(57)【要約】【課題】  小型化された駆動機構を有する可変スリット装置。【解決手段】  入射するスリット状の光束（２４）の一部を可変的に遮る可変スリット装置（９）は、照明光路に対して並列的に配列された複数の遮光部材（９ｂ）と、照明光路に対する複数の遮光部材の位置をそれぞれ変化させるアクチュエータ（９ｃ）とを備えている。アクチュエータは、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材と、該駆動源部材を挟むように配置された一対の電極とを有する。【選択図】  図５
2011228556.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光路中に配置されて入射するスリット状の光束の一部を可変的に遮る可変スリット装置において、
前記照明光路に対して並列的に配列された複数の遮光部材と、
前記照明光路に対する前記複数の遮光部材の位置をそれぞれ変化させるアクチュエータとを備え、
前記アクチュエータは、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材と、該駆動源部材を挟むように配置された一対の電極とを有することを特徴とする可変スリット装置。
【請求項２】
前記複数の遮光部材は、前記スリット状の入射光束の長辺方向に沿って互いに隔絶された状態で配列されていることを特徴とする請求項１に記載の可変スリット装置。
【請求項３】
前記複数の遮光部材の各々に対して１つの前記アクチュエータが取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載の可変スリット装置。
【請求項４】
前記複数の遮光部材は、復元力を有する共通の可撓性部材に連結され、
前記可撓性部材には、該可撓性部材を変形させるための複数の前記アクチュエータが取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載の可変スリット装置。
【請求項５】
前記複数の遮光部材は、その端部において互いにピン接合された状態で、前記スリット状の入射光束の長辺方向に並んで配列されていることを特徴とする請求項１に記載の可変スリット装置。
【請求項６】
前記複数の遮光部材の各々に対して１つの前記アクチュエータが取り付けられていることを特徴とする請求項５に記載の可変スリット装置。
【請求項７】
前記複数の遮光部材の各ピン接合部に対して１つの前記アクチュエータが取り付けられていることを特徴とする請求項５に記載の可変スリット装置。
【請求項８】
前記複数の遮光部材は、復元力を有する共通の可撓性部材に連結され、
前記可撓性部材には、該可撓性部材を変形させるための複数の前記アクチュエータが取り付けられていることを特徴とする請求項５に記載の可変スリット装置。
【請求項９】
前記複数の遮光部材の各ピン接合部は、復元力を有する共通の可撓性部材に連結され、
前記可撓性部材には、該可撓性部材を変形させるための複数の前記アクチュエータが取り付けられていることを特徴とする請求項５に記載の可変スリット装置。
【請求項１０】
照明光路中に配置されて入射するスリット状の光束の一部を可変的に遮る可変スリット装置において、
復元力を有する可撓性の遮光部材と、
該遮光部材を変形させるために前記遮光部材に取り付けられた複数のアクチュエータとを備え、
前記アクチュエータは、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材と、該駆動源部材を挟むように配置された一対の電極とを有することを特徴とする可変スリット装置。
【請求項１１】
前記遮光部材は、前記スリット状の入射光束の長辺方向に沿って延びる棒状の形態を有することを特徴とする請求項１０に記載の可変スリット装置。
【請求項１２】
前記一対の電極は、前記駆動源部材の電圧印加時の変形特性に応じた伸縮性を有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の可変スリット装置。
【請求項１３】
前記駆動源部材は、導電性高分子材料のみからなることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の可変スリット装置。
【請求項１４】
前記駆動源部材は、前記高分子材料、イオン性液体およびカーボンナノチューブのゲル状組成物からなることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の可変スリット装置。
【請求項１５】
光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の可変スリット装置を備えていることを特徴とする照明光学系。
【請求項１６】
前記可変スリット装置は、前記被照射面と光学的に共役な共役位置または該共役位置に隣接した位置において前記スリット状の入射光束の一部を可変的に遮るように配置されていることを特徴とする請求項１５に記載の照明光学系。
【請求項１７】
所定のパターンを照明するための請求項１５または１６に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、
前記投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記走査方向は、前記スリット状の入射光束の短辺方向に対応していることを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
請求項１７乃至１９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可変スリット装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に好適な可変スリット装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の露光装置では、光源から射出された光が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズを介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源（一般には照明瞳における所定の光強度分布；瞳強度分布）を形成する。二次光源からの光は、コンデンサー光学系により集光された後、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクを透過した光は投影光学系を介してウェハ（感光性基板）上に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが投影露光（転写）される。
【０００３】
走査型の露光装置の場合、マスクおよびウェハを投影倍率に応じた速度比率で走査方向に沿って同期的に移動させつつ、ウェハ上の各露光領域にマスクパターンを転写する。一般に、瞳強度分布の形状または大きさを変更して照明条件を変化させると、ウェハ上での照度分布が変化し、ひいては走査方向に直交する方向（以下、「走査直交方向」という）の露光量の均一性が崩れ易い。走査直交方向の露光量均一性が悪化すると、ウェハ上に転写されるパターンの精度が悪化する。
【０００４】
従来、照明条件の変化による露光量均一性の悪化を小さく抑える手段として、マスクのパターン面と光学的に共役な位置またはその近傍に配置されて入射するスリット状（走査直交方向に細長い矩形状）の光束の一部を可変的に遮る可変スリット装置が提案されている。具体的に、いわゆる櫛歯型の可変スリット装置（例えば特許文献１を参照）、チェーン型の可変スリット装置（例えば特許文献２を参照）などが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−４９６７９号公報
【特許文献２】特開２００２−１８４６７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の特許文献１および２に開示された従来の可変スリット装置では、モーターを用いて遮光部材を駆動するモーター駆動方式を採用しているため、駆動機構が大型化し易く、ひいては可変スリット装置も大型化し易い。その結果、マスクのパターン面と光学的に共役な位置に配置される照明視野絞りに十分近接させて可変スリット装置を配置することができず、例えば照明条件の変化による走査直交方向の露光量均一性の崩れを精度良く調整することが困難であった。
【０００７】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、小型化された駆動機構を有する可変スリット装置を提供することを目的とする。また、本発明は、可変スリット装置を照明視野絞りに十分近接させて配置することのできる照明光学系を提供することを目的とする。また、本発明は、例えば照明条件が変化しても走査直交方向の露光量均一性を良好に保つ照明光学系を用いて、パターンを感光性基板に忠実に転写することのできる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、照明光路中に配置されて入射するスリット状の光束の一部を可変的に遮る可変スリット装置において、
前記照明光路に対して並列的に配列された複数の遮光部材と、
前記照明光路に対する前記複数の遮光部材の位置をそれぞれ変化させるアクチュエータとを備え、
前記アクチュエータは、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材と、該駆動源部材を挟むように配置された一対の電極とを有することを特徴とする可変スリット装置を提供する。
【０００９】
本発明の第２形態では、照明光路中に配置されて入射するスリット状の光束の一部を可変的に遮る可変スリット装置において、
復元力を有する可撓性の遮光部材と、
該遮光部材を変形させるために前記遮光部材に取り付けられた複数のアクチュエータとを備え、
前記アクチュエータは、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材と、該駆動源部材を挟むように配置された一対の電極とを有することを特徴とする可変スリット装置を提供する。
【００１０】
本発明の第３形態では、光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された第１形態または第２形態の可変スリット装置を備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
【００１１】
本発明の第４形態では、所定のパターンを照明するための第３形態の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１２】
本発明の第５形態では、第４形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一態様にしたがう可変スリット装置では、複数の遮光部材を駆動するアクチュエータが、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材と、この駆動源部材を挟むように配置された一対の電極とを有する形態、すなわち小型化に適した形態を有する。その結果、モーター駆動方式を採用する従来技術とは異なり、駆動機構を小型化することができ、ひいては可変スリット装置を小型化することができる。
【００１４】
本発明の照明光学系では、可変スリット装置の駆動機構の小型化により、照明視野絞りに十分近接させて可変スリット装置を配置することができ、照明視野絞りと可変スリット装置との光軸に沿った間隔を小さく抑えることができる。したがって、本発明の露光装置では、例えば照明条件が変化しても感光性基板上での走査直交方向の露光量均一性を良好に保つ照明光学系を用いて、パターンを感光性基板に忠実に転写することができ、ひいては性能の良好なデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】空間光変調ユニットの構成および作用を概略的に示す図である。
【図３】空間光変調ユニット中の空間光変調器の部分斜視図である。
【図４】従来技術にかかる可変スリット装置の不都合を説明する図である。
【図５】本実施形態にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図６】各遮光部材を駆動するアクチュエータの作動原理を説明する図である。
【図７】第１変形例にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図８】第１変形例において可撓性部材が変形する様子を模式的に示す図である。
【図９】第２変形例にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図１０】第２変形例における遮光部材の構成を概略的に示す図である。
【図１１】第３変形例にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図１２】第４変形例にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図１３】第５変形例にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図１４】第６変形例にかかる可変スリット装置の構成を概略的に示す図である。
【図１５】半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。
【図１６】液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるウェハＷの転写面（露光面）の法線方向に沿ってＺ軸を、ウェハＷの転写面内において図１の紙面に平行な方向に沿ってＸ軸を、ウェハＷの転写面内において図１の紙面に垂直な方向に沿ってＹ軸をそれぞれ設定している。
【００１７】
図１を参照すると、本実施形態の露光装置には、光源１から露光光（照明光）が供給される。光源１として、たとえば１９３ｎｍの波長の光を供給するＡｒＦエキシマレーザ光源や、２４８ｎｍの波長の光を供給するＫｒＦエキシマレーザ光源などを用いることができる。本実施形態の露光装置は、装置の光軸ＡＸに沿って、空間光変調ユニット３を含む照明光学系ＩＬと、マスクＭを支持するマスクステージＭＳと、投影光学系ＰＬと、ウェハＷを支持するウェハステージＷＳとを備えている。光源１からの光は、照明光学系ＩＬを介してマスクＭを照明する。マスクＭを透過した光は、投影光学系ＰＬを介して、マスクＭのパターンの像をウェハＷ上に形成する。
【００１８】
光源１からの光に基づいてマスクＭのパターン面（被照射面）を照明する照明光学系ＩＬは、空間光変調ユニット３の作用により、複数極照明（２極照明、４極照明など）、輪帯照明等の変形照明、または通常の円形照明を行う。照明光学系ＩＬは、光軸ＡＸに沿って光源１側から順に、ビーム送光部２と、空間光変調ユニット３と、リレー光学系４と、フライアイレンズ（またはマイクロフライアイレンズ）５と、コンデンサー光学系６と、照明視野絞り（マスクブラインド）７と、可変スリット装置９と、結像光学系８とを備えている。
【００１９】
照明視野絞り７は、マスクＭのパターン面（被照射面）と光学的に共役な位置に配置されている。可変スリット装置９は、照明視野絞り７の直後の位置、すなわちマスクＭのパターン面と光学的に共役な位置に隣接して配置され、照明視野絞り７を経て入射するスリット状（Ｙ方向に細長い矩形状）の光束の一部を可変的に遮る機能を有する。可変スリット装置９の構成および作用については後述する。以下、理解を容易にするために、可変スリット装置９の作用を無視して、露光装置の構成および作用を説明する。
【００２０】
空間光変調ユニット３は、ビーム送光部２を介した光源１からの光に基づいて、その遠視野領域（フラウンホーファー回折領域）に所望の光強度分布を形成する。空間光変調ユニット３の構成および作用については後述する。ビーム送光部２は、光源１からの入射光束を適切な大きさおよび形状の断面を有する光束に変換しつつ空間光変調ユニット３へ導くとともに、空間光変調ユニット３に入射する光束の位置変動および角度変動をアクティブに補正する機能を有する。リレー光学系４は、空間光変調ユニット３からの光を集光して、フライアイレンズ５へ導く。
【００２１】
フライアイレンズ５は、例えば稠密に配列された多数のレンズ素子からなる波面分割型のオプティカルインテグレータである。フライアイレンズ５は、入射した光束を波面分割して、その後側焦点位置またはその近傍の照明瞳に多数の小光源からなる二次光源（実質的な面光源；瞳強度分布）を形成する。フライアイレンズ５の入射面は、リレー光学系４の後側焦点位置またはその近傍に配置されている。フライアイレンズ５として、例えばシリンドリカルマイクロフライアイレンズを用いることができる。シリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成および作用は、例えば米国特許第６９１３３７３号明細書に開示されている。
【００２２】
本実施形態では、フライアイレンズ５により形成される二次光源を光源として、照明光学系ＩＬの被照射面に配置されるマスクＭをケーラー照明する。このため、二次光源が形成される位置は投影光学系ＰＬの開口絞りＡＳの位置と光学的に共役であり、二次光源の形成面を照明光学系ＩＬの照明瞳面と呼ぶことができる。典型的には、照明瞳面に対して被照射面（マスクＭが配置される面、または投影光学系ＰＬを含めて照明光学系と考える場合にはウェハＷが配置される面）が光学的なフーリエ変換面となる。
【００２３】
瞳強度分布とは、照明光学系ＩＬの照明瞳面または当該照明瞳面と光学的に共役な面における光強度分布（輝度分布）である。フライアイレンズ５による波面分割数が比較的大きい場合、フライアイレンズ５の入射面に形成される大局的な光強度分布と、二次光源全体の大局的な光強度分布（瞳強度分布）とが高い相関を示す。このため、フライアイレンズ５の入射面および当該入射面と光学的に共役な面における光強度分布についても瞳強度分布と称することができる。
【００２４】
コンデンサー光学系６は、フライアイレンズ５から射出された光を集光して、Ｙ方向に細長い矩形状の開口部（光透過部）を有する照明視野絞り７を重畳的に照明する。照明視野絞り７の開口部を通過した光は、可変スリット装置９および結像光学系８を介して、マスクＭを重畳的に照明する。すなわち、結像光学系８は、照明視野絞り７の開口部の像をマスクＭ上に形成することになる。なお、図１では、光軸（ひいては光路）を折り曲げるための光路折曲げミラーの設置を省略しているが、必要に応じて光路折曲げミラーを照明光路中に適宜配置することが可能である。
【００２５】
マスクステージＭＳ上に保持されたマスクＭには転写すべきパターンが形成されており、パターン領域全体のうちＹ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状（スリット状）のパターン領域が照明される。マスクＭのパターン領域を透過した光は、投影光学系ＰＬを介して、ウェハステージＷＳ上に保持されたウェハ（感光性基板）Ｗ上にマスクパターンの像を形成する。すなわち、マスクＭ上での矩形状の照明領域に光学的に対応するように、ウェハＷ上においてもＹ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状の静止露光領域（実効露光領域）にパターン像が形成される。
【００２６】
こうして、ステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内において、Ｘ方向（走査方向）に沿ってマスクステージＭＳとウェハステージＷＳとを、ひいてはマスクＭとウェハＷとを同期的に移動（走査）させることにより、静止露光領域のＹ方向寸法に等しい幅を有し且つウェハＷの走査量（移動量）に応じた長さを有するウェハＷ上の１つのショット領域（露光領域）にマスクパターンが走査露光される。そして、ウェハステージＷＳをＸＹ平面に沿って二次元的にステップ移動させつつ走査露光を繰り返すことにより、ウェハＷの各ショット領域にマスクＭのパターンが順次転写される。
【００２７】
次に、図２および図３を参照して、空間光変調ユニット３の構成および作用を説明する。空間光変調ユニット３は、図２に示すように、例えば蛍石のような光学材料により形成されたプリズム２１と、プリズム２１のＹＺ平面に平行な側面２１ａに近接して配置された空間光変調器３０とを備えている。プリズム２１を形成する光学材料は、蛍石に限定されることなく、光源１が供給する光の波長などに応じて、石英であっても良くその他の光学材料であっても良い。
【００２８】
プリズム２１は、直方体の１つの側面（空間光変調器３０が近接して配置される側面２１ａと対向する側面）をＶ字状に凹んだ側面２１ｂおよび２１ｃと置き換えることにより得られる形態を有し、ＸＺ平面に沿った断面形状に因んでＫプリズムとも呼ばれる。プリズム２１のＶ字状に凹んだ側面２１ｂおよび２１ｃは、鈍角をなすように交差する２つの平面Ｐ１およびＰ２によって規定されている。２つの平面Ｐ１およびＰ２はともにＸＺ平面と直交し、ＸＺ平面に沿ってＶ字状を呈している。
【００２９】
２つの平面Ｐ１とＰ２との接線（Ｙ方向に延びる直線）Ｐ３で接する２つの側面２１ｂおよび２１ｃの内面は、反射面Ｒ１およびＲ２として機能する。すなわち、反射面Ｒ１は平面Ｐ１上に位置し、反射面Ｒ２は平面Ｐ２上に位置し、反射面Ｒ１とＲ２とのなす角度は鈍角である。一例として、反射面Ｒ１とＲ２とのなす角度を１２０度とし、光軸ＡＸに垂直なプリズム２１の入射面ＩＰと反射面Ｒ１とのなす角度を６０度とし、光軸ＡＸに垂直なプリズム２１の射出面ＯＰと反射面Ｒ２とのなす角度を６０度とすることができる。
【００３０】
プリズム２１では、空間光変調器３０が近接して配置される側面２１ａと光軸ＡＸとが平行であり、且つ反射面Ｒ１が光源１側（露光装置の上流側：図２中左側）に、反射面Ｒ２がフライアイレンズ５側（露光装置の下流側：図２中右側）に位置している。さらに詳細には、反射面Ｒ１は光軸ＡＸに対して斜設され、反射面Ｒ２は接線Ｐ３を通り且つＸＹ平面に平行な面に関して反射面Ｒ１とは対称的に光軸ＡＸに対して斜設されている。プリズム２１の側面２１ａは、後述するように、空間光変調器３０の複数のミラー要素ＳＥが配列される面（配列面）に対向した光学面である。
【００３１】
プリズム２１の反射面Ｒ１は、入射面ＩＰを介して入射した光を空間光変調器３０に向かって反射する。空間光変調器３０は、反射面Ｒ１と反射面Ｒ２との間の光路中に配置され、反射面Ｒ１を経て入射した光を反射する。プリズム２１の反射面Ｒ２は、空間光変調器３０を経て入射した光を反射し、射出面ＯＰを介してリレー光学系４へ導く。図２にはプリズム２１を１つの光学ブロックで一体的に形成した例を示しているが、後述するように複数の光学ブロックを用いてプリズム２１を構成しても良い。
【００３２】
空間光変調器３０は、反射面Ｒ１を経て入射した光に対して、その入射位置に応じた空間的な変調を付与して射出する。空間光変調器３０は、図３に示すように、二次元的に配列された複数の微小なミラー要素（光学要素）ＳＥを備えている。説明および図示を簡単にするために、図２および図３では空間光変調器３０が４×４＝１６個のミラー要素ＳＥを備える構成例を示しているが、実際には１６個よりもはるかに多数のミラー要素ＳＥを備えている。
【００３３】
図２を参照すると、光軸ＡＸと平行な方向に沿って空間光変調ユニット３に入射した光線群のうち、光線Ｌ１は複数のミラー要素ＳＥのうちのミラー要素ＳＥａに、光線Ｌ２はミラー要素ＳＥａとは異なるミラー要素ＳＥｂにそれぞれ入射する。同様に、光線Ｌ３はミラー要素ＳＥａ，ＳＥｂとは異なるミラー要素ＳＥｃに、光線Ｌ４はミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｃとは異なるミラー要素ＳＥｄにそれぞれ入射する。ミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｄは、その位置に応じて設定された空間的な変調を光Ｌ１〜Ｌ４に与える。
【００３４】
空間光変調ユニット３では、空間光変調器３０のすべてのミラー要素ＳＥの反射面がＹＺ平面に平行に設定された基準状態において、光軸ＡＸと平行な方向に沿って反射面Ｒ１へ入射した光線が、空間光変調器３０を経た後に、反射面Ｒ２により光軸ＡＸと平行な方向に向かって反射されるように構成されている。空間光変調器３０の複数のミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｄの配列面は、リレー光学系４の前側焦点位置またはその近傍に配置されている。
【００３５】
空間光変調器３０の複数のミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｄによって反射されて所定の角度分布が与えられた光は、リレー光学系４の後側焦点面４ａに所定の光強度分布ＳＰ１〜ＳＰ４を形成する。すなわち、リレー光学系４は、空間光変調器３０の複数のミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｄが射出光に与える角度を、空間光変調器３０の遠視野領域（フラウンホーファー回折領域）である面４ａ上での位置に変換している。
【００３６】
再び図１を参照すると、リレー光学系４の後側焦点面４ａの位置にフライアイレンズ５の入射面が位置決めされている。したがって、フライアイレンズ５の直後の照明瞳に形成される瞳強度分布は、空間光変調器３０およびリレー光学系４がフライアイレンズ５の入射面に形成する光強度分布ＳＰ１〜ＳＰ４に対応した分布となる。空間光変調器３０は、図３に示すように、例えば平面形状の反射面を上面にした状態で１つの平面に沿って規則的に且つ二次元的に配列された多数の微小なミラー要素ＳＥを含む可動マルチミラーである。
【００３７】
各ミラー要素ＳＥは可動であり、その反射面の傾き、すなわち反射面の傾斜角および傾斜方向は、主制御系ＣＲ（図３では不図示）からの指令にしたがって個別に制御される。各ミラー要素ＳＥは、その反射面に平行な二方向であって互いに直交する二方向（Ｙ方向およびＺ方向）を回転軸として、所望の回転角度だけ連続的或いは離散的に回転することができる。すなわち、各ミラー要素ＳＥの反射面の傾斜を二次元的に制御することが可能である。
【００３８】
各ミラー要素ＳＥの反射面を離散的に回転させる場合、回転角を複数の状態（例えば、・・・、−２．５度、−２．０度、・・・０度、＋０．５度・・・＋２．５度、・・・）で切り換え制御するのが良い。図３には外形が正方形状のミラー要素ＳＥを示しているが、ミラー要素ＳＥの外形形状は正方形に限定されない。ただし、光利用効率の観点から、ミラー要素ＳＥの隙間が少なくなるように配列可能な形状（最密充填可能な形状）が好ましい。また、光利用効率の観点から、隣り合う２つのミラー要素ＳＥの間隔を必要最小限に抑えることが好ましい。
【００３９】
空間光変調器３０では、主制御系ＣＲからの制御信号に応じて、複数のミラー要素ＳＥの姿勢がそれぞれ変化し、各ミラー要素ＳＥがそれぞれ所定の向きに設定される。空間光変調器３０の複数のミラー要素ＳＥによりそれぞれ所定の角度で反射された光は、リレー光学系４を介して、フライアイレンズ５の後側焦点位置またはその近傍の照明瞳に、複数極状（２極状、４極状など）、輪帯状、円形状等の光強度分布（瞳強度分布）を形成する。フライアイレンズ５の直後の照明瞳と光学的に共役な別の照明瞳位置、すなわち結像光学系８の瞳位置および投影光学系ＰＬの瞳位置（開口絞りＡＳの位置）にも、フライアイレンズ５の直後の光強度分布に対応する瞳強度分布が形成される。
【００４０】
露光装置では、マスクＭのパターンをウェハＷに高精度に且つ忠実に転写するために、例えばマスクＭのパターン特性に応じた適切な照明条件のもとで露光を行うことが重要である。本実施形態では、複数のミラー要素ＳＥの姿勢がそれぞれ個別に変化する空間光変調器３０を備えた空間光変調ユニット３を用いているので、空間光変調器３０の作用により形成される瞳強度分布を自在に且つ迅速に変化させ、ひいては多様な照明条件を実現することができる。
【００４１】
瞳強度分布の形状または大きさを変更して照明条件を変化させると、ウェハＷ上での照度分布が変化し、ひいては走査直交方向（Ｙ方向）の露光量の均一性が崩れる傾向がある。走査直交方向の露光量均一性が悪化すると、ウェハＷ上に転写されるパターンの精度（線幅均一性や忠実性（一様性）など）が悪化する。具体的に、可変スリット装置９に入射するスリット状の光束の照度分布（光強度分布）が均一である場合、可変スリット装置９により入射光束の一部を遮らなくても、走査露光後の積算露光量は走査直交方向に沿って一定になり、ひいては走査直交方向の露光量の均一性が確保される。
【００４２】
これに対し、例えば照明条件を変化させたことにより可変スリット装置９への入射光束の照度分布が不均一になると、可変スリット装置９により入射光束の一部を遮らない限り、走査露光後の積算露光量は走査直交方向に沿って変化する分布になり、ひいては走査直交方向の露光量均一性が崩れる。可変スリット装置９では、照明条件の切り換えを制御する主制御系ＣＲからの指令にしたがって、入射するスリット状の光束のうち片側の長辺部分の光を可変的に遮ることにより、照明条件の変化による走査直交方向の露光量均一性の崩れを調整する。
【００４３】
特許文献１および２に開示された従来の可変スリット装置は、モーターを含む駆動機構が大型化し易いため、マスクＭのパターン面と光学的に共役な位置に配置された照明視野絞り７から光軸ＡＸに沿ってある程度間隔を隔てて配置される。その結果、図４に示すように、照明視野絞り７の矩形状の開口部７ａを通過した矩形状の断面を有する光束２２は、照明視野絞り７と可変スリット装置との間隔に応じて拡大された矩形状の断面を有する光束（図４中破線で示す）２３となって、従来の可変スリット装置に入射する。
【００４４】
この場合、照明視野絞り７の開口部内のある微小領域を通過した光は、可変スリット装置への入射位置においてある程度の拡がりを持つことになる。換言すれば、可変スリット装置においてある微小領域の光を遮ることは、照明視野絞り７の開口部内においてある程度拡がりを有する領域を通過した光を遮ることを意味する。そのため、従来技術では、照明視野絞り７と可変スリット装置との間隔が大きい分だけ、光を遮る位置と照明視野絞り７の開口部内の位置との対応関係の細分化を図ることができず、例えば照明条件の変化によるウェハＷ上での走査直交方向の露光量均一性の崩れを精度良く調整することが困難であった。
【００４５】
本実施形態の可変スリット装置９は、図５に示すように、矩形状の開口部９ａａを有するベース部材９ａと、開口部９ａａ内の照明光路に対して並列的に配列された複数の遮光部材９ｂと、各遮光部材９ｂに取り付けられたアクチュエータ９ｃとを備えている。ベース部材９ａの開口部９ａａのＸＹ平面に沿った大きさ、形状および位置は、照明視野絞り７の矩形状の開口部７ａを通過して開口部９ａａの位置に達した光束２４を遮らないように設定されている。
【００４６】
複数の遮光部材９ｂは、例えばＸ方向に細長く延びる金属製の帯状部材の形態を有し、Ｙ方向に細長いスリット状の入射光束２４の長辺方向に沿って互いに隔絶された状態で櫛歯状に配列されている。各アクチュエータ９ｃは、Ｘ方向に細長く延びる棒状の形態を有し、その一端が対応する遮光部材９ｂの一端（図５中の下端）に連結され且つ他端がベース部材９ａに連結されている。各アクチュエータ９ｃは、後述するように、対応する遮光部材９ｂのＸ方向位置、すなわち開口部９ａａ内の照明光路に対して進退可能な遮光部材９ｂの他端（図５中の上端）の位置を変化させる機能を有する。
【００４７】
具体的に、アクチュエータ９ｃは、図６に示すように、電場応答性を有する駆動源部材３３ａと、駆動源部材３３ａを挟むように配置された一対の電極３３ｂと、一対の電極３３ｂに接続された電源３３ｃとを有する。電源３３ｃは、主制御系ＣＲからの制御信号にしたがって、駆動源部材３３ａに電圧を可変的に印加する。駆動源部材３３ａは、例えば導電性高分子材料のみからなる。アクチュエータ９ｃでは、駆動源部材３３ａへの電圧印加に応じて、駆動源部材３３ａは電場と同じ方向（図６では鉛直方向）に収縮し、電場と垂直な方向（図６では水平方向；図５のＸ方向に対応）に膨張する。
【００４８】
すなわち、アクチュエータ９ｃでは、印加する電圧の大きさに応じて駆動源部材３３ａの電場と垂直な方向（以下、「伸縮方向」という）の伸縮率を連続的に変化させることができ、一定の伸縮率（ひいては一定の形状）を維持するだけであれば電流はほとんど必要ない。一対の電極３３ｂが駆動源部材３３ａの伸縮方向の伸縮に追随できるように、駆動源部材３３ａの電圧印加時の変形特性に応じた伸縮性を一対の電極３３ｂに付与しても良い。
【００４９】
なお、上述の説明では、駆動源部材３３ａが導電性高分子材料のみからなるが、これに限定されることなく、高分子材料を含む適当な導電体材料により駆動源部材を形成することができる。一例として、高分子材料、イオン性液体およびカーボンナノチューブのゲル状組成物からなる導電体材料により駆動源部材を形成することもできる。アクチュエータ用の導電体材料としてこの種のゲル状組成物を用いる技術は、例えば特許第４０３８６８５号明細書に開示されている。
【００５０】
可変スリット装置９では、主制御系ＣＲからの指令にしたがって個別に伸縮する複数のアクチュエータ９ｃの作用により、照明光路に対する複数の遮光部材９ｂの上端部の位置が個別に変化し、ひいては複数の遮光部材９ｂの上端エッジが連なって形成する遮光エッジの形状が変化する。こうして、可変スリット装置９は、Ｙ方向に沿って細長いスリット状の入射光束２４のうち図５中下側の長辺部分の光を可変的に遮ることにより、すなわち通過する光束２４の断面のＸ方向（走査方向）の寸法をＹ方向（走査直交方向）に沿って変化させることにより、照明条件の変化による走査直交方向の露光量均一性の崩れを調整する。
【００５１】
以上のように、本実施形態の可変スリット装置９では、導電体材料により形成されて電場応答性を有する駆動源部材３３ａを備えた複数の伸縮性アクチュエータ９ｃを用いて、複数の遮光部材９ｂをＸ方向に沿って個別に駆動する方式を採用している。アクチュエータ９ｃは、高分子材料を含み且つ電場応答性を有する駆動源部材３３ａと、駆動源部材３３ａを挟むように配置された一対の電極３３ｂとを有する形態、すなわち小型化に適した形態を有する。その結果、本実施形態では、モーター駆動方式を採用する従来技術とは異なり、駆動機構を小型化することができ、ひいては可変スリット装置９を小型化することができる。
【００５２】
本実施形態の照明光学系ＩＬでは、可変スリット装置９の駆動機構の小型化により、照明視野絞り７に十分近接させて（あるいは照明視野絞り７と一体化させて）可変スリット装置９を配置することができ、照明視野絞り７と可変スリット装置９との光軸ＡＸに沿った間隔を小さく抑えることができる。その結果、可変スリット装置９において各遮光部材９ｂが光束を遮る位置と照明視野絞り７の開口部内の位置との対応関係の細分化を図ることができ、例えば照明条件の変化によるウェハＷ上での走査直交方向の露光量均一性の崩れを精度良く調整することができる。したがって、本実施形態の露光装置（ＩＬ，ＭＳ，ＰＬ，ＷＳ）では、例えば照明条件が変化してもウェハＷ上での走査直交方向の露光量均一性を良好に保つ照明光学系ＩＬを用いて、マスクＭのパターンをウェハＷに忠実に転写することができる。
【００５３】
従来の櫛歯型の可変スリット装置では、駆動手段として比較的大きなモーターを用いているため、複数の遮光部材を個別に駆動することができなかった。これに対し、本実施形態の可変スリット装置９では、駆動手段として小型化された伸縮性アクチュエータ９ｃを用いているので、照明光路に対する複数の遮光部材９ｂの位置を個別に変化させることができ、且つ比較的多くの遮光部材９ｂを互いに近接した状態で配列することができる。その結果、可変スリット装置９への入射光束に高周期の照度ムラがあっても、ウェハＷ上での走査直交方向の露光量を高精度に調整することができる。
【００５４】
また、従来の櫛歯型の可変スリット装置では、複数の遮光部材を個別に駆動することができないため、隣接する遮光部材との相対的な駆動量に基づいて複数の遮光部材の位置決めをする必要があり、照明光路に対する各遮光部材の位置を正確に制御することが困難であった。これに対し、本実施形態の可変スリット装置９では、各遮光部材９ｂにアクチュエータ９ｃが取り付けられているので、必要に応じて照明光路に対する各遮光部材９ｂの位置を常時検出し、検出結果に基づいて各遮光部材９ｂの位置決めを正確に且つ安定的に行うことができる。
【００５５】
なお、図５に示す構成例では、複数の遮光部材９ｂの各々にアクチュエータ９ｃが取り付けられているが、これに限定されることなく、可変スリット装置の具体的な構成については様々な形態が可能である。例えば図７に示すように、Ｙ方向に細長いスリット状の入射光束２４（図７では不図示）の長辺方向に沿って互いに隔絶された状態で櫛歯状に配列された複数の遮光部材９ｂを、複数（図７では例示的に４つ）のアクチュエータ９ｆが取り付けられた可撓性部材９ｅに連結することにより、櫛歯型の可変スリット装置９１を構成することも可能である。
【００５６】
図７の第１変形例にかかる可変スリット装置９１では、各遮光部材９ｂが、Ｘ方向に延びる棒状の連結部材９ｄを介して、例えばバネのような復元力を有する共通の可撓性部材９ｅに連結されている。複数のアクチュエータ９ｆは、図５の伸縮性アクチュエータ９ｃと同様の構成を有し、Ｙ方向に細長く延びる可撓性部材９ｅをＸＹ平面に沿って変形させるように配置されている。
【００５７】
具体的に、図８を参照すると、可撓性部材９ｅに取り付けられた４つのアクチュエータ９ｆａ，９ｆｂ，９ｆｃ，９ｆｄのうち、例えば図８中左上側のアクチュエータ９ｆａおよび図８中右下側のアクチュエータ９ｆｄがともに伸びることにより、可撓性部材９ｅが変形する。そして、可撓性部材９ｅの変形に応じて、照明光路に対する複数の遮光部材９ｂの位置がそれぞれ変化し、ひいては複数の遮光部材９ｅの上端エッジが連なって形成する遮光エッジの形状が変化する。可撓性部材９ｅに取り付けられるアクチュエータ９ｆの数および配置を適宜決定することにより、可撓性部材９ｅの所望の変形が可能になり、ひいては複数の遮光部材９ｂの所望の位置決めが可能になる。
【００５８】
図５の実施形態および図７の第１変形例では、スリット状の入射光束の長辺方向に沿って互いに隔絶された状態で櫛歯状に配列された複数の遮光部材９ｂを有する櫛歯型の可変スリット装置に対して本発明を適用している。しかしながら、櫛歯型の可変スリット装置に限定されることなく、例えば端部において互いにピン接合された状態でスリット状の入射光束の長辺方向に並んで配列された複数の遮光部材を有するチェーン型の可変スリット装置に対して本発明を適用することもできる。
【００５９】
チェーン型の可変スリット装置の一例として、例えば図９に示すように、複数の羽根状の遮光部材９ｇの各ピン接合部に対して、図５の伸縮性アクチュエータ９ｃと同様の構成を有するアクチュエータ９ｈを取り付けた構成が可能である。図１０に示すように、各遮光部材９ｇの一端側には通常の円形ホール９ｇａが形成され、他端側にはルーズホール９ｇｂが形成されている。図９の第２変形例にかかる可変スリット装置９２では、複数の遮光部材９ｇが、円形ホール９ｇａおよびルーズホール９ｇｂを介したピン接合により交互に連結されている。
【００６０】
各アクチュエータ９ｈの一端は複数の遮光部材９ｇの対応するピン接合部に取り付けられ、その他端はＹ方向に延びるベース部材９ｉに連結されている。可変スリット装置９２では、個別に伸縮する複数のアクチュエータ９ｈの作用により、各ピン接合部の位置がそれぞれ変化し、ひいては複数の遮光部材９ｇの上端エッジが連なって形成する遮光エッジの形状が変化する。
【００６１】
図９の第２変形例では、複数の遮光部材９ｇの各ピン接合部に対してアクチュエータ９ｈを取り付けている。しかしながら、これに限定されることなく、例えば図１１に示すように、複数の遮光部材９ｇの各々に対して、すなわち複数の遮光部材９ｇの各本体部分に対してアクチュエータ９ｈを取り付ける構成も可能である。図１１の第３変形例にかかる可変スリット装置９３においても、第２変形例の場合と同様に、個別に伸縮する複数のアクチュエータ９ｈの作用により、各遮光部材９ｇの位置がそれぞれ変化し、ひいては複数の遮光部材９ｇの上端エッジが連なって形成する遮光エッジの形状が変化する。
【００６２】
図９の第２変形例および図１１の第３変形例では、複数の遮光部材９ｇの各ピン接合部または各本体部分にアクチュエータ９ｈが取り付けられている。しかしながら、これに限定されることなく、例えば図１２に示すように、互いにピン接合された状態でＹ方向に配列された複数の遮光部材９ｇの各ピン接合部を、複数のアクチュエータ９ｆが取り付けられてＹ方向に延びる可撓性部材９ｅに連結することにより、チェーン型の可変スリット装置９４を構成することも可能である。
【００６３】
図１２の第４変形例にかかる可変スリット装置９４では、複数の遮光部材９ｇの各ピン接合部が、Ｘ方向に延びる棒状の連結部材９ｊを介して可撓性部材９ｅに連結されている。可変スリット装置９４では、図８を参照して説明したように、複数のアクチュエータ９ｆの作用により、可撓性部材９ｅが変形する。そして、可撓性部材９ｅの変形に応じて、複数の遮光部材９ｇの上端エッジが連なって形成する遮光エッジの形状が変化する。
【００６４】
図１２の第４変形例では、複数の遮光部材９ｇの各ピン接合部が、連結部材９ｊを介して可撓性部材９ｅに連結されている。しかしながら、これに限定されることなく、例えば図１３に示すように、複数の遮光部材９ｇの各本体部分を、Ｘ方向に延びる棒状の連結部材９ｋを介して可撓性部材９ｅに連結する構成も可能である。図１３の第５変形例にかかる可変スリット装置９５においても、第４変形例の場合と同様に、可撓性部材９ｅの変形に応じて、複数の遮光部材９ｇの上端エッジが連なって形成する遮光エッジの形状が変化する。
【００６５】
上述の説明では、櫛歯型の可変スリット装置およびチェーン型の可変スリット装置に対して本発明を適用している。しかしながら、櫛歯型およびチェーン型に限定されることなく、例えば図１４に示すように、複数（図１４では例示的に４つ）のアクチュエータ９ｆａ〜９ｆｄが取り付けられてＹ方向に延びる棒状の可撓性部材９ｅを、可変スリット装置９６として用いることも可能である。
【００６６】
可撓性部材９ｅは、図７の可撓性部材９ｅと同様の構成を有する遮光部材である。図１４の第６変形例にかかる可変スリット装置９６では、複数のアクチュエータ９ｆａ〜９ｆｄの作用により、スリット状の入射光束の長辺方向に沿って延びる棒状の形態を有する可撓性部材９ｅが変形する。そして、可撓性部材９ｅの変形に応じて、その上端エッジが形成する遮光エッジの形状が変化する。
【００６７】
なお、上述の実施形態では、可変スリット装置９（９１〜９６）を照明視野絞り７の直後の位置に配置した例を示しているが、照明視野絞り７の直前に可変スリット装置を配置することもできる。一般に、光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、被照射面と光学的に共役な共役位置または該共役位置に隣接した位置に可変スリット装置を配置することができる。
【００６８】
上述の実施形態では、空間光変調器３０を用いて瞳強度分布を形成する際に、瞳強度分布計測装置で瞳強度分布を計測しつつ、この計測結果に応じて空間光変調ユニット３中の空間光変調器３０を制御してもよい。このような技術は、たとえば特開２００６−５４３２８号公報や特開２００３−２２９６７号公報およびこれに対応する米国特許公開第２００３／００３８２２５号公報に開示されている。
【００６９】
上述の実施形態では、空間光変調器３０の複数のミラー要素が配列される面に対向した光学面を有するプリズム部材として、１つの光学ブロックで一体的に形成されたＫプリズム２１を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、一対のプリズムにより、Ｋプリズム２１と同様の機能を有するプリズム部材を構成することができる。また、１つの平行平面板と一対の三角プリズムとにより、Ｋプリズム２１と同様の機能を有するプリズム部材を構成することができる。また、１つの平行平面板と一対の平面ミラーとにより、Ｋプリズム２１と同様の機能を有する組立て光学部材を構成することができる。
【００７０】
上述の実施形態では、マスクの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを形成する可変パターン形成装置を用いることができる。このような可変パターン形成装置を用いれば、パターン面が縦置きでも同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。なお、可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含むＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いることができる。ＤＭＤを用いた露光装置は、例えば特開２００４−３０４１３５号公報、国際特許公開第２００６／０８０２８５号パンフレットおよびこれに対応する米国特許公開第２００７／０２９６９３６号公報に開示されている。また、ＤＭＤのような非発光型の反射型空間光変調器以外に、透過型空間光変調器を用いても良く、自発光型の画像表示素子を用いても良い。ここでは、米国特許公開第２００７／０２９６９３６号公報の教示を参照として援用する。
【００７１】
上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行っても良い。
【００７２】
次に、上述の実施形態にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図１５は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１５に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハＷに金属膜を蒸着し（ステップＳ４０）、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する（ステップＳ４２）。つづいて、上述の実施形態の投影露光装置を用い、マスク（レチクル）Ｍに形成されたパターンをウェハＷ上の各ショット領域に転写し（ステップＳ４４：露光工程）、この転写が終了したウェハＷの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う（ステップＳ４６：現像工程）。
【００７３】
その後、ステップＳ４６によってウェハＷの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハＷの表面に対してエッチング等の加工を行う（ステップＳ４８：加工工程）。ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態の投影露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップＳ４８では、このレジストパターンを介してウェハＷの表面の加工を行う。ステップＳ４８で行われる加工には、例えばウェハＷの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップＳ４４では、上述の実施形態の投影露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハＷを、感光性基板つまりプレートＰとしてパターンの転写を行う。
【００７４】
図１６は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１６に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）、セル組立工程（ステップＳ５４）およびモジュール組立工程（ステップＳ５６）を順次行う。ステップＳ５０のパターン形成工程では、プレートＰとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の実施形態の投影露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態の投影露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートＰの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。
【００７５】
ステップＳ５２のカラーフィルタ形成工程では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応する３つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。ステップＳ５４のセル組立工程では、ステップＳ５０によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップＳ５２によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップＳ５６のモジュール組立工程では、ステップＳ５４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。
【００７６】
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。
【００７７】
なお、上述の実施形態では、露光光としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長：１９３ｎｍ）やＫｒＦエキシマレーザ光（波長：２４８ｎｍ）を用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長１５７ｎｍのレーザ光を供給するＦ2レーザ光源などに対して本発明を適用することもできる。
【００７８】
また、上述の実施形態において、投影光学系と感光性基板との間の光路中を１．１よりも大きな屈折率を有する媒体（典型的には液体）で満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い。この場合、投影光学系と感光性基板との間の光路中に液体を満たす手法としては、国際公開第ＷＯ９９／４９５０４号パンプレットに開示されているような局所的に液体を満たす手法や、特開平６−１２４８７３号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる手法や、特開平１０−３０３１１４号公報に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する手法などを採用することができる。ここでは、国際公開第ＷＯ９９／４９５０４号パンフレット、特開平６−１２４８７３号公報および特開平１０−３０３１１４号公報の教示を参照として援用する。
【００７９】
また、上述の実施形態では、露光装置においてマスクを照明する照明光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスク以外の被照射面を照明する一般的な照明光学系に対して本発明を適用することもできる。
【符号の説明】
【００８０】
１  光源
２  ビーム送光部
３  空間光変調ユニット
３０  空間光変調器
４  リレー光学系
５  フライアイレンズ
６  コンデンサー光学系
７  照明視野絞り（マスクブラインド）
８  結像光学系
９  可変スリット装置
９ａ  ベース部材
９ｂ  アクチュエータ
９ｃ  遮光部材
ＩＬ  照明光学系
ＣＲ  主制御系
Ｍ  マスク
ＰＬ  投影光学系
Ｗ  ウェハ
【図１】
2011228556.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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