(57)【要約】【課題】平板表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、第１基板及び第２基板を結合させるためのフリットと外部からの所定映像を表示するための映像信号、パネルテストのためのテスト信号及び有機層エージングのためのエージング信号を表示部に伝達するための信号配線との間に剥離現象を低減することができる平板表示装置及びその製造方法に関する。  本発明は、所定映像を表示するための表示部及び前記表示部の外側に位置する周辺部を含む第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記周辺部に位置し、前記第１基板と第２基板を結合させるためのフリットと、一部領域で前記フリットと重畳し、外部からの前記表示部に信号を伝達するための信号配線とを含み、前記一部領域に位置する前記信号配線端部は複数のパターンが形成されることを特徴とする平板表示装置に関する。【選択図】図３Ａ
2011028210.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定映像を表示するための表示部及び前記表示部の外側に位置する周辺部を含む第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記周辺部に位置し、前記第１基板と第２基板とを結合させるためのフリットと、
一部領域で前記フリットに重畳し、外部からの前記表示部に信号を伝達するための信号配線と、を含み、
前記一部領域に位置する前記信号配線端部は、複数のパターンが形成されていることを特徴とする平板表示装置。
【請求項２】
前記一部領域のうち前記フリットと前記信号配線とが交差する領域に位置する信号配線は、両端部に互いに異なった形状に複数のパターンを形成することを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項３】
前記一部領域のうち前記フリットと前記信号配線とが交差する領域に位置する信号配線は、両端部に対称に複数のパターンが形成されていることを特徴とする請求項２に記載の平板表示装置。
【請求項４】
前記複数のパターンは、凹凸状であることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項５】
前記複数のパターンは、前記信号配線端部に位置する複数の凹部であることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項６】
前記凹部は、前記信号配線端部から内側に向かうほど大きくなることを特徴とする請求項５に記載の平板表示装置。
【請求項７】
前記凹部は、前記信号配線端部から内側方向に所定間隔で凹む第１凹部及び前記信号配線の内側に位置して前記第１凹部に接続し、円形または多角形の形状を有する第２凹部を含むことを特徴とする請求項５に記載の平板表示装置。
【請求項８】
前記信号配線は、前記第１基板及び第２基板のうちいずれか１つまたは両方に形成されることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項９】
前記表示部は、第１電極、第２電極、及び前記第１電極と第２電極との間に位置する１つまたは複数の発光層を含む有機発光素子を含むことを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項１０】
前記信号配線は、前記第１電極または第２電極と同一物質で形成されることを特徴とする請求項９に記載の平板表示装置。
【請求項１１】
前記表示部は、半導体層、ゲート電極及びソース／ドレイン電極を含む薄膜トランジスタを含むことを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項１２】
前記信号配線は、前記ゲート電極またはソース／ドレイン電極と同一物質で形成されることを特徴とする請求項１１に記載の平板表示装置。
【請求項１３】
前記フリットと信号配線との間に位置する無機膜層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項１４】
前記フリットは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｂ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＴｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＰｂＯ、ＳｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｒｕ２Ｏ、Ｒｈ２Ｏ、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＴｉＯ２、ＷＯ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ホウ酸鉛ガラス、リン酸スズガラス、バナジウム酸ガラス及び硼硅酸ガラスからなる群から選択された１つまたは複数の物質を形成することを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項１５】
表示部及び周辺部を含む第１基板を提供する工程と、
前記第１基板に対向する第２基板を提供する工程と、
外部からの前記表示部に信号を伝達するための信号配線を形成する工程と、
前記周辺部の一部領域に位置する前記信号配線の一側または両端部に複数のパターンを形成する工程と、
前記一部領域で前記信号配線に重畳するようにフリットを塗布し、前記第１基板と第２基板とを結合する工程と、
を含むことを特徴とする平板表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記表示部に、半導体層、ゲート電極及びソース／ドレイン電極を含む薄膜トランジスタを形成し、
前記信号配線を前記ゲート電極またはソース／ドレイン電極と同時に形成することを特徴とする請求項１５に記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記表示部に、第１電極、第２電極、及び前記第１電極と第２電極との間に位置する１つまたは複数の発光層を含む有機発光素子を形成し、
前記信号配線を前記第１電極または第２電極と同時に形成することを特徴とする請求項１５に記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記信号配線を前記第１基板及び第２基板のうちいずれか１つまたは両方に形成することを特徴とする請求項１５に記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記一部領域のうち前記フリットと信号配線とが互いに交差する領域に位置する信号配線は、両端部に互いに異なった形状に複数のパターンを形成することを特徴とする請求項１５に記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記一部領域のうち前記フリットと信号配線とが互いに交差する領域に位置する信号配線は、両端部に対称に複数のパターンを形成することを特徴とする請求項１５に記載の平板表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板表示装置及びその製造方法(Flat Panel Display device and Fabrication method for the same)に関し、第１基板及び第２基板を結合させるためのフリットと外部からの所定映像を表示するための映像信号、パネルテストのためのテスト信号及び有機層エージング(aging)のためのエージング信号を表示部に伝達するための信号配線との間の剥離現象を低減することができる平板表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板表示装置(Flat Panel Display device)は軽量薄型の特性を有し、陰極線管表示装置(Cathode−ray Tube Display device)を代替することができる表示装置として用いられており、代表的な例としては、液晶表示装置(Liquid Crystal Display device；ＬＣＤ)と有機電界発光表示装置(Organic Light Emitting diode Display device；ＯＬＥＤ)がある。その中、有機電界発光表示装置は液晶表示装置に比べて輝度特性や視野角特性が優れるため、バックライト(Backlight)を必要とせず、超薄型として実現できる長所がある。
【０００３】
有機電界発光表示装置は、駆動方法によって受動駆動（Passive matrix）方式と能動駆動(Active matrix)方式に区分されており、能動駆動方式は薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；ＴＦＴ）を用いる回路を有する。
【０００４】
薄膜トランジスタは、一般にソース領域、ドレイン領域及びチャンネル領域を含む半導体層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を含む。前記半導体層は、多結晶シリコン(polycrystalline silicon；poly−si)または非晶質シリコン(amorphous silicon；a−si)から形成されるが、前記多結晶シリコンの電子移動度は非晶質シリコンの電子移動度よりも高いので、現在は多結晶シリコンが主に用いられる。
【０００５】
平板表示装置は、通常、表示素子で形成された表示部及び前記表示部の外側に位置する周辺部を含む第１基板、前記第１基板に対向する第２基板、及び前記周辺部に位置して前記第１基板と第２基板とを結合させて、前記表示部を密封するシーラントを含む。ここで、外部による前記表示部に水分及び湿気が流入されることを防止するために、前記シーラントとしてフリットが用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３１９５０７号公報
【特許文献２】特開２００７−３２８０２７号公報
【特許文献３】韓国公開特許第２００５-００４８１３号公報
【特許文献４】韓国公開特許第２００７-００１０４２２号公報
【特許文献５】特許第３４８４１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の平板表示装置がフリットを用いて第１基板及び第２基板を結合する場合、外部からの所定映像を表示するための映像信号、パネルテストのためのテスト信号及び有機層エージングのためのエージング信号を表示部に伝達するための信号配線が所定領域で前記フリットと重畳するが、前記フリットと信号配線間の接着力はフリットと他の絶縁膜間の接着力よりも相対的に弱く、前記信号配線端部から急激な形状変化が発生して、フリットと接着面自体が変化し前記フリットと信号配線との間に発生する応力に非常に脆弱となるため、前記信号配線端部での前記フリット剥離が起きやすいという問題点がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するためのものであって、フリットが重畳される領域において、前記信号配線とフリットとの間で発生する応力を分散させ、前記フリットの剥離現象を低減する平板表示装置及びその製造方法を提供することに本発明の目的がある。
【０００９】
本発明の前記目的は、所定映像を表示するための表示部及び前記表示部の外側に位置する周辺部を含む第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記周辺部に位置し、前記第１基板と第２基板を結合させるためのフリットと、一部領域で前記フリットと重畳され、外部から前記表示部に信号を伝達するための信号配線とを含み、前記一部領域に位置する前記信号配線端部は複数のパターンが形成されることを特徴とする平板表示装置によって達成することができる。
【００１０】
また、本発明の上記目的は、表示部及び周辺部を含む第１基板を提供する工程と、前記第１基板に対向する第２基板を提供する工程と、外部からの前記表示部に信号を伝達するための信号配線を形成する工程と、前記周辺部の一部領域に位置する前記信号配線の一側または両端部に複数のパターンを形成する工程と、前記一部領域で前記信号配線と重畳されるようにフリットを塗布し、前記第１基板と第２基板とを結合する工程とを含む平板表示装置の製造方法によって達成することができる。
【発明の効果】
【００１１】
したがって、本発明による平板表示装置及びその製造方法は、フリットと重畳する領域に位置する信号配線端部に複数のパターンを形成し、前記フリットと信号配線との間で発生する応力を分散させることで、前記フリットの剥離現象を低減する効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施例に係る平板表示装置を示す平面図である。
【図２】図１の切断線Ｉ−Ｉ’による断面図である。
【図３Ａ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【図３Ｂ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【図３Ｃ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【図３Ｄ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【図３Ｅ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【図３Ｆ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【図３Ｇ】図１のＡ領域を拡大した断面図で、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の目的と技術的構成及びその作用効果に関する詳しい事項は本発明の好適な実施例を示す図面を参照しながら以下の詳細な説明によってさらに明確に理解することができる。また、説明の都合上、図面において、層及び領域の厚みは誇張されており、明細書の全体において同一の参照番号は、同一の構成要素を示す。
【００１４】
（実施例）
図１は本発明の実施例に係る平板表示装置を示す平面図であり、図２は図１の切断線Ｉ−Ｉ’による断面図である。
図１及び図２に示すように、本発明の実施例に係る平板表示装置は、所定映像を表示するための表示部Ｄ及び前記表示部Ｄの外側に位置する周辺部Ｅを含む第１基板１００、前記第１基板１００に対向する第２基板２００、前記周辺部Ｅに位置し、前記第１基板１００と第２基板２００とを結合させるためのフリット３００及び一部領域で前記フリット３００と重畳し、外部からの前記表示部Ｄに表示するための映像信号、パネルテストのためのテスト信号及び有機層エージングのためのエージング信号などを伝達するための信号配線３１０を含む。
【００１５】
ここで、本発明の実施例に係る平板表示装置は、前記第１基板１００の周辺部Ｅとフリット３００との間に前記信号配線３１０が位置することで説明しているが、前記信号配線３１０は前記フリット３００と第２基板２００との間に位置することもでき、前記フリット３００と第１基板１００及び第２基板２００との間にすべて位置することもできる。
【００１６】
また、前記フリットは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｂ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＴｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＰｂＯ、ＳｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｒｕ２Ｏ、Ｒｈ２Ｏ、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＴｉＯ２、ＷＯ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ホウ酸塩ガラス(lead−borate glass)、リン酸スズガラス（tin-phosphate glass）、バナジウム酸ガラス(Vanadate glass)及び硼硅酸ガラス(borosilicate glass)からなる群から選択された１つまたは複数の物質で形成される。
【００１７】
前記表示部Ｄは前記信号配線３１０を介して伝達された映像信号によって所定映像を表示するための部分であって、本発明の図２に示すように、半導体層１２０、ゲート電極１３５及びソース／ドレイン電極１５２を含む薄膜トランジスタ、及び下部電極１６０、上部電極１９０及び前記下部電極１６０と上部電極１９０間に位置する１つまたは複数の発光層（図示せず）を備える有機発光素子を含む有機電界発光表示素子が形成されているが、液晶を含むディスプレイ素子またはプラズマを用いるディスプレイ素子で形成することもできる。
【００１８】
図１及び図２に示すように、本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線を形成する方法を次に説明する。まず、所定映像を表示するための表示部Ｄ及び前記表示部Ｄの外側に位置する周辺部Ｅを含み、ガラスや合成樹脂、ステンレススチールなどの材質からなる第１基板１００上に、バッファ層１１０を形成する。前記バッファ層１１０は、後続工程で形成する非晶質シリコンの結晶化時に前記第１基板１００内の不純物が拡散されることを防止する。
【００１９】
次いで、前記バッファ層１１０の上部に非晶質シリコン層（図示せず）を積層した後、前記非晶質シリコン層を多結晶シリコン層（図示せず）に結晶化し、前記多結晶シリコン層をパターニングして半導体層１２０を形成する。ここで、前記非晶質シリコン層の結晶化は、固相結晶化法(Solid Phase Crystallization)、レーザー結晶化法(Laser Crystallization)、ＳＧＳ結晶化(Super Grain Silicon Crystallization)、金属誘導結晶化法(Metal Induced Crystallization)及び金属誘導側面結晶化法(Metal Induced Lateral Crystallization)のうちいずれか１つとすることができる。
【００２０】
次いで、前記半導体層１２０を含む第１基板１００上にゲート絶縁膜１３０が積層される。ここで、前記ゲート絶縁膜１３０はシリコン酸化膜ＳｉＯ２、シリコン窒化膜ＳｉＮｘまたはその積層構造を用いて形成することができる。
【００２１】
次いで、前記ゲート絶縁膜１３０上部に、アルミニウム(Ａｌ)またはアルミニウム−ネオジム(Ａｌ−Ｎｄ)のようなアルミニウム合金の単一層や、クロム(Ｃｒ)またはモリブデン(Ｍｏ)合金の上に、アルミニウム合金が多重に積層されたゲート電極用金属層（図示せず）を形成し、前記ゲート電極用金属層を乾式または湿式エッチングして前記半導体層１２０に対応する所定領域にゲート電極１３５を形成する。ここで、前記所定領域は、後工程により形成される前記半導体層１２０のチャンネル領域１２４に対応する領域である。
【００２２】
次いで、前記ゲート電極１３５をマスクとして用いて前記半導体１２０の一部を導電型の不純物にドーピングすることで、前記半導体層１２０のソース／ドレイン領域１２２と前記ソース／ドレイン領域１２２との間に位置する領域がチャンネル領域１２４に形成される。ここで、前記ドーピング工程は、ゲート電極１３５の形成前に、前記第１基板１００上にフォトレジストを形成して行うこともでき、前記チャンネル領域１２４の一部を低濃度の不純物にドーピングして漏洩電流を防止することもできる。
【００２３】
続いて、前記ゲート電極１３５を含む第１基板１００上に層間絶縁膜１４０を形成し、前記層間絶縁膜１４０及びゲート絶縁膜１３０をエッチングしてソース／ドレイン領域１２２の一部を露出させるコンタクトホール１４５を形成する。
【００２４】
次いで、前記コンタクトホール１４５を含む層間絶縁膜１４０上部にモリタングステン(ＭｏＷ)またはアルミニウム−ネオジム(Ａｌ−Ｎｄ)などの導電物質を積層した後、前記導電物質をパターニングして前記コンタクトホール１４５を介してソース／ドレイン領域１２２にそれぞれ接続されるソース／ドレイン電極１５２及び外部からの前記第１基板１００の表示部Ｄに信号を伝達するための信号配線３１０を形成する。
【００２５】
ここで、本発明の実施例は、前記ソース／ドレイン電極１５２とともに前記信号配線３１０を形成しているが、前記信号配線３１０は前記ゲート電極１３５、後続工程で形成される下部電極１６０または上部電極１９０と同時に形成することができ、前記ソース／ドレイン電極１５２、ゲート電極１３５、下部電極１６０及び上部電極１９０のうち２つ以上が積層された構造とすることができる。
【００２６】
続いて、前記周辺部Ｅの所定領域Ａ、Ｂに位置する前記信号配線３１０の端部に、複数のパターン（図示せず）を形成する。ここで、前記所定領域Ａ、Ｂは後続工程を介して前記フリット３００と交差する第１領域Ａ及び一側端部が前記フリット３００と重畳する第２領域Ｂを含み、前記信号配線３１０の幅が前記フリット３００よりも小さい場合、前記フリット３００に平行に配線されて両端部が前記フリット３００と重畳する第３領域（図示せず）をさらに含むことができる。ここで、本発明の実施例は、前記信号配線３１０を形成する工程と前記所定領域Ａ、Ｂに位置する前記信号配線３１０の端部に複数のパターンを形成する工程とをそれぞれ実施するものとして説明しているが、前記２つの工程を同時に実施することもできる。
【００２７】
次に、前記ソース／ドレイン電極１５２を含む前記第１基板１００の表示部Ｄ上に、アクリルなどの有機絶縁膜及びシリコン酸化物などの無機絶縁膜のうちいずれか１つまたは複数を含む平坦化膜１５０を形成し、前記平坦化膜１５０をエッチングして前記ソース／ドレイン電極１５２のうちいずれか１つの一部を露出するビアホール１５５を形成する。
【００２８】
続いて、前記ビアホール１５５を含む平坦化膜１５０上に導電性物質を積層し、前記導電性物質をパターニングして前記ビアホール１５５を介して前記ソース／ドレイン電極１５２のうちいずれか１つに電気的に接続する下部電極１６０を形成する。
【００２９】
次いで、前記下部電極１６０を含む前記第１基板１００の表示部Ｄ上に、前記下部電極１６０の一部を露出して発光領域を定義する画素定義膜１７０を形成する。ここで、前記画素定義膜１７０は、ポリイミド(polyimide)、ベンゾシクロブテン系樹脂(benzocyclobutens series resin)、フェノール系樹脂(phenol resin)及びアクリレート(acrylate)からなる群から選択される１種の物質で形成することができる。
【００３０】
次いで、前記画素定義膜１７０で正義された発光領域、すなわち、前記画素定義膜１７０で露出された前記下部電極１６０の表面に１つまたは複数の発光層（図示せず）を含む有機膜１８０を形成し、前記第１基板１００の表示部Ｄの全体に上部電極１９０を形成し、前記第１基板１００の表示部Ｄが外部信号で所定映像をディスプレイすることができるようにする。
【００３１】
続いて、前記第１基板１００に対向する第２基板２００を、前記周辺部１００に位置するフリット３００を用いて結合させ、前記第１基板１００の表示部Ｄを密封することで、平板表示装置が完成される。
【００３２】
ここで、本発明の実施例は、前記信号配線３１０が前記フリット３００に直接接触するものとして説明しているが、前記信号配線３１０とフリット３００との間の接着力を向上させ、前記フリット３１０の硬化工程時に発生する熱が前記信号配線３１０に沿って前記表示部Ｄに伝達され表示素子が劣化されることを防止するために、前記信号配線３１０とフリット３００との間に無機絶縁膜（図示せず）をさらに形成することができ、前記無機絶縁膜は、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘまたはそれらの積層により形成することができる。
【００３３】
図３Ａないし図３Ｇは、図１のＡ領域を拡大した断面図であって、フリットが交差する領域に位置する本発明の実施例に係る平板表示装置の信号配線端部を示す平面図である。
図３Ａないし図３Ｇに示すように、前記フリット３００と交差する第１領域Ａにおいて前記信号配線３１０の端部に形成された複数のパターンＰは、図３Ａ及び図３Ｂに示すように前記信号配線３１０の内側に形成される複数の凹部を有する。前記凹部の断面は、四角形または三角形のような多角形状を有する凹凸状とするか、図３Ｃ、３Ｄ及び３Ｅに示すように前記信号配線３１０の端部から内側方向に所定間隔に凹んでいる第１凹部Ｐ１及び前記信号配線３１０の内側に位置して前記第１凹部Ｐ１に接続され、円形または多角形の形状を有する第２凹部Ｐ２を含む形状とするか、図３Ｆに示すように前記信号配線３１０の端から内側に向かうほど大きくなる形状とするか、及び図３Ｇに示すように前記信号配線３１０の端部に沿って形成される複数の凹凸状とすることができる。
【００３４】
ここで、本発明の図３Ａないし図３Ｇは、前記第１領域Ａにおいて前記信号配線３１０の両端部に、同一の複数パターンＰが対称に形成されることで示してあるが、前記第１領域Ａにおける前記信号配線３１０の両端部は互いに異なった形状のパターンＰが複数個形成され、前記複数のパターンＰが前記信号配線３１０の両端部に非対称に形成されることもできる。
【００３５】
また、前記信号配線３１０の一側端部とフリット３００が重畳する第２領域Ｂ及び前記信号配線３１０とフリット３００とが平行に配線される第３領域に形成される複数のパターンＰは、前述した前記フリット３００と信号配線３１０の第１領域Ａに形成されるパターンＰのうちいずれか１つとすることができ、前記第１領域Ａに形成された複数のパターンＰと前記第２領域Ｂ及び第３領域に形成された複数のパターンＰは同一形状とすることができる。
【００３６】
下記の表１は、フリットと信号配線との交差領域において、信号配線端部が複数のパターンを有する場合と複数のパターンを有しない場合における、フリットと信号配線との間の剥離率を示す表である。
【００３７】
【表１】
2011028210.tif 000003
【００３８】
前記表１に示すように、フリットと信号配線の交差領域において、信号配線端部に複数のパターンが形成された場合は、複数のパターンが形成されない場合と比べて、剥離率が著しく減少していることがわかる。
【００３９】
結果的に、本発明の実施例に係る平板表示装置及びその製造方法は、第１基板及び第２基板を結合するためのフリットと重畳する領域に位置する信号配線端部に複数のパターンを形成することで、前記信号配線とフリットとの間で発生する応力を分散させることができ、信号配線とフリットとの間の剥離を低減することができる。
【符号の説明】
【００４０】
１００  第１基板
１２０  半導体層
１３５  ゲート電極
１５２  ソース／ドレイン電極
１６０  下部電極
１９０  上部電極
２００  第２基板
３００  フリット
３１０  信号配線
【図１】
2011028210.tif 000004
【図２】
2011028210.tif 000005
【図３Ａ】
2011028210.tif 000006
【図３Ｂ】
2011028210.tif 000007
【図３Ｃ】
2011028210.tif 000008
【図３Ｄ】
2011028210.tif 000009
【図３Ｅ】
2011028210.tif 000010
【図３Ｆ】
2011028210.tif 000011
【図３Ｇ】
2011028210.tif 000012