(57)【要約】【課題】被加熱物に加熱ムラが生じるのを防ぐことができる加熱調理器を提供する。【解決手段】加熱調理器は、給水タンクと、給水タンクからの水を加熱して水蒸気を発生させる蒸気発生装置と、蒸気発生装置からの水蒸気を加熱して過熱水蒸気を生成すると共に、被加熱物を輻射熱で加熱する上ヒータ２６と、上ヒータ２６からの過熱水蒸気、および、上ヒータ２６による輻射熱の少なくとも一方で被加熱物を加熱するための加熱庫と、上ヒータ２６を制御する制御部１００とを備えている。制御部１００は、蒸気発生装置から上ヒータ２６への水蒸気の供給を制御する蒸気供給量制御部１０１を有する。蒸気供給量制御部１０１は、上ヒータ２６が結露しない温度になるまで、蒸気発生装置から上ヒータ２６に水蒸気が供給されないようにする。【選択図】図７
2011058673.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
給水タンクと、
上記給水タンクからの水を加熱して水蒸気を発生させる蒸気発生部と、
上記蒸気発生部からの水蒸気を加熱して過熱水蒸気を生成すると共に、被加熱物を輻射熱で加熱する蒸気加熱部と、
上記蒸気加熱部からの過熱水蒸気、および、上記蒸気加熱部による輻射熱の少なくとも一方で上記被加熱物を加熱するための加熱庫と、
上記蒸気加熱部を制御する制御部と
を備え、
上記制御部は、上記蒸気発生部から上記蒸気加熱部への水蒸気の供給を制御する蒸気供給量制御部を有し、
上記蒸気供給量制御部は、上記蒸気加熱部が結露しない温度になるまで、上記蒸気発生部から上記蒸気加熱部に水蒸気が供給されないようにすることによって上記蒸気加熱部が結露する事を防止したことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
給水タンクと、
上記給水タンクからの水を加熱して水蒸気を発生させる蒸気発生部と、
上記蒸気発生部からの水蒸気を加熱して過熱水蒸気を生成すると共に、被加熱物を輻射熱で加熱する蒸気加熱部と、
上記蒸気加熱部からの過熱水蒸気、および、上記蒸気加熱部による輻射熱の少なくとも一方で上記被加熱物を加熱するための加熱庫と、
上記蒸気加熱部を制御する制御部と
を備え、
上記蒸気加熱部は第１蒸気加熱部および第２蒸気加熱部を有し、
上記第１蒸気加熱部は上記第１蒸気加熱部と上記第２蒸気加熱部との間にあり、
上記制御部は、調理開始から所定の期間、上記第２蒸気加熱部の温度よりも、上記第１蒸気加熱部の温度が高くなるように、上記第１蒸気加熱部および上記第２蒸気加熱部を制御することを特徴とする加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱調理器としては、特開２００７−２３２２７０号公報（特許文献１）に記載されているように、水蒸気をヒータで１００℃以上に加熱して過熱水蒸気とし、この過熱水蒸気で被加熱物を加熱するものがある。
【０００３】
ところで、上記水蒸気は蒸気発生装置で発生させているが、蒸気発生装置からヒータに水蒸気が供給されたときに、ヒータが十分に温まっていないことがある。この場合、上記蒸気発生装置からの水蒸気はヒータの表面で結露し、ヒータの表面温度が下がってしまう。
【０００４】
このような結露がヒータの一部で起こると、被加熱物に加熱ムラが生じてしまうという問題が出てしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２３２２７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明の課題は、被加熱物に加熱ムラが生じるのを防ぐことができる加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の加熱調理器は、
給水タンクと、
上記給水タンクからの水を加熱して水蒸気を発生させる蒸気発生部と、
上記蒸気発生部からの水蒸気を加熱して過熱水蒸気を生成すると共に、被加熱物を輻射熱で加熱する蒸気加熱部と、
上記蒸気加熱部からの過熱水蒸気、および、上記蒸気加熱部による輻射熱の少なくとも一方で上記被加熱物を加熱するための加熱庫と、
上記蒸気加熱部を制御する制御部と
を備え、
上記制御部は、上記蒸気発生部から上記蒸気加熱部への水蒸気の供給を制御する蒸気供給量制御部を有し、
上記蒸気供給量制御部は、上記蒸気加熱部が結露しない温度になるまで、上記蒸気発生部から上記蒸気加熱部に水蒸気が供給されないようにすることによって上記蒸気加熱部が結露する事を防止したことを特徴としている。
【０００８】
上記構成の加熱調理器によれば、上記蒸気供給量制御部は、蒸気加熱部が結露しない温度になるまで、蒸気発生部から上記蒸気加熱部に水蒸気が供給されないようにするので、水蒸気を蒸気加熱部に供給した際に、蒸気加熱部で水蒸気が結露することを防ぐことができる。これにより、上記蒸気加熱部に結露した場所と結露していない場所とに起因する蒸気加熱部の温度ムラを防止することができる。
【０００９】
したがって、上記蒸気加熱部の温度ムラに起因する被加熱物の加熱ムラを防止することができる。
【００１０】
本発明の加熱調理器では、
給水タンクと、
上記給水タンクからの水を加熱して水蒸気を発生させる蒸気発生部と、
上記蒸気発生部からの水蒸気を加熱して過熱水蒸気を生成すると共に、被加熱物を輻射熱で加熱する蒸気加熱部と、
上記蒸気加熱部からの過熱水蒸気、および、上記蒸気加熱部による輻射熱の少なくとも一方で上記被加熱物を加熱するための加熱庫と、
上記蒸気加熱部を制御する制御部と
を備え、
上記蒸気加熱部は第１蒸気加熱部および第２蒸気加熱部を有し、
上記第１蒸気加熱部は上記第１蒸気加熱部と上記第２蒸気加熱部との間にあり、
上記制御部は、調理開始から所定の期間、上記第２蒸気加熱部の温度よりも、上記第１蒸気加熱部の温度が高くなるように、上記第１蒸気加熱部および上記第２蒸気加熱部を制御することを特徴としている。
【００１１】
上記構成の加熱調理器によれば、上記第１蒸気加熱部および第２蒸気加熱部に対する制御部の制御によって、調理開始から所定の期間、蒸気発生部に近い側の第１蒸気加熱部の温度が、蒸気発生部から遠い第２蒸気加熱部の温度よりも高くなるので、蒸気発生部に近い側の第１蒸気加熱部の表面温度が水蒸気で低下するのを防ぐことができる。
【００１２】
したがって、上記蒸気発生部に近い側の第１蒸気加熱部と、蒸気発生部から遠い側の第２蒸気加熱部との温度差を低減できる。
【００１３】
その結果、上記第１蒸気加熱部と第２蒸気加熱部との温度差に起因する被加熱物の加熱ムラを防止することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の加熱調理器によれば、蒸気供給量制御部は、蒸気加熱部が結露しない温度になるまで、蒸気発生部から蒸気加熱部に水蒸気が供給されないようにするので、蒸気発生部からの水蒸気が蒸気加熱部の表面で結露するのを防ぐことができる。
【００１５】
したがって、上記蒸気加熱部の表面温度が結露で下がらないようにして、被加熱物に加熱ムラが生じるのを防ぐことができる。
【００１６】
本発明の加熱調理器によれば、制御部は、第２蒸気加熱部の温度よりも、第１蒸気加熱部の温度が高くなるように、第１蒸気加熱部および第２蒸気加熱部を制御するので、第２蒸気加熱部に比べて蒸気発生部に近い第１蒸気加熱部の表面温度が水蒸気で低下するのを防ぐことができる。
【００１７】
したがって、上記第１蒸気加熱部と第２蒸気加熱部との温度差を低減できる結果、第１蒸気加熱部と第２蒸気加熱部との温度差に起因する被加熱物の加熱ムラを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は本発明の一実施形態の加熱調理器の概略正面図である。
【図２】図２は上記加熱調理器を前方の斜め上方から見た概略斜視図である。
【図３】図３は上記加熱調理器を前方の斜め上方から見た概略斜視図である。
【図４】図４は上記加熱調理器を後方の斜め上方から見た概略斜視図である。
【図５】図５は上記加熱調理器を側方から見た概略斜視図である。
【図６】図６は図１のVI−VI線矢視の模式断面図である。
【図７】図７は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【図８】図８は本発明の他の実施形態の加熱調理器の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２０】
図１は本発明の一実施形態の加熱調理器の概略正面図である。
【００２１】
上記加熱調理器は、ケーシング１と、このケーシング１の前面側に取り付けられたスライド開閉式の把手付きドア２とを備えている。また、ケーシング１の前面側には、閉鎖時の把手付きドア２に隣り合うように操作パネル３を設けている。そして、操作パネル３の下方には露受容器４を配置している。
【００２２】
上記操作パネル３にはダイヤル５を回転自在に取り付けている。また、操作パネル３は液晶表示部７を有し、この液晶表示部７がダイヤル５の操作に応じた表示を行う。
【００２３】
上記露受容器４は２つの前脚６，６に着脱可能な容器である。この前脚６，６はケーシング１の底部の前側に設けられている。そして、前脚６，６に露受容器４を取り付けると、露受容器４の一部が閉鎖時の把手付きドア２の後面（裏面）の下方に位置する。これにより、把手付きドア２を開放したとき、把手付きドア２の後面の露が露受容器４内に滴下する。
【００２４】
図２は、上記把手付きドア２が開放された加熱調理器を前方の斜め上方から見た概略斜視図である。また、図３は、上記把手付きドア２が閉鎖された加熱調理器を前方の斜め上方から見た概略斜視図である。また、図４は、図３の加熱調理器を後方の斜め上方から見た概略斜視図である。なお、図２〜図４中では、ケーシング１の天部および両側部を取り外している。
【００２５】
上記ケーシング１内には、図２〜図４に示すように、被加熱物を収容する加熱庫８を設置している。また、ケーシング１内において、加熱庫８の側方かつ操作パネル３の後方の空間を電装品室９とし、加熱庫８の後方かつ電装品室９の後方の空間を吸気空間１０としている。つまり、電装品室９はケーシング１の一側面側に設けられている一方、吸気空間１０はケーシング１の後側に設けられている。
【００２６】
上記加熱庫８は開口部８ａを前面側に有し、把手付きドア２が加熱庫８の開口部８ａを開閉する。被加熱物は、加熱庫８の開口部８ａを通して、加熱庫８内に出し入れされる。また、加熱庫８の上方、下方、後方および両側方のそれぞれには、遮熱板１１，１１，…を配置している。つまり、遮熱板１１，１１，…は加熱庫８の開口部８ａを除く周囲に配置されている。また、図示しないが、遮熱板１１と加熱庫８との間の空間には断熱材を充填している。そして、加熱庫８内の気体は、排気経路１２でケーシング１の前側に案内されて、ケーシング１の前側からケーシング１外に排気される。
【００２７】
上記電装品室９内には、水蒸気を発生させる蒸気発生装置１３と、この蒸気発生装置１３に給水チューブ２０を介して接続された給水ポンプ１４と、この給水ポンプ１４の前方に配置されたタンク収納部１５とがある。そして、被加熱物の加熱時には、冷却ファン１６からの空気が電装品室９内を流れ、給水ポンプ１４などの電装品を冷却できるようにしている。
【００２８】
上記吸気空間１０は、冷却ファン１６の駆動時、ケーシング１の後側周辺の空気が４つの吸気口１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ，１７Ｄから流れ込む空間である。この吸気空間１０内の空気は冷却ファン１６に吸い込まれて電装品室９内へ吹き出される。なお、吸気口１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ，１７Ｄのそれぞれは、ケーシング１の後部に設けられた複数のスリットで構成されている。
【００２９】
上記排気経路１２は、可撓性を有する合成樹脂製の排気チューブ１８と、タンク収納部１５の側方に配置され、非可撓性を有する合成樹脂製の排気ダクト１９とを含む。
【００３０】
上記排気チューブ１８は電装品室９の後側上部から前側下部へ延びるように設置されている。そして、排気チューブ１８の後端部は加熱庫８の後部に接続されている一方、排気チューブ１８の前端部は排気ダクト１９に接続されている。
【００３１】
上記排気ダクト１９の後端は開口しており、冷却ファン１６からの空気が排気ダクト１９内に流入するようになっている。
【００３２】
なお、図２〜図４の２１は、電装品室９と吸気空間１０とを仕切る間仕切壁である。この間仕切壁２１には冷却ファン１６を取り付けている。
【００３３】
図５は、図３の加熱調理器を側方から見た概略斜視図である。
【００３４】
上記排気ダクト１９の前側の底部には排気兼排水口２２を設けている。この排気兼排水口２２はケーシング１の底部を貫通し露受容器４に対向する。また、排気ダクト１９内には排気チューブ１８の前端部が入っており、排気チューブ１８の前端部の開口が排気兼排水口２２側に向いている。
【００３５】
上記タンク収納部１５は給水タンク２３を収納している。この給水タンク２３は、図２に示すように、把手付きドア２を開放すると前面が露出し、タンク収納部１５に出し入れ可能となる。また、給水タンク２３内の水は、給水ポンプ１４の駆動により、給水チューブ２０を介して蒸気発生装置１３に供給される。蒸気発生装置１３は、給水ポンプ１４からの水を蒸気発生用ヒータ２４で加熱して、水蒸気を発生させる。
【００３６】
また、上記把手付きドア２を開放すると、トレイ４０が加熱庫８内から引き出される。このトレイ４０上には被加熱物が載置され、被加熱物はトレイ４０と共に加熱庫８内に出し入れされる。
【００３７】
上記トレイ４０は、トレイホルダ３９（図６参照）に下方から着脱可能に保持されている。このトレイホルダ３９は金属製の線材を所定の形状に折り曲げて形成されたものである。また、トレイホルダ３９の前端部は把手付きドア２の後面に着脱可能に取り付けられている。
【００３８】
また、上記把手付きドア２は、レールユニット４１によって前後方向に移動可能になっている。このレールユニット４１は、ケーシング１に固定された固定レール（図示せず）と、この固定レールに対して進退可能な可動レール４２とを有している。また、可動レール４２の前端部は把手付きドア２の後面に連結金具およびねじで連結されている。
【００３９】
図６は、図１のIV−IV線から見た模式断面図である。
【００４０】
上記加熱庫８の上側には上ヒータ収納部２５が設けられ、蒸気発生装置１３からの水蒸気が上ヒータ収納部２５内に流入するようになっている。また、上ヒータ収納部２５内には上ヒータ２６が収納されている。この上ヒータ２６は、蒸気発生装置１３からの水蒸気を加熱して過熱水蒸気を生成すると共に、被加熱物を輻射熱で加熱する。ここで、上記過熱水蒸気とは、１００℃以上の過熱状態にまで加熱された水蒸気を意味する。なお、上ヒータ２６は蒸気加熱部の一例である。
【００４１】
また、上記上ヒータ２６は下方から加熱庫８の天部８ｂで覆われている。この加熱庫８の天部８ｂは、上ヒータ２６に加熱されて加熱庫８内の被加熱物へ輻射熱を照射する輻射板として働く。また、加熱庫８の天部８ｂには複数の蒸気吹出孔２８，２８，…が設けられており、上ヒータ収納部２５内の空間は複数の蒸気吹出孔２８，２８，…を介して加熱庫８内の空間と連通している。これにより、上ヒータ収納部２５内の過熱水蒸気は、複数の蒸気吹出孔２８，２８，…からトレイ４０上の被加熱物へ向かって吹き出るようになっている。
【００４２】
一方、上記加熱庫８の下側には下ヒータ収納部２９が設けられており、この下ヒータ収納部２９内に下ヒータ３０が収納されている。
【００４３】
また、上記下ヒータ３０は上方から加熱庫８の底部８ｃで覆われている。この加熱庫８の底部８ｃの内壁面上をトレイホルダ３９の後端部が摺動する。また、加熱庫８の底部８ｃは、加熱庫８の天部８ｂと同様に輻射板として働くが、複数の蒸気吹出孔２８，２８，…のような貫通孔を有さない。つまり、下ヒータ３０は、加熱庫８の底部８ｃで完全に覆われて、加熱庫８内の空間に露出していない。これにより、被加熱物から出た油などが滴下して下ヒータ３０に付着しないようにしている。
【００４４】
図７は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【００４５】
上記加熱調理器は、加熱庫８内の空間温度を検出する庫内温度センサ４３と、上ヒータ２６の温度を検出する上ヒータ温度センサ４４と、下ヒータ３０の温度を検出する下ヒータ温度センサ４５と、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御部１００とを備えている。この庫内温度センサ４３は加熱庫８内に、上ヒータ温度センサ４４は上ヒータ収納部２５内に、下ヒータ３０は下ヒータ収納部２９内にそれぞれ設けられている（図６参照）。
【００４６】
上記蒸気制御部１００は、蒸気発生装置１３から上ヒータ２６への水蒸気の供給を制御する蒸気供給量制御部１０１を有している。この蒸気供給量制御部１０１は、上ヒータ２６が１００℃になるまで、蒸気発生装置１３から上ヒータ２６に水蒸気が供給されないように、蒸気発生用ヒータ２４をオフにする。このとき、蒸気供給量制御部１０１は、上ヒータ２６が１００℃になっているか否かを、上ヒータ温度センサ４４の出力信号に基づいて判定する。なお、上記１００℃は結露しない温度の一例である。
【００４７】
上記構成の加熱調理器によれば、上記蒸気供給量制御部１０１は、上ヒータ２６が１００℃になるまでは、蒸気発生装置１３から上ヒータ２６に水蒸気が供給されないようにするので、上ヒータ２６が十分に温まってから、上ヒータ２６に水蒸気を供給することができる。
【００４８】
したがって、上記蒸気発生装置１３からの水蒸気が上ヒータ２６の表面で結露するのを確実に防ぐことができる。
【００４９】
したがって、上記トレイ４０上の被加熱物を均一に焼き上げることができる。つまり、上記被加熱物に加熱ムラが生じるのを防ぐことができる。
【００５０】
上記実施形態では、上ヒータ２６が１００℃になっているか否かを、上ヒータ温度センサ４４の出力信号に基づいて判定していたが、上ヒータ２６の通電時間に基づいて判定してもよい。
【００５１】
上記実施形態では、上ヒータ２６は、上ヒータ収納部２５内に配置されていたが、加熱庫８内に配置されるようにしてもよい。
【００５２】
上記実施形態において、蒸気発生装置１３の水蒸気吹出口に例えば電磁弁を設けてもよい。なお、上記電磁弁は蒸気供給量制御部の一例である。
【００５３】
上記実施形態において、蒸気発生装置１３の水蒸気吹出口と上ヒータ２６との間に、じゃま板を設けて、その水蒸気吹出口から吹き出した水蒸気が上ヒータに直接当たらないようにしてもよい。
【００５４】
上記実施形態では、図４に示すように、所定の形状に屈曲させた１本の上ヒータ２６を用いていたが、図８に示すように、略一直線に延びる１本の上ヒータ１２６Ａと、この上ヒータ１２６Ａとは別体に設けられ、略一直線に延びる１本の上ヒータ１２６Ｂとを用いてもよい。なお、上ヒータ１２６Ａは第１蒸気加熱部の一例であり、上ヒータ１２６Ｂは第２蒸気加熱部の一例である。
【００５５】
上記蒸気発生装置１３の水蒸気吹出口１５０から上ヒータ１２６Ａまでの距離は、蒸気発生装置１３の水蒸気吹出口１５０から上ヒータ１２６Ｂまでの距離よりも短い。つまり、上ヒータ１２６Ａは蒸気発生装置１３と上ヒータ１２６Ｂとの間にある。そして、上ヒータ１２６Ａには、蒸気発生装置１３からの水蒸気が直接当たる。
【００５６】
上記上ヒータ１２６Ａ，１２６Ｂを用いる場合、制御部１００は、上ヒータ１２６Ｂの温度よりも、上ヒータ１２６Ａの温度が高くなるように、上ヒータ１２６Ａ，１２６Ｂを制御するようにする。これにより、上記実施形態と同様に、被加熱物における加熱ムラの発生を防げる。
【００５７】
その場合、上記上ヒータ１２６Ｂの温度よりも、上ヒータ１２６Ａの温度を高くする制御は、例えば、被加熱物の加熱が開始してから、予め設定された時間が経過するまでの間、つまり、調理開始から所定の期間だけ行われるようにしてもよい。あるいは、上記制御は、例えば、被加熱物の加熱が開始してから、被加熱物の加熱が終了するまでの間ずっと行われるようにしてもよい。つまり、上記制御は、蒸気発生装置１３のオンオフ制御に基づいて行われるようにすればよい。ここで、「蒸気発生装置１３のオン」とは蒸気発生用ヒータ２４が通電されている状態を意味し、「蒸気発生装置１３のオフ」とは蒸気発生用ヒータ２４が通電されていない状態を意味する。
【００５８】
上記実施形態では、下ヒータ３０が加熱庫８内の空間に露出していないが、下ヒータ３０が加熱庫８内の空間に露出するようにしてもよい。
【００５９】
上記実施形態では、上ヒータ収納部２５内で過熱水蒸気が生成され、この過熱水蒸気が加熱庫８内に供給されるようにしていたが、下ヒータ収納部２９内でも過熱水蒸気が生成され、この過熱水蒸気が加熱庫８内に供給されるようにしてもよい。
【００６０】
本発明は、例えば、過熱水蒸気を使用するオーブンレンジのみならず、過熱水蒸気を使用するオーブン、レンジまたはＩＨクッキングヒータ等の加熱調理器にも適用できる。
【００６１】
本発明の加熱調理器では、クッキングヒータ（ＩＨヒータや電気ヒータなどの電気コンロまたはガスコンロを用いたもの含む）やオーブンレンジなどにおいて、過熱水蒸気または飽和水蒸気を用いることによって、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、本発明の加熱調理器では、温度が１００℃以上の過熱水蒸気または飽和水蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱水蒸気または飽和水蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができる。また、凝縮水が食品表面に付着して塩分や油分が凝縮水と共に滴下することにより、食品中の塩分や油分を低減できる。さらに、加熱室内は過熱水蒸気または飽和水蒸気が充満して無酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。
【符号の説明】
【００６２】
８  加熱庫
１３  蒸気発生装置
２３  給水タンク
２６，１２６Ａ，１２６Ｂ  上ヒータ
１００  制御部
１０１  蒸気供給量制御部
【図１】
2011058673.tif 000003
【図２】
2011058673.tif 000004
【図３】
2011058673.tif 000005
【図４】
2011058673.tif 000006
【図５】
2011058673.tif 000007
【図６】
2011058673.tif 000008
【図７】
2011058673.tif 000009
【図８】
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