(57)【要約】      （修正有）【課題】電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、高い安全性を有する合わせガラスを製造できる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供する。【解決手段】電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層上に部分的に形成された熱可塑性樹脂を含有する接着層とを有する合わせガラス用中間膜であって、前記エレクトロクロミック層の面積に対する前記接着層の面積が１０〜９０％であり、かつ、前記接着層の最大厚みが５０μｍ以下である合わせガラス用中間膜。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層上に部分的に形成された熱可塑性樹脂を含有する接着層とを有する合わせガラス用中間膜であって、
前記エレクトロクロミック層の面積に対する前記接着層の面積が１０〜９０％であり、かつ、前記接着層の最大厚みが５０μｍ以下である
ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【請求項２】
接着層の形状が網目状、線状又は斑点状であることを特徴とする請求項１記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項３】
接着層に含有される熱可塑性樹脂は、炭素数が４又は５のアルデヒドによりポリビニルアルコールをアセタール化して得られた、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下、水酸基量が３５ｍｏｌ％以下であるポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１又は２記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項４】
接着層は、熱可塑性樹脂１００重量部に対して可塑剤３０〜１５０重量部、支持電解質塩３〜６０重量部を含有することを特徴とする請求項１、２又は３記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項５】
電解質層は、支持電解質塩、バインダー樹脂、並びに、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の合わせガラス用中間膜。
【化１】
2011144105.tif 000009
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【化２】
2011144105.tif 000010
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、高い安全性を有する合わせガラスを製造できる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光体は、広く用いられている。
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光が少ないという特徴がある。
【０００３】
エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。
【０００４】
近年、調光体を合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスを自動車用窓ガラスや建築用窓ガラスに用いることが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いれば、合わせガラスの光線透過率を制御して、車内や室内の温度を調整することができると考えられる。
【０００５】
自動車用、建築用途にかかわらず合わせガラスには、高い安全性が求められる。とりわけ合わせガラスを自動車用ガラスに用いる場合には、高い耐貫通性が求められる。合わせガラスが高い耐貫通性を発揮するためには、ガラス板と合わせガラス用中間膜とが適度に密着することが求められる。しかしながら、従来の調光体を合わせガラス用中間膜として用いた場合、ガラス板に対する密着性が低く、高い耐貫通性を発揮できないばかりか、使用中にガラス板と合わせガラス用中間膜とが剥離してしまう危険性があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−０６２０３０号公報
【特許文献２】特開２００５−０６２７７２号公報
【特許文献３】特表２００２−５２６８０１号公報
【特許文献４】特表２００４−５３１７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑み、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、高い安全性を有する合わせガラスを製造できる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層上に部分的に形成された熱可塑性樹脂を含有する接着層とを有する合わせガラス用中間膜であって、前記エレクトロクロミック層の面積に対する前記接着層の面積が１０〜９０％であり、かつ、前記接着層の最大厚みが５０μｍ以下である合わせガラス用中間膜である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明者は、従来の調光体を合わせガラス用中間膜として用いた場合に、ガラス板との密着性が低い原因について検討した。その結果、調光体を構成するエレクトロクロミック層と、ガラス板の表面の導電膜との密着性が低いことが原因であることを見出した。
これに対して本発明者は、エレクトロクロミック層の表面に接着層を設けることにより、エレクトロクロミック層と導電膜との密着性を向上させることを検討した。しかしながら、エレクトロクロミック層の表面に接着層を設けると、エレクトロクロミック性が低下し、電圧を印加しても光の透過率を変化させることができなくなるという問題があった。
そこで本発明者は、エレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積が一定の範囲になるように部分的に接着層を設け、かつ、該接着層の最大厚さを一定の範囲にすることにより、エレクトロクロミック性に影響することなく導電膜に対する密着性を向上できることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】
本発明の合わせガラス用中間膜は、電解質層と、該電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック層と、該エレクトロクロミック層上に部分的に形成された接着層とを有する。
上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。
上記電解質層は、支持電解質塩とバインダー樹脂とを含有することが好ましい。例えば、上記電解質層は、バインダー樹脂と支持電解質塩とを含有する樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。
【００１１】
上記電解質層は、更に、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することが好ましい。上記電解質層に上記特定の構造を有する化合物を添加することにより、更に応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い合わせガラス用中間膜が得られる。
【００１２】
【化１】
2011144105.tif 000002
【００１３】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【００１４】
【化２】
2011144105.tif 000003
【００１５】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００１６】
上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物は、単独で用いてもよく、併用してもよい。なかでも、耐久性が向上し、かつ、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記式（１）で表される化合物を含有することが好ましい。
【００１７】
上記式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ１は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００１８】
上記式（１）中のＲ１を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００１９】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００２０】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００２１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００２２】
上記式（１）中のＲ１が炭素数１〜８の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数１〜８の有機基は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
上記式（１）中のＲ１を表す炭素数１〜８の有機基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は７である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は６であり、更に好ましい下限は４、更に好ましい上限は５である。
【００２３】
上記炭素数１〜８の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００２４】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。
【００２５】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基であることが特に好ましい。
【００２６】
上記式（１）中、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表す。上記プロピレン基はｎ−プロピレン基であってもよく、イソプロピレン基であってもよい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、Ｒ２はエチレン基であることが好ましい。
【００２７】
上記式（１）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ３は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００２８】
上記式（１）中のＲ３を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００２９】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３０】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００３１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
上記式（１）中のＲ３が炭素数１〜８の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数１〜８の有機基は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
上記式（１）中のＲ３を表す炭素数１〜８の有機基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は７である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は６であり、更に好ましい下限は４、更に好ましい上限は５である。
【００３２】
上記炭素数１〜８の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３３】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。
【００３４】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い合わせガラス用中間膜が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基であることが特に好ましい。
【００３５】
上記式（１）において、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。これにより、上記バインダー樹脂との高い相溶性が得られる。なかでも、Ｒ１は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表すことがより好ましい。
【００３６】
上記式（１）で表される化合物の具体例を下記式（１−１）〜（１−２８）に示す。
【００３７】
【化３−１】
2011144105.tif 000004
【化３−２】
2011144105.tif 000005
【化３−３】
2011144105.tif 000006
【００３８】
上記式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記式（２）中のＲ４を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００３９】
上記式（２）中、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性が更に向上することから、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【００４０】
上記式（２）中のＲ５を表す炭素数２〜８のアルキレン基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３〜７であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４１】
上記式（２）中のＲ５を表す炭素数６〜１２のアリーレン基の炭素数の好ましい上限は１０である。上記炭素数が１０以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい上限は８である。
【００４２】
上記式（２）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記式（２）中のＲ６を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い合わせガラス用中間膜が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４３】
上記式（２）で表される化合物の具体例を下記式（２−１）に示す。
【００４４】
【化４】
2011144105.tif 000007
【００４５】
上記電解質層中における上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は１５重量部、好ましい上限は２００重量部である。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量が１５重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量が２００重量部以下であると、合わせガラスの耐貫通性が高くなる。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量のより好ましい下限は３０重量部、更に好ましい下限は４０重量部、特に好ましい下限は６０重量部であり、より好ましい上限は１５０重量部、更に好ましい上限は１２０重量部、特に好ましい上限は１００重量部である。
【００４６】
上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。
なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。
【００４７】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００４８】
上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３重量部、好ましい上限は６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３〜６０重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、更に好ましい下限は２０重量部であり、より好ましい上限は５０重量部、更に好ましい上限は４０重量部である。
【００４９】
上記電解質層は溶媒を含有することが好ましい。上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン化合物や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル化合物や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
また、上記溶媒として、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート等のジエステル化合物を使用してもよい。
【００５０】
上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。上記溶媒の配合量が３０重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記溶媒の配合量が１５０重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は５０重量部、より好ましい上限は１００重量部である。
【００５１】
上記バインダー樹脂は特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
上記バインダー樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。透明性が高い電解質層が得られることから、ポリビニルアルコールをアセタール化して得られたポリビニルアセタール樹脂が更に好適である。特に、上記ポリビニルアセタール樹脂はポリビニルブチラール樹脂であることが好適である。
【００５２】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、電解質層が白化することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３０ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ  Ｋ  ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００５３】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００以上であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５０００以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。ＧＰＣ法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ  ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。
【００５４】
上記電解質層が上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物を含有する場合には、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを防止できることから、上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ａ」ともいう。）、アセタール化度が７０〜８５モル％であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｂ」ともいう。）、又は、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｃ」ともいう。）であることが好ましい。
【００５５】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａのアセチル基量の好ましい下限は６モル％、好ましい上限は３０モル％である。上記アセチル基量が６モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することをより一層防止することができる。上記アセチル基量が３０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は８モル％、より好ましい上限は２８モル％であり、更に好ましい下限は１０モル％、更に好ましい上限は２５モル％であり、特に好ましい下限は１２モル％、特に好ましい上限は２３モル％である。
【００５６】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限は７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５７】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂのアセタール化度の好ましい下限は７１モル％、好ましい上限は８４モル％である。上記アセタール化度が７１モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８４モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は７２モル％、より好ましい上限は８３モル％であり、更に好ましい下限は７３モル％、更に好ましい上限は８２モル％であり、特に好ましい下限は７４モル％、特に好ましい上限は８１モル％である。
【００５８】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、アセチル基量の好ましい下限が０．１モル％、好ましい上限が２０モル％である。上記アセチル基量が０．１モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセチル基量が２０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は０．５モル％、より好ましい上限は１５モル％であり、更に好ましい下限は０．８モル％、更に好ましい上限は８モル％であり、特に好ましい下限は１モル％、特に好ましい上限は７モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５９】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａ及びポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数１〜１０のアルデヒドであることが好ましく、炭素数４又は５のアルデヒドであることがより好ましい。
【００６０】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られる。上記炭素数が６以上のアルデヒドは特に限定されないが、例えば、ｎ−ヘキシルアルデヒド、ｎ−オクチルアルデヒド、ｎ−ノニルアルデヒド、又は、ｎ−デシルアルデヒド等が挙げられる。
【００６１】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限が７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
【００６２】
上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム粒子、アンチモンドープ酸化錫粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛粒子、六ホウ化ランタン粒子、アンチモン酸亜鉛粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
【００６３】
上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。
上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、マグネシウム塩等が挙げられる。なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びマグネシウム塩が好適であり、具体的には例えば、ビス（酢酸）マグネシウム、酢酸カリウム、ビス（プロピオン酸）マグネシウム、プロピオン酸カリウム、ビス（２−エチルブタン酸）マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、ビス（２−エチルヘキサン酸）マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。上記電解質層にバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、上記電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。
【００６４】
上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、上記電解質層は、上記支持電解質塩と、上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物と、上記バインダー樹脂として、熱可塑性樹脂とを含有することが好ましい。上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等の液状可塑剤が挙げられる。
例えば、上記液状可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。
【００６５】
上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．０１〜３．０ｍｍであると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．１ｍｍ、より好ましい上限は２．０ｍｍ、更に好ましい下限は０．３ｍｍ、更に好ましい上限は１．０ｍｍである。
【００６６】
上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒、上記式（１）で表される化合物（１）又は上記式（２）で表される化合物（２）に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。
【００６７】
上記エレクトロクロミック層に含有されるエレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック性を有する化合物であれば特に限定されず、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよい。なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
【００６８】
上記エレクトロクロミック性を有する無機化合物は、例えば、Ｍｏ２Ｏ３、Ｉｒ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５、ＷＯ３等が挙げられる。
上記エレクトロクロミック性を有する有機化合物は、例えば、ポリピロール化合物、ポリアセチレン化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。
【００６９】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。
【００７０】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。
上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。
上記芳香族側鎖を構成する置換基として、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフタレン基、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基及びペリレン基からなる群より選択される少なくとも１種の置換基を有することが好ましい。なかでも、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなることから、上記芳香族側鎖を構成する置換基は、ナフチル基、ナフタレン基、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基又はペリレン基であることが好ましく、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基又はペリレン基であることがより好ましく、フェナントレン基であることが更に好ましい。
なお、上記芳香族側鎖を構成する置換基の一部の水素原子は、水素原子以外の原子又は原子団に置換されていてもよい。
【００７１】
上記エレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００７２】
上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は５μｍである。上記エレクトロクロミック層の厚さが０．０５〜５μｍであると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は２μｍであり、更に好ましい下限は０．２μｍ、更に好ましい上限は１μｍである。
【００７３】
上記接着層は、上記エレクトロクロミック層の導電膜に対する密着性を向上させる役割を有する。
上記接着層は、熱可塑性樹脂を含有する。上記接着層は、熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物（以下、「接着層用樹脂組成物」ともいう。）を用いて形成されることが好ましい。
上記接着層に含有される熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。透明性が高い接着層が得られることから、炭素数が４又は５のアルデヒドによりポリビニルアルコールをアセタール化して得られたポリビニルアセタール樹脂が更に好適である。特に、上記ポリビニルアセタール樹脂はポリビニルブチラール樹脂であることが好適である。
【００７４】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、合わせガラス用中間膜が白化することがある
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３５ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、接着層の透明性が低下することがある。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量の好ましい上限は３０ｍｏｌ％である。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ  Ｋ  ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００７５】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００未満であると、上記接着層の形状を維持できないことがあり、５０００を超えると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。
【００７６】
上記接着層は、更に、上記式（１）で表される化合物、上記式（２）で表される化合物（２）又は可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤を含有することにより、上記接着層が柔軟になり、上記エレクトロクロミック層の導電膜に対する密着性をより向上させることができる。
上記可塑剤は特に限定されず、例えば、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等が挙げられる。
【００７７】
上記接着層中における上記可塑剤の配合量は特に限定されないが、上記熱可塑性樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。上記可塑剤の配合量が３０〜１５０重量部であると、より高い安全性を有する合わせガラスを製造できる。上記可塑剤の配合量のより好ましい下限は５０重量部、より好ましい上限は１００重量部である。
【００７８】
上記接着層は、更に、支持電解質塩を含有することが好ましい。支持電解質塩を含有することにより、上記接着層にイオン伝導性が付与され、上記接着層によって合わせガラスのエレクトロクロミック性が低下するのを防止することができる。
上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。
なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。
【００７９】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００８０】
上記接着層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記熱可塑性樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３重量部、好ましい上限は６０重量部である。
上記支持電解質塩の配合量が３〜６０重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、更に好ましい下限は２０重量部であり、より好ましい上限は５０重量部、更に好ましい上限は４０重量部である。
【００８１】
上記接着層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記エレクトロクロミック層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記エレクトロクロミック層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００８２】
上記接着層は、上記エレクトロクロミック層上に部分的に形成されている。上記接着層を上記エレクトロクロミック層の全面に形成すると、導電膜に対する密着性は向上するものの、エレクトロクロミック性が著しく低下してしまう。上記接着層を部分的に形成することにより、エレクトロクロミック性を損なうことなく、導電膜に対する密着性を向上させることができる。
上記部分的に形成された接着層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。
【００８３】
上記エレクトロクロミック層の面積に対する上記接着層の面積の下限は１０％、上限は９０％である。上記接着層の面積が１０％未満であると、充分な密着性の向上効果が得られず、９０％を超えると、エレクトロクロミック性が低下して、電圧を印加しても光の透過率がほとんど変化しなくなる。上記接着層の面積の好ましい下限は２０％、好ましい上限は８０％であり、より好ましい下限は３０％、より好ましい上限は７０％である。
なお、エレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積Ｘ（％）は、以下の式で表される。
Ｘ（％）＝（Ａｍｍ２）／（１０ｍｍ２）×１００
接着層を形成した後のエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察し、接着層が形成された任意の１０箇所（１ｍｍ２／１箇所）における、接着層の存在する合計面積Ａ（ｍｍ２）を測定し、接着層の面積Ｘ（％）を算出する。
【００８４】
上記接着層の最大厚みの上限は５０μｍである。上記接着層の最大厚みが５０μｍを超えると、エレクトロクロミック性が低下して、電圧を印加しても光の透過率がほとんど変化しない部分が生じる。上記接着層の最大厚みの好ましい上限は２０μｍであり、より好ましい上限は１５μｍであり、更に好ましい上限は１０μｍであり、特に好ましい上限は５μｍである。
なお、上記接着層の最大厚みとは、接着層を形成した後に接着層を３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製「ＬＥＸＴ  ＯＬＳ４０００」）により測定した時の接着層の厚みの最大値を意味する。
【００８５】
上記接着層を形成する方法は特に限定されず、例えば、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスクリーン印刷によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法や、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスプレー照射機によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法等が挙げられる。
【００８６】
本発明の合わせガラス用中間膜は、上記電解質層、エレクトロクロミック層、接着層以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、熱線吸収剤を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。
【００８７】
本発明の合わせガラス用中間膜は、表面にエンボスが形成されていることが好ましい。
上記エンボスの粗さは特に限定されないが、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で定義される十点平均粗さの好ましい下限が２０μｍ、好ましい上限が５０μｍである。
【００８８】
本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。
上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の合わせガラス用中間膜を挟持した合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
【００８９】
上記ガラス板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されている。本発明の合わせガラスにおいて本発明の合わせガラス用中間膜は、上記ガラス板の導電膜が形成された面に接するように２枚のガラス板の間に挟持される。
上記導電膜は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等を含む透明導電膜が好ましい。
【００９０】
本発明の合わせガラスの面密度は特に限定されないが、１２ｋｇ／ｍ２以下であることが好ましい。
本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。
【発明の効果】
【００９１】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、高い安全性を有する合わせガラスを製造できる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００９２】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。
【００９３】
（実施例１）
（１）電解質層の調製
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）２．３８ｇにビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）０．６７ｇを溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）５．００ｇとを混合して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートに挟み、厚さ４００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、厚さ４００μｍの電解質層を得た。
【００９４】
（２）エレクトロクロミック層の調製
ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）０．０３９１５ｇを１．３０５ｇのトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層上に、トルエンが揮発した後の厚さが０．３μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥してエレクトロクロミック層を形成した。
【００９５】
（３）接着層の調製
平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）７．８７ｇ、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）５．１ｇ及びビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）１．５６ｇをエタノール４５ｇに溶解して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を、エレクトロクロミック層上へ、スクリーン印刷法を用いて、３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製「ＬＥＸＴ  ＯＬＳ４０００」）による観察から求めた最大厚みが１０μｍ、エレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積が５０％となるように網目状に印刷し、乾燥して接着層を形成して、合わせガラス用中間膜を得た。
なお、エレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積Ｘ（％）は、以下の式で算出した。
Ｘ（％）＝（Ａｍｍ２）／（１０ｍｍ２）×１００
接着層を形成した後のエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察し、接着層が形成された任意の１０箇所（１ｍｍ２／１箇所）における、接着層の存在する合計面積Ａ（ｍｍ２）を測定し、接着層の面積Ｘ（％）を算出した。
【００９６】
（４）合わせガラス及び密着性評価用サンプルの製造
得られた合わせガラス用中間膜を、縦５ｃｍ×横５ｃｍのサイズ、縦２ｃｍ×横１１ｃｍのサイズにそれぞれ切断した。
縦５ｃｍ×横５ｃｍに切断された合わせガラス用中間膜を、縦５ｃｍ×横５ｃｍの一対のＩＴＯガラス（表面抵抗１２０Ω）で、合わせガラス用中間膜がそれぞれの透明導電膜と接するように挟み込んで積層した。得られた積層体を、９０℃の真空ラミネーターで圧着し、圧着後１４０℃、１４ＭＰａの条件でオートクレーブを行い、合わせガラスを得た。
一方、縦２ｃｍ×横１１ｃｍに切断した合わせガラス用中間膜を、縦２ｃｍ×横１１ｃｍのＩＴＯガラス（表面抵抗１２０Ω）とポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムとで、接着層側がＩＴＯガラスの透明導電膜と接するように挟み込んで積層した。得られた積層体を、９０℃の真空ラミネーターで圧着し、圧着後１４０℃、１４ＭＰａの条件でオートクレーブを行い、密着性評価用サンプルを得た。
【００９７】
（実施例２〜４、比較例１〜４）
接着層の最大厚みとエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積（％）とを、表１に記載したように変更した以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【００９８】
（実施例５）
（１）電解質層の調製において、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−ｎ−ブチレートを用いた以外は実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【００９９】
（実施例６）
（１）電解質層の調製及び（３）接着層の調製において、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−ｎ−ブチレートを用いた以外は実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【０１００】
（実施例７）
（３）接着層の調製において、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−ｎ−ブチレートを用いた以外は実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【０１０１】
（実施例８）
（１）電解質層の調製において、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−ｎ−ペンタノエートを用いた以外は実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【０１０２】
（実施例９）
（３）接着層の調製において、平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２０ｍｏｌ％）を用いた以外は実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【０１０３】
（実施例１０）
（３）接着層の調製において、平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量０．８ｍｏｌ％、水酸基量３１ｍｏｌ％）を用いた以外は実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び密着性評価用サンプルを得た。
【０１０４】
（評価）
実施例及び比較例で得られた合わせガラス及び密着性評価用サンプルについて、以下の方法で評価を行った。結果を表１に示した。
【０１０５】
（１）エレクトロクロミック性の評価
得られた合わせガラスの、エレクトロクロミック層及び接着層と接している側のＩＴＯガラスに＋の端子、電解質膜と接している側のＩＴＯガラスに−の端子を取り付け、直流化電源と接続した。
完全に着色した状態の合わせガラスの波長６４０ｎｍの光の透過率をＴＣ、完全に消色した状態の合わせガラスの波長６４０ｎｍの光の透過率をＴＢとする。
完全に着色した状態の合わせガラスに＋２Ｖの電圧を印加し、電圧を印加してから、合わせガラスの波長６４０ｎｍの光の透過率がＴＣからＴ１＝ＴＣ＋（ＴＢ−ＴＣ）×０．８にまで変化する時間を測定して、これを消色時間とした。
得られた消色時間が５０秒未満の場合を「◎」、５０秒以上３００秒未満の場合を「○」、３００秒以上又は透過率変化が認められなかった場合を「×」と評価した。
なお、透過率の測定には、日本分光社製の分光光度計「Ｖ−６７０」を用いた。
【０１０６】
（２）密着性の評価
得られた密着性評価用サンプルについて、ＪＩＳ  Ｋ  ６８５４−２に準ずる方法により、透明導電膜と合わせガラス用中間膜との１８０°剥離強度を測定した。試験条件は、温度を２５℃、剥離速度を２００ｍｍ／秒とした。
【０１０７】
【表１】
2011144105.tif 000008
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、高い安全性を有する合わせガラスを製造できる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。