(57)【要約】【課題】本発明の目的は残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性を満足する液晶表示素子、この液晶表示素子が備える液晶配向膜、この液晶配向膜を形成する液晶配向剤、及びこの液晶配向剤に好適に用いられるポリオルガノシロキサン化合物の提供である。【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物を含有し、この［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物が、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに由来する部分と、エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する桂皮酸誘導体に由来する部分とを有している液晶配向剤である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物を含有し、
この［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物が、
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに由来する部分と、
エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する桂皮酸誘導体に由来する部分と
を有している液晶配向剤。
【請求項２】
上記桂皮酸誘導体が、下記式（１）で表される化合物である請求項１に記載の液晶配向剤。
【化１】
2011253175.tif 000025
（式（１）中、
Ｒ１は、それぞれ独立して水素原子、脂環式基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基又は炭素数１〜４０のアルキル基である。但し、上記アルキル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基又はこれらを２種以上組合わせた連結基である。
Ｒ４は、（ｃ＋１）価の有機基である。
Ｒ５は、単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、２価の芳香族基又は２価の脂環式基である。
Ｒ６は、カルボキシル基、水酸基、−ＳＨ、−ＮＣＯ、−ＮＨＲ、−ＣＨ＝ＣＨ２又は−ＳＯ２Ｃｌである。このＲは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ７は、それぞれ独立してフッ素原子又はシアノ基である。
ａ及びｂは、それぞれ独立して０又は１の整数である。但し、ａとｂとが共に０となることはない。ｃは、２〜５の整数である。ｄは、０〜４の整数である。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ７が複数の場合、複数のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ７は同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項３】
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物が、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式（１）で表される化合物との反応生成物である請求項２に記載の液晶配向剤。
【請求項４】
上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンが、下記式（２）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の液晶配向剤。
【化２】
2011253175.tif 000026
（式（２）中、Ｘ１は、下記式（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表される基である。Ｙ１は、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基である。）
【化３】
2011253175.tif 000027
（式（Ｘ１−１）中、Ａは、単結合又は酸素原子である。ｅは、１〜３の整数である。ｆは、０〜６の整数である。但し、ｆが０の場合、Ａは単結合である。
式（Ｘ１−２）中、ｇは、１〜６の整数である。
式（Ｘ１−１）及び（Ｘ１−２）中、＊は、それぞれケイ素原子と結合する部位を示す。）
【請求項５】
［Ｂ］ポリアミック酸及びポリイミドからなる群より選択される少なくとも１種の重合体をさらに含有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液晶配向剤。
【請求項６】
［Ｃ］下記式（４）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種をさらに含有する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液晶配向剤。
【化４】
2011253175.tif 000028
（式（４）中、Ｘ２は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基である。Ｙ２は、水酸基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基である。）
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の液晶配向剤から形成される液晶配向膜。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶配向膜を備える液晶表示素子。
【請求項９】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、
エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する桂皮酸誘導体に由来する部分と
を有しているポリオルガノシロキサン化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及びポリオルガノシロキサン化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、消費電力が小さく、小型化及びフラット化が容易である等の利点を有することから、携帯電話等の小型の液晶表示装置から液晶テレビ等の大画面液晶表示装置まで幅広く用いられている。
【０００３】
液晶表示装置の表示モードとして、例えば特許文献１〜４には、液晶分子の配向状態の変化に応じ、Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ型（ＴＮ型）、Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ型（ＳＴＮ型）、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ型（ＩＰＳ型）、Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ型（ＶＡ型）等の液晶セルを有する液晶表示素子が開示されている。いずれの表示モードにおいても、液晶分子の配向状態は、液晶配向膜で制御されていることから、液晶配向膜及びこの液晶配向膜の材料となる液晶配向剤の有する特性が、液晶表示素子の特性の発現に影響する。
【０００４】
塗膜に液晶配向能を付与する一般的な方法としては、配向均一性、処理時間及び処理コストの点で有利なラビング処理が挙げられる。ラビング処理とは、基板表面に有機膜を形成し、次いで、その有機膜の表面をレーヨン等の布材で一方向にこすり、液晶配向能を付与する方法である。
【０００５】
しかし、ラビング処理を行うと、工程内でほこりが発生しやすく、また静電気が発生しやすいために液晶配向膜の表面にほこりが付着し、表示不良を発生するおそれがある。また、より高精細化した液晶表示素子においては、画素の高密度化に伴い基板表面に凹凸が生じるため、均一にラビング処理を行うことが困難となりつつある。
【０００６】
そこで、ラビング処理とは異なる方法として、例えば特許文献５〜１８には、基板表面に形成したポリビニルシンナメート、ポリイミド等の感光性薄膜に偏光又は非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する光配向法が開示されている。この方法によれば、ほこりや静電気を発生することなく、均一な液晶配向が実現できる。
【０００７】
一方、液晶配向膜では、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型等の表示モードにおいて、液晶分子を基板面に対し所定の角度（プレチルト角）で傾斜配向させる必要がある。このプレチルト角は、光配向法により液晶配向膜を形成する場合、通常、基板面への入射方向が基板法線から傾斜した放射線の照射により付与される。
【０００８】
しかし、従来の液晶配向剤を用いて光配向法により形成した液晶配向膜は、残像特性に劣り、また、液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、プレチルト角の経時的安定性、印刷性等の特性を十分に満足するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平４−１５３６２２号公報
【特許文献２】特開昭６０−１０７０２０号公報
【特許文献３】特開昭５６−９１２７７号公報
【特許文献４】米国特許第５，９２８，７３３号
【特許文献５】特開平９−２２２６０５号公報
【特許文献６】特開平６−２８７４５３号公報
【特許文献７】特開平１０−２５１６４６号公報
【特許文献８】特開平１１−２８１５号公報
【特許文献９】特開平１１−１５２４７５号公報
【特許文献１０】特開２０００−１４４１３６号公報
【特許文献１１】特開２０００−３１９５１０号公報
【特許文献１２】特開２０００−２８１７２４号公報
【特許文献１３】特開平９−２９７３１３号公報
【特許文献１４】特開２００３−３０７７３６号公報
【特許文献１５】特開２００４−１６３６４６号公報
【特許文献１６】特開２００６−１７１３０４号公報
【特許文献１７】特開２００７−２２４２７３号公報
【特許文献１８】特開２００７−２５６４８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性を満足する液晶表示素子、この液晶表示素子が備える液晶配向膜、この液晶配向膜を形成する液晶配向剤、及びこの液晶配向剤に好適に用いられるポリオルガノシロキサン化合物の提供である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するためになされた発明は、
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物を含有し、
この［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物が、
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに由来する部分と、
エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する桂皮酸誘導体（以下、「桂皮酸誘導体」とも称する）に由来する部分と
を有している液晶配向剤である。
【００１２】
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン及び光配向性を有する桂皮酸誘導体に由来する基を含んでいることから、当該液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を備える液晶表示素子は、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性等の特性を満足する。
【００１３】
上記桂皮酸誘導体は、下記式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【化１】
2011253175.tif 000002
（式（１）中、
Ｒ１は、それぞれ独立して水素原子、脂環式基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基又は炭素数１〜４０のアルキル基である。但し、上記アルキル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基又はこれらを２種以上組合わせた連結基である。
Ｒ４は、（ｃ＋１）価の有機基である。
Ｒ５は、単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、２価の芳香族基又は２価の脂環式基である。
Ｒ６は、カルボキシル基、水酸基、−ＳＨ、−ＮＣＯ、−ＮＨＲ、−ＣＨ＝ＣＨ２又は−ＳＯ２Ｃｌである。このＲは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ７は、それぞれ独立してフッ素原子又はシアノ基である。
ａ及びｂは、それぞれ独立して０又は１の整数である。但し、ａとｂとが共に０となることはない。ｃは、２〜５の整数である。ｄは、０〜４の整数である。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ７が複数の場合、複数のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ７は同一であっても異なっていてもよい。）
【００１４】
桂皮酸誘導体として、上記特定化合物を用いることにより配向性能がより高くなり、残像特性、電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性及び印刷性をより向上できる。
【００１５】
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式（１）で表される化合物との反応生成物であることが好ましい。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと桂皮酸誘導体との間の反応性を利用することによりポリオルガノシロキサンに光配向性を有する桂皮酸誘導体に由来する基を容易に導入できる。
【００１６】
上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、下記式（２）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【化２】
2011253175.tif 000003
（式（２）中、Ｘ１は、下記式（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表される基である。Ｙ１は、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基である。）
【化３】
2011253175.tif 000004
（式（Ｘ１−１）中、Ａは、酸素原子又は単結合である。ｅは、１〜３の整数である。ｆは、０〜６の整数である。但し、ｆが０の場合、Ａは単結合である。
式（Ｘ１−２）中、ｇは、１〜６の整数である。
式（Ｘ１−１）及び（Ｘ１−２）中、＊は、それぞれケイ素原子と結合する部位を示す。）
【００１７】
上記エポキシ基を有する１価の有機基として上記式（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表される基を採用することにより、当該液晶配向剤の［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物に、上記桂皮酸誘導体に由来する基を導入しやすくなる。
【００１８】
当該液晶配向剤は、［Ｂ］ポリアミック酸及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種の重合体（以下、「［Ｂ］重合体」とも称する）をさらに含有することが好ましい。当該液晶配向剤が［Ｂ］重合体をさらに含有することで、より電圧保持率等の電気特性が改善された液晶表示素子が得られる。
【００１９】
当該液晶配向剤は、［Ｃ］下記式（４）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種（以下、「［Ｃ］他のポリオルガノシロキサン」とも称する）をさらに含有することが好ましい。
【化４】
2011253175.tif 000005
（式（４）中、Ｘ２は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基である。Ｙ２は、水酸基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基である。）
【００２０】
当該液晶配向剤が［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンをさらに含有することで、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の架橋を促進させることができ、結果として、得られる液晶標示素子の良好なプレチルト角の経時的安定性、電圧保持率等をより向上できる。
【００２１】
本発明の液晶配向膜は、当該液晶配向剤により形成される。また、本発明の液晶表示素子は、当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜を備える。これにより、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、残像特性、印刷性等の特性を満足する。
【００２２】
本発明のポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する桂皮酸誘導体に由来する部分とを有している。
【００２３】
当該ポリオルガノシロキサン化合物は、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性等の特性を満足する液晶表示素子を構成するための液晶配向剤に好適に用いられる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性を満足する液晶表示素子、この液晶表示素子を形成する液晶配向剤、及びこの液晶配向剤に好適に用いられるポリオルガノシロキサン化合物を提供できる。また、本発明の液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、種々の表示モードの液晶表示素子に好適に適用できる。さらに、かかる液晶配向膜を備える本願の液晶表示素子は、長期間にわたり使用した場合にも表示性能が劣化することがない。従って、本願の液晶表示素子は、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビ等の表示装置に好適に用いられる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
＜液晶配向剤＞
本発明の液晶配向剤は、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物を含有する。［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン及び光配向性を有する桂皮酸誘導体に由来する基を含んでいることから、当該液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を備える液晶表示素子は、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性を満足する。また、当該液晶配向剤は、好適成分として［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物以外の［Ｂ］重合体、［Ｃ］［Ｃ］他のポリオルガノシロキサン等の重合体（以下、「他の重合体」とも称する）を含有してもよい。さらに、当該液晶配向剤は、本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。
【００２６】
＜［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物＞
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに由来する部分と、桂皮酸誘導体に由来する部分とを有している。以下、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン及び桂皮酸誘導体について詳述する。
【００２７】
［エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン］
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとは、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の構造のうち、ポリマー主鎖としてのポリオルガノシロキサン骨格と、このポリオルガノシロキサンから枝分かれしているポリマー主鎖としてのエポキシ基含有骨格とを含む概念である。
【００２８】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとしては、上記式（２）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００２９】
上記式（２）中、Ｘ１は、（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表される基である。Ｙ１は水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基である。
【００３０】
上記エポキシ基を有する１価の有機基として上記式（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表される基を採用することにより、当該液晶配向剤の［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物に、上記桂皮酸誘導体に由来する基を導入しやすくなる。
【００３１】
上記式（Ｘ１−１）中、Ａは、単結合又は酸素原子である。ｅは、１〜３の整数である。ｆは、０〜６の整数である。但し、ｆが０の場合、Ａは単結合である。式（Ｘ１−２）中、ｇは、１〜６の整数である。式（Ｘ１−１）及び（Ｘ１−２）中、＊は、それぞれケイ素原子と結合する部位を示す。
【００３２】
上記Ｙ１で表される炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基等が挙げられる。
【００３３】
上記Ｙ１で表される炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば直鎖状又は分岐状の、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ラウリル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。
【００３４】
上記Ｙ１で表される炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００３５】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）としては、５００〜１００，０００が好ましく、１，０００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜５，０００が特に好ましい。なお、本明細書においてＭｗは、下記仕様のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶媒：テトラヒドロフラン
温度：４０℃
圧力：６８ｋｇｆ／ｃｍ２
【００３６】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、好ましくはエポキシ基を有するシラン化合物又はエポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物の混合物を、好ましくは適当な有機溶媒、水及び触媒の存在下において加水分解又は加水分解・縮合することにより合成できる。
【００３７】
エポキシ基を有するシラン化合物としては、例えば３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００３８】
他のシラン化合物としては、例えばテトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、トリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉ−プロポキシシラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｉ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリクロロシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリメトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリエトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリクロロシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリクロロシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリメトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリエトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリクロロシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、アリルトリ−ｉ−プロポキシシラン、アリルトリ−ｎ−ブトキシシラン、アリルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メチルジ−ｉ−プロポキシシラン、メチルジ−ｎ−ブトキシシラン、メチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ジメチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジクロロシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジメトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジエトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｎ−プロポキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｉ−プロポキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｎ−ブトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジクロロシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジメトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジエトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｎ−プロポキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｉ−プロポキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｎ−ブトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジクロロシラン、（メチル）（ビニル）ジメトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジエトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｎ−プロポキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｉ−プロポキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｎ−ブトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジビニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ジビニルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジビニルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ｎ−プロポキシトリメチルシラン、ｉ−プロポキシトリメチルシラン、ｎ−ブトキシトリメチルシラン、ｓｅｃ−ブトキシトリメチルシラン、ｔ−ブトキシトリメチルシラン、（クロロ）（ビニル）ジメチルシラン、（メトキシ）（ビニル）ジメチルシラン、（エトキシ）（ビニル）ジメチルシラン、（クロロ）（メチル）ジフェニルシラン、（メトキシ）（メチル）ジフェニルシラン、（エトキシ）（メチル）ジフェニルシラン等のケイ素原子を１個有するシラン化合物等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００３９】
他のシラン化合物の市販品としては、例えば
ＫＣ−８９、ＫＣ−８９Ｓ、Ｘ−２１−３１５３、Ｘ−２１−５８４１、Ｘ−２１−５８４２、Ｘ−２１−５８４３、Ｘ−２１−５８４４、Ｘ−２１−５８４５、Ｘ−２１−５８４６、Ｘ−２１−５８４７、Ｘ−２１−５８４８、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、Ｘ−２２−１７０Ｂ、Ｘ−２２−１７０ＢＸ、Ｘ−２２−１７０Ｄ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｂ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｆ、Ｘ−４０−２３０８、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、Ｘ−４０−２６７１、Ｘ−４０−２６７２、Ｘ−４０−９２２０、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２４７、Ｘ−４０−９２５０、Ｘ−４０−９３２３、Ｘ−４１−１０５３、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１０、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２、ＫＦ６００３、ＫＲ２１２、ＫＲ−２１３、ＫＲ−２１７、ＫＲ２２０Ｌ、ＫＲ２４２Ａ、ＫＲ２７１、ＫＲ２８２、ＫＲ３００、ＫＲ３１１、ＫＲ４０１Ｎ、ＫＲ５００、ＫＲ５１０、ＫＲ５２０６、ＫＲ５２３０、ＫＲ５２３５、ＫＲ９２１８、ＫＲ９７０６（以上、信越化学工業製）；
グラスレジン（昭和電工製）；
ＳＨ８０４、ＳＨ８０５、ＳＨ８０６Ａ、ＳＨ８４０、ＳＲ２４００、ＳＲ２４０２、ＳＲ２４０５、ＳＲ２４０６、ＳＲ２４１０、ＳＲ２４１１、ＳＲ２４１６、ＳＲ２４２０（以上、東レ・ダウコーニング製）；
ＦＺ３７１１、ＦＺ３７２２（以上、日本ユニカー製）；
ＤＭＳ−Ｓ１２、ＤＭＳ−Ｓ１５、ＤＭＳ−Ｓ２１、ＤＭＳ−Ｓ２７、ＤＭＳ−Ｓ３１、ＤＭＳ−Ｓ３２、ＤＭＳ−Ｓ３３、ＤＭＳ−Ｓ３５、ＤＭＳ−Ｓ３８、ＤＭＳ−Ｓ４２、ＤＭＳ−Ｓ４５、ＤＭＳ−Ｓ５１、ＤＭＳ−２２７、ＰＳＤ−０３３２、ＰＤＳ−１６１５、ＰＤＳ−９９３１、ＸＭＳ−５０２５（以上、チッソ製）；
メチルシリケートＭＳ５１、メチルシリケートＭＳ５６（以上、三菱化学製）；
エチルシリケート２８、エチルシリケート４０、エチルシリケート４８（以上、コルコート製）；
ＧＲ１００、ＧＲ６５０、ＧＲ９０８、ＧＲ９５０（以上、昭和電工製）等の部分縮合物等が挙げられる。
【００４０】
これらの他のシラン化合物のうち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好ましい。
【００４１】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのエポキシ当量としては、１００ｇ／モル〜１０，０００ｇ／モルが好ましく、１５０ｇ／モル〜１，０００ｇ／モルがより好ましく、１５０ｇ／モル〜３００ｇ／モルが特に好ましい。従って、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成に際し、エポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物との使用割合としては、得られるポリオルガノシロキサンのエポキシ当量が上記特定範囲となるように設定することが好ましい。
【００４２】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成に際し、使用できる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、ケトン化合物、エステル化合物、エーテル化合物、アルコール化合物等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００４３】
炭化水素化合物としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。
【００４４】
ケトン化合物としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
【００４５】
エステル化合物としては、例えば酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、乳酸エチル等が挙げられる。
【００４６】
エーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。
【００４７】
アルコール化合物としては、例えば１−ヘキサノール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル等が挙げられる。
【００４８】
これらのうち非水溶性のものが好ましい。有機溶媒の使用量としては、全シラン化合物１００質量部に対して、１０質量部〜１０，０００質量部が好ましく、５０質量部〜１，０００質量部がより好ましい。
【００４９】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の水の使用量としては、全シラン化合物に対して、０．５倍モル〜１００倍モルが好ましく、１倍モル〜３０倍モルがより好ましい。
【００５０】
触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００５１】
アルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド等が挙げられる。
【００５２】
有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロール等の１〜２級有機アミン；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセン等の３級の有機アミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の４級の有機アミン等が挙げられる。
【００５３】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の触媒としては、アルカリ金属化合物又は有機塩基が好ましい。アルカリ金属化合物又は有機塩基を触媒として用いることにより、エポキシ基の開環等の副反応を生じることなく、高い加水分解・縮合速度でポリオルガノシロキサンを得ることができるため生産安定性に優れる。
【００５４】
また、触媒としてアルカリ金属化合物又は有機塩基を用いて合成されたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと桂皮酸誘導体との反応物を含有する当該液晶配向剤は、保存安定性が極めて優れるため好都合である。その理由は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗｓ、９５巻、ｐ１４０９（１９９５年）に指摘されているように、加水分解、縮合反応において触媒としてアルカリ金属化合物又は有機塩基を用いると、ランダム構造、はしご型構造又はかご型構造が形成され、シラノール基の含有割合が少ないポリオルガノシロキサンが得られるためではないかと推察される。即ち、かかるポリオルガノシロキサンは、シラノール基の含有割合が少ないため、シラノール基同士の縮合反応が抑えられ、さらに本発明の液晶配向剤が後述の他の重合体を含有するものである場合にはシラノール基と他の重合体との縮合反応が抑えられるため、保存安定性に優れる結果になるものと推察される。
【００５５】
触媒としては、有機塩基がより好ましく、３級の有機アミン及び４級の有機アミンが特に好ましい。有機塩基の使用量としては、有機塩基の種類、温度等の反応条件により異なるが、例えば全シラン化合物に対して、０．０１倍モル〜３倍モルが好ましく、０．０５倍モル〜１倍モルがより好ましい。
【００５６】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の加水分解又は加水分解・縮合反応は、エポキシ基を有するシラン化合物と必要に応じて他のシラン化合物とを有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基及び水と混合して、例えば油浴等により加熱することにより実施することが好ましい。
【００５７】
加水分解・縮合反応時における油浴の加熱温度としては、１３０℃以下が好ましく、４０℃〜１００℃がより好ましい。加熱時間としては、０．５時間〜１２時間が好ましく、１時間〜８時間がより好ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。
【００５８】
反応終了後、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。洗浄に際しては、少量の塩を含む水、例えば０．２質量％程度の硝酸アンモニウム水溶液等で洗浄することが、洗浄操作が容易となる点で好ましい。洗浄は洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブス等の乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンが得られる。
【００５９】
本発明においては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとして市販されているものを用いてもよい。このような市販品としては、例えばＤＭＳ−Ｅ０１、ＤＭＳ−Ｅ１２、ＤＭＳ−Ｅ２１、ＥＭＳ−３２（以上、チッソ製）等が挙げられる。
【００６０】
［桂皮酸誘導体］
桂皮酸誘導体は、エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する。
【００６１】
桂皮酸誘導体としては、上記式（１）で表される化合物が好ましい。桂皮酸誘導体として、上記特定化合物を用いることにより、配向性能がより高くなり、残像特性、電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性及び印刷性をより向上できる。
【００６２】
上記式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立して水素原子、脂環式基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基又は炭素数１〜４０のアルキル基である。但し、上記アルキル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基又はこれらを２種以上組合わせた連結基である。Ｒ４は、（ｃ＋１）価の有機基である。Ｒ５は、単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、２価の芳香族基又は２価の脂環式基である。Ｒ６は、カルボキシル基、水酸基、−ＳＨ、−ＮＣＯ、−ＮＨＲ、−ＣＨ＝ＣＨ２又は−ＳＯ２Ｃｌである。このＲは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ７は、それぞれ独立してフッ素原子又はシアノ基である。ａ及びｂは、それぞれ独立して０又は１の整数である。但し、ａとｂとが共に０となることはない。ｃは、２〜５の整数である。ｄは、０〜４の整数である。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ７が複数の場合、複数のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ７は同一であっても異なっていてもよい。
【００６３】
上記Ｒ１で表される脂環式基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基としては、例えばシクロヘキシル基、コレステニル基、コレスタニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
【００６４】
上記Ｒ１で表される炭素数１〜４０のアルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基等が挙げられる。上記炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えばｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ラウリル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基、４，４，４−トリフロロブチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２−（パーフルオロブチル）エチル基、２−（パーフルオロオクチル）エチル基、２−（パーフルオロデシル）エチル基等が挙げられる。なお、炭素数が２以下の場合は水平配向用途として、炭素数が３以上の場合は、垂直配向用途として用いるのが好ましい。
【００６５】
上記Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１〜１０のアルカンジイル基としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。
【００６６】
上記Ｒ２及びＲ３で表される２価の芳香族基としては、例えば１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、２，３，５，６−テトラフルオロ−１，４−フェニレン基等が挙げられる。
【００６７】
上記Ｒ２及びＲ３で表される２価の脂環式基としては、１，４−シクロへキシレン基等が挙げられる。
【００６８】
上記Ｒ２及びＲ３で表される２価の複素環式基としては、例えば２，５−ピリジレン基、２，６−ピリジレン基等の２価のピリジレン基、２，５−フラニレン基等の２価のフラニレン基等が挙げられる。なお、上記２価の脂環式基、２価の芳香族基及び２価の複素環式基は複数の環が縮合した基であってもよい。縮合した２価の脂環式基としては、ノルボルナンジイル基、アダマンチルジイル基等が挙げられる。縮合した２価の芳香族基としては、ナフチレン基等が挙げられる。縮合した２価の複素環式基としては、キノリンジイル基等が挙げられる。
【００６９】
上記Ｒ４で表される（ｃ＋１）価の有機基としては、例えば（ｃ＋１）価の直鎖状又は分岐状のアルキル基、（ｃ＋１）価の芳香族基、（ｃ＋１）価の脂環式基、（ｃ＋１）価の複素環式基等が挙げられる。
【００７０】
上記Ｒ５で表される炭素数１〜１０のアルカンジイル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基としては、例えば上記Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１〜１０のアルカンジイル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基として例示した基と同様の基が適用できる。
【００７１】
上記Ｒで表される、炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
【００７２】
上記式（１）で表される化合物としては、下記式（１−１）、式（１−２）で表される化合物が好ましい。
【００７３】
【化５】
2011253175.tif 000006
【００７４】
上記式（１−１）及び式（１−２）中、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立して下記式（３−１）〜（３−２５）のいずれかで表される基である。
【００７５】
【化６】
2011253175.tif 000007
【００７６】
【化７】
2011253175.tif 000008
【００７７】
上記式（３−１）〜（３−２５）中、Ｒ１は、上記式（１）と同義である。ｖは、１〜１０の整数である。ｕは、１〜１０の整数である。
【００７８】
桂皮酸誘導体の合成手順としては特に限定されず、従来公知の方法を組み合わせて行うことができる。代表的な合成手順としては、例えば（ｉ）塩基性条件下、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物と、アクリル酸とを遷移金属触媒存在下で反応させて桂皮酸誘導体を得る方法、（ｉｉ）塩基性条件下、ベンゼン環の水素原子がハロゲン原子で置換された桂皮酸と、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物とを遷移金属触媒存在下で反応させて桂皮酸誘導体とする方法等が挙げられる。但し、特定桂皮酸誘導体の合成手順はこれらに限定されるものではない。なお、桂皮酸誘導体はシス型（Ｚ）又はトランス型（Ｅ）のいずれでもよいが、トランス型（Ｅ）が好ましい。
【００７９】
＜［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の合成方法＞
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物は、上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、桂皮酸誘導体とを、好ましくは触媒の存在下において、好ましくは有機溶媒中で反応させることにより合成することが好ましい。［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物において、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと桂皮酸誘導体との間の反応性を利用することにより、ポリオルガノシロキサンに光配向性を有する桂皮酸誘導体に由来する基を容易に導入できる。
【００８０】
桂皮酸誘導体の含有量としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのケイ素原子１モルに対して、０．００１モル〜１モルが好ましく、０．０１モル〜１モルがより好ましく、０．０５モル〜０．９モルが特に好ましい。
【００８１】
本発明の効果を損なわない範囲で、桂皮酸誘導体の一部を下記式（５）で表される化合物に置き換えて使用してもよい。この場合、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の合成は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、桂皮酸誘導体及び下記式（５）で表される化合物の混合物との反応により合成することができる。
【００８２】
【化８】
2011253175.tif 000009
【００８３】
上記式（５）中、Ｒ８は、脂環式基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基、炭素数４〜２０のアルキル基又はアルコキシ基である。但し、上記アルキル基又はアルコキシ基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ｒ９は、単結合、２価の芳香族基又は２価の脂環式基である。但し、Ｒ８がアルコキシ基であるときは、Ｒ９がフェニレン基である。Ｒ１０は、カルボキシル基、水酸基、−ＳＨ、−ＮＣＯ、−ＮＨＲ１１、−ＣＨ＝ＣＨ２及び−ＳＯ２Ｃｌからなる群より選択される少なくとも１種の基である。但し、このＲ１１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基である。
【００８４】
上記Ｒ８としては、脂環式基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基、炭素数８〜２０のアルキル基、アルコキシ基、炭素数４〜２０のフルオロアルキル基又はフルオロアルコキシ基が好ましい。上記Ｒ９としては、単結合、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基が好ましい。上記Ｒ１０としてはカルボキシル基が好ましい。
【００８５】
上記式（５）で表される化合物としては、例えば下記式（５−１）〜（５〜４）で表される化合物等が挙げられる。
【００８６】
【化９】
2011253175.tif 000010
【００８７】
上記式（５−１）〜（５〜４）中、ｈは、１〜３の整数である。ｉは、３〜１８の整数である。ｊは、５〜２０の整数である。ｋは、１〜３の整数である。ｍは、０〜１８の整数である。ｎは、１〜１８の整数である。
【００８８】
上記式（５）で表される化合物としては、下記式（５−２−１）、（５−３−１）、（５−３−２）で表される化合物が好ましい。
【００８９】
【化１０】
2011253175.tif 000011
【００９０】
上記式（５）で表される化合物は、桂皮酸誘導体とともにエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと反応し、得られる液晶配向膜にプレチルト角発現性を付与する部位を導入する化合物である。以下、上記式（５）で表される化合物を、他のプレチルト角発現性化合物とも称する。
【００９１】
桂皮酸誘導体の一部を他のプレチルト角発現性化合物で置き換えて使用する場合、桂皮酸誘導体及び他のプレチルト角発現性化合物の合計の含有割合としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのケイ素原子１モルに対して、０．００１モル〜１モルが好ましく、０．１モル〜１モルがより好ましく、０．２モル〜０．９モルが特に好ましい。
【００９２】
桂皮酸誘導体との合計に対する他のプレチルト角発現性化合物の含有割合としては、５０モル％以下が好ましく、２５モル％以下がより好ましい。他のプレチルト角発現性化合物の使用割合が５０モル％を超えると、液晶表示素子をＯＮにしたときに異常ドメインが発生する場合がある。
【００９３】
触媒としては、例えば有機塩基又はエポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物が挙げられる。
【００９４】
有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き１〜２級有機アミン；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセン等の３級の有機アミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の４級の有機アミン等が挙げられる。これらのうち、３級の有機アミン及び４級の有機アミンが好ましい。
【００９５】
硬化促進剤としては、例えば
ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミン等の３級アミン；
２−メチルイミダゾール、２−ｎ−ヘプチルイミダゾール、２−ｎ−ウンデシルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−メチルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−ｎ−ウンデシルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジ（ヒドロキシメチル）イミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−フェニル−４，５−ジ〔（２’−シアノエトキシ）メチル〕イミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−ｎ−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、１−（２−シアノエチル）−２−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾリウムトリメリテート、２，４−ジアミノ−６−〔２’−メチルイミダゾリル−（１’）〕エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−（２’−ｎ−ウンデシルイミダゾリル）エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−〔２’−エチル−４’−メチルイミダゾリル−（１’）〕エチル−ｓ−トリアジン、２−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、２−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、２，４−ジアミノ−６−〔２’−メチルイミダゾリル−（１’）〕エチル−ｓ−トリアジンのイソシアヌル酸付加物等のイミダゾール化合物；
ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニル等の有機リン化合物；
ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウム、ｏ，ｏ−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレート等の４級フォスフォニウム塩；
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７、その有機酸塩等のジアザビシクロアルケン；
オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物；
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩；
三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニル等のホウ素化合物；
塩化亜鉛、塩化第二錫等の金属ハロゲン化合物；
ジシアンジアミド又はアミンとエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤；
イミダゾール化合物、有機リン化合物、４級フォスフォニウム塩等の硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤；
アミン塩型潜在性硬化促進剤；
ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等の潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
【００９６】
これらの硬化促進剤のうち、４級アンモニウム塩が好ましく、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライドがより好ましい。
【００９７】
触媒の使用量としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１００質量部に対して１００質量部以下が好ましく、０．０１質量部〜１００質量部がより好ましく、０．１質量部〜２０質量部が特に好ましい。
【００９８】
反応温度としては、０℃〜２００℃が好ましく、５０℃〜１５０℃がより好ましい。反応時間としては、０．１時間〜５０時間が好ましく、０．５時間〜２０時間がより好ましい。
【００９９】
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の合成に際し、使用できる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物等が挙げられる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物が、原料及び生成物の溶解性並びに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒の含有量としては、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計質量が溶液の全質量に占める割合）が、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは５質量％〜５０質量％となる量で含有される。
【０１００】
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを原料とし、そのエポキシの開環付加により桂皮酸誘導体に由来する構造を導入している。この合成方法は簡便であり、また、桂皮酸誘導体に由来する桂皮酸構造の導入率を高くできる点で有利である。
【０１０１】
＜他の重合体＞
他の重合体は、当該液晶配向剤の溶液特性及び得られる液晶配向膜の電気特性をより改善するために当該液晶配向剤に含有することができる。他の重合体としては、例えば［Ｂ］重合体、［Ｃ］他のポリオルガノシロキサン、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体、ポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。以下、［Ｂ］重合体及び［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンについて詳述する。
【０１０２】
＜［Ｂ］重合体＞
［Ｂ］重合体は、ポリアミック酸及びポリイミドからなる群より選択される少なくとも１種の重合体である。当該液晶配向剤が［Ｂ］重合体をさらに含有することで、より電圧保持率等の電気特性が改善された液晶表示素子が得られる。
【０１０３】
［ポリアミック酸］
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得られる。
【０１０４】
テトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらの他に、特願２００９−１５７５５６号に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【０１０５】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【０１０６】
脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、３，５，６−トリカルボキシ−２−カルボキシメチルノルボルナン−２：３，５：６−二無水物、２，４，６，８−テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン−２：４，６：８−二無水物、４，９−ジオキサトリシクロ［５．３．１．０２，６］ウンデカン−３，５，８，１０−テトラオン等が挙げられる。
【０１０７】
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物等が挙げられる。
【０１０８】
これらのテトラカルボン酸二無水物のうち、脂環式テトラカルボン酸二無水物が好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物がより好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物が特に好ましい。
【０１０９】
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物又は１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の使用量としては、全テトラカルボン酸二無水物に対して、１０モル％以上含が好ましく、２０モル％以上がより好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物又は１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物のみからなることが、特に好ましい。
【０１１０】
ジアミン化合物としては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン、芳香族ジアミン等が挙げられる。これらジアミン化合物は、単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。これらの他に特願２００９−１５７５５６号に記載のジアミンを用いることができる。
【０１１１】
脂肪族ジアミンとしては、例えばメタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。
【０１１２】
脂環式ジアミンとしては、例えば１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン等が挙げられる。
【０１１３】
ジアミノオルガノシロキサンとしては、例えば１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。
【０１１４】
芳香族ジアミンとしては、例えばｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、３，６−ジアミノアクリジン、３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−メチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−エチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−フェニル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−ベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルベンジジン、１，４−ビス−（４−アミノフェニル）−ピペラジン、３，５−ジアミノ安息香酸、ドデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−３，５−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−３，５−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、３，５−ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５−ジアミノ安息香酸コレステニル、３，５−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６−ビス（４−アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、３，６−ビス（４−アミノフェノキシ）コレスタン、４−（４’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ）シクロヘキシル−３，５−ジアミノベンゾエート、４−（４’−トリフルオロメチルベンゾイロキシ）シクロヘキシル−３，５−ジアミノベンゾエート、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ブチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェノキシ）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）シクロヘキサン、２，４−ジアミノーＮ，Ｎ―ジアリルアニリン、４−アミノベンジルアミン、３−アミノベンジルアミン及び下記式（６）で表されるジアミン化合物等が挙げられる。
【０１１５】
【化１１】
2011253175.tif 000012
【０１１６】
上記式（６）中、Ｚは炭素数１〜３のアルキル基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。ｐは、０又は１である。ｑは、０〜２の整数である。ｒは、１〜２０の整数である。
【０１１７】
上記式（６）中のＣｒＨ２ｒ＋１基としては、例えば直鎖状又は分岐状のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。
【０１１８】
上記式（６）で表されるジアミン化合物としては、例えば下記式（６−１）〜（６−５）で表される化合物等が挙げられる。
【０１１９】
【化１２】
2011253175.tif 000013
【０１２０】
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の使用割合としては、ジアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２当量〜２当量が好ましく、０．３当量〜１．２当量がより好ましい。
【０１２１】
合成反応は、有機溶媒中において行うことが好ましい。反応温度としては、−２０℃〜１５０℃が好ましく、０℃〜１００℃がより好ましい。反応時間としては、０．１時間〜２４時間が好ましく、０．５時間〜１２時間がより好ましい。
【０１２２】
有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒が挙げられる。
【０１２３】
有機溶媒の使用量（ａ）としては、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の総量（ｂ）と有機溶媒の使用量（ａ）の合計（ａ＋ｂ）に対して、０．１質量％〜５０質量％が好ましく、５質量％〜３０質量％がより好ましい。
【０１２４】
反応後に得られるポリアミック酸溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離した上で液晶配向剤の調製に供してもよく、単離したポリアミック酸を精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸の単離方法としては、例えば反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで得られる析出物を減圧下乾燥する方法、反応溶液をエバポレーターで減圧留去する方法等が挙げられる。ポリアミック酸の精製方法としては、単離したポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、貧溶媒で析出させる方法、エバポレーターで有機溶媒等を減圧留去する工程を１回又は複数回行う方法が挙げられる。
【０１２５】
［ポリイミド］
ポリイミドは、上記ポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環してイミド化することにより合成できる。
【０１２６】
ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有しているアミック酸構造の全てを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存している部分イミド化物であってもよい。ポリイミドのイミド化率は、３０％以上が好ましく、４０％〜８０％がより好ましい。なお、ポリイミド中のイミド化率は、ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解させ、テトラメチルシランを基準物質として室温で１Ｈ−ＮＭＲを測定し、得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルから、下記式（７）により求めた。
【０１２７】
イミド化率（％）＝｛１−（Ａ１／Ａ２）×α｝×１００              （７）
【０１２８】
式（７）中、Ａ１は、ＮＨ基のプロトン由来のピーク面積（１０ｐｐｍ）である。Ａ２は、その他のプロトン由来のピーク面積である。αは、ポリアミック酸におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。
【０１２９】
ポリイミドの合成方法としては、例えば（ｉ）ポリアミック酸を加熱する方法（以下、「方法（ｉ）」とも称する）、（ｉｉ）ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し、必要に応じて加熱する方法（以下、「方法（ｉｉ）」とも称する）等のポリアミック酸の脱水閉環反応による方法が挙げられる。
【０１３０】
方法（ｉ）における反応温度としては、５０℃〜２００℃が好ましく、６０℃〜１７０℃がより好ましい。反応温度が５０℃未満では、脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が２００℃を超えると得られるポリイミドの分子量が低下することがある。反応時間としては、０．５時間〜４８時間が好ましく、２時間〜２０時間がより好ましい。
【０１３１】
方法（ｉ）において得られるポリイミドはそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離した上で液晶配向剤の調製に供してもよく又は単離したポリイミドを精製した上で又は得られるポリイミドを精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。
【０１３２】
方法（ｉｉ）における脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物が挙げられる。
【０１３３】
脱水剤の含有量としては、所望のイミド化率により適宜選択されるが、ポリアミック酸のアミック酸構造１モルに対して０．０１モル〜２０モルが好ましい。
【０１３４】
方法（ｉｉ）における脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等が挙げられる。
【０１３５】
脱水閉環触媒の含有量としては、含有する脱水剤１モルに対して０．０１モル〜１０モルが好ましい。なお、イミド化率は上記脱水剤及び脱水閉環触媒の含有量が多いほど高くできる。
【０１３６】
方法（ｉｉ）に用いられる有機溶媒としては、例えばポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒と同様の有機溶媒等が適用できる。
【０１３７】
方法（ｉｉ）における反応温度としては、０℃〜１８０℃が好ましく、１０℃〜１５０℃がより好ましい。反応時間としては、０．５時間〜２０時間が好ましく、１時間〜８時間がより好ましい。反応条件を上記範囲とすることで、脱水閉環反応が十分に進行し、また、得られるポリイミドの分子量を適切なものとできる。
【０１３８】
方法（ｉｉ）においてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液をそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離した上で液晶配向剤の調製に供してもよく又は単離したポリイミドを精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除く方法としては、例えば溶媒置換の方法等が挙げられる。ポリイミドの単離方法及び精製方法としては、例えばポリアミック酸の単離方法及び精製方法として例示した方法と同様の方法が適用できる。
【０１３９】
当該液晶配向剤に含有されるポリアミック酸又はポリイミドは、末端修飾型のものであってもよい。末端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が損なわれることなく液晶配向剤の塗布特性等をさらに改善することができる。
【０１４０】
このような末端修飾型の重合体は、ポリアミック酸を合成する際に、分子量調節剤を重合反応系に添加することにより行うことができる。分子量調節剤としては、例えば酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物等が挙げられる。
【０１４１】
酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物等が挙げられる。
【０１４２】
モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミン等が挙げられる。
【０１４３】
モノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が挙げられる。
【０１４４】
分子量調節剤の使用量としては、ポリアミック酸を合成する際に使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計１００質量部に対して、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
【０１４５】
＜［Ｃ］他のポリオルガノシロキサン＞
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンは、上記式（４）で表されるポリオルガノシロキサン、その加水分解物及び加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種である。当該液晶配向剤が［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンをさらに含有することで、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の架橋を促進させることができ、結果として、得られる液晶標示素子の良好なプレチルト角の経時的安定性、電圧保持率等をより向上できる。なお、当該液晶配向剤が［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンを含む場合、［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンの大部分は、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物とは独立して存在しているもの、その一部は特定ポリオルガノシロキサン化合物との縮合物として存在していても良い。
【０１４６】
上記式（４）中、Ｘ２は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基である。Ｙ２は、水酸基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基である。
【０１４７】
上記Ｘ２で表される炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば直鎖状又は分岐状の、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ラウリル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。
【０１４８】
上記Ｘ２で表される炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基等が挙げられる。
【０１４９】
上記Ｘ２で表される炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【０１５０】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンのＭｗとしては、５００〜１００，０００が好ましく、５００〜１０，０００がより好ましい。
【０１５１】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンは、例えばアルコキシシラン化合物及びハロゲン化シラン化合物からなる群より選択される少なくとも１種のシラン化合物（以下、「原料シラン化合物」とも称する）を、好ましくは適当な有機溶媒中で、水及び触媒の存在下において加水分解又は加水分解・縮合することにより合成できる。
【０１５２】
原料シラン化合物としては、例えば
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラクロロシラン等；
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン等；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン等；
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルクロロシラン等が挙げられる。
【０１５３】
これらの原料シラン化合物のうち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシランが好ましい。
【０１５４】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンを合成する際に任意的に使用できる有機溶媒としては、例えばアルコール化合物、ケトン化合物、アミド化合物、エステル化合物又はその他の非プロトン性化合物が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【０１５５】
アルコール化合物としては、例えば
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘプタノール−３、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサノール、ｓｅｃ−オクタノール、ｎ−ノニルアルコール、２，６−ジメチルヘプタノール−４、ｎ−デカノール、ｓｅｃ−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、ｓｅｃ−テトラデシルアルコール、ｓｅｃ−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のモノアルコール化合物；
エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ペンタンジオール−２，４、２−メチルペンタンジオール−２，４、ヘキサンジオール−２，５、ヘプタンジオール−２，４、２−エチルヘキサンジオール−１，３、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等の多価アルコール化合物；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル等の多価アルコール化合物の部分エーテル等が挙げられることができる。
【０１５６】
ケトン化合物としては、例えば
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ペンチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｉ−ブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、２−ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フェンチョン等のモノケトン化合物；
アセチルアセトン、２，４−ヘキサンジオン、２，４−ヘプタンジオン、３，５−ヘプタンジオン、２，４−オクタンジオン、３，５−オクタンジオン、２，４−ノナンジオン、３，５−ノナンジオン、５−メチル−２，４−ヘキサンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ヘプタンジオン等のβ−ジケトン化合物等が挙げられる。
【０１５７】
アミド化合物としては例えばホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ−アセチルモルホリン、Ｎ−アセチルピペリジン、Ｎ−アセチルピロリジン等が挙げられる。
【０１５８】
エステル化合物としては、例えばジエチルカーボネート、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ｎ−ノニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−アミル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル等が挙げられる。
【０１５９】
その他の非プロトン性化合物としては、例えばアセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルスルファミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、Ｎ−メチルモルホロン、Ｎ−メチルピロール、Ｎ−エチルピロール、Ｎ−メチル−３−ピロリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチル−４−ピペリドン、Ｎ−メチル−２−ピペリドン、ＮＭＰ、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチルテトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン等が挙げられる。
【０１６０】
これら溶媒のうち、多価アルコール化合物、多価アルコール化合物の部分エーテル及びエステル化合物が好ましい。
【０１６１】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンの合成に際して使用する水の量としては、原料シラン化合物の有するアルコキシ基及びハロゲン原子の合計１モルに対して、０．０１モル〜１００モルが好ましく、０．１モル〜３０モルがより好ましく、１モル〜１．５モルが特に好ましい。
【０１６２】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンの合成に際して使用できる触媒としては、例えば金属キレート化合物、有機酸、無機酸、有機塩基、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アンモニア等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【０１６３】
金属キレート化合物としては、例えば
トリエトキシモノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシモノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシモノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシモノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシモノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシモノ（アセチルアセトナート）チタン、ジエトキシビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）チタン、モノエトキシトリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシトリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシトリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシトリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシトリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシトリス（アセチルアセトナート）チタン、テトラキス（アセチルアセトナート）チタン、トリエトキシモノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシモノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシモノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシモノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシモノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシモノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジエトキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエトキシトリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシトリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシトリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）チタン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテート）チタン、ビス（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテート）チタン、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）チタン等のチタンキレート化合物；
トリエトキシモノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシモノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシモノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシモノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシモノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシモノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジエトキシビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノエトキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリエトキシモノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシモノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシモノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシモノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシモノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシモノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジエトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノエトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム等のジルコニウムキレート化合物；
トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム等のアルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１６４】
有機酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリット酸、アラキドン酸、シキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸等が挙げられる。
【０１６５】
無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸等が挙げられる。
【０１６６】
有機塩基としては、例えばピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデセン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。
【０１６７】
アルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
【０１６８】
アルカリ土類金属化合物としては、例えば水酸化バリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。
【０１６９】
これらのうち、金属キレート化合物、有機酸、及び無機酸が好ましく、チタンキレート化合物及び有機酸がより好ましい。
【０１７０】
触媒の使用量としては、原料シラン化合物１００質量部に対して０．００１質量部〜１０質量部が好ましく、０．００１質量部〜１質量部がより好ましい。
【０１７１】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンの合成に際して添加される水は、原料であるシラン化合物中又はシラン化合物を有機溶媒に溶解した溶液中に、断続的又は連続的に添加できる。触媒は、原料であるシラン化合物中又はシラン化合物を有機溶媒に溶解した溶液中に予め添加しておいてもよく、添加される水中に溶解又は分散させておいてもよい。
【０１７２】
［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンの合成の際の反応温度としては、０℃〜１００℃が好ましく、１５℃〜８０℃がより好ましい。反応時間としては、０．５時間〜２４時間が好ましく、１時間〜８時間がより好ましい。
【０１７３】
当該液晶配向剤が、他の重合体を含有する場合、他の重合体の含有割合としては、他の重合体の種類により異なるが、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して１０，０００質量部以下が好ましい。
【０１７４】
当該液晶配向剤が、［Ｂ］重合体を含有する場合、ポリアミック酸及びポリイミドの合計量の含有割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して１００質量部〜５，０００質量部が好ましく、２００質量部〜４，０００質量部がより好ましい。
【０１７５】
当該液晶配向剤が、［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンを含有する場合、［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンの含有割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して１００質量部〜２，０００質量部が好ましい。
【０１７６】
当該液晶配向剤が、他の重合体を含有する場合、他の重合体としては、［Ｂ］重合体及び［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンが好ましい。
【０１７７】
＜その他の任意成分＞
その他の任意成分としては、例えば硬化剤、硬化触媒、硬化促進剤、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物（以下、「エポキシ化合物」とも称する）、官能性シラン化合物、界面活性剤、光増感剤等が挙げられる。以下、これらのその他の任意成分について詳述する。
【０１７８】
［硬化剤、硬化触媒及び硬化促進剤］
硬化剤及び硬化触媒は、ポリオルガノシロキサンの架橋反応をより強固にする目的で当該液晶配向剤に含有できる。また、上記硬化促進剤は、硬化剤の司る硬化反応を促進する目的で当該液晶配向剤に含有できる。
【０１７９】
硬化剤としては、エポキシ基を有する硬化性化合物又はエポキシ基を有する化合物を含有する硬化性組成物の硬化用として一般に用いられている硬化剤を用いることができ、例えば多価アミン、多価カルボン酸無水物、多価カルボン酸等が挙げられる。
【０１８０】
多価カルボン酸無水物としては、例えばシクロヘキサントリカルボン酸の無水物及びその他の多価カルボン酸無水物等が挙げられる。シクロヘキサントリカルボン酸無水物としては、例えばシクロヘキサン−１，３，４−トリカルボン酸−３，４−無水物、シクロヘキサン−１，３，５−トリカルボン酸−３，５−無水物、シクロヘキサン−１，２，３−トリカルボン酸−２，３−酸無水物等が挙げられる。
【０１８１】
その他の多価カルボン酸無水物としては、例えば４−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、無水こはく酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリット酸、下記式（８）で表される化合物及びポリアミック酸の合成に一般に用いられるテトラカルボン酸二無水物の他、α−テルピネン、アロオシメン等の共役二重結合を有する脂環式化合物と無水マレイン酸とのディールス・アルダー反応生成物及びこれらの水素添加物等が挙げられる。
【０１８２】
【化１３】
2011253175.tif 000014
【０１８３】
上記式（８）中、ｓは、１〜２０の整数である。
【０１８４】
硬化剤の使用割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して、１００質量部以下が好ましい。
【０１８５】
硬化触媒としては、例えば６フッ化アンチモン化合物、６フッ化リン化合物、アルミニウムトリスアセチルアセトナート等が挙げられる。これらの触媒は、加熱によりエポキシ基のカチオン重合を触媒できる。
【０１８６】
硬化触媒の使用割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して、２質量部以下が好ましい。
【０１８７】
硬化促進剤としては、例えば
イミダゾール化合物；
４級リン化合物；
４級アミン化合物；
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン；
オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物；
三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物；塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物；
ジシアンジアミド、アミンとエポキシ樹脂との付加物の如きアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤；
４級フォスフォニウム塩等の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤；
アミン塩型潜在性硬化促進剤；
ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩の如き高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
【０１８８】
硬化促進剤の使用割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましい。
【０１８９】
［エポキシ化合物］
エポキシ化合物は、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物とは異なる化合物であって、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性をより向上する目的で当該液晶配向剤に含有できる。
【０１９０】
エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン等が挙げられる。
【０１９１】
エポキシ化合物の含有割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物と任意に含有される他の重合体との合計１００質量部に対して、４０質量部以下が好ましく、０．１質量部〜３０質量部がより好ましい。
【０１９２】
なお、当該液晶配向剤がエポキシ化合物を含有する場合、架橋反応を効率良く起こす目的で、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール等の塩基触媒を併用してもよい。塩基触媒の使用割合は、エポキシ化合物の１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、０質量部〜２質量部がより好ましい。
【０１９３】
［官能性シラン化合物］
官能性シラン化合物は、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性を向上する目的で使用できる。
【０１９４】
官能性シラン化合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、テトラカルボン酸二無水物とアミノ基を有するシラン化合物との反応物等が挙げられる。
【０１９５】
官能性シラン化合物の含有割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物と任意に含有される他の重合体との合計１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。
【０１９６】
［界面活性剤］
界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、含フッ素界面活性剤等が挙げられる。
【０１９７】
界面活性剤の使用割合としては、当該液晶配向剤の全体１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
【０１９８】
［光増感剤］
光増感剤としては、例えばジュレン、ベンゾニトリル、ブチロフェノン、プロピオフェノン、アセトフェノン、キサントン、４−メトキシアセトフェノン、３−メトキシアセトフェノン、アントロン、ベンズアルデヒド、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、フルオレン、トリフェニレン、ビフェニル、チオキサントン、アントラキノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、フェナントレン、ナフタレン、４−フェニルアセトフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、２−ヨードナフタレン、アセナフテン、２−ナフトニトリル、１−ヨードナフタレン、１−ナフトニトリル、クリセン、コロネン、ベンジル、フルオランテン、ピレン、１，２−ベンゾアントラセン、アクリジン、アントラセン、テトラセン、２−メトキシナフタレン、１，４−ジシアノナフタレン、９−シアノアントラセン、９，１０−ジシアノアントラセン、２，６，９，１０−テトラシアノアントラセン等が挙げられる。
【０１９９】
光増感剤の使用割合としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物１００質量部に対して、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
【０２００】
＜液晶配向剤の調製方法＞
当該液晶配向剤は、上述の通り、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物を必須成分として含有し、必要に応じて他の成分を含有するものであるが、好ましくは各成分が有機溶媒に溶解された溶液状の組成物として調製される。
【０２０１】
有機溶媒としては、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物及び任意に使用される他の成分を溶解し、これらと反応しないものが好ましい。当該液晶配向剤に好ましく使用することのできる有機溶媒は、任意に含有される他の重合体の種類により異なる。
【０２０２】
当該液晶配向剤が［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物と、［Ｂ］重合体を含有するものである場合における好ましい有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独又は２種以上組み合わせて使用できる。
【０２０３】
一方、当該液晶配向剤が重合体として［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物のみを含有する場合又は［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物及び［Ｃ］他のポリオルガノシロキサンを含有する場合における有機溶媒としては、例えば１−エトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレンブリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコール、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸ｎ−ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸オクチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル等が挙げられる。これらのうち、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチルが好ましい。
【０２０４】
当該液晶配向剤の調製に用いられる好ましい溶媒は、他の重合体の使用の有無及びその種類に従い、上記した有機溶媒の１種又は２種以上を組み合わせて得られる。このような溶媒は、下記の好ましい固形分濃度において液晶配向剤に含有される各成分が析出せず、かつ液晶配向剤の表面張力が２５ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍの範囲となるものである。
【０２０５】
本発明の液晶配向剤の固形分濃度、即ち液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、粘性、揮発性等を考慮して選択されるが、好ましくは１質量％〜１０質量％である。固形分濃度が１質量％未満では、当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得られない場合がある。一方、固形分濃度が１０質量％を超えると、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得られない場合があり、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が不足する場合がある。好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に採用する方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合の固形分濃度の範囲としては、１．５質量％〜４．５質量％が好ましい。印刷法による場合、固形分濃度を３質量％〜９質量％の範囲とし、それによって溶液粘度を１２ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓの範囲とすることが好ましい。インクジェット法による場合、固形分濃度を１質量％〜５質量％の範囲とし、それによって溶液粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓの範囲とすることが好ましい。
【０２０６】
当該液晶配向剤を調製する際の温度としては、好ましくは０℃〜２００℃、より好ましくは１０℃〜６０℃である。
【０２０７】
＜液晶配向膜の形成方法＞
当該液晶配向剤は、光配向法により液晶配向膜を形成するために好適に使用できる。また、本発明の液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、種々の表示モードの液晶表示素子に好適に適用できる。液晶配向膜を形成する方法としては、例えば基板上に当該液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、次いでこの塗膜に偏光又は非偏光の放射線を照射する光配向法により液晶配向能を付与し、液晶配向膜とする方法等が挙げられる。
【０２０８】
まず、パターン状の透明導電膜が設けられた基板の透明導電膜側に、当該液晶配向剤を、例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法等の適宜の塗布方法により塗布する。次に、塗布面を、予備加熱（プレベーク）し、次いでポストベークにより塗膜を形成する。プレベーク条件としては、例えば４０℃〜１２０℃において０．１分〜５分である。ポストベーク条件としては、好ましくは１２０℃〜３００℃、より好ましくは１５０℃〜２５０℃において、好ましくは５分〜２００分、より好ましくは１０分〜１００分である。ポストベーク後の塗膜の膜厚としては、好ましくは０．００１μｍ〜１μｍであり、より好ましくは０．００５μｍ〜０．５μｍである。
【０２０９】
基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等のプラスチック基材を含む透明基板等が挙げられる。
【０２１０】
透明導電膜としては、ＳｎＯ２を含むＮＥＳＡ膜、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２を含むＩＴＯ膜等が挙げられる。これらの透明導電膜のパターニング方法としては、例えばフォト・エッチング法や透明導電膜を形成する際にマスクを用いる方法等が挙げられる。
【０２１１】
液晶配向剤の塗布に際しては、基板又は透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板及び透明導電膜上に、予め官能性シラン化合物、チタネート化合物等を塗布しておいてもよい。
【０２１２】
次いで、上記塗膜に直線偏光又は部分偏光された放射線又は非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する。放射線としては、例えば１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線が挙げられるが、３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、またこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。
【０２１３】
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が挙げられる。上記の好ましい波長領域の紫外線は、上記光源を例えばフィルター、回折格子等と併用する手段等により得られる。
【０２１４】
放射線の照射量としては、１Ｊ／ｍ２以上１０，０００Ｊ／ｍ２未満が好ましく、１０Ｊ／ｍ２〜３，０００Ｊ／ｍ２がより好ましい。なお、従来知られている液晶配向剤から形成される塗膜に光配向法により液晶配向能を付与する場合、１０，０００Ｊ／ｍ２以上の放射線照射量が必要であるところ、当該液晶配向剤を用いると、光配向法の際の放射線照射量が３，０００Ｊ／ｍ２以下、さらに１，０００Ｊ／ｍ２以下であっても良好な液晶配向能を付与でき、液晶表示素子の製造コストの削減に資する。
【０２１５】
＜液晶表示素子＞
本発明の液晶表示素子は、当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜を備える。これにより残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、残像特性、印刷性を満足する。さらに、かかる液晶配向膜を備える本願の液晶表示素子は、長期間にわたり使用した場合にも表示性能が劣化することがない。当該液晶表示素子は、液晶配向膜が表面に形成された基板が２枚、基板の周辺部に設けられたシール剤を介して液晶配向膜側で対向して配置されており、これら２枚の基板間に液晶が充填されている。
【０２１６】
当該液晶表示素子が備える液晶配向膜のプレチルト角としては、８７°〜８９．５°が好ましい。また、この角度が８００時間以上減少せず安定していることが好ましい。
【０２１７】
＜液晶表示素子の製造方法＞
本発明の液晶表示素子は、本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備える。当該液晶表示素子は、例えば以下のようにして製造できる。
【０２１８】
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、この２枚の基板間に液晶を配置することにより、液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の２つの方法が挙げられる。
【０２１９】
第一の方法としては、従来から知られている方法であって、まず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙（以下、「セルギャップ」とも称する）を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造できる。
【０２２０】
第二の方法としては、ＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式と呼ばれる手法であって、液晶配向膜を形成した２枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより液晶セルを製造できる。
【０２２１】
いずれの方法による場合でも、用いた液晶が等方相をとる温度まで液晶セルを加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが好ましい。そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、当該液晶表示素子が得られる。
【０２２２】
液晶配向膜が水平配向性である場合、液晶配向膜が形成された２枚の基板における照射した直線偏光放射線の偏光方向のなす角度及びそれぞれの基板と偏光板との角度を調整することにより、ＴＮ型セル又はＳＴＮ型液晶セルを有する液晶表示素子が得られる。一方、液晶配向膜が垂直配向性である場合、液晶配向膜が形成された２枚の基板における光軸の方向が平行となるようにセルを構成し、これに、偏光板をその偏光方向が配向容易軸と４５°の角度をなすように貼り合わせることにより、ＶＡ型液晶セルを有する液晶表示素子が得られる。
【０２２３】
シール剤としては、例えばスペーサーとしての酸化アルミニウム球及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂等が挙げられる。
【０２２４】
上記液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶等が挙げられる。ＴＮ型液晶セル又はＳＴＮ型液晶セルの場合、正の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましい。このような液晶としては、例えばビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶等が挙げられる。また上記液晶に、例えばコレステリルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネート等のコレステリック液晶（メルク製、Ｃ−１５、ＣＢ−１５）として販売されているようなカイラル剤；ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメート等の強誘電性液晶等をさらに添加して使用できる。
【０２２５】
一方、垂直配向型液晶セルの場合には、負の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましい。このような液晶としては、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶等が挙げられる。
【０２２６】
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はＨ膜そのものからなる偏光板等が挙げられる。
【０２２７】
このように製造された当該液晶表示素子は、良好なプレチルト角の経時的安定性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、残像特性、印刷性等の特性を満足する。
【０２２８】
本発明のポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、エポキシ基を有する１価の有機基と反応して共有結合を形成し得る基及び２以上の桂皮酸構造を有する桂皮酸誘導体に由来する部分とを有している。当該ポリオルガノシロキサン化合物の詳細な説明は、当該液晶配向剤に含まれる［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の説明の項で行っているので、ここでは省略する。当該ポリオルガノシロキサン化合物は、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性等の特性を満足する液晶表示素子を構成するための液晶配向剤に好適に用いられる。
【実施例】
【０２２９】
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
【０２３０】
なお、以下の実施例において用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの原料化合物及び重合体の合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。エポキシ当量は、ＪＩＳ  Ｃ２１０５に記載の塩酸−メチルエチルケトン法に準じて測定した。溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、各合成例における重合体溶液の重合体濃度を１０質量％に調整した溶液について、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃で測定した。
【０２３１】
＜エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０ｇ、メチルイソブチルケトン５００ｇ及びトリエチルアミン１０．０ｇを仕込み室温で混合した。次いで、脱イオン水１００ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機層を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘稠な透明液体として得た。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ−ＮＭＲ分析を行なったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。得られたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのＭｗは２，２００であり、エポキシ当量は１８６であった。
【０２３２】
＜桂皮酸誘導体の合成＞
［合成例２］
下記スキームに従い、桂皮酸誘導体（Ａ−１）を合成した。
【０２３３】
【化１４】
2011253175.tif 000015
【０２３４】
１Ｌのナス型フラスコに４−ヒドロキシ安息香酸メチル９１．３ｇ、炭酸カリウム１８２．４ｇ及びＮＭＰ３２０ｍＬを仕込み、室温で１時間撹拌を行った後、１−ヨード−４，４，４−トリフロロブタン１５７．１ｇを加え１００℃で５時間撹拌した。反応終了後、水で再沈殿を行った。次いで、この沈殿に水酸化ナトリウム４８ｇ及び水４００ｍＬを加えて３時間還流して加水分解反応を行った。反応終了後、塩酸で中和し、生じた沈殿をエタノールで再結晶することにより化合物（Ａ−１−１）の白色結晶を１１０ｇ得た。
【０２３５】
化合物（Ａ−１−１）のうち、１２．４１ｇを反応容器中にとり、これに塩化チオニル１００ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７７μＬを加えて８０℃で１時間撹拌した。続いて、減圧下で塩化チオニルを留去し、塩化メチレンを加えて炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、テトラヒドロフランを加えて溶液とした。次に、上記とは別の５００ｍＬ三口フラスコに４−ヒドロキシ桂皮酸７．３９ｇ、炭酸カリウム１３．８２ｇ、テトラブチルアンモニウム０．４８ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍＬ及び水１００ｍＬを仕込んだ。この水溶液を氷冷し、上記テトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下し、さらに２時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、エタノールで再結晶することにより、桂皮酸中間誘導体（Ａ−１−２）の白色結晶を１０．０ｇ得た。
【０２３６】
化合物（Ａ−１−２）のうち３９．４ｇを反応容器中にとり、これに塩化チオニル１２０ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５２μＬを加えて８０℃で１時間撹拌した。続いて、減圧下で塩化チオニルを留去し、塩化メチレンを加えて炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、テトラヒドロフランを加えて溶液とした。次に、上記とは別の５００ｍＬ三口フラスコに３，４−ジヒドロキシ安息香酸７．７０ｇ、炭酸カリウム２０．７３ｇ、テトラブチルアンモニウム１．６ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍＬ及び水２００ｍＬを仕込んだ。この水溶液を氷冷し、上記テトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下し、さらに１時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、酢酸エチル、テトラヒドロフランで再結晶することにより、桂皮酸誘導体（Ａ−１）の白色結晶を４１．０ｇ得た。
【０２３７】
［合成例３］
３，４−ジヒドロキシ安息香酸の代わりに下記式で表される化合物８．００ｇを用いた以外は、合成例２と同様に操作して、下記式で表される桂皮酸誘導体（Ａ−２）を４０ｇ得た。
【０２３８】
【化１５】
2011253175.tif 000016
【０２３９】
【化１６】
2011253175.tif 000017
【０２４０】
［合成例４］
下記スキームに従い、桂皮酸誘導体（Ａ−３）を合成した。
【０２４１】
【化１７】
2011253175.tif 000018
【０２４２】
還流管、温度計及び窒素導入管を備えた５００ｍＬの三口フラスコに、化合物（Ａ−３−１）３１ｇ、酢酸パラジウム０．２３ｇ、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン１．２ｇ、トリエチルアミン５６ｍＬ、アクリル酸８．２ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２００ｍＬを仕込んで、１２０℃で３時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を濾過して得られたろ液に酢酸エチルを１Ｌ加えて得た有機層を、希塩酸で２回、水で３回この順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を除去して得られた固体を酢酸エチル及びテトラヒドロフランの混合溶媒から再結晶することにより、桂皮酸中間誘導体（Ａ−３−２）の結晶を１５ｇ得た。
【０２４３】
化合物（Ａ−３−２）のうち３．００ｇを反応容器中にとり、これに塩化チオニル５０ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５μＬを加えて８０℃で１時間撹拌した。次に、減圧下で塩化チオニルを留去し、ジクロロメタンを加えて炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し濃縮を行った後、テトラヒドロフランを加えて溶液とした。次に、上記とは別の５００ｍＬ三口フラスコに、３，５−ジヒドロキシ安息香酸０．７７０ｇ、炭酸カリウム２．０７３ｇ、テトラブチルアンモニウム０．１６ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ及び水２０ｍＬを仕込んだ。この水溶液を氷冷し、上記テトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下し、さらに１時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、酢酸エチル、テトラヒドロフランで再結晶することにより、桂皮酸誘導体（Ａ−３）の白色結晶を３．０５ｇ得た。
【０２４４】
［合成例５］
下記スキームに従い、桂皮酸誘導体（Ａ−４）を合成した。
【０２４５】
【化１８】
2011253175.tif 000019
【０２４６】
還流管及び窒素導入管を備えた３００ｍＬのナスフラスコに、化合物（Ａ−４−１）２１ｇ、塩化チオニル８０ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．１ｍＬを仕込んで、８０℃で１時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物から塩化チオニルを留去し、次いで塩化メチレンを１５０ｍＬ加えて得た有機層を水で３回洗浄した。この有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧にて溶媒を除去して得た化合物にテトラヒドロフラン４００ｍＬを加えた。
【０２４７】
一方、滴下ロート及び温度計を備えた１Ｌの三口フラスコに、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸１６ｇ、炭酸カリウム２４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．８７ｇ、水２００ｍＬ及びテトラヒドロフラン１００ｍＬを仕込んで５℃以下に氷冷した。ここに、上記テトラヒドロフラン溶液を３時間かけて滴下し、さらに１時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に希塩酸を加えてｐＨを４以下にした後、トルエン３Ｌ及びテトラヒドロフラン１Ｌを加えて得た有機層を水で３回洗浄した。この有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧にて溶媒を除去して得た固体をエタノール及びテトラヒドロフランの混合溶媒から再結晶することにより、桂皮酸中間誘導体（Ａ−４−２）を２１ｇ得た。
【０２４８】
化合物（Ａ−４−２）のうち４．２６ｇを反応容器中にとり、これに塩化チオニル５０ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５μＬを加えて８０℃で１時間撹拌した。次に、減圧下で塩化チオニルを留去し、ジクロロメタンを加えて炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、テトラヒドロフランを加えて溶液とした。次に、上記とは別の５００ｍＬ三口フラスコに３，５−ジヒドロキシ安息香酸０．７７０ｇ、炭酸カリウム２．０７３ｇ、テトラブチルアンモニウム０．１６ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ及び水２０ｍＬを仕込んだ。この水溶液を氷冷し、上記テトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下し、さらに１時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、酢酸エチル、テトラヒドロフランで再結晶することにより、桂皮酸誘導体（Ａ−４）の白色結晶を４．３２ｇ得た。
【０２４９】
［合成例６］
下記スキームに従い、桂皮酸誘導体（Ａ−５）を合成した。
【０２５０】
【化１９】
2011253175.tif 000020
【０２５１】
４−ブロモ桂皮酸１０７ｇを８３ｇの塩化チオニル中で４時間還流して、赤色透明溶液を得た。次に、未反応の塩化チオニルを留去した後、残渣をトルエンから再結晶し、ｎ−ヘキサンで洗浄することにより、化合物（Ａ−５−１）の白色結晶８５ｇを得た。次に２５．０ｇ（０．１４７モル）の４−アミルシクロヘキサノールを２５ｍＬのピリジンに溶解した。この溶液の温度を約３℃に保持しつつ、ここに上記で得た化合物（Ａ−５−１）の４３．３ｇ（０．１７６モル）を３５０ｍＬのピリジンに懸濁した液を滴下し、さらに３時間反応を行った。得られた反応混合物（懸濁液）を、１．３ｋｇの塩酸酸性氷水に投入し、生じた沈殿を濾取し、水洗し、乾燥することにより化合物（Ａ−５−２）のクリーム色粉末の粗製物を５０ｇ得た。
【０２５２】
化合物（Ａ−５−２）の粗製物５０ｇ、０．２８ｇの酢酸パラジウム及び１．５２ｇのトリ（ｏ−トリル）ホスフィンの混合物に、窒素雰囲気下１２５ｍＬの乾燥トリエチルアミンを加えて反応を行った。化合物（Ａ−５−２）の粗製物が完全に溶解した後、１０．８ｇのアクリル酸をシリンジで注入し、さらに９５℃で２時間反応を継続した。得られた暗緑色の反応混合物を１．３ｋｇの塩酸酸性氷水に投入し、生じた沈殿を濾取した。この沈殿を５００ｍＬの酢酸エチルに溶解し、１Ｎの塩酸及び５質量％の炭酸水素ナトリウム溶液で順次に洗浄した後、有機層を回収して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して化合物（Ａ−５−３）の黄色固体の粗製物５６ｇを得た。この粗製物をエタノールから再結晶することにより化合物（Ａ−５−３）の黄色粉末を３０ｇ得た。
【０２５３】
化合物（Ａ−５−３）のうち３．７０ｇを反応容器中にとり、これに塩化チオニル５０ｍＬ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５μＬを加えて８０℃で１時間撹拌した。次に、減圧下で塩化チオニルを留去し、ジクロロメタンを加えて炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、テトラヒドロフランを加えて溶液とした。次に、上記とは別の５００ｍＬ三口フラスコに３，４−ジヒドロキシ安息香酸０．７７０ｇ、炭酸カリウム２．０７３ｇ、テトラブチルアンモニウム０．１６ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ及び水２０ｍＬを仕込んだ。この水溶液を氷冷し、上記テトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下し、さらに１時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、酢酸エチル、テトラヒドロフランで再結晶することにより、桂皮酸誘導体（Ａ−５）の黄色結晶を３．６５ｇ得た。
【０２５４】
＜［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物の合成＞
［実施例１］
２００ｍＬの三口フラスコに、上記合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン５．０ｇ、メチルイソブチルケトン４６．４ｇ、桂皮酸誘導体として化合物（Ａ−１）２．４４ｇ（上記合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの有するケイ素原子に対して１０モル％に相当）及びテトラブチルアンモニウムブロミド０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解し、次いで溶液を３回水洗した後、溶媒を留去することにより、［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物（Ｓ−１）を白色粉末として２．８ｇ得た。（Ｓ−１）のＭｗは、１２，５００であった。
【０２５５】
［実施例２〜３４及び比較例１〜４］
表１に示す各成分の種類及び使用量としたこと以外は、実施例１と同様に操作して各ポリオルガノシロキサン化合物を合成した。なお、表１中のプレチルト角発現性化合物（Ｐ−１）及び（Ｐ−２）並びに増感剤（Ｑ−１）は、それぞれ下記式で表される化合物である。また、表１中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを示す。
【０２５６】
【化２０】
2011253175.tif 000021
【０２５７】
【表１】
2011253175.tif 000022
【０２５８】
＜［Ｂ］重合体の合成＞
［ポリアミック酸の合成］
［合成例７］
テトラカルボン酸二無水物として１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物２００ｇ（１．０モル）、ジアミンとして２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル２１０ｇ（１．０モル）をＮＭＰ３，６７０ｇに溶解させ、４０℃で３時間反応させて、固形分濃度１０％、溶液粘度４０ｍＰａ・ｓのポリアミック酸（ＰＡ−１）溶液を得た。
【０２５９】
［合成例８］
テトラカルボン酸二無水物として１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物９８ｇ（０．５０モル）及びピロメリット酸二無水物１１０ｇ（０．５０モル）、ジアミンとして２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル２１０ｇ（１．０モル）をＮＭＰ３，６７０ｇに溶解させ、４０℃で３時間反応させた後、ＮＭＰ１，３５０ｇを追加し、固形分濃度１０％、溶液粘度５０ｍＰａ・ｓのポリアミック酸（ＰＡ−２）溶液を得た。
【０２６０】
［合成例９］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２４ｇ（１．０モル）、ジアミン化合物としてｐ−フェニレンジアミン５４ｇ（０．５モル）及び３−（３，５−ジアミノベンゾイルオキシ）コレスタン２６１ｇ（０．５モル）を、ＮＭＰ２，７００ｇに溶解させ、６０℃で４時間反応させ、固形分濃度２０％、溶液粘度１，４００ｍＰａ・ｓのポリアミック酸（ＰＡ−３）溶液を得た。
【０２６１】
［ポリイミドの合成］
［合成例１０］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２４ｇ（１．０モル）、ジアミン化合物として３，５−ジアミノ安息香酸９２ｇ（０．６０モル）及び３−（２，４−ジアミノフェノキシ）コレスタン１９９ｇ（０．４０モル）を、ＮＭＰ２，０６０ｇに溶解させ、６０℃で４時間反応させた。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し粘度を測定したところ、１，４００ｍＰａ・ｓであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰ２，５７５ｇを追加し、ピリジン１１９ｇ及び無水酢酸１５３ｇを添加し１１０℃で４時間脱水閉環させた。イミド化反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換し（本操作にてイミド化反応に使用したピリジン、無水酢酸を系外に除去した）、イミド化率約６５％のポリイミド（ＰＩ−１）を約２０質量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、ＮＭＰを加えポリイミド濃度を１０質量％の溶液として測定した溶液粘度は１６０ｍＰａ・ｓであった。
【０２６２】
［合成例１１］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２４ｇ（１．０モル）、ジアミン化合物として３，５−ジアミノ安息香酸３８ｇ（０．７モル）及び３−（２，４−ジアミノフェノキシ）コレスタン１２４ｇ（０．３モル）を、ＮＭＰ２，０８０ｇに溶解させ、６０℃で４時間反応させた。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し粘度を測定したところ、１，４５０ｍＰａ・ｓであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰ２，６００ｇを追加し、ピリジン１２８ｇ及び無水酢酸１６６ｇを添加し１１０℃で４時間脱水閉環させた。イミド化反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換し（本操作にてイミド化反応に使用したピリジン、無水酢酸を系外に除去した）、イミド化率約６５％のポリイミド（ＰＩ−２）を約２０質量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、ＮＭＰを加えてポリイミド濃度１０質量％の溶液として測定した溶液粘度は１８０ｍＰａ・ｓであった。
【０２６３】
［合成例１２］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１２ｇ（０．５モル）、ジアミン化合物として３，５−ジアミノ安息香酸３８ｇ（０．２５モル）及び３−（２，４−ジアミノフェノキシ）コレスタン１２４ｇ（０．２５モル）を、ＮＭＰ１，１００ｇに溶解させ、６０℃で４時間反応させた。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し粘度を測定したところ、１，３５０ｍＰａ・ｓであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰ１，３７５ｇを追加し、ピリジン６０ｇ及び無水酢酸７７ｇを添加し１１０℃で４時間脱水閉環させた。イミド化反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換し（本操作にてイミド化反応に使用したピリジン、無水酢酸を系外に除去した）、イミド化率約６５％のポリイミド（ＰＩ−３）を約２０質量％含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、ＮＭＰを加えてポリイミド濃度１０質量％の溶液として測定した溶液粘度は１３０ｍＰａ・ｓであった。
【０２６４】
＜液晶配向剤の調製＞
［実施例３５］
［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物としての（Ｓ−１）１００質量部と、［Ｂ］重合体としてのポリイミド（ＰＩ−１）を含有する溶液の、ポリアミック酸（ＰＡ−１）に換算して２，０００質量部に相当する量とを合わせ、これにＮＭＰ及びエチレングリコール−モノ−ｎ−ブチルエーテルを加え、溶媒組成がＮＭＰ：エチレングリコール−モノ−ｎ−ブチルエーテル＝５０：５０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤（ＡＦ−１）を調製した。
【０２６５】
［実施例３６〜８８及び比較例５〜１１］
表２に示す各成分の種類及び使用量としたこと以外は、実施例３５と同様に操作して、各液晶配向剤を調製した。なお、表２中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを示す。
【０２６６】
【表２】
2011253175.tif 000023
【０２６７】
＜液晶表示素子の製造＞
［実施例８９］
液晶配向剤（ＡＦ−１）を、ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上に、スピンナーを用いて塗布し、８０℃のホットプレートで１分間プレベークを行った後、窒素置換したオーブン中、２００℃で１時間加熱して溶媒を除去することにより、膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線２００Ｊ／ｍ２を、基板法線から４０°傾いた方向から照射して液晶配向膜とした。この操作を繰り返して、液晶配向膜を有する基板を１対（２枚）作成した。
【０２６８】
上記基板のうちの１枚の液晶配向膜を有する面の外周に直径５．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、１対の基板の液晶配向膜面を対向させ、各基板の紫外線の光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に、ネガ型液晶（メルク製、ＭＬＣ−６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１５０℃で加熱してから室温まで徐冷した。次に基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ液晶配向膜の紫外線の光軸の基板面への射影方向と４５°の角度をなすように貼り合わせることにより液晶表示素子を製造した。
【０２６９】
［実施例９０〜１４２及び比較例１２〜１８］
表２に示す各液晶配向剤を用いたこと以外は、実施例８９と同様に操作して、各液晶表示素子を製造した。
【０２７０】
＜評価＞
製造した各液晶表示素子について以下の評価をした。結果を表３にあわせて示す。
【０２７１】
［残像特性］
電極に交流電圧１０．０Ｖを６０℃にて２０時間印加した。ストレス解放後、目視で焼き付きが見られた場合は残像特性を不良（Ｂ）と判断し、焼き付きが見られなかった場合は良好（Ａ）と判断した。
【０２７２】
［電圧保持率（％）］
上記で製造した各液晶表示素子について、６０℃の環境温度で５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（％）を測定した。測定装置は東陽テクニカ製、ＶＨＲ−１を使用した。
【０２７３】
［プレチルト角（°）］
Ｔ．Ｊ．Ｓｃｈｅｆｆｅｒ等のＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ．１９，  ｐ２０１３（１９８０）に記載の方法に準拠し、Ｈｅ−Ｎｅレーザー光を用いる結晶回転法によりプレチルト角（°）を測定した。
【０２７４】
［印刷性］
液晶配向膜印刷機（日本写真印刷製）を用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、プレベークとして８０℃のホットプレート上で１分間加熱し溶媒を除去した後、ポストベークとして２００℃のホットプレート上で１０分間加熱して、平均膜厚６００Åの塗膜を形成した。この塗膜を倍率２０倍の顕微鏡で観察して印刷性の評価を行った。印刷ムラ及びピンホールが共に観察されなかったものを良好（Ａ）と判断し、一部観察されたものをやや良好（Ｂ）と判断し、多数観察されたものを不良（Ｃ）と判断した。
【０２７５】
【表３】
2011253175.tif 000024
【０２７６】
表３の結果から明らかなように、本発明の液晶配向剤から形成した液晶配向膜を備える液晶表示素子は、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性等の特性を備えていることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０２７７】
本発明によれば、残像特性に優れ、かつ液晶表示素子として実用面で要求される電圧保持率、良好なプレチルト角の経時的安定性、印刷性を満足する液晶表示素子、この液晶表示素子を形成する液晶配向剤、及びこの液晶配向剤に好適に用いられるポリオルガノシロキサン化合物を提供できる。また、本発明の液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、種々の表示モードの液晶表示素子に好適に適用できる。さらに、かかる液晶配向膜を備える本願の液晶表示素子は、長期間にわたり使用した場合にも表示性能が劣化することがない。従って、本願の液晶表示素子は、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビ等の表示装置に好適に用いられる。