(57)【要約】【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】基板と、基板上に配されるディスプレイ部と、ディスプレイ部の上部に配される封止基板と、基板と封止基板とを接合させるシーラントと、基板、封止基板及びシーラントによって形成される空間の内側壁面全体に形成されるゲッターと、を備える有機発光ディスプレイ装置である。【選択図】図３
2011124219.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配されるディスプレイ部と、
前記ディスプレイ部の上部に配される封止基板と、
前記基板と前記封止基板とを接合させるシーラントと、
前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に形成されるゲッターと、を備える有機発光ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記ゲッターは、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｈ、Ｃｅからなる金属群のうちから選択されたいずれか一つ以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記ゲッターは、Ｂａ−Ａｌ、Ｚｒ−Ａｌ、Ａｇ−Ｔｉ、Ｚｒ−Ｎｉからなる金属合金群のうちから選択されたいずれか一つ以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記ディスプレイ部を覆うようにパッシベーション膜がさらに形成され、前記ゲッターは、前記パッシベーション膜上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記ゲッターは、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面に形成された所定の金属膜または金属合金膜であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項６】
ゲッター材料が前記封止基板の一面上に形成された後、前記ゲッター材料を局部的に加熱し、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に前記ゲッターが形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項７】
前記ゲッター材料は、不活性雰囲気で前記封止基板の一面上に形成されることを特徴とする請求項６に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記ゲッターは、水分及び酸素と反応可能な物質で形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記シーラントは、前記封止基板のエッジに沿って備えられることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１０】
基板の一面にディスプレイ部を形成する工程と、
封止基板の一面にシーラント及びゲッター物質を形成する工程と、
前記シーラントを媒介して前記基板と前記封止基板とを接合する工程と、
前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体にゲッターを形成する工程と、を含む有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１１】
前記基板の一面にディスプレイ部を形成する工程以後に、
前記ディスプレイ部上に前記ディスプレイ部を覆うようにパッシベーション膜を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１２】
前記ゲッターを形成する工程は、
前記封止基板の一面に形成されたゲッター物質を局部的に加熱し、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に前記ゲッターを形成することを特徴とする請求項１０に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法に係り、さらに詳細には、酸素または水分のような外部の不純物の浸透が防止された有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近来に、ディスプレイ装置は、携帯が可能な薄型の平板表示装置に代替されている。平板ディスプレイ装置のうちでも、電界発光ディスプレイ装置は、自発光型ディスプレイ装置であって、視野角が広く、コントラストが優秀であるだけでなく、応答速度が速いという長所を有して、次世代ディスプレイ装置として注目されている。また、発光層の形成物質が有機物で構成される有機発光ディスプレイ装置は、無機発光ディスプレイ装置に比べて、輝度、駆動電圧及び応答速度特性が優秀であり、かつ多色化が可能であるという点を有する。
【０００３】
図１は、従来の有機発光ディスプレイ装置を概略的に示す断面図である。図１を参照すれば、基板１０上にディスプレイ部２０が備えられ、このディスプレイ部２０の上部に封止基板３０が備えられる。そして、基板１０と封止基板３０とは、シーラント４１で合着される。
【０００４】
平板ディスプレイ装置に備えられる平板表示素子、特に、有機発光素子は、電極として使われるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からの酸素による発光層の劣化、発光層と界面との反応による劣化など、内的要因による劣化があると同時に、外部の水分、酸素、紫外線及び素子の製作条件など、外的要因によって容易に劣化するという短所を有する。特に、外部の酸素及び水分は、素子の寿命に致命的な影響を与えるので、有機発光素子のパッケージングが非常に重要である。
【０００５】
しかし、図１に示したような従来の有機発光ディスプレイ装置の場合、基板１０と封止基板３０とを合着させるシーラント４１を通じて、特に、シーラント４１と封止基板３０との間の界面を通じて、外部の酸素または水分のような不純物が内部に浸透してディスプレイ部２０を損傷させる恐れがあるという問題点が存在した。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、酸素または水分のような外部の不純物の浸透が防止された有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を達成するために、本発明は、基板と、前記基板上に配されるディスプレイ部と、前記ディスプレイ部の上部に配される封止基板と、前記基板と前記封止基板とを接合させるシーラントと、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に形成されるゲッターと、を備える有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【０００８】
本発明において、前記ゲッターは、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｈ、Ｃｅからなる金属群のうちから選択されたいずれか一つ以上を含みうる。
【０００９】
本発明において、前記ゲッターは、Ｂａ−Ａｌ、Ｚｒ−Ａｌ、Ａｇ−Ｔｉ、Ｚｒ−Ｎｉからなる金属合金群のうちから選択されたいずれか一つ以上を含みうる。
【００１０】
本発明において、前記ディスプレイ部を覆うようにパッシベーション膜がさらに形成され、前記ゲッターは、前記パッシベーション膜上に形成されうる。
【００１１】
本発明において、前記ゲッターは、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面に形成された所定の金属膜または金属合金膜でありうる。
【００１２】
本発明において、ゲッター材料が前記封止基板の一面上に形成された後、前記ゲッター材料を局部的に加熱し、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に前記ゲッターが形成されうる。
【００１３】
ここで、前記ゲッター材料は、不活性雰囲気で前記封止基板の一面上に形成されうる。
【００１４】
本発明において、前記ゲッターは、水分及び酸素と反応可能な物質で形成されうる。
【００１５】
本発明において、前記シーラントは、前記封止基板のエッジに沿って備えられうる。
【００１６】
他の側面による本発明は、基板の一面にディスプレイ部を形成する工程と、封止基板の一面にシーラント及びゲッター物質を形成する工程と、前記シーラントを媒介として前記基板と前記封止基板とを接合する工程と、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体にゲッターを形成する工程と、を含む有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【００１７】
本発明において、前記基板の一面にディスプレイ部を形成する工程以後、前記ディスプレイ部上に前記ディスプレイ部を覆うようにパッシベーション膜を形成する工程をさらに含みうる。
【００１８】
本発明において、前記ゲッターを形成する工程は、前記封止基板の一面に形成されたゲッター物質を局部的に加熱し、前記基板、前記封止基板及び前記シーラントによって形成される空間の内側壁面全体に前記ゲッターを形成できる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法によれば、酸素または水分のような外部の不純物の浸透が防止されうる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】従来の有機発光ディスプレイ装置を概略的に示す断面図である。
【図２】本発明の望ましい一実施形態による有機発光ディスプレイ装置の一部を概略的に示す平面図である。
【図３】図２の有機発光ディスプレイ装置を概略的に示す断面図である。
【図４】図２の有機発光ディスプレイ装置の一部を概略的に示す断面図である。
【図５Ａ】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法を順次に示す概略的な断面図である。
【図５Ｂ】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法を順次に示す概略的な断面図である。
【図５Ｃ】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法を順次に示す概略的な断面図である。
【図５Ｄ】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法を順次に示す概略的な断面図である。
【図５Ｅ】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法を順次に示す概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００２２】
図２は、本発明の望ましい一実施形態による有機発光ディスプレイ装置の一部を概略的に示す平面図であり、図３は、図２の有機発光ディスプレイ装置を概略的に示す断面図である。参照までに、図２では、図３に示された封止基板３００が除去された構造を示している。
【００２３】
前記図面を参照すれば、基板１００上に有機発光素子を備えたディスプレイ部２００が備えられている。
【００２４】
基板１００は、ＳｉＯ２を主成分とする透明なガラス材質で形成されうる。基板１００は、必ずしもこれに限定されず、透明なプラスチック材で形成することもある。基板１００を形成するプラスチック材は、絶縁性有機物であるが、ポリエーテルスルホン(ＰＥＳ)、ポリアクリレート(ＰＡＲ)、ポリエーテルイミド(ＰＥＩ)、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＮ)、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥＴ)、ポリフェニレンスルフィド(ＰＰＳ）、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート(ＰＣ)、セルローストリアセテート(ＴＡＣ)、セルロースアセテートプロピオネート(ＣＡＰ)からなるグループから選択される有機物でありうる。
【００２５】
画像が基板１００方向に具現される背面発光型である場合に、基板１００は、透明な材質で形成せねばならない。しかし、画像が基板１００の反対方向に具現される前面発光型である場合に、基板１００は、必ずしも透明な材質で形成する必要はない。この場合、金属で基板１００を形成できる。金属で基板１００を形成する場合、基板１００は、炭素、鉄、クロム、マンガン、ニッケル、チタン、モリブデン、ステンレススチール(ＳＵＳ）、インバー合金、インコネル合金及びコバール合金からなる群から選択された一つ以上を含みうるが、これに限定されるものではない。基板１００は、金属ホイルで形成できる。
【００２６】
図示していないが、基板１００の上面には、基板１００の平滑性及び不純元素の浸透を遮断するために、バッファ層(図示せず）がさらに備えられることもある。
【００２７】
このように、ディスプレイ部２００が備えられた基板１００は、ディスプレイ部２００の上部に配される封止基板３００と合着される。この封止基板３００もやはり、ガラス材基板だけでなく、アクリルのような多様なプラスチック材基板を使用することもあり、さらに金属板を使用することもある。
【００２８】
基板１００と封止基板３００とは、シーラント４１０によって合着される。このシーラント４１０は、シーリングガラスフリットのように、通常的に使われるものを使用できる。または、シーラント４１０としては、有機シーラント、無機シーラント、有機/無機複合シーラントまたはその混合物を使用することもある。
【００２９】
有機シーラントとしては、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリイソプレン、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂及びセルロース系樹脂からなる群から選択された一つ以上を使用できる。この時、アクリル系樹脂としては、例えば、ブチルアクリレート、エチルヘキシルアクリレートを利用でき、メタクリル系樹脂としては、例えば、プロピレングリコールメタクリルレート、テトラヒドロピランフリメタクリレートを利用でき、ビニル系樹脂としては、例えば、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドンを利用でき、エポキシ系樹脂としては、例えば、シクロアリファチックエポキシドを、ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレートを、そして、セルロース系樹脂としては、例えば、セルロースナイトレートを利用できる。
【００３０】
無機シーラントとしては、シリコン、アルミニウム、チタン、ジルコニウムのような金属または非金属材料として金属酸化物を利用できるが、例えば、チタニア、シリコン酸化物、ジルコニア、アルミナ及びこれらのフリサッカーからなる群から選択された一つ以上を使用できる。
【００３１】
有機/無機複合シーラントは、シリコン、アルミニウム、チタン、ジルコニウムのような金属または非金属材料と有機物質とが共有結合されている物質である。例えば、エポキシシランまたはその誘導体、ビニルシランまたはその誘導体、アミンシランまたはその誘導体、メタクリルレートシランまたはこれらの部分硬化反応結果物からなる群から選択された一つ以上を使用できる。エポキシシランまたはその誘導体の具体的な例として、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランまたはその重合体が挙げられる。ビニルシランまたはその誘導体の具体的な例としては、ビニルトリエトキシシランまたはその重合体が挙げられる。また、アミンシランまたはその誘導体の具体的な例としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン及びその重合体が挙げられ、メタクリレートシランまたはその誘導体の具体的な例としては、３−トリ(メトキシシリル)プロピルアクリレート及びその重合体が挙げられる。
【００３２】
ディスプレイ部２００の上部には、パッシベーション膜４２０が形成される。前記パッシベーション膜４２０は、アクリル、ポリイミド、ＢＣＢ(Ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ)のような有機物質で形成されることもあり、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘのような無機物質で形成されることもある。
【００３３】
基板１００上に形成されたディスプレイ部２００ないしはその上部に形成されたパッシベーション膜４２０と、封止基板３００と、シーラント４１０とによって密封された有機発光ディスプレイ装置１０の内壁には、ゲッター４３０が形成される。
【００３４】
前述したように、シーラント４１０としては、有機シーラントまたは無機シーラントが使われうる。しかし、シーラント４１０として無機シーラントを使用する場合、無機物は、透湿がほとんどならないため、有機発光素子の寿命特性は確保できるが、無機物は、破れやすいため、衝撃や反れなどの外部の力によって無機物シーラントが破られるか、またはクラックが発生して、水分が有機発光素子に浸透する問題点が存在した。一方、シーラント４１０として有機シーラントが使われる場合、このような機械的な信頼性は向上させうるが、有機物は、水分透湿度が高いため、有機発光素子の寿命に悪影響を与える。
【００３５】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態による有機発光ディスプレイ装置１０は、パッシベーション膜４２０と、封止基板３００及びシーラント４１０とによって密封された有機発光ディスプレイ装置１０の内壁にゲッター４３０が形成され、パネルの内部に水分及び酸素が浸透することを防止するか、または浸透した水分及び酸素を吸着して除去することを一特徴とする。
【００３６】
詳細には、ゲッターとは、真空装置内に残っているガスを吸収するか、またはそのガスとの化合物を作る物質を称す。物質の状態と化学作用の活発な程度とによって、その種類が、接触ゲッターと分散ゲッターとに分けられる。所望の真空度を得るためには、真空ポンプのみでは技術的にも困難であり、コストも高くなるので、ゲッターを使用する。固体状態であり、かつ吸着作用が強いものを接触ゲッターといい、ガス状態であり、かつ強い和合作用を表すものを分散ゲッターという。
【００３７】
本発明では、ゲッター４３０を形成するための材料として、水分及び酸素との反応性が強く、融点が低く、容易に蒸発できる金属を使用し、このような金属の吸着作用によってパネルの内部に浸透した水分やガスを除去する。このような材料としては、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｈ、Ｃｅのような金属や、Ｂａ−Ａｌ、Ｚｒ−Ａｌ、Ａｇ−Ｔｉ、Ｚｒ−Ｎｉのような金属合金材料が使われうる。
【００３８】
例えば、ＢａＡｌ４にＮｉを混ぜた後、ＲＦ誘導加熱を通じて短時間で局部的にこれを加熱すれば、下記のように反応する。
ＢａＡｌ４＋４Ｎｉ→Ｂａ＋４ＮｉＡｌ
【００３９】
この時、Ｂａは、拡散して周辺に広がるので、密閉された空間ならば、壁面に吸着する。このように形成されたバリウムは、水分を吸着して水酸化バリウムを形成し、酸素と反応して酸化バリウムを形成し、ＣＯ２と反応して炭酸バリウムを形成する。水酸化バリウムは透明であり、酸化バリウムや炭酸バリウムは白色を帯びるが、前記のような反応は、非可逆的である。
【００４０】
さらに他の例としては、Ｚｒが挙げられるが、これは、下記のように反応する。
Ｚｒ＋Ｏ２→ＺｒＯ２
【００４１】
このようなゲッター材料は、Ｈ２、Ｏ２、Ｎ２、ＣＯ、ＣＯ２、Ｈ２Ｏを吸着でき、その反応性も優れるため、有機発光ディスプレイ装置１０の内部にコーティングされれば、外部から流入される水分を除去できて、パネルの寿命特性を向上させうる。
【００４２】
このようなゲッター４３０がパッシベーション膜４２０と、封止基板３００及びシーラント４１０とによって密封された有機発光ディスプレイ装置１０の内壁全体にコーティングされることによって、パネルの内部に水分及び酸素が浸透することを防止するか、または浸透した水分及び酸素を吸着して除去できる。
【００４３】
このようなゲッター材料は、大気中で水分や酸素と出会えば、機能を喪失する恐れがあるため、不活性雰囲気で有機発光ディスプレイ装置１０の内部にゲッター材料を挿し込み、シーラント４１０を使用してシーリングする。そして、外部でゲッター材料がある部分のみを局部的に誘導加熱して活性化させれば、有機発光ディスプレイ装置１０の内部壁面全体がコーティングされる。
【００４４】
また、このように形成されたゲッター４３０は、ミラーのような反射機能を行える程度に膜が緻密に形成されるので、微量の水分がシーラント４１０を通過するとしても、緻密に形成された前記ゲッター４３０によって、有機発光ディスプレイ装置１０の内部まで浸透する水分量は顕著に減少し、たとえ有機発光ディスプレイ装置１０の内部に浸透するとしても、その内部空間にコーティングされたゲッター４３０によって吸着されるため、有機発光素子の寿命特性を確保できる。
【００４５】
図４は、図２の有機発光ディスプレイ装置の一部を概略的に示す断面図であって、ディスプレイ部２００の具体的な構成を例示的に示している。
【００４６】
図４を参照すれば、基板１００上に複数の薄膜トランジスタ２２０が備えられており、この薄膜トランジスタ２２０の上部には、有機発光素子２３０が備えられている。有機発光素子２３０は、薄膜トランジスタ２２０に電気的に連結された画素電極２３１と、基板１００の全面にわたって配された対向電極２３５と、画素電極２３１と対向電極２３５との間に配され、少なくとも発光層を備える中間層２３３と、を備える。
【００４７】
基板１００上には、ゲート電極２２１、ソース電極及びドレイン電極２２３、半導体層２２７、ゲート絶縁膜２１３及び層間絶縁膜２１５を備えた薄膜トランジスタ２２０が備えられている。もちろん、薄膜トランジスタ２２０も、図４に示された形態に限定されず、半導体層２２７が有機物で備えられた有機薄膜トランジスタ、シリコンで備えられたシリコン薄膜トランジスタなど、多様な薄膜トランジスタが利用されうる。この薄膜トランジスタ２２０と基板１００との間には、必要に応じて、酸化シリコンまたは窒化シリコンで形成されたバッファ層２１１がさらに備えられることもある。
【００４８】
有機発光素子２３０は、相互対向した画素電極２３１及び対向電極２３５と、これらの電極間に介在された有機物からなる中間層２３３とを備える。この中間層２３３は、少なくとも発光層を備えるものであって、複数の層を備えうる。この層については、後述する。
【００４９】
画素電極２３１は、アノード電極の機能を行い、対向電極２３５は、カソード電極の機能を行う。もちろん、この画素電極２３１と対向電極２３５との極性は、逆になってもよい。
【００５０】
画素電極２３１は、透明電極または反射電極で備えられうる。透明電極で備えられる時には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で形成され、反射電極で備えられる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒまたはこれらの化合物で形成された反射膜と、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で形成された膜と、を備えうる。
【００５１】
対向電極２３５も透明電極または反射電極で備えられうるが、透明電極で備えられる時は、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ/Ｃａ、ＬｉＦ/Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらの化合物が画素電極２３１と対向電極２３５との間の中間層２３３に向かうように蒸着された膜と、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で形成された補助電極やバス電極ラインとを備えうる。そして、反射型電極で備えられる時には、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ/Ｃａ、ＬｉＦ/Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらの化合物を蒸着することによって備えられうる。
【００５２】
一方、画素定義膜(ＰＤＬ：Ｐｉｘｅｌ Ｄｅｆｉｎｉｎｇ Ｌａｙｅｒ)２１９が画素電極２３１のエッジを覆い、画素電極２３１の外側に厚くなるように備えられる。この画素定義膜２１９は、発光領域を定義する役割以外に、画素電極２３１のエッジと対向電極２３５との間隔を広めて画素電極２３１のエッジ部分への電界集中現象を防止することによって、画素電極２３１と対向電極２３５との短絡を防止する役割を行う。
【００５３】
画素電極２３１と対向電極２３５との間には、少なくとも発光層を備える多様な中間層２３３が備えられる。この中間層２３３は、低分子有機物または高分子有機物で形成されうる。
【００５４】
低分子有機物を使用する場合、正孔注入層(ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、正孔輸送層(ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、有機発光層(ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、電子輸送層(ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、電子注入層(ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)が単一あるいは複合の構造に積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン(ＣｕＰｃ)、Ｎ，Ｎ−ジ(ナフタレン−１−イル)−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン(ＮＰＢ)、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Ａｌｑ３)をはじめとして多様に適用可能である。これらの低分子有機物は、マスクを利用した真空蒸着方法で形成されうる。
【００５５】
高分子有機物の場合には、通常、ホール輸送層(ＨＴＬ)及び発光層(ＥＭＬ)で備えられた構造を有し、この時、前記ＨＴＬとしてＰＥＤＯＴ（Ｐｏｌｙ（３，４−Ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））を使用し、発光層としてＰＰＶ(Ｐｏｌｙ−ＰｈｅｎｙｌｅｎｅＶｉｎｙｌｅｎｅ)系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用する。
【００５６】
このような有機発光素子２３０は、その下部の薄膜トランジスタ２２０に電気的に連結されるが、この時、薄膜トランジスタ２２０を覆う平坦化膜２１７が備えられる場合、有機発光素子２３０は平坦化膜２１７上に配され、有機発光素子２３０の画素電極２３１は、平坦化膜２１７に備えられたコンタクトホールを通じて薄膜トランジスタ２２０に電気的に連結される。
【００５７】
一方、基板上に形成された有機発光素子２３０は、封止基板３００によって密封される。封止基板３００は、前述したように、ガラスまたはプラスチック材などの多様な材料で形成されうる。
【００５８】
一方、有機発光素子２３０の上部にはパッシベーション膜４２０が形成され、パッシベーション膜４２０と封止基板３００とには、それぞれゲッター４３０が形成され、酸素または水分のような外部の不純物の浸透を効率的に防止できる。
【００５９】
図５Ａないし図５Ｅは、本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法を順次に示した概略的な断面図である。
【００６０】
図５Ａないし図５Ｅを参照すれば、本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の製造方法は、基板の一面にディスプレイ部を形成する工程と、前記ディスプレイ部上にパッシベーション膜を形成する工程と、封止基板の一面にシーラント及びゲッター物質を形成する工程と、前記シーラントを媒介して前記基板と前記封止基板とを接合する工程と、前記ゲッター物質を前記封止基板と前記パッシベーション膜及び前記シーラントが形成する空間の内壁に全体的に形成する工程と、を含む。
【００６１】
まず、図５Ａに示したように、基板１００の一面にディスプレイ部２００を形成する。ここで、基板１００としては、ガラス材基板だけでなく、アクリルのような多様なプラスチック材基板を使用することもあり、さらに金属板を使用することもある。この基板１００には、必要に応じて、バッファ層(図示せず）がさらに備えられることもある。
【００６２】
次いで、図５Ｂに示したように、ディスプレイ部２００の上部にパッシベーション膜４２０を形成する。前記パッシベーション膜４２０は、アクリル、ポリイミド、ＢＣＢ(Ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ)などの有機物質で形成されることもあり、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどの無機物質で形成されることもある。
【００６３】
次いで、図５Ｃに示したように、封止基板３００を準備する。この封止基板３００もやはり、ガラス材基板だけでなく、アクリルのような多様なプラスチック材基板を使用することもあり、さらに金属板を使用することもある。そして、封止基板３００の一面にシーラント４１０を形成する。このシーラント４１０は、有機シーラントまたは無機シーラントまたは有機/無機複合シーラントまたはその混合物のように、通常的に使われるものを使用できる。そして、封止基板３００でシーラント４１０が塗布された領域の内側領域にゲッター材料４３０ａを形成する。このようなゲッター材料として水分及び酸素との反応性が強く、融点が低く、容易に蒸発できる金属を使用でき、このような金属の吸着作用によって、パネルの内部に浸透した水分やガスを除去する。このような材料としては、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｈ、Ｃｅのような金属や、Ｂａ−Ａｌ、Ｚｒ−Ａｌ、Ａｇ−Ｔｉ、Ｚｒ−Ｎｉのような金属合金材料が使われうる。
【００６４】
次いで、図５Ｄに示したように、シーラント４１０を媒介して基板１００と封止基板３００とを接合する。すなわち、レーザ照射器を利用して、シーラント４１０に局部的にレーザを照射する方法によってシーラント４１０を硬化させることによって、基板１００と封止基板３００とを接合する。
【００６５】
最後に、図５Ｅに示したように、パッシベーション膜４２０と封止基板３００及びシーラント４１０とによって密封された有機発光ディスプレイ装置１０の内壁に、全体的にゲッター４３０を形成する。すなわち、シーラント４１０を媒介して基板１００と封止基板３００とを密封した後、外部でゲッター材料４３０ａのある部分のみを局部的に誘導加熱して活性化させれば、有機発光ディスプレイ装置１０の内部壁面全体にゲッター４３０がコーティングされる。このように形成されたゲッター４３０は、ミラーのような反射機能を行えるほどに膜が緻密に形成されるので、微量の水分がシーラント４１０を通過するとしても、緻密に形成された前記ゲッター４３０によって、有機発光ディスプレイ装置１０の内部まで浸透する水分量は顕著に減少し、たとえ有機発光ディスプレイ装置１０の内部に浸透するとしても、その内部空間にコーティングされたゲッター４３０によって吸着されるため、有機発光素子の寿命特性を確保する。
【００６６】
このような本発明によって、酸素または水分のような外部の不純物の浸透が徹底的に防止される効果が得られる。
【００６７】
本発明は、図面に示された実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明は、ディスプレイ関連の技術分野に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【００６９】
１０，１００    基板
２００    ディスプレイ部
３００    封止基板
４１０    シーラント
４２０    パッシベーション膜
４３０    ゲッター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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