(57)【要約】【課題】タッチ入力の感度を向上させたタッチスクリーンパネルが提供されること。【解決手段】本発明によるタッチスクリーンパネルは、タッチ活性領域にそれぞれ第１方向及び第２方向に沿って接続されるように形成された複数の第１検出パターン及び第２検出パターンと、前記タッチ活性領域の外郭に画定されるタッチ非活性領域に位置し、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンの各々に接続されるように形成された複数の位置検出ラインとを備え、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの１つ以上の検出パターンは、透明電極物質からなる１つ以上の第１電極層と、不透明電極物質からなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成されることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ活性領域にそれぞれ第１方向及び第２方向に沿って接続されるように形成された複数の第１検出パターン及び第２検出パターンと、
前記タッチ活性領域の外郭に画定されるタッチ非活性領域に位置し、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンの各々に接続されるように形成された複数の位置検出ラインとを備え、
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの１つ以上の検出パターンは、透明電極物質からなる１つ以上の第１電極層と、不透明電極物質からなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成されることを特徴とするタッチスクリーンパネル。
【請求項２】
前記第２電極層の厚さは、前記第１電極層の厚さより小さく設定されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項３】
前記第２電極層は、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群より選択された１つの物質からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項４】
前記第２電極層は、銀（Ａｇ）からなり、前記第２電極層の厚さは、１０Å〜１２０Åの範囲内で設定されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項５】
前記第２電極層は、銀（Ａｇ）からなり、前記第２電極層の厚さは、２００Å〜５００Åの範囲内で設定されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項６】
前記第１電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）及びインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）から選択された１つの物質からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項７】
前記積層構造は、前記第１電極層と、前記第１電極層の下部に配置された前記第２電極層とを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項８】
前記積層構造は、前記第１電極層と、前記第１電極層の上部に配置された前記第２電極層とを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項９】
前記積層構造は、２つの前記第１電極層と、前記２つの第１電極層の間に介在する前記第２電極層とを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１０】
前記積層構造は、２つの前記第２電極層と、前記２つの第２電極層の間に介在する前記第１電極層とを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１１】
前記積層構造は、それぞれ２つ以上の前記第１電極層及び前記第２電極層を含み、前記第１電極層及び前記第２電極層が交互に積層された構造を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１２】
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンはいずれも、前記第１及び第２電極層を含む積層構造で形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１３】
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンは、同一の積層構造を有することを特徴とする請求項１２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１４】
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンは、前記タッチ活性領域に交互に複数分散して配置される静電容量方式の検出セルの形態であり、
同じ列ラインまたは同じ行ラインに位置する前記第１検出パターンは、前記列ラインまたは行ラインに沿って複数配置された第１接続パターンに前記第１方向に沿って接続されるように形成され、
同じ行ラインまたは同じ列ラインに位置する前記第２検出パターンは、前記行ラインまたは列ラインに沿って複数配置された第２接続パターンに前記第１方向と交差する前記第２方向に沿って接続されるように形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１５】
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンは、それぞれ横または縦に一定の間隔で区画され、前記第１方向及びこれに交差する前記第２方向に沿って延びる抵抗膜方式の接触電極の形態であることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１６】
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの１つ以上の検出パターンがその下部に位置する表示パネルの上基板上に形成され、前記表示パネルと一体化して実現されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１７】
映像を表示するための表示パネルと、
前記表示パネルの上部に配置され、タッチ入力を受信するための複数の第１検出パターン及び第２検出パターンを含むタッチスクリーンパネルとを備え、
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの少なくとも一部が前記表示パネルの上基板上に形成され、前記表示パネルと前記タッチスクリーンパネルとが一体化され、
前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの１つ以上の検出パターンは、透明電極物質からなる１つ以上の第１電極層と、不透明電極物質からなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成されることを特徴とする映像表示装置。
【請求項１８】
前記第２電極層の厚さは、前記第１電極層の厚さより小さく設定されることを特徴とする請求項１７に記載の映像表示装置。
【請求項１９】
前記第２電極層は、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群より選択された１つの物質からなることを特徴とする請求項１７に記載の映像表示装置。
【請求項２０】
前記第２電極層は、銀（Ａｇ）からなり、前記第２電極層の厚さは、１０Å〜１２０Åの範囲または２００Å〜５００Åの範囲内で設定されていることを特徴とする請求項１７に記載の映像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチスクリーンパネル及びこれを備えた映像表示装置に関し、特に、タッチ入力の感度を向上させたタッチスクリーンパネル及びこれを備えた映像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンパネルは、映像表示装置などの画面に現れた指示内容を人の手または物体により選択し、ユーザの命令を入力できるようにした入力装置である。
【０００３】
このため、タッチスクリーンパネルは、映像表示装置の前面に備えられ、人の手または物体に直接接触した接触位置を電気的信号に変換する。これにより、接触位置で選択された指示内容が入力信号として受信される。
【０００４】
このようなタッチスクリーンパネルは、キーボードやマウスのような、映像表示装置に接続されて動作する別の入力装置を代替できるため、その利用範囲が次第に拡大している傾向にある。
【０００５】
タッチスクリーンパネルを実現する方式としては、抵抗膜方式、光検出方式、及び静電容量方式などが知られている。
【０００６】
このうち、抵抗膜方式及び静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、人の手またはスタイラスペンのような物体が接触したとき、それぞれ抵抗の変化及び静電容量の変化を検出し、タッチ入力に対する位置を検出するための検出パターンを備える。
【０００７】
このような検出パターンは、映像が表示される表示領域上に配置されるため、下部に位置する表示パネル側から入射する光の透過率が確保されるようにするとともに、可視化が防止されるように一般的に透明である。
【０００８】
このため、検出パターンは、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｕｉｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）（以下、「ＩＴＯ」とする。）やインジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｕｉｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）（以下、「ＩＺＯ」とする。）のような透明電極物質で形成される。
【０００９】
しかし、ＩＴＯやＩＺＯのような透明電極物質は、高い面抵抗を有するため、これらにより検出パターンを形成した場合、タッチ入力の感度が低下するという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで、本発明の目的は、検出パターンの抵抗を減少させることにより、タッチ入力の感度を向上させたタッチスクリーンパネル及びこれを備えた映像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様は、タッチ活性領域にそれぞれ第１方向及び第２方向に沿って接続されるように形成された複数の第１検出パターン及び第２検出パターンと、前記タッチ活性領域の外郭に画定されるタッチ非活性領域に位置し、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンの各々に接続されるように形成された複数の位置検出ラインとを備え、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターのうちの１つ以上の検出パターンは、透明電極物質からなる１つ以上の第１電極層と、不透明電極物質からなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成されることを特徴とするタッチスクリーンパネルを提供する。
【００１２】
ここで、前記第２電極層の厚さは、前記第１電極層の厚さより小さく設定され得る。
【００１３】
また、前記第２電極層は、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群より選択された１つの物質からなり得る。
【００１４】
さらに、前記第２電極層は、銀（Ａｇ）からなり、前記第２電極層の厚さは、１０Å〜１２０Åの範囲内で設定され得る。あるいは、前記第２電極層は、銀（Ａｇ）からなり、前記第２電極層の厚さは、２００Å〜５００Åの範囲内で設定され得る。
【００１５】
また、前記第１電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）及びインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）から選択された１つの物質からなり得る。
【００１６】
また、前記積層構造は、前記第１電極層と、前記第１電極層の下部に配置された前記第２電極層とを含み得る。
【００１７】
さらに、前記積層構造は、前記第１電極層と、前記第１電極層の上部に配置された前記第２電極層を含み得る。
【００１８】
なお、前記積層構造は、２つの前記第１電極層と、前記２つの第１電極層の間に介在する前記第２電極層とを含み得る。
【００１９】
また、前記積層構造は、２つの前記第２電極層と、前記２つの第２電極層の間に介在する前記第１電極層とを含み得る。
【００２０】
さらに、前記積層構造は、それぞれ２つ以上の前記第１電極層及び前記第２電極層を備え、前記第１電極層及び前記第２電極層が交互に積層された構造を有することができる。
【００２１】
また、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンはいずれも、前記第１及び第２電極層を含む積層構造で形成され得る。
【００２２】
さらに、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンは、同一の積層構造を有することができる。
【００２３】
また、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンは、前記タッチ活性領域に交互に複数分散して配置される静電容量方式の検出セルの形態で実現され、同じ列ラインまたは同じ行ラインに位置する前記第１検出パターンは、前記列ラインまたは行ラインに沿って複数配置された第１接続パターンに前記第１方向に沿って接続されるように形成され、同じ行ラインまたは同じ列ラインに位置する前記第２検出パターンは、前記行ラインまたは列ラインに沿って複数配置された第２接続パターンに前記第１方向と交差する前記第２方向に沿って接続されるように形成され得る。
【００２４】
さらに、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンは、それぞれ横または縦に一定の間隔で区画され、前記第１方向及びこれに交差する前記第２方向に沿って延びる抵抗膜方式の接触電極の形態で実現され得る。
【００２５】
なお、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの１つ以上の検出パターンがその下部に位置する表示パネルの上基板上に形成され、前記表示パネルと一体化され得る。
【００２６】
本発明の他の態様は、映像を表示するための表示パネルと、前記表示パネルの上部に配置され、タッチ入力を受信するための複数の第１検出パターン及び第２検出パターンを含むタッチスクリーンパネルとを備え、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの少なくとも一部が前記表示パネルの上基板上に形成され、前記表示パネルと前記タッチスクリーンパネルとが一体化して実現され、前記第１検出パターン及び前記第２検出パターンのうちの１つ以上の検出パターンは、透明電極物質からなる１つ以上の第１電極層と、不透明電極物質からなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成されることを特徴とする映像表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００２７】
このような本発明によれば、タッチスクリーンパネルを実現するために、互いに異なる方向に沿って接続されるように形成される第１検出パターン及び／または第２検出パターンを、透明電極物質からなる第１電極層と、不透明電極物質からなり、かつ、所定の透過度が確保されるように厚さが限定された第２電極層とを含む積層構造で形成する。
【００２８】
これにより、下部の表示パネルから供給される光の透過度の減少を最小化しつつ、検出パターンの抵抗を減少させ、タッチ入力の感度を向上させることができる。
【００２９】
また、タッチスクリーンパネルの第１検出パターン及び／または第２検出パターンを表示パネルの上基板上に形成することにより、タッチスクリーンパネルと表示パネルとを一体化すると、光の透過度を改善するとともに、タッチスクリーンパネル内蔵型映像表示装置の厚さを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルを示す平面図である。
【図２】図１に示す検出パターン及び接続パターンの実施例を示す要部拡大図である。
【図３】図２に示すＩ−Ｉ’及びＩＩ−ＩＩ’方向に沿ったタッチスクリーンパネルの要部断面図である。
【図４】本発明による検出パターンの積層構造に関する様々な実施例を示す断面図である。
【図５】本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルを示す平面図である。
【図６】図５に示すタッチスクリーンパネルの要部断面図である。
【図７】本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルを備えた映像表示装置の要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付した図面を参照して本発明の実施例をより詳細に説明する。
【００３２】
図１は、本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルを示す平面図である。
【００３３】
図１に示すように、タッチスクリーンパネルは、透明基板１０と、前記透明基板１０上のタッチ活性領域に形成された検出パターン１２及び接続パターン１３と、前記タッチ活性領域の外郭のタッチ非活性領域に形成され、検出パターン１２をパッド部２０を介して外部の駆動回路に接続する位置検出ライン１５とを備える。
【００３４】
検出パターン１２は、タッチ活性領域に第１方向に沿って接続されるように形成された複数の第１検出パターン１２ａと、前記タッチ活性領域に第１方向と交差する（例えば、直交する）第２方向に沿って接続されるように形成された複数の第２検出パターン１２ｂとを含む。
【００３５】
特に、図１に示す実施例は、静電容量方式のタッチスクリーンパネルの一例を示すものであり、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂは、タッチ活性領域に互いに重ならないように交互に分散して配置される静電容量方式の検出セルの形態で実現される。
【００３６】
すなわち、第１検出パターン１２ａは、列ライン及び／または行ラインに沿ってそれぞれ複数個ずつ配置されるが、同じ列ラインまたは行ライン（本実施例では、同じ列ライン）に位置する第１検出パターン１２ａは、前記同じ列ラインまたは行ラインに沿って複数配置された第１接続パターン１３ａにより第１方向（本実施例では、列方向）に沿って接続されるように形成される。このとき、第１検出パターン１２ａは、第１方向に沿って接続されるライン単位で各々の位置検出ライン１５に接続される。
【００３７】
また、第２検出パターン１２ｂは、行ライン及び／または列ラインに沿ってそれぞれ複数個ずつ配置されるが、同じ行ラインまたは列ライン（本実施例では、同じ行ライン）に位置する第２検出パターン１２ｂは、前記同じ行ラインまたは列ラインに沿って複数配置された第２接続パターン１３ｂにより第１方向と交差する第２方向（本実施例では、行方向）に沿って接続されるように形成される。このとき、第２検出パターン１２ｂは、第２方向に沿って接続されるライン単位で各々の位置検出ライン１５に接続される。
【００３８】
このような第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂは、下部に配置される表示パネル（図示せず）からの光が透過できるように、所定の透過度以上を有するように透明である。例えば、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂは、少なくともＩＴＯのような透明電極物質で形成された透明電極層を含んで構成され得る。
【００３９】
接続パターン１３は、第１方向に沿って複数形成され、第１検出パターン１２ａを第１方向に沿って接続する複数の第１接続パターン１３ａと、第２方向に沿って複数形成され、第２検出パターン１２ｂを第２方向に沿って接続する複数の第２接続パターン１３ｂとを含む。
【００４０】
位置検出ライン１５は、第１方向及び第２方向に沿って接続されるライン単位の第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂの各々に電気的に接続され、これらをパッド部２０を介して位置検出回路のような外部の駆動回路（図示せず）に接続する。
【００４１】
このような位置検出ライン１５は、映像が表示されるタッチ活性領域を避けて前記タッチ活性領域の外郭に画定されるタッチ非活性領域に位置するものであり、材料の選択幅が広く、検出パターン１２の形成に用いられる透明電極物質のほか、モリブデン（Ｍｏ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン／アルミニウム／モリブデン（Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）などの低抵抗物質で形成され得る。
【００４２】
前述したタッチスクリーンパネルは、静電容量方式のタッチスクリーンパネルであって、人の手またはスタイラスペンなどのような接触物体が接触すると、検出パターン１２から位置検出ライン１５及びパッド部２０を経由して駆動回路（図示せず）側へと、接触位置に応じた静電容量の変化が伝達される。すると、Ｘ及びＹ入力処理回路（図示せず）などによって静電容量の変化が電気的信号に変換されることにより、接触位置が把握される。
【００４３】
図２は、図１に示す検出パターン及び接続パターンの実施例を示す要部拡大図である。ここで、図２（ａ）は、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂが同一層に配置される１層構造のタッチスクリーンパネルに関する一例を示すものであり、図２（ｂ）は、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂが異なる層に配置される２層構造のタッチスクリーンパネルに関する一例を示すものである。
【００４４】
まず、図２（ａ）に示すように、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂは、同一層に互いに交互に配置され、それぞれ第１接続パターン１３ａ及び第２接続パターン１３ｂにより第１方向及び第２方向に沿って接続されるように形成される。
【００４５】
このとき、第１接続パターン１３ａと第２接続パターン１３ｂとの間の安定性（絶縁性）を確保するために、前記第１接続パターン１３ａ及び第２接続パターン１３ｂは、これらの間に絶縁膜（図示せず）を介在して異なる層に位置する。
【００４６】
例えば、第１接続パターン１３ａは、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂが位置する層の上部または下部層に位置し、コンタクトホールや直接接触により第１検出パターン１２ａに接続され、第２接続パターン１３ｂは、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂが位置する層と同一層に位置し、第２検出パターン１２ｂと一体にパターニングできる。
【００４７】
この場合、第１検出パターン１２ａは、各々が独立したパターンを有するように分離されてパターニングされるが、自身と異なる層に位置する第１接続パターン１３ａにより第１方向に沿って接続され得る。
【００４８】
一方、本発明において、第１検出パターン１２ａと第２検出パターン１２ｂとが必ずしも同一層に位置するものではなく、例えば、これらは、互いに異なる層に交互に配置されていてもよい。
【００４９】
この場合、図２（ｂ）に示すように、第１接続パターン１３ａは、第１検出パターン１２ａと同一層に位置し、前記第１検出パターン１２ａと一体にパターニングされ、第２接続パターン１３ｂは、第２検出パターン１２ｂが位置する層と同一層に位置し、前記第２検出パターン１２ｂと一体にパターニングできる。
【００５０】
この場合、第１検出パターン１２ａ及び第１接続パターン１３ａが形成された層と、第２検出パターン１２ｂ及び第２接続パターン１３ｂが形成された層との間には、タッチ活性領域の全面に絶縁膜が介在し得る。
【００５１】
また、図２では、第１及び第２接続パターン１３ａ、１３ｂが互いに交差する実施例を示しているが、本発明は必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、第１接続パターン１３ａが、隣接する第２検出パターン１２ｂと重なる経路に迂回して第２接続パターン１３ｂと交差することなく、第１検出パターン１２ａを第１方向に沿って接続することもできる。この場合、第１接続パターン１３ａと第２検出パターン１２ｂとの間には、安定性を確保するための絶縁膜が介在し得る。
【００５２】
図３は、図２に示すＩ−Ｉ’及びＩＩ−ＩＩ’方向に沿ったタッチスクリーンパネルの要部断面図であり、特に、図３（ａ）は、図２のＩ−Ｉ’方向に沿ったタッチスクリーンパネルの要部断面図であり、図３（ｂ）は、図２のＩＩ−ＩＩ’方向に沿ったタッチスクリーンパネルの要部断面図である。
【００５３】
図３に示すように、タッチ活性領域１０１には、第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂと、第１及び第２接続パターン１３ａ、１３ｂとが形成され、第１接続パターン１３ａと第２接続パターン１３ｂとの間には、安定性を確保するための絶縁膜１４が介在する。また、タッチ活性領域の外郭のタッチ非活性領域１０２には、低抵抗物質で形成された位置検出ライン１５が形成される。
【００５４】
絶縁膜１４は、第１接続パターン１３ａの一領域、例えば、第１検出パターン１２ａに接続される第１接続パターン１３ａの両側端部を露出するように形成される。また、露出した第１接続パターン１３ａの両側端部が第１検出パターン１２ａに接続され、かつ、前記第１検出パターン１２ａが第１方向（例えば、列方向）に沿って接続される。
【００５５】
また、第２接続パターン１３ｂは、絶縁膜１４の上部を経由しつつ、第２方向（例えば、行方向）に沿って第２検出パターン１２ｂと一体に接続されるようにパターニングされる。これにより、第２検出パターン１２ｂが第２方向に沿って接続される。
【００５６】
一方、図３は、図２（ａ）に示すような１層構造のタッチスクリーンパネルに備えられる検出パターン及び接続パターンの断面に関する一例を示すものであり、便宜上、第１接続パターン１３ａと第２接続パターン１３ｂとの交差部にのみ局所的に絶縁膜１４が介在する実施例を開示したものである。
【００５７】
しかし、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、タッチ活性領域の全面に絶縁膜が形成され、前記絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して異なる層に位置する検出パターン（例えば、第１検出パターン１２ａ）と、これを接続するための接続パターン（例えば、第１接続パターン１３ａ）とが電気的に接続されてもよい。
【００５８】
また、図３では、第１接続パターン１３ａが絶縁膜１４の下部に位置し、第２接続パターン１３ｂが絶縁膜１４の上部に位置することを例として示しているが、第１接続パターン１３ａ及び第２接続パターン１３ｂの位置が反転できることはいうまでもない。
【００５９】
ただし、タッチ活性領域１０１は、タッチスクリーンパネルの下部の表示パネル（図示せず）などからの光が透過できるように透明に実現される。すなわち、第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂ、第２接続パターン１３ｂ、絶縁膜１４などは、所定の透過度以上を有する透明性材料で形成される。ここで、透明とは、１００％透明であることはもちろん、高い光透過率を有する程度に透明であることを包括的に意味する。
【００６０】
このため、第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂ、第２接続パターン１３ｂは、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明電極物質を含んで形成され、絶縁膜１４は、シリコン酸化膜（ＳｉＯ２）などの透明性絶縁物質で形成され得る。
【００６１】
また、第１接続パターン１３ａは、第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂ、第２接続パターン１３ｂのように透明電極物質で形成されるか、あるいは位置検出ライン１５のように不透明低抵抗金属などで形成され、可視化が防止されるように、線幅や、長さ、厚さなどが調整可能である。
【００６２】
ただし、ＩＴＯやＩＺＯのような透明電極物質は、高い面抵抗を有するため、これらにより第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂを形成した場合、タッチ入力の感度が低下する恐れがある。
【００６３】
そこで、本発明は、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂのうちの１つ以上の検出パターンを、ＩＴＯやＩＺＯのような透明電極物質ＴＣＯ（Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｏｂｊｅｃｔ）からなる１つ以上の第１電極層と、銀（Ａｇ）のような不透明電極物質ＮＴＣＯ（Ｎｏｎ−Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｏｂｊｅｃｔ）からなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成することにより、タッチ入力の感度を向上させることを特徴とする。
【００６４】
例えば、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂを、透明電極物質ＴＣＯからなる２つの第１電極層と、前記２つの第１電極層の間に介在し、不透明電極物質ＮＴＣＯからなる第２電極層とを含む積層構造で形成することができる。
【００６５】
このとき、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂは、工程の便宜上、同一の積層構造を有するように形成され得る。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、第１検出パターン１２ａ及び第２検出パターン１２ｂは、異なる構造を有するように形成されていてもよい。
【００６６】
例えば、画面の長辺方向に沿って接続されてより抵抗に敏感な第１検出パターン１２ａは、１つ以上の第１電極層と、１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成し、第２検出パターン１２ｂは、１つの第１電極層からなる単層構造で形成することができる。
【００６７】
また、第１検出パターン１２ａと第２検出パターン１２ｂの両方を、１つ以上の第１電極層と、１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成するが、これらの積層構造やその物質が異なるように変更実施できることはいうまでもない。
【００６８】
ただし、低抵抗の不透明電極物質ＮＴＣＯで形成される第２電極層の厚さは、透過度を確保するために、所定の範囲以内に限定され得る。
【００６９】
例えば、第２電極層が銀（Ａｇ）からなる場合、第２電極層の厚さは、５００Å以内に設定され得る。
【００７０】
特に、検出パターン１２ａ、１２ｂの抵抗を低くしながらも、高い透過率を維持しなければならない場合、１層の第２電極層を備える一方で、前記第２電極層の厚さが１２０Å以下になるように限定することができる。
【００７１】
例えば、第１検出パターン１２ａ及び／または第２検出パターン１２ｂ（あるいは、第２検出パターン１２ｂと同じ物質で一体化して形成される第２接続パターン１３ｂも含む。）が、第１電極層／第２電極層／第１電極層の順に積層される３層の積層構造で形成される場合、ＩＴＯ（３００Å）／Ａｇ（１０〜１２０Å）／ＩＴＯ（３００Å）の積層構造により、第１検出パターン１２ａ及び／または第２検出パターン１２ｂを形成することができる。この場合、第１検出パターン１２ａ及び／または第２検出パターン１２ｂにおける光透過率を９０％以上確保しつつ、面抵抗を１０Ω以下に抑えることができる。
【００７２】
また、透過率をやや低くしてでもより低い面抵抗を確保しようとする場合、例えば、ＩＴＯ（３００Å）／Ａｇ（２００〜５００Å）／ＩＴＯ（３００Å）の積層構造により、第１検出パターン１２ａ及び／または第２検出パターン１２ｂを形成することができる。この場合、半透過型タッチスクリーンパネルを実現しながら、前記タッチスクリーンパネルを鏡の機能として活用することもできる。
【００７３】
すなわち、タッチスクリーンパネルに要求される特性条件及びその用途などに合わせて不透明電極物質からなる第２電極層の厚さを調整するが、下部の表示パネルによる光が所定の透過度以上（例えば、半透過型を含めて５０％以上）に透過できるように第２電極層の厚さを限定することができる。
【００７４】
すなわち、透過度を確保するために、第２電極層の厚さは限定されるべきであり、例えば、第２電極層の厚さは、第１電極層の厚さより小さく設定され得る。
【００７５】
前述した本発明によれば、タッチスクリーンパネルを実現するために、互いに異なる方向に沿って接続されるように形成される第１検出パターン１２ａ及び／または第２検出パターン１２ｂを、透明電極物質ＴＣＯからなる第１電極層と、不透明電極物質ＮＴＣＯからなり、かつ、所定の透過度が確保されるように厚さが限定された第２電極層とを含む積層構造で形成する。
【００７６】
これにより、下部の表示パネルから供給される光の透過度の減少を最小化しつつ、検出パターン１２ａ、１２ｂの抵抗を減少させ、タッチ入力の感度とともに精度及び出力周期を向上させることができる。
【００７７】
図４は、本発明による検出パターンの積層構造に関する様々な実施例を示す断面図である。
【００７８】
図４に示すように、検出パターンの積層構造、すなわち、第１検出パターン及び／または第２検出パターンの積層構造は、透明電極物質ＴＣＯからなる１つ以上の第１電極層１２ａ１と、不透明電極物質ＮＴＣＯからなる１つ以上の第２電極層１２ａ２とを含む。
【００７９】
例えば、検出パターンの積層構造は、それぞれ１つの第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２を含むが、図４（ａ）に示すように、下部から第２電極層１２ａ２及び第１電極層１２ａ１の順に積層されるか、あるいは、図４（ｂ）に示すように、下部から第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２の順に積層され得る。
【００８０】
すなわち、検出パターンの積層構造は、第１電極層１２ａ１と、前記第１電極層１２ａ１の下部に配置された第２電極層１２ａ２とを含むか、第１電極層１２ａ１と、前記第１電極層１２ａ１の上部に配置された第２電極層１２ａ２とを含み得る。
【００８１】
また、検出パターンの積層構造は、１つ以上の第１電極層１２ａ１及び／または第２電極層１２ａ２をさらに含むことができる。
【００８２】
例えば、検出パターンの積層構造は、図４（ｃ）に示すように、２つの第１電極層１２ａ１と、前記２つの第１電極層１２ａ１の間に介在する１つの第２電極層１２ａ２とを含んでなるか、あるいは、図４（ｄ）に示すように、２つの第２電極層１２ａ２と、前記２つの第２電極層１２ａ２の間に介在する１つの第１電極層１２ａ１とを含み得る。
【００８３】
また、検出パターンの積層構造は、それぞれ１つ以上の第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２をさらに含むことができる。すなわち、検出パターンの積層構造は、それぞれ２つ以上の第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２を含むことができるが、これらは、例えば、図４（ｅ）に示すように、第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２が交互に積層された構造を有することができる。
【００８４】
一方、図４（ｅ）は、下部から、第１電極層１２ａ１、第２電極層１２ａ２、第１電極層１２ａ１、及び第２電極層１２ａ２の順に積層された積層構造を示しているが、前記第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２の位置は反転可能である。
【００８５】
この第１電極層１２ａ１は、ＩＴＯやＩＺＯ、あるいはＩＴＺＯのような他の透明電極物質ＴＣＯから選択された１つの物質からなり、第２電極層１２ａ２は、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群より選択された１つの低抵抗不透明電極物質からなり得る。
【００８６】
一方、第２電極層１２ａ２は、所定の透過度が確保されるように、例えば、第１電極層１２ａ１より小さい厚さを有するように厚さが限定された不透明電極物質からなり得る。第２電極層１２ａ２が銀（Ａｇ）からなる場合を挙げると、各々の第２電極層１２ａ２の厚さは、図３で説明したように、高い透過度を確保するために、１０Å〜１２０Åの範囲内で設定されるか、あるいはより面抵抗を低くしながら、半透過型タッチスクリーンパネルが実現できるように、２００Å〜５００Åの範囲内で設定され得る。
【００８７】
また、図４に示したもの以外にも、検出パターンの積層構造は、それぞれ１つ以上の第１電極層１２ａ１及び第２電極層１２ａ２を含む多様な構造で形成され、下部の表示パネルから供給される光の所定の透過度を満足する範囲内で検出パターンの抵抗を減少させ、タッチ入力の感度を向上させることができる。
【００８８】
図５は、本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルを示す平面図であり、図６は、図５に示すタッチスクリーンパネルの要部断面図である。
【００８９】
図５及び図６に示すように、タッチスクリーンパネルは、タッチ活性領域にそれぞれ第１方向及び第２方向に沿って接続されるように形成された複数の第１検出パターン１１０及び第２検出パターン２１０と、タッチ活性領域の外郭に画定されるタッチ非活性領域に位置し、第１検出パターン１１０及び第２検出パターン２１０の各々に接続されるように形成された複数の位置検出ライン１２０、２２０とを備える。
【００９０】
特に、図５及び図６に示す実施例は、抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルの一例を示すものであり、第１検出パターン１１０及び第２検出パターン２１０は、それぞれ横または縦に一定の間隔で区画され、第１方向（例えば、行方向）及びこれに交差する第２方向（例えば、列方向）に沿って延びる抵抗膜方式の接触電極の形態で実現される。
【００９１】
より具体的には、本実施例によるタッチスクリーンパネルは、第１方向に沿って延びる第１検出パターン１１０及び前記第１検出パターン１１０に接続される第１位置検出ライン１２０が形成された上基板１００と、第２方向に沿って延びる第２検出パターン２１０及び前記第２検出パターン２１０に接続される第２位置検出ライン２２０が形成された下基板２００と、第１検出パターン１１０と第２検出パターン２１０との間に位置し、タッチ入力が提供される際のタッチ地点における第１検出パターン１１０と第２検出パターン２１０とを通電させる複数のドットスペーサ３００と、上基板１００と下基板２００とを接着させる接着剤４００とを備える。
【００９２】
ここで、第１検出パターン１１０と第２検出パターン２１０とは、所定の間隔離隔して重なり、タッチ入力が提供されていないときには、これらの間に絶縁状態が維持される。また、タッチ入力によりタッチ地点が加圧されると、前記タッチ地点でドットスペーサ３００により第１検出パターン１１０と第２検出パターン２１０とが通電する。このとき、第１検出パターン１１０に接続された第１位置検出ライン１２０と、第２検出パターン２１０に接続された第２位置検出ライン２２０とを介して検出される電圧により、タッチの有無及びその位置を把握することができる。
【００９３】
ただし、本実施例においても、第１検出パターン１１０及び第２検出パターン２１０のうちの１つ以上の検出パターンは、透明電極物質ＴＣＯからなる１つ以上の第１電極層と、不透明電極物質ＮＴＣＯからなる１つ以上の第２電極層とを含む積層構造で形成される。
【００９４】
前記積層構造に関する実施例は、先に説明した他の実施例、すなわち、静電容量方式のタッチスクリーンパネルに備えられた第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂの積層構造において多様に記載されたので、これに関する詳細な説明は省略する。
【００９５】
したがって、本実施例においても、タッチスクリーンパネルを実現するために、互いに異なる方向に沿って接続されるように形成される第１検出パターン１１０及び／または第２検出パターン２１０を、透明電極物質ＴＣＯからなる第１電極層と、不透明電極物質ＮＴＣＯからなり、かつ、所定の透過度が確保されるように厚さが限定された第２電極層とを含む積層構造で形成することにより、タッチ入力の感度を向上させることができる。
【００９６】
一方、図１〜図６を参照して前述した本発明のタッチスクリーンパネルは、独立した基板に形成され、映像表示装置などの上面に取り付けられるか、あるいは映像表示装置の表示パネルと一体化して実現され得る。
【００９７】
すなわち、本発明の実施例による映像表示装置は、映像を表示するための表示パネルと、前記表示パネルの上部に配置され、タッチ入力を受信するための複数の第１検出パターン１２ａ、１１０及び第２検出パターン１２ｂ、２１０を含むタッチスクリーンパネルＴＳＰを備えるものの、前記タッチスクリーンパネルの第１検出パターン１２ａ、１１０及び／または第２検出パターン１２ｂ、２１０を表示パネルの上基板上に形成することにより、タッチスクリーンパネルＴＳＰと表示パネルとを一体化することができる。
【００９８】
このため、図７（ａ）に示すように、１層構造の静電容量方式のタッチスクリーンパネルＴＳＰ１に備えられる第１及び第２検出パターン１２ａ、１２ｂと、第１及び第２接続パターン１３ａ、１３ｂなどを表示パネルの上基板１０上に一体化して形成することができる。また、図７には示していないが、２層構造の静電容量方式の場合、第１検出パターン１２ａまたは第２検出パターン１２ｂを表示パネルの上基板１０上に一体化して形成することができる。
【００９９】
また、図７（ｂ）に示すように、抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルＴＳＰ２に備えられる検出パターンの一部、例えば、抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルの下基板に備えられる第２検出パターン２１０を表示パネルの上基板２００上に形成し、タッチスクリーンパネルの下基板を表示パネルの上基板２００と一体化して形成することができる。
【０１００】
すなわち、タッチスクリーンパネルの第１検出パターン１２ａ、１１０及び／または第２検出パターン１２ｂ、２１０を表示パネルの上基板上に形成することにより、タッチスクリーンパネルＴＳＰと表示パネルとを一体化することにより、タッチスクリーンパネルＴＳＰと表示パネルとの間の空隙（ａｉｒ  ｇａｐ）を除去し、光の透過度を改善するとともに、タッチスクリーンパネル内蔵型映像表示装置の厚さを低減することができる。
【０１０１】
一方、図７では、便宜上、タッチスクリーンパネルＴＳＰの下部に備えられる表示パネルＤｉｓｐｌａｙを液晶表示パネルとして示しているが、これは、単に一実施例を開示したものであって、前記表示パネルは、液晶表示パネルのほか、有機電界発光表示パネルなど、映像を表示するための多様な種類の表示パネルで実現できることはいうまでもない。
【０１０２】
図７において、図面符号「５００」は液晶表示パネルの下基板、「５１０」及び「５２０」はそれぞれ画素電極及び共通電極、「５３０」は液晶層、「５４０」はカラーフィルタ、「５６０」はオーバーコート膜である。
【０１０３】
ただし、液晶表示パネルの構成は公知の技術であるため、図７では、前記液晶表示パネルの構成を比較的簡単に示しており、これに関する詳細な説明は省略する。
【０１０４】
前述したように、タッチスクリーンパネルＴＳＰと表示パネルとを一体化すると、光の透過度を改善するとともに、タッチスクリーンパネル内蔵型映像表示装置の厚さを低減することができる。
【符号の説明】
【０１０５】
１０；透明基板
１２（１２ａ、１２ｂ）、１１０、２１０；検出パターン
１２ａ１、１２ａ２；電極層
１３（１３ａ、１３ｂ）；接続パターン
１４；絶縁膜
１５、１２０、２２０；位置検出ライン
２０；パッド部
１００；上基板
１０１；タッチ活性領域
１０２；タッチ非活性領域
２００；下基板
３００；ドットスペーサ
４００；接着剤
【図１】
2011253519.tif 000003
【図２】
2011253519.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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