(57)【要約】【課題】ディスプレイ用の電磁波遮蔽材の連続帯状シートからシート流れ方向に樹脂層など間欠的に形成した間欠形成層の形成位置を検知し、一画面単位の枚葉シートに切断できる様にする。【解決手段】透明基材１上に導電体層２、シート流れ方向ＭＤに間欠的に形成さたれ間欠形成層３を有する連続帯状シートの電磁波遮蔽材１０に対して、検知光として間欠形成層形成側となる表側面に対して、表側から表側面に斜めに照射した照射光Ｌｉの乱反射光Ｌｄを利用して、その強度が相対的に弱い弱強度の部分は間欠形成層の形成域Ｒｃ、強い強強度の部分は非形成域Ｒｍとして、強度が弱強度と強強度とで変化する部分を形成域と非形成域の境界位置として検知する。そして、枚葉化方法は、検知した境界位置の情報を基に形成域に対応した所定の領域に切断して枚葉シートの電磁波遮蔽材１０ａとする。【選択図】  図１
2011003849.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続帯状の透明基材と、該透明基材上に形成された導電体層と、更に該導電体層上にシート流れ方向に間欠的に形成された間欠形成層とを少なくとも有する、連続帯状の電磁波遮蔽材に対して、該間欠形成層の形成位置を検知する方法であって、
透明基材に間欠形成層が形成された側を表側として、表側から表側面に対して斜めに照射した照射光の乱反射光を検知光として該検知光の強度を測定し、該強度が相対的に弱い弱強度の部分は間欠形成層の形成域、該強度が相対的に強い強強度の部分は間欠形成層の非形成域として、検知光の強度が前記弱強度と前記強強度とで変化する部分を前記形成域と非形成域の境界位置として検知する、電磁波遮蔽材における間欠形成層の位置検知方法。
【請求項２】
請求項１記載の位置検知方法で検知した間欠形成層の形成域及び非形成域の境界位置の情報を基に、間欠形成層の形成域に対応した所定の領域で上記連続帯状の電磁波遮蔽材を切断して枚葉の電磁波遮蔽材とする、電磁波遮蔽材の枚葉化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は各種の用途、中でも特にディスプレイの前面に配置するのに好適な、電磁波遮蔽材について、シート流れ方向に間欠的に形成されている間欠形成層の境界位置を検知する位置検知方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ディスプレイ（画像表示装置とも言う）として、旧来のブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ以外に、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）となる、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（以後ＰＤＰとも言う）、電界発光（ＥＬ）ディスプレイ等の各種ディスプレイが実用されている。これらの中でも、特に、ＰＤＰは不要な電磁波放出が強いため、ディスプレイの前面に電磁波遮蔽材を配置している。
【０００３】
電磁波遮蔽機能は、例えば、メッシュ状のパターンで多数の開口部を設けた導電体層を、金属箔のフォトエッチングや導電性インキの印刷により付与している。
また、パターン状に形成された導電体層上には、更に、その耐久性向上、モアレ防止、チラツキ防止などの為に樹脂層を形成したり、近赤外線吸収、ネオン光吸収、反射防止等の光学フィルタ機能、その他の機能などを付与する為に、フィルムの積層や塗料の塗布などで樹脂層を形成したりするのが普通である。また、電磁波遮蔽機能の点で、導電体層は外部にアースを取り出す必要があるので、電磁波遮蔽材外周部の接地領域では、導電体層を露出させる為に、（ａ）サイズが一回り小さい樹脂フィルムを中央部に貼り付けたり、（ｂ）導電体層形成済みの連続帯状シートに対して、その幅方向両端を残して間欠的に樹脂層を塗工したりして、樹脂層を部分的に形成することで、電磁波遮蔽材の四方全周囲で導電体層を露出させることが試みられている。
【０００４】
上記（ａ）の方法は一枚毎に貼付する枚葉処理となってしまうが、上記（ｂ）の方法は、樹脂層の間欠的な形成を、ロール・ツー・ロール方式によって連続処理できるので、生産性に優れている。
なお、ここで、「ロール・ツー・ロール方式」とは、シート状材料の加工方式であって、被加工材料を連続帯状のシート状材料の巻取（ロール）から巻き出して供給し、所望の加工を施した後、再度、巻取に巻き取って保管、搬送等する加工方式を意味する。
【０００５】
そして、ロール・ツー・ロール方式では、連続帯状シートに連続的に樹脂層を形成後、一画面分のサイズの枚葉シートに切断して製品を切り出すことになるが、このとき、間欠形成された樹脂層が無色透明であると、その位置が目視判別できず、樹脂層の境界位置からは切断する位置が判らない。
【０００６】
ただ、導電体層は中央の画像表示領域ではパターン状であるが、その四方周囲の接地領域をベタの連続層（開口部無し）で額縁形状で設けている場合は、目視可能な接地領域の形状に基づいて、一画面分の切り出し位置を決めることができる。例えば、間欠形成された樹脂層が無色透明で目視判別困難な場合でも、その形成位置を検知可能な方法として、位置合わせ用の見当マークを、ベタ連続層の接地領域内に抜き加工などで光透過部として設けることが提案されている（特許文献１、特許文献２）。この場合は、該見当マークを位置（座標）の基準として樹脂層を間欠形成する位置を規定することによって、該見当マークの位置を検知する事で該間欠形成樹脂層の位置も把握出来る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２０６０７６号公報（００５９、００６１、図８）
【特許文献２】特開２００５−１１９９４公報（請求項１、００１４、図５）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、導電体層として、接地領域も含めて全面をパターン状のパターン領域とすれば、樹脂層など間欠形成する間欠形成層の形成は、適用するサイズ毎に対応させることとし、間欠形成層を形成する電磁波遮蔽材原反としての、透明基材にパターン状の導電体層を積層した導電体層積層材は、一画面分のサイズに許容幅を持たせた共通原反として用意しておけば良く、一つの原反で異なる画面サイズ、異なる接地領域サイズなどに対応できるので、設計の自由度が増し、低コスト化を図ることができる。
【０００９】
しかしながら、前記特許文献１、特許文献２で開示される見当マークは、接地領域がベタ連続層であることを前提としている上、導電体層に形成されたパターンを基準に位置決めするものであり、間欠形成層自体の位置検知に利用できるものではない。
【００１０】
すなわち、本発明の課題は、各種用途、中でも特に、ＰＤＰなど各種ディスプレイの前面に配置する用途に好適な電磁波遮蔽材について、連続帯状シートに対して導電体層上にシート流れ方向に間欠的に形成した間欠形成層に対して、それが形成された境界位置に対応して、一画面分の切り出しが可能な様に、その位置を検知する方法と、その位置検知方法を利用した電磁波遮蔽材の枚葉化方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
そこで、本発明の電磁波遮蔽材における間欠形成層の位置検知方法は、連続帯状の透明基材と、該透明基材上に形成された導電体層と、更に該導電体層上にシート流れ方向に間欠的に形成された間欠形成層とを少なくとも有する、連続帯状の電磁波遮蔽材に対して、該間欠形成層の形成位置を検知する方法であって、
透明基材に間欠形成層が形成された側を表側として、表側から表側面に対して斜めに照射した照射光の乱反射光を検知光として該検知光の強度を測定し、該強度が相対的に弱い弱強度の部分は間欠形成層の形成域、該強度が相対的に強い強強度の部分は間欠形成層の非形成域として、検知光の強度が前記弱強度と前記強強度とで変化する部分を前記形成域と非形成域の境界位置として検知する、電磁波遮蔽材における間欠形成層の位置検知方法、とした。
【００１２】
また、本発明の電磁波遮蔽材の枚葉化方法は、上記位置検知方法で検知した間欠形成層の形成域及び非形成域の境界位置の情報を基に、間欠形成層の形成域に対応した所定の領域で上記連続帯状の電磁波遮蔽材を切断して枚葉の電磁波遮蔽材とする、電磁波遮蔽材の枚葉化方法とした。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、電磁波遮蔽材の連続帯状シートに対して、その導電体層上にシート流れ方向に、ディスプレイ一画面分などと間欠的に形成した樹脂塗膜などの間欠形成層が無色透明で形成位置が目視判別し難い場合でも、その形成位置を容易に検知できる。
従って、その検知結果に基づいて、間欠形成層の形成位置に応じて切断位置を決めて枚葉シートに容易に切り出せる。
しかも、検知光に乱反射光を利用するので、透過光での位置検知に比べて、測定対象物の層構成を含む内部材料の光吸収スペクトルの影響少なく測定でき、種々の材料の電磁波遮蔽材に対応できる。
更に、導電体層の形成パターンによらずに切断位置を決められるので、導電体層が全面パターン状であっても（額縁部無しでも）対応できる。従って、導電体層を全面でパターン状として、一つの電磁波遮蔽材原反で異なる画面サイズ、異なる接地領域サイズなどに対応できるので、設計の自由度が増し、低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明による間欠形成層の位置検知方法を説明する断面図（Ａ）と平面図（Ｂ）と、枚葉化方法を説明する平面図（Ｃ）。
【図２】検知光（乱反射光）の強弱と形成域及び非形成域の関係を説明する説明図。
【図３】光源（照射光）と検知器（検知光）の空間配置の一例を説明する斜視図。
【図４】画像表示領域、接地領域、パターン領域の関係を説明する平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１６】
［要旨］
図１は本発明による、電磁波遮蔽材の間欠形成層の位置検知方法について、概念的に説明する説明図であり、図１（Ａ）は断面図、図１（Ｂ）は平面図である。
同図に例示の電磁波遮蔽材１０は、図面左右方向をシート流れ方向ＭＤとする連続帯状の透明基材１上に、開口部によってメッシュ形状などのパターン状の導電体層２が全面に形成されており、更に該導電体層２上に、シート流れ方向ＭＤに亘って間欠的に間欠形成層３が形成された連続帯状シートである。間欠形成層３は、例えば、導電体層２の保護や反射防止などの為に、塗工法や印刷法などで形成した無色透明樹脂層などである。
【００１７】
図１（Ａ）及び図１（Ｂ）で示す様に、間欠形成層３の形成域Ｒｃ以外の領域部分が非形成域Ｒｍである。なお、同図の場合、非形成域Ｒｍはシート幅方向ＭＤの両端部分にも有する。通常、形成域Ｒｃは画像表示領域を含む様に形成され、非形成域Ｒｍが額縁形状で四方四辺に沿う接地領域に対応する形状となっている。また同図では、非形成域Ｒｍでは、接地を取る為にパターン状の導電体層２を露出させてあるので、この導電体層２のパターンによって表側の表面が凹凸面となっている。
【００１８】
なお、本発明では、透明基材１に間欠形成層３が形成された側を「表側」と呼び、その反対側を「裏側」呼ぶ。従って、図１（Ａ）では図面上方が「表側」であり、図面下方に向いている面が「裏側」である。又、図１（B）は電磁波遮蔽材１０を「表側」から見下ろした俯瞰図である。
【００１９】
そして、間欠形成層３の形成域Ｒｃとその非形成域Ｒｍとの境界位置（図面はシート流れ方向ＭＤでの境界位置）を検知する為に、本発明では、図１（Ａ）で示す様に、光源４から照射光Ｌｉを電磁波遮蔽材１０の表側からその表側面に対して斜めに照射し、表側面に当たって反射した反射光のうち正反射光Ｌｒではなく乱反射光Ｌｄを検知光として検知しその強度を測定して、検知光の強度が変化したところを境界位置として検知する。検知光とする乱反射光Ｌｄが、相対的に形成域Ｒｃでは弱強度（正反射光成分の比率の方が多い）、非形成域Ｒｍでは強強度（乱反射光成分の比率の方が多い）となることを見出し、これを位置検知に利用したのが本発明である。
【００２０】
乱反射光Ｌｄの強度は、非形成域Ｒｍでは、導電体層２のパターンによる表面凹凸の影響などで、形成域Ｒｃよりも相対的に大きい。その理由は、形成域Ｒｃでは、間欠形成層３によって、導電体層２のパターンによる表面凹凸が被覆され平坦化しているからである。従って、乱反射光Ｌｄの強弱が変化した位置として、間欠形成層３の形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍの境界位置を検知できることになる。
【００２１】
次に、本発明による、電磁波遮蔽材１０の枚葉化方法では、連続帯状の電磁波遮蔽材１０に於いて、間欠的に形成され間欠形成層３の形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍとの境界位置を位置検知した情報を基に、間欠形成層３の形成域Ｒｃに対応した領域に切断する。間欠形成層３の形成域Ｒｃに対応した領域とは、例えば、図１（Ｃ）で概念的に例示の形態では、連続帯状シートである電磁波遮蔽材１０に於いて、間欠形成層３はディスプレイ一画面毎に対応して間欠的に形成してあるので該一画面単位の領域であり、切断線６の位置で切断して、外一画面単位の枚葉シートの電磁波遮蔽材１０ａにする。
【００２２】
［検知光とする乱反射光の時間変化］
図２は、シート流れ方向ＭＤに走行する連続帯状の電磁波遮蔽材１０に対して、定位置で検知光として乱反射光Ｌｄの強度Ｔｄを測定したときの、その強度の時間変化Ｔｄ（ｔ）を概念的に説明する図面である。乱反射光Ｌｄの強度Ｔｄは、時刻ｔ１で非形成域Ｒｍに対応する強強度Ｔｍから、形成領域Ｒｃに対応する弱強度Ｔｃに変化する。即ち、時刻ｔ１が、照射光Ｌｉの電磁波遮蔽材１０への入射点（到着点、当たった点）が非形成域Ｒｍから形成域Ｒｃに変わる境界線に対応する。引き続き、該強度Ｔｄは、照射光Ｌｉの入射点が形成域Ｒｃから非形成域Ｒｍに変わる時刻ｔ２でＴｄ（ｔ）は強強度Ｔｍに変化し、再び照射光Ｌｉの到着点がＴｄ（ｔ）が非形成域Ｒｍから形成域Ｒｃに変わる境界線に対応する時刻ｔ３で弱強度Ｔｃに変化し、時刻ｔ４で強強度Ｔｍに変化していく。したがって、強強度Ｔｍと弱強度Ｔｃ間で強弱が変化する時刻に対応した電磁波遮蔽材上のシート流れ方向ＭＤの位置を、間欠形成層のシート流方向での形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍとの境界位置として検知できる。
尚、非形成域Ｒｍと形成域Ｒｃとの境界が明瞭ならば、通常、時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３等に於けるＴｄ（ｔ）の変化は図２の如く不連続的になり、この場合は強強度Ｔｍと弱強度Ｔｃとの差が特に小さく無い限り境界線の検知は比較的容易である。尚、若し、時刻ｔ１等に於けるＴｄ（ｔ）の変化が連続的で緩やかな変化である場合には、強度Ｔｄ（ｔ）の変化を、例えば電気信号に変換した上で微分回路により微分したり、不連続な変化であっても強強度Ｔｍと弱強度Ｔｃとの差が特に小さい場合には増幅したりすることにより検知を容易にすることが出来る。
【００２３】
［光源と検知器の空間配置］
どの方向から光源４で照射光Ｌｉを照射し、それが測定面に当たった入射点で反射した乱反射光のうち、どの方向の乱反射光Ｌｄを選んで受光器５で測定すれば良いかについて説明する。
乱反射光Ｌｄは、照射光Ｌｉの光束が電磁波遮蔽材１０の表側から表側面に照射されたときに、該照射光Ｌｉに対する鏡面反射光であるところの正反射光Ｌｒが進む方向以外で表側の方向に進む光線である。従って、本発明で言う「乱反射光」は、散乱、拡散、表面凹凸などによって生ずる光線を意味することになる光線であるから（拡散、散乱は表面から内部に進入した照射光からも生ずる）、当然に、乱反射光Ｌｄを検知しその強度を測定する受光器５の位置は、正反射光Ｌｒを検知しない様に正反射光の進む方向を避けた表側の位置とする。
図１（Ａ）で言えば、照射光Ｌｉが表側から表側面に当たった入射点から立てた入射法線ｎからの入射角θ１と反射角θ２とが同じとなる鏡面反射光に該当する正反射光Ｌｒは、検知しない様な表側の位置で乱反射光Ｌｄを検知する。
【００２４】
また、乱反射光Ｌｄを検知する方向は、基本的には、なるべく正反射光Ｌｒの方向から離れた向きの方が好ましい。例えば、図１（Ａ）では、乱反射光Ｌｄを検知する受光器５の位置は、光源４からの照射光Ｌｉに対してその入射法線（不図示）の反対側の正反射光と同じ側の表側ではあるが、その右側で図示する様に、間欠形成層３上に描く乱反射光Ｌｄは（照射光Ｌｉが表側面で反射した乱反射光は多方向に向かうが、そのうちの一方向を検知光とする乱反射光Ｌｄとして示してある）、光源からの照射光Ｌｉと入射法線ｎに対して同じ側としてある。
【００２５】
この様に、検知光に採用する乱反射光Ｌｄは、照射光Ｌｉが表側面に当たった入射点に立てた入射法線ｎに対して、照射光Ｌｉの照射方向と逆方向側のものでも良いし、同一方向側のものでも良い。ここで言う、逆方向側、同一方向側とは、より詳しくは、照射光Ｌｉと入射法線ｎを含む入射面とは垂直で且つ入射法線ｎを含む面に対してのものであ。
ただ、乱反射光Ｌｄの強度が小さくなり過ぎる方向では、乱反射光Ｌｄ自体のＳＮ比（信号対雑音比率）が稼げないので、測定対象物に応じて、ＳＮ比と、強強度Ｔｍと弱強度ＴｃのＴｍ／Ｔｃ比との兼ね合いを試験評価して、照射光Ｌｉの入射角と（平面視）入射方向、測定する乱反射光Ｌｄの反射角とその（平面視）反射方向を決めて、光源４と検知器５の空間配置を決めると良い。その一つとして好ましいのは、入射法線に対して照射光側である（照射光と入射法線を含む入射面とは垂直で且つ入射法線を含む面に対して照射光側の意味）。
【００２６】
なお、乱反射光Ｌｄの強度Ｔｄで、非形成域Ｒｍに対応する強強度Ｔｍの、形成領域Ｒｃに対応する弱強度Ｔｃに対する比率、Ｔｍ／Ｔｃ比をなるべく大きくして位置検知し易くするには、表面の鏡面性測定時に照射光Ｌｉを傾けて測定して正反射光を強くするのとは逆的な考えから、正反射光成分を増やすことで乱反射成分を小さくしてＴｍ／Ｔｃ比の分母Ｔｃを小さくして、これによりＴｍ／Ｔｃ比を大きくできる点では、本発明では、なるべく照射光Ｌｉの入射角θ１は大きくするのが好ましい。例えば、４５°以上、好ましくは６０°以上である。
【００２７】
［測定スポットと照射光の色］
なお、照射光Ｌｉとしては、位置検知精度の点で、スポット状に光を表側面に照射できるものが良く、また、正反射光の影響を少なくする点で、その光束として拡散光でなく平行光を照射できるものが好ましい。例えば、レーザ光で良く、市販の半導体レーザでよい。
【００２８】
なお、入射点に於ける測定スポットの大きさは、間欠形成層３の位置を仮にシート流れ方向ＭＤ方向で許容誤差±１ｍｍ以内で検知すれば良いのであれば、スポット径（直径）は、位置の測定方向（シート流れ方向ＭＤと同じ方向）で同じ程度の１ｍｍ以下を目安とすれば良い。なお、位置の測定方向以外の方向、例えば、シート流れ方向ＭＤの位置測定に対して、それと直角方向のシート幅方向ＴＤでのスポット径（直径）は、この限りでない。
また、非形成域Ｒｍに於ける導電体層２が正方格子状のメッシュパターンで、それが例えば線幅２０μｍで線ピッチ３００μｍであれば、測定スポットがスポット直径１ｍｍの円形であれば、測定スポット内に少なくとも縦横各３本の線が入ることになり、これらの合計６本の線の凹凸による乱反射光を利用可能となり、１本の場合よりも強強度Ｔｍのレベルを高くできる。
【００２９】
ところで、入射光Ｌｉは表側面に対して斜め入射させるので、入射光束の（進行方向に垂直な面で見た）光束断面が円形の場合で言えば、入射点での測定スポットの形状は楕円形となる。であるから、位置測定方向（例えばシート流れ方向ＭＤ）に対して例えば直角方向（シート幅方向ＴＤ）から照射した照射光Ｌｉでは、その測定スポットの該直角方向（シート幅方向ＴＤ）は楕円の長径となり、前記メッシュパターンで利用できる線の数は、短径方向に比べてより多くの数を利用できることになり、流れ方向ＭＤ方向の位置検知精度（分解能）を維持した上で強強度Ｔｍのレベルをより強くできることとなる。
従って、測定スポット形状との関係にて、強強度Ｔｍのレベルをより強くできる点で、形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍの境界位置を、シート流れ方向ＭＤに於ける位置で検知する場合は、照射光Ｌｉの進行方向にシート幅方向ＴＤ成分を含む方向から、照射光を照射するのは好ましい形態である。
【００３０】
なお、照射光の色は、特に制限はなく、例えば赤色で良く、赤色半導体レーザを使用できる。本発明では検知光として、透過光ではなく反射光を利用するために、透過光で位置検知する場合に比べて、測定対象の層構成を含む内部材質の検知光への影響を防いで測定できる利点があり、材料の光吸収（乃至は透過）の波長依存性を考慮しなくて良いからである。従って、材料面で種々変化する電磁波遮蔽材に対応できる。
【００３１】
［位置検知する位置の方向］
間欠形成層３はシート流れ方向ＭＤに間欠的に形成されているものであり、従って、位置検知の対象とする位置の方向は、少なくともシート流れ方向であり、上記説明では位置検知方向はシート流れ方向ＭＤが前提であった。しかし、図１で例示した様に、間欠形成層３はシート幅方向では間欠的には形成されてはいないが、シート幅方向ＴＤ両端にもその非形成域Ｒｍを有することがある。この様に、シート流れ方向ＭＤ以外の方向、例えば、シート幅方向ＴＤでの形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍとの境界位置を位置検知の対象としても良い。
【００３２】
［電磁波遮蔽材の枚葉化方法］
電磁波遮蔽材の枚葉化方法は、連続帯状の電磁波遮蔽材１０のシート物に対して、間欠形成層３の形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍとの境界位置を位置検知した情報を基に、間欠形成層３の形成域Ｒｃに対応した領域に切断する方法である。図１（Ａ）〜（Ｃ）に例示の形態では、シート流れ方向ＭＤの境界位置を検知し、切断線６の位置で切断して、一画面単位の枚葉シートの電磁波遮蔽材１０ａとするものであった。
境界位置を位置検知した情報とは、検知光の強度の時間変化を測定し、境界位置であると検知したその瞬間に於ける、測定スポットの位置情報が基本である。位置情報は、シート流れ方向ＭＤの座標、シート幅方向ＴＤの座標などである。また、該情報には、この境界位置から切断線までの距離（製品によって異なる）の情報などを含めても良く、切断すべき位置を決定可能な、間欠形成層の境界位置に関する情報であれば良い。
なお、切断は、金属、セラミックス等の刃を用いたカッタ、スリッタ、超音波を用いた切断加工、レーザ光を用いた切断法などの適宜方法で行えば良い。抜き加工であれば、トムソン型・ビク型などで連続加工が可能である。
【００３３】
［実施形態例］
ここで、間欠形成層の位置検知方法を一実施形態としてより具体的に説明する。
【００３４】
測定対象の連続帯状の電磁波遮蔽材１０としては、例えば、厚さ１００μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる連続帯状の透明基材１の片面に、線幅２０μｍで線ピッチ３００μｍの正方格子のメッシュパターンをバイアス角θｂ（正方格子の縦横二種類の線が延びる方向とシート流れ方向ＭＤとの成す角度で小さい方の角度）を２５°としたパターンの導電体層２を導電性インキの印刷で導電性組成物層として全面に形成し、この導電体層側の面に、シート流れ方向に間欠的に透明なアクリル樹脂系紫外線硬化型樹脂塗料を塗工して樹脂塗膜として間欠形成層３を形成したものである（図１参照）。
なお、導電体層２は銀粒子を樹脂バインダに分散した導電性インキを、インキの転移を促進し微細高精度な印刷を可能とした後述「転移向上プライマを用いた凹版印刷法」によって形成し、厚みは１０μｍで、表面には樹脂バインダ中に分散した銀粒子による凹凸が存在する。また、間欠形成層３の厚みは透明基材１上では２０μｍ、導電体層上では１０μｍで、その表面は導電体層２のパターン凹凸が埋め尽くされた表面が平滑な平坦面である。
【００３５】
そして、位置検知の測定は、ここでは、赤色半導体レーザの光源４と、フォトセンサからなる受光器５とを一体化した光計測センサを用いる（但し必ずしも一体化する必要はない）。この光計測センサ自体は、図３の斜視図で概念的に示す様に、光源４からの照射光Ｌｉを測定面Ｐに入射角４５°で照射し、その入射点ｍに立てたセンサ基準法線ｎ１方向（図面では後述する様に光計測センサは既に傾けてあるので測定面Ｐに対する入射角は４５°とは異なっている）での乱反射光Ｌｄを検知光として受光器５で強度測定する方式である。
【００３６】
但し、この光計測センサは測定面Ｐに対して傾けて使用する。具体的には、照射光Ｌｉとセンサ基準法線ｎ１を含む（この場合は乱反射光Ｌｄをも含む）面であるセンサ基準入射面Ｐ１を、連続帯状の電磁波遮蔽材１０のシート幅方向ＴＤで入射点ｍとその法線ｎを含む面であるＴＤ基準法線面Ｐｎに対して、ＴＤ基準法線面Ｐｎからの角度を６０°に傾けて、照射光Ｌｉをシート流れ方向ＭＤに対して平面視斜め横から照射し、受光器５で乱反射光Ｌｄの強度変化を測定する。
測定の結果、間欠形成層３の形成域Ｒｃに対する乱反射光Ｌｄの弱強度Ｔｃの信号レベルを１０とすると、間欠形成層の非形成域Ｒｍに対する乱反射光Ｌｄの強強度Ｔｍの信号レベルは２５で、Ｔｍ／Ｔｃ比２．５と、乱反射光Ｌｄの強弱で位置検知するに十分な強度差が得られている。また、強強度ＴｍのレベルもＳＮ比もノイズの影響を無視できる。
【００３７】
なお、測定の角度・方向条件などは、上記は一例であり、これに限定されるものではなく、測定対象物などに応じて適宜設定すればよいものである。
【００３８】
以下、本発明の材料要素について更に詳述する。
【００３９】
［透明基材］
連続帯状の透明基材１には、公知の透明な材料を使用すれば良く、可視光線領域での透明性、耐熱性、機械的強度等を考慮すると、樹脂フィルム（乃至シート）が代表的である。樹脂フィルム（乃至シート）の樹脂は例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、或いは、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂等である。なかでも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは好適な材料である。なお、透明基材の厚みは、取扱性、コスト等の点で通常１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍだが、特に制限はない。尚、勿論、硝子板等の板状の透明基材を本発明に適用することも可能である。
【００４０】
［導電体層］
導電体層２は、公知のものでよく、代表的には、銅、アルミニウム等の金属層、或いは銀等から成る導電性粒子を樹脂バインダ中に分散させた導電性組成物層などである。金属層は通常金属箔から形成し、導電性組成物層は導電性組成物からなる導電性インキの印刷で形成する。
【００４１】
また、導電体層２は、図４の平面図で示す様に、枚葉シートの電磁波遮蔽材となったときに、ディスプレイの画像表示に供する部分である画像表示領域２ｄについては、光透過性確保の為に導電体層をメッシュ状などパターン状に形成したパターン領域２ｐとする必要がある層であり、それは該層自体は不透明な層だからである。また、導電体層２は、画像表示領域２ｄ周囲の、画像表示に影響のない部分に接地の為に、画像表示領域２ｄと電気的に接続した接地領域２ｅも有する。接地領域２ｅは、接地が可能な領域であって画像表示領域２ｄ以外の部分に設ける領域であり、元々パターンの有無とは無関係な領域である。
そして、接地領域２ｅもパターン領域２ｐとすることで、異なる画面サイズ、異なる接地領域サイズなどに対応させた、一画面単位のシートの切り出しサイズや切り出し位置の自由度を増やせることになる。
【００４２】
なお、接地領域２ｅも、パターン領域２ｐとするのが、自由度を増やせる点で好ましいが、その全域がベタの連続層でも良い。この様な場合、間欠形成層３の形成域Ｒｃと非形成域Ｒｍとの境界位置に於ける導電体層がベタの連続層である場合、パターン領域特有のパターン表面凹凸による乱反射光は期待できないが、それでも導電体層表面からの乱反射光が間欠形成層表面からの乱反射光よりも強くなる方向を見つければ、本発明の位置検知方法は適用可能であり、この様な電磁波遮蔽材を本発明は除外するものではない。
【００４３】
なお、パターン領域２ｐにおけるパターンの平面視形状は、特に制限はなく公知の形状でよく、例えば、メッシュ形状（格子模様）、ストライプ形状（直線状縞模様、螺旋模様など）などである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的である。なお、パターンの形成は、公知の方法、例えば、ケミカルエッチング、印刷等により行えば良い。
【００４４】
また、導電体層２は、特に画像表示領域２ｄの領域では、コントラスト向上の為に、その表面が黒化処理層を有するのが好ましい。黒化処理層としては、電磁波遮蔽材において公知のものを適宜採用すれば良い。
また、導電体層２が導電性組成物層でより導電性を高めるときは、銅などの高電気伝導率の金属めっき層をその上に更に備えたものとしても良い。
【００４５】
（「転移向上プライマを用いた凹版印刷法」）
ここで、前記の「転移向上プライマを用いた凹版印刷法」について概説しておく。この凹版印刷法は、国際公開ＷＯ２００８／１４９９６９号公報に記載の方法であり、凹版版面の凹部内部に充填したインキを引き抜いて被印刷物へのインキの転移率を向上させる「プライマ層」と呼んでいる層を、印刷の最中に流動状態で版に作用させる点に特徴がある凹版印刷法である。導電体層２は導電性ペーストなど導電性組成物を印刷し導電性組成物層として形成する方法である。次にその方法を説明する。
【００４６】
導電性組成物は、ドクターブレードで凹版の版面の凹部に充填する。このとき、凹部に充填された導電性組成物の表面は版面（凸部）と完全な面一にならずに僅かに窪んだ凹みがある形状となっている。
次に、透明基材１に例えば電離放射線硬化性樹脂などからなるプライマ層を塗布し、このプライマ層が未硬化など流動状態のままで、前記凹版に供給する。（通常の印刷ならば、この様なプライマ層は印刷の下地樹脂層として固化後に透明基材を凹版に供給する。）
すると、プライマ層は流動性なので前記凹みに流れ込み凹みを充填する。また、凹部以外の版面凸部の部分もプライマ層が覆う。そして、プライマ層を紫外線などの電離放射線照射によって固化した後、透明基材をプライマ層及び凹部内の導電性組成物ごと凹版から離版して、透明基材１上にプライマ層と、導電体層として導電性組成物層とが積層された印刷物を得るという方法である。なお、導電性組成物の固化は、溶剤乾燥によるときは離版後となるが、樹脂バインダに電離放射線硬化性樹脂を用い無溶剤のときは、離版前のプライマ層固化と同時など、離版前でも離版後でも良い。
【００４７】
この転移向上プライマを用いた凹版印刷法による印刷物は、他の印刷法では見られない形状的特徴があり、それはプライマ層と導電体層との界面が導電体層直下で導電体層側に凸形状となり（前記凹みに対応する）、プライマ層の厚みが、導電体層非形成部よりも導電体層形成部（直下）で厚い形状となることである。
【００４８】
また、この印刷法による場合、間欠形成層３の非形成域Ｒｍで露出したパターン状の導電体層では、メッシュ開口部など、その導電体層非形成部では、透明基材面ではなく上記プライマー層面となっており、乱反射光には、このプライマ層からの乱反射光も含まれることになる。
【００４９】
［間欠形成層］
間欠形成層３は、連続帯状の電磁波遮蔽材１０の、少なくともシート流れ方向ＭＤに、間欠的に形成されている層である。必要に応じ、或は製造工程の設計如何では、更に電磁波遮蔽材１０のシート幅方向ＴＤについても間欠的に形成しても良い。間欠形成層３の代表例は、樹脂層、それも透明な樹脂層である。
また、間欠形成層３を間欠的に形成する領域、つまり形成域３ｃは通常、画像表示領域２ｄの全域を含む領域である。
また、接地領域２ｅで導電体層２を接地の為に露出させるときは、少なくとも接地領域内で実際に接地に利用する部分は間欠形成層の非形成域Ｒｍとして露出させるが、接地領域内で接地に利用しない部分、或いは露出させないで接地を取る場合は、接地領域内でも導電体層２を露出させないでおいてもよい。
なお、間欠形成層３の厚みは、特に限定はないが、通常は導電体層（形成部）上の部分で、５〜１００μｍ程度である。
【００５０】
間欠形成層３としては、導電体層の耐久性向上、モアレ防止、チラツキ防止などの為の樹脂層、或いは、電磁波遮蔽機能以外に、近赤外線吸収、ネオン光吸収、反射防止等の光学フィルタ機能、その他の機能などの為の樹脂層が代表的である。
間欠形成層を間欠的に形成する方法は間欠的に形成できる方法であれば良く、特に限定は無いが、上記の様な樹脂層の場合は、塗工法や印刷法が代表的である。なお塗工の場合は間欠塗工する。
【００５１】
間欠形成層３は、具体的には、例えば、導電体層パターンによる表面凹凸を平坦化する平坦化樹脂層、表面を保護する表面保護層、ハードコート層、帯電防止層、汚染防止層、耐衝撃層などの各種機能層、或いは、近赤外線吸収機能、紫外線吸収機能、ＰＤＰディスプレイのネオン光を吸収するネオン光吸収機能、ディスプレイ色調を補正する色補正機能、反射防止機能（防眩、反射防止、防眩兼反射防止）などの各種光学フィルタ機能層などである。これら機能の１又は２以上が間欠形成層に単層又は多層構成で付与される。
【００５２】
この様な間欠形成層３は色補正機能を担う樹脂層などは別として、一般的には無色透明である。ただし、本発明が対象とする間欠形成層は通常では目視で検知し難い無色透明なものが最適だが、有色でも不透明でも良く、有色不透明、有色透明、無色不透明でも良い。
【００５３】
［その他の層］
なお、本発明における電磁波遮蔽材は、上記した各層以外に、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で、その他の層が有っても良い。例えば、プライマ層、下地樹脂層は既に説明したが、層間密着向上の為のプライマ層や下地樹脂層、接着剤層、或いは、透明基材の裏側面に被着体に貼り付ける為の粘着剤層やそのセパレータフィルムなどである。
【００５４】
［用途］
本発明の電磁波遮蔽材は、各種用途に使用可能である。特に、テレビジョン受像装置、測定機器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器、電話機、電子看板、遊戯機器等の表示部等に用いられるＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＥＬなどの画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にＰＤＰ用として好適である。又、その他、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車輛、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジ等の各種家電製品の窓等に於ける電磁波遮蔽用途にも使用可能である。
【符号の説明】
【００５５】
１    透明基材
２    導電体層
２ｄ  画像表示領域
２ｅ  接地領域
２ｐ  パターン領域
３    間欠形成層
４    光源
５    受光器
６    切断線（切断位置）
１０    （連続帯状の）電磁波遮蔽材
１０ａ  枚葉の電磁波遮蔽材
Ｌｄ  乱反射光（検知光）
Ｌｉ  照射光
Ｌｒ  正反射光
ｍ    入射点
ｎ    入射法線
ｎ１  センサ基準入射法線
Ｐ    測定面
Ｐｎ  ＴＤ基準法線面
Ｐ１  センサ基準入射面
Ｒｃ  形成域
Ｒｍ  非形成域
Ｔｃ  形成域での検知光の弱強度
Ｔｍ  非形成域での検知光の強強度
Ｔｄ（ｔ）  検知光の強度の時間変化
ｔ    時間
ｔ１〜ｔ４  時刻
ＭＤ    シート流れ方向
ＴＤ    シート幅方向
θ１    入射角
θ２    反射角
θｂ    メッシュのバイアス角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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