(57)【要約】【課題】電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、取扱い性に優れる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供する。【解決手段】エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層の少なくとも片面に形成された電解質層と、前記電解質層のエレクトロクロミック層側とは反対側の面に形成された被覆層とを有する合わせガラス用中間膜であって、前記電解質層は熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有し、かつ、熱可塑性樹脂１００重量部に対する溶媒の含有量が４７〜１６０重量部であり、前記被覆層は熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有し、かつ、熱可塑性樹脂１００重量部に対する溶媒の含有量が４５重量部以下であり、前記被覆層は、厚さが０．４８ｍｍ以下であり、かつ、電解質層側とは反対側の面にエンボス処理が施されている合わせガラス用中間膜。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層の少なくとも片面に形成された電解質層と、前記電解質層のエレクトロクロミック層側とは反対側の面に形成された被覆層とを有する合わせガラス用中間膜であって、
前記電解質層は熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有し、かつ、熱可塑性樹脂１００重量部に対する溶媒の含有量が４７〜１６０重量部であり、
前記被覆層は熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有し、かつ、熱可塑性樹脂１００重量部に対する溶媒の含有量が４５重量部以下であり、
前記被覆層は、厚さが０．４８ｍｍ以下であり、かつ、電解質層側とは反対側の面にエンボス処理が施されている
ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【請求項２】
電解質層に含有される熱可塑性樹脂が、炭素数が４又は５のアルデヒドによりポリビニルアルコールをアセタール化して得られた、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下、水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であるポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項３】
被覆層に含有される熱可塑性樹脂が、炭素数が４又は５のアルデヒドによりポリビニルアルコールをアセタール化して得られた、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下、水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であるポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項４】
請求項１、２又は３記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、取扱い性に優れる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光体は、広く用いられている。
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光が少ないという特徴がある。
【０００３】
エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。
【０００４】
近年、調光体を合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスを自動車用窓ガラスや建築用窓ガラスに用いることが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いれば、合わせガラスの光線透過率を制御して、車内や室内の温度を調整することができると考えられる。
【０００５】
調光体を合わせガラス用中間膜として合わせガラスを製造する際には、いったん調光体を一対の導電膜が形成されているガラス板の間に挟み込んだ積層体を真空プレスする工程を行う。しかしながら、従来の調光体は、高いイオン伝導度を発揮させるために大量の溶媒を含有する電解質層を有することから、電解質層の表面がベトついて取扱い性に欠けるという問題があった。とりわけ、調光体の電解質層をガラス板に接着すると、位置を調整するために貼り直そうとしても剥離できないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−０６２０３０号公報
【特許文献２】特開２００５−０６２７７２号公報
【特許文献３】特表２００２−５２６８０１号公報
【特許文献４】特表２００４−５３１７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、取扱い性に優れる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層の少なくとも片面に形成された電解質層と、前記電解質層のエレクトロクロミック層側とは反対側の面に形成された被覆層とを有する合わせガラス用中間膜であって、前記電解質層は熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有し、かつ、熱可塑性樹脂１００重量部に対する溶媒の含有量が４７〜１６０重量部であり、前記被覆層は熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有し、かつ、熱可塑性樹脂１００重量部に対する溶媒の含有量が４５重量部以下であり、前記被覆層は、厚さが０．４８ｍｍ以下であり、かつ、電解質層側とは反対側の面にエンボス処理が施されている合わせガラス用中間膜である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明者は、従来の調光体の課題を解決するために、電解質層の表面に被覆層を設けることを検討した。被覆層を設けることにより、電解質層による過度の接着性を緩和し、取扱い性を向上させることができる。しかしながら、被覆層を設けると、イオン伝導性が低下することにより、電圧を印加しても光の透過率を変化させることができなくなるという問題があった。
そこで本発明者は、被覆層中の溶媒濃度を一定の範囲としたうえで、被覆層の厚さを一定の範囲とし、更に、被覆層の表面にエンボス処理を施すことにより、エレクトロクロミック性に影響することなく取扱い性を向上できることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】
本発明の合わせガラス用中間膜は、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、上記エレクトロクロミック層の少なくとも片面に形成された電解質層と、上記電解質層のエレクトロクロミック層側とは反対側の面に形成された被覆層とを有する。
【００１１】
上記エレクトロクロミック層に含有されるエレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック性を有する化合物であれば特に限定されず、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよい。なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
【００１２】
上記エレクトロクロミック性を有する無機化合物は、例えば、Ｍｏ２Ｏ３、Ｉｒ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５、ＷＯ３等が挙げられる。
上記エレクトロクロミック性を有する有機化合物は、例えば、ポリピロール化合物、ポリアセチレン化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物、テレフタル酸ジエチル化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。
【００１３】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。
【００１４】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。
上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。
【００１５】
上記エレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化錫微粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛微粒子、六ホウ化ランタン微粒子、アンチモン酸亜鉛微粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
【００１６】
上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が好適であり、具体的には例えば、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、プロピオン酸マグネシウム、プロピオン酸カリウム、２−エチルブタン酸マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、２−エチルヘキサン酸マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。
【００１７】
上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は２μｍである。上記エレクトロクロミック層の厚さが０．０５μｍ未満であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても充分に光の透過率が変化しないことがあり、２μｍを超えると、合わせガラス用中間膜の透明性が低下することがある。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は１μｍである。
【００１８】
上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。
上記電解質層は、熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有する。上記電解質層は、熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有する樹脂組成物（以下、「電解質層用樹脂組成物」ともいう。）を用いて形成されることが好ましい。
【００１９】
上記熱可塑性樹脂は特に限定されず、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。透明性が高い電解質層が得られることから、炭素数が４又は５のアルデヒドによりポリビニルアルコールをアセタール化して得られたポリビニルアセタール樹脂が更に好適である。
【００２０】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、合わせガラス用中間膜が白化することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３０ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ  Ｋ  ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００２１】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００未満であると、上記電解質層の形状を維持できないことがあり、５０００を超えると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。
【００２２】
上記支持電解質塩は特に限定されず、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩や、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩が挙げられる。
【００２３】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００２４】
上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は、上記熱可塑性樹脂１００重量部に対する好ましい下限が３重量部、好ましい上限が６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３重量部未満であると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがあり、６０重量部を超えると、エレクトロクロミック層の応答性が低くなることがある。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、より好ましい上限は５０重量部である。
【００２５】
上記電解質層に含有される溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン化合物や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル化合物や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
【００２６】
上記電解質層に含有される溶媒は、可塑剤であってもよい。上記可塑剤を上記溶媒として用いることにより、上記電解質層に柔軟性を付与することができる。
上記可塑剤は特に限定されず、例えば、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等が挙げられる。
【００２７】
上記電解質層中における上記溶媒の配合量は、上記熱可塑性樹脂１００重量部に対する下限が４７重量部、上限が１６０重量部である。上記溶媒の配合量が４７重量部未満であると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化せず、１６０重量部を超えると、電解質層が膜形状を維持できない。上記溶媒の配合量の好ましい下限は５０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。
【００２８】
上記電解質層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記エレクトロクロミック層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記エレクトロクロミック層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００２９】
上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、例えば、上記溶媒として可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記熱可塑性樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。
【００３０】
上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．１ｍｍ未満であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても光の透過率が変化しないことがあり、３．０ｍｍを超えると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加した場合、光の透過率の変化速度が低下することがある。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．３ｍｍ、より好ましい上限は１．０ｍｍである。
【００３１】
上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記熱可塑性樹脂と混合した後、該混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形成型し電解質層を形成する方法等が挙げられる。
【００３２】
上記被覆層は、上記電解質層のエレクトロクロミック層側とは反対側の面に形成される。上記被覆層を設けることにより、上記電解質層の過度の接着性を抑え、取扱い性を向上することができる。
上記被覆層は、上記電解質層と同様に、熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有する。上記被覆層は、熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒を含有する樹脂組成物（以下、「被覆層用樹脂組成物」ともいう。）により形成されることが好ましい。ここで、上記被覆層に含まれる溶媒の含有量は、上記電解質層に含まれる溶媒の含有量に比べて少ない。溶媒の含有量を抑えることにより、上記被覆層は上記電解質層に比べて接着力を抑えることができる。一方、溶媒の含有量を抑えることにより上記被覆層は上記電解質層に比べてイオン伝導性が低くなる。本発明者は、表面にエンボス加工を施した被覆層の厚さと、被覆層中の溶媒の含有量とを検討した結果、エレクトロクロミック性と取扱い性とを両立できる範囲があることを見出した。
【００３３】
上記被覆質層に含まれる熱可塑性樹脂、支持電解質塩及び溶媒は特に限定されず、上記電解質層に用いる材料と同様の材料を用いることができる。
上記被覆層中における上記支持電解質塩の配合量は、上記熱可塑性樹脂１００重量部に対する好ましい下限が３重量部、好ましい上限が６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３重量部未満であると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがあり、６０重量部を超えると、エレクトロクロミック層の応答性が低くなることがある。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、より好ましい上限は５０重量部である。
【００３４】
上記被覆層中における上記溶媒の配合量は、上記熱可塑性樹脂１００重量部に対して４５重量部以下である。上記溶媒の配合量が４５重量部を超えると、表面のエンボス形状を維持できず、取扱い性の改善効果が得られない。上記溶媒の配合量の好ましい下限は２５重量部、好ましい上限は４０重量部である。
【００３５】
上記被覆層は熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、上記エレクトロクロミック層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記エレクトロクロミック層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００３６】
上記被覆層の厚さの上限は０．４８ｍｍである。上記被覆層の厚さが０．４８ｍｍを超えると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても光の透過率が変化しない。上記被覆層の厚さの好ましい下限は０．０５ｍｍ、好ましい上限は０．４ｍｍである。
【００３７】
上記被覆層は、電解質層側とは反対側の面にエンボス処理が施されている。
上記エンボスの粗さは特に限定されないが、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で定義される十点平均粗さの好ましい下限が２０μｍ、好ましい上限が５０μｍである。
【００３８】
上記被覆層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記熱可塑性樹脂と混合した後、該混合物を熱プレス等の方法により被覆層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し被覆層を形成する方法等が挙げられる。例えば、前者の方法において、熱プレスの際に、表面にエンボス処理が施された離型シートを用いれば、該離型シートのエンボスが転写されて、エンボス処理が施された被覆層が得られる。
【００３９】
本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。
上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の合わせガラス用中間膜を挟持した合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
【００４０】
上記ガラス板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されている。本発明の合わせガラスにおいて本発明の合わせガラス用中間膜は、上記ガラス板の導電膜が形成された面に接するように２枚のガラス板の間に挟持される。
上記導電膜は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）等を含む透明導電膜が好ましい。
【００４１】
本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。
【発明の効果】
【００４２】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、取扱い性に優れる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。
【００４４】
（実施例１）
（１）電解質層の調製
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）４７重量部にビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）１３．４重量部を溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）１００重量部とを混合して樹脂組成物を得た。得られ樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートに挟み、厚さ４００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、厚さ０．４ｍｍの電解質層を得た。
【００４５】
（２）エレクトロクロミック層の調製
ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）０．７８３重量部を１．３０５重量部のトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層上に、溶媒乾燥後の厚さが０．３μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥してエレクトロクロミック層を形成した。
【００４６】
（３）被覆層の調製
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）２７重量部にビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）１３．４重量部を溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）１００重量部とを混合して樹脂組成物を得た。
得られ樹脂組成物を、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で定義される十点平均粗さが３０μｍであるランダムエンボス付きポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートと、エンボスが形成されていないポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートとに挟み、厚さ１００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、エンボス処理が施された厚さ０．１ｍｍの被覆層を得た。
【００４７】
（４）合わせガラスの製造
得られたエレクトロクロミック層が形成された電解質層と、被覆層を縦５ｃｍ×横５ｃｍのサイズに切断した。エレクトロクロミック層が形成された電解質層のエレクトロクロミック層側とは反対側の面に、エンボス処理面が表側となるように被覆層を積層して合わせガラス用中間膜を得た。得られた合わせガラス用中間膜を、それぞれの透明導電膜と接するように一対のＩＴＯガラスに挟み込んで貼り合せて、積層体を得た。得られた積層体を、９０℃の真空ラミネーターで圧着して合わせガラスを得た。
【００４８】
（実施例２〜８、比較例１〜６）
電解質層及び被覆層に含まれる溶媒含有量、被覆層の厚さやエンボス処理の有無を表１及び表２に記載したようにした以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。
【００４９】
（評価）
実施例及び比較例にて製造した合わせガラス用中間膜及び合わせガラスについて、以下の評価を行った。結果を表１及び表２に示した。
【００５０】
（１）合わせガラス用中間膜の取扱い性の評価
得られた合わせガラス用中間膜をＩＴＯガラスに挟み込んで積層体を製造する工程において、いったん貼り合わせた後、剥離して再度貼り合せを行った。このとき、全く形状を崩すことなく剥離と再貼り合せとを行うことができた場合を「○」、剥離又は再貼り合せ時に合わせガラス用中間膜にシワが生じた場合を「×」と評価した。
【００５１】
（２）合わせガラスのエレクトロクロミック性の評価
得られた合わせガラスのエレクトロクロミック層側のＩＴＯを正極、対極側ＩＴＯを負極として、＋２Ｖの直流電圧を印加した後、−２Ｖの直流電圧を印加した。目視にて観察して合わせガラスの透過率の変化が認められた場合を「○」、透過率の変化が認められなかった場合を「×」と評価した。
【００５２】
【表１】
2011126733.tif 000002
【００５３】
【表２】
2011126733.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、取扱い性に優れる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。