(57)【要約】【課題】需要先にガスを供給する需要流路に、着脱可能な外部の系から、空気を混入させることなく、ガスを供給できるガス供給システムを提供する。【解決手段】需要流路１３に受入弁１４を介して接続される受入流路１５の受入カプラ１７と、ガス供給源１９に供給弁２３を介して接続される供給流路２６の供給カプラ２５とを、受入弁１４および供給弁２３を閉鎖した状態で結合し、受入流路１５または供給流路２６に排気流路２８を接続する排気弁２７を閉鎖した状態で供給弁２３を開放することにより受入流路１５および供給流路２６の中にガスを供給してから供給弁２３を閉鎖し、排気弁２７を開放することにより受入流路１５および供給流路２６の中のガスを排出してから排気弁２７を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、供給弁２３および受入弁１４を開いて、需要流路１３にガスを供給する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
需要先にガスを供給する需要流路に受入弁を介して接続され、受入カプラを備える受入流路と、
ガス供給源に供給弁を介して接続され、前記受入カプラと結合可能な供給カプラを備える供給流路と、
前記受入流路または前記供給流路に排気弁を介して接続された排気流路とを有し、
前記受入弁および前記供給弁を閉鎖した状態で、前記受入カプラと前記供給カプラとを結合し、
前記排気弁を閉鎖した状態で前記供給弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中にガスを供給してから前記供給弁を閉鎖し、前記排気弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してから前記排気弁を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、
前記供給弁および前記受入弁を開放して、前記需要流路にガスを供給することを特徴とするガス供給システム。
【請求項２】
前記排気流路は、前記排気弁を介して、前記受入流路または前記供給流路を真空源に接続することを特徴とする請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項３】
前記パージング処理を行う前に、前記排気弁を開放して前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出することを特徴とする請求項２に記載のガス供給システム。
【請求項４】
需要先にガスを供給する需要流路に受入弁を介して接続され、受入カプラを備える受入流路と、ガス供給源に供給弁を介して接続され、前記受入カプラと結合可能な供給カプラを備える供給流路とのいずれかに排気弁を介して排気流路を接続し、
前記受入弁および前記供給弁を閉鎖した状態で、前記受入カプラと前記供給カプラとを結合し、
前記排気弁を閉鎖した状態で前記供給弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中にガスを供給してから前記供給弁を閉鎖し、前記排気弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してから前記排気弁を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、
前記供給弁および前記受入弁を開放して、前記需要流路にガスを供給することを特徴とするガス供給方法。
【請求項５】
前記排気弁を介して、前記受入流路または前記供給流路を真空引きすることを特徴とする請求項４に記載のガス供給方法。
【請求項６】
前記パージング処理を行う前に、前記排気弁を開放して前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出することを特徴とする請求項５に記載のガス供給方法。
【請求項７】
ガスを消費する需要装置と、前記需要装置にガスを供給する需要流路と、前記需要流路に受入弁を介して接続され、受入カプラを備える受入流路とを有し、ワークを保持して閉じた軌条上を周回するワーク搬送台車と、
前記ワーク搬送台車の停止位置に設けられ、ガス供給源に供給弁を介して接続され、前記受入カプラと結合可能な供給カプラを備える供給流路を有する供給ステーションとを含み、
前記受入流路または前記供給流路には、排気弁を介して排気流路が接続され、
前記受入弁および前記供給弁を閉鎖した状態で、前記受入カプラと前記供給カプラとを結合し、
前記排気弁を閉鎖した状態で前記供給弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中にガスを供給してから前記供給弁を閉鎖し、前記排気弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してから前記排気弁を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、
前記供給弁および前記受入弁を開放して、前記需要流路にガスを供給することを特徴とするワーク加工システム。
【請求項８】
前記排気流路は、前記排気弁を介して、前記受入流路または前記供給流路を真空源に接続することを特徴とする請求項７に記載のワーク加工システム。
【請求項９】
前記パージング処理を行う前に、前記排気弁を開放して前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出することを特徴とする請求項８に記載のワーク加工システム。
【請求項１０】
前記需要流路は、ガスを蓄えるバッファタンクを有することを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のワーク加工システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス供給システムおよびガス供給方法並びにワーク加工システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、フラットディスプレイパネルの製造設備（ワーク加工システム）では、特許文献１〜３に記載されているように、複数のガラス基板（ワーク）を保持して、レールに沿って加熱炉内を通過しながらガラス基板の内部空間を真空引きし、発光ガスを封入するワーク搬送台車が使用される。
【０００３】
これらのワーク搬送台車は、パネルに封入する発光ガスのボンベを搭載しており、ボンベの残圧が低くなると、人手によってそれらのボンベを交換する必要があるが、重いボンベを人手で交換する作業は大きな負担である。また、多数のワーク搬送台車を使用する大規模な製造設備では、交換用のボンベも多数必要となり、数多くのボンベを管理しなければならない。
【０００４】
特許文献４のワーク検査装置は、圧縮空気によって開閉して搬送すべきワークを把持するチャックを備えるパレットの圧縮空気の流路にカプラを設け、パレットの停止位置において、カプラに管路を接続して圧縮空気を供給または排出することで、チャックを開閉させている。
【０００５】
フラットディスプレイパネルの製造設備において、ワーク搬送台車の発光ガスの供給配管にカプラを設け、設備内の所定位置において、ワーク搬送台車のカプラに外部流路のカプラを接続して発光ガスを供給すれば、各ワーク搬送台車にボンベを搭載する必要がないようにも思われる。
【０００６】
しかしながら、カプラを用いる場合、カプラの開放部分に存在する外気が、カプラを接続したときにカプラの内部に取り残され、供給する発光ガスに混入してしまう。フラットディスプレイパネルにおいて、発光ガスに僅かでも空気が混入すると、発光性能が著しく低下し、製品の機能が損なわれてしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１７３３３１号公報
【特許文献２】特開２００２−３２４４８６号公報
【特許文献３】特開２００５−２１６８３０号公報
【特許文献４】特開平１１−２９５０６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記問題点に鑑みて、本発明は、需要先にガスを供給する需要流路に、着脱可能な外部の系から、空気を混入させることなく、ガスを供給できるガス供給システムおよびガス供給方法、並びに、ガスを消費するワーク搬送台車に空気を混入させることなくガスを供給できるワーク加工システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明によるガス供給システムは、需要先にガスを供給する需要流路に受入弁を介して接続され、受入カプラを備える受入流路と、ガス供給源に供給弁を介して接続され、前記受入カプラと結合可能な供給カプラを備える供給流路と、前記受入流路または前記供給流路に排気弁を介して接続された排気流路とを有し、前記受入弁および前記供給弁を閉鎖した状態で、前記受入カプラと前記供給カプラとを結合し、前記排気弁を閉鎖した状態で前記供給弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中にガスを供給してから前記供給弁を閉鎖し、前記排気弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してから前記排気弁を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、前記供給弁および前記受入弁を開放して前記需要流路にガスを供給するものとする。
【００１０】
この構成によれば、受入流路および前記供給流路の中の空気の量を、１回のパージング処理で、排気弁の反対側の圧力（例えば大気圧）とガス源の圧力との比率と等しい割合で低下させられる。これを繰り返せば、受入流路および前記供給流路の中の空気の量を所望の限度量以下に低下させられるので、需要流量に限度を超えた空気を混入させずにガスを供給できる。
【００１１】
また、本発明のガス供給システムにおいて、前記排気流路は、前記排気弁を介して、前記受入流路または前記供給流路を真空源に接続してもよい。
【００１２】
この構成によれば、１回のパージング処理において、受入流路および前記供給流路の中の空気の混入量を、真空源の真空圧とガス源の圧力との比率に相当する大きな割合で低減できるので、パージング処理の回数が少なくてよい。
【００１３】
また、本発明のガス供給システムには、前記パージング処理を行う前に、前記排気弁を開放して前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してもよい。
【００１４】
この構成によれば、受入流路および前記供給流路の中ガスを供給する前に、先ず、内部の空気を真空排気するので、空気の混入量を所望の限度量以下に低下させるために、パージング処理によって排気流路から排出するガスの総量を低減でき、供給するガスのロスを低減できる。
【００１５】
また、本発明によるガス供給方法は、需要先にガスを供給する需要流路に受入弁を介して接続され、受入カプラを備える受入流路と、ガス供給源に供給弁を介して接続され、前記受入カプラと結合可能な供給カプラを備える供給流路とのいずれかに排気弁を介して排気流路を接続し、前記受入弁および前記供給弁を閉鎖した状態で、前記受入カプラと前記供給カプラとを結合し、前記排気弁を閉鎖した状態で前記供給弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中にガスを供給してから前記供給弁を閉鎖し、前記排気弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してから前記排気弁を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、前記供給弁および前記受入弁を開放して、前記需要流路にガスを供給する方法とする。
【００１６】
この方法によれば、受入流路および前記供給流路の中の空気の量を、パージング処理を繰り返すことで、受入流路および前記供給流路の中の空気の量を所望の限度量以下に低下させ、需要流路に限度量を超える空気を混入させずにガスを供給できる。
【００１７】
また、本発明によるワーク加工システムは、ガスを消費する需要装置と、前記需要装置にガスを供給する需要流路と、前記需要流路に受入弁を介して接続され、受入カプラを備える受入流路とを有し、ワークを保持して閉じた軌条上を周回するワーク搬送台車と、前記ワーク搬送台車の停止位置に設けられ、ガス供給源に供給弁を介して接続され、前記受入カプラと結合可能な供給カプラを備える供給流路を有する供給ステーションとを含み、前記受入流路または前記供給流路には、排気弁を介して排気流路が接続され、前記受入弁および前記供給弁を閉鎖した状態で、前記受入カプラと前記供給カプラとを結合し、前記排気弁を閉鎖した状態で前記供給弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中にガスを供給してから前記供給弁を閉鎖し、前記排気弁を開放することにより前記受入流路および前記供給流路の中のガスを排出してから前記排気弁を閉鎖するパージング処理を少なくとも１回行い、前記供給弁および前記受入弁を開放して、前記需要流路にガスを供給するものとする。
【００１８】
この構成によれば、周回するワーク搬送台車の需要流路に、供給ステーションからガスを供給する。このとき、パージング処理を行って、カプラの着脱により受入流路および前記供給流路に進入した空気を排出するので、供給されるガスに空気が混入しない。
【００１９】
また、本発明のワーク加工システムにおいて、前記需要流路は、ガスを貯留するガスタンクを有してもよい。
【００２０】
この構成によれば、ワーク搬送台車が供給ステーションから離れた位置において、移動しながらガスを消費することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、この構成によれば、カプラにより着脱される受入流路および前記供給流路の中のガスを排気して残留する空気を排出するパージング処理を繰り返すことで、受入流路および前記供給流路の中に残留する空気の量を所望の限度量以下に低下させ、需要流路に限度量を超える空気を混入させずに、着脱可能な外部のガス供給源から需要流路にガスを供給できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のレイアウト図である。
【図２】図１のパネル搬送台車および封入ステーションの概略図である。
【図３】本発明の第２実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のパネル搬送台車および封入ステーションの概略図である。
【図４】本発明の第３実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のパネル搬送台車および封入ステーションの概略図である。
【図５】本発明の第４実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のパネル搬送台車および封入ステーションの概略図である。
【図６】本発明の第５実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のレイアウト図である。
【図７】図６のパネル搬送台車および供給ステーションの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
これより、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備（ワーク加工システム）のレイアウト図である。このフラットディスプレイパネル製造設備は、フラットディスプレイパネル用のガラス基板（ワーク）を積載して移動する複数のワーク搬送台車１が、閉じた軌条２の上を循環する。
【００２４】
軌条２は、それぞれ直線状のレールＲからなる往路および復路と、往路および復路の両端に設けられ、ワーク搬送台車１を往路から復路または復路から往路へと移し替えるトランスファー装置Ｔとからなる。軌条２の往路は、大半が、ガラス基板を加熱して内部空間を真空引きするための加熱炉３の中を延伸している。加熱炉３の直後には、ガラス基板に発光ガスを封入する封入ステーション４が設けられている。軌条２の復路には、ガラス基板の真空排気および発光ガス封入のための流路となるチップ管を封止する封止ステーション５と、ワーク搬送台車１からガラス基板を取り出すアンローディングステーション６と、メンテナンスのためにワーク搬送台車１を引き出す引き出しステーション７と、ワーク搬送台車１にガラス基板を積み込むローディングステーション８とが設けられている。
【００２５】
図２に、封入ステーション４上に停止しているワーク搬送台車１を簡略化して示す。ワーク搬送台車１は、上部の収容スペースに、ガラス基板Ｐを保持する複数の保持部材９と、それぞれガラス基板Ｐを真空引きして発光ガスを封入するための複数のヘッド１０とを有する。
【００２６】
また、ワーク搬送台車１は、下部の機械スペースに、ヘッド１０を真空引きするための真空ポンプ１１と、所定のプログラムにしたがって各ヘッド１０に発光ガスを供給する複数のバルブを内蔵しており、ヘッド１０と一体となって発光ガスを消費する分配制御装置（需要装置）１２とを備える。分配制御装置１２には、発光ガスを供給するための需要流路１３が接続され、需要流路１３には、受入弁１４を介して分離可能な受入流路１５が接続されている。需要流路１３には、発光ガスを減圧するレギュレータ１６が設けられ、受入流路１５には、末端に雌型の受入カプラ１７が設けられている。受入カプラ１７は、ワーク搬送台車１の底面に下向きに固定されている。
【００２７】
また、ワーク搬送台車１は、底面に、２つのローラからなる位置決め受け部材１８を有する。位置決め受け部材１８は、不図示の搬送バーを受け入れて、ワーク搬送台車１の駆動のためにも供される。
【００２８】
封入ステーション４は、異なる種類の発光ガスのガスボンベ（ガス供給源）１９，２０を有する。ガスボンベ１９，２０には、逆止弁２１，２２および供給弁２３，２４を介して、末端に、ワーク搬送台車１の受入カプラ１７に接続可能なオス型の供給カプラ２５が設けられた供給流路２６が接続されている。供給流路２６には、排気弁２７を介して排気流路２８が接続されている。排気流路２８は、逆止弁２９を有し、一端が大気開放されている。供給カプラ２５は、エアシリンダ３０によって昇降可能に保持され、エアシリンダ３０の動作にしたがって、受入カプラ１７に対して結合および分離される。
【００２９】
また、封入ステーション４は、エアシリンダ３１が昇降することによって、ワーク搬送台車１の位置決め受け部材１８を係止する位置決め部材３２も有している。
【００３０】
本実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備において、ワーク搬送台車１は、封入ステーション４に停止したとき、受入カプラ１７に供給カプラ２５が結合されることにより、受入流路１５に供給流路２６が接続され、ガスボンベ１９または２０から発光ガスが需要流路１３を介して分配制御装置１２に供給される。分配制御装置１２は、プログラムにしたがって各ヘッド１０に発光ガスを供給し、ガラス基板Ｐに発光ガスを封入する。以下に、需要流路１３にガスボンベ１９から発光ガスを供給する際の手順を詳述する。
【００３１】
先ず、受入流路１５の受入弁１４、供給流路２６の供給弁２３，２４および排気弁２７を閉じた状態で、エアシリンダ３０によって供給カプラ２５を受入カプラ１７に結合し、受入流路１５と供給流路２６とを接続する。これにより、受入流路１５および供給流路２６の内部空間は、外気から隔離された閉じた空間になる。このとき、受入流路１５および供給流路２６の内部空間には、大気圧（０．１ＭＰａ）の空気が存在している。
【００３２】
続いて、供給流路２６をガスボンベ１９に接続する供給弁２３を開放する。発光ガスは、ガスボンベ１９から、例えば８ＭＰａの圧力で供給される。すると、受入流路１５および供給流路２６の内部空間には、分圧０．１ＭＰａの空気と、分圧７．９ＭＰａの発光ガスとが満たされた状態になる。つまり、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスには、１．２５％の空気が混入している。供給弁２３を受入流路１５および供給流路２６の内圧が８ＭＰａに達するに足りる時間だけ開放状態に維持した後、再び供給弁２３を閉鎖して、受入流路１５および供給流路２６をガスボンベ１９，２０から分離する。ここで、逆止弁２１は、受入流路１５および供給流路２６の内圧が８ＭＰａまで上昇した後に、受入流路１５および供給流路２６の内部の空気がガスボンベ１９側に逆流することを防止する。
【００３３】
そして、受入弁１４および供給弁２３，２４を閉じた状態で、排気弁２７を開いて、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスを自身の圧力によって排気する。受入流路１５および供給流路２６の内圧が概ね大気圧まで低下するだけの時間だけ排気弁２７を開いたなら、再び排気弁２７を閉じる。このとき、受入流路１５および供給流路２６の内部空間には、１．２５％の空気が混入した大気圧の発光ガスが残される。このとき、受入流路１５および供給流路２６の中の空気の分圧は、１．２５ｋＰａになる。また、ここでも、逆止弁２９は、外気が逆流して供給流路２６に進入することを防止する。
【００３４】
本発明においては、供給弁２３を開いて受入流路１５および供給流路２６に発光ガスを供給してから、排気弁２７を開いて受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスを排気する一連の処理をパージング処理と呼称する。本実施形態では、このパージング処理を３回繰り返すことで、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスに混入した空気の分圧を、０．２Ｐａまで低下させられる。
【００３５】
３回のパージング処理の後、再び、供給弁２３を開いて受入流路１５および供給流路２６の内部空間に発光ガスを供給すると、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスの空気の混入率は、約０．０２４ＰＰＭになる。このように、パージング処理を繰り返して受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスの純度を高めてから、受入バルブ１４を開いて需要流路１３に発光ガスを供給することで、ガラス基板Ｐに許容限度以上に空気が混入した発光ガスを供給して不良品を発生させることを防止できる。
【００３６】
受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスに混入した空気の濃度（または分圧）は、１回のパージング処理につき、ガスボンベ１９からの発光ガスの供給圧力（８ＭＰａ）と排気流路２８の圧力（大気圧）との比率（０．１／８）に等しい割合で減少する。本実施形態において、要求される発光ガスの純度が異なる場合は、それに応じて、パージング処理を繰り返す回数を調整すればよい。
【００３７】
また、封入ステーション４は、位置決め部材３２によって受け部材１８を係止してワーク搬送台車１の位置決めを行うが、さらに、受入カプラ１７または供給カプラ２５が自動調芯機構を備えることが望ましい。また、受入カプラ１７および供給カプラ２５は、いかなる位置にどのような姿勢で設けてもよく、例えば、受入カプラ１７をワーク搬送台車１の側面に横向きに支持してもよい。
【００３８】
図３に、本発明の第２実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のワーク搬送台車１ａおよび封入ステーション４ａを示す。尚、これ以降の説明において、先に説明した実施形態と同じ構成要素には同じ符号を付して、重複する記述は繰り返さない。
【００３９】
本実施形態の封入ステーション４ａにおいて、排気流路２８は、末端に真空ポンプ（真空源）３３が設けられ、排気流路２８内のガスを、例えば、１ｋＰａまで、真空引きできるようになっている。尚、本実施形態のワーク搬送台車１ａは、第１実施形態と全く同じ構成である。
【００４０】
本実施形態において、封入ステーション４ａからワーク搬送台車１に発光ガスを供給するために、受入流路１５に供給流路２６を接続したときは、上述のパージング処理を行う前に、受入流路１５の受入弁１４および排気弁２７と、供給流路２６の供給弁２３，２４を閉じた状態で、排気弁２７を開く。これによって、真空ポンプ３３によって、受入流路１５および供給流路２６の内部空間を真空排気した後、再び排気弁２７を閉じて、受入流路１５および供給流路２６の内部空間の空気の圧力を約１ｋＰａの状態とする。これによって、最初のパージング処理において、供給弁２３を開いて受入流路１５および供給流路２６に発光ガスを供給したときの空気の混入率が、１２５ＰＰＭまで大幅に低下する。
【００４１】
続いての、パージング処理の排気弁２７を開いて受入流路１５および供給流路２６の内部のガスを排出する工程においても、真空ポンプ３３が排気流路２８を介して受入流路１５および供給流路２６を真空引きするので、受入流路１５および供給流路２６の内部の空気の分圧を、０．１２５Ｐａまで低下させることができる。このため、次に、供給弁２３を開いて受入流路１５および供給流路２６発光ガスを供給したとき、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガス中の空気濃度は、０．０１６ＰＰＭまで低下している。したがって、本実施形態では、１回のパージング処理を行うだけで、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガス中の空気濃度を第１実施形態において３回のパージング処理を行ったのと略同程度に低下させられる。
【００４２】
尚、本実施形態において、受入流路１５および供給流路２６の内部の発光ガスに混入した空気の濃度（または分圧）は、パージング処理の前の受入流路１５および供給流路２６の真空引きによって、大気圧と真空ポンプ３３の真空圧との比に等しい割合で減少し、１回のパージング処理によって、ガスボンベ１９からの発光ガスの供給圧力（８ＭＰａ）と排気流路２８の圧力、つまり、真空ポンプ３３の真空圧（１ｋＰａ）との比（０．００１／８）に等しい割合で減少する。この結果、本実施形態では、パージング処理において大気に放出する発光ガスの量も少なくて済む。
【００４３】
尚、発光ガスを大気中に放出することが好ましくない場合は、真空ポンプ３３の排気を排ガスの処理装置に送るようにしてもよい。
【００４４】
図４に、本発明の第３実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のワーク搬送台車１ｂおよび封入ステーション４ｂを示す。本実施形態において、排気弁２７および排気流路２８は、供給流路２６ではなく、受入流路１５に接続されている。
【００４５】
本実施形態において、封入ステーション４ｂからワーク搬送台車１ｂへの発光ガスの供給は、第１実施形態と同様に、先ず、供給弁２３または２４を開いて受入流路１５および供給流路２６に発光ガスを供給し、供給弁２３，２４を閉じてから排気弁２７を開き、受入流路１５および供給流路２６の内圧を大気圧まで減圧してから排気弁２７を閉じるパージング処理を繰り返し行う。その後、供給弁２３または２４および受入弁１４を開いて、需要流路１３に発光ガスを供給することで、需要流路１３に供給される発光ガス中の空気混入率を所望の値以下に低減できる。
【００４６】
図５に、本発明の第４実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備のワーク搬送台車１ｃおよび封入ステーション４ｃを示す。本実施形態において、排気流路２８は、各ヘッド１０を介してガラス基板Ｐを真空引きするためにワーク搬送台車１に搭載されている真空ポンプ１１の吸い込みに接続されており、受入流路１５および供給流路２６の内部空間を真空引きできるようになっている。尚、封入ステーション４ｃの構成は、第３実施形態の封入ステーション４ｂと同じである。
【００４７】
本実施形態では、第２実施形態と同様に、受入流路１５および供給流路２６の内部のガスを真空排気することで、少ない回数のパージング処理によって、発光ガスに混入する空気の濃度を所望のレベル以下に低減できる。当然ながら、必要なパージング処理の回数は、ガスボンベ１９，２０の圧力および真空ポンプ１１の排気能力によって異なる回数となり得る。
【００４８】
図６に、本発明の第５実施形態のフラットディスプレイパネル製造設備の全体構成を示す。本実施形態の封入ステーション４ｄは、ガスボンベを有しておらず、発光ガスを供給する能力がない。替わって、本実施形態では、ローディングステーション８の下流の軌条２上に、ワーク搬送台車１ｄに発光ガスを供給する供給ステーション３４が設けられている。
【００４９】
図７に、本実施形態のワーク搬送台車１ｄおよび供給ステーション３４の詳細を示す。供給ステーション３４は、第１実施形態と同一構成のガスボンベ１９，２０、供給流路２６および排気流路２８を備える。本実施形態のワーク搬送台車１ｄは、分配制御装置１２に発光ガスを供給する２つの需要流路３５，３６を有し、需要流路３５，３６は、受入弁３７，３８を介して、それぞれ、受入流路１５に接続されている。また、需要流路３５，３６は、レギュレータ３９，４０の上流に、バッファタンク４１，４２を有している。
【００５０】
本実施形態では、供給ステーション３４において、ガスボンベ１９から供給される発光ガスを需要流路３５のバッファタンク４１に蓄え、ガスボンベ２０から供給される発光ガスを需要流路３６のバッファタンク４２に蓄える。このとき、本実施形態においても、受入弁３７，３８を開いて発光ガスを供給する前に、第１実施形態と同様のパージング処理を繰り返して、受入流路１５および供給流路２６の内部に残留する空気または目的としない方のガスボンベ２０，１９から供給された発光ガス（不純ガス）の濃度を十分に低下させる。
【００５１】
また、ガスボンベ１９，２０から発光ガス供給すると、バッファタンク４１，４２の内圧は、ガスボンベ１９，２０からの供給圧力である８ＭＰａになる。ワーク搬送台車１ｄは、軌条２に沿って進み、封入ステーション４ｄに到達すると、バッファタンク４１，４２に蓄えた発光ガスを、レギュレータ３９，４０で例えば０．２ＭＰａに減圧して、真空引きされたガラス基板Ｐの内部空間に供給する。
【００５２】
バッファタンク４１，４２には、ワーク搬送台車１ｄが軌条２を１周するたびに、供給ステーション３４において、発光ガスが供給されるため、軌条２を１周する間に消費する量の発光ガスを蓄えられればよい。バッファタンク４１，４２は、例えば、ガラス基板Ｐに供給する圧力の４０倍の圧力で発光ガスを蓄える場合、ワーク搬送台車１ｄに積載可能なガラス基板Ｐの全ての内部空間の容積の合計の４０分の１以上の容積があればよい。
【００５３】
また、本実施形態の構成も、第３実施形態のように、排気流路２８を受入流路１５に接続するように変形でき、また、第２実施形態や第４実施形態のように、排気流路２８から真空排気するように変形してもよい。
【００５４】
さらに、バッファタンク４１，４２を備えるワーク搬送台車１ｄを用いる場合、ワーク搬送台車１ｄを停止させる封入ステーション４ｄを設けず、ワーク搬送台車１ｄが軌条２上を移動している間に、ガラス基板Ｐに発光ガスを供給するようにしてもよい。これにより、封入ステーション４ｄにおけるワーク搬送台車１ｄの停止時間がボトルネックとならないので、フラットディスプレイパネル製造設備全体の生産量の向上が容易である。
【符号の説明】
【００５５】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ…ワーク搬送台車
２…軌条
４，４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ…封入ステーション
１０…ヘッド
１１…真空ポンプ（真空源）
１２…分配制御装置（需要装置）
１３…需要流路
１４…受入弁
１５…受入流路
１６…レギュレータ
１７…受入カプラ
１９，２０…ガスボンベ（ガス供給源）
２１，２２…逆止弁
２３，２４…供給弁
２５…供給カプラ
２６…供給流路
２７…排気弁
２８…排気流路
２９…逆止弁
３４…供給ステーション
３５，３６…需要流路
３７，３８…受入弁
３９，４０…レキュレータ
４１，４２…バッファタンク
Ｐ…ガラス基板（ワーク）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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