(57)【要約】【課題】金属パターン層の材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターン層のパターン精度不良を解消するとともに、画像の曇り及び歪みを抑制し画像鮮明性に優れた透明導電材を提供する。【解決手段】透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層と、該アルミニウムパターン層上に硬化性透明樹脂層が積層されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面におけるアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であり、且つ、該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°以上であることを特徴とする、透明導電材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層と、該アルミニウムパターン層上に硬化性透明樹脂層が積層されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面におけるアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であり、且つ、該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°以上であることを特徴とする、透明導電材。
【請求項２】
前記硬化性透明樹脂層が、（メタ）アクリレート系化合物の硬化物を含むことを特徴とする、請求項１に記載の透明導電材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのディスプレイ（画像表示装置）から発生する電磁波を遮蔽（シールド）する電磁波シールド材に用いられ、更に、携帯電話機等に設けられる透明アンテナ等にも使用可能な透明導電材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ；ＥＭＩ）が増え、陰極線管（ＣＲＴという）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰという）などのディスプレイでも電磁波が発生する。この電磁波をシールドするために、ディスプレイ前面に配置する電磁波シールド材（透明導電材）が知られている。このような用途に用いる透明導電材では、電磁波を遮蔽する高導電性と共に光透過性も要求される。尚、本願明細書中においては、「電磁波」の語は広義の電磁波の中で、特に、ｋＨｚ〜ＧＨｚ帯域を中心とする周波数帯域のものを言う。可視光線帯域、赤外線帯域、及び紫外線帯域の電磁波は、専ら、各々、「可視光線」、「赤外線」、及び「紫外線」と言うものとする。
そこで、基材に樹脂フィルムやガラス板等の透明基材を用い、この透明基材上に、銅などの金属から成る金属パターン層を形成することにより光透過性を付与した透明導電材が一般に知られている。
【０００３】
上記金属パターン層は、透明基材上に金属箔を透明接着剤で貼り合せた後、フォトリソグラフィー法により該金属箔をメッシュ状にケミカルエッチングして形成することができる（例えば、特許文献１）。尚、プリント配線基板や透明導電材（電磁波シールド材）等の用途向けに従来市販されている金属箔は、一般に、表面に微細な凹凸形状を賦形し粗面にしてある。これは、接着剤層を介して基材と積層する際に、投錨効果による密着（接着）を強化するためである。特に、銅箔は、その表面の化学的性質のために、この処理が不可欠とされている（発行所；工業調査会、編者；電子材料編集部、昭和６１年５月３０日初版発行、「高密度プリント配線板技術」、１４９〜１５３頁）。
このようにして得られた透明導電材では、エッチングにより金属箔が除去された開口部、即ち透明接着剤（層）の露出面において、金属箔表面の微細な凹凸形状が転写された透明接着剤（層）の表面が剥き出しとなるため、該透明接着剤（層）の凹凸表面では光が散乱しやすく、該透明導電材は不透明となり、画像の鮮明性を低下させるという問題があった。
【０００４】
また、上記金属箔の金属材料としては、一般に、銅（銅箔）が用いられており、該銅箔を用いることによりコスト高となるという問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３１８５９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、透明導電材の画像鮮明性の向上とともに、低コスト化が求められている。
そこで、本発明者らは、低コスト化を狙い金属パターン層の金属材料として、銅箔よりも安価なアルミニウム箔を用いて、透明導電材の画像鮮明性の向上を図った。且つ、アルミニウム箔は銅箔に比べて、化学的な接着性を落とさずに接着面の平坦性の高い（粗面の程度が少ない）ものを製造することが可能である。しかしながら、本発明者らの検討の結果、実用化するには、実は、次の解決すべき課題があることがわかった。尚、以下の課題は、パターンの線幅及び厚みの寸法が１００μｍ程度以上の場合には目立たない。高透視性を追及すべく、パターンの線幅及び厚みの寸法が１０〜２０μｍ程度、又はそれよりも小さい寸法に微細化した場合において、特に顕在化してくるものであることも判明した。
【０００７】
（ａ）アルミニウム自体の活性が高く、表面にアルミニウム酸化物皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。
（ｂ）エッチング液に接触した領域の酸化物皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難である。
（ｃ）上記（ａ）及び（ｂ）の結果として、金属パターン層のライン部の輪郭に、ギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線が発生し、ラインのパターン精度が、銅箔の場合に比べてアルミニウム箔は劣る。
【０００８】
以上の結果、アルミニウム箔では銅箔と比べてギザや断線の問題無くして微細なパターン（例えばライン幅１０〜２０μｍ、パターンの厚み１０〜２０μｍ程度）が得られない。そして、アルミニウムパターン層のライン部の輪郭に発生する、ギザは光透過性を実現する開口部の面積率のムラとなり、断線は導電性の低下及び画像の歪みにつながる。
【０００９】
ここで、図３及び図４を参照して、アルミニウム箔をケミカルエッチングでアルミニウムパターン層とする際の不安定なエッチングと、それによって発生するパターン精度不良を説明する。
【００１０】
図３（ａ）はエッチングによる腐食が進行する前の状態を示し、図３（ｂ）はエッチングによる腐食が進行中の状態を示す。図３（ａ）及び図３（ｂ）では、エッチング液２１でレジストパターン２２の非形成部の領域において露出しているアルミニウム箔２４をエッチングする様子を示す。
図３（ａ）及び図３（ｂ）において、アルミニウム箔積層体２５は、基材１の上面に透明接着剤層５を介してアルミニウム層２３の上面及び下面、即ち、表裏両面にアルミニウム酸化物皮膜３を有するアルミニウム箔２４が設けられている。
【００１１】
そして、図３（ｂ）のように、エッチングが進行すると、レジストパターン２２の非形成部でエッチング液２１に接触するアルミニウム箔２４の露出部分の酸化物皮膜３は、露出部分の全面で均一にエッチングが進行せず、部分的にエッチングが先行し、この腐食先行部分２６からアルミニウム層２３のエッチングがなされて行く。
【００１２】
この結果、エッチングが完了した状態では、図４の平面図にて概念的に示すように、アルミニウムパターン層２のラインには、ギザや断線などのパターン精度不良が多発する。
【００１３】
また、上記透明導電材の金属パターン層を外力から保護したり、該金属パターン層の表面凹凸を平坦化する目的で、該金属パターン層の表面凹凸を埋めるように透明樹脂層が設けられる。ここで、本発明者らの実験結果から、該透明樹脂層と該金属パターン層の開口部における透明基材（被着体）の露出面との密着性を向上させると該透明樹脂層のレベリング性が低下し、その結果、該透明樹脂層表面の平坦性が低下して、画像の歪みが発生することが分かった。この傾向は、該透明接着剤層及び該透明樹脂層の材料に、特に、（メタ）アクリレート系の単量体やプレポリマーを成分とする電離放射線硬化性樹脂、特に長分子鎖を含む（メタ）アクリレートプレポリマーを用いる場合に顕著であることが見出された。
【００１４】
本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであり、金属パターン層の材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターン層のパターン精度不良を解消するとともに、画像の曇り及び歪みを抑制し画像鮮明性に優れた透明導電材を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明基材の一方の面に形成したアルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定し、且つ、該アルミニウムパターン層上に設けた硬化性透明樹脂層表面の水の接触角を特定の範囲に規定することにより、上記課題が解決されるという知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明に係る透明導電材は、透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層と、該アルミニウムパターン層上に硬化性透明樹脂層が積層されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面におけるアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であり、且つ、該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°以上であることを特徴とする。
【００１６】
本発明によれば、少なくとも基材側とは反対側の面のアルミニウム酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能となり、エッチング品質が改善される。そのため、アルミニウムパターン層のライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、導電性のバラツキ、画像の曇り及び歪みを抑制することができる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価な透明導電材を実用化できる。また、製造面でも、アルミニウム酸化物皮膜はそのままでケミカルエッチングできるためその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコスト高を避けることができる。
また、上記アルミニウムパターン層上に設けた硬化性透明樹脂層表面の水の接触角を特定の範囲に規定することで、該硬化性透明樹脂層のレベリング性が向上し、該層表面の平坦性が優れたものとなり、画像の歪みを抑制することができる。
従って、本発明によれば、画像の曇り及び歪みが抑制され、画像鮮明性に優れた透明導電材を提供することができる。
【００１７】
本発明に係る透明導電材においては、前記硬化性透明樹脂層が、（メタ）アクリレート系化合物の硬化物を含むことが、該硬化性透明樹脂層表面の平坦性を高める点から好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、少なくとも基材側とは反対側の面のアルミニウム酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能となり、エッチング品質が改善される。そのため、アルミニウムパターン層のライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、導電性のバラツキ、画像の曇り及び歪みを抑制することができる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価な透明導電材を実用化できる。
また、上記アルミニウムパターン層上に設けた硬化性透明樹脂層表面の水の接触角を特定の範囲に規定することで、該硬化性透明樹脂層表面の平坦性が向上し、画像の歪みを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る透明導電材の一例を模式的に示した断面図である。
【図２】本発明に係る透明導電材の他の一例を模式的に示した断面図である。
【図３】アルミニウムパターン層をエッチング時に、パターン精度不良が生じる原因を説明する断面図である。
【図４】アルミニウムパターン層のパターン精度不良を概念的に説明する平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下において本発明を詳しく説明する。
本発明において、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
また、本発明において樹脂とは、モノマー（単量体）、オリゴマー、プレポリマーの他、ポリマーを含む概念であり、硬化後に硬化性透明樹脂層やその他の層のマトリクスとなる成分を意味する。
なお、本発明における接触角は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７（１９９９）「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して乾燥状態（２０℃、６５％ＲＨ）における、協和界面科学（株）製の顕微鏡式接触角計ＣＡ−Ｘ型を用いて測定した値である。
【００２１】
本発明に係る透明導電材は、透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層と、該アルミニウムパターン層上に硬化性透明樹脂層が積層されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であり、且つ、該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°以上であることを特徴とする。
【００２２】
本発明によれば、少なくとも基材側とは反対側の面のアルミニウム酸化物皮膜を特定の厚み（薄さ）に規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能となり、エッチング品質が改善される。そのため、アルミニウムパターン層のライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、導電性のバラツキ、画像の曇り及び歪みを抑制することができる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価な透明導電材を実用化できる。また、製造面でも、アルミニウム酸化物皮膜はそのままでケミカルエッチングできるためその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコスト高を避けることができる。
また、上記アルミニウムパターン層上に設けた硬化性透明樹脂層表面の水の接触角を特定の範囲に規定することで、該硬化性透明樹脂層のレベリング性が向上し、該層表面の平坦性が優れたものとなり、画像の歪みを抑制することができる。
従って、本発明によれば、画像の曇り及び歪みが抑制され、画像鮮明性に優れた透明導電材を提供することができる。
【００２３】
〔層構成〕
図１は本発明に係る透明導電材の一例の断面図を概念的に示す。なお、図１及び図２に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を面方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。且つ、アルミニウム酸化物皮膜３の厚みをアルミニウムパターン層２の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。図１に示す透明導電材１０は、本発明に係る透明導電材の一形態であり、透明基材１の一方の面にアルミニウムパターン層２が設けられている。該アルミニウムパターン層２の基材側の面（以下、下面ともいう）及び透明基材側とは反対側の面（以下、上面ともいう）の表面にはアルミニウム酸化物皮膜３が形成されており、少なくとも透明基材側とは反対側の面（上面）の酸化物皮膜の厚みが１３Å以下となっている。また、該アルミニウムパターン層２側の表面に硬化性透明樹脂層４が該アルミニウムパターン層２の凹凸を平坦化するように形成されている。
尚、図１では、透明基材１上にアルミニウムパターン層２が直接積層されているが、該透明基材１と該アルミニウムパターン層２との密着性を高めるために、該透明基材１と該アルミニウムパターン層２の間に透明接着剤層５を介在させてもよい（図２参照）。
【００２４】
［透明基材］
透明基材１は、可視領域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でも良い。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、可撓性のある樹脂フィルム（乃至シート）が好ましい。尚、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
上記樹脂フィルム、樹脂板の材料として用いる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい。
【００２５】
透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択することができる。可撓性のある樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。また、樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、５００〜５０００μｍ程度である。
【００２６】
なお、透明基材の材料として用いる樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加することができる。
また、該透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００２７】
［アルミニウムパターン層］
アルミニウムパターン層２は、透明基材上にアルミニウムで形成したパターン層であり、該層自体は不透明だが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、導電性と光透過性とを両立させた層である。しかも、本発明のアルミニウムパターン層２は、少なくとも前記基材側とは反対側の面（上面）に特定の厚み、即ち１３Å以下のアルミニウムの酸化物皮膜３を有する。
【００２８】
アルミニウムパターン層のアルミニウムは純粋なアルミニウム単体（アルミニウム純金属）の他、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金でもよく、これらをまとめて本発明ではアルミニウムという。アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は高い方が好ましく、該アルミニウムの純度は９９．０％以上であることが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターン層は、ＪＩＳ  Ｈ４１６０（アルミニウム及びアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ  Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。
【００２９】
また、アルミニウム箔は、その作る工程で、２枚のアルミニウム箔を重ね合わせて、該アルミニウム箔を圧延ロールで延ばして薄膜化する。その際に、圧延ロールと接する面は圧延ロールの平坦面が賦形される為、この面を鏡面といい、一方、アルミニウム箔同士が接する面は、その表面が確率的揺らぎによって乱雑な微小凹凸となる為、この面を粗面という。従って、アルミニウム箔には鏡面と粗面がある。
本発明において、透明基材側に向けて積層するアルミニウム箔の面は特に限定されないが、該アルミニウム箔の鏡面側を透明基材側に向けて積層することで、アルミニウムパターン層の開口部が光散乱し難い形状となり、より一層画像の曇りによる画像鮮明性の低下を抑制することができる。
【００３０】
なお、アルミニウムパターン層はアルミニウム箔から形成するのではなく、基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用しても良い。
【００３１】
アルミニウムパターン層の厚みは、導電性、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと導電性、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。
【００３２】
アルミニウムパターン層の平面視パターンの形状は、例えばメッシュ（格子乃至網）形状、ストライプ（縞乃至平行線群）形状、スパイラル（螺旋乃至渦巻）形状などの導電性と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部又は線条部）となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。
【００３３】
パターンのライン部のライン幅は例えば５〜５０μｍ、好ましくは５〜２０μｍであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。
【００３４】
（パターン形成）
アルミニウムパターン層のパターンを形成するには、透明基材の一方の面にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、透明導電材に要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
【００３５】
アルミニウムパターン層をケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択し用いれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
エッチングは、アルミニウム層の上面のレジストパターン非形成部におけるアルミニウムの酸化物皮膜も含めて行う。エッチングの前処理として、該上面のアルミニウムの酸化物皮膜の除去は特に必要ない。そして、レジストパターン形成部に対応した、上面や下面のアルミニウムの酸化物皮膜３は、アルミニウムパターン層２の上面や下面の酸化物皮膜３として残る。
【００３６】
［アルミニウム酸化物皮膜］
アルミニウム酸化物皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化物皮膜は箔の上面及び下面、即ち、表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターン層の少なくとも上面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましく１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。
上面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、該酸化物皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、銅を安価なアルミニウムに変更したが故のパターン精度不良を回避できる。特にアルミニウムパターン層の線幅が２０μｍ程度以下の場合に、特に、この効果は顕著に奏せられる。
【００３７】
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法により製造される。アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温（２０℃、５０％ＲＨ前後）で製造保管することによって、活性なアルミニウムの表面には不可避的にアルミニウム酸化物皮膜が形成される。この場合、該酸化物皮膜は、本発明の様に薄い酸化物皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化物皮膜となる。
【００３８】
また、アルミニウムパターン層上面におけるアルミニウム酸化物皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、つまり酸化物皮膜が存在しなくても良い。
ただ、アルミニウム酸化物皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中において、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化乃至は腐食が進行することを防止する機能を有する。そのため、この点において、アルミニウムパターン層上面には、緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化物皮膜を２〜３Å程度の厚みで形成しておいてもよい。
【００３９】
なお、上面にアルミニウムの酸化物皮膜が存在しないアルミニウムパターン層は、真空中、又は不活性気体中で、パターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化物皮膜生成前に該アルミニウム層の上面を樹脂被覆し、酸化を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウム酸化物皮膜が存在しないアルミニウムパターン層となる。
【００４０】
アルミニウム酸化物皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種方法があるが、アルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているため、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。
【００４１】
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化物皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため、焼鈍工程を省略することは好ましくない。
【００４２】
なお、アルミニウムの酸化物皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定する。
【００４３】
アルミニウムの酸化物皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターン層のパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化物皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウム酸化物皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。尚、下面のアルミニウム酸化物皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化物皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状におけるギザ発生への寄与は無視できるため、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。但し、該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化物皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、又開口部の透明性を低下させることも有り得る。このため、下面のアルミニウム酸化物皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化物皮膜の膜厚も上面と同様に１３Å以下とする。尚、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化物皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚のアルミニウム酸化物皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐食液による着色から保護することもできる。
【００４４】
（黒化処理層）
なお、アルミニウムパターン層はその表面に黒化処理層を形成してもよい。
黒化処理層は、アルミニウムパターン層やその表面の酸化物皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、コントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、コントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターン層の表面、表面に酸化物皮膜がある場合は該酸化物皮膜の表面に設けて、その光反射率を低下させる。
【００４５】
ここで表面とは上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、アルミニウムパターン層の上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすれば良いのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤層に接する面が下面である。また、本発明の透明導電材をその上面側を観察者側に向けて使用する場合には、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましい。
【００４６】
黒化処理層としては、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化処理層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては、例えば、カーボンブラック（墨）等の黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
【００４７】
［硬化性透明樹脂層］
硬化性透明樹脂層は、アルミニウムパターン層で構成される表面凹凸（開口部が凹に対して線部が凸となる）を埋めてアルミニウムパターン層側の表面を平坦化することにより、更に透明性を高めたり、アルミニウムパターン層を外力から保護したりするために設ける層である。なお、該保護の点では、上記硬化性透明樹脂層は表面保護層でもある。
このような硬化性透明樹脂層の膜厚は、アルミニウムパターン層２及び酸化物皮膜３上を１〜２５μｍ被覆する厚みであることが好ましく、更に好ましくは、アルミニウムパターン層２及び酸化物皮膜３上を２〜１０μｍ被覆する厚みである。該硬化性透明樹脂層の膜厚を上記範囲内とすることにより、上記アルミニウムパターン層の表面凹凸を良好に平坦化し且つ十分な表面保護性能を付与することができる。
【００４８】
本発明において、上記硬化性透明樹脂層表面の水の接触角は７９°以上であり、好ましくは、８０°〜８５°である。該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角を上記範囲内とすることにより、透明接着剤層５及び硬化性透明樹脂層４両層間の十分な接着性を維持した上で、且つ該硬化性透明樹脂層のレベリング性が向上し、該層表面の平坦性が優れたものとなる。これにより、画像の歪みが抑制され、画像鮮明性を優れたものとすることができる。
【００４９】
上記硬化性透明樹脂層は、透明基材上に積層したアルミニウムパターン層による凹凸表面に対して、透明な硬化性樹脂を含む液状組成物を塗布など施すことにより形成することができる。該液状組成物としては、透明な硬化性樹脂を含むものであれば特に限定されない。また、該硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。
特に、透明接着剤層５及び硬化性透明樹脂層４ともに（メタ）アクリレート系電離放射線硬化性樹脂を選択した場合において、本発明の効果、即ち、該硬化性透明樹脂層表面における水の接触角を７９°に特定することによる、両層間の十分な接着性の維持と該硬化性透明樹脂層表面の平坦性向上の両立効果を奏することが出来る。
【００５０】
熱硬化性樹脂の具体例としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化性アクリル樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤等をさらに添加して使用することができる。更には、樹脂本体（主剤）と硬化剤とを別々の組成物として準備し、塗工する直前に両者を混合して硬化反応を開始（或いは開始可能な状態に）させる、所謂２液硬化型樹脂の使用形態とすることも出来る。
【００５１】
電離放射線硬化性樹脂の具体例としては、（メタ）アクリレート基等のラジカル重合性官能基を有する化合物（以下、（メタ）アクリレート系化合物ともいう）、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、芳香族ビニルエーテル、脂肪族ビニルエーテル等のオリゴマー又はプレポリマー等のカチオン重合性官能基を有する化合物が挙げられる。なかでも、上記硬化性透明樹脂層表面の平坦性を高める点から（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、（メタ）アクリレート系のオリゴマー、プレポリマー、或いは単量体（モノマー）が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリレート系プレポリマー（乃至オリゴマー）としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。又、（メタ）アクリレート系単量体としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらモノマー、オリゴマー、或いはプレポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
上記樹脂の配合量は、液状組成物の固形分全量に対して、５０〜１００重量％、更に９０〜１００重量％であることが好ましい。
尚、本発明において固形分とは、液状組成物中に含まれる成分のうち溶剤以外のものを意味する。
これらの材料の中でも、特に、本発明の効果を奏する上で好適なものは、（メタ）アクリレートプレポリマー、特に長分子鎖を含む（メタ）アクリレートプレポリマーである。斯かる長分子鎖を含む（メタ）アクリレートプレポリマーとしては、例えば、分子中にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを２〜６単位含むウレタン（メタ）アクリレートに後述の表面調整剤を添加して、塗膜硬化物表面の水に対する接触角を７９°以上とした組成物である。
斯かる電離放射線硬化性樹脂組成物を電離放射線硬化させてなる硬化性透明樹脂層４は、透明基材１上に電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる透明接着剤層５を用いた場合において、該透明接着剤層５との密着性が良好であり、且つ硬化性透明樹脂層４自体も流動性、レベリング性が良い為に表面平坦性も良好となる。即ち、硬化性透明樹脂層４及び透明接着剤層５の両方が電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる透明導電材において、従来、両立が難しかった、硬化性透明樹脂層４及び透明接着剤層５の両層との密着性と硬化性透明樹脂層４の表面平坦性とが両立する。
【００５３】
電離放射線として、紫外線、又は可視光線を採用する場合には、通常、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤の具体例としては、ラジカル重合性官能基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、ベンゾイン類、ベンゾインメチルエーテル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、アシルホスフィンオキシド類、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等が挙げられ、これらを単独で、又は混合して用いる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンは、例えば商品名イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）として入手可能である。また、α−アミノアルキルフェノン類としては、例えば商品名イルガキュア９０７、３６９として入手可能である。
【００５４】
カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。
これら光重合開始剤を用いる場合、その含有量は、液状組成物の固形分全量に対して、０．１〜５重量％であることが好ましい。
なお、電離放射線としては、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。
【００５５】
また、該硬化性透明樹脂層表面における水の接触角を７９°に特定する為の具体的手段としては、上記電離放射線硬化性樹脂を構成するモノマー、プレポリマー、或いはその両者の種類と組合せ、プレポリマーの場合はその重合度（分子量）或いは１分子当たりの官能基数等を適宜選定することによることも出来る。
又、上記液状組成物に表面調整剤を含有させると、より高い自由度で該接触角を実現出来る為、好ましい。斯かる表面調整剤としては、導入有機基としてポリエーテル、ポリエステル変性基を有するシリコン系化合物、及び弗素系化合物等の中から適宜選択した１種乃至２種以上が用いられる。これらの内、ポリエステル変性基を有するシリコン系化合物としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリメチルシロキサン、ポリエステル変性メチルアルキルポリシロキサン、ポリエーテル変性ポリメチルアルキルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン、さらには水酸基を有するポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、さらには反応型置換基を有するポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン等の中から適宜選択した１種乃至２種以上を挙げることができる。また、弗素系化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基含有カルボン酸塩等の中から適宜選択した１種乃至２種以上を挙げることができる。表面調整剤の含有量は、液状組成物全体の０．０６重量％〜０．６重量％程度である。これらの市販品としては、例えば、ビックケミージャパン（株）製のＢＹＫ−３００（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）等が挙げられる。
また、これらのレベリング剤は１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００５６】
前記液状組成物を均一に混合、分散し、該組成物に塗工性を付与するために溶剤を用いる。
溶剤としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶剤であってもよい。
【００５７】
上記硬化性透明樹脂層は、本発明の透明導電材の最表面層（本発明の透明導電材の観察者側）であってもよいし、更に該硬化性透明樹脂層上に防眩層、反射防止層、特開２００７−２７２１６１号公報等に記載の所謂薄膜ミクロルーバ層、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層等の光学機能層、或いは耐擦傷層、帯電防止層、抗菌層、耐衝撃層、汚染防止層等のその他機能を有する機能層が１層以上設けられていてもよい。これら各種機能層のうち防眩層及び反射防止層以外の層については、本発明の透明導電材における透明基材１の裏面側（本発明の透明導電材の観察者側とは反対側）に積層しても良い。特に、該硬化性透明樹脂層が最表面層である場合、本発明の効果を最も有効に発揮することができる。
尚、上記機能層は、従来公知のものを適宜採用すれば良い。
【００５８】
［透明接着剤層］
本発明の透明導電材においては、透明基材１とアルミニウムパターン層２との密着性を確保するために、該透明基材と該アルミニウムパターン層との間に透明接着剤層５を設けることが好ましい。
該透明接着剤層５は、透明基材及びアルミニウムパターン層の双方に密着性が良く、また開口部（アルミニウムパターン層非形成部）の光透過性確保のために透明な層である。
【００５９】
かかる透明接着剤層を構成する材料としては、透明基材１とアルミニウムパターン層２と接着性を有すると共に、アルミニウムパターン層２の開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、本来特に限定はなく、例えば、２液硬化型ウレタン樹脂、２液硬化型エポキシ樹脂、ゴム系樹脂、各種電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。
アルミニウムと透明基材との接着性、透明接着剤層の透明性、耐久性等の物性の点から、２液硬化型ウレタン樹脂、或いは未硬化状態において液状（流動性）の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性樹脂の組成物を塗工、硬化（固体化）してなる層が好適に用いられる。
該電離放射線重合性化合物としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー及び／又はプレポリマーが用いられる。
かかるモノマーとしては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートなどの単官能（メタ）アクリレート類、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレート類等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。
カチオン重合性モノマーとして、例えば、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、４−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。
また、かかるプレポリマー（乃至オリゴマー）としては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、１種類単独で用いる他、モノマーを２種類以上混合したり、プレポリマーを２種類以上混合したり、或いはモノマー１種類以上とプレポリマー１種類以上とを混合して用いたりすることができる。
【００６０】
ここで、透明基材１とアルミニウムパターン層２との間に上記透明接着剤層５を設け、該透明接着剤層及びアルミニウムパターン層上に形成される硬化性透明樹脂層４が、特に、（メタ）アクリレート系化合物の硬化物を含む場合、中でも特に、硬化性透明樹脂層４及び透明接着剤層５が共に電離放射線硬化性の（メタ）アクリレート系化合物を含む場合、その機構は未解明で有るが、該透明接着剤層と該硬化性透明樹脂層との密着性は低い。一方、本発明者らの実験の結果、硬化性透明樹脂層と透明接着剤層又は透明基材（被着体）との密着性を改善すると、該硬化性透明樹脂層のレベリング性が低下することが分かった。
例えば、硬化性透明樹脂層４及び透明接着剤層５が共に電離放射線硬化性の（メタ）アクリレート系化合物を含む場合においては、特にこの傾向は顕著である。
その際に、硬化性透明樹脂層４として、長分子鎖を含む（メタ）アクリレートプレポリマーを含む電離放射線硬化性樹脂を用いることによって、硬化性透明樹脂層４及び透明接着剤層５との密着性は改善される。但し、その代わり、該硬化性透明樹脂層のレベリング性が低下する。
これに対し、本発明においては、硬化性透明樹脂層表面の水の接触角を７９°以上に規定することにより、該硬化性透明樹脂層のレベリング性を向上させることができる。従って、本発明によれば、該硬化性透明樹脂層と該透明接着剤層（被着体）との密着性を維持しながら、該硬化性透明樹脂層表面の平坦性を優れたものとすることができ、画像の歪みを抑制することができる。
【００６１】
電離放射線として、紫外線、又は可視光線を採用する場合には、通常は、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、上記硬化性透明樹脂層の項で挙げたものの中から適宜選択して用いることができる。また、該光重合開始剤を用いる場合、その含有量は、上記モノマー及び／又はプレポリマーからなる組成物１００重量部に対して、０．１〜５重量部であることが好ましい。
【００６２】
透明接着剤層５の厚さ（アルミニウムパターン層２の非形成部の厚みで評価）は特に限定されないが、通常は硬化後の厚さで１μｍ〜１００μｍ程度となるように形成される。また、透明接着剤層の厚さは、通常は、アルミニウムパターン層とプライマー層との合計値（総厚。アルミニウムパターン層の頂部と透明基材の表面との高度差）の１〜５０％程度である。
【００６３】
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、アルミニウム箔と基材とを接着剤を介する様に積層することで形成できる。該形成法は、塗工法、印刷法などである。
【００６４】
本発明の透明導電材は、各種用途に使用可能である。特に、各種の、テレビジョン受像装置、測定機器や計器類の表示部、事務用機器や電算機の表示部、電話機の表示部、遊戯機器の表示部、電飾看板（照明広告）等に用いられるプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管ディスプレイ（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電場発光ディスプレイ（ＥＬ）などの画像表示装置の前面に設置する電磁波遮蔽フィルタ用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。また、その他、建築物の窓、車両、船舶、航空機、或は電子レンジの窓等の電磁波遮蔽用途にも使用可能である。更に、携帯電話機、車両、建築物の窓等に設けられる透明（導電体パターン非視認性）アンテナ、電波吸収体等に使用することもできる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００６６】
（実施例１）
〔透明導電材の作製〕
（１）アルミニウムパターン層の形成
先ず、アルミニウムパターン層とする金属箔として、厚み１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。このアルミニウム箔の表面における酸化物皮膜の厚みを蛍光Ｘ線分析法（ＸＰＳ法）で測定したところ、上面下面とも８Åだった。
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記アルミニウム箔の鏡面（光沢面）とを、透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤（主剤として平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部に対して、硬化剤としてキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部を含む）でドライラミネートした後、５０℃で３日間養生して、アルミニウム箔と透明基材間に厚み７μｍの透明接着剤層を有する連続帯状のアルミニウム箔積層シートを得た。
次いで、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部及びライン部から成るメッシュ状領域、及びメッシュ状領域を囲繞する外縁部に額縁状の開口部非形成の接地用領域を有するアルミニウムパターン層を形成した。
上記エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対して、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートのアルミニウム箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部のアルミニウム箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液でエッチングして除去して、メッシュ状の開口部を有したアルミニウムパターン層を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
メッシュ状領域（画像表示領域）のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、該ライン部と該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの透明導電材の中間体を得て、ロール状に巻き取った。
得られたロール状の、透明導電材の中間体を、ロール・トゥ・ロールで連続的に黒化処理装置に供給し、上記中間体のアルミニウムパターン層表面に対してニッケル化合物の黒化処理層を形成し、巻き取った。
【００６７】
（２）硬化性透明樹脂層の形成
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）とペンタエリスリトール多官能アクリレートからなるウレタンアクリレートプレポリマー（Ａ）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（商品名：ビスコート  ３００、大阪有機化学工業（株）製）、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、溶剤、表面調整剤としてポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン（商品名：ＢＹＫ−３００、ビックケミージャパン（株）製）を、表1に示す配合量（質量部）の成分で攪拌配合したコーティング剤を、ダイコーターによりアルミニウムパターン層上に直接塗布し、８０℃で乾燥した。その後、高圧水銀燈により照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行うことにより硬化させ、アルミニウムパターン層込みで厚み２０μｍの硬化性透明樹脂層が形成された透明導電材を得た。
なお、表面調整剤は、出来上がった硬化性透明樹脂層の平坦性を良化させる働きをもつ。
【００６８】
（実施例２〜３）
コーティング剤の各成分および配合量を表１に示すものに変更した以外は、前記実施例１と同様にして実施例２〜３の透明導電材を得た。
【００６９】
（比較例１）
コーティング剤の各成分および配合量を表１に示すものに変更した以外は、前記実施例１と同様にして比較例１の透明導電材を得た。
【００７０】
（比較例２）
実施例１において、アルミニウム箔の表面酸化物皮膜の厚みが１５Åのものを使用した以外は、前記実施例１と同様にして比較例２の透明導電材を得た。
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのラインに断線が多発し（ライン幅のバラツキ２０μｍ以上）、外観的にも目視で面ムラが目立った。
【００７１】
（参考例１）
コーティング剤の各成分および配合量を表１に示すものに変更した以外は、前記実施例１と同様にして参考例１の透明導電材を得た。
尚、表中において、ＰＥＤＡは、ペンタエリスリトールジアクリレートの略称である。
【００７２】
（評価結果）
各実施例及び比較例で得られた透明導電材を１ｍ２の大きさにカットして得たサンプルを用いて下記評価を行った。結果を表１に示す。
（１）外観
各サンプルを検査台に吊るし、蛍光灯による透過検査を行い、蛍光灯の像の歪み、面のムラを目視により判定した。判定基準を以下に示す。
・○：像の歪み、面のムラが目視で観察されなかった。
・×：像の歪み、面のムラが目視で観察された。
（２）ライン幅の測定
アルミニウムパターン層上のライン幅をマイクロスコープＶＨＸ−２００（（株）キーエンス製）を用いて、実測した。
（３）写像性
ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠して０．１２５ｍｍの間隔を有する光学櫛を、写像性測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（スガ試験機（株）製）に適用して、光学櫛の間隔から透過する光（％）を測定した。
（４）水の接触角
ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７（１９９９）に準拠し、接触角計（協和界面科学（株）製、「ＣＡ−Ｘ型」）を用いて、乾燥状態（２０℃、６５％ＲＨ）で直径２ｍｍの液滴（純水を使用）を針先に作った。これを硬化性透明樹脂層表面に接触させて液滴を作り、該液滴を含む方の角度を求めた。
（５）指紋拭き取り性
硬化性透明樹脂層の表面に、指紋を付着させ、付着した指紋をセルロース製不織布（商品名：ベンコット  Ｍ−３、旭化成（株）製）で拭き取り、その取れ易さを目視により判定した。判定基準は以下に示す。
・○：目視で指紋の残存が認められ無い。
・×：目視で指紋の残存が認められる。
（６）密着性
作製した実施例１〜３、比較例１〜２及び参考例１の透明導電材の温度６０℃、湿度９０％で２４時間調湿した後のものについて、ＪＩＳ  Ｋ５４００の碁盤目試験の方法に準じて、硬化性透明樹脂層面に１ｍｍ間隔で縦及び横、それぞれ１１本の切れ目を入れて１００個の碁盤目を作り、２４ｍｍ幅のセロハン粘着テープ〔ニチバン（株）製セロテープ（登録商標）〕を碁盤目上に貼り付けた後、これを速やかに９０°の方向に引張って剥離させ、下記基準で密着性を評価した。
評価○：碁盤目１００個中、剥がれなかった碁盤目の数が９０個以上
評価×：碁盤目１００個中、剥がれなかった碁盤目の数が８９個以下
【００７３】
【表１】
2011091268.tif 000003
【００７４】
（結果のまとめ）
表１より、実施例１〜３で得られた透明導電材のアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキ（３×（幅分布の標準偏差）で評価）は４．５μｍであり、目視観察での像の歪み及び面ムラ（ムラ上の外観）は外観上問題はなく、また、メッシュ構成線の断線も無かった。また、硬化性透明樹脂層の密着性、表面平坦性及び防汚性が良好であり、写像性に優れるものであった。
これに対して、硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°未満の比較例１では、硬化性透明樹脂層の密着性は高いものの、目視観察での像の歪み及び面ムラが目立ち、実施例に比べて硬化性透明樹脂層の表面平坦性及び防汚性は低かった。また、アルミニウムパターン層の透明基材側とは反対側の面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１５Åである比較例２では、得られた透明導電材のアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのラインに断線が多発し（ライン幅のバラツキ２２μｍ）、目視観察での像の歪み及び面ムラ（ムラ上の外観）も目立ち、実施例に比べて硬化性透明樹脂層の表面平坦性は低かった。
【符号の説明】
【００７５】
１  透明基材
２  アルミニウムパターン層
３  酸化物皮膜
４  硬化性透明樹脂層
５  透明接着剤層
１０  透明導電材
２１  エッチング液
２２  レジストパターン
２３  アルミニウム層
２４  アルミニウム箔
２５  アルミニウム箔積層体
２６  腐食先行部分
【図１】
2011091268.tif 000004
【図２】
2011091268.tif 000005
【図３】
2011091268.tif 000006
【図４】
2011091268.tif 000007