(57)【要約】【課題】より薄肉化され、さらに広い波長域において一様の偏光変換を行うことが可能な複合位相差板を提供すること。【解決手段】重合性基を有する液晶化合物を重合して得られる位相差板（１）と、有機修飾粘土複合体及びバインダー樹脂を含有する位相差板（２）とを含み、波長λ（ｎｍ）の光における複屈折率Δｎ（λ）が、式（３）及び式（４）を充足する複合位相差板。  Δｎ（４５１）／Δｎ（５４９）≦１．０４      （３）  ０．９８≦Δｎ（６２８）／Δｎ（５４９）      （４）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性基を有する液晶化合物を重合して得られる位相差板（１）と、有機修飾粘土複合体及びバインダー樹脂を含有する位相差板（２）とを含み、波長λ（ｎｍ）の光における複屈折率Δｎ（λ）が、式（３）及び式（４）を充足する複合位相差板。
Δｎ（４５１）／Δｎ（５４９）≦１．０４      （３）
０．９８≦Δｎ（６２８）／Δｎ（５４９）      （４）
【請求項２】
重合性基を有する液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である請求項１記載の複合位相差板。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、−ＣＲ１Ｒ２−ＮＲ３−、−ＣＯ−ＮＲ１−、又は−ＮＲ１−ＣＯ−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｌ１及びＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する基を表す。］
【請求項３】
Ｌ１が式（Ｂ）で表される基であり、かつＬ２が式（Ｃ）で表される基である請求項２記載の複合位相差板。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−          （Ｂ）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２−          （Ｃ）
［式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−ＮＲ５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−又は単結合を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。ｋが２以上の整数である場合、複数のＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＡ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ１及びＦ２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ１は、重合性基を表す。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表す。］
【請求項４】
式（Ａ）で表される化合物が、式（５）及び式（６）を満たす化合物である請求項３記載の複合位相差板。
（Ｎπ−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４      （５）
１２≦Ｎπ≦２２      （６）
［式（５）及び式（６）中、Ｎπは、Ａｒが有する芳香環に含まれるπ電子の数を表す。ｋ及びｌは、式（Ｂ）及び（Ｃ）におけるものと同じ意味を表す。］
【請求項５】
Ａｒが、式（Ａｒ−６）で表される２価の基である請求項２記載の複合位相差板。
【化１】
2011150314.tif 000164
［式（Ａｒ−６）中、Ｚ１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ７Ｒ８、−ＳＲ７を表す。ｎが２以上の整数である場合、複数のＺ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ７及びＲ８は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ９−を表す。
Ｒ９は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ２は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環式基を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
【請求項６】
Ｇ１及びＧ２が、ともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基である請求項２記載の複合位相差板。
【請求項７】
Ａ１及びＡ２が、それぞれ独立に、ｐ−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基である請求項３記載の複合位相差板。
【請求項８】
Ａ１のみと結合しているＢ１、及びＡ２のみと結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−又は単結合であり、かつ
Ｆ１と結合しているＢ１、及びＦ２と結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合である請求項３〜７のいずれかに記載の複合位相差板。
【請求項９】
重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれる１種以上である請求項１〜８のいずれかに記載の複合位相差板。
【請求項１０】
有機修飾粘土複合体が、４級アンモニウム塩とスメクタイト族に属する粘土鉱物とを含み、該粘土鉱物に含まれるマグネシウムとケイ素４原子との原子比（Ｍｇ／Ｓｉ４）が０．０１以上２．７３未満である請求項１記載の複合位相差板。
【請求項１１】
位相差板（２）が、負の一軸性の位相差板である請求項１又は１０記載の複合位相差板。
【請求項１２】
位相差板（１）と位相差板（２）とが接合してなる請求項１〜１１のいずれかに記載の複合位相差板。
【請求項１３】
さらに、プライマー層を、位相差板（１）と位相差板（２）との間に含む請求項１〜１１のいずれかに記載の複合位相差板。
【請求項１４】
波長５５０ｎｍにおける正面位相差値が、１１３ｎｍ以上１６３ｎｍ以下である請求項１〜１３のいずれかに記載の複合位相差板。
【請求項１５】
偏光板及び請求項１〜１４のいずれかに記載の複合位相差板を含む偏光部材。
【請求項１６】
液晶セル及び請求項１５記載の偏光部材を含む液晶表示装置。
【請求項１７】
カラーフィルター及び、請求項１〜１４のいずれかに記載の複合位相差板を含む光学部材。
【請求項１８】
下記（i）〜（v）の工程を有する複合位相差板の製造方法。
（i）重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合して溶液を得る工程
（ii）工程（i）で得られた溶液から塗工膜を得る工程
（iii）工程（ii）で得られた塗工膜に含まれる重合性基を有する液晶化合物を重合させて、位相差板（１）を得る工程
（iv）有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを混合して塗工液を得る工程
（v）工程（iv）で得られた塗工液を、得られた位相差板（１）に塗布して、複合位相差板を得る工程
【請求項１９】
下記（i）〜（iv）および（vi）〜（vii）の工程を有する複合位相差板の製造方法。
（i）重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合して溶液を得る工程
（ii）工程（i）で得られた溶液から塗工膜を得る工程
（iii）工程（ii）で得られた塗工膜に含まれる重合性基を有する液晶化合物を重合させて、位相差板（１）を得る工程
（iv）有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを混合して塗工液を得る工程
（vi）得られた位相差板（１）に、プライマーを塗布して、位相差板（１）上にプライマー層を形成する工程
（vii）工程（iv）で得られた塗工液を、プライマー層上に塗布して、複合位相差板を得る工程
【請求項２０】
（i）重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合して溶液を得る工程において、さらに重合開始剤を混合して溶液を得る請求項１８又は１９記載の複合位相差板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複合位相差板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
複合位相差板は、λ／４板及びλ／２板を接合して得られる円偏光板等のように複数の位相差板を含むものであり、液晶表示装置等に使用されている。近年、液晶表示装置は、一層の小型化が求められており、複合位相差板についても、一層の薄肉化が求められている。
特許文献１には、有機修飾粘土複合体及びバインダー樹脂を含有する位相差板に、環状ポリオレフィン系樹脂の延伸フィルムからなるλ／４板を粘着剤で貼合して得られる複合位相差板が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３３８２１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記文献に開示されるような従来の有機修飾粘度複合体及びバインダー樹脂を含有する位相差板と、環状ポリオレフィン系樹脂の延伸フィルムからなる位相差板とを粘着剤で貼合して得られる複合位相差板は、厚みがあり、液晶表示装置の小型化に対して必ずしも十分に満足できるものではなかった。本発明の課題は、従来の複合位相差板よりさらに薄肉化された複合位相差板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は以下の［１］〜［２０］を提供するものである。
［１］重合性基を有する液晶化合物を重合して得られる位相差板（１）と、有機修飾粘土複合体及びバインダー樹脂を含有する位相差板（２）とを含み、波長λ（ｎｍ）の光における複屈折率Δｎ（λ）が、式（３）及び式（４）を充足する複合位相差板。
Δｎ（４５１）／Δｎ（５４９）≦１．０４      （３）
０．９８≦Δｎ（６２８）／Δｎ（５４９）      （４）
［２］重合性基を有する液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である前記［１］記載の複合位相差板。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、−ＣＲ１Ｒ２−ＮＲ３−、−ＣＯ−ＮＲ１−、又は−ＮＲ１−ＣＯ−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｌ１及びＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する基を表す。］
［３］Ｌ１が式（Ｂ）で表される基であり、かつＬ２が式（Ｃ）で表される基である前記［２］記載の複合位相差板。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−          （Ｂ）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２−          （Ｃ）
［式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−ＮＲ５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−又は単結合を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。ｋが２以上の整数である場合、複数のＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＡ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ１及びＦ２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ１は、重合性基を表す。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表す。］
［４］式（Ａ）で表される化合物が、式（５）及び式（６）を満たす化合物である前記［３］記載の複合位相差板。
（Ｎπ−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４      （５）
１２≦Ｎπ≦２２      （６）
［式（５）及び式（６）中、Ｎπは、Ａｒが有する芳香環に含まれるπ電子の数を表す。ｋ及びｌは、式（Ｂ）及び（Ｃ）におけるものと同じ意味を表す。］
［５］Ａｒが、式（Ａｒ−６）で表される２価の基である前記［２］記載の複合位相差板。
【化１】
2011150314.tif 000002
［式（Ａｒ−６）中、Ｚ１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ７Ｒ８、−ＳＲ７を表す。ｎが２以上の整数である場合、複数のＺ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ７及びＲ８は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ９−を表す。
Ｒ９は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ２は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環式基を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
［６］Ｇ１及びＧ２が、ともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基である前記［２］記載の複合位相差板。
［７］Ａ１及びＡ２が、それぞれ独立に、ｐ−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基である前記［３］記載の複合位相差板。
［８］Ａ１のみと結合しているＢ１、及びＡ２のみと結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−又は単結合であり、かつ
Ｆ１と結合しているＢ１、及びＦ２と結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合である前記［３］〜［７］のいずれかに記載の複合位相差板。
［９］重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれる１種以上である［１］〜［８］のいずれかに記載の複合位相差板。
［１０］有機修飾粘土複合体が、４級アンモニウム塩とスメクタイト族に属する粘土鉱物とを含み、該粘土鉱物に含まれるマグネシウムとケイ素４原子との原子比（Ｍｇ／Ｓｉ４）が０．０１以上２．７３未満である前記［１］記載の複合位相差板。
［１１］位相差板（２）が、負の一軸性の位相差板である前記［１］又は［１０］記載の複合位相差板。
［１２］位相差板（１）と位相差板（２）とが接合してなる前記［１］〜［１１］のいずれかに記載の複合位相差板。
［１３］さらに、プライマー層を、位相差板（１）と位相差板（２）との間に含む前記［１］〜［１１］のいずれかに記載の複合位相差板。
［１４］波長５５０ｎｍにおける正面位相差値が、１１３ｎｍ以上１６３ｎｍ以下である前記［１］〜［１３］のいずれかに記載の複合位相差板。
［１５］偏光板及び前記［１］〜［１４］のいずれかに記載の複合位相差板を含む偏光部材。
［１６］液晶セル及び前記［１５］記載の偏光部材を含む液晶表示装置。
［１７］カラーフィルター及び、前記［１］〜［１４］のいずれかに記載の複合位相差板を含む光学部材。
［１８］下記（i）〜（v）の工程を有する複合位相差板の製造方法。
（i）重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合して溶液を得る工程
（ii）工程（i）で得られた溶液から塗工膜を得る工程
（iii）工程（ii）で得られた塗工膜に含まれる重合性基を有する液晶化合物を重合させて、位相差板（１）を得る工程
（iv）有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを混合して塗工液を得る工程
（v）工程（iv）で得られた塗工液を、得られた位相差板（１）に塗布して、複合位相差板を得る工程
［１９］下記（i）〜（iv）および（vi）〜（vii）の工程を有する複合位相差板の製造方法。
（i）重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合して溶液を得る工程
（ii）工程（i）で得られた溶液から塗工膜を得る工程
（iii）工程（ii）で得られた塗工膜に含まれる重合性基を有する液晶化合物を重合させて、位相差板（１）を得る工程
（iv）有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを混合して塗工液を得る工程
（vi）得られた位相差板（１）に、プライマーを塗布して、位相差板（１）上にプライマー層を形成する工程
（vii）工程（iv）で得られた塗工液を、プライマー層上に塗布して、複合位相差板を得る工程
［２０］（i）重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合して溶液を得る工程において、さらに重合開始剤を混合して溶液を得る前記［１８］又は［１９］記載の複合位相差板の製造方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、一層、薄肉化され、さらに広い波長域において一様の偏光変換を行うことが可能な複合位相差板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、複合位相差板を概略的に示す断面模式図である。
【図２】図２は、配向膜および／または支持基材を含む複合位相差板の概略断面模式図である。
【図３】図３は、複合位相差板を含む偏光部材の概略断面模式図である。
【図４】図４は、偏光部材および液晶セルを含む液晶表示装置の概略断面模式図である。
【図５】図５は、複合位相差板およびカラーフィルターを含む光学部材の概略断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明の複合位相差板は、重合性基を有する液晶化合物（以下、「液晶モノマー」ということがある。）を重合して得られる位相差板（１）と、有機修飾粘土複合体及びバインダー樹脂を含有する位相差板（２）とを含み、波長λ（ｎｍ）の光に対する複屈折率Δｎ（λ）が、式（３）及び式（４）を満たす。
Δｎ（４５１）／Δｎ（５４９）≦１．０４      （３）
０．９８≦Δｎ（６２８）／Δｎ（５４９）      （４）
【０００９】
本明細書中において、位相差板とは、光を透過し得る物体であって、光学的な機能を有する物体をいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。位相差板は、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。
【００１０】
波長λｎｍの光が与える位相差板の位相差（Ｒｅ（λ））は、複屈折率Δｎと位相差板の厚みｄとの積で表される（Ｒｅ（λ）＝Δｎ×ｄ）。また波長分散性とは、位相差Ｒｅの波長依存性のことであり、逆波長分散特性とは、長波長になるほど位相差Ｒｅが大きくなる性質のことをいう。例えば、波長分散性は、ある波長λｎｍにおける位相差値Ｒｅ（λ）を５４９ｎｍにおける位相差値Ｒｅ（５４９）で除した値（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５４９））で表される。（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５４９））が１に近い波長域（例えば、０．９８〜１．０４）や、［Ｒｅ（４５１）／Ｒｅ（５４９）］≦１．０４（好ましくは０．８≦［Ｒｅ（４５１）／Ｒｅ（５４９）］≦１．０４）かつ［Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４９）］≧０．９８（好ましくは０．９８≦［Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４９）］≦１．１）となる逆波長分散特性を示す波長域では、一様の偏光変換が可能である。
【００１１】
［位相差板（１）］
本発明の位相差板（１）は、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）を重合して得られる位相差板であることが好ましい。
【００１２】
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数Ｎπは、１２以上２２以下である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、−ＣＲ１Ｒ２−ＮＲ３−、−ＣＯ−ＮＲ１−、又は−ＮＲ１−ＣＯ−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｌ１及びＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する基を表す。］
本明細書において、−ＣＨ（−）−はメチン基を意味し、−Ｎ（−）−はニトリロ基を意味する。
【００１３】
芳香環を有する２価の基であるＡｒは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する２価の基であることが好ましい。該２価の基に含まれる芳香環のπ電子の合計数Ｎπは、好ましくは１２以上、より好ましくは１３以上であり、好ましくは２２以下である。
【００１４】
芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環及びベンゾチアゾール環等が挙げられる。中でも、ベンゼン環、チアゾール環又はベンゾチアゾール環が好ましい。
【００１５】
Ａｒとしては、例えば式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表される２価の基が挙げられる。
【００１６】
【化２】
2011150314.tif 000003
【００１７】
［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ１及びＱ３は、それぞれ独立に、−ＣＲ９Ｒ１０−、−Ｓ−、−ＮＲ９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立で置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基を表す。
Ｗａ及びＷｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
【００１８】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
【００１９】
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００２０】
炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。
【００２１】
炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。
【００２２】
炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【００２３】
炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【００２４】
炭素数１〜６のアルキルスルファニル基としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルファニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基がより好ましく、メチルスルファニル基が特に好ましい。
【００２５】
炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。
【００２６】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられる。中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。
【００２７】
炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００２８】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００２９】
式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−１３）中のＺ１は、特にハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基またはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。
【００３０】
Ｒ９及びＲ１０における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
【００３１】
式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−１３）中のＱ１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ３）−であることが好ましく、Ｑ３は、−Ｓ−又は−ＣＯ−であることが好ましい。
【００３２】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３の芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基としては、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環基、多環系芳香族炭化水素基及び多環系芳香族複素環基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。中でもフェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。中でもフリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基が好ましい。
【００３３】
かかる芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。
【００３４】
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前述したＺ１におけるものと同様のものが挙げられる。
【００３５】
前記置換基としては、中でもハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。
【００３６】
単環系芳香族炭化水素基又は単環系芳香族複素環基としては、例えば式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表される基が挙げられる。
【００３７】
【化３】
2011150314.tif 000004
【００３８】
［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、＊は結合手を表し、Ｚ２は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ１は、０〜５の整数、ａ２は、０〜４の整数、ｂ１は、０〜３の整数、ｂ２は、０〜２の整数、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］
【００３９】
Ｚ２におけるハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前述したＺ１におけるものと同様のものが挙げられる。
【００４０】
Ｚ２としては、特にハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。
【００４１】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、製造工程やコストの点で特に好ましい。
【００４２】
多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基としては、例えば式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）で表される基が挙げられる。
【００４３】
【化４】
2011150314.tif 000005
【００４４】
［式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）中、＊は結合手を表し、Ｚ３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｖ１及びＶ２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ１１−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ２−を表す。
Ｗ１〜Ｗ５は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１〜Ｗ５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。］
【００４５】
さらに、式（Ｙ１−１）〜式（Ｙ１−７）で表されるいずれかの基は、式（Ｙ３−１）〜式（Ｙ３−６）で表される基であることが好ましい。
【００４６】
【化５】
2011150314.tif 000006
【００４７】
［式（Ｙ３−１）〜式（Ｙ３−６）中、＊、Ｚ３、ａ、ｂ、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１は、前記と同じ意味を表す。］
【００４８】
Ｚ３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前述したＺ１におけるものと同様のものが挙げられる。
【００４９】
Ｚ３としては、中でもハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、ニトロキシキド基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。  
【００５０】
さらに、Ｖ１及びＶ２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ１１−又は−Ｏ−であることが好ましく、Ｗ１〜Ｗ５は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝である。
また、Ｖ１、Ｖ２及びＷ１〜Ｗ５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ又はＯを含む基を表すことが好ましい。
ａは０または１であることが好ましく、ｂは０であることが好ましい。
【００５１】
Ａｒとしては、具体的に下記の基が例示される。
例えば、式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基等が挙げられる。
【００５２】
【化６】
2011150314.tif 000007
【００５３】
【化７】
2011150314.tif 000008
【００５４】
【化８】
2011150314.tif 000009
【００５５】
【化９】
2011150314.tif 000010
【００５６】
【化１０】
2011150314.tif 000011
【００５７】
【化１１】
2011150314.tif 000012
【００５８】
式（Ａｒ−５）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基等が挙げられる。
【００５９】
【化１２】
2011150314.tif 000013
【００６０】
【化１３】
2011150314.tif 000014
【００６１】
式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−１１９）で表される基等が挙げられる。
【００６２】
【化１４】
2011150314.tif 000015
【００６３】
【化１５】
2011150314.tif 000016
【００６４】
【化１６】
2011150314.tif 000017
【００６５】
【化１７】
2011150314.tif 000018
【００６６】
【化１８】
2011150314.tif 000019
【００６７】
【化１９】
2011150314.tif 000020
【００６８】
【化２０】
2011150314.tif 000021
【００６９】
【化２１】
2011150314.tif 000022
【００７０】
【化２２】
2011150314.tif 000023
【００７１】
【化２３】
2011150314.tif 000024
【００７２】
【化２４】
2011150314.tif 000025
【００７３】
【化２５】
2011150314.tif 000026
【００７４】
【化２６】
2011150314.tif 000027
【００７５】
【化２７】
2011150314.tif 000028
【００７６】
【化２８】
2011150314.tif 000029
【００７７】
【化２９】
2011150314.tif 000030
【００７８】
式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１２０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基等が挙げられる。
【００７９】
【化３０】
2011150314.tif 000031
【００８０】
【化３１】
2011150314.tif 000032
【００８１】
式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１４９）で表される基等が挙げられる。
【００８２】
【化３２】
2011150314.tif 000033
【００８３】
【化３３】
2011150314.tif 000034
【００８４】
【化３４】
2011150314.tif 000035
【００８５】
【化３５】
2011150314.tif 000036
【００８６】
式（Ａｒ−１１）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１５０）〜式（ａｒ−１５９）で示される基等が挙げられる。
【００８７】
【化３６】
2011150314.tif 000037
【００８８】
【化３７】
2011150314.tif 000038
【００８９】
式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１７９）で表される基等が挙げられる。
【００９０】
【化３８】
2011150314.tif 000039
【００９１】
【化３９】
2011150314.tif 000040
【００９２】
【化４０】
2011150314.tif 000041
【００９３】
【化４１】
2011150314.tif 000042
【００９４】
式（Ａｒ−１３）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１８０）〜式（ａｒ−１８９）で示される基等が挙げられる。
【００９５】
【化４２】
2011150314.tif 000043
【００９６】
【化４３】
2011150314.tif 000044
【００９７】
化合物（Ａ）におけるＡｒとしては、化合物を合成しやすいため、また位相差の波長分散性をしやすいため、特に式（Ａｒ−６）で表される２価の基であることが好ましい。
【００９８】
式（Ａ）中のＤ１及びＤ２は、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、＊−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−または＊−ＮＲ１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表わす。）であることが好ましい。Ｄ１及びＤ２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−または＊−ＮＲ１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表す。）であることがより好ましい。
【００９９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基であることがより好ましい。
【０１００】
式（Ａ）中のＧ１及びＧ２としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で示されるヘテロ原子を含んでもよい脂環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。
【０１０１】
【化４４】
2011150314.tif 000045
【０１０２】
上記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で示される基に含まれる水素原子は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
【０１０３】
Ｇ１及びＧ２としては、式（ｇ−１）で表される６員環からなる脂環式炭化水素基であることが好ましい。中でも、Ｇ１及びＧ２がともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがより好ましく、ｔｒａｎｓ−シクロへキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。
【０１０４】
式（Ａ）中のＬ１及びＬ２は有機基であり、Ｌ１及びＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する基である。
有機基Ｌ１は式（Ｂ）で表される基であり、Ｌ２は式（Ｃ）で表される基であることが好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−          （Ｂ）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２−          （Ｃ）
［式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−ＮＲ５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−又は単結合を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。ｋが２以上の整数である場合、複数のＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＡ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ１及びＦ２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ１は、重合性基を表す。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表す。］
【０１０５】
Ａ１及びＡ２における炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基としては、前記式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される５員環又は６員環などからなる脂環式炭化水素基や、下記式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される２価の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【０１０６】
【化４５】
2011150314.tif 000046
【０１０７】
なお、Ａ１及びＡ２として、前記例示された基に含まれる水素原子は、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基等の炭素数１〜４程度のアルキル基；メトキシ基又はエトキシ基等の炭素数１〜４程度のアルコキシ基；トリフルオロメチル基；トリフルオロメトキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子又は臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
【０１０８】
Ａ１及びＡ２としては、それぞれ独立に、単環の１，４−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、特に、化合物（Ａ）の製造が容易なことから、１，４−フェニレン基であることが好ましい。さらに、Ａ１及びＡ２としては、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから、同種類の基であることが好ましい。
【０１０９】
Ｂ１及びＢ２は、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから同種類の基であることが好ましい。また、化合物（Ａ）の製造がより容易となることから、Ａ１のみと結合しているＢ１、及びＡ２のみと結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−又は単結合であることが好ましい。特に、高い液晶性を示すことから、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。さらに、Ｆ１と結合しているＢ１、及びＦ２と結合しているＢ２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合であることがより好ましい。
【０１１０】
ｋ及びｌは、液晶性の観点から、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。
【０１１１】
Ｆ１及びＦ２は、炭素数１〜１２のアルキレン基であることが好ましい。特に、無置換のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。また、該アルキレン基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
【０１１２】
Ｐ１は重合性基であり、Ｐ２は、水素原子又は重合性基である。得られる位相差板の硬度が優れる傾向にあることから、Ｐ１及びＰ２がともに重合性基であるとことが好ましい。
【０１１３】
ここで重合性基とは、化合物（Ａ）を重合させることのできる置換基を意味し、具体的には、ビニル基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシ基、メチルカルボニル基、ヒドロキシ基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基及びチオイソシアネート基等が例示される。
重合性基としては、光重合させるのに適したラジカル重合性基、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上に製造も容易となる傾向にあることから、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。中でも重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、特にアクリロイルオキシ基であることが好ましい。
【０１１４】
Ｌ１が式（Ｂ）で表される基である場合の＊−Ｄ１−Ｇ１−Ｌ１（＊は、Ａｒとの結合手を示す。）の具体例としては、下記式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１２０）及び式（Ｒ−１２９）〜式（Ｒ−１３１）で表される基等が挙げられる。Ｌ２が式（Ｃ）で表される基である場合の＊−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２（＊は、Ａｒとの結合手を示す。）の具体的例としては、下記式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基等が挙げられる。
なお、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。
【０１１５】
【化４６】
2011150314.tif 000047
【０１１６】
【化４７】
2011150314.tif 000048
【０１１７】
【化４８】
2011150314.tif 000049
【０１１８】
【化４９】
2011150314.tif 000050
【０１１９】
【化５０】
2011150314.tif 000051
【０１２０】
【化５１】
2011150314.tif 000052
【０１２１】
【化５２】
2011150314.tif 000053
【０１２２】
【化５３】
2011150314.tif 000054
【０１２３】
【化５４】
2011150314.tif 000055
【０１２４】
【化５５】
2011150314.tif 000056
【０１２５】
【化５６】
2011150314.tif 000057
【０１２６】
【化５７】
2011150314.tif 000058
【０１２７】
化合物（Ａ）は、式（５）及び式（６）を満たす化合物であることが好ましい。
（Ｎπ−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４      （５）
１２≦Ｎπ≦２２      （６）
［式（５）及び式（６）中、Ｎπは、Ａｒが有する芳香環に含まれるπ電子の数を表す。ｋ及びｌは、式（Ｂ）および（Ｃ）におけるものと同じ意味を表す。］
【０１２８】
化合物（Ａ）としては、例えば、下記化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｘｉｖ）が挙げられる。なお、表中のＲ１は、−Ｄ１−Ｇ１−Ｌ１を、Ｒ２は、−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２を表す。
【０１２９】
【表１】
2011150314.tif 000059
【０１３０】
上記表１中、化合物（ｘｖｉｉ）は、Ａｒが式（ａｒ−７８）で示される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−７９）で示される基である化合物あるいはＡｒが式（ａｒ−７８）で示される基である化合物と式（ａｒ−７９）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
【０１３１】
上記表１中、化合物（ｘｘｘ）は、Ａｒが式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物あるいはＡｒが式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。同じく、化合物（ｘｘｘｉ）は、Ａｒが式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物あるいはＡｒが式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
【０１３２】
表１の化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。下記に化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｉ）、化合物（ｘｖｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｉｘ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）、化合物（ｘｘｖ）、化合物（ｘｘｖｉ）、化合物（ｘｘｖｉｉ）、化合物（ｘｘｖｉｉｉ）及び化合物（ｘｘｉｘ）の代表的な構造式を例示する。
【０１３３】
【化５８】
2011150314.tif 000060
【０１３４】
【化５９】
2011150314.tif 000061
【０１３５】
【化６０】
2011150314.tif 000062
【０１３６】
【化６１】
2011150314.tif 000063
【０１３７】
【化６２】
2011150314.tif 000064
【０１３８】
【化６３】
2011150314.tif 000065
【０１３９】
さらに、化合物（Ａ）として、例えば以下のものが例示される。
【０１４０】
【化６４】
2011150314.tif 000066
【０１４１】
【化６５】
2011150314.tif 000067
【０１４２】
【化６６】
2011150314.tif 000068
【０１４３】
【化６７】
2011150314.tif 000069
【０１４４】
【化６８】
2011150314.tif 000070
【０１４５】
【化６９】
2011150314.tif 000071
【０１４６】
【化７０】
2011150314.tif 000072
【０１４７】
【化７１】
2011150314.tif 000073
【０１４８】
【化７２】
2011150314.tif 000074
【０１４９】
【化７３】
2011150314.tif 000075
【０１５０】
さらに、化合物（Ａ）としては、式（Ａ１−１）〜式（Ａ６８−８）で表される化合物も挙げられる。該式中、＊は結合手を表し、例えば式（Ａ１−１）で表される化合物は、下記のように表される化合物である。
【０１５１】
【化７４】
2011150314.tif 000076
【０１５２】
【化７５】
2011150314.tif 000077
【０１５３】
【化７６】
2011150314.tif 000078
【０１５４】
【化７７】
2011150314.tif 000079
【０１５５】
【化７８】
2011150314.tif 000080
【０１５６】
【化７９】
2011150314.tif 000081
【０１５７】
【化８０】
2011150314.tif 000082
【０１５８】
【化８１】
2011150314.tif 000083
【０１５９】
【化８２】
2011150314.tif 000084
【０１６０】
【化８３】
2011150314.tif 000085
【０１６１】
【化８４】
2011150314.tif 000086
【０１６２】
【化８５】
2011150314.tif 000087
【０１６３】
【化８６】
2011150314.tif 000088
【０１６４】
【化８７】
2011150314.tif 000089
【０１６５】
【化８８】
2011150314.tif 000090
【０１６６】
【化８９】
2011150314.tif 000091
【０１６７】
【化９０】
2011150314.tif 000092
【０１６８】
【化９１】
2011150314.tif 000093
【０１６９】
【化９２】
2011150314.tif 000094
【０１７０】
【化９３】
2011150314.tif 000095
【０１７１】
【化９４】
2011150314.tif 000096
【０１７２】
【化９５】
2011150314.tif 000097
【０１７３】
【化９６】
2011150314.tif 000098
【０１７４】
【化９７】
2011150314.tif 000099
【０１７５】
【化９８】
2011150314.tif 000100
【０１７６】
【化９９】
2011150314.tif 000101
【０１７７】
【化１００】
2011150314.tif 000102
【０１７８】
【化１０１】
2011150314.tif 000103
【０１７９】
【化１０２】
2011150314.tif 000104
【０１８０】
【化１０３】
2011150314.tif 000105
【０１８１】
【化１０４】
2011150314.tif 000106
【０１８２】
【化１０５】
2011150314.tif 000107
【０１８３】
【化１０６】
2011150314.tif 000108
【０１８４】
【化１０７】
2011150314.tif 000109
【０１８５】
【化１０８】
2011150314.tif 000110
【０１８６】
【化１０９】
2011150314.tif 000111
【０１８７】
【化１１０】
2011150314.tif 000112
【０１８８】
【化１１１】
2011150314.tif 000113
【０１８９】
【化１１２】
2011150314.tif 000114
【０１９０】
【化１１３】
2011150314.tif 000115
【０１９１】
【化１１４】
2011150314.tif 000116
【０１９２】
【化１１５】
2011150314.tif 000117
【０１９３】
【化１１６】
2011150314.tif 000118
【０１９４】
【化１１７】
2011150314.tif 000119
【０１９５】
【化１１８】
2011150314.tif 000120
【０１９６】
【化１１９】
2011150314.tif 000121
【０１９７】
【化１２０】
2011150314.tif 000122
【０１９８】
【化１２１】
2011150314.tif 000123
【０１９９】
【化１２２】
2011150314.tif 000124
【０２００】
【化１２３】
2011150314.tif 000125
【０２０１】
【化１２４】
2011150314.tif 000126
【０２０２】
【化１２５】
2011150314.tif 000127
【０２０３】
【化１２６】
2011150314.tif 000128
【０２０４】
【化１２７】
2011150314.tif 000129
【０２０５】
【化１２８】
2011150314.tif 000130
【０２０６】
【化１２９】
2011150314.tif 000131
【０２０７】
【化１３０】
2011150314.tif 000132
【０２０８】
【化１３１】
2011150314.tif 000133
【０２０９】
【化１３２】
2011150314.tif 000134
【０２１０】
【化１３３】
2011150314.tif 000135
【０２１１】
【化１３４】
2011150314.tif 000136
【０２１２】
【化１３５】
2011150314.tif 000137
【０２１３】
【化１３６】
2011150314.tif 000138
【０２１４】
【化１３７】
2011150314.tif 000139
【０２１５】
【化１３８】
2011150314.tif 000140
【０２１６】
【化１３９】
2011150314.tif 000141
【０２１７】
【化１４０】
2011150314.tif 000142
【０２１８】
【化１４１】
2011150314.tif 000143
【０２１９】
本発明の位相差板（１）において、異なる複数の種類の化合物（Ａ）を組み合わせて用いてもよい。
【０２２０】
化合物（Ａ）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の
有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応など）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。
【０２２１】
例えば、化合物（Ａ）のＤ１及びＤ２が＊−Ｏ−ＣＯ−である場合には、式（１−１）  
【０２２２】
2011150314.tif 000144
［式中、Ａｒは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物と式（１−２）
【０２２３】
2011150314.tif 000145
［式中、Ｇ１、Ｅ１、Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｐ１及びｋは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物とを反応させることにより、式（１−３）
【０２２４】
2011150314.tif 000146
［式中、Ａｒ、Ｇ１、Ｅ１、Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｐ１及びｋは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物を得て、得られた式（１−３）で示される化合物と式（１−４）
【０２２５】
2011150314.tif 000147
［式中、Ｇ２、Ｅ２、Ａ２、Ｂ２、Ｆ２、Ｐ２及びｌは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
【０２２６】
式（１−１）で示される化合物と式（１−２）で示される化合物との反応及び式（１−３）で示される化合物と式（１−４）で示される化合物との反応は、エステル化剤の存在下に実施することが好ましい。
【０２２７】
エステル化剤としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、などのカルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム  パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム  パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステ等が挙げられる。中でも、反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールが好ましい。
【０２２８】
本発明の位相差板（１）は、化合物（Ａ）と、重合性基を有し、かつ化合物（Ａ）とは異なる液晶化合物（以下、液晶化合物（Ａ１）という場合がある。）とを共重合して得られる位相差板であってもよい。
【０２２９】
液晶化合物（Ａ１）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章  分子構造と液晶性の、３．２  ノンキラル棒状液晶分子、３．３  キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
液晶化合物（Ａ１）として、異なる複数の化合物を併用してもよい。中でも、重合性基を有していて液晶性を示す化合物が好ましい。
【０２３０】
液晶化合物（Ａ１）としては、例えば、式（Ｄ）で表される基を含む化合物（以下「化合物（Ｄ）」という場合がある）等が挙げられる。
【０２３１】
Ｐ１１−Ｂ１１−Ｅ１１−Ｂ１２−Ａ１１−Ｂ１３−      （Ｄ）
［式（Ｄ）中、Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。該炭素数１〜６のアルキル基及び該炭素数１〜６のアルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−又は単結合を表す。Ｒ１６は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｂ１２及びＢ１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよい。該アルキル基及びアルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよい。］
【０２３２】
位相差板を硬化するために、たとえば光重合を利用することがある。そのため、Ｐ１１としては、光重合させるのに適した、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましい。特に取り扱いが容易な上、製造も容易であることから、下記式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）で表される基が好ましい。  
【０２３３】
【化１４２】
2011150314.tif 000148
［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、Ｒ１７〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ１１との結合手を表す。］
【０２３４】
さらに、Ｐ１１は、式（Ｐ−６）〜式（Ｐ−１０）で表される基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基及びチオイソシアネート基などが挙げられる。
【０２３５】
【化１４３】
2011150314.tif 000149
【０２３６】
特に、Ｐ１１−Ｂ１１−が、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましい。
【０２３７】
Ａ１１における芳香族炭化水素基及び脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基又は１，４−フェニレン基が好ましい。
【０２３８】
Ｅ１１としては、２つ以上に分岐していない炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−で置換されていてもよい。
【０２３９】
Ｅ１１としては具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デカレン基、ウンデカレン基、ドデシレン基、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−及びＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−などが挙げられる。
【０２４０】
化合物（Ｄ）としては、例えば、式（I）、式（II）、式（III）、式（IV）、式（V）又は式（VI）で表される化合物が挙げられる。
【０２４１】
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12  （I）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11  （II）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12  （III）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11  （IV）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12  （V）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11  （VI）
［式中、Ｐ１２は、Ｐ１１と同じ意味を表す。
Ａ１２〜Ａ１４は、Ａ１１と同じ意味を表す。
Ｂ１４〜Ｂ１６はＢ１２と、Ｂ１７はＢ１１と同じ意味を表す。
Ｅ１２は、Ｅ１１と同じ意味を表す。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、ニトリル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、アルデヒド基、スルホン酸基、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコールでエステル化されたカルボキシ基又はハロゲン原子を表す。該アルキル基及びアルコキシ基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−で置換されていてもよい。］
【０２４２】
化合物（Ｄ）としては、例えば、下記式で表される化合物等が挙げられる。これらの液晶化合物は、市販されていることから入手が容易であり、また合成が容易であることから好ましい。なお、式中ｋ１及びｋ２は、２〜１２の整数を表す。
【０２４３】
【化１４４】
2011150314.tif 000150
【０２４４】
【化１４５】
2011150314.tif 000151
【０２４５】
【化１４６】
2011150314.tif 000152
【０２４６】
【化１４７】
2011150314.tif 000153
【０２４７】
【化１４８】
2011150314.tif 000154
【０２４８】
【化１４９】
2011150314.tif 000155
【０２４９】
【化１５０】
2011150314.tif 000156
【０２５０】
【化１５１】
2011150314.tif 000157
【０２５１】
化合物（Ａ）の含有量は、化合物（Ａ）と液晶化合物（Ａ１）との合計量１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上１００質量部以下であり、より好ましくは３０質量部以上１００質量部以下である。化合物（Ａ）の含有量が上記範囲内にあると、より大きい逆波長分散特性を示す傾向にあり、好ましい。
【０２５２】
本発明の複合位相差板の波長分散特性は、位相差板（１）における化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量及び化合物（Ａ１）に由来する構造単位の含有量によって、決定することができる。位相差板（１）において、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を増加させると、より逆波長分散特性を示す。
【０２５３】
本発明の複合位相差板の波長分散特性は、具体的には、以下のようにして決定することができる。まず、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量が異なる組成物を２〜５種類程度調製する。それぞれの組成物について後述するように、同じ膜厚の位相差板を製造し、得られる位相差板の位相差値を求める。その結果から、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量と位相差板の位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における位相差板に所望の位相差値を与えるために必要な化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を決定する。
【０２５４】
以下、化合物（Ａ）及び液晶化合物（Ａ１）からなる群から選ばれる少なくとも１種を総称して、「液晶モノマー」という場合がある。
位相差板（１）は、例えば、液晶モノマーと有機溶媒とを含む溶液を、支持基材や配向膜等の上に塗布した後、有機溶媒を除去して塗膜を得て、得られた塗膜中の液晶モノマーを重合させることにより製造することができる。支持基材上に、配向膜が成膜されていてもよい。
【０２５５】
以下、位相差板（１）の製造方法について説明する。
〔（i）液晶モノマーと有機溶媒とを混合して溶液を得る工程〕
まず、液晶モノマーを有機溶媒に溶解させることにより、液晶モノマーと有機溶媒とを含む溶液（以下、溶液（１）と略記する。）を調製する。必要に応じて、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、架橋剤、レベリング剤等の添加剤が、溶液（１）に含まれていてもよい。特に、得られた位相差板を硬化させる働きを有することから、重合開始剤を含有することが好ましい。また、溶液（１）には、位相差板の光学特性をコントロールする目的等で、液晶モノマー以外の化合物を混合してもよい。
【０２５６】
［有機溶媒］
有機溶媒としては、液晶モノマーを溶解し得る有機溶媒であれば特に制限されることなく用いることができる。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素系炭化水素溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよいし、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。また、該有機溶媒は、水を含んでいてもよい。
特に、上述した液晶モノマーは相溶性に優れているため、クロロホルム等の塩素系炭化水素溶媒を用いなくても、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、非塩素系脂肪族炭化水素溶媒及び非塩素系芳香族炭化水素溶媒に溶解させることができ、溶液（１）を調製することができる。
有機溶媒の含有量は、溶液（１）に対して、通常５０〜９５質量％、好ましくは６０〜９５質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。有機溶媒の含有量が上記範囲内にあると、塗布ムラが発生しにくく、所望する膜厚を得やすい傾向がある。
【０２５７】
［重合開始剤］
溶液（１）は、上述したように、液晶モノマーを重合させるための重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤等が挙げられ、低温で安定的に液晶モノマーを重合できるという点で、光重合開始剤が好ましい。
熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の過酸化物等が挙げられる。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、及びイルガキュア３６９（以上、全てチバスペシャルティケミカルズ社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全てＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
重合開始剤の含有量は、液晶モノマーの合計１００質量部に対して、通常０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。重合開始剤の含有量が上記範囲内にあると、液晶モノマーの配向性を乱すことなく重合させることができることから、好ましい。
【０２５８】
［重合禁止剤］
溶液（１）は、重合禁止剤を含有していてもよい。重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、アルコキシ基（例えばメトキシ基等）等の置換基を有するハイドロキノン化合物、ブチルカテコールのようなアルコキシ基（例えばメトキシ基等）等の置換基を有するカテコール化合物、ピロガロール化合物、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤、チオフェノール化合物、β−ナフチルアミン化合物、β−ナフトール化合物等が挙げられる。
重合禁止剤を用いることにより、液晶モノマーの重合を容易に制御することができ、得られる位相差板の安定性及び溶液（１）の安定性を向上させることができる。重合禁止剤の含有量は、液晶モノマーの合計１００質量部に対して、通常０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。重合禁止剤の含有量が上記範囲内にあると、液晶モノマーの配向性を乱すことなく重合させることができることから、好ましい。
【０２５９】
［光増感剤］
溶液（１）は、光増感剤を含有していてもよい。光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン化合物、アントラセン、アルコキシ基（例えばメトキシ基等）等の置換基を有するアントラセン化合物、フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。
光増感剤を用いることにより、より高感度で液晶モノマーの重合を行うことができる。
光増感剤の含有量は、液晶モノマーの合計１００質量部に対して、通常０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。光増感剤の含有量が上記範囲内にあると、液晶モノマーの配向性を乱すことなく重合させることができることから、好ましい。
【０２６０】
［レベリング剤］
溶液（１）は、レベリング剤を含有してもよい。レベリング剤としては、放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越シリコーン社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）、フッ素系添加剤（ＤＩＣ（株）製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）等が挙げられる。
レベリング剤を用いることにより、より平滑な位相差板を得ることができる。さらに、位相差板の製造過程において、溶液（１）の流動性を制御したり、位相差板の架橋密度を調整したりすることもできる。レベリング剤の含有量は、液晶モノマーの合計１００質量部に対して、通常０．０１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．０１質量部〜１０質量部である。レベリング剤の含有量が上記範囲内にあると、液晶モノマーの配向性を乱すことなく重合させることができることから、好ましい。
【０２６１】
溶液（１）は、上記各成分を混合、溶解した後、塗布しやすいように、通常、１０ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７ｍＰａ・ｓ程度の粘度に調整される。
溶液（１）中の固形分は、通常５〜５０質量％、好ましくは５〜４０質量％、より好ましくは１０〜３０質量％である。ここで、固形分とは、溶液（１）から溶剤を除いた成分の合計量をいう。
【０２６２】
〔（ii）工程（i）で得られた溶液から塗工膜を得る工程〕
前記工程（i）で得られた溶液（１）を、支持基材や配向膜等の上に塗布した後、有機溶媒を除去することにより、塗工膜が得られる。好ましくは、配向膜上に、溶液（１）を塗布した後、有機溶媒を除去し、塗工膜を得る。
【０２６３】
［配向膜］
配向膜は、溶液（１）により溶解しない溶剤耐性を持つこと、有機溶媒の除去や液晶モノマーの配向性を調整するための加熱処理における耐熱性を有すること、ラビングによる摩擦等による剥がれが起きないこと等を満たす必要がある。
配向膜はポリマーを含有し、該ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸エステル類等を挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体にしたりして用いてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合、開環重合等で容易に得ることができる。
【０２６４】
かかるポリマーは、通常、溶媒に溶解して、支持基材上に塗布される。溶媒としては制限されないが、例えば、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０２６５】
配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学社製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ製）等が挙げられる。
このような配向膜を用いれば、液晶モノマーの配向が容易になるため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。そのため、ＦＰＤの大型化にも対応可能な大きな位相差板を提供できるという効果を奏する。また、配向膜の材料やラビング条件等によって、配向の制御もより容易になり、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な配向を得ることができ、各種液晶パネルの視野角改善等に利用できる。
【０２６６】
配向膜は、例えば、支持基材上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となる化合物の溶液を塗布し、その後、アニールすることにより形成することができる。
配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。配向膜の厚さが上記範囲にあると、溶液（１）を塗布する際に、液晶モノマーを当該配向膜上で所望の方向や角度に配向させることができ、好ましい。
【０２６７】
これら配向膜には、通常、ラビングまたは偏光紫外線照射を行なう。これら処理を行った配向膜を用いることにより、液晶モノマーを所望の方向や角度に配向させることができる。
配向膜をラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられて搬送されている支持基材上の配向膜に接触させる方法が挙げられる。
【０２６８】
配向膜材料を支持基材上に塗布して配向膜を調製する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法も挙げられる。
【０２６９】
上記支持基材は、当該支持基材上に配向膜を形成できるものであればよい。例えば、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム、透光性フィルム等が挙げられる。透光性フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。
本発明の位相差板（１）は、通常、薄膜であるが、例えば、本発明の複合位相差板を他の部材に接合したり、位相差板（１）を運搬、保管したりする際等フィルム強度が必要となる場合でも、支持基材を用いることにより、破れ等を生じることなく容易に取り扱うことができる。
【０２７０】
溶液（１）を配向膜に塗布する方法としては、配向膜材料を支持基材に塗布する前記と同様な塗布方法が挙げられる。
溶液（１）の塗布量や溶液（１）中の有機溶媒の量を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように位相差板（１）の膜厚を調製することができる。位相差板（１）における正面方向の位相差値（リタデーション値、Ｒ０（λ））は、式（７）により決定されることから、所望のＲ０（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒ０（λ）＝ｄ×Δｎ（λ）      （７）
［式中、Ｒ０（λ）は、波長 λ ｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長 λｎｍにおける屈折率異方性を表す。］
【０２７１】
得られる位相差板（１）の位相差値は、複合位相差板の用途により、３０〜３００nm程度の範囲から適宜選択すればよい。例えば、携帯電話や携帯情報端末の如き比較的小型の液晶表示装置に複合位相差板を適用する場合、位相差板（１）は、λ／４板であるのが有利である。
【０２７２】
例えば、位相差板（１）を広帯域λ／４板又はλ／２板として使用するためには、液晶モノマーに由来する構造単位の含有量を適宜選択し、式（７）に従い、位相差板（１）の膜厚を調整すればよい。位相差板（１）における膜厚は、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜３μｍであることがさらに好ましい。
具体的には、λ／４板の場合には、得られる位相差板（１）のＲ０（５５０）を１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは、１３０〜１５０ｎｍに調整すればよく、λ／２板の場合には得られる位相差板のＲ０（５５０）を２５０〜３００ｎｍ、好ましくは、２６５〜２８５ｎｍとなるように、調整すればよい。所望の位相差値を得るために、膜厚も調整される。
【０２７３】
溶液（１）の塗布と同時に、または塗布後に、有機溶媒を除去する。有機溶媒の除去方法としては、自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥等の方法が挙げられる。除去温度としては、１０〜１５０℃であることが好ましく、２５〜１２０℃であることがより好ましい。除去時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。除去温度及び除去時間が上記範囲内にあると、比較的耐熱性の低い支持基材及び配向膜を用いることができることから好ましい。
【０２７４】
有機溶媒を除去して得られた塗膜は、未重合の液晶モノマーからなる。該塗膜は、通常、液晶モノマーがネマチック相等の液晶性を示す相を与えるため、モノドメイン配向による複屈折性を有する。該塗膜は、通常０〜１５０℃程度、好ましくは２５〜１２０℃の低温で配向するものが好ましい。有機溶媒を除去した後、さらに加熱を行い、液晶モノマーの配向状態を調整してもよい。
【０２７５】
〔（iii）液晶モノマーを重合させて位相差板（１）を得る工程〕
工程（ii）で得られた塗膜には、未重合の液晶モノマーが含まれており、これを重合させることにより、位相差板（１）が得られる。具体的には、得られた塗膜に光照射をするか、または塗膜を加熱するか、あるいは塗膜に光照射及び加熱をして、液晶モノマーを重合させることにより位相差板（１）を得ることができる。
重合は、液晶モノマーに含まれる重合性基が光重合性であれば、可視光、紫外光、レーザー光等の光を照射して硬化させることにより実施される。また、該重合性基が熱重合性であれば、加熱により実施される。成膜性の観点から、光重合の方が好ましく、取り扱い性の観点から、紫外光による重合がより好ましい。
【０２７６】
得られた位相差板（１）は、正の一軸性を示すことが好ましい。位相差板（１）が正の一軸性を示すためには、通常、液晶モノマーの分子形状が棒状のものを用いればよい。
液晶モノマーの分子形状が棒状とは、２価のメソゲン基を２個以上有し、メソゲン基とメソゲン基とを連結する基を有する化合物である。
【０２７７】
［位相差板（２）］
本発明に用いられる位相差板（２）は、有機修飾粘土複合体及びバインダー樹脂を含有するものであり、有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを含む塗工液（以下、塗工液（２）と略記する。）から有機溶媒を除去して得ることができる。
有機修飾粘土複合体は、有機物と粘土鉱物との複合体であって、具体的には、層状構造を有する粘土鉱物と有機化合物とを複合化したものであり、有機溶媒に分散可能なものである。
【０２７８】
層状構造を有する粘土鉱物としては、スメクタイト族や膨潤性雲母等が挙げられ、その陽イオン交換能により有機化合物との複合化が可能となる。特に、スメクタイト族に属する粘土鉱物は、透明性にも優れることから、好ましい。スメクタイト族に属する粘土鉱物としては、ヘクトライト、モンモリロナイト、ベントナイト等が挙げられる。中でも、化学合成されたものは、不純物が少なく、透明性に優れる点で好ましい。特に、粒径を小さく制御した合成ヘクトライトは、可視光線の散乱が抑制されるために好ましく用いられる。
とりわけ、スメクタイト族に属するマグネシウムとケイ素４原子との原子比（Ｍｇ／Ｓｉ4）が０．０１以上２．７３未満である有機修飾粘土複合体が好ましい。
【０２７９】
粘土鉱物と複合化され得る有機物としては、粘土鉱物の酸素原子やヒドロキシ基と反応しうる化合物、または交換性陽イオンと交換可能なイオン性化合物等が挙げられる。具体的には、１〜４個の炭素数１〜３０の炭化水素基が窒素原子に結合した含窒素化合物、４個の炭素数１〜３０の炭化水素基がリン原子に結合したホスホニウム塩、３個の炭素数１〜３０の炭化水素基が硫黄原子に結合したスルホニウム塩等が挙げられる。上記含窒素化合物としては、１級アミン、２級アミン、３級アミン、４級アンモニウム塩等が挙げられる。
炭素数１〜３０の炭化水素基としては、炭素数１〜３０アルキル基、炭素数１〜３０のアルキレン基、炭素数７〜３０のアラルキル基等が挙げられる。少なくとも１個が、炭素数４〜２０の炭化水素基であることが好ましく、少なくとも１個が、炭素数６〜１０の炭化水素基であることがより好ましい。含窒素化合物としては、４級アンモニウム塩が好ましい。
【０２８０】
有機修飾粘土複合体は、２種類以上を組み合わせて用いることもできる。適当な有機修飾粘土複合体の市販品には、コープケミカル（株）から“ルーセンタイト STN”や“ルーセンタイト SPN”の商品名で販売されている合成ヘクトライトと４級アンモニウム塩との複合体等がある。
有機修飾粘土複合体には、その由来によって、塩素が塩素イオン等の形態として含まれている場合があり、塗工液（２）中のかかる塩素含有量が２，０００ｐｐｍ以下となるよう、例えば、有機修飾粘土複合体を水で洗浄することが好ましい。
【０２８１】
バインダー樹脂は、有機修飾粘土複合体を分散させ、トルエン、キシレン、アセトン、酢酸エチル等の有機溶媒に溶解するものであり、特に、ガラス転移温度が室温以下（約２０℃以下）であるものが好ましい。好ましいバインダー樹脂としては、ポリビニルブチラールやポリビニルホルマール等のポリビニルアセタール樹脂、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系樹脂、ブチルアクリレート等のアクリル系樹脂、ウレタン樹脂、メタアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２８２】
バインダー樹脂の市販品としては、電気化学工業（株）から“デンカブチラール ♯3000-K”の商品名で販売されているポリビニルアルコールのアルデヒド変性樹脂、東亞合成（株）から“アロン S1601”の商品名で販売されているアクリル系樹脂、住化バイエルウレタン（株）から“SBU ラッカー 0866” の商品名で販売されているイソホロンジイソシアネートベースのウレタン樹脂等が挙げられる。
【０２８３】
位相差板（２）における有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂の質量比（有機修飾粘土複合体：バインダー樹脂）は、通常１：２〜１０：１であり、１：１〜２：１が好ましい。
【０２８４】
塗工液（２）中の有機溶媒は、有機修飾粘土複合体を分散し、バインダー樹脂を溶解し得る有機溶媒であれば特に制限はなく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素系炭化水素溶媒等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０２８５】
かくして得られた位相差板（２）は、負の一軸性を示す。
【０２８６】
［複合位相差板］
本発明の複合位相差板は、位相差板（１）と位相差板（２）が接合していてもよいし、位相差板（１）と位相差板（２）との間にプライマー層が設けられていてもよい。
位相差板（１）と位相差板（２）とが接合している複合位相差板は、例えば、以下に示す方法により製造することができる。
【０２８７】
〔（iv）塗工液（２）を調製する工程〕
有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを混合することにより、塗工液（２）を調製する。通常、バインダー樹脂は有機溶媒に溶解され、有機修飾粘土複合体は有機溶媒中に分散されている。塗工液（２）中の有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂の合計の濃度は、塗工液（２）が実用上問題ない範囲でゲル化したり白濁したりしない程度に希釈すればよく、通常、３〜１５質量％程度である。最適な濃度は、有機修飾粘土複合体、バインダー樹脂それぞれの種類や両者の組成比により異なるため、組成毎に設定すればよい。また、製膜する際の塗布性を向上させるための粘度調整剤や、疎水性及び／または耐久性をさらに向上させるための架橋剤等の各種添加剤を加えてもよい。
【０２８８】
塗工液（２）中の塩素含有量は、２，０００ｐｐｍ以下が好ましい。塗工液（２）中の塩素含有量が２，０００ｐｐｍ以下であると、得られる位相差板（２）の面に、粘着剤層を介して液晶セルガラスを強く接合させることができる傾向があり、好ましい。塗工液（２）中の塩素含有量を２，０００ｐｐｍ以下に調整するためには、上述したように、有機修飾粘土複合体を水で洗浄する方法等が挙げられる。
【０２８９】
カールフィッシャー水分計で測定される塗工液（２）の含水率は、０．１５〜０．３５質量％の範囲であることが好ましい。含水率が０．３５質量％以下であると、塗工液（２）が水相と有機相に分離しにくい傾向にあり、含水率が０．１５質量％以上であると、位相差板（２）のヘイズ値を抑制する傾向にあることから好ましい。
【０２９０】
〔（v）塗工液（２）を位相差板（１）に塗布して、複合位相差板を得る工程〕
塗工液（２）を位相差板（１）上に塗布する方法としては、ダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、カンマコート法、バーコート法等のコーティング法が挙げられる。
【０２９１】
位相差板（２）の厚み方向の屈折率異方性は、式（８）により定義される厚み方向の位相差値Ｒthで表わされ、この値は、面内の進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ40と面内の位相差値Ｒ0 とから算出できる。すなわち、式（８）による厚み方向の位相差値Ｒthは、面内の位相差値Ｒ0 、進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ40、フィルムの厚みｄ、及びフィルムの平均屈折率ｎ0 を用い、以下の式 (９)〜（１１）から数値計算によりｎx、ｎy及びｎz を求め、これらを式（８）に代入して、算出することができる。
【０２９２】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ    （８）
Ｒ０  ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ                  （９）
Ｒ４０＝（ｎｘ−ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ)      （１０）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０                （１１）
ここで、
φ＝sin−１〔sin（４０°）／ｎ０〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ２×sin２（φ）＋ｎｚ２×cos２（φ）〕１／２
【０２９３】
位相差板（２）の厚み方向位相差値Ｒｔｈは、４０〜３００nm程度の範囲から、その用途、特に液晶セルの特性に合わせて、適宜選択するのが好ましい。その厚み方向位相差値Ｒｔｈは、５０nm以上２００nm以下が好ましい。
【０２９４】
次に、得られた塗工膜を加熱して有機溶媒を除去して、位相差板（１）と位相差板（２）とが接合された複合位相差板を得ることができる。
加熱温度は、通常０〜１５０℃であり、好ましくは２５〜１２０℃である。
【０２９５】
本発明の複合位相差板は、位相差板（１）及び位相差板（２）を含むものであり、配向膜、支持基材、プライマー層等を含んでいてもよい。例えば、図１（ａ）、図２（ａ）、図２（ｃ）及び図２（ｅ）に示すように、位相差板（１）１１と位相差板（２）１２とが接合されてなる複合位相差板であってもよいし、例えば、図１（ｂ）、図２（ｂ）、図２（ｄ）及び図２（ｆ）に示すように、位相差板（１）と位相差板（２）との間にプライマー層１３が設けられていてもよい。
【０２９６】
図２（ａ）に示すように、本発明の複合位相差板は、位相差板（１）と位相差板（２）とが接合されており、位相差板（１）の位相差板（２）が接合された面とは反対側の面に、支持基材１４が接合されていてもよい。図２（ｃ）及び（ｅ）に示すように、位相差板（１）と位相差板（２）とが接合されており、位相差板（１）の位相差板（２）が接合された面とは反対側の面に、配向膜１５が接合されていてもよい。図２（ｃ）に示すように、配向膜の位相差板（１）が接合された面とは反対側の面に、支持基材１４が接合されていてもよい。
【０２９７】
図２（ｂ）に示すように、本発明の複合位相差板は、位相差板（１）と位相差板（２）との間にプライマー層１３が形成されており、位相差板（１）のプライマー層１３が接合された面とは反対側の面に、支持基材１４が接合されていてもよい。図２（ｄ）及び（ｆ）に示すように、位相差板（１）と位相差板（２）との間にプライマー層１３が形成されており、位相差板（１）のプライマー層１３が接合された面とは反対側の面に、配向膜１５が接合されていてもよい。図２（ｄ）に示すように、配向膜１５の位相差板（１）が接合された面とは反対側の面に、支持基材１４が接合されていてもよい。
図２（ａ）〜図２（ｆ）に示した複合位相差板は、そのまま使用してもよいし、支持基材または支持基材及び配向膜を剥離して転写した後、使用してもよい。
支持基材または支持基材及び配向膜を剥離して転写する方法としては、本発明の複合位相差板を積層したい支持基材に後述する粘着剤層を積層し、次いで、支持基材及び配向膜を同時に剥離、または支持基材のみを剥離し、粘着剤層に接合する方法等が挙げられる。
【０２９８】
本発明の複合位相差板は、Ｎｚ係数と呼ばれる数値で、その位相差板の屈折率楕円体の形状を議論することができる。なお、Ｎｚ係数は、下記式（１２）により算出される。
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）    （１２）
Ｎｚ係数が１．１〜２．０、好ましくは１．２〜１．８を示す複合位相差板は、円偏光モードであり、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶セルと接合して、中小型の液晶表示装置用の液晶パネルに好適に用いられる。Ｎｚ係数が２．０〜５．０、好ましくは２．５〜４．５を示す複合位相差板は、直線偏光モードであり、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶セルと接合して、大型の液晶表示装置用の液晶パネルに好適に用いられる。
Ｎｚ係数は、液晶パネル毎に調整されるため、位相差板（１）の膜厚と位相差板（２）の膜厚を調整するだけで、所望のＮｚ係数を有する複合位相差板を調製することができる。
【０２９９】
本発明の複合位相差板は、通常、正の一軸性の位相差板と負の一軸性の位相差板を積層した、著しく薄肉化された複合位相差板である。また、薄肉であることから軽量化された複合位相差板である。
【０３００】
［プライマー層］
プライマー層は、通常、透明樹脂であるプライマーから形成される。コーティングによって形成される位相差板（２）の成膜時の欠陥や塗布ムラを抑制することができることからプライマー層を設けることが好ましい。また、塗工液（２）中の有機溶媒による位相差板（１）への影響を防ぐことができるという点でも、プライマー層を設けることが好ましい。
プライマー層は、プライマー層用樹脂溶液を位相差板（１）上に塗布し、溶媒を除去させることで形成することができる。プライマーとしては、塗工性に優れ、特に層形成後の透明性及び密着性に優れたものが好ましい。
【０３０１】
プライマーとしては、溶媒に溶解したものでもよく、また、膜厚を調整するために、その樹脂を溶媒で希釈して用いてもよい。樹脂の溶解性に応じて、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル溶媒；塩化メチレン、トリクロロエチレン、クロロホルム等の塩素化炭化水素溶媒；エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール溶媒等の一般的な有機溶媒を用いることもできるが、有機溶媒を含む溶液を用いてプライマー層を形成すると、位相差板（１）の光学特性に影響を及ぼすことがあるため、水を溶媒とする溶液を用いてプライマー層を形成することが好ましい。
【０３０２】
プライマー層用樹脂としては、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール等）、セルロース樹脂（例えばセルロースアセテートブチレート等）、（メタ）アクリル樹脂（例えばポリブチルアクリレート等）、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール樹脂及びエポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は、一液硬化型のものを用いてもよいし、二液硬化型のものを用いてもよい。水溶性のエポキシ樹脂が特に好ましい。水溶性のエポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミンのようなポリアルキレンポリアミンとアジピン酸のようなジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂が挙げられる。かかるポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、住化ケムテックス（株）から販売されている“スミレーズレジン（登録商標） 650(30)”や“スミレーズレジン（登録商標） 675”（登録商標）等が挙げられる。
【０３０３】
プライマーとして水溶性のエポキシ樹脂を用いる場合は、さらに塗布性を向上させるために、ポリビニルアルコール系樹脂等の他の水溶性樹脂を併用することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシ基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、アミノ基変性ポリビニルアルコールのような、変性されたポリビニルアルコール系樹脂であってもよい。適当なポリビニルアルコール系樹脂の市販品としては、（株）クラレから販売されているアニオン性基含有ポリビニルアルコールである“KL-318”（商品名）等が挙げられる。
【０３０４】
水溶性のエポキシ樹脂を含む溶液からプライマー層を形成する場合、エポキシ樹脂は、水１００質量部に対して、０．２〜１．５質量部程度の範囲とすることが好ましい。また、この溶液にポリビニルアルコール系樹脂を配合する場合、その量は、水１００質量部に対して、１〜６質量部程度とすることが好ましい。プライマー層の厚みは、 ０.１〜１０μｍ程度の範囲とすることが好ましい。
【０３０５】
プライマー層の形成方法は制限されず、ダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、カンマコート法、バーコート法等の公知の各種コーティング法を用いることができる。
【０３０６】
〔（vi）位相差板（１）上に、プライマー層を形成する工程〕
例えば、位相差板（１）上に、水や有機溶媒に溶解したプライマーの溶液を塗布し、乾燥することによりプライマー層を得ることができる。乾燥温度は、通常０〜１５０℃程度、好ましくは２５〜１２０℃である。
【０３０７】
〔（vii）プライマー層上に、位相差板（２）を形成する工程〕
塗工液（２）を、得られたプライマー層上に塗布し、乾燥させることにより、複合位相差板を得ることができる。
【０３０８】
［偏光部材］
本発明の偏光部材は、本発明の複合位相差板及び偏光板を含む。偏光部材は、通常、複合位相差板、粘着剤層及び偏光板が、この順序で積層されたものであり、その具体例として、図３の（ａ）〜（ｆ）で示す偏光部材が挙げられる。
図３（ａ）の偏光部材１８は、図１（ａ）の複合位相差板１１、１２、粘着剤層１６及び偏光板１７が、この順序で積層された偏光部材である。図３（ｂ）の偏光部材は、図１（ｂ）の複合位相差板、粘着剤層及び偏光板が、この順序で積層された偏光部材である。
図３（ｃ）の偏光部材は、図２（ｅ）の複合位相差板、粘着剤層及び偏光板が、この順序で積層された偏光部材である。図３（ｄ）の偏光部材は、図２（ｆ）の複合位相差板、粘着剤層及び偏光板が、この順序で積層された偏光部材である。図３（ｅ）の偏光部材は、図２（ｃ）の複合位相差板、粘着剤層及び偏光板が、この順序で積層された偏光部材である。図３（ｆ）の偏光部材は、図２（ｄ）の複合位相差板、粘着剤層及び偏光板が、この順序で積層された偏光部材である。
【０３０９】
偏光板は、面内の一方向に振動面を有する直線偏光を透過し、面内でそれと直交する方向に振動面を有する直線偏光を吸収するものであればよい。例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸した偏光子を有するフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性色素を吸着させた偏光子を有するフィルムなどが挙げられる。また、このような偏光子は単独で偏光板として利用してもよいが、好ましくは、偏光子の少なくとも片面（片面または両面）に保護フィルムが貼合されたものを用いることができる。この保護フィルムとしては、トリアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂や、ノルボルネンのような多環式の環状オレフィンをモノマーとした環状ポリオレフィン系樹脂などが用いられる。
【０３１０】
粘着剤層に用いられる粘着剤としては、アクリル系ポリマーや、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルなどをベースポリマーとするもので構成することができる。特に、アクリル系粘着剤のように、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を保持し、基材との接着性にも優れ、さらには耐候性や耐熱性などを有し、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等の剥離問題を生じないものを選択して用いることが好ましい。アクリル系粘着剤においては、メチル基やエチル基、ブチル基等の炭素数２０以下のアルキル基を有するアクリル酸のアルキルエステルと、（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチルなどからなる官能基含有アクリル系モノマーとを、ガラス転移温度が好ましくは２５℃以下、さらに好ましくは０℃以下となるように配合した、重量平均分子量が１０万以上のアクリル系共重合体が、ベースポリマーとして有用である。
【０３１１】
［光学部材］
本発明の光学部材は、本発明の複合位相差板及びカラーフィルターを含む。
具体的には、図５（ａ）に示すように、支持基材上にカラーフィルター層２０を形成し、その上に、上記したように位相差板（１）及び位相差板（２）を順次、形成して得られる光学部材が挙げられる。また、図５（ｂ）に示すように、支持基材１４上にカラーフィルター層２０を形成し、その上に、上記したように位相差板（１）、プライマー層１３及び位相差板（２）を順次、形成して得られる光学部材も挙げられる。さらに、図５（ｃ）に示すように、支持基材１４、カラーフィルター層２０、配向膜１５、位相差板（１）及び位相差板（２）が、この順で積層されてなる光学部材、図５（ｄ）に示すように、支持基材１４、カラーフィルター層２０、配向膜１５、位相差板（１）、プライマー層１３及び位相差板（２）が、この順で積層されてなる光学部材等も挙げられる。
また、図５（ｅ）に示すように、支持基材１４、位相差板（１）及び位相差板（２）を含む複合位相差板に、カラーフィルター層２０を積層してなる光学部材、図５（ｆ）に示すように、支持基材１４、位相差板（１）、プライマー層１３、位相差板（２）及びカラーフィルター層２０が、この順で積層されてなる光学部材、図５（ｇ）に示すように、支持基材１４、配向膜１５、位相差板（１）、位相差板（２）及びカラーフィルター層２０が、この順で積層されてなる光学部材、図５（ｈ）に示すように、支持基材１４、配向膜１５、位相差板（１）、プライマー層１３、位相差板（２）及びカラーフィルター層２０が、この順で積層されてなる光学部材等が挙げられる。
【０３１２】
本発明の光学部材を用い、定法により液晶セルを作製することができる。また、作製された液晶セルを用い、定法により液晶表示装置（ＬＣＤ）も作製することができる。
本発明の光学部材を含む液晶セルは、視野角や色再現性が改善される。
【０３１３】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置（以下、ＬＣＤと記すことがある）は、本発明の偏光部材及び液晶セルを含み、具体的には、偏光部材を液晶セルの一方の面に配置したＬＣＤ、偏光部材を液晶セルの両面に配置したＬＣＤが挙げられる。
偏光部材１８と液晶セル１９は、図４に示すように、通常、粘着剤層１６を介して積層される。
液晶セルの片面に本発明の偏光部材を配置し、液晶セルのもう一方の面には、本発明の偏光部材以外の偏光部材（例えば、偏光板）を前記と同様の粘着剤層を介して設けてもよい。また、液晶セルの片面に本発明の偏光部材を配置し、液晶セルのもう一方の面には、本発明の複合位相差板、本発明以外の複合位相差板、または、通常の位相差板を接合してもよい。上記構成によれば、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子が駆動し、光シャッター効果を奏する。
液晶セルとしては、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertical Alignmen）方式、ＩＰＳ（In-plane Switching）方式、ＥＣＢ（Electrically Controlled Bireviringence）方式などが挙げられ、好ましくはＶＡ方式及びＥＣＢ方式であり、特に好ましくは、ＶＡ方式である。
【実施例】
【０３１４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表わす部は、特記ない限り質量基準である。以下の例で用いた溶液（１）及び塗工液（２）の組成は、それぞれ次のとおりである。
【０３１５】
［溶液（１）］
表２に示す組成となるように各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して溶液（１）を調製した。
【０３１６】
【表２】
2011150314.tif 000158
【０３１７】
光重合開始剤：イルガキュア８１９(チバ・ジャパン社製)
レベリング剤：ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製）
有機溶媒：クロロホルム
液晶化合物：
【化１５２】
2011150314.tif 000159
【０３１８】
［塗工液（２）］
下記各成分を混合し、得られた混合物を攪拌した後、孔径１μmのフィルターで濾過し、塗工液（２）を調製した。
有機修飾粘土複合体：合成ヘクトライトとトリオクチルメチルアンモニウムイオンとの複合体〈コープケミカル（株）製“ルーセンタイト STN”（商品名）〉７．２部
バインダー樹脂：イソホロンジイソシアネートベースのポリウレタン樹脂の固形分濃度３０％の樹脂ワニス〈住化バイエルウレタン（株）製“SBU ラッカー0866”（商品名）〉                                                          １６．０部
有機溶媒：トルエン                                              ７６．８部
その他：水                                                        ０．３部
【０３１９】
用いた“ルーセンタイト STN”（商品名）中の塩素含有量は、１，１１１ｐｐｍであった。
塗工液（２）中の含水率をカールフィッシャー水分計で測定したところ、０．２５％であった。また、塗工液（２）中の有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂との質量比は、６／４であった。
【０３２０】
（実施例１）
ガラス基板（支持基材）に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業（株）製）の２質量％水溶液を塗布した後、１００℃で５分間加熱乾燥し、ガラス基板上に厚さ８９ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施し、配向膜及び支持基材の積層体を得た。得られた積層体のラビング処理を施した面に、表２の組成の溶液（１）をスピンコート法により塗布した。溶液（１）が塗布された積層体を、ホットプレート上で１００℃で１分間乾燥させた後、加熱しながら、ＵＶ照射装置（ユニキュア（ウシオ電気株式会社製））で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、位相差板（１）が積層された積層体を作成した。次に、位相差板（１）上に、塗工液（２）をスピンコート法により塗布した。
塗工液（２）が塗布された積層体を８０℃で５分間加熱乾燥し、ガラス基板（支持基材）、配向膜、位相差板（１）及び位相差板（２）が、この順で積層された複合位相差板を得た。
【０３２１】
＜光学特性の測定＞
上記で得られた複合位相差板の５４９ｎｍの波長での位相差値の入射角依存性を、測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定した。支持体を傾斜せずに測定した位相差値（即ち正面位相差値）をＲ０、支持体を４０度傾斜させて測定した位相差値をＲ４０として、結果を表３に示した。尚、配向膜及び支持基材（ガラス基板）のみからなる積層体のＲ０及びＲ４０は、それぞれ、どちらも０ｎｍであったことから、該積層体に位相差はなく、測定機で得られた複合位相差板の位相差値Ｒ０及びＲ４０は、複合位相差板のうち位相差板（１）及び位相差板（２）に由来する位相差によるものであるとみなすことができることを確認した。
また、複合位相差板から位相差板（１）及び位相差板（２）を一部剥離し、位相差板（１）及び位相差板（２）のみからなる複合位相差板の厚みｄ（μｍ）を、レーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス社製）を用いて測定した。複合位相差板の平均屈折率（ｎ０）を１．６として、前記式（９）〜式（１１）から、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚを求め、下記式（１２）：
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）    （１２）
より、Ｎｚ係数を算出した。以上の結果を表３に示す。
さらに、波長４５１ｎｍ、５４９ｎｍ、及び６２８ｎｍにおける複合位相差板の位相差値Ｒｅ（４５１）、Ｒｅ（５４９）及びＲｅ（６２８）を測定した。その位相差値の値から、［Ｒｅ（４５１）／Ｒｅ（５４９）］（αとする）及び［Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４９）］（βとする）を算出した。結果を表４に示す。
【０３２２】
（実施例２）
位相差板（２）の厚みを変化させた以外は実施例１と同様にして複合位相差板を得た。得られた複合位相差板の光学特性の結果を表３及び表４に示す。
【０３２３】
（実施例３〜１１）
実施例１と同様にして、表２に示す組成の溶液（１）を塗布して得られた位相差板（１）上に塗工液（２）を塗布し、位相差板（２）を積層することにより複合位相差板を得た。得られた複合位相差板の光学特性の結果を表３及び表４に示す。
【０３２４】
（比較例１）
位相差フィルム（一軸延伸フィルムＷＲＦ−Ｓ（変性ポリカーボネート系樹脂）、位相差値１４１ｎｍ、厚み５０μｍ、帝人化成（株）製）上に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業（株）製）の２質量％水溶液を塗布した後、加熱乾燥し、位相差フィルム上に、厚さ７９ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した後、該フィルムをガラス基板（支持基材）に粘着剤で貼合した。続いて、ラビング処理を施した面に、塗工液（２）をスピンコート法により塗布し、加熱乾燥することにより、支持基材、粘着剤層、位相差フィルム、配向膜及び位相差板（２）が、この順で積層されてなる複合位相差板を得た。
【０３２５】
＜光学特性の測定＞
上記にて得られた複合位相差板の５４９ｎｍの波長での位相差値の入射角依存性を、実施例と同様の方法で測定した。尚、支持基材（ガラス基板）のＲ０及びＲ４０は、どちらも０ｎｍであったことから、支持基材に位相差はなく、測定機で得られた複合位相差板の位相差値は、位相差フィルム、配向膜及び位相差板（２）に由来する位相差によるものであるとみなすことができることを確認した。
また、前記複合位相差板の平均屈折率（ｎ０）を１．６として、実施例１と同様に、Ｎｚ係数を算出した。さらに、実施例１と同様に、複合位相差板のＲｅ（４５１）、Ｒｅ（５４９）及びＲｅ（６２８）を測定し、その位相差値の値から、α及びβを算出した。結果を表４に示す。
【０３２６】
（比較例２）
位相差板（２）の厚みを変化させた以外は比較例１と同様にして複合位相差板を得た。
得られた複合位相差板の光学特性の結果を表３及び表４に示す。
【０３２７】
（比較例３）
位相差フィルム（横一軸延伸エスシーナ（ノルボルネン系樹脂））、位相差値１４０ｎｍ、厚み２６．７μｍ、積水化学工業（株）製）を用いて、比較例１と同様にして複合位相差板を得た。得られた複合位相差板の光学特性の結果を表３及び表４に示す。
【０３２８】
（比較例４）
位相差板（２）の厚みを変化させた以外は比較例３と同様にして複合位相差板を得た。得られた複合位相差板の光学特性の結果を表３及び表４に示す。
【０３２９】
【表３】
2011150314.tif 000160
【０３３０】
【表４】
2011150314.tif 000161
【０３３１】
（実施例１２〜１８）
実施例１と同様にして、表２に示す組成の溶液（１）を塗布して得られた位相差板（１）上に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業（株）製）の２質量％水溶液を塗布した後、１００℃で５分間加熱乾燥することにより、厚さ９０ｎｍのプライマー層を形成した。次に、該塗工液（２）をスピンコート法により塗布し、８０℃で５分間加熱乾燥することにより、ガラス基板（支持基材）、配向膜、位相差板（１）、プライマー層及び位相差板（２）が、この順で積層された複合位相差板を得た。得られた複合位相差板の光学特性の結果を実施例１と同様の方法で測定した。表５及び表６に示す。
【０３３２】
【表５】
2011150314.tif 000162
【０３３３】
【表６】
2011150314.tif 000163
【０３３４】
表３〜６によれば、本発明の複合位相差板は、Ｎｚ係数及び位相差値の波長分散特性について、比較例の複合位相差板と同等程度の優れた光学特性を示すとともに、厚みは一桁小さく、薄肉化されている。
【産業上の利用可能性】
【０３３５】
本発明の複合位相差板は、厚みの薄い複合位相差板を得ることができ、かつ広い波長域において一様の偏光変換を行うことができる。
【図１】
2011150314.tif 000165
【図２】
2011150314.tif 000166
【図３】
2011150314.tif 000167
【図４】
2011150314.tif 000168
【図５】
2011150314.tif 000169