(57)【要約】      （修正有）【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】本体６０１に内蔵され、本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホール６０３ａ，６０３ｂを含む基板５００を支持する静電チャック６００で、キャリアのチャンバ７３１通過時に電源ホールへの着脱自在の、電極に電力を提供する移動経路の上流の第１電源フィン６０４ａと他の電源ホールに着脱自在の下流に位置する第２電源フィン６０４ｂを含む薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被蒸着用基板と接し、前記基板を支持する支持面を有する本体と、前記本体に内蔵され、前記支持面に静電気力を生成させる電極と、前記電極が開放されるように形成され、前記本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホールと、を含む静電チャックと、
真空に維持される複数のチャンバと、
前記チャンバのうち少なくとも１つの内部に配され、前記基板と所定間隔離隔され、前記静電チャックに支持された基板に薄膜を蒸着する少なくとも１つの薄膜蒸着アセンブリと、
前記静電チャックを、前記チャンバを通過するように移動させるキャリアと、
前記電源ホールのうち一つに着脱自在に備わり、前記電極に電源を提供するものであり、前記キャリアによる静電チャックの移動経路の上流に位置する第１電源フィンと、
前記電源ホールのうち他の一つに着脱自在に備わり、前記電極に電力を提供するものであり、前記キャリアによる静電チャックの移動経路のうち、前記第１電源フィンに比べて下流に位置する第２電源フィンと、を含む薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記第１電源フィンと第２電源フィンは、互いに異なるチャンバに位置することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記チャンバのうち少なくとも一つには、前記基板を支持した静電チャックを裏返しにする反転ロボットが位置し、
前記反転ロボットには、前記電源ホールのうち一つに着脱自在に備わり、前記電極に電力を提供する第３電源フィンが備わったことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記キャリアは、
前記チャンバを貫通するように配設される支持台と、
前記支持台上に配され、前記静電チャックのエッジを支持する移動台と、
前記支持台と移動台との間に介在され、前記移動台を前記支持台に沿って移動させる駆動部と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項５】
前記薄膜蒸着アセンブリは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シートと、を含み、
前記基板が前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シートは、一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シートは、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材によって連結され、一体に形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シート間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに対面する方向にチルトされていることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、
前記２列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリット・シートの第２側端部を向くように配され、
前記２列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリット・シートの第１側端部を向くように配されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記薄膜蒸着アセンブリは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが配されるパターニングスリット・シートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間に前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数個の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、
前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、
前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板は、互いに相対移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記複数個の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延長するように形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記遮断板アセンブリは、複数個の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数個の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記複数個の第１遮断板及び前記複数個の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延長するように形成されたことを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記複数個の第１遮断板及び前記複数個の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されることを特徴とする請求項１４に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記蒸着源と前記遮断板アセンブリは、互いに離隔されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリット・シートは、互いに離隔されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
被蒸着用基板と接し、前記基板を支持する支持面を有する本体と、前記本体に内蔵され、前記支持面に静電気力を生成させる電極と、前記電極が開放されるように形成され、前記本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホールと、を含む静電チャックで前記基板を固定させる段階と、
前記基板が固定された静電チャックを、真空に維持される複数のチャンバを通過するように移送する段階と、
前記静電チャックの移動経路の上流に位置した第１電源フィンを前記電源ホールのうち一つに挿入し、前記静電チャックに電力を提供する段階と、
前記静電チャックの移動経路のうち、前記第１電源フィンに比べて下流に位置した第２電源フィンを前記電源ホールのうち他の一つに挿入し、前記静電チャックに電力を提供する段階と、
前記第１電源フィンを前記電源ホールから脱着させる段階と、
前記チャンバのうち少なくとも１つの内部に配された薄膜蒸着アセンブリを利用し、前記基板を固定した静電チャックと前記薄膜蒸着アセンブリとの相対移動によって、前記基板に有機膜を蒸着する段階と、を含む有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第１電源フィンと第２電源フィンは、互いに異なるチャンバに位置し、
前記第２電源フィンの挿入と前記第１電源フィンの脱着とが同時になされることを特徴とする請求項１８に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記チャンバのうち少なくとも一つには、前記基板を支持した静電チャックを裏返しにする反転ロボットが位置し、
前記反転ロボットに備わった第３電源フィンを前記電源ホールのうち一つに挿入する段階と、
前記第３電源フィンを前記電源ホールから脱着する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項１８に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記薄膜蒸着アセンブリは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シートと、を含み、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シートは、一体に形成され、
前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、蒸着が進められる間、前記基板が前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着がなされることを特徴とする請求項１８に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記薄膜蒸着アセンブリは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが配されるパターニングスリット・シートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間に前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数個の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、
前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、蒸着が進められる間、前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板とが互いに相対移動することによって、基板に対する蒸着がなされることを特徴とする請求項１８に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に係り、詳細には、大型基板量産工程に容易に適用できる薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は、視野角が広くてコントラストにすぐれるだけではなく、応答速度が速いという長所を有し、次世代ディスプレイ装置として注目を集めている。
【０００３】
有機発光表示装置は、互いに対向した第１電極及び第２電極間に、発光層及びこれを含む中間層を具備する。このとき、前記電極及び中間層は、さまざまな方法で形成されうるが、そのうちの１つの方法が独立蒸着方式である。蒸着方法を利用して有機発光表示装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファインメタル・マスク（ＦＭＭ：fine metal mask）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【０００４】
しかし、かようなＦＭＭを利用する方法は、５Ｇ以上のマザーガラス（mother-glass）を使用する大面積化には不適であるという限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によって、マスクの反り現象が発生するが、この反り現象によるパターンの歪曲が発生しうるためである。これは、パターンに高精細を要求する現在の傾向と背馳する。
【０００５】
一方、従来の蒸着方法では、別途のチャックで基板のエッジを固定した状態で、基板の一面に金属製のマスクを付け、基板の他面にマグネットを配し、このマグネットによって金属製のマスクを基板の面に密着させた。ところで、このような基板固定方法は、基板のエッジだけを支持するために、前述のように、基板が大面積になる場合、基板の中央部がたわみ込む（sagging）問題が発生する。この基板たわみ込み問題は、基板が大きくなれば大きくなるほど、さらに問題が深刻化する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記のような従来のＦＭＭを利用した蒸着方法の限界を克服するためのものであり、大型基板の量産工程によって一層適し、高精細のパターニングが可能な薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記のような目的を達成するために、本発明は、被蒸着用基板と接し、前記基板を支持する支持面を有する本体と、前記本体に内蔵され、前記支持面に静電気力を生成させる電極と、前記電極が開放されるように形成され、前記本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホールと、を含む静電チャック；真空に維持される複数のチャンバ；前記チャンバのうち少なくとも１つの内部に配され、前記基板と所定間隔離隔され、前記静電チャックに支持された基板に薄膜を蒸着する少なくとも１つの薄膜蒸着アセンブリ；前記静電チャックを、前記チャンバを通過するように移動させるキャリア；前記電源ホールのうち一つに着脱自在に備わり、前記電極に電力を提供するものであり、前記キャリアによる静電チャックの移動経路の上流に位置する第１電源フィン；前記電源ホールのうち他の一つに着脱自在に備わり、前記電極に電力を提供するものであり、前記キャリアによる静電チャックの移動経路のうち、前記第１電源フィンに比べて下流に位置する第２電源フィン；を含む薄膜蒸着装置を提供する。
【０００８】
前記第１電源フィンと第２電源フィンは、互いに異なるチャンバに位置しうる。
前記チャンバのうち少なくとも一つには、前記基板を支持した静電チャックを裏返しにする反転ロボットが位置し、前記反転ロボットには、前記電源ホールのうち一つに着脱自在に備えられ、前記電極に電力を提供する第３電源フィンが備わりうる。
【０００９】
前記キャリアは、前記チャンバを貫通するように配設される支持台と、前記支持台上に配され、前記静電チャックのエッジを支持する移動台と、前記支持台と移動台との間に介在され、前記移動台を前記支持台に沿って移動させる駆動部と、を含むことができる。
【００１０】
前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向を沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シートは、一体に形成されうる。
【００１１】
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シートは、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材によって連結されて一体に形成されうる。
前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シート間の空間を外部から密閉するように形成されうる。
【００１２】
前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されうる。
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされうる。
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリット・シートの第２側端部を向くように配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリット・シートの第１側端部を向くように配されうる。
【００１３】
前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが配されるパターニングスリット・シートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間に前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数個の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板は、互いに相対移動するものでありうる。
【００１４】
前記複数個の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延長するように形成されたものでありうる。
前記遮断板アセンブリは、複数個の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数個の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むものでありうる。
前記複数個の第１遮断板及び前記複数個の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延長するように形成されたものでありうる。
【００１５】
前記複数個の第１遮断板及び前記複数個の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されうる。
前記蒸着源と前記遮断板アセンブリは、互いに離隔されたものでありうる。
前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリット・シートは、互いに離隔されたものでありうる。
【００１６】
本発明はまた、前述の目的を達成するために、被蒸着用基板と接し、前記基板を支持する支持面を有する本体と、前記本体に内蔵され、前記支持面に静電気力を生成させる電極と、前記電極が開放されるように形成され、前記本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホールと、を含む静電チャックで前記基板を固定させる段階と、前記基板が固定された静電チャックを、真空に維持される複数のチャンバを通過するように移送する段階と、前記静電チャックの移動経路の上流に位置した第１電源フィンを前記電源ホールのうち一つに挿入し、前記静電チャックに電力を提供する段階と、前記静電チャックの移動経路のうち、前記第１電源フィンに比べて下流に位置した第２電源フィンを前記電源ホールのうち他の一つに挿入し、前記静電チャックに電力を提供する段階と、前記第１電源フィンを前記電源ホールから脱着させる段階と、前記チャンバのうち少なくとも１つの内部に配された薄膜蒸着アセンブリを利用し、前記基板を固定した静電チャックと前記薄膜蒸着アセンブリとの相対移動によって、前記基板に有機膜を蒸着する段階と、を含む有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【００１７】
前記第１電源フィンと第２電源フィンは、互いに異なるチャンバに位置し、前記第２電源フィンの挿入と前記第１電源フィンの脱着とが同時になされうる。
前記チャンバのうち少なくとも一つには、前記基板を支持した静電チャックを裏返しにする反転ロボットが位置し、前記反転ロボットに備わった第３電源フィンを前記電源ホールのうち一つに挿入する段階と、前記第３電源フィンを前記電源ホールから脱着する段階と、をさらに含むことができる。
【００１８】
前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シートと、を含み、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリット・シートは、一体に形成され、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、蒸着が進められる間、前記基板が前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着がなされうる。
【００１９】
前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが配されるパターニングスリット・シートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間に前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数個の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、蒸着が進められる間、前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板とが互いに相対移動することによって、基板に対する蒸着がなされるものでありうる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法によれば、製造が容易であり、大型基板量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率が向上しうる。
また、大型基板を静電チャックによって基板のたわみ込みなしに安定的に支持し、チャンバ間の移動が円滑に行われうる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成図である。
【図２】図１の変形例を図示したシステム構成図である。
【図３】静電チャックの一例を図示した概略図である。
【図４】本発明の望ましい一実施形態による第１循環部の断面を図示した断面図である。
【図５】本発明の望ましい一実施形態による第２循環部の断面を図示した断面図である。
【図６】本発明の望ましい一実施形態による静電チャック移動システムの概略的な断面図である。
【図７】本発明の望ましい他の一実施形態による静電チャック移動システムの概略的な断面図である。
【図８】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第１実施形態を図示した斜視図である。
【図９】図８の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図である。
【図１０】図８の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。
【図１１】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第２実施形態を図示した斜視図である。
【図１２】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第３実施形態を図示した斜視図である。
【図１３】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第４実施形態を図示した斜視図である。
【図１４】図１３の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図である。
【図１５】図１３の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。
【図１６】本発明による薄膜蒸着アセンブリによって製造されうる有機発光表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による望ましい実施形態について詳細に説明すれば、次の通りである。
図１は、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成図であり、図２は、図１の変形例を図示したものである。図３は、静電チャック６００の一例を図示した概略図である。
【００２３】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置は、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を含む。
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８とを含むことができる。
【００２４】
第１ラック７１２には、蒸着がなされる前の基板５００が多数積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を取り、第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載せた後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。図面に図示していないが、前記導入ロボット７１４は、所定の真空度が維持されたチャンバ内に配されうる。
【００２５】
導入室７１６に隣接して、第１反転室７１８が備えられ、第１反転室７１８に位置した第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させ、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。
静電チャック６００は、図３から分かるように、セラミックで形成された本体６０１の内部に電力が印加される電極６０２が埋め込まれたものであり、この電極６０２に高電圧が印加されることによって、本体６０１の表面に基板５００を付着させる。この静電チャックに係わるさらに詳細な説明は、後述する。
【００２６】
図１を参照するとき、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せ、この状態で静電チャック６００は、導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることによって、蒸着部７３０では、基板５００が下を向くように位置する。前記導入室７１６及び第１反転室７１８いずれも、所定の真空度が維持されるチャンバを使用することが望ましい。
【００２７】
アンローディング部７２０の構成は、前記のローディング部７１０の構成と反対に構成される。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で第２反転ロボット７２９が反転させて搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から、基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離し、第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を介して、ローディング部７１０に回送される。前記第２反転室７２８及び搬出室７２６いずれも、所定の真空度が維持されるチャンバを使用することが望ましい。そして、搬出ロボット７２４も、図面に図示していないが、所定の真空度が維持されたチャンバ内に配されうる。
【００２８】
しかし、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初固定されるときから、静電チャック６００の下面に基板５００を固定させ、そのまま蒸着部７３０に移送させることもできる。その場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９、並びに第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９は、不要になる。
【００２９】
蒸着部７３０は、少なくとも１つの蒸着用チャンバを具備する。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、第１チャンバ７３１を具備し、この第１チャンバ７３１内に、複数の薄膜蒸着アセンブリ１００，２００，３００，４００が配される。図１に図示された本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバ７３１内に、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００、第３薄膜蒸着アセンブリ３００及び第４薄膜蒸着アセンブリ４００の４つの薄膜蒸着アセンブリが設けられているが、その数は、蒸着物質及び蒸着条件によって、可変可能である。前記第１チャンバ７３１は、蒸着が進められる間は真空に維持される。
【００３０】
また、図２による本発明の他の一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、互いに連繋された第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２を含み、第１チャンバ７３１には、第１薄膜蒸着アセンブリ１００及び第２薄膜蒸着アセンブリ２００が、第２チャンバ７３２には、第３薄膜蒸着アセンブリ３００及び第４薄膜蒸着アセンブリ４００が配されうる。このとき、チャンバの数が追加されうることは、言うまでもない。
【００３１】
一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０によって少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０によって、前記ローディング部７１０に回送される。
【００３２】
前記第１循環部６１０は、前記蒸着部７３０を通過するときに、前記第１チャンバ７３１を貫通するように備えられ、前記第２循環部６２０は、静電チャックが移送されるように備えられる。
図４は、本発明の望ましい一実施形態による第１循環部６１０の断面を図示したものである。
【００３３】
第１循環部６１０は、基板５００を固定している静電チャック６００を移動させる第１キャリア６１１を含む。
前記第１キャリア６１１は、第１支持台６１３と、第２支持台６１４と、移動台６１５と、第１駆動部６１６とを含む。
【００３４】
前記第１支持台６１３及び第２支持台６１４は、前記蒸着部７３０のチャンバ、例えば、図１の実施形態では、第１チャンバ７３１、図２の実施形態では第１チャンバ７３１と第２チャンバ７３２とを貫通するように設けられる。
前記第１支持台６１３は、第１チャンバ７３１内で上部に向かって配され、第２支持台６１４は、第１チャンバ７３１で第１支持台６１３の下部に配される。図４に図示された実施形態によれば、前記第１支持台６１３と第２支持台６１４とが互いに直交するように折り曲げられた構造で備わっているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、第１支持台６１３が上部に、第２支持台６１４が下部にある構造であるならば、いかなるものでもよい。
【００３５】
移動台６１５は、第１支持台６１３に沿って移動するように備わったものであり、少なくとも一端が前記第１支持台６１３によって支持され、他端が静電チャック６００のエッジを支持するように備えられる。前記静電チャック６００は、前記移動台６１５に固定的に支持され、移動台６１５によって第１支持台６１３に沿って移動することができる。移動台の静電チャック６００を支持する部分は、薄膜蒸着アセンブリ１００に向かうように折り曲げられ、基板５００を薄膜蒸着アセンブリ１００に近く位置させることができる。
【００３６】
移動台６１５と第１支持台６１３との間には、第１駆動部６１６が含まれる。なお、前記薄膜蒸着アセンブリ１００は、第２支持台６１４に装着されうる。このとき、第２支持台６１４には、第２駆動部６１８が位置し、該第２駆動部６１８は、薄膜蒸着アセンブリ１００のフレームに連結され、基板５００と薄膜蒸着アセンブリ１００とのアラインのために薄膜蒸着アセンブリ１００の位置を微細調整する。この第１駆動部６１６は、第１支持台６１３に沿ってころがるローラ６１７を含むことができる。前記第１駆動部６１６は、移動台６１５を第１支持台６１３に沿って移動させるものであり、それ自体で駆動力を提供するものでもあり、別途の駆動源からの駆動力を移動台６１５に伝達するものであってもよい。前記第１駆動部６１６は、ローラ６１７以外にも、移動台６１５を移動させるものであるならば、いかなる駆動装置でも適用可能である。
【００３７】
図５は、本発明の望ましい一実施形態による第２循環部６２０の断面を図示したものである。
第２循環部６２０は、基板５００が分離された静電チャック６００を移動させる第２キャリア６２１を含む。
前記第２キャリア６２１も、第３支持台６２３と、移動台６１５と、第１駆動部６１６とを含む。
【００３８】
前記第３支持台６２３は、第１キャリア６１１の第１支持台６１３と同一に延長される。この第３支持台６２３には、第１駆動部６１６を備えた移動台６１５が支持され、この移動台６１５に、基板５００と分離された静電チャック６００が装着される。移動台６１５及び第１駆動部６１６の構造は、前述の通りである。
【００３９】
一方、前記第１キャリア６１１及び第２キャリア６２１によって、前記静電チャック６００を移送させるときには、移動中の静電チャック６００に、持続的に電力を提供しなければならない。移動中である静電チャック６００に電力を提供するシステム構造についてさらに具体的に説明すれば、次の通りである。
【００４０】
図６は、移動中である静電チャック６００に電力を提供するシステムの一例を図示したものである。前記静電チャック６００は、基板５００と接し、この基板５００の扁平な広い面を支持する支持面６０５を有する本体６０１を含む。そして、前記本体６０１には、前記支持面６０５に静電気力を生成させる電極６０２が埋め込まれている。また、前記本体６０１には、前記電極６０２が開放されるように、複数の電源ホールが形成されているが、図６から分かるように、第１電源ホール６０３ａと第２電源ホール６０３ｂとが互いに異なる位置に形成されている。この第１電源ホール６０３ａと第２電源ホール６０３ｂは、互いに離隔されていることが望ましいが、図６から分かるように、第１電源ホール６０３ａは、静電チャック６００の移動方向（矢印）の後端に、第２電源ホール６０３ｂは、静電チャック６００の移動方向（矢印）の前端にそれぞれ形成されることが望ましい。
前記のような静電チャック６００は、静電チャック６００が移動し、チャンバとチャンバとを通過するときにも、静電チャック６００に電源が維持されうる。
【００４１】
図６に図示された実施形態は、図２に図示された第１チャンバ７３１と第２チャンバ７３２との内にそれぞれ設けられている第１電源フィン６０４ａと第２電源フィン６０４ｂとを利用し、静電チャック６００の移動時に電源が維持される場合を示した。
【００４２】
第１電源フィン６０４ａは、静電チャック６００の移動経路の上流に位置したものであり、図６の実施形態では、第１チャンバ７３１に備えたものである。この第１電源フィン６０４ａは、第１電源ホール６０３ａ及び第２電源ホール６０３ｂのいずれか一つに着脱自在に備えうるが、図６による実施形態によれば、前記第１電源フィン６０４ａは、第１電源ホール６０３ａに挿入されるとなっているが、必ずしもこれに限定されるものではない。ただし、静電チャック６００の移動経路の上流に位置した第１電源フィン６０４ａが、静電チャック６００の移動方向の後端に位置した第１電源ホール６０３ａに挿入されるようにすることが望ましい。
【００４３】
第２電源フィン６０４ｂは、静電チャック６００の移動経路の下流に位置したものであり、図６の実施形態では、第２チャンバ７３２に備えたものである。この第２電源フィン６０４ｂは、第１電源ホール６０３ａ及び第２電源ホール６０３ｂのいずれか一つに着脱自在に備えうるが、図６による実施形態によれば、前記第２電源フィン６０４ｂは、第２電源ホール６０３ｂに挿入されるとなっているが、必ずしもこれに限定されるものではない。ただし、静電チャック６００の移動経路の下流に位置した第２電源フィン６０４ｂが、静電チャック６００の移動方向の前端に位置した第２電源ホール６０３ｂに挿入されるようにすることが望ましい。
【００４４】
前記第１電源フィン６０４ａ及び第２電源フィン６０４ｂは、それぞれ第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２内で移動することができるように設けられうる。従って、静電チャック６００が第１チャンバ７３１内にある間には、第１電源フィン６０４ａが第１電源ホール６０３ａに挿入されて電極６０２に電力を印加し、静電チャック６００が第２チャンバ７３２内にある間には、第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入されて電極６０２に電力を印加する。第１チャンバ７３１と第２チャンバ７３２との間には、チャンバドア７３３が備わるが、静電チャック６００がこのチャンバドア７３３を通過するときに、図６から分かるように、第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入されると同時に、あるいは第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入された後に、第１電源フィン６０４ａが第１電源ホール６０３ａから脱着され、電極６０２に対する電力供給が切れないようにできる。
【００４５】
図６に図示した実施形態では、前記第１電源フィン６０４ａ及び第２電源フィン６０４ｂがそれぞれ第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２内に設けられたが、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、前記第１電源フィン６０４ａ及び第２電源フィン６０４ｂが、図１の第１チャンバ７３１内の他の位置に設けることもできる。その場合にももちろん、静電チャック６００が移動することによって、第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入されると同時に、あるいは第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入された後に、第１電源フィン６０４ａが第１電源ホール６０３ａから脱着され、電極６０２に対する電力供給が切れないようにできることは、言うまでもない。
【００４６】
また、前記第１電源ホール６０３ａ及び第２電源ホール６０３ｂも、必ずしも静電チャック６００の移動方向の後端及び前端に位置する必要はなく、互いに分離された位置にさえ備わっていれば十分である。この場合にも、静電チャック６００が移動することによって、第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入されると同時に、あるいは第２電源フィン６０４ｂが第２電源ホール６０３ｂに挿入された後に、第１電源フィン６０４ａが第１電源ホール６０３ａから脱着され、電極６０２に対する電力供給が切れないようにしなければならないことは、言うまでもない。
【００４７】
図７は、移動中である静電チャック６００に電源を提供するシステムの他の一例を図示したものである。
図７に図示された実施形態では、静電チャック６００が導入室７１６、第１反転室７１８及び第１チャンバ７３１を順に移動する状態を図示したものである。
【００４８】
図７による実施形態では、静電チャック６００の本体６０１に、第３電源ホール６０３ｃ、第４電源ホール６０３ｄ及び第５電源ホール６０３ｅが互いに異なる位置に形成されている。そして、導入室７１６、第１反転室７１８及び第１チャンバ７３１にも、それぞれ第３電源フィン６０４ｃ、第４電源フィン６０４ｄ及び第５電源フィン６０４ｅが設けられている。第４電源フィン６０４ｄは、第１反転ロボット７１９に設けられる。
【００４９】
導入室７１６で、第３電源フィン６０４ｃが第３電源ホール６０３ｃに挿入された状態で、静電チャック６００が移動する。静電チャック６００が、導入室７１６から第１反転室７１８に、一部または全部移動した後にも、第３電源フィン６０４ｃが第３電源ホール６０３ｃに挿入された状態を維持し、静電チャック６００の電極６０２に電力を印加する。この状態で、第１反転室７１８で、第１反転ロボット７１９に設けられた第４電源フィン６０４ｄが第４電源ホール６０３ｄに挿入され、これと同時にまたはこの後に、第３電源フィン６０４ｃが第３電源ホール６０３ｃから脱着される。第１反転室７１８で、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させ、基板５００を下方向に向けるようにした後、静電チャック６００を第１チャンバ７３１に投入すれば、第１チャンバ７３１で、第５電源フィン６０４ｅが第５電源ホール６０３ｅに挿入され、これと同時にまたはこの後に、第４電源フィン６０４ｄが第４電源ホール６０３ｄから脱着される。
【００５０】
前記のような方法によって、本発明は、静電チャック６００がキャリアによって移動する間にも、持続的に電力を供給することができる。
次に、前記第１チャンバ７３１内に配される薄膜蒸着アセンブリ１００について説明する。
【００５１】
図８は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第１実施形態を概略的に図示した斜視図であり、図９は、図８の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側面図であり、図１０は、図８の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平面図である。
【００５２】
図８ないし図１０を参照すれば、本発明の第１実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット・シート１５０を含む。
【００５３】
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット・シート１５０を通過し、基板５００に所望のパターンで蒸着させようとするならば、基本的には、第１チャンバ７３１の内部は、ＦＭＭ（fine metal mask）蒸着方法と同じ高真空状態を維持しなければならない。また、パターニングスリット・シート１５０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない（約１００゜以下）。なぜならば、パターニングスリット・シート１５０の温度が十分に低くあってこそ、温度によるパターニングスリット・シート１５０の熱膨張問題を最小化できるからである。
【００５４】
かような第１チャンバ７３１内には、被蒸着体である基板５００が配される。前記基板５００は、平板表示装置用の基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラス（mother glass）のような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリ１００に対して相対移動しつつ蒸着が進められることを１つの特徴とする。
【００５５】
詳細には、既存ＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同一に形成されなければならない。従って、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化されなければならず、これによって、ＦＭＭ製作が容易ではなく、ＦＭＭを引っ張って精密なパターンにアライン（align）するのも、容易ではないという問題点が存在した。
【００５６】
かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、薄膜蒸着アセンブリ１００と基板５００とが互いに相対移動しつつ蒸着がなされることを１つの特徴とする。換言すれば、薄膜蒸着アセンブリ１００と対面するように配された基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に蒸着を行わせるのである。すなわち、基板５００が図８の矢印Ａ方向に移動しつつ、スキャニング（scanning）方式で蒸着が行われるのである。
【００５７】
本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリット・シート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うために、パターニングスリット・シート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに小さく形成されうるのである。このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリット・シート１５０を設けることができるために、本発明のパターニングスリット・シート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリット・シート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り及び溶接、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリット・シート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。またこれは、ディスプレイ装置が大型化されるほど、さらに有利になる。
【００５８】
一方、チャンバ内で、前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化されることによって、基板５００に蒸着がなされる。
【００５９】
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、ルツボ１１２を加熱させてルツボ１１２の内部に充填された蒸着物質１１５をルツボ１１２の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１とを含む。冷却ブロック１１１は、ルツボ１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバ内部に発散されることを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、ルツボ１１２を加熱させるヒータ（図示せず）が含まれている。
【００６０】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向、すなわち基板５００のスキャン方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１は、等間隔に形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かかる蒸着源ノズル部１２０を通過して、被蒸着体である基板５００側に向かうことになるのである。このように、蒸着源ノズル部１２０上に、Ｙ軸方向、すなわち基板５００のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される場合、パターニングスリット・シート１５０のそれぞれのパターニングスリット１５１を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル１２１の１つのサイズにのみ影響されるので（すなわち、Ｘ軸方向には、蒸着源ノズル１２１が一つだけ存在するので）、陰影（shadow）が発生しないのである。また、多数個の蒸着源ノズル１２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス（flux）差が発生しても、その差が相殺され、蒸着均一度が一定に維持されるという効果を得ることができる。
【００６１】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリット・シート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。フレーム１５５は、ほぼ窓枠のような形態で形成され、その内側に、パターニングスリット・シート１５０が結合される。そして、パターニングスリット・シート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニングスリット１５１が形成される。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット・シート１５０を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かうのである。このとき、前記パターニングスリット・シート１５０は、従来のＦＭＭ、特にストライプ型（stripe type）のマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを介して製作されうる。このとき、蒸着源ノズル１２１の総個数よりパターニングスリット１５１の総個数がさらに多く形成されうる。
【００６２】
一方、前述の蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニングスリット・シート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニングスリット・シート１５０は、第１連結部材１３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット・シート１５０が第１連結部材１３５によって連結され、互いに一体に形成されうるのである。ここで、第１連結部材１３５は、蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質が分散されないように、蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、第１連結部材１３５が蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット・シート１５０の左右方向にのみ形成され、蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは、図示の便宜のためのものであり、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、第１連結部材１３５がボックス状の密閉型に形成され、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動を同時にガイドすることもできる。
【００６３】
前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、基板５００に対して相対移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着アセンブリ１００が基板５００に対して相対移動するために、パターニングスリット・シート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。
【００６４】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を生じさせないように、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化することによって、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かかる大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。
【００６５】
かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００では、パターニングスリット・シート１５０が、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配されるようにするのである。
【００６６】
かかる本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行うことにより、マスク製作が容易になるという効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止するという効果を得ることができる。また工程で、基板とマスクとを密着させる時間が不要になるために、製造速度が速くなるという効果を得ることができる。
【００６７】
図１１は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第２実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第２実施形態による薄膜蒸着アセンブリは、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット・シート１５０を含む。ここで、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、ルツボ１１２を加熱させてルツボ１１２の内部に充填された蒸着物質１１５を蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１とを含む。一方、蒸着源１１０の一側には、蒸着源ノズル部１２０が配され、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリット・シート１５０及びフレーム１５５がさらに備わり、パターニングスリット・シート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニングスリット１５１が形成される。そして、蒸着源１１０及び蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット・シート１５０は、第１連結部材１３５によって結合される。
【００６８】
本実施形態では、蒸着源ノズル部１２０に形成された複数個の蒸着源ノズル１２１が、所定角度チルト（tilt）されて配されるという点で、前述の薄膜蒸着アセンブリの第１実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル１２１は、２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂからなり、前記２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、互いに交互に配される。このとき、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、ＸＺ平面上で、所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【００６９】
本実施形態では、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂを、所定角度チルトされように配する。ここで、第１列の蒸着源ノズル１２１ａは、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂを向くようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル１２１ａを向くようにチルトされる。換言すれば、左側列に配された蒸着源ノズル１２１ａは、パターニングスリット・シート１５０の右側端部を向くように配され、右側列に配された蒸着源ノズル１２１ｂは、パターニングスリット・シート１５０の左側端部を向くように配されうるのである。
【００７０】
かかる構成によって、基板の中央及び終端部分での成膜厚の差が小さくなり、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が上昇するという効果を得ることができる。
【００７１】
図１２は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第３実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置は、図８ないし図１０で説明した薄膜蒸着アセンブリが複数個備わることを１つの特徴とする。換言すれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、赤色発光層（Ｒ）材料、緑色発光層（Ｇ）材料、青色発光層（Ｂ）材料が一度に放射されるマルチ蒸着源（multi source）を具備できるのである。
【００７２】
詳細には、本実施形態は、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００を含む。かかる第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００それぞれの構成は、図８ないし図１０で説明した薄膜蒸着アセンブリと同一であるので、ここでは、その詳細な説明は省略する。
【００７３】
ここで、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００の蒸着源には、互いに異なる蒸着物質が備わりうる。例えば、第１薄膜蒸着アセンブリ１００には、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質が備わり、第２薄膜蒸着アセンブリ２００には、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質が備わり、第３薄膜蒸着アセンブリ３００には、青色発光層（Ｂ）の材料になる蒸着物質が備わりうる。
【００７４】
すなわち、従来の有機発光ディスプレイ装置の製造方法では、各色相別に別途のチャンバとマスクとを具備することが一般的であったが、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を利用すれば、１つのマルチソースで、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）及び青色発光層（Ｂ）を一度に蒸着できる。従って、有機発光ディスプレイ装置の生産時間が画期的に短縮されると同時に、備えなければならないチャンバ数が減少することによって、設備コストもまた、顕著に節減されるという効果を得ることができる。
【００７５】
この場合、図面には詳細に図示されていないが、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００のパターニングスリット・シートは、互いに一定程度オフセット（offset）されて配されることによって、その蒸着領域を重畳させないことが可能である。換言すれば、第１薄膜蒸着アセンブリ１００が赤色発光層（Ｒ）の蒸着を担当し、第２薄膜蒸着アセンブリ２００が緑色発光層（Ｇ）の蒸着を担当し、第３薄膜蒸着アセンブリ３００が青色発光層（Ｂ）の蒸着を担当する場合、第１薄膜蒸着アセンブリ１００のパターニングスリット１５１と、第２薄膜蒸着アセンブリ２００のパターニングスリット２５１と、第３薄膜蒸着アセンブリ３００のパターニングスリット３５１とが互いに同一線上に位置しないように配されることによって、基板上の互いに異なる領域に、それぞれ赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）を形成させることができる。
【００７６】
ここで、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質と、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質と、青色発光層（Ｂ）の材料になる蒸着物質は、互いに気化される温度が異なりうるので、前記第１薄膜蒸着アセンブリ１００の蒸着源１１０の温度と、前記第２薄膜蒸着アセンブリ２００の蒸着源の温度と、前記第３薄膜蒸着アセンブリ３００の蒸着源の温度とが互いに異なるように設定されることも可能であると言える。
【００７７】
一方、図面には、薄膜蒸着アセンブリが３個備わると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、薄膜蒸着アセンブリを多数個具備でき、前記多数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれに、互いに異なる物質を具備できる。例えば、薄膜蒸着アセンブリを５個具備し、それぞれの薄膜蒸着アセンブリに、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）、及び赤色発光層の補助層（Ｒ’）並びに緑色発光層の補助層（Ｇ’）を具備できる。
【００７８】
このように、複数個の薄膜蒸着アセンブリを具備し、多数個の薄膜層を一度に形成できるようにすることによって、製造収率及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。また、製造工程が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
【００７９】
図１３は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第４実施形態を概略的に図示した斜視図であり、図１４は、図１３の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図であり、図１５は、図１３の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。
【００８０】
図１３ないし図１５を参照すれば、本発明の第４実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリ１３０及びパターニングスリット１５１を含む。
【００８１】
ここで、図１３ないし図１５には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１３ないし図１５のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
このようなチャンバ内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００によって移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【００８２】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリ１００に対して相対移動するが、望ましくは、薄膜蒸着アセンブリ１００に対して、基板５００をＡ方向に移動させることができる。
【００８３】
前述の第１実施形態のように、本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリット・シート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うために、パターニングスリット・シート１５０のＸ軸方向への幅、及び基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成すれば、パターニングスリット・シート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに小さく形成されても差し支えないのである。もちろん、パターニングスリット・シート１５０のＸ軸方向への幅が、基板５００のＸ軸方向への幅より小さく形成されても、基板５００と薄膜蒸着アセンブリ１００との相対移動によるスキャニング方式によって、十分に基板５００全体に対して蒸着が可能である。
【００８４】
このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリット・シート１５０を設けることができるために、本発明のパターニングスリット・シート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリット・シート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り及び溶接の作業、移動及び洗浄の作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリット・シート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほど、さらに有利になる。
【００８５】
一方、第１チャンバ内で、前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
前記蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、このルツボ１１２を覆い包む冷却ブロック１１１とが備わる。冷却ブロック１１１は、ルツボ１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバ内部に発散することを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、ルツボ１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が含まれている。
【００８６】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かる側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１は、等間隔に形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かかる蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かう。
【００８７】
蒸着源ノズル部１２０の一側には、遮断板アセンブリ１３０が備わる。前記遮断板アセンブリ１３０は、複数個の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備わる遮断板フレーム１３２とを含む。前記複数個の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配されうる。ここで、前記複数個の遮断板１３１は、等間隔に形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は、図面で見たとき、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、直方形に備わりうる。このように配された複数個の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット１５０との間の空間を、複数個の蒸着空間Ｓに区画する。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、前記遮断板１３１によって、図１５から分かるように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に、蒸着空間Ｓが分離される。
【００８８】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１間に配されうる。これは換言すれば、互いに隣接している遮断板１３１間に、１つの蒸着源ノズル１２１が配される。望ましくは、蒸着源ノズル１２１は、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置しうる。しかし本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、互いに隣接している遮断板１３１間に、複数の蒸着源ノズル１２１が配してもよい。ただし、この場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１を、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置させることが望ましい。
【００８９】
このように、遮断板１３１が、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット・シート１５０との間の空間を複数個の蒸着空間Ｓに区画することによって、１つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過して基板５００に蒸着される。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質が、分散されずに直進性を維持するように、蒸着物質のＸ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９０】
このように、遮断板１３１を具備して蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮めることができ、従って、薄膜蒸着アセンブリ１００と基板５００とを一定程度離隔させることが可能になる。これについては、後ほど詳細に記述する。
【００９１】
一方、前記複数個の遮断板１３１の外側には、遮断板フレーム１３２がさらに備わりうる。遮断板フレーム１３２は、複数個の遮断板１３１の側面にそれぞれ備わり、複数個の遮断板１３１の位置を固定すると同時に、蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質を、Ｙ軸方向に分散させないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９２】
前記蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０は、一定程度離隔されることが望ましい。これにより、蒸着源１１０から発散される熱が遮断板アセンブリ１３０に伝導されることを防止できる。しかし、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０との間に適切な断熱手段が備えられる場合、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０とが結合されて接触することが可能である。
【００９３】
一方、前記遮断板アセンブリ１３０は、薄膜蒸着アセンブリ１００から着脱自在に形成されうる。本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００では、遮断板アセンブリ１３０を利用して蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、ほとんど遮断板アセンブリ１３０内に蒸着される。従って、遮断板アセンブリ１３０を薄膜蒸着アセンブリ１００から着脱自在に形成し、長時間の蒸着後に、遮断板アセンブリ１３０に蒸着物質が多く溜まるようになれば、遮断板アセンブリ１３０を薄膜蒸着アセンブリ１００から分離し、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。かかる構成を介して、蒸着物質リサイクル率を高めることによって、蒸着効率が向上し、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
【００９４】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリット・シート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。前記フレーム１５５は、ほぼ窓枠のような形態に形成され、その内側に、パターニングスリット・シート１５０が結合される。そして、パターニングスリット・シート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニングスリット１５１が形成される。各パターニングスリット１５１は、Ｙ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化されて蒸着源ノズル１２１を通過した蒸着物質１１５は、パターニングスリット１５１を通過して、被蒸着体である基板５００側に向かう。
【００９５】
前記パターニングスリット・シート１５０は、金属薄板により形成され、引っ張られた状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニングスリット１５１は、ストライプ型（stripe type）で、パターニングスリット・シート１５０にエッチングを介して形成される。
【００９６】
ここで、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源ノズル１２１の総個数より、パターニングスリット１５１の総個数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２枚の遮断板１３１間に配された蒸着源ノズル１２１の個数より、パターニングスリット１５１の個数がさらに多く形成される。前記パターニングスリット１５１の個数は、基板５００に形成される蒸着パターンの個数に対応させることが望ましい。
【００９７】
一方、前述の遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリット・シート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリット・シート１５０は、別途の第２連結部材１３３によって互いに連結されうる。詳細には、高温状態の蒸着源１１０によって、遮断板アセンブリ１３０の温度は、最大１００℃以上上昇するために、上昇した温度の遮断板アセンブリ１３０の熱が、パターニングスリット・シート１５０に伝導されないように、遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリット・シート１５０とを一定程度離隔させる。
【００９８】
前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、基板５００に対して相対移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着アセンブリ１００が基板５００に対して相対移動するために、パターニングスリット・シート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。そして、パターニングスリット・シート１５０と基板５００とを離隔させる場合、発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット・シート１５０との間に遮断板１３１を具備し、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮小させることができる。
【００９９】
従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を生じさせないように、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触によって、基板にすでに形成されていたパターンが引っかかれるような不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されなければならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されることによって、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かかる大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。
【０１００】
かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００では、パターニングスリット・シート１５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配する。これは、遮断板１３１を具備し、基板５００に生成される陰影を小さくすることによって実現可能になる。
【０１０１】
かかる本発明によって、パターニングスリット・シートを基板より小さく形成した後、このパターニングスリット・シートを基板に対して相対移動させることによって、従来のＦＭＭ方法のように、大きいマスクを製作しなければならない必要がなくなった。また、基板とパターニングスリット・シートとの間が離隔されているために、相互接触による不良を防止するという効果を得ることができる。また工程で、基板とパターニングスリット・シートとを密着させる時間が不要となるために、製造速度が速まるという効果を得ることができる。
【０１０２】
以上で説明したような薄膜蒸着アセンブリ１００は、図１から分かるように、第１チャンバ７３１内に複数個が連続して配されうる。その場合、各薄膜蒸着アセンブリ１００，２００，３００，４００は、互いに異なる蒸着物質を蒸着することができ、このとき、各薄膜蒸着アセンブリ１００，２００，３００，４００のパターニングスリットのパターンを互いに異なるパターンにし、例えば、赤色、緑色、青色の画素を一括蒸着するような成膜工程を進められる。
【０１０３】
図１６は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を図示したものである。
図１６を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光表示装置は、基板３０上に形成される。前記基板３０は、透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材から形成されうる。前記基板３０上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。
【０１０４】
前記絶縁膜３１上には、図１６から分かるような薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。
前記絶縁膜３１の上面には、所定パターンで配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め込まれている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体で具現しうる。
【０１０５】
前記ゲート絶縁膜３２の上面には、前記活性層４１と対応するところ、ＴＦＴ ４０のゲート電極４２が形成される。そして、前記ゲート電極４２を覆うように、層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングのようなエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングし、コンタクトホールを形成させ、前記活性層４１の一部を露出させる。
【０１０６】
その次に、前記層間絶縁膜３３上に、ソース／ドレイン電極４３が形成されるが、コンタクトホールを介して露出された活性層４１に接触するように形成される。前記ソース／ドレイン電極４３を覆うように、保護膜３４が形成され、エッチング工程を介して、前記ドレイン電極４３の一部を露出させる。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために、別途の絶縁膜をさらに形成することもできる。
【０１０７】
一方、前記有機発光素子６０は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光し、所定の画像情報を表示するためのものとして、前記保護膜３４上に、第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
【０１０８】
そして、前記第１電極６１を覆うように、画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に、所定の開口６４を形成した後、この開口６４によって限定された領域内に、有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には、第２電極６２を形成する。
【０１０９】
前記画素定義膜３５は、各画素を区画するものであり、有機物によって形成され、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。
前記第１電極６１と第２電極６２は、互いに絶縁されており、有機発光膜６３に互いに異なる極性の電圧を加え、発光を行わせる。
【０１１０】
前記有機発光膜６３は、低分子または高分子の有機物が使われるが、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：hole injection layer）、ホール輸送層（ＨＴＬ：hole transport layer）、発光層（ＥＭＬ：emission layer）、電子輸送層（ＥＴＬ：electron transport layer）、電子注入層（ＥＩＬ：electron injection layer）などが、単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などを始めとして、多様に適用可能である。それら低分子有機物は、図１ないし図１５に示されているような蒸着装置を利用し、真空蒸着法で形成されうる。
【０１１１】
まず、画素定義膜３５に開口６４を形成した後、この基板３０を、図１のように、第１チャンバ７３１内に移送する。そして、第１蒸着源と第２蒸着源とに目標有機物を収納した後、蒸着する。このとき、ホストとドーパントとを同時に蒸着させる場合には、第１蒸着源と第２蒸着源とに、それぞれホスト物質とドーパント物質とを収納して蒸着させる。
かような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２を、やはり同じ蒸着工程で形成できる。
【０１１２】
一方、前記第１電極６１は、アノード電極の機能を行い、前記第２電極６２は、カソード電極の機能を行えるが、該第１電極６１と第２電極６２との極性が反対になってもよいことは、言うまでもない。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２は、あらゆる画素を覆うように形成されうる。
【０１１３】
前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極として備えうるが、透明電極として使われるときには、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３におって備わり、反射型電極として使われるときには、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びそれらの化合物でもって反射層を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で透明電極層を形成できる。かような第１電極６１は、スパッタリング法などによって成膜された後、フォトリソグラフィ法などによってパターニングされる
【０１１４】
一方、前記第２電極６２も、透明電極または反射型電極として備わりうるが、透明電極として使われるときには、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物が有機発光膜６３の方向に向かうように蒸着された後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われるときには、前記Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。このとき、蒸着は、前述の有機発光膜６３の場合と同じ方法で行うことができる。
【０１１５】
本発明は、これ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無機膜などの蒸着にも使用でき、その他多様な素材の成膜工程に適用可能である。
本発明は、図面に図示された実施形態を参考にして説明したが、それらは例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することができるであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるものである。
【符号の説明】
【０１１６】
１００    薄膜蒸着アセンブリ（第１薄膜蒸着アセンブリ）
１１０    蒸着源
１１１    冷却ブロック
１１２    ルツボ
１１５    蒸着物質
１２０    蒸着源ノズル部
１２１    蒸着源ノズル
１３０    遮断板アセンブリ
１３１    遮断板
１３２    遮断板フレーム
１３３    第２連結部材
１３５    第１連結部材
１５０    パターニングスリット・シート
１５１，２５１，３５１    パターニングスリット
１５５    フレーム
２００    第２薄膜蒸着アセンブリ
３００    第３薄膜蒸着
４００    第４薄膜蒸着アセンブリ
５００    基板
６００    静電チャック
６０１    本体
６０２    電極
６０３ａ    第１電源ホール
６０３ｂ    第２電源ホール
６０３ｃ    第３電源ホール
６０３ｄ    第４電源ホール
６０３ｅ    第５電源ホール
６０４ａ    第１電源フィン
６０４ｂ    第２電源フィン
６０４ｃ    第３電源フィン
６０４ｄ    第４電源フィン
６０４ｅ    第５電源フィン
６０５    支持面
６１０    第１循環部
６１１    第１キャリア
６１３    第１支持台
６１４    第２支持台
６１５    移動台
６１６    第１駆動部
６１７    ローラ
６１８    第２駆動部
６２０    第２循環部
６２１    第２キャリア
６２３   第３支持台
７１０    ローディング部
７１２    第１ラック
７１４    導入ロボット
７１６    導入室
７１８    第１反転室
７１９    第１反転ロボット
７２０    アンローディング部
７２２    第２ラック
７２４    搬出ロボット
７２６    搬出室
７２８    第２反転室
７２９    第２反転ロボット
７３０    蒸着部
７３１    第１チャンバ
７３２    第２チャンバ
７３３    チャンバドア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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