(57)【要約】      （修正有）【課題】輝度の低下の少ない輝度調整シートとその製造方法を提供する。【解決手段】樹脂製の基材と、該基材の表面に設けられた樹脂製の硬質層と、該硬質層の表面に所定のパターンで設けられたパターン印刷部とを備え、該硬質層のパターン印刷が設けられていない部分の表面にのみ、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターン１１が形成され、該硬質層のパターン印刷が設けられた部分の表面および印刷面と硬質層との界面がともに平滑である凹凸パターン形成シート１０であって、前記硬質層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上である凹凸パターン形成シートであって、凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの、最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０である。【選択図】図１
2011133569.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製の基材と、該基材の表面に設けられた樹脂からなる硬質層と、該硬質層の表面に所定のパターンで設けられたパターン印刷部とを備え、該硬質層のパターン印刷が設けられていない部分の表面にのみ、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターンが形成され、該硬質層のパターン印刷が設けられた部分の表面および印刷面と硬質層との界面がともに平滑である凹凸パターン形成シートであって、
前記硬質層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上である凹凸パターン形成シートであって、
凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの、最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０であって、複数個並んだ光源を前記凹凸パターン形成シートの一方の面から入射させる場合に、パターン印刷部の面積率が、光源から遠ざかるにつれて小さくなるように変化していることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
【請求項２】
請求項１に記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された輝度調整体を製造するための型として用いられる輝度調整体製造用工程シート原版。
【請求項３】
請求項２に記載の輝度調整体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する輝度調整体の製造方法。
【請求項４】
請求項２に記載の輝度調整体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する輝度調整体の製造方法。
【請求項５】
請求項２に記載の輝度調整体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する輝度調整体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸パターン形成シート、輝度調整シート等として用いられる光学シートおよび輝度調整シートおよびそれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のバックライトユニットにはCCFLや蛍光管、LEDが背面に装着されており、線状あるいは、点状光源の光を拡散し、均一な面状光源とする必要がある。これを解決する方法の一つとして、特許文献１のように、透明シートに着色インクにて印刷し、光源部分からの距離に応じて散乱パターンに密度分布を与えることにより、均一な面光源を得ることができる（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００５-１１７０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、インクの印刷により散乱パターンを作製した輝度調整シートは、輝度の低下が大きいという問題がある。
そこで本発明は、上記の課題を解決しようとするものであり、輝度の低下の少ない輝度調整シートおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、以下の態様を包含する。
［１］樹脂製の基材と、該基材の表面に設けられた樹脂からなる硬質層と、該硬質層の表面に所定のパターンで設けられたパターン印刷部とを備え、該硬質層のパターン印刷が設けられていない部分の表面にのみ、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターンが形成され、該硬質層のパターン印刷が設けられた部分の表面および印刷面と硬質層との界面がともに平滑である凹凸パターン形成シートであって、
前記硬質層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上である凹凸パターン形成シートであって、
凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの、最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０であって、
複数個並んだ光源を前記凹凸パターン形成シートの一方の面から入射させる場合に、パターン印刷部の面積率が、光源から遠ざかるにつれて小さくなるように変化していることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
［２］［１］に記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された輝度調整体を製造するための型として用いられる輝度調整体製造用工程シート原版。
［３］［２］に記載の輝度調整体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する輝度調整体の製造方法。
［４］［２］に記載の輝度調整体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する輝度調整体の製造方法。
［５］［２］に記載の輝度調整体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する輝度調整体の製造方法。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の輝度調整シートは、平均輝度の低下の少ない輝度調整効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
＜第１の実施形態＞
本発明の凹凸パターン形成シートの第１の実施形態について説明する。
【０００７】
（凹凸パターン形成シート）
本実施形態では、図１に示すように、凹凸パターン形成シート１０の印刷パターンを設けない表面に、蛇行した波状の凹凸パターン１１が形成されている。
輝度調整シートに用いる本実施形態の凹凸パターン形成シート１０では、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍを超え１０μｍ以下であることがより好ましい。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン１１にて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、輝線として視認される場合があるからである。
【０００８】
凹凸パターン１１の最頻ピッチＡに対する凹凸パターンの平均深さＢの比（Ｂ／Ａ、以下、アスペクト比という。）は０．１〜３．０であることが好ましく、０．３〜２．０であることがより好ましい。アスペクト比が０．１未満であると、目的の光学特性が得られないことがある。一方、アスペクト比が３．０より大きくなると、凹凸パターン形成シート１０の製造にて凹凸パターン１１を形成しにくくなる傾向にある。
ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
また、底部１１ａとは、凹凸パターン１1の凹部の極小点であり、平均深さＢは、凹凸パターン１１を短径方向に沿って切断した断面（図２照）を見た際の、凹凸パターン形成シート１０全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１１の断面の画像にて各底部１１ａの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
【０００９】
本実施形態のように、凹凸パターン１１が一方向に沿っている場合の蛇行とは、以下の方法で求められる凹凸パターンの配向度が０．３以上になっていることである。この配向度は、凹凸パターンの配向のばらつきの指標であり、その値が大きいほど、配向がばらついている、すなわち隣り合ったパターンのピッチがパターンの方向に沿ってばらついており、光拡散の高い光拡散体として好ましいことを示す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図３参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図４にフーリエ変換後の画像を示す。図４の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン１１のピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図４の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図５参照）する。図５のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘの逆数１／Ｘが凹凸パターン１１の最頻ピッチを表す。
次いで、図４において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図６参照）する。ただし、図６の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図６の横軸は、凹凸パターンの形成方向（図３における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図６のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターン１１の配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
【００１０】
上記配向度が０．３未満であると、凹凸パターン１１の配向のばらつきが小さくなるため、光の拡散性が小さくなる。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン１１の方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと硬質層とを適宜選択すればよい。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。
【００１１】
（凹凸パターン形成シート上のパターン印刷部）
本発明のパターン凹凸パターン形成シートは、所定のパターンで設けられたパターン印刷部を有する。
【００１２】
パターン印刷部の形状については特に制限されない。例えば、円形状、三角形状、四角形状、楕円形状などのドットや、帯状などが挙げられる。パターン形成においては、汎用的であることから、円形状のドットが好ましい。この形状が円形状のドットである場合、その直径は５〜１０μｍであることが好ましい。
【００１３】
（凹凸パターン形成シートの構成材料）
凹凸パターン形成シート１０は、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％以上）透明樹脂により構成される。
また、凹凸パターン形成シート１０には、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
【００１４】
また、凹凸パターン形成シート１０には、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる無機光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤を含有させることができる。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
【００１５】
さらに、凹凸パターン形成シート１０には、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、微細気泡を含有させることができる。微細気泡は、光の吸収が少なく光透過率を低下させにくい。
微細気泡の形成方法としては、凹凸パターン形成シート１０に発泡剤を混入する方法（例えば、特開平５−２１２８１１号公報、特開平６−１０７８４２号公報に開示された方法）や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法（例えば、特開２００４−２８１２号公報に開示された方法）などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法（例えば、特開２００６−１２４４９９号公報に開示された方法）が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
【００１６】
（凹凸パターン形成シートの厚さ）
凹凸パターン形成シート１０の厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。凹凸パターン形成シート１０の厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターン１１の深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと凹凸パターン形成シート１０の質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
凹凸パターン形成シート１０は２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。凹凸パターン形成シート１０が２層以上の層から構成されている場合も、凹凸パターン形成シート１０の厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
【００１７】
（使用方法）
上記凹凸パターン形成シート１０は、輝度調整シートとして用いられる。具体的には、複数個並んだ光源を前記凹凸パターン形成シートの一方の面から入射させる場合に、パターン印刷部の面積率が、前記光源真上から遠ざかるにつれて段階的に小さくなるように変化させたことにより、平均輝度の低下が小さい輝度調整シートとなる。
その理由は以下のように説明できる。
凹凸パターン形成部は、輝度を向上させる効果がある。一方、印刷部は凹凸パターンが形成されないため、輝度を向上させる効果がない。通常、複数個の光源が並んでいる場合、光源の真上が最も輝度が高く、光源と光源の間の輝度が最も低いため、パターン印刷部の面積率が最大となる部分を光源の真上とし、パターン印刷の面積率が最小となる部分を光源間になるようにすることにより、光源の真上では輝度の上昇率が最低、また、光源間では輝度の上昇率が最大となり、結果として、光源真上から光源間までの輝度を均一にすることが可能となる。
【００１８】
（製造方法）
凹凸パターン形成シート１０を製造する方法の例について説明する。
［第１の製造方法］
本実施形態の凹凸パターン形成シートの製造方法は、図７に示すように、樹脂製の基材である加熱収縮性フィルム１２の片面に、表面が平滑な樹脂製の硬質層１３（以下、表面平滑硬質層１３という。）を設け、さらにパターン印刷部１４を設けて積層シート１５を形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させて、積層シート１５の表面平滑硬質層１３のパターン印刷未形成部のみを折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有する方法である。
ここで、表面平滑硬質層１３とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下の層である。
【００１９】
第１の工程
第１の工程にて、加熱収縮性フィルム１２の片面に表面平滑硬質層１３を設ける方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム１２の片面に、樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム１２の片面に、あらかじめ作製した表面平滑硬質層１３を積層する方法などが挙げられる。
【００２０】
加熱収縮性フィルム１２としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系収縮フィルム、ポリスチレン系収縮フィルム、ポリオレフィン系収縮フィルム、ポリ塩化ビニル系収縮フィルム、ポリカーボネート系収縮フィルムなどを用いることができる。
加熱収縮性フィルム１２の中でも、４０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を４０％以上にでき、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
【００２１】
本発明では、表面平滑硬質層１３を、加熱収縮性フィルムを構成する樹脂（第１の樹脂）よりガラス転移温度が１０℃以上高い樹脂（第２の樹脂）を少なくとも含む樹脂で構成する。第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度が前記関係にあることにより、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。
【００２２】
第２の樹脂の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
【００２３】
表面平滑硬質層１３の表面は、所望の凹凸パターン１１を容易に形成できることから、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下にする。
また、表面平滑硬質層１３の厚さは０．０５〜５．０μｍとすることが好ましく、０．１〜１．０μｍとすることがより好ましい。表面平滑硬質層１３の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、表面平滑硬質層１３の厚さを０．０５μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１１をより容易に形成できることから、表面平滑硬質層１３のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
【００２４】
表面平滑硬質層１３の表面にパターン印刷部１４を設ける方法としては、従来公知の方法であればよく、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、などのいずれの方法でもよい。
また、印刷インクは、印刷に使用可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、蒸発乾燥型インク、酸化重合型インク、加熱硬化型インク、２液反応型インク、紫外線硬化型インク等が挙げられる。なお、光学効果向上のためには、印刷インクは透明あるいは、白色が好ましい。
ただし、透明インク中に、無機フィラーや有機フィラーを添加して拡散効果を向上する方法でもよい。
【００２５】
第２の工程
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１２を熱収縮させることにより、表面平滑硬質層１３のパターン印刷未形成部に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１１を形成させる。
加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
【００２６】
上記第１の製造方法では、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、表面平滑硬質層１３のヤング率が加熱収縮性フィルム１２より高くなる。そのため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、表面平滑硬質層１３は厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、表面平滑硬質層１３は加熱収縮性フィルム１２に積層されているため、加熱収縮性フィルム１２の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、加熱収縮性フィルム１２を収縮させて、表面平滑硬質層１３を折り畳むように変形させることにより、凹凸パターン１１を形成できる。
【００２７】
また、上記第１の製造方法では、表面平滑硬質層１３の表面にパターン印刷部１４が存在する場合、加熱収縮性フィルムを収縮させても、パターン印刷部１４の存在により、表面平滑硬質層１３は折りたたまれることが出来ず、該パターン印刷部は収縮後も表面が平滑のままとなる。
【００２８】
上記のようにして得た凹凸パターン形成シート１０はそのまま光学シート、特に輝度調整シートとして用いることができる。その場合、加熱収縮性フィルム１２と硬質層１３およびパターン印刷部１４とによって光学シートが形成される。
【００２９】
［第２の製造方法］
第２の製造方法は、第１の製造方法で得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、凹凸パターン形成シート１０を製造する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。
【００３０】
第２の製造方法の具体的な方法としては、例えば、下記（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられる。
（ａ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
【００３１】
また、工程シート原版を用いて２次工程用成形物を作製し、その２次工程用成形物を用いて凹凸パターン形成シート１０を製造することもできる。２次工程用成形物を用いる具体的な方法としては、下記（ｄ）〜（ｆ）の方法が挙げられる。
【００３２】
（ｄ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、次いで、２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｅ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｆ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
【００３３】
（ａ）の方法の具体例について説明する。図９に示すように、まず、ウェブ状の工程シート原版１１０の凹凸パターン１１１が形成された面に、コーター１２０により未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂１１２を塗工する。次いで、該硬化性樹脂を塗工した工程シート原版１１０を、ロール１３０を通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を工程シート原版１１０の凹凸パターン１１１内部に充填する。その後、電離放射線照射装置１４０により電離放射線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の電離放射線硬化性樹脂を工程シート原版１１０から剥離させることにより、ウェブ状の凹凸パターン形成シート１０を製造することができる。
【００３４】
（ａ）の方法において、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を１〜１０ｎｍ程度の厚さで設けてもよい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
【００３５】
未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂を塗工した後には、樹脂、ガラス等からなる基材を
貼り合わせてから電離放射線を照射してもよい。電離放射線の照射は、基材、工程シート
原版の電離放射線透過性を有するいずれか一方から行えばよい。
【００３６】
（ｄ）の具体的な方法は、（ａ）の方法における工程シート原版を、該工程シート原版を用いて作製した２次工程用成形物に変更したこと以外は、上記（ａ）の方法と同様である。
【００３７】
（ｂ），（ｅ）の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
【００３８】
（ｃ），（ｆ）の方法における透明熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＭＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴ−Ｇ、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形加工の観点からは、ＭＳ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＣＯＰ、ＰＣが好ましく、吸湿性及びコストの観点からは、ＭＳのうちスチレン含有率が３０〜９０質量％のものがさらに好ましい。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
【００３９】
（ｃ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧する際の圧力、（ｆ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧する際の圧力は１〜１００ＭＰａであることが好ましい。押圧時の圧力が１ＭＰａ以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、１００ＭＰａ以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
また、（ｆ）の製造方法での成形方法としては、プレス成形法以外に、例えば、射出成形法を適用することができる。
【００４０】
上述した第１および第２の製造方法により得た凹凸パターン形成シート１０はそのまま光学シートとして用いてもよいし、透明樹脂製またはガラス製の補強用の基板に接着剤を介して貼り合わせて最終的な光学シートとしてもよい。
【００４１】
なお、本発明の凹凸パターン形成シートは、上述した実施形態のものに限定されない。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明の実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら制限されるものではない。
【００４３】
（実施例１）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリメチルメタクリレート（ポリマーソース株式会社製Ｐ４８３１−ＭＭＡ、ガラス転移温度１００℃）を厚さが２００ｎｍになるようにバーコーターにより塗工し、硬質層を形成した。次いで、その硬質層の上にインカ製ＳＰ３２０のＵＶインクジェットプリンターにより、透明ニスインク単色で、光調整パターン（光源直上からドット密度が段階的に減少する）を印刷し、積層シートを得た。
次いで、その積層シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％で変形させ）、硬質層のパターン印刷未形成部が、収縮方向に対して直交方向に沿って周期性を有する波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを得た。
得られた凹凸パターン形成シートの凹凸パターンが形成されていない方の面から、複数個並んだ光源を入射させた。凹凸パターン形成シートをパターン印刷部の面積率が、前記光源真上から遠ざかるにつれて段階的に小さくなるように配置したところ、輝度が均一化された。また、平均輝度の低下は起こらなかった。
【００４４】
（実施例２）
実施例１により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光学素子を得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面にエポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、凹凸パターン形成シートを得た。
得られた凹凸パターン形成シートの凹凸パターンが形成されていない方の面から、複数個並んだ光源を入射させた。凹凸パターン形成シートをパターン印刷部の面積率が、前記光源真上から遠ざかるにつれて段階的に小さくなるように配置したところ、輝度が均一化された。また、平均輝度の低下は起こらなかった。
【００４５】
（実施例３）
実施例１により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして異方性拡散体を得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートを射出成形装置のスタンパーとして同装置の金型に設置し、前記射出成形機にポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ）を流しこみ射出成形を行うことにより、厚さ２ｍｍの凹凸パターン形成シートを得た。
得られた凹凸パターン形成シートの凹凸パターンが形成されていない方の面から、複数個並んだ光源を入射させた。凹凸パターン形成シートをパターン印刷部の面積率が、前記光源真上から遠ざかるにつれて段階的に小さくなるように配置したところ、輝度が均一化された。また、平均輝度の低下は起こらなかった。
【００４６】
（比較例１）
厚さ５０μｍのＰＥＴシート上にインカ製ＳＰ３２０のＵＶインクジェットプリンターにより、白色インク単色で、光調整パターン（光源直上からドット密度が段階的に減少する）を印刷し、パターン印刷シートを得た。
得られたパターン印刷シートのパターン印刷面と反対の面から、複数個並んだ光源を入射させた。パターン印刷シートをパターン印刷部の面積率が、前記光源真上から遠ざかるにつれて段階的に小さくなるように配置したところ、輝度が均一化された。しかし、平均輝度が２０％低下した。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の凹凸パターン形成シートの印刷パターン未形成部における凹凸パターンの一部を拡大して示す拡大斜視図である。
【図２】図１に示す凹凸パターン形成シートを、凹凸パターンの形成方向と直交方向に切断した際の断面を拡大した図である。
【図３】凹凸パターンの表面を表面光学顕微鏡により撮影して得た画像の、グレースケール変換画像である。
【図４】図３の画像をフーリエ変換した画像である。
【図５】図４の画像における円環の中心からの距離に対する輝度をプロットしたグラフである。
【図６】図４の画像における補助線Ｌ３上の輝度をプロットしたグラフである。
【図７】本発明の凹凸パターン形成シートの製造方法の一実施形態における積層シートを示す断面図である。
【図８】本発明の輝度調整体を製造する方法の一例を説明する図である。
【符号の説明】
【００４８】
１０  凹凸パターン形成シート
１１  凹凸パターン
１１ａ  底部
１２  加熱収縮性フィルム
１３  表面平滑硬質層
１４  パターン印刷部
１５  積層シート
１１０  ウェブ状の工程シート原版
１１１  凹凸パターン
１１２  未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂
１２０  コーター
１３０  ロール
１４０  電離放射線照射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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