(57)【要約】【課題】マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることにより、高いコントラストを有する表示シートを製造することができる表示シートの製造方法、かかる表示シートの製造方法で製造された表示シート、信頼性の高い表示装置、および信頼性の高い電子機器を提供すること。【解決手段】表示シートの製造方法は、基板１２上に、少なくとも１種の電気泳動粒子５を含む電気泳動分散液１０が封入された複数のマイクロカプセル４０を分散してなる塗布液１００を供給し、塗布液１００に対して、基板１２の厚さ方向の圧力を加え、塗布液１００中にて基板１２の厚さ方向に他のマイクロカプセル４０と重なって位置するマイクロカプセル４０を基板１２へ向けて移動させる工程を有する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも１種の電気泳動粒子を含む電気泳動分散液が封入された複数のマイクロカプセルを分散してなる塗布液を供給し、該塗布液に対して、前記基板の厚さ方向の圧力を加え、前記塗布液中にて前記基板の厚さ方向に他のマイクロカプセルと重なって位置する前記マイクロカプセルを前記基板へ向けて移動させる工程を有することを特徴とする表示シートの製造方法。
【請求項２】
第１の基板上に、前記マイクロカプセルを配設する領域を規定する壁部を設ける壁部形成工程と、
前記壁部の内側に、前記塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記壁部の内側に供給された塗布液に対して、前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加え、前記塗布液中にて他の前記マイクロカプセルに重なるようにして位置する前記マイクロカプセルを前記第１の基板へ向けて移動させるマイクロカプセル再配置工程と、
前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加えることにより、第２の基板を前記塗布液を介して前記第１の基板と接合する基板接合工程とを有することを特徴とする表示シートの製造方法。
【請求項３】
前記基板接合工程では、前記壁部をスペーサとして利用し、該スペーサを介して第１の基板と前記第２の基板とを接合する請求項２に記載の表示シートの製造方法。
【請求項４】
前記スペーサは、前記マイクロカプセルの劣化を抑制する封止部として機能する請求項３に記載の表示シートの製造方法。
【請求項５】
前記基板接合工程で加えられる圧力は、前記マイクロカプセル再配置工程で加えられる前記圧力と等しい請求項３または４に記載の表示シートの製造方法。
【請求項６】
前記基板接合工程に先立って、前記壁部を除去する壁部除去工程を有する請求項２に記載の表示シートの製造方法。
【請求項７】
前記基板接合工程で加えられる圧力は、前記マイクロカプセル再配置工程で加えられる前記圧力よりも小さい請求項６に記載の表示シートの製造方法。
【請求項８】
前記第１の基板上に、前記マイクロカプセルを配設する領域として設定されたマイクロカプセル配設領域に、前記塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記マイクロカプセル配設領域に供給された塗布液に対して、前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加え、前記塗布液中にて他の前記マイクロカプセルに重なるようにして位置する前記マイクロカプセルを前記第１の基板へ向けて移動させるマイクロカプセル再配置工程と、
前記マイクロカプセル配設領域の周囲を囲むようにして壁部を形成する壁部形成工程と、
前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加えることにより、第２の基板を前記塗布液を介して前記第１の基板と接合する基板接合工程とを有することを特徴とする表示シートの製造方法。
【請求項９】
前記基板接合工程で加えられる圧力は、前記マイクロカプセル再配置工程で加えられる前記圧力よりも大きい請求項８に記載の表示シートの製造方法。
【請求項１０】
前記第１の基板上に、前記マイクロカプセルを配設する領域を規定する壁部を設ける壁部形成工程と、
前記壁部の内側に、前記塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加えることにより、第２の基板を前記塗布液を介して前記第１の基板と接合するとともに、前記塗布液中にて他の前記マイクロカプセルに重なるようにして位置する前記マイクロカプセルを前記第１の基板へ向けて移動させる基板接合工程とを有することを特徴とする表示シートの製造方法。
【請求項１１】
前記マイクロカプセルは、球形をなし、基板接合工程を終えた状態でも球形を維持している請求項１ないし１０のいずれかに記載の表示シートの製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の表示シートの製造方法により製造されたことを特徴とする表示シート。
【請求項１３】
請求項１２に記載の表示シートを備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示シートの製造方法、表示シート、表示装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液体中に微粒子を分散させた分散系に電界を作用させると、微粒子は、クーロン力により液体中で移動（泳動）することが知られている。この現象を電気泳動といい、近年、この電気泳動を利用して、所望の情報（画像）を表示させるようにした電気泳動表示装置が新たな表示装置として注目を集めている。
この電気泳動表示装置は、電圧の印加を停止した状態での表示メモリー性や広視野角性を有することや、低消費電力で高コントラストの表示が可能であること等の特徴を備えている。
【０００３】
また、電気泳動表示装置は、自然光を光源として用いる反射型のディスプレイである。そして、高い視認性を実現するために、透過部の高透明性、反射部の高反射率、吸収部の高吸収率を実現することが求められている。
従来の電気泳動表示装置として、特許文献１には、基板上に、複数のマイクロカプセルとバインダーとを含むマイクロカプセル含有層を形成した後、この上に、他の基板を配置して、１対の基板とマイクロカプセル含有層とを接合した電気泳動表示装置が開示されている。
【０００４】
ここで、優れた表示特性（特に、高い表示コントラスト）を得るためには、マイクロカプセル含有層を２つの基板間で挾持した状態で、マイクロカプセルがほぼ球状をなし、マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列（すなわち単層）に配列させる必要がある。
そのため、特許文献１では、基板上に、マイクロカプセルを配設する領域を規定するための壁部を設け、壁部の内側に複数のマイクロカプセルを分散してなる塗布液（分散液）を過剰に供給し、供給された塗布液に含まれる余分なマイクロカプセルをスキージを用いて除去することにより、塗布液の表面をならしマイクロカプセルを単層に配列するようにしている。
【０００５】
しかしながら、このような方法では、マイクロカプセルを単層に配列することはできても、マイクロカプセルを面方向に対して互いに接触した状態で（すなわち均一に）配列することはできない。具体的に、基板に塗布された塗布液中の複数のマイクロカプセルのうち、最も基板側に位置するマイクロカプセルが集合してなる層を第１層とし、第１層に含まれるマイクロカプセルに重なるようにして位置するマイクロカプセルが集合してなる層を第２層として説明すると、特許文献１では、スキージを用いて第２層を除去し、第１層のみを残すことにより、マイクロカプセルを単層に配列する。
【０００６】
ここで、基板上に塗布液が供給されたままの状態での第１層中では、マイクロカプセルの粗密が発生しており、マイクロカプセルが十分に密に配置されている領域もあれば、（マイクロカプセルを配置するのに十分な空間があるにも関わらず）マイクロカプセルが配置されていない領域もある。そのため、第１層中でマイクロカプセルを面方向に対して互いに接触した状態で（すなわち均一に）配列するには、例えば、第２層中のマイクロカプセルを第１層中の前記マイクロカプセルが配置されていない領域に移動させるなどする必要がある。しかしながら、特許文献１では、前述したように、スキージによって第２層を除去するだけであるため、第１層中のマイクロカプセルが配置されていない領域へのマイクロカプセルの補填が行われない。
したがって、特許文献１の製造方法では、マイクロカプセルを単層に配列することはできても、マイクロカプセルを面方向に対して互いに接触した状態で配列することはできず、よって高いコントラストを有する電気泳動表示装置を製造することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−１３３１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることにより、高いコントラストを有する表示シートを製造することができる表示シートの製造方法、かかる表示シートの製造方法で製造された表示シート、信頼性の高い表示装置、および信頼性の高い電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の表示シートの製造方法は、基板上に、少なくとも１種の電気泳動粒子を含む電気泳動分散液が封入された複数のマイクロカプセルを分散してなる塗布液を供給し、該塗布液に対して、前記基板の厚さ方向の圧力を加え、前記塗布液中にて前記基板の厚さ方向に他のマイクロカプセルと重なって位置する前記マイクロカプセルを前記基板へ向けて移動させる工程を有することを特徴とする。
これにより、マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることにより、高いコントラストを有する表示シートを製造することができる。
【００１０】
本発明の表示シートの製造方法は、第１の基板上に、前記マイクロカプセルを配設する領域を規定する壁部を設ける壁部形成工程と、
前記壁部の内側に、前記塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記壁部の内側に供給された塗布液に対して、前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加え、前記塗布液中にて他の前記マイクロカプセルに重なるようにして位置する前記マイクロカプセルを前記第１の基板へ向けて移動させるマイクロカプセル再配置工程と、
前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加えることにより、第２の基板を前記塗布液を介して前記第１の基板と接合する基板接合工程とを有することを特徴とする。
これにより、壁部の内側でしか、マイクロカプセルが移動できないため、より確実に、マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることができる。
【００１１】
本発明の表示シートの製造方法では、前記基板接合工程では、前記壁部をスペーサとして利用し、該スペーサを介して第１の基板と前記第２の基板とを接合することが好ましい。
これにより、マイクロカプセルの破損、破壊、変形等を効果的に防止することができるとともに、第１の基板および第２の基板のギャップ（離間距離）を所望の距離に設定することができる。
【００１２】
本発明の表示シートの製造方法では、前記スペーサは、前記マイクロカプセルの劣化を抑制する封止部として機能することが好ましい。
これにより、表示シートの製造の簡易化、および部品点数の削減を図ることができる。
本発明の表示シートの製造方法では、前記基板接合工程で加えられる圧力は、前記マイクロカプセル再配置工程で加えられる前記圧力と等しいことが好ましい。
これにより、マイクロカプセルの形状を維持した状態で（すなわちマイクロカプセルの破壊を防止しつつ）、第１の基板と第２の基板とを強固に接合することができる。
【００１３】
本発明の表示シートの製造方法では、前記基板接合工程に先立って、前記壁部を除去する壁部除去工程を有することが好ましい。
これにより、壁部の構成材料の選択の自由度が拡大する。
本発明の表示シートの製造方法では、前記基板接合工程で加えられる圧力は、前記マイクロカプセル再配置工程で加えられる前記圧力よりも小さいことが好ましい。
これにより、マイクロカプセルの破壊を防止しつつ、第１の基板と第２の基板とを強固に接合することができる。
【００１４】
本発明の表示シートの製造方法は、前記第１の基板上に、前記マイクロカプセルを配設する領域として設定されたマイクロカプセル配設領域に、前記塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記マイクロカプセル配設領域に供給された塗布液に対して、前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加え、前記塗布液中にて他の前記マイクロカプセルに重なるようにして位置する前記マイクロカプセルを前記第１の基板へ向けて移動させるマイクロカプセル再配置工程と、
前記マイクロカプセル配設領域の周囲を囲むようにして壁部を形成する壁部形成工程と、
前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加えることにより、第２の基板を前記塗布液を介して前記第１の基板と接合する基板接合工程とを有することを特徴とする。
これにより、より確実に、マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることができる。
【００１５】
本発明の表示シートの製造方法では、前記基板接合工程で加えられる圧力は、前記マイクロカプセル再配置工程で加えられる前記圧力よりも大きいことが好ましい。
これにより、マイクロカプセルを、その形状を維持しつつ、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることができる。
【００１６】
本発明の表示シートの製造方法は、前記第１の基板上に、前記マイクロカプセルを配設する領域を規定する壁部を設ける壁部形成工程と、
前記壁部の内側に、前記塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記第１の基板の厚さ方向の圧力を加えることにより、第２の基板を前記塗布液を介して前記第１の基板と接合するとともに、前記塗布液中にて他の前記マイクロカプセルに重なるようにして位置する前記マイクロカプセルを前記第１の基板へ向けて移動させる基板接合工程とを有することを特徴とする。
これにより、より確実に、マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることができる。
【００１７】
本発明の表示シートの製造方法では、前記マイクロカプセルは、球形をなし、基板接合工程を終えた状態でも球形を維持していることが好ましい。
これにより、マイクロカプセルの耐圧性および耐ブリード性が向上する。
本発明の表示シートは、本発明の表示シートの製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、高いコントラストを有する表示シートが得られる。
本発明の表示装置は、本発明の表示シートを備えることを特徴とする。
これにより、高いコントラストを有し、信頼性に優れる表示装置が得られる。
本発明の電子機器は、本発明の表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、高いコントラストを有し、信頼性に優れる電子機器が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の表示装置の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】図１に示す表示装置の作動を示す断面図である。
【図３】図１に示す表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図４】図１に示す表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図５】図１に示す表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図６】本発明の第２実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図７】本発明の第２実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図８】本発明の第３実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図９】本発明の第３実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図１０】本発明の第４実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
【図１１】本発明の電子機器を電子ペーパーに適用した場合の実施形態を示す斜視図である。
【図１２】本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態を示す図である。
【図１３】コントラストを測定したエリアを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の表示シート、表示装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
１．表示装置
まず、本発明の表示シートを適用した表示装置（本発明の表示装置）について説明する。
【００２０】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の表示装置の第１実施形態を模式的に示す断面図、図２は、図１に示す表示装置の作動を示す断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図１中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。
図１に示す表示装置（電気泳動表示装置）２０は、表示シート（フロントプレーン）２１と、回路基板（バックプレーン）２２とを有している。
【００２１】
表示シート（電気泳動表示シート）２１は、平板状の基部２と基部２の下面に設けられた第２の電極４とを備える基板１２と、基板１２上に設けられ、マイクロカプセル４０とバインダー４１とで構成された表示層（マイクロカプセル含有層）４００と、基板１２と回路基板２２との間の間隙を気密的に封止する封止部７とを有している。
一方、回路基板２２は、平板状の基部１と基部１の上面に設けられた複数の第１の電極３とを備える対向基板１１と、この対向基板１１（基部１）に設けられた、例えばＴＦＴ等のスイッチング素子を含む回路（図示せず）とを有している。
【００２２】
以下、各部の構成について順次説明する。
基部１および基部２は、それぞれ、シート状（平板状）の部材で構成され、これらの間に配置される各部材を支持および保護する機能を有する。各基部１、２は、それぞれ、可撓性を有するもの、硬質なもののいずれであってもよいが、可撓性を有するものであるのが好ましい。可撓性を有する基部１、２を用いることにより、可撓性を有する表示装置２０、すなわち、例えば電子ペーパーを構築する上で有用な表示装置２０を得ることができる。
【００２３】
各基部（基材層）１、２が可撓性を有する場合、その構成材料としては、それぞれ、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等のポリエステル、ポリエチレン等のポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリアミド、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリウレタン系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００２４】
このような基部１、２の平均厚さは、それぞれ、構成材料、用途等により適宜設定され、特に限定されないが、可撓性を有するものとする場合、２０μｍ以上、５００μｍ以下程度であるのが好ましく、２５μｍ以上、２５０μｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、表示装置２０の柔軟性と強度との調和を図りつつ、表示装置２０の小型化（特に、薄型化）を図ることができる。
これらの基部１、２のマイクロカプセル４０側の面、すなわち、基部１の上面および基部２の下面に、それぞれ、層状（膜状）をなす第１の電極３および第２の電極４が設けられている。
【００２５】
第１の電極３と第２の電極４との間に電圧を印加すると、これらの間に電界が生じ、この電界がマイクロカプセル４０内の後述する電気泳動粒子５に作用する。本実施形態では、第２の電極４が共通電極とされ、第１の電極３がマトリックス状（行列状）に分割された個別電極（スイッチング素子に接続された画素電極）とされており、第２の電極４と１つの第１の電極３とが重なる部分が１画素を構成する。なお、第２の電極４も、第１の電極３と同様に複数に分割するようにしてもよい。また、第１の電極３がストライプ状に分割され、第２の電極も同様にストライプ状に分割され、これらが交差するように配置された形態であってもよい。
【００２６】
各電極３、４の構成材料としては、それぞれ、実質的に導電性を有するものであれば特に限定されず、例えば、金、銀、銅、アルミニウムまたはこれらを含む合金等の金属材料、カーボンブラック等の炭素系材料、ポリアセチレン、ポリフルオレンまたはこれらの誘導体等の電子導電性高分子材料、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート等のマトリックス樹脂中に、ＮａＣｌ、Ｃｕ（ＣＦ３ＳＯ３）２等のイオン性物質を分散させたイオン導電性高分子材料、インジウム酸化物（ＩＯ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）等の導電性酸化物材料のような各種導電性材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２７】
このような電極３、４の平均厚さは、それぞれ、構成材料、用途等により適宜設定され、特に限定されないが、０．０１μｍ以上、１０μｍ以下程度であるのが好ましく、０．０２μｍ以上、５μｍ以下程度であるのがより好ましい。
ここで、各基部１、２および各電極３、４のうち、表示面側に配置される基部および電極（本実施形態では、基部２および第２の電極４）は、それぞれ、光透過性を有するもの、すなわち、実質的に透明（無色透明、有色透明または半透明）とされる。これにより、電気泳動分散液１０中における電気泳動粒子５の状態、すなわち表示装置２０に表示された情報（画像）を目視により容易に認識することができる。
表示シート２１では、第２の電極４の下面に接触して、表示層４００が設けられている。表示層４００は、電気泳動分散液１０をカプセル本体４０１内に封入した複数のマイクロカプセル４０がバインダー４１により保持された構成をなしている。
【００２８】
図１に示すように、マイクロカプセル４０は、対向基板１１と基板１２との間に、縦横に並列するように単層で（厚さ方向に重なることなく１個ずつ）、かつ、表示層４００の厚さ方向全体に配設されている。すなわち、マイクロカプセル４０は、表示層４００において、その面方向に隣接するもの同士が互いに接触し、かつ、厚さ方向に積層することなく単層で配列している。
【００２９】
また、マイクロカプセル４０は、対向基板１１と基板１２とで挟持されても、上下方向に圧縮（圧迫）されることなく、ほぼ球状（球形状）をなしている。
ここで、表示装置２０を可撓性が求められる電子ペーパーに組み込んだ際には、電子ペーパーを撓ませる度に、表示装置２０にも同様に撓みが生じることになるが、この度に、回路基板２２と表示シート２１との間に圧力が付与される。このとき、図１に示すように、マイクロカプセル４０は、第１の電極３および第２の電極４の双方に対して点接触で接触するため、この接触する部分の単位面積あたりにかかる荷重（圧力）が大きくなり、具体的には、０．２ＭＰａ以上、１．５ＭＰａ以下程度の圧力が、付与される。このような圧力が回路基板２２と表示シート２１との間に付与されたとしても、マイクロカプセル４０は、対向基板１１と基板１２との間で、球状を維持するような強度を有することが好ましい。かかる構成とすることにより、マイクロカプセル４０の耐圧性および耐ブリード性の双方を高めることができることから、表示装置２０は、その駆動を長期間、安定的に行うことができる。
【００３０】
具体的には、マイクロカプセル４０のカプセル強度は、０．６ＭＰａ以上であるのが好ましく、１．０ＭＰａ以上であるのがより好ましく、３．０ＭＰａ以上であるのがさらに好ましい。カプセル強度の上限は、特に限定されるものではないが、例えば５０ＭＰａ程度である。なお、マイクロカプセル４０のカプセル強度とは、微小圧縮試験機（例えば、製品名：ＭＣＴ−Ｗ５００、（株）島津製作所製）を用いて測定したマイクロカプセル１個当たりの圧縮強度を意味する。
【００３１】
また、マイクロカプセル４０は、鋼球落下試験において、好ましくは１０ｃｍ以上、より好ましくは２０ｃｍ以上、さらに好ましくは３０ｃｍ以上の高さから鋼球を落下させても潰れることがないカプセル強度を有するのが好ましい。一般に、マイクロカプセル４０が、鋼球落下試験において、上記の高さよりも低い高さから鋼球を落下させると潰れるようなカプセル強度しか有しない場合、このようなマイクロカプセル４０を用いた表示装置２０を誤って落下させると、落下の衝撃によっては、マイクロカプセル４０が潰れてしまい、その部分（画素）でのデータ表示ができなくなるおそがある。なお、鋼球落下試験は、表示装置２０を厚さ３ｍｍのブタジエンゴムの上に載せた後、任意の高さから、直径１１ｍｍ、質量５．４６８ｇの鋼球を表示装置２０の表示層４００に垂直落下させて、鋼球が当たった箇所に存在するマイクロカプセル４０を光学顕微鏡で観察することにより行う。
【００３２】
また、マイクロカプセル４０は、ある程度の柔軟性を有しており、その形状は、外部圧力により変化するので、特に限定されるものではないが、外部圧力がない場合には、真球状などの粒子状であることが好ましい。すなわち、マイクロカプセル４０は、対向基板１１と基板１２との間（表示層４００中）で、より球状に近い形状を維持した状態で存在しているのが好ましい。
【００３３】
マイクロカプセル４０の球状の度合いは、マイクロカプセル４０の幅とマイクロカプセル４０の高さとの比（マイクロカプセル４０の幅／マイクロカプセル４０の高さ）を指標としてその程度を表すことができる。マイクロカプセル４０の幅／マイクロカプセル４０の高さ（平均値）は、例えば、表示層４００における、各マイクロカプセル４０の高さ（厚さ方向）および幅（面方向）に対する粒径の平均値をそれぞれ求め、これらの平均値の比(幅／高さ)を求めることにより得られる。
【００３４】
このようにして求められたマイクロカプセル４０の幅／マイクロカプセル４０の高さ（平均値）は、特に限定されないが、１．０以上、１．２以下程度であるのが好ましく、１．０以上、１．１５以下程度であるのがより好ましい。マイクロカプセル４０の幅／マイクロカプセル４０の高さが上記範囲内にある場合、マイクロカプセル４０は、対向基板１１と基板１２との間で、ほぼ球状に近い形状を維持した状態で存在していると言うことができる。そして、このように、ほぼ球状に近い形状を維持したマイクロカプセル４０が、表示層４００中において、その面方向に隣接するもの同士が互いに接触し、かつ、厚さ方向に積層することなく配列していることにより、かかる表示層４００を備える表示装置２０は、高いコントラストを発揮するものとなる。
【００３５】
また、マイクロカプセル４０の粒子径は、特に限定されないが、５μｍ以上、３００μｍ以下程度であるのが好ましく、１０μｍ以上、２００μｍ以下程度であるのがより好ましく、１５μｍ以上、１５０μｍ以下程度であるのがさらに好ましい。マイクロカプセル４０の粒子径が５μｍ未満であると、マイクロカプセル４０内に収容された電気泳動粒子５の色相、粒径および量（数）等にもよるが、充分な表示濃度が得られないおそれがある。逆に、マイクロカプセルの粒子径が３００μｍを超えると、マイクロカプセル４０の構成（構成材料等）にもよるが、マイクロカプセル４０のカプセル強度が低下することがあり、また、マイクロカプセル４０に封入した電気泳動分散液１０中における電気泳動粒子５の電気泳動特性が充分に発揮されず、表示のための起動電圧も高くなるおそれがある。なお、マイクロカプセル４０の粒子径とは、レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置（例えば、製品名：ＬＡ−９１０、（株）堀場製作所製、製品名：コールカウンターＭｕｌｔｉｓｉｚｅｒ３、ベックマン・コールター（株）社製）で測定した体積平均粒子径を意味する。
【００３６】
また、マイクロカプセル４０の粒子径の変動係数（すなわち、粒度分布の狭さ）は、特に限定されないが、３０％以下であるのが好ましく、２０％以下であるのがより好ましく、１０％以下であるのがさらに好ましい。マイクロカプセル４０の粒子径の変動係数が３０％を超えると、有効な粒子径を有するマイクロカプセル４０が少なく、多数のマイクロカプセルを用いる必要が生じることがある。また、第１の電極３および第２の電極４の間に、同一の電圧を印加した場合でも、作用する電界の大きさが複数のマイクロカプセル４０間でそれぞれ異なってしまい、表示特性が低下するおそれがある。
【００３７】
なお、上述したようなマイクロカプセル４０の粒子径やその変動係数は、マイクロカプセル４０を製造する際に水系媒体に分散させた分散液の粒子径や粒度分布に大きく依存する。それゆえ、分散液の分散条件を適宜調整することにより、所望の粒子径やその変動係数を有するマイクロカプセル４０を得ることができる。
このようなマイクロカプセル４０において、電気泳動粒子５を含む電気泳動分散液１０を内包するカプセル本体（殻体）４０１は、図１に示すように、第１のカプセル層４０２と、この第１のカプセル層４０２よりも外側に配置されている第２のカプセル層４０３とで構成されている。それぞれ球殻状をなす第１のカプセル層４０２と、その外側を覆うように設けられた第２のカプセル層４０３との２層でカプセル本体４０１を構成することにより、カプセル本体４０１に、これら２層がそれぞれ有する特性を相乗的に付与することができる。
【００３８】
第１のカプセル層４０２の構成材料としては、例えば、メルカプト基を有するアミノ樹脂が挙げられる。このようなアミノ樹脂は、不浸透性が高く、電気泳動分散液１０の滲出が起こりにくいという性質を有している。一方、第２のカプセル層４０３の構成材料としては、例えば、エポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂は、耐薬品性や機械的性質に優れている。しかも、第１のカプセル層４０２を構成するアミノ樹脂と、第２のカプセル層４０３を構成するエポキシ樹脂とは、メルカプト基を介して互いに強固に結合し、カプセル強度が向上する。そのため、このような構成のマイクロカプセル４０は、電気泳動分散液１０の滲出が起こりにくく、表示装置２０を作製する際に印加されるラミネート圧力等により破壊されることもない。従って、このようなマイクロカプセル４０を含有する表示層４００を有する表示装置２０は、高いコントラストを表現することができると共に、高温高湿条件下に長時間（例えば、６０℃、９０％ＲＨで２４時間）放置した場合であっても、低いリーク電流値を示すこととなる。また、例えば、バインダー樹脂と混合された形態、すなわち塗工液や表示シートの形態でも、長期間にわたり安定に室温保存することができる。
【００３９】
第１のカプセル層４０２と第２のカプセル層４０３とをメルカプト基を介して化学的に結合させるには、例えば、後述する第１のカプセル層４０２の形成工程において、メルカプト基と、カルボキシル基および／またはスルホ基とを有する化合物を芯物質分散液に添加して、メルカプト基が導入された第１のカプセル層４０２を形成し、その後、エポキシ系樹脂材料で構成される第２のカプセル層４０３を形成すればよい。
【００４０】
カプセル本体４０１の厚さ（本実施形態では、第１のカプセル層４０２の厚さｄ１と第２のカプセル層４０３の厚さｄ２の合計）は、特に限定されないが、湿潤状態で、０．１μｍ以上、５μｍ以下であるのが好ましく、０．１μｍ以上、４μｍ以下であるのがより好ましく、０．１μｍ以上、３μｍ以下であるのがさらに好ましい。カプセル本体４０１の厚さが小さいと、第１のカプセル層４０２と第２のカプセル層４０３との構成材料の組み合わせによっては、十分なカプセル強度が得られないおそれがある。逆に、カプセル本体４０１の厚さが大きいと、第１のカプセル層４０２と第２のカプセル層４０３との構成材料の組み合わせによっては、透明性が低下して、電気泳動表示装置のコントラストの低下を招くおそれがある。
【００４１】
また、第１のカプセル層４０２の厚さをｄ１とし、第２のカプセル層４０３の厚さをｄ２としたとき、これらの比率ｄ１／ｄ２は、１／０以上、１．０以下程度であるのが好ましく、１／０以上、１／０．５以下程度であるのがより好ましく、１／０以上、１／０．３以下程度であるのがさらに好ましい。かかる関係を満足することにより、カプセル本体４０１に、第１のカプセル層４０２および第２のカプセル層４０３の双方の特性を確実に付与することができる。
【００４２】
なお、本実施形態では、カプセル本体４０１は、第１のカプセル層４０２と第２のカプセル層４０３からなる２層構成とされているが、このような２層構成に限らず、単層または３層以上の多層構成であっても構わない。
カプセル本体４０１内に封入された電気泳動分散液１０は、少なくとも１種の電気泳動粒子５（本実施形態では、着色粒子５ｂと白色粒子５ａとの２種）を液相分散媒６に分散（懸濁）してなる。
【００４３】
電気泳動粒子５の液相分散媒６への分散は、例えば、ペイントシェーカー法、ボールミル法、メディアミル法、超音波分散法、撹拌分散法等のうちの１種または２種以上を組み合わせて行うことができる。
液相分散媒６としては、カプセル本体４０１に対する溶解性が低く、かつ比較的高い絶縁性を有するものが好適に使用される。かかる液相分散媒６としては、例えば、各種水（例えば、蒸留水、純水等）、メタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸メチル等のエステル類、アセトン等のケトン類、ペンタン等の脂肪族炭化水素類（流動パラフィン）、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン等の芳香族複素環類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、カルボン酸塩、シリコーンオイルまたはその他の各種油類等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。
【００４４】
中でも、液相分散媒６としては、脂肪族炭化水素類（流動パラフィン）、またはシリコーンオイルを主成分とするものが好ましい。流動パラフィン、またはシリコーンオイルを主成分とする液相分散媒６は、電気泳動粒子５の凝集抑制効果が高く、かつカプセル本体４０１の構成材料との親和性が低い（溶解性が低い）ことから好ましい。これにより、表示装置２０の表示性能が経時的に劣化するのをより確実に防止または抑制することができる。また、流動パラフィン、またはシリコーンオイルは、不飽和結合を有しないため耐候性に優れ、および安全性も高いという点からも好ましい。
【００４５】
また、液相分散媒６（電気泳動分散液１０）中には、必要に応じて、例えば、電解質、アルケニルコハク酸エステルのような界面活性剤（アニオン性またはカチオン性）、金属石鹸、樹脂材料、ゴム材料、油類、ワニス、コンパウンド等の粒子からなる荷電制御剤、シラン系カップリング剤等の分散剤、潤滑剤、安定化剤等の各種添加剤を添加するようにしてもよい。また、液相分散媒６を着色する場合には、液相分散媒６に、必要に応じて、アントラキノン系染料、アゾ系染料、インジゴイド系染料等の各種染料を溶解するようにしてもよい。
【００４６】
電気泳動粒子５は、荷電を有し、電界が作用することにより、液相分散媒６中を電気泳動し得る粒子である。かかる電気泳動粒子５には、荷電を有するものであれば、いかなるものをも用いることができ、特に限定はされないが、顔料粒子、樹脂粒子またはこれらの複合粒子のうちの少なくとも１種が好適に使用される。これらの粒子は、製造が容易であるとともに、荷電の制御を比較的容易に行うことができるという利点を有している。
【００４７】
顔料粒子を構成する顔料としては、例えば、アニリンブラック、カーボンブラック、チタンブラック、亜クロム酸銅等の黒色顔料、酸化チタン、酸化アンチモン等の白色顔料、モノアゾ等のアゾ系顔料、イソインドリノン、黄鉛等の黄色顔料、キナクリドンレッド、クロムバーミリオン等の赤色顔料、フタロシアニンブルー、インダスレンブルー等の青色顔料、フタロシアニングリーン等の緑色顔料等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
また、樹脂粒子を構成する樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリスチレン、ポリエステル等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、複合粒子としては、例えば、顔料粒子の表面を樹脂材料や他の顔料で被覆したもの、樹脂粒子の表面を顔料で被覆したもの、顔料と樹脂材料とを適当な組成比で混合した混合物で構成される粒子等が挙げられる。
顔料粒子の表面を他の顔料で被覆した粒子としては、例えば、酸化チタン粒子の表面を、酸化珪素や酸化アルミニウムで被覆したものを例示することができ、かかる粒子は、白色粒子５ａとして好適に用いられる。また、カーボンブラック粒子またはその表面を被覆した粒子は、着色粒子（黒色粒子）５ｂとして好適に用いられる。
【００４９】
また、電気泳動粒子５の形状は、特に限定されないが、球形状であるのが好ましい。
電気泳動粒子５は、液相分散媒６中での分散性を考慮した場合、より小さいものが好適に用いられ、具体的には、その平均粒径が、１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。電気泳動粒子５の平均粒径を前記範囲とすることにより、電気泳動粒子５同士の凝集や、液相分散媒６中における沈降を確実に防止して、液相分散媒６中に分散させることができ、その結果、表示装置２０の表示品質の劣化を好適に防止することができる。
【００５０】
なお、本実施形態のように、２種の異なる粒子を用いる場合、２種の粒子の平均粒径を異ならせること、特に、白色粒子５ａの平均粒径を着色粒子５ｂの平均粒径より大きく設定するのが好ましい。これにより、表示装置２０の表示コントラストをより向上させることや、保持特性を向上させることができる。具体的には、着色粒子５ｂの平均粒径を２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度、白色粒子５ａの平均粒径を１５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下程度とするのが好ましい。なお、電気泳動粒子の粒子径とは、動的光散乱式粒度分布測定装置（例えば、製品名：マイクロトラックＵＰＡ−ＥＸ２５０、日機装（株）製）で測定した体積平均粒子径を意味する。
【００５１】
また、電気泳動粒子５の比重は、液相分散媒６の比重とほぼ等しくなるように設定されているのが好ましい。これにより、電気泳動粒子５は、電極３、４間への電圧の印加を停止した後においても、液相分散媒６中において一定の位置に長時間滞留することができる。すなわち、表示装置２０にメモリー性を付与することができ、表示された情報が長時間保持されることとなる。
【００５２】
表示層４００に含まれるバインダー４１は、例えば、対向基板１１と基板１２とを接合する目的、対向基板１１と基板１２との間にマイクロカプセル４０を固定する目的、マイクロカプセル４０同士を固定する目的、第１の電極３および第２の電極４同士間の絶縁性を確保する目的等により供給される。これにより、表示装置２０の耐久性および信頼性をより向上させることができる。
【００５３】
バインダー４１には、対向基板１１、第２の電極４およびカプセル本体４０１（マイクロカプセル４０）との親和性（密着性）に優れ、かつ、絶縁性に優れる樹脂材料（絶縁性または微小電流のみが流れる樹脂材料）が好適に使用される。
このようなバインダー４１としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン系樹脂、シリコーンアルキド系樹脂、シリコーンウレタン系樹脂、シリコーンポリエステル系樹脂、ポリアルキレングリコール系樹脂のような合成樹脂バインダー、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタンジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴムのような合成ゴムまたは天然ゴムバインダー、硝酸セルロース、セルロースアセテートブチレート、酢酸セルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースのような熱可塑性または熱硬化性高分子バインダー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５４】
これらのバインダー４１のうち、マイクロカプセル４０の分散性が比較的良好であり、さらに、対向基板１１、基板１２およびマイクロカプセル４０との密着性に優れる点で、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアルキレングリコール系樹脂が好ましく用いられ、さらに、（メタ）アクリル系樹脂が特に好ましく用いられる。
【００５５】
さらに、基板１２と対向基板１１との間であって、それらの縁部に沿って、封止部７が設けられている。この封止部７により、第２の電極４および表示層４００が気密的に封止されている。これにより、表示装置２０（表示シート２１）内への水分の浸入を防止して、表示装置２０（表示シート２１）の表示性能の劣化をより確実に防止することができる。
【００５６】
封止部７の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂のような熱可塑性樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂のような熱硬化性樹脂等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、封止部７は、必要に応じて設ければよく、省略することもできる。
【００５７】
２．表示装置の動作方法
このような表示装置２０は、次のようにして作動する。
表示装置２０の第１の電極３と第２の電極４との間に電圧を印加すると、これらの間に電界が生じる。この電界にしたがって、電気泳動粒子５（着色粒子５ｂ、白色粒子５ａ）は、電極３、４のいずれかに向かって移動（電気泳動）する。
【００５８】
例えば、白色粒子５ａとして正荷電を有するものを用い、着色粒子（黒色粒子）５ｂとして負荷電のものを用いた場合、図２（Ａ）に示すように、第１の電極３を正電位とすると、白色粒子５ａは、第２の電極４側に移動して、第２の電極４に集まる。一方、着色粒子５ｂは、第１の電極３側に移動して、第１の電極３に集まる。このため、表示装置２０を上方（表示面側）から見ると、白色粒子５ａの色が見えること、すなわち、白色が見えることになる。
これとは逆に、図２（Ｂ）に示すように、第１の電極３を負電位とすると、白色粒子５ａは、第１の電極３側に移動して、第１の電極３に集まる。一方、着色粒子５ｂは、第２の電極４側に移動して、第２の電極４に集まる。このため、表示装置２０を上方（表示面側）から見ると、着色粒子５ｂの色が見えること、すなわち、黒色が見えることになる。
【００５９】
このような構成において、電気泳動粒子５（白色粒子５ａ、着色粒子５ｂ）の帯電量や、電極３または４の極性、電極３、４間の電位差等を画素ごとに適宜設定することにより、表示装置２０の表示面には、白色粒子５ａおよび着色粒子５ｂの色の組み合わせや、電極３、４に集合する粒子の数等に応じた所望の画像が表示される。
ここで、この表示装置２０では、表示層４００中において、マイクロカプセル４０が、その面方向に隣接するもの同士が互いに接触し、かつ、厚さ方向に積層することなく配列しているので、かかる表示層４００を備える表示装置２０は、高いコントラストを発揮することができる。
【００６０】
また、表示装置２０では、表示層４００に含有されるマイクロカプセル４０が球状をなして存在していることにより、耐圧性および耐ブリード性に優れている。したがって、このように表示装置２０を作動させているとき、もしくは、表示装置２０を保存している間に、表示装置２０に衝撃が加わったり、表示面が押圧されたりした場合でも、マイクロカプセル４０の破壊や電気泳動分散液１０の散逸が防止され、長期間安定に動作することができる。
【００６１】
３．表示装置の製造方法
このような表示装置２０は、次のようにして製造することができる。
以下、表示装置２０の製造方法（本願発明の表示シートの製造方法）について図３〜図５に基づいて説明する。図３〜図５は、それぞれ、図１に示す表示装置の製造方法を説明するための模式図である。なお、以下の説明では、図３〜図５中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００６２】
図３〜図５に示す表示装置２０の製造方法は、マイクロカプセル４０を作製するマイクロカプセル作製工程［Ａ１］と、マイクロカプセル４０を含むマイクロカプセル分散液（塗布液）１００を調製するマイクロカプセル分散液調製工程［Ａ２］と、基板（第１の基板）１２上に、マイクロカプセル４０を配設する領域Ｓ１を規定する壁部８を設ける壁部形成工程［Ａ３］と、壁部８の内側にマイクロカプセル分散液１００を供給する塗布液供給工程［Ａ４］と、マイクロカプセル分散液１００中でマイクロカプセル４０を移動し再配置するマイクロカプセル再配置工程［Ａ５］と、基板１２の厚さ方向の圧力を加えることにより、回路基板２２（第２の基板）をマイクロカプセル分散液１００（表示層４００）を介して基板１２と接合する基板接合工程［Ａ６］とを有している。
【００６３】
以下、各工程について説明する。
［Ａ１］マイクロカプセルの作製工程
［Ａ１−１］第１のカプセル層の形成
まず、電気泳動分散液１０を第１のカプセル層４０２に内包するマイクロカプセルを得る。なお、以下、説明の便宜上、このマイクロカプセルを「マイクロカプセル前駆体」と言うこととする。
【００６４】
第１のカプセル層４０２は、例えば、電気泳動分散液１０を芯物質として、各種マイクロカプセル化手法を用いて形成することができる。マイクロカプセル化手法（第１のカプセル層４０２への電気泳動分散液１０の封入方法）としては、特に限定されないが、例えば、界面重合法、Ｉｎ−ｓｉｔｕ重合法、相分離法（または、コアセルベーション法）、界面沈降法、スプレードライ法等の各種マイクロカプセル化手法を用いることができる。このマイクロカプセル化手法は、第１のカプセル層４０２の構成材料等に応じて、適宜選択するようにすればよい。
【００６５】
第１のカプセル層４０２の構成材料として、例えば、メラミン系樹脂や尿素樹脂等のアミノ樹脂を用いる場合、コアセルベーション法を用いることが好ましい。コアセルベーション法によれば、芯物質となる電気泳動分散液１０の小滴と、アミノ樹脂のモノマーとホルムアルデヒドとを反応させて得られた初期縮合化合物とを水系媒体中に共存させ、電気泳動分散液１０の小滴の表面近傍で初期縮合化合物を縮合反応させることにより、アミノ樹脂層（第１のカプセル層４０２）を形成することにより、確実にマイクロカプセル前駆体を形成することができる。
【００６６】
以下、コアセルベーション法を用いて、アミノ樹脂で構成される第１のカプセル層４０２（マイクロカプセル前駆体）を形成する形成方法について詳述する。
＜ｉ＞芯物質分散液の調製
まず、芯物質となる、電気泳動粒子５と液相分散媒６とで構成される電気泳動分散液１０を水系媒体に分散させて、電気泳動分散液１０の小滴が分散された芯物質分散液を得る。この水系媒体としては、例えば、水、または、水と親水性有機溶媒との混合溶媒を用いることができる。
【００６７】
混合溶媒に混合される親水性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、アリルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、ジプロピレングリコール等のグリコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等のエステル類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６８】
水と親水性有機溶媒との混合溶媒を用いる場合、混合溶媒中における水の配合量は、７０質量％以上、９５質量％以下であるのが好ましく、７５質量％以上、９５質量％以下であるのがより好ましく、８０質量％以上、９５質量％以下であるのがさらに好ましい。
水系媒体は、水や親水性有機溶媒に加えて、さらに他の溶媒を含有していてもよい。
他の溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロペンタン、ペンタン、イソペンタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、アミニルスクアレン、石油エーテル、テルペン、ヒマシ油、大豆油、パラフィン、ケロシン等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６９】
他の溶媒を用いる場合、水系媒体における他の溶媒の含有率は、３０質量％以下であるのが好ましく、２５質量％以下であるのがより好ましく、２０質量％以下であるのがさらに好ましい。
水系媒体に分散させる芯物質の量は、特に限定されないが、水系媒体１００質量部に対して、５質量部以上、７０質量部以下であるのが好ましく、８質量部以上、６５質量部以下であるのがより好ましく、１０質量部以上、６０質量部以下であるのがさらに好ましい。芯物質の分散量が少ないと、第１のカプセル層４０２の形成に長時間を必要とすることや、目的とする粒径のマイクロカプセル前駆体が十分に調製されず、マイクロカプセル前駆体の粒径分布が広くなることにより、生産効率が低下するおそれがある。これとは逆に、芯物質の分散量が多いと、芯物質が凝集することや、芯物質中に水系媒体が懸濁すること等により、マイクロカプセルが得られなくなるおそれがある。
【００７０】
また、芯物質を水系媒体中に分散させる際には、必要に応じて、分散剤を用いてもよい。分散剤としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ゼラチン、アラビアゴム、大豆多糖類、大豆たんぱく、寒天等の水溶性高分子、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤等の界面活性剤等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
水系媒体への分散剤の添加量は、特に限定されないが、第１のカプセル層の形成を阻害しない範囲で適宜調整される。
【００７１】
＜ii＞初期縮合化合物の生成
初期縮合化合物は、アミノ樹脂のモノマーと、ホルムアルデヒドとを縮合反応させることによって得る。
モノマーとしては、メラミンや、尿素およびチオ尿素等の尿素化合物等のアミノ化合物が挙げられ、目的とするカプセル層の構成材料に応じて１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７２】
例えば、モノマーとしてメラミンを用いた場合には、メラミン樹脂を与える初期複合化合物が得られ、尿素化合物のいずれかを用いた場合には、尿素樹脂を与える初期複合化合物が得られる。また、メラミンと尿素化合物とを組み合わせて用いた場合には、メラミン樹脂および尿素樹脂が混在する樹脂を与える初期複合化合物が得られる。
モノマーとホルムアルデヒドとの反応は、一般に、水を溶媒として行われる。具体的には、ホルムアルデヒド水溶液にモノマーを添加し、もしくは、モノマーにホルムアルデヒド水溶液を添加し、混合する。これにより、モノマーとホルムアルデヒドとが縮合反応し、初期縮合化合物の水溶液が得られる。この縮合反応は、例えば、攪拌装置を用いて、攪拌しながら行うことが好ましい。
【００７３】
この縮合反応に供するモノマーとホルムアルデヒドのモル比（モノマー／ホルムアルデヒド）は、特に限定されないが、１／０．５以上、１／１０以下であるのが好ましく、１／１以上、１／８以下であるのがより好ましく、１／１以上、１／６以下であるのがさらに好ましい。モノマー／ホルムアルデヒドのモル比が小さいと、未反応のホルムアルデヒドが多くなり、反応効率が低下するおそれがある。逆に、モノマー／ホルムアルデヒドのモル比が大きいと、未反応のモノマーが多くなり、反応効率が低下するおそれがある。
【００７４】
また、この反応系におけるモノマーとホルムアルデヒドの初期濃度（仕込み時点での濃度）は、反応に支障がない限り、より高濃度であることが好ましい。
この縮合反応における反応温度は、特に限定されないが、５５℃以上、８５℃以下であるのが好ましく、６０℃以上、８０℃以下であるのがより好ましく、６５℃以上、７５℃以下であるのがさらに好ましい。この縮合反応の停止は、例えば、反応終点が認められた時点で、反応液を常温（例えば、２５℃以上、３０℃以下）に冷却する等の操作により行われる。反応時間は、特に限定されず、仕込み量に応じて、適宜設定することができる。
【００７５】
＜iii＞第１のカプセル層の形成
次に、工程＜ｉ＞で得た芯物質分散液に、＜ii＞で得た初期縮合化合物を徐々に添加する。これにより、電気泳動分散液１０の小滴の表面に、初期縮合化合物が吸着するとともに、縮合反応する。その結果、電気泳動分散液１０の小滴の表面に樹脂層（第１のカプセル層４０２）が形成され、電気泳動分散液１０を内包するマイクロカプセル前駆体が得られる。
【００７６】
芯物質分散液に添加する初期縮合化合物の添加量は、特に限定されないが、芯物質１質量部に対して、０．５質量部以上、１０質量部以下であるのが好ましく、０．５質量部以上、５質量部以下であるのがより好ましく、０．５質量部以上、３質量部以下であるのがさらに好ましい。初期縮合化合物の添加量を調整することにより、第１のカプセル層４０２の厚さを容易に制御することができる。初期縮合化合物の添加量が少ないと、第１のカプセル層４０２を十分な厚さで形成するのが難しく、用いるアミノ化合物の種類によっては、得られるマイクロカプセル４０の耐圧性および耐ブリード性が不足するおそれがある。また、初期縮合化合物の添加量が多いと、形成される第１のカプセル層４０２が厚くなることに起因して、第１のカプセル層４０２の柔軟性および透明性が不十分となるおそれがある。
【００７７】
芯物質分散液への初期縮合化合物の添加方法は、特に限定されず、一括添加または逐次添加（連続的添加および／または間欠的添加）のいずれであってもよい。なお、初期縮合化合物の添加に際しては、攪拌装置を用いて、攪拌しながら行うことが好ましい。
また、第１のカプセル層４０２には、メルカプト（チオール）基を導入するのが好ましい。これにより、このメルカプト基を介して、第１のカプセル層４０２と、後述する第２のカプセル層４０３とをその界面で化学的に結合させることができるため、第１のカプセル層４０２と、第２のカプセル層４０３との密着性の向上を図ることができる。
【００７８】
このような第１のカプセル層４０２へのメルカプト基の導入は、例えば、芯物質分散液に、メルカプト基（−ＳＨ基）と、初期縮合化合物のアミノ基と反応し得るカルボキシル基（−ＣＯＯＨ基）および／またはスルホ基（−ＳＯ３Ｈ基）とを有する化合物（チオール化合物）を添加した状態で、第１のカプセル層４０２を形成することにより、行うことができる。
【００７９】
具体的には、チオール化合物としては、例えば、システイン（２−アミノ−３−メルカプトプロピオン酸）、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、メルカプト安息香酸、メルカプトコハク酸、メルカプトエタンスルホン酸、メルカプトプロパンスルホン酸、および、これらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、特に、入手が容易であることから、Ｌ−システインが好適に用いられる。
【００８０】
芯物質分散液に添加するチオール化合物の添加量は、特に限定されないが、初期縮合化合物１００質量部に対して、１質量部以上、２０質量部以下であるのが好ましく、１質量部以上、１０質量部以下であるのがより好ましく、１質量部以上、５質量部以下であるのがさらに好ましい。チオール化合物の添加量が少ないと、第１のカプセル層４０２に導入されるメルカプト基の量が少なくなり、メルカプト基を導入する効果、すなわち、第１のカプセル層４０２に第２のカプセル層４０３を強固に結合させる効果が充分に得られない。また、チオール化合物の添加量が多いと、形成される第１のカプセル層４０２の強度が低下して、耐圧性や耐ブリード性が不足するおそれがある。
【００８１】
芯物質分散液にチオール化合物を添加する方法は、特に限定されないが、例えば、芯物質分散液に初期縮合化合物を添加した後、十分に攪拌してから、チオール化合物を水溶液の形態で添加するのが好ましい。
第１のカプセル層４０２を形成する際の反応温度は、特に限定されないが、２５℃以上、８５℃以下であるのが好ましく、３０℃以上、８０℃以下であるのがより好ましく、３５℃以上、７５℃以下であるのがさらに好ましい。反応時間は、特に限定されず、仕込み量に応じて、適宜設定することができる。
【００８２】
また、縮合反応を行った後、反応液を所定の温度で放置する熟成工程を行うようにしてもよい。熟成温度は、特に限定されないが、例えば、縮合反応を行う際の反応温度と同一または少し高い温度であることが好ましい。熟成時間は、特に限定されないが、０．５時間以上、７時間以下であるのが好ましく、１時間以上、５時間以下であるのがより好ましい。
【００８３】
以上のようにして得られたマイクロカプセル前駆体は、分級および洗浄することを目的に、水系媒体に分散した状態で次の工程に供してもよく、吸引濾過や自然濾過等の方法により、水系媒体から分離した後、次の工程に供するようにしてもよい。ただし、濾過に際する衝撃や圧力によって第１のカプセル層４０２が損傷・破壊してしまうのを確実に防止するという観点からは、水系媒体から分離せずに次の工程に供するのが好ましい。
【００８４】
＜iv＞マイクロカプセル前駆体の分級および洗浄
次に、マイクロカプセル前駆体を、分級および洗浄する。
マイクロカプセル前駆体の分級方法としては、特に限定されないが、例えば、ふるい式、フィルター式、遠心沈降式、自然沈降式等が挙げられる。このうち、回収するマイクロカプセル前駆体の粒子径が比較的大きい場合には、ふるい式を用いるのが好ましい。
マイクロカプセル前駆体の洗浄方法としては、特に限定されないが、例えば、遠心沈降式、自然沈降式等が挙げられる。このうち、マイクロカプセル前駆体の粒子径が比較的大きい場合には、マイクロカプセル前駆体の損傷・破壊を防止するために、自然沈降式を用いるのが好ましい。なお、洗浄は、１回に限らず、複数回行うようにしてもよい。
【００８５】
［Ａ１−２］第２のカプセル層の形成
次に、工程［Ａ１−１］で得たマイクロカプセル前駆体（第１のカプセル層４０２）の外周面に、第２のカプセル層４０３を形成し、電気泳動分散液１０を内包するマイクロカプセル４０を得る。
第２のカプセル層４０３は、例えば、マイクロカプセル前駆体を水系媒体中に分散させたカプセル分散液に、樹脂のプレポリマーを徐々に添加し、マイクロカプセル前駆体の表面に吸着したプレポリマーを、重合反応させることによって形成することができる。これにより、マイクロカプセル前駆体の表面に第２のカプセル層４０３が形成され、電気泳動分散液１０を内包するマイクロカプセル４０が得られる。
【００８６】
マイクロカプセル前駆体を分散させる水系媒体としては、例えば、工程［Ａ１−１］において電気泳動分散液を分散させる水系媒体と同様のものを挙げることができる。
なお、工程［Ａ１−１］で得られたマイクロカプセル前駆体が水系媒体に分散された状態である場合には、これをそのままでカプセル分散液として用いてもよく、必要に応じて濃縮または希釈した後、カプセル分散液として用いるようにしてもよい。
【００８７】
プレポリマーは、重合反応によって樹脂を与えるものであり、樹脂のモノマー、オリゴマーまたはこれらの混合物等が挙げられる。
プレポリマーは、具体的には、第２のカプセル層４０３の構成材料に応じて適宜選択され、例えば、第２のカプセル層４０３をエポキシ系樹脂で構成する場合には、エポキシ基を含有する化合物（エポキシ化合物）が用いられる。
なお、第２のカプセル層４０３をエポキシ系樹脂で構成することにより、第２のカプセル層４０３は、アミノ樹脂で構成される第１のカプセル層４０２と比較して、確実に弾性に優れるものとなる。さらに、第１のカプセル層４０２をメルカプト基を有する構成とした場合には、第２のカプセル層４０３が、第１のカプセル層４０２の表面にメルカプト基を介して化学的に結合する。その結果、強度に優れたマイクロカプセル４０が得られる。
【００８８】
エポキシ化合物としては、特に限定されず、１分子内に少なくとも１つのエポキシ基を有するエポキシ化合物を用いることができるが、中でも、２個以上のエポキシ基を有する水溶性エポキシ化合物が好適に用いられる。
具体的には、エポキシ化合物としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８９】
エポキシ化合物の質量平均分子量は、３００以上、１０００００以下程度であるのが好ましく、３００以上、７５０００以下程度であるのがより好ましく、３００以上、５００００以下程度であるのがさらに好ましい。エポキシ化合物の質量平均分子量が小さいと、用いるエポキシ化合物の種類によっては、形成される第２のカプセル層４０３の強度が不十分となるおそれがある。また、これとは逆に、エポキシ化合物の質量平均分子量が大きいと、反応系の粘度が高くなり、攪拌が困難となるおそれがある。
【００９０】
カプセル分散液に添加するエポキシ化合物の添加量は、特に限定されないが、マイクロカプセル前駆体１質量部に対して、０．５質量部以上、１０質量部以下であるのが好ましく、０．５質量部以上、５質量部以下であるのがより好ましく、０．５質量部以上、３質量部以下であるのがさらに好ましい。エポキシ化合物の添加量を調整することにより、第２のカプセル層４０３の厚さを容易に制御することができる。エポキシ化合物の添加量が少ないと、第２のカプセル層４０３を十分な厚さで形成するのが難しく、得られるマイクロカプセル４０の耐圧性が不足するおそれがある。また、エポキシ化合物の添加量が多いと、形成される第２のカプセル層４０３の厚さが大きくなりすぎ、柔軟性および透明性が不十分となるおそれがある。
【００９１】
カプセル分散液へのエポキシ化合物の添加方法は、特に限定されないが、例えば、カプセル分散液に、エポキシ化合物を水溶液の形態で添加することが好ましい。添加は、一括添加または逐次添加（連続的添加および／または間欠的添加）のいずれでもよい。また、エポキシ化合物の添加に際しては、従来公知の攪拌装置を用いて、攪拌しながら行うことが好ましい。
【００９２】
なお、カプセル分散液には、架橋剤を共存させるのが好ましい。これにより、架橋構造を有する第２のカプセル層４０３を得ることができる。第２のカプセル層４０３に架橋構造を形成することにより、第２のカプセル層４０３の強度、ひいてはカプセル本体４０１全体の強度が向上するので、その後にマイクロカプセル４０を分離したり洗浄したりする際に、カプセル本体４０１が損傷・破壊することを効果的に抑制することができる。
【００９３】
架橋剤としては、プレポリマーがエポキシ化合物である場合には、例えば、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム（水和物を含む）、ジエチルジチオカルバミン酸ジエチルアンモニウム（水和物を含む）、ジチオシュウ酸およびジチオ炭酸等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
カプセル分散液に添加する架橋剤の添加量は、特に限定されないが、エポキシ化合物１００質量部に対して、１質量部以上、１００質量部以下であるのが好ましく、５質量部以上、９０質量部以下であるのがより好ましく、１０質量部以上、８０質量部以下であるのがさらに好ましい。架橋剤の添加量が少ないと、第２のカプセル層４０３の強度を高める効果が十分に得られない。また、架橋剤の添加量が多いと、架橋剤がエポキシ化合物のエポキシ基と過剰に反応し、第２のカプセル層４０３の柔軟性が低下することがある。
【００９４】
カプセル分散液に架橋剤を添加するに際し、架橋剤は、エポキシ化合物とともに添加してもよく、エポキシ化合物の添加前または添加後に添加してもよい。例えば、カプセル分散液に、エポキシ化合物の水溶液を添加し、少し時間をおいて後、攪拌を行いながら、架橋剤を水溶液の形態で滴下することが好ましい。
この第２のカプセル層４０３を形成する際の反応温度は、特に限定されないが、２５℃以上、８０℃以下であるのが好ましく、３０℃以上、７０℃以下であるのがより好ましく、３５℃以上、６０℃以下であるのがさらに好ましい。反応時間は、特に限定されず、仕込み量に応じて、適宜設定することができる。
【００９５】
また、第２のカプセル層４０３を形成した後、反応液を所定の温度で放置する熟成工程を行うようにしてもよい。熟成温度は、特に限定されないが、例えば、第２のカプセル層４０３を形成する際の温度と同一または少し高い温度であることが好ましい。熟成時間は、特に限定されないが、０．５時間以上、５時間以下であるのが好ましく、１時間以上、３時間以下であるのがより好ましい。
【００９６】
以上のようにして得られたマイクロカプセル４０は、水系媒体に分散した状態で次の工程に供してもよく、吸引濾過や自然濾過等の方法により、水系媒体から分離した後、次の工程に供するようにしてもよいが、マイクロカプセル４０を乾燥状態にすると、電気泳動分散液の溶媒がカプセル本体４０１から浸出して蒸発し、マイクロカプセル４０が変形する可能性があるので、水系媒体から分離することなく、次の工程に供することが好ましい。
また、得られたマイクロカプセル４０は、分級および洗浄するのが好ましい。これにより、粒度分布が狭く、不純物の少ないマイクロカプセル４０を得ることができる。
分級方法および洗浄方法は、例えば、前記工程［Ａ１−１］の場合と同様の方法を挙げることができる。
【００９７】
［Ａ２］マイクロカプセル分散液の調製工程
次に、バインダー４１を用意し、このバインダー４１と、前記工程［Ａ１］で作製されたマイクロカプセル４０とを混合してマイクロカプセル分散液１００を調製する。なお、マイクロカプセル分散液１００には、必要に応じて例えばエタノール等の溶媒を混合してもよく、これにより、マイクロカプセル分散液１００の粘度を低くすることができ、マイクロカプセル分散液１００を基板１２上に供給し易くなる。
【００９８】
マイクロカプセル分散液１００中におけるマイクロカプセル４０の含有量は、５０ｗｔ％以上、９５ｗｔ％以下程度であるのが好ましく、７０ｗｔ％以上、９０ｗｔ％以下程度であるのがより好ましい。マイクロカプセル４０の含有量を前記範囲に設定すると、マイクロカプセル４０が面方向で互いに接触した状態で、かつ、マイクロカプセル４０が厚さ方向に重ならないように（単層で）、表示層４００においてマイクロカプセル４０を、次工程［Ａ３］において、移動（再配置）させて配設する上で、非常に有利である。
【００９９】
また、次工程［Ａ３］において、マイクロカプセル４０を移動（再配置）させて配設するという観点からは、用意するバインダー４１は、前述したもののうち、ガラス転移温度が、その下限が通常は−５０℃、好ましくは−４５℃、さらに好ましくは−４０℃であり、また、その上限が通常は１０℃、好ましくは５℃、より好ましくは０℃であるものが選択される。バインダー４１のガラス転移温度が−５０℃未満であると、回路基板２２（対向基板１１）と基板１２との密着性が低下するおそれがある。また、これとは逆に、バインダー４１のガラス転移温度が１０℃を超えると、工程［Ａ５］において、マイクロカプセル４０がマイクロカプセル分散液１００中を移動しにくくなる。
【０１００】
このようなガラス転位温度を有するバインダー４１は、比較的剛直性が高い材料よりも、屈曲性が高い材料で構成される。具体的には、前述したバインダー４１のうち、屈曲性が高いバインダー４１としては、例えば、ポリアルキレングリコール系樹脂および側鎖として炭素数が２以上のアルキル基を備える（メタ）アクリル系樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０１】
これらの中でも、屈曲性が高いバインダー４１としては、グリコール鎖を含むもの、すなわち、ポリアルキレングリコール系樹脂が好ましく用いられ、特に、その重量平均分子量が２００以上、１０００００以下のポリアルキレングリコール系樹脂が好ましく用いられる。かかる重量平均分子量を有するポリアルキレングリコール系樹脂は、基板１２との密着性が優れるとともに、工程［Ａ４］において、マイクロカプセル４０がマイクロカプセル分散液１００中を移動しやすく、その結果として、基板１２の厚さ方向におけるマイクロカプセル４０の重なり合いを確実に防止することができる。
【０１０２】
［Ａ３］壁部形成工程
次に、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、基板１２上（第２の電極４上）に、次工程［Ａ４］においてマイクロカプセル分散液１００を供給すべき（すなわち、マイクロカプセル４０を配設すべき）領域Ｓ１の全周を囲むように壁部８を枠状に形成し、マイクロカプセル４０を配設する領域Ｓ１を規定する。本実施形態では、領域Ｓ１は、平面視にて長方形をなしており、この長方形の領域Ｓ１の四辺において壁部８を形成する。なお、図３（ａ）は、基板１２の平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中のＡ−Ａ線断面図である。
【０１０３】
ここで、本実施形態では、壁部８を封止部７として利用することにより、部品点数の削減、および表示装置２０の製造の簡易化を図っている。また、本実施形態では、工程［Ａ６］にて、壁部８をスペーサとして利用しており、これにより、マイクロカプセル４０の破損、破壊、変形等を効果的に防止している。また、本実施形態では、工程［Ａ５］にて、壁部８を後述する押圧用基板１９の基板１２への過度な接近を防止するストッパとして利用しており、これにより、工程［Ａ５］でのマイクロカプセル４０の破損、破壊等を効果的に防止している。
【０１０４】
このような壁部８は、いかなる方法で形成されてもよく、例えば、基板１２に熱融着のような融着、粘着テープ、接着剤、粘着剤のような接着等の方法で枠状の部材を固定する方法や、インクジェット法のような印刷により形成する方法、第１の基部１に対して、機械加工、エッチング加工、レーザー加工等を施すことにより、枠状の部分を残存させる方法等により形成することができる。
【０１０５】
なお、本実施形態のように壁部８を封止部７として利用する場合（すなわち、壁部８にマイクロカプセル４０の劣化を防止する機能を発揮させる場合）、壁部８の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂のような熱可塑性樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂のような熱硬化性樹脂等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これにより、表示装置２０内への水分の浸入を防止し、マイクロカプセル４０の劣化を効果的に防止することができる。
【０１０６】
また、壁部８の高さ（基板１２の厚さ方向の長さ）としては、特に限定されないが、マイクロカプセル４０の粒径（体積平均粒径）をＲとしたとき、０．５Ｒ以上、１．０Ｒ以下程度であるのが好ましく、１．０Ｒ程度であるのがより好ましい。壁部８の高さを上記範囲とすることにより、工程［Ａ５］、［Ａ６］においてマイクロカプセル分散液１００に圧力を加える際に、その圧力が過度な力にならないようにすることができる。言い換えれば、マイクロカプセル４０に過度な力が加わり、マイクロカプセル４０が破壊するのを効果的に防止することができる。また、工程［Ａ５］、［Ａ６］においてマイクロカプセル分散液１００に圧力が加わった際に、マイクロカプセル４０が壁部８を超えて、壁部８の外側へ移動してしまうのを防止することができる。
【０１０７】
［Ａ４］塗布液供給工程
基板１２上であって、前工程［Ａ３］で形成した壁部８の内側（すなわち領域Ｓ１）に、マイクロカプセル分散液１００を供給する。
マイクロカプセル分散液１００を基板１２上に供給する方法としては、特に限定されず、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ダイコート法、コンマコート法等の各種塗布法を用いることができる。
【０１０８】
ここで、基板１２上に供給するマイクロカプセル分散液１００に含まれるマイクロカプセル４０の数Ｎ１としては、壁部８の内側に単層で配設可能なマイクロカプセル４０の最大数Ｎｍａｘ程度であるのが好ましい。具体的には、マイクロカプセル４０の数Ｎは、０．９Ｎｍａｘ以上、１．１Ｎｍａｘ以下であるのが好ましく、１．０Ｎｍａｘ以上、１．１Ｎｍａｘ以下であるのがより好ましく、１．０Ｎｍａｘであるのがさらに好ましい。数Ｎを上記範囲とすることにより、壁部８内にマイクロカプセル４０を単層で配置すると、複数のマイクロカプセル４０を、隣り合うマイクロカプセル４０同士が接触するように、かつ各マイクロカプセル４０の形状（球形状）を保ちつつ、最密に配置することができる。
なお、基板１２上に供給するマイクロカプセル分散液１００の量は、マイクロカプセル４０の数Ｎが前述の数値範囲となるようになればよく、例えば、マイクロカプセル４０の粒径（体積平均粒径）と、マイクロカプセル分散液１００の単位体積当たりに存在するマイクロカプセル４０の数とに基づいて算出すればよい。
【０１０９】
［Ａ５］マイクロカプセル再配置工程
次に、平板状をなす押圧用基板１９を用意し、基板１２上に供給されたマイクロカプセル分散液１００に重なるように配置する。そして、図４（ａ）に示すように、基板１２と押圧用基板１９とが互いに近づく方向、すなわち、基板１２の厚さ方向に加圧する。これにより、マイクロカプセル分散液が基板１２の厚さ方向に加圧されるため、マイクロカプセル分散液１００中に重なるように存在しているマイクロカプセル４０’（４０）が基板１２の厚さ方向に移動することにより単層となり、さらに、マイクロカプセル４０’の前記移動により、他のマイクロカプセル４０”（４０）が基板１２の面方向に移動することにより、マイクロカプセル４０が欠損していた欠損部Ｓ１１にマイクロカプセル４０”が移動し、欠損部Ｓ１１にマイクロカプセル４０が補填される。これにより、図４（ｂ）に示すように、マイクロカプセル分散液１００中においてマイクロカプセル４０が単層化され、さらにマイクロカプセル４０の配設密度が均一化される。すなわち、マイクロカプセル４０は、基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で配列し、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に配列することとなる。これにより、表示層４００が得られる。
【０１１０】
特に、本実施形態では、壁部８によってマイクロカプセル４０の移動を制限しているため、すなわち、壁部８の内側でしかマイクロカプセル４０が移動できないようにしているため、より確実に、壁部８内にてマイクロカプセル４０が基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列（すなわち単層）に配列することができる。また、壁部８を押圧用基板１９の移動を規制するストッパとして利用するため、押圧用基板１９によるマイクロカプセル４０への過度な圧力印加が防止され、マイクロカプセル４０の破壊等を効果的に防止することができる。
【０１１１】
本実施形態のように、平板状をなす押圧用基板１９を用いて、基板１２の厚さ方向にマイクロカプセル分散液１００を加圧する構成とすることにより、基板１２の第２の電極４上に供給されたマイクロカプセル分散液１００の各部に対して、均一に加圧することができる。そのため、マイクロカプセル分散液１００の各部において、マイクロカプセル４０を、基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で確実に配列させ、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に確実に配列させることができるようになる。
【０１１２】
押圧用基板１９としては、特に限定されないが、基板１２の厚さ方向に対する加圧により形成された表示層４００から容易に剥離し得るものが用いられ、具体的には、例えば、母材（基材）の表面に、離型剤層が形成されたものが好適に用いられる。
母材としては、例えば、ＰＥＴ、高圧法低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、無延伸ポリプロピレン、延伸ポリプロピレンおよび延伸ナイロンのうちの少なくとも１種を主材料として構成されるプラスチックフィルム、クラフト紙、ポリエチレンラミネート紙、ポリプロピレンラミネート紙、不織布等が挙げられる。
【０１１３】
また、母材の厚さは、１０μｍ以上、２５０μｍ以下程度であるのが好ましく、５０μｍ以上、２００μｍ以下程度であるのがより好ましい。
離型剤層としては、特に限定されないが、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、変性シリコーン系離型剤のうちの少なくとも１種を主材料として構成されるものが挙げられる。
また、離型剤層の厚さは、０．０１μｍ以上、２μｍ以下程度であるのが好ましく、０．１μｍ以上、１μｍ以下程度であるのがより好ましい。
【０１１４】
かかる構成の押圧用基板１９を用いることにより、表示層４００の一部が押圧用基板１９に付着することなく、表示層４００から押圧用基板１９を確実に剥離することができる。
なお、押圧用基板１９として離型剤層を備えないものを用いる場合には、押圧用基板１９の表面に凹凸面を形成するのが好ましい。すなわち、押圧用基板１９の表面にエンボス加工を施すのが好ましい。これにより、凹凸面が形成された表面に、離型剤層と同様の機能を付与することができるため、表示層４００から押圧用基板１９を容易に剥離することができるようになる。
【０１１５】
マイクロカプセル分散液１００を基板１２の厚さ方向に加圧する方法としては、特に限定されないが、例えば、枚葉式真空ラミネーター、金属ローラー式ラミネーターおよびゴムローラー式ラミネーター等を用いた各種ラミネート法が挙げられる。ラミネート法によれば、基板１２の第２の電極４上に供給されたマイクロカプセル分散液１００の各部に対して、均一な押圧力で加圧することができる。このようなラミネート法が適用された装置としては、特に限定されないが、例えば、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）等が挙げられる。
【０１１６】
また、基板１２の厚さ方向に加圧する際に、これら同士の間に付与する圧力の大きさは、マイクロカプセル４０の強度によっても異なるが、例えば、マイクロカプセルの強度が３．０ＭＰａ程度の場合には、０．３ＭＰａ以上、１．５ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましく、０．３ＭＰａ以上、１．０ＭＰａ以下程度に設定するのがより好ましい。すなわち、前記圧力の大きさは、マイクロカプセル４０の強度の０．１倍以上、０．５倍以下程度に設定するのが好ましく、０．１倍以上、０．３３倍以下程度に設定するのがより好ましい。このような大きさの圧力を基板１２と押圧用基板１９との間に付与すると、マイクロカプセル分散液１００中に含まれるマイクロカプセル４０は、上下方向に圧縮（圧迫）されることなく、ほぼ球状（球形状）を維持した状態で、マイクロカプセル分散液１００（バインダー４１）中を移動し、最終的には、マイクロカプセル分散液１００中において、マイクロカプセル４０は、基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で配列し、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に配列することとなる。
【０１１７】
マイクロカプセル分散液１００を加圧する際のマイクロカプセル分散液１００の温度は、特に限定されないが、５０℃以上、１５０℃以下程度に設定するのが好ましく、７０℃以上、１００℃以下程度に設定するのがより好ましい。かかる温度内に設定すれば、マイクロカプセル分散液１００を基板１２の厚さ方向に加圧することにより、マイクロカプセル分散液１００中で、マイクロカプセル４０を円滑に移動させることができる。
【０１１８】
なお、マイクロカプセル分散液１００を基板１２の厚さ方向に加圧する際には、マイクロカプセル分散液１００に振動を付与してもよい。これにより、基板１２の面方向におけるマイクロカプセル４０の分布をより均一なものとすることができる。マイクロカプセル分散液１００に対する振動の付与は、好ましくは、マイクロカプセル分散液１００に対して超音波を付与することにより行われ、超音波の周波数は、１×１０５Ｈｚ以上、１×１０８Ｈｚ以下の範囲内に設定するのが好ましく、１×１０５Ｈｚ以上、５×１０７Ｈｚ以下の範囲内で設定するのがより好ましい。
【０１１９】
さらに、マイクロカプセル分散液１００を基板１２の厚さ方向に加圧した後に、この状態を維持したまま、基板１２と押圧用基板１９とをその面方向にずらすのが好ましく、その後、この面方向にずらしたのと面方向で直交する方向に、さらに基板１２と押圧用基板１９とをずらすのがより好ましい。これにより、基板１２の面方向におけるマイクロカプセル４０の分布を特に均一なものとすることができる。
【０１２０】
基板１２と押圧用基板１９とをその面方向にずらす距離は、マイクロカプセル４０が１回転する程度、具体的には、例えばマイクロカプセル４０の直径が４０μｍ程度の場合には、１００μｍ以上、２００μｍ以下程度であるのが好ましく、１２０μｍ以上、１５０μｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、前記効果をより顕著に発揮させることができるようになる。
【０１２１】
［Ａ６］基板接合工程
次に、図５に示すように、第１の電極３側を表示層４００側に向けて、回路基板２２を、前工程［Ａ５］で形成された表示層４００上に重ね合わせる。次いで、回路基板２２と表示シート２１とが互いに近づく方向、すなわち、基板１２の厚さ方向に加圧する。これにより、表示シート２１と回路基板２２とが接合される。
【０１２２】
本実施形態では、前述したように、壁部８を表示シート２１と回路基板２２との離間距離を規定するスペーサとして利用しているため、マイクロカプセル４０の破損、破壊、変形等を効果的に防止することができるとともに、第１の電極３および第２の電極４の電極間距離を所望の距離に設定することができるため、表示装置２０の駆動を安定化させることができる。
また、本実施形態では、前述したように、壁部８を封止部７として利用しているため、表示装置２０の製造の簡易化、および部品点数の削減を図ることができる。
【０１２３】
回路基板２２と表示シート２１とを接合する際に加えられる圧力の大きさとしては、工程［Ａ５］にてマイクロカプセル分散液１００に加えられた圧力とほぼ等しいのが好ましい。本実施形態では、工程［Ａ５］と同様に、工程［Ａ６］も壁部８を形成した状態で行われるため、本工程の圧力の大きさを工程［Ａ５］と同程度とすることにより、マイクロカプセル４０の形状を球状に維持した状態で（すなわちマイクロカプセル４０の破壊を防止しつつ）、バインダー４１の接着力を利用して回路基板２２と表示シート２１とを強固に接合することができる。
【０１２４】
回路基板２２を基板１２の厚さ方向に加圧する方法としては、特に限定されず、例えば工程［Ａ５］で用いた押圧用基板１９を用いることができる。また、例えば、枚葉式真空ラミネーター、金属ローラー式ラミネーターおよびゴムローラー式ラミネーター等を用いた各種ラミネート法を用いることもできる。ラミネート法によれば、回路基板２２および表示シート２１の各部に対して、均一な押圧力で加圧することができる。このようなラミネート法が適用された装置としては、特に限定されないが、例えば、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）等が挙げられる。
【０１２５】
以上の工程を経て、表示装置２０が得られる。
このようにして得られた表示装置２０では、表示層４００に含有されるマイクロカプセル４０が球状をなし、表示層４００中において、マイクロカプセル４０は、表示層４００の面方向に対して互いに接触した状態で配列し、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に配列している。その結果、表示装置２０は、優れた（高い）コントラストを発揮することができる。
【０１２６】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の表示装置の第２実施形態について説明する。
図６および図７は、それぞれ、本発明の第２実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
以下、第２実施形態にかかる表示装置の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【０１２７】
本発明の第２実施形態にかかる表示装置の製造方法は、壁部を除去する壁部除去工程と、封止部を形成する封止部形成工程とを有する以外は、第１実施形態の表示装置の製造方法と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
本実施形態では、表示装置２０は、次のようにして製造される。すなわち表示装置２０の製造方法は、マイクロカプセル４０を作製するマイクロカプセル作製工程［Ｂ１］と、マイクロカプセル４０を含むマイクロカプセル分散液１００を調製するマイクロカプセル分散液調製工程［Ｂ２］と、基板１２上に、マイクロカプセル４０を配設する領域Ｓ１を規定する壁部８を設ける壁部形成工程［Ｂ３］と、壁部８の内側にマイクロカプセル分散液１００を供給する塗布液供給工程［Ｂ４］と、マイクロカプセル分散液１００中でマイクロカプセル４０を移動し再配置するマイクロカプセル再配置工程［Ｂ５］と、壁部８を基板１２上から除去する壁部除去工程［Ｂ６］と、基板１２の厚さ方向の圧力を加えることにより、回路基板２２をマイクロカプセル分散液１００（表示層４００）を介して基板１２と接合する基板接合工程［Ｂ７］と、表示層４００の周囲を覆うように封止部７を形成する封止部形成工程［Ｂ８］とを有している。
【０１２８】
ここで、工程［Ｂ１］〜［Ｂ５］については、前述した第１実施形態の工程［Ａ１］〜［Ａ５］と同様であるため、その説明を省略し、以下では、工程［Ｂ６］〜［Ｂ８］について詳細に説明する。
［Ｂ６］壁部除去工程
本工程では、壁部８を基板１２から除去する。すなわち、図６（ａ）の状態から図６（ｂ）の状態とする。壁部８の除去方法としては、特に限定されないが、次のような方法が好ましい。すなわち、例えば、工程［Ｂ３］では、枠状の壁部８を紫外線照射により接着力が消滅するような接着剤を介して基板１２に接着し、本工程［Ｂ６］にて、接着剤に紫外線を照射することにより壁部８を除去する方法が好ましい。これにより、簡単に壁部８を除去することができる。
【０１２９】
本工程を設けることにより、壁部８の構成材料の選択の自由度が拡大する。すなわち、第１実施形態では、壁部８を封止部７として利用するため、壁部８の構成材料を、封止部７の機能を果たし得る材料とする必要があり、構成材料の選択の自由度を低下させていたが、本実施形態では、壁部８を封止部７と利用しないため、壁部８の構成材料の選択の自由度が第１実施形態と比較して大きくなる。
【０１３０】
［Ｂ７］基板接合工程
次に、図７（ａ）に示すように、第１の電極３側を表示層４００側に向けて、対向基板１１（回路基板２２）を、前工程［Ｂ５］で形成された表示層４００上に重ね合わせる。次いで、対向基板１１と表示シート２１とが互いに近づく方向、すなわち、基板１２の厚さ方向に加圧する。これにより、表示シート２１と対向基板１１とが接合される。
【０１３１】
対向基板１１と表示シート２１とを接合する際に加えられる圧力の大きさとしては、工程［Ｂ５］にてマイクロカプセル分散液１００に加えられた圧力よりも低いことが好ましい。具体的には、マイクロカプセル４０のカプセル本体４０１の強度が３．０ＭＰａ程度の場合には、０．１ＭＰａ以上、０．３ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましい。すなわち、前記圧力の大きさは、マイクロカプセル４０の強度の０．０３倍以上、０．１倍以下程度に設定するのが好ましい。このような大きさの圧力を基板１２と対向基板１１との間に付与すると、マイクロカプセル４０の破壊を防止しつつ、対向基板１１と表示シート２１とを強固に接合することができる。
【０１３２】
［Ｂ８］封止部形成工程
次に、図７（ｂ）に示すように、基板１２および対向基板１１の縁部に沿って、封止部７を形成する。これは、基板１２と対向基板１１との間であって、これらの縁部に沿って封止部７を形成するための材料を、例えば、ディスペンサ等により供給し、固化または硬化させることにより形成することができる。
このような第２実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【０１３３】
＜第３実施形態＞
次に、本発明の表示装置の第３実施形態について説明する。
図８および図９は、それぞれ、本発明の第３実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
以下、第３実施形態にかかる表示装置の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【０１３４】
本発明の第３実施形態にかかる表示装置の製造方法は、壁部を形成する壁部形成工程の順番がことなること以外は、第１実施形態の表示シートの製造方法と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
本実施形態では、表示装置２０は、次のようにして製造される。すなわち表示装置２０の製造方法は、マイクロカプセル４０を作製するマイクロカプセル作製工程［Ｃ１］と、マイクロカプセル４０を含むマイクロカプセル分散液１００を調製するマイクロカプセル分散液調製工程［Ｃ２］と、基板１２上に、マイクロカプセル４０を配設する領域として設定された領域Ｓ１にマイクロカプセル分散液１００を供給する塗布液供給工程［Ｃ３］と、マイクロカプセル分散液１００中でマイクロカプセル４０を移動し再配置するマイクロカプセル再配置工程［Ｃ４］と、基板１２上に領域Ｓ１の周囲を囲むようにして壁部８を形成する壁部形成工程［Ｃ５］と、基板１２の厚さ方向の圧力を加えることにより、回路基板２２をマイクロカプセル分散液１００（表示層４００）を介して基板１２と接合する基板接合工程［Ｃ６］とを有している。
ここで、工程［Ｃ１］、［Ｃ２］および［Ｃ６］については、前述した第１実施形態の工程［Ａ１］、［Ａ２］および［Ａ６］と同様であるため、その説明を省略し、以下では、工程［Ｃ３］〜［Ｃ５］について詳細に説明する。
【０１３５】
［Ｃ３］塗布液供給工程
本工程では、図８（ａ）に示すように、基板１２上に設定された領域（マイクロカプセル配置領域）Ｓ１にマイクロカプセル分散液１００を供給する。供給するマイクロカプセル分散液１００の量としては、第１実施形態で説明した量と同様である。
［Ｃ４］マイクロカプセル再配置工程
次に、図８（ｂ）に示すように、押圧用基板１９を用いて、マイクロカプセル分散液１００を基板１２の厚さ方向に加圧する。これにより、第１実施形態の工程［Ａ５］と同様に、マイクロカプセル分散液１００中においてマイクロカプセル４０が単層化され、さらにマイクロカプセル４０の配設密度が均一化される。すなわち、マイクロカプセル４０は、基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で配列し、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に配列することとなる。これにより、表示層４００が得られる。
【０１３６】
マイクロカプセル４０を再配置するために加えられる圧力の大きさとしては、工程［Ｃ６］にてマイクロカプセル分散液１００に加えられた圧力（すなわち、前述した第１実施形態の工程［Ａ６］にて加えられる圧力）よりも低いことが好ましい。具体的には、マイクロカプセル４０のカプセル本体４０１の強度が３．０ＭＰａ程度の場合には、０．１ＭＰａ以上、０．３ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましい。すなわち、前記圧力の大きさは、マイクロカプセル４０の強度の０．０３倍以上、０．１倍以下程度に設定するのが好ましい。このような大きさの圧力を基板１２と押圧用基板１９との間に付与すると、マイクロカプセル分散液１００中に含まれるマイクロカプセル４０は、上下方向に圧縮（圧迫）されることなく、ほぼ球状（球形状）を維持した状態で、マイクロカプセル分散液１００（バインダー４１）中を移動し、最終的には、マイクロカプセル分散液１００中において、マイクロカプセル４０は、基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で配列し、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に配列することとなる。また、マイクロカプセル４０の基板１２の面方向への移動が抑制され、領域Ｓ１の全域に均一にマイクロカプセル４０が配置される。
【０１３７】
［Ｃ５］壁部形成工程
次いで、図９に示すように、表示層４００の周囲を囲むように壁部８を形成する。本実施形態では、第１実施形態と同様に、壁部８を封止部７として利用する。
このような第３実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【０１３８】
＜第４実施形態＞
次に、本発明の表示装置の第４実施形態について説明する。
図１０は、本発明の第４実施形態にかかる表示装置の製造方法を説明するための模式図である。
以下、第４実施形態にかかる表示装置の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【０１３９】
本発明の第４実施形態にかかる表示装置の製造方法は、マイクロカプセル再配置工程と、基板接合工程とが一工程となっていること以外は、第１実施形態の表示シートの製造方法と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
本実施形態では、表示装置２０は、次のようにして製造される。すなわち表示装置２０の製造方法は、マイクロカプセル４０を作製するマイクロカプセル作製工程［Ｄ１］と、マイクロカプセル４０を含むマイクロカプセル分散液１００を調製するマイクロカプセル分散液調製工程［Ｄ２］と、基板１２上に、マイクロカプセル４０を配設する領域Ｓ１を規定する壁部８を設ける壁部形成工程［Ｄ３］と、壁部８の内側にマイクロカプセル分散液１００を供給する塗布液供給工程［Ｄ４］と、領域Ｓ１に供給されたマイクロカプセル分散液１００に対して、基板１２の厚さ方向の圧力を加え、マイクロカプセル４０を再配置するとともに、回路基板２２をマイクロカプセル分散液１００（表示層４００）を介して基板１２と接合する基板接合工程［Ｄ５］とを有している。
ここで、工程［Ｄ１］〜［Ｄ４］については、前述した第１実施形態の工程［Ａ１］〜［Ａ４］と同様であるため、その説明を省略し、以下では、工程［Ｄ５］について詳細に説明する。
【０１４０】
［Ｄ５］基板接合工程
まず、基板１２上にマイクロカプセル分散液１００が供給された状態で、図１０（ａ）に示すように、第１の電極３側を表示層４００側に向けて、対向基板１１（回路基板２２）をマイクロカプセル分散液１００（基板１２）に重ね合わせる。次いで、対向基板１１と表示シート２１とが互いに近づく方向、すなわち、基板１２の厚さ方向に加圧する。これにより、対向基板１１と基板１２とが表示層４００を介して接合されるとともに、マイクロカプセル分散液１００中でマイクロカプセル４０の再配置がなされる。すなわち、マイクロカプセル分散液１００が基板１２の厚さ方向に加圧され、マイクロカプセル分散液１００中に重なるように存在しているマイクロカプセル４０’（４０）が基板１２の厚さ方向に移動することにより単層となり、さらに、マイクロカプセル４０’の前記移動により、他のマイクロカプセル４０”（４０）が基板１２の面方向に移動することにより、マイクロカプセル４０が欠損していた欠損部Ｓ１１にマイクロカプセル４０”が移動し、欠損部Ｓ１１にマイクロカプセル４０が補填される。これにより、マイクロカプセル分散液１００中においてマイクロカプセル４０が単層化され、さらにマイクロカプセル４０の配設密度が均一化される。これにより、図１０（ｂ）に示すように、表示装置２０が得られる。
【０１４１】
本工程にて加える圧力の大きさは、マイクロカプセル４０の強度によっても異なるが、例えば、マイクロカプセルの強度が３．０ＭＰａ程度の場合には、０．３ＭＰａ以上、１．５ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましく、０．３ＭＰａ以上、１．０ＭＰａ以下程度に設定するのがより好ましい。すなわち、前記圧力の大きさは、マイクロカプセル４０の強度の０．１倍以上、０．５倍以下程度に設定するのが好ましく、０．１倍以上、０．３３倍以下程度に設定するのがより好ましい。このような大きさの圧力を基板１２と対向基板１１との間に付与すると、マイクロカプセル分散液１００中に含まれるマイクロカプセル４０は、上下方向に圧縮（圧迫）されることなく、ほぼ球状（球形状）を維持した状態で、マイクロカプセル分散液１００（バインダー４１）中を移動し、最終的には、マイクロカプセル分散液１００中において、マイクロカプセル４０は、基板１２の面方向に対して互いに接触した状態で配列し、かつ、その厚さ方向に対して重なることなく１列に配列することとなる。また、対向基板１１と基板１２とをより強固に接合することができる。
このような第４実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【０１４２】
＜電子機器＞
以上のような表示装置２０は、各種電子機器に組み込むことができる。以下、表示装置２０を備える本発明の電子機器について説明する。
＜＜電子ペーパー＞＞
まず、本発明の電子機器を電子ペーパーに適用した場合の実施形態について説明する。
【０１４３】
図１１は、本発明の電子機器を電子ペーパーに適用した場合の実施形態を示す斜視図である。
図１１に示す電子ペーパー６００は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシートで構成される本体６０１と、表示ユニット６０２とを備えている。このような電子ペーパー６００では、表示ユニット６０２が、前述したような表示装置２０で構成されている。
【０１４４】
＜＜ディスプレイ＞＞
次に、本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態について説明する。
図１２は、本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態を示す図である。このうち、図１２中（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
図１２に示すディスプレイ（表示装置）８００は、本体部８０１と、この本体部８０１に対して着脱自在に設けられた電子ペーパー６００とを備えている。なお、この電子ペーパー６００は、前述したような構成、すなわち、図１２に示す構成と同様のものである。
【０１４５】
本体部８０１は、その側部（図１２（ａ）中、右側）に電子ペーパー６００を挿入可能な挿入口８０５が形成され、また、内部に二組の搬送ローラー対８０２ａ、８０２ｂが設けられている。電子ペーパー６００を、挿入口８０５を介して本体部８０１内に挿入すると、電子ペーパー６００は、搬送ローラー対８０２ａ、８０２ｂにより挟持された状態で本体部８０１に設置される。
【０１４６】
また、本体部８０１の表示面側（図１２（ｂ）中、紙面手前側）には、矩形状の孔部８０３が形成され、この孔部８０３には、透明ガラス板８０４が嵌め込まれている。これにより、本体部８０１の外部から、本体部８０１に設置された状態の電子ペーパー６００を視認することができる。すなわち、このディスプレイ８００では、本体部８０１に設置された状態の電子ペーパー６００を、透明ガラス板８０４において視認させることで表示面を構成している。
【０１４７】
また、電子ペーパー６００の挿入方向先端部（図１２中、左側）には、端子部８０６が設けられており、本体部８０１の内部には、電子ペーパー６００を本体部８０１に設置した状態で端子部８０６が接続されるソケット８０７が設けられている。このソケット８０７には、コントローラー８０８と操作部８０９とが電気的に接続されている。
このようなディスプレイ８００では、電子ペーパー６００は、本体部８０１に着脱自在に設置されており、本体部８０１から取り外した状態で携帯して使用することもできる。
【０１４８】
また、このようなディスプレイ８００では、電子ペーパー６００が、前述したような電気泳動表示装置２０で構成されている。
なお、本発明の電子機器は、以上のようなものへの適用に限定されず、例えば、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、電子新聞、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等を挙げることができ、これらの各種電子機器の表示部に、本発明の表示装置２０を適用することが可能である。
【０１４９】
以上、本発明の表示シートの製造方法、表示シート、表示装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、本発明の表示装置は、前記各実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。
【０１５０】
なお、前述した実施形態において、例えば、対向基板の表示層側の面に配線等が露出している場合には、壁部と対向基板とを接合した際に、壁部が前記配線に接触しないように、壁部を形成してもよい。これにより、壁部を、導電性を有する材料で構成することもできるため、壁部の構成材料の選択の自由度が増大する。壁部を絶縁性の材料で構成する場合には、壁部は、前記配線と接触してもよい。
【実施例】
【０１５１】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。しかしながら、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
１．表示装置の製造
以下のようにして表示装置を製造した。
＜実施例１＞
（Ａ１）マイクロカプセルの作製
（Ａ１−１）電気泳動分散液の調製
攪拌羽根、温度計、冷却管を備えた容量３００ｍｌのセパラブルフラスコに、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル（組成比８０：１５：５）からなるアクリル系ポリマー（質量平均分子量３，３００）２ｇ、カーボンブラック（ＭＡ−１００Ｒ、三菱化学（株）製）２０ｇ、アイソパーＭ（エクソン化学社製）７８ｇを仕込み、さらに直径１ｍｍのジルコニア製ビーズ８００ｇを仕込んだ。回転数３００ｒｐｍで攪拌しながら、１６０℃で２時間反応させてポリマーグラフト処理を行った。処理後、さらにアイソパーＭ（エクソン化学社製）１００ｇを添加し、充分に混合した。その後、ジルコニア製ビーズを分離して、ポリマーグラフト処理されたカーボンブラック（ここでは、カーボンブラックの表面に存在するカルボキシ基にアクリル系ポリマーのエポキシ基を反応させた。）の分散液を得た。一方、攪拌羽根を備えた容量３００ｍｌのセパラブルフラスコに、酸化チタン（タイペークＣＲ９０、石原産業（株）製）５０ｇ、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（組成比８０：１５：５）からなるアクリル系ポリマー（質量平均分子量６，８００）５ｇ、ヘキサン１００ｇを仕込み、５５℃の超音波浴槽（ＢＲＡＮＳＯＮ５２１０、ヤマト科学（株）製）に入れ、攪拌しながら超音波分散処理を２時間行った。このセパラブルフラスコを９０℃の温水槽に移し、溶剤を留去し、粉体状となった酸化チタンをフラスコから取り出し、バットに移した後、乾燥機中、１５０℃で熱処理を５時間行った。熱処理された酸化チタンをヘキサン１００ｇに分散させ、遠心沈降器で遠心分離し、酸化チタンを洗浄する操作を３回行った後、１００℃で乾燥させた。攪拌羽根を備えた容量３００ｍｌのセパラブルフラスコに、洗浄処理された酸化チタン５０ｇ、アイソパーＭ（エクソン化学社製）５０ｇを仕込み、５５℃の超音波浴槽（ＢＲＡＮＳＯＮ５２１０、ヤマト科学（株）製）に入れ、攪拌しながら超音波分散処理を２時間行って、ポリマーグラフト処理された酸化チタン（ここでは、酸化チタンの表面に存在するヒドロキシ基にアクリル系ポリマーのシリル基を反応させた。）の分散液を得た。容量２００ｍｌのマヨネーズビンに、上記のポリマーグラフト処理されたカーボンブラックの分散液６．０ｇ、上記のポリマーグラフト処理された酸化チタンの分散液７５ｇ、アイソパーＭ（エクソン化学社製）１９ｇを仕込み、充分に混合して、電気泳動表示装置用分散液を得た。
【０１５２】
（Ａ１−２）電気泳動分散液の水懸濁液の調整
５００ｍｌビーカーに１０ｗｔ％アラビアガム水溶液６０ｇを計量し、ディスパー攪拌下に前記工程（Ａ１−１）で得られた電気泳動分散液５０ｇを添加し、懸濁操作を行い、電気泳動分散液の水懸濁液を得た。
（Ａ１−３）第１のカプセル層の形成
１００ｍｌの丸底セパラブルフラスコに、メラミン５ｇ、尿素５ｇ、２７ｗｔ％ホルムアルデヒド水溶液２０ｇおよび２５ｗｔ％アンモニア水１ｇを仕込み、撹拌しながら７０℃まで昇温させた。昇温途中、６５℃付近で全体が透明になった。７０℃に昇温後、同温度で１時間保持した後、３０℃まで冷却し、メラミンおよび尿素とホルムアルデヒドとの初期縮合化合物を得た。
【０１５３】
次に、４０℃に保持された前記工程（Ａ１−２）で得られた電気泳動分散液の水懸濁液に、この初期縮合物を添加し同温度で２時間攪拌した、次いで７０℃まで昇温して、同温度で２時間熟成させた後、常温まで冷却した。以上の工程により、メラミン系樹脂よりなる第１のカプセル層を形成し、電気泳動分散液を内包するマイクロカプセル前躯体分散液を得た。このマイクロカプセル全躯体分散液に脱イオン水１Ｌを添加し均一に混合した後静置した、マイクロカプセル前躯体の沈降を確認し、上澄み液を除去する操作を数回行い、洗浄を行った。このマイクロカプセル前躯体の粒子径を測定した結果、体積平均粒径は、４２μｍであった。
【０１５４】
（Ａ１−４）第２のカプセル層の形成
３００ｍｌセパラブルフラスコに前工程（Ａ１−３）で得られたマイクロカプセル前躯体全量に脱イオン水を添加し全体量を２００ｇとした。このマイクロカプセル前躯体分散液を攪拌しながら４０℃まで昇温し、エポキシ化合物［ナガセケムテックス（株）社製、「デナコールＥＸ５２１（ポリグリセロールポリグリシジルエステル）」］２０ｇを水５０ｇに分散した分散液を、１０分間かけて滴下した。同温度で３０分間保持した後、架橋剤として２．５ｗｔ％ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム水溶液１ｇを添加し、２時間反応を行った。次いで５０℃まで昇温し、同温度で２時間熟成を行う事により、マイクロカプセル前躯体（第１のカプセル層）の表面に、エポキシ樹脂よりなる第２のカプセル層を形成した。
【０１５５】
以上の工程により、第１のカプセル層と第２のカプセル層とで構成されるカプセル本体内に電気泳動分散液を内包するマイクロカプセルを得た。このマイクロカプセル分散液を、目開き３８μｍのメッシュ及び目開き３２μｍのメッシュを用いて湿式分級を行い、体積平均粒子径３７．２９μｍ（ＣＶ値８．１８％）のマイクロカプセルを得た。粒度分布は、レーザー回析／散乱式粒度分布測定装置（製品名：ＬＡ−９１０、（株）堀場製作所社製）を用いて測定した。ＣＶ値とは、（標準偏差／平均粒子径）×１００を示す。
【０１５６】
（Ａ２）マイクロカプセル分散液の調製
次に、前記工程（Ａ１）で得られたマイクロカプセルとバインダーとを、重量比で１０：３となるように混合して、マイクロカプセル分散液を調製した。なお、バインダーには、アクリル酸ブチルとアクリル酸２−エチルヘキシルとポリエチレングリコール（Ｍｗ＝２０００）とを、重量比で５０：４７：３となるように混合した混合物を用いた。
【０１５７】
（Ａ３）表示層の形成
（Ａ３−１）壁部の形成
次に、ＰＥＴで構成される母材上にＩＴＯの膜が形成されたＰＥＴ−ＩＴＯ基板（製品名：ＮＸＣ１、東レ社製、ＩＴＯ厚：１２５μｍ）を用意した。次いで、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板のＩＴＯ側の面に、マイクロカプセルを配設する領域を規定するように壁部を形成した。壁部は、エポキシ樹脂を主材料として構成された枠状の部材を、接着剤を用いてＰＥＴ−ＩＴＯ基板に接着することにより形成した。なお、壁部の高さは、１８．８μｍであった。
（Ａ３−２）マイクロカプセル分散液の供給
次に、前記工程（Ａ２）で得られたマイクロカプセル分散液を、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板に形成された壁部の内側に供給した。
【０１５８】
（Ａ３−３）マイクロカプセルの再配置
次いで、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板上に供給されたマイクロカプセル分散液に重なるように、離型剤層付シート（製品名：エスケーセパレーター  Ｋ−８０ＨＳ、（株）サンエー化研社製、母材：クラフト紙、離型剤層：シリコーン系離型剤）を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板と離型剤層付シートとの間にマイクロカプセル分散液を挾持した状態で、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板の厚さ方向にマイクロカプセル分散液を加圧した。なお、マイクロカプセル分散液を加圧した際のロールラミネータの条件は、以下に示すとおりであった。
【０１５９】
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．４ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
また、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板と離型剤層付シートとの間に形成された表示層は、縦１３６．２ｍｍ×横１０２．３ｍｍ×平均厚さ５０μｍのものであった。
次に、マイクロカプセル分散液から離型剤層付シートを剥がし、これにより表示層を得た。
【０１６０】
（Ａ３−４）ＬＴＰＳ基板（回路基板）の接合
次に、表示層に重なるように、予め用意したＬＴＰＳ基板（Low-Temperature  Polycrystalline  Silicon基板：回路基板）を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＬＴＰＳ基板を表示層上に貼り合わせた。なお、回路基板は、２Ｔ１Ｃ構成のＴＦＴを用い、画素数がＶＧＡ（４８０×６４０）、画素ピッチが９６μｍ（２６４ｄｐｉ）、画面寸法が４６．０ｍｍ×６１．４ｍｍ、基板寸法が７５．０ｍｍ×５１．２ｍｍであった。
なお、回路基板を表示層に貼り合わせる際のロールラミネータの条件は以下に示すとおりであった。
【０１６１】
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．４ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
これにより、実施例１の表示装置を得た。
【０１６２】
＜実施例２＞
前記実施例と表示層の形成工程が異なる以外は、前記実施例１と同様にして、実施例２の表示装置を得た。以下に、本実施例の表示層の形成工程を説明する。
（Ｂ３）表示層の形成
（Ｂ３−１）壁部の形成
前記実施例１と同様にて、壁部を形成した。
【０１６３】
（Ｂ３−２）マイクロカプセル分散液の供給
次に、前記実施例１と同様にして、壁部を形成した。
（Ｂ３−３）マイクロカプセルの再配置
次に、前記実施例１と同様にして、マイクロカプセルの再配置を行った。
（Ｂ３−４）壁部の除去
次に、（Ｂ３−１）で形成した壁部を除去した。
【０１６４】
（Ｂ３−５）ＬＴＰＳ基板の接合
次に、表示層に重なるように、ＬＴＰＳ基板を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＬＴＰＳ基板を表示層上に貼り合わせた。なお、ＬＴＰＳ基板を表示層に貼り合わせる際のロールラミネータの条件は以下に示すとおりであった。
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．２ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
（Ｂ３−６）封止部の形成
次に、（メタ）アクリル系樹脂をディスペンサにより表示層の周囲に供給し封止部を形成した。
これにより、実施例２の表示装置を得た。
【０１６５】
＜実施例３＞
前記実施例と表示層の形成工程が異なる以外は、前記実施例１と同様にして、実施例３の表示装置を得た。以下に、本実施例の表示層の形成工程を説明する。
（Ｃ３）表示層の形成
（Ｃ３−１）マイクロカプセル分散液の供給
ＰＥＴ−ＩＴＯ基板のＩＴＯ側の表面に設定された領域（マイクロカプセル配置領域）にマイクロカプセル分散液を供給した。
【０１６６】
（Ｃ３−２）マイクロカプセルの再配置
次に、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板上に供給されたマイクロカプセル分散液に重なるように、離型剤層付シート（製品名：エスケーセパレーター  Ｋ−８０ＨＳ、（株）サンエー化研社製、母材：クラフト紙、離型剤層：シリコーン系離型剤）を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板と離型剤層付シートとの間にマイクロカプセル分散液を挾持した状態で、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板の厚さ方向にマイクロカプセル分散液を加圧した。なお、マイクロカプセル分散液を加圧した際のロールラミネータの条件は、以下に示すとおりであった。
【０１６７】
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．２ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
また、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板と離型剤層付シートとの間に形成された表示層は、縦１３６．２ｍｍ×横１０２．３ｍｍ×平均厚さ５０μｍのものであった。
【０１６８】
（Ｃ３−３）壁部の形成
次に、表示層の周囲を囲むようにして、壁部を形成した。壁部の形成は、実施例１の（Ａ−２）と同様にして行った。
（Ｃ３−４）ＬＴＰＳ基板の接合
次に、前記実施例１と同様にして、表示層へのＬＴＰＳ基板の接合を行った。
これにより、実施例３の表示装置を得た。
【０１６９】
＜実施例４＞
前記実施例と表示層の形成工程が異なる以外は、前記実施例１と同様にして、実施例４の表示装置を得た。以下に、本実施例の表示層の形成工程を説明する。
（Ｄ３）表示層の形成
（Ｄ３−１）壁部の形成
前記実施例１と同様にして、壁部を形成した。
（Ｄ３−２）マイクロカプセル分散液の供給
次に、前記実施例１と同様にして、壁部内にマイクロカプセル分散液を供給した。
【０１７０】
（Ｄ３−３）ＬＴＰＳ基板の接合
次に、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板上に供給されたマイクロカプセル分散液に重なるように、ＬＴＰＳ基板を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板とＬＰＴＳ基板との間にマイクロカプセル分散液を挾持した状態で、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板の厚さ方向にマイクロカプセル分散液を加圧した。なお、マイクロカプセル分散液を加圧した際のロールラミネータの条件は、以下に示すとおりであった。
【０１７１】
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．４ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
また、形成された表示層は、縦１３６．２ｍｍ×横１０２．３ｍｍ×平均厚さ５０μｍのものであった。
これにより、実施例４の表示装置を得た。
【０１７２】
＜比較例１＞
前記実施例と表示層の形成工程が異なる以外は、前記実施例１と同様にして、比較例１の表示装置を得た。以下に、本比較例の表示層の形成工程を説明する。
（Ｅ３）表示の形成
（Ｅ３−１）マイクロカプセル分散液の供給
ＰＥＴ−ＩＴＯ基板のＩＴＯ側の表面に設定された領域（マイクロカプセル配置領域）にマイクロカプセル分散液を供給した。
【０１７３】
（Ｅ３−２）マイクロカプセルの再配置
次に、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板上に供給されたマイクロカプセル分散液に重なるように、離型剤層付シート（製品名：エスケーセパレーター  Ｋ−８０ＨＳ、（株）サンエー化研社製、母材：クラフト紙、離型剤層：シリコーン系離型剤）を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板と離型剤層付シートとの間にマイクロカプセル分散液を挾持した状態で、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板の厚さ方向にマイクロカプセル分散液を加圧した。なお、マイクロカプセル分散液を加圧した際のロールラミネータの条件は、以下に示すとおりであった。
【０１７４】
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．４ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
また、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板と離型剤層付シートとの間に形成された表示層は、縦３０ｍｍ×横３０ｍｍ×平均厚さ５０μｍのものであった。
【０１７５】
（Ｅ３−３）ＬＴＰＳ基板の接合
次に、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板上に形成された表示層に重なるように、ＬＴＰＳ基板を配置し、その後、ロールラミネータ（製品名：ＶＡ−７００ＤＦＲ、大成ラミネーター（株）社製）を用いて、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板とＬＴＰＳ基板との間にマイクロカプセル分散液を挾持した状態で、ＰＥＴ−ＩＴＯ基板の厚さ方向にマイクロカプセル分散液を加圧した。なお、マイクロカプセル分散液を加圧した際のロールラミネータの条件は、以下に示すとおりであった。
【０１７６】
＜ラミネート装置の条件＞
・ラミネート圧力  ：０．４ＭＰａ
・ラミネート温度  ：７０℃
・シート搬送速度  ：５ｃｍ／分
（Ｅ３−４）封止部の形成
次に、（メタ）アクリル系樹脂をディスペンサにより表示層の周囲に供給し封止部を形成した。
これにより、比較例１の表示装置を得た。
【０１７７】
２．評価
（２−１）表示層中のマイクロカプセルの状態
各実施例および比較例について、加圧によるマイクロカプセルの再配置が行われる前後での表示層中のマイクロカプセルの状態を、デジタルマイクロスコープ（製品名：ＶＨＸ−６００、（株）キーエンス社製）、レンズ（製品名：ＶＨ−Ｚ１００、（株）キーエンス社製）を用いて観察した。これらの測定結果を、以下の表１に示す。
【０１７８】
【表１】
2011227109.tif 000003
【０１７９】
（２−２）コントラストの評価
各実施例および比較例で得られた表示装置について、それぞれ、両電極間に１５Ｖの直流電圧を４００ｍｓｅｃ印加したときの白および黒の反射率をそれぞれ、マクベス分光光度濃度計（製品名：ＳｐｅｃｔｒｏＥｙｅ、ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）を用いてＹ値（視感反射率）を測定することにより算出し、下記式（１）によりコントラストを求めた。なお、白および黒のＹ値は、極を切り替えて印加することにより別々に測定した。また、白および黒の反射率は、図１３に示すように、５つのエリア（１）〜（５）にて測定した。
コントラスト＝（白Ｙ値）／（黒Ｙ値）      ・・・      （１）
この評価結果を、それぞれ、以下の表２に示す。
【０１８０】
【表２】
2011227109.tif 000004
【０１８１】
表１から明らかなように、各実施例および比較例では、ぞれぞれ、ロールラミネータによるマイクロカプセル分散液の加圧前には、マイクロカプセル分散液中において、マイクロカプセルが厚さ方向で重なりが認められるものの、ロールラミネータによる加圧により、マイクロカプセルの厚さ方向での重なりが解消されて、マイクロカプセルが１列に配列していることが判った。
また、表２から明らかなように、各実施例では、各エリア（１）〜（５）で高いコントラストを有しており、これに対して比較例１では、全てのエリア（１）〜（５）でコントラストが実施例に対して低く、特に、縁部のエリア（２）〜（５）では、コントラストが実施例と比較してより低くなっていることが判った。
【符号の説明】
【０１８２】
１‥‥基部  ２‥‥基部  ３‥‥第１の電極  ４‥‥第２の電極  ５‥‥電気泳動粒子  ５ａ‥‥白色粒子  ５ｂ‥‥着色粒子  ６‥‥液相分散媒  ７‥‥封止部  ８‥‥壁部  １０‥‥電気泳動分散液  １００‥‥マイクロカプセル分散液  １１‥‥対向基板  １２‥‥基板  １９‥‥押圧用基板  ２０‥‥表示装置  ２１‥‥表示シート  ２２‥‥回路基板  ４０、４０’、４０”‥‥マイクロカプセル  ４００‥‥表示層  ４０１‥‥カプセル本体  ４０２‥‥第１のカプセル層  ４０３‥‥第２のカプセル層  ４１‥‥バインダー  ６００‥‥電子ペーパー  ６０１‥‥本体  ６０２‥‥表示ユニット  ８００‥‥ディスプレイ  ８０１‥‥本体部  ８０２ａ、８０２ｂ‥‥搬送ローラー対  ８０３‥‥孔部  ８０４‥‥透明ガラス板  ８０５‥‥挿入口  ８０６‥‥端子部  ８０７‥‥ソケット  ８０８‥‥コントローラー  ８０９‥‥操作部  Ｓ１‥‥領域  Ｓ１１‥‥欠損部
【図１】
2011227109.tif 000005
【図２】
2011227109.tif 000006
【図３】
2011227109.tif 000007
【図４】
2011227109.tif 000008
【図５】
2011227109.tif 000009
【図６】
2011227109.tif 000010
【図７】
2011227109.tif 000011
【図８】
2011227109.tif 000012
【図９】
2011227109.tif 000013
【図１０】
2011227109.tif 000014
【図１１】
2011227109.tif 000015
【図１２】
2011227109.tif 000016
【図１３】
2011227109.tif 000017