(57)【要約】【課題】基板処理装置を検査するためのレシピを自動生成することによって、基板処理装置の検査工程を確実かつ簡単にする。【解決手段】基板処理装置の制御装置１５は、コンピュータ１６と記憶装置１９とを備えている。記憶装置１９には、基板処理制御プログラムおよび検査レシピ自動生成プログラムが格納されており、さらに、レシピ、構成定義データおよび動作条件データを記憶できるようになっている。コンピュータ１６は、検査レシピ自動生成プログラムを実行することにより、基板処理装置が備える複数の構成要素を動作させるための処理手順を記述した検査レシピを生成して記憶装置１９に登録する。その際、コンピュータ１６は、構成定義データおよび動作条件データに基づいて、検査レシピを構成する処理手順を生成する。【選択図】図２
2011066235.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理するための複数の構成要素を含む基板処理装置のための検査レシピ自動生成装置であって、
前記複数の構成要素を定義した構成定義データを記憶する構成定義データ記憶手段と、
前記複数の構成要素の動作条件を記述した動作条件データを記憶する動作条件データ記憶手段と、
前記複数の構成要素を動作させるための処理手順を記述した検査レシピを記憶する検査レシピ記憶手段と、
前記構成定義データ記憶手段に記憶された構成定義データおよび前記動作条件データ記憶手段に記憶された動作条件データに基づいて、前記検査レシピを構成する処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する検査レシピ生成手段とを含む、検査レシピ自動生成装置。
【請求項２】
前記複数の構成要素が、基板を保持して回転させる基板保持回転機構、前記基板保持回転機構に保持された基板に処理液を供給する複数の処理液ノズル、および前記基板保持回転機構に保持された基板から排除される処理液をそれぞれ受け容れる複数の排液ポートを含む、請求項１記載の検査レシピ自動生成装置。
【請求項３】
前記動作条件データは、前記構成定義データによって定義されたすべての処理液ノズルに関して、各処理液ノズルとの同時吐出が禁止される他の処理液ノズルを記述した同時吐出禁止パラメータを含み、
前記検査レシピ生成手段は、前記同時吐出禁止パラメータによって同時吐出が禁止されている複数の処理液ノズルの同時吐出および連続吐出を回避するように、すべての処理液ノズルから順次処理液を吐出させる処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する手段を含む、請求項２記載の検査レシピ自動生成装置。
【請求項４】
前記動作条件データは、前記構成定義データによって定義されたすべての処理液ノズルに関して、各処理液ノズルから吐出された処理液の受け容れが禁止される排液ポートを記述した禁止排液ポートパラメータを含み、
前記検査レシピ生成手段は、処理液ノズルから処理液を吐出させるときに、当該処理液ノズルから吐出された処理液の受け容れが禁止される排液ポート以外の排液ポートを選択して当該処理液を受け容れる処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する手段を含む、請求項２または３記載の検査レシピ自動生成装置。
【請求項５】
基板を処理するための複数の構成要素を含む基板処理装置のための検査レシピ自動生成プログラムであって、
前記基板処理装置が、前記複数の構成要素を定義した構成定義データを記憶する構成定義データ記憶手段と、前記複数の構成要素の動作条件を記述した動作条件データを記憶する動作条件データ記憶手段と、前記複数の構成要素を動作させるための処理手順を記述した検査レシピを記憶する検査レシピ記憶手段とを含み、
前記プログラムは、コンピュータを、前記構成定義データ記憶手段に記憶された構成定義データを読み取る手段、前記動作条件データ記憶手段に記憶された動作条件データを読み取る手段、ならびに前記読み取られた構成定義データおよび動作条件データに基づいて前記検査レシピを構成する処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する検査レシピ生成手段として機能させるためのプログラム。
【請求項６】
請求項５記載のプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板処理装置に備えられる複数の構成要素を検査するために当該基板処理装置において実行させるべき検査レシピを自動生成する装置、ならびに検査レシピ自動生成プログラムおよびそれを記録した記録媒体に関する。基板処理装置の処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ等の基板を処理する基板処理装置は、たとえば、基板を保持して回転するスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板に対して処理液を供給する複数の処理液ノズルと、基板から排除される使用済み処理液を受ける複数の排液ポートと、これらを制御する制御装置とを含む。たとえば、処理液と排液ポートとの対応関係を予め定めておき、特定種類の処理液を対応する排液ポートで回収して再利用することができる。
【０００３】
制御装置は、基板の処理手順を記述したレシピに従って、スピンチャック、処理液ノズル、排液ポートその他の構成要素を制御する。レシピに記述される処理手順は、例えば、複数のステップを含む。各ステップには、たとえば、処理液吐出の開始／停止、選択される排液ポートなどが記述される。
基板処理装置のハードウェア仕様は、目的とする処理内容により異なり、現実には、個々のユーザが実行しようとする処理内容に応じたカスタムメードとなっている。したがって、個々の基板処理装置に対応した処理内容を定義するレシピの作成には、相応の知識が必要であり、時間もかかる。より具体的には、様々な制限事項を守りながら、目的とする処理を実行できるようにレシピを記述しなければならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１００２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板処理装置の製造工程の最終段階では、基板処理装置に備えられた構成要素の動作を確認するための検査工程が実行される。この検査工程を自動化するためには、一定の知識を有する技術者が、所定の制限事項を守り、かつ、基板処理装置の全構成要素を動作させるための検査用のレシピ（検査レシピ）を作成し、これを基板処理装置で実行すればよい。しかし、検査レシピを作成するにも、むろん相応の知識が必要であり、時間もかかる。そこで、現実には、基板処理装置の個々のハードウェアを直接操作するツール（リモコン）を用いて、個々の構成要素を順に動作させて検査する手順が一般的である。この検査方法の欠点は、多数の構成要素の検査に膨大な作業工数と時間とを要することである。しかも、作業者間で、検査方法のばらつきが生じるおそれもあるから、より確実な検査を行ううえで、改善の余地がある。
【０００６】
そこで、この発明の目的は、基板処理装置を検査するためのレシピを自動生成することができ、これによって、基板処理装置の検査工程を確実かつ簡単にすることができる検査レシピ自動生成装置を提供することである。
また、この発明の他の目的は、基板処理装置を検査するためのレシピを自動生成することができ、これによって、基板処理装置の検査工程を確実かつ簡単にすることができる検査レシピ自動生成プログラムを提供することである。
【０００７】
この発明のさらに他の目的は、前記のような検査レシピ自動生成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を処理するための複数の構成要素（１，Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３，Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）を含む基板処理装置のための検査レシピ自動生成装置（１５）であって、前記複数の構成要素を定義した構成定義データを記憶する構成定義データ記憶手段（１９３）と、前記複数の構成要素の動作条件を記述した動作条件データを記憶する動作条件データ記憶手段（１９４）と、前記複数の構成要素を動作させるための処理手順を記述した検査レシピを記憶する検査レシピ記憶手段（１９２）と、前記構成定義データ記憶手段に記憶された構成定義データおよび前記動作条件データ記憶手段に記憶された動作条件データに基づいて、前記検査レシピを構成する処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する検査レシピ生成手段（１６）とを含む、検査レシピ自動生成装置である。なお、括弧内の英数字は後述の実施形態における対応構成要素等を表すが、特許請求の範囲を実施形態に限定する趣旨ではない。以下、この項において同じ。
【０００９】
構成定義データは、基板処理装置の構成要素を定義する。基板処理装置の構成要素の例としては、基板保持回転機構（１）、処理流体ノズル（Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３）、および排液ポート（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）を挙げることができる。構成定義データには、当該基板処理装置に備えられる全ての構成要素（ただし動作確認が必要なもの）に関して、当該構成要素の種類、当該構成要素の有効／無効（当該構成要素が存在するか否か）を表す情報が記述される。
【００１０】
基板保持回転機構は、基板（典型的には１枚の基板）を保持して回転させるものである。基板保持回転機構は、たとえば、鉛直軸線周りに回転可能な回転軸（５）と、回転軸の上端に水平に固定されたスピンベース（６）と、スピンベースに備えられた基板保持機構（８）と、回転軸を回転駆動する回転駆動機構（７：たとえば電動モータ）とを含む。基板保持機構は、基板の下面を吸引して保持する吸引保持機構（いわゆるバキュームチャック）であってもよいし、基板の端面に当接する保持部材によって基板を握持（挟持）するもの（いわゆるメカチャック）であってもよい。
【００１１】
処理流体ノズルは、流体を吐出する吐出部（１１，１２，１３）と、流体の流通路を開閉するバルブ（２１，２２，２３）とを含む。複数の流通路が一つの吐出部へと合流し、各流通路に個別にバルブが設けられる場合、個々のバルブと共通の吐出部とが個々の処理流体ノズルを形成しているとみなすことができる。処理流体は、気体（処理ガス）であってもよいし、液体（処理液）であってもよい。処理ガスの例は、窒素ガス等の不活性ガス、フッ酸蒸気等の腐食性ガスを含む。処理液の例は、洗浄液、エッチング液、ポリマー除去液、レジスト剥離液、リンス液を含む。洗浄液とは、基板表面の異物を除去する薬液であり、アンモニア過酸化水素水や塩酸過酸化水素水などが該当する。エッチング液とは、基板表面の薄膜を除去する薬液であり、フッ酸、塩酸、硫酸等が該当する。ポリマーとは、ドライエッチングやイオン注入のマスクとして用いられたフォトレジストから生じた変質物（レジスト残渣）である。このポリマーを除去するための薬液がポリマー除去液であり、有機アルカリ液を含む液体、有機酸を含む液体、無機酸を含む液体、フッ化アンモン系物質を含む液体などで構成される。レジスト剥離液は、たとえば、硫酸と過酸化水素水との混合液からなり、基板表面のレジスト（たとえばドライエッチングやイオン注入のマスクとして使用された後のレジスト）を剥離するために用いられる。
【００１２】
排液ポートは、基板から排出される使用後の処理液を受け止めて排出するためのものである。複数の排液ポートを選択的に用いることによって、複数種類の処理液を分離して排液させることができる。排液された処理液は、必要に応じて、再利用のために回収されてもよい。
たとえば、或る処理液ノズルから吐出される処理液を或る排液ポートで回収して再利用するとすれば、当該処理液ノズルから処理液を吐出するときには、当該排液ポート以外の排液ポートが選択されてはならない。これが動作条件（制限事項）となり、動作条件データとして動作条件記憶手段に記憶されることになる。動作条件データのその他の例は、基板保持回転機構による基板回転の回転数に関するデータである。たとえば、最高基板回転数や、特定の処理液ノズルから処理液を吐出するときの最低回転数に関するパラメータが動作条件データに記述されてもよい。
【００１３】
検査レシピ生成手段は、動作条件データ（制限事項）を守りながら、複数の（好ましくは全ての）構成要素を動作させるための処理手順を生成し、検査レシピ記憶手段に登録する。こうして、検査レシピ記憶手段に複数の構成要素を検査するための検査レシピが登録されることになる。検査レシピ生成手段が生成する処理手順は、複数の構成要素を順次動作させる手順であってもよいし、２つ以上の構成要素を同時に動作させる手順であってもよい。いずれの場合にも、動作条件データに記述された動作条件（制限事項）は守られなければならない。
【００１４】
このように、この発明によれば、構成定義データにより定義された複数の構成要素に関して、各構成要素の動作条件を定義した動作条件データに従って、それらの構成要素の動作を検査するための検査レシピが自動生成される。これにより、人的負担を最小限に留めながら、検査漏れのないように、制限事項を遵守しながら、適切な検査レシピを短時間で生成することができる。そして、この検査レシピを用いて基板処理装置を動作させることによって、複数の構成要素に関する動作を確認することができる。こうして、基板処理装置の検査工程を確実かつ簡単にすることができる。
【００１５】
前記構成定義データ記憶手段、前記動作条件データ記憶手段、および検査レシピ記憶手段は、個別の記憶媒体で構成されてもよいし、同一記憶媒体の異なる記憶領域を用いて構成されてもよい。
請求項２記載の発明は、前記複数の構成要素が、基板を保持して回転させる基板保持回転機構（１）、前記基板保持回転機構に保持された基板に処理液を供給する複数の処理液ノズル（Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３）、および前記基板保持回転機構に保持された基板から排除される処理液をそれぞれ受け容れる複数の排液ポート（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）を含む、請求項１記載の検査レシピ自動生成装置である。
【００１６】
この場合、検査対象の基板処理装置は、たとえば、基板保持回転機構に基板を保持して回転させている状態で、処理液ノズルから基板に向けて処理液を吐出するように動作する。また、基板の回転に伴う遠心力によって基板表面から外方へと排除される処理液は、排液ポートに受け容れられて排液される。
このような基板処理装置を検査するために、基板保持回転機構の回転動作、処理液ノズルからの処理液吐出動作、および排液ポートの動作等を確認するための検査レシピが生成される。
【００１７】
構成定義データは、基板保持回転機構、複数の処理液ノズル、および複数の排液ポートに関する記述（パラメータ）を含むことになる。
動作条件データは、基板保持回転機構による基板回転の回転数に関する処理ユニットパラメータを含んでいてもよい。処理ユニットパラメータは、たとえば、基板の最高基板回転数や、特定の処理液ノズルから処理液を吐出するときの基板の最低回転数に関するパラメータを含んでいてもよい。
【００１８】
また、動作条件データは、たとえば、各処理液ノズルとの同時吐出が禁止される他の処理液ノズルを記述した同時吐出禁止パラメータを含んでいてもよい。同時吐出禁止パラメータは、結果的に、同時吐出を許可する処理液ノズルを特定することになるから、同時吐出を許可する他の処理液ノズルを記述した同時吐出許可パラメータと言い換えることもできる。むろん、同時吐出を許可する他の処理液ノズルを直接的に記述した同時吐出許可パラメータを動作条件データに含ませてもよい。この場合は、同時吐出許可パラメータに記述された処理液ノズル以外の処理液ノズルについては、同時吐出が禁止される。
【００１９】
さらに、動作条件データは、各処理液ノズルからの処理液を受け容れるために用いることが禁止される排液ポートを記述した禁止排液ポートパラメータを含んでいてもよい。禁止排液ポートパラメータは、結果的に、処理液受け容れを許可する排液ポートを特定することになるから、処理液受け容れを許可する排液ポートを記述した許可排液ポートパラメータと言い換えることもできる。むろん、処理液受け容れを許可する排液ポートを直接的に記述した許可排液ポートを記述した許可排液ポートパラメータを動作条件データに含ませてもよい。この場合は、許可排液ポートパラメータに記述された排液ポート以外の排液ポートについては、その選択が禁止される。
【００２０】
請求項３記載の発明は、前記動作条件データは、前記構成定義データによって定義されたすべての処理液ノズルに関して、各処理液ノズルとの同時吐出が禁止される他の処理液ノズルを記述した同時吐出禁止パラメータを含み、前記検査レシピ生成手段は、前記同時吐出禁止パラメータによって同時吐出が禁止されている複数の処理液ノズルの同時吐出および連続吐出を回避するように、すべての処理液ノズルから順次処理液を吐出させる処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する手段（Ｓ３〜Ｓ１２）を含む、請求項２記載の検査レシピ自動生成装置である。
【００２１】
この構成では、動作条件データは、全ての処理液ノズルに関する同時吐出禁止パラメータを含む。検査レシピ生成手段は、同時吐出禁止パラメータを参照することにより、同時吐出禁止が禁止された処理液ノズルからの同時吐出または連続吐出がされないように、処理手順を生成する。これにより、同時吐出禁止パラメータ（制限事項）に従う検査レシピが自動生成されるから、複数の処理液ノズルの動作確認を漏れなく適切に行うことができる。
【００２２】
同時吐出が禁止される処理液ノズルとは、たとえば、吐出される処理液同士の接触を回避すべき処理液ノズルである。たとえば、第１処理液ノズルが酸を吐出するものであり、第２処理液ノズルがアルカリを吐出するものであるとする。この場合、第１処理液ノズルに関する動作条件データは、第２処理液ノズルの同時吐出を禁止する同時吐出禁止パラメータを含む。同様に、第２処理液ノズルに関する動作条件データは、第１処理液ノズルの同時吐出を禁止する同時吐出禁止パラメータを含む。これにより、酸とアルカリとが同時に基板上に供給されたり、酸とアルカリとが相前後して基板上に供給（連続供給）されたりすることを回避できるように、検査レシピが作成される。
【００２３】
請求項４記載の発明は、前記動作条件データは、前記構成定義データによって定義されたすべての処理液ノズルに関して、各処理液ノズルから吐出された処理液の受け容れが禁止される排液ポートを記述した禁止排液ポートパラメータを含み、前記検査レシピ生成手段は、処理液ノズルから処理液を吐出させるときに、当該処理液ノズルから吐出された処理液の受け容れが禁止される排液ポート以外の排液ポートを選択して当該処理液を受け容れる処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する手段（Ｓ５，Ｓ６，Ｓ９，Ｓ１０，Ｓ１１））を含む、請求項２または３記載の検査レシピ自動生成装置である。
【００２４】
この構成により、個々の処理液ノズルに対して適切な排液ポートを選択すべきことを記述した検査レシピを自動生成することができる。たとえば、第１処理液ノズルから吐出される第１処理液を第１排液ポートを介して回収し、第２処理液ノズルから吐出される第２処理液を第２排液ポートを介して回収する場合を想定する。この場合、第１処理液ノズルに対応する動作条件データは、第１排液ポート以外の排液ポート（第２排液ポートを含む）を禁止排液ポートとして記述した禁止排液ポートパラメータを含む。また、第２処理液ノズルに対応する動作条件データは、第２排液ポート以外の排液ポート（第１排液ポートを含む）を禁止排液ポートとして記述した禁止排液ポートパラメータを含む。これにより、複数種類の処理液を分離して排液するように、検査レシピが生成される。
【００２５】
請求項５記載の発明は、基板を処理するための複数の構成要素を含む基板処理装置のための検査レシピ自動生成プログラムであって、前記基板処理装置が、前記複数の構成要素を定義した構成定義データを記憶する構成定義データ記憶手段（１９３）と、前記複数の構成要素の動作条件を記述した動作条件データを記憶する動作条件データ記憶手段（１９４）と、前記複数の構成要素を動作させるための処理手順を記述した検査レシピを記憶する検査レシピ記憶手段（１９２）とを含み、前記プログラムは、コンピュータを、前記構成定義データ記憶手段に記憶された構成定義データを読み取る手段（Ｓ１，Ｓ３，Ｓ８）、前記動作条件データ記憶手段に記憶された動作条件データを読み取る手段（Ｓ１，Ｓ４，Ｓ９）、ならびに前記読み取られた構成定義データおよび動作条件データに基づいて前記検査レシピを構成する処理手順を生成して前記検査レシピ記憶手段に登録する検査レシピ生成手段（Ｓ２，Ｓ６，Ｓ１０，Ｓ１１，Ｓ１３）として機能させるためのプログラムである。
【００２６】
このプログラムをコンピュータで実行させることにより、請求項１の発明と同様の効果を得ることができる。このコンピュータプログラムに関しても、検査レシピ自動生成装置の発明に関連してのべた変形を施すことができる。
請求項６記載の発明は、請求項５記載のプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記憶媒体（１９，８０）である。記録媒体の例としては、固体メモリ、データ記録ディスクなどが挙げられ、固定メディアおよびリムーバブルメディアのいずれも該当する。固体メモリとしては、一般的なメモリであるＲＯＭおよびＲＡＭのほか、フラッシュデバイスを例示できる。フラッシュデバイスとしては、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）メモリ、メモリカード（ＳＤメモリカードなど）を例示できる。データ記録ディスクは、固定ディスク（ハードディスク装置等）であってもよいし、リムーバブルディスクであってもよい。リムーバブルディスクの例は、ＣＤ−ＲＯＭディスク、ＤＶＤ−ＲＯＭディスクなどである。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】この発明の一実施形態に係る検査レシピ自動生成装置が適用される基板処理装置を示す図解的な構成図である。
【図２】前記基板処理装置の電気的構成を説明するためのブロック図である。
【図３】基板処理装置の構成要素を定義する構成定義データの一例を示す図である。
【図４】動作条件データの一例を説明するための図である。
【図５】コンピュータによる検査レシピの自動生成動作の例を説明するためのフローチャートである。
【図６】自動生成された検査レシピの一例を示す図である。
【図７】この発明の他の実施形態に係る検査レシピ自動生成装置が適用された基板処理装置の構成を説明するためのブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る検査レシピ自動生成装置が適用される基板処理装置の構成を示す図である。この基板処理装置は、半導体ウエハ等の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉型の装置である。この基板処理装置は、スピンチャック１と、複数（この実施形態では３個）の処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３と、スプラッシュガード２と、排液カップ３とを備えている。
【００２９】
スピンチャック１は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持して回転する基板保持回転機構である。より具体的には、スピンチャック１は、鉛直方向に沿って延びる回転軸５と、回転軸５の上端に水平姿勢で固定されたスピンベース６と、回転軸５を鉛直軸線周りに回転駆動する回転駆動機構７とを有している。スピンベース６は、たとえば、円盤状に形成されており、その周縁部には、周方向に間隔を開けて複数の保持部材８が設けられている。この複数の保持部材８によって、基板Ｗが握持（挟持）されて保持されるようになっている。この構成により、基板Ｗを水平姿勢で保持し、鉛直軸線周りに回転させることができる。
【００３０】
処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、それぞれ、吐出部１１，１２，１３および処理液バルブ２１，２２，２３を有している。処理液バルブ２１，２２，２３は、それぞれ、処理液流路３１，３２，３３の途中に介装されており、これらの処理液流路３１，３２，３３の先端に吐出部１１，１２，１３が設けられている。処理液バルブ２１，２２，２３を開閉することにより、吐出部１１，１２，１３から処理液を吐出させたり、その吐出を停止させたりすることができる。吐出部１１，１２，１３は、それぞれ、スピンチャック１に保持された基板Ｗに向けて処理液を吐出するように配置されている。
【００３１】
吐出部１１，１２，１３は、固定ノズルの形態を有していてもよいし、基板Ｗの上方で水平方向に移動する移動ノズル（いわゆるスキャンノズル）の形態を有していてもよい。むろん、３つの吐出部１１，１２，１３が同一のノズル形態を有している必要はない。
処理液ノズルＮ１には、処理液タンク４１に貯留された処理液が、処理液ポンプ５１により汲み出され、処理液流路３１を介して供給されるようになっている。同様に、処理液ノズルＮ２には、処理液タンク４２に貯留された処理液が、処理液ポンプ５２によって汲み出され、処理液流路３２を介して供給されるようになっている。処理液ノズルＮ３には、この実施形態では、リンス液供給源４３からのリンス液が処理液流路３３を介して供給されるようになっている。リンス液は、純水（脱イオン水：ＤＩＷ）であってもよい。
【００３２】
スプラッシュガード２は、スピンベース６を取り囲むように配置された筒状体である。このスプラッシュガード２の下方に、排液カップ３が配置されている。これにより、スプラッシュガード２および排液カップ３は、基板Ｗの処理のための処理液およびそのミストを含む雰囲気の拡散を防ぐ処理カップ１０を形成している。
排液カップ３は、有底円筒状容器を形成しており、その底部の中央を回転軸５が鉛直方向に貫通している。排液カップ３は、底壁部６５の外周縁に鉛直方向に沿って立設された円筒状の外壁６４を有している。排液カップ３は、さらに、回転軸５を中心軸として同軸円筒状に形成された３つの排液分離壁６１，６２，６３を有している。これにより、外側の排液分離壁６１と外壁６４との間に、第１排液溝６１Ａが形成されている。また、第１排液溝６１Ａの内側に、排液分離壁６１，６２によって第２排液溝６２Ａが区画されている。さらに、第２排液溝６２Ａの内側に、内側の２つの排液分離壁６２，６３によって第３排液溝６３Ａが区画されている。
【００３３】
第１排液溝６１Ａは、第１回収配管４５に接続されている。第１回収配管４５は、処理液タンク４１に接続されている。したがって、第１排液溝６１Ａに導かれた液は、処理液タンク４１に回収されて再利用される。同様に、第２排液溝６２Ａは、第２回収配管４６に接続されている。第２回収配管４６は、処理液タンク４２に接続されている。したがって、第２排液溝６２Ａに導かれた液は、処理液タンク４２に回収されて再利用される。回収配管４５，４７には、必要に応じて、液中の異物を除去するためのフィルタが介装されることが好ましい。第３排液溝６３Ａは、ドレン配管４７に接続されている。したがって、第３排液溝６３Ａに導かれた液は、廃棄される。
【００３４】
スプラッシュガード２は、複数（この実施形態では３つ）の排液ガイド７１，７２，７３を備えている。この実施形態では、これらの排液ガイド７１，７２，７３は、一体化されており、昇降駆動機構９によって一体的に上下動されるようになっている。排液ガイド７１，７２，７３は、回転軸５を中心軸とした同軸形状に形成されており、それぞれ、円筒状の下方部と、この下方部の上端縁から回転軸５側に向かって斜め上方に傾斜した円錐面形状の上方部とを有している。これにより、スプラッシュガード２は、回転軸５側に開口した複数（この実施形態では３つ）の排液ポートＰ１，Ｐ２，Ｐ３を有している。すなわち、排液ガイド７１，７２の各上端縁の間に排液ポートＰ１が形成されている。その下方には、排液ガイド７２，７３の各上端縁の間に排液ポートＰ２が区画されている。さらに、その下方には、排液ガイド７３の下方側に排液ポートＰ３が形成されている。
【００３５】
昇降駆動機構９によってスプラッシュガード２が上下動されることにより、３つの排液ポートＰ１，Ｐ２，Ｐ３のうちのいずれかを、スピンベース６の側方（より正確には、スピンチャック１に保持された基板Ｗの側方）に対向させることができる。これにより、基板Ｗから遠心力によって排除される処理液を、いずれかの排液ポートＰ１，Ｐ２，Ｐ３に導入することができる。
【００３６】
排液ポートＰ１に導入された処理液は、排液ガイド７１，７２によって、第１排液溝６１Ａに案内される。この処理液は、第１回収配管４５を通って、処理液タンク４１に収容される。同様に、排液ポートＰ２に導入された処理液は、排液ガイド７２，７３によって、第２排液溝６２Ａに案内される。この処理液は、第２回収配管４６を通って、処理液タンク４２に収容される。排液ポートＰ３に導入された処理液は、排液ガイド７３によって、第３排液溝６３Ａに案内される。この処理液は、ドレン配管４７を通って廃棄される。
【００３７】
回転駆動機構７、昇降駆動機構９および処理液バルブ２１，２２，２３の動作を制御するために、マイクロコンピュータ等を含む制御装置１５が備えられている。制御装置１５は、予め設定される処理レシピに従って、基板処理装置の構成要素を制御する。処理レシピは、基板処理の処理手順を記述した複数のステップを含む。各ステップには、スピンチャック１の回転速度、処理液吐出すべき処理液ノズル、吐出停止すべき処理液ノズル、選択すべき排液ポート、その他の制御情報が記述される。たとえば、処理液ノズルＮ１から処理液を吐出するときには、排液ポートＰ１が選択され、この排液ポートＰ１がスピンチャック１の側方に対向するように昇降駆動機構９が制御される。また、処理液ノズルＮ２から処理液を吐出するときには、排液ポートＰ２が選択され、この排液ポートＰ２がスピンチャック１の側方に対向するように昇降駆動機構９が制御される。
【００３８】
図２は、前記基板処理装置の電気的構成を説明するためのブロック図であり、主として、制御装置１５の構成が示されている。制御装置１５は、コンピュータ１６と、入力装置１７と、表示装置１８と、記憶装置１９と、ハードウェアインタフェース２０とを備えている。
コンピュータ１６は、ＣＰＵを含み、記憶装置１９から必要なプログラムおよびデータを読み込んで基板処理のための演算処理および制御処理を実行する。これにより、コンピュータ１６は、装置制御手段および検査レシピ生成手段として機能することができる。装置制御手段としてのコンピュータ１６の働きは、記憶装置１９に記憶されたレシピに従って、基板処理装置の各部を制御することである。また、検査レシピ生成手段としてのコンピュータ１６の働きは、基板処理装置の構成要素の動作を確認する際に実行すべき検査レシピを自動生成して記憶装置１９に登録することである。
【００３９】
入力装置１７は、コンピュータ１６に接続されており、操作者によって操作されるキーボード、ポインティングデバイス、タッチパネルその他の入力インタフェースからなる。表示装置１８は、コンピュータ１６に接続されており、入力装置１７とともに操作者に対するインタフェースを提供する。表示装置１８は、たとえば、液晶表示装置等の二次元表示装置からなる。操作者は、表示装置１８の表示を参照しながら入力装置１７を操作することにより、コンピュータ１６に対して、予め作成されたレシピの選択、基板処理の開始、その他の指令を与えることができる。また、レシピの作成も、入力装置１７および表示装置１８を用いて行うことができる。
【００４０】
記憶装置１９は、コンピュータ１６に接続されており、固体メモリ装置、ハードディスク装置その他の記憶装置からなる。記憶装置１９は、基板処理制御プログラムを記憶した記憶領域１９０、検査レシピ自動生成プログラムを記憶した記憶領域１９１、レシピを記憶するための記憶領域１９２（レシピ記憶手段、検査レシピ記憶手段）、構成定義データを記憶するための記憶領域１９３（構成定義データ記憶手段）、および動作条件データを記憶するための記憶領域１９４（動作条件データ記憶手段）を有している。レシピには、基板処理装置の構成要素の動作確認のための検査レシピが含まれる。検査レシピは、入力装置１７の操作によって呼び出して、コンピュータ１６に実行させることができる。この検査レシピの実行によって、基板処理装置各部の動作を確認することができる。
【００４１】
基板処理制御プログラムは、記憶領域１９２に記憶されたレシピに従って基板処理装置の各部を動作させるためのプログラムである。コンピュータ１６は、このプログラムを読み取って実行することにより、レシピに従って基板処理装置の各部の動作を制御する装置制御手段として機能する。
検査レシピ自動生成プログラムは、検査レシピをコンピュータ１６によって自動生成させるためのプログラムである。コンピュータ１６は、このプログラムを読み取って実行することにより、検査レシピを自動生成して記憶装置１９に登録する検査レシピ生成手段として機能する。
【００４２】
ハードウェアインタフェース２０は、基板処理装置に備えられた制御対象（構成要素）に対するインタフェースを提供する。すなわち、コンピュータ１６は、ハードウェアインタフェース２０を介して、回転駆動機構７、昇降駆動機構９、処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３（より具体的にはバルブ２１，２２，２３）などを制御する。また、詳細な図示は省略するが、基板処理装置に備えられた各種のセンサ類２５からの検出信号は、ハードウェアインタフェース２０を介して、制御装置１５に取り込むことができるようになっている。
【００４３】
図３は、基板処理装置の構成要素を定義する構成定義データの一例を示す図である。この実施形態では、構成定義データは、処理ユニットパラメータ、ノズルパラメータおよび排液ポートパラメータを含む。処理ユニットパラメータは、「スピンチャック」が備えられていることを表す記述を含む。
ノズルパラメータは、「ノズル１」〜「ノズル５」について、「有効／無効フラグ」の値を含む。この実施形態において、コンピュータ１６が基板処理装置の制御のために実行する基板処理制御プログラム（図２参照）は、５つの「ノズル１」〜「ノズル５」の制御に対応している。しかし、図１に示す基板処理装置は、実際には、３つの処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を有しているに過ぎない。そこで、図３の例では、３つの「ノズル１」（たとえば処理液ノズルＮ１に対応）、「ノズル３」（たとえば処理液ノズルＮ２に対応）、および「ノズル５」（たとえば処理液ノズルＮ３に対応）について、「有効／無効フラグ」の値が「有効」となっていて、他の「ノズル２」および「ノズル４」に関しては、「有効／無効フラグ」の値が「無効」となっている。
【００４４】
排液ポートパラメータは、「ポートＡ」〜「ポートＣ」について、「有効／無効フラグ」の値を含む。この実施形態において、コンピュータ１６が基板処理装置の制御のために実行する基板処理制御プログラム（図２参照）は、３つの「ポートＡ」〜「ポートＣ」の制御に対応している。そして、図１に示す基板処理装置は、３つの排液ポートＰ１，Ｐ２，Ｐ３を有している。そこで、図３の例では、３つの「ポートＡ」（たとえば排液ポートＰ１に対応）、「ポートＢ」（たとえば排液ポートＰ２に対応）、および「ポートＣ」（たとえば排液ポートＰ３に対応）について、「有効／無効フラグ」の値が「有効」となっている。
【００４５】
図４は、動作条件データの一例を説明するための図である。動作条件データは、基板処理装置に備えられた構成要素の動作条件を記述したデータである。図４に示されているように、この実施形態では、動作条件データは、処理ユニットパラメータと、同時吐出禁止パラメータと、禁止排液ポートパラメータとを含む。
処理ユニットパラメータは、たとえば、スピンチャックの最高回転数を一つの動作条件として定義している。また、この実施形態では、処理ユニットパラメータは、いずれかの処理液ノズルから処理液を吐出しているときのスピンチャックの最低回転数を他の動作条件として定義している。
【００４６】
同時吐出禁止パラメータは、各処理液ノズルに関して、同時吐出が禁止される処理液ノズルを記述したパラメータである。図４の例では、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）に関して、「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）の同時吐出を禁止することが記述されている。また、「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）に関して、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）の同時吐出を禁止することが記述されている。「ノズル５」（処理液ノズルＮ３）に関しては、同時吐出を禁止するノズルが記述されていない。したがって、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）と「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）との同時吐出は禁止されるけれども、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）と「ノズル５」（処理液ノズルＮ３）との同時吐出、および「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）と「ノズル５」（処理液ノズルＮ３）との同時吐出は、いずれも許可されることになる。
【００４７】
たとえば、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）は処理液として第１薬液を吐出する薬液ノズルであり、「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）は処理液として第２薬液を吐出する薬液ノズルであり、「ノズル５」（処理液ノズルＮ３）は処理液としてリンス液（この実施形態では純水）を吐出するリンス液ノズルであってもよい。この場合、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）と「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）との同時吐出を禁止することによって、基板Ｗ上で第１および第２薬液が混合することを回避できる。たとえば、第１薬液が酸であり、第２薬液がアルカリであるような場合に、これらの薬液を吐出する２つの処理液ノズルの同時吐出が禁止されるように同時吐出禁止パラメータが設定される。
【００４８】
操作者が入力装置１７および表示装置１８を用いてレシピを作成するとき、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）からの処理液の吐出と「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）からの処理液の吐出とが同時に生じるステップを誤って作成するかもしれない。この場合、コンピュータ１６は、動作条件データを参照することにより、当該ステップの登録が制限事項に抵触することを見いだす。そして、コンピュータ１６は、たとえば、表示装置１８に、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）と「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）との同時吐出が禁止されていることを表示して、操作者に注意を促す。
【００４９】
同時吐出の禁止が動作条件データに記述されている２つのノズルは、同時吐出が禁止されるだけでなく、連続吐出も禁止される。連続吐出とは、この場合、２つのノズルからの処理液の吐出が相前後して行われることを意味する。連続吐出が禁止される理由は、基板上で２つの処理液が混ざり合うおそれがあるからである。したがって、使用者が、連続吐出が生じるようなステップを登録しようとすると、コンピュータ１６は、同時吐出のステップを登録しようとした場合と同様に動作して、操作者に注意を促す。
【００５０】
禁止排液ポートパラメータは、個々のノズルに対して、禁止ポートを記述したパラメータである。図４の例では、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）に対する禁止ポートとして、「ポートＢ」（排液ポートＰ２）および「ポートＣ」（排液ポートＰ３）が記述されている。また、「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）に対する禁止ポートとして、「ポートＡ」（排液ポートＰ１）および「ポートＣ」（排液ポートＰ３）が記述されている。また、「ノズル５」（処理液ノズルＮ３）に対する禁止ポートとして、「ポートＡ」（排液ポートＰ１）および「ポートＢ」（排液ポートＰ２）が記述されている。
【００５１】
したがって、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）に対しては「ポートＡ」（排液ポートＰ１）のみが許容され、「ノズル３」（処理液ノズルＮ２）に対しては「ポートＢ」（排液ポートＰ２）のみが許容され、ノズル５」（処理液ノズルＮ３）に対しては「ポートＣ」（排液ポートＰ３）のみが許容される。このように、処理液ノズルに応じて排液ポートを分けているのは、排液ポート内での処理液の混合を回避するためである。処理液の混合を回避することで、薬液の回収および再利用の効率が高まる。また、意図しない化学反応を生じるおそれのある複数種類の薬液の混合を回避できる。
【００５２】
操作者が入力装置１７および表示装置１８を用いて処理レシピを作成するとき、たとえば、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）からの処理液吐出がされている状態で、「ポートＡ」（排液ポートＰ１）以外の排液ポートへの切り換えを指示するステップを誤って作成するかもしれない。この場合、コンピュータ１６は、動作条件データを参照することにより、当該ステップの登録が制限事項に抵触することを見いだす。そして、コンピュータ１６は、たとえば、表示装置１８に、「ノズル１」（処理液ノズルＮ１）に対しては、当該排液ポートの選択が禁止されていることを表示して、操作者に注意を促す。
【００５３】
図５は、コンピュータ１６による検査レシピ自動生成動作の例を説明するためのフローチャートである。また、図６は、自動生成された検査レシピの一例を示す図である。図５および図６には、処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３および排液ポートＰ１，Ｐ２，Ｐ３の動作確認を行う場合の例が示されている。
使用者が、入力装置１７から、所定の入力操作を行うことによって、コンピュータ１６は、検査レシピ自動生成プログラムを起動して、検査レシピの自動生成を開始する。コンピュータ１６は、動作条件データのうち「処理ユニットパラメータ」に規定されているノズル吐出時のスピンベース最低回転数（たとえば１０００ｒｐｍ）を取得する（手順Ｓ１）。そして、コンピュータ１６は、検査レシピの先頭ステップ（ステップ１）として、スピンチャックをノズル吐出時の最低回転数で回転開始させることを記述し、これを記憶装置１９に登録する（手順Ｓ２）。
【００５４】
次に、コンピュータ１６は、構成定義データの「ノズルパラメータ」を参照し、「有効」なノズル（すなわち、基板処理装置に実際に備えられているノズル）のリストを取得する（手順Ｓ３）。さらに、コンピュータ１６は、取得したリスト中のノズルについて、動作条件データの「同時吐出禁止パラメータ」を参照して、同時吐出が禁止されるノズルの記述のないノズル（禁止条件のないノズル）を特定する（手順Ｓ４）。通常は、リンス液ノズルが特定されることになる。さらに、コンピュータ１６は、動作条件データの「禁止排液ポートパラメータ」を参照して、当該禁止条件無しのノズル（「ノズル５」：処理液ノズルＮ３）に対応した排液ポート（ポートＣ：排液ポートＰ３）を特定する（手順Ｓ５）。そして、コンピュータ１６は、禁止条件無しのノズルからの吐出（所定時間の吐出）、および対応する排液ポートの使用を、検査レシピの次ステップ（ステップ２）として登録する（手順Ｓ６）。これにより、禁止条件無しのノズルについての動作確認のためのステップが登録されることになる。
【００５５】
さらに、コンピュータ１６は、検査レシピの次のステップ（ステップ３）として、禁止条件無しのノズル（「ノズル５」：処理液ノズルＮ３）からの吐出が正常に行われたかどうかを検出し、吐出不良があればアラームを発生して以後の処理手順を行わずに自動停止させることを登録する（手順７）。処理液吐出が正常か否かは、たとえば、処理液流路３１，３２，３３に流量計を設けておき、この流量計の出力を、ハードウェアインタフェース２０を介してコンピュータ１６に取り込むことによって判断できる。このような流量計は、図２に示すセンサ類２５の一例である。禁止条件無しのノズル（通常はリンス液ノズル）の動作確認を始めに行うことによって、その後に、他のノズルから薬液を吐出させた場合に、その後のリンス処理を確実に行うことができる。
【００５６】
さらに、コンピュータ１６は、禁止条件無しのノズルからの処理液吐出に異常がないときに実行する次ステップを作成するために、有効ノズルリストから、未抽出のノズル（たとえば「ノズル１」）を取り出す（手順Ｓ８）。そして、動作条件データを参照して、当該ノズルに対して許容される排液ポート（たとえば「ポートＡ」）を特定する（手順Ｓ９）。さらに、コンピュータ１６は、検査レシピの次のステップ（ステップ４）として、当該取り出されたノズルからの処理液吐出（所定時間の吐出）、および当該特定された排液ポートの使用を記述し、これを記憶装置１９に登録する（手順Ｓ１０）。
【００５７】
次に、コンピュータ１６は、禁止条件無しのノズル（「ノズル５」：処理液ノズルＮ３）からの処理液の吐出（所定時間の吐出）、および対応する排液ポート（ポートＣ：排液ポートＰ３）の使用を、検査レシピの次ステップ（ステップ５）として記述し、これを記憶装置１９に登録する（手順Ｓ１１）。これは、薬液の使用の後に、基板上の薬液をリンス液に置換するためのステップである。
【００５８】
そして、有効なノズルの全てに関して処理液の吐出を記述するまで、手順Ｓ８〜Ｓ１１を繰り返す（手順Ｓ１２：ＹＥＳ）。これにより、図６のステップ６，７が記憶装置１９に登録される。
有効なノズルの全てに関して処理液を吐出させるためのステップ（ステップ４〜７）を記述し終えると（手順Ｓ１２：ＮＯ）、コンピュータ１６は、スピンチャックを最高回転数（たとえば３０００ｒｐｍ）で回転開始させることを記述したステップ（ステップ８）を検査レシピの次ステップとして記述し、これを記憶装置１９に登録する（手順Ｓ１３）。これは、検査の最後に、基板を高速回転させ、遠心力によって基板表面の液成分を振り切る乾燥処理を実行するためである。そして、コンピュータ１６は、検査レシピの最後のステップ（ステップ９）として、スピンチャックの回転停止を記述し、これを記憶装置１９に登録する（手順Ｓ１４）。こうして、すべての処理液ノズルの動作を確認するための検査レシピ（図６参照）が自動生成され、記憶装置１９に登録される。
【００５９】
操作者が入力装置１７を操作して検査レシピの実行を指示すると、コンピュータ１６は、記憶装置１９から検査レシピを読み出し、これを実行する。これにより、まず、スピンチャック１がノズル吐出時の最低回転数（たとえば１０００ｒｐｍ）で回転される（図６のステップ１）。この状態で、昇降駆動機構９が制御されて「ポートＣ」に対応する排液ポートＰ３がスピンベース６の側方に配置される。また、「ノズル５」に対応する処理液ノズルＮ３のバルブ２３が開かれ、吐出部１３からリンス液が基板Ｗに向けて吐出される（ステップ２）。こうして、処理液ノズルＮ３の動作確認を行える。このとき、リンス液の吐出に不良があれば、コンピュータ１６は、表示装置１８にアラーム表示を出力させるとともに、処理を自動停止する（ステップ３）。
【００６０】
リンス液が正常に吐出されれば、所定時間のリンス液吐出の後、バルブ２３が閉じられる。そして、次に、「ポートＡ」に対応する排液ポートＰ１がスピンベース６の側方に位置するように昇降駆動機構９が制御される。この状態で、「ノズル１」に対応する処理液ノズルＮ１のバルブ２１が開かれる（ステップ４）。これにより、処理液ノズルＮ１から処理液が吐出され、遠心力によって基板Ｗから排除される処理液は排液ポートＰ１に受け容れられる。こうして、処理液ノズルＮ１の動作確認を行える。
【００６１】
所定時間後に処理液ノズルＮ１のバルブ２１が閉じられると、次に、昇降駆動機構９が制御されて「ポートＣ」に対応する排液ポートＰ３がスピンベース６の側方に配置される。また、「ノズル５」に対応する処理液ノズルＮ３のバルブ２３が開かれ、吐出部１３からリンス液が基板Ｗに向けて吐出される（ステップ５）。所定時間のリンス液吐出の後、バルブ２３が閉じられる。これにより、基板Ｗ表面の、処理液ノズルＮ１から吐出された処理液がリンス液で置換される。
【００６２】
次に、「ポートＢ」に対応する排液ポートＰ２がスピンベース６の側方に位置するように昇降駆動機構９が制御される。この状態で、「ノズル３」に対応する処理液ノズルＮ２のバルブ２２が開かれる（ステップ６）。これにより、処理液ノズルＮ２から処理液が吐出され、遠心力によって基板Ｗから排除される処理液は排液ポートＰ２に受け容れられる。こうして、処理液ノズルＮ２の動作確認を行える。
【００６３】
所定時間後に処理液ノズルＮ２のバルブ２２が閉じられると、次に、昇降駆動機構９が制御されて「ポートＣ」に対応する排液ポートＰ３がスピンベース６の側方に配置される。また、「ノズル５」に対応する処理液ノズルＮ３のバルブ２３が開かれ、吐出部１３からリンス液が基板Ｗに向けて吐出される（ステップ７）。
所定時間のリンス液吐出の後、コンピュータ１６は、処理液ノズルＮ３のバルブ２３を閉じ、スピンチャック１を最高回転数（たとえば３０００ｒｐｍ）で回転させる（ステップ８）。これにより、基板Ｗ表面の液成分を遠心力によって排除する乾燥処理が行われる。所定時間の乾燥処理の後、コンピュータ１６は、スピンチャック１の回転を停止し（ステップ９）、検査レシピの実行を終える。
【００６４】
こうして、自動生成された検査レシピの実行によって、全ての処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３の動作確認を、適切な排液ポートＰ１，Ｐ２，Ｐ３を選択しながら漏れなく行うことができる。その際に、処理液ノズルＮ１，Ｎ２から吐出される処理液（薬液）の混合を確実に回避できる。
なお、検査レシピの自動生成処理において、同時吐出が許容される複数の処理液ノズルに関しては、同時吐出の検査を行うステップが検査レシピに追加されてもよい。具体的には、たとえば、図５の手順８において、同時吐出が許容されるノズルの組み合わせを取り出すこととし、同時吐出が許容される全てのノズルの組み合わせについて、手順８〜Ｓ１１を行えばよい。この場合、同時吐出のときには、たとえば、禁止条件無しのノズルに対応する排液ポートを使用することとしてもよい。このようにして作成された検査レシピを基板処理装置で実行させることによって、同時吐出時の動作確認を行うことができる。その結果、たとえば、ソフトウェアの不具合によって同時吐出がされなかったり、同時吐出時にいずれかの処理液の流量に不足が生じたりしていれば、このような不具合をも、自動生成された検査レシピを用いて確認することができる。
【００６５】
なお、薬液を基板に吐出した後、その薬液をリンス液に置換する場合において、リンス液吐出初期には、薬液の濃度が比較的高い。そこで、薬液ノズルからリンス液ノズル（禁止条件無しのノズル）に切り換えた当初の期間には、当該薬液ノズルに対応した排液ポートを選択し、その後（一定時間経過後）に、リンス液ノズルに対応した排液ポートを使用するように記述したステップを、検査レシピに登録してもよい。
【００６６】
図７は、この発明の他の実施形態に係る検査レシピ自動生成装置が適用された基板処理装置の構成を説明するためのブロック図である。この図７において、前述の図２に示された各部に対応する部分には、同一参照符号を付して示す。
この実施形態では、外部記憶装置８０に、検査レシピ自動生成プログラムが格納されている。この外部記憶装置８０は、ＵＳＢメモリ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭその他のコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。この外部記憶装置８０に格納された検査レシピ自動生成プログラムを制御装置１５に備えられた適切な読み取り手段を介して読み取り、コンピュータ１６で実行させることにより、コンピュータ１６が検査レシピ自動生成機能を有することになる。こうして、前述の実施形態の場合と同様の効果を得ることができる。
【００６７】
この実施形態による利点は、必要なときに検査レシピ自動生成機能を付加できることである。これにより、検査レシピ自動生成プログラムを制御装置１５の記憶装置１９に格納しておく必要がないから、記憶装置１９の記憶容量を節約できる。また、制御装置１５が予め検査レシピ自動生成機能を有している必要がないから、このような機能のない制御装置１５に対して、事後的に検査レシピ自動生成機能を付加することができる。さらに、外部記憶装置８０を適切に管理しておくことにより、検査レシピの自動生成機能の使用者を限定することができる。
【００６８】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。たとえば、前述の実施形態では、薬液を吐出する処理液ノズルＮ１，Ｎ２の使用の後に、リンス液を吐出する処理液ノズルＮ３からの吐出を行うようにしている。しかし、たとえば、第３の薬液ノズルが備えられていて、この薬液ノズルから吐出される薬液が処理液ノズルＮ１から吐出される薬液との混合が許されるものである場合もあり得る。このような場合には、処理液ノズルＮ１からの処理液吐出後に、前記第３の薬液ノズルからの薬液の吐出が行われるように記述した検査レシピが生成されてもよい。
【００６９】
また、前述の実施形態では、３つの処理液ノズルおよび３つの排液ポートを備えた基板処理装置を例に取ったが、これらの数は、むろん、一例に過ぎない。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００７０】
Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３    処理液ノズル
１１，１２，１３    吐出部
２１，２２，２３    処理液バルブ
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３    排液ポート
１      スピンチャック
２      スプラッシュガード
３      排液カップ
５      回転軸
６      スピンベース
７      回転駆動機構
８      保持部材
９      昇降駆動機構
１０    処理カップ
１５    制御装置
１６    コンピュータ
１７    入力装置
１８    表示装置
１９    記憶装置
１９０〜１９４    記憶領域
２０    ハードウェアインタフェース
２５    センサ類
３１，３２，３３    処理液流路
４１，４２    処理液タンク
４３    リンス液供給源
４５    第１回収配管
４６    第２回収配管
４７    ドレン配管
５１，５２    処理液ポンプ
６１，６２，６３    排液分離壁
６１Ａ  第１排液溝
６２Ａ  第２排液溝
６３Ａ  第３排液溝
６４    外壁
６５    底壁部
７１，７２，７３    排液ガイド
８０    外部記憶装置
【図１】
2011066235.tif 000003
【図２】
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【図３】
2011066235.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
2011066235.tif 000008
【図７】
2011066235.tif 000009