(57)【要約】【課題】ガスの溶解の持続性を有するガス溶解水を作成することができるガス溶解水製造装置を提供する。【解決手段】ガス溶解水を作成することができるガス溶解水製造装置は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体７を有する光電極体部１に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段２と、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段３と、水分解手段２に水として純水を作成して供給する純水供給手段４とを備えたものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無電解質かつ水不溶解性の光電極体を有する光電極体部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段と、
上記酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段とを備えたことを特徴とするガス溶解水製造装置。
【請求項２】
上記水分解手段に水として純水を作成して供給する純水供給手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項３】
上記水分解手段は、水を上記光電極体部に循環させ接触させることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項４】
上記水分解手段は、上記酸性分解水のｐＨを５．５以下にて作成することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項５】
上記光電極体部は、上記光電極体に紫外線を照射する光源を備えたことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項６】
上記光電極体は、遷移系触媒金属にて形成される多孔体と、上記多孔体の孔を略塞ぐことなく担持された光触媒とを備えたことを特徴とする請求項５に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項７】
上記遷移系触媒金属は、白金、ニッケル、ステンレス、または、ニッケル及び銀の混合物にて形成され、上記光触媒は酸化チタンにて形成されていることを特徴とする請求項６に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項８】
上記溶解手段は、上記ガスとして二酸化炭素ガスを溶解し、上記ガス溶解水として分子状炭酸水（Ｈ２ＣＯ３）を作成することを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項９】
上記溶解手段は、上記ガス溶解水のｐＨを４．０以下にて作成することを特徴とする請求項８に記載のガス溶解水製造装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれかに１項に記載のガス溶解水製造装置において、上記ガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行う洗浄手段を備えたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項１１】
無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する工程と、上記酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する工程とを備えたことを特徴とするガス溶解水製造方法。
【請求項１２】
上記ガスとして二酸化炭素ガスを溶解することを特徴とする請求項１１に記載のガス溶解水製造方法。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２に記載のガス溶解水製造方法にて作成された上記ガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行う工程を備えたことを特徴とする洗浄方法。
【請求項１４】
請求項１１または請求項１２に記載のガス溶解水製造方法にて作成されたことを特徴とするガス溶解水。
【請求項１５】
請求項１４に記載の上記ガス溶解水をエアゾール容器に活性または不活性ガスとともに充填したことを特徴とするエアゾール式製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、水へのガスの溶解を容易に行うことができる、ガス溶解水製造装置、ガス溶解水、エアゾール式製品、洗浄装置およびガス溶解水製造方法、洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のガス溶解水製造方法は、処理原水に被溶解ガスを混入させた微細気泡含有水を気液接触手段に送る給水工程と、気液接触手段にて被溶解ガスと微細気泡含有水とを散水接触させる気液接触工程と、気液接触手段を通過した処理水の全部または一部を再度給水工程へと送る循環工程とを有する（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２６３６４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来のガス溶解水製造方法は、ガスを微細気泡にて含有させて溶解しているため、ガスが水中から容易に気化し、ガスを長時間溶解させておくことができないという問題点があった。
【０００５】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、水へのガスの溶解持続性を向上するガス溶解水製造装置、ガス溶解水、エアゾール式製品、洗浄装置およびガス溶解水製造方法、洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体を有する光電極体部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段と、
酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段とを備えたものである。
【０００７】
また、この発明は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体を有する光電極体部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段と、
酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段とを備えたガス溶解水製造装置において、ガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行う洗浄手段を備えたものである。
【０００８】
また、この発明は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成するものである。
【０００９】
また、この発明は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解して作成されたガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行うものである。
【００１０】
また、この発明は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解して作成されたガス溶解水である。
【００１１】
また、この発明は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解して作成されたガス溶解水をエアゾール容器に活性または不活性ガスとともに充填したものである。
【発明の効果】
【００１２】
この発明のガス溶解水製造装置は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体を有する光電極体部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段と、
酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段とを備えたので、
ガスの溶解の持続性を有するガス溶解水を作成することができる。
【００１３】
また、この発明の洗浄装置は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体を有する光電極体部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段と、
酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段とを備えたガス溶解水製造装置において、ガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行う洗浄手段を備えたもので、
ガスの溶解が保持された状態のガス溶解水にて洗浄することができる。
【００１４】
また、この発明のガス溶解水製造方法は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成するので、
ガスの溶解の持続性を有するガス溶解水を作成することができる。
【００１５】
また、この発明の洗浄方法は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解して作成されたガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行うもので、
ガスの溶解が保持された状態のガス溶解水にて洗浄することができる。
【００１６】
また、この発明のガス溶解水は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解して作成されたガス溶解水なので、
ガスの溶解の持続性を有するガス溶解水を得ることができる。
【００１７】
また、この発明のエアゾール式製品は、無電解質系かつ水不溶解性の光電極体に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解して作成されたガス溶解水をエアゾール容器に活性または不活性ガスとともに充填したので、ガス溶解水の性質を長期間保持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】この発明の実施の形態１のガス溶解水製造装置の構成を示す図である。
【図２】図１に示したガス溶解水製造装置の光電極体の構成を示す図である。
【図３】この発明の水におけるガス溶解の原理を説明するための図である。
【図４】この発明の水におけるガス溶解の原理を説明するための図である。
【図５】図１に示したガス溶解水製造装置にて作成されたガス溶解水の性質を説明するための図である。
【図６】図１に示したガス溶解水製造装置にて作成されたガス溶解水の性質を説明するための図である。
【図７】この発明の実施の形態２における洗浄装置の構成を示す図である。
【図８】この発明の実施の形態２における洗浄能力を検証するための実験方法を説明するための図である。
【図９】図８における実験結果を説明するための図である。
【図１０】図８における実験結果を説明するための図である。
【図１１】この発明の実施の形態２における洗浄方法の原理を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
実施の形態１．
以下、本願発明の実施の形態について説明する。図１はこの発明の実施の形態１におけるガス溶解水製造装置の構成を示す図、図２は図１に示したガス溶解水製造装置の光電極体の構成を示す図、図３および図４はこの発明の水におけるガス溶解の原理を説明するための図、図５ないし図７は図１に示したガス溶解水製造装置にて作成されたガス溶解水の性質を説明するための図である。図において、無電解質かつ水不溶解性の光電極体部１に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段２を備える。この水分解手段２は、純水を貯留して循環するための循環タンク５からポンプ６を稼働させ、水を光電極体部１に接触させ再び循環タンク５に戻すことを繰り返すことにより、水を循環させて光電極体部１に接触させている。ここでは、循環タンク５としてその容量が５００Ｌのものを例に説明する。
【００２０】
そして、水分解手段２は、酸性分解水のｐＨを５．５以下にて作成することができるものである。そして、光電極体部１は、光電極体７が筒状の容器内に収納されその一端から水が導入され他端から水が排出され、このことにより水分解反応を起こさせるものである。ここでは、光電極体部１が直列に２列で並列に５個の合計１０個が用いられる。そして具体的に光電極体部１は、例えば、図２（ａ）に示すように、光電極体７と、この光電極体７に紫外線を照射する光源８とにて構成されている。大きさとしては、径ｔ１が１５０ｍｍ、長さｔ２を１２００ｍｍにて構成されている。
さらに、図２（ｂ）の光学顕微鏡による拡大した写真を示す図のように、光電極体７は、遷移系触媒金属にて形成される例えば白金、ニッケル、ステンレス、または、ニッケルおよび銀の混合物にてなる円柱筒状の多孔体９と、多孔体９の孔を略塞ぐことなく担持された例えば酸化チタンにてなる光触媒１０とにて構成される。
【００２１】
さらに詳細には、多孔体９の微細孔は、例えば口径が２００〜３０００μｍ程度のものであり、また、この多孔体９に担持されている光触媒１０の厚さは８５０ｎｍ〜１μｍ程度である。ここに、多孔体９の材料としては、光触媒１０との間でショットキー接合する性質を有する遷移金属の単体、またはこれら複数組み合わせた混合物から形成することができる。光触媒１０と多孔体９とがショットキー接合して両者間で一種の電極構造（多孔体７が陰極側、光触媒１０が陽極側）となっている。
【００２２】
次に、光電極体７の製造方法の具体例を説明する。まず、スラリー法によって多孔体９を作成する。すなわち、まず、ＮｉとＡｇとの微細粉（例えば粒径１〜５μｍで、Ｎｉに対してＡｇを８〜１０重量％混合するのが好適）を準備する。そして、このＮｉとＡｇとの微細粉を有機系溶媒からなるバインダと一定比率で混合、撹拌してスラリーを作成する。次に、ウレタン発泡体を準備し、このウレタン発泡体を上記のスラリーを溜めた浴槽中に浸漬して、ウレタン発泡体にスラリーを含浸させる。次いで、このスラリーが含浸されたウレタン発泡体を浴槽から引き上げて転圧ローラを通過させ、これによってスラリーを微細孔の内部まで十分に移行させて定着させる。その際、同時に余分なスラリーは除去される。続いて、スラリーが定着されたウレタン発泡体を、まず、酸化雰囲気の加熱炉中で焼成する。これにより、ウレタン発泡体とバインダが飛散されて除去される。次いで、還元雰囲気の加熱炉中で焼成する。これにより、上記工程にて酸化されたニッケルおよび銀が還元されて内外部に多数の微細孔が形成された多孔体９が作成される。
【００２３】
次に、ゾルゲル法によって上記のようにして作成された多孔体９の微細孔内の表面に光触媒１０を担持させる。まず、アナターゼの結晶核を有するペルオキソチタン酸液を準備する。次に、上記の多孔体９を洗浄するとともに、表面を荒らしてさらに小さなピットホールを作る。そして、ペルオキソチタン酸液を溜めた浴槽中に多孔体９を浸漬して、ペルオキソチタン酸液を多孔体９の微細孔やピットホール内に含浸させる。次いで、このペルオキソチタン酸液が含浸された多孔体９を浴槽から引き上げて遠心分離を行って余分な酸液を除く。この含浸および取り除く工程を複数回繰り返して多孔体９に均一な膜厚を定着させた後、焼成する。これにより、多孔体９の微細孔は光触媒１０によって塞がれることはなく、この微細孔内に均一な膜厚を有する結晶化されたアナターゼ膜、すなわち金属酸化物（ＴｉＯ２）からなる光触媒１０が担持された状態となり光電極体７が形成される。
【００２４】
そして、酸性分解水に酸性水溶解性のガス、例えば二酸化炭素ガスをガスボンベ１１から第１のバルブ１２を介して水分解手段２にて混合して溶解してガス溶解水を作成する溶解手段３と、水分解手段２に水として純水を作成して供給する純水供給手段４とを備える。酸性水溶解性のガスとして、二酸化炭素ガスを例に示しているが、これに限ることはなく、酸性水に溶解性を有するガスであれば良く、例えば、ペルオキソを有するガスであれば適当であると考えられる。
【００２５】
そして、純水供給手段４は、水道水などの原水を供給して貯留する原水タンク１３と、原水タンク１３に接続され活性炭濾過および逆浸透膜処理を行う活性炭濾過・逆浸透膜手段１４と、活性炭濾過・逆浸透膜手段１４に接続され処理した水を貯留する処理水タンク１５と、処理水タンク１５に接続され貯留されている水のイオン交換を行うイオン交換樹脂手段１６と、イオン交換樹脂手段１６を介した水を循環タンク５に供給を調整する第２のバルブ１７とを備えている。
【００２６】
次に上記のように構成された実施の形態１のガス溶解水製造装置におけるガス溶解水製造方法について説明する。まず、循環タンク５に純水を供給するために、水道水などの原水を原水タンク１３に貯留する。次に、貯留された原水を活性炭濾過・逆浸透膜手段１４にて活性炭濾過および逆浸透膜処理を行う。次に、処理された水を処理水タンク１５に貯留する。次に、水のイオン交換を行い第２のバルブ１７を開いて純水供給手段４から循環タンク５に純水を供給する。尚、純水を作成する工程はこれに限られることはなく、他の方法でも良いことは言うまでもない。ここでは、純水のレベルとして、０．２μジーメンス程度のものを用いている。そして、循環タンク５に所定量の純水が供給されると、第２のバルブ１７を閉める。
【００２７】
次に、水分解手段２はポンプ６を駆動させて、純水を光電極体部１に循環タンク５を介して循環させ接触させる。この際の流速は、２．５〜３．５ｍ／ｓｅｃにて循環されている。この際、水は、図３に示すように光電極体部１にてラジカル−イオン解離の反応による水分解が連続して行われている。そしてこの反応が行われた水は、Ｈ３Ｏ＋がリッチな（溶存水素の多い）水、すなわち、酸性分解水が形成されることとなる。そしてこの循環を２時間程度連続して行うと、ｐＨ５．５以下の酸性分解水が作成される。尚、この循環はｐＨを測定して所定のｐＨを有す酸性分解水として形成されることを基準に作成を行う。
【００２８】
次に、この循環状態を保ちながら、溶解手段３は第１のバルブ１２を開放して、ガスボンベ１１から二酸化炭素ガスを例えば、２５ｇ〜１００ｇ／分程度にて流して、酸性分解水に供給していく。そして、二酸化炭素ガスの総量が２．５ｋｇとなるように供給していく。そして、酸性分解水中にガスを溶解させガス溶解水を作成する。この際の、酸性分解水中に二酸化炭素ガスが溶解されている現象は図４に示すような二酸化炭素と水との反応による固定が発生していると考えられる。このように、二酸化炭素ガスがＨ３Ｏ＋と反応することにより、分子状二酸化炭素（Ｈ２ＣＯ３）として酸性分解水に溶解して、分子状炭酸水（Ｈ２ＣＯ３）のガス溶解水が作成される。このよう作成されたガス溶解水のｐＨは、ｐＨ４．０以下にて作成することができる。
【００２９】
このようにして形成されたガス溶解水の性質について検証した。図５および図６はその検証結果を示す図である。検証方法としては、本願発明の酸性分解水に二酸化炭素を溶解されたガス溶解水と、純水に二酸化炭素を溶解させた比較例とについて、ｐＨの時系列変化を測定したものである。まず、二酸化炭素を溶解させた直後のｐＨは、本願発明のガス溶解水はｐＨ３．９５で、比較例はｐＨ４．０５であった。それから、１２時間経過した後、比較例はｐＨ５．２８となり、本願発明はｐＨ４．０５となった。そして、比較例は１日後にはｐＨ６を超えた。しかしながら、本願発明は９０日の経過においてもｐＨの変化はほぼない。このことから、比較例はＣＯ２の溶解が持続されず、本願発明はＣＯ２に溶解が持続されていると考えられる。
【００３０】
一般的な二酸化炭素ガスの水への溶解では、例えば、炭酸水などのように二酸化炭素ガスがただ単にＣＯ２の状態のまま水中に溶解している場合には、密閉状態の容器から開放されると直ちに大気中に二酸化炭素ガスは放出し、溶解を継続することができない。このことから明らかなように、本願発明は、二酸化炭素ガスを分子状二酸化炭素としての水中への溶解させているため、長時間その溶解状態を持続させておくことができる。このように長時間持続されているため、医療、理美容、ＣＯ２溶解の原材料や被洗浄物の洗浄などに利用することができる。また、浸透性に優れているため、保湿を行うことにも利用することができる。
【００３１】
上記のように構成された実施の形態１によれば、無電解質かつ水不溶解性の光電極部を有する光電極体部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段と、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段とを備えたので、また、無電解質系かつ水不溶解性の光電極部に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成し、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成するので、容易にガス溶解水を得ることができ、さらに、ガス溶解の持続性を向上することができる。
【００３２】
また、水分解手段に水として純水を作成して供給する純水供給手段を備えたので、水分解反応を確実に行うことができ、ひいては、水中に確実にガスを溶解してガス溶解水を得ることができる。
【００３３】
また、水分解手段は、水を光電極体部に循環させ接触させるため、酸性分解水を確実に作成することができ、ひいては、水中に確実にガスを溶解してガス溶解水を得ることができる。
【００３４】
また、水分解手段は、酸性分解水のｐＨを５．５以下にて作成するため、酸性分解水を確実に作成することができ、ひいては、水中に確実にガスを溶解してガス溶解水を得ることができる。
【００３５】
また、光電極体部は、光電極体と、光電極体に紫外線を照射する光源とを備えているので、水分解反応を確実に行うことができ、ひいては、酸性分解水を確実に作成することができる。
【００３６】
また、光電極体は、遷移系触媒金属にて形成される多孔体と、多孔体の孔を略塞ぐことなく担持された光触媒とを備えたので、水分解反応を確実にかつ効率よく行うことができ、ひいては、酸性分解水を確実にかつ効率よく作成することができる。
【００３７】
また、遷移系触媒金属は、白金、ニッケル、ステンレス、または、ニッケルおよび銀の混合物にて形成され、光触媒は酸化チタンにて形成されているので、水分解反応を確実にかつ効率よく行うことができ、ひいては、酸性分解水を確実にかつ効率よく作成することができる。
【００３８】
また、溶解手段は、ガスとして二酸化炭素ガスを溶解するため、分子状炭酸水を作成して酸性分解水にガスを確実に溶解することできる。
【００３９】
また、溶解手段は、ガス溶解水のｐＨを４．０以下の酸性分解水を確実に作成することができる。
【００４０】
尚、上記実施の形態１では、溶解手段は水分解手段の水の循環を用いて、酸性分解水にガスを溶解する手段を例に示したがこれに限られることはなく、新たな撹拌部などにより溶解しても良いことは言うまでもない。また、溶解手段と水分解手段とは別々の手段にて形成しても良い。また、水分解部は光電極体と光源とにて構成する例を示したがこれに限られることはなく、無電解質かつ水不溶解性で、図３に示すような水分解反応を行うことができるものであれば、上記実施の形態１と同様の効果を奏することができる。
【００４１】
実施の形態２．
図７はこの発明の実施の形態２における洗浄装置の構成を示す図、図８はこの発明の実施の形態２における洗浄能力を検証するための実験方法を説明するための図、図９および図１０は図８における実験結果を説明するための図、図１１はこの発明の実施の形態２における洗浄方法の原理を説明するための図である。図において、上記実施の形態１と同様の部分は同一符号を付して説明を省略する。本実施の形態２においては上記実施の形態１にて示したガス溶解水製造装置を洗浄プロセスにおいて利用するものである。洗浄プロセスにおいて、被洗浄物のすすぐためのリンス１槽１８と、リンス１槽１８にてすすがれた後の被洗浄物を洗浄するための洗浄２槽１９と、被洗浄物の最終的な洗浄を行うための洗浄３槽５０とを備えている。そして、本実施の形態２においては、この洗浄３槽５０を上記に示した実施の形態１における循環タンク５に換えて行うものである。
【００４２】
上記のように構成された実施の形態２の洗浄装置の洗浄方法について説明する。まず、処理の終了した被洗浄物をリンス１槽１８にてすすぐ。次に、すすぎの終了した被洗浄物を洗浄２槽１９で洗浄する。次に、被洗浄物の最終的な洗浄を洗浄３槽５０にて行う。この際、上記実施の形態１と同様に、まず、洗浄３槽５０に純水を供給するために、第２のバルブ１７を開いて純水供給手段４から純水を供給する。そして、洗浄３槽５０に所定量の純水が供給されると、第２のバルブ１７を閉める。
【００４３】
次に、水分解手段２はポンプ６を駆動させて、純水を光電極体部１に循環タンク５を介して循環させ接触させる。そしてこの循環を連続して行い、ｐＨ５．５以下の酸性分解水を作成する。次に、この循環状態を保ちながら、溶解手段３は第１のバルブ１２を開放して、ガスボンベ１１から二酸化炭素ガスを流して、酸性分解水に混合（供給）していく。そして、酸性分解水中にガスを溶解させガス溶解水を作成する。そして、この状態になると、洗浄３槽５０に被洗浄物を投入してガス溶解水にて洗浄を行う。尚、この洗浄を行う工程においては、洗浄する状況に応じて、ガスの供給を継続しても良いし、また、ガスの供給を一旦停止しても良い。但し、被洗浄物を多量に洗浄する場合、または、洗浄の効率を向上させたい場合、洗浄の精度を向上させたい場合などは、ガスの供給を断続的に行いながら洗浄する方が良い。
【００４４】
このようにして本願発明のガス溶解水にて洗浄を行う場合の洗浄能力について検証するための実験を図８に示すような方法にて行った。まず、ビーカーに”本願発明のガス溶解水”または”純水”を入れて、その中にセラミックスピンを入れる。そして、超音波洗浄にてセラミックスピンの洗浄を行う。次に、セラミックスピンを取り出し、リンスを”本願発明のガス溶解水”または”純水”にて、９リットル程度流して行う。次に、ビーカーに純水を入れて、その中にセラミックスピンを入れる。次に、セラミックスピンの近傍の位置の純水を吸い取りパーティクルカウンターにてパーティクル数をカウントする。尚、パーティクル数のカウントはそのカウント数が安定するまで、最低１０回程度の測定を行う。そして、この測定を超音波洗浄の時間を変更してそれぞれ測定した。
【００４５】
このようにして行った、”純水”洗浄および”純水”すすぎにおける結果を図９に、”本願発明のガス溶解水”洗浄および”本願発明のガス溶解水”すすぎにおける結果を図１０に示す。図９および図１０を比較して明らかなように、本願発明におけるガス溶解水での洗浄およびすすぎでは、純水での洗浄およびすすぎに比較して、パーティクル数が極めて少なく、洗浄に優れていることが確認できる。また、ガス溶解水での洗浄は、超音波洗浄の時間が１．５分ないし１５分であってもほぼ同様のパーティクル数の値であり、短い時間であっても優れた洗浄能力を有していることが確認できる。
【００４６】
また、この実施の形態２における洗浄方法の原理を図１１に基づいて説明する。被洗浄物（ガラス板）上に存在する汚れ（油）に”本願発明のガス溶解水”をミスト状にて噴霧する（図１１（ａ））。すると、”本願発明のガス溶解水”の分子状二酸化炭素が汚れに浸透し、汚れを体積膨張させる。また、同時に擬似ミセルを形成する。そして、汚れの表面張力と界面張力とを低下させる（図１１（ｂ））。次に、汚れの乳化が促進させ、被洗浄物と汚れとの界面に”本願発明のガス溶解水”が滑り込み、親水性の高い状態となる。これにより容易に被洗浄物上から汚れが除去できるものと考えられる。
【００４７】
上記のように構成された実施の形態２の洗浄装置によれば、ガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行う洗浄手段を備えたので、また、ガス溶解水を被洗浄物に噴射または浸漬して洗浄を行うので、被洗浄物を精度良く洗浄を行うことができる。
【００４８】
実施の形態３．
また、上記実施の形態１のようにして作成されたガス溶解水はエアゾール容器に活性または不活性ガスとともに充填してエアゾール式製品として使用することも考えられる。
エアゾール式製品の製造方法としては、例えば、エアゾール容器に、ガス溶解水を所定量入れる。次に、エアゾール容器にバルブを挿入し、バルブをエアゾール容器にクリンプする。次に、エアゾール容器内に所定量の活性または不活性ガスを充填する。このようにして、エアゾール式製品を製造することができる。
【００４９】
このように、ガス溶解水をエアゾール式製品とすることにより、ガス溶解水の性質の可変をほとんど生じることなく、使用時までガス溶解水の性質を確保したままにすることができる。このように性質が確保されるため、医療、理美容、被洗浄物の洗浄などに利用することができる。また、浸透性に優れているため、保湿を行うことにも利用することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１  光電極体部、２  水分解手段、３  溶解手段、４  純水供給手段、
７  光電極体、８  光源、９  多孔体、１０  光触媒、５０  洗浄３槽。
【図１】
2011031189.tif 000003
【図２】
2011031189.tif 000004
【図３】
2011031189.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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