(57)【要約】【課題】特にＶＡモード液晶表示装置における斜め視野角における色ズレを、簡単な構成で緩和することのできるカラーフィルタ基板の提供。【解決手段】基板上にカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板であって、前記光学異方性層の複屈折異方性が二軸性であり、前記光学異方性層は全領域において組成及び膜厚が均一であってもよいカラーフィルタ基板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板であって、
前記光学異方性層の複屈折異方性が二軸性であるカラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記光学異方性層が全領域において、組成及び膜厚が均一である請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項３】
前記光学異方性層が重合性液晶化合物を含む液晶組成物から形成された層である請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項４】
前記カラーフィルタ層が２色以上の画素を含み、前記光学異方性層の位相差が、前記画素が示す色に対応する前記光学異方性層の領域ごとに異なっている請求項１〜３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項５】
前記光学異方性層が逆波長分散性である請求項１〜３のいずれか一項に記載に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板を含む液晶表示装置。
【請求項７】
配向モードがＶＡモードもしくはＩＰＳモードである請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
基板上に２色以上の画素を含むカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板上又は、前記基板と前記カラーフィルタ層とを含む層上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物からなる層を形成する工程、
該液晶組成物をコレステリック配向させる工程、及び
該液晶組成物に偏光照射して二軸性の複屈折異方性を発現させる工程を含み、
前記偏光の照射量及び／又は照度が、前記画素が示す色に対応する前記光学異方性層の領域ごとに異なっている製造方法。
【請求項９】
基板上に２色以上の画素を含むカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板上又は、前記基板と前記カラーフィルタ層とを含む層上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物からなる層を形成する工程、
該液晶組成物をコレステリック配向させる工程、及び
該液晶組成物に偏光照射して二軸性の複屈折異方性を発現させる工程を含み、
さらに、前記液晶組成物として、逆波長分散性を示す組成物を選択する工程を含む
製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二軸性光学異方性層を有するカラーフィルタ基板に関する。本発明はさらに、前記カラーフィルタ基板を含む液晶表示装置、及び前記カラーフィルタ基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置として、種々のモードの液晶表示装置が提案されている。中でも広視野角モードとして全方位にわたり広いコントラスト視野角特性を有するＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モードおよびＩＰＳ（Ｉｎ−ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードは、テレビ用途として既に家庭に普及しており、近年５０インチを超える大サイズディスプレイも登場してきた。
【０００３】
現在、液晶表示装置の黒表示時の斜め方向に生じる光漏れ及び色ズレを改良するために視野角補償用位相差フィルムが適用されている。ＶＡモードを光学補償する方式として、正のａ−ｐｌａｔｅと負のｃ−ｐｌａｔｅの２枚型、二軸プレート１枚型、二軸プレート２枚型などの様々な方式が、また、ＩＰＳモードでは、負のａ−ｐｌａｔｅ層と負のｃ−ｐｌａｔｅ層の２枚型、正のａ−ｐｌａｔｅ層と正のｃ−ｐｌａｔｅ層の２枚型、二軸プレート１枚型、二軸プレート２枚型などの様々な方式が提案されている。
【０００４】
しかし、位相差フィルムは粘着剤を介して偏光板とある特定の角度をなすように貼り合わせて用いられるため、偏光板、位相差フィルムと比較して屈折率の小さい粘着剤界面において界面反射に起因するコントラスト低下が生じてしまう。また、位相差フィルムは温湿度による寸度変化を起こしてしまうため、ＬＣＤのコーナームラも問題視されている。これを解決するために、カラーフィルタ層などを有する液晶セル基板に光学異方性層を設ける方法が提案されている。そして、例えば特許文献１においては、カラーフィルタ層を有する液晶セル基板において、ａ−ｐｌａｔｅ光学異方性層を設け、該光学異方性層の複屈折の波長依存性、すなわち複屈折波長分散をカラーフィルタ層のＲ、Ｇ、Ｂに対応させて最適化する試みがなされている。しかし、ＶＡモード液晶表示装置は１層のａ−ｐｌａｔｅ光学異方性層のみでは十分な光学補償を行うことはできない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２２５４３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、液晶表示装置における斜め視野角における色ズレを緩和することのできるカラーフィルタ基板及び該カラーフィルタ基板を有する液晶表示装置を提供することを課題とする。本発明は、特にＶＡモード液晶表示装置における斜め視野角における色ズレを、簡単な構成で緩和することのできるカラーフィルタ基板及び該カラーフィルタ基板を有する液晶表示装置を提供することを課題とする。また、本発明は、前記カラーフィルタ基板を容易に製造可能な方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題の解決のため鋭意研究を行った結果、特にＶＡ−ＬＣＤに最適の光学補償を色別に行う機能を有する層を簡便な方法でカラーフィルタ基板に設けることができることを見出し、この知見を元に本発明を完成させた。
前記課題を解決するための手段は、以下［１］〜［９］の通りである。
【０００８】
［１］基板上にカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板であって、
前記光学異方性層の複屈折異方性が二軸性であるカラーフィルタ基板。
［２］前記光学異方性層が全領域において、組成及び膜厚が均一である［１］に記載のカラーフィルタ基板。
［３］前記光学異方性層が重合性液晶化合物を含む液晶組成物から形成された層である［１］または［２］に記載のカラーフィルタ基板。
【０００９】
［４］前記カラーフィルタ層が２色以上の画素を含み、前記光学異方性層の位相差が、前記画素が示す色に対応する前記光学異方性層の領域ごとに異なっている［１］〜［３］のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
［５］前記光学異方性層が逆波長分散性である［１］〜［３］のいずれか一項に記載に記載のカラーフィルタ基板。
［６］［１］〜［５］のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板を含む液晶表示装置。
［７］配向モードがＶＡモードもしくはＩＰＳモードである［６］に記載の液晶表示装置。
【００１０】
［８］基板上に２色以上の画素を含むカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板上又は、前記基板と前記カラーフィルタ層とを含む層上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物からなる層を形成する工程、
該液晶組成物をコレステリック配向させる工程、及び
該液晶組成物に偏光照射して二軸性の複屈折異方性を発現させる工程を含み、
前記偏光の照射量及び／又は照度が、前記画素が示す色に対応する前記光学異方性層の領域ごとに異なっている製造方法。
【００１１】
［９］基板上に２色以上の画素を含むカラーフィルタ層及び光学異方性層を含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板上又は、前記基板と前記カラーフィルタ層とを含む層上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物からなる層を形成する工程、
該液晶組成物をコレステリック配向させる工程、及び
該液晶組成物に偏光照射して二軸性の複屈折異方性を発現させる工程を含み、
さらに、前記液晶組成物として、逆波長分散性を示す組成物を選択する工程を含む
製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、液晶表示装置における斜め視野角における色ズレを緩和することのできる二軸性光学異方性層を有するカラーフィルタ基板が提供される。本発明のカラーフィルタ基板は、特に、ＶＡモード液晶表示装置の色ズレを簡単な構成で緩和することができる。当該二軸性光学異方性層に重合性液晶化合物と重合開始剤とを含む液晶組成物を用いることによって前記カラーフィルタ基板を容易に製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書においては、重合体との用語は、１種類のモノマーからなる重合体のほか、２種類以上のモノマーからなるいわゆる共重合体も含む趣旨で用いられる。
【００１４】
なお、本明細書において、ある官能基について「置換基を有していてもよい」という場合には、その官能基が１又は２以上の置換基を有する場合があることを示しているが、特に言及しない場合には、結合する置換基の個数、置換位置、及び種類は特に限定されない。ある官能基が２個以上の置換基を有する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。また、置換基が例示されるときは、例示される置換基がさらに同一の又は別の例示される置換基で置換されていてもよい。
【００１５】
また、本明細書において、「アルキル基」という場合には、特に言及のない場合、直鎖状又は分岐状のアルキル基であればよく、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。アルキル基を含む他の基（例えばアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルキル基等）においても同様である。
また、本明細書において、「ハロゲン原子」という場合にはフッ素、塩素、臭素、又はヨウ素のいずれでもよい。
【００１６】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器株式会社製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１１）及び式（１２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１７】
【数１】
2011095390.tif 000002
注記：上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表し、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００１８】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記の測定において、平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００１９】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。ただし、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
【００２０】
また、本明細書において、「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。更に、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。更に、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、波長５５０ｎｍを指す。また、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００ｎｍ〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００２１】
以下、本発明のカラーフィルタ基板について、材料、製造方法等を、詳細に説明する。ただし、本発明はこの態様に限定されるものではなく、他の態様についても、以下の記載及び従来公知の方法を参考にして実施可能であって、本発明は以下に説明する態様に限定されるものではない。
【００２２】
［基板］
本発明のカラーフィルタ基板における基板は、透明であれば特に限定はなく、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板でも、ポリマーからなる透明基板でもよい。基板は、耐熱性を有することが好ましい。そのような耐熱性基板としては、ガラス板もしくはポリイミド、ポリエーテルスルホン、耐熱性ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、特に価格、透明性、耐熱性の観点からガラス板が好ましい。また、基板は、予めカップリング処理を施しておいてもよい。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、１００〜１２００μｍが一般的に好ましく、３００〜１０００μｍが特に好ましい。
【００２３】
［カラーフィルタ層］
カラーフィルタ層は、特定の色を示す（すなわち可視光領域において、吸収極大波長を有する）層であればよい。
カラーフィルタ層は、特定の色を示す領域である画素を２つ以上有していることが好ましい。一般的には、カラーフィルタ層は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の色の画素を含むカラーフィルタ層であればよい。Ｒ、Ｇ、Ｂに加えてさらに、Ｗ（白）の画素を含むカラーフィルタ層であってもよい。さらに、シアン、マゼンダ、イエローの画素を含むカラーフィルタ層であってもよい。
カラーフィルタ層としては、市販のカラーフィルタ層を用いてもよい。また、特開2008-76690号公報に記載のインクジェット法などを用いて、作製することもできる。このような例では、隔壁により囲まれた凹部には、カラーフィルタ層の一部である層とともに、後述の光学異方性層を設けることもできる。このとき、両者の位置は特に限定されず、カラーフィルタ層が上部にあってもよく、光学異方性層が上部にあってもよい。
【００２４】
［光学異方性層］
本発明のカラーフィルタ基板は光学異方性層を有する。本発明のカラーフィルタ基板における光学異方性層は当該層の全領域で均一の膜厚を有していることができる。すなわち、光学異方性層として実質的に機能する領域の最大膜厚と最小膜厚の差異が平均膜厚の５％以内、好ましくは３％以内、より好ましくは１％以内であることができる。また、本発明のカラーフィルタ基板の光学異方性層は当該層の全領域で同一の組成を有していることができる。
本発明のカラーフィルタ基板は光学異方性をカラーフィルタ層のＲ、Ｇ、Ｂに対応して適性化できる構造を有している。しかし、光学異方性を適性化させるために、本発明のカラーフィルタ基板における光学異方性層が、カラーフィルタ層のＲ、Ｇ、Ｂに対応して異なる膜厚を有している必要はなく、また、カラーフィルタ層のＲ、Ｇ、Ｂに対応して異なった組成を有している必要もない。さらに、本発明のカラーフィルタ基板における光学異方性層はカラーフィルタ層のＲ、Ｇ、Ｂに対応する領域ごとにブラックマトリックス等の隔壁で分割されていることを要しない。
【００２５】
[二軸性光学異方性層]
本発明のカラーフィルタ基板は光学異方性層は二軸性光学異方性層である。二軸性光学異方性層とは複屈折異方性が二軸性である光学異方性層である。二軸性光学異方性層は、面内レターデーションが発現しているので、例えば二軸性フィルムに要求される特性を満足し得る。二軸性光学異方性層は、特にＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に適する。二軸性光学異方性層は、一般的には、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚが全て異なるものと理解されている。一例としては、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満足する光学特性を示すものが挙げられる。
【００２６】
また、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）は、２０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍが特に好ましい。なお、Ｒｅは、値が大きい方が、二軸性が高いことを表すパラメーターである。
【００２７】
また、光学異方性層は、反射波長４００ｎｍ未満、及び３８０〜７８０ｎｍの波長の光に対して実質的に透明であることが好ましい。たとえば、光学異方性膜の作成にコレステリック液晶材料を用いる場合、光学異方性膜の透明性は、用いる液晶材料の屈折率とらせんのピッチとで定まる。らせんのピッチは、カイラル剤の添加量に比例し、多く添加するとピッチも拡がることになる。反射波長は、液晶材料の屈折率とらせんのピッチとの積であるので、液晶材料の屈折率に従ってカイラル剤の添加量を調整することにより、反射波長の値を決定することができる。
【００２８】
光学異方性層は二軸性の光学異方性を示す限りどのように形成されたものであってもよいが、重合性液晶化合物を含む層から形成された層であることが好ましい。たとえば重合性棒状液晶性化合物分子を、コレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向させ、偏光照射によって歪ませることによって二軸性を発現させることができる。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８）のほか、特定の重合開始剤を用いる方法が挙げられる。
【００２９】
［重合開始剤］
二軸性を発現させるために使用できる重合開始剤の例としては、ＥＰ１３８９１９９  Ａ１に記載の二色性液晶性重合開始剤が挙げられる。
また、たとえば、下記の一般式（１）で表されるオキサジアゾール化合物を用いることもできる。下記の一般式（１）で表されるオキサジアゾール化合物を含む液晶組成物は偏光照射によって好ましい光学的二軸性を示す光学異方性膜を形成する。下記の一般式（１）で表されるオキサジアゾール化合物は通常の空気雰囲気下において高い重合反応性を示すため、耐熱性が改善された光学異方性層を形成することができる。
【００３０】
【化１】
2011095390.tif 000003
【００３１】
一般式（１）中、Ｘ1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、モノハロメチル基、ジハロメチル基、又はトリハロメチル基のいずれかを表す。Ｘ1は、より好ましくはモノハロメチル基、ジハロメチル基、又はトリハロメチル基であり、さらに好ましくはトリハロメチル基である。
Ｙ1、Ｙ2はそれぞれ独立に、下記のいずれかの2価の連結基を表す。
【００３２】
【化２】
2011095390.tif 000004
【００３３】
上記のうち、Ｙ1、Ｙ2としては、エテニレン基、エチニレン基、又はアミドの２価の連結基がより好ましく、エテニレン基又はアミドの２価の連結基がさらに好ましい。
【００３４】
Ｂ1、Ｂ2はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香環を表す。該芳香環は複素環であってもよい。また、置換基としては、ハロゲン原子、シアノ原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルキルエステル基、アルキルアミド基、アリール基（好ましくは炭素数6〜１０のアリール基）などの置換基が挙げられる。前記芳香環としては、ベンゼン環が好ましく、Ｂ1は1，4−フェニレン基であることが好ましく、Ｂ2はフェニル基であることが好ましい。
【００３５】
また、ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ独立に０、１、２いずれかの整数を表す。
【００３６】
一般式（１）で表されるオキサジアゾール化合物は、例えば米国特許第４２１２９７０号明細書に記載の方法で合成することができる。
以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に何ら限定されるものではない。
【００３７】
【化３】
2011095390.tif 000005
【００３８】
［その他の重合開始剤］
液晶組成物は、上記以外の化合物を重合開始剤として含んでいてもよい。例えば重合反応の調節のために、その他の開始剤や増感剤を含んでいてもよい。
例えば、液晶組成物は、光によりカチオン種を発生する光カチオン開始剤を含んでいてもよい。採用する光カチオン開始剤としては、一般的なスルホニウム塩系光カチオン開始剤、あるいはヨードニウム塩系光カチオン発生剤を用いることができる。具体的には、市販の光カチオン開始剤、サイキュラーＵＶＩ−６９９０（ダウケミカル製）、サイキュラーＵＶＩ−６９７４（ダウケミカル製）、アデカオプトマー  ＳＰ−１５０（アデカ製）、アデカオプトマー  ＳＰ−１５２（アデカ製）、アデカオプトマー  ＳＰ−１７０（アデカ製）、イルガキュア２５０（チバ・ジャパン製）等を用いることができる。
【００３９】
例えば、液晶組成物は、熱により酸を発生する熱酸発生剤を含んでいてもよい。熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が１００℃〜２３００℃、好ましくは１５０℃〜２５０℃の範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。熱酸発生剤は保存経時中や液晶組成物を塗布した後の乾燥工程や熟成工程では分解せず、コレステリック配向を変形後の加熱硬化工程で速やかに分解するものが好ましい。従って熱分解点としては１００℃〜３００℃が好ましく、１２０℃〜２５０℃がより好ましく、１５０℃〜２５０℃が更に好ましい。
熱酸発生剤としては、露光により酸を発生する光酸発生剤の適用も可能である。例えばＮ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物やベンゼンスルホネート等を挙げることができる。
具体的には、市販の熱酸発生剤、ＮＢ−２０１（みどり化学）、ＳＩ−１０１（みどり化学）、ＰＩ−１０５（みどり化学）等を用いることができる。
【００４０】
本発明の液晶組成物は、増感剤として、光増感剤を含んでいてもよい。具体的には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラー氏ケトン、チオキサントン等を挙げることができる。
【００４１】
［液晶化合物］
液晶組成物は、少なくとも１種の重合性液晶化合物を含有する。一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物とに分類できるが、本発明では棒状液晶化合物を用いることが好ましい。液晶化合物は２種類以上の液晶化合物の混合物でもよいが、優れた耐熱性を持たせるためには、１液晶分子中の重合性基が２個以上ある重合性液晶化合物を少なくとも１種含むことがさらに好ましい。重合性基が２個以上ある重合性液晶化合物中の２個以上の重合性基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
重合性基の例を以下に示す。
【００４２】
【化４】
2011095390.tif 000006
【００４３】
上記重合性基としてはアクリロイル基が特に好ましい。
液晶組成物において、含まれる液晶化合物の総質量に対する２個以上の重合性基を有する重合性液晶化合物の割合は、７５質量％〜１００質量％であることが好ましく、８０質量％〜１００質量％であることがより好ましい。
【００４４】
なお、本発明に用いる液晶化合物は、光学活性化合物の存在下で、コレステリック配向可能な液晶化合物であればよい。このとき、液晶化合物そのものが、光学活性体である必要はなく、アキラルな液晶化合物を利用することができる。光学異方性膜の製造過程において、光学特性発現の制御が容易である等の観点から、本発明では、アキラルな液晶化合物を利用することが好ましい。同様の観点から、本発明では、光異性化基や光２量化基などの官能基を含まない液晶化合物を利用することが好ましい。
【００４５】
低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。上記高分子液晶化合物は、低分子の重合性基を有する棒状液晶化合物が重合した高分子化合物であればよい。
【００４６】
棒状液晶化合物としては、例えば、特開２００９−６９７９３号公報の段落［００６５］から段落［００７１］で説明される棒状液晶化合物を用いることができる。
以下に、棒状液晶化合物の例を示す。
【００４７】
【化５】
2011095390.tif 000007
【００４８】
【化６】
2011095390.tif 000008
【００４９】
【化７】
2011095390.tif 000009
【００５０】
【化８】
2011095390.tif 000010
【００５１】
【化９】
2011095390.tif 000011
【００５２】
【化１０】
2011095390.tif 000012
【００５３】
上記例示化合物のうち、Ｉ−１，Ｉ−２，Ｉ−３，Ｉ−１０，Ｉ−１１，又はＩ−１２が好ましく、Ｉ−２が特に好ましい。
【００５４】
［逆波長分散性を示す液晶化合物］
1種又は2種以上の液晶化合物を含む液晶組成物として、逆波長分散性を示すものであってもよい。本明細書において、逆波長分散性とは、可視光領域での位相差（複屈折異方性）が、波長が短くなるほど小さいことを意味する。
逆波長分散性を示す液晶化合物を用いて光学異方性層を形成することによって、均一の組成及び／又は膜厚を有する光学異方性層であっても、カラーフィルタ層が示すそれぞれの色に対して適した光学補償が可能である。例えば、後述のようなパターン偏光露光を行わなくても、各色に対応する光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性に調整することができる。
逆波長分散性を示す液晶化合物としては、例えば特開２００８−２７３９２５号公報に記載の化合物を用いることができる。
【００５５】
１−３．カイラル剤
コレステリック配向を形成させるために、前記液晶組成物にカイラル剤を添加することが好ましい。得られたコレステリック配向のコレステリックピッチは、カイラル剤の種類と添加量で調節することができる。コレステリックピッチを小さくするためには、できる限りヘリカルツイスティングパワーの大きいカイラル剤を選択し、カイラル剤の添加量を増やす必要がある。カイラル剤を大量に添加できるようにするためには、カイラル剤が少なくとも１つの重合性基を有していることが好ましい。重合性基としては、エチレン不飽和基が好ましく、特にアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基が好ましい。具体的には、ＥＰ１３８８５３８ Ａ１ ｐａｇｅ １６、１７に記載のカイラル剤を好ましく用いることができる。
【００５６】
［その他添加剤］
液晶組成物は、重合開始剤、前記液晶化合物、および任意で含まれる前記カイラル剤以外に、配向剤、等の添加剤を含有していてもよい。
配向剤：
本発明の液晶組成物は、液晶化合物の配向性改善のために、配向剤を含有していてもよい。例えば、特開２００７−１２１９８６号公報の［００６８］〜［００７２］に記載の一般式（１）〜（３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶化合物を実質的に水平配向させることができ、前記カイラル剤と併用することにより、安定なコレステリック配向を得ることができる。
【００５７】
配向剤の添加量は、液晶組成物の全質量（塗布液等、溶媒を含む態様では、溶媒を除いた固形分の全質量）に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．０１質量％〜１０質量％であることがより好ましく、０．０２質量％〜１質量％であることが特に好ましい。配向剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
［液晶組成物の調製］
本発明の液晶組成物において、重合開始剤の含有量は、液晶組成物の全質量（塗布液等、溶媒を含む態様では、溶媒を除いた固形分の全質量）に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜８質量％であることがより好ましい。
【００５９】
前記液晶化合物の含有量は、液晶組成物の全質量（塗布液等、溶媒を含む態様では、溶媒を除いた固形分の全質量）に対して、６０質量％〜９５質量％であることが好ましく、７０質量％〜９０質量％であることがより好ましい。
【００６０】
前記カイラル剤の含有量は、液晶組成物の全質量（塗布液等、溶媒を含む態様では、溶媒を除いた固形分の全質量）に対して、５質量％〜４０質量％であることが好ましく、１０質量％〜３０質量％であることがより好ましい。２種以上のカイラル剤を利用する場合は、合計が前記範囲であることが好ましい。前記カイラル剤の含有量が、１０質量％未満であると、反射波長が可視域となってしまい、光学異方性膜が着色する場合がある。また、前記カイラル剤の含有量が、３０質量％を超えると、コレステリック配向状態とならない場合がある。
【００６１】
［溶媒］
液晶組成物は、塗布液として調製することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。該有機溶媒としては、アミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）；スルホキシド（例えばジメチルスルホキシド）；ヘテロ環化合物（例えばピリジン）；炭化水素（例えばベンゼン、ヘキサン）；アルキルハライド（例えばクロロホルム、ジクロロメタン）；エステル（例えば酢酸メチル、酢酸ブチル）；ケトン（例えばアセトン、メチルエチルケトン）；エーテル（例えばテトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）；１，４−ブタンジオールジアセテートなどが含まれる。これらの中でも、アルキルハライド及びケトンが特に好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００６２】
［配向層］
光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよく特に限定されない。配向層の例としては、ポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）などの有機配向層、無機化合物の斜方蒸着層、マイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層、光配向材料（偏光を照射することにより分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料など）を用いた光配向層などを挙げることができる。
【００６３】
［液晶組成物を用いた光学異方性層の製造方法］
液晶組成物を基板、カラーフィルタ層、配向層、又はその他の層の表面に塗布し、液晶組成物内の液晶分子をコレステリック配向させた後、偏光を照射することにより二軸性光学異方性膜を形成することができる。コレステリック配向（コレステリック配列に配向した状態をいう。）させた後、偏光を照射して重合反応させることにより光学異方性膜を形成することができる。形成される光学異方性膜は、らせん構造が変形することに由来して発生する位相差、すなわち光学的二軸性を示し、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置、の光学補償に有用である。
【００６４】
前記液晶組成物の塗布は、従来公知の種々の方法で行うことができる。例えば、上述のように作製した塗布液としての液晶組成物を基板上、カラーフィルタ上、又はこれらの層に設けられた配向層などの他の層上等に塗布すればよい。塗布は、作製されるカラーフィルタ基板の実質的な全面で概ね均一な膜厚で行なうことができる。塗布は、具体的には、スリットコート法、スピンコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）、インクジェット法などにより行うことができる。
【００６５】
液晶分子をコレステリック配向させるためには、前記液晶組成物を表面に塗布した後、塗膜を乾燥させればよい。溶媒の蒸発とともに、カイラル剤の捩れ力により、例えば、併存するアキラルな液晶化合物の分子がコレステリック配向する。所望により、乾燥後、液晶相温度範囲で１〜５分間加熱熟成してもよい。
【００６６】
液晶組成物を、上記のように塗布、乾燥した後、偏光照射することにより、面内のレターデーションＲｅを有する光学異方性膜を形成することができる。この偏光照射は上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射を行ってもよい。大きなレターデーションを得るためには偏光照射のみ、もしくは先に偏光照射することが好ましい。偏光照射には紫外線偏光照射が好ましく、特に３６５ｎｍにピークを持つ偏光照射が好ましい。
【００６７】
偏光照射の照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがより好ましい。照度は２０ｍＷ／ｃｍ2〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ2〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００ｍＷ／ｃｍ2〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることが特に好ましい。照射波長としては３００ｎｍ〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０ｎｍ〜４１０ｎｍにピークを有することがより好ましい。
【００６８】
重合反応の調節のために、偏光照射を行う際の酸素濃度を調節してもよい。酸素濃度を調節するためには、窒素パージなどの手段を取ることができる。酸素濃度としては、１０％以上２１％以下が好ましい。作業上の安全性を考慮すると、１８％以上２１％以下がより好ましい。
【００６９】
偏光照射後に加熱すると、架橋がより進行し、より大きな面内レターデーションを得ることができる。
前記加熱温度は５０℃〜２５０℃であることが好ましく、５０℃〜２００℃がより好ましく、７０℃〜１７０℃が特に好ましい。
【００７０】
偏光を照射する工程の前には、非偏光を照射する工程を含まないことが好ましい。面内位相差を十分に発現させるためである。なお、偏光を照射した後に、耐熱性の改善のために、さらに光照射を実施するのが好ましい。偏光照射を実施した後の、耐熱性改善のための光照射は、偏光照射であっても、非偏光照射であってもよい。硬化のための光照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがよりに好ましい。照度は２０ｍＷ／ｃｍ2〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ2〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００ｍＷ／ｃｍ2〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることが特に好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００ｎｍ〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０ｎｍ〜４１０ｎｍにピークを有することがより好ましい。非偏光照射の場合は２００ｎｍ〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０ｎｍ〜４１０ｎｍにピークを有することがより好ましい。
【００７１】
本発明の光学異方性膜の厚さは、０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましく、０．５μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。
【００７２】
本発明のカラーフィルタ基板において、光学異方性層の光学特性は、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性にそれぞれ調整されていることが好ましい。即ち、カラーフィルタ層のＲ層に対応する領域に形成する光学異方性膜は、その光学特性が、Ｒ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、Ｇ層に対応する領域に形成する光学異方性膜の光学特性は、Ｇ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、かつＢ層に対応する領域に形成する光学異方性膜の光学特性は、Ｂ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整されていることが好ましい。
光学異方性層の光学特性は、例えば、液晶化合物及びカイラル剤の種類や、配向制御剤の種類又はその添加量、膜厚、及び偏光照射条件のいずれかによって好ましい範囲に調整することができる。
具体的には、例えば液晶化合物として逆波長分散性を示す化合物を用いることにより、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性に調整することができる。
【００７３】
また、偏光照射量及び照度を、光学異方性層におけるカラーフィルタ層の各色に対応する領域、（例えば、Ｒ層に対応する領域、Ｇ層に対応する領域、及びＢ層に対応する領域）によって変えることによって、各色に対応する光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性に調整することができる。例えば、上述のように設けられた液晶組成物からなる層の上に後述のパターン露光をすることによって、カラーフィルタ層のＲ各色に対応する領域ごとに最適な光学特性を与える偏光照射量及び照度を適用することができる。
【００７４】
［パターン偏光露光］
パターン偏光露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光が挙げられ、さらに、レーザーや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画する方法が挙げられる。
上記の方法を用いることによって、本発明のカラーフィルタ基板において光学異方性層は、カラーフィルタ層の各色に対応する領域ごとに別の組成物を用いることなく均一な組成及び／又は均一な膜厚で、形成することが可能である。
本発明のカラーフィルタ基板の表面には、さらに液晶材料に対して配向規制能を有する配向膜、及び透明電極層が形成されていてもよい。
【００７５】
［液晶表示装置］
本発明のカラーフィルタ基板が好ましく用いられる液晶表示装置の一例は、ＶＡモード液晶表示装置である。ＶＡモード液晶表示装置には、負のＣ−プレート及びＡ−プレートを光学補償に利用する方式と、二軸性フィルムを一枚光学補償に利用する方式が知られている。本発明の光学異方性膜は、二軸性フィルムを用いた場合の光学補償能を有するカラーフィルタ基板して利用することができる。
【００７６】
上記では、ＶＡモード液晶表示装置の例を説明したが、本発明のカラーフィルタ基板は、他のモードの液晶表示装置に用いることもできる。液晶モードの例としては、ＴＮモード（特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号）、ＩＰＳモードもしくはＦＬＣモード（特開平１０−５４９８２号公報）、ＯＣＢモードもしくはＨＡＮモード（米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレット）ＳＴＮモード（特開平９−２６５７２号公報）、及びＶＡモード（特許第２８６６３７２号公報）が挙げられる。
【実施例】
【００７７】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【００７８】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
──────────────────────────────────―─────
光学異方性層用塗布液ＬＣ−１組成（質量％）
────────────────────────────────────────
棒状液晶化合物（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン製） １５．７８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン製）       ２．９９
光重合開始剤（Ｉ−１）                                                  １．２０
配向剤（Ｗ−１）                                                        ０．０１
紫外線吸収剤（Ｕ−１）                                                  ０．０２
メチルエチルケトン                                                    ３０．００
────────────────────────────────────────
【００７９】
【化１１】
2011095390.tif 000013
【００８０】
Ｗ−１：ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成した。
【００８１】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−２として用いた。
【００８２】
──────────────────────────────────―─────
光学異方性層用塗布液ＬＣ−２組成（質量％）
────────────────────────────────────────
棒状液晶化合物（Ｌ−１）                                              １５．７８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン製）       ２．９９
光重合開始剤（Ｉ−１）                                                  １．２０
配向剤（Ｗ−１）                                                        ０．０１
紫外線吸収剤（ＵＶ−１）                                                ０．０２
メチルエチルケトン                                                    ３０．００
────────────────────────────────────────
【００８３】
【化１２】
2011095390.tif 000014
Ｌ−１：特開２００８−２７３９２５に記載の方法に準じて合成した。
【００８４】
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
【００８５】
──────────────────────────────────―─────
配向層用塗布液ＡＬ−１組成（質量％）
────────────────────────────────────────
ポリイミド塗布液（ＳＥ−１３０，日産化学工業製）                      ２０．００
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                            ２６．００
────────────────────────────────────────
【００８６】
（配向層付き基板の作製）
無アルカリガラス基板を２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄、および純水シャワー洗浄し、基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。この基板上に配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させて２５０℃４０分で焼成し、膜厚は６０ｎｍの配向層を形成した。
【００８７】
［実施例１］
（光学異方性層１−Ｇの作製）
前記配向膜付き基板上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布し、膜面温度１００℃で２分間乾燥、さらに、温度７５℃で２分間熟成して均一な液晶相状態とした。その後、ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から３０ｍｍ離れた位置に偏光板の透過軸が基板の進相軸方向となるようにワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０４Ｃ、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置した状態で偏光ＵＶ照射して、実施例１の光学異方性層１−Ｇを作製した。ここで、光学異方性層１−Ｇの膜厚は３．６μｍであった。また、偏光ＵＶ照射の照度、照射量以外は光学異方性層１−Ｇと同様の方法で、光学異方性層１−Ｒ、光学異方性層１−Ｂも作製した。それぞれの光学異方性層を作製した際の、測定波長３６５ｎｍにおける偏光ＵＶの照度、照射量を表１に示す。
【００８８】
【表１】
2011095390.tif 000015
【００８９】
［実施例２］
（光学異方性基板２の作製）
前記配向層付き基板上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を塗布し、膜面温度１３０℃で２分間乾燥、さらに、温度９０℃で２分間熟成して均一な液晶相状態とした。その後、偏光ＵＶ照射の照度、照射量以外は実施例１の光学異方性基板１−Ｇを作製する際と同様の方法で偏光ＵＶ照射して、実施例２の光学異方性基板２を作製した。偏光ＵＶ照射の測定波長３６５ｎｍにおける照度は１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３０００ｍＪ／ｃｍ2、光学異方性層の膜厚は１５．０μｍであった。
【００９０】
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により位相差測定を実施した。光学異方性基板１−Ｒ、光学異方性基板１−Ｇ、光学異方性基板１−Ｂは波長５５０ｎｍのみ、また、光学異方性基板２は、波長４３５ｎｍ、５５０ｎｍ、６１０ｎｍの正面レターデーションＲｅ（０）および遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。各基板の位相差測定結果を表２に示す。この結果から、すべての光学異方性層が二軸性を有することが分かる。
【００９１】
【表２】
2011095390.tif 000016
【００９２】
（カラーフィルタ基板１の作製）
光学異方性基板１−Ｇ上にＦＵＪＩＦＩＬＭ  ＲＥＳＥＡＲＣＨ  ＆  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ  Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士写真フイルム（株）製）を用いて、ブラックマトリクスおよびＲＧＢのカラーフィルタを作製し、二軸性を有するカラーフィルタ基板１を作製した。
【００９３】
（カラーフィルタ基板２の作製）
紫外線照射装置において、照射面から２００μｍ離れた位置にマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を設置し、光学異方性層１−Ｒ、光学異方性層１−Ｇ、光学異方性層１−Ｂを作製した際の照度、照射量でパターン偏光ＵＶ照射すること以外は、光学異方性基板１−Ｇと同様の方法で光学異方性基板３を作製した。これらのパターンをそれぞれ領域Ｒ３、領域Ｇ３、領域Ｂ３とする。次に、ＦＵＪＩＦＩＬＭ  ＲＥＳＥＡＲＣＨ  ＆  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ  Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士写真フイルム（株）製）を用いて、ブラックマトリクスおよびＲＧＢのカラーフィルタを作製して、カラーフィルタの各色に対応した二軸性の光学異方性を有するカラーフィルタ基板２を作製した。ここで、領域Ｒの上にＲ画素が、領域Ｇの上にＧ画素が、領域Ｂの上にＢ画素が形成されるように調整して作製した。
【００９４】
（カラーフィルタ基板３の作製）
光学異方性基板２上にＦＵＪＩＦＩＬＭ  ＲＥＳＥＡＲＣＨ  ＆  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ  Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士写真フイルム（株）製）を用いて、ブラックマトリクスおよびＲＧＢのカラーフィルタを作製し、二軸性を有するカラーフィルタ基板３を作製した。
【００９５】
（カラーフィルタ基板４の作製）
無アルカリガラス基板上にＦＵＪＩＦＩＬＭ  ＲＥＳＥＡＲＣＨ  ＆  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ  Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士写真フイルム（株）製）を用いて、ブラックマトリクスおよびＲＧＢのカラーフィルタを作製した。次に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させて２５０℃４０分で焼成し、膜厚は６０ｎｍの配向層を形成した。さらに、配向層付き基板の代わりに前記配向層付きカラーフィルタ基板を用いた以外は光学異方性基板１−Ｇと同様の方法で二軸性光学異方性層を形成し、二軸性を有するカラーフィルタ基板４を作製した。（順分散ベタ二軸／ＣＦ）
【００９６】
（カラーフィルタ基板５の作製）
照射面から２００μｍ離れた位置にマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を設置し、光学異方性層１−Ｒ、光学異方性層１−Ｇ、光学異方性層１−Ｂを作製する際の照度、照射量で、それぞれＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素に偏光ＵＶ照射する以外は、カラーフィルタ基板４と同様の方法で、カラーフィルタの各色に対応した二軸性の光学異方性を有するカラーフィルタ基板５を作製した。
【００９７】
（カラーフィルタ基板６の作製）
光学異方性基板２と同様の方法で二軸性光学異方性層を形成した以外は、カラーフィルタ基板４と同様の方法で、カラーフィルタの各色に対応した二軸性の光学異方性を有するカラーフィルタ基板６を作製した。
【００９８】
［実施例３］
（ＶＡ型液晶表示装置１の作製）
カラーフィルタ基板１と、その対向基板となるＴＦＴ層を設けたガラス基板に対し、ＩＴＯのスパッタリングにより透明電極膜を形成し、その上にポリイミドの配向膜を設けた。カラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板１と対向基板とを１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27 ：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4 ：Ｃｅ，Ｔｂとを質量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3 ：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17 ：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に前記の偏光板を付与した液晶セルを設置して、実施例３のＶＡ型液晶表示装置１を作製した。
【００９９】
［実施例４］
（ＶＡ型液晶表示装置２の作製）
カラーフィルタ基板２においても同様の方法で、実施例４のＶＡ型液晶表示装置２を作製した。
【０１００】
［実施例５］
（ＶＡ型液晶表示装置３の作製）
カラーフィルタ基板３においても同様の方法で、実施例５のＶＡ型液晶表示装置３を作製した。
【０１０１】
［実施例６］
（ＶＡ型液晶表示装置４の作製）
カラーフィルタ基板４においても同様の方法で、実施例６のＶＡ型液晶表示装置４を作製した。
【０１０２】
［実施例７］
（ＶＡ型液晶表示装置５の作製）
カラーフィルタ基板５においても同様の方法で、実施例７のＶＡ型液晶表示装置５を作製した。
【０１０３】
［実施例８］
（ＶＡ型液晶表示装置６の作製）
カラーフィルタ基板６においても同様の方法で、実施例８のＶＡ型液晶表示装置６を作製した。
【０１０４】
実施例３〜８の液晶表示装置１〜６について、黒表示（電圧無印加）時における正面および右斜め上４５度方向の目視観察評価結果を表３に示す。
【０１０５】
【表３】
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