(57)【要約】【課題】非点収差を小さくすることができる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】投影光学系１５の鏡筒３４内に収容される対象レンズ３５に照射ビームＳＬを射出する射出機構５１は、一端部５３ａが鏡筒３４内に配置され、且つ他端部５３ｂが鏡筒３４外に配置され、内部に照射ビームＳＬ用の導光路が形成された導光部材５３と、導光部材５３の一端部５３ａに設けられ、対象レンズ３５に向けて照射ビームＳＬを射出する射出部と、鏡筒３４外に配置される第１駆動源７５と、第１駆動源７５で発生する第１駆動力を導光部材５３の一端部５３ａに伝達し、射出部の位置を移動させる第１伝達機構７６と、を有する。【選択図】図１
2011040505.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームが入射する光学部材と、前記光学部材を収容する筐体と、前記放射ビームの波長とは異なる波長を有する照射ビームを、前記光学部材において前記放射ビームの入射領域とは異なる位置に向けて射出する射出機構とを備え、前記光学部材を介した前記放射ビームを被照射面に照射する光学系において、
前記射出機構は、
一端部が前記筐体内に配置され、且つ他端部が前記筐体外に配置され、内部に前記照射ビーム用の導光路が形成される導光部材と、
前記導光部材の一端部に設けられ、前記光学部材に向けて前記照射ビームを射出する射出部と、
前記筐体外に配置される第１駆動源と、
前記第１駆動源で発生する駆動力を前記導光部材の一端部に伝達し、前記射出部の位置を移動させる第１伝達機構と、を有することを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記筐体は、前記筐体内部と前記筐体外部とを連通させる開口部を有し、
前記導光部材の長手方向における中途位置は、前記開口部内に位置することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記筐体に保持され、且つ前記導光部材の長手方向における中途位置を支持する支持部をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の光学系。
【請求項４】
前記導光部材の前記一端部は、前記支持部を支点として、前記射出部が変位するように変形可能であることを特徴とする請求項３に記載の光学系。
【請求項５】
前記第１伝達機構は、一端が前記導光部材の前記一端部に固定される線材と、前記筐体の外部に配置され、且つ前記第１駆動源からの駆動力に基づき前記線材の他端側を巻き取り可能な巻取り部とを有することを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の光学系。
【請求項６】
前記第１伝達機構は、前記線材を複数有し、
前記複数の線材の一端は、前記導光部材の導光路を中心とする周方向において互いに異なる位置にそれぞれ位置していることを特徴とする請求項５に記載の光学系。
【請求項７】
前記導光部材は、前記導光路を内包するカバーを有し、
前記線材は、前記導光路と前記カバーとの間に配置されていることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の光学系。
【請求項８】
前記導光部材内に配置され、前記射出部から射出される照射ビームの焦点位置を調整可能な焦点調整部をさらに備えることを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の光学系。
【請求項９】
前記焦点調整部は、前記照射ビームの光路に沿って配置される複数のレンズと、該各レンズ間の距離を変更する距離変更部とを有することを特徴とする請求項８に記載の光学系。
【請求項１０】
前記照射ビームの前記焦点位置を調整させるために前記焦点調整部に駆動力を付与する駆動機構をさらに備え、
前記駆動機構は、前記筐体の外部に配置される第２駆動源と、該第２駆動源で発生する駆動力を前記焦点調整部に伝達するための第２伝達機構とを有することを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の光学系。
【請求項１１】
前記射出部から射出される前記照射ビームの照射量を検出する照射量検出部をさらに備えることを特徴とする請求項１〜請求項１０のうち何れか一項に記載の光学系。
【請求項１２】
前記照射量検出部は、前記射出部の温度を検出する温度検出部と、該温度検出部による検出結果に基づき前記照射量を算出する算出部とを有することを特徴とする請求項１１に記載の光学系。
【請求項１３】
前記射出部の位置を検出する位置検出部と、
該位置検出部による検出結果に基づき前記第１駆動源を制御する制御部と、をさらに備えることを特徴とする請求項１〜請求項１２のうち何れか一項に記載の光学系。
【請求項１４】
前記光学部材は、前記被照射面と光学的にフーリエ変換の関係となる位置又は該位置近傍に配置されていることを特徴とする請求項１〜請求項１３のうち何れか一項に記載の光学系。
【請求項１５】
所定のパターンが形成されたマスクに放射ビームを導く照明光学系と、
前記マスクを介した放射ビームを感光性材料が塗布された基板に照射する投影光学系と、を備え、
前記各光学系の少なくとも一方は、請求項１〜請求項１４のうち何れか一項に記載の光学系であることを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程は、請求項１５に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズなどの光学部材を備える光学系、該光学系を備える露光装置及び該露光装置を用いるデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体集積回路などのマイクロデバイスを製造するための露光装置は、所定のパターンが形成されたレチクルなどのマスクを露光光で照明する照明光学系と、マスクを照明した露光光によって該マスクのパターンの像を感光性材料の塗布されたウエハ、ガラスプレートなどの基板に投影する投影光学系とを備えている。こうした露光装置では、投影光学系の焦点深度や解像力の向上を図るために、照明光学系の瞳面における光強度分布を変更することができる。すなわち、複数の照明条件、例えば照明光学系の瞳面における輪帯状や複数極状（２極状、４極状など）の光強度分布を形成することができる。
【０００３】
ところで、マスクに形成されるパターンの形状や配列によっては、照明光学系の瞳面に２極状の光強度分布を形成する所謂ダイポール照明（２極照明ともいう。）が用いられる。この場合、投影光学系を構成する光学部材には、輪帯照明や４極照明を用いる場合とは異なり、非回転対称な光量分布（熱分布ともいう。）が形成される。すなわち、光学部材において投影光学系の光軸を挟んだ２箇所には、露光光が入射する入射領域がそれぞれ形成され、該各入射領域の熱量は、露光光が入射しない他の領域に比して多くなる。この状態で露光処理が継続されると、光学部材における局所的な熱分布が徐々に大きくなり（即ち、光学部材内での温度の高低差が大きくなり）、非点収差が発生するおそれがある。そこで、近年では、非点収差の発生を抑制可能な露光装置として、例えば特許文献１に記載の露光装置が提案されている。
【０００４】
この露光装置の投影光学系には、光学部材が吸収可能な波長を有する照射ビームを光学部材に照射するためのビーム射出装置が設けられている。具体的には、ビーム射出装置は、光学部材において露光光が入射する各入射領域から９０°回転した各照射領域に向けて照射ビームを射出する２つの射出機構を備えている。そして、これら各射出機構から各照射領域に照射ビームがそれぞれ照射されると、光学部材での局所的な熱分布が小さくなり、非点収差が抑制されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−７３５８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、光学部材における入射領域の位置が変更されるなどの露光条件を変更する場合には、光学部材において照射ビームが照射される照射領域の位置を変更する必要がある。このような状況に対応するためには、一つの光学部材に対して多数の射出機構を予め用意し、必要に応じて用いる射出機構を選択させることになる。しかしながら、この場合、一つの光学部材に対して多数の射出機構を設けることになり、投影光学系の構成が複雑になる問題があった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、非点収差を小さくすることができる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、本発明は、実施形態に示す図１〜図１１に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の光学系は、放射ビーム（ＥＬ）が入射する光学部材（３５，３６）と、前記光学部材（３５，３６）を収容する筐体（３４）と、前記放射ビーム（ＥＬ）の波長とは異なる波長を有する照射ビーム（ＳＬ）を、前記光学部材（３５，３６）において前記放射ビーム（ＥＬ）の入射領域（９６）とは異なる位置（８６）に向けて射出する射出機構（５１）とを備え、前記光学部材を介した前記放射ビーム（ＥＬ）を被照射面（Ｗａ）に照射する光学系（１５）において、前記射出機構（５１）は、一端部（５３ａ）が前記筐体（３４）内に配置され、且つ他端部（５３ｂ）が前記筐体（３４）外に配置され、内部に前記照射ビーム（ＳＬ）用の導光路（５６）が形成される導光部材（５３）と、前記導光部材（５３）の一端部（５３ａ）に設けられ、前記光学部材（３５，３６）に向けて前記照射ビーム（ＳＬ）を射出する射出部（５９）と、前記筐体（３４）外に配置される第１駆動源（７５、７５Ａ）と、前記第１駆動源（７５、７５Ａ）で発生する駆動力を前記導光部材（５３）の一端部（５３ａ）に伝達し、前記射出部（５９）の位置を移動させる第１伝達機構（７６）と、を有することを要旨とする。
【０００９】
上記構成によれば、射出機構（５１）の射出部（５９）は、筐体（３４）外に配置される第１駆動源（７５、７５Ａ）からの駆動力が第１伝達機構（７６）を介して伝達されることにより移動可能である。すなわち、光学部材（３５，３６）において照射ビーム（ＳＬ）の入射する位置は、変更可能である。
【００１０】
なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、非点収差を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施形態における露光装置を示す概略構成図。
【図２】照明系開口絞りの円盤部材を模式的に示す平面図。
【図３】（ａ）は導光部材の可撓する様子を模式的に示す側断面図、（ｂ）は導光部材の可撓する様子を模式的に示す平断面図。
【図４】導光部材を模式的に示す側断面図。
【図５】導光部材を模式的に示す平断面図。
【図６】（ａ）（ｂ）（ｃ）は対象レンズに照射ビームが照射される様子を示す作用図。
【図７】（ａ）（ｂ）（ｃ）は対象レンズに露光光が入射する様子を示す作用図。
【図８】（ａ）（ｂ）は対象レンズに露光光及び照射ビームが入射する様子を示す作用図。
【図９】（ａ）は別の実施形態における第１駆動源を模式的に示す斜視図、（ｂ）は支持部材を模式的に示す平面図。
【図１０】デバイスの製造例のフローチャート。
【図１１】半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明を具体化した一実施形態について図１〜図８に基づき説明する。なお、本実施形態では、投影光学系の光軸に平行な方向をＺ軸方向とし、Ｚ軸方向に垂直な平面内で走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向をＹ軸方向とし、その走査方向に直交する非走査方向をＸ軸方向として説明する。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの回転方向をθｘ方向、θｙ方向、θｚ方向ともいう。
【００１４】
図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、光源装置１２から射出された露光光ＥＬを用い、所定の回路パターンが形成されたレチクルＲを照明し、該照明によって形成される回路パターンの像をレジストなどの感光性材料が塗布されたウエハＷの被照射面Ｗａに投影するための装置である。こうした露光装置１１は、光源装置１２からの露光光ＥＬでレチクルＲを照明する照明光学系１３と、レチクルＲを保持するレチクルステージ１４と、該レチクルＲを介した露光光ＥＬでウエハＷを照射する投影光学系１５と、ウエハＷを保持するウエハステージ１６とを備えている。また、露光装置１１には、露光装置１１全体を統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴが設けられている。なお、本実施形態の光源装置１２としては、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を露光光ＥＬとして出力する光源が用いられている。
【００１５】
照明光学系１３は、図示しない複数の光学部材を有するビーム整形光学系１７を備え、該ビーム整形光学系１７は、光源装置１２側から入射された露光光ＥＬの光束を略平行な光束に変換してオプティカルインテグレータ１８に向けて射出する。このオプティカルインテグレータ１８は、ウエハＷの被照射面Ｗａ及び該被照射面Ｗａと光学的に共役な位置での照度分布の均一化を図るための光学系であって、その射出側に位置する図示しない照明瞳面が後述する投影光学系１５の投影系開口絞り３７と光学的に共役な位置に形成されるように配置されている。なお、本実施形態のオプティカルインテグレータ１８は、一対のマイクロフライアイレンズを設けた構成である。
【００１６】
また、照明瞳面が形成される位置又はその近傍には、照明系開口絞り１９が設けられている。この照明系開口絞り１９は、図１及び図２に示すように、Ｘ軸方向（図１では左右方向）に延びる回転軸線２０を中心に回転する円盤部材２１と、回転軸線２０を中心とした周方向に円盤部材２１を回転させるべく駆動する駆動モータ２２とを備えている。この円盤部材２１には、周方向に沿って配置される複数種類（本実施形態では６種類）の開口部２３，２４，２５，２６，２７，２８が形成されている。
【００１７】
第１開口部２３は、照明瞳面に形成される二次光源の形状を大きい円形に設定するためのものであり、第２開口部２４は、二次光源の形状を小さい円形に設定するためのものである。また、第３開口部２５は、二次光源の形状を輪帯状に設定するものであり、第４開口部２６は、照明瞳面に照明光学系１３の光軸ＡＸを中心としたＺ軸方向における両側に極を形成するためのものである。また、第５開口部２７は、照明瞳面に照明光学系１３の光軸ＡＸを中心としたＹ軸方向（図１では紙面と直交する方向）における両側に極を形成するためのものであり、第６開口部２８は、照明瞳面に照明光学系１３の光軸ＡＸを中心としたＸ軸方向における両側及びＹ軸方向における両側に極を形成するためのものである。すなわち、第４開口部２６及び第５開口部２７は、２極照明（即ち、ダイポール照明）用の開口部であり、第６開口部２８は、４極照明用の開口部２８である。なお、図２において一点鎖線で囲まれた領域は、露光光ＥＬの光路を示している。
【００１８】
図１に示すように、照明系開口絞り１９の各開口部２３〜２８の何れか一つの開口部から射出された露光光ＥＬは、少なくとも一枚の光学部材（例えばリレーレンズ）から構成されるリレー光学系２９を介してレチクルブラインド３０に入射する。このレチクルブラインド３０は、レチクルＲと光学的に共役な位置又はその近傍に配置されると共に、開口３１を有している。このレチクルブラインド３０の開口３１は、Ｚ軸方向（図１では上下方向）における長さのほうがＹ軸方向における長さよりも長い略矩形状に形成されている。そして、レチクルブラインド３０の開口３１から射出された露光光ＥＬは、少なくとも一枚の光学部材（コンデンサレンズや反射ミラーなど）から構成されるコンデンサ光学系３２を介してレチクルＲに入射する。このとき、レチクルＲには、Ｘ軸方向における長さがＹ軸方向における長さよりも長い略矩形状の照明領域が形成される。
【００１９】
レチクルステージ１４は、投影光学系１５の物体面側（＋Ｚ方向側であって、図１では上側）に配置されている。こうしたレチクルステージ１４は、レチクルＲを保持するための図示しない保持部（例えば、レチクルＲを真空吸着するための図示しない真空チャック）を備えている。また、レチクルステージ１４は、図示しないレチクルステージ駆動部の駆動によってＹ軸方向に移動可能である。すなわち、レチクルステージ駆動部は、保持部に保持されるレチクルＲをＹ軸方向に所定ストロークで移動させる。また、レチクルステージ駆動部は、レチクルＲをＺ軸方向、Ｘ軸方向及びθｚ方向にも移動させることが可能である。
【００２０】
Ｚ軸方向においてレチクルステージ１４と投影光学系１５との間には、レチクルＲのパターン面のＺ軸方向における変位を検出するためのオートフォーカスセンサ（以下、レチクル側ＡＦセンサという。）３３が設けられている。そして、レチクル側ＡＦセンサ３３からの検出情報に基づき制御装置ＣＯＮＴによってレチクルステージ駆動部が制御されることにより、レチクルＲのＺ軸方向における位置などが調整される。
【００２１】
投影光学系１５は、露光光ＥＬでレチクルＲを照明することにより形成された回路パターンの像を所定の縮小倍率（例えば１／４倍）に縮小させる光学系であって、略円筒形状をなす鏡筒３４を備えている。この鏡筒３４内には、図示しないガス供給装置によって窒素ガスなどのパージガスが供給される。こうした鏡筒３４内には、投影光学系１５の光軸ＡＸ（即ち、Ｚ軸方向）に沿って複数（図１では２枚のみ図示）のレンズ３５，３６が設けられており、該各レンズは、石英を多く含んでそれぞれ構成されている。こうした各レンズ３５，３６は、図示しない保持装置を介して鏡筒３４にそれぞれ支持されている。各保持装置は、それらが個別に保持するレンズ３５，３６を複数方向に変位させることが可能にそれぞれ構成されている。なお、保持装置の構成については、例えば米国特許第６９３０８４２号公報や米国特許公開第２００７／０１８３０６４号公報に開示されている。
【００２２】
また、鏡筒３４内において、ウエハＷの被照射面Ｗａの設置位置と光学的にフーリエ変換の関係となる位置（即ち、上記照明瞳面と光学的に共役な位置）には、投影系開口絞り３７が設けられている。そして、鏡筒３４内に配置される各レンズ３５，３６を介した露光光ＥＬは、鏡筒３４の−Ｚ方向側（図１では下側）に配置される終端光学素子（レンズ又は平行平板ガラス）３８を介してウエハＷ側に射出される。このとき、ウエハＷの被照射面Ｗａには、Ｘ軸方向における長さがＹ軸方向における長さよりも長い略矩形状の照射領域が形成される。
【００２３】
なお、本実施形態の投影光学系１５には、鏡筒３４内に配置される各レンズ３５，３６のうち最も投影系開口絞り３７に近い位置に配置されるレンズに対して、図１において斜め上方から照射ビームＳＬを照射するビーム射出装置３９が設けられている。このビーム射出装置３９の構成については後述する。
【００２４】
ウエハステージ１６は、投影光学系１５の像面側において、ウエハＷが載置される載置面が投影光学系１５の光軸ＡＸとほぼ直交するように配置されている。また、ウエハステージ１６上には、ウエハＷを保持するための図示しないウエハホルダと、該ウエハホルダを介してウエハＷを保持するためのＺチルトステージ４１とが設けられている。このＺチルトステージ４１は、ウエハＷのＺ軸方向における位置及びＸ軸周り、Ｙ軸周りの傾斜角を調整可能に構成されている。こうしたウエハステージ１６は、図示しないウエハステージ駆動部によって、Ｙ軸方向に移動可能である。すなわち、ウエハステージ駆動部は、ウエハＷをＹ軸方向に所定ストロークで移動させる。
【００２５】
Ｚ軸方向においてウエハステージ１６と投影光学系１５との間には、ウエハＷの被照射面ＷａのＺ軸方向における変位及び傾斜角を検出するためのオートフォーカスセンサ（以下、ウエハ側ＡＦセンサという。）４２が設けられている。そして、ウエハ側ＡＦセンサ４２からの検出情報に基づき制御装置ＣＯＮＴによってＺチルトステージ４１が制御されることにより、ウエハＷのＺ軸方向における位置などが調整される。また、Ｚチルトステージ４１には、投影光学系１５の収差を測定するための収差測定装置４３が設けられている。この収差測定装置４３は、例えば特開２００２−１４００５号公報及び該公報に対応する米国特許公開２０００２／００４１３７７号に開示される空間像センサを用いることができる。こうした収差測定装置４３による計測結果は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。
【００２６】
そして、ウエハＷの一つのショット領域にレチクルＲの回路パターンを形成する場合、照明光学系１３によって照明領域をレチクルＲに形成した状態で、レチクルステージ駆動部の駆動によって、レチクルＲをＹ軸方向（例えば、＋Ｙ方向側から−Ｙ方向側）に所定ストローク毎に移動させるとともに、ウエハステージ駆動部の駆動によって、ウエハＷをレチクルＲのＹ軸方向に沿った移動に対して投影光学系１５の縮小倍率に応じた速度比でＹ軸方向（例えば、−Ｙ方向側から＋Ｙ方向側）に同期して移動させる。そして、一つのショット領域への回路パターンの形成が終了した場合、ウエハＷの他のショット領域に対する回路パターンの形成が連続して行われる。
【００２７】
次に、ビーム射出装置３９について図１、図３及び図４に基づき説明する。
図１及び図３（ａ）（ｂ）に示すように、鏡筒３４の側壁において照射ビームＳＬが照射される対象レンズ３５（本実施形態では、投影光学系１５の瞳面の近傍に配置されるレンズ）の＋Ｚ方向側（図１では上側）には、投影光学系１５の光軸ＡＸを中心に挟んだＸ軸方向における両側に配置される開口部５０が形成されている。そして、ビーム射出装置３９は、各開口部５０に対応する位置に配置される複数（本実施形態では２つ）の射出機構５１を備えている。これら各射出機構５１には、露光光ＥＬとは異なる波長を有する照射ビームＳＬを出力可能な光源部５２がそれぞれ設けられている。これら各光源部５２は、例えば１０．６μｍの赤外光を照射ビームＳＬとして出力可能な炭酸ガスレーザ（ＣＯ２レーザ）をそれぞれ有している。こうした照射ビームＳＬは、石英を多く含むレンズによってほとんど吸収される特性を有している。
【００２８】
また、各射出機構５１には、長手方向における一端部５３ａが鏡筒３４内に位置し、且つ長手方向における他端部５３ｂが鏡筒３４外に位置する導光部材５３がそれぞれ設けられている。各導光部材５３の長手方向における中途位置は、鏡筒３４の側壁に形成された開口部５０内にそれぞれ位置しており、各導光部材５３は、鏡筒３４の側壁に固定される支持部５４を介して鏡筒３４にそれぞれ支持されている。
【００２９】
次に、各射出機構５１の詳細を説明するが、それぞれの射出機構５１は同じ構成であるため、一つの射出機構５１について説明し、他の射出機構５１の説明は省略する。
図４及び図５に示すように、導光部材５３内には、該導光部材５３の長手方向に沿って延びる光導波管５５が収容されており、該光導波管５５内には、光源部５２から出力された照射ビームＳＬ用の導光路（光導波路ともいう。）５６が形成されている。こうした光導波管５５の他端部は、光源部５２に接続されると共に、光導波管５５の一端部５５ａは、導光部材５３の一端部５３ａに設けられる後述する射出部５９に接続されている。また、光導波管５５の外周側には、略円筒状をなす保護用カバー５７が設けられており、該保護用カバー５７は、可撓性を有するいわゆるフレキシブル配管である。また、保護用カバー５７は、その直径が光導波管５５の直径よりも大きくなるように構成されており、保護用カバー５７の内周面と光導波管５５の外周面との間には、空間５８が形成されている。
【００３０】
また、導光部材５３の一端部５３ａには、光導波管５５を介した照射ビームＳＬを対象レンズ３５に向けて射出するための射出部５９が設けられている。この射出部５９は、導光部材５３の一端部５３ａに支持される略円筒形状の本体部６０を備え、該本体部６０の基端側（即ち、導光部材５３に支持される側）には、先端側よりも径方向における厚みが厚い肉厚部６０ａが形成されている。この肉厚部６０ａ内には、照射ビームＳＬの光路を中心とした周方向に沿って等間隔に配置される複数（本実施形態では４つ）の収容空間６１がそれぞれ形成されている。また、本体部６０の先端側（即ち、対象レンズ３５に対応する側）の内部には、基準レンズ６２が固定されており、該基準レンズ６２を介して照射ビームＳＬが対象レンズ３５に向けて射出される。
【００３１】
さらに、本体部６０内において光導波管５５の一端部５５ａと基準レンズ６２との間には、基準レンズ６２を介して射出される照射ビームＳＬの焦点位置を調整可能な焦点調整部６３が設けられている。この焦点調整部６３は、照射ビームＳＬの光路（図４及び図５では左右方向）に沿って配置される複数枚（本実施形態では２枚）の可動レンズ６４，６５と、該各可動レンズ６４，６５を保持する略円筒形状の保持部材６６とを備えている。この保持部材６６の他端部（即ち、光導波管５５の一端部５５ａ側の端部であって、図４及び図５では右端部）には、フランジ部６６ａが形成されている。また、焦点調整部６３には、保持部材６６を照射ビームＳＬの光路に沿って円滑に進退移動させるための案内部６７が設けられている。本実施形態では、案内部６７の一例として、リニアボールガイドが用いられている。
【００３２】
また、焦点調整部６３には、保持部材６６を基準レンズ６２側に付勢する付勢機構６８が設けられている。この付勢機構６８は、本体部６０内における基端側に固定される円環状の被固定部材６９と、該被固定部材６９と保持部材６６との間に配置される付勢部材７０（一例としてコイルスプリング）とを備えている。この付勢部材７０は、被固定部材６９に支持されると共に、保持部材６６を基準レンズ６２側に付勢している。すなわち、焦点調整部６３は、基準レンズ６２に接近する方向に常に押圧されている。しかし、フランジ部６６ａが案内部６７の端部に当接する場合、焦点調整部６３の基準レンズ６２に接近する方向への移動が規制され、焦点調整部６３と基準レンズ６２との接触が規制される。
【００３３】
被固定部材６９には、光導波管５５の一端部５５ａの温度を検出するための第１温度センサ７１が設けられており、該第１温度センサ７１からの電気信号は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。また、本体部６０の先端側には、基準レンズ６２の温度を検出するための第２温度センサ７２が設けられており、該第２温度センサ７２からの電気信号は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。
【００３４】
また、本実施形態の導光部材５３は、図３（ａ）（ｂ）に示すように、支持部５４を支点として可撓可能である。すなわち、図１、図４及び図５に示すように、各射出機構５１は、鏡筒３４外に配置される第１駆動源７５と、該第１駆動源７５で発生する第１駆動力を射出部５９に伝達し、該射出部５９を移動させるための第１伝達機構７６とを備えている。第１駆動源７５には、複数（本実施形態では２つ）の第１駆動モータ７７，７８が設けられている。
【００３５】
第１伝達機構７６は、鏡筒３４外に配置され、且つ第１駆動モータ７７，７８からの第１駆動力によって回転する巻取り部７９，８０と、該各巻取り部７９，８０の回転位置を検出するためのロータリエンコーダ８１，８２とが設けられており、該各ロータリエンコーダ８１，８２は、制御装置ＣＯＮＴにそれぞれ電気的に接続されている。また、第１伝達機構７６には、一端８３ａが射出部５９に固定された複数本（本実施形態では４本）の第１線材８３（一例としてワイヤ）が設けられている。すなわち、各第１線材８３の一端８３ａは、射出部５９の本体部６０に形成された収容空間６１内に配置される掛止部材８４にそれぞれ取り付けられている。また、各第１線材８３の長手方向における中途部位は、保護用カバー５７の内周面と光導波管５５の外周面との間に形成される空間５８内でそれぞれ張設されており、該空間５８内において各第１線材８３の外周側には、該各第１線材８３を保護するための保護用チューブ８５がそれぞれ設けられている。この保護用チューブ８５内には、グリースなどの潤滑液がそれぞれ充填されている。
【００３６】
また、各第１線材８３のうち光導波管５５を挟んで図４における上下方向における両側に位置する両第１線材８３の他端８３ｂは、第１駆動モータ７７からの第１駆動力に基づき回転可能な巻取り部７９にそれぞれ固定されている。例えば巻取り部７９が第１方向（例えば時計回りの回転方向）にそれぞれ回転した場合、該巻取り部７９に固定される各第１線材８３のうち一方の第１線材８３（図４では上方に位置する第１線材８３）の一端８３ａが引っ張られる。その結果、導光部材５３は、射出部５９が図４における上方に移動するように曲がる。このとき、巻取り部７９の第１方向への回転に基づき他方の第１線材８３（図４では下方に位置する第１線材８３）の他端８３ｂが送り出されるため、他方の第１線材８３によって、導光部材５３の可撓は規制されない。また、巻取り部７９が第２方向（例えば時計回りとは反対の回転方向）にそれぞれ回転した場合、該巻取り部７９に固定される各第１線材８３のうち他方の第１線材８３の一端８３ａが引っ張られる。その結果、導光部材５３は、射出部５９が図４における下方に移動するように曲がる。このとき、巻取り部７９の第２方向への回転に基づき一方の第１線材８３の他端８３ｂが送り出されるため、一方の第１線材８３によって、導光部材５３の可撓は規制されない。
【００３７】
一方、光導波管５５を挟んで図５における上下方向における両側に位置する各第１線材８３の他端８３ｂは、第１駆動モータ７８からの第１駆動力に基づき回転可能な巻取り部８０にそれぞれ固定されている。例えば巻取り部８０が第１方向にそれぞれ回転した場合、該巻取り部８０に固定される各第１線材８３のうち一方の第１線材８３（図５では上方に位置する第１線材８３）の一端８３ａが引っ張られる。その結果、導光部材５３は、射出部５９が図５における上方に移動するように曲がる。このとき、巻取り部８０の第１方向への回転に基づき他方の第１線材８３（図５では下方に位置する第１線材８３）の他端８３ｂが送り出されるため、他方の第１線材８３によって、導光部材５３の可撓は規制されない。また、巻取り部８０が第２方向にそれぞれ回転した場合、該巻取り部８０に固定される各第１線材８３のうち他方の第１線材８３（図５では下方に位置する第１線材８３）の一端８３ａが引っ張られる。その結果、導光部材５３は、射出部５９が図５における下方に移動するように曲がる。このとき、巻取り部８０の第２方向への回転に基づき一方の第１線材８３の他端８３ｂが送り出されるため、一方の第１線材８３によって、導光部材５３の可撓は規制されない。
【００３８】
さらに、本実施形態の射出機構５１は、対象レンズ３５において照射ビームＳＬで照射される照射領域８６（図３（ｂ）において一点鎖線で囲まれた領域）の大きさを変更可能である。すなわち、図１、図４及び図５に示すように、射出機構５１は、鏡筒３４外に配置される第２駆動源９０と、該第２駆動源９０で発生する第２駆動力を焦点調整部６３に伝達する第２伝達機構９１とを備えている。第２駆動源９０には、第２駆動モータ９２が設けられている。
【００３９】
第２伝達機構９１は、被固定部材６９に形成された貫通孔６９ａを介して、一端９３ａが焦点調整部６３の保持部材６６におけるフランジ部６６ａに固着される複数本（本実施形態では２本）の第２線材９３を備え、該各第２線材９３の一端９３ａは、照射ビームＳＬの光路を中心に挟んで図４における上下方向における両側にそれぞれ位置している。また、各第２線材９３の長手方向における中途部位は、保護用カバー５７の内周面と光導波管５５の外周面との間に形成される空間５８内でそれぞれ張設されており、該空間５８内において各第２線材９３の外周側には、該各第２線材９３を保護するために保護用チューブ９４がそれぞれ設けられている。これら各保護用チューブ９４内には、グリースなどの潤滑液がそれぞれ充填されている。さらに、各第２線材９３の他端９３ｂは、第２駆動モータ９２の図示しない回転子にそれぞれ固定されている。そして、第２駆動モータ９２によって各第２線材９３の他端９３ｂが巻き取られ各第２線材９３の一端９３ａが引っ張られることにより、保持部材６６は、付勢部材７０からの付勢力に抗して基準レンズ６２から離間する方向にそれぞれ移動する。すなわち、第２駆動源９０からの第２駆動力によって、基準レンズ６２と各可動レンズ６４，６５との距離が調整され、ひいては照射ビームＳＬの焦点位置が調整される。
【００４０】
なお、第２伝達機構９１には、鏡筒３４外に配置されるリニアエンコーダ９５が設けられており、該リニアエンコーダ９５は、制御装置ＣＯＮＴに電気的に接続されている。そして、制御装置ＣＯＮＴは、リニアエンコーダ９５からの検出信号に基づき、対象レンズ３５において照射ビームＳＬで照射される照射領域８６の大きさを調節する。
【００４１】
図６（ａ）（ｂ）に示すように、対象レンズ３５において照射ビームＳＬが照射される各照射領域８６は、各射出機構５１における射出部５９の位置に応じた位置にそれぞれ形成される。そのため、各導光部材５３の一端側の可撓に応じて各射出部５９の位置がそれぞれ変更されると、各照射領域８６の形成位置は、それぞれ変更される。また、図６（ａ）（ｃ）に示すように、対象レンズ３５において照射ビームＳＬが照射される各照射領域８６は、それぞれ各射出部５９から射出される照射ビームＳＬの焦点位置に応じた広さになる。そのため、各焦点調整部６３の駆動によって照射ビームＳＬの焦点位置が対象レンズ３５からそれぞれ離間すると、対象レンズ３５に形成される各照射領域８６は、それぞれ広くなる。
【００４２】
本実施形態の制御装置ＣＯＮＴには、レチクル側ＡＦセンサ３３、ウエハ側ＡＦセンサ４２及び収差測定装置４３が電気的に接続されている。また、制御装置ＣＯＮＴには、各温度センサ７１，７２、各ロータリエンコーダ８１，８２及び各リニアエンコーダ９５が電気的に接続されている。
【００４３】
ここで、光導波管５５の一端部５５ａ及び基準レンズ６２は、照射ビームＳＬの一部を吸収するため、射出部５９から射出される照射ビームＳＬの照射量が多いほど、熱エネルギーがそれぞれ大きくなる。すなわち、光導波管５５の一端部５５ａ及び基準レンズ６２の温度は、射出部５９から射出される照射ビームＳＬの照射量が多いほど高くなる。そこで、本実施形態では、制御装置ＣＯＮＴは、各温度センサ７１，７２からの各電気信号に基づき、光導波管５５の一端部５５ａの温度及び基準レンズ６２の温度をそれぞれ算出すると共に、該各算出結果に基づき射出部５９から射出される照射ビームＳＬの照射量を算出し、該算出結果に基づき光源部５２を制御する。
【００４４】
また、射出部５９は、各第１駆動モータ７７，７８の駆動量に応じて移動する。そのため、各第１駆動モータ７７，７８の駆動量（即ち、図示しない回転子の回転量）をそれぞれ算出することにより、射出部５９の位置を算出することが可能である。そこで、本実施形態では、制御装置ＣＯＮＴは、各ロータリエンコーダ８１，８２からの各電気信号に基づき、射出部５９の位置を算出し、該算出結果に基づき各第１駆動モータ７７，７８の駆動を制御する。
【００４５】
また、射出部５９から射出される照射ビームＳＬの焦点位置は、第２駆動モータ９２の駆動量に応じて変位する。そのため、第２駆動モータ９２の駆動量を算出することにより、照射ビームＳＬの焦点位置を特定することが可能である。そこで、本実施形態では、制御装置ＣＯＮＴは、リニアエンコーダ９５からの電気信号に基づき、照射ビームＳＬの焦点位置を検出し、該検出結果に基づき第２駆動モータ９２の駆動を制御する。
【００４６】
本実施形態における露光装置１１の作用を、各射出機構５１の作用を中心に図７及び図８に基づき説明する。なお、照明系開口絞り１９の第５開口部２７が露光光ＥＬの光路内に配置された状態で、ウエハＷへの露光処理を行なうものとする。
【００４７】
さて、照明系開口絞り１９の第５開口部２７が露光光ＥＬの光路に配置されると、投影系開口絞り３７の近傍に配置される対象レンズ３５には、投影光学系１５の光軸ＡＸに沿って配置される２つの露光光ＥＬの光束が入射する。すると、図７（ａ）に示すように、対象レンズ３５において投影光学系１５の光軸ＡＸを挟んだＹ軸方向における両側には、露光光ＥＬの入射領域９６がそれぞれ形成される。すなわち、光軸ＡＸをＹ軸方向に挟んだ対称な各位置に、入射領域９６がそれぞれ形成される。こうした各入射領域９６に入射する露光光ＥＬの大部分は、対象レンズ３５を透過して像面側に射出される。しかし、一部の露光光ＥＬは、対象レンズ３５又は該レンズ３５に製膜されるコート（例えば非反射コート（ＡＲコートともいう。））に吸収されるため、対象レンズ３５において各入射領域９６は、他の部分に比して熱エネルギーが多くなる。
【００４８】
そのため、この条件で露光処理が継続されると、各入射領域９６と他の部分での温度分布の差が大きくなり、図７（ｂ）（ｃ）に示すように、対象レンズ３５が熱変形する。特に、対象レンズ３５において各入射領域９６に対応する各部分の熱膨張度合いは、他の部分に比して大きくなる。すなわち、光軸ＡＸを挟んだＹ軸方向における両側には、それぞれ凸部ができる結果、Ｙ軸方向に沿った方向では屈折率が小さくなる。一方、Ｘ軸方向に沿った方向では、対象レンズ３５のＸ軸方向における略中央に１つの凸部ができる結果、屈折率が大きくなる。この状態で露光処理を継続しようとすると、非点収差が発生するおそれがある。なお、図７（ｂ）（ｃ）では、熱変形前の対象レンズ３５が破線で描かれ、熱変形後の対象レンズ３５が実線で描かれている。また、図７（ｂ）（ｃ）では、熱変形度合いが誇張してそれぞれ描かれている。
【００４９】
そこで、本実施形態では、対象レンズ３５において光軸ＡＸをＸ軸方向に挟んだ対称な各位置に、各射出機構５１から照射ビームＳＬがそれぞれ照射される。各射出機構５１によって対象レンズ３５に形成された各照射領域８６は、図８（ａ）に示すように、光軸ＡＸを中心とした径方向において各入射領域９６と略同一位置にそれぞれ位置している。また、各照射領域８６は、光軸ＡＸを中心とした周方向において各入射領域９６と略９０°回転した位置にそれぞれ位置している。しかも、対象レンズ３５は、入射する照射ビームＳＬをほとんど吸収可能である。
【００５０】
そのため、対象レンズ３５において各照射領域８６が有する熱エネルギーは、照射ビームＳＬの入射に伴いそれぞれ多くなる。すると、図８（ｂ）に示すように、対象レンズ３５において各入射領域９６に対応する各部分は、それぞれ熱膨張する。その結果、対象レンズ３５をＹ軸方向から見た場合の側面図と、Ｘ軸方向から見た場合の側面図とは略同等になり、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に開いた露光光ＥＬの光束に対するフォーカス位置は互いにほぼ等しくなる。すなわち、照射ビームＳＬを照射する前で発生した投影光学系１５の非点収差が０（零）になる又は０（零）に接近する。
【００５１】
また、ウエハＷに形成する回路パターンの形状を変更する場合には、露光光ＥＬの光路内に配置される開口部が第５開口部２７から第４開口部２６に変更されることがある。この場合、露光光ＥＬの各光束が対象レンズ３５に入射することにより該対象レンズ３５に形成される各入射領域９６は、光軸ＡＸを挟んだＸ軸方向における両側にそれぞれ配置される。そのため、各射出機構５１の射出部５９から射出される照射ビームＳＬの射出方向は、対象レンズ３５において光軸ＡＸを挟んだＹ軸方向における両側に照射領域８６がそれぞれ形成されるようにそれぞれ変更される。具体的には、各第１駆動源７５を構成する第１駆動モータ７７，７８の駆動を制御することにより、各導光部材５３の一端側は、支持部５４を支点としてそれぞれ曲がる。すると、各導光部材５３の一端部５３ａに設けられた各射出部５９の位置は、それぞれ変位する。その結果、各射出部５９からの照射ビームＳＬの射出方向がそれぞれ変更され、ひいては対象レンズ３５において各照射領域８６の形成される位置がそれぞれ変更される。
【００５２】
このとき、各第２駆動源９０の第２駆動モータ９２を駆動させ、各焦点調整部６３の各可動レンズ６４，６５を変位させることにより、対象レンズ３５に形成される各照射領域８６の大きさがそれぞれ調整される。
【００５３】
さらに、露光装置１１によっては、２極照明を行う際、対象レンズ３５に形成される各入射領域９６の形成位置が、ＸＹ平面においてＸ軸方向及びＹ軸方向と交差する方向に沿って配置されることがある。こうした場合であっても、各射出機構５１の射出部５９からの照射ビームＳＬの射出方向をそれぞれ調整することにより、対象レンズ３５において各照射領域８６の形成される位置がそれぞれ変更される。その結果、投影光学系１５の非点収差の発生が抑制される。
【００５４】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）各射出機構５１の射出部５９は、各第１駆動源７５からの第１駆動力によって移動可能である。すなわち、対象レンズ３５において照射ビームＳＬが照射される照射領域８６の各位置は、それぞれ変更可能である。そのため、対象レンズ３５において露光光ＥＬの光束が入射する入射領域９６の位置に応じて、照射領域８６の形成位置を設定できるため、投影光学系１５の非点収差を小さくできる。
【００５５】
（２）もし仮に各第１駆動源７５を鏡筒３４内に配置したとすると、各第１駆動源７５を構成する各第１駆動モータ７７，７８から潤滑油などが漏出し、該潤滑油などが異物として鏡筒３４内のレンズに付着するおそれがある。この場合、ウエハＷへの回路パターンの形成不良が発生するおそれがあるため、比較的に短い周期で投影光学系１５のメンテナンスを行なう必要がある。この点、本実施形態では、各第１駆動源７５は、鏡筒３４外にそれぞれ配置されているため、各第１駆動源７５から漏出した潤滑油などが鏡筒３４内の各レンズに付着する可能性を低くできる。そのため、ウエハＷへの回路パターンの形成不良の発生を抑制できると共に、投影光学系１５のメンテナンス周期を長く設定できる。
【００５６】
（３）また、従来の射出機構では、その射出部の位置を変更できない、そのため、２極照明を行う際に対象レンズ３５において入射領域９６の形成位置が露光装置１１毎に異なる場合、露光装置１１毎に射出機構５１の配置位置を異ならせる必要がある。すなわち、鏡筒３４に形成する開口部５０の位置を露光装置１１毎に変更する必要があり、露光装置１１の製造時に、非常に手間がかかる問題がある。この点、本実施形態では、射出機構５１の射出部５９の位置を移動させることができるため、露光装置１１毎に鏡筒３４に形成する開口部５０の位置を変更しなくてもよい。したがって、露光装置１１毎に開口部５０の形成位置を変更しなくてもよい分、露光装置１１の製造時にかかる手間を簡略化できる。
【００５７】
（４）本実施形態では、一端８３ａが射出部５９に固定される各線材８３を個別に引っ張ることにより、射出部５９を移動させることができる。したがって、複雑な伝達機構を設けることなく、射出部５９から射出される照射ビームＳＬの射出方向を容易に変更できる。
【００５８】
（５）こうした各線材８３の長手方向における中途位置は、保護用カバー５７の内周面と光導波管５５の外周面との間に形成される空間５８内にそれぞれ配置される。そのため、各線材８３が鏡筒３４などに接触することを抑制でき、各射出部５９の位置が不必要に移動することを抑制できる。
【００５９】
（６）また、本実施形態の射出機構５１は、対象レンズ３５における照射領域８６の大きさを変更することができる。そのため、照射領域８６の大きさを変更できない射出機構に比して、投影光学系１５の非点収差をより好適に小さくできる。
【００６０】
（７）本実施形態では、各射出機構５１から射出される照射ビームＳＬの照射量が算出される。こうした照射量に基づき、対象レンズ３５の各照射領域８６における熱変形度合いを推定し、該推定結果に基づき各光源部５２がそれぞれ制御される。そのため、投影光学系１５の非点収差を高精度に調整できる。
【００６１】
（８）しかも、照射ビームＳＬの照射量は、光導波管５５の一端部５５ａ及び基準レンズ６２の各温度に基づき算出される。そのため、光導波管５５を介した照射ビームＳＬの一部をビームスプリッタなどで分岐して照射量を算出する場合に比して光量のロスを少なくできる分、光源部５２から出力される照射ビームＳＬを効率的に用いることができる。
【００６２】
（９）また、射出部を鏡筒３４内で移動させる方法として、鏡筒３４の内周面に沿う円環状のレールを設け、該レールに沿って射出部を移動させる方法も考えられる。しかし、このような構成の場合、駆動源を鏡筒３４内に配置する必要があり、駆動源から漏れ出る潤滑油などの異物がレンズに付着するおそれがある。また、射出部には、レールに沿って摺動する摺動部が設けられている。そのため、射出部がレールに沿って移動する際には、レールと摺動部との間でかすなどの異物が発生し、該異物がレンズに付着するおそれがある。この点、本実施形態では、射出部５９を鏡筒３４内で移動させても、該射出部５９の移動に伴い異物が鏡筒３４内で発生することはない。そのため、レンズ３５，３６などに異物が付着することに起因したウエハＷに形成される回路パターンの歪みの発生を抑制できる。
【００６３】
なお、上記実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・実施形態において、各射出機構５１から照射ビームＳＬが照射される光学部材は、ウエハＷの被照射面Ｗａと光学的にフーリエ変換の関係となる位置又は該位置近傍に配置されるレンズ（対象レンズ３５）以外の他のレンズ（例えばレンズ３６）であってもよい。
【００６４】
・実施形態において、投影光学系１５を構成するレンズのうち少なくとも２つのレンズに対して、ビーム射出装置３９を個別に設けてもよい。
・実施形態において、ロータリエンコーダ８１，８２を省略してもよい。この場合、射出部５９の位置を、作業者自身で調整してもよい。
【００６５】
・実施形態において、各射出部５９には、対象レンズ３５における照射ビームＳＬによる照射領域８６を撮像可能な撮像部（例えばＣＣＤ）を設けてもよい。この場合、撮像部による撮像結果に基づき、各射出部５９の位置制御や焦点調整部６３による焦点位置の制御を行なってもよい。
【００６６】
・実施形態において、射出部５９から射出される照射ビームＳＬの焦点位置を変更するための焦点調整部６３を省略してもよい。この場合、第２駆動源９０及び第２伝達機構９１を省略してもよい。
【００６７】
・実施形態において、第１伝達機構７６は、４本以外の複数本の第１線材８３を備えた構成であってもよい。
・上記実施形態の第１駆動源７５は、複数（２つ）の第１駆動モータ７７，７８を備えているが、２つ以外の任意数の第１駆動モータを備える構成であってもよい。例えば、図９（ａ）（ｂ）に示すように、第１駆動源７５Ａは、一つの第１駆動モータを備えた構成でもよい。すなわち、第１駆動源７５Ａは、球面１００ａを有し、且つ４本の第１線材８３の他端８３ｂが固着される支持部材１００を備えている。この支持部材１００において、各第１線材８３の他端８３ｂの固着位置は、互いに異なる位置にそれぞれ形成されている。また、第１駆動源７５Ａは、支持部材１００の球面１００ａを、各第１線材８３の延びる方向側に押圧する押圧部材１０１と、該押圧部材１０１を周方向に沿って回転させる第１駆動モータとをさらに備えている。こうした構成の場合、押圧部材１０１を回転させることにより、各第１線材８３の他端８３ｂの位置が個別に変位し、鏡筒３４内において射出部５９が移動することになる。
【００６８】
・実施形態において、射出機構５１を、２つ以外の任意数、例えば４つ備えた構成でもよい。
・実施形態において、光源部５２は、対象レンズ３５によってほとんど吸収される波長のビームであれば任意の照射ビームＳＬを出力可能な光源でもよい。照射ビームＳＬとしては、対象レンズ３５に９０％以上が吸収されるビームであることが望ましい。例えば、光源部５２は、ＹＡＧレーザなどの固体レーザ光から射出される１μｍ程度の近赤外光、又は半導体レーザから射出される波長数μｍ程度の赤外光などを照射ビームＳＬとして出力可能な光源でもよい。
【００６９】
・実施形態において、鏡筒３４内で射出部５９が移動するのであれば、導光部材５３を、支持部５４を中心に回動させてもよい。
・実施形態において、対象レンズ３５に照射領域８６を形成することにより投影光学系１５の非点収差を小さくできるのであれば、対象レンズ３５における照射領域８６を、露光光ＥＬが入射する入射領域９６と必ずしも９０°回転した位置に形成しなくてもよい。
【００７０】
・実施形態において、照射ビームＳＬが照射されるレンズは、凸レンズではなく、凹レンズまたは平面部を有するレンズであってもよい。
・また、照射ビームＳＬが照射される光学部材は、透過型の光学部材ではなく、反射型の光学部材（例えば反射ミラー）、反射型のパターンが形成されたマスクであってもよい。
【００７１】
・実施形態において、露光装置１１は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置１１は、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。
【００７２】
・実施形態において、光源装置は、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１２６ｎｍ）等を供給可能な光源であってもよい。また、光源装置は、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を供給可能な光源であってもよい。
【００７３】
・実施形態において、露光装置１１を、終端光学素子３８とウエハＷとの間の所定空間に１．１よりも大きな屈折率を有する任意の液体（例えば純水）を供給した状態で露光を行なう所謂液浸型の露光装置であってもよい。所定空間内に供給される液体は、１．１よりも大きな屈折率を有する液体であれば純水以外の任意の他の液体であってもよい。所定空間内を液体で満たす手法としては、国際公開番号ＷＯ９９／４９５０４号公報に開示されているような局所的に液体を満たす手法や、特開平６−１２４８７３号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる手法や、特開平１０−３０３１１４号公報に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する手法などを採用することができる。
【００７４】
・実施形態において、米国特許公開第２００６／０２０３２１４号公報、米国特許公開第２００６／０１７０９０１号公報、及び米国特許公開第２００７／０１４６６７６号公報に開示される偏光照明方法を適用してもよい。
【００７５】
・実施形態において、露光装置１１を、ステップ・アンド・リピート方式の装置に具体化してもよい。
・実施形態において、可変パターン生成器（例えば、ＤＭＤ（Digital Mirror Device 又はDigital Micro-mirror Device ））を用いたマスクレス露光装置に具体化してもよい。このようなマスクレス露光装置は、例えば特開２００４−３０４１３５号公報、国際特許公開第２００６／０８０２８５号パンフレット及びこれに対応する米国特許公開第２００７／０２９６９３６号公報に開示されている。
【００７６】
次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図１０は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【００７７】
まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【００７８】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００７９】
図１１は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）においては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００８０】
基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。
【符号の説明】
【００８１】
１１…露光装置、１３…照明光学系、１５…投影光学系、３４…筐体としての鏡筒、３５，３６…光学部材としてのレンズ、５０…開口部、５１…射出機構、５３…導光部材、５３ａ…一端部、５３ｂ…他端部、５４…支持部、５６…導光路、５７…保護用カバー、５９…射出部、６２，６４，６５…レンズ、６３…焦点調整部、６６…距離変更部を構成する保持部材、６７…距離変更部を構成する案内部、６８…距離変更部を構成する付勢機構、７１，７２…照射量検出部を構成する温度センサ（温度検出部）、７５，７５Ａ…第１駆動源、７６…第１伝達機構、７９，８０…巻取り部、８１，８２…位置検出部としてのロータリエンコーダ、８３…第１線材、８３ａ…一端、８３ｂ…他端、９０…駆動機構としての第２駆動源、９１…駆動機構としての第２伝達機構、９６…入射領域、ＣＯＮＴ…照射量検出部を構成する制御装置（算出部、制御部）、ＥＬ…放射ビームとしての露光光、Ｒ…マスクとしてのレチクル、ＳＬ…照射ビーム、Ｗ…基板としてのウエハ、Ｗａ…被照射面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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