(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性の高いプラズマディスプレイ用部材を提供し、かつ表示品位が高いプラズマディスプレイを提供する。【解決手段】基板上に感光性ガラスペースト層を形成し、複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の開口幅が、主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁の開口幅よりも大きく、複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、フォトマスク移動動作における移動距離が、格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁とそれに隣り合う補助隔壁のピッチの整数倍である。【選択図】図１
2011034704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層を形成し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項２】
前記格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、前記主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅と比較して、１．１〜４．７倍である請求項１に記載のプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項３】
前記フォトマスク移動動作における移動距離が、前記格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの等倍である請求項１または２に記載のプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項４】
基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に第一の感光性ガラスペースト層を形成し、該主隔壁と該補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを用いて露光し、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該第二のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項５】
前記第一のフォトマスクの交差部部分の透光パターンが菱形である請求項４に記載のプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項６】
前記一のフォトマスクの交差部部分の菱形の透光パターンの大きさが対角で３０〜１５０μｍである請求項５に記載のプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイ用部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイが注目されている。図１２は、プラズマディスプレイの１つの画素の構成の例を模式的に示した斜視図である。図１２に示す例では、表示面となる前面板１９側のガラス基板１４上には、対をなす複数のサステイン電極１５とスキャン電極１６が、銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等の材料で、表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、横方向を長手方向とするストライプ状に形成されている。さらにサステイン電極１５およびスキャン電極１６を被覆してガラスを主成分とする誘電体層１７が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層１７を被覆して保護層１８が形成されている。
【０００３】
一方、背面板２６側のガラス基板２０には、複数のアドレス電極２１が、縦方向を長手方向とするストライプ状に形成され、アドレス電極２１を被覆してガラスを主成分とする誘電体層２２が形成されている。前記誘電体層２２上に放電セルを仕切るために、縦方向を長手方向とする主隔壁２３と、主隔壁２３と略直交する補助隔壁２４からなる格子状隔壁が形成され、隔壁と誘電体層２２で形成された放電空間内に蛍光体層２５が形成されてなる。フルカラー表示が可能なプラズマディスプレイにおいては、蛍光体層は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に発光するものにより構成される。前面板１９側のサステイン電極１５と背面板２６側のアドレス電極２１が互いに直交するように、前面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されプラズマディスプレイが形成される。スキャン電極１６とアドレス電極２１の交点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマディスプレイは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。
【０００４】
プラズマディスプレイにおいて表示を行う際、選択された画素セルにおいて、発光していない状態からスキャン電極１６とアドレス電極２１との間に放電開始電圧以上の電圧を印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の電極へと向けて移動して保護層１８の内壁に帯電し、内壁の電荷は保護層１８の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷として残留する。
【０００５】
次に、スキャン電極１６とサステイン電極１５の間に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体層２５を励起することにより、発光表示が可能になる。
【０００６】
プラズマディスプレイパネル用背面板を構成するアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体層においては、基板上に感光性ペーストを塗布または積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光、その後所望の現像液を用いて現像する方法が知られている。
【０００７】
例えば基板上にセラミック粉末と紫外線硬化型樹脂からなる感光性ペースト層を形成し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光、現像、焼成することにより隔壁を形成する方法（特許文献１）が提案されている。
【０００８】
しかしながら、フォトマスク上に異物が付着した場合、あるいはキズがあった場合、露光・現像・焼成後に得られるパターンは、その殆どにおいて断線あるいは短絡等の欠陥が発生し、歩留まりが低下するという問題があった。
【０００９】
このような問題に対し、フォトマスクの開口部の長さが、パターン層の長さより短いフォトマスクを準備し、基板またはフォトマスクを移動させながら露光する方法（特許文献２、３）が提案されている。しかしながらこの方法においては、ＰＤＰの格子状隔壁などの複雑なパターンを形成する場合、たとえ露光、現像後に良好な形状の隔壁前駆体を形成することができても、焼成時に隔壁前駆体を構成する感光性ペースト層中の有機成分が除去される際に収縮が起こるため、特に基板端部またはフォトマスクの移動方向端部で隔壁形状の不良が発生し、部材の生産性を落としたり、パネルの表示品位を低下させたりするという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平２−１６５５３８号公報
【特許文献２】特開２００４−２４００９５号公報
【特許文献３】国際公開番号ＷＯ２００６／０２５２６６Ａ１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする課題は、生産性の高いプラズマディスプレイ用部材を提供し、かつ表示品位が高いプラズマディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層を形成し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う前に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法によって解決することができる。
【００１３】
また、本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に第一の感光性ガラスペースト層を形成し、該主隔壁と該補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを用いて露光し、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う前に、該第二のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法によっても解決することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、生産性の高いプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供し、かつ表示品位が高いプラズマディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に用いる格子状の透光パターンを有するフォトマスクの左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図２】従来のプラズマディスプレイ用背面板の縦方向断面模式図である。
【図３】従来のプラズマディスプレイ用背面板の横方向断面模式図である。
【図４】本発明のプラズマディスプレイ用背面板の縦方向断面模式図である。
【図５】本発明のプラズマディスプレイ用背面板の横方向断面模式図である。
【図６】本発明に用いる第一のフォトマスクパターンの一例の左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図７】本発明に用いる第一のフォトマスクパターンの他の例の左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図８】本発明に用いる第一のフォトマスクパターンの他の例の左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図９】本発明に用いる第一のフォトマスクパターンの他の例の左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図１０】本発明に用いる第一のフォトマスクパターンの他の例の左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図１１】本発明に用いる第一のフォトマスクパターンの他の例の左上部におけるパターンを示す模式図である。
【図１２】プラズマディスプレイパネルの１つの画素の構成の例を模式的に示した斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層を形成し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法である（本発明の第一の態様）。
【００１７】
特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行うことによって、フォトマスク上に異物が付着した場合やキズがあった場合であっても、断線や短絡等といった欠陥の発生を抑制し、生産性良くプラズマディスプレイ部材を製造することが出来る。
【００１８】
該フォトマスク移動動作における移動距離は、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であるが、なかでも等倍であることが好ましい。等倍にすることによって、フォトマスク移動動作を行った際の位置ずれを最小限に抑えることが出来る。整数倍でない場合は、隔壁の形状の制御が困難になる。なお、本発明において、ピッチとは各パターンの中心線間の距離を指し、また、整数倍とは、必ずしも厳密に整数倍とすることが必要なわけではなく、概ね整数倍の０．９０〜１．１０倍、好ましくは０．９５〜１．０５倍の範囲内であればよい。
【００１９】
図１は、本発明に用いる格子状の透光パターンを有するフォトマスクの左上部におけるパターンを示す模式図である。このフォトマスクは、主隔壁形成用透光部３および補助隔壁形成用透光部１からなる格子状の透光パターンを有し、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部２の開口幅Ｗ２が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１よりも大きい（Ｗ１＜Ｗ２）。従来のようにＷ１＝Ｗ２とした場合、フォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させて露光動作を行うと、縦方向最外部の補助隔壁の露光量が、縦方向中央部の補助隔壁と比較して少なくなる。その結果、露光、現像を行った後の隔壁前駆体において、図２に示すように主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７の幅Ｌ２が主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁６の幅Ｌ１と比較して細くなり、これを焼成すると、図３に示すように主隔壁の収縮応力によって主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が引っ張られ、基板との接着力よりも大きな収縮応力を受けることにより、主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が基板から浮き上がってしまう。主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が基板から浮き上がると、プラズマディスプレイを作製した際に、浮き上がった部分が前面板と干渉し、前面板との間に隙間ができるため誤放電などが発生し、表示品位を落としてしまう。
【００２０】
これを解決するためには、格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部２の開口幅Ｗ２を、主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１よりも大きくする、すなわちＷ１＜Ｗ２とすることで、フォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させて露光動作を行っても、露光、現像を行った後の隔壁前駆体において、図４に示すように主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７の幅Ｌ５を太くすることが出来るので、焼成を行っても図５に示すように主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が基板から浮き上がることが無くなり、プラズマディスプレイを作製した際に表示品位を落とすことがなくなる。
【００２１】
フォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅と前記主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅との比（Ｗ２／Ｗ１）は１．１〜４．７であることが好ましく、１．１以上であれば縦方向最外部の隔壁幅を充分に太くすることが出来るので、縦方向最外部の補助隔壁が基板から浮き上がってプラズマディスプレイの表示品位を落とすことが無く、４．７以下であれば最外部補助隔壁自身の幅方向の収縮応力が大きくなり頂部が反り上がったりすることもない。
【００２２】
なお、図１にはプラズマディスプレイ用部材の左上部に相当する部分のみの透光パターンを示しているが、この部分の下側の位置においては主隔壁形成用透光部がそれぞれ直線状に延び、補助隔壁形成用透光部が等ピッチで配置されている。また、最下部における透光部パターンは図１のパターンを上下反転させたパターンとなる。さらに、図１の部分の左側の位置においては、主隔壁形成用透光部が等ピッチで配置され、補助隔壁形成用透光部がそれぞれ直線状に延びており、右端部においては図１のパターンを左右反転させたパターンとなる。
【００２３】
また、複数回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを相対移動させることから、露光の位置精度を確保するために２回の各露光動作の前に位置合わせのためのアライメント動作を行うことが好ましい。ただし、１回目の露光動作の前には基板とフォトマスクとの位置合わせのためのアライメント動作を毎回行うが、２回目の露光動作の前は１枚目でアライメント動作を行い、２枚目以降はアライメント動作を行わずに初回アライメントの結果を基にフォトマスクと基板とを一定距離相対移動させて露光動作を行うことを１サイクルとし、これを繰り返してもよい。このようにすることで露光動作の位置精度を確保し、かつ短時間で露光動作を終えることができるので、生産性を犠牲にすることもない。
【００２４】
また、本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に第一の感光性ガラスペースト層を形成し、該主隔壁と該補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを用いて露光し、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該第二のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法であってもよい（第二の態様）。
【００２５】
本発明の第二の態様においては、主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを介して露光を行う。第一のフォトマスクを介して露光を実施した後、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設けることで、第一のフォトマスクを介して露光を行った際の露光部が盛り上がるため、焼成時に高さ方向の収縮率が大きい主隔壁該補助隔壁との交差部で局所的に隔壁が低くなることを抑制することができ、主隔壁と補助隔壁との交差部で局所的に隔壁が低くなることで発生する、パネル表示した際の誤放電による表示品位の低下を防ぐことが出来る。
【００２６】
主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクの透光部パターンは特に限定されるものではなく、例えば図６に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように正方形、図７に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように長方形、図８に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように多角形、図９に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように円形、図１０に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように楕円形のいずれであっても良いが、中でも図１１に示すような菱形であることが好ましい。菱形以外の形状、例えば図６に示すように主隔壁の長手方向と補助隔壁の長手方向に平行な辺を有する正方形にした場合、格子状のパターンからはみ出した部分が焼成時に高さ方向に突出し、蛍光体層の形成を困難にしたりパネルの表示品位を落としたりすることがあるが、菱形にすることでこのような問題の発生をなくすことが出来る。
【００２７】
菱形の大きさは対角で３０〜１５０μｍが好ましく、３０μｍ以上であれば主隔壁と補助隔壁との交差部で局所的に隔壁が低くなることを抑制する効果を充分得ることが出来、１５０μｍ以下であればパターンが埋まり、蛍光体層の形成が困難になることもない。
【００２８】
なお、図１と同様、図６〜１１にはプラズマディスプレイ用部材の左上部に相当する透光部パターンのみを示しているが、図６〜１１の領域外の部分においても、同じ形状の透光部パターンが等ピッチで配置されている。
【００２９】
また、第一のフォトマスクを用いて露光を行う際、後述の第二のフォトマスクを用いて露光を行うのと同様に複数回の露光動作を行うことが出来る。該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該第一のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行う場合は、該フォトマスク移動動作における移動距離は、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることが好ましい。該第一のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と垂直に相対移動させるフォトマスク移動動作を行う場合は、該フォトマスク移動動作における移動距離は、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部のピッチの整数倍であることが好ましい。整数倍でない場合は、隔壁の形状の制御が困難になる。
【００３０】
複数回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを相対移動させることから、露光の位置精度を確保するために２回の各露光動作の前に位置合わせのためのアライメント動作を行うことが好ましい。ただし、１回目の露光動作の前には基板とフォトマスクとの位置合わせのためのアライメント動作を毎回行うが、２回目の露光動作の前は１枚目でアライメント動作を行い、２枚目以降はアライメント動作を行わずに初回アライメントの結果を基にフォトマスクと基板とを一定距離相対移動させて露光動作を行うことを１サイクルとし、これを繰り返してもよい。
【００３１】
第一のフォトマスクを用いて露光を行った後、第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、本発明の第一の態様と同様に、アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成する。この際、第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、第二のフォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に相対移動させることによって、本発明の第一の態様と同様、焼成後に主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁が基板から浮き上がることがなくなり、プラズマディスプレイを作製した際に表示品位を落とすことがなくなるという格別な効果を奏する。
【００３２】
以上の本発明の第一の態様で格子状の透光パターンを有するフォトマスクと、第二の態様で格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクとは、いずれもフォトマスクと基板とを相対移動させる際に、フォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に移動させるが、こうした場合、移動方向と平行な主隔壁では移動前後の基板とフォトマスクとの位置精度が確保しやすく、主隔壁の幅のバラツキを小さくすることが出来る。主隔壁の幅のバラツキが小さければ蛍光体層形成を困難にすることが無く、プラズマディスプレイ用部材の生産性を落とすこともない。一方、フォトマスクと基板とをアドレス電極と垂直方向に相対移動させるフォトマスク移動動作を行った場合、移動方向と垂直な主隔壁では移動前後の基板とフォトマスクとの位置精度を確保しにくいために、主隔壁のバラツキが大きくなり、蛍光体層形成を困難にするために、プラズマディスプレイ用部材の生産性を落としてしまうことがある。同様にアドレス電極と平行または垂直以外の方向にフォトマスク移動動作を行った場合も主隔壁の幅のバラツキが大きくなるため、蛍光体層塗布が困難となりプラズマディスプレイ部材の生産性を落とす可能性がある。
【００３３】
第一の態様で格子状の透光パターンを有するフォトマスクと、第二の態様で格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクは、図１に示すように主隔壁形成用透光部が主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部よりも主隔壁形成用透光部の長手方向に突出していることが好ましく、かつ主隔壁形成用透光部の長手方向の長さが主隔壁の長手方向の長さより長い、すなわち隔壁を形成するために設ける感光性ガラスペースト層の縦方向の長さよりも長いことが好ましい。主隔壁形成用透光部を主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部よりも突出させ、かつ主隔壁形成用透光部の長手方向の長さを主隔壁の長手方向の長さより充分長くすることで、格子状の透光パターンを有するフォトマスクを用いて行う全ての露光動作において、現像後に主隔壁の前駆体となるパターンの長手方向全域で露光が行われるため、フォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に相対移動させても主隔壁長手方向端部で露光不足になることがなく、主隔壁端部が現像後剥がれたりすることを防ぐことが出来る。
【００３４】
第一の態様で格子状の透光パターンを有するフォトマスクと、第二の態様で格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクとは、補助隔壁形成用透光部が補助隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部よりも突出しないことが好ましい。補助隔壁形成用透光部が補助隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部よりも突出すると、補助隔壁の焼成収縮応力によって補助隔壁の補助隔壁長手方向端部が引っ張られ、基板から浮き上がってしまう。補助隔壁の補助隔壁長手方向端部が基板から浮き上がると、プラズマディスプレイを作製した際に、浮き上がった部分が前面板と干渉し、前面板との間に隙間ができるため誤放電などが発生し、表示品位を落としてしまう場合がある。
【００３５】
以下、本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法について説明する。
【００３６】
本発明においてプラズマディスプレイ用部材に用いる基板としては、ソーダガラスなどを用いることができ、具体的にはプラズマディスプレイ用の耐熱ガラスである旭硝子（株）製のＰＤ２００や日本電気硝子（株）製のＰＰ８などが挙げられる。
【００３７】
基板上には、銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりストライプ状のアドレス電極が形成される。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷し、４００〜６００℃に加熱・焼成して金属パターンを形成する方法や、金属粉末と感光性有機成分を含む感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光後、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに４００〜６００℃に加熱、焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属をスパッタリングした後にレジストを塗布し、レジストをパターン露光、現像した後にエッチングにより不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることもできる。電極厚みは１．０〜１０μｍが好ましく、１．５〜５μｍがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要とされ、コスト的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは３０〜２４０μｍ、より好ましくは３５〜１５０μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣り合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のプラズマディスプレイでは１００〜５００μｍ、高精細プラズマディスプレイにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成するのが好ましい。
【００３８】
前記アドレス電極を被覆して、誘電体層が形成される。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストを、アドレス電極を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成することができる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０質量％含有する低融点ガラス粉末を好ましく用いることができる。該配合物を１０質量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０質量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。
【００３９】
上記低融点ガラス粉末と有機バインダーを混練してペーストを作成する。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。低融点ガラス粉末以外に軟化温度が高く焼成時に軟化しないフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径が０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの質量比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量を重量比でガラス粉末含有量の１０分の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることができる。また、ガラス粉末の含有量の同量以下とすることで、焼結性を保つことができる。
【００４０】
また、誘電体層に用いるガラスペーストに導電性微粒子を添加することにより駆動時の信頼性の高いプラズマディスプレイを作成することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径は１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑えることができ、誘電体層上での後述の隔壁の形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０質量％が好ましい。０．１質量％以上とすることで導電性を得ることができ、１０質量％以下とすることで、横方向の隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。
【００４１】
次に、本発明における主隔壁および補助隔壁の形成方法について説明する。主隔壁および補助隔壁は、感光性ペースト法（フォトリソグラフィー法）によりパターンを形成し、焼成することで形成される。
【００４２】
以下に感光性ペースト法について、詳述する。
【００４３】
感光性ペースト法で用いる隔壁形成用感光性ペーストは、無機微粒子と感光性有機成分を主成分とし、必要に応じて光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を含有する。
【００４４】
隔壁形成用感光性ペーストの無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。
【００４５】
無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積分布曲線における５０％粒子径が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。体積分布曲線における５０％粒子径を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において特に好ましい。
【００４６】
主隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃の低融点ガラス微粒子を６０質量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃より高い高融点ガラス微粒子やセラミック微粒子からなるフィラー成分を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、無機微粒子の合計量に対して４０質量％以下が好ましい。低融点ガラス微粒子としては、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０−７〜９０×１０−７Ｋ−１、さらには、６０×１０−７〜９０×１０−７Ｋ−１の低融点ガラス微粒子を用いることが好ましい。
【００４７】
低融点ガラス微粒子としては、ケイ素および／またはホウ素の酸化物を含有したガラスが好ましく用いられる。
【００４８】
酸化ケイ素は、３〜６０質量％の範囲で配合されていることが好ましい。３質量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板との熱膨張係数の差によるそり発生の問題を防ぐことができる。また、６０質量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００４９】
酸化ホウ素は、５〜５０質量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０質量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。
【００５０】
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０質量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０質量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成をからなるガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化ビスマス：１０〜４０質量％
酸化ケイ素：３〜５０質量％
酸化ホウ素：１０〜４０質量％
酸化バリウム：８〜２０質量％
酸化アルミニウム：１０〜３０質量％
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０質量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０質量％以下、好ましくは、１５質量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化リチウム：２〜１５質量％
酸化ケイ素：１５〜５０質量％
酸化ホウ素：１５〜４０質量％
酸化バリウム：２〜１５質量％
酸化アルミニウム：６〜２５質量％
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ金属含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
【００５１】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０質量％以下が好ましく、より好ましくは２５質量％以下である。
【００５２】
感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類を含有することが好ましい。
【００５３】
感光性モノマーは、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などのアクリル系モノマーを用いることが好ましい。これらは１種または２種以上使用することができる。
【００５４】
感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有するモノマーのうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。好ましくは上記アクリル系モノマーのうち少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーであって、前記モノマーの含有率が、１０質量％以上、さらに好ましくは３５質量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマー、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。
【００５５】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５質量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。
【００５６】
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５質量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１質量％である。添加量が前記範囲より少ないと、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、前記範囲より多いと、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。
【００５７】
増感剤は、感度を向上させるために好ましく添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％である。増感剤の量が前記範囲より少ないと感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が前記範囲より多いと、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。
【００５８】
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００５９】
隔壁形成用感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。次いで感光性ペーストの塗布、乾燥、露光、現像等を行う。
【００６０】
隔壁形成用感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。
【００６１】
また、塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ（赤外線）炉などを用いることができる。
【００６２】
露光で使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。
【００６３】
ここで、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離（以下ギャップ量という）は５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップ量を５０μｍ以上、さらに好ましくは７０μｍ以上とすることにより、感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下、さらに好ましくは４００μｍ以下とすることにより、シャープなパターニングが可能となる。
【００６４】
現像は、露光部と非露光部の現像液に対する溶解度差を利用して行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。
【００６５】
現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分、すなわち、ネガ型感光性ペーストの場合は露光前の感光性有機成分が、ポジ型感光性ペーストの場合は露光後の有機成分が溶解可能である溶液を用いる。溶解させたい有機成分にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像することができる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などの無機アルカリ水溶液を使用することが好ましいが、有機アルカリ水溶液を用いることもできる。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されにくい傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、非可溶部を腐食させたりする傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６６】
次に、現像により得られた主隔壁及び補助隔壁のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。
【００６７】
次いで所定のアドレス電極と平行方向に形成された主隔壁間に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。
【００６８】
蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストに前述の感光性有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができるが、コストの理由からスクリーン印刷法、ディスペンサー法が本発明では好ましく適用される。
【００６９】
赤色蛍光体層の厚みをＴｒ（μｍ）、緑色蛍光体層の厚みをＴｇ（μｍ）、および青色蛍光体層の厚みをＴｂ（μｍ）としたとき、式（２）および（３）を満たすことが好ましい。
１０≦Ｔｒ≦Ｔｂ≦５０        （２）、
１０≦Ｔｇ≦Ｔｂ≦５０        （３）
つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランスに優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とすることで充分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ以下とすることで、放電空間を広くとり高い輝度を得ることができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う主隔壁および隣り合う補助隔壁の中間点での焼成後の厚みとして測定する。つまり、放電空間（主隔壁、補助隔壁によって囲まれた画素セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとして測定する。
【００７０】
塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４００〜５５０℃で焼成することにより、背面板を作製することができる。
【００７１】
この背面板を用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護層を形成した部材である。背面板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。
【実施例】
【００７２】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
【００７３】
まず、評価方法について説明する。隔壁の形成不良については背面板で評価を実施、誤放電についてはプラズマディスプレイパネルで評価を実施した。
＜隔壁形成不良＞
作製した背面板を透過光にて目視確認し、隔壁パターンの断線、剥がれの有無を調べ、以下基準で判定した。
【００７４】
○：断線、剥がれなし（良品レベル）
×：断線または剥がれあり（不良品レベル）
＜誤放電＞
作製したＰＤＰのスキャン電極に１４０Ｖ、サステイン電極に２００Ｖ、アドレス電極に７０Ｖの電圧を印加してＲ、Ｇ、Ｂを単色で順に点灯させた。誤放電のために点灯させていないはずの色（Ｒ点灯時はＧとＢ、Ｇ点灯時はＢとＲ、Ｂ点灯時はＲとＧ）で点灯したセルの個数を数え、以下基準で判定した。
【００７５】
○：誤点灯セル数が１パネルあたり５個以下（良品レベル）
△：誤点灯セル数が１パネルあたり６〜１０個（やや劣るが良品レベル）
×：誤点灯セル数が１パネルあたり１１個以上（不良品レベル）
次に、形成方法を順に説明する。
（実施例１、比較例１、２）
ガラス基板として、５９０×９６４×１．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を使用した。この基板上に、書き込み電極として、平均粒径２．０μｍの銀粉末を７０重量部、Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３＝６９／２４／４／３（質量％）からなる平均粒径２．２μｍのガラス粉末２重量部、アクリル酸、メチルメタクリレート、スチレンの共重合ポリマー８重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート７重量部、ベンゾフェノン３重量部、ブチルカルビトールアクリレート７重量部、ベンジルアルコール３重量部からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィー法により、ピッチ２４０μｍ、線幅１００μｍ、焼成後厚み３μｍのストライプ状電極を形成した。
【００７６】
この基板に、Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３＝７８／１４／３／３／２（質量％）からなる体積平均粒子径２μｍの低融点ガラス微粒子を６０重量部、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量部、エチルセルロース１５重量部、テルピネオール１５重量部からなる誘電体ペーストを塗布した後、５８０℃で焼成して、厚み１０μｍの誘電体層を形成した。
【００７７】
隔壁形成用の感光性ペーストは以下の成分を配合、分散して用いた。
ガラス粉末：Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３＝８２／６／３／６／３（質量％）からなる平均粒径２μｍのガラス粉末  ６７重量部
フィラー：平均粒径０．２μｍの酸化チタン  ３重量部
ポリマー：”サイクロマー”Ｐ（ＡＣＡ２５０、ダイセル化学工業社製）  １０重量部
有機溶剤（１）：ベンジルアルコール  ４重量部
有機溶剤（２）：ブチルカルビトールアセテート  ３重量部
モノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ８重量部
光重合開始剤：ベンゾフェノン  ３重量部
酸化防止剤：１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］  １重量部
有機染料：ベージックブルー２６  ０．０１重量部
チキソトロピー付与剤：Ｎ，Ｎ’−１２−ヒドロキシステアリン酸ブチレンジアミン：０．５重量部
界面活性剤：ポリオキシエチレンセチルエーテル：０．４９重量部。
【００７８】
隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い、塗布膜を形成し、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ１（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光を行った（露光動作２）。フォトマスクは図１１に示したパターンを有したものを使用した。その上に、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所望の格子状パターンを有する第二のフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ２（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光を行った（露光動作２）。フォトマスクは図１に示したパターンを有したものを使用した。
【００７９】
また、第一のフォトマスクを用いた露光、第二のフォトマスクを用いた露光ともにフォトマスクとのギャップを１５０μｍとし、露光動作１と露光動作２で積算露光量の和が４００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を実施した。
【００８０】
第一のフォトマスクの移動距離Ｓ１（μｍ）、第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部のピッチ（μｍ）、開口幅（μｍ）、主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部とそれに隣り合う補助隔壁形成用透光部とのピッチＰｍ（μｍ）、主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ２（μｍ）、隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１（μｍ）、移動距離Ｓ２（μｍ）を表１に示す。
【００８１】
上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁とそれに隣り合う補助隔壁とのピッチＰｋ（μｍ）、主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）、主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）の測定結果を表１に示す。
【００８２】
形成された隔壁間に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法により塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。
【００８３】
次に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、ガラス基板として５９０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を用い、このガラス基板上にＩＴＯをスパッタ法で形成後、レジスト塗布し、露光、現像処理、エッチング処理によって厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み５μｍのスキャン電極とサステイン電極を形成した。電極はそれぞれピッチ５００μｍ、線幅８０μｍのものを作製した。
【００８４】
次に、酸化鉛を７５質量％含有する低融点ガラスの粉末を７０重量部、エチルセルロース２０重量部、テルピネオール１０重量部を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃、１５分間の焼成を行って前面誘電体を形成した。
【００８５】
誘電体を形成した基板上に、保護膜として、電子ビーム蒸着により厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層を形成して前面板を作製した。
【００８６】
作製した前面板と背面板とを封着ガラスを用いて封着して、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入し、駆動回路を実装することによりプラズマディスプレイパネルを作製した。
【００８７】
評価結果を表１に示す。実施例１では生産性良く、表示品位も高いプラズマディスプレイパネルを得ることができたが、比較例１、２では生産性と表示品位とでいずれかが劣っている結果となった。
（実施例２）
実施例１、比較例１、２の場合と同様にして、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い、その上に、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所望の格子状パターンを有するフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ２（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光を行った（露光動作２）。フォトマスクは図１に示したパターンを有したものを使用した。
【００８８】
また、フォトマスクを用いた露光ともにフォトマスクとのギャップを１５０μｍとし、露光動作1と露光動作２で積算露光量の和が４００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を実施した。
【００８９】
フォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部とそれに隣り合う補助隔壁形成用透光部とのピッチＰｍ（μｍ）、主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ２（μｍ）、隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１（μｍ）、移動距離Ｓ２（μｍ）を表１に示す。
【００９０】
上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁とそれに隣り合う補助隔壁とのピッチＰｋ（μｍ）、主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）、主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）の測定結果を表１に示す。
【００９１】
蛍光体層形成、前面板の作製、パネルの作製は実施例１、比較例１、２の場合と同様にして実施した。評価結果を表１に示す。実施例２ではやや表示品位に劣るものの、製品として不良になることはなかった。
【００９２】
【表１】
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【符号の説明】
【００９３】
１：補助隔壁形成用透光部
２：主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部
３：主隔壁形成用透光部
４：主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部
５：主隔壁
６：補助隔壁
７：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁
８：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁に隣り合う補助隔壁
１４：ガラス基板
１５：サステイン電極
１６：スキャン電極
１７：誘電体層
１８：保護層
１９：前面板
２０：ガラス基板
２１：アドレス電極
２２：誘電体層
２３：主隔壁
２４：補助隔壁
２５：蛍光体層
２６：背面板
Ｐｋ：補助隔壁のピッチ
Ｌ１：補助隔壁の幅
Ｌ２：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅
Ｌ３：補助隔壁の幅
Ｌ４：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁に隣り合う補助隔壁の幅
Ｌ５：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅
Ｐｍ：フォトマスクの補助隔壁形成用透光部のピッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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