(57)【要約】【課題】液晶装置の一対の基板間における蒸着方位角ズレを、比較的簡便な方法により抑制する。【解決手段】液晶装置（１００）の製造方法は、複数の基板（１０、２０）が配列された第１及び第２大型基板（２１０、２２０）の各々の上に、斜方蒸着法により配向膜（１６、２２）を形成する配向膜形成工程と、第１大型基板に配列された複数の基板を、その位置情報を保持して、夫々分割する分割工程と、保持された位置情報に応じて、分割された複数の基板のうち一の基板と、第２大型基板に配列された基板と、を貼り合わせる貼合工程とを備える。【選択図】図４
2011215526.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板が配列された第１及び第２大型基板の各々の上に、斜方蒸着法により配向膜
を形成する配向膜形成工程と、
前記第１大型基板に配列された複数の基板を、その位置情報を保持して、夫々分割する
分割工程と、
前記保持された位置情報に応じて、前記分割された複数の基板のうち一の基板と、前記
第２大型基板に配列された基板と、を貼り合わせる貼合工程と
を備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記位置情報は、蒸着源を基準として定められていることを特徴とする請求項１に記載
の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記貼合工程においては、前記保持された位置情報に応じて、前記第１大型基板におい
て前記蒸着源を基準にして左右いずれか一方側に配置されていた前記一の基板を、前記第
２大型基板において前記蒸着源を基準にして左右いずれかの前記一方側に位置する基板に
貼り合わせることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記貼合工程においては、前記保持された位置情報に応じて、前記第１大型基板におい
て前記蒸着源を基準にして左右いずれか一方側の端に配置されていた前記一の基板を、前
記第２大型基板において前記蒸着源を基準にして左右いずれかの前記一方側の端に位置す
る基板に貼り合わせることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記貼合工程においては、前記保持された位置情報に応じて、前記一の基板を、前記一
の基板の基板面に沿って回転させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記
載の液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の方法では、大型基板上に斜方蒸着法により無機配向膜が形成されることに起因
して生じる液晶装置の一対の基板間における蒸着方位角ズレを抑制することが図られる。
例えば、特許文献１には、大面積基板上に斜方蒸着法により無機配向膜を形成する際に、
基板と、該基板上の成膜領域を制限するための開口部を有する防着部材と、の相対的位置
関係を連続的に変化させることによって、基板上の成膜領域を連続的に変化させて、基板
上の異なる成膜領域に、異なる成膜速度で無機物を蒸着する方法が開示されている。
【０００３】
或いは、特許文献２には、大型基板上に複数の素子基板を形成する際に、実質的に点源
から放射状に配向膜の配向方向を付与する方向に対応するように、素子基板の長辺又は短
辺と、放射状に付与される配向方向とのなす角が夫々の基板にて略一定となるように、素
子基板の配置方向を放射状とする方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１３９４９７号公報
【特許文献２】特開２００８−３４０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述の特許文献によれば、製造工程が比較的複雑になったり、製造コス
トが増加したりする可能性があるという技術的問題点がある。
【０００６】
本発明は、例えば上記問題点に鑑みてなされたものであり、液晶装置の一対の基板間に
おける蒸着方位角ズレを、比較的簡便な方法により抑制することができる液晶装置の製造
方法を提案することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液晶装置の製造方法は、上記課題を解決するために、複数の基板が配列された
第１及び第２大型基板の各々の上に、斜方蒸着法により配向膜を形成する配向膜形成工程
と、前記第１大型基板に配列された複数の基板を、その位置情報を保持して、夫々分割す
る分割工程と、前記保持された位置情報に応じて、前記分割された複数の基板のうち一の
基板と、前記第２大型基板に配列された基板と、を貼り合わせる貼合工程とを備える。
【０００８】
本発明の液晶装置の製造方法によれば、配向膜形成工程において、複数の基板が配列さ
れた第１及び第２大型基板の各々の上に、斜方蒸着法により配向膜が形成される。第１大
型基板に配列された複数の基板は、例えば素子基板であり、他方、第２大型基板に配列さ
れた複数の基板は、例えば対向基板である。
【０００９】
尚、当該製造方法により形成される液晶装置は、第１大型基板に配列された複数の基板
のうち一の基板と、第２大型基板に配列された複数の基板のうち一の基板とを備えて構成
される。
【００１０】
分割工程において、第１大型基板に配列された複数の基板が、その位置情報が保持され
て、夫々分割される。ここで、「位置情報」は、例えばＸ座標及びＹ座標によって示され
るような、大型基板上における厳密な位置情報に限らず、例えば大型基板の端部からｘ列
目、大型基板の中央から右半分等の複数の基板が夫々配列されているエリアを示すような
情報であってもよい。
【００１１】
また、「位置情報」は、大型基板に配列された複数の基板夫々が有すること（例えば、
複数の基板の各々に、位置情報を示すマークが形成される等）に限らず、例えば大型基板
を分割する装置が、大型基板に配列された複数の基板各々の位置情報を記憶してもよいし
、或いは、例えば分割後の基板を一時保管する容器を、大型基板上における複数の基板各
々の位置に応じて変更してもよい。
【００１２】
貼合工程において、保持された位置情報に応じて、分割された複数の基板のうち一の基
板と、第２大型基板に配列された基板と、が貼り合わされる。
【００１３】
本願発明者の研究によれば、以下の事項が判明している。即ち、例えば直径２０ｃｍを
超えるような大型基板上に、斜方蒸着法により配向膜を成膜すると、大型基板上の場所に
よって、蒸着の角度（即ち、蒸着角）、膜厚等が異なってしまう。これは、蒸着源が点源
であるので大型基板の端側ほど該点源からの広がり（即ち、点源から大型基板上のある場
所を見込む立体角）が大きくなるためである。すると、大型基板面内で均一な液晶パネル
特性（例えばプレチルト角、透過率等）が得られない可能性がある。この結果、例えば、
製造された液晶装置の画像品質が低下する等可能性がある。これに対し、成膜条件を変更
したり、大型基板面内における基板の配置（即ち、チップ配置）を工夫したりして、特に
方位角分布を抑制する方法が提案されている。しかしながら、製造工程が比較的複雑にな
ったり、製造コストが増加したりする可能性がある。
【００１４】
しかるに本発明では、分割工程において、第１大型基板に配列された複数の基板が、そ
の位置情報が保持されて、夫々分割される。そして、貼合工程において、保持された位置
情報に応じて、分割された複数の基板のうち一の基板と、第２大型基板に配列された基板
と、が貼り合わされる。
【００１５】
具体的には例えば、保持された位置情報に応じて、分割された複数の基板のうち一の基
板（例えば、対向基板）と、該一の基板における方位角分布を補完するような方位角分布
を有する、第２大型基板に配列された基板（例えば、素子基板）とが、貼り合わされる。
【００１６】
或いは、分割された複数の基板のうち一の基板と、第２大型基板に配列された基板とを
貼り合わせる際に、保持された位置情報に応じて、互いの方位角分布が補完されるように
、該一の基板が、該一の基板の基板面に沿って回転される。尚、この場合、例えば対向基
板は、素子基板に対する貼り合わせ方向が予め定められていない（所謂、組ズレフリー）
基板として構成されている。
【００１７】
このように、本発明では、大型基板上に配向膜が成膜される過程ではなく、分割された
基板の貼り合わせ方法により、特に、方位角分布を補完している。このため、本発明の液
晶装置の製造方法によれば、液晶装置の一対の基板間における蒸着方位角ズレを、比較的
簡便な方法により抑制することができ、もって、明るく高品質な画像を表示可能な液晶装
置を提供することができる。
【００１８】
本発明の液晶装置の製造方法の一態様では、前記位置情報は、蒸着源を基準として定め
られている。
【００１９】
この態様によれば、位置情報から、比較的容易にして、斜方蒸着法に起因する方位角分
布を特定することができる。この結果、比較的容易にして、一の基板と貼り合わせるべき
第２大型基板に配列された基板を決定することができたり、一の基板を、該一の基板の基
板面に沿って回転させることができたりする。
【００２０】
位置情報が蒸着源を基準として定められている態様では、前記貼合工程においては、前
記保持された位置情報に応じて、前記第１大型基板において前記蒸着源を基準にして左右
いずれか一方側に配置されていた前記一の基板を、前記第２大型基板において前記蒸着源
を基準にして左右いずれかの前記一方側に位置する基板に貼り合わせてよい。
【００２１】
このように構成すれば、第１大型基板の一の基板と、第２大型基板の基板との間の蒸着
方位角ズレを適切に抑制することができる。
【００２２】
或いは、位置情報が蒸着源を基準として定められている態様では、前記貼合工程におい
ては、前記保持された位置情報に応じて、前記第１大型基板において前記蒸着源を基準に
して左右いずれか一方側の端に配置されていた前記一の基板を、前記第２大型基板におい
て前記蒸着源を基準にして左右いずれかの前記一方側の端に位置する基板に貼り合わせて
よい。
【００２３】
このように構成すれば、第１大型基板の一の基板と、第２大型基板の基板との間の蒸着
方位角ズレをより適切に抑制することができる。
【００２４】
本発明の液晶装置の他の態様では、前記貼合工程においては、前記保持された位置情報
に応じて、前記一の基板を、前記一の基板の基板面に沿って回転させる。
【００２５】
この態様によれば、一の基板と、該一の基板を貼り合わせるべき、異なる大型基板に配
置された基板との組み合わせの自由度を増加させることができるので、実用上非常に有利
である。
【００２６】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶装置を、ＴＦＴアレイ基板上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る製造方法の配向膜形成工程を説明するための工程図である。
【図４】本発明の実施形態に係る製造方法の貼合工程を説明するための工程図である。
【図５】比較例に係る製造方法の貼合工程を説明するための工程図である。
【図６】本発明の実施形態に係る位置情報の概念の一例を示す概念図である。
【図７】本発明の実施形態に係る位置情報の概念の他の例を示す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態を、図面に基づいて説明する。尚、
以下の各図では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするために、該各層
・各部材毎に縮尺を異ならしめている。
【００２９】
（液晶装置）
先ず、本発明に係る液晶装置の製造方法により製造された液晶装置の実施形態を、図１
及び図２を参照して説明する。尚、本実施形態では、液晶装置として、駆動回路内蔵型の
アクティブマトリックス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。
【００３０】
本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。図
１は、本実施形態に係る液晶装置を、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ）アレイ基板上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図であり、図
２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００３１】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１０
及び対向基板２０が対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば、石英基板、
ガラス基板、シリコン基板等の基板からなり、対向基板２０は、例えば、石英基板、ガラ
ス基板等の基板からなる。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封
入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは画像表示領域１０ａの周囲に位
置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００３２】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂、
又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０
上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２
中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、ギャップ）を所定値とす
るためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャ
ップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ
又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００３３】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域
１０ａを規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、
このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜とし
て設けられてもよい。
【００３４】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、デ
ータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿っ
て設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側にサンプリング回路７が額縁
遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に
隣接する２辺に沿ったシール領域の内側の額縁領域に、額縁遮光膜５３に覆われるように
して設けられている。
【００３５】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両
基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これ
らにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができ
る。更に、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４
、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００３６】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のト
ランジスタや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層
構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴ
Ｏ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を含んでなる画素電極９ａが、画素毎に所定の
パターンで島状に形成されている。
【００３７】
画素電極９ａは、後述する対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の
画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面す
る側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成され
ている。尚、配向膜１６、及び後述する配向膜２２は、斜方蒸着法により形成された無機
配向膜である。
【００３８】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されて
いる。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形
成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光
膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクタ用のランプや直視用のバックライ
トから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成
し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素と
によって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００３９】
遮光膜２３上に、ＩＴＯを含んでなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して形
成されている。遮光膜２３上に、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、
開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルタが形成
されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向
膜２２が形成されている。
【００４０】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１
０１、走査線駆動回路１０４、サンプリング回路７等に加えて、複数のデータ線に所定電
圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造
途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよ
い。
【００４１】
（製造方法）
次に、本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態について、図３乃至図７を参照して
説明する。尚、以下で説明する液晶装置の製造方法は、上述の液晶装置１００を製造する
製造方法である。よって、説明の便宜上、上述の液晶装置１００と共通する部分には共通
の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００４２】
上述した液晶装置１００を構成するＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の各々は、
図３に示すような、大型基板２１０及び２２０において、一挙に複数個形成される。尚、
図３は、本実施形態に係る製造方法の配向膜形成工程を説明するための工程図である。
【００４３】
図３（ａ）において、所定の製造工程を経て、画素電極９ａ（図２参照）が形成された
ＴＦＴアレイ基板１０が複数個配列されてなる大型基板２１０上に、斜方蒸着法により配
向膜１６が形成される。
【００４４】
この際、蒸着源３００から大型基板２１０を見込む立体角に起因して、大型基板２１０
上に形成された配向膜１６に方位角（図３（ａ）において、ＴＦＴアレイ基板１０上に記
載された矢印参照）の分布が生じる。具体的には例えば、大型基板２１０の中央付近に配
置されたＴＦＴアレイ基板１０Ｃでは、配向膜１６の方位角が図面の上下方向に沿ってい
るが、大型基板２１０の端部に配置されたＴＦＴアレイ基板１０Ｒ及び１０Ｌでは、配向
膜１６の方位角が図面の上下方向からズレている。
【００４５】
他方、図３（ｂ）において、所定の製造工程を経て、対向電極２１（図２参照）が形成
された対向基板２０が複数個配列されてなる大型基板２２０上に、斜方蒸着法により配向
膜２２が形成される。
【００４６】
この際、大型基板２１０と同様に、蒸着源３００から大型基板２２０を見込む角度に起
因して、大型基板２２０上に形成された配向膜２２に方位角（図３（ｂ）において、対向
基板２０上に記載された矢印参照）の分布が生じる。具体的には例えば、大型基板２２０
の中央付近に配置された対向基板２０Ｃでは、配向膜２２の方位角が図面の上下方向に沿
っているが、大型基板２２０の端部に配置された対向基板２０Ｒ及び２０Ｌでは、配向膜
２２の方位角が図面の上下方向からズレている。
【００４７】
次に、分割工程において、大型基板２１０及び２２０の少なくとも一方の大型基板に配
列された複数の基板（例えば、対向基板２０）が、その位置情報が保持されて、夫々分割
される。
【００４８】
次に、貼合工程において、完成した液晶装置１００の明視方向が一定方向になるように
、保持された位置情報に応じて、分割された複数の基板のうち一の基板（例えば、対向基
板２０）と、該一の基板が配列されていた大型基板とは異なる大型基板に配列された基板
（例えば、ＴＦＴアレイ基板１０）と、が貼り合わされる。
【００４９】
具体的には例えば、図４（ａ）に示すように、保持された位置情報に応じて、ＴＦＴア
レイ基板１０Ｌと対向基板２０Ｌとが貼り合わされる。或いは、図４（ｂ）に示すように
、保持された位置情報に応じて、ＴＦＴアレイ基板１０Ｒと対向基板２０Ｒとが貼り合わ
される。或いは、図４（ｃ）に示すように、保持された位置情報に応じて、ＴＦＴアレイ
基板１０Ｃと対向基板２０Ｃとが貼り合わされる。
【００５０】
図４（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示した、ＴＦＴアレイ基板１０Ｌ、１０Ｒ及び１０Ｃ
と対向基板２０Ｌ、２０Ｒ及び２０Ｃとの組み合わせは全て、完成した液晶装置１００の
明視方向が、図面の上下方向に沿う方向となる組合せである。図４は、本実施形態に係る
製造方法の貼合工程を説明するための工程図である。尚、図４において、ＴＦＴアレイ基
板１０Ｌ、１０Ｒ及び１０Ｃ、並びに対向基板２０Ｌ、２０Ｒ及び２０Ｃ各々の上に記載
された矢印は、配向膜１６又は２２の方位角を示している。ここで、対向基板２０はＴＦ
Ｔアレイ基板１０と貼り合わされる際に、図面上の表裏が反転されるため、図４において
示した方位角は、図３（ｂ）において示した方位角に対して反転している。
【００５１】
仮に、分割された基板の大型基板上における位置情報を保持せずに、例えば、図５（ａ
）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０Ｌと対向基板２０Ｒとが貼り合わされたり、図５
（ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０Ｒと対向基板２０Ｌとが貼り合わされたりす
ると、完成した液晶装置１００の明視方向がバラバラになってしまう。図５は、図４と同
趣旨の、比較例に係る製造方法の貼合工程を説明するための工程図である。
【００５２】
しかるに本実施形態では、上述の如く、貼合工程において、分割された基板の大型基板
上における位置情報に応じて、貼り合わせるべき、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０
との組み合わせが決定されるので、完成した液晶装置１００の明視方向を一定方向に揃え
ることができる。この結果、完成した液晶装置１００の、例えば透過率のバラツキを抑制
することができる。従って、本実施形態によれば、明るく高品質な画像を表示可能な液晶
装置１００を提供することができる。
【００５３】
また、大型基板の更なる大型化、又は大型基板と蒸着源との間の距離の短縮を図ること
ができる。特に、大型基板と蒸着源との間の距離を短縮することにより、例えば、配向膜
形成工程の短縮や、製造コストの低減を図ることができ、実用上非常に有利である。
【００５４】
尚、本実施形態に係る「位置情報」は、蒸着源３００を基準として、例えば図６（ａ）
に示すように、蒸着源３００を含む大型基板２１０の垂直二等分面の一方の側（例えば、
一点鎖線で囲まれた領域）と、該垂直二等分面の他方の側（例えば、破線で囲まれた領域
）として定められている。同様に、例えば図６（ｂ）に示すように、蒸着源３００を含む
大型基板２２０の垂直二等分面の一方の側（例えば、一点鎖線で囲まれた領域）と、該垂
直二等分面の他方の側（例えば、破線で囲まれた領域）として定められている。
【００５５】
或いは、例えば図７（ａ）に示すように、大型基板２１０の中央部（図７（ａ）におけ
る二点鎖線で囲まれた領域）、右端部（図７（ａ）における一点鎖線で囲まれた領域）及
び左端部（図７（ａ）における破線で囲まれた領域）として定められている。同様に、例
えば図７（ｂ）に示すように、大型基板２２０の中央部（図７（ｂ）における二点鎖線で
囲まれた領域）、右端部（図７（ｂ）における一点鎖線で囲まれた領域）及び左端部（図
７（ｂ）における破線で囲まれた領域）として定められている。
【００５６】
或いは、例えば、複数のＴＦＴアレイ基板１０及び複数の対向基板２０毎に、蒸着源３
００を基準とした位置情報が定められていてもよい。
【００５７】
また、本実施形態に係る「位置情報」は、例えば、分割された基板（例えば、対向基板
２０）を一時保管する容器を、該基板の大型基板上における位置に応じて変更することに
よって保持される。具体的には例えば、位置情報が、図６に示すように定められている場
合、一点鎖線で囲まれた領域に配列された対向基板２０が一の容器に一時保管され、破線
で囲まれた領域に配列された対向基板２０が該一の容器とは異なる他の容器に一時保管さ
れることによって、位置情報が保持される。
【００５８】
尚、大型基板２１０及び２２０各々に配列された複数のＴＦＴアレイ基板１０又は複数
の対向基板２０の各々に、位置情報を示すマークを形成することによって、位置情報が保
持されてもよい。
【００５９】
図６は、本実施形態に係る位置情報の概念の一例を示す概念図であり、図７は、本実施
形態に係る位置情報の概念の他の例を示す概念図である。
【００６０】
＜変形例＞
次に、本実施形態の変形例について説明する。本変形例では、貼合工程において、分割
された基板の大型基板上における位置情報に応じて、貼り合わせるべき、ＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０との組み合わせが決定されることに代えて、分割された基板の大型
基板上における位置情報に応じて、完成した液晶装置１００の明視方向が一定方向になる
ように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の一方の基板がその基板面に沿って回転
される。
【００６１】
このように構成すれば、例えば図５に示したような、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板
２０との組み合わせであったとしても、完成した液晶装置１００の明視方向を、適切に一
定方向に揃えることができる。尚、本変形例では、組ズレフリーの対向基板２０を前提と
している。
【００６２】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体
から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような
変更を伴う液晶装置の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００６３】
１０、１０Ｒ、１０Ｌ、１０Ｃ…ＴＦＴアレイ基板、２０、２０Ｒ、２０Ｌ、２０Ｃ…
対向基板、１００…液晶装置、２１０、２２０…大型基板、３００…蒸着源
【図１】
2011215526.tif 000003
【図２】
2011215526.tif 000004
【図３】
2011215526.tif 000005
【図４】
2011215526.tif 000006
【図５】
2011215526.tif 000007
【図６】
2011215526.tif 000008
【図７】
2011215526.tif 000009