(57)【要約】【課題】切粉やゴミ残留、更には表面のキズの発生を抑制可能となり、電子写真感光体の画像特性が大幅に向上可能な基体の洗浄方法を提供すること。【解決手段】電子写真感光体用の基体を洗浄する方法であって、切削加工処理が施された基体１００を脱脂洗浄、乾燥処理し、その後、乾燥状態で粘着ゴム材１３０を基体１００の表面に当接させることで付着物を粘着させて除去洗浄し、該除去洗浄の後に、洗浄液によるジェット洗浄処理、乾燥処理を行うことを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体用の基体を洗浄する方法であって、切削加工処理が施された前記基体を脱脂洗浄し、乾燥処理しし、その後、乾燥状態で粘着ゴム材を前記基体の表面に当接させることで付着物を粘着させて除去洗浄し、該除去洗浄の後に、洗浄液によるジェット洗浄処理し、乾燥処理をおこなうことを特徴とする電子写真感光体用の基体の洗浄方法。
【請求項２】
前記粘着ゴム材の長軸方向の長さが、前記基体の長軸方向の長さよりも長く、かつ
前記粘着ゴム材の長軸方向が前記基体の長軸方向に対して平行になるように、前記粘着ゴム材を前記基体に当接することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体用の基体の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体用の基体を洗浄する方法に関し、特に、旋盤によるバイト切削加工処理の後の基体表面に付着した付着物を除去するための基体の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から電子写真感光体用の基体としては、一般的に円筒形状の導電性基体が使用され、該電子写真感光体が形成される前に旋盤によるバイト切削加工処理により基体表面は鏡面状態に仕上げられる。鏡面状態に仕上げられた基体表面には、切削加工処理時に使用した切削油や切削加工処理時に発生した金属切粉（以下、「切粉」と記す）が付着する。
切削油や切粉が付着した基体の表面に、例えばプラズマＣＶＤ（化学気相成長）法によりアモルファスシリコン堆積膜が形成されると、堆積膜の異常成長で生じる球状突起が発生してしまう。この球状突起は、電子写真感光体を用いて出力された画像に発生する画像欠陥の原因となる。そこで、堆積膜が形成される前には、一般的に、基体を洗浄する処理が行われる。具体的には、基体の表面に付着した付着物（切削油および切粉）を除去する処理が行われ、これまでにその処理方法が各種提案されている。
【０００３】
従来の処理方法には、切削後の基体に対して、超音波を付与しながら界面活性剤水溶液を用いた脱脂洗浄および複数のノズルから洗浄液を高圧で噴射させたジェット洗浄を施す処理方法がある（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２８２１８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記した従来技術よれば、良好な洗浄処理がなされる。しかしながら、このような洗浄処理を用いて作製された電子写真感光体であっても、基体表面に少しでも何らかの付着物やキズが残ってしまえば、電子写真感光体の表面には堆積膜の異常成長で生じる球状突起が発生してしまう。そして、球状突起が発生した電子写真感光体を用いて出力された画像に画像欠陥が生じる場合がある。画像欠陥に対する市場の要求レベルは日々高まっており、この要求に応えるべく、より高品質な電子写真感光体を形成可能な電子写真感光体用の基体の洗浄方法が求められるようになってきた。
【０００６】
特許文献１のような脱脂洗浄とジェット洗浄の組合せでは、基体表面に付着した微小な切粉が充分に除去されない場合があることが判明した。
本発明の目的は、基体表面上に付着物（切削油、切粉およびゴミ）が残らず、キズの生じない電子写真感光体用の基体の洗浄方法を提供し、電子写真感光体に起因した画像欠陥を低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の処理を行うことを特徴とする電子写真感光体用の基体の洗浄方法である。まず、切削加工処理が施された円筒状の電子写真感光体用の基体を脱脂洗浄、乾燥処理する。その後、乾燥状態で粘着ゴム材を前記電子写真感光体用の基体の表面に当接させることで付着物を粘着させて除去洗浄する。そして、該除去洗浄の後に、洗浄液によるジェット洗浄処理、乾燥処理を行う。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、粘着ゴム材によって切粉を除去し、その後洗浄液によるジェット洗浄処理を行うことで、切粉やゴミの残留、更には基体表面のキズの発生が抑制された電子写真感光体用の基体の洗浄方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の洗浄方法を用いた洗浄システム全体の一例を示す。
【図２】本発明の洗浄方法における粘着ゴム材による切粉除去洗浄の一例を示す。
【図３】本発明の洗浄方法における粘着ゴム材による切粉除去洗浄の一例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、電子写真感光体用の基体を洗浄した後に基体表面にキズを与えることなく付着物の残留を無くすためには、粘着ゴム材による切粉除去洗浄とジェット洗浄との組み合わせおよび処理順序が重要であることを見出した。
具体的には、脱脂洗浄を行った後、乾燥状態で粘着ゴム処理による切粉除去を行う。その後、ジェット洗浄処理を行う。このような処理の組み合わせおよび順序とすることで粘着ゴム処理を行った時、剥離帯電による空気中の微小なゴミの付着が生じても、その後のジェット洗浄処理でその微小なゴミは除去される。これより、基体表面にキズを与えることなく、画像欠陥の原因となる切粉やゴミが除去された清浄な基体を安定して得ることが出来ることを見出し、本発明に至った。
【００１１】
以下に、本発明の実施の形態を、図面に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の洗浄方法を用いた洗浄システム全体の一例を示す概略図である。
この洗浄システムは、図１（Ａ）、図１（Ｂ）、図１（Ｃ）で構成され、図１（Ａ）、図１（Ｂ）、図１（Ｃ）の順番に処理工程が進む。
図１（Ａ）は、主に基体の切削加工処理の後の脱脂洗浄を目的とした脱脂洗浄槽１６０、すすぎ洗浄を行うためのすすぎ槽１６１、乾燥処理を行うための乾燥槽１６２を示す。
図１（Ｂ）は、粘着ゴム材処理部の概要を示す。粘着ゴム材処理部では、図１（Ａ）の脱脂洗浄、すすぎ洗浄、乾燥処理後に基体表面に残った切粉を粘着ゴム材を用いて除去する。
図１（Ｃ）は、粘着ゴム材による切粉除去処理の後に、粘着材から基体表面に剥離帯電の影響で付着した空気中の微小なゴミの除去を目的としたジェット洗浄槽１６３、乾燥処理を行うための乾燥槽１６４を示す。
【００１２】
図１（Ａ）について詳述する。
洗浄対象である基体１００は、まず、旋盤によるバイト切削工程が終了すると投入用部材１０６の上に配置される。ここで、バイト切削工程で使用されるバイトは、ダイヤモンド切削用バイト（例えば平バイトや５Ｒバイト）が使用され、基体表面は鏡面仕上げの切削面に加工される。
また、基体１００の材質としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、コバルト、鉄、クロム、モリブデン、チタンやこれらの合金を用いることができる。中でも加工性や製造コストを考慮するとアルミニウムが優れている。この場合、アルミニウム−マグネシウム系合金、アルミニウム−マンガン系合金のいずれかを用いることが好ましい。
【００１３】
次に、基体１００は、搬送レール１０１に従って移動するチャッキング機構１０２によって脱脂洗浄槽１６０の中へ移動させられる。脱脂洗浄槽１６０では、脱脂洗浄工程が実行される。ここで、脱脂洗浄工程について詳しく説明する。
脱脂洗浄槽１６０には、界面活性剤水溶液１０７が貯められている。基体１００を界面活性剤水溶液１０７に浸漬させることによって、基体１００の表面に付着した油脂が除去される。界面活性剤水溶液１０７に溶解される界面活性剤は、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、またはそれらを混合したもののいずれかであればよい。特に、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、燐酸エステル塩等の陰イオン性界面活性剤、または脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤が好ましい。
【００１４】
本発明の脱脂洗浄工程では、超音波を用いることは脱脂洗浄能力を高める上で有効である。超音波の周波数は、好ましくは１００Ｈｚ以上、１０ＭＨｚ以下、更に好ましくは１ｋＨｚ以上、５ＭＨｚ以下、最適には１０ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下が効果的である。超音波の出力は、好ましくは０．１Ｗ／リットル以上１ｋＷ／リットル以下、更に好ましくは１Ｗ／リットル以上１００Ｗ／リットル以下が効果的である。
脱脂洗浄工程が終了すると、基体１００は、チャッキング機構１０３によってすすぎ槽１６１へ移動させられる。すすぎ槽１６１では、基体１００のすすぎ洗浄工程が実行される。すすぎ洗浄工程で使用されるすすぎ洗浄液１０８は、純水が好ましく、半導体グレードの純水、特に超ＬＳＩグレードの超純水が好ましい。
【００１５】
すすぎ洗浄工程が終了すると、基体１００は、チャッキング機構１０４によって乾燥槽１６２に移動させられる。乾燥槽１６２では、乾燥工程が実行される。ここで、乾燥工程について詳しく説明する。
乾燥槽１６２には、温純水１０９が貯められている。基体１００を温純水１０９に浸漬させて所定の時間をかけて引き上げることによって、基体１００が乾燥させられる。温純水１０９は、二酸化炭素を溶解した温純水を用いることが好ましい。また、温純水１０９の水温の範囲は、３０℃以上９０℃以下であればよい。好ましい範囲は３５℃以上８０℃以下である。最適な範囲は４０℃以上７０℃以下である。
【００１６】
乾燥工程が終了すると、基体１００は、チャッキング機構１０５によって取り出し用部材１１０の上に配置される。
十分乾燥した基体１００は、図１（Ｂ）の粘着ゴム材処理部へ送られ、粘着ゴム材１３０による処理が実行される。粘着ゴム材１３０による処理は切粉除去を主目的とした処理である。
【００１７】
ここで、粘着ゴム材１３０による処理工程について詳しく説明する。
粘着ゴム材による切粉除去処理は、スポンジやブラシによる摺擦洗浄処理と異なり、切削後の基体１００の表面でのキズ発生を防止するという観点から優れた処理方法である。
ここで、粘着ゴム材１３０の材質としては、例えば、ブチル系ゴム、フッ素系ゴム、シリコン系ゴムが好ましい。洗浄用製品としては、例えば、株式会社オーディオテクニカ製のテクニクリーン（登録商標）やテクノロール株式会社製のクリーンダッシュを用いたものが有効である。
【００１８】
粘着ゴム材１３０の形状は、板状、ベルト状、ローラー状のいずれの形状でも構わないが、円筒状基体の取り扱いを考慮した場合、ローラー形状が好ましい。
粘着ゴム材１３０による切粉除去処理は、基体１００の表面に粘着ゴム材１３０を当接させて行うが、当接方法は、特に限定されるものではない。
例えば、図２に示すように、円筒状の粘着ゴム材２３０を、基体２００の長軸方向と粘着ゴム材２３０の長軸方向が直角となるように、基体２００に当接させながら基体２００の上から下へ移動させる。そして、基体２００の外周面上を周方向に位置を変えながら同様の移動を繰り返すことで基体２００の全面処理が可能となる。
【００１９】
また、図３は、円筒状の粘着ゴム材３３０を、その長軸方向が基体３００の長軸方向に対して平行になるように当接し、基体３００を回転させることで基体３００の全面処理を行う構成を示したものである。ここで、円筒状の粘着ゴム材３３０の長軸方向の長さを、基体３００の長軸方向の全長よりも長くすることで基体３００の長軸方向全体を同時に処理することが可能となる。基体３００は、回転部３４７に鉛直に支持される。回転部３４７を回転モーター３４８で回転させることによって、基体３００を回転させる構成となっている。基体３００の回転方向は、特に制限はない。
【００２０】
基体３００の回転速度は、基体３００表面の切粉を粘着作用により確実に除去できることを要件として定めればよい。具体的には、基体３００の周速度は、５ｍｍ／秒以上５０ｍｍ／秒以下の範囲に設定することが好ましい。
基体３００と粘着ゴム材３３０の当接幅が、５ｍｍ以上３０ｍｍ以下の範囲内になるように当接させることが好ましい。
粘着ゴム材３３０による処理が実施された基体３００は、図１（Ｃ）の投入用部材１４５の上に配置される。
【００２１】
次に、図１（Ｃ）について詳述する。
基体１００は、搬送レール１４１に従って移動するチャッキング機構１４２によってジェット洗浄槽１６３の中へ移動させられる。ジェット洗浄槽１６３では、ジェット洗浄工程が実行される。ここで、ジェット洗浄工程について詳しく説明する。
ジェット洗浄工程は、粘着ゴム材による切粉除去処理を実施した時、剥離帯電の影響で付着した空気中の微小なゴミを除去するために重要となる。
ジェット洗浄工程では、シャワーノズル１４６から洗浄液が噴射される。シャワーノズル１４６から噴出される洗浄液が基体１００の表面にあたり基体１００が洗浄されるが、シャワーノズル１４６を基体１００の長軸方向と平行な方向へ移動することで基体１００の長手方向全体を洗浄することができる。
【００２２】
ここで、基体１００の表面全体をむら無く洗浄するために、基体１００を回転させるか、あるいはシャワーノズル１４６を基体１００の中心軸を中心として周方向に回転させることが好ましい。
シャワーノズル１４６から噴出される洗浄液の圧力は０．３ＭＰａ以上５ＭＰａ以下が好ましい。噴出圧が０．３ＭＰａよりも小さいと、洗浄効果が少ない。また、５ＭＰａより大きくなると、水とアルミニウムの化学反応が促進され基体１００の表面に欠陥が発生しやすくなってしまう。水を吹き付ける方法には、ポンプにより高圧化した水をシャワーノズル１４６から吹き付ける方法、または、ポンプで汲み上げた水を高圧空気とシャワーノズル１４６の手前で混合して、空気の圧力により吹き付ける方法がある。
【００２３】
洗浄水の流量は、洗浄効果と経済性の観点から、基体１本当り１リットル／分以上２００リットル／分以下が好ましい。また、洗浄液は、純水、あるいは界面活性剤を含有した純水、二酸化酸素を溶解した純水のいずれでも構わない。
ジェット洗浄工程が終了すると、基体１００は、チャッキング機構１４３によって乾燥槽１６４に移動させられる。乾燥槽１６４では、上述の乾燥槽１６２と同様の乾燥工程が実行される。
乾燥工程が終了すると、基体１００は、チャッキング機構１４４によって取り出し用部材１５０の上に配置される。
【実施例】
【００２４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
〔実施例１〕
１００本の基体１００について以下の処理をおこなった。切削加工処理される基体１００は、マグネシウムを２．５重量％含有したアルミニウム−マグネシウム合金で形成されている引抜管を使用した。基体１００の形状としては、肉厚３ｍｍ、全長は３８１ｍｍの円筒状とし、外径が直径８４ｍｍとなるように引抜管から切削工程（不図示）が実施された。
【００２５】
切削工程の内容について詳しく説明する。
引抜管を、精密切削用のエアダンパー付旋盤（EGURO社製 RL-550）（不図示）の回転フランジに真空チャックした。旋盤にはダイヤモンドバイト（商品名：ミラクルバイト、東京ダイヤモンド製）を取り付けた。その後、噴霧ノズルが切削油を噴霧するとともに、真空ノズルが切粉を吸引している状態で、基体１００の外径が８４ｍｍになるまで切削が実施され、基体表面は鏡面状態に仕上げた。噴霧ノズルおよび真空ノズルを、旋盤に付設した。切削条件は、周速が１０００ｍｍ／分であり、送り速度が０．０１ｍｍ／回転であった。
【００２６】
次に本実施例について、図１を参照しながら説明する。
切削加工処理が終了した基体１００を、図１（Ａ）で示した投入用部材１０６の上に配置した。その後、基体１００がチャッキング機構１０２によって脱脂洗浄槽１６０に移動させられて、脱脂洗浄工程を実施した。界面活性剤水溶液１０７としては、界面活性剤（ヘンケルジャパン（株）社、商品名；ａｌｍｅｃｏ  ＣＴ−２９）を純水で３０倍に希釈し、４０℃に加熱したものを使用した。また、基体１００を、脱脂洗浄槽１６０において界面活性剤水溶液１０７に２分間浸漬した。
【００２７】
脱脂洗浄工程が終了すると、基体１００はチャッキング機構１０３によってすすぎ槽１６１に移動され、すすぎ洗浄工程を実施した。すすぎ洗浄工程では、常温の純水に基体１００を１００秒間浸漬した。
すすぎ洗浄工程が終了すると、基体１００はチャッキング機構１０４によって乾燥槽１６２に移動され乾燥工程を実施した。ここで、本実施例の乾燥工程について詳しく説明する。
基体１００を、乾燥槽１６２において、二酸化炭素を溶解させた５０℃の温純水１０９に２０秒間浸漬した。その後、基体１００を、６０秒かけて温純水１０９から引き上げられることで乾燥した。乾燥工程が終了すると、基体１００を、チャッキング機構１０５によって取り出し用部材１１０の上に移動した。
【００２８】
その後、十分乾燥した基体１００を、粘着ゴム材１３０により処理した。ここで、図１（Ｂ）で示した粘着ゴム材による処理工程について詳しく説明する。
本実施例の粘着ゴム材による処理工程は、図２に示した粘着ゴム材２３０による処理方法で実施した。具体的には、粘着ゴム材２３０としては、テクノロール株式会社製のクリーンダッシュゴム白を使用しており、粘着ゴム材２３０の形状は、直径５０ｍｍ、長さ１００ｍｍのローラー形状であった。
基体２００の長軸方向と粘着ゴム材２３０の長軸方向が直角となるように基体２００に当接させながら基体２００の上から下へ移動させた。
【００２９】
まず、基体２００を基体支持部２４７に鉛直に支持し、基体２００の長軸方向と粘着ゴム材２３０の長軸方向が直角になるように粘着ゴム材２３０を基体２００に当接させながら、粘着ゴム材２３０を基体２００の上から下へ移動させた。そして、基体２００の外周面上を周方向に位置を変えながら上から下への移動を繰り返し、基体２００の全面を処理した。ここで、基体２００と粘着ゴム材２３０の当接幅は、１５ｍｍとなるようにした。
粘着ゴム材による処理工程が終了すると、基体１００を、投入用部材１４５の上に配置した。その後、基体１００をチャッキング機構１４２によってジェット洗浄槽１６３に移動し、ジェット洗浄工程を実施した。ここで、ジェット洗浄工程について詳しく説明する。
【００３０】
本実施例では、基体１００を５０ｍｍ／秒の周速度で回転させながらシャワーノズル１４６を上から下へ移動させて基体の表面全体を洗浄した。シャワーノズル１４６から噴出される洗浄液は純水を使用し、噴出圧力を２ＭＰａとした。
ジェット洗浄工程が終了すると、基体１００はチャッキング機構１４３によって乾燥槽１６４に移動され上述と同様の乾燥工程を実施した。
乾燥工程が終了すると、基体１００を、チャッキング機構１４４によって取り出し用部材１５０の上に移動した。
【００３１】
〔実施例２〕
本実施例では、実施例１と同様に１００本の基体１００について、切削工程、図１（Ａ）の脱脂洗浄工程、すすぎ洗浄工程、および乾燥工程、図１（Ｂ）の粘着ゴム材による処理工程、並びに図１（Ｃ）のジェット洗浄工程および乾燥工程をそれぞれ実施した。
なお、本実施例の粘着ゴム材による処理工程は、図３に示した粘着ゴム材３３０による処理方法で実施した。具体的には、粘着ゴム材３３０としては、テクノロール株式会社製のクリーンダッシュゴム白を使用しており、粘着ゴム材３３０の形状は、直径１００ｍｍ、長さ４００ｍｍのローラー形状であった。
【００３２】
まず、基体３００を回転部３４７に鉛直に支持した。回転部３４７を回転モーター３４８で回転させることによって、基体３００を回転した。その後、粘着ゴム材３３０を、その長軸方向が基体３００の長軸方向に対して平行な状態で基体３００の外周面に当接する位置に移動させた。基体３００の回転速度は、１０ｍｍ／秒（周速度）とし、基体３００と粘着ゴム材３３０の当接幅が１０ｍｍとなるようにして６０秒間当接させた。
【００３３】
〔比較例１〕
本比較例では、実施例１と同様に１００本の基体１００について、切削工程、図１（Ａ）の脱脂洗浄工程、すすぎ洗浄工程、および乾燥工程、図１（Ｃ）のジェット洗浄工程、および乾燥工程、並びに図１（Ｂ）の粘着ゴム材１３０による処理工程をそれぞれこの順に実施した。
本比較例では、ジェット洗浄を実施した後、乾燥状態で粘着ゴム材１３０による処理工程をおこなった。
本比較例と実施例１とは、各工程の処理内容は同じであるが、各工程の実施順序が相違していた。
【００３４】
〔比較例２〕
本比較例では、実施例１と同様に１００本の基体１００について、切削工程、図１（Ａ）の脱脂洗浄工程、すすぎ洗浄工程、および乾燥工程、図１（Ｃ）のジェット洗浄工程および乾燥工程をそれぞれこの順に実施した。
本比較例では、粘着ゴム材による処理工程をおこなわなかった。
【００３５】
〔比較例３〕
本比較例では、実施例１と同様に１００本の基体１００について、切削工程、図１（Ａ）の脱脂洗浄工程、すすぎ洗浄工程、および乾燥工程、図１（Ｂ）の粘着ゴム材１３０による処理工程をそれぞれこの順に実施した。
本比較例では、図１（Ｃ）のジェット洗浄処理工程および乾燥工程をおこなわなかった。
【００３６】
〔比較例４〕
本比較例では、実施例１と同様に１００本の基体１００について、切削工程、図１（Ａ）の脱脂洗浄工程、すすぎ洗浄工程、および乾燥工程、不図示の摺擦部材処理工程、並びに図１（Ｃ）のジェット洗浄工程および乾燥工程をそれぞれこの順に実施した。
本比較例では、粘着ゴム材処理工程の代わりに、摺擦部材処理工程を行った。本比較例の摺擦処理工程について説明する。
本比較例の摺擦部材処理工程は、実施例１と同様に基体を基体保持部に鉛直に支持し、摺擦部材を基体に当接させつつ、摺擦部材を移動させることによって物理的洗浄力を与えて全面を処理した。
【００３７】
基体と摺擦部材との当接幅が５ｍｍとなるように押し付けたままの状態で上から下へ移動させた。
摺擦部材は、ポリプロピレンのスポンジを使用し、純水を流しながら処理した。摺擦部材の形状は、縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ３０ｍｍの板形状であった。
以上、実施例１、実施例２、および比較例１〜４で洗浄した基体合計６００本について、付着物の検査を以下の方法でおこなった。
【００３８】
（１）顕微鏡による付着物（切粉、ゴミ）検査
図１（Ｃ）の乾燥工程が終了した基体の表面を、光学顕微鏡（製品名ＳＴＭ‐ＵＭ、オリンパス社製）を用いて倍率を２００倍として自動全面スキャンし、２μｍ以上の付着物の数を数え、１本当たりの平均値を求めた。
（２）顕微鏡による基体表面キズ検査
図１（Ｃ）の乾燥工程が終了した基体の表面を、光学顕微鏡（製品名ＳＴＭ‐ＵＭ、オリンパス社製）を用いて倍率を１００倍として自動全面スキャンし、表面に存在する１０μｍ以上のキズの数を数え、１本当たりの平均値を求めた。
【００３９】
上記２つの検査について、以下のような評価を行った。
比較例２での平均値をリファレンス（１００％）として、以下のような基準でランク付けをおこなった。
尚、この評価項目では、平均値が小さいほど、良好な結果であると判断できる。
ＡＡ：リファレンスに対して５０％以上７０％未満
Ａ：リファレンスに対して７０％以上９０％未満
Ｂ：リファレンスに対して９０％以上１１０％未満
Ｃ：リファレンスに対して１１０％以上１３０％未満
【００４０】
（３）総合判定
上記２つの評価結果について、ＡＡランクを３点、Ａランクを２点、Ｂランクを１点、Ｃランクを０点とした。そして、以下に定めるように、合計した得点に応じて総合判定を決定し、表１に示した。
ＡＡ…６点以上のもの（非常に優れている）
Ａ…４点以上５点以下のもの（優れている）
Ｂ…２点以上３点以下のもの（良好）
Ｃ…１点以下のもの
【００４１】
【表１】
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【００４２】
表１から以下のことが明らかとなった。
実施例１、２と比較例２から、ジェット洗浄処理の前に粘着ゴム材による処理を行うことで、切粉およびゴムが除去され、付着物の大幅な低減が可能となることが確認できた。
実施例１、２と比較例３から、ジェット洗浄処理によりゴミ除去効果が得られ、付着物の低減が可能となることが確認できた。
実施例１、２と比較例１から、粘着ゴム材による処理を行った後、ジェット洗浄処理を行うという処理順序が、付着物の低減に大きな影響を及ぼすことが確認され、本発明の効果が確認できた。
【００４３】
実施例１、２と比較例４から、粘着ゴム材による処理と摺擦部材による処理とで基体表面のキズ発生状況に差が生じることが確認され本発明の効果が確認できた。
実施例１と実施例２の粘着ゴム材によるいずれの処理でも切粉が除去され、付着物の大幅な低減が確認された。さらに、表１に記載していないが、実施例２の洗浄方法を採用することで、より短時間で切粉除去処理が可能となった。
上記結果から、基体の表面は付着物がより確実に除去され、更にはキズの発生を抑制された状態となるため、画像欠陥の少ない電子写真感光体を形成することが可能となる。
【符号の説明】
【００４４】
１００  ‥‥  基体
１０１  ‥‥  搬送レール
１０２  ‥‥  チャッキング機構
１０６、１４５  ‥‥  投入用部材
１１０、１５０  ‥‥  取り出し用部材
１０７  ‥‥  界面活性剤水溶液
１０８  ‥‥  すすぎ洗浄液
１０９  ‥‥  温純水
１３０  ‥‥  粘着ゴム材  
１４６  ‥‥  シャワーノズル
１４７  ‥‥  回転部
１４８  ‥‥  回転モーター    
１６０  ‥‥  脱脂洗浄槽
１６１  ‥‥  すすぎ槽
１６２、１６４  ‥‥  乾燥槽
１６３  ‥‥  ジェット洗浄槽
【図１】
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【図２】
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【図３】
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