(57)【要約】【課題】温ミストの発生量が低下することを抑制できるミスト発生装置及び美容装置を提供すること。【解決手段】下部温ミスト誘導部４６から還流される比較的高温の水を貯留する貯留部４３の内側底部に仕切り壁４７を設け、給水タンク３３から供給された比較的低温の水を強制的に上方移動させ、貯留部４３内に貯留された比較的高温の水との混合を促進するようにした。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を貯留可能な貯留タンクと、供給された液体を加熱して温ミストを発生させる加熱部と、前記加熱部で発生させた温ミストを放出するミスト放出口を備えたミスト発生装置において、
予め加熱された液体を供給する加熱液体供給部と、
前記加熱液体供給部から供給された液体と、前記貯留タンクから供給された液体とを混合してなる混合液体を前記加熱部に供給する混合液体供給部と、
前記加熱液体供給部から供給された液体と、前記貯留タンクから供給された液体との混合を促進する混合促進手段と、を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
前記加熱液体供給部は、前記加熱部から前記ミスト放出口までのミスト経路内に流入した液体を還流させることにより前記予め加熱された液体を供給する還流路であることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。
【請求項３】
前記還流路を介して還流された液体、及び前記貯留タンクから供給された液体を貯留する貯留部をさらに備え、
前記混合液体供給部は、前記貯留部に貯留された液体を前記加熱部に供給することを特徴とする請求項２に記載のミスト発生装置。
【請求項４】
前記貯留部は、前記貯留タンクから液体が供給される貯留液体供給部を備え、
前記混合促進手段は、前記貯留部において前記貯留液体供給部と前記混合液体供給部の間に介在されることを特徴とする請求項３に記載のミスト発生装置。
【請求項５】
前記混合促進手段は、前記貯留部の一部を２つの領域に区画する区画壁であり、
前記貯留液体供給部は一方の領域に設けられている一方で、前記混合液体供給部は他方の領域に設けられていることを特徴とする請求項４に記載のミスト発生装置。
【請求項６】
前記区画壁には、液体が通過可能な通液部が設けられていることを特徴とする請求項５に記載のミスト発生装置。
【請求項７】
前記通液部は、前記貯留液体供給部から前記通液部を経由して前記混合液体供給部迄の液体経路の長さが最も長くなる位置に設けられていることを特徴とする請求項６に記載のミスト発生装置。
【請求項８】
前記還流路は、前記貯留部の下部に接続されていることを特徴とする請求項３〜請求項７のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項９】
前記貯留タンクに貯留された液体を予め加熱するタンク予備加熱機構をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜請求項８のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項１０】
前記貯留タンクから前記混合液体供給部へ液体を供給する供給経路に、この供給経路内の液体を予め加熱する経路予備加熱機構をさらに設けたことを特徴とする請求項１〜請求項９のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項１１】
ミストを放出して肌表面の手入れを行う美容装置において、
請求項１〜請求項１０のうち何れか一項に記載のミスト発生装置を備えたことを特徴とする美容装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト発生装置、及びミスト発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置は、液体をヒータにて沸騰させたり超音波にて霧化させたりして発生させた温ミストを顔など人体に向けて放出することで、肌に潤いを与えるなどの美容効果や肌ケアを目的とした装置として用いられている。このようなミスト発生装置では、貯留タンクから供給される比較的低温の液体が直接ヒータに触れることでヒータの表面温度が低下し、温ミストの発生量が低下することが知られている。このような問題に対し、貯留タンクから供給される液体を予備的に加熱する予備加熱機構を備え、この予備加熱機構で加熱した比較的高温の液体と混合してから沸騰室に供給するミスト発生装置が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
特許文献１のミスト発生装置では、沸騰室から流出した比較的高温の液体を還流させたり、配管をヒータの放熱面に対向配置させたりするなどして液体を予備加熱するとともに、この予備加熱された液体と貯留タンクから供給される液体を混合して沸騰室に供給するようになっている。このため、特許文献１のミスト発生装置では、貯留タンクに貯留された比較的低温の液体がそのまま沸騰室に供給されることを防止し、ヒータの表面温度の低下に伴う温ミスト発生量の低下を抑制できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６００５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のミスト発生装置では、貯留タンクから沸騰室へ液体を供給する供給経路が略水平に配置されているとともに、この供給経路に対して予備加熱された液体を供給する供給経路を上方から接続する構成を採用している。このため、特許文献１のミスト発生装置では、貯留タンクから供給される液体と、この貯留タンクから供給される液体に比して比重が軽い予備加熱された液体との混合が十分に行われない可能性がある。したがって、特許文献１のミスト発生装置では、十分に混合が行われないまま、比較的低温の液体が沸騰室へ供給されることでヒータの表面温度が低下し、温ミストの発生量が低下する虞があった。
【０００６】
この発明は、上記従来技術に存在する課題を解決するためになされたものであって、その目的は、温ミストの発生量が低下することを抑制できるミスト発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、第１の発明は、液体を貯留可能な貯留タンクと、供給された液体を加熱して温ミストを発生させる加熱部と、前記加熱部で発生させた温ミストを放出するミスト放出口を備えたミスト発生装置において、予め加熱された液体を供給する加熱液体供給部と、前記加熱液体供給部から供給された液体と、前記貯留タンクから供給された液体とを混合してなる混合液体を前記加熱部に供給する混合液体供給部と、前記加熱液体供給部から供給された液体と、前記貯留タンクから供給された液体との混合を促進する混合促進手段と、を備えたことを特徴としている。
【０００８】
第２の発明は、第１の発明において、前記加熱液体供給部は、前記加熱部から前記ミスト放出口までのミスト経路内に流入した液体を還流させることにより前記予め加熱された液体を供給する還流路であることを特徴としている。
【０００９】
第３の発明は、第２の発明において、前記還流路を介して還流された液体、及び前記貯留タンクから供給された液体を貯留する貯留部をさらに備え、前記混合液体供給部は、前記貯留部に貯留された液体を前記加熱部に供給することを特徴としている。
【００１０】
第４の発明は、第３の発明において、前記貯留部は、前記貯留タンクから液体が供給される貯留液体供給部を備え、前記混合促進手段は、前記貯留部において前記貯留液体供給部と前記混合液体供給部の間に介在されることを特徴としている。
【００１１】
第５の発明は、第４の発明において、前記混合促進手段は、前記貯留部の一部を２つの領域に区画する区画壁であり、前記貯留液体供給部は一方の領域に設けられている一方で、前記混合液体供給部は他方の領域に設けられていることを特徴としている。
【００１２】
第６の発明は、第５の発明において、前記区画壁には、液体が通過可能な通液部が設けられていることを特徴としている。
第７の発明は、第６の発明において、前記通液部は、前記貯留液体供給部から前記通液部を経由して前記混合液体供給部迄の液体経路の長さが最も長くなる位置に設けられていることを特徴としている。
【００１３】
第８の発明は、第３〜第７の発明のうち何れか１つの発明において、前記還流路は、前記貯留部の下部に接続されていることを特徴としている。
第９の発明は、第１〜第８の発明のうち何れか１つの発明において、前記貯留タンクに貯留された液体を予め加熱するタンク予備加熱機構をさらに備えたことを特徴としている。
【００１４】
第１０の発明は、第１〜第９の発明のうち何れか１つの発明において、前記貯留タンクから前記混合液体供給部へ液体を供給する供給経路に、この供給経路内の液体を予め加熱する経路予備加熱機構をさらに設けたことを特徴としている。
【００１５】
第１１の発明は、ミストを放出して肌表面の手入れを行う美容装置において、第１〜第１０の発明のうち何れか１つの発明のミスト発生装置を備えた美容装置であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、温ミストの発生量が低下することを抑制できるミスト発生装置及び美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）、（ｂ）は、美容器を示す斜視図。
【図２】図１（ｂ）に示すＡ−Ａ線部分断面図。
【図３】美容器の配管構成を示す模式図。
【図４】経路形成部材の斜視図。
【図５】（ａ）は、加熱機構部の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ線部分断面図。
【図６】図５（ａ）に示すＣ−Ｃ線断面図。
【図７】変形例における経路形成部材を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を美容器に具体化した実施形態を図面に従って説明する。なお、以下の説明において、「前（手前）」「後」「上」「下」「左」「右」は、美容器の使用者が、美容器を使用する際に美容器に向いた状態を基準とした場合の「前（手前）」「後」「上」「下」「左」「右」を示すものとする。
【００１９】
図１は、本実施形態のミスト発生装置を備える美容装置としての美容器１０を示す。図１に示すように、有底略円筒状の本体ケース１１には美容器本体１２が収容されて固定されている。美容器本体１２において、上ハウジング１３の上面１３ａの前側中央部には、上方に開口する開口部１３ｂが形成されている。上ハウジング１３には、この開口部１３ｂと整合させて凹部１５を形成するベース部材１６が組み付けられている。
【００２０】
ベース部材１６には、美容器本体１２に対し所定角度（例えば、２５〜５５°）で矢印Ｙａ方向（上下方向）に回動可能となるように図示しない支持軸を介して、温ミストを放出（噴射）するミストノズル２０が取着されている。ミストノズル２０は、温ミストを放出するミスト放出口２１の周りを覆うように形成されたノズルカバー２２が一体形成されて構成されている。本実施形態では、ミストノズル２０を上下方向に回動させることで、ミスト放出口２１から放出される温ミストの放出方向を上下方向に調整可能となっている。
【００２１】
ノズルカバー２２においてミスト放出口２１の下方には、ノズルカバー２２の外面の法線方向に延びるように、端面視略Ｕ字状のミストガイド２３が立設されている。ミストガイド２３は、ミスト放出口２１の下方及び左右側方を囲うように形成されており、左右方向及び下方向から使用者の手指がミストノズル２０に接近することを防止するようになっている。ミストガイド２３の基端部であってミスト放出口２１の下方に対応する位置には、ミストガイド２３を上下方向に貫通する逃がし孔２３ａが設けられており、ミストガイド２３の上部で結露した液体（水など）が滞留しないようになっている。なお、図２に示すように、ミストノズル２０は、ミストノズル２０（ミストガイド２３の下面）が、ベース部材１６に形成された規制部２５に当接することにより下方への回動が規制されている。
【００２２】
また、図１に示すように、ベース部材１６においてミストノズル２０の後方には、ミストノズル２０を保護するためのノズルガード２６が上下方向（矢印Ｙｂに示す）に回動可能に取着されている。ノズルガード２６は、ミストノズル２０を覆う閉位置（図１（ａ）に示す）と、ノズルガード２６の開位置（図１（ｂ）に示す）との間で上下方向に回動可能に構成されている。
【００２３】
図１及び図２に示すように、ノズルガード２６は、略半円形の平板状に形成されているとともに、左右の両基端部２６ａが、ベース部材１６に対して回転可能に支持された回転軸Ｚ（図２に示す）に固定されている。ノズルガード２６の下面の略中央には、この下面から下方へ向かって平面視略Ｕ字状の前方リブ２６ｂが垂下されている。この前方リブ２６ｂは、ノズルガード２６を閉位置（閉じた状態）とした場合に、ミストガイド２３の内側であってミストノズル２０（ミスト放出口２１）の前方を覆うように配設されている。また、ノズルガード２６の下面において、前方リブ２６ｂの左右側方には、この下面から下方へ向かって、前後方向に延びる一対の側方リブ２６ｃが垂下されている。この側方リブ２６ｃは、ノズルガード２６を閉じた状態とした場合にミストガイド２３の左右側方を覆うように配設されている。すなわち、ノズルガード２６が閉位置に位置している状態において、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）は、前方が前方リブ２６ｂに覆われるとともに、左右側方が側方リブ２６ｃ及びミストガイド２３によって覆われるようになっている。このため、本実施形態では、ノズルガード２６を閉位置とした場合に、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から放出される温ミストが前方及び側方に放出されないようになっている。
【００２４】
また、ノズルガード２６の下面には、前方リブ２６ｂから後方へ延びる凹状に形成された排気通路２６ｄが形成されている。排気通路２６ｄにおいてノズルガード２６の基端部側には、ノズルガード２６の下面と上面とを連通する排気口２６ｅが形成されている。すなわち、本実施形態において排気口２６ｅは、ノズルガード２６において使用者から最も距離をおいたノズルガード２６の後方に形成されている。本実施形態では、ノズルガード２６を閉位置とした場合に各リブ２６ｂ，２６ｃによって遮られた温ミストが排気通路２６ｄを通過して排気口２６ｅから上方に向かって排出されるようになっている。
【００２５】
図２に示すように、ノズルガード２６は、平板状の部材の中心線が所定の角度（屈曲角度Ｄ）で交差するように一体形成されたリンク部材３０によってミストノズル２０と連結されている。リンク部材の屈曲角度Ｄは鈍角（本実施形態では１３２°）に設定されている。リンク部材３０は、回転軸Ｚに固定されてノズルガード２６と一体に回動する第１リンク基台３１、及びミストノズル２０に形成された第２リンク基台３２に対してそれぞれ回動可能に組み付けられている。
【００２６】
このような構成により、図２に示す第２の可動範囲Ｈ２において、ミストノズル２０は、ノズルガード２６が回動操作された場合であっても、ミストノズル２０（ミストガイド２３の下面）が規制部２５に接触した状態を維持するようになっている。すなわち、ノズルガード２６は、第２の可動範囲Ｈ２において、ミストノズル２０から独立して動作可能に構成されている。
【００２７】
一方、図２に示す第１の可動範囲Ｈ１において、ミストノズル２０（ノズルカバ−２２）は、ノズルガード２６の回動動作に連動して中心軸線Ｘを回動中心として上下方向に回動する。このため、第１の可動範囲Ｈ１では、ノズルガード２６を回動操作することで、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）からの温ミストの放出方向を調整することができるようになっている。なお、第１の可動範囲Ｈ１において、ノズルガード２６は、図示しない付勢手段によって、外力を付与しなくても回動位置を維持（保持）できるように構成されており、調整したミストノズル２０の回動位置（温ミストの放出方向）を維持（保持）可能となっている。また、第１の可動範囲Ｈ１において、ノズルガード２６は、このノズルガード２６がミストノズル２０の上方に配置され、且つこのノズルガード２６によって温ミストの放出が遮られない位置を維持するようになっている。このように、本実施形態のノズルガード２６は、美容器１０の不使用時においてミストノズル２０（ミスト放出口２１）を覆う蓋部材としての機能を有する。また、ノズルガード２６は、美容器１０の使用時において使用者の手指がミストノズル２０（ミスト放出口２１）に接近することを規制し、使用者を保護する保護具としての機能を有する。
【００２８】
また、図１に示すように、ノズルガード２６の後側には、ミストノズル２０から放出する温ミストを発生するのに使用される液体（本実施形態では、水）を、所定量（本実施形態では、約１００ｍｌ）貯蔵する貯留タンクとしての給水タンク３３が、美容器本体１２に収容された状態で設置されている。給水タンク３３は、美容器本体１２に対し上下（垂直）方向に挿入及び取り出し可能に収納されている。
【００２９】
上ハウジング１３の上面１３ａにおいて、ミストノズル２０（ノズルガード２６）の左前方には、美容器１０の電源をオン及びオフする際に操作される電源ボタン３５が設けられている。また、上ハウジング１３の上面１３ａにおいて、ミストノズル２０の右前方には、複数種類用意された美容器１０の運転モードのうちから１つの運転モードを選択する際に操作されるモード切替ボタン３６が設けられている。また、上ハウジング１３の上面１３ａには、モード切替ボタン３６と前後方向に並ぶように、モード切替ボタン３６の操作によって選択された運転モードで美容器１０の運転開始をさせる際、及び運転停止をする際に操作される運転制御ボタン３７が設けられている。
【００３０】
美容器１０（本体ケース１１）の前面側において、上下方向の略中央には、静電霧化装置３８ａ（点線で示す）により液体を霧化させて発生させた帯電微粒子ミスト（帯電微粒子液体）を放出するための帯電微粒子ミスト放出口３８が設けられている。
【００３１】
次に、本実施形態の美容器本体１２（美容器１０）の配管構成（内部構造）について、図３にしたがって説明する。なお、図３に示す水面Ｗは、略一定に保たれるようになっている。
【００３２】
美容器本体１２には、美容器本体１２（上ハウジング１３）の上面１３ａに開口し、給水タンク３３を収納可能なタンクホルダ３３ａが設けられている。タンクホルダ３３ａには、空気抜き孔３３ｂが開口形成されている。また、タンクホルダ３３ａには、オーバーフロー孔３３ｃが設けられており、タンクホルダ３３ａ内の水位がオーバーフロー孔３３ｃの形成位置まで上昇した際に、タンクホルダ３３ａ内の水をタンクホルダ３３ａの外部に排出するようになっている。また、タンクホルダ３３ａの下端には、耐熱性を備えた弾性材料（例えば、シリコンゴムやフッ素ゴム）で形成された給水パイプＰ１の上流端が接続されているとともに、この給水パイプＰ１の下流端は、加熱機構部４０に接続されている。給水パイプＰ１は、給水タンク３３から水を加熱機構部４０に供給する給水経路Ｋ１を形成している。また、給水パイプＰ１は、途中で分岐されるとともに、空気抜き孔３３ｂに接続されている。このため、本実施形態では、給水パイプＰ１内の空気（気泡）が空気抜き孔３３ｂを介してタンクホルダ３３ａに排出されるようになっている。
【００３３】
本実施形態の加熱機構部４０は、耐熱性を有する材料（耐熱性樹脂や金属など）からなり液体及び温ミストの経路を形成するための経路形成部材４１と、液体を加熱して温ミストを発生させる温ミストヒータ４２とを備えている。図４〜図６に示すように、経路形成部材４１は、水を貯留可能な貯留部４３、温ミストヒータ４２が組みつけられることでこの温ミストヒータ４２と共に加熱部としての沸騰室４２ａを形成する沸騰室形成部４５、及び沸騰室４２ａで発生された温ミストを上方（ミストノズル２０）へ誘導する下部温ミスト誘導部４６を備えている。以下、詳細に説明する。
【００３４】
図３及び図４に示すように、経路形成部材４１には、給水パイプＰ１が接続される略円筒状の接続部４３ａが設けられているとともに、この接続部４３ａには、上下方向に沿って延びる有底略円筒状の貯留部４３が上方に向かって延びるように連設されている。貯留部４３の底面４３ｂには、接続部４３ａの内部と連通する貯留液体供給部としての流入孔４３ｃが開口形成されている。したがって、給水タンク３３に貯留された水は、給水パイプＰ１から流入孔４３ｃを介して貯留部４３内に流入されるようになっている。
【００３５】
図５及び図６に示すように、貯留部４３の内側底部には、貯留部４３の底面４３ｂから上方に向かって立設されるとともに、貯留部４３の内側底部を流入側領域Ｒａと流出側領域Ｒｂの２つの領域に均等に区画する区画壁としての仕切り壁４７が設けられている。仕切り壁４７は、貯留部４３の内部空間を、この仕切り壁４７の高さの範囲内において等しい体積となるように区画している。前述した流入孔４３ｃは、流入側領域Ｒａに開口している。なお、本実施形態において、貯留部４３の水平方向に沿った断面積（本実施形態では直径１２ｍｍ）は、流入孔４３ｃの中心線に直交する方向の断面積（本実施形態では直径６ｍｍ）より大きく設定されている。このように構成することで、本実施形態では、仕切り壁４７を形成する空間を確保するとともに、貯留部４３内に貯留可能な水量を多くすることができる。
【００３６】
図５（ａ）に示すように、仕切り壁４７は、平面視で貯留部４３の直径方向に沿って形成されるとともに、貯留部４３の内壁面と２点で連結されている。また、仕切り壁４７の上下方向に沿った長さ寸法（高さ）は、貯留部４３の上下方向に沿った長さより短く（本実施形態では、略２分の１）設定されている。また、仕切り壁４７の上下方向に沿った長さは、貯留部４３における水面Ｗから上方に突出しない長さ（貯留部４３において水没する長さ）に設定されている。
【００３７】
また、図５に示すように、仕切り壁４７の上端部であって、貯留部４３の内壁面に接する一方の端部には、この貯留部４３の内壁面に接するように上方から下方へ略方形に切り欠き形成した通液部４７ａが設けられている。この通液部４７ａは、仕切り壁４７の上下方向に沿った長さ（高さ）を部分的に小さく（低く）設定した部位と把握することもできる。例えば、本実施形態の仕切り壁４７を高さ１０ｍｍに設定した場合、通液部４７ａは、上下方向に沿った長さを５ｍｍ、幅を３ｍｍに設定する。
【００３８】
貯留部４３の外側底部において接続部４３ａの延びる方向と直交する方向には、仕切り壁４７を挟んで対峙し、且つ接続部４３ａの延びる方向と直交する方向に延びる円筒状の連通部４８が形成されている。連通部４８は、貯留部４３内の水を沸騰室４２ａへ供給する混合液体供給部としての流出孔４３ｅを形成している。貯留部４３の流出側領域Ｒｂには、沸騰室４２ａと連通するように流出孔４３ｅが開口している。このため、流入孔４３ｃと流出孔４３ｅとの間には、仕切り壁４７が介在されるようになっている。また、図５に示すように、仕切り壁４７の通液部４７ａは、仕切り壁４７の上端部であって、流入孔４３ｃ及び流出孔４３ｅから最も離間した位置に形成されている。すなわち、本実施形態の通液部４７ａは、流入孔４３ｃから通液部４７ａを経由して流出孔４３ｅまでの液体経路の距離が最も長くなる位置に形成されている。
【００３９】
図３、図５、及び図６に示すように、連通部４８には、上下方向に延びる略平板状の沸騰室形成部４５の下部が連設されている。沸騰室形成部４５において貯留部４３とは反対側の面には、上下方向に延びる薄平板状の沸騰室４２ａが形成されている。この沸騰室４２ａの下部には、流出孔４３ｅが開口している。沸騰室形成部４５には、沸騰室４２ａに対応させて、略長方形状をなす温ミストヒータ４２が組みつけられている。温ミストヒータ４２は、例えばＰＴＣ（positive temperature coefficient ）素子からなる。
【００４０】
なお、温ミストヒータ４２の外側下端部には、温度センサＳＥが配設されている。また、沸騰室形成部４５の沸騰室４２ａには、沸騰室４２ａの底面の全体を覆うとともに温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂに接するようにボイラフェルト４９が配設されている。なお、ボイラフェルト４９の飽和吸水量は、美容器１０の使用後に沸騰室４２ａの壁面を流下する可能性のある水（結露水など）の量より大きく設定されている。
【００４１】
沸騰室形成部４５の上部において貯留部４３側の面には、扁平な有底略円筒状に形成された下部温ミスト誘導部４６が連設されている。沸騰室形成部４５の沸騰室４２ａの上部は、下部温ミスト誘導部４６の側面部４６ａで連通されている。また、下部温ミスト誘導部４６の底面４６ｂには、下部温ミスト誘導部４６の下部に連設された貯留部４３の内部が開口しており、下部温ミスト誘導部４６の内部と貯留部４３の内部とが連通されている。下部温ミスト誘導部４６は、温ミストを上方（ミストノズル２０）に誘導する下部温ミスト経路Ｍ１を形成している。
【００４２】
このように、本実施形態の加熱機構部４０では、貯留部４３、連通部４８（流出孔４３ｅ）、沸騰室形成部４５（沸騰室４２ａ）、及び下部温ミスト誘導部４６（下部温ミスト経路Ｍ１）によって、四角環状の管路が形成されている。
【００４３】
下部温ミスト誘導部４６の上端部には、下部温ミスト誘導部４６を通過した温ミストをさらに上方（ミストノズル２０）へ誘導するとともに、高圧放電により温ミストを微細化（イオン化）する放電部５０を備えた上部温ミスト誘導部材５１が連設されている。上部温ミスト誘導部材５１の下部（下部温ミスト誘導部４６の上部）には、上部温ミスト誘導部材５１の底部を形成するとともに、下部温ミスト誘導部４６の底部と上部温ミスト誘導部材５１の底部との間で段差（段違い構造）を形成する防止壁５３が設けられている。防止壁５３は、沸騰室４２ａから飛散する比較的高温の水が下部温ミスト誘導部４６より上方（ミストノズル２０側）へ直接侵入することを阻止するようになっている。このため、本実施形態では、沸騰室４２ａから飛散した比較的高温の水がミストノズル２０より放出されることを抑制している。
【００４４】
上部温ミスト誘導部材５１内において防止壁５３の上部には、放電部５０が設けられている。放電部５０は、高電圧が印加される一対の放電針５０ａと、各放電針５０ａの間に配設される中間電極部５０ｂとから構成されている。放電部５０では、各放電針５０ａからの高圧放電によって温ミストが微細化される。
【００４５】
上部温ミスト誘導部材５１の上端には、耐熱性を備えた弾性材料（例えば、シリコンゴムやフッ素ゴム）からなり、蛇腹状に形成された蛇腹部材５５の上流端（下端）が連結固定されている。また、蛇腹部材５５の下流端（上端）は、略円筒状に形成されたノズルホルダ５６に連結固定されている。ノズルホルダ５６は、ミストノズル２０（ノズルカバー２２）の内側であってミスト放出口２１の周囲に固着された略円環状のノズルパッキン５７に連結固定されている。本実施形態では、上部温ミスト誘導部材５１、蛇腹部材５５によって、温ミストヒータ４２により発生させた温ミストをミスト放出口２１へ誘導する上部ミスト経路Ｍ２が形成されている。
【００４６】
本実施形態では、給水タンク３３、タンクホルダ３３ａ、給水パイプＰ１が給水機構部を構成し、上部温ミスト誘導部材５１、蛇腹部材５５、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）がミスト放出機構部を構成している。そして、本実施形態では、加熱機構部４０、及びミスト放出機構部がミスト発生手段としてのミスト発生機構５９を構成する。
【００４７】
次に、本実施形態の美容器１０の電気的構成について説明する。
図１に示すように、美容器本体１２には、美容器１０の動作を制御するための制御基板５８が設けられている。制御基板５８には、温ミストヒータ４２、静電霧化装置３８ａ、及び放電部５０が電気的に接続されている。また、制御基板５８には、電源ボタン３５、モード切替ボタン３６、及び運転制御ボタン３７が電気的に接続されている。また、制御基板５８には、温度センサＳＥが接続されている。
【００４８】
本実施形態の制御基板５８は、電源ボタン３５の押下操作によって電源投入がされると、初期運転モードとして帯電微粒子ミスト放出口３８から帯電微粒子ミストを放出させる「帯電微粒子モード」を初期設定する。また、制御基板５８は、モード切替ボタン３６が押下操作された際に出力する操作信号を入力する毎に、「帯電微粒子モード」と、温ミストをミストノズル２０（ミスト放出口２１）から放出させる「温ミストモード」とを切り替えて設定する。
【００４９】
制御基板５８は、帯電微粒子モードを設定している場合、運転制御ボタン３７が押下操作された際に出力する操作信号を入力すると、静電霧化装置３８ａを制御して帯電微粒子ミストを生成し、帯電微粒子ミスト放出口３８から放出させる。また、本実施形態の制御基板５８は、「温ミストモード」を設定している場合、運転制御ボタン３７から操作信号を入力すると、温ミストヒータ４２及び放電部５０に通電を開始して温ミストを生成するとともに、ミストノズル２０（ミスト放出口２１）から温ミストを放出させる。なお、制御基板５８は、温度センサＳＥで計測した温ミストヒータ４２の表面温度が所定温度（例えば１２８℃）に達した場合、温ミストヒータ４２への通電を停止して空焚きを防止するようになっている。
【００５０】
次に、本実施形態の美容器１０の作用効果について説明する。
図３に示すように、給水タンク３３（タンクホルダ３３ａ）から供給された水は、給水パイプＰ１（給水経路Ｋ１）を経て流入孔４３ｃ（接続部４３ａ）を通過し、貯留部４３の流入側領域Ｒａに流入される（矢印Ｙｃ，Ｙｄに示す）。なお、流入孔４３ｃから貯留部４３（流入側領域Ｒａ）に供給される水は、比較的低温（室温）の水とされている。
【００５１】
流入孔４３ｃから流入側領域Ｒａに供給された水は、仕切り壁４７に沿って上方へ移動するとともに、貯留部４３内に貯留されている水と混合される。そして、本実施形態では、給水タンク３３から新たに供給された水と、既に貯留部４３内に貯留された水とが混合された後、この混合された水が流出側領域Ｒｂを通過するとともに流出孔４３ｅを通過して沸騰室４２ａに供給される（矢印Ｙｅに示す）。本実施形態では、貯留部４３において混合された水が混合液体となる。
【００５２】
沸騰室４２ａに供給された水は、温ミストヒータ４２によって加熱されるとともに温ミスト化（水蒸気化）される。沸騰室４２ａで生成された温ミスト（水蒸気）は、下部温ミスト誘導部４６（下部温ミスト経路Ｍ１）内に一時的に収容されるとともに、ミストノズル２０が配設された上方へ誘導されるようになっている（矢印Ｙｆに示す）。
【００５３】
また、下部温ミスト誘導部４６（下部温ミスト経路Ｍ１）内で結露した水や、沸騰室４２ａで水が沸騰することに伴って飛散した水など、比較的高温（約８０〜１００℃）の水は、下部温ミスト誘導部４６から貯留部４３へ還流されるようになっている（矢印Ｙｇに示す）。したがって、本実施形態では、下部温ミスト誘導部４６が還流路、及び加熱液体供給部を構成する。温ミストの発生中（温ミストヒータ４２による加熱中）には、給水タンク３３、タンクホルダ３３ａ、及び給水パイプＰ１内の水と比較して、高温の水が貯留部４３に常時供給されることになる。このため、貯留部４３に貯留されている水は、流入孔４３ｃを介して給水タンク３３から新たに供給される水と比較して高温となる。
【００５４】
本実施形態のように、上下方向に延びる貯留部４３の上方から比較的高温の水を還流させる一方で、貯留部４３の下方から給水タンク３３の比較的低温の水を供給する構成を採用した場合には、水の温度差に伴う比重差に起因して自然対流による混合が行われ難いという問題がある。しかしながら、本実施形態では、貯留部４３の内側底部に仕切り壁４７を設けることで、給水タンク３３から供給された比較的低温の水を強制的に上方移動させ、貯留部４３内に貯留された比較的高温の水との混合を促進するようになっている。このように、本実施形態では、仕切り壁４７が混合促進手段を構成する。
【００５５】
また、本実施形態において、貯留部４３（流出側領域Ｒｂ）から流出孔４３ｅを介して沸騰室４２ａに供給される水は、給水タンク３３から供給された比較的低温の水と、下部温ミスト誘導部４６から還流された比較的高温の水とが混合された水となる。すなわち、本実施形態では、給水タンク３３から供給された水よりも高温の水を貯留部４３（流出側領域Ｒｂ）から沸騰室４２ａへ供給することができるようになっている。したがって、本実施形態では、給水タンク３３から供給された比較的低温の水がそのまま沸騰室４２ａへ供給されることを防止している。
【００５６】
そして、下部温ミスト誘導部４６によって上方に誘導された温ミストは、防止壁５３の側方を通過するとともに、放電部５０による高圧放電によって微細化される。そして、微細化された温ミストは、蛇腹部材５５、及びノズルホルダ５６を通過してミストノズル２０（ミスト放出口２１）から放出される（矢印Ｙｈに示す）。
【００５７】
したがって、本実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
（１）下部温ミスト誘導部４６から比較的高温の水が還流される貯留部４３の内側下部に仕切り壁４７を設けるとともに、給水タンク３３から供給された比較的低温の水を強制的に上方移動させ、貯留部４３内に貯留された比較的高温の水との混合を促進するようにした。このため、給水タンク３３から供給された比較的低温の水と貯留部４３内の比較的高温の水とが十分混合されないまま沸騰室４２ａへ供給されることで、温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂの温度が低下して温ミストの発生量が低下することを抑制できる。
【００５８】
（２）下部温ミスト誘導部４６から、比較的高温の結露水や沸騰室４２ａから飛散した水を貯留部４３に還流させるようにした。このため、還流された比較的高温の水と、給水タンク３３から供給された比較的低温の水とを混合してから沸騰室４２ａへ供給することができる。したがって、比較的低温の水が沸騰室４２ａへ供給されることで、温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂの温度が低下して温ミストの発生量が低下することを抑制できる。また、給水タンク３３から供給された水と混合させるための比較的高温の水を生成する機構を別途設ける場合と比較して美容器１０の構成を簡略化することができる。
【００５９】
（３）貯留部４３の内部空間において、下部温ミスト誘導部４６から還流された比較的高温の水と給水タンク３３から供給された比較的低温の水とを混合してから、流出孔４３ｅを介して沸騰室４２ａに水を供給するようにした。このため、下部温ミスト誘導部４６から還流された水用の配管と、給水パイプＰ１とを単に連結する場合と比較して、下部温ミスト誘導部４６から還流された水と給水タンク３３から供給された水との混合をより確実に行うことができる。
【００６０】
（４）貯留部４３の内側底部において、流入孔４３ｃと流出孔４３ｅとの間に仕切り壁４７を介在させるようにした。このため、流入孔４３ｃを介して流入された給水タンク３３からの比較的低温の水が、貯留部４３内の比較的高温の水と十分に混合されないまま流出孔４３ｅから沸騰室４２ａへ供給されることを抑制することができる。
【００６１】
（５）仕切り壁４７を設けて貯留部４３の内側底部を２つの領域に区画するとともに、流入側領域Ｒａに流入孔４３ｃを設ける一方で、流出側領域Ｒｂに流出孔４３ｅを設けた。このため、給水タンク３３から供給される比較的低温の水は、仕切り壁４７を乗り越えなければ流出孔４３ｅ（流出側領域Ｒｂ）に流入することができない。したがって、給水タンク３３から供給される比較的低温の水と、貯留部４３に貯留された比較的高温の水との混合をより促進することができる。
【００６２】
（６）仕切り壁４７には通液部４７ａを設けた。このため、仮に、水面Ｗが仕切り壁４７の高さより低い位置に下降した場合であっても、通液部４７ａを介して流入側領域Ｒａから流出側領域Ｒｂへ水を供給することが可能となり、沸騰室４２ａ内の水がなくなることを抑制することができる。
【００６３】
（７）仕切り壁４７の通液部４７ａは、流入孔４３ｃから通液部４７ａを経由して流出孔４３ｅまでの液体経路の距離が最も長くなる位置に形成されている。このため、給水タンク３３から供給される比較的低温の水と、貯留部４３に貯留された比較的高温の水との混合をより促進することができる。
【００６４】
なお、上記実施形態は、以下の様に変更してもよい。
・上記実施形態において、下部温ミスト誘導部４６から比較的高温の水を還流させる還流部６０を別途設けてもよい。この場合、例えば図７に示すように、貯留部４３の上部に給水タンク３３からの水が流入される流入孔４３ｃを形成する一方で、貯留部４３の下部に、下部温ミスト誘導部４６から比較的高温の水を還流させる筒状の還流部６０を接続するようにする。そして、貯留部４３において、流入孔４３ｃ及び還流部６０の接続部との間に流出孔４３ｅを形成すればよい。このような構成によれば、比較的高温の水を貯留部４３の下方から供給することで、給水タンク３３から供給された比較的低温の水と、還流された比較的高温の水との混合を貯留部４３内において自然対流により促進することができる。したがって、本変形例によれば、比較的低温の水が沸騰室４２ａへ供給されることで、温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂの温度が低下して温ミストの発生量が低下することを抑制できる。本変形例では、下部温ミスト誘導部４６及び還流部６０によって還流路６０ａが形成される。また、本変形例では、貯留部４３が混合促進手段を構成する。
【００６５】
・上記実施形態において、図３に示すように、タンクホルダ３３ａの周囲にタンク予備加熱機構としての予備加熱ヒータ６１を配設するとともに、給水タンク３３及びタンクホルダ３３ａ内の水を予め加熱するようにしてもよい。このような構成によれば、給水タンク３３から供給される水の温度を高く設定することが可能となり、低温の水が沸騰室４２ａへ供給されることで、温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂの温度が低下して温ミストの発生量が低下することをより確実に抑制できる。
【００６６】
・上記実施形態において、図３に示すように、給水パイプＰ１の周囲に経路予備加熱機構としての予備加熱ヒータ６２を配設するとともに、給水パイプＰ１（給水経路Ｋ１）を通過する水を予め加熱するようにしてもよい。このような構成によれば、温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂの温度が低下して温ミストの発生量が低下することをより確実に抑制できる。なお、本変形例において、給水パイプＰ１の予備加熱ヒータ６２に加えて、さらにタンクホルダ３３ａの周囲に予備加熱ヒータ６１を設けてもよい。
【００６７】
・上記実施形態において、図４及び図６において二点鎖線で示すように、仕切り壁４７に対応させて貯留部４３の外側底部から上方に向かって延びるスリット４３ｄを形成してもよい。すなわち、仕切り壁４７は、中空構造をなすように形成してもよい。
【００６８】
・上記実施形態において、貯留部４３を温ミストヒータ４２の加熱面４２ｂとは反対側の放熱面に沿うように配置してもよい。このような構成によれば、温ミストヒータ４２からの熱を利用して貯留部４３内の水の温度が低下することを抑制できる。
【００６９】
・上記実施形態において、貯留部４３内の水を加熱及び／又は保温するためのヒータを別途設けてもよい。
・上記実施形態において、通液部４７ａの位置は適宜変更してもよく、さらに省略してもよい。このように構成しても、仕切り壁４７で水の混合を促進することができる。
【００７０】
・上記実施形態において、仕切り壁４７には、流入側領域Ｒａと流出側領域Ｒｂとを連通する連通孔を単数又は複数設けてもよく、またメッシュ状の部材により形成してもよい。このように構成しても、仕切り壁４７によって流入孔４３ｃから流出孔４３ｅへ水が直接流入することを抑制するとともに、混合を促進することができる。
【００７１】
・上記実施形態において、仕切り壁４７は、平面視で貯留部４３の中心を通過する直線状に形成したが、その他の形状に形成してもよい。例えば、平面視で屈曲していてもよく、波線状に形成されていてもよい。
【００７２】
・上記実施形態において、仕切り壁４７は、貯留部４３の内側底部を２つの領域に区画するように形成したが、３以上の領域に区画するようにしてもよい。この場合、形成した領域毎に流入孔４３ｃ、流出孔４３ｅ、還流路６０ａ（還流部６０）の何れかを形成するようにする。
【００７３】
・上記実施形態において、仕切り壁４７は、貯留部４３の内側底部を均等に区画するように構成したが、流入側領域Ｒａと流出側領域Ｒｂの体積を異なるようにしてもよい。例えば、流入側領域Ｒａの体積を小さく設定した場合には、給水タンク３３から供給された比較的低温の水をより勢いよく上方へ移動させることができ、水の混合を促進することができる。
【００７４】
・上記実施形態において、仕切り壁４７は傾斜するように設けてもよい。
・上記実施形態において、貯留部４３、連通部４８、沸騰室形成部４５、及び下部温ミスト誘導部４６を一体に形成したが、これらのうち一部又は全部を独立した部材として形成してもよい。
【００７５】
・上記実施形態では、温ミストヒータ４２にて水（他の液体でも可）を沸騰させて温ミストを生成する構成としたが、超音波振動にて液体をミスト化する装置や静電霧化装置を用いてミスト化する装置等を用い、温ミストを生成してもよい。
【００７６】
・上記実施形態では、温ミストが放出されるミストノズル２０を一つ設けたが、ミストノズルを二つ以上設けるようにしてもよい。
・上記実施形態において、静電霧化装置３８ａ、及び帯電微粒子ミスト放出口３８を省略してもよい。
【００７７】
・上記実施形態の美容器１０において、ミストノズル２０と併せて、マイナスイオンやプラスイオンなどを放出するノズルや、保湿剤や美白剤などの薬剤を放出するノズルなどを設けるようにしてもよい。
【００７８】
・上記実施形態において、温ミストヒータ４２で加熱して温ミストを生成するための液体として、保湿剤や美白剤などを含む液体や、芳香剤を含む液体を給水タンク３３に貯留するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００７９】
１０…美容器（ミスト発生装置、美容装置）、２１…ミスト放出口、３３…給水タンク（貯留タンク）、４２ａ…沸騰室（加熱部）、４３…貯留部、４３ｃ…流入孔（貯留液体供給部）、４３ｅ…流出孔（混合液体供給部）、４６…下部温ミスト誘導部（還流路、加熱液体供給部）、４７…仕切り壁（混合促進手段、区画壁）、４７ａ…通液部、５９…ミスト発生機構（ミスト発生手段）、６０ａ…還流路、６１…予備加熱ヒータ（タンク予備加熱機構）、６２…予備加熱ヒータ（経路予備加熱機構）、Ｒａ…流入側領域、Ｒｂ…流出側領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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