(57)【要約】【課題】短い時間で位置精度良く基板を搬送可能な方法を提供する。【解決手段】吸着ハンド１４と基板１０との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて吸着ハンド１４と基板１０と間に負圧を形成し、吸着ハンド１４に基板を吸着させる吸着工程と、基板１０を搬送する予定の場所である収容部９ａと対向する場所に相対移動させる移動工程と、基板１０は隣接する第１側面１０ａと第２側面１０ｂとが交差する基板辺部１０ｃを有し、基板１０を傾斜させて基板辺部１０ｃを重力方向に近づける傾斜工程と、基板１０を収容部９ａに着座させる着座工程と、を有し、収容部９ａには隣接する第１壁部９ｄと第２壁部９ｅとが交差する壁辺部９ｆが設けられ、着座工程は、基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを接近させて接触させた後、基板１０を吸着ハンド１４から離す。【選択図】図７
2011091079.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着ハンドと基板との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて前記吸着ハンドと前記基板との間に負圧を形成し、前記吸着ハンドに前記基板を吸着させる吸着工程と、
前記基板を搬送する予定の場所である着座位置と対向する場所に相対移動させる移動工程と、
前記基板は隣接する側面が交差する基板辺部を有し、前記基板を傾斜させて前記基板辺部を重力方向に近づける傾斜工程と、
前記基板を前記着座位置に着座させる着座工程と、を有し、
前記着座位置には隣接する壁部が交差する壁辺部が設けられ、
前記着座工程では、前記基板辺部と前記壁辺部とを接触させた後、前記基板を前記吸着ハンドから離すことを特徴とする搬送方法。
【請求項２】
請求項１に記載の搬送方法であって、
前記着座工程は前記基板辺部と前記壁辺部とを重力方向に相対移動した後、水平方向に相対移動させることを特徴とする搬送方法。
【請求項３】
請求項２に記載の搬送方法であって、
前記吸着工程では前記基板を吸着させる吸着ハンドの面である吸着面と前記基板とを平行にしたまま前記吸着面と前記基板とを接近させて吸着することを特徴とする搬送方法。
【請求項４】
請求項３に記載の搬送方法であって、
前記着座工程では前記基板を固定して前記壁辺部を移動することを特徴とする搬送方法。
【請求項５】
吸着面と基板との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて前記基板を吸着する前記吸着面を有する吸着ハンドであって、
前記基板は隣接する第１側面と第２側面とを有し、
前記第１側面及び前記第２側面は平面であり、前記吸着面を水平方向に対して傾斜するとき前記第１側面の少なくとも２箇所と接触し、さらに、前記第２側面の少なくとも１箇所と接触して前記基板の位置を決める位置決め部を有することを特徴とする吸着ハンド。
【請求項６】
請求項５に記載の吸着ハンドであって、
前記基板が前記吸着面と平行な方向を移動する移動範囲を規制する規制部を有することを特徴とする吸着ハンド。
【請求項７】
第１トレイから第２トレイへ基板を詰替える詰替装置であって、
前記基板と吸着面との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて前記基板を吸着する吸着ハンドと、
前記第１トレイ及び前記第２トレイと前記吸着ハンドとを水平方向に相対移動させる水平移動部と、
前記第１トレイ及び前記第２トレイと前記吸着ハンドとを鉛直方向に相対移動させる鉛直移動部と、
前記第１トレイ及び前記第２トレイに対する前記吸着面の相対角度を変更する傾斜部と、を備えることを特徴とする詰替装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送方法、吸着ハンド及び詰替装置にかかわり、特に位置精度良く基板を搬送する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウエハーを用いて半導体素子を製造するときやガラス基板を用いて液晶表示装置等を製造するとき、複数の装置を用いて製造する。このとき、材料となる基板を装置専用のトレイに詰め替えることがある。基板を移動するとき基板に接触して基板の両面に汚れが付着したり傷が付くことで不具合を生ずることがある。従って、基板を搬送するときにも基板に接触しない方が望ましい。
【０００３】
基板の表裏面に接触せずに基板を搬送する搬送装置が特許文献１に開示されている。それによると、保持ハンドの片面には保持面が形成されている。そして、保持面の中央に空気の流入口が形成され、流入口の周囲に空気を噴出する複数の噴出孔が形成されている。保持面と所定の間隔をあけて基板を設置する。次に、保持ハンドの噴出孔から流入口に空気を流動させることにより、負圧を形成してベルヌーイ効果を利用したベルヌーイチャックを形成している。そして、基板の表裏面が保持ハンドと接触することなく基板は保持ハンドに吸着される。
【０００４】
基板を搬送するとき搬送先に位置精度良く着座させる必要がある場合がある。そして、実装装置において位置精度良く移動する方法が特許文献２に開示されている。それによると、実装装置は部品を部品供給機構から実装基板上の所定の場所に載置する。その手順において、まず、部品を吸着ノズルが吸着した後、カメラが部品を撮影する。次に、画像認識部が部品の位置と傾きとを演算する。続いて、部品を予め設定された場所に載置するときの移動補正量を演算する。次に、実装装置は演算結果に基いて部品を運搬し、設定された場所に載置していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−０３２９８１号公報
【特許文献２】特開２００７−１８８９９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２に開示された実装装置の作業方法を用いることにより、位置精度良く基板を着座位置に着座することができる。しかし、基板を撮影して基板の位置を演算する時間、基板と着座位置とが対向するように移動場所を演算する時間がかかる。さらに、着座位置が変動するときには着座位置を撮影して着座位置を演算する時間が必要となる。そこで、短い時間で位置精度良く基板を運搬可能な方法が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］
本適用例にかかる搬送方法であって、吸着ハンドと基板との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて前記吸着ハンドと前記基板との間に負圧を形成し、前記吸着ハンドに前記基板を吸着させる吸着工程と、前記基板を搬送する予定の場所である着座位置と対向する場所に相対移動させる移動工程と、前記基板は隣接する側面が交差する基板辺部を有し、前記基板を傾斜させて前記基板辺部を重力方向に近づける傾斜工程と、前記基板を前記着座位置に着座させる着座工程と、を有し、前記着座位置には隣接する壁部が交差する壁辺部が設けられ、前記着座工程では、前記基板辺部と前記壁辺部とを接触させた後、前記基板を前記吸着ハンドから離すことを特徴とする。
【０００９】
この搬送方法によれば、吸着工程において吸着ハンドが基板を吸着する。次に、移動工程において基板または着座位置を移動して基板と着座位置とを対向させる。傾斜工程では吸着ハンドを傾斜することにより基板辺部が重力方向に接近するように基板を傾斜させる。次に、着座工程では、まず、基板辺部と壁辺部とを接近させる。次に、基板辺部と壁辺部とを接触させる。そして、基板を吸着ハンドと離すことにより、基板を着座位置に着座させている。
【００１０】
基板の位置や着座位置が変動するとき、基板と着座位置とを検出してから基板または着座位置を移動する方法がある。例えば、吸着工程の後で吸着ハンドに対する基板の位置を撮像装置等の検出装置を用いて検出する。次に、着座位置を撮像装置等の検出装置を用いて検出する。次に、基板と着座位置とを重ねるために吸着ハンドまたは着座位置を移動する場所を演算する。次に、吸着ハンドまたは着座位置を移動して基板を着座位置に着座する。
【００１１】
この方法を用いるときには位置精度良く基板を着座位置に着座することができる。しかし、基板を撮影し基板の位置を演算する時間、着座位置を撮影して着座位置を演算する時間、基板と着座位置とが対向するように移動場所を演算する時間がかかる。本適用例の方法では、基板辺部と壁辺部とを接触させて着座させている。従って、基板の位置、着座位置を検出するのにかかる時間は不要となっている。その結果、短い時間で基板を移動することができる。
【００１２】
［適用例２］
上記適用例にかかる搬送方法において、前記着座工程は前記基板辺部と前記壁辺部とを重力方向に相対移動した後、水平方向に相対移動させることを特徴とする。
【００１３】
この搬送方法によれば、まず、基板を重力方向に移動している。そして、重力方向において基板辺部と壁辺部とが重なる場所に移動する。次に、基板辺部と壁辺部を水平方向に相対移動させることにより基板辺部と壁辺部とを接触させている。
【００１４】
着座工程において基板辺部と壁辺部とを鉛直方向に対して斜めに接近させる方法がある。この接近するときの鉛直方向に対する角度を接近角度とする。基板辺部と壁辺部との相対位置が変動するとき、接近する前の基板辺部と壁辺部とを通る直線と鉛直方向とが成す角度が変動する。この角度と接近角度との差が大きいとき基板辺部が壁辺部と接触する前に基板辺部が壁辺部以外の場所に接触して、基板辺部と壁辺部とが接近できない可能性がある。従って、鉛直方向に対して斜めに移動させる場合に比べて、確実に基板辺部と壁辺部とを接触させることができる。
【００１５】
［適用例３］
上記適用例にかかる搬送方法において、前記吸着工程では前記基板を吸着させる吸着ハンドの面である吸着面と前記基板とを平行にしたまま前記吸着面と前記基板とを接近させて吸着することを特徴とする。
【００１６】
この搬送方法によれば、吸着面と基板とを平行にしたまま吸着面と基板とを接近させている。従って、基板の各場所において吸着面と基板との距離を等しくすることができる。その結果、基板の各場所において基板を吸引する吸引力の分布の分散を小さくできるので、品質良く基板を吸着することができる。
【００１７】
［適用例４］
上記適用例にかかる搬送方法において、前記着座工程では前記基板を固定して前記壁辺部を移動することを特徴とする。
【００１８】
この搬送方法によれば、壁辺部を移動することにより、基板辺部を壁辺部に接近させて接触させている。このとき、基板には基板を吸着して保持する吸着ハンドが接続されている。従って、基板を移動させるためには、基板を傾斜させて保持する吸着ハンドも合わせて移動する必要がある。このとき、各種装置を移動するためには剛性の高い堅牢な移動装置が必要となる。この方法に比べて、本適用例では壁辺部を移動する為、簡便な装置で基板辺部を壁辺部に接近させて接触させることができる。
【００１９】
［適用例５］
本適用例にかかる吸着ハンドは、吸着面と基板との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて前記基板を吸着する前記吸着面を有する吸着ハンドであって、前記基板は隣接する第１側面と第２側面とを有し、前記第１側面及び前記第２側面は平面であり、前記吸着面を水平方向に対して傾斜するとき前記第１側面の少なくとも２箇所と接触し、さらに、前記第２側面の少なくとも１箇所と接触して前記基板の位置を決める位置決め部を有することを特徴とする。
【００２０】
この吸着ハンドによれば、吸着面を水平方向に対して傾斜するとき、第１側面の少なくとも２箇所と位置決め部とが接触する。従って、位置決め部は第１側面の２箇所と接触するので第１側面の回転が規制される。さらに、第１側面の法線方向の位置が規制される。そして、吸着面を水平方向に対して傾斜するとき、第２側面の少なくとも１箇所と位置決め部とが接触する。従って、第２側面の法線方向の位置が規制される。その結果、基板は２方向の位置が規制される為、吸着ハンドは確実に基板の位置を規制することができる。
【００２１】
［適用例６］
上記適用例にかかる吸着ハンドにおいて、前記基板が前記吸着面と平行な方向を移動する移動範囲を規制する規制部を有することを特徴とする。
【００２２】
この吸着ハンドによれば、規制部が基板の移動範囲を規制している。従って、基板が水平方向に移動しても規制部によって基板は所定の範囲内に位置する。その結果、吸着ハンドは基板を離さずに保持することができる。
【００２３】
［適用例７］
本適用例にかかる詰替装置は、第１トレイから第２トレイへ基板を詰替える詰替装置であって、前記基板と吸着面との間に気体を流動させて、ベルヌーイ効果を用いて前記基板を吸着する吸着ハンドと、前記第１トレイ及び前記第２トレイと前記吸着ハンドとを水平方向に相対移動させる水平移動部と、前記第１トレイ及び前記第２トレイと前記吸着ハンドとを鉛直方向に相対移動させる鉛直移動部と、前記第１トレイ及び前記第２トレイに対する前記吸着面の傾斜角度を変更する傾斜部と、を備えることを特徴とする。
【００２４】
この詰替装置によれば、吸着ハンドが第１トレイに位置する基板を吸着する。このとき、傾斜部は基板の一面と吸着面とを平行にできる為、吸着ハンドは品質良く基板を吸着できる。そして、鉛直移動部が吸着ハンドと第１トレイとを鉛直方向に相対移動することにより、基板と第１トレイとを分離する。次に、水平移動部が吸着ハンドと第２トレイとを水平方向に相対移動させることにより、基板と第２トレイとを対向させる。続いて、傾斜部が第２トレイに対して基板を傾斜させる。次に、水平移動部及び鉛直移動部が吸着ハンドと第２トレイとを相対移動して接触させる。続いて、吸着ハンドが基板の吸着を止めて基板を解放することにより、基板を第２トレイ上に着座させる。このとき、基板の一部と第２トレイの一部とを接触させた状態にて基板を第２トレイ上に着座させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】第１の実施形態にかかわる詰替装置の構成を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は吸着ハンドを示す模式側面図、（ｂ）は吸着ハンドを示す模式底面図、（ｃ）は吸着ハンドの要部模式断面図。
【図３】（ａ）は傾斜装置を示す模式側面図、（ｂ）は傾斜装置を示す模式側断面図、（ｃ）は傾斜装置を示す模式側面図。
【図４】詰替装置の電気制御ブロック図。
【図５】詰替作業を示すフローチャート。
【図６】詰替方法を説明するための模式図。
【図７】詰替方法を説明するための模式図。
【図８】詰替方法を説明するための模式図。
【図９】詰替方法を説明するための模式図。
【図１０】第２の実施形態にかかわる詰替装置の構成を示す概略斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、具体化した実施形態について図面に従って説明する。尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
【００２７】
（第１の実施形態）
本実施形態において基板を測定する特徴的な詰替装置と、この詰替装置を用いて、基板を詰替える場合の例について図１〜図９に従って説明する。
【００２８】
（詰替装置）
まず、基板を詰替える詰替装置について図１〜図４に従って説明する。図１は、詰替装置の構成を示す概略斜視図である。図１に示すように、詰替装置１は、直方体の板状に形成された基台２を備えている。本実施形態では、この基台２の長手方向をＹ方向とし、水平面にてＹ方向と直交する方向をＸ方向とする。Ｘ方向とＹ方向との中間の方向をＫ方向とし、−Ｘ方向とＹ方向との中間の方向をＬ方向とする。そして、鉛直方向をＺ方向とする。
【００２９】
基台２の上面２ａには、水平移動部としてのＸＹステージ３が配置されている。ＸＹステージ３はＹ固定ステージ４を備え、Ｙ固定ステージ４の上面４ａにはＹ方向に延在する一対の案内レール４ｂがＹ固定ステージ４のＹ方向全幅にわたり凸設されている。その案内レール４ｂの上側には一対の案内レール４ｂに沿って移動するＹステージ５が取付けられている。Ｙ固定ステージ４にはＹステージ５を移動させる直動機構が形成されている。その直動機構は、例えば、案内レール４ｂに沿ってＹ方向に延びるネジ軸４ｃと、同ネジ軸４ｃと螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、そのネジ軸４ｃが、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＹ軸モーター４ｄの駆動軸に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＹ軸モーター４ｄに入力すると、Ｙ軸モーター４ｄが正転または逆転して、Ｙステージ５が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ方向に移動するようになっている。さらに、Ｙ固定ステージ４の上面４ａには、案内レール４ｂと平行に図示しないＹテーブル位置検出装置が配置され、Ｙステージ５の位置が検出される。
【００３０】
Ｙステージ５の上面５ａには、Ｘ方向に延在する一対の案内レール５ｂが、Ｙステージ５のＸ方向全幅にわたり凸設されている。その案内レール５ｂの上側には、一対の案内レール５ｂに沿って移動するＸステージ６が取付けられている。そのＸステージ６の直動機構は、例えば、本実施形態では、Ｙステージ５を移動させる直動機構と同様の機構となっている。そして、その直動機構が備えるネジ軸５ｃには、Ｘ軸モーター５ｄの駆動軸が連結されている。所定のステップ数に相対する駆動信号をＸ軸モーター５ｄに入力すると、Ｘ軸モーター５ｄが正転または逆転して、Ｘステージ６が同ステップ数に相当する分だけ、Ｘ方向に移動するようになっている。
【００３１】
Ｘステージ６の上には載置板７が配置され、載置板７上には載置面７ａが形成されている。その載置面７ａには、図示しない吸引式のチャック機構と位置決め用のピンが設けられている。そして、載置面７ａには第１トレイ８及び第２トレイ９が配置されている。第１トレイ８及び第２トレイ９には位置決め用の穴が形成されている。そして、操作者が位置決め用のピンを穴に合わせて第１トレイ８及び第２トレイ９を配置した後、チャック機構によって第１トレイ８及び第２トレイ９が載置面７ａに固定される。
【００３２】
第１トレイ８には収容部８ａが４箇所形成され、各収容部８ａには基板１０が配置されている。収容部８ａの形状は基板１０と略同じ形状の凹部となっている。同様に、第２トレイ９には着座位置としての収容部９ａが４箇所形成され、収容部９ａの形状も基板１０と略同じ形状の凹部となっている。そして、収容部８ａ及び収容部９ａには基板１０が収納可能になっている。基板１０は平面形状が四角形に形成され、収容部８ａ及び収容部９ａも四角形に形成されている。基板１０、第１トレイ８、第２トレイ９は洗浄され、塵が除去されている。
【００３３】
基台２上においてＸＹステージ３の図中右上には支持部１１が突設されている。支持部１１は鉛直方向に長く形成された直方体状の柱部１１ａを備えている。そして、柱部１１ａの図中上側には−Ｘ方向に伸びる梁部１１ｂが形成されている。
【００３４】
梁部１１ｂのＸＹステージ３と対向する場所には鉛直移動部としてのハンド昇降装置１２が配置されている。ハンド昇降装置１２は円筒形に形成された固定部１２ａと鉛直方向に昇降する可動部１２ｂとを備えている。ハンド昇降装置１２は内部に直動機構を備え、この直動機構は特に限定されないが、例えば、エアーシリンダーを用いることができる。このとき、エアーシリンダーの動作速度を制御する機構を設置することにより、支持部１１の振動を抑制するのが好ましい。可動部１２ｂは円筒形に形成され、回転防止機構を備えている。従って、可動部１２ｂは回転せずに昇降するようになっている。
【００３５】
可動部１２ｂの図中下側には傾斜部としての傾斜装置１３が配置され、傾斜装置１３の図中下側には吸着ハンド１４が配置されている。そして、傾斜装置１３は吸着ハンド１４を水平方向と水平方向に対して傾けた方向に切り替えることができる。吸着ハンド１４は吸着機構を備え、基板１０を吸着できる。
【００３６】
ハンド昇降装置１２は梁部１１ｂを鉛直方向に貫通して配置されている。固定部１２ａは梁部１１ｂに固定され、可動部１２ｂは梁部１１ｂに対して昇降する。可動部１２ｂの図中上側には規制板１２ｃが設置されている。そして、梁部１１ｂの上側の面においてハンド昇降装置１２のＸ方向には昇降位置設定装置１５が配置されている。昇降位置設定装置１５は１方向に長く形成された回転板１５ａと回転板１５ａを回転させるモーター１５ｂとを備えている。回転板１５ａには厚みの異なる第１凸部１５ｃと第２凸部１５ｄとが形成されている。
【００３７】
モーター１５ｂは所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するモーターである。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をモーター１５ｂに入力すると、モーター１５ｂが正転または逆転して、回転板１５ａが同ステップ数に相当する分だけ回転する。昇降位置設定装置１５は回転板１５ａを回転して規制板１２ｃと対向する場所に、第１凸部１５ｃまたは第２凸部１５ｄを設置する。規制板１２ｃと対向する場所に第１凸部１５ｃを配置して、可動部１２ｂが下降する。このとき、規制板１２ｃが第１凸部１５ｃと干渉して可動部１２ｂが下降する高さが設定される。次に、可動部１２ｂを上昇させて、昇降位置設定装置１５が回転板１５ａを回転して、規制板１２ｃと対向する場所に第２凸部１５ｄを設置する。そして、ハンド昇降装置１２は可動部１２ｂを下降する。このとき、規制板１２ｃが第２凸部１５ｄと干渉して可動部１２ｂが下降する高さが設定される。つまり、昇降位置設定装置１５が規制板１２ｃと対向する場所に設置する第１凸部１５ｃと第２凸部１５ｄとを切り替えることにより、可動部１２ｂが下降する高さを切り替えることができる。
【００３８】
基台２のＸ方向には制御装置１６が配置されている。そして、制御装置１６は詰替装置１の動作を制御する。
【００３９】
図２（ａ）は吸着ハンドを示す模式側面図であり、図２（ｂ）は吸着ハンドを示す模式底面図である。図２（ａ）及び図２（ｂ）において、吸着ハンド１４の−Ｚ方向の面を吸着面としての底面１４ａとする。底面１４ａにはリング状の吸着部１７が−Ｚ方向に凸状に４箇所形成されている。そして、吸着部１７に囲まれた内側は吸着ハンド１４の内部に円柱状の空洞部１８が形成されている。空洞部１８と接続して配管１９が形成され、配管１９は図示しない圧空ポンプと接続されている。
【００４０】
吸着部１７に基板１０が吸着するとき、基板１０のＹ方向側の側面を側面としての第１側面１０ａとし、基板１０の−Ｘ方向側の側面を側面としての第２側面１０ｂとする。第１側面１０ａと接する場所に位置決め部としての位置決めピン２０が２箇所配置され、第２側面１０ｂと接する場所に位置決めピン２０が１箇所配置されている。基板１０において第１側面１０ａと第２側面１０ｂとが交差する辺を基板辺部１０ｃとする。基板１０において吸着部１７に対して反対側の面を下面１０ｄとする。そして、基板辺部１０ｃと下面１０ｄとが交差する点を基板頂点部１０ｅとする。
【００４１】
基板１０の基板辺部１０ｃが重力方向に下がるように吸着ハンド１４を傾ける。このとき、基板１０は第１側面１０ａが２箇所の位置決めピン２０と接触することにより、基板１０の平面方向における第１側面１０ａの角度が固定される。さらに、基板１０は第２側面１０ｂが１箇所の位置決めピン２０と接触することにより、基板１０の吸着ハンド１４に対する位置が固定される。
【００４２】
底面１４ａにおいて基板１０の−Ｙ方向及びＸ方向には直方体状の規制部２３が配置されている。そして、基板１０が底面１４ａと平行に−Ｙ方向またはＸ方向に移動するとき、基板１０の側面は規制部２３と接触する。従って、基板１０の移動範囲は位置決めピン２０及び規制部２３によって囲まれた範囲内から出ないように規制される。
【００４３】
図２（ｃ）は吸着ハンドの要部模式断面図である。図２（ｃ）に示すように、空洞部１８と配管１９との間にはノズル２４が形成されている。ノズル２４は１つの空洞部１８に２つ設置され、円筒状の空洞部１８の水平面において離れた位置に配置されている。圧縮空気が配管１９に供給され、気流２５が配管１９を通過する。気流２５は配管１９を通ってノズル２４から空洞部１８に噴出する。気流２５は空洞部１８の外周に沿って螺旋状に吸着部１７に向かって進行する。吸着部１７と対向する場所に基板１０が位置するとき、吸着部１７と基板１０との間を気流２５が通過する。このとき、吸着部１７と基板１０との間の圧力が低下するベルヌーイ効果により、基板１０が吸着部１７に引き寄せられる。従って、吸着ハンド１４は基板１０と吸着部１７とを接触させずに基板１０を保持することができる。
【００４４】
図３（ａ）は傾斜装置を示す模式側面図であり、図３（ｂ）は傾斜装置を示す模式側断面図である。図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、傾斜装置１３はハンド昇降装置１２と吸着ハンド１４との間に配置されている。傾斜装置１３は固定台１３ａ、可動台１３ｂ、回転機構等により構成されている。ハンド昇降装置１２の図中下側には固定台１３ａが設置され、固定台１３ａの図中下側には回転機構を介して可動台１３ｂが配置されている。回転機構はモーター２６及び軸受部２７を備えている。モーター２６は固定台１３ａに固定して設置され、モーター２６の駆動軸２６ａは可動台１３ｂに固定されている。駆動軸２６ａは可動台１３ｂを貫通して配置され、駆動軸２６ａの端は軸受部２７を介して固定台１３ａに支持されている。モーター２６は回転方向を制御可能であれば良く、直流モーター、交流モーター、ステップモーター、ロータリーアクチュエーター、ロータリー電磁ソレノイド等を用いることができる。本実施形態では、例えば、直流モーターを採用している。軸受部２７は駆動軸２６ａを回転可能に支持できればよく、転がり軸受け、すべり軸受、磁気軸受、流体軸受等を用いることができる。本実施形態では、例えば、転がり軸受けに属するローラーベアリングを採用している。
【００４５】
可動台１３ｂ上で固定台１３ａ側の面には第１角度設定部材１３ｃと第２角度設定部材１３ｄとが設置されている。そして、モーター２６の駆動軸２６ａを図中時計回りに回転させて可動台１３ｂのＬ方向側を上げるとき、第１角度設定部材１３ｃが固定台１３ａと可動台１３ｂとに挟まれる。そして、固定台１３ａに対して可動台１３ｂの角度が所定の角度に保持される。このとき、吸着ハンド１４の底面１４ａは水平になるように第１角度設定部材１３ｃが調整されている。
【００４６】
図３（ｃ）は傾斜装置を示す模式側面図であり、モーター２６の駆動軸２６ａを図中反時計回りに回転させて可動台１３ｂのＬ方向側を下げた状態を示している。このとき、第２角度設定部材１３ｄが固定台１３ａと可動台１３ｂとに挟まれる。そして、固定台１３ａに対して可動台１３ｂの角度が所定の角度に保持される。このとき、吸着ハンド１４の底面１４ａは水平に対して所定の角度で傾斜するように第２角度設定部材１３ｄが調整されている。従って、モーター２６の回転方向を切り替えることにより傾斜装置１３は吸着ハンド１４の底面１４ａの角度を水平にするか傾斜させるかを制御できる。
【００４７】
図４は、詰替装置の電気制御ブロック図である。図４において、制御部としての制御装置１６は詰替装置１の動作を制御する装置である。そして、制御装置１６はプロセッサーとして各種の演算処理を行うＣＰＵ（中央演算処理装置）２８と、各種情報を記憶するメモリー２９とを備えている。
【００４８】
ステージ駆動装置３０、ステージ位置検出装置３１、ハンド駆動回路３２、ハンド昇降装置１２、昇降位置設定装置１５、傾斜装置１３は入出力インターフェイス３３及びデータバス３４を介してＣＰＵ２８に接続されている。さらに、入力装置３５、表示装置３６も入出力インターフェイス３３及びデータバス３４を介してＣＰＵ２８に接続されている。
【００４９】
ステージ駆動装置３０はＸＹステージ３を駆動する装置であり、ステージ位置検出装置３１はＸＹステージ３の位置を検出する装置である。ステージ位置検出装置３１がＸＹステージ３の位置を検出し、ステージ駆動装置３０がＸＹステージ３を駆動することにより、載置板７を所望の場所に移動することが可能となっている。
【００５０】
入力装置３５は基板１０を移動する各種作業条件を入力する装置であり、例えば、第１トレイ８の収容部８ａ及び第２トレイ９の収容部９ａの位置を示す座標を図示しない外部装置から受信し入力するための装置である。表示装置３６は作業条件や作業状況を表示する装置であり、表示装置３６に表示される情報を基に、操作者は入力装置３５を用いて情報の入力操作を行う。
【００５１】
メモリー２９は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリーや、ハードディスク、ＤＶＤ−ＲＯＭといった記憶装置を含む概念である。機能的には、詰替装置１の動作の制御手順が記述されたプログラムソフト３７を記憶する記憶領域や、基板１０を収納する収容部８ａ、収容部９ａの着座位置の座標データであるトレイ位置データ３８を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、基板１０の形状や厚み等の情報であるワーク関連データ３９を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、ＣＰＵ２８のためのワークエリアやテンポラリーファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
【００５２】
ＣＰＵ２８は、メモリー２９内に記憶されたプログラムソフト３７に従って、基板１０を詰替えるための制御を行うものである。具体的な機能実現部として吸着ハンド１４の動作を制御するための演算を行うハンド制御部４２を有する。
【００５３】
ハンド制御部４２を詳しく分割すれば、基板１０の吸着と解除の制御をする吸着制御部４３と、吸着ハンド１４を昇降させる制御をする昇降制御部４４を有する。さらに、吸着ハンド１４の角度を傾斜させるか水平にするかを選択して制御する傾斜制御部４５等を有する。ハンド制御部４２は基板１０を吸着して昇降させた後、基板１０を傾斜して吸着解除させる。
【００５４】
他にも、ＣＰＵ２８はステージ制御部４６を有する。ステージ制御部４６はＸＹステージ３の移動する方向や停止位置を制御する。そして、ＣＰＵ２８はステージ制御部４６とハンド制御部４２とを連携して制御することにより、基板１０を位置精度良く第１トレイ８から第２トレイ９へ詰替える。
【００５５】
尚、本実施形態では、上記の各機能がＣＰＵ２８を用いてプログラムソフト３７で実現することとしたが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路（ハードウェア）によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００５６】
（詰替方法）
次に、上述した詰替装置１を用いて、基板１０を詰替える方法について図５〜図９にて説明する。図５は、詰替作業を示すフローチャートであり、図６〜図９は、詰替方法を説明するための模式図である。
【００５７】
図５に示すフローチャートにおいて、ステップＳ１は給材工程に相当する。この工程は、操作者が載置面に基板が配置された第１トレイと空の第２トレイを載置面上に配置して位置決めした後、固定する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は第１移動工程に相当する。この工程は、移動する予定の基板と対向する場所へ吸着ハンドを移動する工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は吸着工程に相当し、基板を吸着ハンドに吸着させる工程である。次にステップＳ４に移行する。ステップＳ４は第２移動工程に相当する。この工程は、基板を着座させる予定の場所と対向する場所に吸着ハンドを移動させる工程である。次にステップＳ５に移行する。ステップＳ５は、傾斜工程に相当し、傾斜装置１３を駆動して吸着ハンド１４を傾斜させる工程である。次にステップＳ６に移行する。
【００５８】
ステップＳ６は、接近工程に相当し、基板の角部を第２トレイの収容部の角に接近させる工程である。次にステップＳ７に移行する。ステップＳ７は、接触工程に相当し、基板の角部を第２トレイの収容部の角に接触させる工程である。次にステップＳ８に移行する。ステップＳ８は、吸着解除工程に相当し、基板を吸着ハンドから離して収容部に着座させる工程である。次にステップＳ９に移行する。ステップＳ６〜ステップＳ８を合わせてステップＳ１１とする。ステップＳ１１は着座工程に相当し、基板を収容部に着座させる工程である。ステップＳ９は、終了判断工程に相当し、詰替作業を終了するか否かを判断する工程である。まだ詰替えていない基板があるとき、ステップＳ２に移行する。予定した基板を総て詰替えたとき、ステップＳ１０に移行する。ステップＳ１０は除材工程に相当する。この工程は、載置面から第１トレイ及び第２トレイを移動する工程である。第１トレイ及び第２トレイを移動して詰替作業を終了する。
【００５９】
次に、図６〜図９を用いて、図５に示したステップと対応させて、詰替方法を詳細に説明する。図６（ａ）は、ステップＳ１の給材工程及びステップＳ２の第１移動工程に対応する図である。図６（ａ）に示すように、ステップＳ１において、収容部８ａに基板１０が配置された第１トレイ８を載置板７に設置する。また、載置板７上には空の第２トレイ９も設置する。操作者は載置板７に設けられた位置決めピンを用いて第１トレイ８及び第２トレイ９を所定の位置に配置する。次に、操作者は吸引式のチャック機構を用いて第１トレイ８及び第２トレイ９を載置面７ａに固定する。
【００６０】
ステップＳ２において、ステージ制御部４６はステージ駆動装置３０を駆動することにより、ＸＹステージ３を移動させる。そして、吸着ハンド１４と対向する場所に詰替える予定の基板１０を移動させる。
【００６１】
図６（ｂ）及び図６（ｃ）はステップＳ３の吸着工程に対応する図である。図６（ｂ）に示すように、ステップＳ３において、傾斜制御部４５は傾斜装置１３を駆動して吸着ハンド１４を水平の状態に維持する。このとき、基板１０も第１トレイ８上で水平に収納されている。従って、基板１０と吸着ハンド１４とは平行になっている。昇降制御部４４は昇降位置設定装置１５を駆動して規制板１２ｃと対向する場所に第１凸部１５ｃを移動させる。次に、昇降制御部４４はハンド昇降装置１２を駆動して吸着ハンド１４を下降させる。そして、規制板１２ｃが第１凸部１５ｃと接した場所で吸着ハンド１４の下降が停止する。このとき、第１凸部１５ｃの厚みが調整されているので、吸着ハンド１４の吸着部１７と基板１０との間隔が所定の間隔になる。吸着部１７と基板１０との間隔はベルヌーイ効果が生ずる間隔であれば良く特に限定されない。基板１０の重量やそりの状態によって安定した吸着が行える条件が異なるので、吸着部１７と基板１０との間隔は事前に実験して求めるのが好ましい。本実施形態では、例えば、０．４ｍｍに設定している。
【００６２】
次に、吸着制御部４３は吸着ハンド１４の配管１９に圧縮空気を供給することにより、吸着部１７と基板１０との間に気流２５を形成する。その結果、基板１０が吸着ハンド１４に吸着する。続いて、昇降制御部４４がハンド昇降装置１２を収縮させることにより、吸着ハンド１４及び基板１０を上昇させる。
【００６３】
図６（ｄ）及び図７（ａ）はステップＳ４の第２移動工程に対応する図である。図６（ｄ）に示すように、ステップＳ４において、ステージ制御部４６はＸＹステージ３を駆動して、載置板７を移動させる。その結果、図７（ａ）に示すように、基板１０は移動先である第２トレイ９の収容部９ａと対向する場所に位置する。次に、ステップＳ５の傾斜工程において、傾斜制御部４５は傾斜装置１３を駆動することにより、基板１０を傾斜させる。その結果、基板１０に重量が作用することにより基板１０はＬ方向側に移動し、第１側面１０ａ及び第２側面１０ｂが位置決めピン２０に接触する。
【００６４】
図７（ｂ）〜図７（ｄ）はステップＳ６の接近工程に対応する図である。ステップＳ６において、昇降制御部４４は昇降位置設定装置１５を駆動して規制板１２ｃと対向する場所に第２凸部１５ｄを移動させる。次に、図７（ｂ）に示すように、昇降制御部４４はハンド昇降装置１２を駆動して吸着ハンド１４を下降させる。そして、規制板１２ｃが第２凸部１５ｄと接した場所で吸着ハンド１４の下降が停止する。このとき、第２トレイ９のＺ方向の面を上面９ｃとするとき、基板頂点部１０ｅが上面９ｃと底面９ｂとの間に位置するように第２凸部１５ｄの厚みが調整されている。
【００６５】
次に、図７（ｃ）及び図７（ｄ）に示すように、ステージ制御部４６はステージ駆動装置３０を駆動してＸＹステージ３を移動させる。凹状の収容部９ａにおいて、第１側面１０ａに近い側面を壁部としての第１壁部９ｄとし、第２側面１０ｂに近い側面を壁部としての第２壁部９ｅとする。そして、第１壁部９ｄと第２壁部９ｅとが交差する辺を壁辺部９ｆとする。ステージ制御部４６はＸＹステージ３を移動させることにより、壁辺部９ｆを水平移動させる。そして、ステージ制御部４６は壁辺部９ｆを基板辺部１０ｃに接近させる。
【００６６】
図８はステップＳ７の接触工程に対応する図である。図８に示すように、ステージ制御部４６はステージ駆動装置３０を駆動して壁辺部９ｆを移動させて、壁辺部９ｆを基板辺部１０ｃにさらに接近させる。その結果、壁辺部９ｆは基板辺部１０ｃと接触する。このとき、基板１０は第２トレイ９の上面９ｃに対して傾斜しているので、基板辺部１０ｃは壁辺部９ｆの上面９ｃ側と接触する。そして、第１側面１０ａ及び第２側面１０ｂは位置決めピン２０と離れ、第１側面１０ａは第１壁部９ｄと接触し、第２側面１０ｂは第２壁部９ｅと接触する。
【００６７】
図９（ａ）及び図９（ｂ）はステップＳ８の吸着解除工程に対応する図である。図９（ａ）に示すように、吸着制御部４３はハンド駆動回路３２を駆動することにより、吸着ハンド１４の配管１９に供給する圧縮空気を停止する。そして、吸着ハンド１４は基板１０の吸着を解除する。基板１０には重力が作用するので、基板１０は収容部９ａに移動する。このとき、第１側面１０ａは第１壁部９ｄと接触し、第２側面１０ｂは第２壁部９ｅと接触しているので、基板１０は第１壁部９ｄ及び第２壁部９ｅに沿って収容部９ａへ移動する。その結果、基板１０は第２トレイ９の上面９ｃに乗り上げることなく収容部９ａ内に収納される。図９（ｂ）に示すように、続いて、昇降制御部４４はハンド昇降装置１２を駆動することにより吸着ハンド１４を上昇させる。
【００６８】
ステップＳ９の終了判断工程において、予定した総ての基板１０を第１トレイ８から第２トレイ９に移動したかの判断を行う。第１トレイ８に移動する予定の基板１０があるときにはステップＳ２〜ステップＳ９を繰り返す。移動する予定の基板１０を総て移動したとき、ステップＳ１０の除材工程において、第１トレイ８及び第２トレイ９を詰替装置１から移動して、詰め替え作業を終了する。
【００６９】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、ステップＳ１１の着座工程において、基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを接触させている。そして、基板１０を吸着ハンド１４と離すことにより、基板１０を収容部９ａに着座させている。
【００７０】
基板１０の位置や収容部９ａが変動するとき、基板１０と収容部９ａとを検出してから第２トレイ９を移動する方法がある。例えば、ステップＳ３の吸着工程の後で吸着ハンド１４に対する基板１０の位置を撮像装置を用いて検出する。次に、収容部９ａを撮像装置を用いて検出する。続いて、基板１０と収容部９ａとを重ねるために収容部９ａを移動する場所を演算する。次に、収容部９ａを移動して基板１０を収容部９ａに着座する。
【００７１】
この方法を用いるときには位置精度良く基板１０を収容部９ａに着座することができる。しかし、基板１０を撮影し基板１０の位置を演算する時間、収容部９ａを撮影して収容部９ａの位置を演算する時間、基板１０と収容部９ａとが対向するように移動場所を演算する時間がかかる。本実施形態の方法では、基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを接触させて着座させている。従って、基板１０の位置及び収容部９ａの位置を検出するのにかかる時間は不要となっている。その結果、短い時間で基板１０を移動することができる。
【００７２】
（２）本実施形態によれば、ステップＳ６の接近工程において、基板１０を重力方向に移動している。そして、基板頂点部１０ｅは鉛直方向において第２トレイ９の上面９ｃと底面９ｂと間に位置する。次に、ステップＳ７の接触工程において、壁辺部９ｆを水平方向に移動させることにより基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを接触させている。
【００７３】
ステップＳ６の接近工程において基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを鉛直方向に対して斜めに接近させる方法がある。この接近するときの鉛直方向に対する角度を接近角度とする。基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとの相対位置が変動するとき、接近する前の基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを通る直線と鉛直方向とが成す角度が変動する。この角度と接近角度との差が大きいとき基板辺部１０ｃが壁辺部９ｆと接触する前に基板辺部１０ｃが底面９ｂに接触して、基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとが接近できない可能性がある。鉛直方向に対して斜めに移動させる場合に比べて、本実施形態の方法は確実に基板辺部１０ｃと壁辺部９ｆとを接触させることができる。
【００７４】
（３）本実施形態によれば、ステップＳ３の吸着工程において吸着ハンド１４の底面１４ａと基板１０とを平行にしたまま吸着面と基板とを接近させている。従って、複数の吸着部１７と基板１０との距離を等しくすることができる。その結果、基板１０の各場所における基板１０を吸引する吸引力の分布の分散を小さくできるので、品質良く基板１０を吸着することができる。
【００７５】
（４）本実施形態によれば、基板１０を静止させて第２トレイ９を移動することにより、基板辺部１０ｃを壁辺部９ｆに接近させて接触させている。支持部１１の柱部１１ａの−Ｚ方向側にＸＹテーブルを配置して吸着ハンド１４を移動させる方法がある。基板１０には基板１０を吸着して保持する吸着ハンド１４、傾斜装置１３、ハンド昇降装置１２が接続されている。従って、基板１０を移動させるためには、吸着ハンド１４、傾斜装置１３、ハンド昇降装置１２も合わせて移動する必要がある。このとき、ＸＹテーブルが移動させる装置は重量が大きいので、剛性の高いＸＹテーブルを設置する必要がある。この方法に比べて、本実施形態では第２トレイ９を水平に移動する為、簡便な装置で基板辺部１０ｃを壁辺部９ｆに接近させて接触させることができる。
【００７６】
また、柱部１１ａの−Ｚ方向側にＸＹテーブルを配置するときには、ＸＹテーブルと吸着ハンド１４が離れた構造となる。従って、ＸＹテーブルが移動することにより、吸着ハンド１４が振動し易くなる。この方法に比べて、本実施形態では、ＸＹステージ３が第２トレイ９を移動させても第２トレイ９が振動し難い構造となっている。従って、位置精度良く基板辺部１０ｃに壁辺部９ｆを接触させることができる。
【００７７】
（５）本実施形態によれば、傾斜装置１３が基板１０を水平方向に対して傾斜させるとき、第１側面１０ａと２箇所の位置決めピン２０とが接触する。従って、位置決めピン２０により基板１０の回転が規制される。さらに、第１側面１０ａの法線方向の位置が規制される。さらに、第２側面１０ｂと１箇所の位置決めピン２０とが接触する。従って、第２側面１０ｂの法線方向の位置が規制される。その結果、基板１０は２方向の位置が規制される為、吸着ハンド１４は確実に基板１０の位置を規制することができる。
【００７８】
（６）本実施形態によれば、位置決めピン２０及び規制部２３が基板１０の移動範囲を規制している。従って、吸着ハンド１４が水平方向に移動するとき、基板１０が水平方向に移動しても位置決めピン２０及び規制部２３によって基板１０は所定の範囲内に位置する。その結果、吸着ハンド１４は基板１０を離さずに保持することができる。
【００７９】
（第２の実施形態）
次に、詰替装置の一実施形態について図１０の詰替装置の構成を示す概略斜視図を用いて説明する。本実施形態が第１の実施形態と異なるところは、載置板７と基板１０とを相対移動させる手段が異なる点にある。尚、第１の実施形態と同じ点については説明を省略する。
【００８０】
（詰替装置）
すなわち、本実施形態では、図１０に示したように、詰替装置５０は、直方体に形成された作業台５１を備えている。本実施形態では、この作業台５１の長手方向をＸ方向とし、水平面にてＸ方向と直交する方向をＹ方向とする。Ｘ方向とＹ方向との中間の方向をＫ方向とし、−Ｘ方向とＹ方向との中間の方向をＬ方向とする。そして、鉛直方向をＺ方向とする。
【００８１】
作業台５１の上には載置面５１ａが形成されている。載置面５１ａには、図示しない吸引式のチャック機構と位置決め用のピンが設けられている。そして、載置面５１ａには第１トレイ８及び第２トレイ９が配置されている。第１トレイ８及び第２トレイ９には位置決め用の穴が形成されている。そして、操作者が位置決め用のピンを穴に合わせて第１トレイ８及び第２トレイ９を配置した後、チャック機構によって第１トレイ８及び第２トレイ９が載置面５１ａに固定されるようになっている。
【００８２】
第１トレイ８には収容部８ａが形成され、第２トレイ９には収容部９ａが形成されている。第１トレイ８の各収容部８ａには基板１０が配置されている。第１トレイ８、第２トレイ９、基板１０は第１実施形態と同じであり説明を省略する。そして、詰替装置５０は第１トレイ８に収納された基板１０を第２トレイ９に移動する装置である。
【００８３】
作業台５１の図中右側には搬送ロボット５２が配置されている。搬送ロボット５２は複数の腕部と回転機構を有する多関節ロボットであり、連結された複数の腕部の先端に手部５３を備えている。搬送ロボット５２は複数の回転機構を制御することにより手部５３の位置と姿勢とを制御することができる。手部５３にはモーター及び減速機構等からなる回転部５４を備え、回転部５４の駆動軸は支持部５５に固定されている。そして、手部５３が位置する場所が変わるとき、搬送ロボット５２は回転部５４の駆動軸の回転角度を制御することにより、支持部５５の長手方向がＸ方向になるように制御する。
【００８４】
支持部５５には昇降位置設定装置１５及びハンド昇降装置１２が並べて配置されている。そして、ハンド昇降装置１２の図中下側にはハンド昇降装置１２と接続して傾斜装置１３が配置されている。傾斜装置１３の図中下側には傾斜装置１３と接続して吸着ハンド１４が配置されている。昇降位置設定装置１５、ハンド昇降装置１２、傾斜装置１３、吸着ハンド１４は第１の実施形態と同じであり説明を省略する。搬送ロボット５２の図中右側には制御装置５６が設置され、制御装置５６は詰替装置５０の動作を制御する装置である。
【００８５】
（詰替方法）
詰替方法の作業工程順及びステップＳ１の給材工程は第１実施形態と同じであり説明を省略する。ステップＳ２の第１移動工程において、制御装置５６は搬送ロボット５２を駆動することにより、吸着ハンド１４を収容部８ａに位置する基板１０と対向する場所に移動させる。次に、制御装置５６はハンド昇降装置１２を伸長させることにより、吸着ハンド１４を下降させる。ステップＳ３の吸着工程は第１実施形態と同じであり説明を省略する。
【００８６】
ステップＳ４の第２移動工程において、制御装置５６は搬送ロボット５２を駆動することにより、吸着ハンド１４を基板１０と対向する場所に移動させる。ステップＳ５の傾斜工程は第１実施形態と同じであり説明を省略する。続いて、ステップＳ６の接近工程において、制御装置５６はハンド昇降装置１２を伸長させることにより、吸着ハンド１４を下降させる。そして、制御装置５６は搬送ロボット５２を駆動することにより、基板辺部１０ｃを壁辺部９ｆに接近させる。続いて、ステップＳ７の接触工程において、制御装置５６は搬送ロボット５２を駆動することにより、基板辺部１０ｃを壁辺部９ｆに接触させる。ステップＳ８の吸着解除工程〜ステップＳ１０の除材工程は第１の実施形態と略同じであり説明を省略する。
【００８７】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、搬送ロボット５２において手部５３が移動可能である範囲を示す可動領域が設定されている。そして、手部５３の可動領域に対応して吸着ハンド１４が移動可能なハンド移動領域が設定されている。そのハンド移動領域内であれば、詰替装置５０は基板１０を移動することができる。従って、基板１０がハンド移動領域に位置するように第１トレイ８及び第２トレイ９の配置を設計することにより、第１トレイ８及び第２トレイ９の配置を設計し易くすることができる。
【００８８】
（２）本実施形態によれば、基板１０が水平面上のどの角度にある場合にも吸着ハンド１４が基板１０を吸着できるので、第１トレイ８の収容部８ａ及び第２トレイ９の収容部９ａを設計し易くすることができる。
【００８９】
（３）本実施形態によれば、作業台５１の配置や大きさを変更することにより、第１トレイ８及び第２トレイ９が大きい場合にも対応することができる。従って、詰替装置５０はトレイの大きさに対して柔軟性の高い装置にすることができる。
【００９０】
尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記第１の実施形態では、基板１０は四角形に形成されていたが、基板１０は４角形に限定されない。２辺が隣接した形状であれば良い。従って、３角形や５角形等の多角形にも適用することができる。さらに、２つの辺と曲線を有する基板１０にも適用することができる。
【００９１】
（変形例２）
前記第１の実施形態では、ステップＳ２の第１移動工程にて吸着ハンド１４を基板１０に接近させてから、吸着ハンド１４内から気流２５を流動させて吸着した。これに限らず、吸着ハンド１４内から気流２５を流動させながら、吸着ハンド１４を基板１０に接近させても良い。この場合にも、吸着ハンド１４に基板１０を吸着させることができる。
【００９２】
（変形例３）
前記第１の実施形態では、位置決めピン２０を用いて吸着ハンド１４における基板１０の位置を規制したが、位置決めピン２０以外の構造物にて基板１０の位置を規制しても良い。直方体の位置決め部材を設置して、面で第１側面１０ａ及び第２側面１０ｂと接するようにしても良い。
【００９３】
（変形例４）
前記第１の実施形態では、第１側面１０ａと２箇所で位置決めピン２０と接触させたが、２箇所以上の場所にて接触しても良い。同じく、第２側面１０ｂと１箇所で位置決めピン２０と接触させたが、１箇所以上の場所にて接触しても良い。
【００９４】
（変形例５）
前記第１の実施形態では、吸着ハンド１４の空洞部１８に気流２５が螺旋状に流動する形式としたが、気流２５の流動方式はこれに限らない。吸着ハンド１４は、基板１０と吸着ハンド１４との間に気流２５を流動して基板１０を吸着可能な構造であればよい。
【００９５】
（変形例６）
前記第１の実施形態では、ハンド昇降装置１２の下に傾斜装置１３が設置され、傾斜装置１３の下に吸着ハンド１４が設置された。傾斜装置１３はＸＹステージ３に配置されても良い。そして、第２トレイ９を傾斜させるようにしても良い。この場合にも、吸着ハンド１４と第２トレイ９とを相対的に傾斜させることができる。
【００９６】
詰替装置１はハンド昇降装置１２に替えて第１トレイ８及び第２トレイ９を昇降させるトレイ昇降装置を備えても良い。この場合にも、吸着ハンド１４と第１トレイ８及び第２トレイ９とを鉛直方向に相対移動させることができる。
【００９７】
（変形例７）
前記第１の実施形態では、吸着ハンド１４は水平方向に移動せず、ＸＹステージ３が第１トレイ８及び第２トレイ９を移動させた。詰替装置１は吸着ハンド１４を水平方向に移動させるＸＹステージを備えても良い。そして、第１トレイ８及び第２トレイ９は水平方向に移動しないようにしても良い。この場合にも、吸着ハンド１４と第１トレイ８及び第２トレイ９とを水平方向に相対移動させることができる。
【００９８】
（変形例８）
前記第２の実施形態では、搬送ロボット５２に多関節ロボットを採用したが、他の形態のロボットを採用しても良い。水平多関節ロボット、直交ロボット、パラレルリンクロボット等各種の形態のロボットを採用することができる。
【符号の説明】
【００９９】
１，５０…詰替装置、３…水平移動部としてのＸＹステージ、８…第１トレイ、９…第２トレイ、９ａ…着座位置としての収容部、９ｄ…壁部としての第１壁部、９ｅ…壁部としての第２壁部、９ｆ…壁辺部、１０…基板、１０ａ…側面としての第１側面、１０ｂ…側面としての第２側面、１０ｃ…基板辺部、１２…鉛直移動部としてのハンド昇降装置、１３…傾斜部としての傾斜装置、１４…吸着ハンド、１４ａ…吸着面としての底面、２０…位置決め部としての位置決めピン、２３…規制部。
【図１】
2011091079.tif 000003
【図２】
2011091079.tif 000004
【図３】
2011091079.tif 000005
【図４】
2011091079.tif 000006
【図５】
2011091079.tif 000007
【図６】
2011091079.tif 000008
【図７】
2011091079.tif 000009
【図８】
2011091079.tif 000010
【図９】
2011091079.tif 000011
【図１０】
2011091079.tif 000012