(57)【要約】【課題】パルスの開始電圧を任意に設定することのできるパルス発生器およびパルス発生方法を提供する。【解決手段】標準パルス発生器では、充電電源１１と、キャパシタ１２と、水銀リレー１３とが接続されている。キャパシタ１２は、それぞれ異なる周波数−インピーダンス特性を有する複数のキャパシタが並列接続されて構成される。水銀リレー１３は、オシロスコープ１４に接続される。パルスの出力部には抵抗Ｒ４を介して電源１５が接続している。電源１５は、出力電圧Ｖ２を任意に設定可能である。また、出力部には可変抵抗Ｒ５を有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電荷を供給する第１の電源と、
周波数−インピーダンス特性の異なる複数のコンデンサが並列に接続され、前記第１の電源から供給される電荷を貯めるキャパシタと、
前記キャパシタに貯められた所定量の電荷を放出してパルスを発生させるリレーとを備えたパルス発生器であって、
前記パルスの出力部に抵抗を介して接続する第２の電源を有することを特徴とするパルス発生器。
【請求項２】
前記パルスの出力部に可変抵抗を有することを特徴とする請求項１に記載のパルス発生器。
【請求項３】
前記リレーは波形測定器に接続されることを特徴とする請求項１または２に記載のパルス発生器。
【請求項４】
周波数−インピーダンス特性の異なる複数のコンデンサを並列に接続してキャパシタを構成し、前記キャパシタに電荷を供給して蓄電し、リレーによって前記電荷を放出してパルスを発生させるパルス発生方法であって、
前記パルスの出力部に抵抗を介して電源を接続し、前記抵抗と前記電源の出力電圧の各値を選択することにより、任意の開始電圧で前記パルスを発生させることを特徴とするパルス発生方法。
【請求項５】
前記パルスの出力部に可変抵抗を設け、前記可変抵抗の値を調整して任意の立ち上がり時間で前記パルスを発生させることを特徴とする請求項４に記載のパルス発生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パルス発生器およびパルス発生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大規模集積回路（ＬＳＩ）の高集積化および大容量化に伴い、半導体素子に要求される回路線幅は益々狭くなっている。半導体素子は、回路パターンが形成された原画パターン（マスクまたはレチクルを指す。以下では、マスクと総称する。）を用い、いわゆるステッパと呼ばれる縮小投影露光装置でウェハ上にパターンを露光転写して回路形成することにより製造される。こうした微細な回路パターンをウェハに転写するためのマスクの製造には、微細パターンを描画可能な電子ビーム描画装置が用いられる。また、レーザビームを用いて描画するレーザビーム描画装置の開発も試みられている。尚、電子ビーム描画装置は、ウェハに直接パターン回路を描画する場合にも用いられる。
【０００３】
特許文献１には、可変成形型電子ビーム描画装置の一例が開示されている。こうした装置における描画データは、ＣＡＤシステムを用いて設計された半導体集積回路などの設計データ（ＣＡＤデータ）に、補正や図形パターンの分割などの処理を施すことによって作成される。例えば、図形パターンの分割処理は、電子ビームのサイズにより規定される最大ショットサイズ単位で行われ、併せて、分割された各ショットの座標位置、サイズおよび照射時間が設定される。そして、描画する図形パターンの形状や大きさに応じてショットが成形されるように、描画データが作成される。
【０００４】
電子ビームで描画する際には、パターン図形に応じて準備された寸法と形状のショットが成形偏向器により形成される。具体的には、電子銃から出射された電子ビームは、第１の成形アパーチャで矩形状に成形された後、成形偏向器で第２の成形アパーチャ上に投影されて、そのビーム形状と寸法を変化させる。その後、電子ビームは、対物偏向器により偏向されて、ステージ上に載置されたマスクに照射される。
【０００５】
このような電子ビーム描画装置において、上記偏向器に用いられる制御回路には、デジタルデータをアナログデータに変換するＤＡ（Ｄｉｇｉｔａｌ  ｔｏ  Ａｎａｌｏｇ）変換器と、その出力を増幅するアンプから構成されるＤＡＣ（Ｄｉｇｉｔａｌ  ｔｏ  Ａｎａｌｏｇ  Ｃｏｎｖｅｒｔｅｒ）アンプとが用いられている。
【０００６】
電子ビーム描画のスループットを向上するには、高速且つ高精度に電子ビームを偏向することが必要であるため、ＤＡＣアンプで偏向器を目標とする偏向位置に整定するためのセトリング時間（整定時間）の短縮が要求されている。例えば、電圧が２５０Ｖ変化したときに、目標電圧から±５００μＶの範囲に５μ秒以内で整定する性能が要求される。ここで、ＤＡＣアンプの調整や評価の際には、ＤＡＣアンプの出力波形が精度よく測定できることが重要になる。しかし、例えば、オシロスコープの入力感度を５００μＶ／ＤＩＶに設定すると、オシロスコープの入力回路が飽和して正確な波形測定ができないという問題があった。
【０００７】
上記問題に対しては、例えば、スイッチまたはダイオードを用いて、観測したい電圧範囲のみがオシロスコープに入力されるようにすることによって、オシロスコープのダイナミックレンジを有効に使う方法が考えられる。しかし、この場合、スイッチやダイオードの特性が観測波形に反映されてしまうといった問題が生じる。具体的には、スイッチを用いた場合、スイッチの動特性が大きく影響する。また、ダイオードを用いた場合、ＤＡＣアンプの出力電圧が上記観測したい電圧範囲外から観測したい電圧範囲内に変動した際のダイオードのリカバリ特性が大きく影響する。こうした影響が観測波形に反映されることによって、ＤＡＣアンプの真の出力波形とは異なる波形を観測してしまうことになる。
【０００８】
一方、オシロスコープの感度をＤＡＣアンプの出力振幅が飽和しない程度まで下げ、この状態で波形を取り込んだ後、データをＡ／Ｄ変換して拡大表示させる方法も考えられる。しかし、この場合には、拡大表示することによって、オシロスコープ固有の歪みが観測波形に現れてしまうという問題がある。こうした歪みは、高速で精度のよい標準パルスを用いて補正することができる（例えば、特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平９−２９３６７０号公報
【特許文献２】特開２００９−１７１２９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、オシロスコープ固有の歪みは、パルスの開始電圧によって異なる。しかしながら、従来の標準パルス発生器の開始電圧は０Ｖであるため、０Ｖ以外を開始電圧とするＤＡＣアンプ波形に対する補正が不完全になるという問題があった。つまり、ＤＡＣアンプの出力波形から標準パルス波形を差し引いても開始電圧の差による歪みが残ってしまい、ＤＡＣアンプの純粋な出力波形は得られなかった。
【００１１】
また、標準パルス発生器の出力の立ち上がり時間よりも、ＤＡＣアンプの出力の立ち上がり時間の方が遅い場合、従来は、このＤＡＣアンプの出力波形と同じ歪みをオシロスコープに生成することはできなかった。したがって、この点からもオシロスコープ固有の歪みを十分に補正することができないという問題があった。
【００１２】
本発明は、こうした問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、パルスの開始電圧を任意に設定することのできるパルス発生器およびパルス発生方法を提供することにある。
【００１３】
また、本発明の目的は、出力パルスの立ち上がり時間を調整することのできるパルス発生器およびパルス発生方法を提供することにある。
【００１４】
本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の第１の態様は、電荷を供給する第１の電源と、
周波数−インピーダンス特性の異なる複数のコンデンサが並列に接続され、第１の電源から供給される電荷を貯めるキャパシタと、
キャパシタに貯められた所定量の電荷を放出してパルスを発生させるリレーとを備えたパルス発生器であって、
前記パルスの出力部に抵抗を介して接続する第２の電源を有することを特徴とするものである。
リレーは、機械式リレーが好ましく、特に水銀リレーが好ましい。
【００１６】
本発明の第１の態様は、パルスの出力部に可変抵抗を有することが好ましい。
【００１７】
本発明の第１の態様において、リレーは波形測定器に接続されることが好ましい。波形測定器としては、オシロスコープまたはＡ／Ｄコンバータが挙げられる。
【００１８】
本発明の第２の態様は、周波数−インピーダンス特性の異なる複数のコンデンサを並列に接続してキャパシタを構成し、キャパシタに電荷を供給して蓄電し、リレーによって電荷を放出してパルスを発生させるパルス発生方法であって、
パルスの出力部に抵抗を介して電源を接続し、抵抗と電源の出力電圧の各値を選択することにより、任意の開始電圧でパルスを発生させることを特徴とするものである。
【００１９】
本発明の第２の態様においては、パルスの出力部に可変抵抗を設け、可変抵抗の値を調整して任意の立ち上がり時間でパルスを発生させることが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の第１の態様によれば、任意の開始電圧でパルスを発生させることができる。
また、パルスの出力部に可変抵抗を設けることにより、パルスの立ち上がり時間を調整することのできるパルス発生器が提供される。
【００２１】
本発明の第２の態様によれば、パルスの開始電圧を任意に設定することのできるパルス発生方法が提供される。
また、パルスの出力部に可変抵抗を設けることで、任意の立ち上がり時間でパルスを発生させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本実施の形態による電子ビーム描画装置の構成図である。
【図２】ＤＡＣアンプに入出力される信号の回路図である。
【図３】標準パルス発生器のブロック図である。
【図４】キャパシタの構成を説明する図である。
【図５】本実施の形態で、オシロスコープに接続された標準パルス発生器の回路図である。
【図６】標準パルスとＤＡＣアンプの出力波形を比較した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１は、本実施の形態による電子ビーム描画装置の構成図である。尚、電子ビームに変えてイオンビームなどの他の荷電粒子ビームを用いた描画装置であってもよい。
【００２４】
電子ビーム描画装置は、描画部１００を備えており、描画部１００は電子鏡筒１０２を備えている。電子鏡筒１０２の内部には、電子銃１１０から出射された電子ビーム１１２を第１の成形アパーチャ１２０に照射するための照明レンズ１１４が配置されている。
【００２５】
照明レンズ１１４と第１の成形アパーチャ１２０の間には、ブランキング（ＢＬＫ）偏向器１１６と、ブランキング（ＢＬＫ）アパーチャ１１８とが設けられている。ブランキングＯＮ時（非描画期間）には、ブランキング偏向器１１６で偏向された電子ビーム１１２が、ブランキングアパーチャ１１８でカットされる。
【００２６】
電子ビーム１１２は、矩形の開口を有する第１の成形アパーチャ１２０を透過することで、その断面形状が矩形に成形される。成形された電子ビーム１１２は、投影レンズ１２２で第２の成形アパーチャ１２６に投影される。第２の成形アパーチャ１２６と第１の成形アパーチャ１２０の間には、成形偏向器１２４が設けられており、成形偏向器１２４によって、第２の成形アパーチャ１２６上の第１の成形アパーチャ像の位置が制御される。この制御により、第１の成形アパーチャ像と第２の成形アパーチャ１２６の開口との重なり具合が変化する。したがって、電子ビーム１１２の形状と寸法を制御することができる。
【００２７】
第２の成形アパーチャ１２６を透過した電子ビーム１１２の焦点は、対物レンズ１２８で描画室１０４内の試料１４２に合わせられる。試料１４２は、ＸＹステージ１４０上に載置される。ＸＹステージ１４０は、描画室１０４内を駆動回路２４４によってＸ方向（図１で紙面に平行な方向）とＹ方向（図１で紙面に垂直な方向）に連続移動する。ＸＹステージ１４０がＸ方向に連続移動することで、試料１４２上の描画領域を仮想的に分割したストライプ領域の描画が行われる。また、このストライプ領域の描画終了後にＸＹステージ１４０がＹ方向に移動し、さらに、ＸＹステージ１４０が逆向きのＸ方向に連続移動することで、次のストライプ領域の描画が行われる。ＸＹステージ１４０の移動位置は、レーザ側長計２４２によって測定される。
【００２８】
試料１４２と第２の成形アパーチャ１２６の間には、対物偏向器１３０が配置されており、対物偏向器１３０によって、試料１４２上での電子ビーム１１２の照射位置が決定される。
【００２９】
電子ビーム描画装置は、制御部２００を備えている。制御部２００は、電子ビーム描画装置の各種制御を行う制御計算機２０２を備えている。制御計算機２０２には、複数のパターンデータを記憶する記憶装置２０４と、記憶装置２０４から読み出されたパターンデータを分散し展開することで、各ショットの描画データを生成するパターンデータ処理回路２０６とが接続されている。
【００３０】
パターンデータ処理回路２０６には、ブランキング（ＢＬＫ）偏向制御回路２１０、成形偏向制御回路２２０および位置偏向制御回路２３０がそれぞれバスを介して接続している。これらの偏向制御回路２１０、２２０、２３０には、各ショットの描画データがそれぞれ送られる。そして、各偏向制御回路２１０、２２０、２３０は、受け取った描画データから偏向器制御用のデジタル信号を生成する。
【００３１】
ブランキング偏向制御回路２１０は、ブランキングＯＮ（非描画期間）と、ブランキングＯＦＦ（描画期間）とを制御するものである。ＢＬＫ（ブランキング）偏向制御回路２１０は、パターンデータ処理回路２０６からブランキングＯＮとブランキングＯＦＦの時間幅情報を受信し、この時間幅情報からタイミングパルス信号を生成してＢＬＫ（ブランキング）アンプ２１４に送る。ＢＬＫアンプ２１４は、受信したタイミングパルス信号を、ブランキング偏向器１１６の駆動可能な振幅まで増幅した後にブランキング偏向器１１６に送る。
【００３２】
ビーム形状およびサイズを制御する成形偏向制御回路２２０は、成形偏向器１２４の制御用デジタル信号を複数のＤＡＣアンプ２２２に同期をとりながら送る。各ＤＡＣアンプ２２２は、受信したデジタル信号をＤＡ変換し、ＤＡ変換後のアナログ信号を増幅した後、増幅したアナログ信号を対応する成形偏向器１２４の電極に送る。
【００３３】
試料１４２上で電子ビーム１１２の照射位置を制御する位置偏向制御回路２３０は、対物偏向器１３０の制御用のデジタル信号を、複数のＤＡＣアンプ２３２に同期をとりながら送信する。各ＤＡＣアンプ２３２は、受信したデジタル信号をＤＡ変換し、ＤＡ変換後のアナログ信号を増幅した後、増幅したアナログ信号を対応する対物偏向器１３０に送る。
【００３４】
図２は、ＤＡＣアンプに入出力される信号の回路図である。尚、以下では、図１のＤＡＣアンプ２３２を例にとり説明するが、ＤＡＣアンプ２２２についても同様である。
【００３５】
ＤＡＣアンプ２３２は、デジタル部３０１、ＤＡＣ（ＤＡコンバータ）３０２およびアナログ部３０３を備えている。デジタル部３０１には、位置偏向制御回路２３０からのデジタルデータが入力される。例えば、１６ビット（Ｈｘ８０００〜７ＦＦＦ）のデジタルデータがデジタル部３０１にパラレル入力される。入力されたデジタルデータは、例えば、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｇａｔｅ  Ａｒｒａｙ）によって構成されるロジック部３０４により所定の処理（例えば、補正処理等）が施される。
【００３６】
ロジック部３０４から出力されたデジタルデータは、ＤＡＣ３０２に入力されてアナログデータに変換される。次いで、アナログデータは、アナログ部３０３に入力される。アナログ部３０３は、アンプ回路によって構成されており、このアンプ回路によってアナログデータが増幅される。増幅されたアナログデータは、図１の対物偏向器１３０に出力されて対物偏向器１３０が制御される。
【００３７】
図３は、標準パルス発生器のブロック図である。この図に示すように、標準パルス発生器においては、電荷を供給するための充電電源１１（第１の電源）と、充電電源１１から供給される電荷を貯めるためのキャパシタ１２と、キャパシタ１２に貯められた電荷を放電するための水銀リレー１３とが接続されている。ここで、キャパシタ１２は、図４に示すように、それぞれ異なる周波数−インピーダンス特性を有する複数のキャパシタ１２a、１２ｂ、１２ｃ〜１２ｎが並列接続されて構成されている。そして、水銀リレー１３は、波形測定機器としてのオシロスコープ１４に接続される。
【００３８】
図５は、オシロスコープに接続された標準パルス発生器の回路図である。このようなパルス発生器は、例えば以下のようにして作製される。
【００３９】
まず、キャパシタ１２として複数のコンデンサを用意し、これらを並列に接続したものを水銀リレー１３に接続する。次いで、水銀リレー１３を閉じ、充電電源１１とオシロスコープ１４を接続しない状態で、周波数−出力インピーダンス特性（以下、Ｆ−Ｚ特性と称する。）をネットワークアナライザで測定する。
【００４０】
上記のコンデンサは、それぞれ規格の容量を有するとともに、それぞれ個別のＥＳＲ（寄生抵抗）とＥＳＬ（寄生インダクタンス）を有していて、周波数−インピーダンス特性が異なるものであるが、これらを複数組み合わせることで全体のインピーダンスを低下させることができる。そして、このような複数のコンデンサの組み合わせの中から、なるべく広範囲の周波数帯域でインピーダンスが一定となり、また、インピーダンス値のピーク周波数がなるべく高くなり、且つ、インピーダンス値が一番大きなピーク以外にピークを持たないようなものを、カットアンドトライで選択する。
【００４１】
以下は、コンデンサの内訳の一例である。
電界コンデンサ    ：１００μＦ×２
４７μＦ×１
１０μＦ×１
フィルムコンデンサ：  １０μＦ×１
マイカコンデンサ  ：  ４３μＦ×１
０．５μＦ×１
３３ｐＦ×１
【００４２】
上記のようにして選択されたコンデンサを全て並列に接続する。そして、並列に接続されたコンデンサを、水銀リレー１３に接続して、標準パルス発生器とする。
【００４３】
尚、水銀リレー１３は、機械式リレーの一例である。一方、一般的なパルス発生器では、機械的な接触がなく、繰り返し周期も速い、半導体回路が出力段に用いられることが多い。しかし、オシロスコープの校正を目的とする場合、リレーに対しては、波高値が例えば０〜数百Ｖといった広い電圧範囲で速い立ち上がり時間（例えば、１ｎ秒）のパルスを発生できることや、立ち上がり以降の電圧安定性が高いことが要求される。ここで、半導体回路を出力段に用いたパルス発生器は、自己消費電力により発熱するので、サーマルテールが生じ、またリンギングなどによって、立ち上がり以降の電圧安定性が得難いという問題がある。一方、機械式リレーの場合、繰り返し周期の速さは遅くなるものの、その値はオシロスコープの校正に用いるのには十分である。また、オシロスコープの入力抵抗（例えば、１ＭΩ）に対し、標準パルスを出力する際の消費電力は極僅かであるので、消費電力で発生する熱や、その熱で発生する抵抗分などの増減も無視できる程度である。したがって、サーマルテールも無視できる程度となり、立ち上がり以降の安定性が得られ易い。さらに、水銀リレーを用いることで、バウンスのない立ち上がり波形が得られる。以上の点から、本実施の形態では、機械式リレー、特に水銀リレーが好ましく用いられる。
【００４４】
オシロスコープ１４で測定されたＤＡＣアンプの波形（第１の波形）は、ＤＡＣアンプの出力波形にオシロスコープ１４の歪が足し合わされた波形となっている。それ故、例えば、実際のセトリング時間は１５μ秒以下であるにもかかわらず、オシロスコープの固体差に起因する歪があるために、６０μ秒程度のセトリング時間と観測されてしまうといったことが起こる。
【００４５】
そこで、上記のようにして求めた等価回路定数を用いて、標準パルス発生器の出力波形をシミュレートする。そして、この波形を標準波形として用いることができるのを確認した後、標準パルス発生器で発生させた標準パルスをオシロスコープ１４で測定する。このとき測定されるのは、ほぼ純粋にオシロスコープ１４の歪のみの波形（第２の波形）である。したがって、オシロスコープ１４の演算機能を用い、第１の波形から第２の波形を差し引くことによって、オシロスコープ１４の歪みが補正されたＤＡＣアンプの出力波形を得ることができる。
【００４６】
ところで、実際のＤＡＣアンプの開始電圧や振幅は一定でない。このため、ＤＡＣアンプの波形評価は、これらの値をできるだけ多く変えて行う必要がある。一方、オシロスコープで発生する歪はパルスの開始電圧によって異なる。しかしながら、従来の標準パルス発生器では、到達電圧値は任意の値に設定できるものの開始電圧は０Ｖに限られていたため、０Ｖ以外を開始電圧とするＤＡＣアンプの出力波形に対する補正は不完全なものとならざるを得なかった。つまり、開始電圧が０Ｖ以外のＤＡＣアンプの出力波形におけるオシロスコープの歪と、標準パルス発生器で発生した標準パルスをオシロスコープで観測した波形とは一致しない。したがって、０Ｖ以外を開始電圧とするＤＡＣアンプの出力波形に対し標準パルス波形を用いて補正しても、純粋なＤＡＣアンプの出力波形を得ることはできない。
【００４７】
そこで、本実施の形態においては、従来のパルス発生器の出力部に抵抗Ｒ４を介して新たな電源１５（第２の電源）を接続する。新たな電源１５は、出力電圧Ｖ２を任意に設定可能なものとする。この構成によれば、水銀リレー１３が閉じていない状態での標準パルスの開始電圧の値はＶ２によって決定される。すなわち、Ｖ２の出力容量やインダクタンスが水銀リレー１３による急峻なパルスの立ち上がりに影響しないようにＲ４の抵抗値を選択することで、従来と同様の急峻なパルスの立ち上がりと速い整定時間とを維持しつつ、パルスの開始電圧値と到達電圧値とに任意の２値を選ぶことができる。つまり、本実施の形態の標準パルス発生器によれば、開始電圧を任意の値に設定可能であるので、測定したいＤＡＣアンプの出力電圧と同じ開始電圧のパルスを発生させることができる。したがって、０Ｖ以外を開始電圧とするＤＡＣアンプの出力波形についても、この開始電圧と同じ開始電圧の標準パルス波形を用いて補正することで、純粋なＤＡＣアンプの出力波形を得ることができる。
【００４８】
さらに、本実施の形態においては、パルス発生器の出力部に可変抵抗Ｒ５を設けることが好ましい。以下でその理由について説明する。
【００４９】
図６は、標準パルスとＤＡＣアンプの出力波形を比較した図である。Ａは、ＤＡＣアンプの出力波形を示す。一方、ＳＰ１は立ち上がり時間を速く調整した標準パルスの波形であり、ＳＰ３はＤＡＣアンプの出力波形とほぼ同じ立ち上がり速度に調整した標準パルスの波形である。また、ＳＰ２は、ＳＰ１とＳＰ３の中間の立ち上がり速度に調整した標準パルスの波形である。
【００５０】
図６から分かるように、標準パルスの立ち上がり速度が速ければ速いほど、ＤＡＣアンプの出力波形との差が大きくなる。したがって、標準パルスの波形とＤＡＣアンプの波形との差を観測するのが容易になる。例えば、ＳＰ１の波形でＡの波形を補正する場合、Ａの波形からＳＰ１の波形を差し引くことになるが、波形が収束に向かうところでも両者の差は比較的大きい。したがって、波形が完全に収束して差が０になる時間を把握し易い。これに対して、ＳＰ３の波形でＡの波形を補正する場合には、両者の波形がほぼ同じような形状であるために差が明確でなく、目的とする電位に収束する時間、すなわち、整定時間を把握し難い。
【００５１】
一方、標準パルスの立ち上がり時間があまりに速くなると、オシロスコープの入力部のアンプが許容するスルーレートを超えてしまう。すると、この入力部のアンプが飽和して歪みを生じさせ、ＤＡＣアンプの出力波形を正確に評価できなくなる。
【００５２】
そこで、図６のＳＰ２のように、Ａの波形との差を確保しつつ、歪みが発生しない程度の立ち上がり時間に調整した波形を選択する。ＳＰ２の波形でＡの波形を補正すれば、両者の差をある程度維持しつつスルーレート起因の歪みに影響されない状態で測定できるので、正確な整定時間を把握することができる。
【００５３】
標準パルスの立ち上がり時間は、図５の可変抵抗Ｒ５によって調整することができる。したがって、可変抵抗Ｒ５の抵抗を適当な値に調整して、標準パルス発生器で発生するパルスの立ち上がり時間を、ＤＡＣアンプの出力波形の立ち上がり時間と同じとする。これにより、ＤＡＣアンプの出力波形に含まれるオシロスコープ固有の歪みと同じ歪みの標準パルス波形を生成することができるので、従来の標準パルス発生器を用いた補正より精度の高い補正が可能となる。
【００５４】
尚、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々変形して実施することができる。例えば、上記実施の形態では、波形測定器としてオシロスコープを用いたが、オシロスコープに代えてＡ／Ｄコンバータとしても同様の効果が得られる。
【符号の説明】
【００５５】
１１    充電電源
１２    キャパシタ
１３    水銀リレー
１４    オシロスコープ
１５    電源
１００    描画部
１０２    電子鏡筒
１０４    描画室
１１０    電子銃
１１２    電子ビーム
１１４    照明レンズ
１１６    ＢＬＫ偏向器
１１８    ＢＬＫアパーチャ
１２０    第１の成形アパーチャ
１２２    投影レンズ
１２４    成形偏向器
１２６    第２の成形アパーチャ
１２８    対物レンズ
１３０    対物偏向器
１４０    ＸＹステージ
１４２    試料
２００    制御部
２０２    制御計算機
２０４    記憶装置
２０６    パターンデータ処理回路
２１０    ＢＬＫ偏向制御回路
２１４    ＢＬＫアンプ
２２０    成形偏向制御回路
２３０    位置偏向制御回路
２２２、２３２    ＤＡＣアンプ
２４２    レーザ側長計
２４４    駆動回路
３０１    デジタル部
３０２    ＤＡＣ
３０３    アナログ部
３０４    ロジック部
【図１】
2011147080.tif 000003
【図２】
2011147080.tif 000004
【図３】
2011147080.tif 000005
【図４】
2011147080.tif 000006
【図５】
2011147080.tif 000007
【図６】
2011147080.tif 000008