(57)【要約】【課題】複数層光ディスクの再生時にクロストークを低減する光ヘッド装置を提供する。【解決手段】光源から出射する光が、複数層光ディスクの情報記録面で反射して、ビームスプリッタによって光検出器に導く光ヘッド装置において、光源とビームスプリッタとの間の光路中に３ビームを発生する回折素子を配置する。回折素子は、直進透過する光となる０次回折光を発生する透過領域と、±１次回折光を発生する回折領域を有し、とくに０次回折光のうち、複数層光ディスクの所望の情報記録面と異なる面で反射する迷光が、光検出器のサブビーム用の受光エリアに到達する迷光が低減するように、回折素子の透過領域と回折領域とを設定することで、クロストークが低減され、記録・再生が安定した光ヘッド装置を提供できる。【選択図】図１
2011113580.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源から発射した光を光ディスク側へ出射し、前記光ディスクからの反射される光を光検出器側へ分岐するビームスプリッタと、前記光ディスクに光を集光する対物レンズと、を有する光ヘッド装置において、
前記光源と前記ビームスプリッタとの間の光路中に回折素子を有し、
前記回折素子は、入射する光を直進透過する透過領域と、入射する光を回折して±１次回折光を発生する回折領域と、を有して、１つのメインビームと２つのサブビームの３ビームを発生し、
前記光検出器は、前記メインビームに対応するメインビーム用の受光エリアと、前記サブビームに対応する２つのサブビーム用の受光エリアを有し、
前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで発生した迷光のうち、前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する迷光が低減する光ヘッド装置。
【請求項２】
前記回折素子の前記回折領域は、断面が矩形状の回折格子を有し、入射する光に対して０次回折光を殆ど発生せず、
前記回折領域で発生する±１次回折光に対し前記光ディスクで発生した迷光のうち、前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する迷光が低減する請求項１に記載の光ヘッド装置。
【請求項３】
前記回折素子の光軸を基準に前記回折領域への最短距離をａ、最長距離をｂとし、
前記光検出器の前記メインビーム用の受光エリアの中心を基準に、前記サブビーム用の受光エリアへの最短距離をａ´、最長距離をｂ´とするとき、
ａ´／ａと、ｂ´／ｂとが略等しい請求項１または請求項２に記載の光ヘッド装置。
【請求項４】
光源と、前記光源から発射した光を光ディスク側へ出射し、前記光ディスクからの反射される光を光検出器側へ分岐するビームスプリッタと、前記光ディスクに光を集光する対物レンズと、を有する光ヘッド装置において、
前記光源と前記ビームスプリッタとの間の光路中に回折素子を有し、
前記ビームスプリッタと前記光検出器との間の光路中に、分割波長板と、非点収差を発生するシリンドリカルレンズと、と有し、
前記回折素子は、入射する光の一部を回折して０次回折光と＋１次回折光を発生し、−１次回折光を殆ど発生しない第１の回折領域と、入射する光の一部を回折して０次回折光と−１次回折光を発生し、＋１次回折光を殆ど発生しない第２の回折領域と、を有し、
前記分割波長板は、入射する光に対して第１の偏光方向の光を出射する第１の領域と、入射する光に対して前記第１の偏光方向の光と直交する第２の偏光方向の光を出射する第２の領域と、を有し、
前記光検出器は、前記メインビームに対応するメインビーム用の受光エリアと、前記サブビームに対応する２つのサブビーム用の受光エリアを有し、
前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第１の偏光方向の信号光に、前記第１の偏光方向の迷光が重なって前記メインビーム用の受光エリアおよび前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する光量を低減し、
前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第２の偏光方向の信号光に、前記第２の偏光方向の迷光が重なって前記メインビーム用の受光エリアおよび前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する光量を低減する光ヘッド装置。
【請求項５】
前記分割波長板は、前記メインビーム用の受光エリアおよび前記２つのサブビーム用の受光エリアの並ぶ方向に相当し、光軸を含む第１の直線の上と、前記第１の直線と直交し、光軸を含む第２の直線の上に、前記第１の領域と前記第２の領域の境界を有するとともに、前記シリンドリカルレンズの長軸方向に相当し、光軸を含む第３の直線の上と、前記第３の直線と直交し、光軸を含む第４の直線の上に、前記第１の領域と前記第２の領域の境界を有し、
前記回折素子は、前記第１の直線の上、前記第３の直線の上および前記第４の直線の上に、前記第１の回折領域と前記第２の回折領域の境界を有する請求項４に記載の光ヘッド装置。
【請求項６】
前記第３の直線および前記第４の直線は、前記第１の直線に対していずれも４５°の角度をなすように、前記分割波長板の前記第１の領域と前記第２の領域の境界を有し、前記回折素子の前記第１の回折領域と前記第２の回折領域の境界を有する請求項５に記載の光ヘッド装置。
【請求項７】
光源と、前記光源から発射した光を光ディスク側へ出射し、前記光ディスクからの反射される光を光検出器側へ分岐するビームスプリッタと、前記光ディスクに光を集光する対物レンズと、を有する光ヘッド装置において、
前記光源と前記ビームスプリッタとの間の光路中に回折素子を有し、
前記ビームスプリッタと前記光検出器との間の光路中に、分割波長板と、非点収差を発生するシリンドリカルレンズと、と有し、
前記回折素子は、入射する光の一部を回折して０次回折光と±１次回折光を発生する第１の回折領域と、入射する光の一部を回折して入射する光に対して０次回折光を低減する第２の回折領域と、を有し、
前記分割波長板は、入射する光に対して第１の偏光方向の光を出射する第１の領域と、入射する光に対して前記第１の偏光方向の光と直交する第２の偏光方向の光を出射する第２の領域と、を有し、
前記光検出器は、前記メインビームに対応するメインビーム用の受光エリアと、前記サブビームに対応する２つのサブビーム用の受光エリアを有し、
前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第１の偏光方向の信号光に、前記第１の偏光方向の迷光が重なって前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する光量を低減する光ヘッド装置。
【請求項８】
前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第２の偏光方向の信号光に、前記第２の偏光方向の迷光が重なって前記メインビーム用の受光エリアに到達する光量を低減する請求項７に記載の光ヘッド装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ストレージを扱う光学系として、例えばＣＤ、ＤＶＤ、光磁気ディスクなどの光記録媒体および、「Ｂｌｕ−ｒａｙ」（登録商標：以下ＢＤ）などの高密度光記録媒体に情報の記録および再生を行う光ヘッド装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクには、情報記録層が単層の単層光ディスクと、複数層ある複数層光ディスクとがある。例えば２層の記録層を有する２層光ディスクに対して情報の記録再生を行うとき、光ディスクで反射されて光検出器に戻る戻り光は、光源からの出射光を集光させた所望の情報記録層により反射される光（以下、「信号光」という）のみならず、隣接した情報記録層などにより反射された光（以下、「迷光」という）の影響を受ける。複数層光ディスクの記録再生を行う光ヘッド装置では、このような異なる記録層から反射される光によるクロストーク成分がサーボ信号に影響を与えないような構成にする必要がある。なお、本明細書では、光ディスクに対する記録若しくは再生、または、記録および再生を総称して「記録・再生」と表す。
【０００３】
図１６に従来の複数層光ディスクの記録・再生を行う光ヘッド装置における２層光ディスク再生時の光路の模式図を示す。２層光ディスクの光入射面から近い層をＬ１層、遠い層をＬ２層とする。例えば、Ｌ１層を２０２面として再生時に光検出器に受光される光２０６に対し、Ｌ２層を２０１面として反射された光２０４は、その焦点が光２０６より前方に位置する。一方、Ｌ２層を２０２面として再生時に光検出器に受光される光２０６に対し、Ｌ１層を２０３面として反射された光２０５は、その焦点が光２０６より後方に位置する。
【０００４】
Ｌ１層の再生時においてＬ１層（自層）からの戻り光は、光検出器２０８の検出面上に集光される。Ｌ１層を基準として、Ｌ２層（他層）より反射された戻り光は、ビーム径が大きく光密度は低いものの光検出器の検出面上に迷光となって照射されて、Ｌ１層（自層）からの戻り光と光検出器上で干渉を生じる。情報記録層の層間隔や光源波長の変化により光の干渉条件が変化すると、信号強度が変化して読み取り性能が低下する問題を引き起こす。とくにメインビームとなる０次回折光（＝直進透過光）およびサブビームとなる±１次回折光を利用する３ビーム法を用いる光ヘッド装置では、サブビームの光量はメインビームの光量に比べて少ないので、迷光の干渉による影響をより受けやすい。
【０００５】
この対策として、例えば特許文献１に示すような光ヘッド装置が提案されている。これは、図１７に示すようなホログラム素子２１０を光路中に配置し、光ディスクからの戻り光の一部を回折するように領域２１１となる回折格子を設けることで、サブビーム（±１次回折光）が到達する光検出器の領域（位置）に、重なって到達する迷光を低減させるものである。
【０００６】
また、他の対策として自層からの戻り光と他層からの戻り光の偏光状態を光検出器上で互いに直交して到達するような偏光方向変換素子を光路中に配置し、信号光と迷光との干渉を低減する光ヘッド装置が報告されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２０３０９０号公報
【特許文献２】特開２００７−２５７７５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載のホログラム素子を用いる光ヘッド装置は、迷光成分を低減させるために、回折格子領域２１１に入射する光を回折させているが、回折格子領域は迷光成分だけでなく、信号光成分も回折させてしまい、光利用効率が低いという問題があった。
【０００９】
また、特許文献２に記載の偏光方向変換素子は、一部の領域が入射する光の波長に対して１／２波長の位相差を発現する機能を有するパターンを有するが、光検出器の受光面には、同じ偏光方向の信号光と迷光とが重なって到達する領域が残るため干渉によるクロストーク現象を大きく低減できないという問題があった。とくに、サブビームはメインビームに比べて光量が小さいので、迷光による干渉の影響を受けやすいという問題があった。
【００１０】
本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、光源と、前記光源から発射した光を光ディスク側へ出射し、前記光ディスクからの反射される光を光検出器側へ分岐するビームスプリッタと、前記光ディスクに光を集光する対物レンズと、を有する光ヘッド装置において、前記光源と前記ビームスプリッタとの間の光路中に回折素子を有し、前記回折素子は、入射する光を直進透過する透過領域と、入射する光を回折して±１次回折光を発生する回折領域と、を有して、１つのメインビームと２つのサブビームの３ビームを発生し、前記光検出器は、前記メインビームに対応するメインビーム用の受光エリアと、前記サブビームに対応する２つのサブビーム用の受光エリアを有し、前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで発生した迷光のうち、前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する迷光が低減する光ヘッド装置を提供する。
【００１１】
また、前記回折素子の前記回折領域は、断面が矩形状の回折格子を有し、入射する光に対して０次回折光を殆ど発生せず、前記回折領域で発生する±１次回折光に対し前記光ディスクで発生した迷光のうち、前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する迷光が低減する上記の光ヘッド装置を提供する。
【００１２】
また、前記回折素子の光軸を基準に前記回折領域への最短距離をａ、最長距離をｂとし、前記光検出器の前記メインビーム用の受光エリアの中心を基準に、前記サブビーム用の受光エリアへの最短距離をａ´、最長距離をｂ´とするとき、ａ´／ａと、ｂ´／ｂとが略等しい上記の光ヘッド装置を提供する。
【００１３】
また、光源と、前記光源から発射した光を光ディスク側へ出射し、前記光ディスクからの反射される光を光検出器側へ分岐するビームスプリッタと、前記光ディスクに光を集光する対物レンズと、を有する光ヘッド装置において、前記光源と前記ビームスプリッタとの間の光路中に回折素子を有し、前記ビームスプリッタと前記光検出器との間の光路中に、分割波長板と、非点収差を発生するシリンドリカルレンズと、と有し、前記回折素子は、入射する光の一部を回折して０次回折光と＋１次回折光を発生し、−１次回折光を殆ど発生しない第１の回折領域と、入射する光の一部を回折して０次回折光と−１次回折光を発生し、＋１次回折光を殆ど発生しない第２の回折領域と、を有し、前記分割波長板は、入射する光に対して第１の偏光方向の光を出射する第１の領域と、入射する光に対して前記第１の偏光方向の光と直交する第２の偏光方向の光を出射する第２の領域と、を有し、前記光検出器は、前記メインビームに対応するメインビーム用の受光エリアと、前記サブビームに対応する２つのサブビーム用の受光エリアを有し、前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第１の偏光方向の信号光に、前記第１の偏光方向の迷光が重なって前記メインビーム用の受光エリアおよび前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する光量を低減し、前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第２の偏光方向の信号光に、前記第２の偏光方向の迷光が重なって前記メインビーム用の受光エリアおよび前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する光量を低減する光ヘッド装置を提供する。
【００１４】
また、前記分割波長板は、前記メインビーム用の受光エリアおよび前記２つのサブビーム用の受光エリアの並ぶ方向に相当し、光軸を含む第１の直線の上と、前記第１の直線と直交し、光軸を含む第２の直線の上に、前記第１の領域と前記第２の領域の境界を有するとともに、前記シリンドリカルレンズの長軸方向に相当し、光軸を含む第３の直線の上と、前記第３の直線と直交し、光軸を含む第４の直線の上に、前記第１の領域と前記第２の領域の境界を有し、前記回折素子は、前記第１の直線の上、前記第３の直線の上および前記第４の直線の上に、前記第１の回折領域と前記第２の回折領域の境界を有する光ヘッド装置を提供する。
【００１５】
また、前記第３の直線および前記第４の直線は、前記第１の直線に対していずれも４５°の角度をなすように、前記分割波長板の前記第１の領域と前記第２の領域の境界を有し、前記回折素子の前記第１の回折領域と前記第２の回折領域の境界を有する上記の光ヘッド装置を提供する。
【００１６】
また、光源と、前記光源から発射した光を光ディスク側へ出射し、前記光ディスクからの反射される光を光検出器側へ分岐するビームスプリッタと、前記光ディスクに光を集光する対物レンズと、を有する光ヘッド装置において、前記光源と前記ビームスプリッタとの間の光路中に回折素子を有し、前記ビームスプリッタと前記光検出器との間の光路中に、分割波長板と、非点収差を発生するシリンドリカルレンズと、と有し、前記回折素子は、入射する光の一部を回折して０次回折光と±１次回折光を発生する第１の回折領域と、入射する光の一部を回折して入射する光に対して０次回折光を低減する第２の回折領域と、を有し、前記分割波長板は、入射する光に対して第１の偏光方向の光を出射する第１の領域と、入射する光に対して前記第１の偏光方向の光と直交する第２の偏光方向の光を出射する第２の領域と、を有し、前記光検出器は、前記メインビームに対応するメインビーム用の受光エリアと、前記サブビームに対応する２つのサブビーム用の受光エリアを有し、前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第１の偏光方向の信号光に、前記第１の偏光方向の迷光が重なって前記２つのサブビーム用の受光エリアに到達する光量を低減する光ヘッド装置を提供する。
【００１７】
さらに、前記回折素子を直進透過して前記光ディスクで反射した光のうち、前記第２の偏光方向の信号光に、前記第２の偏光方向の迷光が重なって前記メインビーム用の受光エリアに到達する光量を低減する上記の光ヘッド装置を提供する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、従来技術のかかる問題を解決するためになされたものであり、メインビームと２つのサブビームの３つのビームを用いて、とくに複数の情報記録層を有する光ディスク（以下、複数層光ディスクという）を記録・再生する光ヘッド装置において、３ビームを発生させるとともに光検出器の受光エリア上に信号光と重なって到達する迷光の成分、とくにサブビームについて、十分に低減するための回折素子または、回折素子および分割波長板を配し、信号光と迷光との干渉によるクロストークの問題を低減する光ヘッド装置を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１の実施形態に係る光ヘッド装置の模式図。
【図２】第１の実施形態に係る光ヘッド装置における回折素子の平面模式図。
【図３】第１の実施形態に係る光ヘッド装置における回折素子の断面模式図。
【図４】光検出器の平面模式図。
【図５】第１の実施形態に係る光ヘッド装置における光検出器に到達する信号光および迷光の様子を示す模式図。
【図６】第２の実施形態および第３の実施形態に係る光ヘッド装置の模式図。
【図７】（ａ）第２の実施形態に係る光ヘッド装置における回折素子の平面模式図。（ｂ）第２の実施形態に係る光ヘッド装置における分割波長板の平面模式図。
【図８】第２の実施形態に係る光ヘッド装置における（ａ）光検出器、（ｂ）シリンドリカルレンズ、（ｃ）回折素子、（ｄ）分割波長板、の位置関係を示す平面模式図。
【図９】（ａ）第２の実施形態に係る光ヘッド装置における回折素子の断面模式図、（ｂ）第２の実施形態に係る光ヘッド装置における分割波長板の断面模式図。
【図１０】第２の実施形態に係る光ヘッド装置において、回折素子、分割波長板およびシリンドリカルレンズを透過して光の様子を示す模式図。
【図１１】（ａ）第２の実施形態に係る光ヘッド装置における光検出器に到達するＳ偏光の信号光およびＳ偏光の迷光の様子を示す模式図。（ｂ）第２の実施形態に係る光ヘッド装置における光検出器に到達するＰ偏光の信号光およびＰ偏光の迷光の様子を示す模式図。
【図１２】（ａ）第３の実施形態に係る光ヘッド装置における回折素子の平面模式図。（ｂ）第３の実施形態に係る光ヘッド装置における分割波長板の平面模式図。
【図１３】（ａ）第３の実施形態に係る光ヘッド装置における回折素子の断面模式図。（ｂ）第３の実施形態に係る光ヘッド装置における分割波長板の断面模式図。
【図１４】（ａ）第３の実施形態に係る光ヘッド装置における光検出器に到達するＳ偏光の信号光およびＳ偏光の迷光の様子を示す模式図。（ｂ）第３の実施形態に係る光ヘッド装置における光検出器に到達するＰ偏光の信号光およびＰ偏光の迷光の様子を示す模式図。
【図１５】（ａ）実施例２における第１の回折領域の断面模式図。（ｂ）実施例２における第２の回折領域の断面模式図。
【図１６】複数層光ディスク再生時の光路模式図。
【図１７】従来のホログラム素子の平面模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
（第１の実施の形態）
図１は、本実施の形態に係る光ヘッド装置１０の概念的な構成を示す図である。光ヘッド装置１０は、所定の波長の光を出射する光源１１と、光源１１が出射した光の一部を回折させてメインビームと２つのサブビームの３つのビームを発生する回折素子１２と、入射したビームを平行光に変換するコリメータレンズ１４ａと、コリメータレンズ１４ａを出射した３つのビームを光ディスク１７の方向に（直進）透過させるとともに、光ディスク１７の情報記録面１７ａで反射された戻り光を偏向分離して光検出器１９の方向に導くビームスプリッタ１３と、入射する光の偏光状態を変える１／４波長板１５と、情報記録面１７ａに集光させる対物レンズ１６と、戻り光を光検出器１９に集光するコリメータレンズ１４ｂと、戻り光を検出する光検出器１９、を備える。また、コリメータレンズ１４ｂと光検出器１９との間の光路中にシリンドリカルレンズ１８を配することで、非点収差法によって焦点を合わせるフォーカスサーボの制御を行うことができる。
【００２１】
光検出器１９では、光ディスク１７の情報記録面１７ａに記録された情報の再生信号、フォーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号などが検出される。なお、光ヘッド装置１０は、上記のフォーカスエラー信号に基づいてレンズを光軸方向に制御する図示しないフォーカスサーボと、上記のトラッキングエラー信号に基づいてレンズを光軸にほぼ垂直な方向に制御する図示しないトラッキングサーボと、を備える。
【００２２】
光源１１は、例えば６５０ｎｍ波長帯の直線偏光の発散光を出射する半導体レーザで構成される。なお、本発明で用いられる光源１１は、６５０ｎｍ波長帯の光に限定されず、例えば４００ｎｍ波長帯の光や７８０ｎｍ波長帯の光、その他の波長帯の光であってもよい。ここで、４００ｎｍ波長帯、波長６５０ｎｍ波長帯および７８０ｎｍ波長帯は、それぞれ、３８５ｎｍ〜４３０ｎｍ、６３０ｎｍ〜６９０ｎｍおよび７６０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲とする。
【００２３】
また、光源１１は、２種類または３種類の波長の光を出射する構成としてもよい。かかる構成の光源としては、２個または３個の半導体レーザチップが同一基板上にマウントされた、いわゆるハイブリッド型の２波長レーザ光源または３波長レーザ光源や、互いに異なる波長の光を出射する２個または３個の発光点を有するモノリシック型の２波長レーザ光源または３波長レーザ光源でもよい。
【００２４】
図２（ａ）および図２（ｂ）は、第１の実施形態に係る光ヘッド装置１０に用いられる回折素子１２として、回折素子２０ａおよび回折素子２０ｂの平面図を示した例である。回折素子２０ａは、光が入射する領域のうち、光軸２４を中心点とした２つの同心円に囲まれた輪帯形状を有する回折領域２１ａと、回折領域２１ａ以外の透過領域２２ａ、２２ｂからなる。回折領域２１ａは、入射する光を回折させ、透過領域２２ａ、２２ｂは、入射する光を回折させずに透過させる。なお、破線で示した円周は、回折素子２０ａに入射する光の有効径を示すものであり、これに囲まれた領域を有効領域２３とする。
【００２５】
有効領域２３は、回折素子２０ａを透過した光のうち、光ヘッド装置１０において、対物レンズ１６に入射して光ディスク１７に集光される光に相当する領域を意味する。例えば、コリメートレンズ１４ａで平行光となった光が、対物レンズ１６で集光される径よりも大きい場合、回折素子２０ａに入射する光のうち、対物レンズ１６によって集光されない周辺部の領域は有効領域２３の対象から外れる。また、コリメートレンズ１４ａで平行光となった光が、対物レンズ１６で集光される径以下である場合、光軸における光強度を１としたとき、１／ｅ２以上の光強度となる領域を有効領域２３として定義する。
【００２６】
また、回折素子２０ａにおいて、有効領域２３内の回折領域２１ａと、透過領域２２ａおよび透過領域２２ｂと、の面積は、入射する光量の比が所望の値となるように設定する。回折領域２１ａに入射する光の光量をＩＤとし、透過領域２２ａおよび透過領域２２ｂに入射する光の全光量をＩＴとすると、メインビームの信号光の光量が低減しないように、ＩＴ／ＩＤは１よりも大きく、サブビームの信号光の光量が低減して迷光との干渉による影響を受けないよう、ＩＴ／ＩＤは１００よりも小さいことが好ましく、１．１〜４０の範囲であるとより好ましい。なお、有効領域２３内の光量分布がほぼ均一である場合、この比は、透過領域２２ａおよび透過領域２２ｂの面積と、回折領域２１ａの面積との比、として与えることもできる。
【００２７】
また、図２（ａ）に回折領域２１ａを示したが、輪帯形状の外縁および内縁が円形に限らない。光軸２４およびその近傍が透過領域２２ａとなるようにすれば、回折領域２１ａの外縁および内縁が楕円、四角形、多角形など、また、これらの形状を組み合わせたものであってもよい。さらに、回折領域は、連続した１つの領域に限らず、例えば、図２（ｂ）の回折素子２０ｂに示すように、２つの領域に分離された回折領域２１ｂを有するものであってもよい。この場合、回折素子２０ｂにおいて、透過領域２２ｃは、１つの連続した領域となる。
【００２８】
次に、第１の実施形態に係る光ヘッド装置１０の回折素子１２の回折領域における作用および構造について説明する。まず、回折素子１２の回折領域は、入射する光を回折させる回折格子の形状を有し、０次回折光（＝直進透過光）をほぼ発生させず、±１次回折光を発生させる。つまり、回折素子１２は、有効領域に入射する光に対して、０次回折光と±１次回折光とを発生させるが、このうち透過領域では主に０次回折光を発生させ、回折領域では主に±１次回折光を発生させる。また、透過領域では±ｑ次回折光（ｑ≧１）を発生させず、回折領域では０次回折光を殆ど発生させないことが好ましい。なお、殆ど発生させないというのは、回折効率が２％以下のものとする。
【００２９】
ここで、例として、図２（ａ）の回折素子２０ａの回折領域２１ａの構造について説明する。図３（ａ）および図３（ｂ）は、図２（ａ）の回折素子２０ａにおいて、光軸２４を含むＡ−Ａ´の断面を示す模式図であって、回折領域２１ａは、高さｄとなる矩形状の回折格子を有する。また、回折格子が形成されない領域は透過領域２２ａとなる。図３（ａ）に示す回折素子２０ａは、透明基板２５の一方の面に周期的凹凸によって回折格子が形成される回折領域２１ａを有する。ここで、回折格子の高さ（深さ）をｄ、透明基板２５の屈折率をｎＡとし、入射する光の波長をλとすると、
（ｎＡ−１）×ｄ＝（２ｍ−１）×λ／２    ・・・  （１）
をほぼ満たすように高さｄを調整するとよい（ｍは自然数）。この場合、回折領域２１ａに入射する波長λの光の０次回折効率はほぼ０となり、±１次回折効率は最大となる。
【００３０】
また、図３（ａ）に示す回折素子２０ａは、回折領域２１ａの溝を埋めて凹凸を平坦化するように他の材料で充填された構成を有するものであってもよい。例えば、この場合、図示しない充填材料の屈折率をｎＢとすると、
｜ｎＡ−ｎＢ｜×ｄ＝（２ｍ−１）×λ／２    ・・・  （２）
をほぼ満たすように高さｄを調整するとよく（ｍは自然数）、この場合も、回折領域２１ａに入射する波長λの光の０次回折効率はほぼ０となり、±１次回折効率は最大となる。なお、式（１）および式（２）において、ｍ＝１とすると、波長λが変動しても回折効率が大きく変化しないので好ましい。
【００３１】
また、図３（ｂ）に示す回折素子２０ａは、透明基板２５の平面上に凸部となる格子材料２６が周期的に配置された回折格子が形成される回折領域２１ａを有する。また、回折格子が形成されない領域は透過領域２２ａとなる。ここで、格子材料２６の高さをｄ、屈折率をｎＡとし、入射する光の波長をλとすると、上記の式（１）をほぼ満たすように高さｄを調整するとよい（ｍは自然数）。この場合も、回折領域２１ａに入射する波長λの光の０次回折効率はほぼ０となり、±１次回折効率は最大となる。
【００３２】
また、図３（ｂ）は、透明基板２５の平面上に格子材料２６が形成されて構成されるが、格子材料２６によって形成された凹凸を平坦化するように他の材料で充填した構成であってもよい。例えば、この場合、図示しない充填材料の屈折率をｎＢとすると、上記の式（２）をほぼ満たすように高さｄを調整するとよく、この場合も、回折領域２１ａに入射する波長λの光の０次回折効率はほぼ０となり、±１次回折効率は最大となる。
【００３３】
また、透明基板２５としては、入射する光に対して透明であれば、樹脂板、樹脂フィルムなど種々の材料を用いることができるが、ガラスや石英ガラスなどの光学的等方性材料を用いると、透過光に複屈折性の影響を与えないため好ましい。格子材料２６および図示しない充填材料としては、それぞれ屈折率が異なるような光学的等方性材料を用いることが好ましいが、これに限らず、複屈折性材料を用いてもよい。
【００３４】
次に、回折領域２１ａの具体的な平面形状について、光検出器１９の受光エリアの位置関係と合わせて説明する。なお、３つのビームに対応した光検出器１９の受光エリアは、一般に＋１次回折光（サブビーム）用、０次回折光（メインビーム）用、−１次回折光（サブビーム）用と、が略等間隔で並んでいるものを考える。図４は、光検出器１９の受光エリアを示す平面図であって、メインビーム用の受光エリア３１とサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂが並んで配置される。そして、光ヘッド装置１０において、回折素子１２で生成された３つのビームが複数層光ディスクで反射され、反射された戻り光のうち信号光は、それらの中心が光検出器１９の３つの受光エリアの中心とほぼ一致して集光する一方で、迷光は、大きく広がって光検出器に到達する。
【００３５】
ここで、回折素子１２として回折素子２０ａを、光ヘッド装置１０に配置したとき、光検出器１９の３つ受光エリアのうち少なくともサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂにメインビームの迷光が到達する光量を大きく低減させるようにするよい。これは、メインビームの光量がサブビームの光量に比べて大きいため、サブビームの信号光がメインビームの迷光との干渉をとくに受けやすいからである。信号光と迷光とが受光エリア上で干渉して大きな干渉縞が発生してしまうと、受光エリアをさらに分割した各分割エリアに到達する光量に大きなノイズ成分が重畳され、例えば、各分割エリアの光量の差分を読み取る信号を正確に検出できなくなる。このように、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂにメインビームの迷光が到達しないようにするため、例えば、回折素子２０ａの領域を下記のように設計する。
【００３６】
図２（ａ）において、回折素子２０ａの回折領域２１ａは、内縁の半径がａ、外縁の半径がｂとなる（ａ＜ｂ）輪帯形状を有するものとする。また、図４の光検出器１９のうち、メインビーム用の受光エリア３１の中心点を基点として、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに最も近い距離をａ´、最も遠い距離をｂ´とする。このとき、回折素子２０ａの半径ａの円形となる透過領域２２ａを直進透過する光の戻り光のうち、迷光が、光検出器１９のメインビーム用の受光エリア３１の中心から半径ａ´の円領域より内側の領域に到達するようにする。なお、この場合、回折素子１２（２０ａ）を配置しない場合のメインビームおよびサブビームによる迷光の光線追跡により調整することができる。このとき、ａ´／ａ＝ｂ´／ｂ＝ｋとなるような定数ｋを調整するとよい。
【００３７】
さらに、回折素子２０ａの半径ｂより外側の透過領域２２ｂを直進透過する光の戻り光のうち、迷光が、光検出器１９のメインビーム用の受光エリア３１の中心から半径ｂ´の円領域より外側の領域に到達するようにする。図５（ａ）は、回折素子２０ａの透過領域２２ａおよび２２ｂを直進透過した光が迷光となって光検出器１９に到達する様子を示した模式図である。図５（ａ）に示すように、回折素子２０ａの透過領域２２ａを透過した光のうち迷光は、迷光３４ａとなって到達し、回折素子２０ａの透過領域２２ｂを透過した光のうち迷光は、迷光３４ｂとなって到達する。
【００３８】
しかし、図５（ａ）に示すように、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂを含む領域には、迷光が、いずれも大きく光量が低減されて到達する。つまり、受光エリア３２ａ、３２ｂは、回折素子２０ａの回折領域２１ａを直進透過する０次回折光が発生する場合は、その戻り光のうち迷光が到達する領域に含まれるが、回折領域２１ａにおける０次回折効率はほぼ０であるので、領域３５ａには迷光は殆ど到達しない。したがって、サブビームの信号光３３ｂはメインビームの迷光による干渉の影響を受けにくい。また、メインビームの信号光３３ａは迷光３４ａと重なってメインビーム用の受光エリア３１に到達するが、上記の説明のように、メインビームの信号光３３ａの光量が十分に大きいので、迷光３４ａによる干渉の影響は小さい。
【００３９】
次に、回折素子２０ａの回折領域２１ａにおいて回折する光の戻り光のうち、迷光について考える。回折領域２１ａで発生する±１次回折光による迷光も、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂには、大きく光量が低減されて到達することが好ましい。図５（ｂ）は、回折素子２０ａの回折領域２１ａで回折した±１次回折光が迷光となって光検出器１９に到達する様子を示した模式図である。このように、回折素子２０ａの回折領域２１ａで発生した±１次回折光のうち迷光は、主に迷光３４ｃとなって到達するが、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂには、いずれも大きく光量が低減されて到達する。
【００４０】
つまり、受光エリア３２ａ、３２ｂは、回折素子２０ａの透過領域２２ａにおいて回折する±１次回折光が発生する場合は、戻り光のうち迷光が到達する領域に含まれるが、透過領域２２ａにおける±１次回折効率がほぼ０であるので、領域３５ｂには迷光は殆ど到達しない。したがって、サブビームの信号光３３ｂはメインビームの迷光による干渉の影響を受けにくい。なお、このとき、回折領域２１ａにおける回折格子の格子ピッチは、サブビームの信号光がサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂにそれぞれ集光して到達するとともに、サブビームの迷光が受光エリア３２ａ、３２ｂを避けるように設計されていることが好ましい。なお、説明のため、光検出器１９に到達する迷光の様子を、図５（ａ）と図５（ｂ）と分けて示したが、実際には、光検出器１９にこれらを重ねた迷光が到達する。
【００４１】
また、これまで、図２（ａ）の回折素子２０ａについて説明したが、図２（ｂ）の回折素子２０ｂの場合でも、同様にサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに到達する迷光を低減させることができる。この場合、回折素子２０ｂの平面において、光軸２４を基準にして、回折領域２１ｂへ向かう最短距離と最長距離を、光検出器１９における受光エリア３１の中心を基準にして、受光エリア３２ａ、３２ｂに向かう距離に対応させるようにして設定するとよい。
【００４２】
（第２の実施の形態）
図６は、本実施の形態に係る光ヘッド装置４０の概念的な構成を示す図である。光ヘッド装置４０は、光源１１が出射した光の一部を回折させてメインビームと２つのサブビームの３つのビームを発生する回折素子５０と、ビームスプリッタ１３で反射された光の一部または全ての偏光状態を変える分割波長板６０と、を有する。また、光ヘッド装置４０のうち、第１の実施の形態に係る光ヘッド装置１０において共通するものには同じ番号を付して説明の重複を避ける。
【００４３】
図７（ａ）は、本実施形態に係る光ヘッド装置４０に用いられる回折素子５０の平面模式図、そして、図７（ｂ）は、本実施形態に係る光ヘッド装置４０に用いられる分割波長板６０の平面模式図の例を示したものである。そして、回折素子５０は、少なくとも有効領域５３内において、第１の回折領域５１と第２の回折領域５２を有し、また、分割波長板６０は、少なくとも有効領域６３内において、第１の領域６１と第２の領域６２を有する。なお、後述するが、第１の回折領域５１は、０次回折光（＝直進透過光）と＋１次回折光を発生させ、−１次回折光をほぼ発生させない。そして、第２の回折領域５２は、０次回折光と−１次回折光を発生させ、＋１次回折光をほぼ発生させない。さらに、第１の領域６１を透過する光の偏光状態と第２の領域６２を透過する光の偏光状態とが互いに直交するように位相差を調整している。
【００４４】
次に、回折素子５０の第１の回折領域５１と第２の回折領域５２との境界線および、分割波長板６０の第１の領域６１と第２の領域６２との境界線の設定方法について説明する。このとき、光検出器１９の受光エリア３１、３２ａ、３２ｂの配置をもとに、分割波長板６０の境界線の設定、そして回折素子５０の境界線の設定の順に考える。
【００４５】
図８（ａ）、図８（ｂ）、図８（ｃ）および図８（ｄ）は、それぞれ、光検出器１９、シリンドリカルレンズ１８、分割波長板６０および回折素子５０をＸ−Ｙ平面で示したものであり、光軸がＺ軸方向であって、座標（Ｘ，Ｙ）を与えると、光軸が（Ｘ，Ｙ）＝（０，０）の位置に相当するものとする。なお、図８（ａ）の光検出器１９は、図４の光検出器１９と同じもの、図８（ｃ）の分割波長板６０は、図７（ｂ）の分割波長板６０と同じもの、図８（ｄ）の回折素子５０は、図７（ａ）の回折素子５０と同じものであって必要に応じ、図４、図７（ｂ）、図７（ａ）を参照する。
【００４６】
まず、図８（ａ）の光検出器１９と図８（ｃ）の分割波長板６０との関係について考える。図８（ａ）の光検出器１９において、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂを結ぶ直線、つまり、Ｙ軸方向をＺ軸方向の分割波長板６０に投影させた線を直線６６ａとするとき、第１の領域６１と第２の領域６２の境界線を、直線６６ａと略一致させる。次に、シリンドリカルレンズ１８の軸を含む直線１８ａをＺ軸方向の分割波長板６０に投影させた線を、直線６７ａとするとき、第１の領域６１と第２の領域６２の境界線を、直線６７ａと略一致させる。
【００４７】
そして、直線６７ａに関して線対称となる分割波長板６０の領域の形状について考える。ここで、直線６６ａを、直線６７ａについて対称となる位置に射影した直線を直線６６ｂとするとき、第１の領域６１と第２の領域６２の境界線を、直線６６ｂと略一致させる。また、分割波長板６０は光軸６４を中心に点対称となるように第１の領域６１および第２の領域６２を配置する。したがって、分割波長板６０は、光軸６４を含みかつ、直線６７ａと略直交する直線を直線６７ｂとするとき、第１の領域６１と第２の領域６２の境界線を、直線６７ｂと略一致させる。
【００４８】
次に、図８（ｃ）の分割波長板６０の領域の形状に基づいて、図８（ｄ）の回折素子５０の領域の形状について説明する。直線６６ｂはＸ軸方向に相当するが、直線６６ｂより＋Ｙ方向にあり、かつ、分割波長板６０の第１の領域６１を出射する光の偏光状態と異なる偏光状態の光を出射する領域（つまり、第２の領域６２）と、直線６６ｂより−Ｙ方向にあり、かつ、分割波長板６０の第２の領域６２を出射する光の偏光状態と異なる偏光状態の光を出射する領域（つまり、第１の領域６１）と、を選択する。そして、このように選択された領域を光軸となるＺ軸方向の回折素子５０に投影させてできる領域を第１の回折領域５１とし、残りを第２の回折領域５２とする。なお、図７（ｂ）、図８（ｃ）に示す分割波長板６０は、光軸６４を中心として中心角が全て４５°となるように境界線を与えて第１の領域６１、第２の領域６２に分割しているが、上記の手法に基づいて各領域を与えられれば、この形状に限らない。
【００４９】
次に、回折素子５０の具体的構造について説明する。図９（ａ）は、図７（ａ）の回折素子５０において、光軸５４を含むＢ−Ｂ´の断面の模式図を示したものであって、第１の回折領域５１、第２の回折領域５２は、例えば、断面が高さｈ１となるブレーズ形状の回折格子を有する。また、回折格子形状はブレーズ形状に限らず、ブレーズ形状を階段状に近似した、擬似ブレーズ形状であってもよく、０次回折光と＋１次回折光を発生し、−１次回折光を殆ど発生させない作用、または、０次回折光と−１次回折光を発生し、＋１次回折光を殆ど発生させない作用を有するものであれば、それ以外の凹凸周期構造を有する断面形状であってもよい。また、ここでは、第１の回折領域５１は、０次回折光と＋１次回折光とを発生させ、−１次回折光を殆ど発生させない作用を有する。一方、第２の回折領域５２は、０次回折光と−１次回折光とを発生させ、＋１次回折光を殆ど発生させない作用を有するものとする。
【００５０】
第１の回折領域５１、第２の回折領域５２において、上記のような回折作用を発生させるため、図９（ａ）に示すように、第１の回折領域５１の凹凸の周期構造と、第２の回折領域５２の凹凸の周期構造とが、透明基板５５の平面における法線方向を基準に対称となるように設定することが好ましい。
【００５１】
また、図９（ａ）に示す回折素子５０は、透明基板の平面上に、透明基板とは異なる材料によって回折格子を形成するものであってもよい。さらに、第１の回折領域５１および第２の回折領域５２における溝を埋めて凹凸を平坦化するように他の材料で充填された構成を有するものであってもよい。なお、０次回折効率、＋１次回折効率、−１次回折効率は、凹凸を出射した光の波面（位相）のフーリエ変換によって求めることができる。
【００５２】
例えば、第１の回折領域５１は、入射する光に対して、０次回折光と＋１次回折光とを発生させ、−１次回折光がほぼ０であり、一方、第２の回折領域５２は、入射する光に対して、０次回折光と−１次回折光とを発生させ、＋１次回折光がほぼ０であるとする。この場合、第１の回折領域５１における０次回折効率をη１（０）、＋１次回折効率をη１（＋１）、−１次回折効率をη１（−１）とし、第２の回折領域５２における０次回折効率をη２（０）、＋１次回折効率をη２（＋１）、−１次回折効率をη２（−１）とするとき、η１（＋１）とη２（−１）とが略等しくなるようにする。なお、η１（−１）とη２（＋１）は略０％である。なお、回折光を殆ど発生させない、ほぼ０、または、略０％とは、回折効率が２％以下のものとする。
【００５３】
次に、分割波長板６０の具体的構造について説明する。図９（ｂ）は、図７（ｂ）の分割波長板６０において、Ｃ−Ｃ´の断面の模式図を例示したものである。そして、分割波長板６０は、第１の領域６１、第２の領域６２を有し、透明基板６５の平面上において、第２の領域６２には、高さｈ２となる複屈折性材料からなる複屈折性材料層６８が形成されている。なお、ここでは、第１の領域６１には透明基板６５の平面上には何も形成されていないものとして説明するが、第２の領域６２のみ透明基板６５の平面上には何も形成されていないものであってもよい。複屈折性材料層６８は、入射する直線偏光の光を略直交させる機能を有するものであり、光学軸（進相軸および遅相軸）が透明基板６５面に平行し、厚さ方向に揃った１／２波長板として機能するものであったり、光学軸が厚さ方向に捩れて配向されて旋光子として機能するものであったりしてもよい。複屈折性材料層６８は、複屈折性を有する材料であればよく、例えば水晶などの光学結晶、一軸延伸により複屈折性が発現するポリカーボネートなどの樹脂フィルム、液晶モノマーを重合硬化した高分子液晶などが用いられる。
【００５４】
ここで、複屈折性材料層６８が、複屈折性材料の光学軸が透明基板６５面に平行し、厚さ方向に揃った構成を有し、複屈折性材料の常光屈折率をｎｏ、異常光屈折率をｎｅ（ｎｏ≠ｎｅ）とするとき、
｜ｎｅ−ｎｏ｜×ｈ２＝（２ｐ−１）λ／２    ・・・  （３）
をほぼ満たすように高さｈ２を調整するとよい（ｐは自然数）。そして、光ヘッド装置４０において、光学軸の方向と入射する直線偏光の光の方向とがなす角度が略４５°となるように設置する。このとき、第１の領域６１に入射する直線偏光の光はそのまま偏光状態を変えずに透過するが、第２の領域６２に入射する直線偏光の光は、直交した直線偏光の光となって透過する。したがって、第１の領域６１を透過する光と第２の領域６２を透過する光とは互いに直交する。
【００５５】
また、この場合、第１の領域６１と第２の領域６２によってできる凹凸を平坦化するように、第１の領域６１に等方性材料が充填されたり、充填材を介して対向するもう１枚の透明基板を備えたりするものであってもよい。また、この他の構成として、第１の領域６１にも式（３）を満足する１／２波長板の機能を有する複屈折性材料層を与え、第１の領域６１の遅相軸の方向と第２の領域の遅相軸方向とが異なるようにすることで、各領域を透過する光を直交させてもよい。
【００５６】
また、第１の領域６１を透過する光と第２の領域６２を透過する光が直交するのであれば、互いに直交する直線偏光の光に限らず、例えば、それぞれの領域を透過する光が、右回りの円偏光の光と、左回りの円偏光の光との組み合わせであってもよい。この場合、第１の領域６１および第２の領域に、図示しない１／４波長板に相当する厚さの複屈折性材料層を、それぞれの領域の遅相軸が直交するように形成するものであってもよい。このとき、それぞれの領域の遅相軸の方向と入射する直線偏光の光の方向とがなす角度が略４５°となるように設置する。
【００５７】
次に、回折素子５０、分割波長板６０およびシリンドリカルレンズ１８を透過して光検出器１９に至るまでの光の状態について説明する。図１０は、光が回折素子５０、分割波長板６０そして、シリンドリカルレンズ１８の順に入射したときの光の状態を示した模式図であって、便宜上、光がＺ軸方向に進行するものとして考える。なお、図１０は、光軸と直交するＸ−Ｙ平面を示したものであって、光の様子を、光の進行方向にしたがって左から右に示したものである。左から図１０の矢印方向に沿って第１〜４列目は、それぞれ入射光、回折素子５０を透過した光、分割波長板６０を透過した光、そして、シリンドリカルレンズ１８を透過した光について順に示した。なお、図１０の回折素子５０および分割波長板６０は、それぞれ、図７（ａ）の回折素子５０および図７（ｂ）の、分割波長板６０と同じものであって必要に応じ、図７（ａ）、図７（ｂ）を参照する。
【００５８】
図１０において、まず、１つのビームで回折素子５０に入射した光のうち、第１の回折領域５１では、０次回折光と＋１次回折光を発生し、−１次回折光を殆ど発生しない。そして、第２の回折領域５２では、０次回折光と−１次回折光を発生し、＋１次回折光を殆ど発生しないので、とくに＋１次回折光と−１次回折光は、図１０の左から第２列に示すように特定の領域にのみ発生する。次に、これらの３ビームが複数層光ディスクにおいて反射し、分割波長板６０に入射すると、第１の領域６１を透過する光と第２の領域６２を透過する光とが直交して透過する。ここで、第１の領域６１を透過する光がＳ偏光の光、第２の領域６２を透過する光がＰ偏光の光、と互いに直交する直線偏光の光となるようにすると、図１０の左から第３列に示すように、０次回折光、＋１次回折光、−１次回折光が、いずれもＳ偏光の光とＰ偏光の光とが含まれるようになる。また、複数層光ディスクにおいて所望の情報記録層とは異なる情報記録層から反射された迷光も発生するが、この迷光のうち、とくに光量の大きい０次回折光に対する迷光も、Ｓ偏光の光とＰ偏光の光とが含まれて透過する。
【００５９】
次に、シリンドリカルレンズ１８を透過し、光検出器１９に到達する光について説明する。ここで、シリンドリカルレンズ１８は、図１０の長軸方向、つまり、Ｘ−Ｙ平面においてＸ軸方向およびＹ軸方向に対して略４５°方向に軸を有し、信号光、つまり、複数層光ディスクにおいて所望の情報記録層で反射された０次回折光、＋１次回折光、−１次回折光の３ビームは、この軸に対して線対称となるように光が進行して、光検出器１９に到達する。一方、迷光のうち、とくに光量の大きい０次回折光に対する迷光は、シリンドリカルレンズ１８の長軸方向に線対称とならないまま光検出器１９に到達するかまたは、シリンドリカルレンズ１８の長軸方向に対して線対称となるとともに、さらに、短軸方向に対しても線対称となって光が進行する。つまり、０次回折光に対する迷光は、図１０に示すように分割波長板６０を透過した状態とほぼ同じ状態で光検出器１９に到達する。
【００６０】
図１１は、具体的に、光検出器１９のメインビーム用の受光エリア３１およびサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに到達する信号光および迷光の分布を示したものであって、図１１（ａ）は、Ｓ偏光の光の成分についてのみ抽出し、図１１（ｂ）は、Ｐ偏光の光の成分についてのみ抽出して図示したものである。したがって、実際には、光検出器１９に、図１１（ａ）と図１１（ｂ）とを重ね合わせた信号光および迷光が到達する。
【００６１】
図１１（ａ）は、図１０の左から第４列の３ビームとなる信号光と迷光とが到達する状態に基づき、これらの光のうちＳ偏光の光の成分を、光検出器１９に重ね合わせた模式図である。図１１（ａ）より、いずれもＳ偏光の光である、０次回折光の信号光７１ａがメインビーム用の受光エリア３１に、＋１次回折光の信号光７２ａおよび−１次回折光の信号光７３ａが、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂにそれぞれ集光して到達する。また、光検出器１９に集光せずに到達するＳ偏光の光である、迷光７４ａは、いずれも各信号光７１ａ、７２ａ、７３ａと重ならない分布となって到達する。
【００６２】
一方、図１１（ｂ）は、図１０の左から第４列の３ビームとなる信号光と迷光とが到達する状態に基づき、これらの光のうちＰ偏光の光の成分を、光検出器１９に重ね合わせた模式図である。図１１（ｂ）より、いずれもＰ偏光の光である、０次回折光の信号光７１ｂがメインビーム用の受光エリア３１に、＋１次回折光の信号光７２ｂおよび−１次回折光の信号光７３ｂが、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂにそれぞれ集光して到達する。また、光検出器１９に集光せずに到達するＰ偏光の光である、迷光７４ｂは、いずれも各信号光７１ｂ、７２ｂ、７３ｂと重ならない分布となって到達する。
【００６３】
図１１（ａ）の光の分布と図１１（ｂ）の光の分布を重ね合わせたとき、Ｓ偏光の光である信号光７１ａ、７２ａ、７３ａは、いずれもＰ偏光の光である迷光７４ｂと重なって到達する。しかし、Ｓ偏光とＰ偏光とは互いに直交する偏光方向であるので、信号光７１ａ、７２ａ、７３ａは、いずれも迷光７４ｂと干渉しない。同様に、Ｐ偏光の光である、信号光７１ｂ、７２ｂ、７３ｂは、いずれもＳ偏光の光である、迷光７４ａと重なって到達するが、信号光７１ｂ、７２ｂ、７３ｂは、いずれも迷光７４ａと干渉しない。
【００６４】
このように、メインビーム用の受光エリア３１およびサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに集光する信号光はいずれも、迷光が重なって到達しても、互いの偏光方向が直交する光であるので、受光エリア上での干渉を大きく低減できる。したがって、本実施形態に係る光ヘッド装置では、迷光による干渉の影響を大きく低減できる。なお、迷光については、０次回折光における迷光について説明したが、±１次回折光における迷光も発生する。しかし、０次回折光における迷光に比べ、±１次回折光における迷光の光量は小さいので、信号光との干渉の影響は小さい。
【００６５】
（第３の実施の形態）
本実施形態に係る光ヘッド装置は、図６における光ヘッド装置４０の構成において、後述する回折素子８０と分割波長板９０とを組み合わせて構成される。図１２（ａ）は、本実施形態に係る光ヘッド装置４０に用いられる回折素子８０の平面模式図、そして、図１２（ｂ）は、本実施形態に係る光ヘッド装置４０に用いられる分割波長板９０の平面模式図の例を示したものである。
【００６６】
図１２（ａ）より、回折素子８０は、少なくとも有効領域８３内において、第１の回折領域８１と第２の回折領域８２を有する。また、図１２（ｂ）より、分割波長板９０は、少なくとも有効領域９３内において、第１の領域９１と第２の領域９２を有する。第１の回折領域８１は、入射する光に対して０次回折光と±１次回折光を発生させる。第２の回折領域は、入射する光に対して、少なくとも＋１次回折光または−１次回折光を発生させ、第１の回折領域８１で発生させる＋１次回折光、−１次回折光の回折角度よりも大きい回折角度となるようにする。また、第２の回折領域８２を直進透過した光は、光検出器１９のサブビーム用の受光エリアを含み、メインビーム用の受光エリアを含まないように設定することができ、この面積が小さいと好ましい。なお、この場合、光ヘッド装置４０において、回折素子８０を配置しない場合のサブビームによる迷光の光線追跡により調整し、設定することができる。
【００６７】
また、分割波長板９０は、第１の領域９１を透過する光の偏光状態と第２の領域９２を透過する光の偏光状態とが互いに直交するように位相差を調整する。そして、第２の領域９２を直進透過した光は、光検出器１９のサブビーム用の受光エリアを含み、メインビーム用の受光エリアを含まないように設定し、とくに、回折素子８０の第２の回折領域８２に相当する形状を有するとよい。また、第２の回折領域８２、第２の領域９２の形状は四角形に限らず、多角形、楕円形、円形などであってもよい。
【００６８】
次に、回折素子８０の具体的構造について説明する。図１３（ａ）は、図１２（ａ）の回折素子８０において、第２の回折領域８２を含むＤ−Ｄ´の断面の模式図を示したものである。そして、第１の回折領域８１および第２の回折領域８２は、それぞれの領域に、高さｈ３となる矩形状の回折格子を有する。また、第２の回折領域８２における断面は、矩形状に限らず、ブレーズ形状または擬似ブレーズ形状などであってもよい。第２の回折領域８２は、第１の回折領域８１に対して、上記のように入射する光に対する±ｑ次回折光（ｑ≧１）、とくに±１次回折光の回折角度が大きくなるように設定する。具体的には、第１の回折領域８１の回折格子ピッチをＰ１、第２の回折領域８２の回折格子ピッチをＰ２とすると、Ｐ１＞Ｐ２とすればよく、これらの回折領域の回折格子を構成する材料が同じであれば、Ｐ１＞２Ｐ２がより好ましく、Ｐ１＞４Ｐ２がさらに好ましい。具体的に、Ｐ１としては、５〜３０μｍの範囲で設定されているとよい。
【００６９】
このように、第２の回折領域８２の回折格子ピッチＰ２を狭くして、±ｑ次回折光（ｑ≧１）の回折角度を大きくして、光ディスクのトラッキングに使用しないようにする。その場合、第２の回折領域８２で回折した±ｑ次回折光の信号光は、光検出器１９に到達しない。また、第２の回折領域８２は入射する一部の光を回折させることで、透過する０次回折光の光量を調整しているが、これによって、第１の回折領域８１を透過する０次回折光の光量に合わせて、回折素子８０を透過する０次回折光の光量分布を均一にすることができる。また、第２の回折領域８２の回折格子の長手方向は、第１の回折領域８１の回折格子の長手方向と平行させるものに限らない。第２の回折領域８２で発生した±ｑ次回折光（ｑ≧１）は光ディスクのトラッキングに利用しないので、第２の回折領域８２の回折格子の長手方向は、第１の回折領域８１の回折格子の長手方向と直交させるなど、異なるようにしてもよい。さらに、第２の回折領域は、減光領域として、回折格子構造を有さずに入射する光の一部を吸収または反射させる材料で構成されているものであってもよい。
【００７０】
また、回折素子５０は、図１３（ａ）のように透明基板の一部が回折格子を有する構造に限らず、透明基板の平面上に、透明基板とは異なる材料によって回折格子を形成するものであってもよい。さらに、第１の回折領域８１および第２の回折領域８２における溝を埋めて凹凸を平坦化するように他の材料で充填された構成を有するものであってもよい。
【００７１】
次に、分割波長板９０の具体的構造について説明する。図１３（ｂ）は、図１２（ｂ）の分割波長板９０において、Ｅ−Ｅ´の断面の模式図を例示したものである。そして、分割波長板９０は、第１の領域９１、第２の領域９２を有し、透明基板９５の平面上において、第１の領域９１には、高さｈ４となる複屈折性材料からなる複屈折性材料層９６が形成されている。なお、ここでは、第２の領域９２には透明基板９５の平面上には何も形成されていないものとして説明するが、第１の領域９１のみ透明基板９５の平面上には何も形成されていないものであってもよい。複屈折性材料層９６は、入射する直線偏光の光を略直交させる機能を有するものであり、光学軸（進相軸および遅相軸）が透明基板９５面に平行し、厚さ方向に揃った１／２波長板として機能するものであったり、光学軸が厚さ方向に捩れて配向されて旋光子として機能するものであったりしてもよい。
【００７２】
例えば、複屈折性材料層９６が、光学軸（進相軸および遅相軸）が透明基板９５面に平行し、厚さ方向に揃った１／２波長板として機能させる場合、式（３）の高さｈ２を高さｈ４に代えたときに、この式が成立するように、高さｈ４を調整すればよい。また、分割波長板９０は、その他に、第２の実施の形態で説明した分割波長板６０の第１の領域６１と第２の領域６２と、が取り得る構成を、第１の領域９１と第２の領域９２と、が有するものであってもよい。
【００７３】
次に、回折素子８０、分割波長板９０およびシリンドリカルレンズ１８を透過して光検出器１９に至る光の状態について説明する。図１４は、具体的に、光検出器１９のメインビーム用の受光エリア３１およびサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに到達する信号光および迷光の分布を示したものであって、図１４（ａ）は、Ｓ偏光の光の成分についてのみ抽出し、図１４（ｂ）は、Ｐ偏光の光の成分についてのみ抽出して図示したものである。したがって、実際には、図１４（ａ）と図１４（ｂ）とを重ね合わせた信号光および迷光が到達する。
【００７４】
まず、図１４（ａ）のＳ偏光の光の成分について説明する。回折素子８０の第１の回折領域８１で発生する０次回折光と±１次回折光との３ビームは、分割波長板９０の第１の領域９１を透過してＳ偏光の光に変調されるとする。この場合、（複数層）光ディスクで反射された３ビームとなる信号光１０１ａ、１０２、１０３は、それぞれ、光検出器１９のメインビーム用の受光エリア３１およびサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに到達する。また、迷光のうち、比較的光量の大きい０次回折光に相当する迷光は、シリンドリカルレンズ１８によって光検出器１９には集光されず、分割波長板９０の第１の領域９１に相当する迷光１０４ａとして、Ｓ偏光の光で到達する。
【００７５】
ここで、０次回折光に相当する迷光のうちＳ偏光の迷光１０４ａは、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂへの光量が低減されるように到達する。したがって、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂにおいて、Ｓ偏光の光として到達するサブビームの信号光１０２、１０３は、迷光１０４ａとの干渉の影響が小さい。また、メインビーム用の受光エリア３１では、Ｓ偏光の迷光１０４ａも到達するが、メインビームの信号光１０１ａの光量が十分に大きいので、迷光１０４ａによる干渉の影響は受けにくい。
【００７６】
次に、図１４（ｂ）のＰ偏光の光の成分について説明する。回折素子８０の第２の回折領域８２で発生する０次回折光は、分割波長板９０の第２の領域９２を透過して、Ｐ偏光の光となる。なお、第２の回折領域８２で回折されたｑ次回折光（ｑ≧１）は、上記の説明のように（複数層）光ディスクのトラッキングに利用しないので、光検出器１９には集光しない。したがって、（複数層）光ディスクで反射された０次回折光に相当する信号光１０１ｂが、光検出器１９のメインビームの受光エリア３１に到達する。また、迷光のうち、比較的光量の大きい０次回折光に相当する迷光は、シリンドリカルレンズ１８によって光検出器１９には集光されず、分割波長板９０の第２の領域９２に相当する迷光１０４ｂとして、Ｐ偏光の光で到達する。
【００７７】
ここで、０次回折光に相当する迷光のうちＰ偏光の迷光１０４ｂは、主に、サブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに到達し、メインビームの受光エリア３１を含む領域には光量が低減されるように到達する。したがって、メインビーム用の受光エリア３１において、Ｐ偏光の光として到達するメインビームの信号光１０１ｂは、迷光１０４ｂとの干渉の影響が小さい。
【００７８】
また、実際には図１４（ａ）のＳ偏光の光と、図１４（ｂ）のＰ偏光の光とは重なって光検出器１９に到達するので、サブビーム用の受光エリア３２ａには信号光１０２と迷光１０４ｂ、サブビーム用の受光エリア３２ｂには信号光１０３と迷光１０４ｂとが重なって到達する。同様に、メインビーム用の受光エリア３１には信号光１０１ｂと迷光１０４ａとが重なって到達する。しかし、これらの信号光と迷光は、いずれもＳ偏光の光とＰ偏光の光との組み合わせであるので、重なって到達しても各受光エリアにおいて、干渉の影響を大きく低減できる。
【００７９】
このように、メインビーム用の受光エリア３１およびサブビーム用の受光エリア３２ａ、３２ｂに集光する信号光はいずれも、受光エリア上で干渉が低減できる。なお、迷光については、０次回折光における迷光について説明したが、第１の回折領域８１で発生する±１次回折光における迷光も発生する。しかし、０次回折光における迷光に比べ、±１次回折光における迷光の光量は小さいので、信号光との干渉の影響は小さい。
【００８０】
（実施例１）
第１の実施形態の光ヘッド装置に係る回折素子１２として、図３（ａ）の回折素子２０ａを作製する。屈折率ｎＡ＝１．４６となる石英ガラス基板を用い、光軸の位置を基準にして、半径１１２．５μｍの円を内縁、半径３６２．５μｍの円を外縁とする平面が輪帯形状となる回折領域２１ａにおいて、フォトリソグラフィおよびエッチングによって、格子ピッチ２０μｍで断面が矩形状の回折格子を形成する。このとき、格子ピッチに対する凸部の幅の比で定義されるＤｕｔｙを０．５とし、高さ（深さ）ｄを４４０ｎｍとする。
【００８１】
作製した回折素子２０ａを光ヘッド装置１０に配置し、回折素子２０ａの光軸を中心に有効領域が約１ｍｍφとなるように、波長４０５ｎｍの均一な光量分布となる光を入射させる。このとき、回折領域２１ａに入射する光は±１次回折光を発生させるとともに、０次回折光を殆ど発生させず、±１次回折効率は約４０％となる。また、透過領域に入射する光は直進透過させて、０次回折光と±１次回折光の３ビームを発生させる。この場合、０次回折効率と±１次回折効率との比は、透過領域の面積と回折領域の面積との比である６．６／６＝１．１を±１次回折効率（＝０．４）で割って、約２．８となる。この回折素子２０ａを透過した３ビームとなる光のうち、信号光は、光検出器の各受光エリアに集光して到達し、迷光は、サブビーム用の受光エリアを避けるように集光せずに到達する。このようにして、とくにサブビーム用の受光エリアに集光する信号光が迷光との干渉の影響を小さくでき、良好な（複数層）光ディスクの記録・再生が実現できる光ヘッド装置を得ることができる。
【００８２】
（実施例２）
第２の実施形態の光ヘッド装置に係る回折素子５０を作製する。屈折率ｎ１＝１．４６となる石英ガラス基板を用い、フォトリソグラフィおよびエッチングを繰り返して、周期的凹凸パターンとなる格子ピッチＰが２０μｍの回折格子を形成する。図１５（ａ）は、本実施例の第１の回折領域における回折格子の、具体的な断面形状を示したものである。格子ピッチＰのうち、Ｐ／４の幅毎に、最も深い溝を有する部分、それと隣り合うとともに最も深い溝を基準に高さｈａ＝２２０ｎｍの部分、それと隣り合うとともに最も深い溝を基準に高さｈｂ＝８８ｎｍの部分、それと隣り合うとともに最も深い溝を基準に高さｈｃ＝１３２ｎｍの部分を形成する。
【００８３】
また、図１５（ｂ）は、本実施例の第２の回折領域における回折格子の、具体的な断面形状を示したものである。格子ピッチＰのうち、Ｐ／４の幅毎に、最も深い溝を有する部分、高さｈａ＝２２０ｎｍの部分、高さｈｂ＝８８ｎｍの部分、高さｈｃ＝１３２ｎｍの部分が、第１の回折領域における順番とは逆となるように形成する。
【００８４】
次に、第２の実施形態の光ヘッド装置に係る分割波長板６０を作製する。石英ガラス基板の一つの平面上に、ポリイミドからなる膜を塗布し、スピンコートによって約５０ｎｍの厚さとしてから、焼成する。その後、ポリイミド膜表面をラビングし、一方向に配向処理を施した配向膜を形成する。そして、基板の周辺部に、厚さ４μｍのエポキシシール剤を印刷する。その後、配向膜を有し離型処理を施したもう１枚の基板を、配向方向が平行になるように配向膜を対向するように重ねる。そして、２枚の基板によってできた空隙に液晶モノマーを注入して封入した後、紫外線により硬化して、高分子液晶からなる層を形成する。このとき、波長４０５ｎｍの光に対して、高分子液晶の常光屈折率ｎｏが１．５２、異常光屈折率ｎｅが１．５７となる液晶材料を用いる。
【００８５】
重ねたもう１つの基板を離型し、図７（ｂ）の分割波長板６０の第２の領域６２に相当する領域にマスクをし、フォトリソグラフィおよびエッチングによって、第１の領域６１に相当する領域の高分子液晶を除去する。その後、第１の領域６１と第２の領域６２の段差を埋めるように、光学的に等方性となる透明な充填材（接着剤）を塗布し、充填材を介してもう１枚の石英ガラス基板で接着する。
【００８６】
作製した回折素子５０および分割波長板６０を光ヘッド装置４０に配置し、回折素子５０の光軸を中心に有効領域が約１ｍｍφとなるように、均一な光量分布となる波長４０５ｎｍの光を入射させる。このとき、第１の回折領域５１に入射した光に対し、０次回折効率η１（０）が約７２％、＋１次回折効率η１（＋１）が約７％、−１次回折効率η１（−１）が約１％となり、−１次回折光はほぼ無視できるレベルとなる。一方、第２の回折領域５２に入射した光に対し、０次回折効率η２（０）が約７２％、＋１次回折効率η２（＋１）が約１％、−１次回折効率η２（−１）が約７％となり、＋１次回折光はほぼ無視できるレベルとなる。
【００８７】
また、分割波長板６０は、（複数層）光ディスクを反射した復路の光路中で、直線偏光の光として入射するが、このとき、高分子液晶の配向方向と直線偏光の光の偏光方向とは４５°との角度をなすように配置する。このとき、分割波長板６０の第１の領域６１を透過した光と、第２の領域６２を透過した光は互いに直交する直線偏光の光となって、光検出器の各受光エリアに到達する。分割波長板６０を透過した信号光は、受光エリアにおいて互いに直交する直線偏光の光の迷光と重なって到達するので、干渉の影響を小さくでき、良好な（複数層）光ディスクの記録・再生が実現できる光ヘッド装置を得ることができる。
【００８８】
（実施例３）
第３の実施形態の光ヘッド装置に係る回折素子８０を作製する。屈折率ｎ２＝１．４６となる石英ガラス基板を用い、まず、第１の回折領域８１および第２の回折領域８２が、図１２（ａ）に示すパターンとなるように、フォトリソグラフィおよびエッチングをして、周期的凹凸パターンとなる回折格子を形成する。なお、第２の回折領域８２は、光軸から２３７．５μｍの距離に対角線の交点有する、一辺が２５０μｍの正方形の形状で、光軸に対して点対称となる２つの領域を有する。このとき、第１の回折領域８１の格子ピッチＰ１が２０μｍの矩形状の回折格子、第１の回折領域８１の格子ピッチＰ２が５μｍの矩形状の回折格子（いずれも、Ｄｕｔｙ＝０．５）そして、いずれも、回折格子の高さ（深さ）ｈ３は、１２３ｎｍとする。
【００８９】
次に、第３の実施形態の光ヘッド装置に係る分割波長板９０を作製する。石英ガラス基板の一つの平面上に、ポリイミドからなる膜を塗布し、スピンコートによって約５０ｎｍの厚さとしてから、焼成する。その後、ポリイミド膜表面をラビングし、一方向に配向処理を施した配向膜を形成する。そして、基板の周辺部に、厚さ４μｍのエポキシシール剤を印刷する。その後、配向膜を有し離型処理を施したもう１枚の基板を、配向方向が平行になるように配向膜を対向するように重ねる。そして、２枚の基板によってできた空隙に液晶モノマーを注入して封入した後、紫外線により硬化して、高分子液晶からなる層を形成する。このとき、波長４０５ｎｍの光に対して、高分子液晶の常光屈折率ｎｏが１．５２、異常光屈折率ｎｅが１．５７となる液晶材料を用いる。
【００９０】
重ねたもう１つの基板を離型し、図１２（ｂ）の分割波長板９０の第１の領域９１に相当する領域にマスクをし、フォトリソグラフィおよびエッチングによって、第２の領域９２に相当する領域の高分子液晶を除去する。その後、第１の領域９１と第２の領域９２の段差を埋めるように、光学的に等方性となる透明な充填材（接着剤）を塗布し、充填材を介してもう１枚の石英ガラス基板で接着する。なお、第２の領域９２は、光軸から２３７．５μｍの距離に対角線の交点を有する、一辺が２５０μｍの正方形の形状で、光軸に対して点対称となる２つの領域を有する。
【００９１】
作製した回折素子８０および分割波長板９０を光ヘッド装置４０に配置し、回折素子８０の光軸を中心に有効領域が約１ｍｍφとなるように、均一な光量分布となる波長４０５ｎｍの光を入射させる。このとき、第１の回折領域５１に入射した光に対し、０次回折効率η１（０）が約８４．２％、±１次回折効率η１（±１）が約６．４％となり、第１の回折領域８１を回折する±１次回折光の回折角度θ１は、約１．１６°となる。一方、第２の回折領域８２に入射した光に対し、０次回折効率η２（０）が約８４．２％、±１次回折効率η２（±１）が約６．４％となり、第２の回折領域８２を回折する±１次回折光の回折角度θ２は、約４．６５°となる。ここで、回折角度θ２は、光ディスクのトラッキングに用いる回折角度に比べて大きく、回折角度θ２で回折した光は（複数層）光ディスクの記録・再生に寄与しない。したがって、回折素子８０全体の±１次回折効率は、第１の回折領域５１で回折した光のみを考慮することになるので、約５．４％となる。
【００９２】
また、分割波長板９０は、（複数層）光ディスクを反射した復路の光路中で、直線偏光の光として入射するが、このとき、高分子液晶の配向方向と直線偏光の光の偏光方向とは４５°との角度をなすように配置する。このとき、分割波長板９０の第１の領域９１を透過した光と、第２の領域９２を透過した光は互いに直交する直線偏光の光となって、光検出器の各受光エリアに到達する。分割波長板９０を透過した信号光のうちサブビームとなる信号光は、受光エリアにおいて互いに直交する直線偏光の光の迷光と重なって到達するので、干渉の影響を小さくでき、良好な（複数層）光ディスクの記録・再生が実現できる光ヘッド装置を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
以上のように、本発明にかかる光ヘッド装置は、複数層光ディスクへ向かう往路の光路中に３ビームに分岐する回折素子を配置し、または、さらに、複数層光ディスクで反射されて光検出器に至るまでの光路中に分割波長板を配置することで、光検出器の受光エリアに信号光と複数層光ディスクによって発現する迷光とが重なって到達しても、干渉を低減させることができ、エラー信号生成の品質の低下を抑制することができる。このように、信号光とのクロストークによる影響を低減でき有用である。
【符号の説明】
【００９４】
１０、４０  光ヘッド装置
１１  光源
１２、２０ａ、２０ｂ、５０、８０  回折素子
１３  ビームスプリッタ
１４ａ、１４ｂ  コリメータレンズ
１５  １／４波長板
１６、２０７  対物レンズ
１７  （複数層）光ディスク
１７ａ  情報記録面
１８  シリンドリカルレンズ
１８ａ  シリンドリカルレンズの軸
１９、２０８  光検出器
２１ａ、２１ｂ  第１の回折領域
２２ａ、２２ｂ、２２ｂ  第２の回折領域
２３、５３、６３、８３、９３  有効領域
２５、５５、６５、９５  透明基板
２６  格子材料
３１  メインビーム用の受光エリア
３２ａ、３２ｂ  サブブーム用の受光エリア
３３ａ  メインビームの信号光
３３ｂ  サブビームの信号光
３４ａ、３４ｂ  メインビームの迷光
３４ｃ  サブビームの迷光
３５ａ、３５ｂ  迷光が低減されて到達する領域
５１、８１  第１の回折領域
５２、８２  第２の回折領域
５４、６４、８４、９４  光軸
６０、９０  分割波長板
６１、９１  第１の領域
６２、９２  第２の領域
６６ａ、６６ｂ、６７ａ、６７ｂ  第１の回折領域と第２の回折領域の境界となる直線
６８、９６  複屈折性材料層
７１ａ、１０１ａ  メインビームの信号光（Ｓ偏光）
７１ｂ、１０１ｂ  メインビームの信号光（Ｐ偏光）
７２ａ、７３ａ、１０２、１０３  サブビームの信号光（Ｓ偏光）
７２ｂ、７３ｂ  サブビームの信号光（Ｐ偏光）
７４ａ、１０４ａ  迷光（Ｓ偏光）
７４ｂ、１０４ｂ  迷光（Ｐ偏光）
２０１、２０２、２０３  光ディスクの層
２０４、２０５、２０６  光ディスクから反射される光
２１０  ホログラム素子
２１１  回折格子
２１２  回折格子が無い領域
【図１】
2011113580.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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