(57)【要約】【課題】  安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】    導電性成分（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）光重合開始剤（Ｅ）およびシリコン粒子（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物。    【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性成分（Ａ）、
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）
光重合開始剤（Ｅ）および
シリコン粒子（Ｆ）
を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物。
【請求項２】
シリコン粒子の５０重量％粒子径が１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１記載の感光性ペースト組成物。
【請求項３】
さらにガラス粒子（Ｂ）を含有することを特徴とする請求項１記載の感光性ペースト組成物。
【請求項４】
導電性粒子がアルミニウム粒子であることを特徴とする請求項１記載の感光性ペースト組成物。
【請求項５】
さらにガラス粉末（Ｂ）を含有することを特徴とする請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する工程、
該ペースト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該ペースト層を現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ペースト組成物およびパターン形成方法に関する。さらに詳しくは、
フラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネル、電子部品の高度実装材料および
太陽電池の部材を製造する際に、高感度かつ高精度のパターンを形成することが可能な感
光性ペースト組成物および該組成物を用いたパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン加工に対して、高密度化および
高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中
でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミ
ッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ
（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１
０２は対抗配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１
、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されて
いる。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４
の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス
基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光物質であ
り、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表
面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板
１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保
護層である。
【０００４】
上述の構成を有するＰＤＰや図２に示されるＦＥＤに代表されるＦＰＤにおいては、パ
ネルの大型化および高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン加工技術の向上が要望
されている。しかしながら、パネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求
が非常に厳しくなり、従来の工法であるスクリーン印刷法では、前記要求に対応できない
という問題がある。
【０００５】
そこで現在では、フォトリソグラフィー法によるパターン形成が主に用いられている。
例えば電極を製造する場合には、導電成分として銀を使用した感光性導電性ペーストを用いたフォトリソグラフィー法により、スクリーン印刷法では対応できなかった問題である、大型および高精細なパターン形成が可能となっている。
【０００６】
しかしながら、銀は貴金属であるため、感光性銀ペーストが高価になっている。また、感光性銀ペーストの欠陥として、高温多湿環境下でマイグレーションを起こしやすく、銀表面において硫化が発生するという性質が挙げられる。
【０００７】
上記のように、近年のパターン精度およびコストダウンに対する要求から、安価でかつ高精細なパターンを、セラミック、シリコンおよびガラス基板上に形成可能な無機粒子含有感光性樹脂材料が望まれており、銀に代わる安価な材料として、アルミニウム粉末を用いた感光性樹脂材料が検討されている。（特開2009-37232号公報）
【特許文献１】特開２００９−３７２３２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特開2009-37232号公報に開示される感光性ペースト組成物では、成形された電極の基板への密着性はあるものの、さらに低抵抗値の電極が得られることが望まれていた。
【０００９】
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、前記感光性ペースト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。
本発明は、導電性成分（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）光重合開始剤（Ｅ）およびシリコン粒子（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物と、
前記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する工程、  該ペースト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、  該ペースト層を現像処理してパターンを形成する工程、および  該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法とを提供するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、時的に基板への密着性が低下することがなく、抵抗値が低く、支持体との密着性が良好な高精細なパターンをガラス基板またはシリコン基板上に形成可能な感光性ペースト組成物が提供される。また、本発明によれば、前記感光性ペースト組成物を用いたパターン形成方法が提供される。
【００１２】
特に、本発明に係る感光性ペースト組成物を用いることにより、安価でかつ高精細なパ
ターンを形成することができ、ＦＰＤの配線を構成する部材の形成、電子部品の高度実装
材料の部材の形成、および太陽電池の部材の形成に好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る感光性ペースト組成物およびパターン形成方法について、詳細に説
明する。なお、以下では、前記感光性ペースト組成物を用いて形成される、露光前の層を
「感光性ペースト層」ともいう。
【００１４】
〔感光性ペースト組成物〕
本発明に係る感光性ペースト組成物は、以下に説明する導電性成分（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）光重合開始剤（Ｅ）およびシリコン粒子（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物である。
【００１５】
＜導電成分（Ａ）＞
導電性成分としては、銀、金、アルミニウム、ニッケル、銅などの球状粒子やフレーク、これらの金属を含む合金粉末を挙げることができ、これらのうちでも銀またはアルミニウム粉末が好ましい。
導電性成分は５０重量％粒子径（以下「Ｄ５０」ともいう。）は、通常２．０〜２０μｍ、好ましくはＤ５０が２．５〜１８μｍ、より好ましくはＤ５０が３．０〜１５μｍである。
導電性成分がフレークの場合には、平均厚さが０．１〜１μｍ、好ましくは０．１５〜０．９μｍ、より好ましくは０．１５〜０．８μｍの範囲にある。
【００１６】
Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を上回る導電性成分を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。
【００１７】
なお、本発明において、５０重量％粒子径（Ｄ５０）は、レーザー回折法により、後述
する実施例での測定条件下で測定される場合の値である。また、平均厚さは、ＳＥＭ観察
により、後述する実施例での測定条件下で測定される場合の値である。
【００１８】
導電性成分は脂肪酸により包接されたものを使用することもできる。
例えばＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、前記例示のフレーク状アルミニウム粉末が好適に用いられるが、特に、ＪＩＳ  Ｋ  ５９０６に記載の方法に従って測定されるリーフィング価が小さい（またはリーフィング価がない）、ノンリーフィング型フレーク状アルミニウム粉末が好適に用いられる。また、前記例示のフレーク状アルミニウム粉末は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
上記脂肪酸としては、例えば、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、
ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイ
ル酸、マルガリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸
、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、
モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。これらの脂肪酸の中では、オレイン酸は効率的に
アルミニウム粉末を包接および／または修飾することができる。オレイン酸などの脂肪酸
を用いて、上記フレーク状アルミニウム粉末を包接および／または修飾することで、ノンリーフィング型のフレーク状アルミニウム粉末を容易に得ることができる。そして、このようなノンリーフィング型のフレーク状アルミニウム粉末を用いることで、感光性ペースト層中に該アルミニウム粉末をより均一に分散することが可能となる。このため、このようにして得られる感光性ペースト層は露光光を反射することなく（すなわち、透過率が向上する）、良好にパターン形成することができる。
【００２０】
＜ガラス粉末（Ｂ）＞
本発明において、ガラス粉末（Ｂ）を用いることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）は、本
発明に係る感光性ペースト組成物を用いて形成されるパターンの用途（例えば、ＦＰＤの
部材、電子部品の部材など。）に応じて適宜選択することができる。
【００２１】
ガラス粉末（Ｂ）の好適な具体例としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタンの混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系−Ｋ2Ｏ系）、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ系）、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミ
ニウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3系）、
１４．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１５．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系）、
が挙げられる。これらの中では、環境に配慮した無鉛ガラスが特に好ましい。
【００２２】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径は、パターンの形状を考慮して適宜選択される。ガラス
粉末（Ｂ）の５０重量％粒子径（Ｄ５０）は、好ましくは０．２〜５μｍ、より好ましくは０．２〜４μｍ、さらに好ましくは０．５〜３．８μｍの範囲にある。また、ガラス粉末（Ｂ）の１０重量％粒子径（Ｄ１０）は０．０５〜０．５μｍの範囲にあることが好ましく、９０重量％粒子径（Ｄ９０）は１０〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径（Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０）が前記範囲にあると、露光工程において、露光光が感光性ペースト層の底部まで充分到達し、高精細なパターンを形成することができる。
【００２３】
なお、本発明において、５０重量％粒子径（Ｄ５０）、１０重量％粒子径（Ｄ１０）お
よび９０重量％粒子径（Ｄ９０）は、レーザー回折法により、後述する実施例での測定条
件下で測定される場合の値である。
【００２４】
また、例えばＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、ガラス粉末（Ｂ）とし
て、（Ｂ１）軟化点が好ましくは３５０〜７００℃、より好ましくは４００〜６２０℃の
範囲にあるガラス粉末（以下「ガラス粉末（Ｂ１）」ともいう。）を用いることが好まし
い。
【００２５】
軟化点が上記範囲を下回るガラス粉末を用いると、感光性ペースト層を露光・現像して
形成されるパターンを焼成する工程において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）などの有機物質
が完全に分解除去されない段階で該ガラス粉末が溶融してしまうため、電極中に該有機物
質の一部が残留することがある。その結果、前記電極が着色されて、その光透過率が低下
することがある。一方、軟化点が上記範囲を上回るガラス粉末を用いると、感光性ペース
ト層を露光・現像して形成されるパターンを焼成する工程において、その温度条件が非常
に高くなるため、ガラス基板に歪みなどが発生することがある。
【００２６】
なお、本発明において、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、ＤＳＣ測定により、後述する実
施例での測定条件下で測定される場合の値である。
本発明に係る感光性ペースト組成物において、ガラス粉末（Ｂ）の含有量は、該組成物
全体に対して、好ましくは０．５〜３５重量％、より好ましくは１〜２５重量％、さらに好ましくは１．５〜２０重量％の範囲にある。
【００２７】
特に、ガラス粉末（Ｂ）の少なくとも一部がガラス粉末（Ｂ１）であることが好ましく、該ガラス粉末（Ｂ１）の含有量は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは１〜２５重量％、より好ましくは１．５〜２０重量％の範囲にある。ガラス粉末（Ｂ１）の含有量が前記範囲にあると、ＦＰＤの配線を構成する電極などの部材を形成する場合に好適である。
【００２８】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）＞
なお、本発明において「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としては、以下のアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。
≪アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）≫
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などの、アルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーが挙げられる。
【００２９】
これらのモノマー（Ｃ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、これらのモノマー（Ｃ１）の中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００３０】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合することにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。このアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜７０重量％である。
【００３１】
≪（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）≫
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されない。例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの、上記モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【００３２】
これらのモノマー（Ｃ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
また、本発明では、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、例えば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーを用いてもよい。
【００３３】
＜ラジカル重合開始剤＞
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。ラジカル重合開始剤と
しては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を用いることができる。
【００３４】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，
２'−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバ
レロニトリル）、１，１'−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチル
−２，２'−アゾビスイソブチレート、４，４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）な
どのアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘ
キサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類
の有機過酸化物が挙げられる。
【００３５】
これらのラジカル重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
また、これらのラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００
重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００３６】
＜連鎖移動剤＞
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、α−メチ
ルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３
−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレ
ート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンが挙げられる。
【００３７】
これらの連鎖移動剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、こ
れらの連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して、
通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００３８】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の物性＞
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ま
しくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。Ｍｗは
、上記モノマーの共重合割合、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することによ
り制御することができる。Ｍｗが前記範囲を上回ると、現像後の膜荒れが発生しやすくな
る。また、Ｍｗが前記範囲を下回ると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下し、パタ
ーンの解像度が低下する場合がある。
【００３９】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２０℃、よ
り好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲を下回ると、塗膜にタッ
クを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲
を上回ると、感光性ペースト層とガラス基板などの支持体との密着性が悪くなり、後述す
る転写フィルムを用いる場合には、該ペースト層を転写できないことがある。なお、ガラ
ス転移温度は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）および（メタ）アクリル酸誘
導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節することがでる。
【００４０】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好
ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が前記範囲を下回ると未露光部をアル
カリ現像液で速やかに除去しにくく、高精細なパターンを形成することが困難になること
がある。また、酸価が前記範囲を上回ると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像
液に浸食されやすくなり、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。
【００４１】
本発明に係る感光性ペースト組成物は、５〜９０重量％（５〜８９．５重量％）の感光
性樹脂成分と９５〜１０重量％（９５〜１０．５重量％）の無機粒子とからなることが好
ましい。なお、感光性樹脂成分とは、感光性ペースト組成物から無機粒子を除いた部分、
すなわち感光性機能を有する有機成分全体をいい、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（
メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）などが含まれる。また、無機粒子に
は、導電成分（Ａ）、ガラス粉末（Ｂ）などが含まれる。
【００４２】
＜多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、感光性成分が含まれる。前記感光性成分とし
ては、一般的に光不溶化型の成分と光可溶化型の成分とがある。
【００４３】
光不溶化型の成分としては、（ｉ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する感光性モノ
マーまたはオリゴマー、（ｉｉ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲ
ン化合物などの感光性化合物、（ｉｉｉ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物
などのいわゆるジアゾ樹脂といわれるものなどがある。
【００４４】
光可溶化型の成分としては、（ｉｖ）ジアゾ化合物と無機酸や有機酸との錯体、（ｖ）
キノンジアゾ類、（ｖｉ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させたもの
（例えば、フェノール樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステ
ル。）などがある。
【００４５】
本発明においては、上記の全ての成分を用いることができるが、上記無機粒子と混合し
て簡便に用いることができる点で、上記（ｉ）感光性モノマーまたはオリゴマーに分類さ
れる、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）が必須成分として用いられる。
【００４６】
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、例えば、アリル化シクロヘキシルジ（メ
タ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール
ジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート
、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メト
キシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）タク
リレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ
）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）トリ
アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（
メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環に結合した水素原子のうち、１〜５個が塩素原子または臭素原子
に置換されたモノマーが挙げられる。これらの多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種
単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４７】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含
有量は、露光光に対する感度の点から、上記感光性樹脂成分全体に対して、好ましくは１
０重量％以上、より好ましくは１５〜６０重量％の範囲にある。多官能（メタ）アクリレ
ート（Ｄ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例えば、ディスプレイパネル
用部材）の形状が劣化することがある。
【００４８】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに
、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化ス
チレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００４９】
＜光重合開始剤（Ｅ）＞
光重合開始剤（Ｅ）としては、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。また、
露光感度を向上させるために、光重合開始剤（Ｅ）とともに増感剤を用いてもよい。
【００５０】
光重合開始剤（Ｅ）としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェ
ニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２
，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−
メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２
−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン
、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４
−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチル
エーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン
、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチ
レンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジ
リデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシク
ロヘキサノン、カンファーキノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メト
キシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボ
ニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル
）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４
−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−
プロパン−１−オン、２，２’−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなど
のカルボニル化合物；
ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフ
ィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなど
のアシルフォスフィンオキサイド系化合物；
ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ナフタレンスルホ
ニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィ
ド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベン
ゾイン；
エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素と、アスコルビン酸やトリエタノール
アミンなどの還元剤との組み合せが挙げられる。これらの光重合開始剤（Ｅ）は１種単独
で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、光重合開始剤（Ｅ）の含有量は、多官能
（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、より好
ましくは２〜４０重量部の範囲にある。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を上回る
と、焼成後の部材（例えば、ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００５２】
＜シリコン粒子（Ｆ）＞
本発明で使用されるシリコン粒子は５０重量％粒子径が１〜１０μｍ、好ましくは２  〜５μｍ、最高粒子径は５０５〜１００μｍである。
シリコン粒子の純度は９９％以上であり、必要に応じて表面処理がされていてもよい。
シリコン粒子の含有量は導電性成分１００重量部に対して、通常１〜２０重量部、好ましくは５〜１０重量部である。
＜シランカップリング剤＞
本発明で使用することのできるシランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３-グリシドキシプロピルメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３-メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができ、特に好ましくは３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランなどの（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤が好ましい。
本発明に係る感光性ペースト組成物において、シランカップリング剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の範囲にある。
【００５３】
＜増感剤＞
増感剤としては、例えば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２
−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プ
ロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチル
アミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シク
ロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサ
ノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチ
ルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−
（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベ
ンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フ
ェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエ
タノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、
ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、
１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールが挙げられる。
【００５４】
これらの増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、増感剤
の中には光重合開始剤としても用いられるものもあり、光重合開始剤との組み合せにより
、増感剤であるか光重合開始剤であるかが決定される。
【００５５】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、増感剤の含有量は、上記無機粒子１００
重量部に対して、好ましくは０．０１〜５重量部、より好ましくは０．０５〜３重量部の
範囲にある。増感剤の含有量が前記範囲を下回ると、光感度を向上させる効果が発揮され
ないことがあり、増感剤の含有量が前記範囲を上回ると、露光部の残存率が小さくなり過
ぎることがある。
【００５６】
＜添加剤＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、有
機溶媒、密着助剤、溶解促進剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、無機粒子およびア
ルカリ可溶性樹脂の沈降防止剤、ならびにレベリング剤などの添加剤を添加してもよい。
【００５７】
＜紫外線吸収剤＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収
効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度のパター
ンが得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ
、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い紫外線吸収係数を有する有機系染料または
無機系顔料が好ましく用いられる。
【００５８】
有機系染料としては、例えば、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、
キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、
ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料が
挙げられ；無機系顔料としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムが挙げら
れる。これらの中では、ＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、その信頼性の
観点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機系顔料がより好ましい。
【００５９】
無機系顔料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重
量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することができる。無機
系顔料の添加量が前記範囲を下回ると、紫外線吸収剤の添加効果が小さく、所望の効果が
得られないことがある。また、無機系顔料の添加量が前記範囲を上回ると、紫外線吸収剤
の添加効果が大きく、感光性ペースト層の底部まで露光光が届かなくなり、パターンを形
成できなくなることや成膜強度を保てないことがある。
【００６０】
＜重合禁止剤＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合
禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンの
モノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカ
テコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノー
ル、クロラニール、ピロガロールが挙げられる。
【００６１】
重合禁止剤は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは０．００１〜１重量％
の範囲となる量で添加することができる。
＜酸化防止剤＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、保存時におけるアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の
酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−
４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４
−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ
−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチ
ルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナー
ト、トリフェニルホスファイトが挙げられる。
【００６２】
酸化防止剤は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは０．００１〜１重量％
の範囲となる量で添加することができる。
＜有機溶媒＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、その粘度を調整するために、有機溶媒を加え
てもよい。有機溶媒としては、例えば、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒ
ドロターピネニルアセテート、リモネン、カルベオール、カルビニルアセテート、シトロ
ネロール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール
モノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベン
ゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ
安息香酸が挙げられる。これらの有機溶媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用し
てもよい。
【００６３】
有機溶媒は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは１５〜４０重量％の範囲
となる量で添加することができる。
【００６４】
＜溶解促進剤＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、後述する現像液への充分な溶解性を発現させ
る目的で、溶解促進剤を添加してもよい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用
いられる。このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系
界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸が挙げられる。
【００６５】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ  ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０
００」、「ＢＭ−１１００」；大日本インキ化学工業（株）製「メガファックＦ１４２Ｄ
」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」；住友スリーエム（株）製「フロ
ラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１
」；旭硝子（株）製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、
「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同Ｓ
Ｃ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同Ｓ
Ｃ−１０６」が挙げられる。
【００６６】
シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコー
ン（株）製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３
２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」；信越化学工業（株）製
「ＫＰ３４１」；新秋田化成（株）製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「
同ＥＦ３５２」が挙げられる。
【００６７】
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ
オキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、
ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、
ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類が挙
げられる。
【００６８】
ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、花王（株）製「エマルゲンＡ−６０
」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」；共栄社化学（株）
製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」が挙げら
れる。
【００６９】
脂肪酸としては、例えば、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラ
ルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸
、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノ
ナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セ
ロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。
【００７０】
これらの界面活性剤の中では、現像時に未露光部の除去が容易であることから、ノニオ
ン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシエチレンアリールエーテル類がより好ましく、該
ポリオキシエチレンアリールエーテル類の中では、下記式（１）で表される化合物が特に
好ましい。
【００７１】
【化１】
2011007865.tif 000002
【００７２】
上記式（１）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり；ｐは１
〜５の整数であり；ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり；ｔは１〜１００の整数、好
ましくは１０〜２０の整数である。
【００７３】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、溶解促進剤の含有量は、アルカリ可溶性
樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは
０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部の範囲にある。溶解促進剤の
含有量が前記範囲にあると、後述する現像液への溶解性に優れた感光性ペースト組成物が
得られる。
【００７４】
＜感光性ペースト組成物の調製＞
本発明に係る感光性ペースト組成物は、アルミニウム粉末（Ａ１）とアルミニウム合金粉末を含む導電成分（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）と、ガラス粉末（Ｂ）および有機溶媒などの添加剤とを所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。
【００７５】
本発明に係る感光性ペースト組成物の粘度は、上記無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑
剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、１００〜５００
０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）の範囲にあることが好ましい。
【００７６】
上記感光性ペースト組成物は、上記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を
基板上に形成する工程（感光性ペースト層形成工程）で得られる感光性ペースト層におい
て、膜厚５μｍで波長３６５ｎｍの光に対する透過率が０．１％以上となることが好まし
い。膜厚５μｍで波長３６５ｎｍの光に対する透過率が０．１％未満となる場合、フォト
リソグラフィー法によるパターン形成は困難となることがある。
【００７７】
〔パターン形成方法〕
本発明に係るパターン形成方法は、上記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト
層を基板上に形成する工程（感光性ペースト層形成工程）、該感光性ペースト層を露光処
理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該感光性ペースト層を現像処理して
パターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程
）を含むことを特徴とする。
【００７８】
＜感光性ペースト層形成工程＞
本工程では、上記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する
。感光性ペースト層の形成方法としては、例えば、（i）上記感光性ペースト組成物を基
板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性ペー
スト組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光
性ペースト層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該ペースト層を転写する方法など
が挙げられる。
【００７９】
（i）上記感光性ペースト組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例
えば２０μｍ以上）、かつ均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であ
れば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布
方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータに
よる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印
刷法が挙げられる。
【００８０】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における有機溶媒の残存割合が２重量％以内となるように適
宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃、乾燥時間が０．５〜６０分程度
である。
【００８１】
上記のようにして形成された感光性ペースト層の膜厚は、好ましくは３〜３００μｍ、
より好ましくは５〜２００μｍである。なお、感光性ペースト組成物の塗布をｎ回繰り返
すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す。）の感光性ペースト層を有する積層体を形成
してもよい。
【００８２】
（ii）上記感光性ペースト層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示
す。基板と感光性ペースト層とが接するように、基板と転写フィルムとを重ね合わせ、該
転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該ペースト層から支持フィルムを剥
離除去する。これにより、基板上に感光性ペースト層が転写されて密着した状態となる。
【００８３】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィ
ルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ
素樹脂、ナイロン、セルロースが挙げられる。
【００８４】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによ
るロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、その予熱温度は、例えば４０〜１４０℃
である。
【００８５】
本発明で用いられる基板としては、例えば、ガラス、セラミック、シリコーン、ポリカ
ーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性
材料からなる板状部材が挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板を用い
ることが好ましい。
【００８６】
＜露光工程＞
本工程では、上記感光性ペースト層形成工程により基板上に感光性ペースト層を形成し
た後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、感光性ペースト層に、露光用マスクを
介して、紫外線などの露光光を選択的に照射して、該ペースト層にパターンの潜像を形成
する。
【００８７】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露
光する方法を採用することができる。フォトマスクの露光パターンは、目的によって異な
るが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。
【００８８】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザー
などで直接描画する方法を用いてもよい。
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ
露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの
基板上に感光性ペースト層を形成した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さ
な露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００８９】
露光光としては、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光が
挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、例えば、低圧
水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが挙げられる。これらの中では
超高圧水銀灯が好適である。
【００９０】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、例えば１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧
水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行う。この場合、波長フィルターを用いて露光光
の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させるこ
とができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、
ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を
向上させることができる。
【００９１】
＜現像工程＞
本工程では、上記露光後、露光部と非露光部との現像液に対する溶解度差を利用して、
感光性ペースト層を現像してパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、
シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像
液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、感光性ペースト層の種類に応
じて適宜選択、設定すればよい。
【００９２】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性ペースト層中の有機成分を溶解可能な有
機溶媒が使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加して
もよい。感光性ペースト層中にカルボキシル基などの酸性基を持つ化合物が存在する場合
、アルカリ水溶液で現像できる。
【００９３】
上記感光性ペースト層には、導電成分（Ａ）、ガラス粉末（Ｂ）などの無機粒子が含まれている。このような無機粒子は
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶
解して洗浄することにより、該無機粒子も同時に除去される。
【００９４】
上記アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リ
ン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水
素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド
、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられる。
【００９５】
上記アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部（未露光部）が除去されず、アル
カリ濃度が高すぎると、パターンを剥離させ、あるいは非可溶部（露光部）を腐食するお
それがある。
【００９６】
また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶媒などの添加剤が含有されて
いてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施
される。
【００９７】
＜焼成工程＞
本工程では、現像工程により形成されたパターンに含まれる有機物質を焼失させるため
に、焼成炉にて該パターンを焼成処理する。
【００９８】
焼成雰囲気は、感光性ペースト組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、
窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の
連続型焼成炉を用いることができる。
【００９９】
焼成処理条件は、パターン中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常は、
焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間程度である。例えば、ガラス
基板上にパターンを形成する場合は、焼成温度が３５０〜６００℃、焼成時間が１０〜６
０分程度である。
【０１００】
＜加熱工程＞
上記感光性ペースト層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目
的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【０１０１】
〔ＦＰＤ用部材などの製造〕
上記工程を含む本発明に係るパターン形成方法を用いることにより、ディスプレイパネ
ル（ＦＰＤなど）の配線を構成する部材（電極など）、電子部品の高度実装材料の部材（
回路パターンなど）、および太陽電池部材の部材（配線パターンなど）を形成することが
できる。特に、本発明に係るパターン形成方法を用いることにより、ＰＤＰなどのＦＰＤ
を好適に製造にすることができる。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
【０１０３】
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（以下、Ｍｗ／Ｍｎと呼称する。）の測定方法〕
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１０４】
〔電気抵抗測定の評価方法〕
体積抵抗［μΩ・ｃｍ］は焼成後のパネルの試験片（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２．８ｍｍ）の上に焼成後膜厚１０μｍの塗膜を作製し、ＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ  Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ  ＭｏｄｅｌΣ−５」を用いて評価した。
【０１０５】
〔焼成後のパターンの評価方法〕
焼成後のパネルを切断してパネルの試験片（１０ｍｍ×１０ｍｍ×１．８ｍｍ）を作製し、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察してパターンの高さ（膜厚）を計測した。
【０１０６】
〔耐酸性の評価方法〕
焼成後のパネルを切断してパネルの試験片（１００ｍｍ×５０ｍｍ×１．８ｍｍ）を作製し、試験片を４５℃の硝酸3wt％水溶液中に３分間浸漬した。浸漬後、超純水で洗浄し乾燥を行い、塗膜部分を電気抵抗測定の評価方法と同様の方法で、パターン部分を上記焼成後のパターンの評価方法と同様の方法で評価した。
【０１０７】
〔耐アルカリ酸性の評価方法〕
焼成後のパネルを切断してパネルの試験片（１００ｍｍ×５０ｍｍ×１．８ｍｍ）を作製し、試験片を４５℃の水酸化ナトリウム７wt％水溶液中に３分間浸漬した。浸漬後、超純水で洗浄し乾燥を行い、塗膜部分を電気抵抗測定の評価方法と同様の方法で、パターン部分を上記焼成後のパターンの評価方法と同様の方法で評価した。
【０１０８】
〔合成例〕
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）５部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、ターピネオール１５０部中で均一になるまで攪拌した。
【０１０９】
次に、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）を得た。前記アルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）の重量平均分子量は２１０００（Ｍｗ／Ｍｎ  １．９）であった。
【０１１０】
［実施例］
表１に示すアルミニウム粉末及び表２に示すＢ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス粉末（不定形、軟化点５００℃）、表３に示すシリコン粉末、および表４に示す感光性樹脂成分を作製した後に、表５の組成で混合し混練機で混練して感光性アルミペースト組成物（以下「感光性ペースト」ともいう。）を調製した。
上記感光性ペーストを３２５メッシュのスクリーンを用いてパネルの試験片（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさにベタに印刷し、１００℃で１０分間保持して乾燥した。
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ２出力の超高圧水銀灯により、無機粒子含有感光性樹脂層を紫外線露光した。露光量は１０００ｍＪ／ｃｍ２であった。
次に、露光後の感光性ペースト層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を、シャワーで６０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してパネル用ガラス基板上に格子状の感光性ペーストパターンを形成した。次に、得られた感光性ペーストパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後のパターンを上記評価方法により評価した。
さらに、これらのパターンを上記評価方法により、耐酸性及び耐アルカリ性を評価した。結果を表６に示す。実施例１〜１１のいずれにおいても、硝酸水溶液及び水酸化ナトリウム水溶液浸漬後の膜厚低下及び抵抗値の悪化は、比較例１〜４に比べて抑制できていた。
【０１１１】
【表１】
2011007865.tif 000003
【０１１２】
【表２】
2011007865.tif 000004
【０１１３】
【表３】
2011007865.tif 000005
【０１１４】
【表４】
2011007865.tif 000006
【０１１５】
【表５】
2011007865.tif 000007
【０１１６】
【表６】
2011007865.tif 000008
【０１１７】
ＴＭＰ：トリメチロールプロパン（プロピオンオキサイド変性）トリアクリレート
ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン
ＤＭＭＰＢ：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＤＥＴＸ：２，４−ジエチルチオキサントン
ＢＨＨＤ：１，７-ビス（４−ヒドロキシフェノール）−１，６−ヘプタジエン−３，５−ジオン
ＴＮＯＬ：ターピネオール
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】図１は、交流型プラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。
【図２】図２は、一般的なフィールドエミッションディスプレイの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１１９】
１０１  ガラス基板
１０２  ガラス基板
１０３  背面隔壁
１０４  透明電極
１０５  バス電極
１０６  アドレス電極
１０７  蛍光物質
１０８  誘電体層
１０９  誘電体層
１１０  保護層
１１１  前面隔壁
２０１  ガラス基板
２０２  ガラス基板
２０３  絶縁層
２０４  透明電極
２０５  エミッタ
２０６  カソード電極
２０７  蛍光体
２０８  ゲート
２０９  スペーサ
【図１】
2011007865.tif 000009
【図２】
2011007865.tif 000010