(57)【要約】【課題】液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うこと。【解決手段】基材上に方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって、同一方向に沿う線毎に描画する方法であって、複数の線のうち、幅の最も狭い線とは方向が異なり且つ幅が広い線を、該幅の最も狭い線を描画する際に吐出する液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって描画する。【選択図】        図１
2011011156.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、それぞれ前記基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって、同一方向に沿う線毎に描画する方法であって、
前記複数の線のうち、幅の最も狭い線とは方向が異なり且つ幅が広い線を、該幅の最も狭い線を描画する際に吐出する液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって描画することを特徴とするパターン描画方法。
【請求項２】
基材上に、１又は２以上の直線からなる第１の配線と、少なくとも該第１の配線における最も幅が狭い配線よりも幅が広い１又は２以上の直線からなる第２の配線とによって構成され、前記第１の配線と前記第２の配線とが互いに異なる第１の方向及び第２の方向に沿って混在するように配置される配線パターンを、それぞれ前記基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出することによって、第１の方向又は第２の方向に沿う配線毎に描画する方法であって、
前記第１の配線を、前記基材上の第１の方向に沿って描画する工程と、
前記第２の配線を、前記基材上の第２の方向に沿い、且つ、前記第１の配線を描画する際に使用される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出することによって描画する工程とを有することを特徴とする配線パターン描画方法。
【請求項３】
前記第１の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第１の配線における最も幅の狭い配線幅に対応し、前記第２の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第２の配線における最も幅の狭い配線幅に対応することを特徴とする請求項２記載の配線パターン描画方法。
【請求項４】
前記第１の配線を描画する工程は、前記第１の配線を、第１の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第１の方向に相対的に移動させながら描画し、
前記第２の配線を描画する工程は、前記第２の配線を、前記第１の液滴吐出ヘッドのノズルから吐出される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出する第２の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第２の方向に相対的に移動させながら描画することを特徴とする請求項２又は３記載の配線パターン描画方法。
【請求項５】
前記基材は長辺と短辺とからなる長方形状であり、
前記第１の配線を描画する工程では、前記第１の配線を、前記基材の短辺に沿う方向に描画し、
前記第２の配線を描画する工程では、前記第２の配線を、前記基材の長辺に沿う方向に描画することを特徴とする請求項２、３又は４記載の配線パターン描画方法。
【請求項６】
基材上に、１又は２以上の直線からなる第１の配線と、少なくとも該第１の配線における最も幅が狭い配線よりも幅が広い１又は２以上の直線からなる第２の配線とによって構成され、前記第１の配線と前記第２の配線とが互いに異なる第１の方向及び第２の方向に沿って混在するように配置される配線パターンを、それぞれ前記基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出することによって、第１の方向又は第２の方向に沿う配線毎に描画する薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、
前記第１の配線を、前記基材上の第１の方向に沿って描画する工程と、
前記第２の配線を、前記基材上の第２の方向に沿い、且つ、前記第１の配線を描画する際に使用される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出することによって描画する工程とを有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第１の配線における最も幅の狭い配線幅に対応し、前記第２の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第２の配線における最も幅の狭い配線幅に対応することを特徴とする請求項６記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１の配線を描画する工程は、前記第１の配線を、第１の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第１の方向に相対的に移動させながら描画し、
前記第２の配線を描画する工程は、前記第２の配線を、前記第１の液滴吐出ヘッドのノズルから吐出される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出する第２の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第２の方向に相対的に移動させながら描画することを特徴とする請求項６又は７記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
【請求項９】
前記基材は長辺と短辺とからなる長方形状であり、
前記第１の配線を描画する工程では、前記第１の配線を、前記基材の短辺に沿う方向に描画し、
前記第２の配線を描画する工程では、前記第２の配線を、前記基材の長辺に沿う方向に描画することを特徴とする請求項６、７又は８記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターン描画方法、配線パターン描画方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法に関し、詳しくは、基材上に方向と幅の異なる複数の線からなるパターンを高速に描画することのできるパターン描画方法、配線パターン描画方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、インクジェットプリンタなど、液滴吐出ヘッドに等ピッチで配列されたノズル列から、インクを吐出することによりドットを形成する描画装置では、１つのインクジェットヘッドを基材に対して主走査方向及び副走査方向に相対的に移動しながらインクを吐出することによって所定の描画を行っている（例えば特許文献１）。
【０００３】
このような描画装置を用いてＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）の配線パターンを形成する場合、基材に対して液滴吐出ヘッドを相対的に走査移動させながら機能液滴（導電性インク）を吐出することにより、セル毎に機能する周期的なパターンを形成することが考えられる。セルは各々半導体や複数の配線等を有する機能パターンを有するものであり、同一パターンのセルを基材上にマトリクス状に繰り返し形成することで、所定の配線パターンを有する薄膜トランジスタ基板が作製される。１つのセル中には、互いに異なる方向に沿って延びる配線が混在している。
【０００４】
このような薄膜トランジスタ基板では、各配線を高精度に描画することが重要である。このため、本出願人は、方向の異なる直線を描画する際に、同一方向の直線毎に、それぞれ基材に対する液滴吐出ヘッドの相対的な移動方向を一方向（例えばノズル列と直交する方向）に移動させるようにすることで、高精細な直線を描画することを提案している（先願明細書）。直線の描画を液滴吐出ヘッドのノズル列と直交方向（主走査方向）に沿って行う場合とノズル列方向（副走査方向）に沿って行う場合とを混在させると、ノズルの加工精度のばらつきやステージ精度のばらつき、複数のヘッドを備える場合には各ヘッド間の取り付け位置のばらつき等によって、直線の方向毎の精度にばらつきが生じてしまい、高精細な直線を描画することが困難となるためである。
【０００５】
従って、方向の異なる複数の配線を高精度に描画するためには、同一方向の配線毎に、基材に対する液滴吐出ヘッドの相対的な移動方向を一方向にして描画を行うことが好ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２７５６３６号公報
【先願明細書】
【０００７】
特願２００８−３１４６４４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
薄膜トランジスタ基板を製造する場合には、高密度パターンへのニーズがあり、これに応えるためにセルサイズをより小さくすることが求められている。
【０００９】
セルサイズを小さくするには、機能液滴によって描画される配線の幅を狭く（細く）することが有効である。しかし、その一方で、電源と接続される配線等のように電気抵抗の増大化を抑える必要がある配線は、幅をなるべく広くしたい要請もある。このため、同一の基材上には、幅の異なる配線が混在することとなる。
【００１０】
このような薄膜トランジスタ基板の配線パターンを描画する場合の液滴吐出ヘッドには、吐出した機能液滴が基材上に着弾した時に、描画すべき複数の配線のうちの最も幅の狭い配線に対応したドット径となるノズルが備えられる。最も幅の狭い配線は１つのノズル単独で機能液滴を連続して吐出することによって描画され、それよりも幅の広い配線は、その幅に応じて、同一の液滴吐出ヘッドの隣接する２以上のノズルから機能液滴を吐出して並列に着弾させた連続するドットによって描画される。あるいは、１本の幅広の配線を描画するために、基材と液滴吐出ヘッドとの相対的な移動を複数回繰り返す場合もある。
【００１１】
ところで、液滴吐出ヘッドを用いて各種のパターン描画を行う製造技術分野においては、高効率化のために描画のより一層の高速化が求められるようになってきており、薄膜トランジスタ基板の配線パターンの描画においても、この高速化が要望されている。
【００１２】
しかしながら、上記のように最も幅狭の配線を描画するために液滴吐出ヘッドから吐出される機能液滴のドット径を幅狭の配線に合わせて小さくすると、所定距離のラインを描画し終えるまでにかかる時間が長くなってしまう。しかも、液滴吐出ヘッドの吐出周波数には限界があるため、高精度の描画のためには液滴吐出ヘッドの基材に対する相対的な移動時間（移動速度）を遅くする必要がある。このため、描画時間の増大化につながる問題があり、描画の高速化にも限界があった。
【００１３】
このような問題は、薄膜トランジスタ基板の製造の場合に限らず、液滴吐出ヘッドによって同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することにより描画する場合に同様に見られる問題である。
【００１４】
特許文献１には、液滴吐出ヘッドの走査方向に対する角度を変更することによって、ノズルピッチを変更させ、各ノズルから吐出される液滴の着弾密度を調整することが記載されるが、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することにより描画する場合の描画時間の増大化の問題を解決することの記載はない。
【００１５】
そこで、本発明の課題は、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うことのできるパターン描画方法を提供することにある。
【００１６】
また、本発明の他の課題は、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の配線が混在するパターンを、同一方向の配線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うことのできる配線パターン描画方法を提供することにある。
【００１７】
また、本発明の更に他の課題は、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の配線が混在するパターンを、同一方向の配線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うことのできる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供することにある。
【００１８】
本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
【００２０】
請求項１記載の発明は、基材上に方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、それぞれ前記基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって、同一方向に沿う線毎に描画する方法であって、
前記複数の線のうち、幅の最も狭い線とは方向が異なり且つ幅が広い線を、該幅の最も狭い線を描画する際に吐出する液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって描画することを特徴とするパターン描画方法である。
【００２１】
請求項２記載の発明は、基材上に、１又は２以上の直線からなる第１の配線と、少なくとも該第１の配線における最も幅が狭い配線よりも幅が広い１又は２以上の直線からなる第２の配線とによって構成され、前記第１の配線と前記第２の配線とが互いに異なる第１の方向及び第２の方向に沿って混在するように配置される配線パターンを、それぞれ前記基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出することによって、第１の方向又は第２の方向に沿う配線毎に描画する方法であって、
前記第１の配線を、前記基材上の第１の方向に沿って描画する工程と、
前記第２の配線を、前記基材上の第２の方向に沿い、且つ、前記第１の配線を描画する際に使用される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出することによって描画する工程とを有することを特徴とする配線パターン描画方法である。
【００２２】
請求項３記載の発明は、前記第１の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第１の配線における最も幅の狭い配線幅に対応し、前記第２の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第２の配線における最も幅の狭い配線幅に対応することを特徴とする請求項２記載の配線パターン描画方法である。
【００２３】
請求項４記載の発明は、前記第１の配線を描画する工程は、前記第１の配線を、第１の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第１の方向に相対的に移動させながら描画し、
前記第２の配線を描画する工程は、前記第２の配線を、前記第１の液滴吐出ヘッドのノズルから吐出される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出する第２の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第２の方向に相対的に移動させながら描画することを特徴とする請求項２又は３記載の配線パターン描画方法である。
【００２４】
請求項５記載の発明は、前記基材は長辺と短辺とからなる長方形状であり、
前記第１の配線を描画する工程では、前記第１の配線を、前記基材の短辺に沿う方向に描画し、
前記第２の配線を描画する工程では、前記第２の配線を、前記基材の長辺に沿う方向に描画することを特徴とする請求項２、３又は４記載の配線パターン描画方法である。
【００２５】
請求項６記載の発明は、基材上に、１又は２以上の直線からなる第１の配線と、少なくとも該第１の配線における最も幅が狭い配線よりも幅が広い１又は２以上の直線からなる第２の配線とによって構成され、前記第１の配線と前記第２の配線とが互いに異なる第１の方向及び第２の方向に沿って混在するように配置される配線パターンを、それぞれ前記基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出することによって、第１の方向又は第２の方向に沿う配線毎に描画する薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、
前記第１の配線を、前記基材上の第１の方向に沿って描画する工程と、
前記第２の配線を、前記基材上の第２の方向に沿い、且つ、前記第１の配線を描画する際に使用される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出することによって描画する工程とを有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の製造方法である。
【００２６】
請求項７記載の発明は、前記第１の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第１の配線における最も幅の狭い配線幅に対応し、前記第２の配線を描画する際に使用される液滴のドット径は、該第２の配線における最も幅の狭い配線幅に対応することを特徴とする請求項６記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法である。
【００２７】
請求項８記載の発明は、前記第１の配線を描画する工程は、前記第１の配線を、第１の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第１の方向に相対的に移動させながら描画し、
前記第２の配線を描画する工程は、前記第２の配線を、前記第１の液滴吐出ヘッドのノズルから吐出される機能液滴のドット径よりも大きなドット径の機能液滴を吐出する第２の液滴吐出ヘッドを前記基材に対して第２の方向に相対的に移動させながら描画することを特徴とする請求項６又は７記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法である。
【００２８】
請求項９記載の発明は、前記基材は長辺と短辺とからなる長方形状であり、
前記第１の配線を描画する工程では、前記第１の配線を、前記基材の短辺に沿う方向に描画し、
前記第２の配線を描画する工程では、前記第２の配線を、前記基材の長辺に沿う方向に描画することを特徴とする請求項６、７又は８記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うことのできるパターン描画方法を提供することができる。
【００３０】
また、本発明によれば、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の配線が混在するパターンを、同一方向の配線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うことのできる配線パターン描画方法を提供することができる。
【００３１】
更に、本発明によれば、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の配線が混在するパターンを、同一方向の配線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うことのできる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】セルの配線回路パターンを示す平面図
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図
【図３】図１の配線回路パターンの等価回路図
【図４】描画装置の概略構成を示すブロック図
【図５】ヘッド部の詳細を示す図
【図６】基材上に第１の直線群を描画する方法を説明する図
【図７】（ａ）（ｂ）は基材の平面図
【図８】基材上に第２の直線群を描画する方法を説明する図
【図９】描画装置のヘッド部の他の実施形態を示すブロック図
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明は、基材上に方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって、同一方向に沿う線毎に描画するものである。線は好ましくは直線である。
【００３４】
ここで、同一方向に沿う線毎に描画するとは、方向の異なる複数の線のうち、ある一方向に沿う１又は２以上の線と、それとは異なる他の一方向に沿う１又は２以上の線とを別々に描画するということである。
【００３５】
そして、これら複数の線のうち、幅の最も狭い線とは方向が異なり且つ幅が広い線を、該幅の最も狭い線を描画する際に吐出する液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって描画することを特徴とする。これにより、方向と幅の異なる複数の線が同一の基材上に混在するパターンでも、幅が広い線を大きなドット径の液滴によって描画できるので、より高速な描画を行うことができるようになる。
【００３６】
また、本発明において好ましいのは、上記の線が、機能液である導電性インクを用いて描画される配線からなる場合である。この場合、本発明は、基材上に、１又は２以上の直線からなる第１の配線と、少なくとも該第１の配線における最も幅が狭い配線よりも幅が広い１又は２以上の直線からなる第２の配線とによって構成され、第１の配線と第２の配線とが互いに異なる第１の方向及び第２の方向に沿って混在するように配置される配線パターンを、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出することによって、第１の方向又は第２の方向に沿う配線毎に描画するものが好ましい。
【００３７】
更に、本発明は、基材上に、１又は２以上の直線からなる第１の配線と、少なくとも該第１の配線における最も幅が狭い配線よりも幅が広い１又は２以上の直線からなる第２の配線とによって構成され、第１の配線と第２の配線とが互いに異なる第１の方向及び第２の方向に沿って混在するように配置される配線パターンを、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出することによって、第１の方向又は第２の方向に沿う配線毎に描画する薄膜トランジスタ基板を製造する場合に好ましい。
【００３８】
第１の配線及び第２の配線は、それぞれ１本であっても２本以上の場合でもよい。特に２本以上の場合は、以下において第１の配線群又は第２の配線群と表現する場合がある。
【００３９】
第１の配線及び第２の配線の各々のうちでは、各配線の幅は全て同一幅でも異なる幅であってもよいが、本発明において重要なことは、第２の配線のうちで最も幅の狭い配線（第２の配線が１本である場合又は複数の配線が全て同一幅である場合は、その１本又は全ての配線の幅）は、少なくとも第１の配線のうちで最も幅が狭い配線よりも幅が広いことである。
【００４０】
ここでいう幅が広いとは、第１の配線のうちで最も幅が狭い配線を描画するための１つのノズルのみから連続して吐出される液滴によって、基材と液滴吐出ヘッドの相対的な１回の走査移動だけで描画されるライン幅よりも広いことを意味する。
【００４１】
同一の基材上で、第１の配線と第２の配線とは、その長さ方向が互いに異なる第１の方向又は第２の方向に沿って延びている。異なる方向とは第１の方向に沿う配線と第２の方向に沿う配線のそれぞれの長さ方向が平行ではないということである。
【００４２】
本発明においては、配線を描画する際の基材と液滴吐出ヘッドとの相対的な移動方向ではなく、基材上に互いに異なる長さ方向の配線を描画しようとする際のその長さ方向を、それぞれ第１の方向、第２の方向と定義する。例えば基材上に描画される配線の長さ方向が基材の縦方向と横方向とに沿って互いに直交する場合、一方が第１の方向、他方が第２の方向となる。第１の方向と第２の方向は基材上において異なる方向であればよく、必ずしも直交するものに限定されない。
【００４３】
第１の方向と第２の方向は、従って、例えば、描画装置上において、液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させて一方向に沿って第１の配線を描画した後、液滴吐出ヘッド又は基材を水平面で９０°回転させて、液滴吐出ヘッドと基材とを上記第１の配線を描画したときと同一方向に相対的に移動させて第２の配線を描画した場合、第１の配線の描画時と第２の配線の描画時は同一の移動方向であるが、基材上で見た場合、第１の配線と第２の配線とは基材の表面上で互いに直交する方向となる。この場合の第１の配線を描画したときの基材上における方向が第１の方向となり、第２の配線を描画したときの基材上における方向が第２の方向となる。
【００４４】
本発明の配線パターン描画方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法において、第１の配線は、基材上の第１の方向に沿って描画し、第２の配線は、同じ基材上の第２の方向に沿い、且つ、第１の配線を描画する際の液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって描画する。すなわち、第１の配線を描画する工程と第２の配線を描画する工程とは、液滴吐出ヘッドと基材との相対的な移動が独立した別々の工程で行われる。このように、第２の配線を、第１の配線の描画時よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって第１の配線の描画とは別工程で描画するので、第１の配線とは方向が異なる第２の配線の描画は、ドット径の小さい液滴による第１の配線の描画の影響を受けることはなく、ドット径の大きな液滴によって高速に描画を行うことができる。その結果、同一の基材上に方向と幅の異なる複数の配線が混在する配線パターンでも、より高速な描画を行うことができるようになる。
【００４５】
ドット径とは、液滴吐出ヘッドのノズルから吐出された液滴が基材上に着弾することによって形成されるドットの直径である。ノズルから吐出された液滴は基材上に着弾する際に横方向に広がるため、一般にノズル径や吐出直後の液滴径よりも大径となる。
【００４６】
液滴吐出ヘッドにおいて、ドット径の大小は、同一ノズル径であっても駆動信号波形や駆動電圧を制御することによって調整することができるが、第１の配線を描画するノズル径よりも第２の配線を描画するノズル径を大きく形成することによってドット径を大小に異ならせることが好ましい。これによれば、駆動信号波形や駆動電圧を異ならせる必要がないため、駆動回路が複雑化することがなく、また、基材上に安定したドットを形成することができる。
【００４７】
第１の配線を描画する際の液滴のドット径は、第１の配線のうちで最も幅の狭い配線幅に対応する。一方、第２の配線を描画する際の液滴のドット径は、第１の配線を描画するドット径よりも大きいドット径であればよいが、第２の配線のうちで最も幅の狭い配線幅に対応させることが好ましい。第１の配線及び第２の配線が各々２本以上の配線群により構成される場合でも、各々の配線を高精度に描画することができながら、全ての配線を共通のドット径の小さな液滴を吐出することによって描画する場合に比べれば、より高速化を図ることができる。
【００４８】
なお、対応する（させる）とは、基材上に連続して着弾した後の複数の重なり合うドットによって、そのまま配線の幅が規定されることを意味する。配線はドット同士が重なり合うことで形成されるので、その幅は、一般的には単独のドットの径よりも若干太くなる場合が多い。
【００４９】
本発明において、第１の配線を描画するためのノズルと第２の配線を描画するためのノズルは同一の液滴吐出ヘッドに設けられることもできるが、別々の液滴吐出ヘッドとすることが好ましい。すなわち、第１の配線を描画する液滴吐出ヘッドと第２の配線を描画する液滴吐出ヘッドとは、それぞれ独立した第１の液滴吐出ヘッド及び第２の液滴吐出ヘッドとすることである。このとき、第１の配線は、基材に対して第１の液滴吐出ヘッドを第１の方向に沿って一方向に相対的に移動させ、その移動過程で所定のタイミングで液滴を吐出しながら描画を行う。また、第２の配線は、基材に対して第２の液滴吐出ヘッドを第２の方向に沿って一方向に相対的に移動させ、その移動過程で所定のタイミングで液滴を吐出しながら描画を行う。この場合、第２の液滴吐出ヘッドは、第１の液滴吐出ヘッドのノズルから吐出される液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出する。これにより、各々の液滴吐出ヘッドを、描画すべき配線パターンの配列構成に特化した（例えば１対１に対応した）ノズルの配列構造とすることができ、より高精度の描画を行うことができるようになる。
【００５０】
このような第１の液滴吐出ヘッド及び第２の液滴吐出ヘッドは、一般に、各々の相対的な走査移動方向である第１の方向及び第２の方向と直交する方向に長いライン型の液滴吐出ヘッド（以下、ラインヘッドという場合がある。）によって構成される。
【００５１】
本発明において、基材の形状は特に問わないが、外形形状が平面視で長辺と短辺とからなる長方形状の基材である場合、相対的に幅狭の第１の配線を基材の短辺に沿う方向に描画し、相対的に幅広の第２の配線を基材の長辺に沿う方向に描画することが好ましい。第１の配線と第２の配線とのうち、第１の配線の方がドット径が小さい分、同じ長さの配線を描画しても、ドット径の大きな液滴を使用する第２の配線の描画に比べて多くのドットを吐出しなくてはならず、この第１の配線の描画が律速となるため、第１の配線を基材の縦横の長さ方向のうちの短手方向である短辺に沿う方向に描画することで、基材に対する全体の描画時間をより短くすることができ、それだけ高速度の描画が可能となる。
【００５２】
以下、本発明の具体的な実施形態について図面を用いて説明する。
【００５３】
ここでは、薄膜トランジスタ基板を製造する場合を例に挙げて、その配線パターンを描画する方法について説明する。
【００５４】
最初に、薄膜トランジスタ基板のセル構成の一例について、図１〜図３を用いて説明する。図１はセルの配線回路パターンを示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図、図３は図１の配線回路パターンの等価回路図である。通常、薄膜トランジスタ基板は、セルが基材上にマトリクス状に多数配列される繰り返しパターンを有するが、各セルは同一の配線回路パターンを有するため、ここでは多数のセルのうちの１つのセル１のみを図示する。
【００５５】
このセル１は、ゲートバスライン２、ソースバスライン３、２つの半導体４Ａ、４Ｂを有する配置を例示している。セル１は基材Ｗ上にゲート電極５を有し、絶縁層６を介して半導体４Ａ、４Ｂからなるチャネルで連結されたソース電極７Ａ、７Ｂ及びドレイン電極８Ａ、８Ｂを有し、基材Ｗ上にそれらがゲートバスライン２及びソースバスライン３を介して連結されている。９はソース電極７Ｂに接続される電源である。電源９とその上に形成されているソースバスライン３は、絶縁層６により絶縁されている。ドレイン電極８Ｂの一端（図１中の○部分）には、表示素子１０が接続される。
【００５６】
図２において、１１は半導体４Ａ、４Ｂの上に形成されるオーバーコート、１２はこのオーバーコート１１の更に上に形成される保護膜である。
【００５７】
本実施形態では、セル１中のソースバスライン３、ソース電極７Ａ、７Ｂ及びドレイン電極８Ａ、８Ｂ（図１中では黒塗りで示した直線）を、それぞれ液滴吐出ヘッドを備えた描画装置を用いて描画する。
【００５８】
ここで、これらソースバスライン３、ソース電極７Ａ、７Ｂ及びドレイン電極８Ａ、８Ｂの配線構成について更に詳細に説明すると、ソースバスライン３は、図１中のＤ２方向（第２の方向）に沿う直線からなる配線である。また、ソース電極７Ａ、７Ｂのうちの一方のソース電極７Ａは、ソースバスライン３と半導体４Ａとに亘り、図１中のＤ１方向（第１の方向）に沿う直線からなる配線であり、他方のソース電極７Ｂは、電極９と接続される図１中のＤ２方向に沿う直線からなる電源接続端部分７１Ｂと、この電源接続端部分７１Ｂの一端から屈曲して図１中のＤ１方向に沿う直線からなる半導体接続端部分７２Ｂとを有する配線である。更に、ドレイン電極８Ａ、８Ｂのうちの一方のドレイン電極８Ａは、半導体４Ａとゲート電極２とに亘り、図１中のＤ１方向に沿う直線からなる配線であり、他方のドレイン電極８Ｂは、表示素子１０（図３参照）と接続される図１中のＤ２方向に沿う直線からなる表示素子接続端部分８１Ｂと、この表示素子接続端部分８１Ｂの一端から屈曲して図１中のＤ１方向に沿う直線からなる２つの半導体接続端部分８２Ｂ、８３Ｂとを有する配線である。
【００５９】
本実施形態では、ソース電極７Ａ、ソース電極７Ｂの半導体接続端部分７２Ｂ、ドレイン電極８Ａ、ドレイン電極８Ｂの半導体接続端部分８２Ｂ、８３Ｂの各配線が第１の配線群Ｌ１であり、ソースバスライン３、ソース電極７Ｂの電源接続端部分７１Ｂ、ドレイン電極８Ｂの表示素子接続端部分８１Ｂの各配線が第２の配線群Ｌ２であり、これらは基材Ｗ上において互いに直交する方向に分けて配置されている。
【００６０】
なお、Ｄ１方向とＤ２方向とは基材Ｗの表面（水平面）上で直交する方向である。
【００６１】
次に、描画装置の一例について図４を用いて説明する。図４は描画装置の概略構成を示すブロック図である。
【００６２】
描画装置１００は、基台１０１上に設置された移動手段としてのＹ軸テーブル１０２及びＸ軸テーブル１０３を備えている。Ｙ軸テーブル１０２上には、Ｙ軸方向に沿って移動可能にメインキャリッジ１０４が取り付けられており、このメインキャリッジ１０４にはヘッド部１０５が設けられている。詳細は後述するが、ヘッド部１０５には、サブキャリッジ１０６を介して、同一種類の液滴を吐出するラインヘッドユニットを構成する複数（本実施形態では４つ）のラインヘッドからなる液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂが、いずれも長さ方向がＹ軸方向に沿うように配置されて搭載されている。基材Ｗは、Ｘ軸テーブル１０３にＸ軸方向に沿って移動可能に搭載されている。
【００６３】
なお、Ｘ軸方向とＹ軸方向は、水平面上で互いに直交する方向である。
【００６４】
また、描画装置１００は、機能液（導電性インク）を貯留するタンク１１４から複数の液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂの各々に機能液を供給する機能液供給手段としての機能液供給装置１１３を備えると共に、Ｘ軸テーブル１０３及びＹ軸テーブル１０２並びに複数の液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂ等の駆動を制御する制御手段としての制御装置１１５を備えている。
【００６５】
Ｙ軸テーブル１０２は、Ｙ軸モータ１０９と、このＹ軸モータ１０９によって駆動されるＹ軸スライダ１１０とを含んで構成されるＹ軸方向の駆動系を備え、これにメインキャリッジ１０４を移動可能に搭載して構成されている。また、Ｘ軸テーブル１０３は、Ｘ軸モータ１１１と、このＸ軸モータ１１１によって駆動されるＸ軸スライダ１１２とを含んで構成されるＸ軸方向の駆動系を備えている。更に、Ｘ軸テーブル１０３には、上面に基材Ｗを位置決め状態で搭載するセットテーブル１１６がθ軸移動機構を介して設けられている。
【００６６】
θ軸移動機構は、セットテーブル１１６をＸ軸方向及びＹ軸方向に共に直交する法線方向を中心としてθ回転させるθ回転モータ１１７を含んで構成されている。
【００６７】
制御装置１１５は、Ｙ軸モータ１０９を駆動させるＹ軸モータドライバ１１８、Ｘ軸モータ１１１を駆動させるＸ軸モータドライバ１１９、θ回転モータ１１７を駆動させるθ回転モータドライバ１２０、各液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂを所定の画像データ（吐出パターンデータ）に基づいて各々独立して駆動させるヘッド駆動回路部１２１と制御可能に接続されている。
【００６８】
かかる描画装置１００、Ｘ軸テーブル１０３の駆動による基材ＷのＸ軸方向への移動に同期して各液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂを駆動（機能液滴の選択的吐出）するように構成されている。つまり、本実施形態では、各液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８ＢをＹ軸方向の移動により所定位置に位置決めして停止させた状態で、基材ＷのＸ軸方向への１回の走査移動によって、基材Ｗの描画領域に所定の直線パターンを描画し、θ回転モータ１１７によってセットテーブル１１６を所定角度（ここでは９０°）回転させて基材Ｗを回転させた後、同様に基材ＷのＸ軸方向への次の１回の走査移動によって、基材Ｗの描画領域に、先の直線パターンと直交する所定の直線パターンを描画することができる。
【００６９】
なお、本発明では、描画時の液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂと基材Ｗとの移動は相対的であればよく、本実施形態の移動構成の他に、停止状態の基材Ｗに対して液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂ側がＸ軸方向に移動する構成としてもよく、また、液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂと基材ＷとがＸ軸方向に沿って互いに反対方向に移動する構成としてもよい。
【００７０】
図５はヘッド部１０５の詳細を示す図である。
【００７１】
ヘッド部１０５には、ラインヘッドからなる４つの液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂが、その長さ方向がＹ軸方向に沿うように平行に配列されている。本実施形態では、そのうちの液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂが第１の配線群描画用のヘッドであり、液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂが第２の配線群描画用のヘッドである。
【００７２】
液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂには、それぞれ基材Ｗ上に描画すべき配線回路パターンの各配線群に対応するノズル群１２２、１２４を有している。なお、ノズル群１２２、１２４は、液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂの基材Ｗと対する面（下面）に形成されるが、ここでは説明の便宜上、ノズル群１２２、１２４を透視した状態を示している。以下の液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂも同様に図示するものとする。
【００７３】
各ノズル群１２２、１２４を構成するノズル１２３、１２５の間隔は、基材Ｗが液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂの下まで相対的に移動してきたときに、各ノズル１２３、１２５と各セル１の第１の配線群Ｌ１と第２の配線群Ｌ２とが相対向し得るよう、描画すべき配線の間隔を考慮して予め定められている。つまり、このヘッド部１０５がＸ軸方向に沿って移動したとき、そのときの各ノズル１２３、１２５の移動経路は、基材Ｗ上のそれぞれ対応する配線の位置と一致するようになっている。
【００７４】
１つのセル１内の第１及び第２の配線群Ｌ１、Ｌ２は、１つの液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ又は１０８Ｂ内の同一のノズル群１２２、１２４に属するノズル１２３、１２５によって描画されるので、これらを別々のヘッドに設けられたノズルによって描画する場合に比べ、ノズル位置精度を容易に確保することができ、１つのセル１内の配線パターンを高い位置精度で形成することができる。
【００７５】
ここで、第１の配線群Ｌ１を描画する液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂの各ノズル１２３が、それによって描画すべき第１の配線群Ｌ１の各配線の幅に対応する比較的小さなノズル径であるのに対し、第２の配線群Ｌ２を描画する液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂの各ノズル１２５の方が、それによって描画すべき第２の配線群Ｌ２の各配線の幅に対応するようにノズル径が大きく形成されており、これにより、ノズル１２３から吐出される機能液滴が基材Ｗ上に着弾することによって形成されるドット径よりも、ノズル１２５から吐出される機能液滴が基材Ｗ上に着弾することによって形成されるドット径の方が大きくなる。
【００７６】
液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂの各々は、その複数のノズル１２３がＹ軸方向に延びるよう位置設定され、Ｘ軸方向へ平行移動する間に、ノズル１２３が機能液を選択的に吐出することにより、基材Ｗ上の所定位置に機能液滴を付着させる。
【００７７】
液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂの各ノズル群１２２のピッチは、本実施形態のように、同一パターンのセル１が描画装置１００のＹ軸方向に沿って等ピッチａで複数配列される繰り返しパターンである場合、次のようにして決定できる。
【００７８】
すなわち、描画装置１００にセットされた基材Ｗ上のＹ軸方向のセルのピッチをａ、同一の配線群Ｌ１又はＬ２を描画する液滴吐出ヘッドの数をｎとしたとき、同一の配線群Ｌ１又はＬ２を描画する液滴吐出ヘッド１０７Ａと１０７Ｂ、１０８Ａと１０８Ｂは、ノズル群１２２の位置が互いに相補的になるように、最も近い位置にある液滴吐出ヘッド同士が互いにＹ軸方向に前記ピッチａだけずらして配置され、液滴吐出ヘッド１０７Ａと１０７Ｂ、１０８Ａと１０８Ｂにおけるそれぞれのノズル群１２２のピッチは、ａ×ｎを満足することが好ましい。これによれば、液滴吐出ヘッド１０７Ａと１０７Ｂ、１０８Ａと１０８Ｂの全ノズル１２３と、各セル１内の配線とを相対向させることができ、ヘッド部１０５を基材Ｗが１回通過するだけで、対応する位置のセル１内に第１の配線群Ｌ１及び第２の配線群Ｌ２を描画することができ、生産性に優れる。
【００７９】
次に、図１及び図６を参照して基材Ｗ上に第１の配線群Ｌ１（図６中の黒塗りで示す直線）を描画する方法を説明する。なお、図６ではヘッド部１０５上の液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂを省略している。
【００８０】
まず、基材Ｗを描画装置１００のセットテーブル１１６に搭載して位置決めする。ここで基材Ｗは、図７（ａ）に示すように長辺と短辺とからなる長方形状を呈しており、そのうちの短辺がＸ軸方向に沿うように位置決めされている。基材Ｗが、図７（ｂ）に示すように、描画後に２枚取りされる１枚の大判の基材Ｗからなる場合でも、その１枚の大判の基材の短辺がＸ軸方向に沿うように位置決めされる。
【００８１】
なお、この状態で、図１に示す方向Ｄ１は図６中のＸ軸方向である。
【００８２】
この後、セットテーブル１１６をＸ軸テーブル１０３に沿って移動させることで、基材Ｗをヘッド部１０５に対して相対的にＸ軸方向に沿って移動させ、その過程で、液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂの各ノズル１２３から所定のタイミングで機能液を連続的に吐出しながら基材Ｗ上に連続したドットを形成することで、各セル１内の所定の位置にそれぞれ第１の配線群Ｌ１をパターン形成する。液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂに形成されている各ノズル群１２２のノズル１２３は、各セル１（ここでは基材Ｗの長辺方向に沿って４つ配列される場合を想定している。）内の第１の配線群Ｌ１の位置に対応しているため、基材ＷをＸ軸方向に沿って１回だけ移動させるだけで、各セル１内の第１の配線群Ｌ１の全てを同時に形成することができる。
【００８３】
次に、図１及び図８を参照して基材Ｗ上に第１の配線群Ｌ２（図８中の黒塗りで示す直線）を描画する方法を説明する。なお、図８ではヘッド部１０５上の液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂを省略している。
【００８４】
以上のようにして基材Ｗ上の全てのセル１内に第１の配線群Ｌ１を描画し終えたら、次いで、θ軸移動機構によってセットテーブル１１６を９０°回転させ、基材Ｗの向きをθ軸を中心にして９０°回転移動させる。これによって基材Ｗの長辺が描画装置１００のＸ軸方向に沿うように位置合わせされる。
【００８５】
なお、この状態で、図１に示す方向Ｄ２は図６中のＸ軸方向となる。
【００８６】
この後、セットテーブル１１６をＸ軸テーブル１０３に沿って移動させることで、基材Ｗをヘッド部１０５に対して相対的にＸ軸方向に沿って移動させ、その過程で、液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂの各ノズル１２５から所定のタイミングで機能液を連続的に吐出しながら基材Ｗ上に連続したドットを形成することで、各セル１内の所定の位置にそれぞれ第２の配線群Ｌ２をパターン形成する。液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂに形成されている各ノズル群１２４のノズル１２５は、各セル１（ここでは基材Ｗの短辺方向に沿って４つ配列される場合を想定している。）内の第２の配線群Ｌ２の位置に対応しているため、基材ＷをＸ軸方向に沿って１回だけ移動させるだけで、各セル１内の第２の配線群Ｌ２の全てを同時に形成することができる。
【００８７】
このようにして描画される第１の配線群Ｌ１と第２の配線群Ｌ２とは、第１の配線群Ｌ１の方が、ノズル径の小さい液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂによって描画されるために配線の幅が狭く、基材Ｗ上に高密度に形成されると共に、幅広の第２の直線群Ｌ２がドット径の大きな機能液滴によって形成されるため、この第２の配線群Ｌ２も第１の配線群Ｌ１を描画する際のノズルと同一のノズルによって描画する場合に比べて、描画時間の高速化が図られる。
【００８８】
第１の配線群Ｌ１は、液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂのノズル１２３の径が小さいためにドット径が小さくなるが、この第１の直線Ｌ１を基材Ｗの短辺に沿って描画し、これと比較してドット径が大きい液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂによって幅広に描画される第２の配線群Ｌ２を基材Ｗの長辺に沿って描画するようにしたので、描画時間がかかる第１の配線群Ｌ１の描画距離を短くでき、その分だけ描画時間の増大化を抑制することができる。このため、より一層高速な描画が可能となる。
【００８９】
以上の説明では、第１の配線群Ｌ１の次に第２の配線群Ｌ２を描画するようにしたが、本発明は同一方向の線毎に各々別工程で描画を行えばよく、描画順序は特に問わない。従って、これら配線群Ｌ１、Ｌ２の描画順序は、各々別工程の描画であれば、その逆の順序で描画を行ってもよい。
【００９０】
また、描画装置１００を用いた描画方法では、１つのヘッド部１０５に全ての液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂを設けたため、互いに異なる方向となる第１の配線群Ｌ１と第２の配線群Ｌ２とを描画するために、第１の配線群Ｌ１の描画と第２の配線群Ｌ２の描画との間に、基材Ｗをθ軸を中心に所定角度回転移動させるようにした。この方法では、互いに異なる方向となる第１の配線群Ｌ１と第２の配線群Ｌ２との各描画を行うための描画装置上の移動方向が同一となるため、同一の移動機構によって各描画時の相対的な移動を行うことができるので、移動機構のばらつきに伴う描画精度のばらつきが生じない利点がある。しかし、液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂを配線群Ｌ１、Ｌ２毎に分けて配置することもできる。
【００９１】
図９は、液滴吐出ヘッドを描画方向毎に分けて配置した描画装置のヘッド部と基材との配置構成を示している。
【００９２】
２つのヘッド部１０５Ａ、１０５Ｂのうち、ヘッド部１０５Ａは、基材ＷがＸ軸方向に沿って移動したときに、その長辺と対向するように配置され、ヘッド部１０５Ｂは、基材ＷがＹ軸方向に沿って移動したときに、その短辺と対向するように配置されている。そして、ヘッド部１０５Ａには、各液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂが、その長さ方向がＹ軸方向に沿うように配置され、ヘッド部１０５Ｂには、各液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂが、その長さ方向がＸ軸方向に沿うように配置されている。この場合、基材Ｗは、セットテーブルのＸＹ軸方向の移動によって、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方向に直線移動可能に構成され、必ずしもθ軸移動機構を装備する必要はない。
【００９３】
これによれば、基材ＷをＸ軸方向に移動させることによって、ヘッド部１０５Ａの各液滴吐出ヘッド１０７Ａ、１０７Ｂによって第１の配線群Ｌ１を描画することができ、基材ＷをＹ軸方向に移動させることによって、ヘッド部１０５Ｂの各液滴吐出ヘッド１０８Ａ、１０８Ｂによって第２の配線群Ｌ２を描画することができる。
【００９４】
以上の説明では、カラーフィルタや液晶に用いるＴＦＴセルを形成する薄膜トランジスタ基板の製造の場合を例に挙げたが、本発明はこれに限定されるものではなく、描画対象物上に微細な線をパターン形成する工業技術全般に用いることができる。例えば各種半導体素子（薄膜ダイオード等）、各種電子回路等の配線パターンの形成等がその利用範囲の一例として挙げられる。
【００９５】
また、本発明において、液滴吐出ヘッドから吐出させる材料としては、描画対象物に応じて種々選択可能であり、例えば上述した配線形成材料である導電性インクの他にも、一般的な画像形成用のインク、ＥＬ発光材料、誘電材料、半導体材料等が挙げられる。
【符号の説明】
【００９６】
１：セル
２：ゲートバスライン
３：ソースバスライン
４Ａ、４Ｂ：半導体
５：ゲート電極
６：絶縁層
７Ａ、７Ｂ：ソース電極
７１Ｂ：電源接続端部分
８Ａ、８Ｂ：ドレイン電極
８１Ｂ：表示素子接続端部分
８２Ｂ、８３Ｂ：半導体接続端部分
９：電源
１０：表示素子
１１：オーバーコート
１２：保護膜
１００：描画装置
１０１：基台
１０２：Ｙ軸テーブル
１０３：Ｘ軸テーブル
１０４：メインキャリッジ
１０５、１０５Ａ、１０５Ｂ：ヘッド部
１０６：サブキャリッジ
１０７Ａ、１０７Ｂ、１０８Ａ、１０８Ｂ：液滴吐出ヘッド
１０９：Ｙ軸モータ
１１０：Ｙ軸スライダ
１１１：Ｘ軸モータ
１１２：Ｘ軸スライダ
１１３：機能液供給装置
１１４：タンク
１１５：制御装置
１１６：セットテーブル
１１７：θ回転モータ
１１８：Ｙ軸モータドライバ
１１９：Ｘ軸モータドライバ
１２０：θ回転モータドライバ
１２１：ヘッド駆動回路部
１２２、１２４：ノズル群
１２３、１２５：ノズル
Ｌ１：第１の直線群（第１の配線群）
Ｌ２：第２の直線群（第２の配線群）
Ｗ：基材
【図１】
2011011156.tif 000003
【図２】
2011011156.tif 000004
【図３】
2011011156.tif 000005
【図４】
2011011156.tif 000006
【図５】
2011011156.tif 000007
【図６】
2011011156.tif 000008
【図７】
2011011156.tif 000009
【図８】
2011011156.tif 000010
【図９】
2011011156.tif 000011