(57)【要約】【課題】チャックから原版が離脱したことの判定に有利な露光装置を提供する。【解決手段】本発明の露光装置は、マスク２を介して基板を露光する露光装置であって、マスク２を鉛直下向きに保持する静電チャック１と、静電チャック１から離脱したマスク２を載置するインナーベース３（インナーベースピン４）と、インナーベース３に加えられた鉛直方向の力を検出する荷重センサー７と、インナーベース３を昇降させるマスク昇降部５と、荷重センサー７の出力に基づいてマスク昇降部５の動作を制御する制御手段とを有する。【選択図】図１
2011040484.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記原版を鉛直下向きに保持する保持手段と、
前記保持手段から離脱した前記原版を載置する載置手段と、
前記載置手段に加えられた鉛直方向の力を検出する検出手段と、
前記載置手段を昇降させる昇降手段と、
前記検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記載置手段と前記昇降手段との間に配置された弾性部材を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記検出手段は、前記弾性部材に加えられた力を検出する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記原版を鉛直下向きに保持する保持手段と、
前記保持手段から前記原版を離脱させるように前記原版を押し付ける押付手段と、
前記押付手段に加えられた鉛直方向の力を検出する第１検出手段と、
前記保持手段から離脱した前記原版を載置する載置手段と、
前記載置手段を昇降させる昇降手段と、
前記第１検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記押付手段に含まれて前記力を受ける弾性部材を有する、ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記載置手段に加えられた鉛直方向の力を検出する第２検出手段、を有し、
前記制御手段は、前記第１検出手段及び前記第２検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する、ことを特徴とする請求項４または５に記載の露光装置。
【請求項７】
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記原版を鉛直下向きに保持する保持手段と、
前記保持手段を支持する支持手段と、
前記支持手段に加えられた鉛直方向の力を検出する検出手段と、
前記保持手段から離脱した前記原版を載置する載置手段と、
前記載置手段を昇降させる昇降手段と、
前記検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原版を介して基板を露光する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
極紫外光（ＥＵＶ光）を用いたＥＵＶ露光装置は、従来のＤＵＶ露光装置の次の露光方法として期待されている。しかし、ＥＵＶ露光装置はペリクルを用いることができないため、マスク上に塵等の異物が付着することが問題となっている。
【０００３】
ＥＵＶ光がマスクへ入射する角度は６度程度である。このため、マスクの平面度が転写パターンの位置ずれに影響を与えるが、マスクの自重たわみを防ぐように機械的にマスクを保持することは困難である。また、ＥＵＶ露光装置では、露光雰囲気が真空であるため、マスクの裏面を減圧しマスクの表裏面の圧力差によってマスクを吸着する真空チャックを使用することはできない。
【０００４】
そこで、ＥＵＶ露光装置においては、静電チャックを用いてマスクを吸着することが提案されている。静電チャックは、静電チャックの内部に設けられた電極に電圧を印加し、その内部電極とマスクの裏面に設けられた電極との間に発生する引力によってマスクを吸着する。そして、静電チャックからマスクを取り外す際には、静電チャックの電極に印加される電圧をアースに落とすことで電極間の引力が無くなり、静電チャックからマスクが外れることになる。
【０００５】
ところが実際には、静電チャックの電極をアースに落とした場合でも、マスク側に誘引された電荷はすぐに抜け切らない。このため、静電チャックとマスクとの間に引力が残存し、静電チャックからマスクが外れない。そこで、静電チャックの電極に逆電圧や交流電圧を印加するマスクの離脱方法が提案されている。また、強制的にマスクの裏面をピンで押して静電チャックから外す方法も提案されている。
【０００６】
静電チャックからマスクを回収するマスク回収機構が静電チャックから離れた後、静電チャックからマスクが離脱すると、マスクが落下してしまう。マスクの落下距離が大きくない場合でも、マスク回収機構がマスクを受け取る際にマスクに衝撃がかかると、マスクが損傷してマスクに塵が付着しうる。
【０００７】
基板が静電チャックから離脱したか否かを判定する方法として、例えば特許文献１には、基板の温度分布から判断する方法が開示されている。特許文献２には、基板とチャック間の距離を測定する方法が開示されている。特許文献３には、基板とチャックとの間の電圧を測定する方法が開示されている。特許文献４には、基板とチャックとの間の電流を測定する方法が開示されている。特許文献５には、基板とチャックとの間のインピーダンスを測定する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−４７５１２号公報
【特許文献２】特開２００６−３３２５１９号公報
【特許文献３】特開平４−１６２４４３号公報
【特許文献４】特開平１１−４０６６１号公報
【特許文献５】特開２００２−２０３８３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１乃至５に開示されている方法は、基板と静電チャックとの間の距離が離れたことに起因する変化を利用している。上向きに配置されているウエハ基板のような場合は問題ないが、下向きに配置されているＥＵＶマスクのような場合、マスクの離脱判定を行う際に、マスクが落下してマスクに衝撃が与えられる。
【００１０】
本発明は、チャックから原版が離脱したことの判定に有利な露光装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一側面としての露光装置は、原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版を鉛直下向きに保持する保持手段と、前記保持手段から離脱した前記原版を載置する載置手段と、前記載置手段に加えられた鉛直方向の力を検出する検出手段と、前記載置手段を昇降させる昇降手段と、前記検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する制御手段とを有する。
【００１２】
本発明の他の側面としての露光装置は、原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版を鉛直下向きに保持する保持手段と、前記保持手段から前記原版を離脱させるように前記原版を押し付ける押付手段と、前記押付手段に加えられた鉛直方向の力を検出する第１検出手段と、前記保持手段から離脱した前記原版を載置する載置手段と、前記載置手段を昇降させる昇降手段と、前記第１検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する制御手段とを有する。
【００１３】
本発明の他の側面としての露光装置は、原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版を鉛直下向きに保持する保持手段と、前記保持手段を支持する支持手段と、前記支持手段に加えられた鉛直方向の力を検出する検出手段と、前記保持手段から離脱した前記原版を載置する載置手段と、前記載置手段を昇降させる昇降手段と、前記検出手段の出力に基づいて前記昇降手段の動作を制御する制御手段とを有する。
【００１４】
本発明の他の側面としてのデバイス製造方法は、前記露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記工程で露光された基板を現像する工程とを有する。
【００１５】
本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、例えば、チャックから原版が離脱したことの判定に有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例１における露光装置の要部構成図である。
【図２】図１（ａ）〜図１（ｅ）の各工程における荷重センサーの出力値である。
【図３】実施例２における露光装置の要部構成図である。
【図４】図３（ａ）〜図３（ｆ）の各工程における荷重センサーの出力値である。
【図５】実施例３における露光装置の要部構成図である。
【図６】図５（ａ）〜図５（ｃ）の各工程における荷重センサーの出力値及びバネの長さである。
【図７】実施例４における露光装置の要部構成図である。
【図８】実施例５における露光装置の要部構成図である。
【図９】実施例６における露光装置の要部構成図である。
【図１０】本実施例における露光装置のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１９】
まず、本実施例における露光装置の概略について説明する。図１０は、本実施例における露光装置のブロック図である。図１０において、４１はマスク用ロードロック室、４２は搬送室、４３は露光室、４４はマスク保管室である。４５はウエハロード室、４６はウエハアンロード室で、ウエハロード室４５から露光装置内にウエハが取り込まれ、露光されたウエハがウエハアンロード室４６から露光装置外に取り出される。４７は露光室４３に隣接した専用チャンバーである。マスク用ロードロック室４１は、露光装置内の真空雰囲気を維持しながら露光装置内部と露光装置外部との間でマスク２の受け渡しを行うために設けられている。搬送室４２にはマスクハンドリング装置２９（搬送手段）が配置されている。
【００２０】
本実施例の露光装置は、極紫外光を用いて、マスク（原版）を介して基板を露光するＥＵＶ露光装置である。特に、静電チャックに取り付けられたＥＵＶマスクが静電チャックから離脱したことを正確に判定してからＥＵＶマスクを回収し、ＥＵＶマスクに塵等の異物が付着することを抑制するＥＵＶ露光装置である。以下、各実施例の露光装置について図面を参照しながら説明する。
【実施例１】
【００２１】
まず、本発明の実施例１における露光装置について説明する。図１は、本実施例における露光装置の要部構成図である。本実施例では、マスクが二重ポッドのインナーベース上に載せられて静電チャックまで搬送され、二重ポッドに設置されたマスクのマスクチャックへの取り付け及び回収をマスク昇降部が行う場合に関して説明する。１は静電チャック（マスクチャック）である。静電チャック１は、マスク２（原版）を鉛直下向き（重力方向）に保持する保持手段である。マスク２の表面（下面）には多層膜が形成されており、マスク２は不図示の光源から発せられた極紫外光（ＥＵＶ光）を反射する。マスク２の裏面（上面）には、ＣｒＮ膜等の金属膜が蒸着されている。このため、静電チャック１に所定の電圧が印加されると、マスク２が静電チャック１に引き付けられる。３はインナーベース、４はインナーベースピン、及び、５はマスク昇降部（昇降手段）である。インナーベース３及びインナーベースピン４は、静電チャック１から離脱したマスク２を載置する載置手段である。
【００２２】
マスク昇降部５は、支持ピン６、荷重センサー７（検出手段）、昇降台８、昇降機構９、及び、基準台１０を備えて構成されている。マスク昇降部５は、マスク２を静電チャック１に接触させ、又は、マスク２を静電チャック１から遠ざけることができるように構成されている。特にマスク昇降部５は、インナーベース３（インナーベースピン４）を鉛直方向（上下方向）に昇降させる。本実施例における荷重センサー７は、支持ピン６の内部に配置されており、支持ピン６の上に載置された物体の荷重を測定できるように構成されている。すなわち、荷重センサー７は、インナーベース３（インナーベースピン４）に加えられた鉛直方向の力を検出する。また、不図示の制御手段は、荷重センサー７の出力に基づいてマスク昇降部５の動作を制御する。
【００２３】
図１（ａ）〜図１（ｃ）は、マスク昇降部５の上に載置されたマスク２を静電チャック１に取り付けるための工程を示している。また図２は、図１（ａ）〜図１（ｅ）の各工程における荷重センサー７の出力値（荷重センサー７に加えられる力）を示している。ここで、マスク２の重量、インナーベース３の重量、及び、昇降機構９の押圧力による荷重をいずれも「１」とする。
【００２４】
図１（ａ）は、マスク昇降部５に搭載されたインナーベース３（載置部）上にマスク２が載置されている状態を示している。このとき、図２に示されるように、静電チャック１とマスク２とが非接触の状態で荷重センサー７に加えられる力の大きさ（荷重）は、マスク２及びインナーベース３の重量の和である「２」となる。次に、図１（ｂ）に示されるように、インナーベース３（インナーベースピン４）に載置されたマスク２が昇降機構９によって上昇し、マスク２が静電チャック１に接触すると、荷重センサー７の出力は、昇降機構９の押圧力が加わって「３」となる。この状態で、静電チャック１には所定の電圧が印加される。このように、静電チャック１に所定の電圧が印加されると、静電チャック１とマスク２との間には引力が生じ、静電チャック１がマスク２を吸着する。
【００２５】
次に、図１（ｃ）に示されるように、昇降機構９が下降する。このとき、マスク２は静電チャック１に吸着されているため、マスク２はインナーベース３から外れて離れる。このとき、荷重センサー７にはインナーベース３の重量だけが加えられているため、図２で示されるように荷重センサー７の出力は「１」となる。ここで仮に、荷重センサー７の出力が図１（ａ）と同様の「２」である場合には、マスク２が静電チャック１に吸着されずに、インナーベース３上に載置されたままであると判定される。この場合には、再度、図１（ａ）及び図１（ｂ）の工程を繰り返し、マスク２を確実に静電チャック１に吸着させる。
【００２６】
図１（ｄ）及び図１（ｅ）は、マスク２を静電チャック１から取り外すための工程を示している。まず、図１（ｃ）の状態にあるマスク昇降部５において、昇降機構９を駆動して昇降台８を上昇させる。図１（ｄ）に示されるように、マスク昇降部５の昇降台８を、インナーベース３（インナーベースピン４）がマスク２の表面（下面）に接触するまで上昇させる。ここでインナーベース３がマスク２に接触したことは、図２に示されるように、荷重センサー７の出力が「１」から「３」に変化（増大）したことにより判定される。
【００２７】
不図示の制御手段は、インナーベース３がマスク２に接触したと判定（確認）された場合、静電チャック１への電圧の印加を止める。そして図１（ｅ）に示されるように、制御手段は昇降機構９を駆動して昇降台８を下降させる。このとき、荷重センサー７にはインナーベース３及びマスク２の両方の重力が加わるため、荷重センサー７の出力は「２」に変化（減少）する。ここで仮に、昇降台８を下降させても荷重センサー７の出力が図１（ｃ）の状態と同様の「１」である場合、マスク２は静電チャック１に吸着されたままであると判定される。このため、再度、昇降機構９を駆動させて昇降台８を上昇させ、インナーベース３をマスク２に接触させる。そして、静電チャック１の電源を切断した状態でそのまま維持するか、又は、静電チャック１に逆電圧や交流電圧を印加する等の離脱工程を経て、図１（ｅ）に示されるように、昇降台８を下降させる。このとき、図２に示されるように、荷重センサー７の出力が「２」に変化した場合、マスク２が離脱したと判定される。
【００２８】
このように、本実施例の露光装置によれば、荷重センサーを用いることにより、静電チャックからマスクが離脱したか否かを確実に判定（確認）することができ、マスクの落下を効果的に防止することが可能となる。このため、マスクの落下によるインナーベースピンへの衝撃は防止され、塵等の異物がマスクに付着することを効果的に抑制することができる。
【実施例２】
【００２９】
次に、本発明の実施例２における露光装置について説明する。図３は、本実施例における露光装置の要部構成図である。本実施例の露光装置は、図１（ｄ）（図３（ｄ））及び図１（ｅ）（図３（ｆ））の各工程の間に新たな工程（図３（ｅ））が加えられている点で、実施例１の露光装置とは異なる。本実施例の他の構成は実施例１と同一であるため、それらの説明は省略する。
【００３０】
図４は、図３（ａ）〜図３（ｆ）の各工程における荷重センサー７の出力値（荷重センサー７に加えられる力）を示している。ここで、マスク２の重量、インナーベース３の重量、及び、昇降機構９の押圧力による荷重を実施例１の場合と同様にいずれも「１」とする。
【００３１】
図３（ｄ）において、昇降機構９を駆動して昇降台８を上昇させ、マスク２を載置する載置部としてのインナーベース３（インナーベースピン４）をマスク２に接触させる。昇降台８の上昇によりインナーベース３がマスク２に接触すると、荷重センサー７の出力（出力信号）が「３」に増大する。このように、荷重センサー７の出力が「３」に変化したことにより、インナーベース３がマスク２に接触したと判定（確認）される。
【００３２】
次に、静電チャック１に所定の電圧を印加したまま、荷重センサー７の出力が「１」になるまで、昇降機構９を駆動して昇降台８を下降させる（図３（ｅ））。このとき、図１（ｃ）（図３（ｃ））のように昇降台８を十分に下降させるのではなく、徐々に昇降台８を下降させて荷重センサー７の出力が「１」になった場合に昇降台８を直ちに停止させる。インナーベースピン４とマスク２との間の距離（昇降台８の下降距離）は、昇降機構９の分解能で決定され、例えば数μｍである。この状態で、静電チャック１への電圧の印加を停止し、図４に示されるように、荷重センサー７の出力が「２」になるのを待つ。荷重センサー７の出力が「２」に変化（増大）した場合、マスク２が静電チャック１から離脱して、マスク２がインナーベース３の上に載置されたことを示す（図３（ｆ））。マスク２の離脱を確認した後、昇降機構９を駆動して、マスク２を下方向に移動させる。
【００３３】
本実施例によれば、マスクの離脱を確認するために、昇降台を下降させる必要がない。このため、昇降台の下降中にマスク２が離脱して落下することを効果的に回避することができる。
【実施例３】
【００３４】
次に、本発明の実施例３における露光装置について説明する。図５は、本実施例における露光装置の要部構成図である。図５（ａ）〜図５（ｃ）は、本実施例におけるマスク離脱工程を示している。本実施例の露光装置は、支持ピン６に弾性部材であるバネ１１が設けられている点で、実施例１の露光装置とは異なる。この弾性部材は、インナーベース３（インナーベースピン４）とマスク昇降部５との間に配置され、インナーベース３（インナーベースピン４）に加えられた鉛直方向の力を受ける。本実施例において、支持ピン６に荷重センサー７が設置され、支持ピン６に加えられる荷重が測定可能に構成されている点は、実施例１と同様である。また、図６は、図５（ａ）〜図５（ｃ）の各工程における荷重センサー７に加えられる荷重（荷重センサー出力）（実線）、及び、バネ１１の長さ（破線）を示している。
【００３５】
まず、図５（ａ）に示されるように、マスク昇降部５ａの支持ピン６の上にはインナーベース３が搭載され、そのインナーベース３の重量分だけバネ１１が縮むとともに、荷重センサー７にはその重量分だけの出力「１」が現われている。次に、図５（ｂ）に示されるように、マスク２がインナーベースピン４に接触した後（図６中の時刻ｔ１）、さらにバネ１１が適当な長さに縮むまで、荷重センサー７の出力を検出しながら昇降機構９を駆動して昇降台８を上昇させる（時刻ｔ２）。これにより、マスク２は、その裏面（上面）にて静電チャック１で吸着された状態で、マスク２の表面（下面）からもインナーベース３によって保持される。
【００３６】
ここで、弾性部材としてのバネ１１がマスク２を静電チャック１に押圧する押圧力とマスク２にかかる重力、静電チャック１がマスク２を吸着する吸着力を、それぞれＦｓ、Ｆｇ、Ｆｅとする。このとき、重力方向を負として、マスク２が静電チャック１に押しつけられる力Ｆｕは、Ｆｕ＝Ｆｓ＋Ｆｇ＋Ｆｅである。ただし、Ｆｓ＋Ｆｇ＜０とする。図６中の時刻ｔ２において、静電チャック１への電圧の印加が停止し、徐々に静電チャック１のマスク２の吸着力が減少し、図６中の時刻ｔ３でＦｅ＝０となる。この状態で、Ｆｕ＝Ｆｓ＋Ｆｇ＜０であるため、マスク２が静電チャック１から離脱する。昇降機構９が働かなくてもマスク２の重量でバネ１１が縮まり、徐々に図５（ｃ）に示されるように、マスク２と静電チャック１との間に隙間ができる。これにより、静電チャック１への電圧の印加が停止した直後にマスク２が静電チャック１より離脱できない場合でも、マスク２がインナーベース３に落下することを防止でき、マスク２を確実に回収することが可能となる。
【００３７】
本実施例では、荷重センサー７を用いてバネ１１に加えられた力（マスク２が静電チャック１から離脱したこと）を検出するが、本実施例はこれに限定されるものではない。マスク２の離脱は、弾性部材であるバネ１１の歪量（バネ１１に加えられる力）を測定することによっても検出することができる。例えば、バネ１１の長さを直接測定する測定装置や、昇降台８とインナーベース３との間の距離を測定する測定装置（測距センサー）を用いてマスク２の離脱を検出することができる。また、本実施例の弾性部材はバネ１１に限定されるものではなく、例えば、板バネ、コイル状バネ、又は、ゴム等の変形可能な他の構造体を用いてもよい。
【００３８】
本実施例によれば、インナーベース３でマスク２を支持した状態で、荷重センサー７を用いてマスク２の離脱を検出することができるため、マスク２がインナーベース３に落下することを防止することができる。また本実施例によれば、支持ピン６に弾性部材であるバネ１１が設けられているため、荷重センサー７の出力（マスク２とインナーベースピン４との間に加えられる力）が連続的に変化する。このため、マスク２によりインナーベース３に急激な力が発生すること（マスク２がインナーベース３に衝突すること）が防止され、塵等の異物の発生が効果的に抑制される。
【実施例４】
【００３９】
次に、本発明の実施例４における露光装置について説明する。図７は、本実施例における露光装置の要部構成図である。本実施例は、実施例３の構成に加えて、静電チャック１からマスク２を離脱させる構造を組み合わせたものである。
【００４０】
図７に示されるように、静電チャック１には切り欠き１２が設けられている。押しピン１３は、切り欠き１２を介してマスク２を押圧するように構成されている。このように、押しピン１３は、静電チャック１からマスク２を離脱させるようにマスク２を押し付ける押付手段である。押しピン１３には、バネ１６（弾性部材）及び荷重センサー１７が含まれている（組み込まれている）。荷重センサー１７は、押しピン１３に加えられた鉛直方向の力を検出する第１検出手段である。バネ１６は、押しピン１３に加えられた鉛直方向の力を受ける。駆動素子１４はピエゾ素子等を備えて構成され、基準台１５に取り付けられている。駆動素子１４は、押しピン１３を下方向に移動させることにより、マスク２を押圧してマスク２を静電チャック１から離脱させる。
【００４１】
このように、押しピン１３を用いてマスク２を押圧すると、弾性部材としてのバネ１６が歪んでマスク２に力が加わるとともに、荷重センサー１７に出力が現われる。ここで、マスク２が静電チャック１から離脱すると荷重センサー１７の出力が急激に減衰し、マスク２が静電チャック１から離脱したことが確認できる。このとき、支持ピン６がインナーベース３を支持し、支持ピン６に設けられたバネ１１が歪む。このため、無理な力がマスク２に加わることもなく、また、マスク２が支持ピン６により支持されたインナーベース３に落下することもなく、マスク２が静電チャック１から徐々に離れていく。
【００４２】
本実施例では、押しピン１３に荷重センサー１７及びバネ１６が設けられているため、マスク２に無理な力が加わることがなく、離脱した直後にマスク２がインナーベースピン４に衝突することもない。このため、静電チャック１からマスク２が離脱する際に、塵等の異物がマスク２に付着することを効果的に抑制することができる。なお本実施例では、押しピン１３に荷重センサー１７及びバネ１６の両方を設けたが、いずれか一方だけでもよい。
【００４３】
また、荷重センサー７は、インナーベース３（インナーベースピン４）に加えられた鉛直方向の力を検出する第２検出手段である。不図示の制御手段は、マスク２が静電チャック１から離脱したことを、荷重センサー１７又は荷重センサー７の少なくとも一方の出力に基づいて判定し、マスク昇降部５の動作を制御する。制御手段は、昇降機構９と連動させて、マスク２の離脱速度及び離脱加速度を任意に設定することができる。これにより、マスク２と支持ピン６との間に働く力を制御でき、マスク２と支持ピン６との間で発生する塵等の異物の量を少なくすることができる。
【００４４】
なお、図７において、支持ピン６・押しピン１３に対して荷重センサー７・１７がそれぞれ設置されている、より好ましい構成例を説明した。しかし、支持ピン６に対する荷重センサー７がなく、押しピン１３に対する荷重センサー１７がある構成としてもよい。静電チャック１からマスク２が離脱したことは、荷重センサー１７の出力に基づいて判定できるからである。
【実施例５】
【００４５】
次に、本発明の実施例５における露光装置について説明する。図８は、本実施例における露光装置の要部構成図である。静電チャック１に吸着保持されたマスク２を回収する際に、マスク２の片当たりが生じる場合がある。マスク２を支持する支持ピン６のうちいずれか一つにマスク２が先に触れた後、その支持ピン６を中心として、他の支持ピン６にマスク２の力が加えられると、支持ピン６とマスク２との間で擦れが生じ、塵等の異物が発生する。このため、全ての支持ピン６が同時にマスク２に接触することが望ましい。
【００４６】
そこで本実施例の露光装置は、上述のようなマスク２の片当たりを防止するように構成されている。具体的には、図８（ａ）に示されるように、支持ピン６のそれぞれに駆動機構９ａが独立に設けられたマスク昇降部５ｂが設けられている。駆動機構９ａは、支持ピン６のそれぞれに設けられた全ての荷重センサー７に同時に力が働くように、支持ピン６の位置を調節する。また、図８（ｂ）に示されるように、チルト機構１８を備えたマスク昇降部５ｃを設けてもよい。チルト機構１８は、昇降台８と昇降機構９との間に設けられており、支持ピン６の位置の調整を行う。
【００４７】
本実施例の露光装置によれば、マスクの回収時に全ての支持ピンに同時にマスクが接触するため、塵等の異物の発生を効果的に抑制することができる。
【実施例６】
【００４８】
次に、本発明の実施例６における露光装置について説明する。図９は、本実施例における露光装置の要部構成図である。本実施例のマスク昇降部５ｄには、上述の各実施例のような荷重センサー７が設けられていない。この代わりに、本実施例の露光装置には、静電チャック１を支持する支持部材１９（支持手段）に荷重センサー１７が搭載されている。荷重センサー１７は、支持部材１９に加えられた鉛直方向の力を検出する検出手段である。不図示の制御手段は、荷重センサー１７の出力に基づいて静電チャック１からマスク２が離脱したことを判定（確認）し、マスク昇降部５ｄを制御する。
【００４９】
本実施例では、静電チャック１からマスク２が離脱すると、荷重センサー１７に加えられる力が減少する。不図示の制御装置は、荷重センサー１７の出力に基づいて、マスク２の離脱を判定（確認）し、マスク昇降部５ｄを制御する。
【００５０】
上記各実施例では、マスク２の離脱を確実に検出可能に構成されていれば、静電チャック１に限定されずに他のマスクチャックを用いてもよい。また、静電チャック１からのマスク２を離脱させる方法として、静電チャック１の電極を反転させるか、または、静電チャック１の表面にガスを流す等の既に種々の方法が提案されている。上記各実施例は、離脱の判定に関する発明であるため、全ての離脱方法における離脱判定に適用可能である。
【００５１】
上述の実施例１及び２で説明された基本的構成は、荷重センサーを用いてマスクの離脱を確実に検出することであり、各実施例において具体的に説明した工程に限定されるものではない。
【００５２】
上述の実施例３で説明された基本的構成は、昇降台とインナーベース（載置手段）との間にバネ等の弾性部材が設けられていることである。この構成により、静電チャックの吸着力が無くなり、静電チャックがマスクを吸着することができなくなった場合でも、マスクは弾性部材により保持される。このため、マスクとそれを支持する支持ピンと間で静的関係を保ちながら、弾性部材の変形によりマスクを落下させることはなく、静電チャックからマスクを確実に回収することができる。従って、弾性部材が支持ピンの一部である必要はなく、弾性部材を他の位置に配置してもよい。例えば、昇降台と基準台との間の位置、又は、インナーベースピンそのものを弾性部材で構成してもよい。いずれも場合でも、上述の実施例にて具体的に説明した工程に限定されるものではない。
【００５３】
また、上記各実施例では、マスク昇降部が二重ポッドに設置されたマスクのマスクチャックへの取り付け及び回収を行う場合に関して説明したが、上記各実施例は二重ポッドを使用しない裸マスクの取り付け及び回収を行う場合にも適用可能である。一般に、マスク又はマスクが載置された二重ポッドは、マスク搬送装置を用いて露光装置内で搬送される。露光装置内で搬送されたマスク等は、マスクチャックの近傍でマスク昇降部に受け渡されて、マスク昇降部によりマスクチャックに取り付けられ、また、マスクチャックから回収される。しかし、マスク搬送装置がマスクの取り付け部及び回収部を兼ねる場合、マスク搬送装置にマスクの荷重を測定できる荷重センサーを設けてもよいし、また、マスク搬送装置に上記各実施例の弾性部材を備えてもよい。
【００５４】
以上のとおり、上記各実施例によれば、静電チャックからマスクが離脱したこと確実に判定してから、マスクを回収することが可能となる。このため、マスクに衝撃を与えずにマスクを回収することができるため、マスクの損傷を回避し、マスクに塵等の異物が付着することを効果的に防止することが可能となる。
［デバイス製造方法の実施形態］
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。当該方法において、本発明を適用した露光装置を使用し得る。
【００５５】
半導体デバイスは、ウエハ（半導体基板）に集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程とを経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、その工程で露光されたウエハを現像する工程とを含みうる。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）とを含みうる。また、液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、その工程で露光されたガラス基板を現像する工程とを含みうる。
【００５６】
本実施形態のデバイス製造方法は、デバイスの性能、生産性、品質および生産コストの少なくとも一つにおいて従来よりも有利である。
【００５７】
以上、本発明の実施例について具体的に説明した。ただし、本発明は上記実施例として記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１：静電チャック
２：マスク
３：インナーベース
４：インナーベースピン
５：マスク昇降部
７、１７：荷重センサー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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