(57)【要約】【課題】モールドの転写パターンを転写する際におけるモールドと被成型品との位置ずれを防止して正確な転写を行うことが可能な転写装置を提供する。【解決手段】モールド１３を保持するモールド保持部４と、被成型品２０を設置し、モールド保持部４に対して相対的に移動位置決め自在な被成型品設置部５と、被成型品設置部５をモールド保持部４に対して相対的に移動させる駆動手段２３と、被成型品設置部５に設置されている被成型品２０を所定の温度に設定自在な温度設定手段と、被成型品設置部５に設置されている被成型品２０の紫外線硬化樹脂１９に紫外線を照射する紫外線を発生する紫外線発生装置６とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板とこの基板に設けられている紫外線硬化樹脂とを備えて構成されている被成型品の前記紫外線硬化樹脂に対してモールドに形成されている微細な転写パターンを転写する転写装置において、
前記モールドを保持するモールド保持部と、
前記被成型品を設置し、前記モールド保持部に接近もしくは離反する方向で前記モールド保持部に対して相対的に移動位置決め自在な被成型品設置部と、
前記被成型品設置部を前記モールド保持部に対して相対的に移動させる駆動手段と、
前記被成型品設置部に設置されている被成型品を所定の温度に設定自在な温度設定手段と、
前記被成型品設置部に設置されている被成型品の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する紫外線を発生する紫外線発生装置と、
前記モールド保持部にモールドが設置され、前記被成型品設置部に未硬化の紫外線硬化樹脂が設けられている被成型品が設置された状態で前記被成型品の温度を所定の第１の温度とし、前記被成型品設置部を前記モールド保持部に相対的に接近させて前記未硬化の紫外線硬化樹脂に前記モールドを所定の時間接触させ、この接触状態のままで被成型品を前記第１の温度よりも低い所定の第２の温度とし、前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させるように、前記温度設定手段と前記紫外線発生装置と前記駆動手段とを制御する制御手段と、
を有することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
前記未硬化の紫外線硬化樹脂を前記基板に設置する紫外線硬化樹脂設置装置を備え、
１台の前記紫外線硬化樹脂設置装置に対し、請求項１に記載の転写装置が複数設けられていることを特徴とする転写システム。
【請求項３】
未硬化の紫外線硬化樹脂を基板に設置して被成型品を形成する紫外線硬化樹脂設置装置と、
未硬化の紫外線硬化樹脂に接触するように前記モールドを設置するモールド設置装置と、
前記モールドが接触した状態の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する紫外線硬化樹脂硬化装置と、
を有し、前記モールド設置装置は前記被成型品の温度を所定の第１の温度とし、前記紫外線硬化樹脂硬化装置は前記被成型品の温度を前記第１の温度よりも低い所定の第２の温度とすることを特徴とする転写システム。
【請求項４】
基板の厚さ方向の一方の面に設けられた薄膜状の紫外線硬化樹脂に、モールドに形成されている微細な転写パターンを転写する転写方法において、
所定の第１の温度で未硬化の前記紫外線硬化樹脂に前記モールドを所定の時間接触させる接触工程と、
前記モールドを紫外線硬化樹脂に接触させたまま、前記第１の温度よりも低い所定の第２の温度で前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる硬化工程と、
を有することを特徴とする転写方法。
【請求項５】
請求項４に記載の転写方法において、
前記接触工程と前記硬化工程とが別個のステージによって行われることを特徴とする転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するときに使用される転写装置、転写システム及び転写方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型（モールド）を作製し、被成型品に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（たとえば、非特許文献１参照）。
【０００３】
ナノオーダーの微細なパターン（転写パターン）を低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とＵＶインプリント法とに分類される。
【０００４】
熱インプリント法では、型を基板に押圧し、熱可塑性ポリマからなる樹脂（熱可塑性樹脂）が十分に流動可能となる温度になるまで加熱して微細パターンに樹脂を流入させたのち、型と樹脂をガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板に転写された微細パターンを固化したのち型を引き離す。
【０００５】
ＵＶインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、ＵＶ硬化性液に型を押しつけてＵＶ放射光を加える。適当な時間放射光を加えて液を硬化させ微細パターンを転写したのち型を引き離す。
【０００６】
以上のナノインプリントにおいては、紫外線硬化樹脂が基板上に塗布された被成型品と型とを真空成型室内で転写を行う構成の転写装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。この転写装置は、真空成形室内の支持台上に支持された被成型品に対し、型を下降して型の微細な転写パターンを紫外線硬化樹脂に押圧する。そして、型と被成型品をカバーで覆って真空成形室を真空にした状態で紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させることにより型の転写パターンを転写する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−３１８９７３号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、ＵＶインプラント法においては、型（モールド）の転写パターンを被成型品の紫外線硬化樹脂に転写する際に、紫外線硬化樹脂の種類に応じてモールドや被成型品の温度を管理する必要がある。温度管理がされないと、モールドの微細な転写パターンを正確に転写することができず、不良品が発生する問題がある。
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、モールドや被成型品の温度を管理をすることによって、モールドの微細な転写パターンを正確に転写することができる転写装置、転写システム及び転写方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、基板とこの基板に設けられている紫外線硬化樹脂とを備えて構成されている被成型品の前記紫外線硬化樹脂に対してモールドに形成されている微細な転写パターンを転写する転写装置において、前記モールドを保持するモールド保持部と、前記被成型品を設置し、前記モールド保持部に接近もしくは離反する方向で前記モールド保持部に対して相対的に移動位置決め自在な被成型品設置部と、前記被成型品設置部を前記モールド保持部に対して相対的に移動させる駆動手段と、前記被成型品設置部に設置されている被成型品を所定の温度に設定自在な温度設定手段と、前記被成型品設置部に設置されている被成型品の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する紫外線を発生する紫外線発生装置と、前記モールド保持部にモールドが設置され、前記被成型品設置部に未硬化の紫外線硬化樹脂が設けられている被成型品が設置された状態で前記被成型品の温度を所定の第１の温度とし、前記被成型品設置部を前記モールド保持部に相対的に接近させて前記未硬化の紫外線硬化樹脂に前記モールドを所定の時間接触させ、この接触状態のままで被成型品を前記第１の温度よりも低い所定の第２の温度とし、前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させるように、前記温度設定手段と前記紫外線発生装置と前記駆動手段とを制御する制御手段と、を有することを特徴とする転写装置である。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、前記未硬化の紫外線硬化樹脂を前記基板に設置する紫外線硬化樹脂設置装置を備え、１台の前記紫外線硬化樹脂設置装置に対し、請求項１に記載の転写装置が複数設けられていることを特徴とする転写システムである。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、未硬化の紫外線硬化樹脂を基板に設置して被成型品を形成する紫外線硬化樹脂設置装置と、未硬化の紫外線硬化樹脂に接触するように前記モールドを設置するモールド設置装置と、前記モールドが接触した状態の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する紫外線硬化樹脂硬化装置と、を有し、前記モールド設置装置は前記被成型品の温度を所定の第１の温度とし、前記紫外線硬化樹脂硬化装置は前記被成型品の温度を前記第１の温度よりも低い所定の第２の温度とすることを特徴とする転写システムである。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、基板の厚さ方向の一方の面に設けられた薄膜状の紫外線硬化樹脂に、モールドに形成されている微細な転写パターンを転写する転写方法において、所定の第１の温度で未硬化の前記紫外線硬化樹脂に前記モールドを所定の時間接触させる接触工程と、前記モールドを紫外線硬化樹脂に接触させたまま、前記第１の温度よりも低い所定の第２の温度で前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる硬化工程と、を有することを特徴とする転写方法である。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の転写方法において、前記接触工程と前記硬化工程とが別個のステージによって行われることを特徴とする転写方法である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、モールドや被成型品の温度を管理をすることによって、モールドの微細な転写パターンを正確に転写することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態の転写装置を示す正面図である。
【図２】転写装置による転写手順を示すフローチャートである。
【図３】（ａ）はギャップ調整を示す正面図、（ｂ）は（ａ）のＢ部におけるモールドの押圧状態を示す断面図である。
【図４】第１の温度に保持した状態を示す正面図である。
【図５】紫外線を照射する状態を示す正面図である。
【図６】本発明の別の実施形態の転写装置を示す正面図である。
【図７】本発明の転写システムを示すブロック図である。
【図８】本発明の別の転写システムを示す正面図である。
【図９】図８の転写システムを用いた別の転写システムを示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を図示する実施形態により具体的に説明する。図１〜図６は、本発明の一実施形態の転写装置１を示し、図１は、その全体の正面図、図２は、転写のフローチャート、図３は、モールドの押圧によるモールドと紫外線硬化樹脂との接触状態を示す正面図及びＢ部拡大断面図、図４は、第１の温度に保持した状態の正面図、図５は、紫外線を照射する状態の正面図である。
【００１９】
図１に示すように、転写装置１は、下板２と上板３との間にモールド保持部４、被成型品設置部５、紫外線発生装置６が配置されることにより構成されている。
【００２０】
下板２は、底板７から立設されている支柱８に支持されている。上板３は、下板２に立設されているタイバー９に支持されており、下板２と所定の間隔を有して対向している。この実施形態において、モールド保持部４は上板３側に配置され、被成型品設置部５及び紫外線発生装置６は下板２側に配置されている。
【００２１】
モールド保持部４は、上板３の下面にチルト調整機構（ジンバル機構）１０を介して取り付けられている。モールド保持部４は、チルト調整機構１０に取り付けられたカバーブロック１１を備え、このカバーブロック１１の内部にモールド保持体１２が取り付けられており、モールド保持体１２の下面にモールド１３が保持されている。モールド１３の保持は、真空吸着によって行われるが、フック等の機械的な保持であってもよい。
【００２２】
モールド１３は、シート状となっており、厚さ方向の一方の面（下面）に微細な転写パターン（図示省略）が形成されている。微細な転写パターンは、多数の微細な凹凸で形成されており、その凹凸の高さやピッチが可視光線の波長程度か、可視光線の波長よりも僅かに大きいか小さいパターンとなっている。
【００２３】
モールド保持部４におけるカバーブロック１１の下面には伸縮自在なベローズ１４が取り付けられている。ベローズ１４は、モールド１３と被成型品設置部５とを囲む筒状となっており、その下面にはリング状の当接板１５が取り付けられている。当接板１５は、カバーブロック１１の外周側に取り付けられたエアシリンダ１６に連結されている。当接板１５が後述する移動ブロック２１に当接することにより、ベローズ１４がモールド１３及び被成型品設置部５の被成型品２０を構成する基板１８及び紫外線硬化樹脂１９を囲むため、これらがベローズ１４の内部に位置して周囲と遮断され真空成型室が形成される。
【００２４】
被成型品設置部５は、モールド保持部４に対向するように下板２側に設けられた移動ブロック２１と、移動ブロック２１に保持された被成型品設置体２２とを有している。被成型品２０は、基板１８と基板１８の厚さ方向の一方の面（上面）に設けられた紫外線硬化樹脂１９とによって構成されており、基板１８が被成型品設置体２２上に設置されることにより被成型品設置体２２に支持されている。基板１８は、ガラス板や透明樹脂等の平板状の透光性材料によって平板状に形成されており、紫外線硬化樹脂１９は、未硬化の液状で基板１８の上面に薄膜状に塗布されている。
【００２５】
底板７には、エアシリンダからなる駆動手段２３が取り付けられており、被成型品設置体２２を保持する移動ブロック２１は、駆動手段２３に支持されている。従って、駆動手段２３が伸縮駆動することにより移動ブロック２１が上下動して被成型品設置部５がモールド保持部４に対して相対的に移動する。又、所定の伸縮の後、駆動手段２３の駆動が停止すると被成型品設置部５はその位置で停止し、モールド保持部４に対する位置決めがなされる。
【００２６】
図３（ａ）は、図１に示す転写装置１の変形例を示している。図３（ａ）で示すものは、ローラ２５を用いて、モールド１３等を押圧している。また、図３（ａ）で示す被成型品設置体２２は、ガラスや透明樹脂等の透光性材料により全体が形成されており、この被成型品設置体２２の上面に被成型品２０が設置される。
【００２７】
被成型品設置体２２には、リフトピン２４が取り付けられており、リフトピン２４が伸長することにより被成型品２０が被成型品設置体２２から引き上げ可能となっている。被成型品設置体２２の内部には、温度設定手段としてのヒータ（図示省略）が配置されており、被成型品設置体２２上に設置されている被成型品２０の温度調整が可能となっている。被成型品２０の温度調整は、第１の温度である８０〜９０℃と、第２の温度である６０℃前後との間でなされるものである。
【００２８】
紫外線発生装置６は、被成型品設置体２２の下部に位置するように移動ブロック２１の内部に配置されている。紫外線発生装置６は、紫外線を発生させる紫外線ランプが用いられる。紫外線発生装置６が発生した紫外線は、共に透光性材料からなる被成型品設置体２２及び基板１８を介して基板１８上の紫外線硬化樹脂１９に達し、紫外線硬化樹脂１９を硬化させる。
【００２９】
ヒータからなる温度設定手段、紫外線発生装置６及び駆動手段２３は、図示しない制御手段（制御装置）によって制御されている。この制御は、モールド保持部４にモールド１３が設置され、未硬化の紫外線硬化樹脂１９が設けられた被成型品２０が被成型品設置部５（被成型品設置体２２）に設置された状態で被成型品２０の温度を上述した第１の温度とし、この状態で被成型品設置部５、モールド保持部４を相対的に接近させて未硬化の紫外線硬化樹脂１９にモールド１３の転写パターンを所定時間接触させ、この接触状態のままで被成型品２０を第１の温度よりも低い第２の温度とし、この第２の温度状態で紫外線硬化樹脂１９に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１９を硬化するようになされる。
【００３０】
次に、以上の転写装置による転写パターンの転写を図２のフローチャートにより説明する。未硬化の紫外線硬化樹脂１９を基板１８の上面に塗布することにより被成型品２０を作製し、基板１８が被成型品設置体２２の上に位置するようにセットする（ステップＳ１）。この状態で駆動手段２３を駆動して移動ブロック２１を上昇させ、移動ブロック２１をモールド保持部４側の当接板１５に当接させる。これにより、ベローズ１４が周囲を囲んだ真空成型室が形成される（ステップＳ３）。このときの駆動手段２３の駆動によってモールド１３の下面が未硬化の紫外線硬化樹脂１９に接触する。
【００３１】
その後、ステップＳ５に移行してギャップ調整が行われる。図３（ａ）は、このギャップ調整を示し、未硬化の紫外線硬化樹脂１９に接触しているモールド１３の上面を押圧ローラ２５が回転しながら移動する。押圧ローラ２５の移動によりモールド１３の転写パターンが未硬化の紫外線硬化樹脂１９を押圧する。図３（ｂ）は、モールド１３による未硬化の紫外線硬化樹脂１９への押圧状態を示している。
【００３２】
ギャップ調整の後、被成型品設置体２２内の温度設定手段により被成型品２０の温度を第１の温度（９０℃）とする（ステップＳ７）。図４は、この状態を示し、モールド１３が未硬化の紫外線硬化樹脂１９に押圧した状態で被成型品２０が第１の温度に保持される。この第１の温度でモールド１３を未硬化の紫外線硬化樹脂１９に一定時間接触させた後、この接触状態を維持したままで被成型品２０を第２の温度（６０℃）に冷却する（ステップＳ９）。
【００３３】
そして、第２の温度状態で紫外線発生装置６から紫外線を未硬化の紫外線硬化樹脂１９に照射して紫外線硬化樹脂１９を硬化する（ステップＳ１１）。これにより、モールド１３の転写パターンが紫外線硬化樹脂１９に転写される。図５は、ステップＳ１１の状態を示し、紫外線発生装置６から紫外線が照射され、照射された紫外線は被成型品設置体２２及び基板１８を通過して未硬化の紫外線硬化樹脂１９に達し、紫外線硬化樹脂１９が硬化する。
【００３４】
転写パターンの転写の後、エアシリンダ１６を駆動してベローズ１４を短縮し、真空成型室を開放する（ステップＳ１３）。その後、駆動手段２３を逆方向に駆動して移動ブロック２１が下降し、紫外線硬化樹脂１９をモールド１３から離型する（ステップＳ１５）。離型の後、被成型品設置体２２のリフトピン２４を上昇させて被成型品２０を取り出す（ステップＳ１７）。その後、被成型品設置体２２を第１の温度に加熱し（ステップＳ１９）、ステップＳ１に戻って次の被成型品２０を被成型品設置体２２上に設置する。
【００３５】
このような実施形態の転写装置１によれば、紫外線硬化樹脂１９等の温度管理をすることができるので、需要に応じた正確な転写をすることができる。
【００３６】
また、転写装置１によれば、モールド１３をモールド保持体１２に保持した状態とすると共に、被成型品２０を被成型品設置体２２に設置した状態とし、これらの設置状態のままで転写パターンの転写を行うため、被成型品２０に対するモールド１３の位置ずれが発生することがない。このため、正確な転写を容易に行うことができる。又、被成型品２０を第１の温度にして未硬化の紫外線硬化樹脂１９にモールド１３を所定時間押圧させ、その後、第２の温度で紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１９を硬化させるため、高精度の転写が可能となり、３Ｄのディスプレイ等に使用可能な高機能の光学部品を作製することができる。
【００３７】
図６は、別の実施形態の転写装置１Ａを示し、上述した転写装置１と同一の部材には同一の符号を付して対応させてある。この実施形態の転写装置１Ａにおいては、モールド保持部４に紫外線発生装置６が設けられるものである。紫外線発生装置６は、カバーブロック１１の内部に配置されており、その下部にはモールド保持体１２が取り付けられ、モールド保持体１２の下面にモールド１３が取り付けられている。この実施形態では、モールド保持体１２及びモールド１３をガラスや透明樹脂等の透光性材料により形成されることにより、紫外線発生装置６からの紫外線がこれらを透過して未硬化の紫外線硬化樹脂１９に照射され、紫外線硬化樹脂１９を硬化することができる。
【００３８】
図７は、本発明の転写システム３１を示す。転写システム３１においては、紫外線硬化樹脂設置装置としてのダイコータ３２が用いられる。ダイコータ３２は、未硬化の紫外線硬化樹脂１９を基板１８に塗布することにより基板１８の上面に紫外線硬化樹脂１９を設置するものである。この転写システム３１においては、１台のダイコータ３２に対し、図１に示す転写装置１が複数（３台）設けられることにより構成されている。このように複数の転写装置１を１台のダイコータ３２に対して配置することにより、複数の転写装置１が同時に転写作動することができる。このため、アイドルタイムの少ない転写を行うことが可能となる。
【００３９】
図８は、本発明の別の実施形態の転写システム３１Ａを示す。この転写システム３１Ａでは、紫外線硬化樹脂設置装置としてのダイコータ３２と、モールド設置装置３５と、紫外線硬化樹脂硬化装置３７とが組み付けられることにより構成されている。
【００４０】
ダイコータ３２は、支持テーブル４０と、ダイ４１とを有し、これらが対向するように配置されている。支持テーブル４０は基板１８が載置されるものであり、ダイ４１は基板１８に未硬化の紫外線硬化樹脂１９を塗布する。ダイ４１は、紙面と直交する方向に移動可能となっており、この移動により基板１８上に未硬化の紫外線硬化樹脂１９を塗布する。支持テーブル４０及びダイ４１は、内部にヒータを備えており、基板１８及び未硬化の紫外線硬化樹脂１９を第１の温度に近い温度（８０℃）となるように予備加熱する。
【００４１】
モールド設置装置３５は、紫外線発生装置６を取り除いた他は図１の転写装置１と概略同様な構成となっており、転写装置１と同一の部材には同一の符号を付して対応させてある。すなわち、モールド設置装置３５は、駆動手段２３によって上下動可能な支持された被成型品設置部５が下板２側に設けられ、モールド１３を保持するモールド保持部４が上板３側に設けられている。
【００４２】
モールド保持部４は、チルト調整機構１０に取り付けられたカバーブロック１１と、カバーブロック１１内に取り付けられたモールド保持体１２と、カバーブロック１１の下面に取り付けられたベローズ１４と、ベローズ１４の下面に取り付けられた当接板１５とを備えている。モールド１３は、モールド保持体１２の下面に取り付けられる。
【００４３】
被成型品設置部５は、駆動手段２３に取り付けられた移動ブロック２１と、移動ブロック２１上に取り付けられた被成型品設置体２２とを有しており、被成型品設置体２２上にダイコータ３２からの被成型品２０が載置される。被成型品設置体２２の内部には、ヒータからなる温度設定手段が設けられており、上面に設置された被成型品２０を第１の温度（９０℃）に加熱する。
【００４４】
かかるモールド設置装置３５に対し、ダイコータ３５からの成型品２０がロボットハンド等によって成型品設置体２２上に搬送される。モールド設置装置３５は、第１の温度に保持された被成型品２０を駆動手段２３の駆動によりモールド１３に接近させて、未硬化の紫外線硬化樹脂１９をモールド１３の転写パターンに接触させる接触工程を行う。被成型品２０の紫外線硬化樹脂１９に接触したモールド１３は、接触状態のままで被成型品２０と共にロボットハンド等により紫外線硬化樹脂硬化装置３７に搬送される。
【００４５】
紫外線硬化樹脂硬化装置３７は、上述した接着工程からの被成型品２０に対して紫外線を硬化して紫外線硬化樹脂１９を硬化するものである。紫外線硬化樹脂硬化装置３７は、支持台４２に取り付けられた被成型品設置体２２を有し、この被成型品設置体２２上に被成型品２０がモールド１３と共に載置される。
【００４６】
被成型品設置体２２の上方には、紫外線発生装置６が設けられており、被成型品２０に対して紫外線を上方から照射する。被成型品２０における未硬化の紫外線硬化樹脂１９には、モールド１３が押圧しており、この押圧状態で紫外線発生装置６から紫外線が照射される。紫外線は、モールド１３を通過して紫外線硬化樹脂１９に達し、紫外線硬化樹脂１９を硬化する。
【００４７】
これにより、紫外線硬化樹脂１９の転写パターンの転写が行われる。かかる紫外線の照射前においては、被成型品設置体２２の内部の温度設定手段により被成型品２０が第２の温度（６０℃）に冷却されて同温度に保持されるものである。紫外線硬化樹脂硬化装置３７による転写が終了した成型品４５は、モールド１３と共に同装置３７から取り出される。このような紫外線硬化樹脂硬化装置３７は、上述した接触工程の後に紫外線硬化樹脂１９を硬化させる硬化工程を行うものである。なお、取り出された成型品４５に対しては、硬化した紫外線硬化樹脂１９からモールド１３を離す離型が行われる。
【００４８】
このような転写システム３１Ａでは、基板１８への紫外線硬化樹脂１９の塗布がダイコータ３２によって行われ、紫外線硬化樹脂１９へのモールド１３の押圧がモールド設置装置３５によって行われ、紫外線硬化樹脂１９の硬化が紫外線硬化樹脂硬化装置３７によって行われる。すなわち、これらが別個のステージによって行われるものである。このように別個のステージによって行われることにより被成型品２０への転写が順次なされるため、効率的な転写を行うことができる。
【００４９】
図９は、図８の転写システムをベースにしてさらにシステム化した転写システム１Ｂを示す。この転写システム１Ｂでは、１台のダイコータ３２に対しモールド設置装置３５が３台設けられ、紫外線硬化樹脂硬化装置３７が２台設けられている。ダイコータ３２で処理された被成型品２０は、空いているいずれかのモールド設置装置３５に搬送されて処理され、モールド設置装置３５で処理された被成型品２０は、空いているいずれかの紫外線硬化樹脂硬化装置３７に搬送されて処理される。これにより、アイドルタイムがなく、製造のロスタイムをなくすことができる。
【００５０】
本発明は以上の実施形態に限定されることなく、種々変形が可能である。例えば、転写装置１，１Ａやモールド設置装置３５においては、モールド保持部４で保持されているモールド１３の温度を被成型品設置部５に設置されている被成型品２０の温度と同じ温度となるように設定してもよい。
【符号の説明】
【００５１】
１、１Ａ  転写装置
４  モールド保持部
５  被成型品設置部
６  紫外線発生装置
１２  モールド保持体
１３  モールド
１８  基板
１９  紫外線硬化樹脂
２０  被成型品
２３  駆動手段
３１、３１Ａ  転写システム
３２  ダイコータ
３５  モールド設置装置
３７  紫外線硬化樹脂硬化装置
【図１】
2011216808.tif 000003
【図２】
2011216808.tif 000004
【図３】
2011216808.tif 000005
【図４】
2011216808.tif 000006
【図５】
2011216808.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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