(57)【要約】【課題】  水蒸気に対するバリア性が高く、静電気障害を防止することができ、且つ、使用後においては焼却処理が可能で残滓が少ない電子部品の包装に使用する積層包装材料に適したガスバリア性帯電防止インモールドラベルを提供する。【解決手段】  本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルは、プラスチック材料からなる基材フィルムの片面に、透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、半透明金属薄膜層、帯電防止層を積層し、さらに、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層の間には、強密着処理層を設けた構成を基本構成としており、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層とを直接積層するだけでは得られなかったガスバリア性の向上を生じさせるものである。【選択図】      図１
2011005836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、接着樹脂層が設けられたインモールドラベルにおいて、
前記基材フィルムの他方の面には、
透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、半透明金属薄膜層、帯電防止層が順次積層されており、
前記ガスバリア性塗布膜と前記半透明金属薄膜層の間には、
前記ガスバリア性塗布膜表面に易接着処理をすることにより形成された強密着処理層が設けられており、かつ、
前記ガスバリア性塗布膜は、
一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｒ1、Ｒ2は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される１種類またはそれ以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物からなるガスバリア性塗布膜であることを特徴とするガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項２】
前記プラスチック材料からなる基材フィルムに用いられるプラスチック材料が、ポリエステル、ポリアミド、またはポリオレフィンのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項３】
前記半透明金属薄膜層が、物理蒸着法によるアルミニウム、ニッケル、若しくはチタニウムの単独の蒸着膜、またはこれらの混合物の蒸着膜であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項４】
前記易接着処理が、酸素、窒素、若しくはアルゴンの単独ガスまたはこれらの混合ガスによるプラズマ処理であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項５】
一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m中のＭが、珪素、ジルコニウム、チタニウム、またはアルミニウムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項６】
前記アルコキシドが、アルコキシラン、アルコキシドの加水分解物、またはアルコキシドの加水分解縮合物からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項７】
前記ガスバリア性組成物が、シランカップリング剤を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項８】
前記ガスバリア性塗布膜が、ガスバリア性組成物を塗工して塗工膜を設けた基材フィルムを、２０℃〜２００℃で、かつ、前記の基材フィルムの融点以下の温度で１０秒〜１０分間加熱処理した硬化膜からなることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項９】
前記ゾルゲル法におけるゾルゲル法触媒が、水に実質的に不溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三級アミンからなることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項１０】
前記第三級アミンが、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンからなることを特徴とする請求項９に記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項１１】
前記ガスバリア性組成物中の水が、アルコキシド1モルに対して０．１〜１００モルの割合で用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【請求項１２】
前記帯電防止層の表面抵抗率が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性帯電防止インモールドラベルに関し、詳しくは水蒸気や酸素に対するバリア性が高く、静電気障害を防止することができ、且つ、使用後においては焼却処理が可能で残滓が少ない電子部品の包装に使用する積層包装材料として適したガスバリア性帯電防止インモールドラベルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスク等の電子部品は、空気中の水蒸気や酸素による損傷だけでなく、静電気によって損傷を起こすことが知られている。
アルミニウム（ＡＬ）などのハーフ蒸着を、静電気シールド性包装材に利用する技術は、非常に古くから実施されている技術である。また、一般に電子部品等の包装のための積層フィルムとして、ポリオレフィン系基材フィルムの片面又は両面に静電気障害を防止するためにカーボン、金属等を含有させて導電性を付与したものが使用されている。しかし、このような従来の積層フィルムではバリア性が乏しく、電子部品が湿気や酸素によって酸化損傷するという問題があった。
【０００３】
また、支持体表面にカーボンもしくは金属粉の塗工膜または金属蒸着膜からなる導電層と、この導電層の反対側に厚さ７〜２０μｍのＡＬ箔を貼り合わせ、帯電防止剤を練り込んだシーラントを積層した包装材料を使用することによって、電子部品を静電気障害および酸素と湿気による酸化障害から守る従来技術がある。しかし、この包装材料はＡＬ箔を使用しているため、内容物の視認性が得られないという問題があった。また、現在の焼却炉では温度約８００℃前後で焼却している炉もあり、この温度ではＡＬ箔が焼却できず、残滓が多く発生することが問題となっていた。
【０００４】
さらに、内容物を識別できる透明性をもつ透明バリアフィルム（ＩＢフィルム）に、静電気シールド性を付与した積層体に関しては、プラスチック基材フィルムに無機酸化物を蒸着し、更にバリアコート層およびハーフ蒸着層を設け、さらにバリアコートを積層することを特徴とする積層体が提案されている（特許文献１）。
しかし、バリアコート層の上に直接ハーフ蒸着層を積層しても、ガスバリア性は向上しないため、この積層体においては、ガスバリア性が十分でないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３３０６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、水蒸気や酸素に対するバリア性が高く、静電気障害を防止することができ、且つ、使用後においては焼却処理が可能で残滓が少ない電子部品の包装に使用する積層包装材料に適したガスバリア性帯電防止インモールドラベルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルは、プラスチック材料からなる基材フィルムの片面に、透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、半透明金属薄膜層、帯電防止層を積層し、さらに、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層の間には、強密着処理層を設けた構成を基本構成としており、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層とを直接積層するだけでは得られなかったガスバリア性の向上を生じさせることに成功したものである。
【０００８】
すなわち、本発明の請求項１に係る発明は、プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、接着樹脂層が設けられたインモールドラベルにおいて、前記基材フィルムの他方の面には、透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、半透明金属薄膜層、帯電防止層が順次積層されており、前記ガスバリア性塗布膜と前記半透明金属薄膜層の間には、前記ガスバリア性塗布膜表面に易接着処理をすることにより形成された強密着処理層が設けられており、かつ、前記ガスバリア性塗布膜は、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｒ1、Ｒ2は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される１種類またはそれ以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物からなるガスバリア性塗布膜であることを特徴とするガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【０００９】
また、本発明の請求項２に係る発明は、前記プラスチック材料からなる基材フィルムに用いられるプラスチック材料が、ポリエステル、ポリアミド、またはポリオレフィンのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１０】
また、本発明の請求項３に係る発明は、前記半透明金属薄膜層が、物理蒸着法によるアルミニウム、ニッケル、若しくはチタニウムの単独の蒸着膜、またはこれらの混合物の蒸着膜であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１１】
また、本発明の請求項４に係る発明は、前記易接着処理が、酸素、窒素、若しくはアルゴンの単独ガスまたはこれらの混合ガスによるプラズマ処理であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１２】
また、本発明の請求項５に係る発明は、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m中のＭが、珪素、ジルコニウム、チタニウム、またはアルミニウムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１３】
また、本発明の請求項６に係る発明は、前記アルコキシドが、アルコキシラン、アルコキシドの加水分解物、またはアルコキシドの加水分解縮合物からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１４】
また、本発明の請求項７に係る発明は、前記ガスバリア性組成物が、シランカップリング剤を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１５】
また、本発明の請求項８に係る発明は、前記ガスバリア性塗布膜が、ガスバリア性組成物を塗工して塗工膜を設けた基材フィルムを、２０℃〜２００℃で、かつ、前記の基材フィルムの融点以下の温度で１０秒〜１０分間加熱処理した硬化膜からなることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１６】
また、本発明の請求項９に係る発明は、前記ゾルゲル法におけるゾルゲル法触媒が、水に実質的に不溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三級アミンからなることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１７】
また、本発明の請求項１０に係る発明は、前記第三級アミンが、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンからなることを特徴とする請求項９に記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１８】
また、本発明の請求項１１に係る発明は、前記ガスバリア性組成物中の水が、アルコキシド1モルに対して０．１〜１００モルの割合で用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【００１９】
また、本発明の請求項１２に係る発明は、前記帯電防止層の表面抵抗率が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のガスバリア性帯電防止インモールドラベルである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルは、プラスチック材料からなる基材フィルムの片面に、透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、半透明金属薄膜層、帯電防止層を積層し、さらに、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層の間には、強密着処理層を設けて密着性を向上させているため、水蒸気や酸素に対するバリア性が高く、かつ、最表面に帯電防止層を有するため静電気障害を防止することができ、さらには、上述のようなＡＬ箔を用いていないため、使用後においては焼却処理が可能で残滓が少ないという効果を奏する。
【００２１】
ここで、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルを構成するガスバリア性塗布膜は、その表面に易接着処理がされることにより、その表面が強密着処理層となっており、この強密着処理層を間にして、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層とを積層することにより、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層とを直接積層した場合には得られなかったバリア性を発揮させることができ、接着樹脂層、基材フィルム、透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、強密着処理層、半透明金属薄膜層、および帯電防止層から構成される本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルは、水蒸気に対して優れたバリア性を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルについて、その層構成の一例を示す概略的断面図である。
【図２】プラズマ化学気相成長装置について、その一例の概要を示す概略的構成図である。
【図３】巻き取り式真空蒸着装置について、その一例の概要を示す概略的構成図である。
【図４】本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルを用いた成形品について、その一例を示す概略的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しながら本発明について、説明する。
［ガスバリア性帯電防止インモールドラベル］
本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベル１０は、図１に示すように、接着樹脂層１、基材フィルム２、透明ガスバリア層３、ガスバリア性塗布膜４、強密着処理層５、半透明金属薄膜層６、および帯電防止層７が順次積層された７層構成を基本構造とするものである。
【００２４】
本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベル１０を用いて成形品を製造する場合は、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベル１０を、接着樹脂層１の面が成形品側になるように成形用金型内に装填し、その後、成形品を構成する熱可塑性樹脂を用いて射出成形し、目的とする成形品を得る。
成形品に用いられる材料としては、射出成形可能な熱可塑性樹脂であれば使用でき、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂等、種々のものがある。
【００２５】
得られた成形品の表面には、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベル１０が一体化した形態で貼付されており、その最表面には帯電防止層７が設けられているため、成形品における静電気障害を防止することができ、かつ、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベル１０の透明ガスバリア層３、ガスバリア性塗布膜４、強密着処理層５、および半透明金属薄膜層６の積層構成による高いバリア性をも有することとなる。
【００２６】
［基材フィルム］
本発明の基材フィルムとして、化学的または物理的強度に優れ、無機酸化物または無機窒化物の蒸着薄膜層を形成する条件等に耐え、蒸着薄膜層の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができるポリアミド系樹脂からなるフィルムないしシートを使用することができる。また、半透明金属薄膜層の透明性を生かすために透明な基材フィルムであることが好ましい。
【００２７】
本発明においては、上記のプラスチック材料からなるフィルムの中でも、特に、耐ピンホール性を有する、二軸延伸ポリアミド系樹脂のプラスチック材料からなるフィルムないしシートを使用することが好ましい。
【００２８】
本発明においては、ポリアミド系樹脂と併せて、さらに、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂等を使用することができる。
【００２９】
本発明において、上記の各種フィルムは、上記の各種の樹脂１種又はそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレーション法等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、さらには、２種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種のフィルムを製造し、さらに、所望により、テンター方式、あるいは、チューブラマ方式等を利用して１軸ないし２軸方向に延伸した各種のフィルムとすることができる。
本発明において、基材フィルムの膜厚は、６〜１８８μｍであり、より好ましくは、９〜２５μｍである。
【００３０】
なお、ポリアミド系樹脂に加えて、上記の各種の樹脂１種又はそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極微量から数十％まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
【００３１】
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料等を使用することができ、さらには、改質用樹脂等も使用することができる。
【００３２】
また、本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシートの表面には、後述する透明ガスバリア層の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、予め、所望の表面処理層を設けておくことができる。
【００３３】
本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他を形成することができる。
【００３４】
上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィルムないしシートと後述する透明ガスバリア層の蒸着膜との密接着性等を改善するためのものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシートの表面に、予め、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
【００３５】
上記の前処理のコート剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。
【００３６】
［透明ガスバリア層］
本発明において、基材フィルムに積層する透明ガスバリア層としては、珪素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の酸化物または窒化物からなる蒸着薄膜層を挙げることができる。好ましいものとしては、珪素（Ｓｉ）又はアルミニウム（Ａｌ）の金属の酸化物からなる蒸着薄膜層を挙げることができる。
【００３７】
また、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜層は、珪素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物でもあり、その表記は、例えば、ＳｉＯX、ＡｌＯX、ＭｇＯX等のようにＭＯX（ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲が異なる）で表される。
【００３８】
また、上記のＸの値の範囲として、珪素（Ｓｉ）は０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は０〜１.５、マグネシウム（Ｍｇ）は０〜１、カルシウム（Ｃａ）は０〜１、カリウム（Ｋ）は０〜０.５、スズ（Ｓｎ）は０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は０〜０.５、ホウ素（Ｂ）は０〜１.５、チタン（Ｔｉ）は０〜２、鉛（Ｐｂ）は０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は０〜１.５の範囲の値をとることができる。
【００３９】
上記において、Ｘ＝０の場合は、完全な金属であり、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化したときの値である。
【００４０】
望ましくは、珪素（Ｓｉ）は１.０〜２.０、アルミニウム（Ａｌ）は０.５〜１.５の範囲の値のものを使用することができる。
【００４１】
無機酸化物または無機窒化物の蒸着薄膜層の層厚は、使用する金属、又は金属の酸化物若しくは窒化物の種類等によって異なるが、例えば５０〜２００００Å、好ましくは１００〜５００Åの範囲内で任意に選択することができる。
【００４２】
また、無機酸化物層として、使用する金属、又は金属の酸化物は、１種又は２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物層を構成することもできる。
【００４３】
さらに、無機酸化物が、酸化珪素である場合は、ＳｉＯｘＣｙで表される炭素含有酸化珪素であってもよい。そして式中、ｘは１.５〜２.２の範囲内にあって、ｙは０.１５〜０.８０の範囲内にあるのが好ましく、そしてｘが１.７〜２.１の範囲内にあって、ｙが０.３９〜０.４７の範囲内にあるのがさらに好ましい。なお、無機窒化物についても無機酸化物と同様である。
【００４４】
［透明ガスバリア層の形成方法］
透明ガスバリア層の形成は、化学気相成長法又は物理気相成長法により、又はこれらを併用して行うことができる。化学気相成長法を用いる場合には、膜質の異なる蒸着薄膜層を多層で積層することができる。
【００４５】
（１）化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）
本発明で利用する化学気相成長法には、例えば、プラズマＣＶＤ法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等が含まれる。
本発明で利用することができる化学気相成長法の一つである、プラズマＣＶＤ法（Ｐｌａｓｍａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）は、具体的には、基材フィルムの被蒸着面の表面に、透明蒸着の蒸着用モノマーガスを原料とし、キャリヤーガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて、蒸着薄膜層を形成する。
【００４６】
上記において、低温プラズマ発生装置として、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用するが、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るために、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
本発明における、低温プラズマ化学気相成長法による透明蒸着層の形成法について、その一例を挙げて説明する。図２は、上記の低温プラズマ化学気相成長法において使用される低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
【００４７】
本発明においては、図２に示すように、低温プラズマ化学気相成長装置２１の真空チャンバー２２内に配置された巻き出しロール２３から、被蒸着フィルム１１を繰り出し、更に、該被蒸着フィルム１１を、補助ロール２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上に搬送する。ガス供給装置２６、２７及び、原料揮発供給装置２８から酸素ガス、不活性ガス、蒸着用モノマーガス等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しながら原料供給ノズル２９を通して真空チャンバー２２内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された、被蒸着フィルム１１の上に、グロー放電プラズマ３０によってプラズマを発生させ、これを照射して、透明蒸着層を形成する。その際に、冷却・電極ドラム２５は、真空チャンバー２２の外に配置されている電源３１から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム２５の近傍には、マグネット３２を配置してプラズマの発生が促進されている。次いで、被蒸着フィルム１１は、透明蒸着層を形成した後、補助ロール３３を介して巻き取りロール３４に巻き取られる。なお、図中、３５は真空ポンプを表す。
【００４８】
また、上記の低温プラズマ化学気相成長装置において、透明蒸着層は、プラズマ化した原料ガスを用いて、被蒸着フィルム上に薄膜状に形成されるので、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となる。従って、従来の真空蒸着法等によって形成される無機酸化物蒸着薄膜層よりもはるかに高いバリア性を示し、薄い膜厚で十分なバリア性を得ることができる。
【００４９】
（２）物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）
物理気相成長法には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンクラスタービーム法等が含まれる。
本発明において利用できる物理気相成長法について、その一例を挙げてさらに具体的に説明する。図３は、本発明における蒸着方法の一例を示す巻き取り式真空蒸着装置の概略的構成図である。
【００５０】
図３に示すように、巻き取り式真空蒸着装置４１の真空チャンバー４２の中で、巻き出しロール４３から、被蒸着フィルム１１を繰り出し、該被蒸着フィルム１１を、ガイドロール４４、４５を介して、冷却したコーティングドラム４６に案内する。次いで、冷却したコーティングドラム４６上に案内された被蒸着フィルム１１の上に、るつぼ４７で熱せられた蒸着源４８を、必要ならば、酸素ガス吹出口４９から酸素ガス等を供給しながら蒸着させ、マスク５０を介して透明蒸着層を成膜化する。電子ビーム真空蒸着法では、蒸着源４８への過熱が電子ビーム照射により行われる。次いで、透明蒸着層を積層した被蒸着フィルム１１を、ガイドロール５１、５２を介して、巻き取りロール５３に巻き取る。
【００５１】
［ガスバリア性塗布膜］
本発明に係るガスバリア性塗布膜は、アルコキシドと水溶性高分子とをゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物を塗布してなるものである。これにより、フィルムのガスバリア性をさらに向上させることができる。
（１）アルコキシド
該ガスバリア性組成物において用いることができるアルコキシドとしては、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｒ1、Ｒ2は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される１種類またはそれ以上のアルコキシドを好ましく用いることができる。
【００５２】
本発明において、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）mで表されるアルコキシドとしては、金属原子Ｍとして、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウムその他を使用することができ、Ｍが珪素であるアルコキシシランを使用することが好ましい。
また、本発明において、単独又は二種以上の異なる金属原子のアルコキシドを同一溶液中に混合して使うことができる。
また、上記の一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）mで表されるアルコキシドにおいて、Ｒ1で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基その他のアルキル基を挙げることができる。
また、上記の一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）mで表されるアルコキシドにおいて、Ｒ2で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基その他を挙げることができる。
尚、本発明において、同一分子中において、これらのアルキル基は同一であっても、異なってもよい。
【００５３】
一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）mで表されるアルコキシドとしては、アルコキシドの部分加水分解物、アルコキシドの加水分解縮合物の少なくとも１種以上を使用することができ、また、上記のアルコキシドの部分加水分解物としては、アルコキシ基のすべてが加水分解されている必要はなく、１個以上が加水分解されているもの、および、その混合物であってもよく更に、加水分解の縮合物としては、部分加水分解アルコキシドの２量体以上のもの、具体的には、２〜６量体のものを使用される。
【００５４】
（２）水溶性高分子
水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール系樹脂若しくはエチレン・ビニルアルコール共重合体のいずれか又はその両方を好ましく用いることができる。
本発明において、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体の含有量は、上記のアルコキシドの合計量１００重量部に対して５〜５００重量部の範囲であることが好ましい。上記において、５００重量部を越えると、バリア性被膜の脆性が大きくなり、その耐侯性等も低下することから好ましくない。
本発明において、ポリビニルアルコール系樹脂として、一般にポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるものを使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の具体例としては、株式会社クラレ製ＰＶＡ１１０（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝１１００）、ＰＶＡ１１７（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝１７００）、ＰＶＡ１２４（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝２４００）、ＰＶＡ１３５Ｈ（ケン化度＝９９.７％以上、重合度＝３５００）、同社製のＲＳポリマーであるＲＳ−１１０（ケン化度＝９９％、重合度＝１０００）、同社製のクラレポバールＬＭ−２０ＳＯ（ケン化度＝４０％、重合度＝２０００）、日本合成化学工業株式会社製のゴーセノールＮＭ−１４（ケン化度＝９９％、重合度＝１４００）及びゴーセノールＮＨ−１８（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝１７００）等を使用することができる。
【００５５】
また、本発明において、エチレン・ビニルアルコール共重合体としては、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のケン化物、すなわち、エチレン−酢酸ビニルランダム共重合体をケン化して得られるものを使用することができる。このようなケン化物には、酢酸基が数十モル％残存する部分ケン化物から、酢酸基が数モル％しか残存していないか又は酢酸基が全く残存していない完全ケン化物までが包含される。特に限定されるものではないが、ガスバリア性の観点から、ケン化度が８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上であるものを使用することが望ましい。また、上記のエチレン・ビニルアルコール共重合体中のエチレンに由来する繰り返し単位の含量（以下「エチレン含量」ともいう）は、通常、０〜５０モル％、好ましくは２０〜４５モル％であるものを使用することが好ましい。上記のエチレン・ビニルアルコール共重合体の具体例としては、株式会社クラレ製、エバールＥＰ−Ｆ１０１（エチレン含量；３２モル％）、日本合成化学工業株式会社製、ソアノールＤ２９０８（エチレン含量；２９モル％）等を使用することができる。
【００５６】
（３）シランカップリング剤
本発明において、本発明に係るガスバリア性塗布膜を形成するガスバリア性組成物を調製するには、シランカップリング剤等も添加することができる。
本発明において、シランカップリング剤は、無機物と反応する加水分解基、及び有機物と反応する有機官能基の両方を一分子中にもつ有機ケイ素化合物からなる。無機物と反応する加水分解基としては、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、アセトキシ基及びクロロ基などが挙げられる。また、有機物と反応する有機官能基としては、水酸基含有アクリル樹脂中の水酸基又はイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応する官能基が好ましく、例えばイソシアネート基、アミノ基、エポキシ基及びメルカプト基が挙げられる。また、ビニル基及びメタクリルオキシ基などであってもよい。
【００５７】
該有機ケイ素化合物は、無機物及び有機物のいずれとも反応しないアルキル基やフェニル基を有していてもよい。また、有機官能基を有しないケイ素化合物、例えば加水分解基のみを有するアルコキシシランのような化合物と混合することもできる。本発明において、シランカップリング剤は、１種類または２種類以上の混合物であっても良い。
【００５８】
本発明において用いられるシランカップリング剤としては、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基含有シランカップリング剤、２−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどのエポキシ基含有シランカップリング剤、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプト基含有シランカップリング剤、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。
【００５９】
（４）ガスバリア性組成物の調製
アルコキシドと水溶性高分子とを、ゾル−ゲル法触媒、酸、水及び有機溶剤、および必要に応じて、シランカップリング剤等を混合してガスバリア性組成物を調製する。
ガスバリア性組成物の調製には、上記のアルコキシドの合計モル量１モルに対して０.１〜１００モルの割合の水を用いることが好ましい。
ガスバリア性組成物の調製において用いられる、ゾル−ゲル法触媒としては、実質的に水に不溶であり、且つ有機溶媒に可溶な第三級アミン、例えばＮ,Ｎ−ジメチルベンジルアミンを用いることができ、また、酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、並びに酢酸、酒石酸等の有機酸その他を使用することができる。更に、有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等を用いることができる。
【００６０】
更に、ガスバリア性組成物に関して、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体は、上記のアルコキシドやシランカップリング剤等を含む塗工液中で溶解した状態にあることが好ましく、そのため上記の有機溶媒の種類が適宜選択される。本発明において、溶剤中に可溶化されたエチレン・ビニルアルコール共重合体は、例えば、ソアノール（日本合成化学社製）として市販されているものを使用することができる。
【００６１】
（５）ガスバリア性塗布膜の形成方法
上記のガスバリア性組成物を、透明ガスバリア層の上に塗布し、加熱して溶媒及び重縮合反応により生成したアルコールを除去すると、重縮合反応が完結し、透明なガスバリア性塗布膜が形成される。
更に、加水分解によって生じた水酸基や、シランカップリング剤由来のシラノール基が透明蒸着層の表面の水酸基と結合する為、該透明蒸着層とガスバリア性塗布膜との密着性、接着性等が良好なものとなる。
【００６２】
上述のように形成されることにより、本発明のガスバリア性塗布膜は、結晶性を有する直鎖状ポリマーを含み、非晶質部分の中に多数の微小の結晶が埋包された構造を取る。このような結晶構造は、結晶性有機ポリマー（例えば、塩化ビニリデンやポリビニルアルコール）と同様であり、さらに極性基（ＯＨ基）が部分的に分子内に存在し、分子の凝集エネルギーが高いため、良好なガスバリア性を示す。
【００６３】
本発明においては、透明ガスバリア層とガスバリア性塗布膜との２層間で、例えば、加水分解・共縮合による化学結合、水素結合、或いは、配位結合等を形成し、これら２層間の密着性が向上し、相乗効果により、より良好なバリア性を発揮する。
【００６４】
本発明において、上記のガスバリア性組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアロールコーター等のロールコート、スプレーコート、ディッピング、刷毛、バーコート、アプリケータ等の塗布手段により、１回或いは複数回の塗布で、乾燥膜厚が０.０１〜３０μｍ、好ましくは０.１〜１０μｍのバリアコートを形成することができる。更に、通常の環境下で、２０〜３００℃、好ましくは２０〜２００℃の温度下で、３秒〜６０分間、好ましくは１０秒〜１０分間加熱・乾燥することにより、縮合が行われ、本発明のガスバリア性塗布膜を形成することができる。
【００６５】
［強密着処理層］
本発明の強密着処理層は、上述のガスバリア性塗布膜の表面を易接着処理することにより、ガスバリア性塗布膜の表面に形成される。
強密着処理層を形成することにより、ガスバリア性塗布膜と金属薄膜層とを直接積層する場合には得られなかったガスバリア性の向上を図ることができる。
易接着処理は、酸素、窒素若しくはアルゴンの単独、又はこれらの混合ガスによるプラズマ処理により行われる。
易接着処理は、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、出力０.５〜２０ｋｗ、酸素ガス若しくはアルゴンガス単独を又はそれらの混合ガスを使用し、混合ガス圧２〜１００×１０-3ｍｂａｒ、処理速度１００〜６００ｍ／ｍｉｎで、酸素ガス若しくはアルゴンガス単独プラズマ処理、又は酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理により行い、強密着処理層を形成した。
【００６６】
［半透明金属薄膜層］
本発明に係る半透明金属薄膜層の蒸着は、上述した蒸着薄膜層の蒸着と同様に、化学気相成長法又は物理気相成長法により、又はこれらを併用して行うことができる。
本発明の半透明金属薄膜層は、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、若しくはチタニウム（Ｔｉ）の単独の蒸着膜、またはこれらの混合物の蒸着膜であり、Ａｌ、ＮｉおよびＴｉ等の金属を上記の方法で蒸着させることで形成されるが、光線透過率を調整することで、内容物の視認性が得られ、かつ、ある程度の遮光性の得られる層（半透明金属薄膜層）とすることができる。
具体的には、光線透過率は２０％〜６０％とすることが好ましく、このためには、半透明蒸着膜の膜厚を２０Å〜１５０Åの範囲で、さらに真空度１〜１００×１０-4ｍｂａｒの真空条件で蒸着することが好ましい。
半透明金属薄膜層の製造法としては、例えば、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式に
よる真空蒸着法が好ましい。
【００６７】
［帯電防止層］
本発明に係る帯電防止層は、表面抵抗率が１×１０12Ω／□以下の帯電防止性を有するフィルムや、各種コーティング剤などを利用できる。
本発明に係る帯電防止層を構成する樹脂としては、従来公知のものがいずれも使用できるが、好ましいものとしては、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル等との共重合体、アイオノマー等のポリオレフィン系熱可塑性樹脂が挙げられる。
上記の熱可塑性樹脂中に包含させる帯電防止剤としては、従来公知のいずれの帯電防止剤も使用できるが、好ましいものとしては、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、高級アルコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル等の１種又は混合物の如き界面活性剤タイプの帯電防止剤が挙げられる。
【００６８】
帯電防止剤の熱可塑性樹脂中への添加方法及び製膜方法は従来公知の方法でよく、例えば、所定量の帯電防止剤を前記の樹脂ペレットと十分に混合し、押出機にて溶融混練し、インフレーションダイを通してフィルム化する方法や、帯電防止剤を高濃度に含むマスターバッチを用いて同様にフィルム化する方法等が挙げられ、帯電防止剤の添加方法やフィルム化の方法は特に限定されない。
【００６９】
帯電防止層のＪＩＳ−Ｋ−６９１１に準拠した表面固有抵抗は、１×１０12Ω／□以下であることが好ましい。１×１０12Ω／□を超えると、帯電防止性が乏しく、容易にホコリが付着してしまうからである。
【００７０】
［接着樹脂層］
接着樹脂層としては、特に限定されず、インモールドラベルに用いられているものであれば用いることができ、成形品を構成する樹脂と熱接着可能な熱接着樹脂層や、粘着接着剤層が使用できる。
例えば、熱接着樹脂層としては、熱によって溶融し、相互に融着し得るヒートシール性有するものを使用することができ、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレ、エチレン− 酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー 、酸変性ポリオレフィン系樹脂、その他等の樹脂の一種ないしそれ以上からなる樹脂のフィルムを使用することができる。
【実施例】
【００７１】
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これらの実施例は何ら本発明を制限するものではない。
【００７２】
（実施例１）
（１）基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、まず、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着した。次いで、これを繰り出し、その２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ放電処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、以下の蒸着条件により、膜厚２００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度：２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度：２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力：２５ｋＷ
フィルムの搬送速度：２４０ｍ／分
蒸着面：コロナ放電処理面
【００７３】
その後、酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス：アルゴンガス＝７．０：２．５（単位：ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-2ｍｂａｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウムの蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させたプラズマ処理面を形成した。
【００７４】
（２）他方、以下の表１に示す組成に従って、組成ａ.正珪酸エチル（多摩科学社製）、イソプロピルアルコール、０．５規定塩酸水溶液、イオン交換水、シランカップリング剤からなる加水分解液に、予め調製した組成ｂ.のポリビニルアルコール水溶液を加えて攪拌し 、無色透明のガスバリア性塗工液を得た。
【００７５】
【表１】
2011005836.tif 000003
【００７６】
次に、上記の（１）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性塗工液をグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１５０℃で６０秒間、加熱処理して、厚さ０．２μｍ（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成した。
【００７７】
（３）次に、上記で作成した積層フィルムを、巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着した。次いで、これを繰り出し、その積層フィルムのガスバリア性塗布膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、出力９ｋｗ、酸素ガス：アルゴンガス＝７．０：２．５（単位：ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-2ｍｂａｒ、処理速度２４０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、強密着処理層を形成した。
【００７８】
（４）その後、上記の強密着処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、以下の蒸着条件により、膜厚１００Åの透過性のあるアルミニウムの蒸着膜を、半透明金属薄膜層として形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度：１×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度：２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力：２０ｋＷ
フィルムの搬送速度：２４０ｍ／分
蒸着面：強密着処理面
【００７９】
（５）得られたアルミニウム蒸着層の上に、帯電防止層として、厚さ４０μｍ、表面抵抗率が１×１０12Ω／□以下の帯電防止機能を有する無延伸ポリプロピレン（ＣＰＰ）フィルムをドライラミネーション法で積層した。
（６）最後に、基材フィルムである２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの反対側の面に接着樹脂層として、厚さ４０μｍの熱接着性無延伸ポリプロピレン（ＣＰＰ）フィルムをドライラミネーション法で積層し、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルを得た。
【００８０】
（実施例２）
実施例１の（３）に記載の強密着処理層の形成条件を、パワー９ｋｗ、窒素ガス：アルゴンガス＝６０：３．０（単位：ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-2ｍｂａｒ、処理速度２４０ｍ／ｍｉｎで窒素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、強密着処理層を形成し、それ以外は実施例１と同様の方法で、本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルを作成した。
【００８１】
（比較例１）
実施例１の（３）に記載の強密着処理層の形成、（４）に記載の半透明金属薄膜層の形成、および（５）に記載の帯電防止層の形成を行わない以外は、実施例１と同様の方法で、インモールドラベルを製造した。
【００８２】
（測定試験）
実施例１、２、および比較例１において作成された各インモールドラベルを用いて水蒸気透過度測定の試験を行った。また、各インモールドラベルを用いて図２に示すような、カップ状の成形品を作成し、静電気シールド性を評価した。結果を表２に示す。
（ａ）水蒸気透過度測定
各インモールドラベルの水蒸気透過度を、４０℃、９０％ＲＨの雰囲気下で、水蒸気透過度測定装置（モダンコントロール社製、ＰＡＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１）を使用して測定した。
（ｂ）静電気シールド性評価
ＥＩＡ  ５４１  Ａｐｐｅｎｄｉｘ  Ｅに基づいて、外部電圧１０００Ｖ印加時の静電気シールド性を評価した。
【００８３】
【表２】
2011005836.tif 000004
【００８４】
上記のように本発明に係るガスバリア性帯電防止インモールドラベルは、比較例のインモールドラベルと比べ、優れた水蒸気バリア性、並びに静電気シールド性を示すものであった。
【符号の説明】
【００８５】
１・・・接着樹脂層
２・・・基材フィルム
３・・・透明ガスバリア層
４・・・ガスバリア性塗布膜
５・・・強密着処理層
６・・・半透明金属薄膜層
７・・・帯電防止層
１０・・・ガスバリア性帯電防止インモールドラベル
１１・・・被蒸着フィルム
２１・・・プラズマＣＶＤ装置
２２、４２・・・真空チャンバー
２３、４３・・・巻き出しロール
２４、３３・・・補助ロール
２５・・・冷却・電極ドラム
２６、２７・・・ガス供給装置
２８・・・原料揮発供給装置
２９・・・原料供給ノズル
３０・・・グロー放電プラズマ
３１・・・電源
３２・・・マグネット
３４、５３・・・巻き取りロール
３５・・・真空ポンプ
４１・・・巻き取り式真空蒸着装置
４４、４５、５１、５２・・・ガイドロール
４６・・・コーティングドラム
４７・・・るつぼ
４８・・・蒸着源
４９・・・酸素ガス吹出口
５０・・・マスク
１００・・・成形品
【図１】
2011005836.tif 000005
【図２】
2011005836.tif 000006
【図３】
2011005836.tif 000007
【図４】
2011005836.tif 000008