(57)【要約】【課題】供給管からの反応ガスを吹出方向と交差する方向に均一に分布させて吹き出す表面処理用ノズル装置を提供する。【解決手段】ノズル本体１０の耐反応ガス材料製の部材１２内に導入流路２０を形成し、その両端に反応ガスの供給管３をそれぞれ連ねる。複数の分岐流路２１を導入通路２０から吹出方向の先端側に延ばし拡散室２２に連ねる。拡散室２２内に整流板３０を設け、拡散室２２を整流板３０より基端側の室部２３と先端側の室部２５とに仕切る。整流板３０の両側の連通路２４にて室部２３，２５を連通する。好ましくは、支持部材４０にて整流板３０を支持し、室部２３内にスペーサ５０を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給管からの反応ガスを吹出方向の先端側に配置された被処理物に吹き付ける表面処理用ノズル装置であって、
（ａ）  前記被処理物と対面すべき先端面を有するノズル本体と、
（ｂ）  前記ノズル本体に形成され、前記吹出方向と交差する第１方向に延び、かつ両端に前記供給管がそれぞれ連なる導入流路と、
（ｃ）  前記ノズル本体に形成され、前記導入通路から分岐して前記吹出方向の先端側に各々延び、かつ互いに前記第１方向に間隔を置いて配置された複数の分岐流路と、
（ｄ）  前記ノズル本体に形成され、前記分岐流路の前記吹出方向の先端側に配置されて前記第１方向に延び、かつ前記吹出方向の基端側の内面に前記分岐流路が開口された拡散室と、
（ｅ）  前記ノズル本体に形成され、前記拡散室の前記吹出方向の先端側の内面から前記吹出方向の先端側へ延びて前記先端面に開口し、かつ前記第１方向に沿在された吹出口と、
（ｆ）  前記第１方向に延び、前記拡散室を前記吹出方向の基端側の室部と前記吹出方向の先端側の室部とに仕切るようにして、前記拡散室の内部に配置され、かつ前記吹出方向及び前記第１方向と直交する第２方向の両側の端縁が、前記拡散室の前記第２方向の内側面から離れ、前記端縁と前記内側面との間に前記基端側の室部と前記先端側の室部とを連通する連通路を画成する整流板と、
を備え、前記ノズル本体の少なくとも前記導入流路、前記各分岐流路、前記拡散室、及び前記吹出口を形成する部分、並びに前記整流板が、前記反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されていることを特徴とする表面処理用ノズル装置。
【請求項２】
前記整流板を前記拡散室の前記基端側の内面に近接させて支持する支持部材と、前記基端側の室部内に配置されて前記整流板と前記基端側の内面との間隔を維持するスペーサとが、それぞれ前記整流板の長手方向に間隔を置いて複数設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項３】
前記支持部材が、前記整流板を貫通して前記ノズル本体の前記拡散室より前記吹出方向の基端側の部分にねじ込まれるネジであり、
前記スペーサが、環状をなして前記支持部材を挿通し、かつ内周面には前記支持部材のネジ部に引っ掛かる引っ掛かり部が形成されていることを特徴とする請求項２に記載の表面処理用ノズル装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物のエッチング、洗浄、表面改質、成膜等の表面処理を行なうための反応性のガスを吹出すノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、放電部からなる反応ガス生成部と、ノズル部とが別体になった表面処理装置が記載されている。反応ガス生成部からフレキシブルな供給管が引き出され、この供給管の先端にノズル部が連なっている。ノズル部は、円盤形になっており、その中央部に上記供給管が接続されている。反応ガス生成部からの反応ガスを供給管にてノズル部へ送り、ノズル部から被処理物へ吹き出す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平７−７４５１９２号公報（図７Ａ）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
供給管にて送られてきた反応ガスをノズル部の先端面の広い領域から均一に吹き出すのは容易でない。特に、反応ガスを吹出し方向と交差する被処理物の幅方向に均一に分布させて、均一な線状の吹出し流を形成するのは容易でない。反応ガスによるノズル部材の損傷も考えられる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明に係る表面処理用ノズル装置は、供給管からの反応ガスを吹出方向の先端側に配置された被処理物に吹き付ける表面処理用ノズル装置であって、
（ａ）  前記被処理物と対面すべき先端面を有するノズル本体と、
（ｂ）  前記ノズル本体に形成され、前記吹出方向と交差する第１方向に延び、かつ両端に前記供給管がそれぞれ連なる導入流路と、
（ｃ）  前記ノズル本体に形成され、前記導入通路から分岐して前記吹出方向の先端側に各々延び、かつ互いに前記第１方向に間隔を置いて配置された複数の分岐流路と、
（ｄ）  前記ノズル本体に形成され、前記分岐流路の前記吹出方向の先端側に配置されて前記第１方向に延び、かつ前記吹出方向の基端側の内面に前記分岐流路が開口された拡散室と、
（ｅ）  前記ノズル本体に形成され、前記拡散室の前記吹出方向の先端側の内面から前記吹出方向の先端側へ延びて前記先端面に開口し、かつ前記第１方向に沿在された吹出口と、
（ｆ）  前記第１方向に延び、前記拡散室を前記吹出方向の基端側の室部と前記吹出方向の先端側の室部とに仕切るようにして、前記拡散室の内部に配置され、かつ前記吹出方向及び前記第１方向と直交する第２方向の両側の端縁が、前記拡散室の前記第２方向の内側面から離れ、前記端縁と前記内側面との間に前記基端側の室部と前記先端側の室部とを連通する連通路を画成する整流板と、
を備え、前記ノズル本体の少なくとも前記導入流路、前記各分岐流路、前記拡散室、及び前記吹出口を形成する部分、並びに前記整流板が、前記反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されていることを特徴とする。
反応ガスは、供給管から導入流路の両端にそれぞれ導入され、導入流路内を第１方向の内側へ流れながら順次分岐流路を経て拡散室の基端側室部に流入する。反応ガスは、基端側室部から整流板の第２方向の両側の連通路を通り先端側室部に流入する。その後、吹出口から吹き出される。これにより、第１方向に沿って線状にかつ均一に分布した吹出流を形成でき、被処理物を第１方向に均一に処理できる。前記ノズル本体の反応ガス流路を構成する部分が反応ガスに対する耐性を有しているため、反応ガスによる損傷劣化を抑制できる。
【０００６】
前記整流板を前記拡散室の前記基端側の内面に近接させて支持する支持部材と、前記基端側の室部内に配置されて前記整流板と前記基端側の内面との間隔を維持するスペーサとが、それぞれ前記整流板の長手方向に間隔を置いて複数設けられていることが好ましい。
これにより、拡散室の基端側室部が狭隘になり、先端側室部が広くなる。スペーサによって狭隘な基端側室部の厚さ精度を確保できる。ひいては、反応ガス流を第１方向に確実に均一にできる。
【０００７】
前記支持部材が、前記整流板を貫通して前記ノズル本体の前記拡散室より前記吹出方向の基端側の部分にねじ込まれるネジであり、前記スペーサが、環状をなして前記支持部材を挿通し、かつ内周面には前記支持部材のネジ部に引っ掛かる引っ掛かり部が形成されていることが好ましい。
これにより、整流板、支持部材及びスペーサのノズル本体への取り付け作業を容易化できる。支持部材がスペーサを貫通することにより、支持部材及びスペーサが基端側室部内において占める割合を小さくでき、支持部材及びスペーサによるガス流への影響を小さくでき、ガス流の均一性を確実に維持できる。
【０００８】
前記反応ガスは、例えば原料ガスを大気圧近傍下にてプラズマ化することにより生成され、前記供給管にて前記ノズル装置へ送られる。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【０００９】
更に、前記支持部材が、前記反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されていることが好ましい。前記スペーサが、前記反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されていることが好ましい。
反応ガスに対する耐性を有する材料として、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の樹脂が挙げられる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、供給管にて送られてきた反応ガスを、吹出方向と交差する第１方向に均一に分布させて被処理物に吹き付けることができる。また、反応ガスによる損傷劣化を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表面処理用ノズル装置を示し、図２のＩ−Ｉに沿う側面断面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩに沿う、上記表面処理用ノズル装置の正面断面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩに沿う、上記表面処理用ノズル装置の一部分の拡大断面図である。
【図４】図２のＩＶ−ＩＶに沿う、上記表面処理用ノズル装置の吹出部材の平面図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係る表面処理用ノズル装置の側面断面図である。
【図６】スペーサの変形例を示し、図３に対応する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
本発明は、エッチング、洗浄、表面改質、成膜等の種々の表面処理に適用される。被処理物９は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板であるが、これに限定されるものではなく、半導体ウェハ、光学フィルム等であってもよい。
【００１３】
図１及び図２は、第１実施形態を示したものである。表面処理用ノズル装置１が、支持部２の上方に架台（図示省略）にて支持されている。支持部２に被処理物９が支持されている。支持部２は、ステージ、コンベア、マニピュレータ等にて構成されている。図示しない反応ガス生成部からの反応ガス供給管３が、ノズル装置１に接続されている。反応ガス生成部としては、例えば大気圧プラズマ生成部が用いられている。大気圧プラズマ生成部は、少なくとも一対の電極を有し、これら電極どうし間に大気圧近傍のプラズマ放電を生成し、原料ガスをプラズマ化（活性化、ラジカル化、イオン化等を含む）するものである。原料ガス成分は、表面処理の内容によって適宜選択される。例えば、シリコン含有物のエッチング等においては、原料ガスとして、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６等のフッ素含有化合物とＨ２Ｏ等の水素含有化合物を含む混合ガスを用いる。更に原料ガスにはキャリアガスとしてＡｒ、Ｎ２等の不活性ガスを混合してもよい。この原料ガスをプラズマ化することにより、ＨＦを反応成分とする反応ガスを生成できる。この反応ガスをノズル装置１に供給して吹出し、被処理物９の表面のシリコン含有層をエッチングする。ノズル装置１及び支持部２の何れか一方には移動機構が接続され又は組み込まれており、ノズル装置１と支持部２ひいては被処理物９とが、被処理物９の長手方向に沿う第２方向（図１の左右方向）に相対移動される。
【００１４】
図１および図２に示すように、ノズル装置１は、ノズル本体１０を備えている。ノズル本体１０は、被処理物９の幅方向に沿う第１方向（図１の紙面と直交する方向、図２の左右方向）に延びている。ノズル本体１０の底面（先端面）１０ａが、被処理物９と対面する。ノズル本体１０は、吹出路５ａを有する吹出部５と、吸引路６ａを有する一対の吸引部６を備えている。一対の吸引部６が、吹出部５を第２方向の両側から挟んでいる。吹出路５ａ及び吸引路６ａが、それぞれノズル底面１０ａに達して開口している。
【００１５】
吹出路５ａは次のように構成されている。
ノズル本体１０の中央部には、メインボディ１２と、このメインボディ１２の下側の吹出部材１３とが設けられている。メインボディ１２及び吹出部材１３は、第１方向に沿ってノズル装置１のほぼ全長にわたって延びている。吹出部材１３の下端面が、ノズル底面１０ａを構成している。メインボディ１２及び吹出部材１３は、反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されている。例えば、反応ガスがＨＦ，ＣＦ４等のフッ素系成分を含む場合、メインボディ１２及び吹出部材１３は、ＰＶＣ等の耐フッ素系の樹脂にて構成されている。
【００１６】
これらメインボディ１２及び吹出部材１３に、吹出路５ａを構成する路部分２０〜２６が形成されている。詳述すると、図１及び図２に示すように、メインボディ１２の内部には、導入流路２０が形成されている。導入流路２０は、円形の断面を有し、第１方向に沿ってメインボディ１２の全長にわたって延びている。図２に示すように、導入流路２０の両端部は、メインボディ１２の第１方向の両端面に達し、反応ガス供給ポート４に接続されている。
【００１７】
図２に示すように、ノズル本体１０の上側の金属製フレーム１４の内部に反応ガス供給管３が差し入れられている。供給管３が、フレーム１４内において２つに分岐している。分岐した各供給管３が、フレーム１４の第２方向の端壁の外部に出され、対応するポート４に接続されている。
【００１８】
図１及び図２に示すように、メインボディ１２の導入流路２０より下側部分には、拡散室画成凹部１２ａが形成されている。拡散室画成凹部１２ａは、メインボディ１２の下面に開口している。拡散室画成凹部１２ａの下端部は、吹出部材１３にて塞がれている。更に、吹出部材１３の上面には、拡散室画成凹部１３ａが形成されている。拡散室画成凹部１２ａ，１３ａが互いに一体に連なり、拡散室２２を構成している。図２に示すように、拡散室２２は、第１方向に長く延び、その両端部は、ノズル本体１０の第１方向の端面の近くまで達している。図１に示すように、拡散室２２の延び方向と直交する断面は、上下方向（吹出方向）に長い四角形になっている。
【００１９】
メインボディ１２の導入流路２０と拡散室画成凹部１２ａとの間に多数（複数）の分岐流路２１が形成されている。分岐流路２１は、それぞれ上下に延びる細い小孔状をなし、互いに第１方向に間隔を置いて配置されている。分岐流路２１は、導入流路２０の下端部から下方（吹出方向の先端側）へ延びている。分岐流路２１の下端部が、拡散室画成凹部１２ａの上側（吹出方向の基端側）の内面に達している。
【００２０】
吹出部材１３には、吹出口２６が形成されている。吹出口２６は、拡散室画成凹部１３ａの内底面から吹出部材１３を貫通して底面１０ａに達している。吹出口２６は、吹出部材１３の長手方向（第１方向）に沿在されている。図４に示すように、この実施形態では、吹出口２６は、多数の小孔状をなして拡散室画成凹部１３ａのほぼ全域に分散されている。これら吹出口２６は、第２方向に複数の列（図では４列）をなし、各列の吹出口２６が第１方向に間隔を置いて並べられている。隣り合う列の吹出口２６どうしは、第１方向にずれている。吹出口２６の直径は、例えば０．５ｍｍφ〜４ｍｍφ程度である。
【００２１】
拡散室２２の内部に整流板３０が収容されている。整流板３０は、幅方向を第２方向に向けて、第１方向に延びる細長い平板状になっている。整流板３０は反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されている。例えば、反応ガスがＨＦ，ＣＦ４等のフッ素系成分を含む場合、整流板３０は、ＰＶＤＦ等の耐フッ素系の樹脂にて構成されている。整流板３０の第１方向の長さは、拡散室２２の第１方向の長さとほぼ等しく、例えば６００ｍｍ程度である。整流板３０の第２方向の寸法は、拡散室２２の第２方向の寸法より僅かに小さく、例えば１５ｍｍ程度である。整流板３０の上下方向の厚さは、数ｍｍ以下である。
【００２２】
図２に示すように、整流板３０の第１方向の端面は、拡散室２２の第１方向の内端面に突き当てられている。図１及び図２に示すように、整流板３０によって、拡散室２２が上側（吹出方向の基端側）の室部２３と下側（吹出方向の先端側）の室部２５とに仕切られている。整流板３０は、メインボディ１２の拡散室画成凹部１２ａの上側の内面に近接して配置されている。したがって、上側の室部２３が狭隘なスリット状になっている。室部２３の上下方向の厚さは、例えば０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度である。拡散室２２の殆どを下側の室部２５が占めている。
【００２３】
平面視において、整流板３０の幅方向（第２方向）のちょうど中央部に分岐流路２１が配置されている。各分岐流路２１の下端部が、狭隘な室部２３に連なっている。
【００２４】
図１及び図３に示すように、整流板３０の幅方向（第２方向）の両端縁は、拡散室画成凹部１２ａの第２方向の内側面から僅かに離れている。整流板３０の上記各端縁と拡散室画成凹部１２ａの上記内側面との間に、連通路２４が形成されている。連通路２４は、スリット状をなして第１方向に延びている。狭隘室部２３の第２方向の両端部が、それぞれ連通路２４を介して拡散室部２５に連なっている。連通路２４の第２方向の寸法は、例えば０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度である。
【００２５】
整流板３０の取り付け構造を説明する。
図１及び図２に示すように、整流板３０は、支持部材４０によってメインボディ１２に連結され支持されている。支持部材４０は、整流板３０の長手方向（第１方向）に間隔を置いて複数（例えば５つ（図２では２つのみ図示））配置されている。支持部材４０の第１方向の配置間隔は、分岐流路２１の第１方向の配置間隔より十分に大きい。図３に示すように、支持部材４０は、樹脂製のネジにて構成されている。ネジ４０が、頭部４１を下に向け、整流板３０を貫通して、メインボディ１２の拡散室２２より上側の部分にねじ込まれている。整流板３０には、支持部材４０のための挿通穴３１が形成されている。
【００２６】
ネジ４０の頭部４１が、拡散室２２の内部に突出されている。頭部４１に整流板３０が引っ掛けられるように載せられて支持されている。
【００２７】
図１に示すように、支持部材４１は、整流板３０の幅方向（第２方向）の中央部に配置され、第１方向から見て分岐流路２１と重なっている。図２に示すように、メインボディ１２における支持部材４０の配置位置に対応する箇所には、分岐流路２１が省略されている。
【００２８】
拡散室画成凹部１２ａの上側の内面と整流板３０の上面との間の狭隘な室部２３内にスペーサ５０が配置されている。スペーサ５０によって、狭隘室部２３の厚さが確保されている。スペーサ５０は、ＰＴＦＥ等の樹脂からなるセットワッシャーにて構成されている。スペーサ５０は、整流板３０の長手方向すなわち第１方向に間隔を置いて複数（例えば５つ（図２では２つのみ図示））配置されている。ここでは、スペーサ５０は、支持部材４０と第１方向及び第２方向に同じ位置に配置されている。すなわち、スペーサ５０は、環状をなし、その中心穴５１を支持部材４０が挿通されている。
【００２９】
図３に示すように、スペーサ５０の中心穴５１の内周面には、弾性変形可能な凸片状の引っ掛かり部５２が形成されている。引っ掛かり部５２が、支持部材４０のネジ部４２に合わせて弾性変形し、ネジ部４２に引っ掛けられている。スペーサ５０の外直径は、整流板３０の第２方向に沿う幅寸法より十分に小さく、１ｃｍ以下である。
【００３０】
整流板３０のノズル本体１０への取り付けは、次のようにして行なう。
整流板３０の各挿通穴３１に支持部材４０を挿通する。次に、スペーサ５０を各支持部材４０のネジ部４２に嵌め込む。これにより、支持部材４０の頭部４１とスペーサ５０が整流板３０を挟んで互いに反対側に配置される。スペーサ５０の引っ掛かり部５２がネジ部４２に引っ掛かることにより、支持部材４０及びスペーサ５０が整流板３０から外れるのを防止できる。
次に、整流板３０をメインボディ１２の拡散室画成凹部１２ａに差し入れ、支持部材４０をメインボディ１２に螺合する。スペーサ５０によって、整流板３０の水平精度及び狭隘室部２３の厚さ精度を高めることができる。支持部材４０の螺合の際、整流板３０の第２方向の両端縁と拡散室画成凹部１２ａの内側面との間に隙間ゲージを差し入れておく。これにより、連通路２４の厚さ精度及び整流板３０の第１方向に対する平行精度を出すことができる。
【００３１】
上記構成の表面処理用ノズル装置１において、反応ガスは、供給管３にて等流量ずつ二方向に分岐され、各ポート４から導入流路２０の両端部に導入される。反応ガスは、導入流路２０の内部を第１方向の内側へ流れながら、順次、分岐流路２１に分配される。各分岐流路２１を通った反応ガスが、狭隘な室部２３に出され、整流板３０に当たって第２方向の両側に分かれる。支持部材４０がスペーサ５０を貫通することにより、支持部材４０及びスペーサ５０が室部２３内に占める割合を小さくでき、支持部材４０及びスペーサ５０によるガス流への影響を小さくできる。この反応ガスが、整流板３０を回り込むようにして、両側のスリット状の連通路２４を通り、広い拡散室部２５に出されて拡散される。このようにして、反応ガスを第１方向に均一に分布させることができる。上述したように整流板３０が正確に水平に位置決めされ、室部２３及び連通路２４の厚さ精度が確保されているため、反応ガスを確実に均一化できる。したがって、各吹出口２６から反応ガスを均一に吹出すことができる。この反応ガスが被処理物９に接触し、エッチング等の表面処理反応が起きる。反応ガス流が第１方向に均一に分布されているため、被処理物９の処理度を第１方向に均一化できる。
処理済みの反応ガスは、ノズル装置１の両側の吸引路６ａに吸い込まれて排出される。  メインボディ１２、吹出部材１３、整流板３０、支持部材４０、及びスペーサ５０は、耐フッ素系樹脂にて構成され、反応ガスに対して耐性を有しているため、損傷劣化を抑制でき、メンテナンスの頻度を減らすことができる。
【００３２】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において、既述の実施形態と重複する内容に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
図５は、本発明の第２実施形態に係る表面処理用ノズル装置１Ｘを示したものである。ノズル装置１Ｘのノズル本体１０には、２つの吹出路５ａが第２方向に並んで設けられている。各吹出路５ａは、第１実施形態と同様に、導入流路２０、分岐流路２１、拡散室２２、吹出口２６を含み、拡散室２２の上側部に整流板３０が設けられることにより、拡散室２２が狭隘な室部２３と広い室部２５とに仕切られ、これら室部２３，２５が連通路２４にて連通されている。詳細な図示は省略するが、反応ガス供給管３が４つに分岐し、２つの導入流路２０の両端のポート４にそれぞれ接続されている。
【００３３】
図６は、整流板３０の取り付け構造の変形例を示したものである。
拡散室２２の上側の内面にザグリ穴状の凹部１２ｃが形成されている。この凹部１２ｃのスペーサ５０の上側部分が嵌め込まれている。環状スペーサ５０の内周面には、引っ掛かり部５２が形成されていない。
【００３４】
図６の変形例では、整流板３０の取り付けに際し、まず、スペーサ５０を凹部１２ｃに嵌め込んで固定する。このとき、スペーサ５０をメインボディ１２に接着してもよい。次に、整流板３０を支持部材４０にてメインボディ１２に取り付ける。
【００３５】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。
例えば、スペーサ５０が、整流板３０の上面に接着されていてもよい。
スペーサ５０が整流板３０又はノズル本体１０に一体的に形成されていてもよい。整流板３０の基端側の面又は拡散室２２の基端側の内面に凸部が一体形成され、この凸部がスペーサ５０として提供されていてもよい。
スペーサ５０を、支持部材４０に対し第１方向又は第２方向にずらして配置してもよい。ネジがスペーサを貫通していなくてもよい。その場合、スペーサは環状である必要はない。
支持部材４０は、ネジに限られず、ピン、フック等であってもよい。
整流板３０を拡散室画成凹部１２ａの上側の内面から十分に離し、上側の室部２３を広くしてもよい。上側の室部２３を下側の室部２５と同程度の広さにしてもよい。
拡散室２２内に整流板３０を上下（吹出方向）に離して複数配置し、拡散室２２を３つ以上の室部に区画してもよい。
ノズル本体１０の吹出部５は、少なくとも吹出路５ａを形成する部分が、反応ガスに対する耐性を有する材料にて構成されていればよく、例えば耐性が比較的低い部材に吹出路５ａを形成し、吹出路５ａの内周面に耐反応ガス性の材料を被膜してもよい。
吹出口２６は、第１方向に延びるスリット状であってもよい。
表面処理の内容は、エッチングに限られず、洗浄、表面改質、成膜等であってもよい。
被処理物は、ガラス基板に限られず、半導体ウェハ等であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や半導体ウェハの製造に適用可能である。
【符号の説明】
【００３７】
１，１Ｘ  表面処理用ノズル
２      支持部
３      供給管
４      ポート
５      吹出部
５ａ    吹出路
６      吸引部
６ａ    吸引路
９      被処理物
１０    ノズル本体
１０ａ  ノズル底面（先端面）
１２    メインボディ
１２ａ  拡散室画成凹部
１２ｃ  ザグリ穴
１３    吹出部材
１３ａ  拡散室画成凹部
１４    フレーム
２０    導入流路
２１    分岐流路
２２    拡散室
２３    基端側室部
２４    側部隙間
２５    先端側室部
２６    吹出口
３０    整流板
３１    ネジ挿通穴
４０    支持部材（ネジ）
４１    頭部
４２    ネジ部
５０    スペーサ
５１    中心穴
５２    引っ掛かり部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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