(57)【要約】【課題】  光学補償フィルムよりなる光学フィルムの表面、或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層又は光学補償膜層の表面に、粘着剤層が高接着力で接着していて、粘着剤層の糊残りが生じない粘着型光学フィルムを簡単に製造する方法の提供。【解決手段】  光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面或いは表面に光学補償フィルム層又は光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層又は光学補償膜層の表面に、粘着性ロール接触処理又はラビング処理を行った後、粘着性ロール接触処理又はラビング処理を行った光学補償フィルム面又は光学補償膜面に粘着剤を施して粘着剤層を形成する粘着型光学フィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘着型光学フィルムの製造方法であって、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム面または光学補償膜面に粘着剤を施して粘着剤層を形成することを特徴とする粘着型光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
粘着性ロール接触処理を、５０ｇ以上の粘着力を有する粘着性ロールを用いて行なう、請求項１に記載の粘着型光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
光学補償フィルム単体よりなる光学フィルム、或いは前記積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層が、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含有している、請求項１または２に記載の粘着型光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
粘着性ロール接触処理またはラビング処理によって、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面或いは前記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面でのＸ線光電子分光法で測定したフッ素元素の割合を、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なう前に比べて、５％以上低減させる請求項１〜３のいずれか１項に記載の粘着型光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム面または光学補償膜面の上に施す粘着剤が、ガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）を少なくとも１個およびガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）を少なくとも１個有するアクリル系ブロック共重合体を６０質量％以上の割合で含有する粘着剤である請求項１〜４のいずれか１項に記載の粘着型光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項の製造方法で得られる粘着型光学フィルム。
【請求項７】
請求項６の粘着型光学フィルムを用いた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粘着型光学フィルムの製造方法、それにより得られる粘着型光学フィルムおよび当該粘着型光学フィルムを用いた画像表示装置に関する。より詳細には、本発明は、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルム上に粘着剤層を有するか、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に粘着剤層を有する粘着型光学フィルムの製造方法、それにより得られる粘着型光学フィルムおよび当該粘着型光学フィルムを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の視野角の向上やコントラストの向上などの点から、光学補償フィルム（位相差フィルム、視野角向上フィルム、色補償フィルム、輝度向上フィルムなど）や、光学補償フィルム層または光学補償膜層を表面に有する積層型の光学フィルム（偏光板など）が用いられるようになっている。これらの光学フィルムでは、光学補償フィルム単体の表面や、積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に粘着剤層を設けて粘着型光学フィルムとし、当該粘着型光学フィルムをその粘着剤層によって液晶パネルなどに貼着することが行われている。当該粘着型光学フィルムを液晶パネルなどに貼着した際に、皺、気泡、異物などの噛み込みや、貼り付け位置のズレなどが生ずることがあり、その場合には、一旦貼着した粘着型光学フィルムを剥がして再び貼着作業をやり直したり、粘着型光学フィルムを剥がした後に高価な液晶パネルを回収して再利用することが行われている。粘着型光学フィルムを剥がす際には、粘着型光学フィルムの粘着剤層が、光学フィルム側に良好に接着したまま、液晶パネルなどの上に糊残りせずにきれいに剥離することが求められている。
【０００３】
しかしながら、光学補償フィルム単体の表面に粘着剤層を設けた粘着型光学フィルムや、積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に粘着剤層を設けた粘着型光学フィルムでは、光学補償フィルム単体や、光学補償フィルム層または光学補償膜層への粘着剤の接着力（粘着力）が不足し、液晶パネルなどに貼着した粘着型光学フィルムを剥がして作業をやり直したり、粘着型光学フィルムを剥がした液晶パネルを回収して再利用したりする際に、粘着型光学フィルムの粘着剤層が、光学補償フィルム単体や、積層型の光学フィルムの光学補償フィルム面または光学補償膜面から分離して液晶パネル側に糊残りするなどの問題が生ずることが多々ある。
【０００４】
フィルムなどの基材への粘着剤層の接着力を向上させる方法としては、基材の表面にコロナ放電処理またはプラズマ処理を施した後に、当該表面に粘着剤を塗布して粘着剤層を形成する方法が知られている（特許文献１を参照）。
しかしながら、この方法による場合は、コロナ処理装置またはプラズマ処理装置という高価で、高電圧を伴う装置を使用する必要があるため、コストがかかり、しかも装置の制御や管理、安全面、人体への悪影響の防止（例えばコロナ放電処理によって発生する有害なオゾンの発生に対する安全管理など）などの点で多大の注意を払う必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１７３４４１号公報
【特許文献２】特開２００４−１９８５１１号公報
【特許文献３】特開平６−９３０６０号公報
【特許文献４】特公平７−２５８５９号公報
【特許文献５】特開平１１−３３５４３２号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】「Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．  Ｐｈｙｓ．」，２０００年，２０１巻，ｐ．１１０８〜１１１４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、コロナ放電処理やプラズマ処理のような、高価で、しかも高電圧を伴う装置を使用せずに、安全に、しかも簡単に、光学補償フィルム単体の表面に、或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に、粘着剤層が高接着力で接着積層していて、粘着剤層が液晶パネルなどに糊残りすることのない、粘着型光学フィルムを製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決すべく本発明者らは種々検討を重ねてきた。その結果、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム面または光学補償膜面に対して、離型フィルムに塗工した粘着剤を転写したり、粘着剤を直接塗るなどして粘着剤層を形成すると、粘着剤が、光学補償フィルム上に或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に高接着力で接着積層し、光学補償フィルム或いは積層型の光学フィルムから粘着剤が分離しない粘着型光学フィルムが得られることを見出した。
そして、本発明者らは、それによって得られた粘着型光学フィルムを、その粘着剤層を介して液晶パネルなどに一旦貼着した後に、液晶パネルなどから剥がす試験を行ったところ、粘着型光学フィルムにおける粘着剤層が、光学フィルム側に強固に接着したまま、液晶パネルなどの上に糊残りせずにきれいに剥離できることを見出した。
【０００９】
さらに、本発明者らは、光学補償フィルム単体の表面或いは上記積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後に、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム面または光学補償膜面に粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する本発明者らの見いだした上記方法が、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含む材料を含有する光学補償フィルム単体の表面に粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する場合、および表面の光学補償フィルム層中または光学補償膜層中にフルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含む積層型の光学フィルムの表面に粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する場合に、特に有効であることを見出した。
また、本発明者らは、粘着性ロール接触処理またはラビング処理によって、光学補償フィルム単体の表面或いは前記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面でのフッ素元素の割合が低減していることを見出した。
【００１０】
さらに、本発明者らは、上記した粘着型光学フィルムの製造にあたっては、種々の粘着剤が使用でき、そのうちでも、ガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）を少なくとも１個およびガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）を少なくとも１個有するアクリル系ブロック共重合体を６０質量％以上の割合で含有する粘着剤が好適であることを見出し、それらの種々の知見に基づいて本発明を完成した。
【００１１】
すなわち、本発明は、
（１）  粘着型光学フィルムの製造方法であって、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム面または光学補償膜面に粘着剤を施して粘着剤層を形成することを特徴とする粘着型光学フィルムの製造方法である。
【００１２】
そして、本発明は、
（２）  粘着性ロール接触処理を、５０ｇ以上の粘着力を有する粘着性ロールを用いて行なう、前記（１）の粘着型光学フィルムの製造方法；
（３）  光学補償フィルム単体よりなる光学フィルム、或いは前記積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層が、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含有している、前記（１）または（２）の粘着型光学フィルムの製造方法；および、
（４）  粘着性ロール接触処理またはラビング処理によって、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面或いは前記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面でのＸ線光電子分光法で測定したフッ素元素の割合を、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なう前に比べて、５％以上低減させる前記（１）〜（３）のいずれかの粘着型光学フィルムの製造方法；
である。
【００１３】
さらに、本発明は、
（５）  粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム面または光学補償膜面の上に施す粘着剤が、ガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）を少なくとも１個およびガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）を少なくとも１個有するアクリル系ブロック共重合体を６０質量％以上の割合で含有する粘着剤である前記（１）〜（４）のいずれかの粘着型光学フィルムの製造方法である。
そして、本発明は、
（６）  前記（１）〜（５）のいずれかの製造方法で得られる粘着型光学フィルム；および、
（７）  前記（６）の粘着型光学フィルムを用いた画像表示装置；
である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の製造方法による場合は、粘着剤が、光学補償フィルム上に或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に高接着力で接着積層し、光学補償フィルム或いは積層型の光学フィルムから粘着剤が分離しない粘着型光学フィルムを、プラズマ処理装置やコロナ放電処理装置などを使用せずに、簡単に且つ安全に、しかも低コストで円滑に製造することができる。
本発明により得られる粘着型光学フィルムは、粘着剤層が、光学フィルム側に強固に接着しているため、液晶パネルなどに粘着型光学フィルムを貼着した後に、粘着型光学フィルムを剥がして作業をやり直したり、粘着型光学フィルムを剥がした後の高価な液晶パネルなどを再利用する際に、粘着剤が液晶パネルなどの上に糊残りしないため、当該剥離作業や、液晶パネルなどの再利用を円滑に行うことができる。
粘着剤層を形成する前に光学フィルムに粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行う本発明の方法は、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含む材料を含有する光学補償フィルム単体の表面に、或いは表面の光学補償フィルム層中または光学補償膜層中にフルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含む積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層中または光学補償膜層の表面に粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する場合に特に有効である。
本発明において、粘着剤として、ガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）を少なくとも１個およびガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）を少なくとも１個有するアクリル系ブロック共重合体を６０質量％以上の割合で含有する粘着剤を使用した場合には、化学架橋処理を行わなくても高い凝集力を示し、リワーク性、粘着特性、耐熱性、光学特性（光ムラ、透明性など）、耐久性などに優れる粘着型光学フィルムを、良好な工程性で生産性よく製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明について詳細に説明する。
本発明は、光学補償フィルム単体より光学フィルム、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムをベースフィルムとして用い、当該ベースフィルムの光学補償フィルム面または光学補償膜面の上に粘着剤を施して粘着型光学フィルムを製造する際の改良技術である。
ここで、本発明における、粘着剤層を形成する前の、「光学補償フィルム単体」とは、他の層が積層されておらず、光学補償フィルムのみからなるものをいう。
また、本発明における、粘着剤層を形成する前の、「表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルム」とは、積層型の光学フィルムであって、その一方または両方の表面に、光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する光学フィルムをいう。この積層型の光学フィルムが、一方または両方の表面に「光学補償フィルム層」を有する積層型の光学フィルムである場合は、偏光フィルムやその保護フィルムなどの光学フィルムの上に、１つまたは２つの光学補償フィルムが最外層に位置するようにして積層している光学フィルムをいう。また、この積層型の光学フィルムが、一方または両方の表面に「光学補償膜層」を有する積層型の光学フィルムである場合は、偏光フィルムやその保護フィルムなどの光学フィルムの上に、塗布工程などを採用して形成された１つまたは２つの光学補償膜が最外層に位置するようにして積層している光学フィルムをいう。
【００１６】
表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムにおける層の数、表面の光学補償フィルム層または光学補償膜層以外の各層の材質、物性などは特に制限されず、粘着型光学フィルムの用途や使用形態などに応じて、選択、決定することができる。限定されるものではないが、本発明で用い得る粘着剤層を形成する前の積層型の光学フィルムとしては、例えば、
《１》光学補償フィルム層（光学補償膜層）／保護層［ＴＡＣ層（トリアセチルセルロース層）など］／偏光フィルム層（ＰＶＡ偏光フィルム層など）／保護層（ＴＡＣ層など）］の順で積層した積層型の光学フィルム（偏光板など）；
《２》光学補償フィルム層（光学補償膜層）／偏光フィルム層（ＰＶＡ偏光フィルム層など）／保護層（ＴＡＣ層など）の順で積層した積層型の光学フィルム（偏光板など）；
《３》光学補償フィルム層（光学補償膜層）／偏光フィルム層（ＰＶＡ偏光フィルム層など）／光学補償フィルム層（光学補償膜層）の順で積層した積層型の光学フィルム；
などを挙げることができる。
【００１７】
本発明で用いる光学補償フィルム単体の種類、或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層を構成する光学補償フィルムまたは光学補償膜の種類は特に制限されず、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ、電子ペーパー、タッチパネルなどにおいて、その視野角の向上、コントラストの向上、色補償などのような光学補償機能を付与する目的で従来から用いられている位相差フィルムや位相差膜、視野角向上フィルム、視野角向上膜、色補償フィルム、色補償膜、輝度向上フィルム、輝度向上膜などの光学補償フィルムまたは光学補償膜からなっていることができる。
光学補償フィルムまたは光学補償膜としては、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜、ＣＡＰ（混合脂肪酸セルロースエステル）をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）およびＬＰＣ（液晶ポリマー）をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜、ＴＡＣおよび液晶化合物（ディスコチック化合物など）をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜、ノルボルネン系樹脂やその他のＣＯＰ（シクロオレフィン系ポリマー）をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜、アクリル系樹脂をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜、ＰＣ（ポリカーボネート）をベースとする光学補償フィルムや光学補償膜などが従来から知られており、本発明で用いる光学補償フィルム単体、或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層は、それらのいずれから形成されていてもよい。
また、光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層は、光学異方性であってもよい。
【００１８】
レベリング剤や屈折率調整剤などとして、また光学補償機能などの向上のために、光学フィルム中や光学フィルムの表面に設けた膜層中にフルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを添加含有させたものがある。光学フィルム中や光学フィルムの表面に設けた膜層中に、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含有させると、表面平滑性、薄膜塗工性、高速塗工性、精密塗工性、膜厚さ均一性、光学補償機能などの向上、表面欠陥（ムラ、ハジキ、ピンホールなど）の減少、屈折率の制御などが達成される。
その際に、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーとしては、（メタ）アクリル酸のフルオロアルキルエステル、（メタ）アクリル酸のフルオロアルキルチオエステル、（メタ）アクリル酸のフルオロアルキルアミド、その他の、フルオロアルキル基を有するモノマー（フルオロアルキル基を有する重合性不飽和単量体など）に由来する構造単位の１種または２種以上を分子中に有するポリマー（以下これを「フルオロアルキル基含有ポリマー」ということがある）などが用いられる。
光学フィルム中や光学フィルムの表面に設けた膜層中にフルオロアルキル基含有ポリマーが添加されていると、光学フィルムへの粘着剤の接着力が低下し、粘着剤層の液晶パネルなどへの糊残りが生じ易く、そのことは光学補償フィルムや光学補償膜層を有する光学フィルムにおいても例外でない。
また、光学補償フィルム単体からなる光学フィルム、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムは、偏光フィルムとの接着性を向上させるためにけん化処理を施されることがある。その際に、光学補償フィルム（層）または光学補償膜層がフルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含有していると、けん化処理によって、解重合が進行したり、エステル結合などの主鎖との結合部分が切れてフルオロ炭化水素基を有する低分子成分が発生するためか、光学補償フィルム（層）または光学補償膜層への粘着剤層の接着力が低くなることがある。
【００１９】
本発明者らの行った実験では、光学補償フィルム（層）または光学補償膜層にフルオロアルキル基含有ポリマーを含む光学フィルムまたは積層体の光学フィルムに対して、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なうと、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なう前に比べて、光学補償フィルム（層）または光学補償膜層の表面におけるフッ素元素の割合が低減することが確認された。
上記の点から、本発明の方法による場合は、光学補償フィルム（層）または光学補償膜層の表面におけるフルオロアルキル基含有ポリマーやフルオロアルキル基を有する低分子成分が粘着性ロール接触処理またはラビング処理によって取り除かれるために、粘着剤層が高接着力で光学補償フィルム（層）または光学補償膜層に接着するものと推測される。
そのため、光学補償フィルム面または光学補償膜面に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後に、光学補償フィルム面または光学補償膜面の上に粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する本発明の方法は、フルオロアルキル基含有ポリマーを含有する光学補償フィルム単体からなる光学フィルムを用いて粘着型光学フィルムを製造する技術、或いは表面の光学補償フィルム層または光学補償膜層中にフルオロアルキル基含有ポリマーを含有する積層型の光学フィルムを用いて粘着型光学フィルムを製造する技術において極めて有効である。
【００２０】
その際に、光学補償フィルム単体中または積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層中に含有するフルオロアルキル基含有ポリマーとしては、アルキル基の水素原子の一部がフッ素原子で置換されているフルオロアルキル基を有するモノマーおよび／またはアルキル基の水素原子の全てがフッ素原子で置換されているパーフルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを挙げることができる。フルオロアルキル基を有するモノマーにおけるフルオロアルキル基の炭素数は特に制限されないが、フルオロアルキル基の炭素数は３以上であることが好ましく、６以上であることが好ましく、６〜１５であることがより好ましい。また、フルオロアルキル基における炭素原子に結合したフッ素原子の数は、４以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましく、８以上であることが更に好ましい。
【００２１】
フルオロアルキル基含有ポリマーの少なくとも一部を構成するフルオロアルキル基を有するモノマーの種類は特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸のフルオロアルキルエステル、（メタ）アクリル酸のフルオロアルキルチオエステル、（メタ）アクリル酸のフルオロアルキルアミドなどを挙げることができ、フルオロアルキル基含有ポリマーは、前記したフルオロアルキル含有モノマーの１種または２種以上に由来する構造単位を有することができる。
【００２２】
フルオロアルキル基含有ポリマーは、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位のみから形成されていてもよいし、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位と共に他のモノマーに由来する構造単位を有していてもよい。
フルオロアルキル基含有ポリマーが、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位と共に他のモノマーに由来する構造単位を有している場合は、当該他のモノマーに由来する構造単位としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸などのカルボキシル基を有するビニル系モノマー、前記カルボキシル基を有するビニルモノマーにおけるカルボキシル基をエステル化、チオエステル化、アミド化したビニル系モノマー、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどの芳香族ビニルモノマー、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエンモノマー、エチレン、プロピレンなどのオレフィン系モノマー、ε−カプロラクトン、パレラクトンなどのラクトン系モノマーなどの１種または２種以上に由来する構造単位を挙げることができる。
そのうちでも、他のモノマーに由来する構造単位としては、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸チオエステル、（メタ）アクリル酸アミドの１種または２種以上に由来する構造単位が好ましい。その際に、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸チオエステル、（メタ）アクリル酸アミドにおけるエステル基、チオエステル基、アミド基は、炭素数が４〜２０の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基、或いはアルキレン基が炭素数２〜４の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であるポリ（オキシアルキレン）基を有するエステル基、チオエステル基、アミド基であることが好ましい。その際に、当該アルキル基またはポリ（オキシアルキレン）基は、必要に応じて、水酸基、カルボキシル基、アリール基、カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルキルエーテル基、アルキルエステル基、ハロゲン原子などを有していてもよい。
フルオロアルキル基含有ポリマーは、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を、５モル％以上の割合で有していることが好ましく、５〜７０モル％の割合で有していることがより好ましい。
また、フルオロアルキル基含有ポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、３，０００〜８０，０００であることがより好ましく、５，０００〜７０，０００であることが更に好ましい。
【００２３】
特許文献２には、支持体上にディスコティック化合物などの液晶化合物を含む層から形成された光学異方性層（光学補償膜層）を有する光学フィルムであって、前記光学異方性層（光学補償膜層）中に、一般式：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）−ＣＯ−Ｘ−（ＣＨ2）m−（ＣＦ2ＣＦ2）nＦ［式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−（式中Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基）、ｍは１〜６の整数、ｎは２〜４の整数を示す。］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーに由来する構造単位と、ポリ（オキシアルキレン）アクリレートおよび／またはポリ（オキシアルキレン）メタクリレートに由来する構造単位を有し、場合により更に他のモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを有する光学フィルムが開示されているが、当該光学フィルムの光学異方性層（光学補償膜層）の上に粘着剤層を形成する前に、表面の光学異方性層（光学補償膜層）に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行い、その後に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った当該光学異方性層（光学補償膜層）に粘着剤層を形成する本発明の方法を適用すると、光学フィルムに対する粘着剤の接着力が向上し、粘着剤が光学フィルムから分離して液晶パネル側に糊残りなどのトラブルが発生するのを防止することができる。
かかる点から、本発明は、特許文献２に開示されているような光学フィルムを用いて、当該光学フィルムの表面［表面の光学異方性層（光学補償膜層）］に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後に、その上に粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する方法を本発明の範囲に包含する。
【００２４】
本発明では、上述のように、上記した光学補償フィルム単体、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する上記積層型の光学フィルムを、粘着剤を施す光学フィルムとして使用し（基材フィルムとして使用し）、光学補償フィルム単体の表面、或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着剤を施す前に、光学補償フィルム単体の表面、或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行うことが、重要である。
【００２５】
ここで、本発明における「粘着性ロール接触処理」とは、光学補償フィルム単体の表面、或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着性ロール（ロール表面に粘着層を有するロール）を接触させて、光学補償フィルム単体の表面或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に付着や存在している粘着剤の接着力の低下をもたらす原因物質（フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーやフルオロアルキル基を有する低分子成分などに基づくものなど）を、粘着性ロールの表面に移行（転着）させて取り除くことをいう。
また、本発明における「ラビング処理」（Ｒｕｂｂｉｎｇ処理）とは、光学補償フィルム単体の表面、或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面を、ラビング手段またはラビング装置（拭き取り手段または拭き取り装置）を使用して拭き取る処理を行うことをいう。
【００２６】
光学補償フィルム単体の一方の表面にのみ粘着剤層を形成する場合は、当該一方の表面にのみ粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行い、また光学補償フィルム単体の両方の表面に粘着剤層を形成する場合は、両方の表面に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行うとよい。
また、積層型の光学フィルムが一方の表面にのみ光学補償フィルム層または光学補償膜層を有している場合は、当該一方の表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面を粘着性ロール接触処理またはラビング処理する。また、積層型の光学フィルムの両方の表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有していて、両方の表面に粘着剤層を形成する場合は、両方の表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行うとよい。さらに、積層型の光学フィルムの両方の表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有するが、一方の表面にのみ粘着剤層を形成する場合は、粘着剤層を形成する一方の面にのみ粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行う。
光学補償フィルム単体の表面、或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面の粘着性ロール接触処理またはラビング処理は、光学補償機能の低下やその他の性能の低下が生じず、しかも粘着性ロール接触処理またはラビング処理によって、光学フィルムの表面への粘着剤の接着力が向上するようにして行う。
【００２７】
粘着性ロール接触処理に当っては、回転している粘着性ロールの表面に、光学補償フィルム単体の表面或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層を所定の圧力下で押圧接触させる方法が採用される。その際に、粘着性ロールを所定の位置に配置しておいて、そこに光学補償フィルム単体または積層体の光学フィルムを連続的に移送しながら接触処理してもよいし、或いは光学補償フィルム単体または積層型の光学フィルムの方を固定しておいて、当該光学フィルムの表面上に粘着性ロールを回転移動させながら接触処理してもよい。
粘着性ロールとしては、表面に粘着剤層を有し、粘着性ロールを光学補償フィルム単体の表面に或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムの表面に接触させた際に、粘着性ロール表面の粘着剤が光学フィルム側に移行せず、その一方で光学フィルム表面における粘着剤の接着力の低下をもたらしている原因物質を粘着性ロール表面にその粘着力によって移行（転着）させて除去することのできる粘着性ロールのいずれもが使用できる。粘着性ロールの表面における粘着剤層は、例えば、ゴム系、シリコン系、ウレタン系、アクリル系などの従来から知られている粘着剤から形成することができる。粘着性ロールにおける表面の粘着剤層は、汚れなどによって粘着力が低下したときに取り替え可能にしておくことが好ましい。
特に、粘着性ロールとして、粘着力が５０ｇ以上、更には８０〜５００ｇ、特に１００〜３００ｇである粘着性ロールを用いて粘着性ロール接触処理を行なうと、粘着性ロール接触処理後の光学補償フィルム単体の表面或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムの表面に粘着剤層が良好な接着力で形成することができる。
粘着力が５０ｇ以上である粘着性ロールは、従来から種々市販されている。
粘着性ロールの粘着力が５０ｇよりも低いと、本発明の効果を十分に奏することが困難になり、一方粘着性ロールの粘着力が高すぎると、粘着性ロールを用いて粘着性ロール接触処理を行う際の工程通過性が不良になったり、偏光板の変形に繋がる傾向がある。
ここで、本明細書における粘着性ロールの粘着力の値は、以下の実施例に記載する方法で測定した粘着力をいう。
【００２８】
また、ラビング処理に当っては、一般的には、光学補償フィルム単体の表面或いは積層型の光学フィルムの表面の光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に対して、ラビング手段またはラビング装置を所定の接触圧下で面方向に移動させながらラビング処理（拭き取り処理）するか、或いはラビング手段またはラビング装置を所定位置に固定配置し、光学補償フィルム単体或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムの方をラビング手段またはラビング装置と所定の接触圧下で接触させながら移動または移送しながらラビング処理する方法などが採用できる。
ラビング手段またはラビング装置としては、工場、研究室や実験室、家庭などにおいて、汚れやその他の拭き取りに用いられているラビング手段、ラビング装置を使用することができ、例えば、合成繊維製不織布（ポリプロピレン不織布、リヨセル不織布など）、ベルベットなどのラビングシートや布帛、紙（パルプ）などからなる各種のラビング用布帛や紙（ワイパー布やワイパー紙）自体、それらを取り付けたラビング装置（ワイパー装置）、ラビング用ロール（ワイパー用ロール）、刷毛、ゴム製のワイパーなどを使用することができる。
【００２９】
光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムのサイズ、形態などに応じて、粘着性ロール接触処理またはラビング処理は、バッチ式で行ってもよいしまたは連続的に行ってもよい。
粘着性ロール接触処理またはラビング処理をバッチ式で行う場合は、上記した粘着性ロール或いはラビング用素材（ワイパー用素材）自体、それを取り付けたラビング手段や装置（ワイパー手段や装置）などを用いて、個々の光学補償フィルム単体の表面或いは積層型の光学フィルムの表面の光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面を、人手や機械を用いて、粘着性ロールに接触させる処理や拭きとる処理を行うとよい。
また、光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムが長尺の連続フィルムである場合は、粘着性ロール接触処理方法として、光学補償フィルム単体または積層型の光学フィルムの巾と同じかまたはそれより大きな巾（ロール幅）を有する粘着性ロールを使用し、長尺の光学補償フィルム単体または積層型の光学フィルムを連続的に移送しながらその表面を粘着性ロールの回転表面と接触させて光学フィルムの表面の異物などを除去する方法などを採用することができ、またラビング処理方法として、ラビング手段（ラビング装置）を、例えば、光学補償フィルム単体または積層型の光学フィルムの巾と同じかまたはそれより大きな巾を有するロール状、ベルト状、または長尺のシート状にしておき、当該ラビング手段（ラビング装置）と、光学補償フィルム単体の表面或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面とを、光学フィルムの移送方向に沿って所定の距離だけ、所定の線圧または面圧で接触させて、光学補償フィルム単体の表面或いは積層型の光学フィルムの表面の光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面を拭き取る方法などを採用することができる。
【００３０】
粘着性ロール接触処理またはラビング処理は１回だけ行ってもよいし、光学補償機能の低下やその他の特性の低下が生じない限りは２回以上繰り返して行ってもよい。また、ラビング処理と粘着性ロール接触処理の両方を行ってもよい。
粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なう際の条件は、粘着性ロール接触手段（装置）またはラビング手段（装置）における粘着部分や拭き取り部分の材質、手段や装置の構造、光学補償フィルム単体或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムの種類や材質、当該光学フィルム上に後段で形成する粘着剤層の材質などに応じて、それぞれの状況に適した条件を採用するのがよい。
また、本発明において粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なうタイミングは特に限定されないが、本発明の方法により奏される効果が大きい点から、光学フィルムにけん化、加熱処理などの表面処理を行なう場合は、けん化や加熱処理などの表面処理工程の後に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なうことが好ましく、特に光学フィルム上に粘着剤層を形成する直前に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なうことがより好ましい。
【００３１】
また、光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層中に、フルオロアルキル基を有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーなどが含まれている場合には、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なうことによって、光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面或いは前記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面でのＸ線光電子分光法で測定したフッ素元素の割合が、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なう前に比べて低減していることが望ましく、その際のフッ素元素の低減率は５％以上であることが好ましく、７％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面におけるフッ素元素の低減率が前記値になるようにして粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なうと、光学補償フィルム或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層への粘着剤の接着力が向上し、糊残りの生じない粘着型光学フィルムを円滑に得ることができる。
ここで、「光学補償フィルム単体よりなる光学フィルムの表面或いは前記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面でのＸ線光電子分光法で測定したフッ素元素の割合」は、以下の実施例に記載する方法で測定したフッ素元素の割合（単位：Ａｔｏｍｉｃ％）をいう。
また、前記フッ素元素の低減率は、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なう前の光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面におけるフッ素元素の割合をＦ0（Ａｔｏｍｉｃ％）、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なった後の同フッ素元素の割合をＦ1（Ａｔｏｍｉｃ％）とし、下記の数式（１）から求められる。
フッ素元素の低減率（％）＝｛（Ｆ0−Ｆ1）／Ｆ0｝×１００          （１）
【００３２】
本発明では、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム単体の表面に、或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着剤を施して粘着剤層を形成する。
光学フィルムに施す粘着剤としては、粘着型光学フィルムにおいて用いられている粘着剤のいずれもが使用でき、例えば、アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ゴム系粘着剤（天然ゴム、ＳＢＲ、再生ゴム系の粘着剤など）、シリコーン系粘着剤などを挙げることができる。また、粘着剤の使用形態からは、シラップ型粘着剤、紫外線硬化型粘着剤、ホットメルト型粘着剤、溶剤塗工型粘着剤などに分類することができ、本発明で用いる粘着剤は前記したうちのいずれの形態であってもよい。
そのうちでも、本発明では、粘着剤として、ガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）を少なくとも１個およびガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）を少なくとも１個有するアクリル系ブロック共重合体を固形分比で６０質量％以上の割合で含有する粘着剤を用いることが好ましく、当該粘着剤は、高い凝集力を示し、リワーク性、粘着特性、光学特性（光ムラ、透明性など）、耐久性などに優れる。
【００３３】
その際に、粘着剤の主体をなす前記アクリル系トリブロック共重合体としては、ガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）を少なくとも１個およびガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）を少なくとも１個有するアクリル系ブロック共重合体であればいずれでもよく、例えば、メタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）とアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）が各１個結合したジブロック共重合体、メタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）の２個とアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）の１個が結合したトリブロック共重合体、メタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）の１個とアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）の２個が結合したトリブロック共重合体、２個以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）と２個以上のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）が結合したテトラブロック以上のポリブロック共重合体などを挙げることができる。
【００３４】
そのうちでも、本発明では、粘着剤として、アクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ｂ）の両端にメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック（Ａ）が各１個結合した、（Ａ）−（Ｂ）−（Ａ）のトリブロック共重合体を６０質量％以上の割合で含有する粘着剤がより好ましく用いられる。この粘着剤は、化学架橋処理が不要で、化学架橋処理を行わなくても高い凝集力を示し、リワーク性、粘着特性、耐熱性、耐久性などに優れ、粘着剤溶液の保存安定性に優れ、乾燥工程や保管中の条件（温度、風量、ラインスピード、保管期間など）によって架橋ムラが生じず、均一で高性能の粘着特性を有しており、この粘着剤を用いることにより、高品質の粘着型光学フィルムを良好な工程性で生産性よく製造することができる。
【００３５】
特に、本発明では、粘着剤として、本出願人の出願に係る特願２００８−５４６７９３号に記載されている、下記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｅ３）および（Ｅ４）を備えるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて６０質量％以上の割合で含有する非化学架橋型の光学フィルム用粘着剤を用いることが更に好ましい。
○アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）：
（Ｅ１）  下記の一般式（１）；
Ａ１−Ｂ−Ａ２            （１）
（式中、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立してガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック、およびＢはガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロックを示す。）
で表されるアクリル系トリブロック共重合体である；
（Ｅ２）  重合体ブロックＢの含有量が５０〜９５質量％である；
（Ｅ３）  重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００〜３００，０００である；および、
（Ｅ４）  分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜１．５である。
【００３６】
本発明で好ましく用いられる、上記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｅ３）および（Ｅ４）を備えるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を固形分比で６０質量％以上の割合で含有する光学フィルム用粘着剤は、化学架橋処理が不要で、化学架橋処理を行わなくても高い凝集力を示し、優れたリワーク性、粘着特性、耐熱性、耐久性などを有しており、そのため当該粘着剤を用いることによって、粘着性能にバラツキのない、均一で高性能の粘着型光学フィルムを、架橋工程を省略しながら、良好な工程性で生産性よく製造することができる。
【００３７】
ここで、本発明で好ましく用いられるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤および当該粘着剤の主体をなすアクリル系ブロック共重合体（Ｉ）について具体的に説明する。
［アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）およびそれを主体とする粘着剤］
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）では、重合体ブロックＡ１およびＡ２は、ガラス転移温度が１００℃以上、更には１００〜２００℃、特に１００〜１５０℃のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロックであることが、耐久性、耐熱性、基材変形への追従性、適度な応力緩和性の点から好ましい。
また、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）において、２個の重合体ブロックＡ１およびＡ２は、同じ重合体［分子量、単量体組成、立体構造（シンジオタクティシティなど）などが互いに同じである同じメタクリル酸アルキルエステル重合体］からなっていてもよいし、または異なる重合体［分子量、単量体組成、立体構造（およびシンジオタクティシティなど）などのうちの１つまたは２つ以上が互いに異なるメタクリル酸アルキルエステル重合体］からなっていてもよい。
【００３８】
重合体ブロックＡ１およびＡ２を構成するメタクリル酸アルキルエステル単位としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸イソボルニルなどのメタクリル酸アルキルエステルからなる単位を挙げることができ、重合体ブロックＡ１およびＡ２は、前記したメタクリル酸アルキルエステル単位の１種類のみから形成されていてもよいし、または２種類以上から形成されていてもよい。
そのうちでも、重合体ブロックＡ１およびＡ２は、ポリメタクリル酸メチルからなっていることが、原料であるメタクリル酸メチルが経済的な価格で容易に入手でき、しかもポリメタクリル酸メチルが優れた耐久性と耐候性を有する点から好ましい。
【００３９】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を構成する重合体ブロックＢは、アクリル酸アルキルエステルからなる、ガラス転移温度が−２０℃以下の重合体ブロックであれば重合体ブロックＢを構成するアクリル酸アルキルエステル単位の種類や成分組成は特に限定されない。
ガラス転移温度が−２０℃以下である重合体ブロックＢは、通常の使用温度においてミクロ相分離構造を形成するアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）に優れた柔軟性と濡れ性を付与し、本発明の光学フィルム用粘着剤（以下単に「本発明の粘着剤」または「粘着剤」ということがある）に、適度な接着力と良好なリワーク性を発現させる。
そのうちでも、重合体ブロックＢは、ガラス転移温度が−３０℃以下、特に−４０〜−８０℃のアクリル酸アルキルエステル重合体からなることが、低温条件下での耐久性に優れる点から好ましい。
【００４０】
重合体ブロックＢを構成するアクリル酸アルキルエステル単位としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸トリデシル、アクリル酸ステアリルなどのアクリル酸アルキルエステルからなる単位を挙げることができ、重合体ブロックＢは前記したアクリル酸アルキルエステル単位の１種類のみから形成されていてもよいし、または２種類以上から形成されていてもよい。
そのうちでも、重合体ブロックＢは、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチルからなる単位の１種または２種以上から構成されていることが、重合体ブロックＢのガラス転移温度が−２０℃以下となり、粘着剤の低温での接着力とタックが良好であって、しかも高速剥離時の接着力上昇およびジッピング現象を抑制できることから好ましい。
特に、重合体ブロックＢが、アクリル酸ｎ−ブチル単位および／またはアクリル酸２−エチルヘキシル単位から構成されていることが、アクリル酸ｎ−ブチルおよびアクリル酸２−エチルヘキシルが汎用薬品として安価に入手可能であり、しかも重合体ブロックＡと重合体ブロックＢの相分離が明瞭となって重合体ブロックＡの擬似架橋点が崩されず、粘着剤としての凝集力が高く且つ耐久性に優れるものとなる点から好ましい。
【００４１】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を構成する重合体ブロックＡ１およびＡ２並びに重合体ブロックＢは、効果を損なわない範囲で、少量（通常各重合体ブロックの質量に対して１０質量％以下の割合）であれば、他のモノマー単位を有していてもよい。重合体ブロックＡ１およびＡ２並びに重合体ブロックＢが有していてもよい他のモノマー単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸メトキシエチル（アクリル酸メトキシエチルまたはメタクリル酸メトキシエチルを意味する。以下、同様。）、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルなどの官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、（メタ）アクリルアミドなどのカルボキシル基を有するビニル系モノマ−；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマ−；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン系モノマー；エチレン、プロピレンなどのオレフィン系モノマー；ε−カプロラクトン、バレロラクトンなどのラクトン系モノマーなどからなる単位を挙げることができ、これらのモノマー単位の１種または２種以上を必要に応じて含むことができる。
【００４２】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）における重合体ブロックＢの割合は、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の質量に基づいて、５０〜９５質量％であり［上記の要件（Ｅ２）］、６０〜８５質量％であることが好ましく、６５〜８０質量％であることがより好ましい。
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）における重合体ブロックＢの含有割合が前記範囲内であることによって、粘着剤の接着力が安定したものとなる。
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）における重合体ブロックＢの含有割合が５０質量％未満であると、粘着剤の接着力が低下し、一方９５質量％を超えると擬似架橋点となる重合体ブロックＡ１およびＡ２の含有割合が相対的に低減するために凝集力が小さくなり、粘着剤の耐久性が低下する。
【００４３】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００〜３００，０００であり［上記の要件（Ｅ３）］、耐久性とリワーク性の両方の観点からは、６０，０００〜２５０，０００であることが好ましく、７０，０００〜２００，０００であることがより好ましい。
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００よりも小さいと、粘着剤の凝集力が不十分となり、粘着剤を用いて光学フィルムを被着体に貼着したり、保護フィルムを光学フィルムに貼着したときに、剥がれ易くなり、耐久性に劣るようになる。一方、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が３００，０００よりも大きいと、製品の保管中などに接着力が徐々に上昇し、皺、気泡、異物の噛み込みや位置ズレを解消するために光学フィルムや保護フィルムを剥がして再度貼り合せる際のリワークが困難になる。また、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が３００，０００よりも大きいと、溶液粘度が高くなって高濃度での塗工ができなくなり、溶剤使用量が多くなる。
【００４４】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜１．５であり［上記の要件（Ｅ４）］、粘着剤の高温での凝集力が高くなり、耐久性により優れるものとなる点から、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜１．４であることが好ましく、１．０〜１．３であることがより好ましい。
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５よりも大きいと、低分子量成分の影響が無視できなくなり、凝集力の低下やリワーク時の糊残りなどの不具合が生じ易くなる。
ここで、本明細書におけるアクリル系トリブロック共重合体、以下に記載するアクリル系ジブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、以下の実施例に記載した方法で求めた値である。
【００４５】
粘着剤の主体をなすアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）は、上記の要件（Ｅ１）〜（Ｅ４）を満たす１種類のアクリル系トリブロック共重合体からなっていてもよいし、或いは上記の要件（Ｅ１）〜（Ｅ４）を満たす２種類または３種類以上のアクリル系トリブロック共重合体からなっていてもよい。
特に、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）として、下記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｅ３’）および（Ｅ４）を備えるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）と、下記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｅ３’’）および（Ｅ４）を備えるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）を、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）：アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）＝４５：５５〜７５：２５の質量比、好ましくは５０：５０〜７０：３０の質量比、より好ましくは６０：４０〜７０：３０の質量比で配合したものを用いると、粘着剤の粘着物性（粘着力、クリープなど）、バルク物性（動的粘弾性など）などを、より簡単に且つ円滑に所望の物性に調整することができ、しかも粘着剤の耐久性、リワーク性が一層向上する。
【００４６】
○アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）：
（Ｅ１）  下記の一般式（１）；
Ａ１−Ｂ−Ａ２            （１）
（式中、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立してガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック、およびＢはガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロックを示す。）
で表されるアクリル系トリブロック共重合体である；
（Ｅ２）  重合体ブロックＢの含有量が５０〜９５質量％である；
（Ｅ３’）  重量平均分子量(Ｍｗ)が５０，０００以上１００，０００未満である；および、
（Ｅ４）  分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜１．５である。
【００４７】
○アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）：
（Ｅ１）  下記の一般式（１）；
Ａ１−Ｂ−Ａ２            （１）
（式中、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立してガラス転移温度が１００℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック、およびＢはガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体ブロックを示す。）
で表されるアクリル系トリブロック共重合体である；
（Ｅ２）  重合体ブロックＢの含有量が５０〜９５質量％である；
（Ｅ３’’)  重量平均分子量(Ｍｗ)が１００，０００以上３００，０００以下である；および、
（Ｅ４）  分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜１．５である。
【００４８】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）として、上記したアクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）およびアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）を配合したものを用いる場合は、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）として、上記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）および（Ｅ４）を備え且つ重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００〜９０，０００、更には５５，０００〜８５，０００、特に６０，０００〜７５，０００のものが好ましく用いられ、またアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）として、上記した上記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）および（Ｅ４）を備え且つ重量平均分子量（Ｍｗ）が１００，０００〜２００，０００、更には１０５，０００〜１９０，０００、特に１１０，０００〜１８０，０００のものが好ましく用いられる。それによって、粘着剤の耐久性、リワーク性、温度や湿度の影響による光学フィルムの膨張、収縮への追従性が一層良好になる。
【００４９】
また、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）として、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）とアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）を配合したものを用いるに当たって、重合体ブロックＢの含有量が５０〜７０質量％であるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）と、重合体ブロックＢの含有量が６５〜９５質量％であるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）を配合して用いると、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）の重合体ブロックＡ１およびＡ２の分子量と、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）の重合体ブロックＡ１およびＡ２の分子量が近くなり、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）とアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）の物理架橋を担う重合体ブロック同士の相容性が高まって、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）とアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）の物理架橋によるネットワーク構造が形成され、粘着剤の耐久性が一層向上する。
【００５０】
また、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）としてアクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）とアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）を配合して用いるに当たり、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）として、上記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）および（Ｅ４）を備え且つ重量平均分子量（Ｍｗ）が１００，０００以上１２０，０００未満であるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ−１）と、上記の要件（Ｅ１）、（Ｅ２）および（Ｅ４）を備え且つ重量平均分子量（Ｍｗ）が１２０，０００以上２００，０００以下であるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ−２）を、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ−１）：アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ−２）＝１０：９０〜９０：１０、好ましくは５０：５０〜９０：１０、より好ましくは６０：４０〜８０：２０の質量比で混合したものを用いると、粘着剤の粘着物性（粘着力、クリープなど）、バルク物性（動的粘弾性など）などを、より簡単に且つ円滑に所望の物性に調整できるようになり、しかも耐久性とリワーク性に優れ、高濃度での塗工が可能になり、溶剤使用量を削減することができる。
【００５１】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉａ）、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ）、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ−１）またはアクリル系トリブロック共重合体（Ｉｂ−２）では、これらのトリブロック共重合体を構成するメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロックのシンジオタクティシティが６５％以上であることが好ましく、７０〜９５％であることがより好ましい。該重合体ブロックのシンジオタクティシティが６５％以上であることにより、粘着剤の耐久性（粘着特性の持続性）が良好になる。
【００５２】
本発明で用いる粘着剤は、上記したアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて、６０質量％以上の割合で含有していることが好ましく、７５質量％の割合で含有することがより好ましく、８０質量％以上の割合で含有することが更に好ましい。
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の含有量が、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて、６０質量％未満であると、凝集力が低下し、粘着剤の耐久性（粘着力の持続性）が低下することがある。
【００５３】
本発明で用いる粘着剤は、上記したアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）と共に、必要に応じて、下記の要件（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｆ３）および（Ｆ４）を備えるアクリル系ジブロック共重合体（II）を含有することができる。
○アクリル系ジブロック共重合体（II）：
（Ｆ１）  下記の一般式（２）；
Ｃ−Ｄ              （２）
（式中、Ｃはメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック、およびＤはアクリル酸アルキルエステル重合体ブロックを示す。）
で表されるアクリル系ジブロック共重合体である；
（Ｆ２）  重合体ブロックＤの含有量が５０〜９５質量％である；
（Ｆ３）  重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００〜３００，０００である；および、
（Ｆ４）  分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜１．５である。
【００５４】
本発明で用いる粘着剤が、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）と共に、アクリル系ジブロック共重合体（II）を更に含有する場合は、アクリル系ジブロック共重合体（II）の含有量は、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて３〜２５質量％であることが好ましく、３〜２０質量％であることがより好ましい。
アクリル系ジブロック共重合体（II）を前記した量で含有していると、粘着剤の被着体に対する濡れ性が改良されて、接着力の経時変化が小さくなり、リワーク性に優れる光学フィルム用粘着剤を得ることができる。アクリル系ジブロック共重合体（II）の含有量が２５質量％を超えると、粘着剤の凝集力が低下して、耐久性（長期的な接着状態の維持）が悪くなることがある。
【００５５】
アクリル系ジブロック共重合体（II）において、重合体ブロックＣは、ガラス転移温度が５０℃以上のメタクリル酸アルキルエステル重合体からなる重合体ブロックであることが好ましく、また重合体ブロックＤは、ガラス転移温度が−２０℃以下のアクリル酸アルキルエステル重合体からなる重合体ブロックであることが好ましい。
さらに、アクリル系ジブロック共重合体（II）の重合体ブロックＣは、粘着剤中の主成分であるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重合体ブロックＡと相容していることが好ましく、またアクリル系ジブロック共重合体（II）の重合体ブロックＤは、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重合体ブロックＢと相容していることが好ましい。
これによって、アクリル系ジブロック共重合体（II）の重合体ブロックＣがアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）における重合体ブロックＡ１およびＡ２よりなる拘束相に拘束されて凝集力の低下を防止する。また、アクリル系ジブロック共重合体（II）の重合体ブロックＤは、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）の重合体ブロックＢからなる非拘束相中に存在し、被着体との界面での接着過程において濡れ性が向上して、貼り合せの初期の段階から安定した接着力を発現する。
【００５６】
アクリル系ジブロック共重合体（II）において、重合体ブロックＣを構成するメタクリル酸アルキルエステル単位としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸イソボルニルなどのメタクリル酸アルキルエステルからなる単位を挙げることができ、重合体ブロックＣは、前記したメタクリル酸アルキルエステル単位の１種類のみから形成されていてもよいし、または２種類以上から形成されていてもよい。そのうちでも、重合体ブロックＣは、ポリメタクリル酸メチルからなっていることが、原料であるメタクリル酸メチルが経済的な価格で容易に入手でき、しかもポリメタクリル酸メチルが優れた耐久性と耐候性を有する点から好ましい。
【００５７】
アクリル系ジブロック共重合体（II）において、重合体ブロックＤを構成するアクリル酸アルキルエステル単位としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸トリデシル、アクリル酸ステアリルなどのアクリル酸アルキルエステルからなる単位を挙げることができ、重合体ブロックＤは前記したアクリル酸アルキルエステル単位の１種類のみから形成されていてもよいし、または２種類以上から形成されていてもよい。
そのうちでも、重合体ブロックＤは、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチルからなる単位の１種または２種以上から構成されていることが好ましく、それによって重合体ブロックＤのガラス転移温度が−２０℃以下となって、粘着剤の低温での接着力とタックが良好になり、しかも高速剥離時の接着力上昇およびジッピング現象を抑制することができる。上記したモノマーのうちでも、アクリル酸ｎ−ブチルおよびアクリル酸２−エチルヘキシルは汎用薬品として安価に入手可能である。
【００５８】
アクリル系ジブロック共重合体（II）を構成する重合体ブロックＣおよび重合体ブロックＤは、効果を損なわない範囲で、少量（通常各重合体ブロックの質量に対して１０質量％以下の割合）であれば、他のモノマー単位を有していてもよい。重合体ブロックＣおよび重合体ブロックＤが有していてもよい他のモノマー単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルなどの官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、（メタ）アクリルアミドなどのカルボキシル基を有するビニル系モノマ−；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマ−；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン系モノマー；エチレン、プロピレンなどのオレフィン系モノマー；ε−カプロラクトン、バレロラクトンなどのラクトン系モノマーなどからなる単位を挙げることができ、これらのモノマー単位の１種または２種以上を必要に応じて有することができる。
【００５９】
アクリル系ジブロック共重合体（II）における重合体ブロックＤの含有割合は、アクリル系ジブロック共重合体（II）の質量に基づいて、５０〜９５質量％であり［上記の要件（Ｆ２）］、７０〜９５質量％であることが好ましい。
アクリル系ジブロック共重合体（II）における重合体ブロックＤの含有割合が前記範内であることによって、粘着剤の接着力が安定したものとなる。
アクリル系ジブロック共重合体（II）における重合体ブロックＤの含有割合が５０質量％未満であると、粘着剤の接着力が低下し、一方９５質量％を超えると擬似架橋点となる重合体ブロックＣの含有割合が相対的に低減するために凝集力が小さくなり、粘着剤の耐久性が劣る場合がある。
【００６０】
アクリル系ジブロック共重合体（II）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００〜３００，０００であり［上記の要件（Ｆ３）］、耐久性とリワーク性の両方の観点からは、６０，０００〜２５０，０００であることが好ましく、７０，０００〜２００，０００であることがより好ましい。
アクリル系ジブロック共重合体（II）の重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００よりも小さいと、粘着剤の凝集力が不十分となり、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）と共にアクリル系ジブロック共重合体（II）を含有する粘着剤を用いて光学フィルムを被着体に貼着したり、保護フィルムを光学フィルムに貼着したときに、剥がれ易くなり、耐久性に劣るようになる。一方、アクリル系ジブロック共重合体（II）の重量平均分子量（Ｍｗ）が３００，０００よりも大きいと、濡れ性が低下するため、製品の保管中などに接着力が徐々に上昇し、皺、気泡、異物の噛み込みや位置ズレを解消するために光学フィルムや保護フィルムを剥がして再度貼り合せる際のリワークが困難になる。
アクリル系ジブロック共重合体（II）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜１．５であり［上記の要件（Ｆ４）］、凝集力に優れ、被着体汚染性（糊残り、低分子量成分の付着など）が低い点から、１．０〜１．４であることが好ましく、１．０〜１．３であることがより好ましい。
【００６１】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）およびアクリル系ジブロック共重合体（II）は、公知の手法に準じた方法を採用することができる。一般に、分子量分布の狭いブロック共重合体を得る方法としては、構成単位であるモノマ−をリビング重合する方法が採用される。このようなリビング重合の手法としては、例えば、有機希土類金属錯体を重合開始剤として重合する方法（特許文献３を参照）、有機アルカリ金属化合物を重合開始剤としアルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩などの鉱酸塩の存在下でアニオン重合する方法（特許文献４を参照）、有機アルカリ金属化合物を重合開始剤とし有機アルミニウム化合物の存在下でアニオン重合する方法（特許文献５を参照）、原子移動ラジカル重合方法（ＡＴＲＰ）（非特許文献１を参照）などが挙げられる。
【００６２】
上記の製造方法のうち、有機アルミニウム化合物の存在下でアニオン重合する方法による場合は、重合途中の失活が少ないため失活成分であるホモポリマーの混入が少なく、その結果、得られる粘着剤の透明性が高い。また、モノマーの重合転化率が高いため、製品中の残存モノマーが少なく、光学フィルム用粘着剤として使用する際、貼り合わせ後の気泡の発生を抑制することができる。さらに、メタクリル酸アルキルエステル重合体ブロックの分子構造が高シンジオタクチックとなり、光学フィルム用粘着剤に用いた場合に耐久性を高める効果がある。そして、比較的緩和な温度条件下でリビング重合が可能であることから、工業的に生産する場合に、環境負荷（主に重合温度を制御するための冷凍機にかかる電力）が少なくて済む利点がある。以上の点から、本発明で用いるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）およびアクリル系ジブロック共重合体（II）は、有機アルミニウム化合物の存在下でアニオン重合する方法によって好ましく製造される。
【００６３】
上記した有機アルミニウム化合物の存在下でのアニオン重合方法としては、例えば、有機リチウム化合物、および下記の一般式（III）：
ＡｌＲ1Ｒ2Ｒ3          （III）
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基またはＮ，Ｎ−二置換アミノ基を表すか、或いはＲ1が前記したいずれかの基であり、Ｒ2およびＲ3が一緒になって置換基を有していてもよいアリーレンジオキシ基を形成している。）
で表される有機アルミニウム化合物の存在下に、必要に応じて、反応系内に、ジメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、１２−クラウン−４などのエーテル化合物；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、１，１，４，７，１０，１０−ヘキサメチルトリエチレンテトラミン、ピリジン、２，２’−ジピリジルなどの含窒素化合物をさらに添加して、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを重合させる方法などを採用することができる。
【００６４】
上記した有機リチウム化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、イソブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ｎ−ペンチルリチウム、ｎ−ヘキシルリチウム、テトラメチレンジリチウム、ペンタメチレンジリチウム、ヘキサメチレンジリチウムなどのアルキルリチウムおよびアルキルジリチウム；フェニルリチウム、ｍ−トリルリチウム、ｐ−トリルリチウム、キシリルリチウム、リチウムナフタレンなどのアリールリチウムおよびアリールジリチウム；ベンジルリチウム、ジフェニルメチルリチウム、トリチルリチウム、１，１−ジフェニル−３−メチルペンチルリチウム、α−メチルスチリルリチウム、ジイソプロペニルベンゼンとブチルリチウムの反応により生成するジリチウムなどのアラルキルリチウムおよびアラルキルジリチウム；リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミドなどのリチウムアミド；メトキシリチウム、エトキシリチウム、ｎ−プロポキシリチウム、イソプロポキシリチウム、ｎ−ブトキシリチウム、ｓｅｃ−ブトキシリチウム、ｔｅｒｔ−ブトキシリチウム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウム、フェノキシリチウム、４−メチルフェノキシリチウム、ベンジルオキシリチウム、４−メチルベンジルオキシリチウムなどのリチウムアルコキシドが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
また、上記の一般式（III）で表される有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリｓ−ブチルアルミニウム、トリｔ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリｎ−ヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、トリ２−エチルヘキシルアルミニウム、トリフェニルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、ジメチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ジメチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ジエチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ジエチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ジイソブチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ジイソブチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ジ−ｎ−オクチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ジ−ｎ−オクチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウムなどのジアルキルフェノキシアルミニウム、メチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、エチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、エチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、エチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、エチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、ｎ−オクチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ｎ−オクチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ｎ−オクチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウムなどのアルキルジフェノキシアルミニウム、メトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、メトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、メトキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、エトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、エトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、エトキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、イソプロポキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、イソプロポキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、イソプロポキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、ｔｅｒｔ−ブトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ｔｅｒｔ−ブトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ｔｅｒｔ−ブトキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウムなどのアルコキシジフェノキシアルミニウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、トリス（２，６−ジフェニルフェノキシ）アルミニウムなどのトリフェノキシアルミニウムなどを挙げることができる。これらの有機アルミニウム化合物の中でも、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウムなどが、取り扱いが容易で、しかも比較的穏和な温度条件下で失活することなく（メタ）アクリル酸エステルの重合を進行させることができる点で特に好ましい。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６６】
本発明で好ましく用いられるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤は、固形分（有機溶媒以外の成分）として、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）のみを含有し他の成分を含有しなくてもよいし、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）とアクリル系ジブロック共重合体（II）のみを含有していてもよいし、或いは必要に応じて、粘着付与樹脂、可塑剤、その他の添加剤のうちの１種または２種以上を更に含有していてもよい。アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）以外の成分を含有する場合は、他の成分の合計含有量は、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて４０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることが更に好ましい。
【００６７】
アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤中に粘着付与樹脂を配合すると、タック、接着力および保持力の調節が容易となる。粘着付与樹脂としては、粘着剤において従来から用いられている粘着付与樹脂のいずれもが使用でき、例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂などの天然樹脂；石油樹脂、クマロン−インデン系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン樹脂、スチレン系樹脂などの合成樹脂などを挙げることができ、これらのうちの１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記した粘着付与樹脂の中でも、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）との相容性が高く、安定した接着力を発現する点で、水素添加テルペン樹脂、テルペンフェノールなどのテルペン系樹脂；水添ロジンエステル、不均化ロジンエステル、重合ロジンなどのロジン系樹脂；Ｃ５／Ｃ９系石油樹脂、芳香族系石油樹脂などの石油樹脂；αメチルスチレン重合体、スチレン／αメチルスチレン共重合体などのスチレン系樹脂などの粘着付与樹脂が好ましく用いられる。これらは単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
粘着付与樹脂の軟化点は、高い接着力を発現するために、５０℃〜１５０℃であることが好ましい。
【００６８】
粘着剤における粘着付与樹脂の配合量は、被着体の種類などに応じて適宜選択することができるが、配合量が多くなると凝集力が低下し、リワーク時に糊残りが起こるなどの不都合を生じるため、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて、２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることがさらに好ましい。
【００６９】
粘着剤で必要に応じて用い得る可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレ−ト、ジｎ−オクチルフタレ−ト、ビス２−エチルヘキシルフタレ−ト、ジｎ−デシルフタレ−ト、ジイソデシルフタレ−トなどのフタル酸エステル類、ビス２−エチルヘキシルアジペ−ト、ジｎ−オクチルアジペ−トなどのアジピン酸エステル類、ビス２−エチルヘキシルセバケ−ト、ジｎ−ブチルセバケ−トなどのセバシン酸エステル類、ビス２−エチルヘキシルアゼレ−トなどのアゼライン酸エステル類などの脂肪酸エステル類；塩素化パラフィンなどのパラフィン類；ポリプロピレングリコ−ルなどのグリコ−ル類；エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油などのエポキシ系高分子可塑剤；トリオクチルホスフェ−ト、トリフェニルホスフェ−トなどのリン酸エステル類；トリフェニルホスファイトなどの亜リン酸エステル類；アジピン酸と１，３−ブチレングリコ−ルとのエステル化物などのエステルオリゴマ−類；ポリ（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルなどのアクリル系オリゴマー；ポリブテン；ポリイソブチレン；ポリイソプレン；プロセスオイル；ナフテン系オイルなどが挙げることができ、これらは単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
粘着剤における可塑剤の配合量は、粘着剤に含まれる全固形分の合計質量に基づいて、２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。可塑剤の配合量が多くなると凝集力が低下し、リワーク時に糊残りが起こるなどの不都合を生じ易くなる。
【００７０】
また、アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤は、必要に応じて、イソシアネート化合物を含有することができ、イソシアネート化合物を含有する場合は、イソシアネート化合物中のイソシアネート基含量が、粘着剤の固形物の質量に基づいて０．００１５質量％以上０．３５質量％未満になるような量であることが好ましい。アクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤中に、イソシアネート化合物を前記範囲の量で含有させることにより、光学補償フィルム単体或いは積層型の光学フィルムにおける光学補償フィルム層または光学補償膜層に対する接着力をより高めることができる。
【００７１】
近年、保護フィルムの剥離時やリワーク時に静電気が発生するのを防止する目的で帯電防止剤を添加することが重要視されている。かかる点から、本発明においても、粘着剤注に帯電防止剤を添加しておくことが好ましい。本発明で好ましく用いられる帯電防止剤としては、例えば、アルカリ金属塩からなるイオン伝導剤、イオン液体、界面活性剤、導電性ポリマー、金属酸化物、カーボンブラック、カーボンナノ材料などを挙げることができる。なかでも、永久帯電性、無着色の観点から、アルカリ金属塩からなるイオン伝導剤やイオン液体がより好ましく用いられる。前記した帯電防止剤は、単独で使用してもよいし、または２種以上を併用してもよい。
【００７２】
本発明で好ましく用いられるアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤は、上記した以外に更に他の成分を含有することができ、当該他の成分としては、例えば、耐候性、耐熱性、耐酸化性をさらに向上させるための酸化防止剤や紫外線吸収剤；炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルクなどの無機粉末充填剤；ガラス繊維、有機補強用繊維などの繊維状充填剤などを挙げることができる。また、高湿下でのガラスとの接着性を高めるためにシランカップリング剤を含有してもよい。さらに、粘着剤層に所望の機能を付与するための配合剤として、光拡散剤、近赤外線吸収剤、着色剤、導電性付与剤などを含有してもよい。
【００７３】
化学架橋を伴わない粘着剤では、光学フィルム基材への塗工後に化学架橋反応が生じないことにより、光学フィルム基材中にフルオロアルキル基含有ポリマーなどが含まれていると光学フィルム基材への接着力が不足することがあるが、本発明の方法による場合は、化学架橋を伴わない粘着剤を用いた場合にも、光学フィルム基材と粘着剤との接着力が十分に高くなって、糊残りのない粘着型光学フィルムを円滑に製造することができる。
【００７４】
光学補償フィルム単体或いは表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムに粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後に、当該粘着性ロール接触処理またはラビング処理を施した光学補償フィルム面または光学補償膜面に粘着剤を施して粘着剤層を形成するに当たっては、粘着剤層の形成方法は特に制限されない。例えば、（ｉ）粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム単体の表面或いは上記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、溶剤に溶解するかまたは加熱溶融して液状にした粘着剤を塗工して粘着剤層を形成して粘着型光学フィルムを製造する方法；（ii）予め離型処理したポリエチレンテレフタレ−トフィルムなどの離型フィルムに粘着剤を塗工し、それを、粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム単体の表面或いは上記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム面または光学補償膜面に転写して粘着型光学フィルムを製造する方法；（iii）粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った光学補償フィルム単体の表面或いは上記積層型の光学フィルムの光学補償フィルム層または光学補償膜層の表面に、粘着剤を溶融押し出しする方法などを採用することができる。
【００７５】
粘着剤としてアクリル系トリブロック共重合体（Ｉ）を主体とする粘着剤を用いる場合は、例えば、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどの有機溶媒に溶解した溶液を用いて塗工作業を行って粘着型光学フィルムを製造してもよいし、または当該粘着剤を１６０〜２５０℃の温度に加熱溶融し、その溶融物を用いて塗工作業を行って粘着型光学フィルムを製造してもよいし、当該粘着剤を光学フィルム上に溶融押し出ししてもよい。
【００７６】
本発明の方法で製造される粘着型光学フィルムにおける粘着剤層の厚さは特に制限されず、粘着剤層を形成する光学補償フィルム単体や積層型の光学フィルムの厚さ、得られる粘着型光学フィルムの用途などに応じて決めることができる。一般的には、粘着型光学フィルムにおける粘着層の厚さは、５〜５００μｍ、更には１０〜１００μｍ程度であることが、応力緩和性、粘着力、光学特性などの点から好ましい。
【００７７】
本発明の製造方法で得られる粘着型光学フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ、電子ペーパー、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、タッチパネル、再帰反射板などを作製する際に有効に使用することができる。
【００７８】
本発明の方法は、光学補償フィルム単体や表面に光学補償フィルム層または光学補償膜層を有する積層型の光学フィルムに限らず、あらゆる光学フィルムに応用可能である。応用可能な光学フィルムとしては、例えば、アンチグレアフィルム、反射防止フィルム、バックライト用反射フィルム、導光フィルム、偏光フィルム、透明導電フィルム、輝度向上フィルム、拡散フィルム、保護フィルム、プリズムフィルム、耐指紋性フィルム、電磁波シールドフィルム、ハードコートフィルム、封止フィルム、異方性フィルム、近赤外線カットフィルムなどを挙げることができる。
【実施例】
【００７９】
以下に本発明を実施例などにより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例および比較例に用いたアクリル系トリブロック共重合体は、常法により乾燥精製した薬品を用い、以下に示す合成例によって合成した。
また、合成したアクリル系トリブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）、組成（アクリル系トリブロック共重合体におけるポリアクリル酸ｎ−ブチルブロックの含有割合）、トリブロック共重合体におけるポリメタクリル酸メチルブロックのシンジオタクティシティ［立体規則性（ｒｒ）］、各重合体ブロックのガラス転移温度、仕込みモノマーの重合転化率、偏光板の表面におけるフッ素元素の割合、粘着性ロールの粘着力、粘着型光学フィルムにおける粘着剤層の接着力と糊残り性の測定または評価は、以下のようにして行った。
【００８０】
（１）アクリル系トリブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）：
アクリル系トリブロック共重合体をテトラヒドロフランに溶解した溶液を用いて、下記の装置および条件を使用して、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、アクリル系トリブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
・装置：東ソー社製ゲルパーミエーションクロマトグラフ「ＨＬＣ−８０２０」
・カラム：東ソー社製のＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ、Ｇ４０００ＨＸＬおよびＧ５０００ＨＸＬを直列に連結
・溶離剤：テトラヒドロフラン
・溶離剤流量：１．０ｍｌ／分
・カラム温度：４０℃
・検出方法：示差屈折率（ＲＩ）
・検量線：標準ポリスチレンを用いて作成
【００８１】
（２）アクリル系トリブロック共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：
アクリル系トリブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）の値を数平均分子量（Ｍｎ）の値で除して分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
【００８２】
（３）アクリル系トリブロック共重合体の組成：
アクリル系トリブロック共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子株式会社製核磁気共鳴装置（「ＪＮＭ−ＬＡ４００」）を使用し、溶媒として重クロロホルムを用いて、プロトン核磁気共鳴（1Ｈ−ＮＭＲ）分光法により、アクリル系トリブロック共重合体の組成（アクリル系トリブロック共重合体におけるポリメタクリル酸メチルブロックとポリアクリル酸ｎ−ブチルブロックの含有割合）を測定した。
その際に、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、３．６ｐｐｍおよび４．０ｐｐｍ付近のシグナルは、それぞれ、メタクリル酸メチル単位のエステル基（−Ｏ−ＣＨ3）、およびアクリル酸ｎ−ブチル単位のエステル基（−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ3）に帰属され、その積分値の比によって共重合成分の含有量を求めた。
【００８３】
（４）アクリル系トリブロック共重合体におけるポリメタクリル酸メチルブロックのシンジオタクティシティ［立体規則性（ｒｒ）］：
アクリル系トリブロック共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子株式会社製核磁気共鳴装置（「ＪＮＭ−ＬＡ４００」）を使用して、アクリル系トリブロック共重合体におけるメタクリル酸メチル重合体ブロック（重合体ブロックＡ１およびＡ２）のシンジオタクティシティ［立体規則性(ｒｒ)］を求めた。
その際に、13Ｃ−ＮＭＲスペクトルにおいて、４４．５ｐｐｍ、４４．８ｐｐｍおよび４５．５ｐｐｍ付近のシグナルは、ポリメタクリル酸メチルブロックの四級炭素に帰属され、それぞれ、立体規則性ｒｒ、ｍｒおよびｍｍに対応し、その積分値の比によって立体規則性ｒｒを求めた。なお、立体規則性は1Ｈ−ＮＭＲ法によっても求めることができる。
【００８４】
（５）各重合体ブロックのガラス転移温度（Ｔｇ）：
メトラー社製のＤＳＣ測定装置（ＤＳＣ−８２２）を使用して、昇温速度１０℃／分の条件でＤＳＣ測定して得られた曲線において、外挿開始温度（Ｔｇｉ）をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
【００８５】
（６）仕込みモノマーの重合転化率：
各重合体ブロックの形成反応を終了した段階の反応液の一部を採取して、以下の装置および条件を採用して、反応液中に残存しているモノマーの量を測定して、モノマーの重合添加率を求めた。
・装置：島津製作所製ガスクロマトグラフ「ＧＣ−１４Ａ」
・カラム：ＧＬ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃ．製「ＩＮＥＲＴ ＣＡＰ １」［内径０．２５ｍｍ×長さ６０ｍ、膜厚（ｄｆ）０．４μｍ］
・分析条件：ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ３００℃、ｄｅｔｅｃｔｅｒ３００℃、６０℃（０分保持）→５℃／分→１００℃（０分保持）→１５℃／分→３００℃（２分保持）
【００８６】
（７）光学補償膜を有する光学フィルムの表面におけるフッ素元素の割合：
表面元素比の導出については、偏光板表面を、走査型Ｘ線光電子分光測定装置（アルバック・ファイ株式会社製「Ｑｕａｎｔｅｒｓ  ＳＸＭ」）を用いたＸ線光電子分光法により測定した。
測定に当っては、Ｘ線励起条件として１００μｍ−２５Ｗ−１５ｋＶを採用し、対陰極にＡｌを用いた。試料へのＸ線の照射範囲は１００μｍ×１００μｍとし、光電子の検出角度は４５°を用いた。
偏光板表面の測定においては、Ｘ線による試料のダメージが懸念されるため、サーベイスペクトルは別途元素測定とは異なる試料表面位置で行ない、表面元素比の導出測定においては、サーベイスペクトル測定は行なわないこととした。測定はＦの１ｓ、Ｏの１ｓ、Ｎの１ｓ、Ｃの１ｓの順で行ない、全元素測定におけるトータルの試料へのＸ線の照射時間を３０分以内とした。
データ処理は、解析ソフト「Ｍｕｌｔｉｐａｃｋ  Ｖ８，２Ｃ」（アルバック・ファイ株式会社製）を用いた。結合エネルギー補正として、中性炭素Ｃ１ｓのメインピーク位置を２８５．０ｅＶに合わせた。バックグラウンドはＳｈｉｒｌｅｙ型を用い、Ｆ、Ｏ、Ｎ、Ｃ元素のＡｔｏｍｉｃ％を導出した。ここでは、Ｆ、Ｏ、Ｎ、Ｃ元素の合計のＡｔｏｍｉｃ％を１００％として元素比を導出した。
【００８７】
（８）粘着性ロールの粘着力：
外径５０ｍｍ×幅５０ｍｍの円筒状の粘着性ロールの表面に、幅５０ｍｍの市販されているセロファンを巻き付け（貼着し）、巻き付けたセロファンを１００ｍｍ／分の速度で巻き戻す（剥離する）のに要した力（ｇ）を測定して粘着力（ｇ）とした。
【００８８】
（９）光学補償膜を有する光学フィルムにおける粘着剤層の接着力：
（ｉ）  下記の実施例で調製した光学フィルム用粘着剤を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（厚さ５０μｍ）の上に塗工し、６０℃で３０分間乾燥し、粘着剤層／ＰＥＴフィルム層からなる粘着型光学フィルムを作製した。この粘着型光学フィルムを、幅×長さ＝２５ｍｍ×２００ｍｍのサイズに切断して試験片とした。
（ii）  上記（ｉ）で作製した試験片を、被着体である偏光板（偏光板表面の光学補償膜層の表面にラビング処理を行なった偏光板またはラビング処理を行なわない偏光板）の光学補償膜層の上に粘着剤層を介して重ね合わせて、２ｋｇのローラーを１０ｍｍ／秒の速度で粘着型光学フィルムの上を２往復させて貼着させ、温度２３℃、湿度５０％ＲＨで大気圧下に２４時間放置した後、引き続いてＪＩＳ  Ｚ０２３７に準拠して、３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°剥離接着力を測定した。
【００８９】
（１０）粘着型光学フィルムの糊残り性：
（ｉ）  下記の実施例で調製した光学フィルム用粘着剤を、離型ＰＥＴフィルム（厚さ３８μｍ）に塗工し、６０℃で３０分間乾燥して、光学フィルム用粘着剤／ＰＥＴフィルムよりなる積層体を製造した。
（ii）  上記（ｉ）で得られた積層体と偏光板（偏光板表面の光学補償膜層の表面に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なった偏光板或いは粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行なわない偏光板）を、ラミネーター（Ｃｈｅｍ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製「ＬＬ−１００」）を用いて７０ｐｓｉの圧力で１０ｍｍ／秒の速度でラミネートし、ＰＥＴフィルム／粘着剤／偏光板からなる粘着型光学フィルムを作製した。この粘着型光学フィルムを幅×長さ＝２５ｍｍ×２００ｍｍのサイズに切断して試験片とした。
（iii）  上記（ii）で作製した試験片の一方の表面の離型ＰＥＴフィルムを剥がして、被着体であるガラス板（液晶板の代替）に貼り、２ｋｇのローラーを１０ｍｍ／秒の速度で粘着型光学フィルムの上を２往復させて貼着させ、温度２３℃、湿度５０％ＲＨで大気圧下に２４時間放置した後、引き続いてＪＩＳ  Ｚ０２３７に準拠して、３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°剥離した。剥離後のガラス板面に粘着剤が残留しているか否かを目視により観察して、粘着剤が残留している場合を「糊残りあり」と評価し、一方粘着剤が残留しておらずきれいに剥がれている場合を「糊残りなし」と評価した。
【００９０】
《合成例１》［アクリル系トリブロック共重合体（α）の合成］
（１）  ２Ｌの三口フラスコに三方コックを付け内部を窒素で置換した後、室温にてトルエン８６８ｇ、１，２−ジメトキシエタン４３．４ｇ、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム４０．２ｍｍｏｌを含有するトルエン溶液６０．０ｇを加え、さらにｓｅｃ−ブチルリチウム６．３７ｍｍｏｌを含有するシクロヘキサンとｎ−ヘキサンの混合溶液３．６８ｇを加えた。続いて、これにメタクリル酸メチル４９．９ｇを加えた。反応液は当初、黄色に着色していたが、室温にて６０分間攪拌後には無色となった。このとき、メタクリル酸メチルの重合転化率は９９．９％以上であった。引き続き、重合液の内部温度を−３０℃に冷却し、アクリル酸ｎ−ブチル２１２ｇを２時間かけて滴下し、滴下終了後−３０℃にて５分間攪拌した。このとき、アクリル酸ｎ−ブチルの重合転化率は９９．９％以上であった。さらに、これにメタクリル酸メチル４９．９ｇを加え、一晩室温にて攪拌後、メタノ−ル３．５０ｇを添加して重合反応を停止した。このとき、メタクリル酸メチルの重合転化率は９９．９％以上であった。得られた反応液を１５ｋｇのメタノール中に注ぎ、白色沈澱物を析出させた。その後、濾過により白色沈殿物を回収し、乾燥させることにより、トリブロック共重合体［アクリル系トリブロック共重合体（α）］３１０ｇを得た。
【００９１】
（２）  上記した方法で測定した結果、前記（１）で得られたアクリル系トリブロック共重合体（α）は、ＰＭＭＡ−ＰｎＢＡ−ＰＭＭＡからなるトリブロック共重合体であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は６３，０００および数平均分子量（Ｍｎ）は５０，０００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．２６であった。
また、アクリル系トリブロック共重合体（α）における各ブロックの質量比は、ＰＭＭＡ（１６．０質量％）−ＰｎＢＡ（６８．０質量％）−ＰＭＭＡ（１６．０質量％）であって、ＰｎＢＡブロックの含有量は６８．０質量％であった。
さらに、アクリル系トリブロック共重合体（α）におけるＰＭＭＡブロックのガラス転移温度は１０１．８℃、およびＰｎＢＡブロックのガラス転移温度は−４４．６℃であった。
また、ＰＭＭＡブロックのシンジオタクティシティ［立体規則性（ｒｒ）］は７０．５％であった。
【００９２】
《合成例２および３》［アクリル系トリブロック共重合体（β）および（γ）の合成］
合成例１の（１）と同様の操作を行って、下記の表１に示す重量平均分子量（Ｍｗ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）、ＰｎＢＡブロック含有量、各重合体ブロックのガラス転移温度およびＰＭＭＡのシンジオタクティシティを有する、アクリル系トリブロック共重合体（β）および（γ）をそれぞれ合成した。
【００９３】
上記の合成例１〜３で得られたアクリル系トリブロック共重合体（α）〜（γ）の内容を以下の表１にまとめて記載する。
【００９４】
【表１】
2011028069.tif 000002
【００９５】
《実施例１》
（１）  偏光板Ａ［表面の光学補償膜層（光学異方性層）中にフルオロアルキル基を含有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含有する偏光板］を準備した。この偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、２１．４Ａｔｏｍｉｃ％であった。
（２）  上記（１）で準備した偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面に、粘着性ロール（尾高ゴム工業株式会社製「タッキーロールＨ」、粘着力＝２３０ｇ）を使用して、５００ｇの荷重で縦方向に１０回粘着性ロール接触処理を行なった。粘着性ロール接触処理の偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、１７．５Ａｔｏｍｉｃ％であり、上記の数式（１）から求めたフッ素元素の低減率は、１８．２％であった。
（３）  合成例１で得られたアクリル系トリブロック共重合体（α）、合成例２で得られたアクリル系トリブロック共重合体（β）および合成例３で得られたアクリル系トリブロック共重合体（γ）を、（α）：（β）：（γ）＝６５：２５：１０の質量比で用いて、固形分が４５質量％になるようにトルエンに溶解して光学フィルム用粘着剤（粘着剤溶液）を調製した。
【００９６】
（４）（ｉ）  上記（３）で調製した光学フィルム用粘着剤を、ＰＥＴフィルム（厚さ５０μｍ）の上に塗工し、６０℃で３０分間乾燥し、粘着剤層／ＰＥＴフィルム層からなる粘着型光学フィルムを作製し、この粘着型光学フィルムを幅×長さ＝２５ｍｍ×２００ｍｍのサイズに切断して試験片とした。
（ii）  上記（ｉ）で得られた試験片を、上記（２）で得られた粘着性ロール接触処理後の偏光板Ａにおける光学補償膜層の上に粘着剤層を介して重ね合わせて、２ｋｇのローラーを１０ｍｍ／秒の速度で粘着型光学フィルムの上を２往復させて貼着させ、温度２３℃、湿度５０％ＲＨで大気圧下に２４時間放置した後、粘着剤層の接着力を上記した方法で測定したところ、下記の表２に示すとおりであった。
【００９７】
（５）（ｉ）  上記（３）で調製した光学フィルム用粘着剤（粘着剤溶液）を、離型ＰＥＴフィルム（厚さ３８μｍ）に塗工し、６０℃で３０分間乾燥して、光学フィルム用粘着剤／ＰＥＴフィルムよりなる積層体を製造した。
（ii）  上記（ｉ）で得られた積層体と、上記（２）で得られた粘着性ロール接触処理後の偏光板を、ラミネーター（Ｃｈｅｍ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製「ＬＬ−１００」）を用いて７０ｐｓｉの圧力で１０ｍｍ／秒の速度でラミネートし、ＰＥＴフィルム／粘着剤／偏光板からなる粘着型光学フィルムを作製した。この粘着型光学フィルムを幅×長さ＝２５ｍｍ×２００ｍｍのサイズに切断して試験片とした。
（iii）  上記（ii）で作製した試験片の一方の表面の離型ＰＥＴフィルムを剥がして、被着体であるガラス板（液晶板の代替）に貼り、２ｋｇのローラーを１０ｍｍ／秒の速度で粘着型光学フィルムの上を２往復させて貼着させ、温度２３℃、湿度５０％ＲＨで大気圧下に２４時間放置した後、上記した方法で糊残り性を評価したところ、下記の表２に示すとおりであった。
【００９８】
《実施例２》
（１）  実施例１で使用したのと同じ偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面に、ラビング布（日本製紙クレシア社製「ＪＫワイパー１５０−Ｓ」）を使用して、５００ｇの荷重で縦方向に２０回ラビング処理（拭き取り処理）を行なった。ラビング処理後の偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、９．３Ａｔｏｍｉｃ％であり、上記の数式（１）から求めたフッ素元素の低減率は５６．５％であった。
（２）  偏光板として、上記（１）で得られたラビング処理後の偏光板Ａを使用し、それ以外は実施例１の（３）〜（５）と同様にして、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表２に示す。
【００９９】
《比較例１》
実施例１の（１）で準備したのと同じ偏光板Ａを、粘着性ロール接触処理およびラビング処理のいずれをも行なわずにそのまま使用した以外は、実施例１の（３）〜（５）と同様にして、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表２に示す。
【０１００】
《比較例２》
（１）  実施例１で使用したのと同じ偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面に、エアガン（ノズル内径＝３ｍｍ、ジョプラックス社製「ジョプラスターII」）を使用して、５ｋｇ／ｃｍ2の空気圧で縦方向に１０秒間圧縮空気を吹き付けて清浄化処理を行なった。当該清浄化処理後の偏光板Ａの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、２１．４Ａｔｏｍｉｃ％であり、フッ素元素の割合が全く低減していなかった［上記の数式（１）から求めたフッ素元素の低減率＝０％］。
（２）  偏光板として、上記（１）で得られた空気吹き付けによる清浄化処理後の偏光板Ａを使用し、それ以外は実施例１の（３）〜（５）と同様にして、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表２に示す。
【０１０１】
【表２】
2011028069.tif 000003
【０１０２】
上記の表２の結果にみるように、実施例１および実施例２では、光学フィルム（偏光板Ａ）の表面における光学補償膜層に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後に、当該光学補償膜層上に粘着剤を施して粘着型光学フィルムを製造したことにより、実施例１および実施例２で得られた粘着型光学フィルムは、光学フィルム（偏光板Ａ）に対する粘着剤層の接着力が強く、当該粘着型光学フィルムをガラス板に貼着した後に剥がしたときに、粘着剤がガラス板上に糊残りせず、ガラス板からきれいに剥がすことができた。
それに対して、比較例１では、光学フィルム（偏光板Ａ）の表面における光学補償膜層に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行わずに、そのまま当該光学補償膜層上に粘着剤を施して粘着型光学フィルムを製造したために、比較例１で得られた粘着型光学フィルムは、光学フィルム（偏光板Ａ）に対する粘着剤層の接着力が弱く、ガラス板に貼着した粘着型光学フィルムをガラス板から剥がす際に、粘着剤がガラス板上に糊残りした。
また、光学フィルム（偏光板Ａ）の表面における光学補償膜層に圧縮空気の吹き付け処理を行なった比較例２では、光学フィルム（偏光板Ａ）に対する粘着剤層の接着力が弱く、ガラス板に貼着した粘着型光学フィルムをガラス板から剥がす際に、粘着剤がガラス板上に糊残りした。
【０１０３】
《実施例３》
粘着性ロールとして、以下の表３に示す３種類の粘着性ロールのそれぞれを用いた以外は、実施例１の（１）〜（５）と同様にして、偏光板Ａの光学補償膜層への粘着性ロール接触処理、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表３に示す。
【０１０４】
【表３】
2011028069.tif 000004
【０１０５】
《実施例４》
（１）  偏光板Ｂ［表面の光学補償膜層（光学異方性層）中にフルオロアルキル基を含有するモノマーに由来する構造単位を有するポリマーを含有する偏光板を準備した。この偏光板Ｂの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、２２．１Ａｔｏｍｉｃ％であった。
（２）  上記（１）で準備した偏光板Ｂを使用して、実施例１の（２）と同様にして粘着性ロール接触処理を行なった。粘着性ロール接触処理の偏光板Ｂの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、１５．７Ａｔｏｍｉｃ％であり、上記の数式（１）から求めたフッ素元素の低減率は、２９．０％であった。
（３）  上記（２）で得られた粘着性ロール接触処理後の偏光板Ｂを使用した以外は、実施例１の（３）〜（５）と同様にして、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表４に示す。
【０１０６】
《実施例５》
（１）  実施例４で用いたのと同じ偏光板Ｂを使用して、実施例２の（１）と同様にしてラビング処理（拭き取り処理）を行なった。ラビング処理後の偏光板Ｂの光学補償膜層（光学異方性層）の表面におけるフッ素元素の割合を上記した方法で測定したところ、１．９Ａｔｏｍｉｃ％であり、上記の数式（１）から求めたフッ素元素の低減率は９１．４％であった。
（２）  上記（１）で得られたラビング処理後の偏光板Ｂを使用した以外は実施例１の（３）〜（５）と同様にして、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表４に示す。
【０１０７】
《比較例３》
実施例４の（１）で準備したのと同じ偏光板Ｂを、粘着性ロール接触処理およびラビング処理のいずれをも行なわずにそのまま使用した以外は、実施例１の（３）〜（５）と同様にして、粘着剤の調製、粘着剤層の接着力の測定用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と粘着力の測定、並びに糊残り性の評価用の粘着型光学フィルム（試験片）の作製と糊残り性の評価を行なった。
その結果を下記の表４に示す。
【０１０８】
【表４】
2011028069.tif 000005
【０１０９】
上記の表４の結果にみるように、実施例４および実施例５では、光学フィルム（偏光板Ｂ）の表面における光学補償膜層に粘着性ロール接触処理またはラビング処理を行った後に、当該光学補償膜層上に粘着剤を施して粘着型光学フィルムを製造したことにより、実施例４および実施例５で得られた粘着型光学フィルムは、光学フィルム（偏光板Ｂ）に対する粘着剤層の接着力が強く、当該粘着型光学フィルムをガラス板に貼着した後に剥がしたときに、粘着剤がガラス板上に糊残りせず、ガラス板からきれいに剥がすことができた。
それに対して、比較例３では、光学フィルム（偏光板Ｂ）の表面における光学補償膜層にラビング処理を行わずに、そのまま当該光学補償膜層上に粘着剤を施して粘着型光学フィルムを製造したために、比較例３で得られた粘着型光学フィルムは、光学フィルム（偏光板Ｂ）に対する粘着剤層の接着力が弱く、ガラス板に貼着した粘着型光学フィルムをガラス板から剥がす際に、粘着剤がガラス板上に糊残りした。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明による場合は、粘着剤が、光学補償フィルム上に或いは積層型の光学フィルムの表面における光学補償フィルム層または光学補償膜層の上に高接着力で接着積層し、光学補償フィルム或いは積層型の光学フィルムから粘着剤が分離しない粘着型光学フィルムを、プラズマ処理装置やコロナ放電処理装置などを使用せずに、簡単に且つ安全に、低コストで円滑に製造することができ、しかも本発明により得られる粘着型光学フィルムは、粘着剤層が光学フィルム側に強固に接着していて、液晶パネルなどに粘着型光学フィルムを貼着した後に、粘着型光学フィルムを剥がして作業をやり直したり、粘着型光学フィルムを剥がした後の高価な液晶パネルなどを再利用する際に、粘着剤が液晶パネルなどの上に糊残りしないので、本発明は、高品質の粘着型光学フィルムの製造方法として有効である。