(57)【要約】【課題】高周波誘導加熱方式によりワークを連続して均一にしかも所望の高温度まで加熱することができる。【解決手段】ワークＷ１はセラミック製の無端状チェーン１７に載せられてワーク搬送経路４９を搬送されながら、高周波誘導コイル７１により加熱される。搬送中にはワークＷ１への高周波誘導コイル７１の対面位置が変わるので、ワークＷ１の各部位に対して与える加熱履歴の差を極力小さくすることができ、ワークＷ１の全体を実質的に均一に加熱することができる。高周波加熱は９００℃を超える高温になる場合もあるが、無端状チェーン１７はセラミックで構成されているので十分に耐えられる。また、無端状チェーン１７は搬送経路上では支持部５１により下側から支持されており、ワークＷ１は安定した状態で搬送されていく。【選択図】        図２
2011168829.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを載せて搬送する搬送経路を有するセラミック製の無端状チェーンが一対のスプロケットに巻掛けられてなるチェーンコンベアと、
前記搬送経路上の空間を上側から囲むように配置されて、前記チェーンコンベアにより搬送されるワークを誘導加熱する高周波誘導コイルを含む加熱手段と、
前記搬送経路を下側から支持するセラミック製の支持部を備える
ことを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項２】
請求項１に記載した高周波誘導加熱装置において、
無端状チェーンは平板部とヒンジ部とが交互に配されており、
支持部は断面凹状の受樋状になっており、
前記ヒンジ部が駆動側スプロケットの凹部に噛合して駆動力を受け取ると共に、搬送経路では支持部の凹底面上を摺動することを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項３】
請求項２に記載した高周波誘導加熱装置において、
無端状チェーンの平板部はヒンジ部より搬送方向両側に張り出しており、搬送経路ではそれぞれの張り出し部分は支持部の両側の立ち上がり壁上を摺動することを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、
搬送経路上には支持部の搬送方向両側から立ち上がるフード状カバーが設けられており、支持部と一体となって入口と出口だけが開口したトンネル空間が形成されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、
高周波誘導コイルは搬送経路及び支持部に対して螺旋状に巻かれた状態で配置されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、
高周波誘導コイルは渦巻状に巻かれた状態で搬送経路を上側から囲むように配置されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項７】
請求項１から４のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、
高周波誘導コイルは並列された状態で搬送経路を上側から囲むように配置されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、
加熱手段は高周波誘導コイルへの高周波出力を逐次変更可能になっており、高周波出力の微調整によりワークを所定の温度に加熱することを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、
チェーンコンベアはチェーンの送り速度を逐次変更可能になっており、送り速度の微調整によりワークを所定の温度に加熱することを特徴とする高周波誘導加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はワークを高周波誘導加熱により加熱する高周波誘導加熱装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークを高周波誘導加熱により加熱する装置としては特許文献１に記載されている高周波焼入れ装置がある。この高周波焼入れ装置はワークをハンドリングロボット等により装置内に投入し、加熱後に装置内からそのワークを取り出し、次のワークを投入して加熱する、所謂バッチ式となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３１８８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
而して、最近では、プレス部品でもハイテン材が使用されており、型の消耗が問題となっている。そのため、柔らかい状態で絞り曲げを実施し、後で高温で加熱して焼き入れしようとしたが、三次元に曲げ加工されたワークへの連続した均一の焼き入れは難しく、大規模なＳＵＳチェーンコンベア式無酸化焼入炉を使用するしかなかった。
本発明は、上記従来の問題点に着目して為されたものであり、上記のようなワークでも高周波を使用して高温にしかもワーク全体を実質的に均一に連続的に加熱することができる比較的コンパクトな加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、請求項１の発明は、連続的に加熱するために、ワークを載せて搬送する搬送経路を有するセラミック製の無端状チェーンが一対のスプロケットに巻掛けられてなるチェーンコンベアと、前記搬送経路上の空間を上側から囲むように配置されて、前記チェーンコンベアにより搬送されるワークを誘導加熱する高周波誘導コイルを含む加熱手段と、前記搬送経路を下側から支持するセラミック製の支持部を備えることを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【０００６】
請求項２の発明は、請求項１に記載した高周波誘導加熱装置において、無端状チェーンは平板部とヒンジ部とが交互に配されており、支持部は断面凹状の受樋状になっており、前記ヒンジ部が駆動側スプロケットの凹部に噛合して駆動力を受け取ると共に、搬送経路では支持部の凹底面上を摺動することを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【０００７】
請求項３の発明は、請求項２に記載した高周波誘導加熱装置において、無端状チェーンの平板部はヒンジ部より搬送方向両側に張り出しており、搬送経路ではそれぞれの張り出し部分は支持部の両側の立ち上がり壁上を摺動することを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【０００８】
請求項４の発明は、請求項１から３のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、搬送経路上には支持部の搬送方向両側から立ち上がるフード状カバーが設けられており、支持部と一体となって入口と出口だけが開口したトンネル空間が形成されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【０００９】
請求項５の発明は、請求項１から４のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、高周波誘導コイルは搬送経路及び支持部に対して螺旋状に巻かれた状態で配置されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【００１０】
請求項６の発明は、請求項１から４のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、高周波誘導コイルは渦巻状に巻かれた状態で搬送経路を上側から囲むように配置されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【００１１】
請求項７の発明は、請求項１から４のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、高周波誘導コイルは搬送方向に沿って並列された状態で搬送経路を上側から囲むように配置されていることを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【００１２】
請求項８の発明は、請求項１から７のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、加熱手段は高周波誘導コイルへの高周波出力を逐次変更可能になっており、高周波出力の微調整によりワークを所定の温度に加熱することを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【００１３】
請求項９の発明は、請求項１から８のいずれかに記載した高周波誘導加熱装置において、チェーンコンベアはチェーンの送り速度を逐次変更可能になっており、送り速度の微調整によりワークを所定の温度に加熱することを特徴とする高周波誘導加熱装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の高周波誘導加熱装置によれば、ジョイント部材のような三次元状に曲げ加工されたワークについても、９００℃を超える高温までしかもワーク全体を実質的に均一に加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１に係る高周波誘導加熱装置の斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る高周波加熱装置の要部斜視図である。
【図３】図１の高周波誘導加熱装置の無端状チェーンの組立状態を説明する斜視図である。
【図４】図１の高周波誘導加熱装置の搬送経路の斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態２に係る高周波誘導加熱装置の要部斜視図である。
【図６】本発明の実施の形態３に係る高周波誘導加熱装置の要部斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施の形態１に係る高周波誘導加熱装置１を図１から図４にしたがって説明する。
高周波誘導加熱装置１はワークＷ１を焼き入れするために用いられる。
ワークＷ１は、図２に拡大して示すように、パイプの連結に用いられる一対のジョイント部材のうちの一方であり、円筒を二つ割りにした構成部材が直交するように一体化された形状となっている。
【００１７】
図１において符号２はフレーム状架台を示し、この架台２上に後述の各部材が取り付けられている。
符号３、５は一対のスプロケットを示し、一対のスプロケット３、５は同形状となっている。スプロケット３、５は水平方向に間隔をあけて並設されている。スプロケット３、５の外周面には複数の凹部７が等間隔をおいて形成されている。スプロケット３、５はそれぞれ回転軸１１、１３に固定されており、これらの回転軸１１、１３はそれぞれ一組の軸受１５に回転自在に支持されている。全ての軸受１５は架台２に固定されている。
一方の回転軸１１はモーター（Ｍ）１６の駆動軸によって回転するようになっており、スプロケット３が駆動スプロケット、スプロケット５が従動スプロケットになっている。なお、スプロケット３、５は加熱領域に近いので、セラミックや銅製にすることが推奨される。
【００１８】
符号１７はセラミック製の無端状チェーンを示し、この無端状チェーン１７は一対のスプロケット３、５に巻掛けられて、スプロケット３の回転駆動により周回走行するようになっている。無端状チェーン１７は矩形の平板部１９と略円柱状のヒンジ部２１とが走行方向に沿って交互に並んで状態で連結されている。ヒンジ部２１は内方に向かって突出しているので、無端状チェーン１７の内方側は凹凸状態となっている。一方、ヒンジ部２１は外方に向かっては突出していないので、無端状チェーン１７の外方側は平坦な状態となっている。
ヒンジ部２１の介挿によりその両隣の平板部１９が回動自在になっている。
前述のスプロケット３、５に形成された凹部７の形成間隔は無端状チェーン１７のヒンジ部２１の間隔に対応している。
【００１９】
無端状チェーン１７はヒンジ部２１において分解可能になっており、分解すると、構成部材２３に分かれる。以下、図３にしたがって、構成部材２３の構成と構成部材２３どうしの連結方法について詳細に説明する。
構成部材２３は全て同じ構成を有しているが、各構成部材２３を区別するため、左側のものから右に向かって順次２３ａ、２３ｂ、２３ｃを便宜的に付すこととする。
構成部材２３は平板部１９を一つ備えており、平板部１９の左右方向の両側面は下方へ行くにしたがって互いに近づく傾斜面となっている。
【００２０】
符号２７はブッシュを示し、このブッシュ２７は略円筒状を為しており、軸上中心部は貫通穴２９になっている。ブッシュ２７の外周面が平板部１９の左側面に取り付けられている。ブッシュ２７の軸方向の寸法は平板部１９の左側面の寸法の約１／３になっており、ブッシュ２７は平板部１９の左側面の中心部分を跨いで対称に取り付けられている。
水平方向から見ると、ブッシュ２７の上側外周面は平板部１９の上面から滑らかに延び出て下降し、一方、ブッシュ２７の下側外周面は平板部１９の下面よりも下方へ向かって突出した状態で取り付けられている。
【００２１】
符号３１、３３は一対のブッシュを示し、この一対のブッシュ３１、３３は軸方向の寸法がブッシュ２７の約半分になっていることを除いては略同じ形状になっており、軸状中心部はそれぞれ貫通穴３５、３７となっている。ブッシュ３１の貫通穴３５側には雌ネジ３９が形成されている。
ブッシュ３１、３３の外周面が平板部１９の右側面に所定の間隔をあけてそれぞれ取り付けられている。この間隔は隣接する構成部材２３のブッシュ２７を僅かな隙間を残して挟めるように設定されている。従って、ブッシュ３１、３３は右側面の両端部より内方に引っ込んだ状態となっている。
水平方向から見ると、ブッシュ３１、３３はブッシ２７と同じように平板部１９に対して取り付けられている。
【００２２】
符号４３は連結ピンを示す。この連結ピン４３は丸棒状を為しており、一端側には雄ネジ４５が形成されている。連結ピン４３はブッシュ２７の貫通穴２９、ブッシュ３１の貫通穴３５、ブッシュ３３の貫通穴３７にそれぞれ挿通され、雄ネジ４５はブッシュ３１の雌ネジ３９に螺合するようになっている。
【００２３】
構成部材２３どうしの連結方法について説明する。
構成部材２３ｂの左側のブッシュ２７を構成部材２３ａの右側の二つのブッシュ３１、３３の間に差し込んで、ブッシュ３１の貫通穴３５、ブッシュ２７の貫通穴２９及びブッシュ３３の貫通穴３７を連通させる。
次いで、連結ピン４３を雄ネジ４５が形成されていない他端部側からブッシュ３１の貫通穴３５に挿通させ、さらにブッシュ２７の貫通穴２９及びブッシュ３３の貫通穴３７に挿通される。そして、連結ピン４３の雄ネジ４５をブッシュ３１の雌ネジ３９に螺合させる。これにより、構成部材２３ｂと構成部材２３ａが連結される。連結された状態では、連結ピン４３の両端部はブッシュ３１、３３から殆ど突出しておらず、１本の同軸の円柱部が形成された状態となっている。この１本の円柱部がヒンジ部２１になっている。
【００２４】
構成部材２３ｂ側のブッシュ３１、３３の間にも構成部材２３ｃ側のブッシュ２７が同じように差し込まれ、構成部材２３ｂと構成部材２３ｃも連結ピン４３により同じように連結される。
このように複数の構成部材２３が連結されて、無端状チェーン１７を構成している。連結された状態では、ヒンジ部２１の軸方向両端より外方に両隣の平板部１９は張り出している。
図２に示すように、無端状チェーン１７の周回走行路には上側水平ラインが含まれており、この部分がワークＷ１を載せて搬送するワーク搬送経路４９になっている。
【００２５】
図１において符号５１はセラミック製の支持部を示し、この支持部５１は架台２に持ち上げ支持されている。図４に示すように、この支持部５１は長手方向断面が凹状の受樋状になっており、中央部が凹部底面５３となっている。また、両側の立ち上がり壁の上面には段差が設けられており、外方側５５が内方側５７より一段低くなっている。
支持部５１はワーク搬送経路４９に下側から回り込んでおり、無端状チェーン１７が周回走行したときには支持部５１の凹部底面５３上を無端状チェーン１７のヒンジ部２１が摺動するようになっている。また、平板部１９の両側の張り出し部分が支持部５１の立ち上がり壁の内方側５７の上端面上を摺動するようになっている。このように、ワーク搬送経路４９は支持部５１により下側から支持されており、常に安定した水平軌道上にある。
【００２６】
図４において符号６１は石英から成るフード状カバーを示し、このフード状カバー６１は、筒状体を軸方向に一部切断したものからなる。フード状カバー６１の両側の切断部分が支持部５１の立ち上がり壁の外方側５５に取り付けられており、支持部５１と一体となってワーク搬送経路４９上にトンネル空間が形成されている。このトンネル空間の両端開口６３、６５のうち右側開口がワークＷ１の入口６３になっている。
【００２７】
図２において符号７１は銅パイプから成る高周波誘導コイルを示す。この高周波誘導コイル７１は螺旋状に巻かれており、フード状カバー６１と支持部５１を囲うように備えられている。したがって、ワーク搬送経路４９を上側からだけでなく、周囲から囲んでいることになる。運転時には、銅パイプが通電されると共に、銅パイプ内の空洞には冷却水が通される。
高周波誘導コイル７１の両端は高周波電源ユニット７３に接続されており、この高周波電源ユニット７３は出力を調整可能になっている。
加熱手段は高周波誘導コイル７１と高周波電源ユニット７３によって構成されている。
【００２８】
図２において符号８１は筒状カバーを示す。この筒状カバー８１はスプロケット５側では下側が切り欠けられた円弧状になっており、この円弧状部分でスプロケット３に上から被さっており、無端状チェーン１７をスプロケット３と共に囲んだ状態となっている。また、筒状カバー８１の上側開口８３はフード状カバー６１の左側開口６５の端部を上側から覆っており、筒状カバー８１とフード状カバー６１との境界に隙間は形成されていない。筒状カバー８１はスプロケット３の外周に沿って円弧状に湾曲した後は真直ぐ下降しており、下側開口８５は出口になっている。
従って、フード状カバー６１から筒状カバー８１にかけて入口６３と出口８５側のみ開口した閉鎖空間が形成されていることになる。
【００２９】
筒状カバー８１の下側開口８５の近傍にはガス供給管８９が接続されており、このガス供給管８９には図示しない不活性ガス供給手段が接続されている。この不活性ガス供給手段から窒素ガス、炭酸ガス、アルゴンガス等の不活性ガスが供給されるようになっており、供給された不活性ガスは、上記した閉鎖空間内を充満する。
【００３０】
符号９５は冷却タンクを示し、この冷却タンク９５は筒状カバー８１の下側開口８５から落下してくるワークＷ１を受け取る位置に備えられている。冷却タンク９５には冷却油が貯留されている。
【００３１】
次に、高周波誘導加熱装置１の動作について図２に従って説明する。
図示しない不活性ガス供給装置を作動させ、ガス供給管８９を介して不活性ガスをカバー８１、６１内に供給して充満させる。
モーター１６を作動させて、駆動スプロケット３を回転駆動し、その駆動力を駆動スプロケット３の凹部７に噛合した無端状チェーン１７のヒンジ部２１に伝達させることで、無端状チェーン１７が矢印に示すように周回走行させる。無端状チェーン１９はワーク搬送経路４９では、支持部５１により支持されて摺動する。
また、高周波電源ユニット７３を作動させ、高周波誘導コイル７１の銅パイプに高周波電流を供給すると共に、銅パイプ中の空洞に冷却水を通す。これによりワーク搬送経路４９は誘導加熱領域となる。
【００３２】
上記の準備を整えてから、複数のワークＷ１は図示しないワーク供給機によって、ワーク搬送経路４９上に順次連続して供給する。ワークＷ１は無端状チェーン１７に載りながら搬送され、その途中で入口６３からフード状カバー６１内に入り、高周波誘導コイル７１により加熱される。その後、筒状カバー８１内に入り、無端状チェーン１７の左端部に到達すると筒状カバー８１内に落下し、出口８５から排出される。そして、ワークＷ１は冷却タンク９５内に入り、冷却タンク９５内に貯留された冷却油によって急却される。これによりワークＷ１に焼き入れが施されたことになる。
【００３３】
このように高周波誘導加熱装置１によれば、搬送しながら加熱されるので、ワークＷ１への高周波誘導コイル７１の対面位置が異なる。したがって、ワークＷ１の各部位に対して与える加熱履歴の差を極力小さくすることができ、ワークＷ１の全体を実質的に均一に加熱することができる。
また、高周波電源ユニット７３は高周波出力を逐次変更可能になっており、無端状チェーン１７の送り速度も逐次変更可能になっているので、いずれか一方を一定にし、他方を僅かに変更することで微調整を行い、筒状フード８１の出口８５から出てきたワークＷ１の温度を所望のものとすることができる。
また、前述したようにカバー８１、６１内に不活性ガスを充満させているので、加熱によるワークＷ１の酸化を防止することができる。
さらに、ワークＷ１をワーク搬送経路４９に載せることにより連続的に効率良く加熱処理できる。
【００３４】
次に、実施の形態２に係る高周波誘導加熱装置１０１を図５にしたがって説明する。
実施の形態２に係る高周波誘導加熱装置１０１は、実施の形態１に係る高周波誘導加熱装置１と同様の構成部分を有するので、高周波誘導加熱装置１と同様の構成部分については、同じ符号を付すことで説明を省略する。
符号１０３は高周波誘導コイルを示し、この高周波誘導コイル１０３は渦巻状に巻かれており、フード状カバー６１を上側から囲むように湾曲形状に配置されている点が高周波誘導コイル７１と異なっている。
ワークＷ１の加熱温度が比較的低い場合にはこのように上側からのみワークＷ１に対して加熱するようにすることも可能である。
【００３５】
次に、実施の形態３に係る高周波誘導加熱装置１１１を図６にしたがって説明する。
実施の形態３に係る高周波誘導加熱装置１１１は、実施の形態１に係る高周波誘導加熱装置１と同様の構成部分を有するので、高周波誘導加熱装置１と同様の構成部分については、同じ符号を付すことで説明を省略する。
高周波誘導加熱装置１１１はワークＷ２を焼き入れするために用いられる。
ワークＷ２は、円筒を二つ割りにした構成部材が側方から見て略Ｌ字を為すように一体化された形状となっている。このワークＷ２を図６に示すように横置きにした場合には、ワークＷ２の横寸法は実施の形態１で説明したワークＷ１の幅寸法よりも大きくなる。
【００３６】
符号１１３は無端状チェーン１７の平板部を示し、この平板部１１３は、実施の形態１で説明した平板部１９よりも幅寸法の大きいものとなっている。従って、ワークＷ２のようなある程度横寸法の大きいものを平板部１１３に載せることが可能となっている。
符号１１５、１１５は一対のベースフレームを示し、このベースフレーム１１５、１１５はワークＷ２の搬送方向に沿って所定の間隔をおいて並列配置された状態でフレーム状架台２（図１参照）に持ち上げ支持されている。
符号１１７はセラミック製の支持部を示し、この支持部１１７はベースフレーム１１５、１１５間に架け渡されて持ち上げ支持されている。支持部１１７は長手方向断面が凹状の受樋状になっており、中央部が凹部底面５３となり、その両側が立ち上がり壁１１９となっている点は支持部５１と略同じであるが、長手方向両側は立ち上がり壁１１９を越えて外方に若干張り出している点が異なる。
【００３７】
このベースフレーム１１５、１１５上には、アーチ状部材１２１、１２１が立ち上がり壁１１９を跨いでそれぞれ取り付けられており、そのアーチ状部材１２１、１２１により支持プレート１２３が持ち上げ支持されている。
符号１２７は高周波誘導コイルを示し、この高周波誘導コイル１２７は支持部１１７の下側と支持プレート１２３の上側にそれぞれ４本ずつ配置されており、各高周波コイル１２７はワーク搬送経路４９に沿って直状に延びている。従って、高周波誘導コイル１２７はワーク搬送経路４９を上側と下側の両側から囲んだ状態となっている。
このように構成すれば、比較的大形のワークＷ２に対してもワーク全体を実質的に均一に加熱することができる。
【００３８】
以上、本発明の実施の形態について詳述してきたが、具体的構成は、この実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計の変更などがあっても発明に含まれる。
上記実施の形態１では高周波誘導コイル７１を螺旋状に形成し、実施の形態２では高周波誘導コイル１０３を渦巻状に形成し、また実施の形態３では高周波誘導コイル１２７を平行線状に形成したが、適宜変更してもよい。
上記実施の形態では、ワークＷ１に焼入れを施すために高周波誘導加熱装置１を用いたが、高周波誘導加熱装置１を焼入れ以外の用途に用いてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明の装置によれば、ワークでも９００℃を超える高温までしかもワーク全体に実質的に均一に加熱できるので、活用範囲は非常に広い。
【符号の説明】
【００４０】
１…高周波誘導加熱装置（実施の形態１）
３、５…スプロケット      ７…凹部      １１、１３…回転軸
１５…軸受      １６…モーター      １７…無端状チェーン
１９…平板部      ２１…ヒンジ部      ２３…構成部材      ２７…ブッシュ
２９…貫通穴      ３１、３３…ブッシュ      ３５、３７…貫通穴
３９…雌ネジ      ４３…連結ピン      ４５…雄ネジ
４９…ワーク搬送経路      ５１…支持部      ５３…凹部底面
５５…外方側立ち上がり壁      ５７…内方側立ち上がり壁
６１…フード状カバー      ６３、６５…開口
７１…高周波誘導コイル      ７３…高周波電源ユニット
８１…筒状カバー      ８３、８５…開口
８９…ガス供給管      ９５…冷却タンク
１０１…高周波誘導加熱装置（実施の形態２）      １０３…高周波誘導コイル
１１１…高周波誘導加熱装置（実施の形態３）      １１３…平板部
１１５…ベースフレーム      １１７…支持部      １１９…立ち上がり壁
１２１…アーチ状部材      １２３…支持プレート
１２７…高周波誘導コイル
Ｗ１、Ｗ２…ワーク
【図１】
2011168829.tif 000003
【図２】
2011168829.tif 000004
【図３】
2011168829.tif 000005
【図４】
2011168829.tif 000006
【図５】
2011168829.tif 000007
【図６】
2011168829.tif 000008