(57)【要約】【課題】比較的簡単な構成により、調理対象の食材を短時間にて調理することできる真空調理装置を提供する。【解決手段】真空調理装置１は、内部に密閉可能な調理室２０、給気孔３２および排気孔３３を有し調理室２０内に調理対象物６０を収容する本体１０および蓋体５０と、排気孔３３を介して調理室２０内の内圧を負圧にする真空ポンプ４２と、給気孔３２を介して調理室２０内に大気を急速に導入する開閉電磁弁３４とを備えて構成され、調理対象物６０が収容される調理室２０内の内圧を真空ポンプ４２によって負圧に減圧させた後、開閉電磁弁４２によって大気を急速に導入することで調理室２０内の内圧を昇圧させることにより、調理対象物６０に向けて気圧を作用させる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理対象物を調理する真空調理装置であって、
内部に密閉可能な調理室、前記調理室内に開口する給気孔および排気孔を有し、前記調理室内に前記調理対象物を収容する容器部材と、
前記排気孔を介して前記調理室内の内圧を負圧にする吸引手段と、
前記給気孔を介して前記調理室内に気体を急速に導入する気体供給手段とを備えて構成され、
前記調理対象物が収容される前記調理室内の内圧を前記吸引手段によって負圧に減圧させた後、前記気体供給手段によって気体を急速に導入することで前記調理室内の内圧を昇圧させることにより、前記調理対象物に向けて気圧を作用させることを特徴とする真空調理装置。
【請求項２】
前記気体供給手段が、前記給気孔を前記調理室内に対して開閉可能にする開閉弁を有して構成され、
前記開閉弁で前記給気孔を閉塞して前記調理室内の内圧を前記吸引手段によって負圧に減圧した後、前記開閉弁によって前記給気孔を開放することで前記給気孔から大気を前記調理室内に急速に導入して昇圧することを特徴とする請求項１に記載の真空調理装置。
【請求項３】
前記給気孔の大きさが前記排気孔の大きさよりも大きく形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の真空調理装置。
【請求項４】
前記吸引手段により負圧にされた前記調理室内が、４００パスカル以下の高真空状態であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の真空調理装置。
【請求項５】
前記調理室の内圧が、前記吸引手段により負圧に減圧された状態と、前記気体供給手段により前記調理室内に気体を導入して昇圧された状態とに交互に複数回繰り返されて変化することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の真空調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、略真空下において調理対象物を調理する真空調理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、肉類などの食材を調味液（焼肉タレ）などに漬け込む場合には、食材の内部にまでほぼ均一に調味液が浸透するまでに長時間を要することになり、食材の鮮度が落ちたり、その間の維持管理に手間が掛かるという問題があった。また、食材に調味液を浸透させるのに長時間を要するため、食したいと欲したときに即応することができず、いざ浸透が完了したときには既に不要になってしまう場合も起こりうるため、浸透時間の短縮が要望されていた。
【０００３】
このため、真空装置を利用して調味液中に浸した食材に調味液を短時間に浸透させる技術が種々提案されている。例えば、特許文献１には、内部に食材が入れられる耐圧性の容器と、この容器に接続された真空装置たる真空ポンプと、調味液を加熱するための加熱装置と、この加熱装置により加熱した調味液を容器に循環させる循環装置とが備えられ、容器内を真空状態まで減圧して食材中の空気などを放出させるとともに、加熱した調味液を容器内の食材に作用させることで、短時間に調味液を食材に浸透させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−４６７４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような調理装置においては、真空ポンプなどの真空装置の他に、調味液を循環するための循環装置や、調味液を加熱するための加熱装置などが必要となり、装置全体が複雑になって処理に手間が掛かるという問題がある。
【０００６】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、比較的簡単な構成により、調理対象の食材を短時間にて調理することできる真空調理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明に係る真空調理装置は、調理対象物を調理する真空調理装置であって、内部に密閉可能な調理室、調理室内に開口する給気孔および排気孔を有し調理室内に調理対象物を収容する容器部材（例えば、実施形態における本体１０および蓋体５０）と、排気孔を介して調理室内の内圧を負圧にする吸引手段（例えば、実施形態における真空ポンプ４２）と、給気孔を介して調理室内に気体を急速に導入する気体供給手段（例えば、実施形態における開閉電磁弁３４）とを備えて構成され、調理対象物が収容される調理室内の内圧を吸引手段によって負圧に減圧させた後、気体供給手段によって気体を急速に導入することで調理室内の内圧を昇圧させることにより、調理対象物に向けて気圧を作用させるように構成する。
【０００８】
このように構成される真空調理装置において、気体供給手段が給気孔を調理室内に対して開閉可能にする開閉弁（例えば、実施形態における開閉電磁弁３４）を有して構成され、開閉弁で給気孔を閉塞して調理室内の内圧を吸引手段によって負圧に減圧した後、開閉弁によって給気孔を開放することで給気孔から大気を調理室内に急速に導入して昇圧することが好ましい。
【０００９】
また、上述の発明において、給気孔の大きさが排気孔の大きさよりも大きく形成されていることが好ましい。
【００１０】
さらに、上述の発明において、吸引手段により負圧にされた調理室内が、４００パスカル以下の高真空状態であることが好ましい。
【００１１】
また、上述の発明において、調理室の内圧が、吸引手段により負圧に減圧された状態と、気体供給手段により調理室内に気体を導入して昇圧された状態とに交互に複数回繰り返されて変化するように構成されることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る真空調理装置によれば、比較的簡単な構成により、調理対象の食材を短時間にて調理することができる。例えば、調理対象の食材に調味液を短時間に浸透させて味付けすることができる。これにより、鮮度新鮮かつ風味の優れた調理品を得ることができるとともに、食事の時間に合わせて直前に調理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態に係る真空調理装置を示し、（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は正面図である。
【図２】上記真空調理装置を図１の矢印Ａ−Ａに沿った要部断面図であり、調理室内を真空引きしている状態を示す。
【図３】上記真空調理装置を図１の矢印Ａ−Ａに沿った要部断面図であり、調理室内に大気を開放している状態を示す。
【図４】上記真空調理装置のブロック図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。図１は本実施形態に係る真空調理装置の平面図および正面図であり、図２は真空調理装置を図１の矢印Ａ−Ａに沿った要部断面図であって真空引きをしている状態を示し、図３は真空調理装置を図１の矢印Ａ−Ａに沿った要部断面図であって大気を開放した状態を示し、図４は真空調理装置のブロック図である。
【００１５】
真空調理装置１は、上部開口部１１内に調理対象物６０を載置する本体１０と、この本体１０の上部開口部１１内に調理対象物６０を出し入れするための開閉自在な蓋体５０とを有して構成される。この真空調理装置１において、蓋体５０が本体１０の上部開口部１１を覆うようにして閉じられることで、本体１０の上部開口部１１と蓋体５０の下部開口部５１とにより密閉した状態の調理室２０が区画形成されるようになっている。
【００１６】
蓋体５０は、例えば高密度ウレタン（透明体）などを用いて形成されており、この蓋体５０が閉じられた状態でも外部から調理室２０内を透視できるようになっている。この蓋体５０は、基端部が本体の一端部に設けられた一対のヒンジ機構１２，１２により取り付けられており、片持ち状態で回動可能になっている。このため、ヒンジ機構１２，１２により蓋体５０を回動させて調理室２０を開放状態とすることで調理室２０内に調理対象物６０を出し入れすることができるようになっている。また、蓋体５０の開放側の外側面には、利用者が手動で蓋体５０の開閉操作を行うための凹形状の把手５２が設けられている。
【００１７】
本体１０は、例えば樹脂材料を用いて形成されており、図２に示すように、調理室２０の一部（下部領域）を区画形成する仕切部３０と、この仕切部３０により上端（開口）が覆われた容器形状の筐体部４０とを有して構成される。
【００１８】
仕切部３０は、調理対象物６０を調理室２０内で載置保持するトレイ部３１と、調理室２０内に大気を供給するための給気孔３２と、調理室２０内に滞留する空気等を排出するための排気孔３３とを有している。給気孔３２は上下方向に貫通して形成されており、その下端部には開閉電磁弁３４の一方のポートが繋がっている。この給気孔３２の孔径は排気孔３３の孔径よりも大きく形成されており、例えば排気孔３３の孔径に対して約４〜５倍の大きさに設定される。排気孔３３は上下方向に貫通して形成されており、その下端部には真空用電磁弁３５の一方のポートが繋がっている。
【００１９】
また、この仕切部３０の上面側と蓋体５０の下面側との間で囲まれた空間領域により調理室２０が区画形成され、仕切部３０の上面周縁部３６と蓋体５０の下面周縁部５２とが密着して合わさることにより調理室２０内の気密性が保持される。また、仕切部３０の上面周縁部３６には、調理室２０内の気密性を向上させるためのシール部材３７が設けられている。
【００２０】
筐体部４０は、この筐体部４０の内壁と仕切部３０の下面との間に囲まれて各種電装品などが配設される電装室４１を備えている。この電装室４１には、調理室２０内を真空状態にするための真空ポンプ４２や、制御装置４５（図４参照）などが配設されている。真空ポンプ４２は、この真空ポンプ４２の吸引口に一端が接続された吸気パイプ４３によって真空用電磁弁３５の他方のポートに繋がっている。このため、真空ポンプ４２と調理室２０とは、排気孔３３，真空用電磁弁３５、および吸気パイプ４３を介して接続されている。そして、制御装置４５からの電磁弁作動信号を受けて真空用電磁弁３５が開放作動すると、排気孔３３と吸気パイプ４３とが繋がって、真空ポンプ４２の作動により調理室２０内の空気や調理対象物６０の食材６１に含まれる空気、水分等が排出され、調理室２０内が真空状態に近い圧力まで減圧される。
【００２１】
また、電装室４１と調理室２０とは、給気孔３２および開閉電磁弁３４を介して連通されている。そして、制御装置４５からの電磁弁作動信号を受けて開閉電磁弁３４が開放作動すると、給気孔３２と電装室４１内とが繋がって、電装室４１から調理室２０へ真空破壊用の大気が供給される。また、筐体部４０の壁部には、電装室４１内を筐体部４０外の外部空気と連通させるための複数の流通孔（不図示）が形成されている。これにより、外部空気を電装室４１内に取り込んで調理室２０内に供給することができる。
【００２２】
また、筐体部４０において調理室２０の開放側に位置する側面には、図１に示すように、利用者が所望の真空調理を行うために操作する操作パネル１３が設けられている。この操作パネル１３には、例えば、真空調理装置１の電源入切操作のための電源入切ボタン、真空調理を自動開始するための調理開始ボタン、開始した真空調理を一旦停止するための調理停止ボタン、真空調理のレベルを設定するための複数の選択ボタンなどが備えられている。
【００２３】
真空調理のレベルを選択する複数の選択ボタンでは、例えば、弱モード、中モード（通常モード）、強モード、強×２モードの４段階から選択することができるようになっている。まず、弱モードでは、所定の予備脱泡の動作のみが行われる。ここで予備脱泡とは、調理開始に伴って調理室２０内を大気状態から真空状態に減圧する場合に、沸点が低下して調味液６２が沸騰蒸発することで（気泡が発生し）、調味液６２等がカップ容器６３からふきこぼれてしまうのを防止するために行われる（気泡を除去する）ものである。具体的には、調理室２０内を真空ポンプ４２を用いて真空引きを６５秒間行った状態から短時間に給気孔３２より大気を開放をした後、さらに真空引きを３５秒間行ってから短時間に大気を開放する過程が複数回繰り返される。
【００２４】
また、中モード（通常モード）では、詳細は後述するが、上記予備脱泡が行われた後、真空ポンプ４２を所定時間Ｔ１（例えば、４分）だけ駆動させて調理室２０内を真空状態近くまで減圧した後、調理室２０内に所定時間Ｔ２（例えば、０．３秒）だけ吸気孔３２から真空破壊用の大気を急速に送り込む（昇圧する）ような過程が実行される。強モードでは、予備脱泡が行われた後、上記の通常モード（減圧および昇圧）の過程が２回繰り返して行われる。強×２モードでは、予備脱泡が行われた後、上記の通常モード（減圧および昇圧）の過程が４回繰り返して行われるようになっている。利用者は調理対象の食材に応じて適切な調理レベルを選択することが好ましい。また、所定時間Ｔ１は、真空ポンプ４２により調理室２０内が所定の真空度（例えば、１２０パスカル）に到達するまでに掛かる時間（例えば、４分）であり、搭載される真空ポンプ４２の容量などにより異なるってくるものである。また、所定時間Ｔ２は、昇圧した気圧を調理対象物６０に一気に作用させるために必要な時間であり、所定時間Ｔ１に対してごく僅かな時間で調理対象物６０に十分作用させることが可能である。さらに、中、強、強×２モードの各モードの動作が行われる前には必ず予備脱泡が行われることで、調理室２０内で調味液６２等がカップ容器６３からふきこぼれて所望の調理ができなくなるのを防止することができる。
【００２５】
また、図４に示すように、操作パネル１３の操作により出力される操作信号は電装室４１内に設けられた制御装置４５に入力される。そして、この制御装置４５から真空ポンプ４２、開閉電磁弁３４、および真空用電磁弁３５などに各作動信号が出力されることにより、真空ポンプ４２の駆動制御や、開閉電磁弁３４および真空用電磁弁３５の開閉制御などの各種制御が行われ、真空調理のための所定の作動が行われる。
【００２６】
このような構成の真空調理装置１を用いて調理を行う場合の手順について説明する。まず、食材６１と、それを味付けするための調味液６２とをカップ容器６３に入れる。そして、真空調理装置１の蓋体５０を上方に開いて調理室２０を開放状態にし、この調理室２０内のトレイ部３１上に食材６１および調味液６２が入ったカップ容器６３を載置する。次いで、蓋体５０の下面周縁部５２を仕切部３０の上面周縁部３６（シール部材３７）に密着させるようにして蓋体５０を被せて調理室２０内を密閉した状態にする。
【００２７】
次に、操作パネル１３において所望の調理レベルの選択ボタンを選んで押した後、調理開始ボタンを押して、選択した調理レベルの真空調理をスタートさせる。このとき、利用者は調理対象の食材に応じて適切な調理レベルを選択することが好ましく、以降の説明では中モード（通常モード）が選択されているものとして説明する。
【００２８】
まず、調理開始に伴って中モード（通常モード）の動作が行われる前に、前述したような予備脱泡の動作が始まる。予備脱泡が行われることで、調理室２０内において調味液などが容器からふきこぼれて所望の調理ができなくなるのを防止することができる。
【００２９】
そして、予備脱泡が行われた後、中モード（通常モード）の動作が開始され、まず、制御装置４５により真空用電磁弁３５を開放作動させて排気孔３３および吸気パイプ４３を介して調理室２０と真空ポンプ４２とを接続するととともに、開閉電磁弁３４を閉塞作動させて調理室２０への大気の流通を塞いで調理室２０内を気密状態にする。これに合わせて、真空ポンプ４２を駆動して真空引きを開始させることにより、図２に示すように、調理室２０内に滞留する空気や、食材６１中の空気、水分などが排気孔３３および吸気パイプ４３を通して排出され、調理室２０内が真空状態近くまで減圧される。なお、調理室２０内が減圧されると、仕切部３０のシール部材３７が蓋体５０の下面周縁部５２にさらに強く密着するため、調理室２０内の気密状態は十分に保持される。そして、所定の真空度近傍まで到達する時間Ｔ１が経過すると、真空ポンプ４２の駆動が停止させる。
【００３０】
次いで、真空引きの停止に伴い、真空用電磁弁３５を閉塞作動させるとともに、開閉電磁弁３４を開放作動させる。これによって、図３に示すように、真空ポンプ４２の吸引により負圧になっていた調理室２０内へ給気孔３２から真空破壊用の大気が急速に送り込まれることで、調理室２０内の圧力（気圧）が急激に上昇して大気圧近くまで戻り、この気圧が食材６１と調味液６２とに一気に作用することにより調味液６２が食材６１内部に押し込まれるように浸透していく。これにより被調理物である食材６１の内部に調味液６２を短時間にて均一に浸透させる（味付けする）ことができる。
【００３１】
そして、調理が終了したら蓋体５０を上方に開いて調理室２０を開放状態にし、この調理室２０から食材６１が入ったカップ容器６３を取り出すことで、真空調理がされた（味付けされた）食材６１を得ることができる。
【００３２】
本真空調理装置１により調理される調理対象物６０の一例としては、食材として牛肉や豚肉などの肉類に対して調味液として焼肉のたれや、食材としてキュウリやナスなどの野菜類に対して調味液として漬物液などが適用される。
【００３３】
なお、真空調理の際、真空ポンプ４２により調理室２０を真空状態近くまで減圧すると、この調理室２０内に存在する水分などの沸点が下がって蒸発し、この水分が蒸発することで調理室２０内の熱を奪うため、調理対象物６０を含む調理室２０内の温度が低下する。したがって、調理室２０内が低温の状態で上記例示したような調理対象物６０の調理が行われるため、生鮮な食材が傷むことなく風味も良好に保たれる。
【００３４】
また、本実施形態の真空調理装置１では、調理室２０に大気を供給するための給気孔３２の孔径が、真空引きするための排気孔３３の孔径よりも大きく形成されているため、真空状態近くまで減圧されていた調理室２０内に真空破壊用の大気を送り込む際に、一気に大量の大気が調理室２０内に送り込まれることで、調理室２０内が急激に昇圧されて調味液６２の食材６１への浸透作用を促進させることができる。
【００３５】
さらに、本実施形態の真空調理装置１では、真空ポンプ４２により調理室２０内の圧力を１２０パスカル程度の高真空状態（４００パスカル以下を「高真空状態」とする）まで減圧することで、給気孔３２によりこの調理室２０内を一気に開放すると（大気を送り込むと）、調理室２０内がより昇圧されて調味液６２の食材６１への浸透作用をより促進させることができる。
【００３６】
また、調味液６２が浸透しづらい食材６１などに対しては、操作パネル１３の選択ボタンにより強モードあるいは強×２モードを選択することが好ましい。これによれば、真空ポンプ４２によって調理室２０内を所定時間Ｔ１の間だけ減圧を行った後、所定時間Ｔ２の間だけ真空破壊用の大気を急速に送り込んで調理室２０内を昇圧する過程（通常モードの過程）を数回繰り返し行うことで、調理室２０内が所定の真空度に達しやすくなって調理室２０内の真空度が向上し、これを短時間（所定時間Ｔ２で）に一気に開放する（大気を送り込む）ことで調理室２０内の昇圧した気圧により調味液６２の食材６１への浸透作用をさらに促進させることができる。
【００３７】
これまで本発明の好ましい実施形態について説明してきたが、本発明の範囲は上述の実施形態に示されたものに限定されない。例えば、上述の実施形態では、電磁開閉弁３４による給気孔３２の開放によって負圧に減圧された調理室２０内に急速に大気を導入して内圧を昇圧する構成としていたが、これに限定されるものではなく、調理室２０に高圧エアを急速に導入するためのコンプレッサを設けて構成してもよい。
【００３８】
また、上述の実施形態では、選択ボタンにより真空調理レベルを選択することで所定の過程を繰り返し実行する構成としていたが、これに限定されるものではなく、調理レベルに応じて、到達目標の真空度や、調理時間を変更するものであってもよい。
【００３９】
さらに、本発明に係る真空調理装置は、あらゆる調理対象物の調理に適用されるものである。
【００４０】
以上、本実施形態に係る真空調理装置によれば、比較的簡単な構成により、短時間にて調味液を食材の内部まで均一に浸透作用させて味付けすることが可能になり、鮮度新鮮かつ風味の優れた調理物を得ることができる。したがって、食材を調味液に漬け込むための長時間の浸透時間を必要とせず、食事の時間に合わせて直前に調理（漬け込み）を行うことが可能になる。
【符号の説明】
【００４１】
１  真空調理装置
１０  本体（容器部材）
２０  調理室
３２  給気孔
３３  排気孔
３４  開閉電磁弁（気体供給手段、開閉弁）
４２  真空ポンプ（吸引手段）
５０  蓋体（容器部材）
６０  調理対象物
６１  食材（調理対象物）
６２  調味液（調理対象物）
【図１】
2011015754.tif 000003
【図２】
2011015754.tif 000004
【図３】
2011015754.tif 000005
【図４】
2011015754.tif 000006