(57)【要約】【課題】有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。【解決手段】テーパ面５Ａ乃至５Ｄを有する開口部３を複数形成した有機ＥＬ用マスク１のクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、各開口部３に形成される４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄのうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、開口部３の対角線Ｄ１を挟んで反対側から第１のレーザＬ１を入射させて開口部３の斜め方向に走査させる第１のレーザ光学系１７Ａと、対角線Ｄ１を挟んで２つのテーパ面の反対側から第１のレーザＬ１が入射するように、有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に移動させる第１のレーザ移動部２４Ａと、を備えている。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
テーパ面を有する開口部を複数形成した有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、
前記テーパ面をクリーニングするときには、各開口部に形成される４つのテーパ面のうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、前記開口部の対角線を挟んで反対側からレーザを入射させて前記開口部の斜め方向に走査させるレーザ走査手段と、
前記対角線を挟んで前記２つのテーパ面の反対側から前記レーザが入射するように、前記有機ＥＬ用マスクと前記レーザ走査手段とを相対的に移動させる相対移動手段と、
を備えたことを特徴とする有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項２】
前記４つのテーパ面のうち前記２つのテーパ面以外の残り２つのテーパ面に向けて、前記対角線を挟んで反対側から他のレーザを入射させて前記開口部の斜め方向に走査させる他のレーザ走査手段を備え、
前記相対移動手段は、前記対角線を挟んで前記残り２つのテーパ面の反対側から前記他のレーザが入射するように、前記有機ＥＬ用マスクと前記他のレーザ走査手段とを相対移動させること
を特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項３】
前記有機ＥＬ用マスクを複数の開口部を有する矩形エリアに分割して、この矩形エリアの対角線を挟んで２つの領域に分割したときに、
前記レーザ走査手段は、前記矩形エリアの対角線を挟んで反対側からまたは前記領域の頂点を挟んで反対側から前記領域に対して前記矩形エリアの斜め方向に前記レーザを走査し、
前記相対移動手段は、１つの領域の各開口部に対する走査を完了した後に、前記有機ＥＬ用マスクに対して前記レーザ走査手段を相対移動させること
を特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項４】
前記有機ＥＬ用マスクを複数の開口部を有する矩形エリアに分割して、この矩形エリアの対角線を挟んで２つの領域に分割したときに、
前記レーザ走査手段は前記矩形エリアの対角線を挟んで反対側からまたは前記領域の頂点を挟んで反対側から前記領域に対して前記矩形エリアの斜め方向に前記レーザを走査し、
前記他のレーザ走査手段は前記領域の頂点を挟んで反対側からまたは前記矩形エリアの対角線を挟んで反対側から前記領域に対して前記矩形エリアの斜め方向に前記レーザを走査し、
前記相対移動手段は、１つの領域の各開口部に対する走査を完了した後に、前記有機ＥＬ用マスクに対して前記レーザ走査手段と前記他のレーザ走査手段とを相対移動させること
を特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項５】
前記レーザ走査手段と前記他のレーザ走査手段とを一体的なユニットとして構成したこと
を特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項６】
前記レーザ走査手段により走査される前記テーパ面と前記レーザの光軸とのなす角度をαとしたときに、
前記相対移動手段は、「７０度＜α＜１１０度」となるように前記有機ＥＬ用マスクに対して前記レーザ走査手段を相対的に移動させること
を特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置を備えたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造装置。
【請求項８】
請求項７記載の有機ＥＬディスプレイの製造装置により製造されたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項９】
テーパ面を有する開口部を複数形成した有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、
各開口部に形成される４つのテーパ面のうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、前記開口部の対角線を挟んで反対側からレーザを入射させて前記開口部の斜め方向に前記レーザを走査させ、
前記レーザが前記対角線を挟んで前記２つのテーパ面の反対側から入射するように、前記有機ＥＬ用マスクと前記レーザ走査手段とを相対的に移動させること
を特徴とする有機ＥＬ用マスククリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザを走査して有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置、有機ＥＬディスプレイの製造装置、有機ＥＬディスプレイおよび有機ＥＬ用マスククリーニング方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイは、バックライトを必要としない低消費電力・軽量薄型の画像表示装置として多く利用されている。その構造としては、透明性のガラス基板上に有機ＥＬ薄膜層を積層しており、有機ＥＬ薄膜層は発光層を陽極層と陰極層とにより挟み込む構造を採用している。発光層はガラス基板上に有機材料を蒸着させて薄膜として形成するものが多く用いられており、ディスプレイを構成する各画素の領域を３分割してＲＧＢの３色の有機材料を蒸着させている。従って、各画素の３つの領域に異なる色の有機材料（有機色素材料）を蒸着させるために多数の開口部を形成した有機ＥＬ用マスク（シャドーマスク）を用いて蒸着を行う。この有機ＥＬ用マスクを画素ピッチ分ずつずらしながら、各色の蒸着物質を蒸着させていくことにより、発光層の蒸着プロセスが完了する。
【０００３】
蒸着プロセスを行うときには、ガラス基板だけではなく有機ＥＬ用マスクにも有機材料が付着する。有機ＥＬ用マスクは１つの蒸着プロセスだけに使用されるのではなく繰り返し使用されることから、次の蒸着プロセスを行うときに有機ＥＬ用マスクに蒸着物質が付着していると、新たなガラス基板に蒸着物質が転写して汚損させる。また、有機ＥＬ用マスクに多数形成した開口部のエッジ部分にも有機材料が蒸着して、開口部の面積を部分的にまたは全面的に閉塞させる。開口部の全部を塞いだ場合はもちろん、部分的に塞ぐことにより開口面積に変化が生じただけでも、当該有機ＥＬ用マスクを用いた場合の蒸着精度は著しく低下し、また使用に耐え得るものではなくなる。従って、有機ＥＬ用マスクを定期的に（好ましくは、１つの蒸着プロセスを完了した後に）クリーニングして、蒸着物質の除去を行っている。
【０００４】
有機ＥＬ用マスクのクリーニングとしては、界面活性剤等を用いたウェットクリーニングが主に行われている。ウェットクリーニングは有機ＥＬ用マスクに対して液体を供給して行うクリーニングである。しかし、クリーニングされる有機ＥＬ用マスクはミクロンオーダー（数十ミクロン程度）の極薄の金属板であり、ウェットクリーニング時に液圧が作用することにより歪みや変形等の大きなダメージが有機ＥＬ用マスクに与えられる。また、界面活性剤等の薬液を用いてウェットクリーニングを行うと、薬液供給機構および使用済みの薬液（排液）を処理する排液処理機構を要するため機構が複雑化し、また排液による環境汚染の問題もある。
【０００５】
一方、ウェットクリーニングの薬液を用いないクリーニングとして、有機ＥＬ用マスクに対してレーザを照射して行うクリーニング（レーザクリーニング）に関する技術が特許文献１に開示されている。金属素材の有機ＥＬ用マスクにレーザを照射することにより、有機ＥＬ用マスクと有機材料との間に剥離力を作用させている。特許文献１の技術は、この剥離力により有機ＥＬ用マスクから有機材料を除去してクリーニングを行うものである。そして、有機ＥＬ用マスクには粘着性のフィルムを貼り付けており、剥離した有機材料を粘着フィルムに転写させることで、クリーニングプロセスを行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１６９５７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
有機ＥＬ用マスクに形成される開口部は、有機ＥＬ用マスクを厚み方向に貫通して形成されるが、開口部の側面にはテーパ面が形成されることがある。例えば、エッチングにより有機ＥＬ用マスクの開口部を形成する場合には、金属を徐々に除去することにより開口部を形成するため、開口部の側面はストレートに貫通されずにテーパ面が形成される。そして、有機ＥＬ用マスクの開口部の形状は矩形になっていることから、開口部には４つのテーパ面が額縁状になって形成される。各テーパ面は有機ＥＬ用マスクの表面に対して傾斜していることはもとより、各テーパ面の傾斜角もそれぞれ異なるものになる（つまり、各テーパ面の法線方向がそれぞれ異なっている）。
【０００８】
前述した特許文献１の技術のように、レーザを有機ＥＬ用マスクの表面に照射してクリーニングを行う場合には、レーザを照射する面に対して深い角度で入射させることが望ましい。深い角度、特に９０°の角度で入射させることにより、照射される面に集光されるレーザのスポットは円形になり、有機ＥＬ用マスクの面に対して作用するパワー密度が均一になる。これにより、照射された部位によって作用するエネルギーにばらつきを生じることなく、高い洗浄度のクリーニングを行うことができる。一方、照射する面に対して浅い角度でレーザが入射すると、レーザのスポットは短径と長径との差が大きな楕円形になり、有機ＥＬ用マスクに対して作用するパワー密度が不均一になる。その結果、部位によってエネルギーにばらつきを生じるため、洗浄度が低いものとなる。
【０００９】
従って、面に対して深い角度でレーザを照射させることが望ましく、面の法線方向からレーザを照射することが最も望ましい。ただし、開口部にテーパ面が形成されている場合には、各テーパ面で法線方向が異なっており、有機ＥＬ用マスクに対して単にレーザを１方向から入射させただけでは、テーパ面によって洗浄度に大きな差を生じる。テーパ面も有機ＥＬ用マスクの一部を構成しており、当該テーパ面に蒸着物質が残存したままの場合には、新たなガラス基板に対する蒸着時に、残存している蒸着物質が転写して汚損させるために、有機ＥＬ用マスクは極めて高い洗浄度でクリーニングされなければならない。
【００１０】
そこで、本発明は、有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するため、本発明の請求項１の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、テーパ面を有する開口部を複数形成した有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記テーパ面をクリーニングするときには、各開口部に形成される４つのテーパ面のうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、前記開口部の対角線を挟んで反対側からレーザを入射させて前記開口部の斜め方向に走査させるレーザ走査手段と、前記対角線を挟んで前記２つのテーパ面の反対側から前記レーザが入射するように、前記有機ＥＬ用マスクと前記レーザ走査手段とを相対的に移動させる相対移動手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、開口部の４つのテーパ面のうち２つのテーパ面に対して深い角度でレーザを入射させて走査を行うことが出来るようになり、且つ開口部の斜め方向に走査していることから２つのテーパ面を同時にクリーニングすることができる。これにより、テーパ面に付着した蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングでき、且つクリーニング時間を大幅に短縮できる。そして、深い角度でレーザを入射させるように有機ＥＬ用マスクとレーザ走査手段とを相対移動させているため、全ての開口部のテーパ面に対して常に高い洗浄度でクリーニングを行うことができるようになる。
【００１３】
本発明の請求項２の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記４つのテーパ面のうち前記２つのテーパ面以外の残り２つのテーパ面に向けて、前記対角線を挟んで反対側から他のレーザを入射させて前記開口部の斜め方向に走査させる他のレーザ走査手段を備え、前記相対移動手段は、前記対角線を挟んで前記残り２つのテーパ面の反対側から前記他のレーザが入射するように、前記有機ＥＬ用マスクと前記他のレーザ走査手段とを相対移動させることを特徴とする。
【００１４】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、もう１つのレーザ走査手段（他のレーザ走査手段）を備えており、しかも２つのレーザ走査手段から照射されるレーザの入射方向はそれぞれ反対方向になる。これにより、開口部の４つのテーパ面のうち２つのテーパ面は１つのレーザ走査手段により、残りの２つのテーパ面はもう１つのレーザ走査手段により分担してクリーニングを行うことができる。従って、クリーニング時間を実質的に半分に短縮化できる。
【００１５】
本発明の請求項３の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記有機ＥＬ用マスクを複数の開口部を有する矩形エリアに分割して、この矩形エリアの対角線を挟んで２つの領域に分割したときに、前記レーザ走査手段は、前記矩形エリアの対角線を挟んで反対側からまたは前記領域の頂点を挟んで反対側から前記領域に対して前記矩形エリアの斜め方向に前記レーザを走査し、前記相対移動手段は、１つの領域の各開口部に対する走査を完了した後に、前記有機ＥＬ用マスクに対して前記レーザ走査手段を相対移動させることを特徴とする。
【００１６】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、位置を固定した状態で複数の開口部を有する領域に対してレーザの走査を行うことができる。相対移動は１つの領域のクリーニングが完了した後に行うため、移動回数を大幅に削減できるようになる。そして、対角線を挟んで反対側から、または頂点を挟んで反対側から斜め方向にレーザの走査を行うため、常に２つのテーパ面に対して深い角度でレーザを入射させることができる。
【００１７】
本発明の請求項４の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記有機ＥＬ用マスクを複数の開口部を有する矩形エリアに分割して、この矩形エリアの対角線を挟んで２つの領域に分割したときに、前記レーザ走査手段は前記矩形エリアの対角線を挟んで反対側からまたは前記領域の頂点を挟んで反対側から前記領域に対して前記矩形エリアの斜め方向に前記レーザを走査し、前記他のレーザ走査手段は前記領域の頂点を挟んで反対側からまたは前記矩形エリアの対角線を挟んで反対側から前記領域に対して前記矩形エリアの斜め方向に前記レーザを走査し、前記相対移動手段は、１つの領域の各開口部に対する走査を完了した後に、前記有機ＥＬ用マスクに対して前記レーザ走査手段と前記他のレーザ走査手段とを相対移動させることを特徴とする。
【００１８】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、２つのレーザ走査手段がそれぞれ領域に含まれる開口部の走査を行っているため、分担してクリーニングを行うことができる。これにより、移動回数の削減を図れると共に、クリーニング時間の短縮化を図ることができる。
【００１９】
本発明の請求項５の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記レーザ走査手段と前記他のレーザ走査手段とを一体的なユニットとして構成したことを特徴とする。
【００２０】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、２つのレーザ走査手段を一体的なユニットとして構成しているため、別個独立に位置調整を行う必要がなくなる。これにより、位置調整の手間を省略できるようになる。
【００２１】
本発明の請求項６の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記レーザ走査手段により走査される前記テーパ面と前記レーザの光軸とのなす角度をαとしたときに、前記相対移動手段は、「７０°＜α＜１１０°」となるように前記有機ＥＬ用マスクに対して前記レーザ走査手段を相対的に移動させることを特徴とする。
【００２２】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、テーパ面とレーザの光軸とのなす角度αを７０°から１１０°の間とするように相対移動させていることで、常に高い洗浄度のクリーニングを行うことができるようになる。
【００２３】
本発明の請求項７の有機ＥＬディスプレイの製造装置は、請求項１乃至６の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置を備えた事を特徴とする。また、本発明の請求項８の有機ＥＬディスプレイは、請求項７記載の有機ＥＬディスプレイの製造装置により製造されたことを特徴とする。
【００２４】
本発明の請求項９の有機ＥＬ用マスククリーニング方法は、テーパ面を有する開口部を複数形成した有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、各開口部に形成される４つのテーパ面のうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、前記開口部の対角線を挟んで反対側からレーザを入射させて前記開口部の斜め方向に前記レーザを走査させ、前記レーザが前記対角線を挟んで前記２つのテーパ面の反対側から入射するように、前記有機ＥＬ用マスクと前記レーザ走査手段とを相対的に移動させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明は、有機ＥＬ用マスクの開口部に形成される４つのテーパ面に対して常に深い角度でレーザを入射させて走査を行うことができる。これにより、テーパ面に入射するレーザのスポットを円形または円形に近い楕円形にすることができ、ばらつきのない高い洗浄度のクリーニングを行うことができる。相対移動手段は、常に深い角度でレーザをテーパ面に入射させるように相対移動させていることで、全ての開口部について高い洗浄度でクリーニングを行うことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】有機ＥＬ用マスクの平面図である。
【図２】有機ＥＬ用マスクの部分断面図および開口部の上面図である。
【図３】有機ＥＬ用マスククリーニング装置の概略構成図である。
【図４】１回目のクリーニングを行うときのレーザ光学系の位置関係を説明した図である。
【図５】１回目のクリーニングを行うときのレーザの走査方向および入射方向について説明した図である。
【図６】２回目のクリーニングを行うときのレーザ光学系の位置関係を説明した図である。
【図７】２回目のクリーニングを行うときのレーザの走査方向および入射方向について説明した図である。
【図８】１つの開口部に対して同時にレーザの走査を行う場合を説明した図である。
【図９】開口部とガルバノミラーとの位置関係を説明した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本発明の有機ＥＬ用マスククリーニング装置によりレーザ洗浄（レーザを走査して行う洗浄：レーザクリーニング）を行う対象物となる有機ＥＬ用マスク１を示している。有機ＥＬ用マスク１は、有機ＥＬディスプレイを構成するガラス基板に発光層としての有機材料（蒸着物質）を限定的な領域に蒸着してパターン形成を行うために用いられる金属板である。有機ＥＬ用マスク１は大型且つミクロンオーダーの極薄のマスク本体２を有しており、このマスク本体２に多数の開口部３がマトリクス状に規則的に配列されている。そして、マスク本体２は大型且つ極薄であることから、その保形性を維持するために補強枠としてのマスクフレーム４がマスク本体２の周囲に取り付けられている。
【００２８】
マスク本体２としては、種々の金属素材を用いることができるが、ここではコバルトとニッケルとの合金が適用されているものとする。有機ＥＬ用マスク１は発光層の有機材料を蒸着する図示しない真空蒸着槽においてガラス基板に密着させた状態で、蒸着源から有機材料を蒸着させるようにしている。発光層の蒸着物質としては種々のものを適用できるが、例えばアルミニウム錯体（トリスアルミニウム：Ａｌｑ）等の有機金属錯体を適用できる。なお、有機金属錯体以外の有機化合物（金属が含まれているものであっても、含まれていないものであってもよい）を蒸着物質として適用するものであってもよい。蒸着源から蒸発した蒸着物質は、有機ＥＬ用マスク１の開口部３からガラス基板に蒸着する。これにより、ガラス基板の画素に対応する領域に発光層としての蒸着物質が蒸着してパターンが形成される。
【００２９】
有機ＥＬ用マスク１を用いて１回の蒸着プロセスを行うと、ガラス基板だけではなく有機ＥＬ用マスク１にも蒸着物質が付着する。蒸着プロセスは繰り返し行われることから、有機ＥＬ用マスク１に付着した蒸着物質のクリーニングが所定のタイミング（好ましくは、１回の蒸着プロセスごと）で行われる。レーザ洗浄装置が配置されている洗浄槽とガラス基板に蒸着を行う真空蒸着槽とは別個独立に設けられているため、レーザ洗浄装置を行うときには有機ＥＬ用マスク１が真空蒸着槽から洗浄槽内に移行される。
【００３０】
図２（ａ）に有機ＥＬ用マスク１の部分断面図を示す。この図に示すように、開口部３はマスク本体２の厚み方向に貫通した領域になっているが、側面にテーパ面（傾斜しているフラットな面）５が形成されている。有機ＥＬ用マスク１の開口部３をエッチングにより形成した場合には、徐々に開口部３が形成されていくことから、側面がフラットにならずにテーパ面５が形成される。有機ＥＬ用マスク１の開口部３は矩形をしているため、図２（ｂ）に示すように、開口部３には４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄが形成され、上面から見て各テーパ面が額縁状に形成される。テーパ面５Ａと５Ｂとは相互に隣接しており、テーパ面５Ｃと５Ｄとは相互に隣接している。なお、図２（ｂ）では正方形の開口部３を示しているが、開口部３は長方形であってもよい。
【００３１】
従って、４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄは有機ＥＬ用マスク１の表面に対して傾斜しており、且つ各テーパ面５Ａ乃至５Ｄはそれぞれ異なる傾斜角度で傾斜している。つまり、各テーパ面５Ａ乃至５Ｄの法線方向がそれぞれ異なる角度になっており、これら法線方向は有機ＥＬ用マスク１の表面の法線方向に対しても異なる角度になっている。
【００３２】
次に、図３を用いて、有機ＥＬ用マスク１のクリーニングを行うレーザ洗浄装置（有機ＥＬ用マスククリーニング装置）について説明する。レーザ洗浄装置１０はベース１１に設置されており、有機ＥＬ用マスク１は搭載ステージ１２により搭載されている。搭載ステージ１２にはチャック部１３が取り付けられており、このチャック部１３が有機ＥＬ用マスク１のマスクフレーム４を保持する。図３にも示すように、搭載ステージ１２と有機ＥＬ用マスク１との間には微小間隔を設けるようにして、チャック部１３が有機ＥＬ用マスク１を保持する。なお、チャック部１３はマスクフレーム４の２辺、３辺または４辺を保持するものであればよい。
【００３３】
搭載ステージ１２の下部には相対移動手段としてのステージ移動部１４を備えている。ステージ移動部１４は搭載ステージ１２を図３に示すＸ方向に移動可能な移動手段となっており、例えばボールネジ手段やリニアモータ手段等の任意の移動手段を用いることができる。図３では、ステージ移動部１４はＸ方向の１方向に移動可能になっているが、Ｘ方向とＹ方向（Ｘ方向に直交する方向）との２方向に移動可能なように構成してもよい。なお、Ｘ方向およびＹ方向は水平面上の直交２軸の方向であり、この水平面と直交する方向がＺ方向（垂直方向：高さ方向）になる。
【００３４】
搭載ステージ１２に保持される有機ＥＬ用マスク１の上部には搬送空気流ＣＦが形成される。この搬送空気流ＣＦを形成するために送風手段としての送風部１５と吸引手段としての吸引部１６とが設けられている。送風部１５は送風スリット１５Ａを備えており、また吸引部１６は吸引スリット１６Ａを備えており、送風スリット１５Ａと吸引スリット１６Ａとは同じ高さ位置で対向するように配置されている。これにより、送風スリット１５Ａと吸引スリット１６Ａとの間に搬送空気流ＣＦが形成される。この搬送空気流ＣＦは有機ＥＬ用マスク１の表面に沿うような流れを有しており、極めて微弱な空気流となっている。
【００３５】
搬送空気流ＣＦの上部には、第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとの２つのレーザ光学系が設けられている。第１のレーザ光学系１７Ａは第１のレーザ光源２１Ａと第１のガルバノミラー２２Ａと第１のガルバノ駆動部２３Ａとを備えて概略構成しており、第２のレーザ光学系１７Ｂは第２のレーザ光源２１Ｂと第２のガルバノミラー２２Ｂと第２のガルバノ駆動部２３Ｂとを備えて概略構成している。第１のレーザ光学系１７Ａは有機ＥＬ用マスク１に第１のレーザＬ１を走査させるレーザ走査手段であり、第２のレーザ光学系１７Ｂは有機ＥＬ用マスク１に第２のレーザＬ２を走査させる他のレーザ走査手段である。
【００３６】
第１のレーザ光源２１Ａと第２のレーザ光源２１Ｂとは同じ波長のレーザを発振するレーザ光源であり、このため第１のレーザＬ１と第２のレーザＬ２とは同じ波長をもつレーザ（レーザ光）になる。そして、その波長は有機ＥＬ用マスク１の金属素材が反応するような波長になっている。有機ＥＬ用マスク１がコバルトとニッケルとの合金である場合には、第１のレーザＬ１および第２のレーザＬ２は当該合金が反応する５３２ｎｍ近傍の波長を持つレーザになる。勿論、有機ＥＬ用マスク１に他の金属素材を用いる場合には、当該金属が反応するレーザを発振するようにする。
【００３７】
第１のレーザ光源２１Ａから発振する第１のレーザＬ１は第１のガルバノミラー２２Ａに入射し、第２のレーザ光源２１Ｂから発振する第２のレーザＬ２は第２のガルバノミラー２２Ｂに入射する。第１のガルバノミラー２２Ａおよび第２のガルバノミラー２２Ｂは入射したレーザを反射させる反射ミラーであり、ミラー自体を微小振動させることにより、レーザの反射角度を高速に変化させる。これにより、有機ＥＬ用マスク１におけるレーザの照射位置が変化して、レーザの走査が行われることになる。第１のガルバノ駆動部２３Ａは第１のガルバノミラー２２Ａに取り付けられており、第２のガルバノ駆動部２３Ｂは第２のガルバノミラー２２Ｂに取り付けられている。そして、各ガルバノ駆動部がガルバノミラーの振動制御を行うことにより、有機ＥＬ用マスク１にレーザの走査が行われる。
【００３８】
第１のレーザ光学系１７Ａには第１のレーザ移動部２４Ａが取り付けられており、第２のレーザ光学系１７Ｂには第２のレーザ移動部２４Ｂが取り付けられている。第１のレーザ移動部２４Ａは第１のレーザ光学系１７ＡをＸ方向およびＹ方向に移動させる移動手段であり、第２のレーザ移動部２４Ｂは第２のレーザ光学系１７ＢをＸ方向およびＹ方向に移動させる移動手段であり、例えばロボット等の手段を適用できる。そして、第１のレーザ移動部２４Ａと第２のレーザ移動部２４Ｂとは独立して移動可能になっている。
【００３９】
第１のレーザ移動部２４Ａは有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に移動させる相対移動手段であり、第２のレーザ移動部２４Ｂは有機ＥＬ用マスク１と第２のレーザ光学系１７Ｂとを相対的に移動させる相対移動手段である。ここでは、第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７Ｂを有機ＥＬ用マスク１に対して移動させているが、各レーザ光学系を固定して有機ＥＬ用マスク１を移動させてもよいし（つまり、ステージ移動部１４をＸ方向およびＹ方向に移動させてもよいし）、両者を移動させてもよい。
【００４０】
なお、各レーザ光学系は前述した光学部品により構成しているが、他の光学部品（例えば、複数のレンズ群等）を備えるものであってもよい。また、各ガルバノミラーによりレーザの走査を行うようにしているが、各レーザ光源自身が微小に変位することにより走査させるものであってもよい。
【００４１】
次に、動作について説明する。有機ＥＬ用マスク１を用いて、前述した真空蒸着槽から取り出された有機ＥＬ用マスク１が搭載ステージ１２のチャック部１３により固定保持されてステージ移動部１４によりＸ方向に移動される。そして、有機ＥＬ用マスク１が第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとの下部に位置する場所でステージ移動部１４を停止させる。
【００４２】
そして、第１のレーザ移動部２４Ａと第２のレーザ移動部２４Ｂとを移動させて位置調整を行う。この位置調整について図４を用いて説明する。この図に示すように、有機ＥＬ用マスク１を縦横に６つの矩形エリアＡ１乃至Ａ６に分割する。有機ＥＬ用マスク１には多数の開口部３がマトリクス状に配列されており、この有機ＥＬ用マスク１を６つのエリアに分割した各矩形エリアにも多数の開口部３がマトリクス状に配列されている。そして、全ての矩形エリアＡ１乃至Ａ６について対角線Ｄ１を引き、この対角線Ｄ１を挟んで２つの三角形の領域（領域ＴＡ１、ＴＡ２）に分割する。なお、図４では、矩形エリアＡ１およびＡ６に対角線Ｄ１が引かれているが、残りの矩形エリアＡ２乃至Ａ５にも対角線Ｄ１を引いて、領域ＴＡ１、ＴＡ２に分割する。
【００４３】
第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７Ｂは１つの領域に含まれる各開口部３のクリーニングを行うときには固定された位置からクリーニングを行い、クリーニング完了後に次の領域の各開口部３のクリーニングを行うべく有機ＥＬ用マスク１に対して第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとを相対的に移動させる。図４では、最初に第１のレーザ光学系１７Ａが矩形エリアＡ１の領域ＴＡ１のクリーニングを行い、第２のレーザ光学系１７Ｂが矩形エリアＡ６の領域ＴＡ２のクリーニングを行う場合を示している。
【００４４】
このとき、第１のガルバノミラー２２Ａは対角線Ｄ１を挟んで領域ＴＡ１とは反対側に配置しており、第２のガルバノミラー２２Ｂは対角線Ｄ１を挟んで領域ＴＡ２とは反対側に配置している。第１のレーザ移動部２４Ａおよび第２のレーザ移動部２４Ｂは、このような配置となるように第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７Ｂを移動させる。
【００４５】
そして、第１のレーザ光源２１Ａから第１のレーザＬ１を発振させ、第２のレーザ光源２１Ｂから第２のレーザＬ２を発振させる。以下、第１のレーザＬ１について説明するが、第２のレーザＬ２についても同様である。第１のレーザ光源２１Ａから発振された第１のレーザＬ１は第１のガルバノミラー２２Ａで反射する。ガルバノ駆動部２３Ａは第１のレーザＬ１を領域ＴＡ１に向けて反射させるが、対角線Ｄ１に沿って平行に第１のレーザＬ１を走査させるようにガルバノミラー２２Ａの反射方向を微小振動させる。これにより、対角線Ｄ１の１ライン分の走査が行われる。そして、対角線Ｄ１から開始して走査するライン（走査ライン）を領域ＴＡ１の頂点Ｖ１１に向けて微小シフトさせていく。第１のレーザＬ１による走査ラインは常に対角線Ｄ１に平行となるように第１のガルバノミラー２２Ａを微小振動させる制御を行う。
【００４６】
そして、最終的に頂点Ｖ１１の位置まで走査ラインをシフトさせることにより、領域ＴＡ１のクリーニングが完了する。なお、走査ラインの幅は対角線Ｄ１と同じ幅を維持したままシフトさせていってもよく、シフトさせる毎に走査ラインの幅を狭くするようにしてもよい。
【００４７】
従って、第１のレーザＬ１は領域ＴＡ１に存在する多数の開口部３に対して走査を行っていく。前述したように、矩形エリアＡ１には多数の開口部３がマトリクス状に配置されており、各開口部３の各辺は有機ＥＬ用マスク１の各辺と平行になるように配置されている。そして、矩形エリアＡ１の対角線Ｄ１に平行な方向に第１のレーザＬ１が走査を行っていくため、矩形の各開口部３に対して第１のレーザＬ１が斜め方向に走査を行っていくことになる。
【００４８】
図５（ａ）は領域ＴＡ１の一部の開口部３を示しており、この図に示すように、走査ラインの方向は各開口部３に対して斜め方向になっている（図中で走査方向を破線で示している）。そして、第１のガルバノミラー２２Ａは対角線Ｄ１を挟んで領域ＴＡ１（クリーニングを行う領域）とは反対側から第１のレーザＬ１を入射させている。図中では、第１のレーザＬ１の入射方向を実線で示している。
【００４９】
このため、各開口部３の相互に隣接する２つのテーパ面５Ａ、５Ｂは第１のレーザＬ１の光軸に対して（傾斜角度はあるものの）対向するような関係になる。これにより、テーパ面５Ａ、５Ｂには第１のレーザＬ１が深い角度で入射する。一方で、テーパ面５Ｃ、５Ｄは第１のレーザＬ１の光軸に対して対向するような関係になっていない。これにより、第１のレーザＬ１はテーパ面５Ｃ、５Ｄに対して浅い角度で入射する。図５（ｂ）は開口部３の断面を示しており、テーパ面５Ａには深い角度で第１のレーザＬ１が入射しているものの、テーパ面５Ｃには浅い角度で第２のレーザＬ２が入射している。この点は、テーパ面５Ｂ、５Ｄについても同様である。
【００５０】
第１のレーザＬ１（第２のレーザＬ２も同様）の光路断面は円形になっており、テーパ面に対して深い角度でレーザを入射させることができればスポットは円形になるが、浅い角度で入射させればスポットは長径と短径との差が大きい楕円形になる。前述したように、スポットが円形に近づくほど有機ＥＬ用マスク１に対して作用するレーザのパワー密度は均一になる。
【００５１】
ここで、第１のレーザＬ１が有機ＥＬ用マスク１に入射すると、第１のレーザＬ１は有機ＥＬ用マスク１の金属素材が反応する波長を有しているため、有機ＥＬ用マスク１に対して熱衝撃が与えられる。つまり、テーパ面５Ａ乃至５Ｄに対しても熱衝撃が与えられる。各テーパ面には蒸着物質が膜状となって付着しており、この蒸着物質に対して熱衝撃により破砕力が作用する。そして、蒸着物質は破砕力により分解されて遊離生成物となって、上方に向けて飛散する。この遊離生成物は微小な粒径を有する紛体になっているが、同時にガスも発生する。このため、遊離生成物には紛体だけではなくガスも含まれる。
【００５２】
遊離生成物は極めて比重の小さな紛体やガスであるため、レーザによる熱衝撃により勢い良く上方に向けて飛散する。そして、図３に示したように、有機ＥＬ用マスク１の上部位置には搬送空気流ＣＦが形成されており、上方に飛散した遊離生成物は搬送空気流ＣＦに捕捉されて、吸引部１６に吸引される。これにより、飛散した遊離生成物は有機ＥＬ用マスク１に舞い戻ることがなく、有機ＥＬ用マスク１から除去することができる。
【００５３】
なお、ここでは、搬送空気流ＣＦにより飛散した遊離生成物を除去しているが、搬送空気流ＣＦ以外の方法により遊離生成物を除去するようにしてもよい。例えば、有機ＥＬ用マスク１に向けて吸引スリット１６Ａを向けて飛散した遊離生成物を吸引させるようにしてもよい。このように、有機ＥＬ用マスク１に付着した蒸着物質にレーザを照射することにより遊離生成物を上方に飛散させて、搬送空気流ＣＦにより捕捉させて搬送させることにより、完全に非接触でクリーニングを行うことができる。例えば、有機ＥＬ用マスク１に粘着フィルムを貼り付けて熱衝撃を与えた蒸着物質を付着させるような場合には、最終的には粘着フィルムを剥離しなければならず、有機ＥＬ用マスク１に対して著しいダメージが与えられるが、本発明は完全に非接触でクリーニングを行うことができるため、有機ＥＬ用マスク１にはダメージは与えられない。
【００５４】
従って、第１のレーザＬ１の熱衝撃により、蒸着物質は遊離生成物となって上方に飛散し、搬送空気流ＣＦにより捕捉されて除去される。このとき、第１のレーザＬ１のスポットが円形または円形に近い楕円形の場合には、パワー密度にばらつきがなく、テーパ面の洗浄度は高くなる。この点、テーパ面５Ａ、５Ｂについては第１のレーザＬ１を深い角度で入射させているため、円形または円形に近い楕円形のスポットが得られ、パワー密度の均一化を図れる。
【００５５】
一方、テーパ面５Ｃ、５Ｄについては、第１のレーザＬ１が浅い角度で入射するため、短径と長径とに大きな差がある楕円形のスポットになる。特に、テーパ面５Ｃ、５Ｄと第１のレーザＬ１とが平行である場合には、第１のレーザＬ１を入射させることができなくなる。従って、パワー密度に大きなばらつきがあるクリーニングが行われるか、或いは全くクリーニングが行われないようになる。これにより、洗浄度が大幅に低下する。従って、この時点では、テーパ面５Ｃ、５Ｄのクリーニングは完了していない。
【００５６】
なお、テーパ面に浅い角度で入射するレーザのパワーを強力にすることにより、パワー密度が薄い箇所についてもある程度のエネルギーを作用させることができるが、この場合には、パワー密度が濃い箇所に過剰なエネルギーが作用することにより、有機ＥＬ用マスク１にダメージを与えるおそれがある。このため、レーザのパワーを極端に大きくすることは望ましくない。
【００５７】
以上により、領域ＴＡ１の各開口部３のうちテーパ面５Ａ、５Ｂについて高い洗浄度でクリーニングを行うことができる。図４に戻って、第１のレーザ光学系１７Ａの動作と並行して、第２のレーザ光学系１７Ｂにより矩形エリアＡ６の領域ＴＡ２の各開口部３のクリーニングを行う。このクリーニングは前述したものとほぼ同じであり、対角線Ｄ１を挟んで領域ＴＡ２の反対側から対角線Ｄ１と平行に第２のレーザＬ２を走査させる。そして、領域ＴＡ２の頂点Ｖ６２に向けて走査ラインを徐々にシフトさせることにより、領域ＴＡ２のクリーニングを完了する。このときには、各開口部３のテーパ面５Ｃ、５Ｄには深い角度で第２のレーザＬ２を入射させることができ、ばらつきのない均一なクリーニングを行うことができ、高い洗浄度が得られる。ただし、テーパ面５Ａ、５Ｂについては浅い角度で第２のレーザＬ２が入射するため、高い洗浄度が得られない。従って、この時点では、矩形エリアＡ６の領域ＴＡ２の各開口部３のうちテーパ面５Ａ、５Ｂについては、クリーニングが完了していない。
【００５８】
第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとのクリーニングは並行して行われ、１つの領域のクリーニングが完了した後に、次のクリーニングを行う。１つの領域をクリーニングしている間は、有機ＥＬ用マスク１に対して第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７Ｂは固定した状態になっている。そして、１つの領域のクリーニングが完了した後に、次の領域のクリーニングを行うべく、第１のレーザ移動部２４Ａおよび第２のレーザ移動部２４Ｂにより第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７ＢはＸ方向および／またはＹ方向に移動する。この移動は同時に行うこともできるが、異なるタイミングで行うこともできる。
【００５９】
ここで、１つの領域のクリーニングを行う毎に各レーザ光学系を移動させているのは、当該領域に含まれる全ての開口部３の２つのテーパ面（５Ａおよび５Ｂ、または５Ｃおよび５Ｄ）に対してレーザを深い角度で入射させるためである。有機ＥＬ用マスク１の全ての領域に対してクリーニングを行うときに、有機ＥＬ用マスク１に対して各レーザ光学系の位置が固定されていると、場所によって各レーザの入射角が大きく変化し、洗浄度にばらつきを生じる。そこで、有機ＥＬ用マスク１を複数の矩形エリアに分割し、されにこの矩形エリアを２つに分割した領域のクリーニングが完了する毎に相対移動することで、テーパ面に対してのレーザが常に深い角度で入射させるようにしている。
【００６０】
ここでは、第１のレーザ光学系１７Ａは各矩形エリアについてＡ１からＡ６まで順番に領域ＴＡ１のクリーニングを行っていき、第２のレーザ光学系１７Ｂは各矩形エリアについてＡ６からＡ１まで順番に領域ＴＡ２のクリーニングを行っていく。これにより、全ての矩形エリアＡ１乃至Ａ６の領域ＴＡ１、ＴＡ２に対して１回目のクリーニングが完了する。ただし、この時点では、各領域ＴＡ１、ＴＡ２について、４つのテーパ面のうち２つのテーパ面は高い洗浄度でクリーニングされているが、残りの２つのテーパ面についてはレーザによる走査がされているものの洗浄度が低いままになる。このため、２回目のクリーニングとして、残り２つのテーパ面にレーザを走査させる。
【００６１】
図６は矩形エリアＡ１の領域ＴＡ１を第２のレーザ光学系１７Ｂがクリーニングし、矩形エリアＡ６の領域ＴＡ２を第１のレーザ光学系１７Ａがクリーニングを行う場合を示している。この図に示すように、矩形エリアＡ６の領域ＴＡ２の頂点Ｖ６２を挟んで領域ＴＡ２とは反対側の領域（仮想的な領域）ＴＡ３から第１のレーザＬ１を入射させるようにする。ここでは、領域ＴＡ３に第１のガルバノミラー２２Ａを位置させるように、第１のレーザ移動部２４が移動させる。また、矩形エリアＡ１の領域ＴＡ１の頂点Ｖ１１を挟んで領域ＴＡ１とは反対側の領域（仮想的な領域）ＴＡ４から第２のレーザＬ２を入射させるようにする。ここでは、領域ＴＡ４に第２のガルバノミラー２２Ｂを位置させるように、第２のレーザ移動部２４が移動させる。
【００６２】
図７（ａ）は、第２のレーザＬ２が矩形エリアＡ１の領域ＴＡ１のクリーニングを行う状態を示している。この図に示すように、第２のレーザＬ２は対角線Ｄ１と平行な方向に走査させるようになっている。そして、各開口部３に対して第２のガルバノミラー２２Ｂは頂点Ｖ１１を挟んで領域ＴＡ１の反対側の領域ＴＡ３に位置しているため、図７（ｂ）に示すように、第２のレーザＬ２の光軸とテーパ面５Ｃ、５Ｄとは対向するような位置関係となっている。
【００６３】
このとき、領域ＴＡ１の各開口部３のテーパ面５Ａ、５Ｂは既に第１のレーザＬ１により高い洗浄度でクリーニングがなされている。そして、第２のレーザＬ２がテーパ面５Ｃ、５Ｄに対して深い角度で入射させることにより、当該テーパ面５Ｃ、５Ｄの洗浄度も高いものとすることができる。これにより、領域ＴＡ１の各開口部３について全てのテーパ面５Ａ乃至５Ｄを高い洗浄度でクリーニングできる。
【００６４】
これと並行して、第１のレーザ光学系１７Ａが矩形エリアＡ６の領域ＴＡ２のクリーニングを行う。これにより、領域ＴＡ２のテーパ面５Ａ、５Ｂに対して第１のレーザＬ１を深い角度で入射させることができ、当該テーパ面５Ａ、５Ｂの洗浄度を高いものとすることができる。従って、領域ＴＡ２の各開口部３について全てのテーパ面５Ａ乃至５Ｄを高い洗浄度でクリーニングできる。
【００６５】
そして、クリーニングを行う対象となる領域の頂点を挟んで反対側の領域から第１のレーザＬ１および第２のレーザＬ２を入射させるように、第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７ＢをＸ方向および／またはＹ方向に移動させる制御を行う。これにより、各矩形エリアＡ１乃至Ａ６の各領域ＴＡ１、ＴＡ２の全てのテーパ面５Ａ乃至５Ｄを高い洗浄度でクリーニングすることができる。
【００６６】
ここで、１つの開口部３に着目したクリーニングについて説明する。第１のレーザＬ１は２つのテーパ面５Ａおよび５Ｂを同時に深い角度で入射して走査させるために、（１）矩形の開口部３の斜め方向にレーザの走査を行い、（２）開口部３の対角線を挟んでテーパ面５Ａおよび５Ｂとは反対側からレーザを入射させる、という２つの条件を満たすようにしている。
【００６７】
（１）の条件については、第１のレーザＬ１を斜め方向、前述した例では対角線Ｄ１と平行な方向に走査させるべく、第１のガルバノ駆動部２３Ａが第１のガルバノミラー２２Ａの反射角度の制御を行う。第１のガルバノミラー２２Ａは、第１のガルバノ駆動部２３Ａに角度制御の設定を行えば、反射角度を自由に変化せることができる。これにより、開口部３の斜め方向に第１のレーザＬ１を斜め方向に走査を行うことができる。従って、２つのテーパ面を同時に走査することができる。つまり、４つのテーパ面をそれぞれ走査する必要がなく、２つのテーパ面を１回で走査することができる。この点は、第２のレーザＬ２についても同様である。
【００６８】
（２）の条件については、領域ＴＡ１、ＴＡ２について対角線Ｄ１を挟んで反対側から、頂点を挟んで反対側から第１のレーザＬ１、第２のレーザＬ２を入射させている。本実施形態では、第１のガルバノミラー２２Ａ、第２のガルバノミラー２２Ｂを反対側の領域に配置している。これにより、クリーニングを行う領域の全ての開口部３について、開口部３の対角線を挟んでテーパとは反対側からレーザを入射させることができるようになる。
【００６９】
従って、最低限（１）および（２）の２つの条件を満たすことにより、開口部３の４つのテーパ面のうち相互に隣接する２つのテーパ面に対して深い角度でレーザを入射させることができ、且つ１度に２つのテーパ面を走査することができる。そして、次に（２）の条件とは反対側から再度レーザを斜め方向に走査することで、４つのテーパ面を高い洗浄度でクリーニングすることができる。
【００７０】
本実施形態では、複数の開口部３を有する領域毎に各レーザ光学系を移動させていたが、１つの開口部３のクリーニングを行う毎に各レーザ光学系を移動させることもできる。この場合には、各テーパ面５Ａ乃至５Ｄに対する第１のレーザＬ１および第２のレーザＬ２の入射角を最も厳格に制御することができる。一方、有機ＥＬ用マスク１を分割した矩形エリアおよびこれを２つに分けた領域は広範な領域であるため、有機ＥＬ用マスク１と各レーザ光学系との位置関係を固定したままでレーザ走査を行うと、入射角の角度制御は低下する。
【００７１】
ただし、有機ＥＬ用マスク１に形成される開口部３は極めて多数のため、１つの開口部３毎に各レーザ光学系を移動させると、移動回数が飛躍的に増加し、移動処理が著しく煩雑になる。これにより、処理時間が大幅に長くなる。このため、ある程度の矩形エリアに分割して、領域毎に各開口部３のテーパ面５Ａ乃至５Ｄのクリーニングを行うことで、移動回数を非常に少ないものとすることができる。
【００７２】
以上説明した実施形態において、第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとの２つのレーザ光学系を用いているが、レーザ光学系は１つであってもよいし、３つ以上であってもよい。レーザ光学系が１つの場合、例えば第１のレーザ光学系１７Ａのみが設けられている場合には、各矩形エリアＡ１乃至Ａ６の全て（２つの領域ＴＡ１およびＴＡ２を含む）のクリーニングを完了した後に、有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に１８０度回転させることにより、第１のレーザ光学系１７Ａを第２のレーザ光学系１７Ｂとして機能させることができる。この状態で、各矩形エリアＡ１乃至Ａ６の全て（２つの領域ＴＡ１およびＴＡ２を含む）のクリーニングを行うことにより、クリーニング処理が完了する。
【００７３】
ただし、レーザ光学系が１つの場合には、有機ＥＬ用マスク１の全ての洗浄を１つのレーザ光学系により行うため、処理時間が長くなる。また、回転動作等も必要になる。このため、２つ以上のレーザ光学系を用いて並列的にクリーニングを行うことが望ましい。例えば、４台のレーザ光学系を用いて並列的にクリーニングを行えば、その分だけ時間短縮効果を図ることができる。ただし、レーザ光学系を増やした分だけ機構の大型化・複雑化を招来するため、処理時間と装置構成との観点から適宜にレーザ光学系の数を設定する。
【００７４】
また、前述してきた例では、レーザの走査方向を開口部３に対して斜めにすべく、第１のガルバノミラー２２Ａおよび第２のガルバノミラー２２Ｂの反射方向を制御していたが、例えばレーザ光源２１Ａ、２１Ｂ自身が開口部３に対して斜め方向に移動するようにしてもよい。この場合には、第１のガルバノミラー２２Ａおよび第２のガルバノミラー２２Ｂは不要になる。また、ステージ移動部１４が有機ＥＬ用マスク１を斜め方向に移動させれば、第１のガルバノミラー２２Ａおよび第２のガルバノミラー２２ＢはＸ方向またはＹ方向の何れか一方の方向に走査させることもできる。
【００７５】
また、前述してきた例では、第１のレーザ光学系１７Ａは矩形エリアＡ１から順番にＡ６まで、第２のレーザ光学系１７Ｂは矩形エリアＡ６から順番にＡ１までクリーニングを行っているが、クリーニングを行う矩形エリアの順番は任意に設定してもよい。そして、第１のレーザＬ１と第２のレーザＬ２とが同じ矩形エリアの同じ領域の中にある同じ開口部３を同時にクリーニングするようにしてもよい。
【００７６】
また、前述してきた例では、第１のレーザ光学系１７Ａおよび第２のレーザ光学系１７Ｂはテーパ面５の洗浄を行っているが、図４等にも示したように、テーパ面５のみの洗浄を行っているものではなく、有機ＥＬ用マスク１を全面的にクリーニングしている。この場合には、第１のレーザＬ１および第２のレーザＬ２は有機ＥＬ用マスク１の表面に対しては斜め方向から入射することになり、表面におけるスポットは楕円形になる。このため、十分な洗浄度は得られないが、ある程度の洗浄度を得ることはできる。従って、当該洗浄度が十分でない場合には、表面に直交する方向からレーザが照射されるように、改めて有機ＥＬ用マスク１に対して全面的なクリーニングを行う。
【００７７】
図８（ａ）は、矩形エリアＡ１の領域ＴＡ１に対して第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとが同時にクリーニングを行っている例を示している。第１のレーザＬ１と第２のレーザＬ２とが相互に干渉しないように、僅かな時間差を持たせているが、時間的にはほぼ同じタイミングで同じ個所に対して入射させている。つまり、第１のガルバノミラー２２Ａで反射させた第１のレーザＬ１は最初に対角線Ｄ１に沿って平行に走査させ、第２のガルバノミラー２２Ｂで反射させた第２のレーザＬ２は第１のレーザＬ１とほぼ同じタイミングで追従して走査させている。従って、第１のレーザＬ１と第２のレーザＬ２とは同じ開口部３に対して同時に入射させていることになる。
【００７８】
これにより、図８（ｂ）に示すように、テーパ面５Ａ（および５Ｂ）には第１のレーザＬ１が入射し、テーパ面５Ｃ（および５Ｄ）には第２のレーザＬ２が入射する。第１のレーザＬ１は深い角度で入射しているため、テーパ面５Ａ（および５Ｂ）を高い洗浄度でクリーニングし、第２のレーザＬ２も深い角度で入射しているため、テーパ面５Ｃ（および５Ｄ）を高い洗浄度でクリーニングする。つまり、１つの開口部３の４つのテーパ面の全てが同時に高い洗浄度でクリーニングされるようになる。
【００７９】
この場合には、第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとを独立して移動させる必要がなく、一体的に移動させることが可能になる。つまり、第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとを一体的なユニットとして構成して、当該ユニットを移動させることにより、各矩形エリアのクリーニングが可能になる。前述したように、レーザ光学系の位置を正確に調整した後にレーザを走査させており、２つのレーザ光学系を独立して動作させる場合には、２つのレーザ光学系をそれぞれ位置調整しなければならない。
【００８０】
これに対して、一体的なユニットとして構成した場合には、当該ユニットのみを位置調整すればよいため、位置調整の処理が単純になる。なお、一体的なユニットとして構成する場合には、第１のレーザ光学系１７Ａと第２のレーザ光学系１７Ｂとの位置関係を予め正確に設定しておくようにする。
【００８１】
また、前述した実施形態では、有機ＥＬ用マスク１を６つの矩形エリアＡ１乃至Ａ６に分割しているが、分割する数は任意に設定してもよい。ただし、有機ＥＬ用マスク１の分割の仕方としては、（１）開口部３の対角線と矩形エリアの対角線Ｄ１とが平行になるように、（２）開口部３のテーパ面に対して入射するレーザの入射角をαとしたときに、「７０°＜α＜１１０°」、の条件を満たすような分割の仕方が望ましい。（１）および（２）の２つの条件を満たすことが最も望ましいが、何れか１つの条件を満たすものであってもよい。
【００８２】
まず、最初の（１）の条件については、前述したように、第１のレーザＬ１および第２のレーザＬ２は矩形エリアの対角線Ｄ１に平行となるように走査を行う。このため、矩形エリアの対角線Ｄ１と開口部３の対角線とが平行になるように矩形エリアの分割を行えば、領域ＴＡ１、ＴＡ２に含まれる全ての開口部３について対角線と平行に走査を行うことができるようになる。例えば、開口部３が正方形であれば、矩形エリアが正方形となるように分割することが望ましい。これにより、常に開口部３に対して４５度の角度となるように走査を行うことができる。
【００８３】
レーザの走査は開口部３の対角線に対して平行な方向であることが望ましいが、対角線と平行な方向でなくても、開口部３に対して斜め方向であればよい。開口部３に対して斜め方向にレーザの走査を行うことにより、１度に２つのテーパ面の走査を行うことは可能になる。ただし、この場合には、２つのテーパ面の間に走査の偏りが生じるため、できる限り開口部３の対角線に対して平行に走査することが望ましい。このために、開口部３に対して平行な方向にレーザを走査するようになし、矩形エリアの対角線方向に走査するようにすることが望ましい。
【００８４】
次に、（２）の条件については、レーザの入射角αが前記のような条件を満たすことが望ましい。つまり、α＝９０°となれば、テーパ面の法線方向からレーザを入射させることができ、この場合にはテーパ面でのスポットは円形になるため、パワー密度が完全に均一になる。従って、この場合が最も洗浄度が高くなる。一方で、αが９０°からずれるに従ってスポットは楕円形になり、洗浄度が低くなる。この場合、±２０°の範囲内であれば、テーパ面から蒸着物質を剥離する効果が高くなり、高い洗浄度が得られるようになる。逆に、αがこの範囲を外れると洗浄度が低くなるばかりでなく、剥離される蒸着物質の領域が大きく変化（例えば、１０％以上の領域変化を生じる）し、レーザ走査によるクリーニングにばらつきが生じる。よって、αは９０°から±２０°の範囲内に収めるようにする。
【００８５】
そこで、αは「７０°＜α＜１１０°」としている。ここで、図９に示すように、第１のレーザＬ１の入射角をα、テーパ面の傾斜角（有機ＥＬ用マスク１の表面に対して傾斜している角度）をβ、開口部３と第１のガルバノミラー２２Ａとの水平面上の距離をＬ、有機ＥＬ用マスク１に対する第１のガルバノミラー２２Ａの高さをＨとしたときに、有機ＥＬ用マスク１に対する第１のレーザＬ１の入射角は「α―β」になる。従って、ＬおよびＨの正接との関係から、ｔａｎ（α―β）＝（Ｈ／Ｌ）になり、αについてみれば、α＝ｔａｎ―１（Ｈ／Ｌ）＋βになる。
【００８６】
そして、「７０°＜α＜１１０°」であることから、「Ｈ―１×ｔａｎ（７０°―β）＜Ｌ＜Ｈ―１×ｔａｎ（１１０°―β）」となるように開口部３と第１のガルバノミラー２２Ａ（第２のガルバノミラー２２Ｂも同様）との距離を設定することが望ましい。つまり、この条件を満たすような距離を維持するように、有機ＥＬ用マスク１と各レーザ光学系とを相対移動させるようにする。当該移動を行うように、第１のレーザ移動部２４Ａおよび第２のレーザ移動部２４Ｂの移動制御を行うようにすることで、常に高い洗浄度を得ることができるようになる。
【符号の説明】
【００８７】
１    有機ＥＬ用マスク            ３    開口部
５Ａ〜５Ｄ    テーパ面            １０    レーザ洗浄装置
１２    搭載ステージ                １４    ステージ移動部
１５    送風部                    １６    吸引部
１７Ａ    第１のレーザ光学系            １７Ｂ    第２のレーザ光学系
２２Ａ    第１のガルバノミラー            ２２Ｂ    第２のガルバノミラー
Ａ１〜Ａ６    矩形エリア            ＣＦ    搬送空気流
Ｄ１    対角線                    Ｌ１    第１のレーザ
Ｌ２    第２のレーザ                ＴＡ１    領域
ＴＡ２    領域                    Ｖ１１    頂点
Ｖ６２    頂点
【図１】
2011058063.tif 000003
【図２】
2011058063.tif 000004
【図３】
2011058063.tif 000005
【図４】
2011058063.tif 000006
【図５】
2011058063.tif 000007
【図６】
2011058063.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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