(57)【要約】      （修正有）【課題】ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸を小さくして、配向材の流動および拡散が阻碍されない表示パネル用基板の製造方法を提供する。【解決手段】絵素の開口部が形成されたブラックマトリックス１２が形成された表示パネル用の基板１の表面に、着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの材料となるネガ型の材料の膜を形成する工程と、着色層の材料の膜のうちのブラックマトリックス１２の開口部に形成される部分に光エネルギを照射するとともに、開口部の周縁部に形成される部分に、少ない光エネルギを照射する露光工程と、着色層の材料の膜を現像して着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成する現像工程とを含み、現像工程において、着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂにブラックマトリックス１２の重畳する重畳部１３１を形成し、重畳部１３１の厚さをブラックマトリックス１２の開口部に形成される部分に比較して薄くする。【選択図】図２
2011112702.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周縁部に突起部および凹部が交互に形成されるパターンを有する着色層の材料の膜を形成する工程と、
前記着色層の材料の膜を加熱して軟化させて前記突起部を構成する前記着色層の材料の膜を前記凹部に流動させることにより前記着色層の材料の膜の前記周縁部の厚さを薄くする工程と、
を含むことを特徴とする着色層の形成方法。
【請求項２】
前記着色層の材料の膜は感光性の材料からなり、前記着色層の材料の膜をフォトリソグラフィ法により前記周縁部に前記突起部と前記凹部とが交互に形成されるパターンに形成することを特徴とする請求項１に記載の着色層の形成方法。
【請求項３】
前記着色層の材料の膜は感光性の材料からなり、
前記周縁部に突起部および凹部が交互に形成されるパターンを有する着色層の材料の膜を形成する工程は、
着色層の材料の膜を形成する工程と、
形成された前記着色層の材料の膜に対して、遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を有するフォトマスクを用い、前記形成された着色層の材料のうちの前記パターンの周縁部となる部分に対して、前記フォトマスクの前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射する露光処理を行う露光工程と、
前記露光工程を経た前記着色層の材料の膜に現像処理を施すことにより、前記着色層の材料の膜のうちの前記フォトマスクの前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射した部分を前記突起部および前記凹部が交互に形成されるパターンに形成する現像工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の着色層の形成方法。
【請求項４】
前記感光性の材料はネガ型であり、
前記フォトマスクには所定の透光パターンが形成されるとともに、前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分は前記所定の透光パターンを囲繞するように形成され、
前記露光工程においては、前記着色層の材料の膜の所定の部分に対して前記フォトマスクの前記所定の透光パターンを通じて光エネルギを照射するとともに、前記所定の部分を囲繞する部分に前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射し、
前記現像工程において、前記着色層の材料の膜のうちの前記所定の部分を残すとともに、残された前記所定の部分の周縁部に前記突起部および前記凹部を交互に形成することを特徴とする請求項３に記載の着色層の形成方法。
【請求項５】
前記感光性の材料はポジ型であり、
前記フォトマスクには所定の遮光パターンが形成されるとともに、前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分は前記所定の遮光パターンを囲繞するように形成され、
前記露光工程においては、前記着色層の材料の膜の所定の部分に対しては前記フォトマスクの前記所定の遮光パターンを通じて光エネルギを遮断するとともに、前記所定の部分を囲繞する部分に前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射し、
前記現像工程において、前記着色層の材料の膜のうちの前記所定の部分を残すとともに、残された前記所定の部分の周縁部に前記突起部および前記凹部を交互に形成することを特徴とする請求項３に記載の着色層の形成方法。
【請求項６】
基板の表面に絵素の開口部を有するブラックマトリックスを形成する工程と、
前記ブラックマトリックスが形成された前記基板の表面に、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の着色層の形成方法により着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項７】
前記着色層を形成する工程において、
前記パターンを有する着色層の材料の膜の周縁部を前記ブラックマトリックスに重畳して形成するとともに、前記パターンを有する前記着色層の材料の膜の周縁部の厚さを薄くすることにより前記ブラックマトリックスに重畳する部分の厚さを他の部分に比較して薄くすることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の表示パネル用の基板の製造方法により着色層を有する表示パネル用の基板を製造する工程と、
前記表示パネル用の基板の表面にインクジェット方式の印刷機を用いて配向膜の材料である配向材を滴下して配向材の膜を形成する工程と、
前記表示パネル用の基板と他方の表示パネル用の基板とを貼り合わせるとともに前記表示パネル用の基板と前記他方の表示パネル用の基板との間に液晶を充填する工程と、
を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法に関するものであり、詳しくは、液晶表示パネルなどに適用される表示パネル用の基板のカラー表示用の着色層を形成する着色層の形成方法と、着色層を有する表示パネル用の基板の製造方法と、この表示パネル用の基板が適用された表示パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示パネルは、二枚の表示パネル用の基板を備える。例えば、アクティブマトリックスタイプの液晶表示パネルは、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタとを備える。そして、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタとが所定の微小な間隔をおいて対向して貼り合わせられ、それらの間に液晶が充填されるという構成を有する。
【０００３】
カラーフィルタの片側表面には、絵素を画成するブラックマトリックスと、カラー表示用の所定の色の着色層が形成される。そして、それらの表面には透明電極（共通電極）が形成され、さらに透明電極の表面には、液晶の配向を規制するための配向膜が形成される。一方、ＴＦＴアレイ基板には絵素電極が形成され、絵素電極の表面に配向膜が形成される。
【０００４】
配向膜の形成は、表示パネル用の基板の表面に配向材（＝配向膜の原料となる溶液）を塗布するなどして配向材の膜を形成し、形成した配向材の膜を焼成するという方法が用いられる。そして、配向材の膜の形成には、輪転機などの印刷機を用いる方法が広く用いられている。輪転機を用いる配向材の膜の形成方法は、印刷ローラ（＝印刷版）に配向材を塗布し、塗布した配向材を、表示パネル用の基板の表面に所定の領域に転写するというものである。この方法によれば、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に、精度良く配向材を転写（＝塗布）することができるという利点を有する。一方で、表示パネル用の基板の種類ごとに（特に、画面のサイズごとに）、専用の印刷ローラが必要となるため、設備コストや製造コストの削減が困難である。また、製造する表示パネル用の基板の種類を変更するごとに、輪転機の印刷ローラを交換する必要があるため、設備の柔軟性が低いという問題点もある。
【０００５】
そこで、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材の膜を形成する方法が採用されるようになってきている。インクジェット方式の印刷機は、滴下ノズルによって表示パネル用の基板の表面の所定の位置に配向材を滴下する。滴下された配向材は、表示パネル用の基板の表面を流動して広がっていく。そして、広がった配向材どうしが繋がって一体化することにより、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に、配向材の膜が形成される。
【０００６】
インクジェット方式の印刷機は、配向材の滴下位置や滴下範囲を容易に変更することができる。このため、一基の印刷機で、様々な種類の表示パネル用の基板に対応することができる。したがって、輪転機のように、表示パネル用の基板の種類に応じた印刷ローラを備えておく必要がなく、かつ、表示パネル用の基板の種類を変更するごとに印刷ローラを変更するという手間を省略することができる。このように、インクジェット方式の印刷機によれば、配向膜を形成するための設備コストの削減を図ることができるとともに、設備の柔軟性の向上を図ることができる。
【０００７】
ところで、表示パネル用の基板の表面には、所定の要素が形成されるため、これらの要素によって凹凸が形成されることがある。たとえば、カラーフィルタにフォトリソグラフィ法を用いて着色層を形成する構成では、ブラックマトリックスに対する着色層の位置ずれのマージンを考慮して、着色層の周縁部を、ブラックマトリックスに重畳させる構成が用いられる。このような構成によれば、着色層を形成する工程において、ブラックマトリックスに対して位置ずれした場合であっても、着色層をブラックマトリックスの開口部の全体に形成することができる（＝ブラックマトリックスの開口部に、着色層が形成されない部分が生じることを防止できる）。このような構成では、着色層の周縁部が、ブラックマトリックスの表面に重畳するため、この重畳する部分が、ブラックマトリックスおよび着色層の表面から突起する。
【０００８】
インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下して膜を形成する構成では、表示パネル用の基板の表面に凹凸が存在すると、この凹凸により、滴下された配向材の流動が阻碍されるおそれがある。そして、配向材の流動が阻碍されると、表示パネル用の基板の表面に、配向材の膜が形成されない部分が発生するおそれや、配向材の膜厚が不均一になるおそれがある。
【０００９】
配向材の膜が形成されない部分が生じないようにするためには、滴下する配向材の量を多くする構成が挙げられる。しかしながら、滴下する配向材の量を多くすると、最終的に形成される配向膜の厚さが厚くなり、液晶表示パネルの表示特性（特にガンマ特性）が悪化するおそれがある。また、配向材の使用量が増加するから、原料コストの上昇を招くおそれがある。
【００１０】
配向材の流動性の向上または流動性の低下の防止を図る構成としては、たとえば、表面張力が低い配向材を用いる構成が提案されている（特許文献１参照）。また、配向材が滴下された表示パネル用の基板に振動を加え、配向材を強制的に流動させる構成も提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、表面張力が低い配向材を用いる構成では、使用する配向材が限定される。また、表示パネル用の基板に振動を加える構成では、そのための設備が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００１−４２３３０号公報
【特許文献２】特開平３−２６６８１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記実情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、特に、着色層の周縁部をブラックマトリックスに重畳させる構成において、重畳させる部分の厚さ寸法を小さくすることにより、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、または、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることにより、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下する場合において、配向材の流動および拡散が阻碍されることを防止もしくは抑制できる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、または、使用する配向材の量を増加させることなくもしくは減少させつつ、配向材の膜が形成されない部分の発生を防止もしくは抑制することができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、または、使用する配向材の量を増加させることなくもしくは減少させつつ、配向材の膜の厚さを均一にすることができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、である。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明にかかる着色層の形成方法は、周縁部に突起部および凹部が交互に形成されるパターンを有する着色層の材料の膜を形成する工程と、前記着色層の材料の膜を加熱して軟化させて前記突起部を構成する前記着色層の材料の膜を前記凹部に流動させることにより前記着色層の材料の膜の前記周縁部の厚さを薄くする工程とを含むことを要旨とするものである。
【００１４】
前記着色層の材料の膜は感光性の材料からなり、前記着色層の材料の膜をフォトリソグラフィ法により前記周縁部に前記突起部と前記凹部とが交互に形成されるパターンに形成する構成が適用できる。
【００１５】
また、前記着色層の材料の膜は感光性の材料からなり、前記周縁部に突起部および凹部が交互に形成されるパターンを有する着色層の材料の膜を形成する工程は、着色層の材料の膜を形成する工程と、形成された前記着色層の材料の膜に対して、遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を有するフォトマスクを用い、前記形成された着色層の材料のうちの前記パターンの周縁部となる部分に対して、前記フォトマスクの前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射する露光処理を行う露光工程と、前記露光工程を経た前記着色層の材料の膜に現像処理を施すことにより、前記着色層の材料の膜のうちの前記フォトマスクの前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射した部分を前記突起部および前記凹部が交互に形成されるパターンに形成する現像工程とを含む構成であってもよい。
【００１６】
ここで、前記感光性の材料はネガ型であり、前記フォトマスクには所定の透光パターンが形成されるとともに、前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分は前記所定の透光パターンを囲繞するように形成され、前記露光工程においては、前記着色層の材料の膜の所定の部分に対して前記フォトマスクの前記所定の透光パターンを通じて光エネルギを照射するとともに、前記所定の部分を囲繞する部分に前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射し、前記現像工程において、前記着色層の材料の膜のうちの前記所定の部分を残すとともに、残された前記所定の部分の周縁部に前記突起部および前記凹部を交互に形成する構成が適用できる。
【００１７】
また、前記感光性の材料はポジ型であり、前記フォトマスクには所定の遮光パターンが形成されるとともに、前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分は前記所定の遮光パターンを囲繞するように形成され、前記露光工程においては、前記着色層の材料の膜の所定の部分に対しては前記フォトマスクの前記所定の遮光パターンを通じて光エネルギを遮断するとともに、前記所定の部分を囲繞する部分に前記遮光パターンと透光パターンとが交互に入り込んだ部分を通じて光エネルギを照射し、前記現像工程において、前記着色層の材料の膜のうちの前記所定の部分を残すとともに、残された前記所定の部分の周縁部に前記突起部および前記凹部を交互に形成する構成が適用できる。
【００１８】
本発明にかかる表示パネル用の基板の製造方法は、基板の表面に絵素の開口部を有するブラックマトリックスを形成する工程と、前記ブラックマトリックスが形成された前記基板の表面に、前記いずれかの着色層の形成方法により着色層を形成する工程と、を含むことを要旨とするものである。
【００１９】
前記着色層を形成する工程において、前記パターンを有する着色層の材料の膜の周縁部を前記ブラックマトリックスに重畳して形成するとともに、前記パターンを有する前記着色層の材料の膜の周縁部の厚さを薄くすることにより前記ブラックマトリックスに重畳する部分の厚さを他の部分に比較して薄くする構成が適用できる。
【００２０】
本発明にかかる表示パネルの製造方法は、前記いずれかの表示パネル用の基板の製造方法により着色層を有する表示パネル用の基板を製造する工程と、前記表示パネル用の基板の表面にインクジェット方式の印刷機を用いて配向膜の材料である配向材を滴下して配向材の膜を形成する工程と、前記表示パネル用の基板と他方の表示パネル用の基板とを貼り合わせるとともに前記表示パネル用の基板と前記他方の表示パネル用の基板との間に液晶を充填する工程と、を含むことを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明にかかる着色層の形成方法および本発明にかかる表示パネル用の製造方法によれば、着色層の周縁部のうち、ブラックマトリックスに重畳する重畳部の厚さを薄くすることができるから、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法（特に高さ寸法）を小さくすることができる。
【００２２】
すなわち、ブラックマトリックスの開口部の内側に隙間なく着色層を形成するため、着色層を形成する際の位置ずれや寸法公差などを考慮し、着色層の外形の寸法を、ブラックマトリックスの開口部の寸法よりも大きくする。しかしながら、このような構成では、着色層の周縁部に、ブラックマトリックスの表面に重畳する重畳部が形成される。このため、重畳部が、ブラックマトリックスおよび各色の着色層の表面から突起し、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に凹凸が形成される。そして、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に凹凸が形成されると、それらの表面に他の所定の要素を形成する際に、この凹凸が悪影響を与えることがある。
【００２３】
本発明にかかる着色層の形成方法および本発明にかかる表示パネル用の製造方法によれば、位置ずれや寸法公差などに起因して着色層の形成が不完全となる（＝ブラックマトリックスの開口部に着色層が形成されない部分が生じる）ことを防止しつつ、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる。このため、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に、他の所定の要素を形成する場合において、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸が、他の所定の要素の形成にあたえる悪影響をなくすことができるか、または小さくすることができる。
【００２４】
たとえば、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下して配向材の膜を形成する場合において、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されなくなる。このため、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に、配向材の膜が形成されない部分が発生することを防止できる。かつ、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。さらに、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されないから、配向材の滴下量を少なくしても、配向材の膜が形成されない部分が生じることが防止できるとともに、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。
【００２５】
このため、最終的に形成される配向膜の厚さを厚くすることなく、または薄くしつつ、配向膜が形成されない部分が生じることを防止でき、かつ膜の厚さを均一にすることができる。このため、配向膜が部分的に形成されないことによる不良の発生、配向膜の厚さが厚くなることに起因する表示特性の低下、膜厚が不均一なことに起因する表示ムラの発生を、それぞれ防止または抑制することができる。さらに、配向材の使用量を増加させる必要がないから、または使用する量を削減することができるから、材料コストの上昇の防止または材料コストの削減を図ることができる。
【００２６】
本発明にかかる表示パネルの製造方法によれば、表示パネル用の基板の表面（に形成される透明電極）に配向材をインクジェット方式の印刷機を用いて滴下して配向材の膜を形成する工程において、配向材の膜が形成されない部分が生じることを防止できる。さらに、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。このため、最終的に形成される配向膜の厚さを均一にすることができる。したがって、前記作用効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の概略構成を模式的に示した外観斜視図である。
【図２】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成される絵素の一つを抜き出して示した模式図であり、（ａ）は、絵素の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線断面図であって、絵素の断面構造を示した断面図である。
【図３】（ａ）は、本発明の実施形態にかかる表示パネルの製造方法におけるブラックマトリックス形成工程を模式的に示した断面図であり、（ｂ）は、本発明に実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の着色層形成工程において、着色層の材料の膜（第一の着色層の材料の膜または第二の着色層の材料の膜）を形成する工程を模式的に示した断面図である。
【図４】第一の着色層の材料の膜の露光工程において使用されるフォトマスク（第一のフォトマスク）の一部の構成を模式的に示した平面図であり、（ａ）は、透光パターンの配列の態様を示し、（ｂ）は、透光パターンの構成を示す。
【図５】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の着色層形成工程における露光工程（露光処理）を模式的に示した断面図である。
【図６】着色層形成工程における現像工程（＝現像処理を経た本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板に構成）を模式的に示した断面図である。
【図７】現像された第一の着色層の材料の膜の構成を、模式的に示した平面図である。
【図８】第二の着色層の材料の膜の露光工程において使用されるフォトマスク（第二のフォトマスク）の一部の構成を、模式的に示した平面図であり、（ａ）は、遮光パターンの配列の態様を示し、（ｂ）は、遮光パターンの構成を示す。
【図９】着色層形成工程における露光工程（露光処理）を模式的に示した断面図である。
【図１０】ポストベークにおけるパターニングされた所定の色の着色層の状態を示した図であり、（ａ）は、ポストベーク前（または開始時）の状態、（ｂ）はポストベーク中の状態、（ｃ）はポストベーク後（または終了時）の状態を示す。
【図１１】（ａ）は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の着色層形成工程の完了後の状態を模式的に示した断面図であり、（ｂ）は、透明電極形成工程を模式的に示した断面図である。
【図１２】本発明の実施形態にかかる表示パネルの一部の断面構造を、模式的に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下に、本発明の各種実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００２９】
まず、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１について説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、カラー表示用の所定の色の着色層（「着色パターン」と称することもある）が形成される表示パネル用の基板であり、液晶表示パネルに適用されるカラーフィルタである。
【００３０】
図１は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の概略構成を模式的に示した外観斜視図である。図２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１に形成される絵素を抜き出して示した模式図である。それぞれ、図２（ａ）は、絵素の平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であって、絵素の断面構造を示した断面図である。
【００３１】
図１に示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１には、表示用域１０１（「絵素領域」と称することもある。図１においては一点鎖線で囲まれる領域）と、パネル額縁領域１０２とが設けられる。表示領域１０１は、所定の数の絵素が所定の態様で配列される領域である。パネル額縁領域１０２は、表示領域１０１を囲繞するように設けられる領域である。パネル額縁領域１０２には、液晶を封止するためのシール材の層が形成されるシールパターン領域１０３が設けられる（図１においては、二点鎖線で挟まれる領域）。シールパターン領域１０３は、表示領域１０１を囲繞する帯状の領域である。
【００３２】
図１と図２のそれぞれに示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、ガラスなどからなる透明基板１１を有し、この透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２と、所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと、透明電極（「共通電極」と称することもある）１４とが形成される。なお、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１には、その他の所定の要素が設けられることがあるが、図示および説明は省略する。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、以下で説明する構成を除いては、液晶表示パネル用の従来公知のカラーフィルタと同じ構成が適用できる。
【００３３】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１に形成されるブラックマトリックス１２は、一般的なカラーフィルタのブラックマトリックスと略同じ構成が適用できる。簡単に説明すると、次のとおりである。ブラックマトリックス１２は、たとえば、遮光性の材料により形成される膜状の要素（構造物）である。遮光性の材料には、たとえば、黒色の着色剤を含有する感光性の材料（具体的にはたとえば、アクリル系の樹脂などからなる感光性の樹脂組成物）や、所定の種類の金属（具体的にはたとえばクロム（Ｃｒ）など）が適用される。ブラックマトリックス１２は、表示領域１０１においては、略格子状に形成される。すなわち、所定の形状を有する開口部が、所定の態様で配列される構成を有する。ブラックマトリックス１２に形成される各開口部が、各絵素の開口部となる。パネル額縁領域１０２においては、パネル額縁領域１０２の所定の部分を遮光するために、所定の寸法および形状に形成される。
【００３４】
ブラックマトリックス１２に形成される各開口部には、赤色の着色層１３ｒ、緑色の着色層１３ｇ、青色の着色層１３ｂのいずれかが、選択的に形成される。これらの各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、それぞれ、赤色、緑色、青色の各色の着色剤を含有する材料（たとえば、アクリル系の樹脂などからなる感光性の樹脂組成物）により形成される。
【００３５】
図２に示すように、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの外形（＝輪郭）の寸法は、ブラックマトリックス１２に形成される開口部の寸法よりも大きい。このため、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部は、ブラックマトリックス１２に重畳する。この部分を「重畳部」１３１と称する。図２（ａ）においては、図中の実線が、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの外形（輪郭）を示し、破線が、ブラックマトリックス１２に形成される開口部を示す。そして、図２（ａ）においては、実線と破線の間の領域（＝ブラックマトリックス１２の開口部および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に形成される額縁状の領域）が重畳部１３１となる。各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの重畳部１３１は、それ以外の部分（＝ブラックマトリックス１２の開口部の内部に形成される部分）に比較すると、薄く（＝高さが低く）形成される。このため、重畳部１３１のブラックマトリックス１２の表面からの突出寸法が小さくなり、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の高さ寸法が小さい。
【００３６】
ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面には、透明電極（共通電極）１４が形成される（特に、図２（ｂ）参照）。透明電極１４は、略透明な導電性の材料により形成される膜状の要素である。略透明な導電性の材料には、たとえば、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）が適用される。なお、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に、これらを保護するための保護膜が形成され、この保護膜の表面に透明電極１４が形成される構成であってもよい。
【００３７】
ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の寸法（＝高さ寸法）が小さいから、透明電極１４の表面に形成される凹凸の寸法も小さくなる。
【００３８】
また、ブラックマトリックス１２の所定の位置には、スペーサが形成されることがある（図略）。スペーサは、セルギャップ（＝液晶の層の厚さ）を規定するための突起状または柱状の要素である。スペーサは、たとえば、各色の着色層と同じ材料により形成される。なお、スペーサが形成されない構成であってもよい。さらに、透明電極１４の表面には、配向規制構造物が形成されることがある（図略）。配向規制構造物は、液晶の配向を規制するための凸状の要素であり、液晶の配向の態様に応じて所定の形状に形成される。配向規制構造物は、感光性の材料（たとえば、アクリル系の樹脂などからなる感光性の樹脂組成物）により形成される。
【００３９】
そして、透明電極１４の表面には、配向膜２２が形成される。なお、配向膜２２は、本発明の実施形態にかかる表示パネルの製造方法の所定の工程において形成される。本発明の実施形態にかかる表示パネルの製造方法については後述する。
【００４０】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法は、次のとおりである。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法は、ブラックマトリックス形成工程と、着色層形成工程と、透明電極形成工程とを含む。着色層形成工程には、本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法が適用される。着色層形成工程（＝本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法）は、着色層の材料の膜を形成する工程と、露光工程と、現像工程と、ポストベークとを含む。
【００４１】
図３（ａ）は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法におけるブラックマトリックス形成工程を示す。図３（ａ）に示すように、ブラックマトリックス形成工程においては、透明基板１１の表面にブラックマトリックス１２が形成される。ブラックマトリックス１２の形成方法は、クロムＢＭ法、樹脂ＢＭ法、転写法などといった、従来公知の各種方法が適用できる。
【００４２】
簡単に説明すると、次のとおりである。クロムＢＭ法は、透明基板１１の表面に、スパッタ法などを用いて単層または多層のクロム（Ｃｒ）の膜を形成し、形成したクロムの膜を、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法である。樹脂ＢＭ法は、透明基板１１の表面に、ＢＭレジスト（黒色の着色剤を含有する感光性の材料）の膜を形成し、形成したＢＭレジストの膜を、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法である。転写法は、感光性の材料からなり黒色の着色剤を含有するフィルムを透明基板の表面に貼り付け（＝転写またはラミネートし）、貼り付けられたフィルムを、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法である。
【００４３】
次いで、着色層形成工程において、所定のパターンを有する各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成される。所定のパターンを有する各色の着色層１３ｒ、１３ｇ，１３ｂの形成方法（＝本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法）には、フォトリソグラフィ法が適用できる。すなわち、着色層形成工程は、所定のパターンを有する着色層の材料の膜を形成する工程と、露光工程と、現像工程と、ポストベークとを含む。各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、感光性の材料であってかつリフロー可能（＝加熱すると軟化して流動する）な材料により形成される。着色層は、感光性の材料からなる。感光性の材料には、ネガ型とポジ型のいずれも適用できる。ただし、感光性の材料がネガ型である場合とポジ型である場合とでは、露光工程の内容が相違する。したがって、相違する部分については、分けて説明する。説明の便宜上、ネガ型の感光性の材料が適用された着色層の材料の膜を「第一の着色層の材料の膜」と称して符号「５０１」を付して示し、ポジ型の感光性の材料が適用された着色層の材料の膜を、「第二の着色層の材料の膜」と称して符号「５０２」を付して示す。
【００４４】
図３（ｂ）は、本発明に実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の着色層形成工程において、着色層の材料の膜（第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２）を形成する工程を模式的に示した断面図である。図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリックス１２が形成された透明基板１１の表面に、所定の色（＝赤色、緑色、青色もいずれか一色）の着色剤を含有する第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２が形成される。第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２は、ブラックマトリックス１２の開口部の内側に形成されるとともに、ブラックマトリックス１２の表面にも、ブラックマトリックス１２に重畳するように形成される。
【００４５】
第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の形成方法は特に限定されるものではないが、たとえば、スピンコータやスリットコータなどを用いて、透明基板１１の表面に、第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の原料である溶液（たとえば、所定の色の着色剤を含有する感光性の樹脂組成物の溶液）を塗布し、その後、プリベーク（「ソフトベーク」と称することもある）により硬化させるという方法が適用できる。
【００４６】
そして、露光工程において、形成された第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２に、露光処理が施される。
【００４７】
まず、第一の着色層の材料の膜５０１の露光工程について説明する。図４は、第一の着色層の材料の膜５０１の露光工程において使用されるフォトマスク６０１の一部の構成を、模式的に示した平面図である。説明の便宜上、第一の着色層の材料の膜の露光工程において使用されるフォトマスクを、「第一のフォトマスク」と称する。それぞれ図４（ａ）は、第一のフォトマスク６０１に形成される透光パターン６０１２の配列の態様を示し、図４（ｂ）は、透光パターン６０１２の構成を示す。
【００４８】
図４（ａ），（ｂ）に示すように、第一のフォトマスク６０１には、遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２とが形成される。遮光パターン６０１１は、露光処理において使用する露光機が発する光エネルギを遮断するパターンである。透光パターン６０１２は、光エネルギを透過させることができるパターンである。遮光パターン６０１１、透光パターン６０１２の具体的な構成は、次のとおりである。
【００４９】
透光パターン６０１２は、第一の着色層の材料の膜５０１の露光工程において、第一の着色層の材料の膜の所定の部分にたいして、露光機が発する光エネルギを照射できる構成を有する。「所定の部分」とは、具体的には、ブラックマトリックス１２に形成される所定の一部の開口部の内部（＝ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分）をいう。また、「所定の一部の開口部」とは、ある所定の一色の着色層が形成される開口部をいう。すなわち、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が、赤色の着色層１３ｒ、緑色の着色層１３ｇ、青色の着色層１３ｂの三色の着色層を有する構成であれば、これら三色のうちの一色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成される開口部をいう。
【００５０】
遮光パターンは、第一の着色層の材料の膜５０１の露光工程において、ブラックマトリックス１２（＝第一の着色層の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分）に対して、露光機が発する光エネルギを照射しないようにできる（＝光エネルギを遮断する）構成を有する。
【００５１】
遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２の境界線は、つづら折り状の形状を有する。具体的には、遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２との境界には、遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２のそれぞれに、所定の長さおよび所定の幅を有し外側に向かって突出する突起部６０１５，６０１６と、内側に向かって入り込む凹部が、交互に形成される。そして、遮光パターン６０１１の突起部６０１５が、透光パターン６０１２の凹部（＝透光パターン６０１２の突起部６０１６どうしの間）に入り込み、透光パターン６０１２の突起部６０１６が、遮光パターン６０１１の凹部（＝遮光パターン６０１１の突起部６０１５どうしの間）には入り込む構成を有する。このように、遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２との境界には、遮光パターン６０１１（の突起部６０１５）と透光パターン６０１２（の突起部６０１６）とが、交互に入り込む構成を有する部分が形成される。
【００５２】
そして、遮光パターン６０１１の突起部６０１５と透光パターン６０１２の突起部６０１６は、第一の着色層の材料の膜５０１の露光工程において、ブラックマトリックス１２の表面のうち、ブラックマトリックス１２に形成される開口部近傍で開口部を囲繞する領域（＝第一の着色層の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分であって、開口部の近傍において開口部を囲繞する部分）に投影される構成を有する。
【００５３】
そして、露光工程において、第一の着色層の材料の膜５０１に露光処理が施される。図５は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の着色層形成工程における露光工程（露光処理）を模式的に示した断面図である。
【００５４】
図５に示すように、露光処理においては、第一のフォトマスク６０１の透光パターン６０１２（透光パターン６０１２の突起部６０１６を含む）が投影される部分には、光エネルギが照射される。具体的には、第一の着色層の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２の開口部の内部に形成される部分には、第一のフォトマスク６０１の透光パターン６０１２を通じて光エネルギが照射される。さらに、第一の着色層の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分の所定の一部（ブラックマトリックスに形成される開口部の近傍であって、開口部を囲繞する額縁状の部分の一部）には、透光パターン６０１２の突起部６０１６を通じて光エネルギが照射される。
【００５５】
一方、第一のフォトマスク６０１の遮光パターン６０１１（遮光パターン６０１１の突起部６０１５を含む）が投影される部分には、光エネルギが照射されない。具体的には、第一の着色層の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分であって開口部の近傍以外の部分には光エネルギが照射されない。さらに、第一の着色層の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分の所定の一部（ブラックマトリックスに形成される開口部の近傍であって、開口部を囲繞する額縁状の部分の一部）には、突起部６０１５により光エネルギが遮断されて照射されない。
【００５６】
このように、第一の着色層の材料の膜５０１のうち、所定の部分には、透光パターン６０１２を通じて光エネルギが照射され、所定の部分を囲繞する部分（＝ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分であって開口部の近傍の部分（＝所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部となる部分））には、第一のフォトマスク６０１に形成される遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２とが交互には入り込んだ部分を通じて、光エネルギが照射される。
【００５７】
そして、現像工程において、露光工程を経た第一の着色層の材料の膜５０１に、現像処理が施される。図６は、着色層形成工程における現像工程（＝現像処理を経た本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板に構成）を模式的に示した断面図である。図７は、現像された第一の着色層の材料の膜の構成を、模式的に示した平面図である。図６と図７に示すように、第一の着色層の材料の膜５０１のうち、第一のフォトマスク６０１の遮光パターン６０１１（遮光パターン６０１１の突起部６０１５を含む）が投影された部分（＝光エネルギが遮断されて照射されなかった部分）は、現像液に溶解して除去される。一方、透光パターン６０１２が投影された部分（＝光エネルギが照射された部分）は、現像液に溶解せずに残る。
【００５８】
したがって、ブラックマトリックス１２が形成された透明基板１１の表面には、第一のフォトマスク６０１の透光パターン６０１２（突起部６０１６を含む）の形状および寸法に応じて、外周に突起部５１と凹部５２とが交互に配列するパターンに形成された第一の着色層の材料の膜５０１が残る。すなわち、図６と図７のそれぞれに示すように、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に、それぞれ隙間なく第一の着色層の材料の膜５０１が形成される。さらに、形成された第一の着色層の材料の膜５０１の周縁部の突起部５１が、ブラックマトリックス１２の表面（特に、開口部の近傍）に重畳する。すなわち、突起部５１と凹部５２とが交互に配列するように形成される部分が、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される。
【００５９】
次に、着色層の材料の膜がポジ型である場合の露光工程（＝第二の着色層の材料の膜５０２の露光工程）について説明する。図８は、第二の着色層の材料の膜５０２の露光工程において使用されるフォトマスク６０２の一部の構成を、模式的に示した平面図である。説明の便宜上、第一の着色層の材料の膜の露光工程において使用されるフォトマスクを、「第二のフォトマスク」と称する。それぞれ図８（ａ）は、第二のフォトマスク６０２に形成される遮光パターン６０２１の配列の態様を示し、図８（ｂ）は、遮光パターン６０２１の構成を示す。
【００６０】
図８に示すように、第二のフォトマスク６０２には、遮光パターン６０２１と透光パターン６０２２とが形成される。遮光パターン６０２１は、露光処理において使用する露光機が発する光エネルギを遮断するパターンである。透光パターン６０２２は、光エネルギを透過させることができるパターンである。第二のフォトマスク６０２は、第一のフォトマスク６０１の遮光パターン６０１１と透光パターン６０１２とが入れ替わったような構成を有する。具体的には、次のとおりである。
【００６１】
透光パターン６０２２は、第二の着色層の材料の膜５０２の露光工程において、ブラックマトリックス１２（＝第二の着色層の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分）に対して、露光機が発する光エネルギを照射できる（＝光エネルギを透過できる）構成を有する。
【００６２】
遮光パターン６０２１は、第二の着色層の材料の膜５０２の露光工程において、第二の着色層の材料の膜のうちの所定の部分に対して光エネルギが照射されないようにできる（光エネルギを遮断できる）構成を有する。「所定の部分」および「所定の一部の開口部」は、第一の着色層の材料の膜５０１の現像工程と同じである。
【００６３】
遮光パターン６０２１に突起部６０２５が形成される構成、透光パターン６０２２に突起部６０２６が形成される構成、および遮光パターン６０２１と透光パターン６０２２との境界に、遮光パターン６０２１（の突起部６０２５）と透光パターン６０２２（の突起部６０２６）どうしが入り組む部分が形成される構成は、第一のフォトマスクと同じ構成が適用される。したがって、説明は省略する。そして、第二のフォトマスク６０２には、遮光パターン６０２１を囲繞するように、遮光パターン６０２１（の突起部６０２５）と透光パターン６０２２（の突起部６０２６）どうしが入り組む部分が形成される。
【００６４】
そして、露光工程において、第二の着色層の材料の膜５０２に露光処理が施される。図９は、着色層形成工程における露光工程（露光処理）を模式的に示した断面図である。
【００６５】
図９に示すように、露光処理においては、第二のフォトマスク６０２の透光パターン６０２２（透光パターン６０２２の突起部６０２６を含む）が投影される部分には、光エネルギが照射される。具体的には、第二の着色層の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分であって開口部の近傍以外の部分に対して光エネルギが照射される。さらに、第二の着色層の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分の所定の一部（ブラックマトリックスに形成される開口部の近傍であって、開口部を囲繞する額縁状の部分の一部）にも、透光パターン６０１２の突起部６０２６を通じて光エネルギが照射される。
【００６６】
一方、第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１（遮光パターン６０２１の突起部６０２５を含む）が投影される部分には、光エネルギが照射されない。具体的には、第二の着色層の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２の開口部の内部に形成される部分には、第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１により光エネルギが遮断されて照射されない。さらに、第二の着色層の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分の所定の一部（ブラックマトリックス１２に形成される開口部の近傍であって、開口部を囲繞する額縁状の部分の一部）には、遮光パターン６０２２の突起部６０２５により光エネルギが遮断されて照射されない。
【００６７】
このように、第二の着色層の材料の膜５０２のうち、所定の部分に対しては光エネルギが遮断されて照射されず、所定の部分を囲繞する部分（＝ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分であって開口部の近傍の部分（＝所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部となる部分））には、第二のフォトマスク６０２に形成される遮光パターン６０２１と透光パターン６０２２とが交互には入り込んだ部分を通じて、光エネルギが照射される。
【００６８】
そして、現像工程において、露光工程を経た第二の着色層の材料の膜５０２に、現像処理が施される。図６と図７を参照して説明する。図６と図７に示すように、第二の着色層の材料の膜５０２のうち、第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１（遮光パターン６０２１の突起部６０２５を含む）が投影された部分（＝光エネルギが遮断されて照射されなかった部分）は、現像液に溶解せずに残る。一方、透光パターン６０２２が投影された部分（＝光エネルギが照射された部分）は、現像液に溶解して除去される。
【００６９】
したがって、ブラックマトリックス１２が形成された透明基板１１の表面には、第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１（突起部６０２５を含む）の形状および寸法に応じて、外周に突起部５１と凹部５２とが交互に配列するパターンに形成された第二の着色層の材料の膜５０２が残る。すなわち、図６と図７のそれぞれに示すように、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に、それぞれ隙間なく第二の着色層の材料の膜５０２が形成されるとともに、形成された第二の着色層の材料の膜５０２の周縁部の突起部５１が、ブラックマトリックス１２の表面（特に、開口部の近傍）に重畳する。
【００７０】
このように、着色層の材料の膜は、ネガ型であってもポジ型であってもよい。
【００７１】
次いで、現像工程を経た第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２に、ポストベーク（「アフターベーク」と称することもある）される。ポストベークは、残留した現像液の除去や、第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の基板への密着性の強化などを目的として、現像工程の後に行われる熱処理（＝加熱処理）である。
【００７２】
図１０は、ポストベークにおけるパターニングされた所定の色の着色層の状態を示した図であり、図１０（ａ）は、ポストベーク前（または開始時）の状態、図１０（ｂ）はポストベーク中の状態、図１０（ｃ）はポストベーク後（または終了時）の状態を示す。
【００７３】
図１０（ａ）に示すように、現像工程を経た第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の周縁部には、突起部５１および凹部５２が交互に形成される。すなわち、第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の輪郭線Ｌは、凹凸が連続する形状を有する。そして、ポストベークが開始されると、図１０（ｂ）に示すように、第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２が軟化して流動する。具体的には、突起部５１を形成する第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２が、凹部５２に向かって拡がるように流れる。図中の矢印は、第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の流動の向きを模式的に示す。そして、流動がさらに進行すると、図１０（ｃ）に示すように、第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の輪郭線Ｌが略直線となる。
【００７４】
第一の感光性の膜５０１の突起部５１であった部分、および凹部５２であった部分が、所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの重畳部１３１となる。
【００７５】
第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の突起部５１が軟化して凹部５２に流出すると、流出した体積の分だけ、厚さが減少する。このため、ポストベーク後における第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２の周縁部（突起部５１であった部分、および凹部５２であった部分に流出した第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２）は、ポストベーク前に比較して厚さが薄くなる。したがって、透明基板１１の表面に残った第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２に重畳する部分（＝所定の色の着色層の重畳部となる部分）は、ブラックマトリックス１２の開口部の内側に形成される部分に比較して、厚さが薄くなる。
【００７６】
このような工程を経ると、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に、所定の一色の着色層（図においては、例として赤色の着色層１３ｒを示す）が形成される。そして、所定の一色の着色層の周縁部には、突起部５１および突起部５１から流出した第一の着色層の材料の膜５０１または第二の着色層の材料の膜５０２により、ブラックマトリックス１２に重畳する重畳部１３１が形成される。重畳部１３１の厚さは、ブラックマトリックスの開口部の内側に形成される部分に比較して薄くなる。
【００７７】
図１１（ａ）は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の着色層形成工程の完了後の状態を示す。図１１（ａ）に示すように、前記着色層形成工程を、他の色の着色層（図１１（ａ）においては、例として緑色の着色層１３ｇと青色の着色層１３ｂを示す）についても同様に行う。この工程を経ると、ブラックマトリックス１２の各開口部に、それぞれ所定の色の着色層１３ｒ、１３ｇ，１３ｂが形成される。なお、前記説明以外の構成は、従来公知の着色感材法が適用できる。
【００７８】
このような構成によれば、所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に、ブラックマトリックス１２の表面に重畳する重畳部１３１を形成することができる。そして、この重畳部１３１の厚さを、他の部分（＝開口部の内側に形成される部分）に比較して薄くすることができる。
【００７９】
すなわち、ブラックマトリックス１２の開口部の内側に、隙間なく各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成するため、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成する際の位置ずれや寸法公差などを考慮し、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの外形の寸法を、ブラックマトリックスの開口部の寸法よりも大きくする。しかしながら、このような構成では、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に、ブラックマトリックス１２の表面に重畳する重畳部１３１が形成される。このため、重畳部１３１が、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面から突起し、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に凹凸が形成される。
【００８０】
本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法によれば、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部のうち、ブラックマトリックス１２に重畳する重畳部１３１の厚さを薄くすることができるから、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の寸法（特に高さ寸法）を小さくすることができる。このように、本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法によれば、位置ずれや寸法公差などに起因して各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの形成が不完全となる（＝ブラックマトリックス１２の開口部に各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成されない部分が生じる）ことを防止しつつ、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる。
【００８１】
なお、第一のフォトマスク６０１の透光パターン６０１２の突起部６０１６の長さと幅と間隔、および第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１の突起部６０２５の長さと幅と間隔（すなわち、第一の着色層の材料の膜または第二の着色層の材料の膜に形成される突起部の長さと幅と間隔）は、第一の着色層の材料の膜や第二の着色層の材料の膜の特性（特に、ポストベークにおける流動性）や、重畳部の厚さなどに応じて適宜設定される。
【００８２】
図１１（ｂ）は、透明電極形成工程を示す。図１１（ｂ）に示すように、透明電極形成工程において、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂおよびブラックマトリックス１２の表面に、透明電極１４が形成される。透明電極１４の形成方法は特に限定されるものではなく、マスキング法やフォトリソグラフィ法など、従来公知の各種の方法が適用できる。
【００８３】
例えば、マスキング法であれば、前記工程を経た透明基板１１の表面（すなわち、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面）に、所定のパターンの開口部（すなわち、透明電極１４のパターンの開口部）が形成されたマスクが配置され、スパッタリング法などによって、透明な導電性材料が、マスクに形成される開口部を通じて、前記工程を経た透明基板１１の表面に蒸着される。これにより、前記工程を経た透明基板１１の表面に、所定のパターンの透明電極が形成される。また、フォトリソグラフィ法によれば、前記工程を経た透明基板１１の表面に、透明な導電性材料の膜が形成され、形成された導電性材料の膜が、エッチングによって透明電極１４のパターンにパターニングされる。このエッチングには、たとえば塩化第二鉄を用いたウェットエッチングが適用できる。
【００８４】
なお、透明電極形成工程の後に、透明電極１４の表面に、配向規制構造物が形成されることがある。配向規制構造物の形成方法は特に限定されるものではなく、たとえば、感光性の材料をフォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が適用できる。
【００８５】
以上の工程を経て、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が製造される。
【００８６】
次に、本発明の実施形態にかかる表示パネル２について説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が適用された液晶表示パネルである。
【００８７】
図１２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル２の一部の断面構造を、模式的に示した断面図である。図１２に示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１とを備える。そして、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１とが、それぞれのシールパターン領域１０３，２０３に形成されたシール材２４によって、所定の微小な間隔をおいて対向して貼り合わせられる。そして、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１の間のうち、シール材２４に囲繞される領域に、液晶２５が充填される。
【００８８】
本発明の実施形態にかかる表示パネル２のＴＦＴアレイ基板２１には、従来公知の構成を有するＴＦＴアレイ基板が適用できる。したがって、説明は省略する。
【００８９】
次に、本発明の実施形態にかかる表示パネル１の製造方法について説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル１の製造方法は、カラーフィルタ製造工程と、ＴＦＴアレイ基板製造工程と、パネル製造工程（「セル製造工程」と称することもある）とを含む。カラーフィルタ製造工程は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法で説明したとおりである。ＴＦＴアレイ基板製造工程は、従来公知の方法が適用できる。したがって、説明は省略する。
【００９０】
パネル製造工程の内容は、次のとおりである。パネル製造工程においては、まず、前記製造方法により製造された本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１のそれぞれの表面に、配向膜２２，２３が形成される。次いで、形成された配向膜２２，２３の表面に配向処理が施される（なお、配向処理が施されない場合もある）。次いで、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１とが貼り合わせられるとともに、これらの間に液晶２５が充填される。
【００９１】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面に配向膜を形成する方法は、次のとおりである。まず、インクジェット方式の印刷機を用いて、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面の表示領域１０１に、配向材を滴下する。配向材とは、配向膜の原料となる物質（一般的にはポリイミド）を含有する溶液をいう。
【００９２】
滴下された配向材は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面を流動して拡散する。そして、拡散した配向材どうしが繋がり、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面の表示領域１０１の全体にわたって、配向材の膜が形成される。次いで、塗布された配向材は、配向膜焼成装置などを用いて加熱され、焼成される。これにより、配向膜２２が形成される。
【００９３】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１においては、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に形成される重畳部１３１の高さが、開口部に形成される部分よりも低く形成される。また、重畳部１３１はなだらかになる。このため、重畳部１３１が配向材の流動および拡散を阻碍しない。したがって、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面の表示領域１０１に、配向材の膜が形成されない部分が生じることや、配向材の膜の厚さが不均一となることを防止できる。
【００９４】
さらに、配向材の膜が形成されないようにするために滴下する配向材の量を多くする構成と比較すると、最終的に形成される配向膜２２の厚さを薄くすることができる（または厚くする必要がない）。したがって、配向膜２２の厚さが厚くなることによるガンマ特性の低下を防止することができる（換言すると、配向膜２２の厚さを薄くすることができ、ガンマ特性の向上を図ることができる）。また、配向材の滴下量を増加させる必要がないか、または配向材の量を削減することができるから、材料コストの上昇の防止または材料コストの削減を図ることができる。
【００９５】
次いで、配向処理装置を用いて、焼成した配向膜２２，２３に配向処理を施す。配向処理は、液晶の配向を規定するために、配向膜２２，２３の表面性状を調整する処理である。配向処理は、植毛布などで配向膜の表面を擦るラビング方式や、配向膜２２，２３に光エネルギを照射して配向させる光配向方式など、公知の各種配向処理方法が適用できる。また、配向膜２２，２３に配向処理を施さない構成であってもよい。
【００９６】
なお、ＴＦＴアレイ基板２１の表面に配向膜２３を形成する方法、および配向処理を施す方法は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と同じ方法が適用できる。
【００９７】
次いで、シールパターニング装置などを用いて、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１のいずれか一方のパネル額縁領域１０２，２０２のシールパターン領域１０３，２０３に、シール材２４が塗布される。そして、シール材２４により囲繞される領域に、液晶２５が滴下される。
【００９８】
次いで、減圧雰囲気下において、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１とが貼り合わせられる。そして、シール材２４を固化させる。たとえば、シール材として、紫外線硬化型の樹脂材料が適用される構成であれば、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１とが貼り合わせられた後、シール材２４に紫外線を照射して固化させる。なお、シール材２４を固化させた後に、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１との間に液晶２５を注入する構成であってもよい。
【００９９】
以上の工程を経て、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が適用された液晶表示パネル２が製造される。
【０１００】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の製造方法によれば、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面（に形成される透明電極１４の表面）に、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下して配向材の膜２２を形成する場合において、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されなくなる。このため、配向材の膜が形成されない部分が発生することを防止できる。かつ、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。さらに、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されないから、配向材の滴下量を少なくしても、配向材の膜が形成されない部分が生じることが防止できるとともに、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。
【０１０１】
そして、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法によれば、配向膜２２を薄く均一な厚さで形成することができる。したがって、配向膜２２の厚さが厚くなることに起因するガンマ特性の低下の防止、または配向膜２２の厚さを薄くすることによるガンマ特性の向上を図ることができる。さらに、配向膜２２の厚さを均一にできるから、配向膜２２の厚さが不均一なことに起因する表示ムラの発生を防止または抑制できる。
【０１０２】
さらに、配向膜２２を薄く形成することにより、配向材の量を少なくすることができるから、製造コストや材料コストの削減を図ることができる。
【０１０３】
また、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の製造方法によれば、配向材が滴下された表示パネル用の基板に振動を加えることにより配向材の流動および拡散を促す構成とは異なり、振動を加えるための設備が不要であるから、設備コストの上昇を招かない。また、表面張力が低い配向材を使用する構成とは異なり、配向材の種類は限定されない。
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
以上、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変が可能である。
【０１０５】
たとえば、前記実施形態にかかる液晶表示パネルは、二枚の表示パネル用の基板のうちの一方にカラーフィルタが適用され、他方にＴＦＴアレイ基板が適用される構成を有するが、本発明は、このような構成に限定されるものではない。たとえば、二枚の表示パネル用の基板の一方に、絵素電極、絵素電極を駆動するためのスイッチング素子、ブラックマトリックス、各色の着色層が形成される構成であってもよい。すなわち、ブラックマトリックスと所定の色の着色層が形成される表示パネル用の基板であって、所定の色の着色層が、感光性の材料によりフォトリソグラフィ法を用いて形成される構成であれば、その他の構成に関わりなく適用できる。
【０１０６】
また、前記実施形態においては、着色層の形成方法に適用される構成を示したが、フォトリソグラフィ法により形成される要素であれば、着色層以外の要素にも適用できる。
【符号の説明】
【０１０７】
１  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板
１０１  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の表示領域
１０２  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板のパネル額縁領域
１０３  パネル額縁領域に形成されるシールパターン領域
１１  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の透明基板
１２  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板のブラックマトリックス
１３ｒ  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の赤色の着色層
１３ｇ  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の緑色の着色層
１３ｂ  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の青色の着色層
１３１  着色層の重畳部
１４  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の透明電極
２  本発明の実施形態にかかる表示パネル
２１  ＴＦＴアレイ基板
２２  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成された配向膜
２３  ＴＦＴアレイ基板に形成された配向膜
２４  シール材
２５  液晶
５０１  第一の着色層の材料の膜
５０２  第二の着色層の材料の膜
６０１  第一のフォトマスク
６０１１  第一のフォトマスクの遮光パターン
６０１２  第一のフォトマスクの透光パターン
６０２  第二のフォトマスク
６０２１  第二のフォトマスクの遮光パターン
６０２２  第二のフォトマスクの透光パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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