
【００４７】
尚、図１１（ａ）は、保持部２８が上昇し、基板Ｇの下面を吸着保持する状態を示し、図１１（ｂ）は、保持部２８が下降し、基板Ｇに接していない状態を示している。
また、スライド部材２７ｂとシリンダ部２７ｃは、制御部５０の制御により駆動するように構成されている。
【００４８】
このように構成された基板搬送装置１においては、ステージ３上に搬入されたガラス基板Ｇは、先ず基板キャリア６によって吸着保持され、待機状態となされる（図１２のステップＳｐ１、図１３（ａ）の状態）。
この待機中において、前記第１、第２の実施形態と同様に、具体的には図２に示したようにノズル７は待機部１２から回転ロール１０上に移動する。回転ロール１０が回転した状態で、ノズル７から回転ロール１０にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル７は、所定の吐出位置に移動する。
【００４９】
ステージ３上で待機していた基板Ｇは、基板キャリア６がレール５（第１のレール）に沿って移動することによりステージ３上を浮上しながら、例えば５００ｍｍ／ｓの速度で搬送される（図１２のステップＳｐ２）。
そして、ノズル７の吐出口７ａからはレジスト液が吐出され、ノズル７の下方を通過する基板Ｇの上面にレジスト液が塗布される（図１２のステップＳｐ３、図１３（ｂ）の状態）。
【００５０】
基板Ｇの全面にレジスト液が塗布されると、基板キャリア６により基板Ｇを吸着保持したまま、一定の速度Ｖ１（例えば７０ｍｍ／ｓ）でレール５に沿って移動開始する（図１２のステップＳｐ４、図１３（ｃ）の状態）。
基板キャリア６によって搬送される基板Ｇの先端がスライダ２７の待機位置（レール２６の始点付近）に到達すると、一対のスライダ２７はレール２６に沿って移動を開始する（図１２のステップＳｐ５、図１３（ｄ）の状態）。
【００５１】
スライダ２７の移動速度が、基板キャリア６と同じ速度Ｖ１になると、スライダ２７は、その速度を維持してレール２６に沿って移動する。このとき、基板Ｇの前縁部下方において、一対のスライダ２７が基板Ｇの搬送速度に同期して移動している状態となる。
次いで、スライダ２７においてシリンダ部２７ｃが駆動され、保持部２７ａが上昇する（図１２のステップＳｐ６）。
【００５２】
そして前記保持部２７ａが基板Ｇの前縁部下面に吸着し、スライダ２７によって基板Ｇが保持される（図１２のステップＳｐ７、図１３（ｅ）の状態）。
次いで、基板キャリア６による基板Ｇの吸着保持が解除され、図１３（ｆ）に示すように、その吸着部材６ｂが下降する。尚、基板キャリア６は、ガイドレール５に沿って浮上搬送部２Ａの開始位置まで戻り、次の基板Ｇを吸着保持する。
【００５３】
ここで、図１３（ｆ）に示すように、基板Ｇは、搬送コロ１７上をスライダ２７によって牽引されて移動する（図１２のステップＳｐ９）。
ここで、搬送コロ１７上に載置された基板先端からの長さＬが、センサ等の検出手段、或いは搬送速度をパラメータに用いた演算により検出開始される（図１２のステップＳｐ１０）。そして、前記長さＬが、所定長さ（例えば基板全長に対し１／２程度）に達すると（即ち、基板Ｇの先端がコロ搬送部２Ｂの所定位置に到達すると（図１２のステップＳｐ１１））、スライダ２７の保持部２７ａによる吸着が解除される（図１２のステップＳｐ１２）。尚、スライダ２７は、レール２６の開始点まで戻り、次の基板Ｇを待機する。
その後、基板Ｇは搬送コロ１７の駆動力のみで搬送され、浮上搬送からコロ搬送に搬送停止されることなく移行する（図１２のステップＳｐ１３）。
【００５４】
以上のように、本発明に係る第３の実施形態によれば、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、基板Ｇは、一定速度で移動する基板キャリア６から、その基板キャリア６の移動速度に同期して移動するスライダ２７に受け渡される。
この構成により、基板Ｇを一時停止することなく、所定の搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板Ｇに形成されたレジスト膜において、浮上ステージ２０１でのエア噴射（吸引）による転写痕の発生を防止することができる。
【００５５】
尚、前記第１乃至第３の実施の形態においては、本発明にかかる基板搬送装置をレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明したが、本発明にかかる基板搬送装置は、このユニットに限定されることなく、他の基板処理ユニット等においても好適に用いることができる。
【図１】
2011049434.tif 000003
【図２】
2011049434.tif 000004
【図３】
2011049434.tif 000005
【図４】
2011049434.tif 000006
【図５】
2011049434.tif 000007
【図６】
2011049434.tif 000008
【図７】
2011049434.tif 000009
【図８】
2011049434.tif 000010
【図９】
2011049434.tif 000011
【図１０】
2011049434.tif 000012
【図１１】
2011049434.tif 000013
【図１２】
2011049434.tif 000014
【図１３】
2011049434.tif 000015
【図１４】
2011049434.tif 000016
【図１５】
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