(57)【要約】【課題】低融点のエチレン系重合体をより経済的に製造する方法を提供すること。【解決手段】下記一般式（１）で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、下記一般式（２）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。2011099091.tif 0000162011099091.tif 000017【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、
下記一般式（２）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、
活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、
エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
2011099091.tif 000012
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ１は元素の周期律表の第１６族の原子を表し、
Ｊ１は元素の周期律表の第１４族の原子を表す。
Ｃｐ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ１及びＸ２は結合してＭ１と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５及びＲ６は結合してＪ１と一緒になって環を形成していてもよい。）
2011099091.tif 000013
（式中、Ｃｐ２はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、Ｍ２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｊ２は炭素原子を表し、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｒ９は、置換基を有していてもよいハイドロカルビル基または水素原子を表す。
２つのＲ９はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、２つのＲ９は結合して、Ｊ２と一緒になって環を形成していてもよい。
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５のうち、２つの基は結合して、Ｍ２と一緒になって環を形成していてもよい。）
【請求項２】
一般式（２）におけるＣｐ２がη５−トリメチルシリルシクロペンタジエニル基である遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分である請求項１に記載のエチレン系重合体の製造方法。
【請求項３】
下記一般式（１）で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、
下記一般式（３）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、
活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、
エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
2011099091.tif 000014
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ１は元素の周期律表の第１６族の原子を表し、
Ｊ１は元素の周期律表の第１４族の原子を表す。
Ｃｐ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ１及びＸ２は結合してＭ１と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５及びＲ６は結合してＪ１と一緒になって環を形成していてもよい。）
2011099091.tif 000015
［式中、Ｍ３は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ６、Ｘ７及びＸ８はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は結合してＭ３と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５及びＲ１６は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エチレン系重合体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
直鎖状低密度ポリエチレンや超低密度ポリエチレン等のアルキル側鎖（例えば、エチル分岐、ブチル分岐など）を有するエチレン系重合体は、アルキル側鎖を有さないエチレン系重合体（例えば、高密度ポリエチレン。）に比べて、融点が低いために、熱融着性に優れる。そのため、食品や医薬品の包装フィルム、熱封縮性蓋材、ホットメルト接着剤等の材料に用いられている。
このアルキル側鎖を有するエチレン系重合体は、これまで、オレフィン重合用触媒の存在下で、エチレンとα−オレフィン（１−ブテン、１−ヘキセンなど）とを共重合することにより製造されている。
【０００３】
しかし、アルキル側鎖を有するエチレン系重合体の従来の製造方法では、エチレンと高価なα−オレフィンとを原料モノマーとして使用する必要があり、経済的に十分満足のいく方法ではなかった。そこで、昨今では、原料モノマーとしてエチレンのみを使用して、アルキル側鎖を有するエチレン系重合体を製造する方法が検討されている。
【０００４】
例えば、非特許文献１、２には、オレフィン重合用触媒成分としてジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライドと、三量化用触媒成分として［１−ジメチルフェニルメチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドと、活性化助触媒成分としてメチルアルミノキサンとを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合して、融点の低下したエチレン系重合体を製造する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Zhibin Ye、外２名、「A Tandem Catalytic System for the Synthesis of Ethylene-Hex-1-ene Copolymers from Ethylene Stock」、Macromolecular Rapid Communications、（独国）、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、２００４年、２５巻、ｐ．６４７−６５２
【非特許文献２】Fahad Alobaidi、外２名、「Direct Synthesis of Linear Low-Density Polyethylene of Ethylene/1-Hexene from Ethylene with a Tandem Catalytic System in a Single Reactor」、Journal of Polymer Science,Part A:Polymer Chemistry、（米国）、Ｗｉｌｅｙ  Ｐｅｒｉｏｄｉｃａｌｓ，  Ｉｎｃ．、２００４年、４２巻、ｐ．４３２７−４３３６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記方法では、三量化用触媒成分を多く使用する必要があるなど、経済性において、必ずしも満足し得るものではなかった。
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、低融点のエチレン系重合体をより経済的に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分と活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合して、低融点のエチレン系重合体をより経済的に製造する方法であって、オレフィン重合用触媒成分として特定の遷移金属錯体を用いて、あるいは、三量化用触媒成分として特定の遷移金属錯体を用いて、前記低融点のエチレン系重合体を製造する方法である。
【０００８】
すなわち、本発明の第１は、
下記一般式（１）
2011099091.tif 000002
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ１は元素の周期律表の第１６族の原子を表し、
Ｊ１は元素の周期律表の第１４族の原子を表す。
Ｃｐ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ１及びＸ２は結合してＭ１と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５及びＲ６は結合してＪ１と一緒になって環を形成していてもよい。）
で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、
一般式（２）
2011099091.tif 000003
（式中、Ｃｐ２はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、Ｍ２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｊ２は、炭素原子を表し、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｒ９は、置換基を有していてもよいハイドロカルビル基または水素原子を表す。
２つのＲ９はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、２つのＲ９は結合して、Ｊ２と一緒になって環を形成していてもよい。
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５のうち、２つの基は結合して、Ｍ２と一緒になって環を形成していてもよい。）
で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、
活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、
エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法にかかるものである。
【０００９】
本発明の第２は、オレフィン重合用触媒成分と、
一般式（３）
2011099091.tif 000004
［式中、Ｍ３は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ６、Ｘ７及びＸ８はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は結合してＭ３と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５及びＲ１６は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、
活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、
エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法にかかるものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、高温での工業的生産に適した温度条件であっても、融点の低下したブチル分岐を有するエチレン系重合体を、経済的に製造する方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明において「重合」という語は、単独重合のみならず、共重合を包含したものである。また、本発明において「置換基」という語は、化合物や基を構成するハロゲン原子を包含したものである。
【００１２】
＜オレフィン重合用触媒成分＞
本発明で使用されるオレフィン重合用触媒成分は、一般式（１）で表される遷移金属錯体である。
【００１３】
2011099091.tif 000005
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ１は元素の周期律表の第１６族の原子を表し、
Ｊ１は元素の周期律表の第１４族の原子を表す。
Ｃｐ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ１及びＸ２は結合してそれらが結合しているＭ１と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５及びＲ６は結合してそれらが結合しているＪ１と一緒になって環を形成していてもよい。）
【００１４】
一般式（１）で示される錯体について詳細に説明する。Ｍ１における元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくは、チタン原子である。
【００１５】
Ａ１における元素の周期律表の第１６族の原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原子などが挙げられ、好ましくは、酸素原子である。
【００１６】
Ｊ１として示される元素の周期律表の第１４族の原子としては、例えば炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などが挙げられる。好ましくは、炭素原子、ケイ素原子であり、より好ましくは炭素原子である。
【００１７】
置換基Ｃｐ１として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えばη５−シクロぺンタジエニル基、η５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−ジメチルシクロペンタジエニル基、η５−トリメチルシクロペンタジエニル基、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−エチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、η５−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η５−ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−オクチルシクロぺンタジエニル基、η５−フェニルシクロぺンタジエニル基、η５−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η５−トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−インデニル基、η５−メチルインデニル基、η５−ジメチルインデニル基、η５−エチルインデニル基、η５−ｎ−プロピルインデニル基、η５−イソプロピルインデニル基、η５−ｎ−ブチルインデニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルインデニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η５−ｎ−ペンチルインデニル基、η５−ネオペンチルインデニル基、η５−ｎ−ヘキシルインデニル基、η５−ｎ−オクチルインデニル基、η５−ｎ−デシルインデニル基、η５−フェニルインデニル基、η５−メチルフェニルインデニル基、η５−ナフチルインデニル基、η５−トリメチルシリルインデニル基、η５−トリエチルシリルインデニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルインデニル基、η５−テトラヒドロインデニル基、η５−フルオレニル基、η５−メチルフルオレニル基、η５−ジメチルフルオレニル基、η５−エチルフルオレニル基、η５−ジエチルフルオレニル基、η５−ｎ−プロピルフルオレニル基、η５−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、η５−イソプロピルフルオレニル基、η５−ジイソプロピルフルオレニル基、η５−ｎ−ブチルフルオレニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η５−ｎ−ペンチルフルオレニル基、η５−ネオペンチルフルオレニル基、η５−ｎ−ヘキシルフルオレニル基、η５−ｎ−オクチルフルオレニル基、η５−ｎ−デシルフルオレニル基、η５−ｎ−ドデシルフルオレニル基、η５−フェニルフルオレニル基、η５−ジ−フェニルフルオレニル基、η５−メチルフェニルフルオレニル基、η５−ナフチルフルオレニル基、η５−トリメチルシリルフルオレニル基、η５−ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、η５−トリエチルシリルフルオレニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルフルオレニル基などが挙げられ、好ましくはη５−シクロペンタジエニル基、η５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−インデニル基、η５−フルオレニル基などである。
【００１８】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【００１９】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などが挙げられる。
【００２０】
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
【００２１】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
【００２２】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００２３】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００２４】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００２５】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００２６】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ７の炭素原子数の合計が１〜２０の範囲である。この３つのＲ７の炭素原子数の合計は３〜１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００２７】
Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６における−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ８はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８の炭素原子数の合計が２〜２０の範囲であり、２〜１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ８は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００２８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５及びＲ６は結合してそれらが結合しているＪ１と一緒になって環を形成していてもよい。該環としては、例えば、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環などがあげられ、具体的には、例えば、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環などをあげることができる。これらの環は、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基などで置換されていてもよい。
【００２９】
置換基Ｘ１、Ｘ２として好ましくは、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子である。
Ｒ１として好ましくは、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられ、さらに好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。
【００３０】
一般式（１）で示される遷移金属錯体は、例えば、特開平９−８７３１３号公報に記載の方法などで製造することができる。
【００３１】
一般式（１）で示される錯体としては、例えばメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３２】
メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３３】
メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３４】
メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３５】
メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３６】
メチレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３７】
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３８】
イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００３９】
イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４０】
イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４１】
イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４２】
イソプロピリデン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４３】
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４４】
ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４５】
ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４６】
ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４７】
ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００４８】
ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドなどや、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物、（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（インデニル）に変更した化合物、３，５−ジメチル−２−フェノキシを２−フェノキシ、３−メチル−２−フェノキシ、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ、３−フェニル−５−メチル−２−フェノキシ、３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキシ、３−トリメチルシリル−２−フェノキシに変更した化合物、メチレンをジエチルメチレンに変更した化合物などといった一般式（１）におけるＪ１が炭素原子である遷移金属錯体ならびに
【００４９】
ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５０】
ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５１】
ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５２】
ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５３】
ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５４】
ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５５】
ジメチルシリレン（インデニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
【００５６】
ジメチルシリレン（フルオレニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライドなどや、これらの化合物の（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（エチルシクロペンタジエニル）、（ｎ−プロピルシクロペンタジエニル）、（イソプロピルシクロペンタジエニル）、（ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル）、（イソブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（フェニルシクロペンタジエニル）、（メチルインデニル）、（フェニルインデニル）に変更した化合物、２−フェノキシを３−フェニル−２−フェノキシ、３−トリメチルシリル−２−フェノキシ、３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキシに変更した化合物、ジメチルシリレンをジエチルシリレン、ジフェニルシリレン、ジメトキシシリレンに変更した化合物、チタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物といった一般式（１）におけるＪ１が炭素原子以外の元素の周期律表の第１４族の原子である遷移金属錯体が挙げられる。
【００５７】
＜遷移金属錯体（２）＞
第１の発明で使用される三量化用触媒成分は、下記一般式（２）で表される遷移金属錯体である。
【００５８】
2011099091.tif 000006
（式中、Ｃｐ２はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、Ｍ２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｊ２は、炭素原子を表し、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｒ９は、置換基を有していてもよいハイドロカルビル基または水素原子を表す。
２つのＲ９はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、２つのＲ９は結合して、Ｊ２と一緒になって環を形成していてもよい。
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５のうち、２つの基は結合して、Ｍ２と一緒になって環を形成していてもよい。）
【００５９】
一般式（２）で示される錯体について詳細に説明する。
【００６０】
置換基Ｃｐ２として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、η５−シクロぺンタジエニル基、または少なくとも一つの置換基を有するシクロペンタジエニル基である。少なくとも一つの置換基を有するシクロペンタジエニル基としては、例えば、η５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−ジメチルシクロペンタジエニル基、η５−トリメチルシクロペンタジエニル基、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−エチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、η５−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η５−ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−オクチルシクロぺンタジエニル基、η５−フェニルシクロぺンタジエニル基、η５−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η５−トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−インデニル基、η５−メチルインデニル基、η５−ジメチルインデニル基、η５−エチルインデニル基、η５−ｎ−プロピルインデニル基、η５−イソプロピルインデニル基、η５−ｎ−ブチルインデニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルインデニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η５−ｎ−ペンチルインデニル基、η５−ネオペンチルインデニル基、η５−ｎ−ヘキシルインデニル基、η５−ｎ−オクチルインデニル基、η５−ｎ−デシルインデニル基、η５−フェニルインデニル基、η５−メチルフェニルインデニル基、η５−ナフチルインデニル基、η５−トリメチルシリルインデニル基、η５−トリエチルシリルインデニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルインデニル基、η５−テトラヒドロインデニル基、η５−フルオレニル基、η５−メチルフルオレニル基、η５−ジメチルフルオレニル基、η５−エチルフルオレニル基、η５−ジエチルフルオレニル基、η５−ｎ−プロピルフルオレニル基、η５−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、η５−イソプロピルフルオレニル基、η５−ジイソプロピルフルオレニル基、η５−ｎ−ブチルフルオレニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η５−ｎ−ペンチルフルオレニル基、η５−ネオペンチルフルオレニル基、η５−ｎ−ヘキシルフルオレニル基、η５−ｎ−オクチルフルオレニル基、η５−ｎ−デシルフルオレニル基、η５−ｎ−ドデシルフルオレニル基、η５−フェニルフルオレニル基、η５−ジ−フェニルフルオレニル基、η５−メチルフェニルフルオレニル基、η５−ナフチルフルオレニル基、η５−トリメチルシリルフルオレニル基、η５−ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、η５−トリエチルシリルフルオレニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルフルオレニル基などが挙げられる。少なくとも一つの置換基を有するシクロペン���ジエニル基として、好ましくは、η５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−エチルシクロペンタジエニル、η５−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル、η５−イソプロピルシクロペンタジエニル、η５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、η５−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ジメチルシクロペンタジエニル、η５−トリメチルシクロペンタジエニル、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−インデニル基、η５−トリメチルシリルシクロペンタジエニル基、などであり、より好ましくはη５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−エチルシクロペンタジエニル、η５−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル、η５−イソプロピルシクロペンタジエニル、η５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、η５−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ジメチルシクロペンタジエニル、η５−トリメチルシクロペンタジエニル、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−トリメチルシリルシクロペンタジエニル基などであり、もっとも好ましくはη５−トリメチルシリルシクロペンタジエニル基である。
【００６１】
Ｊ２は炭素原子である。
【００６２】
Ａｒとして示される置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、２，３，４−トリメトキシフェニル基、２，３，５−トリメトキシフェニル基、２，３，６−トリメトキシフェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、３，４，５−トリメトキシフェニル基、２，３，４，５−テトラメトキシフェニル基、２，３，４，６−テトラメトキシフェニル基、２，３，５，６−テトラメトキシフェニル基、ペンタメトキシフェニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、２−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、４−フェニルフェニル基、２，３−ジフェニルフェニル基、２，４−ジフェニルフェニル基、２，５−ジフェニルフェニル基、２，６−ジフェニルフェニル基、３，４−ジフェニルフェニル基、３，５−ジフェニルフェニル基、２，３，４−トリフェニルフェニル基、２，３，５−トリフェニルフェニル基、２，３，６−トリフェニルフェニル基、２，４，６−トリフェニルフェニル基、３，４，５−トリフェニルフェニル基、２，３，４，５−テトラフェニルフェニル基、２，３，４，６−テトラフェニルフェニル基、２，３，５，６−テトラフェニルフェニル基、ペンタフェニルフェニル基、２−フェノキシフェニル基、３−フェノキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、２，３−ジフェノキシフェニル基、２，４−ジフェノキシフェニル基、２，５−ジフェノキシフェニル基、２，６−ジフェノキシフェニル基、３，４−ジフェノキシフェニル基、３，５−ジフェノキシフェニル基、２，３，４−トリフェノキシフェニル基、２，３，５−トリフェノキシフェニル基、２，３，６−トリフェノキシフェニル基、２，４，６−トリフェノキシフェニル基、３，４，５−トリフェノキシフェニル基、２，３，４，５−テトラフェノキシフェニル基、２，３，４，６−テトラフェノキシフェニル基、２，３，５，６−テトラフェノキシフェニル基、ペンタフェノキシフェニル基、２−ベンジルフェニル基、３−ベンジルフェニル基、４−ベンジルフェニル基、２，３−ジベンジルフェニル基、２，４−ジベンジルフェニル基、２，５−ジベンジルフェニル基、２，６−ジベンジルフェニル基、３，４−ジベンジルフェニル基、３，５−ジベンジルフェニル基、２，３，４−トリベンジルフェニル基、２，３，５−トリベンジルフェニル基、２，３，６−トリベンジルフェニル基、２，４，６−トリベンジルフェニル基、３，４，５−トリベンジルフェニル基、２，３，４，５−テトラベンジルフェニル基、２，３，４，６−テトラベンジルフェニル基、２，３，５，６−テトラベンジルフェニル基、ペンタベンジルフェニル基、２−ベンジロキシフェニル基、３−ベンジロキシフェニル基、４−ベンジロキシフェニル基、２，３−ジベンジロキシフェニル基、２，４−ジベンジロキシフェニル基、２，５−ジベンジロキシフェニル基、２，６−ジベンジロキシフェニル基、３，４−ジベンジロキシフェニル基、３，５−ジベンジロキシフェニル基、２，３，４−トリベンジロキシフェニル基、２，３，５−トリベンジロキシフェニル基、２，３，６−トリベンジロキシフェニル基、２，４，６−トリベンジロキシフェニル基、３，４，５−トリベンジロキシフェニル基、２，３，４，５−テトラベンジロキシフェニル基、２，３，４，６−テトラベンジロキシフェニル基、２，３，５，６−テトラベンジロキシフェニル基、ペンタベンジロキシフェニル基、２−トリメチルシリルフェニル基、３−トリメチルシリルフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基、２，３−ビストリメチルシリルフェニル基、２，４−ビストリメチルシリルフェニル基、２，５−ビストリメチルシリルフェニル基、２，６−ビストリメチルシリルフェニル基、３，４−ビストリメチルシリルフェニル基、３，５−ビストリメチルシリルフェニル基、２，３，４−トリストリメチルシリルフェニル基、２，３，５−トリストリメチルシリルフェニル基、２，３，６−トリストリメチルシリルフェニル基、２，４，６−トリストリメチルシリルフェニル基、３，４，５−トリストリメチルシリルフェニル基、２，３，４，５−テトラキストリメチルシリルフェニル基、２，３，４，６−テトラキストリメチルシリルフェニル基、２，３，５，６−テトラキストリメチルシリルフェニル基、ペンタトリメチルシリルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルフェニル基、トリフェニルシリルフェニル基、２−ジメチルアミノフェニル基、３−ジメチルアミノフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、２，３−ビスジメチルアミノフェニル基、２，４−ビスジメチルアミノフェニル基、２，５−ビスジメチルアミノフェニル基、２，６−ビスジメチルアミノフェニル基、３，４−ビスジメチルアミノフェニル基、３，５−ビスジメチルアミノフェニル基、２，３，４−トリスジメチルアミノフェニル基、２，３，５−トリスジメチルアミノフェニル基、２，３，６−トリスジメチルアミノフェニル基、２，４，６−トリスジメチルアミノシリルフェニル基、３，４，５−トリスジメチルアミノフェニル基、２，３，４，５−テトラキスジメチルアミノフェニル基、２，３，４，６−テトラキスジメチルアミノフェニル基、２，３，５，６−テトラキスジメチルアミノフェニル基、ペンタジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ピロリジニルフェニル基、ピペリジニルフェニル基、などが挙げられる。
これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
アリール基として好ましくは、フェニル基、または炭素原子数１〜４のアルキル基を置換基として有するフェニル基、具体的には、３，５−ジメチルフェニル基、テトラメチルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基などである。
【００６３】
Ｍ２における元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくは、チタン原子、ジルコニウム原子、さらに好ましくは、チタン原子である。
【００６４】
Ｒ９における置換基を有していてもよいハイドロカルビル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などのアルキル基、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などのアラルキル基、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などのアリール基が挙げられる。また、これらの基の水素原子の一部又は全部が、ケイ素原子、窒素原子、リン原子、酸素原子、イオウ原子、ハロゲン原子などのヘテロ原子を有する置換基で置き換わった基などが挙げられる。Ｒ９として、好ましくはメチル基である。
【００６５】
２つのＲ９は結合してそれらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、ここでいう環の具体例としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環である。
【００６６】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子である。
【００６７】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などが挙げられる。
【００６８】
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
【００６９】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよい基を意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００７０】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
【００７１】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００７２】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００７３】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
【００７４】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ７の炭素原子数の合計が１〜２０の範囲である。この３つのＲ７の炭素原子数の合計は３〜１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００７５】
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５における−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ８はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８の炭素原子数の合計が２〜２０の範囲であり、２〜１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ８は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００７６】
一般式（２）で示される遷移金属錯体としては、例えば、（１−フェニルメチル−シクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド、（１−ジフェニルメチル−シクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド、（１−トリフェニルメチル−シクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド、［１−（２−メチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−メチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３−ジメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，４−ジメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，５−ジメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，６−ジメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，４−ジメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，４，５−トリメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，４，５，６−ペンタメチルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２−トリメチルシリルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−トリメチルシリルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−トリメチルシリルフェニル）メチル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２−メチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３−メチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（４−メチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，４−ジメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，５−ジメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，６−ジメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３，４−ジメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，４−トリメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，５−トリメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，６−トリメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，４，５−トリメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，４，６−トリメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３，４，５−トリメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，４，５，６−ペンタメチルフェニル）エチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−エチル−１−フェニルプロピル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−フェニルシクロヘキシル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−フェニルビニル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド
【００７７】
［１−フェニルメチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジフェニルメチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−トリフェニルメチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２−メチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−メチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３−ジメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，４−ジメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，５−ジメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，６−ジメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，４−ジメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，４，５−トリメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２，３，４，５，６−ペンタメチルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（２−トリメチルシリルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−トリメチルシリルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−トリメチルシリルフェニル）メチル−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２−メチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３−メチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（４−メチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，４−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，６−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３，４−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，４−トリメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，５−トリメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，６−トリメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，４，５−トリメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，４，６−トリメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（３，４，５−トリメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−メチル−１−（２，３，４，５，６−ペンタメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−エチル−１−フェニルプロピル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−フェニルシクロヘキシル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（１−フェニルビニル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどや、これらの化合物のシクロペンタジエニルを２−メチルシクロペンタジエニル、３−メチルシクロペンタジエニル、２，３−ジメチルシクロペンタジエニル、２，４−ジメチルシクロペンタジエニル、２，５−ジメチルシクロペンタジエニル、２，３，４−トリメチルシクロペンタジエニル、２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル、２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル、２−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、３−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３−ジ−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２，４−ジ−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２，５−ジ−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３，４−トリ−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３，５−トリ−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３，４，５−テトラ−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３，４−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３，５−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２，３，４，５−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、２−トリメチルシリルシクロペンタジエニル、３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル、２，３−ジ−トリメチルシリルシクロペンタジエニル、２，４−ジ−トリメチルシリルシクロペンタジエニル、２，５−ジ−トリメチルシリルシクロペンタジエニル、２，３，４−トリス（トリメチルシリル）シクロペンタジエニル、２，３，５−トリス（トリメチルシリル）シクロペンタジエニル、２，３，４，５−テトラキス（トリメチルシリル）シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルに、チタニウムをジルコニウム、ハフニウムに、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物などが挙げられる。
【００７８】
一般式（２）で示される遷移金属錯体は、例えば、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２００２，２１，５１２２−５１３５．に記載の方法などで製造することができる。
【００７９】
＜遷移金属錯体（３）＞
第２の発明で使用される三量化用触媒成分は、下記一般式（３）で表される遷移金属錯体である。
【００８０】
2011099091.tif 000007
［式中、Ｍ３は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ６、Ｘ７及びＸ８はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
又は−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は結合してＭ３と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５及びＲ１６は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
【００８１】
以下、一般式（３）で表される遷移金属錯体について詳述する。
遷移金属錯体（３）において、Ｍ３は元素周期律表の第４族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。
【００８２】
前記遷移金属錯体（３）において、置換基Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｘ６、Ｘ７及びＸ８は上述のとおりの定義であり、その具体例を以下に示す。
【００８３】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
【００８４】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基の「炭素原子数１〜２０のアルキル基」の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びｎ−エイコシル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルキル基としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びアミル基等を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１〜２０の範囲であると好ましく、炭素原子数１〜１０の範囲がさらに好ましい。好適なハロゲン原子を置換基として有するアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
【００８５】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の「炭素原子数６〜２０のアリール基」の具体例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリール基としては、炭素原子数６〜１０のアリール基であり、さらに好ましはフェニル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６〜２０の範囲であると好ましく、６〜１０の範囲がさらに好ましい。具体的に好適な、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基は、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基等を挙げることができる。
【００８６】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の「炭素原子数７〜２０のアラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、(２，４−ジメチルフェニル)メチル基、(２，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，６−ジメチルフェニル)メチル基、(３，４−ジメチルフェニル)メチル基、(３，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メチル基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(ｎ−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(ｎ−ブチルフェニル)メチル基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メチル基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メチル基、(ｎ−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メチル基、(ｎ−オクチルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、(ｎ−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキル基としては、炭素原子数７〜１０のアラルキル基であり、さらに好ましくはベンジル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７〜２０の範囲であると好ましく、７〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００８７】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の「炭素原子数１〜２０のアルコキシ基」の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１〜２０の範囲であると好ましく、１〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００８８】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の「炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基」の具体例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基及びアントラセノキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリールオキシ基としては、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基であり、さらに好ましくはフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６〜２０の範囲であると好ましく、６〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００８９】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の「炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基」の具体例としては、ベンジルオキシ基、(２−メチルフェニル)メトキシ基、(３−メチルフェニル)メトキシ基、(４−メチルフェニル)メトキシ基、(２，３−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，６−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(ｎ−オクチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキルオキシ基としては、炭素原子数７〜１０のアラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７〜２０の範囲であると好ましく、７〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００９０】
−Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ７の炭素原子数の合計が１〜２０の範囲である。この３つのＲ７の炭素原子数の合計は３〜１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００９１】
−Ｎ（Ｒ８）２（２つのＲ８はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ８はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ８の炭素原子数の合計が２〜２０の範囲であり、２〜１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ８は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００９２】
Ｒ１５及びＲ１６は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。ここでいう環とは、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環などである。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環である。
【００９３】
前記遷移金属錯体（３）においてＲ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基である。
【００９４】
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４の好ましい組み合わせとしては、その部分構造式（４）
2011099091.tif 000008
（式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は前記と同じ意味を表す。）
において、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。
【００９５】
フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、テトラメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニル、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルフェニル、ナフチル、アントラセニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、フルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニル
【００９６】
ここに例示した部分構造のうち、好ましい部分構造はフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、ペンタメチルフェニルなどである。
【００９７】
前記遷移金属錯体（３）においてＲ１５及びＲ１６のうち、好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基であり、その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が挙げられる。
【００９８】
Ｒ１５及びＲ１６のうち好ましい組み合わせとしては、その部分構造式（５）
2011099091.tif 000009
（式中、Ｒ１５及びＲ１６は前記と同じ意味を表す。）
において、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。
【００９９】
ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、エチルメチルシリレン、ジ（ｎ−プロピル）シリレン、メチル（ｎ−プロピル）シリレン、ジ（ｎ−ブチル）シリレン、ｎ−ブチルメチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレン
【０１００】
ここに例示したシリレン部分構造のうち、好ましいシリレン部分構造はジメチルシリレン、エチルメチルシリレン、ｎ−ブチルメチルシリレン、シクロテトラメチレンシリレンなどである。
【０１０１】
遷移金属錯体（３）を具体的に例示すると、次のような錯体を挙げることができる。
【０１０２】
［１−ジメチルフェニルシリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジエチルフェニルシリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−シクロテトラメチレン（フェニル）シリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−エチルメチルフェニルシリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ｎ−ブチルメチルフェニルシリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ｎ−ブチルメチル（３，５−ジメチルフェニル）シリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ｎ−ブチルメチル（２，４，６−トリメチルフェニル）シリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ｎ−ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、などが挙げられる。また、ここに例示する錯体において、「チタニウム」を「ジルコニウム」又は「ハフニウム」に置き換えたもの、「クロライド」を「フルオリド」、「ブロマイド」、「アイオダイド」、「ハイドライド」、「メチル」、「フェニル」、「ベンジル」、「メトキシド」、「ｎ−ブトキシド」、「イソプロポキシド」、「フェノキシド」、「ベンジロキシド」、「ジメチルアミド」、「ジエチルアミド」に置き換えたものも同様に例示される。
【０１０３】
一般式（３）で示される遷移金属錯体は、例えば、Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．  １９９９，５９２，８４−９４．に記載の方法などで製造することができる。
【０１０４】
＜活性化助触媒成分＞
活性化助触媒成分としては、次の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）をあげることができ、る。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：一般式  （Ｅ1）aＡｌ（Ｇ）3-aで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：一般式  ｛−Ａｌ（Ｅ2）−Ｏ−｝bで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：一般式  Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ3）−Ｏ−｝cＡｌ（Ｅ3）2で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1、Ｅ2およびＥ3は、炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ1が複数ある場合、複数のＥ1は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ2は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ3は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：一般式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：一般式Ｔ＋（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−で表されるボレート化合物
（Ｂ３）：一般式（Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−で表されるボレート化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3およびＱ4は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数２〜２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ−Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
【０１０５】
化合物（Ａ１）〜（Ａ３）において、Ｅ1、Ｅ2およびＥ3における炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数１〜８のアルキルなどが挙げられ、炭素原子数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
【０１０６】
一般式  （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物（Ａ１）としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムクロライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
【０１０７】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなど）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。
【０１０８】
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は（Ａ３）式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるＥ２及びＥ３としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基及びネオペンチル基等のアルキル基があげられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０であり、ｃは１〜４０である。
【０１０９】
化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）において、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3およびＱ4は、好ましくは、ハロゲン原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基である。Ｔ＋における無機のカチオンとしては、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンとしては、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−としては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。ブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）＋としては、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられる。
【０１１０】
一般式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物（Ｂ１）としては、例えば、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボランなどが挙げられる。
【０１１１】
一般式Ｔ＋（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−で表されるボレート化合物（Ｂ２）としては、例えば、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ビス−トリメチルシリルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げられる。
【０１１２】
一般式（Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−で表されるボレート化合物（Ｂ３）としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ビス−トリメチルシリルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【０１１３】
＜オレフィン重合用触媒＞
第１の発明で使用されるオレフィン重合用触媒は、一般式（１）で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、一般式（２）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、上述した活性化助触媒成分とを接触させて得られる触媒である。
第２の発明で使用されるオレフィン重合用触媒は、上述したオレフィン重合用触媒成分と、一般式（３）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、上述した活性化助触媒成分とを接触させて得られる触媒である。
【０１１４】
各触媒成分の使用量として、三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分のモル比（三量化用触媒成分／オレフィン重合用触媒成分）は、通常０．０００１〜１００であり、好ましくは０．００１〜１であり、より好ましくは、０．０１から０．５であり、さらに好ましくは、０．０５から０．１５である。
【０１１５】
各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）と触媒成分として使用する遷移金属錯体（三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分の合計）のモル比（化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／遷移金属錯体）は、通常０．０１〜１００００であり、好ましくは５〜２０００である。また、化合物（Ｂ）と触媒成分として使用する遷移金属錯体（三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分の合計）のモル比（化合物（Ｂ）／遷移金属錯体）は、通常０．０１〜１００、好ましくは０．５〜１０である。
【０１１６】
各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットルである。化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。
【０１１７】
各触媒成分は担体に担持して使用してもよい。担体としては、多孔質物質が好適に用いられ、無機物質または有機ポリマーがより好適に用いられ、無機物質がさらに好適に用いられる。担体については後述する。
【０１１８】
各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分と活性化助触媒成分とを予め接触させて重合用触媒を調製し、該重合用触媒を重合反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で重合反応器に供給し、重合反応器内で接触処理を行ってもよい。重合反応器には、オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分とを予め接触させたもの（オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分とを同時に製造したものも含む）を供給してもよく、オレフィン重合用触媒成分と活性化助触媒成分とを予め接触させたものを供給してもよく、三量化用触媒成分と活性化助触媒成分とを予め接触させたものを供給してもよい。
【０１１９】
（担体）
担体に用いられる無機物質の例としては、無機酸化物、マグネシウム化合物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわない。
【０１２０】
担体に用いられる無機酸化物の具体例としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ２等、およびこれらの混合物、例えば、ＳｉＯ２−ＭｇＯ、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２−Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２−ＭｇＯなどを例示することができる。これらの無機酸化物の中では、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が好ましく、ＳｉＯ２がより好ましい。なお、上記無機酸化物には少量のＮａ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、ＣａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、Ｎａ２ＳＯ４、Ａｌ２（ＳＯ４）３、ＢａＳＯ４、ＫＮＯ３、Ｍｇ（ＮＯ３）２、Ａｌ（ＮＯ３）３、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有してもかまわない。
【０１２１】
また、無機酸化物には通常、表面に水酸基が生成し存在しているが、無機酸化物としてはその表面水酸基の活性水素を種々の置換基で置換した改質無機酸化物を使用してもよく、該置換基はシリル基が好ましい。改質無機酸化物として具体的には、トリメチルクロロシランやｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアルコシキシラン、ジメチルジメトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン等のアルキルジシラザン、テトラクロロシランなどと接触処理した無機酸化物が挙げられる。
【０１２２】
担体に用いられるマグネシウム化合物としては、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化マグネシウムなどのハロゲン化マグネシウム；メトキシ塩化マグネシウム、エトキシ塩化マグネシウム、イソプロポキシ塩化マグネシウム、ブトキシ塩化マグネシウム、オクトキシ塩化マグネシウムなどのアルコキシマグネシウムハライド； フェノキシ塩化マグネシウム、メチルフェノキシ塩化マグネシウムなどのアリロキシマグネシウムハライド； エトキシマグネシウム、イソプロポキシマグネシウム、ブトキシマグネシウム、ｎ−オクトキシマグネシウム、２−エチルヘキソキシマグネシウムなどのアルコキシマグネシウム；フェノキシマグネシウム、ジメチルフェノキシマグネシウムなどのアリロキシマグネシウム；ラウリン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウムなどのマグネシウムのカルボン酸塩などを例示することができる。これらの中で好ましくは、ハロゲン化マグネシウムまたはアルコキシマグネシウムであり、さらに好ましくは塩化マグネシウムまたはブトキシマグネシウムである。
【０１２３】
担体に用いられる粘土または粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、バイロフィライト、タルク、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。これらの中で好ましくは、スメクタイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、ラポナイトまたはサポナイトであり、さらに好ましくはモンモリロナイトまたはヘクトライトである。
【０１２４】
担体に用いられる無機物質としては、無機酸化物が好ましい。
【０１２５】
担体に用いられるこれらの無機物質としては、加熱処理により乾燥させたものが好ましく用いられる。該加熱処理の温度は、通常１００〜１５００℃であり、好ましくは１００〜１０００℃であり、さらに好ましくは２００〜８００℃である。該加熱処理の時間は特に限定されるものではないが、好ましくは１０分間〜５０時間、より好ましくは１時間〜３０時間である。該加熱処理の方法としては、加熱した上で、例えば、乾燥された不活性ガス（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で数時間以上流通させる方法、あるいは、数時間減圧する方法等が挙げられるが、その方法は限定されることはない。
【０１２６】
無機物質からなる担体の平均粒子径は、好ましくは５〜１０００μｍであり、より好ましくは１０〜５００μｍであり、さらに好ましくは１０〜１００μｍである。無機物質からなる担体の細孔容量は、好ましくは０．１ｍｌ／ｇ以上であり、より好ましくは０．３〜１０ｍｌ／ｇである。無機物質からなる担体の比表面積は、好ましくは１０〜１０００ｍ２／ｇであり、より好ましくは１００〜５００ｍ２／ｇである。
【０１２７】
担体に用いられる有機ポリマーとしては、特に制限はなく、また２種以上の有機ポリマーを混合物として用いても構わないが、活性水素を有する基および／または非プロトン供与性のルイス塩基性基を有する重合体が好ましい。
【０１２８】
活性水素を有する基としては、活性水素を有しておれば特に制限はなく、具体例としては１級アミノ基、２級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオール基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、インダゾリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基である。特に好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ基、アミド基またはヒドロキシ基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。
【０１２９】
非プロトン供与性のルイス塩基性基としては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する基であれば特に制限はなく、具体例としてはピリジル基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリル基、ニトリル基、アジド基、Ｎ−置換イミノ基、Ｎ，Ｎ−置換アミノ基、Ｎ，Ｎ−置換アミノオキシ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニトロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、置換スルホン酸基等が挙げられる。好ましくは、複素環基であり、さらに好ましくは、酸素原子および／または窒素原子を環内に有する芳香族複素環基であり、特に好ましくは、ピリジル基、Ｎ−置換イミダゾリル基またはＮ−置換インダゾリル基であり、最も好ましくはピリジル基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。
【０１３０】
重合体中のかかる活性水素を有する基および非プロトン供与性のルイス塩基性基の量としては、重合体単位グラム当りの該基のモル量は、好ましくは０．０１〜５０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましくは０．１〜２０ｍｍｏｌ／ｇである。
【０１３１】
かかる基を有する重合体は、例えば、活性水素を有する基および／または非プロトン供与性のルイス塩基性基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーを単独重合することにより、またはこれと重合性不飽和基を１個以上有する他のモノマーとを共重合することにより得ることができる。また、該他のモノマーの少なくとも１種に、重合性不飽和基を２個以上有する架橋重合性モノマーを用いることが好ましい。
【０１３２】
かかる活性水素を有する基および／または非プロトン供与性のルイス塩基性基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーとしては、上記の活性水素を有する基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマー、上記の活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーなどを挙げることができる。かかる重合性不飽和基の例としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基；エチン基等のアルキニル基等が挙げられる。
【０１３３】
活性水素を有する基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーの例としては、ビニル基含有１級アミン、ビニル基含有２級アミン、ビニル基含有アミド化合物、ビニル基含有ヒドロキシ化合物等を挙げることができる。具体例としては、Ｎ−（１−エテニル）アミン、Ｎ−（２−プロペニル）アミン、Ｎ−（１−エテニル）−Ｎ−メチルアミン、Ｎ−（２−プロペニル）−Ｎ−メチルアミン、１−エテニルアミド、２−プロペニルアミド、Ｎ−メチル−（１−エテニル）アミド、Ｎ−メチル−（２−プロペニル）アミド、ビニルアルコール、２−プロペン−１−オール、３−ブテン−１−オール等が挙げられる。
【０１３４】
非プロトン供与性のルイス塩基性基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーの具体例としては、ビニルピリジン、ビニル（Ｎ−置換）イミダゾール、ビニル（Ｎ−置換）インダゾール等を挙げることができる。
【０１３５】
重合性不飽和基を１個以上有する他のモノマーとしては、オレフィン、芳香族ビニル化合物等が例示され、具体例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、スチレンなどが挙げられる。好ましくはエチレンまたはスチレンである。これらのモノマーは２種以上を用いてもよい。また、重合性不飽和基を２個以上有する架橋重合性モノマーの具体例としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【０１３６】
有機ポリマーからなる担体の平均粒子径は、好ましくは５〜１０００μｍであり、より好ましくは１０〜５００μｍである。有機ポリマーからなる担体の細孔容量は、好ましくは０．１ｍｌ／ｇ以上であり、より好ましくは０．３〜１０ｍｌ／ｇである。有機ポリマーからなる担体の比表面積は、好ましくは１０〜１０００ｍ２／ｇであり、より好ましくは５０〜５００ｍ２／ｇである。
【０１３７】
担体に用いられるこれらの有機ポリマーとしては、加熱処理により乾燥させたものが好ましく用いられる。該加熱処理の温度は、通常３０〜４００℃であり、好ましくは５０〜２００℃であり、さらに好ましくは７０〜１５０℃である。該加熱処理の時間は特に限定されるものではないが、好ましくは１０分間〜５０時間、より好ましくは１時間〜３０時間である。該加熱処理の方法としては、加熱した上で、例えば、乾燥された不活性ガス（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で数時間以上流通させる方法、あるいは、数時間減圧する方法等が挙げられるが、その方法は限定されることはない。
【０１３８】
担体の粒径の体積基準の幾何標準偏差は、好ましくは２．５以下であり、より好ましくは２．０以下であり、さらに好ましくは１．７以下である。
【０１３９】
＜重合＞
本発明は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法である。重合では、原料モノマーとしてエチレンのみを供給して重合を行ってもよく、エチレンと共重合可能なモノマーとエチレンとを供給して重合を行ってもよい。
【０１４０】
エチレンと共重合可能なモノマーとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１−ドデセン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセンなどの炭素原子数３〜２０のオレフィン；ノルボルネンなどの環状オレフィン；スチレンなどのアルケニル芳香族ハイドロカルビル；アクリル酸、メタクリル酸などの不飽和カルボン酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニルなどのビニルエステル化合物などがあげられる。これらは単独で用いられていてもよく、２種以上を用いられてもよい。
【０１４１】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能である。また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。
【０１４２】
本発明は、原料モノマーとしてヘキセンの供給が少量の重合であっても、あるいは、原料モノマーとしてエチレンのみの供給での重合であっても、融点の低下したブチル分岐を有する重合体を得ることができるものである。そのため、本発明の効果がより顕著となる重合条件としては、重合形式がスラリー重合の場合、重合系中のエチレンのモル分率（重合系中のエチレンと１−ヘキセンとの総量を１００モル％とする。）が、好ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは９５ｍｏｌ％以上であり、更に好ましくは実質的に１００ｍｏｌ％である。また、重合形式が気相重合の場合、重合系中のエチレンのモル分率（重合系中のエチレンと１−ヘキセンとの総量を１００モル％とする。）が、好ましくは９７ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは９８ｍｏｌ％以上であり、更に好ましくは実質的に１００ｍｏｌ％である。
【０１４３】
溶液重合とスラリー重合の場合、重合液中でのオレフィン重合用触媒の濃度は、触媒成分として使用する遷移金属錯体（三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分の合計）のモル換算として、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルである。オレフィン重合用触媒の濃度は、経済性を高めるために、好ましくは２ミリモル／リットル以下であり、より好ましくは１ミリモル／リットル以下である。また、オレフィン重合用触媒の濃度は、融点を低下させブチル分岐の数をより高めるために、好ましくは０．００１ミリモル／リットル以上であり、より好ましくは０．０１ミリモル／リットル以上であり、さらに好ましくは０．１ミリモル／リットル以上であり、特に好ましくは０．５ミリモル／リットル以上である。
【０１４４】
重合圧力は、常圧〜５ＭＰａが好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。また、エチレン系重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【０１４５】
重合温度は、０℃〜２２０℃の範囲を取り得る。重合温度は、経済性を高めるために、好ましくは２０℃以上であり、より好ましくは４０℃以上であり、さらに好ましくは５０℃以上であり、もっとも好ましくは７０℃以上である。また重合温度は、また、融点を低下させブチル分岐の数をより高めるために、好ましくは１３０℃以下であり、より好ましくは１００℃以下である。
【０１４６】
＜重合体＞
本発明の製造方法で得られるエチレン系重合体としては、エチレン−１−ヘキセン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−プロピレン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−ブテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−オクテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−ブテン−１−オクテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−ブテン−４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−スチレン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−ノルボルネン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−プロピレン−スチレン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−プロピレン−ノルボルネン共重合体などがあげられる。
【０１４７】
エチレン系重合体として好ましくは、エチレン−１−ヘキセン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−プロピレン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−ブテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−オクテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−スチレン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−ノルボルネン共重合体であり、より好ましくは、エチレン−１−ヘキセン共重合体、エチレン−１−ヘキセン−１−ブテン共重合体である。
【０１４８】
エチレン系重合体の炭素原子１０００個当りのブチル分岐の数は、エチレン系重合体の機械的強度を高める観点から、好ましくは１以上であり、より好ましくは３以上であり、更に好ましくは５以上であり、特に好ましくは１０以上である。また、ブチル分岐の数は、エチレン系重合体の剛性を高める観点から、好ましくは４０以下であり、より好ましくは３０以下であり、更に好ましくは２５以下である。該ブチル分岐の数は、カーボン核磁気共鳴（13Ｃ−ＮＭＲ）法、ＩＲ法などによって求めることができる。
【０１４９】
エチレン系重合体の融点は、エチレン系重合体の機械的強度を高める観点から、好ましくは１３０℃未満である。融点は、示差走査型熱量計を用いて求めることができる。
【０１５０】
重合用触媒の調製において使用する三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分のモル比（三量化用触媒成分／オレフィン重合用触媒成分）を高くすることにより、また、重合温度を低くすることにより、エチレン系重合体の炭素原子１０００個当りのブチル分岐の数を多くすることができる。
【０１５１】
エチレン系重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、重合体の加工性を高めるために、好ましくは１．５以上である。また、重合体の機械的強度を高めるために、Ｍｗ／Ｍｎは、好ましくは２０以下である。該分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ測定によってポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）とを求め、ＭｗをＭｎで除した値（Ｍｗ／Ｍｎ）である。
【０１５２】
エチレン系重合体は、公知の成形加工方法、例えば、インフレーションフィルム成形加工法やＴダイフィルム成形加工法などの押出成形法；中空成形法；射出成形法；圧縮成形法；架橋発泡成形法などにより、各種成形体（フィルム、シート、容器（ボトル、トレーなど）など）に成形され、使用される。
【０１５３】
エチレン系重合体は、公知の樹脂とブレンドして成形されてもよい。また、成形体は、エチレン系重合体を含有する単層の成形体でもよく、エチレン系重合体を含有する層を有する多層の成形体であってもよい。
【０１５４】
成形体としては、食品包装用フィルム、食品包装用容器、医薬品包装材、表面保護フィルム、半導体製品などの包装に用いる電子部品包装材、架橋発泡成形体、押出発泡成形体、中空成形体、ブローボトルやスクイーズボトルなどがあげられる。
【実施例】
【０１５５】
以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
【０１５６】
＜エチレン系重合体の製造＞
実施例および比較例における各項目の測定値は、次の方法に従って測定した。測定試料には必要におうじて、予め酸化防止剤を適量（例えば１０００ｐｐｍ）を配合した。
【０１５７】
（１）分子量及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
ＲａｐｉｄＧＰＣ（Ｓｙｍｙｘ社製）を用いて以下の条件により測定した。
送液装置  ：（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製
Ｍｏｄｅｌ３０５(ポンプヘッド２５.ＳＣ)
カラム    ：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ(ＰＬ)社製
ＰＬｇｅｌ  Ｍｉｘｅｄ−Ｂ  １０μｍ
7.5mmφ×300mm
移動相    ：ｏ−ジクロロベンゼン
溶解溶媒  ：1,2,4-トリクロロベンゼン
流量      ：２ｍｌ／分
カラム温度：１６０℃
検量線    ：ＰＬ社標準品  ポリスチレン(ＰＳ)  ８試料
（標準ＰＳ分子量）5,000、10,050、28,500、65,500
185,400、483,000、1,013,000、3,390,000
【０１５８】
（２）融点（単位：℃）
示差走査型熱量計（セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００Ｒ）を用いて、以下の条件で重合体の融点を測定した。融点は、２回目の昇温でのサーモグラムから求めた。
［条件］２０℃−（２０℃／分）→２００℃（１０分ホールド）−（−２０℃／分）→−１００℃（１０分ホールド）−（２０℃／分）→２００℃（１０分ホールド）
【０１５９】
（３）ブチル分岐数
得られたポリマー中のブチル分岐数は赤外吸収スペクトルから求めた。なお、測定および計算は、文献（赤外吸収スペクトルによるポリエチレンのキャラクタリゼーション、高山、宇佐美等著）記載の方法に準じ、ヘキセン由来の特性吸収を利用して実施した。ブチル分岐数は、１０００炭素当たりの分岐数（Ｍｅ／１０００Ｃ）として表した。
【０１６０】
［実施例１］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体２）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、４７．４×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは４．３×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．９、融点は１２８．１℃、ブチル分岐数は２であった。
結果を表１に記す。
【０１６１】
［実施例２］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体３）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体２）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、４９．９×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは４．４×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．０、融点は１２７．５℃、ブチル分岐数は３であった。
結果を表１に記す。
【０１６２】
［実施例３］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体３）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体２）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で５分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、３３．１×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは４．６×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．０、融点は１２２．５℃、ブチル分岐数は５であった。
結果を表１に記す。
【０１６３】
［実施例４］
オートクレーブに窒素下で、１−ヘキセンを０．０２ｍｌ、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体２）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で９分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、１２．９×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは２．８×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．３、融点は１１３．０℃、ブチル分岐数は１０であった。
結果を表１に記す。
【０１６４】
［実施例５］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体３）０．０１μｍｏｌと、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体４）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で５１分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、０．９４×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは２．１×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．５、融点は１２９．２℃、ブチル分岐数は５であった。
結果を表２に記す。
【０１６５】
［比較例１］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体５）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で８分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、２１．１×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３２．４℃であった。
結果を表１に記す。
【０１６６】
［比較例２］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、エチレン（ビスインデニル）ジルコニウムジクロライド（錯体６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、３４．４×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３２．８℃であった。
結果を表１に記す。
【０１６７】
［比較例３］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体５）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、２３．１×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３４．５℃であった。
結果を表２に記す。
【０１６８】
［比較例４］
オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１−（１−メチル−１−フェニルエチル）−シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体５）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、遷移金属錯体１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、６３．０×１０６ｇであった。
得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３４．８℃であった。
結果を表２に記す。
【０１６９】
表１
2011099091.tif 000010
【０１７０】
表２
2011099091.tif 000011