(57)【要約】【課題】マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成する。【解決手段】出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドから、記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記露光ヘッドと前記記録媒体とを主走査方向にＮ回走査させる工程と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出する工程とを含むマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。【選択図】  図９
2011215273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドから、記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、
前記露光ヘッドと前記記録媒体とを主走査方向にＮ回走査させる工程と、
前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出する工程と、
を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
【請求項２】
前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出する工程を備えたことを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム露光走査方法。
【請求項３】
前記第１の領域は、前記彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域の周囲領域であることを特徴とする請求項１又は２に記載のマルチビーム露光走査方法。
【請求項４】
前記第２の領域は、前記第１の領域の周囲領域であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマルチビーム露光走査方法。
【請求項５】
露光ヘッドから記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査装置において、
出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドと、
前記露光ヘッドを前記記録媒体に対して主走査方向に相対的に主走査させる主走査手段と、
前記露光ヘッドを前記記録媒体に対して副走査方向に相対的に副走査させる副走査手段と、
前記記録媒体を少なくともＮ回主走査させる毎に１回副走査させる走査制御手段と、
前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させる露光制御手段と、
を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
【請求項６】
前記走査制御手段は、前記記録媒体を（Ｎ＋１）回主走査させる毎に１回副走査させ、
前記露光制御手段は、１回目の主走査において、前記第１の領域に対してはビームの射出は行わず、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させることを特徴とする請求項５に記載のマルチビーム露光走査装置。
【請求項７】
露光ヘッドから記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査装置において、
前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）照射可能な露光ヘッドと結像レンズとからなる露光手段であって、各照射ビームの位置から主走査方向に伸延させた主走査ラインの間隔がＰ／Ｎとなるように照射可能な露光手段と、
前記露光手段を前記記録媒体に対して主走査方向に相対的に主走査させる主走査手段と、
前記露光手段を前記記録媒体に対して副走査方向に相対的に副走査させる副走査手段と、
前記記録媒体を１回主走査させる毎に１主走査ライン分だけ副走査させる走査制御手段と、
前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、あらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させる露光制御手段と、
を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
【請求項８】
前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの数をＴとすると、前記走査制御手段は、Ｎ回の主走査後に（Ｔ×Ｎ−Ｎ）主走査ライン分だけ副走査させることを特徴とする請求項７に記載のマルチビーム露光走査装置。
【請求項９】
露光ヘッドから記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査装置において、
前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）照射可能な露光ヘッドと結像レンズとからなる露光手段であって、各照射ビームの位置から主走査方向に伸延させた主走査ラインの間隔がＰ／Ｎとなるように照射可能な露光手段と、
前記記録媒体を外面又は内面に保持した円筒状のドラムと、
前記露光手段又は前記ドラムを回転させることで、前記露光手段を前記記録媒体に対して主走査方向に相対的に主走査させる主走査手段と、
前記露光手段を前記記録媒体に対して副走査方向に相対的に副走査させる副走査手段と、
前記露光手段又は前記ドラムをＮ回転させる間にＮ主走査ライン分だけ一定速度で副走査させる走査制御手段と、
前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、あらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させる露光制御手段と、
を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
【請求項１０】
前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの数をＴとすると、前記走査制御手段は、ドラムのＮ回転後に（Ｔ×Ｎ−Ｎ）主走査ライン分だけ副走査させることを特徴とする請求項９に記載のマルチビーム露光走査装置。
【請求項１１】
ビームの出力の大きさを制御する出力制御手段を備え、
前記出力制御手段は、１つの段の出射口列のみからビームを射出させるときの各ビームの出力の大きさを、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させるときの各ビームの出力の大きさよりも大きくすることを特徴とする請求項５から１０に記載のマルチビーム露光走査装置。
【請求項１２】
ビームの出力の大きさを制御する出力制御手段を備え、
前記露光制御手段は、前記第２の領域のうち前記第１の領域に近い領域ほど出射口から照射するビームの出力が小さくなるように制御することを特徴とする請求項５から１１に記載のマルチビーム露光走査装置。
【請求項１３】
請求項１から４のいずれかに記載のマルチビーム露光走査方法によって、前記記録媒体に相当する版材の表面を彫刻することによって印刷版を得ることを特徴とする印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマルチビーム露光走査方法及び装置並びに印刷版の製造方法に係り、特にフレキソ版などの印刷版の製造に好適なマルチビーム露光技術及びこれを適用した印刷版の製造技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数のレーザビームを同時に照射し得るマルチビームヘッドを用いて版材の表面に凹形状を彫刻する技術が開示されている（特許文献１）。このようなマルチビーム露光によって版を彫刻する場合、隣接ビームの熱の影響により、小点や細線などの微細形状を安定に形成することは大変困難である。
【０００３】
かかる課題に対して、特許文献１では、版材の表面に形成されるビームスポット列における隣接ビームスポット間での相互の熱的影響を軽減するために、いわゆるインターレース露光を行う構成を提案している。即ち、特許文献１では、彫刻密度に対応する彫刻ピッチの２倍以上の間隔で版材表面に複数のレーザスポットを形成し、１回の露光走査で形成する走査線の間隔をあけ、各走査線間の走査線を２回目以降の走査で露光する方法を採用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０９−８５９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、隣接ビームの影響を完全に低減するには、版材の面上でビーム位置の間隔をビーム径よりも十分に離す必要があり、実際には数画素（数ライン）分の走査線間隔をあける必要がある。そのため、結像光学系に用いるレンズの収差が問題となり、彫刻ピッチ間隔でヘッドを移動させて正確な走査線間隔のビーム列を形成するためには、光学系が複雑化するなど、実用上制限が多い。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成し得るマルチビーム露光走査方法及び装置並びにこれを適用した印刷版の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために請求項１に記載のマルチビーム露光走査方法は、出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドから、記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記露光ヘッドと前記記録媒体とを主走査方向にＮ回走査させる工程と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出する工程とを含むことを特徴とする。
【０００８】
請求項１に記載の発明によれば、精密に彫刻すべき第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出するようにしたので、熱の影響を低減して所望の形状を高精度に形成することができる。
【０００９】
請求項２に示すように請求項１に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出する工程を備えたことを特徴とする。
【００１０】
これにより、第２の領域については彫刻効率を向上させた粗彫刻を行うことができる。
【００１１】
請求項３に示すように請求項１又は２に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記第１の領域は、前記彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域の周囲領域であることを特徴とする。
【００１２】
これにより、目的の平面形状の周囲領域に対して熱の影響を低減した精密彫刻を行うことができる。
【００１３】
請求項４に示すように請求項１から３のいずれかに記載のマルチビーム露光走査方法において、前記第２の領域は、前記第１の領域の周囲領域であることを特徴とする。
【００１４】
これにより、精密に彫刻する必要の無い第２の領域に対して彫刻効率を向上させた粗彫刻を行うことができる。
【００１５】
前記目的を達成するために請求項５に記載のマルチビーム露光走査装置は、露光ヘッドから記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査装置において、出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドと、前記露光ヘッドを前記記録媒体に対して主走査方向に相対的に主走査させる主走査手段と、前記露光ヘッドを前記記録媒体に対して副走査方向に相対的に副走査させる副走査手段と、前記記録媒体を少なくともＮ回主走査させる毎に１回副走査させる走査制御手段と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させる露光制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項５に記載の発明によれば、精密に彫刻すべき第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、それ以外の第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させるようにしたので、第１の領域に対して熱の影響を低減した精密彫刻ができ、第２の領域に対して彫刻効率を向上させた粗彫刻を行うことができる。
【００１７】
請求項６に示すように請求項５に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記走査制御手段は、前記記録媒体を（Ｎ＋１）回主走査させる毎に１回副走査させ、前記露光制御手段は、１回目の主走査において、前記第１の領域に対してはビームの射出は行わず、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させることを特徴とする。
【００１８】
これにより、目的の平面形状の周囲領域への熱の影響を低減させることができる。
【００１９】
前記目的を達成するために請求項７に記載のマルチビーム露光走査装置は、露光ヘッドから記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）照射可能な露光ヘッドと結像レンズとからなる露光手段であって、各照射ビームの位置から主走査方向に伸延させた主走査ラインの間隔がＰ／Ｎとなるように照射可能な露光手段と、前記露光手段を前記記録媒体に対して主走査方向に相対的に主走査させる主走査手段と、前記露光手段を前記記録媒体に対して副走査方向に相対的に副走査させる副走査手段と、前記記録媒体を１回主走査させる毎に１主走査ライン分だけ副走査させる走査制御手段と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、あらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させる露光制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
請求項７に記載の発明によれば、精密に彫刻すべき第１の領域に対して、あらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、それ以外の第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させるようにしたので、第１の領域に対して熱の影響を低減した精密彫刻ができ、第２の領域に対して彫刻効率を向上させた粗彫刻を行うことができる。
【００２１】
請求項８に示すように請求項７に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの数をＴとすると、前記走査制御手段は、Ｎ回の主走査後に（Ｔ×Ｎ−Ｎ）主走査ライン分だけ副走査させることを特徴とする。
【００２２】
これにより、版材の全面を効率よく彫刻することができる。
【００２３】
前記目的を達成するために請求項９に記載のマルチビーム露光走査装置は、露光ヘッドから記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）照射可能な露光ヘッドと結像レンズとからなる露光手段であって、各照射ビームの位置から主走査方向に伸延させた主走査ラインの間隔がＰ／Ｎとなるように照射可能な露光手段と、前記記録媒体を外面又は内面に保持した円筒状のドラムと、前記露光手段又は前記ドラムを回転させることで、前記露光手段を前記記録媒体に対して主走査方向に相対的に主走査させる主走査手段と、前記露光手段を前記記録媒体に対して副走査方向に相対的に副走査させる副走査手段と、前記露光手段又は前記ドラムをＮ回転させる間にＮ主走査ライン分だけ一定速度で副走査させる走査制御手段と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、あらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、前記第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させる露光制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００２４】
請求項９に記載の発明によれば、精密に彫刻すべき第１の領域に対して、あらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出させ、それ以外の第２の領域に対して、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させるようにしたので、第１の領域に対して熱の影響を低減した精密彫刻ができ、第２の領域に対して彫刻効率を向上させた粗彫刻を行うことができる。
【００２５】
また、第１の領域に対しては使用しない出射口列があるため、ビームの射出に不具合がある出射口が存在する場合であっても、その出射口の存在しない出射口列を用いて第１の領域に対してビームを射出すればよく、生産性を落とさずに彫刻を行うことができる。
【００２６】
請求項１０に示すように請求項９に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体上の副走査方向に間隔Ｐで照射されるビームの数をＴとすると、前記走査制御手段は、ドラムのＮ回転後に（Ｔ×Ｎ−Ｎ）主走査ライン分だけ副走査させることを特徴とする。
【００２７】
これにより、スパイラル露光と間欠送りを組み合わせて版材の全面を効率よく彫刻することができる。
【００２８】
請求項１１に示すように請求項５から１０に記載のマルチビーム露光走査装置において、ビームの出力の大きさを制御する出力制御手段を備え、前記出力制御手段は、１つの段の出射口列のみからビームを射出させるときの各ビームの出力の大きさを、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させるときの各ビームの出力の大きさよりも大きくすることを特徴とする。
【００２９】
これにより、１つの段の出射口列のみからビームを射出させるときの彫刻深さ、幅と、全ての段の出射口列から同時にビームを射出させるときの彫刻深さ、幅とを、均一にすることができ、それぞれの領域の連続性を保つことができる。
【００３０】
請求項１２に示すように請求項５から１１に記載のマルチビーム露光走査装置において、第２露光走査制御手段は、前記第２の領域のうち前記第１の領域に近い領域ほど出射口から照射するビームの出力が小さくなるように制御することを特徴とする。
【００３１】
これにより、第２の領域を適切に彫刻することができる。
【００３２】
前記目的を達成するために請求項１３に記載の印刷版の製造方法において、請求項１から４のいずれかに記載のマルチビーム露光走査方法によって、前記記録媒体に相当する版材の表面を彫刻することによって印刷版を得ることを特徴とする。
【００３３】
請求項１３に記載の発明によれば、熱の影響を低減した精密彫刻と彫刻効率を向上させた粗彫刻とを行った印刷版を得ることができる。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の実施形態に係るマルチビーム露光走査装置を適用した製版装置の構成図
【図２】露光ヘッド内に配置される光ファイバーアレイ部の構成図
【図３】光ファイバーアレイ部の光出射部の拡大図
【図４】光ファイバーアレイ部の結像光学系の概要図
【図５】光ファイバーアレイ部における光ファイバーの配置例と走査線の関係を示す説明図
【図６】本例の製版装置における走査露光系の概要を示す平面図
【図７】本例の製版装置における制御系の構成を示すブロック図
【図８】同一副走査位置における１回目の露光走査について示した図
【図９】同一副走査位置における２回目の露光走査について示した図
【図１０】同一副走査位置における３回目の露光走査について示した図
【図１１】同一副走査位置における４回目の露光走査について示した図
【図１２】同一副走査位置における５回目の露光走査について示した図
【図１３】スパイラル露光における露光制御について示した図
【図１４】ビームの熱による彫刻の深さ方向の影響を説明するための図
【図１５】ビームの熱による彫刻の平面方向の影響を説明するための図
【図１６】フレキソ版の製版工程の概要を示す説明図
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、添付図面に従って本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００３７】
＜隣接ビームの熱の影響＞
まず、マルチビーム露光で版を彫刻する際の、隣接ビームの熱の影響について説明する。
【００３８】
図１４（ａ）は、等光量の複数のビーム５００Ａ〜５００Ｇを版材の走査方向に対して２０度だけ傾斜させて配置した例を示す図である。この例では、各ビーム径はφ３５μｍであり、各ビームで露光するラインの間隔は１０．５８μｍとなっている。本願出願人は、このように配置したビーム群を用いて版材を彫刻する実験を行い、ビームの熱による彫刻の深さ方向の影響を調査した。
【００３９】
まず、ビーム５００Ａとビーム５００Ｃの２つのビームを用いて２ライン間隔で露光し、ビーム５００Ｃの彫刻の深さを確認したところ、ビーム５００Ｃにより彫られる深さは、１つのビーム単独で（ビーム５００Ｃのみで）彫った場合の深さよりも約１．５倍の比率となることが確認できた。
【００４０】
同様に、ビーム５００Ａとビーム５００Ｅの２つのビームを用いて２ライン間隔で露光し、ビーム５００Ｅの彫刻の深さを確認したところ、ビーム５００Ｅにより彫られる深さは、１つのビーム単独で彫った場合の深さよりも約１．２倍の比率となることが確認できた。
【００４１】
さらに、ビーム５００Ａとビーム５００Ｇの２つのビームを用いて２ライン間隔で露光し、ビーム５００Ｇの彫刻の深さを確認したところ、ビーム５００Ｇにより彫られる深さは、１つのビーム単独で彫った場合の深さよりも約１．１倍の比率となることが確認できた。
【００４２】
このように、ビーム群を斜め方向に配列して複数のビームにより露光すると、先に走査したビームの熱が、次に走査されるビームによる彫刻の深さに影響を及ぼすことを確認した。
【００４３】
また、図１４（ｂ）は、ビーム５００Ａ〜５００Ｇと同様の２つのビーム５００Ｍ、５００Ｎを、版材の走査方向に対して直交するように４ライン分の間隔（４２μｍ間隔）で配置した例を示す図である。上記と同様に、本願出願人はこのように配置したビームの熱による彫刻の深さ方向の影響を調査した。
【００４４】
その結果、ビーム５００Ｍとビーム５００Ｎの２つのビームを用いて同時に露光すると、各ビームによる彫刻の深さは、表面から５０μｍの深さまでは（表面から５０μｍの深さまで彫刻可能なビーム出力値では）、１つのビーム単独で露光して彫った場合と同じ深さとなることが確認できた。
【００４５】
また、本願出願人は、ビームの熱による彫刻の版材の表面方向の影響についても調査した。図１５（ａ）は、ビーム５００Ｊの露光による版材の彫刻を示す図であり、版材の主走査とともにビーム５００Ｊにより露光を行い、所定時間だけ露光を停止後、露光を再開した場合の露光停止前後の彫刻領域５０１Ｊ、５０２Ｊを示している。また、図１５（ｂ）は、主走査方向に対して直交する方向に配置された等光量の複数のビーム５００Ｈ〜５００Ｌの露光による版材の彫刻を示す図であり、版材の主走査とともにこれら複数のビームによって露光を行い、図１５（ａ）の場合と同様の時間だけ露光を停止後、露光を再開した場合の露光停止前後の彫刻領域５１１Ｈ〜５１１Ｌ、５１２Ｈ〜５１２Ｌを示している。
【００４６】
上記のように露光して得られた版材から、露光を停止した期間の領域（彫刻されていない領域）のそれぞれの幅Ｗ０（領域５０１Ｊと５０２Ｊとの距離）、Ｗ１（領域５１１Ｊと５１２Ｊとの距離）と、彫刻領域５０１Ｊ、５０２Ｊ、５１１Ｊ及び５１２Ｊの彫り込んだ深さ（５０μｍまで評価）を評価したところ、幅も深さも両者には差が無いという結果を得た。
【００４７】
以上のように、本願出願人は、版材の走査方向に直交する方向に同時に射出されたビーム同士は、露光により発生した熱が隣接ビーム方向に伝わる前に隣接ビームの露光も終了しているため、版材の深さ方向、表面方向において相互の熱の干渉を全く受けないことを確認し、このことから、版材の走査方向に直交する方向に配置されたビーム群を用いることにより、１つのビーム単独で露光した場合と同じ彫刻性能が得られることを見出した。
【００４８】
＜マルチビーム露光走査装置の構成例＞
図１は、本発明の実施形態に係るマルチビーム露光走査装置を適用した製版装置の構成図である。図示の製版装置１１は、円筒形を有するドラム５０の外周面にシート状の版材（「記録媒体」に相当）を固定し、該ドラム５０を図１中の矢印Ｒ方向（主走査方向）に回転させると共に、版材Ｆに向けてレーザ記録装置１０の露光ヘッド３０から、該版材Ｆに彫刻（記録）すべき画像の画像データに応じた複数のレーザビームを射出し、露光ヘッド３０を主走査方向と直交する副走査方向（図１矢印Ｓ方向）に所定ピッチで走査させることで、版材Ｆの表面に２次元画像を高速で彫刻（記録）するものである。ここでは、フレキソ印刷用のゴム版又は樹脂版を彫刻する場合を例に説明する。
【００４９】
本例の製版装置１１に用いられるレーザ記録装置１０は、複数のレーザビームを生成する光源ユニット２０と、光源ユニット２０で生成された複数のレーザビームを版材Ｆに照射する露光ヘッド３０と、露光ヘッド３０を副走査方向に沿って移動させる露光ヘッド移動部４０と、を含んで構成されている。
【００５０】
光源ユニット２０は、１６個の半導体レーザ群２１Ａ、１６個の半導体レーザ群２１Ｂ、１６個の半導体レーザ群２１Ｃ、及び１６個の半導体レーザ群２１Ｄを備えており、各半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄの光は、それぞれ個別に１６本の光ファイバー群２２Ａ、１６本の光ファイバー群２２Ｂ、１６本の光ファイバー群２２Ｃ、１６本の光ファイバー群２２Ｄを介し、さらに１６本の光ファイバー群７０Ａ、１６本の光ファイバー群７０Ｂ、１６本の光ファイバー群７０Ｃ、１６本の光ファイバー群７０Ｄを介して露光ヘッド３０の光ファイバーアレイ部３００へと伝送される。
【００５１】
本例では、半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄとしてブロードエリア半導体レーザ（波長：９１５ｎｍ）が用いられ、これら半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄは光源基板２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、２４Ｄ上に並んで配置されている。
【００５２】
各半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄは、それぞれ個別に光ファイバー群２２Ａ〜２２Ｄの一端部にカップリングされ、その他端はそれぞれ１６個ずつ備えられたＦＣ型光コネクタ群２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃ、２５Ｄのアダプタに接続されている。
【００５３】
ＦＣ型光コネクタ群２５Ａ〜２５Ｄを支持するアダプタ基板２３Ａ、２３Ｂ、２３Ｃ、及び２３Ｄは、光源基板２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、及び２４Ｄの一方の端部に垂直に取り付けられている。また、光源基板２４Ａ〜２４Ｄの他方の端部には、半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄを駆動するＬＤドライバー回路（図１中不図示、図７の符号２６）を搭載したＬＤドライバー基板２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ、及び２７Ｄが取り付けられている。各半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄは、それぞれ個別の配線部材群２９Ａ、２９Ｂ、２９Ｃ、２９Ｄを介して、対応するＬＤドライバー回路に接続されており、各々の半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄは個別に駆動制御される。
【００５４】
なお、本実施の形態では、レーザビームを高出力とするために、コア径の比較的大きな、多モード光ファイバーを光ファイバー群７０Ａ〜７０Ｄに適用している。具体的には、本実施形態においては、コア径が１０５μｍの光ファイバーが用いられている。また、半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄには、最大出力が１０Ｗ程度のものを使用している。具体的には、例えば、ＪＤＳユニフェーズ社から販売されているコア径１０５μｍで出力10Ｗ(6398-L4)のものなどを採用することができる。
【００５５】
一方、露光ヘッド３０には、複数の半導体レーザ群２１Ａ〜２１Ｄから射出された各レーザビームを取り纏めて射出する光ファイバーアレイ部３００が備えられている。光ファイバーアレイ部３００の光出射部（図１中不図示、図２の符号２８０）は、半導体レーザ群２１Ａから導かれた１６本の光ファイバー群７０Ａの出射端からなる列と、半導体レーザ群２１Ｂから導かれた１６本の光ファイバー群７０Ｂの出射端からなる列と、半導体レーザ群２１Ｃから導かれた１６本の光ファイバー群７０Ｃの出射端からなる列と、半導体レーザ群２１Ｄから導かれた１６本の光ファイバー群７０Ｄの出射端からなる列とが、縦４段に並んで配置された構造となっている（図３参照）。
【００５６】
また、露光ヘッド３０内には、光ファイバーアレイ部３００の光出射部側より、コリメータレンズ３２、開口部材３３、及び結像レンズ３４が、順番に並んで配設されている。コリメータレンズ３２と結像レンズ３４の組合せによって結像光学系が構成されている。開口部材３３は、光ファイバーアレイ部３００側から見て、その開口がファーフィールド（Far Field）の位置となるように配置されている。これによって、光ファイバーアレイ部３００から射出された全てのレーザビームに対して同等の光量制限効果を与えることができる。
【００５７】
露光ヘッド移動部４０には、長手方向が副走査方向に沿うように配置されたボールネジ４１及び２本のレール４２が備えられており、ボールネジ４１を回転駆動する副走査モータ（図１中不図示、図７の符号４３）を作動させることによってボールネジ４１上に配置された露光ヘッド３０をレール４２に案内された状態で副走査方向に移動させることができる。また、ドラム５０は主走査モータ（図１中不図示、図７の符号５１）を作動させることによって、図１の矢印Ｒ方向に回転駆動させることができ、これによって主走査がなされる。
【００５８】
図２は光ファイバーアレイ部３００の構成図であり、図３はその光出射部２８０の拡大図（図２のＡ矢視図）である。図３に示すように、光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０は、縦４段に組み合わされた光ファイバーアレイユニット３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、及び３００Ｄで構成され、各段にそれぞれ同じコア径１０５μｍの光ファイバー７０Ａ〜７０Ｄが１６本ずつ並んで配置されている。
【００５９】
光ファイバーアレイユニット３００Ａは、光ファイバー端部７１ＡがＬ１＝１２７μｍ間隔で所定方向に沿った直線状に配置されて構成された光ファイバー端部群３０１Ａを有している。同様に、光ファイバーアレイユニット３００Ｂ〜３００Ｄは、光ファイバー端部７１Ｂ、７１Ｃ、７１ＤがそれぞれＬ１＝１２７μｍ間隔で所定方向に沿った直線状に配置されて構成された光ファイバー端部群３０１Ｂ〜３０１Ｄを有している。また、各光ファイバーアレイユニット３００Ａ〜３００Ｄは、上記所定方向に平行になるように並列に配置されている。
【００６０】
ここで、光ファイバーアレイ部３００は、上記所定方向と直交する方向にＬ２＝３１．７５μｍだけ各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄがそれぞれずらされて配置されるように光ファイバーアレイユニット３００Ａ〜３００Ｄが配置されている。すなわち、光ファイバー端部７１Ａと７１Ｂとは、それぞれＬ１間隔で配置されるとともに、光ファイバー端部７１Ｂの中心は光ファイバー端部７１Ａの中心より上記所定方向と直交する方向（図３左方向）にＬ２だけずらされて配置される。同様に、光ファイバー端部７１Ｃの中心は光ファイバー端部７１Ｂの中心よりＬ２だけずらされ、光ファイバー端部７１Ｄの中心は光ファイバー端部７１Ｃの中心よりＬ２だけずらされて配置される。
【００６１】
したがって、上記所定方向に直交する方向に各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄを投影すると、全ての光ファイバー端部がＬ２間隔で配置されることになる。光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０からは、これら複数本（１６本×４）のレーザビームが射出される。
【００６２】
図４は、光ファイバーアレイ部３００の結像系の概要図である。図４に示すように、コリメータレンズ３２及び結像レンズ３４で構成される結像手段によって、光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０を所定の結像倍率で版材Ｆの露光面（表面）ＦＡの近傍に結像させる。本実施形態では、結像倍率は１／３倍とされており、これにより、コア径１０５μｍの光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから出射されたレーザビームＬＡのスポット
径は、φ３５μｍとなる。なお、ここでは結像倍率を固定としているが、結像倍率可変の露光レンズを使用してもよい。
【００６３】
このような結像系を有する露光ヘッド３０において、直線状に配置された光ファイバー端部７１Ａ（７１Ｂ、７１Ｃ、７１Ｄ）の配置方向と副走査方向とを一致させることにより、図５に示すように、各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから射出されるレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄで露光する走査線（主走査ライン）Ｋの間隔Ｐ２を１０．５８μｍ（副走査方向の解像度２４００ｄｐｉ相当）に設定することができる。
【００６４】
上記構成の露光ヘッド３０を用いることにより、光ファイバーアレイ部３００の光ファイバー端部群３０１Ａ〜３０１Ｄの４段で６４ラインの範囲（１スワス分）を同時に走査して露光することができる。
【００６５】
なお、本実施の形態の光ファイバーアレイ部３００は、副走査方向に１６個、主走査方向に４段の合計６４個の光ファイバー端部を有しているが、これらの個数や段数については、露光ヘッドの大きさや光ファイバーのコア径等に応じて適宜決めればよい。
【００６６】
図６は、図１に示した製版装置１１における走査露光系の概要を示す平面図である。露光ヘッド３０は、ピント位置変更機構６０と、副走査方向への間欠送り機構９０を備えている。
【００６７】
ピント位置変更機構６０は、露光ヘッド３０をドラム５０面に対して前後移動させるモータ６１とボールネジ６２を有し、モータ６１の制御により、ピント位置を約０．１秒で約３３９μｍ移動させることができる。間欠送り機構９０は、図１で説明した露光ヘッド移動部４０を構成するものであり、図６に示すように、ボールネジ４１とこれを回転させる副走査モータ４３を有する。露光ヘッド３０は、ボールネジ４１上のステージ４４に固定されており、副走査モータ４３の制御により、露光ヘッド３０をドラム５０の軸線５２方向に、約０．１秒で１スワス分（２４００ｄｐｉの場合、１０．５８μｍ×６４ｃｈ＝６７７．３μｍ）の間欠送りができる。
【００６８】
なお、図６において、符号４６、４７は、ボールネジ４１を回動自在に支持するベアリングである。符号５５はドラム５０上で版材Ｆをチャックするチャック部材である。このチャック部材５５の位置は、露光ヘッド３０による露光（記録）を行わない非記録領域である。ドラム５０を回転させながら、この回転するドラム５０上の版材Ｆに対し、露光ヘッド３０から６４チャンネルのレーザビームを照射することで、６４チャンネル分（１スワス分）の露光範囲９２を隙間なく露光し、版材Ｆの表面に１スワス幅の彫刻（画像記録）を行う。そして、ドラム５０の回転により、露光ヘッド３０の前をチャック部材５５が通過するときに（版材Ｆの非記録領域のところで）、副走査方向に間欠送りを行い、次の１スワス分を露光する。このような副走査方向の間欠送りによる露光走査を繰り返すことにより、版材Ｆの全面に所望の画像を形成する。
【００６９】
本例では、シート状の版材Ｆ（記録媒体）を用いているが、円筒状記録媒体（スリーブタイプ）を用いることも可能である。
【００７０】
＜制御系の構成＞
図７は、製版装置１１の制御系の構成を示すブロック図である。図７に示すように、製版装置１１は、彫刻すべき２次元の画像データに応じて各半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄを駆動するＬＤドライバー回路２６と、ドラム５０を回転させる主走査モータ５１と、主走査モータ５１を駆動する主走査モータ駆動回路８１と、副走査モータ４３を駆動する副走査モータ駆動回路８２と、制御回路８０と、を備えている。制御回路８０は、ＬＤドライバー回路２６、及び各モータ駆動回路（８１、８２）を制御する。
【００７１】
制御回路８０には、版材Ｆに彫刻（記録）する画像を示す画像データが供給される。制御回路８０は、この画像データに基づき、主走査モータ５１及び副走査モータ４３の駆動を制御するとともに、各半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄについて個別にその出力（レーザビームのパワー制御）を制御する。
【００７２】
＜第１の実施形態＞
次に、マルチビーム露光系によって印刷版を製造する際の露光走査工程について説明する。本実施形態においては、図３に示す光ファイバーアレイ部３００を有する露光ヘッド３０を用いて、各副走査位置で（露光ヘッド３０を移動させずに）５回ずつ露光走査する。ここでは、版材Ｆの表面に残すべき平面形状（印刷面）に対し、その周辺部を精密彫刻領域、さらにその周辺部を粗彫刻領域とし、粗彫刻領域は全ビームを用いて同時に露光走査し、精密彫刻領域は走査方向に対して直交する方向に配列されたビーム列毎に露光走査する。
【００７３】
図８〜図１２は、それぞれ同一副走査位置における１〜５回目の露光走査について示した図であり、各図（ｂ）が各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから射出されるレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの露光制御を示しており、各図（ａ）は（ｂ）に示す露光制御により彫刻された版材Ｆの断面を示している。ここでは、説明のためレーザビームの数を減じて示しており、また、版材Ｆに対して各レーザビーム１００Ａ〜１００Ｄが相対的に図の上方向に主走査される形態で例示している。
【００７４】
図９〜図１１においては、各図（ａ）に示す版材Ｆの断面は、厳密にはレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄのどの走査線の断面かによって彫刻深さの程度が異なってくるが、ここでは各走査線における断面の平均的な彫刻深さを示すものとする。
【００７５】
まず、当該副走査位置における１回目の露光走査は、図８（ｂ）に示すように、粗彫刻領域に対してレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光走査を行う。図１４で説明したように、斜め方向に配列された複数のビームにより露光すると、先に走査したビームの熱により、次に走査されるビームによる彫刻の深さの比率が大きくなる。したがって、このように彫刻することで、近接ビームの熱の流入を促進し、彫刻効率の向上を図ることができる。ここでは、１つのビームで彫刻する場合よりも、Ｍ倍だけ彫刻効率が向上するものとする。
【００７６】
また、粗彫刻領域において、精密彫刻領域に近づくほどレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの出力を線形に下げるように制御することにより、精密彫刻領域への熱の流入による不必要な彫刻を防止している。
【００７７】
なお、１回目の露光走査は粗彫り工程として粗彫刻領域に対してのみ露光を行い、精密彫刻領域については露光を行わない。
【００７８】
その結果、図８（ａ）に示すように版材Ｆの表面が彫刻される。すなわち、粗彫刻領域のみが彫刻され、さらに、粗彫刻領域は精密彫刻領域に近づくにつれて彫刻深さが浅くなっている。粗彫刻領域をこのような断面形状にしておくことで、粗彫刻領域の表面積を増加させることができるので、その後の露光走査による精密彫刻領域への熱の流入を低減させることができる。
【００７９】
２回目の露光走査は、図９（ｂ）に示すように、粗彫刻領域においてはレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光走査を行い、近接ビームの熱の流入を促進して彫刻効率の向上を図る。また、１回目の露光走査と同様に、精密彫刻領域に近づくほどレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの出力を線形に下げるように制御する。
【００８０】
さらに、精密彫刻領域においては、副走査方向に４段に配列された各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから射出されるレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄのうち、最下段に配列された光ファイバー端部７１Ｄから射出されるレーザビーム１０１Ｄだけを用いて露光走査する。図１４で説明したように、主走査方向に直交する方向（副走査方向）に同時に射出されるレーザビームは相互の熱の干渉を受けないため、このように制御することで、精密彫刻領域においてレーザビーム１０１Ｄで露光した走査線だけを精密に彫刻することができる。
【００８１】
なお、このように彫刻した精密彫刻領域は、隣り合うレーザビームの熱の干渉を受けないことから、斜め方向に配列された複数のビームで同時に露光を行った粗彫刻領域に対して１／Ｍ倍の彫刻効率で彫刻されていることになる。したがって、精密彫刻領域に対して射出するレーザビーム１００Ｄの出力は、粗彫刻領域に対して射出した際の出力のＭ倍とすることが望ましい。すなわち、副走査方向に配列された複数のビームだけで同時に露光する際には、斜め方向に配列された複数のビームで同時に露光することにより向上する彫刻効率の分だけレーザビームのパワーを上げることにより、一度の主走査において彫刻される彫刻深さと彫刻幅をどちらの場合も同様にすることができ、精密彫刻領域と粗彫刻領域の連続性を保つことができる。
【００８２】
また、精密彫刻領域においても、印刷面に近づくほどレーザビーム１００Ｄの出力を線形に下げるように制御する。このように制御することにより、印刷面への熱の流入による不必要な彫刻を防止する。
【００８３】
その結果、図９（ａ）に示すように版材Ｆの表面が彫刻される。すなわち、粗彫刻領域は１回目の断面よりも深く彫刻され、精密彫刻領域はレーザビーム１０１Ｄで走査した領域だけが彫刻されている。また、精密彫刻領域は、印刷面に近づくにつれて彫刻深さが浅くなっている。
【００８４】
３回目の露光走査は、図１０（ｂ）に示すように、粗彫刻領域においては２回目と同様にレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄにより露光走査を行う。また、精密彫刻領域においては、副走査方向に４段に配列された各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから射出されるレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄのうち、上から３段目に配列された光ファイバー端部７１Ｃから射出されるレーザビーム１０１Ｃだけを用いて露光走査する。２回目の露光走査と同様に、精密彫刻領域に対して射出するレーザビーム１００Ｃの出力は、粗彫刻領域に対して射出した際の出力のＭ倍とすることが望ましい。また、印刷面に近づくほどレーザビーム１００Ｃの出力を線形に下げるように制御する。したがって、３回目の露光走査では、粗彫刻領域においては効率よく彫刻するとともに、精密彫刻領域においてはレーザビーム１０１Ｃで露光した走査線だけを精密に彫刻することができる。
【００８５】
その結果、図１０（ａ）に示すように版材Ｆの表面が彫刻される。すなわち、粗彫刻領域は２回目の断面よりもさらに深く彫刻され、精密彫刻領域はレーザビーム１０１Ｃで走査した領域だけが彫刻される。精密彫刻領域は、各走査線位置の断面を平均した結果、２回目の断面よりもさらに深く彫刻されていることになる。
【００８６】
同様に、４回目の露光走査は、図１１（ｂ）に示すように、粗彫刻領域においてはレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄにより露光走査を行い、精密彫刻領域においては上から２段目に配列されたレーザビーム１０１Ｂだけを用いて露光走査する。また、５回目の露光走査は、図１２（ｂ）に示すように、粗彫刻領域においてはレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄにより露光走査を行い、精密彫刻領域においては最上段に配列されたレーザビーム１０１Ａだけを用いて露光走査する。
【００８７】
したがって、４回目、５回目の露光走査では、粗彫刻領域を効率よく彫刻するとともに、精密彫刻領域においてはそれぞれ露光した走査線だけを精密に彫刻することができる。
【００８８】
その結果、４回目では図１１（ａ）、５回目では図１２（ａ）に示すように版材Ｆの表面が彫刻される。図１２（ａ）に示すように、精密彫刻領域は、最終的には印刷面に対して急峻なエッジ部分が形成されるように彫刻を行う。
【００８９】
このようにドラム５０の５回転で１スワス分の彫刻を完成させた後、非記録領域たるチャック部材５５が露光ヘッド３０の前を横切るときに、露光ヘッド３０を副走査方向（図６において左方向）に間欠送りし、隣接する次の１スワス分の彫刻を行う位置に移動させる。そして、当該位置において、図８〜図１２で示した露光走査を同様に行う。以後、上記の工程を繰り返し、版材Ｆ上の全面を露光する。
【００９０】
以上のように、最終的に凸平面部として残す表面形状に対し、その周辺部においては１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出することで近接ビームの熱の流入を抑制して精密彫刻を可能とし、傾斜部の形状を適切に彫刻するとともに、さらにその周辺部においては全ての段の出射口列から同時にビームを射出することで近接ビームの熱の流入を促進させることにより彫刻効率を向上させることができる。
【００９１】
なお、ビーム列毎に露光走査する際の列の順序は、上記の順に限定されるものではない。例えば、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄの順に露光走査してもよいし、その他の順序でもよい。
【００９２】
また、１回目の粗彫り工程を省略することで、ドラム５０の４回転で１スワス分の彫刻を完成させてもよい。
【００９３】
＜第２の実施形態＞
第１の実施形態では、精密彫刻領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出させたが、第２の実施形態では、精密彫刻領域に対して、予め定められた１つの段のレーザビームのみで露光するように制御する。
【００９４】
このように露光するためには、ビーム列の段数だけ１ラインずつ露光走査する副走査送りと、第１の実施形態のような間欠送りとを組み合わせて副走査送りを行えばよい。
【００９５】
本実施形態では、ドラム５０の回転中に副走査方向に一定速度で露光ヘッド３０を移動させて版材Ｆの表面をスパイラル（らせん）状に走査するスパイラル露光と、間欠送りとを組み合わせた露光方式を例に説明する。
【００９６】
図１３は、図３に示す光ファイバーアレイ部３００を有する露光ヘッド３０を用いてスパイラル露光と、間欠送りとを組み合わせた露光方式を採用した場合の、各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから射出されるレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの露光制御を示している。なお、図１３は説明のためレーザビームの数を減じて示している。
【００９７】
まず、１回目の露光走査は、図１３（ａ）に示すように、粗彫刻領域に対してレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光走査を行い、近接ビームの熱の流入を促進し、彫刻効率の向上を図る。なお、第１の実施形態と同様に、粗彫刻領域においては精密彫刻領域に近づくほどレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの出力を線形に下げるように制御することが好ましい。
【００９８】
また、精密彫刻領域においては、主走査方向に直交する方向に４段に配列された各光ファイバー端部７１Ａ〜７１Ｄから射出されるレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄのうち、予め定められた光ファイバー端部から射出されるレーザビームだけを用いて露光走査する。図１３の例では、最下段に配列された光ファイバー端部７１Ｄから射出されるレーザビーム１０１Ｄを用いている。このように制御することで、精密彫刻領域においてレーザビーム１０１Ｄで露光した走査線だけを精密に彫刻することができる。
【００９９】
その後、露光ヘッド３０が副走査方向に所定の速度で移動していることにより各ビームはスパイラル状に走査され、主走査位置が図１３（ａ）で彫刻を行った位置に来たときに、露光ヘッド３０は副走査方向（図１３右方向）に１ライン分だけ移動している。すなわち、露光ヘッド３０は、ドラム５０が１回転する間に１主走査ライン分（図５のＰ２＝１０．５８μｍ）だけ副走査方向に一定速度で移動するように制御されている。
【０１００】
したがって、２回目の露光においては、図１３（ｂ）に示すように、粗彫刻領域においてはレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光走査を行う。また、精密彫刻領域においては、前回と同様に、予め定められた光ファイバー端部７１Ｄから射出されるレーザビーム１０１Ｄだけを用いて露光走査する。したがって、粗彫刻領域においては効率よく彫刻するとともに、精密彫刻領域においてはレーザビーム１０１Ｄで露光した走査線だけを精密に彫刻することができる。
【０１０１】
３回目、４回目の露光についても、同様にスパイラル状に走査を行うとともに、粗彫刻領域においてはレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光走査を行い、精密彫刻領域においては予め定められた光ファイバー端部７１Ｄから射出されるレーザビーム１０１Ｄだけを用いて露光走査する（図１３（ｃ）、図１３（ｄ）参照）。
【０１０２】
その後、６０ライン分（全チャンネル数６４−スパイラル送り数４）だけ副走査方向に間欠送りを行い、再び４ライン送り分だけスパイラル露光を行う。上記の動作を繰り返して行うことにより、版材Ｆの全面を露光走査する。
【０１０３】
以上のように、最終的に凸平面部として残す表面形状に対し、その周辺部においてはあらかじめ定められた１つの段の出射口列のみからビームを射出することで近接ビームの熱の流入を抑制して精密彫刻を可能とし、傾斜部の形状を適切に彫刻するとともに、さらにその周辺部においては全ての段の出射口列から同時にビームを射出することで近接ビームの熱の流入を促進させることにより彫刻効率を向上させることができる。
【０１０４】
さらに、このスパイラル露光と間欠送りとを組み合わせた露光方式によれば、副走査方向に複数段配置されたレーザビームのうち、精密彫刻領域に使用している段のレーザビームの光源やファイバーの動作に支障が生じた場合であっても、それとは異なる段のレーザビームを精密彫刻領域用に設定することにより、精密彫刻領域への露光を同様に行うことができる。したがって、粗彫刻領域における彫刻効率は多少小さくなるが、生産性を落とさずに彫刻を行うことができるというメリットがある。
【０１０５】
また、各段を構成する光ファイバー端は精度良く等間隔に製造可能であるが、各段の横ずれ（図３の例では、光ファイバーアレイユニット３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄのそれぞれの図面左右方向の位置ずれ）が製造等において生じる可能性があり、このような場合には、彫刻後の版材Ｆにスジムラが発生してしまう。しかし、本実施形態のスパイラル露光と間欠送りとを組み合わせた露光方式によれば、精密彫刻領域の各ラインの間隔はスパイラル露光の副走査精度で決まるため、各段の多少の横ずれは許容することができ、露光ヘッド３０のコストアップを抑えることができるというメリットがある。
【０１０６】
なお、ビーム列の段数だけ１ラインずつ露光走査する副走査送りは、上記のスパイラル露光に限定されるものではなく、１回の主走査に対して１ライン分の副走査を行ってもよい。
【０１０７】
すなわち、図１３（ａ）に示すように、１回目の露光を、粗彫刻領域に対してレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光走査を行い、精密彫刻領域に対してレーザビーム１０１Ｄだけを用いて露光走査する。
【０１０８】
図１３（ａ）の位置での１度の主走査が終了後、図１３（ｂ）の位置へ１ライン分だけ副走査送りを行い、２回目の露光を行う。２回目の露光についても、粗彫刻領域に対してレーザビーム１００Ａ〜１００Ｄの全てを用いて露光し、精密彫刻領域に対してレーザビーム１０１Ｄだけを用いて露光する。
【０１０９】
同様に、図１３（ｂ）の位置での主走査が終了後、１ライン分だけ副走査送りを行い、図１３（ｃ）に示すように３回目の露光を行う。さらに主走査が終了後、１ライン分だけ副走査送りを行い、図１３（ｄ）に示すように４回目の露光を行う。
【０１１０】
その後、６０ライン分（全チャンネル数６４−１ラインずつ送り数４）だけ副走査方向に間欠送りを行い、再び４ライン分を１ラインずつ副走査しながら露光する。上記の動作を繰り返して行うことにより、版材Ｆの全面を露光走査する。
【０１１１】
以上のように副走査を行っても、精密彫刻領域に対して予め定められた１つの段のレーザビームのみで露光することが可能である。
【０１１２】
なお、第１、第２の実施形態では、円筒形のドラム５０の外周面に装着された記録媒体に対して複数のレーザビームを射出したが、ドラムの内周面に装着された記録媒体に対して複数のレーザービームを射出するものであってもよい。また、ドラムを回転させるのではなく、ヘッド側を回転させる構成としてもよい。
【０１１３】
また、スパイラル露光以外の実施形態では、平面状の記録媒体に対して複数のレーザビームを射出する構成としてもよい。
【０１１４】
＜フレキソ版の製造工程について＞
次に、マルチビーム露光系によって印刷版を製造する際の露光走査工程について説明する。
【０１１５】
図１６に製版工程の概要を示す。レーザ彫刻による製版に用いる生版７００は、基板７０２の上に彫刻層７０４（ゴム層又は樹脂層）を有し、該彫刻層７０４の上に保護用のカバーフィルム７０６が貼着されている。製版加工時には、図１６（ａ）に示すように、カバーフィルム７０６を剥離して彫刻層７０４を露出させ、該彫刻層７０４にレーザ光を照射することにより、彫刻層７０４の一部を除去して所望の３次元形状を形成する（図１６（ｂ）参照）。具体的なレーザ彫刻の方法については、図１〜図１５で説明したとおりである。なお、レーザ彫刻中に発生するダストは、不図示の吸引装置によって吸引して回収する。
【０１１６】
彫刻工程が終了した後は、図１６（ｃ）に示すように、洗浄装置７１０による水洗浄を行い（洗浄工程）、その後、乾燥工程（不図示）を経てフレキソ版が完成する。
【０１１７】
このように、版自体を直接にレーザ彫刻する製版方式をダイレクト彫刻方式という。本実施形態に係るマルチビーム露光走査装置を適用した製版装置は、ＣＯ２レーザを用いるレーザ彫刻機に比べて低価格を実現できる。また、マルチビーム化によって、加工速度の向上を達成でき、印刷版の生産性が向上する。
【０１１８】
＜他の応用例＞
フレキソ版の製造に限らず、他の凸印刷版、或いは、凹印刷版の製造についても本発明を適用することができる。また、印刷版の製造に限らず、他の様々な用途の描画記録装置、彫刻装置について本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【０１１９】
１０…レーザ記録装置、１１…製版装置、２０…光源ユニット、２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ…半導体レーザ、２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｄ，７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ，７０Ｄ…光ファイバー、３０…露光ヘッド、４０…露光ヘッド移動部、５０…ドラム、８０…制御回路、３００…光ファイバーアレイ部、Ｆ…版材、Ｋ…走査線（主走査ライン）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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