(57)【要約】【課題】高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、かつ、膜の場所による導電性のばらつきを低減した透明導電基材の製造方法を提供する。【解決手段】基材上に、少なくとも、金属ナノワイヤと、水溶性ポリマーと、水系溶媒とを含んでなる塗布液を塗布し、次いで乾燥することで形成した導電層を有する透明導電基材の製造方法において、該導電層の塗布液を塗布した塗膜の膜面温度を２７℃以上４２℃以下、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）を１０００〜１００００（ｋｃａｌ／（ｍ２・ｈｒ））で乾燥させることを特徴とする透明導電基材の製造方法。  但し、ｈは、伝熱係数（ｋｃａｌ／（ｍ２・℃・ｈｒ））を表し、ΔＴ（℃）は、送風温度と塗膜の膜面温度との差を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、少なくとも、金属ナノワイヤと、水溶性ポリマーと、水系溶媒とを含んでなる塗布液を塗布し、次いで乾燥することで形成した導電層を有する透明導電基材の製造方法において、該導電層の塗布液を塗布した塗膜の膜面温度を２７℃以上４２℃以下、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）を１０００〜１００００（ｋｃａｌ／（ｍ２・ｈｒ））で乾燥させることを特徴とする透明導電基材の製造方法。
但し、ｈは、伝熱係数（ｋｃａｌ／（ｍ２・℃・ｈｒ））を表し、ΔＴ（℃）は、送風温度と塗膜の膜面温度との差を表す。
【請求項２】
前記基材に前記塗布液を塗布した後、実質無風の領域を通った後に前記乾燥を行うことを特徴とする請求項１に記載の透明導電基材の製造方法。
【請求項３】
実質無風の領域を通る時間が２秒以上２０秒以下であることを特徴とする請求項２に記載の透明導電基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電基材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電基材は液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、エレクトロルミネッセンス素子、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパー等の電子デバイスの透明電極、ならびに電磁波シールド材等に用いられている。
【０００３】
一般に透明導電材料としては、例えば金属酸化物が用いられており、具体的には、錫や亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ、ＩＺＯ）、アルミニウムやガリウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ、ＧＺＯ）、フッ素やアンチモンをドープした酸化錫（ＦＴＯ、ＡＴＯ）等が挙げられる。一般に、金属酸化物透明導電層の作製には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の気相製膜法が用いられる。しかしながら、これらの製膜方法は真空環境を必要とするため装置が大掛りかつ複雑なものとなり、また製膜に大量のエネルギーを消費するため、製造コストや環境負荷を軽減できる技術の開発が求められていた。また、一方で、液晶ディスプレイやタッチディスプレイに代表されるように、透明導電材料の大面積化が指向されており、それに伴い透明導電材料の軽量化や柔軟性に対する要請が高まっていた。さらに、大面積の透明電極においては、透明電極の電圧降下の影響が大きくなることから、さらなる低抵抗化が求められてきた。
【０００４】
これに対して、バルク状態での導電率が１×１０７Ｓ／ｍ以上の金属元素のナノワイヤを、液相法や気相法等の色々な方法で作製できることが報告されている。例えば、Ａｇナノワイヤの製造方法としては非特許文献１を参考にできる。さらに、具体的に低抵抗高透明導電性フィルムに用いられる透明導電材料技術として、金属ナノワイヤを導電体として用いる方法が提案されて（例えば、特許文献１参照）いる。さらに、銀ナノワイヤ分散液を基材に塗布し、乾燥するまでの環境湿度をコントロールすることで導電性基材の表面抵抗をコントロールできることが記載されて（例えば、特許文献２参照）いる。これらの技術は塗布により低抵抗高透明導電性フィルムが得られることから好ましい技術である。
【０００５】
しかしながら、金属ナノワイヤを導電体に用いた導電性基材において、その膜の導電性が場所によって変動することが分かってきた。膜の導電性の場所によるばらつきは、それを用いたデバイス性能にばらつきを生じることから改善が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第２００７／００７４３１６Ａ１号明細書
【特許文献２】米国特許第２００９／０１６６０５５Ａ１号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，８３３〜８３７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、かつ、膜の場所による導電性のばらつきを低減した透明導電基材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【００１０】
１．基材上に、少なくとも、金属ナノワイヤと、水溶性ポリマーと、水系溶媒とを含んでなる塗布液を塗布し、次いで乾燥することで形成した導電層を有する透明導電基材の製造方法において、該導電層の塗布液を塗布した塗膜の膜面温度を２７℃以上４２℃以下、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）を１０００〜１００００（ｋｃａｌ／（ｍ２・ｈｒ））で乾燥させることを特徴とする透明導電基材の製造方法。
【００１１】
但し、ｈは、伝熱係数（ｋｃａｌ／（ｍ２・℃・ｈｒ））を表し、ΔＴ（℃）は、送風温度と塗膜の膜面温度との差を表す。
【００１２】
２．前記基材に前記塗布液を塗布した後、実質無風の領域を通った後に前記乾燥を行うことを特徴とする前記１に記載の透明導電基材の製造方法。
【００１３】
３．実質無風の領域を通る時間が２秒以上２０秒以下であることを特徴とする前記２に記載の透明導電基材の製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、かつ、膜の場所による導電性のばらつきを低減した透明導電基材の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る透明導電基材の乾燥装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１７】
本発明は、基材上に金属ナノワイヤと少なくとも一種の水溶性ポリマーと水系溶媒とを少なくとも含んでなる塗布液を塗布乾燥することで形成した導電層を有する透明導電基材の製造方法において、その乾燥方法を制御することにより、塗布膜の導電性の場所によるばらつきを低減できることを見いだした発明である。詳細なメカニズムはよく分かっていないが、金属ナノワイヤを用いた導電膜では、各金属ナノワイヤが接触して連続的なパスを形成することで導電性を発現している。そのため、金属ナノワイヤの接触頻度がぶれると塗布膜の導電性が変化してしまう。また、分散助剤として、かつ、塗布膜の保持材料として水溶性ポリマーが必要であるが、金属ナノワイヤ同士の接触部分にこの水溶性ポリマーが入ると金属ナノワイヤ間の接触抵抗が上昇してしまい、塗布膜の導電性が変化してしまう。そのため、基材上に金属ナノワイヤと少なくとも一種の水溶性ポリマーと水系溶媒とを少なくとも含んでなる塗布液を塗布乾燥することで形成した導電層を有する透明導電基材においては、ちょっとした乾燥の乱れで金属ナノワイヤの接触頻度や金属ナノワイヤ間の接触抵抗が大きく変わってしまい、塗布膜の場所による導電性のばらつきが出ると考えている。
【００１８】
こうした課題に対して、乾燥速度を１０００（ｋｃａｌ／（ｍ２・ｈｒ））以上とし、はやく乾燥することで乾燥によるばらつきを低減できると考えた。さらに、乾燥速度が速くても、乾燥時の膜面温度が高すぎると少しの乾燥乱れの影響が大きく出やすいために、場所による抵抗のばらつきが出やすく、膜面温度が低い場合は、本発明の乾燥速度を満足する範囲では伝熱係数が極端に大きな領域となり、乾燥の乱れが出すくなるために場所による抵抗のばらつきが出やすいと考えた。本発明の範囲では、こうした影響を受けにくくすることができることから、塗布膜の場所による導電性のばらつきを抑えることができていると考え、さらに、塗布後に実質無風の領域を通ることで、塗布時の微妙な膜厚ムラがレベリングされることで、より、ばらつきを低減できると考え本発明を成すに至った。
【００１９】
〔金属ナノワイヤ〕
本発明において、透明導電材料としては、金属ナノワイヤが主要な導電体として機能する。本発明では、金属ナノワイヤの金属元素として、バルク状態での導電率が１×１０６Ｓ／ｍ以上の元素を用いることができる。本発明で好ましく用いることができる金属ナノワイヤの金属元素として具体例としては、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔｉ等を挙げることができる。本発明においては２種類以上の金属ナノワイヤを組み合わせて用いることもできるが、導電性の観点から、少なくともＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｏより選択される元素を用いることが好ましい。
【００２０】
本発明において金属ナノワイヤの製造手段には特に制限はなく、例えば、液相法や気相法等の公知の手段を用いることができる。また、具体的な製造方法にも特に制限はなく、公知の製造方法を用いることができる。例えば、Ａｇナノワイヤの製造方法としては、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，８３３〜８３７；Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，４７３６〜４７４５等、Ａｕナノワイヤの製造方法としては特開２００６−２３３２５２号公報等、Ｃｕナノワイヤの製造方法としては特開２００２−２６６００７号公報等、Ｃｏナノワイヤの製造方法としては特開２００４−１４９８７１号公報等を参考にすることができる。特に、上述した、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．及びＣｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．で報告されたＡｇナノワイヤの製造方法は、水系で簡便にかつ大量に銀ナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明に関わる金属ナノワイヤの製造方法として好ましく適用することができる。
【００２１】
本発明においては、金属ナノワイヤが互いに接触し合うことにより３次元的な導電ネットワークを形成し、高い導電性を発現するとともに、金属ナノワイヤが存在しない導電ネットワークの窓部を光が透過することが可能となり、高い導電性と高い透過率を両立できる。
【００２２】
本発明において金属ナノワイヤの直径は、透明性の観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。本発明において金属ナノワイヤの平均長さは、導電性の観点から１μｍ以上であることが好ましく、凝集による透明性への影響から１００μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１〜５０μｍであり、３〜５０μｍであることが更に好ましい。
【００２３】
（水系溶媒）
本願において、「水系溶媒」とは、５０質量％以上が水である溶媒をいう。もちろん、他の溶媒を含有しない純水であっても良く、乾燥時の金属ナノワイヤの分散安定性を考えた場合は、他の溶媒の含有量は少ない方が好ましい。水系溶媒の水以外の成分は、水に相溶する溶剤であれば特に制限はないが、アルコール系の溶媒を好ましく用いることができ、中でも、沸点が比較的水に近いイソプロピルアルコールであることが好ましい。
【００２４】
〔水溶性ポリマー〕
本発明で使用する塗布液においては、金属ナノワイヤの分散性を確保するために、また、塗布乾燥後の膜において金属ナノワイヤを保持するために水溶性ポリマーを併用する。水溶性とは、２０℃における水１００ｇに対し０．５ｇ以上溶解することを表し、より好ましくは１ｇ以上のものである。また、熱水に溶解させた後、２０℃で同様に溶解している化合物も水溶性とする。
【００２５】
こうした、水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等を単独あるいは複数併用して用いることができる。水溶性ポリマーの具体的な化合物としては、ポリビニルアルコールＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−４２０（クレハ社製）、ポリビニルアセタールエスレックＢＭ−１、ＢＭ−Ｓ、ＢＬ−１、ＢＬ−１０、ＢＬ−Ｓ、ＫＳ−５（積水化学社製）、ヒドロキシプロピルメチルセルロース６０ＳＨ−０６、６０ＳＨ−５０、６０ＳＨ−４０００、９０ＳＨ−１００（信越化学工業社製）、メチルセルロースＳＭ−１００（信越化学工業社製）、酢酸セルロースＬ−２０、Ｌ−４０、Ｌ−７０（ダイセル化学工業社製）、カルボキシメチルセルロースＣＭＣ−１１６０（ダイセル化学工業社製）、ヒドロキシエチルセルロースＳＰ−２００、ＳＰ−６００（ダイセル化学工業社製）、アクリル酸アルキル共重合体ジュリマーＡＴ−２１０、ＡＴ−５１０（東亞合成社製）、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリヒドロキシエチルメタクリレートなどをあげることができる。
【００２６】
〔塗布〕
塗布法としては、公知の塗布法を用いることができ、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等を用いることができる。印刷法としては、凸版（活版）印刷法、孔版（スクリーン）印刷法、平版（オフセット）印刷法、凹版（グラビア）印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法等公知の方法を用いることができる。
【００２７】
〔基材〕
本発明に用いられる基材としては、高い光透過性を有していればそれ以外に特に制限はない。例えば、基材としての硬度に優れ、またその表面への導電層の形成のし易さ等の点で、ガラス基板、樹脂基板、樹脂フィルムなどが好適に挙げられるが、軽量性と柔軟性の観点から透明樹脂フィルムを用いることが好ましい。
【００２８】
本発明の基材として好ましく用いることができる透明樹脂フィルムには特に制限はなく、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂フィルム、ポリサルホン（ＰＳＦ）樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂フィルム等を挙げることができるが、可視域の波長（３８０〜７８０ｎｍ）における透過率が８０％以上である樹脂フィルムであれば、本発明に係る透明樹脂フィルムに好ましく適用することができる。中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることがより好ましい。
【００２９】
本発明に用いられる基材には、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理を施すことや易接着層を設けることができる。表面処理や易接着層については従来公知の技術を使用できる。例えば、表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。
【００３０】
また、易接着層としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるためには２層以上の構成にしてもよい。
【００３１】
（乾燥）
乾燥方法としては、本発明の条件、塗膜の膜面温度を２７℃以上４２℃以下、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）を１０００〜１００００（ｋｃａｌ／（ｍ２・ｈｒ））で乾燥させる、但し、ｈは、伝熱係数（ｋｃａｌ／（ｍ２・℃・ｈｒ））を表し、ΔＴ（℃）は、送風温度と塗膜の膜面温度との差を表す。ここで、塗膜の膜面温度は、乾燥風による加熱と溶媒の気化熱が平衡状態になっているいわゆる恒率乾燥状態の膜面温度である。
【００３２】
この条件を満足できれば乾燥方法に特に制限はなく、従来公知の乾燥方法を利用できる。例えば、特開平４−２２６２４９号や特開平５−２３０５４９号に示されたスリットでの送風を用いる装置や、特公昭５１−３４２７号や特開平４−２００７０号に示されたような均一な穴パターンを用いて乾燥する装置などを使用することが出来る。また、両側にフローターを設け両面を無接触で搬送させる方法も好ましく利用できる。支持体ウェブの両側にフローターが設けてあり、このフローターから乾燥用空気を吹き付けることによって乾燥をする方法である。例えば、特公昭６０−１２５６号、同６０−１２５７号、特開昭６３−２７３６０号、特開平２−８１８５２号には開口部がスリット形状の無接触フローターが開示されており、特開昭６２−１６７１６１号には多数の円形の空気吹き出し孔がある多孔板タイプのフローターが開示されている。
【００３３】
本発明の伝熱係数ｈ（ｋｃａｌ／（ｍ２・℃・ｈｒ））は、それぞれの乾燥装置の平均的な乾燥能力から算出できる。
【００３４】
なお、膜面の温度を制御する方法としては、一般に、乾燥に使用する空気の露点を高くする方向で、あるいは、乾燥温度を高くする方向で高くでき、低くする場合はその逆である。伝熱係数は乾燥風の風圧、吹き出し口からの距離、吹き出し口の径などで制御することができる。
【００３５】
また、本発明では塗布液を基材に塗設した後、前述の乾燥を行う前に実質無風の領域を通ることがより好ましい。ここで、実質無風とは、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）が２００以下であることを表し、風を吹かせていない状態がより好ましい。この実質無風の領域を通過する時間はより効果を出すためには２秒以上であることが好ましい。また、２０秒以上では、この間の蒸発散での乾燥乱れの影響が出ることもあることから２０秒以下であることが好ましい。
【００３６】
本発明に係る透明導電基材の製造装置の乾燥部を、図を用いて説明する。
【００３７】
図１において、塗布済みの透明導電基材１はまず無風領域２に入る。無風領域２と乾燥領域３は仕切板６で仕切られ、透明導電基材１は下部の隙間から乾燥領域３に進む。ウェブ状の透明導電基材１は、ワインダー（図示せず）とローラ７により、矢印方向に搬送される。乾燥風はノズル５から、透明導電基材１に向かって吹き出される。ノズル５は移動が可能で、ノズルと透明導電基材１の乾燥面の間隔９は調整できる（移動装置は図示せず）。ノズル間隔、ノズル口径は適宜決めることができるが、例えば、ノズル間隔は１０ｍｍ〜５００ｍｍ、ノズル口径は０．５ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。本発明においては、少なくとも３つ以上のノズル５により透明導電基材１は乾燥される。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
【００３９】
（ＡＧＷ−１の作製）
金属微粒子として、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，８３３〜８３７に記載の方法を参考に、還元剤としてＥＧ（エチレングリコール；関東化学社製）を、形態制御剤兼保護コロイド剤としてＰＶＰ（ポリビニルピロリドン  Ｋ３０、分子量５万；ＩＳＰ社製）を使用し、かつ核形成工程と粒子成長工程とを分離して粒子形成を行い、銀ナノワイヤ分散液を調製した。以下に各工程について記載する。
【００４０】
（核形成工程）
反応容器内で１６０℃に保持した１００ｍｌのＥＧを攪拌しながら、硝酸銀のＥＧ溶液（硝酸銀濃度：０．１モル／Ｌ）２．０ｍｌを一定の流量で１分間かけて添加した後、１６０℃で１０分間保持し銀イオンを還元して銀の核粒子を形成した。反応液は、ナノサイズの銀微粒子の表面プラズモン吸収に由来する薄黄色を呈しており、銀イオンが還元されて銀の微粒子（核粒子）が形成されたことが確認できた。続いて、ＰＶＰのＥＧ溶液（ＰＶＰ濃度：３．２４ｇ／Ｌ）１０．０ｍｌを一定の流量で１０分間かけて添加した。
【００４１】
（粒子成長工程）
上記核形成工程終了後の核粒子を含む反応液を攪拌しながら１６０℃に保持し、硝酸銀のＥＧ溶液（硝酸銀濃度：１．０×１０−１モル／Ｌ）１００ｍｌと、ＰＶＰのＥＧ溶液（ＰＶＰ濃度：３．２４ｇ／Ｌ）１００ｍｌを、ダブルジェット法を用いて一定の流量で１２０分間かけて添加した。粒子成長工程において、３０分毎に反応液を採取して電子顕微鏡で確認したところ、核形成工程で形成された核粒子が時間経過に伴ってワイヤ状の形態に成長しており、粒子成長工程における新たな微粒子の生成は認められなかった。最終的に得られた銀ナノワイヤについて、電子顕微鏡写真を撮影し、３００個の銀ナノワイヤ粒子像の長軸方向及び短軸方向の粒径を測定して算術平均を求めた。短軸方向の平均粒径は７５ｎｍ、長軸方向の平均粒径は３５μｍであった。
【００４２】
（脱塩水洗工程）
上記粒子形成工程を終了した反応液を室温まで冷却した後、０．２μｍの限外濾過膜を用いて脱塩水洗処理を施した。これを更に水洗処理し、乾燥して銀ナノワイヤを得た。
【００４３】
（分散液の調製）
その後、銀ナノワイヤをヒドロキシプロピルメチルセルロース６０ＳＨ−５０（信越化学工業社製）０．３質量％の水溶液に再分散して銀ナノワイヤ分散液ＡＧＷ−１（銀ナノワイヤ含有量０．４質量％）を調製した。
【００４４】
（透明導電基材の作製）
１８ｃｍ幅に断裁した１００μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムに１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２のコロナ放電処理を施し、銀ナノワイヤ分散液ＡＧＷ−１を銀の目付け量が６０ｍｇ／ｍ２となるようにシリンジポンプで流量を調整して押し出しコーターに送液して塗布し、図１の乾燥装置で乾燥した。表１の条件となるように乾燥風温度、乾燥風露点、乾燥風圧、スリットとウェブの距離、ライン速度を変化させて各透明導電基材を作製した。
【００４５】
（評価）
抵抗率計（ロレスタＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６１０型）：（株）ダイヤインスツルメンツ社製）を用いて塗布先頭から１５ｃｍの位置で、幅手方向３点（端から３ｃｍ、９ｃｍ、１５ｃｍの位置）、さらに、長手方向に１０ｃｍ毎に５点で同様に幅手方向に３点、計１８点において表面比抵抗を測定した。そのばらつきを標準偏差で評価した。
【００４６】
【表１】
2011119142.tif 000002
【００４７】
表１からわかるように、導電層の塗布液を塗布した塗膜の膜面温度が２７℃以上４２℃以下、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）が１０００〜１００００である本発明の例は表面比抵抗の場所によるばらつきが小さいことが分かる。一方、膜面温度、乾燥速度のいずれかが本発明からはずれる試料では、表面比抵抗の場所によるばらつきが大きくなることが分かる。
【００４８】
また、本発明の試料で、実質無風の領域を２から２０秒通った後に乾燥した試料は、特に表面比抵抗の場所によるばらつきが小さいことが分かる。
【符号の説明】
【００４９】
１  本発明に係る透明導電基材の乾燥装置である。
【００５０】
２  透明導電基材
３  無風領域
４  乾燥領域
５  ノズル
６  乾燥風
７  ローラ
８  ノズル間隔
９  ノズルと乾燥面の間隔
【図１】
2011119142.tif 000003