(57)【要約】【課題】有機化合物を均一に加熱して、有機化合物の安定成膜を長時間行うことができる有機電界発光素子成膜用組成物、並びに、該有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜及びその製造方法、及び該蒸着膜が形成された有機電界発光素子の提供。【解決手段】有機電界発光素子成膜用組成物は、分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物と、該有機化合物を溶解乃至分散可能な媒体とを含み、前記有機化合物の気化温度で前記媒体の成分が気化しない。媒体が、有機化合物塩、及び、数平均分子量が１０，０００以上の高分子化合物から選択される少なくとも１種である態様、などが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物と、該有機化合物を溶解乃至分散可能な媒体とを含み、前記有機化合物の気化温度で前記媒体の成分が気化しないことを特徴とする有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項２】
前記媒体の分解温度が、前記有機化合物の気化温度よりも３０℃以上高い請求項１に記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項３】
前記媒体が、有機化合物塩、及び、数平均分子量が１０，０００以上の高分子化合物から選択される少なくとも１種である請求項１から２のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項４】
前記有機化合物塩の陽イオンが、１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルピロリジニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオン、及びこれらの誘導体から選択される少なくとも１種であり、前記有機化合物塩の陰イオンが、ハロゲンアニオン、ボレート系アニオン、フォスフェート系アニオン、スルホネート系アニオン、及びイミド系アニオンから選択される少なくとも１種である請求項１から３のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項５】
前記有機化合物が、１×１０−２Ｐａ以下の圧力下での加熱により気化可能である請求項１から４のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項６】
前記有機化合物が、カルバゾール骨格を含む請求項１から５のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項７】
前記有機化合物が、白金錯体及びイリジウム錯体の少なくともいずれかを含む請求項１から６のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物を蒸着して、前記有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜を基材上に形成することを特徴とする蒸着膜の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の蒸着膜の製造方法により製造されたことを特徴とする蒸着膜。
【請求項１０】
前記媒体の成分を、前記有機化合物に対して０．００１ｍｏｌ％未満含む請求項９に記載の蒸着膜。
【請求項１１】
請求項９から１０のいずれかに記載の蒸着膜が少なくとも１層形成されたことを特徴とする有機電界発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機電界発光素子成膜用組成物、並びに、該有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜及びその製造方法、及び該蒸着膜が形成された有機電界発光素子（以下、「有機エレクトロルミネッセント素子」、「有機ＥＬ素子」と称することもある）に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機化合物を真空蒸着する方法として、（ｉ）有機化合物を金属ボート内に入れて、該金属ボートを通電することにより、前記有機化合物を昇華させ、基板に到達させて固化する方法、（ｉｉ）有機化合物をるつぼ内に入れて、該るつぼ周囲にフィラメントを配置して通電することにより、前記有機化合物を昇華させ、基板に到達させて固化する方法、などがある。
ところが、一般的に、有機化合物の成膜を長時間行う場合、溶融せずに気化する（昇華する）有機化合物は、一度溶融してから気化する有機化合物よりも蒸着安定性が低く、金属ボート乃至るつぼ内で有機化合物が崩落したり、金属ボート乃至るつぼの低熱伝導性により局所的に加熱されて分解が進んだりして、安定に長時間蒸着するのが困難な場合が多い。
特に、量産する場合においては、数百時間連続して、安定に蒸着を行う必要があるため、金属ボート乃至るつぼに投入される有機化合物は大量となり、溶融しない有機化合物では、均一に加熱するのが難しくなる。
そのため、従来までは、有機化合物に対して均一に熱を付与するために、金属ボート乃至るつぼ内を攪拌したり、有機化合物を少量づつ供給する機構を導入したりする必要があった。
【０００３】
なお、従来より、発光層への電荷の注入を促進するために、発光物質及び溶融塩を含む発光層形成用組成物を塗布乃至真空蒸着により成膜する方法があるが（例えば、特許文献１）、発光物質のみを安定成膜することができないという問題があった。
【０００４】
また、有機化合物を均一に加熱するために、金属と同等の導電率を有し、高温でも安定な粒状の添加剤（例えば、サーモボール(長洲産業株式会社製)）を有機化合物に添加する方法が既に行われているが、前記有機化合物の崩落による急激なレートのばらつきを抑制することができないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２０４７４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、有機化合物を均一に加熱して、有機化合物の安定成膜を長時間行うことができる有機電界発光素子成膜用組成物、並びに、該有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜及びその製造方法、及び該蒸着膜が形成された有機電界発光素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物と、該有機化合物を溶解乃至分散可能な媒体とを含み、前記有機化合物の気化温度で前記媒体の成分が気化しない有機電界発光素子成膜用組成物を加熱することにより、前記有機化合物を均一に加熱して、有機化合物の安定成膜を長時間行うことができることを知見した。
【０００８】
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞  分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物と、該有機化合物を溶解乃至分散可能な媒体とを含み、前記有機化合物の気化温度で前記媒体の成分が気化しないことを特徴とする有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜２＞  前記媒体の分解温度が、前記有機化合物の気化温度よりも３０℃以上高い前記＜１＞に記載の有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜３＞  前記媒体が、有機化合物塩、及び、数平均分子量が１０，０００以上の高分子化合物から選択される少なくとも１種である前記＜１＞から＜２＞に記載の有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜４＞  前記有機化合物塩の陽イオンが、１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルピロリジニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオン、及びこれらの誘導体から選択される少なくとも１種であり、前記有機化合物塩の陰イオンが、ハロゲンアニオン、ボレート系アニオン、フォスフェート系アニオン、スルホネート系アニオン、及びイミド系アニオンから選択される少なくとも１種である前記＜３＞に記載の有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜５＞  前記有機化合物が、１×１０−２Ｐａ以下の圧力下での加熱により気化可能である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜６＞  前記有機化合物が、カルバゾール骨格を含む前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜７＞  前記有機化合物が、白金錯体及びイリジウム錯体の少なくともいずれかを含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物である。
＜８＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物を蒸着して、前記有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜を基材上に形成することを特徴とする蒸着膜の製造方法である。
＜９＞  前記＜８＞に記載の蒸着膜の製造方法により製造されたことを特徴とする蒸着膜である。
＜１０＞  前記媒体の成分を、前記有機化合物に対して０．００１ｍｏｌ％未満含む前記＜９＞に記載の蒸着膜である。
＜１１＞  前記＜９＞から＜１０＞のいずれかに記載の蒸着膜が少なくとも１層形成されたことを特徴とする有機電界発光素子である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、有機化合物を均一に加熱して、有機化合物の安定成膜を長時間行うことができる有機電界発光素子成膜用組成物、並びに、該有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜及びその製造方法、及び該蒸着膜が形成された有機電界発光素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の有機電界発光素子の層構成の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（有機電界発光素子成膜用組成物）
本発明の有機電界発光素子成膜用組成物は、少なくとも、有機化合物と、媒体とを含有してなり、さらに必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
【００１２】
＜有機化合物＞
前記有機化合物としては、分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機電界発光素子用材料が好ましく、カルバゾール骨格を含む有機化合物、白金錯体及びイリジウム錯体の少なくともいずれかを含む有機化合物がより好ましい。
前記有機電界発光素子用材料としては、有機電界発光素子に用いられる有機化合物である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する有機電界発光素子で用いられる材料のうち分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物として、下記構造式（Ａ−１）〜（Ａ−１０）の化合物などが挙げられる。
前記カルバゾール骨格を含む有機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、下記構造式（Ａ−１）〜（Ａ−２）の化合物などが挙げられる。
前記白金錯体を含む有機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（Ａ−５）〜（Ａ−７）の化合物などが挙げられる。
前記イリジウム錯体を含む有機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（Ａ−８）〜（Ａ−１０）の化合物などが挙げられる。
【化１】
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【化２】
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【化３】
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【化４】
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【化５】
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【化６】
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【化７】
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【化８】
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【化９】
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【００１３】
前記有機化合物の分子量としては、２，０００以下である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００〜２，０００が好ましく、１５０〜１，５００がより好ましく、２００〜１，３００が特に好ましい。
前記分子量が２，０００を超えると、気化せずに加熱により分解することがある。一方、前記分子量が特に好ましい範囲内であると、安定に真空蒸着により成膜できる材料が多い点で有利である。
なお、上記構造式（Ａ−１）〜（Ａ〜１０）の分子量は、それぞれ、構造式（Ａ−１）：４０８、構造式（Ａ−２）：４８４、構造式（Ａ−３）：２７６、構造式（Ａ−４）：４１４、構造式（Ａ−５）：５９３、構造式（Ａ−６）：６３８、構造式（Ａ−７）：６１７、構造式（Ａ−８）：６５５、構造式（Ａ−９）：７５９、構造式（Ａ−１０）：１，１９８である。
【００１４】
＜媒体＞
前記媒体としては、有機化合物を溶解乃至分散可能であり、前記有機化合物の気化温度で成分が気化しない媒体である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機化合物の１×１０−２Ｐａ以下の圧力下における気化温度で液体の媒体が好ましく、融点が１００℃未満の媒体がより好ましい。
前記媒体の成分とは、媒体自身に加えて、媒体の分解物も含むものである。
【００１５】
また、前記媒体は、不揮発性の液体として取り扱うことができるので、予め、前記媒体と前記有機化合物とを混合しておけば、前記有機化合物の供給を自動化しやすい。
【００１６】
前記媒体の分解温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機化合物の気化温度よりも３０℃以上高いことが好ましく、４０℃以上高いことがより好ましく、５０℃以上高いことが特に好ましい。
前記媒体の分解温度と、前記有機化合物の気化温度との差が３０℃未満であると、前記媒体自身が気化したり、前記媒体が分解して、該分解物が気化することがある。一方、前記媒体の分解温度が特に好ましい範囲内であると、熱媒体の気化や分解を抑制でき、作製する薄膜や素子に悪影響を及ぼさない点で有利である。
なお、前記有機化合物が２種類以上の化合物の混合物である場合において、前記有機化合物の気化温度は、前記２種類以上の化合物の気化温度のうち最も高いものを示す。
また、前記媒体が２種類以上の化合物の混合物である場合において、前記媒体の分解温度は、前記２種類以上の化合物の分解温度のうち最も低いものを示す。
【００１７】
前記媒体の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機化合物塩（溶融塩、イオン性液体）、高分子化合物などが挙げられる。
【００１８】
−有機化合物塩（溶融塩、イオン性液体）−
前記有機化合物塩（溶融塩、イオン性液体）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、常温で液体である有機化合物塩が好ましく、常温で粘性の低い液体であり、非常に低い蒸気圧を示し、耐熱性及び熱伝導性が高い有機化合物塩がより好ましい。また、前記有機化合物塩（溶融塩、イオン性液体）は、前記有機化合物を溶解する性質を有するものが多い。
【００１９】
前記有機化合物塩（溶融塩、イオン性液体）具体例としては、１−ブチル−１−メチルピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート（下記構造式（Ｂ−１））、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ−ｎ−オクチルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド（下記構造式（Ｂ−２））、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムクロリド（下記構造式（Ｂ−３））、１−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート（下記構造式（Ｂ−６））、１−ブチルピリジニウムヘキサフルオロフォスフェート（下記構造式（Ｂ−８））、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド（下記構造式（Ｂ−１０））の有機化合物塩などが挙げられる。
【化１０】
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【化１１】
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【化１２】
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【化１３】
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【化１４】
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【化１５】
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前記有機化合物塩の陽イオンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルピロリジニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオン、これらの誘導体などが挙げられる。
前記有機化合物塩の陰イオンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ハロゲンアニオン、ボレート系アニオン、フォスフェート系アニオン、スルホネート系アニオン、及びイミド系アニオンなどが挙げられる。
【００２０】
−高分子化合物−
前記高分子化合物の数平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０，０００以上が好ましく、１３，０００以上がより好ましく、１５，０００以上が特に好ましい。
前記高分子化合物の数平均分子量が１０，０００未満であると、熱媒体として使用した場合に媒体も気化してしまう可能性がある。一方、前記高分子化合物の数平均分子量が特に好ましい範囲内であると、加熱により気化しにくい点で有利である。
このような高分子化合物としては、天然高分子、合成樹脂、シリコン樹脂、合成繊維、合成ゴムなどが挙げられ、気化したい有機材料の気化温度に応じて、融点、分解点が適当な材料を選択して用いることができる。
【００２１】
（蒸着膜及びその製造方法）
本発明の蒸着膜の製造方法は、少なくとも、蒸着膜形成工程を含み、さらに、必要に応じて適宜選択した、その他の工程を含む。
【００２２】
＜蒸着膜形成工程＞
前記蒸着膜形成工程は、本発明の有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物を蒸着して、前記有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜を基材上に形成する工程である。
前記蒸着膜形成工程における圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１×１０−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０−３Ｐａ以下がより好ましく、１×１０−４Ｐａ以下が特に好ましい。
前記蒸着膜形成工程における圧力が、１×１０−２Ｐａを超えると、平均自由工程が短くなり材料が基板に到達しにくくなることがある。一方、前記蒸着膜形成工程における圧力が、特に好ましい範囲内であると、成膜を行いやすく、残留ガスによる薄膜、素子への影響が少なくなる点で有利である。
前記蒸着膜形成工程における温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０℃〜５００℃が好ましく、７０℃〜４００℃がより好ましく、１００℃〜３００℃が特に好ましい。
前記蒸着膜形成工程における温度が、５０℃未満であると、気化した有機化合物が膜にならないことがあり、５００℃を超えると材料が分解することがある。一方、前記蒸着膜形成工程における温度が、特に好ましい範囲内であると、様々な、るつぼ、ボートを使用できる点で有利である。
【００２３】
−蒸着膜−
前記蒸着膜としては、本発明の有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機薄膜などが挙げられる。
前記蒸着膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００２４】
また、前記蒸着膜は、媒体の成分を有機化合物に対して０．００１ｍｏｌ％未満含む、即ち、実質的に媒体の成分を含まないことが好ましい。
【００２５】
−基材−
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する基板などが挙げられる。なお、「基材上」とは、「基材表面と接すること」乃至「基材上方」を意味する。
【００２６】
（有機電界発光素子）
本発明の有機電界発光素子は、陽極と陰極（電極）の間に、発光層を含む少なくとも１層の有機層を有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。前記有機電界発光素子の層のうち、少なくとも１層が本発明の蒸着膜である。
前記有機層は、少なくとも前記発光層を有し、電子輸送層、電子注入層、更に必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、などを有していてもよい。
【００２７】
＜発光層＞
前記発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
前記発光層は、発光材料のみで構成されていてもよく、ホスト材料と発光性ドーパントの混合層とした構成でもよい。発光性ドーパントは蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料を混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。
また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
前記発光層は、特に制限はなく、公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、スパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布法、転写法、印刷法、インクジェット方式、などにより好適に形成することができる。
【００２８】
前記発光層の厚さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、２ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、発光効率の観点から、３ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍが更に好ましい。また、前記発光層は１層であっても２層以上であってもよい。
【００２９】
前記発光性ドーパントとしては、燐光性発光材料、蛍光性発光材料等いずれもドーパント（燐光発光性ドーパント、蛍光発光性ドーパント）として用いることができる。
前記発光層は、色純度を向上させるためや発光波長領域を広げるために２種類以上の発光性ドーパントを含有することもできる。
【００３０】
前記燐光発光性ドーパントとしては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
前記遷移金属原子としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が好ましく、レニウム、イリジウム、及び白金がより好ましく、イリジウム、白金が特に好ましい。
ランタノイド原子としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、およびルテシウムが挙げられる。これらの中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
【００３１】
錯体の配位子としては、例えば、Ｇ．Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ等著，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ社１９８７年発行、Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著，「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」  Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
配位子としては、ハロゲン配位子（塩素配位子が好ましい）、芳香族炭素環配位子（例えば、シクロペンタジエニルアニオン、ベンゼンアニオン、ナフチルアニオンなどが挙げられ、炭素数５〜３０が好ましく、炭素数６〜３０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらにより好ましくは、炭素数６〜１２が特に好ましい）、含窒素ヘテロ環配位子（例えば、フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビピリジル、フェナントロリンなどが挙げられ、炭素数５〜３０が好ましく、炭素数６〜３０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらに好ましく、炭素数６〜１２が特に好ましい）、ジケトン配位子（例えば、アセチルアセトンなどが挙げられる）、カルボン酸配位子（例えば、酢酸配位子などが挙げられ、炭素数２〜３０が好ましく、炭素数２〜２０がより好ましく、炭素数２〜１６が特に好ましい）、アルコラト配位子（例えば、フェノラト配位子などが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらに好ましい）、シリルオキシ配位子（例えば、トリメチルシリルオキシ配位子、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルオキシ配位子、トリフェニルシリルオキシ配位子などが挙げられ、炭素数３〜４０が好ましく、炭素数３〜３０がより好ましく、炭素数３〜２０が特に好ましい）、一酸化炭素配位子、イソニトリル配位子、シアノ配位子、リン配位子（例えば、トリフェニルフォスフィン配位子などが挙げられ、炭素数３〜４０が好ましく、炭素数３〜３０がより好ましく、炭素数３〜２０がさらに好ましく、炭素数６〜２０が特に好ましい）、チオラト配位子（例えば、フェニルチオラト配位子などが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらに好ましい）、フォスフィンオキシド配位子（例えば、トリフェニルフォスフィンオキシド配位子などが挙げられ、炭素数３〜３０が好ましく、炭素数８〜３０がより好ましく、炭素数１８〜３０が特に好ましくい）が好ましく、含窒素ヘテロ環配位子がより好ましい。
上記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、２つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。
【００３２】
これらの中でも、発光性ドーパントとしては、例えば、ＵＳ６３０３２３８Ｂ１、ＵＳ６０９７１４７、ＷＯ００／５７６７６、ＷＯ００／７０６５５、ＷＯ０１／０８２３０、ＷＯ０１／３９２３４Ａ２、ＷＯ０１／４１５１２Ａ１、ＷＯ０２／０２７１４Ａ２、ＷＯ０２／１５６４５Ａ１、ＷＯ０２／４４１８９Ａ１、ＷＯ０５／１９３７３Ａ２、特開２００１−２４７８５９、特開２００２−３０２６７１、特開２００２−１１７９７８、特開２００３−１３３０７４、特開２００２−２３５０７６、特開２００３−１２３９８２、特開２００２−１７０６８４、ＥＰ１２１１２５７、特開２００２−２２６４９５、特開２００２−２３４８９４、特開２００１−２４７８５９、特開２００１−２９８４７０、特開２００２−１７３６７４、特開２００２−２０３６７８、特開２００２−２０３６７９、特開２００４−３５７７９１、特開２００６−２５６９９９、特開２００７−１９４６２、特開２００７−８４６３５、特開２００７−９６２５９等の特許文献に記載の燐光発光化合物などが挙げられる。中でも、Ｉｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｃｕ錯体、Ｒｅ錯体、Ｗ錯体、Ｒｈ錯体、Ｒｕ錯体、Ｐｄ錯体、Ｏｓ錯体、Ｅｕ錯体、Ｔｂ錯体、Ｇｄ錯体、Ｄｙ錯体、Ｃｅ錯体が好ましく、Ｉｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｒｅ錯体がより好ましい。中でも、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むＩｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｒｅ錯体が、さらにより好ましい。さらに、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、３座以上の多座配位子を含むＩｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｒｅ錯体が特に好ましい。
【００３３】
前記蛍光発光性ドーパントとしては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物（アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、またはペンタセンなど）、８−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、およびこれらの誘導体などが挙げられる。
【００３４】
発光性ドーパントとしては、例えば下記のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
【化１６】
2011034812.tif 000018
【００３６】
【化１７】
2011034812.tif 000019
【００３７】
【化１８】
2011034812.tif 000020
【００３８】
【化１９】
2011034812.tif 000021
【００３９】
【化２０】
2011034812.tif 000022
【００４０】
【化２１】
2011034812.tif 000023
【００４１】
発光層中の発光性ドーパントは、発光層中に一般的に発光層を形成する全化合物質量に対して、０．１質量％〜５０質量％含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から１質量％〜５０質量％含有されることが好ましく、２質量％〜４０質量％含有されることがより好ましい。
【００４２】
発光層の厚さは、特に限定されるものではないが、通常、２ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、中でも、外部量子効率の観点で、３ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、５ｎｍ〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。
【００４３】
前記ホスト材料としては、正孔輸送性に優れる正孔輸送性ホスト材料（正孔輸送性ホストと記載する場合がある）及び電子輸送性に優れる電子輸送性ホスト化合物（電子輸送性ホストと記載する場合がある）を用いることができる。
【００４４】
発光層内の正孔輸送性ホストとしては、例えば、以下の材料が挙げられる。
ピロール、インドール、カルバゾール、アザインドール、アザカルバゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン、カーボン膜、及び、それらの誘導体等が挙げられる。
インドール誘導体、カルバゾール誘導体、芳香族第三級アミン化合物、チオフェン誘導体であることが好ましく、分子内にカルバゾール基を有するものがより好ましく、ｔ−ブチル置換カルバゾール基を有する化合物が特に好ましい。
【００４５】
発光層内の電子輸送性ホストとしては、耐久性向上、駆動電圧低下の観点から、電子親和力Ｅａが２．５ｅＶ以上３．５ｅＶ以下であることが好ましく、２．６ｅＶ以上３．４ｅＶ以下であることがより好ましく、２．８ｅＶ以上３．３ｅＶ以下であることが特に好ましい。また、耐久性向上、駆動電圧低下の観点から、イオン化ポテンシャルＩｐが５．７ｅＶ以上７．５ｅＶ以下であることが好ましく、５．８ｅＶ以上７．０ｅＶ以下であることがより好ましく、５．９ｅＶ以上６．５ｅＶ以下であることが特に好ましい。
【００４６】
このような電子輸送性ホストとしては、具体的には、例えば、以下の材料が挙げられる。
ピリジン、ピリミジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾ−ル、オキサゾ−ル、オキサジアゾ−ル、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、フッ素置換芳香族化合物、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン、およびそれらの誘導体（他の環と縮合環を形成してもよい）、８−キノリノ−ル誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾ−ルやベンゾチアゾ−ルを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。
【００４７】
電子輸送性ホストとしては、金属錯体、アゾール誘導体（ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾピリジン誘導体等）、アジン誘導体（ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体等）が好ましく、中でも、耐久性の点から、金属錯体化合物がより好ましい。金属錯体化合物（Ａ）は、金属に配位する窒素原子、酸素原子及び硫黄原子の少なくともいずれかを有する配位子を有する金属錯体がより好ましい。
金属錯体中の金属イオンは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ベリリウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、亜鉛イオン、インジウムイオン、錫イオン、白金イオン、又はパラジウムイオンであることが好ましく、ベリリウムイオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、亜鉛イオン、白金イオン、又はパラジウムイオンがより好ましく、アルミニウムイオン、亜鉛イオン、又はパラジウムイオンが特に好ましい。
【００４８】
前記金属錯体中に含まれる配位子としては種々の公知の配位子が有るが、例えば、「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社、Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著、１９８７年発行、「有機金属化学−基礎と応用−」、裳華房社、山本明夫著、１９８２年発行等に記載の配位子が挙げられる。
【００４９】
前記配位子としては、含窒素ヘテロ環配位子（炭素数１〜３０が好ましく、炭素数２〜２０がより好ましく、炭素数３〜１５が特に好ましい）が好ましい。また、前記配位子としては、単座配位子であっても２座以上の配位子であってもよいが、２座以上６座以下の配位子であることが好ましい。また、２座以上６座以下の配位子と単座の混合配位子も好ましい。
前記配位子としては、例えば、アジン配位子（例えば、ピリジン配位子、ビピリジル配位子、ターピリジン配位子などが挙げられる。）、ヒドロキシフェニルアゾール配位子（例えば、ヒドロキシフェニルベンズイミダゾール配位子、ヒドロキシフェニルベンズオキサゾール配位子、ヒドロキシフェニルイミダゾール配位子、ヒドロキシフェニルイミダゾピリジン配位子などが挙げられる。）、アルコキシ配位子（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシロキシなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１０が特に好ましい。）、アリールオキシ配位子（例えば、フェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、２，４，６−トリメチルフェニルオキシ、４−ビフェニルオキシなどが挙げられ、炭素数６〜３０が好ましく、炭素数６〜２０がより好ましく、炭素数６〜１２が特に好ましい）などが挙げられる。
【００５０】
ヘテロアリールオキシ配位子（例えば、ピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１２が特に好ましい。）、アルキルチオ配位子（例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１２が特に好ましい。）、アリールチオ配位子（例えば、フェニルチオなどが挙げられ、炭素数６〜３０が好ましく、炭素数６〜２０がより好ましく、炭素数６〜１２が特に好ましい。）、ヘテロアリールチオ配位子（例えば、ピリジルチオ、２−ベンズイミゾリルチオ、２−ベンズオキサゾリルチオ、２−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１２が特に好ましい。）、シロキシ配位子（例えば、トリフェニルシロキシ基、トリエトキシシロキシ基、トリイソプロピルシロキシ基などが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましい、炭素数３〜２５がより好ましい、炭素数６〜２０が特に好ましい。）、芳香族炭化水素アニオン配位子（例えば、フェニルアニオン、ナフチルアニオン、およびアントラニルアニオンなどが挙げられ、炭素数６〜３０が好ましく、炭素数６〜２５がより好ましく、炭素数６〜２０が特に好ましい。）、芳香族ヘテロ環アニオン配位子（例えば、ピロールアニオン、ピラゾールアニオン、ピラゾールアニオン、トリアゾールアニオン、オキサゾールアニオン、ベンゾオキサゾールアニオン、チアゾールアニオン、ベンゾチアゾールアニオン、チオフェンアニオン、およびベンゾチオフェンアニオンなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数２〜２５がより好ましく、炭素数２〜２０が特に好ましい。）、インドレニンアニオン配位子などが挙げられ、含窒素ヘテロ環配位子、アリールオキシ配位子、ヘテロアリールオキシ基、シロキシ配位子などが好ましく、含窒素ヘテロ環配位子、アリールオキシ配位子、シロキシ配位子、芳香族炭化水素アニオン配位子、芳香族ヘテロ環アニオン配位子などがさらに好ましい。
【００５１】
金属錯体電子輸送性ホストの例としては、例えば、特開２００２−２３５０７６、特開２００４−２１４１７９、特開２００４−２２１０６２、特開２００４−２２１０６５、特開２００４−２２１０６８、特開２００４−３２７３１３等に記載の化合物が挙げられる。
【００５２】
発光層において、前記ホスト材料の三重項最低励起準位（Ｔ１）が、前記燐光発光材料のＴ１より高いことが色純度、発光効率、駆動耐久性の点で好ましい。
【００５３】
また、ホスト化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、発光効率、駆動電圧の観点から、発光層を形成する全化合物質量に対して１５質量％以上９５質量％以下であることが好ましい。
【００５４】
＜電子注入層、電子輸送層＞
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いる電子注入材料、電子輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
【００５５】
本発明の有機電界発光素子の電子注入層あるいは電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。電子注入層、あるいは電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Ｌｉなどのアルカリ金属、Ｍｇなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が４．２ｅＶ以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｓｍ、Ｇｄ、およびＹｂなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。
この他にも、特開平６−２１２１５３、特開２０００−１９６１４０、特開２００３−６８４６８、特開２００３−２２９２７８、特開２００４−３４２６１４等に記載の材料を用いることが出来る。
【００５６】
これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して０．１質量％〜９９質量％であることが好ましく、１．０質量％〜８０質量％であることがさらに好ましく、２．０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。
【００５７】
電子注入層、電子輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々５００ｎｍ以下であることが好ましい。
電子輸送層の厚さとしては、１ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、５ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。また、電子注入層の厚さとしては、０．１ｎｍ〜２００ｎｍであるのが好ましく、０．２ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、０．５ｎｍ〜５０ｎｍであるのが特に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【００５８】
＜正孔注入層、正孔輸送層＞
前記正孔注入層及び正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。該正孔注入層及び正孔輸送層は、単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
これらの層に用いられる正孔注入材料、又は正孔輸送材料としては、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
前記正孔注入材料又は正孔輸送材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、カーボン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５９】
前記正孔注入層、及び正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。
前記電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。
前記無機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば塩化第二鉄、塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモン等のハロゲン化金属；五酸化バナジウム、三酸化モリブデン等の金属酸化物、などが挙げられる。
前記有機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基等を有する化合物；キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレン、などが挙げられる。
これらの電子受容性ドーパントは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
前記電子受容性ドーパントの使用量は、特に制限はなく、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料又は正孔注入材料に対して０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．０５質量％〜３０質量％がより好ましく、０．１質量％〜３０質量％が更に好ましい。
【００６０】
前記正孔注入層及び正孔輸送層は、特に制限はなく、公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、スパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布法、転写法、印刷法、インクジェット方式、などにより好適に形成することができる。
前記正孔注入層及び正孔輸送層の厚さは、１ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜２５０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍが更に好ましい。
【００６１】
＜正孔ブロック層、電子ブロック層＞
前記正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が陰極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として設けられる。
前記電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として設けられる。
前記正孔ブロック層を構成する化合物としては、例えばＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、などが挙げられる。
前記電子ブロック層を構成する化合物としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが利用できる。
【００６２】
前記電子ブロック層及び正孔ブロック層は、特に制限はなく、公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、スパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布法、転写法、印刷法、インクジェット方式、などにより好適に形成することができる。
前記正孔ブロック層及び電子ブロック層の厚さは、１ｎｍ〜２００ｎｍであるのが好ましく、１ｎｍ〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであるのが更に好ましい。また、正孔ブロック層及び電子ブロック層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【００６３】
＜電極＞
本発明の有機電界発光素子は、一対の電極、即ち陽極と陰極とを含む。前記有機電界発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は透明であることが好ましい。通常、陽極は有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、陰極は有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよい。
前記電極としては、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、有機電界発光素子の用途、目的に応じて公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
前記電極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物等が好適に挙げられる。
【００６４】
−陽極−
前記陽極を構成する材料としては、例えば、アンチモン、フッ素等をドープした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物；金、銀、クロム、ニッケル等の金属；これらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物；ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質；ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料、又はこれらとＩＴＯとの積層物、などが挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物が好ましく、生産性、高導電性、透明性等の点からはＩＴＯが特に好ましい。
【００６５】
−陰極−
前記陰極を構成する材料としては、例えば、アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
これらの中でも、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
前記アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１質量％〜１０質量％のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）を魅する。
【００６６】
前記電極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができ、例えば印刷方式、コーティング方式等の湿式方式；真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式；ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式、などが挙げられる。これらの中でも、前記電極を構成する材料との適性を考慮し、適宜選択した方法に従って前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料としてＩＴＯを選択する場合には、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って形成することができる。陰極の材料として金属等を選択する場合には、その１種又は２種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って形成することができる。
【００６７】
なお、前記電極を形成する際にパターニングを行う場合は、フォトリソグラフィー等による化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザー等による物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
【００６８】
＜基板＞
本発明の有機電界発光素子は、基板上に設けられていることが好ましく、電極と基板とが直接接する形で設けられていてもよいし、中間層を介在する形で設けられていてもよい。
前記基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばイットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガラス（無アルカリガラス、ソーダライムガラス等）等の無機材料；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）等の有機材料、などが挙げられる。
【００６９】
前記基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。基板は透明でも不透明でもよく、透明な場合は無色透明でも有色透明でもよい。
【００７０】
前記基板には、その表面又は裏面に透湿防止層（ガスバリア層）を設けることができる。
前記透湿防止層（ガスバリア層）の材料としては、例えば窒化珪素、酸化珪素等の無機物などが挙げられる。
前記透湿防止層（ガスバリア層）は、例えば高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
【００７１】
＜その他の構成＞
前記その他の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護層、封止容器、樹脂封止層、封止接着剤などを挙げることができる。
前記保護層、前記封止容器、前記樹脂封止層、前記封止接着剤などの内容としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開２００９−１５２５７２号公報等に記載の事項を適用することができる。
【００７２】
図１は、本発明の有機電界発光素子の層構成の一例を示す概略図である。有機ＥＬ素子１０は、ガラス基板１上に形成された陽極２（例えばＩＴＯ電極）と、正孔注入層３と、正孔輸送層４と、発光層５と、電子輸送層６と、電子注入層７と、陰極８（例えばＡｌ−Ｌｉ電極）とをこの順に積層してなる層構成を有する。なお、陽極２（例えばＩＴＯ電極）と陰極８（例えばＡｌ−Ｌｉ電極）とは電源を介して互いに接続されている。
【００７３】
＜駆動＞
本発明の有機電界発光素子は、陽極と陰極との間に直流（必要に応じて交流成分を含んでもよい）電圧（通常２ボルト〜１５ボルト）、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
本発明の有機電界発光素子は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によりアクティブマトリックスへ適用することができる。薄膜トランジスタの活性層としてアモルファスシリコン、高温ポリシリコン、低温ポリシリコン、微結晶シリコン、酸化物半導体、有機半導体、カーボンナノチューブ等を適用することができる。
本発明の有機電界発光素子は、例えば国際公開２００５／０８８７２６号パンフレット、特開２００６−１６５５２９号公報、米国特許出願公開２００８／０２３７５９８号明細書などに記載の薄膜トランジスタを適用することができる。
【００７４】
本発明の有機電界発光素子は、特に制限はなく、種々の公知の工夫により、光取り出し効率を向上させることができる。例えば、基板表面形状を加工する（例えば微細な凹凸パターンを形成する）、基板、ＩＴＯ層、有機層の屈折率を制御する、基板、ＩＴＯ層、有機層の厚みを制御すること等により、光の取り出し効率を向上させ、外部量子効率を向上させることが可能である。
本発明の有機電界発光素子からの光取り出し方式は、トップエミッション方式であってもボトムエミッション方式であってもよい。
【００７５】
本発明の有機電界発光素子は、共振器構造を有してもよい。例えば、透明基板上に、屈折率の異なる複数の積層膜よりなる多層膜ミラー、透明又は半透明電極、発光層、及び金属電極を重ね合わせて有する。発光層で生じた光は多層膜ミラーと金属電極を反射板としてその間で反射を繰り返し共振する。
別の好ましい態様では、透明基板上に、透明又は半透明電極と金属電極がそれぞれ反射板として機能して、発光層で生じた光はその間で反射を繰り返し共振する。
共振構造を形成するためには、２つの反射板の有効屈折率、反射板間の各層の屈折率と厚みから決定される光路長を所望の共振波長を得るのに最適な値となるよう調整される。第１の態様の場合の計算式は、特開平９−１８０８８３号公報に記載されている。第２の態様の場合の計算式は、特開２００４−１２７７９５号公報に記載されている。
【００７６】
＜用途＞
本発明の有機電界発光素子は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信等に好適に利用できる。
前記有機ＥＬディスプレイをフルカラータイプのものとする方法としては、例えば「月刊ディスプレイ」、２０００年９月号、３３〜３７ページに記載されているように、色の３原色（青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ））に対応する光をそれぞれ発光する有機ＥＬ素子を基板上に配置する３色発光法、白色発光用の有機電界発光素子による白色発光をカラーフィルターを通して３原色に分ける白色法、青色発光用の有機電界発光素子による青色発光を蛍光色素層を通して赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ）に変換する色変換法、などが知られている。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００７８】
（実施例１）
まず、下記構造式（Ａ−１）の有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）５０質量％と、下記構造式（Ｂ−１）の媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）５０質量％と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した。
【化２２】
2011034812.tif 000024
【化２３】
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前記作製した有機電界発光素子成膜用組成物をアルミナるつぼ（商品名：ＡＬ−２０３、フルウチ化学製）に入れて、タングステンフィラメント（製品名：ＢＯＣ−１，フルウチ化学製）に設置して、１９０℃に加熱し、蒸着レート（狙いレート）が０．２０ｎｍ／ｓとして６０分間に亘って維持されるように、手動でタングステンフィラメントにおける電流値を制御した。その結果得られた、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び成膜期間中に発生した突沸回数を表１に示す。前記突沸は、狙いレートの±２０％を超えるレートが出た回数と定義し、有機化合物の粉末の崩落により生じるものと考えられる。なお、基板は、石英とした。
なお、有機化合物の気化温度、有機化合物の気化タイプ、媒体の融点、媒体の分解温度、蒸着レート、蒸着膜中における媒体成分の含有量を、それぞれ、以下のように測定乃至判定した。
【００７９】
＜有機化合物の気化温度の測定方法＞
振動子により有機化合物の蒸着レートをモニタし、レートが０．２ｎｍ／ｓに達したときの温度をるつぼ直下に設けた熱電対により測定し、気化温度とした。
【００８０】
＜有機化合物の気化タイプの判定方法＞
アルバック理工社製、ＶＡＰ−９０００を用いて、１×１０−３Ｐａの真空下で、室温から５００℃まで２℃／ｍｉｎで有機化合物を昇温した場合の熱重量分析及び示差熱分析を行った。重量減少が開始する前に吸熱が観測される（融点が存在）材料を溶融タイプと判定し、重量減少まで吸熱反応が起きない材料を昇華タイプと判定した。また、重量減少が完結する（初期に投入した重量全てが気化する）材料は、真空蒸着可能と判断し、重量減少が完結しない（残査が残る）材料は分解する材料と判断した。
【００８１】
＜媒体の融点、分解温度の測定方法＞
アルバック理工社製、ＶＡＰ−９０００を用いて、１×１０−３Ｐａの真空下で、室温から５００℃まで２℃／ｍｉｎで有機化合物を昇温した場合の熱重量分析及び示差熱分析を行った。重量減少が起きる前の吸熱反応の開始温度を融点とした。重量減少が生じ、減少が完結しない（残査が残る）材料は分解する材料と判断し、重量減少開始温度を分解温度とした。
【００８２】
＜蒸着レートの測定方法＞
各材料の蒸着レートは水晶振動子（ＵＬＶＡＣ社製）によりモニターし、６０分間の蒸着中に水晶振動子が示した最大蒸着速度を最大レート、最低蒸着速度を最低レートとして記録した。
【００８３】
＜蒸着膜中における媒体成分の含有量＞
ＸＰＳ（ＥＳＣＡ−３４００、島津製作所製）を用いて、薄膜の元素分析を行った。媒体の特徴的な元素（例えば、媒体Ｘ−１であれば硫黄原子の量）を検出することで、媒体成分の混入量を算出した。特徴的な元素の含有量を既知の化合物を同様の方法で分析して、分析で検出される値と実含有量との検量線を作成しておき、実含有量を算出した。なお、前記媒体成分とは、媒体自身に加えて、媒体の分解物（例えば、有機化合物塩の陰イオンなど）も含むものである。
【００８４】
（実施例２）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−２）の有機化合物Ｈ−２（３×１０−４Ｐａでの気化温度：２００℃、気化タイプ：昇華）と、下記構造式（Ｂ−２）の媒体Ｘ−２（融点：−７５℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化２４】
2011034812.tif 000026
【化２５】
2011034812.tif 000027
【００８５】
（実施例３）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−３）の有機化合物Ｐ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１００℃、気化タイプ：昇華）と、下記構造式（Ｂ−３）の媒体Ｘ−３（融点：７８℃（常温で液体でないので粉砕して粉末状にした）、分解温度：２１０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化２６】
2011034812.tif 000028
【化２７】
2011034812.tif 000029
【００８６】
（実施例４）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−４）の有機化合物Ｅ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１２０℃、気化タイプ：昇華）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化２８】
2011034812.tif 000030
【００８７】
（実施例５）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−５）の有機化合物Ｐｔ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：２７０℃、気化タイプ：昇華）と、媒体Ｘ−５のポリメチルメタクリレート（数平均分子量：１５，０００、融点：２６０℃（常温で液体でないので粉砕して粉末状にした）、分解温度：３５０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化２９】
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【００８８】
なお、ポリメチルメタクリレートの数平均分子量を以下の測定方法により測定した。
＜数平均分子量の測定方法＞
液体クロマトグラフィーにより平均分子量を測定した。カラムにＴＳＫｇｅｌを用い、溶離液としてクロロホルム、標準試料として分子量既知のポリスチレンを用いた。測定温度は４０℃とした。
【００８９】
（実施例６）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−６）の有機化合物Ｐｔ−２（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１８０℃、気化タイプ：昇華）と、下記構造式（Ｂ−６）の媒体Ｘ−６（融点：１５℃、分解温度：２５０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化３０】
2011034812.tif 000032
【化３１】
2011034812.tif 000033
【００９０】
（実施例７）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−７）の有機化合物Ｐｔ−３（３×１０−４Ｐａでの気化温度：２３０℃、気化タイプ：昇華）と、媒体Ｘ−２（融点：−７５℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化３２】
2011034812.tif 000034
【００９１】
（実施例８）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−８）の有機化合物Ｉｒ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：２２０℃、気化タイプ：昇華）と、下記構造式（Ｂ−８）の媒体Ｘ−８（融点：７６℃、分解温度：２５０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化３３】
2011034812.tif 000035
【化３４】
2011034812.tif 000036
【００９２】
（実施例９）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−９）の有機化合物Ｉｒ−２（３×１０−４Ｐａでの気化温度：２５０℃、気化タイプ：昇華）と、媒体Ｘ−２（融点：−７５℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化３５】
2011034812.tif 000037
【００９３】
（実施例１０）
実施例１において、有機化合物Ｈ−１（３×１０−４Ｐａでの気化温度：１９０℃、気化タイプ：溶融）と、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製する代わりに、下記構造式（Ａ−１０）の有機化合物Ｉｒ−３（３×１０−４Ｐａでの気化温度：２６０℃、気化タイプ：昇華）と、下記構造式（Ｂ−１０）の媒体Ｘ−１０（融点：−５０℃、分解温度：３５０℃）と、を混合して有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表１に示す。
【化３６】
2011034812.tif 000038
【化３７】
2011034812.tif 000039
【００９４】
（比較例１）
実施例１において、媒体Ｘ−１（融点：３℃、分解温度：３４０℃）を用いる代わりに、媒体Ｘ−３（融点：７８℃（常温で液体でないので粉砕して粉末状にした）、分解温度：２１０℃）を用いて有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表２に示す。
【００９５】
（比較例２）
実施例２において、媒体Ｘ−２（融点：−７５℃、分解温度：３４０℃）を用いる代わりに、媒体Ｘ−３（融点：７８℃（常温で液体でないので粉砕して粉末状にした）、分解温度：２１０℃）を用いて有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例２と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、蒸着膜中における媒体成分の含有量、及び突沸回数を測定した。その結果を表２に示す。
【００９６】
（比較例３）
実施例１において、媒体Ｘ−１を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【００９７】
（比較例４）
実施例２において、媒体Ｘ−２を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例２と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【００９８】
（比較例５）
実施例３において、媒体Ｘ−３を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例３と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【００９９】
（比較例６）
実施例４において、媒体Ｘ−１を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例４と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１００】
（比較例７）
実施例５において、媒体Ｘ−５を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例５と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１０１】
（比較例８）
実施例６において、媒体Ｘ−６を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例６同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１０２】
（比較例９）
実施例７において、媒体Ｘ−２を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例７と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１０３】
（比較例１０）
実施例８において、媒体Ｘ−８を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例８と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１０４】
（比較例１１）
実施例９において、媒体Ｘ−２を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例９と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１０５】
（比較例１２）
実施例１０において、媒体Ｘ−１０を混合せずに、有機電界発光素子成膜用組成物を作製した以外は、実施例１０と同様にして、蒸着レートのばらつき（最大レート、最小レート）、及び突沸回数を測定した。その結果を表３に示す。
【０１０６】
（実施例１１、１２、比較例１３、１４）
実施例１、２、比較例１、２で用いた有機電界発光素子成膜用組成物と、実施例６で用いた有機電界発光素子成膜用組成物とを、真空（圧力：３×１０−４  Ｐａ）中で、それぞれ加熱して、共蒸着膜を作製した。基板は石英とし、蒸着膜の厚みを３０ｎｍとした。有機化合物Ｐｔ−２の濃度が１５質量％となるように蒸着速度を調節した。得られた共蒸着膜のＰＬ量子収率を以下の方法により測定した。その結果を表４に示す。
【０１０７】
＜ＰＬ量子収率の測定方法＞
浜松ホトニクス社製、薄膜量子収率測定装置（Ｃ９９２０−０２）を用い、励起波長３５０ｎｍで測定を行った。
【０１０８】
（実施例１３、１４、比較例１５、１６）
実施例１１、１２、比較例１３、１４で作製した共蒸着膜を発光層とした有機ＥＬ素子を以下のように作製した。
有機ＥＬ素子の素子構成は、ＩＴＯ（１００ｎｍ）／２−ＴＮＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（Ｎ−（２−ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ）−トリフェニルアミン）＋０．３％Ｆ４ＴＣＮＱ（２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン）（１２０ｎｍ）／ＮＰＤ（ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル〕ベンジジン）（３０ｎｍ）／Ｈ−３（３，６−ジ（Ｎ−カルバゾリル）−Ｎ−フェニル−カルバゾール）（３ｎｍ）／発光層（ＥＭＬ）（３０ｎｍ）／ＢＡｌｑ（（ビス（２−メチル−８−キノリネート）４−フェニルフェノレート）アルミニウム）（３０ｎｍ）／ＬｉＦ（１ｎｍ）／Ａｌ（７０ｎｍ）とした。
得られた有機ＥＬ素子からは、有機化合物Ｐｔ−２由来の青色発光が観測された。
また、正面輝度（ｃｄ／ｍ２）と輝度半減期（耐久性）（単位：時間）を測定した。結果を表５に示す。発光面積は４ｍｍ２とした。発光層（ＥＭＬ）は、実施例１１及び１２、比較例１３及び１４と同様にして、作製した共蒸着膜とした。
【０１０９】
【化３８】
2011034812.tif 000040
【化３９】
2011034812.tif 000041
【化４０】
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【化４１】
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【化４２】
2011034812.tif 000044
【０１１０】
＜有機ＥＬ素子の作製＞
０．７ｍｍ厚み、２．５ｃｍ角のＩＴＯ付きガラス基板を洗浄容器に入れ、２−プロパノール中で超音波洗浄した後、酸素流量７０ｍＬ／分、処理理時間１分間、ＲＦパワー８０Ｗの条件で神港精機社製のＥＸＡＭ型プラズマクリーニング装置を用いて酸素プラズマ処理を行った。
次に、陽極（ＩＴＯ）上に、正孔注入層として、２−ＴＮＡＴＡを０．５ｎｍ／ｓで、Ｆ４ＴＣＮＱを０．００１５ｎｍ／ｓで共蒸着した。厚みを１２０ｎｍとした。
次に、正孔注入層上に、正孔輸送層として、α−ＮＰＤを０．１ｎｍ／ｓで厚み３０ｎｍに蒸着した。
次に、正孔輸送層上に、第２正孔輸送層として、Ｈ−３を０．１ｎｍ／ｓで厚み３ｎｍとなるように蒸着した。
次に、第２正孔輸送層上に発光層として、有機化合物Ｈ−２（３，３’−ジ−（Ｎ−カルバゾール）−ビフェニル）を０．０８５ｎｍ／ｓで、有機化合物Ｐｔ−２を０．０１５ｎｍ／ｓで共蒸着した。厚みを３０ｎｍとした。
次に、電子輸送層として、ＢＡｌｑを０．１ｎｍ／ｓで３０ｎｍ成膜した。
次に、電子輸送層上に、電子注入層としてＬｉＦを０．０５ｎｍ／ｓで厚み１ｎｍとなるように蒸着した。
次に、電子注入層上に、陰極としてパタ−ニングしたマスク（発光領域が２ｍｍ×２ｍｍとなるマスク）を設置し、金属アルミニウムを０．３ｎｍ／ｓで厚み７０ｎｍとなるように蒸着した。
以上により作製した積層体を、窒素ガスで置換したグローブボックス内に入れ、ガラス封止基板、及び紫外線硬化型の接着剤（ＸＮＲ５５１６ＨＶ、長瀬チバ株式会社製）を用いて封止した。
【０１１１】
＜正面輝度（単位：ｃｄ／ｍ２）の測定＞
東陽テクニカ（株）製ソースメジャーユニット２４００を用いて、直流電流０．５ｍＡを各素子に印加し、発光させた。その輝度をトプコン社製輝度計ＢＭ−８を用いて測定した。
【０１１２】
＜輝度半減期（耐久性）（単位：時間）の測定＞
各素子に０．５ｍＡの一定電流を連続通電し、輝度が初期輝度の半分になるまでの時間を測定した。
【０１１３】
（実施例１５、比較例１７、比較例１８）
実施例１３及び比較例１５の有機ＥＬ素子を各１０回作製し、それぞれ実施例１５、比較例１７の素子とした。また、熱媒体を全く用いないこと以外は、実施例１５と同様にして、同構成の素子を１０回作製し、比較例１８の素子とした。０．５ｍＡを素子に通電した際の正面輝度で、１０個の有機ＥＬ素子の中で最大の値と最小の値、ばらつき（＝（最大値−最小値）／最大値）を比較した。表６に結果を示す。
【０１１４】
【表１】
2011034812.tif 000045
【０１１５】
【表２】
2011034812.tif 000046
【０１１６】
【表３】
2011034812.tif 000047
【０１１７】
【表４】
2011034812.tif 000048
【０１１８】
【表５】
2011034812.tif 000049
【０１１９】
【表６】
2011034812.tif 000050
【０１２０】
表１〜３より、実施例１〜１０は、媒体を混合しない比較例３〜１２と比較して、明らかに、蒸着レートの安定性が改善した。また、実施例１〜１０では、有機化合物の気化温度において、成膜組成物が、粉の状態ではなく、液体の状態であるため、粉の崩落が起きず、急激な蒸着レートの上昇はいずれも見られなかった。蒸着した蒸着膜の組成分析をＸＰＳによって行ったところ、実施例１〜１０の蒸着膜については、媒体成分の蒸着膜への混入が０．００１ｍｏｌ％以下であることを確認し、比較例１〜２の蒸着膜については、媒体成分の蒸着膜への混入が０．０１ｍｏｌ％程度であることを確認した。比較例１〜２においては、有機化合物の気化温度と媒体の分解温度が近いために、媒体が気化したり、あるいは、分解した媒体成分が蒸着膜中に入ってしまったと考えられる。
【０１２１】
表３より、比較例３〜１２では、６０分程度の短い時間にもかかわらず、蒸着レートが大きくばらついており、有機化合物粉末の崩落による突沸が頻繁に起きていることがわかる。また、表３より、突沸は昇華タイプの有機化合物（比較例４〜１２）で、特に、起きやすいことが判る。
【０１２２】
表４より、比較例１３及び１４ではＰＬ量子収率が大きく低下していた。実施例１１及び１２では蒸着レートが安定し、且つ、媒体成分が蒸着膜中に混入しないよう選択したためにＰＬ量子収率も高い値を示した。
【０１２３】
表５より、実施例１３及び１４では、比較例１５及び１６と比較して、高い正面輝度、及び、高い耐久性（長い輝度半減期）が得られた。
【０１２４】
表６より、比較例１７の有機ＥＬ素子は、性能のばらつきが少ないものの、正面輝度が低い。また、比較例１８の素子は正面輝度は高いものの、繰り返し再現性が悪い。それに対し、実施例１５の有機ＥＬ素子は、正面輝度が高く、かつ、蒸着の安定性が改善した結果繰り返し再現性が改善していることが判る。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明の有機電界発光素子は、例えば表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信などに好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１２６】
１      基板
２      陽極
３      正孔注入層
４      正孔輸送層
５      発光層
６      電子輸送層
７      電子注入層
８      陰極
１０      有機ＥＬ素子
【図１】
2011034812.tif 000051
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月8日(2010.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物と、該有機化合物を溶解乃至分散可能な媒体とを含み、前記有機化合物の気化温度で前記媒体の成分が気化せず、
前記媒体が、１×１０−２Ｐａ以下の圧力下における前記有機化合物の気化温度で液体であり、かつ、分解温度が前記有機化合物の気化温度よりも３０℃以上高く、有機化合物塩、及び、数平均分子量が１０，０００以上のポリメチルメタクリレートから選択される少なくとも１種であることを特徴とする有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項２】
前記有機化合物塩の陽イオンが、１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルピロリジニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオン、及びこれらの誘導体から選択される少なくとも１種であり、前記有機化合物塩の陰イオンが、ハロゲンアニオン、ボレート系アニオン、フォスフェート系アニオン、スルホネート系アニオン、及びイミド系アニオンから選択される少なくとも１種である請求項１に記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項３】
前記有機化合物が、１×１０−２Ｐａ以下の圧力下での加熱により気化可能である請求項１から２のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項４】
前記有機化合物が、カルバゾール骨格を含む請求項１から３のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項５】
前記有機化合物が、白金錯体及びイリジウム錯体の少なくともいずれかを含む請求項１から４のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物を蒸着して、前記有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜を基材上に形成することを特徴とする蒸着膜の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の蒸着膜の製造方法により製造されたことを特徴とする蒸着膜。
【請求項８】
前記媒体の成分を、前記有機化合物に対して０．００１ｍｏｌ％未満含む請求項７に記載の蒸着膜。
【請求項９】
請求項７から８のいずれかに記載の蒸着膜が少なくとも１層形成されたことを特徴とする有機電界発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子量が２，０００以下の気化可能な有機化合物と、該有機化合物を溶解乃至分散可能な媒体とを含み、前記有機化合物の気化温度で前記媒体の成分が気化せず、
前記媒体が、１×１０−２Ｐａ以下の圧力下における前記有機化合物の気化温度で液体であり、かつ、分解温度が前記有機化合物の気化温度よりも３０℃以上高く、有機化合物塩、及び、数平均分子量が１０，０００以上のポリメチルメタクリレートから選択される少なくとも１種であることを特徴とする有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項２】
前記有機化合物塩の陽イオンが、１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルピロリジニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオン、及びこれらの誘導体から選択される少なくとも１種であり、前記有機化合物塩の陰イオンが、ハロゲンアニオン、ボレート系アニオン、フォスフェート系アニオン、スルホネート系アニオン、及びイミド系アニオンから選択される少なくとも１種である請求項１に記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項３】
前記有機化合物が、１×１０−２Ｐａ以下の圧力下での加熱により気化可能である請求項１から２のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項４】
前記有機化合物が、カルバゾール骨格を含む請求項１から３のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項５】
前記有機化合物が、白金錯体及びイリジウム錯体の少なくともいずれかを含む請求項１から４のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物を蒸着して、前記有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜を基材上に形成することを特徴とする蒸着膜の製造方法。