(57)【要約】【課題】ＨＤＤ装置の製造工程において製造効率を向上させることができると共に、磁気ディスクの製造工程において歩留まりを向上させることができる磁気ディスクおよび磁気ディスクの製造方法を提供すること。【解決手段】ディスク表面の凹凸欠陥を検査するグライド検査で得られた凹凸欠陥の欠陥アドレス、および磁気的欠陥を検査するサーティファイ検査で得られた磁気的欠陥の欠陥アドレスの少なくとも一方を含む品質データを特定領域に記録することで、ＨＤＤ装置の製造工程において、磁気ディスクの製造工程で製造された磁気ディスクからグライド検査やサーティファイ検査で得られた欠陥アドレスを含む品質データを読み出して利用可能な構成とした。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク表面の凹凸欠陥を検査するグライド検査で得られた凹凸欠陥の欠陥アドレス、および磁気的欠陥を検査するサーティファイ検査で得られた磁気的欠陥の欠陥アドレスの少なくとも一方を含む品質データが、特定領域に記録されたことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】
前記品質データの記録方式は、磁気的または光学的であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク。
【請求項３】
磁気ディスクを製作する工程と、
製作された前記磁気ディスクに対し、ディスク表面の凹凸欠陥を検査するグライド検査、および磁気的欠陥を検査するサーティファイ検査の少なくとも一方を実施し、実施された検査で得られた欠陥の欠陥アドレスを含む品質データを、特定位置に書き込む工程とを有することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスクおよび磁気ディスクの製造方法に関し、特に、ハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ装置）に搭載される磁気ディスクおよび磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＨＤＤ装置に搭載される磁気記録媒体として磁気ディスクがある。磁気ディスクは、ＮｉＰ膜を被着したアルミニウム基板、ガラス基板又はセラミックス基板を用い、その上に磁性層や保護層を積層して作製される。作製された磁気ディスクは、磁気ディスク製造メーカにおいて、品質評価検査としてグライド検査及びサーティファイ検査が実施された後、磁気ディスク（ＨＤＤ）装置製造メーカに出荷される。
【０００３】
グライド検査工程は、磁気ディスクの表面の凹凸欠陥を検査する工程である。これは、ＨＤＤ装置の記録・書き込み用ヘッド（以下「ヘッド」と呼ぶ）と磁気ディスクとのスペーシング（以下「浮上量」と呼ぶ）が数十ｎｍから数ｎｍと非常に狭く、磁気ディスクの凹凸欠陥とヘッドとの衝突を回避させるためである。このため、グライド検査工程では、磁気ディスクの表面の凹凸欠陥を検査して、凹凸欠陥が存在する磁気ディスクを不良品として製造工程から排除している。
【０００４】
サーティファイ検査工程は、グライド検査工程に合格した磁気ディスクに対して、ヘッドによって実際にデータの読み書き等を検査するものである。サーティファイ検査工程に合格した磁気ディスクは、ＨＤＤ装置製造メーカに出荷される。このとき書き込まれたデータは、ヘッドイレーズもしくはバルクイレーズ（一括消磁）され、ＨＤＤ装置製造メーカに出荷されるのが一般的である。ＨＤＤ装置製造メーカでは、ＨＤＤ装置を組み立てた後、磁気ディスク製造メーカと同様な目的で製品ヘッドの接触検査及び欠陥検査が実施される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１５５３３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ＨＤＤ装置製造メーカでは、ディスク毎に製品ヘッドの接触検査および欠陥検査が実施されるため、ＨＤＤ装置の製造効率を向上させることが困難となっていた。一方、磁気ディスク製造メーカにおいても、グライド検査において凹凸欠陥が検出された磁気ディスクをＨＤＤ装置製造メーカに出荷することができず、磁気ディスクの歩留まりを向上させることが困難となっていた。
【０００７】
本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであり、ＨＤＤ装置の製造工程において製造効率を向上させることができると共に、磁気ディスクの製造工程において歩留まりを向上させることができる磁気ディスクおよび磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の磁気ディスクは、ディスク表面の凹凸欠陥を検査するグライド検査で得られた凹凸欠陥の欠陥アドレス、および磁気的欠陥を検査するサーティファイ検査で得られた磁気的欠陥の欠陥アドレスの少なくとも一方を含む品質データが、特定領域に記録されたことを特徴とする。
【０００９】
本発明の磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスクを製作する工程と、製作された前記磁気ディスクに対し、ディスク表面の凹凸欠陥を検査するグライド検査、および磁気的欠陥を検査するサーティファイ検査の少なくとも一方を実施し、実施された検査で得られた欠陥の欠陥アドレスを含む品質データを、特定位置に書き込む工程とを有することを特徴とする。
【００１０】
これらの構成によれば、ＨＤＤ装置の製造工程において、磁気ディスクの製造工程で製造された磁気ディスクからグライド検査やサーティファイ検査で得られた欠陥アドレスを含む品質データを読み出して利用することができる。例えば、ＨＤＤ装置製造メーカでは、磁気ディスク製造メーカで記録されたサーティファイ検査時の欠陥アドレスを利用することで、再度の欠陥検査を省略または簡略化し、ＨＤＤ装置の製造効率を向上することができる。一方、磁気ディスク製造メーカでは、グライド検査時の欠陥アドレスの特定領域への記録により磁気ディスク装置製造メーカに欠陥アドレスを報知し、ＨＤＤ装置の製造工程において凹凸欠陥とヘッドとの衝突を事前に回避させることができる。このため、磁気ディスク製造メーカでは、今まで不良品として処分してきた磁気ディスクを有効利用でき、歩留まりを向上することができる。
【００１１】
また本発明は、上記磁気ディスクにおいて、前記品質データの記録方式を、磁気的または光学的の記録方式とすることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ＨＤＤ装置の製造工程において製造効率を向上させることができると共に、磁気ディスクの製造工程において歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る磁気ディスクの実施の形態を示す図であり、磁気ディスクの製造工程のフロー図である。
【図２】本発明に係る磁気ディスクの実施の形態を示す図であり、凹凸欠陥および磁気的欠陥の欠陥アドレスの説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。
【００１５】
磁気ディスクに用いられる磁気ディスク用基板の材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、アルミニウム−マグネシウム合金などを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を提供することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。本実施の形態においては、磁気ディスク用基板がガラス基板である場合について説明する。
【００１６】
以下に、図１を参照して磁気ディスクの製造の各工程について説明する。
【００１７】
（１）ガラス基板製造工程
ガラス基板は、例えば、アルミノシリケートガラス等のガラス母材からガラスディスクを切り出して、ラッピング加工、研磨加工等を施して外形形状を形成し、これに化学強化を施して形成される。
【００１８】
（２）磁気ディスク製造工程（記録層等形成工程）
化学強化を施したガラス基板に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造する。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ基合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、Ｒｕ合金などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、パーフルオロポリエーテル等のフッ素含有高分子などを挙げることができる。例えば、これらの記録層等は、より具体的には、スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、Ｒｕの非磁性下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜する。
【００１９】
（３）検査工程
このような工程で製造された磁気ディスクには、ディスク面の凹凸欠陥を検査するグライド検査およびディスク面の磁気的欠陥を検査するサーティファイ検査が実施される。グライド検査は、回転する磁気ディスクの表面上に検査ヘッドを浮上走行させ、検査ヘッドと磁気ディスクの表面の凹凸形状との接触を電気的に検知し、磁気ディスクの凹凸欠陥を検出する。グライド検査において一定の品質レベルに達した磁気ディスクには、サーティファイ検査が実施される。
【００２０】
サーティファイ検査は、回転する磁気ディスクの表面上に検査ヘッドを浮上走行させ、この状態で書き込みや読み込みを行って磁気的欠陥を検出する。なお、磁気ディスク製造工程におけるサーティファイ検査のトラックピッチは、例えば、０．２μｍである。サーティファイ検査後の磁気ディスクは、ヘッドイレーズまたはバルクイレーズ（消磁）される。そして、磁気ディスクの特定領域に、グライド検査で検出された凹凸欠陥の欠陥アドレスおよびサーティファイ検査で検出された磁気的欠陥の欠陥アドレスを含む品質データが書き込まれる。
【００２１】
この場合、図２に示すように、グライド検査およびサーティファイ検査において、凹凸欠陥および磁気的欠陥の位置情報をディスクの回転中心からの距離Ｒと基準角度からの回転角度θとにより求めておく。
【００２２】
磁気ディスクの品質データが書き込まれる特定領域は、磁気ディスク製造メーカとＨＤＤ装置製造メーカとの間で予め規定された領域である。このように、メーカ間で特定領域を予め規定することで、ＨＤＤ装置製造メーカは、ＨＤＤ装置の製造工程において、この特定領域から品質データを読み出して利用することが可能となる。特定領域は、例えば、磁気ディスクの外周に設けられている。
【００２３】
なお、磁気ディスクの品質データは、単一の特定領域に書き込まれる構成に限定されず、複数の特定領域に書き込まれる構成としてもよい。これにより、ＨＤＤ装置の製造工程において、一つの特定領域が凹凸欠陥および磁気的欠陥により読み出し不能な場合に、他の特定領域から品質データを読み出すことが可能となる。
【００２４】
検査工程を経た磁気ディスクは、磁気ディスク製造メーカからＨＤＤ装置製造メーカに出荷される。ＨＤＤ装置製造メーカに出荷された磁気ディスクは、ＨＤＤ装置に組み込まれて、ＨＤＤ装置の製造工程において検査工程が施される。この検査工程では、磁気ディスクメーカと同様の目的で、ヘッド接触検査およぶ欠陥検査が実施される。このとき、磁気ディスクの特定領域から品質データを読み出すことで、サーティファイ検査を省略または簡略化することができる。
【００２５】
すなわち、ＨＤＤ装置製造メーカの製造工程では、磁気ディスクの製造工程において既に磁気ディスクの欠陥アドレスが品質データとして特定領域に記録されているため、欠陥検査の再検査が不要となる。また、欠陥検査を再検査する場合であっても、少なくとも欠陥部分を再検査する必要がないため、検査時間を短縮することができる。なお、ＨＤＤ装置の製造工程における欠陥検査のトラックピッチは、例えば、０．２ｕｍである。このように、ＨＤＤ装置の製造工程において、欠陥検査を省略または簡略化できるため、ＨＤＤ装置の製造効率を向上させることが可能となる。
【００２６】
また、磁気ディスク製造メーカの磁気ディスクの製造工程では、凹凸欠陥の欠陥アドレスを品質データとして特定領域に書き込むことで、ＨＤＤ装置製造メーカに凹凸欠陥の欠陥アドレスを報知している。すなわち、ＨＤＤ装置製造メーカの製造工程において、凹凸欠陥とヘッドとの衝突が事前回避されるため、磁気ディスク製造メーカが今まで不良品として処分してきた磁気ディスクを有効利用することが可能となる。
【００２７】
また、磁気ディスクに記録された凹凸欠陥および磁気的欠陥の位置情報は、ＨＤＤ装置製造メーカにてＣＨＳ方式に変換されるため、ＨＤＤ装置の製造工程において欠陥アドレスを容易に特定することが可能となっている。なお、上記した実施の形態では、凹凸欠陥および磁気的欠陥の位置情報をＣＨＳ方式に変換する構成としたが、この構成に限定されるものではない。ＨＤＤ装置の製造工程において、凹凸欠陥および磁気的欠陥の位置情報を特定可能であれば、どのような方式で欠陥アドレスが記録されてもよい。
【００２８】
以上のように、本実施の形態に係る磁気ディスクによれば、ＨＤＤ装置の製造工程において、磁気ディスクの製造工程で製造された磁気ディスクからグライド検査やサーティファイ検査で得られた欠陥アドレスを含む品質データを読み出して利用することができる。例えば、ＨＤＤ装置製造メーカでは、磁気ディスク製造メーカで記録されたサーティファイ検査時の欠陥アドレスを利用することで、再度の欠陥検査を省略または簡略化し、ＨＤＤ装置の製造効率を向上することが可能となる。一方、磁気ディスク製造メーカでは、グライド検査時の欠陥アドレスの特定領域への記録によりＨＤＤ装置製造メーカに欠陥アドレスを報知し、ＨＤＤ装置の製造工程において凹凸欠陥とヘッドとの衝突を事前に回避させることができる。このため、磁気ディスク製造メーカでは、今まで不良品として処分してきた磁気ディスクを有効利用でき、歩留まりを向上することが可能となる。
【００２９】
なお、上記した実施の形態においては、磁気ディスクがＨＤＤ装置に搭載される構成について説明したが、この構成に限定されるものではない。磁気ディスクは、磁気ディスク装置に搭載されればよく、例えば、リムーバブルディスク装置に使用される構成としてもよい。
【００３０】
また、上記した実施の形態においては、凹凸欠陥および磁気的欠陥の欠陥アドレスを含む品質データは、磁気ディスクの特定領域に読取可能に記録されていればよく、例えば、磁気的に読取可能な構成としてもよいし、光学的に読取可能な構成としてもよい。
【００３１】
また、上記した実施の形態においては、品質データは、凹凸欠陥および磁気的欠陥の欠陥アドレスを含む構成としたが、いずれか一方を含む構成としてもよい。また、品質データは、他の欠陥の欠陥アドレスや、その他のＨＤＤ装置の製造工程において用いられる付加情報を含むようにしてもよい。例えば、磁気ディスクの静磁気特性（Ｈｃ、Ｈｎなど）を品質データに含めておき、ＨＤＤ装置の製造工程において磁気ヘッドとの組み合わせにおいて最適なトラックピッチを選択することが可能になる。
【００３２】
また、今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であってこの実施の形態に制限されるものではない。本発明の範囲は、上記した実施の形態のみの説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
以上説明したように、本発明は、磁気ディスク（ＨＤＤ）装置の製造工程において製造効率を向上させることができると共に、磁気ディスクの製造工程において歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【図１】
2011204322.tif 000003
【図２】
2011204322.tif 000004