(57)【要約】【課題】表面層が適度な硬さを有するため強度や印刷の精度の低下等を生じるおそれがなく、しかも長期間に亘って表面層の表面の濡れ性が大きく上昇するのを抑制して良好な印刷を続けることができるため、印刷途中の溶剤除去の工程を省略したり実施回数を減らしたりして印刷のタクトタイムを短くして製品の生産性を向上できるシリコーンブランケットを提供する。【解決手段】印刷用のインキを担持させる表面を構成する、ジメチルシリコーンゴムからなる表面層に、前記ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部以上、１００質量部以下のフェニルメチルシリコーンゲルを含有させたシリコーンブランケットである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷用のシリコーンブランケットであって、前記印刷用のインキを担持させる表面を構成する、シリコーンゴムからなる表面層を少なくとも備え、前記表面層を形成するシリコーンゴムはジメチルシリコーンゴムであり、前記表面層は、前記ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部以上、１００質量部以下のフェニルメチルシリコーンゲルを含んでいることを特徴とするシリコーンブランケット。
【請求項２】
フィルム状またはシート状の基材と、前記基材の片面に形成した前記表面層とを備えている請求項１に記載のシリコーンブランケット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オフセット印刷方法等の印刷方法に用いるシリコーンブランケットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
オフセット印刷方法は、インキパターンを簡易に、かつ少ない工程数で効率よく多量に、しかも安価に形成できる利点を有しており、また近年に至って印刷精度の向上が図られていることから、特にエレクトロニクス分野において利用が広まりつつある。
例えば電気配線のパターンや蛍光体のパターン、あるいはプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤ）の構成部品等における各種のパターンといった、微細でかつ高精度のパターンの形成が求められる分野において、従来のフォトリソグラフ法によるパターン形成に代えてオフセット印刷方法が普及してきている。
【０００３】
オフセット印刷方法では、版の表面にパターン形成したインキをブランケットの表面に転写させたのち、被印刷体としての基板の表面に再転写させることで、前記基板の表面に所定のパターンが印刷される。
ブランケットとしては、少なくとも前記表面を構成する表面層を備え、前記表面層を、インキに対する離型性に優れたシリコーンゴムによって形成したシリコーンブランケットが広く用いられる。
【０００４】
表面層はインキと繰り返し接触することから、印刷を繰り返すうちに前記インキ中に含まれる溶剤が含浸されて徐々に膨潤し、それに伴ってインキに対する表面の濡れ性が徐々に上昇する。そのため、印刷初期から長期間に亘って印刷の精度を高いレベルに維持し続けることは困難である。
シリコーンゴムを殆ど膨潤しない濡れ性の低い溶剤を含むインキを使用すれば、印刷を繰り返しても前記濡れ性は殆ど変化しないため、安定した印刷を行うことができるように思われる。しかし、濡れ性の低い溶剤を含むインキは版の表面から表面層の表面への転写性が低いことから、特に細線のパターンにおいて断線を生じやすい。
【０００５】
断線は最も回避すべき不良の一つであり、これを防止するためには、シリコーンゴムをある程度は膨潤しうる溶剤を使用しなければならない。ところが、かかる溶剤を含むインキを使用して印刷を繰り返すと、前記溶剤によって表面層が徐々に膨潤して、インキに対する濡れ性が徐々に上昇する。そしてそれに伴ってインキが滲みやすくなって、特に細線のパターンの線幅が徐々に広くなったり、版表面の微小な汚れを転写するようになったり、表面層の表面から基板の表面へのインキの転写性が徐々に低下したりするようになって印刷の精度が徐々に低下する。
【０００６】
シリコーンブランケットを加熱して、前記表面層を膨潤させている溶剤を除去することが考えられる。しかしそのためには、シリコーンブランケットをおよそ４０〜２００℃程度まで加熱する必要があり、加熱直後の温度の高い表面を版に接触させると前記版が熱膨張して印刷の精度が低下するという問題がある。
溶剤を吸収する機能を有する溶剤吸収体を表面層の表面に接触させて溶剤を除去することが提案されている（特許文献１等参照）。前記溶剤吸収体を使用すれば、シリコーンブランケットを加熱せずに溶剤を除去できるため、印刷の精度を高いレベルに維持できる。
【０００７】
しかし溶剤吸収体による溶剤の除去は、表面層の膨潤状態を一定に維持するべく１回ないし数回の印刷ごとに印刷を停止して実施する必要があり、このことが印刷のタクトタイム、すなわち印刷機に基板をセットし、所定の手順にしたがって前記基板の表面にインキを印刷してパターンを形成したのち印刷機に新たな基板をセットするまでに要する平均の時間を長くする原因となって、製品の生産性を低下させるという問題がある。
【０００８】
特許文献２には、シリコーンゴムからなる表面層中に所定量のシリコーンゲルを含有させることが記載されている。
シリコーンゲルとは、基本的にシリコーンゴムと同様のポリシロキサン構造を有するものの、架橋反応後の架橋密度がシリコーンゴムよりも小さく、通常のゴム硬度計では測定できない程度の軟らかいゲル状に硬化するものをいう。
【０００９】
かかるシリコーンゲルは、表面層を形成するシリコーンゴムと比べて溶剤を吸収する能力に優れている。そのため表面層中に含有させたシリコーンゲルによって選択的に溶剤を吸収させることで、前記表面層の表面の濡れ性が短期間で大きく上昇するのを抑制して、前記溶剤吸収体等による溶剤除去の工程を省略したり、前記工程を実施する回数を減らしたりすることが考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−１８８０１５号公報
【特許文献２】特開２００８−４９４９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところが、後述する実施例、比較例の結果からも明らかなように特許文献２の実施例において効果が検討されているジメチルシリコーンゴムとジメチルシリコーンゲルとの組み合わせでは表面層が軟らかくなり過ぎて強度が低下したり、印刷時に版や基板に接触させる際の印圧やニップ幅等が大きく変化して印刷性が低下したり、その結果として印刷の精度が低下したりするという問題を生じる。
【００１２】
本発明の目的は、表面層が適度な硬さを有するため強度や印刷の精度の低下等を生じるおそれがなく、しかも長期間に亘って表面層の表面の濡れ性が大きく上昇するのを抑制して良好な印刷を続けることができるため、印刷途中の溶剤除去の工程を省略したり実施回数を減らしたりして印刷のタクトタイムを短くして製品の生産性を向上できるシリコーンブランケットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、印刷用のシリコーンブランケットであって、前記印刷用のインキを担持させる表面を構成する、シリコーンゴムからなる表面層を少なくとも備え、前記表面層を形成するシリコーンゴムはジメチルシリコーンゴムであり、前記表面層は、前記ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部以上、１００質量部以下のフェニルメチルシリコーンゲルを含んでいることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明によれば、ジメチルシリコーンゴムからなる印刷層中に、前記ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部以上の割合で、シリコーンゲルの１種であるフェニルメチルシリコーンゲルを含有させることにより、インキ中に含まれ、表面層中に含浸される溶剤を前記フェニルメチルシリコーンゲルによって選択的に吸収させてシリコーンゴムの膨潤を抑制して、前記シリコーンゴムからなる表面層の表面の濡れ性が上昇するのを長期間に亘って抑制して良好な印刷を続けることが可能となる。
【００１５】
また、後述する実施例、比較例の結果からも明らかなように前記フェニルメチルシリコーンゲルを、ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１００質量部以下の割合で含有させることで、前記表面層の硬さをジメチルシリコーンゴム単体からなる場合と同等程度に維持できる。そのため表面層が軟らかくなり過ぎて強度が低下したり、印刷時に版や基板に接触させる際の印圧やニップ幅等が大きく変化して印刷性が低下したり、その結果として印刷の精度が低下したりするのを防止できる。
【００１６】
本発明のシリコーンブランケットは、フィルム状またはシート状の基材と、前記基材の片面に形成した前記表面層とを備えているのが好ましい。前記基材を設けることによってシリコーンブランケット全体の強度を維持し、かつ良好な取扱性を確保することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、表面層が適度な硬さを有するため強度や印刷の精度の低下等を生じるおそれがなく、しかも長期間に亘って表面層の表面の濡れ性が大きく上昇するのを抑制して良好な印刷を続けることができるため、印刷途中の溶剤除去の工程を省略したり実施回数を減らしたりして印刷のタクトタイムを短くして製品の生産性を向上できるシリコーンブランケットを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明のシリコーンブランケットは、印刷用のインキを担持させる表面を構成する、シリコーンゴムからなる表面層を少なくとも備え、前記表面層を形成するシリコーンゴムはジメチルシリコーンゴムであり、前記表面層は、前記ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部以上、１００質量部以下のフェニルメチルシリコーンゲルを含んでいることを特徴とするものである。
【００１９】
前記表面層を形成するジメチルシリコーンゴムとしては種々のジメチルシリコーンゴムが挙げられるが、特に未硬化時に液状ないしペースト状を呈する液状のジメチルシリコーンゴムが好ましい。
前記液状ないしペースト状を呈するジメチルシリコーンゴムは、例えばドクターナイフ、バーコータ、ロールコータ等を用いて所定の厚みとなるように基材上に塗布したのち硬化させて表面層を形成することができ、その際に、いわゆるセルフレベリング効果によって、前記表面層のもとになる塗膜の表面、つまり硬化後の表面層の表面を平滑化するとともに、前記表面層の厚みを均一化できる。
【００２０】
そのため被印刷体としての基板の表面に微細でかつ高精度のパターンを形成するのに適した表面平滑性に優れた表面層を有するシリコーンブランケットを、研磨等の工程を経ることなく生産性よく製造できる。なお必要に応じて表面層の表面を研磨してもよいことはいうまでもない。
またシリコーンブランケットは、前記液状ないしはペースト状を呈するジメチルシリコーンゴムを、表面層の表面形状に対応する賦形面を有し、基材をセットした金型内に注入して硬化させることによって製造してもよい。
【００２１】
前記ジメチルシリコーンゴムとしては、室温硬化型（ＲＴＶ）であるものが好ましい。前記室温硬化型のジメチルシリコーンゴムは、その名のとおり加熱しなくても室温（５〜３５℃）で硬化させることが可能であるため、シリコーンブランケットの製造工程および製造のための設備を簡略化できる上、加熱による膨張と冷却時の収縮を経ないため、表面層の厚みの精度を向上できる。
【００２２】
また前記ジメチルシリコーンゴムとしては、主剤と硬化剤の２成分からなり、前記両者を付加反応によって硬化させることができる二液付加反応型のものが好ましい。
前記二液付加反応型のジメチルシリコーンゴムは、硬化反応に際して副生成物を生じないため表面層の寸法精度を向上し、かつ前記副生成物に基づく気泡等を含まない均一な表面層を形成できる。
【００２３】
前記室温硬化型でかつ二液付加反応型の液状ジメチルシリコーンゴムとしては、例えば信越化学工業(株)製の品番ＫＥ１６００、ＫＥ１６０３、ＫＥ１６０６、ＫＥ１３１０ＳＴ、ＫＥ１３００Ｔ、ＫＥ１３１４、ＫＥ１２４１、ＫＥ１０６、ＫＥ１０３、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の品番ＴＳＥ３４０２、ＴＳＥ３４５３、ＴＳＥ３４５５Ｔ、ＴＳＥ３４５７、ＴＳＥ３４６６等が挙げられる。
【００２４】
また前記ジメチルシリコーンゴムは、フェニルメチルシリコーンゲルを含有させずに単独で硬化させた際の、温度２３±３℃、相対湿度５５±５％の環境下で測定される、日本工業規格ＪＩＳ  Ｋ６２５３：２００６「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−硬さの求め方」において規定されたタイプＡデュロメータ硬さがＡ１０／Ｓ以上、特にＡ２０／Ｓ以上であるのが好ましい。
【００２５】
これにより、表面層が軟らかくなりすぎて強度が低下したり、印刷時に版や基板に接触させる際の印圧やニップ幅等が大きく変化して印刷性に問題を生じたり、あるいは印刷の精度が低下したりするのを抑制できる。
なお表面層が硬くなりすぎて、版の表面から表面層の表面へのインキの転写性が低下したり、前記表面層の表面の微妙な凹凸の影響が出て印刷形状に乱れを生じたりするのを防止することを考慮すると、ジメチルシリコーンゴムの、フェニルメチルシリコーンゲルを含有させずに単独で硬化させた際のタイプＡデュロメータ硬さはＡ８０／Ｓ以下、特にＡ６０／Ｓ以下であるのが好ましい。
【００２６】
表面層に含有させるシリコーンゲルとは、基本的にシリコーンゴムと同様のポリシロキサン構造を有するものの、架橋反応後の架橋密度がシリコーンゴムよりも小さく、通常のゴム硬度計で測定できない程度の軟らかいゲル状に硬化するものをいう。
前記シリコーンゲルとして、本発明ではジメチルポリシロキサンの側鎖のメチル基の一部をフェニル基に置換したフェニルメチルシリコーンゲルを選択して用いる。これにより、従来のジメチルシリコーンゲルを含有させる場合に比べて表面層の硬さをジメチルシリコーンゴム単体からなる場合と同等程度に維持できる。そのため表面層が軟らかくなり過ぎて強度が低下したり、印刷時に版や基板に接触させる際の印圧やニップ幅等が大きく変化して印刷性が低下したり、その結果として印刷の精度が低下したりするのを防止できる。
【００２７】
前記フェニルメチルシリコーンゲルとしては、先に説明したセルフレベリング効果によって平滑な表面層を形成することを考慮すると液状のフェニルメチルシリコーンゲルが好ましい。
また前記フェニルメチルシリコーンゲルとしては、一液型、二液型の種々のフェニルメチルシリコーンゲルがいずれも使用可能であるが、ジメチルシリコーンゴムとして先に説明した二液付加反応型のものを使用する場合、組み合わせるフェニルメチルシリコーンゲルとしては、前記ジメチルシリコーンゴムの硬化反応を阻害するのを防止するために、やはり主剤と硬化剤の２成分からなり、前記両者を付加反応によって硬化させることができる二液付加反応型のフェニルメチルシリコーンゲルを用いるのが好ましい。
【００２８】
前記二液付加反応型の液状フェニルメチルシリコーンゲルとしては、例えばモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の品番ＩＶＳ５０２２、ＸＥ１４−Ｃ２８６０等が挙げられる。
前記フェニルメチルシリコーンゲルの含有割合は、ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部以上、１００質量部以下の範囲に限定される。
【００２９】
含有割合が前記範囲未満では、前記フェニルメチルシリコーンゲルを含有させることによる、溶剤をフェニルメチルシリコーンゲルによって選択的に吸収させることで、長期間に亘って表面層の表面の濡れ性が上昇するのを抑制して良好な印刷を続ける効果が得られない。
一方、含有割合が前記範囲を超える場合には、表面層の表面の表面張力が大きくなりすぎてインキの転写性が低下したり、前記表面層の強度が低下して傷つきやすくなったりする。
【００３０】
なおフェニルメチルシリコーンゲルの含有割合は、吸収できる溶剤量をさらに増加させて、より長期間に亘って表面層の表面の濡れ性が上昇するのを抑制すること等を考慮すると、前記範囲内でも２０質量部以上であるのが好ましい。また表面層が軟らかくなりすぎて強度が低下したり、印刷時に版や基板に接触させる際の印圧やニップ幅等が大きく変化して印刷性に問題を生じたり、あるいは印刷の精度が低下したりするのを抑制すること等を考慮すると、前記範囲内でも５０質量部以下であるのが好ましい。
【００３１】
表面層の厚みは、特に先に説明したＰＤＰやＬＣＤのパターン等の高い印刷精度が要求される精密印刷用のシリコーンブランケットの場合は０．１ｍｍ以上、１ｍｍ以下であるのが好ましい。
表面層の硬さは、前出のＪＩＳ  Ｋ６２５３：２００６において規定された、温度２３±３℃、相対湿度５５±５％の環境下で測定されるタイプＡデュロメータ硬さで表してＡ２５／Ｓ以上、特にＡ３０／Ｓ以上であるのが好ましく、Ａ６０／Ｓ以下、特にＡ５０／Ｓ以下であるのが好ましい。
【００３２】
またシリコーンブランケットの表面状態は、インキパターンが微細になるほどその精度に影響を及ぼすため、できるだけ平坦であることが好ましい。例えば前記精密印刷用のシリコーンブランケットの表面粗さは、日本工業規格ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１「製品の幾何特性仕様（ＧＰＳ）−表面性状：輪郭曲線方式−用語，定義及び表面性状パラメータ」の付属書１で規定された十点平均粗さＲｚＪＩＳ９４で表して０．０１μｍ以上、１μｍ以下であるのが好ましい。
【００３３】
本発明のシリコーンブランケットは、フィルム状またはシート状の基材と、前記基材の片面に形成した前記表面層とを備えているのが好ましい。前記基材を設けることによってシリコーンブランケット全体の強度を維持し、かつ良好な取扱性を確保できる。
基材としては、種々の樹脂のフィルムまたはシートや、金属の薄板等が挙げられる。このうち樹脂のフィルムまたはシートとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンおよびその共重合物、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、フッ素樹脂、ポリカーボネート、セルロースアセテート、ポリアミド、ポリイミド、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ＴＰＸポリマ、およびポリパラキシレン等の樹脂からなるフィルムまたはシートが挙げられる。
【００３４】
また金属の薄板としては銅またはその合金、アルミニウムまたはその合金、ステンレス鋼、ニッケル等の金属からなる薄板が好ましい。
特に任意の厚み、および表面粗さを有するフィルム状またはシート状に加工しやすい上、寸法安定性に優れたＰＥＴのフィルムまたはシートを基材として用いるのが好ましい。
基材の厚みは、前記精密印刷用のシリコーンブランケットの場合は０．０５ｍｍ以上、０．５ｍｍ以下であるのが好ましい。
【００３５】
表面層を形成する前の基材の表面には、前記表面層の密着性を高めるために、例えばプラズマ処理、フレーム処理等の前処理を施したり、任意の下地層を形成したりしてもよい。
本発明のシリコーンブランケットは、例えば
(1)  凹版、平版等の版の表面にパターン形成したインキをシリコーンブランケットの表面に転写したのち、被印刷体としての基板の表面に再転写させるオフセット印刷方法、
(2)  シリコーンブランケットの表面の全面にインキを塗布したのち凹版と接触させることで、前記凹版の凹部以外の領域と接触したインキを選択的にシリコーンブランケットの表面から除去して前記表面のインキ層をパターン形成したのち、前記基板の表面に転写する反転印刷方法、
(3)  シリコーンブランケットの表面に直接にインキパターンを描画したのち、前記基板の表面に転写する印刷方法、
等の種々の印刷方法に用いることができる。
【００３６】
前記各種の印刷方法に用いて連続印刷をする際に、本発明のシリコーンブランケットによれば、インキ中に含まれ、表面層中に含浸される溶剤を、前記表面層中に含有させたフェニルメチルシリコーンゲルによって選択的に吸収させることでジメチルシリコーンゴムの膨潤を抑制して、前記ジメチルシリコーンゴムからなる表面層の表面の濡れ性が上昇するのを長期間に亘って抑制できる。そのため印刷途中の溶剤除去の工程を省略して印刷のタクトタイムを短くして、ＰＤＰ等の製品の生産性を向上することが可能となる。
【００３７】
しかも前記フェニルメチルシリコーンゲルの作用により、従来のジメチルシリコーンゲルを含有させる場合と違って、表面層の硬さをジメチルシリコーンゴム単体からなる場合と同等程度に維持できる。そのため表面層が軟らかくなり過ぎて強度が低下したり、印刷時に版や基板に接触させる際の印圧やニップ幅等が大きく変化して印刷性が低下したり、その結果として印刷の精度が低下したりするのを防止できる。
【実施例】
【００３８】
以下の実施例、比較例のシリコーンブランケットの製造、特性の測定、および試験を、特記した以外は温度２３±３℃、相対湿度５５±５％の環境下で実施した。
〈実施例１〉
室温硬化型で、かつ二液付加反応型の液状ジメチルシリコーンゴム〔モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の品番ＴＳＥ３４５０〕の主剤９１質量部と、同じく室温硬化型で、かつ二液付加反応型の液状フェニルメチルシリコーンゲル〔前出の、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の品番ＩＶＳ５０２２〕の主剤７．５質量部とを混合した。また前記液状ジメチルシリコーンゴムの硬化剤９質量部と、液状フェニルメチルシリコーンゲルの硬化剤７．５質量部とを混合した。
【００３９】
液状ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤の質量比は９１：９、液状フェニルメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の質量比は１：１であった。
次いで前記両混合物を混合し、脱泡して表面層用の塗布液を調製し、前記塗布液を、基材としての厚み０．２５ｍｍのＰＥＴフィルムの片面にバーコータを用いて塗布したのち室温で２４時間静置して硬化反応させて、厚み０．７０ｍｍ、ＰＥＴフィルムの面方向の寸法が縦８０ｃｍ×横８０ｃｍである表面層を形成してシリコーンブランケットを製造した。
【００４０】
前記表面層における、ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤計１００質量部あたりの、フェニルメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の合計の含有割合は１５質量部であった。
〈比較例１〉
実施例１で使用したのと同じ液状ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤のみを質量比９１：９で混合したこと以外は実施例１と同様にして塗布液を調製し、シリコーンブランケットを製造した。
【００４１】
前記シリコーンブランケットの表面層における、ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤計１００質量部あたりのフェニルメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の合計の含有割合は０質量部であった。
〈実施例２、３、比較例２、３〉
塗布液を調製する際に液状フェニルメチルシリコーンゲルの主剤および硬化剤の配合量を調整して、表面層における、ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤計１００質量部あたりのフェニルメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の合計の含有割合を５質量部（比較例２）、５０質量部（実施例２）、９０質量部（実施例３）、および１２０質量部（比較例３）としたこと以外は実施例１と同様にしてシリコーンブランケットを製造した。
【００４２】
なお実施例１と同じく、液状ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤の質量比は９１：９、液状フェニルメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の質量比は１：１とした。
〈比較例４〉
液状フェニルメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤に代えて、液状ジメチルシリコーンゲル〔モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の品番ＴＳＥ３０６２〕の主剤と硬化剤を配合するとともに、その配合量を調整したこと以外は実施例１と同様にして塗布液を調製し、シリコーンブランケットを製造した。
【００４３】
液状ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤の質量比は９１：９、液状ジメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の質量比は１：１であった。
前記シリコーンブランケットの表面層における、ジメチルシリコーンゴムの主剤と硬化剤計１００質量部あたりのジメチルシリコーンゲルの主剤と硬化剤の合計の含有割合は５０質量部であった。
【００４４】
〈硬さ測定〉
実施例、比較例で製造したシリコーンブランケットの表面層のタイプＡデュロメータ硬さを、前出のＪＩＳ  Ｋ６２５３：２００６の規定に準拠して測定した。
〈印刷特性試験〉
実施例、比較例で製造したシリコーンブランケットを所定のサイズにカットしたのち、凹版オフセット印刷機〔ナカン(株)製、３００ｍｍ×４００ｍｍ対応の平板型精密印刷機〕のブランケット胴の外周に、表面層を外側にして捲回して固定した。また凹版としては、ガラス板の表面に線幅１００μｍ、ピッチ２００μｍ、深さ４０μｍの凹部を格子状にパターン形成したものを用いた。
【００４５】
インキとしては、ポリエステル樹脂と、溶剤としてのブチルカルビトールアセテートと、顔料としての銀粉末とを３本ロールを用いて混練して調製したものを用いた。
印刷の条件は、凹版の凹部からシリコーンブランケットの表面層の表面へのインキの転写速度を１００ｍｍ／ｓ、前記表面層の表面から、被印刷体としてのガラス基板の表面へのインキの転写速度を１００ｍｍ／ｓに設定して、前記ガラス基板を交換しながら３０回の連続印刷をした。
【００４６】
そして３０回目の印刷後にシリコーンブランケットの表面層の表面、およびガラス基板の表面に印刷されたパターンを観察して、下記の基準で印刷特性を評価した。
○：表面層の表面には転写不良によるインキの残留はなく、またガラス基板の表面に印刷されたパターンには線幅の増加は殆ど見られなかった。
△：転写不良によるインキの残留は見られなかったが、パターンの線幅の増加がわずかに観察された。
【００４７】
×：転写不良によるインキの残留が観察され、線幅の増加も大きかった。
また印刷３０回目のガラス基板の表面に印刷されたパターンを観察して、下記の基準で印刷形状の良否を評価した。
○：パターンに乱れは全く観察されなかった。
△：パターンにわずかな乱れが観察されたが、許容できる範囲内であった。
【００４８】
×：パターンの乱れがひどすぎて、製品として使用できるレベルではなかった。
以上の結果を表１、表２に示す。
【００４９】
【表１】
2011126248.tif 000002
【００５０】
【表２】
2011126248.tif 000003
【００５１】
両表より、表面層にシリコーンゲルを含有させなかった比較例１、およびフェニルメチルシリコーンゲルの含有割合を、ジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１０質量部未満とした比較例２のシリコーンブランケットは、いずれも印刷を繰り返すことで表面層の表面の濡れ性が大きく上昇して、線幅の増大や転写不良等を生じることが判った。
またジメチルシリコーンゴム１００質量部あたり１００質量部を超えるフェニルメチルシリコーンゲルを含有させた比較例３のシリコーンブランケットは、印刷の精度が低下することが判った。
【００５２】
さらにフェニルメチルシリコーンゲルに代えて従来のジメチルシリコーンゲルを含有させた比較例４のシリコーンブランケットは表面層が軟らかくなりすぎてパターンに僅かな乱れが見られた。
これに対し実施例１〜３のシリコーンブランケットによれば、表面層の硬さをジメチルシリコーンゴム単体からなる場合と同等程度に維持して強度や印刷の精度等を確保しながら、印刷を繰り返した際に表面層の表面の濡れ性が大きく上昇するのを抑制して、線幅の増大や転写不良等の発生を抑制できることが判った。