(57)【要約】【課題】滅菌処理に要する時間を短縮化し、アイソレータでの作業効率を向上させる。【解決手段】滅菌物質供給装置２００は、霧化部２１０および気化部２２０からなる滅菌ガス生成部２０２を有する。霧化部２１０において、超音波振動子２１３から発せられる超音波振動により、カップ２１４内の過酸化水素が霧化（ミスト化）される。霧化された過酸化水素は、気化部２２０において、ヒータ２２２で加熱され気化（ガス化）する。気化した過酸化水素は、滅菌ガスとしてアイソレータ１００の作業室１０に供給される。【選択図】図２Ａ
2011030654.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
過酸化水素を貯留する貯留部、及び前記貯留部に貯留された前記過酸化水素に超音波振動を与えて、前記過酸化水素を霧化させる超音波振動子、を含む霧化部と、
前記霧化部によって霧化された過酸化水素を加熱して気化させる気化部と、
前記気化部と前記霧化部とを接続する接続部材と、
前記過酸化水素を前記貯留部に供給するための滅菌物質供給口と、
前記接続部材に設けられ、霧化された前記過酸化水素を前記気化部に流すためのキャリアガスを供給するためのキャリアガス供給口と、
前記超音波振動子が発生する前記超音波振動を伝達する物質が貯留される収容部と、
を備え、
前記気化部は、前記貯留部の上方に設けられ、
前記貯留部の底部に、前記物質を介して伝達される前記超音波振動を前記過酸化水素に伝える金属製の振動板が設けられている
ことを特徴とする滅菌物質供給装置。
【請求項２】
前記振動板の下面に環状の平板が設けられ、
前記振動板は、その周縁を前記平板とともに前記貯留部の底面に固定することにより前記貯留部に脱着可能に取り付けられている
請求項１に記載の滅菌物質供給装置。
【請求項３】
前記気化部は、前記過酸化水素を加熱するヒータと、その内部に前記過酸化水素が下方から上方に向けて流通される中空筒状の加熱管と、前記加熱管の内部に設けられ、前記ヒータの熱を前記過酸化水素に伝達する熱伝導体と、を有し、
前記加熱管の下端位置が、前記超音波振動によって前記貯留部の外部に向けて飛散しようとする前記過酸化水素が前記加熱管の側面によって遮られる高さである
請求項１に記載の滅菌物質供給装置。
【請求項４】
前記気化部は、前記過酸化水素を加熱するヒータと、その内部に前記過酸化水素が下方から上方に向けて流通される中空筒状の加熱管と、前記加熱管の内部に設けられ、前記ヒータの熱を前記過酸化水素に伝達する熱伝導体と、を有し、
前記ヒータは前記加熱管の側面周囲に設けられ、
前記熱伝導体は、前記加熱管の上下方向に螺旋状に延出する板状のフィンを有し、
前記フィンの外径は前記加熱管の内径に略等しい
請求項１に記載の滅菌物質供給装置。
【請求項５】
前記気化部は、前記過酸化水素を加熱するヒータと、その内部に前記過酸化水素が下方から上方に向けて流通される中空筒状の加熱管と、前記加熱管の内部に設けられ、前記ヒータの熱を前記過酸化水素に伝達する熱伝導体と、を有し、
前記ヒータは前記加熱管の側面周囲に設けられ、
前記熱伝導体は、略半円状の複数のフィンを有し、
前記フィンの夫々は、前記加熱管の上下方向に所定間隔おきに交互に対向させて配置され、
前記フィンの夫々の外径は前記加熱管の内径に略等しい
請求項１に記載の滅菌物質供給装置。
【請求項６】
前記気化部は、前記過酸化水素を加熱するヒータと、その内部に前記過酸化水素が下方から上方に向けて流通される中空筒状の加熱管と、前記加熱管の内部に設けられ、前記ヒータの熱を前記過酸化水素に伝達する熱伝導体と、を有し、
前記ヒータは前記加熱管の側面周囲に設けられ、
前記熱伝導体は、前記加熱管の上下方向に延出し、内部に前記過酸化水素を流通させる断面六角形状の流路が複数形成されたハニカム状の構造体であり、
前記構造体の外径は前記加熱管の内径に略等しい
請求項１に記載の滅菌物質供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アイソレータ及びアイソレータ用の滅菌物質供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
アイソレータは、無菌環境にある作業室をその内部に有し、作業室において無菌環境であることを要求される作業、たとえば細胞培養などの生体由来材料を対象とする作業を行うためのものである。ここで、無菌環境とは、作業室で行われる作業に必要な物質以外の混入を回避するために限りなく無塵無菌に近い環境をいう。また、滅菌処理とはその無菌環境を実現するための処理をいい、滅菌処理に用いる物質を滅菌物質という。
【０００３】
作業室は、気体供給口と気体排出口とを備え、作業室内には気体供給口から空気が供給され、気体排出口から空気が排出される。一般にアイソレータでは、作業室内の無菌環境を確保するために、気体供給口にＨＥＰＡフィルタなどの微粒子捕集フィルタが設けられ、この微粒子捕集フィルタを介して空気が作業室に供給される。また気体排出口にも微粒子捕集フィルタが設けられ、作業室内の空気は微粒子捕集フィルタを介して作業室から排出される。
【０００４】
またアイソレータでは、過酸化水素などの滅菌物質を作業室内に噴霧し、作業室内を滅菌する滅菌処理が実行される（特許文献１、２を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−３２０３９２号公報
【特許文献２】特開２００５−３１２７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
滅菌処理では、ガス状の滅菌物質が作業室に供給される。従来のアイソレータでは、滅菌処理を行う際に、滅菌物質をガス状にするのに長時間の準備を要していたため、滅菌処理全体の時間が長くなり、アイソレータでの作業効率が低下するという課題があった。
【０００７】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたもので、滅菌処理に要する時間を短縮し、アイソレータでの作業効率を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するための本発明の一つは、
滅菌物質供給装置であって、
過酸化水素を貯留する貯留部、及び前記貯留部に貯留された前記過酸化水素に超音波振動を与えて、前記過酸化水素を霧化させる超音波振動子、を含む霧化部と、
前記霧化部によって霧化された過酸化水素を加熱して気化させる気化部と、
前記気化部と前記霧化部とを接続する接続部材と、
前記過酸化水素を前記貯留部に供給するための滅菌物質供給口と、
前記接続部材に設けられ、霧化された前記過酸化水素を前記気化部に流すためのキャリアガスを供給するためのキャリアガス供給口と、
前記超音波振動子が発生する前記超音波振動を伝達する物質が貯留される収容部と、
を備え、
前記気化部は、前記貯留部の上方に設けられ、
前記貯留部の底部に、前記物質を介して伝達される前記超音波振動を前記過酸化水素に伝えるステンレス製の振動板が脱着可能に設けられていることとする。
【０００９】
本発明の滅菌物質供給装置によれば、過酸化水素を、超音波振動子を有する霧化部によって霧化した後、気化部によって気化させる二段階方式を採用することにより、過酸化水素のガス化を速やかに進行させることができる。そのため、気化部で投与する熱量を従来に比べて小さくすることができる。これにより、過酸化水素をガス化するのに要する時間を短縮することができ、滅菌処理全体の時間を短縮することができる。その結果、アイソレータでの作業効率を向上させることができる。
【００１０】
本発明のアイソレータは、生体由来材料を対象とする作業を行うための作業室と、作業室内に気体を供給する気体供給部と、作業室内の気体を排出する気体排出部と、微粒子捕集フィルタとを有し、気体供給部と作業室とを連絡する流通路と、作業室内に滅菌物質を供給する滅菌物質供給装置と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
その他、本願が開示する課題、及びその解決方法は、発明を実施するための形態の欄、及び図面により明らかにされる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、滅菌処理に要する時間を短縮し、アイソレータでの作業効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】アイソレータの構成を示す図である。
【図２Ａ】滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図２Ｂ】滅菌ガス生成装置を上方から眺めた図(一部省略）である。
【図３Ａ】カップ、Ｏリング、振動板、及び平板を分解した状態を示す図である。
【図３Ｂ】振動板の平面図である。
【図３Ｃ】平板の平面図である。
【図４】滅菌ガスを生成する際の動作を説明するタイミングチャートである。
【図５】第２実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図６Ａ】第２実施形態として説明する滅菌ガス生成装置のカップ、Ｏリング、振動板、及び平板を分解した状態を示す図である。
【図６Ｂ】第２実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の振動板の平面図である。
【図６Ｃ】第２実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の平板の平面図である。
【図７】第３実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図８】第４実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図９】第４実施形態として説明する滅菌ガス生成装置における加熱管の内部を流通する過酸化水素の流れを説明する図である。
【図１０Ａ】第５実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図１０Ｂ】第５実施形態として説明する滅菌ガス生成装置を上方から眺めた図(一部省略）である。
【図１１】第６実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図１２Ａ】第７実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成を示す図である。
【図１２Ｂ】第７実施形態として説明する滅菌ガス生成装置の構成の一部を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［第１実施形態］
図１に第１実施形態として示すアイソレータ１００の概略的な構成を示している。同図に示すように、アイソレータ１００は、生体由来材料を対象とする、細胞抽出や細胞培養といった作業を行うための作業室１０、作業室１０に気体を供給する気体供給部４０、作業室１０の気体を排出する気体排出部５０、作業室１０に滅菌物質供給する滅菌物質供給装置２００、及びこれらの各構成を制御する制御部９０を備えている。尚、生体由来材料とは、細胞を含む生物そのもの、あるいは生物を構成する物質、もしくは生物が生産する物質などを含んだ材料を意味する。
【００１５】
気体供給部４０には、吸気口４２、三方弁４４、及びファン４６が設けられている。吸気口４２を経由して外部から空気が取り込まれる。三方弁４４は、経路７０を経由して吸気口４２の気体流れ下流側、及び経路８０を経由して滅菌ガス生成装置２０２の気体流れ下流側に接続されている。また三方弁４４は、経路７２を経由してファン４６の気体流れ上流側に接続されている。三方弁４４は、経路７０から経路７２方向、経路８０から経路７２方向への気体流路の排他的な切り換えが可能である。吸気口４２を経由して取り込まれた空気、経路８０を経由して送出された滅菌物質を含む気体は、三方弁４４を経由してファン４６に取り込まれる。
【００１６】
ファン４６は、経路７２を経由して三方弁４４方向から取り込んだ気体を、経路７４を経由して作業室１０方向へ送り出す。ファン４６は、制御部９０によるオンオフの切り換え制御が可能である。尚、ファン４６は排気量を連続的に調節可能である。
【００１７】
作業室１０には、前面扉１２が開閉可能に設けられている。前面扉１２の所定位置には、作業者が作業室１０内で作業を行うための作業用グローブ１４が設けられている。作業者は前面扉１２に設けられている図示しない開口部から作業用グローブ１４に手を挿入し、作業室１０内で作業を行うことができる。作業室１０には、ファン４６から送出された気体が気体供給口１６から取り込まれ、気体排出口１８から気体が排出される。
【００１８】
気体供給口１６にはＨＥＰＡフィルタ２０が設けられている。また気体排出口１８にはＨＥＰＡフィルタ２２が設けられている。これらによって作業室１０の無菌状態が確保される。作業室１０から出た気体は、気体排出口１８、ＨＥＰＡフィルタ２２、及び経路７６を経由し、気体排出部５０に送出される。
【００１９】
気体排出部５０には、気体流れに従って、三方弁５２、滅菌物質低減処理部５４、及び排気口５８がこの順に設けられている。
【００２０】
三方弁５２は、経路７６を経由して作業室１０の気体流れ下流側に、かつ、経路８２を経由して滅菌物質低減処理部５４の気体流れ上流側に接続されている。三方弁５２は、経路７８を経由して、後述する滅菌物質供給装置２００の気体流れ上流側に接続されている。三方弁５２は、経路７６から経路８２方向、又は経路７６から経路７８方向への気体流路の排他的な切り換えが可能であり、経路７６を経由して取り込まれた気体は、経路８２方向又は経路７８方向へ送出される。
【００２１】
滅菌物質低減処理部５４は、三方弁７２を経由して送出された気体に含まれる滅菌物質の濃度の低減化処理を行う。滅菌物質低減処理部５４は、例えば白金などの金属触媒、活性炭などを含んでいてもよい。
【００２２】
作業室１０の外部には、作業室１０に滅菌物質を供給する滅菌物質供給装置２００が設けられている。滅菌物質供給装置２００は、作業室１０に滅菌物質（本実施形態では過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）を供給してアイソレータ１００内を循環させることで、作業室１０及び経路を無菌環境とする。尚、無菌環境とは、作業室で行われる作業に必要な物質以外の物質の混入を防いだ限りなく無塵、無菌に近い環境をいう。
【００２３】
滅菌物質供給装置２００は、三方弁５２及び経路７８の気体流れ下流側で、かつ、経路８０及び三方弁４４の気体の流れ上流側に接続されている。滅菌物質供給装置２００は、滅菌物質カートリッジ２６０、ポンプ２６４（例えばペリスタポンプ）、及び滅菌ガス生成装置２０２を有する。滅菌物質カートリッジ２６０は、滅菌物質として過酸化水素水を貯蔵する。ポンプ２６４は、滅菌物質カートリッジ２６０に貯蔵された過酸化水素水を汲み上げ、滅菌ガス生成装置２０２に送出する。滅菌ガス生成装置２０２は、供給された過酸化水素水を気化（蒸気化）させ、過酸化水素ガスを発生させる。発生した過酸化水素ガスは、経路８０に送出される。
【００２４】
図２Ａ、図２Ｂに滅菌ガス生成装置２０２の構成を示している。図２Ａは滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図であり、図２Ｂは滅菌ガス生成装置２０２を上方から眺めた図(一部省略）である。
【００２５】
図２Ａに示すように、滅菌ガス生成装置２０２は、霧化部２１０及び気化部２２０を含む。同図に示すように、霧化部２１０は、収容部２１１、超音波振動子２１３、カップ２１４（貯留部）、振動板２１４１、及び筒状部材２１５（接続部材）などを含んで構成されている。
【００２６】
収容部２１１は、ステンレスなどの金属製もしくは樹脂製であり、上面に開口を有する中空円筒状の容器である。収容部２１１の内部には、収容部２１１の内部を仕切る円形板状の仕切板２１１５が設けられ、この仕切板２１１５によって収容部２１１の内部に２つの空間が形成されている。以下、仕切板２１１５の上方側に形成される空間のことを第１空間２１１１と称し、下方側に形成される空間のことを第２空間２１１２と称する。
【００２７】
２つの空間のうち第１空間２１１１には、超音波振動子２１３から発せられる超音波を振動板２１４１に伝達する物質（以下、超音波伝搬物質２４０と称する。）が貯留される。尚、超音波伝搬物質２４０としては水などの粘性の小さな液体が適している。
【００２８】
収容部２１１の第１空間２１１１の側面には開口２１１７が設けられ、この開口２１１７に超音波伝搬物質２４０の温度を計測する温度計２４１とこれを保持する継手２４２が設けられている。温度計２４１によって計測された温度は制御部９０に伝送される。尚、超音波伝搬物質２４０の温度が所定の温度を超えると、制御部９０は超音波振動子２１３への電力供給を停止する。収容部２１１の上面板２１７の所定位置には、第１空間２１１１への超音波伝搬物質２４０の供給や第１空間２１１１の内圧調整などを行うための栓２１７５が設けられている。
【００２９】
超音波振動子２１３は、収容部２１１の仕切板２１１５の所定位置に設けられている。超音波振動子２１３は、電気エネルギーなどの駆動エネルギーによって超音波振動を発生する素子である。同図に示すように、超音波振動子２１３は、径の異なる２枚の板状の部材を重ねた構造からなる収容体２１３１の内部に保持され、収容体２１３１は螺子２１３２によって仕切板２１１５にその下方側から固定されている。
【００３０】
カップ２１４は、滅菌物質の貯留部として機能する。図２Ａに示すように、カップ２１４は略円筒状の容器であり、上下に開口２１４７，２１４８を有する。同図に示すように、カップ２１４の下部外径は下方ほど径が小さくなる裁頭円錐状（円錐形の頭部を水平にカットした形状）である。
【００３１】
カップ２１４の下部開口２１４８には、これを塞ぐように、円盤状の薄肉の振動板２１４１が取り付けられている。振動板２１４１の素材はステンレス等の金属（厚さは例えば０．０２ｍｍ程度）もしくは樹脂（厚さは例えば０．２ｍｍ程度）等の素材からなる。同図に示すように、振動板２１４１はその下方から円環状の平板２１４２を重ね併せ、この平板２１４２とともにその周縁をカップ２１４の底面縁部に螺子２１４３で固定することによってカップ２１４に脱着可能に取り付けられている。
【００３２】
尚、収容部２１１の第１空間２１１１とカップ２１４の内部空間とを確実に遮断すべく、振動板２１４１とカップ２１４との接合面にはＯリング２１４４を介在させており、カップ２１４の底面縁部には、このＯリング２１４４を収容するための環状の溝２１４５が設けられている。図３Ａにカップ２１４、Ｏリング２１４４、振動板２１４１、及び平板２１４２を分解した状態を示す。また図３Ｂに振動板２１４１の平面図を、図３Ｃに平板２１４２の平面図を夫々示す。
【００３３】
図２Ａに示すように、カップ２１４の側面周囲にはフランジ２１２が形成されている。カップ２１４は、フランジ２１２部分を螺子２１４６によって収容部２１１の上面板２１７に固定することにより、収容部２１１の上に組み付けられている。尚、第１空間２１１１の気密性を確保するため、フランジ２１２の上面と収容部２１１の間にＯリング２１１４を介在させており、収容部２１１上面のフランジ２１２が当接する部分には、このＯリング２１１４を収容するための環状の溝２１１６が設けられている。
【００３４】
図２Ａに示すように、筒状部材２１５は、上下面が開口する中空円筒状の部材である。筒状部材２１５の上面周囲にはフランジ２１５１が、また筒状部材２１５の下面周囲にはフランジ２１５２が、夫々設けられている。筒状部材２１５のフランジ２１５１には、その上面に後述する加熱管２２１のフランジ２２８が固定され、筒状部材２１５の上面開口はフランジ２２８によって閉塞される。
【００３５】
筒状部材２１５は、その下面のフランジ２１５２をカップ２１４のフランジ２１２とともに螺子２１４６によって収容部２１１の上面板２１７に固定することにより、収容部２１１の上方に組み付けられている。尚、筒状部材２１５内部の気密性を確保すべく、カップ２１４のフランジ２１２の上面と筒状部材２１５のフランジ２１５２との間にはＯリング２１２１を介在させている。カップ２１４のフランジ２１２上面の、筒状部材２１５のフランジ２１５２が当接する部分には、このＯリング２１２１を収容するための環状の溝２１２２が設けられている。
【００３６】
筒状部材２１５の側面には、図示しない空気供給ファンから送出されるキャリアガス（本実施形態では空気）を筒状部材２１５の内部に流入させる配管２７５が接続している。
【００３７】
以上の構成からなる霧化部２１０においては、カップ２１４に供給された過酸化水素水が、超音波伝搬物質２４０を介して超音波振動子２１３から入力される超音波振動によって霧化され、霧化した過酸化水素水は気化部２２０に送り込まれる。尚、霧化されずに気化部２２０の内側に付着した過酸化水素水の液滴は、重力の作用によってカップ２１４に落下し、ここで再び超音波振動が与えられて霧化することとなる。
【００３８】
超音波振動子２１３から発生される超音波振動の波面の進行方向、即ち超音波振動子２１３の振動子面中心の法線は、鉛直方向（重力の作用する方向）に対して所定の角度傾いている（例えば約７度）。このようにすることで、先行して霧化した過酸化水素水と上記水柱との干渉を防ぐことができ、過酸化水素水の霧化を安定して行うことができる。
【００３９】
図２Ａに示すように、気化部２２０は霧化部２１０の上方に設けられている。気化部２２０は、加熱管２２１、ヒータ２２２、配管２２４、及び温度測定部２２７を含んで構成されている。
【００４０】
同図に示すように、加熱管２２１の外形は中空筒状（本実施形態では中空円筒状）である。加熱管２２１は、その軸を鉛直方向に向けた状態で収容部２１１の上に組み付けられている。加熱管２２１は、その側面周囲に形成されているフランジ２２８を、筒状部材２１５のフランジ２１５１に螺子２２８１によって固定することにより、筒状部材２１５に取り付けられている。尚、筒状部材２１５内部の気密性を確保すべく、加熱管２２１のフランジ２２８と筒状部材２１５のフランジ２１５１の上面との間にはＯリング２２８２を介在させている。フランジ２１５１上面のフランジ２２８が当接する部分には、このＯリング２２８２を収容するための環状の溝２２８３が設けられている。
【００４１】
加熱管２２１の内部には、キャリアガス及び過酸化水素水が、当該加熱管２２１の下方から上方に向かって流通する流路２２６が形成されている。同図に示すように、加熱管２２１のフランジ２２８及び加熱管２２１の側面を貫通させてドレーン２６２が設けられている。カップ２１４に貯留される過酸化水素水は、ドレーン２６２を通じて滅菌物質カートリッジ２６０から随時供給される。ドレーン２６２の一端は、加熱管２２１内部のほぼ加熱管２２１の下端に位置している。またドレーン２６２の他端は、図１に示したポンプ２６４に接続されている。ドレーン２６２は、加熱管２２１のフランジ２２８に設けられている継手２２８５に保持されている。加熱管２２１内を気密に保つべく、加熱管２２１の側面のドレーン２６２が貫通する部分の周辺は樹脂材やゴム材等によって封止されている。
【００４２】
図２Ａに示すように、加熱管２２１の下端位置は、キャリアガスが流入する筒状部材２１５の開口２５２（キャリアガス供給口）の最下端より下になるようにしている。加熱管２２１の下端位置をそのような位置とすることで、キャリアガスの流れに乱れが生じるのを防ぐことができる。また配管２７５は、配管２７５の軸線がヒータ２２２の軸線（あるいは筒状部材２１５の軸線）と交わらない位置関係となるように設けている。このようにすることで、加熱管２２１と筒状部材２１５との間の空間においてキャリアガスの流れが下向きになるとともに、キャリアガスは加熱管２２１の周囲を時計回り又は反時計周りのいずれか一方の流れとなって加熱管２２１の内部に渦巻き状の上昇流が発生する。この上昇流は、過酸化水素水の水柱が安定的に形成されるように作用する。
【００４３】
加熱管２２１の下端位置は、超音波振動によってカップ２１４の外部に飛散しようとする過酸化水素水が加熱管２２１の側面によって遮られる高さとしている。より具体的には、カップ２１４内に露出している振動板２１４１の振動面の任意の点とカップ２１４壁面の上端縁の任意の点とを結ぶ直線が、加熱管２２１の側面と必ず交わる高さとしている。加熱管２２１の下端位置をそのような高さとすれば、カップ２１４の上部開口方向に向かう方向に形成される水柱は加熱管２２１の側面で必ず遮られる。これによれば過酸化水素水がカップ２１４の外部に飛散して筒状部材２１５の内部に残留し気化対象として寄与することなく無駄に消費されてしまうのを防ぐことができる。
【００４４】
以上の構成からなる滅菌ガス生成装置２０２にあっては、加熱管２２１はカップ２１４の直上に設けられているため、加熱管２２１内で霧状の過酸化水素水が再結合して液滴化した場合には、液滴は重力の作用によってカップ２１４内に落下し、再び霧化して加熱管２２１に送られる。このため、過酸化水素水を無駄なく霧化し気化させることができる。
【００４５】
加熱管２２１の内部には、加熱管２２１の軸方向（上下方向）に延出する外径柱状のヒータ２２２が設けられている。ヒータ２２２の上端からはヒータ２２２に電力を供給する電力供給線２２２１とヒータ２２２の温度を計測するための温度計測用配線２２２２とが延出している。そして温度計測用配線２２２２は制御部９０に接続されている。
【００４６】
ヒータ２２２の周囲には、流路２２６を流れる過酸化水素水とヒータ２２２との接触面積を稼ぐため、加熱管２２１の軸方向（上下方向）に螺旋状に連続して延出する、ステンレス等の素材からなる板状のフィン２２３（熱伝導体）が設けられている。このような構成とすることで、ヒータ２２２の熱が効率よく過酸化水素水に伝達され過酸化水素水を迅速に気化させることができる。
【００４７】
ヒータ２２２の上部には、フランジ２７０が設けられている。このフランジ２７０には加熱管２２１の上面開口を塞ぐ蓋部材２７３が固定される。尚、加熱管２２１内部の気密性を確保すべく、フランジ２７０と蓋部材２７３との間にはＯリング２１８を介在させている。ヒータ２２２のフランジ２７０の上面及び蓋部材２７３の下面にはこのＯリング２１８を収容するための環状の溝２７０１、２７３１が設けられている。
【００４８】
蓋部材２７３の中央付近は開口しており、この開口にヒータ２２２の上部が貫通している。ヒータ２２２は、螺子２３２によって蓋部材２７３に固定されている。ヒータ２２２の熱が蓋部材２７３側に逃げるのを防ぐべく、ヒータ２２２と蓋部材２７３との間には断熱材２３３を介在させている。
【００４９】
加熱管２２１の上面側のフランジ２７８には、螺子２３９によって蓋部材２７３が取り付けられている。加熱管２２１内部の気密性を確保すべく、フランジ２７８と蓋部材２７３との間にはＯリング２１８１を介在させている。フランジ２７８の上面には、このＯリング２３８１を収容するための環状の溝２７８１が設けられている。
【００５０】
加熱管２２１の上部側面には、配管２２４の一方の端部が接続される開口２５４が設けられている。配管２２４には、配管２２４内の温度を計測する温度測定部２２７が設けられている。図２Ｂに示すように、温度測定部２２７は、温度計２２７１とこれを保持する継手２２７２とを含んで構成され、温度計２２７１での計測値は、制御部９０に伝送される。ヒータ２２２は、制御部９０でオンオフ制御され、温度測定部２２７の温度が約１８０℃になるように調温される。その調温過程において、ヒータ２２２の温度が所定の温度（例えば７００℃）を超えると制御部９０はヒータ２２２への電力供給を停止する。
【００５１】
＜動作説明＞
次に以上の構成からなる滅菌ガス生成装置２０２によって滅菌ガスを生成する際の動作について、図４に示すタイミングチャートを用いて説明する。尚、滅菌ガス生成装置２０２による滅菌ガスの生成は、制御部９０によって制御される。
【００５２】
まず時刻ｔ１においてヒータ２２２のスイッチがオンし、空気供給ファンの動作開始により、キャリアガスの送風を開始する。これによりヒータ２２２による加熱が開始されるとともに、ポンプ２６４を駆動して滅菌物質カートリッジ２６０に貯蔵されている過酸化水素水が汲み上げられて、カップ２１４に向けて過酸化水素水が送出される。
【００５３】
またヒータ２２２のスイッチがオンになることにより、配管２２４の内部温度が常温から上昇し始める。時刻ｔ２において、過酸化水素水がドレーン２６２を通過してカップ２１４に到達すると、カップ２１４の底部に過酸化水素水が貯まり始め、カップ２１４内の過酸化水素水量が増加し始める。
【００５４】
時刻ｔ３において、配管２２４の内部温度が過酸化水素の気化温度に達すると、超音波振動子２１３の駆動が開始され、超音波伝播用液２４０を介してカップ２１４に超音波振動が伝播される。これによりカップ２１４において過酸化水素水が霧化し、霧化した過酸化水素水がキャリアガスによって加熱管２２１に供給される。加熱管２２１に供給された霧状の過酸化水素水は、ヒータ２２２により加熱されてガス化する。ガス状になった過酸化水素ガスは、配管２２４を経由して経路８０に供給される。
【００５５】
尚、超音波振動子を用いた霧化装置においては、振動子面と霧化される液面までの距離によって霧化効率が変動するため、適切な距離の維持が必要であることが知られている。このため、時刻ｔ３以降において、霧化及び気化の進行によって消費されるカップ２１４内の過酸化水素水を補うように、ポンプ２６４によってカップ２１４に向けて送出される過酸化水素水の流量を調節することが望ましい。これにより時刻ｔ３以降において、カップ２１４内の過酸化水素水を効率的に霧化することができる。カップ２１４に向けて送出される過酸化水素水の総量は予め定められており、ポンプ２６４の能力に応じた所定の時間経過後にポンプ２６４の駆動が停止される。
【００５６】
時刻ｔ３以降において、ポンプ２６４の駆動が停止すると、時刻ｔ４において、カップ２１４への過酸化水素水の補給が停止する。時刻ｔ４以降、カップ２１４内の過酸化水素水の量が徐々に減少し、時刻ｔ５において、カップ２１４内の過酸化水素水の残量がゼロになる。
【００５７】
時刻ｔ５以降は、霧化部２１０から気化部２２０に送られる霧状の過酸化水素水の量が徐々に減少するため、加熱管２２１において過酸化水素水が気化されることにより奪われる熱量が徐々に減少する。これにより、配管２２４の内部温度が過酸化水素水の気化温度からさらに上昇する。換言すれば、配管２２４の内部温度の上昇は、カップ２１４内の過酸化水素水の残量がゼロになったことを示す現象であり、この現象を捉えることにより、カップ２１４の過酸化水素水の残量がゼロか否かを推測することができる。時刻ｔ６において、温度計２２５によって計測された配管２２４の内部温度が所定の判定温度に達すると、超音波振動子２１３の駆動が停止されるとともに、ヒータ２２２のスイッチがオフにされ、ヒータ２２２による加熱が停止される。
【００５８】
尚、当該所定温度は、加熱管２２１内の過酸化水素水のガス化が完了し、加熱管２２１内をキャリアガスのみが移動し始めるときの配管２２４の内部温度である。即ち、配管２２４の内部温度が所定の判定温度に達することは、カップ２１４内の過酸化水素水の残量がゼロになり、ガス化すべき過酸化水素水が滅菌ガス生成装置２０２に存在しないことを意味する。
【００５９】
時刻ｔ６以降、配管２２４の内部温度は上昇し続けた後、徐々に低下し始め、時刻ｔ７において常温に戻る。
【００６０】
尚、時刻ｔ１から時刻ｔ３までが、滅菌ガスの発生の準備に要する時間である。時刻ｔ３から時刻ｔ４まで、霧化部２１０において過酸化水素水の霧化が行われている。時刻ｔ１から時刻ｔ７まで、作業室１０を含む経路に滅菌ガスが暴露されている（後述する前処理工程及び滅菌工程）。時刻ｔ７以降に、作業室１０を含む経路から滅菌ガスが排気される（後述する置換工程）。
【００６１】
図１に戻り、制御部９０の説明を行なう。制御部９０は、上述したように滅菌ガス生成装置２０２による滅菌ガスの送出の制御を行なう。また制御部９０は、三方弁４４及び５２の弁の開閉を制御することで気体流路の切換えを行なう。
【００６２】
具体的には、制御部９０は、三方弁４４の弁の開閉を制御して、経路７０から経路７２方向、又は経路８０から経路７２方向への気体流路の排他的な切り換えを制御する。また制御部９０は、三方弁５２の弁の開閉を制御して、経路７６から経路８２方向、又は経路７６から経路７８方向への気体流路の排他的な切り換えを制御する。
【００６３】
＜気体流路の切換え＞
アイソレータ１００の気体流路は、制御部９０が三方弁４４及び５２の弁の開閉を制御することにより、以下の２通りに切り換えられる。即ち過酸化水素ガスをアイソレータ１００内に循環させる場合には、三方弁４４は、経路８０から経路７２方向にのみ開状態となり、経路７０から経路７２方向には閉状態となる。また三方弁５２は、経路７６から経路７８方向にのみ開状態となり、経路７６から経路８２方向には閉状態となる。
【００６４】
一方、作業室内の空気の置換を行なう場合には、三方弁４４は、経路７０から経路７２方向にのみ開状態となり、経路８０から経路７２方向には閉状態となる。また三方弁５２は、経路７６から経路８２の方向にのみ開状態となり、経路７６から経路７８方向には閉状態となる。これにより、空気は吸気口４２から経路７０、三方弁４４、経路７２、ファン４６、経路７４、ＨＥＰＡフィルタ２０、及び気体供給口１６を通って作業室１０に入り、気体排出口１８、ＨＥＰＡフィルタ２２、経路７６、三方弁５２、経路８２、及び滅菌物質低減処理部５４を通って排気口５８から排出されるという経路が形成される。
【００６５】
＜滅菌処理＞
アイソレータ１００では、作業室１０における１つの作業が終了した後、次の作業を開始する前に作業室１０及び前の作業に用いられた流通路の滅菌処理が行われる。滅菌処理は、前処理工程と、曝露工程と、置換工程とを含む。
【００６６】
前処理工程では、滅菌ガス生成装置２０２において、滅菌ガスを発生させるための準備工程である（図４でのｔ１〜ｔ３の工程）。
【００６７】
曝露工程（図４でのｔ３〜ｔ７の工程）では、滅菌ガス生成装置２０２から作業室１０へと過酸化水素ガスを送り、再び滅菌ガス生成装置２０２に戻るという循環により作業室１０の滅菌が行なわれる。その際、三方弁４４は経路８０から経路７２方向にのみ開状態に切換えられ、経路７０から経路７２方向には閉状態にされる。一方、三方弁５２は、経路７６から経路７８方向にのみ開状態に切換えられ、経路７６から経路８２方向には閉状態にされる。これにより、アイソレータ１００内には、三方弁４４から作業室１０内、三方弁５２を経由して、三方弁４４に戻るという気体流路が形成され、ファン４６の動作制御によって、作業室１０に導入された過酸化水素ガスをアイソレータ１００内に循環させることができる。この流路制御、ファン制御により、必要に応じてＨＥＰＡフィルタ２０、２２や経路７４、７６などの滅菌が可能である。
【００６８】
置換工程（図４でのｔ７以降の工程）では、吸気口４２を経由して取り込んだ空気を作業室１０に供給し、作業室１０の気体を押し出すことにより、作業室１０の気体が置換される。より具体的には、置換工程では制御部９０は、三方弁４４を吸気口４２から作業室１０方向にのみ開状態に切換え、三方弁５２を作業室１０から排気口５８方向にのみ開状態に切り換える。また制御部９０は、ファン４６をオンとする。これにより、アイソレータ１００内には、吸気口４２から取り込まれた空気が、経路７０からＨＥＰＡフィルタ２０を通過して作業室１０に至り、作業室１０からＨＥＰＡフィルタ２２を通過して排気口５８から排出されるという気体流路が形成される。その結果、作業室１０の気体が空気に置換され、作業室１０の過酸化水素ガスは作業室１０から除去される。
【００６９】
その際、作業室１０から押し出された過酸化水素ガスは、滅菌物質低減処理部５４によって低減処理されることにより、排気口５８からアイソレータ１００の外部への過酸化水素ガスの流出が低減される。また置換工程では、アイソレータ１００内の作業室１０以外の領域、たとえば気体供給部４０内に残存する過酸化水素ガスや前回の作業に用いられた流通路内のＨＥＰＡフィルタ２０及び２２に吸着している過酸化水素も除去される。
【００７０】
以上説明したアイソレータ１００によれば、以下のような効果を得ることができる。
【００７１】
霧化部２１０によって霧化された過酸化水素水が気化部２２０によってガス化されるため、気化部２２０における過酸化水素水のガス化が速やかに進行し、気化部２２０のヒータ２２２が付与する熱量を従来に比べて小さくすることができる。これにより、過酸化水素水をガス化するのに要する時間を短縮することができ、ひいては滅菌処理全体の時間を短縮することができる。この結果、アイソレータ１００での作業効率を向上させることができる。
【００７２】
またポンプ２６４によって所定量の過酸化水素水がカップ２１４に供給された後、配管２２４の内部温度が所定の判定温度に達したか否かを判定することにより、カップ２１４内の過酸化水素水の残量がゼロになったことが検知できる。これにより、ヒータ２２２の温調を無駄なく行うことができ、アイソレータ１００のエネルギー消費を抑制することができる。また、カップ２１４内の過酸化水素水の残量がゼロになったことにより、滅菌処理に必要な所定量の過酸化水素水を霧化したことが確認できるので、確実に暴露工程を実施でき、滅菌効果の信頼性が向上する。
【００７３】
［第２実施形態］
第２実施形態として説明するアイソレータ１００の構成は、第１実施形態のアイソレータ１００の構成と類似しているが、滅菌ガス生成装置２０２の振動板２１４１の法線を鉛直方向に対して傾けている点が第１実施形態と異なる。図５に第２実施形態として説明する滅菌ガス生成装置２０２の構成を示している。同図は滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図である。
【００７４】
同図に示すように、第２実施形態の滅菌ガス生成装置２０２では、振動板２１４１の振動面中心の法線方向を鉛直方向に対して傾斜させている。このように振動板２１４１を鉛直方向に対して傾けていることで、振動板２１４１下面側に超音波の伝搬ロスを生じさせる泡（超音波伝搬物質２４０が水である場合は水泡）の形成を効果的に抑制することができる。図６Ａにカップ２１４、Ｏリング２１４３、振動板２１４１、及び平板２１４２を分解した状態を示す。また図６Ｂに振動板２１４１の平面図を、図６Ｃに平板２１４２の平面図を夫々示す。
【００７５】
尚、振動板２１４１は、その振動面中心の法線方向が振動板２１４１の振動子面中心の法線方向と一致しないようにすることが好ましい。このように振動板２１４１の振動面中心の法線方向を振動板２１４１の振動子面中心の法線方向とずらすことで、超音波振動子２１３から送り出される超音波が振動板２１４１から反射してくる反射波と直接干渉するのを防ぐことができ、超音波振動子２１３から送り出される超音波を効率よく過酸化水素水に伝えることができる。
【００７６】
［第３実施形態］
第３実施形態として説明するアイソレータ１００の構成は、第１実施形態のアイソレータ１００の構成と類似しているが、滅菌ガス生成装置２０２のヒータ２２２及びフィン２２３の構成が第１実施形態とは異なる。図７に第３実施形態として説明する滅菌ガス生成装置２０２の構成を示す。同図は滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図である。
【００７７】
第１実施形態では発熱体であるヒータ２２２を加熱管２２１の内部に設けていたが、第３実施形態では、加熱管２２１の内部にはヒータ２２２を設けずにフィン２２３に相当する構成のみを配置し、ヒータ２２２については加熱管２２１の外部の加熱管２２１の側面周囲に設けている。フィン２２３は、加熱管２２１の上下方向に延出する軸部材２２３１に沿って設けられている。軸部材２２３１の上端にはフランジ２７０が設けられている。本実施形態ではヒータ２２２としてバンドヒータを用いており、これを加熱管２２１の側面に巻き付けている。
【００７８】
同図に示すように、第３実施形態では、加熱管２２１の上下方向に螺旋状に延出するフィン２２３を設けている。フィン２２３の外径は加熱管２２１の内径程度である。フィン２２３は、加熱管２２１の側面周囲に設けられているヒータ２２２の放射熱によって加熱され、フィン２２３内部の熱伝導によってフィン２２３の全体が加熱される。加熱管２２１の下方から上方に向けて上昇する過酸化水素水はフィン２２３によって加熱されるとともに、フィン２２３によって加熱管２２１の外壁の近傍に誘導され、ヒータ２２２の放射熱によっても加熱される。このように第３実施形態の滅菌ガス生成装置２０２によれば、過酸化水素水を効率よく加熱して迅速に気化させることができる。
【００７９】
［第４実施形態］
第４実施形態として説明するアイソレータ１００の構成は、第３実施形態のアイソレータ１００の構成と類似しているが、滅菌ガス生成装置２０２のフィン２２３の構成が第３実施形態とは異なる。図８に第４実施形態として説明する滅菌ガス生成装置２０２の構成を示す。同図は滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図である。
【００８０】
第３実施形態では、加熱管２２１の上下方向に螺旋状に延出するようにフィン２２３を設けていたが、第４実施形態では、フィン２２３をステンレス等の素材からなる略半円状の板材で構成している。各フィン２２３は、夫々の面が水平になるように、加熱管２２１の上下方向に所定間隔おきに交互に、隣接するフィン２２３同士が対向するように配置している。各フィン２２３の径は加熱管２２１の内径程度である。
【００８１】
図９に示すように、加熱管２２１の内部を流通する過酸化水素水は、隣接するフィン２２３で区画された空間を加熱管２２１の下方から上方に向けて流通する（同図における矢線は過酸化水素水の流れを示す）。各フィン２２３は、加熱管２２１の側面周囲に設けられているヒータ２２２の放射熱によって加熱され、各フィン２２３及び軸部材２２３１の熱伝導によってフィン２２３の全体が加熱される。加熱管２２１の下方から上方に向けて上昇する過酸化水素水はフィン２２３によって加熱されるとともに、フィン２２３によって加熱管２２１の外壁の近傍に誘導され、ヒータ２２２の放射熱によっても温められる。このように第４実施形態の滅菌ガス生成装置２０２によれば、過酸化水素水を効率よく加熱して迅速に気化させることができる。
【００８２】
［第５実施形態］
第５実施形態として説明するアイソレータ１００の構成は、第１実施形態のアイソレータ１００の構成と類似しているが、滅菌ガス生成装置２０２のフィン２２３の構成が第１実施形態とは異なる。図１０Ａ、図１０Ｂに第５実施形態として説明する滅菌ガス生成装置２０２の構成を示す。図１０Ａは滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図であり、図１０Ｂは滅菌ガス生成装置２０２を上方から眺めた図(一部省略）である。
【００８３】
第１実施形態では発熱体であるヒータ２２２を加熱管２２１の内部に設けていたが、第５実施形態では、加熱管２２１の内部に加熱管２２１の上下方向に延出し、内部に過酸化水素水を流通させる断面六角形状の流路２２３２が複数形成されたハニカム状の構造体２３０（整流板）を配置し、ヒータ２２２を加熱管２２１の外部の加熱管２２１の側面周囲に設けている。構造体２３０の外径は加熱管２２１の内径程度である。本実施形態ではヒータ２２２としてバンドヒータを用いており、これを加熱管２２１の側面に巻き付けている。
【００８４】
加熱管２２１の内部を流通する過酸化水素水は、構造体２３０の流路２２３２を加熱管２２１の下方から上方に向けて流通する。構造体２３０は、加熱管２２１の側面周囲に設けられているヒータ２２２の放射熱によって加熱され、構造体２３０内部の熱伝導によって構造体２３０の全体が加熱される。構造体２３０の各流路２２３２を加熱管２２１の下方から上方に向けて上昇する過酸化水素水は、各流路２２３２の壁面から供給される熱によって加熱される。このように第５実施形態の滅菌ガス生成装置２０２によれば、過酸化水素水を効率よく加熱して迅速に気化させることができる。
【００８５】
また図１０Ａに示すように、第５実施形態の滅菌ガス生成装置２０２の加熱管２２１の上部には、加熱管２２１に連通する円筒形状の排気管２６１が加熱管２２１と同軸に設けられている。排気管２６１の下部にはフランジ２６１１が設けられており、このフランジ２６１１は加熱管２２１の上面側のフランジ２７８と螺子２３９によって固定されている。このように、加熱管２２１と排気管２６１を同軸に設けるようにすることで、第１実施形態等のような構造である場合に比べて流路抵抗が減少する。このため、加熱管２２１の内部にハニカム状の構造体２３０を設けていても過酸化水素水を効率よく流通させることができる。
【００８６】
尚、加熱管２２１の熱が排気管２６１側に逃げてしまうのを防ぐため、排気管２６１のフランジ２６１１と加熱管２２１の上部のフランジ２７８と間には断熱パッキン２６３を介在させている。また加熱管２２１の熱が筒状部材２１５側に逃げてしまうのを防ぐため、加熱管２２１の下部のフランジ２２８と筒状部材２１５のフランジ２１５１との間に断熱パッキン２１５８を介在させている。また第５実施形態の滅菌ガス生成装置２０２にあっては、温度計２２７１とこれを保持する継手２２７２とを含む温度測定部２２７を排気管２６１の側面に設けている。またドレーン２６２を筒状部材２１５の側面に継手２２８５を介して設けている。
【００８７】
［第６実施形態］
第６実施形態として説明するアイソレータ１００の構成は、第１実施形態のアイソレータ１００の構成と類似するが、滅菌ガス生成装置２０２の加熱管２２１の上限方向に間隔を開けてステンレス等の素材からなる略半円状（例えば第４実施形態のフィン２２３と同様の形状）のフィン２２９を複数設けている点で第１実施形態と異なる。
【００８８】
図１１に第６実施形態として説明する滅菌ガス生成装置２０２の構成を示している。同図は滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図である。同図に示すように、各フィン２２９は、夫々の面を水平にして、加熱管２２１の上下方向に所定間隔おきに交互に、隣接して配置されるフィン２２９同士が対向するように配置されている。各フィン２２９の外径は加熱管２２１の内径程度であり、各フィン２２９の外周縁は加熱管２２１の内周にほぼ達している。また各フィン２２９の内周縁はヒータ２２２の外周に接している。
【００８９】
同図において加熱管２２１の矢線は過酸化水素水の流れを示している。加熱管２２１の内部を流通する過酸化水素水は、隣接するフィン２２９によって区画された空間を、加熱管２２１の下方から上方に向けて流通する。加熱管２２１の内部を流通する過酸化水素水の流れはフィン２２９によって水平方向に偏向され、これにより過酸化水素水がヒータ２２２の軸に対して垂直な方向からヒータ２２２の近傍を流通する。
【００９０】
ここで同図に示すヒータ２２２及びフィン２２３は、その構造上、ヒータ２２２の軸に対して垂直な方向から被加熱物質を当てることにより伝熱効率が向上する。このため、上記のように過酸化水素水がヒータ２２２の軸に対して垂直な方向からヒータ２２２の近傍を流通することにより、ヒータ２２２及びフィン２２３から過酸化水素水への熱伝達効率が向上する。尚、酸化水素水はフィン２２９によっても加熱され、これによっても過酸化水素水の気化効率が向上することとなる。
【００９１】
［第７実施形態］
第７実施形態として説明するアイソレータ１００の構成は、第１実施形態のアイソレータ１００の構成と類似するが、加熱管２２１の内部に、滅菌ガス生成装置２０２のヒータ２２２の周囲を囲むようにステンレス等の素材からなる邪魔板２３５が設けられている点で第１実施形態と異なる。図１２Ａ及び図１２Ｂは、第７実施形態として説明する滅菌ガス生成装置２０２の構成を示している。このうち図１２Ａは、滅菌ガス生成装置２０２を側方から眺めた断面図であり、図１２Ｂは、滅菌ガス生成装置２０２のヒータ２２２周辺構成を図１２Ａの矢線Ｘで示す方向から眺めた部分抽出図である。
【００９２】
邪魔板２３５はヒータ２２２の周囲を囲むように設けられており、邪魔板２３５の上下方向の中央線と加熱管２２１の軸は一致している。邪魔板２３５の水平方向（加熱管２２１の軸に垂直な方向）の外径は加熱管２２１の内径にほぼ等しく、邪魔板２３５の周縁は、その下方側の一部を除き加熱管２２１の内壁にほぼ達している。
【００９３】
図１２Ａに示すように、邪魔板２３５の下方側の部分はその下端から所定の高さ位置で折り曲げられ、折り曲げられた部分の邪魔板２３５の先端は加熱管２２１の内壁にほぼ達している。邪魔板２３５の折り曲げられた部分（以下、折り曲げ部２３５１と称する。）の外周縁は半円形状である。
【００９４】
図１２Ｂに示すように、邪魔板２３５の、ヒータ２２２及びフィン２２３が位置する部分は開口している。また図１２Ａに示すように、加熱管２２１の内部空間は、邪魔板２３５によって折り曲げ部２３５１が存在しない側の加熱管２２１の空間（半円柱状の空間。以下、第１空間２３６と称する。）と、折り曲げ部２３５１の上方に形成される空間（以下、第２空間２３７と称する。）の２つの空間に仕切られている。
【００９５】
加熱管２２１の下方から上方に向けて上昇する過酸化水素水は、まず加熱管２２１の邪魔板２３５の下端よりも下に形成される空間から第１空間２３６に流入し、ヒータ２２２及びフィン２２３の間の隙間を通って第２の空間２３７に流入する。第７実施形態の滅菌ガス生成装置２０２においては、過酸化水素水は必ずヒータ２２２及びフィン２２３の間の隙間を通過することとなり、過酸化水素水をまんべんなく加熱することができる。従って過酸化水素水を効率よく加熱して迅速に気化させることができる。
【００９６】
尚、邪魔板２３５の一部を、ヒータ２２２又はフィン２２３に接触させ、邪魔板２３５をヒータ２２２によって加熱するようにしてもよい。このようにすれば、邪魔板２３５の周辺を通ることによっても過酸化水素水が加熱され、過酸化水素水の気化をさらに促進させることができる。
【００９７】
以上、実施の形態について説明したが、以上の説明は本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれることは勿論である。
【符号の説明】
【００９８】
１０  作業室
１６  気体供給口
４０  気体供給部
４２  吸気口
５４  滅菌物質低減処理部
５８  排気口
９０  制御部
１００  アイソレータ
２００  滅菌物質供給装置
２０２  滅菌ガス生成装置
２１０  霧化部
２１１  収容部
２１２  フランジ
２１３  超音波振動子
２１４  カップ
２１４１  振動板
２１４２  平板
２１５  筒状部材
２２０  気化部
２２１  加熱管
２２２  ヒータ
２２３  フィン
２３０  構造体
２３５  邪魔板
２３６  第１空間
２３７  第２空間
２２３２  流路
２６２  ドレーン
２７３  蓋部材
【図１】
2011030654.tif 000003
【図２Ａ】
2011030654.tif 000004
【図２Ｂ】
2011030654.tif 000005
【図３Ａ】
2011030654.tif 000006
【図３Ｂ】
2011030654.tif 000007
【図３Ｃ】
2011030654.tif 000008
【図４】
2011030654.tif 000009
【図５】
2011030654.tif 000010
【図６Ａ】
2011030654.tif 000011
【図６Ｂ】
2011030654.tif 000012
【図６Ｃ】
2011030654.tif 000013
【図７】
2011030654.tif 000014
【図８】
2011030654.tif 000015
【図９】
2011030654.tif 000016
【図１０Ａ】
2011030654.tif 000017
【図１０Ｂ】
2011030654.tif 000018
【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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