(57)【要約】【課題】有機ＥＬディスプレイパネルの製造途中段階において、構成要素の特性を劣化させることなく検査を実施し、発見された欠陥を修正する方法を提供する。【解決手段】基板３１を検査用照明手段２６から検査用照明光で照射し、カメラ３３で撮像して検査する。検査用照明手段２６は、特性劣化に影響しない波長のみを透過するバンドパスフィルタを備えている。バンドパスフィルタは、使用する有機ＥＬ材料の吸光特性により、吸光しない波長のみを通すバンドパスフィルタを選定する。検査中は、常時低酸素状態となるよう、ハウジング２３で密閉された窒素雰囲気エリア２３１を、窒素供給配管２２から供給された清浄度の高い窒素で満たし、排気配管２４から排気される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルにおいて、製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を検査する有機ＥＬディスプレイパネルの検査方法であって、
前記検査方法は、検査用の照明光を前記基板に照射して、前記基板の照明と同方向あるいは逆方向からカメラで撮影して欠陥を検出するものであり、
前記検査用の照明光のうち、前記発光層の材料が吸光する吸光波長が前記発光層に到達しないように、前記検査用の照明光が前記発光層に至る光路中に、前記吸光波長をカットするバンドパスフィルタを挿入し、
基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にする、
有機ＥＬディスプレイパネルの検査方法。
【請求項２】
基板上に、発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルにおいて、製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を修正する有機ＥＬディスプレイパネルの修正方法であって、
前記修正方法は、欠陥観察用の照明光を前記基板に照射して、前記基板の照明と同方向あるいは逆方向からカメラで撮影して欠陥を観察し、修正ユニットを用いて前記欠陥に対して修正を施すものであり、
前記欠陥観察用の照明光のうち、前記発光層の材料が吸光する吸光波長が前記発光層に到達しないように、前記欠陥観察用の照明光が前記発光層に至る光路中に、前記吸光波長をカットするバンドパスフィルタを挿入し、
基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にする、
有機ＥＬディスプレイパネルの修正方法。
【請求項３】
基板上に発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルあって、
製造途中段階である発光層形成後、製造最終段階である特性劣化防止のための封止を実施する前に、請求項１に記載の検査方法による検査、又は請求項２に記載の修正方法による修正を行うことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
基板上に発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルの製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を検査する有機ＥＬディスプレイパネルの検査装置であって、
検査用の照明光を前記基板に照射する照明手段と、
前記基板の照明と同方向あるいは逆方向から基板を撮像するカメラと、
前記検査用の照明光が前記発光層に至る光路中に配置され、前記検査用の照明光のうち前記発光層の材料が吸光する波長をカットするバンドパスフィルタと、
基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にするためのハウジングとこのハウジングに設置された窒素供給配管及び排気配管を有する、
有機ＥＬディスプレイパネルの検査装置。
【請求項５】
基板上に発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルの製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を修正する有機ＥＬディスプレイパネルの修正装置であって、
欠陥観察用の照明光を前記基板に照射する照明手段と、
前記基板の照明と同方向あるいは逆方向から基板を撮像するカメラと、
前記欠陥を修正する修正ユニットと、
前記欠陥観察用の照明光が前記発光層に至る光路中に配置され、前記欠陥観察用の照明光のうち前記発光層の材料が吸光する波長をカットするバンドパスフィルタと、
基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にするためのハウジングとこのハウジングに設置された窒素供給配管及び排気配管を有する、
有機ＥＬディスプレイパネルの修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイパネルに生じた欠陥の検査方法及び修正方法と、その方法を有した装置、及びその方法を用いて製造された有機ＥＬディスプレイパネルであり、特に製造途中段階の、発光層形成までに生じた欠陥を検査し、修正する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイパネルと同様の製品であり、ライバル製品でもある、液晶ディスプレイパネルや、プラズマディスプレイパネルにおいては、製造途中の段階にて生じた欠陥を検査し、良品に修正する技術は開発されており、様々な方法や装置、その方法により製造された商品が一般的に知られている。（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３、参照）
しかし、有機ＥＬディスプレイパネルにおいては、製造途中の段階では発光層の特性（効率や寿命など）が劣化しやすい問題があるため、製造途中段階での検査及び修正技術が確立されておらず、歩留まり低下の原因となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−４３０９７号公報
【特許文献２】特開昭６２−１９１８０４号公報
【特許文献３】特開２００７−２６４１８６号広報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、構成要素である、正孔輸送層、ＩＬ層、発光層、電子輸送層、の膜中に、数十ｎｍ〜数十μｍのゴミ等の異物が付着あるいは内包していると、電流リークにより、上下の電極が電気的ショートとなり、画素非点灯となる。
しかしながら、現実問題としてクリーンルームなどのごみの少ない環境においても、有機ELディスプレイパネルを、蒸着方式、印刷方式、インクジェット方式、ノズルプリンティング方式、等にて製造する場合、完全にゴミの付着や内包を避けるのは困難である。
そのため、製造途中の段階では、特性劣化なく検査及び修正を実施することは不可能であり、通常は陰極形成後に、パネルを酸素・オゾンのない状態で封止し、特性劣化しない状態にした後、検査してみなければ、欠陥を発見できず、その段階ではもはや修正は不可能であり、歩留まり向上が難しいという問題がある。
【０００５】
本発明では、有機ＥＬディスプレイパネルの、製造途中段階において、構成要素の特性を劣化させることなく検査を実施し、その検査によって発見された欠陥を、構成要素の特性を劣化させることなく修正する方法を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明において上記課題を達成するために、まず請求項１の発明は、基板上に、発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルにおいて、製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を検査する有機ＥＬディスプレイパネルの検査方法であって、前記検査方法は、検査用の照明光を前記基板に照射して、前記基板の照明と同方向あるいは逆方向からカメラで撮影して欠陥を検出するものであり、前記検査用の照明光のうち、前記発光層の材料が吸光する吸光波長が前記発光層に到達しないように、前記検査用の照明光が前記発光層に至る光路中に、前記吸光波長をカットするバンドパスフィルタを挿入し、基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にする有機ＥＬディスプレイパネルの検査方法である。
【０００７】
また、請求項２の発明は、基板上に、発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルにおいて、製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を修正する有機ＥＬディスプレイパネルの修正方法であって、前記修正方法は、欠陥観察用の照明光を前記基板に照射して、前記基板の照明と同方向あるいは逆方向からカメラで撮影して欠陥を観察し、修正ユニットを用いて前記欠陥に対して修正を施すものであり、前記欠陥観察用の照明光のうち、前記発光層の材料が吸光する吸光波長が前記発光層に到達しないように、前記欠陥観察用の照明光が前記発光層に至る光路中に、前記吸光波長をカットするバンドパスフィルタを挿入し、基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にする有機ＥＬディスプレイパネルの修正方法である。
【０００８】
また、請求項３の発明は、基板上に発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルあって、製造途中段階である発光層形成後、製造最終段階である特性劣化防止のための封止を実施する前に、請求項１に記載の検査方法による検査、又は請求項２に記載の修正方法による修正を行うことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルである。
【０００９】
また、請求項４の発明は、基板上に発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルの製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を検査する有機ＥＬディスプレイパネルの検査装置であって、検査用の照明光を前記基板に照射する照明手段と、前記基板の照明と同方向あるいは逆方向から基板を撮像するカメラと、前記検査用の照明光が前記発光層に至る光路中に配置され、前記検査用の照明光のうち前記発光層の材料が吸光する波長をカットするバンドパスフィルタと、基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にするためのハウジングとこのハウジングに設置された窒素供給配管及び排気配管を有する有機ＥＬディスプレイパネルの検査装置である。
【００１０】
また、請求項５の発明は、基板上に発光層を含む複数層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルの製造途中段階である発光層形成までに生じた欠陥を修正する有機ＥＬディスプレイパネルの修正装置であって、欠陥観察用の照明光を前記基板に照射する照明手段と、前記基板の照明と同方向あるいは逆方向から基板を撮像するカメラと、前記欠陥を修正する修正ユニットと、前記欠陥観察用の照明光が前記発光層に至る光路中に配置され、前記欠陥観察用の照明光のうち前記発光層の材料が吸光する波長をカットするバンドパスフィルタと、基板周囲を窒素雰囲気あるいは真空状態にするためのハウジングとこのハウジングに設置された窒素供給配管及び排気配管を有する有機ＥＬディスプレイパネルの修正装置である。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１乃至５に記載の本発明により、有機ディスプレイの製造途中段階における発光層形成までに生じた欠陥を検査し、修正することが可能となり、従来の生産方法では不良品となっていた製品を良品にすることが可能となるため、歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】欠陥を有するボトムエミッション型有機ＥＬディスプレイの図面であって、製造途中段階である陰極形成までを実施した後の断面図を示したものである。
【図２】特性劣化なき有機ＥＬディスプレイ検査装置の図面であって、製造途中段階である発光層形成後の有機ＥＬディスプレイを、特性劣化なく検査することが可能な装置の側面図を示したものである。
【図３】特性劣化なき有機ＥＬディスプレイ修正装置の図面であって、製造途中段階である発光層形成後の有機ＥＬディスプレイにて発見された欠陥を、特性劣化なく修正することが可能な装置の側面図を示したものである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１は、ボトムエミッション型有機ＥＬディスプレイの、陰極形成まで完了した際に発光層の膜中に異物がある状態を示した模式図であって、ガラス等の透明基板１０上に、電極パターン１１、陽極（透明電極）１２、隔壁１３、正孔輸送層１４、インターレイヤー層１５、発光層１６、電子輸送層１７、陰極１８を形成した状態を示しており、通常はこの後に、特性劣化防止のため封止剤を充填しガラスを被せて密封する等の工程を実施するが、封止実施後では異物１９の除去が不可能となってしまうため、本発明では図１の状態あるいはそれより前の段階で検査及び修正を実施する。
【００１４】
図２は、特性劣化のない有機ＥＬディスプレイの検査装置を示した模式図であって、一般的なディスプレイ向け検査装置の周囲を、光を通さない、あるいは特性劣化に影響する光の波長をカットする材質で覆い、内部を窒素で充填して窒素雰囲気のまま検査できる状態にして、検査の際に使用する照明には、特性劣化に影響しない波長のみを通過するバンドパスフィルタを通して照射し、撮像する。
【００１５】
図３は、特性劣化のない有機ＥＬディスプレイの修正装置を示した模式図であって、一般的なディスプレイ向け修正装置の周囲を、光を通さない、あるいは特性劣化に影響する光の波長をカットする材質で覆い、内部を窒素で充填して窒素雰囲気のまま修正できる状態にして、修正の際に使用する照明には、特性劣化に影響しない波長のみを通過するバンドパスフィルタを通して照射し、観察及び修正を実施する。
【実施例】
【００１６】
図２のように、基板出入ロボットハンド２９で、発光層を含む複数層が形成された側を上に向けて基板３１を検査機のステージ架台２５上に搬入する。
シャッター３０は通常は閉じているが、基板３１の搬入・搬出時に開き、搬入・搬出完了後に閉じる。基板搬送コンベア２７に搬入された基板３１を、基板固定ユニット３２で掴み、検査用照明手段２６で検査用照明光を透明基板１０側から照射しながら搬送し、カメラ３３で撮像して検査する。
検査用照明手段２６は、特性劣化に影響しない波長のみを透過するバンドパスフィルタを備えている。バンドパスフィルタは、使用する有機ＥＬ材料の吸光特性により、発光層が吸光する吸光波長をカットし、吸光しない波長のみを通すバンドパスフィルタを選定する。例えば５５０ｎｍ未満の波長を遮断し、５５０ｎｍ以上の波長を透過するバンドパスフィルタを挿入する。バンドパスフィルタは、基板３１に照射される光の前で、照射される光すべてを通る位置であればよく、すなわち、検査用の照明光が前記発光層に至る光路中に配置すればよく、一般的には光源付近に取り付けるのが良い。ただし、取り付ける位置によって、耐熱性のあるバンドパスフィルタの使用が必要な場合もあるため、注意が必要である。
検査カメラ３３は、例えばラインセンサカメラを使用した連続撮像を実施するが、基板の幅方向に対してカメラの幅方向撮像範囲が不足し、１回の撮像で基板全てを撮像できない場合は、カメラを２個以上並べて撮像するか、もしくは１回目の撮像完了後にカメラを移動して２回以上連続撮像を実施し、撮像した画像を連結して基板全ての範囲を撮像する。カメラ数を増やせば検査時間は短くなり、撮像回数を増やせば検査時間は長くなるため、生産数量に合わせて適正な構成を選定する。
なお、この実施の形態では、検査用の照明光を透明基板１０側から照射し、検査カメラ３３により発光層を含む複数層側から撮像しているが、検査用の照明光を発光層を含む複数層側から照射し、検査カメラ３３により透明基板１０側から撮像してもよい。また、検査用の照明光の照射方向と同じ方向から撮像してもよい。
欠陥検出サイズは、数十ｎｍ〜数十μｍのゴミ等の異物が画素非点灯となることが分かっているため、それに合わせた検出能力として、例えば１００ｎｍを検出可能なカメラとするが、検出感度を上げすぎると誤検出が多くなったり、検査に時間がかかったりする等の悪影響もあるため、製品作製環境や、検出したい欠陥サイズ、生産数、等を考慮して、適正な検出サイズを選定する。
【００１７】
また、検査の種類として、透過検査と反射検査、どちらを選択するかという問題があるが、例えば透過検査には１００ｎｍサイズの欠陥検出が可能な高精細カメラを、反射検査には１０μｍサイズの欠陥検出が可能なカメラを用いる。これにより、透過照明であれば画素内は撮像され、画素内以外は光が透過せず撮像されないため、誤検出が発生しにくい状態で画素内微小サイズ検査が可能であるという特性を利用でき、かつ、画素内以外の微小検出が不要なエリアは、検出サイズは大きいが誤検出しにくい１０μｍサイズ検出向け反射検査を用いることで、適正な検査が可能となる。
撮像された画像を使用し、パターンマッチング方式や比較検査方式を用いて検査して欠陥を検出し、ＸＹ座標系のデータとして記録しておく。データフォーマットは特に制約はないが、修正機で使用するＸＹ座標系のデータ形式と互換性のあるフォーマットとし、また、一般的なパソコンで記録可能なファイル形式（データファイル形式、テキストファイル形式、ＣＳＶファイル形式など）を用いるのが良い。記録内容は、例えば欠陥の位置情報（Ｘ座標、Ｙ座標）、欠陥サイズ、検出種類（白欠陥、黒欠陥、透過欠陥、反射欠陥）、等を記録するのが良い。
【００１８】
検査中は、常時低酸素状態となるよう、第１のハウジング２０で密閉された第１の窒素雰囲気エリア２０１を窒素供給配管２２から供給された窒素で満たし、ファインフィルターユニット２１を通して、第２のハウジング２３で密閉された第２の窒素雰囲気エリア２３１を、清浄度の高い窒素で満たし、排気配管２４から排気される。このとき、第２の窒素雰囲気エリア２３１が常時低酸素状態となるよう、第２の窒素雰囲気エリア２３１の中に酸素濃度計を設置して常時酸素濃度を測定し、閾値を決めて、酸素濃度が上昇したら窒素供給配管２２の流量を増やすような低酸素管理が必要である。酸素濃度の閾値は使用する材料によって適正値を決めるが、例えば１００ｐｐｍとしておく。
【００１９】
検査終了後は、シャッター３０を開き、基板出入ロボットハンド２９で基板を搬出する。シャッター３０が開いている時は、前工程エリア２８と第２の窒素雰囲気エリア２３１が繋がるため、前工程エリア２８の環境により気流調整が必要で、例えば第２の窒素雰囲気エリア２３１から前工程エリア２８に気流が流れるような圧力バランスにすれば、第２の窒素雰囲気エリア２３１を常時低酸素状態に管理可能である。このとき、前工程エリア２８に流れ込む流量を極力小さくするよう、基板入口を狭くしたり、圧力損失が起こるような構造にしたりすれば、窒素使用量を少なくすることが可能である。
尚、メンテナンス等で、前工程エリア２８、第１の窒素雰囲気エリア２０１、第２の窒素雰囲気エリア２３１を解放して人が作業をしたい場合は、いったん大気を注入し、安全な酸素濃度にした後に作業する。危険な酸素濃度で開放されないようなインターロックを施す必要がある。
【００２０】
検査装置によって欠陥が検出された場合は、図３のように、基板出入ロボットハンド４４で、発光層を含む複数層が形成された側を上に向けて基板４７（基板３１と同じ基板）を修正機に搬入する。シャッター４５は通常は閉じているが、基板の搬入・搬出時に開き、搬入・搬出完了後に閉じる。基板出入用リフターピン４６に搬入された基板を、ガラスステージ４２に載せて基板固定し、欠陥観察用照明手段４０で透明基板１０側から欠陥観察用照明光を照射しながら、欠陥観察用カメラ及び修正ユニット３７で観察する。
欠陥観察用照明手段４０は、特性劣化に影響しない波長のみを透過するバンドパスフィルタを備えている。バンドパスフィルタは、使用する有機ＥＬ材料の吸光特性により、発光層が吸光する吸光波長をカットし、吸光しない波長のみを通すバンドパスフィルタを選定する。例えば５５０ｎｍ未満の波長を遮断し、５５０ｎｍ以上の波長を透過するバンドパスフィルタを挿入する。バンドパスフィルタは、基板に照射される光の前で、照射される光すべてを通る位置であればどこに取り付けても良く、すなわち、欠陥観察用の照明光が発光層に至る光路中に配置すればよく、一般的には光源付近に取り付けるのが良い。ただし、取り付ける位置によって、耐熱性のあるバンドパスフィルタの使用が必要な場合もあるため、注意が必要である。
欠陥観察用カメラ及び修正ユニット３７のカメラは、欠陥を人間の目で観察可能な倍率で撮像し、リアルタイムに観察することが可能なカメラとし、例えば観察用レンズとカラーＣＣＤカメラの組み合わせが良い。
なお、この実施の形態では、欠陥観察用の照明光を透明基板１０側から照射し、欠陥観察用カメラ及び修正ユニット３７により発光層を含む複数層側から撮像しているが、欠陥観察用の照明光を発光層を含む複数層側から照射し、欠陥観察用カメラ及び修正ユニット３７により透明基板１０側から撮像してもよい。また、欠陥観察用の照明光の照射方向と同じ方向から撮像してもよい。
【００２１】
欠陥の位置には、検査装置で記録した欠陥情報データ読み込み、欠陥のあると判明しているＸ座標、Ｙ座標に移動して観察する。
観察の結果、修正が必要と判断された場合（判断基準は予め決めておく）、欠陥観察用カメラ及び修正ユニット３７を用いて、欠陥の種類に合わせて修正を実施する。修正は、レーザー照射により異物を蒸散させるレーザーリペア方式や、異物を掴んで吸引する異物除去方式や、レーザー焼成後の欠損した部分に、欠損した材料を塗布するインクリペア方式（ニードル方式インクリペア、マイクロディスペンサ方式インクリペア等）、を用いる。特に有効なのはレーザー照射により異物を蒸散する方式であり、画素非点灯となる微小な異物を、異物よりわずかに大きいサイズでレーザーリペアすることで、微小な非点灯エリアはあるものの、周囲の画素は正常に点灯し、結果として製品に影響のないレベルの微小非点灯エリアに抑えられた良品に修正することが可能となる。このとき、「製品に影響のないレベルの微小非点灯エリア」のサイズを予め決めておき、そのサイズより大きい欠陥には別の修正を実施すれば、さらに修正を有効活用することができる。
【００２２】
修正中は、常時低酸素状態となるよう、第３のハウジング３４で密閉された第３の窒素雰囲気エリア３４１を窒素供給配管３６から供給された窒素で満たし、ファインフィルターユニット３５を通して、第４のハウジング３８で密閉された第４の窒素雰囲気エリア３８１を、清浄度の高い窒素で満たし、排気配管３９から排気される。
このとき、第４の窒素雰囲気エリア３８１が常時低酸素状態となるよう、第４の窒素雰囲気エリア３８１の中に酸素濃度計を設置して常時酸素濃度を測定し、閾値を決めて、酸素濃度が上昇したら窒素供給配管３６の流量を増やすような低酸素管理が必要である。酸素濃度の閾値は使用する材料によって適正値を決めるが、例えば１００ｐｐｍとしておく。
【００２３】
修正終了後は、シャッター４５を開き、基板出入ロボットハンド４４で基板を搬出する。シャッター４５が開いている時は、前工程エリア４３と第３の窒素雰囲気エリア３８１が繋がるため、前工程エリア４３の環境により気流調整が必要で、例えば第４の窒素雰囲気エリア３８１から前工程エリア４３に気流が流れるような圧力バランスにすれば、第４の窒素雰囲気エリア３８１を常時低酸素状態に管理可能である。このとき、前工程エリア４３に流れ込む流量を極力小さくするよう、基板入口を狭くしたり、圧力損失が起こるような構造にしたりすれば、窒素使用量を少なくすることが可能である。
尚、メンテナンス等で、前工程エリア４３、第３の窒素雰囲気エリア３４１、第４の窒素雰囲気エリア３８１を解放して人が作業をしたい場合は、いったん大気を注入し、安全な酸素濃度にした後に作業する。危険な酸素濃度で開放されないようなインターロックを施す必要がある。
【００２４】
以上、本発明の実施例を紹介したが、本発明はこの形態に限定されるものではなく、例えば図１はトップエミッション構造の有機ＥＬディスプレイであったり、例えば図１は発光層形成後の有機ＥＬディスプレイであったり、例えば図２はレーザー散乱光による検出型の検査機であったり、例えば図２や図３は窒素置換型ではなく真空置換型であっても、本発明の実施は可能である。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明は、様々な方式によって製造される有機ＥＬディスプレイの、どの方式でも、どの製造途中段階であっても、特性劣化することなく欠陥を検出し、それを修正することで歩留まりを向上させることが可能であり、これまで歩留まりが悪いために製品の普及が少なかった有機ＥＬディスプレイの普及に貢献することが可能である。
【符号の説明】
【００２６】
１０……透明基板
１１……電極パターン
１２……陽極
１３……隔壁
１４……正孔輸送層
１５……インターレイヤー層
１６……発光層
１７……電子輸送層
１８……陰極
１９……異物
２０……第１のハウジング
２０１…第１の窒素雰囲気エリア
２１……ファインフィルターユニット
２２……窒素供給配管
２３……第２のハウジング
２３１…第２の窒素雰囲気エリア
２４……排気配管
２５……ステージ架台
２６……検査用照明手段
２７……基板搬送コンベア
２８……前工程エリア
２９……基板出入ロボットハンド
３０……シャッター
３１……基板
３２……基板固定ユニット
３３……検査カメラ
３４……第３のハウジング
３４１…第３の窒素雰囲気エリア
３５……ファインフィルターユニット
３６……窒素供給配管
３７……欠陥観察用カメラ及び修正ユニット
３８……第４のハウジング
３８１…第４の窒素雰囲気エリア
３９……排気配管
４０……欠陥観察用照明手段
４１……ステージ架台
４２……ガラスステージ
４３……前工程エリア
４４……基板出入ロボットハンド
４５……シャッター
４６……基板出入用リフターピン
４７……基板
【図１】
2011070920.tif 000003
【図２】
2011070920.tif 000004
【図３】
2011070920.tif 000005