(57)【要約】【課題】汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る製造方法によれば、複数本のライン状の隔壁７ａを形成した後に、隣り合う２つの隔壁７ａ間の領域を複数の区画領域Ｐに分割するための堰となる隔壁７ｂを液滴吐出法によって形成している。換言すれば、隔壁７ｂの形成位置を変更（調整）することにより、区画領域Ｐの大きさを自在に調整することができる。よって、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の区画領域Ｐが広くなるように、最適化することができる。従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。【選択図】図２
2011054512.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向、および前記第１の方向と交差する第２の方向に沿って配列された有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部を含む第１電極を形成する工程と、
前記第２の方向に配列する前記開口部列が露出するように、前記第２の方向に延在する複数本のライン状の第１隔壁を形成する工程と、
隣り合う前記第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための第２隔壁を液滴吐出法によって、前記開口部が露出するように形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、
前記第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２】
第１の方向、および前記第１の方向と交差する第２の方向に沿って配列された複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部を含む第１電極を形成する工程と、
前記第２の方向に配列する前記開口部列が露出するように、前記第２の方向に延在する複数本のライン状の第１隔壁を形成する工程と、
隣り合う前記第１隔壁間に、前記発光画素に含まれる複数の有機層のうちの少なくとも一層を形成する工程と、
隣り合う前記第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための第２隔壁を液滴吐出法によって、前記開口部が露出するように形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記複数の有機層における発光層の有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、
前記第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数の区画領域には、面積が異なる複数サイズの前記区画領域が含まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記複数の区画領域の面積は、前記表示領域の中央部と周縁部とで異なることを特徴とする請求項３に記載の光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記複数の区画領域は、前記表示領域の中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように分割されていることを特徴とする請求項４に記載の光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１隔壁を形成する工程において、前記複数本の第１隔壁は、フォトリソ法を用いて、略等間隔のストライプ状に形成され、
少なくとも前記形成された前記複数本の第１隔壁に、撥液性を持たせる撥液化処理を施す工程をさらに有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１隔壁を形成する工程において、前記複数本の第１隔壁は、フォトリソ法を用いて、略等間隔のストライプ状に形成され、
前記第１隔壁を構成するレジスト材料には、撥液剤が含有されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記区画領域は、１つの前記開口部ごとに形成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記区画領域は、１つ、または複数の前記開口部ごとに形成され、
それぞれの前記区画領域における前記開口部の数は、前記表示領域の中央部よりも周縁部の方が多くなるように設定されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２隔壁は、光硬化性樹脂を含有した溶液を前記液滴吐出法により所定の位置に塗布した後に、光を照射することにより形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記光硬化性樹脂を含有した溶液には、撥液剤が添加された第１溶液と、撥液剤が添加されていない第２溶液とがあり、
前記複数の第１隔壁における前記第２の方向の端部では、前記第２溶液による前記第２隔壁が選択的に形成され、それ以外の部分には、前記第１溶液による前記第２隔壁が形成されることを特徴とする請求項１０に記載の光学装置の製造方法。
【請求項１２】
前記発光画素には、赤色画素、緑色画素、青色画素が含まれており、
それぞれの前記区画領域の面積は、前記赤色画素に対応する前記区画領域、前記緑色画素に対応する前記区画領域、前記青色画素に対応する前記区画領域の順に、大きくなるように形成されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項１３】
第１の方向、および前記第１の方向と交差する第２の方向に沿って配列された複数の色フィルターを備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記第２の方向に延在する複数本のライン状の第１隔壁を形成する工程と、
隣り合う前記第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための第２隔壁を液滴吐出法によって形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項１４】
前記複数の区画領域には、面積が異なる複数サイズの前記区画領域が含まれていることを特徴とする請求項１３に記載の光学装置の製造方法。
【請求項１５】
前記複数の区画領域の面積は、前記複数の色フィルターが形成された領域の中央部と周縁部とで異なることを特徴とする請求項１４に記載の光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料が分散または溶解した溶液をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させる、いわゆる液滴吐出法を用いて発光画素を形成する技術が知られている。
このような液滴吐出法によって、複数の画素をマトリックス状に形成した場合、塗布された溶液の乾燥速度の差によって、発光層の膜厚に差が生じてしまい、発光画素間での輝度ムラや、発光色ムラが生じてしまうという問題があった。これは、複数の画素がマトリックス状に形成された表示領域において、その周縁部における溶液の乾燥速度が、中央部に比べて速くなることに起因していた。
【０００３】
発明者等は、上記問題を解決するために、特許文献１の光学装置を提案している。当該光学装置では、隔壁で囲まれた１つの発光画素の領域を区画領域としたときに、区画領域の体積が表示領域の中央部よりも周縁部側で大きくなるように隔壁を設定している。換言すれば、表示領域の中央部よりも周縁部における区画領域の方が広く（大きく）なるように隔壁設定をしていた。また、溶液の吐出量も区画領域の体積比に合わせて変化させていた。
これにより、表示領域の中央部と周縁部とにおける乾燥速度が略等しくなり、形成される発光層の膜厚の均一化を実現していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１６２０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の方法では、汎用性に乏しいという課題があった。詳しくは、区画領域の大きさや、中央部から周縁部に至る間でのサイズ変化の割合などの隔壁設定は、表示領域のサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などによって異なるが、従来の方法では、一品一様で専用の隔壁設定となってしまうため汎用性に乏しかった。
また、有機ＥＬ材料は、開発ステージにある材料であり、日々改良された新材料が提案されているが、新材料の特性に応じて、隔壁設定を変更して最適化を図りたいというニーズに応じることは難しかった。つまり、細部の設計変更が困難であり、設計融通性に欠けるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例）
第１の方向、および第１の方向と交差する第２の方向に沿って配列された有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部を含む第１電極を形成する工程と、第２の方向に配列する開口部列が露出するように、第２の方向に延在する複数本のライン状の第１隔壁を形成する工程と、隣り合う第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための第２隔壁を液滴吐出法によって、開口部が露出するように形成する工程と、複数の区画領域ごとに、有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【０００８】
この製造方法によれば、複数本のライン状の第１隔壁を形成した後に、隣り合う２つの第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための堰となる第２隔壁を液滴吐出法によって形成している。換言すれば、第２隔壁の形成位置を変更することにより、区画領域の大きさを自在に調整することができる。
例えば、表示領域のサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域の中央部よりも周縁部の区画領域が広くなるように、隔壁設定を最適化することもできる。
つまり、本適用例に係る製造方法によれば、専用の隔壁設定となってしまうため汎用性に乏しかった従来の方法と異なり、第２隔壁の形成位置を調整することにより多様な条件に合せて、区画領域の面積を最適化することができる。
従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
さらに、改良された新たな有機材料を用いる場合であっても、第２隔壁の形成位置を調整することにより、当該材料の特性に応じて、区画領域の面積を異ならせて最適化することもできる。従って、設計融通性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【０００９】
第１の方向、および第１の方向と交差する第２の方向に沿って配列された複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部を含む第１電極を形成する工程と、第２の方向に配列する開口部列が露出するように、第２の方向に延在する複数本のライン状の第１隔壁を形成する工程と、隣り合う第１隔壁間に、発光画素に含まれる複数の有機層のうちの少なくとも一層を形成する工程と、隣り合う第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための第２隔壁を液滴吐出法によって、開口部が露出するように形成する工程と、複数の区画領域ごとに、複数の有機層における発光層の有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１０】
また、複数の区画領域には、面積が異なる複数サイズの区画領域が含まれていることが好ましい。
また、複数の区画領域の面積は、表示領域の中央部と周縁部とで異なることが好ましい。
また、複数の区画領域は、表示領域の中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように分割されていることが好ましい。
また、第１隔壁を形成する工程において、複数本の第１隔壁は、フォトリソ法を用いて、略等間隔のストライプ状に形成され、少なくとも形成された複数本の第１隔壁に、撥液性を持たせる撥液化処理を施す工程をさらに有することが好ましい。
また、第１隔壁を形成する工程において、複数本の第１隔壁は、フォトリソ法を用いて、略等間隔のストライプ状に形成され、第１隔壁を構成するレジスト材料には、撥液剤が含有されていることが好ましい。
また、区画領域は、１つの開口部ごとに形成されることが好ましい。
また、区画領域は、１つ、または複数の開口部ごとに形成され、それぞれの区画領域における開口部の数は、表示領域の中央部よりも周縁部の方が多くなるように設定されていることが好ましい。
【００１１】
また、第２隔壁は、光硬化性樹脂を含有した溶液を液滴吐出法により所定の位置に塗布した後に、光を照射することにより形成されることが好ましい。
また、光硬化性樹脂を含有した溶液には、撥液剤が添加された第１溶液と、撥液剤が添加されていない第２溶液とがあり、複数の第１隔壁における第２の方向の端部では、第２溶液による第２隔壁が選択的に形成され、それ以外の部分には、第１溶液による第２隔壁が形成されることが好ましい。
また、発光画素には、赤色画素、緑色画素、青色画素が含まれており、それぞれの区画領域の面積は、赤色画素に対応する区画領域、緑色画素に対応する区画領域、青色画素に対応する区画領域の順に、大きくなるように形成されていることが好ましい。
【００１２】
第１の方向、および第１の方向と交差する第２の方向に沿って配列された複数の色フィルターを備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、第２の方向に延在する複数本のライン状の第１隔壁を形成する工程と、隣り合う第１隔壁間の領域を複数の区画領域に分割するための第２隔壁を液滴吐出法によって形成する工程と、複数の区画領域ごとに、色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、を含む、ことを特徴とする光学装置の製造方法。
また、複数の区画領域には、面積が異なる複数サイズの区画領域が含まれていることが好ましい。
また、複数の区画領域の面積は、複数の色フィルターが形成された領域の中央部と周縁部とで異なることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態１に係る光学装置の一態様を示す斜視図。
【図２】素子基板の平面図。
【図３】図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図。
【図４】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図５】（ａ）、（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図６】（ａ）、（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図７】実施形態２に係る素子基板の平面図。
【図８】（ａ）実施形態３に係る素子基板の平面図、（ｂ）は（ａ）のｑ−ｑ断面における側断面図。
【図９】電子機器としての携帯電話を示す斜視図。
【図１０】変形例３に係る表示パネルの側断面図。
【図１１】表示領域の拡大平面図。
【図１２】光学装置としてのＣＦ基板の平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１５】
（実施形態１）
「表示装置の概要」
図１は、本実施形態に係る表示装置の一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る光学装置としての表示装置１００の概要について説明する。
【００１６】
表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置であり、表示パネル１８、フレキシブル基板２０などから構成されている。表示パネル１８は、素子基板１と対向基板１６との間に、発光層を含む機能層を挟持したボトムエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであり、素子基板１側から表示光を出射する。
表示パネル１８は、マトリックス状に配置された複数の画素からなる表示領域Ｖを備えている。図１の右上に拡大して示すように、表示領域Ｖには、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の各色画素が周期的に配置されており、各画素が出射する表示光によりフルカラーの画像が表示される。なお、各画素は発光画素であるが、画素と称する。また、カラー表示を行う表示パネルに限定するものではなく、モノクロ表示を行う表示パネルであっても良い。表示領域Ｖは、縦長の長方形をなしており、図１を含む各図においては、当該縦方向を第２の方向としてのＹ軸方向とし、縦方向よりも短い横方向を第１の方向としてのＸ軸方向と定義している。また、表示パネル１８の厚さ方向をＺ軸方向としている。また、Ｙ軸（＋）、（−）方向を上下方向とし、Ｘ軸（−）、（＋）方向を左右方向としている。
【００１７】
詳しくは後述するが、表示領域Ｖの各画素における発光層を含む複数の有機層は、液滴吐出法によって形成されている。ここで、表示装置１００によれば、本実施形態に係る特徴ある製造方法によって、各画素間における発光層を含む複数の有機層の厚さが均一化されているため、輝度ムラや、発光色ムラが低減されている。
また、当該製造方法は、特に、汎用性および設計融通性に富んでいるため、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などが変化した場合であっても、常に、最適な製造条件とすることができる。
【００１８】
また、表示パネル１８において、素子基板１が対向基板１６から張出した張出し領域には、フレキシブル基板２０が接続されている。なお、フレキシブル基板とは、例えば、ポリイミドフィルムの基材に鉄箔の配線などが形成された柔軟性を有するフレキシブルプリント回路基板の略称である。また、フレキシブル基板２０には、駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）２１が実装され、その端部には、専用のコントローラーや、外部機器（いずれも図示せず）と接続するための複数の端子が形成されている。
表示パネル１８は、フレキシブル基板２０を介して、外部機器から電力や画像信号を含む制御信号の供給を受けることにより、表示領域Ｖに画像や文字などを表示する。
【００１９】
「表示パネルの詳細な構成」
図２は、素子基板の平面図である。図３は、図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図である。
続いて、表示パネルの詳細な構成について、図２および図３を用いて説明する。
図２は、図１において素子基板１をＺ軸（＋）方向から見たときの平面図である。このため、図１と比べてＸ軸方向が反転している。また、完成状態の素子基板１をこの方向から観察した場合、一様な共通電極（陰極）が観察されることになるが、ここでは、説明の都合上、有機層を形成する前段階における平面態様を示している。
素子基板１の表示領域Ｖには、Ｙ軸方向に延在する複数本のライン状の隔壁７ａと、隣り合う２本の隔壁７ａ間の細長い領域を複数の領域に区画する複数の隔壁７ｂとが形成されている。なお、ライン状の隔壁７ａが第１隔壁であり、隔壁７ｂが第２隔壁である。
また、Ｘ軸方向において隣り合う２本の隔壁７ａと、Ｙ軸方向において隣り合う２つの隔壁７ｂとによって囲まれた領域のことを区画領域Ｐという。つまり、隔壁７ａ間の細長い領域を複数の堰（隔壁７ｂ）で分割した分割領域を区画領域Ｐとしている。
【００２０】
ライン状の隔壁７ａは、Ｘ軸方向において等間隔に形成されており、その間隔は、幅ｗで一定となっている。
隔壁７ｂは、１つの開口部５ｅが１つの区画領域Ｐ内に配置されるように形成されている。換言すれば、１つの区画領域Ｐは、１つの開口部５ｅごとに形成されている。また、開口部５ｅは、画素電極（陽極）の開口部であり、表示領域Ｖにマトリックス状に配置されている。なお、図２では、説明を容易にするために開口部５ｅを円形状としているが、これに限定するものではなく、トラック形状や、楕円、長方形などであっても良い。
また、表示領域Ｖの左端（Ｘ軸（−）側）の２本の隔壁７ａ間に形成された区画領域Ｐの列には赤色の有機ＥＬ層が形成され、その右隣（Ｘ軸（＋）側）の区画領域Ｐの列には緑色の有機ＥＬ層が形成され、その右隣の区画領域Ｐの列には青色の有機ＥＬ層が形成される。以降、区画領域Ｐ列ごとに、この順番で、周期的に各色の有機ＥＬ層が形成される。
【００２１】
ここで、区画領域Ｐの面積は、表示領域Ｖの領域によって異なっている。詳しくは、表示領域Ｖの中央部における区画領域Ｐ１の面積と、周縁部における区画領域Ｐ３の面積とが異なっており、区画領域Ｐ３の面積の方が大きくなっている。また、区画領域Ｐ１の面積と、表示領域Ｖにおいて中央部と周縁部との中ほどに位置する区画領域Ｐ２の面積とが異なっており、区画領域Ｐ２の面積の方が大きくなっている。
これらのサイズ関係を整理すると、区画領域Ｐ１、区画領域Ｐ２、区画領域Ｐ３の順に、面積が大きくなるように設定されている。また、これらの面積調整は、Ｙ軸方向における隔壁７ｂの長さ（幅）を領域ごとに異ならせることによって行われている。
【００２２】
区画領域Ｐ１〜Ｐ３は、表示領域Ｖにおける中央部から周縁部に向かってこの順番に配置されている。詳しくは、表示領域Ｖの中央部に示した長方形状の点線Ｌ１内の領域では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ１となっている。また、点線Ｌ１の外側で、点線Ｌ１よりも一回り大きな点線Ｌ２内の領域では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ２となっている。そして、点線Ｌ２の外側で、表示領域Ｖの外周（点線Ｌ３）内の領域では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ３となっている。
つまり、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐのサイズが区画されている。換言すれば、表示領域Ｖの周縁部から中央部に近づくに従って、区画領域Ｐの面積が小さくなるように分割されている。
これは、表示領域Ｖにおける溶液の乾燥速度は、中央部よりも周縁部で速くなるため、この乾燥速度の均一化を図っているからである。換言すれば、表示領域Ｖにおける溶液の乾燥速度を均一化するために、周縁部から中央部に近づくに連れて、区画領域Ｐの面積が小さくなる分割構成としている。
【００２３】
具体的な区画領域Ｐ１〜Ｐ３の面積比率としては、区画領域Ｐ１の面積を１．０としたときに、例えば、「１．０：１．１：１．３」に設定する。
また、各区画領域Ｐの面積をこの比率にするためには、区画領域Ｐを構成する２つの隔壁７ｂ間の長さ（間隔）を調整することによって行う。換言すれば、隔壁７ｂ間の長さが所期の長さとなるように隔壁７ｂを形成する。
詳しくは、区画領域Ｐ１では２つの隔壁７ｂ間の間隔を長さｇ１とし、区画領域Ｐ２では２つの隔壁７ｂ間の間隔を長さｇ２とし、区画領域Ｐ３では２つの隔壁７ｂ間の間隔を長さｇ３とする。そして、長さｇ１〜ｇ３の比率を、長さｇ１を１．０としたときに、「１．０：１．１：１．３」に設定する。ライン状の隔壁７ａの間隔が幅ｗで一定となっているため、このように隔壁７ｂ間の間隔を長さｇを面積比率と同率で調整することのみにより、所望の面積比率とすることができる。
なお、面積比率や、区画数などは上記数値に限定するものではなく、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などに応じて、適宜変更することができる。
【００２４】
続いて、図３を用いて、表示パネル１８の断面構成について説明する。図３は、図２の区画領域が形成された素子基板１に、有機層、共通電極（陰極）、および対向基板を取り付けた完成状態における側断面図である。
表示パネル１８は、素子基板１、素子層２、平坦化層４、画素電極５、隔壁７ａ、有機ＥＬ層８、共通電極９、接着層１１、対向基板１６などから構成されている。また、素子基板１と対向基板１６とに挟持された部位のことを電気光学層としての機能層１５という。換言すれば、素子層２から接着層１１までの積層構造を機能層１５という。
素子基板１は、透明な無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、無アルカリガラスを用いている。なお、ガラスに限定するものではなく、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などの透明基板を用いても良い。
素子層２には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機ＥＬ層８に電流を流すための駆動トランジスター３などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。なお、画素回路は、好適例として、活性層に低温ポリシリコンを用いているが、アモルファスシリコンを活性層として用いた構成であっても良い。
【００２５】
素子層２の上層（Ｚ軸（＋）方向）には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層４が形成されている。
平坦化層４の上層には、画素ごとに区画されて、第１電極としての画素電極５が形成されている。画素電極５は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層２の駆動トランジスター３のドレイン端子と平坦化層４を貫通するコンタクトホールにより接続されている。
また、画素電極５の上層には、例えば、ＳｉＯ2からなる絶縁層６が形成されており、画素電極５と有機ＥＬ層８とが接触する開口部５ｅを区画している。つまり、画素電極５が絶縁層６から露出した部分を開口部５ｅとしている。
隔壁７ａは、前述したライン状の隔壁であり、断面形状は、画素電極５側が広い台形状になっている。また、隔壁７ａの表面には、撥液化処理が施されている。なお、断面形状は、矩形や、半円状であっても良い。好適例における材料としては、光硬化性のアクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などを用いる。
【００２６】
有機層としての有機ＥＬ層８は、正孔注入層や、発光層などを含む複数の有機（薄膜）層から形成された有機ＥＬ発光層である。
好適例における有機ＥＬ層８は、正孔注入層と、中間層と、各色発光層とを、この順番に積層した構成となっている。
好適例における正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いる。また、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
好適例における中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、トリフェニルアミン系ポリマーを用いても良い。
【００２７】
発光層の材料としては、有機ＥＬ層８Ｒ，８Ｇ，８Ｂごとに、赤色、緑色、青色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。
好適例としては、赤色、緑色、青色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）などを用いても良い。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
【００２８】
第２電極としての共通電極９は、全ての有機ＥＬ層８、および隔壁７を覆って共通に形成された陰極であり、単層構成であっても複数層構成であっても良い。
好適例としては、複数層構成とし、発光層側の薄い下層（電子注入層）を仕事関数が小さい材料（例えば、カルシウム）から形成し、厚い上層を仕事関数が大きい材料（例えば、アルミニウム）から形成する。
接着層１１は、好適例では、熱硬化型のエポキシ系接着剤を用いている。なお、これに限定するものではなく、特に、水分の浸入を防ぐバリア性、および対向基板の接着性を備えた接着剤であれば良く、シリコン系や、アクリル系の接着剤を用いても良い。または、共通電極９の上層に、シリコン窒化膜や、シリコン酸化膜などの無機バリア層をさらに形成した後に、接着層１１を充填する構成であっても良い。
対向基板１６は、機能層１５を封止するためのガラス基板である。または、金属基板を用いても良い。
【００２９】
「表示パネルの製造方法」
図４は、表示パネルの製造工程を示すフローチャート図である。図５（ａ）、（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。図６（ａ）、（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、隔壁７から有機ＥＬ層８の形成を中心に説明する。
【００３０】
まず、ステップＳ１では、フォトリソ法、蒸着法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などの周知の製造方法を用いて、絶縁層６までが作り込まれた素子基板１を形成する。換言すれば、画素電極５、および絶縁層６までが作り込まれて、開口部５ｅが形成された素子基板１を準備する。
ステップＳ２では、フォトリソ法を用いて、複数本のライン状の隔壁７ａを形成する。詳しくは、前述した光硬化性の樹脂を素子基板１の全面にスピンコート法などにより塗布した後、ストライプ状のマスクを用いて露光し、現像することによって複数本のライン状の隔壁７ａを形成する。なお、好適例では、黒色の光硬化性樹脂を用いている。
これにより、図５（ａ）に示すように、Ｙ軸方向に配列した開口部５ｅ列が露出するように、複数本のライン状の隔壁７ａが形成される。換言すれば、Ｙ軸方向に配列した開口部５ｅ列を跨いで複数本のライン状の隔壁７ａが形成される。
【００３１】
ステップＳ３では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、隔壁７ｂを形成する。詳しくは、光硬化性樹脂を含有した溶液を液滴吐出法により所定の位置に塗布した後に、光を照射して形成する。好適例では、液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド５００からＵＶ硬化インク（溶液）を図２のレイアウトに沿って吐出し、紫外線を照射することにより、隔壁７ｂを形成している。
図５（ｂ）は、ＵＶ硬化インクを表示領域Ｖの中程まで吐出配置した状態を示している。当該図では、シングルヘッドの吐出ヘッド５００によって、隔壁７ｂを１つずつ形成する様子が示されているが、所期のレイアウトおよびサイズに沿って、溶液を吐出可能な構成であれば良い。例えば、マルチヘッドの吐出ヘッドを用いて、１行単位で形成することであっても良い。
また、ＵＶ硬化インクの色調は、ＢＭとしての機能を果たすために黒系を基準としているが、隔壁７ｂの形成状態を視認するために隔壁７ａと見分けの付く色調とすることが好ましい。
なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサー法や、ニードルディスペンサー法などのディスペンサー法を用いても良い。
この工程により、図２に示すように隔壁７ｂが形成され、表示領域Ｖに複数の区画領域Ｐが形成される。
【００３２】
ステップＳ４では、開口部５ｅを含む表示領域Ｖの露出面に親液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。この処理により、開口部５ｅを含む表示領域Ｖの露出面に水酸基が導入されて親液性が付与される。
ステップＳ５では、隔壁７ａ，７ｂを含む表示領域Ｖの露出面に撥液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行う。これにより、隔壁７ａ，７ｂを含む表示領域Ｖの露出面にフッ素基が導入されて撥液性が付与される。なお、無機物から構成されている開口部５ｅ、および絶縁層６は、この撥液化処理によって撥液化されることはない。
【００３３】
ステップＳ６では、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに有機ＥＬ層８を形成する。有機ＥＬ層８の形成は、有機層ごとに、溶剤の塗布工程と乾燥工程とを繰り返えすことにより行われる。
まず、第１層目として正孔注入層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質として固形分濃度が０．５％で重量比が１：５０のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含み、溶媒の５０％としてジエチレングリコールモノブチルエーテルと、溶媒の残量として純水（具体的には超純水）とを含有する溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに吐出する。
また、溶液の吐出量は、区画領域Ｐの面積比に合わせて変化させる。換言すれば、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：１．１：１．３」としている。
【００３４】
図６（ａ）は、正孔注入層の溶液を１つの区画領域Ｐに塗布した状態を示している。
液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド５１０から吐出された溶液の液滴ｄは、区画領域Ｐ内に着弾し、当該図に示すように、凸状（水玉状）に塗布（充填）される。なお、液滴ｄが凸状となるのは、区画領域Ｐの底部を形成する開口部５ｅおよび絶縁層６が親液性を有するとともに、側壁を構成する隔壁７ａ，７ｂが撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐに満たされることになる。換言すれば、区画領域Ｐの底部は接触角が小さくてぬれやすく、側壁は接触角が大きくてぬれにくくなっているからである。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。まず、溶液が塗布された状態の素子基板１を真空チャンバーに移して、真空乾燥を行う。これにより、溶液中の溶媒の沸点が下がり、当該溶媒が低温で蒸発することになるため、溶質が析出して正孔注入層が形成される。さらに、残存する溶媒を除去するために熱処理を行う。好適例では、窒素ガス雰囲気下において、約２００℃で約１０分間の熱処理を行う。
また、乾燥工程において、素子基板１を加熱しても良い。例えば、当該基板をホットプレート上に載せて加熱する方法や、表示領域Ｖの上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
【００３５】
次に、第２層目として中間層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質としてポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用い、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用いた溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに正孔注入層の上に吐出する。
また、溶液の吐出量は、正孔注入層の場合と同様に、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：１．１：１．３」としている。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。好適例では、真空乾燥に続いて、窒素ガス雰囲気下における約１３０℃で約１時間の熱処理を行う。
【００３６】
次に、第３層目として発光層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質として赤色、緑色、青色の各色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用い、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用いた色ごとの溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに中間層の上に吐出する。
また、溶液の吐出量は、正孔注入層の場合と同様に、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：１．１：１．３」としている。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。好適例では、真空乾燥に続いて、窒素ガス雰囲気下における約１３０℃で約１時間の熱処理を行う。
【００３７】
図６（ｂ）には、このようにして、区画領域Ｐ内に正孔注入層、中間層、発光層の３層が積層された積層構造からなる有機ＥＬ層８が示されている。
ステップＳ７では、全ての有機ＥＬ層８、および隔壁７を覆って、共通電極９（図３）を形成する。好適例では、２層構成としており、電子注入層としてのカルシウムと、陰極層としてのアルミニウムとをこの順番で蒸着法により積層して、共通電極９を形成している。なお、図４のフローチャートでは省略しているが、共通電極９の形成後、接着層１１により対向基板１６が貼り合わされて表示パネル１８が完成する。
【００３８】
また、赤色、緑色、青色の各色で用いる溶媒が異なる場合には、溶媒の乾燥速度に応じて、さらに吐出量を調整しても良い。例えば、緑色のみにテトラメチルベンゼンを溶媒として用いる場合には、溶媒量を重量比４０％とするとともに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への溶液の吐出量を「１．３：１．４：１．６」とする。
このように、沸点（蒸気圧）が異なる溶媒を用いた場合には、溶媒ごとの乾燥速度に差が生じるが、この乾燥速度の違いを吐出量によって調整することができる。換言すれば、溶媒の種類に応じて吐出量を調整することによって、各色間における乾燥速度の均一化を図ることができる。
【００３９】
「好適例における寸法」
上述した好適例による各部の寸法について、図３、および図６（ｂ）を用いて紹介しておく。
まず、開口部５ｅの直径は約１００μｍとした。また、開口部５ｅを区画する絶縁層６の厚さは、約１００ｎｍである。
また、隔壁７ａの高さ（厚さ）は約２μｍである。隔壁７ｂの高さも略同等である。
有機ＥＬ層８を構成する正孔注入層、中間層、発光層の厚さは、それぞれ約５０ｎｍ、約１０ｎｍ、約１００ｎｍとした。
また、共通電極９の厚さは、カルシウムの厚さが約５ｎｍ、アルミニウムの厚さが約３００ｎｍとした。
【００４０】
上述した通り、本実施形態に係る表示装置１００、および製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
上述した製造方法によれば、複数本のライン状の隔壁７ａを形成した後に、隣り合う２つの隔壁７ａ間の領域を複数の区画領域Ｐに分割するための堰となる隔壁７ｂを液滴吐出法によって形成している。換言すれば、隔壁７ｂの形成位置を変更（調整）することにより、区画領域Ｐの大きさを自在に調整することができる。
よって、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の区画領域Ｐが広くなるように、最適化することができる。
【００４１】
つまり、本実施形態の製造方法によれば、専用の隔壁設定となってしまうため汎用性に乏しかった従来の方法と異なり、隔壁７ｂの形成位置を調整することにより多様な条件に合せて、区画領域Ｐの面積を最適化することができる。
従って、汎用性に富んだ表示装置１００の製造方法を提供することができる。
さらに、改良された新たな有機材料を用いる場合であっても、隔壁７ｂの形成位置を調整することにより、当該材料の特性に応じて、区画領域Ｐの面積を最適化することもできる。
従って、設計融通性に富んだ表示装置１００の製造方法を提供することができる。
さらに、ライン状の隔壁７ａをフォトリソ法によって形成しているため、当該隔壁間の距離や、断面形状、直線性などを設計値に基づいて、精度良く形成することができる。
よって、各区画領域Ｐの面積精度は、隔壁７ｂのみに略依存することになるため、製造バラツキを抑制することができる。
また、区画領域Ｐの面積、および体積は、２つの隔壁７ｂ間の間隔長さｇのみで略規定されるため、設計が容易となり、また製造時における管理も容易となるという効果もある。さらに、近年のインクジェット装置の吐出精度は優れており、略設定値通りの吐出位置、吐出量で隔壁７ｂを形成することが可能であるため、所期の面積の区画領域Ｐを容易に形成することができる。
【００４２】
表示装置１００によれば、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐの面積が区画領域Ｐ１〜Ｐ３の複数段階に区画されている。
さらに、溶液の吐出量を区画領域Ｐの面積比に合わせて変化させて、単位面積当りの溶液量を同一としている。
よって、乾燥工程において、溶液中の溶媒が表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の方で早く乾燥（蒸発）しても、各区画領域の面積と溶液量とのバランスが取られているため、全ての区画領域における乾燥時間は略同一となる。換言すれば、全ての区画領域における乾燥時間が略均一となるように、各区画領域の面積と溶液量とが定められている。
これにより、乾燥工程における溶液の対流の程度（度合）も、全ての区画領域において同程度のものとなるため、各区画領域に形成される有機ＥＬ層８の膜厚が均一化される。
従って、輝度ムラや、発光色ムラを低減した表示装置１００を提供することができる。
【００４３】
（実施形態２）
図７は、実施形態２に係る素子基板の平面図であり、図２に対応している。
以下、本発明の実施形態２に係る表示装置について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
本実施形態の表示装置は、実施形態１の素子基板１とは異なる構成の素子基板３１を備えている。詳しくは、区画領域Ｐの分割態様が実施形態１の素子基板１と異なる。また、製造工程の一部も異なっている。それ以外は、表示装置１００での説明と同様である。
【００４４】
素子基板３１の表示領域Ｖでは、１つ、または複数の開口部５ｅごとに区画領域Ｐが形成されている。換言すれば、１つの区画領域Ｐには、１つ、または複数の開口部５ｅが配置されている。
詳しくは、表示領域Ｖの左端（赤色）の区画領域列では、上下の区画領域Ｐ１３には、３つの開口部５ｅが配置されている。換言すれば、区画領域Ｐ１３は、３つの開口部５ｅに共通の隔壁（共通バンク）となっている。また、当該区画領域Ｐ列における中央の区画領域Ｐ１２には、２つの開口部５ｅが配置されている。換言すれば、区画領域Ｐ１２は、２つの開口部５ｅの共通バンクとなっている。
また、当該（赤色）区画領域列の右隣における緑色の区画領域列では、全ての区画領域が区画領域Ｐ１２となっている。緑色の右隣における青色の区画領域列でも、同様に、全ての区画領域が区画領域Ｐ１２となっている。
【００４５】
そして、青色の右隣における赤色の区画領域列では、上下の区画領域が区画領域Ｐ１２となっており、その間の４つの区画領域が区画領域Ｐ１１となっている。区画領域Ｐ１１には、１つの開口部５ｅが配置されている。
このように、表示領域Ｖには、１つ、または複数の開口部５ｅが配置された区画領域Ｐ１１〜Ｐ１３が形成されている。区画領域Ｐ１１〜Ｐ１３の面積は、この順番に大きくなっており、表示領域Ｖの４隅には、最も面積の大きい区画領域Ｐ１３が配置されている。
また、表示領域Ｖの中央部の点線Ｌ１１内の領域には、最も面積が小さい区画領域Ｐ１１のみが配置されている。また、中央部の点線Ｌ１１の外側で、点線Ｌ１２の内側の領域には、略中間の面積の区画領域Ｐ１２のみが配置されている。
つまり、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐのサイズが区画されている。換言すれば、表示領域Ｖの周縁部から中央部に近づくに従って、区画領域Ｐの面積が小さくなるように分割されている。
【００４６】
「製造方法について」
続いて、素子基板３１の製造方法について、実施形態１と異なる点を中心に説明する。
本実施形態では、図４のフローチャートの撥液化処理（ステップＳ５）を省略することを実現している。
このために、ステップＳ２の第１隔壁形成工程、およびステップＳ３の第２隔壁形成工程を変更している。
詳しくは、ステップＳ２の隔壁７ａの形成工程では、フッ素系ポリマーなどの撥液剤が添加された光硬化性の樹脂を用いて、隔壁７ａを形成している。また、ステップＳ３の隔壁７ｂの形成工程でも、撥液剤が添加された光硬化性樹脂の溶液を用いて、隔壁７ｂを形成している。これらの点以外は、実施形態１の製造方法と同様である。
なお、ステップＳ３の隔壁７ｂの形成工程では、撥液剤が添加されていない溶液を用いても良い。これは、仮に、隔壁７ｂの接触角が小さくて、隣の区画領域内に溶液が入ったとしても、隣の区画領域の色調も同一色であるため、実害がないからである。
また、本実施形態の製造方法を実施形態１の素子基板１に適用しても良く、この場合であっても同様な作用効果を得ることができる。
【００４７】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
１つ、または複数の開口部５ｅごとに区画領域Ｐを形成する方法であっても、隔壁７ｂの形成位置を変更（調整）することにより、区画領域Ｐの大きさを自在に調整することができる。また、表示領域Ｖの周縁部においても、最も乾燥速度が速い４隅に、最も面積の大きい区画領域Ｐ１３が配置されているため、乾燥速度の均一化を図り易い。
よって、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の区画領域Ｐが広くなるように、最適化することができる。
従って、汎用性、および設計融通性に富んだ表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００４８】
さらに、共通バンク化した区画領域Ｐ１２，１３が含まれるため、実施形態１の構成よりも、隔壁７ｂの数を減らすことができる。
また、図４の工程における撥液化処理（ステップＳ５）を省略することができる。
従って、製造効率に優れた表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００４９】
（実施形態３）
図８（ａ）は、実施形態３に係る素子基板の平面図であり、図２に対応している。図８（ｂ）は、（ａ）のｑ−ｑ端面における側断面図である。
以下、本発明の実施形態３に係る表示装置について説明する。なお、実施形態１および２と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
本実施形態の表示装置は、実施形態１の素子基板１とは異なる製造方法の素子基板４１を備えている。詳しくは、隔壁７ａ，７ｂの製造方法、および処理が実施形態１の素子基板１と異なる。それ以外は、上記各実施形態での説明と同様である。
【００５０】
素子基板４１の構成は、実施形態１の素子基板１と同様である。
また、製造方法は、実施形態２の製造方法と略同じであり、ステップＳ３の第２隔壁形成工程のみが異なる。
まず、ステップＳ２の第１隔壁形成工程は、実施形態２の製造方法と同一である。詳しくは、ステップＳ２の隔壁７ａの形成工程では、撥液剤が添加された光硬化性の樹脂を用いて、隔壁７ａを形成している。
また、ステップＳ３の第２隔壁形成工程では、撥液剤が添加された光硬化性樹脂含有溶液（第１溶液）と、撥液剤が添加されていない光硬化性樹脂含有溶液（第２溶液）とを選択的に使い分けている点が、上記各実施形態での説明と異なる。この点以外は、実施形態１の製造方法と同様である。
詳しくは、図８（ａ）に示すように、表示領域Ｖの最上部の隔壁７ｂ（縦ストライプハッチング）と、最下部の隔壁７ｂとは、撥液剤が添加されていない第２溶液を用いて形成し、それ以外の隔壁７ｂを撥液剤が添加された第１溶液で形成している。換言すれば、表示領域Ｖの周縁部に面した隔壁７ｂ（２点鎖線で囲んだ隔壁７ｂ）のみを撥液剤が添加されていない第２溶液を用いて形成する。
【００５１】
図８（ｂ）は、この方法で形成された区画領域Ｐに溶液を塗布したときの状態を示している。当該図に示すように、右側の隔壁７ｂ（縦ストライプハッチング）に掛かる部分では、接触角が小さくてぬれやすくなっているため、液滴が隔壁７ｂ上にまで広がっている。換言すれば、液滴の表面積が大きくなっている。
また、本実施形態の製造方法を実施形態２の素子基板３１に適用しても良く、この場合であっても同様な作用効果を得ることができる。
【００５２】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
表示領域Ｖの最上部および最下部の隔壁７ｂの接触角を小さくすることにより、当該隔壁に対応した区画領域Ｐにおける液滴の表面積を大きくすることができるため、乾燥速度の均一化を図り易くなる。
また仮に、隔壁７ｂを越えて、溶液がはみ出したとしても、表示に寄与しない表示領域Ｖの外側の領域となるため、実害はない。
従って、汎用性、および設計融通性に富んだ表示装置１００の製造方法を提供することができる。
また、図４の工程における撥液化処理（ステップＳ５）を省略することができる。
従って、製造効率に優れた表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００５３】
（電子機器）
図９は、上述の表示装置を搭載した携帯電話を示す斜視図である。
上述した表示装置１００は、例えば、電子機器としての携帯電話２００に搭載して用いることができる。
携帯電話２００は、本体部３５０と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部３７０とを備えるとともに、実施形態１に係る表示装置１００を内蔵している。詳しくは、表示装置１００は、表示部３７０に組み込まれており、表示パネル１８が表示画面となっている。また、本体部３５０には、複数の操作ボタンを有する操作部３６５が設けられている。
つまり、携帯電話２００は、輝度ムラや、発光色ムラを低減した表示装置１００を搭載している。従って、安定した画質の携帯電話２００を提供することができる。
なお、表示パネル１８の素子基板には、実施形態２，３に係る素子基板３１，４１を用いても良く、この場合であっても、同様な作用効果を得ることができる。
【００５４】
また、携帯電話の態様は、図９に示した折畳み式に限定するものではなく、表示パネルを備えた携帯電話であれば良い。
例えば、本体部３５０に対して表示部３７０が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、液晶パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。
【００５５】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５６】
（変形例１）
図４、および図５を用いて説明する。
上記各実施形態では、隔壁７ｂを形成して区画領域Ｐが区画した後に、有機ＥＬ層８を形成していたが、この順番に限定するものではなく、少なくとも発光層が区画領域Ｐに液滴吐出法によって形成されることであれば良い。換言すれば、隔壁７ｂを形成する前に、有機ＥＬ層８の一部を形成しても良い。
例えば、図５（ａ）に示す、ストライプ状の隔壁７ａ形成（ステップＳ２）に続いて、液滴吐出法を用いて、正孔注入層を２つの隔壁７ａ間にライン状に形成しても良い。
また、正孔注入層の上に、さらに、中間層を形成しても良い。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００５７】
（変形例２）
また、変形例１の構成に限定するものではなく、発光層を形成した後に、隔壁７ｂを形成することであっても良い。
詳しくは、ストライプ状の隔壁７ａ形成（ステップＳ２）に続いて、液滴吐出法を用いて、正孔注入層、中間層、発光層を２つの隔壁７ａ間にライン状に積層形成しても良い。そして、ライン状の発光層の上に隔壁７ｂを形成して区画する。
この構成によれば、区画領域Ｐの長さｇを、赤色、緑色、青色の順で長くするように区画することにより、各色の寿命の均一化を図ることができる。
【００５８】
（変形例３）
図１０は、変形例３に係る表示パネルの側断面図であり、図３に対応している。図１１は、表示領域の拡大平面図である。
上記各実施形態の製造方法を共振構造の有機ＥＬ表示パネルに適用しても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
変形例３の表示パネル３８には、ＲＧＢの各色画素が出射する所定の波長域を有する表示光を選択的に共振させるための光共振器構造が設けられている。詳しくは、素子基板１の機能層１５側にハーフミラー層３５を備えており、光共振器構造は、ハーフミラー層３５と、反射性を有する共通電極９とによって構成されている。
また、ハーフミラー層３５は、誘電体多層膜であり、好適例としては、ＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜とが交互に積層された多層膜である。
【００５９】
ここで、図１１に示すように、ＲＧＢの各色画素における各区画領域の長さｇを、赤色の区画領域の長さｇ１１、緑色の区画領域の長さｇ１２、青色の区画領域の長さｇ１３の順に長くなるように区画する。換言すれば、赤色の区画領域の長さｇ１１が一番短く、青色の区画領域の長さｇ１３が一番長くなるように隔壁７ｂを形成する。また、吐出する各溶液の量は、同一量とする。
この製造方法によれば、図１０に示すように、各色の有機ＥＬ層８の厚さを異ならせることにより、共振器長を調整することができる。換言すれば、区画領域の長さｇ調整によって、共振器長を調整することができる。
従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
これにより、ハーフミラー層３５から共通電極９までの距離である共振器長を、青色、緑色、赤色の順に長くなるように設定することができるため、各画素からは、光共振器構造において共振する波長域の光（Ｂ，Ｇ，Ｒ）が選択的に増強されて出射される。
さらに、この共振器長の調整に、実施形態１の周縁部側の面積を広くする調整を加味して、区画領域の長さｇを設定しても良い。これによれば、共振構造を実現するとともに、色ごとの有機ＥＬ層８の膜厚の均一化を図ることができる。
【００６０】
（変形例４）
図３を用いて説明する。
上記各実施形態では、表示パネル１８をボトムエミッション型の有機ＥＬパネルとして説明したが、トップエミッション型の有機ＥＬパネルであっても良く、有機層を塗布および乾燥して形成する光学装置であれば良い。
詳しくは、表示パネル１８をトップエミッション型とする場合、画素電極５の素子基板１側に全反射層を形成する。また、共通電極９を薄くしてハーフミラー層とする。これにより、対向基板１６側から、表示光が出射されることになる。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００６１】
（変形例５）
図１２は、光学装置としてのＣＦ基板の平面図であり、図２に対応している。
上記各実施形態では、有機ＥＬパネルである表示パネル１８を用いて説明したが、光学装置としてのＣＦ基板に適用することであっても良い。
変形例５に係るＣＦ基板１１６は、液晶パネルや、トップエミッション型の有機ＥＬパネルに用いられるカラーフィルターが形成された基板である。
上記各実施形態の製造方法をＣＦ基板１１６に適用する場合、素子基板１は透明な無垢基板を用いる（ステップＳ１）。また、図４の有機層形成工程（ステップＳ６）が変更となる。そして、共通電極形成工程（ステップＳ７）は不要となる。それ以外の工程は、同一である。
詳しくは、有機層形成工程（ステップＳ６）では、色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって１回塗布するだけで良い。換言すれば、有機層は１層のみの構成となる。また、図１２では、複数の色フィルターが形成された領域を領域Ｖ（表示領域Ｖに相当する）としており、ＲＧＢの３色のカラーフィルターをストライプ状に配置しているが、さらに色数が多くても良い。また、デルタ配置などの異なる色配置であっても良い。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００６２】
１，３１，４１…基板としての素子基板、５…第１電極としての画素電極、５ｅ…開口部、７…隔壁、７ａ…第１隔壁としての隔壁、７ｂ…第２隔壁としての隔壁、８，８Ｒ，８Ｇ，８Ｂ…複数の有機層としての有機ＥＬ層、９…第２電極としての共通電極、１８，３８…表示パネル、１００…光学装置としての表示装置、１１６…光学装置としてのＣＦ基板、２００…電子機器としての携帯電話、Ｐ，Ｐ１〜Ｐ３，Ｐ１１〜Ｐ１３…区画領域、Ｖ…表示領域。
【図１】
2011054512.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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