(57)【要約】【課題】基板Ｓを載置するステージ本体３ａ上で基板をステージ本体３ａの垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段１０と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段１２とを備えるものにおいて、基板が四角形の大型のものであってもこれをスムーズに回転できるようにする。【解決手段】ステージ本体３ａの各辺に、基板Ｓの各辺よりも外方に張出す張出し部３ｅを形成する。張出し部３ｅは、基板Ｓの回転時における基板Ｓの各角部のステージ本体３ａからの最大はみ出し量が基板Ｓの対角線長さの３％以下になるように形成される。また、ステージ本体の各辺に沿わせて、気体噴出部を所定の高密度で配置し、基板のはみ出し部分の基端をステージ本体の各辺から浮上させるようにしてもよい。【選択図】図４
2011031143.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四角形の被処理基板を載置するステージ本体上で被処理基板をステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、
ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、被処理基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、被処理基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段とを備えると共に、ステージ本体の各辺に、被処理基板の各辺よりも外方に張出す張出し部が形成されていることを特徴とする回転機能付きステージ。
【請求項２】
前記張出し部は、被処理基板の回転時における被処理基板の４隅の各角部の張出し部からの最大はみ出し量が被処理基板の対角線長さの３％以下になるように形成されることを特徴とする請求項１記載の回転機能付きステージ。
【請求項３】
前記張出し部は、被処理基板の回転時に被処理基板の４隅の各角部が張出し部の外縁からはみ出さないように形成されることを特徴とする請求項２記載の回転機能付きステージ。
【請求項４】
請求項２記載の回転機能付きステージであって、前記張出し部は、前記最大はみ出し量が被処理基板の対角線長さの３％以下になる範囲で、被処理基板の回転時に被処理基板の４隅の各角部が張出し部の外縁からはみ出すように形成されるものにおいて、張出し部の外縁は、平面視円弧状に形成されることを特徴とする回転機能付きステージ。
【請求項５】
前記張出し部に、前記気体噴出手段の気体噴出部を所定の高密度で配置し、被処理基板の回転時に張出し部の外縁からはみ出す被処理基板のはみ出し部分の基端を張出し部の外縁から浮上させるようにしたことを特徴とする請求項１記載の回転機能付きステージ。
【請求項６】
四角形の被処理基板を載置するステージ本体上で被処理基板をステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、
ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、被処理基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、被処理基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段とを備えると共に、
被処理基板が所定の位相に存する状態で被処理基板の各辺に沿うステージ本体の各辺に沿わせて、気体噴出手段の気体噴出部を所定の高密度で配置し、被処理基板の回転時にステージ本体の各辺からはみ出す被処理基板のはみ出し部分の基端をステージ本体の各辺から浮上させるようにしたことを特徴とする回転機能付きステージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、四角形の被処理基板を載置するステージ本体上で被処理基板をステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板（被処理基板）に、液晶を封止するためのシール剤を塗布するシール剤塗布装置として特許文献１記載のものが知られている。このシール剤塗布装置は、互いに直交する水平２方向たるＸ軸方向とＹ軸方向とに移動自在なステージと、ステージの移動経路を跨ぐようにして配置したＹ軸方向に長手の門型のフレームと、フレームに配置したシール剤を吐出する塗布ヘッドとを備え、ステージに被処理基板を保持させた状態で、ステージをＸ軸方向一方とＹ軸方向一方とＸ軸方向他方とＹ軸方向他方とに順に動かして、塗布ヘッドを被処理基板に対し矩形状に走査することにより、被処理基板にシール剤を矩形状に塗布している。
【０００３】
ところで、最近は被処理基板が大型化しており、ステージも大型化している。このような大型のステージを上記従来例の如くＸ軸方向とＹ軸方向との２方向に移動させるようにするとシール剤塗布装置が非常に大型のものになってしまう。
【０００４】
そこで、本願出願人は、シール剤塗布装置として、先に特願２００９−０２７１１２により、被処理基板を載置するステージ本体上で被処理基板をステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージを用い、塗布ヘッドを配置したフレームとステージとの一方をＸ軸方向に移動自在としたものを提案している。これによれば、被処理基板を９０°回転させることにより、回転前にステージをフレームに対しＸ軸方向に相対移動させたときの被処理基板に対する塗布ヘッドの走査方向と、回転後にステージをフレームに対しＸ軸方向に相対移動させたときの被処理基板に対する塗布ヘッドの走査方向とを９０°異ならせることができる。そのため、ステージがフレームに対しＸ軸方向にのみ相対移動するものであっても、被処理基板に矩形状にシール剤を塗布でき、シール剤塗布装置の小型化を図ることができる。
【０００５】
ここで、先の出願の回転機能付きステージは、ステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転自在に設けた、被処理基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、被処理基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段とを備えている。そして、気体噴出手段から気体を噴出させて被処理基板とステージ本体との間の摩擦力を軽減した状態で吸着手段と一体に被処理基板を回転させるようにしている。これによれば、被処理基板が大型化して重量が大きくなっても、被処理基板を軽い力で回転できる。
【０００６】
然し、被処理基板が四角形であると、これをうまく回転できなくなることが判明した。その原因は以下の通りである。即ち、ステージ本体が被処理基板とほぼ同じ大きさの四角形に形成されているため、被処理基板を回転させるときに、被処理基板の４隅の各角部がステージ本体の各辺から外方に大きくはみ出す。この場合、被処理基板のはみ出し部分が僅かではあるが下方に湾曲し、ステージ本体の各辺のエッジ部が、被処理基板のはみ出し部分の基端に、はみ出し部分の重量による曲げモーメント分の力で食い込むようにして接触する。そして、被処理基板のはみ出し量が大きくなることから、ステージ本体のエッジ部の被処理基板に対する接触力及び接触長さが大きくなって、回転抵抗力が増大し、被処理基板をうまく回転できなくなる。また、無理に回転させると、被処理基板のはみ出し部分の基端に亀裂が入ることもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−１４４２７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、以上の点に鑑み、被処理基板が四角形の大型のものであってもこれをスムーズに回転できるようにした回転機能付きステージを提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本願の第１発明は、四角形の被処理基板を載置するステージ本体上で被処理基板をステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、被処理基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、被処理基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段とを備えると共に、ステージ本体の各辺に、被処理基板の各辺よりも外方に張出す張出し部が形成されていることを特徴とする。
【００１０】
第１発明によれば、被処理基板の回転時におけるステージ本体からの被処理基板の各角部のはみ出し量が上記先願のものに比し張出し部の分だけ減少する。そのため、被処理基板のはみ出し部分の基端に対するステージ本体のエッジ部の接触力及び接触長さが減少し、エッジ部の食い込みによる回転抵抗力が軽減される。尚、張出し部を形成すると、被処理基板の回転時におけるステージ本体への被処理基板の接触面積が増加するが、これによる接触摩擦力の増加量よりも、張出し部を形成することで得られる上述した回転抵抗力の減少量の方が上回る。従って、被処理基板が四角形の大型のものであってもこれをスムーズに回転できるようになる。
【００１１】
また、第１発明において、前記張出し部は、被処理基板の回転時における被処理基板の４隅の各角部の張出し部からの最大はみ出し量が被処理基板の対角線長さの３％以下になるように形成されることが望ましい。これによれば、エッジ部の食い込みによる回転抵抗力は十分に小さくなる。
【００１２】
また、第１発明において、張出し部は、被処理基板の回転時に被処理基板の４隅の各角部が張出し部の外縁からはみ出さないように形成されることが望ましい。これによれば、ステージ本体のエッジ部の食い込みによる回転抵抗力を受けずに、被処理基板を回転できるようになる。
【００１３】
また、第１発明において、ステージ本体の軽量化を図るため、張出し部を、前記最大はみ出し量が前記対角線長さの３％以下になる範囲で、被処理基板の回転時に被処理基板の４隅の各角部が張出し部の外縁からはみ出すように形成する場合には、張出し部の外縁を平面視円弧状に形成することが望ましい。ここで、張出し部の外縁が直線状に形成されている場合には、被処理基板のはみ出し部分の下方への湾曲で、張出し部の外縁のエッジ部がはみ出し部分の基端にその全長に亘って食い込むようにして接触する。一方、張出し部の外縁を平面視円弧状に形成すれば、張出し部の外縁のエッジ部が食い込むようにして接触するのは、はみ出し部分の基端の１点に限定され、回転抵抗力を軽減できる。
【００１４】
また、第１発明においては、前記張出し部に、前記気体噴出手段の気体噴出部を所定の高密度で配置し、被処理基板の回転時に張出し部の外縁からはみ出す被処理基板のはみ出し部分の基端を張出し部の外縁から浮上させることが望ましい。これによれば、はみ出し部分の基端に張出し部の外縁のエッジ部が食い込むようにして接触することを防止できる。従って、張出し部の外縁エッジ部の食い込みによる回転抵抗力を受けずに、被処理基板をスムーズに回転できるようになる。
【００１５】
また、本願の第２発明は、四角形の被処理基板を載置するステージ本体上で被処理基板をステージ本体の垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、被処理基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、被処理基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段とを備えると共に、被処理基板が所定の位相に存する状態で被処理基板の各辺に沿うステージ本体の各辺に沿わせて、気体噴出手段の気体噴出部を所定の高密度で配置し、被処理基板の回転時にステージ本体の各辺からはみ出す被処理基板のはみ出し部分の基端をステージ本体の各辺から浮上させるようにしたことを特徴とする。
【００１６】
第２発明によれば、ステージ本体の各辺に沿わせて配置した気体噴出部から噴出する気体により被処理基板のはみ出し部分の基端がステージ本体の各辺から浮上し、はみ出し部分の基端にステージ本体の各辺のエッジ部が食い込むようにして接触することを防止できる。従って、ステージ本体のエッジ部の食い込みによる回転抵抗力を受けずに、被処理基板をスムーズに回転できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施形態のステージを具備するシール剤塗布装置の側面図。
【図２】図１のシール剤塗布装置の正面図。
【図３】基板へのシール剤の塗布手順を示す説明図。
【図４】第１実施形態のステージの平面図。
【図５】図４のＶ−Ｖ線で切断した断面図。
【図６】（ａ）比較例のステージの作用を説明する模式的平面図、（ｂ）第１実施形態のステージの作用を説明する模式的平面図。
【図７】（ａ）第２実施形態のステージの平面図、（ｂ）第２実施形態のステージの作用を説明する模式的平面図。
【図８】第３実施形態のステージの平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、被処理基板たるフラットパネルディスプレイ用のガラス製マザー基板(以下、基板と略称する)に、複数の液晶パネル領域を設定し、液晶を封止するためのシール剤を各パネル領域の周辺に矩形状に塗布するようにしたシール剤塗布装置であって、本発明の実施形態のステージを具備するものについて説明する。
【００１９】
図１、図２を参照して、このシール剤塗布装置は、プラットホーム１を備え、このプラットホーム１上に直方体形状のベース板２が配置されている。ベース板２上には、基板Ｓを保持するステージ３が固定されている。尚、ステージ３は、後記詳述するが、基板Ｓを載置するステージ本体３ａ上で基板Ｓをステージ本体３ａの垂直方向（Ｚ軸方向）の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージで構成されている。
【００２０】
また、互いに直交する水平２方向をＸ軸方向及びＹ軸方向として、ベース板２上には、Ｙ軸方向に長手の門型のフレーム４が、ベース板２の上面に固定したガイドレール５に沿ってＸ軸方向に移動自在に支持されている。そして、図示省略したモータにより送りねじ機構を介してフレーム４がＸ軸方向に往復動されるようにしている。
【００２１】
フレーム４には、Ｙ軸方向に並べて第１〜第４の４個の塗布ヘッド６１〜６４が配置されている。各塗布ヘッド６１〜６４は、フレーム５に固定したガイドレール７に沿ってＹ軸方向に移動自在に支持されている。そして、各塗布ヘッド６１〜６４に、フレーム５に固定したラック８に噛み合うピニオン９ａを有するモータ９を搭載し、モータ９の作動で各塗布ヘッド６１〜６４をＹ軸方向に位置調整できるようにしている。また、各塗布ヘッド６１〜６４の下端には、シール剤を吐出するノズル６ａが上下方向に位置調整自在に設けられている。尚、第２と第３の塗布ヘッド６２，６３のノズル６ａはＹ軸方向内側に偏奇した位置に設けられている。
【００２２】
次に、シール剤塗布装置による基板Ｓへのシール剤の塗布作業手順について図３を参照して説明する。尚、基板Ｓに固定の座標系の互いに直交する座標軸をｘ軸及びｙ軸として、ｙ軸方向一側に一列縦隊で４個のパネル領域Ｓｌ１〜Ｓｌ４を設定すると共に、ｙ軸方向他側に一列縦隊で４個のパネル領域Ｓｒ１〜Ｓｒ４を設定し、各パネル領域の周辺にシール剤を矩形状に塗布するものとする。
【００２３】
先ず、ステージ３にｘ軸がフレーム４の移動方向たるＸ軸方向と平行になるように基板Ｓを保持させる。次に、第１と第２の塗布ヘッド６１，６２を、パネル領域Ｓｌ１〜Ｓｌ４のｙ軸方向に対向する１組の対辺の位置に合わせてＹ軸方向に位置調整すると共に、第３と第４の塗布ヘッド６３，６４を、パネル領域Ｓｒ１〜Ｓｒ４のｙ軸方向に対向する１組の対辺の位置に合わせてＹ軸方向に位置調整する。この状態でフレーム４をＸ軸方向に移動させて、各塗布ヘッド６１〜６４を基板Ｓに対しｘ軸方向に走査し、図３(ａ)に示す如く、各パネル領域Ｓｌ１〜Ｓｒ４のｙ軸方向に対向する１組の対辺に沿ってシール剤ａを塗布する。
【００２４】
次に、ｙ軸がＸ軸方向と平行になるように基板Ｓを９０°回転させ、同時に、第１と第２の塗布ヘッド６１，６２を、パネル領域Ｓｌ１，Ｓｒ１のｘ軸方向に対向する１組の対辺の位置に合わせてＹ軸方向に位置調整すると共に、第３と第４の塗布ヘッド６３，６４を、パネル領域Ｓｌ２，Ｓｒ２のｘ軸方向に対向する１組の対辺の位置に合わせてＹ軸方向に位置調整する。この状態でフレーム４をＸ軸方向に移動させて、各塗布ヘッド６１〜６４を基板Ｓに対しｙ軸方向に走査し、図３(ｂ)に示す如く、これらパネル領域Ｓｌ１〜Ｓｒ２のｘ軸方向に対向する１組の対辺に沿ってシール剤ａを塗布する。
【００２５】
次に、第１と第２の塗布ヘッド６１，６２を、パネル領域Ｓｌ３，Ｓｒ３のｘ軸方向に対向する１組の対辺の位置に合わせてＹ軸方向に位置調整すると共に、第３と第４の塗布ヘッド６３，６４を、パネル領域Ｓｌ４，Ｓｒ４のｘ軸方向に対向する１組の対辺の位置に合わせてＹ軸方向に位置調整する。この状態でフレーム４をＸ軸方向に移動させて、各塗布ヘッド６１〜６４を基板Ｓに対しｙ軸方向に走査し、図３(ｃ)に示す如く、これらパネル領域Ｓｌ３〜Ｓｒ４のｘ軸方向に対向する１組の対辺に沿ってシール剤ａを塗布する。これにより、全てのパネル領域Ｓｌ１〜Ｓｒ４の周辺にシール剤ａを矩形状に塗布することができる。
【００２６】
ここで、上述したシール剤塗布装置は、ステージ３がフレーム４に対しＸ軸方向にのみ相対移動するものであるが、ステージ３を回転機能付きのものとすることで、基板Ｓに矩形状にシール剤を塗布できる。そして、ステージ３をＸ軸方向とＹ軸方向との２方向に移動させるものに比し、シール剤塗布装置を大幅に小型化することができる。
【００２７】
以下、図４、図５を参照して、ステージ３について詳述する。ステージ３は、基板Ｓを載置するステージ本体３ａと、基板Ｓの裏面中央部に吸着自在な吸着手段１０と、吸着手段１０を回転駆動する回転駆動手段１１と、基板Ｓの裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段１２とを備えている。
【００２８】
吸着手段１０は、ステージ本体３ａの上面中央部に形成した凹部３ｂに収納される吸着パッドやポーラス構造の円盤から成り、図示省略した排気管を介して真空ポンプに接続されている。そして、真空ポンプを作動させると、吸着手段１０がその表面全体で基板Ｓの裏面に吸着するようになっている。また、吸着手段１０には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交するＺ軸方向(ステージ本体３ａの垂直方向)の支軸１０ａが垂設されている。そして、ステージ本体３ａに凹部３ｂと同心の貫通孔３ｃを形成し、この貫通孔３ｃに装着したボールベアリング１３で支軸１０ａを軸支することにより、吸着手段１０をＺ軸方向の軸線回りに回転自在としている。更に、支軸１０ａをボールベアリング１３のインナーレース１３ａに上下方向に摺動自在にスプライン嵌合させると共に、支軸１０ａを直動アクチュエータ１４で上下動自在としている。これにより、吸着手段１０がステージ本体３ａの上面から上方に出没自在となる。
【００２９】
回転駆動手段１１は、モータ１１ａと、モータ１１ａの出力軸上のウォーム１１ｂと、ボールベアリング１３のインナーレース１３ａに固定した、ウォーム１１ｂに噛み合うウォームホイール１１ｃとで構成されている。そして、モータ１１ａの作動によりウォームホイール１１ｃが回転し、インナーレース１３ａと支軸１０ａとを介して吸着手段１０が回転駆動されるようにしている。
【００３０】
気体噴出手段１２は、ステージ本体３ａの上面に埋設したポーラス構造の複数のエアパッド１２ａと、図示省略したコンプレッサ等から各エアパッド１２ａに圧縮空気等の気体を供給するガス管１２ｂとで構成されている。
【００３１】
以上の構成によれば、吸着手段１０を直動アクチュエータ１４により上昇させると共に、気体噴出手段１２から気体を噴出して、基板Ｓとステージ本体３ａとの間の接触摩擦力を軽減し、この状態で基板Ｓを吸着手段１０と一体にＺ軸方向の軸線回りに回転させることができる。そのため、基板Ｓが大型化して重量が大きくなっても、基板Ｓを軽い力で回転できる。
【００３２】
尚、基板Ｓの回転後に基板Ｓを吸着手段１０のみで吸着したのでは、吸着力不足でステージ本体３ａに対し基板Ｓが位置ずれする可能性がある。そこで、本実施形態では、ステージ本体３ａの上面に、真空ポンプに通じる吸着溝３ｄをＸ軸方向及びＹ軸方向に延在させて複数本形成している。そして、基板Ｓの回転後は、吸着溝３ｄを真空引きすることで、基板Ｓをその略全域に亘って吸着保持するようにしている。
【００３３】
ところで、基板Ｓが四角形、例えば、ｘ軸方向寸法＝２５０ｃｍ、ｙ軸方向寸法＝２２０ｃｍの長方形である場合、ステージ本体３ａは、一般的に、図６（ａ）に示す如く１辺の長さを基板Ｓのｘ軸方向寸法にほほ等しくした略正方形に形成され、ｘ軸やｙ軸がＸ軸やＹ軸に平行になる所定の位相に基板Ｓが存する状態で基板Ｓの各辺にステージ本体３ａの各辺が平行になる。そして、基板Ｓをこの所定位相から回転させるときに、図６（ａ）に仮想線で示す如く、基板Ｓの４隅の各角部がステージ本体３ａの各辺から外方に大きくはみ出す。この場合、基板Ｓのはみ出し部分が僅かではあるが下方に湾曲し、ステージ本体３ａの各辺のエッジ部が、基板Ｓのはみ出し部分の基端に、はみ出し部分の重量による曲げモーメント分の力で食い込むようにして接触する。そして、基板Ｓのはみ出し量が大きくなると、ステージ本体３ａのエッジ部の基板Ｓに対する接触力及び接触長さが大きくなって、回転抵抗力が増大し、基板Ｓをうまく回転できなくなる。
【００３４】
そこで、本実施形態では、基板Ｓが上記所定位相に存する状態で基板Ｓの各辺に沿うステージ本体３ａの各辺に、基板Ｓの各辺よりも外方に張出す張出し部３ｅを形成している。そして、図６（ｂ）に示す如く、基板Ｓの回転時に基板Ｓの４隅の各角部が張出し部３ｅの外縁からはみ出さないようにしている。
【００３５】
これによれば、ステージ本体３ａのエッジ部の食い込みによる回転抵抗力を受けずに、基板Ｓを回転できるようになる。尚、張出し部３ｅを形成すると、基板Ｓの回転時におけるステージ本体３ａへの基板Ｓの接触面積が増加するが、これによる接触摩擦力の増加量よりも、張出し部３ｅを形成することで得られる上述した回転抵抗力の減少量の方が上回る。従って、基板Ｓが四角形の大型のものであってもこれをスムーズに回転できるようになる。
【００３６】
また、ステージ本体３ａに、気体噴出手段１２の気体噴出部たるエアパッド１２ａを張出し部３ｅに亘って設けてもよい。これによれば、張出し部３ｅに対する基板Ｓの接触摩擦力を軽減でき、基板Ｓを一層軽い力で回転できる。
【００３７】
ところで、上述したシール剤塗布装置では、フレーム４をＸ軸方向に移動させるようにしているが、ステージ３をＸ軸方向に移動させるようにしてもよい。この場合、上記第１実施形態の如く、基板Ｓの回転時に基板Ｓの４隅の各角部が張出し部３ｅの外縁からはみ出さないように張出し部３ｅを形成したのでは、張出し部３ｅが大きくなって、ステージ本体３ａの重量が増し、ステージ３の移動速度を速くすることが困難になる。
【００３８】
そこで、図７に示す第２実施形態では、張出し部３ｅを、基板Ｓの回転時に基板Ｓの４隅の各角部が張出し部３ｅの外縁から若干張り出すように、比較的小さく形成し、ステージ本体３ａの軽量化を図るようにしている。ここで、基板Ｓの回転時における基板Ｓの４隅の各角部の張出し部３ｅからの最大はみ出し量Ｌｍａｘ（図７（ｂ）に示す如く基板Ｓの各対角線がＸ，Ｙの各軸に平行になる位相に回転したときの基板Ｓの各角部のはみ出し量）が基板Ｓの対角線長さの３％以下になっていれば、ステージ本体３ａのエッジ部の食い込みによる回転抵抗力を実用上問題のない程度に軽減できる。実際、ｘ軸方向寸法＝２５０ｃｍ、ｙ軸方向寸法＝２２０ｃｍ、対角線長さ＝３３３ｃｍの長方形の基板においては、はみ出し量が１１０ｍｍ程度以上になると回転抵抗力が大きくなることが確認された。第２実施形態において、最大はみ出し量Ｌｍａｘは基板Ｓの対角線長さの３％程度になっている。因みに、張出し部３ｅを形成しない図６（ａ）に示す比較例においては、最大はみ出し量Ｌｍａｘが基板Ｓの対角線長さの１７％程度になる。
【００３９】
また、張出し部３ｅの外縁が平面視円弧状に形成されている。尚、第２実施形態では、張出し部３ｅの外縁は、吸着手段１０の回転軸線たる支軸１０ａと同心の円弧状に形成されているが、支軸１０ａに対し偏心した円弧状に形成することも可能である。
【００４０】
ここで、張出し部３ｅの外縁が直線状に形成されている場合、基板Ｓのはみ出し部分の下方への湾曲で、張出し部３ｅの外縁のエッジ部がはみ出し部分の基端にその全長に亘って食い込むようにして接触する。一方、第２実施形態の如く、張出し部３ｅの外縁を円弧状に形成した場合、基板Ｓのはみ出し部分は、張出し部３ｅの外縁の１点を通る接線を始端にして下方に湾曲することになる。そのため、張出し部３ｅの外縁のエッジ部が食い込むようにして接触するのは、はみ出し部分の基端の１点に限定される。従って、ステージ本体３ａのエッジ部の食い込みによる回転抵抗力を十分に軽減できる。
【００４１】
次に、図８に示す第３実施形態について説明する。第３実施形態では、ステージ本体３ａの各辺を若干外方に張り出させ、この張り出した各辺の部分に、該各辺に沿わせて、気体噴出手段１２の気体噴出部たるエアパッド１２ａを所定の高密度で配置している。そして、これらエアパッド１２ａから噴出する気体により、基板Ｓの回転時にステージ本体３ａからはみ出す基板Ｓのはみ出し部分の基端がステージ本体３ａの各辺から浮上するようにしている。
【００４２】
これによれば、基板Ｓの回転時に基板Ｓの４隅の各角部がステージ本体３ａの各辺の外方にはみ出しても、はみ出し部分の基端にステージ本体３ａの各辺のエッジ部が食い込むようにして接触することを防止できる。従って、エッジ部の食い込みによる回転抵抗力を受けずに、基板Ｓをスムーズに回転できる。尚、第３実施形態では、ステージ本体３ａの各辺を若干外方に張り出させたが、各辺を外方に張り出させることなく、各辺に沿わせてエアパッド１２ａを配置してもよい。
【００４３】
以上、シール剤塗布装置に備えるステージ３に本発明を適用した実施形態について説明したが、シール剤塗布装置以外の装置に備える回転機能付きステージにも同様に本発明を適用できる。
【符号の説明】
【００４４】
Ｓ…基板（被処理基板）、３…ステージ、３ａ…ステージ本体、３ｅ…張出し部、１０…吸着手段、１１…回転駆動手段、１２…気体噴出手段、１２ａ…エアパッド（気体噴出部）。
【図１】
2011031143.tif 000003
【図２】
2011031143.tif 000004
【図３】
2011031143.tif 000005
【図４】
2011031143.tif 000006
【図５】
2011031143.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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