(57)【要約】【課題】本発明の目的は、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、正反射率の低下を十分に長期間抑制することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置を提供することである。【解決手段】銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも１種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも１種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項２】
前記入射光側の隣接層が、前記酸化防止剤及び前記腐食防止剤を含有する樹脂からなる層であることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項３】
前記銀反射層の入射光側から遠い側の隣接層として、銅層が設けられることを特徴とする請求項１または２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項４】
前記太陽熱発電用フィルムミラーが、少なくとも樹脂基材、該樹脂基材上に設けられた樹脂層、前記銅層、前記銀反射層、前記入射光側の隣接層、紫外線吸収剤を含有する樹脂層の順で積層されており、前記樹脂基材上に設けられた樹脂層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも１種の腐食防止剤を含有することを特徴とする請求項３に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを金属支持体上に貼り合せてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとして、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
【０００３】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
【０００４】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、質量が重いために、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
【０００６】
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきたが（例えば特許文献１参照）、樹脂は外部環境に対して弱く、また反射層に銀などの金属を用いると、樹脂層を介して酸素や水蒸気、硫化水素などが透過し、銀を腐食してしまうといった問題もあり、樹脂製ミラーの適用は困難であった。
【０００７】
太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点では、特許文献２に開示されているように、金属層を可視光領域の反射率の高い銀で構成することが好ましい。しかしながら、銀は耐候性に劣り、酸素・水蒸気・硫黄などで劣化しやすいという問題がある。この問題に対し、特許文献２では、プラスチック基板が銀膜層の保護層として機能していると考えられる。しかしながら、プラスチックは空気中の水蒸気や酸素を透過しやすいため、酸化により銀が劣化することにより、ミラーの反射率が低下するという問題も招く。
【０００８】
さらに、太陽光を反射する目的でミラーを使用する場合、ミラーを屋外で使用することが多い。屋外で使用する場合には、ミラーが風雨に曝されることになり、そのような厳しい環境下では銀の酸化劣化が早まり、ミラーの反射率の低下の問題はより顕著な問題となる。
【０００９】
銀の腐食防止技術については、銀反射層の光入射面側の隣接層として樹脂層等腐食防止層を塗設する方法が既に知られている（例えば特許文献３参照）。しかしながら、このような技術でも太陽光反射用のミラーとして用いられた場合には、屋外の厳しい環境下におかれるため、腐食に対して十分な効果が得られず、反射率の低下を十分に解消することができなかった。
【００１０】
また、銀を用いたミラーの劣化を防止する一つの手段として、紫外線吸収剤と腐食防止剤を含有する層を銀の上層として設ける方法も提案されている（例えば特許文献４参照）。このような技術によれば、銀層の腐食による反射率の低下はある程度抑制することが可能であり、紫外線によるプラスチック基材の劣化もある程度抑制することができる。しかしながら、このような技術をもってしても、温湿度の変化が大きい非常に過酷な環境下で用いられることの多い太陽熱発電用フィルムミラーとして用いられた場合には、正反射率の低下を十分に抑制することが困難であることが判明した。太陽熱発電用の反射ミラーにおいては、太陽光を所望の位置に集光させる必要がある為、高い反射率を維持するだけでなく、高い正反射率を維持する必要がある為、更なる改善が求められていた。また、特許文献４では、銀よりもイオン化傾向の高い銅等の金属層を、光入射面から遠い側の銀の隣接層として設けて銀の犠牲防蝕層とすることで、銀の腐食を防止する方法も検討されているが、このような方法を用いても、フィルムミラーの高い正反射率を維持することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【特許文献２】特開平６−３８８６０号公報
【特許文献３】特開２００２−１２２７１７号公報
【特許文献４】米国特許出願公開第２００６／０１８１７６５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
従って、本発明の目的は、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、正反射率の低下を十分に長期間抑制することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
【００１４】
１．銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも１種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【００１５】
２．前記入射光側の隣接層が、前記酸化防止剤及び前記腐食防止剤を含有する樹脂からなる層であることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【００１６】
３．前記銀反射層の入射光側から遠い側の隣接層として、銅層が設けられることを特徴とする前記１または２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【００１７】
４．前記太陽熱発電用フィルムミラーが、少なくとも樹脂基材、該樹脂基材上に設けられた樹脂層、前記銅層、前記銀反射層、前記入射光側の隣接層、紫外線吸収剤を含有する樹脂層の順で積層されており、前記樹脂基材上に設けられた樹脂層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも１種の腐食防止剤を含有することを特徴とする前記３に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【００１８】
５．前記１〜４のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【００１９】
６．前記１〜４のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを金属支持体上に貼り合せてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、正反射率の低下を十分に長期間抑制することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に好ましい太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
本発明者らは鋭意検討の結果、銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも１種の腐食防止剤を含有する太陽熱発電用フィルムミラーにより、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、フィルムミラーの正反射率の低下を十分に防止できることを見出した。
【００２４】
本発明者らの検討の結果、特許文献４に記載の技術のように銀反射層の腐食を防止するための腐食防止剤を含有する層を設けた場合であっても、太陽熱発電用フィルムミラーのように過酷な環境下で用いられる場合には、銀反射層に隣接する樹脂層が、太陽光露光時に樹脂層内で発生するペルオキシラジカル（−ＲＯＯ・）及び酸素ラジカル（Ｏ・）により劣化することで変質し、それに伴い、銀反射層に変形が生じることで正反射率の低下を引き起こすことが明らかになった。そこで、銀反射層の腐食を抑制するベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チオール系化合物、チオエーテル系化合物、テトラザイデイン系化合物、チアジアゾール系化合物などの腐食防止剤に加えて、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、リン系化合物から選ばれる酸化防止剤を添加することで、上述のペルオキシラジカル（−ＲＯＯ・）及び酸素ラジカル（Ｏ・）を捕捉することが可能となり、銀反射層自体の劣化による反射率の低下だけではなく、樹脂層の劣化による正反射率の低下が抑えることが可能となり、過酷な環境下であっても高い正反射率を維持することができるフィルムミラーを得ることができた。さらに、ラジカルの濃度が低い環境下においてベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チオール系化合物、チオエーテル系化合物、テトラザイデイン系化合物、チアジアゾール系化合物などの腐食防止剤の酸化的分解は大きく低減するため、銀反射層表面の金属原子のイオン化も効果的に抑制されるため、銀反射層の腐食防止効果も更に高めることが可能となった。
【００２５】
本発明では、以下の記載において、銀反射層に対して入射光側に隣接する酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層、または該化合物を含有する樹脂からなる層を樹脂層１と呼称する。銀反射層を挟んで樹脂層１と反対側に、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層、または該化合物を含有する樹脂からなる層が設けられる場合は、これを樹脂層２と呼称する。
【００２６】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、少なくとも樹脂基材、該樹脂基材上に設けられた樹脂からなる層（樹脂層２）、銅層、前記銀反射層、前記入射光側の隣接層（樹脂層１）、紫外線吸収剤を含有する樹脂層の順で積層されていることが好ましい。該樹脂基材上に設けられた樹脂層（樹脂層２）は、前記酸化防止剤及び腐食防止剤を含有することが好ましい。
【００２７】
図１に本発明に好ましい太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す。
【００２８】
樹脂基材３上に酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層２（樹脂層２）、銅層４、銀反射層５、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層１（樹脂層１）、紫外線吸収剤を含有する樹脂層６の順で積層されて太陽熱発電用フィルムミラー１０を形成する。Ｌは入射光を表す。
【００２９】
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層１、紫外線吸収剤を含有する樹脂層６の間には該樹脂層を接着する為の接着層７を設けてもよい。また、樹脂基材３の銀反射層５とは反対側に粘着層８を介して、金属基材９を貼り合わせて太陽熱発電用反射装置１１としてもよい。
【００３０】
以下、本発明について詳細な説明をする。
【００３１】
（樹脂基材）
本発明に係る樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【００３２】
特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましくポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）であることが好ましい。
【００３３】
該フィルムは溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００３４】
当該樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、更に好ましくは３０〜１００μｍである。
【００３５】
（銀反射層）
本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【００３６】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。
【００３７】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【００３８】
当該銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜１５０ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１００ｎｍである。
【００３９】
本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあっても良いが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、光線入射側に位置する方が好ましい。
【００４０】
（銅層）
本発明に係る銅層の形成法としては、銀反射層同様に湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【００４１】
とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銅層を蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【００４２】
（酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する隣接層）
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーに係る酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する隣接層は、酸化防止剤及び腐食防止剤の混合物のみから形成される層、または酸化防止剤及び腐食防止剤を含有した樹脂からなる層であるが、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有した樹脂からなる層が好ましく用いられる。
【００４３】
さらに好ましくは酸化防止剤及び腐食防止剤を合計で０．０１質量％から１０質量％含有した樹脂層を用いるのがよい。さらに、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に用いる樹脂は、接着剤層としての機能を有するものがよく、銀反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、当該酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に用いる樹脂は、樹脂基材（樹脂フィルム）と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性があることが好ましい。
【００４４】
当該酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００４５】
当該酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００４６】
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００４７】
〈酸化防止剤〉
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に使用できる酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を２種以上合わせて使用することもできる。以下に選択可能な酸化防止剤の一般式を示す。
【００４８】
＜ヒンダードフェノール系化合物＞
【００４９】
【化１】
2011150316.tif 000002
【００５０】
式中、Ｒ１１〜Ｒ１６は水素原子または置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【００５１】
また、Ｒ１１は水素原子、Ｒ１２、Ｒ１６はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕���１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から、“ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０”という商品名で市販されている。
【００５２】
（ヒンダードアミン系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（Ｂ）で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
【００５３】
＜ヒンダードアミン系化合物＞
【００５４】
【化２】
2011150316.tif 000003
【００５５】
式中、Ｒ２１〜Ｒ２７は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。Ｒ２４は水素原子、メチル基、Ｒ２７は水素原子、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、Ｒ２６はメチル基が好ましい。
【００５６】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【００５７】
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５８】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【００５９】
上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から、“ＴＵＮＵＶＩＮ１４４”及び“ＴＵＮＵＶＩＮ７７０ＤＦ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【００６０】
＜リン系化合物＞
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、ホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、ホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）、または第３級ホスファン（ｐｈｏｓｐｈａｎｅ）からなる群より選ばれるリン系化合物が好ましく、具体的には下記一般式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−４）、（Ｃ−５）で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
【００６１】
【化３】
2011150316.tif 000004
【００６２】
式中、Ｐｈ１及びＰｈ′１は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ１及びＰｈ′１はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ１及びＰｈ′１は互いに同一でもよく、異なってもよい。Ｘは単結合、硫黄原子または−ＣＨＲ６−基を表す。Ｒ６は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【００６３】
【化４】
2011150316.tif 000005
【００６４】
式中、Ｐｈ２及びＰｈ′２は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ２及びＰｈ′２はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ２及びＰｈ′２は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【００６５】
【化５】
2011150316.tif 000006
【００６６】
式中、Ｐｈ３は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ３はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【００６７】
【化６】
2011150316.tif 000007
【００６８】
式中、Ｐｈ４は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ４は炭素数１〜２０のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【００６９】
【化７】
2011150316.tif 000008
【００７０】
式中、Ｐｈ５、Ｐｈ′５及びＰｈ″５は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ５、Ｐｈ′５及びＰｈ″５は炭素数１〜２０のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【００７１】
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。
【００７２】
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０”、ＢＡＳＦジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ”、及び“ＩＲＧＡＦＯＳ１２”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。
【００７３】
〈腐食防止剤〉
酸化防止剤及び腐食防止剤含有層に使用できる腐食防止剤としては、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物の腐食防止剤群からの中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を２種以上合わせて使用することもできる。以下に選択可能な酸化防止剤の一般式を示す。
【００７４】
＜ベンズトリアゾール系化合物＞
【００７５】
【化８】
2011150316.tif 000009
【００７６】
式中、Ｒ２１〜Ｒ２７は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。
【００７７】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００７８】
上記タイプのベンゾトリアゾール系化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン社から、ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８という商品名で市販されている。
【００７９】
＜イミダゾール系化合物＞
【００８０】
【化９】
2011150316.tif 000010
【００８１】
式中、Ｒ５１〜Ｒ５４は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。Ｒ５１は水素原子が好ましい。
【００８２】
イミダゾール系化合物としては、２−メチルイミダゾール、２−メルカプトイミダゾール、５，６−ジメチルベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【００８３】
上記タイプのイミダゾール系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、前記化合物名と同じ商品名で市販されている。
【００８４】
＜イオウ系化合物＞
【００８５】
【化１０】
2011150316.tif 000011
【００８６】
式中、Ｒ６１及びＲ６２は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。
【００８７】
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【００８８】
上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＴＰＬ−Ｒ”及び“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。
【００８９】
＜テトラザインデン系化合物＞
【００９０】
【化１１】
2011150316.tif 000012
【００９１】
式中、Ｒ７１〜Ｒ７３は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。
【００９２】
テトラザインデン系化合物としては、７−ヒドロキシ−５−メチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン、５，６−ジメチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−７−オル、５−メチル−２−（メチルチオ）−１，３，４−トリアザインドリジン−７−オル等が挙げられる。
【００９３】
上記タイプのテトラザインデン系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、前記化合物名と同じ商品名で市販されている。
【００９４】
＜チアジアゾール系化合物＞
【００９５】
【化１２】
2011150316.tif 000013
【００９６】
式中、Ｒ８１及びＲ８２は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ１１〜Ｒ１５で表される置換基と同義である。
【００９７】
チアジアゾール系化合物としては、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジチオール、５−（エチルチオ）−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール、５，５′−（エチレンジチオ）ビス（１，３，４−チアジアゾール−２−チオール）等が挙げられる。
【００９８】
上記タイプのチアジアゾール系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、前記化合物名と同じ商品名で市販されている。
【００９９】
＜紫外線吸収剤を含有する樹脂層＞
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を含有した樹脂層を有することが好ましい。
【０１００】
紫外線吸収剤を含有する樹脂層としては、従来公知の種々の樹脂に紫外線吸収剤を分散させたフィルムを用いることができる。基材となる樹脂フィルムとしては例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【０１０１】
特にアクリルフィルムを用いることが好ましい。また溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１０２】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系紫外線吸収剤等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【０１０３】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１０４】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１０５】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【０１０６】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【０１０７】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【０１０８】
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【０１０９】
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【０１１０】
（接着層）
本発明に用いられる接着層は銀反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）、または樹脂層との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材（樹脂フィルム）と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【０１１１】
当該接着層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【０１１２】
当該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【０１１３】
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１１４】
（傷防止層）
本発明においては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。当該傷防止層は、傷防止のために設けられる。
【０１１５】
当該傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【０１１６】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【０１１７】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【０１１８】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【０１１９】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亞合成株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【０１２０】
本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤などを用いることができる。
【０１２１】
レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【０１２２】
（太陽熱発電用フィルムミラー全体の厚さ）
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０〜２３０μｍ、更に好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１２３】
（太陽熱発電用反射装置）
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽熱発電用反射装置として用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
【０１２４】
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
【０１２５】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
【０１２６】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１２７】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１２８】
〈金属基材〉
太陽熱発電用反射装置の金属基材（金属支持体）としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。
【０１２９】
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【０１３０】
また、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは金属基材以外の他基材に張り合せることもでき、該他基材は、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが挙げられる。
【０１３１】
貼り合わせるフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１３２】
また、これらの他基材は本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよい。
【実施例】
【０１３３】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３４】
［実施例１］
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ＢＡＳＦジャパン社製）および腐食防止剤としてベンズトリアゾール系のＴＩＮＵＶＩＮ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂固形分に対して３質量％となるように調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂層２を形成した。続いて樹脂層２の上に前処理として、ランタンアルミネート（Ｌａ２ｘＡｌ２ｙＯ３（ｘ＋ｙ））からなる密着安定剤（Ｍ３  Ｐａｔｉｎａｌ，メルク社製）を真空蒸着で５０ｎｍ積層させ、密着安定剤の上に、銅層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銅層を形成し、更に銅層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。続いて、銀反射層上に、樹脂層２と同じ組成の組成物を樹脂層２の積層と同じ方法により積層させることで樹脂層１を形成した。続いて、接着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層の上に紫外線吸収剤を含有する樹脂層として紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム（ＫＯＲＡＤ  ＣＬＲＡＲ０５００５、ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製）  ５０μｍを積層させ、実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。続いて、基材樹脂に粘着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置を作製した。
【０１３５】
［実施例２］
実施例１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ（シグマアルドリッチ社製）を、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ（シグマアルドリッチ社製）を用いることで実施例２のサンプルを得た。
【０１３６】
［実施例３］
実施例１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤のｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅ（和光純薬工業社製）を、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤のｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅ（和光純薬工業社製）を用いることで実施例３のサンプルを得た。
【０１３７】
［実施例４］
実施例１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅ（シグマアルドリッチ社製）を、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅ（シグマアルドリッチ社製）を用いることで実施例４のサンプルを得た。
【０１３８】
［実施例５］
実施例１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌ（シグマアルドリッチ社製）を、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌ（シグマアルドリッチ社製）を用いることで実施例５のサンプルを得た。
【０１３９】
［実施例６］
実施例１で、樹脂層１の酸化防止剤のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０の代わりに酸化防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ７７０ＤＦ（ＢＡＳＦジャパン社製）を、樹脂層２の酸化防止剤のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０の代わりに酸化防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ７７０ＤＦ（ＢＡＳＦジャパン社製）を用いることで実施例５のサンプルを得た。
【０１４０】
［実施例７］
実施例６で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅを用いることで実施例７のサンプルを得た。
【０１４１】
［実施例８］
実施例６で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤のｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤のｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅを用いることで実施例８のサンプルを得た。
【０１４２】
［実施例９］
実施例６で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅを用いることで実施例９のサンプルを得た。
【０１４３】
［実施例１０］
実施例６で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌを用いることで実施例９のサンプルを得た。
【０１４４】
［実施例１１］
実施例１で、樹脂層１の酸化防止剤のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０の代わりに酸化防止剤ＩＲＧＡＦＯＳ１２（ＢＡＳＦジャパン社製）を、樹脂層２の酸化防止剤のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０の代わりに酸化防止剤ＩＲＧＡＦＯＳ１２（ＢＡＳＦジャパン社製）を用いることで実施例１１のサンプルを得た。
【０１４５】
［実施例１２］
実施例１１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅを用いることで実施例１２のサンプルを得た。
【０１４６】
［実施例１３］
実施例１１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤のｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤のｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅを用いることで実施例１３のサンプルを得た。
【０１４７】
［実施例１４］
実施例１１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅを用いることで実施例１４のサンプルを得た。
【０１４８】
［実施例１５］
実施例１１で、樹脂層１の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌを、樹脂層２の腐食防止剤のＴＩＮＵＶＩＮ２３４の代わりに腐食防止剤の１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌを用いることで実施例１５のサンプルを得た。
【０１４９】
［実施例１６］
実施例１で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例１６のサンプルを得た。
【０１５０】
［実施例１７］
実施例２で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例１７のサンプルを得た。
【０１５１】
［実施例１８］
実施例３で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例１８のサンプルを得た。
【０１５２】
［実施例１９］
実施例４で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例１９のサンプルを得た。
【０１５３】
［実施例２０］
実施例５で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２０のサンプルを得た。
【０１５４】
［実施例２１］
実施例６で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２１のサンプルを得た。
【０１５５】
［実施例２２］
実施例７で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２２のサンプルを得た。
【０１５６】
［実施例２３］
実施例８で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２３のサンプルを得た。
【０１５７】
［実施例２４］
実施例９で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２４のサンプルを得た。
【０１５８】
［実施例２５］
実施例１０で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２５のサンプルを得た。
【０１５９】
［実施例２６］
実施例１１で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例１６のサンプルを得た。
【０１６０】
［実施例２７］
実施例１２で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２７のサンプルを得た。
【０１６１】
［実施例２８］
実施例１３で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２８のサンプルを得た。
【０１６２】
［実施例２９］
実施例１４で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例２９のサンプルを得た。
【０１６３】
［実施例３０］
実施例１５で、樹脂層２に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例３０のサンプルを得た。
【０１６４】
［実施例３１］
実施例１で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ０．００５質量％添加することで実施例３１のサンプルを得た。
【０１６５】
［実施例３２］
実施例１で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ１．０質量％添加することで実施例３２のサンプルを得た。
【０１６６】
［実施例３３］
実施例１で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ５．０質量％添加することで実施例３３のサンプルを得た。
【０１６７】
［実施例３４］
実施例１で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ８．０質量％添加することで実施例３４のサンプルを得た。
【０１６８】
［実施例３５］
実施例１６で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ０．００５質量％添加することで実施例３５のサンプルを得た。
【０１６９】
［実施例３６］
実施例１６で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ１．０質量％添加することで実施例３６のサンプルを得た。
【０１７０】
［実施例３７］
実施例１６で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ５．０質量％添加することで実施例３７のサンプルを得た。
【０１７１】
［実施例３８］
実施例１６で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ８．０質量％添加することで実施例３８のサンプルを得た。
【０１７２】
［比較例１］
実施例１で、樹脂層１と樹脂層２に腐食防止剤を添加しないことにより比較例１のサンプルを得た。
【０１７３】
［比較例２］
実施例６で、樹脂層１と樹脂層２に腐食防止剤を添加しないことにより比較例２のサンプルを得た。
【０１７４】
［比較例３］
実施例１１で、樹脂層１と樹脂層２に腐食防止剤を添加しないことにより比較例３のサンプルを得た。
【０１７５】
［比較例４］
実施例１で、樹脂層１と樹脂層２に酸化防止剤を添加しないことにより比較例４のサンプルを得た。
【０１７６】
［比較例５］
実施例２で、樹脂層１と樹脂層２に酸化防止剤を添加しないことにより比較例５のサンプルを得た。
【０１７７】
［比較例６］
実施例３で、樹脂層１と樹脂層２に酸化防止剤を添加しないことにより比較例６のサンプルを得た。
【０１７８】
［比較例７］
実施例４で、樹脂層１と樹脂層２に酸化防止剤を添加しないことにより比較例７のサンプルを得た。
【０１７９】
［比較例８］
実施例５で、樹脂層１と樹脂層２に酸化防止剤を添加しないことにより比較例８のサンプルを得た。
【０１８０】
［比較例９］
実施例１で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例９のサンプルを得た。
【０１８１】
［比較例１０］
実施例２で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１０のサンプルを得た。
【０１８２】
［比較例１１］
実施例３で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１１のサンプルを得た。
【０１８３】
［比較例１２］
実施例４で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１２のサンプルを得た。
【０１８４】
［比較例１３］
実施例５で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１３のサンプルを得た。
【０１８５】
［比較例１４］
実施例６で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１４のサンプルを得た。
【０１８６】
［比較例１５］
実施例７で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１５のサンプルを得た。
【０１８７】
［比較例１６］
実施例８で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１６のサンプルを得た。
【０１８８】
［比較例１７］
実施例９で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１７のサンプルを得た。
【０１８９】
［比較例１８］
実施例１０で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１８のサンプルを得た。
【０１９０】
［比較例１９］
実施例１１で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例１９のサンプルを得た。
【０１９１】
［比較例２０］
実施例１２で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例２０のサンプルを得た。
【０１９２】
［比較例２１］
実施例１３で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例２１のサンプルを得た。
【０１９３】
［比較例２２］
実施例１４で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例２２のサンプルを得た。
【０１９４】
［比較例２３］
実施例１５で、樹脂層１に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例２３のサンプルを得た。
【０１９５】
表１、表２に示す上記サンプル作製に用いた酸化防止剤、腐食防止剤は以下のように番号をつけた。
【０１９６】
酸化防止剤  ＡＯ−１：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ヒンダードフェノール系）
ＡＯ−２：ＴＩＮＵＶＩＮ７７０ＤＦ（ヒンダードアミン系）
ＡＯ−３：ＩＲＧＡＦＯＳ１２（リン系）
腐食防止剤  ＡＲ−１：ＴＩＮＵＶＩＮ２３４（ベンズトリアゾール系）
ＡＲ−２：２−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ（イミダゾール系）
ＡＲ−３：ｇｒｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅ（イオウ系）
ＡＲ−４：７−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ［１，２，４］ｔｒｉａｚｏｌｏ［１，５−ａ］ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅ（テトラザインデン系）
ＡＲ−５：１，３，４−Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ−２，５−ｄｉｔｈｉｏｌ（チアジアゾール系）
《評価》
上記作製した太陽光集光ミラーについて、下記の方法により劣化試験を行い、評価を行い、結果を表１、表２に示した。
【０１９７】
（劣化評価）
得られたサンプルを温度９５℃、湿度９５％ＲＨの条件で９０日間放置することで、強制劣化を試みた。
【０１９８】
１．正反射率の耐候性評価
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
【０１９９】
フィルムミラーの正反射率を測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、１００ｍＷメタルハライドランプ（岩崎電気製）７２時間照射前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
【０２００】
劣化試験後に正反射率低下量１％未満・・◎
劣化試験後に正反射率低下量１％以上２％未満・・○
劣化試験後に正反射率低下量２％以上・・×
２．正反射率の耐硫化性評価
フィルムミラーの１００ｍＷメタルハライドランプ  ７２時間照射処理をした後、１０％硫化アンモニウム水溶液に２時間浸漬させた際の初期状態からの正反射率の低下率を算出した。以下に耐硫化性試験の評価基準を記す。
【０２０１】
劣化試験後に正反射率低下量５％未満・・◎
劣化試験後に正反射率低下量５％以上７％未満・・○
劣化試験後に正反射率低下量７％以上９％未満・・△
劣化試験後に正反射率低下量９％以上・・×
３．膜密着性の耐候性評価
密着性評価はＪＩＳ  Ｋ５４００の碁盤目セロハンテープはく離試験により評価した。即ち、強制劣化後のサンプル表面にカッターナイフで１ｍｍ間隔の碁盤目状に切り込みを入れ、セロハンテープ（ニチバン社製）を貼り付けた後はく離し、はく離部の割合を調べた。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
【０２０２】
劣化試験後に膜はく離部の割合が３％未満・・○
劣化試験後に膜はく離部の割合が３％以上・・×
【０２０３】
【表１】
2011150316.tif 000014
【０２０４】
【表２】
2011150316.tif 000015
【０２０５】
上記評価により、本発明のサンプル１〜３８は比較例に対し、正反射率、硫化処理後の正反射率、及び膜密着性の耐候性評価に優れていることが明らかである。
【符号の説明】
【０２０６】
１  酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層（樹脂層１）
２  酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層（樹脂層２）
３  樹脂基材
４  銅層
５  銀反射層
６  紫外線吸収剤を含有する樹脂層
７  接着層
８  粘着層
９  金属基材
１０  太陽熱発電用フィルムミラー
１１  太陽熱発電用反射装置
Ｌ  入射光
【図１】
2011150316.tif 000016