(57)【要約】      （修正有）【課題】高分子量のオレフィン重合体製造することができるオレフィン重合用触媒に有用な遷移金属錯体を提供する。【解決手段】式［１］2011079761.tif 000012（式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ａは元素周期律表の第１６族の原子を表し、Ｊは元素周期律表の第１４族の原子を表し、Ｃｐはシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基を表し、Ｒ６は、炭素原子数３〜２０の脂環式炭化水素基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子等を表す。）で示される遷移金属錯体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式［１］
2011079761.tif 000009
（式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ａは元素周期律表の第１６族の原子を表し、Ｊは元素周期律表の第１４族の原子を表し、Ｃｐはシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基を表す。
Ｒ６は、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数３〜２０の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
−Ｓｉ（Ｒ10）３（３つのＲ10はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ10にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
−Ｎ（Ｒ20）２（２つのＲ20はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ20のうち少なくとも１つは炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、２つのＲ20にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される置換アミノ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基及びハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基からなる群より選ばれる置換基であるか、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する置換基同士は結合して、それらが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。）
で示される遷移金属錯体。
【請求項２】
前記式［１］のＭがチタン原子である請求項１に記載される遷移金属錯体。
【請求項３】
前記式［１］のＡが酸素原子である請求項１又は２に記載される遷移金属錯体。
【請求項４】
前記式［１］のＪがケイ素原子である請求項１〜３のいずれかに記載される遷移金属錯体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載される遷移金属錯体の製造方法であって、
式［２］
2011079761.tif 000010
（式中、Ｃｐ、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、前記式[１]と同じ意味を表し、
Ｒ７は、−Ｓｉ（Ｒ11）３（３つのＲ11はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ10にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される三置換シリル基、
又は炭素原子数１〜２０の有機基を表す。）
で示される置換シクロペンタジエン化合物と、
塩基と、
を反応させる第１工程と、
前記第１工程で得られた反応物と、式［３］
2011079761.tif 000011
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記式[１]と同じ意味を表し、
Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ12）３（３つのＲ12はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ12にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基
及び−Ｎ（Ｒ22）２（２つのＲ20はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ22にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換アミノ基からなる群より選ばれる置換基であるか、水素原子又はハロゲン原子を表す。）
で示される遷移金属化合物と、
を反応させる第２工程と、
を含む製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載される遷移金属錯体を有効成分とするオレフィン重合用触媒。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載される遷移金属錯体と、
下記化合物（Ａ）及び／又は下記化合物（Ｂ）と、
を混合して得られるオレフィン重合用触媒。
化合物（Ａ）：以下の（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）からなる群より選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：式Ｅ1aＡｌＺ3-aで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ2）−Ｏ−｝bで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：式Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ3）−Ｏ−｝cＡｌＥ32で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。
Ｅ1、Ｅ2及びＥ3はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を表す。（Ａ１）に複数のＥ1がある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。（Ａ２）に複数のＥ2がある場合、互いに同じであっても異なっていてもよい。（Ａ３）に複数のＥ3がある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｚは、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚが複数ある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記（Ｂ１）、（Ｂ２）および（Ｂ３）からなる群より選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：式  Ｇ+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（Ｂ３）：式  （Ｌ1−Ｈ）+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、
−Ｓｉ（Ｒ13）３（３つのＲ13はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ13にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は
−Ｎ（Ｒ23）２（２つのＲ23はそれぞれ独立に、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ23にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される二置換アミノ基を表し、Ｇ+は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ1は中性ルイス塩基を表す。）
【請求項８】
請求項６または７に記載されるオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合する工程を含むオレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遷移金属錯体及びその製造方法、ならびにオレフィン重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シングルサイト重合触媒の中で、シクロペンタジエンとフェノールとが第１４族の原子で結合した化合物を有する第４族の遷移金属錯体は高活性なオレフィン重合用触媒であることが提案されており、当該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィン重合体の製造方法が、特許文献１に開示されている。ところで、該オレフィン重合体は、その分子量をより高くすることにより、耐衝撃性及び剛性といった特性をより向上できることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−８７３１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載された遷移金属錯体から得られるオレフィン重合用触媒は、より高分子量のオレフィン重合体を得るうえでは、その重合活性が不十分な場合があり、この重合活性にはいまだ改善の余地があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意検討した結果、本発明に至った。
すなわち本発明は、
＜１＞式［１］
2011079761.tif 000002
（式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ａは元素周期律表の第１６族の原子を表し、Ｊは元素周期律表の第１４族の原子を表し、Ｃｐはシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基を表す。
Ｒ６は、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数３〜２０の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
−Ｓｉ（Ｒ10）３（３つのＲ10はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ10にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
−Ｎ（Ｒ20）２（２つのＲ20はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ20のうち少なくとも１つは炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、２つのＲ20にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される置換アミノ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基及びハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基からなる群より選ばれる置換基であるか、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する置換基同士は結合して、それらが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。）
で示される遷移金属錯体；
を提供する。
【０００６】
また、本発明は、
＜２＞前項＜１＞の遷移金属錯体の製造方法であって、
式［２］
2011079761.tif 000003
（式中、Ｃｐ、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、前記式[１]と同じ意味を表し、
Ｒ７は、−Ｓｉ（Ｒ11）３（３つのＲ11はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ10にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される三置換シリル基、
又は炭素原子数１〜２０の有機基を表す。）
で示される置換シクロペンタジエン化合物と、
塩基と、
を反応させる第１工程と、
前記第１工程で得られた反応物と、式［３］
2011079761.tif 000004
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記式[１]と同じ意味を表し、
Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ12）３（３つのＲ12はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ12にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基
及び−Ｎ（Ｒ22）２（２つのＲ20はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ22にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換アミノ基からなる群より選ばれる置換基であるか、水素原子又はハロゲン原子を表す。）
で示される遷移金属化合物と、
を反応させる第２工程と、
を含む製造方法；
を提供する。
【０００７】
また、本発明は以下の＜３＞及び＜４＞のオレフィン重合用触媒、当該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィン重合体の製造方法を提供する。
＜３＞前項＜１＞の遷移金属錯体を有効成分として含むオレフィン重合用触媒；
＜４＞前項＜１＞の遷移金属錯体と、
下記化合物（Ａ）および／または下記化合物（Ｂ）と、
を接触させて得られるオレフィン重合用触媒；
化合物（Ａ）：下記（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）[以下、「（Ａ１）〜（Ａ３）」ということがある。]からなる群より選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：式Ｅ1aＡｌＺ3-aで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ2）−Ｏ−｝bで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：式Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ3）−Ｏ−｝cＡｌＥ32で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。
Ｅ1、Ｅ2及びＥ3はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を表す。（Ａ１）に複数のＥ1がある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。（Ａ２）に複数のＥ2がある場合、互いに同じであっても異なっていてもよい。（Ａ３）に複数のＥ3がある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｚは、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚが複数ある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記（Ｂ１）、（Ｂ２）および（Ｂ３）[以下、「（Ｂ１）〜（Ｂ３）」ということがある。]からなる群より選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：式  Ｇ+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（Ｂ３）：式  （Ｌ1−Ｈ）+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、
−Ｓｉ（Ｒ13）３（３つのＲ13はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ13にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は
−Ｎ（Ｒ23）２（２つのＲ23はそれぞれ独立に、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ23にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される二置換アミノ基を表し、Ｇ+は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ1は中性ルイス塩基を表す。）
【０００８】
＜５＞前項＜３＞または前項＜４＞のオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合する工程を含むオレフィン重合体の製造方法；
【発明の効果】
【０００９】
本発明の遷移金属錯体を有効成分として含むオレフィン重合用触媒によれば、高分子量のオレフィン重合体を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１１】
〔遷移金属錯体〕
式［１］で示される遷移金属錯体（以下、「遷移金属錯体［１］」という。）及び式［３］で示される遷移金属化合物（以下、「遷移金属化合物［３］」という。）において、Ｍで示される元素の周期律表の第４族元素としては例えば、チタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子などが例示される。これらの中でもチタン原子が好ましい。
【００１２】
遷移金属錯体［１］において、Ａで示される元素の周期律表の第１６族元素としては例えば、酸素原子、硫黄原子及びセレン原子などが例示される。これらの中でも酸素原子が好ましい。
【００１３】
遷移金属錯体［１］において、Ｊで示される元素の周期律表の第１４族元素としては例えば、炭素原子、ケイ素原子及びゲルマニウム原子などが例示される。これらの中でもケイ素原子が好ましい。
【００１４】
前記遷移金属錯体［１］において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は上述した群より選ばれる置換基であるか、ハロゲン原子又は水素原子である。なお、前記遷移金属錯体［１］にあるベンゼン環に結合しているＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４を「Ｒ1〜Ｒ４」ということがある。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子のいずれでもよいが、好ましくは塩素原子である。
【００１５】
以下、上述した群より選ばれる置換基について具体例を挙げて説明する。
炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びｎ−エイコシル基などが例示され、中でも、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びアミル基が好ましい。
ハロゲン原子を置換基として有するアルキル基（ハロゲン化アルキル基）とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置換された基を意味し、このハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子からなる群より選ばれる原子であり、複数のハロゲン原子で置換されている場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００１６】
炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが例示され、中でも、フェニル基が好ましい。ハロゲン原子を置換基として有するアリール基（ハロゲン化アリール基）とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であることを意味し、このハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである。
【００１７】
炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、(２，４−ジメチルフェニル)メチル基、(２，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，６−ジメチルフェニル)メチル基、(３，４−ジメチルフェニル)メチル基、(４，６−ジメチルフェニル)メチル基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メチル基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(ｎ−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(ｎ−ブチルフェニル)メチル基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メチル基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メチル基、(ｎ−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メチル基、(ｎ−オクチルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基及びアントラセニルメチル基などが例示され、中でもベンジル基が好ましい。ハロゲン原子を置換基として有するアラルキル基（ハロゲン化アラルキル基）とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基を意味し、このハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである。
【００１８】
−Ｓｉ（Ｒ10）３で示される置換シリル基にあるＲ10は、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ10のうち少なくとも１つは炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、ケイ素に結合している炭化水素基及び／又はハロゲン化炭化水素基の炭素原子数の合計は１〜２０の範囲である。以下の説明において、ケイ素原子に炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基の置換基が１つ結合している基を一置換シリル基、ケイ素原子に炭化水素基及びハロゲン化原子からなる群より選ばれる２つの置換基が結合している基を二置換シリル基、ケイ素原子に炭化水素基及びハロゲン化原子からなる群から選ばれる３つの置換基が結合している基を三置換シリル基ということにする。なお、ここでいう炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基などの炭素原子数６〜１０のアリール基などが例示される。該ハロゲン化炭化水素基とは、ここに示すアルキル基又はアリール基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されている基を意味する（ここでいうハロゲン原子は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである）。かかる置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基及びフェニルシリル基などの一置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基及びジフェニルシリル基などの二置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基及びトリフェニルシリル基などの三置換シリル基などが挙げられる。これらの中でも、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基及びトリフェニルシリル基などの三置換シリル基が好ましい。
【００１９】
炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基及びｎ−エイコシルオキシ基などが例示され、中でもメトキシ基、エトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましい。ハロゲン原子を置換基として有するアルコキシ基（ハロゲン化アルコキシ基）とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基を意味し、このハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである。
【００２０】
炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基およびアントラセノキシ基などが例示され、中でも、フェノキシ基及びナフトキシ基が好ましい。ハロゲン原子を置換基として有するアリールオキシ基（ハロゲン化アリールオキシ基）とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、このハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである。
【００２１】
炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、(２−メチルフェニル)メトキシ基、(３−メチルフェニル)メトキシ基、(４−メチルフェニル)メトキシ基、(２，３−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，６−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(ｎ−オクチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基およびアントラセニルメトキシ基などが例示され、中でもベンジルオキシ基が好ましい。ハロゲン原子を置換基として有するアラルキルオキシ基（ハロゲン化アラルキルオキシ基）とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基を意味し、このハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである。
【００２２】
−Ｎ（Ｒ20）２で示される置換アミノ基にあるＲ20は、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ20のうち少なくとも１つは炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、２つのＲ20の炭素原子数の合計は１〜２０の範囲である。なお、以下の説明において、窒素原子に炭化水素基及びハロゲン化炭化水素基からなる群から選ばれる１つの置換基が結合している基を一置換アミノ基、前記群から選ばれる２つの置換基が結合している基を二置換アミノ基ということにする。この炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基及びシクロヘキシル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基が例示され、２つの炭化水素基Ｒ20は互いに結合して、窒素原子とともに環を形成していてもよい。該ハロゲン化炭化水素基とは、ここに示すアルキル基又はアリール基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されている基である（ここでいうハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したものと同じである）。かかる置換アミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、トリメチルシリルアミノ基及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基などの一置換アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基及びジヒドロイソインドリル基などの二置換アミノ基が例示され、中でも、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基又はピペリジニル基などの二置換アミノ基が好ましい。
【００２３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち隣接する２つの炭素原子に結合する置換基同士は任意に結合して、それらが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。形成される環としては、炭素原子数３〜２０の飽和もしくは不飽和の炭化水素環などが例示される。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環などである。
【００２４】
本発明の遷移金属錯体［１］においてＲ６は、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数３〜２０の脂環式炭化水素基であることを特徴とする。本発明者らは、このような脂環式炭化水素基がシクロペンタジエニル型アニオン骨格に結合する元素周期律表第１４族の原子に有していると、後述するオレフィン重合体の製造方法において、高分子量のオレフィン重合体を与えることを見出した。この脂環式炭化水素基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、アダマンチル基およびビシクロヘプチル基などが例示される。好ましくはシクロヘキシル基およびアダマンチル基などが挙げられる。また、ここに例示した脂環式炭化水素基にある水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基を挙げることができる。このハロゲン原子の例示は、前記ハロゲン化アルキル基で例示したハロゲン原子と同じである。
また、該脂環式炭化水素基は炭素原子数が２０以下である範囲において、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。該脂環式炭化水素基がハロゲン原子以外の置換基を有している場合、この置換基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、ベンジルオキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基及びピペリジニル基が挙げられ、より好ましくはメチル基またはエチル基である。例えば、Ｒ６がシクロヘキシル基である場合の置換基としてはメチル基が好ましい。
【００２５】
本発明の遷移金属錯体［１］としては、例えば、次のような化合物をあげることができる。
【００２６】
シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−ナフトキシ）チタニウムジクロリド
【００２７】
シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−ナフトキシ）チタニウムジクロリド
【００２８】
シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（インデニル）（２−ナフトキシ）チタニウムジクロリド
【００２９】
シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド、シクロヘキシルメチルシリレン（フルオレニル）（２−ナフトキシ）チタニウムジクロリドなどが挙げられる。
また、ここに例示した遷移金属錯体［１］の「シクロヘキシルメチルシリレン」を、「シクロヘキシルエチルシリレン」、「シクロペンチルメチルシリレン」、「シクロヘプチルメチルシリレン」、「シクロオクチルメチルシリレン」、「１−アダマンチル（メチル）シリレン」又は「２−（ビシクロヘプチル）メチルシリレン」に置き換えたもの、ここに例示した遷移金属錯体［１］の「チタニウム」を、「ジルコニウム」又は「ハフニウム」に置き換えたもの、ここに例示した遷移金属錯体［１］の「ジクロリド」を、「ジフルオリド」、「ジブロミド」又は「ジヨージド」に置き換えたものも同様に例示される。
【００３０】
〔遷移金属錯体の製造方法〕
本発明の遷移金属錯体［１］は、例えば、式［２］
2011079761.tif 000005
（式中、Ｃｐ、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、前記式[１]と同じ意味を表し、
Ｒ７は、−Ｓｉ（Ｒ11）３（３つのＲ11はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ10にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される三置換シリル基、
又は炭素原子数１〜２０の有機基を表す。）
で示される置換シクロペンタジエン化合物（以下、「置換シクロペンタジエン化合物［２］」という。）と、
塩基と、
を反応させる第１工程と、
前記第１工程で得られた反応物と、遷移金属化合物［３］
2011079761.tif 000006
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記式[１]と同じ意味を表し、
Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ12）３（３つのＲ12はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ12にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基
及び−Ｎ（Ｒ22）２（２つのＲ20はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ22にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換アミノ基からなる群より選ばれる置換基であるか、水素原子又はハロゲン原子を表す。）
と、
を反応させる第２工程を含む製造方法により製造することができる。
【００３１】
ここで、Ｘ１及びＸ２における、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基、及びハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基の具体例は、前記遷移金属錯体［１］の場合と同じであり、置換シリル基及び置換アミノ基の例示も、前記遷移金属錯体［１］の場合と同じである。
【００３２】
置換シクロペンタジエン化合物［２］におけるＲ７の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基及びデシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、ホモアリル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基及びデセニル基などの炭素原子数２〜１０のアルケニル基；ベンジル基、（４−メチルフェニル）メチル基及び（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基などの炭素原子数７〜１２のアラルキル基；メトキシメチル基及びメトキシエトキシメチル基などのアルコキシアルキル基；などが挙げられる。これらの有機基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよく、例えば、２−クロロ−２−プロペニル基などが挙げられる。
【００３３】
Ｒ７における三置換シリル基の例示は、遷移金属錯体［１］の三置換シリル基として例示したものと同じである。
【００３４】
置換シクロペンタジエン化合物［２］と、遷移金属化合物［３］と、から収率よく遷移金属錯体［１］を製造し得る点では、Ｒ７は好ましくはアルケニル基又はアルキル基であり、さらに好ましくはアリル基又はメチル基である。
【００３５】
前記置換シクロペンタジエン化合物［２］としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００３６】
（２−アリロキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン、
【００３７】
（２−アリロキシフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルメチルシラン、
【００３８】
（２−アリロキシフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（インデニル）シクロヘキシルメチルシラン、
【００３９】
（２−アリロキシフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（フルオレニル）シクロヘキシルメチルシラン、
【００４０】
また、ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物［２］において、「シクロヘキシルメチルシラン」を、「シクロヘキシルエチルシラン」、「シクロペンチルメチルシラン」、「シクロヘプチルメチルシラン」、「シクロオクチルメチルシラン」、「１−アダマンチル（メチル）シラン」又は「２−（ビシクロヘプチル）メチルシラン」に置き換えたものも例示することができる。
【００４１】
遷移金属化合物［３］としては、例えば、四塩化チタン、四臭化チタン及び四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン；テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジメチルアミノ）チタン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタン及びテトラキス（ジエチルアミノ）チタンなどのアミドチタン；テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、ジクロロジイソプロポキシチタン及びトリクロロイソプロポキシチタンなどのアルコキシチタン；などが挙げられる。また、これら各化合物の「チタン」を、「ジルコニウム」又は「ハフニウム」に置き換えたものも例示することができる。前記遷移金属錯体［１］のＭはチタン原子であると好ましいため、チタン原子を含む遷移金属化合物［３］が好ましく、中でも、四塩化チタンがより好ましい。
【００４２】
置換シクロペンタジエン化合物［２］と反応させる塩基としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられる。
【００４３】
塩基の使用量は、置換シクロペンタジエニル化合物［２］１モルあたり、０．５〜５モルであると好ましい。
【００４４】
置換シクロペンタジエン化合物［２］と塩基との反応させる工程においては、上述の有機アルカリ金属化合物に加え、アミン化合物を併用することもできる。かかるアミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−デシルアミン、アニリン及びエチレンジアミンなどの第１級アミン化合物；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン及びジフェニルアミンなどの第２級アミン化合物；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルピロリジン及び４−ジメチルアミノピリジンなどの第３級アミン化合物；が挙げられる。かかるアミン化合物を用いる場合、その使用量は有機アルカリ金属化合物１モルあたり、１０モル以下が好ましく、０．５〜１０モルの範囲がより好ましく、１〜３モルの範囲がさらに好ましい。
【００４５】
上述の第１工程と第２工程とを含む本発明の遷移金属化合物［１］の製造方法では、これら第１工程及び第２工程を同一の溶媒中で実施することが操作が簡便であるので好ましい。この場合、溶媒に置換シクロペンタジエン化合物［２］及び塩基を加えて混合することで第１工程を行った後、この反応溶液に、遷移金属化合物［３］を加えることによって第２工程を行うことができる。前記第１工程において、置換シクロペンタジエン化合物［２］及び塩基を加えた後に、反応溶液から固体が析出することもある。この場合には、この固体を反応溶液からいったん取り出した後、取り出した固体に溶媒を加え、スラリー状又は溶液とした後、遷移金属化合物［３］を加えることで第２工程を行うことができる。  また、溶媒に、置換シクロペンタジエン化合物［２］、塩基及び遷移金属化合物［３］を同時に加えることにより、第１工程と第２工程とを略同時に行うこともできる。
【００４６】
遷移金属化合物［３］の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物［２］１モルあたり、０．５〜３モルの範囲が好ましく、０．７〜１．５モルの範囲がさらに好ましい。
【００４７】
反応温度は、−１００℃以上溶媒の沸点以下から選択されるが、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
【００４８】
前記第１工程及び第２工程は、各工程に係る反応の進行を著しく阻害しない不活性な溶媒中で行われる。この不活性な溶媒としては非プロトン性溶媒が好ましく、例えば、ベンゼン及びトルエンなどの芳香族炭化水素溶媒；ヘキサン及びヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及び１，４−ジオキサンなどのエーテル溶媒；ヘキサメチルホスホリックアミド及びジメチルホルムアミドなどのアミド溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンなどの極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒；などが例示される。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は、置換シクロペンタジエン化合物［２］１重量部にあたり、１〜２００重量部が好ましく、３〜５０重量部がさらに好ましい。
【００４９】
本発明の遷移金属錯体［１］製造後の反応混合物からは種々の取り出し方法により、遷移金属錯体［１］を取り出すことができる。例えば、反応液を濃縮して遷移金属錯体［１］を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の遷移金属錯体［１］を得ることができる。なお、このようにして反応液を濃縮する前に、塩などが析出する場合もある。その場合は、析出している塩を濾過操作などにより除去してから、その濾液を濃縮すればよい。
【００５０】
〔オレフィン重合用触媒〕
本発明の遷移金属錯体［１］はオレフィン重合用触媒の有効成分として有用である。なお、ここでいう「オレフィン重合用触媒の有効成分」とは、該遷移金属錯体［１］を含むオレフィン重合用触媒だけでなく、該該遷移金属錯体［１］とその他の化合物（共触媒成分）とから調製されるオレフィン重合用触媒も含む概念である。特に、該遷移金属錯体［１］と共触媒成分とから調製されるオレフィン重合用触媒が、オレフィン重合体を製造する重合活性をより高くできる点で好ましい。
以下、該遷移金属錯体［１］と共触媒成分とから調製されるオレフィン重合用触媒に関して詳述することにする。このようなオレフィン重合用触媒の調製においては、該遷移金属錯体［１］と共触媒成分とを混合することで実施される。該共触媒成分としては、以下の化合物（Ａ）又は化合物（Ｂ）、あるいはこれらの混合物が特に好ましい。
化合物（Ａ）：下記（Ａ１）〜（Ａ３）からなる群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：式Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：式Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。
Ｅ1、Ｅ2及びＥ3はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を表す。（Ａ１）に複数のＥ1がある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。（Ａ２）に複数のＥ2がある場合、互いに同じであっても異なっていてもよい。（Ａ３）に複数のＥ3がある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｚは、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚが複数ある場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【００５１】
化合物（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：式  ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（Ｂ３）：式  （Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、
−Ｓｉ（Ｒ13）３（３つのＲ13はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、３つのＲ13にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は
−Ｎ（Ｒ23）２（２つのＲ23はそれぞれ独立に、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表し、２つのＲ23にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される二置換アミノ基を表し、Ｇ+は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ1は中性ルイス塩基を表す。）
【００５２】
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3及びＱ4における置換シリル基の例示は、前記遷移金属錯体［１］の置換シリル基として例示したものと同じである。
【００５３】
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3およびＱ4における二置換アミノ基の例示は、前記遷移金属錯体［１］の置換アミノ基で例示したもののうち、二置換アミノ基として例示したものと同じである。
【００５４】
前記（Ａ１）〜（Ａ３）のアルミニウム化合物について説明する。
（Ａ１）：式Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで表される有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等があげられる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム又はトリイソブチルアルミニウムである。
【００５５】
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は（Ａ３）式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるＥ２及びＥ３としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基があげられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０であり、ｃは１〜４０である。
【００５６】
上記の環状又は線状のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に限定はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン又は脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法などがあげられる。
【００５７】
化合物（Ａ）としては、（Ａ１）の有機アルミニウム化合物、（Ａ２）の環状のアルミノキサン又は（Ａ３）の線状のアルミノキサンのいずれか１種を用いてもよく、１種以上を用いてもよい。
【００５８】
次に、前記（Ｂ１）〜（Ｂ３）のホウ素化合物について説明する。
（Ｂ１）：式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物において、Ｑ１〜Ｑ３は好ましくは、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜２０の２置換アミノ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。（Ｂ１）のホウ素化合物としては、例えば、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン及びフェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボランなどがあげられ、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが好ましい。
【００５９】
（Ｂ２）：式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記の（Ｂ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００６０】
（Ｂ２）：式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、無機のカチオンであるＧ＋は例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン及び銀イオンなどが挙げられ、有機のカチオンであるＧ＋は例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。また、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるアニオンとしては例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４-トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト及びテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。
（Ｂ２）のホウ素化合物としては例えば、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びトリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられ、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。
【００６１】
（Ｂ３）：式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、Ｌ１は中性ルイス塩基であり、（Ｌ１−Ｈ）＋はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４の具体例及び好ましいものは、上記の（Ｂ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
（Ｂ３）のホウ素化合物において、（Ｌ１−Ｈ）＋は例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム及びトリアリールホスホニウムなどがあげられ、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−には、前記（Ｂ２）と同様のものが例示される。
（Ｂ３）のホウ素化合物としては例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びトリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。
【００６２】
化合物（Ｂ）としては、（Ｂ１）のホウ素化合物、（Ｂ２）のホウ素化合物又は（Ｂ３）のホウ素化合物のいずれか１種を用いてもよく、１種以上を用いてもよい。
【００６３】
オレフィン重合用触媒の製造における遷移金属錯体［１］と共触媒成分（以下、この遷移金属錯体［１］と共触媒成分をまとめて、「２つの触媒成分」ということがある。）と、を混合する方法は特に制限されない。例えば、共触媒成分として、（Ａ１）〜（Ａ３）から選ばれるアルミニウム化合物と、（Ｂ１）〜（Ｂ３）から選ばれるホウ素化合物と、を合わせて用いることもできる。この場合においても、遷移金属錯体［１］と２種の共触媒成分の混合順序は任意である。
【００６４】
遷移金属錯体［１］と共触媒成分とからのオレフィン重合用触媒の調製を重合反応装置中で行うこともできる。重合反応装置中においてエチレンなどのオレフィン（モノマー）を投入する前に（モノマーの不存在下で）、遷移金属錯体［１］と（Ａ）の有機アルミニウム化合物とを予め接触することにより、該重合反応装置中でオレフィン重合用触媒を予備調製しておくことができる。また、予めモノマーを投入してある重合反応装置中に、遷移金属錯体［１］及び共触媒成分を投入することもできる。
【００６５】
かくして調製されるオレフィン重合用触媒のなかでも、遷移金属錯体［１］と化合物（Ａ）の有機アルミニウム化合物とを混合して得られるオレフィン重合用触媒が好ましい。このような遷移金属錯体［１］と化合物（Ａ）の有機アルミニウム化合物とから調製されるオレフィン重合用触媒において、各触媒成分の使用量比としては、化合物（Ａ）のアルミニウム原子に対する遷移金属錯体［１］の使用モル比で表して、０．１〜１００００の範囲が好ましく、５〜２０００の範囲がさらに好ましい。また、化合物（Ａ）の有機アルミニウム化合物に対する遷移金属錯体［１］のモル比で表した場合、０．３〜５００の範囲が好ましく、０．５〜１００の範囲がさらに好ましい。
また、共触媒成分として化合物（Ｂ）を用いる場合、化合物（Ｂ）に対する遷移金属錯体［１］のモル比は、０．０１〜１００の範囲が好ましく、０．５〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００６６】
オレフィン重合用触媒の調製を適当な溶媒中で実施する場合、遷移金属錯体［１］の濃度は０．０００１〜５ｍｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましく、０．００１〜１ｍｍｏｌ／Ｌの範囲がさらに好ましい。一方、化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で０．０１〜５００ｍｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましく、０．１〜１００ｍｍｏｌ／Ｌの範囲がさらに好ましい。また、化合物（Ｂ）を用いる場合、化合物（Ｂ）の濃度は０．０００１〜５ｍｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましく、０．００１〜１ｍｍｏｌ／Ｌの範囲がさらに好ましい。
【００６７】
〔オレフィン重合体の製造方法〕
本発明の遷移金属錯体［１］を有効成分とするオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンなどのオレフィンを重合することによりオレフィン重合体を製造することができる。
【００６８】
本発明の遷移金属錯体［１］を有効成分とするオレフィン重合用触媒が、該オレフィン重合体の高分子量化に有効である理由は必ずしも明白ではないが、本発明者らは以下のことを見出している。すなわち、該α−オレフィンのオレフィン重合用触媒に対する配位−挿入反応において分子量低下の一因として、該α−オレフィンの２，１−挿入を挙げることができる。本発明により得られるオレフィン重合用触媒は、この２，１−挿入を制御することで高分子量のオレフィン重合体を製造することができる。
【００６９】
重合に使用するオレフィンとしては、鎖状オレフィン、環状オレフィンなどを用いることができるが、炭素原子数２〜２０のオレフィンが好適である。重合は、１種類のオレフィンを用いて単独重合でもよく、２種類以上のオレフィンを用いる共重合でもよい。
【００７０】
鎖状オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、３，３−ジメチル−１−ブテン、５−メチル−１−ヘキセン、３，３−ジメチル−１−ペンテンなどの炭素原子数３〜２０のα−オレフィン；１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘプタジエン、１，６−ヘプタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、１，７−ノナジエン、１，８−ノナジエン、１，８−デカジエン、１，９−デカジエン、１，１２−テトラデカジエン、１，１３−テトラデカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、３−メチル−１，４−ヘキサジエン、３−メチル−１，５−ヘキサジエン、３−エチル−１，４−ヘキサジエン、３−エチル−１，５−ヘキサジエン、３，３−ジメチル−１，４−ヘキサジエン、３，３−ジメチル−１，５−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエンなどの共役ジエンなどを挙げることができる。
【００７１】
環状オレフィンとしては、脂環族化合物として、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘプタン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、８−メチルテトラシクロドデセン、８−エチルテトラシクロドデセンなどのモノオレフィン；５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、７−メチル−２，５−ノルボルナジエン、７−エチル−２，５−ノルボルナジエン、７−プロピル−２，５−ノルボルナジエン、７−ブチル−２，５−ノルボルナジエン、７−ペンチル−２，５−ノルボルナジエン、７−ヘキシル−２，５−ノルボルナジエン、７，７−ジメチル−２，５−ノルボルナジエン、７，７−メチルエチル−２，５−ノルボルナジエン、７−クロロ−２，５−ノルボルナジエン、７−ブロモ−２，５−ノルボルナジエン、７−フルオロ−２，５−ノルボルナジエン、７，７−ジクロロ−２，５−ノルボルナジエン、１−メチル−２，５−ノルボルナジエン、１−エチル−２，５−ノルボルナジエン、１−プロピル−２，５−ノルボルナジエン、１−ブチル−２，５−ノルボルナジエン、１−クロロ−２，５−ノルボルナジエン、１−ブロモ−２，５−ノルボルナジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン、ビニルシクロヘキセンなどの非共役ジエン；１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエンなどの共役ジエンなどをあげることができる。また、芳香族化合物として、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどを挙げることができる。
【００７２】
共重合を行う場合のオレフィンの組み合わせとしては例えば、エチレン／プロピレン、エチレン／１−ブテン、エチレン／１−ヘキセン、エチレン／プロピレン／１−ブテン、エチレン／プロピレン／１−ヘキセン、プロピレン／１−ブテン、プロピレン／１−ヘキセンなどの鎖状オレフィン／鎖状オレフィンの組み合わせ；エチレン／ビニルシクロヘキサン、エチレン／ノルボルネン、エチレン／テトラシクロドデセン、エチレン／５−エチリデン−２−ノルボルネン、プロピレン／ビニルシクロヘキサン、プロピレン／ノルボルネン、プロピレン／テトラシクロドデセン、プロピレン／５−エチリデン−２−ノルボルネン、エチレン／プロピレン／５−エチリデン−２−ノルボルネンなどの鎖状オレフィン／環状オレフィンの組み合わせなどをあげることができる。
【００７３】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族炭化水素（ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン及びオクタンなど）、芳香族炭化水素（ベンゼン及びトルエンなど）及び／又はハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライドなど）を溶媒として用いる溶媒重合あるいはスラリー重合、ガス状のモノマーを用いる気相重合などを挙げることができる。また、重合は、連続式重合又は回分式重合のどちらでも使用可能である。
【００７４】
重合温度は、−５０℃〜３００℃の範囲で、使用するオレフィンの種類、又はオレフィン重合用触媒の種類やその使用量により適宜調節できるが、特に、−２０℃〜２５０℃の範囲が好ましい。重合圧力は、常圧から９０ＭＰａ以下の加圧条件が好ましい。重合時間は、目的とするオレフィン重合体の種類、反応装置によって適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。また、本発明によれば、高分子量のオレフィン重合体を製造することができるが、所望の分子量のオレフィン重合体を得るために、分子量調節用の連鎖移動剤（水素など）を添加することもできる。
【００７５】
このような重合方法によれば、高分子量のオレフィン重合体（高分子量オレフィン重合体）を製造することができる。かかる高分子量オレフィン重合体は耐衝撃性および剛性といった特性に優れているため、機械強度に優れた工業部品などの製造に有用である。
【実施例】
【００７６】
以下、本発明を実験例によりさらに詳しく説明する。
【００７７】
＜遷移金属錯体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：１０ｍｇ／０．５ｍＬ（ＣＤＣｌ３）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＥＸＭＯＤ  ＮＯＮ、ＯＢＮＵＣ  1Ｈ、積算回数１６回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ  ３秒、ＰＤ  ４秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ｐｐｍ）
【００７８】
（２）カーボン核磁気共鳴スペクトル（13Ｃ−ＮＭＲ）
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ3
試料濃度：３０ｍｇ／０．５ｍＬ（ＣＤＣｌ3）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＥＸＭＯＤ  ＢＣＭ、ＯＢＮＵＣ  13Ｃ、積算回数２５６０回
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ  １．７９秒、ＰＤ  １．２１秒
内部標準：ＣＤＣｌ3（７７ｐｐｍ）
【００７９】
（３）質量スペクトル
［電子イオン化質量分析（ＥＩ−ＨＲＭＳ）］
装置：日本電子社製  ＪＭＳ−Ｔ１００ＧＣ
イオン化電圧：７０ｅＶ
イオン源温度：２３０℃
加速電圧：７ｋＶ
ＭＡＳＳ  ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ  ３５−８００
【００８０】
［実験例１］
「シクロヘキシルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド（以下、錯体１と記す。）の合成」
【００８１】
「（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロシクロヘキシルメチルシランの合成」
窒素下で、２−アリロキシ−１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルベンゼン（２５．００ｇ、８８．２８ｍｍｏｌ）をトルエン２８９ｍＬに溶解させた。−７８℃に冷却した後、ｎ−ブチルリチウムの１．６０Ｍヘキサン溶液（７１．７２ｍＬ、１１４．７６ｍｍｏｌ）を滴下し、−１５℃まで徐々に昇温させた。−１５℃で２時間攪拌した後、−７８℃に冷却した。ジクロロシクロヘキシルメチルシラン（３４．８１ｇ、１７６．５５ｍｍｏｌ）を一気に加えて、室温まで徐々に昇温させた。５０℃で１時間攪拌した後、溶媒を減圧濃縮した。ヘキサンを加えて、セライト濾過し、溶媒を減圧濃縮した。さらに７０℃で減圧濃縮を３時間続けて、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロシクロヘキシルメチルシランを得た（収率７０％）。得られた（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロシクロヘキシルメチルシランはさらに精製することなしに、次の反応に利用した。
1H-NMR(CDCl3)：0.66(s，3H，SiMe)，1.10-1.35(br，5H，SiCy)，1.37(s，9H，t-Bu)，1.63-1.80(br，6H，SiCy)，2.32(s，3H，ArMe)，4.30(ddt，J=13.8，4.3，1.8 Hz，1H，OCH2)，4.42(ddt，J=13.8，4.1，2.1Hz，1H，OCH2)，5.30(dq，J=10.7，1.8Hz，1H，OCH2CH=CH2)，5.52(dq，J=17.3，2.0 Hz，1H，OCH2CH=CH2)，6.03(ddt，J=17.1，10.7，4.3Hz，1H，OCH2CH=CH2)，7.24(d，J=2.1Hz，1H，ArH)，7.30(d，J=2.1Hz，1H，ArH)
13C-NMR(CDCl3)：-0.08(SiMe)，21.11(ArMe)，26.60(SiCy)，26.69(SiCy)，27.68(SiCy)，29.33(SiCy)，31.21(ArCMe3)，35.16(ArCMe3)，76.50(OCH2)，116.08，128.14，131.70，132.91，133.56，135.29，142.04，160.96.
EI-HRMS：m/z  calcd  364.19892，found  364.19930
【００８２】
「（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシランの合成」
窒素下で水素化ナトリウム（６０ｗｔ％、０．８９ｇ、２２．３２ｍｍｏｌ）に、ＴＨＦ４３ｍＬを加えた。この水素化ナトリウムのＴＨＦスラリーを５０℃に昇温した。アニリン（０．１４ｇ、１．４９ｍｍｏｌ）を加え、５０℃でさらに１時間攪拌した。１，２，３，４−テトラメチル−１，３−シクロペンタジエン（２．００ｇ、１６．３７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１１ｍＬに溶解させた溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、水素ガスの発生が収まるまで５０℃でさらに２時間攪拌した。２０℃まで冷却した後、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロシクロヘキシルメチルシラン（５．４３ｇ、１４．８８ｍｍｏｌ）をトルエン１１ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、室温で３時間攪拌を続けた。１０％の炭酸水素ナトリウム水溶液２７ｍＬと１０％の炭酸ナトリウム水溶液２７ｍＬを０℃に冷却した混合溶液へ得られた反応溶液を滴下して反応を停止させ、トルエン２７ｍＬを加えて分液した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧濃縮することにより、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシランを得た（収率９３％）。得られた（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシランはさらに精製することなしに、次の反応に利用した。
1H-NMR(CDCl3，major  isomer)：0.37(s，3H，SiMe)，1.11-1.41(m，5H，SiCy)， 1.40 (s，9H，t-Bu)，1.58-2.02(m，6H，SiCy)，1.62(s，3H，C5Me4)，1.67(s，3H，C5Me4)，1.79(s，3H，C5Me4)，1.92(s，3H，C5Me4)，2.32(s，3H，ArMe)，3.40(s，1H，C5Me4H)，4.41(dt，J=3.1，2.0Hz，2H，OCH2CH=CH2)，5.32(dq，J=10.7，1.8Hz，1H，OCH2CH=CH2)，5.57(dq，J=17.1，1.8Hz，1H，OCH2CH=CH2)，6.09(ddt，J=17.1，10.7，4.4Hz，1H，OCH2CH=CH2)，7.06(d，J=1.6Hz，1H，ArH)，7.20(d，J=1.6Hz，1H，ArH)
13C-NMR(CDCl3，major  isomer):-6.69(SiMe)，-2.33(SiCH)，11.03(CpMe)，11.16(CpMe)，14.10(CpMe)，14.20(CpMe)，21.13(ArMe)，26.84(SiCy)，27.91(SiCy)，29.33(SiCy)，31.20(ArCMe3)，35.09(ArCMe3)，52.74，76.63(OCH2)，116.34，129.53，130.41，130.92，131.27，132.69，133.88，134.06，134.92，135.87，141.98，161.13
EI-MS：m/z450(M+)，367，245，191，162，147
EI-HRMS：m/z  calcd  450.33179，found  450.32764
【００８３】
「錯体１の合成」
窒素下、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタ−２，４−ジエン−１−イル）シクロヘキシルメチルシラン（６．１７ｇ、１４．８９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６．７８ｇ、６６．９９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１０５ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６０Ｍヘキサン溶液（２０．９３ｍＬ、３３．４９ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２．５時間攪拌した。得られた混合物に、四塩化チタン（４．２４ｇ、２２．３３ｍｍｏｌ）をトルエン（２２ｍＬ）に溶解したものを滴下し、室温まで徐々に昇温させた。９０℃まで昇温させた後、同温度で２時間攪拌した。溶媒を減圧下で濃縮した後、ヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加えて沈殿した固体を濾過し、少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１（１．００ｇ、収率１４％）をオレンジ色固体として得た。
Mp：208-211℃(dec)
1H-NMR(CDCl3)：0.43(s，3H，SiMe)，1.08-1.42(m，6H，SiCy)，1.38(s，9H，t-Bu)，1.69-1.83(m，3H，SiCy)，1.85-2.02(m，2H，SiCy)，1.93(s，3H，C5Me4)，2.03(s，3H，C5Me4)，2.31(s，6H，C5Me4)，2.37(s，3H，ArMe)，7.13(d，J=2.0Hz，1H，ArH)，7.16(d，J=2.0Hz，1H，ArH)
13C-NMR(CDCl3)：-1.95(SiMe)，12.79(C5Me4)，13.61(C5Me4)，13.92(C5Me4)，16.18(C5Me4)，21.35(Ar-Me)，24.79(SiCy)，26.65(SiCy)，27.90(SiCy)，27.96(SiCy)，28.08(SiCy)，28.28(SiCy)，29.86(ArCMe3)，34.83(ArCMe3)，118.14，128.83，129.02，132.13，133.45，136.16，138.57，139.56，139.97，141.50，167.04
Anal  Calcd  for  C27H40Cl2OSiTi：C，61.48  H，7.64  Found  C，61.36  H，7.68
【００８４】
＜プロピレン重合＞
プロピレン重合体の性質は、下記の方法によって測定した。
【００８５】
（１）分子量及び分子量分布
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記の条件で測定した。分子量分布は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で評価した。
装置：送液装置（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製  Ｍｏｄｅｌ３０５（ポンプヘッド２５．ＳＣ）
カラム：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製  ＰＬｇｅｌ  Ｍｉｘｅｄ−Ｂ  １０μｍ（７．５ｍｍφ×３００ｍｍ）
測定温度：１６０℃
移動相：オルトジクロロベンゼン
試料濃度：共重合体１ｍｇ／１，２，４−トリクロロベンゼン１ｍＬ
流量：２ｍＬ／分
標準物質：（標準ＰＳ分子量）５，０００、１０，０５０、２８，５００、６５，５００、１８５，４００、４８３，０００、１，０１３，０００、３，３９０，０００
（２）プロピレン重合体中の２，１−挿入の割合
プロピレン重合体中の２，１−挿入の割合は、次の測定条件により、カーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）を測定した。
２，１−挿入の割合は公知文献記載の方法（Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９７７，１７８，７９１．、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  １９７９，１２，２４８．および、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  １９９２，２５，５２１．）に従い算出した。
＜測定条件＞
装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＤＰＸ−６００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：オルトジクロロベンゼンとオルトジクロロベンゼン−ｄ４の４：１（容積比）混合液
試料濃度：１０ｍｇ／０．５ｍＬ（ＣＤＣｌ３）
測定温度：室温（１３０℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＥＸＭＯＤ  ｚｇｉｇ、ＯＢＮＵＣ  １３Ｃ、積算回数４０９６回
内部標準：オルトジクロロベンゼン（１３２．４３ｐｐｍ）
＜算出式＞
Ｔββ （２８．１ｐｐｍ〜２９．０ｐｐｍ）のシグナル積分積算値
Ｔβγ （３１．２ｐｐｍ）のシグナル積分積算値
Ｔαβ （３５．７ｐｐｍ）のシグナル積分積算値
Ｔαγ （３８．７ｐｐｍ）のシグナル積分積算値
２，１−挿入の割合（％）＝Ｔβγ ／（Ｔββ ＋Ｔβγ ＋Ｔαβ ＋Ｔαγ ）
×１００
【００８６】
［実験例２］
＜プロピレン重合体の製造＞
窒素で置換した３００ｍｌのオートクレーブ中に脱水トルエン１４５ｍｌを投入した。４０℃まで昇温後、プロピレンを０．２ＭＰａ仕込んだ。トリイソブチルアルミニウムの０．０６Ｍトルエン溶液［東ソー・ファインケム（株）製］１ｍＬ（６０μｍｏｌ）を仕込み、続いて、錯体１の０．０５ｍＭトルエン溶液１ｍＬ（０．０５μｍｏｌ）を投入した。次に、トリフェニルメタンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの０．５ｍＭトルエン溶液１ｍＬ（０．５μｍｏｌ）をオートクレーブに投入して重合を開始した。反応液を５分攪拌した後、メタノール５ｍＬを投入して重合を停止させた。反応液を、５％塩酸１ｍＬを加えたメタノール５００ｍＬに加えてポリマーを析出させた。ポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、一定重量になるまで真空下で８０℃２時間乾燥した。
【００８７】
［比較例１］
錯体１の代わりに、ジメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド（以下、「錯体２」という。）を用いた以外は実験例２と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【００８８】
［比較例２］
錯体１の代わりに、ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド（以下、「錯体３」という。）を用いた以外は実験例２と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【００８９】
［比較例３］
錯体１の代わりに、シクロテトラメチレンシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド（以下、「錯体４」という。）を用いた以外は実験例２と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【００９０】
［比較例４］
錯体１の代わりに、エチルメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド（以下、「錯体５」という。）を用いた以外は実験例２と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【００９１】
［比較例５］
錯体１の代わりに、メチルフェニルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロリド（以下、「錯体６」という。）を用いた以外は実験例２と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【００９２】
以下の表１に、実験例２及び比較例１〜５でそれぞれ得られたポリマーの分子量、１３Ｃ−ＮＭＲ結果及びそれから求めた２，１−挿入の割合の結果をまとめて示す。
【００９３】
【表１】
2011079761.tif 000007
【００９４】
前記表１に示す結果において、重合活性は以下のようにして求めた。
重合活性：
前記実験例及び比較例において、用いた遷移金属錯体の量及び重合時間から、重合時間１時間における該遷移金属錯体１ｍｍｏｌあたりのポリマー製造量（ｋｇ）を算出した。したがって、この重合活性の単位はｋｇ／ｍｍｏｌ−ｃａｔ・ｈ（「ｍｍｏｌ−ｃａｔ」は遷移金属錯体１ｍｍｏｌあたりの意味である）となる。
分子量：重量平均分子量Ｍｗ×１０−３
２，１−％：２，１−挿入の割合（％）
【００９５】
なお、表１中の「ｍｍ」、「ｍｒ」及び「ｒｒ」はポリマー（プロピレン重合体）の立体規則性に係わるものである。ポリマーの立体規則性は、ポリマー鎖の局所的連鎖の立体配置により標記される。モノマー単位の連鎖（２連子、ｄｉａｄ）において立体配置が同じものをメソ（ｍｅｓｏ）、逆のものをラセモ（ｒａｃｅｍｏ）と称し、それぞれｍ及びｒで表される。「ｍｍ」、「ｍｒ」、「ｒｒ」は３つのモノマー単位で構成される連鎖（３連子、ｔｒｉａｄ）を表し、アイソタクティシティは「ｍｍ」である割合で表され、シンジオタクティシティは「ｒｒ」である割合で表される。
【００９６】
＜エチレン／１−ヘキセン共重合＞
エチレン／１−ヘキセン共重合体の性質は、下記の方法によって測定した。
【００９７】
（１）分子量及び分子量分布
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記の条件で測定した。分子量分布は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で評価した。
装置：送液装置（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製  Ｍｏｄｅｌ３０５（ポンプヘッド２５．ＳＣ）
カラム：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製  ＰＬｇｅｌ  Ｍｉｘｅｄ−Ｂ  １０μｍ（７．５ｍｍφ×３００ｍｍ）
測定温度：１６０℃
移動相：オルトジクロロベンゼン
試料濃度：共重合体１ｍｇ／１，２，４−トリクロロベンゼン１ｍＬ
流量：２ｍＬ／分
標準物質：（標準ＰＳ分子量）５，０００、１０，０５０、２８，５００、６５，５００、１８５，４００、４８３，０００、１，０１３，０００、３，３９０，０００
【００９８】
（２）エチレン／１−ヘキセン共重合体中の１−ヘキセン単位含有量
エチレン／１−ヘキセン共重合体中のビニルシクロヘキサン単位含有量は、次の測定条件により、プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）およびカーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）を測定した。
１−ヘキセン単位含有量は公知文献記載の方法（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｐｈｙｓ．Ｅｄ．１９７３，１１，２７５）に従い算出した。
＜測定条件＞
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０
試料セル：１０ｍｍφチューブ
測定溶媒：オルトジクロロベンゼンとオルトジクロロベンゼン−ｄ４の４：１（容積比）混合液
試料濃度：１０ｍｇ／３ｍＬ
測定温度：室温（１３５℃）
（２−１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）
測定パラメータ：１０ｍｍφプローブ、ＭＥＮＵＦ  ＮＯＮ、ＯＢＮＵＣ  1Ｈ、積算回数１０００回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ＋ＰＤ  ７秒
内部標準：オルトジクロロベンゼンの３，６−位ピーク（７．４０ｐｐｍ）
（２−２）カーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）
測定パラメータ：１０ｍｍφプローブ、ＭＥＮＵＦ  ＢＣＭ、ＯＢＮＵＣ  1３Ｃ、積算回数３００００回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ＋ＰＤ  ３秒
内部標準：オルトジクロロベンゼンの４，５−位ピーク（１２７．６８ｐｐｍ）
【００９９】
［実験例３］
＜エチレン／１−ヘキセン共重合体の製造＞
窒素で置換した３００ｍｌのオートクレーブ中に１−ヘキセン１．５ｍＬ、脱水トルエン１４４ｍｌを投入した。７０℃まで昇温後、エチレンを０．６ＭＰａ仕込んだ。トリイソブチルアルミニウムの０．０６Ｍトルエン溶液［東ソー・ファインケム（株）製］１ｍＬ（６０μｍｏｌ）を仕込み、つづいて錯体１の０．０２ｍＭトルエン溶液１ｍＬ（０．０２μｍｏｌ）を投入した。次に、トリフェニルメタンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの０．１ｍＭトルエン溶液１ｍＬ（０．１μｍｏｌ）をオートクレーブに投入して重合を開始した。反応液を２分攪拌した後、メタノール５ｍＬで重合を停止した。反応液を、５％塩酸１ｍＬを加えたメタノール５００ｍＬに加えてポリマーを析出させた。ポリマーをろ過してメタノールで洗浄した後、一定重量になるまで真空下で、８０℃２時間乾燥した。
【０１００】
［比較例６］
錯体１の代わりに、錯体２を用いた以外は実験例３と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【０１０１】
［比較例７］
錯体１の代わりに、錯体３を用いた以外は実験例３と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【０１０２】
［比較例８］
錯体１の代わりに、錯体４を用いた以外は実験例３と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【０１０３】
［比較例９］
錯体１の代わりに、錯体５を用いた以外は実験例３と同様に重合を行い、ポリマーを得た。
【０１０４】
以下の表２に実験例３および比較例６〜９で得られた結果を記載する。
【０１０５】
【表２】
2011079761.tif 000008
【０１０６】
前記表２に示す結果において、重合活性は以下のようにして求めた。
重合活性：
前記実施例および比較例において、用いた遷移金属錯体の量および重合時間から、重合時間１時間における該遷移金属錯体１ｍｍｏｌあたりのポリマー製造量（ｋｇ）を算出した。したがって、この重合活性の単位はｋｇ／ｍｍｏｌ−ｃａｔ・ｈ（「ｍｍｏｌ−ｃａｔ」は遷移金属錯体１ｍｍｏｌあたりの意味である）となる。
分子量：
重量平均分子量Ｍｗ×１０−３
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明の遷移金属錯体は、これをオレフィン重合用触媒に用いた場合、耐衝撃性及び剛性といった特性に優れた高分子量オレフィン重合体を製造することができる。