(57)【要約】【課題】耐光性の優れた、芳香族化ポリエステル合物樹脂からなるレーザ光透過用レンズの製造方法を提供する。【解決手段】芳香族ポリエステル化合物樹脂を基材とするレーザ光透過用レンズの製造方法であって、酸化性ガスおよびケイ素を含有する化合物ガスを用いるプラズマＣＶＤ法により、基材の表面に酸化膜を形成する工程を有する、レーザ光透過用レンズの製造方法である。【選択図】図１
2011227390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ポリエステル化合物樹脂を基材とするレーザ光透過用レンズの製造方法であって、
酸化性ガスおよびケイ素を含有する化合物ガスを用いるプラズマＣＶＤ法により、前記基材の表面に酸化膜を形成する工程を有する、レーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項２】
前記芳香族ポリエステル化合物樹脂は、フルオレン骨格を有する、請求項１に記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項３】
前記フルオレン骨格は、９，９−ビスフェノールフルオレン骨格である、請求項１または２に記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項４】
前記酸化膜は、酸化ケイ素からなる、請求項１から３のいずれかに記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項５】
前記酸化膜上に、反射防止膜を形成する工程を有する、請求項１から４のいずれかに記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項６】
前記酸化膜を、厚さが０．１７μｍ以上となるように形成する、請求項１から５のいずれかに記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項７】
前記基材は、第１曲率半径を有する第１主面と、前記第１主面に対向し、かつ前記第１曲率半径よりも大きい第２曲率半径を有する第２主面とを有しており、
前記酸化膜を、前記第２主面に形成する請求項１から６のいずれかに記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【請求項８】
前記酸化膜を、前記第１主面よりも前記第２主面に厚く形成する、請求項７に記載のレーザ光透過用レンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光透過用レンズの製造方法に関し、特に、耐光性の優れた、芳香族ポリエステル化合物樹脂からなるレーザ光透過用レンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンパクトディスク（ＣＤ）、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）、光磁器ディスク（ＭＯ）などの光情報記録媒体に対して、情報の読み取りや記録を行うプレーヤ、レコーダ、ドライブといった各種情報機器には、光ピックアップ装置が備えられている。光ピックアップ装置は、光源から発した所定波長のレーザ光を光情報記録媒体に照射し、反射した光を受光素子で受光する光学素子ユニットを備えており、光学素子ユニットはこれらの光を集光させるための光学素子の一つとして、レーザ光透過用レンズを有している。
【０００３】
レーザ光透過用レンズとしては、ガラスを基材とするレンズ（以下、「ガラスレンズ」という。）とプラスチックなどの樹脂を基材とするレンズ（以下、「樹脂レンズ」という。）とがある。樹脂レンズは、ガラスレンズに比べて、軽量、安価であり、大量生産性に優れているといった長所を有することから、広く用いられている。
【０００４】
しかし、一方で、樹脂レンズは、ガラスレンズに比べて、耐光性が低いという欠点を有している。特に、近年、青色、すなわち、４００ｎｍ近傍といった短波長の青色レーザ光を光源としたピックアップ装置の実用化が進んでおり、このような高エネルギーの光を光源とするピックアップ装置では、樹脂レンズの光による劣化がより大きな問題となる。このため、樹脂レンズの耐光性を向上させる必要性は高まっており、これに対応して、樹脂レンズの耐光性を向上させるための様々な技術が開発されている。
【０００５】
たとえば、特許文献１には、脂環式化合物であるノルボルネン系樹脂に酸化防止剤を加えてレンズを成形する技術が開示されている。また、特許文献２には、脂環式化合物からなる樹脂（以下、「脂環式化合物樹脂」という。）の基材の上に、酸化防止剤を含有する膜と反射防止膜とを積層する技術が開示されている。なお、脂環式化合物とは、炭素原子が環状に繋がっている環式化合物のうち、芳香族化合物を除いた化合物をいう。これらの技術によって、脂環式化合物樹脂からなる樹脂レンズの耐光性を向上させることができる。
【０００６】
ところで、上述の脂環式化合物樹脂は、屈折率が低い傾向にあるため、レンズの基材に脂環式化合物樹脂を用いる場合、光を効率的に集光させるためにレンズ表面の曲率半径を小さくする必要があり、結果的に、基材の成形や加工が困難となってしまう傾向にある。このため、レンズの加工性という観点からは、高屈折率の樹脂を用いることが望ましい。特に、近年の各種装置の小型化に伴ってレンズも小型化する必要があり、レンズの高屈折率化は重要となっている。
【０００７】
屈折率の高い樹脂としては、芳香族化合物を含む樹脂（以下、「芳香族化合物樹脂」という。）が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−８０８６４号公報
【特許文献２】特開２００５−２５９３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、芳香族化合物樹脂は、脂環式化合物樹脂と比較して、４００ｎｍ近傍の波長の光によって酸化されやすい。たとえば、芳香族化合物樹脂からなるレンズに青色レーザ光を照射した場合に、芳香族化合物樹脂が酸化され、この酸化によってレンズが劣化して、結果的にレーザ光の透過率の低下を引き起こすという問題がある。
【００１０】
また、発明者は、芳香族化合物樹脂に対して、引用文献１に開示される酸化防止剤を加えても、あるいは引用文献２に開示される酸化防止剤を含有する膜を基材上に形成しても、酸化によるレンズの劣化を防ぐことはできないことを確認している。この理由は明確ではないが、芳香族化合物樹脂の特性と脂環式化合物樹脂の特性とが大きく異なるためと考えられる。このように、芳香族化合物樹脂からなるレンズの耐光性の向上は未だ大きな課題となっている。
【００１１】
そこで、上記事情に鑑み、本発明の目的は、耐光性の優れた、芳香族化合物樹脂からなるレーザ光透過用レンズの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、芳香族化合物樹脂が光によって酸化されるのを防ぐために、酸化を引き起こす活性種となる因子を安定化させることを着想した。そして、さらに鋭意検討を重ねたところ、芳香族化合物樹脂からなる基材に対して、酸化性ガスおよび化合物ガスを用いるプラズマＣＶＤ法を用いることによって、レンズの光による劣化を防ぎ、耐光性を向上させることができることを知見した。
【００１３】
すなわち、本発明は、芳香族ポリエステル化合物樹脂を基材とするレーザ光透過用レンズの製造方法であって、酸化性ガスおよびケイ素を含有する化合物ガスを用いるプラズマＣＶＤ法により、基材の表面に酸化膜を形成する工程を有する、レーザ光透過用レンズの製造方法である。
【００１４】
上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、芳香族ポリエステル化合物樹脂は、フルオレン骨格を有することが好ましい。
【００１５】
また、上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、フルオレン骨格は、９，９−ビスフェノールフルオレン骨格であることが好ましい。
【００１６】
また、上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、酸化膜は、酸化ケイ素からなることが好ましい。
【００１７】
また、上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、酸化膜上に、反射防止膜を形成する工程を有することが好ましい。
【００１８】
また、上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、酸化膜を、厚さが０．１７μｍ以上となるように形成することが好ましい。
【００１９】
また、上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、基材は、第１曲率半径を有する第１主面と、第１主面に対向し、かつ第１曲率半径よりも大きい第２曲率半径を有する第２主面とを有しており、酸化膜を、第２主面に形成することが好ましい。
【００２０】
また、上記レーザ光透過用レンズの製造方法において、酸化膜を、前記第１主面よりも前記第２主面に厚く形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、耐光性の優れた、芳香族ポリエステル化合物樹脂からなるレーザ光透過用レンズの製造方法を提供することができる。なお、本明細書において、芳香族化合物樹脂とは、樹脂を構成する繰り返し単位に、少なくとも１つのベンゼン環を含有する樹脂をいい、芳香族ポリエステル化合物樹脂とは、芳香族化合物樹脂のうち、エステル結合によって繰り返し単位が結合されている樹脂をいう。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係るレーザ光透過用レンズの基材の好ましい一例を模式的に示す側面図である。
【図２】図１の領域Ｘの断面を模式的に示す拡大図である。
【図３】図１のレーザ光透過用レンズの断面図と、レーザ光の光軸を概略的に示す図である。
【図４】プラズマＣＶＤを施した各種の樹脂レンズにおける透過率の経時的変化を示すグラフである。
【図５】異なる方法によって形成された酸化膜を有する各樹脂レンズのレーザ光の透過率の経時的変化を示すグラフである。
【図６】異なる厚さの酸化膜を有する各樹脂レンズにおける透過率の経時的変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。なお、図面における長さ、大きさ、幅などの寸法関係は図面の明瞭化と簡略化のために適宜変更されており、実際の寸法を表していない。
【００２４】
＜レーザ光透過用レンズの製造方法＞
図１は、本発明に係るレーザ光透過用レンズの構造の好ましい一例を模式的に示す側面図である。図１において、レーザ光透過用レンズ１００を構成する基材１０は、領域Ａに位置する凸部と、領域Ｂに位置する凸部と、領域Ａおよび領域Ｂの間の円柱部から構成される。各部分は別部材で構成されて一体化されてもよく、同一材料から一体形成されたものであってもよい。以下、領域Ａの凸部の曲面を第１主面１１とし、領域Ｂの凸部の曲面を第２主面１２とする。
【００２５】
第１主面１１は、第１曲率半径を有し、第２主面１２は、第１曲率半径よりも大きい第２曲率半径を有している。なお、図１において、領域Ａの凸部および領域Ｂの凸部は球面となっているが、領域Ａの凸部および領域Ｂの凸部が非球面である場合、第１主面１１および第２主面１２はそれぞれ複数の曲率半径を有することになる。この場合、第１曲率半径は、第１主面１１の中心を透過する光軸を中心とした曲率半径であり、第２曲率半径は、第２主面１２の中心を透過する光軸と中心とした曲率半径である。
【００２６】
本発明において、基材１０は、芳香族ポリエステル化合物樹脂からなる。すなわち、エステル結合によって結合される樹脂の繰り返し単位中に、少なくとも１つの芳香族骨格が存在する。芳香族骨格は特にフルオレン骨格であることが好ましく、該フルオレン骨格には、水素原子のかわりに置換基が置換されていてもよい。特に、基材１０を構成する樹脂は、下記化１の化学構造に示す、９，９−ビスフェノールフルオレン骨格を有する樹脂であることが好ましい。
【００２７】
【化１】
2011227390.tif 000003
【００２８】
化１中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっていてもよい。化１中、Ｒ２ａおよびＲ２ｂはアルキレン基を示し、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは同一または異なっていてもよい。また、２つのフェノールには、他の置換基、たとえば、アルキル基、アリール基、アラルキル基が置換されていてもよい。また、上記フルオレン骨格を有する樹脂は、ポリエステル樹脂である。なお、このような樹脂からなる基材１０は、公知の技術、たとえば、射出成形によって成形することができる。
【００２９】
≪プラズマＣＶＤ法≫
本発明において、酸化性ガスおよび化合物ガスを用いるプラズマＣＶＤ（ＰｌａｓｍａＥｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｉｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を利用して、基材１０の表面にプラズマ処理を行うことにより、基材１０の表面に酸化膜を形成する。この処理により、図２に示すように、酸化膜２１が基材１０の第２主面上に形成される。なお、図２は図１に示す領域Ｘの断面を模式的に示す拡大図である。プラズマ処理に際して、基材１０を収容するプラズマ処理室は、グロー放電が発生する真空度に保持される。
【００３０】
酸化性ガスとしては、酸素、二酸化炭素、窒素酸化物（ＮＯｘ）などの酸素を含有するガスが使用される。ケイ素を含有する化合物ガス（以下、「ケイ素含有化合物ガス」という。）としては、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメチルシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等の有機シラン化合物、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサンなどの有機シロキサン化合物などが使用される。
【００３１】
上述した酸化性ガスおよび化合物ガスのそれぞれは、単独でもよく、２種以上の組合せて用いてもよい。とくに、酸化性ガスとして酸素を用い、化合物ガスとして、ＴＥＯＳを用いることが好適である。化合物ガスとして、ＳｉＨ4を用いることも可能であるが、毒性があるなどの理由により取り扱いに注意が必要であるのに対し、ＴＥＯＳはＳｉＨ4に比べてステップカバレッジが良好であるためである。酸化性ガスおよびケイ素含有化合物ガスを用いて、基材１０の表面にプラズマＣＶＤ処理を行うことにより、基材１０の表面には、酸化ケイ素からなる酸化膜２１が形成される。なお、キャリアガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオンなどの不活性ガスを用いることができる。
【００３２】
上記プラズマ処理によって、基材１０の第２主面１２の表面が酸化されるとともに、第２主面１２上に酸化膜２１が形成される。酸化膜２１は、薄すぎるとレンズの耐光性を向上させる機能が低いため、ある程度の厚さがあるほうが好ましく、０．１７μｍ以上であれば十分な効果を奏し、さらに０．５μｍ以上であれば、より顕著な効果を奏することを知見している。なお、基材１０の第２主面１２上に特異的に酸化膜２１を形成するには、たとえば、プラズマ処理室内において、第２主面１２を上向きにして基材１０を載置し、プラズマ処理室内の上方、すなわち、基材１０の上方から酸化性ガスおよびケイ素含有化合物ガスをプラズマ処理室内に導入すればよい。
【００３３】
また、第１主面１１上に、酸化膜２１と同様の酸化膜を形成してもよい。この場合、第１主面１１上に形成する酸化膜よりも第２主面１２上形成する酸化膜２１を厚くするのが適当である。これは、レンズの集光作用によって透過するレーザ光の密度が第１主面１１よりも第２主面１２のほうが大きいためである。
【００３４】
≪反射防止膜≫
また、図２において、酸化膜２１上に反射防止膜２２が図示されているが、このように、酸化膜２１上に反射防止膜２２を形成してもよい。反射防止膜２２を酸化膜２１上に形成することによって、レーザ光透過用レンズ１００のレーザ光の反射率を低下させるだけでなく、酸化膜２１の変質を抑制することができる。反射防止膜２２は、公知の技術、たとえば真空蒸着、イオンアシスト蒸着、イオンプレーティング蒸着、電子ビーム蒸着といった蒸着法、またはスパッタ法を用いて形成される。
【００３５】
図２では、反射防止膜の一例として、第１層２２ａおよび第２層２２ｂからなる２層構造の反射防止膜２２を示している。一般的に、積層構造の反射防止膜は、樹脂基材側から、低屈折率膜、高屈折率膜の順序で積層された構成を有する。これに対し、図２において、基材１０の表面に低屈折率の酸化膜２１が形成されているため、反射防止膜２２は、第１層２２ａとして高屈折率膜が形成され、第２層２２ｂとして低屈折率膜が形成された構成となる。
【００３６】
ここで、低屈折率膜および高屈折率膜とは、光源から出射されるレーザ光の波長に対する屈折率の大小によって区別される。たとえば、光源が青色光源である場合、波長４００近傍の光に対する屈折率が１．８以上の膜が高屈折率膜となり、１．８未満の膜が低屈折率膜となる。低屈折率膜としては、酸化シリコン、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウムの何れか１つまたはこれらの混合物があげられる。高屈折率膜としては、酸化ニオビウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタンおよび酸化アルミニウムの何れか１つまたはこれらの混合物があげられる。なお、図３には、２層構造の反射防止膜２２が図示されるが、反射防止膜２２は、１層構造でもよく、３層以上の積層構造であってもよい。
【００３７】
≪レーザ光透過用レンズの機能≫
図３は、図１のレーザ光透過用レンズの断面と、該レーザ光透過用レンズを透過するレーザ光の光線を概略的に示す図である。図３に示す点線は、図中白抜きの矢印方向に出射されたレーザ光が、レーザ光透過用レンズ１００を透過する際の光線を概略的に示している。対象物３１は光情報記録媒体であり、基材１０の第２主面１２に対向するように配置される。
【００３８】
図３に示すように、光源から、レーザ光透過用レンズ１００を介して、対象物３１に向けてレーザ光が出射される。出射されたレーザ光は、基材１０の第１主面１１側から基材１０内に入射され、基材１０内を透過して第２主面側に到達するまでの間に、第２主面１２に向けて集光される。そして、第２主面１２から出射したレーザ光は、さらに集光されて対象物３１の測定点Ｐに入射される。このように、第２主面１２には、集光されたレーザ光が透過することになるため、高い耐光性を有する必要がある。
【００３９】
そして、上記詳述したレーザ光透過用レンズ１００の製造方法によれば、プラズマＣＶＤ法によって、芳香族ポリエステル化合物樹脂からなる基材１０の表面に酸化膜２１が形成されるが、このレーザ光透過用レンズ１００は後述する実験に示されるように、高い耐光性を有している。したがって、本発明に係るレーザ光透過用レンズの製造方法によれば、耐光性の高いレーザ光透過用レンズを製造することができる。
【００４０】
以下、各実験によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４１】
＜実験１＞
基材として、９，９−ビスフェノールフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂（商品名「ＯＫＰ４ＮＸ」、大阪瓦斯株式会社製）からなるレンズを用いた。「ＯＫＰ４ＮＸ」のより詳細な化学式を下記化２に示す。化２中、環Ａは脂肪族炭化水素環を示し、Ｒ７は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を示し、Ｒ３ａおよびＲ３ｂはアルキレン基を示し、Ｒ４ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を示す。また、ｍおよびｎはそれぞれ０または１以上の整数を示す。なお、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは同一または異なっていてもよく、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａおよびＲ４ｂも同一または異なっていてもよい。
【００４２】
【化２】
2011227390.tif 000004
【００４３】
レンズの形状は、図１に示すような両面凸形状を有しており、２つの対向する凸部は球面であって、図１中の領域Ａに対応する位置の凸部における第１主面の曲率半径は０．９３ｍｍであり、領域Ｂに対応する位置の凸部における第２主面の曲率半径は３．５ｍｍであった。また、図４中左右方向における、最も厚い部分に対応する当該レンズの幅は１．８５ｍｍであった。レンズの特性は以下の通りであった。
屈折率：１．６１２
ガラス転位温度（Ｔｇ）：１２４℃
熱変形温度：１０７℃
線膨張係数：６．９×１０−5／℃
上記レンズの第２主面上に、プラズマＣＶＤ法によってＳｉＯ2からなる酸化膜を形成した。酸化膜の形成には、プラズマＣＶＤ装置（アルバック社製、型式：ＣＣ−２００）を用いた。形成されたＳｉＯ2の厚さは０．１７μｍであり、その屈折率は、１．４６であった。
【００４４】
次に、プラズマＣＶＤ法によってＳｉＯ2からなる酸化膜が形成された第２主面上に、電子ビーム蒸着によって反射防止膜を形成した。これは、レンズの透過率を測定し易くするためである。反射防止膜として形成されたＺｒＯ2の屈折率は２．０５であった。
【００４５】
以上の操作により、基材であるレンズの第２主面上に、プラズマＣＶＤ法によって形成されたＳｉＯ2からなる酸化膜と、電子ビーム蒸着法によって形成されたＺｒＯ2からなる反射防止膜が形成されたレーザ光透過用レンズを作製した。
【００４６】
＜実験２＞
実験１に用いたレンズと同様のレンズに対して、プラズマＣＶＤ処理を行うことなく、ＺｒＯ2からなる反射防止膜を形成した以外は、実験１と同様の方法によってレーザ光透過用レンズを作製した。
【００４７】
＜実験３＞
基材として、脂環式化合物からなるポリカーボネート樹脂（商品名「ＳＰ−１５１６」、帝人化成株式会社製）からなるレンズを用いた以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。当該レンズの形状は実験１に用いたレンズと同じであり、その特性は以下の通りであった。
屈折率：１．６１４２
ガラス転位温度（Ｔｇ）：１５１℃
＜実験４＞
実験３に用いたレンズと同様のレンズに対して、プラズマＣＶＤ処理を行うことなく、ＺｒＯ2からなる反射防止膜を形成した以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。なお、形成された反射防止膜の特性も、実験１の反射防止膜と同様であった。
【００４８】
＜実験５＞
基材として、脂環式化合物からなるポリカーボネート樹脂（商品名「ＥＰ−４０００」、三菱ガス化学株式会社製）からなるレンズを用いた以外は、実施例１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。当該レンズの形状は実験１に用いたレンズと同じであり、その特性は以下の通りであった。
屈折率：１．６０３
ガラス転位温度（Ｔｇ）：１４５℃
＜実験６＞
実験５に用いたレンズと同様のレンズに対して、プラズマＣＶＤ処理を行うことなく、ＺｒＯ2からなる反射防止膜を形成した以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。
【００４９】
＜透過率測定＞
実験１〜６において作製された各レーザ光透過用レンズに対して、第１主面側から強度２０ｍＷの４０５ｎｍの波長のレーザ光を照射し、所定照射時間毎の各レーザ光透過用レンズの第２主面側からの透過光の強度を測定した。そして、光源から出射されたレーザ光の強度に対する透過光の強度の割合を計算し、各照射時間毎の透過率（％）を算出した。この結果を図４に示す。なお、照射開始時の透過率を１００％とした。
【００５０】
図４において、横軸は各レーザ光透過用レンズに対するレーザ光の照射時間（ｈ）を示し、縦軸は各レーザ光透過用レンズの透過率を示す。各プロットは、各レーザ光透過用レンズの所定照射時間経過後の透過率を示し、それぞれ経時変化が理解し易いように、実線、鎖線、一点鎖線で示す近似曲線が記載されている。各プロットはそれぞれ以下の実験結果に対応している。
黒丸：実験１
白丸：実験２
黒三角：実験３
白三角：実験４
黒四角：実験５
白四角：実験６
図４を参照すると、フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂をレンズの基材とした場合（実験１および２）、プラズマＣＶＤ法を行うことによって、レーザ光照射時間の経過に伴う透過率の低下を抑制することができた。これに対し、ポリカーボネート樹脂をレンズの基材とした場合（実験３〜６）、プラズマＣＶＤ法を行っても、透過率の低下を抑制できないことがわかった。
【００５１】
この理由は明確ではないが、ポリエステル結合に起因するものであると考えられる。また、基材１０の表面には、樹脂そのものの他に不純物が存在するが、この不純物とポリエステル樹脂との相互作用も関係しているものと考えられる。また、ＴＥＯＳを用いずにＯ２ガスのみでプラズマ処理を行ったが、この場合には耐光性の向上が見られなかった。
【００５２】
以上の実験１〜６により、フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂からなるレンズ上に酸化膜を形成することによって、レーザ光透過用レンズの耐光性が向上することが分かった。そこで、次の実験７、８において、酸化膜を形成する方法を変えて、レーザ光透過用レンズを作製し、比較検討を行った。
【００５３】
＜実験７＞
実験１に用いたレンズと同様のレンズを用い、当該レンズの第２主面に対して、プラズマＣＶＤ法によってＳｉＯ2からなる酸化膜を形成するかわりに、スパッタ法によってＳｉＯ2からなる酸化膜を形成した以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。形成されたＳｉＯ2の厚さは０．１７μｍであり、その屈折率は１．４６であった。
【００５４】
＜実験８＞
実験１に用いたレンズと同様のレンズを用い、当該レンズの第２主面に対して、プラズマＣＶＤ法によってＳｉＯ2からなる酸化膜を形成するかわりに、電子ビーム蒸着法によってＳｉＯ2からなる酸化膜を形成した以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。形成されたＳｉＯ2の厚さは０．１７μｍであり、その屈折率は１．４６であった。
【００５５】
実験７、８において作製された各レーザ光透過用レンズに対して、実験１〜６と同様の方法および同様の算出方法で、４０５ｎｍの波長のレーザ光を照射し、照射時間毎の各レーザ光透過用レンズの透過率を算出した。この結果を図５に示す。
【００５６】
図５において、横軸は各レーザ光透過用レンズに対するレーザ光の照射時間（ｈ）を示し、縦軸は各レーザ光透過用レンズの透過率を示す。各プロットは、各レーザ光透過用レンズの所定照射時間経過後の透過率を示し、それぞれ経時変化が理解し易いように、実線で示す近似曲線が記載されている。各プロットはそれぞれ以下の実験結果に対応している。なお、比較を容易とするために、実験１および実験２の結果も図５に示す。
黒丸：実験１
白丸：実験２
黒四角：実験７
黒三角：実験８
図５を参照すると、フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂をレンズの基材として酸化膜を形成した場合に、スパッタ法では、顕著な耐光性の向上は見られず、電子ビーム蒸着法では、酸化膜がない場合（実験２）よりも耐光性が低下する結果が得られた。
【００５７】
以上の実験１、２、７、８より、プラズマＣＶＤ法によってフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂に酸化膜を形成した場合に、最も耐光性が向上することが分かった。そこで、次の実験９、１０において、プラズマＣＶＤ法によって形成する酸化膜の厚さを変化させて、レーザ光透過用レンズを作製し、比較検討を行った。
【００５８】
＜実験９＞
実験１に用いたレンズと同様のレンズを用い、ＳｉＯ2からなる酸化膜の厚さを０．０５μｍにした以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。
【００５９】
＜実験１０＞
実験１に用いたレンズと同様のレンズを用い、ＳｉＯ2からなる酸化膜の厚さを０．５μｍにした以外は、実験１と同様の方法によって、レーザ光透過用レンズを作製した。
【００６０】
実験９、１０において作製された各レーザ光透過用レンズに対して、実験１〜６と同様の方法および同様の算出方法で、４０５ｎｍの波長のレーザ光を照射し、照射時間毎の各レーザ光透過用レンズの透過率を算出した。この結果を図６に示す。
【００６１】
図６において、横軸は各レーザ光透過用レンズに対するレーザ光の照射時間（ｈ）を示し、縦軸は各レーザ光透過用レンズの透過率を示す。各プロットは、各レーザ光透過用レンズの所定照射時間経過後の透過率を示し、それぞれ経時変化が理解し易いように、実線で示す近似曲線が記載されている。各プロットはそれぞれ以下の実験結果に対応している。なお、比較を容易とするために、実験１および実験２の結果も図６に示す。
黒丸：実験１
白丸：実験２
白丸：実験９
黒丸：実験１０
図６を参照すると、酸化膜の厚さが厚くなるほど、レーザ光透過用レンズの耐光性が向上することがわかった。また、図６より、酸化膜の厚さは０．１７μｍ以上であることが好ましく、さらには０．５μｍ以上であることが好ましいことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、芳香族ポリエステル化合物樹脂からなるレンズの耐光性を向上させるために広く利用することができる。
【符号の説明】
【００６３】
１０  基材、１１  第１主面、１２  第２主面、２１  酸化膜、２２  反射防止膜、１００  レーザ光透過用レンズ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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