(57)【要約】【課題】金属パターン層の材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターン層のパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価でしかも実用可能なタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムを用いたタッチパネルを提供する。【解決手段】透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であるタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムを用いたタッチパネル。【選択図】図１
2011070536.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが１３Å以下である、タッチパネル用電極フィルム。
【請求項２】
透明基材の一方の面に透明導電性の電極を有する２枚の電極フィルムが、スペーサを介して互いに電極を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該２枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムが前記請求項１に記載のタッチパネル用電極フィルムであることを特徴とする、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置等の画面上に配置されるタッチパネル、及び該タッチパネルに用いられる電極フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置の画面上に装着された入力装置として使用されている。タッチパネルの形式は、入力位置の検出方法により、静電容量式、光学式、超音波式、薄膜抵抗式等が提案されているが、特に薄膜抵抗式のタッチパネルは、構造や検出方法が単純であることから広く普及している。一般的な薄膜抵抗式のタッチパネルは、表面にＩＴＯ等の透明導電膜を形成した２枚の電極フィルムと、該電極フィルムのいずれか一方の透明導電膜側に形成された絶縁体のスペーサとを備え、それぞれの電極フィルムの透明導電膜同士を対向させ、該スペーサを介して一定間隔を隔てるように構成されている。
【０００３】
こうした従来の薄膜抵抗式のタッチパネルには、光の透過率を向上させるという課題があった。この課題に対し、特許文献１では、基材上に形成された透明導電膜にフォトリソグラフィー法等によって欠落部を設けることにより光の透過率を向上させた電極フィルムが提案されている。
【０００４】
また、従来の薄膜抵抗式のタッチパネルには、ＩＴＯ等の透明導電膜が形成されているが、該透明導電膜は、脆く、曲げ等によって亀裂が生じたり、剥離したりすることがあり、十分な導電性が得られないという問題があった。この問題に対し、特許文献２では、透明導電膜を用いない電極フィルム、具体的には、レジスト膜で格子網目状の開口パターンを形成し、その開口パターンに無電解メッキで格子網目状の金属膜を形成してなる電極フィルムが提案されている。
上記金属膜は、格子網目状の開口パターンを有することで可撓性が付与されるため、曲げ等による亀裂の発生や剥離の問題を解消することができる。
【０００５】
また、ベースシート（基材）上に設けた金属箔を所定パターン状にケミカルエッチングして電極パターンを形成する方法もある（例えば、特許文献３）。
上記特許文献２及び特許文献３においては、金属膜及び金属箔の金属材料としては、銅、ニッケル、銀、金等、種々の金属を例示することができる。しかしながら、該金属材料として、一般に多用されているのは銅であり、銅を用いることにより、コスト高となるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−３２６１５２号公報
【特許文献２】特開２００４−１９２０９３号公報
【特許文献３】特開２００９−１３４４７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
電極フィルムの低コスト化のためには、銅（箔）よりも安価なアルミニウム（箔）の採用が考えられる。
そこで、本発明者らは、低コスト化を狙い、金属膜（金属パターン層）の金属材料として、銅箔よりも安いアルミニウム箔を用いた電極フィルムの検討を行った。しかしながら、検討の結果、実用化するには、実は、次の解決すべき課題があることがわかった。尚、以下の課題は、パターンの線幅及び厚みの寸法が１００μｍ程度以上の場合には目立たない。高透視性を追及すべく、パターンの線幅及び厚みの寸法が１０〜２０μｍ程度、又はそれよりも小さい寸法に微細化した場合において、特に顕在化してくるものであることも判明した。
【０００８】
（ａ）アルミニウム自体の活性が高く、表面にアルミニウムの酸化物皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。
（ｂ）エッチング液に接触した領域の酸化物皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難である。
（ｃ）上記（ａ）及び（ｂ）の結果として、金属パターン層のライン部の輪郭に、ギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線が発生し、ラインのパターン精度が、銅箔の場合に比べてアルミニウム箔は劣る。
【０００９】
以上の結果、アルミニウム箔では銅箔と比べて微細なパターン（例えばライン幅１０〜２０μｍ、パターンの厚み１０〜２０μｍ程度）が得られない。そして、アルミニウムパターン層のライン部の輪郭に発生する、ギザは光透過性を実現する開口部の面積率のムラとなり、断線は導電性の低下につながる。
【００１０】
ここで、図５、及び図６を参照して、アルミニウム箔をケミカルエッチングでアルミニウムパターン層とする際の不安定なエッチングと、それによって発生するパターン精度不良を説明する。
【００１１】
図５（ａ）はエッチングによる腐食が進行する前の状態を示し、図５（ｂ）はエッチングによる腐食が進行中の状態を示す。図５（ａ）及び図５（ｂ）では、エッチング液７１でレジストパターン７２の非形成部の領域において露出しているアルミニウム箔７４をエッチングする様子を示す。
図５（ａ）及び図５（ｂ）において、アルミニウム箔積層体７５は、基材１の上面に透明接着剤層４を介してアルミニウム層７３の上面及び下面、即ち、表裏両面にアルミニウムの酸化物皮膜３を有するアルミニウム箔７４が設けられている。
【００１２】
そして、図５（ｂ）のように、エッチングが進行すると、レジストパターン７２の非形成部でエッチング液７１に接触するアルミニウム箔７４の露出部分の酸化物皮膜３は、露出部分の全面で均一にエッチングが進行せず、部分的にエッチングが先行し、この腐食先行部分７６からアルミニウム層７３のエッチングがなされて行く。
【００１３】
この結果、エッチングが完了した状態では、図６の平面図にて概念的に示すように、アルミニウムパターン層２のラインには、ギザや断線などのパターン精度不良が多発する。
【００１４】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、金属パターン層の材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターン層のパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価でしかも実用可能なタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムを用いたタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明基材の一方の面に形成したアルミニウムパターン層からなる電極の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することにより、上記課題が解決されるという知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明に係るタッチパネル用電極フィルムは、透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であることを特徴とする。
【００１６】
本発明によれば、少なくとも透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能となり、エッチング品質が改善される。そのため、アルミニウムパターン層のライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、導電性のバラツキやヘーズ（曇価）の上昇を抑制することができる。
この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価なタッチパネル用電極フィルムを実用化できる。
また、製造面でも、アルミニウムの酸化物皮膜はそのままでケミカルエッチングできるのでその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコスト高を避けることができる。
【００１７】
また、本発明に係るタッチパネルは、透明基材の一方の面に透明導電性の電極を有する２枚の電極フィルムが、スペーサを介して互いに電極を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該２枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムが前記本発明に係るタッチパネル用電極フィルムであることを特徴とする。
【００１８】
本発明によれば、タッチパネルの少なくとも一方の電極フィルムに本発明に係る電極フィルムを用いることにより、光透過性及び導電性に優れたタッチパネルを低コストで提供することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のタッチパネル用電極フィルムによれば、少なくとも透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能となり、エッチング品質が改善される。そのため、アルミニウムパターン層のライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、導電性のバラツキやヘーズ（曇価）の上昇を抑制することができる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価なタッチパネル用電極フィルムを実用化できる。
また、製造面でも、アルミニウムの酸化物皮膜はそのままでケミカルエッチングできるのでその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコスト高を避けることができる。
更に、タッチパネルの少なくとも一方の電極フィルムに本発明に係る電極フィルムを用いることにより、光透過性及び導電性に優れたタッチパネルを低コストで提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係るタッチパネル用電極フィルムの一例を模式的に示した断面図である。
【図２】本発明に係るタッチパネル用電極フィルムの他の一例を模式的に示した断面図である。
【図３】図２に示すタッチパネル用電極フィルムを入力側の電極フィルムとして配置し、図１に示すタッチパネル用電極フィルムを表示装置側の電極フィルムとして配置したタッチパネルを模式的に示した断面図である。
【図４】図１に示すタッチパネル用電極フィルムを入力側の電極フィルムとして配置したタッチパネルを模式的に示した断面図である。
【図５】アルミニウムパターン層をエッチング時に、パターン精度不良が生じる原因を説明する断面図である。
【図６】アルミニウムパターン層のパターン精度不良を概念的に説明する平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下において本発明を詳しく説明する。
Ｉ．タッチパネル用電極フィルム
本発明に係るタッチパネル用電極フィルム（以下、単に「電極フィルム」とも呼称する）は、透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であることを特徴とする。
【００２２】
本発明によれば、少なくとも透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能となり、エッチング品質が改善される。そのため、アルミニウムパターン層のライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、導電性のバラツキやヘーズ（曇価）の上昇を抑制することができる。
この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価なタッチパネル用電極フィルムを実用化できる。
また、製造面でも、アルミニウムの酸化物皮膜はそのままでケミカルエッチングできるのでその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコスト高を避けることができる。
【００２３】
〔層構成〕
本発明に係るタッチパネル用電極フィルム（以下、単に電極フィルムともいう）の層構成について図面を用いて説明する。
本発明に係る電極フィルムの一例の断面図を図１で概念的に示す。なお、図１及び図２に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を面方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張し、且つアルミニウムパターン層２乃至アルミニウム箔７４厚みよりも酸化物皮膜３の厚みを大幅に誇張して図示してある。図１に示す電極フィルム１０は、本発明に係る電極フィルムの一形態であり、透明基材１の一方の面に、透明接着剤層４を介して、アルミニウムパターン層２が設けられている。そして、該アルミニウムパターン層がタッチパネル用透明電極を構成する。該アルミニウムパターン層２の透明基材側の面（以下、下面ともいう）、及び透明基材側とは反対側の面（以下、上面ともいう）の表面にはアルミニウムの酸化物皮膜３が形成されており、少なくとも透明基材側とは反対側の面（上面）の酸化物皮膜の厚みが１３Å以下となっている。
尚、透明接着剤層４はアルミニウムパターン層の開口部も含めて透明基材１の全面に形成されている。
また、図２に示すように透明基材１のアルミニウムパターン層２側とは反対側の面上には、ハードコート層や反射防止層（ＡＲ層）、防眩層（ＡＧ層）等の光学機能層５が一層又は２層以上設けられていてもよい。
以下、本発明の電極フィルムについて、透明基材から順に説明する。
【００２４】
［透明基材］
透明基材１は、可視領域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でも良い。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、可撓性のある樹脂フィルム（乃至シート）が好ましい。尚、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
【００２５】
上記樹脂フィルム、樹脂板の材料として用いる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい。
【００２６】
透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択することができる。可撓性のある樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。また、樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、５００〜５０００μｍ程度である。
【００２７】
なお、透明基材の材料として用いる樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加することができる。
また、該透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００２８】
［アルミニウムパターン層］
アルミニウムパターン層２は、透明基材上にアルミニウムで形成したパターン層であり、該層自体は不透明だが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、タッチパネル電極として要求される導電性と光透過性とを両立させた層である。しかも、本発明のアルミニウムパターン層２は、少なくとも前記基材側とは反対側の面（上面）に特定の厚み、即ち１３Å以下のアルミニウムの酸化物皮膜３を有する。
【００２９】
アルミニウムパターン層のアルミニウムは純粋なアルミニウム単体の他、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でもよく、これらをまとめて本発明ではアルミニウムという。アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は高い方が好ましく、該アルミニウムの純度は９９．０％以上であることが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターン層は、ＪＩＳ  Ｈ４１６０（アルミニウム及びアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ  Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。
【００３０】
なお、アルミニウムパターン層はアルミニウム箔から形成するのではなく、基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用しても良い。
【００３１】
アルミニウムパターン層の厚みは、導電性、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと導電性、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。
【００３２】
アルミニウムパターン層の平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ（格子乃至網）形状、ストライプ（縞乃至平行線群）形状などの導電性と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部又は線条部）となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。
【００３３】
パターンのライン部のライン幅は例えば５〜５０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。
【００３４】
（パターン形成）
アルミニウムパターン層のパターンを形成するには、透明基材の一方の面にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電極フィルムに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
【００３５】
アルミニウムパターン層をケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択し用いれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
エッチングは、アルミニウム層の上面のレジストパターン非形成部におけるアルミニウムの酸化物皮膜も含めて行う。エッチングの前処理として、該上面のアルミニウムの酸化物皮膜の除去は特に必要ない。そして、レジストパターン形成部に対応した、上面や下面のアルミニウムの酸化物皮膜３は、アルミニウムパターン層２の上面や下面の酸化物皮膜３として残る。
【００３６】
［アルミニウムの酸化物皮膜］
アルミニウムの酸化物皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化物皮膜は箔の上面及び下面、即ち、表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターン層の少なくとも上面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましく１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。
上面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、該酸化物皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、銅を安価なアルミニウムに変更したが故のパターン精度不良を回避できる。
【００３７】
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法により製造される。アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温（２０℃、５０％ＲＨ前後）で製造保管することによって、活性なアルミニウムの表面には不可逆的にアルミニウムの酸化物皮膜が形成される。該酸化物皮膜は、本発明の様に薄い酸化物皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化物皮膜となる。
【００３８】
また、アルミニウムパターン層上面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、つまり酸化物皮膜が存在しなくても良い。
ただ、アルミニウムの酸化物皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中において、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化乃至は腐食が進行することを防止する機能を有する。そのため、この点において、アルミニウムパターン層上面には、緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化物皮膜を２〜３Å程度の厚みで形成しておいてもよい。
【００３９】
なお、上面にアルミニウムの酸化物皮膜が存在しないアルミニウムパターン層は、真空中、又は不活性気体中で、パターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化物皮膜生成前に該アルミニウム層の上面を樹脂被覆し、酸化を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウムの酸化物皮膜が存在しないアルミニウムパターン層となる。
【００４０】
アルミニウムの酸化物皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種方法があるが、アルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているため、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。
【００４１】
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化物皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため、焼鈍工程を省略することは好ましくない。
【００４２】
なお、アルミニウムの酸化物皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定する。
【００４３】
アルミニウムの酸化物皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターン層のパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化物皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化物皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。尚、下面のアルミニウムの酸化物皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化物皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状におけるギザ発生への寄与は無視できるため、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。但し、該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化物皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、又開口部の透明性を低下させることも有り得る。このため、下面のアルミニウム酸化物皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化物皮膜の膜厚も上面と同様に１３Å以下とする。尚、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化物皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚のアルミニウム酸化物皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐食液による着色から保護することもできる。
【００４４】
［透明接着剤層］
透明接着剤層４は、アルミニウムパターン層を透明基材に固定するための層であり、例えば、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、アルミニウムパターン層をアルミニウム蒸着で透明基材上に直接積層したアルミニウム層から形成する場合には省略できる。
【００４５】
透明接着剤層としては、アルミニウムパターン層の開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン系樹脂接着剤、アクリル系樹脂接着剤、エポキシ系樹脂接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン系樹脂接着剤、例えば２液硬化型ウレタン系樹脂接着剤は、接着力などの点で好ましい。２液硬化型ウレタン系樹脂接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これにポリイソシアネート硬化剤を用いた接着剤を使用できる。ポリオールとしては、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどが挙げられる。また、ポリイソシアネート硬化剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート系硬化剤、キシリレンジイソシアネート系硬化剤、ヘキサメチレンジイソシアネート系硬化剤などが挙げられる。ポリオール、及びポリイソシアネート硬化剤は、各々複数種使用してもよい。
【００４６】
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、アルミニウム箔と透明基材とを接着剤を介する様に積層することで形成できる。該形成法は、塗工法、印刷法などである。
【００４７】
［その他の層］
本発明の電極フィルムは、透明基材１のアルミニウムパターン層２側とは反対側の面上に防眩機能、反射防止機能等の光学機能、或いは耐擦傷機能、防汚染機能、撥水機能、帯電防止機能、抗菌機能等の其の他機能を有する機能層５が設けられていても良い。特に、光学機能を有する機能層を光学機能層とも呼称する。該機能層は、単層の他、多層として形成してもよい。
＜耐擦傷機能層＞
耐擦傷機能（ハードコート）層は、ＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能（ハードコート）層は、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。また、電離放射線としては、紫外線、電子線等が代表的なものであるが、電離放射線硬化性樹脂を紫外線硬化性樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤として増感剤を添加することができる。なおここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。耐擦傷機能（ハードコート）は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記透明基材上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
【００４８】
＜防眩層＞
防眩層（Ａｎｔｉ  Ｇｌａｒｅ層、略称してＡＧ層）は、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形版の押圧等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、前記の耐擦傷機能（ハードコート）層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
【００４９】
＜反射防止層＞
反射防止層（Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ層、略称してＡＲ層）は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、当該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高（低）屈折率層とは、当該層と隣接する層（例えば、低（高）屈折率層）と比較して当該層の屈折率が相対的に高（低）いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、前記の耐擦傷機能（ハードコート）層の項で記載した硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
【００５０】
本発明に係る電極フィルムのアルミニウムパターン層の表面抵抗値は、１００〜１０００Ω／□、更に好ましくは３００〜５００Ω／□とする。該表面抵抗値が上記範囲よりも小さい場合には、適宜調整し上記範囲内とする。調整方法としては、例えば、アルミニウムパターン層の膜厚を薄膜化する、透明基材側とは反対側の面の酸化物皮膜の膜厚を前記規定の範囲内（１３Å以下）で厚くする、アルミニウムパターン層に用いるアルミニウム箔のアルミニウム純度を低下させる（アルミニウムの合金化）、アルミニウムパターン層の細線化、及び高開口率化等が挙げられる。
尚、上記表面抵抗値は、抵抗率計・ロレスタＥＰＭＣＰ−Ｔ３６０型（三菱化学アナリテック社製）を用いて４端子４探針法で測定することができる。
【００５１】
また、本発明に係る電極フィルムの可視光透過率は、７０％以上とすることができる。
尚、上記可視光透過率は、紫外可視近赤外分光光度計ＭＰＣ−３１００（島津製作所社製）で測定することができる。
【００５２】
ＩＩ．タッチパネル
本発明に係るタッチパネルは、透明基材の一方の面に透明導電性の電極を有する２枚の電極フィルムが、スペーサを介して互いに電極を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該２枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムが前記本発明に係るタッチパネル用電極フィルムであることを特徴とする。
【００５３】
本発明によれば、タッチパネルの少なくとも一方の電極フィルムに上述した本発明に係る電極フィルムを用いることにより、光透過性及び導電性に優れたタッチパネルを低コストで提供することができる。
【００５４】
本発明に係るタッチパネル５０Ａは、図３及び図４にその一例を示すように、２枚の電極フィルムが、スペーサ６を介して互いに電極を一定間隔Ｇで対向させて配置されている。該２枚の電極フィルムの少なくとも一方は、前記本発明の構成の電極フィルムからなる。特に、図３の形態においては、２枚の電極フィルムとも本発明の電極フィルムからなる。表示装置６０側の電極フィルムは、透明基材１の一方の面に、透明接着剤層４を介して、電極としてアルミニウムパターン層２が形成されており、該アルミニウムパターン層２の透明基材側の面、及び透明基材側とは反対側の面の表面にはアルミニウムの酸化物皮膜３が形成され、少なくとも透明基材側とは反対側の面の酸化物皮膜の厚みが１３Å以下である電極フィルム１０となっている。また、入力ペン７が接触する入力側の電極フィルムについては、これに加えて更に、透明基材１のアルミニウムパターン層２側とは反対側の面上に光学機能層５が積層された電極フィルム２０となっている。
尚、図４に示す形態のタッチパネル５０Ｂは、入力側の電極フィルムに光学機能層を含まない本発明の電極フィルム１０を、又表示装置６０側の電極フィルムに従来の電極フィルム、即ち、ＩＴＯ等の透明導電膜４０が透明基材１上の全面に成膜された電極フィルム３０を用い、その他は図３と同様に構成したものである。
【００５５】
また、日光等の外光存在下で該タッチパネルを透過して見る表示装置の表示（画像、数字等）のコントラストを向上させるために、入力側の電極フィルム１０（観察者側の電極フィルム）のアルミニウムパターン層２の透明基材１側の面（アルミニウムパターン層表面に酸化物皮膜３がある場合には、該酸化物皮膜表面）に黒化層を設けてもよい。
黒化層としては、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えばカーボンブラック等の黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
【００５６】
本発明に係るタッチパネル用電極フィルム１０及び２０、並びにタッチパネル５０Ａ、及び５０Ｂは、小型ゲーム機の表示面、コンピュータディスプレイの表示面、ＴＶディスプレイの表示面、電子ペーパー等の表示面、現金自動支払機の表示面、各種電子案内板やデータベースの表示面、乗車券自動販売機の表示面等に装着されるタッチパネル、又はその構成部材として好ましく使用することができる。なお、このような表示装置は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、電場発光（ＥＬ）表示装置、陰極線管（ＣＲＴ）表示装置、電気泳動表示装置等のいずれであってもよい。
【００５７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００５９】
（実施例１）
先ず、アルミニウムパターン層２とする金属箔として、厚み１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。このアルミニウム箔表面の酸化物皮膜の厚みを蛍光Ｘ線分析法（ＸＰＳ）で測定したところ、上面下面とも８Åだった。
また、透明基材１として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
【００６０】
次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記アルミニウム箔の光沢面とを、透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤（主剤として平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部に対して、硬化剤としてキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部を含む）でドライラミネートした後、５０℃で３日間養生して、アルミニウム箔と透明基材間に厚み７μｍの透明接着剤層４を有する連続帯状のアルミニウム箔積層シートを得た。
【００６１】
次いで、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部及びライン部とから成るメッシュ形状のアルミニウムパターン層２を形成した。
【００６２】
上記エッチングは、具体的には、上記積層シートのアルミニウム箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部のアルミニウム箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液でエッチングして除去して、メッシュ形状の開口部を有したアルミニウムパターン層を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００６３】
メッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍであった。又、得られた断面形態は図１の如くであった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの電極フィルムシートを得て、ロール状に巻き取った。
【００６４】
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキ（３×（幅分布の標準偏差）で評価）は４．５μｍであり、目視観察での面ムラは（ムラ状の外観）外観上問題はなく、可視光線透過率は７７％であった。また、メッシュ構成線の断線も無かった。
【００６５】
（比較例１）
実施例１において、アルミニウム箔の表面酸化物皮膜の厚みが１５Åのものを使用した以外は同様にして電極フィルムシートを得た。
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのラインに断線が多発し（ライン幅のバラツキ２２μｍ）、外観的にも目視観察で面ムラが目立ち、またメッシュ構成線の断線が生じた。
【符号の説明】
【００６６】
１  透明基材
２  アルミニウムパターン層
３  酸化被膜
４  透明接着剤層
５  光学機能層
６  スペーサ
７  入力ペン
１０，２０，３０  電極フィルム
４０  透明導電膜
５０Ａ，５０Ｂ  タッチパネル
６０  表示装置
７１  エッチング液
７２  レジストパターン
７３  アルミニウム層
７４  アルミニウム箔
７５アルミニウム箔積層体
７６  腐食先行部分
Ｇ  ２枚の電極フィルムの間隔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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