(57)【要約】【課題】浴室の壁や床に付着したシリコーンを原因とする汚れを除去するのに好適な新規浴室用洗浄剤を提供すること。【解決手段】下記、（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有することを特徴とする浴室用洗浄剤組成物：  （Ａ）下記一般式（１）：                          Ｒ1−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）ｍ−Ｈ  （１）（式中、Ｒ1は炭素数5〜10の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｍは1〜6の整数である）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの少なくとも１種以上、  （Ｂ）下記一般式（２）：                          Ｒ2−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）ｎ−Ｈ  （２）（式中、Ｒ2は炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｎは1〜3の整数である）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、  （Ｃ）Ｎ−アルキルアミノ酸、Ｎ−アルキルアミノ酸塩、Ｎ−アルケニルアミノ酸及びＮ−アルケニルアミノ酸からなる群より選ばれる１種以上の成分、  （Ｄ）半極性を有する界面活性剤、及び  （Ｅ）アミノカルボン酸型キレート剤。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記、（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有することを特徴とする浴室用洗浄剤組成物：
（Ａ）下記一般式（１）：
Ｒ1−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）m−Ｈ  （１）
（式中、Ｒ1は炭素数5〜10の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｍは1〜6の整数である）
で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの少なくとも１種以上、
（Ｂ）下記一般式（２）：
Ｒ2−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ  （２）
（式中、Ｒ2は炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｎは1〜3の整数である）
で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、
（Ｃ）Ｎ−アルキルアミノ酸、Ｎ−アルキルアミノ酸塩、Ｎ−アルケニルアミノ酸及びＮ−アルケニルアミノ酸からなる群より選ばれる１種以上の成分、
（Ｄ）半極性を有する界面活性剤、及び
（Ｅ）アミノカルボン酸型キレート剤。
【請求項２】
成分（Ａ）が、一般式（１）におけるＲ1が直鎖アルキル基であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルと、一般式（１）におけるＲ1が分岐アルキル基であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルとを含んでいる、請求項１記載の浴室用洗浄剤組成物。
【請求項３】
一般式（１）におけるＲ1が直鎖アルキル基である化合物が、
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル、
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル、及び
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル
からなる群より選ばれ、
一般式（１）におけるＲ1が分岐アルキル基である化合物が、
ジオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル、及び
ジオキシエチレンモノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル
からなる群より選ばれる、請求項２記載の浴室用洗浄剤組成物。
【請求項４】
成分（Ｂ）が、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルである、請求項１〜３のいずれかに記載の浴室用洗浄剤組成物。
【請求項５】
成分（Ｃ）が、下記一般式（３）又は（４）で表される化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載の浴室用洗浄剤組成物。
Ｒ2ＮＨ（ＣＨ2）rＣＯＯＭ1    （３）
（式中、Ｒ2は炭素数10〜20のアルキル基またはアルケニル基であり、ｒは1または2であり、Ｍ1は水素原子またはアルカリ金属イオンである。）
2011032403.tif 000009
（式中、Ｒ3は炭素数10〜20のアルキル基またはアルケニル基であり、ｓおよびｔはそれぞれ独立して1または2であり、Ｍ2およびＭ3はそれぞれ独立して水素原子またはアルカリ金属イオンである。）
【請求項６】
成分（Ｃ）が、一般式（３）で表される化合物（式中、Ｒ2はドデシル基であり、ｒは２であり、Ｍ1はナトリウムである）と、一般式（４）で表される化合物（式中、Ｒ3はドデシル基であり、ｓおよびｔはそれぞれ２であり、Ｍ2およびＭ3はそれぞれナトリウムである。）との混合物である、請求項５に記載の浴室用洗浄剤組成物。
【請求項７】
成分（Ｄ）が、下記一般式（５）又は（６）で表される化合物である、請求項１〜６のいずれかに記載の浴室用洗浄剤組成物。
2011032403.tif 000010
（式中、Ｒ4は炭素数8〜26のアルキル基、炭素数８〜２６のヒドロキシアルキル基、アルキル部分の炭素数が８〜２６のアシルアミドアルキル基またはアルキル部分の炭素数が８〜２６のアルキルフェニル基であり、ＡＯは炭素数2〜4のオキシエチレン基であり、ｕは0〜3であり、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基または炭素数1〜3のポリオキシアルキレン基である。）
2011032403.tif 000011
（式中、Ｒ7は炭素数8〜16の直鎖のアルキル基または炭素数8〜16のアルケニル基であり、Ｒ8は炭素数1〜5のアルキレン基であり、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基であり、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−または−Ｏ−である。）
【請求項８】
成分（Ｄ）が、ｎ−ドデシルジメチルアミンオキシドである、請求項７記載の浴室用洗浄剤組成物。
【請求項９】
成分（Ｅ）が、エチレンジアミンテトラ酢酸である、請求項１〜８のいずれかに記載の浴室用洗浄剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴室用洗浄剤組成物に関する。詳しくは、浴室の壁や床等に付着したシリコーンを原因とする汚れを除去するのに好適な洗浄剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
消費者の生活様式の多様化に対応して、特定の洗浄対象に特化した洗浄剤が開発されている。そして、浴室の壁や床の洗浄を目的とする洗浄剤組成物も開発されている（例えば、特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３２３８３５号公報
【特許文献２】特開２００７−３１６９２公報
【特許文献３】特表平８−５０７８２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これまでの浴室用洗浄剤の対象汚垢は、いわゆる石鹸カスや湯垢等であった。
しかし、近年、従来の浴室用洗浄剤では落としにくい強固な黒ずみ汚れが見られるようになり、この汚れに対処できる浴室用洗浄剤の開発が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
従来の浴室用洗浄剤では落としにくい黒ずみ汚れについて本発明者等が分析を行ったところ、この汚れの原因がシリコーンであることを見いだした。シリコーンは、毛髪に柔軟性を付与したり、指どおりをよくしたりするために、シャンプーやコンディショナー等のヘアケア製品中へ配合され、近年、その配合量が増加している物質である。
かかる原因究明に続いて、本発明者等は鋭意検討を行った結果、特定成分を組み合わせることにより、従来の石鹸カスや湯垢に加えて、シリコーンを原因とする汚れ（シリコーン汚れ）を除去することができることを見いだした。本発明はこの知見に基づいてなされたものである。
即ち、本発明は、下記、（Ａ）〜（Ｅ）成分：
（Ａ）下記一般式（１）：
Ｒ1−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）m−Ｈ  （１）
（式中、Ｒ1は炭素数5〜10の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｍは1〜6の整数である）
で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの少なくとも１種以上、
（Ｂ）下記一般式（２）：
Ｒ2−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ  （２）
（式中、Ｒ2は炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｎは1〜3の整数である）
で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、
（Ｃ）Ｎ−アルキルアミノ酸、Ｎ−アルキルアミノ酸塩、Ｎ−アルケニルアミノ酸及びＮ−アルケニルアミノ酸からなる群より選ばれる１種以上の成分、
（Ｄ）半極性を有する界面活性剤、及び
（Ｅ）アミノカルボン酸型キレート剤
を含有することを特徴とする浴室用洗浄剤組成物に関するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の洗浄剤組成物は、浴室の床や壁面等に付着したシリコーン汚れを容易に除去することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。
成分（Ａ）
本発明の浴室用洗浄剤組成物に配合される成分（Ａ）は、下記一般式（１）：
Ｒ1−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）m−Ｈ  （１）
（式中、Ｒ1は炭素数5〜10の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｍは1〜6の整数である）
で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルである。
一般式（１）中、Ｒ1は炭素数５〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基である。直鎖アルキル基としては、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基やｎ−デシル基等があげられる。これらの中では、ｎ−ヘキシル基やｎ−オクチル基が好ましい。分岐アルキル基としては、２−エチルヘキシル基や４−メチル−１−ペンチル基や２−メチル−１−ペンチル基や３−メチル−１−ブチル基等があげられる。これらの中では、２−エチルヘキシル基や４−メチル−１−ペンチル基が好ましい。ｍは好ましくは２〜５の整数である。
一般式（１）で表される化合物のうち、好ましい化合物としては、
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｍ＝3〜6）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｍ＝4〜6）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｍ＝4〜6）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝4〜6）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｍ＝5〜6）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｍ＝5〜6）
ポリオキシエチレンモノ（2−エチルヘキシル）エーテル（ｍ＝2〜4）
ポリオキシエチレンモノ（4−メチル−1−ペンチル）エーテル（ｍ＝2〜4）
があげられる。
より好ましい化合物としては、
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｍ＝4）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝4〜5）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｍ＝5）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｍ＝5〜6）
があげられる。
さらに好ましい化合物としては、
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｍ＝4）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝4〜5）
があげられる。
【０００８】
成分（Ａ）として、一般式（１）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
成分（Ａ）として、一般式（１）におけるＲ1が直鎖アルキル基であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルと、一般式（１）におけるＲ1が分岐アルキル基であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルとを組み合わせて使用すると、浴室におけるシリコーン汚れに対してより高い洗浄効果を得ることができるので好ましい。
上記組み合わせにおいて、
一般式（１）におけるＲ1が直鎖アルキル基である化合物としては
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝4）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝5）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｍ＝4）
が好ましく、
一般式（１）におけるＲ1が分岐アルキル基である化合物としては
ポリオキシエチレンモノ（2−エチルヘキシル）エーテル（ｍ＝2〜4）
ポリオキシエチレンモノ（4−メチル−1−ペンチル）エーテル（ｍ＝2〜4）
が好ましく、
ポリオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｍ＝2）
ポリオキシエチレンモノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル（ｍ＝2）
が特に好ましい。
【０００９】
成分（Ａ）としての一般式（１）で表される化合物は公知物質であり、市場において容易に入手することができる。また、公知の方法により、例えば、塩基性触媒存在下、ポリオキシエチレングリコールとアルキルハライドまたはアルキルメタンスルホニルエステルやアルキルｐ−トルエンスルホニルエステルとの付加反応により合成したものであってもよい。
【００１０】
成分（Ａ）を配合することにより、本発明の浴室用洗浄剤組成物は、浴室におけるシリコーン汚れに対する洗浄効果を得ることができる。成分（Ａ）の配合量は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として好ましくは１〜３０質量％、より好ましくは１〜１５質量％、特に好ましくは１０〜１５質量％である。１質量％以上であるとシリコーン汚れに対してより良好な洗浄効果を得ることができ、３０質量％以下であるとより良好な費用対効果を得ることができるので好ましい。
【００１１】
成分（Ｂ）
本発明の浴室用洗浄剤組成物に配合される成分（Ｂ）は、下記一般式（２）：
Ｒ2−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ  （２）
（式中、Ｒ2は炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ｎは1〜3の整数である）
で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルである。
一般式（２）中、Ｒ2は炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基である。具体例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等があげられる。これらの中では、イソプロピル基やｎ−ブチル基が好ましい。ｎは好ましくは２〜３の整数である。
一般式（２）で表される化合物のうち、好ましい化合物としては、
エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、
エチレングリコールモノプロピルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
トリエチレングリコールモノメチルエーテル、
トリエチレングリコールモノエチルエーテル、
トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、
トリエチレングリコールモノブチルエーテル
があげられる。
より好ましい化合物としては、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（一般式（２）において、Ｒ2がｎ−ブチル基であり、ｎが２である化合物）
があげられる。
【００１２】
成分（Ｂ）としての一般式（２）で表される化合物は公知物質であり、市場において容易に入手することができる。また、公知の方法により、例えば、塩基性触媒存在下、ポリオキシエチレングリコールとアルキルハライドまたはアルキルメタンスルホニルエステルやアルキルｐ−トルエンスルホニルエステルとの付加反応により合成したものであってもよい。
【００１３】
成分（Ｂ）として、一般式（２）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルは単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１４】
成分（Ｂ）を配合することにより、本発明の浴室用洗浄剤組成物は、浴室におけるシリコーン汚れに対する洗浄効果を得ることができる。成分（Ｂ）の配合量は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として好ましくは１〜３０質量％、より好ましくは１〜１５質量％である。１質量％以上であるとシリコーン汚れに対してより良好な洗浄効果を得ることができ、３０質量％以下であるとより良好な費用対効果を得ることができるので好ましい。
【００１５】
本発明の浴室用洗浄剤組成物では、特定の成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを組み合わせると、シリコーン汚れに対する洗浄力がより向上するので特に好ましい。
上記成分（Ａ）と成分（Ｂ）と組み合わせにおいては、成分（Ａ）として、下記の一般式（１）におけるＲ1が直鎖アルキル基であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの１種以上と、下記の一般式（１）におけるＲ1が分岐アルキル基であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの１種以上との組み合わせを用いることが特に好ましい。
一般式（１）におけるＲ1が直鎖アルキル基である化合物
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝4）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｍ＝5）
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｍ＝4）
一般式（１）におけるＲ1が分岐アルキル基である化合物
ポリオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｍ＝2）
ポリオキシエチレンモノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル（ｍ＝2）
上記成分（Ａ）と成分（Ｂ）と組み合わせでは、成分（Ｂ）として、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルを用いることが特に好ましい。
本発明の浴室用洗浄剤組成物では、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とをそれぞれ５質量％以上含むように組み合わせると、シリコーン汚れに対する洗浄力がより向上するので好ましい。
【００１６】
成分（Ｃ）
本発明の浴室用洗浄剤組成物に配合される成分（Ｃ）は、Ｎ−アルキルアミノ酸、Ｎ−アルキルアミノ酸塩、Ｎ−アルケニルアミノ酸及びＮ−アルケニルアミノ酸からなる群より選ばれる化合物である。
Ｎ−アルキルアミノ酸とは、アミノ酸の窒素原子にアルキル基が結合した化合物をいう。アルキル基は、炭素数が８〜２６、好ましくは１０〜２０、より好ましくは１０〜１６の直鎖又は分岐のアルキル基である。アルキル基としては、デシル基やドデシル基やテトラデシル基等があげられる。これらの中では、ドデシル基が好ましい。
アミノ酸としては、公知のアミノ酸を特に制限なく使用することができるが、浴室用洗浄剤組成物の製造性や洗浄力等の点でグリシンやβ−アラニンが好ましい。
Ｎ−アルキルアミノ酸の塩は、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩であることが好ましく、ナトリウム塩であることがより好ましい。
【００１７】
Ｎ−アルケニルアミノ酸とは、アミノ酸の窒素原子にアルケニル基が結合した化合物をいう。アルケニル基は、炭素数が８〜２６、好ましくは１０〜２０、より好ましくは１０〜１６の直鎖又は分岐のアルキル基である。アルケニル基としては、デセニル基やドデセニル基やテトラデセニル基等があげられる。
アミノ酸としては、公知のアミノ酸を特に制限なく使用することができるが、浴室用洗浄剤組成物の製造性や洗浄力等の点でグリシンやβ−アラニンが好ましい。
Ｎ−アルケニルアミノ酸の塩は、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩であることが好ましく、ナトリウム塩であることがより好ましい。
【００１８】
好ましい（Ｃ）成分としては、下記一般式（３）又は（４）で表される化合物が挙げられる。
【００１９】
Ｒ2ＮＨ（ＣＨ2）rＣＯＯＭ1    （３）
（式中、Ｒ2は炭素数10〜20のアルキル基またはアルケニル基であり、ｒは1または2であり、Ｍ1は水素原子またはアルカリ金属イオンである。）
一般式（３）中、Ｒ2は10〜20のアルキル基またはアルケニル基である。アルキル基としては、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基やオクタデシル基等があげられる。これらの中では、ドデシル基が好ましい。アルケニル基としては、デセニル基やドデセニル基やテトラデセニル基等があげられる。ｒは１又は２の整数である。Ｍ1のアルカリ金属イオンとしては、ナトリウムやカリウムがあげられ、ナトリウムが好ましい。
一般式（３）で表される化合物としては、Ｎ−デシルアミノ酢酸、Ｎ−ラウリルアミノ酢酸、Ｎ−ミリスチルアミノ酢酸、Ｎ−パルミチルアミノ酢酸、Ｎ−デシルアミノプロピオン酸、Ｎ−ラウリルアミノプロピオン酸、Ｎ−ミリスチルアミノプロピオン酸、Ｎ−パルミチルアミノプロピオン酸やこれらのナトリウム塩等があげられる。
【００２０】
2011032403.tif 000002
（式中、Ｒ3は炭素数10〜20のアルキル基またはアルケニル基であり、ｓおよびｔはそれぞれ独立して1または2であり、Ｍ2およびＭ3はそれぞれ独立して水素原子またはアルカリ金属イオンである。）
一般式（４）中、Ｒ3は10〜20のアルキル基またはアルケニル基である。アルキル基としては、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基やオクタデシル基等があげられる。これらの中では、ドデシル基が好ましい。アルケニル基としては、デセニル基やドデセニル基やテトラデセニル基等があげられる。ｓおよびｔはそれぞれ独立して1または2である。Ｍ1のアルカリ金属イオンとしては、ナトリウムイオンやカリウムイオンがあげられ、ナトリウムイオンが好ましい。
一般式（４）で表される化合物としては、Ｎ−デシルアミノジ酢酸、Ｎ−ラウリルアミノジ酢酸、Ｎ−ミリスチルアミノジ酢酸、Ｎ−パルミチルアミノジ酢酸、Ｎ−デシルアミノジプロピオン酸、Ｎ−ラウリルアミノジプロピオン酸、Ｎ−ミリスチルアミノジプロピオン酸、Ｎ−パルミチルアミノジプロピオン酸やこれらのナトリウム塩等があげられる。
【００２１】
成分（Ｃ）（一般式（３）又は（４）で表される化合物を含む）は公知物質であり、市場において容易に入手することができる。また、公知の方法にしたがい合成したものであってもよい。
市販品の好ましい例としては、商品名：アンフォラックＬ−１８（ライオンアクゾ（株）製）があげられる。この市販品は、一般式（３）で表される化合物（式中、Ｒ2はドデシル基であり、ｒは２であり、Ｍ1はナトリウムである）と、一般式（４）で表される化合物（式中、Ｒ3はドデシル基であり、ｓおよびｔはそれぞれ２であり、Ｍ2およびＭ3はそれぞれナトリウムである。）との混合物である。
【００２２】
成分（Ｃ）としては、上述の化合物を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
成分（Ｃ）を配合することにより、本発明の浴室用洗浄剤組成物は、浴室におけるシリコーン汚れに対する洗浄効果及び優れた泡立ち性を得ることができる。成分（Ｃ）の配合量は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として好ましくは０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。０．０５質量％以上であるとシリコーン汚れに対してより良好な洗浄効果を得ることができ、１０質量％以下であるとより良好な費用対効果を得ることができるので好ましい。
【００２４】
成分（Ｄ）
本発明の浴室用洗浄剤組成物に配合される成分（Ｄ）は、半極性を有する界面活性剤である。
具体例としては、下記一般式（５）又は（６）で表される化合物があげられる。
2011032403.tif 000003
（式中、Ｒ4は炭素数8〜26のアルキル基、炭素数８〜２６のヒドロキシアルキル基、アルキル部分の炭素数が８〜２６のアシルアミドアルキル基またはアルキル部分の炭素数が８〜２６のアルキルフェニル基であり、ＡＯは炭素数2〜4のオキシエチレン基であり、ｕは0〜3であり、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基または炭素数1〜3のポリオキシアルキレン基である。）
一般式（５）中、Ｒ4のアルキル基は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよく、炭素数は8〜26、好ましくは１０〜２０である。
一般式（５）中、Ｒ4のヒドロキシアルキル基のアルキル部分は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよく、炭素数は８〜２６、好ましくは１０〜２０である。
一般式（５）中、Ｒ4のアシルアミドアルキル基のアルキル部分は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよく、炭素数は８〜２６、好ましくは１０〜２０である。アシル部分の炭素数は1〜3である。
一般式（５）中、Ｒ4のアルキルフェニル基のアルキル部分は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよく、炭素数は８〜２６、好ましくは１０〜２０である。
一般式（５）中、Ｒ5及びＲ6のヒドロキシアルキル基のアルキル部分は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよく、炭素数は１〜３である。
一般式（５）中、Ｒ5及びＲ6のポリオキシアルキレン基のアルキレン部分は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよく、炭素数は１〜３である。
2011032403.tif 000004
（式中、Ｒ7は炭素数8〜16の直鎖のアルキル基または炭素数8〜16のアルケニル基であり、Ｒ8は炭素数1〜5のアルキレン基であり、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基であり、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−または−Ｏ−である。）
一般式（６）中、Ｒ7のアルキル基の炭素数は好ましくは１０〜１６である。
一般式（６）中、Ｒ7のアルケニル基の炭素数は好ましくは１０〜１６である。
一般式（６）中、Ｒ8のアルキレン基の炭素数は好ましくは２〜４である。
一般式（６）中、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基であることが好ましい。
具体的には、ラウリルジメチルアミンオキシド（一般式（５）（式中、R4はｎ−ドデシル基、R5及びR6はそれぞれメチル基、ｕは０である）で表される化合物）、ヤシ油ジメチルアミンオキシド（（一般式（５）（式中、ｕは０である）で表される化合物の混合物）、ミリスチルジメチルアミンオキシド等があげられる。このうち、ラウリルジメチルアミンオキシド、ヤシ油ジメチルアミンオキシドが好ましい。
【００２５】
成分（Ｄ）としての半極性を有する界面活性剤（一般式（５）又は（６）で表される化合物を含む）は公知物質であり、市場において容易に入手することができる。また、公知の方法にしたがい合成したものであってもよい。
具体例としては、市販のｎ−ドデシルジメチルアミンオキシドであるアロモックスＤＭ１２Ｄ−Ｗ（Ｃ）（商品名）（ライオンアクゾ（株）製）等があげられる。
【００２６】
成分（Ｄ）としては、上述の化合物を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
成分（Ｄ）を配合することにより、本発明の浴室用洗浄剤組成物は、浴室におけるシリコーン汚れに対する洗浄効果及び優れた泡立ち性を得ることができる。成分（Ｄ）の配合量は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として好ましくは０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。０．０５質量％以上であるとシリコーン汚れに対してより良好な洗浄効果を得ることができ、１０質量％以下であるとより良好な費用対効果を得ることができるので好ましい。
【００２８】
成分（Ｅ）
本発明の浴室用洗浄剤組成物に配合される成分（Ｅ）は、アミノカルボン酸型キレート剤である。
アミノカルボン酸型キレート剤とは、分子内にアミンとカルボン酸の構造を有するキレート剤のことをいう。
具体例としては、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸等が挙げられる。これらのうち、エチレンジアミンテトラ酢酸が、保存安定性及び洗浄力の点から好ましい。
アミノカルボン酸型キレート剤は、酸の形でも使用可能であるし、アルカリ金属（例えば、ナトリウムやカリウム）との塩、アルカノールアミン（例えば、エタノールアミン、エチレンアミン、イソプロパノールアミン）との塩として使用することも可能である。
【００２９】
成分（Ｅ）としてのアミノカルボン酸型キレート剤は公知物質であり、市場において容易に入手することができる。また、公知の方法にしたがい合成したものであってもよい。
【００３０】
成分（Ｅ）としては、上述の化合物を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
成分（Ｅ）を配合することにより、本発明の浴室用洗浄剤組成物は、浴室におけるシリコーン汚れに対する洗浄効果及び優れた泡立ち性を得ることができる。成分（Ｅ）の配合量は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは１〜５質量％である。０．１質量％以上であるとシリコーン汚れに対してより良好な洗浄効果を得ることができ、１０質量％以下であるとより良好な費用対効果を得ることができるので好ましい。
【００３２】
本発明の浴室用洗浄剤組成物では、成分（Ａ）〜（Ｅ）の各々について段階的に記載した配合量を任意に組み合わせて使用することができる。具体例としては、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として成分（Ａ）を1〜30質量％、成分（Ｂ）を1〜30質量％、成分（Ｃ）を0.05〜10質量％、成分（Ｄ）を0.05〜10質量％、及び、成分（Ｅ）を0.1〜10質量％を含む浴室用洗浄剤組成物が挙げられる。
【００３３】
任意成分
本発明の浴室用洗浄剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必須成分以外の界面活性剤、ハイドロトロープ剤、香料、着色剤、酸化防止剤、防腐剤、防カビ剤、殺菌剤、除菌剤、pH調整剤、紫外線吸収剤及び水等を適宜配合することができる。
【００３４】
必須成分以外の界面活性剤としては、アニオン界面活性剤が好ましい。アニオン界面活性剤としては、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸及びその塩や、アルカンスルホン酸及びその塩等があげられる。
【００３５】
直鎖アルキルベンゼンスルホン酸及びその塩において、直鎖アルキル基の炭素数は8〜16であることが好ましく、10〜14であることがより好ましい。具体例としては、ライポンＬＨ−２００（商品名）（直鎖アルキル基の炭素数１０〜１４）（ライオン（株）製）があげられる。
直鎖アルキルベンゼンスルホン酸の塩は特に制限はなく、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩等のアルカノールアミン塩などが挙げられる。これらの中でも、アルカリ金属塩が好ましく、特にナトリウム塩が好ましい。
【００３６】
アルカンスルホン酸及びその塩としては、下記一般式（７）で表される二級アルキルスルホン酸又はその塩があげられる。
2011032403.tif 000005
（式中、ｐ+ｑ＝10〜14であり、M4は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン又はアンモニウムである。）
一般式（７）において、ｐ＋ｑは10〜14である。ｐ＋ｑが10以上であると洗浄力が向上する。ｐ＋ｑが14以下であると一般式（７）の化合物の溶解性が良好となるため、保存時における析出などが抑制される。
一般式（７）のM4において、アルカリ金属原子としては、ナトリウム、カリウムやリチウム等があげられ、アルカリ土類金属原子としてはカルシウムやマグネシウム等があげられ、アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンやトリエタノールアミン等があげられる。M4としては、アルカリ金属原子が好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
【００３７】
一般式（７）で表される化合物は、炭素数10〜21の二級アルキルスルホン酸塩の混合物に含まれた状態で本発明に用いることができる。この場合、混合物は、一般式（７）で表される化合物を80質量％（混合物の総質量基準）以上含有するものが好ましく、90質量％以上含有するものがさらに好ましい。混合物は、一般式（７）で表される化合物以外の成分として、一級アルキルスルホン酸塩、ジスルホン酸塩やポリスルホン酸塩等を含んでいてもよい。
混合物の好ましい例としては、下記の市販品があげられる。
ＨＯＳＴＡＰＵＲ  ＳＡＳ  30（商品名）（クラリアントジャパン（株）製。一般式（７）で表される化合物の含有量が90質量％以上）
ＨＯＳＴＡＰＵＲ  ＳＡＳ  60（商品名）（クラリアントジャパン（株）製。一般式（７）で表される化合物の含有量が90質量％以上）
ＭＥＲＳＯＬ80（商品名）（Ｂａｙｅｒ社製。平均炭素数15（一般式（７）で表される化合物の含有量が80質量％以上））
ＭＡＲＬＯＮシリーズ（商品名：ＰＳ65、ＰＳ60、ＰＳ60Ｗ）（ＳＡＳＯＬ社製。炭素数10〜18（一般式（７）で表される化合物の含有量が90質量％以上））
【００３８】
アニオン界面活性剤としては、上述の化合物を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３９】
アニオン界面活性剤を配合することにより、本発明の浴室用洗浄剤組成物の洗浄効果をより高めることができる。アニオン界面活性剤の配合量は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準として０．５〜１０質量％、好ましくは１〜５質量％である。
【００４０】
ハイドロトロープ剤としては、芳香族化合物（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、クメンスルホン酸）等があげられる。
水としては、精製水、イオン交換水、純水や海洋深層水等を使用することができる。
【００４１】
上述の任意成分は公知物質であり、市場において容易に入手することができる。また、公知の方法にしたがい合成したものであってもよい。
また、任意成分の配合量は、本明細書において別段の記載がない限り、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設定することができる。
【００４２】
本発明の浴室用洗浄剤組成物のｐＨは、保存安定性の点で５〜８であることが好ましく、７〜８であることが特に好ましい。
また、本発明の浴室用洗浄剤組成物は液状である。
【００４３】
本発明の浴室用洗浄剤組成物は、当該技術分野において一般的に使用されている液体洗浄剤組成物の製造方法に従い製造することができる。
【００４４】
本発明の浴室用洗浄剤組成物は浴室の洗浄に用いられる。具体的には、浴室の壁、床や浴槽等の洗浄に用いることができる。浴室内では、石鹸カスや湯垢がある部分に加え、シリコーンを原因とする汚れ（シリコーン汚れ）がある部分に好適に用いることができる。
【００４５】
以下に実施例を示して具体的に説明するが、本発明は実施例により限定されるものではない。
【実施例】
【００４６】
浴室用洗浄剤組成物の製造
表１〜３に示す組成を有する浴室用洗浄剤組成物を製造した。表１〜２に示す浴室用洗浄剤組成物は実施例であり、表３に示す浴室用洗浄剤組成物は比較例である。表１〜３の各成分の配合量単位は、浴室用洗浄剤組成物の総質量を基準とする質量％を示す。
製造は各成分を攪拌し、混合することで行った。得られた洗浄剤組成物はいずれも液状であり、ｐＨは７．５であった。
実施例及び比較例の浴室用洗浄剤組成物を調製するのに用いた各成分は以下のとおりである。
【００４７】
（Ａ）成分及びその比較成分
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）：合成品
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）：合成品
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）：合成品
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）：合成品
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）：合成品
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）：合成品
トリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）：合成品
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）：合成品
ジオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｉＣ８ＥＯ２）：ニューコール1002（商品名）（日本乳化剤（株）製）
ジオキシエチレンモノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル（ｉＣ６ＥＯ２）：合成品
ヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）：合成品
ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（エチレンオキシド単位の数１５）（Ｃ１２ＥＯ１５）：LAO-90N（商品名）（日本エマルジョン製）
【００４８】
上述の合成品は以下のようにして合成した。
【００４９】
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００ｍLの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３４．８ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール１８１ｇ（０．９１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、室温で1-ブロモオクタン６０ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン３０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６５℃で３時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水３００ｍＬ、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）を６３．３ｇ（収率６６．６％、ｂｐ１５２〜１６１℃／２５Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.89(t, 3H), 1.31(br, 10H), 1.56(m, 2H), 3.30(br, 1H), 3.46(t, 2H),  3.53-3.67(m, 16H)
【００５０】
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた５００ｍＬの一口ナスフラスコに、トリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテル２０ｇ（０．０８６５ｍｏＬ）、トリエチルアミン９．１９ｇ（０．０９０８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、塩化メタンスルホニル１０．４ｇ（０．０９０８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を０℃で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。１０分間で滴下し、滴下終了後０℃で１時間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、トリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン５０ｍＬで洗浄した。
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた１Ｌの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム１０．６７ｇ（０．０９５２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン７０ｍＬを仕込み、ジエチレングリコール３６．７ｇ（０．３４６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のジメチルホルムアミド５０mＬ（東京化成（株）試薬）溶液を室温で滴下したのち１時間攪拌してｔ‐ブトキシカリウムを溶解させた。その後６０℃に加温して、その温度で（I）で調製したトリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍLで３回水洗して水層が中性になったことを確認したのち、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去したのち、残渣を減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）を１２ｇ（収率４３％、ｂｐ１６５〜１７０／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.79(t, 3H), 1.19(br, 10H), 1.48(m, 2H), 3.36(t, 3H), 3.50-3.78(m, 21H)
【００５１】
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１Ｌの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２９．９ｇ（０．２６６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でテトラエチレングリコール１８８ｇ（０．９６８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を１時間かけて滴下した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、５５℃で1-ブロモヘキサン４０ｇ（０．２４２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン５０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５．５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水２００ｍＬ、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）を４３．８ｇ（収率６５．０％、ｂｐ１２６〜１２９℃／３０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.25(br, 6H), 1.52(m, 2H), 3.25(br, 1H), 3.42(t, 2H), 3.52-3.75(m, 16H)
【００５２】
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた３００ｍＬの一口ナスフラスコに、テトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテル２５ｇ（７８ｍｍｏＬ）、トリエチルアミン８．３ｇ（８２ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下で塩化メタンスルホニル９．４ｇ（８２ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を２０分間で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。滴下終了後、水冷下で３０分間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、テトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン５０ｍＬで洗浄した。
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた５００ｍＬの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム９．６３ｇ（８６ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを仕込み、室温でエチレングリコール１９．４ｇ（３１３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のジメチルホルムアミド１００mＬの溶液を３０分間で滴下した。このとき、白色沈殿物が生成した。６０℃に加温するとこの沈殿物は溶解して透明溶液になった。６０℃で（I）で調製したテトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間で滴下した。反応液はゲル状になる。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００mＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認したのち、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。残渣を減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）を１２．８ｇ（収率４５．１％、ｂｐ１８０〜１８２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.80(s, 3H), 1.19(br, 12H), 1.48(m, 2H), 3.15(br, 1H), 3.37(t, 2H), 3.49-3.67(m, 20H)
【００５３】
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．５８ｇ（２３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でペンタエチレングリコール５ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモデカン４．６４ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）を３．４ｇ（収率４２．８％、ガラスチューブオーブン温度２１０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 14H), 1.54(m, 2H), 2.79(br, 1H), 3.41(t, 2H),  3.52-3.70(m, 20H)
【００５４】
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモデカン３．９１ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）を３．５ｇ（収率４６．８％、ガラスチューブオーブン温度２４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 14H), 1.54(m, 2H), 2.79(br, 1H), 3.41(t, 2H),  3.52-3.70(m, 24H)
【００５５】
トリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Ｌの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール５１１．１８ｇ（３．４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、t-ブトキシカリウム１０５．０３g（０．９４moL、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００mL(東京化成（株）試薬)を仕込み、水浴でｔ‐ブトキシカリウムが溶解するまで攪拌した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、６０℃に加温して1-ブロモペンタン１２８．５ｇ（０．８５１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を室温で３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）を１１３．５ｇ（収率６０．５％、ｂｐ９８〜１００℃／５０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.24(m, 4H), 1.53(m, 2H), 2.62(br, 1H), 3.42(t, 2H), 3.52-3.70(m, 12H)
【００５６】
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５mｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、室温で1-ブロモオクタン３．４２ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で７時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）を３．３ｇ（収率４７．３％、ガラスチューブオーブン温度２０２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.85(t, 3H), 1.24(br, 10H), 1.54(m, 2H), 2.17(br, 1H), 3.41(t, 2H),  3.52-3.72(m, 24H)
【００５７】
ジオキシエチレンモノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル（ｉＣ６ＥＯ２）の合成
窒素導入管、エチレンオキシド（EO）導入管、攪拌機を取り付けた１．５Lのオートクレーブに2-エチルブチルアルコール３０６g（３モル）と２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液1.3ｇ（和光株式会社製）を仕込み、５０℃に昇温したのち窒素導入と脱気を５回繰り返してメタノールを留去した（2-エチルブチルアルコールが留去する手前まで目視で確認しながら減圧度を調整した）後、最終的に常圧に戻した。その後１８０℃に昇温して攪拌数２７０ｒｐｍでＥＯ２６４ｇ（６モル）を約２時間かけて導入した。反応は発熱反応なので、１８０℃の温度を維持するようにＥＯ圧を０．３MPa前後で調整しながらＥＯを導入した。所定のEO量を導入したのち、３０分間１８０℃で熟成した。その後、７０℃まで冷却して脱気と窒素置換を３回繰り返して残存ＥＯを完全に除去したのち、反応物を取り出した。
【００５８】
ヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた３００ｍＬの一口ナスフラスコに、テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル２５ｇ（８２ｍｍｏＬ）、トリエチルアミン８．７ｇ（８６ｍｍｏＬ）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを仕込み、水冷下で塩化メタンスルホニル９．８ｇ（８６ｍｍｏＬ）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を２０分間で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。滴下終了後、水冷下で５０分間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン３０ｍＬで洗浄した。
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた５００ｍＬの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム１０．０９ｇ（９０ｍｍｏＬ）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを仕込み、室温でトリエチレングリコール４９．６ｇ（０．３３ｍｏＬ）を２０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。次に６０℃に加温して（I）で調製したテトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００mＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）を１５．９ｇ（収率４４．３％、ガラスチューブオーブン温度２３０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(s, 3H), 1.21(br, 10H), 1.50(m, 2H), 2.81(br, 1H), 3.39(t, 2H),  3.52-3.70(m, 28H)
【００５９】
（Ｂ）成分
ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（Ｃ４ＥＯ２）：ブチルジオキシトール（９５）（商品名）（シェルケミカルズジャパン（株））
【００６０】
（Ｃ）成分
ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウム（ＬＡＰ）：アンフォラックＬ−１８（商品名）（ライオンアクゾ（株）製）（一般式（３）で表される化合物（式中、Ｒ2はドデシル基であり、ｒは２であり、Ｍ1はナトリウムである）と、一般式（４）で表される化合物（式中、Ｒ3はドデシル基であり、ｓおよびｔはそれぞれ２であり、Ｍ2およびＭ3はそれぞれナトリウムである。）との混合物）
【００６１】
（Ｃ）成分の比較成分
ラウリン酸アミドプロピルベタイン（ＬＰＢ）：エナジーコールＬ−３０Ｂ（商品名）（ライオン（株）製）
【００６２】
（Ｄ）成分
ｎ−ドデシルジメチルアミンオキシド（ＡＸ）：アロモックスＤＭ１２Ｄ−Ｗ（Ｃ）（商品名）（ライオンアクゾ（株）製）
【００６３】
（Ｅ）成分
エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）：ディゾルビンＺ（商品名）（アクゾノーベルＦ．Ｃ．社製）
【００６４】
（Ｅ）成分の比較成分
クエン酸三ナトリウム：クエン酸（商品名）（扶桑化学工業社製）
【００６５】
その他の成分
アニオン界面活性剤としての直鎖アルキルベンゼンスルホン酸（ＬＡＳ）：ライポンＬＨ−２００（商品名）（直鎖アルキル基の炭素数１０〜１４）（ライオン（株）製）
【００６６】
洗浄力の評価
シリコーン汚れを含む浴室の汚れに対する各洗浄剤組成物の洗浄力を以下の手順により評価した。
一般家庭の浴室の床にガラス繊維強化プラスチック（FRP）製テストピース（5×5cm）を設置し、身体を洗ったすすぎ液がテストピースにかかるように入浴し、3ヶ月間汚れを付着させた。この黒ずみ汚れが付着したテストピースを十分乾燥させた後、一部汚れを抽出し、NMRにてシリコーンのピークを確認したものを評価に用いた。
テストピースに対して、各洗浄剤組成物1mLを塗布し、その上からティッシュペーパーを被せて1時間湿布した後、スポンジで40回こすり水道水ですすぎ流した。
テストピースを十分乾燥させた後、テストピース表面の汚れの除去状況を、テストピース表面の汚れの落ちた面積を指標とする下記基準にしたがい目視評価した。結果を表１〜３の「黒ずみ洗浄力」の欄に示す。
評価点数：テストピースの全表面積（25cm2）に対する汚れの落ちた面積の割合
10点    ：90%以上
9点    ：80%以上90%未満
8点    ：70%以上80%未満
7点    ：60%以上70%未満
6点    ：50%以上60%未満
5点    ：40%以上50%未満
4点    ：30%以上40%未満
3点    ：20%以上30%未満
2点    ：10%以上20%未満
1点    ：10%未満
【００６７】
本発明の要件を具備しない比較例１、９及び１０（（Ａ）成分を含まない）、比較例２（（Ｂ）成分を含まない）、比較例３〜５（（Ｃ）成分を含まない）、比較例６（（Ｄ）成分を含まない）並びに比較例７〜８（（Ｅ）成分を含まない）の浴室用洗浄剤組成物は、シリコーン汚れを含む浴室汚れの除去について満足のいく結果をもたらすことができなかった。
一方、本発明の要件を具備する実施例１〜２１の浴室用洗浄剤組成物は、シリコーン汚れを含む浴室汚れの除去について満足のいく結果をもたらした。
【００６８】
【表１】
2011032403.tif 000006
【００６９】
【表２】
2011032403.tif 000007
【００７０】
【表３】
2011032403.tif 000008
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明は、浴室用洗浄剤分野において利用可能である。