(57)【要約】【課題】被焼成物であるセラミックス製品に変色を生じさせない、焼成用敷板を提供すること。【解決手段】ムライトを主たる結晶相とし、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％であるとともに、好ましくは、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下であり、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下であり、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下であり、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下である焼成用敷板の提供による。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ムライトを主たる結晶相とし、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％であり、且つ、
Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下である焼成用敷板。
【請求項２】
前記Ａｌ２Ｏ３の含有量が７０〜８０質量％、前記ＳｉＯ２の含有量が２０〜３０質量％である請求項１に記載の焼成用敷板。
【請求項３】
Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．２質量％以下であり、ＴｉＯ２の含有量が０．３質量％以下であり、ＺｒＯ２の含有量が０．２質量％以下であり、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．２質量％以下である請求項１又は２に記載の焼成用敷板。
【請求項４】
ムライト、ムライトとコランダム、及びムライトとシリカのうち、何れかを主原料として作製される請求項１〜３の何れか一項に記載の焼成用敷板。
【請求項５】
ムライトとコランダムからなる粒状の主原料として作製され、そのうちコランダムの平均粒径が２ｍｍ以下である請求項１〜３の何れか一項に記載の焼成用敷板。
【請求項６】
１５５０℃以上の温度で焼成されて作製される請求項４又は５に記載の焼成用敷板。
【請求項７】
コージェライトのハニカム構造体を作製するための焼成過程で使用される請求項１〜６の何れか一項に記載の焼成用敷板。
【請求項８】
ムライト、ムライトとコランダム、及びムライトとシリカのうち、何れかを主原料として用い、それら主原料を、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％になり、且つ、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下になるように調製して、配合物を得て、その配合物を坏土にして敷板の形状に成形し成形体を得た後に、１５５０℃以上の温度で焼成して焼成用敷板を得る焼成用敷板の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜６の何れか一項に記載の焼成用敷板を用い、コージェライト化原料からなるハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を得る焼成用敷板の使用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミック製品を得るための焼成過程で使用される、焼成用敷板に関する。
【背景技術】
【０００２】
陶磁器、タイル、セラミック製電子部品、フィルタ用基材、触媒担体等のセラミックス製品を得る過程における焼成工程において、耐火物である焼成用敷板が使用される。この焼成用敷板や、それに関連する技術を開示した先行文献としては、例えば、以下に示す特許文献１〜４を挙げることが出来る。
【０００３】
特許文献１では、セラミックハニカム成形体用素地、５０重量部以上、９５重量部以下、他の素地、５重量部以上、５０重量部以下から成る敷板用成形体を、セラミックハニカム成形体の焼成温度以上の温度にて焼成して成る焼成用敷板が開示されている。セラミックハニカム成形体用素地の材料としては、コージェライト、アルミナ、ムライト等が示されている。
【０００４】
特許文献２では、セラミック成形体中の含有量が２０重量％以上の化学組成物を主要化学組成物とし、各々の主要化学組成物が７０重量％以上、且つ残部が、５〜２５重量％の高融点原料と、５〜２５重量％の低熱膨脹原料から成る敷板用成形体を、セラミック成形体の焼成温度と同等又はそれ以上の温度にて焼成して成る焼成用敷板が開示されている。主要化学組成物の材料としては、コージェライト、ムライト等が示されている。
【０００５】
特許文献３では、シリマナイト結晶粒子とムライト結晶粒子とを含み、シリマナイト結晶粒子とムライト結晶粒子とが混在して焼結されて板状に形成され、開気孔率が５〜５０％、曲げ強さ５〜１５０ＭＰａである焼成用敷板が開示されている。
【０００６】
特許文献４では、セラミック焼成物を、そのセラミック焼成物に含まれる鉄分がＡｗｔ％であるときに、含まれる鉄分がＢｗｔ％であり、Ａ−０．４≦Ｂ≦Ａ（０．０５≦Ｂ≦３）である焼成用敷板が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２７４９５４号公報
【特許文献２】特開２００３−０８２４０３号公報
【特許文献３】特開２００８−０４４８１４号公報
【特許文献４】特開２００８−２０７９７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
焼成用敷板は、高温でなされる焼成で使用されるため、繰り返しの使用によって、反り変形や、クラックの発生、表面荒れ等が発生し易く、それに伴って、焼成して得られるセラミックス製品には、変形、破損、反応不良が発生することがある。使い捨てにすれば、このような問題は回避出来るが、そうすると、コスト増を招来する。又、１回の使用であっても、急な昇温による熱衝撃で破損したり、焼成中に炉の材料と反応して反り変形を生じることがある。特許文献１〜３に開示された技術によれば、これらのような問題は、概ね解消されているといえる。
【０００９】
一方、焼成用敷板の材料として不純物を多く含む原料を使用した場合には、高温で使用中にガラス相（液相）が存在し、そこに遷移金属元素が溶け込んでいて、これが被焼成物であるセラミックス成形体（セラミックス製品の前駆体）に移動し、着色の原因となる結晶を形成し、セラミックス製品が着色されてしまうおそれがある。天然原料を用いたセラミックス製品には不純物を含んでいるため、セラミックス製品中にも焼成時に液相が存在する。焼成用敷板及びセラミックス製品の両者に液相が存在し、且つ、両者間の遷移金属濃度の差が大きいと、着色の原因となる遷移金属元素の相互移動が多くなり、着色が生じ易くなる。このような問題は、特許文献１〜３に開示された技術では、解消されていない。又、焼成用敷板にコランダムが多くあると、被焼成物のセラミックス成形体中の原料物質との接触部分で反応し、成形体と敷板の固着部分が増加する。
【００１０】
上記着色の原因物質として、ガラス成分であるナトリウム、カリウム、あるいは遷移金属である鉄、チタン、ジルコニアが重要なものであることが、これまでの検討の結果、見出されている。チタンは、酸化化合物結晶として存在する。特にルチル（Ｒｕｔｉｌｅ）には、鉄が固溶し、赤色の着色を示す。又、Ｆｅ３Ｏ４−ＴｉＯ２系の疑板チタン石（Ｐｓｅｕｄｏｂｒｏｏｋｉｔｅ）は、黒色を呈し、微量の存在で、灰黒色の着色を示す。従って、これら結晶を形成する、鉄、チタンの含有量が、着色に大きく影響する。又、ジルコニアは、酸化チタンと反応し、チタン酸ジルコニウム（ＺｒＴｉＯ４）を徐々に形成し、酸化チタンを固定する。このため、着色の原因となる酸化鉄−酸化チタン化合物中の酸化チタンが、ジルコニアと化合物を形成し、相対的に、液相中の酸化鉄含有量が増加し、着色を示す。ナトリウム、カリウムのアルカリ金属は、液相形成温度を下げ、又、その量の増加によって着色に影響するため、アルカリ金属の量は少ないほどよい。これに対し、特許文献４に開示された技術では、鉄分を規定しているが、アルカリ金属、チタン、ジルコニアの量については、規定されていない。焼成用敷板の材料が不純物を含有するものであることについては、特許文献１〜３の技術と変わりはない。従って、特許文献４に開示された技術によっても、例えば、セラミックス製品の材料としてコージェライト化原料を使用したときに、焼成時（コージェライト化時）に、焼成用敷板の表面の液相と接するセラミックス成形体（セラミックス製品）の接触面において、ガラスを主成分とした液相に溶け込んだ遷移金属による変色を、抑えるには至らない。
【００１１】
本発明は、このような背景の下でなされたものであり、その課題とするところは、少なくとも焼成して得られるセラミックス製品に変色を生じさせない、またセラミックス製品との固着を生じさせない、焼成用敷板を提供することである。研究が重ねられた結果、焼成用敷板の表面における液相の生成を抑制すべく、製品との反応固着を抑制すべく、生焼結温度の高い、高純度な、ムライトを採用することによって、この課題が解決されることが見出され、本発明の完成に至った。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
即ち、先ず、本発明によれば、ムライトを主たる結晶相とし、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％であり、且つ、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下である焼成用敷板が提供される。
【００１３】
ムライトを主たる結晶相とし、とは、主結晶相中においてムライトが最大含有量となることを意味する。主結晶相中の各成分の含有量は、Ｘ線回折装置（ＸＲＤ）で定量することが出来る。Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、及びＮａ２ＯとＫ２Ｏの合計、のそれぞれにおける含有量の下限は、検出下限値である。
【００１４】
本発明に係る焼成用敷板においては、Ａｌ２Ｏ３の含有量が７０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜３０質量％であることが好ましい。
【００１５】
本発明に係る焼成用敷板においては、Ａｌ２Ｏ３の含有量が７０〜８０質量％、ＳｉＯ２の含有量が２０〜３０質量％であることが、特に好ましい。
【００１６】
本発明に係る焼成用敷板においては、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．２質量％以下であり、ＴｉＯ２の含有量が０．３質量％以下であり、ＺｒＯ２の含有量が０．２質量％以下であり、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．２質量％以下であることが、好ましい。
【００１７】
本発明に係る焼成用敷板は、ムライト、ムライトとコランダム、及びムライトとシリカのうち、何れかを主原料として作製されることが好ましい。
【００１８】
本発明に係る焼成用敷板は、ムライトとコランダムからなる粒状の主原料として作製され、コランダムの平均粒径が２ｍｍ以下であることが好ましい。これは、固着を防止すべく、セラミック成形体と焼成用敷板の接触部分を少なくするためである。より好ましいコランダムの平均粒径は１ｍｍ以下である。
【００１９】
本発明に係る焼成用敷板は、１５５０℃以上の温度で焼成されて作製されることが好ましい。より好ましい焼成温度は、１６００℃以上１７００度以下である。
【００２０】
本発明に係る焼成用敷板は、（セラミックス製品である）コージェライト（製）のハニカム構造体を作製するための焼成過程で使用されることが好ましい。
【００２１】
次に、本発明によれば、ムライト、ムライトとコランダム、及びムライトとシリカのうち、何れかからなる主原料として用い、それら主原料を、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％になり、且つ、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下になるように調製して、配合物を得て、その配合物を坏土にして敷板の形状に成形し成形体を得た後に、１５５０℃以上の温度で焼成して焼成用敷板を得る焼成用敷板の製造方法が提供される。
【００２２】
次に、本発明によれば、上記した何れかの焼成用敷板を用い、コージェライト化原料からなるハニカム成形体を焼成してハニカム構造体（セラミックス製品の一例）を得る焼成用敷板の使用方法が提供される。これは、本発明に係る焼成用敷板を用いたハニカム構造体の製造方法ということが出来る。ハニカム成形体は、コージェライト化原料を用い、これを坏土にしてハニカム構造の形状に成形した成形体であり、焼成前のハニカム構造体（ハニカム構造体の前駆体）である。コージェライト化原料は、焼成によってコージェライトになる材料であり、タルク、カオリン、アルミナ、水酸化カルシウム、及びシリカのうちから複数を組み合わせて、その化学組成が、ＳｉＯ２（シリカ）４２〜５６質量％、Ａｌ２Ｏ３（アルミナ）３０〜４５質量％、及びＭｇＯ（マグネシア）１２〜１６質量％となるように調合された材料である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る焼成用敷板は、ムライトを主たる結晶相とし、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％である。即ち、高純度のムライトで作製されたものであるので、焼成用敷板の表面において液相の生成がなく、セラミックス製品に変色を生じさせ難い。又、焼成用敷板自体も変色しないから、焼成用敷板の寿命が長くなる。
【００２４】
本発明に係る焼成用敷板は、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下であり、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下であり、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下であり、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下である。即ち、アルカリ金属（ナトリウム、カリウム）の含有量が少なく、加えて、遷移金属の含有量も少ない。そのため、焼成用敷板の表面において液相の生成がなく、セラミックス製品に変色を生じさせ難い。又、焼成用敷板自体にも変色せず、焼成用敷板の寿命が長くなる。焼成用敷板のアルカリ金属の含有量が多く（Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％超であり）、遷移金属の含有量が多いと（Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％超であるか、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％超であるか、又はＺｒＯ２の含有量が０．３質量％超であると）、焼成時に、アルカリ金属の影響で焼成用敷板に低融点ガラスが形成され、そのガラスによる液相に溶け込んだ遷移金属が、焼成されるセラミックス成形体に転写されて、その遷移金属に基づくセラミックス製品の変色が生じ得る。本発明によれば、このような問題を回避出来る。
【００２５】
本発明に係る焼成用敷板は、その好ましい態様において、ムライトとコランダムからなる粒状の主原料として作製され、そのうちコランダムの平均粒径が２ｍｍ以下であるので、セラミックス製品と焼成敷板との接触点の数が少ないため、セラミックス成形体に接触し難く、焼成して得られるセラミックス製品と焼成敷板との固着を生じさせ難い。
【００２６】
本発明に係る焼成用敷板は、その好ましい態様において、１５５０℃以上の温度で焼成され（完全に焼結したものとして）作製されるので、強度に優れる上に、例えば、通常、１３００℃前後で焼成されるコージェライトのハニカム構造体を作製するための焼成過程で使用される場合には、その温度より高い温度で焼成されていることになり、反応は終結していて活性は失われているので、ハニカム構造体に変色を生じさせ難い。焼成温度が、１５５０℃未満であると、焼結不足となり、強度が低下することがある。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明に係る焼成用敷板と被焼成物であるハニカム成形体（セラミックス成形体）の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について、適宜、図面を参酌しながら説明するが、本発明はこれらに限定されて解釈されるべきものではなく、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、修正、改良を加え得るものである。例えば、図面は、好適な本発明の実施の形態を表すものであるが、本発明は図面に表される態様や図面に示される情報により制限されない。本発明を実施し又は検証する上では、本明細書中に記述されたものと同様の手段若しくは均等な手段が適用され得るが、好適な手段は以下に記述される手段である。
【００２９】
先ず、本発明に係る焼成用敷板について、説明する。本発明に係る焼成用敷板は、ムライトを主たる結晶相としてなるものである。ムライトを主原料として作製することが出来るものであり、ムライトの他にコランダム又はシリカを原料として用いることが出来る。原料として、ムライトとコランダムを使用した場合、ムライト−コランダムと表現し、ムライトとシリカを使用した場合、ムライト−シリカと表現することがある。本発明に係る焼成用敷板は、その成分組成（酸化物組成）が、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％であり、特に好ましくは、Ａｌ２Ｏ３の含有量が７０〜８０質量％、ＳｉＯ２の含有量が２０〜３０質量％である。
【００３０】
本発明に係る焼成用敷板は、不純物の含有量が少なく、特に遷移金属とアルカリ金属の含有量は、極僅かである。遷移金属については、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が０．５質量％以下であり、ＴｉＯ２の含有量が０．６質量％以下であり、ＺｒＯ２の含有量が０．３質量％以下である。アルカリ金属については、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計含有量が０．５質量％以下である。Ｎａ２ＯとＫ２Ｏを合わせて、（Ｎａ＋Ｋ）２Ｏと表現することがある。
【００３１】
次に、本発明に係る焼成用敷板の製造方法について説明する。ムライト、ムライトとコランダム、ムライトとシリカのうち、何れかからなる主原料として用意する。これらは粒状物として入手可能である。ムライトは、化学式３Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２で表現される物質であり、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２のモル比が３：２であり、特に耐火性に優れるものである。原料にコランダムが含まれる場合には、平均粒径が２ｍｍ以下のもの（より好ましくは１ｍｍ以下のもの）を使用することが好ましい。
【００３２】
上記の原料を、Ａｌ２Ｏ３の含有量が６０〜８５質量％、ＳｉＯ２の含有量が１５〜４０質量％になるように調製して、配合物を得て、その配合物に水を添加して、解砕、混合し（所謂トロンメルと呼ばれる手段により、）スラリーを調製する。そして、このスラリーを篩に通し、次いで、例えばフィルタープレスによって脱水し、乾燥させた物を解砕後、水分を調整して、坏土を得る。その後、その坏土を、例えばプレス成形法や鋳造法等の手段によって成形し、１５５０℃以上、望ましくは１６００℃以上１７００度以下で焼成すれば、本発明に係る焼成用敷板が得られる。
【００３３】
本発明に係る焼成用敷板の大きさは、多種のセラミック成形体に対処し得るような大きさであればよい。焼成用敷板の形状は、概ね板状であればよく、セラミック成形体と接触する面は平坦であればよいが、特に好ましい形状として、図１に示されるような、辺縁部から中央部にかけて隆起する曲面を有するものを挙げることが出来る。こうすると、ハニカム成形体２の下端面２ａと焼成用敷板１の被焼成体積載面１ａとは、点接触となり、両者の間に隙間が確保され、ハニカム成形体２の焼成中の収縮、膨張等に起因する、ハニカム成形体２の外縁部の被焼成体積載面１ａに対する引掛かりが防止されるとともに、隙間からハニカム成形体２の各セル内へ良好に熱が侵入する。この態様の場合、その曲面の最頂部と辺縁部との段差ｈは、１．５ｍｍ以下（より好ましくは、０〜１．０ｍｍ、更に好ましくは、０〜０．５ｍｍ）であることが好ましい。このような曲面を有することによって、焼成用敷板１とハニカム成形体２（セラミック成形体）との接触面積を小さくすることが出来、焼成用敷板１とハニカム成形体２とに組成差があった場合でも付着が生じ難くなる。一方、段差ｈが１．５ｍｍを超過した場合、焼成用敷板１上に載置されたハニカム成形体２の安定性が悪くなり、焼成中に倒壊するおそれが生じたり、ハニカム成形体２の接触面中央部に歪みが生じたりするため、好ましくない。
【００３４】
次に、本発明に係る焼成用敷板の使用方法について説明する。本発明に係る焼成用敷板は、コージェライト化原料からなるハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を得るために，好適に使用される。ハニカム構造体とは、外形が円柱状又は四角柱状を呈し、一の端面から他の端面まで延びる複数のセルを有するものであり、そのセルは、隔壁によって区画され、流体の流路となるものである。ハニカム構造体は、フィルタ用基材、触媒担体等として好適に用いられる。
【００３５】
コージェライトのハニカム構造体を得るためには、先ず、骨材粒子としてコージェライト化原料を所定の割合で用意し、これに、水、有機バインダ（ヒドロキシプロポキシルメチルセルロース、メチルセルロース等）、造孔材（グラファイト、澱粉、合成樹脂等）、界面活性剤（エチレングリコール、脂肪酸石鹸等）等を混合し、次いで、ニーダ、真空土練機等を用いて混練することによって坏土を得て、その後、その坏土を、所望のセル形状、隔壁厚さ、セル密度を有する口金を備えた押出成形機を用いて押出成形して、所望の形状に成形し、更に、マイクロ波乾燥機、熱風乾燥機等を用いて乾燥することによって、ハニカム成形体を得る。
【００３６】
そして、得られたハニカム成形体を起立状態にして、本発明に係る焼成用敷板の上に載置し（図１を参照）、焼成炉内に搬入し、例えば１３００℃程度で焼成し、取り出して冷却すれば、焼成による不良が発生していない、良好なハニカム構造体が得られる。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３８】
（実施例１〜９、比較例３〜５）ムライトが概ね５０〜９９質量％、コランダムが概ね０〜５０質量％、シリカが概ね０〜１５質量％となるように秤量し、これらの配合物が１００質量％に対して、水を５０質量％添加して混合し、スラリーを調製した。コランダムを用いる場合には、その平均粒径を２ｍｍ以下とした。そして、そのスラリーを２００μｍの篩に通し、次いで、そのスラリーを脱水して乾燥させ、その後、解砕し、５質量％に水分調整して、坏土を得た。そして、その坏土を、油圧プレス成形機を用いて、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ８ｍｍの平板にプレス成形し、１５５０℃で焼成して、焼成用敷板を得た。
【００３９】
次に、得られた焼成用敷板を用いて、コージェライト化原料を用いたハニカム成形体を焼成し、焼成用敷板とハニカム成形体（被焼成物）との固着、ハニカム成形体（被焼成物）の変色を評価した。評価した結果を、コランダムの平均粒径、焼成用敷板の形状、焼成用敷板の鉱物組成、酸化物組成（主成分組成）、微量成分組成とともに、表１に示す。
【００４０】
（実施例１０）所望の金型を備えた油圧プレス成形機を用いて、坏土を、直径がφ１００ｍｍの円形であり、図１に示されるような、辺縁部から中央部にかけて隆起する曲面を有する、円形−曲面凸板に成形した。段差ｈは、１ｍｍである（図１を参照）。これら以外は、実施例１〜９、比較例３〜５と同様にして、焼成用敷板を得て、それを用いて、コージェライト化原料を用いたハニカム成形体を焼成し、焼成用敷板とハニカム成形体（被焼成物）との固着、ハニカム成形体（被焼成物）の変色を評価した。評価した結果を、コランダムの平均粒径、焼成用敷板の形状、焼成用敷板の鉱物組成、酸化物組成（主成分組成）、微量成分組成とともに、表１に示す。
【００４１】
（比較例１，２）ムライトが５０質量％未満、コランダムが５０質量％超となるように秤量し（シリカは０質量％）、これらの配合物が１００質量％に対して、水を５０質量％添加して混合し、スラリーを調製した。それ以外は、実施例１〜９、比較例３〜５と同様にして、坏土を得て、その坏土をプレス成形して、焼成用敷板を得て、それを用いて、コージェライト化原料を用いたハニカム成形体を焼成し、焼成用敷板とハニカム成形体（被焼成物）との固着、ハニカム成形体（被焼成物）の変色を評価した。評価した結果を、コランダムの平均粒径、焼成用敷板の形状、焼成用敷板の鉱物組成、酸化物組成（主成分組成）、微量成分組成とともに、表１に示す。
【００４２】
（比較例６）コランダムを用い、その平均粒径を２ｍｍ超とした。それ以外は、実施例１〜９、比較例３〜５と同様にして、坏土を得て、その坏土をプレス成形して、焼成用敷板を得て、それを用いて、コージェライト化原料を用いたハニカム成形体を焼成し、焼成用敷板とハニカム成形体（被焼成物）との固着、ハニカム成形体（被焼成物）の変色を評価した。評価した結果を、コランダムの平均粒径、焼成用敷板の形状、焼成用敷板の鉱物組成、酸化物組成（主成分組成）、微量成分組成とともに、表１に示す。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
各試料の鉱物組成は、Ｘ線回折の積分強度比から求めた。Ｘ線回折は、Ｘ線回折装置（ＲＩＮＴ−１１００  株式会社リガク製）を用いて、Ｃｕ−Ｋαを線源とする粉末Ｘ線回折を行い、得られたＸ線回折パターンの２θ（回折角）のピーク位置（１６．５、２１．９°、４３．４°）における積分強度比を求めた。１６．５°はムライトに相当し、４３．４はコランダムに相当し、２１．９°はシリカ（クリストバライト）に相当する。
【００４５】
主成分組成（酸化物組成）及び微量成分組成は、蛍光Ｘ線分析装置（ＰＨＩＬＩＰＳ社製ＰＷ２６０６）を用い、試料表面にＸ線を照射して対象元素の強度測定を行い求めた。
【００４６】
ハニカム成形体は、コージェライト化原料として、タルク、カオリン、アルミナを用い、これらコージェライト化原料１００質量部に、造孔材を１３質量部、水（分散媒）を３５質量部、有機バインダを６質量部、分散剤を０．５質量部、それぞれ添加し、混合、混練して坏土を調製し、得られた坏土を押出成形して得た。このハニカム成形体は、円柱状であり、その軸長は１５２ｍｍ、軸に垂直な断面の直径は１４４ｍｍ、その断面に現れるセルの形状は四角形であり、セル密度は４００ｃｐｓｉ（セル／平方インチ）、隔壁の厚さは６ミル（１ミルは約０．０２５４ｍｍ）である。  
【００４７】
ハニカム成形体（被焼成物）との固着は、焼成後、ハニカム成形体を焼成用敷板から取り上げたときの状況と接触面の目視観察によって評価した。殆どなしとは、ハニカム成形体は抵抗なく焼成用敷板から離れたが、接触面には固着の痕跡が確認された場合である。
【００４８】
ハニカム成形体（被焼成物）の変色は、焼成後、ハニカム成形体を目視観察して評価した。殆どなしとは、変色が見られたが、その面積がハニカム成形体の下端面の面積の１／１０未満の場合である。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明に係る焼成用敷板は、陶磁器、タイル、セラミック製電子部品、フィルタ用基材、触媒担体等のセラミックス製品を得るための焼成過程において利用される。特に、コージェライトのハニカム構造体（フィルタ用基材、触媒担体）を得るための焼成過程において、好適に利用される。
【符号の説明】
【００５０】
１：焼成用敷板、１ａ：（焼成用敷板の）被焼成物積載面、２：ハニカム成形体（被焼成物）、２ａ：（ハニカム成形体の）下端面。
【図１】
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