(57)【要約】      （修正有）【課題】１つの処理室における処理状況によりは排気圧が大きく変動することはなく、排気圧の変動にともなうウエハへのパーティクルの付着を抑制できる。【解決手段】ＳＣ１処理、ふっ酸処理、ＩＰＡ蒸気による置換処理の場合、個別排気管のいずれかが開放されているとき、遮蔽板１１５は開放されている個別排気管に対応する開放口６５，７５を閉塞するとともに、閉塞されている個別排気管に対応する開放口６５，７５を開放しているので、この開放口６５，７５からはエアが導入されている。これにより、１つの処理室における酸系の処理時、アルカリ系の処理時等とでは排気圧が大きく変動することはなく、この排気圧の変動にともなうウエハへのパーティクルの付着を抑制できる。【選択図】図２
2011204933.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の処理のために複数種の処理流体が内部で使用される処理室と、
前記処理室内からの排気が流通する集合排気管と、
前記集合排気管が接続され、前記集合排気管から排気が導入される排気導入室と、
連通孔を介して前記排気導入室に接続され、前記排気導入室からの排気が流通し、かつ開放口を有している複数の個別排気管と、
前記排気導入室内に所定の回転軸線を中心に回転可能に設けられ、前記連通孔を開放・閉塞させる回転部材と、
前記開放口を開閉・閉塞させる遮蔽部材と、
前記回転部材及び前記遮蔽部材を回転駆動するための駆動手段とを備え、
前記回転部材は、前記複数の個別排気管のうちいずれか一つの連通孔を開放し、
前記遮蔽部材は、前記回転部材により開放された連通孔に対応する前記個別排気管の開放口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記駆動手段を制御する制御手段をさらに備え、
前記回転部材及び前記遮蔽部材は、前記駆動手段の駆動軸の一端側に連結されることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記個別排気管は、分岐管を有し、
前記開放口は、前記排気導入室側に向けて前記分岐管に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記回転部材には、いずれか一つの連通孔を開放する選択孔が貫通して形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液、純水等の処理液による処理を基板に行うための基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用ガラス基板等が含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等の基板に対して処理液や処理ガスなどの処理流体を用いた処理が行われる。このような処理のために、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が用いられることがある。枚葉式の基板処理装置は、処理室内に、基板を保持する基板保持部材と、基板の表面に処理液を供給するためのノズルと、基板保持部材及びノズルを収容するカップとを備えている。ノズルからの処理流体が基板の表面に供給されることにより、基板の表面に対して処理が行われる。処理液を含む雰囲気がカップ外に漏れ出ることを防止するために、カップの底壁には、カップ内の雰囲気を排気するための排気孔が形成されている。排気孔には排気管の上流端が接続されており、排気管の下流端は排気処理設備に接続されている。カップ内の雰囲気は、排気管を通って排気処理設備へと導かれ、この排気処理設備で処理される（特許文献１参照）。
【０００３】
処理室内では、酸系、アルカリ系といったように、２種類の処理流体を用いて基板を処理することがある。この場合、基板保持部材に保持された基板の表面に２種類の処理流体（第１処理流体および第２処理流体）が順に供給されることにより、基板の表面に処理流体が供給される。第１処理流体が使用される処理では、カップ内に第１処理流体を含む雰囲気が存在する。また、第２処理流体が使用される処理では、カップ内に第２処理流体を含む雰囲気が存在する。したがって、第１処理流体および第２処理流体の種類によっては、第１処理流体が使用される処理時における排気と、第２処理流体が使用される処理時における排気とが、互いに異なる排気処理設備（第１排気処理設備および第２排気処理設備）で処理されることが望ましい場合がある。
【０００４】
このため、処理室内からの排気が流通する集合排気管の下流端に２つの個別排気管を接続するとともに、集合排気管とこれら２つの個別排気管との間に、排気切換器を配置する構成が提案されている。この排気管切換器は、集合排気管を流通する排気の流通先を、２つの個別排気管の間で切り換える。図６は、従来の排気切換器３００の構成を図解的に示す断面図である。図７は、図６を切断面線ＸＩＩ−ＸＩＩから見た断面図である。
【０００５】
排気切換器３００は、集合排気管３０１から排気が導入される排気導入室３０２を備えている。排気導入室３０２の本体は、一方側の側面（図７で示す左側面）が開放した四角箱状の箱体３０４と、箱体３０４の開放面を覆う蓋体３０５とを備えている。蓋体３０５の壁には、１つの導入接続孔３０６が貫通して形成されている。この導入接続孔３０６には、集合排気管３０１の下流端が接続されている。蓋体３０５と対向する箱体３０４の側壁３０７には、２つの導出接続孔３０８，３０９（第１導出接続孔３０８および第２導出接続孔３０９）が貫通して形成されている。第１導出接続孔３０８には、第１個別排気管３１０の上流端が接続されている。第２導出接続孔３０９には、第２個別排気管３１１の上流端が接続されている。第１導出接続孔３０８および第２導出接続孔３０９は、隣り合って並んでいる。
【０００６】
側壁３０７の内面には、切換羽根３１２が側壁３０７と直交する揺動軸線Ｐを中心として揺動可能に支持されている。この切換羽根３１２によって、第１導出接続孔３０８および第２導出接続孔３０９が選択的に閉塞される。切換羽根３１２が第１導出接続孔３０８を覆う第１閉塞位置にあるとき（図７に二点鎖線で示す状態）は、第２導出接続孔３０９が開放し、排気導入室３０２の内部が第２個別排気管３１１と連通する。また、切換羽根３１２が第２導出接続孔３０９を覆う第２閉塞位置にあるとき（図７に実線で示す状態）は、第１導出接続孔３０８が開放し、排気導入室３０２の内部が第１個別排気管３１０と連通する。
【０００７】
したがって、処理室内で基板に第１処理流体が使用される処理が行われているときに、切換羽根３１２を第２閉塞位置に位置させておけば、排気導入室３０２の内部が第１個別排気管３１０と連通し、第１処理流体を含む排気が排気導入室３０２および第１個別排気管３１０を通って、第１排気処理設備へと導かれる。また、処理室内で基板に第２処理流体が使用される処理が行われているときに、切換羽根３１２を第１閉塞位置に位置させておけば、排気導入室３０２の内部が第２個別排気管３１１と連通し、第２処理流体を含む排気が排気導入室３０２および第２個別排気管３１１を通って、第２排気処理設備へと導かれる。
【０００８】
このように、切換羽根３１２の位置の切換えにより、処理室からの排気を２つの個別排気管３１０，３１１に選択的に流通させることができる。このため、第１処理流体を含む排気と第２処理流体を含む排気とを、互いに異なる排気設備に導くことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−１２５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従来から枚葉式の基板処理装置は、複数の処理室（チャンバ）を備えている。各処理室では、酸系の処理、アルカリ系の処理といったように、２種類の処理が可能である。図８は、従来の基板処理装置が有する問題を説明する図である。この図８に示す基板処理装置では、４つ処理室Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを備えている。図８（ａ）に示すように、全処理室において同時に第１処理流体による酸系の処理を行って排気する場合や、図８（ｂ）に示すように、全処理室において同時に第２処理流体によるアルカリ系の処理を行って排気する場合には、各処理室における排気圧に変動がないので、大きな問題はない。
【００１１】
しかしながら、図８（ｃ）に示すように、１つの処理チャンバで酸系の処理を行い、３つの処理室Ｂ，Ｃ，Ｄでアルカリ系の処理を行った場合、酸系の処理を行った処理チャンバの方が、アルカリ系の処理を行った処理チャンバよりも排気圧が大きくなってしまう。そのため、１つの処理室における酸系の処理時とアルカリ系の処理時とでは排気圧が大きく変動してしまう。この排気圧の変動にともなって、処理室内のウエハにパーティクルが付着するという問題があった。
【００１２】
そこで、この発明の目的は、排気圧の変動にともなう影響を抑制できる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記の目的を達成するための請求項１に記載の発明は、基板の処理のために複数種の処理流体が内部で使用される処理室と、前記処理室内からの排気が流通する集合排気管と、前記集合排気管が接続され、前記集合排気管から排気が導入される排気導入室と、連通孔を介して前記排気導入室に接続され、前記排気導入室からの排気が流通し、かつ開放口を有している複数の個別排気管と、前記排気導入室内に所定の回転軸線を中心に回転可能に設けられ、前記連通孔を開放・閉塞させる回転部材と、前記開放口を開放・閉塞させる遮蔽部材と、前記回転部材及び前記遮蔽部材を回転駆動するための駆動手段とを備え、前記回転部材が、前記複数の個別排気管のうちいずれか一つの連通孔を開放し、前記遮蔽部材が、前記回転部材により開放された連通孔に対応する前記個別排気管の開放口を閉塞することを特徴とするものである。
【００１４】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記駆動手段を制御する制御手段をさらに備え、前記回転部材及び前記遮蔽部材が、前記駆動手段の駆動軸の一端側に連結されることを特徴とするものである。
【００１５】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、前記個別排気管が、分岐管を有し、前記開放口が、前記排気導入室側に向けて前記分岐管に形成されていることを特徴とするものである。
【００１６】
さらに、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記回転部材には、いずれか一つの連通孔を開放する選択孔が貫通して形成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る基板処理装置によれば、処理室内において酸系処理またはアルカリ系処理を行う場合、個別排気管の連通孔のいずれかが開放されているとき、遮蔽板は、開放されている個別排気管に対応する開放口を閉塞するとともに、閉塞されている個別排気管に対応する開放口を開放しているので、この開放口からはエアが導入されている。その結果、１つの処理室における酸系処理時、アルカリ系処理時等とでは排気圧が大きく変動することはなく、排気圧の変動にともなうウエハへのパーティクルの付着を抑制できるという顕著な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を概念的に示す断面図である。
【図２】図１に示す排気切換器の構成を示す断面図である。
【図３】図２の切断面線ＩＩＩ−ＩＩＩから見た断面図である。
【図４】図１に示す基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図５】図１に示す基板処理装置において行われる処理動作を説明するための工程図である。
【図６】従来の排気切換器の構成を図解的に示す断面図である。
【図７】図１１の切断面線ＸＩＩ−ＸＩＩから見た断面図である。
【図８】従来の基板処理装置が有する問題を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２０】
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の構成を概念的に示す断面図である。この基板処理装置１は、第１処理流体としてのアルカリ性薬液、第２処理流体としての酸性薬液、第３処理流体としての有機溶剤の蒸気、および純水（ｐｕｒｅ  ｗａｔｅｒ）を用いて、基板の一例である半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗから汚染物質を除去するための洗浄処理を実行するための装置である。この実施形態では、酸性薬液としてＳＣ１（ａｍｍｏｎｉａ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｐｅｒｏｘｉｄｅ  ｍｉｘｔｕｒｅ：アンモニア過酸化水素水混合液）が用いられ、アルカリ性薬液としてふっ酸（ＨＦ）が用いられ、有機溶剤としてＩＰＡ（ｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ）が用いられる。
【００２１】
この基板処理装置１は、隔壁２により区画された処理室３内に、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面（上面）にＳＣ１を供給するための第１ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面にふっ酸を供給するための第２ノズル６と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に純水を供給するための純水ノズル７と、スピンチャック４を収容するカップ８とを備えている。
【００２２】
スピンチャック４は、ほぼ鉛直に配置されたスピン軸（図示しない）の上端に固定された円盤状のスピンベース１０と、スピンベース１０の下方に配置されて、スピン軸を駆動するためのスピンモータ１２と、スピンベース１０の周縁部に配置された複数の挟持部材１１とを備えている。複数の挟持部材１１は、スピン軸の中心軸線を中心とする円周上にほぼ等角度間隔で配置されている。
【００２３】
なお、スピンチャック４としては、挟持式のものに限らず、たとえば、ウエハＷの裏面を真空吸着することにより、ウエハＷを水平な姿勢で保持し、さらにその状態で鉛直な軸線まわりに回転することにより、その保持したウエハＷを回転させることができる真空吸着式のもの（バキュームチャック）が採用されてもよい。第１ノズル５は、たとえば、連続流の状態で処理液を吐出するストレートノズルであり、その吐出口を下方に向けた状態で、ほぼ水平に延びる第１アーム１３の先端部に取り付けられている。第１アーム１３の基端部は、カップ８の側方においてほぼ鉛直に延びる第１支持軸１４の上端部に支持されている。第１支持軸１４には、モータ（図示しない）を含む第１ノズル駆動機構１５が結合されている。第１ノズル駆動機構１５から第１支持軸１４に回転力を入力して、第１支持軸１４を回動させることにより、スピンチャック４の上方で第１アーム１３を揺動させることができる。
【００２４】
第１ノズル５には、ＳＣ１供給源（図示しない）からＳＣ１が供給されるＳＣ１供給管１６が接続されている。ＳＣ１供給管１６の途中部には、ＳＣ１供給管１６を開閉するためのＳＣ１バルブ１７が介装されている。ＳＣ１バルブ１７が開かれると、ＳＣ１供給管１６から第１ノズル５にＳＣ１が供給され、第１ノズル５からＳＣ１が吐出される。
【００２５】
スピンチャック４にウエハＷが保持され、そのウエハＷの上方に第１ノズル５が配置された状態で、第１ノズル５からＳＣ１を吐出させることにより、ウエハＷの表面にＳＣ１を供給することができる。そして、この第１ノズル５からウエハＷの表面へのＳＣ１の供給時に、第１アーム１３を所定の角度範囲内で揺動させることにより、ウエハＷの表面におけるＳＣ１の供給位置を、ウエハＷの回転中心からウエハＷの周縁部に至る範囲内を円弧状の軌跡を描きつつ移動させることができる。
【００２６】
第２ノズル６は、例えば、連続流の状態で処理液を吐出するストレートノズルであり、その吐出口を下方に向けた状態で、ほぼ水平に延びる第２アーム１８の先端部に取り付けられている。第２アーム１８の基端部は、カップ８の側方においてほぼ鉛直に延びる第２支持軸１９の上端部に支持されている。第２支持軸１９には、モータ（図示しない）を含む第２ノズル駆動機構２０が結合されている。第２ノズル駆動機構２０から第２支持軸１９に回転力を入力して、第２支持軸１９を回動させることにより、スピンチャック４の上方で第２アーム１８を揺動させることができる。
【００２７】
第２ノズル６には、ふっ酸供給源（図示しない）からふっ酸が供給されるふっ酸供給管２１が接続されている。ふっ酸供給管２１の途中部には、ふっ酸供給管２１を開閉するためのふっ酸バルブ２２が介装されている。ふっ酸バルブ２２が開かれると、ふっ酸供給管２１から第２ノズル６にふっ酸が供給され、第２ノズル６からふっ酸が吐出される。
【００２８】
スピンチャック４にウエハＷが保持され、そのウエハＷの上方に第２ノズル６が配置された状態で、第２ノズル６からふっ酸を吐出させることにより、ウエハＷの表面にふっ酸を供給することができる。そして、この第２ノズル６からウエハＷの表面へのふっ酸の供給時に、第２アーム１８を所定の角度範囲内で揺動させることにより、ウエハＷの表面におけるふっ酸の供給位置を、ウエハＷの回転中心からウエハＷの周縁部に至る範囲内を円弧状の軌跡を描きつつ移動させることができる。
【００２９】
純水ノズル７は、スピンチャック４の上方に、スピンチャック４に対して固定的に配置されている。純水ノズル７には、純水供給ライン（図示しない）から純水が供給される純水下供給管２３が接続されている。純水下供給管２３の途中部には、純水下供給管２３を開閉するための純水下バルブ２４が介装されている。純水下バルブ２４が開かれると、純水下供給管２３から純水ノズル７に純水が供給され、純水ノズル７から純水が吐出される。スピンチャック４にウエハＷが保持された状態で、純水ノズル７から純水を吐出させることにより、ウエハＷの表面の中央部に純水を供給することができる。
【００３０】
スピンチャック４の上方には、ウエハＷとほぼ同じ径を有する円板状の遮断板２５が設けられている。遮断板２５の上面には、スピンチャック４のスピン軸と共通の軸線に沿う回転軸２６が固定されている。この回転軸２６は中空に形成されていて、その内部には、ウエハＷの中心部に向けて、純水、ＩＰＡ蒸気、および不活性ガスとしての窒素ガスを供給するための上供給路２７が形成されている。この上供給路２７の下端は、遮断板２５の下面の中心に開口して中心吐出口２８が形成されている。上供給路２７には、純水供給ライン（図示しない）から純水が供給される純水上供給管２９と、窒素ガス供給源から窒素ガスが供給される窒素ガス供給管３０と、ＩＰＡ供給源（図示しない）からＩＰＡ蒸気が供給されるＩＰＡ供給管３１とが接続されている。純水上供給管２９の途中部には、純水上供給管２９を開閉するための純水上バルブ３２が介装されている。窒素ガス供給管３０の途中部には、窒素ガス供給管３０を開閉するための窒素ガスバルブ３３が介装されている。ＩＰＡ供給管３１の途中部には、ＩＰＡ供給管３１を開閉するためのＩＰＡバルブ３４が介装されている。
【００３１】
窒素ガスバルブ３３およびＩＰＡバルブ３４が閉じられた状態で、純水上バルブ３２が開かれると、純水上供給管２９から上供給路２７に純水が供給されて、中心吐出口２８から純水が吐出される。スピンチャック４にウエハＷが保持された状態で、中心吐出口２８から純水を吐出させることにより、ウエハＷの表面の中央部に純水を供給することができる。
【００３２】
純水上バルブ３２およびＩＰＡバルブ３４が閉じられた状態で、窒素ガスバルブ３３が開かれると、窒素ガス供給管３０から上供給路２７に窒素ガスが供給されて、中心吐出口２８から窒素ガスが吐出される。スピンチャック４にウエハＷが保持された状態で、中心吐出口２８から窒素ガスを吐出させることにより、ウエハＷの表面の中央部に窒素ガスを供給することができる。
【００３３】
また、純水上バルブ３２および窒素ガスバルブ３３が閉じられた状態で、ＩＰＡバルブ３４が開かれると、ＩＰＡ供給管３１から上供給路２７にＩＰＡ蒸気が供給されて、中心吐出口２８からＩＰＡ蒸気が吐出される。スピンチャック４にウエハＷが保持された状態で、中心吐出口２８からＩＰＡ蒸気を吐出させることにより、ウエハＷの表面の中央部にＩＰＡ蒸気を供給することができる。このように、中心吐出口２８から純水、窒素ガスおよびＩＰＡ蒸気を選択的に吐出させることができる。
【００３４】
遮断板２５の回転軸２６には、遮断板２５をスピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に近接した近接位置とスピンチャック４の上方に大きく退避した退避位置との間で昇降させるための遮断板昇降駆動機構３５が結合されている。カップ８は、有底円筒容器状の下カップ４０と、この下カップ４０の上方で、下カップ４０に対して昇降可能なスプラッシュガード４１とを備えている。
【００３５】
カップ８の底部には、処理液（純水）を廃液するとともにカップ８内を排気するための排気液溝４２が、ウエハＷの回転軸線（スピンチャック４のスピン軸の中心軸線）を中心とする円環状に形成されている。排気液溝４２を区画する底壁には、カップ８内の雰囲気を排気するための排気孔（図示しない）が形成されている。
【００３６】
また、カップ８の底部には、排気液溝４２を取り囲むように、ＳＣ１を回収するための第１回収溝４３およびふっ酸を回収するための第２回収溝４４が２重円環状に形成されている。排気液溝４２の外側に第２回収溝４４が形成され、第２回収溝４４の外側に第１回収溝４３が形成されている。排気液溝４２には集合排気管４５が接続されている。第１回収溝４３にはＳＣ１回収管４７が接続されている。第２回収溝４４にはふっ酸回収管４８が接続されている。
【００３７】
集合排気管４５は処理室３の外方に延びて、その下流端が排気切換器５０に接続されている。排気切換器５０には、第１個別排気管６０、第２個別排気管７０および第３個別排気管８０が接続されている。排気切換器５０は、集合排気管４５を流通する排気の流通先を、３つの個別排気管６０，７０，８０の間で切り換えるためのものである。第１個別排気管６０の下流端は、ＳＣ１を含む排気を処理するためのＳＣ１排気処理設備６１に接続されている。第２個別排気管７０の下流端は、ふっ酸排気処理設備７１に接続されている。第３個別排気管８０の下流端は、ＩＰＡ排気処理設備８１に接続されている。
【００３８】
集合排気管４５の途中部には、排気に含まれる処理液を除去するための気液分離器５１が介装されている。気液分離器５１には、排気から除去された処理液（純水など）を廃棄するための廃液管５３が接続されている。廃液管５３は廃液処理設備（図示しない）に接続されている。
【００３９】
排気源としての排気処理設備６１，７１，８１は常に負圧に維持されているため、排気液溝４２内が強制的に排気されている。このため、カップ８内からの排気が、排気液溝４２に集められた処理液（純水など）とともに、集合排気管４５を通って気液分離器５１に導かれ、気液分離器５１によって処理液が除去される。その後、排気は排気切換器５０へと導かれた後、３つの個別排気管６０，７０，８０のうち１つの個別排気管を通って、排気処理設備６１，７１，８１に向けて導かれる。一方、気液分離器５１により排気から分離された処理液は、廃液管５３を通って、廃液処理設備（図示しない）へと導かれる。
【００４０】
スプラッシュガード４１は、互いに大きさが異なる３つの傘状部材９０，９１，９２を上下方向に重ねて構成されている。スプラッシュガード４１には、例えば、サーボモータやボールねじ機構などを含むガード昇降駆動機構９３が結合されている。このガード昇降駆動機構９３によって、スプラッシュガード４１をカップ８に対して上下方向に昇降させることができる。各傘状部材９０，９１，９２は、ウエハＷの回転軸線に対してほぼ回転対称な形状を有している。
【００４１】
傘状部材９０は、ウエハＷの回転軸線を中心軸線とする円筒状の円筒部９４と、円筒部９４の上端から延びてウエハＷの回転軸線に近づくほど高くなるように傾斜する傾斜部９５と、傾斜部９５の途中部から下方に延びる排気液案内部９６とを備えている。排気液案内部９６の下端は、排気液溝４２上に位置している。円筒部９４の下端は、第２回収溝４４上に位置している。また、排気液案内部９６および円筒部９４は、スプラッシュガード４１が最下方の退避位置に下降したときに、それぞれの下端がカップ８の底面に接触しないような長さを有している。
【００４２】
傘状部材９１は、傘状部材９０を取り囲むように設けられ、ウエハＷの回転軸線を中心軸線とする同軸円筒状の円筒部９７，９８と、これら円筒部９７，９８の上端を連結し、ウエハＷの回転軸線に近づくほど高くなるように傾斜する傾斜部９９とを一体的に備えている。内側（中心側）の円筒部９７の下端は、第２回収溝４４上に位置し、外側の円筒部９８の下端は、第１回収溝４３上に位置している。また、円筒部９７，９８は、スプラッシュガード４１が最下方の退避位置に下降したときに、それぞれの下端がカップ８の底面に接触しないような長さを有している。
【００４３】
傘状部材９２は、傘状部材９１を取り囲むように設けられ、ウエハＷの回転軸線を中心軸線とする円筒状の円筒部１００と、この円筒部１００の上端からウエハＷの回転軸線に近づくほど高くなるように傾斜する傾斜部１０１とを備えている。円筒部１００は、第２回収溝４４上に位置しており、スプラッシュガード４１が最下方の退避位置に下降したときに、その下端がカップ８の底面に接触しないような長さを有している。
【００４４】
傾斜部９５，９９，１０１の上端縁は、ウエハＷの回転軸線を中心軸線とする円筒面上において、そのウエハＷの回転軸線に沿う方向（鉛直方向）に間隔を空けて位置している。これにより、傾斜部１０１の上端縁と傾斜部９９の上端縁との間には、ウエハＷから飛散するＳＣ１を進入させるための円環状の第１開口部１０２が形成されている。また、傾斜部９９の上端縁と傾斜部９５の上端縁との間には、ウエハＷから飛散するふっ酸を進入させるための円環状の第２開口部１０３が形成されている。さらに、傾斜部９５の上端縁の下方には、ウエハＷから飛散する純水を進入させるための円環状の第３開口部１０４が形成されている。
【００４５】
第１開口部１０２に進入したＳＣ１は、傘状部材９２の内壁と傘状部材９１の外壁との間を通して、第１回収溝４３に集められる。第１回収溝４３に集められたＳＣ１は、ＳＣ１回収管４７を通して、ＳＣ１回収処理設備（図示しない）に回収される。第２開口部１０３に進入したふっ酸は、傘状部材９１の内壁と傘状部材９０の外壁との間を通して、第２回収溝４４に集められる。第２回収溝４４に集められたふっ酸は、ふっ酸回収管４８を通して、ふっ酸回収処理設備（図示しない）に回収される。
【００４６】
また、第３開口部１０４に進入した純水は、傘状部材９０の排気液案内部９６の内壁を伝って、排気液溝４２に導かれる。排気液溝４２に導かれた純水は、集合排気管４５および廃液管５３を通して廃液される。
【００４７】
図２は、図１に示す排気切換器５０の構成を示す断面図である。排気切換器５０は、集合排気管４５から排気が導入される排気導入室５４と、排気導入室５４の内部に回転可能に設けられた回転部材としての回転板５５とを備えている。排気導入室５４の本体は、一方側の側面（図２で示す左側面）が開放した四角箱状の箱体５６と、箱体５６の開放面を覆う四角板状の蓋体５７とを備えている。
【００４８】
蓋体５７の中央部には、１つの導入接続孔５８が形成されている。この導入接続孔５８には、集合排気管４５の下流端が接続されている。箱体５６における蓋体５７と対向する側壁（図２で示す右側の壁）５９には、３つの導出接続孔（連通孔）６２，７２，８２（第１導出接続孔６２、第２導出接続孔７２および第３導出接続孔８２（図３（ａ）〜図３（ｄ）参照）が貫通して形成されている。これらの導出接続孔６２，７２，８２は、側壁５９と直交する回転軸線Ｃ（後述する）を中心とする円周上に、その円周方向に等角度間隔に（１２０°ずつ間隔を空けて）形成されている（図３参照）。３つの導出接続孔６２，７２，８２は、ほぼ同じ大きさを有する円形孔である。第１導出接続孔６２には、第１個別排気管６０の上流端が接続されている。第２導出接続孔７２には、第２個別排気管７０の上流端が接続されている。第３導出接続孔８２には、第３個別排気管８０の上流端が接続されている。
【００４９】
側壁５９には、蓋体５７側に向けて延びる３つの円筒部６３，７３，８３（第１円筒部６３、第２円筒部７３および第３円筒部８３）が形成されている。第１円筒部６３は、側壁５９における第１導出接続孔６２の全周縁から、側壁５９と直交する方向に延びている。第２円筒部７３は、側壁５９における第２導出接続孔７２の全周縁から、側壁５９と直交する方向に延びている。第３円筒部８３は、側壁５９における第３導出接続孔８２の全周縁から、側壁５９と直交する方向に延びている。これらの円筒部６３，７３，８３は同じ高さを有しているが、その高さは比較的小さく設定されている（例えば、５ｍｍ程度）。
【００５０】
回転板５５は、円板形状をなしており、側壁５９に接近して配置されている。回転板５５は、側壁５９に、回転軸線Ｃまわりに回転可能に支持されている。具体的には、回転板５５には、側壁５９と直交する方向に延びる回転シャフト１１０が接合板１０９を介して固定されている。回転シャフト１１０は、排気導入室５４外に延びており、側壁５９の中央部に固定された軸受１１１により回転可能に支持されている。回転板５５が支持されている回転シャフト１１０の反対側には、サーボモータなどを含む回転板駆動モータ１１２の駆動軸が駆動連結されている。側壁５９の外側にはブラケット１１３が固定されている。ブラケット１１３の内側の位置において、回転シャフト１１０にはカップリング１１４が設けられている。ブラケット１１３の外側でブラケット１１３と回転板駆動モータ１１２との間の位置において、回転シャフト１１０には遮断板１１５とカップリング１１６とが設けられている。回転板５５及び遮断板１１５は、回転板駆動モータ１１２により回転駆動される。
【００５１】
第１個別排気管６０の途中には、第１分岐管６４の一旦側が接続されている。この第１分岐管６４の他端側には第１開放口６５が形成されている。第２個別排気管７０の途中には、第２分岐管７４の一旦側が接続されている。この第２分岐管７４の他端側には第２開放口７５が形成されている。第３個別排気管８０の途中には、第３分岐管（図示しない）の一旦側が接続されている。この第３分岐管（図示しない）の他端側には第３開放口（図示しない）が形成されている。第１開放口６５、第２開放口７５、及び第３開放口（図示しない）は、遮断板１１５により遮断可能な位置に配置されている。
【００５２】
回転板５５は、第１〜第３円筒部６３，７３，８３の先端面に接するように配置されている。そして、回転板５５は、その内面が第１〜第３円筒部６３，７３，８３の先端面に接したまま回転する。回転板５５には、１つの選択孔４９が貫通して形成されている。この選択孔４９と回転軸線Ｃとの間隔は、回転軸線Ｃと導出接続孔６２，７２，８２との間の間隔とほぼ同じ大きさに設定されている。このため、回転板５５の回転軸線Ｃまわりの回転に伴って、３つの導出接続孔６２，７２，８２と順に対向する。
【００５３】
図３は、図２の切断面線ＩＩＩ−ＩＩＩから見た断面図である。
【００５４】
回転板５５には、選択孔４９は回転軸線Ｃを中心とする円弧状の長孔に形成されている。選択孔４９における回転方向の幅（より詳しくは、各導出接続孔６２，７２，８２の中心を通過する部分における回転方向の幅）Ｗ１は、第１導出接続孔６２および第２導出接続孔７２の間の回転方向の間隔Ｎ１（図３（ａ）参照）、第２導出接続孔７２および第３導出接続孔８２の間の回転方向の間隔Ｎ２（図３（ａ）参照）、第３導出接続孔８２および第１導出接続孔６２の回転方向の間隔Ｎ３よりも大きい。なお、この実施形態では、第１〜第３導出接続孔６２，７２，８２は、等角度間隔に配置されているので、間隔Ｎ１、間隔Ｎ２および間隔Ｎ３はともに同じ長さである。
【００５５】
回転板５５が、選択孔４９が第１導出接続孔６２と対向する状態（以下、「第１対向状態」という。図３（ａ）参照）にあるときは、第１導出接続孔６２が開放し、回転板５５によって第２導出接続孔７２および第３導出接続孔８２が閉塞する。そのとき、第１分岐管６４の第１開放口６５を遮蔽板１１５によって遮断され、第２分岐管７４の第２開放口７５および第３分岐管の第３開放口は開放されている。これにより、排気導入室５４の内部を第１個別排気管６０とのみ連通させることができるとともに、第２開放口７５及び第３開放口（図示しない）を介して、第２個別排気管７０及び第３個別排気管８０へのエアの導入が可能となる。
【００５６】
回転板５５が、選択孔４９が第１導出接続孔７２と対向する状態（以下、「第２対向状態」という。図３（ｂ）参照）にあるときは、第２導出接続孔７２が開放し、回転板５５によって第１導出接続孔６２および第３導出接続孔が閉塞する。そのとき、第２分岐管７４の第２開放口７５を遮蔽板１１５によって遮断され、第１分岐管６４の第１開放口６４および第３分岐管の第３開放口は開放されている。これにより、排気導入室５４の内部を第２個別排気管７０とのみ連通させることができるとともに、第１開放口６５及び第３開放口（図示しない）を介して、第１個別排気管６０及び第３個別排気管８０へのエアの導入が可能となる。
【００５７】
回転板５５が、選択孔４９が第３導出接続孔８２と対向する状態（以下、「第３対向状態」という。図３（ｃ）参照）にあるときは、第３導出接続孔８２が開放し、回転板５５によって第１導出接続孔６２および第２導出接続孔７２が閉塞する。そのとき、第３分岐管の第３開放口を遮蔽板１１５によって遮断され、第１分岐管６４の第１開放口６５および第２分岐管７４の第２開放口７５は開放されている。これにより、排気導入室５４の内部を第２個別排気管８０とのみ連通させることができるとともに、第１開放口６５及び第２開放口７５を介して、第１個別排気管６０及び第２個別排気管７０へのエアの導入が可能となる。
【００５８】
選択孔４９における回転方向の幅Ｗ１が、第１導出接続孔６２および第２導出接続孔７２の間の回転方向の間隔Ｎ１よりも大きいので、回転板５５が第１対向状態から第２対向状態まで回転移動する際には、選択孔４９と第１導出接続孔６２との重複が解かれる前に、図３（ｄ）のように選択孔４９が第２導出接続孔７２と重複する。また、選択孔４９における回転方向の幅Ｗ１が、第２導出接続孔７２および第３導出接続孔８２の間の回転方向の間隔Ｎ２よりも大きいので、回転板５５が第２対向状態から第３対向状態まで回転移動する際には、選択孔４９と第２導出接続孔７２との重複が解かれる前に選択孔４９が第３導出接続孔８２と重複する。
【００５９】
さらに、選択孔４９における回転方向の幅Ｗ１が、第３導出接続孔８２および第１導出接続孔６２の間の回転方向の間隔Ｎ３よりも大きいので、回転板５５が第２対向状態から第３対向状態まで回転移動する際には、選択孔４９と第３導出接続孔８２との重複が解かれる前に選択孔４９が第１導出接続孔６２と重複する。このため、回転板５５がいずれの回転位置にあっても、選択孔４９が１つまたは２つの導出接続孔６２，７２，８２に重複し、３つの導出接続孔６２，７２，８２の全てが閉塞することはない。したがって、回転板駆動モータ１１２に故障や誤作動が生じた場合であっても、第１〜第３導出接続孔６２，７２，８２の全ての閉塞を防止することができる。
【００６０】
この排気切換器５０では、選択孔４９が１つの導出接続孔６２，７２，８２に対向する状態では、排気導入室５４の内部が、その導出接続孔６２，７２，８２に対応する１つの個別排気管６０，７０，８０に連通する。そして、回転軸線Ｃを中心として回転板５５を回転させることにより、選択孔４９が３つの導出接続孔６２，７２，８２と順に対向する。したがって、回転板５５の選択孔４９を３つの導出接続孔６２，７２，８２のうち所望の連通孔に対向させておけば、排気導入室５４に導入された排気を、３つの個別排気管６０，７０，８０のうち所望の個別排気管に流通させることができる。このため、大型化することなく、処理室３内からの処理流体を含む排気を、所望の個別排気管６０，７０，８０に良好に導くことができる。
【００６１】
さらに、この排気切換器５０では、選択孔４９が１つの導出接続孔６２，７２，８２に対向する状態では、対向していない２つの導出接続孔６２，７２，８２に対応する第１〜第３の開放口６５，７５からは、エアが導入されることになる。
【００６２】
図４は、基板処理装置１の電気的構成を示すブロック図である。
【００６３】
基板処理装置１は、たとえば、マイクロコンピュータで構成される制御装置１２０を備えている。制御装置１２０には、スピンモータ１２、第１ノズル駆動機構１５、第２ノズル駆動機構２０、遮断板昇降駆動機構３５、ガード昇降駆動機構９３、ふっ酸バルブ２２、ＳＣ１バルブ１７、純水下バルブ２４、純水上バルブ３２、窒素ガスバルブ３３、ＩＰＡバルブ３４および回転板駆動モータ１１２が制御対象として接続されている。
【００６４】
図５は、図１に示す基板処理装置１において行われる処理動作を説明するための工程図である。装置運転中は、排気源としての排気処理設備６１，７１，８１が常に負圧に維持されており、排気液溝４２内が強制的に排気されている。また、回転板５５は第１対向状態に設定されている。
【００６５】
処理対象のウエハＷは、図示しない搬送ロボットによって基板処理装置１内に搬入されて、その表面を上方に向けた状態でスピンチャック４に保持される（ステップＳ１）。なお、このウエハＷの搬入時においては、その搬入の妨げにならないように、スプラッシュガード４１が最下方の退避位置に下げられている。この退避位置にあるスプラッシュガード４１は、傘状部材９２の上端がウエハＷの下方に位置している。また、遮断板２５は、退避位置（図１に示す位置）に配置されている。
【００６６】
ウエハＷがスピンチャック４に保持されると、スピンモータ１２が制御されて、スピンチャック４によるウエハＷの回転（スピンベース１０の回転）が開始され（ステップＳ２）、ウエハＷの回転速度が所定の液処理速度（たとえば１５００ｒｐｍ）まで上昇される。また、ガード昇降駆動機構９３が制御されて、スプラッシュガード４１が、第１開口部１０２がウエハＷの端面に対向する位置まで上昇される。さらに、第１ノズル駆動機構１５が制御されて第１アーム１３が回動し、第１ノズル５は、スピンチャック４の側方の退避位置からウエハＷの上方位置へと移動される。
【００６７】
ウエハＷの回転速度が所定の液処理速度に達すると、ＳＣ１バルブ１７が開かれて、第１ノズル５からＳＣ１が吐出される（ステップＳ３：ＳＣ１処理）。このＳＣ１処理では、第１ノズル駆動機構１５が駆動されて、第１アーム１３が所定の角度範囲内で揺動される。これによって、第１ノズル５からのＳＣ１が導かれるウエハＷの表面上の供給位置は、ウエハＷの回転中心からウエハＷの周縁部に至る範囲内を、ウエハＷの回転方向と交差する円弧状の軌跡を描きつつ往復移動する。また、ウエハＷの表面に供給されたＳＣ１は、ウエハＷの表面の全域に拡がる。これにより、ウエハＷの表面の全域に、ＳＣ１がむらなく供給される。第１ノズル５からウエハＷの表面にＳＣ１が供給されることにより、そのＳＣ１の化学的能力により、ウエハＷの表面に付着しているパーティクルなどの異物を除去することができる。ウエハＷの表面に供給されたＳＣ１は、ウエハＷの周縁から側方へ飛散し、ウエハＷの端面に対向している第１開口部１０２に飛入する。そして、傘状部材９２の内または傘状部材９１の外壁を伝って第１回収溝４３に集められ、ＳＣ１回収管４７に送られ、ＳＣ１回収処理設備（図示しない）へ導かれる。
【００６８】
回転中のウエハＷの表面にＳＣ１が供給されると、ウエハＷの周縁から飛散したＳＣ１が傘状部材９１，９２の壁面等に衝突することにより、カップ８の内部でＳＣ１のミストが発生し、カップ８の内部の雰囲気は、ＳＣ１のミストを含む雰囲気となる。このため、排気液溝４２から集合排気管４５に導入される排気はＳＣ１のミストを含んでおり、この排気が排気切換器５０の排気導入室５４へと導入される。このとき、回転板５５が第１対向状態（図３（ａ）参照）に位置しているので、排気導入室５４に導入された排気雰囲気は、第１個別排気管６０へと導入され、第１個別排気管６０を流通してＳＣ１排気処理設備６１へと導かれる。
【００６９】
また、このとき、遮蔽板１１５は第１個別排気管６０に対応する第１の開放口６５を遮蔽しているが、第２個別排気管７０に対応する第２開放口７５及び第３個別排気管８０に対応する第３開放口（図示しない）は開放されているので、負圧のため第２開放口７５及び第３開放口からはエアが導入される。
【００７０】
ウエハＷへのＳＣ１の供給開始からＳＣ１処理時間（たとえば３０秒間）が経過すると、ＳＣ１バルブ１７が閉じられて、第１ノズル５からのＳＣ１の供給が停止されるとともに、第１ノズル駆動機構１５が制御されて第１アーム１３が回動し、第１ノズル５は、ウエハＷの上方位置からスピンチャック４の側方の退避位置に退避される。また、ガード昇降駆動機構９３が駆動されて、ウエハＷの端面に第３開口部１０４が対向する位置までスプラッシュガード４１が上げられる。
【００７１】
スプラッシュガード４１の上昇後、純水下バルブ２４が開かれて、純水ノズル７の吐出口から、回転状態にあるウエハＷの表面の回転中心に向けて純水が吐出される。ウエハＷの表面に供給された純水は、ウエハＷの回転による遠心力によって、ウエハＷの周縁に向けて流れる。これにより、ウエハＷの表面に付着しているＳＣ１が純水によって洗い流される（ステップＳ４：リンス処理）。ウエハＷの周縁に向けて流れる純水は、ウエハＷの周縁から側方へ飛散する。ウエハＷの周縁から飛散する純水（ウエハＷから洗い流されたＳＣ１を含む）は、ウエハＷの端面に対向している第３開口部１０４に捕獲され、傘状部材９０の内壁を伝って排気液溝４２に集められ、その排気液溝４２から集合排気管４５および廃液管５３を通して廃液処理設備（図示しない）へ導かれる。
【００７２】
ウエハＷへの純水の供給開始から所定のリンス時間（たとえば３０秒間）が経過すると、純水下バルブ２４が閉じられて、純水ノズル７からの純水の供給が停止される。また、ガード昇降駆動機構９３が制御されて、スプラッシュガード４１が、第２開口部１０３がウエハＷの端面に対向する位置まで上昇される。さらに、第２ノズル駆動機構２０が制御されて第２アーム１８が回動し、第２ノズル６は、スピンチャック４の側方の退避位置からウエハＷの上方位置へと移動される。純水の供給開始から所定のリンス時間（たとえば３０秒間）が経過すると、純水上バルブ３２が閉じられて、中心吐出口２８からの純水の吐出が停止される。さらにまた、回転板駆動モータ１１２が駆動されて、回転板５５が第２対向状態まで回転移動される。
【００７３】
第２ノズル６がウエハＷの上方位置へ達すると、ふっ酸バルブ２２が開かれて、第２ノズル６からふっ酸が吐出される（ステップＳ５：ふっ酸処理）。このふっ酸処理では、第２ノズル駆動機構２０が駆動されて、第２アーム１８が所定の角度範囲内で揺動される。これによって、第２ノズル６からのふっ酸が導かれるウエハＷの表面上の供給位置は、ウエハＷの回転中心からウエハＷの周縁部に至る範囲内を、ウエハＷの回転方向と交差する円弧状の軌跡を描きつつ往復移動する。また、ウエハＷの表面に供給されたふっ酸は、ウエハＷの表面の全域に拡がる。これにより、ウエハＷの表面の全域に、ふっ酸が供給される。第２ノズル６からウエハＷの表面にふっ酸が供給されることにより、そのふっ酸の化学的能力により、ウエハＷの表面に形成される酸化膜を除去することができる。ウエハＷの表面に供給されたふっ酸は、ウエハＷの周縁から側方へ飛散し、ウエハＷの端面に対向している第２開口部１０３に飛入する。そして、傘状部材９１の内壁または傘状部材９０の外壁を伝って第２回収溝４４に集められ、ふっ酸回収管４８と送られ、ふっ酸回収設処理設備（図示しない）へ導かれる。
【００７４】
回転中のウエハＷの表面にふっ酸が供給されると、ウエハＷの周縁から飛散したふっ酸が傘状部材９０，９１の壁面等に衝突することにより、カップ８の内部でふっ酸のミストが発生し、カップ８の内部の雰囲気は、ふっ酸のミストを含む雰囲気となる。このため、排気液溝４２から集合排気管４５に導入される排気はふっ酸のミストを含んでおり、この排気が排気切換器５０の排気導入室５４へと導入される。このとき、回転板５５が第２対向状態（図３（ｂ）参照）に位置しているので、排気導入室５４に導入された排気雰囲気は、第２個別排気管７０へと導入され、第２個別排気管７０を流通してふっ酸排気処理設備７１へと導かれる。
【００７５】
また、このとき、遮蔽板１１５は第２個別排気管７０に対応する第２開放口７５を遮蔽しているが、第１個別排気管６０に対応する第１開放口６５及び第３個別排気管８０に対応する第３開放口（図示しない）は開放されているので、負圧のため第１開放口６５及び第３開放口からはエアが導入される。
【００７６】
ウエハＷへのふっ酸の供給開始から所定のふっ酸処理時間（たとえば３０秒間）が経過すると、ふっ酸バルブ２２が閉じられて、第２ノズル６からのふっ酸の供給が停止されるとともに、第２ノズル駆動機構２０が制御されて第２アーム１８が回動し、第２ノズル６は、ウエハＷの上方位置からスピンチャック４の側方の退避位置に退避される。また、ガード昇降駆動機構９３が駆動されて、ウエハＷの端面に第３開口部１０４が対向する位置までスプラッシュガード４１が上げられる。
【００７７】
さらに、遮断板昇降駆動機構３５が制御されて、遮断板２５が近接位置まで下げられる。遮断板２５が近接位置まで下降すると、純水上バルブ３２が開かれて、上供給路２７の中心吐出口２８から回転状態にあるウエハＷの表面の回転中心に向けて純水が吐出される。ウエハＷの表面に供給された純水は、ウエハＷの回転による遠心力によって、ウエハＷの周縁に向けて流れる。これにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸が純水によって洗い流される（ステップＳ６：リンス処理）。ウエハＷの周縁に向けて流れる純水は、ウエハＷの周縁から側方へ飛散する。ウエハＷの周縁から飛散する純水（ウエハＷから洗い流されたふっ酸を含む）は、ウエハＷの端面に対向している第３開口部１０４に捕獲され、傘状部材９０の内壁を伝って排気液溝４２に集められ、その排気液溝４２から集合排気管４５および廃液管５３を通して廃液処理設備（図示しない）へ導かれる。
【００７８】
純水の供給開始から所定のリンス時間（たとえば３０秒間）が経過すると、純水上バルブ３２が閉じられて、中心吐出口２８からの純水の吐出が停止される。また、回転板駆動モータ１１２が駆動されて、回転板５５が第３対向状態まで回転移動される。その後、ＩＰＡバルブ３４が開かれて、中心吐出口２８からＩＰＡ蒸気が吐出される。このＩＰＡ蒸気によって、ウエハＷの表面に付着している純水がＩＰＡに置換され、ＩＰＡの揮発性によってウエハＷの表面が乾燥されていく（ステップＳ７：置換処理）。
【００７９】
中心吐出口２８からＩＰＡ蒸気が吐出されると、カップ８の内部の雰囲気は、ＩＰＡ蒸気を含む雰囲気となる。このため、排気液溝４２から集合排気管４５に導入される排気はＩＰＡ蒸気を含んでおり、この排気が排気切換器５０の排気導入室５４へと導入される。このとき、回転板５５が第３対向状態（図３（ｃ）参照）に位置しているので、排気導入室５４に導入された排気雰囲気は、第３個別排気管８０へと導入され、第３個別排気管８０を流通してＩＰＡ排気処理設備８１へと導かれる。
【００８０】
また、このとき、遮蔽板１１５は第３個別排気管８０に対応する第３の開放口（図示しない）を遮蔽しているが、第１個別排気管６０に対応する第１開放口６５及び第２個別排気管７０に対応する第２開放口７５は開放されているので、負圧のため第１開放口６５及び第２開放口７５からはエアが導入される。
【００８１】
ＩＰＡ蒸気の供給開始から所定の置換時間（たとえば３０秒間）が経過すると、ＩＰＡバルブ３４が閉じられて、ウエハＷへのＩＰＡ蒸気の供給が停止される。その後、ガード昇降駆動機構９３が駆動されて、スプラッシュガード４１が最下方の退避位置まで下げられる。さらに、回転板駆動モータ１１２が駆動されて、回転板５５が第１対向状態まで回転移動される。さらにまた、窒素ガスバルブ３３が開かれて、中心吐出口２８から、ウエハＷの表面と遮断板２５の下面との間に窒素ガスが供給される。これにより、ウエハＷの表面と遮断板２５の下面との間が窒素ガスで充満される。
【００８２】
また、ウエハＷの回転速度がスピンドライ回転速度（たとえば３０００ｒｐｍ）に上げられる。これにより、リンス処理後のウエハＷの表面に付着している純水を遠心力で振り切って乾燥させるスピンドライ処理が実施される（ステップＳ８）。スピンドライ処理が所定のスピンドライ時間にわたって行われると、スピンチャック４の回転が停止され（ステップＳ９）、窒素ガスバルブ３３が閉じられる。また、遮断板昇降駆動機構３５が制御されて、遮断板２５が離間位置まで上昇される。その後、基板搬送ロボットによって処理済のウエハＷが搬出される（ステップＳ１０）。
【００８３】
以上により、この実施形態によれば、処理室３の内部で使用されている処理流体（ＳＣ１、ふっ酸およびＩＰＡ蒸気）の種別に応じて、集合排気管４５を流通する排気の流通先を、３つの個別排気管６０，７０，８０の間で切り換えることができる。これにより、３種類の処理流体（ＳＣ１、ふっ酸およびＩＰＡ蒸気）を含む排気を、互いに異なる排気処理設備６１，７１，８１に導くことができる。
【００８４】
また、ステップＳ３のＳＣ１処理、ステップＳ５のふっ酸処理、及びステップＳ７のＩＰＡ蒸気による置換処理の場合、個別排気管６０，７０，８０のいずれか開放されているとき、遮蔽板１１５は開放されている個別排気管６０，７０，８０に対応する開放口６５，７５を閉塞するとともに、閉塞されている個別排気管６０，７０，８０に対応する開放口６５，７５を開放しているので、この開放口６５，７５からはエアが導入されている。これにより、１つの処理室３における酸系の処理時、アルカリ系の処理時等とでは排気圧が大きく変動することはなく、この排気圧の変動にともなうウエハへのパーティクルの付着を抑制できる。
【００８５】
また、回転板５５と遮蔽板１１５が、回転板駆動モータ１１２の駆動軸に回転シャフト１１０を介して連結されているので、１つの駆動系という簡易な構成で、個別排気管６０，７０，８０に対応する開放口６５，７５を開放・閉塞できるとともに、個別排気管６０，７０，８０に対応する開放口６５，７５を開放・閉塞できる。
【００８６】
以上、この発明の実施形態について説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。前述の実施形態では、第１処理流体としてのＳＣ１をし、第２処理流体としてふっ酸（ＨＦ）を、第３処理流体としてＩＰＡ（ｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ）蒸気をそれぞれ例示した。しかし、第１処理流体として、ＳＣ１以外のアルカリ性薬液（たとえば、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液）を用いることもでき、また、第２処理流体として、ふっ酸以外の酸性薬液（たとえば、バファードフッ酸（Ｂｕｆｆｅｒｅｄ  ＨＦ：フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合液））を用いることもできる。また、第３処理流体として、ＩＰＡ以外の有機溶剤（たとえば、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）など）を用いることもできる。
【００８７】
また、この実施形態において、排気導入室５４の箱体５６の上壁に洗浄用開口が形成されるとともに、底壁にドレン孔が貫通して形成されていてもよい。この場合、洗浄用開口を介して排気導入室５４内に挿入されたハンドシャワーにより、排気導入室５４の壁の内面に向けて洗浄液が噴出されることにより、壁の内面に付着した付着物が除去される。洗浄後の洗浄液は、ドレン孔から排出される。
【００８８】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能で
ある。
【符号の説明】
【００８９】
１  基板処理装置
３  処理室
４５  集合排気管
４９  選択孔
５０  排気切換器
５１  気液分離器
５４  排気導入室
５５  回転板
５９  側壁
６０  第１個別排気管
６１  ＳＣ１排気処理設備
６２  第１導出接続孔（連通孔）
６４  第１分岐管
６５  第１開放口
７４  第２分岐管
７５  第２開放口
７０  第２個別排気管
７１  ふっ酸排気処理設備
７２  第２導出接続孔（連通孔）
８０  第３個別排気管
８１  ＩＰＡ排気処理設備
８２  第３導出接続孔（連通孔）
１０９  接合板
１１０  回転シャフト
１１２  回転板駆動モータ
１１５  遮蔽板
Ｃ  回転軸線
Ｃ１  回転軸線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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