(57)【要約】【課題】  露光装置に組み込まれたソフトウェアを情報処理装置が更新するのに有利な露光装置および更新方法を提供する。【解決手段】  露光装置は、露光装置に組み込まれたソフトウェアを更新する情報処理装置と接続する第１インターフェースと、通信網と接続する第２インターフェースと、前記第２インターフェースを前記通信網との通信が不能な状態にし、その上で、前記第１インターフェースを前記情報処理装置との通信が可能な状態にする切り替えを行って、前記ソフトウェアを前記情報処理装置が更新することを可能にするように、前記１インターフェースと前記２インターフェースとを制御する制御部と、を備える。【選択図】  図１
2011040546.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
露光装置に組み込まれたソフトウェアを更新する情報処理装置と接続する第１インターフェースと、
通信網と接続する第２インターフェースと、
前記第２インターフェースを前記通信網との通信が不能な状態にし、その上で、前記第１インターフェースを前記情報処理装置との通信が可能な状態にする切り替えを行って、前記ソフトウェアを前記情報処理装置が更新することを可能にするように、前記１インターフェースと前記２インターフェースとを制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記情報処理装置との通信の履歴を保存する格納部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の露光装置と、
前記露光装置に組み込まれたソフトウェアを更新する情報処理装置と、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項４】
露光装置に組み込まれたソフトウェアを情報処理装置により更新する更新方法であって、
前記露光装置は、前記情報処理装置から要求を受けて、通信網との通信を不能な状態にし、その上で、前記情報処理装置との通信を可能な状態にする切り替えを行い、
前記情報処理装置は、前記切り替えのなされた状態のもとで、前記露光装置に組み込まれたソフトウェアを更新する、
ことを特徴とする更新方法。
【請求項５】
請求項１もしくは２に記載の露光装置または請求項３に記載のシステムを用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、システム、露光装置のソフトウェア更新方法及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種製品を生産する為の製造装置は、各種製品の高性能化や高機能化に伴い、高性能化や高機能化が進んでいる。例えば、ＩＣやＬＳＩ等の半導体装置や液晶パネル等の製造装置を例に述べると、これらの製品の微細化や高集積化に伴い、半導体装置等の生産に用いる露光装置も高精度化や高機能化が進んでいる。このような露光装置としては、ステッパやスキャナと呼ばれる装置を用いることが多い。これらの装置は、基板(例えばウエハ)をステップ移動しながら、原板(例えばレチクル)上に形成したパターンを基板の複数個所に順次転写していく。ステージを移動させずにこの転写を一括して行う装置をステッパと呼び、ステージをスキャンしながら転写する装置をスキャナと呼んでいる。近年においては、露光装置の重要な性能である重ね合わせ精度及びスループットの向上という２つの要求を満たすため、基板を保持するウエハステージを２つ搭載した露光装置が実用化されている。また、原板の像を転写する投影光学系と基板との間に液体を挿入し、転写を高解像度化した露光装置の開発も進んでいる。この様に、露光装置に代表される製造装置の高精度化や高機能化が進む中、製造装置の制御を行う制御ソフトウェアも高精度化や高機能化の為に随時改良されている。この様な制御ソフトウェアの改良は、新規に開発された装置だけで無く、既に稼動中の製造装置に対しても適用可能な場合が多く、稼動中の製造装置に対する制御ソフトウェアの更新（バージョンアップ）も頻繁に行われている。
【０００３】
従来の製造装置における制御ソフトウェアの更新の一例として、露光装置の制御ソフトウェアを更新する手順について述べる。図９に露光装置の制御ソフトウェアを更新する手順の一例を示す。事前に露光装置のハードウェア構成や必要機能を事前に調査して適用する制御ソフトウェアのバージョンを決める（ステップS３０１）。次に、必要となる制御ソフトウェアの入ったメディアを準備する（ステップS３０７）。事前にステップS３０１とステップS３０７とを行った後、ステップS３０３で制御ソフトウェアの更新を行うべき露光装置の露光処理を停止する。ここで、図１０を用いて半導体製造装置の製造場所である工場又は事業所（以下、工場１と呼ぶ）について簡単に説明する。工場１にはローカルエリアネットワーク等の内部通信網７が設置され、工場１内の制御装置６で露光装置４やその他の処理装置５のスケジューリング等を行っている。処理装置５は例えば現像装置、加工装置である。ステップS３０３では、この制御装置６から該当する露光装置４への露光処理要求を止める事で該当露光装置４の露光処理を停止する。次にステップS３０９で露光装置４の制御ソフトウェアを更新する。具体的にはオペレータが制御ソフトウェアの格納された光磁気ディスクやフレキシブルディスク等のメディアを露光装置４に挿入し、更新条件の設定や制御ソフトウェアをコピーする等の操作を実行する。（特許文献１参照）制御ソフトウェアが更新された後に、露光装置４の制御部を起動し直す事で制御ソフトウェアを反映する。最後に、ステップＳ３０５で制御ソフトウェアが更新された後の露光装置４をテストし、テストで問題がなければステップＳ３０６で露光処理を開始する。
【０００４】
一方、インターネットやローカルエリアネットワーク等の通信網を用いて露光装置４の制御ソフトウェアを更新する提案も行われている（特許文献２〜４参照）。特許文献２では、図１０で説明した半導体装置製造工場内の制御装置６から内部通信網７を介して露光装置４の制御ソフトウェアを更新する。また、特許文献３，４では、インターネットを介して第三者が機密情報を参照できないような通信セキュリティシステムを設けている。
【０００５】
制御ソフトウェアの更新による製造装置の高精度化や高機能化は稼動中の装置の生産性を向上するのに有効である。一方、露光装置をはじめとする製造装置は製品を製造するための生産設備であるため、終日停止する事無く使用するのが一般的である。このため、メンテナンス等の製造処理以外の使用時間であるダウンタイムはユーザの生産性に影響を与える。制御ソフトウェアの更新も長期的には生産性の向上に有効であるが、制御ソフトウェアの更新中は製造装置の処理を止めなければならため、一時的には生産性の低下となる。また、制御ソフトウェアの提供にメディアを用いているため、メディアの転送などにも時間が必要であった。これに対し、ネットワーク等の通信網を用いた制御ソフトウェアの転送及び更新は、制御ソフトウェアの更新に必要となる時間は短くなるが、セキュリティ上の課題、運用上の課題がある。通信網を用いた制御ソフトウェアの更新方法では、図１０を用いて従来例で述べた様に工場１内の制御装置６とローカルエリアネットワーク等の内部通信網７を介して制御ソフトウェアの更新を行う。製造装置の制御ソフトウェアは大規模なものが多く、通常、制御ソフトウェアの更新はユーザでは無く製造装置の製造会社（ベンダー）が担当する。この為、ベンダーの担当者はユーザが管理する工場１内の制御装置６及び内部通信網７を使用しなければならず、セキュリティ上の安全性を確保するためには運用上の十分な注意等が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２９６３５２号公報
【特許文献２】特開２０００−１８８２５２号公報
【特許文献３】特開平１０−９７９６６号公報
【特許文献４】特開平１１−１５５２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、露光装置に組み込まれたソフトウェアを情報処理装置が更新するのに有利な露光装置および更新方法を提供することを例示的な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面は、基板を露光する露光装置であって、露光装置に組み込まれたソフトウェアを更新する情報処理装置と接続する第１インターフェースと、通信網と接続する第２インターフェースと、前記第２インターフェースを前記通信網との通信が不能な状態にし、その上で、前記第１インターフェースを前記情報処理装置との通信が可能な状態にする切り替えを行って、前記ソフトウェアを前記情報処理装置が更新することを可能にするように、前記１インターフェースと前記２インターフェースとを制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、露光装置に組み込まれたソフトウェアを情報処理装置が更新するのに有利な露光装置および更新方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施例１の露光システムの模式図
【図２】情報処理装置の模式図
【図３】露光装置の模式図
【図４】２ステージ構成の露光装置の模式図
【図５】実施例１における露光装置の更新方法のフローチャート
【図６】露光装置の更新時の操作画面例
【図７】実施例２の露光システムの模式図
【図８】実施例３の露光システムの模式図
【図９】従来例における露光装置の更新方法のフローチャート
【図１０】従来例における露光システムの模式図
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［実施例１］
図１〜図６を用いて、実施例１の露光装置、露光システム及び露光装置の更新方法について説明する。半導体機器の製造場所である工場又は事業所１（以下、「工場１」と呼ぶ）と、露光装置の製造会社であり露光装置の開発や管理を行っているベンダー施設２とはインターネット等の外部通信網３を介して接続している。工場１には１つ以上の露光装置４と処理装置５と制御装置６とが配置されている。制御装置６は露光装置４等を制御して半導体装置の生産を行っている。処理装置５は、例えば現像装置、加工装置である。１つ以上の露光装置４は、第２インターフェース４ｂによって、工場１のローカルエリアネットワーク等の通信網７と接続されている。通信網７には、露光装置４に加えて処理装置５や工場１内にある計算機等の他の機器（不示図）も接続することが可能である。工場１内にある計算機等は、ユーザの機密事項を保護するために、工場１内のシステムのセキュリティを厳重に管理している。第１の情報処理装置８は、露光装置４の制御ソフトウェアを蓄積している。本件明細書において、「制御ソフトウェア」は、ソフトウェアに加えてそれに付随するデータをも含むものとする。第１の情報処理装置８は、第１インターフェース４ａによって、１つ以上の露光装置４と接続されており、露光装置４に組み込まれた制御ソフトウェアを新たな制御ソフトウェアで更新する。また、第１の情報処理装置８は外部通信網３を介して、ベンダー施設２に配置された第２の情報処理装置９とも接続されている。第２の情報処理装置９には最新を含む開発済みの制御ソフトウェアが格納されている。第１の情報処理装置８は第２の情報処理装置９から目的の制御ソフトウェア（例えば、最新の制御ソフトウェア）をコピーすることで更新される。これにより露光装置４の制御ソフトウェアも目的のものに更新できる。尚、第１と第２の情報処理装置８、９間を接続する外部通信網３はインターネット等の共有ネットワークでは無く、専用線を用いた通信網でも構わない。専用線を用いた外部通信網３は、インターネット等と比べてコストはかかるがセキュリティの観点からは有利となる。
【００１２】
次に、図２を用いて、第１の情報処理装置８について述べる。第１の情報処理装置８は、第１の制御部１０１、１つ以上の第１の通信部１０２、第１の記憶部１０３、１つ以上の第１の操作部１０４、第１のメディアドライブ１０５を有している。一例として第１の制御部１０１は公知の計算機やボードコンピュータで、第１の通信部１０２は公知の通信ボードで構成できる。第１の記憶部１０３は公知のハードディスクで、第１のメディアドライブは公知の光磁気ディスク等の読み書き装置で、第１の操作部は公知のモニタやキーボード等で構成できる。第１の記憶部１０３は露光装置４で動作する制御ソフトウェアを保持している。第１の制御部１０１は、通信部の１つを用いて第１の記憶部１０３により保持された制御ソフトウェアを露光装置４へ転送（バージョンアップ等）する。また、別の通信部を用いて第２の情報処理装置９から目的の制御ソフトウェアを受け取り第１の記憶部１０３に格納する。第２の情報処理装置９も、第１の情報処理装置８と同様に。第１の制御部、第１の通信部１０２、第１の記憶部１０３、第１の操作部１０４、第１のメディアドライブ１０５を有している。第２の情報処理装置９は、第１の通信部１０２の１つを用いて、第１の記憶部１０３により保持された制御ソフトウェアを第１の情報処理装置８に転送する。ここで、第１及び第２の情報処理装置８，９は、例えばファイアーウォール、パスワード管理、暗号化等の公知の技術で外部通信網３と接続する上でのセキュリティを確保している。また、第１の記憶部１０３の容量を節約する為に、第１及び第２の情報処理装置８，９に格納している制御ソフトウェアを公知の方法で圧縮していても構わない。
【００１３】
次に、図３を用いて露光装置４について述べる。露光装置は第２の制御部１０６、１つ以上の第２の通信部１０２、第２の記憶部１０７、１つ以上の第２の操作部１０４、露光部１０８を有している。第２の制御部１０６は露光部１０８を制御するものであり、一例として公知の計算機やボードコンピュータで構成できる。第２の制御部１０６は第２の記憶部１０７に格納されている制御ソフトウェアに従って露光部１０８を制御する。第２の記憶部１０７は、例えば外部記憶であるハードディスクで構成でき、ハードディスクにはソフトウェアやデータベースシステムを用いてデータを保存している。第２の制御部１０６は第２の通信部１０２の１つを介して第１の情報処理装置８と接続し、第２の通信部１０２の他の１つを介して通信網７と接続している。第２の通信部１０２の１つは、第１の情報処理装置８と接続する第１インターフェース４ａを構成し、第２の通信部１０２の他の１つは通信網７と接続する第２インターフェース４ｂを構成する。第２の制御部１０６は、第２インターフェース４ｂを通信網７との通信が不能な状態に設定した上でしか、第１インターフェースを第１の情報処理装置８との通信が可能な状態に切り替えない。すなわち、第１の情報処理装置８を用いて露光装置４の制御ソフトウェアを更新することが可能な状態の下では、露光装置４と通信網７との通信は不能である。したがって、第１の情報処理装置８から、露光装置４を介し通信網７に接続されている半導体装置製造工場１内の制御装置６や処理装置５にアクセスすることができないのでシステムのセキュリフィは確実に守られる。また、セキュリティの安全性を確認する為に、露光装置４は、第１の情報処理装置８との通信の履歴（ログ）を保存する格納部を備えることができる。更に、第１の情報処理装置８から露光装置４への通信内容を例えば制御ソフトウェアの更新に必要な項目に絞る事により、よりセキュリティの安全性を向上する事ができる。第２の制御部１０６は、第１の情報処理装置８から制御ソフトウェアの更新にかかる要求を受けると、第２インターフェース４ｂを通信網７と露光装置４との通信を不能な状態に切り替える。そして、通信網７と露光装置４との通信を不能な状態となったもとで、第２の制御部１０６は、第１インターフェース４ａを第１の情報処理装置８と露光装置４との通信が可能な状態に切り替える。なお、第１インターフェース４ａを第１の情報処理装置８と露光装置４との通信が不能な状態にしていても、第２の制御部１０６は、第１の情報処理装置８から制御ソフトウェアの更新の要求は受けられるようになっている。このようなことは、通信プロトコルの設定により可能である。または、当該要求を第１の情報処理装置８から露光装置４に送信する専用の通信線を設けてもよい。よって、そのような場合も考慮して、「第１の情報処理装置８と露光装置４との通信が可能な状態」および「第１の情報処理装置８と露光装置４との通信が不能な状態」は解釈されなければならない。
【００１４】
実施例１では、ベンダーの担当者は第１の情報処理装置８を用いて露光装置４の制御ソフトウェアを更新する。この為、ベンダーの担当者は露光装置４の制御ソフトウェアを更新する場合に半導体装置製造工場１の通信網７にアクセスする必要が無く、ベンダーの担当者が半導体装置製造工場１の通信網７にアクセスできる様にする等の運用上の工夫なども必要無い。さらに、第２の情報処理装置９からも半導体装置製造工場１の通信網７へはアクセス出来ない構成となっているので、セキュリティ上の安全性が高い。
【００１５】
本実施例の露光システムは、第１の情報処理装置８を介してベンダー施設２の第２の情報処理装置９と露光装置４を外部通信網３で接続する事により、迅速に目的の制御ソフトウェアを更新できる。また、その外部通信網３は半導体装置製造工場１内部の通信網７を介していないので、半導体装置製造工場１内部の通信網７に対してセキュリティ上の安全性が高い。
【００１６】
次に、図４を用いて、基板を支持するウエハステージを２つ搭載した２ステージ構成の露光装置４について説明する。２ステージ構成の露光装置４は、計測ステーション２０１と露光ステーション２０２とを備えている。露光ステーション２０２は、レチクル２０３を支持するレチクルステージ２０４と、ウエハ２０５a，２０５bを支持し、２つのステーション間で移動可能な２つのウエハステージ２０６a，２０６bと２つのウエハステージ２０６を支持する天板２０７を有する。また、露光装置４は、レチクルステージ２０４に支持されているレチクル２０３を露光光で照明する照明光学系２０８と、露光光で照明されたレチクル２０３のパターンをウエハステージ２０６上のウエハ２０５aに投影露光する投影光学系２０９とを備える。なお、図４の露光装置４には、ウエハステージ２０６が２つ配設されているが、１つ又は３つ以上のウエハステージ２０６を有する露光装置４であってもよい。
【００１７】
ここでは、露光装置４として、レチクル２０３とウエハ２０５とを走査方向に互いに同期移動しつつレチクル２０３に形成されたパターンをウエハ２０５に露光する走査露光装置（スキャナ）を使用する場合を例にして説明する。もちろん、露光装置４は、一括転写型の露光装置（ステッパ）でも構わない。以下の説明において、投影光学系２０９の光軸と一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクル２０３とウエハ２０５との同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわり方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１８】
レチクル２０３上の所定の照明領域は照明光学系２０８により均一な照度分布の露光光で照明される。照明光学系２０８から射出される露光光として、一般的に、水銀ランプ、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２レーザ、極端紫外光（Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ光）を使用しているが、これらの露光光に限らなくても構わない。レチクルステージ２０４は、レチクル２０３を支持し、投影光学系２０９の光軸に垂直な平面内、すなわちＸＹ平面内での２次元移動と、θＺ方向に微小回転とが可能である。レチクルステージ２０４はリニアモータ等のレチクルステージ駆動装置（不図示）により駆動され、レチクルステージ駆動装置は図３の第２の制御部１０６により制御される。レチクルステージ２０４上にはミラーが設けられている。また、ミラーに対向する位置には不図示のレーザ干渉計が設けられている。レチクルステージ２０４上のレチクル２０３のＸＹ平面内での２次元方向の位置、及び回転角θＺはレーザ干渉計によりリアルタイムで計測され、計測結果は第２の制御部１０６に出力される。第２の制御部１０６はレーザ干渉計の計測結果に基づいてレチクルステージ駆動装置を駆動することでレチクルステージ２０４に支持されているレチクル２０３の位置決めを行う。投影光学系２０９は、レチクル２０３のパターンを所定の投影倍率βでウエハ２０５に投影露光するものであって、複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は金属部材としての鏡筒で支持されている。本実施例において、投影光学系２０９は、投影倍率βが例えば１／４あるいは１／５の縮小投影系である。
【００１９】
各ウエハステージ２０６はウエハ２０５を支持するものであって、ウエハ２０５をウエハチャックを通して保持するＺステージと、Ｚステージを支持するＸＹステージと、ＸＹステージを支持するベースとを備えている。ウエハステージ２０６はリニアモータ等のウエハステージ駆動装置（不図示）により駆動される。ウエハステージ駆動装置は第２の制御部１０６により制御される。ウエハステージ２０６上にはウエハステージ２０６とともに移動するミラーが設けられている。また、ミラーに対向する位置には不図示のレーザ干渉計が設けられている。ウエハステージ２０６のＸＹ方向の位置、及びθＺはレーザ干渉計によりリアルタイムで計測され、計測結果は第２の制御部１０６に出力される。また、ウエハステージ２０６のＺ方向の位置、及びθＸ、θＹについてはレーザ干渉計によりリアルタイムで計測され、計測結果は第２の制御部１０６に出力される。レーザ干渉計の計測結果に基づいてウエハステージ駆動装置を通してＸＹＺステージを駆動することでウエハ２０５のＸＹＺ方向における位置を調整し、ウエハステージ２０６に支持されているウエハ２０５の位置決めを行う。レチクルステージ２０４の近傍には、不図示のレチクルアライメント検出系が設けられている。レチクルアライメント検出系は、レチクルステージ２０４上に配置されているレチクル基準マーク２１０と投影光学系２０９とを通してウエハステージ２０６上のステージ基準マーク２１１a，２１１bを検出する。このレチクルアライメント検出系を用いてレチクル基準マーク２１０に対しステージ基準マーク２１１の位置合わせを行う。
【００２０】
計測ステーション２０１は、ウエハ２０５表面の位置情報（Ｚ軸方向における位置情報及び傾斜情報）を検出するフォーカス検出系２１２を備えている。計測ステーション２０１は、また、ウエハ２０５とステージ基準マーク２１１の位置を検出するアライメント検出系であるウエハアライメント検出系２１３を備えている。フォーカス検出系２１２は検出光をウエハ２０５表面に投射する投射系とそのウエハ２０５からの反射光を受光する受光系とを備えており、フォーカス検出系２１２の検出結果（計測値）は第２の制御部１０６に出力される。第２の制御部１０６は、フォーカス検出系２１２の検出結果に基づいてＺステージを駆動し、Ｚステージに保持されているウエハ２０５のＺ軸方向における位置（フォーカス位置）及び傾斜角を調整する。また、ウエハアライメント検出系２１３によるウエハ２０５とステージ基準マーク２１１の位置検出の結果（計測値）は、レーザ干渉計により規定される座標内で、アライメント位置情報として、第２の制御部１０６に出力される。ステージ基準マーク２１１は、ウエハ２０５の表面とほぼ同じ高さに設置されており、図４に示すように、レチクルアライメント検出系とウエハアライメント検出系２１３で位置を検出するのに用いる。また、ステージ基準マーク２１１は表面がほぼ平坦部分も有しており、フォーカス検出系２１２の基準面の役割も備えている。ステージ基準マーク２１１はウエハステージ２０６の複数のコーナーに配置されていてもよい。ウエハ２０５はウエハアライメント検出系２１３により検出されるウエハアライメントマークを備えている。このウエハアライメントマークとはウエハ上の各ショット領域周辺に複数個備えられており、ウエハアライメントマークとショット領域の位置関係（ＸＹ方向）は既知であるとする。
【００２１】
このような２ステージ構成の露光装置では、例えば露光ステーション２０２におけるウエハステージ２０６上の第１のウエハ２０５の露光処理中に、計測ステーション２０１におけるウエハステージ２０６上の第２のウエハ２０５の交換及び計測処理を行う。それぞれの作業が終了すると、露光ステーション２０２のウエハステージ２０６が計測ステーション２０１に移動し、並行して計測ステーション２０１のウエハステージ２０６が露光ステーション２０２に移動し、第２のウエハ２０５に対して露光処理が行われる。
【００２２】
次に、本実施例による露光方法を説明する。計測ステーション２０１へのウエハ２０５の搬入後、ステージ基準マーク２１１をウエハアライメント検出系２１３で検出する。このために、第２の制御部はウエハアライメント検出系２１３の光軸がステージ基準マーク２１１上にあるようにレーザ干渉計の出力をモニタしつつウエハステージ２０６を移動する。これにより、レーザ干渉計によって規定される座標系内で、ウエハアライメント検出系２１３でステージ基準マーク２１１の位置情報が計測される。同じく計測ステーション２０１にて、フォーカス検出系２１２によりステージ基準マーク２１１の表面の位置情報を検出する。次に、ウエハ２０５のショット領域の位置検出が行われる。第２の制御部１０６は、ウエハアライメント検出系２１３の光軸がウエハ２０５の各ショット領域周辺にあるウエハアライメントマーク上を進むようにレーザ干渉計の出力をモニタしつつウエハステージ２０６を移動する。その移動の途中で、ウエハアライメント検出系２１３はウエハ２０５のショット領域周辺に形成されているウエハアライメントマークを検出する。これにより、レーザ干渉計により規定される座標系内での各ウエハアライメントマークの位置が検出される。ウエハアライメント検出系２１３によるステージ基準マーク２１１と、各ウエハアライメントマークの検出結果より、ステージ基準マーク２１１と各ウエハアライメントマークとの位置関係が求められる。各ウエハアライメントマークと各ショット領域との位置関係はそれぞれ既知であるので、ＸＹ平面内でのステージ基準マーク２１１とウエハ２０５上の各ショット領域との位置関係もそれぞれ決定されたことになる。次にフォーカス検出系２１２により、ウエハ２０５上の全てのショット領域毎にウエハ２０５表面の位置情報の検出が行われる。検出結果はレーザ干渉計により規定される座標系内でＸＹ方向の位置を対応させ、第２の制御部１０６に記憶される。フォーカス検出系２１２によるステージ基準マーク２１１表面の位置情報とウエハ２０５上の全てのショット領域表面の位置情報の検出結果より、ステージ基準プレート２１４表面とウエハ２０５上の各ショット領域表面との位置関係が決定されたことになる。
【００２３】
次に計測ステーション２０１にて計測したウエハ２０５の計測処理をもとに、露光ステーション２０２にて露光を行う。第２の制御部１０６は、レチクルアライメント検出系を用いてステージ基準マーク２１１を検出できるようにウエハステージ２０６を移動する。次に、レチクルアライメント検出系により、レチクル基準マーク２１０と投影光学系２０９を通してステージ基準マーク２１１の検出を行う。すなわち、レチクル基準マーク２１０とステージ基準マーク２１１とのＸＹ方向の関係、及びＺ方向の関係を投影光学系２０９を通して検出する。これにより投影光学系２０９を通して、投影光学系２０９がウエハ２０５上に投影するレチクルパターン像の位置がステージ基準マーク２１１を使って検出されたことになる。投影光学系２０９が形成するレチクルパターン像の位置検出が終了すると、第２の制御部１０６は、ウエハ２０５上の各ショット領域を露光するために、ウエハステージ２０６を移動して投影光学系２０９下にウエハ２０５上のショット領域へ移動する。そして、計測ステーション２０１にて得られた各計測結果を使って、ウエハ２０５上の各ショット領域を走査露光する。露光中は、ステージ基準マーク２１１と各ショット領域との位置関係と、露光ステーション２０２で求めたステージ基準マーク２１１とレチクルパターン像の投影位置関係に基づき、ウエハ２０５上の各ショット領域とレチクル２０３との位置合わせを行う。ステージ基準マーク２１１と各ショット領域との位置関係は計測ステーション２０１で求められ、ステージ基準マーク２１１とレチクルパターン像の投影位置関係は露光ステーション２０２で求められている。また、走査露光中は、ウエハ２０５表面と、投影光学系２０９によって投影されるレチクルパターン像面との位置関係が調整される。その調整は、計測ステーション２０１で求めたステージ基準マーク２１１表面とウエハ２０５表面との位置関係及び露光ステーション２０２で求めたステージ基準マーク２１１表面と投影光学系２０９が形成するレチクルパターン像面との位置関係に基づいて行われる。
【００２４】
次に、図５を用いて、今までに説明した露光システムにおける露光装置４の制御ソフトウェアを更新する方法について述べる。事前調査を行うステップＳ３０１、露光処理を停止するステップＳ３０３、テストを行うステップＳ３０５、露光処理を開始するステップＳ３０６は、図９を用いて従来例で説明したとおりなので説明を省略する。ステップＳ３０２で、第１の情報処理装置８は、露光装置４の制御ソフトウェアを更新するのに先立って、更新に用いる新しい制御ソフトウェアを取得する。この実施例の露光システムでは、第１の情報処理装置８は、第２の情報処理装置９と外部通信網３を介して接続しているため、第２の情報処理装置９から容易かつ迅速に目的の制御ソフトウェアに取得する事ができる。露光処理が停止された後のステップＳ３０４で、第１の情報処理装置８は、ステップＳ３０２で取得した新たな制御ソフトウェアを用いて露光装置４の制御ソフトウェアを更新する。図６は新たな制御ソフトウェアを取得し、露光装置４に組み込まれた制御ソフトウェアを当該新たな制御ソフトウェアで更新する第１の情報処理装置８のモニタ画面の一例である。作業者は、領域４０１を用いて、第１の情報処理装置８の格納内容を更新する際に接続する第２の情報処理装置９を選択し更新を指示しうる。また、作業者は、領域４０２を用いて、適用する制御ソフトウェアのバージョンを指定し、領域４０３を用いて、制御ソフトウェアを更新する露光装置を選択し更新を指示しうる。この様に、作業者は第１の情報処理装置８での操作で従来例におけるメディアの準備と制御ソフトウェアの更新に相当する作業を行う事ができる。半導体等の製造において塵などは製品不良の原因になるため、露光装置４等の半導体装置製造装置は工場１のクリーンルームに設置する。従来はクリーンルーム内の露光装置４に対して制御ソフトウェアを更新するための操作を行っていた。しかし、第１の情報処理装置８はクリーンルーム内に設置する必要は無く、したがって、本実施例では、クリーンルームでの作業を減らす事ができる。この様に、本実施例では、メディアを介して露光装置４の制御ソフトウェアを更新する従来例に比べて、より早く簡易な作業で露光装置４の更新処理が可能となる。また、本実施例では、容易な作業で目的の制御ソフトウェアの更新を行う事が可能となる。
【００２５】
以上これまでに説明したように、露光装置４を含む露光システム及び露光装置４の制御ソフトウェアの更新方法では、通信網７を用いる事に対するセキュリティ上の安全性を向上しつつ、容易な作業で露光装置４の制御ソフトウェアを更新する事が可能である。
【００２６】
［実施例２］
図７を用いて、実施例２の露光装置４を含む露光システム、及び、露光装置４の制御ソフトウェアの更新方法について説明する。実施例２では、第１の情報処理装置８は１つ以上の露光装置４のみに接続している。また、ベンダー施設２に配置された第２の情報処理装置９と外部通信網３を介して接続した第３の情報処理装置１０が工場１内に配置されている。第１の情報処理装置８と第３の情報処理装置１０とは、光磁気ディスクやフレキシブルディスク等のメディアを用いて制御ソフトウェアの受け渡しを行う。情報処理装置を除くその他のシステム構成は実施例１と同じであるので説明を省略する。また、第２の情報処理装置９も、接続先が第１の情報処理装置８から第３の情報処理装置１０に変わっている事を除けば、実施例１と同じである。第３の情報処理装置１０は、外部通信網３を介して第２の情報処理装置９から目的の制御ソフトウェアを受け取る。作業者は、第３の情報処理装置１０が受け取った制御ソフトウェアをメディアドライブを介してメディアに書き込む。第１の情報処理装置８は、メディアドライブからメディアの情報を読み込み新たな制御ソフトウェアを取得する。第１の情報処理装置８は、露光装置４の第１インターフェース４ａを介して露光装置４と通信を行って制御ソフトウェアを更新する。実施例２では、露光装置４は、第２の情報処理装置９、外部通信網３と接続されておらず、可搬メディアを用いて制御ソフトウェアが転送されている。したがって、実施例１と比べると、露光装置４の制御ソフトウェアの更新作業は煩雑になるが、システムのセキュリティの安全性を向上することができる。
【００２７】
次に実施例２における露光装置４の制御ソフトウェアの更新方法を、実施例１と同じく図５を用いて説明する。本実施例の事前調査を行うステップS３０１、露光処理を終了するステップS３０３、テストを行うステップS３０５、露光処理を開始するステップS３０６は、図９を用いて説明した従来例と同じなので説明を省略する。また、本実施例の制御ソフトウェアを更新するステップS３０４は、実施例１と同じなので説明を省略する。図５のステップＳ３０２で、第１の情報処理装置８は、露光装置４の制御ソフトウェアを新たな制御ソフトウェアで更新するのに先立って、当該新たな制御ソフトウェアを取得する。本実施例では、一旦、外部通信網３を介して、第３の情報処理装置１０の制御ソフトウェアを第２の情報処理装置９の制御ソフトウェアを元に更新する。次に、メディアを用いて、第１の情報処理装置８の制御ソフトウェアを第３の情報処理装置１０の制御ソフトウェアを元に更新する。
【００２８】
実施例２は、実施例１と比べて制御ソフトウェアを更新する作業が煩雑になるが、セキュリティがより向上している。また、従来例で必要であった、露光装置４上での制御ソフトウェアを更新する作業や工場１とベンダー施設２間でのメディア転送も必要無い。
【００２９】
［実施例３］
図８を用いて、実施例３の露光装置４を含む露光システム、及び、露光装置４の更新方法について説明する。実施例３では、第１の情報処理装置８は１つ以上の露光装置４のみに接続しており、外部通信網３には接続していない。第２の制御部９も外部通信網３に接続している必要は無い。第１の情報処理装置８と第２の情報処理装置９は、光磁気ディスクやフレキシブルディスク等のメディアを用いて制御ソフトウェアの受け渡しを行う。その他の構成は実施例１と同じであるので説明を省略する。第１の情報処理装置８は、メディアドライブからメディアの情報を読み込み第１の記憶部１０３に格納している制御ソフトウェアを更新する。また、第１の情報処理装置８は、第１の通信部１０２を用いて露光装置４に新たな制御ソフトウェアを転送し更新する。第２の情報処理装置９は、第１の情報処理装置８に転送する制御ソフトウェアをメディアドライブを介してメディアに書き込む。実施例３では、第１の情報処理装置８は、第２の情報処理装置９と外部通信網３を介して接続されておらず、可搬メディアを用いて第２の情報処理装置９が保持していた制御ソフトウェアを取得している。したがって、実施例３では、実施例１と比べて、露光装置４の制御ソフトウェアを更新する作業は煩雑になるが、システムのセキュリティの安全性を向上することができる。
【００３０】
次に実施例３における露光装置４の更新方法について、施例１と同じく図５を用いて説明する。ここで本実施例の事前調査を行うステップS３０１、露光処理を終了するステップS３０３、テストを行うステップS３０５、露光処理を開始するステップS３０６は、図９を用いて説明した従来例と同じなので説明を省略する。また、本実施例の制御ソフトウェアを更新するステップS３０４は、実施例１と同じなので説明を省略する。露光装置４の制御ソフトウェアを更新するのに先立って、図５のステップＳ３０２で、第１の情報処理装置８の制御ソフトウェアを目的のものに更新する。本実施例では、メディアを用いて、第１の情報処理装置８の制御ソフトウェアを第２の情報処理装置９の制御ソフトウェアを元に更新することで、第１の情報処理装置８は新たな制御ソフトウェアを取得する。
【００３１】
実施例３は、実施例１及び実施例２と比べて制御ソフトウェアを更新する作業が煩雑になるが、システムのセキュリティがより向上される。また、従来例で必要であった、露光装置４上での制御ソフトウェアを更新する作業も必要無い。
【００３２】
次に、実施例１〜３に示された露光装置４を用いたデバイス製造方法について説明する。その場合、デバイスは、露光装置４を用いて基板にパターンを形成する工程と、他の周知の工程とを経ることにより製造する。デバイスは、半導体集積回路素子、液晶表示素子等でありうる。基板は、ウエハ、ガラスプレート等でありうる。当該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、ダイシング、ボンディング、パッケージング等の各工程である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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