(57)【要約】【課題】ライン状バンクを有するディスプレイ基板に、インクジェットで有機発光層を塗布形成する場合に、インクを複数回に分けて塗布しても、塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること。【解決手段】互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、ノズルからインクを滴下することで、バンクで規定された塗布領域内にインクを塗布する方法において、塗布領域にインクを複数回に分割して塗布する際、第１の塗布領域と、第１の塗布領域に隣接する第２の塗布領域との境界にインクが塗布されない不塗布領域を有するように一定間隔を空けてノズルからインクを塗布することで解決できる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布する方法において、
前記塗布領域にインクを複数回に分割して塗布する際、第１の塗布領域と、前記第１の塗布領域に隣接する第２の塗布領域との境界に前記インクが塗布されない不塗布領域を有するように一定間隔を空けて前記ノズルからインクを塗布すること
を特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２】
複数種類のインクを別々の塗布領域に塗布する際、前記不塗布領域の間隔が前記インクごとに異なった間隔をなしている、
請求項１記載の有機ＥＬディスプレイ製造方法。
【請求項３】
複数種類のインクを別々の塗布領域に塗布する際、前記不塗布領域の間隔を各インクの塗布後の各インクの流動距離が同じになるように、各塗布領域の塗布間隔の時間を制御し、インク毎に同じ間隔を空けてインクを塗布する、
請求項１記載の有機ＥＬディスプレイ製造方法。
【請求項４】
前記インクは有機発光材料を含有するインクである、
請求項１〜３の何れか一項に記載の有機ＥＬディスプレイ製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイの製造方法に関する。特に有機発光層を塗布法（例えば、インクジェット法）により形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイは、有機発光層の形成方法によって、以下の２つに大別されうる。
【０００３】
一つ目は、有機発光層を「蒸着」により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料からなる場合に用いられる。二つ目は、有機発光層をインクの「塗布」により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料の場合は勿論のこと、高分子有機材料からなる場合にも用いられることが多い。
【０００４】
例えば、有機発光層をインクの塗布により形成する方法（上記二つ目の形成方法）の代表的例としては、インクジェット装置を用いて、有機発光材料を含むインクの液滴を、ディスプレイ基板の画素領域に吐出して、有機発光層を形成する技術がある（特許文献１参照）。このとき、吐出される液滴には有機発光材料と溶媒とが含まれる。
【０００５】
インクジェット装置は、２以上のノズルを有するインクジェットヘッドを有し、インクジェットヘッドのノズルとディスプレイ基板との位置関係を制御しながら、ノズルからインクを吐出させる。このとき、インクジェットヘッドが有するノズルから吐出される液滴の大きさにはばらつきがあることが知られている（特許文献２参照）。特許文献２には、１つのピクセル領域に複数の液滴を着弾させ、かつ各液滴の着弾位置を調整することで、画素領域内における膜均一性を高めるための技術が開示されている。
【０００６】
一方、液滴を吐出されるディスプレイ基板の画素領域は、バンクと称される隔壁で規定されていることが多い。吐出されたインクが画素領域に位置選択的に留まるようにするためである。バンクは、画素領域毎に、それぞれを区画しても良いが、列状に配列された同一色（例えばＲ：レッド，Ｇ：グリーン、Ｂ：ブルー）の複数の画素領域を規定してもよい（特許文献３を参照）。列状に配列された複数の画素領域を規定するバンクを、ライン状バンクと称することがある。つまり、ライン状バンクが規定する領域（以下、「ライン領域」とも言う）毎に、Ｒ、ＧまたはＢの有機発光層が形成されている。
【０００７】
ところで、ディスプレイが大画面化されるに従い、インクジェットヘッドの塗布領域が基板の寸法より小さいくなり、複数回に分けて塗布することが必要となる。塗布方法として、塗布領域を繋ぎ合わせて行く方法が行われている。すなわち、インクジェットヘッドの走査方向に１回走査することで、矩形状の塗布領域を形成し、次に走査方向に対して垂直な方向にインクジェットヘッド移動して隣の領域を塗布し、順次移動させながら塗布して行く方法が開示されている（特許文献４参照）。
【０００８】
しかしながら、１回の走査で繋ぎ合わせて行く方法では、塗布後の次の隣の領域に塗布するまでの時間経過があり、膜の不均一が発生するため、塗布の境界領域でムラが発生する。このむらを回避する方法として、塗布領域の境界の少なくとも一部を非直線状にすることにより、塗布領域の境界を挟んで隣り合う膜間の膜厚差による表示むらを目立たせない方法が開示されている（特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００４−３６２８１８号公報
【特許文献２】特開２００３−２６６６６９号公報
【特許文献３】米国特許第７０９１６６０号明細書
【特許文献４】特開２００４−３２７２４１号公報
【特許文献５】国際公開第２００８／０９６５１３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特許文献５について、図８を用いて説明する。
【００１１】
図８は、溶液の塗布パターンを示す平面模式図である。１０１は第ｎ塗布領域、１０２は第ｎ＋１塗布領域、１０３が塗布領域の境界、１０１ａ、１０２ａ、１０３ａ、１０４ａが画素を示す。１回の走査で１つの塗布領域を形成しているので、第ｎ塗布領域はｎ番目の走査で形成される。実施例では、（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、第ｎ塗布領域の画素に溶液を塗布した後、第ｎ塗布領域に隣接する第ｎ＋１塗布領域の画素に溶液を塗布する。第ｎ塗布領域に属する機能膜配置領域は黒塗りで示され、第ｎ＋１塗布領域に属する機能膜配置領域は斜線で示されている。上記方法により、塗布することで膜厚の不均一による表示むらが改善されるとされる。
【００１２】
しかしながら、特許文献５に記載の方法は、画素領域の塗布に適用できるが、ライン状バンクに塗布を適用した場合、塗布後インクの流動性により塗布領域の境界付近では、膜厚の不均一が生じ、膜厚の不均一による表示むらが発生してしまう。すなわち、ライン状バンクにインクジェットで塗布する場合、ライン状バンクに対して、垂直な方向にインクジェットヘッドを走査するためである。図１０にライン状バンクとインクジェットヘッドの位置関係を示す。１０４は基板、１０５はライン状バンク、１０６はインクジェットヘッドである。インクジェットヘッド１０６の寸法が基板１０４より小さいため、複数回走査して塗布することになる。
【００１３】
このむら発生の要因は、すなわち膜厚の不均一は、インクの流動性にあることがわかった。以下、発生原因について記す。
【００１４】
１０７は、ライン状バンク１０５の抜き部である。抜き部とは、ライン状バンク１０５内のインクの塗布面のことである。すなわち、露光、現像工程で除去された部分である。ライン状バンク１０５の抜き部１０７、すなわちインクの塗布面の接触角は親水性を示し、５°以下である。そのため、インクが濡れ広がる。
【００１５】
ライン状バンク１０５の抜き部１０７を親水性にしているのは、インクが隣のバンクに入っているインクと混色を起こさないようにするためで、逆にライン状バンク１０５は、接触角が５０°で撥水性を示す。ここで接触角は、インクの主成分であるアニソールなどの溶媒とライン状バンク１０５の抜き部１０７やライン状バンク１０５との接触角である。このようにライン状バンク１０５の抜き部１０７が５°以下であるため、塗布後、同じライン状バンク１０５内の次の隣の領域を塗布するときには、すでにインクが隣の領域内に流動している。そのため、塗布領域の膜厚の不均一が発生し、膜厚の不均一による表示むらが発生してしまう。
【００１６】
本発明は、前述の従来技術を鑑みてなされたものであり、ライン状バンクを有するディスプレイ基板に、インクジェットで有機発光層を塗布形成する場合に、インクを複数回に分けて塗布しても、塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本願の請求項１に係る発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布する方法において、前記塗布領域にインクを複数回に分割して塗布する際、第１の塗布領域と、前記第１の塗布領域に隣接する第２の塗布領域との境界に前記インクが塗布されない不塗布領域を有するように一定間隔を空けて前記ノズルからインクを塗布することで課題を解決する。
【００１８】
また、上記本願の請求項１に係る発明において、複数種類のインクを別々の塗布領域に塗布する際、前記不塗布領域の間隔が前記インクごとに異なった間隔をなしていると好適である。
【００１９】
また、上記本願の請求項１に係る発明において、複数種類のインクを別々の塗布領域に塗布する際、前記不塗布領域の間隔を各インクの塗布後の各インクの流動距離が同じになるように、各塗布領域の塗布間隔の時間を制御し、インク毎に同じ間隔を空けてインクを塗布すると好適である。
【００２０】
更に、インクは有機発光材料を含有するインクであることが望ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、インクを複数回に分けて基板に塗布しても、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１乃至第２の実施の形態に係る基板の断面図を示す図
【図２】本発明の第１乃至第２の実施の形態に係る基板１を上面から見た図
【図３】本発明の第１乃至第２の実施の形態に係るインクジェットのヘッドと基板の位置関係を示す図
【図４】本発明の第１乃至第２の実施の形態に係るインクジェットヘッドのノズルを有する面を示す図
【図５】本発明の第１乃至第２の実施の形態に係る複数回塗布する場合の塗布領域を示す図
【図６】本発明の第１乃至第２の実施の形態に係る塗布しない領域の膜厚分布を示した概念図
【図７】本発明の二の実施の形態に係る各インクの流動した距離を表した図
【図８】従来の溶液の塗布パターンを示す平面模式図
【図９】ライン状バンクとインクジェトの位置関係を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法について、図１〜６を参照しながら説明する。
【００２４】
（実施の形態１）
図１は基板の断面図を示し、基板１はベース基板２とベース基板２上のバンク３からなる。バンク３はライン状のバンクであり、図１はバンク３の長手方向に対して、垂直方向の断面図を示す。バンク３下部のベース基板２には、反射陽極や正孔注入層（図示せず）が形成されている。また、ベース基板２表面は親水性である。バンク３は、順テーパ型であってもよく、逆テーパ型であってもよい。バンク３の材質は絶縁性であれば任意であるが、絶縁性樹脂（ポリイミドなど）であることが好ましい。バンクの表面を、フッ素系ガスプラズマなどでフッ素化処理することにより、撥水性は保たれている。
【００２５】
図２は、基板１を上面から見た図である。ベース基板２上のバンク３形状は、ライン状であり、互いに平行に配置された２以上のライン状バンク３を形成している。それぞれのライン状バンク３内に画素領域４を有し、各画素領域４は、Ｒ（レッド）用の画素領域４−１、Ｇ（グリーン）用の画素領域４−２、Ｂ（ブルー）用の画素領域４−３を有する。画素領域４には、ベース基板２内にＴＦＴ（図示せず）が形成されている。画素領域４は独立に区画されているのではなく、互いの画素領域４に液体が行き来できるように連結している。つまり、ライン状バンク３内に吐出されたインクは、ライン状バンク３内領域を自由に移動できる。ライン状バンク３内の幅は、約２０μｍ〜１００μｍ（例えば、約６０μｍ）であることが好ましい。
【００２６】
図３は、インクジェットのヘッド５と基板１の位置関係を示す図である。ヘッド５は、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれのインクを塗布するための、Ｒ吐出領域、Ｇ吐出領域、Ｇ吐出領域を有する。基板１には、それぞれＲ，Ｇ，Ｂの３個のライン状バンク３が繰り返して形成されている。
【００２７】
図４は、ヘッド５のインクを塗布するためのノズル６を有する側の面を示す図である。
【００２８】
図４におけるノズル６は、基板１側の方向に形成されており、ヘッド５の基板１への走査方向に対して斜めに複数個配置されている。斜めに配置しているのは、ライン状バンク３に塗布するときに、ノズル６から吐出されたインクが着弾地点で互いに連結するように着弾地点間距離を短くするためである。ノズル６間のピッチは、１０μｍ〜５０μｍ（例えば約２０μｍ）であることが好ましい。また、ノズル６から吐出する液適量は、好ましくは１ｐｌ〜１５ｐｌ（例えば５ｐｌ）であることが好ましい。また、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれのインクを塗布するため、Ｒ吐出部、Ｇ吐出部、Ｂ吐出部の３つに各ノズルが振り分けられている。
【００２９】
図５は、基板１へのインクジェットのヘッド５からの塗布が複数回塗布する場合の塗布領域を示す。７は、各塗布領域間の境界で、塗布しない領域を示す。ライン状バンク３は、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順で並んでいる。
【００３０】
図６（ａ）は第１領域塗布直後、図６（ｂ）は隣の第２領域塗布直後、図６（ｃ）は第２領域塗布直後一定時間経過後における、第１領域、第２領域および塗布領域間の塗布しない領域の膜厚分布を示した概念図である。
【００３１】
８は、１回目の塗布領域９と２回目の塗布領域１０の間の塗布しない領域である。１１は、第１塗布領域塗布直後のインクの膜厚分布である。１２は、第２領域塗布直後の第１塗布領域に塗布したインクの膜厚分布で、１３は、第１塗布領域塗布直後の第２塗布領域に塗布したインクの膜厚分布である。１４は、第２領域塗布後一定時間経過後の第１塗布領域に塗布したインクの膜厚分布で、１５は、第２領域塗布後一定時間経過後の第２塗布領域に塗布したインクの膜厚分布である。
【００３２】
なお、インクに含まれる有機発光材料は高分子系発光材料であることが好ましく、高分子系発光材料の例には、ポリフェニレンビニレン（Ｐｏｌｙ  ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ  ｖｉｎｙｌｅｎｅ（ＰＰＶ））およびその誘導体、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙ  ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリフェニレン（Ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Ｐｏｌｙ  ｐａｒａ  ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｅｔｈｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐｏｌｙ  ３−ｈｅｘｙｌ  ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ  （Ｐ３ＨＴ））およびその誘導体、ポリフルオレン（Ｐｏｌｙ  ｆｌｕｏｒｅｎｅ  （ＰＦ））およびその誘導体などが含まれる。なお、インクの粘度は、５〜２０ｍＰａ・ｓ（例えば、約１０ｍＰａ・ｓ）であることが好ましい。Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクの粘度はほぼ同じとした。
【００３３】
以下、具体的に本願に係るインク塗布方法を説明する。
【００３４】
図５から、塗布の手順を説明する。塗布方法として、２つの塗布方法がある。
【００３５】
１つの方法は、Ｒインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布してから、次に、Ｇインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布して、さらにＢインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布する方法である。
【００３６】
もう１つの方法は、各領域に連続して、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布する方法である。すなわち、Ｒインクを１回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを１回目塗布領域に塗布し、さらにＢインクを１回目塗布領域に塗布する。次に同じように、Ｒインクを２回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを２回目塗布領域に塗布し、さらにＢインクを２回目塗布領域に塗布する。最後にＲインクを３回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを３回目塗布領域に塗布し、さらにＢインクを３回目塗布領域に塗布する。この方法は、塗布領域ごとに連続してインクを順番に塗布する方法である。
【００３７】
何れの方法でも、塗布領域間は塗布しない領域を設ける。本実施形態では、約１００μｍ〜４００μｍの間隔（例えば約２００μｍ）を空けて塗布する。塗布間隔を２００μｍとした理由は、１回目塗布した後、２回目を塗布するときに、１回目塗布したインクがライン状バンク３内で約２００μｍ流動するという実験結果が得られたことによる。
【００３８】
Ｒ，Ｂ，Ｇの有機発光層の厚さは、約５０〜１００ｎｍ（例えば７０ｎｍ）とした。塗布しない領域を設けて塗布した場合、塗布領域間の間隔を空けないで塗布した場合に比べて膜厚の不均一による表示むらを低減することができた。これは、塗布しない領域を設けることにより、塗布しない領域は、全体の膜厚に比べて若干薄くなるが、均一に塗布されるためである。すなわち、１回目の塗布後は塗布しない領域は、若干薄くなるが、２回目の塗布後、重なり合うので時間がたてば均一な厚さになるためである。逆に、塗布しない領域を設けない場合は、１回目の第一塗布領域もインクの上に、さらに重ねて塗布することになり、膜厚が全体の膜厚に比べて局所的に厚くなるためである。
【００３９】
以上に説明したように、１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域の各領域間の塗布しない領域を２００μｍとすることにより、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイを得ることができる。
【００４０】
（実施の形態２）
以下、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【００４１】
図７は、基板１の１回目塗布領域にＲインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布した後、２回目塗布領域に塗布する直前に各インクの流動した距離を表した図で、それぞれのインクを個別に塗布した場合である。
【００４２】
１６は、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布した直後の位置で本来の塗布領域である。１７は、２回目の塗布直前のＧインクの流動した位置、１８は２回目の塗布直前のＲインクの流動した位置塗布、１９は２回目の塗布直前のＢインクの流動した位置を表す。すなわち、同じ時間各インクを流動させたときに、流動した距離は、Ｇインクが２３０μｍ、Ｒインクが２１０μｍ、Ｂインクが１８０μｍとなる。このことから、各インクに対して、時間で各インクの流動距離を制御することが可能であることがわかる。
【００４３】
その他の構成は、上記の第１の実施形態と同様、図１〜６を用いて説明する。
【００４４】
なお、基板１とインクジェットヘッド５との位置関係および走査方向は、第１の実施形態と同様である。
【００４５】
図７に示すように、インクの種類によって流動性が違うため、それぞれのインクの流動位置に合わせて各塗布領域間の塗布しない領域の距離を決定して塗布を行った。具体的には、各塗布領域間の塗布しない領域として、Ｇインクは好適には、１００μｍ〜４００μｍ（例えば２３０μｍ）、Ｒインクは好適には、１００μｍ〜４００μｍ（例えば２１０μｍ）、インクは、好適には、１００μｍ〜４００μｍ（例えば１８０μｍ）の距離を開けて塗布した。Ｒ，Ｇ，Ｂの有機発光層の厚さは、約５０〜１００ｎｍ（例えば７０ｎｍ）とした。各塗布領域間の塗布しない領域の距離として、Ｒインク＞Ｇインク＞Ｂインクとなるような値にする。
【００４６】
塗布の手順は、実施形態１と同様である。塗布方法として、２つの塗布方法がある。１つの方法は、Ｒインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布してから、次に、Ｇインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布して、さらにＢインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布する方法である。
【００４７】
もう１つの方法は、各領域に連続して、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布する方法である。すなわち、Ｒインクを１回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを１回目塗布領域に塗布し、更に、Ｂインクを１回目塗布領域に塗布する。次に同じように、Ｒインクを２回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを２回目塗布領域に塗布し、更にＢインクを２回目塗布領域に塗布する。最後にＲインクを３回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを３回目塗布領域に塗布し、更にＢインクを３回目塗布領域に塗布する。この方法は、塗布領域ごとに連続してインクを順番に塗布する方法である。
【００４８】
本実施形態では、Ｒインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布してから、次に、Ｇインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布して、更にＢインクを１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域を順番に塗布する方法で実施した。また、各インクの流動距離を、各インクに対して、時間で制御した。
【００４９】
膜厚の不均一による表示むらを調べた結果、塗布領域間の間隔を空けないで連続して塗布した場合に比べて、塗布しない領域の距離として、１００μｍ〜４００μｍの距離を空け、各インクの距離をＲインク＞Ｇインク＞Ｂインクになるように塗布することにより、膜厚の不均一による表示むらを低減することができた。
【００５０】
以上に説明したように、１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域の各塗布領域間の塗布しない領域の距離として、１００μｍ〜４００μｍの距離を空け、各インクの距離をＲインク＞Ｇインク＞Ｂインクになるように塗布することにより、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイを得ることができる。
【００５１】
＜実施例＞
以下、本発明の第１の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法について、図１〜７を参照しながら説明する。
【００５２】
図１は基板の断面図で、基板１はベース基板２とベース基板上のバンク３からなる。
【００５３】
バンク３は、ライン状バンクで、図１は、バンク３の長手方向に対して、垂直方向の断面図を示す。バンク３下部のベース基板２には、反射陽極や正孔注入層、更にはその下部にはＴＦＴ（図示せず）が形成されている。バンク３は、順テーパ型であってもよく、逆テーパ型であってもよく、バンク３の材質は絶縁性であれば任意であるが、絶縁性樹脂（ポリイミドなど）であることが好ましい。バンク３の表面を、フッ素系ガスプラズマなどでフッ素化処理することにより、撥水性は保たれている。
【００５４】
図２は、基板１を上面から見た図である。ベース基板２上のバンク３形状は、ライン状であり、互いに平行に配置された２以上のライン状バンク３を形成している。それぞれのライン状バンク３内に、Ｒ（レッド）用４−１、Ｇ（グリーン）用４−２、Ｂ（ブルー）用４−３の画素領域４を有する。画素領域４は独立に区画されているのではなく、互いの画素領域４に液体が行き来できるように連結している。つまり、ライン状バンク３内に吐出されたインクは、ライン状バンク３内領域を自由に移動できる。ライン状バンク３内の幅は、６０μｍである。
【００５５】
図３は、インクジェットのヘッド５と基板１の位置関係を示す図である。ヘッド５は、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれのインクを塗布するためのＲインク吐出領域、Ｇインク吐出領域、Ｂインク吐出領域を有する。基板１には、それぞれＲ，Ｇ，Ｂの３個のライン状バンク３が繰り返して形成されている。
【００５６】
また、ヘッド５面は、インクを塗布するためのノズル６を有する。図４は、ノズル６を有する面を示す図である。ノズル６は基板１側の方向にあり、ヘッド５の基板１への走査方向に対して、斜めに複数個配置されている。斜めに配置しているのは、ライン状バンク３に塗布するときに、ノズル６から吐出されたインクが着弾地点で互いに連結するようにするため、ノズル６間のピッチを約２０μｍとするためである。また、ノズル６から吐出する液適量は、５ｐｌである。
【００５７】
図５は、基板１へのインクジェットのヘッド５からの塗布が複数回塗布する場合の塗布領域を示す。７は各塗布領域間の境界で、塗布しない領域を示す。ライン状バンク３は、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順で並んでいる。
【００５８】
図６（ａ）は、第１領域塗布直後、図６（ｂ）は、隣の第２領域塗布直後、図６（ｃ）は、第２領域塗布直後一定時間経過後における、第１領域、第２領域および塗布領域間の塗布しない領域の膜厚分布を示した概念図である。
【００５９】
８は、１回目の塗布領域９と２回目の塗布領域１０の間の塗布しない領域である。１１は、第１塗布領域塗布直後のインクの膜厚分布である。１２は、第２領域塗布直後の第１塗布領域に塗布したインクの膜厚分布で、１３は、第１塗布領域塗布直後の第２塗布領域に塗布したインクの膜厚分布である。１４は、第２領域塗布後一定時間経過後の第１塗布領域に塗布したインクの膜厚分布で、１５は、第２領域塗布後一定時間経過後の第２塗布領域に塗布したインクの膜厚分布である。
【００６０】
図７は、基板１の１回目塗布領域にＲインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布した後、２回目塗布領域に塗布する直前に各インクの流動した距離を表した図で、それぞれのインクを個別に塗布した場合である。１６は、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布した直後の位置で本来の塗布領域である。１７は、２回目の塗布直前のＧインクの流動した位置、１８は２回目の塗布直前のＲインクの流動した位置、１９は２回目の塗布直前のＢインクの流動した位置を表す。各インクの１回目塗布後、２回目塗布時の時間を３０秒と同じにした場合、流動した距離を、Ｇインクが２３０μｍ、Ｒインクが２１０μｍ、Ｂインクが、１８０μｍと制御できる。
【００６１】
なお、有機発光材料は高分子系発光材料であるポリフルオレン（Ｐｏｌｙ  ｆｌｕｏｒｅｎｅ（ＰＦ）系が含まれるインクを使用した。インクの粘度は、約１０ｍＰａ・ｓを採用した。Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクの粘度はほぼ同じとした。
【００６２】
以下、具体的に説明する。
【００６３】
図７に示すように、インクの種類によって流動性が違うため、それぞれのインクの流動位置に合わせて各塗布領域間の塗布しない領域の距離を決めるために、時間で制御し、流動距離を決定して塗布を行った。
【００６４】
具体的には、各塗布領域間の塗布しない領域として、Ｇインクは２３０μｍ、Ｒインクは２１０μｍ、Ｂインクは１８０μｍの距離を開けて塗布した。Ｒ，Ｇ，Ｂの有機発光層の厚さは７０ｎｍとした。各塗布領域間の膜厚差は、塗布領域間の間隔をあけないで連続して塗布した場合、最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、それぞれのインクの塗布領域間の間隔を空けることにより、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以内となった。実際に膜厚の不均一による表示むらを低減することができた。膜厚は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定した。また、表示むらは実際に発光させて、目視で確認する方法とした。
【００６５】
以上に説明したように、１回目塗布領域、２回目塗布領域、３回目塗布領域の各塗布領域間の塗布しない領域として、Ｇインクは２３０μｍ、Ｒインクは２１０μｍ、Ｂインクは、１８０μｍの距離を開けて塗布することにより、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイを得ることができる。以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は前述の第１乃至第２の実施形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００６６】
例えば、第１の実施形態では、各塗布領域間の塗布しない領域の距離を２００μｍ、第２の実施形態では、各塗布領域間の塗布しない領域として、Ｇインクは２３０μｍ、Ｒインクは２１０μｍ、Ｂインクは１８０μｍの距離を開けて塗布したが、各塗布領域間の塗布しない領域の距離は、流動した距離以内であれば、同様の効果がある。すなわち、１回目塗布後から２回目塗布までの時間で流動距離が制御できることがわかる。このことから、時間を制御することにより、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクのそれぞれの流動距離を同じにして塗布することも可能である。
【００６７】
また、各塗布領域間の塗布しない領域の距離として、１回目の塗布後から２回目の塗布直前に各インクが流動した距離から求めているが、インクの溶媒の物性やバンク３の抜き部、すなわち下地の親水性の度合いによって、流動距離が変わるため、インクの種類、下地の親水性の度合いによって決まる値であり、特に限定されない。
【００６８】
また、インクジェットヘッド５に列状に配置されるノズル６間のピッチは、約２０μｍとしたが、これはノズル６から吐出されたインクが着弾地点で互いに連結するようにするためで、１０μｍ〜５０μｍであることが好ましく、特に限定する必要はない。
【００６９】
また、ノズル６から吐出される液滴の一滴当たりの量は、５ｐｌとしたが、１ｐｌ〜１５ｐｌであることが好ましく、特に限定されるものではない。インクの粘度をインクの粘度は１０ｍＰａ・ｓとしたが、約５〜２０ｍＰａ・ｓが好ましく、特に限定されるものではない。  
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、携帯電話、カーナビゲーションなどのほか、有機半導体等、構造の均一性を要求される電子デバイスにも適用できる。
【符号の説明】
【００７１】
１      基板
２      ベース基板
３      ライン状バンク
４      画素領域
５      ヘッド
６      ノズル
７、８  塗布しない領域
９      １回目の塗布領域
１０    ２回目の塗布領域
１１    第１塗布領域塗布直後のインクの膜厚分布
１２    第２領域塗布直後の第１塗布領域に塗布したインクの膜厚分布
１３    第１塗布領域塗布直後の第２塗布領域に塗布したインクの膜厚分布
１４    第２領域塗布後一定時間経過後の第１塗布領域に塗布したインクの膜厚分布
１５    第２領域塗布後一定時間経過後の第２塗布領域に塗布したインクの膜厚分布
１６    Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布した直後の位置
１７    ２回目の塗布直前のＧインクの流動した位置
１８    ２回目の塗布直前のＲインクの流動した位置
１９    ２回目の塗布直前のＢインクの流動した位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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