(57)【要約】【課題】精密機器に用いられる基盤やレンズ、液晶ガラス等における研磨加工を行う際に、被研磨物を吸着保持し、研磨加工中の研磨機定盤からのズレが発生しにくい吸着パッド用素材の製造方法を提供すること。【解決手段】基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材の製造方法であって、多孔質層の表面にプレス用のフィルム表面を密着し、屈曲させない状態にてフィルム裏面に接した加熱体により加熱し、加圧することを特徴とする吸着パッド用素材の製造方法。さらには、吸着パッド用素材が、基材上に直接、多孔質層を湿式成形したものであることや、吸着パッド素材を構成する基材が、ベースとなる合成樹脂フィルムと接着層からなるものであることが好ましい。また、加熱体が金属製のロールまたは板形状であることや、加熱温度が６０〜２００℃であること、プレス用のフィルムの算術平均表面粗さＲａが０．０１〜０．５０μｍであることが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材の製造方法であって、多孔質層の表面にプレス用のフィルム表面を密着し、屈曲させない状態にてフィルム裏面に接した加熱体により加熱し、加圧することを特徴とする吸着パッド用素材の製造方法。
【請求項２】
吸着パッド用素材が、基材上に直接、多孔質層を湿式成形したものである請求項１記載の吸着パッド用素材の製造方法。
【請求項３】
吸着パッド素材を構成する基材が、ベースとなる合成樹脂フィルムと接着層からなるものである請求項１または２記載の吸着パッド用素材の製造方法。
【請求項４】
加熱体が金属製のロールまたは板形状である請求項１〜３のいずれか１項記載の吸着パッド用素材の製造方法。
【請求項５】
加熱温度が６０〜２００℃である請求項１〜４のいずれか１項記載の吸着パッド用素材の製造方法。
【請求項６】
プレス用のフィルムの算術平均表面粗さＲａが０．０１〜０．５０μｍである請求項１〜５のいずれか１項記載の吸着パッド用素材の製造方法。
【請求項７】
多孔質層表面の算術平均表面粗さＲａが０．０１〜２．０μｍであり、ピークカウントＰｃが１０〜３０／ｃｍである請求項１〜６のいずれか１項記載の吸着パッド用素材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、精密機器に用いられる基盤やレンズ、液晶ガラス等における研磨加工前後に被研磨物を吸着保持する吸着パッド用素材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年コンピューターなどの情報処理技術の発達に伴い、磁気記録媒体やシリコンウエハーに対する高精度の表面仕上げが要求されている。例えば磁気記録媒体のハードディスク等を製造する場合、被研磨物となるアルミニウム、ガラス等の表面を平滑化する加工を行うが、それに用いる研磨用基布に対する要求もますます高くなってきている。この平滑化加工として、被研磨物を保持しながら片面のみに研磨加工を実施する方法がある。そしてこの方法の場合には、被研磨物を研磨加工機の定盤に固定することが必要となる。
【０００３】
被研磨物を固定する方法としては、従来は被研磨体をワックス塗布したセラミックシートや真空吸引により固定する方式が主流であった。しかし、作業性や設備導入の観点で研磨加工の効率化を行う上で不利であるので、例えば特許文献１では、軟式プラスチックシートを用いたキャリアレス保持パッドが提案されている。しかしこのものは裏面研磨されているとはいうものの、表面平滑性において問題があるものであった。そこで特許文献２では、裏面である背面を研磨された湿式成膜法ポリウレタンシートを、フィルム状基材に加圧密着し、ロール状に巻き取った巻取体を加熱温度が３０〜５０℃で加熱処理時間が１２〜４８時間保持する方法が提案されている。
しかし、平滑化のためには長時間の処理が必要であるとの問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２３９７８６号公報
【特許文献２】特開２００８−１１９８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、精密機器に用いられる基盤やレンズ、液晶ガラス等における研磨加工を行う際に、被研磨物を吸着保持し、研磨加工中の研磨機定盤からのズレが発生しにくい吸着パッド用素材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の吸着パッド用素材の製造方法は、基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材の製造方法であって、多孔質層の表面にプレス用のフィルム表面を密着し、屈曲させない状態にてフィルム裏面に接した加熱体により加熱し、加圧することを特徴とする。
【０００７】
さらには、吸着パッド用素材が、基材上に直接、多孔質層を湿式成形したものであることや、吸着パッド素材を構成する基材が、ベースとなる合成樹脂フィルムと接着層からなるものであることが好ましい。また、加熱体が金属製のロールまたは板形状であることや、加熱温度が６０〜２００℃であること、プレス用のフィルムの算術平均表面粗さＲａが０．０１〜０．５０μｍであることが好ましい。さらには多孔質層表面の算術平均表面粗さＲａが０．０１〜２．０μｍであり、ピークカウントＰｃが１０〜３０／ｃｍであることが好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、精密機器に用いられる基盤やレンズ、液晶ガラス等における研磨加工に用いるための、均質性や平滑性に優れながら、耐久性に優れる平滑加工用シートが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明により製造された吸着パッド用素材を示す断面図である。
【図２】本発明を適用した実施形態の熱処理方法を示す図である。
【図３】本発明における吸着力測定方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の吸着パッド用素材の製造方法は、基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材の製造方法であって、多孔質層の表面にプレス用のフィルム表面を密着し、屈曲させない状態にて、平面状態を保ったままフィルム裏面に接した加熱体により加熱し、加圧する製造方法である。フィルムとしては平滑な合成樹脂フィルムであることが好ましい。
【００１１】
この本発明の製造方法のより具体的な方法としては、例えば吸着パッド用素材の基体となるフィルム上に多孔質層を形成させた後、その多孔質層の表面に、平滑な合成樹脂フィルム表面を密着させながら、金属板状物や金属ロール等の加熱体を介して熱を付与し、加圧する方法である。この製造方法により、フィルム表面の持つ表面粗さの低い形状を多孔質層の表面に転写することができ、例えば吸着パッド用素材の表面の算術平均表面粗さＲａを極めて低いレベルとすることが可能となる。平滑なフィルムを多孔質層に接するように設置し、そのフィルムの多孔質層の反対側から加熱することにより、加熱加圧処理（以下、フィルムプレスということがある）を行うことができるのである。また本発明の製造方法では、屈曲させない状態にて、平面状態を保ったまま加熱、加圧処理するが、このように曲率が存在しない平面で処理を行うために、屈曲によるゆがみ、折れ斑などが発生せず、極めて均一な表面平滑化処理を行うことができるのである。
【００１２】
またこの製造方法における加工プロセスとしては、連続的（連続加工処理）あるいは非連続（バッチ加工処理）なプロセスを採用することができるが、生産性の面からは連続加工処理であることが好ましい。
【００１３】
このフィルムプレス工程に用いることができるフィルムの種類は、プロセスでの処理時間や加熱ロール温度、プロセスのおけるフィルムに掛かる張力等により選択することが可能である。フィルムとしては平滑な合成樹脂フィルムであることが好ましいが、このような合成樹脂フィルムの素材としては、たとえばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリプロピレン（ＰＰ）やポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などの素材が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）がその均質性と取り扱いやすさ及び耐熱性の点から、特に好ましい。
【００１４】
フィルムの好ましい厚みとしては、０．１０ｍｍ〜０．５０ｍｍの範囲であることが好ましく、０．１５ｍｍ〜０．３０ｍｍの範囲がより好ましい。薄い場合には加圧時のフィルムの変形が大きく、皺などがフィルム表面に入り易いという問題がある。このような場合、吸着パッド用素材の多孔質層にしわ等が転写され、欠点となる傾向にある。厚すぎる場合には、加熱する金属ロールや金属板からの熱伝達率が低下する問題がある。平滑なフィルム表面の吸着パッド用素材への転写が不十分となる傾向にあるのである。また平滑性を向上させるためにはフィルムプレスに用いるフィルムの算術平均表面粗さＲａとしては、０．０１〜０．５０μｍであることが好ましい。
【００１５】
フィルムプレス処理の際に、フィルムの裏面に密着させながら加熱する物としては、熱伝導性が良好で、熱膨張しにくい金属製が好ましい。形状としては、ロール状や板状などが採用できるが、表面粗さをより向上するためには、その表面形状が鏡面であることが好ましい。
【００１６】
また、熱処理を行う場合、同時に圧力を付与することが好ましく、そのためには基材の多孔質層が存在しない側、すなわちフィルムプレスに用いるフィルムの反対側を、支持物に接触させ保持することが好ましい。このような支持物を用いることにより、屈曲させない状態にて平面状態を保ったまま加熱し、加圧することが容易となる。プレス用のフィルム表面が、吸着パッド用素材に密着する時間を長くすることができる。支持物としては金属ロールや金属板でも良いが、フェルト状物や織編物、メッシュ状物等のシート状物を用いることが好ましい。
【００１７】
プレス時の加熱温度としては、５０〜２００℃が好ましく、特には６０〜１８０℃がより好ましい。低い温度であると、熱接触時間を長くとったとして平滑なフィルム表面の転写が十分でなく、目的の平滑性が得られない傾向にある。また、高い温度の場合、多孔シート表面の軟化が進み過ぎて、吸着パッド用素材がフィルムへ融着したり、プロセス通過後に剥離できない等の不具合を生じる傾向にある。
【００１８】
加熱プレス時の加圧圧力としては、１〜１０ｋｇ／ｃｍ２の範囲が好ましく、４〜９ｋｇ／ｃｍ２であることがより好ましい。圧力が低いと十分なフィルム表面の転写ができず、目的の表面粗さが得られない傾向にある。逆に高すぎると、加工後にフィルムからの剥離が困難となる傾向にある。工程通過性や、多孔質層の表面が剥がれ落ちるなどの問題を生じる傾向にある。加熱加圧時間としては、６０秒〜１８０秒の範囲であることが好ましい。処理時間が短すぎると、十分な熱付与が高分子弾性体に対して出来ないため、フィルム面の十分な転写が困難となる。一方、処理時間が長すぎても、高分子弾性体への熱付与過剰となり、熱劣化による弾性の低下が起こる。
【００１９】
また加熱プレスの際には、フィルム表面を多孔質層の表面に密着するように接することが必要であるが、一定時間熱を付与した後、一定時間冷却することにより、熱固定を促進させることが好ましい。冷却時間としては３０秒以上、さらに２分から１０分の範囲であることが好ましい。冷却時間が短いと高分子弾性体の温度が十分下がらず、熱固定が不十分となり、フィルム表面の平滑性が十分に転写されないことがある。一般に３０秒以上の冷却であれば問題ないが、工程長、生産性の面からは、３００秒以内が特に好ましい。加熱温度、冷却温度は、取り扱う多孔質の高分子弾性体の分子量や高分子の種類、架橋度などを参考に、ガラス転移点温度や流動開始温度等の高分子弾性体の特性に応じて決定することができる。
【００２０】
このような加熱プレスをすることにより、本発明の製造方法で得られる吸着パッド用素材の仕上がり面を調整することができる。また、プレスにおける圧縮率は、プレス前の厚みに対し、３０〜９５％の範囲が好ましい。加熱温度が低すぎる場合には、表面の平滑性の向上効果が十分に得られず、一方高すぎる場合には、多孔質層の多孔構造がつぶれてしまい、性能が低下する傾向にある。また、圧縮しすぎた場合も同様に多孔構造がつぶれてしまい、圧縮が少ない場合には、表面の平滑性向上効果があまり得られない。
【００２１】
本発明の製造方法にて得られた吸着パッド用素材は、研磨加工前に被研磨物に応じた適当な圧力で吸着パッド用素材の表面を、被研磨物の研磨対象面の反対面に密着させることにより吸着する。この際、吸着パッド用素材の被研磨物に接する面、あるいは被研磨物の研磨対象面の反対面に、水等の液体を少量塗布することにより、被研磨物と吸着パッド用素材間の空間を埋め、密着度合いを向上させる。このとき、吸着パッド用素材の算術平均表面粗さＲａ、一定長さ当たりの山谷の周期数Ｐｃ（ピークカウント）が一定範囲内にあることが、密着性を向上させるに際し、好ましい条件となる。
【００２２】
被研磨物と研磨用吸着パッド素材間の密着状態を強固とすることにより、研磨加工前後における被研磨物の吸着保持性や、研磨加工最中の研磨機定盤からのズレを、有効の防止しうるのである。密着状態を強固にするためには、吸着パッド用素材表面の被研磨物に対する接触面積が大きい事が好ましい。研磨用吸着パッド素材表面の表面粗さＲａ、最大高さＲｙ、一定長さ当たりの山谷の周期数Ｐｃ（ピークカウント）等を低くすることにより、接触面積の増大が可能となる。
【００２３】
仮に、表面粗さＲａ、一定長さ当たりの山谷の周期数Ｐｃ（ピークカウント）が高い場合には、吸着界面に隙間を生じやすく、空気や研磨加工時に用いるスラリーが浸入し、加工性が低下する。研磨加工最中に被研磨体が定盤上でズレを生じたり、または研磨圧力の不均一さにより研磨斑を引き起こし、研磨仕上がりが悪化する傾向にあるからである。さらには、被研磨体が吸着パッド用素材から外れ、被研磨体を破損する可能性さえ生じる。
【００２４】
表面粗さの指標の中でも特に、一定長さ当たりの山谷の周期数Ｐｃ（ピークカウント）が低いことが好ましく、３０／ｃｍ以下、特には１０〜２５／ｃｍの範囲にあることが好ましい。Ｐｃが高すぎる場合には、一定長さ当たりで表面粗さの平均線を挟んで山谷が多くある、つまり細かいピッチで大きな表面凹凸があることを示しており、このような凹凸は、被研磨物を圧着する際に、凹部が被研磨物表面と密着せずに残り、空気を噛みこみ吸着力が低下する傾向にある。
【００２５】
本発明で得られる吸着パッド用素材の多孔質表面の算術平均表面粗さＲａとしては、０．０１〜２．０μｍの範囲であることが好ましい。さらには、０．０１〜１．０μｍの範囲が好ましい。Ｒａが高すぎる場合、加工時に被加工物と密接しない部分が生じやすく、研磨不良等となる傾向にある。また、吸着パッドとしてガラス等の被研磨物を吸着させる時に、空気等が凹部分に入り密着性が悪くなり、部分的な吸着不良となるばかりか、研磨斑等を生じやすい傾向にある。
【００２６】
なお、ここで「算術平均表面粗さＲａ」としては、ＪＩＳ Ｂ０６１−１９９４に基づき、測定した粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さＬ（エル）だけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均した値である。
Ｒａ＝１／Ｌ∫｜Ｆ（ｘ）｜ｄｘ  
（積分範囲０→Ｌ（エル））
【００２７】
本発明の製造方法により得られた吸着パッド用素材は、例えば基材の多孔質層が存在しない側（反対側）に両面テープを接着し、研磨加工機の定盤に両面テープを用いて接着することにより、吸着パッドとして好適に用いることができる。
【００２８】
ところで本発明の製造方法は、基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材に対して適用することを前提としている。そこでこの吸着パッド用素材についての詳細を、さらに述べることとする。
【００２９】
ここで本発明に用いられる吸着パッド素材を構成する基材としては、吸着パッド素材の使用環境に応じて、適した基材を支持体として選択することができ、その形態としては、不織布や織物、フィルムなどの形態であることが好ましい。中でも、その表面に形成される多孔質層が均質な厚みとなりやすい、合成樹脂からなるフィルムであることが好ましい。さらには、この基材としては、ベースとなる合成樹脂フィルムと接着層からなるものであることが好ましい。
【００３０】
この吸着パッド用素材の多孔質層などの支持体として好ましく用いられる合成樹脂フィルムは、均質な厚みと硬度を持つ合成樹脂からなるフィルムである。具体的には例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリプロピレン（ＰＰ）やポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などの素材が挙げられ、なかでもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）がその均質性と取り扱いやすさから良好な素材として選定することが好ましい。
【００３１】
また、フィルムの厚さとしては、１０〜３００μｍの範囲であることが好ましく、５０μｍ以上、特には１００μｍ〜２５０μｍの範囲がより好ましい。フィルムの厚みが薄いと十分な剛性をフィルムが有さず、接着層の成形や湿式凝固を行った多孔性シートが、成膜加工時に折れたり、張力等によりシワになったり、接着層の均一なコーティング加工が困難になる傾向にある。また逆にフィルムが厚い場合には、取り扱い性や加工性は向上するものの、できあがった多孔シートの剛性が高くなりすぎる傾向にある。フィルムが厚すぎる場合には、例えばロール状に巻き取るなどの加工時において巻き付けが困難になったり、または得られる多孔シートに巻き癖が付き、被研磨物の表面加工等に用いた後に、そりが発生したりするなどの欠点が生じる傾向にある。
【００３２】
そして本発明に用いられる吸着パッド用素材を構成する基材としては、さらにはベースとなる合成樹脂フィルムと接着層からなるものであることが好ましい。特に好ましくは接着層が架橋剤と高分子弾性体（Ａ）からなるものであることが好ましい。接着層にて用いられる高分子弾性体（Ａ）としては通常の接着剤に用いられる高分子弾性体を用いることができ、さらにはエステル樹脂系の接着剤であることが好ましく、特にはポリエステルポリオール系の接着剤であることが好ましい。
【００３３】
そして、この接着層としては、架橋剤を含有することが好ましい。末端に高い反応性基を有する架橋剤によって、高い接着性を発揮し、吸着パッド素材の耐久性を向上させうるのである。
【００３４】
さらはこの架橋剤がイソシアネート系架橋剤であることが好ましい。特に後に述べる多孔質層を構成する高分子弾性体をポリウレタン樹脂とした場合、イソシアネート系の架橋剤は特に高い接着性を発揮しうる。さらに架橋剤中の反応性の高い置換基部分が反応封鎖基でブロックされたブロック型架橋剤であることも好ましい。ブロックされた反応封鎖基の解離温度としては８０〜１８０℃の範囲であれば良く、さらには９０℃から１２０℃の範囲であることが好ましい。
【００３５】
接着層の厚さとしては、５〜１００μｍであることが好ましく、特には５〜３５μｍの厚さであることがより好ましい。この接着層の厚さは、処理液の塗布量や、固型分濃度を変更することにより調整しうる。接着層の厚みが薄すぎる場合には、接着層や多孔質層のコーティング加工における装置の些細な歪み等により、接着不良等を引き起こす傾向にある。一方逆に接着層の厚さが大きすぎる場合には、得られるシートの柔軟性に悪影響を及ぼす傾向にある。接着層が厚くなりすぎてしまい。接着層の影響が素材の硬さに影響を及ぼすようになるのである。例えば、シートの剛性が高くなりすぎ、シートをロール状に巻き取る際に巻き付けが困難になるばかりではなく、巻き癖が付くために、吸着パッド用素材にそりが発生するなどの問題点が出てくる傾向にある。
【００３６】
本発明に用いられる吸着パッド用素材では、このような基材の表面に、高分子弾性体（Ｂ）からなる多孔質層が、表面層として存在する。
ここで用いられる高分子弾性体（Ｂ）としては、ポリウレタンエラストマー、ポリウレアエラストマー、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマー等が挙げられるが、なかでもポリウレタンエラストマー、ポリウレアエラストマー、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー等のポリウレタン系のエラストマーであることが好ましい。さらに例えばポリウレタン系エラストマーの場合には、平均分子量５００〜４０００のポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリエステル・エーテルグリコール、ポリカプロラクトングリコール、ポリカーボネートグリコール等から選ばれた、一種または二種以上のポリマーグリコールと、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレジンイソシアネート、トリレジンイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート等の有機ジイソシアネートと、低分子グリコール、ジアミン、ヒドラジン、又は有機酸ヒドラジッド、アミノ酸ヒドラジッド等のヒドラジン誘導体等から選ばれた鎖伸長剤を反応させて得られるものであることが好ましい。
【００３７】
また、高分子弾性体（Ｂ）の物性としては、その１００％モジュラスが２〜３０ＭＰａであることが好ましい。さらには２〜１０ＭＰａの範囲であることが好ましい。本発明の製造方法にて得られる吸着パッド用素材は、多孔の高分子弾性体からなる表面層が、その厚み方向に適度のクッション性を持たせることにより、被研磨物への表面密着性とフィット性をよくし、吸着パッドとしての性能の安定化を実現している。１００％モジュラスが小さすぎる場合、その高分子弾性重合体中の結晶成分が極端に少なくなり成膜時に安定した多孔フィルムを成型しにくいため、使用しにくい傾向にある。逆に１００％モジュラスが大きすぎる場合、高分子中の結晶成分が多く、弾性挙動が少なくなり、加工時の圧力の分散が不均一となる傾向にある。例えばこの吸着パッドをバックパッドとして研磨加工に用いた場合には、被研磨体表面におけるマイクロスクラッチなどの欠点が多くなる傾向にある。このように１００％モジュラスを調整することにより、本発明で得られる多孔シートの圧縮時の変形率（圧縮率）や圧縮後の回復性を示す圧縮弾性率などを適正化することが可能となる。
【００３８】
本発明の吸着パッド用素材の表面層は多孔構造をとるが、多孔状態としては、涙型あるいは円筒型の大きな孔と微多孔からなる断面多孔を持つ多孔質層であることが好ましい。このような形状とすることにより、適した弾性率を得ることができ、小変形時には大きな多孔が変形し、大変形時には微多孔や、弾性体自体が持つ弾性変形により、各種応力に対し連続的に平面方向の荷重をコントロールしうるのである。高分子弾性重合体からなる多孔フィルムはその厚み方向に適度のクッション性を持たせることにより被加工物への表面密着性とフィット性をよくし、被研磨物を保持するための吸着パッドとして最適となる。
多孔質層の厚さとしては２００〜１０００μｍの範囲であることが、より好ましくは３００〜９００μｍの厚さであることが好ましい。
【００３９】
また表面層の多孔質層の見かけ密度としては、０．１０〜０．３０ｇ／ｃｍ３の範囲であることが好ましく、０．１５〜０．２５ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。見かけ密度が小さすぎる場合には、加工時の圧力による吸着パッド用素材の変形が大きくなり、被加工物表面に大きな周期の加工斑が発生する傾向にある。応力分散が大きくなるために加工時の圧力が安定しにくいためである。また逆に密度が大きすぎる場合には、多孔質層が圧縮された時の変形率が小さくなり、被加工物表面の小さな周期の加工斑が大きくなる傾向にある。加工時に吸着パッド用素材の反発性が高くなるが、どうしても部分的な応力集中が発生し、その部分だけ加工が進むためである。
【００４０】
このような本発明の製造方法に適した基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材は、例えば以下の方法の製造方法が例示される。
まずフィルム上に、高分子弾性体（Ａ）を含有する接着処理液を塗布、乾燥して高分子弾性体（Ａ）からなる接着層とし、その表面に多孔の高分子弾性体（Ｂ）を、例えば水を主成分とする凝固浴中にて湿式凝固する製造方法である。
【００４１】
ここで接着層を形成するためには、フィルム上に高分子弾性体（Ａ）を含有する接着処理液を塗布、乾燥させるが、接着処理液としては架橋剤を含有することが好ましい。その接着処理液の塗布後の乾燥条件としては、乾燥温度が１００℃以下であることが好ましい。特には６０〜８０℃であることが好ましく、さらには接着層の形成後なるべく早いタイミングで多孔質層を成膜することが好ましい。このような低い温度にて乾燥させることにより、接着処理液を完全に乾燥することなく、その上に引き続き塗布する多孔質層との接着性をより高めることが可能となる。
【００４２】
そして生産性を上げるためには、接着層を付与、乾燥した後に、一旦フィルムと接着層からなるシートを巻き取ることが好ましい。ただしこの場合には、高温雰囲気下や、高湿度雰囲気下に長時間放置しないことが必要であり、室温である５〜２５℃の範囲で保管することが好ましい。接着性を維持するためである。一方巻き取るためには、接着層はタック性を有さないことが好ましい。タック性（粘着性）を有した場合には、巻き取り後の工程を行う際に接着層の剥がれが発生し、得られたシートの接着性が低下する場合があるからである。
【００４３】
本発明で用いる、基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材は、例えばこのような接着層の表面に、引き続き高分子弾性体（Ｂ）と有機溶剤からなる溶液を塗布し、水を主成分とする凝固浴中にて湿式凝固して多孔質層を形成することにより得ることができる。
【００４４】
この接着層の表面に高分子弾性体（Ｂ）と有機溶剤からなる溶液を塗布する塗布方法としては、ロールコート方式やナイフコート方式を採用することが好ましい。より具体的には、フィルム上に成膜された接着層の上に、所定のクリアランスを設けたロールやナイフにより、適量のコーティング液を塗布し、コーティング処理を行う方法が好ましい。
【００４５】
また、多孔質層を形成するために用いられる高分子弾性体（Ｂ）としては、ポリウレタンエラストマー、ポリウレアエラストマー、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマー等が挙げられる。さらに使用する高分子弾性体（Ｂ）としては、樹脂単体でも良いが、２種以上の樹脂をブレンドして使用することも好ましい。ブレンドによる使用を行うことにより、多孔質層の弾性や塑性を調整し、最適な圧縮変形状態に制御することが可能になる。例えば多孔質層の変形挙動制御のためには、ポリウレタン樹脂の構成セグメント比率（ハード成分・ミッド成分・ソフト成分）のバランスを変化させることが有効であり、このような構成セグメント比を各種樹脂のブレンド比率によって調整することも可能である。また、高分子弾性体（Ｂ）の物性としては、その１００％モジュラスは２〜３０ＭＰａであることが好ましい。さらには２〜１０ＭＰａの範囲であることが好ましい。
【００４６】
この高分子弾性体（Ｂ）の溶液中には、多孔構造を調整する各種添加剤を添加することも好ましい。高分子弾性体（Ｂ）は、水を主成分とする凝固浴中にて湿式凝固して多孔質層を形成するが、各種添加剤により、湿式凝固時の多孔状態を調整することが可能となる。
【００４７】
高分子弾性体（Ｂ）がポリウレタン樹脂の場合には、有機溶剤としてはジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を用いることが、湿式多孔を得るためには好ましい。この場合、ＤＭＦに溶解させた高分子弾性体溶液に、湿式凝固助剤としてのセルロース系添加剤や、着色剤としてのトーナー等を併用することが好ましい。また、湿式多孔構造の形成助剤として、シリコーン系の親水剤や疎水剤を添加した溶液を用いることも好ましい。
【００４８】
より具体的には、例えば高分子弾性体（Ｂ）がＤＭＦに溶解したポリウレタン樹脂の場合、処理溶液中のＤＭＦを凝固浴において、水と置換し湿式凝固成膜を行うことができる。このとき凝固浴としては、０〜２０％の範囲、さらに好ましくは、１〜１０％の範囲のＤＭＦを含有する水溶液を用いることが通常である。この凝固浴に溶液を塗布したシートを浸漬させることにより、涙型あるいは円筒型の大きな孔と微多孔からなる断面多孔を持つ多孔質層が形成される。水中における有機溶剤の濃度が高すぎると、凝固速度が遅くなり、表面の平滑性が低下する傾向にある。多孔質層内部が未凝固の間に製造工程におけるロール等に接するために、ロールとの接圧により多孔質層の表面皮膜がずれた状態で凝固し、表面凹凸が大きくなる傾向にあるのである。
【００４９】
この製造方法では、湿式凝固し多孔質層を形成した後に、さらに水あるいは温水中に浸漬することにより、多孔内に残留するＤＭＦなどの有機溶剤を、多孔質層から除去することが好ましい。さらに得られたシートは、乾燥処理を行い基材の表面に高分子弾性体からなる多孔質層が存在する吸着パッド用素材となる。
【００５０】
この平滑加工用シートの乾燥処理における乾燥温度としては、９０〜１２０℃が好ましく、１００〜１２０℃がより好ましい。湿式凝固により多孔質層を形成する際には、高分子弾性体溶液中のジメチルホルムアミド等の有機溶剤が水と置換されるが、低い温度で乾燥すると、多孔質層内に残存する水分の蒸発が十分に起こりにくくなり、乾燥時間が非常に長くなり、生産効率が低下する問題が発生する傾向にある。逆に高い温度で一気に乾燥処理を行うと、多孔質層内に残存するジメチルホルムアミド等の有機溶剤が突沸、蒸発し、品質が低下する傾向にある。形成された多孔質層の表面や内部を有機溶剤が再溶解し、多孔を閉孔したり、表面平滑性を悪化させたりする場合があるのである。
【００５１】
このような本発明の製造方法により、極めて加工性に優れた吸着パッド用素材を得ることが可能となる。この吸着パッド用素材は、被研磨物を保持しながら片面のみに研磨加工を実施する場合に、被研磨物を保持する吸着パッドとして用いられるものである。
【００５２】
この吸着パッド用素材は、多孔表面に微小な孔が開いている場合に、吸着性をより向上させることができ、例えば多孔質層を湿式凝固させることによりそのような表面の微小な孔を形成することができる。また本発明の製造方法では加熱プレスによる平滑化加工を行っているため、平滑性により加工物との密着性が向上し、吸着、保持性に優れる。近年、液晶用ガラスを用いた製品の需要が高騰している上、液晶用ガラスの大きさも大型化、それに伴う研磨機の大型化が進んでいるために、吸着パッドが用いられる片面研磨加工については、より高い均質性と平滑性が要求されてきているのである。本発明の平滑加工用シートはそのような要求に、高いレベルでこたえることができる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明する。なお濃度は特に記載のない限り重量％で、算術平均表面粗さＲａは下記の方法にて測定した。
【００５４】
（１）算術平均表面粗さＲａ
表面粗さ測定器（株式会社ミツトヨ製、品番ＳＪ−３０１）にてＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に基づき、カットオフ値（λｃ：粗さ曲線断面曲線から波長の長い成分（うねり成分や形状精度成分）を除去する長さ）２．５ｍｍ、評価長さ１２．５ｍｍ、使用測定検出器先端のＲ：１０μｍ（ＳＲ１０検出器）の設定にて測定した。
Ｒａ＝１／Ｌ∫｜Ｆ（ｘ）｜ｄｘ    
（積分範囲０→Ｌ（エル））
【００５５】
（２）山谷の周期数Ｐｃ（ピークカウント）
測定した表面粗さ曲線の平均線に対し、1ｃｍあたり何回その平均線を介して山谷があるかを、ピークカウント値とした。
【００５６】
（３）吸着パッド用素材の吸着力
研磨加工時の吸着パッド用素材の吸着力を測定するため、取手を付けた金属板表面にガラスを取り付けた測定用治具（ａ）とガラスの付いていない測定用治具（ｂ）を用意した。大きさ１５ｃｍ×１０ｃｍの長方形の吸着パッド用素材の多孔質層の存在しない側、つまり両面テープがある裏面側を、測定用治具（ｂ）側に両面テープにより貼り付けた。
その後、吸着パッド用素材の表面にスプレーにて一定量の水を噴霧し、ワイパーにて過剰な水を除去した後に、測定用治具（ａ）のガラス面に、吸着パッド用素材の表面（多孔質層側）が接するように貼り付け、１３０ｇ／ｃｍ２の圧力で６０秒間加圧保持した。
最後に図３のように引張試験機にて２方向（垂直方向、平行方向）に引っ張り、面積当たりの応力測定を行い、吸着力とした。
【００５７】
［実施例１］
接着処理液に用いる高分子弾性体（Ａ）としてポリエステルポリオール系接着剤（大日精化株式会社製、Ｅ−２５６）と、架橋剤に用いるイソシアネート系架橋剤とを、重量比１００：１０となるように混合し、固形分濃度を２５％となるよう溶剤で調整した溶液を準備した。
目付２３４ｇ／ｍ２、厚み１９０μｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの上に、ポリエステルポリオール系接着剤からなる上記接着処理液を、クリアランス１００μｍの条件にてコーティングし、８０℃の乾燥機で２分乾燥させ、ポリエステルフィルムの上に２５μｍの接着層を形成したベース基材を得た。
上記で得られたフィルムと接着剤からなる基材上に、１００％モジュラスが１０ＭＰａであるポリエステル系ポリウレタンの１８％濃度のジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦとする）溶液を作成し、ナイフコーティングによりコーティングした後、７％ＤＭＦ水溶液の凝固バス中で凝固し、十分に水洗を行い、厚さ８００μｍの多孔質層を形成させ、９０℃で乾燥した。
【００５８】
次に、得られたシートの多孔質層側表面を、算術平均表面粗さＲａ０．０５μｍ、厚さ０．２５ｍｍのポリエステルフィルムの表面に密着させた状態で、ポリエステルフィルムの裏面側から金属ロールを介して屈曲させない状態にて６５℃で加熱し、加圧圧力６．０ｋｇ／ｃｍ２にて連続的に１２０秒間加圧し、続いて、１８０秒間吸着パッド用素材とポリエステルフィルムを一体化させた状態のまま２５℃にて放冷させた後、ポリエステルフィルムより吸着パッド用素材を剥離して巻き取った。得られた吸着パッド用素材は、目付が４３４ｇ／ｍ２、厚みが１．０１ｍｍのものであった。
得られた吸着パッド用素材の算術平均表面粗さＲａは、０．８４μｍ、ピークカウントＰｃは、２８．２／ｃｍと低い優れたものであり、吸着力は、垂直方向が３．１２Ｎ／ｃｍ２、平行方向が４．３５Ｎ／ｃｍ２と吸着性に優れていた。
【００５９】
［実施例２］
実施例１のフィルムプレスの加熱温度を６０℃から１２０℃とする以外は、同様の方法にて吸着パッド用素材を得た。得られた素材の、算術平均表面粗さＲａは、０．６５μｍ、ピークカウントＰｃは、２６．３／ｃｍと低い優れたものであり、吸着力が、垂直方向３．３０Ｎ／ｃｍ２、平行方向４．５２Ｎ／ｃｍ２と吸着性に優れる吸着パッド用素材であった。
【００６０】
［実施例３］
実施例１のフィルムプレスの加熱温度を６０℃から１６０℃とする以外は、同様の方法にて吸着パッド用素材を得た。得られた素材の、算術平均表面粗さＲａは、０．２３μｍと非常に低く優れたものであり、ピークカウントＰｃも、２３．１／ｃｍと低く、吸着力が、垂直方向３．９８Ｎ／ｃｍ２、平行方向４．８８Ｎ／ｃｍ２と吸着性に非常に優れる吸着パッド用素材であった。
【００６１】
［実施例４］
実施例１のフィルムプレスの加熱温度を６０℃から１８０℃とする以外は、同様の方法にて吸着パッド用素材を得た。得られた素材の、算術平均表面粗さＲａは、０．１２μｍと著しく低く優れたものであり、ピークカウントＰｃも、１９．５／ｃｍと非常に低く、吸着力が、垂直方向４．３７Ｎ／ｃｍ２、平行方向５．０７Ｎ／ｃｍ２と非常に吸着性に優れる吸着パッド用素材であった。
【００６２】
［実施例５］
実施例１のフィルムプレスの加熱温度を６０℃から１６０℃、加圧圧力を６．０ｋｇ／ｃｍ２から９．０ｋｇ／ｃｍ２とする以外は、同様の方法にて吸着パッド用素材を得た。得られた素材の、算術平均表面粗さＲａは、０．１６μｍと著しく低く優れたものであり、ピークカウントＰｃは、２１．８／ｃｍと低く、吸着力が、垂直方向４．８８Ｎ／ｃｍ２、平行方向５．００Ｎ／ｃｍ２と非常に吸着性に優れる吸着パッド用素材であった。
【００６３】
［比較例１］
実施例１のフィルムプレスの加熱温度を６０℃から２３０℃とする以外は、同様の方法にて素材を得た。得られた素材は、ポリエステルフィルム表面と多孔質層の表面が融着し、ポリエステルフィルムから剥離する際に、多孔質層の表面に存在する微多孔層が剥ぎ取られ、目的の吸着パッド用素材を得ることができなかった。そのため、算術平均表面粗さＲａ及びピークカウントＰｃは、測定できず、吸着力についても、吸着すらしなかったため、測定できなかった。
【符号の説明】
【００６４】
１    吸着パッド用素材
２    高分子弾性重合体からなる多孔質層
３    接着層（基材）
４    フィルム（基材）
５    両面テープ
６    加熱用の金属ロール
７    プレス加工用のフィルム
８    支持体
９    ガラス
１０  測定用治具
１１  吸着試験（平行方向）
１２  吸着試験（垂直方向）
【図１】
2011224703.tif 000003
【図２】
2011224703.tif 000004
【図３】
2011224703.tif 000005