(57)【要約】【課題】液晶装置内部に浸入する水分を低減する。【解決手段】液晶装置（１００）は、一対の基板（１０、２０）と、一対の基板の画素領域（１０ａ）の周囲に位置するシール領域に配置され、一対の基板を相互に貼り合わせるシール材（５２）とを備え、一対の基板の少なくとも一方の基板上には、導電性材料を含んでなる複数の導電部材（１０２、１０６）が、一方の基板の表面に露出して配置されており、複数の導電部材の各々は、一方の基板上で平面的に見て、シール領域の内縁及び外縁の両方と重ならないように配置される。【選択図】図３
2011215448.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板の画素領域の周囲に位置するシール領域に配置され、前記一対の基板を
相互に貼り合わせるシール材と
を備え、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板上には、導電性材料を含んでなる複数の導電部
材が、前記一方の基板の表面に露出して配置されており、
前記複数の導電部材の各々は、前記一方の基板上で平面的に見て、前記シール領域の内
縁及び外縁の両方と重ならないように配置されている
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、及び該液晶装置を備えてなる、例えば液晶プロジェクター等の電
子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の装置では、液晶装置内部（即ち、液晶層）に浸入する水分を低減することが図
られる。例えば特許文献１には、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）
アレイ基板及び対向基板各々の上に形成された無機配向膜の、該基板上で平面的に見て、
シール材が配置されるシール領域と重なる領域の一部が除去された装置が記載されている
。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２４８７４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述の背景技術によれば、例えば液晶装置と外部回路とを電気的に接続
するために露出している端子等を介して、液晶装置内部に浸入する水分については考慮さ
れていない。すると、液晶装置内部に浸入する水分等を十分には低減できない可能性があ
るという技術的問題点がある。
【０００５】
本発明は、例えば上記問題点に鑑みてなされたものであり、液晶装置内部に浸入する水
分を低減することができる液晶装置及び電子機器を提案することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液晶装置は、上記課題を解決するために、一対の基板と、前記一対の基板の画
素領域の周囲に位置するシール領域に配置され、前記一対の基板を相互に貼り合わせるシ
ール材とを備え、前記一対の基板の少なくとも一方の基板上には、導電性材料を含んでな
る複数の導電部材が、前記一方の基板の表面に露出して配置されており、前記複数の導電
部材の各々は、前記一方の基板上で平面的に見て、前記シール領域の内縁及び外縁の両方
と重ならないように配置されている。
【０００７】
本発明の液晶装置によれば、当該液晶装置は、画素領域の周囲に位置するシール領域に
配置されたシール材により、相互に貼り合わされた一対の基板を備えてなる。ここで、「
画素領域」とは、個々の画素の領域を意味するのではなく、複数の画素が平面配列された
領域全体を意味し、典型的には、「画素表示領域」或いは「表示領域」に相当する。
【０００８】
一対の基板の少なくとも一方の基板上には、導電性材料を含んでなる複数の導電部材が
、該一方の基板の表面に露出して配置されている。尚、導電部材は、例えば、液晶装置と
外部回路とを電気的に接続するための端子（所謂、実装端子）や、一対の基板を相互に電
気的に接続するための端子等である。
【０００９】
本発明では特に、複数の導電部材の各々は、一方の基板上で平面的に見て、シール領域
の内縁及び外縁の両方と重ならないように配置されている。ここで、「シール領域の内縁
及び外縁の両方と重ならない」とは、一方の基板上で平面的に見て、一つの導電部材がシ
ール領域を跨がない、即ち、一つの導電部材の一部がシール領域よりも内側（即ち、画素
領域側）に位置し、且つ該導電部材の他の部分がシール領域よりも外側（即ち、一方の基
板の端部側）に位置しないように、という意味である。
【００１０】
従って、一方の基板上で平面的に見て、（ｉ）一つの導電部材全体がシール領域よりも
外側に配置されている場合、（ｉｉ）一つの導電部材全体がシール領域よりも内側に配置
されている場合、（ｉｉｉ）一つの導電部材の一部がシール領域よりも外側に位置し、且
つ該導電部材の残りの部分がシール領域内に位置する場合（言い換えれば、一つの導電部
材がシール領域の外縁とのみ重なる場合）、及び（ｉｖ）一つの導電部材の一部がシール
領域よりも内側に位置し、且つ該導電部材の残りの部分がシール領域内に位置する場合（
言い換えれば、一つの導電部材がシール領域の内縁とのみ重なる場合）は、「シール領域
の内縁及び外縁の両方と重ならない」に該当する。
【００１１】
尚、「シール領域の内縁」とは、シール材と液晶層との境界を意味する。他方、「シー
ル材の外縁」とは、シール材と空気層との境界を意味する。
【００１２】
本願発明者の研究によれば、以下の事項が判明している。即ち、水分は、液晶装置を構
成する一対の基板を相互に貼り合わせているシール材よりも、該シール材の下に積層され
ている導電部材を介して液晶装置内部に浸入することが多い。特に、導電部材が、例えば
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ等の導電性酸化物により構成され
ている場合、該導電性酸化物の置換により水分が液晶装置内部に浸入しやすい。また、透
過型の液晶装置では、シール材の下に、導電性酸化物を含んでなる導電部材が積層されて
いることが多い。
【００１３】
他方で、導電部材が基板表面に露出しないように、例えば絶縁膜等で該導電部材を覆う
ことも考えられるが、例えば実装端子や、一対の基板を相互に電気的に接続するための端
子等は、その性質上、基板表面に露出するように形成せざるを得ない。このため、全ての
導電部材を、例えば絶縁膜等で覆うことはできない。
【００１４】
しかるに本発明では、上述の如く、複数の導電部材の各々が、一方の基板上で平面的に
見て、シール領域の内縁及び外縁の両方と重ならないように配置されている。このため、
例えば大気中の水分等が、導電部材を介して、液晶装置内部に浸入することを抑制するこ
とができる。
【００１５】
本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した本発明の液晶装置を備えて
なる。
【００１６】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の液晶装置を備えてなるので、該液晶装置
内部に浸入する水分を低減することができる。この結果、機器信頼性が高く、高品位の画
像を表示可能な投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファ
インダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ
電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００１７】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶装置を、ＴＦＴアレイ基板上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液晶装置のシール領域近傍を拡大して示す拡大平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る液晶装置の製造工程の要部を示す工程断面図である。
【図５】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る液晶装置及び電子機器の各実施形態を、図面に基づいて説明する。
尚、以下の図では、各層・各部材を図面上で確認可能な程度の大きさとするために、該各
層・各部材毎に縮尺を異ならしめている。
【００２０】
＜液晶装置＞
先ず、本発明に係る液晶装置の実施形態を、図１乃至図４を参照して説明する。尚、本
実施形態では、液晶装置として、駆動回路内蔵型のアクティブマトリックス駆動方式の液
晶装置を例に挙げる。
【００２１】
本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。図
１は、本実施形態に係る液晶装置を、ＴＦＴアレイ基板上に形成された各構成要素と共に
対向基板の側から見た平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００２２】
図１及び図２において、液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０
が対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリ
コン基板等の基板からなり、対向基板２０は、例えば、石英基板、ガラス基板等の基板か
らなる。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域
に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００２３】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂、
又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０
上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２
中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、ギャップ）を所定値とす
るためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャ
ップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ
又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００２４】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域
１０ａを規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、
このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜とし
て設けられてもよい。
【００２５】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、デ
ータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿っ
て設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側にサンプリング回路７が額縁
遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に
隣接する２辺に沿ったシール領域の内側の額縁領域に、額縁遮光膜５３に覆われるように
して設けられている。
【００２６】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両
基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これ
らにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができ
る。更に、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４
、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００２７】
ここで、外部回路接続端子１０２及び上下導通端子１０６の各々は、例えばＩＴＯ、Ｚ
ｎＯ等の透明導電性酸化物を含んで構成されている。また、外部回路接続端子１０２及び
上下導通端子１０６の各々は、ＴＦＴアレイ基板１０の表面に露出して配置されている。
【００２８】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のト
ランジスタや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層
構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴ
Ｏ等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されてい
る。
【００２９】
画素電極９ａは、後述する対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の
画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面す
る側の表面、即ち画素電極９ａ上には、無機絶縁材料を含んでなるパッシベーション膜（
図示せず）が画素電極９ａを覆うように形成されている。該パッシベーション膜の上には
、例えばＳｉＯ２等の無機材料を含んでなる無機配向膜１６が形成されている。
【００３０】
尚、仮に、画素電極９ａの上に、直接、無機配向膜が形成されると、画素電極９ａに起
因して無機配向膜の表面に凹凸が生じる可能性がある。しかるに本実施形態では、画素電
極９ａの上に形成されたパッシベーション膜の上に無機配向膜１６が形成されているので
、該無機配向膜１６の表面を平坦化することができる。この結果、当該液晶装置１００の
表示画像の品質を向上させることができる。
【００３１】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されて
いる。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形
成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光
膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバックラ
イトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形
成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素
とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００３２】
遮光膜２３上に、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対
向して形成されている。遮光膜２３上に、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行う
ために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィル
タが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上に
は、例えばＳｉＯ２等の無機材料を含んでなる無機配向膜２２が形成されている。尚、対
向電極２１と無機配向膜２２との間に、無機絶縁材料を含んでなるパッシベーション膜が
形成されてもよい。
【００３３】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１
０１、走査線駆動回路１０４、サンプリング回路７等に加えて、複数のデータ線に所定電
圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造
途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよ
い。
【００３４】
本実施形態では特に、図３に示すように、外部回路接続端子１０２及び上下導通端子１
０６の各々は、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、シール領域（図３における、一
点鎖線と二点鎖線との間の領域）の内縁５２ａ及び外縁５２ｂの両方と重ならないように
配置されている。
【００３５】
より具体的には、外部回路接続端子１０２は、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て
、シール領域の外側（即ち、ＴＦＴアレイ基板１０の端部側）に配置されている。上下導
通端子１０６は、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、その一部がシール領域内に配
置されると共に、残りの部分がシール領域の外側に配置されている。
【００３６】
このように、本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０の表面に露出して配置された外部
回路接続端子１０２及び上下導通端子１０６のいずれも、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面
的に見て、少なくともシール領域の内縁５２ａと重ならないように配置されている。
【００３７】
このため、例えば大気中の水分等が、外部回路接続端子１０２又は上下導通端子１０６
を介して、液晶装置１００の内部（即ち、液晶層５０）に浸入することを抑制することが
できる。
【００３８】
尚、図３は、本実施形態に係る液晶装置のシール領域近傍を拡大して示す拡大平面図で
ある。本実施形態に係る「ＴＦＴアレイ基板１０」及び「対向基板２０」は、本発明に係
る「一対の基板」の一例であり、本実施形態に係る「外部回路接続端子１０２」及び「上
下導通端子１０６」は、本発明に係る「導電部材」の一例である。
【００３９】
上述した液晶装置１００は、例えば、次のような工程を経て製造される。即ち、ＴＦＴ
アレイ基板１０上に、画素電極９ａが画素毎に所定のパターンで島状に形成された後（図
４（ａ）参照）、画素電極９ａを覆うように、即ち、該画素電極９ａ上に、図４（ｂ）に
示すように、無機絶縁材料を含んでなる無機絶縁層１５０が、例えばプラズマＣＶＤ（Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等により形成される。尚、図４
は、本実施形態に係る液晶装置の製造工程の要部を示す工程断面図である。
【００４０】
次に、図４（ｃ）に示すように、無機絶縁層１５０の上に、レジスト２１０が所定のパ
ターンで形成され、該レジスト２１０をマスクとして無機絶縁層１５０がパターニングさ
れることにより、パッシベーション膜１５１が形成される。
【００４１】
マスク２１０が剥離された後に、図４（ｄ）に示すように、パッシベーション膜１５１
を覆うように、例えばＩＴＯ、ＺｎＯ等の透明導電性酸化物を含んでなる導電層１６０が
形成される。
【００４２】
次に、該導電層１６０の上に、レジスト２２０が所定のパターンで形成され、該レジス
ト２２０をマスクとして導電層１６０がパターニングされることにより、図４（ｅ）に示
すように、外部接続端子保護膜１０２ａ及び上下導通端子１０６が形成される。
【００４３】
次に、図４（ｆ）に示すように、パッシベーション膜１５１の上に、例えば斜方蒸着法
等により無機配向膜１６が形成され、所定の形状にパターニングされる。次に、図４（ｇ
）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とがシール材５２により相互に貼
り合わされると共に、上下導通材１０７により、上下導通端子１０６と対向電極２１とが
電気的に接続される。その後、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶が封入さ
れる。
【００４４】
＜電子機器＞
次に、本発明に係る電子機器の実施形態を、図５を参照して説明する。本実施形態では
、本発明に係る電子機器の一例として、上述した液晶装置をライトバルブとして用いたプ
ロジェクターを挙げる。図５は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。
【００４５】
図５に示すように、プロジェクター１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源か
らなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出
された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚
のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応する
ライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される
。
【００４６】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置１０
０と同等の構成を有しており、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号で
それぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、
ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム
１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。した
がって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカ
ラー画像が投写されることとなる。
【００４７】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について
着目すると、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｇ
による表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００４８】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー
１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを
設ける必要はない。
【００４９】
尚、図５を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータ
ーや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープ
レコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ
ー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げ
られる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００５０】
尚、本発明は、上述の実施形態で説明した液晶装置以外にも、例えば、シリコン基板上
に素子を形成する反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）等にも適用可能である。
【００５１】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体
から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような
変更を伴う液晶装置及び電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００５２】
９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１６、２２…無機
配向膜、２０…対向基板、２１…対向電極、５０…液晶層、５２…シール材、５２ａ…シ
ール領域の内縁、５２ｂ…シール領域の外縁、１００…液晶装置、１０２…外部回路接続
端子、１０６…上下導通端子、１０７…上下導通材
【図１】
2011215448.tif 000003
【図２】
2011215448.tif 000004
【図３】
2011215448.tif 000005
【図４】
2011215448.tif 000006
【図５】
2011215448.tif 000007