(57)【要約】【課題】本発明は、ハダニ類ばかりでなくセンチュウ類に対しても優れた生物活性を発現し得る新規ピラゾール化合物を提供することを課題とする。【解決手段】ピラゾール環１位に含窒素ヘテロ環、５位にスルホネート基を有する新規なピラゾール化合物が、ハダニ類ばかりでなく、センチュウ類に対しても優れた生物活性を発現することを見出した。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2011219420.tif 000053
［式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
Ｒ２は、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−4アルキル基及びＣ１−4ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
Ｒは、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基、ピラジン−２−イル基、ピリダジン−２−イル基、ピリダジン−３−イル基、トリアジン−２−イル基、チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、オキサゾール−2−イル基、オキサゾール−４−イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、キノリン−２−イル基、イソキノリン−２−イル基又はキノキサリン−２−イル基を示し、各々の含窒素複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。
Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基又は複素環基を示す。
前記Ｑのフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。また、上記フェニル環上の隣接する２個の炭素原子にＣ１−１２アルキル基が置換している場合、これらのアルキル基が互いに結合して飽和の５又は６員環を形成してもよい。
ここで上記Ｒ３は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基及びＣ１−４ハロアルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示し、前記Ｒ４は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基又はベンジル基（ベンジル基のフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
前記Ｑの複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。ここでＲ３及びＲ４は前記に同じ。] で表されるピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
【請求項２】
ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｒがピリジン−２−イル基、ピラジン−２−イル基又はチアゾール−２−イル基を示す化合物である請求項１に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
【請求項３】
ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｒ１が水素原子又はハロゲン原子を示す化合物である請求項１又は２に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
【請求項４】
ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｒ２がＣ１−４アルキル基を示す化合物である請求項１〜３のいずれか１項に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
【請求項５】
ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｑが、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、シアノ基、フェニル基又は複素環基である請求項１〜４のいずれか１項に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
【請求項６】
一般式（１）
【化２】
2011219420.tif 000054
［式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
Ｒ２は、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−4アルキル基及びＣ１−4ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
Ｒは、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基、ピラジン−２−イル基、ピリダジン−２−イル基、ピリダジン−３−イル基、トリアジン−２−イル基、チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、オキサゾール−2−イル基、オキサゾール−４−イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、キノリン−2−イル基、イソキノリン−２−イル基又はキノキサリン−２−イル基を示し、各々の含窒素複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。
Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基又は複素環基を示す。
前記Ｑのフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。また、上記フェニル環上の隣接する２個の炭素原子にＣ１−１２アルキル基が置換している場合、これらのアルキル基が互いに結合して飽和の５又は６員環を形成してもよい。
ここで前記Ｒ３は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基及びＣ１−４ハロアルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示し、前記Ｒ４は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基又はベンジル基（ベンジル基のフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
前記Ｑの複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。ここでＲ３及びＲ４は前記に同じ。] で表されるピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドの製造方法であって、一般式（２）
【化３】
2011219420.tif 000055
［式中、Ｒ、Ｒ１及びＱは、前記に同じ] で表される５−ヒドロキシピラゾール化合物と一般式（３）
【化４】
2011219420.tif 000056
［式中、Ｒ２は、前記に同じ。Ｘは、ハロゲン原子を示す。] で表されるスルホニルハライド又は一般式（４）
【化５】
2011219420.tif 000057
［式中、Ｒ２は、前記に同じ。] で表されるスルホン酸無水物とを反応させるピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドを含有する有害生物防除剤。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドを含有する殺ダニ剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なピラゾール化合物、その製造方法及び有害生物防除剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、農園芸分野では、各種害虫の防除を目的とした殺虫・殺ダニ剤が開発、実用化されている。しかしながら、薬剤抵抗性を獲得した害虫の出現が問題となっており、それらの害虫防除が年々困難になっている。
【０００３】
また、害虫が未だ抵抗性を獲得していない殺虫・殺ダニ剤（例えば、DDTやBHC等の有機ハロゲン系農薬、アルドリン、ディルドリン等の塩素化環状ジエン系農薬等）もあるが、毒性及び環境汚染等の観点から問題を有している。従って、抵抗性の各種害虫に対しても効果があり、毒性及び環境面への配慮がなされた新規な殺虫・殺ダニ剤の開発が切望されている。
【０００４】
本発明のピラゾール環１位がヘテロ環、５位がスルホネート基で置換された化合物は、報告例が極めて少なく、医薬品関連の特許（特許文献１〜３参照）に記載された合成中間体とピラゾール誘導体のスペクトル解析や構造決定に関する文献（非特許文献１〜３参照）に記載された化合物の報告のみであり、有害生物防除剤（殺虫・殺ダニ剤）に関する報告は全く知られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】WO2008/121861号公報
【特許文献２】WO2008/047198号公報
【特許文献３】WO2009/041705号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Kemiai Kozlemenyek, 54(2-3), 313-320 (1980)
【非特許文献２】Journal of Heterocyclic Chemistry, 17(4), 781-783 (1980)
【非特許文献３】Journal of Molecular Structure, 60, 43-48 (1980)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ハダニ類ばかりでなくセンチュウ類に対しても優れた生物活性を発現し得る新規ピラゾール化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ピラゾール環１位に含窒素ヘテロ環、５位にスルホネート基を有する新規なピラゾール化合物の合成に成功し、該化合物が、ハダニ類ばかりでなく、センチュウ類に対しても優れた生物活性を発現することを見出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。
【０００９】
本発明は、下記項１〜８に示すピラゾール化合物、その製造方法及び有害生物防除剤を提供する。
項１．一般式（１）
【００１０】
【化１】
2011219420.tif 000002
【００１１】
［式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
【００１２】
Ｒ２は、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−4アルキル基及びＣ１−4ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
【００１３】
Ｒは、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基、ピラジン−２−イル基、ピリダジン−２−イル基、ピリダジン−３−イル基、トリアジン−２−イル基、チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、オキサゾール−2−イル基、オキサゾール−４−イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、キノリン−2−イル基、イソキノリン−２−イル基又はキノキサリン−２−イル基を示し、各々の含窒素複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。
【００１４】
Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基又は複素環基を示す。
【００１５】
前記Ｑのフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。また、上記フェニル環上の隣接する２個の炭素原子にＣ１−１２アルキル基が置換している場合、これらのアルキル基が互いに結合して飽和の５又は６員環を形成してもよい。
【００１６】
ここで上記Ｒ３は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基及びＣ１−４ハロアルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示し、前記Ｒ４は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基又はベンジル基（ベンジル基のフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
【００１７】
前記Ｑの複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。ここでＲ３及びＲ４は前記に同じ。] で表されるピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
項２．ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｒがピリジン−２−イル基、ピラジン−２−イル基又はチアゾール−２−イル基を示す化合物である項１に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
項３．ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｒ１が水素原子又はハロゲン原子を示す化合物である項１又は２に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
項４．ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｒ２がＣ１−４アルキル基を示す化合物である項１〜３のいずれか１項に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
項５．ピラゾール化合物が、一般式（１）において、Ｑが、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、シアノ基、フェニル基又は複素環基である項１〜４のいずれか１項に記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシド。
項６．一般式（１）
【００１８】
【化２】
2011219420.tif 000003
【００１９】
［式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
【００２０】
Ｒ２は、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−4アルキル基及びＣ１−4ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）、ベンジル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
【００２１】
Ｒは、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基、ピラジン−２−イル基、ピリダジン−２−イル基、ピリダジン−３−イル基、トリアジン−２−イル基、チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、オキサゾール−2−イル基、オキサゾール−４−イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、キノリン−2−イル基、イソキノリン−２−イル基又はキノキサリン−２−イル基を示し、各々の含窒素複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。
【００２２】
Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基又は複素環基を示す。
前記Ｑのフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。また、上記フェニル環上の隣接する２個の炭素原子にＣ１−１２アルキル基が置換している場合、これらのアルキル基が互いに結合して飽和の５又は６員環を形成してもよい。
【００２３】
ここで前記Ｒ３は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基及びＣ１−４ハロアルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示し、前記Ｒ４は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基又はベンジル基（ベンジル基のフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す。
【００２４】
前記Ｑの複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１８アルキニル基、Ｃ２−６ハロアルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、基−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基及び複素環基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。ここでＲ３及びＲ４は前記に同じ。] で表されるピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドの製造方法であって、一般式（２）
【００２５】
【化３】
2011219420.tif 000004
【００２６】
［式中、Ｒ、Ｒ１及びＱは、前記に同じ] で表される５−ヒドロキシピラゾール化合物と一般式（３）
【００２７】
【化４】
2011219420.tif 000005
【００２８】
［式中、Ｒ２は、前記に同じ。Ｘは、ハロゲン原子を示す。] で表されるスルホニルハライド又は一般式（４）
【００２９】
【化５】
2011219420.tif 000006
【００３０】
［式中、Ｒ２は、前記に同じ。] で表されるスルホン酸無水物とを反応させるピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドの製造方法。
項７．項１〜５のいずれかに記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドを含有する有害生物防除剤。
項８．項１〜５のいずれかに記載のピラゾール化合物及びそのＮ−オキシドを含有する殺ダニ剤。
本明細書において示される各基は、具体的には以下のものを挙げることができる。
【００３１】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
【００３２】
Ｃ１−４アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００３３】
Ｃ１−６アルキル基としては、前記Ｃ１−４アルキル基で例示した基に加えて、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００３４】
Ｃ１−１２アルキル基としては、前記Ｃ１−６アルキル基で例示した基に加えて、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、イソデシル基、ｎ−ウンデシル基、イソウンデシル基、ｎ−ドデシル基、イソドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００３５】
フェニル環上の隣接する２個の炭素原子にＣ１−１２アルキル基が置換し、これらのアルキル基が互いに結合して形成する飽和の５又は６員環としては、例えば、シクロペンタン環やシクロヘキサン環が挙げられ、フェニル環と縮環してそれぞれ、インダン環又はテトラヒドロナフタレン環を形成する。
【００３６】
Ｃ１−４ハロアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−ヨードエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、１−フルオロイソプロピル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、３−ブロモプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル、ノナフルオロブチル基等の１〜９個、好ましくは１〜６個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００３７】
Ｃ１−６ハロアルキル基としては、前記Ｃ１−４ハロアルキル基で例示した基に加えて、５，５，５−トリフルオロペンチル基、５−クロロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、６−クロロヘキシル基、トリデカフルオロヘキシル基等の１〜１３個、好ましくは１〜９個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００３８】
Ｃ１−１２ハロアルキル基としては、前記Ｃ１−６ハロアルキル基で例示した基に加えて、１−フルオロヘプチル基、１−フルオロオクチル基、１−フルオロウンデシル基、１−フルオロドデシル基等の１〜１３個、好ましくは１〜９個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜１２の直鎖状ハロアルキル基が挙げられる。
【００３９】
Ｃ３−８シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜８の環状アルキル基が挙げられる。
【００４０】
Ｃ２−６アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１，３−ブタジエニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、１−エチル−２−プロペニル基、１−メチル−２−ブテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１，１−ジメチル−２−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基等の任意の位置に少なくとも１つの二重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基が挙げられる。
【００４１】
Ｃ２−６ハロアルケニル基としては、例えば、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジブロモビニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−アリル基、３，３−ジクロロ−２−アリル基、４−クロロ−２−ブテニル基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、４，４，４−トリクロロ−３−ブテニル基、５−クロロ−３−ペンテニル基、６−フルオロ−２−ヘキセニル基等の任意の位置に少なくとも１つの二重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基であって、１〜１３個、好ましくは１〜７個のハロゲン原子で置換されたアルケニル基が挙げられる。
【００４２】
Ｃ２−６アルキニル基としては、例えば、エチニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１−メチル−３−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−３−ブチニル基、１−メチル−３−ペンチニル基、１−メチル−４−ペンチニル基等の任意の位置に少なくとも１つの三重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキニル基が挙げられる。
【００４３】
Ｃ２−１８アルキニル基としては、前記Ｃ２−６アルキニル基で例示した基に加えて、１−ヘプチニル基、１−オクチニル基、２−シクロペンチニル基、２−シクロヘキシニル基、１−デカニル基、１−オクタドデニル基、１−オクタデカニル基等の任意の位置に少なくとも１つの三重結合を有する炭素数２から１８の直鎖状、環状又は分岐鎖状のアルキニル基が挙げられる。
【００４４】
Ｃ２−６ハロアルキニル基としては、２−フルオロエチニル基、２−ブロモエチニル基、２−クロロエチニル基、２−ヨードエチニル基、３−クロロ−１−プロピニル基、１−クロロ−２−プロピニル基、３−クロロ−１−メチル−２−プロピニル基、４−クロロ−１−ブチニル基、４−クロロ−２−ブチニル基、４−クロロ−３−ブチニル基、３−クロロ−１−ペンチニル基、５,５,５−トリフルオロ−３−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、４−クロロ−１−メチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−４−クロロ−２−ブチニル基、１−メチル−５−クロロ−３−ペンチニル基、１−メチル−５，５，５−トリフルオロ−２−ペンチニル基等の任意の位置に少なくとも１つの三重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキニル基であって、１〜９個、好ましくは１〜５個のハロゲン原子で置換されたアルケニル基が挙げられる。
【００４５】
複素環基としては、例えば、チエニル、フリル、テトラヒドロフリル、ジオキソラニル、ジオキサニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、オキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソキサゾリニル、チアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリニル、ピラゾリル、ピラゾリジニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、オキサジアゾリル、オキサジアゾリニル、チアジアゾリニル、トリアゾリル、トリアゾリニル、トリアゾリジニル、テトラゾリル、テトラゾリニル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、ピペリジル、オキサジニル、ジヒドロオキサジニル、モルホリノ、チアジニル、ジヒドロチアジニル、チアモルホリノ、ピリダジニル、ジヒドロピリダジニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリダジニル、オキサジアジニル、ジヒドロオキサジアジニル、テトラヒドロオキサジアジニル、チアジアゾリル、チアジアジニル、ジヒドロチアジアジニル、テトラヒドロチアジアジニル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、テトラヒドロピリミジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、テトラヒドロピラジニル、ピペラジニル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、テトラヒドロトリアジニル、ヘキサヒドロトリアジニル、テトラジニル、ジヒドロテトラジニル、インドリル、インドリニル、イソインドリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリル、テトラヒドロキナゾリル、カルバゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサゾリニル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾイソチアゾリニル、ベンゾイミダゾリル、インダゾリニル、キノリニル、ジヒドロキノリニル、テトラヒドロキノリニル、イソキノリニル、ジヒドロイソキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、ピリドインドリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、シンノリニル、ジヒドロシンノリニル、テトラヒドロシンノリル、フタラジニル、ジヒドロフタラジニル、テトラヒドロフタラジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、テトラヒドロキノキサリニル、プリニル、ジヒドロベンゾトリアジニル、ジヒドロベンゾテトラジニル、フェノチアジニルフラニル、ベンゾフラニル、クロマニル、ベンゾチエニル等が挙げられる。これら複素環基は置換可能な任意の位置にオキソ体又はチオケトン体となっているものも含むことができ、また、これら複素環基は置換可能な任意の位置に適当な置換基、例えばハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、置換基を有する複素環基（具体的には、３−クロロピリジン−２−イル基、５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル基、４−メチル−１,３−チアゾール基等）等が１乃至５個（好ましくは１乃至３個）置換しても良い。
【００４６】
これら複素環の中でも、チエニル、フリル、クロマニル、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、イソキサゾリニル、ピリミジニル、ピラジニル及びピリダジニルが好ましく、チエニル、クロマニル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、チアゾリル、イソキサゾリル及びイソキサゾリニルが特に好ましい。
【００４７】
Ｃ１−４アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が挙げられる。
【００４８】
Ｃ１−４ハロアルコキシ基としては、例えば、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、ヨードメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、ジクロロフルオロメトキシ基、１−フルオロエトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２−クロロエトキシ基、２−ブロモエトキシ基、２−ヨードエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、１−フルオロイソプロポキシ基、３−フルオロプロポキシ基、３−クロロプロポキシ基、３−ブロモプロポキシ基、４−フルオロブトキシ基、４−クロロブトキシ基等の１〜９個、好ましくは１〜５個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が挙げられる。
【００４９】
Ｃ１−４アルコキシカルボニル基としては、例えば、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基とカルボニル基とが結合した基であって、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等が包含される。
【００５０】
Ｃ１−４アルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基（アセチル基）、エチルカルボニル基（プロピオニル基）、ｎ−プロピルカルボニル基（ブチリル基）、イソプロピルカルボニル基（イソブチリル基）、ｎ−ブチルカルボニル基（バレリル基）、イソブチルカルボニル基（イソバレリル基）、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルカルボニル基が挙げられる。
【００５１】
Ｃ１−４ハロアルコキシカルボニル基としては、例えば、フルオロメトキシカルボニル基、クロロメトキシカルボニル基、ブロモメトキシカルボニル基、ヨードメトキシカルボニル基、ジクロロメトキシカルボニル基、トリクロロメトキシカルボニル基、ジフルオロメトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、クロロジフルオロメトキシカルボニル基、ブロモジフルオロメトキシカルボニル基、ジクロロフルオロメトキシカルボニル基、１−フルオロエトキシカルボニル基、２−フルオロエトキシカルボニル基、２−クロロエトキシカルボニル基、２−ブロモエトキシカルボニル基、２−ヨードエトキシカルボニル基、２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ペンタフルオロエトキシカルボニル基、１−フルオロイソプロピルオキシカルボニル基、３−フルオロプロピルオキシカルボニル基、３−クロロプロピルオキシカルボニル基、３−ブロモプロピルオキシカルボニル基、４−フルオロブチルオキシカルボニル基、４−クロロブチルオキシカルボニル基等の１〜９個、好ましくは１〜５個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシカルボニル基が挙げられる。
【００５２】
Ｃ１−４アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、シクロプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルチオ基が挙げられる。
【００５３】
Ｃ１−４アルキルスルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基、イソプロスルフィニル基、シクロプロピルスルフィニル基、ｎ−ブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルスルフィニル基が挙げられる。
【００５４】
Ｃ１−４アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロスルホニル基、シクロプロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルスルホニル基が挙げられる。
【００５５】
Ｃ１−４ハロアルキルカルボニル基としては、例えば、フルオロメチルカルボニル基、クロロメチルカルボニル基、ブロモメチルカルボニル基、ヨードメチルカルボニル基、ジクロロメチルカルボニル基、トリクロロメチルカルボニル基、ジフルオロメチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、クロロジフルオロメチルカルボニル基、ブロモジフルオロメチルカルボニル基、ジクロロフルオロメチルカルボニル基、１−フルオロエチルカルボニル基、２−フルオロエチルカルボニル基、２−クロロエチルカルボニル基、２−ブロモエチルカルボニル基、２−ヨードエチルカルボニル基、２，２，２−トリフルオロエチルカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、１−フルオロイソプロピルカルボニル基、３−フルオロプロピルカルボニル基、３−クロロプロピルカルボニル基、３−ブロモプロピルカルボニル基、４−フルオロブチルカルボニル基、４−クロロブチルカルボニル基等の１〜９個、好ましくは１〜５個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルカルボニル基が挙げられる。
【００５６】
モノもしくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル基、Ｎ−エチルアミノカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００５７】
ピラゾール化合物
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物は、ピラゾール環５位にスルホネート基を有する構造上新規な化合物である。
【００５８】
【化６】
2011219420.tif 000007
【００５９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ及びＱは前記に同じ。］
【００６０】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物の中でも、Ｒ１が水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−３アルキル基又はベンゾイル基（フェニル環上には、ハロゲン原子を１乃至５個置換していてもよい）を示す化合物が好ましく、更には、Ｒ１が水素原子を示す化合物が特に好ましい。
【００６１】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物の中でも、Ｒ２がＣ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、モノ又はジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−4アルキル基及びＣ１−4ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）又はフェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−6アルキニル基、Ｃ２−6ハロアルキニル基、Ｃ１−６アルコキシ基及びＣ１−４ハロアルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）を示す化合物が好ましく、更には、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基又はＣ２−6アルケニル基を示す化合物が特に好ましい。
【００６２】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物の中でも、Ｒがピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基、ピラジン−２−イル基、チアゾール−２−イル基又はトリアゾリル基を示す化合物が好ましく、更には、ピリジン−２−イル基、ピリミジン−２−イル基又はピラジン−２−イル基を示す化合物が特に好ましい。
【００６３】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物の中でも、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、モノ又はジ（Ｃ１−６アルキル）アミノカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基［フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ２−１２アルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４アルキニル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４ハロアルコキシ基、Ｃ１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基、Ｃ１−４ハロアルキルカルボニル基、基、−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）｛Ｒ３は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｒ４は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−6ハロアルケニル基、Ｃ３−6アルキニル基、Ｃ３−6ハロアルキニル基、フェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）、ベンジル基（ベンジル基のフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基及びＣ１−４アルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）｝、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基及びＣ３−８シクロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。）］又は複素環基（複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基及びＣ３−８シクロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。）を示す化合物が好ましく、更には、Ｃ１−６ハロアルキル基、シアノ基、フェニル基［フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−４ハロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、Ｃ２−１２アルキニル基、Ｃ１−４アルコキシＣ１−４アルキニル基、−Ｃ（Ｒ３）＝ＮＯ（Ｒ４）｛Ｒ３は、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロアルキル基、Ｒ４は、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ２−6アルケニル基、フェニル基（フェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）ベンジル基（ベンジル基のフェニル環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基及びＣ１−４ハロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい）｝、Ｃ１−４アルキルチオ基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、ニトロ基、シアノ基及び複素環基（イソオキサゾリル基、ピラゾリル基を示す化合物が好ましい。複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基及びＣ３−８シクロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上���換してもよい。）からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。］、複素環基（ピラゾリル基、チエニル基、フリル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基又はチアゾリル基を示す化合物が好ましい。複素環上には、ハロゲン原子、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ１−６ハロアルキル基及びＣ３−８シクロアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも１種の置換基が１個以上置換してもよい。）を示す化合物が特に好ましい。
【００６４】
ピラゾール化合物の製造方法
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物は、例えば、下記反応式−１に示す方法により製造される。
反応式−１
【００６５】
【化７】
2011219420.tif 000008
【００６６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ及びＱは、前記に同じ］
【００６７】
反応式−１に示す方法においては、一般式（１）で表されるピラゾール化合物は、一般式（２）で表されるピラゾール化合物と一般式（３）又は一般式（４）で表されるスルホニル化合物とを溶媒中、反応させることにより製造される。
【００６８】
一般式（２）の化合物と一般式（３）又は一般式（４）の化合物との反応で使用される溶媒は、該反応に対して不活性な溶媒である限り公知の溶媒を広く使用することができる。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族もしくは脂環式炭化水素系溶媒、ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ'−ジメチルイミダゾリノン等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることができる。これらの溶媒は、１種を単独で使用でき、又は必要に応じて２種以上を混合して使用することができる。
【００６９】
これらの溶媒は、一般式（２）で表されるピラゾ−ル化合物１重量部に対して、通常１〜５００重量部程度、好ましくは５〜１００重量部程度使用される。
【００７０】
一般式（２）の化合物と一般式（３）又は一般式（４）の化合物との反応は、好ましくは塩基の存在下で行われる。使用される塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を使用できる。無機塩基としては、例えば、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物等が挙げられる。有機塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリジン等のアミン等が挙げられる。これらの塩基は、１種単独で又は２種以上混合して使用される。
【００７１】
このような塩基は、一般式（２）で表されるピラゾール化合物に対して、通常０．１〜１００当量、好ましくは０．５〜５当量、より好ましくは１〜２当量となるような量で使用される。
【００７２】
一般式（２）で表されるピラゾール化合物と一般式（３）又は一般式（４）で表されるスルホニル化合物との使用割合は、広い範囲内から適宜選択することができるが、前者１モルに対して、後者を０．５モル以上使用するのが好ましく、１〜２モル使用するのがより好ましい。
【００７３】
該反応は、通常−７８℃から使用する溶媒の沸点温度までの範囲内で行うことができる。０℃〜使用する溶媒の沸点温度で反応を行うのが好ましく、室温下で反応を行うのがより好ましい。
【００７４】
反応時間は反応温度等により異なり一概には言えないが、通常０．５〜２４時間程度で該反応は完結する。
【００７５】
上記反応式−１において出発原料として用いられる一般式（２）で表されるピラゾール化合物は、公知化合物又は新規化合物であり、例えば、下記反応式−２に示す方法に従って製造される。
【００７６】
反応式−２
【００７７】
【化８】
2011219420.tif 000009
【００７８】
［式中、Ｒ１、Ｒ及びＱは、前記に同じ］
【００７９】
反応式−２に示す方法においては、一般式（２）で表されるピラゾール化合物は、一般式（５）で表されるβ−ケトエステル化合物と一般式（６）で表されるヒドラジン化合物とを溶媒中で反応させることにより製造される。
【００８０】
一般式（５）の化合物と一般式（６）の化合物との反応で使用される溶媒は、該反応に対して不活性な溶媒である限り公知の溶媒を広く使用することができる。例えば、反応式−１で示される反応で使用される溶媒をいずれも使用することができる。これらの溶媒は、１種を単独で使用でき、又は必要に応じて２種以上を混合して使用することができる。
【００８１】
これらの溶媒は、一般式（５）で表されるβ−ケトエステル化合物１重量部に対して、通常１〜５００重量部程度、好ましくは５〜１００重量部程度使用される。
【００８２】
一般式（５）で表されるβ−ケトエステル化合物と一般式（６）で表されるヒドラジン化合物との使用割合は、広い範囲内から適宜選択することができるが、前者１モルに対して、後者を０．５モル以上使用するのが好ましく、１〜２モル使用するのがより好ましい。
【００８３】
該反応は、通常−７８℃から使用する溶媒の沸点温度までの範囲内で行うことができる。０℃〜使用する溶媒の沸点温度で反応を行うのが好ましく、加熱還流下で反応を行うのがより好ましい。
【００８４】
反応時間は反応温度等により異なり一概には言えないが、通常０．５〜２４時間程度で該反応は完結する。
【００８５】
上記各反応で得られる各々の目的化合物は、通常行われている単離手段、例えば有機溶媒抽出法、クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等により、反応混合物から容易に単離され、更に通常の精製手段により精製される。
【００８６】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物は、農業上の有害生物の防除に使用することができ、例えば鱗翅目、半翅目、アザミウマ目、甲虫目等の害虫、ダニ類に好ましく適用することができる。
【００８７】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物は、低薬量でダニ類に対して優れた防除効力を発現する。そのダニ類としては、各種農園芸分野における植物寄生性ダニ類を挙げることができ、例えば、ナミハダニ、ミカンハダニ、カンザワハダニ、リンゴハダニ等のハダニ類；ミカンサビダニ、リュウキュウミカンサビダニ、トマトサビダニ、ニセナシサビダニ等のサビダニ類；チャノホコリダニ、シクラメンホコリダニ等のホコリダニ類；ケナガコナダニ、ロビンネダニ等のコナダニ類が挙げられる。
【００８８】
殺ダニ剤
本発明の有害生物防除剤について、殺ダニ剤を例にとって説明する。
【００８９】
本発明の一般式（１）で表されるピラゾール化合物を殺ダニ剤として使用する場合、他の成分を加えずにそのまま使用してもよいが、通常は液体状、固体状、ガス状等の各種担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤及びその他製剤用補助剤を添加して、油剤、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒剤、粉剤、塗布剤、スプレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロカプセル製剤、燻蒸用製剤、燻煙用製剤等の各種製剤形態に製剤して用いることができる。
【００９０】
これら製剤において、一般式（１）のピラゾール化合物の含有量は、その製剤形態、使用場所等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常０．０１〜９５重量％程度、好ましくは０．１〜５０重量％程度とすればよい。
【００９１】
これら製剤を調製するに当たって用いられる固体状担体としては、例えばカオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等の粘土類、タルク類、セラミック、セライト、石英、硫黄、活性炭、炭酸シリカ、水和シリカ等の無機鉱物、化学肥料等の微粉末、粒状物等が挙げられる。
【００９２】
液状担体としては、例えば水；メタノール、エタノール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン；ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等の脂肪族ないし脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル；ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリノン等の酸アミド；ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、大豆油、綿実油等の植物油等が挙げられる。
【００９３】
ガス状担体としては、一般に噴射剤として用いられているものであり、例えば、ブタンガス、液化石油ガス、ジメチルエーテル、炭酸ガス等が挙げられる。
【００９４】
界面活性剤としては、例えば、非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤等が挙げられる。
【００９５】
非イオン界面活性剤をより具体的に示すと、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の糖エステル型非イオン界面活性剤；ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等の脂肪酸エステル型非イオン界面活性剤；ポリオキシエチレンヒマシ油等の植物油型非イオン界面活性剤；ボリオキシエチレンアルキルエーテル等のアルコール型非イオン界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ８−１２）フェニルエーテル・ホルマリン縮合物等のアルキルフェノール型非イオン界面活性剤；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー等のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー型非イオン界面活性剤；フェニルフェニルエーテル等の多芳香環型非イオン界面活性剤等が挙げられる。
【００９６】
陰イオン界面活性剤をより具体的に示すと、例えば、アルキルベンゼンスルホネート、アルキルスルホサクシネート、アリルスルホネート等のスルホネート型陰イオン界面活性剤；アルキルサルフェート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート等のサルフェート型陰イオン界面活性剤；リグニン亜硫酸塩等が挙げられる。
【００９７】
製剤用補助剤としては、例えば、固着剤、分散剤、増粘剤、防腐剤、凍結防止剤、安定剤、アジュバント等が挙げられる。
【００９８】
固着剤及び分散剤としては、例えば、カゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）等が挙げられる。
【００９９】
増粘剤としては、例えば、キサンタンガム、カルボキシメチルセルロース等の水溶性高分子化合物、高純度ベントナイト、ホワイトカーボン等が挙げられる。
【０１００】
防腐剤としては、例えば、安息香酸ナトリウム、パラヒドロキシ安息香酸エステル等が挙げられる。
【０１０１】
凍結防止剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール等が挙げられる。
【０１０２】
安定剤としては、例えば、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、界面活性剤、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【０１０３】
アジュバントとしては、例えば、大豆油、コーン油等の植物油、マシン油、グリセリン、ポリエチレングリコール等が挙げられる。
【０１０４】
これら製剤は、有機又は無機染料を用いて着色してもよい。
【０１０５】
また、本発明の化合物は、他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、共力剤（例えばピペロニルブトキシド等）、土壌改良剤等と予め混合して製剤化してもよい。或いは、本発明の殺ダニ剤と上記各剤とを、使用の際に併用してもよい。
【０１０６】
本発明化合物を農園芸用殺ダニ剤として用いる場合、その施用量は特に制限されず、製剤の形態、施用方法、施用時期、施用場所、施用作物の種類、防除対象のダニの種類等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択され、通常１００ｍ２当たり０．１ｇ〜１０００ｇ程度、好ましくは１０〜５００ｇ程度である。また、乳剤、水和剤、フロアブル剤等を水で希釈して用いる場合は、その施用濃度は、通常１〜１０００ｐｐｍ程度、好ましくは１０〜５００ｐｐｍ程度である。粒剤、粉剤等は何ら希釈することなく製剤のままで施用される。
【発明の効果】
【０１０７】
一般式（１）で表されるピラゾール化合物は、既存の有害生物防除剤にない、全く新しいタイプの有害生物防除剤であり、特に殺ダニ剤として好適に使用され得る。
【発明を実施するための形態】
【０１０８】
以下に、本発明化合物の製造例、製剤例及び試験例を挙げて、本発明を一層明らかにするが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０９】
製造例
実施例１
1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル ブタン-1-スルホネート（化合物番号：A-4）の合成
【０１１０】
【化９】
2011219420.tif 000010
【０１１１】
１−１．化合物（3）の合成
エチル 4,4,4-トリフルオロ-3-オキソブタノエート（1）9.2g及び2-ヒドラジノピリジン（2）5.5gをトルエン100mlに溶解し、ディーンスターク装置を装着した系内で加熱還流下14時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-オ−ル（3）11.0gを得た。
【０１１２】
１−２．化合物（A-4）の合成
1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-オ−ル（3）230mg及びトリエチルアミン140mgをアセトニトリル50mlに溶解し、0℃にて撹拌しながら1-ブタンスルホニル クロリド220mgのアセトニトリル10ml溶液を滴下し、室温で14時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝7：1）で精製し、1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル ブタン-1-スルホネート（A-4）310mgを得た。
【０１１３】
実施例２
4-メチル-1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル メタンスルホネート（化合物番号：B-1）の合成
【０１１４】
【化１０】
2011219420.tif 000011
【０１１５】
２−１．化合物（7）の合成
エチル2,2,2-トリフルオロアセテート（4）10.0gのテトラヒドロフラン15ml溶液に水素化ナトリウム（60％）3.1gを氷冷下にて加え、室温で撹拌した。15分後、エチル プロピオネート（5）7.9gのテトラヒドロフラン10ml溶液を50℃にて徐々に加え、60℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に1N希塩酸を加え酸性とした後、ジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮することでエチル 4,4,4-トリフルオロ-2-メチル-3-オキソブタノエート（6）を含む液状物を得た。その液状物にトルエン150ml及び2-ヒドラジノピリジン7.0gを加え、ディーンスターク装置を装着した系内で加熱還流下15時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、ヘキサン30mlとジエチルエーテル5mlの混合溶媒に懸濁させ、ろ過することで4-メチル-1-(ピリジン-2-イル)-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール-5-オール（7）6.4gを得た。
【０１１６】
２−２．化合物（B-1）の合成
4-メチル-1-(ピリジン-2-イル)-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール-5-オール（7）300mg及びトリエチルアミン152mgをアセトニトリル50mlに溶解し、0℃にて撹拌しながらメタンスルホニル クロリド150mgのアセトニトリル10ml溶液を滴下し、室温で30分間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣にヘキサン30mlを加え、ろ過することで、4-メチル-1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル メタンスルホネート（B-1）310mgを得た。
【０１１７】
実施例３
4-クロロ-1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（化合物番号：C -1）の合成
【０１１８】
【化１１】
2011219420.tif 000012
【０１１９】
３−１．化合物（8）の合成
実施例-1で合成した1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-オ−ル（3）1.2gをクロロホルム50ｍｌ溶解し、0℃にて撹拌しながらスルフリル クロリド0.8gのクロロホルム10ml溶液を滴下し、そのまま0℃で30分間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ込み、クロロホルムで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、4-クロロ-1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-オール（8）130mgを得た。
【０１２０】
３−２．化合物（C-1）の合成
4-クロロ-1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-オール（8）120mg及びトリエチルアミン58mgをアセトニトリル10mlに溶解し、室温にて撹拌しながらエタンスルホニル クロリド54mgのアセトニトリル10ml溶液を滴下し、室温で30分間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、4-クロロ-1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（C -1）155mgを得た。
【０１２１】
実施例４
1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（化合物番号：D-16）の合成
【０１２２】
【化１２】
2011219420.tif 000013
【０１２３】
４−１．化合物（11）の合成
マロン酸エチルカリウム10.6gと塩化マグネシウム13.7gをアセトニトリル300mlに懸濁させ、氷冷下にて撹拌しながらトリエチルアミン14.6gのアセトニトリル15ml溶液を滴下した。その懸濁液を50℃で5時間撹拌した後、氷冷下にて撹拌しながら4-（トリフルオロメチル）ベンゾイル クロリド10.6gのアセトニトリル10ml溶液を滴下し、室温にて12時間撹拌した。反応終了後、2N希塩酸（200ml）を加え、10分間室温で撹拌した後、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することで、エチル 3-オキソ-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］プロパノエート（10）を含む液状物を得た。その液状物にトルエン250ml及び2-ヒドラジノピリジン6.4gを加え、ディーンスターク装置を装着した系内で加熱還流下15時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、残渣に1N希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をn-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-オール（11）14.1gを得た。
【０１２４】
４−２．化合物（D-16）の合成
1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-オール（11）0.4g及びトリエチルアミン0.16gをアセトニトリル20mlに溶解し、室温にて撹拌しながらエタンスルホニル クロリド0.16gのアセトニトリル10ml溶液を滴下し、室温で1時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をn-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、1-（ピリジン-2-イル）-3-（トリフルオロメチル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（D-16）0.49gを得た。
【０１２５】
実施例５
3-（2,4-ジクロロベンジル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（化合物番号：E-7）の合成
【０１２６】
【化１３】
2011219420.tif 000014
【０１２７】
５−１．化合物（13）の合成
（2,4-ジクロロフェニル）アセチック アシッド（12）1.8g及び塩化チオニル5.2ｇを1,2-ジクロロエタン100mlに溶解し、加熱還流下15時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮し、（2,4-ジクロロフェニル）アセチル クロリド（13）1.8gを得た。
【０１２８】
５−２．化合物（E-7）の合成
実施例-4と同様にして、（2,4-ジクロロフェニル）アセチル クロリド（13）1.8gから、3-（2,4-ジクロロベンジル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（E-7）0.24gを得た。
【０１２９】
実施例６
1,3-ジ（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（化合物番号：F-2）の合成
【０１３０】
【化１４】
2011219420.tif 000015
【０１３１】
６−１．化合物（15）の合成
ナトリウムエトキシド1.35g及び酢酸エチル8.7g及びエタノール0.05gをトルエン100mlに懸濁させた。室温で1時間撹拌後、ピコリン酸エチル（14）1.5g のトルエン10ml溶液を加え、90℃で14時間撹拌した。反応終了後、水に注ぎ込み、トルエンで２回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムでの乾燥後、減圧下溶媒を留去し、エチル 3-オキソ-3-（ピリジン-2-イル）プロピオネート（15）1.87gを得た。
【０１３２】
６−２．化合物（F-2）の合成
実施例-1と同様にして、エチル 3-オキソ-3-（ピリジン-2-イル）プロピオネート（15）1.87gから、1,3-ジ（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（F-2）2.08gを得た。
【０１３３】
実施例７
1-（ピリジン-2-イル）-3-(3,5,5,6,8,8-ヘキサメチル-5,6,7,7,8,8-テトラヒドロナフタレン-2-イル)1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（G-1）の合成
【０１３４】
【化１５】
2011219420.tif 000016
【０１３５】
７−１．化合物（17）の合成
水素化ナトリウム（60%）2.3gをテトラヒドロフラン50mlに懸濁し、氷冷下で10分間撹拌後、ジエチルカーボネートと1-（3,5,5,6,8,8-ヘキサメチル-5,6,7,8-テトラヒドロナフタレン-2-イル）エタノン（16）1.5g のテトラヒドロフラン20ml溶液を加え、加熱還流下3間撹拌した。反応終了後、1N希塩酸に注ぎ込み、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムでの乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝9：1）で精製し、エチル 3-オキソ-3-（3,5,5,6,8,8-ヘキサメチル-5,6,7,8-テトラヒドロナフタレン-2-イル）プロピオネート（17）8.31gを得た。
【０１３６】
７−２．化合物（G-1）の合成
実施例-1と同様にして、エチル 3-オキソ-3-（3,5,5,6,8,8-ヘキサメチル-5,6,7,8-テトラヒドロナフタレン-2-イル）プロピオネート（17）8.31gから、1-（ピリジン-2-イル）-3-(3,5,5,6,8,8-ヘキサメチル-5,6,7,7,8,8-テトラヒドロナフタレン-2-イル)1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（G-1）3.02gを得た。
【０１３７】
実施例８
4-［（4-クロロフェニル）カルボニル］-1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（H-4）の合成
【０１３８】
【化１６】
2011219420.tif 000017
【０１３９】
８−１．化合物（19）の合成
1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロエチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-オール（19）2.0g及びトリエチルアミン1.3gをジクロロメタン50mlに溶解し、0℃にて撹拌しながら4-クロロベンゾイル クロリド1.3gのジクロロメタン10ml溶液を滴下し、室温で30分間撹拌した。反応溶液を水に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムでの乾燥後、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶をヘキサンで洗浄ろ過し、1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロエチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル 4-クロロベンゾエート（19）2.8gを得た。
【０１４０】
８−２．化合物（20）の合成
1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロエチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル 4-クロロベンゾエート（19）0.7g及び炭酸カリウム0.3gをトルエン／N,N-ジメチルホルムアミド= 5／1の混合溶媒60mlに加えた。加熱還流下にて15時間撹拌後、反応溶液を水に注ぎ込み、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を合わせ、水で2回、飽和食塩水で1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムでの乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=1：1）により精製し、（4-クロロフェニル）｛5-ヒドロキシ-1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-4-イル｝メタノン（20）0.4gを得た。
【０１４１】
８−３．化合物（H-4）の合成
（4-クロロフェニル）｛5-ヒドロキシ-1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-4-イル｝メタノン（20）0.7g及びトリエチルアミン0.5gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、0℃にて撹拌しながらエタンスルホニル クロリド0.6gのテトラヒドロフラン10ml溶液を滴下し、室温で14時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製した後、n-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、4-［（4-クロロフェニル）カルボニル］-1-（ピリジン-2-イル）-3-［4-（トリフルオロメチル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（H-4）0.5gを得た。
【０１４２】
実施例９
1-（ピリジン-2-イル）-3-［3-（ピリジン-3-イル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（I-2）の合成
【０１４３】
【化１７】
2011219420.tif 000018
【０１４４】
９−１．化合物（23）の合成
0.4M炭酸ナトリウム水溶液20ml、3-ブロモピリジン（21）3.2g、3-カルボキシフェニルボロン酸3.3g、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）1.15gをアセトニトリル100mlに加え、90°Cで14時間攪拌した。反応終了後、セライトを通してろ過し、ろ液に1N希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶をヘキサンで洗浄ろ過し、3-（ピリジン-3-イル）安息香酸（22）を含む固体を得た。その固体に、エタノール50ml、濃硫酸5mlを加えた。12時間加熱還流した後、反応溶液に炭酸水素ナトリウムを加えてクエンチした。減圧下でエタノールを留去した後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムでの乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=4：1）により精製し、3-（ピリジン-3-イル）安息香酸エチル（23）1.7gを得た。
【０１４５】
９−２．化合物（I-2）の合成
実施例-6と同様にして、3-（ピリジン-3-イル）安息香酸エチル（23）1.7gから、1-（ピリジン-2-イル）-3-［3-（ピリジン-3-イル）フェニル］-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（I-2）2.05gを得た。
【０１４６】
実施例１０
（5-メチルチオフェン-2-イル）フェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（J-16）の合成
【０１４７】
【化１８】
2011219420.tif 000019
【０１４８】
１０−１．化合物（26）の合成
3-ヨード安息香酸（24）1.8g、5-メチル-2-チオフェンボロン酸（25）1.1g、炭酸カリウム2.9gを蒸留水50mlに懸濁させた。その懸濁液に、Tetrahedron Letters, vol.49(2005), 5751−5754 に記載の方法で調整した塩化パラジウム（II）−EDTA錯体水溶液を1ml加え、100℃で5時間撹拌した。反応終了後、1,2-ジクロロエタンと炭酸水素ナトリウム水溶液を用いてセライトを通してろ過した。水層に1N希塩酸を加えて、酸性にし、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶をヘキサンを用いて洗浄ろ過し、3-（5-メチルチオフェン-2-イル）安息香酸（26）1.4gを得た。
【０１４９】
１０−２．化合物（J-16）の合成
実施例-5と同様にして、3-（5-メチルチオフェン-2-イル）安息香酸（26）1.4gから、3-［3-（5-メチルチオフェン-2-イル）フェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（J-16）2.0gを得た。
【０１５０】
実施例１１
3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（K-10）の合成
【０１５１】
【化１９】
2011219420.tif 000020
【０１５２】
１１−１．化合物（28）の合成
3-（3-ヨードフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（27）3.0g、ベンジルクロリド2.3g、炭酸カリウム2.3gをN,N-ジメチルホルムアミドに加え、100℃で5分間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、水で2回、飽和食塩水で1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝2：1）で精製し、5-（ベンジロキシ）-3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール（28）2.2gを得た。
【０１５３】
１１−２．化合物（30）の合成
1,2-ジメトキシエタン／水＝3／1の混合溶媒100mlに、5-（ベンジロキシ）-3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール（28）1.0g、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）0.1g、炭酸カリウム0.5g、4-メトキシフェニルボロン酸0.5gを加え、加熱還流下14時間撹拌した。反応終了後、水に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、水で2回、飽和食塩水で1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することで、5-（ベンジロキシ）-3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-(ピリジン-2-イル) -1H-ピラゾール（29）を含む粘性液体を得た。その粘性液体をエタノール100mlに溶解し、パラジウム炭素（10％）0.1gを懸濁させ、系内を水素で置換し、70℃で14時間撹拌した。反応終了後、反応溶液をセライトを通してろ過し、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶を、酢酸エチルとn-ヘキサンの混合溶媒で再結晶し、3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（30）0.4gを得た。
【０１５４】
１１−３．化合物（K-10）の合成
3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（30）300mg及びトリエチルアミン200mgをテトラヒドロフラン30mlに溶解し、0℃にて撹拌しながらエタンスルホニル クロリド250mgのテトラヒドロフラン5ml溶液を滴下し、室温で14時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝2：1）で精製し、3-（4'-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（K-10）300mgを得た。
【０１５５】
実施例１２
3-｛5-［N-メトキシエタンイミドイル］-2-メチルフェニル｝-1-メチル-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（L-3）の合成
【０１５６】
【化２０】
2011219420.tif 000021
【０１５７】
１２−１．化合物（32）の合成
系内を窒素で置換し、テトラヒドロフラン（脱水）100mlに、2-［5-（ベンジロキシ）-3-（5-ブロモ-2-メチルフェニル）1H-ピラゾール-1-イル］ピリジン（31）3.0gを溶解し、-78℃まで冷却した後、1.6M n-ブチルリチウム ヘキサン溶液5.4mlを滴下し、-78℃で30分撹拌した。次いで、N-メトキシ-N-メチルアセトアミド1.0gのテトラヒドロフラン（脱水）10ml溶液を滴下し、-78℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を1N希塩酸に注ぎ込み、ジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝2：1）で精製し、1-｛3-［5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-イル］-4-メチルフェニル｝エタノン（32）0.9gを得た。
【０１５８】
１２−２．化合物（33）の合成
1-｛3-［5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-イル］-4-メチルフェニル｝エタノン（32）0.9gを酢酸エチル100mlに溶解し、パラジウム炭素（10％）0.1gを懸濁させ、系内を水素で置換し、70℃で14時間撹拌した。反応終了後、反応溶液をセライトを通してろ過し、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶を、酢酸エチルとn-ヘキサンの混合溶媒で再結晶し、1-［3-（5-ヒドロキシル-1-フェニル-1H-ピラゾール-3-イル）-4-メチルフェニル］エタノン（33）0.5gを得た。
【０１５９】
１２−３．化合物（L-1）の合成
実施例-10と同様にして、1-［3-（5-ヒドロキシル-1-フェニル-1H-ピラゾール-3-イル）-4-メチルフェニル］エタノン（33）0.39gから、3-（5-アセチル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（L-1）0.32gを得た。
【０１６０】
１２−４．化合物（L-3）の合成
3-（5-アセチル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（L-1）150mgをエタノールに溶解し、ピリジン100mg及びO-メチルヒドロキシルアミン塩酸塩100mgを加え、60℃で1時間撹拌した。反応終了後、減圧下エタノールを留去し、水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝3：1）で精製し、3-｛5-［N-メトキシエタンイミドイル］-2-メチルフェニル｝-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（L-3）120mgを得た。
【０１６１】
実施例１３
3-（2,4-ジクロロベンジル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（M-2）の合成
【０１６２】
【化２１】
2011219420.tif 000022
【０１６３】
１３−１．化合物（35）の合成
水素化リチウムアルミニウム0.04gをテトラヒドロフラン15mlに懸濁させ、氷冷下にて撹拌しながら、2,2,2-トリフルオロ-1-｛3-［5-ヒドロキシ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-イル］-4-メチルフェニル｝エタノン（34）0.30gのテトラヒドロフラン10ｍｌを滴下した。室温で1時間撹拌した後、1N希塩酸に注ぎ込み、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。ヘキサンで洗浄ろ過し、3-［2-メチル-5-（2,2,2-トリフルオロ-1-ヒドロキシエチル）フェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（35）0.28gを得た。
【０１６４】
１３−２．化合物（M-2）の合成
実施例-4と同様にして、3-［2-メチル-5-（2,2,2-トリフルオロ-1-ヒドロキシエチル）フェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（35）0.28gから、1-（ピリジン-2-イル）-3-（2-メチル-5-｛2,2,2-トリフルオロ-1-［（エチルスルホニル）オキシ］エチル｝フェニル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（M-2）0.18gを得た。
【０１６５】
実施例１４
3-（5-エテニル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（M-3）の合成
【０１６６】
【化２２】
2011219420.tif 000023
【０１６７】
水素化リチウムアルミニウム0.44gをテトラヒドロフラン30mlに懸濁させ、氷冷下にて撹拌しながら、1-［3-（5-ヒドロキシル-1-フェニル-1H-ピラゾール-3-イル）-4-メチルフェニル］エタノン（33）2.73g のテトラヒドロフラン50mlを滴下した。室温で1時間撹拌した後、1N希塩酸に注ぎ込み、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。続いて、得られた3-［5-（1-ヒドロキシエチル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール（36）を含む粘性液体をトルエン400mlに溶解し、トシル酸一水和物を0.2g加え、14時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮し、水を加えて、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた、3-（5-エテニル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（37）を含む粘性液体をテトラヒドロフラン100mlに溶解し、トリエチルアミン1.00g、エタン スルホニルクロリド1.25gを加え、室温にて4時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=4：1）により精製し、3-（5-エテニル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（M-3）0.20gを得た。
【０１６８】
実施例１５
3-（5-エチル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（M-4）の合成
【０１６９】
【化２３】
2011219420.tif 000024
【０１７０】
3-［5-（1-ヒドロキシエチル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール（36）0.80gを酢酸100mlに溶解し、パラジウム炭素（10％）0.1gを懸濁させ、系内を水素で置換し、加熱還流下14時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を、セライトを通してろ過し、減圧下酢酸を留去した。得られた残渣（38）に、水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=2：1）により精製し、3-（5-エチル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（M-4）0.21gを得た。
【０１７１】
実施例１６
3-（4-エトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（N-4）の合成
【０１７２】
【化２４】
2011219420.tif 000025
【０１７３】
１６−１．化合物（40）の合成
N,N-ジメチルホルムアミド100mlに60%水素化ナトリウム2.03gを加え、0°Cに冷却した。次に、5-ブロモサリチル酸（39）5.0g、ヨウ化エチル7.9gを加え室温下、12時間攪拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、5-ブロモ-2-エトキシ安息香酸エチル（40）4.30gを得た。
【０１７４】
１６−２．化合物（41）の合成
1,2-ジメトキシエタン／エタノール＝1／1の混合溶液100mlに5-ブロモ-2-エトキシ安息香酸エチル（40）2.7g、フェニルボロン酸1.3g、トリフェニルホスフィン0.4g、フッ化セシウム3.2g、酢酸パラジウム（II）0.11gを加え、12時間加熱還流した。反応溶液を室温まで戻した後、セライトを通してろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣に、水を加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=6：1）により精製し、エチル 4-エトキシビフェニル-3-カルボキシレート（41）1.3gを得た。
【０１７５】
１６−３．化合物（N-4）の合成
実施例-6と同様にして、エチル 4-エトキシビフェニル-3-カルボキシレート（41）0.5gから、3-（4-メトキシビフェニル-3-イル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（N-4）0.35gを得た。
【０１７６】
実施例１７
3-［2-クロロ-5-（シクロプロピルエチニル）フェニル］-1-メチル-1H-ピラゾール-5-イル メタンスルホネート（O-21）の合成
【０１７７】
【化２５】
2011219420.tif 000026
【０１７８】
１７−１．化合物（43）の合成
5-ヨード-2-クロロ安息香酸3.3gをエタノール150ml溶液に、濃塩酸0.11gを加え、加熱還流下12時間攪拌した。反応溶液を室温まで戻した後、水で希釈し、1N水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ液を減圧濃縮し、5-ヨード-2-クロロ安息香酸エチル（43）1.74gを得た。
【０１７９】
１７−２．化合物（44）の合成
5-ヨード-2-クロロ安息香酸エチル（43）1.74gにトリエチルアミン30mlを加えた反応溶液に、シクロプロピルアセチレン0.74g、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロリド0.39g、ヨウ化銅0.10gを加え、室温で13時間攪拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ-ヘキサン：酢酸エチル＝20：1）により精製し、2-クロロ-5-（シクロプロピルエチニル）安息香酸エチル（44）1.26gを得た。
【０１８０】
１７−３．化合物（45）の合成
水：エタノール＝1：2の混合溶媒150mlに2-クロロ-5-（シクロプロピルエチニル）安息香酸エチル（44）1.26gを溶解させた反応溶液に水酸化リチウム 0.24gを加え、室温下15時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮し、水で希釈した後、１Ｎ希塩酸を加え固体を析出させ、それをろ過することで、2-クロロ-5-（シクロプロピルエチニル）安息香酸（45）1.05gを得た。
【０１８１】
１７−４．化合物（O-21）の合成
実施例-5と同様にして、2-クロロ-5-（シクロプロピルエチニル）安息香酸（45）1.05gから、3-［2-クロロ-5-（シクロプロピルエチニル）フェニル］-1-メチル-1H-ピラゾール-5-イル メタンスルホネート（O-21）0.40gを合成した。
【０１８２】
実施例１８
3-｛2-メチル-5-［3-（トリフルオロメチル）-1,2-オキサゾール-5-イル］フェニル｝-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（P-1）の合成
【０１８３】
【化２６】
2011219420.tif 000027
【０１８４】
１８−１．化合物（47）の合成
系内を窒素で置換し、テトラヒドロフラン（脱水）450mlに、5-ブロモ-2-メチル安息香酸（46）10.0gを溶解し、-78℃まで冷却した後、1.6M n-ブチルリチウム ヘキサン溶液62.5mlを滴下し、-78℃で30分撹拌した。次いで、N-メトキシ-N-メチルアセトアミド5.27gのテトラヒドロフラン（脱水）20ml溶液を滴下し、-78℃で1時間、室温で1時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を1N希塩酸に注ぎ込み、ジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をn-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、5-アセチル-2-メチル安息香酸（47）4.42gを得た。
【０１８５】
１８−２．化合物（49）の合成
水素化ナトリウム（60%）1.24gをテトラヒドロフラン150mlに懸濁し、氷冷下にて5-アセチル-2-メチル安息香酸（47）2.52gのテトラヒドロフラン20ml溶液を滴下した。そのまま1時間撹拌した後、エチル トリフルオロアセテート2.21gのテトラヒドロフラン15ml溶液を滴下し、撹拌しながら1時間かけて、徐々に室温まで昇温した。反応終了後、反応溶液を1N希塩酸に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた2-メチル-5-（4,4,4-トリフルオロ-3-オキソブタノイル）安息香酸（48）を含む固体を、ピリジン：エタノール＝1：1の混合溶媒70mlに溶解し、塩化ヒドロキシルアンモニウム0.70gを加え、加熱還流下2時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、1N希塩酸を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をn-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、2-メチル-5-［4,4,4-トリフルオロ-3-（ヒドロキシアミノ）ブタノイル］安息香酸（49）1.98ｇを得た。
【０１８６】
１８−３．化合物（P-1）の合成
2-メチル-5-［4,4,4-トリフルオロ-3-（ヒドロキシアミノ）ブタノイル］安息香酸（49）0.5gをトルエン200mlに溶解し、トシル酸一水和物を0.1g加え、14時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮し、水を加えて、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。2-メチル-5-［3-（トリフルオロメチル）-1,2-オキサゾール-5-イル］安息香酸（50）を含む固体から、実施例-5と同様にして、3-｛2-メチル-5-［3-（トリフルオロメチル）-1,2-オキサゾール-5-イル］フェニル｝-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（P-1）0.46gを合成した。
【０１８７】
実施例１９
3-［5-（1,3-ジオキソラン-2-イル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（Q-1）、3-（5-ホルミル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（Q-2）の合成
【０１８８】
【化２７】
2011219420.tif 000028
【０１８９】
１９−１．化合物（51）の合成
系内を窒素で置換し、テトラヒドロフラン（脱水）500mlに、5-ブロモ-2-メチル安息香酸（46）15.0gを溶解し、-78℃まで冷却した後、1.6M n-ブチルリチウム ヘキサン溶液96mlを滴下し、-78℃で30分撹拌した。次いで、N,N-ジメチルホルムアミド6.37gのテトラヒドロフラン（脱水）15ml溶液を滴下し、-78℃で1時間、室温で2時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を1N希塩酸に注ぎ込み、ジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をn-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、5-ホルミル-2-メチル安息香酸（51）3.33gを得た。
【０１９０】
１９−２．化合物（53）の合成
実施例-5と同様にして、5-ホルミル-2-メチル安息香酸（51）3.33gからエチル 3-（5-ホルミル-2-メチルフェニル）-3-オキソプロピオネート（53）1.81gを得た。
【０１９１】
１９−３．化合物（Q-1）の合成
エチル 3-（5-ホルミル-2-メチルフェニル）-3-オキソプロピオネート（53）1.81gをトルエン200mlに溶解し、トシル酸一水和物を0.2g及びエチレングリコール0.54gを加え、加熱還流下14時間撹拌した（エチル  3-(1,3-ジオキソラン)-2-メチルフェニル-3-オキソプロピオネート(54)の調製）。反応終了後、反応溶液を氷冷し、2-ヒドラジノピリジン1.1gを加え、ディーンスターク装置をフラスコに装着し、加熱還流下14時間撹拌した。減圧濃縮し、3-［5-（1,3-ジオキソラン-2-イル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（55）を含む粘性液体を得た。その粘性液体に1N炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン100mlに溶解し、トリエチルアミン1.5gを加えた。室温にて撹拌しながらエタンスルホニル クロリド1.25gのテトラヒドロフラン10ml溶液を滴下し、室温で2時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に1N炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝4：1→2：1）で精製し、3-［5-（1,3-ジオキソラン-2-イル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（Q-1）0.53gを合成した。
【０１９２】
１９−４．化合物（Q-2）の合成
3-［5-（1,3-ジオキソラン-2-イル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（Q-1）0.30gをエタノール50mlに溶解し、1N希塩酸を30ml加え、70℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮した。得られた残渣に1N希塩酸を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝2：1）で精製し、3-（5-ホルミル-2-メチルフェニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（Q-2）0.16gを得た。
【０１９３】
実施例２０
3-（メチルスルファニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（R-1）の合成
【０１９４】
【化２８】
2011219420.tif 000029
【０１９５】
２０−１．化合物（57）の合成
水素化ナトリウム（60%）15.14gをN,N-ジメチルホルムアミド（脱水）200mlに懸濁し、氷冷下にてジメチルマロネート（56）20gのN,N-ジメチルホルムアミド（脱水）15ml溶液を滴下した。氷冷下で15分間撹拌後、二硫化炭素28.81gのN,N-ジメチルホルムアミド（脱水）15ml溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温し、室温で1時間撹拌した。その後、ヨウ化メチル64.46gのN,N-ジメチルホルムアミド（脱水）15ml溶液を滴下し、室温で14時間撹拌した。反応終了後、水に注ぎ込み、ジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を合わせ、水で3回、飽和食塩水で1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶を、ヘキサンとジエチルエーテルとの混合溶媒を用いて洗浄ろ過し、ジメチル［ビス（メチルスルファニル）メチリデン］プロピオネート（57）26.92gを得た。
【０１９６】
２０−２．化合物（58）の合成
ジメチル［ビス（メチルスルファニル）メチリデン］プロピオネート（57）7.77gをエタノール200mlに溶解し、2-ヒドラジノピリジン4.31gを加え、加熱還流下14時間撹拌した。反応終了後、反応液を濃縮し、析出した結晶をジエチルエーテルで洗浄ろ過し、メチル 5-ヒドロキシ-3-（メチルスルファニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-4-カルボキシレート（58）6.55gを得た。
【０１９７】
２０−３．化合物（R-1）の合成
メチル 5-ヒドロキシ-3-（メチルスルファニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-4-カルボキシレート（58）1.80gをエタノール100mlに溶解し、濃塩酸30mlを加えて、加熱還流下5時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を除去し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた3-（メチルスルファニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（59）の固体をテトラヒドロフランに溶解し、トリエチルアミン1.50g、エタン スルホニルクロリド1.75gを加え、室温にて4時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=2：1）により精製し、3-（メチルスルファニル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（R-1）0.93gを得た。
【０１９８】
実施例２１
3-［5-（5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロ-1,2-オキサゾール-3-イル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（S-1）の合成
【０１９９】
【化２９】
2011219420.tif 000030
【０２００】
２１−１．化合物（60）の合成
5-ホルミル-2-メチル安息香酸（51）2.85gをエタノール250mlに溶解し、濃硫酸を3ml加え、加熱還流下15時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=4：1）により精製し、5-ホルミル-2-メチル安息香酸エチル（60）1.73gを得た。
【０２０１】
２１−２．化合物（62）の合成
5-ホルミル-2-メチル安息香酸エチル（60）1.73gのエタノール250ml溶液に、塩化ヒドロキシルアンモニウム0.94g及び酢酸ナトリウム1.11gを水：エタノール＝3：2の混合溶媒25mlに溶解したものを、氷冷下にて滴下した。室温で2時間撹拌した後、反応溶液を濃縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた5-［（ヒドロキシイミノ）メチル］-2-メチル安息香酸エチル（61）を含む粘性液体をN,N-ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、N-クロロスクシンイミド2.0gを加え、室温で1時間撹拌した。次いで、トリエチルアミン2.0gを加え、系内をイソプロペンで置換し、室温にて3時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ込み、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、水で3回、飽和食塩水で1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=6：1）により精製し、5-（5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロ-1,2-オキサゾール-3-イル）-2-メチル安息香酸エチル（62）1.60gを得た。  
【０２０２】
２１−３．化合物（S-1）の合成
実施例-6と同様にして、5-（5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロ-1,2-オキサゾール-3-イル）-2-メチル安息香酸エチル（62）1.60gから、3-［5-（5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロ-1,2-オキサゾール-3-イル）-2-メチルフェニル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（S-1）0.35gを得た。
【０２０３】
実施例２２
3-［4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-イル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（T-1）、3-［4-（メチルスルフィニル）ビフェニル-3-イル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（T-2）の合成
【０２０４】
【化３０】
2011219420.tif 000031
【０２０５】
２２−１．化合物（64）の合成
1,2-ジメトキシエタン：エタノール＝1：1混合溶媒200mlに5-ブロモ-2-フルオロベンゾニトリル（63）10.0g、フェニルボロン酸7.32g、トリフェニルホスフィン1.97g、フッ化セシウム15.9g、酢酸パラジウム0.56g加え、12時間加熱攪拌した。反応溶液を室温まで戻した後、セライトを通してろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣に、水を加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=9：1）により精製し、4-フルオロビフェニル-3-カルボニトリル（64）5.4gを得た。
【０２０６】
２２−２．化合物（65）の合成
テトラヒドロフラン50mlに溶解した4-フルオロビフェニル-3-カルボニトリル（64）1.97gの溶液にメチルメルカプタンナトリウム1.98gを加え、12時間加熱還流した。反応溶液を減圧濃縮し、1N希塩酸を加え、ジクロロエタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。析出した固体をヘキサンで洗浄ろ過し、4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-カルボニトリル（65）2.15gを得た。
【０２０７】
２２−３．化合物（66）の合成
4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-カルボニトリル（65）1.0gにテトラヒドロフラン（脱水）100mlを加え、アルゴン置換した。反応溶液を-78°Cに冷やし、1.6Mフェニルリチウム5.5mlを加え、2時間攪拌した。次に、1N希塩酸20mlを加え、室温で12時間攪拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。析出した固体をヘキサンで洗浄ろ過し、1-［4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-イル］エタノン（66）0.91gを得た。
【０２０８】
２２−４．化合物（T-1）の合成
実施例-7と同様にして、1-［4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-イル］エタノン（66）0.91gから、3-［4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-イル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（T-1）0.45gを得た。
【０２０９】
２２−５．化合物（T-2）の合成
3-［4-（メチルスルファニル）ビフェニル-3-イル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（T-1）0.26gをジクロロメタン20mlに溶解し、60％メタクロロ過安息香酸0.25gを加え、1時間攪拌した。反応溶液にチオ硫酸ナトリウムを加え、有機層を集めた。有機層に炭酸水素ナトリウムを加え、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=1：1）により精製し、3-［4-（メチルスルフィニル）ビフェニル-3-イル］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（T-2）0.18gを得た。
【０２１０】
実施例２３
エチル 5-［（エチルスルホニル）オキシ］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（U-2）の合成
【０２１１】
【化３１】
2011219420.tif 000032
【０２１２】
２３−１．化合物（68）の合成
ジエチル アセチレンジカルボキシレート（67）6.0gをエタノール200mlに溶解し、2-ヒドラジノピリジン（2）4.61g及び炭酸カリウム11.67gを加え、加熱還流下14時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を濃縮し、1N希塩酸を加え酸性にし、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を、n-ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、エチル 5-ヒドロキシ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（68）5.0gを得た。
【０２１３】
２３−２．化合物（U-2）の合成
実施例-1（2）と同様にして、エチル 5-ヒドロキシ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（68）0.3gから、エチル 5-［（エチルスルホニル）オキシ］-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（U-2）0.15gを得た。
【０２１４】
実施例２４
3-シアノ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（U-4）の合成
【０２１５】
【化３２】
2011219420.tif 000033
【０２１６】
２４−１．化合物（69）の合成
エチル 5-ヒドロキシ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（68）3.0gをアセトニトリル200mlに溶解し、ベンジルブロミド2.67g、炭酸カリウム2.42gを加え、室温にて14時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝3：1）で精製し、エチル 5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（69）2.0gを得た。
【０２１７】
２４−２．化合物（70）の合成
エチル 5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシレート（69）2.0gをエタノール100mlに溶解し、1N水酸化ナトリウム水溶液30mlを加え、加熱還流下5時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、1N希塩酸を100ml加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。析出した結晶を、n-ヘキサンで洗浄ろ過し、5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシリックアシッド（70）1.80gを得た。
【０２１８】
２４−３．化合物（71）の合成
1,2-ジクロロエタン50mlに5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシリックアシッド（70）6.5g、塩化チオニル13.1gを加え、2時間加熱還流した。反応溶液を減圧濃縮した後、テトラヒドロフラン100ml加え、氷冷下にて2Mアンモニアメタノール溶液を滴下し、室温で12時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ液を減圧濃縮することで得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）により精製し、5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキサミド（71）2.28gを得た。
【０２１９】
２４−４．化合物（72）の合成
クロロホルム50mlに5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキサミド（71）2.0gを溶解した溶液に、塩化ホスホリル4.2gを加え0°Cで15分攪拌した。室温で30分攪拌した後、3時間過熱攪拌した。反応終了後、氷水を加え、クロロホルムで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル=2：1）により精製し、5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボニトリル（72）0.66gを得た。
【０２２０】
２４−５．化合物（73）の合成
5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボニトリル（72）0.3gを酢酸エチル30mlに溶解し、パラジウム炭素（10％）0.02gを加えた。系内を水素で置換し、室温で12時間強攪拌した。反応終了後、反応溶液をセライトを通してろ過し、ろ液を減圧濃縮することで、3-シアノ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（73）0.09gを得た。
【０２２１】
２４−６．化合物（U-4）の合成
実施例-1（2）と同様にして、3-シアノ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-オール（73）0.09gから、3-シアノ-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（U-4）0.08gを得た。
【０２２２】
実施例２５
3-（プロパン-2-イルカルバモイル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（U-6）
【０２２３】
【化３３】
2011219420.tif 000034
【０２２４】
5-（ベンジロキシ）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-3-カルボキシリックアシッド（70）0.52gをクロロホルム100mlに溶解し、塩化チオニル0.64mlを加え、加熱還流下4時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去した後、残渣にテトラヒドロフランを100ml加え、氷冷下にてイソプロピルアミン0.3mlのテトラヒドロフラン10ml溶液を滴下した。
【０２２５】
室温にて1時間撹拌した後、水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去することで、3-（プロパン-2-イルカルバモイル）-1-（ピリジン-2-イル）-1H-ピラゾール-5-イル エタンスルホネート（U-6）0.57gを得た。
【０２２６】
さらに、下記表１に示す化合物について、上記実施例１〜２５と同様にして製造した。その１Ｈ−ＮＭＲデータを実施例１〜２５の結果と併せて、表２に示した。
【０２２７】
【表１】
2011219420.tif 000035
2011219420.tif 000036
2011219420.tif 000037
2011219420.tif 000038
2011219420.tif 000039
2011219420.tif 000040
【０２２８】
【表２】
2011219420.tif 000041
2011219420.tif 000042
2011219420.tif 000043
2011219420.tif 000044
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2011219420.tif 000052
【０２２９】
製剤例
製剤例１  乳剤
本発明化合物の各々１０部をソルベッソ１５０の４５部及びＮ−メチルピロリドン３５部に溶解し、これに乳化剤（商品名：ソルポール３００５X、東邦化学（株）製）１０部
を加え、撹拌混合して各々の１０％乳剤を得た。
【０２３０】
製剤例２  水和剤
本発明化合物の各々２０部を、ラウリル硫酸ナトリウム２部、リグニンスルホン酸ナトリウム４部、合成含水酸化珪素微粉末２０部及びクレー５４部を混合した中に加え、ミキサーで撹拌混合して２０％水和剤を得た。
【０２３１】
製剤例３  粒剤
本発明化合物の各々５部にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２部、ベントナイト１０部及びクレー８３部を加え十分に撹拌混合した。適用量の水を加え、更に撹拌し、造粒機で造粒し、通風乾燥して５％粒剤を得た。
【０２３２】
製剤例４  粉剤
本発明化合物の各々１部を適当量のアセトンに溶解し、これに合成含水酸化珪素微粉末５部、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）０．３部及びクレー９３．７部を加え、ジュースミキサーで撹拌混合し、アセトンを蒸発除去して１％粉剤を得た。
【０２３３】
製剤例５  フロアブル剤
本発明化合物の各々２０部とソルビタントリオレート１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、サンドグラインダーで微粉砕（粒径３ミクロン以下）した後、この中にキタンサンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、更にプロピレングリコール１０部を加えて撹拌混合して２０％水中懸濁液を得た。
【０２３４】
試験例
試験例１  ナミハダニに対する殺虫試験
プラスチックカップ（ＫＰ−１２０、鴻池プラスチック、磐田）に水道水を入れ、切り込み口をいれた蓋をした。不織布（４．５×５．５ｃｍ）の長辺に沿って１ｃｍ幅で４ｃｍ程度切り込みを入れたものを、蓋にのせ切り込み口からカップ内に垂らした。十分吸水した不織布にインゲンマメ葉片（約３．５×４．５ｃｍ）をのせ、その上にナミハダニ（約２０個体）を寄生させ、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）内に静置した。翌日、本発明化合物のアセトン溶液にソルポール３５５（東邦化学製）水溶液（１００ｐｐｍ）を加え、本発明化合物の薬液（１００ｐｐｍ）を調製し、薬液４ｍｌをスプレーガン（ＰＢ−３０８ピースボン（オリンポス、大阪）１ｋｇｆ／ｃｍ２）で散布した。風乾後、恒温室内で静置し、処理２日後にナミハダニ雌成虫の死亡率を調査した。
【０２３５】
その結果、No. A-2、A-3、A-4、A-5、A-7、A-8、D-1、D-2、D-3、D-4、D-5、D-8、D-9、D-15、D-16、D-18、D-19、D-29、D-30、D-31、D-32、D-36、D-37、D-39、D-40、D-42、D-44、D-45、D-49、D-50、D-52、D-54、D-55、D-57、D-59、D-62、D-63、D-64、D-66、D-68、E-1、E-5、E-7、E-9、E-12、E-13、E-15、E-16、E-18、E-19、E-22、E-27、E-28、E-33、E-36、E-45、F-1、F-6、F-7、F-8、G-1、G-2、G-4、I-1、I-2、I-3、I-5、I-6、I-7、J-1、J-2、J-3、J-4、J-6、J-7、J-8、J-9、J-10、J-11、J-12、J-15、J-16、J-17、J-18、J-20、J-22、J-23、J-24、J-25、J-26、J-27、J-28、J-29、J-30、J-37、J-40、J-41、K-2、K-3、K-4、K-5、K-6、K-7、K-8、K-9、K-10、K-11、K-13、K-14、K-15、L-3、L-4、L-5、L-6、L-7、L-8、L-9、L-10、L-11、L-12、L-13、L-14、L-15、L-19、L-20、L-22、L-23、L-24、L-25、M-3、N-1、N-2、N-3、N-4、O-1、O-2、O-3、O-4、O-5、O-6、O-7、O-10、O-11、O-18、O-19、O-20、O-21、O-22、O-23、O-24、O-25、O-26、O-27、O-28、P-1、P-2、P-3、P-4、P-5、Q-1、S-1、T-1、U-3、U-4の本発明化合物が１００％の死亡率を示した。
【０２３６】
試験例２  ナミハダニに対する殺卵試験
プラスチックカップ（ＫＰ−１２０、鴻池プラスチック、磐田）に水道水を入れ、切り込み口をいれた蓋をした。不織布（４．５×５．５ｃｍ）の長辺に沿って１ｃｍ幅で４ｃｍ程度切り込みを入れたものを、蓋にのせ切り込み口からカップ内に垂らした。十分吸水した不織布にインゲンマメ葉片（約３．５×４．５ｃｍ）をのせ、その上にナミハダニ雌成虫（約５匹）を放虫し、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）内に静置した。翌日、雌成虫を除去し、試験例１に従って調製した試験化合物の薬液（１００ｐｐｍ）４ｍｌをスプレーガン（ＰＢ−３０８ピースボン（オリンポス、大阪）１ｋｇｆ／ｃｍ２）で散布した。風乾後、恒温室内に静置し、処理６日後にナミハダニの殺卵率を調査した。
【０２３７】
cv   その結果、No. D-3、D-4、D-5、D-10、D-15、D-16、D-18、D-30、D-31、D-39、D-40、D-44、D-48、D-50、D-52、D-54、D-57、D-58、D-63、D-64、D-66、D-68、E-5、E-7、E-9、E-12、E-13、E-15、E-16、E-18、E-27、E-33、E-45、F-1、F-7、G-1、G-2、I-1、I-5、I-6、J-2、J-4、J-6、J-8、J-9、J-11、J-12、J-16、J-17、J-18、J-22、J-23、J-24、J-25、J-26、J-27、J-28、J-29、J-33、J-35、J-36、J-37、J-40、J-41、K-4、K-5、K-6、K-8、K-9、K-10、K-11、K-13、K-14、K-15、L-3、L-5、L-6、L-7、L-8、L-9、L-10、L-11、L-12、L-14、L-15、L-18、L-19、L-20、L-21、L-22、L-23、L-24、N-1、N-2、O-1、O-2、O-3、O-4、O-5、O-6、O-7、O-8、O-18、O-11、O-12、O-14、O-17、O-19、O-21、O-23、O-24、O-26、O-27、O-28、P-1、P-2、P-3、P-4、P-5、Q-1、S-1、U-4の本発明化合物が１００％の殺卵率を示した。
【０２３８】
試験例３  カンザワハダニに対する殺虫試験
プラスチックカップ（ＫＰ−１２０、鴻池プラスチック、磐田）に水道水を入れ、切り込み口をいれた蓋をした。不織布（４．５×５．５ｃｍ）の長辺に沿って１ｃｍ幅で４ｃｍ程度切り込みを入れたものを、蓋にのせ切り込み口からカップ内に垂らした。十分吸水した不織布に、３.５×４.５ｃｍ角のインゲン葉を裏側が上になるようのせた。その後、インゲン葉片にカンザワハダニ雌成虫を２０個体／カップ放虫した。翌日、試験例１に従って調製した試験化合物の薬液（１００ｐｐｍ）４ｍｌをスプレーガン（ＰＢ−３０８ピースボン（オリンポス、大阪）１ｋｇｆ／ｃｍ２）で散布した。風乾後、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）内に静置し、散布２日後にカンザワハダニ雌成虫の死亡率を調査した。
【０２３９】
その結果、No. A-1、A-2、A-3、A-10、D-1、D-5、D-9、D-16、D-18、D-19、D-29、D-30、D-39、D-40、D-48、D-63、E-9、E-12、E-16、E-18、E-36、E-37、F-6、F-8、G-1、I-2、I-3、I-5、I-7、J-4、J-6、J-9、J-10、J-11、J-16、J-18、J-22、J-23、J-24、J-28、J-29、J-30、J-41、K-9、K-10、L-3、L-7、L-8、L-9、L-11、L-12、L-18、N-3、O-1、O-2、O-7、U-4の本発明化合物が１００％の死亡率を示した。
【０２４０】
試験例４  カンザワハダニに対する殺卵試験
カンザワハダニ雌成虫を下部から給水できるようにした不織布上のインゲン葉片に1カップあたり６匹放虫し、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）に静置した。翌日、カンザワハダニ成虫を取り除いた後、試験例１に従って調製した試験化合物の薬液（１００ｐｐｍ）をスプレーガンＰＢ−３０８ピースボン（オリンポス、大阪）１ｋｇｆ／ｃｍ２）で散布し、風乾後、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）に静置した。散布７日後にカンザワハダニの殺卵率を調査した。
【０２４１】
その結果、No. D-16、E-9、E-16、E-33、E-37、G-1、G-2、J-4、J-6、J-9、J-16、J-18、J-23、J-24、J-28、J-29、J-41、K-9、K-10、L-3、L-4、L-6、L-7、L-8、L-9、L-10、L-11、L-12、L-14、L-18、L-22、O-1、O-2、O-6、O-7の本発明化合物が１００％の殺卵率を示した。
【０２４２】
試験例５  ミカンハダニに対する殺虫試験
プラスチックカップ（KP-120、鴻池プラスチック、磐田）に水道水を入れ、切り込み口をいれた蓋をした。不織布（４．５×５．５ｃｍ）の長辺に沿って１ｃｍ幅で４ｃｍ程度切り込みを入れたものを、蓋にのせ切り込み口からカップ内に垂らした。十分吸水した不織布に、３×３ｃｍ角のダイダイ葉を表側が上になるようのせ、乾燥及びダニの逃亡防止用に２．４ｃｍ径の穴を開けた濾紙（５ｃｍ径、Ｎｏ．２：アドバンテック東洋）をかぶせ、タングルで周りを囲った。その後、ダイダイ葉片にミカンハダニ雌成虫を１０個体／カップ放虫した。翌日、本発明化合物のアセトン溶液にソルポール３５５（東邦化学製）水溶液（１００ｐｐｍ）を加え、本発明化合物の薬液（１００ｐｐｍ）を調製し、薬液４ｍｌをスプレーガン（ＰＢ−３０８ピースボン（オリンポス、大阪）１ｋｇｆ／ｃｍ２）で散布した。風乾後、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）内に静置し、散布２日後にミカンハダニ雌成虫の死亡率を調査した。
【０２４３】
その結果、D-62、E-33、G-2、G-4、I-5、J-9、J-16、J-18、J-28、K-14、L-3、L-4、L-5、L-6、L-7、L-8、L-9、L-10、L-11、L-12、L-15、L-22、L-23、M-4、O-2、O-5、O-6、O-7、O-11、O-17、O-23、O-28、P-1、P-3、Q-1、S-1、U-3、U-4の本発明化合物が１００％の死亡率を示した。
【０２４４】
試験例６  サツマイモネコブセンチュウに対する殺虫試験
バイアル瓶（採血管瓶V-5 日電理化硝子）に１８０℃で２時間乾熱滅菌した川砂（2mm の篩にかけたもの）を８ｇ 入れ、試験例１に従って調製した試験化合物の薬液（１００ｐｐｍ）を1ml/瓶潅注した。次いで、５００ 頭/mlに調整したサツマイモネコブセンチュウ2 期幼虫を1ml/瓶潅注し、パラフィルムで蓋をし、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）内に静置した。翌日、パラフィルム中央部に穴を開け（１〜２mm 径）、地際で切除した１．２ 葉期のトマトを挿し込んだ。トマトを挿し込んだバイアル瓶は、プラスチックカップ（KP-860M 本体、鴨池プラスチック）にいれ、十数箇所穴（通気口、１〜２mm径）を開けた蓋をし、恒温室（２５±２℃、１６Ｌ８Ｄ）内に静置した。１１日後に達観で0（根こぶ発生なし）〜5（甚発生）で調査し、防除価を求めた。（防除価＝｛１−（試験区の被害度平均／無処理区の被害度平均）｝×１００で計算した。）
【０２４５】
その結果、A-1、A-2、A-3、A-8、D-16、D-44、E-9、E-11、J-9、J-23、J-24、J-28の本発明化合物が５０以上の防除価を示した。