(57)【要約】      （修正有）【課題】インプリントテンプレートの表面と、インプリントリソグラフィによって形成された基板上のパターン形成された層との迅速な分離を可能にする。【解決手段】ＵＶ硬化性の液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法は、充填期間Ａにわたってパターン形成された表面とＵＶ硬化性の媒体を貼り合わせるステップと、照明期間ＢにわたってＵＶ硬化性の媒体をＵＶ放射で照明するステップと、ＵＶ硬化性の媒体が自己支持型の層を形成するように保持期間Ｃにわたってパターン形成された表面とＵＶ硬化性の液状媒体とを保持するステップと、保持期間の終了時２４にパターン形成された表面とパターン形成された層を分離するステップとを含む。照明期間の開始時間２２は、充填期間の終了時間２１よりもプリキュア期間Ｅだけ早い。また、照明期間の終了時間２３が保持期間の終了時間２４よりも早い方法も開示される。【選択図】図３
2011049554.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部を含むパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法であって、
前記パターン形成された表面が前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせるステップと、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射で照明するステップと、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、前記保持期間の開始時間が前記充填期間の終了時間に開始し、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように前記保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持するステップと、
前記保持期間の終了時間に前記パターン形成された表面と前記パターン形成された層とを分離するステップとを含み、
前記照明期間の開始時間が、前記充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早い方法。
【請求項２】
前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が、前記照明期間の開始時間後に実質的に変化しない粘度を有する抑制期間を示し、前記プリキュア期間が、前記抑制期間よりも短い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記照明期間の開始時間が、前記充填期間の開始時間よりも早い、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記パターン形成された表面と前記パターン形成された層の分離の前に実質的に個体の自己支持型のパターン形成された層を提供するように前記保持期間の終了時間が選択される、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記照明期間の終了時間が、前記保持期間の終了時間よりも早い、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が、アクリレートレジスト又はビニルエーテルレジストである、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が、硬化がＵＶ照明によって開始し、ＵＶ照明が終了した後も継続する媒体である、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記ＵＶ放射が、前記照明期間にわたって変化する出力を有する、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記出力が、前記照明期間の開始時間の初期値から前記照明期間の終了時間の最終値まで漸進的に減少する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記出力が、前記照明期間の開始時間の初期値から最大値まで漸進的に増加する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記出力が、前記初期値から前記最大値まで漸進的に増加し、前記最大値から前記照明期間の終了時間の最終値まで漸進的に減少する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
凹部を含むパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法であって、
前記パターン形成された表面が前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせるステップと、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射で照明するステップと、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、前記保持期間の開始時間が前記充填期間の終了時間に開始し、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように前記保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持するステップと、
前記保持期間の終了時間に前記パターン形成された表面と前記パターン形成された層とを分離するステップとを含み、
前記照明期間の終了時間が、前記保持期間の終了時間よりも早い方法。
【請求項１３】
前記照明期間の開始時間が、前記充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早い、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
基板のインプリントリソグラフィのための装置であって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを基板上で貼り合わせて前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成するように構成されたインプリントテンプレート構成と、ＵＶ放射を提供して前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を硬化させるように配置されたＵＶ放射出口と、前記装置の動作を制御するように配置されたコントローラとを備え、前記装置が、
前記パターン形成された表面が前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせ、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を前記ＵＶ放射出口からのＵＶ放射で照明し、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、前記保持期間の開始時間が、前記充填期間の終了時間に開始し、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように前記保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持し、
前記保持期間の終了時間に前記パターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するように構成され、
前記照明期間の開始時間が、前記充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早くなるように前記コントローラが前記装置を動作させるように構成される装置。
【請求項１５】
インプリントリソグラフィ装置のためのコントローラであって、前記インプリントリソグラフィ装置が、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを基板上で貼り合わせて前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成するように構成されたインプリントテンプレート構成と、ＵＶ放射を提供して前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を硬化させるように配置されたＵＶ放射出口とを備え、前記インプリントリソグラフィ装置が、
前記パターン形成された表面が前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせ、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を前記ＵＶ放射出口からのＵＶ放射で照明し、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、前記保持期間の開始時間が前記充填期間の終了時間に開始し、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように前記保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持し、
前記保持期間の終了時間に前記パターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するように構成され、
前記照明期間の開始時間が、前記充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早くなるように前記コントローラが前記インプリントリソグラフィ装置を動作させるように構成されるコントローラ。
【請求項１６】
基板のインプリントリソグラフィのための装置であって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを基板上で貼り合わせて前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成するように構成されたインプリントテンプレート構成と、ＵＶ放射を提供して前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を硬化させるように配置されたＵＶ放射出口と、前記装置の動作を制御するように配置されたコントローラとを備え、前記装置が、
前記パターン形成された表面が前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせ、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を前記ＵＶ放射出口からのＵＶ放射で照明し、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、前記保持期間の開始時間が前記充填期間の終了時間に開始し、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように前記保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持し、
前記保持期間の終了時間に前記パターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するように構成され、
前記照明期間の終了時間が、前記保持期間の終了時間よりも早くなるように前記コントローラが前記装置を動作させるように構成される装置。
【請求項１７】
インプリントリソグラフィ装置のためのコントローラであって、前記インプリントリソグラフィ装置が、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを基板上で貼り合わせて前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成するように構成されたインプリントテンプレート構成とＵＶ放射を提供して前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を硬化させるように配置されたＵＶ放射出口とを備え、前記インプリントリソグラフィ装置が、
前記パターン形成された表面が前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせ、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を前記ＵＶ放射出口からのＵＶ放射で照明し、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、前記保持期間の開始時間が前記充填期間の終了時間に開始し、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように前記保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持し、
前記保持期間の終了時間に前記パターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するように構成され、
前記照明期間の終了時間が、前記保持期間の終了時間よりも早くなるように前記コントローラが前記インプリントリソグラフィ装置を動作させるように構成されるコントローラ。
【請求項１８】
凹部を含むパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートを用いてＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法であって、
前記パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としての前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせるステップであって、前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が流動して前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填するステップと、
前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を前記パターン形成された表面と前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体との貼り合わせの前又は貼り合わせ中に開始するＵＶ放射で照明するステップとを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、ＵＶインプリントリソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ分野では、所与の基板領域上のフィーチャの密度を増大するために、リソグラフィパターン内のフィーチャのサイズを低減するという従来からの要望がある。フォトリソグラフィ分野では、小さいフィーチャへの努力によってコスト高ではあるが液浸リソグラフィ及び極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィなどの技術が開発されてきた。
【０００３】
[0003]  ますます関心が寄せられている潜在的にコスト高でない小さいフィーチャを得る方法が、一般に「スタンプ」（多くの場合、インプリントテンプレートと呼ばれる）を用いて基板上にパターンを転写するいわゆるインプリントリソグラフィである。インプリントリソグラフィの利点は、フィーチャの解像度が、例えば、放射源の放射波長又は投影システムの開口数によって制限されないということである。逆に、解像度は、主としてインプリントテンプレート上のパターンの密度によって制限される。
【０００４】
[0004]  インプリントリソグラフィは、パターン形成する基板の表面上のインプリント可能な媒体のパターン形成工程を含む。パターン形成工程は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面をインプリント可能な媒体の層と接触させてインプリント可能な媒体がパターン形成された表面の凹部に流入してパターン形成された表面上の突起によって脇へ押し退けられる工程を含むことができる。凹部は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面のパターンフィーチャを形成する。通常、インプリント可能な媒体は、パターン形成された表面とインプリント可能な媒体とが接触する際に流動することができる。インプリント可能な媒体のパターン形成に続けて、インプリント可能な媒体は流動不能な状態又は凍結状態に適切に達し、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とパターン形成されたインプリント可能な媒体は分離される。次に、通常、基板とパターン形成されたインプリント可能な媒体は、さらに処理されて基板のパターン形成又は別のパターン形成が実行される。インプリント可能な媒体は、通常、パターン形成する基板表面上のインプリント可能な媒体の液滴から形成される。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  ＵＶインプリントリソグラフィ、特にステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）は、通常、ＵＶ硬化性のフォトレジストなどのＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の液滴のアレイを例えば基板上に分配するステップと、その後のインプリントテンプレートのパターン形成された表面を液滴のアレイに整列させるステップ又はインプリントテンプレートのパターン形成された表面を基板に整列させるステップと、インプリントテンプレートのパターン形成された表面が液滴に接触するように、パターン形成された表面と基板とを貼り合わせる（例えば、パターン形成された表面を基板に近づけ、基板をパターン形成された表面に近づけ、又はパターン形成された表面と基板の両方を互いに近づけることで）ステップとを含む。パターン形成された表面と基板が貼り合わされるにつれ、液滴は散乱し流出してパターン形成された表面の凹部を実質的に充填することができる。ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、通常、その後硬化し、インプリントテンプレートと基板は、ＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体を間に挟んで保持期間にわたって貼り合わされた状態に保持される。通常、ＵＶ照射は、ＵＶ放射に対して透過性又は半透過性になるように構成されたインプリントテンプレートを通してＵＶ硬化性の媒体上へ誘導される。例えば、インプリントテンプレートは、石英などの材料から構成されていてもよい。結果として得られる硬化した媒体のパターン形成された層が自己支持状態になるようにＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が十分に硬化すると、次に、インプリントテンプレートは、基板と結果として得られるパターン形成された層（例えば、パターン形成された表面を基板から移動させ、基板をパターン形成された表面から移動させ、又はパターン形成された表面と基板の両方を互いに引き離すことで）から分離する。「自己支持」とは、インプリントテンプレートがパターン形成された層から分離された時点でパターン形成された層がパターン形成された表面のインプリントされた形状を維持するのに十分な粘度を備えるか又は十分にゲル状であるか又は固体化又は硬化しているという意味である。次に、インプリントテンプレートを用いて他の基板又は同じ基板の他の部分がインプリントされ、この工程が繰り返される。例えば、光リソグラフィで一般に使用される従来のエッチング技術によって、硬化した層内のパターンをその下の基板に転写することができる。
【０００６】
[0006]  光リソグラフィなどの他のリソグラフィ技術と比較して低スループットレートは、ＳＦＩＬなどのインプリントリソグラフィ方法にとって問題である。ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の液滴がインプリントテンプレート上のパターン形成された表面の凹部に流入して凹部を実質的に充填するのにかかる時間は、通常、工程全体のうち２秒を超える最も時間がかかるステップのうちの１つである。ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が凹部に流入して凹部を実質的に充填するのにかかる時間のために、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の粘度はできるだけ低くしてフローを促進すべきである。周知のＵＶインプリントリソグラフィ方法では、パターン形成された表面の凹部が充填された後に、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の自己支持型のパターン形成された層への硬化が開始する。これは、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の粘度がパターン形成された表面の凹部が十分に充填されるまでは増大しないためである。粘度のいかなる増大も凹部の充填時間を伸ばす可能性があり、全体の工程時間は増加する。通常、硬化が通常実行される保持ステップはさらに０．５〜１秒が必要であり、総工程時間を大幅に増大させる一因となる。
【０００７】
[0007]  保持期間の長さは高いＵＶ照射出力を用いて低減することができるが、これは、熱膨張に起因する応力及び歪みなどのインプリントテンプレート、インプリント可能な媒体及び／又は基板の加熱に関連付けられた１つ又は複数の問題を引き起こすことがある。
【０００８】
[0008]  したがって、例えば、工程スループットを増大させるために、インプリントテンプレートのパターン形成された表面と、特にＳＦＩＬなどのＵＶインプリントリソグラフィによって形成された基板上のパターン形成された層とのより迅速な分離を可能にするインプリントリソグラフィ方法及び装置を提供することが望ましい。したがって、例えば、保持期間の長さを低減することができるインプリントリソグラフィ方法及び装置を提供することが望ましい。したがって、例えば、既存のＵＶインプリントリソグラフィ装置に小さい変更を加えることで本発明のある実施形態を実行することができるように、ＵＶインプリントリソグラフィ装置の物理的な特徴と特性とを大幅に変更する必要がないインプリントリソグラフィ方法及び装置を提供することが望ましい。
【０００９】
[0009]  一態様では、凹部を含むパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法であって、
パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としてのＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせるステップと、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射で照明するステップと、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、保持期間の開始時間が充填期間の終了時間に開始し、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持するステップと、
保持期間の終了時間にパターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するステップとを含み、
照明期間の開始時間は充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早い方法が提供される。
【００１０】
[0010]  以下の特徴は、適宜、本明細書に記載されるあらゆる方法及び装置のすべての種々の実施形態及び態様に適用可能である。以下の特徴の好適な組合せを、例えば、請求の範囲に記載する本明細書のいずれかの方法及び装置の一部として使用することができる。本発明の方法及び装置のある実施形態は、特にステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）に好適である。
【００１１】
[0011]  ある実施形態では、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、照明期間の開始後の粘度が実質的に変化せずプリキュア期間が抑制期間より短い抑制期間（すなわち、抑制期間中は粘度の増大は１０％以下である）を示す。
【００１２】
[0012]  照明期間の開始時間は、充填期間の開始時間より早くてもよい。これは、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の抑制期間が必要な総充填時間より長い時にあてはまる。このケースでは、照明期間の開始は、例えば、インプリントテンプレートと基板とのアライメント又は貼り合わせ中など、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の液滴との接触に先立っていてもよい。
【００１３】
[0013]  ある実施形態では、保持期間の終了時間は、パターン形成された表面とパターン形成された層との分離より前に実質的に固体の自己支持型のパターン形成された層を提供するように選択される。「自己支持」とは、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が、例えば、パターン形成された表面とインプリント可能な媒体との分離後にさらに硬化するためにその形状を維持するように、硬化期間の最後に、十分に高い粘度まで硬化したという意味である。パターン形成された表面とインプリント可能な媒体との分離前に、インプリント可能な媒体を固体の自己支持型の層まで硬化させることができる。
【００１４】
[0014]  照明期間の終了時間は、保持期間の終了時間より早くてもよい。これは、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がＵＶ照明の終了後も硬化を継続する媒体である時に好適である。ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、ＵＶ照明によって硬化が開始し、ＵＶ照明の終了後も継続する媒体であってもよい。
【００１５】
[0015]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、例えば、アクリレートレジストであってもよい。シリコン含有アクリレートなどのアクリレートは、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体内で使用するのに適したモノマーである。このタイプのモノマーは、ラジカル重合ルート（Ｌｏｎｇ他、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．、２００７、１７、３５７５）により硬化すると考えられる。ラジカルは、レジスト配合物内に存在するラジカル開始剤のＵＶ照明によって形成される。
【００１６】
[0016]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、ＵＶで生成される触媒を触媒とする反応で硬化する媒体であってもよい。例えば、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、ビニルエーテルＵＶフォトレジストであってもよい。ビニルエーテルモノマー、特にケイ素基を含むモノマーは、本発明のある実施形態で使用される（Ｋｉｍ他、Ｊ．Ｖａｃ  Ｓｃｉ  Ｔｅｃｈ  Ｂ、２００５、２３、２９６７）。このようなビニルエーテルの重合は酸によって開始すると考えられ、ＵＶ照明を受けるとプロトンを形成する光酸発生剤（ＰＡＧ）を開始剤分子として使用することができる。
【００１７】
[0017]  ＵＶ放射は、照明期間にわたって変化する出力を有することができる。言い換えれば、ＵＶ出力は、照明期間にわたって変化させることができる。この変化は、段階的な変化又は漸進的な変化であってよい。本明細書で使用する「漸進的な」又は「漸進的に」という用語は、連続的に且つ段階的な変化なしに、例えば、０．０５秒で１０％を超える変化なしに、という意味である。
【００１８】
[0018]  例えば、ＵＶ照明出力は、照明期間の開始時間の初期値から照明期間の終了時間の最終値まで漸進的に減少してもよい。「初期値」は、照明期間の開始時間直後の安定値を意味し、「最終値」は、照明期間の終了時間直後の安定値を意味する。例えば、出力の最終値はゼロであってもよい。これは、出力が照明期間の終了時間までに漸進的にゼロまで減少したことを意味する。
【００１９】
[0019]  出力は、開始時間の初期値から最大値まで滑らかに増加してもよい。例えば、出力の初期値はゼロであってもよい。出力は、初期値から最大値まで漸進的に増加してもよく、次に、最大値から照明期間の終了時間の最終値まで漸進的に減少してもよい。最終値は、例えばゼロであってもよい。
【００２０】
[0020]  一態様では、凹部を含むパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法であって、
パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としてのＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせるステップと、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射で照明するステップと、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、保持期間の開始時間が充填期間の終了時間に開始し、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持するステップと、
保持期間の終了時間にパターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するステップとを含み、
照明期間の終了時間は保持期間の終了時間よりも早い方法が提供される。
【００２１】
[0021]  照明期間の開始時間は、充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早くてもよい。
【００２２】
[0022]  その他の例示の好適な又は望ましい特徴については上述した。
【００２３】
[0023]  一態様では、基板のインプリントリソグラフィのための装置であって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを基板上で貼り合わせてＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成するように構成されたインプリントテンプレート構成と、ＵＶ放射を提供してＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を硬化させるように配置されたＵＶ放射出口と、装置の動作を制御するように配置されたコントローラとを備える装置が提供される。この装置は、
パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としてのＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせ、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射出口からのＵＶ放射で照明し、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、保持期間の開始時間が、充填期間の終了時間に開始し、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持し、
保持期間の終了時間にパターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するように構成され、
照明期間の開始時間は充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早くなるようにコントローラが装置を動作させるように構成される。
【００２４】
[0024]  一態様では、基板のインプリントリソグラフィのための装置であって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを基板上で貼り合わせてＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成するように構成されたインプリントテンプレート構成と、ＵＶ放射を提供してＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を硬化させるように配置されたＵＶ放射出口と、装置の動作を制御するように配置されたコントローラとを備える装置が提供される。この装置は、
パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間とを有する充填期間にわたって、パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としてのＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせ、
開始時間と終了時間とを有する照明期間にわたってＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射出口からのＵＶ放射で照明し、
開始時間と終了時間とを有する保持期間であって、保持期間の開始時間が充填期間の終了時間に開始し、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を適切に硬化させて自己支持型のパターン形成された層を形成するように保持期間の終了時間が選択される保持期間にわたって、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせた状態に保持し、
保持期間の終了時間にパターン形成された表面とパターン形成された層とを分離するように構成され、
照明期間の終了時間は保持期間の終了時間よりも早くなるようにコントローラが装置を動作させるように構成される。
【００２５】
[0025]  一態様では、上記の装置のコントローラを別に提供してもよい。例えば、照明期間の開始時間が充填期間の終了時間よりもプリキュア期間だけ早くなるようにインプリントリソグラフィ装置を動作させるように構成されたコントローラ、又は照明期間の終了時間が保持期間の終了時間よりも早くなるようにインプリントリソグラフィ装置を動作させるように構成されたコントローラである。
【００２６】
[0026]  一態様では、凹部を含むパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートを用いてＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体からパターン形成された層を基板上に形成するインプリントリソグラフィ方法であって、
パターン形成された表面と未硬化の流動可能な液体としてのＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを貼り合わせるステップであって、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体が流動してパターン形成された表面の凹部を実質的に充填するステップと、
ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をパターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液体との貼り合わせの前又は貼り合わせ中に開始するＵＶ放射で照明するステップとを含む方法が提供される。
【００２７】
[0027]  上記様々な特徴は、また、適宜、本明細書に記載する装置及びコントローラの実施形態にも適用可能である。これらの特徴の好適な組合せを、例えば、請求の範囲に記載する装置及びコントローラの一部として使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
[0028]  以下、添付の図面を参照しながら、本発明の特定の実施形態について説明する。
【図１】[0029]ＵＶインプリントリソグラフィの一例の略図である。
【図２】[0030]ＵＶインプリントリソグラフィを実行する工程の略図である。
【図３】[0031]本発明のある実施形態によるＵＶインプリントリソグラフィを実行する方法の略図である。
【図４】[0032]本発明のある実施形態によるＵＶインプリントリソグラフィを実行する方法の略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
[0033]  ＵＶインプリントリソグラフィの方法の一例を図１に概略的に示す。
【００３０】
[0034]  図１は、紫外線（ＵＶ）を透過する透明な又は半透明のテンプレートとインプリント可能な媒体としてのＵＶ硬化性液体（本明細書では「ＵＶ」という用語が便宜上使用されているが、インプリント可能な媒体を硬化させる任意の適切な化学線放射を含むものと解釈すべきである）の使用を含むＵＶインプリントリソグラフィの一例を示す。ＵＶ硬化性液体は、多くの場合、ホットインプリントリソグラフィで使用される熱硬化性及び熱可塑性樹脂よりも粘性が低く、したがって、はるかに速く移動してテンプレートのパターンフィーチャを充填することができる。パターン形成された表面を備えた石英テンプレート１２が基板６上のＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体（例えば、樹脂）１０に当てられる。オプションとして、基板６とインプリント可能な媒体１０との間に平坦化層８を提供してもよい。ホットインプリントリソグラフィにおける熱又は温度サイクリングを使用する代わりに、石英テンプレート１２（パターン形成された表面を有する）を通してインプリント可能な媒体１０上に印加されるＵＶ放射１４でインプリント可能な媒体１０を硬化させることでパターンが凝固する。テンプレート１２を除去した後で、インプリント可能な媒体１０はエッチングされる。ＵＶインプリントリソグラフィによって基板をパターン形成する特定の方法は、いわゆるステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）である。ＳＦＩＬは、従来、ＩＣ製造で使用されている光ステッパと類似の方法で基板を細かいステップでパターン形成するために使用することができる。ＵＶインプリントの詳細情報については、例えば、米国特許出願公開第２００４−０１２４５６６号、米国特許第６，３３４，９６０号、ＰＣＴ特許出願公開ＷＯ０２／０６７０５５号、及び「Ｍｏｌｄ−ａｓｓｉｓｔｅｄ  ｎａｎｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ：Ａ  ｐｒｏｃｅｓｓ  ｆｏｒ  ｒｅｌｉａｂｌｅ  ｐａｔｔｅｒｎ  ｒｅｐｌｉｃａｔｉｏｎ」、Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．Ｂ１４（６），１９９６年１１月／１２月と題されたＪ．Ｈａｉｓｍａ氏の論文を参照されたい。
【００３１】
[0035]  また、ホットインプリントリソグラフィを用いた上記インプリント技術の組合せも可能である。例えば、インプリント可能な媒体の加熱及びＵＶ硬化の組合せを記述する米国特許出願公開第２００５−０２７４６９３号を参照されたい。
【００３２】
[0036]  ＵＶインプリントリソグラフィを実行する従来の方法を図２に概略的に示す。
【００３３】
[0037]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体１０の液滴が未硬化の流動可能な液体として基板上に提供される。インプリントテンプレート１２のパターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体とを充填期間Ａにわたって貼り合わせる処理が、パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間２０と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間２１に開始する。
【００３４】
[0038]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射１４で照明する処理は、開始時間２２と終了時間２３とを有し、照射出力が均一な照明期間Ｂにわたって実行される。照明期間Ｂの開始時間２２は、充填期間Ａの終了時間２１に開始する。
【００３５】
[0039]  照明期間Ｂの間、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、開始時間２１と終了時間２４とを有する保持期間Ｃであって、保持期間の開始時間が充填期間の終了時間に開始し、保持期間の終了時間が照明期間Ｂと同じ終了時間を有する保持期間Ｃにわたって張り合わされた状態に保持される。言い換えれば、この方法では、照明期間Ｂと保持期間Ｃは同時に生起する。
【００３６】
[0040]  照明期間と保持期間のそれぞれの終了時間に、パターン形成された表面とパターン形成された層は、分離されて自己支持型のパターン形成された層が残され、次に、この層は必要に応じて処理される。
【００３７】
[0041]  パターン形成された表面の液滴との最初の接触２０からインプリントテンプレートと自己支持型のパターン形成された層との分離２４までの合計時間は、全期間Ｆとして示されている。
【００３８】
[0042]  図３は、本発明のある実施形態によるＵＶインプリントリソグラフィを実行する方法を概略的に示す。
【００３９】
[0043]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体１０の液滴が未硬化の流動可能な液体として基板上に提供される。インプリントテンプレート１２のパターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を充填期間Ａにわたって圧着する処理が、パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間２０と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間２１に開始する。
【００４０】
[0044]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射１４で照明する処理は、開始時間２２と終了時間２３とを有し、照射出力が均一な照明期間Ｂにわたって実行される。しかし、この実施形態では、照明期間Ｂの開始時間２２は、充填期間Ａの終了時間２１の前に開始する。保持期間Ｃの開始と照明期間Ｂの開始の間の時間差は、プリキュア期間Ｅで表される。
【００４１】
[0045]  充填期間Ａの終了時間２１の後、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、開始時間２１と終了時間２４とを有する保持期間Ｃであって、保持期間の開始時間が充填期間の終了時間に開始し、保持期間の終了時間が照明期間と同じ終了時間を有する保持期間Ｃにわたって貼り合わされた状態に保持される。言い換えれば、照明期間Ｂは、充填期間Ａの一部と重なり、保持期間Ｃ全体にわたる。
【００４２】
[0046]  照明期間と保持期間のそれぞれの終了時間に、パターン形成された表面とパターン形成された層は、分離されて自己支持型のパターン形成された層が残され、次にこの層は必要に応じて処理される。
【００４３】
[0047]  この実施形態で使用されるＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、抑制期間を示す媒体であってもよい。
【００４４】
[0048]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の保持期間Ｃは、通常、ＵＶ出力、開始剤タイプ及び濃度（ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は重合を引き起こすＵＶ活性化開始剤を含む）によって変化し、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体のモノマーによっても変化する。
【００４５】
[0049]  ＵＶインプリントリソグラフィで使用されるＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体は、最初は抑制されているＵＶ硬化を示し、その結果、適切な硬化を可能にする保持期間Ｃが望ましくないことに長くなる。例えば、アクリレートタイプのレジストは、酸素抑制を受ける。レジスト配合物内に溶解した酸素は、アクリレートと開始剤の混合物内の光生成されたラジカルと反応することが例証されている（Ｍ．Ｄ．Ｄｉｃｋｅｙ他、ＡｌＣｈＥ  Ｊ．、２００５、５１、２５４７及びＭ．Ｄ．Ｄｉｃｋｅｙ他、ＡｌＣｈＥ  Ｊ．、２００６、５２、７７７）。ラジカルは、酸素と反応して安定型ペルオキシラジカルを形成し、この反応は、重合反応と比較して迅速である。これによって、アクリレートの所望の重合反応が起こる前に特定の抑制期間が生まれると考えられる。抑制期間は、例えば、開始剤の濃度、酸素濃度、及びＵＶ放射出力によって変化する（Ｍ．Ｄ．Ｄｉｃｋｅｙ他、ＡｌＣｈＥ  Ｊ．、２００５、５１、２５４７）。抑制期間は、０．５秒から数秒の範囲である。
【００４６】
[0050]  ビニルエーテルタイプのレジストは、また、１〜２秒程度の抑制期間を受ける（Ｃ．Ｄｅｃｋｅｒ他、Ｐｒｏｇｒ．Ｏｒｇ．Ｃｏａｔ．２００１、４２、２５３）。酸を触媒とするビニルエーテルの重合反応の場合の抑制期間の基本メカニズムはよく分かっていない。Ｄｅｃｋｅｒ他の示唆によると、ＰＡＧ（例えば、スルホニウム塩）の光分解と光子の実際の生成との間には短い遅延がある。
【００４７】
[0051]  アクリレートとビニルエーテルの重合反応で観察される抑制期間は、ＵＶインプリントリソグラフィ工程のスループットを制約する場合がある。本発明のある実施形態は、重合反応の抑制によって引き起こされる遅延を回避する方法を提供する。インプリント可能な媒体の配合物の粘度（及びその他の関連する物理特性）は、抑制期間中実質的に変化しない。言い換えれば、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がインプリントテンプレートのパターン形成された表面の凹部に流入する能力は、抑制期間中に損なわれない。
【００４８】
[0052]  したがって、充填期間Ａの間に照明期間Ｂを開始することにより、テンプレート１２のパターン形成された表面の凹部の充填に実質的に影響を与えることなくＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を最終的に硬化させる化学工程を開始することができる。抑制期間が経過する前に充填ステップを完了することが望ましい（すなわち、凹部をＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体で実質的に充填すべきである）。抑制期間が終わった後で、ＵＶ硬化性の媒体の粘度は急速に増大し、パターン形成された表面の凹部へのＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体のフローを遅らせるか、又は阻止することがある。
【００４９】
[0053]  照明期間Ｂは保持期間Ｃの開始の一定時間Ｅ前に開始してもよいため、ＵＶ照射が同じ期間Ｂだけ図２に関連して上述した方法と同じ出力で印加された状態で、ＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填する能力を損なわずに最初の接触から解放までの全期間Ｆを低減することができる。
【００５０】
[0054]  図４は、本発明の他の実施形態によるＵＶインプリントリソグラフィを実行する方法を概略的に示す。
【００５１】
[0055]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体１０の液滴が未硬化の流動可能な液体として基板上に提供される。インプリントテンプレート１２のパターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体を充填期間Ａにわたって貼り合わせる処理が、パターン形成された表面がＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体に最初に接触する開始時間２０と、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した終了時間２１に開始する。
【００５２】
[0056]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体をＵＶ放射１４で照明する処理は、開始時間２２と終了時間２３とを有し、照射出力が均一な照明期間Ｂにわたって実行される。図３に示す実施形態の場合、照明期間Ｂの開始時間２２は、充填期間Ａの終了時間２１より前に開始する。保持期間Ｃの開始と照明期間Ｂの開始の間の時間差は、プリキュア期間Ｅで表される。照明期間の終了時間２３は、保持期間Ｃの終了時間２４の前である。
【００５３】
[0057]  充填期間Ａの終了時間２１の後、パターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体は、開始時間２１と終了時間２４とを有する保持期間Ｃであって、保持期間の開始時間２１が充填期間の終了時間２１に開始し、保持期間の終了時間２４が照明期間Ｂの終了時間２３の後の一定時間である保持期間Ｃにわたって貼り合わされた状態に保持される。言い換えれば、照明期間Ｂは、充填期間Ａの後の部分と保持期間Ｃの最初の部分に重なる。
【００５４】
[0058]  照明期間と保持期間のそれぞれの終了時間に、パターン形成された表面とパターン形成された層は、分離されて自己支持型のパターン形成された層が残され、次にこの層は必要に応じて処理される。この実施形態では、全体の工程期間Ｆは、図２に示す実施形態の場合と同じである。しかし、ＵＶ照明は保持期間Ｃの終了の一定時間前にオフになっているため、ＵＶ照明から生じる熱が放散する時間が与えられ、終了時間２４での分離の前に基板とパターン形成された層は冷却される。
【００５５】
[0059]  ＵＶ硬化性の媒体の硬化率は硬化を引き起こすためのＵＶ放射の出力を高めて上げることができるが、ＵＶ放射の強度を上げると基板が加熱されることになる。この結果、基板とインプリントテンプレートとの間で熱膨張差が発生し、後続の工程ステップの問題を引き起こし、特に後続のパターンのオーバレイ上のアライメントの問題を引き起こす可能性がある。したがって、図４に示す本発明の実施形態は、全期間Ｆを増加させることなくこのような熱によって誘発された問題を低減することができる。
【００５６】
[0060]  特定のＵＶ硬化性の媒体の抑制期間が確立すると、ＵＶ照明期間Ｂが２２で開始する最適なタイミングを確立することができる。抑制期間を引き伸ばすために、抑制期間中には低減したＵＶ出力を使用することが有利になり得る。これによって、充填期間Ａと保持期間Ｃとの間の重なりを制御するルートが提供される。低減したＵＶ出力が使用される、又は極めて短い充填期間が望ましいケースでは、抑制期間は充填期間より長くてもよい。そのようなケースでは、充填期間Ａの開始２０より前に照明期間Ｂを２２で開始することが好ましい。例えば、照明期間の開始は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体の液滴との接触より前であってもよく、例えば、インプリントテンプレートと媒体とのアライメント又は貼り合わせ中であってもよい。
【００５７】
[0061]  ビニルエーテルなどの特定のＵＶ硬化性のインプリント可能な液状媒体では、硬化はＵＶ生成触媒で実行される。ＵＶ照明によって触媒が生成されると、硬化を引き起こす重合反応はＵＶ照明を継続しなくても継続する。これは、このようなＵＶ硬化性の媒体には連続的なＵＶ照明が不要であるということを意味する。例えば、ビニルエーテルレジストは、最初のＵＶ照明後に「暗闇での硬化」を継続する。これによって、短い期間Ｂにわたって高出力のＵＶ照明を照射し、保持期間Ｃの終了の一定時間前に照明期間Ｂを終了することで硬化を達成する機会が得られる。これは、最初のＵＶ照明から生じる加熱効果に続けて冷却が実行されるＵＶ照明がない期間が存在するということを意味する。この結果、インプリントテンプレートとパターン形成された層の分離より前に十分な冷却が可能になり、望ましくない熱膨張効果に起因する問題が低減する。
【００５８】
[0062]  照明期間Ｂ中に不均一なＵＶ照明出力を使用することは、いかなる後続のパターン形成された層のアライメント及びオーバレイへのＵＶ照明ステップの熱の影響を低減するのに有利である。例えば、照明期間Ｂの間にＵＶ照明出力を最初の高出力から最終的な低出力まで漸進的に低減してもよく、又は、例えば、ＵＶ照明出力を漸進的に最大値まで増大させてから照明期間Ｂの終了時にゼロまで漸進的に低減してもよい。
【００５９】
[0063]  図示していない実施形態では、例えば、照明期間Ｂの開始時間２２を充填期間Ａの終了時間２１に一致させ、照明期間Ｂの終了時間２３を保持期間Ｃの終了時間２４よりも早くすることができる。
【００６０】
[0064]  本発明のある実施形態の利点は、本発明のある実施形態を実施するのに既存のＵＶインプリントリソグラフィ装置への機械的な改造又は修正が不要であるという点である。本明細書に記載するＵＶ照明ステップが実行されるタイミングの変更は、装置のソフトウェア制御を修正することで実施可能である。
【００６１】
[0065]  本発明は、インプリントリソグラフィ装置及び方法に関する。この装置及び／又は方法は、電子デバイス及び集積回路などのデバイスの製造、又は集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、有機発光ダイオードの製造などのその他の用途に使用することができる。特に、これらの方法及び装置は、基板上にパターン形成されたフィーチャが約１μｍ以下、通常１００ｎｍ以下、又は１０ｎｍ以下のフィーチャの幅又はクリティカルディメンションを有する高解像度リソグラフィに好適である。
【００６２】
[0066]  リソグラフィは、基板上にいくつかのパターンを塗布するステップであって、パターンが集積回路などのデバイスを共に形成するようにパターンが互いに積み上げられるステップを含んでいてもよい。各パターンの以前に提供されたパターンとのアライメントは重要な問題である。パターンが互いに十分に正確に整列していないと、層間の電気的接続の一部が欠落する結果を招くことがある。これによって、デバイスが機能しなくなることがある。したがって、リソグラフィ装置は、各パターンを以前に提供されたパターン及び／又は基板上に提供されたアライメントマークに整列させるためのアライメント装置を含むのが普通である。
【００６３】
[0067]  通常、基板は、基板ホルダに固定される。通常、インプリントの間に基板ホルダは、１つ又は複数のインプリントテンプレートに対して移動可能であるか、１つ又は複数のインプリントテンプレートは基板ホルダに対して移動可能であるか、又はその両方である。一般に、コンピュータプログラムを実行するコンピュータなどの制御システムは、アライメント装置から得た情報を用いて各パターンをインプリントする際の基板と１つ又は複数のインプリントテンプレートとの相対位置決めを制御する。
【００６４】
[0068]  上記実施形態では、単一のチャンバ内に単一のインプリントテンプレート、単一のインプリントテンプレートホルダ、単一の基板ホルダ及び単一の基板が提供される。別の実施形態では、インプリントをより効率的又は迅速に（例えば、並列に）実行するために１つ又は複数のチャンバ内に２つ以上のインプリントテンプレート、２つ以上のインプリントテンプレートホルダ、２つ以上の基板ホルダ及び／又は２つ以上の基板を提供してもよい。例えば、ある実施形態では、複数の（例えば、２つ、３つ、又は４つの）基板ホルダを含む装置が提供される。ある実施形態では、複数の（例えば、２つ、３つ、又は４つの）インプリントテンプレート構成（すなわち、インプリントテンプレートホルダ及び／又はインプリントテンプレート）を含む装置が提供される。ある実施形態では、基板ホルダあたり１つのインプリントテンプレート構成を使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、基板ホルダあたり２つ以上のインプリントテンプレート構成を使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、複数の（例えば、２つ、３つ、又は４つの）インプリント可能な媒体のディスペンサを含む装置が提供される。ある実施形態では、基板ホルダあたり１つのインプリント可能な媒体のディスペンサを使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、インプリントテンプレート構成あたり１つのインプリント可能な媒体のディスペンサを使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、複数の基板ホルダを含む装置が提供された場合、基板ホルダは装置内の機能を共用できる。例えば、基板ホルダは、基板ハンドラ、基板カセット、ガス供給システム（例えば、インプリント中にヘリウム環境を生成するための）、インプリント可能な媒体のディスペンサ、及び／又は放射出口（インプリント可能な媒体を硬化させるための）を共用することができる。ある実施形態では、２つ以上の基板ホルダ（例えば、３つ又は４つの）が装置の１つ又は複数の機能（例えば、１つ、２つ、３つ、４つ、又は５つの機能）を共用する。ある実施形態では、装置の１つ又は複数の（例えば、１つ、２つ、３つ、４つ、又は５つの）機能がすべての基板ホルダの間で共用される。
【００６５】
[0069]  パターン形成の後にパターン形成された表面をインプリント可能な媒体から解放するのを助けるために、パターン形成された表面は、チタニア、アルミナ、酸化タンタル又はそれらの混合物を含むか又は基本的にこれらから構成される離型層を含んでいてもよく、あるいは有機離型層を含んでいてもよい。
【００６６】
[0070]  インプリント可能な媒体は、インプリントテンプレートを通して印加されるＵＶ放射などの化学線によって硬化することができる。これを容易にするために、インプリントテンプレートは、ＵＶ放射などの化学線に対して透過性の（すなわち、透明又は半透明の）多孔質の固体媒体を含んでいてもよい。シリカはこの目的に有用である。
【００６７】
[0071]  本明細書では、「基板」という用語の意味は、平坦化層又は反射防止コーティング層などの基板の一部を形成する、又は別の基板上に提供された任意の表面層を含む。
【００６８】
[0072]  本明細書では、「期間」という用語は、期間の開始時間から期間の終了時間まで延在する特定の長さを有する期間を意味する。１つの期間は別の期間が終了すると開始することができるので、後の期間の開始時間は、前の期間の終了時間と同じであるといえる。
【図１】
2011049554.tif 000003
【図２】
2011049554.tif 000004
【図３】
2011049554.tif 000005
【図４】
2011049554.tif 000006
【外国語明細書】
2011049554000001.pdf