(57)【要約】【課題】屈折率異方性を制御して、光学補償性能を高くすることができる光学補償積層フィルムを提供する。【解決手段】光学補償積層フィルム１は、基材フィルム２と、基材フィルム２の少なくとも片面に積層された光学異方層３とを備える。光学異方層３は、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液により形成されている。【選択図】図１
2011180553.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、
前記基材フィルムの少なくとも片面に積層された光学異方層とを備え、
前記光学異方層が、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液により形成されている、光学補償積層フィルム。
【請求項２】
前記水溶性樹脂が、芳香族ポリアミド樹脂である、請求項１に記載の光学補償積層フィルム。
【請求項３】
前記界面活性化合物が、多環フェニル化合物である、請求項１又は２に記載の光学補償積層フィルム。
【請求項４】
前記界面活性化合物の屈折率異方性が、下記式（１）を満たし、
下記式（２）で定義される正面レターデーションＲ０（ｎｍ）が、５０〜５００ｎｍの範囲内であり、かつ、
下記式（３）で定義されるＮＺ係数が、０．０〜５．０の範囲内である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償積層フィルム。
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ  ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは前記界面活性化合物の最大屈折率を表し、ｎｙは前記界面活性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表す。
Ｒ０（ｎｍ）＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ  ・・・式（２）
上記式（２）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｄは光学補償積層フィルムの平均厚み（ｎｍ）を表す。
Ｎｚ係数＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）  ・・・式（３）
上記式（３）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表す。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償積層フィルムを製造する方法であって、
リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液を用いて、
基材フィルムの少なくとも片面に、前記水溶液又は水分散液を塗工速度１００ｍｍ／秒以上で塗工して、光学異方層を形成する、光学補償積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償性能を有する光学補償積層フィルムであって、例えば、液晶表示装置等に用いられ、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることが可能な光学補償積層フィルム、並びに該光学補償積層フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）は、液晶分子が封入されており、かつ電極が組み込まれている液晶セルに、光学フィルム及び偏光板が貼り合わされて構成される。液晶表示装置の動作方式として、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード等があり、液晶分子の配向形態によって主に定義される様々な方式が提案されている。これらはいずれも、液晶分子の電気光学特性を利用して、画像を表示させる。
【０００３】
上記液晶表示装置では、偏光板を介して見るディスプレイの画像品位を高める目的で、多様な機能を有する光学フィルムが用いられる。光学フィルムは、透明性及び光学補償性をはじめとして、用途に応じて種々の光学特性を有する必要がある。中でも、液晶が本来有する複屈折性に起因する光学的な歪み、及び視覚方向により表示が着色するなどの視野角依存性を解消するために、上記光学フィルムとして、光学異方性を応用した光学補償フィルムが広く用いられている。
【０００４】
液晶テレビ又はモニターなどの大画面用途では、広視野角と高コントラスト比とに優れているので、ＶＡ方式（垂直配向方式）の液晶表示装置が主流となる傾向がある。ＶＡ方式の液晶表示装置では、液晶が垂直配向した構造をとる。このため、液晶層を通過した光を補償するために、屈折率楕円体は縦に短いことが望ましい。さらに、ＶＡ方式の液晶表示装置に用いられる光学補償フィルムについては、屈折率楕円体がパネル水平方向に長軸を有し、扁平で、固有複屈折が正値であることが望ましい。光学補償フィルムのＮＺ係数は、１．０以上であることが望ましく、１．３以上であることがより望ましい。
【０００５】
また、ＩＰＳ方式（横電界方式）の液晶表示装置は、パネル基板に対して平行な水平面内で、液晶分子の配向を変化させて透過光を制御することにより、画像を表示する。ＩＰＳ方式の液晶表示装置は、動作原理上、広視野角であり、かつ色調変化が小さい特徴を有する。このため、ＩＰＳ方式の液晶表示装置は、液晶テレビ及び携帯端末モニター等に広く利用されている。また、ＯＣＢ方式の液晶表示装置では、パネル基板に対して傾斜するように液晶分子が配向することにより、画像表示を制御している。ＩＰＳ方式又はＯＣＢ方式の液晶表示装置では、パネル基板に対して、水平に又は傾斜するように液晶分子が配向するため、光学補償フィルムのＮＺ係数は１．０以下であることが望ましい。
【０００６】
上記光学補償フィルムに光学異方性等を発現させるために、加熱延伸法により、フィルムを延伸して、樹脂分子の配向を制御する方法が知られている。
【０００７】
しかしながら、加熱延伸法では、フィルムの全幅にわたって均一に、フィルムを延伸することができない。また、加熱延伸法では、近年需要が多い大型の液晶表示装置に用いられる大型の光学補償フィルムを製造することは困難である。
【０００８】
また、上記光学補償フィルムの一例として、下記の特許文献１には、基板上に、ホメオトロピック配向性側鎖型液晶ポリマーを塗工し、次いで上記ポリマーを液晶状態においてホメオトロピック配向させ、その配向状態を維持した状態で固定化させることにより得られた光学補償フィルムが開示されている。
【０００９】
また、下記の特許文献２には、液晶分子の配向状態を制御するために、液晶状態においてはネマチック相を有し、かつガラス転移以下の温度ではガラス状態となる液晶分子を含む溶液と、配向規制力がある基板とを用いて、基板の配向規制力によって第１の方向に液晶分子を配向させ、かつ磁場を印加することにより第１の方向に対して４５〜９０°の角度をなす第２の方向に液晶分子を配向させた光学補償フィルムが開示されている。
【００１０】
下記の特許文献３には、液晶性化合物を有機溶媒に溶解させた液晶材料を用いて形成されたフィルム層が、プラスチックフィルムなどの支持体上に形成されている光学補償フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００３−１４９４４１号公報
【特許文献２】特開２００７−５５１９３号公報
【特許文献３】特開２００７−１５２１７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特許文献１〜３では、液晶分子の配向制御の再現性が不十分であり、光学補償フィルムの光学異方性が必ずしも安定しない。特に厚み方向における配向パターンが所定の形態にならないことが多く、二軸性が不安定となることがある。
【００１３】
また、液晶材料における溶媒の選定は重要である。溶媒は、液晶分子の配向制御、及び塗膜の強度及び均一性に影響を与える。特許文献３に記載のように、液晶材料の溶媒として、有機溶媒が広く使用されている。有機溶媒を含む液晶材料は、濡れ性が高く、液晶材料が塗工される基材フィルムとの親和性が比較的良好である。このため、有機溶媒を含む液晶材料を用いれば、均一な塗膜を得やすい。しかしながら、低公害化、省資源化及び低コスト化の要求、並びに製造環境の問題からは、有機溶媒はなるべく用いないことが望ましい。
【００１４】
本発明の目的は、屈折率異方性を制御して、光学補償性能を高くすることができる光学補償積層フィルム、並びに該光学補償積層フィルムの製造方法を提供することである。
【００１５】
本発明の限定的な目的は、良好な正面レターデーション及び二軸性を有し、液晶表示装置の画像表示を高品位にすることが可能な光学補償積層フィルム、並びに該光学補償積層フィルムの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の広い局面によれば、基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも片面に積層された光学異方層とを備え、上記光学異方層が、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液により形成されている、光学補償積層フィルムが提供される。
【００１７】
本発明に係る光学補償積層フィルムのある特定の局面では、上記水溶性樹脂が、芳香族ポリアミド樹脂である。
【００１８】
本発明に係る光学補償積層フィルムの他の特定の局面では、上記界面活性化合物は、多環フェニル化合物である。
【００１９】
本発明に係る光学補償積層フィルムのさらに他の特定の局面では、上記界面活性化合物の屈折率異方性が、下記式（１）を満たし、下記式（２）で定義される正面レターデーションＲ０（ｎｍ）が、５０〜５００ｎｍの範囲内であり、かつ、下記式（３）で定義されるＮＺ係数が、０．０〜５．０の範囲内である。
【００２０】
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ  ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは上記界面活性化合物の最大屈折率を表し、ｎｙは上記界面活性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表す。
【００２１】
Ｒ０（ｎｍ）＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ  ・・・式（２）
上記式（２）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｄは光学補償積層フィルムの平均厚み（ｎｍ）を表す。
【００２２】
Ｎｚ係数＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）  ・・・式（３）
上記式（３）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表す。
【００２３】
本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法では、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液を用いて、基材フィルムの少なくとも片面に、上記水溶液又は水分散液を塗工速度１００ｍｍ／秒以上で塗工して、光学異方層を形成する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る光学補償積層フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に積層された光学異方層が、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液により形成されているので、屈折率異方性を制御でき、光学補償性能を高くすることができる。
【００２５】
本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法では、基材フィルムの少なくとも片面に、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液を塗工速度１００ｍｍ／秒以上で塗工して、光学異方層を形成するので、屈折率異方性を制御して、光学補償性能が高い光学補償積層フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る光学補償積層フィルムを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。
【００２８】
図１に、本発明の一実施形態に係る光学補償積層フィルムを断面図で示す。
【００２９】
図１に示す光学補償積層フィルム１は、基材フィルム２と、基材フィルム２の第１の表面２ａに積層された光学異方層３とを備える。基材フィルム２の第１の表面２ａとは反対側の第２の表面２ｂには、光学異方層３は積層されていない。基材フィルム２の少なくとも片面に光学異方層が積層されていればよく、第２の表面２ｂにも光学異方層３が積層されていてもよい。
【００３０】
本実施形態では、光学異方層３は、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液を用いて形成されている。具体的には、例えば、基材フィルム２の第１の表面２ａに、上記水溶液又は水分散液を塗工した後、水を除去するために乾燥して、光学異方層が形成されている。
【００３１】
本発明の主な特徴は、光学異方層が、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液を用いて形成されていることにある。
【００３２】
本発明者は、光学補償性能として正面レターデーション及び二軸性を制御する手段として、複数の異なる光学異方性を有し、かつ水溶性樹脂により形成される光学異方層の構成材料を特定の組成とし、更に該構成材料の濡れ性を高めるために、上記光学異方層の構成材料の内の少なくとも一つの成分に界面活性作用を付与することで、光学異方層の均一性を高めることができ、光学補償性能を精度よく制御できることを見出した。上記特定の組成を有する水溶液又は水分散液の使用により、屈折率異方性を制御して、光学補償性能を高くすることができる。例えば、光学補償積層フィルムの正面レターデーションＲ０及びＮＺ係数を良好にすることができる。
【００３３】
本発明に係る光学補償積層フィルムの使用により、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることができる。
【００３４】
さらに、本発明者は、上記水溶液又は水分散液を塗工速度１００ｍｍ／秒以上で塗工して、光学異方層を形成することにより、塗膜むらが低減し、より一層均一な上記光学異方層を形成することができることを見出した。
【００３５】
本発明に係る光学補償積層フィルムにおいて、光学異方層は、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂と、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物とを含有する水溶液又は水分散液により形成されている。該水溶液又は水分散液は、溶媒として水を含む。
【００３６】
（水溶性樹脂）
本発明では、リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂が用いられる。該水溶性樹脂は水溶性であり、水に溶ける性質を有する。このような性質を有すれば、上記水溶性樹脂は特に限定されない。上記水溶性樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００３７】
上記水溶性樹脂は、水に溶解又は分散された状態で、基材フィルム上に塗工できる。また、水を用いた場合には、有機溶剤を用いた場合と比較して、コストが安くなり、労働衛生面及び作業面でも特に優れている。また、上記水溶性樹脂の使用により、水溶液又は水分散液の調合が容易になり、水溶液又は水分散液の基材の表面への塗工性が高くなり、光学補償積層フィルムの生産性が高くなり、特に衛生面及びメンテナンスの面が特に著しく向上する。上記水溶液又は水分散液は、有機溶剤を含まないことが好ましい。ただし、上記水溶液又は水分散液は、有機溶剤を含んでいてもよい。例えば、原料に含まれている少量の有機溶剤を含んでいてもよい。主溶媒として有機溶剤ではなく水を用いることにより、水溶液又は水分散液を塗工した後に水を揮発させた塗膜において、有機溶剤の残留量を低減でき、得られる光学補償積層フィルムの商品価値を高くすることができる。
【００３８】
上記水溶性樹脂はリオトロピック液晶性を有する。上記水溶性樹脂がリオトロピック液晶性を有することにより、基材フィルム上への上記水溶液又は水分散液の塗工時の剪断により、液晶分子を配向させることができる。
【００３９】
一般に、基材フィルム上に液晶材料を塗工し、液晶分子を配向させるためには、通常、配向膜を有する基材フィルムが用いられる。この配向膜を有する基材フィルムを用いて、配向膜によって液晶分子を特定の方向に配列させることで、配向方向によって決定される光軸が制御されている。しかし、この場合には、配向膜を形成する必要があり、経済的ではない。
【００４０】
さらに、配向膜を形成する際には、ポリイミド又はポリビニルアルコールよりなる下塗り層を基材フィルムの表面に形成し、その下塗り層に繊維束を放射状に取付けたラビング処理ロールを基材の表面に接触させて、研磨するラビング処理が行われることがある。これによって、特定方向に微細な傷を賦形する。この微細な傷は、液晶分子の配向起点になる。なお、配向膜を形成するために、基材フィルムの表面を直接ラビング処理することもある。
【００４１】
しかしながら、このようなラビング処理を施すと、ラビング処理後に基材フィルムに砕片が生じることが多い。生じた砕片は異物として光学補償積層フィルムに残存し、得られる光学補償積層フィルムにおいて光学的欠点となる。このため、ラビング処理を施すと、光学補償積層フィルムの製品価値が低下する。
【００４２】
従って、基材フィルムは配向膜を有さないことが好ましい。さらに、基材フィルムはラビング処理されていないことが好ましい。特定の組成を有する上記水溶液又は水分散液の使用により、配向膜を有さない基材フィルムであっても、更にラビング処理されていない基材フィルムであっても、光学補償積層フィルムの光学補償性能を高めることができる。
【００４３】
液晶発現温度が８０℃未満であると、液晶ディスプレイなどに適用されると、液晶ディスプレイの使用環境によって、液晶性高分子の配向状態を維持することができず、光学補償性能が失われることがある。液晶発現温度が高すぎると、基板フィルムの材質によっては変形又は変質が起こり、光学補償積層フィルムとしての価値を著しく損なうことがある。
【００４４】
上記水溶性樹脂は、主鎖に液晶性を示す構造を有する高分子（主鎖型高分子液晶化合物）又は側鎖に液晶性を示す構造を有する高分子（側鎖型高分子液晶化合物）であることが好ましい。上記水溶性樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００４５】
上記主鎖型高分子液晶化合物としては、例えば、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリベンズイミダゾール系、ポリベンズオキサゾール系、ポリベンズチアゾール系、ポリアゾメチン系、ポリエステルアミド系、ポリエステルカーボネート系及びポリエステルイミド系等の高分子液晶化合物、並びにこれらの混合物等が挙げられる。
【００４６】
上記側鎖型高分子液晶化合物としては、例えば、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリビニル系、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリマロネート系及びポリエステル系等の直鎖状又は環状構造の骨格に、側鎖としてメソゲン基が結合した高分子液晶化合物、並びにこれらの混合物等が挙げられる。
【００４７】
上記水溶性樹脂は、芳香族ポリアミド樹脂であることが好ましい。芳香族ポリアミド樹脂は、芳香環基を有するポリアミド樹脂である。該芳香族ポリアミド樹脂は、下記式（１１）で示される構造単位を有する芳香族ポリアミド樹脂であることが好ましい。
【化１】
2011180553.tif 000003
【００４８】
上記式（１１）中、Ｒ１は芳香環基を表し、Ｒ２は脂肪族基、脂環基、芳香環基又は複素環基を表し、ｎは自然数を示す。
【００４９】
上記芳香族ポリアミド樹脂は、特に上記式（１１）で示される芳香族環基を有するポリアミド樹脂は、汎用樹脂と比較して、融点及びガラス転移温度が高く、耐熱性に優れているという大きな特徴を有する。上記芳香族ポリアミド樹脂は、芳香環及びアミド結合を有するので、剛直性、強靭性及び耐薬品性に優れており、かつ高い接着性を発現する。これらの樹脂特性は、光学補償積層フィルムにおいて特に有利に作用する。上記芳香族ポリアミド樹脂を用いた光学補償積層フィルムを液晶表示装置に組み込むと、安定した光学補償性能を発揮し、表示画像を高品位に維持できる。特にパネル内でのバックライト光などにより高温下に暴露されても、位相差値が変化し難くなる。また、光学異方層が剛直かつ強靭になるために、基材フィルムから光学異方層が剥離し難くなり、かつ光学異方層に欠けが生じ難くなる。このため、光学補償積層フィルムの価値を高めることができる。
【００５０】
上記芳香族ポリアミド樹脂は、例えば、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と、芳香族、脂環族又は脂肪族ジアミン化合物とを重縮合させることにより得ることができる。
【００５１】
上記芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体は、特に限定されない。上記芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、ナフタリンジカルボン酸、パラフェニレンジカルボン酸、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、オルトフタル酸ジメチル、ナフタリンジカルボン酸ジメチル、パラフェニレンジカルボン酸ジメチル、テレフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジクロライド、オルトフタル酸ジクロライド、ナフタリンジカルボン酸ジクロライド及びパラフェニレンジカルボン酸ジクロライドなどの芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体、並びにこれらの変性物等が挙げられる。上記芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００５２】
上記芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体は、下記式（１２）で表されるスルホン酸基を少なくとも一つ有することが好ましい。下記式（１２）で表されるスルホン酸基により、上記芳香族ポリアミド樹脂の水溶性をより一層高めることができる。
【化２】
2011180553.tif 000004
【００５３】
上記式（１２）中、Ｍは水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン又はその誘導体を表す。
【００５４】
上記式（１２）で表されるスルホン酸基を少なくとも一つ有する芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、上述した芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体の分子内にスルホン酸基を導入して得られるスルホン化誘導体が挙げられる。スルホン酸基は、芳香核内に導入されていることが好ましく、芳香族基がスルホン酸基を有することが好ましい。
【００５５】
上記ジアミン化合物は特に限定されない。上記ジアミン化合物としては、例えば、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、オルトフェニレンジアミン、ベンジジン、トリジン、ビフェニルジアミン、フルオレンジアミン、メチレンビスアニリン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン及びウンデカメチレンジアミン及びこれらの誘導体等が挙げられる。上記ジアミン化合物は、芳香族ジアミン化合物であってもよく、脂肪族ジアミン化合物であってもよい。上記ジアミン化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００５６】
上記ジアミン化合物は、上記式（１２）で表されるスルホン酸基を少なくとも一つ有することが好ましい。上記式（１２）で表されるスルホン酸基により、上記芳香族ポリアミド樹脂の水溶性をより一層高めることができる。
【００５７】
（アニオン性界面活性化合物）
本発明では、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物が用いられる。上記界面活性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００５８】
上記光学異方層を形成するために、基材フィルム上に、水を溶媒として用いた水溶液又は水分散液を塗工すると、水は有機溶剤よりも表面張力が低いことなどから、濡れ性が比較的低くなり、塗膜が不均一になりやすい。このため、得られる光学補償積層フィルムの透明性が低下したり、局部的に外観不良が生じたりすることがある。特に芳香族ポリアミド樹脂を用いた場合には、該芳香族ポリアミド樹脂は粘度が高く、均質な塗膜を得るだけの十分な流動性を有さないことから、塗工すじ又は弾き等による塗工欠陥が特に生じやすい。
【００５９】
また、濡れ性を改善するために、一般的な親水基を有する界面活性作用を示す化合物を用いただけでは、濡れ性を十分に高くすることは困難である。
【００６０】
これに対して、本発明では、スルホン酸基を二つ以上有するアニオン性界面活性化合物を用いているため、上記水溶性樹脂を含有する水溶液又は水分散液の濡れ性を効果的に高めることができる。上記水溶性樹脂が芳香族ポリアミド樹脂である場合に、上記界面活性化合物を用いることにより、濡れ性を顕著に高めることができる。基材フィルムに対する水溶液又は水分散液の濡れ性が高くなると、得られる光学補償積層フィルムに外観欠陥が生じ難くなり、更に光学補償積層フィルムの正面レターデーション及び二軸性を良好にすることができる。
【００６１】
上記アニオン性界面活性化合物の屈折率異方性は、下記式（１）を満たすことが好ましい。上記アニオン性界面活性化合物は、ネガティブＣと呼ばれる屈折率バランスを有することが好ましい。
【００６２】
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは上記界面活性化合物の最大屈折率を表し、ｎｙは上記界面活性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表す。
【００６３】
上記アニオン性界面活性化合物の屈折率異方性が、上記式（１）を満たすことにより、正面レターデーションＲ０が小さくなり、一方で、下記式（５）で定義される厚みレターデーションＲｔｈは一定の値を示すようになる。従って、上記水溶性樹脂と上記アニオン性界面活性化合物とを含む水溶液又は水分散液により形成される光学異方層が、多様な光学補償性能を発現することが可能である。このため、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式等の方式に対応した、特に厚み方向に光学異方性を生じる方式に対応した、様々な屈折率異方性バランスを設計することが可能である。上記芳香族ポリアミド樹脂のような屈折率異方性を有する水溶性樹脂と、屈折率異方性が上記式（１）を満たすアニオン性界面活性化合物との併用により、広い範囲で屈折率異方性を制御でき、光学補償性能をより一層高めることができる。
【００６４】
Ｒｔｈ（ｎｍ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ  ・・・式（５）
上記式（５）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｄは光学補償積層フィルムの平均厚み（ｎｍ）を表す。
【００６５】
上記アニオン性界面活性化合物の屈折率は、例えば、以下のようにして評価できる。
【００６６】
先ず、アッベ屈折計（アタゴ社製、型番「ＩＴ」）を用いて、固有屈折率を測定する。次いで、自動複屈折測定装置（王子計測機器社製、型番「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」）を用いて、測定された固有屈折率の値から、測定光の波長を５５０ｎｍとして、直交する三方向の屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを測定する。
【００６７】
上記アニオン性界面活性化合物は多環化合物であることが好ましく、多環芳香族化合物であることが好ましく、多環フェニル化合物であることが好ましい。多環フェニル化合物には、フェニレン基を有する化合物も含まれる。多環化合物は、芳香環又は複素環を二つ以上有することが好ましい。多環化合物は、芳香族基を二つ以上有することが好ましく、フェニル基又はフェニレン基を二つ以上有することがより好ましく、フェニレン基を二つ以上有することがさらに好ましい。これらの好ましい界面活性化合物の使用により、屈折率異方性が上記式（１）を満たすようになり、広い範囲で屈折率異方性を制御でき、光学補償性能をより一層高めることができる。
【００６８】
上記多環化合物は、下記式（２１）で表される多環化合物であることが好ましい。
【００６９】
Ｍ１Ｏ３Ｓ−（Ｘ）ｎ−ＳＯ３Ｍ２  ・・・式（２１）
上記式（２１）中、Ｘは芳香環基、複素環基又はこれらの誘導体基を表し、Ｍ１及びＭ２はそれぞれ水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン又はその誘導体を表し、ｎは自然数を示す。上記式（２１）中、Ｘは芳香環基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましい。
【００７０】
上記式（２１）で表される多環化合物では、疎水性が高い芳香環基、複素環基又はこれらの誘導体基に、親水性のスルホン酸基が導入されている。このため、上記式（２１）で表される多環化合物の界面活性作用は極めて高い。基材フィルム上に、上記多環フェニル化合物などの多環化合物を含む水溶液又は水分散液を塗工すると、一般に基材フィルムの主面と芳香環面とが平行して配列し（いわゆる面配向を示し）、得られる光学補償積層フィルムの厚み方向屈折率が小さくなるような屈折率バランスとなる。上記アニオン性界面活性化合物は、分子を構成する芳香環又は複素環が等方的に配列した対照構造を有することが好ましい。このように幾何的対照性を持つ分子構造を有するアニオン性界面活性化合物では、分子平面内において、分子内分極が生じない。このため、アニオン性界面活性化合物の光学異方性が上記式（１）を満たすことが可能であり、より一層望ましい光学異方性を発現することが可能となる。
【００７１】
上記式（２１）中Ｘが芳香環基である多環化合物としては、例えば、ビフェニル基、テルフェニル基、クアテルフェニル基又はこれらの誘導体基の分子両末端に位置する芳香核に、スルホン酸基を導入した誘導体（変性物）等が挙げられる。上記多環化合物は、ビフェニル基、テルフェニル基、クアテルフェニル基又はこれらの誘導体基を有することが好ましい。上記多環化合物は、例えば中和塩である。上記多環化合物は、各種の官能基を有していてもよい。上記多環化合物が各種の官能基を有する場合には、分子内分極を生じさせない範囲で、上記多環化合物が各種の官能基を有することが好ましい。
【００７２】
（水溶液又は水分散液）
上記光学異方層を形成するための水溶液又は水分散液は、上記水溶性樹脂と上記アニオン性界面活性化合物とを含有する。
【００７３】
上記水水溶液又は水分散液において、上記水溶性樹脂１００重量部に対して、上記アニオン性界面活性化合物の含有量は０．１〜５００重量部であることが好ましい。上記水溶性樹脂１００重量部に対して、上記アニオン性界面活性化合物の含有量のより好ましい下限は１重量部、更に好ましい下限は５重量部、より好ましい上限は３００重量部、特に好ましい上限は１００重量部である。上記アニオン性界面活性化合物の含有量が上記下限を満たすと、上記水溶液又は水分散液の濡れ性がより一層高くなり、塗工時にコート斑が発生し難くなり、塗膜の外観が良好になり、光学異方層の均一性が向上する。このため、光学補償性能がより一層高くなる。上記アニオン性界面活性化合物の含有量が上記上限を満たすと、式（２）で定義される正面レターデーションＲ０、及び式（３）で定義されるＮＺ係数を望ましい範囲に容易に制御でき、より一層望ましい光学補償性能を有する光学補償積層フィルムを得ることができる。
【００７４】
上記水溶液又は水分散液において、上記水溶性樹脂と上記アニオン性界面活性化合物との合計１００重量％中、上記アニオン性界面活性化合物の含有量は、０．１重量％以上であることが好ましく、１重量％以上であることがより好ましく、７０重量％以下であることが好ましい。これに対応して、光学異方層１００重量％中、上記アニオン性界面活性化合物の含有量は０．１重量％以上であることが好ましく、１重量％以上であることがより好ましく、７０重量％以下であることが好ましい。上記アニオン性界面活性化合物の含有量が上記下限を満たすと、水溶液又は水分散液の濡れ性がより一層高くなり、塗工時にコート斑が発生し難くなり、塗膜の外観が良好になり、光学異方層の均一性が向上する。このため、光学補償性能がより一層高くなる。上記アニオン性界面活性化合物の含有量が上記上限を満たすと、式（２）で定義される正面レターデーションＲ０、及び式（３）で定義されるＮＺ係数を望ましい範囲に容易に制御でき、より一層望ましい光学補償性能を有する光学補償積層フィルムを得ることができる。
【００７５】
上記水溶液又は水分散液は、リオトロピック液晶性を有するため、塗工剪断力によって分子配向する。従って、上記水溶液又は水分散液の粘性に影響する固形分濃度は、重要である。上記水溶液又は水分散液における固形分濃度は、１〜３０重量％であることが好ましい。上記水溶液又は水分散液における固形分濃度のより好ましい下限は３重量％、より好ましい上限は２０重量％である。上記固形分濃度が上記下限を満たすと、塗工剪断力により、十分に分子配向し、より一層望ましい光学異方性を有する光学補償積層フィルムを得ることができる。上記固形分濃度が上記上限を満たすと、塗工後の流動性が高くなり、基材フィルムに対する上記水溶液又は水分散液の濡れ性がより一層高くなる。
【００７６】
上記水溶液又は水分散液には、本発明の効果を低下させない範囲で、帯電防止剤、酸化防止剤、無機滑剤、有機滑剤、乳化剤、ｐＨ調整剤、紫外線吸収剤、消泡剤、顔染料及び結晶核剤などの各種の添加剤が配合されていてもよい。
【００７７】
（基材フィルム）
上記基材フィルムは、光学的に透明であり、残留位相差が少ないことが好ましい。上記基材フィルムの材質としては、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリプロピレン、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリアリレート及びガラス等が挙げられる。
【００７８】
上記基材フィルムの平均厚みは特に限定されない。所定の光学補償性能が損なわれないように、かつ一定の機械的強度を有するように、更に液晶表示装置へ積層される際に重視される部材の軽量化等を考慮して、上記基材フィルムの厚みは適宜設定される。上記基材フィルムの平均厚みは、２０〜２００μｍであることが好ましい。上記基材フィルムの平均厚みのより好ましい下限は４０μｍ、より好ましい上限は１００μｍである。
【００７９】
上記基材フィルムの表面は、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射又は各種薬品処理等の表面活性処理が施されていてもよい。また塗工加工又は蒸着による各種の機能コーティング又はラミネート等を行うことにより、基材フィルムに諸性能を付加し、基材フィルムの利用価値を更に向上させることもできる。
【００８０】
上記基材フィルムは、ラビング処理されていないことが好ましい。ただし、上記基材フィルムは、ラビング処理されていてもよい。上記水溶性樹脂がリオトロピック液晶性を有することから、上記基材フィルムがラビング処理されていなくても、塗工時の塗工剪断力により上記水溶性樹脂を配向させることができる。従って、液晶配向を制御するために、配向膜などの層を基材フィルムが有する必要はなく、基材フィルムのラビング処理も不要である。この結果として、光学欠点を生じにくい光学補償積層フィルムを得ることができる。
【００８１】
（光学異方層及び光学異方層の形成方法）
基材フィルム上に、上記水溶液又は水分散液を塗工する方法は、特に限定されない。塗工方法として、光学的に透明で均質な膜を形成し得る各種の塗工方法が適宜用いられる。上記塗工方法としては、例えば、ダイコート法、バーコート法、ロールコート法、ナイフコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、浸漬法、スプレーコート法及びスピンコート法等が挙げられる。これらの塗工方法のうち１つの方法を用いてもよく、２つ以上の方法を用いてもよい。塗工時に塗膜に十分な剪断力を付与して、塗工剪断力によって効果的に分子配向するためには、ダイコート法、バーコート法又はスプレーコート法が好ましい。
【００８２】
上記基材フィルム上に、上記水溶液又は水分散液を塗工する際の塗工速度は、１００ｍｍ／秒以上であることが好ましい。本発明に係る光学補償積層フィルムを得るために、上記基材フィルムの少なくとも片面に、上記水溶液又は水分散液を塗工速度１００ｍｍ／秒以上で塗工して、光学異方層を形成することが好ましい。リオトロピック液晶性を有する水溶性樹脂は、塗工剪断力によって分子配向することから、塗工速度をできるだけ速くすることで、液晶樹脂分子の配向を緻密に制御できる。
【００８３】
上記塗工速度は、塗工時の基材フィルムの走行速度により制御、定義することが可能である。塗工速度が１００ｍｍ／秒以上であると、液晶樹脂分子が十分に配向し、この結果高い光学異方性が得られ、更に正面レターデーションＲ０などの光学補償性能をより一層高めることができる。更に、光軸精度を十分に発現させることができ、この結果表示むらが発生し難くなり、液晶表示装置の表示品位を高めることができる。なお、上記光軸精度は、液晶表示装置特に視野角特性及びコントラストに大きな影響を与える光学性能の一つである。
【００８４】
上記塗工速度は、５０００ｍｍ／秒以下であることが好ましく、２０００ｍｍ／秒以下であることがより好ましく、１０００ｍｍ／秒以下であることが更に好ましい。この場合には、塗工むらがより一層生じ難くなり、光学異方層の均一性をより一層高めることができる。
【００８５】
上記基材フィルム上に、上記水溶液又は水分散液を塗工した後、塗膜中の水を乾燥して除去することにより、光学異方層を形成できる。乾燥温度は、上記基材フィルムのガラス転移温度以下であり、かつ溶媒である水の沸点以下であることが好ましい。塗工後の液晶樹脂分子の配向を崩さないように乾燥することが好ましい。乾燥温度は、１０〜１００℃であることが好ましい。乾燥温度の好ましい下限は２０℃、好ましい上限は６０℃である。
【００８６】
塗膜に熱風などの風をあてて乾燥する場合には、風圧は、未乾燥状態の塗膜が力学的負荷により乱されることがなく、かつ上記基材フィルム及び塗膜における熱的負荷が大きくなりすぎないように、適宜設定される。風圧は、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましい。風圧の好ましい下限は０．３ＭＰａ、好ましい上限は０．８ＭＰａである。
【００８７】
上記乾燥時間は５秒〜１時間であることが好ましい。上記乾燥温度のより好ましい下限は１０秒、更に好ましい下限は２０秒、より好ましい上限は３０分、更に好ましい上限は１０分である。乾燥時間が短すぎると、溶媒の揮発が不十分となるので、塗膜は脆弱になる。乾燥時間が長すぎると、光学異方層を構成する液晶樹脂分子の配向が緩和され、光学補償性能が低下する傾向がある。
【００８８】
（光学補償積層フィルム）
本発明に係る光学補償積層フィルムは、下記式（２）で定義される正面レターデーションＲ０（ｎｍ）が、５０〜５００ｎｍであることが好ましい。
【００８９】
Ｒ０（ｎｍ）＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ・・・式（２）
上記式（２）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｄは光学補償積層フィルムの平均厚み（ｎｍ）を表す。
【００９０】
正面レターデーションＲ０が５０〜５００ｎｍであると、光学補償積層フィルムを液晶表示装置に組み込むと、表示画像を高品位にすることができる。正面レターデーションＲ０が５０〜５００ｎｍの範囲を逸脱すると、液晶を通過する際の複屈折を補償しきれず、光学補償積層フィルムとしての商品価値が低下する。
【００９１】
本発明に係る光学補償積層フィルムは、下記式（３）で定義されるＮＺ係数が、０．０〜５．０であることが好ましい。
【００９２】
Ｎｚ係数＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）  ・・・式（３）
上記式（３）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表す。
【００９３】
ＮＺ係数が０．０〜５．０であると、光学補償積層フィルムを液晶表示装置に組み込むと、液晶表示装置の視野角を広くし、コントラストを高めることができる。従って、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることができる。
【００９４】
本発明に係る光学補償積層フィルムは、光学補償積層フィルムフィルムの幅方向に対する光軸が０．５°以内であることが好ましい。光軸が０．５°以内である光学補償積層フィルムを液晶表示装置に組み込むと、高い視野角補償性能を発揮し、表示むらがなく、表示画像を安定化させることができる。
【００９５】
上記光学補償積層フィルムのヘイズ値は、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが特に好ましい。ヘイズ値が低いほど、光学補償積層フィルムが偏光板保護フィルム等に用いられた場合に、光洩れ等が生じ難くなる。
【００９６】
上記光学補償積層フィルムを各種処理液に浸漬して化学処理し、光学異方層の膜強度又は外観を、更に高めることも可能である。上記光学補償積層フィルムの表面は、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射及び各種薬品処理等による表面活性処理が施されてもよい。光学補償積層フィルムの表面に、塗工加工又は蒸着による各種の機能コーティング又はラミネート等を行うことにより、光学補償積層フィルムに諸性能を付加し、光学補償積層フィルムの利用価値を更に向上させることもできる。
【００９７】
以下に実施例を挙げて、本発明を更に詳しく説明する。本発明はこれら実施例に限定されない。
【００９８】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例１）
芳香族ポリアミド樹脂（テレフタレート成分５０モル％と、ジスルホニルベンジジン成分５０モル％との重縮合物）をイオン交換水に加え、芳香族ポリアミド樹脂を１０重量％で含む水溶液を得た。超音波攪拌装置を用いて、溶液を５０℃に保温しながら、３０分間攪拌した。その後、上記溶液にテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウム（屈折率：ｎｘ＝１．６９、ｎｙ＝１．６９、ｎｚ＝１．５６）を、上記芳香族ポリアミド樹脂１００重量部に対する上記テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量が３０重量部となるように加え、溶液を５０℃に保温しながら更に３０分間攪拌して、水溶液（１）を得た。
【００９９】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例２）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量を、上記芳香族ポリアミド樹脂１００重量部に対するテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量が１０重量部となるように変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（２）を得た。
【０１００】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例３）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量を、上記芳香族ポリアミド樹脂１００重量部に対する上記テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量が５０重量部となるように変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（３）を得た。
【０１０１】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例４）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを、ビフェニルジスルホン酸ジアンモニウム（屈折率：ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．７０、ｎｚ＝１．５５）に変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（４）を得た。
【０１０２】
（水溶性樹脂および界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例５）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを、クアテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウム（屈折率：ｎｘ＝１．６７、ｎｙ＝１．６７、ｎｚ＝１．５８）に変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（５）を得た。
【０１０３】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例６）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量を、上記芳香族ポリアミド樹脂１００重量部に対する上記テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムの添加量が３００重量部となるように変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（６）を得た。
【０１０４】
（水溶性樹脂を含有する水溶液又は水分散液の調整例７）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを添加しなかったこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（７）を得た。
【０１０５】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例８）
芳香族ポリアミド樹脂を、脂肪族ポリアミド樹脂であるポリ−ε−カプラミドのスルホン化物（リオトロピック液晶性を有さない）に変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（８）を得た。
【０１０６】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例９）
芳香族ポリアミド樹脂を、脂肪族ポリアミド樹脂であるポリヘキサメチレンアジパミドのスルホン化物（リオトロピック液晶性を有さない）に変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（９）を得た。
【０１０７】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例１０）
芳香族ポリアミド樹脂を、芳香族ポリエステル樹脂であるポリブチレンイソフタレートのスルホン化物（リオトロピック液晶性を有さない）に変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（１０）を得た。
【０１０８】
（水溶性樹脂及び界面活性化合物を含有する水溶液又は水分散液の調整例１１）
テルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを、アセチレングリコール系界面活性剤（商品名「オルフィンＥ１００４」、日信化学工業社製）に変更したこと以外は、調整例１と同様にして水溶液（１２）を得た。
【０１０９】
（基材フィルムの作製例１）
ポリエチレンテレフタレート樹脂（融点：２５９℃、ガラス転移温度：６９℃、ユニチカ社製、以下ＰＥＴと記載することがある）を用意した。このポリエチレンテレフタレート樹脂を、２８０℃で一軸溶融押出成形装置に供給して、溶融混練し、押出装置先端に取付けたＴダイからフィルム状に溶融押出しした。溶融押出しされたフィルムを、ピニングワイヤー方式により２０℃の回転ドラムに密着させて急冷した。その後、厚み２５μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）を、ブロッキング防止の挟合紙として貼合わせながらロール状に巻取り、幅６５０ｍｍ及び平均厚み１００μｍの基材フィルム（Ａ）（未延伸ＰＥＴフィルム）を得た。なお、基材フィルムの作製において、基材フィルムの表面にラビング処理はしなかった。
【０１１０】
（基材フィルムの作製例２）
ポリエチレンテレフタレート樹脂を、ノルボルネン系樹脂（商品名「ゼオノア１６００」、ガラス転移温度：１６８℃、日本ゼオン社製、以下ＣＯＰと記載することがある）に変更したこと、押出成形温度を２８０℃から３００℃に変更したこと以外は、作製例１と同様にして幅６５０ｍｍ及び平均厚み８０μｍの基材フィルム（Ｂ）（未延伸ＣＯＰフィルム）を作製した。
【０１１１】
（基材フィルムの作製例３）
作製例１で得られた基材フィルム（Ａ）の表面を、ナイロン６製フェルトを用いてラビング処理した後、処理面をシャワー噴流水で洗浄し、表面の残存水分を圧搾空気で除去して、基材フィルム（Ｃ）（未延伸ＰＥＴフィルム）を作製した。
【０１１２】
（実施例１）
基材フィルム（Ａ）を、連続的に５００ｍｍ／秒の一定速度でロール搬送により巻出しながら、２ｋＷ／ｍ２の出力でコロナ処理した後、塗液吐出量３０ｇ／分に流量調整したスロットダイコーターを用いて、基材フィルム上に、水溶液（１）を塗工速度５００ｍｍ／秒で塗工し、塗膜を形成した。その後、塗膜が形成された基材フィルムを直ちに、加熱炉へ導入して、温度５０℃及び風圧０．５Ｍｐａの圧搾熱風で２０秒間、塗膜の表面を乾燥処理した。室温まで冷却した後、巻取張力１００Ｎ／ｍで巻取用コアにロール状に巻取り、光学補償積層フィルムを得た。
【０１１３】
（実施例２〜１２及び比較例１〜５）
基材フィルムの種類を、基材フィルム上に塗工した水溶液の種類、及び基材フィルムの搬送速度（塗工速度）を下記の表１に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学補償積層フィルムを得た。
【０１１４】
（評価）
（１）塗工性
基材フィルム上に水溶液を塗工した際に、塗膜の外観を目視により観察し、下記の基準により塗工性を評価した。
【０１１５】
[塗工性の判定基準]
○：塗工すじ及び弾きが生じず、塗膜の外観不良が発生することなく、均一に塗工できた
×：塗工すじ又は弾きが生じて、塗膜の外観不良が発生し、安定した塗工をすることが困難であった
【０１１６】
（２）光学補償積層フィルムの外観
得られた光学補償積層フィルムをクロスニコルに配設した偏光板間に挟んで、目視により観察し、下記の基準により光学補償積層フィルムの外観を評価した。
【０１１７】
[光学補償積層フィルムの外観]
○：点状、線状及び面状のいずれの形状の色むら及び光抜けも認められず、均質な外観であった
×：点状、線状又は面状の色むら及び光抜け内の少なくとも一つが確認され、部分的に不均質な外観であった
【０１１８】
（３）光学補償積層フィルムの正面レターデーション値Ｒ０
自動複屈折測定装置（王子計測機器社製、型番「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」）を用いて、測定光の波長を５５０ｎｍとして、光学補償積層フィルムの長手方向に直交する軸を基準軸とし、光学補償積層フィルムを幅方向に５０ｍｍ間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償積層フィルムの正面レターデーション値Ｒ０とした。
【０１１９】
（４）光学補償積層フィルムのＮＺ係数
自動複屈折測定装置（王子計測機器社製、型番「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」）を用いて、測定光の波長を５５０ｎｍとして、光学補償積層フィルムの長手方向に直交する軸を基準軸とし、光学補償積層フィルムを幅方向に５０ｍｍ間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償積層フィルムのＮＺ係数とした。
【０１２０】
（５）光学補償積層フィルムの曇度
曇度計（東京電色社製、型番「ＴＣ−Ｈ３ＤＰＫ」）を用いて、光学補償積層フィルムを幅方向に５０ｍｍ間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償積層フィルムの曇度とした。
【０１２１】
結果を下記の表１，２に示す。
【０１２２】
【表１】
2011180553.tif 000005
【０１２３】
【表２】
2011180553.tif 000006
【符号の説明】
【０１２４】
１…光学補償積層フィルム
２…基材フィルム
２ａ…第１の表面
２ｂ…第２の表面
３…光学異方層
【図１】
2011180553.tif 000007