(57)【要約】【課題】寸法安定性に優れるだけでなく、走行耐久性や電磁変換特性にも優れる、特に高記憶容量のデータストレージ用テープのベースフィルムとして好適な磁気記録媒体用支持体の提供。【解決手段】ポリエステル層Ｆ１（Ｆ１層）の片面にポリエステル層Ｆ２（Ｆ２層）が積層された積層フィルムと、その両面に積層された厚みが５〜２００ｎｍの金属類または金属系無機化合物の層（Ｍ１層とＭ２層）とからなる支持体であって、  Ｆ１層は、ポリエステルの固有粘度が０．５５ｄｌ／ｇ以上で、末端カルボキシル基濃度が３０ｅｑ／１０6ｇ以上で、かつ平均粒径が５０〜１０００ｎｍの不活性粒子を含有し、その含有量がＦ２層より０．００１重量％以上多い磁気記録媒体用支持体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル層Ｆ１（Ｆ１層）の片面にポリエステル層Ｆ２（Ｆ２層）が積層された積層ポリエステルフィルムと、その両面に積層された厚みが５〜２００ｎｍの金属類または金属系無機化合物の層（Ｍ１層とＭ２層）とからなる支持体であって、
Ｆ１層は、ポリエステルの固有粘度が０．５５ｄｌ／ｇ以上で、末端カルボキシル基濃度が３０ｅｑ／１０6ｇ以上で、かつ平均粒径が５０〜１０００ｎｍの不活性粒子を含有し、その含有量がＦ２層より０．００１重量％以上多いことを特徴とする磁気記録媒体用支持体。
【請求項２】
Ｆ２層側に積層されたＭ２層の露出面の表面粗さ（Ｒａ２）が１〜５ｎｍで、Ｆ１層側に積層されたＭ１層の露出面の表面粗さ（Ｒａ１）がＲａ２よりも大きく、かつ３〜１０ｎｍの範囲にある請求項１記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項３】
Ｆ１層およびＦ２層のポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートである請求項１記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項４】
Ｍ１層およびＭ２層が、それぞれＦ１層およびＦ２層に、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂から成る群から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂を含有する塗膜層を介して積層されている請求項１記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項５】
塗膜層が粒径５〜５０ｎｍの微細粒子を含有し、塗膜層表面における粒子の頻度が１００万〜１億個／ｍｍ２である請求項４記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体と、そのＭ２層側の表面に形成された磁性層とからなるデータストレージ用テープ。
【請求項７】
磁性層が塗布によって形成され、記録方式がリニア記録方式である請求項６記載のデータストレージ用テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、データストレージ用テープなどのベースフィルムとして用いる磁気記録媒体用支持体に関する。
【背景技術】
【０００２】
２軸配向ポリエステルフィルムを用いた磁気記録媒体用支持体は、デジタルビデオ用テープや、コンピュータのバックアップ用テープ（以後、データテープという）などに用いられている。近年、磁気テープ、特に高密度に磁気記録を行うデータテープにおいては、データトラックが非常に狭幅化したことによって、テープ走行・保存時のわずかな熱的・力学的寸法変化や、データを記録する際と読み取る際の温湿度環境の違いにより、データの再生不良を引き起こす問題が生じてきた。従って、高密度記録に対応する磁気記録媒体には、温湿度環境変化やテープドライブの張力などに対して高い寸法安定性が要求され、特にリニア記録方式のデータテープでは、テープ幅方向に高い寸法安定性が要求された。
【０００３】
従来、磁気テープの素材としては、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと称することがある。）とならんで、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（以下、ＰＥＮと称することがある。）が用いられてきたが、高密度記録の磁気テープのベースフィルムに求められる寸法安定性の要求はますます厳しくなってきており、それだけでは不十分であった。そこで、上記の寸法安定性の要求に応え得るベースフィルムとして、ポリエステルフィルムに金属類または金属系無機化合物からなるM層を設けた磁気記録媒体用支持体が提案されている（特許文献１および２）。
【０００４】
しかしながら、このように強化膜を設けることで寸法安定性は向上するものの、強化膜の形成時やそのあとの保管時に、粒子含有量の多いポリエステル側に積層された強化膜の一部が浮き上がり、走行時に削り取られて走行耐久性や電磁変換特性を損なうなどの問題があった。
また、このような問題は、磁性層が薄くなるほど顕著に影響するため、特に記憶容量が１ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムにおいて、重要な問題であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３４６８６５号公報
【特許文献２】特開２００６−２１６１９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、寸法安定性に優れるだけでなく、走行耐久性や電磁変換特性にも優れる、特に記憶容量が１ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムとして好適な磁気記録媒体用支持体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究したところ、表面粗さの粗い表面側のポリエステル層（Ｆ１層）の表面にオリゴマーが析出してきたり、含有する不活性粒子などが凝集したりして、Ｆ１層側に形成した金属類または金属系無機化合物からなる膜（Ｍ１層）の表面に大きな粗大突起が形成され、それが影響しているのではないかと考えた。そこで、Ｆ１層のポリエステルについて、鋭意研究したところ、特定の固有粘度と末端カルボキシル基量を満足するポリエステルとしたとき、極めて走行耐久性や電磁変換特性に優れた磁気記録媒体が得られることを見出し、本発明に到達した。
【０００８】
かくして本発明によれば、ポリエステル層Ｆ２（Ｆ２層）の片面にポリエステル層Ｆ１（Ｆ１層）が積層された積層ポリエステルフィルムと、その両面に積層された厚みが５〜２００ｎｍの金属類または金属系無機化合物の層（Ｍ２層とＭ１層）とからなる支持体であって、
Ｆ１層は、ポリエステルの固有粘度が０．５５ｄｌ／ｇ以上で、末端カルボキシル基濃度が３０ｅｑ／１０6ｇ以上で、かつ平均粒径が５０〜１０００ｎｍの不活性粒子を含有し、その含有量がＦ２層より０．００１重量％以上多い磁気記録媒体用支持体が提供される。
【０００９】
また、本発明によれば、本発明の好ましい態様として、Ｆ２層側に積層されたＭ２層の露出面の表面粗さ（Ｒａ２）が１〜５ｎｍで、Ｆ１層側に積層されたＭ１層の露出面の表面粗さ（Ｒａ１）がＲａ２よりも大きく、かつ３〜１０ｎｍの範囲にあること、Ｆ１層およびＦ２層のポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートであること、Ｍ１層およびＭ２層が、それぞれＦ１層およびＦ２層と、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂から成る群から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂を含有する被膜層（Ｃ層）を介して積層されていること、塗膜層（Ｃ層）が粒径５〜５０ｎｍの微細粒子を含有し、塗膜層表面における粒子の頻度が１００万〜１億個／ｍｍ２であることの少なくともいずれか一つを具備する磁気記録媒体用支持体も提供される。
【００１０】
さらにまた、本発明によれば、上記本発明の磁気記録媒体用支持体と、そのＭ２層側の表面に形成された磁性層とからなるデータストレージ用テープ、さらには磁性層が塗布によって形成され、記録方式がリニア記録方式であるデータストレージ用テープも提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の磁気記録媒体用支持体を用いれば、記憶容量が１ＴＢ以上のような高記録容量のデータストレージ用テープのベースフィルムに用いたときに、寸法安定性に優れるだけでなく、走行耐久性と電磁変換特性にも優れたデータストレージ用テープを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について、詳述する。
本発明の磁気記録媒体用支持体は、ポリエステル層Ｆ２（Ｆ２層）の片面にポリエステル層Ｆ１（Ｆ１層）が積層された積層ポリエステルフィルムと、その両面に積層された厚みが５〜２００ｎｍの金属類または金属系無機化合物の層（Ｍ２層とＭ１層）とからなる。
【００１３】
前記Ｆ１層およびＦ２層を形成するポリエステルとしては、フィルムに製膜可能なポリエステルであれば、特に制限されないが、芳香族ポリエステルが好ましく、Ｆ１層とＦ２層のポリエステルは異なる種類のポリマーであっても良いが、カールや剥離などを抑える観点から同じ種類であることが好ましい。
【００１４】
前記芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレート）などが例示でき、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。また、より環境変化に対する寸法安定性を向上させる観点から、国際公開２００８／０９６６１２号パンフレットに記載された６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分、６，６’−（トリメチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分および６，６’−（ブチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分などを共重合したものも好ましく挙げられる。
【００１５】
これらポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであっても良く、コポリエステルの場合の共重合成分としては、それ自体公知のものを採用できる。その共重合量は、本発明の効果を損なわない限り、特に制限されないが、繰り返し単位のモル数を基準として、２０モル％以下、さらには１０モル％以下であることが好ましい。
【００１６】
本発明で重要なことは、積層ポリエステルフィルムを形成する２つのフィルム層（Ｆ１層およびＦ２層）のうち、不活性粒子の含有量が多いフィルム層、すなわちＦ１層を構成するポリエステルを、固有粘度が０．５５ｄｌ／ｇ以上で、末端カルボキシル基濃度が３０ｅｑ／１０6ｇ以上のポリエステルとしたことにある。
【００１７】
前記Ｆ１層のポリエステルの固有粘度が下限に満たない場合、オリゴマー等のブリードアウトや突起の脱落が酷くなり、これらが反対面に転写して平滑性を損なうというトラブルを生じ易くなる。好ましいＦ１層のポリエステルの固有粘度は、０．５７ｄｌ／ｇ以上、特に０．６０ｄｌ／ｇ以上である。Ｆ１層のポリエステルをこのような固有粘度の範囲にするには、原料ポリマーの固有粘度を高くしておく方法や、溶融押出し条件のマイルド化（ポリマー劣化をできるだけ抑制する押出し条件の採用）等が有効である。なお、Ｆ１層における固有粘度の上限は特に制限されないが、製膜性などの観点から１．０ｄｌ／ｇ以下、さらに０．８ｄｌ／ｇ以下、特にが好ましい。
【００１８】
また、本発明におけるＦ１層は、前述のとおり、ポリマーの末端カルボキシル基濃度が３０ｅｑ／１０6ｇ以上である。好ましい末端カルボキシル基濃度の上限は、６０ｅｑ／１０6ｇ以下である。さらに好ましい末端カルボキシル基濃度は３４〜６０ｅｑ／１０6ｇであり、特に３６〜５５ｅｑ／１０6ｇである。この末端カルボキシル基濃度が下限に満たないと、含有する不活性粒子との親和性が劣り、不活性粒子の凝集などにより表面の欠陥が生じたり、フィルム製造時またはM層を形成する工程で不活性粒子の脱落が生じたりする。その結果、磁性層を形成する側の表面の平坦性などが損なわれてしまう。なお、この末端カルボキシル基濃度が過度に多くなると、不活性粒子に対する親和性はより一層向上するが、Ｆ１層の表面にＭ層を形成する際に、表面の平坦性が損なわれることがあるので、前述のとおり、６０ｅｑ／１０6ｇ以下であることが好ましい。このような末端カルボキシル基濃度の範囲にするには、例えば、重縮合終了後にポリマーを溶融保持する方法や、重縮合を末端カルボキシル基濃度が通常より多くなる条件で行う等を例示できる。
【００１９】
本発明におけるＦ１層は、Ｆ２層よりも平均粒径が５０〜１，０００ｎｍの不活性粒子を、各フィルム層の重量を基準として、０．００１重量％以上多く含有する必要がある。このＦ１層の不活性粒子の含有量が、Ｆ２層の含有量よりも少ない場合、積層ポリエステルフィルムの製造工程やM層の形成工程でブロッキングなどの問題が生じる。該不活性粒子の平均粒径は５０〜１，０００ｎｍ、好ましくは１００〜８００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜７００ｎｍ、特に好ましくは２００〜６００ｎｍである。そして、該不活性粒子の含有量は、Ｆ１層に対し、０．０５〜１重量％、好ましくは０．０６〜０．８重量％、さらに好ましくは０．０７〜０．６重量％、特に好ましくは０．０８〜０．４重量％である。
【００２０】
Ｆ１層に含有させる不活性粒子としては、それ自体公知の不活性粒子が好適に使用でき、例えば架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイアモンド、カオリンまたはクレーなどが挙げられる。これらの中でもＦ１層の末端カルボキシル基との反応で親和性をより一層向上しやすい水酸基が粒子表面上に多く存在する不活性粒子が好ましく、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル樹脂、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、カオリン及びクレーから選ばれる不活性粒子が好ましく、特に粒度分布が比較的シャープで均一な突起を形成しやすいことから、真球状の架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、二酸化ケイ素などの粒子が好ましい。これら不活性粒子は、１種に限らず、２種以上を併用してもよい。例えば、不活性粒子として平均粒径の違う２種以上の粒子を用いる場合、小さい平均粒径の第２、第３の粒子（微細粒子）として、例えばコロイダルシリカ、α、γ、δ、θなどの結晶形態を有するアルミナなどの微粒子を用いてもよい。
【００２１】
本発明におけるＦ２層は、磁性層を形成する側の表面に配される層である。Ｆ２層はＦ１層ほど不活性粒子を大量に含有しないので、ポリマーの固有粘度をあまり高くする必要はないが、それでも０．４５ｄｌ／ｇ以上、さらに０．４７ｄｌ／ｇ以上、特に０．５０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましい。このＦ２層におけるポリマーの固有粘度が下限未満の場合、オリゴマー等のブリードアウトや製膜巻取り工程での破断等が生じやすくなる。
【００２２】
Ｆ２層におけるポリマーの固有粘度を０．４５ｄｌ／ｇ以上にする方法としては、原料ポリマーの固有粘度を０．４５ｄｌ／ｇよりもやや高くしておくことや、溶融押出し条件のマイルド化（ポリマー劣化をできるだけ抑制する押出し条件の採用）等が好適に用いることができる。
【００２３】
本発明におけるＦ２層は、実質的に粒子を含有しないものでもよく、不活性粒子を含有するものでもよい。Ｆ２層が実質的に不活性粒子を含有しない場合、磁気記録媒体としたとき優れた電磁変換特性が得られるが、オリゴマーなどのブリードアウトや電磁変換特性に悪影響を与えない範囲の不活性粒子を含有させると、走行耐久性の向上を図ることができる。具体的には、体積形状係数０．１〜π／６、平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子を、Ｆ２層に対し、０．００１重量％以上０．０５重量％未満含有させることが好ましい。具体的な不活性粒子としては、前述のＦ１層で説明したのと同様な不活性粒子が好適に挙げられる。
【００２４】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、Ｆ１層およびＦ２層のそれぞれの表面に金属類または金属系無機化合物からなるＭ１層（Ｆ１層の表面に形成された層）とＭ２層（Ｆ２層の表面に形成された層）を有する。Ｍ１層およびＭ２層を有することで、積層ポリエステルフィルムのみからなる磁気記録媒体用支持体に比べ、温湿度環境変化および荷重による寸法変化の好ましい範囲を両立することが容易となる。ここで、金属類とは、いわゆる単体金属、半金属、合金、金属間化合物を表し、具体的には、例えば単体金属ではＭｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂ、半金属ではＣ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｅなどが挙げられ、これらの金属の数種を混ぜ合わせて合金や金属間化合物としてもよい。また、金属系無機化合物としては、例えば、上記金属類の酸化物や窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化物などを用いることができる。具体的には、例えば、ＣｕＯ、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ａｇ２Ｏ、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、ＩｎＯ３などの酸化物、Ｓｉ４Ｎ３、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＧａＮ、ＴａＮ、ＡｌＮなどの窒化物、ＴｉＣ、ＷＣ、ＳｉＣ、ＮｂＣ、ＺｒＣ、Ｆｅ３Ｃなどの炭化物が挙げられる。また、上記の金属系無機化合物はそれぞれ単独で用いてもよく、もちろん複数種を混合して用いても構わない。これらの中でも、Ｍ１層およびＭ２層を構成する金属材料は経済性の観点からアルミニウムや珪素を含むことが好ましい。
【００２５】
Ｍ１層およびＭ２層の形成方法としては物理蒸着法や化学蒸着法を用いることができる。物理蒸着法には真空蒸着法、スパッタリング法があり、真空蒸着法が一般的である。特に金属層の結晶粒径を小さく緻密にするためには蒸着物の運動エネルギーを高める必要がある。そのため電子ビーム蒸着やスパッタリング法が好ましい。
【００２６】
Ｍ１層およびＭ２層の厚みは、それぞれ５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜１５０ｎｍ、最も好ましくは２０〜１００ｎｍである。この範囲にすることでＭ１層およびＭ２層の金属の結晶粒径を細かくすることができ、補強効果の向上と、表面平滑性への悪影響がないなどの条件を満足し易いため好ましい。厚みが下限未満の場合、Ｍ１層およびＭ２層の金属の結晶形成が不完全となるため、強度を増加させる効果が小さくなり、本発明の寸法安定性向上の効果が小さくなることがある。一方、Ｍ１層およびＭ２層の厚みが上限を超える場合はクラックや粒界ができやすく、磁気記録媒体の表面が粗くなって電磁変換特性が悪化したり、Ｍ層が製造工程や、走行を繰り返す際に剥離や脱落が起こり易く、生産性が低下することがある。
【００２７】
本発明の磁気記録媒体用支持体において、磁気記録テープとしたときのカッピングやカールを抑制する観点から、Ｍ１層およびＭ２層の厚みはできる限り等しいことが望ましいが、積層ポリエステルフィルムがもともと有するカッピングやカールの影響を打ち消すように、多少厚みを異ならしても良い。そのような観点から、Ｍ１層とＭ２層の厚みの比は、０．８〜１．２５の範囲にあることが好ましい。
【００２８】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、長手方向のヤング率が５〜２０ＧＰａの範囲にあることが好ましい。さらに好ましい支持体の長手方向のヤング率は５．５〜１８ＧＰａ、特に６．０〜１５ＧＰａである。長手方向のヤング率が下限未満だと、磁気記録テープとして使用するときに生じる張力の変動で、幅方向の寸法変化が発生しやすくなる。他方、長手方向のヤング率が上限を超えると、幅方向のヤング率を範囲内に維持することが困難となり、ヘッドとの接触状態を安定に保つのが困難となりやすい。
【００２９】
また、本発明の磁気記録媒体用支持体は、幅方向のヤング率が、８〜２０ＧＰａ、さらに９〜１８ＧＰａ、特に１０〜１６ＧＰａの範囲にあることが好ましい。支持体の幅方向のヤング率が下限未満だと、磁気ヘッドとの接触状態が不安定化するため電磁変換特性が悪化しやすくなる。他方、支持体の幅方向のヤング率が上限を超えると、支持体の長手方向のヤング率が乏しくなりやすい。  
【００３０】
支持体の長手方向のヤング率（ＹＭＤ）と幅方向のヤング率（ＹＴＤ）の比、ＹＭＤ／ＹＴＤは０．５〜１．０であることが、上述のヘッドとの安定接触と、張力変動による長手方向の変形抑制を両立できる点から好ましい。より好ましいＹＭＤ／ＹＴＤの範囲は０．５５〜０．９、特に好ましくは０．６〜０．８である。    
【００３１】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、その幅方向の温度膨張係数が、０ｐｐｍ／℃未満〜−５ｐｐｍ／℃以上の範囲にあることが好ましい。より好ましい磁気記録媒体用支持体の幅方向の温度膨張係数は、上限が−１ｐｐｍ／℃以下であり、下限が−４ｐｐｍ／℃以上、さらに−３ｐｐｍ／℃以上である。一般的に磁気記録装置に用いられている磁気ヘッドの温度膨張係数は７ｐｐｍ／℃前後である。支持体の幅方向の温度膨張係数が０ｐｐｍ／℃以上の場合には、磁気テープとしたときの幅方向の温度膨張が磁気ヘッドの温度膨張よりも大きくなりすぎるため、磁気データを記録・再生する環境が低温から高温に変化した際に、テープの幅方向に磁気ヘッドに対して相対的に膨張し、再生不良を起こしやすい。また、支持体幅方向の温度膨張係数が−５ｐｐｍ／℃より小さい場合には、フィルムの温度膨張が磁気ヘッドの温度膨張よりも小さすぎるため、低温から高温に変化した際に、テープの幅方向に磁気ヘッドに対して相対的に収縮し、再生不良を起こしやすくなる。    
【００３２】
このような幅方向の温度膨張係数は、Ｍ１層およびＭ２層の材質や厚み、さらにＭ１層およびＭ２層を設ける積層ポリエステルフィルムの幅方向の温度膨張係数とヤング率によって調整できる。具体的には、積層ポリエステルフィルムの幅方向の温度膨張係数は、その方向の分子鎖の配向を高めること、すなわち延伸倍率を高くすることなどによって小さくできる。そして、Ｍ層は積層ポリエステルフィルムと比較して非常に大きな値のヤング率を有しており、また材質によっては大きな温度膨張係数を有することから、使用するＦ層の温度膨張係数がマイナスサイドにある場合は、温度膨張係数の大きなＭ層を使用したり、Ｍ層の厚みを厚くし、他方使用するＦ層の温度膨張係数がさほどマイナスサイドにない場合は、温度膨張係数の小さなＭ層を使用したり、Ｍ層の厚みを薄くするなど組合せによる最適化も可能である。
【００３３】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、Ｍ２層の表面、すなわち磁性層を形成する側の表面の表面粗さＲａ２が、１〜５ｎｍ、さらに２〜４．５ｎｍの範囲にあることが好ましい。Ｒａ２が上限より大きいと、高密度磁気記録媒体として十分な電磁変換特性を得られにくい。また、Ｒａ２が下限未満だと、搬送工程や、テープ走行中に、搬送不良のトラブルを引き起こしたり、走行面の突起が転写したり、走行中にゴミによる傷が付きやすくなったりする。このようなＭ２層の表面粗さは、Ｆ２層の表面粗さやＭ２層の厚さで制御することが可能である。Ｒａ２を好ましい範囲に制御するためには、Ｆ２層の表面粗さは、１〜７ｎｍ、さらに２〜５ｎｍの範囲にあることが好ましく、前述の不活性粒子の平均粒径や含有量で調整できる。金属層の厚みは前記のとおりであり、厚みが厚いほど、表面が粗くなりやすい。
【００３４】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、Ｍ１層の表面、すなわち磁性層を形成しない側の表面の表面粗さＲａ１は、前述のＲａ２より大きく、好ましくは１ｎｍ以上大きく、３〜１０ｎｍ、さらに４〜８ｎｍ、特に５〜７ｎｍの範囲にあることが好ましい。Ｒａ１が上限より大きいと、保存中に磁性面側へ転写が起こり、磁性面側の表面粗さが粗くなることがある。また、Ｒａ１が下限未満だと、テープの走行性が低下し、ドライブ中で走行不良を引き起こすことがある。このようなＭ１層の表面粗さは、Ｆ１層の表面粗さやＭ１層の厚さで制御することが可能である。Ｒａ１を好ましい範囲に制御するためには、Ｆ１層の表面粗さは、３〜１２ｎｍ、さらに５〜１０ｎｍの範囲にあることが好ましい。金属層の厚みは前記のとおりであり、厚みが厚いほど、表面が粗くなりやすい。
【００３５】
本発明の磁気記録媒体用支持体の全厚みは、２．０〜６μｍが好ましい。より好ましくは２．５〜５．５μｍ、さらに好ましくは３〜５μｍ、特に好ましくは３．５〜４．５μｍである。厚みが下限より薄いと、テープに腰がなくなるため、電磁変換特性が低下する。他方、厚みが上限を超えると、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になりやすい。
【００３６】
ところで、本発明の磁気記録媒体用支持体は、前述のＭ１層およびＭ２層が、それぞれＦ１層およびＦ２層と、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂から成る群から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂を含有する塗膜層を介して積層されていることが好ましい。特に好ましいのはアクリル変性ポリエステル樹脂である。アルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体などに比べ、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびアクリル−ポリエステル樹脂のいずれかを選択することで、積層ポリエステルフィルムに対する密着性、突起保持性、易滑性などをより高度に具備させることができる。これらのポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびアクリル−ポリエステル樹脂は、水溶性もしくは水分散性（多少の有機溶剤を含有していても良い）であることが塗膜層の形成などの点から好ましい。このような塗膜層の存在により、積層ポリエステルフィルムの表面に出てくるオリゴマーの析出による問題や、積層ポリエステルフィルム中の粒子の脱落を抑制できる。
【００３７】
前記水溶性もしくは水分散性のポリエステル樹脂について、さらに説明する。該ポリエステル樹脂を構成する酸成分は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、２−カリウムスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩などの多価カルボン酸を例示できる。また、該ポリエステル樹脂を構成するヒドロキシ化合物成分は、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロパン酸カリウムなどの多価ヒドロキシ化合物を例示できる。該ポリエステル樹脂は、これらの多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物から常法によってつくることができる。特に水性塗料をつくる点から、５−ナトリウムスルホイソフタル酸成分またはカルボン酸塩基を含有する水分散性または水溶性ポリエステル樹脂が好ましい。かかるポリエステル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とすることができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような硬化剤を用いて架橋してもよい。
【００３８】
前記水溶性もしくは水分散性のアクリル樹脂について、説明する。該アクリル樹脂の製造に用いるアクリル成分は、アクリル酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基などを例示できる）；メタクリル酸エステル（アルコール残基は上記と同じ）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２ーヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどの如きヒドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミドなどの如きアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノエチルメタクリレートなどの如きアミノ基含有モノマーなどを挙げることができる。これらモノマーは、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸およびそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩など）などの如きスルホン酸基またはその塩を含有するモノマー；クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、およびそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩など）などの如きカルボキシル基またはその塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸などの無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アリルグリシジルエーテルなどの単量体と組合せて用いることができる。この場合、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリルモノマーの成分が５０モル％以上含まれているのが好ましく、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているものが好ましい。かかる水溶性もしくは水分散性のアクリル樹脂は分子内の官能基で自己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化合物などの架橋剤を用いて架橋することもできる。
【００３９】
本発明において、水溶性または水分散性のアクリル−ポリエステル樹脂は、アクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル変性アクリル樹脂とを包含するものである。具体的には、アクリル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが、互いにグラフトタイプやブロックタイブなどの形態で結合したものである。アクリル−ポリエステル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとするなどによって製造できる。
【００４０】
該アクリル−ポリエステル樹脂を構成する成分は、前記の水溶性もしくは水分散性のアクリル樹脂または水溶性または水分散性のポリエステル樹脂で例示したものを、同様に挙げることができる。
【００４１】
ところで、Ｍ２層とＦ２層およびＭ１層とＦ１層との間に介在する塗膜層は、バインダー樹脂のほかに、微細粒子を含有することが好ましい。本発明において、塗膜層を構成する微細粒子は、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン、シリコーンなどの有機質、または、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、炭酸カルシウム、タルク、グラファイトなどの無機質などからなる粒子を好ましく挙げることができる。また、微細粒子の内外部が、それぞれの性質の異なる材質で構成される多層構造のコアシェル型粒子を用いてもよい。上記微細粒子の平均粒径は、走行性と平坦性との観点から、３ｎｍ以上５０ｎｍ以下、さらに５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００４２】
本発明におけるＦ２層の表面に形成された塗膜層の表面（以下、Ｆ２層側塗膜層表面と称することがある。）の微細粒子による突起の頻度は、１００万個／ｍｍ２以上１億個／ｍｍ２以下、さらに１００万個／ｍｍ２以上３０００万個／ｍｍ２以下、特に３００万個／ｍｍ２以上２０００万個／ｍｍ２以下であることが走行性などの点から好ましい。
【００４３】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、高い寸法安定性を必要とする磁性層が塗布型のデジタル信号をリニア記録方式で記録する磁気記録テープの支持体として好ましく用いられる。中でも、ＬＴＯやＤＬＴなどのデータストレージ用高密度磁気記録用テープに適したものである。
【００４４】
つぎに、本発明の磁気記録媒体用支持体の製造方法について、まずは積層ポリエステルフィルムの製造方法から説明する。まず、本発明におけるポリエステルの合成方法は、例えば芳香族ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体とアルキレングリコールとをエステル化反応もしくはエステル交換反応させてポリエステルの前駆体を合成する第一反応と、該前駆体を重縮合反応させる第二反応とからなり、それ自体公知の方法を採用できる。
【００４５】
また、不活性粒子を含有させる方法については、粗大粒子などをフィルターなどによって低減し、それを重合工程で添加して粒子の含有量が多いマスターポリエステルを作成し、該マスターポリエステルを、粒子を含有しないポリエステルで希釈するのが、不活性粒子の凝集による粗大突起を低減する上で好ましい。
【００４６】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、データストレージなどの高密度磁気記録媒体のベースフィルムに用いることから、二軸配向フィルムである。二軸配向フィルムは、上述のポリエステルを溶融状態で押出し、二軸方向に延伸することで製造でき、製膜方法などはそれ自体公知のものを採用することができる。
【００４７】
例えば、不活性粒子を含有させたＦ１層用のポリエステル組成物と、必要に応じて不活性粒子を含有させたＦ２層用のポリエステル組成物とを、ポリエステルの融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度で各々押出し機より溶融押出しし、押出し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、積層複合し好適な厚み比の積層構造となし、次いで口金よりフィルム状に共押出ししたのち、２０〜７０℃の冷却ロールで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（ポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直角方向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸面積倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１２〜３０倍である。
【００４８】
なお、前述の塗膜層は、積層ポリエステルフィルムを製膜した後に塗布して形成しても良いが、接着性や均一性の点から、積層ポリエステルフィルムの最終の延伸が終わるまでの間、好ましくは未延伸フィルムもしくは１軸延伸フィルムに塗液を塗布して乾燥し、延伸するのが好ましい。
【００４９】
さらに、前記二軸配向フィルムは（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
【００５０】
つづいて、前述の方法で作成した積層ポリエステルフィルムにM層（Ｍ１層およびＭ２層）を設ける方法について説明する。なお、ここでは、真空蒸着法を用いた製造方法の例を挙げる。    
【００５１】
真空蒸着装置内に設置されたフィルム走行装置に、ポリエステルフィルムをセットし、真空蒸着を行う。１．００×１０−５〜１．００×１０−１Ｐａの高真空で蒸着することが好ましい。０〜５０℃の冷却金属ドラムを介して、走行させ、蒸着物を加熱蒸発させ、フィルムの両面に形成して巻取る。フィルム走行速度は、１０〜２００ｍ／分が好ましく、より好ましくは、５０〜１５０ｍ／分である。走行速度が上記範囲を外れる場合には、Ｍ層の厚みを好ましい範囲に設定することが困難となったり、生産性が劣る場合がある。両面へのＭ層の形成方法は、同一の真空層内に２つの加熱蒸着装置と冷却ドラムを設けて、１パスで両面を蒸着することが好ましいが、一度片面に蒸着を行ない、巻き取った後に、再びもう一方の面にＭ層を設ける２パスで行っても良い。２パスの場合は勿論であるが、１パスの場合でも、Ｍ層を設ける順序としては、磁性層側、バックコート層側とした方が、カッピングを抑制できるため好ましい。
【００５２】
さらに、上記の方法で磁気記録媒体支持体を作製した後、エージング処理を行うことが、クリープ変形を抑制し、寸法安定性を向上するために好ましい。処理温度は１００〜１２０℃が好ましく、処理時間は１０〜４０時間が好ましく、より好ましくは、１５〜２０時間である。上記、エージング処理の好ましい条件のなかでも、処理温度が低い場合は処理時間を長くとる方が好ましいし、処理温度が比較的高めの場合には処理時間は短い方がよい。この温度と時間の両方に関係する処理条件は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって得られる積層ポリエステルフィルムのエンタルピー緩和のピーク面積を指標として表すことができ、ピーク面積ΔＨは、０．５Ｊ／ｇ〜１Ｊ／ｇが好ましい。
【００５３】
エージング処理は、積層ポリエステルフィルムを作製した後、Ｍ層を設ける前に行うことも可能であるが、この場合、積層ポリエステルフィルムの長手方向の熱収縮率が低くなり、蒸着工程でキャンとの密着が低下して、表面が粗くなったり、オリゴマーがフィルム表面に析出して、蒸着工程トラブルを引き起こしやすい。このため、エージング処理は、Ｍ層を設けた後に行う方が好ましい。
【００５４】
本発明の磁気記録媒体用支持体を用いた磁気記録テープとしては、磁性層−非磁性層−支持体―バックコート層がこの順で積層されたものであることが好ましく、磁性層の表面をより高度に平坦にしやすいことから、非磁性層の厚みは０．９〜１．１μｍ、磁性層の厚みは０．０５〜０．２５μｍの範囲にあることが好ましい。また、磁気記録テープの走行性を高度に発現させやすいことから、バックコート層の厚みは０．３〜０．７μｍの範囲にあることが好ましい。特に本発明の効果の点からは、磁気記録テープ中に占めるコート層（磁性層、非磁性層、バックコート層など）の厚みの割合は、１５〜３５％、さらに２２〜３０％の範囲にあることが好ましい。コート層の厚みが下限未満では、非磁性層などの厚みが薄くなり、磁性層の平坦化向上効果が乏しくなりやすく、他方上限を超えると寸法安定性の向上効果が損なわれやすくなる。
【実施例】
【００５５】
以下に実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明におけるポリエステル、ポリエステルフィルムおよびデータストレージ用テープの特性は、下記の方法で測定および評価した。
【００５６】
（１）固有粘度
得られたポリエステルの固有粘度は、ｏ-クロロフェノール、３５℃で測定し、ｏ−クロロフェノールでは均一に溶解するのが困難な場合は、Ｐ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒を用いて３５℃で測定して求めた。
【００５７】
（２）末端カルボキシル基濃度（ｅｑ／１０6ｇ）
A. Conix の方法に準じて測定した。（Makromol.Chem.26,226（1958））
【００５８】
（３）中心面平均粗さ（Ｒａ）
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏＰｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求めた。
【００５９】
（４）不活性粒子の平均粒径
（４−１）フィルム中の添加粒子の粒径
株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグル  パーティクル  サイズ  アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａｌ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｓｉｚｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）」を用いて測定した。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径（ｎｍ）とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、頁２４２〜２４７）。
【００６０】
（４−２）塗膜中に添加した微細粒子の粒径
塗膜中に添加する微細粒子の粒径は、光散乱法を用いて測定した。すなわち、ニコンプインストゥルメント株式会社（Ｎｉｃｏｍｐ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．）製の商品名「ＮＩＣＯＭＰ  ＭＯＤＥＬ  ２７０  ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ  ＰＡＲＴＩＣＬＥ  ＳＩＺＥＲ」により求められる全粒子の５０％の点にある粒子の「等価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）とする。
【００６１】
（５）ガラス転移点および融点
ガラス転移点および融点は、試料１０ｍｇを、測定用のアルミニウム製パンに封入し、ＤＳＣ（ＴＡインスツルメンツ社製、商品名：Ｑ１００）により昇温速度２０℃／ｍｉｎで測定した。
【００６２】
（６）ヤング率
得られた積層ポリエステルフィルムおよび支持体を試料巾１０ｍｍ、長さ１５ｃｍで切り取り、チャック間１００ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／分、チャート速度５００ｍｍ／分の条件で万能引張試験装置（東洋ボールドウィン製、商品名：テンシロン）にて引っ張る。得られた荷重―伸び曲線の立ち上がり部の接線よりヤング率を計算する。
【００６３】
（７）湿度膨張係数（αｈ）
得られたフィルムから幅５ｍｍのサンプルを切り出し、チャック間長さ１５ｍｍとなるように、ブルカーＡＸＳ製ＴＭＡ４０００ＳＡにセットし、３０℃の窒素雰囲気下で、湿度２０％ＲＨと湿度８０％ＲＨにおけるそれぞれのサンプルの長さを測定し、次式にて湿度膨張係数（αｈ）を算出した。なお、測定方向が切り出した試料の長手方向であり、５回測定し、その平均値をαｈとした。
αｈ＝（Ｌ８０−Ｌ２０）／（Ｌ２０×△Ｈ）
ここで、上記式中のＬ２０は２０％ＲＨのときのサンプル長（ｍｍ）、Ｌ８０は８０％ＲＨのときのサンプル長（ｍｍ）、△Ｈ：６０（＝８０−２０）％ＲＨである。
【００６４】
（８）温度膨張係数（αｔ）
得られたフィルムから幅４ｍｍのサンプルを切り出し、チャック間長さ２０ｍｍとなるように、セイコーインスツル製ＴＭＡ／ＳＳ６０００にセットし、窒素雰囲気下（０％ＲＨ）、８０℃で３０分前処理し、その後室温まで降温させた。その後３０℃から８０℃まで２℃／ｍｉｎで昇温して、各温度でのサンプル長を測定し、次式より温度膨張係数（αｔ）を算出した。なお、測定方向が切り出した試料の長手方向であり、５回測定し、その平均値を用いた。
αｔ＝｛（Ｌ６０−Ｌ４０）｝／（Ｌ４０×△Ｔ）｝＋０．５×１０−６
ここで、上記式中のＬ４０は４０℃のときのサンプル長（ｍｍ）、Ｌ６０は６０℃のときのサンプル長（ｍｍ）、△Ｔは２０（＝６０−４０）℃、０．５×１０−６／℃は石英ガラスの温度膨張係数（αｔ）である。
【００６５】
（９）トラックずれ  
支持体の表面Ｍ２側に、下記組成の磁性塗料と非磁性下層塗料とをエクストルージョンコーターにより重層塗布（上層は磁性塗料で、塗布厚０．１μｍ、非磁性下層の厚みは適宜変化させた。）し、磁気配向させ、乾燥させる。次いで反対面に、下記組成のバックコート層を形成した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後、６０℃で、４８時間キュアリングする。上記テープ原反を１／２インチ幅にスリットし、磁気テープとして、長さ８５０ｍ分をリールに巻き取った。
【００６６】
（磁性塗料の組成）  
・強磁性金属粉末 ：１００重量部  
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０重量部  
・変成ポリウレタン ： １０重量部  
・ポリイソシアネート ： ５重量部  
・ステアリン酸 ： １．５重量部  
・オレイン酸 ： １重量部  
・カーボンブラック ： １重量部  
・アルミナ ： １０重量部  
・メチルエチルケトン ： ７５重量部  
・シクロヘキサノン ： ７５重量部  
・トルエン ： ７５重量部  
（バックコートの組成）  
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ： ９５重量部  
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）： １０重量部  
・αアルミナ ： ０．１重量部  
・変成ポリウレタン ： ２０重量部  
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０重量部  
・シクロヘキサノン ：２００重量部  
・メチルエチルケトン ：３００重量部  
・トルエン ：１００重量部  
【００６７】
作成した磁気テープをテープ走行試験器にセットし、下記の１および２の条件に試験器ごと５時間保持した後、同条件下で走行させ、それぞれの条件での走行時のテープ幅をレーザー寸法測定器で測定して、両条件間でのテープ幅の変化を「トラックずれ」とした。条件１の温度、湿度、張力下でのテープ幅をＬ１（μｍ）、条件２の温度、湿度、張力下でのテープ幅をＬ２（μｍ）として、以下の式より「トラックずれ」を算出した。  
条件１：１０℃、１０％ＲＨ、張力１Ｎ、
条件２：２９℃、８０％ＲＨ、張力０．７Ｎ、
トラックずれ＝｜Ｌ２−Ｌ1｜／Ｌ１×１０６（ｐｐｍ）
このトラックずれの値が少ないものほど、高密度記録磁気テープとして用いた際に、環境変化によるエラーが発生しにくく優れている。
【００６８】
（１０）ドロップアウト（ＤＯ） と走行耐久性  
上記（９）で作成した磁気テープをＬＴＯ用カートリッジに巻き込み、ＩＢＭ社製ＬＴＯ４ドライブ（記録ヘッドはインダクティブヘッド、再生ヘッドはＭＲヘッドを搭載）に装填してデータ信号を１４ＧＢ記録し、それを再生した。平均信号振幅に対して５０％以下の振幅（Ｐ−Ｐ値）の信号をミッシングパルスとし、４個以上連続したミッシングパルスをドロップアウトとして検出した。なお、ドロップアウトは８５０ｍ長１巻を評価し、１ｍ当たりの個数に換算した。ドロップアウトは、少ないほど優れた特性であることを意味する。
【００６９】
また、磁気テープを５０回繰り返し走行した後、上記測定を再度行い、繰り返し走行後のドロップアウトの増加率を求めた。得られたドロップアウトと走行後増加率に基づき、下記の基準で評価した。
（ドロップアウト）
◎：ドロップアウト個数が１個／ｍ未満
○：ドロップアウト個数が１個／ｍ以上、３個／ｍ未満
△：ドロップアウト個数が３個／ｍ以上、５個／ｍ未満
×：ドロップアウト個数が５個／ｍ以上、１０個／ｍ未満
××：ドロップアウト個数が１０個／ｍ以上
（走行耐久性）
◎：ドロップアウト増加率が５％未満    
○：ドロップアウト増加率が５％以上、１０％未満
△：ドロップアウト増加率が１０％以上、２５％未満
×：ドロップアウト増加率が２５％以上、５０％未満
××：ドロップアウト増加率が５０％以上
【００７０】
（１１）塗膜層中の微細粒子の個数  
塗膜層表面を走査型電子顕微鏡により５万倍の拡大倍率で１０視野以上観察し、塗膜層に含有させた微細粒子に基づく突起が１ｍｍ２あたり何個あるかを測定することにより、塗膜層中の微細突起の頻度を求めた。
【００７１】
［実施例１］
平均粒子径が０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子（架橋ＰＳｔ）を０．０４重量％、平均粒子径が０．１μｍの架橋ポリスチレン粒子（架橋ＰＳｔ）を０．０６重量％含有し、重合工程での溶融保持時間を調整し、固有粘度が０．６９ｄｌ／ｇで末端カルボキシル基濃度が３３ｅｑ／ｔのポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）組成物（樹脂１）、平均粒子径が０．１μｍの架橋ポリスチレン粒子（架橋ＰＳｔ）を、０．０３重量％含有し、固有粘度が０．５８ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）組成物（樹脂２）を用意し、これらをそれぞれのフィルム層（Ｆ１層とＦ２層）を形成する別の２台の押出機に供給して３００℃で溶融し、矩形の合流ブロックにて合流させた後にダイから溶融状態で回転中の温度２０℃の冷却ドラム上にシート状に押し出し、未延伸積層フィルムとした。この際、Ｆ１層に樹脂１を、Ｆ２層に樹脂２を用い、Ｆ１層側を冷却ドラムと接触する側とした。次に、この未延伸積層フィルムを予熱ロールおよび赤外線ヒーターを用いて１００℃に加熱し、低速、高速のロール間で縦方向に倍率３．６倍で延伸し、縦延伸フィルムとした。つづいて、この縦延伸フィルムの両面に、下記組成の塗液を乾燥後の膜厚が１０ｎｍとなるように塗布した。その後、塗液を塗布した縦延伸フィルムをステンターに供給し、１２０℃から１７０℃に昇温しながら、横方向に倍率５．５倍で延伸し、さらに、２１０℃にて５秒間熱固定処理を行ない、１７０℃で幅方向に２％弛緩させた後、冷却して厚さ４．４μｍの二軸延伸積層フィルムを得た。
【００７２】
塗液の組成（固形分濃度１重量％の水分散体で、下記重量％は固形分の重量が基準）
・バインダー（アクリル変性ポリエステル（高松油脂株式会社製、商品名：ＳＨ−５５１Ａ））：８３重量％
・微細粒子（架橋ポリスチレン粒子（平均粒径３０ｎｍ、ＪＳＲ株式会社製、商品名：ＳＸ８７２１））：７重量％
・界面活性剤（三洋化成株式会社製、商品名：ナロアクティーＮ−７０）：１０重量％
【００７３】
上記の方法で作成した二軸延伸積層フィルムの両面に、以下の方法で、Ｍ１層およびＭ２層を設けた。まず、真空蒸着装置内に設置されたフィルム走行装置に、得られた二軸延伸積層フィルムをセットし、１．００×１０−３Ｐａの高真空にした後に、２０℃の冷却金属ドラムを介して走行させた。アルミニウムのターゲットを電子ビームで加熱蒸発させ、蒸着装置内に導入した酸素ガスで、Ｍ層中のアルミニウムと酸素の元素比が１：１．２となるように酸化させつつ、走行するフィルム上に蒸着することにより、アルミナ膜からなるＭ層を形成した。片面に蒸着後一旦巻き取ったロールを、蒸着面が逆になるように走行させつつ、同様に蒸着することにより、反対面にもＭ層を形成した。蒸着の順序は、Ｍ２層、Ｍ１層の順で行い、各M層の厚みは、電子ビームの強度と走行速度を調整することで、各々７０ｎｍとした。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００７４】
［実施例２］
樹脂１を固有粘度０．７３ｄｌ／ｇ、末端カルボキシル基濃度が２８ｅｑ／ｔのＰＥＴ組成物に変更し、Ｍ１層およびＭ２層の厚みを、それぞれ表１の厚みになるように変更したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００７５】
［実施例３］
樹脂１を固有粘度０．６５ｄｌ／ｇ、末端カルボキシル基濃度が３８ｅｑ／ｔのＰＥＴ組成物に変更し、Ｍ１層およびＭ２層の厚みを、それぞれ表１の厚みになるように変更したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００７６】
［実施例４］
塗液中の微細粒子の割合を表１に示す突起数になるように減らし、塗膜層の厚みを表１に示すように変更し、さらにＭ１層およびＭ２層を形成するために用いるターゲットをアルミニウムから二酸化ケイ素に変更したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００７７】
［実施例５］
樹脂１を固有粘度０．６５ｄｌ／ｇ、末端カルボキシル基濃度が３８ｅｑ／ｔのポリエチレン−２，６−ナフタレートに変更し、樹脂２を固有粘度０．５８ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートに変更し、冷却ドラムの温度を６０℃、縦延伸温度を１２５℃、縦延伸倍率を４．５倍、横延伸温度の最初の温度を１４０℃、横延伸の最終温度を１８０℃、横延伸倍率を６倍に変更し、さらにＭ１層およびＭ２層を形成するために用いるターゲットをアルミニウムから二酸化ケイ素に変更したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００７８】
［比較例１］
樹脂１の固有粘度を０．５８ｄｌ／ｇに変更したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００７９】
［比較例２］
重合工程での溶融保持時間を短縮し、樹脂１を固有粘度を０．７２ｄｌ／ｇで末端カルボキシル濃度が２０ｅｑ／ｔのＰＥＴ組成物に変更したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００８０】
［比較例３］
塗膜層を設けなかったほかは、比較例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００８１】
［比較例４］
Ｍ１層の厚みを４０ｎｍに変更し、Ｍ２層を設けなかったほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた磁気記録媒体用支持体およびそれを用いた磁気テープの特性を表１に示す。
【００８２】
【表１】
2011150744.tif 000002
【００８３】
表１中の、ＭＤは製膜方向、ＴＤは幅方向、ＡｌＯ１．２はアルミニウムと酸素の元素費が１：１．２の不完全酸化アルミナ、ＳｉＯ２は二酸化ケイ素を意味する。