(57)【要約】【課題】磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。【解決手段】凸型の親ニッケルスタンパからの反転パターンで作製される複製元の凹型のニッケルスタンパ１の表面に酸化膜２を形成する工程と、該酸化膜上にカーボン膜３を堆積する工程と、該カーボン膜上にニッケル薄膜４を成膜する工程と、該ニッケル薄膜４上にニッケル電鋳層を形成して凸型の複製ニッケルスタンパ５を形成する電鋳工程と、該電鋳工程後に、前記酸化膜２と前記カーボン膜３の間を分離して前記複製元の凹型のニッケルスタンパ１から、前記カーボン膜と前記ニッケル薄膜とが被着された前記凸型の複製ニッケルスタンパ５を剥離する工程とを含む磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法とする【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のピッチで凹凸パターンを有する凸型の親ニッケルスタンパからの反転パターンで作製される複製元の凹型のニッケルスタンパの表面に酸化膜を形成する工程と、該酸化膜上にカーボン膜を堆積する工程と、該カーボン膜上にニッケル薄膜を成膜する工程と、該ニッケル薄膜上にニッケル電鋳層を形成して凸型の複製ニッケルスタンパを形成する電鋳工程と、該電鋳工程後に、前記酸化膜と前記カーボン膜の間を分離して前記複製元の凹型のニッケルスタンパから、前記カーボン膜と前記ニッケル薄膜とが被着された前記凸型の複製ニッケルスタンパを剥離する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法。
【請求項２】
前記カーボン膜がダイアモンドライクカーボンであって、膜厚が５乃至３０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法。
【請求項３】
前記ニッケル薄膜の厚さが１０ｎｍ乃至５０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気記録媒体を製造する際に、記録面に溝パターンを形成するために用いられる磁気記録媒体用スタンパの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の高密度化に伴い、その記録面に隣接トラックとの干渉を防止するためにトラック間に溝を加工するディスクリートトラックメディアなどの、パターンド媒体が発表されている。磁気記録媒体の記録面に前述の溝パターンを形成する方法の一つとして、パターンの転写に使用される金型となるスタンパに形成したパターンを、媒体の記録面にスピン塗布形成したレジストにインプリント法で転写し、パターンが転写されたレジストをマスクとして媒体の記録面にイオンミリング法などにより、トラック方向に沿って凸状の磁性層が同心円状に形成されるように溝パターンを形成する方法が知られている。このパターンド媒体によれば、前述の溝パターンにより形成される凹凸構造を有する記録面とすることにより、トラック間の磁気的干渉を低減させトラック密度を高め、記録密度を向上させることのできる前記ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）となる。
【０００３】
前述のインプリント法による磁気記録媒体の記録面のレジストへの溝パターン転写には、コストダウンの観点から繰り返し使用や交換して使用することができるように、親スタンパから複製されるワーク用スタンパが使用される。本発明はこのワーク用スタンパの製造方法に関するものである。前記親スタンパおよびワーク用スタンパの作成方法は、まず、シリコンウエハやガラス板等の表面にレジストを塗布し、このレジストに電子描画装置などによって、溝パターンなどの所定のパターンを描画および現像し、所定のレジストパターンが搭載される原盤を作製する。次に、この原盤を用いて電鋳工程により、親となる凸型のニッケルなどを用いた金属スタンパを作製する。さらに、親である凸型のニッケルからなるスタンパ（親ニッケルスタンパ）を元にして凹凸パターンが反転した凹型ニッケルスタンパを電鋳により形成し、さらにこの凹型ニッケルスタンパを元にして電鋳を繰り返して凹凸パターンを反転させると、前記親ニッケルスタンパの同じ凸型の複製ニッケルスタンパを作製することができる。作製した複製ニッケルスタンパは裏面研磨してから所定の大きさに打ち抜く。この打ち抜いた複製ニッケルスタンパをワーク用スタンパとして用い、磁気記録媒体の記録面に塗布したＳＯＧ（Ｓｐｉｎ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）レジストなどに、何百枚〜何万枚もインプリント法でパターンを転写する。一枚のワーク用スタンパでパターン転写のできる磁気記録媒体の枚数はコストダウンの観点から、多いほど好ましい。
【０００４】
前述した従来のスタンパの作製技術に関する公知文献を以下に示す。たとえば、親スタンパに電鋳処理を行う前に、表面に酸化膜を形成し、この酸化膜上に導電性保護膜を形成することに関する記載が見られる（特許文献１）。
【０００５】
さらに、磁気記録媒体の記録面に溝を形成するためにスタンパを用いることに関する記載が診られる（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−１５７８８１号公報
【特許文献２】特開２００８−２９３５９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、磁気記録媒体の記録面に溝パターンを形成するために、前記複製ニッケルスタンパをワーク用スタンパとして使ってインプリント法で、磁気記録媒体の記録面に塗布したＳＯＧ（Ｓｐｉｎ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）レジストへのパターン転写を繰り返すと、複製ニッケルスタンパ（ワーク用スタンパ）表面に前記ＳＯＧレジストが付着し、徐々にパターン欠陥が増加する。このワーク用スタンパに付着したＳＯＧレジストは、シロキサンの化学構造を有するので、フッ酸によりきれいに除去することができる。しかし、付着したＳＯＧレジストをフッ酸などで除去洗浄することを繰り返すと、同時にワーク用スタンパにもエッチングが少しずつ進行し、次第にパターン形状が劣化する。その結果、ワーク用スタンパのパターン形状が所定のしきい値を超えて劣化すると、スタンパの交換が必要になる。この交換頻度が高いと磁気記録媒体のコストアップの要因となる。
【０００８】
前述の問題点に対しては、前記ワーク用スタンパに対する、前記フッ酸などによる耐薬品性を向上させるため、ワーク用スタンパの表面に保護膜を形成すればよいと考えられる。しかし、パターン形状におけるピッチ幅（たとえば、凹凸のピッチ幅）が数十ｎｍ程度に微細になると、保護膜の厚さのバラツキがパターン幅に対して無視できない線幅のバラツキとなる。また、保護膜を薄くすると、凹凸パターンのエッジの部分の被覆が不十分になり、部分的に保護膜の効果がなくなり、フッ酸による洗浄でパターン欠陥が発生し易くなるので、好ましい対策とは言い難い。
【０００９】
本発明は、以上説明した点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減することのできる磁気記録媒体用スタンパの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、前記目的を達成するために、所定のピッチで凹凸パターンを有する凸型の親ニッケルスタンパからの反転パターンで作製される複製元の凹型のニッケルスタンパの表面に酸化膜を形成する工程と、該酸化膜上にカーボン膜を堆積する工程と、該カーボン膜上にニッケル薄膜を成膜する工程と、該ニッケル薄膜上にニッケル電鋳層を形成して凸型の複製ニッケルスタンパを形成する電鋳工程と、該電鋳工程後に、前記酸化膜と前記カーボン膜の間を分離して前記複製元の凹型のニッケルスタンパから、前記カーボン膜と前記ニッケル薄膜とが被着された前記凸型の複製ニッケルスタンパを剥離する工程とを含む磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法とする。
【００１１】
また、前記カーボン膜がダイアモンドライクカーボンであって、膜厚が５乃至３０ｎｍであることが好ましい。
さらに、前記ニッケル薄膜の厚さが１０ｎｍ乃至５０ｎｍであることが望ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減することのできる磁気記録媒体用スタンパの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明にかかる複製凸型ニッケルスタンパの作製に用いられる複製元のスタンパとなる凹型ニッケルスタンパの要部拡大断面図である。
【図２】本発明にかかる複製凸型ニッケルスタンパを複製元のスタンパとなる凹型ニッケルスタンパから剥離した状態を示す要部拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の磁気記録媒体用スタンパの製造方法の実施例について、図面を参照して詳細に説明する。本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例の記載に限定されるものではない。
【実施例】
【００１５】
シリコンウエハやガラス板にＳＯＧレジストを塗布し、電子線描画などで、所定のパターン、たとえば、同心円状の溝パターンを描画および現像してレジストにパターンを形成した原盤を作成する。次に、原盤に導電化膜、たとえば、ニッケルを１０ｎｍスパッタしてから、Ｎｉメッキ浴で電鋳し、前記溝パターンを転写した凸型の親ニッケルスタンパを作製する。この親ニッケルスタンパから、さらに前述の背景技術における説明と同様に、電鋳による凹型のニッケルスタンパの作製を経てさらに電鋳を繰り返して、親と同じ凸型の複製ニッケルスタンパを作製する。複製ニッケルスタンパを作製する場合は、複製元の凹型のニッケルスタンパ表面を酸素プラズマ処理等で酸化した酸化膜を形成し、凹型と凸型のニッケルスタンパ同士が剥離できるようにしておくとよい。
【００１６】
磁気記録媒体の記録面へのインプリント法によるパターン転写に使用するワーク用スタンパを複製する方法をさらに詳述すると、図１に示すように、複製元の凹型のニッケルスタンパ１に酸化処理を行い、スタンパ１表面に酸化膜２を形成した後、さらに保護膜３として、たとえば、カーボンを５〜３０ｎｍの厚さに堆積して成膜する。
【００１７】
カーボンは、ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ−ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）が好ましい。カーボン保護膜の形成方法としてはグラファイトターゲットを用いたスパッタリング法あるいは化学気相成長（ＣＶＤ）法がある。ここでは、ＣＶＤ法を用いた。
【００１８】
複製元の凹型のニッケルスタンパ１表面に前記酸化膜２とカーボン保護膜３が形成されている状態では、表面の導電性が無いので電鋳が難しくなる。そこで、次に導電化膜４として、たとえば、スパッタリング法によりニッケルを１０ｎｍの厚さに成膜して表面の導電性を高めた後、電鋳を行う。図２に示すように、電鋳後に複製した凸型の複製ニッケルスタンパ５を矢印に示す方向に剥離すると、複製元の凹型のニッケルスタンパ１の酸化膜２とカーボン保護膜３の界面から剥離できる。すなわち、凸型の複製ニッケルスタンパ５の表面には導電化膜４とカーボン膜が保護膜３として形成された状態となる。前述の複製元の凹型のニッケルスタンパ１表面にカーボン保護膜を成膜する際に、前記カーボン保護膜の厚さが処理バラツキにより厚く成膜されても、この凹型のニッケルスタンパから複製される凸型のワーク用スタンパの凸部の幅は細くなるが、大きく（または太く）ならないので、ワーク用スタンパとして使用する場合はパターン精度上の問題が生じないという利点が得られる。剥離により形成されたカーボン保護膜の無い凸型のワーク用スタンパに後付けで、カーボン保護膜を堆積形成する場合は、カーボン保護膜の形成時の膜厚のバラツキが直にワーク用スタンパの凸部の幅が太くなる方向にバラツキが生じるので、問題であった。
【００１９】
この凸型の複製ニッケルスタンパ５の裏面を研磨した後、所定の寸法に打ち抜き、離型処理を行う。予め磁気記録媒体にＳＯＧレジストなどを塗布し、前記凸型の複製ニッケルスタンパ５を用いて、インプリント法によりパターンを転写する。
【００２０】
前記ＳＯＧレジストは、シロキサンの化学構造によって、シリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシルセスキオキサンポリマー、水素化シルセスキオキサンポリマー、水素化アルキルシロキサンポリマーなどに分類される。たとえば、東京応化株式会社製のＯＣＤ  Ｔ−２，Ｔ−７，Ｔ−１１などがある。
【００２１】
前記凸型の複製ニッケルスタンパ５を用いて、数百枚以上の磁気記録媒体にインプリントによりパターン転写すると、前記凸型の複製ニッケルスタンパ５の表面にＳＯＧレジストが付着してパターン欠陥が増加し始める。そこで、この凸型の複製ニッケルスタンパ５の表面をフッ酸等で洗浄することにより付着したＳＯＧレジストを除去しても、耐薬品性の高いカーボン保護膜３が形成されているので、従来のようにパターン欠陥が増加することもなく、再びパターン欠陥のない状態の複製ニッケルスタンパ５を用いてインプリント法でパターン転写することができる。
【００２２】
また、従来のように、複製ニッケルスタンパの表面にカーボン保護膜がない場合や、フッ酸等の、ＳＯＧレジストに対する洗浄性に優れた薬品が使えない場合は、ＳＯＧレジスト除去が不十分となるので、本発明にかかる複製ニッケルスタンパのように、磁気記録媒体に対してスタンパを充分に多くは繰り返して使うことができず、その分スタンパの交換回数が増加し、磁気記録媒体の製造コストが上昇する。本発明の磁気記録媒体用スタンパの製造方法によれば、スタンパの交換回数が少なくなるので、磁気記録媒体の製造コストを低減させることができる。
【符号の説明】
【００２３】
１：凹型のニッケルスタンパ
２：酸化膜
３：保護膜
４：導電化膜
５：複製ニッケルスタンパ、ワーク用スタンパ
【図１】
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【図２】
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