(57)【要約】【課題】原料ロスの低減と作業性の向上とを実現しうる、リチウム膜の製造方法およびリチウム膜製造装置を提供する。【解決手段】リチウム膜製造装置Ａは、真空チャンバー１０と、真空チャンバー１０との間で各種部材を回収・導入するパスボックス１２とを備えている。真空チャンバー１０内には、基材フィルム２１を巻回した基材リール２４と、リチウム積層膜２３を巻回した製品リール２５と、基材フィルム２１を案内する回転ロール２６と、リチウム等の原料が入れられた原料るつぼ１３と、開口１５を有する遮蔽板１４とが配置されている。遮蔽板１４は、リチウム等で構成された特定部材である。蒸発したリチウム等の粒子は、基材フィルム２１と遮蔽板１４とに堆積される。メンテナンス時には、遮蔽板１４を新品と交換して、リチウム等が堆積された遮蔽板１４は加熱溶融して再利用することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造用部材が配置されたチャンバー内で、気相法により、基材上にリチウムまたはリチウム合金からなるリチウム膜を堆積させる方法であって、
上記チャンバー内を、リチウムと他の物質との反応が生じない非活性雰囲気にする工程（ａ）と、
上記製造用部材のうち少なくとも特定部材をリチウムまたはリチウム合金によって構成し、上記特定部材を、上記工程（ａ）の後で上記チャンバー内に配置する工程（ｂ）と、
上記基材上にリチウム膜を堆積させる工程（ｃ）と、
を含むリチウム膜の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載のリチウム膜の製造方法において、
上記工程（ｂ）では、非活性雰囲気下にある，上記チャンバーとは別の室内で上記特定部材を作成し、特定部材を取り囲む雰囲気を非活性雰囲気に維持しつつ、上記チャンバー内に移動させる、リチウム膜の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載のリチウム膜の製造方法において、
上記工程（ｃ）の後で、上記特定部材とその上に堆積したリチウムまたはリチウム合金とを加熱溶融して混合する工程（ｄ）をさらに含むリチウム膜の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のうちいずれか１つに記載のリチウム膜の製造方法において、
上記工程（ｂ）では、チャンバー内にリチウムまたはリチウム合金の原料を保持部材に設置するとともに、上記特定部材として、上記保持部材を囲み上記基材のリチウム膜が堆積される領域を開口した遮蔽部材をチャンバー内に配置し、
上記工程（ｃ）では、物理的堆積法を用いて、減圧下で上記原料からリチウムまたはリチウム合金の粒子を飛散させることにより、リチウム膜を堆積させる、リチウム膜の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載のリチウム膜の製造方法に用いられる特定部材であって、
リチウムまたはリチウム合金によって構成され、リチウムまたはリチウム合金の原料を保持する保持部材を囲み、上記基材のリチウム膜が堆積される領域を開口した遮蔽部材。
【請求項６】
気相法により、基材上にリチウムまたはリチウム合金からなるリチウム膜を堆積させるための装置であって、
上記基材が配置されるチャンバーと、
上記チャンバー内に配置される製造用部材と、
を備え、
上記製造用部材のうち少なくとも１つは、リチウムまたはリチウム合金によって構成される特定部材である、リチウム膜製造装置。
【請求項７】
請求項６記載のリチウム膜製造装置において、
物理的堆積法に用いられるリチウム膜製造装置であって、
上記製造用部材は、リチウムまたはリチウム合金の原料を保持する保持部材と、該保持部材を囲み、上記基材のリチウム膜が堆積される領域を開口した遮蔽部材とを含み、
上記遮蔽部材は上記特定部材である、リチウム膜製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リチウム電池等に用いられる、リチウムまたはリチウム合金からなるリチウム膜を基材フィルムに堆積するためのリチウム膜の製造方法およびリチウム膜製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種電子機器，特に蓄電デバイスの高機能化，小型化の要請に応じ、電池に対しても軽量化が求められている。そこで、負極などの電池の要素として、リチウムまたはリチウム合金からなる膜（以下、「リチウム膜」という）を用いるとともに、リチウム膜のさらなる薄膜化が要求されている。
【０００３】
リチウム膜の製造技術として代表的な方法は、リチウムまたはリチウム合金のインゴットからの圧延によりリチウム箔を形成する圧延法であるが、より薄膜化を図るために、たとえば、特許文献1に開示されるように、蒸着により、基材上にリチウム膜を堆積する方法が提案されている。蒸着法とは、チャンバー内でリチウムまたはリチウム合金の原料を蒸発させて、飛散したその粒子を基材上に堆積させる方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−９７５６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、蒸着法を用いた場合、蒸発した粒子は、蒸発源からあらゆる方向に飛散するために、基材だけでなく、チャンバー内の周辺の部材上にもリチウムまたはリチウム合金が堆積される。たとえば、蒸着法では、周辺の部材として蒸発源を囲む遮蔽板を配置して、基材の蒸着領域以外への粒子の飛散をできるだけ少なくしている。よって、遮蔽板にも相当量のリチウムまたはリチウム合金が堆積されることになる。
そのために、原料ロスによって、材料歩留まりが悪化し、製造コストが高くつく。また、リチウムは空気に触れると反応するので、周辺の部材上に堆積したリチウムを清掃する作業には繊細な注意と繁雑な作業とが必要となり、製造コストの増大につながる。
また、化学的堆積法を用いた場合には、熱分解温度に維持されているあらゆる部材にリチウムまたはリチウム合金が堆積されるので、同様の問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、気相法によりリチウムまたはリチウム合金を堆積しつつ、原料ロスの低減と作業性の向上とを実現しうる、リチウム膜の製造方法およびリチウム膜製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のリチウム膜の製造方法は、製造用部材が配置されたチャンバー内で、気相法により、基材上にリチウムまたはリチウム合金からなるリチウム膜を堆積させる方法であり、以下のような特徴を有している。
本発明の方法では、製造用部材のうち特定部材をリチウムまたはリチウム合金によって構成しておく。この特定部材は、チャンバー内を、リチウムと他の物質との反応が生じない非活性雰囲気にしてから、チャンバー内に配置される。その後、チャンバー内で、気相法により、基材上にリチウム膜を堆積させる。
「気相法」には、ＰＶＤ法（物理的堆積法）とＣＶＤ法（化学的堆積法）とがあり、いずれを用いてもよい。
「リチウム膜」には、純リチウムだけでなく、リチウム−アルミニウム合金のようなリチウム合金からなる膜も含まれる。リチウム合金としては、リチウムリッチな合金であれば特に限定されない。
【０００８】
この方法により、以下の作用効果が得られる。
気相法により、リチウム膜を形成する際には、リチウムまたはリチウム合金（以下、「リチウム等」ともいう）が、基材上だけでなく、製造用部材にも堆積するので、原料ロスが生じる。また、製造用部材に堆積したリチウム等を除去する定期的なメンテナンスが必要となる。
たとえば、蒸着法やスパッタリング法などの物理的堆積法を用いた場合には、原料からリチウム等の粒子が多方向に飛散して、遮蔽部材にも堆積される。本発明では、遮蔽部材を特定部材として、リチウム等によって構成しておけばよい。
そして、メンテナンスの際には、リチウム等が堆積した遮蔽部材等の特定部材は、堆積したリチウム等を除去することなく取り外して、新品の特定部材と交換すればよい。
その後、特定部材とその上に堆積したリチウム等とは、加熱溶融して、原料や新たな遮蔽部材として再利用することができる。すなわち、原料ロスを低減することができる。
また、特定部材に堆積したリチウム等を除去する作業が不要となるので、メンテナンスの際に、煩雑な作業が不要となる。
以上のように、原料ロスの低減と、メンテナンス作業の簡素化とにより、製造コストの大幅な削減が実現する。
なお、化学的堆積法を用いて，リチウム等を含むガスを分解することにより、リチウム膜を形成する場合には、ガスの熱分解温度に保持されているあらゆる部位にリチウム膜が堆積される。この場合にも、製造用部材の一部を特定部材として、特定部材をリチウムまたはリチウム合金によって構成することにより、上述の作用効果が得られる。
【０００９】
特定部材は、チャンバー内で作成してもよいが、非活性雰囲気下にある別の室内で作成してもよい。その場合には、特定部材を取り囲む雰囲気を非活性雰囲気に維持しつつ、チャンバー内に設置することで、作られた特定部材を安全にチャンバーまで移動させることができる。
【００１０】
特に、リチウム膜の製造には、チャンバー内でリチウムまたはリチウム合金の粒子を飛散させる、物理的堆積法を用いることが多い。物理的堆積法としては、抵抗加熱，電子ビーム蒸着，分子線エピタキシーなどの蒸着法や、イオンめっき、イオンビームデポジション、スパッタリングなどがある。
【００１１】
特定部材としては、チャンバーに配置される製造用部材の中から任意に選択して特定部材とすることができる。
特に、物理的堆積法を用いる場合、非活性状態に保持されたチャンバー内でリチウムまたはリチウム合金の原料を保持部材に設置するとともに、特定部材として、保持部材を囲み基材のリチウム膜が堆積される領域を開口した遮蔽部材をチャンバー内に配置する。そして、原料からリチウム等の粒子を飛散させることにより、リチウム膜を堆積させる。
物理的堆積法を用いた場合、遮蔽部材の開口付近には、基材上とほぼ同量のリチウム等の粒子が飛散するので、製造時には、相当な厚みのリチウム等が累積して堆積される。したがって、遮蔽部材のメンテナンス頻度が相当に多くなるので、遮蔽部材を特定部材とすることにより、上述のような本発明の作用効果をより顕著に得ることができる。
【００１２】
本発明のリチウム膜の製造装置は、気相法により、基材上にリチウムまたはリチウム合金からなるリチウム膜を堆積させるための装置である。そして、基材が配置されるチャンバーと、チャンバー内に配置される製造用部材とを備え、製造用部材のうち少なくとも１つは、リチウムまたはリチウム合金によって構成される特定部材である。
【００１３】
この製造装置により、上述の作用効果を奏しつつ、リチウム膜の製造方法を実施することができる。
【００１４】
特に、気相法の中でも物理的堆積法を用いる場合には、製造用部材は、リチウムまたはリチウム合金の原料を保持する保持部材と、基材のリチウム膜が堆積される領域を開口した遮蔽部材とを含んでいる。そして、上述のように、遮蔽部材が特定部材であることにより、本発明の作用効果をより顕著に得ることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によると、気相法によりリチウムまたはリチウム合金を堆積しつつ、原料ロスの低減と作業性の向上とを実現しうる、リチウム膜の製造方法およびリチウム膜製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態に係るリチウム膜製造装置の概略構成を、チャンバー内部を破断して示す側面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る遮蔽部材の裏面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るリチウム膜の製造手順を示すフローチャートである。
【図４】遮蔽部材の変形例を示す縦断面図である。
【図５】変形例に係るリチウム膜製造装置の概略構成を、チャンバー内部を破断して示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１は、本発明の実施の形態に係るリチウム膜製造装置Ａの側面図である。図２は、本発明の実施の形態に係る遮蔽部材の裏面図である。
図１に示すように、実施の形態に係るリチウム膜製造装置Ａは、真空チャンバー１０と、真空チャンバー１０との間で各種部材を回収・導入するパスボックス１２とを備えている。このパスボックス１２は、半導体製造装置などにおいて周知であるクラスタリング構造の一部を利用したものである。すなわち、リチウムは常温で酸素と反応する性質を有することから、真空チャンバー１０は、不活性ガス雰囲気または真空雰囲気、あるいは不活性ガスを含む減圧雰囲気など、非活性雰囲気に維持する必要がある。本実施の形態では、真空チャンバー１０は、減圧雰囲気に維持されている。そこで、真空チャンバー１０と同様の非活性雰囲気に維持されるパスボックス１２を真空チャンバー１０に隣接して配置し、パスボックス１２を介して、製造物，原料，製造用部材などを真空チャンバー１０に導入、あるいは真空チャンバー１０から回収する。
【００１８】
真空チャンバー１０内には、基材フィルム２１上に、リチウムまたはリチウム合金からなるリチウム膜２２を堆積してリチウム積層膜２３とするための製造用部材が配置されている。リチウム膜２２が堆積される前の基材フィルム２１を巻回した基材リール２４は、天井面に固定された支持部材２７に回転可能に取り付けられており、リチウム積層膜２３を巻回した製品リール２５は、天井面に固定された支持部材２９に回転可能に取り付けられている。また、基材リール２４から製品リール２５まで基材フィルム２１が送られる間、基材フィルム２１を案内する回転ロール２６が配置されている。回転ロール２６は、天井面に固定された支持部材２８に回転自在に取り付けられている。
【００１９】
また、回転ロール２６の下方には、リチウムまたはリチウム合金（リチウム等）の原料が入れられた原料るつぼ１３（または原料ボート）（保持部材）が配置されている。そして、原料るつぼ１３内のリチウム等を、るつぼ１３を加熱したり，側方からの電子ビームの照射などによってリチウム等を蒸発させる構成となっている。
【００２０】
また、一般的な蒸着法で用いられるように、原料るつぼ１３を囲み、基材フィルム２１の成膜領域に開口１５を有する遮蔽板１４（遮蔽部材）が配置されている。蒸発したリチウム等の粒子は、遮蔽板１４の開口１５に位置する領域で、基材フィルム２１上に堆積される。
図２は、遮蔽板１４を裏面側（下方側）からみた構造を示す裏面図である。本実施の形態は、コ字状溝を有する１対の遮蔽板１４の端面同士が接触し、１対のコ字状溝により開口１５が形成されている。ただし、各遮蔽板１４の端面は、コ字状溝がないフラットな形状であってもよい。その場合には、各遮蔽板１４の端面同士が接触せずに離間して、両端面の間が開口１５となる（図２の破線参照）。
【００２１】
ここで、本実施の形態の特徴は、遮蔽板１４がリチウム等によって構成されている点である。
ただし、遮蔽板１４を構成するリチウムまたはリチウム合金の組成が、堆積されるリチウム膜２２と全く同じ組成である必要はない。多少組成がずれていても、原料として再利用が可能であればよいからである。
【００２２】
本実施の形態にいては、基材フィルム２１としてプラスチックフィルムを用いているが、金属フィルムを用いてもよい。
プラスチックからなる基材フィルム２１としては、リチウム膜の保護フィルムとして機能する程度の機械的強度を有するフィルム（腰のあるフィルム）であれば、特に限定されないが、ポリエステル、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンーポリプロピレン共重合体等の汎用樹脂のフィルム他、エンジニアリングプラスチック等のフィルムなどがある。
【００２３】
これらの中でも、分子式がＣnＨ2n+2-2mで表されるポリオレフィン，ＰＥＴ，ポリ塩化ビニリデンおよび塩化ビニリデンを主成分とするポリマーは、リチウム膜１０との反応が生じにくいので、基材フィルム２１の材料として用いることにより、基材フィルム２１やリチウム膜２２のフレアの発生を抑制することができる。
【００２４】
なお、基材フィルム２１の厚みは、リチウム膜２２の幅、厚み、製品リール２５への巻き取り速度などの作業状況に合わせて適宜最適なものを選択して用いればよい。汎用樹脂を用いる場合、腰のある強度を保つためには最低でも５μｍ以上好ましくは１0μｍ以上の厚さが必要であり、上限はいくらでも構わないが、好ましくは３ｍｍ以下、より好ましくは、リチウム積層膜２３を製品リール２５に連続的に巻き取るために、１００μm以下とするのがよい。
リチウム膜２２の厚みは、１〜２０μｍ程度が好ましいが、この範囲に限定されるものではない。
【００２５】
なお、基材フィルム２１やリチウム積層膜２３をリールに巻き取るのではなく、例えば、１辺１５ｃｍ以上の薄板（Ｘ−Ｙステージを用いた枚葉タイプなど）として加工する場合は、厚み１ｍｍ程度以上の基材フィルム２１を用い、その表面にリチウム膜２２を積層することもできる。
【００２６】
次に、本実施の形態におけるリチウム膜の製造手順（成膜手順）について説明する。
図３は、本実施の形態におけるリチウム膜の製造手順を示すフローチャートである。
まず、ステップＳＴ１で、真空チャンバー１０の排気処理を行う。このとき、減圧下で、ヘリウム，アルゴン，ネオン，クリプトン，窒素などの不活性ガスを混在させてもよい。
【００２７】
次に、ステップＳＴ２で、特定部材（本実施の形態では、遮蔽板１４）を真空チャンバー１０内に配置する。また、基材リール２４や製品リール２５を支持部材２７，２９に取り付けておく。
次に、ステップＳＴ３で、原料るつぼ１３に、リチウムまたはリチウム合金の原料を導入する。ただし、ステップＳＴ３は、ステップＳＴ２の前に行ってもよい。
【００２８】
次に、ステップＳＴ４で、原料るつぼ１３を加熱して、リチウム等の原料を融点以上で沸点以下の温度に維持することにより、リチウム等を蒸発させて、リチウム等の粒子を真空チャンバー１０内で飛散させる。このとき、ほとんどのリチウム等の粒子は、多方向に飛散する。
【００２９】
その結果、ステップＳＴ５に示すように、リチウム等が基材フィルム２１に堆積して，リチウム膜２２が形成される。そして、ＳＴ６で、製品リール２５を真空チャンバー１０からパスボックス１２を介して取り出す。リチウム膜２２は基材フィルム２１から蓄電デバイス等の電子部品の一部に転写され、あるいは、基材フィルム２１に堆積したままで、蓄電デバイス等の部材として用いられる。
【００３０】
一方、ステップＳＴ７に示すように、特定部材（本実施の形態では、遮蔽板１４）にもリチウム等が堆積するので、ステップＳＴ８で、特定部材を取り出して、新品の特定部材と交換する。
【００３１】
その後、ステップＳＴ９に示すように、特定部材は堆積したリチウム等と共に加熱溶融されて、原料または新たな特定部材として再利用される。
【００３２】
本実施の形態によると、以下の効果を発揮することができる。
上述のように、蒸着法により、リチウム膜を堆積させる際には、リチウムまたはリチウム合金（リチウム等）の粒子が多方向に飛散する。そして、基材フィルム２１上だけでなく、遮蔽板１４（特定部材）にも相当な厚みのリチウム等が堆積するので、原料ロスが生じる。また、遮蔽板１４に堆積したリチウム等を除去する定期的なメンテナンスが必要となる。
しかし、本発明では、メンテナンスの際に、リチウム等が堆積した遮蔽板１４等の特定部材は、堆積したリチウム等を除去することなく取り外して、新品の特定部材と交換すればよい。そして、特定部材とその上に堆積したリチウム等とは、加熱溶融して原料として再利用することができる。すなわち、原料ロスを低減することができる。
また、特定部材に堆積したリチウム等を除去する作業が不要となるので、メンテナンスの際に、煩雑な作業が不要となる。
以上のように、原料ロスの低減と、メンテナンス作業の簡素化とにより、製造コストの大幅な削減が実現する。
【００３３】
ここで、具体的に、遮蔽板１４に堆積するリチウム等の厚みを概算すると、以下のようになる。
たとえば、リチウム膜２２を堆積する基材フィルム２１の全面積をＷ×Ｌ１とし、基材フィルム２１のうち開口１５に位置する領域の面積をＷ×Ｌ２とする（Ｌ２は基材の送り方向における開口１５の寸法（送り方向寸法）にほぼ等しい）。基材フィルム２１は移動するが、遮蔽板１４は移動しないので、基材フィルム２１の全領域にリチウム膜２２が形成される間、遮蔽板１４には絶えずリチウム等が累積して堆積される。
つまり、遮蔽板１４の特に開口１４に隣接する領域では、概算すると、厚みｔ＝Ｗ×Ｌ１／Ｗ×Ｌ２＝Ｌ１／Ｌ２のリチウム等が堆積される。
したがって、基材フィルム２１の全長Ｌ２を１００ｍ程度とし、開口１５の送り方向寸法Ｌ１を１０ｃｍ程度とすると、遮蔽板１４の開口１５付近の領域には、基材フィルム２１に形成されるリチウム膜２２の厚みの約１０００倍の厚みのリチウム等が堆積される。リチウム膜２２の厚みは、１〜２０μｍ程度であるので、１回の成膜時には、遮蔽板１４の開口１５付近の領域に、厚み数ｍｍのリチウム等が堆積されることになる。
【００３４】
以上の概算からわかるように、遮蔽板１４にはきわめて厚くリチウム等が堆積されるので、遮蔽板１４の交換頻度も多くせざるを得ない。よって、上述した本発明の効果が非常に大きいことがわかる。
【００３５】
−遮蔽板の変形例−
図４は、遮蔽板１４の変形例を示す縦断面である。上記実施の形態では，１対の遮蔽板１４を配置したが、図４に示すように、１枚のリチウム等の板を折り曲げて、遮蔽板１４を作成してもよい。この場合、開口１５の形状は、図２の実線で示される形状であってもよいし、破線で示される形状であってもよい。
特に、リチウムの純度が高いほどリチウム等の板は柔らかくなるので、手作業または器具を用いて簡単に折り曲げることができる。
【００３６】
上記実施の形態では、特定部材が遮蔽板１４（遮蔽部材）だけである例について説明したが、特定部材は遮蔽板１４に限定されるものではない。
たとえば、遮蔽板１４の開口１５が、図２の破線で示される形状である場合には、遮蔽板１４の上方にも相当量のリチウム等の粒子が飛散する。したがって、そのような場合には、遮蔽板１４の上方に，別の遮蔽板を設置することが好ましい。
【００３７】
−リチウム膜製造装置の変形例−
図５は、変形例に係るリチウム膜製造装置Ａの概略構成をチャンバー内部を破断して示す側面図である。
この変形例では、特定部材として、実施の形態または上述の変形例における遮蔽板１４に加えて、真空チャンバー１０の内壁を覆う保護板１７が配置されている。リチウム等のほとんどの蒸発粒子は、直進して遮蔽板１４に衝突するが、遮蔽板１４の隙間などから後方に回り込むものもある。また、遮蔽板１４が図２の破線で示す形状を有する場合には、相当量のリチウム等の粒子が遮蔽板１４の後方まで飛散する。そのため、真空チャンバー１０の内壁には、次第にリチウム等が堆積されてゆく。このような場合でも、メンテナンス作業として、真空チャンバー１０の内壁を清掃することなく、保護板１７を交換するだけで済むので、上記実施の形態と同様の作用効果が得られる。
なお、原料を保持する原料るつぼ１３（保持部材）をリチウムまたはリチウム合金によって構成してもよい。また、図１，図５に示す各種部材や、それ以外の部材を真空チャンバー１０内に配置する場合にも、適宜、それらの部材をリチウムまたはリチウム合金によって構成することができる。
【００３８】
上記各実施の形態では、基材フィルム２１として、プラスチックフィルム単体からなるものを用いたが、プラスチックフィルム上に、表面材として、ポリ塩化ビニリデン又は塩化ビニリデンを主成分とするポリマーフィルムなどが積層されたものを用い、表面材をプラスチックフィルムとリチウム膜２２との間に介在させてもよい。これにより、リチウム膜２２の基材フィルム２１からの剥離性が向上する。
【００３９】
ただし、「塩化ビニリデンを主成分とするポリマー」とは、塩化ビニリデンの含有量が５０重量パーセント以上のポリマーをいい、塩化ビニリデンの含有量が５０重量パーセント以上であれば、塩化ビニリデンと他のモノマーとの交互共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体及びこれらの混合物、さらにはポリ塩化ビニリデンと他のポリマーとの混合物などを含む概念である。他のモノマーとしては、オレフィンやそのハロゲン化物が例示され、他のポリマーとしてはポリオレフィンやそのハロゲン置換体が例示される。他のモノマーとしては中でも、塩化ビニルや１，２−ジクロロエチレンを用いるのが好ましく、他のポリマーとしてはポリ塩化ビニルやポリ１，２−ジクロロエチレンを用いるのが好ましい。汎用性や安価な点を考慮すれば、塩化ビニリデンと塩化ビニルとの共重合体とするのが好ましい。
【００４０】
上記各実施の形態では、基材フィルム２１としてプラスチックフィルムを用いたが、実質的にリチウムと反応しない金属フィルムを用いてもよい。基材フィルム２１として金属フィルムを用いた場合、金属フィルムとリチウム膜２１とが相導通するので、金属フィルムをそのまま蓄電デバイスの一部として用いうるケースが増える。金属としては、リチウムとの反応性がほとんどない、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｔａ，Ｗなどが好ましい。
【００４１】
上記開示された本発明の実施の形態の構造は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの記載の範囲に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、携帯電話，ノートパソコン，ハイブリッド車，電気自動車等の電源装置や，無停電電源装置に内蔵されるリチウム膜の製造に利用することができる。
【符号の説明】
【００４３】
Ａ    リチウム膜製造装置
１０  真空チャンバー
１２  パスボックス
１３  原料るつぼ（保持部材）
１４  遮蔽板（遮蔽部材，特定部材）
１５  開口
１７  保護板
２１  基材フィルム
２２  リチウム膜
２３  リチウム積層膜
２４  基材リール
２５  製品リール
２６  回転ロール
２７〜２９  支持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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