(57)【要約】【課題】分解能に振動が与える影響を軽減することができる荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】架台８と、該架台８上にダンパ７を介して支持された支持板１０と、該支持板１０により支持されていて、荷電粒子線を発生させる荷電粒子銃部１及び荷電粒子線を照射する試料を保持する試料ホルダ１１を少なくとも含む被支持要素３０とを備え、支持板１０及び被支持要素３０からなる振動体がその重心Ｇよりも下方にある回転一次中心Ｚ１と該回転一次中心Ｚ１よりも上方にある回転二次中心Ｚ２を有する荷電粒子線装置であって、振動体１００の回転二次中心Ｚ２を、試料ホルダ１１によって試料位置が調整可能な領域内に収める。【選択図】  図４
2011124145.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架台と、該架台上にダンパを介して支持された支持板と、該支持板により支持されていて、荷電粒子線を発生させる荷電粒子銃及び荷電粒子線を照射する試料を保持する試料ホルダを少なくとも含む被支持要素とを備え、前記支持板及び前記被支持要素からなる振動体がその重心よりも下方にある回転一次中心と該回転一次中心よりも上方にある回転二次中心を有する荷電粒子線装置であって、
前記振動体の回転二次中心が、前記試料ホルダによって試料位置が調整可能な領域内にあることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１の荷電粒子線装置において、前記振動体の回転二次中心が当該振動体の重心又はその近傍に合わせてあることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項１の荷電粒子線装置において、前記被支持要素は、荷電粒子線カラムに隣接して前記支持板上に搭載したフレームと、当該フレーム上に搭載されたポンプと、当該ポンプと前記荷電粒子銃を接続する配管とをさらに含み、少なくとも前記ポンプを前記振動体の回転二次中心の位置を調整するためのウェイトとすることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項３の荷電粒子線装置において、前記ポンプはターボポンプであり、前記支持板に支持されていない荒引きポンプに防振配管を介して接続されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項１の荷電粒子線装置において、前記被支持要素は、試料を透過した荷電粒子によって蛍光板に映し出された試料像を観察する観察室と、前記蛍光板に映し出された試料像を電荷撮像素子で撮像する記録部とをさらに含み、少なくとも前記記録部を前記振動体の回転二次中心の位置を調整するためのウェイトとすることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１の荷電粒子線装置において、前記被支持要素は、前記荷電粒子銃の荷電粒子源を交換する昇降装置をさらに含み、当該昇降装置を前記振動体の回転二次中心の位置を調整するためのウェイトとすることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１の荷電粒子線装置において、前記被支持要素は、試料からの特性Ｘ線を分析する分析装置をさらに含み、当該分析装置を前記振動体の回転二次中心の位置を調整するためのウェイトとすることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項７の荷電粒子線装置において、前記被支持要素は、前記分析装置の冷媒消費に伴って蒸発する液体を収容し、前記分析装置の冷媒消費による前記回転二次中心の変化を抑制する容器をさらに含んでいることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
架台と、該架台上にダンパを介して支持された支持板と、該支持板により支持されていて、荷電粒子線を発生させる荷電粒子銃及び荷電粒子線を照射する試料を保持する試料ホルダを少なくとも含む被支持要素とを備え、前記支持板及び前記被支持要素からなる振動体がその重心よりも下方にある回転一次中心と該回転一次中心よりも上方にある回転二次中心を有する荷電粒子線装置であって、
前記振動体の回転二次中心が、荷電粒子線カラムの試料室内にあることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
架台と、該架台上にダンパを介して支持された支持板と、該支持板により支持されていて、荷電粒子線を発生させる荷電粒子銃及び荷電粒子線を照射する試料を保持する試料ホルダを少なくとも含む被支持要素とを備え、前記支持板及び前記被支持要素からなる振動体がその重心よりも下方にある回転一次中心と該回転一次中心よりも上方にある回転二次中心を有する荷電粒子線装置であって、
前記振動体の回転二次中心が、前記試料ホルダ上の試料位置にあることを特徴とする荷電粒子線装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば透過型電子顕微鏡には、高圧電源、荷電粒子銃、収束レンズ、試料室、結像レンズ、像観察室、記録部、それらを制御する制御系、真空排気装置等の様々な構成要素が備えられている。この種の荷電粒子線装置では、床、ポンプの他、風や音波等の振動源から伝わる振動が観察像に与える影響を抑制することが求められる。例えば床振動に対する防振策としては、ゴムや空気、オイル等を利用した防振材を荷電粒子線装置と床の間に介在させたものがある（特許文献１，２等参照）。風や音波に対しては、グラスウール等の防音材で荷電粒子線装置を覆うもの、或いは防音カバーを設ける等して騒音による空気振動の影響を軽減するもの（特許文献３等参照）がある。ポンプ振動に対しては、ポンプ機能をメインポンプと真空荒引きポンプで分担させ、真空荒引きポンプでは荷電粒子線装置とフレキシブル配管で接続したものがある（特許文献４等参照）。また、メインポンプではポンプと荷電粒子線装置との間に円筒の振動吸収部とベローズを組み合わせたものがある（特許文献５等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２８８６１８号公報
【特許文献２】特開２００１−２０９９６号公報
【特許文献３】特開平５−２５６６４２号公報
【特許文献４】特開２００５−１２９２８４号公報
【特許文献５】特開２００２−２９５５８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように、外的要因による振動の荷電粒子線装置への伝達を抑制する技術は様々に提唱されてきたが、完全に振動を遮断することは難しく、荷電粒子線装置が多少なりともロッキング動作する状況下で如何にして分解能の低下を抑制するかについて配慮された技術は存在しなかった。
【０００５】
本発明の目的は、分解能に振動が与える影響を軽減することができる荷電粒子線装置を提供することに関する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、架台上にダンパを介して支持された支持板と該支持板により支持された荷電粒子照射系等の被支持要素とからなる振動体を有する荷電粒子線装置において、振動体の回転二次中心と試料位置が一致又は近接するように構成することに関する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、分解能に振動が与える影響を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る荷電粒子線装置の概略構成を表す側断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る荷電粒子線装置の概略構成を表す平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る荷電粒子線装置の振動体の振動モデルである。
【図４】回転中心位置の違いと振幅の関係を示す説明図であり、回転二次中心と重心が一致した状態を表した図である。
【図５】回転中心位置の違いと振幅の関係を示す説明図であり、回転二次中心が重心の上方に離れた状態を表した図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る荷電粒子線装置の概略構成を表す側断面図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る荷電粒子線装置の概略構成を表す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に図面を用いて本発明の実施の形態を説明する。
【００１０】
図１は本発明の第１実施形態に係る荷電粒子線装置の概略構成を表す側断面図、図２はその平面図である。但し、図２では荒引きポンプ１３や配管系を図示省略している。
【００１１】
図に示した荷電粒子線装置は、架台８と、この架台８上にダンパ７を介して支持された支持板１０と、この支持板１０により支持された被支持要素３０と、荒引きポンプ１３とを備えている。
【００１２】
架台８は、上部が開口した箱状の部材であり、上部には中央が開口したテーブル６が搭載され、またテーブル６の下方に位置する中間段には上記支持板１０を支持するための支持部３２を有している。支持部３２は、後述する記録部９に干渉しないように架台８の内側に突出している。
【００１３】
架台８の支持部３２には少なくとも３箇所にダンパ７が設置されており、これらダンパ７によって支持板１０が水平に支持されている。ダンパ７は、荷電粒子線カラム３１（後述）又は振動体１００（後述）の重心からの距離が大きく違わないように配置されている。ダンパ７と支持板１０はそれぞれ架台８にねじ止めされ、支持板１０に搭載されテーブル６の開口を通って延びる被支持要素３０がテーブル６と接触しないようになっている。これにより、架台８に対して被支持要素３０が振動的に切り離されていて、床振動やテーブル６に作用する外力の被支持要素３０への伝達が抑制されており、例えばテーブル６に作業者が触れてもその外力による振動が支持板１０に伝わり難く構成されている。支持板１０は被支持要素３０を撓みなく支持するだけの厚みを有するが、さらにその剛性を高めたい場合、支持板１０の裏面（下面）に被支持要素３０の荷重中心から放射状に複数のリブ１７を設置すると良い。或いは、支持板１０にハニカム構造を適用することで高強度化することも考えられる。
【００１４】
本実施形態の荷電粒子線装置は透過型電子顕微鏡であり、被支持要素３０には、荷電粒子光学系を内蔵した荷電粒子線カラム３１と、試料を透過した荷電粒子によって蛍光板（図示せず）に映し出された試料像を観察する観察室３と、蛍光板に映し出された試料像を撮像する電荷撮像素子（図示せず）を有する記録部９の他、荷電粒子光学系を真空排気する第１の排気系２０や、被支持要素３０の荷電粒子源１８を交換する昇降装置（リフタ）１９等が含まれている。これら被支持要素３０は、支持板１０に対して固定関係にあり、支持板１０とともにダンパ７上で一体に振動する振動体を構成する。以下、支持板１０と被支持要素３０を合わせて「振動体１００」と記載する。
【００１５】
荷電粒子線カラム３１は、支持板１０に搭載された基部３３と、この基部３３から上方に向かって順に連接する、結像部１４、中間室部２、荷電粒子銃部１とで構成されている。基部３３の下部には上記記録部９が接続しており、この記録部９は支持板１０を貫通して支持板１０よりも下方に吊り下がっている。
【００１６】
当該荷電粒子線カラム３１の最上部に位置する荷電粒子銃部１には荷電粒子源１８が収容されており、荷電粒子銃部１において荷電粒子源１８から引き出された荷電粒子線が下方に出射される。
【００１７】
中間室部２には、試料（図示せず）を保持する試料ホルダ１１を挿入する試料室、荷電粒子銃部１からの荷電粒子線を試料に収束させる収束レンズの他、試料ホルダ１１の交換機構が設けられている。試料ホルダ１１は、モータや圧電素子等の駆動装置を搭載していて、試料室内で三次元的に試料ホルダ１１上の試料の位置を調整可能な構成である。
【００１８】
結像部１４には、試料を透過した荷電粒子を蛍光板に結像させる結像レンズ等が収容されている。
【００１９】
基部３３には、試料を透過した荷電粒子線による試料像を映し出す蛍光板（図示せず）が収容されており、またこの基部３３の側部に上記観察室３が設置されている。
【００２０】
最下部の記録部９には、蛍光板上に映し出された試料像を撮像する電荷撮像素子（例えばＣＣＤ：Charged Coupled Device、図示せず）が収容されている。
【００２１】
第１の排気系２０は、荷電粒子線カラム３１を真空排気する排気系のうちの支持板１０に重量を預けた部分であり、荷電粒子線カラム３１に隣接して支持板１０上に搭載されたフレーム２０ｂと、このフレーム２０ｂ上に搭載された主ポンプ（例えばターボポンプ）２０ｄと、この主ポンプ２０ｄ及び荷電粒子銃部１を接続する主配管２０ａと、主ポンプ２０ｄ及び中間室部２以下の荷電粒子線カラム３１を接続する配管２０ｅと、主ポンプ２０ｄの振動を抑えるポンプダンパ２０ｃとを含んでいる。
【００２２】
フレーム２０ｂは、例えば支持板１０上に取り付けた底板上に鋼材（Ｌ鋼、Ｕ字鋼、板金、円柱等）を立設し、これら鋼材上に天板を取り付けた構成であり、第１の排気系２０を高剛性に支持するのに十分な強度が与えられている。このフレーム２０ｂは、主ポンプ２０ｄ、配管２０ａ，２０ｅ、ポンプダンパ２０ｃの重量を支持している。主ポンプ２０ｄに例えばターボ分子ポンプを用いることでクリーンな排気システムが構築される。ターボ分子ポンプは比較的重く低振動であるためにカウンタウェイト（釣合い重り）としても有用である。主配管２０ａは荷電粒子銃部１を効率的に排気するため、その配管径は中間室部２に接続した配管２０ｅ以上としてある。
【００２３】
昇降装置１９は、消耗品である荷電粒子源１８の交換の際、重量物である荷電粒子銃部１を昇降・回転を適宜組み合わせた動作で搬送するための補助装置である。この昇降装置１９は、強固に製作されていてフレーム２０ｂ又は支持板１０により支持され、荷電粒子銃１に対してはアーム１９ａを介して連結されている。
【００２４】
上記荒引きポンプ１３は、被支持要素３０から離間した位置に設置（本例では架台８の外部において床面に設置）されていて、配管１２ａ、防振配管５、配管１２ｂを介して主ポンプ２０ｄに接続され、必要な真空排気を行う。これら荒引きポンプ１３、配管１２ａ，１２ｂ、防振配管５を、第１の排気系２０に対して第２の排気系と称する。防振配管５は、ゴム管、フレキシチューブ等の可撓性の配管で構成され、荒引きポンプ１３の振動が配管１２ａ，１２ｂを介して主ポンプ２０ｄに伝達することを抑制している。
【００２５】
図３は振動体１００の振動モデルである。
【００２６】
本実施形態の荷電粒子線装置において、ダンパ７で支持された振動体１００は、その重心Ｇよりも下方に位置する回転一次中心Ｚ１と、回転一次中心Ｚ１よりも上方の回転二次中心Ｚ２とを持つ振動系を構成している。そして、試料ホルダ１１に保持された試料の試料ホルダ１１によって位置調整可能な領域内に振動体１００の二次回転中心Ｚ２が納まるように、被支持要素３０が配置されている。したがって、振動体１００の二次回転中心Ｚ２は、荷電粒子線カラム３１の試料室内に存在していて、好ましくは試料ホルダ１１に保持された試料位置に一致している。さらに好ましくは、振動体１００の重心Ｇが振動体１００の回転二次中心Ｚ２又はその近傍にくるように、すなわち試料位置に重心Ｇと回転二次中心Ｚ２がくるように、被支持要素３０が適宜配置されている。
【００２７】
例えば、本実施形態では、荷電粒子の光学設計に従って荷電粒子線カラム３１を設計して支持板１０上の所定位置に固定し、その際の支持板１０及び荷電粒子線カラム３１からなる構造物の回転二次中心と重心の位置を算出する。そして、荷電粒子線カラム３１及び支持板１０からなる構造物の回転二次中心や重心の位置を基に、試料ホルダ１１によって調整可能な試料の位置範囲に被支持要素３０及び支持板１０からなる振動体１００全体の回転二次中心Ｚ２が三次元的に収まるように、第１の排気系２０、記録部９、昇降装置１９が設置する。このとき、より好ましくは、振動体１００全体の回転二次中心Ｚ２に振動体１００全体の重心Ｇを一致又は近接させる。
【００２８】
回転二次中心Ｚ２や重心Ｇの高さ方向（Ｚ方向）及び水平方向（ＸＹ方向）の位置調整には、第１の排気系２０、記録部９及び昇降装置１９のいずれもが単体で又は複合的に寄与し得る。すなわち、第１の排気系２０、記録部９及び昇降装置１９のいずれか１つをカウンタウェイトとして選択し、この選択したカウンタウェイトによって振動体１００の回転二次中心Ｚ２や重心Ｇを調整することもできるし、第１の排気系２０、記録部９及び昇降装置１９の中から２つ以上の要素をカウンタウェイトとして選択することもできる。例えば第１の排気系２０をカウンタウェイトとして選択した場合には、第１の排気系２０のフレーム２０ｂの構成によって主ポンプ２０ｄやポンプダンパ２０ｃ等の位置を三次元的に調整することが容易であり、より柔軟に回転二次中心Ｚ２や重心Ｇの位置を調整することができる。
【００２９】
なお、仮に第１の排気系２０、記録部９及び昇降装置１９のみでは回転二次中心Ｚ２や重心Ｇの位置が調整しきれない場合には、被支持要素３０にカウンタウェイト専用の構成要素（錘等）を別途追加することも考えられる。支持板１０にハニカム状の孔が多数ある場合には、その孔に挿し込んで各種カウンタウェイトを固定することでカウンタウェイトの位置調整も容易である。
【００３０】
ここで、
Ｓ：ダンパ７から振動体１００の重心Ｇまでの垂直距離（ｃｍ）
Ｌ：ダンパ７から振動体１００の重心Ｇまでの水平距離（ｃｍ）
Ｋｈ：ダンパ７の水平方向のバネ定数（ｋｇ／ｃｍ）
Ｋｚ：ダンパ７の鉛直方向のバネ定数（ｋｇ／ｃｍ）
Ｍ：振動体１００の重量（ｋｇ）
Ｉｇ：重心Ｇ回りの振動体１００の慣性モーメント（ｋｇ・ｃｍ２）
とし、振動体１００をダンパ７で支持した当該振動モデルの回転運動の剛性モードを計算すると、重心Ｇから回転中心までの距離Ｚｒは、次の（式１）のように求められる。
【００３１】
Ｚｒ＝１／２｛Ｂ±（Ｂ＋４×ｉ２）−１／２｝（ｃｍ）・・・（式１）
ここで、
Ｂ＝（ｅ２−ｉ２＋Ｓ２）／Ｓ
ｅ２＝Ｋｒ／Ｋｈ
Ｋｒ＝Σ（Ｌ２×ＫＺ）（ｋｇ／ｃｍ）
ｉ２＝Ｉｇ／Ｍ（ｃｍ２）
である。
【００３２】
（式１）を解くとＺｒについて２つの解が得られるが、一つは重心Ｇから下方側の回転一次中心（複数のダンパ７全体の揺れの回転中心）Ｚ１までの距離、もう一つは重心Ｇから上方側の回転二次中心（各ダンパ７周りの揺れの回転中心）Ｚ２までの距離となる。
【００３３】
本実施形態においれは、上記のように算出した振動体１００の回転二次中心Ｚ２に試料が一致させられるように、被支持要素３０の配置に配慮して試料ホルダ１１の試料位置の調整可能な領域（少なくとも試料室内）に振動体１００の回転二次中心Ｚ２を持ってくる。こうすることで、観察動作中に振動体１００が振動しても、試料の移動を最小限に抑制することができるので、分解能に振動が与える影響を軽減することができる。したがって、外的要因による振動体１００の振動が完全に抑えきれない状況下でも、高い分解能を確保することができる。
【００３４】
また、本実施形態では、荷電粒子線カラム３１の真空排気系を第１の排気系２０と第２の排気系に分離し、第１の排気系２０には主ポンプ２０ｄを、第２の排気系には荒引きポンプ１３を用い、両排気系の間は防振配管５によって振動の伝達を遮断している。そして、支持板１０に支持されていない第２の排気系とは分けて、第１の排気系２０を支持板１０上に搭載し、振動体１００の回転二次中心Ｚ２や重心Ｇの位置調整用のカウンタウェイトに利用できるようにしている。第１の排気系２０の構成要素である主ポンプ２０ｄには、例えばターボポンプが用いられる。例えば油拡散ポンプの場合、支持板１０上の限られたスペースの中で荷電粒子線カラム３１等と釣り合わせて振動体１００の回転二次中心Ｚ２や重心Ｇを移動させるには重量が軽過ぎ、第１の排気系２０のみでカウンタウェイトとしての役割を果たすことが難しい。それに対し、ターボポンプは、油拡散ポンプ等に比べて重量があり、また振動も少ないため支持板１０上に搭載するカウンタウェイトとして有用である。
【００３５】
また、記録部９で蛍光板をフィルム撮影する構成とした場合、真空中でフィルムを使用することにより発生するガスを排出するための真空ポンプが別途必要になるが、ＣＣＤ等の電荷撮像素子を用いることにより、フィルムやアウトガス対策用の真空ポンプが不要になることもメリットである。また、電荷撮像素子を用いることで高精細な画像を取得することができることに加え、画像信号の処理も容易に行うことができる点も利点である。但し、単に記録部９を振動体１００のカウンタウェイトとして用いる限りにおいては、フィルム撮影式のカメラを記録部９に用いても良い。
【００３６】
また、重心の高い昇降装置１９等も回転二次中心Ｚ２の高さや水平方向の位置を調整するカウンタウェイトとして有用である。
【００３７】
加えて、振動体１００の回転二次中心Ｚ２に重心Ｇを一致又は近接させることで、さらなる分解能の向上が期待できる。この点について、図４及び図５を用いて簡単に説明する。
【００３８】
図４及び図５は回転中心位置の違いと振幅の関係を示す説明図である。
【００３９】
例えば図５に示したように振動体１００の回転二次中心Ｚ２が重心Ｇよりも上方にある場合、重心Ｇが回転二次中心Ｚ２を中心にして往復振動する。この場合回転二次中心Ｚ２に合わせた試料の移動は抑えられても、振動体１００全体の振動は大きくなる。それに対し、図４に示したように回転二次中心Ｚ２に重心Ｇを合わせることで、重心Ｇの揺れを抑制することができるので、振動体１００の振動を効果的に抑制することができる。この場合、回転二次中心Ｚ２に試料を置いたことによる試料の揺れ防止の本質的効果と相俟って、振動体１００の振動自体の抑制によって更なる分解能の向上が期待できる。さらに、回転一次中心Ｚ１が重心位置から遠くなるようにすることで、より揺れ難い振動系とすることができる。
【００４０】
図６は本発明の第２実施形態に係る荷電粒子線装置の概略構成を表す側断面図、図７はその平面図である。図６及び図７においては、第２の排気系や試料ホルダ１１を図示省略している。
【００４１】
本実施形態は、荷電粒子線を当てた際に発生する試料からの特性Ｘ線を分析する分析装置１５を搭載した例であり、この分析装置１５を被支持要素３０に含めることによって、分析装置１５をカウンタウェイトに利用して振動体１００の回転二次中心Ｚ２を試料に合わせられるようにしている。分析装置１５は、試料からのＸ線により試料内の元素を定性的又は定量的に分析する装置であり、荷電粒子線カラム３１における中間室部２の側部に試料ホルダ１１に干渉しないように設置されている。
【００４２】
このとき、特性Ｘ線の分析では、分析素子の温度変化による分析結果のバラツキを抑制するため分析素子を冷却する必要がある。この冷却方法として液体窒素で冷却する場合があるが、この場合には液体窒素の消費に伴って振動体１００の重量バランスが変化し、ひいては回転二次中心Ｚ２も移動する。そこで、分析装置１５の冷媒として液体窒素を用いる場合には、分析装置１５の質量の減少に応じて質量が減少する釣合い重りを支持板１０の被支持要素３０にさらに含め、振動体１００の重心を挟んで分析装置１５の反対側にこの釣合い重りを配置することで、回転二次中心Ｚ２の移動を抑制することができる。図６及び図７では、この釣合い重りの一例として容器１６を用いている。この容器１６には固体又は液体（例えば液体窒素）が収容されており、分析装置１５の分析動作中に容器１６を一部大気開放すると、収容物が昇華又は蒸発して分析装置１５の冷媒質量の減少に伴って軽量化する構成である。容器１６の収容物の減少する速度は、予め分析装置１５における冷媒消費量に応じて調整しておく必要がある。
【００４３】
その他の構成については第１実施形態と同様であり、本実施形態においても同様の効果を得ることができる。
【００４４】
なお、以上においては、荷電粒子線装置として透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Transmission Electron Microscope）に本発明を適用した場合を例に挙げて説明したが、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ：Scanning Transmission Electron Microscope）や走査電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）、走査イオン顕微鏡（ＳＩＭ：Scanning Ion Microscopy）、集束イオンビーム加工観察装置（Focused Ion Beam system）等、各種の荷電粒子線装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００４５】
１      荷電粒子銃部
３      観察室
５      防振配管
７      ダンパ
８      架台
９      記録部
１０    支持板
１１    試料ホルダ
１２ａ  配管
１２ｂ  配管
１３    荒引きポンプ
１５    分析装置
１６    容器
１８    荷電粒子源
１９    昇降装置（リフタ）
２０    第１の排気系
２０ａ  主配管
２０ｂ  フレーム
２０ｃ  ポンプダンパ
２０ｄ  主ポンプ
２０ｅ  配管
３０    被支持要素
３１    荷電粒子線カラム
１００  振動体
Ｇ      重心
Ｚ１    回転一次中心
Ｚ２    回転二次中心
【図１】
2011124145.tif 000003
【図２】
2011124145.tif 000004
【図３】
2011124145.tif 000005
【図４】
2011124145.tif 000006
【図５】
2011124145.tif 000007
【図６】
2011124145.tif 000008
【図７】
2011124145.tif 000009