(57)【要約】      （修正有）【課題】樹脂フィルム基材が幅広、薄膜である場合であっても、光学フィルムの塗布液を高速で塗布することができて、しかも塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、端部まで製品となる光学フィルムを製造する。【解決手段】樹脂フィルム基材１をバックアップロール２に抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材１の表面に機能層形成用塗布液を塗布する工程を含む光学フィルムの製造方法において、樹脂フィルム基材１をバックアップロール２に抱き付ける際に、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の端部近傍の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとする。例えば、バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側に設置した圧搾空気吹付けノズル１１から出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材１をバックアップロール２表面に抱き付ける。【選択図】図２
2011215231.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルム基材をバックアップロールに抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材の表面に機能層形成用塗布液を塗布する工程を含む光学フィルムの製造方法において、
前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロールに抱き付ける際に、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の端部近傍の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとすることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側に、圧搾空気吹付けノズルを設置し、吹付けノズルから出た圧搾空気の風圧により、前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロール端部近傍の表面に抱き付けることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記バックアップロールとしてサクション式バックアップロールを用い、前記バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側端部近傍において、サクション式バックアップロールによる吸引力により、樹脂フィルム基材を前記バックアップロール表面に抱き付けることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側端部近傍に、減圧用吸引ノズルを設置し、樹脂フィルム基材導入部において該吸引ノズルによる減圧度を、−２００Ｐａ〜−２０００Ｐａの範囲内とすることにより、前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロール表面に抱き付けることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記バックアップロールにおける、前記樹脂フィルム基材の表面に機能層形成用塗布液を塗布する箇所の前後両側端部近傍部分に、ニップロールをそれぞれ設置し、ニップロールによる圧力により、前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロール表面に抱き付けることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする、光学フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の光学フィルムにおいて、２層以上の機能層が設けられたことを特徴とする、光学フィルム。                                          
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ＥＬディスプレイ用保護フィルム等の画像表示装置における画像表示に寄与するフィルムなどの光学用途に使用される光学フィルムでは、様々な機能を持たせるために、機能層が樹脂フィルム基材の表面上に塗設されたものが知られている。機能層としては、例えば、表面硬度を向上させるためのハードコート層、反射防止層、帯電防止層、下引き層、アンチカール層、防眩層、あるいは偏光板と液晶セルとの間に棒状又は円盤状の液晶材料を配向させた光学補償層などである。この中で、ハードコート層と反射防止層を例にするが、必ずしもこの組み合わせに限定されるものではない。
【０００３】
近年、上記のようなハードコートフィルムおよび反射防止フィルムの品質への要求は、一層厳しくなり、液晶画像表示装置の部材コスト低減の点から、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）フィルム等の樹脂フィルム基材は、より幅広化、薄膜化が進められており、例えば、反射防止層の塗布液を高速で塗布する際、該塗布層のフィルム幅手方向の均一性が確保しにくくなっている。
【０００４】
下記の特許文献１には、反射防止層形成用塗布液を、ハードコート層を設けた樹脂フィルム基材の表面にダイで塗布する場合、塗布層のフィルム幅手方向の均―性は、ダイおよび液塗布用バックロールの機械精度や、搬送精度を追求することが有効であることが記載されている。
【０００５】
すなわち、特許文献１において、ダイを、フィルムの幅手方向で押し引きして、ダイを曲げることを総称して、「ベンディング」と言っているが、基本的に塗布液をダイで塗布する場合、フィルム幅手方向でダイと支持体との間隙が一定に維持されないと、フィルムの幅手方向に液が流れて、膜厚が不均一となる。従って、支持体の端部が浮いて、支持体とダイの間隙が狭いケースは、ダイの中央を押し、支持体の端部を引いて、端部における支持体とダイの間隙を広げて、中央部での支持体とダイの間隙に合わせることで、膜厚がフィルム幅手方向で均一となる。
【０００６】
また、特許文献２には、反射防止層形成用塗布液を、ハードコート層を設けた樹脂フィルム基材の表面にダイで塗布する場合、フィルム幅手方向でのダイの供給口の液量分布を調整することが記載されている。
【０００７】
さらに、特許文献３には、ダイのフィルム変形に対して、同じように加工したり、ダイを押し引きして変形させる方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−９５４５５号公報
【特許文献２】特開２００６−１６７５３２公報
【特許文献３】特開２００８−１６１７６３号公報
【特許文献４】特開２００９−１３６７１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記特許文献１に記載のダイを変形させる、いわゆるベンディングの方法では、ダイに負荷が加わり、変形が残留してしまい、塗布液や、支持体が変わった場合の再調整が困難になるという欠点がある。
【００１０】
また、ダイと支持体との間隙調整のほかに、上記特許文献２に記載のように、フィルム幅手方向の膜厚を調整する方法として、ダイ先端の液突出口の溝幅をフィルム幅手方向で調整する方法がある。これは、ダイ先端の液突出口の溝幅をボルトにより押し引きする方法が主流であり、この場合、先端部が局所的に変形したり、また変形が残留してしまい、やはり、塗布液や支持体が変わった場合の再調整が困難になるという欠点がある。
【００１１】
さらに、上記特許文献３に記載のように、フィルム幅手方向の間隙を均一にするために、ダイ先端を支持体の変形に合わせて削る方法があるが、この方法の欠点としては、ダイの加工が、いわゆるトライ＆エラーであり、再加工に時間がかかってしまう。また、支持体の厚みや種類が変わることで、変形の大きさも変わってしまい、微妙な調整ができない。
【００１２】
文献４では入側で全幅の減圧にて吸着させる方法が開示されているが、製品中央部で異物巻き込みより、故障の原因となり、実用上問題がある。
【００１３】
ところで、樹脂フィルム基材の方は、巻き状態のフィルムのブロッキング（貼り付き）防止のために、フィルムの左右両端部にナーリング処理が施されている。これは、フィルム端部を熱で溶融させて、ナール（エンボス状凸部）を形成することが、一般的であり、フィルムを高速でナーリング加工する場合は、フィルム端部に、より高い温度を付与するため、フィルム左右両端部のナーリング部分が、フィルムの幅中間部に比べて伸ばされてしまう現象が発生する。
【００１４】
また、巻きの長時間保存や、ナーリング高さの影響により、ナーリング部分が伸び、フィルムを繰り出した時に、フィルム端部に、いわゆるフレア状（ワカメ状）の変形が発生する。
【００１５】
そして、この状態のまま、このフィルム基材に、塗布液を塗布しようとすると、基材端部の変形の影響を受けて、フィルム端部周辺の膜厚が不均一となる。
【００１６】
このため、例えば図１１と図１２に示すように、従来法による光学フィルムの製造方法においては、セルロースエステルフィルム等の樹脂フィルム基材（２１）は、液塗布用バックアップロール（２２）にて背面を支持されながら連続搬送されており、樹脂フィルム基材（２１）を液塗布用バックアップロール（２２）に抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材（２１）の表面に塗布装置（ダイ）（２３）により、機能層形成用塗布液を塗布している。
【００１７】
しかしながら、従来法では、均一な張力で樹脂フィルム基材（２１）をバックアップロール（２２）に押し付けても、樹脂フィルム基材（２１）の端部（２１ａ）まで均−に押し付けることが不可能となり、端部が不均一で、液切れや厚膜が生じる。
【００１８】
塗布条件で全体の張力アップも限界となり、張力が高すぎると、中央部のシワ発生により、全体の品質が損なわれてしまうことが発生する。
【００１９】
さらに、多層の反射防止フィルムを作製するには、１層目の反射防止層の表面上に２層目の反射防止層を塗布するのが一般的であるが、１層目以上に端部の均一性が要求される。
【００２０】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、樹脂フィルム基材が幅広、薄膜である場合であっても、光学フィルムの塗布液を高速で塗布することができて、しかも塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、端部まで製品となる光学フィルムを得ることができる、光学フィルムの製造方法、および該方法により製造された光学フィルムを提供しようとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明者は、上記の点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、光学フィルムの製造方法においては、例えば、反射防止膜の塗布技術では、最終的な固形分膜厚として、１００ｎｍ近傍で、数ナノオーダーの均一性が要求されており、従来はフィルム幅手方向の均一性を確保するために、フィルム幅手方向のダイ先端の真直度向上や、ダイの液突出口の溝幅の均一性を、ダイの加工精度を追求することで確保しようとしていた。しかし近年、フィルム基材の方で、より一層の薄膜化、幅広化、生産の高速化が進んできて、フィルム製造工程においてバックロールにフィルムが密着しなくなり、ダイとフィルム基材との均一な間隙が、フィルム幅手方向で確保できなくなっており、この密着不良の問題の方が、均一塗布の律速になっていること、換言すれば、フィルム幅手方向の均一化の大きな課題となっていることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００２２】
上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、樹脂フィルム基材をバックアップロールに抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材の表面に機能層形成用塗布液を塗布する工程を含む光学フィルムの製造方法において、樹脂フィルム基材を前記バックアップロールに抱き付ける際に、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の端部近傍の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとすることを特徴としている。
【００２３】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、前記バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側に、圧搾空気吹付けノズルを設置し、吹付けノズルから出た圧搾空気の風圧により、前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロール端部近傍の表面に抱き付けることを特徴としている。
【００２４】
請求項３の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、前記バックアップロールとしてサクション式バックアップロールを用い、前記バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側端部近傍において、サクション式バックアップロールによる吸引力により、樹脂フィルム基材を前記バックアップロール表面に抱き付けることを特徴としている。
【００２５】
請求項４の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、前記バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側端部に、減圧用吸引ノズルを設置し、樹脂フィルム基材導入部において該吸引ノズルによる減圧度を、−２００Ｐａ〜−２０００Ｐａの範囲内とすることにより、前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロール表面に抱き付けることを特徴としている。
【００２６】
請求項５の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、前記バックアップロールにおける、前記樹脂フィルム基材の表面に機能層形成用塗布液を塗布する箇所の前後両側寄り部分に、ニップロールをそれぞれ設置し、ニップロールによる圧力により、前記樹脂フィルム基材を前記バックアップロール表面に抱き付けることを特徴としている。
【００２７】
請求項６の光学フィルムの発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の方法によって製造されたことを特徴としている。
【００２８】
請求項７の発明は、請求項６に記載の光学フィルムにおいて、２層以上の機能層が設けられたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００２９】
請求項１の発明は、樹脂フィルム基材をバックアップロールに抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材の表面に機能層形成用塗布液を塗布する工程を含む光学フィルムの製造方法において、樹脂フィルム基材をバックアップロールに抱き付ける際に、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の端部近傍の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとすることを特徴とするもので、請求項１の発明によれば、樹脂フィルム基材をバックアップロールに抱き付ける際に、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の面圧（Ｐ）を、上記の特定の範囲に規定することによって、樹脂フィルム基材が幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、縦ツレ等のシワの発生がなく、端部まで製品となる光学フィルムを得ることができるという効果を奏する。ここで「端部近傍」とはナーリング部分を含む基材フィルム端より５ｃｍ程度範囲を示す。
【００３０】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、樹脂フィルム基材を抱き付けるバックアップロールの樹脂フィルム基材導入側に、圧搾空気吹付けノズルを設置し、吹付けノズルから出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材をバックアップロール端部近傍の表面に抱き付けることを特徴とするもので、請求項２の発明によれば、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付ける際に、吹付けノズルから出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の面圧（Ｐ）を上記の特定の範囲に設定することができ、樹脂フィルム基材が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、樹脂フィルム基材の端部まで製品となる光学フィルムを得ることができるという効果を奏する。
【００３１】
請求項３の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、バックアップロールとしてサクション式バックアップロールを用い、バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側端部近傍において、サクション式バックアップロールによる吸引力により、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付けることを特徴とするもので、請求項３の発明によれば、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付ける際に、サクション式バックアップロールによる吸引力により、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の面圧（Ｐ）を特定の範囲に設定することができ、樹脂フィルム基材が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、樹脂フィルム基材の端部まで製品となる光学フィルムを得ることができるという効果を奏する。
【００３２】
請求項４の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、バックアップロールの樹脂フィルム基材導入側に、減圧用吸引ノズルを設置し、樹脂フィルム基材導入部において該吸引ノズルによる減圧度を、−２００Ｐａ〜−２０００Ｐａの範囲内とすることにより、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付けることを特徴とするもので、請求項４の発明によれば、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付ける際に、減圧用吸引ノズルによる、樹脂フィルム基材導入部における減圧度を上記の特定の範囲内とすることにより、樹脂フィルム基材導入側端部近傍の樹脂フィルム基材の面圧（Ｐ）を上記の特定の範囲に設定することができ、樹脂フィルム基材が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、縦ツレ等のシワの発生がなく、樹脂フィルム基材の端部まで製品となる光学フィルムを得ることができるという効果を奏する。
【００３３】
請求項５の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、バックアップロールにおける、該樹脂フィルム基材の表面に機能層形成用塗布液を塗布する箇所の前後両側端部近傍部分に、ニップロールをそれぞれ設置し、ニップロールによる圧力により、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付けることを特徴とするもので、請求項５の発明によれば、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付ける際に、ニップロールによる圧力により、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材の面圧（Ｐ）を上記の特定の範囲に設定することができ、樹脂フィルム基材が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材の幅、薄膜や保存状態によらず、樹脂フィルム基材の端部まで製品となる光学フィルムを得ることができるという効果を奏する。
【００３４】
請求項６の光学フィルムの発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とするもので、請求項６の発明によれば、端部まで均一な品質の良好な平面性に優れた光学フィルムを提供できる。
【００３５】
請求項７の反射防止光学フィルムの発明は、請求項６に記載の光学フィルムにおいて、２層以上の機能層が設けられたもので、請求項７の発明によれば、高硬度で面品質が良好な平面性に優れた光学フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明による光学フィルムの製造方法を実施する装置の第１実施形態を示す概略断面図である。
【図２】図１の装置の斜視図である。
【図３】図１の装置のいま１つの斜視図である。
【図４】図２の要部拡大断面図である。
【図５】同装置の第２実施形態を示す概略断面図である。
【図６】図５の装置の斜視図である。
【図７】同装置の第３実施形態を示す概略断面図である。
【図８】図７の装置の斜視図である。
【図９】同装置の第４実施形態を示す概略断面図である。
【図１０】図９の装置の斜視図である。
【図１１】従来法による光学フィルムの製造方法の実施装置の斜視図である。
【図１２】図１１の要部拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
つぎに、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３８】
図１〜図４は、本発明による光学フィルムの製造方法を実施する装置の第１実施形態を示すものである。
【００３９】
同図を参照すると、本発明による光学フィルムの製造方法において、光学フィルムのセルローストリアセテート（ＴＡＣ）フィルム等の樹脂フィルム基材（１）は、バックアップロール（２）にて背面を支持されながら矢印方向に連続搬送されており、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）に抱き付けた状態で、該樹脂フィルム基材（１）の表面に塗布装置（ダイ）（３）により、機能層形成用塗布液すなわち紫外線等活性放射線硬化樹脂層形成用塗布液を塗布する工程を含むものである。
【００４０】
近年、液晶画像表示装置等に用いられるハードコートフィルムおよび反射防止フィルムの品質への要求は、一層厳しくなり、液晶画像表示装置の部材コスト低減の点から、セルロースエステルフィルム等の樹脂フィルム基材（１）は、より幅広化、薄膜化が進められている。例えば、光学フィルムの樹脂フィルム基材（１）としてのセルロースエステルフィルムは、製品幅が１．４〜４ｍ、及び巻取フィルムの長さが２６００〜５２００ｍと、フィルムの幅広化・長尺化がなされている。また、セルロースエステルフィルム等の樹脂フィルム基材（１）は、２０〜８０μｍの厚みで使用されるが、液晶画像表示装置の薄肉化、軽量化が要望から、４０〜６０μｍであることが好ましい。ここで、セルロースエステルフィルム等の樹脂フィルム基材（１）の厚さが２０μｍ未満に薄い場合は、フィルムの腰の強さが低下するため、偏光板作成工程上でシワ等の発生によるトラブルが発生しやすく、また、セルロースエステルフィルム等の樹脂フィルム基材（１）の厚さが８０μｍを超えて厚い場合は、液晶画像表示装置の薄膜化に対する寄与が少ない。
【００４１】
本発明においては、このような樹脂フィルム基材（１）の表面に対して、機能層形成用塗布液を、ダイ（３）で高速で塗布する際に、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）に抱き付けるものである。
【００４２】
そして、このとき、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａ、好ましくは８００Ｐａ≦Ｐ≦２０００Ｐａの範囲内のものとする。
【００４３】
具体的には、同図に示すように、樹脂フィルム基材（１）を抱き付けるバックアップロール（２）の樹脂フィルム基材（１）導入側に、圧搾空気吹付けノズル（１１）を設置し、吹付けノズル（１１）から出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）端部近傍表面に抱き付けるものである。
【００４４】
ここで、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）が、２５０Ｐａ未満であれば、樹脂フィルム基材（１）とバックアップロール（２）の間に同伴エアーが混入し、機能層形成用塗布液の塗布ムラが生じ、塗布層のフィルム幅手方向の均―性が確保できないので、好ましくない。また、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）が、３０００Ｐａを超えると、樹脂フィルム基材表面の吹き荒れや、樹脂フィルム基材全体の変形が発生し、塗布層のフィルム幅手方向の均―性が確保できないので、好ましくない。
【００４５】
なお、バックアップロールの直径は、２００〜５００ｍｍであるのが、好ましい。また、このときの樹脂フィルム基材（１）の搬送速度は、１５〜６０ｍ／ｍｉｎであるのが、好ましく、これにより、機能層の塗布液を高速で塗布することが可能になる。
【００４６】
上記のような本発明の光学フィルムの製造方法によれば、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）に抱き付ける際に、吹付けノズル（１１）から出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を、上記の特定の範囲に規定することによって、樹脂フィルム基材（１）が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液（４）を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材（１）の幅、薄膜や保存状態によらず、樹脂フィルム基材（１）の端部（１ａ）まで製品となるハードコートフィルムを得ることができるものである。
【００４７】
なお、機能層形成用塗布液すなわち紫外線等活性放射線硬化樹脂層形成用塗布液が塗布された樹脂フィルム基材（１）は、その後、乾燥工程を経たのち、後述する紫外線光源を用いて紫外線が照射されて、紫外線硬化物層すなわちハードコート層が形成される。
【００４８】
つぎに、図５と図６は、本発明による光学フィルムの製造方法を実施する装置の第２実施形態を示す概略断面図と斜視図である。
【００４９】
本発明による光学フィルムの製造方法において、バックアップロール（２）に樹脂フィルム基材（１）を抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとする別の具体的手段として、同図に示すように、バックアップロール（２）としてサクション式バックアップロールを用い、サクション式バックアップロール（２）による吸引力により、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）表面に抱き付けるものである。
【００５０】
ここで、サクション式バックアップロール（２）としては、面品質に影響しない微細なサクション孔（吸引孔）（１２）を周面に設けたロールを用いる。例えば、孔径３００μｍ以下のワイヤーサクションロール（Ｂｅｌｌｍａｔｉｃ株式会社製）や、ポーラスアルミニウムをロール胴体の材料とするサクションロール（広陽商工株式会社製）などを用いる。そして、吸引装置（図示略）により、このバックアップロール（２）の内部全体にサクション（吸引力）をかけて、バックアップロール（２）のフィルム導入側から該ロール表面に接触する樹脂フィルム基材（１）を、バックアップロール（２）表面に抱き付けるようにするものである。
【００５１】
このような本発明の第２実施形態によれば、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）表面に抱き付ける際に、サクション式バックアップロールによる吸引力により、樹脂フィルム基材導入側端部近傍の樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を、上記の特定の範囲に設定することができて、樹脂フィルム基材（１）が、幅広、薄膜である場合であっても、ハードコート層の塗布液（４）を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材（１）の幅、薄膜や保存状態によらず、縦ツレ等のシワの発生がなく、樹脂フィルム基材（１）の端部（１ａ）まで製品となるハードコートフィルムを得ることができるものである。
【００５２】
また、図７と図８は、本発明による光学フィルムの製造方法を実施する装置の第３実施形態を示す概略断面図と斜視図である。
【００５３】
本発明による光学フィルムの製造方法において、バックアップロール（２）に樹脂フィルム基材（１）を抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとする、さらに別の具体的手段として、同図に示すように、樹脂フィルム基材（１）を抱き付けるバックアップロール（２）の樹脂フィルム基材導入側に、減圧用吸引ノズルまたは減圧用チャンバー（１３）を設置し、樹脂フィルム基材導入部において該吸引ノズルまたは減圧用チャンバー（１３）による減圧度を、−２００Ｐａ〜−２０００Ｐａ、好ましくは−４００Ｐａ〜−１５００Ｐａの範囲内とすることにより、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）表面に抱き付けるものである。
【００５４】
ここで、減圧用吸引ノズルまたは減圧用チャンバー（１３）による減圧度が、−２００Ｐａ未満であれば、樹脂フィルム基材（１）とバックアップロール（２）の間に同伴エアーが混入し、機能層形成用塗布液の塗布ムラが生じ、塗布層のフィルム幅手方向の均―性が確保できないので、好ましくない。また、減圧用吸引ノズルまたは減圧用チャンバー（１３）による減圧度が、−２０００Ｐａを超えると、ノズルの吸引力により、樹脂フィルム基材（１）が引き込まれ変形を起こし、塗布層のフィルム幅手方向の均―性が確保できないので、好ましくない。
【００５５】
本発明の第３実施形態によれば、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）表面に抱き付ける際に、減圧用吸引ノズルまたは減圧用チャンバー（１３）による、樹脂フィルム基材導入部における減圧度を上記の特定の範囲内とすることにより、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を上記の特定の範囲に設定することができ、樹脂フィルム基材（１）が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液（４）を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材（１）の幅、薄膜や保存状態によらず、樹脂フィルム基材（１）の端部（１ａ）まで製品となる光学フィルムを得ることができるものである。
【００５６】
さらに、図９と図１０は、本発明による光学フィルムの製造方法を実施する装置の第４実施形態を示す概略断面図と斜視図である。
【００５７】
本発明による光学フィルムの製造方法において、バックアップロール（２）に樹脂フィルム基材（１）を抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍面圧（Ｐ）を、２５０Ｐａ≦Ｐ≦３０００Ｐａの範囲内のものとする、さらに別の具体的手段として、同図に示すように、バックアップロール（２）における、該樹脂フィルム基材表面に機能層形成用塗布液を塗布する箇所の前後両側寄り部分に、ニップロール（１４）（１５）をそれぞれ設置し、ニップロールによる圧力により、樹脂フィルム基材をバックアップロール表面に抱き付けることにより、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）表面に抱き付けるものである。
【００５８】
なおここで、ニップロール（１４）（１５）は、ロール表面に均一なゴムを巻いたもので、樹脂フィルム基材（１）面に擦り傷等の発生がないものを使用することが好ましい。ここで、ニップロール（１４）（１５）表面のゴムの材質としては、耐溶剤性に優れるカルレッツ，ダイエルパーフロ／パーフロロエラストマーが好ましい。
【００５９】
ニップロール（１４）（１５）は、ロール直径が７５〜１２０ｍｍで、擦り傷なく、樹脂フィルム基材（１）に幅手方向にシワが発生しない条件とするのが、好ましい。
【００６０】
本発明の第４実施形態によれば、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）表面に抱き付ける際に、ニップロール（１４）（１５）による圧力により、樹脂フィルム基材導入側の樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を上記の特定の範囲に設定することができ、樹脂フィルム基材（１）が、幅広、薄膜である場合であっても、機能層の塗布液（４）を高速で塗布することができて、しかも該塗布層のフィルム幅手方向の均一性を確保することができ、樹脂フィルム基材（１）の幅、薄膜や保存状態によらず、樹脂フィルム基材（１）の端部（１ａ）まで製品となる光学フィルムを得ることができるものである。
【００６１】
以下、本発明で用いられる材料について詳細に説明する。
【００６２】
本発明で用いられる樹脂フィルム基材（１）には、特に限定はなく、例えば、透明樹脂フィルムとしてポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテートあるいはセルロース誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート系フィルム等を挙げることができる。
【００６３】
本発明においては、特に、幅広の樹脂フィルム基材（１）に対して優れた効果を有し、特に幅１．４〜４ｍの樹脂フィルム基材（１）に対して好ましく適用される。また特に、樹脂フィルム基材（１）がセルロースエステルを含有するフィルムに対して優れた効果が期待できる。これはセルロースエステルフィルムは可塑剤等の添加物を有しており、塗布溶媒による溶解や膨潤を受けやすい性質がある。セルロースエステルフィルムとしては、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）などが挙げられる。特に膜厚が２０〜８０μｍである薄膜フィルムではその影響が顕著であり、高度な平面性が要求される光学フィルムの製造方法として、本発明の方法は優れた効果を発揮することができる。
【００６４】
以下、セルロースエステルフィルムの製膜法について述べる。セルロースエステルフィルムは一般的に、セルロースエステルフレーク原料及び可塑剤をメチレンクロライドに溶解して粘稠液とし、これに可塑剤を溶解してドープとなし、エクストルーダーダイスから、エンドレスに回転するステンレス等の金属ベルト（バンドともいう）上に流延して、乾燥させ、生乾きの状態でベルトから剥離し、ロール等の搬送装置により、両面から乾燥させて巻き取り、作られる。
【００６５】
本発明のハードコートフィルムの製造に用いられるセルロースエステルフィルムは、乾燥過程でテンター等の装置によってフィルムの端部を把持され、幅手方向に張力を付与して幅保持もしくは延伸されたものであることが、より高い平面性が得られるために好ましい。
【００６６】
本発明のハードコートフィルムの樹脂フィルム基材に用いられるセルロースエステルフィルムのセルロースエステル樹脂としては、セルロースの低級脂肪酸エステル樹脂であることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸が好ましく、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの特に好ましい例として挙げられる。
【００６７】
また、上記以外にも、特開平１０−４５８０４号公報、同８−２３１７６１号公報、米国特許第２，３１９，０５２号公報等に記載のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、最も好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルとしては、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネートである。
【００６８】
本発明において、セルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的強度が強くかつ適度なドープ粘度となるので好ましく、さらに好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。
【００６９】
本発明で用いられるセルロースエステルとしては、アセチル基及び／またはプロピオニル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸ、またプロピオニル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を同時に満たすセルロースエステルが特に好ましい。
【００７０】
（Ｉ）    ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
（ＩＩ）      ０≦Ｙ≦１．２
アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【００７１】
セルロースエステルは綿花リンターから合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成されたセルロースエステルのどちらかを単独あるいは任意の比率で混合して用いることができる。ベルトやドラムからの剥離性がもしくは問題になれば、ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを多く使用すれば生産性が高く好ましい。木材パルプから合成されたセルロースエステルを混合して用いた場合、綿花リンターから合成されたセルロースエステルの比率が４０質量％以上で、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、６０質量％以上がさらに、好ましく、単独で使用することが最も好ましい。
【００７２】
ドープを作製する際に使用される溶媒としては、セルロースエステルを溶解できる溶媒であれば何でも良く、また単独で溶解できない溶媒であっても他の溶媒と混合することにより、溶解できるものであれば使用することができる。一般的には良溶媒であるメチレンクロライドとセルロースエステルの貧溶媒からなる混合溶媒を用い、かつ混合溶媒中には貧溶媒を４〜３０質量％含有するものが好ましく用いられる。
【００７３】
このほか使用できる良溶媒としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（すなわち、良溶媒）として挙げられる。
【００７４】
セルロースエステルの貧溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素原子数１〜８のアルコール等を挙げることができ、これらの貧溶媒は単独もしくは２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
【００７５】
本発明で用いることのできる可塑剤としては特に限定しないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを用いることができる。
【００７６】
リン酸エステル系では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤として、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤として、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤として、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等あるいはトリメチロールプロパントリベンゾエート等を好ましく用いることができる。ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸などを用いることができる。
【００７７】
グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコールなどを用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いても良いし、二種以上混合して用いても良い。ポリエステルの分子量は重量平均分子量で５００〜２０００の範囲にあることが、セルロースエステルとの相溶性の点から好ましい。
【００７８】
また、２００℃における蒸気圧が１３３３Ｐａ未満の可塑剤を用いることが好ましく、より好ましくは蒸気圧６６６Ｐａ以下、さらに、好ましくは１〜１３３Ｐａの化合物である。不揮発性を有する可塑剤は特に限定されないが、例えばアリーレンビス（ジアリールホスフェート）エステル、リン酸トリクレシル、トリメリット酸トリ（２−エチルヘキシル）、上記ポリエステル可塑剤等が挙げられる。
【００７９】
これらの可塑剤は単独あるいは２種以上併用して用いることができる。
【００８０】
可塑剤の使用量は寸法安定性、加工性の点を考慮すると、セルロースエステルに対して、１〜４０質量％添加させることができ、３〜２０質量％の範囲で添加することが好ましく、さらに、好ましくは４〜１５質量％である。３質量％未満の場合は、スリット加工や打ち抜き加工した際、滑らかな切断面を得ることができず、切り屑の発生が多くなる。
【００８１】
本発明において、セルロースエステルフィルムには酸化防止剤や紫外線吸収剤などを添加することが好ましい。
【００８２】
上記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに、好ましい。
【００８３】
また、この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
【００８４】
本発明において、セルロースエステルフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【００８５】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。具体的には３８０ｎｍの透過率が１０％未満であることが好ましく、特に５％未満であることがより好ましい。
【００８６】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。また、特開平６−１４８４３０号公報、特開２００２−４７３５７号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。あるいは特開平１０−１５２５６８号公報に記載されている紫外線吸収剤を用いることもできる。
【００８７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いられる。
【化１】
2011215231.tif 000003
【００８８】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は、閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
【００８９】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していて良い。
【００９０】
以下に、本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
【００９１】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
以下に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００９２】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムでは、フィルムに滑り性を付与し、ロール状フィルムのブロッキングを防止するために微粒子を添加することが好ましい。
【００９３】
本発明において、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
【００９４】
無機化合物としては、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、さらに好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースエステル積層フィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
【００９５】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）等の市販品が使用できる。
【００９６】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル株式会社製）等の市販品が使用できる。
【００９７】
有機化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
【００９８】
上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン株式会社製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【００９９】
微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。例えばアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、それらを好ましく使用することができる。
【０１００】
〔調製方法Ａ〕
溶剤と微粒子を撹拌混合したのち、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
【０１０１】
〔調製方法Ｂ〕
溶剤と微粒子を撹拌混合したのち、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。このセルロースエステル溶液に、前記微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０１０２】
〔調製方法Ｃ〕
溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０１０３】
調製方法Ａは、二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは、二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子がさらに再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
【０１０４】
〔分散方法〕
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１０５】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１０６】
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．２質量部がさらに好ましく、０．０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れている。
【０１０７】
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。
【０１０８】
メディア分散機としては、ボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。
【０１０９】
メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、特に、高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。さらに、好ましくは１９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
【０１１０】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械株式会社製のＵＨＮ−０１等が挙げられる。
【０１１１】
また、これらの微粒子はフィルムの厚味方向で均一に分布していてもよいが、より好ましくは主に表面近傍に存在するように分布していることが好ましく、例えば、共流延法により、２種以上のドープを用いて、微粒子を主に表層側に配置されたドープに添加することが、滑り性が高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。好ましくは３種のドープを使用して表層側の少なくとも１つのドープもしくは表層側の２つのドープに主に微粒子を添加することが望ましく、中心層を形成するドープには微粒子がほとんど含まれないか、全く含まれないことが好ましい。可塑剤あるいは紫外線吸収剤などでブリードアウトの恐れがある添加剤は主に中心層を形成するドープに添加し、表層側の２つのドープには中心層を形成するドープへの添加量に対して８０質量％未満の添加量とすることが好ましく、より好ましくは５０質量％未満とすることであり、ほとんど添加しないかまったく添加しないことが、工程汚染を防止する点でより好ましい。
【０１１２】
このような製膜工程で得られたセルロースエステルフィルムを一度巻き取ったのち、あるいは巻き取ることなく連続的に、本発明のハードコートフィルムの製造方法によって、塗布層を設けることができる。
【０１１３】
つぎに、ハードコート層、すなわち、紫外線線硬化樹脂層について説明する。紫外線線硬化樹脂層とは、紫外線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１１４】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば特開昭５９−１５１１１０号公報）。
【０１１５】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【０１１６】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることができる（例えば、特開平１−１０５７３８号公報）。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もしくは２種以上を選択して使用することができる。
【０１１７】
また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用できる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化性樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【０１１８】
この紫外線線硬化樹脂層に、表示装置パネルの表面に防眩性を与えるために、また他の物質との密着性を防ぐために、あるいは耐擦り傷性付与のために、無機あるいは有機の微粒子を加えることもできる。例えば、無機粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができ、また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることができる。これらの粒子粉末の平均粒径としては、０．０１〜１０μｍであり、紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部となるように配合することが望ましい。防眩効果を付与するには、平均粒径０．１〜３μｍ、樹脂組成物１００質量部に対して１〜１５質量部が好適である。
【０１１９】
またさらに、ブロッキング防止機能を果たすものとして、あるいは微細な凹凸を形成するため上述したものと同じ成分で、体積平均粒径０．００５〜０．１μｍの粒子を樹脂組成物１００質量部に対して０．１〜５質量部、併せて用いることもできる。
【０１２０】
塗布液に含まれる有機溶媒は紫外線照射前に蒸発させるため、乾燥工程を必要とする。
【０１２１】
塗布液として使用できる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル、具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等、またプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル、具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等、その他、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類の溶媒などが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒が好ましく用いられる。
【０１２２】
紫外線線硬化樹脂を含有する塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍである。
【０１２３】
紫外線線硬化樹脂を含有する塗布液は塗布乾燥されたのち、紫外線を照射するが、照射の条件は前述した通りである。照射時間に特に制限はないが、０．１秒〜５分が好ましく、硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から０．１秒〜１分がより好ましい。
【０１２４】
本発明において、紫外線線硬化樹脂を含有する塗布液には好ましくは有機溶媒が用いられる。このとき、樹脂フィルム基材（１）を溶解もしくは膨潤させる性質を有する溶媒を用いることが塗設された層と樹脂フィルム基材（１）との密着性に優れるため好ましく用いられる。溶剤としては前述の溶剤が用いられる。（反射防止フィルム）
本発明のクリアーハードコートフィルムのハードコート層上に、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮した反射防止層を積層しても良い。反射防止層は、透明フィルム基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明フィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層等から構成される。また、ハードコート層が高屈折率層を兼ねてもよい。
【０１２５】
本発明のハードコートフィルムの製造方法により製造されたハードコート層上に高屈折率層あるいは低屈折率層などの反射防止層を塗設して、反射防止フィルムを形成することにより、反射光の色むらが著しく改善された反射防止フィルムが得られる。
【０１２６】
低屈折率層は、下記に記載する特に内部が多孔質または空洞である少なくとも１種の中空シリカ微粒子を含有することで、耐久試験後の密着に優れた反射防止フィルムを形成することができる。また、反射防止フィルムはハードコート層と、低屈折率層との間に、高屈折率層が介在させられていてもよい。
【０１２７】
（低屈折率層）
つぎに、低屈折率層について説明する。低屈折率層は、透明フィルム基材の屈折率より低い層を低屈折率層という。具体的な屈折率としては、２３℃、波長５５０ｎｍで１．３０〜１．４５の範囲のものが好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜０．５μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍがより好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることがさらに好ましい。低屈折率層には中空シリカ粒子を含有させることが、耐久試験後の密着、低屈折率化といった光学干渉層としての特性からも好ましい。中空シリカ粒子（以下、中空粒子ともいう）は、（１）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または（２）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。
【０１２８】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、及びブタノールが特に好ましい。
【０１２９】
低屈折率層を形成する塗布組成物中の固形分濃度は、１〜４質量％であることが好ましく、固形分濃度を４質量％以下とすることによって、塗布むらが生じにくくなり、１質量％以上とすることによって、乾燥負荷が軽減される。
【０１３０】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、他のシリカ粒子を含有することもできる。ここで、他のシリカ粒子としては、特に限定されるものではないが、コロイダルシリカ等が挙げられる。コロイダルシリカの具体例としては、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状または数珠状である。
【０１３１】
コロイダルシリカの平均粒径は５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
【０１３２】
コロイダルシリカは、市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合し、数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは日産化学工業社のスノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等があり、具体的にはＩＰＳ−ＳＴ−Ｌ（イソプロパノール分散、粒子径４０〜５０ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ（メチルエチルケトン分散、粒子径１７〜２３ｎｍ、シリカ濃度３５％）等が挙げられる。低屈折率層形成塗布組成物にコロイダルシリカを含有させる場合、低屈折率層中の固形分に対し１０〜６０質量％、さらには３０〜６０質量％であることが膜強度の点から、好ましい。
【０１３３】
また、その他の無機微粒子を含有してもよく、例えば、ＭｇＦ２ が挙げられ、具体的には日産化学工業社製のＭＦＳ−１０Ｐ（イソプロピルアルコール分散フッ化マグネシウムゾル、粒子系１００ｎｍ）、ＮＦ−１０Ｐ等が挙げられる。
【０１３４】
また、低屈折率層形成塗布組成物には、低屈折率層中の固形分に対し、５〜８０質量％のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ粒子等の粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく、低屈折率層の強度を維持できるように調整する。
【０１３５】
バインダーとしては、アルコキシ金属化合物、及びその加水分解物あるいはその重縮合物、また、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂、フルオロアクリレート、含フッ素ポリマー等を挙げられる。フッ素ポリマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類〔例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等〕、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。これらの中で好ましくは、パーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１３６】
本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムの層構成としては、下記の例が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。このうち、クリアハードコート層、防眩性ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のうち少なくとも１層は塗布乾燥の後、紫外線照射し硬化する層とすることができる。反射防止層はＴｉやＳｉのどの金属アルコキシドを用いたゾルゲル法で形成してもよく、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｉｎ等の金属酸化物微粒子とバインダーを含む組成物を塗設してもよい。
【０１３７】
バックコート層／樹脂フィルム基材／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム基材／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／樹脂フィルム基材／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム基材／防眩性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム基材／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／樹脂フィルム基材／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
（反射防止フィルムの反射率）
上記した反射防止フィルムの反射率は、分光光度計により測定を行なうことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行なってから、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が２．５％以下であることが好ましく、最低反射率は１．５％以下であることが好ましい。可視光の波長領域において、平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
【０１３８】
また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。
【０１３９】
本発明によって得られたハードコートフィルム、及び反射防止フィルムは、縦ツレ等のシワの発生がなく、平面性に優れるため、特に液晶表示装置、あるいは有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に用いられる反射防止フィルムあるいは防眩フィルム、クリアハードコートフィルムとして有用であり、優れた視認性を提供することができ、これらを偏光板保護フィルムとして用いた偏光板あるいは表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０１４０】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４１】
実施例１
〔透明樹脂フィルム基材の作製〕
（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）      １００質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                            ５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）    １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）    １質量部
酸化珪素微粒子（アエロジル２００Ｖ）                    ０．１質量部
メチレンクロライド                                      ４３０質量部
メタノール                                                ９０質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し、撹伴しながら完全に溶解した。
【０１４２】
つぎに、このドープ組成物を濾過し、冷却して、温度３３℃に保ち、流延ダイからステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体上に均一に流延し、流延膜（ウェブ）を剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、支持体上からウェブを剥離したのち、ウェブをテンターによって幅把持しながら乾燥させ、ついで、ウェブを幅手方向で１．１倍となるように延伸し、さらに、多数のロールで搬送させながら、ウェブ（フィルム）乾燥を終了させ、膜厚４０μｍ、幅１．５ｍの透明樹脂フィルム基材を得た。このとき、ステンレスバンドに接している面をｂ面とし、もう一方の面をａ面とする。
【０１４３】
（クリアハードコート層の形成）
（クリアハードコート層形成用塗布液）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体            ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体            ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分  ２０質量部
イルガキュア１８４                                          ２質量部
（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
イソプロピルアルコール                                    ５０質量部
酢酸エチル                                                ５０質量部
メチルエチルケトン                                        ５０質量部
つぎに、図１〜図４に示すように、上記作製した透明樹脂フィルム基材（１）のｂ面に、上記クリアハードコート層形成用塗布液、すなわち紫外線等活性放射線硬化樹脂層形成用塗布液を、液塗布装置（ダイ）（３）により押し出しコートした。こうして、透明樹脂フィルム基材（１）表面上にドライ膜厚１１μｍのクリアハードコート層を形成し、ハードコートフィルムを得た。
【０１４４】
（反射防止フィルムの作製）
つぎに、得られたハードコートフィルムの表面上に、下記の低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
【０１４５】
（低屈折率層形成用塗布組成物）
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                      １０．２質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル                ０．００４２質量部
（日本ユニカー社製、商品名Ｌ−９０００）
プロピレングリコールモノメチルエーテル                    ２７質量部
イソプロピルアルコール                                    ６３質量部
上記のクリアハードコート層を有するハードコートフィルム上に、低屈折率層形成用塗布組成物を、ダイを用いて塗布し、温度１２０℃で乾燥したのち、クリアハードコート層形成時と同様にして、紫外線照射を行い、低屈折率層を硬化させて、低屈折率層（厚さ：０．０９３μｍ）を形成し、反射防止フィルムを作製した。
【０１４６】
低屈折率層の屈折率と膜厚は、分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて行ない、低屈折率層の屈折率は、１．３８であった。
【０１４７】
そして、この実施例１では、ハードコート層を設けた樹脂フィルム基材（１）を抱き付ける液塗布用バックアップロール（２）の樹脂フィルム基材導入側に、圧搾空気吹付けノズル（商品名：ＤＶシリーズ、大浩研熱株式会社製）（１１）を設置し、吹付けノズル（１１）から出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を２５０Ｐａとして、液塗布用バックアップロール（２）表面に抱き付けた。
【０１４８】
なお、液塗布用バックアップロール（２）の直径は１０００ｍｍであった。また、このときの樹脂フィルム基材（１）の搬送速度を５０ｍ／ｍｉｎとした。
【０１４９】
また、低屈折率層形成用塗布液が塗布された樹脂フィルム基材（１）は、その後、温度１２０℃に設定された乾燥部で乾燥し、さらに、図示しない紫外線光源を用いて紫外線を照射して、クリアハードコート層上に低屈折率層を設け、反射防止フィルムを得た。
【０１５０】
実施例２〜５
上記実施例１の場合と同様に実施するが、ハードコート層を有する樹脂フィルム基材（１）の上に低屈折率層形成用塗布液を塗布するため樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）に抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入されるハードコート層を設けた樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を、上記実施例１の場合と異なるものとした。すなわち、下記の表１に示すように、樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を、実施例２では５００Ｐａ、実施例３では１０００Ｐａ、実施例４では２０００Ｐａ、実施例５では３０００Ｐａとした。
【０１５１】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１５２】
比較例１〜４
つぎに、比較のために、上記実施例１の場合と同様に実施して、反射防止フィルムを製造するが、実施例１の場合と異なる点は、比較例１では、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）に抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）に、面圧（Ｐ）を全く与えなかった点にある。
【０１５３】
比較例２〜４では、上記実施例１の場合と同様に、液塗布用バックアップロール（２）の樹脂フィルム基材（１）導入側に、圧搾空気吹付けノズル（１１）を設置し、吹付けノズル（１１）から出た圧搾空気の風圧により、樹脂フィルム基材（１）をバックアップロール（２）端部近傍表面に抱き付けるようにして低屈折率層形成用塗布液を塗布するが、下記の表１に示すように、樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を、比較例２では２００Ｐａ、比較例３では３５００Ｐａ、比較例４では５０００Ｐａとして、いずれも本発明の範囲外のものとした。
【０１５４】
こうして、透明樹脂フィルム基材（１）の表面上にドライ膜厚１１μｍのクリアハードコート層を形成し、比較用の各種反射防止フィルムを得た。
【０１５５】
実施例６と７
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）に抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を、本発明の特定の範囲内のものとする手段として、図５〜図６に示すように、液塗布用バックアップロール（２）にサクション式バックアップロールを用い、サクション式バックアップロール（２）による吸引力により、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）表面に抱き付けるようにした点にある。
【０１５６】
ここで、サクション式バックアップロール（２）としては、面品質に影響しない孔径３００μｍ以下のサクション孔（吸引孔）（１２）を周面に設けたワイヤーサクションロール（Ｂｅｌｌｍａｔｉｃ株式会社製）を用いた。そして、図示しない吸引装置により、このバックアップロール（２）の内部全体にサクション（吸引力）をかけて、バックアップロール（２）のフィルム導入側から該ロール表面に接触する樹脂フィルム基材（１）を、液塗布用バックアップロール（２）表面に抱き付けるようにした。
【０１５７】
バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍面圧（Ｐ）を、下記の表１に示すように、実施例６では５００Ｐａ、実施例７では１０００Ｐａとした。
【０１５８】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１５９】
比較例５〜７
比較のために、上記実施例６の場合と同様に実施して、反射防止フィルムを製造するが、実施例６の場合と異なる点は、比較例５では、液塗布用バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を、下記の表１に示すように、比較例５では２００Ｐａ、比較例６では３５００Ｐａ、比較例７では５０００Ｐａとした点にある。
【０１６０】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１６１】
実施例８〜１０
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）に抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を特定の範囲内のものとする手段として、図７〜図８に示すように、樹脂フィルム基材（１）を抱き付ける液塗布用バックアップロール（２）の樹脂フィルム基材導入側に、減圧用吸引ノズル（１３）を設置した点にある。ここで、減圧用吸引ノズル（１３）としては、特殊仕様吸引ノズル、大浩研熱株式会社製を使用した。
【０１６２】
そして、下記の表１に示すように、実施例８における樹脂フィルム基材導入部の吸引ノズル（１３）による減圧度を−２００Ｐａ、及びこれによる液塗布用バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を２５０Ｐａとし、同様に、実施例９の吸引ノズル（１３）の減圧度を−１０００Ｐａ、及びこれによる樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を１５００Ｐａ、実施例１０の吸引ノズル（１３）の減圧度を−２０００Ｐａ、及びこれによる樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を３０００Ｐａとした。
【０１６３】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１６４】
比較例８と９
比較のために、上記実施例８の場合と同様に実施して、反射防止フィルムを製造するが、実施例８の場合と異なる点は、下記の表１に示すように、比較例８では、樹脂フィルム基材導入部の吸引ノズル（１３）による減圧度を−１５０Ｐａ、及びこれによる液塗布用バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を２００Ｐａとし、同様に、比較例９の吸引ノズル（１３）の減圧度を−２５００Ｐａとした点にある。
【０１６５】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１６６】
実施例１１〜１３
上記実施例８〜１０の場合と同様に実施するが、これらの実施例と異なる点は、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）に抱き付ける際に、バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を特定の範囲内のものとする手段として、図９〜図１０に示すように、液塗布用バックアップロール（２）における、該樹脂フィルム基材表面に反射防止層形成用塗布液を塗布する箇所の前後両側寄り部分に、ニップロール（１４）（１５）をそれぞれ設置し、ニップロールによる圧力により、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）表面に抱き付けるようにした点にある。
【０１６７】
ここで、ニップロール（１４）（１５）としては、明和ゴム株式会社によるエチレンプロピレンゴム（ＥＰＴゴム）製のニップロールを使用した。ニップロール（１４）（１５）の直径は、それぞれ１００ｍｍであった。
【０１６８】
なお、下記の表１に示すように、実施例１１〜１３における液塗布用バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）は、上記実施例８〜１０の場合と同じものとした。
【０１６９】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１７０】
比較例１０と１１
比較のために、上記実施例１１の場合と同様に、ニップロール（１４）（１５）をそれぞれ設置し、ニップロールによる圧力により、樹脂フィルム基材（１）を液塗布用バックアップロール（２）表面に抱き付けるようにして実施し、反射防止フィルムを製造するが、実施例１１の場合と異なる点は、下記の表１に示すように、比較例１０では、液塗布用バックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の端部近傍の面圧（Ｐ）を２００Ｐａとし、同様に、比較例１１のバックアップロール（２）の下面に導入される樹脂フィルム基材（１）の面圧（Ｐ）を４０００Ｐａとした点にある。
【０１７１】
こうして、クリアハードコート層上に低屈折率層を形成し、各種反射防止フィルムを得た。
【０１７２】
〔反射防止フィルムの評価〕
つぎに、上記実施例１〜１３、及び比較例１〜１１で作製した各種反射防止フィルムについて、下記の評価テストを行い、得られた結果を下記の表１にあわせて示した。
【０１７３】
（端部均一性の評価）
上記実施例１〜１３、及び比較例１〜１１で作製した各種反射防止フィルムの反射防止層を塗設したのとは反対側の面に、黒いアクリル板を貼り付け、反射防止層の光学膜厚を、大塚電子製ＦＥ３０００で測定し、下記の基準により、端部均一性の評価を行った。
【０１７４】
◎：端部周辺の膜厚が中央に比較し、±１ｎｍ以内
○：端部周辺の膜厚が中央に比較し、±１ｎｍを超え、±２ｎｍ以内
△：端部周辺の膜厚が中央に比較し、±２ｎｍを超え、±３ｎｍ以内
（実用上許容の範囲にある）
×：端部周辺の膜厚が中央に比較し、±３ｎｍを超える
（黒アクリル板貼付品及び透過光による観察で、
色変化がはっきりと認められ、実用上問題がある）
【表１】
2011215231.tif 000004
【０１７５】
上記の表１の結果より明らかなように、本発明の実施例１〜１３による反射防止フィルムでは、評価結果が「◎」または「○」であり、ハードコート層の表面上に反射防止層を塗設した状態でも、端部の膜厚が一定で、端部均一性に優れていることが分かった。
【０１７６】
これに対し、比較例１〜１１による反射防止フィルムでは、評価結果がいずれも「×」または「△」であり、ハードコート層の表面上に反射防止層を塗設した状態で、端部均一性に劣るものであった。
【符号の説明】
【０１７７】
１：樹脂フィルム基材
１ａ：フィルム基材端部
２：液塗布用バックアップロール
３：ハードコート層形成用塗布液の塗布装置（ダイ）
４：塗布液
６：搬送ロール
７：搬送ロール
１１：圧搾空気吹付けノズル
１２：サクション孔（吸引孔）
１３：減圧用吸引ノズルまたは減圧用チャンバー
１４：ニップロール
１５：ニップロール                                                    
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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