(57)【要約】【課題】各層に異なる液晶が注入される２層型液晶素子の製造方法において、短冊状態で効率よく２種類の液晶を各層に注入できる液晶素子の製造方法を提供すること。【解決手段】短冊には中間基板の上下に第１及び第２シール１７，１８の第１及び第２液晶注入口２０，２２を囲む第１及び第２ガードシール３１，３２が備えられ、第１及び第２ガードシール３１，３２にはそれぞれ第３及び第４液晶注入口３３，３４がある。この第３及び第４液晶注入口３３，３４は異なった位置にあるので、第１及び第２液晶注入口２０，２２に第１及び第２液晶材料を同時に注入し、その後第１及び第２ガードシール３１，３２が占める領域を取り去り、第１及び第２液晶注入口２０，２２を封止する。その後、短冊を個片化し液晶素子を得る。【選択図】図６
2011095384.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層する第１〜第３基板を有し、該第１及び第２基板間と該第２及び第３基板間に、それぞれ異なる液晶材料からなる第１及び第２液晶層をこの順に挟持する２層型の液晶素子の製造方法において、
前記第１及び第２液晶層を有する２層型の素子に個片化された際にそれぞれ前記第１〜第３基板となる第１〜第３マザー基板を用意する基板準備工程と、
前記第１液晶層を封止するための第１シールが前記第１液晶層用の第１液晶注入口を同一方向にして一列に複数並んで構成された第１シール列と、前記第１液晶注入口群を取り囲み該第１液晶注入口より少数の第３液晶注入口を備えた第１ガードシールと、を形成する第１シール形成工程と、
前記第２液晶層を封止するための第２シールが前記第２液晶層用の第２液晶注入口を前記第１液晶注入口と同一方向にして一列に複数並んで構成された第２シール列と、前記第２液晶注入口群を取り囲み該第２液晶注入口より少数の第４液晶注入口が、前記第３液晶注入口とは平面的に重ならない位置に配置されている第２ガードシールと、を形成する第２シール形成工程と、
前記第１〜第３マザー基板をこの順に重ね合わせる基板重ね合わせ工程と、
前記第１シールに囲まれ前記第１液晶層となる領域に前記第３液晶注入口より第１液晶材料を注入し、前記第２シールに囲まれ前記第２液晶層となる領域に前記第４液晶注入口より第２液晶材料を注入する液晶層形成工程と、
前記液晶層形成工程の後に、前記第１及び第２ガードシールの一部領域を除去して前記第１及び第２液晶注入口を露出させ、前記第１及び第２液晶注入口を封止する封止工程と、
前記第１〜第３マザー基板を個片化し、前記第１及び第２液晶層を有する２層型の液晶素子を複数得る個片化工程と、
を有することを特徴とする液晶素子の製造方法。
【請求項２】
前記基板重ね合わせ工程と前記液晶層形成工程との間に、前記第１，２シールが一列に配列し前記第１，第２ガードシールを含んだ領域を切り出す短冊化工程をさらに有することを特徴とする請求項１記載の液晶素子の製造方法。
【請求項３】
前記液晶層形成工程において、前記第１液晶材料と前記第２液晶材料が同時に注入されることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項４】
積層した前記第１〜第３マザー基板における前記第３液晶注入口と第４液晶注入口の間に位置する部位に、前記第１及び第２液晶材料の混合を防止する障壁を備えることを特徴とする請求項１〜３いずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３枚の透明基板間にそれぞれ異なる液晶材料からなる液晶層を備えた２層型の液晶素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶素子を多機能化するため、３枚の基板を積層し、これらの基板間に２つの液晶層を備える２層型の液晶素子が知られている。それぞれの液晶層が同じ液晶材料からなっていれば、１層型の液晶素子と同様な手法（例えば、真空注入法等）で液晶層を形成できる。ところがそれぞれの液晶層が異なった液晶材料からなる場合には工夫が必要となる。例えば下記特許文献１の図２，３には、第１の液晶層４の注入口５が図の右側にあり、第２の液晶層８の注入口５が図の左側にある液晶パネルが開示されている。すなわち第１，２の液晶層４，８の注入口５は表示部を挟んで反対の位置に設けられている。この液晶パネル（液晶素子）は、ガラスパネル１，２とシール３からなる空間に真空注入法で第１の液晶層４を形成してから、液晶パネルの上下を反転しガラスパネル２，７とシール３からなる空間に真空注入法で第２の液晶層８を形成する。
【０００３】
下記特許文献２では、４枚の基板を積層し、これらの基板間にそれぞれ異なる材料からなる液晶層を備えた３層型の液晶素子が開示されている。例えば図５の注入方法は、それぞれの層の注入口をセル周縁部の異なる部位（例えば異なった辺）に設けた３層の空セル（図３）に対し、順次注入口を液晶材料注入領域（例えば液晶材料が入った容器）に配置し、各層の空セルに個別の液晶材料を真空注入するものである。図１１の注入方法は、各層の注入口を同じ辺の異なる部位に設け、各注入口を液晶材料注入領域（例えば注入口のピッチで配列した注入管）の下に配置し同時的に液晶材料を注入している。これら２つの方法を発展させ、図１２、図１４のように多数の３層型の液晶素子を積層し同時に注入する方法も記載されている。
【０００４】
また特許文献２には、単個に分離した３層型の液晶素子への注入方法ばかりでなく、複数の空セルが連結した液晶素子への注入方法も示されている。例えば図１９（A）〜（C）は、シールで囲まれた領域を複数備え、注入口で各空セル領域が連結し、一個の注入口が外部に開口した３層の空セルにおいて、各層の外部に開口した注入口がセル周縁部の異なる部位（同じ辺の異なる部位）に設けられ、これらの注入口から個別の液晶材料を注入することで各層に異なった液晶層を形成するものである。
【０００５】
下記特許文献３には、表示用セルAと位相補償用セルBが積層する２層型の液晶素子において、各層の注入口１４，１５を同じ辺の異なる部位に設け、さらにまた多数の空セルを積層し、液晶ざら３１を使って層毎に異なった液晶を同時に注入する方法が示されている（図２，図３）。
【０００６】
下記特許文献４の図５、図６には、複数の２層型の液晶素子が含まれる上、中、下の大型基板積層物において、２回の注入作業で２種類の異なった液晶材料を２層型の液晶素子の上部表示用対向電極の形成部１３ａ，１３ｂと下部表示用対向電極の形成部１４ａ，１４ｂに注入する方法が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】実願昭５４−０２６０５９号（実開昭５５−１２５６１７号）のマイクロフィルム（２ページ１２〜１９行，図２，図３）
【特許文献２】特開２００２−１４３６２号公報（段落（００５９）〜（００６１）、図３、段落（００６４）〜（００６７）、図５、段落（００７７）〜（００７９）、図１１、段落（００８５）〜（００８６）、図１２、段落（００８９）〜（００９０）、図１４、段落（０１０８）〜（０１１１）、図１９）
【特許文献３】実願昭６３−１２８９２９号（実開平２−４８９２４号）のマイクロフィルム（９ページ１４行〜１１ページ２０行、図２、図３）
【特許文献４】特公平１−５１８１５号公報（３ページ右欄１５行〜５ページ左欄４行、図５、図６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
１層型の液晶素子を製造する場合、一個分の液晶素子の電極パターンが多数配列する複数のマザー基板を準備し、これらを重ね合わせ、この重ね合わせたマザー基板を切断して一個の液晶素子を得ることがある。重ね合わせたマザー基板から個片の液晶素子を得る工程の一部を効率的なものとするため、個片化すると液晶素子になる領域（以下液晶素子部と呼ぶ）が１列に配列した領域（以下短冊と呼ぶ）をこのマザー基板から切りだし、短冊単位で液晶注入や注入口封止を行なうことが多い。短冊では液晶素子部の注入口が一辺に配列しており、この注入口を液晶溜に挿入し、真空注入法で各液晶素子部の液晶層を形成する空間（以下空セルと呼ぶ）に液晶注入を行い、その後液晶溜から短冊を引き上げ注入口を封止する。最後に短冊から個片の液晶素子を分離する。なお複数の短冊を重ね合わせることでさらに注入や封止を効率化できる。
【０００９】
以上のように、短冊状態を経る製造方法が効率的であることが分かっているにもかかわらず、上記従来技術では、各層で異なった液晶材料を使う２層型の液晶素子に短冊を適用する方法については開示されていない。
なお、前述の特許文献２には空セルが一列に配列した空セル列が図示されているが、各空セル同士は注入口で連結したものなので、各空セルの注入口が一辺に配列する短冊の注入方法への示唆はない。特許文献４でもマザー基板を重ね合わせた状態の複数の空セルに同時に、層毎に異なる液晶材料を注入する方法が開示されているが、短冊に対する注入方法は示唆されていない。
【００１０】
本発明は、上記従来技術の有する問題に鑑みてなされたものであり、各層に異なる液晶が注入される２層型の液晶素子の製造方法において、短冊状態で効率よく２種類の液晶を各層に注入できる液晶素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、積層する第１〜第３基板を有し、該第１及び第２基板間と該第２及び第３基板間に、それぞれ異なる液晶材料からなる第１及び第２液晶層をこの順に挟持する２層型の液晶素子の製造方法において、第１及び第２液晶層を有する２層型の素子に個片化された際にそれぞれ第１〜第３基板となる第１〜第３マザー基板を用意する基板準備工程と、第１液晶層を封止するための第１シールが第１液晶層用の第１液晶注入口を同一方向にして一列に複数並んで構成された第１シール列と、第１液晶注入口群を取り囲み該第１液晶注入口より少数の第３液晶注入口を備えた第１ガードシールと、を形成する第１シール形成工程と、第２液晶層を封止するための第２シールが第２液晶層用の第２液晶注入口を第１液晶注入口と同一方向にして一列に複数並んで構成された第２シール列と、第２液晶注入口群を取り囲み該第２液晶注入口より少数の第４液晶注入口が、第３液晶注入口とは平面的に重ならない位置に配置されている第２ガードシールと、を形成する第２シール形成工程と、第１〜第３マザー基板をこの順に重ね合わせる基板重ね合わせ工程と、第１シールに囲まれ第１液晶層となる領域に第１液晶注入口より第１液晶材料を注入し、第２シールに囲まれ第２液晶層となる領域に第２液晶注入口より第２液晶材料を注入する液晶層形
成工程と、液晶層形成工程の後に、第１及び第２ガードシールの一部領域を除去して第１及び第２液晶注入口を露出させ、第１及び第２液晶注入口を封止する封止工程と、第１〜第３マザー基板を個片化し、第１及び第２液晶層を有する２層型の液晶素子を複数得る個片化工程と、を有することを特徴とする。
【００１２】
このような本発明では、注入に際し第１液晶材料は、第１ガードシールの第３液晶注入口を通り、いったん第１ガードシールで囲まれた領域に広がり、引き続き第１液晶注入口を抜け第１シールで囲まれた領域に広がり複数の第１液晶層を形成する。同様に、第２液晶材料は、第２ガードシールの第４液晶注入口を通り、いったん第２ガードシールで囲まれた領域に広がり、引き続き第２液晶注入口を抜け第２シールで囲まれた領域に広がり複数の第２液晶層を形成する。第３液晶注入口と第４液晶注入口は平面的（第１又は第２シール全体を含む平面）に重ならないから、第３液晶注入口に第１液晶材料を付着させても、第４液晶注入口に第１液晶材料が付着しないようにできるため第２液晶層側に第１液晶材料が入り込むことがない。同様の理由により、第４液晶注入口に第２液晶材料を付着させても、第１液晶層側に第２液晶材料が入り込むことがない。また、第３及び第４液晶注入口は第１及び第２液晶注入口に比べ少数であるため、第３及び第４液晶注入口に対し選択的に第１及び第２液晶材料を付着させることが容易となり、２種の液晶を容易かつ効率的に各液晶層に注入することができる。
【００１３】
基板重ね合わせ工程と液晶層形成工程との間に、第１，２シールが一列に配列し第１，第２ガードシールを含んだ領域を切り出す短冊化工程をさらに有していてもよい。
【００１４】
また、第１液晶材料と第２液晶材料が同時に注入されることが好ましい。第１液晶材料を第３液晶注入口、第２液晶材料を第４液晶注入口に局所的に付着させることで、第１及び第２液晶材料を同時に注入することができるようになり生産効率が向上する。
【００１５】
また、積層した第１〜第３マザー基板における第３液晶注入口と第４液晶注入口の間に位置する部位に、第１及び第２液晶材料の混合を防止する障壁を備えることが好ましい。これにより、第１液晶材料がマザー基板（短冊状態を含む）の辺を伝って第４液晶注入口に達し、第２液晶材料と混じってしまうことを防止することができ（第２液晶材料についても同様。）、良好な歩留まりや特性を得ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、各セル毎の液晶注入口を纏めて取り囲むガードシールを液晶層毎に設け、そのガードシールに備えられた液晶注入口よりそれぞれ異なる液晶を注入するようにしたため、２種類の液晶材料を混じり合わせることなく効率よく注入することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶素子の説明図である。
【図２】図１に示す光学素子の各液晶層の断面図である。
【図３】図１に示す光学素子の製造工程のフローチャートである。
【図４】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【図５】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付図面１〜７を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１９】
図１と図２により本実施形態の製造方法で作成する液晶素子を説明する。図１、２はこの液晶素子の説明図で、図１（ａ）が斜視図、図１（ｂ）が垂直方向の断面図、図２（ａ）と図２（ｂ）が水平方向の断面図である。
【００２０】
図１（ａ）において基板の積層構造を説明する。液晶素子１０は、第３基板１３上に第２基板１２と第１基板１１が積層された構造となっている。第２基板１２は、第１及び第３基板１１，１３よりも外方に延びる延出部を有している。この延出部の両面には、外部回路（図示せず）との接続用電極(図示せず)が形成されている。
【００２１】
図１（ｂ）において積層構造をさらに詳しく説明する。第２基板１２の上面には透明電極１４と配向膜１５が形成されている。同様に対向配置する第１基板１１の下面にも透明電極１４と配向膜１５が形成されている。第１基板１１と第２基板１２の間には、配向膜１５を介して第１液晶層１６が挟持され、周辺部には第１シール１７が存在する。第２基板１２の下面や第２基板１２に対向配置された第３基板１３の上面にも透明電極１４と配向膜１５が形成されている。第２基板１２と第３基板１３の間には、配向膜１５を介して第２液晶層１９が挟持され、周辺部には第２シール１８が存在する。
【００２２】
図２（ａ）は、図１（ｂ）のＡ−Ａ線に沿った水平断面図である。第１シール１７には第１液晶注入口２０があり、第１液晶注入口２０は封口材２１で封止されている。図２（ｂ）は図１（ｂ）のＢ−Ｂ線に沿った水平断面図である。第２シール１８にも第２液晶注入口２２があり、第２液晶注入口２２は封口材２１で封止されている。第１シール１７と第２シール１８は同じ形をしており平面的にも重なっている。これに応じて第１液晶注入口２０と第２液晶注入口２２の封口材２１は共通化している。
【００２３】
以下、本実施形態の製造方法の製造工程を説明する。最初に、図３により本実施形態の製造方法の製造工程全体を説明する。次いで、図４〜図７により、各製造工程における部品の加工状態を説明する。
【００２４】
図３に示す製造工程は、スタートが上段の３つの楕円で示したマザー基板の基板準備工程であり、エンドが下段の楕円で示した短冊を個片化して液晶素子１０を形成する個片化工程に対応し、これらの間に長方形で示した複数の工程が存在する。
（基板準備工程）
【００２５】
第１マザー基板は、第１基板１１が備える透明電極１４の形成、透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷、配向膜１５の焼結、ラビング、及びスペーサ散布を含む処理を経て準備される。同様に、第３マザー基板も、第３基板１３が備える透明電極１４の形成、透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷、配向膜１５の焼結、ラビング、及び洗浄乾燥を含む処理を経て準備される。なおこの処理にはスペーサ散布は含まれない。第２マザー基板は、上下の面の領域への透明電極１４の形成、上面に対する透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷と焼結、ラビング、洗浄乾燥を含む処理、下面に対する透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷と焼結を含む処理を経て準備される。なおこの工程では下面のラビング処理は実施しない。
（シール形成工程）
【００２６】
シール形成工程は第１シール形成工程と第２シール形成工程からなる。第１シール形成工程では、第２マザー基板の上面に、第１液晶層１６を封止するための複数の第１シール１７が印刷される。同時に、この第１シールが横一列に並んだ第１シール列の一辺に配列する第１シール１７の第１液晶注入口２０を第１シール列とともに囲む第１ガードシールや、洗浄用外周シールなど製造に必要なパターンもシール材を使って同時に印刷される。
同様に第２シール形成工程では、第３マザー基板の上面に第２液晶層１９を封止するための第２シール１８や第２ガードシールなどが印刷される。
（基板重ね合わせ工程）
【００２７】
基板重ね合わせ工程は、第１基板重ね合わせ工程、第２マザー基板下面処理工程、第２重基板重ね合わせ工程からなる。第１基板重ね合わせ工程では、第１マザー基板と、上面に第１シールと第1ガードシールを含むシールパターンを形成した第２マザー基板とを重ね合わせる。第２マザー基板下面処理工程では、第１マザー基板と第２マザー基板とを重ね合わせた後、洗浄用外周シールの通気口を封口材で封止し、ガラス割り取り（ブレークともいう）用のスクライブパターンを刻み込んだのち、裏面にラビング処理を行い、洗浄乾燥してからスペーサを散布する。第２基板重ね合わせ工程では、前述の第２マザー基板と、シールパターンが形成された第３マザー基板とを重ね合わせる。最後に、第１，２シール１７，１８を含むシールパターンを加圧焼成する。なお加圧焼成の前にガスの膨張によるシール破壊を防ぐため洗浄用外周シールの通気口を塞いでいた封口材を除去しておく。
（短冊化工程）
【００２８】
第１〜第３基板となるマザー基板が重ね合って接着した（積層した）状態から、第１，２シールが一列に配列し第１，第２ガードシールを含んだ長方形の領域（短冊）を切り出す。なお短冊は、多数の液晶素子領域が形成されているので、基板準備工程で用意した大きなマザー基板から分割された小型のマザー基板でもある。
（液晶層形成工程）
【００２９】
短冊化工程の後、第１液晶層を形成するため第１ガードシールの第３液晶注入口から第１液晶材料を注入し、同様に第２液晶層を形成するため第２ガードシールの第４液晶注入口から第２液晶材料を注入する。
（封止工程）
【００３０】
封止工程では、短冊から第１及び第２ガードシール領域を除去して第１及び第２液晶注入口を露出させ、封口材で第１及び第２液晶注入口を封止する。
（個片化工程）
【００３１】
最後に短冊に含まれる第１〜第３マザー基板にガラスカッターでスクライブ線をいれ、短冊を割って個片化し、第１及び第２液晶層を有する２層型の液晶素子を複数得る。
【００３２】
次に、図４〜図７を用いて、図３の各製造工程における部品の状態を説明する。
図４においてマザー基板上に形成したシールパターンを説明する。図４は本実施形態のマザー基板の平面図であり、図４（ａ）が、第２基板１２を形成する第２マザー基板４１の上面に形成したシールパターンであり、図４（ｂ）が、第３基板１３を形成する第３マザー基板４２の上面に形成したシールパターンである。なお、第１基板１１を形成する第１マザー基板はシールパターンを形成しないので図示していない。
【００３３】
図４（ａ）に示すとおり、第２マザー基板４１の上面の外周部には通気口３７を備えた洗浄用外周シール３６がある。洗浄用外周シール３６の内側には第１シール１７がマトリクス状に配列している。ここで、図の水平方向（行方向）が第１シール列３９となる。第１シール列３９に属する第１シール１７の間には、液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３５が設けられており、第１シール列３９の下辺に第１シール１７の第１液晶注入口２０が配列している。この第１液晶注入口２０は、浸潤防止部３５を含む第１シール列３９と、第３液晶注入口３３を備える第１ガードシール３１とにより囲まれている。なお、図４（ａ）では、第３液晶注入口３３が第１シール列あたり一つ設けられているが、複
数設けられていてもよい。
【００３４】
同様に図４（ｂ）に示すとおり、第３マザー基板４２の上面には第２シール１８がマトリクス状に配列している。ここで、図の水平方向（行方向）が第２シール列４０となる。第２シール列４０に属する第２シール１８の間には、液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３８が設けられており、第２シール列４０の下辺に第２シール１８の第２液晶注入口２２が配列している。この第２液晶注入口２２は、浸潤防止部３８を含む第２シール列４０と、第４液晶注入口３４を備える第２ガードシール３２とにより囲まれている。なお、上記第３液晶注入口３３と同様に、図４（ｂ）では、第４液晶注入口３４が第２シール列あたり一つ設けられているが、複数設けられていてもよい。
【００３５】
なお、図中第１及び第２シール１７，１８の配列を５行８列としたが、例えば光ピックアップ装置に装填するような液晶素子の場合、液晶素子の外形が数ｍｍ角であるため、マトリクスの各行及び各列において第１及び第２シール１７，１８が数十個ずつ並ぶことになる。
【００３６】
図５において短冊化工程から封止工程に至る短冊の外観を説明する。図５は、本実施形態の短冊の斜視図であり、（ａ）が短冊化工程、（ｂ）が液晶層形成工程、（ｃ）と（ｄ）が封止工程に対応している。
【００３７】
短冊化工程では第１〜第３マザー基板が積層した状態から、図４（ａ）に示した第１及び第２シール列３９，４０と第１及び第２ガードシール３１，３２を含むように長方形の領域（短冊）が切り出される。この短冊は、図５（ａ）に示すとおり、第２基板１２を形成する第２短冊基板５２（短冊に含まれる第２マザー基板）を挟んで、第１基板１１を形成する第１短冊基板５１（短冊に含まれる第１マザー基板）と第３基板１３を形成する第３短冊基板５３（短冊に含まれる第３マザー基板）が積層している。
【００３８】
液晶層形成工程では、まず図５（ｂ）に示すとおり、第１及び第２ガードシール３１，３２側の辺の中央に、第１液晶材料と第２液晶材料の混合を防止する障壁５４を形成する。障壁５４の機能については、後で図７を用いて詳細に説明する。障壁５４が形成された辺の右側であって第１短冊基板５１と第２短冊基板５２の間隙には図４に示した第１ガードシール３１の第３液晶注入口３３がある。同様にこの辺の左側であって第２短冊基板５２と第３短冊基板５３の間隙には第２ガードシール３２の第４液晶注入口３４がある。なお、本図では既に第１短冊基板５１と第３短冊基板５３の一部が切り取られており、外部回路との接続に使用する第２短冊基板の延出部が現れている。
【００３９】
封止工程ではまず図５（ｃ）に示すように、図４に示した第１及び第２シール１７，１８の第１及び第２液晶注入口２０，２２が露出するように短冊基板の一部５５が切り取られる。このとき第１及び第２ガードシール３１，３２も同時に除去される。その後、図５（ｄ）に示すように、第１及び第２シール１７，１８の第１及び第２液晶注入口２０，２２を封口材２１で封止する。
【００４０】
図６において短冊化工程から封止工程に至る工程をさらに詳しく説明する。図６は本実施形態の短冊に係る処理を示す説明図であり、図６（ａ）が短冊化工程、図６（ｂ），（ｃ）が液晶層形成工程、図６（ｄ），（ｅ）が封止工程の短冊を示している。なお説明のため第１及び第２シール列３９，４０に含まれる第１及び第２シール１７，１８を３個とした。なお、図６（ａ）〜（ｅ）において、左が第１液晶層１６側、右が第２液晶層１９側に対応する。
【００４１】
短冊化した初期の状態では、図６（ａ）に示すとおり、第１シール列３９の下辺に配列
している第１シール１７の第１液晶注入口２０が、第１シール列３９と、第３液晶注入口３３を備える第１ガードシール３１とにより囲まれている。ここで第１シール列３９では第１シール１７の間に液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３５がある。第２液晶層１９側でも第２シール列４０に属する第２シール１８の間に液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３８があり、第２シール列４０の下辺に配列している第２シール１８の第２液晶注入口２２が、浸潤防止部３８を含む第２シール列４０と、第４液晶注入口３４を備える第２ガードシール３２とにより囲まれている。
【００４２】
液晶層形成工程ではまず図６（ｂ）に示すとおり、障壁５４を形成する。ここで図５（ｂ）に対応させて第２短冊基板の延出部を示すため第１及び第３短冊基板５１，５３の端が点線で描かれている。次に図６（ｃ）に示すように第１液晶材料６１を第１ガードシール３１の第３液晶注入口３３から注入する。同様に第２液晶材料６２を第２ガードシール３２の第４液晶注入口３４から注入する。
【００４３】
封止工程ではまず第１及び第２ガードシール３１，３２が占めていた領域を取り去る。このため図６（ｄ）に示すように、第２短冊基板５２が上下に短くなる。このとき第１及び第２液晶注口２０，２２は、第１及び第２液晶材料６１，６２が短冊基板５１〜５３間に充填された状態で露出する。最後に図６（ｅ）に示すように第１及び第２液晶注口２０，２２を封口材２１で封止する。
【００４４】
図７において液晶層形成工程の注入時における液晶材料供給方法を説明する。図７は本実施形態の短冊と液晶溜めとの関係を示す説明図であり、図７（ａ）が斜視図、図７（ｂ）が図７（ａ）のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
【００４５】
図７に示すように、液晶溜め７１は、この液晶溜め７１の上部に保持されている第１液晶材料６１が短冊の第３液晶注入口３３（図示せず）に接するように図の右側に配置されている。この液晶溜め７１の液晶保持領域は、液晶使用量を少なくするため細長くなっている（ピンと呼ばれることがある）。この保持領域に保持される第１液晶材料６１は、表面張力で盛り上がり第４液晶注入口３４に付着する。同様に液晶溜め７２は、この液晶溜め７２の上部に保持される第２液晶材料６２が短冊の第４液晶注入口３４（図示せず）に接するように図の左側に配置されている。なお、第３液晶注入口３３に付着した第１液晶材料６１が図の下辺に沿って第４液晶注入口側に伝わっていっても、図（ｂ）に示す障壁５４でブロックされ、第２液晶材料と混じり合うことがない。
【００４６】
以上のような本発明の実施形態に係る液晶素子の製造方法によれば、第１及び第２液晶層１６，１９を形成する際、短冊の異なった注入口（第３及び第４液晶注入口３３，３４）から異なった液晶材料（第１及び第２液晶材料６１，６２）を同時に注入し、さらに障壁５４で異なる液晶材料が混じり合う事態を防止できるため、生産効率と品質の高い２層型液晶素子を製造できる。
【００４７】
なお、本発明は上記実施形態に限られることはない。例えば上述した実施形態では、第１液晶材料と第２液晶材料を同時に注入していたが、第４液晶注入口３４を封止してから第３液晶注入口３３のある辺全体を液晶溜めに挿入して第１液晶材料を注入し、その後第４液晶注入口３４を開口して第３液晶注入口３３を封止してから同様に第２液晶材料６２を注入しても良い。この方法は上述した実施形態に比べ液晶の使用量やタクトで非効率だが、液晶溜めなど単層の液晶素子を製造するための治具が流用できるので都合が良い。また図７は１枚の短冊への注入を示していたが、複数の短冊を重ねて注入すればさらに生産効率があがることは背景技術で述べた通りである。また第１（または第２）シールを第1（または第２）マザー基板の下面に形成しても良い。また、最初からシール列が１列の場合は、短冊化工程は不要である。
【符号の説明】
【００４８】
１０…液晶素子、１１…第１基板、１２…第２基板、１３…第３基板、１４…透明電極、１５…配向膜、１６…第１液晶層、１７…第１シール、１８…第２シール、１９…第２液晶層、２０…第１液晶注入口、２１…封口材、２２…第２液晶注入口、３１…第１ガードシール、３２…第２ガードシール、３３…第３液晶注入口、３４…第４液晶注入口、３５，３８…浸潤防止部、３６…洗浄用外周シール、３７…通気口、３９…第１シール列、４０…第２シール列、４１…第２マザー基板、４２…第３マザー基板、５１…第１短冊基板、５２…第２短冊基板、５３…第３短冊基板、５４…障壁、５５…短冊基板の一部、６１…第１液晶材料、６２…第２液晶材料、７１，７２…液晶溜め。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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