(57)【要約】【課題】基板と接着フィルムとの間への空気の流入を最小化する。【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板１０が固定される固定面１１０を含む固定部１００、互いに連結されて、各々が互いに異なるサイズの空間を形成する複数のキャップを含み、基板１０を密閉するように固定面１１０と共に第１密閉空間ＳＳ１を形成するキャップユニット２００、固定面１１０と共にキャップユニット２００が第１密閉空間ＳＳ１より大きい第２密閉空間ＳＳ２を形成するように、複数のキャップのうちの一つ以上を固定面１１０と離隔される方向に離隔させるキャップ駆動部４００、及び基板に接着フィルム２０を付着させるラミネーティング部３００を含む。【選択図】図４
2011170831.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が固定される固定面を含む固定部、
互いに連結されて、各々が互いに異なるサイズの空間を形成する複数のキャップを含み、前記基板を密閉するように前記固定面と共に第１密閉空間を形成するキャップユニット、
前記固定面と共に前記キャップユニットが前記第１密閉空間より大きい第２密閉空間を形成するように、前記複数のキャップのうちの一つ以上を前記固定面と離隔される方向に離隔させるキャップ駆動部、及び
前記基板に接着フィルムを付着させるラミネーティング部を含むことを特徴とする、基板処理装置。
【請求項２】
前記複数のキャップのうちの互いに隣接する各々のキャップは、互いに対してスライディング運動が可能であることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記キャップユニットは、
前記固定面と接触していて、第１空間を形成する第１キャップ、
前記第１キャップと連結されて、前記第１空間にスライディング運動が可能で、前記第１空間より小さい第２空間を形成する第２キャップ、及び
前記第２キャップと連結されて、前記第１空間または前記第２空間にスライディング運動が可能で、前記第２空間より小さい第３空間を形成する第３キャップを含むことを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１密閉空間は、前記第１空間、前記第２空間、及び前記第３空間が互いに重なって形成され、
前記第２密閉空間は、前記第１空間、前記第２空間、及び前記第３空間のうちの第１空間を含む二つ以上の空間が互いに位相差を有して位置して形成されることを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記キャップ駆動部は、前記第３キャップと連結されて、第１キャップに対して前記第２キャップ及び前記第３キャップのうちの一つ以上をスライディング運動させることを特徴とする、請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記キャップユニットは、前記ラミネーティング部によって支持されていて、
前記キャップ駆動部は、前記キャップユニットに脱着可能であることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記キャップユニットは、前記ラミネーティング部によって前記接着フィルムが前記基板に付着される時に、前記固定面と共に前記第２密閉空間を形成することを特徴とする、請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
基板が固定される固定面を含む固定部、
互いに連結されて、各々が互いに異なるサイズの空間を形成する複数のキャップを含み、前記基板を密閉するように前記固定面と共に第１密閉空間を形成するキャップユニット、及び
前記固定面と共に前記キャップユニットが前記第１密閉空間より大きい第２密閉空間を形成するように、前記複数のキャップのうちの一つ以上を前記固定面と離隔される方向に離隔させるキャップ駆動部を含むことを特徴とする、基板処理装置。
【請求項９】
前記複数のキャップのうちの互いに隣接する各々のキャップは、互いに対してスライディング運動が可能であることを特徴とする、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
基板を固定させる段階、
前記基板を密閉するように前記基板の周囲を第１密閉空間にする段階、
前記第１密閉空間を前記第１密閉空間より大きい第２密閉空間にする段階、及び
前記基板に接着フィルムを付着させる段階を含むことを特徴とする、基板処理方法。
【請求項１１】
前記第１密閉空間を前記第２密閉空間に形成する段階は、
互いに異なるサイズの空間を形成して、前記基板を密閉する互いに隣接する複数のキャップを互いにスライディング運動させて行うことを特徴とする、請求項１０に記載の基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関するものであって、より詳しくは、キャップを含む基板処理装置及び基板処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置は、基板に配線などを形成したり、基板に接着部材を接着したり、または両基板を合着するなどして基板を処理する装置である。
【０００３】
最近、有機発光素子などを含んでイメージ（image）を表示する表示パネル（display  panel）などの第１基板と、タッチを認識するタッチパネル（touch  panel）またはウィンドウ（window）などの第２基板とを互いに接着する基板処理装置が開発された。
【０００４】
このような基板処理装置は、第１基板及び第２基板を互いに接着する時に、第１基板または第２基板のうちのいずれか一つの基板の一面に接着フィルムを付着させた後、この接着フィルムの接着力を利用して第１基板及び第２基板を互いに接着する工程によって、第１基板及び第２基板を互いに接着する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、基板処理装置を利用して第１基板及び第２基板を互いに接着する工程が大気圧状態で行われる場合、第１基板または第２基板に接着フィルムを付着させる工程、または接着フィルムを利用して第１基板及び第２基板を互いに接着する工程において、接着フィルムと第１基板との間、または接着フィルムと第２基板との間に空気が流入するという問題があった。
【０００６】
この問題を解決するために、基板処理装置を真空チャンバー（chamber）内に設置する方法もあるが、真空チャンバーを設置するためには、高額の設備投資、及び広い設置面積が必要となるという短所がある。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、基板と接着フィルムとの間への空気の流入を最小化した、新規かつ改良された基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板が固定される固定面を含む固定部、互いに連結されて、各々が互いに異なるサイズの空間を形成する複数のキャップを含み、基板を密閉するように固定面と共に第１密閉空間を形成するキャップユニット、固定面と共にキャップユニットが第１密閉空間より大きい第２密閉空間を形成するように、複数のキャップのうちの一つ以上を固定面と離隔される方向に離隔させるキャップ駆動部、及び基板に接着フィルムを付着させるラミネーティング部を含む基板処理装置が提供される。
【０００９】
複数のキャップのうちの互いに隣接する各々のキャップは、互いに対してスライディング運動が可能である。
【００１０】
キャップユニットは、固定面と接触していて、第１空間を形成する第１キャップ、第１キャップと連結されて、第１空間にスライディング運動が可能で、第１空間より小さい第２空間を形成する第２キャップ、及び第２キャップと連結されて、第１空間または第２空間にスライディング運動が可能で、第２空間より小さい第３空間を形成する第３キャップを含むことができる。
【００１１】
第１密閉空間は、第１空間、第２空間、及び第３空間が互いに重なって形成され、第２密閉空間は、第１空間、第２空間、及び第３空間のうちの第１空間を含む二つ以上の空間が互いに位相差を有して位置して形成される。
【００１２】
キャップ駆動部は、第３キャップと連結されて、第１キャップに対して第２キャップ及び第３キャップのうちの一つ以上をスライディング運動させる。
【００１３】
キャップユニットは、ラミネーティング部によって支持されていて、キャップ駆動部は、キャップユニットに脱着可能である。
【００１４】
キャップユニットは、ラミネーティング部によって接着フィルムが基板に付着される時に、固定面と共に第２密閉空間を形成する。
【００１５】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、基板が固定される固定面を含む固定部、互いに連結されて、各々が互いに異なるサイズの空間を形成する複数のキャップを含み、基板を密閉するように固定面と共に第１密閉空間を形成するキャップユニット、及び固定面と共にキャップユニットが第１密閉空間より大きい第２密閉空間を形成するように、複数のキャップのうちの一つ以上を固定面と離隔される方向に離隔させるキャップ駆動部を含む基板処理装置が提供される。
【００１６】
複数のキャップのうちの互いに隣接する各々のキャップは、互いに対してスライディング運動が可能である。
【００１７】
また、上記課題を解決するために、本発明のさらに別の観点によれば、基板を固定させる段階、基板を密閉するように基板の周囲を第１密閉空間にする段階、第１密閉空間を第１密閉空間より大きい第２密閉空間にする段階、及び基板に接着フィルムを付着させる段階を含む基板処理方法が提供される。
【００１８】
第１密閉空間を第２密閉空間に形成する段階は、互いに異なるサイズの空間を形成して、基板を密閉する互いに隣接する複数のキャップを互いにスライディング運動させて行うことができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように本発明によれば、基板と接着フィルムとの間への空気の流入を最小化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態による基板処理装置を示した図面である。
【図２】本発明の第２実施形態による基板処理方法を示したフローチャートである。
【図３】本発明の第２実施形態による基板処理方法を説明するための図面である。
【図４】本発明の第２実施形態による基板処理方法を説明するための図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２２】
また、図面に示した各構成要素の大きさは、説明の便宜のために任意に示したものであって、本発明を限定するものではない。図面では、多くの部分を明確に表現するため、または説明の便宜のために、大きさが拡大して示される場合がある。また、ある部分が他の部分の「上に」あるという記載は、ある部分が他の部分の「直上に」ある場合だけでなく、その間に他の部分が介在する場合をも含む。
【００２３】
また、明細書全体において、ある要素が他の要素を「含む」と記載されている場合、当該他の要素以外の要素を除外する旨の記載がない限り、さらに別の要素が含まれてもよい。また、「〜上に」という記載は、必ずしも重力方向を基準として上側に位置することを意味するものではない。
【００２４】
以下、図１を参照して、本発明の第１実施形態による基板処理装置について説明する。
【００２５】
図１は、本発明の第１実施形態による基板処理装置を示した図面である。図１に示したように、本発明の第１実施形態による基板処理装置は、基板１０に接着フィルム２０を付着させる装置であり、固定部１００、キャップユニット２００、ラミネーティング部３００、及びキャップ駆動部４００を含む。
【００２６】
固定部１００は、基板１０が固定される部分であり、固定部１００内に装着されたモータなどの駆動ユニットを含み、回転または移動が可能である。固定部１００は、地面に対して水平状態に形成される固定面１１０を含み、この固定面１１０に基板１０が固定される。
【００２７】
固定部１００の固定面１１０には、キャップユニット２００が移動によって位置して、固定面１１０上に固定された基板１０を密閉することができる。
【００２８】
キャップユニット２００は、ラミネーティング部３００に支持されている。キャップユニット２００は、ラミネーティング部３００が基板１０に接着フィルム２０を付着させるときに、固定部１００の固定面１１０と共に基板１０を密閉する第１密閉空間、及び第１密閉空間から第１密閉空間より大きい第２密閉空間を形成して、基板１０の周囲で固定面１１０及びキャップユニット２００が形成する空間の内圧を低下させる。このような第１密閉空間及び第２密閉空間については、後述する本発明の第２実施形態による基板処理方法で詳しく説明する。
【００２９】
キャップユニット２００は、第１空間（Ｓ１）を形成する第１キャップ２１０、第１キャップ２１０と連結されて、第１空間（Ｓ１）にスライディング運動が可能であり、第１空間（Ｓ１）より小さい第２空間（Ｓ２）を形成する第２キャップ２２０、及び第２キャップ２２０と連結されて、第１空間（Ｓ１）または第２空間（Ｓ２）にスライディング運動が可能であり、第２空間（Ｓ２）より小さい第３空間（Ｓ３）を形成する第３キャップ２３０を含む。本実施形態において、第１キャップ２１０、第２キャップ２２０、第３キャップ２３０は、入れ子状に配置されて互いに連結されている。
【００３０】
互いに隣接する第１キャップ２１０及び第２キャップ２２０のうちのいずれか一つにはスライディングをガイドするスライディングガイド部が設置され、他の一つにはスライディングガイド部によってスライディングされるスライディング部が設置される。また、互いに隣接する第２キャップ２２０及び第３キャップ２３０のうちのいずれか一つにはスライディングをガイドするスライディングガイド部が設置され、他の一つにはスライディングガイド部によってスライディングされるスライディング部が設置されてもよい。このようなスライディングガイド部は、レール（rail）のような形態などに形成され、スライディング部は、スライディングガイド部に構造的に装着されてスライディングする。また、第１キャップ２１０と第２キャップ２２０との間、及び第２キャップ２２０と第３キャップ２３０との間は密閉される。
【００３１】
このように、キャップユニット２００は、複数のキャップを含み、複数のキャップのうちの互いに隣接される各々のキャップは、互いに対してスライディング運動が可能である。このように、キャップユニット２００に含まれている複数のキャップが互いに対してスライディング運動することによって、キャップユニット２００が固定部１００の固定面１１０と共に基板１０を密閉する第１密閉空間、及び第１密閉空間から第２密閉空間を形成して、基板１０の周囲で固定面１１０及びキャップユニット２００が形成する空間の内圧を低下させることができる。このように、キャップユニット２００が固定面１１０と共に基板１０を密閉すると同時に内圧が低下した第２密閉空間を形成すると、第２密閉空間（ＳＳ２）において、後述するラミネーティング部３００は、接着フィルム２０を基板１０に付着させる。
【００３２】
本発明の第１実施形態による基板処理装置において、キャップユニット２００は、ラミネーティング部３００に支持されているが、本発明の第２実施形態による基板処理装置においては、キャップユニット２００は、別途のキャップユニット支持部、または後述するキャップ駆動部４００によって支持される。
【００３３】
また、本発明の第１実施形態による基板処理装置は、キャップユニット２００が第１キャップ２１０、第２キャップ２２０、及び第３キャップ２３０を含む装置であるが、本発明の第２実施形態による基板処理装置は、キャップユニット２００が２つのキャップまたは４つ以上のキャップを含むことができる。
【００３４】
ラミネーティング部３００は、基板１０に接着フィルム２０を付着させる部分であり、アーム支持部３１０、アーム部３２０、ロール部３３０、及びガイド部３４０を含む。アーム支持部３１０は、自ら回転または移動が可能である。アーム支持部３１０にはアーム部３２０が支持されていて、アーム部３２０は、アーム支持部３１０に対して軸を基準に図１に示された矢印方向に回転可能である。アーム部３２０がアーム支持部３１０に対して軸を基準に回転すると、ラミネーティング部３００に支持されたキャップユニット２００は、固定部１００の固定面１１０と接触して第１密閉空間を形成する。アーム部３２０には接着フィルム２０が支持されていて、接着フィルム２０と対応してロール部３３０がアーム部３２０に支持されている。ロール部３３０は、ガイド部３４０と構造的に結合されており、ロール部３３０またはアーム部３２０、または別途に設置されたモータなどの駆動ユニットによって、ガイド部３４０にガイドされた状態で、アーム部３２０に支持された接着フィルム２０全体を順次に基板１０側に加圧して、接着フィルム２０を基板１０に付着させる役割を果たす。
【００３５】
キャップ駆動部４００は、キャップユニット２００が第１密閉空間から第２密閉空間を形成するように、キャップユニット２００に含まれている複数のキャップのうちの一つ以上を、固定部１００の固定面１１０と離隔される方向に離隔させてキャップユニット２００を駆動する。キャップ駆動部４００は、シリンダー部４１０、ピストン部４２０、梁部４３０、及び連結部４４０を含む。シリンダー部４１０は、回転または移動が可能であり、ピストン部４２０をシリンダー部４１０内で垂直運動させる役割を果たす。ピストン部４２０は、シリンダー部４１０に装着されていて、シリンダー部４１０に対して垂直運動が可能である。梁部４３０は、シリンダー部４１０と連結部４４０との間を連結し、シリンダー部４１０から固定部１００の方向に延長されている。連結部４４０は、キャップユニット２００と連結される部分であり、空気などの圧力を利用したキャップユニット２００の吸着、またはキャップユニット２００との構造的な結合によってキャップユニット２００と連結される。つまり、キャップ駆動部４００の連結部４４０は、キャップユニット２００に脱着可能である。より詳しくは、キャップ駆動部４００の連結部４４０は、第３キャップ２３０に連結されて、第３キャップ２３０を固定面１１０から離隔させることによって、第１キャップ２１０に対して第２キャップ２２０及び第３キャップ２３０のうちの一つ以上をスライディング運動させることができる。連結部４４０は、キャップユニット２００の第３キャップ２３０と連結されるが、これに限定されず、第２キャップ２２０または第２キャップ２２０及び第３キャップ２３０の両方に連結されてもよい。
【００３６】
本発明の第１実施形態による基板処理装置において、キャップ駆動部４００は、ピストン（piston）及びシリンダー（cylinder）を含む形態であるが、本発明の第２実施形態による基板処理装置におけるキャップ駆動部４００は、キャップユニット２００が第１密閉空間から第２密閉空間を形成させるように、キャップユニット２００に含まれている複数のキャップのうちの一つ以上を固定部１００の固定面１１０と離隔される方向に離隔させることができる何れの構造であってもよい。
【００３７】
また、本発明の第１実施形態による基板処理装置は、基板１０に接着フィルム２０を付着させる装置であるが、本発明の第２実施形態による基板処理装置は、固定部１００、キャップユニット２００、キャップ駆動部４００、及び配線を形成する配線形成部、または有機物または無機物を塗布する塗布部などの他の構成要素を含む装置である。つまり、本発明の第２実施形態による基板処理装置は、キャップユニット２００及びキャップ駆動部４００を利用して固定部１００上に固定された基板１０の周囲でキャップユニット２００が形成する空間の内圧を低下させて、基板１０を処理する他の工程に使用することができる。
【００３８】
上述した本発明の第１実施形態による基板処理装置は、後述する本発明の第２実施形態による基板処理方法に利用される。以下で本発明の第２実施形態による基板処理方法を詳しく説明する。
【００３９】
以下、図２〜図４を参照して、本発明の第２実施形態による基板処理方法について説明する。
【００４０】
図２は本発明の第２実施形態による基板処理方法を示したフローチャートである。図３及び図４は本発明の第２実施形態による基板処理方法を説明するための図面である。
【００４１】
まず、図２及び図３に示したように、基板１０を固定させる（ステップＳ１１０）。具体的には、固定部１００の固定面１１０に基板１０を固定させる。この時、基板１０は、固定部１００がラミネーティング部３００と隣接するように移動または回転した後に固定面１１０に固定されるか、または固定部１００がラミネーティング部３００と隣接するように移動または回転する前に固定面１１０に固定される。
【００４２】
次に、基板１０の周囲を第１密閉空間（ＳＳ１）にする（ステップＳ１２０）。具体的には、ラミネーティング部３００のアーム部３２０を、アーム支持部３１０を基準に固定部１００方向に回転させることによって、ラミネーティング部３００によって支持されたキャップユニット２００が固定面１１０と共に第１密閉空間（ＳＳ１）を形成する。この時、キャップユニット２００の第２キャップ２２０及び第３キャップ２３０は、第１キャップ２１０が形成する第１空間（Ｓ１）にスライディングされた状態であり、第１密閉空間（ＳＳ１）は、基板１０を密閉する。つまり、キャップユニット２００が第１密閉空間（ＳＳ１）を形成する時には、第１キャップ２１０、第２キャップ２２０、及び第３キャップ２３０の各々が形成する第１空間（Ｓ１）、第２空間（Ｓ２）、及び第３空間（Ｓ３）が互いに重なっている状態である。
【００４３】
次に、図３及び図４に示したように、第１密閉空間（ＳＳ１）を第２密閉空間（ＳＳ２）にする（ステップＳ１３０）。具体的には、第１密閉空間（ＳＳ１）を形成するキャップユニット２００の第３キャップ２３０に、キャップ駆動部４００の連結部４４０を連結する。キャップ駆動部４００の連結部４４０は、ピストン部４２０がシリンダー部４１０方向に移動することによって、キャップユニット２００の第３キャップ２３０と接触され、その後に連結部４４０が第３キャップ２３０に吸着、または第３キャップ２３０と構造的に連結されて、連結部４４０が第３キャップ２３０と連結される。連結部４４０が第３キャップ２３０に連結された後、キャップ駆動部４００のピストン部４２０をシリンダー部４１０から上側方向に移動させることによって、第３キャップ２３０が固定部１００の固定面１１０から離隔される。
【００４４】
ここで、第３キャップ２３０は、固定部１００の固定面１１０から離隔されるが、第３キャップ２３０、第２キャップ２２０、及び第１キャップ２１０の各々は互いに対してスライディング運動が可能であるため、第１キャップ２１０、第２キャップ２２０、及び第３キャップ２３０は、図４に示すように互いに位相差を有して位置する。これによって、第１空間（Ｓ１）、第２空間（Ｓ２）、及び第３空間（Ｓ３）が互いに位相差を有して位置し、基板１０の周囲に基板１０を密閉する第１密閉空間（ＳＳ１）より大きい第２密閉空間（ＳＳ２）が形成される。つまり、第２密閉空間（ＳＳ２）は、互いに異なるサイズの空間を形成し、基板１０を密閉する互いに隣接する複数のキャップを互いにスライディング運動させることによって形成される。第２密閉空間（ＳＳ２）のサイズは、第１キャップ２１０に対して第２キャップ２２０及び第３キャップ２３０のうちの一つ以上をスライディングさせて調節することができ、第２キャップ２２０及び第３キャップ２３０のスライディングの程度を調節して、キャップユニット２００が形成する第２密閉空間（ＳＳ２）の内圧を調節することができる。
【００４５】
このように、キャップ駆動部４００によってキャップユニット２００が第１密閉空間（ＳＳ１）から第２密閉空間（ＳＳ２）を形成すると、キャップユニット２００が形成する空間の内部体積の増加に伴って、キャップユニット２００が形成する空間の空気密度が減少するので、キャップユニット２００が形成する第２密閉空間（ＳＳ２）の内圧が低下する。つまり、キャップユニット２００がキャップ駆動部４００によって第１密閉空間（ＳＳ１）から内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）を形成することによって、第２密閉空間（ＳＳ２）が真空チャンバー（chamber）内の空間と類似する環境になる。
【００４６】
次に、基板１０に接着フィルム２０を付着させる（ステップＳ１４０）。具体的には、キャップユニット２００及びキャップ駆動部４００を利用して基板１０の周囲に内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）を形成した状態で、ラミネーティング部３００のロール部３３０をガイド部３４０に沿って移動させて、基板１０に接着フィルム２０を付着させる。この時、内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）内で基板１０に接着フィルム２０を付着させるため、基板１０と接着フィルム２０との間への空気の流入が最小化される。
【００４７】
その後、次の工程を行う。次の工程は、基板１０に接着フィルム２０を付着させた後の工程を言い、具体的には、基板１０に付着された接着フィルム２０を利用して、基板１０と他の基板とを互いに接着する工程である。このような両基板を接着する工程も、上述したキャップユニット２００及びキャップ駆動部４００または真空チャンバーなどを利用して基板１０の周囲に形成される空間の内圧を低下させた後に行うのが望ましく、上述したキャップユニット２００及びキャップ駆動部４００を利用する時には、キャップユニット２００がラミネーティング部３００によって支持されるよりは、別途のキャップユニット支持部に支持されて、次の工程を行うのが望ましい。
【００４８】
以上のように、本発明の第１実施形態による基板処理装置及び本発明の第２実施形態による基板処理方法は、複数のキャップのうちの互いに隣接する各々のキャップを互いに対してスライディング運動させて、第１密閉空間（ＳＳ１）から内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）を形成し、内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）で基板１０に対して接着フィルム２０を付着させることができるため、接着フィルム２０と基板１０との間への空気の流入を最小化できる。
【００４９】
また、本発明の第１実施形態による基板処理装置及び本発明の第２実施形態による基板処理方法は、キャップユニット２００によって第１密閉空間（ＳＳ１）から内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）を形成することができるため、真空チャンバーなどの高額の設備投資及び広い設置面積を必要としない。これは、基板１０を含むデバイス（device）の製造時間及び製造費用を節減する要因として作用する。
【００５０】
また、本発明の第１実施形態による基板処理装置及び本発明の第２実施形態による基板処理方法は、キャップユニット２００に含まれている複数のキャップのスライディング程度を調節して、第２密閉空間（ＳＳ２）のサイズを調節することができるため、第２密閉空間（ＳＳ２）の内圧を、基板１０を処理する各々の工程で必要とする内圧の大きさに調節することができる。
【００５１】
また、本発明の第１実施形態による基板処理装置及び本発明の第２実施形態による基板処理方法は、キャップユニット２００及びキャップ駆動部４００だけでも基板１０の周囲に内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）を形成することができるため、ラミネーティング部３００に他の構成要素を代替して、内圧が低下した第２密閉空間（ＳＳ２）で、基板１０を多様な工程を利用して処理することができる。つまり、真空チャンバー内で基板１０を処理する大部分の工程をキャップユニット２００及びキャップ駆動部４００を利用して行うことができる。
【００５２】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００５３】
１０        基板
２０        接着フィルム
１００      固定部
１１０      固定面
２００      キャップユニット
２１０、２２０、２３０      キャップ
３００      ラミネーティング部
３１０      アーム支持部
３２０      アーム部
３３０      ロール部
３４０      ガイド部
４００      キャップ駆動部
４１０      シリンダー部
４２０      ピストン部
４３０      梁部
４４０      連結部
【図１】
2011170831.tif 000003
【図２】
2011170831.tif 000004
【図３】
2011170831.tif 000005
【図４】
2011170831.tif 000006