(57)【要約】【課題】偏光ビームスプリッターの平面度を調整でき、画素ずれやフォーカスずれを抑制する偏光ビームスプリッター調整機構、及びプロジェクターを提供する。【解決手段】偏光ビームスプリッター調整機構６００は、偏光ビームスプリッター３２０と、偏光ビームスプリッター３２０を固定する固定枠６１０と、固定枠６１０を押圧して変形させることにより偏光ビームスプリッター３２０の変形量を調整する調整ねじ６２０と、調整ねじ６２０の押圧力に抗して固定枠６１０に付勢力を付与する付勢ばね６３０と、固定枠６１０との間に付勢ばね６３０を介在させ、調整ねじ６２０及び付勢ばね６３０と協働し、固定枠６１０を変形させて保持する保持枠６４０と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光ビームスプリッターと、
前記偏光ビームスプリッターを固定する固定部材と、
前記固定部材を押圧して変形させることにより前記偏光ビームスプリッターの変形量を調整する調整部材と、
前記調整部材の押圧力に抗して前記固定部材に付勢力を付与する付勢部材と、
前記固定部材との間に前記付勢部材を介在させ、前記調整部材及び前記付勢部材と協働し、前記固定部材を変形させて保持する保持部材と、
を備えることを特徴とする偏光ビームスプリッター調整機構。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光ビームスプリッター調整機構であって、
前記付勢部材は、板ばねで構成されていることを特徴とする偏光ビームスプリッター調整機構。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の偏光ビームスプリッター調整機構であって、
前記調整部材は、ねじで構成されていることを特徴とする偏光ビームスプリッター調整機構。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の偏光ビームスプリッター調整機構であって、
前記固定部材は略矩形状に形成され、
前記調整部材は前記固定部材の角部近傍に設置され、
前記付勢部材は前記固定部材の辺部近傍に設置されていることを特徴とする偏光ビームスプリッター調整機構。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の偏光ビームスプリッター調整機構と、
画像信号に応じて光束を変調する反射型光変調素子と、
を備えることを特徴とするプロジェクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光ビームスプリッター調整機構と、この偏光ビームスプリッター調整機構を備えたプロジェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、反射型光変調素子を備えたプロジェクターが知られている。このプロジェクターには、ワイヤーグリッド型の偏光ビームスプリッターを備えたものがある。
【０００３】
特許文献１では、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターの熱膨張に起因する投射映像の画素ずれを抑制するために、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターを取付ける取付部材と、取付部材に配置され、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターの厚さ方向への変形を規制する規制部材と、取付部材に配置され、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターが厚さ方向と垂直な面で回転するのを規制する回転規制部材とを有する投射型表示装置（プロジェクター）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３７７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターは、加工精度に起因する平面度が、画素ずれやフォーカスずれに大きな影響を及ぼすという課題がある。特許文献１では、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターの平面度に関しては触れていない。また、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッターの加工精度には限界があり、加工精度（平面度）を向上させ、コストは安価とすることは難しいという課題もある。
従って、偏光ビームスプリッターの平面度を調整でき、画素ずれやフォーカスずれを抑制する偏光ビームスプリッター調整機構、及びプロジェクターが要望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例１）本適用例に係る偏光ビームスプリッター調整機構は、偏光ビームスプリッターと、偏光ビームスプリッターを固定する固定部材と、固定部材を押圧して変形させることにより偏光ビームスプリッターの変形量を調整する調整部材と、調整部材の押圧力に抗して固定部材に付勢力を付与する付勢部材と、固定部材との間に付勢部材を介在させ、調整部材及び付勢部材と協働し、固定部材を変形させて保持する保持部材と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
このような偏光ビームスプリッター調整機構によれば、偏光ビームスプリッター、固定部材、調整部材、付勢部材、及び保持部材を備え、固定部材を押圧して変形させることにより偏光ビームスプリッターの変形量を調整して保持することで、偏光ビームスプリッターの平面度を調整することができる。これにより、偏光ビームスプリッターの加工精度に依存することなく、偏光ビームスプリッターの平面度を調整することができる。従って、画素ずれやフォーカスずれを抑制することができる偏光ビームスプリッター調整機構を実現できる。
【０００９】
（適用例２）上記適用例に係る偏光ビームスプリッター調整機構において、付勢部材は、板ばねで構成されていることが好ましい。
【００１０】
このような偏光ビームスプリッター調整機構によれば、付勢部材を容易に構成することができる。
【００１１】
（適用例３）上記適用例に係る偏光ビームスプリッター調整機構において、調整部材は、ねじで構成されていることが好ましい。
【００１２】
このような偏光ビームスプリッター調整機構によれば、調整部材を容易に構成することができる。
【００１３】
（適用例４）上記適用例に係る偏光ビームスプリッター調整機構において、固定部材は略矩形状に形成され、調整部材は固定部材の角部近傍に設置され、付勢部材は固定部材の辺部近傍に設置されていることが好ましい。
【００１４】
このような偏光ビームスプリッター調整機構によれば、固定部材の変形（偏光ビームスプリッターの調整）に際し、付勢部材による付勢力と調整部材による押圧力とのバランスが取り易くなり、保持部材に対して固定部材を確実に保持させながら変形させることができる。
【００１５】
（適用例５）本適用例に係るプロジェクターは、上述したいずれかの偏光ビームスプリッター調整機構と、画像信号に応じて光束を変調する反射型光変調素子と、を備えることを特徴とする。
【００１６】
このようなプロジェクターによれば、偏光ビームスプリッターの平面度を調整することができる偏光ビームスプリッター調整機構を備えることで、画素ずれやフォーカスずれを抑制することができるため、投写画像品質を向上させる反射型のプロジェクターを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係るプロジェクターの光学系の構成を示す概平面図。
【図２】偏光ビームスプリッター調整機構を示す斜視図。
【図３】偏光ビームスプリッター調整機構の平面図及び断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、実施形態を図面に基づいて説明する。
（実施形態）
【００１９】
図１は、本実施形態に係るプロジェクター１の光学系の構成を示す概平面図である。図１を参照して、プロジェクター１の光学系の構成及び動作を簡単に説明する。
【００２０】
本実施形態のプロジェクター１は、赤色（Ｒ）光、緑色（Ｇ）光、青色（Ｂ）光のそれぞれに対応した３つの反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂを備えており、光源１１１から射出された光束を各反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂで画像信号に応じて変調して画像光を形成し、その画像光をスクリーン等に拡大投写する。
【００２１】
プロジェクター１は、照明光学系１００と、色分離光学系２００と、平行化レンズ２５０Ｒ，２５０Ｇ，２５０Ｂと、位相差板２６０Ｒ，２６０Ｇ，２６０Ｂと、偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂと、反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂと、光合成部であるクロスダイクロイックプリズム４００と、投写光学部５００とを備えている。
【００２２】
照明光学系１００は、光源１１１と、リフレクター１１２と、第１のレンズアレイ１２０と、第２のレンズアレイ１３０と、偏光変換素子１４０と、重畳レンズ１５０とを有している。
【００２３】
光源１１１は超高圧水銀ランプで構成されている。リフレクター１１２は放物面鏡を有して構成されている。光源１１１から射出された放射状の光束は、リフレクター１１２で反射されて略平行光束となり、第１のレンズアレイ１２０へと射出される。なお、光源１１１としては、超高圧水銀ランプに限らず、例えばメタルハライドランプ等を採用してもよい。また、リフレクター１１２としては、放物面鏡に限らず、楕円面鏡からなるリフレクターの射出面に平行化凹レンズを配置した構成を採用してもよい。
【００２４】
第１のレンズアレイ１２０及び第２のレンズアレイ１３０は、小レンズをマトリックス状に配列して形成されている。光源１１１から射出された光束は、第１のレンズアレイ１２０によって複数の微小な部分光束に分割され、各部分光束は、第２のレンズアレイ１３０及び重畳レンズ１５０によって照明対象である３つの反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂの表面で重畳される。
【００２５】
偏光変換素子１４０は、ランダム偏光の光束を一方向の偏光光に揃える機能を有している。そして、偏光変換素子１４０は、本実施形態では、色分離光学系２００での光束の損失が少ないＳ偏光光に揃えている。
【００２６】
色分離光学系２００は、照明光学系１００から射出された光束（Ｓ偏光光）を、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光の３つの色光に分離する機能を有している。そして、色分離光学系２００は、Ｂ光反射ダイクロイックミラー２１０、ＲＧ光反射ダイクロイックミラー２２０、Ｇ光反射ダイクロイックミラー２３０、及び反射ミラー２４０，２４５を備えている。
【００２７】
照明光学系１００から射出された光束のうち、Ｂ光成分は、Ｂ光反射ダイクロイックミラー２１０によって反射され、更に反射ミラー２４０によって反射されて平行化レンズ２５０Ｂに至る。一方、照明光学系１００から射出された光束のうち、Ｒ光、Ｇ光成分は、ＲＧ光反射ダイクロイックミラー２２０によって反射され、更に反射ミラー２４５によって反射されてＧ光反射ダイクロイックミラー２３０に至る。その中のＧ光成分は、Ｇ光反射ダイクロイックミラー２３０で反射されて平行化レンズ２５０Ｇに至り、Ｒ光成分は、Ｇ光反射ダイクロイックミラー２３０を透過して、平行化レンズ２５０Ｒに至る。
【００２８】
平行化レンズ２５０Ｒ，２５０Ｇ，２５０Ｂは、照明光学系１００から射出された複数の部分光束を略平行な光束に変換し、対応する反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂを照明する。位相差板２６０Ｒ，２６０Ｇ，２６０Ｂは、λ／２板であり、平行化レンズ２５０Ｒ，２５０Ｇ，２５０Ｂを透過したそれぞれの色光（Ｓ偏光光）をＰ偏光光に変換する。
【００２９】
偏光ビームスプリッター３２０Ｇは、ワイヤーグリッド型に構成されており、入射する色光の光軸に対して略４５°傾斜して設置されている。ワイヤーグリッド型の偏光ビームスプリッター３２０Ｇは、ガラス基板３２１（図３参照）の表面にアルミニウムのリブ（図示省略）を線幅数十ｎｍ、ピッチ百数十ｎｍで形成したものである。そして、アルミニウムのリブに垂直な偏光成分（本実施形態ではＰ偏光光）は透過し、平行な偏光成分（本実施形態ではＳ偏光光）は反射する機能を有している。
【００３０】
偏光ビームスプリッター３２０Ｇは、位相差板２６０Ｇから射出されたＧ光（Ｐ偏光光）を透過して反射型光変調素子３１０Ｇに射出する。そして、偏光ビームスプリッター３２０Ｇは、反射型光変調素子３１０Ｇで反射されたＧ光のうち、Ｓ偏光光を反射してクロスダイクロイックプリズム４００に射出する。なお、偏光ビームスプリッター３２０Ｇは、Ｓ偏光光を透過してＰ偏光光を反射する構成にしてもよいが、本実施形態のように、Ｐ偏光光を透過してＳ偏光光を反射する構成の方が光の損失が少ない。
【００３１】
偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｂも偏光ビームスプリッター３２０Ｇと同様に形成され、同様の機能を有している。そして、偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｂは、位相差板２６０Ｒ，２６０Ｂから射出されたＲ光（Ｐ偏光光）、Ｂ光（Ｐ偏光光）を透過して反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｂにそれぞれ射出し、反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｂで反射されたＲ光、Ｂ光のうち、Ｓ偏光光を反射してクロスダイクロイックプリズム４００にそれぞれ射出する。
【００３２】
反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂは、対向する基板間に液晶層が挟持された構造を有しており、一方の基板には、スイッチング素子が接続された反射画素電極がマトリックス状に設けられ、他方の基板（透明基板）には、対向電極が形成されている。そして、反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂは、反射画素電極と対向電極との間に電圧が印加されることにより液晶層が駆動され、偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂをそれぞれ透過したＲ光、Ｇ光、Ｂ光を印加された電圧（画像信号）に応じて変調する。
【００３３】
クロスダイクロイックプリズム４００は、三角柱状の４つのプリズムを貼り合わせることにより、略正方形断面の角柱状に形成されており、Ｘ字状の貼り合わせ面に沿って誘電体多層膜４１０，４２０が設けられている。誘電体多層膜４１０は、Ｇ光を透過してＲ光を反射し、誘電体多層膜４２０は、Ｇ光を透過してＢ光を反射する。そして、クロスダイクロイックプリズム４００は、偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂから射出された各色光の変調光をそれぞれ入射面４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂから入射して合成し、カラー画像を表す画像光を形成し、投写光学部５００に射出する。
【００３４】
投写光学部５００は、クロスダイクロイックプリズム４００からの画像光をスクリーン等に拡大投写する。
【００３５】
図２は、偏光ビームスプリッター調整機構６００を示す斜視図である。図３は、偏光ビームスプリッター調整機構６００の平面図及び断面図であり、図３（ａ）は平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ´における断面図である。なお、図２は、プロジェクター１の光学系を構成する光学部材を収容する収容ケース８００の一部も図示している。図２、図３を参照して、偏光ビームスプリッター調整機構６００の構成及び動作を説明する。なお、偏光ビームスプリッター調整機構６００を以降の説明においてＰＢＳ調整機構６００と称して使用する。
【００３６】
本実施形態のプロジェクター１は、３つの色光に対して、偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂをそれぞれ用いた３つのＰＢＳ調整機構６００を使用している。なお、本実施形態の偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂは、色光による構成の違いはなく、どの色光用に使用するかで符号（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を付記している。従って、偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂをそれぞれ用いて構成する３つのＰＢＳ調整機構６００は、３つとも同様の構成となる。以降では、説明の便宜上、Ｇ光用（偏光ビームスプリッター３２０Ｇ用）のＰＢＳ調整機構６００を例にして説明を行う。
【００３７】
ＰＢＳ調整機構６００は、略矩形状の偏光ビームスプリッター３２０Ｇ、固定部材としての固定枠６１０、調整部材としての調整ねじ６２０、付勢部材としての付勢ばね６３０、及び保持部材としての保持枠６４０を有して構成されている。
【００３８】
図３に示すように、固定枠６１０は、略矩形状の板状部材で形成され、略中央に略矩形状の開口部６１１が形成されている。また、固定枠６１０の４つの角部近傍には、貫通孔６１２が形成されている。この固定枠６１０の表面には、開口部６１１を覆うようにして偏光ビームスプリッター３２０Ｇが固着される。詳細には、偏光ビームスプリッター３２０Ｇのガラス基板３２１の外周縁部を、固定枠６１０の開口部６１１周辺の表面に固着している。なお、貫通孔６１２には、後述する調整ねじ６２０が挿通される。
【００３９】
保持枠６４０は、略矩形状の板状部材で形成され、固定枠６１０の開口部６１１に対応させて、略中央に略矩形状の開口部６４１が形成されている。また、保持枠６４０の４つの角部近傍には、固定枠６１０の貫通孔６１２に対応させて、ねじ孔６４２が形成されている。付勢ばね６３０は、板ばねを曲折して形成されている。本実施形態では、４つの付勢ばね６３０を用いている。
【００４０】
ＰＢＳ調整機構６００の組立てに関して説明する。
本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、最初に、付勢ばね６３０を固定枠６１０と保持枠６４０との間に介在させる。詳細には、付勢ばね６３０を、固定枠６１０の４つの辺部近傍、及びこれに対応する保持枠６４０の４つの辺部近傍に設置する。その後、４つの調整ねじ６２０を固定枠６１０のそれぞれの貫通孔６１２に挿通し、保持枠６４０のねじ孔６４２にねじ締めする。これにより、保持枠６４０は、固定枠６１０との間に付勢ばね６３０を介在させ、調整ねじ６２０及び付勢ばね６３０と協働し、固定枠６１０を保持する状態となる。以上により、ＰＢＳ調整機構６００が組立てられる。
【００４１】
なお、ＰＢＳ調整機構６００は、４つの角部近傍に設置した調整ねじ６２０をねじ締めすることにより、固定枠６１０に押圧力を付与する。この場合、この押圧力に抗するように、付勢ばね６３０が固定枠６１０に付勢力を付与する。この力のバランスで、固定枠６１０は、保持枠６４０に保持されて固定することができる。
【００４２】
ＰＢＳ調整機構６００の調整方法に関して説明する。
本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、概略、４つの付勢ばね６３０を支点とし、４つの調整ねじ６２０を力点として、固定枠６１０を変形させる（撓ませる）調整方法となる。ここで、一様の押圧力で固定枠６１０を固定している状態から、いずれかの調整ねじ６２０を更にねじ締めすることにより、この調整ねじ６２０に対応する固定枠６１０の領域を、他の調整ねじ６２０に対応する固定枠６１０の領域に比べて変形させる（撓ませる）ことができる。本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、４つの調整ねじ６２０のねじ締め量をそれぞれ可変することにより、固定枠６１０の変形量（撓み量）を調整することができる。
【００４３】
なお、ＰＢＳ調整機構６００は、固定枠６１０を変形させる（撓ませる）ことで、固定枠６１０に固着されている偏光ビームスプリッター３２０Ｇを変形させることができ、偏光ビームスプリッター３２０Ｇの平面度を調整することができる。
【００４４】
なお、上記では、Ｇ光用の偏光ビームスプリッター３２０Ｇの平面度を調整するＰＢＳ調整機構６００に関して説明したが、Ｒ光用及びＢ光用の偏光ビームスプリッター３２０Ｒ，３２０Ｂの平面度を調整するＰＢＳ調整機構６００も同様に構成され、同様に調整することができる。
【００４５】
本実施形態では、３つのＰＢＳ調整機構６００を用いて、それぞれの偏光ビームスプリッター３２０の変形量（撓み量）を同等となるように調整している。また、それぞれの偏光ビームスプリッター３２０の撓みの方向が揃うように調整している。そして、調整された３つのＰＢＳ調整機構６００は、収容ケース８００に色光毎に形成する溝部８１０に収容して固定する。
【００４６】
図２に示すように、Ｇ光用のＰＢＳ調整機構６００を収容ケース８００の溝部８１０に収容した場合のＰＢＳ調整機構６００の動作に関して説明する。
位相差板２６０Ｇ（図１参照）から射出されたＧ光（Ｐ偏光光）は、保持枠６４０の開口部６４１、及び固定枠６１０の開口部６１１を通過して偏光ビームスプリッター３２０Ｇに入射する。偏光ビームスプリッター３２０Ｇに入射したＧ光（Ｐ偏光光）は、偏光ビームスプリッター３２０Ｇを透過する。透過したＧ光（Ｐ偏光光）は、反射型光変調素子３１０Ｇ（図１参照）でＳ偏光光として反射される。反射されたＧ光（Ｓ偏光光）は、ＰＢＳ調整機構６００の偏光ビームスプリッター３２０Ｇにより反射され、クロスダイクロイックプリズム４００（図１参照）の入射面４００Ｇに入射する。なお、Ｒ光用及びＢ光用のＰＢＳ調整機構６００においても、色光の違いはあるが、Ｇ光用のＰＢＳ調整機構６００の動作と同様となる。
【００４７】
上述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、偏光ビームスプリッター３２０、固定枠６１０、調整ねじ６２０、付勢ばね６３０、及び保持枠６４０を備えている。そして、ＰＢＳ調整機構６００は、固定枠６１０を押圧して変形させることにより偏光ビームスプリッター３２０の変形量を調整して保持することで、偏光ビームスプリッター３２０の平面度を調整することができる。これにより、偏光ビームスプリッター３２０の加工精度に限界があり、従来の加工精度のままであっても、偏光ビームスプリッター３２０の平面度を調整することができる。従って、画素ずれやフォーカスずれを抑制することができる偏光ビームスプリッター調整機構６００を実現できる。
【００４８】
本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、付勢部材として板ばねで形成される付勢ばね６３０で構成されている。これにより、付勢部材を容易に構成することができる。また、調整部材として調整ねじ６２０で構成されている。これにより、調整部材を容易に構成することができる。
【００４９】
本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、固定部材としての固定枠６１０が略矩形状に形成され、調整ねじ６２０が固定枠６１０の４つの角部近傍に設置され、付勢ばね６３０が固定枠６１０の４つの辺部近傍に設置されている。これにより、固定枠６１０の変形（偏光ビームスプリッター３２０の平面度の調整）に際し、付勢ばね６３０による付勢力と調整ねじ６２０による押圧力とのバランスが取り易くなり、保持枠６４０に対して固定枠６１０を確実に保持させながら変形させることができる。また、高精度な変形（調整）を行うことができる。
【００５０】
本実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、偏光ビームスプリッター３２０の加工精度に依存することなく、偏光ビームスプリッター３２０の平面度を調整できるため、画素ずれやフォーカスずれを抑制できると共に、製造コストも抑制することができる。
【００５１】
本実施形態のプロジェクター１は、偏光ビームスプリッター３２０の平面度を調整することができる偏光ビームスプリッター調整機構６００を備えることで、画素ずれやフォーカスずれを抑制することができるため、投写画像品質を向上させることができる。
【００５２】
なお、上述した実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更や改良等を加えて実施することが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５３】
（変形例１）前記実施形態のＰＢＳ調整機構６００において、付勢部材は、板ばねで形成される付勢ばね６３０で構成されている。しかし、これに限定されず、付勢部材は、板ばねを含み、弾性を有する部材で構成され、概略、支点として動作すればよい。
【００５４】
（変形例２）前記実施形態のＰＢＳ調整機構６００において、調整ねじ６２０は、固定枠６１０の４つの角部近傍に設置され、付勢ばね６３０は固定枠６１０の４つの辺部近傍に設置されている。しかし、これに限定されず、調整ねじ（調整部材）や付勢ばね（付勢部材）は設置位置を適宜変更することができる。
【００５５】
（変形例３）前記実施形態のＰＢＳ調整機構６００において、保持部材は、単一部材の保持枠６４０として構成されている。しかし、これに限定されず、本実施形態での収容ケース８００を保持部材として代用した構成としてもよい。
【００５６】
（変形例４）前記実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、各平行化レンズ２５０Ｒ，２５０Ｇ，２５０Ｂと各反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂとの間にそれぞれ設置しているが、これに限られず、プロジェクターの光学系に応じて適宜必要な箇所に必要な個数を設置することができる。
【００５７】
（変形例５）前記実施形態のＰＢＳ調整機構６００は、ワイヤーグリッド型の偏光ビームスプリッター３２０を一例として実施しているが、照明光学系１００が有する偏光変換素子１４０にも適用することができる。また、透過型の偏光板にも適用することができる。
【００５８】
（変形例６）前記実施形態のプロジェクター１の光学系は、Ｒ光、Ｇ光、及びＢ光に対応する３つの反射型光変調素子３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂを用いるいわゆる３板方式を採用しているが、これに限らず、単板方式を採用してもよい。単板方式の反射型光変調素子にＰＢＳ調整機構を用いた場合には、投写画像の部分的なフォーカスずれを抑制することができる。
【００５９】
（変形例７）前記実施形態のプロジェクター１の光学系において、光源１１１は、超高圧水銀ランプ等の放電式ランプを採用しているが、レーザーダイオード、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子、シリコン発光素子等の各種固体発光素子を採用してもよい。
【符号の説明】
【００６０】
１…プロジェクター、３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂ…反射型光変調素子、３２０Ｒ，３２０Ｇ，３２０Ｂ…偏光ビームスプリッター、４００…クロスダイクロイックプリズム、６００…偏光ビームスプリッター調整機構（ＰＢＳ調整機構）、６１０…固定枠、６１１…開口部、６１２…貫通孔、６２０…調整ねじ、６３０…付勢ばね、６４０…保持枠、６４１…開口部、６４２…ねじ孔。
【図１】
2011169945.tif 000003
【図２】
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【図３】
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