(57)【要約】【課題】  インプリントリソグラフィ用のテンプレートのラベリング方法を提供する。【解決手段】  本発明の一実施形態において、インプリントリソグラフィ用のテンプレートのラベリング方法は、テンプレートの第１の面（例えば、光学的に平滑な面）の一部分の上にマスキング層を設けるステップと、テンプレートの第１の面の残り部分の上に剥離層を形成するステップと、マスキング層を除去することによりテンプレートの第１の面の一部分を露出させるステップと、テンプレートの第１の面の露出部分上にポリマーマークを設けるステップとを含む。【選択図】  図１
2011066411.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプリントリソグラフィ用の透明なテンプレートのラベリング方法であって、前記テンプレートが、第１の面と第２の面とを有し、前記方法が、
前記テンプレートの前記第１の面の一部分の上にマスキング層を設けるステップと、
前記テンプレートの前記第１の面の残り部分の上に剥離層を形成するステップと、
前記マスキング層を除去することにより、前記テンプレートの前記第１の面の前記一部分を露出させるステップと、
前記テンプレートの前記第１の面の前記露出部分上にポリマーマークを設けるステップと、
前記テンプレートの前記第１の面上に不透明材料を堆積させるステップと、
前記剥離層及び前記ポリマーマークを除去することにより、前記テンプレートの前記第１の面上に、前記堆積させた不透明材料によるラベルを形成するステップと、
を含む、ラベリング方法。
【請求項２】
前記テンプレートの前記第１の面が光学的に平滑な面である、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項３】
前記テンプレートの前記第１の面の一部分の上にマスキング層を設けるステップが、前記テンプレートの前記第１の面の前記一部分にセロハンテープを貼って遮蔽するステップを含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項４】
前記テンプレートの前記第１の面の残り部分の上に剥離層を形成するステップが、
前記テンプレートの前記第１の面の残り部分の上にフォトレジストを堆積させるステップと、
前記フォトレジストをベークして、前記フォトレジストを前記テンプレートの前記第１の面の残り部分に付着させるステップと、
を含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項５】
前記テンプレートの前記第２の面がリソグラフィパターンを含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項６】
前記テンプレートの前記第２の面上にフォトレジストを堆積させるステップと、
前記フォトレジストをベークして、前記フォトレジストを前記テンプレートの前記第２の面に付着させるステップと、
をさらに含む、請求項５に記載のラベリング方法。
【請求項７】
前記ポリマーマークがインクマークを含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項８】
前記テンプレートの前記第１の面上に不透明材料を堆積させるステップが、
前記テンプレートの前記第１の面の前記露出部分を洗浄するステップと、
前記テンプレートの前記第１の面の前記露出部分上にタンタル及びニッケル−鉄をスパッタリングするステップと、
を含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項９】
前記テンプレートをＮ−メチルピロリジノン及びイソプロパノールで洗浄するステップと、
前記テンプレートをリンスするステップと、
前記テンプレートをスピン乾燥させるステップと、
をさらに含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項１０】
前記テンプレートをＮ−メチルピロリジノン及びイソプロパノールで洗浄するステップが、前記テンプレートを化学溶液に浸漬させるステップを含む、請求項９に記載のラベリング方法。
【請求項１１】
前記第２の面上に保護層をさらに含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項１２】
前記ポリマーマークが、英数字からなる文字列、バーコード、記号又はそれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項１３】
前記不透明材料が金属である、請求項１に記載のラベリング方法。
【請求項１４】
インプリントリソグラフィ用のテンプレートのラベリング方法であって、前記テンプレートが、パターンを有する面と、光学的に平滑な面とを有し、前記方法が、
前記テンプレートの両面を洗浄するステップと、
前記テンプレートの前記パターンを有する面上にフォトレジスト層を形成するステップと、
前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の一部分をセロハンテープでマスキングするステップと、
前記テンプレートの光学的に平滑な面の残り部分の上にフォトレジスト層を形成するステップと、
前記テープ及びテープ残留物を除去して、前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記一部分を露出させるステップと、
前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記露出部分上にポリマーマークを設けるステップと、
前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記露出部分上に不透明層を堆積させるステップと、
前記テンプレートの両面を洗浄して前記フォトレジスト層及び前記ポリマーマークを除去し、前記堆積させた不透明層によるラベルを現出させるステップと、
を含む、ラベリング方法。
【請求項１５】
前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記露出部分上に不透明層を堆積させるステップが、前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記露出部分上にタンタル及びニッケル−鉄をスパッタリングするステップを含む、請求項１４に記載のラベリング方法。
【請求項１６】
前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記露出部分上にタンタル及びニッケル−鉄をスパッタリングするステップが、
前記テンプレートの前記光学的に平滑な面の前記露出部分上に第１のタンタル層をスパッタリングするステップと、
前記第１のタンタル層上にニッケル−鉄層をスパッタリングするステップと、
前記ニッケル−鉄層上に第２のタンタル層をスパッタリングするステップと、
を含む、請求項１５に記載のラベリング方法。
【請求項１７】
前記テンプレートの両面を洗浄するステップが、
前記テンプレートをＮ−メチルピロリジノン及びイソプロパノールで洗浄するステップと、
前記テンプレートをリンスするステップと、
前記テンプレートをスピン乾燥させるステップと、
を含む、請求項１４に記載のラベリング方法。
【請求項１８】
前記テンプレートをＮ−メチルピロリジノン及びイソプロパノールで洗浄するステップが、前記テンプレートを化学溶液に浸漬するステップを含む、請求項１７に記載のラベリング方法。
【請求項１９】
前記テンプレートの両面上に堆積させる前記フォトレジスト層が、ポリメタクリル酸メチルを含む、請求項１４に記載のラベリング方法。
【請求項２０】
インプリントリソグラフィ用の透明なテンプレートであって、
第１の見方で見られると、前記テンプレートの上面を特定するよう機能し、且つ前記テンプレートを通じて第２の見方で見られると、前記テンプレートの裏面を特定するよう機能するインジケータを含むラベルであって、前記第２の見方では、前記インジケータの裏返しの像が見え、前記ラベルが、前記インジケータの周りにある前記テンプレートの前記上面の一部分にスパッタリングされた金属材料を含み、それにより前記インジケータのネガ像が現出している、インプリントリソグラフィ用のテンプレート。
【請求項２１】
前記テンプレートの前記上面の前記一部分にスパッタリングされた前記金属材料が、タンタル及びニッケル−鉄を含む、請求項２０に記載のインプリントリソグラフィ用のテンプレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリントリソグラフィの分野に関し、特に、インプリントリソグラフィ機械での使用前におけるインプリントリソグラフィ用のテンプレートのラベリング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インプリントリソグラフィは、一般にインプリントリソグラフィテンプレートと称される型により、基板上の光硬化性の液状レジスト、すなわち「フォトレジスト」を押し当てることを含む。テンプレートは、概して石英などの透明材料で作製される。テンプレートと基板とを一体に押し合わせた後、テンプレートを通じて紫外線及び／又は熱を伝播させることによりフォトレジストを硬化させる。フォトレジスト材料は光に曝露されると固化し、基板には、極めて微細なスケール（例えば、１０ｎｍ以下）でパターンが形成される。テンプレートを引き剥がした後、フォトレジストの残渣層の凹凸図形でパターンが構成され、次にこの残渣層がエッチング処理により除去されると、基板にパターン図形のみが残り得る。
【０００３】
インプリントリソグラフィの全体的なプロセスには、表面の調製、フォトレジストのコーティング、マスクの位置合わせ、露光、及び余分なフォトレジストの除去を含むいくつかの工程が含まれる。緻密なプロセスであるため、リソグラフィ用の表面を調製する際は慎重に行われる。基板上への正確なインプリントが確実に行われるよう、表面の汚染を取り除く。汚染を除去するため、表面を浸漬し、リンスする。次に、表面をさらなる化学物質でプライム処理し、フォトレジストの密着性を促進する。表面を洗浄してプライム処理した後、フォトレジストを塗布する。フォトレジストを一様に塗布するには最適化が必要となる。フォトレジストは、表面に一様に結合する。任意のプリベークプロセスは、熱対流炉内で、又は表面の下方に置かれた加熱板を通じて基板を加熱することを含む。プリベークの目的は、余分なコーティング溶媒を蒸発させるとともに、フォトレジストを押し固めることである；しかしながら、全てのインプリントレジストにプリベークが必要なわけではない。次に、リソグラフィテンプレートを基板と位置合わせする。フォトレジスト中の分子は、紫外線及び／又は熱にさらされると、重合により長鎖で一体に強力に結合する。ポストベークプロセスを用いてフォトレジストを安定化及び硬化させ、基板から微量の現像用化学物質を除去し得る。次に、エッチングを用いて、インプリントされた図形の間にあるレジストの薄層を含む余分なフォトレジストを除去し得る。
【０００４】
パターンの正確な転写を確実に行うには、基板に対するマスクの緻密な位置合わせが必要である。さらに、リソグラフィテンプレートは、テンプレートにスクラッチが生じないよう、取り扱いに緻密さも要求される。これは、スクラッチが欠陥として基板に転写されるためである。一般に、テンプレートは、リソグラフィプロセスの前に、テンプレートをリソグラフィ機械内に置くことによって準備される。テンプレートがリソグラフィ機械内に不正確に（例えば、誤った側を上にして）置かれると、テンプレートにスクラッチが生じ、それによりテンプレートの有用性が失われ得る。しかしながら、テンプレートは透明で、目に見える標示がないため、テンプレートのいずれの面が基板に面するべきかを判断することは困難である。リソグラフィ機械におけるテンプレートの正確な設置を確実に行うための一つの方法は、１人の人がテンプレートに、製造地点からリソグラフィ機械内のその最終的な設置場所まで追随することである。リソグラフィプロセスには多くの人、テンプレート、リソグラフィ機械等が関わるため、一般にこれは実際的でない。リソグラフィ機械におけるテンプレートの正確な処理及び設置を確実に行うための別の方法としては、テンプレートの紫外線リソグラフィを妨害しない周辺領域に、取扱者がいずれの面を上にすべきか分かるよう、標示を設けることが挙げられる。例えば、リソグラフィ機械内に置いたときに誤った面が上になると、取扱者は、標示が透明なテンプレートを通じて裏返しに見えることからそれを理解する。しかしながら、現行の標示のマーキング方法は持続性のあるものではなく、リソグラフィプロセス後のテンプレートの洗浄に用いられる劇性が強い化学物質により、標示が剥がれ落ちる。従って、そのテンプレートが再びリソグラフィ機械において使用されるとき、正確な設置が問題となる。或いは、テンプレートはレーザ又は他のエッチング手段でエッチングされ得る。テンプレートのエッチングにより複雑さが増すとともに、エッチングが許容され得るのは、テンプレート表面に粒子又は突出部が生じない限りにおいてである。従って、テンプレートの取り扱い中の損傷防止に役立ち、且つ透明なテンプレートのインプリント面に粒子又は突出部を生じることのない、比較的持続性のあるラベルをテンプレートに提供する必要がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本明細書の実施形態は、インプリントリソグラフィ用のテンプレートに比較的持続性のあるラベリングを提供する。インプリントリソグラフィ用のテンプレートは、概して、第１の面と第２の面とを有し、一方の面は、基板をインプリントするためのパターンを有し（例えば、表面）、及び他方の面は光学的に平滑で（例えば、裏面）、テンプレートは紫外線を遮ることなく透過させることができる。一実施形態において、インプリントリソグラフィ用のテンプレートのラベリング方法は、テンプレートの第１の面（例えば、光学的に平滑な裏面）の一部分にマスキング層を設けるステップと、テンプレートの第１の面の残り部分の上に剥離層を形成するステップと、マスキング層を除去することにより、テンプレートの第１の面の一部分を露出させるステップと、テンプレートの第１の面の露出部分上にポリマーマーク（例えば、消えないインク）を設けるステップとを含む。本方法はまた、テンプレートの第１の面上に不透明材料（例えば、合金）を堆積させるステップと、剥離層及びポリマーマークを除去することにより、テンプレートの第１の面上に、堆積させた不透明材料によるラベルを形成するステップとを含む。例えば、剥離層及びポリマーマークを除去することにより、テンプレートのラベル範囲外及びポリマーマークを覆う範囲から不透明材料が除去される。しかしながら、ポリマーマークの外側のラベル範囲には不透明材料が留まり、ポリマーマークのネガ像が後に残る。
【０００６】
別の実施形態において、インプリントリソグラフィ用のテンプレートのラベリング方法は、テンプレートの両面を洗浄して、ラベル加工のためにテンプレートを調製するステップと、ラベル加工中にパターンを保護するため、テンプレートのパターンを有する面上にポリマー層（例えば、ポリメタクリル酸メチル、すなわち「ＰＭＭＡ」）を形成するステップと、テンプレートの光学的に平滑な面の一部分をセロハンテープでマスキングするステップとを含む。本方法はまた、ラベル加工中にテンプレートの光学的に平滑な面の残り部分を保護するため、テンプレートの光学的に平滑な面の残り部分の上にポリマー層（例えば、ポリメタクリル酸メチル）を形成するステップと、テープ（及び、その任意の残留物）を除去して、テンプレートの光学的に平滑な面の一部分を露出させるステップと、テンプレートの光学的に平滑な面の露出部分上にインクマークを設けるステップとをさらに含む。本方法はまた、テンプレートの光学的に平滑な面の残り部分を金属箔で被覆する任意のステップと、テンプレートの光学的に平滑な面の露出部分上に金属層を堆積させるステップと、金属層を堆積させた後、金属箔を除去するステップと、テンプレートの両面を洗浄してポリマー層及びインクマークを除去し、堆積させた金属層によるラベルを現出させるステップとをさらに含む。
【０００７】
テンプレートの光学的に平滑な面の露出部分上に金属層を堆積させるステップは、タンタル及びニッケル−鉄をテンプレートの光学的に平滑な面の露出部分上にスパッタリングするステップを含み得る。例えば、約５０オングストロームの第１のタンタル層が、テンプレートの光学的に平滑な面の露出部分上にスパッタリングされ、続いて約１００オングストロームのニッケル−鉄層が第１のタンタル層上にスパッタリングされ、さらに約５０オングストロームの第２のタンタル層がニッケル−鉄層上にスパッタリングされ得る。
【０００８】
テンプレートの両面を洗浄して、ラベル加工のためにテンプレートを調製するステップは、テンプレートをＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）及びイソプロパノール（ＩＰＡ）で洗浄するステップと、テンプレートをリンスするステップと、テンプレートをスピン乾燥させるステップとを含み得る。テンプレートの両面を洗浄してフォトレジスト層及びインクマークを除去し、ラベルを現出させるステップは、テンプレートをＮ−メチルピロリドン及びイソプロパノールで洗浄するステップと、テンプレートをリンスするステップと、テンプレートをスピン乾燥させるステップとを含み得る。ラベルを現出させるための洗浄、リンス、及びスピン乾燥に応じて、洗浄するステップは、テンプレートを化学溶液に浸漬するステップと、テンプレートをリンスするステップと、テンプレートをスピン乾燥させるステップとをさらに含み得る。
【０００９】
他の例示的実施形態は、以下に説明され得る。
【００１０】
ここで本発明のいくつかの実施形態を、単に例として、添付の図面を参照しながら説明する。同じ参照符号は、あらゆる図面における同じ要素又は同じタイプの要素を表す。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一例示的実施形態におけるインプリントリソグラフィテンプレートのラベリング方法を示すフローチャートである。
【図２】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図３】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図４】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図５】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図６】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図７】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図８】一例示的実施形態の図１の方法に従いラベリングされるインプリントリソグラフィテンプレートを示す。
【図９】一例示的実施形態におけるインプリントリソグラフィテンプレートの別のラベリング方法を示すフローチャートである。
【図１０】一例示的実施形態におけるインプリントリソグラフィテンプレートのラベリングに用いられる洗浄ステップを示す。
【図１１】一例示的実施形態におけるインプリントリソグラフィテンプレートのラベリングに用いられるラベル堆積ステップを示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図及び以下の説明は、本発明の特定の例示的実施形態を示す。従って、ここに明示的に説明又は図示されないが、本発明の原理を具体化するものであり、且つ本発明の範囲内に含まれる様々な調整事項を当業者が考案可能であることは、理解されるであろう。さらに、本明細書に記載される例はいずれも、本発明の原理の理解を補助することを目的としており、かかる具体的に列挙される例及び条件に限定されるものと解釈してはならない。結果として、本発明は、以下に説明される具体的な実施形態又は例に限定されることはなく、特許請求の範囲及びその均等物によって限定される。
【００１３】
図１は、一例示的実施形態におけるインプリントリソグラフィテンプレートのラベリング方法１００を示すフローチャートである。ラベリング方法１００は、図２〜８に図示されるインプリントリソグラフィテンプレート２００（以下、単に「テンプレート２００」という。）に関連して説明する。図１００のフローチャートのステップは、全てが含まれるとは限らず、及び図示されない他のステップを含むこともあり得る。
【００１４】
図２のテンプレート２００がインプリントリソグラフィ機械内で使用できる状態になると、テンプレート２００は、操作者がそれを正しく利用することができるよう補助し、それによりテンプレート２００の損傷を防止するため、ラベリングが行われる。初めに、ステップ９９において、テンプレート２００は、ラベルの反対側の面が保護用の犠牲ポリマーコーティングでコートされる。次に、ステップ１０１において、ラベル面（すなわち、第１の面であるテンプレート面２０１）を保護し、テンプレート２００のテンプレート面２０１の一部分を覆ってマスキング層２０２を設けることにより、ラベリング方法１００は続く。例えば、セロハンテープなどのフィルムをテンプレート面２０１の周辺部分に固着させて、図３に示されるとおり、テンプレート面２０１のうちラベルを固着させる部分を保護してもよい。テンプレート２００の周辺部分は、テンプレート２００のうち、テンプレート面２０１又はその反対側の面のいずれにもパターンが存在しない範囲であり得る。
【００１５】
ステップ１０２において、図４に示されるとおり、テンプレート面２０１の残り部分の上にカバー層２０３として材料を堆積させる。例えば、テンプレート面２０１上にポリマー材料を堆積させてベークすることにより、ポリマー材料をテンプレート面２０１に固着させてもよい。このカバー層２０３は、ラベリングプロセス中にテンプレート面２０１を保護する剥離材料として機能し得る。テンプレート面２０１の一部分はマスキング層２０２を用いてマスキングすることにより遮蔽されているため、カバー層２０３は、テンプレート面２０１の全面に堆積させても、又はマスキング層２０２によって被覆されていない残り部分だけに堆積させてもよい。
【００１６】
カバー層２０３を堆積させた後、ステップ１０３において、図５の露出部分２０４によって示されるとおり、マスキング層２０２を除去してテンプレート面２０１の一部分を露出させる。或いは、フォトリソグラフィを用いてテンプレート面２０１の一部分を露光し、露出部分２０４を現像してもよい。テンプレート面２０１のこの露出部分２０４は、テンプレート面２０１上でラベルが形成される場所である。
【００１７】
これに関連して、ステップ１０４において、図６の露出部分２０４のマーク２０５によって示されるとおり、テンプレート面２０１の露出部分２０４上にポリマーマークが設けられ得る。例えば、消えないインクマーカーを用いてテンプレート面２０１の露出部分上に書くことにより、テンプレート面２０１を一時的にラベリングしてもよい。概して、テンプレート面２０１に施されるポリマーマークとしては、テンプレートのいずれの面が「上」であるかを操作者に直ちに示す数字と文字との様々な組み合わせが挙げられる。例えば、インプリントフォトグラフィ（ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｙ）テンプレート２００は透明である。そのため、テンプレート面２０１に書かれた特定の文字及び／又は数字は、反対側から見ると裏返しに見え、それにより、テンプレート面２０１を上にして、それに応じてインプリントリソグラフィ機械内に置かなければならないことが示される。当然ながら、テンプレート２００はインプリントリソグラフィ機械内に別の方法で置かれ得るため、用語「上」は相互依存的な基準である。従って、上という用語は、単に例示的な一基準点を示すことを意図しているに過ぎない。加えて、本発明は、自動化された操作との適合性がより高いバーコード又は記号など、いかなるタイプのマーク２０５にも限定することは意図しない。本明細書では図示されるとおり、テンプレート２００は「ＹＢ−６１８０９」とラベリングされ、これは、テンプレート２００によってインプリントされるウエハ／基板の名称を示す。しかしながら、テンプレート２００のマークは、単にデザイン上の選択の問題である。
【００１８】
テンプレート面２０１にマーク２０５をマーキングした後、ステップ１０５において、図７に不透明層２０６によって示されるとおり、テンプレート面２０１上に不透明材料を堆積させる。例えば、テンプレート面２０１上に、マーク２０５を覆って合金をスパッタリングしてもよい。その後、ステップ１０６において、カバー層２０３及びマーク２０５を除去し、テンプレート面２０１上にラベル２１０を形成する。例えば、スパッタリングした合金はマーク２０５と適切に付着しないこともある。従って、テンプレート面２０１からカバー層２０３を剥離して、テンプレート面２０１のラベル範囲外から一切のスパッタリングされた合金を除去するとき、マーク２０５上にスパッタリングされた合金も同様に剥離され、図８にラベル２１０によって示されるとおり、後にはマーク２０５のネガ像が残り得る。
【００１９】
このネガ像のラベル２１０に関連する利点のいくつかは、複数回のインプリントリソグラフィプロセス及び洗浄に耐えることのできるラベル２１０の能力にあると考えられる。例えば、テンプレート２００を使用して基板上にパターンがインプリントされると、リソグラフィプロセスに使用される材料は、硫酸と過酸化水素との混合物など、比較的劇性が強い化学物質を用いてテンプレート２００から洗浄される。この金属製のラベル２１０は、かかる化学洗浄に耐え、テンプレート２００に比較的持続性のあるラベルをもたらす。従って、ラベル２１０により、操作者は、複数回にわたりテンプレート２００の正確な参照及び操作を行う能力を得る。さらに、ラベリングプロセスにおいても洗浄においても、テンプレート２００はエッチングされないため、このラベリングプロセスによってテンプレート２００に亀裂が入ったり、又は将来的に欠陥を引き起こし得る有害な粒子が発生したりする可能性は低い。
【００２０】
特定の数のステップを用いてラベリングされるテンプレート２００に関して図示及び説明されるが、本発明がそのように限定されることは意図しない。他の方法を用いてテンプレート面２０１に金属製の、又は不透明なラベル２１０を設けてもよい。テンプレート２００をラベリングするために用いられる別の方法の一例が、図９に図示及び説明される。さらに、本発明は、テンプレート２００のいかなる特定の面へのラベリングにも限定されることは意図しない。例えば、ラベル２１０は、テンプレート２００のパターンを有する表面に施されても、又はテンプレート２００の光学的に平滑な裏面に施されてもよい。テンプレート２００のパターンを有する面は、テンプレート２００のうち、フォトレジスト材料を使用して像を基板にナノインプリントするために用いられる面であり得る。テンプレート２００のパターンを有する面の反対側が、テンプレート２００の光学的に平滑な面である。光学的に平滑な面は、一般に、テンプレート２００のうち、埋め込まれたパターンを有さず、従って、リソグラフィプロセス中にフォトレジストを硬化させるとき、より少ない分散及び／又は吸収で紫外線を透過させる面である。
【００２１】
図９は、一例示的実施形態におけるテンプレート２００の別のラベリング方法９００を示すフローチャートである。この実施形態において、初めに、ステップ９０１において、テンプレート２００を洗浄することによりテンプレート２００の両面が調製される。これを行うにおいては、インプリントリソグラフィテンプレートの両面がＮ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）及びイソプロパノール（ＩＰＡ）を用いた化学洗浄にさらされ得る。その後、ステップ９０２において、テンプレート２００のパターンを有する面上に、ＰＭＭＡなどのポリマー材料を堆積させる。ポリマー材料のこの堆積は、テンプレート２００を約６０秒間にわたり約２０００毎分回転数で回転させて、テンプレート２００のパターンを有する面上に比較的均等なポリマー材料層を残すことを含み得る。次に、ポリマー材料を現像する（例えば、ステップ９０３において、それを約９２℃で約５分間ベークして、テンプレート２００上の余分な溶媒を除去することによる）。
【００２２】
テンプレート２００のパターンを有する面がフォトレジスト材料の保護ポリマー層によって保護されると、テンプレート２００の光学的に平滑な裏面の処理が行われ得る。これに関連して、テンプレートの光学的に平滑な裏面の一部分を、フォトレジストによりパターニングし得る。紫外線が現像したラベル２１０によって妨害されることなく、テンプレート２００を下にあるパターンまで透過し得るように、フォトレジストはテンプレート２００において、下にパターン部分が存在しないところにパターニングされ得る。その後、ステップ９０６において、テンプレート２００の光学的に平滑な裏面（例えば、テンプレート面２０１）に、ステップ９０２及び９０３の材料のようなフォトレジスト材料の剥離層を堆積させて、ベークし得る。
【００２３】
フォトレジスト剥離層をテンプレート２００の光学的に平滑な裏面に固着させた後、ステップ９０７において、酸素プラズマを用いて、テンプレート２００の光学的に平滑な面の一部分を覆う一切の有機残渣を取り除き得る。次に、ステップ９０８において、消えないインクを用いて（例えば、消えないインクマーカーによって）、ポリマーマークをテンプレート２００の光学的に平滑な面の露出部分に固着させる。その後、ステップ９０９において、テンプレート２００の光学的に平滑な面の露出部分上に不透明材料（例えば、合金）を堆積させ、テンプレート２００を洗浄すると、ネガ像ラベルが得られ得る。従って、テンプレート２００の両面を洗浄することにより、剥離層（例えば、フォトレジスト材料）、マーク、及びテンプレート２００の光学的に平滑な裏面の、先に露出させた部分の外側にある一切の不透明材料が除去される。すなわち、ラベリングプロセス後に概してテンプレート２００上に残る材料は、テンプレートのラベル範囲内に堆積させた不透明材料のみである。
【００２４】
ラベリング方法９００の特定のステップは、他の特徴を含み得る。例えば、テンプレート２００を洗浄するとき、ステップ９１０におけるステップ９０１は、テンプレート２００の両面を比較的高温のＮＭＰ／ＩＰＡ混合物で洗浄するステップ（ステップ１００１）と、続いて、テンプレート２００を比較的低温のＮＭＰ／ＩＰＡ混合物で約２分間洗浄するステップ（ステップ１００２）と、テンプレートの両面を水でスプレーリンスするステップ（ステップ１００３）とを含み得る。ステップ１００１〜１００３は５回繰り返し、次にステップ１００４においてスピン乾燥させ得る。ステップ９０１では、ステップ１００１〜１００４は、ラベリング前にテンプレート２００を洗浄し、ラベリングプロセスに用いられる材料の、インプリントリソグラフィテンプレート面との適切な結合を確実に行うために用いられ得る。他方で、ステップ９１０では、ステップ１００１〜１００４は、テンプレート２００の光学的に平滑な面上に堆積させた材料の大部分を除去するために用いられ得る。例えば、ステップ１００１〜１００４を用いて、フォトレジスト材料、消えないインク、及びラベリング範囲外にある堆積した合金が除去され得る。これに関連して、ステップ９１０は、リソグラフィ機械での使用前におけるテンプレート２００からのかかる材料の除去をさらに確実に行う追加的な洗浄ステップを含み得る。例えば、ステップ９１０は、ステップ１００５において、テンプレート２００を、Ｐｈが１１より高い水酸化カリウム浴に約５分間浸漬するステップを含み得る。次に、テンプレート２００を、ステップ１００６においてスプレーリンスし、ステップ１００７においてスピン乾燥させることで、インプリントリソグラフィ機械において使用することのできるテンプレート２００が調製され得る。しかしながら、硬化させたインプリントレジストは、いかなる現像ステップも必要としないこともあり得る。
【００２５】
テンプレート２００の光学的に平滑な裏面の露出部分上に合金を堆積させるステップ（すなわち、ステップ９０９）もまた、追加的なステップを含み得る。例えば、テンプレート２００の光学的に平滑な裏面上に合金を堆積させる前に、ステップ１１０１において、テンプレート２００の光学的に平滑な面の残り部分（すなわち、テンプレートの光学的に平滑な裏面のうち、テープで被覆されていない部分）を金属箔（例えば、アルミニウム箔）で被覆して、テンプレート２００の光学的に平滑な裏面の残り部分に合金が堆積することをさらに防止し得る。その後、テンプレート２００の光学的に平滑な裏面の露出部分を標的として洗浄することにより、タンタル（Ｔａ）／ニッケル鉄（ＮｉＦｅ）スパッタリング用の露出部分を調製し得る。次に、ステップ１１０３において、テンプレート２００の光学的に平滑な面の露出部分上にＴａを約５０オングストローム（Å）の厚さでスパッタリングする。次に、ステップ１１０４においてＴａの上にＮｉＦｅを約１００Åの厚さでスパッタリングし、続いて、ステップ１１０５においてＴａを約５０Åの厚さでスパッタリングする。洗浄のステップ９１０に関わるステップを実施すると、図８に示されるとおり、Ｔａ／ＮｉＦｅ／Ｔａスパッタリングにより、テンプレート２００の光学的に平滑な面上にネガ像のラベル２１０が残る。
【００２６】
本明細書では具体的な実施形態を説明したが、本発明の範囲は、それらの具体的な実施形態に限定されない。例えば、ラベル２１０がテンプレート２００上の周辺領域に形成される限り、ラベル２１０はテンプレートのいずれの面に形成されてもよい。これに関連して、ラベル２１０はリソグラフィプロセスを妨げない。また、このラベリングプロセスを他の面のラベリングに用いることもできるため、上記に説明される実施形態は、インプリントリソグラフィテンプレートのラベリングのみに限定されるべきではない。従って、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲及びその任意の均等物により定義される。
【符号の説明】
【００２７】
９９、１０１〜１０６  ステップ
１００  ラベリング方法
２００  インプリントリソグラフィテンプレート
２０１  テンプレート面
２０２  マスキング層
２０３  カバー層
２０４  露出部分
２０５  マーク
２０６  不透明層
２１０  ラベル
９００  ラベリング方法
９０１〜９１０  ステップ
１００１〜１００７  ステップ
１１０１〜１１０５  ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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