(57)【要約】【課題】カラーフィルタ基板の製造にあたり、装置を長時間停止させることがないように、プロセス設備の稼動条件であるプロセス条件を自動算出するフィードバックデータ自動算出システムの提供を目的とした。【解決手段】少なくとも、複数のプロセス設備と検査装置とコンピュータとデータベースとを備え、プロセス設備のプロセス条件を自動算出するフィードバックデータ自動算出システムであって、プロセス設備に設定した稼動条件をプロセス条件、プロセス設備の実際の稼動状況をプロセス実績、ある特性値を計測した結果を検査結果、とした場合に、プロセス実績と検査結果に相関関係があるかどうか判断し、プロセス条件とプロセス実績の差と検査結果に相関関係があるか判断し、検査結果とデータベース内の過去の検査結果を比較し、しかる後、プロセス条件を相関関数を用いて自動算出する、ことを特徴とするフィードバックデータ自動算出システムである。【選択図】図３
2011170248.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ基板を製造するために、少なくとも、複数のプロセス設備と検査装置とコンピュータとデータベースとを備え、プロセス設備のプロセス条件を自動算出するフィードバックデータ自動算出システムであって、プロセス設備に設定した稼動条件をプロセス条件、プロセス設備の実際の稼動条件をプロセス実績、ある特性値を計測した結果を検査結果、とした場合に、
プロセス実績と検査結果に相関関係があるかどうか判断し、
プロセス条件とプロセス実績の差と検査結果に相関関係があるか判断し、
検査結果とデータベース内の過去の検査結果を比較し、
しかる後、プロセス条件を相関関数を用いて自動算出する、ことを特徴とするフィードバックデータ自動算出システム。
【請求項２】
前記相関関係のあるプロセス条件、プロセス実績と検査結果とがデータベース化されていることを特徴とする請求項１記載のフィードバックデータ自動算出システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に使用するカラーフィルタ基板の製造・検査装置全般に係わり、特には、生産性向上のためにこれら装置が備えるべきフィードバックデータ自動算出システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
図1に、典型的なカラーフィルタ基板の断面構造を示した。該カラーフィルタ基板の製造方法にはインクジェット他いくつかあるが、代表的な製造方法は、ガラス基板1上にフォトレジストをコート・プリベークし、その後所定のフォトマスクを利用して露光・現像してレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー方式である。この方式を用いて、先ずブラックマトリックス(BM）2を形成し、次いで赤画素3→緑画素4→青画素5と順番に着色画素を形成する。その後、透明電極（ITO）6、フォトスペーサー（PS）9、配向制御用突起（図示せず）等を形成して最終的なカラーフィルタ基板を得る。
【０００３】
カラーフィルタ基板の製造途中では、異物や剥れなどのミクロ欠陥やムラなどのマクロ欠陥が発生することが避けられない。ミクロ欠陥には、φ２０μｍ〜φ１００μｍ程度のレジストカスや粉塵等の黒欠陥、また剥がれ等の白欠陥がある。またマクロ欠陥では、レジスト塗布時に発生するスジムラや露光処理工程が原因で発生する露光ムラなどがある。
【０００４】
そのため、工程の途中途中に欠陥検査装置やマクロ検査機などを配置・検査し、必要であれば修復処理を施して品質を保証し、生産性の低下を防いでいる（特許文献１）。また、製品の特性値に関しては、製品仕様を満たすか否かを、高さ測定装置、線幅測定装置、色度測定装置等の特性検査装置を用いて定期的に測定し管理することで不良品の流出を防いでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２８４２１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
通常は、カラーフィルタ基板の品質を管理するために、製造中の製品に対して定期的にミクロ検査やマクロ検査、特性値検査を実施している。その結果、測定値が規格外である場合及び不良が大量に発生した場合には、プロセス装置を稼動させる条件設定値（以下、プロセス条件と記す）を見直す必要があった。
【０００７】
従来方法においては、プロセス条件を見直す場合、プロセス装置を一度停止させる。そして作業者は、検査結果やトラブルの発生状況、経験から判断してプロセス条件を見直し、その条件で製造を開始し再検査を行い測定値が規格内に収まるかどうかを確認してから生産を再開する。
しかし、規格内に入らない場合は、再び装置を停止させ再度プロセス条件の見直しとなる。その結果、装置を長時間停止させることとなり生産効率を低下させることとなる。
そこで本発明は、装置を長時間停止させることがないように、プロセス設備の稼動条件であるプロセス条件を自動的に補正しつつ決定するフィードバックデータ自動算出システムの提供を目的とした。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を達成するための請求項１に記載の発明は、
カラーフィルタ基板を製造するために、少なくとも、複数のプロセス設備と検査装置とコンピュータとデータベースとを備え、プロセス設備のプロセス条件を自動算出するフィードバックデータ自動算出システムであって、プロセス設備に設定した稼動条件をプロセス条件、プロセス設備の実際の稼動条件をプロセス実績、ある特性値を計測した結果を検査結果、とした場合に、
プロセス実績と検査結果に相関関係があるかどうか判断し、
プロセス条件とプロセス実績の差と検査結果に相関関係があるか判断し、
検査結果とデータベース内の過去の検査結果を比較し、
しかる後、プロセス条件を相関関数を用いて自動算出する、ことを特徴とするフィードバックデータ自動算出システムとしたものである。
【０００９】
ある特性値に関する検査結果を、データベースに蓄積された過去の検査結果と比較して、検査結果が許容範囲にあるか否かを判断し、ない場合にはプロセス条件の見直した値（フィードバックデータ）を自動算出し、そのデータを製造装置の稼動条件として出力して再設定する。特性値が製品規格から乖離しないように自動的に絶えず引き込む方向に補正していく。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記相関関係のあるプロセス条件、プロセス実績と検査結果とがデータベース化されていることを特徴とする請求項１記載のフィードバックデータ自動算出システムとしたものである。
【００１１】
請求項１の記載の計算ができるように、相関のあるプロセス条件、プロセス実績と検査結果をデータベースの所定の箇所に蓄えておくということである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、装置を停止させるような従来の意味でのプロセス条件の見直しに伴う見直し時間や見直し回数を大幅に低減できる。その結果、カラーフィルタ基板の生産効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】カラーフィルタ基板の構成を説明する断面視の図である。
【図２】レジストパターン形成工程とフィードバックデータ自動算出システムの構成を説明する図である。
【図３】本発明に係るフィードバックデータ自動算出システムの動作フローを説明する図である。
【図４】カラーフィルタ基板の製造過程を説明する工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
先ず、本発明の概要を図面を参照して説明する。
【００１５】
カラーフィルタの製造ラインは、大きく３種類の装置群に分けられる。製品基板上に何らかの加工処理を施すプロセス装置と、ローダ、アンローダ、コンベア、など製品基板の搬送に係る搬送装置、及び製品基板上の欠陥の検出や修正をしたり、線幅と膜厚等の測定等、品質管理と品質保証をするための検査装置群である。これらの装置は、投入材料の違いにより所定箇所が置き換えられることもあるが基本的には繰り返して使用されるものである。
【００１６】
カラーフィルタ基板製造におけるレジストパターン形成工程の概略フローチャートを図２に示す。ここで、コーターはレジストを塗布する装置、露光機はフォトマスクを介して
レジストに紫外線を照射する装置、現像機はレジストの溶解性成分を除去する装置（プロセス装置）である。明示しないが洗浄装置、乾燥装置、研磨装置などもプロセス装置に含まれる。プロセス条件とは、スピンコーターであれば、回転数、回転時間、回転室内圧力と温度、レジスト名、塗布量のような、これらの装置の主な稼動条件、稼働環境の状態及び投入材料の物性等を指称するものである。装置ごとに多種多様である。
【００１７】
搬送装置は、基板投入ローダー、基板回収ローダー、基板搬送コンベア、基板搬送ロボットはプロセス装置同士あるいは各種検査装置を接続する装置あるいは一時的に格納する装置等全般である。
【００１８】
検査装置は、レジストパターンの黒欠陥、白欠陥、ムラの検出、線幅と厚み等特性値及び分光特性の測定を行う一群の装置である。図２では、検査はパターン現像後に行われるようになっているが、検査項目によっては途中に置かれる場合もある。
上記のプロセス装置、搬送装置、検査装置はＬＡＮケーブルでコンピュータとデータベースに接続され、リアルタイムでデータの送受信を行っている。
【００１９】
フィードバックパラメータ算出システムは、上記の各ハードウエアーのプロセス条件と検査装置からの検査結果を自動的に収集してデータベース化する機能と該データベースに蓄積されたデータに基づいて、必要であればプロセス条件を算出してプロセス装置にフィードバックする機能を果たすシステム全体を指すものである。
このフィードバックシステムは、検査装置が直接備えることも、ネットワークを通じてアクセス可能なものであっても構わない。いずれであっても、プロセス条件他と検査結果をデータベースに保持し、データベース化したデータと検査結果から最適なプロセス条件を自動的に算出するシステムである。
【００２０】
図３にフィードバックパラメータ算出システムの動作フローを示した。
以下、これに沿って説明する。ここには大きく分けて、プロセス条件、プロセス実績及び検査結果をデータベースに保存する機能とフィードバックデータを作成する機能が含まれる。
【００２１】
先ず、コンピュータがプロセス装置からネットワークを介してリアルタイムにプロセス条件を取得する（Step1）。プロセス条件とはプロセス装置を稼動させるための種々の設定値、稼働環境条件であるが、一例としては、
・スリットコーター：塗出量、塗出圧力、塗布速度、環境温度、湿度など
・露光機：露光時間、照射時間、環境温度、湿度、ランプ使用時間など
・現像機：現像液の種類、基板移動速度、現像液濃度、液温など
を挙げることができる。
【００２２】
次に、取得したプロセス条件の設定値とプロセス実績から揺らぎ量（＝プロセス実績−設定値）を計算する。プロセス実績とは、上記のプロセス条件については、装置的には一定値に設定され、環境も設定値になるように制御されるので設定値と同じと考えられる場合でも、様々な原因で揺らいでいるから、当該基板に対するその瞬間の値を指すものである。具体的にはセンサー等で取得されるものである。したがって、プロセス条件としての設定値と実測値としてのプロセス実績は、同一であるとは限らず、実際には乖離する（揺らぎが大きい）ものである。プロセス条件としての設定値を意識的に変化させることも含まれる（意識的に揺らぎを大きくすることに相当）。また温度のようにセンサーの測定結果が直接プロセス実績とされる場合（設定値＝０）もありえる。
【００２３】
次に、検査装置を使用して特性値の測定を行い検査結果としてデータベースに保存する。プロセス条件と同様の理由で、レジスト線幅や厚みとかのレジストパターンの外形形状
に関する特性値も揺らぎ（ばらつき）を有している。プロセス条件・実績もデータベースに保存する（Step2）。
【００２４】
次に、相関係数を求める（Step3）。相関係数は、データベース保存の対象となるデータかどうかとフィードバックデータの対象となるかどうか判断するために使用する。相関係数とは、ここではプロセス条件（プロセス実績）が検査結果に効いているか、影響があるかを調べる統計上の尺度である。例えば、レジストパターンの膜厚（検査結果）とレジスト塗布量、コータヘッドの移動速度（プロセス条件とプロセス実績）の関係、レジスト線幅（検査結果）と現像時間・温度、露光時間（プロセス条件とプロセス実績）の関係のごとくである。この紐付け関係は、検査項目ごとに予め決めておく必要があるし、統計的に確認しておく必要がある。
【００２５】
相関係数Ｒは、例えばレジスト線幅をｘｋ、現像時間をｙｋとすると、
Ｒ２＝Σ（ｘｋ−ｍ）（ｙｋ−ｎ）／｛Σ（ｘｋ−ｍ）２Σ（ｙｋ−ｎ）２｝  で定義される。ｋ（ｋ＝１，２、・・・ｋ）は、ｋ番目のデータであり、和はkについてとる。現像装置のプロセス条件（の設定値）はｎであり、プロセス実績は、実際の現像時間としてのｙｋである。また、２個以上のプロセス条件が絡んでいる場合には、拡張された上式を使用する。
相関関係があるのは、Ｒ２≧０．７の場合であって、この場合にはフィードバックデータを作成する可能性がある。Ｒ２＜０．７の場合には、プロセス条件は同じでフィードバックデータは作製しない。
【００２６】
次に、プロセス条件とプロセス実績の差（揺らぎ量）と検査結果から相関関数を計算する。相関関数は、ｙｋ＝ａｘｋ＋ｂ  と一次式を仮定し、最小二乗法でａ，ｂを計算する。但し、ｘｋ、ｙｋのデータとしては、許容範囲内の対となるデータを使用する。
【００２７】
次に、最新の検査結果とデータベースに蓄積された過去の検査結果データと比較する（step4）。
検査結果が過去のデータと比較した場合どの範囲内にあるかどうかでプロセス条件を変更するか放置するかの判断をする。
・安定範囲内の場合
プロセス条件の見直しはしない。現行の設定値、環境下でプロセス装置を稼動する。
データベースにデータとして蓄積する。
・許容範囲内の場合
プロセス条件の見直しは行わない。
データベースにデータとして蓄積する。
検査結果が安定範囲内に入るプロセス条件をデータベースより抽出する。
フィードバックデータを作成する。
・許容範囲外
プロセス条件の見直しを行う。
検査結果が許容範囲内に入るプロセス条件をデータベースより抽出する。
フィードバックデータを作成する。
プロセス条件、プロセス実績、検査結果のデータベース化はしない。
【００２８】
フィードバックデータの作成は、次のようにする（step5）。
検査結果が、
許容範囲外の場合：  求めた既述の相関関数から基準値の揺らぎ量分、設定値を変更した値をフィードバックデータとする。
許容範囲内の場合：  揺らぎ量分、設定値を変更した値をフィードバックデータとする。
【００２９】
許容範囲の設定は、以下のようにする。
先ず、プロセス条件と検査結果の相関図を作製する。相関図のＸ軸は、基準値を０とした場合の基準値からのズレ量である。
次に、許容範囲を決定する。
許容範囲内とは：検査規格±○%以内
許容範囲外とは：検査規格±○%以外
である。○%の具体的数値は検査項目に依存して決めた値を使用する。
【００３０】
以下、実際のカラーフィルタ基板の製造例に則し、図４を用いて本発明を説明する。
【実施例】
【００３１】
（基板の準備）
本発明で使用する透明基板1としては、ソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂基板が用いられる。透明性、強度、耐熱性、耐候性において優れた２００ｃｍ×１５０ｃｍサイズのガラス基板を用いた。
【００３２】
各プロセス装置のプロセス初期条件と、投入材料などの諸特性はＬＡＮを通じて設定または取得してデータベースに保存する。各プロセス装置のプロセス実績は基板を処理する時点で取得され保存するようになっている。
【００３３】
（ブラックマトリックスの作製）
ブラックマトリックス2は、基板1上にライン状やマトリクス状等のパターンに設けられ、基板の表面を多数の領域に区分けすると共に、この多数の領域のそれぞれに規則的に配置される着色画素から出射する光の混色を防止する機能を有するものである。
【００３４】
ＢＭ形成用感光性組成物は下記の材料を混合して調合する。
・カーボンブラック分散液：ＴＰＢＫ−２０１６（御国色素社製）    ２８．５重量部
・樹脂：Ｖ２５９−ＭＥ（新日鐵化学社製）                        １０．３重量部
・モノマー：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）                            ２．５８重量部
・開始剤：ＯＸＥ−０２（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）  ０．８６重量部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ９２．０重量部
エチル‐3‐エトキシプロピオネート                         ４．３重量部
・レベリング剤：ＢＹＫ−３３０（ビックケミー社製）                １．３重量部
【００３５】
ガラス基板1に、上記ＢＭ形成用感光性組成物をスロットコート法により塗膜を形成し、１００℃で３分間乾燥の後、膜厚１．６μmの黒色感光層を作製した。その後、得られた黒色感光層にＢＭ層形成用フォトマスクを通して高圧水銀灯の光を２００ｍＪ／ｃｍ2照射し、２．５％炭酸ナトリウム水溶液にて３０秒間現像、現像後水洗、乾燥させた後、パターンを定着させるため２３０℃６０分焼成することで、基板1の所定位置に線幅６μmのＢＭ2を形成した（図４（ａ））。
また、フォトスペーサをマトリックス状のＢＭ部分以外、例えば着色画素に食い込んだ位置に積層形成する場合は、当該部位までＢＭを延在させておく。ＢＭ上は隣接する着色画素が交錯するのでフォトスペーサ9が安定して形成しがたい面もあるからである。但し、形成しても構わない。
【００３６】
次に、外観検査装置を使用してＢＭ2の欠陥検査と、所定箇所の線幅と厚み測定を行いデータベース内の所定位置に登録した。
【００３７】
＜赤色感光性組成物の調整＞
下記組成の混合物を均一に攪拌混合した後、直径１ｍｍのガラスビースを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５μｍのフィルタで濾過して赤色顔料の分散体を作製した。
・赤色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４                  １８重量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッド Ｂ-ＣＦ」）
・赤色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７                    ２重量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド Ａ２Ｂ」）
・分散剤（味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１」）          ２重量部
・アクリルワニス（固形分２０％）                                    ５０重量部
【００３８】
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルタで濾過して赤色感光性組成物を得た。
・上記分散体                                                        ７２重量部
・樹脂：熱可塑性アクリル系樹脂                                      ２８重量部
・モノマー：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）                                １２重量部
・開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
３重量部
・増感剤：ＥＡＢ−Ｆ（保土ヶ谷化学社製）                              １重量部
・溶剤：シクロヘキサノン                                          ２５３重量部
【００３９】
＜赤色画素形成＞
ＢＭ2が形成されたガラス基板1上に、上記赤色感光性組成物をスリットコート法により塗膜を形成し、９０℃で５分間乾燥の後、膜厚３．２μmの赤色感光層を作製した。 得られた赤色感光層に赤層形成用のストライプ状フォトマスクを通して高圧水銀灯の光を３００ｍＪ／ｃｍ2 照射し、アルカリ現像液にて６０秒間現像、現像後水洗、乾燥させた後、パターンを定着させるため２３０℃３０分焼成することで、ストライプ形状の赤色画素3（図４（ｂ））を形成した。
アルカリ現像液は、下記の組成のものを使用した。
・炭酸ナトリウム                                                  １．５重量部
・炭酸水素ナトリウム                                              ０．５重量部
・陰イオン系界面活性剤（花王・ペリレックスＮＢＬ）                ８．０重量部
・水                                                                ９０重量部
【００４０】
次に、外観検査装置を使用して赤色画素パターンの欠陥検査と、所定箇所の線幅と厚み測定を行いデータベース内の所定位置に登録した。
【００４１】
＜緑色感光性組成物の調整＞
下記組成の混合物を均一に攪拌混合した後、直径１ｍｍのガラスビースを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５μｍのフィルタで濾過して緑色顔料の分散体を作製した。
・緑色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６
（東洋インキ製造（株）製「リオノールグリーン ６ＹＫ」）            １６重量部
・黄色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０
（バイエル社製「ファンチョンファーストイエロー  Ｙ-５６８８」）      ８重量部
・分散剤（ビックケミー社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ-１６３」）            ２重量部
・アクリルワニス（固形分２０％）                                 １０２重量部
【００４２】
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルタで濾過して緑色感光性組成物を得た。
・上記分散体                                                     １２８重量部
・樹脂：熱可塑性アクリル系樹脂                                     ２９重量部
・モノマー：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）                               １４重量部
・開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
４重量部
・増感剤：ＥＡＢ−Ｆ（保土ヶ谷化学社製）                             ２重量部
・溶剤：シクロヘキサノン                                         ２５７重量部
【００４３】
＜緑色画素形成＞
ＢＭ2および赤色画素3が形成されたガラス基板1に、上記緑色感光性組成物をスリットコート法により塗膜を形成し、９０℃で５分間乾燥の後、膜厚３．２μmの緑色感光層を作製した。 得られた緑色感光層に緑層形成用のストライプ状フォトマスクを通して高圧水銀灯の光を３００ｍＪ／ｃｍ2 照射し、アルカリ現像液にて６０秒間現像、現像後水洗、乾燥させた後、パターンを定着させるため２３０℃３０分焼成することで、ストライプ形状の緑色画素5を形成した。同時にＰＳ予定箇所4に緑色層が赤色画素3上に積層される（図４（ｃ））。アルカリ現像液は、上記着色画素形成と同じ組成のものを使用した。
【００４４】
次に、外観検査装置を使用して緑色画素パターンの欠陥検査と、所定箇所の線幅と厚み測定を行いデータベース内の所定位置に登録した。
【００４５】
＜青色感光性組成物の調整＞
下記組成の混合物を均一に攪拌混合した後、直径１ｍｍのガラスビースを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５μｍのフィルタで濾過して青色顔料の分散体を作製した。
・青色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６
（東洋インキ製造（株）製「リオノールブルーＥＳ」）               ３．６重量部
・分散剤（ゼネカ社製「ソルスバーズ２００００」）                 ０．６重量部
・アクリルワニス（固形分２０％）                               ２２．１重量部
【００４６】
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルタで濾過して青色感光性組成物を得た。
・上記分散体                                                   ２８．３重量部
・樹脂：熱可塑性アクリル系樹脂                                   ９．４重量部
・モノマー：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）                             ４．７重量部
・開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
１．４重量部
・増感剤：ＥＡＢ−Ｆ（保土ヶ谷化学社製）                         ０．２重量部
・溶剤：シクロヘキサノン                                           ２６重量部
２−アセトキシ−１−メトキシプロパン                       １１重量部
酢酸イソペンチル                                           ２０重量部
【００４７】
＜青色画素形成＞
ＢＭ2と赤色画素3、および緑色画素5が形成されたガラス基板1に、上記青色感光性組成物をスリットコート法により塗膜を形成し、９０℃で５分間乾燥の後、膜厚３．２μmの青色感光層を作製した。 得られた青色感光層に青層形成用のストライプ状フォトマスクを通して高圧水銀灯の光を３００ｍＪ／ｃｍ2 照射し、アルカリ現像液にて６０秒間現像、現像後水洗、乾燥させた後、パターンを定着させるため２３０℃３０分焼成することで、ストライプ形状の青色画素6を形成した（図４（ｄ））。アルカリ現像液は、上記着色層と同じ組成のものを使用した。
【００４８】
次に、外観検査装置を使用して緑色画素パターンの欠陥検査と、所定箇所の線幅と厚み測定を行いデータベース内の所定位置に登録した。
【００４９】
以上の工程で、ガラス基板1上にＢＭ2、赤色画素3、緑色画素5および青色画素6からな
るカラーフィルタと着色層３層が積層された半完成のＰＳが形成された。
【００５０】
＜透明電極の形成＞
次に、前記ガラス1基板上に、スパッタ法を用いて、インジウム錫酸化物を透明電極層6として、０．１４μｍ積層した（図２（ｅ））。
尚、透明電極層7は、表示装置の構成によっては省略するか、最後に積層することも可能である。
【００５１】
次に、外観検査装置を使用してＰＳ予定箇所4の前工程積層高さを測定し、基板情報処理データベース内の所定箇所に登録した。
【００５２】
＜フォトスペーサとＭＶ突起用アクリル樹脂溶液の調製＞
反応容器にシクロヘキサノン３７０部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら８０℃に加熱して、同温度で下記モノマーおよび熱重合開始剤の混合物を１時間かけて滴下して重合反応を行った。
【００５３】
メタクリル酸                                                    ２０．０部
メチルメタクリレート                                            １０．０部
ｎ−ブチルメタクリレート                                        ３５．０部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート                              １５．０部
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル                              ４．０部
パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート          ２０．０部
【００５４】
（東亜合成株式会社製「アロニックスＭ１１０」）
室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が２０重量％になるようにシクロヘキサノンを添加してアクリル樹脂溶液を調製した。
さらに、
モノマー    ：トリメチロールプロパントリアクリレート
（新中村化学社製「ＮＫエステルＡＴＭＰＴ」）
光重合開始剤：2-メチル-1-[4-（メチルチオ）フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア ９０７」）
増感剤      ：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（保土ヶ谷化学社製「ＥＡＢ−Ｆ」）
有機溶剤    ：シクロヘキサノン
を所定量加えて攪拌しＰＳ形成用の感光性レジストを得た。
【００５５】
＜ＰＳの積層＞
上記レジストをスリットコート法によりガラス基板の着色画素上に塗布した後、クリーンオーブン中で、７０℃で２０分間プリベークした。次いで、この基板を室温に冷却した後、超高圧水銀ランプを用い、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２、露光照度１４．０ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線露光を行った。その後、クリーンオーブン中で、２３０℃で４０分間ポストベークを行い、レジストからなるＰＳ層7を追加積層した（図２（ｆ））。尚、本実施例は、図４で示すように着色層も積層してＰＳとして利用したものである。
レジスト塗布量は、先述したように前工程積層高さと所望のＰＳ高さからパラメータ決定コンピュータ内で算出された値を使用する。
【００５６】
尚、詳細は省略するが、液晶を配向させるためのＭＶＳ突起も同時に一括形成することができる。ＰＳ9として必要な厚みと、ＭＶＳ突起の厚みがどうしても同じにならない場
合には、ハーフトーンマスクを用いて露光する。ハーフトーン部は、例えば３１２ｎｍ、３３４ｎｍ、３６５ｎｍ、４０５ｎｍの透過率が、それぞれ０．３％、３．０％、２２％、６２．５％のＩＴＯ膜を適切に配置して得ることができる。
【００５７】
最後に、得られたＰＳの高さを測定し、高さと対応するレジスト塗布量を所定のメモリーに書き込んだ。
【００５８】
レジストパターン形成後には、上記で記載したようにその都度、各特性値検査結果とデータベース内のデータとの比較と、データベースの拡張がなされる。各特性値が許容範囲からはずれるとブレーキがかかるように対応するプロセス装置の稼動条件が再設定される。
【符号の説明】
【００５９】
１、ガラス基板
２、ブラックマトリックス
３、着色層（赤）
４、着色層（緑）
５、着色層（青）
６、透明電極層
７、スペーサのレジスト部分
９、積層スペーサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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