(57)【要約】【課題】壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さくされた有機電界発光素子を提供することにある。【解決手段】基板６０と、基板６０の表面に、壁面を有する透光性の壁部６０Ｗと、壁部６０Ｗの壁面上に、該壁面に近い側から順に、透光性の第一の電極７１と、壁部６０Ｗ方向に光が取り出される発光層８０と、第一の電極７１と対をなす第二の電極７２と、を有する有機電界発光素子７０Ａ。【選択図】図１
2011028850.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の表面に、壁面を有する透光性の壁部と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、透光性の第一の電極と、
前記壁部方向に光が取り出される発光層と、
前記第一の電極と対をなす第二の電極と、
を有する有機電界発光素子。
【請求項２】
基板と、
前記基板上に、第一の電極と、
前記第一の電極の前記基板とは反対側の表面に、壁面を有し、透光性であり且つ導電性の壁部と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、前記壁部方向に光が取り出される発光層と、
前記第一の電極とは接しないように、前記壁部と対をなす第二の電極と、
を有する有機電界発光素子。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の有機電界発光素子と、
前記有機電界発光素子により発射された光を集光し被照射面に照射するレンズと、
を有する露光装置。
【請求項４】
画像形成装置に対して着脱自在であり、
潜像を保持する潜像保持体と、
前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項３に記載の露光装置と、
を有するプロセスカートリッジ。
【請求項５】
潜像を保持する潜像保持体と、
前記潜像保持体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項３に記載の露光装置と、
前記潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
を有する画像形成装置。
【請求項６】
壁面を有する透光性の壁部を形成した基板を準備する基板準備工程と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、透光性の第一の電極を形成する第一の電極形成工程と、
発光層を形成するための材料を静電スプレーすることで発光層を形成する発光層形成工程と、
前記第一の電極と対をなす第二の電極を形成する第二の電極形成工程と、
を有する有機電界発光素子の製造方法。
【請求項７】
壁面を有し、透光性であり且つ導電性の壁部を形成した第一の電極を、基板上に形成する第一の電極形成工程と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、発光層を形成するための材料を静電スプレーすることで発光層を形成する発光層形成工程と、
前記第一の電極とは接しないように、前記壁部と対をなす第二の電極を形成する第二の電極形成工程と、
を有する有機電界発光素子の製造方法。
【請求項８】
前記発光層を形成するための材料として、少なくとも高分子発光材料を用いる請求項６または請求項７に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機電界発光素子、露光装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置、および有機電界発光素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子としては、例えば、基板上に有機エレクトロルミネセント（ＥＬ）素子を作製し、発光した光を導波路に入射させ、端面から発光させる発光素子が開示されている（例えば特許文献１参照）。
また、複数の発光部をミラーで反射させ、光を絞り込む方法が試されている（例えば特許文献２参照）。
また、反射板を用いて光を反射させ、導波することにより端面から発光させる方法も試されている（例えば特許文献３参照）。
更に、プリズムにより光を曲げて端面より発光させる方法も試されている（例えば特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１９５７９０号公報
【特許文献２】特開２００４−３２２６０４号公報
【特許文献３】特開２００７−０３０２９０号公報
【特許文献４】特開２００９−０２３１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上した有機電界発光素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的は、以下の本発明によって達成される。
即ち、請求項１に係る発明は、
基板と、
前記基板の表面に、壁面を有する透光性の壁部と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、透光性の第一の電極と、
前記壁部方向に光が取り出される発光層と、
前記第一の電極と対をなす第二の電極と、
を有する有機電界発光素子である。
【０００６】
請求項２に係る発明は、
基板と、
前記基板上に、第一の電極と、
前記第一の電極の前記基板とは反対側の表面に、壁面を有し、透光性であり且つ導電性の壁部と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、前記壁部方向に光が取り出される発光層と、
前記第一の電極とは接しないように、前記壁部と対をなす第二の電極と、
を有する有機電界発光素子である。
【０００７】
請求項３に係る発明は、
請求項１または請求項２に記載の有機電界発光素子と、
前記有機電界発光素子により発射された光を集光し被照射面に照射するレンズと、
を有する露光装置である。
【０００８】
請求項４に係る発明は、
画像形成装置に対して着脱自在であり、
潜像を保持する潜像保持体と、
前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項３に記載の露光装置と、
を有するプロセスカートリッジである。
【０００９】
請求項５に係る発明は、
潜像を保持する潜像保持体と、
前記潜像保持体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項３に記載の露光装置と、
前記潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
を有する画像形成装置である。
【００１０】
請求項６に係る発明は、
壁面を有する透光性の壁部を形成した基板を準備する基板準備工程と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、透光性の第一の電極を形成する第一の電極形成工程と、
発光層を形成するための材料を静電スプレーすることで発光層を形成する発光層形成工程と、
前記第一の電極と対をなす第二の電極を形成する第二の電極形成工程と、
を有する有機電界発光素子の製造方法である。
【００１１】
請求項７に係る発明は、
壁面を有し、透光性であり且つ導電性の壁部を形成した第一の電極を、基板上に形成する第一の電極形成工程と、
前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、発光層を形成するための材料を静電スプレーすることで発光層を形成する発光層形成工程と、
前記第一の電極とは接しないように、前記壁部と対をなす第二の電極を形成する第二の電極形成工程と、
を有する有機電界発光素子の製造方法である。
【００１２】
請求項８に係る発明は、
前記発光層を形成するための材料として、少なくとも高分子発光材料を用いる請求項６または請求項７に記載の有機電界発光素子の製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に係る発明によれば、壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上する。
【００１４】
請求項２に係る発明によれば、壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上する。
【００１５】
請求項３に係る発明によれば、壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上された露光装置が提供される。
【００１６】
請求項４に係る発明によれば、本構成を有しない場合に比べ、設計の自由度が向上する。
【００１７】
請求項５に係る発明によれば、本構成を有しない場合に比べ、設計の自由度が向上する。
【００１８】
請求項６に係る発明によれば、静電スプレーによって発光層を形成しない場合に比べ、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上された有機電界発光素子が容易に製造される。
【００１９】
請求項７に係る発明によれば、静電スプレーによって発光層を形成しない場合に比べ、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上された有機電界発光素子が容易に製造される。
【００２０】
請求項８に係る発明によれば、発光層を形成するための材料として高分子発光材料を用いない場合に比べ、光取出し面の大きさが小さく、発光輝度が向上された有機電界発光素子が容易に製造される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】第１実施形態に係る有機電界発光素子の一例を示す概略断面図である。
【図２】第１実施形態に係る有機電界発光素子の変形例を示す概略断面図である。
【図３】第１実施形態に係る有機電界発光素子の変形例を示す概略断面図である。
【図４】第１実施形態に係る有機電界発光素子の変形例を示す概略断面図である。
【図５】第２実施形態に係る有機電界発光素子の変形例を示す概略断面図である。
【図６−Ａ】静電スプレーを用いた発光層の形成方法の一例を説明するための概略構成図である。
【図６−Ｂ】静電スプレーを用いた発光層の形成方法の一例を説明するための概略構成図である。
【図７】本実施形態に係る画像形成装置の構成を示す概略図である。
【図８】本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図９】本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図１０】光導波路を備えた比較用の発光素子を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。
【００２３】
＜有機電界発光素子＞
第１実施形態に係る有機電界発光素子（以下単に「第１の発光素子」と称す）は、基板と、前記基板の表面に、壁面を有する透光性の壁部と、前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、透光性の第一の電極と、前記壁部方向に光が取り出される発光層と、前記第一の電極と対をなす第二の電極と、を有することを特徴とする。
【００２４】
また、第２実施形態に係る有機電界発光素子（以下単に「第２の発光素子」と称す）は、基板と、前記基板上に、第一の電極と、前記第一の電極の前記基板とは反対側の表面に、壁面を有し、透光性であり且つ導電性の壁部と、前記壁部の前記壁面上に、該壁面に近い側から順に、前記壁部方向に光が取り出される発光層と、前記第一の電極とは接しないように、前記壁部と対をなす第二の電極と、を有することを特徴とする。
【００２５】
上記第１実施形態に係る有機電界発光素子（第１の発光素子）は、既述の通り、壁部側から順に第一の電極と発光層と第二の電極とが積層されている。前記発光層は、前記第一の電極と第二の電極とで挟まれる領域に形成される電界によって発光し、発光層から発射されたその光は壁部側から発射され、即ち第１の発光素子においては、壁部側が光取出し面（光が取り出される面）となる。従って、例えば基板側が光取出し面となる場合や基板の反対側が光取出し面となる場合等の壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さくなる。この第１の発光素子を画像形成装置の露光装置として適用した場合、光取出し面の大きさが小さくされるために、画像形成装置における設計の自由度が向上し、例えば画像形成装置の小型化をも実現し得る。
【００２６】
また、上記第２実施形態に係る有機電界発光素子（第２の発光素子）は、既述の通り、導電性の壁部側から順に発光層と第二の電極とが積層されている。前記発光層は、電極として機能する壁部と第二の電極とで挟まれる領域に形成される電界によって発光し、発光層から発射されたその光は壁部側から発射され、即ち第２の発光素子においては、壁部側が光取出し面（光が取り出される面）となる。従って、例えば基板側が光取出し面となる場合や基板の反対側が光取出し面となる場合等の壁部側から光が発射されない場合に比べて、光取出し面の大きさが小さくなる。この第２の発光素子を画像形成装置の露光装置として適用した場合、光取出し面の大きさが小さくされるために、画像形成装置における設計の自由度が向上し、例えば画像形成装置の小型化をも実現し得る。
【００２７】
ここで、前記「壁部」とは、基板の表面もしくは第１の電極の表面に対して０°より大きく１８０°未満の角度となる壁面を有する部材を表す。
上記第１実施形態に係る有機電界発光素子（第１の発光素子）および上記第２実施形態に係る有機電界発光素子（第２の発光素子）（以下、両者を指す場合には単に「本実施形態に係る発光素子」と称す）は、既述の通り、基板の表面もしくは第１の電極の表面に対して０°より大きく１８０°未満の角度となる壁面を有する壁部を備えている。従って、上記壁面の角度を調整することにより、光取出し面から発射される光の角度を、求められる角度に調整し得る。
【００２８】
ここで、既述の通り、第１の発光素子および第２の発光素子の何れにおいても、前記壁部は透光性を有することが必要である。上記「透光性」とは、可視光の透過率が５０％以上であることを意味する。
尚、壁部についての上記可視光の透過率は、壁部と同じ材料を用いて同じ厚さで１ｃｍ以上の板を用意し、吸光度計にて測定する。
【００２９】
また、既述の通り、第２の発光素子においては、前記壁部は第二の電極と対をなし且つ壁部と第二の電極とで挟まれる領域に電界を形成するために、電極として機能する必要があり、即ち導電性を有することが必要である。上記「導電性」とは、表面抵抗率が５００Ω／□以下であることを意味する。尚、壁部についての上記表面抵抗率は、４端子４探針法により測定される。
【００３０】
ついで、前述の第１の発光素子および第２の発光素子について、図面を参照して説明する。
【００３１】
＜第１実施形態に係る有機電界発光素子＞
（第１の発光素子の構成）
図１は、第１の発光素子の一例を示す概略断面図である。
図１に示す発光素子７０Ａは、まず基板６０と、該基板６０表面に壁部６０Ｗとを備えている。基板６０と壁部６０Ｗとは同一の素材で一体的に形成されており、即ち基板６０を形成するための透光性の材料によって、壁部６０Ｗを有する「Ｌ字型」の基板６０が形成されている。尚、発光素子７０Ａでは、基板６０の表面に対する壁部６０Ｗの壁面の角度は、図１に示す通り９０°に調整されている。
また、基板６０の壁部６０Ｗを有する側の表面であって壁部６０Ｗの前記壁面の側には、第一の電極としての正極７１が、透光性を有する材料によって形成されている。更に、正極７１の壁部６０Ｗとは反対の面側に、電界によって発光する発光層８０が形成され、また発光層８０の正極７１とは反対の面側に、第二の電極としての負極７２が形成されている。
【００３２】
図１に示す発光素子７０Ａでは、発光層８０は、正極７１と負極７２とで挟まれる領域に形成される電界によって発光する。具体的には、発光層８０には、負極７２と正極７１とで挟まれる領域に電圧が印加されて電界が形成されることにより、負極７２側から電子が注入される。また、後述の正孔注入層を有する場合には、発光層８０には正孔注入層に注入された正孔が移動し、この正孔と電子とが発光層８０で結合することにより、発光層８０が発光する。発光層８０から発射された光は壁部６０Ｗ側（図１に示す矢印方向）から発射され、壁部６０Ｗ側が光取出し面（光が取り出される面）となる。
【００３３】
尚、第１実施形態においては、壁部６０Ｗの壁面の基板６０の表面に対する角度は、求められる光の発射角度に応じて調整してもよい。例えば、図２に示す発光素子７０Ｂのごとく、壁部６０Ｗの壁面の基板６０の表面に対する角度が９０°よりも大きい角度であってもよいし、一方図３に示す発光素子７０Ｃのごとく、壁部６０Ｗの壁面の基板６０の表面に対する角度が９０°よりも小さい角度であってもよい。
【００３４】
また、壁部６０Ｗが形成される位置は必ずしも基板６０の末端部分である必要はなく、図４に示す発光素子７０Ｄのごとく、基板６０の末端よりも内側に形成されていてもよい。
更に、図１には示さないが、正極７１と発光層８０とが正孔注入層を介して形成された態様、負極７２の発光層８０とは反対の面側に反射層を有する態様等であってもよい。
【００３５】
（第１の発光素子の製造方法および材料）
ついで、図１に示す発光素子７０Ａの製造方法と、発光素子７０Ａを構成する各部分の材料について説明する。
尚、第１の発光素子の製造方法は、以下の各工程を有することを特徴とする。
（１）壁面を有する透光性の壁部６０Ｗを形成した基板６０を準備する基板準備工程
（２）壁部６０Ｗの壁面上に、透光性の第一の電極としての正極７１を形成する第一の電極形成工程
（３）正極７１の壁部６０Ｗとは反対の面側に、発光層８０を形成する発光層形成工程
（尚、発光層８０は、発光層８０を形成するための材料を静電スプレーすることで
形成することが望ましい）
（４）発光層８０の正極７１とは反対の面側に、正極７１と対をなす第二の電極としての負極７２を形成する第二の電極形成工程
【００３６】
（１）基板準備工程
・基板
基板６０は、絶縁性（表面抵抗が１×１０８Ω・ｃｍ以上であることを意味する）を有する材料で形成され、且つ壁部６０Ｗと同一の素材で一体的に形成された図１に示す発光素子７０Ａにおいては透光性を有する材料で形成される。絶縁性および透光性を有する基板としては、例えば、ガラス基板や樹脂基板等が挙げられる。尚、基板６０を壁部６０Ｗとは異なる素材で形成する場合には、基板６０は透光性を有している必要はなく、その場合の基板６０としては、例えば、透過率の低い樹脂基板等が用いられる。
【００３７】
・壁部
図１に示す発光素子７０Ａでは、前述の通り、壁部６０Ｗは基板６０と同一の素材で一体的に形成されている。尚、壁部６０Ｗは基板６０とは異なる材料で形成してもよい。壁部６０Ｗを形成する材料としては、絶縁性および透光性を有する必要があり、例えばガラスや樹脂等が用いられる。
【００３８】
図１に示す、壁部６０Ｗと同一の素材で一体的に形成されたＬ字型の基板６０は、Ｌ字状の型にガラス材料を流し込んで成形する方法など、従来公知の方法により形成される。尚、基板６０の表面に対する壁部６０Ｗの壁面の角度の調整も、ガラス材料を流し込む型の形状を調整する方法など、従来公知の方法によって行われる。
【００３９】
（２）第一の電極形成工程
・正極
図１に示す発光素子７０Ａでは、第一の電極としての正極７１は透光性を有しており、発光層８０から発生する光を壁部６０Ｗ側から取り出すことを許容する。正極７１には、特に限られるものではないが、例えばＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物が用いられる。また正極７１の厚さは、これに限られるものではないが、例えば１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下が望ましい。
【００４０】
第一の電極としての正極７１の形成は、上記の材料を用いて従来公知の方法により行われる。例えば、溶液を吐出するインクジェット法や、印刷、スピンコートなどにて形成した後に、フォトリソエッチングにより、予め定められたサイズにパターニングすることにより、正極７１が形成される。
【００４１】
・正孔注入層
また、図１には示さないが、第一の電極形成工程において、正極７１の壁部６０Ｗとは反対の面側に正孔注入層を形成してもよい。正孔注入層は、負極７２と正極７１とで挟まれる領域に電圧が印加されることにより、正極７１側から正孔が注入される。正孔注入層には、例えば、フタロシアニン類（ＣｕＰｃなどを含む）またはインダンスレン系化合物などの低分子材料、ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）、ポリアニリン、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート）等の高分子材料等が用いられる。なお、正孔注入層の材料としては、上記に限られるものでない。なお、正孔注入層と正極７１とで挟まれる領域には、さらに正孔輸送層を配置してもよい。
正孔注入層は、例えば、スプレー法により形成される。なお、正孔注入層の形成方法としては、種々の方法が用いられ、例えばインクジェット法、スピンコート、印刷等により形成される。
【００４２】
（３）発光層形成工程
・発光層
発光層８０を形成する材料としては、高分子発光材料が好適に用いられる。例えば、ポリパラフェニレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレンが挙げられる。また発光層８０の厚さは、これに限られるものではないが、例えば３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が望ましい。
【００４３】
発光層８０の形成は、特に限定されるものではないが、発光層８０を形成するための上記の材料等を静電スプレーすることで形成することが望ましい。
ここで、静電スプレーを用いた発光層８０の形成方法を、図を用いて説明する。図６−Ａおよび図６−Ｂは、静電スプレーを用いた発光層８０の形成方法の一例を説明するための概略構成図である。
まず、図６−Ａに示すごとく、金属ノズル８５を備えたキャピラリと正極７１とを接地し、発光層８０を形成するための材料を溶剤に溶解したスプレー液８０Ｌを前記キャピラリに充填する。前記キャピラリに電圧を印加して、スプレー液８０Ｌをスプレー塗布することにより、図６−Ｂに示すごとく、正極７１表面に発光層８０が形成される。
【００４４】
（４）第二の電極形成工程
・負極
図１に示す発光素子７０Ａでは、発光層８０から発生した光を壁部６０Ｗ側から取り出すため、第二の電極としての負極７２は透光性を有している必要はない。また負極７２は、一層で構成されていても、複数層で構成されていてもよい。
負極７２は、例えば、Ｃａで構成されている。なお、負極７２の材料は、上記に限られるものではなく、負極７２の材料としては、例えば、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物が用いられる。また負極７２の厚さは、これに限られるものではないが、例えば１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下が望ましい。また、負極７２と発光層８０とで挟まれる領域には、電子注入効率を高めるための電子注入層や電子輸送層などを配置してもよい。
【００４５】
尚、図１に示す発光素子７０Ａでは、第一の電極として正極７１を、第二の電極として負極７２を形成した例を示したが、電極は逆であってもよく、即ち第一の電極として負極を、第二の電極として正極を形成した態様であってもよい。
【００４６】
・反射層
また、図１には示さないが、第二の電極形成工程において、負極７２の発光層８０とは反対の面側に反射層を形成してもよい。反射層は、発光層８０からの光を発光層８０側に反射する。反射層の材料としては、特に限られるものではないが、例えばＡｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどが用いられる。
【００４７】
・発光素子アレイ
尚、第一の発光素子を複数並べて発光素子アレイを形成する場合には、例えば、図１における奥行き方向に向かって、間隔をあけて複数の発光素子７０Ａを形成することにより発光素子アレイを形成してもよい。
具体的には、壁部６０Ｗを有する基板６０を準備した後、（２）第一の電極形成工程において、図１における奥行き方向に向かって間隔をあけて複数の正極７１を形成する。その後、該複数の正極７１表面に前述の方法により発光層８０および負極７２を形成することにより、壁部６０Ｗに沿って複数の発光素子７０Ａを有する発光素子アレイが形成される。
【００４８】
＜第２実施形態に係る有機電界発光素子＞
（第２の発光素子の構成）
図５は、第２の発光素子の一例を示す概略断面図である。
図５に示す発光素子１７０は、基板１６０と、基板１６０上に形成された第一の電極としての正極１７１と、該正極１７１の基板１６０とは反対側の表面に壁部１７１Ｗを備えている。正極１７１と壁部１７１Ｗとは同一の素材で一体的に形成されており、即ち正極１７１を形成するための透光性の材料によって、壁部１７１Ｗを有する「Ｌ字型」の正極１７１が形成されている。尚、発光素子１７０では、正極１７１の基板１６０とは反対側の表面に対する壁部１７１Ｗの壁面の角度は、図５に示す通り９０°に調整されている。
また、正極１７１の壁部１７１Ｗを有する側であって壁部１７１Ｗの前記壁面の側には、電界によって発光する発光層１８０が形成され、また発光層１８０の壁部１７１Ｗとは反対の面側に、第二の電極としての負極１７２が形成されている。但し、図５に示すごとく、負極１７２は、絶縁層１９０を介することによって正極１７１と接しないように形成されている。
【００４９】
図５に示す発光素子１７０では、発光層１８０は、正極１７１と一体的に形成された壁部１７１Ｗと負極１７２とで挟まれる領域に形成される電界によって発光する。具体的には、発光層１８０には、負極１７２と壁部１７１Ｗとで挟まれる領域に電圧が印加されて電界が形成されることにより、負極１７２側から電子が注入される。また、後述の正孔注入層を有する場合には、発光層１８０には正孔注入層に注入された正孔が移動し、この正孔と電子とが発光層１８０で結合することにより、発光層１８０が発光する。発光層１８０から発射された光は壁部１７１Ｗ側（図５に示す矢印方向）から発射され、壁部１７１Ｗ側が光取出し面（光が取り出される面）となる。
【００５０】
尚、第２実施形態においては、壁部１７１Ｗの壁面の正極１７１の表面に対する角度は、前述の第１実施形態にも記載したとおり、求められる光の発射角度に応じて調整してもよい。
また、壁部１７１Ｗが形成される位置は、前述の第１実施形態にも記載したとおり、必ずしも正極１７１の末端部分である必要はなく、正極１７１の末端よりも内側に形成されていてもよい。
更に、図５には示さないが、壁部１７１Ｗと発光層１８０とが正孔注入層を介して形成された態様、負極１７２の発光層１８０とは反対の面側に反射層を有する態様等であってもよい。
【００５１】
（第２の発光素子の製造方法および材料）
ついで、図５に示す発光素子１７０の製造方法と、発光素子１７０を構成する各部分の材料について説明する。
尚、第２の発光素子の製造方法は、以下の各工程を有することを特徴とする。
（１）壁面を有し、透光性であり且つ導電性の壁部１７１Ｗを形成した第一の電極としての正極１７１を、基板１６０の一方の面側に形成する第一の電極形成工程
（２）壁部１７１Ｗの壁面の側に、発光層１８０を形成する発光層形成工程
（尚、発光層１８０は、発光層１８０を形成するための材料を静電スプレーする
ことで形成することが望ましい）
（３）発光層１８０の壁部１７１Ｗとは反対の面側に、正極１７１とは接しないように、壁部１７１Ｗと対をなす第二の電極としての負極１７２を形成する第二の電極形成工程
【００５２】
（１）第一の電極形成工程
・基板
基板１６０は、絶縁性を有する材料で形成される。尚、発光層１８０から発生した光は壁部１７１Ｗ側から取り出されるため、基板１６０は透光性を有している必要はない。絶縁性を有する基板としては、例えば、ガラス基板や樹脂基板等が挙げられる。
【００５３】
・正極
図５に示す発光素子１７０では、第一の電極としての正極１７１は壁部１７１Ｗと同一の素材で一体的に形成され、透光性を有する材料で形成される。尚、正極１７１を壁部１７１Ｗとは異なる素材で形成する場合には、正極１７１は透光性を有している必要はない。正極１７１には、特に限られるものではないが、例えばＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物が用いられる。また正極１７１の厚さは、これに限られるものではないが、例えば１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下が望ましい。
【００５４】
・壁部
図５に示す発光素子１７０では、前述の通り、壁部１７１Ｗは正極１７１と同一の素材で一体的に形成されている。尚、壁部１７１Ｗは正極１７１とは異なる材料で形成してもよい。壁部１７１Ｗを形成する材料としては、導電性および透光性を有する必要があり、発光層１８０から発生する光を壁部１７１Ｗ側から取り出すことを許容する。壁部１７１Ｗを形成する材料の具体例としては、前記正極１７１の材料として列挙したものが挙げられる。
【００５５】
図５に示す、壁部１７１Ｗと同一の素材で一体的に形成されたＬ字型の正極１７１の形成は、上記の材料を用いて従来公知の方法により行われる。例えば、溶液を吐出するインクジェット法や、印刷、スピンコートなどにて形成した後に、フォトリソエッチングにより、予め定められたサイズおよび形状にパターニングすることにより、Ｌ字型の正極１７１が形成される。尚、正極１７１の表面に対する壁部１７１Ｗの壁面の角度の調整も、フォトリソエッチングにより予め定められたサイズおよび形状にパターニングする方法など、従来公知の方法によって行われる。
【００５６】
・正孔注入層
また、図５には示さないが、第一の電極形成工程において、壁部１７１Ｗの発光層１８０が形成される面側に正孔注入層を形成してもよい。正孔注入層に用いる材料や、その形成方法等については、第１実施形態において記載した通りである。
【００５７】
（２）発光層形成工程
・絶縁層
壁部１７１Ｗの前記壁面の側に発光層１８０を形成する前に、第二の電極としての負極１７２を正極１７１と接しないようにするため、正極１７１の基板１６０とは反対側の表面に絶縁層１９０を形成してもよい。
絶縁層１９０を形成する材料としては、例えば、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド等が挙げられる。絶縁層１９０の形成は、特に限定されるものではなく、従来公知の方法が適用され、例えば、印刷法、スプレー法、インクジェット法、ディップ法等の方法によって形成される。
【００５８】
・発光層
発光層１８０に用いる材料や、望ましい発光層１８０の厚さ等については、第１実施形態において記載した通りである。
また、発光層１８０の形成は、特に限定されるものではないが、発光層１８０を形成するための上記等の材料を静電スプレーすることで形成することが望ましい。
【００５９】
（３）第二の電極形成工程
・負極
第二の電極としての負極１７２に用いる材料や、その形成方法、望ましい負極１７２の厚さ等については、第１実施形態において記載した通りである。また、負極１７２と発光層１８０とで挟まれる領域には、電子注入効率を高めるための電子注入層や電子輸送層などを配置してもよい。
【００６０】
尚、図５に示す発光素子１７０では、第一の電極として正極１７１を、第二の電極として負極１７２を形成した例を示したが、電極は逆であってもよく、即ち第一の電極として負極を、第二の電極として正極を形成した態様であってもよい。
【００６１】
・反射層
また、図５には示さないが、第二の電極形成工程において、負極１７２の発光層１８０とは反対の面側に反射層を形成してもよい。反射層は、発光層１８０からの光を発光層１８０側に反射する。反射層に用いる材料等については、第１実施形態において記載した通りである。
【００６２】
・発光素子アレイ
尚、第二の発光素子を複数並べて発光素子アレイを形成する場合には、例えば、図５における奥行き方向に向かって、間隔をあけて複数の発光素子１７０を形成することにより発光素子アレイを形成してもよい。
具体的には、（１）第一の電極形成工程において、図５における奥行き方向に向かって間隔をあけて複数の壁部１７１Ｗを形成する。その後、該複数の壁部１７１Ｗ表面に前述の方法により発光層１８０および負極１７２を形成することにより、複数の発光素子１７０を有する発光素子アレイが形成される。
【００６３】
上記第１および第２の発光素子は、レンズと組み合わせることにより画像形成装置における露光装置として好適に用いられる。
【００６４】
＜画像形成装置および露光ヘッド＞
前述の通り、前記第１および第２の発光素子は、画像形成装置における露光装置として好適に用いられる。
本実施形態に係る画像形成装置は、潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体の表面を帯電させる帯電装置と、帯電された前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する第１および第２の発光素子および該発光素子により発射された光を集光し潜像保持体に照射するレンズを有する露光装置と、前記潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を有することを特徴とする。
【００６５】
ついで、本実施形態に係る画像形成装置の一例を図面に基づき説明する。
【００６６】
（画像形成装置の構成）
まず、本実施形態に係る画像形成装置１０の構成を説明する。図７は、本実施形態に係る画像形成装置１０の構成を示す概略図である。
【００６７】
本実施形態に係る画像形成装置１０は、図７に示すように、各構成部品を収容する装置筐体１１と、用紙等の記録媒体Ｐが収容される記録媒体収容部１２と、記録媒体Ｐにトナー画像を形成する画像形成部１４と、記録媒体収容部１２から画像形成部１４へ記録媒体Ｐを搬送する搬送部１６と、画像形成部１４によって形成されたトナー画像を記録媒体Ｐに定着させる定着装置１８と、定着装置１８によってトナー画像が定着された記録媒体Ｐが排出される記録媒体排出部（図示省略）と、を備えている。
【００６８】
記録媒体収容部１２、画像形成部１４、搬送部１６および定着装置１８は、装置筐体１１に収容されている。
【００６９】
画像形成部１４は、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の各色のトナー画像を形成する画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋと、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成されたトナー画像が転写される中間転写体の一例としての中間転写ベルト２４と、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成されたトナー画像を中間転写ベルト２４に転写する一次転写部材の一例としての一次転写ロール２６と、中間転写ベルト２４に転写されたトナー画像を記録媒体Ｐに転写する二次転写部材の一例としての二次転写ロール２８と、を備えている。
【００７０】
画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋは、潜像を保持する像保持体の一例として、一方向（図７において時計回り方向）へ回転する感光体ドラム３０をそれぞれ有している。
【００７１】
各感光体ドラム３０の周囲には、感光体ドラム３０の回転方向上流側から順に、感光体ドラム３０の表面を帯電させる帯電装置３２と、帯電した感光体ドラム３０の表面を露光して感光体ドラム３０の表面に静電潜像を形成する露光装置３４と、感光体ドラム３０の表面に形成された静電潜像を現像してトナー画像を形成する現像装置３６と、トナー画像が中間転写ベルト２４に転写された後の感光体ドラム３０の表面に残留しているトナーを除去する除去装置４０と、が設けられており、前記露光装置３４として前述の第１の発光素子または第２の発光素子を備えた露光装置が用いられている。
【００７２】
感光体ドラム３０、帯電装置３２、露光装置３４、現像装置３６および除去装置４０は、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋに収容されてユニット化されている。画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋは、装置筐体１１に着脱自在に設けられたプロセスカートリッジとされており、交換自由となっている。
【００７３】
なお、感光体ドラム３０、帯電装置３２、露光装置３４、現像装置３６および除去装置４０の全てがユニット化される必要は無い。例えば、感光体ドラム３０、帯電装置３２および現像装置３６の少なくとも１つと、露光装置３４とが、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋに収容されてユニット化されていればよい。
【００７４】
中間転写ベルト２４は、二次転写ロール２８に対向する対向ロール４２、駆動ロール４４および支持ロール４６によって支持され、感光体ドラム３０と接触しながら一方向（図７において反時計回り方向）へ循環移動するようになっている。
【００７５】
一次転写ロール２６は、中間転写ベルト２４を挟んで、感光体ドラム３０に対向している。一次転写ロール２６と感光体ドラム３０とで挟まれる領域には、感光体ドラム３０上のトナー画像が中間転写ベルト２４に一次転写される一次転写位置が形成される。この一次転写位置において、一次転写ロール２６が感光体ドラム３０の表面のトナー画像を圧力と静電力により中間転写ベルト２４に転写するようになっている。
【００７６】
二次転写ロール２８は、中間転写ベルト２４を挟んで対向ロール４２と対向している。二次転写ロール２８と対向ロール４２とで挟まれる領域には、中間転写ベルト２４上のトナー画像が記録媒体Ｐに二次転写される二次転写位置が形成される。この二次転写位置において、二次転写ロール２８が中間転写ベルト２４の表面のトナー画像を圧力と静電力により記録媒体Ｐに転写するようになっている。
【００７７】
搬送部１６は、記録媒体収容部１２に収容された記録媒体Ｐを送り出す送出ロール５０と、送出ロール５０によって送り出された記録媒体Ｐを二次転写位置へ搬送する搬送ロール対５２と、を備えている。
【００７８】
定着装置１８は、二次転写位置より搬送方向下流側に配置されており、二次転写位置で転写されたトナー画像を記録媒体Ｐへ定着させる。
【００７９】
二次転写位置より搬送方向下流側であって、定着装置１８よりも搬送方向上流側には、定着装置１８に記録媒体Ｐを搬送する搬送部材の一例としての搬送ベルト５４が配置されている。
【００８０】
以上の構成により、本実施形態に係る画像形成装置１０では、まず記録媒体収容部１２から送り出された記録媒体Ｐが、搬送ロール対５２によって二次転写位置へ送り込まれる。
【００８１】
一方、中間転写ベルト２４には、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成された各色のトナー画像が重ねられて、カラー画像が形成される。二次転写位置へ送り込まれた記録媒体Ｐは、中間転写ベルト２４上に形成されたカラー画像が転写される。
【００８２】
トナー画像が転写された記録媒体Ｐは、定着装置１８へ搬送され、転写されたトナー画像が定着装置１８により定着される。トナー画像が定着された記録媒体Ｐは、記録媒体排出部（図示省略）へ排出される。以上のごとく、一連の画像形成動作が行われる。
【００８３】
なお、画像形成装置の構成としては、上記の構成に限られず、例えば、中間転写体を有さない直接転写型の画像形成装置や、単色のみの画像形成を行うモノカラー画像形成装置でもよく、種々の構成としてもよい。
【００８４】
（露光装置３４の構成）
次に、露光装置３４の構成を説明する。図８、図９は、本実施形態に係る露光装置３４の構成を示す概略図である。
【００８５】
各露光装置３４は、図８および図９に示すように、主走査方向Ｘに長尺状に形成された基板６０と、発光素子アレイ６２（前述の第１の発光素子および第２の発光素子の少なくとも何れか一方を備えた発光素子アレイ）と、発光素子アレイ６２により生成された光を集光し、被照射面たる感光体ドラム３０の表面に結像する結像素子アレイの一例としてのセルフォックレンズアレイ６４と、を備えている。
【００８６】
基板６０は、絶縁性を有する基板で形成され、例えば、ガラス基板や樹脂基板で構成されている。
【００８７】
また、基板６０には、発光素子７０を駆動する駆動回路の一例としてのドライバＩＣ（不図示）が設けられている。ドライバＩＣは、複数の発光素子７０を個別に駆動するようになっている。
【００８８】
セルフォックレンズアレイ６４は、結像素子の一例としてのロッドレンズ６４Ａが複数配列されて構成されており、複数の発光素子７０の光発射側に配置されている。
【００８９】
セルフォックレンズアレイ６４では、１ドットに対して複数のロッドレンズ６４Ａで正立等倍結像するように、各ロッドレンズ６４Ａが２次元状に配列されている。従って、各発光素子７０からの発光光は、対応する複数のセルフォックレンズアレイ６４を介して感光体ドラム３０の表面に結像される。このように、発光素子７０からの発光光によって、感光体ドラム３０が露光されて潜像が形成される。
【００９０】
なお、発光素子７０に組み合わせる光学レンズとしては、セルフォックレンズアレイ６４に限られず、シリンドリカルレンズを組み合わせても良い。また、個々の発光素子７０上にマイクロレンズを接合してもよい。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明を実施例を挙げてより詳細に説明する。尚、本発明は以下の実施例により限定されるものではない。
【００９２】
〔実施例１：壁部の角度が９０°である第１の発光素子の実施例〕
・壁部を有するガラス基板の準備
基板６０の表面に対して９０°の角度となる壁面を有するガラス製の壁部６０Ｗを有するガラス基板（Ｌ字型ガラス基板／壁部：高さ１０００μｍ，幅５０００μｍ，厚み５００μｍ／基板：長さ５０ｍｍ，幅５０００μｍ，厚み５００μｍ）を準備した。
【００９３】
・正極の形成
上記Ｌ字型ガラス基板の壁部６０Ｗの前記壁面側に、有機電界発光素子の正極７１として用いるＩＴＯを、スパッタ法により形成し、フォトリソエッチングにて予め定められたサイズにパターニングして、複数形成した。これにより、壁部６０Ｗに沿った方向（図１における奥行き方向）に向かって、幅２０μｍのＩＴＯが、２０μｍの間隔で複数形成された。尚、ＩＴＯの厚みは２００ｎｍであった。
【００９４】
次に前記正極７１の前記壁部６０Ｗとは反対側の面に正孔注入層を形成した。まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート）溶液を金属ノズルを備えたキャピラリに充填し、正極７１を接地し、前記キャピラリに５０００Ｖの印加を行い、厚み２０ｎｍの正孔注入層を形成した。
【００９５】
・発光層の形成
次に前記正孔注入層の前記正極７１とは反対側の面に発光層８０を形成した。まず、キシレンに下記構造式１の発光材料を１質量％溶解し、その塗布液を図６−Ａおよび図６−Ｂに示す金属ノズル８５を備えたキャピラリに充填し、正極７１を接地し、前記キャピラリに５０００Ｖの印加を行い、スプレー塗布にて厚み８０ｎｍの発光層８０を形成した。
【００９６】
【化１】
2011028850.tif 000003
【００９７】
・負極の形成
次に前記発光層８０の前記正極７１とは反対側の面に、２０μｍ幅のマスクを用いて、Ｃａを蒸着して負極７２を形成した。また、該負極７２上にＡｌを蒸着して反射層を形成した。
こうして、発光素子を作製した。
【００９８】
〔実施例２：壁部の角度が９０°でない第１の発光素子の実施例〕
実施例１の壁部を有するガラス基板の準備において、基板６０の表面に対して６０°の角度となる壁面を有するガラス製の壁部６０Ｗを有するガラス基板を準備した以外は、実施例１に記載の方法により発光素子を作製した。
【００９９】
〔実施例３：第２の発光素子の実施例〕
・正極の形成
まず、ガラス基板１６０（長さ１０００μｍ，幅５０００μｍ，厚み５００μｍ）を準備した。
次いで、該ガラス基板１６０の表面に、壁部１７１Ｗを有する正極１７１をスパッタ法により形成し、フォトリソエッチングにて予め定められたサイズにパターニングして、複数形成した。
こうして、正極１７１の表面に対して９０°の角度となる壁面を有する、透光性であり且つ導電性の壁部１７１Ｗを有する正極１７１を形成した。尚、壁部１７１Ｗの幅（図１における奥行き方向の幅）は２０μｍの間隔で複数形成した。また、壁部１７１Ｗの厚みは５００ｎｍであった。
【０１００】
次に前記壁部１７１Ｗの表面に正孔注入層を形成した。まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート）溶液を金属ノズルを備えたキャピラリに充填し、壁部１７１Ｗを接地し、前記キャピラリに５０００Ｖの印加を行い、厚み２０ｎｍの正孔注入層を形成した。
【０１０１】
・絶縁層の形成
次に前記正極１７１の壁部１７１Ｗを有する側の面であって、壁部１７１Ｗおよび前記正孔注入層が形成されていない領域に、発光層１８０および負極１７２と正極１７１とが接触しないようにするための絶縁層１９０を、スプレー法により形成した。
【０１０２】
・発光層の形成
次に前記正孔注入層の前記壁部１７１Ｗとは反対側の面に発光層１８０を形成した。まず、キシレンに前記構造式１の発光材料を１質量％溶解し、その塗布液を図６−Ａおよび図６−Ｂに示す金属ノズル８５を備えたキャピラリに充填し、壁部１７１Ｗを接地し、前記キャピラリに５０００Ｖの印加を行い、スプレー塗布にて厚み８０ｎｍの発光層１８０を形成した。
【０１０３】
・負極の形成
次に前記発光層１８０の前記壁部１７１Ｗとは反対側の面に、２０μｍ幅のマスクを用いて、Ｃａを蒸着して負極１７２を形成した。また、該負極１７２上にＡｌを蒸着して反射層を形成した。
こうして、発光素子を作製した。
【０１０４】
〔比較例１：光導波路を備えた比較用の発光素子の比較例〕
図１０に示す発光素子を、以下の方法により作製した。
【０１０５】
・正極の形成
光導波路２９５を形成したガラス基板２６０に、有機電界発光素子の正極２７１として用いるＩＴＯを、スパッタ法にて形成した後にフォトリソエッチングにて予め定められたサイズにパターニングして、複数形成した。これにより、基板２６０に沿った方向（図１０における奥行き方向）に向かって、幅２０μｍのＩＴＯが、２０μｍの間隔で複数形成された。尚、ＩＴＯの厚みは２００ｎｍであった。
【０１０６】
次に前記正極２７１の表面に正孔注入層を形成した。まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート）溶液をスピン塗布法によって塗布し、厚み３０ｎｍの正孔注入層を形成した。
【０１０７】
・発光層の形成
次に前記正孔注入層の前記正極２７１とは反対側の面に発光層２８０を形成した。まず、キシレンに前記構造式１の発光材料を１質量％溶解し、その塗布液をスピン塗布法によって塗布し、厚み８０ｎｍの発光層２８０を形成した。
【０１０８】
・負極の形成
次に前記発光層２８０の前記正極２７１とは反対側の面に、２０μｍ幅のマスクを用いて、Ｃａを蒸着し、Ａｌを蒸着して陰極を形成した。
こうして、発光素子を作製した。
【０１０９】
〔比較例２：面発光の比較用の発光素子の比較例〕
以下の方法により、基板側から光取出しされる比較用の発光素子を作製した。
平面基板上に、スパッタ法にて形成したＩＴＯ膜をフォトリソエッチングにて予め定められたサイズにパターニングして、複数形成した。幅２０μｍのＩＴＯ（正極）が、２０μｍの間隔で複数形成された。尚、ＩＴＯの厚みは２００ｎｍであった。
【０１１０】
次に前記ＩＴＯ（正極）の表面に正孔注入層を形成した。まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート）溶液をスピン塗布法によって塗布し、厚み３０ｎｍの正孔注入層を形成した。
【０１１１】
次に前記正孔注入層上に発光層を形成した。まず、キシレンに前記構造式１の発光材料を１質量％溶解し、その塗布液をスピン塗布法によって塗布し、厚み８０ｎｍの発光層を形成した。
【０１１２】
次に前記発光層上に、２０μｍ幅のマスクを用いて、Ｃａを蒸着しＡｌを蒸着して陰極を形成した。
こうして、発光素子を作製した。
【０１１３】
−評価試験−
（光取出し面の大きさ）
光取出し面（光取出しされる面／発光面）の大きさ（幅／μｍ）とは、デバイスの高さ方向の厚みを意味することから、デバイスの厚みを、光学顕微鏡にて測定した。
【０１１４】
（光取出しされる角度）
光取出しされる角度（°）とは、基板と壁面との角度と一致するため、それらの角度の測定を行った。
【０１１５】
（発光輝度）
発光輝度（単位：ｃｄ／ｍ２）を輝度計を用い、基板の側面方向から測定を行った。
【０１１６】
【表１】
2011028850.tif 000004
【符号の説明】
【０１１７】
１０  画像形成装置
１１  装置筐体
１２  記録媒体収容部
１４  画像形成部
１６  搬送部
１８  定着装置
２２Ｃ，２２Ｍ，２２Ｙ，２２Ｋ  画像形成ユニット
２４  中間転写ベルト
２６  一次転写ロール
２８  二次転写ロール
３０  感光体ドラム
３２  帯電装置
３４  露光装置
３６  現像装置
４０  除去装置
４２  対向ロール
４４  駆動ロール
４６  支持ロール
５０  送出ロール
５２  搬送ロール対
５４  搬送ベルト
６０  基板
６０Ｗ  壁部
６２  発光素子アレイ
６４  セルフォックレンズアレイ
６４Ａ  ロッドレンズ
７０，７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ，７０Ｄ  発光素子
７１  正極
７２  負極
８０  発光層
８０Ｌ  スプレー液
８５  金属ノズル
１６０  基板
１７０  発光素子
１７１  正極
１７１Ｗ  壁部
１７２  負極
１８０  発光層
１９０  絶縁層
２６０  基板
２７１  正極
２７２  負極
２８０  発光層
２９５  光導波路
【図１】
2011028850.tif 000005
【図２】
2011028850.tif 000006
【図３】
2011028850.tif 000007
【図４】
2011028850.tif 000008
【図５】
2011028850.tif 000009
【図６−Ａ】
2011028850.tif 000010
【図６−Ｂ】
2011028850.tif 000011
【図７】
2011028850.tif 000012
【図８】
2011028850.tif 000013
【図９】
2011028850.tif 000014
【図１０】
2011028850.tif 000015