(57)【要約】      （修正有）【課題】記録密度の向上が可能な光情報記録媒体を提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂と、熱可塑性樹脂に分散された無機酸化物の粒子とを有する記録層１１を備える光情報記録媒体。前記無機酸化物粒子がシランカップリング剤により表面処理されている。前記熱可塑性樹脂がカルボニル基、及び、アルコキシカルボニル基から選ばれる１つ以上の官能基を構造単位に有する。また前記熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート樹脂、非晶ポリアリレート樹脂、及び、ポリメタクリル酸メチル樹脂から選ばれる１つ以上を含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂と、
前記熱可塑性樹脂に分散された無機酸化物の粒子と、を有する記録層を備える
光情報記録媒体。
【請求項２】
前記無機酸化物粒子がシランカップリング剤により表面処理されている請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記熱可塑性樹脂がカルボニル基、及び、アルコキシカルボニル基から選ばれる１つ以上の官能基を構造単位に有する請求項２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート樹脂、非晶ポリアリレート樹脂、及び、ポリメタクリル酸メチル樹脂から選ばれる１つ以上を含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記無機酸化物が、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、及び、Ｙ２Ｏ３から選ばれる１つ以上を含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記記録層は、記録用の光照射により空孔による記録マークが形成される請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
無機酸化物の粒子を溶媒に分散させて前記無機酸化物の分散媒を作製する工程と、
前記分散媒に熱可塑性樹脂を溶解して樹脂溶液を作製する工程と、
前記樹脂溶液を基体上に塗布して記録層を形成する工程と、を有する
光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ビームを用いて情報が記録又は再生される光情報記録媒体に係わる。
【背景技術】
【０００２】
光情報記録媒体としては、一般にＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）及びＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（登録商標、以下ＢＤと呼ぶ）等が用いられている。光情報記録媒体には、音楽コンテンツや映像コンテンツ等の各種コンテンツ、又は、コンピュータ用の各種データ等の種々の情報が記録されている。近年、映像の高精細化や音楽の高音質化等による情報量の増加や、１枚の光情報記録媒体に記録するコンテンツ数の増加により、光情報記録媒体のさらなる大容量化が要求されている。
【０００３】
光情報記録媒体の大容量化としては、光情報記録媒体の厚み方向に３次元的に情報を記録する構成の光情報記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この光情報記録媒体は、記録層が２光子吸収によって発泡する２光子吸収材料を含んで構成されている。記録層に光ビームを照射することにより２光子吸収材料が発泡し、気泡（空孔）による記録マークが形成される。
【０００４】
２光子吸収は、３次の非線形光学効果の一種であって、１個の分子が仮想準位を介して２個の光子を同時に吸収して励起状態になる現象であり、電場強度（すなわち光強度）の２乗に比例する。このため、記録層に２光子吸収材料を含む光情報記録媒体（以下、これを２光子吸収記録媒体と呼ぶ）では、最も電場強度の大きい焦点近傍でのみ２光子吸収を生じる。一方、電場強度の小さい焦点以外の部分では２光子吸収を生じない。すなわち、レーザ光は、焦点に達するまでに殆ど吸収されることなく記録層内を進行し、焦点に到達した時点で２光子吸収材料により２光子吸収される。
【０００５】
一般的な１光子吸収の記録層の場合、記録層の全域でレーザ光が吸収され、記録層の深い部分に到達するまでにレーザ光の光強度が低下する。このため、一般的な１光子吸収の記録層では、記録層を例えば１０層以上にすることが困難である。
これに対して２光子吸収記録媒体では、レーザ光が焦点に達するまでに殆ど吸収されないため、記録層を１０層以上にすることが可能となる。
【０００６】
一方で光情報記録媒体の記録層に形成する記録マークの形状が、再生信号の波形に影響を与えることが知られている。例えば、再生方向に同じ長さの記録マークを形成する場合にも、小径の記録マークが断続的に複数形成されている場合と、連続したに記録マークが同じ長さ形成されている場合とでは、再生信号の形状が異なる。
【０００７】
具体的な空孔による記録マークの形状と再生信号の関係との関係を図６に示す。記録層１１に空孔により小径の記録マーク１５Ａが断続的に形成されている場合には、矩形状の再生信号２２が得られる。これに対し、同じ長さの記録マーク１５Ｂを再生方向に連続した楕円形状に形成した場合には、小径の記録マークを断続的に形成した場合よりもピークが高く、再生信号２２が山形になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−３７６５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
２光子吸収記録媒体は、記録層に光ビームを照射により記録マークを形成する際、光反応に応じた発熱により、光反応性の樹脂の一部が沸騰又は分解して空孔を形成する。記録層１１に光ビームＬの照射から空孔による記録マーク１５が形成されるまでの機構を図７Ａ〜Ｃに示す。
【００１０】
記録層１１の照射点１６に対して、光ビームＬを照射する（図７Ａ）。このとき、図７Ｂに示すように、照射点１６に樹脂の沸騰又は分解による空孔が発生する。また、照射点１６で発生した熱が照射点１６の周囲に伝搬し、樹脂の溶融温度以上となる領域１７が発生する。一般に、記録層を構成する２光子吸収材料は熱可塑性樹脂を基本骨格として形成されている。このため、照射点１６の周囲に伝搬する熱により熱可塑性樹脂が溶融温度以上に加熱される領域１７が発生すると、領域１７内の樹脂が流動化する。
【００１１】
流動化した熱可塑性樹脂は発生した気泡の圧力や表面張力の影響を受けるため、図７Ｃに示すように、空孔の形状が光ビームの照射形状から略球形に変形し、記録マーク１５が形成される。このとき、記録マーク１５は、上述の樹脂が溶融温度以上となる領域１７とほぼ同じ大きさを上限として拡大すると考えられる。
このように、記録層に光ビームＬを照射することにより、記録層１１内で２光子吸収材料の沸騰又は分解、熱可塑性樹脂の流動化が連続して発生し、記録マーク１５が形成される。
【００１２】
しかしながら、上述のように、矩形状の記録信号を得るために、記録層に小径の記録マークが断続的に形成する場合には、熱可塑性樹脂が流動化して空孔が変形する際、近接する記録マーク同士が一体化し、連続した記録マークに変形してしまう。
この近接する空孔の一体による記録マークの変形の機構を図８Ａ〜Ｃに示す。
まず図８Ａに示すように、記録層１１の隣接する２カ所の照射点１６に対して、光ビームＬを照射する。このとき、２つの照射点１６の周囲に、それぞれ上述の樹脂の溶融温度以上となる領域１７が発生する。領域１７が重なるほど照射点１６が近いと、図８Ｂに示すよう、照射点１６に発生した空孔が拡大すると同時に、空孔が互いに近づく方向に移動する。この結果、図８Ｃに示すように、２つの空孔が一体化し、連続した１つの記録マーク１５が形成される。
このように、記録マークが変形すると、再生信号の波形が変形し、所望の再生信号を得ることができない。
【００１３】
また、光情報記録媒体の記録密度を向上させるためには、記録マーク同士をより近接させる必要がある。記録マークを近接させた場合、熱可塑性樹脂の流動化による隣接する記録マーク同士の一体化がより発生しやすくなり、連続した記録マークに変形してしまう。このように、記録マークを近接させて形成した場合には、所望の再生信号を得ることができず、記録密度の向上の障害となる。
【００１４】
なお、樹脂の溶融温度とは、熱可塑性樹脂が結晶性樹脂のように融点を持つ場合には融点を意味し、非晶性樹脂のように融点を持たない場合にはガラス転移点（Ｔｇ）を意味する。
【００１５】
上述した問題の解決のため、本発明においては、記録密度の向上が可能な光情報記録媒体及び光情報記録媒体の製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の光情報記録媒体は、熱可塑性樹脂と、熱可塑性樹脂に分散された無機酸化物の粒子とを有する記録層を備える。
【００１７】
また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、無機酸化物の粒子を溶媒に分散させて無機酸化物の分散媒を作製する工程と、分散媒に熱可塑性樹脂を溶解して樹脂溶液を作製する工程と、樹脂溶液を基体上に塗布して記録層を形成する工程とを有する。
【００１８】
本発明の光情報記録媒体及び光情報記録媒体の製造方法によれば、熱可塑性樹脂に無機酸化物粒子が分散された記録層が構成される。
熱可塑性樹脂よりも熱伝導率に優れる無機酸化物を分散させることにより、光ビームの照射により発生した熱を、無機酸化物にて吸収及び分散させる。このため、熱可塑性樹脂の溶融温度以上となる領域を小さくし、流動化による記録マークの変形を抑制することができる。
従って、記録マークをより近接さえて形成することができ、光情報記録媒体の記録密度を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、記録密度の向上が可能な光情報記録媒体及び光情報記録媒体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の光情報記録媒体の実施の形態を示す構成図である。
【図２】図１に示す光情報記録媒体の断面図である。
【図３】光情報記録媒体における記録マークの記録及び再生に関する原理について説明するための図である。
【図４】Ａ〜Ｃは、記録層に無機酸化物を分散させたことにより、記録マークを形成する際に発生する機構を図４
【図５】本実施の形態の光情報記録媒体の製造方法の実施の形態を説明するフローチャートである。
【図６】記録マークの形状と再生信号との関係を示す図である。
【図７】Ａ〜Ｃは、記録層に空孔による記録マークが形成される機構を説明するための図である。
【図８】Ａ〜Ｃは、近接する空孔の一体による記録マークの変形の機構を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態例を説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
なお、説明は以下の順序で行う。
１．光情報記録媒体の実施の形態
２．光情報記録媒体の製造方法の実施の形態
【００２２】
〈１．光情報記録媒体の実施の形態〉
［光情報記録媒体の構成］
以下本発明の光情報記録媒体の具体的な実施の形態について説明する。
図１に、本実施の形態の光情報記録媒体の一例として光ディスクの概略構成図を示す。
光情報記録媒体としての光ディスク１０は、全体として略円板状に構成され、中心にチャッキング用の孔部２１が設けられている。
光ディスク１０の構成を説明するための断面図を図２に示す。光ディスク１０は、図２に示すように、情報を記録するための記録層１１と、記録層１１の一方の面を覆うカバー層１３と、記録層１１の他方の面を覆う基板１４とを備える。そして、記録層１１とカバー層１３との間に設けられた基準層１２を備える。
また、記録層１１には光ビームの照射により形成された空孔による記録マーク１５が、任意の位置に形成されている。記録マーク１５は、光ディスクの再生方向に対して１つの層のように形成されている。また、この記録マーク１５による層が深さ方向に複数形成されている。
【００２３】
なお、基準層１２は、光ディスク１０の入射側に設けた場合を示したが、基準層１２を入射側とは反対側、即ち第２面１０Ｂ側に設けることもできる。また、記録層１１を分割し、記録層１１間に基準層１２を複数設けることも可能である。形成すべき基準層１２の数としては、製造コスト等を考慮して１層又は２層であることが好ましい。
【００２４】
基準層１２は、例えば、スタンパなどによって形成されたサーボ用の案内溝に対し、誘電体膜を設けることにより形成される。誘電体膜は、例えば窒化シリコン／酸化シリコン／窒化シリコン／酸化シリコン／窒化シリコンを備える５層構造で構成される。このとき、例えば、窒化シリコンの厚さを８０［ｎｍ］、酸化シリコンの厚さを１１０［ｎｍ］とする。これにより、誘電体膜は、約６５０［ｎｍ］の光を反射し、約４００［ｎｍ］の光をほぼ１００［％］透過することができる。
【００２５】
なお誘電体膜は、窒化シリコン及び酸化シリコン以外にも酸化タンタル、酸化チタン、フッ化マグネシウム、酸化亜鉛など屈折率が相違する各種材質を用いることができる。誘電体膜の材料は、サーボ光ビームＬＳ及び情報光ビームＬＭの波長に応じて適宜選択して用いる。
【００２６】
カバー層１３はガラス基板、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂など種々の光学材料からなり、光を高い割合で透過する。
【００２７】
記録層１１は、０．０５［ｍｍ］以上、１．２［ｍｍ］以下であることが好ましい。記録層１１を薄くすると、記録層１１の厚さ方向に記録マーク１５を多く配列することができず、光ディスク１０としての記録容量を大きくすることが難しい。また、記録層１１を１．２［ｍｍ］以上にすると、奥側において照射される光ビームの球面収差を増大させるため、好ましくない。
【００２８】
光を通過するカバー層１３と記録層１１とを加算した厚さは、１．０［ｍｍ］以下であることが好ましい。厚さが１．０［ｍｍ］を超えると、光ディスク１０の表面が傾いたとき、光ディスク１０内で生じる記録用の光ビームの非点収差が大きくなるためである。
【００２９】
なお、カバー層１３の外側表面（記録層１１と接触しない面）には、入射される光ビームに対して無反射となるような４層無機層（Ｎｂ２Ｏ２／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２）などのＡＲ（Antireflection coating）処理を施しても良い。
【００３０】
なお、光ディスク１０は、記録層１１の第２面側に、基板１４を備えていなくてもよい。基板１４を備えることにより、記録層１１を保護することができ、光ディスク１０の取り扱いを容易にすることができる。また、基板１４及びカバー層１３は、その材質と厚みの選択により、光ディスク１０の物理的強度を担うことができる。
【００３１】
また、光ディスク１０は、記録層１１中に中間層複数設けることにより、記録層１１を複数形成することができる。
また、記録層１１と基準層１２との間にグルーブ形成層を設けてもよい。グルーブ形成層は、カバー層１３上に光硬化型又は熱硬化型の感圧型接着シートを貼り合わせ、当該感圧型接着シートにスタンパを転写することにより形成される。基準層１２を両面側、第１面１０Ａ及び第２面１０Ｂにそれぞれ設け、光ビームを第１面１０Ａ及び第２面１０Ｂの両方から入射するようにしてもよい。
さらに、記録層１１及び基板１４の間、及び、基準層１２とカバー層１３との間に接着層を設けても良い。
【００３２】
上述のように、光ディスク１０は、記録層１１を基準として情報光ビームが入射される入射面側に基準層１２を有するように構成されている。これにより、光ディスク１０は、基準面深さと表面深さとを一致させることができ、基準面深さに応じた球面収差を常に情報光ビームに付加することができる。この結果、光ディスク装置において基準面深さに応じた球面収差補正をすれば、正確に情報光ビームの球面収差を補正することができ、光ディスク１０の記録及び再生特性を向上させることができる。
【００３３】
［光ディスクの記録及び再生原理］
次に、図３を用いて、光ディスク１０に対する記録マーク１５の記録及び再生に関する原理について説明する。図３に示すように、光ディスク１０は、カバー層１３の表面を構成する第１面１０Ａから光ビームが入射される構成である。
【００３４】
基準層１２には、サーボ用の案内溝が形成されている。この案内溝は、例えば、一般的なＢＤ−Ｒ（Recordable）ディスク等と同様のグルーブ及びランドにより螺旋状のトラック（サーボトラック）ＴＲが形成されている。このグルーブ及びランドの幅は、情報の記録及び再生用の情報光ビームＬＭの波長に応じて選定される。例えば、情報光ビームＬＭの波長を６５０［ｎｍ］とした場合には、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）−Ｒと同様の幅のグルーブ及びランドを用いることができる。また、情報光ビームＬＭの波長を４０５［ｎｍ］とした場合には、ＢＤ（Blu-ray Disc、登録商標）と同様の幅とすることができる。また、ＤＶＤ−ＲＡＭ（Random Access Memory）のように、グルーブ及びランドをそれぞれトラックピッチと同一幅に設定することも可能である。
【００３５】
サーボトラックＴＳには、所定の記録単位毎にアドレスとして一連の番号が付されている。そして、サーボ用の光ビーム（サーボ光ビームＬＳ）が照射されるべきサーボトラック（目標サーボトラックＴＳＧ）が、上記アドレスにより特定される。
【００３６】
光ディスク１０には、情報光ビームＬＭと、サーボ光ビームＬＳとが照射される。基準層１２は、情報光ビームＬＭを高い率で透過させ、サーボ光ビームＬＳを高い率で反射する。情報光ビームＬＭとしては、例えば波長約４０５［ｎｍ］の青紫色光ビームが用いられる。サーボ光ビームＬＳとしては、例えば波長約６６０［ｎｍ］の赤色光ビームが用いられる。
【００３７】
光ディスク装置の対物レンズＯＬを介し、光ディスク１０にサーボ光ビームＬＳが照射されると、基準層１２によりサーボ光ビームＬＳが反射され、サーボ反射光ビームＬＳｒとしてカバー層１３側から出射される。サーボ反射光ビームＬＳｒは、図示しない光ディスク装置によって受光される。そして、光ディスク装置は、受光結果を基にして対物レンズＯＬを、フォーカス方向へ位置制御する。これにより、サーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳが基準層１２に合焦される。
【００３８】
対物レンズＯＬを介して情報光ビームＬＭが光ディスク１０に照射されると、情報光ビームＬＭがカバー層１３及び基準層１２を透過し、記録層１１に照射される。このとき光ディスク装置は、サーボ光ビームＬＳと情報光ビームＬＭとの光軸を互いにほぼ一致させている。このため、情報光ビームＬＭの焦点ＦＭは、基準層１２のサーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳに垂直な法線ＸＬ上に位置する。以下、目標マーク層ＹＧにおける目標サーボトラックＴＳＧと対応したトラックを目標トラックＴＧと呼び、また焦点ＦＭの位置を目標位置ＰＧと呼ぶ。
【００３９】
記録層１１が波長４０５［ｎｍ］の青紫色光ビームに反応する光反応性の樹脂により構成されている場合、記録用の情報光ビームＬＭ（記録情報光ビームＬＭｗ）が照射されると、焦点ＦＭの位置に光反応性の樹脂の沸騰又は分解による気泡等が発生する。そして、この気泡等の発生により、記録層１１中に、空孔による記録マーク１５が形成される。この光反応性の樹脂の詳細については後述する。以下、記録用の情報光ビームＬＭを記録情報光ビームＬＭｗと呼ぶ。
【００４０】
光ディスク装置は、例えば、記録すべき情報を符号「０」及び「１」の組み合わせによる２値の記録データに符号化する。そして、光ディスク装置では、例えば当該記録データの符号「１」に対応して記録マーク１５を形成し、符号「０」に対応して当該記録マーク１５を形成しないように記録情報光ビームＬＭｗが出射制御されている。
さらに、光ディスク装置は、光ディスク１０を回転駆動すると共に対物レンズＯＬを半径方向へ適宜移動制御しながら記録情報光ビームＬＭｗの強度を変調させる。そして、光ディスク１０の記録層１１内に、複数の記録マーク１５による螺旋状のトラックが、基準層１２に設けられたサーボトラックＴＳと対応する位置に順次形成される。
【００４１】
また、このように形成された記録マーク１５は、光ディスク１０の第１面１０Ａ及び基準層１２等の各面とほぼ平行な平面状に形成される。このため、記録層１１には、この記録マーク１５が平面状に形成された層、いわゆるマーク層が形成される。
また、記録情報光ビームＬＭｗにおける焦点ＦＭの位置を光ディスク１０の厚さ方向に変化させることにより、記録層１１内に複数のマーク層を形成することができる。例えば光ディスク１０の第１面１０Ａ側から、光ディスクの厚さ方向に所定の間隔を空けてマーク層を順次形成することにより、記録層１１内にマーク層を複数形成することができる。
【００４２】
一方、光ディスク１０から情報を再生する際は、第１面１０Ａ側から比較的弱い光強度の再生用の情報光ビームＬＭ（読出情報光ビームＬＭｉ）を集光する。そして、焦点ＦＭの位置、即ち目標位置ＰＧに記録マーク１５が形成されている場合、読出情報光ビームＬＭｉが記録マーク１５によって反射されて情報反射光ビームＬＭｒとなる。
【００４３】
光ディスク装置では、情報反射光ビームＬＭｒの検出結果に応じた検出信号を生成し、この検出信号を基に記録マーク１５が形成されているか否かを検出する。このとき、光ディスク装置は、例えば記録マーク１５が形成されている場合を符号「１」に、記録マーク１５が形成されていない場合を符号「０」に割り当てる。これにより、２値の記録データにより符号化記録されている情報を、再生することができる。
【００４４】
上述のように、光ディスク装置によってサーボ光ビームＬＳを併用しながら情報光ビームＬＭを目標位置ＰＧに照射させることで、記録層１１に情報を記録し、或いは、記録層１１から情報を再生する。
なお、上述の光ディスクにおいて、基準層１２（すなわち記録層１１とカバー層１３との境界面）には、案内溝の替わりにピット等を形成してもよい。また、案内溝とピット等とを組み合わされて形成してもよい。基準層１２のトラックは、螺旋状でなく同心円状であってもよい。
【００４５】
［記録層の構成］
上述の光ディスク１０の記録層１１の構成について説明する。
記録層１１は、光反応性の熱可塑性樹脂と、熱可塑性樹脂に分散された無機酸化物の粒子とから構成されている。光反応性の熱可塑性樹脂は、集光された記録情報光ビームＬＭｗが照射されると、記録用情報光ビームＬＭｗの焦点ＦＭ近傍に空孔による記録マーク１５を形成する。
【００４６】
［熱可塑性樹脂の構成］
まず、光ディスク１０の記録層１１を構成する熱可塑性樹脂について説明する。
記録層１１を構成する熱可塑性樹脂は、多光子吸収反応により記録マーク１５を形成する光反応性の樹脂である。多光子吸収反応では、記録情報光ビームＬＭｗにおける光強度の非常に大きい焦点ＦＭ近傍の光のみを吸収して光反応を生じる。
【００４７】
このため、熱可塑性樹脂からなる記録層１１は、焦点ＦＭ近傍以外ではほとんど記録情報光ビームＬＭｗを吸収せず、記録情報光ビームＬＭｗの光強度を減衰させることなく深部まで到達させることができる。
【００４８】
光反応性の熱可塑性樹脂は、光反応に応じた発熱により、熱可塑性樹脂の一部が沸騰又は分解により気化し、焦点ＦＭ近傍に空孔による記録マーク１５が形成される。このとき、熱可塑性樹脂は、記録速度、記録マーク１５の大きさ、形状及び位置、及び、記録マーク１５の安定性等の記録特性を考慮して構成される必要がある。
【００４９】
一般的に１つの光子を吸収して光反応を生じる１光子吸収反応では、記録情報光ビームＬＭｗの光強度を変化させて記録マーク１５を形成する際、光強度にほぼ反比例して記録速度が低下する。これは、光反応の確率が光子の数に比例するためである。
これに対し、２つの光子を吸収して光反応を生じる２光子吸収反応では、記録用情報光ビームＬＭｗの光強度を変化させて記録マーク１５を形成する際、光強度の２乗にほぼ反比例して記録速度が低下する。これは、２つの光子をほぼ同時に吸収して光反応を生じるためである。
【００５０】
光ディスク１０に適用する熱可塑性樹脂としては、記録情報光ビームＬＭｗの光強度を変化させて記録マーク１５を形成したときに、当該光強度のＭ乗（ただし、Ｍ≧２．９、好ましくはＭ≧３．０、より好ましくはＭ≧３．３）に反比例して記録時間が低下することが好ましい。これにより、記録層１１において、記録情報光ビームＬＭｗのうち光強度の極めて大きい部分でのみ光反応を生じる。
【００５１】
記録層１１は、多光子吸収反応を生じる熱可塑性樹脂が主成分であり、好ましくは、記録層を構成する樹脂の全質量中の熱可塑性樹脂の割合が５０質量％以上、特に７０質量％以上であることが好ましい。光反応性の熱可塑性樹脂を高い割合で含有することにより、熱可塑性樹脂自体の感度が低い場合にも記録層１１全体の多光子吸収の感度を向上させることができる。
【００５２】
熱可塑性樹脂は、重量平均分子量Ｍｗが１００００以上のポリマーであることが好ましい。これにより、記録層１１が充分な機械的強度を有し、一旦形成された記録マーク１５の位置を物理的に安定させることができる。このため、記録特性を向上させることができる。
【００５３】
上述の熱可塑性樹脂としては、官能基としてカルボニル基、及び、アルコキシカルボニル基を構造内に有することが好ましい。熱可塑性樹脂としては、カルボニル基とアルコキシカルボニル基の両方を有していてもよく、また、構造内にカルボニル基、又は、アルコキシカルボニル基いずれか一方の官能基を有していてもよい。
【００５４】
カルボニル基、アルコキシカルボニル基を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、下記一般式（１）に示す構造単位と、カルボニル基又はアルコキシカルボニル基を有する化合物との重合体を用いることができる。
【００５５】
【化１】
2011227968.tif 000003
【００５６】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立した水素原子又は置換基であり、特に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、水酸基、アルコキシ基が好ましい。また、ｐ，ｑは整数である。
上記一般式（１）に示す構造単位としては、例えば、ビスフェノールＡの重合体又は共重合体を用いることができる。また、カルボニル基又はアルコキシカルボニル基を有する化合物としては、ホスゲン、及び、フタル酸、カルボン酸等の二塩基酸を用いることができる。
【００５７】
上述の熱可塑性樹脂として、特に好ましくは、下記一般式（２）に示す構造単位を有する樹脂、及び、下記一般式（３）に示す構造単位を有する樹脂であることが好ましい。
【００５８】
【化２】
2011227968.tif 000004
【００５９】
上記一般式（２）において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立した水素原子又は置換基であり、特に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、水酸基、アルコキシ基が好ましい。また、ｒ，ｓは整数である。
【００６０】
【化３】
2011227968.tif 000005
【００６１】
上記一般式（３）において、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立した水素原子又は置換基であり、特に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、水酸基、アルコキシ基が好ましい。また、ｔ，ｕは整数である。
【００６２】
上記一般式（２）に示す構造単位を有する樹脂としては、例えば、下記一般式（４）で示されるポリカーボネート樹脂が好ましい。
【化４】
2011227968.tif 000006
【００６３】
上記一般式（３）に示す構造単位を有する樹脂としては、例えば、下記一般式（５）で示される非晶ポリアリレート樹脂が好ましい。
【化５】
2011227968.tif 000007
【００６４】
また、カルボニル基、アルコキシカルボニル基を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、下記一般式（６）に示す構造単位を有する樹脂を用いることができる。
【００６５】
【化６】
2011227968.tif 000008
【００６６】
上記一般式（６）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立した水素原子又は置換基であり、特に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、水酸基、アルコキシ基が好ましい。
【００６７】
上記一般式（６）に示す構造単位を有する樹脂としては、例えば、下記一般式（７）で示されるメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）が好ましい。
【００６８】
【化７】
2011227968.tif 000009
【００６９】
上述のように、記録層１１を構成する熱可塑性樹脂として、構造単位にカルボニル基、アルコキシカルボニル基を有する樹脂を用いることにより、光強度の極めて大きい部分でのみ光反応を生じ、良好な記録マーク１５を形成することができる。
また、記録層１１は、光反応性の熱可塑性樹脂と、多光子吸収材料の他に、加熱時の粘弾性などの熱特性を変化させるための低分子成分及び各種ポリマーや、製造時の特性などを変化させるための各種添加剤などの他成分を含有することができる。これらの他成分は、記録層１１の記録感度を大きく低下させない範囲で添加されることが好ましく、その含有量は熱可塑性樹脂の全質量に対して５０質量％未満、特に３０質量％未満とすることが好ましい。
【００７０】
［無機酸化物の構成］
次に、光ディスク１０の記録層を構成する無機酸化物について説明する。
無機酸化物は、上述の熱可塑性樹脂中に分散された粒子として存在する。このため、無機酸化物は、屈折率が記録層を構成する熱可塑性樹脂と同程度、又は、屈折率の差が少ないことが好ましい。つまり、無機酸化物は、記録層を構成する熱可塑性樹脂に記録情報光ビームＬＭｗを照射した際に、この光の波長との干渉及び相互作用がない方が好ましい。また、樹脂に分散させる粒子としては、記録情報光ビームＬＭｗの波長域において光の吸収が無いことが好ましい。
【００７１】
樹脂に分散させる粒子としては、樹脂よりも熱伝導率が高い材料を用いる。
無機酸化物は、球形の粒子を用いることが好ましい。形状が非球形であると、記録層に分散された状態で、発生した熱の吸収等にムラが発生しやすい。球形であれば、記録時に発生する熱の吸収、伝搬を層内で均一にすることができる。
【００７２】
上述の理由から、無機酸化物としては、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、及び、Ｙ２Ｏ３から選ばれる１種以上を、単独又は混合して用いることができる。
上記無機酸化物粒子の具体例としては、ＣＩＫナノテック社製のＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）Ｐｏｗｄｅｒ、ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）Ｓｌｕｒｒｙの、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、及び、Ｙ２Ｏ３を用いることができる。
【００７３】
樹脂に分散させる粒子としては、波長以下の長さの粒子径であれば、光学的不純物にならない。このため、記録層における記録情報光ビームＬＭｗが、無機酸化物による光の散乱、回折等の干渉の干渉を受けずに透過される。
また、粒子径が小さすぎると、分散性が低下する。樹脂内での分散性が悪いと、均一な懸濁液を得ることができず、溶液の不均一に起因する光の散乱等が発生するため好ましくない。また、粒径が大きすぎても樹脂中での分散性が低下する一因となる。
【００７４】
無機酸化物粒子は、最大粒子径が、最大粒子径が回折限界以下であり、平均粒子径が最大粒子径よりの充分に小さいことが好ましい。
粒子径が光の波長以下であれば、散乱係数と光の波長と粒子径との関係式である下記式（１）が成り立つ。
α＝πＤ／λ  ・・・（１）
但し、αは散乱係数、Ｄは粒子径［ｎｍ］、λは光の波長［ｎｍ］である。
【００７５】
散乱係数αが１よりも充分に小さい場合（α≪１）には、レイリー散乱がおこる。また、散乱係数αがほぼ１である場合（α≒１）には、ミー散乱がおこる。散乱係数αが１よりも充分に大きい場合（α≫１）には、フラウンホーファーの近似式を用いて表せる前方散乱がおこる。
【００７６】
レイリー散乱の場合は、粒子に入射した光に対して当方的な散乱がおきるため、粒子の後方にも後方散乱光が発生する。このため、粒子に対して入射した光が、散乱により粒子の後方に到達する。このため、光が入射する粒子の前後において光量が変らず、粒子による散乱を無視することができる。つまり、入射光を考える際に粒子を無視することができる。
【００７７】
これに対し、ミー散乱、及び、フラウンホーファーの近似式を用いて表せる前方散乱の場合には、前方散乱光が多く、後方散乱光が少ない。このため、光が入射する粒子の後方において光の透過率が低下し、粒子による光の散乱を無視することができない。つまり、光にとって粒子を無視することができない。
従って、樹脂中に分散させる無機酸化物の粒子径Ｄは、散乱係数αが１よりも充分に小さくなるように選択する必要がある。
【００７８】
α≪１の場合について上記式（１）を変形すると、下記式（２）となる。
Ｄ≪λ／π  ・・・（２）
このとき、例えば、記録層に波長４０５ｎｍの青紫色光ビームを用いる場合には、Ｄ≪４０５／πとなり、Ｄ≪１２８．９１となる。
つまり、波長４０５ｎｍの光を用いる場合は、１２８．９１ｎｍを、無機酸化物粒子の最大粒子径とし、平均粒子径を１２８．９１ｎｍよりも充分に小さい範囲とする。具体的には、無機酸化物粒子の最大粒子径を１２８．９１ｎｍとし、平均粒子径を１００ｎｍ以下、より好ましくは、最大粒子径の半分以下である６４ｎｍ以下とする。
なお、無機酸化物の粒子径は使用する光の波長により異なるが、上記式（２）を用いることにより、光の波長に依存して粒子径の上限を決めることができる。具体的には、無機酸化物粒子の粒子径は、最大粒子径を使用する光の波長λ／πとすることができ、平均粒子径をλ／πより小さく、特に好ましい範囲としてλ／２π以下を含む範囲とすることができる。
【００７９】
また、無機酸化物粒子の粒子径は、１０ｎｍ以上とすることが好ましい。１０ｎｍ未満では、粒子の凝集性が高くなり、後述の表面処理を行った場合にも高い分散性を確保できない。また、粒子径が１０ｎｍ未満の無機酸化物粒子を製造することは非常に困難であると考えられる。このため、１０ｎｍ以上とすることが好ましい。
【００８０】
また、無機酸化物粒子には、熱可塑性樹脂への分散性を向上させるための表面処理がなされている。表面処理剤は、記録層を構成する光反応性の樹脂の種類により適宜選択して使用される。
無機酸化物粒子を分散させる熱可塑性樹脂が、上述のカルボニル基、アルコキシカルボニル基を構成単位内に有する熱可塑性樹脂である場合には、末端にアミノ基を有するシランカップリング剤を用いることが好ましい。例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、又は、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシランにより、無機酸化物が表面改質されていることが好ましい。
【００８１】
シランカップリング剤により無機酸化物粒子の表面処理を行うことにより、樹脂との親和性、相溶性が高い官能基が粒子表面の外側に配向される。このため、熱可塑性樹脂や有機溶媒内で、無機酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
【００８２】
無機酸化物の樹脂中の添加量は、記録ディスクの製造プロセスにおいて添加可能な最大濃度とすることが好ましい。無機酸化物粒子の添加量が多い程、記録時に発生する熱を吸収又は拡散することができるため、空孔（記録マーク）の小径化が可能であり、隣接する空孔同士の溶融による一体化を防ぐことができる。
【００８３】
製造プロセスにおいて添加可能な最大濃度は、有機溶剤中に分散させることが可能な無機酸化物粒子の最大濃度とする。例えば、有機溶剤中へ分散させる無機酸化物粒子の最大濃度を１０質量％とする。また、記録層を作製する際の塗布性等を考慮すると、有機溶剤へ溶解する熱可塑性樹脂の濃度は１０〜２０質量％とすることが好ましい。有機溶剤は、記録層を形成する際の加熱により完全に除去されるため、記録層中には、熱可塑性樹脂と無機酸化物のみが存在する。このため、熱可塑性樹脂への無機酸化物の最大添加量は、
｛ＭＮＰｓ／（ＭＮＰｓ＋Ｍｐｏｌｙ）｝×１００  ・・・（３）
により示すことができる。なお、ＭＮＰｓは無機酸化物最大重量、Ｍｐｏｌｙは樹脂最小重量である。
【００８４】
例えば、有機溶媒としてテトラヒドロフラン（tetrahydrofuran，ＴＨＦ）を用いた場合、ＴＨＦの密度を０．８８８ｇ／ｃｍ３、最小樹脂濃度を１０％とすると、樹脂最小重量Ｍｐｏｌｙは以下の式で表すことができる。
Ｍｐｏｌｙ＝Ｖｓｏｌｖ×０．８８８×０．１
なお、ＶｓｏｌｖはＴＨＦの体積である。
また、無機酸化物最大重量ＭＮＰｓは、以下の式で表すことができる。
ＭＮｐｓ＝Ｖｓｏｌｖ×０．８８８×０．１
ＭｐｏｌｙとＭＮｐｓとはともに右辺が同じであるため、Ｍｐｏｌｙ＝ＭＮｐｓである。このため、Ｍｐｏｌｙ＝ＭＮｐｓを上記式（３）に代入することで、熱可塑性樹脂への無機酸化物の最大添加量の式を
｛ＭＮＰｓ／（ＭＮＰｓ＋Ｍｐｏｌｙ）｝×１００＝ＭＮＰｓ／２（ＭＮＰｓ）×１００  ・・・（４）
とすることができる。
【００８５】
従って、熱可塑性樹脂への無機酸化物の最大添加量は、０．５×１００＝５０（質量％）となる。なお、この５０質量％は、製造プロセス上、樹脂中に添加することが可能な無機酸化物の最大量である。このため、記録ディスクの製造プロセスでは、記録層の樹脂中への無機酸化物の添加量は、５０質量％以下にする必要がある。例えば、記録層の充分な透過率を得るためには、２５質量％以下とすることが好ましい。このように、記録ディスクに必要となる特性等を考慮して、樹脂への添加量が５０質量％以下となる範囲で、無機酸化物の添加量を決定する。
【００８６】
また、無機酸化物の樹脂中の添加量は、記録層に最大径の記録マークを形成した場合に、この記録マークに少なくとも１つ以上の粒子が分散する濃度以上とすることが好ましい。例えば、記録マークの径を１００〜２００ｎｍとし、無機酸化物粒子の平均粒径を１０〜１００ｎｍとする。また、例えば最大樹脂濃度が２０％の場合には、記録層の体積（Ｖｒｅｃ）は、溶媒体積（Ｖｓｏｌｖ）の約２０％となる。
このとき、記録層の体積Ｖｒｅｃは、下記式（５）で表すことができる。
Ｖｒｅｃ＝０．２Ｖｓｏｌｖ  ・・・（５）
【００８７】
Ｖｓｏｌｖに含まれる無機酸化物粒子の個数（ＮＮＰｓ）は、記録層中の無機酸化物濃度（ＮＰｓ濃度）をｘ質量％とすると、
ＮＮＰｓ＝Ｖｓｏｌｖ×０．８８８×（ｘ／１００）×（１／ＮＰｓ密度）×（１／ＮＮＰ）  ・・・（６）
で表すことができる。なお。ＮＮＰは、無機酸化物１個の体積である。
ここで、（Ｖｓｏｌｖ×０．８８８×ｘ／１００）は、溶媒中の無機酸化物の総重量を表している。また、（Ｖｓｏｌｖ×０．８８８×ｘ／１００×１／ＮＰｓ密度）は、溶媒中の無機酸化物の総体積を表している。
【００８８】
ここで、無機酸化物１個の体積（ＮＮＰ）は、無機酸化物粒子の平均半径をｒＮＰとしたとき、
ＮＮＰ＝（４／３）×π×ｒＮＰ３  ・・・（７）
として表すことができる。
また、上記式（５）におけるＮＰｓ密度は、（ＮＮＰｓ／Ｖｒｅｃ）と表すことができる。
【００８９】
記録マークの半径ｒを２００ｎｍとし、このマーク内に少なくとも１つ以上の無機酸化物微粒子が存在すると、上記式（４）とこの記録マークの体積から
（ＮＮＰｓ／Ｖｒｅｃ）×（４／３）×π×２００３＝１  ・・・（８）
上記式（８）は、ＮＰｓ密度（ＮＮＰｓ／Ｖｒｅｃ）おいて、半径２００ｎｍの記録マーク中に存在する無機酸化物粒子の個数（ＮＮＰｓ）が１であることを表している。
そして、上記式（８）に上記式（５）〜（７）を代入すると下記式（９）が求められる。
【００９０】
【数１】
2011227968.tif 000010
【００９１】
上記式（９）をｘに付いて整理すると、下記式（１０）で示すことができる。
【００９２】
【数２】
2011227968.tif 000011
【００９３】
上記式（１０）において、例えば、無機酸化物として真密度（ＮＰｓ密度）３．５ｇ／ｃｍ３、平均粒子径（ｒＮＰ）３１ｎｍのＡｌ２Ｏ３を用いた場合について解く。この場合、記録層を構成する樹脂中の無機酸化物濃度（ＮＰｓ濃度）ｘは、ｘ＝０．３（質量％）となる。従って、記録層における無機酸化物の樹脂中の添加量は、０．３質量％以上とすることが好ましい。
【００９４】
なお、この０．３質量％は、上記物性のＡｌ２Ｏ３を用いた場合の最小添加量である。このため、例えば、無機酸化物として真密度（ＮＰｓ密度）２．２ｇ／ｃｍ３、平均粒子径（ｒＮＰ）２５ｎｍのＳｉＯ２を用いた場合には、記録層を構成する樹脂中の無機酸化物濃度（ＮＰｓ濃度）ｘは、ｘ＝０．１（質量％）となる。また、無機酸化物として真密度（ＮＰｓ密度）３．７ｇ／ｃｍ３、平均粒子径（ｒＮＰ）３６ｎｍのＴｉＯ２を用いた場合には、記録層を構成する樹脂中の無機酸化物濃度（ＮＰｓ濃度）ｘは、ｘ＝０．５（質量％）となる。真密度（ＮＰｓ密度）５．２ｇ／ｃｍ３、平均粒子径（ｒＮＰ）３３ｎｍのＹ２Ｏ３を用いた場合には、記録層を構成する樹脂中の無機酸化物濃度（ＮＰｓ濃度）ｘは、ｘ＝０．５（質量％）となる。また、上記式内における０．８８８は溶媒として用いるＴＨＦの密度であるため、他の溶媒を用いる場合にはその溶媒の密度を用いて、無機酸化物の添加量を求める必要がある。このように、記録ディスクに用いる無機酸化物の種類や物性を考慮して、樹脂への添加量を決定することが好ましい。
【００９５】
なお、上述の無機酸化物は、熱可塑性樹脂に分散される以前に、予め表面処理剤による処理が行われているため、実際には無機粒子の重さに表面処理剤の重さを加えた重さが添加量となる。しかし、無機酸化物の重さに比べると表面処理剤の重さは無視できる程度に小さい。このため、上述の計算において、無機酸化物表面の処理剤の重さは考慮していない。
【００９６】
［記録層への無機酸化物の分散による効果］
次に、記録層１１に無機酸化物を分散させたことにより、記録マーク１５を形成する際に発生する機構を図４Ａ〜Ｃに示す。
【００９７】
図４Ａに示すように、無機酸化物粒子２０が分散された記録層１１の照射点１６に対し、記録情報光ビームＬＭｗを照射する。光ビームＬＭｗの照射により、記録層１１を構成する熱可塑性樹脂が非線形に光を吸収し、空孔が発生する。
【００９８】
このとき、図４Ｂに示すように、照射点１６で発生した熱が照射点１６の周囲に伝搬し、樹脂の溶融温度以上となる領域１８が発生する。
記録層に分散された無機酸化物は、一般的な樹脂に比べて熱伝導率が高い。例えば、上述のポリカーボネート樹脂の熱伝導率［Ｗ／ｍ・ｋ］が０．１９、非晶ポリアリレート樹脂が０．２４、ＰＭＭＡ樹脂が０．１７〜０．２５である。これに対し、上述のＡｌ２Ｏ３の熱伝導率［Ｗ／ｍ・ｋ］が３０〜４０、ＳｉＯ２が１〜２０、ＴｉＯ２が８〜９、Ｙ２Ｏ３が１０〜２０である。このため、記録情報光ビームＬＭｗの照射により記録層１１に発生した熱が、矢印１９Ａで示すように、無機酸化物に優先的に移動する。このように、記録層１１において、発生する熱量が優先的に無機酸化物に移動するため、樹脂に伝搬する熱量が低下する。この結果、樹脂の溶融温度以上となる領域１８が、無機酸化物を含まない記録層における樹脂の溶融温度以上となる領域１７（図７Ｃ）に比べて、小さくなる。
【００９９】
また、熱伝導率が高い無機酸化物を添加したことにより、この無機酸化物を伝わり、照射点１６で発生した熱が矢印１９Ｂに示すように、領域１７の周囲の無機酸化物２０に伝搬される。この結果、照射点１６で発生した熱は、より広い範囲に分散される。このように、照射点１６近傍から伝搬される熱量が広く拡散されることにより、領域内の温度が低下する。このため、無機酸化物が分散された記録層１１における樹脂の溶融温度以上となる領域１８が、上述の無機酸化物を含まない記録層における樹脂の溶融温度以上となる領域１７（図７Ｃ）に比べて、小さくなる。
【０１００】
記録マーク１５は、上述の樹脂が溶融温度以上となる領域１８とほぼ同じ大きさを上限として拡大すると考えられる。このため、無機酸化物が分散された記録層１１では、上述のように樹脂の溶融温度以上となる領域１８が小さくなることにより、形成される記録マーク１５も小さくなる。このように、記録マーク１５の小径化が可能である。
【０１０１】
さらに、溶融温度以上となる領域１８が小さくなることにより、隣接する２つの空孔の一体化による、連続した１つの大きな記録マーク１５の形成を防ぐことができる。
隣接する２カ所の照射点１６同士の距離は、光ビームＬＭｗを照射した際に２つの照射点１６の周囲にそれぞれ発生する溶融温度以上となる領域１８が重ならない位置までしか近づけることができない。領域１８を小さくすることにより、この領域１８同士が重ならない位置をより近接させることができる。このため、照射点１６同士の距離を従来よりも小さくすることができる。
従って隣接する２つの記録マーク１５の一体による、再生信号の波形の変形を防ぎ、所望の再生信号を得ることできる。また、隣接する２つの照射点１６同士の最小距離を、従来よりも小さくすることができるため、記録マーク１５を従来よりも近接させることができる。
【０１０２】
上述のように、光情報記録媒体において、記録層を熱可塑性樹脂及び熱可塑性樹脂に分散された無機酸化物の粒子を有する構成とすることにより、記録情報光ビームの照射による樹脂の溶融を抑えることができる。このため、空孔を小さくすることができ、記録マークの小径化が可能となる。また、樹脂の溶融を抑えることにより、近接させた空孔同士の一体化による記録マークの変形を抑えることができ、小径の空孔を断続的に形成した複数の記録マークの形成による矩形状の再生信号を得ることができる。この結果、光情報記録媒体の高密度化が可能となる。
【０１０３】
〈２．光情報記録媒体の製造方法の実施の形態〉
図５に、光情報記録媒体の一例として図１に示す構成の光ディスク１０の製造方法のフローチャートを示す。
まず、有機溶媒中に無機酸化物粒子を分散させる（ステップＳ１）。これにより、無機酸化物が溶媒に分散した、分散媒を作製する。
【０１０４】
有機溶剤としては、上述のカルボニル基及びアルコキシカルボニル基を有する構造の熱可塑性樹脂を溶解できれば特に限定されずに用いることができる。例えば、テトラヒドロフラン（tetrahydrofuran，ＴＨＦ）や、塩素系溶剤として四塩化炭素、クロロホルム及びジクロロメタン等を用いることができる。このとき、無機酸化物は、粒子同士の分散性、及び、溶媒への分散性を確保するため、上述のシランカップリング剤等を用いて表面処理されていてもよい。無機酸化物材料としては、上述のＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、及び、Ｙ２Ｏ３を単独又は複数混合して用いることができる。溶媒への添加量は、上述の無機酸化物の添加量の範囲内において、溶剤への分散性や記録層を構成した際の樹脂との比率等を考慮して設定する。
【０１０５】
次に、無機酸化物が分散された有機溶媒に、熱可塑性樹脂を溶解させる（ステップＳ２）。これにより、無機酸化物が分散した溶液に、樹脂が溶解した樹脂溶液を作製する。
熱可塑性樹脂としては、上述のカルボニル基及びアルコキシカルボニル基を有する構造の樹脂を用いることができる。また、熱可塑性樹脂は、記録層１１を作製する際の塗布性等を考慮し、有機溶剤への熱可塑性樹脂の濃度が１０〜２０質量％となるように溶解する。
【０１０６】
次に、樹脂溶液を光ディスク１０の基板１４上に塗布する（ステップＳ３）。そして、基材１４上に塗布した溶液を加熱し、溶媒を蒸発させる（ステップＳ４）。基材への塗布は、公知の溶剤キャスト法を用いて行う。例えば、上述の熱可塑性樹脂を溶解させた樹脂溶液を、金属支持体上に薄く流延してから溶媒を蒸発させるキャスト法等により行うことができる。これにより、光ディスク１０の記録層１１を作製する。
【０１０７】
次に、公知の方法により、基準層１２を形成する（ステップＳ５）。
基準層１２は公知の方法を用いて、記録層上に例えば上述の窒化シリコン／酸化シリコン／窒化シリコン／酸化シリコン／窒化シリコンからなる誘電体膜を形成する。
さらに、必要に応じて基準層上に、ガラス基板、アクリル樹脂又はポリカーボネート樹脂など種々の光学材料によりカバー層１３を形成する。
以上の工程により、光ディスク１０を製造することができる。
【０１０８】
なお、本発明は上述の実施形態例において説明した構成に限定されるものではなく、その他本発明構成を逸脱しない範囲において種々の変形、変更が可能である。
【符号の説明】
【０１０９】
１０  光ディスク、１０Ａ  第１面、１０Ｂ  第２面、１１  記録層、１２  基準層、１３  カバー層、１４  基板、１５  記録マーク、１６  照射点、１７，１８  領域、２０  無機酸化物、２１  孔部、２２  再生信号、ＦＳ，ＦＭ，ＲＭ  焦点、Ｌ  光ビーム、ＬＭ  情報光ビーム、ＬＳ  サーボ光ビーム、ＬＳｒ  サーボ反射光ビーム、ＯＬ  対物レンズ、ＸＬ  法線
【図１】
2011227968.tif 000012
【図２】
2011227968.tif 000013
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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