(57)【要約】【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、基板が薄膜蒸着装置に対して、第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項５】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニング・スリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に配され、前記蒸着源から放射される前記蒸着物質のうち少なくとも一部を遮断する補正板をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記補正板は、蒸着される薄膜の厚みが、実質的に同一に形成されるように備わることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記補正板は、前記パターニング・スリットシートの中心から遠ざかるほど、高さが低く形成されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記補正板は、円弧またはコサイン曲線の形状に形成されることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記補正板は、前記パターニング・スリットシートの中心での前記蒸着物質の遮断量が、前記パターニング・スリットシートの端部での前記蒸着物質の遮断量より多いように形成されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記複数個のパターニング・スリットは、互いに異なる長さを有するように形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記複数個のパターニング・スリットは、蒸着される薄膜の厚みが実質的に同一に形成されるように備わることを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記各パターニング・スリットの長さによって、前記基板上に蒸着される蒸着物質の蒸着量が制御されることを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記パターニング・スリットシートの中心部分の前記パターニング・スリットの長さが、前記パターニング・スリットシートの両端部の前記パターニング・スリットの長さより短く形成されることを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされていることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１９】
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第２側端部を向くように配され、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第１側端部を向くように配されることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２０】
前記蒸着源は、ホスト物質を放射する第１蒸着源と、前記第１蒸着源の一側に配され、ドーパント物質を放射する第２蒸着源と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２１】
前記第１蒸着源から放射される前記ホスト物質の少なくとも一部と、前記第２蒸着源から放射される前記ドーパント物質の少なくとも一部とが混合されることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２２】
前記第１蒸着源と前記第２蒸着源は、前記第１方向に沿って平行に配されることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２３】
前記蒸着源ノズル部は、前記第１蒸着源の一側に配され、前記第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第１蒸着源ノズル部と、前記第２蒸着源の一側に配され、前記第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第２蒸着源ノズル部と、を含むことを特徴とする請求項２２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２４】
前記第１蒸着源ノズル部及び前記第２蒸着源ノズル部それぞれの複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２５】
前記第１蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第２蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされていることを特徴とする請求項２４に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２６】
前記第１蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第２蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、前記基板全体にわたって、前記ホスト物質と前記ドーパント物質との混合比率が均一になるようにチルトされていることを特徴とする請求項２４に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２７】
前記第１蒸着源と前記第２蒸着源は、それぞれ線形ソースとして形成されることを特徴とする請求項２４に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２８】
前記第１蒸着源は、線形ソースとして形成され、前記第２蒸着源は、一つ以上の点ソースとして形成されることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２９】
前記第１蒸着源は、複数個の点ソースとして形成され、前記第２蒸着源は、一つ以上の点ソースとして形成され、
前記第１蒸着源を構成する複数個の点ソースは、回転自在なリボルバ形態に形成されることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３０】
前記薄膜蒸着装置は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートから構成された薄膜蒸着アセンブリを複数個具備することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３１】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
前記薄膜蒸着装置は、複数個の薄膜蒸着アセンブリを含み、
前記複数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われることを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項３２】
前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３３】
前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項３２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３４】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項３３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３５】
前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項３３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３６】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３７】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３８】
前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記パターニング・スリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３９】
前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源には、別個の蒸着物質がそれぞれ備わることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４０】
前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わった各蒸着物質が、同時に前記基板上に蒸着されることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４１】
前記薄膜蒸着アセンブリは、少なくとも三つが備わり、前記少なくとも３つの薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わる蒸着物質は、それぞれ赤色発光層材料、緑色発光層材料及び青色発光層材料であることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４２】
前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着温度が制御自在に備わることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４３】
前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着量が制御自在に備わることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着装置に関し、詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率（歩留まり）が向上した薄膜蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光ディスプレイ装置は、視野角が広くてコントラストにすぐれるだけではなく、応答速度が速いという長所を有しており、次世代ディスプレイ装置として注目を集めている。
【０００３】
一般的に、有機発光ディスプレイ装置は、それぞれアノードとカソードとから注入される正孔と電子とが発光層で再結合して発光する原理によって色相を具現できるように、アノードとカソードとの間に発光層を挿入した積層型構造を有している。しかし、このような構造では高効率発光を得難いために、それぞれの電極と発光層との間に、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層及び正孔注入層などの中間層を選択的に追加挿入して使用している。
【０００４】
しかし、発光層及び中間層などの有機薄膜の微細パターンを形成することが、実質的に非常に困難であり、このような層によって、赤色、緑色及び青色の発光効率が変わるために、従来の薄膜蒸着装置では、大面積（５Ｇ以上のマザーガラス（mother glass））に対するパターニングが不可能であり、満足すべきレベルの駆動電圧、電流密度、輝度、色純度、発光効率及び寿命などを有する大型有機発光ディスプレイ装置を製造できず、この改善が至急に望まれている。
【０００５】
一方、有機発光ディスプレイ装置は、互いに対向した第１電極及び第２電極間に、発光層及びこれを含む中間層を具備する。このとき、前記電極及び中間層は、さまざまな方法によって形成されうるが、そのうちの１つの方法が蒸着である。蒸着方法を利用して有機発光ディスプレイ装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファインメタル・マスク（fine metal mask：ＦＭＭ）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率（歩留まり）及び蒸着効率が向上した薄膜蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【０００８】
本発明において、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されうる。
【０００９】
ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドできる。
【００１０】
また、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されうる。
【００１１】
本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されうる。
【００１２】
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されうる。
【００１３】
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニング・スリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。
【００１４】
本発明において、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に配され、前記蒸着源から放射される前記蒸着物質のうち少なくとも一部を遮断する補正板をさらに含むことができる。
【００１５】
ここで、前記補正板は、蒸着される薄膜の厚みが実質的に同一に形成される。
【００１６】
また、前記補正板は、前記パターニング・スリットシートの中心から遠ざかるほど、高さが低く形成されうる。
【００１７】
ここで、前記補正板は、円弧またはコサイン曲線の形状に形成されうる。
【００１８】
また、前記補正板は、前記パターニング・スリットシートの中心での前記蒸着物質の遮断量が、前記パターニング・スリットシートの端部での前記蒸着物質の遮断量より多いように形成されうる。
【００１９】
本発明において、前記複数個のパターニング・スリットは、互いに異なる長さを有するように形成されうる。
【００２０】
ここで、前記複数個のパターニング・スリットは、蒸着される薄膜の厚みが実質的に同一に形成されるように備わりうる。
【００２１】
また、前記各パターニング・スリットの長さによって、前記基板上に蒸着される蒸着物質の蒸着量が制御されうる。
【００２２】
さらにまた、前記パターニング・スリットシートの中心部分の前記パターニング・スリットの長さが、前記パターニング・スリットシートの両端部の前記パターニング・スリットの長さより短く形成されうる。
【００２３】
本発明において、前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されうる。
【００２４】
ここで、前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされうる。
【００２５】
また、前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第２側端部を向くように配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第１側端部を向くように配されうる。
【００２６】
本発明において、前記蒸着源は、ホスト物質を放射する第１蒸着源と、前記第１蒸着源の一側に配され、ドーパント物質を放射する第２蒸着源と、を含むことができる。
【００２７】
ここで、前記第１蒸着源から放射される前記ホスト物質の少なくとも一部と、前記第２蒸着源から放射される前記ドーパント物質の少なくとも一部とが混合されうる。
【００２８】
また、前記第１蒸着源と前記第２蒸着源は、前記第１方向に沿って平行に配されうる。
【００２９】
また、前記蒸着源ノズル部は、前記第１蒸着源の一側に配され、前記第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第１蒸着源ノズル部と、前記第２蒸着源の一側に配され、前記第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第２蒸着源ノズル部とを含むことができる。
【００３０】
また、前記第１蒸着源ノズル部及び前記第２蒸着源ノズル部それぞれの複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されうる。
【００３１】
ここで、前記第１蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第２蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトできる。
【００３２】
また、前記第１蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第２蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、前記基板全体にわたって、前記ホスト物質と前記ドーパント物質との混合比率が均一になるようにチルトされうる。
【００３３】
また、前記第１蒸着源と前記第２蒸着源は、それぞれ線形ソース（linear source）として形成されうる。
【００３４】
また、前記第１蒸着源は、線形ソースとして形成され、前記第２蒸着源は、一つ以上の点ソース（point source）として形成されうる。
【００３５】
さらにまた、前記第１蒸着源は、複数個の点ソースとして形成され、前記第２蒸着源は、一つ以上の点ソースとして形成され、前記第１蒸着源を構成する複数個の点ソースは、回転自在なリボルバ（revolver）形態に形成されうる。
【００３６】
本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートから構成された薄膜蒸着アセンブリを複数個具備できる。
【００３７】
他の側面に係わる本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、前記薄膜蒸着装置は、複数個の薄膜蒸着アセンブリを含み、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【００３８】
本発明において、前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されうる。
【００３９】
ここで、前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されうる。
【００４０】
また、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドできる。
【００４１】
また、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されうる。
【００４２】
本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されうる。
【００４３】
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されうる。
【００４４】
本発明において、前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記パターニング・スリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。
【００４５】
本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源には、別個の蒸着物質がそれぞれ備わりうる。
【００４６】
本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わった各蒸着物質が、同時に前記基板上に蒸着されうる。
【００４７】
本発明において、前記薄膜蒸着アセンブリは、少なくとも三つが備わり、前記少なくとも３つの薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わる蒸着物質は、それぞれ赤色発光層材料、緑色発光層材料及び青色発光層材料でありうる。
【００４８】
本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着温度が制御自在に備わりうる。
【００４９】
本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着量が制御自在に備わりうる。
【発明の効果】
【００５０】
本発明の薄膜蒸着装置によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率(歩留まり)及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図である。
【図２】図１の薄膜蒸着装置の概略的な側面図である。
【図３】図１の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
【図４】本発明の第２実施形態による薄膜蒸着装置のパターニング・スリットシートを示す図である。
【図５】本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置のパターニング・スリットシートを示す図である。
【図６】本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置を示す図である。
【図７】本発明による薄膜蒸着装置で、蒸着源ノズルをチルトさせていないときに基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す特性図である。
【図８】本発明による薄膜蒸着装置で、蒸着源ノズルをチルトさせたときに基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す特性図である。
【図９】本発明の第５実施形態による薄膜蒸着装置を示す図である。
【図１０】本発明の第６実施形態による薄膜蒸着装置を示す図である。
【図１１】本発明の第７実施形態による薄膜蒸着装置を示す図である。
【図１２】本発明の第８実施形態による薄膜蒸着装置を示す図である。
【図１３】本発明の第９実施形態による薄膜蒸着装置を示す図である。
【図１４】本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブ・マトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による望ましい実施形態について詳細に説明する。
【００５３】
［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図であり、図２は、図１の薄膜蒸着装置の概略的な側面図であり、図３は、図１の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
【００５４】
図１、図２及び図３を参照すれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。
【００５５】
ここで、図１、図２及び図３には、説明の便宜のために、チャンバを図示していないが、図１ないし図３のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００５６】
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を通過し、基板４００に所望のパターンに蒸着させようとするなら、基本的に、チャンバ（図示せず）内部は、ファインメタル・マスク（ＦＭＭ）蒸着法と同じ高真空状態を維持しなければならない。また、パターニング・スリットシート１５０の温度が、蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない（約１００℃以下）。なぜならば、パターニング・スリットシート１５０の温度が十分に低くなってこそ、温度によるパターニング・スリットシート１５０の熱膨張問題を最小化できるからである。
【００５７】
このようなチャンバ（図示せず）内には、被蒸着体である基板４００が配される。前記基板４００は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラス（mother glass）のような大面積基板が適用されうる。
【００５８】
ここで、本発明の一実施形態では、基板４００が薄膜蒸着装置１００に対して、相対移動を行いつつ蒸着が進められることを１つの特徴とする。
【００５９】
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同一に形成されねばならない。従って、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化されねばならず、これによってＦＭＭ製作が容易ではなく、ＦＭＭを引っ張って精密なパターンにアライン（align）するのも、容易ではないという問題点が存在した。
【００６０】
かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが、互いに相対移動を行いつつ蒸着が行われることを１つの特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置１００と向かい合うように配された基板４００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ、連続して蒸着を行う。すなわち、基板４００が図１の矢印Ａ方向に移動しつつ、スキャニング（scanning）方式に蒸着が行われるのである。ここで、図面には、基板４００がチャンバ（図示せず）内で、Ｙ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、基板４００は固定されており、薄膜蒸着装置１００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能である。
【００６１】
従って、本発明の薄膜蒸着装置１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置１００の場合、基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うために、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板４００の長さよりはるかに小さく形成されうるのである。このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができるために、本発明のパターニング・スリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニング・スリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニング・スリットシート１５０が、ＦＭＭ蒸着法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほど、さらに有利になる。
【００６２】
このように、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが互いに相対移動を行いつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが、一定程度離隔されていることが望ましい。これについては後述する。
【００６３】
一方、チャンバ内で、前記基板４００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化されることによって、基板４００に蒸着が行われる。
【００６４】
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１１と、ルツボ１１１を加熱させ、ルツボ１１１内部に充填された蒸着物質１１５をルツボ１１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２とを含む。
【００６５】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０で基板４００を向く側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板４００のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１は、等間隔で形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かかる蒸着源ノズル部１２０を通過し、被蒸着体である基板４００側に向かう。このように、蒸着源ノズル部１２０上に、Ｙ軸方向、すなわち、基板４００のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される場合、パターニング・スリットシート１５０のそれぞれのパターニング・スリット１５１を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、一つの蒸着源ノズル１２１だけのサイズにのみ影響を受けるので（すなわち、Ｘ軸方向には、蒸着源ノズル１２１が一つだけ存在するのに相違ないので）、陰影（shadow）が発生しなくなる。また、多数個の蒸着源ノズル１２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス（flux）差が発生しても、その差が相殺され、蒸着均一度が一定に維持されるという効果を得ることができる。
【００６６】
一方、蒸着源１１０と基板４００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。フレーム１５５は、ほぼ窓ワクのような形態に形成され、その内側に、パターニング・スリットシート１５０が結合される。そして、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を通過し、被蒸着体である基板４００側に向かうのである。このとき、前記パターニング・スリットシート１５０は、従来のＦＭＭ、特にストライプ・タイプ（stripe type）のマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを介して製作されうる。このとき、蒸着源ノズル１２１の総数より、パターニング・スリット１５１の総数がさらに多く形成されうる。
【００６７】
一方、前述の蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニング・スリットシート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニング・スリットシート１５０は、連結部材１３５によって、互いに連結されうる。すなわち、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０が、連結部材１３５によって連結され、互いに一体に形成される。ここで、連結部材１３５は、蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質を分散させないように、蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材１３５が蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０の左右方向にのみ形成され、蒸着物質のＸ軸方向だけをガイドすると図示されているが、これは、図示の便宜のためであり、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、連結部材１３５がボックス状の密閉型に形成され、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向移動を同時にガイドすることもできる。
【００６８】
前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、基板４００に対して、相対移動を行いつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着装置１００が基板４００に対して相対移動を行うように、パターニング・スリットシート１５０は、基板４００から一定程度離隔されるように形成されている。
【００６９】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同サイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されるにつれて、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かかる大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。
【００７０】
かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００では、パターニング・スリットシート１５０が、被蒸着体である基板４００と所定間隔をおいて離隔されるように配されるのである。
【００７１】
かかる本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行うことが可能であり、マスク製作が容易になるという効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止するという効果を得ることができる。また、工程で、基板とマスクとを密着させる時間が不要となるために、製造速度が向上するという効果を得ることができる。
【００７２】
［第２実施形態］
図４は、本発明の第２実施形態による薄膜蒸着装置のパターニング・スリットシート１５０を示す図面である。本実施形態では、パターニング・スリットシート１５０の一側に補正板１５７がさらに備わるという点で、前述の第１実施形態と区別される。
【００７３】
詳細には、本発明の第２実施形態による薄膜蒸着装置は、基板全体の膜均一度を確保するために、補正板１５７をさらに具備できる。有機物放射は、コサイン法則（cosine law）によって、蒸着源ノズル１２１（図１）に垂直である部分で、最も多くの有機物が放射され、パターニング・スリットシート１５０の両端に行くほど、放射される有機物の量が減少する。従って、補正板を具備していない薄膜蒸着装置の場合、中央部分が凸型の形態を示すように蒸着膜が形成される。
【００７４】
かかる蒸着膜厚みの不均一現象を除去するために、図４に図示されているような補正板１５７が、パターニング・スリットシート１５０の一側に備わりうる。補正板１５７は、パターニング・スリットシート１５０の一面上に、ほぼ円弧状またはコサイン曲線状に配される。かかる補正板１５７は、蒸着源ノズル１２１（図１）からパターニング・スリット１５１（図１）側に移動する蒸着物質のうち一部を遮断する役割を行う。
【００７５】
すなわち、薄膜蒸着装置によって蒸着される蒸着膜は、中央部分が凸型の形態をなすために、これを均一にするためには、中央部分に向かう蒸着物質のうち一部を遮断せねばならない。従って、補正板１５７を蒸着物質の移動経路の中間に配し、蒸着物質のうち一部を遮断する。このとき、補正板１５７は、円弧状ないしコサイン曲線状に形成されるために、相対的に突出形成された中央部分には、蒸着物質が多く衝突するようになり、蒸着物質をさらに多く遮断し、エッジ部分には、蒸着物質がさらに少なく衝突するようになり、蒸着物質をさらに少なく遮断するのである。この場合、膜厚が最も薄い部分、一般的には、パターニング・スリットシート１５０の両端部分の膜厚が全体膜厚になるように、補正板１５７を形成できる。
【００７６】
このように、蒸着物質の移動経路に補正板を配することによって、薄膜蒸着装置によって蒸着された蒸着膜が補正されうる。すなわち、蒸着物質が多く蒸着される部分は、補正板の高さを高くして蒸着物質を多く遮断し、蒸着物質が少なく蒸着される部分は、補正板の高さを低くして蒸着物質を少なく遮断することによって、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように、蒸着量を補正するのである。
【００７７】
本発明によって基板に蒸着された薄膜の均一度が１〜２％誤差範囲以内で、均一に形成されることによって、製品品質及び信頼性が向上するという効果を得ることができる。
【００７８】
［第３実施形態］
図５は、本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置のパターニング・スリットシート１５０を示す図面である。本実施形態では、基板全体の膜均一度を確保するために、パターニング・スリットシート１５０の中心部分のパターニング・スリット１５１ａの長さが、パターニング・スリットシート１５０の両端部のパターニング・スリット１５１ｂの長さより短く形成されるという点で、前述の第１実施形態と区別される。
【００７９】
このように、中心部分のパターニング・スリット１５１ａの長さと、両端部のパターニング・スリット１５１ｂの長さとを異ならせて形成したパターニング・スリットシート１５０によって、前述の第２実施形態と同様に、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように、蒸着量を補正できる。本発明によって、基板に蒸着された薄膜の均一度が１〜２％誤差範囲以内で均一に形成されることによって、製品品質及び信頼性が向上するという効果を得ることができる。
【００８０】
［第４実施形態］
図６は、本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。ここで、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１１と、ルツボ１１１を加熱させ、ルツボ１１１内部に充填された蒸着物質１１５を蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２とを含む。一方、蒸着源１１０の一側には、蒸着源ノズル部１２０が配され、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。一方、蒸着源１１０と基板４００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わり、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０は、連結部材１３５によって結合される。
【００８１】
本実施形態では、蒸着源ノズル部１２０に形成された複数個の蒸着源ノズル１２１が、所定角度でチルト（tilt）されて配されるという点で、前述の第１実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル１２１は、２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂからなっており、前記２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、互いに交互に配される。このとき、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、ＸＺ平面上で、所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【００８２】
前述の第２実施形態のように、補正板１５７（図４）を具備したり、第３実施形態のように、パターニング・スリット１５１（図５）の長さを差異化させる場合、蒸着材料が補正板またはパターニング・スリットによって遮断されるために、材料の利用効率が低下しうる。よって、本実施形態では、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが所定角度でチルトされて配されるようにする。ここで、第１列の蒸着源ノズル１２１ａは、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂを向くようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル１２１ａを向くようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル１２１ａは、パターニング・スリットシート１５０の右側端部を向くように配され、右側列に配された蒸着源ノズル１２１ｂは、パターニング・スリットシート１５０の左側端部を向くように配されうるのである。
【００８３】
図７は、本発明による薄膜蒸着装置で、蒸着源ノズルをチルトさせていないときに基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示すグラフであり、図８は、本発明による薄膜蒸着装置で、蒸着源ノズルをチルトさせたときに基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示すグラフである。図７と図８とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせたときに、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚みが相対的に増大し、蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。
【００８４】
かかる構成によって、基板の中央と終端部分とでの成膜厚差が減少することになり、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が上昇するという効果を得ることができる。
【００８５】
［第５実施形態］
図９は、本発明の第５実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第５実施形態による薄膜蒸着装置は、（第１）蒸着源１１０、（第１）蒸着源ノズル部１２０、第２蒸着源１６０、第２蒸着源ノズル部１７０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。符号番号１７１は、第２蒸着源ノズル部１７０上の蒸着源ノズルである。ここで、第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１６０と基板４００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５が備わり、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１６０、第１蒸着源ノズル部１２０及び第２蒸着源ノズル部１７０、並びにパターニング・スリットシート１５０は、連結部材１３５によって結合されうる。
【００８６】
本実施形態では、ホスト物質１１５を蒸着する第１蒸着源１１０と、ドーパント物質（図示せず）を蒸着する第２蒸着源１６０とを具備し、基板４００上に、ホスト物質１１５とドーパント物質（図示せず）とを同時に蒸着させられるという点で、前述の第１実施形態と区別される。すなわち、ホスト物質１１５とドーパント物質（図示せず）とは互いに異なる温度で昇華されるために、複数の蒸着源１１０及び１６０と複数の蒸着源ノズル部１２０及び１７０はホスト物質１１５とドーパント物質（図示せず）とを同時に蒸着するために設けられる。
【００８７】
詳細には、チャンバ内で、基板４００と対向する側には、蒸着物質が収納及び加熱される第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１６０が配される。第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１６０内に収納されている蒸着物質が気化されることによって、基板４００に蒸着が行われる。すなわち、第１蒸着源１１０は、その内部にホスト物質１１５が充填されるルツボ１１１と、ルツボ１１１を加熱させ、ルツボ１１１内部に充填されたホスト物質１１５をルツボ１１１の一側、詳細には、第１蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２とを含む。一方、第２蒸着源１６０は、その内部にドーパント物質（図示せず）が充填されるルツボ１６１と、ルツボ１６１を加熱させ、ルツボ１６１内部に充填されたドーパント物質（図示せず）をルツボ１６１の一側、詳細には、第２蒸着源ノズル部１６０側に蒸発させるためのヒータ（図示せず）とを含む。
【００８８】
ここで、前記ホスト物質としては、トリス（８−ヒドロキシ−キノリナート）アルミニウム（Ａｌｑ３）、９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（ＡＮＤ）、３−tert−ブチル−９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（ＴＢＡＤＮ）、４，４’−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−４，４’−ジメチルフェニル（ＤＰＶＢｉ）、４，４’−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−４，４’−ジメチルフェニル（ｐ−ＤＭＤＰＶＢｉ）、tert（９，９−ジアリールフルオレン）（ＴＤＡＦ）、２−（９，９’−スピロビフルオレン−２−イル）−９，９’−スピロビフルオレン（ＢＳＤＦ）、２，７−ビス（９，９’−スピロビフルオレン−２−イル）−９，９’−スピロビフルオレン（ＴＳＤＦ）、ビス（９，９−ジアリールフルオレン）（ＢＤＡＦ）、４，４’−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−４，４’−ジ−（tert−ブチル）フェニル（ｐ−ＴＤＰＶＢｉ）、１，３−ビス（カルバゾール−９−イル）ベンゼン（ｍＣＰ）、１，３，５−トリス（カルバゾール−９−イル）ベンゼン（ｔＣＰ）、４，４’、４”−トリス（カルバゾール−９−イル）トリフェニルアミン（ＴｃＴａ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（ＣＢＰ）、４，４’−ビス（９−カルバゾリル）−２，２’−ジメチル−ビフェニル（ＣＢＤＰ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−９，９−ジメチル−フルオレン（ＤＭＦＬ−ＣＢＰ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−９，９−ビス（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール）フルオレン（ＦＬ−４ＣＢＰ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−９，９−ジ−トリル−フルオレン（ＤＰＦＬ−ＣＢＰ）、９，９−ビス（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール）フルオレン（ＦＬ−２ＣＢＰ）などが使われうる。
【００８９】
前記ドーパント物質としては、４，４’−ビス［４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］ビフェニル）（ＤＰＡＶＢｉ）、９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（ＡＤＮ）、３−tert−ブチル−９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（ＴＢＡＤＮ）などが使われうる。
【００９０】
【化１】
2011140717.tif 000003
【００９１】
このように、本発明の第５実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、ホスト物質１１５を蒸着する第１蒸着源１１０と、ドーパント物質（図示せず）を蒸着する第２蒸着源１６０とを具備し、基板４００上に、ホスト物質とドーパント物質とを同時に蒸着できるようにすることを１つの特徴とする。このように、ホスト物質とドーパント物質とを同時に蒸着することが可能になることによって、工程がさらに簡単で速くなり、素子効率もまた、向上するという効果を得ることができる。
【００９２】
［第６実施形態］
図１０は、本発明の第６実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第６実施形態による薄膜蒸着装置１００は、（第１）蒸着源１１０、（第１）蒸着源ノズル部１２０、第２蒸着源１６０、第２蒸着源ノズル部１７０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。ここで、第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１６０と基板４００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５が備わり、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１６０と、第１蒸着源ノズル部１２０及び第２蒸着源ノズル部１７０と、パターニング・スリットシート１５０は、連結部材１３５によって結合される。ここで、該薄膜蒸着装置１００は、ホスト物質１１５を蒸着する第１蒸着源１１０と、ドーパント物質（図示せず）を蒸着する第２蒸着源１６０とを具備し、基板４００上に、ホスト物質１１５とドーパント物質（図示せず）とを同時に蒸着できる。
【００９３】
本実施形態では、第１蒸着源ノズル部１２０と第２蒸着源ノズル部１７０とに形成された複数個の蒸着源ノズル１２１’，１７１’が所定角度でチルトされて配されるという点で、前述の第５実施形態と区別される。すなわち、蒸着源ノズル１２１’，１７１’は、ＹＺ平面上で所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【００９４】
詳細には、ドーパントの含有量は、薄膜形成材料によって可変的であるが、一般的に、薄膜形成材料（ホストとドーパントとの総重量）１００重量部を基準として、３ないし２０重量部であることが望ましい。もしドーパントの含有量が前記範囲を外れれば、有機発光素子の発光特性が低下しうる。ところで、前述の第５実施形態のように、蒸着源ノズル１２１，１７１がＺ軸と平行に配される場合、基板４００には、蒸着初期には、ドーパント物質が蒸着され、蒸着中盤には、ドーパント物質とホスト物質とが交差して蒸着され、蒸着後半には、ホスト物質が蒸着される。すなわち、各領域別に、ホスト物質とドーパント物質との混合比率差が均一ではないようになる。
【００９５】
よって、本実施形態では、蒸着源ノズル１２１’，１７１’が所定角度でチルトされて配されるようにする。ここで、第１蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１’と、第２蒸着源ノズル部１７０の蒸着源ノズル１７１’は、互いに向き合うようにチルトされうる。すなわち、第１蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１’は、第２蒸着源１７０側を向くようにチルトされ、第２蒸着源ノズル部１７０の蒸着源ノズル１７１’は、第１蒸着源１２０側を向くようにチルトされうる。
【００９６】
かかる構成によって、基板全体にわたって、ホスト物質とドーパント物質との混合比率が均一になるという効果を得ることができる。そして、ホスト物質とドーパント物質とが均一な割合で含まれていた混合物で薄膜層を形成する場合、色座標、光効率、駆動電圧、寿命のいずれの面でも向上した特性を示すことができる。
【００９７】
［第７実施形態］
図１１は、本発明の第７実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第７実施形態による薄膜蒸着装置１００は、（第１）蒸着源１１０、（第１）蒸着源ノズル部１２０、第２蒸着源１８０、第２蒸着源ノズル１８１及びパターニング・スリットシート１５０を含む。ここで、第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１８０と基板４００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５が備わり、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、第１蒸着源１１０及び第２蒸着源１８０、第１蒸着源ノズル部１２０及び第２蒸着源ノズル１８１、並びにパターニング・スリットシート１５０は、連結部材１３５によって結合される。ここで、薄膜蒸着装置１００は、ホスト物質１１５を蒸着する第１蒸着源１１０と、ドーパント物質（図示せず）を蒸着する第２蒸着源１８０とを具備し、基板４００上に、ホスト物質１１５とドーパント物質（図示せず）とを同時に蒸着できる。
【００９８】
本実施形態の薄膜蒸着装置１００は、第２蒸着源１８０が点ソース（point source）であり、線形ソース（linear source）ではないという点で、図９に示した前述の第５実施形態の薄膜蒸着装置と異なっている。前述のように、ドーパント物質は、薄膜形成材料（ホストとドーパントの総重量）１００重量部を基準として、３ないし２０重量部であることが望ましい。すなわち、薄膜形成材料のうちドーパント物質は、ホスト物質に比べて、その量がかなり少ないので、必ずしも容量が大きい線形ソースを使用する必要はない。従って、本発明の第７実施形態による薄膜蒸着装置は、ホスト物質を蒸着する第１蒸着源１１０は、線形ソースとして形成され、ドーパント物質を蒸着する第２蒸着源１８０は、点ソースとして形成される。
【００９９】
ここで、図面には点ソースである第２蒸着源が一つ備わっていると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、必要なドーパント物質の含有量によって、複数個が備わりもするのである。
【０１００】
このように、第２蒸着源１８０を点ソースでもって構成することによって、薄膜蒸着装置の構造が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
【０１０１】
［第８実施形態］
図１２は、本発明の第８実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第８実施形態による薄膜蒸着装置１００は、第１蒸着源１９０、第１蒸着源ノズル１９１、第２蒸着源１８０、第２蒸着源ノズル１８１及びパターニング・スリットシート１５０を含む。ここで、第２蒸着源１８０及び第１蒸着源１９０と基板４００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５が備わり、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、第２蒸着源１８０及び第１蒸着源１９０と、第２蒸着源ノズル１８１及び第１蒸着源ノズル１９１は、蒸着源収容部１９５内に収容され、蒸着源収容部１９５とパターニング・スリットシート１５０は、連結部材１３５によって結合されうる。ここで、薄膜蒸着装置１００は、ホスト物質を蒸着する第１蒸着源１９０と、ドーパント物質を蒸着する第２蒸着源１８０とを具備し、基板４００上に、ホスト物質とドーパント物質とを同時に蒸着できる。
【０１０２】
本実施形態では、第１蒸着源１９０もまた、線形ソースではなく、点ソースとして形成されるという点で、前述の第７実施形態と区別される。詳細には、第２蒸着源１８０及び第１蒸着源１９０と基板４００との間の距離が遠ざかるほど、線形ソースではない点ソースの方が蒸着に有利である場合がある。従って、この場合、ホスト物質を蒸着する第１蒸着源１９０及び第１蒸着源ノズル１９１を、複数個の点ソースでもって構成するが、前記第１蒸着源１９０及び第１蒸着源ノズル１９１を、回転自在なリボルバ（revolver）形態に構成できる。このように、第１蒸着源１９０及び第２蒸着源１８０を点ソースとして構成することによって、薄膜蒸着装置の構造が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
【０１０３】
［第９実施形態］
図１３は、本発明の第９実施形態による薄膜蒸着装置１０００を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第９実施形態による薄膜蒸着装置は、図１ないし図３で説明した薄膜蒸着装置が複数個備わることを１つの特徴とする。言い換えれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、赤色発光層（Ｒ）材料、緑色発光層（Ｇ）材料、青色発光層（Ｂ）材料が一度に放射されるマルチ蒸着源（multisource）を具備することを１つの特徴とする。
【０１０４】
詳細には、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００を含む。かかる第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００それぞれの構成は、図１ないし図３で説明した薄膜蒸着装置と同一であるので、ここでは、その詳細な説明は省略する。
【０１０５】
ここで、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００の蒸着源には、互いに異なる蒸着物質が備わりうる。例えば、第１薄膜蒸着アセンブリ１００には、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質が備わり、第２薄膜蒸着アセンブリ２００には、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質が備わり、第３薄膜蒸着アセンブリ３００には、青色発光層（Ｂ）の材料になる蒸着物質が備わりうる。
【０１０６】
すなわち、従来の有機発光ディスプレイ装置の製造方法では、各色相別に別途のチャンバとマスクとを具備するのが一般的であったが、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を利用すれば、１つのマルチソースで、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）及び青色発光層（Ｂ）を一度に蒸着できるのである。従って、有機発光ディスプレイ装置の生産時間が画期的に短縮されると同時に、備わらなければならないチャンバ数が減少することによって、設備コストもまた、顕著に節減されるという効果を得ることができる。
【０１０７】
この場合、図面には詳細に図示されていないが、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００のパターニング・スリットシート１５０，２５０，３５０は、互いに一定程度オフセット（offset）されて配されることによって、その蒸着領域を重畳させないことが可能である。言い換えれば、第１薄膜蒸着アセンブリ１００が赤色発光層（Ｒ）の蒸着を担当し、第２薄膜蒸着アセンブリ２００が緑色発光層（Ｇ）の蒸着を担当し、第３薄膜蒸着アセンブリ３００が青色発光層（Ｂ）の蒸着を担当する場合、第１薄膜蒸着アセンブリ１００のパターニング・スリット１５１と、第２薄膜蒸着アセンブリ２００のパターニング・スリット２５１と、第３薄膜蒸着アセンブリ３００のパターニング・スリット３５１とが、互いに同一線上に位置しないように配されることによって、基板上の互いに異なる領域に、それぞれ赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）を形成させられる。
【０１０８】
ここで、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質と、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質と、青色発光層（Ｂ）の材料になる蒸着物質は、互いに気化される温度が異なりうるので、前記第１薄膜蒸着アセンブリ１００の蒸着源１１０の温度と、前記第２薄膜蒸着アセンブリ２００の蒸着源２１０の温度と、前記第３薄膜蒸着アセンブリ３００の蒸着源３１０の温度とが互いに異なるように設定されることも可能である。
【０１０９】
一方、図面には、薄膜蒸着アセンブリが三つ備わると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、薄膜蒸着アセンブリを多数個具備でき、前記多数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれに互いに異なる物質を具備できる。例えば、薄膜蒸着アセンブリを五つ具備し、それぞれの薄膜蒸着アセンブリに、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）、赤色発光層の補助層（Ｒ’）及び緑色発光層の補助層（Ｇ’）を具備できる。
【０１１０】
このように、複数個の薄膜蒸着アセンブリを具備し、多数個の薄膜層を一度に形成できるようにすることによって、製造収率及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。また、製造工程が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
【０１１１】
図１４は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブ・マトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面を図示したものである。
【０１１２】
図１４に図示されているように、ガラス材またはプラスチック材の基板５０上に、バッファ層５１が形成されており、この上に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、有機電界発光素子（ＯＬＥＤ）とが形成される。
【０１１３】
基板５０のバッファ層５１上に、所定パターンの活性層５２が備わる。活性層５２の上部には、ゲート絶縁膜５３が備わり、ゲート絶縁膜５３上部の所定領域には、ゲート電極５４が形成される。ゲート電極５４は、薄膜トランジスタのオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。ゲート電極５４の上部には、層間絶縁膜５５が形成され、コンタクトホールを介して、ソース／ドレイン電極５６，５７が、それぞれ活性層５２のソース／ドレイン領域５２ｂ，５２ｃに接するように形成される。ここで、符号番号５２ａは、チャネル領域である。ソース／ドレイン電極５６，５７の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどからなるパッシベーション膜５８が形成され、パッシベーション膜５８の上部には、アクリル、ポリイミド、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）などの有機物質によって、平坦化膜５９が形成されている。平坦化膜５９の上部に、有機電界発光素子のアノード電極になる画素電極６１が形成され、これを覆うように、有機物によって、画素定義膜（pixel define layer）６０が形成される。画素定義膜６０に、所定の開口を形成した後、画素定義膜６０の上部及び開口が形成され、外部に露出された画素電極６１の上部に、有機膜６２を形成する。該有機膜６２は、発光層を含んだものになる。本発明は、必ずしもかかる構造に限定されるものではなく、多様な有機発光ディスプレイ装置の構造がそのまま適用されうることは言うまでもない。
【０１１４】
該有機電界発光素子は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するものであり、ここで、薄膜トランジスタのドレイン電極５６に連結され、ここからプラス（＋）電源を供給される画素電極６１と、全体画素を覆うように備わり、マイナス（−）電源を供給される対向電極６３と、それら画素電極６１と対向電極６３との間に配され、発光する有機膜６２とから構成される。
【０１１５】
画素電極６１と対向電極６３は、有機膜６２によって互いに絶縁されており、有機膜６２に互いに異なる極性の電圧を加え、有機膜６２で発光を行わせる。
【０１１６】
有機膜６２は、低分子または高分子の有機膜が使われうるが、低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：hole injection layer）、ホール輸送層（ＨＴＬ：hole transport layer）、発光層（ＥＭＬ：emission layer）、電子輸送層（ＥＴＬ：electron transport layer）、電子注入層（ＥＩＬ：electron injection layer）などが、単一あるいは複合の構造に積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、Ａｌｑ３などを始めとして多様に適用可能である。それら低分子有機膜は、真空蒸着法によって形成される。
【０１１７】
高分子有機膜の場合には、概して、ホール輸送層及び発光層として備わった構造を有し、このとき、ホール輸送層としては、ポリ３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）を使用し、発光層としては、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系及びポリフルオレン系の高分子有機物質を使用し、これを、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法などで形成できる。
【０１１８】
かかる有機膜は、必ずしもそれに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用されうることは言うまでもない。
【０１１９】
画素電極６１は、アノード電極の機能を行い、対向電極６３は、カソード電極の機能を行うが、それら画素電極６１と対向電極６３との極性は、反対になっても差し支えないことは言うまでもない。
【０１２０】
画素電極６１は、透明電極または反射型電極で備わりうるが、透明電極として使われるときには、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で備わり、反射型電極として使われるときには、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びそれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
【０１２１】
一方、対向電極６３も、透明電極または反射型電極で備わりうるが、透明電極として使われるときには、対向電極６３がカソード電極として使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物が、有機膜６２の方向を向くように蒸着された後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３のような透明電極形成用物質で、補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われるときには、上記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。
【０１２２】
かかる有機発光ディスプレイ装置で、発光層を含む有機膜６２は、例えば、前述の薄膜蒸着装置１００（図１）によって形成されうる。本発明は、これ以外にも、有機数膜トランジスタの有機膜または無期膜などの蒸着にも使用でき、その他の多様な素材の成膜工程にも適用可能である。
【０１２３】
本発明は、図面に図示された実施形態を参考にして説明したが、それらは、例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することが可能であろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるものである。
【符号の説明】
【０１２４】
５０，４００  基板
５１  バッファ層
５２  活性層
５２ａ  チャネル領域
５２ｂ  ソース領域
５２ｃ  ドレイン領域
５３  ゲート絶縁膜
５４  ゲート電極
５５  層間絶縁膜
５６  ソース電極
５７  ドレイン電極
５８  パッシベーション膜
５９  平坦化膜
６０  画素定義膜
６１  画素電極
６２  有機膜
６３  対向電極
１００  薄膜蒸着装置（第１薄膜蒸着アセンブリ）
１１０  蒸着源
１１１，１６１  ルツボ
１１２  ヒータ
１１５  蒸着物質
１２０  蒸着源ノズル部
１２１，１２１’，１２１ａ，１２１ｂ，１７１，１７１’，１９１  蒸着源ノズル
１３５  連結部材
１５０  パターニング・スリットシート
１５１，１５１ａ，１５１ｂ  バターニング・スリット
１５５  フレーム
１５７  補正板
１６０，１８０  第２蒸着源
１７０，１８１  第２蒸着源ノズル部
１９０  第１蒸着源
１９１  第１蒸着源ノズル
１９５  蒸着源収容部
２００  第２薄膜蒸着アセンブリ
２１０  第２薄膜蒸着アセンブリの蒸着源
２５０  第２薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリットシート
２５１  第２薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリット
３００  第３薄膜蒸着アセンブリ
３１０  第３薄膜蒸着アセンブリの蒸着源
３５０  第３薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリットシート
３５１  第３薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリット
１０００  薄膜蒸着装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2011140717.tif 000010
【図８】
2011140717.tif 000011
【図９】
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【図１０】
2011140717.tif 000013
【図１１】
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【図１２】
2011140717.tif 000015
【図１３】
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【図１４】
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