(57)【要約】【課題】レチクルＲをより効率的に冷却すること。【解決手段】レチクルステージＲＳＴと第２コンデンサレンズＣＬとの間に介在し、レチクルステージＲＳＴの走査範囲内においてレチクルステージＲＳＴと第２コンデンサレンズＣＬとの間に実質的に密閉された空間ＳＡを形成する隔壁部材１０１と、隔壁部材１０１によって密閉された空間ＳＡ内に乾燥空気を供給する空気供給路１１１とを備える。空間ＳＡは、照明光学系ＩＬＳからの照明光ＥＬが通過する空間であって、空気供給路１１１から乾燥空気が供給される第１空間ＳＡ１と、第１空間ＳＡ１に連通し、第１空間ＳＡ１からの乾燥空気の流れを形成する第２空間ＳＡ２とを形成し、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流通断面積Ｏ２は、第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流通断面積Ｏ１より小さくなっている。【選択図】図３
2011249620.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から搬入されたレチクルとウエハとを所定の走査方向に同期移動させて前記レチクルに形成されたパターンの像を前記ウエハ上に露光する露光装置において、
前記レチクルを載置するレチクルホルダと、
前記レチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルホルダを前記走査方向に走査する走査機構と、
前記レチクルホルダと前記照明光学系との間に介在し、前記レチクルホルダの走査範囲内において該レチクルホルダと該照明光学系との間に実質的に密閉された空間を形成する隔壁部材と、
前記隔壁部材によって形成された前記空間内に気体を供給する空気供給路と、を備え、
前記空間は、前記照明光学系から発して、前記レチクルホルダに載置された前記レチクルを照明する照明光が通過する空間であって、前記空気供給路から前記気体が供給される第１空間と、前記第１空間に連通し、前記第１空間からの該気体の流れを形成する第２空間と、を形成し、前記第２空間の気体の流通断面積は、前記第１空間の気体の流通断面積より小さいことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記走査機構による前記レチクルホルダの走査に伴って、前記第２空間内での気体の流速が、前記第１空間内での気体の流速よりも速くなることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１空間に配置され、前記照明光が照射される前記レチクルの一部表面に気体を噴出する噴出ノズルを備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記レチクルホルダの走査方向に沿って測定光路を形成し、前記レチクルホルダの位置情報を求める干渉計と、
前記気体が前記干渉計の測定光路側に漏れることを抑制するガイド部材と、
を備えることを特徴とする請求項１〜３のうち、いずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記ガイド部材は、前記レチクルホルダに設けられていることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
測定光を用いて測定を行う測定装置と、
前記気体を、前記測定光の少なくとも一部の光路から隔離する隔離部材と、
を備えることを特徴とする請求項１〜５のうち、いずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１空間及び前記第２空間内にイオンを含む気体を供給するイオン供給装置を備えることを特徴とする請求項１〜６のうち、いずれか１項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクルに形成されたパターンの像を基板上に転写露光する露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等のデバイスの製造工程の１つであるリソグラフィ工程では、フォトマスク又はレチクル（以下、レチクルと総称する）に形成されたパターンの像をレジストが塗布された基板上に転写露光する露光装置が使用される。この露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置やステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置等が知られている。
【０００３】
このような露光装置では、レチクルに照明光を照射している際にレチクルに熱歪みや熱膨張が発生することがある。具体的には、照明光に対するレチクルの反射率が低い場合には、照明光が照射されている領域と照射されていない領域との間に温度差が生じることによって、レチクルの面内方向に熱歪みが発生することがある。そして、レチクルに熱歪みや熱膨張が発生している状態で転写露光が行われると、基板上には歪んだパターンの像が転写露光され、パターンの重ね合わせ精度や繋ぎ合わせ精度が低下する。
【０００４】
このため、従来の露光装置には、所定の温度範囲内に制御された温調気体をレチクル表面に供給する空調装置が設けられている。このような空調装置によれば、温調気体によってレチクル表面が冷却されることによって、熱歪みや熱膨張が発生することを抑制できるので、パターンの重ね合わせ精度や繋ぎ合わせ精度が低下することを抑制できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００６／２８１８８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の露光装置においても、空調装置による冷却に対し、更なる効率の向上が望まれていた。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、レチクルをより効率的に冷却可能な露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る露光装置は、外部から搬入されたレチクルを載置するレチクルステージと、レチクルの表面を照明する照明光学系と、レチクルステージを走査する走査機構と、レチクルステージと照明光学系との間に介在し、レチクルステージの走査範囲内においてレチクルステージと照明光学系との間に実質的に密閉された空間を形成する隔壁部材と、隔壁部材によって密閉された空間内に気体を供給する空気供給路と、を備え、空間は、照明光学系からの照明光が通過する空間であって、空気供給路から気体が供給される第１空間と、第１空間に連通し、第１空間からの気体の流れを形成する第２空間と、を形成し、第２空間の気体の流通断面積は、第１空間の気体の流通断面積より小さいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る露光装置によれば、レチクルをより効率的に冷却することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の一実施形態である露光装置の全体構成を示す側面概略断面図である。
【図２】図２は、図１に示す露光装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図３】図３は、レチクルステージ装置の構成を示す概略断面図である。
【図４】図４は、レチクルステージの構成を示す概略斜視図である。
【図５】図５は、レチクルステージが−Ｙ方向に走査されたときの乾燥空気の流れを示す図である。
【図６】図６は、レチクルステージが＋Ｙ方向に走査されたときの乾燥空気の流れを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態である露光装置の構成について説明する。
【００１２】
〔露光装置の全体構成〕
始めに、図１を参照して、本発明の一実施形態である露光装置の全体構成について説明する。
【００１３】
図１は、本発明の一実施形態である露光装置の全体構成を示す側面概略断面図である。図１に示すように、本発明の一実施形態である露光装置１は、チャンバ２と、光源部３と、照明光学系ＩＬＳと、レチクルステージ装置４と、投影光学系ＰＬと、ウエハステージＷＳＴとを備える。なお、以下では、チャンバ２の底面の法線方向をＺ軸方向と定義し、Ｚ軸方向に対し垂直な平面内であって図１の紙面に垂直及び平行な方向をそれぞれＸ軸方向及びＹ軸方向と定義する。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸周りの回転方向をそれぞれθｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向と表現する。
【００１４】
チャンバ２は、床ＦＬ上に設置されている。チャンバ２内の床ＦＬ上には、台座１１を介して下部フレーム１２が設置されている。下部フレーム１２の中央部には、平板状のベース部材１３が固定されている。ベース部材１３上には、防振台１４を介して平板状のウエハベースＷＢが支持されている。ウエハベースＷＢのＸＹ平面に平行な上面には、図示しないエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴがＸ軸方向及びＹ軸方向に移動可能、且つ、θｚ方向に回転可能に載置されている。
【００１５】
下部フレーム１２の上端には、ウエハベースＷＢを囲むように配置された防振台１５を介して光学系フレーム１６が支持されている。光学系フレーム１６の中央部の開口には投影光学系ＰＬが配置されている。光学系フレーム１６上には、投影光学系ＰＬを囲むように上部フレーム１７が固定されている。
【００１６】
チャンバ２の上面には、チャンバ２内の空調を行うための空調装置２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが配設されている。空調装置２０Ａは、チャンバ２の上面に形成された複数の開口部２１を介してチャンバ２内に温度制御された清浄な空気をダウンフロー方式で供給する。空調装置２０Ｂは、空気供給路２２を介して照明光学系ＩＬＳに窒素ガスを供給する。空調装置２０Ｃは、空気供給路２３を介してレチクルステージ装置４に乾燥空気を供給する。
【００１７】
光源部３は、チャンバ２の外側の床ＦＬ上に設置されている。光源部３は、露光用の照明光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生するレーザ光源と、照明光ＥＬを照明光学系ＩＬＳに導くビーム送光光学系と、照明光ＥＬの断面形状を所定形状に成形するビーム成形光学系とを備える。光源部３の照明光ＥＬの射出端は、チャンバ２の＋Ｙ方向の側面上部の開口を通してチャンバ２内に配置されている。照明光ＥＬの光源として、ＫｒＦエキシマレーザ光源等の紫外パルスレーザ光源、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザの高調波発生装置、又は水銀ランプ等も使用することができる。
【００１８】
照明光学系ＩＬＳは、チャンバ２内の上部に配置され、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系と、レチクルブラインド、第１コンデンサレンズ、光路折り曲げ用のミラーＭＥ、及び第２コンデンサレンズＣＬ等の複数の光学部材を備える。これらの光学部材は照明系鏡筒５内に支持されている。照明系鏡筒５内は、空気供給路２２を介して空調装置２０Ｂからの窒素ガスが供給されることによって、所定の温度及び湿度の範囲内に制御される。照明光学系ＩＬＳは、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のＸ方向に細長いスリット状の照明領域を照明光ＥＬによりほぼ均一な照度で照明する。
【００１９】
レチクルステージ装置４は、投影光学系ＰＬの物体面側に配置されている。レチクルステージ装置４は、外部から搬入されたレチクルＲを保持する機構と、レチクルＲをＹ軸方向に所定ストロークで移動させると共にＸ軸方向及びθｚ方向に微少量移動させるための図示しない走査機構とを備える。レチクルＲには、電子デバイスの回路パターン等の所定のパターンが形成されている。レチクルＲを通過した照明光学系ＩＬＳからの照明光ＥＬは、投影光学系ＰＬに導かれる。
【００２０】
投影光学系ＰＬは、複数のミラーを鏡筒によって保持することにより構成されている。投影光学系ＰＬは、レチクルＲ側及びウエハＷ側にそれぞれ非テレセントリック及びテレセントリックの反射系であり、その投影倍率は１／４倍等の縮小倍率である。投影光学系ＰＬは、照明光ＥＬをウエハＷ上の露光領域に照射することによって、レチクルＲに形成された所定のパターンの一部の縮小像を露光領域に形成する。
【００２１】
投影光学系ＰＬは、波面収差、コマ収差、像面湾曲、ディストーション等の光学特性を調整するための図示しない光学特性調整機構を備える。この光学特性調整機構は、投影光学系ＰＬにおける照明光ＥＬの光軸ＡＸに対して、複数のミラーのうちの少なくとも一つを傾斜させたり、光軸ＡＸと平行な方向に移動させたり、少なくとも一つのミラーの形状を変形させたりすることによって、投影光学系ＰＬの光学特性を調整する。
【００２２】
ウエハステージＷＳＴは、ウエハＷを真空吸着する図示しない真空チャックと、図示しない真空チャックを介してウエハＷの温度を調整するための図示しない冷却装置と、ウエハＷをＹ軸方向に所定ストロークで移動させると共にＸ軸方向及びＺ軸方向に移動させるための図示しない走査機構とを備える。投影光学系ＰＬから射出された照明光ＥＬがウエハＷの表面を照射することによって、ウエハＷには、レチクルＲに形成された所定のパターンを所定倍率に縮小したパターンが転写される。なお、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴは真空吸着によってウエハＷを保持したが、静電吸着によってウエハＷを保持するようにしてもよい。
【００２３】
ウエハＷ上の一つのショット領域を露光するときには、Ｘ軸方向を長辺とする矩形状に整形された照明光ＥＬが照明光学系ＩＬＳからレチクルＲ表面に照射され、レチクルＲとウエハＷとは投影光学系ＰＬに対して投影光学系ＰＬの縮小倍率に従った所定の速度比でＹ軸方向に同期して走査される。このようにして、ウエハＷ上の一つのショット領域には、レチクルＲに形成された所定のパターンに基づくパターンの像が転写露光される。その後、ウエハステージＷＳＴを駆動してウエハＷをステップ移動した後、ウエハＷ上の次のショット領域に対してレチクルＲに形成された所定のパターンに基づくパターンの像が転写露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の複数のショット領域に対して順次レチクルＲのパターンが形成される。
【００２４】
〔制御系の構成〕
次に、図２を参照して、露光装置１の制御系の構成について説明する。
【００２５】
図２は、図１に示す露光装置１の制御系の構成を示すブロック図である。図２に示すように、露光装置１は、制御系として、信号処理系５１と、レチクルオートフォーカス系５２と、レチクル干渉計５３と、ウエハ干渉計５４と、主制御装置５５とを備える。信号処理系５１は、アライメント系ＡＬの計測信号を処理することによってウエハＷ上のアライメントマークの位置を算出し、算出されたアライメントマーク位置を示す電気信号を主制御装置５５に入力する。
【００２６】
レチクルオートフォーカス系５２は、オートフォーカスセンサＡＦの検出信号を処理することによってウエハＷ上の複数点におけるフォーカス位置を算出し、算出されたフォーカス位置を示す電気信号を主制御装置５５に入力する。レチクル干渉計５３は、レチクルＲを保持して移動可能なレチクルステージ（又はレチクルホルダ、以下レチクルステージという）ＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報を検出し、検出された位置情報を示す電気信号を主制御装置５５に入力する。ウエハ干渉計５４は、ウエハＷの位置情報を検出し、検出された位置情報を示す電気信号を主制御装置５５に入力する。
【００２７】
主制御装置５５は、マイクロコンピュータ等の演算処理装置によって実現される。主制御装置５５は、露光装置１全体の動作を制御する。具体的には、主制御装置５５は、信号処理系５１から入力される電気信号に基づいてウエハＷのアライメントを行う。主制御装置５５は、レチクルオートフォーカス系５２から入力される電気信号に基づいてレチクルステージ駆動系５６を駆動する。レチクルステージ駆動系５６は、リニアモータ５７を駆動することによってレチクルステージＲＳＴを移動することにより、レチクルＲのＺ方向位置を許容範囲内に制御する。
【００２８】
主制御装置５５は、レチクル干渉計５３から入力される電気信号に基づいてレチクルステージ駆動系５６を駆動する。レチクルステージ駆動系５６は、リニアモータ５７を駆動することによって、ＸＹ平面に平行なガイド面に沿ってレチクルステージＲＳＴをＹ方向に所定ストロークで移動すると共に、必要に応じてＸ方向及びθｚ方向等にもレチクルステージＲＳＴを微少量移動する。
【００２９】
主制御装置５５は、ウエハ干渉計５４からの電気信号に基づいてウエハステージ駆動系５８を駆動する。ウエハステージ駆動系５８は、リニアモータ５９を駆動することによって、Ｘ方向及びＹ方向に所定ストロークでウエハステージＷＳＴを移動すると共に、必要に応じてθｚ方向等にもウエハステージＷＳＴを移動する。主制御装置５５は、空調制御系６０を介して空調装置２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃを制御することによって、空調装置２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが供給する気体（空気、窒素ガス、乾燥空気）の温度及び湿度を所定の範囲内に制御する。
【００３０】
〔レチクルステージ装置の構成〕
次に、図３及び図４を参照して、レチクルステージ装置４の構成について説明する。
【００３１】
図３は、レチクルステージ装置４の構成を示す概略断面図である。図４は、レチクルステージの構成を示す概略斜視図である。図３に示すように、レチクルステージ装置４は、レチクルステージＲＳＴと、隔壁部材１０１，１０２と、ガイド部材１０３，１０４とを備える。図４に示すように、レチクルステージＲＳＴは、矩形枠状の部材により構成され、保持面１２１において外部から搬入されるレチクルＲの下面の一部を真空吸着等により保持する。レチクルステージＲＳＴの±Ｘ方向側の両端面には、リニアモータ５７の可動子として機能する磁石ユニット５７Ａが設けられている。隔壁部材１０１は、図３に示すように、レチクルステージＲＳＴと照明光学系ＩＬＳを構成する第２コンデンサレンズＣＬとの間に介在する。隔壁部材１０１は、図示しないレチクルステージ駆動系によるレチクルステージＲＳＴの全走査範囲内において、レチクルステージＲＳＴと第２コンデンサレンズＣＬとの間に実質的に密閉された空間ＳＡを形成する。
【００３２】
空間ＳＡは、第２コンデンサレンズＣＬから照射された照明光ＥＬが通過する第１空間ＳＡ１を形成する。第１空間ＳＡ１には、空気供給路１１１と、噴出ノズル１１２と、帯電除去装置１１３とが設けられている。空気供給路１１１は、図示しない空調装置からの乾燥空気Ａ１を第１空間ＳＡ１内に供給する。噴出ノズル１１２は、照明光ＥＬが照射されるレチクルＲの一部表面に図示しない空調装置からの乾燥空気Ａ２を噴出する。この場合、空調装置２０Ｃで温度制御された乾燥空気を、レチクルＲに向けて吹付けることになるので、例えば、照明光を照射されることでレチクルＲの温度が上昇したとしても、レチクルＲを効率よく所定の温度まで冷却することが可能となる。帯電除去装置１１３は、第１空間ＳＡ１内にイオンを含む気体を供給することによってレチクルＲ表面に発生する静電気を除去する。  
【００３３】
空間ＳＡは、第１空間ＳＡ１と連通する第２空間ＳＡ２を形成する。第２空間ＳＡ２における隔壁部材１０１の下面とレチクルステージＲＳＴの上面との間には、レチクルステージＲＳＴが走査可能なように隙間が形成されている。これにより、空気供給路１１１及び噴出ノズル１１２から供給された乾燥空気Ａ１，Ａ２は、第１空間ＳＡ１から第２空間ＳＡ２内へと流通し、隔壁部材１０１の下面とレチクルステージＲＳＴの上面との間に形成された隙間から漏れ出す。また、第２空間ＳＡ２は、図３に示すように、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流通断面積Ｏ２が、第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流通断面積Ｏ１より小さくなるように設計されている。本明細書中において、流通断面積とは、乾燥空気の流路の断面積、すなわち乾燥空気の流れ方向に略直交する方向における第１空間ＳＡ１及び第２の空間ＳＡ２の断面積を意味する。
【００３４】
隔壁部材１０２は、レチクルステージＲＳＴと投影光学系ＰＬとの間に介在する。本実施形態においては、隔壁部材１０２は、レチクルステージＲＳＴのガイド面を形成するレチクルステージ定盤として機能する。レチクルステージＲＳＴは、図示しないエアベアリングによってレチクルステージ定盤上で浮上支持されている。隔壁部材１０２は、図示しないレチクルステージ駆動系によるレチクルステージＲＳＴの全走査範囲内において、レチクルステージＲＳＴと投影光学系ＰＬとの間に実質的に密閉された空間ＳＢを形成する。空間ＳＢにおける隔壁部材１０２の上面とレチクルステージＲＳＴの下面との間には、レチクルステージＲＳＴが走査可能なように隙間が形成されている。空間ＳＢには空気供給路１１４が設けられている。空気供給路１１４は、図示しない空調装置からの乾燥空気Ａ３を空間ＳＢ内に供給する。空気供給路１１４から乾燥空気Ａ３を供給することによって、空間ＳＢ内の温度及び湿度を所定の範囲内に制御することができる。
【００３５】
ガイド部材１０３は、図４に示すように、レチクルステージＲＳＴの±Ｙ方向における両外周部上面側に設けられた板状部材であり、それぞれ±Ｙ方向に延伸する。ガイド部材１０３は、図３に示すように、隔壁部材１０１の下面とレチクルステージＲＳＴの上面との間に形成された隙間から漏れ出した乾燥空気がレチクル干渉計５３とレチクル干渉計５３からの測定光を反射する反射鏡５３ａとの間に形成される測定光路ＭＬ側に漏れることを抑制する。ガイド部材１０４は、図４に示すように、レチクルステージＲＳＴの±Ｙ方向における両外周部下面側に設けられた板状部材であり、それぞれ±Ｙ方向に延伸する。ガイド部材１０４は、図３に示すように、隔壁部材１０２の上面とレチクルステージＲＳＴの下面との間の隙間から漏れ出した乾燥空気が測定光路ＭＬ側に漏れることを抑制する。
また、干渉計とは別に、測定光を用いて測定を行う測定装置が露光装置に設けられている場合、乾燥空気が測定装置の測定精度に影響を与えないように、その測定光の少なくとも一部の光路から乾燥空気を隔離するように、隔離部材を設けてもよい。
【００３６】
このような構成を有するレチクルステージ装置４は、以下のように動作することによって、レチクルＲの表面上に温まった温調気体が滞留することを抑制し、レチクルＲを効果的に冷却する。以下、図５及び図６を参照して、レチクルＲを冷却する際のレチクルステージ装置４の動作について説明する。なお、図５は、レチクルステージＲＳＴが−Ｙ方向に走査されたときの乾燥空気の流れを示す図である。また、図６は、レチクルステージＲＳＴが＋Ｙ方向に走査されたときの乾燥空気の流れを示す図である。
【００３７】
図示しないレチクルステージ駆動系によってレチクルステージＲＳＴが走査された際、図５及び図６に示すように、空気供給路１１１及び噴出ノズル１１２から供給された乾燥空気は、ピストンの動作と同じ原理によって、第１空間ＳＡ１から第１空間ＳＡ１に連通する第２空間ＳＡ２へと引き込まれる。具体的には、レチクルステージＲＳＴが−Ｙ方向に走査されたときには、図５に示すように、乾燥空気は第１空間ＳＡ１からレチクルＲの−Ｙ方向上面に形成される第２空間ＳＡ２へと引き込まれ、−Ｙ方向に向かう乾燥空気の流れＦ１が形成される。同様に、レチクルステージＲＳＴが＋Ｙ方向に走査されたときには、図６に示すように、乾燥空気が第１空間ＳＡ１からレチクルＲの＋Ｙ方向上面に形成される第２空間ＳＡ２へと引き込まれることによって、＋Ｙ方向に向かう乾燥空気の流れＦ２が形成される。
【００３８】
またこのとき、第２空間ＳＡ２の大きさは、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流通断面積Ｏ２が第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流通断面積Ｏ１より小さくなるように設計されている。これにより、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流速は第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流速よりも速くなる。このため、乾燥空気の吹出口がレチクルＲ表面から離れた位置にあっても、流速が速い乾燥空気をレチクルＲ表面に供給されることによって、レチクルＲの表面上に温まった空気が滞留することが抑制され、レチクルＲを効果的に冷却することができる。
なお、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流速が、第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流速よりも速くなるのであれば、必ずしも、第２空間ＳＡ２の大きさを、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流通断面積Ｏ２が第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流通断面積Ｏ１より小さくなるように構成する必要はない。
【００３９】
以上の説明から明らかなように、本発明の一実施形態である露光装置１は、レチクルステージＲＳＴと照明光学系ＩＬＳとの間に介在し、レチクルステージＲＳＴの走査範囲内においてレチクルステージＲＳＴと照明光学系ＩＬＳとの間に実質的に密閉された空間ＳＡを形成する隔壁部材１０１と、隔壁部材１０１によって密閉された空間ＳＡ内に乾燥空気を供給する空気供給路１１１とを備える。そして、空間ＳＡは、照明光学系ＩＬＳからの照明光ＥＬが通過する空間であって、空気供給路１１１から乾燥空気が供給される第１空間ＳＡ１と、第１空間ＳＡ１に連通し、第１空間ＳＡ１からの乾燥空気の流れを形成する第２空間ＳＡ２とを形成し、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流通断面積Ｏ２は、第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流通断面積Ｏ１より小さくなっている。
【００４０】
このような構成によれば、乾燥空気の吹出口がレチクルＲ表面から離れた位置にあっても、流速が速い乾燥空気をレチクルＲ表面に供給することができるので、レチクルＲの表面上に温まった空気が滞留することが抑制され、レチクルＲをより効率的に冷却することができる。また、レチクルＲは、実質的に密閉された空間ＳＡ内に配置されているので、レチクルＲ周部の湿度を常に所定範囲内に制御し、水を媒介として成長する硫酸アンモニウム等の異物がレチクルＲのパターン上に成長することを抑制できる。
【００４１】
本発明の一実施形態である露光装置１は、第１空間ＳＡ１に配置され、照明光学系ＩＬＳからの照明光ＥＬが照射されるレチクルＲの一部表面に乾燥空気を噴出する噴出ノズル１１２を備える。このような構成によれば、レチクルＲの表面上に温まった空気が滞留することをさらに抑制することができるので、レチクルＲをより効率的に冷却することができる。
【００４２】
本発明の一実施形態である露光装置１は、第２空間ＳＡ２から排出された乾燥空気がレチクル干渉計５３の測定光路ＭＬ側に漏れることを抑制するガイド部材１０３を備えるので、乾燥空気がレチクル干渉計５３の測定精度に影響を与えることを抑制できる。
【００４３】
本発明の一実施形態である露光装置１は、第１空間ＳＡ１及び第２空間ＳＡ２内にイオンを含む気体を供給することによって静電気を除去する帯電除去装置１１３を備えるので、静電気によってレチクルＲ表面が帯電することを抑制できる。
【００４４】
以上、本発明者らによってなされた発明を適用した実施の形態について説明したが、上記実施形態による本発明の開示の一部をなす記述及び図面により本発明は限定されることはない。すなわち、上記実施形態に基づいて当業者等によりなされる他の実施形態、実施例、実施形態の組み合わせ、及び運用技術等は、全て本発明の範疇に含まれる。
ガイド部材１０３やガイド部材１０４は、図４に示すように、レチクルステージＲＳＴの±Ｙ方向の両外周部に独立して設けられているが、これらを一体的に設けるようにしてもよい。例えば、図４の構成では、レチクルＲＳＴの本体部分とガイド部材１０３、１０４との間に段差が形成されているが、その段差がなくなるように、隔壁部材１０１および隔壁部材１０２と対向する部分が、同一面状となるように構成してもよい。これにより、前記乾燥空気の流れＦ１、Ｆ２をよりスムーズに第２空間ＳＡ２に導くことができる。
【符号の説明】
【００４５】
１  露光装置
２  チャンバ
３  光源部
４  レチクルステージ装置
５３  レチクル干渉計
５３ａ  反射鏡
１０１，１０２  隔壁部材
１０３，１０４  ガイド部材
１１１，１１４  空気供給路
１１２  噴出ノズル
１１３  帯電除去装置
ＣＬ  第２コンデンサレンズ
ＥＬ  照明光
Ｆ１，Ｆ２  乾燥空気の流れ
ＩＬＳ  照明光学系
ＭＬ  測定光路
ＰＬ  投影光学系
ＲＳＴ  レチクルステージ
ＳＡ，ＳＢ  空間
ＳＡ１  第１空間
ＳＡ２  第２空間
ＷＳＴ  ウエハステージ
【図１】
2011249620.tif 000003
【図２】
2011249620.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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