(57)【要約】【課題】電気特性に優れ、画像形成装置に適用した際に得られる画像においてスジや画像流れの発生が効果的に抑制される電子写真感光体を提供する。【解決手段】基体上に感光層を有し、且つ最表面を構成する層が、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋物、および芳香環を有する導電性高分子化合物を含有する電子写真感光体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に感光層を有し、
且つ最表面を構成する層が、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋物、および芳香環を有する導電性高分子化合物を含有する電子写真感光体。
【請求項２】
前記同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物が下記一般式（Ａ）で示される群より選択される少なくとも１種である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化１】
2011070005.tif 000044
〔上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−（ＣＨ２）ｆ）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２を示し、Ｒ’は水素原子または−ＣＨ３を示し、ｃ１乃至ｃ５は、それぞれ独立に０以上２以下の整数を示し、ｋは０または１を示し、ｄは０以上５以下の整数を示し、ｆは１以上５以下の整数を示し、ｅは０または１を示す。尚、Ｄの総数は２以上である。〕
【請求項３】
前記導電性高分子化合物が下記一般式（１）および一般式（２）の何れかで表される化合物から選択される少なくとも１種である請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体。
【化２】
2011070005.tif 000045
〔上記一般式（１）および一般式（２）において、Ｒ３１乃至Ｒ４０は、それぞれ独立に、水素、炭素数１以上１０以下の置換または未置換のアルキル基あるいは炭素数１以上１０以下の置換または未置換のアルコキシ基を示し、ｏ，ｐ，ｇ，ｈ，ｉおよびｊは、それぞれ独立に、０以上３以下の整数を示し、ａおよびｂは、それぞれ独立に、１００以上１０００以下の整数を示す。〕
【請求項４】
前記最表面を構成する層が前記感光層に接する表面保護層であり、
且つ前記感光層の内、前記表面保護層に接する層がポリカーボネート樹脂およびポリアリレート樹脂から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の電子写真感光体と、
該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像装置、および、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去装置からなる群より選ばれる少なくとも１種の装置と、
を備え、画像形成装置に着脱自在であるプロセスカートリッジ。
【請求項６】
請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の電子写真感光体と、
該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、電子写真感光体の表面を帯電装置で帯電させ、帯電後の電子写真感光体の表面を、露光によって選択的に除電することにより静電潜像を形成させ、現像装置で該静電潜像にトナーを付着させることにより潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写装置で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させる。
【０００３】
上記電子写真感光体において、表面に保護層を設けることが提案されている。保護層を形成する材料系としては、例えば、特許文献１には導電粉をフェノール樹脂に分散したものが、特許文献２には有機−無機ハイブリッド材料によるものが、特許文献３にはアルコール可溶性電荷輸送性材料とフェノール樹脂によるものが、それぞれ開示されている。また、前記保護層として、特許文献４にはアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸あるいは電子受容性ポリカルボン酸無水物の硬化膜が、特許文献５にはベンゾグアナミン樹脂にヨウ素、有機スルホン酸化合物あるいは塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜が、特許文献６には特定の添加剤とフェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂あるいはウレタン樹脂との硬化膜が開示されている。
【０００４】
また、近年ではアクリル系材料による保護層が注目されている。例えば、特許文献７には光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜が、特許文献８には炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材およびバインダー樹脂の混合物を熱あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が、特許文献９には同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が開示されている。
【０００５】
これらアクリル系材料は、硬化条件、硬化雰囲気等の影響を強く受け、例えば、特許文献１０には真空中あるいは不活性ガス中で放射線照射後に加熱されることによって形成された膜が、特許文献１１には不活性ガス中で加熱硬化された膜が開示されている。
また、電荷輸送性材料自身をアクリル変性し、架橋し得るものとすると共に、電荷輸送性を有さない反応性モノマーを添加する技術も開示されている（例えば、特許文献８および１２参照）。
【０００６】
一方、特許文献１３には電荷輸送性材料自身を３官能以上の多官能に変性することが開示されている。
さらに、特許文献１４には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性物質の重合物を保護層に使用する技術、並びに潤滑剤としてフッ素原子含有化合物を保護層中に含有させる技術が開示されている。
また、特許文献１５には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性物質の濃度を最表面から内部に向かって傾斜を持たせる技術が開示されている。
【０００７】
また、特許文献１６には、導電性の支持体上に電荷発生物質とバインダー樹脂とを主成分として含む電荷発生層、および電荷輸物質とバインダー樹脂とを主成分として含む電荷輸送層を順次形成した電子写真感光体において、電荷発生層に使用するバインダー樹脂が活性化エネルギー線硬化ウレタン変性スチレン−アクリル共重合体である技術が開示されている。
特許文献１７には、特定の構造を有するスチリル系高分子化合物を用いたＥＬデバイスおよび電子写真感光体が開示されている。
【０００８】
特許文献１８には、特定の構造を有するスチリル系高分子化合物を含有する電子写真感光体が開示されている。
特許文献１９には、支持体上に電子輸送性有機化合物を含有する中間層、電荷発生物質を含有する感光層、および保護層をこの順に有し、前記中間層の膜厚が０．３μｍ以上３μｍ以下であり、前記電子輸送性有機化合物の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位が６．０ｅＶ以上であり、前記保護層が前記感光層上に保護層用塗料を塗布後、熱、紫外線および電子線の少なくとも１つを用いて重合／硬化反応を行うことで形成された層である電子写真感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第３２８７６７８号明細書
【特許文献２】特開平１２−０１９７４９号公報
【特許文献３】特開２００２−８２４６９号公報
【特許文献４】特開昭６２−２５１７５７号公報
【特許文献５】特開平７−１４６５６４号公報
【特許文献６】特開平２００６−８４７１１号公報
【特許文献７】特開平５−４０３６０号公報
【特許文献８】特開平５−２１６２４９号公報
【特許文献９】特開２０００−２０６７１５号公報
【特許文献１０】特開２００４−１２９８６号公報
【特許文献１１】特開平７−７２６４０号公報
【特許文献１２】特開２００４−３０２４５０号公報
【特許文献１３】特開２０００−２０６７１７号公報
【特許文献１４】特開２００１−１７５０１６号公報
【特許文献１５】特開２００７−８６５２２号公報
【特許文献１６】特開平１０−０１０７５７号公報
【特許文献１７】特開平１０−３１０６０６号公報
【特許文献１８】特開平１０−３１０６３５号公報
【特許文献１９】特開２００３−３４５０４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、芳香環を有する導電性高分子化合物を含有しない場合に比べ、電気特性に優れ、画像形成装置に適用した際に得られる画像においてスジや画像流れの発生が効果的に抑制される電子写真感光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題は、以下の手段により解決される。
請求項１に係る発明は、
基体上に感光層を有し、
且つ最表面を構成する層が、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋物、および芳香環を有する導電性高分子化合物を含有する電子写真感光体である。
【００１２】
請求項２に係る発明は、
前記同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物が下記一般式（Ａ）で示される群より選択される少なくとも１種である請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１３】
【化１】
2011070005.tif 000002
【００１４】
〔上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−（ＣＨ２）ｆ）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２を示し、Ｒ’は水素原子または−ＣＨ３を示し、ｃ１乃至ｃ５は、それぞれ独立に０以上２以下の整数を示し、ｋは０または１を示し、ｄは０以上５以下の整数を示し、ｆは１以上５以下の整数を示し、ｅは０または１を示す。尚、Ｄの総数は２以上である。〕
【００１５】
請求項３に係る発明は、
前記導電性高分子化合物が下記一般式（１）および一般式（２）の何れかで表される化合物から選択される少なくとも１種である請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１６】
【化２】
2011070005.tif 000003
【００１７】
〔上記一般式（１）および一般式（２）において、Ｒ３１乃至Ｒ４０は、それぞれ独立に、水素、炭素数１以上１０以下の置換または未置換のアルキル基あるいは炭素数１以上１０以下の置換または未置換のアルコキシ基を示し、ｏ，ｐ，ｇ，ｈ，ｉおよびｊは、それぞれ独立に、０以上３以下の整数を示し、ａおよびｂは、それぞれ独立に、１００以上１０００以下の整数を示す。〕
【００１８】
請求項４に係る発明は、
前記最表面を構成する層が前記感光層に接する表面保護層であり、
且つ前記感光層の内、前記表面保護層に接する層がポリカーボネート樹脂およびポリアリレート樹脂から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１９】
請求項５に係る発明は、
請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の電子写真感光体と、
該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像装置、および、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去装置からなる群より選ばれる少なくとも１種の装置と、
を備え、画像形成装置に着脱自在であるプロセスカートリッジである。
【００２０】
請求項６に係る発明は、
請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の電子写真感光体と、
該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と、
を備える画像形成装置である。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１に係る発明によれば、芳香環を有する導電性高分子化合物を含有しない場合に比べ、電気特性に優れ、画像形成装置に適用した際に得られる画像においてスジや画像流れの発生が効果的に抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２２】
請求項２に係る発明によれば、化合物が一般式（Ａ）で示されるものでない場合に比べ、機械的強度に優れた電子写真感光体が提供される。
【００２３】
請求項３に係る発明によれば、導電性高分子化合物が一般式（１）または一般式（２）で表されるものでない場合に比べ、電気特性に優れ、画像形成装置に適用した際に得られる画像においてスジや画像流れの発生が効果的に抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２４】
請求項４に係る発明によれば、表面保護層に接する層がポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有しない場合に比べ、表面保護層の接着性に優れた電子写真感光体が提供される。
【００２５】
請求項５に係る発明によれば、芳香環を有する導電性高分子化合物を含有しない電子写真感光体を備える場合に比べ、画像形成装置に適用した際に得られる画像においてスジや画像流れの発生が効果的に抑制されるプロセスカートリッジが提供される。
【００２６】
請求項６に係る発明によれば、芳香環を有する導電性高分子化合物を含有しない電子写真感光体を備える場合に比べ、得られる画像においてスジや画像流れの発生が効果的に抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す概略部分断面図である。
【図３】本実施形態の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す概略部分断面図である。
【図４】本実施形態のプロセスカートリッジの概略断面図である。
【図５】本実施形態のタンデム型画像形成装置の概略断面図である。
【図６】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の望ましい実施形態について詳細に説明する。
【００２９】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、基体上に感光層を有し、且つ最表面を構成する層（以下単に「最表面層」と称す場合がある）が、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋物、および芳香環を有する導電性高分子化合物を含有することを特徴とする。
【００３０】
最表面層として、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋膜を形成する場合、反応が短時間に進行するために構造の緩和が進まず、残留ひずみを有したままの架橋膜となりやすく、この残留ひずみにより電荷輸送性にムラが生じることがあった。
これに対し、本実施形態に係る電子写真感光体は、前記最表面層に更に芳香環を有する導電性高分子化合物を含有することから、電荷輸送性のムラが抑制される。このメカニズムは必ずしも明確ではないが、フレキシブルな芳香環を有する導電性高分子化合物の含有によって残留ひずみの発生が抑制され、電荷輸送性のムラが抑制されて、その結果得られる画像におけるスジや画像流れの発生が効果的に抑制されるものと推察される。また、芳香環を有する導電性高分子化合物は、キャリアが注入されることにより、電荷の輸送を担い得るため、電荷の輸送にも寄与し、優れた電気特性が得られるものと推測される。
【００３１】
ここで、上記導電性高分子化合物における「導電性」とは、π電子が分子鎖中で共役した構造を持つポリマーで、アクセプター等のドーピングにより導電性を示すポリマーを意味する。
【００３２】
〔電子写真感光体の構成〕
以下、図面を参照しつつ本実施形態に係る電子写真感光体（以下単に「感光体」と称す場合がある）について説明する。なお、図面中、同一または相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
【００３３】
図１、図２および図３はそれぞれ、本実施形態に係る感光体の好適な一例を示す模式断面図である。
図１に示す感光体おいては、導電性を有する基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３および表面保護層５が設けられている。
【００３４】
図２に示す感光体においては、導電性を有する基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷輸送層３、電荷発生層２および表面保護層５が設けられている。
【００３５】
図３に示す感光体においては、導電性を有する基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生能と電荷輸送能とを有する機能一体型の感光層６および表面保護層５が設けられている。
【００３６】
図１、図２および図３に示す感光体において、最表面層とは表面保護層５を指す。また、図１、図２および図３に示す感光体おいては、下引層１を有しない態様であってもよい。
【００３７】
以下、代表例として図１に示す感光体の構造を例にとって、各構成層について説明する。
【００３８】
（表面保護層／最表面層）
まず、最表面層である表面保護層５について説明する。
本実施形態に係る感光体の最表面層である表面保護層５には、
（１）同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋物
（２）芳香環を有する導電性高分子化合物
が含有される。以下、表面保護層５を構成する各構成成分について説明する。
【００３９】
（１）同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋した架橋物
本実施形態における表面保護層は、電荷輸送材料としての同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を架橋して得られる架橋膜である。上記重合性基としては、例えばメタクリル基、アクリル基、スチリル基、或いはそれらの誘導体等が挙げられ、これらの中でも特にメタクリル基が望ましい。
【００４０】
特にメタクリル基が望ましい理由は必ずしも明らかになっていないが、以下のように推察される。通常、架橋して架橋膜を得る場合には、上記官能基として反応性の高いアクリル基が用いられるが、かさ高い電荷輸送材料の置換基として反応性の高いアクリル基を用いた場合、ムラのある硬化反応がおきやすくなり海島構造が生じやすくなると考えられる。尚、この海島構造の形成は、一つの電荷輸送部位に複数の官能基を有している場合に特に顕著になると考えられる。これに対し、上記官能基がメタクリル基であれば、海島構造の形成が抑制され、その結果、この海島構造による最表面層のムラやシワの発生が抑制され、電荷輸送性の異なる部分が生じることによる画像ムラが防止される。
【００４１】
また、電荷輸送成分とメタクリル基との間には炭素原子を１つ以上介在させることが望ましく、更には該炭素原子がアルキレン基であることが特に望ましい。
この理由については必ずしも明らかではないが、電子吸引性のアクリル基あるいはメタクリル基等が、電荷輸送成分に近すぎると電荷輸送成分の電荷密度が低下し、イオン化ポテンシャルが上昇することによって、下層からのキャリア注入が円滑に進行しにくくなる。また、ラジカル重合性の置換基を重合させる場合、重合の際に生成するラジカルが電荷輸送部位に移動しやすい構造であると、生成したラジカルが電荷輸送の機能を劣化させてしまうものと考えられる。これに対し、電荷輸送成分とメタクリル基との間に炭素原子を１つ以上介在させた場合、更には該炭素原子がアルキレン基である場合、電荷輸送成分と電子吸引性のアクリル基あるいはメタクリル基等が近くなりすぎず、電荷輸送の機能が劣化しないため、電気特性が良好に保持されるものと考えられる。また、機械的強度については、かさ高い電荷輸送部位と重合部位が近くなり過ぎず、リジッドでないことにより、重合性部位同士の動きづらさが解消され、重合性基同士が反応する確率が上昇し、その結果機械的強度に優れた最表面層が形成されるものとえられる。
【００４２】
さらに上記化合物は、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と４つ以上のメタクリル基を有する構造を持つ化合物であることが望ましい。これにより、合成の際の化合物の安定性が確保され、工業的なスケールで生産し得るとともに、優れた強度を有する架橋膜となるために、電荷輸送性を有さない多官能モノマーを必ずしも添加する必要がなくなる。これにより、膜厚がより厚い最表面層を形成する場合にも、優れた電気特性が確保されるため、長寿命化が図られる。また、上記の通り電気的特性と強度とが確保されることにより、バインダー樹脂およびモノマーも添加し得るものとなり、ガスバリア性の向上、接着性の向上が図られる。
さらに、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と４つ以上のメタクリル基を有する構造を持つ化合物は、電荷輸送性を有さない多官能モノマーと異なり、電荷輸送性構造を有することから反応性基を持たない従来公知の電荷輸送材料との相溶性に優れるため、反応性基を持たない従来の電荷輸送材料とドーピングし得るものであり、より一層の電気特性の向上が図られる。
【００４３】
上記同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物としては、下記一般式（Ａ）で示される群より選択される少なくとも１種であることが望ましい。
【００４４】
【化３】
2011070005.tif 000004
【００４５】
〔上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−（ＣＨ２）ｆ）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２を示し、Ｒ’は水素原子または−ＣＨ３を示し、ｃ１乃至ｃ５は、それぞれ独立に０以上２以下の整数を示し、ｋは０または１を示し、ｄは０以上５以下の整数を示し、ｆは１以上５以下の整数を示し、ｅは０または１を示す。尚、Ｄの総数は２以上である。〕
【００４６】
一般式（Ａ）において、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄ：−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−（ＣＨ２）ｆ）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくはアルコキシ基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１乃至Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【００４７】
【化４】
2011070005.tif 000005
【００４８】
上記式（１）乃至（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、および炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ２乃至Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換または未置換のアリーレン基を表し、Ｚ’は２価の有機連結基を表し、Ｄは−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−（ＣＨ２）ｆ）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（Ｒ’は水素原子または−ＣＨ３を示し、ｄは０以上５以下の整数を示し、ｆは１以上５以下の整数を示し、ｅは０または１を示す）を表し、ｃは１または２を表し、ｓは０または１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表す。
【００４９】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）または（９）で表されるものが望ましい。
【００５０】
【化５】
2011070005.tif 000006
【００５１】
上記式（８）および（９）中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’はそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
【００５２】
また、前記式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を示すが、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、ｓはそれぞれ０または１を表す。
【００５３】
【化６】
2011070005.tif 000007
【００５４】
上記式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑおよびｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”はそれぞれ独立に０以上３以下の整数を表す。
【００５５】
前記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００５６】
【化７】
2011070005.tif 000008
【００５７】
また、一般式（Ａ）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基がそのまま挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【００５８】
尚、前述の通り、一般式（Ａ）で示される化合物においては、電荷輸送成分と重合性基との間に炭素原子を１つ以上介在させることが望ましく、連結基としてはアルキレン基であることが特に望ましい。
更に、重合性基としては、特にメタクリル基を有する構造が望ましい。
【００５９】
以下に、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を示す。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【００６０】
【化８】
2011070005.tif 000009
【００６１】
【化９】
2011070005.tif 000010
【００６２】
【化１０】
2011070005.tif 000011
【００６３】
【化１１】
2011070005.tif 000012
【００６４】
【化１２】
2011070005.tif 000013
【００６５】
【化１３】
2011070005.tif 000014
【００６６】
【化１４】
2011070005.tif 000015
【００６７】
【化１５】
2011070005.tif 000016
【００６８】
【化１６】
2011070005.tif 000017
【００６９】
【化１７】
2011070005.tif 000018
【００７０】
【化１８】
2011070005.tif 000019
【００７１】
【化１９】
2011070005.tif 000020
【００７２】
【化２０】
2011070005.tif 000021
【００７３】
【化２１】
2011070005.tif 000022
【００７４】
【化２２】
2011070005.tif 000023
【００７５】
また、上記に示した一般式（Ａ）で示される化合物以外にも、例えば以下のごとき同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を用いてもよい。
【００７６】
【化２３】
2011070005.tif 000024
【００７７】
【化２４】
2011070005.tif 000025
【００７８】
【化２５】
2011070005.tif 000026
【００７９】
【化２６】
2011070005.tif 000027
【００８０】
一般式（Ａ）で表される化合物は、以下のようにして合成される。
即ち、一般式（Ａ）で表される化合物は、前駆体であるアルコールを、対応する重合性基を有する化合物（例えばメタクリル酸やメタクリル酸ハロゲン化物）と縮合させるか、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合には、ヒドロキシエチルメタクリレートのような水酸基を有するメタクリル酸誘導体等との脱水エーテル化などにより合成される。
【００８１】
本実施形態で用いる化合物IV−４および化合物IV−１７の合成経路を、一例として以下に示す。
【００８２】
【化２７】
2011070005.tif 000028
【００８３】
【化２８】
2011070005.tif 000029
【００８４】
本実施形態に係る表面保護層を形成するための塗工液において、上記同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物は、塗工液中の固形分全量に対して５質量％以上９５質量％以下含有させることが望ましく、更には１０質量％以上９０質量％以下がより望ましく、１５質量％以上８０質量％以下が特に望ましい。
重合性基は、同一分子内に２つ以上もつものが望ましく、更に同一分子内にトリフェニルアミン骨格と４つ以上の重合性基を有する化合物を用いることがより望ましい。同一分子内にトリフェニルアミン骨格と、４つ以上の重合性基を有する化合物は、前記塗工液中の固形分全量に対して、５質量％以上であることが望ましく、更には１０質量％以上であることがより望ましく、１５質量％以上であることが特に望ましい。
【００８５】
また、その他の重合性基を有する電荷輸送性の化合物を併用してもよい。該併用しうる化合物としては、公知の電荷輸送性材料に重合性基を導入した化合物が用いられる。公知の電荷輸送性材料としては、例えば、後述の重合性基を有さない電荷輸送性材料の中で、正孔輸送性化合物として挙げられているトリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などが用いられる。
【００８６】
（２）芳香環を有する導電性高分子化合物
また本実施形態においては、最表面層である表面保護層に芳香環を有する導電性高分子化合物が含有される。芳香環を有する導電性高分子化合物としては、特に限定されるものではないが、下記一般式（１）および一般式（２）の何れかで表される化合物から選択される少なくとも１種であることが望ましい。
【００８７】
【化２９】
2011070005.tif 000030
【００８８】
〔上記一般式（１）および一般式（２）において、Ｒ３１乃至Ｒ４０は、それぞれ独立に、水素、炭素数１以上１０以下の置換または未置換のアルキル基あるいは炭素数１以上１０以下の置換または未置換のアルコキシ基を示し、ｏ，ｐ，ｇ，ｈ，ｉおよびｊは、それぞれ独立に、０以上３以下の整数を示し、ａおよびｂは、それぞれ独立に、１００以上１０００以下の整数を示す。〕
【００８９】
尚、上記一般式（１）におけるＲ３３およびＲ３４の少なくとも一方は、炭素数６以上の置換または未置換のアルキル基あるいは炭素数６以上の置換または未置換のアルコキシ基であるものが溶剤への溶解性に優れ望ましい。
また、Ｒ３１およびＲ３２としては、メチル基が特に望ましい。
ｏおよびｐとしては、２が特に望ましい。
ａは、１００以上１０００以下であり、１５０以上８００以下であることが特に望ましい。
【００９０】
また、上記一般式（２）におけるＲ３９およびＲ４０の少なくとも一方は、炭素数６以上の置換または未置換のアルキル基であるものが溶剤への溶解性に優れ望ましい。
また、Ｒ３５乃至Ｒ３８としては、メチル基が特に望ましい。
ｇ，ｈ，ｉおよびｊとしては、１または２が特に望ましい。
ｂは、１００以上１０００以下であり、１５０以上８００以下であることが特に望ましい。
【００９１】
以下に、上記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の具体例を列挙する。ただし、本実施形態に用いられる導電性高分子化合物はこれらに限定されるものではない。
【００９２】
【化３０】
2011070005.tif 000031
【００９３】
尚、上記具体例（１−１）乃至（１−４）において、「ａ」の値は１００以上１０００以下であることが望ましく、更に１５０以上８００以下であることがより望ましい。
上記に列挙した、上記具体例（１−１）乃至（１−４）の中でも、特に、具体例（１−１）および（１−２）が、電荷輸送材料との相溶性に優れ好適に用いられる。
【００９４】
【化３１】
2011070005.tif 000032
【００９５】
尚、上記具体例（２−１）乃至（２−４）において、「ｂ」の値は１００以上１０００以下であることが望ましく、更に１５０以上８００以下であることがより望ましい。
上記に列挙した、上記具体例（２−１）乃至（２−４）の中でも、特に、具体例（２−２）および（２−３）が好適に用いられる。
【００９６】
芳香環を有する導電性高分子化合物の含有量としては、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物に対して、５質量％以上２００質量％以下の範囲が望ましく、特に１０質量％以上１００質量％がより望ましい。
【００９７】
同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物は、光、電子線、あるいは熱によって重合硬化させる。重合、硬化反応は、触媒を使用しなくてもよいが、以下の触媒を用いることで効率的に進行させてもよい。
【００９８】
光硬化触媒としては、分子内開裂型、水素引抜型などが挙げられる。分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。また、アルキルフェノン系としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルフォニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モリホニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。ホスフィノキサイド系としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。チタノセン系としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。オキシム系としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などが挙げられる。
【００９９】
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。より具体的には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。より具体的には、ベンゾフェノン系としては、２−ベンゾイル安息香酸、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル４’−メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系としては、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。ベンジル系としては、ベンジル、（±）−カンファーキノン、ｐ−アニシルなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いられる。
【０１００】
熱硬化は無触媒で行ってもよいが、下記に示すような触媒を用いることが望ましい。
熱重合開始剤の市販品としては、Ｖ−３０、Ｖ−４０、Ｖ−５９、Ｖ６０１、Ｖ６５、Ｖ−７０、ＶＦ−０９６、Ｖａｍ−１１０、Ｖａｍ−１１１（以上、和光純薬製）、ＯＴＡｚｏ−１５、ＯＴａｚｏ−３０、ＡＩＢＭ、ＡＭＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＣＶＡ（以上、大塚化学）等のアゾ系開始剤、パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイルＩＢ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーロイルＳＡ、ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーロイルＳＢＰ、パークミルＮＤ、パーオクタＮＤ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーヘキサ２５０、パーオクタＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＯ、パーブチルＬ、パーブチル３５５、パーヘキシルＩ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーへヘキシルＺ、パーブチルＺＴ、パーブチルＺ（以上、日油化学社製）、カヤケタールＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックスＬ−Ｗ７５、パーカドックスＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックスＴＭＢＨ、カヤクメンＨ、カヤブチルＨ−７０、ペルカドックスＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサＡＤ、パーカドックス１４、カヤブチルＣ、カヤブチルＤ、カヤヘキサＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス１２−ＸＬ２５、パーカドックス１２−ＥＢ２０、トリゴノックス２２−Ｎ７０、トリゴノックス２２−７０Ｅ、トリゴノックスＤ−Ｔ５０、トリゴノックス４２３−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス２３−Ｃ７０、トリゴノックス２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス２５７−Ｃ７０、カヤエステルＰ−７０、カヤエステルＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス１２１、カヤエステルＯ、カヤエステルＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステルＡＮ、トリゴノックス４２、トリゴノックスＦ−Ｃ５０、カヤブチルＢ、カヤカルボンＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボンＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボンＩ−２０、カヤカルボンＢＩＣ−７５、トリゴノックス１１７、カヤレン６−７０（以上、化薬アクゾ社製）、ルルペロックス６１０、ルペロックス１８８、ルペロックス８４４、ルペロックス２５９、ルペロックス１０、ルペロックス７０１、ルペロックス１１、ルペロックス２６、ルペロックス８０、ルペロックス７、ルペロックス２７０、ルペロックスP、ルペロックス５４６、ルペロックス５５４、ルペロックス５７５、ルペロックスＴＡＮＰＯ、ルペロックス５５５、ルペロックス５７０、ルペロックスＴＡＰ、ルペロックスＴＢＩＣ、ルペロックスＴＢＥＣ、ルペロックスＪＷ、ルペロックスＴＡＩＣ、ルペロックスＴＡＥＣ、ルペロックスＤＣ、ルペロックス１０１、ルペロックスＦ、ルペロックスＤＩ、ルペロックス１３０、ルペロックス２２０、ルペロックス２３０、ルペロックス２３３、ルペロックス５３１などが挙げられる。
【０１０１】
これら触媒は、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物を含有する表面保護層形成用の塗工液を作製する際、固形分全量に対して０．２質量％以上１０質量％以下含有することが望ましく、更には０．５質量％以上８質量％以下がより望ましく、特には０．７質量％以上５質量％以下が望ましい。
【０１０２】
また、表面保護層形成用の塗工液は、無溶媒、またはトルエン、キシレンなどの芳香族、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのセロソルブ系、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系等の溶媒などの単独、または混合溶媒を用いて調製される。
【０１０３】
光硬化は水銀灯、メタルハライドランプなどの公知の方法で照射して硬化膜が得られる。また熱硬化は５０℃以上に加熱し硬化するのが望ましい。
【０１０４】
これらの重合、硬化反応は、光、電子線、あるいは熱によって発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空あるいは不活性ガス雰囲気下など、酸素濃度が１０％以下、望ましくは５％以下、より望ましくは２％以下の低酸素濃度で行うことが望ましい。
【０１０５】
本実施形態における表面保護層においては、さらに電荷輸送性を有さないアクリレート或いはメタクリレートのモノマー、オリゴマー、ポリマーを使用してもよい。
【０１０６】
１官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレートなどが挙げられる。
【０１０７】
２官能のモノマー、オリゴマーおよびポリマーとしては、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。３官能モノマー、オリゴマーおよびポリマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等が挙げられ、４官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、５官能以上のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が使用される。これらの２官能以上の、モノマー、オリゴマーおよびポリマーは、単独または２種以上の混合物として使用してもよい。これらモノマー、オリゴマーは、電荷輸送性を持つ化合物の全量に対し１００質量％以下であることが望ましく、更には５０質量％以下がより望ましく、３０質量％以下が特に望ましい。
【０１０８】
本実施形態における表面保護層においては、さらに同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物と反応し得るポリマー、あるいは反応しないポリマーを混合してもよい。
【０１０９】
反応し得るポリマーとしては、例えば、特開平５−２１６２４９号公報、特開平５−３２３６３０号公報、特開平１１−５２６０３号公報、特開２０００−２６４９６１号公報などに開示されたものが挙げられる。また、反応しないポリマーとしては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂など公知のものが挙げられる。これらポリマーは、電荷輸送性を持つ化合物の全量に対し１００質量％以下が望ましく、さらには５０質量％以下がより望ましく、３０質量％以下が特に望ましい。
【０１１０】
本実施形態における表面保護層には、さらに他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
【０１１１】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。
また、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。
シランカップリング剤の量は選択して使用し得るが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。
【０１１２】
また、表面保護層にはアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
【０１１３】
また、上記成分を反応させて塗工液を得る際には、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温（２０℃）以上１００℃以下、より望ましくは３０℃以上８０℃以下で、望ましくは１０分以上１００時間以下、特に望ましくは１時間以上５０時間以下加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも望ましい。
【０１１４】
表面保護層には、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、劣化防止剤を添加することが望ましい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。劣化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
【０１１５】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、「イルガノックス１０７６」、「イルガノックス１０１０」、「イルガノックス１０９８」、「イルガノックス２４５」、「イルガノックス１３３０」、「イルガノックス３１１４」、「イルガノックス１０７６」（以上チバ・ジャパン社製）、「３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル」等が挙げられる。
【０１１６】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」（以上、チバ・ジャパン社製）、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」（以上アデカ社製）等が挙げられ、チオエーテル系として「スミライザ−ＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」等（以上住友化学社製）が挙げられ、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」（以上アデカ社製）等が挙げられる。
【０１１７】
更に、表面保護層には導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下が望ましく、更には１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下がより望ましい。このシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものが望ましく、一般に市販されているものを使用してもよい。
表面保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、表面保護層の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下が望ましく、更には０．１質量％以上３０質量％以下がより望ましい。
【０１１８】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
表面保護層中のシリコーン粒子の含有量は、表面保護層の全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０１１９】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集ｐ８９”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。
【０１２０】
また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０１２１】
表面保護層の膜厚は５μｍ以上４０μｍ以下が望ましく、７μｍ以上３０μｍ以下とするのがさらに望ましい。
【０１２２】
また、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は、０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。
【０１２３】
ついで、表面保護層以外の各層について説明する。
【０１２４】
（基体）
基体４としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、あるいは、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
【０１２５】
感光体がレーザープリンターに使用される場合、基体の表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。
【０１２６】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
また、他の粗面化の方法としては、基体表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。
【０１２７】
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。
陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。
【０１２８】
また、基体には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸およびフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。
【０１２９】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、または９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【０１３０】
（下引層）
下引層１は、結着樹脂のみで形成されてもよいし、結着樹脂に無機粒子を含有して形成されてもよい。
【０１３１】
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。
【０１３２】
中でも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。
【０１３３】
また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、あるいは、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。
【０１３４】
また、無機粒子としては、ＢＥＴ法による比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のものが望ましく用いられる。
【０１３５】
さらに無機粒子とアクセプター性化合物を含有させてもよい。アクセプター性化合物としては望まれる特性が得られるものならばいかなるものでも使用し得るが、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−t−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３'，５，５'テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
【０１３６】
これらのアクセプター性化合物の含有量は、望まれる特性が得られる範囲であれば設定し得るが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下含有され、さらに０．０５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【０１３７】
アクセプター化合物は、下引層形成用の塗工液の塗布の際に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、あるいは湿式法が挙げられる。
【０１３８】
乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接あるいは有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加あるいは噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは望まれる電子写真特性が得られる温度、時間であれば自由に実施し得る。
【０１３９】
湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過あるいは蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは望まれる電子写真特性が得られる温度、時間であれば自由に実施し得る。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が用いられる。
【０１４０】
また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては望まれる特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤が望ましく用いられる。
【０１４１】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては望まれる電子写真特性を得られるものであればいかなる物でも用いられるが、具体例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４２】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いられるシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４３】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用され、乾式法あるいは湿式法が用いられる。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理を併せて行ってもよい。
【０１４４】
下引層中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、望まれる電子写真特性が得られる量であれば自由に設定し得るが、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【０１４５】
下引層に含有される結着樹脂としては、望まれる特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用し得るが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。
また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。中でも上層（図１に示す本実施形態における感光体では電荷発生層）の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、自由に設定される。
【０１４６】
下引層形成用の塗工液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、または無機粒子とバインダー樹脂との比率は望まれる電子写真特性を得られる範囲で自由に設定し得る。
【０１４７】
下引層中には、種々の添加物を用いてもよい。添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗工液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０１４８】
チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０１４９】
アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【０１５０】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いられる。
【０１５１】
下引層形成用の塗工液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。
【０１５２】
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いられる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶解しうる溶剤であれば、いかなるものでも使用される。
【０１５３】
分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。さらにこの下引層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１５４】
このようにして得られた下引層形成用の塗工液を用い、基体上に下引層が成膜される。
【０１５５】
また、下引層は、ビッカース強度が３５以上とされていることが望ましい。
【０１５６】
さらに、下引層は、望まれる特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定してもよいが、厚さが１５μｍ以上が望ましく、さらに望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下である。
【０１５７】
また、下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層（図１に示す本実施形態における感光体では電荷発生層）の屈折率）以上１／２λ以下に調整することが望ましい。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等が用いられる。
【０１５８】
また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウェットホーニング、研削処理等が用いられる。
塗布した塗工液を乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜し得る温度で行われる。
【０１５９】
（電荷発生層）
電荷発生層２は電荷発生材料および結着樹脂を含有する層である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域の露光に対しては、金属および／または無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１１１７２号公報、特開平５−１１１７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン、特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料、等がより望ましい。
【０１６０】
電荷発生層に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、またポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１乃至１：１０の範囲内であることが望ましい。
【０１６１】
電荷発生層は、上記電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散した塗工液を用いて形成される。
【０１６２】
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。
【０１６３】
また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下にすることが望ましい。
【０１６４】
また、電荷発生層を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１６５】
このようにして得られる電荷発生層の膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、さらに望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【０１６６】
（電荷輸送層）
電荷輸送層３は、従来公知の電荷輸送材料と結着樹脂とを含有して、または高分子電荷輸送材料を含有して形成される。
【０１６７】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１６８】
より望ましくは、下記構造式（ａ−１）および（ａ−２）で示されるトリアリールアミン誘導体、または、ベンジジン誘導体が望ましい。
【０１６９】
【化３２】
2011070005.tif 000033
【０１７０】
（式中、Ｒ９は、水素原子またはメチル基を示す。また、ｌは１または２を意味する。Ａｒ６およびＡｒ７は置換または未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０）＝Ｃ（Ｒ１１）（Ｒ１２）、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を表し、Ｒ１０乃至Ｒ１４は水素原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。）
【０１７１】
【化３３】
2011070005.tif 000034
【０１７２】
（式中Ｒ１５、Ｒ１５’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を表わす。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、Ｒ１７’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換または未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）を表わし、Ｒ１８乃至Ｒ２２は水素原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは０乃至２の整数である。）
【０１７３】
このうち、特に−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を有するトリアリールアミン誘導体、あるいは−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）を有するベンジジン誘導体が望ましい。
【０１７４】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、上述のように、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材料等高分子電荷輸送材料も用いられる。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。
【０１７５】
これらの中でも特に、前記表面保護層と接する層が上記電荷輸送層であるとの観点から、上記電荷輸送層にはポリカーボネート樹脂、またはポリアリレート樹脂を含有することが望ましい。
【０１７６】
さらに、本実施形態における表面保護そうとの観点から、電荷輸送層に用いる結着樹脂は粘度平均分子量５００００以上、より望ましくは５５０００以上であることがより望ましい。
電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１乃至１：５が望ましい。
【０１７７】
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材料も用いられる。高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材料は、高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材料はそれだけでも成膜し得るが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１７８】
電荷輸送層は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用の塗工液を用いて形成される。電荷輸送層形成用の塗工液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。
【０１７９】
電荷輸送層形成用の塗工液を電荷発生層２の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１８０】
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。
尚、電荷輸送層として、前述の本実施形態に係る表面保護層の材料を使用してもよい。
【０１８１】
（機能一体型の感光層）
また、本実施形態に係る感光体が図３に示す電荷発生能と電荷輸送能とを有する機能一体型の感光層（単層型感光層）６を有する場合には、該単層型感光層中には前述の電荷輸送材料、電荷発生材料等が含有される。電荷発生材料の含有量としては、１０質量％以上８５質量％以下が望ましく、更には２０質量％以上５０質量％以下がより望ましい。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下が望ましい。
【０１８２】
単層型感光層の形成方法は、前述の電荷発生層や電荷輸送層の形成方法をそのまま採用しうる。また単層型感光層の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下がより望ましい。
【０１８３】
（画像形成装置／プロセスカートリッジ）
図４は、本発明の電子写真感光体を備えた画像形成装置の好適な一実施形態を示す概略断面図である。図４に示す画像形成装置１００は、画像形成装置本体（図示せず）に、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０１８４】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８、現像装置１１およびクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
【０１８５】
また、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する部材１３２、クリーニングをアシストする部材１３３を用いた例を示してあるが、これらはなくてもよい。
【０１８６】
帯電装置８としては、例えば、導電性または半導電性（ここで、導電性とは体積抵抗率が１０３Ωｃｍ未満であることを、半導電性とは体積抵抗率が１０３Ωｃｍ以上１０１０Ωｃｍ以下であることを表す）の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、帯電ローラを感光体７に対向させて用いる非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用し得る。
【０１８７】
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光し得る光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用される。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０１８８】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する、一般的な現像装置が用いられる。この現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。
【０１８９】
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数（ＭＬ２／Ａ）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。
さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上１０μｍ以下であることがより望ましく、４μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。
【０１９０】
トナーは特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤、離型剤、帯電制御剤等の構成成分を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、結着樹脂、着色剤、離型剤、帯電制御剤等の構成成分の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤、離型剤、帯電制御剤等の構成成分の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤、離型剤、帯電制御剤等の構成成分の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０１９１】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０１９２】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤等を含有してもよく、更にシリカや帯電制御剤等を含有してもよい。
【０１９３】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０１９４】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。
【０１９５】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等が代表的なものとして例示される。
【０１９６】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等が代表的なものとして例示される。
【０１９７】
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いてもよい。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０１９８】
現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはＶブレンダー等で混合することによって製造し得る。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【０１９９】
現像装置１１に用いるトナーには、更に滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、ＰＴＥＦ、ＰＦＡなどのフッ素系粒子、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウ等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。
これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。
【０２００】
現像装置１１に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
【０２０１】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２０２】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。
【０２０３】
有機粒子としては、黒鉛やグラファイトにフッ素が結合したフッ化炭素、ポリ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ・フッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロ三フッ化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）等が用いられる。
【０２０４】
粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より望ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、さらに望ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下のものが使用される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが望ましい。
【０２０５】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更にそれより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用され、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。
【０２０６】
小径無機粒子については表面処理することが望ましい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト、酸化セリウムの無機鉱物を添加することも望ましい。
【０２０７】
また、電子写真用のカラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、自由に設定し得る。
【０２０８】
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２０９】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０２１０】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置等を備えていてもよい。
【０２１１】
図５は、本実施形態に係る電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを用いたタンデム型の画像形成装置の一実施形態を示す概略断面図である。
図５は、本実施形態に係る画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体を使用し得る構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００に記載の構成を有している。
【実施例】
【０２１２】
以下実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１３】
（合成例１：化合物ＩＶ−４の合成）
２００ｍｌフラスコに、下記化合物（１）を１０ｇ、ヒドロキシエチルメタクリレート５０ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ、アンバーリスト１５Ｅ（オルガノ社製）０．５ｇを加え、室温（２０℃）で２４時間攪拌した。反応終了後、メタノール１００ｍｌを加え、析出した油状物をデカントで取り出した。この油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、油状の（ＩＶ−４）を１２ｇ得た。
【０２１４】
【化３４】
2011070005.tif 000035
【０２１５】
（合成例２：化合物ＩＶ−１８の合成）
５００ｍｌフラスコに、下記化合物（２）を５０ｇ、メタクリル酸１０７ｇ、トルエン３００ｍｌ、ｐ−トルエンスルホン酸２ｇを加え、１０時間加熱還流した。反応後、冷却し、水２０００ｍｌにあけ、洗浄を行い、さらに水で洗浄を行った。トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、（ＩＶ−１８）を３８ｇ得た。
【０２１６】
【化３５】
2011070005.tif 000036
【０２１７】
（比較合成例−１）
５００ｍｌフラスコに、下記化合物（３）を３６ｇ、アクリル酸７０ｇ、トルエン３００ｍｌ、ｐ−トルエンスルホン酸２ｇを加え、１０時間加熱還流した。反応後、冷却し、水２０００ｍｌにあけ、洗浄を行い、さらに水で洗浄を行った。トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製したが、溶剤を減圧留去中にゲル化し、目的物は単離されなかった。
【０２１８】
【化３６】
2011070005.tif 000037
【０２１９】
（比較合成例−２）
比較合成例−１にヒドロキノン０．５ｇを加えて反応を行った後、比較合成例−１と同様の処理を行ったが、溶剤を減圧留去中にゲル化し、目的物は単離されなかった。
【０２２０】
＜実施例１＞
（下引層の形成）
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
【０２２１】
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネートスミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２２２】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗工液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。
【０２２３】
（電荷発生層の形成）
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗工液を得た。この電荷発生層用塗工液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２０℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２２４】
（電荷輸送層の形成）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４５質量部、およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５５質量部をクロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２２５】
（表面保護層の形成）
同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物（反応性の電荷輸送材料）として前述の化合物（ＩＶ−１６）６０質量部、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４万）１０質量部、芳香環を有する導電性高分子化合物として前述の具体例（１−１）の導電性高分子化合物（Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｄｙｅ  Ｓｏｕｒｃｅ社製、ＡＤＳ１００ＲＥ、重量平均分子量７万）１０質量部、開始剤として大塚化学社製のＯＴａｚｏ１５：２質量部を、クロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、表面保護層形成用の塗工液を得た。この塗工液を前記の電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度２００ｐｐｍ以下で１６０℃、４５分の乾燥を行って、膜厚が１０μｍの表面保護層を形成した。
【０２２６】
〔画質評価〕
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製、ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ４００ＣＰに装着し、低温低湿環境（８℃、２０％ＲＨ）および高温高湿環境（２８℃、８５％ＲＨ）において、以下の評価を連続して行なった。
低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）の環境下にて１００００枚の画像形成テストを行なって１００００枚目の画質、並びに１００００枚画像形成テストを実施した後、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の画質について、以下のゴースト、カブリ、スジ、画像流れを評価した。
その結果を表２に示す。
【０２２７】
この低温低湿環境下での画質評価に続いて、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）の環境下にて１００００枚の画像形成テストを行なって１００００枚目の画質、並びに１００００枚画像形成テストを実施した後、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の画質について、以下のゴースト、カブリ、スジ、画像流れを評価した。
その結果を表３に示す。
【０２２８】
＜ゴースト評価＞
ゴーストは、図６（Ａ）に示したＧと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒べた部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図６（Ａ）のように良好あるいは軽微である
Ｂ：図６（Ｂ）のように若干目立つ
Ｃ：図６（Ｃ）のようにはっきり確認し得る
【０２２９】
＜カブリ評価＞
カブリ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部のトナー付着の程度を目視にて観察し判断した。
Ａ：良好である
Ｂ：うっすらとカブリあり
Ｃ：画質上問題となるカブリあり
【０２３０】
＜スジ評価＞
スジ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好である
Ｂ：部分的にスジの発生あり
Ｃ：画質上問題となるスジ発生
【０２３１】
＜画像流れ評価＞
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好である
Ｂ：連続的にプリントテストしている際は問題ないが、２４時間放置後に発生
Ｃ：連続的にプリントテストしている際にも発生
【０２３２】
〔表面保護層の接着性評価〕
表面保護層の接着性は、画像形成テスト後の感光体に２ｍｍ角で５×５個の切れ目をカッターナイフで付け、３Ｍ社製メンディングテープを貼り付け、剥離した時の残存数で評価した。その結果を表２に示す。
Ａ：２１個以上残存
Ｂ：１１個以上２０個以下残存
Ｃ：１０個以下残存
【０２３３】
＜実施例２乃至１３＞
実施例１の表面保護層の形成において、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物（反応性の電荷輸送材料）、芳香環を有する導電性高分子化合物およびその量、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂の量（ＰＣＺ量）、開始剤、硬化温度を表１に示すように変更した以外は実施例１に記載の方法により感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２３４】
＜実施例１４＞
実施例１の表面保護層の形成において、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物（反応性の電荷輸送材料）、芳香環を有する導電性高分子化合物およびその量、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂の量（ＰＣＺ量）、開始剤、硬化温度を表１に示すように変更し、さらに、電荷輸送層の形成を以下の方法に変更した以外は実施例１に記載の方法により感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２３５】
（電荷輸送層の形成）
下記化合物（Ａ）４５質量部およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４万）５５質量部を、クロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗工液を得た。この塗工液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１７μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２３６】
【化３７】
2011070005.tif 000038
【０２３７】
＜実施例１５＞
実施例１の表面保護層の形成において、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物（反応性の電荷輸送材料）、芳香環を有する導電性高分子化合物およびその量、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂の量（ＰＣＺ量）、開始剤、硬化温度を表１に示すように変更し、さらに電荷輸送層の形成を以下の方法に変更した以外は実施例１に記載の方法により感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２３８】
（電荷輸送層の形成）
下記化合物（Ｂ）５０質量部およびポリアリレート樹脂（Ｕ−ポリマー、粘度平均分子量：５万、ユニチカ社製）５０質量部を、クロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗工液を得た。この塗工液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２３９】
【化３８】
2011070005.tif 000039
【０２４０】
＜実施例１６＞
実施例１の表面保護層の形成において、同一分子内にトリフェニルアミン骨格と重合性の官能基とを有する化合物（反応性の電荷輸送材料）、芳香環を有する導電性高分子化合物およびその量、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂の量（ＰＣＺ量）、開始剤、硬化温度を表１に示すように変更し、さらに、電荷輸送層の形成を以下の方法に変更した以外は実施例１に記載の方法により感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２４１】
（電荷輸送層の作製）
下記化合物（Ｃ）５０質量部およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：８万）５０質量部を、クロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗工液を得た。この塗工液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２４２】
【化３９】
2011070005.tif 000040
【０２４３】
＜比較例１乃至４＞
表面保護層を設けなかった以外は、実施例１、１４、１５、および１６に記載の方法により比較例１乃至４の感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２４４】
＜比較例５乃至７＞
実施例１、１５、および１６において表面保護層の形成を以下の方法に変更した以外は実施例１に記載の方法により感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２４５】
（表面保護層の作製）
アンチモンドープをした酸化スズの被覆膜を有する導電粒子（Ｓ−１、チタン工業（株）製）からなる粉体６０質量部と、酸化チタン（ｔｉｔｏｎｅ  Ｒ−１Ｔ、堺化学（株）製）３０質量部と、レゾール型フェノール樹脂（フェノライトＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、固形分７０質量％）６０質量部と、２−メトキシ−１−プロパノール５０質量部と、メタノール５０質量部とからなる溶液を２０時間、ボールミルで分散した。この分散液を実施例１、１５、および１６の電荷輸送層上に塗布し、膜厚５μｍの保護層を形成し、比較例５乃至７の感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２４６】
＜比較例８＞
実施例１の表面保護層の形成において、芳香環を有する導電性高分子化合物としての具体例（１−１）の導電性高分子化合物を加えなかった以外は、実施例１に記載の方法により感光体を作製し、実施例１に記載の方法により評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【０２４７】
【表１】
2011070005.tif 000041
【０２４８】
ここで、上記表１に記載の開始剤は、以下のものである。
・ＯＴａｚｏ１５：大塚化学社製
・ＶＥ−７３    ：和光純薬社製
・Ｖ−６０１    ：和光純薬社製
・Ｖ−６０（ＡＩＢＮ）：和光純薬社製
【０２４９】
【表２】
2011070005.tif 000042
【０２５０】
【表３】
2011070005.tif 000043
【符号の説明】
【０２５１】
１…下引層、２…電荷発生層、３…電荷輸送層、４…基体、５…表面保護層、７…感光体、８…帯電器、９…露光装置、１１…現像装置、１３…クリーニング装置、４０…転写装置、５０…中間転写体、１００、１２０…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ
【図１】
2011070005.tif 000046
【図２】
2011070005.tif 000047
【図３】
2011070005.tif 000048
【図４】
2011070005.tif 000049
【図５】
2011070005.tif 000050
【図６】
2011070005.tif 000051