(57)【要約】【課題】カセット部材の上面の汚れを効率的に洗浄することが可能な自動分析装置を提供する。【解決手段】試料及び試薬を反応容器に分注して混合液を生成し、該生成された前記混合液の成分を測定する自動分析装置において、温水を溜める恒温槽と、前記反応容器を前記恒温槽に入れた状態に保持するカセット部材と、温水を含む洗浄水により、前記カセット部材の上面を洗浄する洗浄処理部と、を有する。【選択図】図４
2011220887.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料及び試薬を反応容器に分注して混合液を生成し、該生成された前記混合液の成分を測定する自動分析装置において、
温水を溜める恒温槽と、
前記反応容器を前記恒温槽に入れた状態に保持するカセット部材と、
温水を含む洗浄水により、前記カセット部材の上面を洗浄する洗浄処理部と、
を有する
ことを特徴とする自動分析装置。
【請求項２】
前記恒温槽は、上方へ向けて開設された上方開口を有し、
前記カセット部材の上面は、前記上方開口から前記恒温槽の内部に嵌り込むように設けられ、
前記洗浄処理部は、前記上方開口の高さ位置近傍まで前記洗浄水を満たすことにより、前記カセット部材の上面を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項３】
前記カセット部材は、前記洗浄水を前記カセット部材の下面側から上面側へ通すための貫通穴を有することを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記カセット部材の上面は、前記反応容器の外周部を保持する保持用穴の周縁領域を含み、
前記反応容器の内部に前記洗浄水を吐出する反応容器洗浄用ノズルをさらに有し、
前記洗浄処理部は、前記洗浄水が前記反応容器から前記保持用穴の前記周縁領域を含む前記カセット部材の上面に溢れ出すまで、前記反応容器洗浄用ノズルから前記洗浄水を吐出させることを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記洗浄処理部は、前記洗浄水により前記カセット部材の上面を洗浄しているとき、前記洗浄水を前記カセット部材の上面に対して相対的に移動させることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記洗浄処理部は、前記カセット部材を介して、前記反応容器を前記恒温槽内で移動させる反応容器駆動部をさらに有することを特徴とする請求項５に記載の自動分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、試料及び試薬を反応容器に分注して混合液を生成し、該生成された前記混合液の成分を測定する自動分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の自動分析装置は、前記生成された混合液の反応を促進させるために、例えば３７℃の一定温度に維持された温水を溜める恒温槽が設けられ、その温水の中に反応容器を入れて温めている。温水には添加剤（例えば、防腐剤）が入れられている。また、複数の反応容器を前記恒温槽に入れた状態に保持するカセット部材が設けられている。複数のカセット部材は、恒温槽に沿って並設されている。
【０００３】
以上のように構成された自動分析装置においては、恒温槽とカセット部材との間に隙間が形成され、隣接して設けられたカセット部材同士間に隙間が形成されている。これらの隙間に接した温水は、毛細管現象により隙間を伝わって、恒温槽の外（カセット部材の上面側）に入り込む。このようにして、入り込んだ温水は、恒温槽の外で乾燥（蒸発）して、温水に入れられた前記添加剤を析出させる。析出した添加剤は汚れの要因となって、装置の外観を悪くし、場合によっては測定精度に影響を与えるので、恒温槽及びカセット部材を定期的に手作業で洗浄しているが、洗浄に手間がかかるという問題点がある。
【０００４】
また、温水の蒸発量が著しくなると、温水の減少による測定不能の状態になる場合があるため、温水の蒸発量を減少させる技術がある（例えば、特許文献１）。すなわち、恒温槽に形成した凹部と、カセット部材に形成した凸部とを組み合わせることにより、ラビリンス状の溝を構成し、このラビリンス状の溝に温水の蒸気を通過させるようにして、外気に流失する蒸気量を大幅に減少させる。また、蒸気が結露して恒温槽の凹部に溜まった水が、温水を完全に外気と遮断することにより、温水の蒸発を防止する技術である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平４−４０３６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載された技術では、蒸発を抑えることが可能な温水は、恒温槽内に限られ、恒温槽の外に、入り込んだ温水の蒸発を抑えることが困難となる。例えば、カセット部材同士間の隙間を通って、カセット部材の上面側に回り込んだ温水の乾燥を防止することが困難となるという問題点があった。すなわち、上記特許文献１に記載された技術を、恒温槽の外の温水の蒸発を防止するために用いることができない。
【０００７】
この発明は、上記の問題を解決するものであり、カセット部材の上面の汚れを効率的に洗浄することが可能な自動分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、この発明は、恒温槽に溜める温水、及び、反応容器を洗浄するための洗浄水をカセット部材の上面の洗浄に利用することに着目した。
具体的に、この発明の第１の形態は、試料及び試薬を反応容器に分注して混合液を生成し、該生成された前記混合液の成分を測定する自動分析装置において、温水を溜める恒温槽と、前記反応容器を前記恒温槽に入れた状態に保持するカセット部材と、温水を含む洗浄水により、前記カセット部材の上面を洗浄する洗浄処理部と、を有することを特徴とする自動分析装置である。
【発明の効果】
【０００９】
この発明の第１の形態によると、温水を含む洗浄水によりカセット部材の上面を洗浄したので、カセット部材を効率的に洗浄することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】この発明の第１実施形態に係る自動分析装置の内部を示す斜視図である。
【図２】自動分析装置の構成を示す図である。
【図３】反応庫内を示す平面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線断面図である。
【図５】洗浄水によりカセット部材の上面を洗浄するときの断面図である。
【図６】この発明の第２実施形態に係る恒温槽を破断した断面図である。
【図７】洗浄水によりカセット部材の上面を洗浄するときの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［第１の実施形態］
この発明の第１の実施形態に係る自動分析装置の構成について図１から図５を参照して説明する。図１は、自動分析装置１００の内部を示す斜視図、図２は自動分析装置１００の構成を示す図、図３は反応庫５内を示す平面図、図４は図３のＩＶ−ＩＶ線断面図、図５は、洗浄水によりカセット部材５３の上面を洗浄するときの断面図である。
【００１２】
図１に示す自動分析装置１００は、被検試料と試薬とを分注してその混合液の反応を分析することにより、被検試料に含まれる化学成分を分析する装置である。反応容器５１に血液や尿等の被検試料と試薬とを移してこれらを反応させた後、反応によって生じる色調の変化を光測定することにより検体中の被測定成分または酵素の濃度や活性を測定する。
【００１３】
以下に、自動分析装置１００の基本的な構成について図１から図３を参照して簡単に説明する。この自動分析装置１００は、主に分析部１４、データ処理部１５、駆動部１６、及び、制御部１７を有する。
【００１４】
図２及び図３に示すように、分析部１４は、被検試料と試薬とを分注してその混合液の反応を分析して、測定結果データを出力する。データ処理部１５は、分析部１４から出力された測定結果データを演算処理して検量線データや分析データを生成し、備え付けのモニタやプリンタに出力させる。駆動部１６は、モータやギア等を含み構成され、駆動力を発生して分析部１４の各ユニットに伝達させることで、分析部１４の各ユニットを駆動させる。制御部１７は、駆動部１６に指示することで、分析部１４が有する各ユニットの駆動を制御する。各ユニットとしては、第１試薬庫２、第２試薬庫３、反応庫５、ディスクサンプラ６、アーム１０（試料分注プローブ７、第１試薬分注プローブ８、第２試薬分注プローブ９の各アーム）、カセット部材５３、ヒータ５５、及び、電磁弁５８を含む。駆動部１６は、カセット部材５３を介して反応庫５（恒温槽５２内の反応容器５１）を駆動するための反応容器駆動部１６１を含む。カセット部材５３、ヒータ５５、電磁弁５８、反応容器駆動部１６１を図２に示す。また、恒温槽５２、カセット部材５３、ヒータ５５、及び、電磁弁５８の詳細については後述する。
【００１５】
被検試料は、試料容器６１に収納されている。試料容器６１は、回転可能な円形状のディスクサンプラ６に載置される。試薬は、試薬容器４に収容されている。試薬容器４は、第１試薬庫２及び第２試薬庫３に載置される。試薬容器４には、被検試料の測定項目に対し選択的に反応する各種の第１試薬又は第１試薬と対の各種の第２試薬が収納される。第１試薬が収容された試薬容器４は、第１試薬庫２に載置され、第２試薬が収納された試薬容器４は、第２試薬庫３に載置される。第１試薬庫２及び第２試薬庫３には、回動可能な円形状の試薬ラック１が収納されている。各試薬容器４は、この試薬ラック１に環状に並んで収納されている。
【００１６】
被検試料及び試薬が分注される反応容器５１は、回動可能な円形状のカセット部材（反応ディスク）５３に環状に並んで載置される。図３では、上方から見たときのカセット部材５３を示し、図１では、カセット部材５３を除外して、斜め前方から見たときの環状に並ぶ反応容器５１、５１、…を示す。
【００１７】
被検試料及び試薬の分注は、試料分注プローブ７、第１試薬分注プローブ８、及び、第２試薬分注プローブ９により行われる。試料分注プローブ７は、ディスクサンプラ６の回動によって規定の吸引位置に搬送された試料容器６１から被検試料を吸引し、カセット部材５３の回動によって規定の吐出位置に搬送された反応容器５１に被検試料を吐出する。第１試薬分注プローブ８は、第１試薬庫２の試薬ラック１の回動によって規定の吸引位置に搬送された試薬容器４から第１試薬を吸引し、カセット部材５３の回動によって規定の吐出位置に搬送された反応容器５１に第１試薬を吐出する。第２試薬分注プローブ９は、第２試薬庫３の試薬ラック１の回動によって規定の吸引位置に搬送された試薬容器４から第２試薬を吸引し、カセット部材５３の回動によって規定の吐出位置に搬送された反応容器５１に第２試薬を吐出する。
【００１８】
反応庫５の外周には、更に攪拌ユニット１１、測光ユニット１２、及び、洗浄ユニット１３が設けられている。被検試料及び試薬が分注された反応容器５１は、カセット部材５３の回動により順に攪拌ユニット１１、測光ユニット１２、及び、洗浄ユニット１３の攪拌、測定、及び洗浄位置に搬送される。攪拌ユニット１１は、１サイクル毎に、攪拌位置に停止した反応容器５１内における被検試料及び試薬（第１試薬、第２試薬）の混合液を攪拌する攪拌部である。測光ユニット１２は、混合液を収容した反応容器５１を測光位置から測定する測定部である。測光ユニット１２は、混合液の吸光度を測定した後、その測定結果データをデータ処理部１５に出力する。洗浄ユニット１３は、洗浄・乾燥位置に停止した反応容器５１内の測定を終えた混合液を吸引すると共に、反応容器５１内を洗浄・乾燥する。なお、反応容器５１内を洗浄するこの洗浄ユニット１３は、カセット部材５３の上面を洗浄する機能を含むが、当該機能の説明については、第２の実施形態において後述する。
【００１９】
以上に、第１の実施形態に係る自動分析装置１００の基本的な構成を簡単に説明した。次に、カセット部材５３及びヒータ５５等を含む反応庫５の構成の詳細について、図２から図５を参照して説明する。
【００２０】
この第１の実施形態に係る自動分析装置１００は、恒温槽５２内の温水によりカセット部材５３の上面を洗浄する構成を有している。
【００２１】
反応庫５は、温水を溜める恒温槽５２と、恒温槽５２内に設けられ、前記温水を所定温度に保つためのヒータ５５とを有している。恒温槽５２は、略溝状断面形状に形成され、両溝壁５２１と、両溝壁５２１の間に開設され、上方を向いた上方開口５２３とを有している。上方開口５２３は、前記カセット部材５３の回動中心に円周形状に形成されている。カセット部材５３は、反応容器５１を恒温槽５２に入れた状態に保持する。
【００２２】
以上のような反応庫５において、温水を含む洗浄水により、カセット部材５３の上面を洗浄する洗浄処理部をさらに有する。ここで、温水とは、ヒータ５５によって反応容器５１を所定の温度に温めるための恒温水を含み、また、所定の温度に温める前の水を含む。また、洗浄水とは、純水、アルカリ性洗剤、及び、酸性洗剤のうちの何れか１つ、並びに、これらの２以上の組合せをいう。さらに、洗浄とは、カセット部材５３の上面に洗浄水を流すことによる洗浄を含む。さらに、カセット部材５３とは、広く、反応容器５１を恒温槽５２に入れた状態に保持するための機能（保持を補助する機能を含む）を有する部材をいい、一又は複数の部品から構成される。さらに、カセット部材５３の上面とは、当該上面の中でも汚れ（例えば、析出した添加剤）が生じる領域であり、反応容器５１の外周部５１１を保持するための保持用穴５３４の周縁領域を含む領域をいう。
【００２３】
カセット部材５３は、略扇状の平面形状に形成され、円周形状に形成された前記上方開口５２３に沿って複数（図３では６枚）配設されている。隣接するカセット部材５３同士の間には隙間が設けられている。カセット部材５３は、恒温槽５２の上方開口５２３から恒温槽５２内に嵌り込むように略Ｕ字形状に形成され、低面部５３１及び段差壁５３２を有している。低面部５３１及び段差壁５３２を図３に示す。この低面部５３１が、カセット部材５３の上面の中でも特に汚れ（析出した添加剤）が生じる領域であり、前記保持用穴５３４の周縁領域を含む領域である。カセット部材５３が恒温槽５２の両溝壁５２１間の上方開口５２３から恒温槽５２内に嵌り込むことで、カセット部材５３の低面部５３１より恒温槽５２の両溝壁５２１の上端部５２２が高くなっている。
【００２４】
カセット部材５３の両段差壁５３２において、回転軸５４が設けられている側の段差壁５３２の上端部には、溝壁５２１の上端部５２２を超える高さに形成された高面部５３７が連続的に設けられ、高面部５３７が、回転軸５４と一体的に回動するブラケット５４１に固設されている。操作部（図示せず）からの操作情報を受けて、制御部１７が反応容器駆動部１６１に制御信号を出力し、制御信号を受けて、反応容器駆動部１６１が回転軸５４を回転させる。回転軸５４の回転により、ブラケット５４１及びカセット部材５３を介して、カセット部材５３の保持された反応容器５１が恒温槽５２内を周回するように構成されている。
【００２５】
また、カセット部材５３の両段差壁５３２において、回転軸５４が設けられている側とは反対側の段差壁５３２の上端部には、溝壁５２１の上端部５２２を超える高さに形成された凸端部５３３が連続的に設けられている。凸端部５３３は、カセット部材５３の外周縁部に円周方向に所定ピッチで所定幅の切り欠き部５３６を複数設けることにより、形成される。凸端部５３３は、反応容器５１を保持するための保持用穴５３４と対応するように設けられている。光センサによる凸端部５３３の検出信号（反応容器５１の位置情報）が制御部１７に入力されるようになっている。
【００２６】
カセット部材５３は、洗浄水をカセット部材５３の下面側から上面側へ通すための貫通穴５３５を有する。貫通穴５３５は、カセット部材５３の低面部５３１、又は、段差壁５３２のいずれに設けられていても良い。
【００２７】
前記したように、洗浄処理部は制御部１７を有し、操作部（図示せず）からの操作情報を受けて、制御部１７は、反応容器駆動部１６１に制御信号を出力し、反応容器駆動部１６１は、回転軸５４を回転させ、反応容器５１を恒温槽５２内に周回させる。洗浄水によりカセット部材５３の低面部５３１を洗浄しているとき、反応容器５１が恒温槽５２内を周回させれば、洗浄水をカセット部材５３の低面部５３１に対して相対的に移動させることができる。それにより、カセット部材５３の低面部５３１の洗浄効率をさらに向上させることができる。なお、洗浄水によりカセット部材５３の低面部５３１を洗浄している時とは、カセット部材５３の低面部５３１の洗浄のために、洗浄水の水位をカセット部材５３の低面部５３１へ向かって上昇させている時を含み、さらに、洗浄水の水位をカセット部材５３の低面部５３１に上げた後の所定時間を含む。
【００２８】
次に、カセット部材５３の低面部５３１の洗浄について図４及び図５を参照して説明する。洗浄処理部は制御部１７を有する。洗浄処理部によるカセット部材５３の低面部５３１の洗浄は、前記混合液の成分測定以外の時間帯に行われる。以下に、前記混合液の成分測定について説明する。次に、洗浄水により、カセット部材５３の低面部５３１の洗浄について説明する。なお、洗浄水の一例として温水を用いる場合を説明する。
【００２９】
前記混合液の成分測定時には、操作部（図示せず）からの操作情報を受けて、制御部１７は、駆動部１６を制御し、電磁弁５８を開閉動作させ、タンク５９からの供給路を開く一方、排出路を閉じることにより、タンク５９から恒温槽５２に温水を供給する。制御部１７が測定水位センサ５６による温水の検出信号を受けて、駆動部１６に制御信号を出力し、駆動部１６が電磁弁５８を開閉動作させることで、恒温槽５２内の温水を、反応容器５１の混合液の水位よりやや高い水位に満たす。それにより、成分測定の対象となる反応容器５１内の混合液が温められる（図４参照）。
【００３０】
これに対し、カセット部材５３の低面部５３１の洗浄時には、操作部（図示せず）からの操作情報を受けて、制御部１７は、駆動部１６を制御し、電磁弁５８を開閉動作させ、タンク５９からの供給路を開く一方、排出路を閉じることにより、タンク５９から恒温槽５２に温水を供給する。制御部１７が洗浄水位センサ５７による温水の検出信号を受けて、駆動部１６に制御信号を出力し、駆動部１６が電磁弁５８を開閉動作させることで、カセット部材５３の低面部５３１より高くした恒温槽５２の溝壁５２１の上端部５２２まで温水を満たして、上方開口５２３の高さ位置より下方にあるカセット部材５３の低面部５３１に温水が行きわたるように温水を満たす（図５参照）。その結果、低面部５３１における汚れ（析出した添加剤）が温水に溶かされる。カセット部材５３の低面部５３１の洗浄を終了後、制御部１７は、駆動部１６を制御し、電磁弁５８を開閉動作させ、タンクからの供給路を閉じる一方、排出路を開くことにより、恒温槽５２内の温水を装置の外部に排出する。また、溶かされた前記汚れも温水と共に装置の外部に排出される。
【００３１】
上記カセット部材５３の低面部５３１の洗浄時において、当該洗浄前から恒温槽５２に溜められた、例えば、混合液の成分測定時の温水を測定後に恒温槽５２から排出せずに、溜めておき、その温水に加えて、タンク５９から恒温槽５２に温水を供給するようにしても良い。
【００３２】
恒温槽５２内の温水をカセット部材５３の低面部５３１に行きわたらせることで、簡単な構成により、カセット部材５３の低面部５３１を効率的に洗浄することが可能となる。具体的には、低面部５３１の中でも、反応容器５１の外周部５１１と保持用穴５３４の周縁との間の隙間、及び、前記隣接するカセット部材５３同士間の前記隙間に生じる場合のある汚れ（析出した添加剤）を温水に溶かし、排出される温水と共に外部に排出することが可能となる。
【００３３】
また、上記したように、温水によりカセット部材５３の低面部５３１を洗浄している時、反応容器５１を恒温槽５２内に周回させれば、温水をカセット部材５３の低面部５３１に対して相対的に移動させることができる。それにより、カセット部材５３の低面部５３１の洗浄効率をさらに向上させることができる。
【００３４】
なお、上記第１の実施形態では、上記測定水位センサ５６及び洗浄水位センサ５７の検出信号を受けて、洗浄水（温水）の水位の調整を行ったが、洗浄水（温水）の供給量が予め分かっている場合には、その供給量に応じた時間をタイマー（例えば、制御部１７内に設けられたタイマー）の測定し、タイマーの測定結果を受けて、洗浄水（温水）の水位の調整を行うようにしても良い。
【００３５】
さらに、前記第１の実施形態では、低面部５３１又は段差壁５３２の少なくとも一方に貫通穴５３５を設けることで、十分な量の洗浄水を貫通穴５３５に通すことができ、カセット部材５３の低面部５３１を効率的に洗浄することが可能となる。
【００３６】
前述したように、カセット部材５３は、恒温槽５２の溝壁５２１と対向するように形成された段差壁５３２を有し、恒温槽５２の溝壁５２１とカセット部材５３の段差壁５３２との間には、洗浄水を、カセット部材の下方から上方へ通すための隙間５３８が形成されている。この隙間５３８は、洗浄水をカセット部材５３の下面側から上面側へ通すための隙間ともなっている。また、この隙間５３８を通った洗浄水は、上記段差壁５３２に設けられた貫通穴５３５、又は、隣接するカセット部材５３同士間の前記隙間を通ってカセット部材５３の低面部５３１に流れ込む。
【００３７】
以上のように、隙間５３８を設けることで、十分な量の洗浄水を、隙間５３８に通すことができ、カセット部材５３の低面部５３１を効率的に洗浄することが可能となると共に、当該隙間５３８の洗浄も可能となる。
【００３８】
以上の第１の実施形態によると、恒温槽５２内の温水によりカセット部材５３の低面部５３１を洗浄したので、カセット部材５３の低面部５３１を効率的に洗浄することが可能となる。
【００３９】
上記第１の実施形態では、恒温槽５２内の温水によりカセット部材５３の低面部５３１を洗浄したが、温水に代えて、イオン交換水によりカセット部材５３の低面部５３１を洗浄するようにしても良い。別のタンク５９から恒温槽５２内にイオン交換水を供給し、恒温槽５２内のイオン交換水をカセット部材５３の低面部５３１より高い位置まで満し、その後、前記混合液の成分測定時の水位まで、恒温槽５２内のイオン交換水を排出し、恒温槽５２内に添加剤（防腐剤）を添加するようにしても良い。
【００４０】
また、前記第１の実施形態では、洗浄水を相対的に移動させるものとして、例えば、カセット部材５３を介して、反応容器５１を恒温槽５２内で移動させる反応容器駆動部１６１を有する。カセット部材５３の上面（低面部５３１）を洗浄するときの反応容器５１の移動速度は、洗浄効果を発揮する速度であれば良く、前記混合液の成分を測定するときの反応容器５１の移動速度と同じ速度に限定されない。
【００４１】
さらに、洗浄水を相対的に移動させるものは、上記したものに限定されない。例えば、恒温槽５２内に設けられたスクリューの回転により、恒温槽５２内の温水を、カセット部材５３の低面部５３１に対して流すようにしても良い。
【００４２】
さらに、前記第１の実施形態では、ヒータ５５を恒温槽５２内に設けたが、タンク５９側にヒータ５５を設けても良い。それにより、予め定められた温度の温水を恒温槽５２に供給することが可能となる。
【００４３】
［第２の実施形態］
次に、この発明の第２の実施形態について図６及び図７を参照して説明する。図６は恒温槽を破断した断面図、図７は、洗浄水によりカセット部材の上面を洗浄するときの断面図である。
【００４４】
第２実施形態に係る自動分析装置１００は、前記第１実施形態に係る自動分析装置１００と基本的な構成は同じであり、第１の実施形態が、恒温槽５２内の温水によりカセット部材５３の上面（低面部５３１）を洗浄する構成であるのに対し、第２の実施形態が、反応容器５１内に吐出される洗浄水によりカセット部材５３の上面を洗浄する構成である点が異なる。以下、主に異なる構成について説明し、同じ構成についての説明を省略する。
【００４５】
第２実施形態においては、洗浄水を反応容器５１内に吐出する反応容器洗浄用ノズル１３１を有する。
【００４６】
図６に示すように、反応容器５１の洗浄時、洗浄水を吐出すると同時に吸引をする。これに対し、図７に示すように、カセット部材５３の上面を洗浄するときは、反応容器洗浄用ノズル１３１は、洗浄水が反応容器５１から溢れ出すまで、洗浄水を吐出する。すなわち、反応容器洗浄用ノズル１３１が洗浄水の吐出のみを行い、吸引を中断又は中止する。それにより、洗浄水は反応容器５１から溢れ出し、カセット部材５３の上面を洗浄することが可能となる。溢れ出てカセット部材５３の上面を洗浄した洗浄水は、貫通穴５３５を通り、カセット部材５３の下面から反応容器５１の外周部５１１を経て、恒温槽５２内に溜まる。ここで、洗浄されるカセット部材５３の上面とは、当該上面の中で特に汚れ（析出した添加剤）が生じる領域である保持用穴５３４の周縁領域を含む領域である。保持用穴５３４の周縁領域は、反応容器５１の上部開口５１２の周縁に連続するように形成されている。以上の構成によれば、反応容器洗浄用ノズル１３１を用いることで、特別な洗浄手段を設けずに、カセット部材５３の上面を効率的に洗浄することが可能となる。
【００４７】
上記の第２実施形態では、前記第１実施形態において、カセット部材５３の洗浄対象領域を洗浄するために、カセット部材５３の洗浄対象領域より恒温槽５２の両溝壁５２１の上端部５２２を高くするように構成したが、第２の実施形態では、そのような構成は必要なく、単に、反応容器５１内に洗浄液を吐出させれば良く、部品の変更や新たな部品、ユニットなどの追加なしで、カセット部材５３の洗浄対象領域を洗浄することが可能となる。
【符号の説明】
【００４８】
１  試薬ラック    ２  試薬庫    ３  試薬庫    ４  試薬容器    ５  反応庫
６  ディスクサンプラ    ７  試料分注プローブ    ８  第１試薬分注プローブ
９  第２試薬分注プローブ    １０  アーム    １１  攪拌ユニット    
１２  測光ユニット    １３  洗浄ユニット    １４  分析部    １５  データ処理部
１６  駆動部    １７  制御部    ５１  反応容器    ５２  恒温槽    
５３  カセット部材    ５４  回転軸    ５５  ヒータ    ５６  測定水位センサ
５７  洗浄水位センサ    ５８  電磁弁    ５９  タンク    ６１  試料容器
１３１  反応容器洗浄用ノズル    １６１  反応容器駆動部
１７１  温度制御部    １７２  記憶部    １７３  水位制御部    
５１１  外周部    ５１２  上部開口    
５２１  溝壁    ５２２  上端部    ５２３  上方開口    ５２５  給排管  
５３１  低面部    ５３２  段差壁    ５３３  凸端部    ５３４    保持用穴
５３５  貫通穴    ５３６  切り欠き部    ５３７  高面部    ５３８  隙間
５４１  ブラケット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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