(57)【要約】【課題】防液性能を高め、装置内部の部品を保護できるミスト発生装置及び美容装置を提供すること。【解決手段】ミストノズル（ノズルカバー）と上ハウジング１３（ベース部材１６）との隙間から浸入する水を受容容器６５により受容し、美容器の装置内部に水が浸入することを抑制するようにした。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を貯留可能な貯留タンクと、供給された液体をミスト化するミスト発生機構と、前記ミストを放出するミスト放出機構を備えたミスト発生装置において、
前記ミスト発生装置の装置内部に液体が浸入することを抑制する抑制手段を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
前記ミスト発生装置を覆うケース部材をさらに備え、
前記抑制手段は、前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しようとする液体を受容可能に構成されているとともに、前記受容した液体が前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しないように前記ケース部材に密着されていることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。
【請求項３】
前記抑制手段は、前記受容した液体を前記ミスト発生装置の外部に排出可能に構成されていることを特徴とする請求項２に記載のミスト発生装置。
【請求項４】
前記貯留タンクに貯留された液体を前記ミスト発生機構に供給する給液機構と、前記給液機構内の液体を前記ミスト発生装置の外部に排出する排出口とをさらに備え、
前記抑制手段は、前記排出口に接続されていることにより前記受容した液体を前記ミスト発生装置の外部へ排出可能に構成されていることを特徴とする請求項３に記載のミスト発生装置。
【請求項５】
前記抑制手段は、前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しようとする液体を受容する受容容器であることを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項６】
前記受容容器は、前記受容した液体を排出するための排出部が設けられており、前記排出部は、前記液体をミスト発生機構に供給する給液機構内の液体を前記ミスト発生装置の外部に排出する排出口に接続されていることを特徴とする請求項５に記載のミスト発生装置。
【請求項７】
前記ミスト放出機構は、前記ミスト発生機構よりも上方に配設されるとともに前記ミストを放出するミスト放出口を有するミストノズルを備えており、
前記ミストノズルは、前記受容容器に収容されていることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のミスト発生装置。
【請求項８】
ミストを放出して肌表面の手入れを行う美容装置において、
請求項１〜請求項７のうち何れか一項に記載のミスト発生装置を備えたことを特徴とする美容装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト発生装置、及びミスト発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置は、液体をヒータにて沸騰させたり超音波にて霧化させたりして発生させた温ミストを顔など人体に向けて放出することで、肌に潤いを与えるなどの美容効果や肌ケアを目的とした装置として用いられている。このようなミスト発生装置において、本体内部のヒータで発生させた温ミストを使用者の使用に適した位置（部位）から放出することが提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
特許文献１のミスト発生装置では、液体を加熱して温ミストを生成するとともに、発生させた温ミストをミスト経路によって上方へ誘導し、装置本体の上部に設けられたミストノズルのミスト放出口から使用者に向けて放出するようになっている。このため、特許文献１では、温ミストが使用者に到達し易く、美容効果や肌ケアの効果を高めることができるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６００５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のミスト発生装置において、ミストノズルと装置本体を覆う本体ケースの間には、僅かな隙間が形成されている。このため、特許文献１のミスト発生装置では、ミストノズルの周辺で結露した液体が装置内部に浸入するとともに、装置内部の部品に付着する可能性があった。
【０００６】
この発明は、上記従来技術に存在する課題を解決するためになされたものであって、その目的は、防液性能を高め、装置内部の部品を保護できるミスト発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、第１の発明は、液体を貯留可能な貯留タンクと、供給された液体をミスト化するミスト発生機構と、前記ミストを放出するミスト放出機構を備えたミスト発生装置において、前記ミスト発生装置の装置内部に液体が浸入することを抑制する抑制手段を備えたことを特徴としている。
【０００８】
第２の発明は、第１の発明において、前記ミスト発生装置を覆うケース部材をさらに備え、前記抑制手段は、前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しようとする液体を受容可能に構成されているとともに、前記受容した液体が前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しないように前記ケース部材に密着されていることを特徴としている。
【０００９】
第３の発明は、第２の発明において、前記抑制手段は、前記受容した液体を前記ミスト発生装置の外部に排出可能に構成されていることを特徴としている。
第４の発明は、第３の発明において、前記貯留タンクに貯留された液体を前記ミスト発生機構に供給する給液機構と、前記給液機構内の液体を前記ミスト発生装置の外部に排出する排出口とをさらに備え、前記抑制手段は、前記排出口に接続されていることにより前記受容した液体を前記ミスト発生装置の外部へ排出可能に構成されていることを特徴としている。
【００１０】
第５の発明は、第１〜第４の発明のうち何れか１つの発明において、前記抑制手段は、前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しようとする液体を受容する受容容器であることを特徴としている。
【００１１】
第６の発明は、第５の発明において、前記受容容器は、前記受容した液体を排出するための排出部が設けられており、前記排出部は、前記液体をミスト発生機構に供給する給液機構内の液体を前記ミスト発生装置の外部に排出する排出口に接続されていることを特徴としている。
【００１２】
第７の発明は、第５又は第６の発明において、前記ミスト放出機構は、前記ミスト発生機構よりも上方に配設されるとともに前記ミストを放出するミスト放出口を有するミストノズルを備えており、前記ミストノズルは、前記受容容器に収容されていることを特徴としている。
【００１３】
第８の発明は、ミストを放出して肌表面の手入れを行う美容装置において、第１〜第７の発明のミスト発生装置のうち何れか１つのミスト発生装置を備えたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、防液性能を高め、装置内部の部品を保護できるミスト発生装置及び美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】（ａ）、（ｂ）は、美容器を示す斜視図。
【図２】図１（ｂ）に示すＡ−Ａ線部分断面図。
【図３】美容器の配管構成を示す模式図。
【図４】図６（ａ）に示すＢ−Ｂ線部分断面図。
【図５】図６（ｂ）に示すＣ−Ｃ線部分断面図。
【図６】（ａ）は、本体ケースの側壁部の図示を省略した美容器本体の背面図、（ｂ）は、（ａ）の左側面図。
【図７】変形例における受容容器を示す模式図。
【図８】（ａ）及び（ｂ）は、変形例における受容容器を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を美容器に具体化した実施形態を図面に従って説明する。なお、以下の説明において、「前（手前）」「後」「上」「下」「左」「右」は、美容器の使用者が、美容器を使用する際に美容器に向いた状態を基準とした場合の「前（手前）」「後」「上」「下」「左」「右」を示すものとする。
【００１７】
図１は、本実施形態のミスト発生装置を備える美容装置としての美容器１０を示す。図１に示すように、有底略円筒状の本体ケース１１には美容器本体１２が収容されて固定されている。美容器本体１２において、上ハウジング１３の上面１３ａの前側中央部には、上方に開口する開口部１３ｂが形成されている。本実施形態では、本体ケース１１及び上ハウジング１３がケース部材を構成する。上ハウジング１３には、この開口部１３ｂと整合させて凹部１５を形成するベース部材１６が組み付けられている。
【００１８】
ベース部材１６には、美容器本体１２に対し所定角度（例えば、２５〜５５°）で矢印Ｙａ方向（上下方向）に回動可能となるように支持軸１７を介して、温ミストを放出（噴射）するミストノズル２０が取着されている。ミストノズル２０は、温ミストを放出するミスト放出口２１の周りを覆うように形成されたノズルカバー２２が一体形成されて構成されている。本実施形態では、ミストノズル２０を上下方向に回動させることで、ミスト放出口２１から放出される温ミストの放出方向を上下方向に調整可能となっている。
【００１９】
ノズルカバー２２においてミスト放出口２１の下方には、ノズルカバー２２の外面の法線方向に延びるように、端面視略Ｕ字状のミストガイド２３が立設されている。ミストガイド２３は、ミスト放出口２１の下方及び左右側方を囲うように形成されており、左右方向及び下方向から使用者の手指がミストノズル２０に接近することを防止するようになっている。ミストガイド２３の基端部であってミスト放出口２１の下方に対応する位置には、ミストガイド２３を上下方向に貫通する逃がし孔２３ａが設けられている。なお、図２に示すように、ミストノズル２０は、ミストノズル２０（ミストガイド２３の下面）が、ベース部材１６に形成された規制部２５に当接することにより下方への回動が規制されている。
【００２０】
また、図１に示すように、ベース部材１６においてミストノズル２０の後方には、ミストノズル２０を保護するためのノズルガード２６が上下方向（矢印Ｙｂに示す）に回動可能に取着されている。ノズルガード２６は、ミストノズル２０を覆う閉位置（図１（ａ）に示す）と、ノズルガード２６の開位置（図１（ｂ）に示す）との間で上下方向に回動可能に構成されている。
【００２１】
図１及び図２に示すように、ノズルガード２６は、略半円形の平板状に形成されているとともに、左右の両基端部２６ａが、ベース部材１６に対して回転可能に支持された回転軸Ｚ（図２に示す）に固定されている。ノズルガード２６の下面の略中央には、この下面から下方へ向かって平面視略Ｕ字状の前方リブ２６ｂが垂下されている。この前方リブ２６ｂは、ノズルガード２６を閉位置（閉じた状態）とした場合に、ミストガイド２３の内側であってミストノズル２０（ミスト放出口２１）の前方を覆うように配設されている。また、ノズルガード２６の下面において、前方リブ２６ｂの左右側方には、この下面から下方へ向かって、前後方向に延びる一対の側方リブ２６ｃが垂下されている。この側方リブ２６ｃは、ノズルガード２６を閉じた状態とした場合にミストガイド２３の左右側方を覆うように配設されている。すなわち、ノズルガード２６が閉位置に位置している状態において、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）は、前方が前方リブ２６ｂに覆われるとともに、左右側方が側方リブ２６ｃ及びミストガイド２３によって覆われるようになっている。このため、本実施形態では、ノズルガード２６を閉位置とした場合に、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から放出される温ミストが前方及び側方に放出されないようになっている。
【００２２】
また、ノズルガード２６の下面には、前方リブ２６ｂから後方へ延びる凹状に形成された排気通路２６ｄが形成されている。排気通路２６ｄにおいてノズルガード２６の基端部側には、ノズルガード２６の下面と上面とを連通する排気口２６ｅが形成されている。すなわち、本実施形態において排気口２６ｅは、ノズルガード２６において使用者から最も距離をおいたノズルガード２６の後方に形成されている。本実施形態では、ノズルガード２６を閉位置とした場合に各リブ２６ｂ，２６ｃによって遮られた温ミストが排気通路２６ｄを通過して排気口２６ｅから上方に向かって排出されるようになっている。
【００２３】
図２に示すように、ノズルガード２６は、平板状の部材の中心線が所定の角度（屈曲角度Ｄ）で交差するように一体形成されたリンク部材３０によってミストノズル２０と連結されている。リンク部材の屈曲角度Ｄは鈍角（本実施形態では１３２°）に設定されている。リンク部材３０は、回転軸Ｚに固定されてノズルガード２６と一体に回動する第１リンク基台３１、及びミストノズル２０に形成された第２リンク基台３２に対してそれぞれ回動可能に組み付けられている。
【００２４】
このような構成により、図２に示す第２の可動範囲Ｈ２において、ミストノズル２０は、ノズルガード２６が回動操作された場合であっても、ミストノズル２０（ミストガイド２３の下面）が規制部２５に接触した状態を維持するようになっている。すなわち、ノズルガード２６は、第２の可動範囲Ｈ２において、ミストノズル２０から独立して動作可能に構成されている。
【００２５】
一方、図２に示す第１の可動範囲Ｈ１において、ミストノズル２０（ノズルカバ−２２）は、ノズルガード２６の回動動作に連動して中心軸線Ｘ（支持軸１７）を回動中心として上下方向に回動する。このため、第１の可動範囲Ｈ１では、ノズルガード２６を回動操作することで、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）からの温ミストの放出方向を調整することができるようになっている。なお、第１の可動範囲Ｈ１において、ノズルガード２６は、図示しない付勢手段によって、外力を付与しなくても回動位置を維持（保持）できるように構成されており、調整したミストノズル２０の回動位置（温ミストの放出方向）を維持（保持）可能となっている。また、第１の可動範囲Ｈ１において、ノズルガード２６は、このノズルガード２６がミストノズル２０の上方に配置され、且つこのノズルガード２６によって温ミストの放出が遮られない位置を維持するようになっている。このように、本実施形態のノズルガード２６は、美容器１０の不使用時においてミストノズル２０（ミスト放出口２１）を覆う蓋部材としての機能を有する。また、ノズルガード２６は、美容器１０の使用時において使用者の手指がミストノズル２０（ミスト放出口２１）に接近することを規制し、使用者を保護する保護具としての機能を有する。
【００２６】
また、図１に示すように、ノズルガード２６の後側には、ミストノズル２０から放出する温ミストを発生するのに使用される液体（本実施形態では、水）を、所定量（本実施形態では、約１００ｍｌ）貯蔵する貯留タンクとしての給水タンク３３が、美容器本体１２に収容された状態で設置されている。給水タンク３３は、美容器本体１２に対し上下（垂直）方向に挿入及び取り出し可能に収納されている。
【００２７】
上ハウジング１３の上面１３ａにおいて、ミストノズル２０（ノズルガード２６）の左前方には、美容器１０の電源をオン及びオフする際に操作される電源ボタン３５が設けられている。また、上ハウジング１３の上面１３ａにおいて、ミストノズル２０の右前方には、複数種類用意された美容器１０の運転モードのうちから１つの運転モードを選択する際に操作されるモード切替ボタン３６が設けられている。また、上ハウジング１３の上面１３ａには、モード切替ボタン３６と前後方向に並ぶように、モード切替ボタン３６の操作によって選択された運転モードで美容器１０の運転開始させる際、及び運転停止をする際に操作される運転制御ボタン３７が設けられている。
【００２８】
美容器１０（本体ケース１１）の前面側において、上下方向の略中央には、静電霧化装置３８ａ（点線で示す）により液体を霧化させて発生させた帯電微粒子ミスト（帯電微粒子液体）を放出するための帯電微粒子ミスト放出口３８が設けられている。
【００２９】
次に、本実施形態の美容器本体１２（美容器１０）の配管構成（内部構造）について、図３にしたがって説明する。なお、図３に示す水面Ｗは、略一定に保たれるようになっている。
【００３０】
美容器本体１２には、美容器本体１２（上ハウジング１３）の上面１３ａに開口し、給水タンク３３を収納可能なタンクホルダ３３ａが設けられている。タンクホルダ３３ａには、空気抜き孔３３ｂが開口形成されている。また、タンクホルダ３３ａには、オーバーフロー孔３３ｃが設けられており、タンクホルダ３３ａ内の水位がオーバーフロー孔３３ｃの形成位置まで上昇した際に、タンクホルダ３３ａ内の水をタンクホルダ３３ａの外部に排出するようになっている。また、タンクホルダ３３ａの下端には、耐熱性を備えた弾性材料（例えば、シリコンゴムやフッ素ゴム）で形成された給水パイプＰ１の上流端が接続されているとともに、この給水パイプＰ１の下流端は、上下方向に延びる有底略円筒状に形成された貯留部４３の下端部に接続されている。給水パイプＰ１は、給水タンク３３から水を貯留部４３に供給する給水経路Ｋ１を形成している。また、給水パイプＰ１は、途中で分岐されるとともに、空気抜き孔３３ｂに接続されている。このため、本実施形態では、給水パイプＰ１内の空気（気泡）が空気抜き孔３３ｂを介してタンクホルダ３３ａに排出されるようになっている。
【００３１】
貯留部４３の底部には、貯留部４３の底部を２つの領域（空間）に区画するように、貯留部４３の内側底部から上方に延びる板状の仕切り壁４７が形成されている。そして、給水パイプＰ１は、貯留部４３の底部において、仕切り壁４７で区画された一方の底部に接続されている。また、貯留部４３の底部において、仕切り壁４７で区画された他方の底部は、供給された水を温ミストヒータ４２で加熱するための沸騰室４２ａの下端部と連通部４８により連通されている。連通部４８は、貯留部４３から沸騰室４２ａへ水を供給する給水経路Ｋ２を形成している。このため、本実施形態において、給水パイプＰ１を介して供給された比較的低温の水は、下端部から貯留部４３内に供給された後に仕切り壁４７に沿って上方へ移動し、貯留部４３内に貯留されている水と混合される。そして、本実施形態では、新たに供給された比較的低温の水と、既に貯留部４３内に貯留されている水とを混合した水が沸騰室４２ａに供給されるようになっている（矢印Ｙｄ，Ｙｅに示す）。
【００３２】
沸騰室４２ａは、上下方向に沿って立設された温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂに沿って上下方向に延びる薄平板状に形成されている。温ミストヒータ４２は、例えばＰＴＣ（positive temperature coefficient）素子からなる。連通部４８を介して沸騰室４２ａに供給された水は、沸騰室４２ａ内で温ミストヒータ４２により加熱され、温ミスト化されるようになっている。また温ミストヒータ４２には、温度センサＳＥが設けられている。
【００３３】
沸騰室４２ａの上端部の側方には、扁平な有底略円筒状に形成された下部温ミスト誘導部４６が連設されている。本実施形態では、下部温ミスト誘導部４６が下部温ミスト経路Ｍ１を形成している。下部温ミスト誘導部４６は、沸騰室４２ａで生成された水蒸気（温ミスト）を一時的に収容するとともに、ミストノズル２０が配設された上方へ誘導するようになっている（矢印Ｙｆで示す）。また、下部温ミスト誘導部４６の底面には、この下部温ミスト誘導部４６の底面に開口するように、前述した貯留部４３が連設されている。このため、本実施形態では、下部温ミスト誘導部４６の内部で結露により生じた水や、沸騰室４２ａで沸騰することに伴って飛散した水など、比較的高温（約８０〜１００℃）の水が下部温ミスト誘導部４６を介して貯留部４３へ還流されるようになっている（矢印Ｙｇで示す）。すなわち、温ミストの発生中（温ミストヒータ４２による加熱中）には、給水タンク３３、タンクホルダ３３ａ、及び給水パイプＰ１内の水と比較して、高温の水が貯留部４３に常時供給されることになる。このため、貯留部４３に貯留されている水は、給水タンク３３から新たに供給される水と比較して高温となる。このため、本実施形態では、沸騰室４２ａに対し予備的に加熱した温水を供給可能とし、給水パイプＰ１から供給される比較的低温（室温）の水を沸騰室４２ａに直接供給する場合と比較して、温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂの温度低下を抑制し、温ミストの発生量が低下することを抑制できる。このように、本実施形態では、貯留部４３が還流路としても機能する。
【００３４】
また、本実施形態では、貯留部４３（還流路）及び沸騰室４２ａが平行に配置される一方で、連通部４８（給水経路Ｋ２）及び下部温ミスト誘導部４６（下部温ミスト経路Ｍ１）が平行に配置されている。すなわち、貯留部４３、連通部４８（給水経路Ｋ２）、沸騰室４２ａ、及び下部温ミスト誘導部４６（下部温ミスト経路Ｍ１）により、四角環状の管路が形成されている。
【００３５】
下部温ミスト誘導部４６の上端部には、下部温ミスト誘導部４６を通過した温ミストをさらに上方（ミストノズル２０）へ誘導するとともに、高圧放電により温ミストを微細化（イオン化）する放電部５０を備えた上部温ミスト誘導部５１が連設されている。上部温ミスト誘導部５１の下部（下部温ミスト誘導部４６の上部）には、上部温ミスト誘導部５１の底部を形成するとともに、下部温ミスト誘導部４６の底部と上部温ミスト誘導部５１の底部との間で段差（段違い構造）を形成する防止壁５３が設けられている。防止壁５３は、沸騰室４２ａから飛散する比較的高温の水が下部温ミスト誘導部４６より上方（ミストノズル２０側）へ直接侵入することを阻止するようになっている。このため、本実施形態では、沸騰室４２ａから飛散した比較的高温の水がミストノズル２０より放出されることを抑制している。
【００３６】
上部温ミスト誘導部５１内において防止壁５３の上部には、放電部５０が設けられている。放電部５０は、高電圧が印加される一対の放電針５０ａと、各放電針５０ａの間に配設される中間電極部５０ｂとから構成されている。放電部５０では、各放電針５０ａからの高圧放電によって温ミストが微細化される。
【００３７】
上部温ミスト誘導部５１の上端には、耐熱性を備えた弾性材料（例えば、シリコンゴムやフッ素ゴム）からなり、蛇腹状に形成された蛇腹部材５５の上流端（下端）が連結固定されている。また、蛇腹部材５５の下流端（上端）は、略円筒状に形成されたノズルホルダ５６に連結固定されている。ノズルホルダ５６は、ミストノズル２０（ノズルカバー２２）の内側であってミスト放出口２１の周囲に固着された略円環状のノズルパッキン５７に連結固定されている。このため、本実施形態では、下部温ミスト誘導部４６を通過した温ミストは、上部温ミスト誘導部５１、蛇腹部材５５によってミストノズル２０（ミスト放出口２１）へ誘導される（矢印Ｙｈで示す）。本実施形態では、上部温ミスト誘導部５１、蛇腹部材５５によって、温ミストヒータ４２により発生させた温ミストをミスト放出口２１へ誘導する上部温ミスト経路Ｍ２が形成されている。
【００３８】
本実施形態では、タンクホルダ３３ａ、及び給水パイプＰ１が給液機構としての給水機構部６２を構成し、貯留部４３（還流路）、沸騰室４２ａ、温ミストヒータ４２、及び下部温ミスト誘導部４６がミスト発生機構としての加熱機構部６０を構成する。また、本実施形態では、上部温ミスト誘導部５１、蛇腹部材５５、及びミストノズル２０（ミスト放出口２１）がミスト放出機構としてのミスト放出機構部６１を構成している。
【００３９】
そして、本実施形態の美容器１０は、上ハウジング１３の内部に浸入する液体を受容するための受容容器６５を備えている。本実施形態では、本体ケース１１及び上ハウジング１３で区画形成される内部空間のうち、受容容器６５を除いた空間が美容器１０の装置内部となる。以下、本実施形態の受容容器６５について、図３〜図６にしたがって詳しく説明する。なお、図４及び図５では、上ハウジング１３、及びベース部材１６の一部が図示されている。
【００４０】
図３〜図５に示すように、耐熱性を有する材料からなる受容容器６５は、上面に開口するとともに、左右方向に延びる横長の有底略箱（トレー）状に形成されている。本実施形態の受容容器６５は、温ミストを上方（ミストノズル２０）へ誘導する上部温ミスト誘導部５１と一体に形成されている。より具体的に説明すると、受容容器６５は、上下方向に延びる略円筒状の上部温ミスト誘導部５１の上端開口部の周囲に連設されるとともに、受容容器６５の内側の底面６５ａには、上部温ミスト誘導部５１の内部（温ミスト経路Ｍ２）が開口されている。
【００４１】
受容容器６５の内側の底面６５ａにおいて、上部温ミスト誘導部５１の開口部には、略円環状に形成され蛇腹部材５５の上流端（下端）を接続可能に形成された接続部材６６が組み付けられている。接続部材６６は、Ｏリング６７を介して上部温ミスト誘導部５１の開口部に組み付けられており、接続部材６６と上部温ミスト誘導部５１の間から温ミストが漏れ出ないように構成されている。そして、接続部材６６には、蛇腹部材５５の上流端（下端）が接続されている。
【００４２】
また、接続部材６６には、蛇腹部材５５の左右側方に位置するように、上方に向かって一対の軸受け部６８が立設されている。各軸受け部６８には、左右方向に貫通する軸受け孔６８ａが形成されているとともに、各軸受け孔６８ａには、ミストノズル２０（ノズルカバー２２）の左右側面から外側へ向かって突出する支持軸１７が挿通されている。このため、本実施形態のミストノズル２０（ノズルカバー２２）は、支持軸１７の軸線回りで上下方向に回動可能に構成されている。また、ミストノズル２０（ノズルホルダ５６）と上部温ミスト誘導部５１（接続部材６６）とは、伸縮自在な蛇腹部材５５によって接続されており、ミストノズル２０の回動が妨げられないようになっている。このように、本実施形態では、ミストノズル２０が受容容器６５内に収容されている。
【００４３】
また、受容容器６５の前後左右の側壁の各上端部６５ｂは、その全周に亘ってベース部材１６の下面１６ａに密着（シール）されている。このため、本実施形態では、受容容器６５の側壁の上端部６５ｂの全周に亘って、この側壁の上端部６５ｂとベース部材１６の下面１６ａとの間を液体やミストが通過できないように構成されている。また、ベース部材１６の周縁部の上面１６ｂは、その全周に亘って上ハウジング１３の下面１３ｃに密着（シール）されている。このため、本実施形態では、ベース部材１６の上面１６ｂと上ハウジング１３の下面１３ｃとの間を液体やミストが通過できないように構成されている。
【００４４】
なお、本実施形態において、ミストノズル２０（ノズルカバー２２）とベース部材１６との間には隙間Ｓが設けられており、ミストノズル２０とベース部材１６との摩擦によってミストノズル２０の回動動作が妨げられないようになっている。また、受容容器６５の底部の左右両側には、左右両壁から内側（中央側）へ向かって下方に傾斜する傾斜部７０が形成されている。また、受容容器６５の底部であって傾斜部７０よりも下方には、受容容器６５内の水を排出するための排出部７１が開口形成されている。
【００４５】
図６に示すように、受容容器６５の排出部７１は、パイプ（配管）同士を連結するための連結部７２と第１排水パイプＰ２で接続されている。また、連結部７２には、美容器１０から水を外部に排出するための排出口７３が連設されている。このため、本実施形態では、受容容器６５内の水を、第１排水パイプＰ２を介して排出口７３から美容器１０の外部へ排出可能に構成されている。
【００４６】
また、前述したタンクホルダ３３ａのオーバーフロー孔３３ｃは、第２排水パイプＰ３で連結部７２に接続されている。このため、本実施形態では、タンクホルダ３３ａ内の水を、第２排水パイプＰ３を介して排出口７３から美容器１０の外部へ排出可能に構成されている。なお、本実施形態の美容器１０では、美容器１０を後方に傾斜させることで給水パイプＰ１、貯留部４３、及び沸騰室４２ａに貯留されている水を、オーバーフロー孔３３ｃを介して美容器１０の外部に排出することができるようになっている。
【００４７】
次に、本実施形態の美容器１０の電気的構成について説明する。
図１及び図６（ａ）に示すように、美容器本体１２には、美容器１０の動作を制御するための制御基板５８が設けられている。制御基板５８には、温ミストヒータ４２、静電霧化装置３８ａ、及び放電部５０が電気的に接続されている。また、制御基板５８には、電源ボタン３５、モード切替ボタン３６、及び運転制御ボタン３７が電気的に接続されている。また、制御基板５８には、温度センサＳＥが接続されている。
【００４８】
本実施形態の制御基板５８は、電源ボタン３５の押下操作によって電源投入がされると、初期運転モードとして帯電微粒子ミスト放出口３８から帯電微粒子ミストを放出させる「帯電微粒子モード」を初期設定する。また、制御基板５８は、モード切替ボタン３６が押下操作された際に出力する操作信号を入力する毎に、「帯電微粒子モード」と、温ミストをミストノズル２０（ミスト放出口２１）から放出させる「温ミストモード」とを切り替えて設定する。
【００４９】
制御基板５８は、帯電微粒子モードを設定している場合、運転制御ボタン３７が押下操作された際に出力する操作信号を入力すると、静電霧化装置３８ａを制御して帯電微粒子ミストを生成し、帯電微粒子ミスト放出口３８から放出させる。また、本実施形態の制御基板５８は、「温ミストモード」を設定している場合、運転制御ボタン３７から操作信号を入力すると、温ミストヒータ４２及び放電部５０に通電を開始して温ミストを生成するとともに、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から温ミストを放出させる。なお、制御基板５８は、温度センサＳＥで計測した温ミストヒータ４２の表面温度が所定温度（例えば１２８℃）に達した場合、温ミストヒータ４２への通電を停止して空焚きを防止するようになっている。
【００５０】
次に、本実施形態の美容器１０の作用効果について説明する。
図４に示すように、使用者が運転制御ボタン３７を押下操作して温ミストの発生を停止させるとともに、ノズルガード２６を閉位置に回動させたとする。この場合には、沸騰室４２ａに残存する水が温ミストヒータ４２の余熱によって加熱されることに伴って若干の温ミストが生成されるとともに、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から放出されることがある。前述のように、ノズルガード２６が閉位置に位置している状態において、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）は、前方が前方リブ２６ｂに覆われるとともに、左右側方が側方リブ２６ｃ及びミストガイド２３によって覆われるようになっている。このため、ノズルガード２６が閉位置に位置している状態において、ミストノズル２０から放出された温ミストは、前方及び左右側方への進行が遮られるとともに、ミストノズル２０の後方（排気通路２６ｄ）へ向かって誘導される（矢印Ｙｉに示す）。そして、温ミストは、排気通路２６ｄを通過して排気口２６ｅから上方に向かって排出されるようになっている（矢印Ｙｊに示す）。この際、ミストガイド２３、前方リブ２６ｂ、及び排気通路２６ｄ内では、温ミストの温度低下に伴って結露が生じ易くなる。また、ノズルガード２６を開位置に回動させた状態とし、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から温ミストを放出している場合であっても、ミストガイド２３が温ミストと比較して低温であるため、このミストガイド２３の上面に結露が生じる可能性がある。
【００５１】
本実施形態において、このような結露により生じた水（以下、単に「結露水」と示す場合がある）は、下方に向かって流下するとともに、ベース部材１６とミストノズル２０（ノズルカバー２２）との隙間Ｓから受容容器６５内へ流下される。このとき、ミストガイド２３の上面に流下した結露水、及びミストガイド２３の上面で生じた結露水は、逃がし孔２３ａを通って受容容器６５へ向けて流下される。このため、本実施形態では、ミストガイド２３上に結露水が滞留することを抑制している。また、ノズルガード２６が閉位置に位置することで、温ミストそのものが隙間Ｓから受容容器６５内に流入すると共に、この受容容器６５内で結露することも考えられる。
【００５２】
受容容器６５に流入した結露水、及び受容容器６５内で生じた結露水は、傾斜部７０によって中央部に集合されるとともに、排出部７１から第１排水パイプＰ２を介して排出口７３から美容器１０の外部へ排出されるようになっている。
【００５３】
本実施形態の美容器１０では、上ハウジング１３の上面１３ａに露出するようにミストノズル２０を配設することで、温ミストが使用者に到達しやすくなり、美容効果や肌ケアの効果を高めることができる。その反面、本実施形態の美容器１０では、ミストノズル２０の周囲で結露した水がベース部材１６とミストノズル２０との隙間Ｓから美容器１０の内部に浸入してしまう可能性がある。図６に示すように、美容器本体１２においてミストノズル２０（ミスト放出口２１）の下方には、放電部５０、加熱機構部６０、制御基板５８など、多数の電子部品が配設されているため、水の浸入を抑制して美容器１０の内部を低湿に保つことが好ましいといえる。本実施形態では、受容容器６５を設けるとともに、この受容容器６５の側壁の各上端部６５ｂの全周に亘って上ハウジング１３の下面１３ｃ（ベース部材１６の下面１６ａ）と密着（シール）させている。このため、本実施形態では、美容器１０（美容器本体１２）の装置内部に結露水や温ミストが浸入することを抑制し、放電部５０、加熱機構部６０、制御基板５８などの電子部品を保護している。
【００５４】
したがって、本実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
（１）美容器１０の内部に水（結露水及び温ミスト）が浸入することを抑制する受容容器６５を設けた。このため、上ハウジング１３（ベース部材１６）とミストノズル２０との隙間Ｓから、水が美容器１０の内部に浸入することを抑制できる。したがって、防液性能を高め、美容器１０の装置内部の部品を保護することができる。
【００５５】
（２）受容容器６５は、隙間Ｓから進入する水を受容可能であるとともに、ベース部材１６を介して上ハウジング１３の下面１３ｂ密着されている。したがって、美容器１０の装置内部に水が浸入することを抑制できる。
【００５６】
（３）受容容器６５内の水を排出口７３から美容器１０の外部に排出可能に構成した。このため、受容容器６５で受容した水が滞留することを抑制し、受容容器６５の内部及びミストノズル２０（ミスト放出口２１）の周辺を衛生に保つことができる。
【００５７】
（４）排出口７３に連設された連結部７２には、第１排水パイプＰ２、及び第２排水パイプＰ３を接続した。このため、美容器１０の給水機構部６２（タンクホルダ３３ａ、及び給水パイプＰ１）内の水を美容器１０の外部に排出するための排出口と、受容容器６５内の水を排出するための排出口とを兼用構成とし、それぞれ別個の排出口を設ける場合と比較して構成を簡略化することができる。
【００５８】
（５）受容容器６５は、隙間Ｓから浸入する水を受容する容器として構成した。このため、ベース部材１６とミストノズル２０（ノズルカバー２２）との隙間Ｓから浸入（流下）する水を受容（貯留）し、より確実に水が美容器１０の装置内部に浸入することを抑制できる。
【００５９】
（６）受容容器６５に排出部７１を設け、この排出部７１から第１排水パイプＰ２を介して排出口７３から水を排出可能に構成した。このため、受容容器６５内の水を、簡略な構成により美容器１０の外部へ排出することができる。
【００６０】
（７）ミスト放出口２１を備えたミストノズル２０は、加熱機構部６０よりも上方に配設されているとともに、受容容器６５に収容されている。このため、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）の周囲で結露した水をより確実に受容容器６５で受容し、美容器１０の装置内部に水が浸入することを抑制できる。
【００６１】
（８）ベース部材１６とミストノズル２０（ノズルカバー２２）との間に隙間Ｓを形成した。このため、ベース部材１６とミストノズル２０との摩擦によってミストノズル２０（ノズルガード２６）の回動操作に要する力が大きくなることを抑制し、スムーズに操作できる。
【００６２】
（９）受容容器６５の内側の底面６５ａに接続部材６６を介して蛇腹部材５５を接続した。また、接続部材６６に形成した軸受け部６８によってミストノズル２０（ノズルカバー２２）を回動可能に支持するようにした。このため、ミストノズル２０（ノズルカバー２２）、ミストノズル２０を支持するための機構、及び温ミストをミストノズル２０へ誘導するための蛇腹部材５５を全て受容容器６５内に収容できる。このため、結露の生じ易い部位を、受容容器６５によって美容器１０の装置内部から隔離し、美容器１０の装置内部に水が浸入することをより確実に抑制できる。
【００６３】
（１０）上部温ミスト誘導部５１と受容容器６５を一体に形成した。このため、上部温ミスト誘導部５１と受容容器６５とを別個に設ける場合と比較して組み付け作業を省略できる。
【００６４】
なお、上記実施形態は、以下の様に変更してもよい。
・上記実施形態において、受容容器６５と第１排水パイプＰ２とを別体に構成して組み付けたが、一体に形成してもよい。例えば、図７に示すように、受容容器６５の全体を弾性材料などにより構成するとともに、排出部７１に連続して延びるように第１排水パイプＰ２を形成する。このような構成によれば、受容容器６５及び第１排水パイプＰ２に係る構成を簡略化できる。
【００６５】
・上記実施形態において、傾斜部７０は、図８（ａ）に示すように、左右両端に位置する壁部のうち、排出部７１が形成されていない方の壁部から、排出部７１が形成された側の壁部に向けて下方へ傾斜するように設けてもよい。また、図８（ｂ）に示すように、左右両端に位置する壁部から排出部７１までの範囲で下方に傾斜するように傾斜部７０を形成してもよい。このように形成することで、受容容器６５で受容した水を排出部７１に集めて排出させることが可能となり、受容容器６５内に水が滞留することをより抑制できる。
【００６６】
・上記実施形態において、傾斜部７０を前後方向に設けてもよい。
・上記実施形態において、受容容器６５の全周に亘って傾斜部７０を設け、受容容器６５をすり鉢状に形成してもよい。この場合、受容容器６５の最下部に排出部７１を設けるとよい。
【００６７】
・上記実施形態において、傾斜部７０を省略してもよい。ただし、受容容器６５内における水の滞留を抑制する観点から、傾斜部７０を設けるほうが好ましい。
・上記実施形態において、排出部７１を省略してもよい。ただし、受容容器６５内における水の滞留を抑制する観点から、排出部７１を設けるほうが好ましい。
【００６８】
・上記実施形態において、受容容器６５と上部温ミスト誘導部５１とを別体に形成してから組み付けるようにしてもよい。
・上記実施形態において、受容容器６５は、左右方向に延びる平面視楕円形や、円形、正方形など、異なる形状に形成してもよい。
【００６９】
・上記実施形態において、受容容器６５は、ベース部材１６を介さないで直接、上ハウジング１３の下面１３ｃに密着（シール）するように構成してもよい。このように構成しても、上記実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００７０】
・上記実施形態において、受容容器６５は、パッキンなどのシール部材を介して上ハウジング１３の下面１３ｃ又はベース部材１６に密着させるようにしてもよい。このように構成しても、上記実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００７１】
・上記実施形態において、受容容器６５の壁部の上端部６５ｂは、部分的に上ハウジング１３の下面１３ｃ（ベース部材１６の下面１６ａ）に密着するようにしてもよい。このように構成しても、美容器１０の内部へ水が浸入することを抑制できる。但し、上記実施形態のように、上端部６５ｂの全周に亘って上ハウジング１３の下面１３ｃ（ベース部材１６の下面１６ａ）に密着するように構成するのがより好ましい。
【００７２】
・上記実施形態において、受容容器６５に代えてベース部材１６とミストノズル２０との間の隙間Ｓを埋めるパッキンを設けてもよい。このように構成しても、美容器１０の装置内部に水が浸入することを抑制できる。この場合、このパッキンが抑制手段として機能する。
【００７３】
・上記実施形態において、受容容器６５に代えて美容器１０の装置内部にファンを設け、このファンから送出した空気を隙間Ｓから吹き出させるように構成してもよい。このように構成しても、美容器１０の装置内部に水が浸入することを抑制できる。この場合、このファンが抑制手段として機能する。
【００７４】
・上記実施形態において、本体ケース１１及び上ハウジング１３は一体に形成してもよい。
・上記実施形態では、温ミストヒータ４２にて水（他の液体でも可）を沸騰させて温ミストを生成する構成としたが、超音波振動にて液体をミスト化する装置や静電霧化装置を用いてミスト化する装置等を用い、温ミストを生成してもよい。
【００７５】
・上記実施形態では、温ミストが放出されるミストノズル２０を一つ設けたが、ミストノズルを二つ以上設けるようにしてもよい。このとき、温ミストが放出される温ミストノズルを複数設けるようにしてもよいし、冷ミストが放出される冷ミストノズルを複数設けるようにしてもよい。また、一つ又は複数の温ミストノズルと一つ又は複数の冷ミストノズルとを設けるようにしてもよい。この場合、各ミストノズルを受容容器６５に収容するようにすればよい。
【００７６】
・上記実施形態において、静電霧化装置３８ａ、及び帯電微粒子ミスト放出口３８を省略してもよい。
・上記実施形態の美容器１０において、ミストノズル２０と併せて、マイナスイオンやプラスイオンなどを放出するノズルや、保湿剤や美白剤などの薬剤を放出するノズルなどを設けるようにしてもよい。
【００７７】
・上記実施形態において、温ミストヒータ４２で加熱して温ミストを生成するための液体として、保湿剤や美白剤などを含む液体や、芳香剤を含む液体を給水タンク３３に貯留するようにしてもよい。
【００７８】
・上記実施形態において、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から温ミストに代えて冷ミストを放出するように構成してもよい。
次に、上記実施形態、及び変形例から把握できる技術的思想について以下に追記する。
【００７９】
（イ）液体を貯留可能な貯留タンクと、供給された液体をミスト化するミスト発生機構と、前記ミストを放出するミスト放出機構を備えたミスト発生装置において、前記ミスト発生装置の装置内部に浸入しようとする液体を受容可能な受容手段を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【００８０】
（ロ）前記受容手段は、前記受容した液体を前記ミスト発生装置の外部に排出可能に構成されていることを特徴とする技術的思想（イ）に記載のミスト発生装置。
【符号の説明】
【００８１】
１０…美容器（ミスト発生装置、美容装置）、１１…本体ケース、１３…上ハウジング（ケース部材）、２０…ミストノズル、２１…ミスト放出口、３３…給水タンク（貯留タンク）、６０…加熱機構部（ミスト発生機構）、６１…ミスト放出機構部（ミスト放出機構）、６２…給水機構部（給液機構）、６５…受容容器（抑制手段）、７１…排出部、７３…排出口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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