(57)【要約】      （修正有）【課題】比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる薄膜太陽電池パネルの製造方法およびその装置を提供する。【解決手段】撮像装置により分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の透明基板２内における気泡Ｂの位置を検出し、分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３上に気泡Ｂが存在する場合、気泡Ｂを避けながら透明基板２の裏面側からレーザーを照射して透明基板２の表面側に成膜された薄膜に分離溝４、６、８を形成する。【選択図】図５
2011187942.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造方法であって、
撮像装置により前記透明基板内における気泡の位置を検出する気泡検出工程と、
前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成する加工工程と、
を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造方法。
【請求項２】
前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする請求項１に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
【請求項３】
前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
【請求項４】
前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、
前記加工工程は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が６０°以下となるように、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
【請求項５】
前記薄膜は、前記透明基板の表面上に形成され、第１の分離溝を有する第１の薄膜と、前記透明基板と反対側の前記第１の薄膜上に形成され、第２の分離溝を有する第２の薄膜と、を備え、
前記加工工程は、前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記第１の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記第１の薄膜に前記第１の分離溝を形成する第１の加工工程と、前記第２の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けるとともに、前記第１の分離溝との間隔が狭くなるように、前記第２の薄膜に前記第２の分離溝を形成する第２の加工工程と、を有することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
【請求項６】
透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造装置であって、
前記分離溝の形成予定部位の前記透明基板内における気泡の位置を検出する撮像装置と、
前記薄膜に前記分離溝を形成するように前記透明基板の裏面側から前記薄膜にレーザーを照射するレーザー照射装置と、
前記撮像装置で検出された前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記レーザーの照射部位を制御する制御部と、を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする請求項６に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする請求項６又は７に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
【請求項９】
前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、
前記制御部は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が６０°以下となるように、前記照射部位を制御することを特徴とする請求項６〜８の何れか１項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記薄膜に形成されている前記分離溝との干渉を防止すると共に前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して、前記各分離溝間の間隔が狭くなるように前記薄膜に複数の前記分離溝を形成することを特徴とする請求項６〜９の何れか１項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜太陽電池パネルの製造方法およびその装置に関し、より詳細には、透明基板の表面に成膜された電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜に、レーザーを照射して分離溝を加工し、電池セルを形成する薄膜太陽電池パネルの製造方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜太陽電池パネルは、透明基板の表面に成膜された薄膜に、レーザーを照射して分離溝を形成し、薄膜を複数の電池セルに分割して製作される。即ち、図１４に示すように、薄膜太陽電池パネル１は、透明なガラス基板２上に形成された第１電極膜（以後、第１の薄膜とも称する）３にレーザーによって分離溝（以後、第１の分離溝とも称する）４を形成した後、第１電極膜３上に半導体膜（以後、第２の薄膜とも称する）５を成膜して分離溝（以後、第２の分離溝とも称する）６をレーザーによって形成し、更に半導体膜５上に第２電極膜（以後、第３の薄膜とも称する）７を成膜した後、レーザーによって分離溝（以後、第３の分離溝とも称する）８を半導体膜５と第２電極膜７に形成することにより製造され、一点鎖線で示したような電流回路を構成する。
【０００３】
レーザースクライバーとも言われる薄膜に分離溝を形成する従来の装置としては、基板をＸＹ方向に搬送するＸＹテーブル、空冷方式によって冷却されるレーザー発生装置、およびレーザーを基板に導く光学系部材を、空調室内に配置した太陽電池製造装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。また、ガラス基板の表面に防眩効果を付与して、ぎらつきのない外観の優れた薄膜太陽電池パネルを製作可能とするため、表面に凹凸形状が形成されたガラス基板の裏面に薄膜が成膜された薄膜太陽電池パネルに対して、凹凸形状に影響されないようにレーザーを照射して、分離溝を精度よく形成するようにした太陽電池モジュールおよびその製造方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−５４２５５号公報
【特許文献２】特開平１１―７４５５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般的に、透明なガラス基板の表面に成膜された薄膜に分離溝を形成するレーザーは、ガラス基板の裏面側（薄膜形成面の反対側面）から照射される。換言すれば、レーザーは、透明なガラス基板を通過して薄膜に分離溝を加工する。近年、エネルギ問題や低炭素社会実現のため、薄膜太陽電池パネルの普及が強く要望されており、製造コストの低減や、大量生産を可能とするため、比較的安価なガラス基板を使用して、薄膜太陽電池パネルを製造可能とすることが望まれている。
【０００６】
しかしながら、比較的安価なガラス基板では内部に気泡を含むことが多く、図１５に示すように、薄膜太陽電池パネル１の薄膜に３本の分離溝４、６、８を形成するとき、ガラス基板２に気泡Ｂが含まれていると、気泡Ｂでのレーザーの乱反射によってレーザー光の散乱が生じる。このため、レーザー加工すべき部分の周辺エリアＥに余分なレーザーエネルギが照射されて、各薄膜９が変質したり、不必要な加工が生じて薄膜９にダメージを与えたり、加工部分にレーザーエネルギが集中せず、必要な加工ができずにスクライブ不良となる等の問題が生じる虞があった。この結果、不良セルが発生して薄膜太陽電池パネル１の回路が形成されず、製品性能を低下させる問題があった。
【０００７】
特許文献１に記載の装置は、基板に対してレーザーを精度よく照射することにより、分離溝の加工精度向上を図ったものであり、ガラス基板に含まれる気泡の影響に関しては考慮されていない。また、特許文献２に記載の製造方法は、表面に凹凸形状が形成されて防眩効果を有するガラス基板に平滑処理を施した後、レーザーを照射して、表面の凹凸形状がレーザーに及ぼす影響を抑制するようにしたものであり、ガラス基板の内部に含まれる気泡に対して同様に考慮されていない。
【０００８】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる薄膜太陽電池パネルの製造方法およびその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造方法であって、
撮像装置により前記透明基板内における気泡の位置を検出する気泡検出工程と、
前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成する加工工程と、
を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造方法。
（２）  前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする（１）に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
（３）  前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする（１）又は（２）に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
（４）  前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、
前記加工工程は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が６０°以下となるように、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする（１）〜（３）の何れか１つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
（５）  前記薄膜は、前記透明基板の表面上に形成され、第１の分離溝を有する第１の薄膜と、前記透明基板と反対側の前記第１の薄膜上に形成され、第２の分離溝を有する第２の薄膜と、を備え、
前記加工工程は、前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記第１の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記第１の薄膜に前記第１の分離溝を形成する第１の加工工程と、前記第２の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けるとともに、前記第１の分離溝との間隔が狭くなるように、前記第２の薄膜に前記第２の分離溝を形成する第２の加工工程と、を有することを特徴とする（１）〜（４）の何れか１つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。
（６）  透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造装置であって、
前記分離溝の形成予定部位の前記透明基板内における気泡の位置を検出する撮像装置と、
前記薄膜に前記分離溝を形成するように前記透明基板の裏面側から前記薄膜にレーザーを照射するレーザー照射装置と、
前記撮像装置で検出された前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記レーザーの照射部位を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造装置。
（７）  前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする（４）に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
（８）  前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする（６）又は（７）に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
（９）  前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、
前記制御部は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が６０°以下となるように、前記照射部位を制御することを特徴とする（６）〜（８）の何れか１つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
（１０）  前記制御部は、前記薄膜に形成されている前記分離溝との干渉を防止すると共に前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して、前記各分離溝間の間隔が狭くなるように前記薄膜に複数の前記分離溝を形成することを特徴とする（６）〜（９）の何れか１つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の薄膜太陽電池パネルの製造方法によれば、透明基板の裏面側からレーザーを照射して、表面側に成膜された薄膜に分離溝を形成する際、撮像装置により透明基板内における気泡の位置を検出し、検出された気泡の位置に基づいて、分離溝の形成予定部位上に位置する気泡を避けながらレーザーを照射して薄膜に前記分離溝を形成するようにしたので、分離溝の加工時に、気泡によるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による分離溝の加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜に与えるダメージをなくし、不良セルの発生を防止して製品の性能を向上させることができる。従って、比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる。
【００１１】
また、本発明の薄膜太陽電池パネルの製造装置によれば、分離溝の形成予定部位の透明基板内における気泡の位置を検出する撮像装置と、薄膜に分離溝を形成するように透明基板の裏面側から薄膜にレーザーを照射するレーザー照射装置と、撮像装置で検出された気泡の位置に基づいて、分離溝の形成予定部位上に位置する気泡を避けながらレーザーを照射するようにレーザーの照射部位を制御する制御部と、を備えるので、レーザーが気泡に照射されることによるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による分離溝の加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜へのダメージをなくすことができ、不良セルの発生を防止して製品の性能を向上させることができる。従って、比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の平面図、（ｂ）は側面図である。
【図２】図１に示す製造装置のレーザー照射装置の概略斜視図である。
【図３】分離溝の加工手順を示すフローチャートである。
【図４】（ａ）は第１電極膜に第１の分離溝を形成するときのパネルに対するレーザーの相対移動軌跡を示す薄膜太陽電池パネルの平面図、（ｂ）は半導体膜に第２の分離溝を形成するときのパネルに対するレーザーの相対移動軌跡を示す薄膜太陽電池パネルの平面図である。
【図５】ガラス基板内に含まれる気泡を回避して分離溝が形成される状態を説明するための薄膜太陽電池パネルの平面図であり、（ａ）は第１の分離溝の形成予定部位を示す平面図、（ｂ）は気泡を回避して第１の分離溝が形成される状態を示す平面図、（ｃ）は第１の分離溝及び気泡を回避して第２の分離溝が形成される状態を示す平面図、（ｄ）は第１、第２の分離溝及び気泡を回避して第３の分離溝が形成される状態を示す平面図である。
【図６】ガラス基板内に含まれる気泡を回避して分離溝が形成される状態を説明するための薄膜太陽電池パネルの平面図である。
【図７】第１実施形態の変形例に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の側面図である。
【図８】（ａ）は、本発明の第２実施形態に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の平面図、（ｂ）は側面図である。
【図９】図８に示す製造装置のレーザー照射装置の概略側面図である。
【図１０】図８に示す製造装置の加工部の拡大斜視図である。
【図１１】単一の加工ブロックによって構成された加工液供給機構の側面図である。
【図１２】第２実施形態の変形例に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の側面図である。
【図１３】図１２に示す薄膜太陽電池パネルの製造装置の加工部の拡大図である。
【図１４】薄膜太陽電池パネルの部分断面図である。
【図１５】ガラス基板内の気泡が、レーザー加工に影響を及ぼす状態を示す薄膜太陽電池パネルの平面図であり、（ａ）は第１の分離溝の形成予定部位を示す平面図、（ｂ）は第１の分離溝が形成される状態を示す平面図、（ｃ）は第２の分離溝が形成される状態を示す平面図、（ｄ）は第３の分離溝が形成される状態を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置を図面に基づいて詳細に説明する。なお、図１４に示したように、薄膜太陽電池パネル１には、透明なガラス基板２上に、第１電極膜（透明電極）３、半導体膜（太陽電池膜）５、および第２電極膜（裏面電極）７を有する被加工部としての薄膜９が成膜されており、各膜３，５，７に各分離溝４，６，８を形成する各プロセスに対応して複数台の薄膜太陽電池パネルの製造装置が設けられる。
【００１４】
図１に示すように、薄膜太陽電池パネルの製造装置１０は、搬送装置１１と、レーザー照射装置１２と、撮像装置４５と、制御部４６と、を備える。
【００１５】
搬送装置１１は、薄膜太陽電池パネル１をＸ方向に搬送するためのものであり、浮上ユニット１４と、搬送機構１５とを有する。
浮上ユニット１４は、基台１６上に設けられた複数の排気エアパッド１７を備え、ポンプやソレノイドバルブ（いずれも図示せず）を介して供給されるエアを、排気エアパッド１７から排気してパネル１を浮上させて支持する。パネル１は、薄膜９を下向きに、ガラス基板２を上向きにして支持される。
【００１６】
搬送機構１５は、浮上ユニット１４によって浮上、支持されたパネル１の一端（図に示す実施例では下端部）を吸着パッド（図示せず）などで吸着保持し、例えば、不図示のボールねじ機構によって、ガイドレール１８に沿ってＸ方向に搬送する。また、整列配置された排気エアパッド１７の列間には、それぞれモータ１９によって回転する搬送ローラ２０が配置されている。搬送ローラ２０は、パネル１を前工程の装置から製造装置１０に供給し、加工が終了したパネル１を製造装置１０から搬出して次工程の装置に供給する。
【００１７】
レーザー照射装置１２は、薄膜９にレーザーを照射して、分離溝４，６，８（図１４参照。）を形成するためのものであり、即ち、ガラス基板２に薄膜９として第１電極膜３が成膜されたパネル１の場合には、第１電極膜３に分離溝４を形成し、薄膜９として第１電極膜３と半導体膜５が成膜されたパネル１の場合には、半導体膜５に分離溝６を形成し、薄膜として第１電極膜３、半導体膜５、及び第２電極膜７が成膜されたパネル１の場合には、半導体膜５と第２電極膜７に分離溝８を形成する。第１電極膜３の分離溝４の形成には、波長１０６４ｎｍのレーザーが、また、半導体膜５の分離溝６、及び第２電極膜７の分離溝８の形成には、波長５３２ｎｍのレーザーが、一般的に使用される。
【００１８】
レーザー照射装置１２は、レーザー発生装置２１と、レンズ群２３から構成されてレーザーの焦点を薄膜９上に結ばせる複数（図１に示す実施形態では６個）の光学系ユニット２２と、を備える。図２も参照して、レーザー発生装置２１と各光学系ユニット２２とは、ビームベンダー２６及び各光学系ユニット２２に設けられたビームスプリッタ２７を介してグラスファイバー２４などで接続されている。レーザー発生装置２１から出射されたレーザーは、グラスファイバー２４を介して伝送され、ビームベンダー２６で光学系ユニット２２に向けて屈曲した後、各ビームスプリッタ２７によって分岐されて各光学系ユニット２２に導かれる。各光学系ユニット２２のレンズ群２３は、レーザーを被加工面上に照射する対物レンズ２８と、対物レンズ２８に入射するビーム径を可変するビームエクスパンダ２９と、を含む。
【００１９】
レーザー発生装置２１から照射されるレーザーは、そのレーザー幅Ａが５μｍ以下となるように設定され（図６参照。）、さらにそのビーム断面形状が、丸形でもよいが、分離溝４、６、８の断面形状が直線的に形成される四角形、或いは長方形であるのが望ましい。なお、レーザー照射装置１２は、大型のレーザー発生装置２１から照射されるレーザーを、本実施形態のようにビームスプリッタで分岐してもよいし、小型のレーザー発生装置２１を多数配置するようにしてもよい。また、レーザーの本数は、多いほど分離溝４，６，８形成のタクトタイムが短くなるので生産上有利であるが、製造装置１０のコスト上昇や維持管理費の増大につながる。
【００２０】
複数の光学系ユニット２２は、基台１６の略中央上方にＹ方向に延設されたガイドロッド２５に摺動自在に配設されており、不図示の駆動装置によってＹ方向に互いに独立して移動可能となっている。これにより、各光学系ユニット２２は、パネル１の搬送方向（Ｘ方向）に対して直交する方向（Ｙ方向）に独立して移動可能であり、パネル１の上方からガラス基板２を透過して薄膜９にレーザーを照射する。
【００２１】
撮像装置４５としては、例えば、カメラ、Ｘ線、ＣＴ装置、ＭＲＩ、超音波などが用いられる。また、撮像装置４５は、ガラス基板２が上向き（薄膜９が下向き）に支持されるパネル１を、ガラス基板２側（上方）から撮像して、ガラス基板２に含まれる気泡Ｂの位置を検出するためのものであり、ガイドロッド２５に固定されている。撮像装置４５は、レーザー照射装置１２の光学系ユニット２２よりパネル１の搬送方向上流側に配置されている。これにより、撮像装置４５は、薄膜９に分離溝４，６，８を形成するのに先立ってガラス基板２を撮像し、ガラス基板２中に含まれる気泡Ｂの位置を検出すると共に、その位置を記憶する。
【００２２】
撮像装置４５による気泡Ｂの検出には、照明光が必要であるが、このための照明装置（図示せず）もガイドロッド２５に固定されており、上方からガラス基板２を照明する。照明光は、散乱光であっても、平行光であってもよい。気泡Ｂの検出は、撮像装置４５が受光する光量の変化で検出可能であるが、その他の方法であってもよい。なお、パネル１の上面には、光が透過し難い薄膜シリコンが成膜されているため、裏面側（ガラス基板２側）から気泡Ｂを検出することが好ましい。
【００２３】
制御部４６は、撮像装置４５によって検出された気泡Ｂが、レーザーによる分離溝４（６，８）の略直線形状の形成予定部位上に存在するか否かを判断し、形成予定部位上にレーザー幅Ａの半分よりも大きな直径Ｒ（Ｒ＞Ａ／２）の気泡Ｂが存在する場合、気泡Ｂを避け且つ形成予定部位からの離間距離が短くなるように、光学系ユニット２２から照射されるレーザーの照射部位を制御する。また、制御部４６は、形成予定部位と気泡Ｂを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが６０°以下、好ましくは４５°以下、さらに好ましくは３０°以下となるように、レーザーの照射部位を制御する。このように気泡回避角度θを緩やかにすることによって、レーザーが気泡Ｂを避けやすくなるとともに、レーザーのエネルギ消費量を少なくすることが可能となる。
一方、形成予定部位上にレーザー幅Ａの半分以下の直径Ｒ（Ｒ≦Ａ／２）の気泡Ｂ’が存在する場合、制御部４６は、この気泡Ｂ’を避けずに形成予定部位にレーザーが照射されるように、レーザーの照射部位を制御する。
また、半導体膜５の分離溝６、及び第２電極膜７の分離溝８の加工に際しては、レーザー幅Ａの半分よりも大きな直径Ｒ（Ｒ＞Ａ／２）の気泡Ｂを避けると共に、前工程で加工されている分離溝４、６を基準とし、この分離溝４、６から僅かな間隔で離間させて分離溝６、８を形成するようにレーザーの照射部位を制御する。
【００２４】
以下、本実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置の制御手順について図１および図３に基づいて説明する。
【００２５】
図１に示すように、ガラス基板２上に薄膜９が成膜されたパネル１は、ガラス基板２を上向き（薄膜９を下向き）にして搬送ローラ２０に載せられ、薄膜太陽電池パネルの製造装置１０に供給され、ｎ本目の分離溝４（６，８）の形成が開始される（ステップＳ１０１）。ここで、ポンプ（図示せず）から圧縮空気を送って排気エアパッド１７から排気すると、パネル１は空気圧によって浮上し、搬送ローラ２０から離間した状態で支持される。そして、搬送機構１５が、浮上ユニット１４によって浮上、支持されたパネル１の一端を吸着パッドなどで吸着保持し、Ｘ方向に搬送する（ステップＳ１０２）。
【００２６】
パネル１が撮像装置４５の下方まで搬送されると、撮像装置４５は、上方からガラス基板２を撮像し、ガラス基板２中に含まれる気泡Ｂを検出すると共に、気泡Ｂが検出された場合には、その位置を記憶する（ステップＳ１０３）。このとき、パネル１に半導体膜５の分離溝６を形成する場合には、気泡Ｂと同時に、前工程で形成された分離溝４も同時に検出する。また、第２電極膜７の分離溝８を形成する場合には、気泡Ｂと同時に、前工程で形成された分離溝４、６も同時に検出する。なお、気泡Ｂの検出は、上記のようにパネル１を搬送しながら検出（スキャニング）する以外にも、予めパネル１の全面について気泡Ｂの位置を検出するようにしてもよい。
【００２７】
パネル１が更に搬送されて加工予定位置が、光学系ユニット２２の下方まで搬送されたことが不図示のセンサや撮像装置によって検出されると、レーザー発生装置２１が作動を開始する。レーザー発生装置２１から出射したレーザーは、グラスファイバー２４、ビームベンダー２６、及びビームスプリッタ２７を介して６つの光学系ユニット２２に導かれ、透明なガラス基板２側からパネル１に照射されて薄膜９上に焦点を結ぶ。そして、レーザーを照射した状態で、更にパネル１が引き続きＸ方向に搬送されることにより、薄膜９に分離溝４（６，８）が形成される（ステップＳ１０４）。なお、パネル１のＸ方向への搬送は、薄膜９に１本の分離溝４（６，８）の形成が完了するまで、進行し続けるように設定される。したがって、レーザーの照射部位が薄膜９の一箇所に留まり、余分なレーザーエネルギが照射されて薄膜９へのダメージが大きくなることを防止できる。
【００２８】
ステップＳ１０５において、レーザーの照射位置が、撮像装置４５によって予め検出されている気泡Ｂの位置に到達したと判断されると、気泡Ｂの直径Ｒがレーザー幅Ａの半分よりも大きい場合（Ｒ＞Ａ／２）は、この気泡Ｂに対応する光学系ユニット２２は、気泡Ｂを回避するようにレーザーの照射部位を制御して、気泡Ｂ上への分離溝４（６，８）加工を回避する（ステップＳ１０６）。具体的に、レーザーの照射部位が気泡Ｂの位置に到達すると、この気泡Ｂに対応する光学系ユニット２２は、制御部４６からの指令に基づいてガイドロッド２５上でパネル１の搬送方向に直交する方向（Ｙ方向）に移動して気泡Ｂを回避する。
但し、ステップＳ１０５において、レーザー幅Ａの半分以下の直径Ｒ（Ｒ≦Ａ／２）の気泡Ｂが存在する場合は、光学系ユニット２２は、気泡Ｂを避けずに形成予定部位にレーザーが照射されるようにレーザーの照射部位を制御する。
【００２９】
このように気泡Ｂを回避しながら分離溝４（６，８）の形成が行われ、ｎ本目の分離溝４（６，８）の形成が完了すると（ステップＳ１０７）、ステップＳ１０８で予め設定されている所定本数の分離溝４（６，８）が形成されたか否かが判断される。所定の本数に達していないと、搬送機構１５によってパネル１を元の位置まで搬送すると共に、光学系ユニット２２を次のｎ＋１本目の分離溝４（６，８）を形成する位置までＹ方向にステップ移動させる（ステップＳ１０９）。
【００３０】
そして、ステップＳ１０１の前に戻り、再び同様の動作を繰り返し行って薄膜９に分離溝４（６、８）の加工を行い、ステップＳ１０８で所定の本数の分離溝４（６，８）が形成されたと判断されると、薄膜太陽電池パネルの製造装置１０が動作を停止し、これにより薄膜太陽電池パネル１が製作される。
【００３１】
このような手順により制御することにより、薄膜太陽電池パネルの製造装置１０は、図４に示すように作動する。図４（ａ）は第１電極膜に第１の分離溝４を形成するときのパネルに対するレーザーの相対移動軌跡を示す薄膜太陽電池パネルの平面図、図４（ｂ）は半導体膜に第２の分離溝６を形成するときのパネルに対するレーザーの相対移動軌跡を示す薄膜太陽電池パネルの平面図である。
【００３２】
図４（ａ）に示すように、第１電極膜３の分離溝４は、パネル１をＸ方向に往復搬送しながら形成される。図中実線矢印は光学系ユニット２２から照射されてレーザーによって分離溝４が形成される加工ラインであり、破線矢印は次の分離溝４形成のためにパネル１が元の位置に復帰するための戻りラインを示している。分離溝４の加工は、搬送機構１５によって把持されたパネル１の一端１ａを基準として、これに平行に形成される。
【００３３】
また、図４（ｂ）に示すように、半導体膜５の分離溝６は、分離溝４を撮像装置４５で撮像し、この分離溝４を基準として分離溝４との間隔が狭くなるように、略平行に形成される。図中実線矢印はレーザーによる加工ラインであり、破線矢印はパネル１の戻りラインである。第２電極膜７の分離溝８は、撮像装置４５で撮像される分離溝６を基準として同様に形成される。
【００３４】
次に、図５及び図６を参照して、気泡を回避して分離溝が形成される過程について説明する。図５はガラス基板内に含まれる気泡を回避して分離溝が形成される状態を説明するための薄膜太陽電池パネルの平面図であり、（ａ）は第１の分離溝の形成予定部位を示す平面図、（ｂ）は気泡を回避して第１の分離溝が形成される状態を示す平面図、（ｃ）は第１の分離溝及び気泡を回避して第２の分離溝が形成される状態を示す平面図、（ｄ）は第１、第２の分離溝及び気泡を回避して第３の分離溝が形成される状態を示す平面図である。
【００３５】
図５（ａ）及び図６に示すように、第１の分離溝４の略直線形状の形成予定部位Ｌ１上のガラス基板２に、レーザー幅Ａの半分よりも大きな直径Ｒ（Ｒ＞Ａ／２）の気泡Ｂがあると、制御部４６は、光学系ユニット２２をＹ方向に移動させることにより（図１参照）、気泡Ｂへのレーザー照射を回避すると共に、分離溝４の形成予定部位Ｌ１からの離間距離が短くなるようにレーザーの照射部位を制御する。具体的には、分離溝４の形成予定部位Ｌ１に対して、気泡Ｂがオフセットしている側と反対側をレーザーが通過するように照射部位を制御する。また、制御部４６は、形成予定部位Ｌ１と気泡Ｂを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが６０°以下、好ましくは４５°以下、さらに好ましくは３０°以下となるように、レーザーの照射部位を制御する。これにより、第１の分離溝４は、図５（ｂ）及び図６に示すように、気泡Ｂの位置で略Ｖ字形に気泡Ｂを避けて第１電極膜３に形成される。
一方、形成予定部位Ｌ１上のガラス基板２にレーザー幅Ａの半分以下の直径Ｒ（Ｒ≦Ａ／２）の気泡Ｂ’が存在する場合、制御部４６は、気泡Ｂ’を避けずに形成予定部位Ｌ１にレーザーが照射されるように、レーザーの照射部位を制御する。気泡Ｂ’のように、比較的小さい気泡である場合は、レーザーの乱反射によって生じるレーザー光の散乱による影響が低いからである。
【００３６】
第２の分離溝６は、図５（ｃ）に示すように、撮像装置４５で撮像された第１の分離溝４を基準として、分離溝４と狭い間隔Ｃ１（例えば２５μｍ）で離間して略平行に設定される第２の分離溝６の形成予定部位Ｌ２上に形成することを基本とする。しかし、この形成予定部位Ｌ２上にレーザー幅Ａの半分よりも大きな気泡Ｂがある場合、制御部４６は、気泡Ｂ及び第１の分離溝４との干渉を避け、且つ形成予定部位Ｌ２からの離間距離が短くなるように光学系ユニット２２から照射されるレーザーの照射部位を制御して、半導体膜５に分離溝６を形成する。これにより、第２の分離溝６は、気泡Ｂ及び第１の分離溝４と干渉することなく形成される。
【００３７】
第３の分離溝８は、同様に、図５（ｄ）に示すように、撮像装置４５で撮像された第２の分離溝６を基準として、分離溝６と狭い間隔Ｃ２（例えば２５μｍ）で離間して略平行に設定される第３の分離溝８の形成予定部位Ｌ３上に形成することを基本とし、気泡Ｂ及び第１，第２の分離溝６，８との干渉を避け、且つ形成予定部位Ｌ３からの離間距離が短くなるようにレーザーの照射部位を制御して、第２電極膜７に形成される。ここで、第１の分離溝４から第３の分離溝８の間隔Ｃ３（＝Ｃ１＋Ｃ２）は、９０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下となるように設定される。このように、第１の分離溝４、第２の分離溝６、及び第３の分離溝８を狭い間隔Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３で形成することにより太陽電池としての面積を広くすることができ、これにより薄膜太陽電池パネル１の発電性能の向上が図られる。
【００３８】
上記したように、分離溝４、６、８は、互いに交差することなく、且つ気泡Ｂとの干渉が防止されて薄膜９に形成される。
なお、各分離溝４、６、８は、それぞれ別々に設けられた各製造装置１０によって形成される。
【００３９】
以上説明したように、本実施形態の薄膜太陽電池パネル１の製造方法によれば、透明基板２の裏面側からレーザーを照射して、表面側に成膜された薄膜９に分離溝４、６、８を形成する際、撮像装置４５により分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の透明基板２内における気泡Ｂの位置を検出し、分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３上に気泡Ｂが存在する場合、気泡Ｂを避けながらレーザーを照射して分離溝４、６、８を形成するようにしたので、分離溝４、６、８の加工時に、気泡Ｂによるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜９に与えるダメージをなくし、不良セルの発生を防止して製品１の性能を向上させることができる。
【００４０】
また、分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３からの離間距離が短くなるように気泡Ｂを避けて薄膜９に分離溝４、６、８を形成するようにしたので、薄膜太陽電池パネル１の面積を増やすことができ、発電効率が向上する。
【００４１】
また、分離溝４，６，８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３上に位置し且つレーザー幅Ａの半分よりも大きな気泡Ｂがある場合、この気泡Ｂを避けながらレーザーを照射して分離溝４、６、８を形成するようにしたので、薄膜９への影響が比較的大きな気泡を回避して不良セルの発生を防止しつつ、薄膜太陽電池パネル１の面積を増やすことができる。
【００４２】
また、分離溝４，６，８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は略直線形状であり、これら形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３と気泡Ｂを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが６０°以下となるように、気泡Ｂを避けながらレーザーを照射して分離溝４、６、８を形成するようにしたので、各分離溝４、６、８間の間隔を狭く設定することが可能となる。さらに、レーザーが気泡Ｂを避けやすくなるとともに、レーザーエネルギ消費量を少なくすることが可能となる。
【００４３】
更に、撮像装置４５により得られた気泡Ｂの位置に基づいて、気泡Ｂを避けながら第１の薄膜３に第１の分離溝４を形成し、気泡Ｂを避け、且つ第１の分離溝４との間隔Ｃ１が狭くなるように、第２の薄膜５に第２の分離溝６を形成するようにしたので、気泡Ｂの影響による不良セルの発生を防止すると共に、狭い間隔で複数の分離溝４、６、８を形成することができ、高性能の薄膜太陽電池パネル１を制作することができる。
【００４４】
本実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置１０によれば、分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の透明基板２内における気泡Ｂの位置を検出する撮像装置４５と、透明基板２の裏面側から薄膜９にレーザーを照射するレーザー照射装置１２と、撮像装置４５によって得られた気泡Ｂの位置に基づいて、気泡Ｂを避けながらレーザーの照射部位を制御する制御部４６と、を備えるので、レーザーが気泡Ｂに照射されることによるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による分離溝４、６、８の加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜９へのダメージをなくすことができ、不良セルの発生を防止して高性能の薄膜太陽電池パネル１の製作が可能となる。
【００４５】
また、制御部４６は、分離溝４、６、８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３からの離間距離が短くなるように気泡Ｂを避けながらレーザーを照射するので、薄膜太陽電池パネル１の面積を増やすことができ、発電効率が向上する。
【００４６】
また、分離溝４，６，８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３上に位置し且つレーザー幅Ａの半分よりも大きな気泡Ｂがある場合、この気泡Ｂを避けながらレーザーを照射して分離溝４、６、８を形成するようにしたので、薄膜９への影響が比較的大きな気泡を回避して不良セルの発生を防止しつつ、薄膜太陽電池パネル１の面積を増やすことができる。
【００４７】
また、分離溝４，６，８の形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は略直線形状であり、これら形成予定部位Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３と気泡Ｂを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが６０°以下となるように、気泡Ｂを避けながらレーザーを照射して分離溝４、６、８を形成するようにしたので、各分離溝４、６、８間の間隔を狭く設定することが可能となる。さらに、レーザーが気泡Ｂを避けやすくなるとともに、レーザーエネルギ消費量を少なくすることが可能となる。
【００４８】
更に、制御部４６は、薄膜９に形成されている分離溝４、６との干渉を防止すると共に、気泡Ｂを避けながらレーザーを照射して、各分離溝４、６、８間の間隔Ｃ１、Ｃ２が狭くなるように複数の分離溝４、６、８を形成するようにしたので、薄膜太陽電池パネル１の面積を増やすことができ、性能を向上させることができる。
【００４９】
図７は第１実施形態の変形例に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の側面図である。この変形例の薄膜太陽電池パネルの製造装置１０Ａは、レーザー照射装置１２、及び撮像装置４５がパネル１の下面側に配置される。この変形例では、薄膜９を上向き、ガラス基板２を下向きにしてパネル１を搬送し、薄膜９にレーザーをパネル１の下面側から照射して薄膜９に分離溝４（６、８）を形成するようにした。
【００５０】
その他、撮像装置４５によるガラス基板２内の気泡Ｂの検出、この検出結果に基づいて、制御部４６が気泡Ｂを避けながら狭い間隔で分離溝４、６、８を形成するようにレーザーの照射部位を制御する手順、および作用については、上述した実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置１０と同様であるので、説明を省略する。
【００５１】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置について、図８〜図１１を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分については同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
【００５２】
図８に示すように、パネル１の下面側には、それぞれの光学系ユニット２２に対応して加工液供給機構１３が配設されている。加工液供給機構１３は、上記した不図示の駆動装置によって駆動されて、それぞれの光学系ユニット２２と同期してＹ方向に移動可能である。即ち、光学系ユニット２２がステップ移動するときには、加工液供給機構１３も光学系ユニット２２と同期してＹ方向にステップ移動する。なお、本実施形態では、搬送ローラ２０は、パネル１の下面に形成された薄膜９と接触しないように、パネル１のＹ方向両端部にのみ配置されている。
【００５３】
図９および図１０に示すように、加工液供給機構１３は、単一の加工ブロック３０に配設された加工液貯留槽３１、加工液回収溝３２、真空溝３３、およびエアベアリング３４から構成されている。具体的には、加工ブロック３０の中央に配置された加工液貯留槽３１の周囲に加工液貯留槽３１を囲むように矩形の加工液回収溝３２が設けられ、加工液回収溝３２の外周側には加工液回収溝３２を囲むように矩形の真空溝３３が形成されている。更に、真空溝３３の外周側には、複数の圧縮空気吐出孔３５が設けられたエアベアリング３４が設けられている。このような加工液供給機構１３は、それぞれの光学系ユニット２２に対応してパネル１の下面側に配置されている。
【００５４】
加工液貯留槽３１は、上面が開放された略矩形箱状に形成されており、レーザー照射部位Ｐが加工液貯留槽３１の略中央に位置する。加工液貯留槽３１は、底部に加工液供給口３６が設けられて加工液供給部を構成しており、パイプ３７によって図示しないポンプなどの加工液供給装置に接続されて、加工液５０が連続供給される。
【００５５】
また、加工液回収溝３２の底部に設けられた排水口３８は、回収パイプ３９が接続されており、加工液貯留槽３１から溢れ出る加工液５０を排水口３８および回収パイプ３９を介して回収する。回収された加工液５０は、ろ過装置４０でろ過された後、再び加工液貯留槽３１に循環供給される。
【００５６】
加工液５０としては、例えば、純水、水道水、あるいは洗剤を含んだ水やアセトン、メタノール、エタノール、トリクレン、フレオン等の有機溶剤を含む化学洗浄液が使用可能である。
【００５７】
真空溝３３の底部に設けられた吸引孔４１は、パイプ４２を介して不図示の真空ポンプなどの真空源に接続されており、真空溝３３近傍の空気を吸引している。更に、エアベアリング３４の圧縮空気吐出孔３５は、パイプ４３を介して圧縮空気供給装置に接続されており、圧縮空気吐出孔３５から圧縮空気を吐出させる。
【００５８】
これにより、レーザー発生装置２１から照射されるレーザーによってパネル１（薄膜９）に分離溝４（６，８）を形成するとき、図１１に示すように、加工液貯留槽３１には、加工液供給装置から加工液供給口３６に加工液５０が連続して供給されており、この加工液５０はパネル１の下面の薄膜９に接触して、又は充満している。加工液貯留槽３１から溢れ出した加工液５０は、加工液回収溝（加工液回収部）３２から排水口３８、回収パイプ３９を介して回収される。
【００５９】
このように、薄膜９は、連続供給される加工液５０中で、洗浄された状態で加工されるので、レーザー加工によって発生する加工粒は、加工液５０と共に加工液回収溝３２から排出される。これにより、加工粒が分離溝４（６、８）の内部や周辺に残ることはなく、電池セル間でのショートが防止される。尚、加工液５０中に気泡が存在すると、レーザーによって気泡が爆発して加工不良が生じる可能性があるので、加工液貯留槽３１内に気泡溜まりが生じないように、加工液５０を連続供給するのが望ましい。
【００６０】
また、分離溝４（６、８）は、加工液５０によって冷却しながら加工されるので、溶融した加工粒が薄膜に再付着することはない。更に、冷却によって薄膜９の熱ひずみが防止され、高精度での加工を行うことができる。これにより、薄膜太陽電池パネル１の絶縁性能、出力特性、耐電圧特性などを良好に維持することができる。
【００６１】
加工液回収溝３２で回収することができず、加工液５０の表面張力などによってパネル１に付着している加工液５０は、真空によって真空溝３３から吸引される周囲の空気と共に吸引排除される。
【００６２】
尚、加工液貯留槽３１に供給される加工液５０は、パネル１に押し上げる力を作用させる。一方、真空溝３３の真空は、パネル１を加工液供給機構１３側に引き寄せる力として作用するので、パイプ３７、４２に圧力センサ、流量センサ、流量調整弁（いずれも図示せず）などを配設し、これらによって両者の圧力バランスを制御することにより、パネル１と加工液供給機構１３の隙間が、例えば、数百ミクロンで一定となるように制御することができる。また、これによってパネル１に接触又は充満する加工液５０の表面の波打ちが防止され、加工液５０の揺らぎによる屈折を抑制することができる。これによって、レーザーによる分離溝４（６、８）加工を安定して精度よく行うことができる。
【００６３】
更に、真空溝３３の空気吸引によっても排除されずにパネル１に残る加工液５０は、エアベアリング３４の圧縮空気吐出孔３５から吐出される圧縮空気によって吹き飛ばされて除去・乾燥される。
【００６４】
このような構成の薄膜太陽電池パネルの製造装置１０Ｂで薄膜太陽電池パネル１を製作することにより、パネル１に向けて加工液５０を供給して薄膜９のレーザー照射部位及びその近傍に加工液５０を接触又は充満させた状態で、薄膜９にレーザーを照射して薄膜９に分離溝４、６、８を形成するので、パネル１の薄膜９を加工液５０で洗浄しながら加工して、レーザー加工によって発生する加工粒（残渣）を除去することができる。これにより、分離溝４、６、８やその近傍に残る加工粒による回路のショートを防止して薄膜太陽電池パネル１の性能低下を防止することができる。また、レーザー照射部位及びその近傍を冷却して、薄膜９の熱ひずみを抑制することができ、分離溝４、６、８を高精度で加工することができる。
【００６５】
その他、撮像装置４５によるガラス基板２内の気泡Ｂの検出、この検出結果に基づいて、制御部４６が気泡Ｂを避けながら狭い間隔で分離溝４、６、８を形成するようにレーザーの照射部位を制御する手順、および作用については、第１実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置１０と同様であるので、説明を省略する。
【００６６】
図１２は第２実施形態の変形例に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の側面図である。この変形例の薄膜太陽電池パネルの製造装置１０Ｃは、レーザー照射装置１２、及び撮像装置４５がパネル１の下面側に配置されると共に、加工液供給機構１３が、それぞれの光学系ユニット２２に対応してパネル１の上面側に配置されている。この変形例では、薄膜９を上向き、ガラス基板２を下向きにしてパネル１を搬送し、パネル１の上面側から加工液５０を供給して薄膜９のレーザー照射部位Ｐ及びその近傍に加工液５０を接触又は充満させた状態で、薄膜９にレーザーをパネル１の下面側から照射して薄膜９に分離溝４（６、８）を形成するようにした。
【００６７】
このため、加工液供給機構１３は、図１３に示すように、基板２に対して上向きに配置された薄膜９の少なくともレーザー照射部位Ｐ及びその近傍に加工液５０を接触又は充満させるように加工液５０を供給する加工液供給口３６が形成された加工液供給部５５を備える。また、加工液供給部５５の外周側には、加工液を回収可能な矩形の第１加工液回収溝３２ａが配置される。第１加工液回収溝３２ａの外周側には、加工液５０が外周側へ広がるのを抑制するようにエアを吐出する矩形のノズル孔５１が配置される。さらに、ノズル孔５１の外周側には、加工液５０を回収可能な矩形の第２加工液回収溝３２ｂが配置される。そして、第２加工液回収溝３２ｂの外周側には、圧縮空気を吐出可能なエアベアリング３４が矩形状に配置される。
【００６８】
さらに、加工ブロック３０ａの下方には、パネル１が搬送されていない状態で、加工液供給機構１３から供給された加工液５０を収容する受け皿５３が、搬送されるパネル１が通過する隙間を介して形成されている。受け皿５３の一部には、石英板等の透明板５４が形成される。そして、受け皿５３の下方に配置されたレーザー発生装置２１は、受け皿５３の透明板５４を通過して、パネル１の下方から基板２を透過して薄膜９にレーザーを照射する。
【００６９】
このように構成された製造装置１０Ａでは、浮上ユニット１４によって浮上、支持されたパネル１は、エアベアリング３４から吐出される圧縮空気によって、パネル１と加工ブロック３０ａとの間を所定のギャップに保つようにして搬送することができるので、分離溝４（６、８）を精度よく加工することができる。また、加工時には、加工液供給機構１３によって加工液５０を供給して薄膜９のレーザー照射部位Ｐ及びその近傍に加工液５０を接触又は充満させることができ、パネル１を加工液５０で洗浄して、加工により発生する加工粒を除去しながら、分離溝４（６、８）を形成することができる。さらに、第１加工液回収溝３２ａ、ノズル孔５１、第２加工液回収溝３２ｂを使って、加工粒を含む加工液５０を効率的に回収することができる。
その他の構成及び作用については、上記実施形態のものと同様である。
【００７０】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。例えば、上記の実施形態では、加工液供給機構１３を備え、薄膜９のレーザー照射部位Ｐ及びその近傍に加工液５０を接触又は充満させて、パネル１を加工液５０で洗浄しながら分離溝４、６、８を形成するようにしたが、これに限定されず、加工液５０を用いずに分離溝４、６、８を形成するようにしてもよい。
【００７１】
また、レーザー発生装置２１から出射されるレーザーを分割して、６台の光学系ユニット２２で加工するようにしたが、これに限定されず、光学系ユニット２２の台数は任意に設定することができる。また、加工液供給機構１３の台数も任意である。また、本発明の被加工部は、ガラス基板のような固い基板に限定されるものでなく、柔軟なフィルムであってもよい。
【００７２】
また、第１の分離溝４の略直線形状の形成予定部位Ｌ１上のガラス基板２にレーザー幅Ａの半分よりも大きな直径Ｒ（Ｒ＞Ａ／２）の気泡Ｂがある場合、気泡Ｂへのレーザー照射を回避する、としたが、これに限定されず、形成予定部位Ｌ１上のガラス基板２に任意の大きさの気泡Ｂが存在する場合は気泡Ｂへのレーザー照射を回避する、としてもよい。この場合、気泡Ｂによってレーザー光の散乱が生じることをより確実に防止することが可能となる。
【符号の説明】
【００７３】
１         薄膜太陽電池パネル
２         ガラス基板（透明基板、被加工部）
３         第１電極膜（第１の薄膜）
４         分離溝（第１の分離溝）
５         半導体膜（第２の薄膜）
６         分離溝（第２の分離溝）
７         第２電極膜
８         分離溝
９         薄膜
１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ           薄膜太陽電池パネルの製造装置
１２       レーザー照射装置
４５       撮像装置
４６       制御部
Ｂ         気泡
Ｃ１       第１の分離溝と第２の分離溝との間隔
Ｃ２       第２の分離溝と第３の分離溝との間隔
Ｌ１       第１の分離溝の形成予定部位
Ｌ２       第２の分離溝の形成予定部位
Ｌ３        第３の分離溝の形成予定部位
Ａ         レーザー幅
θ         気泡回避角度
【図１】
2011187942.tif 000003
【図２】
2011187942.tif 000004
【図３】
2011187942.tif 000005
【図４】
2011187942.tif 000006
【図５】
2011187942.tif 000007
【図６】
2011187942.tif 000008
【図７】
2011187942.tif 000009
【図８】
2011187942.tif 000010
【図９】
2011187942.tif 000011
【図１０】
2011187942.tif 000012
【図１１】
2011187942.tif 000013
【図１２】
2011187942.tif 000014
【図１３】
2011187942.tif 000015
【図１４】
2011187942.tif 000016
【図１５】
2011187942.tif 000017