(57)【要約】【課題】基板を浮上搬送する際における座屈発生の評価を、設計変更を要する要素がある場合にその要素を特定できる内容で、確実に実行すること。【解決手段】基板Ｗの搬送加速度（誤差因子７）以外の誤差因子５，６を変化させつつ浮上搬送中の基板Ｗの座屈発生の評価を行い、その後、搬送加速度（誤差因子７）を変えつつ座屈発生の評価を行う。誤差因子５，６は、基準ローラ群３１Ｇを構成する各基準ローラ３１の周面位置の設計値に対する誤差、各浮上ユニット２５の各ノズル２７から噴出される圧縮空気の空気圧の設計値に対する誤差、基板Ｗの形状の初期不整（基板Ｗの形状の設計値に対する誤差）等から選択する。これにより、他の誤差因子のパラメータ値の変動による影響を受けやすい搬送加速度（誤差因子７）以外の誤差因子５，６を、搬送加速度（誤差因子７）よりも優先して、浮上搬送中の基板Ｗの座屈評価を誤差因子毎に個別に行う。【選択図】図７
2011178513.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浮上搬送する際に発生する座屈を評価する方法であって、
前記基板を浮上搬送するために値を設定することが必要な最小限のパラメータである基礎パラメータについて、それぞれの値を設定する基礎パラメータ設定工程と、
前記基板の座屈に関する耐力の余裕度を示す座屈裕度として、設計上要求される座屈裕度である設計座屈裕度が得られるような、浮上搬送時における前記基板の搬送加速度の値を設定する搬送加速度設定工程と、
浮上搬送中の前記基板に座屈が発生する要因となる、前記搬送加速度を除く少なくとも一種類の座屈要因パラメータの値を、各種類別に変化させつつ、前記基礎パラメータ設定工程において設定した前記基礎パラメータの値と、前記搬送加速度設定工程において設定した前記搬送加速度の値とによって、前記基板を浮上搬送する少なくとも一回の定加速度浮上搬送工程と、
各回の前記定加速度浮上搬送工程の結果により、前記基板に座屈が発生するか否かを前記座屈要因パラメータの種類別に評価する座屈要因パラメータ別座屈評価工程と、
前記座屈要因パラメータ別座屈評価工程において前記基板に座屈が発生しないと評価した場合に、前記搬送加速度の値を、前記搬送加速度設定工程において設定した前記搬送加速度の値よりも高い、前記基板の浮上搬送時における計画加速度値まで変化させつつ、前記基礎パラメータ設定工程において設定した前記基礎パラメータの値によって前記基板を浮上搬送する加速度可変浮上搬送工程と、
前記加速度可変浮上搬送工程の結果により、前記基板に座屈が発生するか否かを前記搬送加速度別に評価する搬送加速度別座屈評価工程と、
を含むことを特徴とする浮上搬送される基板の座屈評価方法。
【請求項２】
前記基板の浮上搬送を、該基板の一方の面に圧縮空気を吹き付けて浮上させながら、前記基板の端面が当接するローラ群を回転駆動させることにより行うようにし、前記座屈要因パラメータを、前記基板の端面に当接する前記ローラ群の位置誤差と、前記圧縮空気の空気圧の設計値に対する誤差と、前記基板の形状誤差と、のうち少なくとも一つとしたことを特徴とする請求項１記載の浮上搬送される基板の座屈評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浮上搬送される基板の座屈評価方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイに使用されるガラス薄板等の基板をクリーン搬送する手法として、浮上搬送方法がある。この方法では、基板の一方の面に圧縮空気を吹き付けて基板を浮上させながら、薄板の端面が当接するローラ群を回転駆動させることにより、基板を浮上搬送する（例えば、特許文献１）。
【０００３】
上述した浮上搬送方法によって基板を浮上搬送する場合、浮上搬送路上において基板が稀に座屈することがある。この座屈には様々な要素が要因となり得るが、具体的にどれがその要因であるのかや、要因となる要素が基板の座屈にどの程度寄与しているかを、定量評価することは非常に困難である。
【０００４】
ある部材の座屈発生に対する性能評価を行う方法としては、例えば、エンジンフードのデント性能を評価する方法が提案されている。この評価方法では、複数の要素について条件が設定された上で評価が行われる（例えば、特許文献２）。しかし、評価の結果設計変更が必要であることになった場合、この評価方法では、どの要素について設計変更を行う必要があるかを評価結果から特定することができない。
【０００５】
そこで、直交表の列と行に配置した解析対象の設計要因と水準のデータに基づいて構造解析又は実験を行い、その結果に基づき分散分析することで、解析対象の特性値に対して効果の大きい設計要因を抽出する評価方法を（例えば、特許文献３）、座屈評価に応用することが考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２９２１５３号公報
【特許文献２】特開２００８−１８５３４７号公報
【特許文献３】特許第３３１３０４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上述した構造解析の評価方法では、抽出した設計要因の設計値を設計変更の必要性から変化させた場合に、変更後の設計値に基づいた評価を行うと、解が離散して評価結果が得られなくなってしまう場合がある。したがって、他の評価方法を検討する必要がある。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みなされたもので、本発明の目的は、基板を浮上搬送する際における座屈発生の評価を、設計変更を要する要素がある場合にその要素を特定できる内容で、確実に実行することができる、浮上搬送される基板の座屈評価方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、請求項１に記載した本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法は、
基板を浮上搬送する際に発生する座屈を評価する方法であって、
前記基板を浮上搬送するために値を設定することが必要な最小限のパラメータである基礎パラメータについて、それぞれの値を設定する基礎パラメータ設定工程と、
前記基板の座屈に関する耐力の余裕度を示す座屈裕度として、設計上要求される座屈裕度である設計座屈裕度が得られるような、浮上搬送時における前記基板の搬送加速度の値を設定する搬送加速度設定工程と、
前記基板の浮上搬送中に該基板に作用する外力の要因となる、前記搬送加速度を除く少なくとも一種類の座屈要因パラメータの値を、各種類別に変化させつつ、前記基礎パラメータ設定工程において設定した前記基礎パラメータの値と、前記搬送加速度設定工程において設定した前記搬送加速度の値とによって、前記基板を浮上搬送する少なくとも一回の定加速度浮上搬送工程と、
各回の前記定加速度浮上搬送工程の結果により、前記座屈要因パラメータの種類別に前記基板の座屈評価を行う座屈要因パラメータ別座屈評価工程と、
前記座屈要因パラメータ別座屈評価工程において前記基板に座屈が発生しないと評価した場合に、前記搬送加速度の値を、前記搬送加速度設定工程において設定した前記搬送加速度の値よりも高い、前記基板の浮上搬送時における計画加速度値まで変化させつつ、前記基礎パラメータ設定工程において設定した前記基礎パラメータの値によって前記基板を浮上搬送する加速度可変浮上搬送工程と、
前記加速度可変浮上搬送工程の結果により、前記搬送加速度別に前記基板の座屈評価を行う搬送加速度別座屈評価工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１０】
請求項１に記載した本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法によれば、定加速度浮上搬送工程と座屈要因パラメータ別座屈評価工程とによって、浮上搬送中の基板の座屈評価を座屈要因パラメータの種類別に行うことができる。また、加速度可変浮上搬送工程と搬送加速度別座屈評価工程とによって、浮上搬送中の基板の座屈評価を搬送加速度別に行うことができる。
【００１１】
このように、浮上搬送される基板の座屈評価を、他のパラメータの変動による影響を受けやすい搬送加速度を除く他のパラメータを優先して順次行うことで、設計変更を要する要素がある場合にその要素を特定できる内容で、基板の座屈評価を確実に実行することができる。
【００１２】
なお、請求項２に記載した本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法のように、請求項１に記載した本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法において、前記基板の浮上搬送を、該基板の一方の面に圧縮空気を吹き付けて浮上させながら、前記基板の端面が当接するローラ群を回転駆動させることにより行うようにし、前記座屈要因パラメータを、前記基板の端面に当接する前記ローラ群の位置誤差と、前記圧縮空気の空気圧の設計値に対する誤差と、前記基板の形状誤差と、のうち少なくとも一つとすることもできる。
【００１３】
請求項２に記載した本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法によれば、請求項１に記載した本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法において、浮上搬送に用いる装置側や浮上搬送される基板側において想定される座屈発生要因を、座屈要因パラメータとすることになる。したがって、基板を浮上搬送する際における座屈発生の評価を効率的に行うことができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の浮上搬送される基板の座屈評価方法によれば、基板を浮上搬送する際における座屈発生の評価を、設計変更を要する要素がある場合にその要素を特定できる内容で、確実に実行することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る座屈評価方法が適用される基板の浮上搬送装置の平面図である。
【図２】図１の浮上搬送装置の正面図である。
【図３】図１におけるIII −III 線に沿った図である。
【図４】図２における矢視部IVの拡大図である。
【図５】図２における矢視部V の拡大図である。
【図６】図２における矢視部VIの拡大図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る座屈評価方法の手順を示すフローチャートである。
【図８】図７のフローチャートにおける解析実行の詳細な手順を示すフローチャートである。
【図９】図７のフローチャートにおける座屈裕度判定の詳細な手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１７】
図１は本発明の一実施形態に係る座屈評価方法が適用される基板の浮上搬送装置の平面図、図２は同正面図、図３は図１におけるIII −III 線に沿った図である。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向を、「ＦＲ」は、後方向を、「Ｌ」は、左方向を、「Ｒ」は、右方向をそれぞれ指してある。
【００１８】
図１から図３に示すように、本発明の実施形態に係る浮上搬送装置１は、例えばガラス基板等の基板Ｗを浮上させた状態で搬送方向（本発明の実施形態にあっては、前後方向）へ搬送する装置であって、固定フレーム３を具備している。
【００１９】
固定フレーム３の上部には、前後方向へ水平に延びた旋回軸５が一対の軸受部材７を介して回転可能に設けられており、この旋回軸５には、前後方向及び搬送幅方向（本発明の実施形態にあっては、左右方向）へ延びた支持フレーム９が一体的に設けられている。換言すれば、固定フレーム３は、支持フレーム９を旋回軸５及び一対の軸受部材７を介して水平な軸心（旋回軸の軸心）周りに旋回可能に支持するようになっている。そして、固定フレーム３の上部には、水平な第１旋回位置（図２において仮想線で示す位置）と水平に対して傾斜した第２旋回位置（図２において実線で示す位置）との間で支持フレーム９を旋回させる旋回用モータ１１（旋回用アクチュエータの一例）が設けられており、旋回用モータ１１の出力軸は、減速機構１３及びカップリング１５を介して旋回軸５に連動連結してある。
【００２０】
なお、固定フレーム３の左側の適宜位置には、支持フレーム９が第１旋回位置を越えて逆方向（図２において反時計回り方向）へ旋回することを規制する一対（１つのみ図示）の第１ストッパ１７が設けられており、固定フレーム３の右側の適宜位置には、支持フレーム９が第２旋回位置を越えて正方向（図２において時計回り方向）へ旋回することを規制する一対の第２ストッパ１９が設けられている。
【００２１】
支持フレーム９の上部には、空気を収容する複数のチャンバー２１が前後方向及び左右方向へ沿って配設されており、各チャンバー２１の下面には、各チャンバー２１の内部に清浄化した空気を供給するファン・フィルタユニット２３が設けられている。また、各チャンバー２１の上面には、空気の圧力を利用して基板Ｗを浮上させる複数の浮上ユニット２５が前後方向及び左右方向に沿って設けられており、換言すれば、支持フレーム９の上部には、複数の浮上ユニット２５が複数のチャンバー２１を介して前後方向及び左右方向に沿って設けられている。そして、各浮上ユニット２５の内部は、対応するチャンバー２１の内部に連通してある。
【００２２】
図４は図２における矢視部IVの拡大図、図５は図２における矢視部V の拡大図、図６は図２における矢視部VIの拡大図である。図４から図６の各図では、図面の見やすさのため、支持フレーム９を水平な第１旋回位置に位置させた状態を示している。そのため、支持フレーム９と支持フレーム９に設けられた各部に関する以後の説明では、それらの上下左右の位置関係を、支持フレーム９を水平な第１旋回位置に位置させたものとして説明することがある。
【００２３】
図４に示すように、各浮上ユニット２５の上面には、空気を噴出するスリット状のノズル２７が形成されている。更に、各ノズル２７は、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、垂直に対してユニット中心側（浮上ユニット２５の中心側）へ傾斜するようにそれぞれ構成されている。なお、各浮上ユニット２５の上面にスリット状のノズル２７が形成されるのに代えて、丸穴状の複数のノズルが形成されるようにしても構わない。
【００２４】
図１、図２、図４に示すように、支持フレーム９の上部における浮上ユニット２５の右方側（支持フレーム９の上部右側）には、前後方向へ延びたローラ支持部材２９が設けられており、このローラ支持部材２９には、基準ローラ群３１Ｇ（請求項中のローラ群に相当）が設けられており、この基準ローラ群３１Ｇは、複数の基準ローラ３１が前後方向へ間隔を置いて並んでいる。換言すれば、支持フレーム９の上部には、前後方向へ間隔を置いて並んだ複数の基準ローラ３１からなる基準ローラ群３１Ｇがローラ支持部材２９を介して設けられている。そして、支持フレーム９の上部右側の適宜位置には、複数の基準ローラ３１を垂直な軸心周りに回転させる回転用モータ３３（回転用アクチュエータの一例）が設けられており、この回転用モータ３３の出力軸は、複数（１つのみ図示）の主動プーリ３５、タイミングベルト３７、及び複数（１つのみ図示）の従動プーリ３９を介して複数の基準ローラ３１のローラ軸に連動連結してある。
【００２５】
なお、ローラ支持部材２９には、複数（１つのみ図示）の補助ローラ４１が前後方向に沿って間隔を置いて配設されており、各補助ローラ４１は、搬送方向に平行な軸心周りに回転自在になっている。
【００２６】
図１、図２、図５に示すように、支持フレーム９の上部における浮上ユニット２５の左方側（支持フレームの上部左側）には、基準ローラ群３１Ｇと協働して基板Ｗを挟持する押えローラ群４３Ｇが設けられており、この押えローラ群４３Ｇは、前後方向へ間隔を置いて並んだ複数の押えローラ４３からなるものである。そして、各押えローラ４３は、左右方向へ移動可能に構成されており、各押えローラ４３周辺の構成は、次のようになる。
【００２７】
即ち、支持フレーム９の上部における浮上ユニット２５の上部左側には、複数（１つのみ図示）の下部ブラケット４５が前後方向へ間隔を置いて設けられており、各下部ブラケット４５には、下部スライダ４７が左右方向へ移動可能に設けられている。そして、各下部ブラケット４５の左端部には、対応する下部スライダ４７を左右方向へ移動させる移動用モータ４９が設けられている。また、各下部ブラケット４５には、対応する移動用モータ４９の出力軸に連動連結しかつ左右方向へ延びたボールねじ５１が回転可能に設けられており、各下部スライダ４７には、対応するボールねじ５１に螺合したナット部材５３が設けられている。
【００２８】
各下部スライダ４７には、上部ブラケット５５が設けられており、各上部ブラケット５５には、移動用シリンダ５７が設けられている。また、各移動用シリンダ５７は、上部ブラケット５５に固定されたシリンダ本体５９と、このシリンダ本体５９に左右方向へ移動可能に設けられたピストンロッド６１とを備えている。更に、各移動用シリンダ５７におけるシリンダ本体５９には、上部スライダ６３が左右方向へ移動可能に設けられており、各移動用シリンダ５７におけるピストンロッド６１の先端部は、対応する上部スライダ６３の適宜位置に連結してある。
【００２９】
そして、各上部スライダ６３の先端部には、前述の押えローラ４３が設けられており、各押えローラ４３は、ベアリングを介して垂直な軸心周りに回転自在なフリーローラになっている。ここで、各移動用モータ４９及び各移動用シリンダ５７は、下部スライダ４７等を介して各押えローラ４３を左右方向へ移動させる移動用アクチュエータとしての機能を有している。
【００３０】
なお、各上部ブラケット５５の先端部には、補助ローラ６５が設けられており、各補助ローラ６５は、搬送方向に平行な軸心周りに回転自在になっている。
【００３１】
図１、図２、及び図６に示すように、支持フレーム９の上部における基準ローラ群３１Ｇと押えローラ群４３Ｇの間には、基準ローラ群３１Ｇと協働して基板Ｗを挟持する追加押えローラ群６７Ｇがチャンバー２１等を介して設けられており、この追加押えローラ群６７Ｇは、前後方向へ間隔を置いて並んだ複数の追加押えローラ６７からなるものである。そして、各押えローラ４３は、左右方向へ移動可能及び浮上ユニット２５による浮上高さ位置（換言すれば、基板Ｗの搬送高さ位置）に対して出没可能に構成されおり、各追加押えローラ６７周辺の構成は、次のようになる。
【００３２】
支持フレーム９の上部における基準ローラ群３１Ｇと押えローラ群４３Ｇの間には、複数の出没用追加シリンダ６９が適宜のチャンバー２１を介して前後方向へ沿って間隔を置いて設けられている。また、各出没用追加シリンダ６９は、適宜のチャンバー２１に固定されたシリンダ本体７１と、このシリンダ本体７１に昇降可能に設けられたピストンロッド７３とを備えている。更に、各出没用追加シリンダ６９におけるシリンダ本体７１には、昇降体７５が昇降可能に設けられており、各出没用追加シリンダ６９におけるピストンロッド７３の先端部は、対応する昇降体７５の適宜位置に連結してある。
【００３３】
各昇降体７５には、ブラケット７７が設けられており、各ブラケット７７には、移動用追加シリンダ７９が設けられている。また、各移動用追加シリンダ７９は、ブラケット７７に固定されたシリンダ本体８１と、このシリンダ本体８１に左右方向へ移動可能に設けられたピストンロッド８３とを備えている。更に、各移動用追加シリンダ７９におけるシリンダ本体８１には、スライダ８５が左右方向へ移動可能に設けられており、各移動用追加シリンダ７９におけるピストンロッド８３の先端部は、対応するスライダ８５の適宜位置に連結してある。
【００３４】
そして、各スライダ８５の先端部には、前述の追加押えローラ６７が設けられており、各追加押えローラ６７は、ベアリングを介して垂直な軸心周りに回転自在なフリーローラになっている。ここで、各移動用追加シリンダ７９は、スライダ８５等を介して各追加押えローラ６７を左右方向へ移動させる移動用追加アクチュエータとしての機能を有してあって、各出没用追加シリンダ６９は、昇降体７５等を介して各追加押えローラ６７を浮上高さ位置に対して出没させる出没用追加アクチュエータとしての機能を有している。
【００３５】
なお、各ブラケット７７の先端部には、補助ローラ８７が設けられており、各補助ローラ８７は、搬送方向に平行な軸心周りに回転自在になっている。
【００３６】
以上に説明した構成の浮上搬送装置１によって、幅の大きい基板Ｗ（ＷＡ）を搬送方向へ搬送する場合には、まず、複数の出没用追加シリンダ６９の駆動によって複数の昇降体７５を下降させることにより、複数の追加押えローラ６７を浮上高さ位置に対して没入させておく。次に、複数のファン・フィルタユニット２３によって複数のチャンバー２１の内部に清浄化した空気を供給することにより、複数の浮上ユニット２５のノズル２７から空気を噴出させる。そして、適宜の搬入装置（図示省略）によって基準ローラ群３１Ｇと押えローラ群４３Ｇとの間に幅の大きい基板ＷＡを搬入する。なお、このとき、支持フレーム９は第２旋回位置に位置しており、複数の浮上ユニット２５のノズル２７による空気の噴出動作は、幅の大きい基板ＷＡの搬送が終了するまで継続される。
【００３７】
基準ローラ群３１Ｇと押えローラ群４３Ｇとの間に幅の大きい基板ＷＡを搬入した後に、複数の移動用モータ４９の駆動によって複数の下部スライダ４７を、また、複数の移動用シリンダ５７の駆動によって複数の上部スライダ６３を、右方向へそれぞれ移動させることにより、複数の押えローラ４３を右方向へ移動させて、押えローラ群４３Ｇと基準ローラ群３１Ｇの協働により幅の大きい基板ＷＡを挟持する。そして、回転用モータ３３の駆動によって複数の基準ローラ３１を垂直な軸心の周りに回転させる。これにより、幅の大きい基板ＷＡを浮上させた状態で搬送方向へ搬送することができる。なお、幅の大きい基板ＷＡの搬送中に、各押えローラ４３の前側近傍位置又は後側近傍位置に幅の大きい基板ＷＡに存在しなくなったことが適宜の光学センサ（図示省略）によって検知されると、各押えローラ４３は対応する移動用シリンダ５７の駆動によって左方向へ移動するようになっている。
【００３８】
幅の小さい基板Ｗ（ＷＢ）を搬送方向へ搬送する場合には、まず、複数の出没用追加シリンダ６９の駆動によって複数の昇降体７５を上昇させることにより、複数の追加押えローラ６７を浮上高さ位置に対して突出させる。また、複数のファン・フィルタユニット２３によって複数のチャンバー２１の内部に清浄化した空気を供給することにより、複数の浮上ユニット２５のノズル２７から空気を噴出させる。そして、適宜の搬入装置によって基準ローラ群３１Ｇと追加押えローラ群６７Ｇとの間に幅の小さい基板ＷＢを搬入する。なお、このとき、支持フレーム９は第２旋回位置に位置しており、複数の浮上ユニット２５のノズル２７による空気の噴出動作は、幅の小さい基板ＷＢの搬送が終了するまで継続される。
【００３９】
基準ローラ群３１Ｇと追加押えローラ群６７Ｇとの間に幅の小さい基板ＷＢを搬入した後に、複数の移動用追加シリンダ７９の駆動によって複数のスライダ８５を右方向へそれぞれ移動させることにより、複数の追加押えローラ６７を右方向へ移動させて、追加押えローラ群６７Ｇと基準ローラ群３１Ｇの協働により幅の小さい基板ＷＢを挟持する。そして、回転用モータ３３の駆動によって複数の基準ローラ３１を垂直な軸心の周りに回転させる。これにより、幅の小さい基板ＷＢを浮上させた状態で搬送方向へ搬送することができる。なお、幅の小さい基板ＷＢの搬送中に、各追加押えローラ６７の前側近傍位置又は後側近傍位置に幅の小さい基板ＷＢに存在しなくなったことが適宜の追加光学センサ（図示省略）によって検知されると、各追加押えローラ６７は対応する移動用追加シリンダ７９の駆動によって左方向へ移動するようになっている。
【００４０】
次に、上述した浮上搬送装置１によって基板Ｗを浮上搬送する際における座屈発生の評価、本発明の一実施形態による座屈評価方法によって行う場合について、図７から図９のフローチャートを用いて説明する。
【００４１】
図７は本発明の一実施形態に係る座屈評価方法の手順を示すフローチャート、図８は図７のフローチャートにおける解析実行の詳細な手順を示すフローチャート、図９は図７のフローチャートにおける座屈裕度判定の詳細な手順を示すフローチャートである。
【００４２】
まず、図７に示すように、浮上搬送装置１における基板Ｗの搬送加速度を除く各種のパラメータ（請求項中の基礎パラメータに相当）の値を設定する（ステップＳ１）。ここで値を設定する対象のパラメータは、基板Ｗを浮上搬送装置１で浮上搬送するために値を設定することが必要な最小限のパラメータである。このステップＳ１は、請求項中の基礎パラメータ設定工程に相当する。
【００４３】
次に、浮上搬送装置１によって浮上搬送する基板Ｗについて設計座屈裕度が得られるような搬送加速度を、後述する解析実行の際に用いる値として設定する（ステップＳ３）。ここで、座屈裕度とは、浮上搬送装置１による浮上搬送中における基板Ｗの座屈に関する耐力の余裕度を示すものである。本実施形態では、座屈が発生することなく浮上搬送装置１により基板Ｗを搬送できたときの実際の基板Ｗの搬送加速度に対する、運用上計画している基板Ｗの搬送加速度（計画加速度）の比で座屈裕度を表す。基本的には、実際の搬送加速度が計画加速度を超えることを想定しているので、座屈裕度は「１」より大きい値で表される。このステップＳ３は、請求項中の搬送加速度設定工程に相当する。
【００４４】
続いて、解析を実行する（ステップＳ５）。ステップＳ５で実行する解析は、図８に示すように、初期条件を設定するステップ（ステップＳ５１）と、４つの解析ステップ（ステップＳ５３〜５９）とで構成される。
【００４５】
ステップＳ５１の初期条件を設定するステップは、本実施形態では、４つの誤差因子のパラメータの値を設定する。この誤差因子１〜４には、図７のステップＳ１やステップＳ３で設定した各パラメータが含まれる。
【００４６】
４つの解析ステップのうち１つ目の解析ステップ（解析ステップ１）であるステップＳ５３は、基板Ｗに重力を加え、浮上搬送装置１の浮上ユニット２５によって基板Ｗを浮上させて搬送するステップである。２つ目の解析ステップ（解析ステップ２）であるステップＳ５５は、上述した誤差因子１〜４とは異なる誤差因子５を変化させるステップである。３つ目の解析ステップ（解析ステップ３）であるステップＳ５７は、上述した誤差因子１〜５とは異なる誤差因子６を変化させるステップである。４つ目の解析ステップ（解析ステップ４）であるステップＳ５９は、誤差因子７として搬送加速度を変化させるステップである。なお、誤差因子５，６は、基準ローラ群３１Ｇを構成する各基準ローラ３１の周面位置の設計値に対する誤差、各浮上ユニット２５の各ノズル２７から噴出される圧縮空気の空気圧の設計値に対する誤差、基板Ｗの形状の初期不整（基板Ｗの形状の設計値に対する誤差）等から選択することができる。
【００４７】
そして、図７のステップＳ５の解析実行は、段階的に行われる。具体的には、図８のステップＳ５１、ステップＳ５３、及び、ステップＳ５５の手順によって、一段階目の解析が実行される。また、ステップＳ５１、ステップＳ５３、及び、ステップＳ５７の手順によって、二段階目の解析が実行される。さらに、ステップＳ５１、ステップＳ５３、及び、ステップＳ５９の手順によって、三段階目の解析が実行される。ここで、一段階目及び二段階目の解析は、請求項中の定加速度浮上搬送工程に相当する。また、三段階目の解析は、請求項中の加速度可変浮上搬送工程に相当する。
【００４８】
図７のステップＳ５による解析実行に続いては、座屈裕度の判定を行う（ステップＳ７）。座屈裕度の判定は、ステップＳ５の解析実行において図８のステップＳ５１、ステップＳ５３、及び、ステップＳ５５の手順による一段階目の解析、ステップＳ５１、ステップＳ５３、及び、ステップＳ５７の手順による二段階目の解析、及び、ステップＳ５１、ステップＳ５３、及び、ステップＳ５９の手順による三段階目の解析が実行される度に、行われる。
【００４９】
ステップＳ７で実行する座屈裕度の判定では、図９に示すように、まず、図７のステップＳ５による解析実行において、図８のステップＳ５７を含む二段階目の解析を行うまで、座屈裕度の解が得られたか否かを判定する（ステップＳ７１）。つまり、上述した一段階目の解析及び二段階目の解析で、座屈裕度の解がいずれも得られたか否かを判定する。座屈裕度の解が得られるとは、浮上搬送中に基板Ｗに座屈が発生せず、浮上搬送終了後に基板Ｗの座屈裕度の値を特定できたことを言う。座屈裕度の解が得られなかった場合は（ステップＳ７１でＮＯ）、基板Ｗの実際の搬送加速度に関係なく座屈裕度の値を一義的に「１」とし（ステップＳ７３）、座屈裕度判定を終了する。
【００５０】
座屈裕度の解が得られた場合は（ステップＳ７１でＹＥＳ）、図７のステップＳ５による解析実行において、図８のステップＳ５９を含む三段階目の解析で座屈裕度の解が得られたか否かを判定する（ステップＳ７５）。座屈裕度の解が得られなかった場合は（ステップＳ７５でＮＯ）、座屈が発生した時点の基板Ｗの実際の搬送加速度と計画加速度との比から座屈裕度の値を求め（ステップＳ７７）、座屈裕度判定を終了する。
【００５１】
座屈裕度の解が得られた場合は（ステップＳ７５でＹＥＳ）、座屈裕度は目標とする座屈裕度以上であると判定し（ステップＳ７９）、座屈裕度判定を終了する。この場合、座屈裕度の値は、図８のステップＳ５９で変化させた搬送加速度の最大値と計画加速度との比から求めることができる。
【００５２】
以上の説明からも明らかなように、図９のステップＳ７１及びステップＳ７３が、請求項中の座屈要因パラメータ別座屈評価工程に相当する。また、図９のステップＳ７５〜ステップＳ７９が、請求項中の搬送加速度別座屈評価工程に相当する。
【００５３】
このように、本実施形態の座屈評価方法によれば、基板Ｗの搬送加速度（誤差因子７）以外の誤差因子５，６を変化させつつ浮上搬送中の基板Ｗの座屈発生の評価を行い、その後、搬送加速度（誤差因子７）を変えつつ座屈発生の評価を行うようにした。このため、誤差因子５〜７のそれぞれを要因とする基板Ｗの座屈発生の評価を、個別に行うことができる。
【００５４】
特に、本実施形態の座屈評価方法では、他の誤差因子のパラメータ値の変動による影響を受けやすい搬送加速度（誤差因子７）以外の誤差因子５，６を、搬送加速度（誤差因子７）よりも優先して、浮上搬送中の基板Ｗの座屈評価を行う。このため、座屈発生の要因となった因子と、要因となった因子の座屈発生時におけるパラメータ値とを、確実に特定することができる。これにより、設計変更を要する要素を容易に特定し、かつ、必要な設計変更内容を容易に特定することができる。
【００５５】
なお、誤差因子５，６は、上述した実施形態で例示した要素に限定されない。要は、浮上搬送中の基板Ｗの座屈発生を評価するのに当たって固定値としなければならないパラメータでなく、かつ、座屈発生に関与する可能性があるパラメータであればよい。また、誤差因子５，６は、単一の誤差因子や３つ以上の誤差因子に置き換えてもよい。
【００５６】
また、本発明は、上述した実施形態で説明した浮上搬送装置１以外の装置等を用いて基板の浮上搬送を行う場合にも、広く適用可能である。
【符号の説明】
【００５７】
１  浮上搬送装置
３  固定フレーム
５  旋回軸
７  軸受部材
９  支持フレーム
１１  旋回用モータ
１３  減速機構
１５  カップリング
１７  第１ストッパ
１９  第２ストッパ
２１  チャンバー
２３  ファン・フィルタユニット
２５  浮上ユニット
２７  ノズル
２９  ローラ支持部材
３１  基準ローラ
３１Ｇ  基準ローラ群
３３  回転用モータ
３５  主動プーリ
３７  タイミングベルト
３９  従動プーリ
４１  補助ローラ
４３  ローラ
４３Ｇ  ローラ群
４５  下部ブラケット
４７  下部スライダ
４９  移動用モータ
５３  ナット部材
５５  上部ブラケット
５７  移動用シリンダ
５９  シリンダ本体
６１  ピストンロッド
６３  上部スライダ
６５  補助ローラ
６７  ローラ
６７Ｇ  ローラ群
６９  出没用追加シリンダ
７１  シリンダ本体
７３  ピストンロッド
７５  昇降体
７７  ブラケット
７９  移動用追加シリンダ
８１  シリンダ本体
８３  ピストンロッド
８５  スライダ
８７  補助ローラ
Ｗ  基板
ＷＡ  基板
ＷＢ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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