(57)【要約】【課題】耐食性が低下した酸化膜を有する金属表面について、母材と同程度以上の耐食性を備える不動態皮膜を効率よく形成させる金属方面の処理方法の提供。【解決手段】金属の機械加工、又は加熱加工により耐食性が低下した金属表面に対し、紫外線を照射しながら電解液を介して対象となる金属と電極との間に、交流、若しくは交直重畳波形の電流を通電して電解処理することを特徴とする金属表面の処理方法。前記電解液の層が、前記電解液を前記金属表面に塗布することによって形成されたことを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
機械加工、又は加熱加工が施されることにより耐食性が低下した金属表面に電解液の層を形成し、紫外線を照射しながら電解液を介して対象となる金属と電極との間に、交流、若しくは交直重畳波形の電流を通電して電解処理することを特徴とする金属表面の処理方法。
【請求項２】
前記電解液の層が、前記電解液を前記金属表面に塗布することによって形成されたことを特徴とする請求項１に記載の金属表面の処理方法。
【請求項３】
前記電解液の層が、前記電解液にゲル化剤を添加してゲル化した電解液を、前記金属表面に塗布することによって形成されたことを特徴とする請求項１に記載の金属表面の処理方法。
【請求項４】
前記電解液の層が、前記電解液を含浸させた天然又は合成繊維の織布若しくは不織布を前記金属表面に配置することによって形成されたことを特徴とする請求項１に記載の金属表面の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステンレス鋼やクロムを含有するニッケル基合金の溶接や機械加工、溶断、加熱などにより耐食性が低下した場合に、その耐食性を回復させるための金属表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属、例えばステンレス鋼やクロムを含有するニッケル基合金を溶接、溶断などの加工をすると、表面に元々の母材の色とは異なる酸化皮膜が生成する。この酸化皮膜は光の干渉により青、赤、黄色など様々な色に見える。これは光が酸化皮膜の表面と裏面で反射し、干渉を起こしているためである。また、酸化皮膜直下の母材のクロム濃度が低下し、耐食性が低下する。クロムはステンレス鋼やクロムを含有するニッケル基合金を覆う不動態皮膜の形成に大きく影響する。この不動態皮膜は非常に薄く緻密である。そのため、この不動態皮膜中のクロム濃度を高くすると耐食性が向上する。
【０００３】
従来、ステンレス鋼やクロムを含有するニッケル基合金の酸化皮膜の除去方法としては、硝酸や弗酸と硝酸との混合溶液中に浸漬する酸洗方式や、ゲル化した酸洗剤による酸洗方式、電解洗浄、或いは、ワイヤブラシ、サンダやサンドブラスト（sandblast）などの機械的手段による研磨方式が用いられていた。
【０００４】
硝酸や弗酸による酸洗方式は高温に加熱した溶液に数十分〜数時間浸漬することで酸化皮膜を除去していた。しかし、この酸洗は廃液処理が必要であるし、対象物を浸漬するための容器が必要であるため、大型構造物には適用困難であった。ゲル化した酸洗剤による酸洗方法は大型構造物にも適用可能なものの、処理に数時間必要であった。
ワイヤブラシ、サンダやサンドブラスト（sandblast）などは対象となる金属の表面を薄く削り取るため薄板への適用が困難であり、また表面に凹凸ができるため意匠の観点から適用ができない場合があった。
【０００５】
電解方式（特許文献１〜３参照）については、処理時間が早く、有害な物質を含まない電解液が市販されており、廃液の処理も安価になった。しかし、一度酸化皮膜が生成した部分に電解洗浄を適用しても母材と同等の耐食性まで回復させることはできなかった。
【０００６】
藤本らはステンレス鋼に紫外線を当てながら３．５％ＮaＣl溶液中や酸性溶液中で不動態化処理した後、中性塩化物溶液中で孔食電位を測定すると、孔食電位が上昇していることを報告している。しかし、処理には対象物を溶液中に浸漬しており、更に処理時間は数十分以上必要であった。また溶液中に浸漬しながら紫外線を照射するため、溶液中における紫外線の吸収を補う必要があり、紫外線の出力も大きなものが必要であった（非特許文献１参照）。
【０００７】
特許文献４にはアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス、トタン、ブリキ等の表面を塗料の付着性、接着材の接着性等が良好になるように改質するため、波長２５３．７ｎｍの光を含む紫外線、または、波長１８４．９ｎｍの光及び２５３．７ｎｍの光を含む紫外線を金属の表面に照射する方法が提案されている。しかし、この方法は金属表面の耐食性を向上させる方法ではなく、また電解液を必要とせず本発明とは目的、手段が異なる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平５−１６３６００号公報
【特許文献２】特開２００３−２７２９６号公報
【特許文献３】特開平３−２２３５００号公報
【特許文献４】特開平０５−０１７８８２号公報
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】材料と環境  Ｖol.５１,ｐｐ４５３−４５７（２００２年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、機械加工、又は加熱加工により耐食性が低下した金属表面について、母材と同程度以上の耐食性を備える不動態皮膜を効率よく形成させる金属表面の処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は上記目的の達成を図るため、種々の検討を重ねた。その結果、電解洗浄中に紫外線照射を行うことで、処理時間を短縮化し、さらに大型鋼構造物にも適用でき、電解質を薄く塗布することで紫外線の出力も低下させながら、金属の耐食性を向上させる技術を見出しこの発明を完成するに至った。
【００１２】
（１）機械加工、又は加熱加工が施されることにより耐食性が低下した金属表面に電解液の層を形成し、紫外線を照射しながら電解液を介して対象となる金属と電極との間に、交流、若しくは交直重畳波形の電流を通電して電解処理することを特徴とする金属表面の処理方法。
（２）前記電解液の層が、前記電解液を前記金属表面に塗布することによって形成されたことを特徴とする上記（１）に記載の金属表面の処理方法。
（３）前記電解液の層が、前記電解液にゲル化剤を添加してゲル化した電解液を、前記金属表面に塗布することによって形成されたことを特徴とする上記（１）に記載の金属表面の処理方法。
（４）前記電解液の層が、前記電解液を含浸させた天然又は合成繊維の織布若しくは不織布を前記金属表面に配置することによって形成されたことを特徴とする上記（１）に記載の金属表面の処理方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、金属の溶接や機械加工、レーザ切断やプラズマ切断、焼き曲げなどの加熱加工などにより耐食性が低下した場合に、紫外線を照射しながら電解液を介して対象となる金属と電極との間に交流、若しくは交直重畳波形の電流を通電して、金属の耐食性を向上させることができる。また、本発明の別の態様においては、大型の構造物に対しても効率良く表面処理を行うことができるのでこの発明の工業的価値は非常に大きい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施例において用いた溶接試験片の概略を表す図である。
【図２】実施例において用いた溶接試験片の作製法の概略を表す図である。
【図３】実施例において用いた試験片の形状の概略を表す図である。
【図４】各種表面処理を施した試験片の臨界孔食電位の測定結果を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明によれば、溶接や機械加工、レーザ切断やプラズマ切断、焼き曲げなどの加熱加工などにより耐食性が低下した場合に、紫外線を照射しながら電解液を介して対象となる金属と電極との間に交流、若しくは交直重畳波形の電流を通電して電解処理することで金属の耐食性を向上させることができる。
【００１６】
対象となる金属としては、ステンレス鋼やクロムを含有するニッケル基合金が挙げられる。鉄基もしくはニッケル基合金で、クロム含有量が１５質量％以上のものが好ましい。具体的には、例えば、SUS304、SUS316およびその低炭素グレードSUS304L、SUS316L、SUS317、SUS317L、SUS317J2、SUS310S、SUS430、SUS444、SUS329J3L、SUS329J4L、SUS312L、SUS836L、インコネル625、ハステロイC276、ハステロイC22、インコネル686等が挙げられる。
【００１７】
ここで、紫外線は、種々の方法で得ることが出来る。例えば、メタルハライドランプ、タングステンハロゲンランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ、重水素ランプ、紫外線レーザ（Ｈe-Ｃdレーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザ等）を用いることにより容易に得ることが出来る。
前記紫外線の波長及び紫外線の照射時間は、金属表面の状態（酸化皮膜が形成されている場合にはその組成や厚さ等）に応じて適宜設定することができる。
【００１８】
耐食性の低下した酸化皮膜が厚い場合やガムテープ、泥、ペイント、もらいさび、鉄粉などの異物が付着していると本発明の方法の効果が十分に得られないため、その時はこれらの異物を除去してから本発明の方法を適用する必要がある。
このような異物の除去方法は、物理的研磨に加え、酸洗、電界洗浄等、公知の方法を適宜利用すればよい。
【００１９】
前記電解液としては、例えば、以下の溶液（Ａ）を使用することができる。
（Ａ）硫酸，燐酸，硝酸のうち少なくとも一種頼以上含むか、若しくはこれらの各ナトリウム，カリウム，アンモニウム塩のうち少なくとも一種類以上含む溶液。
更に、上記溶液（Ａ）に下記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）のいずれか１種以上を添加して使用することもできる。なお、（ｃ）は腐食を抑制するために溶液中に添加する腐食抑制剤である。
（ａ）アスコルビン酸又はアスコルビン酸のナトリウム，カリウム，アンモニウム塩の少なくとも一種。
（ｂ）弗化水素酸若しくはそのナトリウム、カリウム、アンモニウム塩のうち少なくとも一種。
（ｃ）亜硫酸塩、モリブデン酸塩などの腐食抑制剤。
【００２０】
本発明においては、金属表面に電解液の層を形成し、該電解液を介して紫外線を照射しながら電解処理を行う。かかる電解液の層は、前記電解質を含む溶液（電解液）を金属表面にハケ、ローラー、又はスプレー等によって薄く塗布して形成することもできる。これにより、対象となる金属を電解液に浸漬する必要がなくなるため、大型の鋼構造物に対しても簡便に表面処理を施すことが可能となり好ましい。
また、前記電解液にゲル化剤を添加して電解液をゲル化させ、これを金属表面に薄く塗布することによって電解液の層を形成してもよい。
この場合には、金属表面と電極との電気的導通を確保するために、電極の表面に天然又は合成繊維の織布又は不織布を配置してこれに電解液を含浸させ、この織布又は不織布を介して電極と金属表面とを接触させることが好ましい。処理金属と電極とが直接接触すると電解液を介さずに電気が流れて表面処理できなくなってしまうが、織布又は不織布は短絡を防止するスペーサの役割を果たす。
【００２１】
また、前記したような電解液を含浸させた織布又は不織布を表面に配置した電極を用いる場合には、金属表面にあらかじめ電解液の層を形成しなくてもよい。すなわち、電解液を含浸させた織布又は不織布を表面に配置した電極を電解液の層を形成していない被処理金属表面と接触させることによっても、実質的には電解液の層を金属表面に形成した状態が得られるからである。
この場合には、処理対象金属と電極との間に電解液の層を形成しながら表面処理を行うことになる。
また、織布又は不織布はスペーサの役割に加え、電解液を保持する働きがある。このため大面積の金属表面を処理する場合には、織布又は不織布と、タンク等に貯められた電解液とをホースで繋ぎ、ポンプで少量ずつ電解液を供給してもよい。
これらの方法により電解液の取り扱いが簡便となり、また、紫外線照射効果も良好となる。
【００２２】
電解処理をするに際しては、電源の一極を対象となる被処理材の金属に直接接続し、もう一方の導電性対極と対向させ、前記電解液を介在させて電圧を印加すればよい。そして、紫外線は、電極の金属部分及び、処理する方向の手前側から照射するようにすればよい。
尚、被処理材が磨き板の場合は、被処理材を陽極側とする着色の薄い直流電解方式が望ましく、また、強度の不動態化や濃い着色を望む場合は交流若しくは交直重畳波形の電流による電解方式の採用が好適である。
【実施例】
【００２３】
（試験片の作製）
試材として耐海水ステンレス鋼を使用した。試験片は、当該耐海水ステンレス鋼（１００×１５０×６ｍｍｔの板）に溶材を用いてオンビード溶接によりビードオンプレートを形成し、そこから３０×３０×６ｍｍｔの試験片を切り出すことにより作製した（図１、２参照）。更に、当該試験片に、溶接ビードと変色部とが露出するように、シリコンシーラントによって被覆を設けた（図３参照）。このとき、各試験片について、窓を開けられる場所が３箇所できるように被覆を設け、１個ずつ窓を開けて同じ条件で３回実験ができるようにした。以下の実施例及び比較例は、各試験片の１個の窓を開けて実験に供した後、その部分をシリコンシーラントで塞ぎ、次の窓を露出させて実験を行うという手順で行った。
【００２４】
（実施例１）
上記で作製した試験片に対して、紫外線を照射しながら以下の条件で電解洗浄を施すことにより表面処理を行った。紫外線の照射には紫外線ランプを用いた（ピーク波長３６５ｎｍ）。紫外線照射時間は５〜６分とした。
電解洗浄は、具体的には、電極に布を被覆し、そこに電解液を含浸させ、試験片と電極との間に電解液の層を形成させながら通電を行うことにより行った。
電解洗浄は市販の電解洗浄装置（タイホー工業（株）製  ＴＡ−１０００Ｋ）を用いて行った。電解液としてはタイホー工業（株）製のステンブライトＥ−２００を用いた。また、処理時間は５〜６分とした。
【００２５】
（比較例１）
上記試験片に対して表面処理を何も施さないものを比較例１とした。
（比較例２）
上記試験片に、従来良く用いられている表面処理方法の１つとして物理的な研磨処理を行った。具体的には、♯１８０のステンレス用スコッチブライトで表面を研磨することにより行った。
（比較例３）
上記試験片に対して電解液の層を形成し、紫外線照射を行わない以外は実施例１と同様にして電解洗浄処理を行った。電解洗浄処理は、市販の電解洗浄装置（タイホー工業（株）製  ＴＡ−１０００Ｋ）で行い、電解液としてはタイホー工業（株）製のステンブライトＥ−２００を用いた。処理時間は５〜６分とした。
【００２６】
上記実施例１及び比較例１〜３において試材として使用した耐海水ステンレス鋼の材質、試験片名称、供した表面処理方法を表１に示す。
【００２７】
【表１】
2011094166.tif 000002
【００２８】
（耐食性評価方法）
耐食性評価方法として、臨界孔食電位測定方法を用いた。これはステンレス鋼やクロムを含有するニッケル基合金の耐食性に大きく影響を与える不動態皮膜が、電位を貴化すると発生しやすくなることを利用している。電位を印加しない自然浸漬電位から電位を貴にすると、しばらくは電流の増加が見られない。しかし、ある電位を過ぎると急に電流が流れ出す。これは、ある電位までは不動態皮膜が安定であるため、大きな電流が流れない。しかし、ある電位を過ぎると不動態皮膜は不安定になり、急に電流が流れ始める。この電流が流れる電位を臨界孔食電位として耐食性を評価する指標として用いられている。一般的にこの臨界孔食電位が貴なほど、耐食性が高い。
【００２９】
［１］試験環境
試験溶液はイオン交換水に特級ＮaＣlを溶解した３．５％ＮaＣl水溶液を用いた。予め３０分Ｎ2ガスを通気することにより脱気し、試験中も環境が保たれるようにＮ2ガスを通気し続けた。試験溶液温度は３０３Ｋとした。
【００３０】
［２］試験手順
試験片の金属の露出部分が完全に溶液に浸漬するように設置した後、その状態で１０分保持した。
ａ）自然電位を測定後、ポテンシオスタットおよびファンクションジェネレータでアノード方向に２０ｍＶ／ｍｉｎの速度で電位を掃引した。参照電極はＡg/ＡgＣlを用いた。
ｂ）試験片に流れる電流が１０００μＡ/ｃｍとなった時点で電位掃引を止め、測定を終了した。
上記の試験を実施例及び比較例について２回行った。
【００３１】
試験結果を図４に示す。本発明に係る金属表面の処理方法を適用した試験片は、他の試験片よりも臨界孔食電位が高く、耐食性に優れることが示された。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明の金属表面処理法は、機械加工、又は加熱加工により耐食性が低下した金属表面に母材と同程度以上の耐食性を付与することができるので、工業的価値は非常に大きい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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