(57)【要約】【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が１０〜９０容量％であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が１０〜２００μｍである。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が１０〜９０容量％であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
【請求項２】
前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が１０〜２００μｍである、請求項１に記載のリソグラフィ用ペリクル。
【請求項３】
前記粘着層の厚みが０．３ｍｍ以上である、請求項１又は２に記載のリソグラフィ用ペリクル。
【請求項４】
前記粘着層の２３℃における弾性率が０．６ＭＰａ以下である、請求項１〜３いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル。
【請求項５】
前記粘着層がシリコーン粘着剤からなる、請求項１〜４いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル。
【請求項６】
前記粘着層がアクリル粘着剤からなる、請求項１〜４いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル。
【請求項７】
前記粘着層に残留する溶媒を加熱発泡して形成された気泡を含有する、請求項１〜６いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置又は液晶表示板を製造する際のリソグラフィ用マスクのゴミよけとして使用される、リソグラフィ用のペリクルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体製造又は液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハ又は液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。なお、本発明において、「露光原版」とは、リソグラフィ用マスク（単に「マスク」ともいう。）及びレチクルの総称である。以下、マスクを例にして説明する。
【０００３】
これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミよけのための露光用の光を良く通過させるペリクルを貼り付ける方法が採られている。
【０００４】
ペリクルの基本的な構成は、ペリクルフレーム及びこれに張設したペリクル膜からなる。ペリクル膜は、露光に用いる光（ｇ線、ｉ線、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ等）を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、フッ素系ポリマーなどからなる。ペリクルフレームの上辺部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、ペリクル膜を風乾して接着するか、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やフッ素樹脂などの接着剤で接着する。さらに、ペリクルフレームの下辺部には露光原版を装着するために、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂又はシリコーン樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的としたレチクル粘着剤保護用ライナーを設ける。
ペリクルは、露光原版の表面に形成されたパターン領域を囲むように設置される。ペリクルは、露光原版上にゴミが付着することを防止するために設けられるものであるから、このパターン領域とペリクル外部とはペリクル外部の塵埃がパターン面に付着しないように隔離されている。
【０００５】
近年、ＬＳＩのデザインルールはサブクオーターミクロンへと微細化が進んでおり、それに伴い、露光光源の短波長化が進んでいる、すなわち、これまで主流であった、水銀ランプによるｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）から、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）などに移行しつつある。微細化が進むとマスク及びシリコンウエハに要求される平坦性もますます厳しくなってきている。
【０００６】
ペリクルは、マスクが完成した後でパターンのゴミよけのためにマスクに貼り付けられる。ペリクルをマスクに貼り付けるとマスクの平坦度が変化することがある。マスクの平坦度が悪くなると、上記で述べたように、焦点ズレ等の問題が発生する可能性がある。また、平坦度が変化すると、マスク上に描かれたパターンの形状が変化し、マスクの重ね合わせ精度に問題がでるという支障もきたす。
ペリクル貼り付けによるマスク平坦度の変化の要因は、幾つかあるが、一番大きな要因は、ペリクルフレームの平坦度であることが分かってきた。
【０００７】
ペリクルは、ペリクルフレームの片側にあるマスク粘着剤を介してマスクに貼り付けられるが、ペリクルをマスクに貼り付ける場合は、通常ペリクルを２０〜３０ｋｇ程度の力でマスクに圧着する。一般にマスクの平坦性は、ＴＩＲ値で数μｍ以下、最先端のマスクでは１μｍ以下であるが、ペリクルフレームの平坦性は、一般的に数１０μｍ程度と、マスクのそれと比較して大きい。そのため、ペリクルがマスクに貼り付けられると、フレームの凹凸でマスクの平坦度が変化することがある。ここでペリクルフレームの平坦度をマスクの平坦度並に高くすれば、マスクの平坦性変化を減少させることが可能になると考えられる。
【０００８】
ペリクルフレームは、一般に、アルミ合金で出来ている。半導体リソグラフィ用のペリクルフレームでは、幅が１５０ｍｍ程度、長さが１１０〜１３０ｍｍ程度であり、一般に断面が矩形の形状を有するペリクルフレームバーにより構成されている。一般にはアルミ合金の板からペリクルフレーム形状に切り出したり、フレーム形状にアルミ材を押し出し成型することでフレームを製作しているが、幅が２ｍｍ程度と細いため変形し易く、平坦なフレームを作るのは容易ではない。そのためペリクルフレームにおいてマスク並の平坦度を達成するのは非常に困難である。
【０００９】
このペリクルフレームの変形に起因するマスクの変形を防止するために、特許文献１は、ペリクルをマスクに貼り付けるためのマスク粘着剤の厚みが０．４ｍｍ以上であるペリクル、また、マスク粘着剤の２３℃における弾性率が０．５ＭＰａ以下であるペリクルを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００８−６５２５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
近年、マスクに要求される平坦性も、パターン面で平坦度２μｍの要求から徐々に厳しくなっており、６５ｎｍノード以降では好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．２５μｍという要求が出てきている。
【００１２】
一般に、ペリクルフレームの平坦度は２０〜８０μｍ程度であるが、マスクと比較して平坦度が劣るペリクルフレームを用いたペリクルをマスクに貼り付けると、フレームの形状がマスクに転写されマスクの変形を生じてしまう。ペリクルは、貼り付けの時、約２００〜４００Ｎ（２０〜４０ｋｇ重）の大きな力でマスクに押し付けられる。マスク表面の平坦度は、ペリクルフレームに比べて平坦が良いから、ペリクルのマスクへの押し付けが終わると、ペリクルフレームは元の形状に戻ろうとするために、ペリクルフレームがマスクを変形させてしまう。
マスクが変形した場合、マスクの平坦度が悪くなる場合があり、その場合露光装置内でデフォーカスの問題が発生する。一方でマスクが変形して平坦度が良くなる場合もあるが、この場合でもマスク表面に形成されたパターンが歪み、その結果露光したときにウエハに転写されたパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。このパターンの歪みはマスクの平坦度が悪くなる場合も発生するので、結局ペリクルを貼り付けることによりマスクが変形する場合は、必ずパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。
【００１３】
本発明が解決しようとする課題は、ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記課題は、以下の手段（１）により解決された。好ましい実施態様（２）〜（７）と共に列記する。
（１）ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が１〜９０容量％であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、
（２）前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が１０〜２００μｍである、（１）に記載のリソグラフィ用ペリクル、
（３）前記粘着層の厚みが０．３ｍｍ以上である、（１）又は（２）に記載のリソグラフィ用ペリクル、
（４）前記粘着層の２３℃における弾性率が０．６ＭＰａ以下である、（１）〜（３）いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル、
（５）前記粘着層がシリコーン粘着剤からなる、（１）〜（４）いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル、
（６）前記粘着層がアクリル粘着剤からなる、（１）〜（４）いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル、
（７）前記粘着層に残留する溶媒を加熱発泡して形成された気泡を含有する、（１）〜（６）いずれか１つに記載のリソグラフィ用ペリクル。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ペリクル粘着層の見かけの弾性を下げることにより、ペリクルをマスク等に貼り付けた場合のマスク等の歪みを低減することができる。このために、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができる。特に同じ材料の粘着剤を用いても見かけの弾性を低下させることができる。このために、マスク上に描かれたパターンをより忠実に再現することができ、マスクの重ね合わせ精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に使用するリソグラフィ用ペリクルの基本的構成を示す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明に使用するペリクルの基本的構成を、まず図１を参照しながら説明する。
図１は、本発明に使用するリソグラフィ用ペリクルの基本的構成を示す概念図である
図１に示したように、本発明のペリクル１０は、ペリクルフレーム３の上端面にペリクル膜貼り付け用接着層２を介してペリクル膜１を張設したもので、この場合、ペリクル１０を露光原版（マスク基板又はレチクル）５に粘着させるための発泡粘着層４がペリクルフレーム３の下端面に形成され、該発泡粘着層４の下端面にライナー（不図示）を剥離可能に貼着してなるものである。また、ペリクルフレーム３に気圧調整用穴（通気口）６が設置されていて、さらにパーティクル除去の目的で除塵用フィルター７が設けられていてもよい。
【００１８】
これらペリクル構成部材の大きさは通常のペリクル、例えば半導体リソグラフィ用ペリクル、大型液晶表示板製造リソグラフィ工程用ペリクル等と同様であり、また、その材質も公知の材質を使用することができる。
ペリクル膜の種類については特に制限はなく、例えば従来エキシマレーザー用に使用されている、非晶質フッ素ポリマー等が用いられる。非晶質フッ素ポリマーの例としては、サイトップ（旭硝子（株）製商品名）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン社製商品名）等が挙げられる。これらのポリマーは、そのペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使用してもよく、例えばフッ素系溶媒などで適宜溶解することができる。
【００１９】
ペリクルフレームの母材に関しては、従来使用されているアルミニウム合金材、好ましくは、ＪＩＳ  Ａ７０７５、ＪＩＳ  Ａ６０６１、ＪＩＳ  Ａ５０５２材等が用いられるが、アルミニウム合金材を使用する場合は、ペリクルフレームとしての強度が確保される限り特に制限はない。ペリクルフレーム表面は、ポリマー被膜を設ける前に、サンドブラストや化学研磨によって粗化することが好ましい。本発明において、このフレーム表面の粗化の方法は従来公知の方法を採用できる。アルミニウム合金材に対して、ステンレス、カーボランダム、ガラスビーズ等によって表面をブラスト処理し、さらにＮａＯＨ等によって化学研磨を行って表面を粗化する方法が好ましい。
【００２０】
発泡粘着層４に使用する接着剤は、各種の接着剤を適宜選択でき、アクリル接着剤や、ＳＥＢＳ（ポリ（スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレン））系接着剤及びシリコーン系接着剤が好ましく使用でき、アクリル接着剤又はシリコーン系接着剤がより好ましく使用できる。
【００２１】
本発明のリソグラフィ用ペリクルは、露光原版との粘着層（本発明において単に「粘着層」ともいう。）の気泡含有率が１０〜９０容量％であることを特徴とする。
気泡含有率は、１０〜８０容量％であることが好ましく、１０〜５０容量％であることがより好ましい。
気泡含有率が１０容量％未満では、弾性率の低下効果が少なくなり、また９０容量％を超えると機械的強度が低くなる傾向がある。５０容量％以下とすることにより、粘着層中で気泡を連続しない独立の状態に内包させ、充分な強度を得ることができるので、特に好ましい。
【００２２】
本発明のリソグラフィ用ペリクルにおいて、前記粘着層に含有される気泡の大きさは、数平均直径が１０〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１２０μｍであることがより好ましく、５０〜１２０μｍであることが特に好ましい。
上記の数値範囲であると、粘着層の粘着効果を維持して、かつ粘着層の弾性率を低下することができる。
【００２３】
気泡の大きさは、発泡させた粘着層断面を光学顕微鏡観察により測定することができ、平均値は３０個の気泡の数平均値とする。
【００２４】
マスク粘着剤に気泡を含有させる方法には、特に限定されず、公知の方法を採用できるが、溶媒揮発法、加圧法及び発泡剤法が含まれる。
溶媒揮発法は、溶媒を含む粘着剤をフレームに塗布した後、溶媒が残った状態でフレーム／粘着剤を急加熱する方法である。この場合、溶媒の残留率、加熱時の昇温率等で気泡のサイズが制御できる。
溶媒揮発法の場合、揮発させる溶媒の沸点の好ましい範囲は、常圧で３０〜２００℃であることが好ましく、５０〜１５０℃であることがより好ましい。比較的沸点の低い溶媒を急加熱して気泡にするのが実用的である。
急加熱の具体的方法は特に限定されないが、ペリクルフレームの誘導加熱、高熱源への粘着剤の接触、フラッシュ光源による光熱変換が含まれる。例えば、カーボンブラック等の着色剤を含み、残留溶剤のある粘着層をキセノン光源によりフラッシュ露光することにより粘着層を急加熱して、発泡させることができる。
この粘着層の加温温度は、粘着剤の種類、溶媒の種類により変化するが、例えば、４０〜１５０℃であることが好ましく、５０〜１２０℃であることがより好ましく、６０〜１２０℃であることが特に好ましい。
発泡の際に圧力を大気圧より変動させてもよい。この場合、加熱の際に、加圧するよりも減圧する方が好ましい。減圧する場合には、加熱と同期して短時間減圧にすることが好ましい。
【００２５】
加圧法は、予め粘着剤を加圧状態にして内部に気体を溶解させ、ペリクルフレームへの粘着剤の塗布時に常圧に戻す方法である。粘着剤内部に溶け込んだ気体が、常圧に戻る時に気泡を発生させる。加圧する圧力、気体種等の選択調整により発泡する気泡のサイズを制御することができる。気体種としては、空気、窒素ガス、二酸化炭素、等を用いることができる。この方法は特に粘着剤から気泡が抜け難い場合に有効である。
【００２６】
発泡剤法は、粘着剤生成成分又は添加剤の反応によりガスが発生する系を使用する方法である。この場合は、溶媒が残留しない状態でも気泡を発生させることができる。この場合も、発泡剤の種類と量及び加熱する時の昇温率等で気泡のサイズの制御をすることができる。
使用することができる発泡剤には、炭酸水素ナトリウム、ジアゾアミノベンゼン、アゾジカルボンアミド、ジニトロソペンタメチレンテトラミン等が含まれる。
【００２７】
本発明のリソグラフィ用ペリクルにおいて、発泡した粘着層の２３℃における見かけの弾性率が０．６ＭＰａ以下であることが好ましい。
なお、見かけの弾性率の定義とその測定方法は以下の通りである。
「見かけの弾性率」とは、気泡を含んだ状態の粘着剤の弾性率をいう。一般に気泡を含んだ粘着剤の弾性率は、気泡を含まない粘着剤の弾性率より低くなる。
その測定方法は、粘着剤をシート状にして、引っ張り試験機によりシートを両側から引っ張り、その時の変位と応力、シートの断面積から、見かけの弾性率を求めることができる。
多くの場合、発泡していない粘着剤を発泡させることにより、見かけの弾性率を無発泡粘着剤の弾性率の１／２〜１／５に低下させることができる。
例えばシリコーン粘着剤は、約１ＭＰａの弾性率を有しているが、発泡させることにより、その見かけの弾性率を０．６ＭＰａ以下、好ましくは０．１〜０．３ＭＰａに低下させることができる。
【００２８】
前記粘着層の厚みは、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．３〜０．５ｍｍであることが特に好ましい。粘着層の厚さをやや大きくすることにより、平坦性が悪いペリクルを貼り付けても、露光原版の良い平坦性を劣化させることを防止することができる。
【実施例】
【００２９】
以下に実施例により具体的に本発明を例示して説明する。なお、実施例及び比較例における「マスク」は「露光原版」の例として記載したものであり、レチクルに対しても同様に適用できることはいうまでもない。
【００３０】
（実施例１）−溶媒揮発法（１）−
アルミ合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍであり、粘着剤側の平坦性が３０μｍ）を純水で洗浄後、その端面に信越化学工業（株）製のシリコーン粘着剤（商品名：Ｘ−４０−３１２２Ａ）を塗布し、直後に電磁誘導加熱によりペリクルフレームの加熱を行った。室温から８０℃まで１分間の昇温速度で加熱し、その後８０℃で５分間加熱状態を保持し、粘着層に残留する混合溶媒（ヘプタン及びトルエン）を粘着剤内部で揮発させた。この処理により、粘着剤の気泡含有率は３０容量％となり、気泡の数平均直径は７０μｍとなった。また発泡硬化後の粘着剤の見かけの弾性率は、０．４ＭＰａであり、その厚みは０．３ｍｍであった。
ペリクルフレームの粘着面とは反対面に旭硝子（株）製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布した。その後、１３０℃でペリクルフレームの加熱を行い、接着剤を硬化させた。
【００３１】
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミ枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤側を貼り付け、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去しペリクル１を完成させた。
このペリクル１を平坦性が０．２５μｍのマスクに貼り付けたところ、マスクの平坦性が０．３７μｍに変化した。ペリクル貼り付け後のマスクの平坦性の変化量は、０．１２μｍと小さく、貼り付け前の平坦性である０．２５μｍ以下に収まっており、良好な結果となった。この結果を表１及び表２に纏めて示した。
【００３２】
（実施例２）−溶媒揮発法（１）−
実施例１で使用した条件を表１に示したように変更する以外は、実施例１と全く同様にしてペリクルを製作し、マスク貼り付け前後の平坦性を評価した。得られた結果を表１及び表２に一緒に示した。
【００３３】
（実施例３）−溶媒揮発法（２）−
アルミ合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍであり、粘着剤側の平坦性が３０μｍ）を純水で洗浄後、その端面に信越化学（株）製のシリコーン粘着剤（商品名：Ｘ−４０−３１２２Ａ）を塗布し、直後に８０℃に加熱したアルミ板の上に敷いた厚み７５μｍのセパレータに粘着層を接触させ、そのまま２時間接触を保った。この処理により、粘着剤の気泡含有率は１０容量％となり、気泡の数平均直径は、１２０μｍとなった。また硬化した後の粘着剤の見かけの弾性率は、０．６ＭＰａであり、その厚みは０．３ｍｍであった。
ペリクルフレームの粘着面とは反対面に旭硝子（株）製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布した。その後、１３０℃でペリクルフレームの加熱を行い、接着剤を硬化させた。
【００３４】
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミ枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤側を貼り付け、上記ペリクルフレームよりも外側の部分を除去しペリクル１を完成させた。
このペリクル１を平坦性が０．２５μｍのマスクに貼り付けたところ、マスクの平坦性が０．４５μｍに変化した。ペリクル貼り付け後のマスクの平坦性の変化量は０．２０μｍと小さく、良好な結果となった。この結果を表１及び表２に纏めて示した。
【００３５】
（実施例４）−溶媒揮発法（２）−
実施例３で使用した条件を表１に示すように変更する以外は、実施例３と全く同様にしてペリクルを製作し、マスク貼り付け前後の平坦性を評価した。得られた結果を表１及び表２に一緒に示した。
【００３６】
（実施例５）−加圧法−
アルミ合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍであり、粘着剤側の平坦性が３０μｍ）を純水で洗浄後、その端面に日本合成化学（株）製のアクリル粘着剤（商品名：コーポニール５６７２）を塗布した。なお粘着剤は予めシリンジ中に調合し、加圧空気を送り込み５００ｋＰａで３０分間加圧したのち、圧力を保ちつつフレーム上に塗布した。なお塗布時に粘着剤は常圧まで減圧されるため、粘着剤中に溶け込んだ空気が微細な気泡となった。粘着面とは反対面に旭硝子（株）製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布し、その後１３０℃で上記ペリクルフレームの加熱を行い、粘着剤、及び接着剤を硬化させた。
粘着剤の気泡含有率は３０容量％であり、気泡の数平均直径は１０μｍとなった。また硬化後の粘着剤の見かけの弾性率は０．２５ＭＰａであり、その厚みは０．４ｍｍであった。
【００３７】
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミ枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤側を貼り付け、上記ペリクルフレームよりも外側の部分を除去しペリクル１を完成させた。
このペリクル１を平坦性が０．２５μｍのマスクに貼り付けたところ、マスクの平坦性が０．３０μｍに変化した。ペリクル貼り付け後のマスクの平坦性の変化量は０．０５μｍに収まっており、非常に良好な結果となった。この結果を表１及び表２に纏めた。
【００３８】
（実施例６）−加圧法−
実施例５で使用した条件を表１に示すように変更する以外は、実施例５と全く同様にしてペリクルを製作し、マスク貼り付け前後の平坦性を評価した。得られた結果を表１に一緒に示した。
【００３９】
（実施例７）−発泡剤法−
アルミ合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚が２ｍｍであって、粘着剤側の平坦性が３０μｍ）を純水で洗浄後、その端面に三協化成（株）製の発泡剤（商品名：セルマイク）を混合した信越化学工業（株）製のシリコーン粘着剤（商品名：Ｘ−４０−３１２２Ａ）を塗布した。塗布後３時間室温で放置後、ゆっくりと１３０℃に加熱して溶媒を蒸発させた。その後フレームを１８０℃に加熱して、発泡剤を分解させ、粘着剤中に気泡を発生させた。
粘着面とは反対面に旭硝子（株）製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布し、その後１３０℃で上記ペリクルフレームの加熱を行い、接着剤を硬化させた。
粘着剤の気泡含有率は５０容量％であり、気泡の数平均直径は、２００μｍとなった。また硬化後の粘着剤の見かけの弾性率は０．１８ＭＰａであり、その厚みは０．５ｍｍであった。
【００４０】
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミ枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤側を貼り付け、上記ペリクルフレームよりも外側の部分を除去しペリクル１を完成させた。
このペリクル１を平坦性が０．２５μｍのマスクに貼り付けたところ、マスクの平坦性が０．２９μｍに変化した。ペリクル貼り付け後のマスクの平坦性の変化量は０．０４μｍに収まっており、非常に良好な結果となった。この結果を表１及び表２に纏めた。
なお、表２において、比較例のシリコーン粘着剤の弾性率は粘着剤シリコーン自体の弾性率を示す。
【００４１】
【表１】
2011028091.tif 000003
【００４２】
【表２】
2011028091.tif 000004
【符号の説明】
【００４３】
１：ペリクル膜
２：接着層
３：ペリクルフレーム
４：発泡粘着層
５：露光原版
６：気圧調整用穴（通気口）
７：除塵用フィルター
１０：ペリクル
【図１】
2011028091.tif 000005