(57)【要約】【課題】金属の腐食を抑制することができる表示パネル、表示パネル基板及び表示装置を提供する。【解決手段】単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板である液晶表示パネル基板の切断線３２０付近において、コモン信号線３７０は、ガラス基板３７５上に成膜された透明導電膜３７２と、この透明導電膜３７２上に金属配線として成膜された銅配線３７１とで構成されており、このうち銅配線３７１が切断線３２０の手前で終端し、透明導電膜３７２のみが切断線３２０を越えて、コモン信号線検査領域３１６にまで延び、コモン信号共通線３１７の一部を形成している。また、コモン信号線検査領域３１６における透明導電膜３７２上には、切断線３２０を挟んで終端した銅配線３７１に対向して、銅配線３７３が形成され、透明導電膜３７２と共にコモン信号共通線３１７を形成している。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、
前記薄膜トランジスタ基板は、
前記ガラス基板上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第１透明導電膜と、
前記第１透明導電膜上に形成され、前記端部に至る前に終端している金属配線と、を有することを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記金属配線は、前記薄膜トランジスタのゲート配線と同時に成膜される配線である、ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記薄膜トランジスタ基板は、
前記金属配線より上層に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第２透明導電膜と、を更に有し、
前記第２透明導電膜は、少なくとも前記金属配線を介して、前記第１透明導電膜と電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の表示パネルと、
前記表示パネルを固定する固定部材を有する筐体と、を備える表示装置。
【請求項５】
切断線に沿って切断される表示パネル基板であって、
ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、
前記薄膜トランジスタ基板は、
前記ガラス基板上に形成され、前記切断線に跨って延びる第１透明導電膜と、
前記第１透明導電膜と電気的に接続され、前記切断線を挟んで対向して終端する金属配線と、を有し、
前記対向して終端する金属配線のうち、少なくとも一方の金属配線は、前記透明導電膜上に形成されている、ことを特徴とする表示パネル基板。
【請求項６】
前記少なくとも一方の金属配線は前記薄膜トランジスタのゲート配線と同時に成膜される配線である、ことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル基板。
【請求項７】
前記薄膜トランジスタ基板は、
前記少なくとも一方の金属配線より上層に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記切断線に跨って延びる第２透明導電膜と、を更に備え、
前記第２透明導電膜は、少なくとも前記対向して終端する金属配線を介して、前記第１透明導電膜に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル基板。
【請求項８】
前記切断線に沿って切断される部分は、
表示装置に利用される表示装置用部分と、
前記表示装置用部分に隣接して配置され、前記表示装置用部分の検査に用いられる検査用端子を備える検査用部分と、から構成される、ことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル、表示パネル基板及び表示装置に関し、より詳しくは薄膜トランジスタ基板を用いた表示パネル、表示パネル基板及びその表示パネルを使用した表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ等の情報通信端末やテレビ受像機の表示デバイスとして、液晶表示装置が広く用いられている。また、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、電界放出ディスプレイ装置（ＦＥＤ）なども、表示装置として知られている。
【０００３】
このような表示装置には、ガラス基板上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）が形成されたＴＦＴ基板を含む表示パネルが使用されている。例えば、液晶表示装置の場合には、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との間に液晶組成物を封じ込め、液晶組成物の配向を制御する液晶表示パネルが使用されている。
【０００４】
表示パネルは、一般的に、一枚のガラス基板上に表示装置に使用される部分を複数含んだ基板（本明細書において「表示パネル基板」という。）として製造され、その後切断されて、１つの表示装置に用いられる表示パネルの大きさに形成される。このため、複数の表示装置に使用される部分を含む液晶表示パネル基板の製造の際に、静電気等による表示パネル内の回路等の破損等を防ぐため、隣接する表示パネルと基板間接続線を形成することが行われている（特許文献１等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２７１８０３号公報
【特許文献２】特開平０８−２８６２０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のような複数の表示装置に使用される部分を含む液晶表示パネルは、単体の表示パネルとして周囲を切り落とした際に金属が切断面に現われる場合があり、この切断面に現われた金属は腐食する恐れがある。特に、液晶表示装置において、腐食がカラーフィルタ基板とのシール部にまで達した場合には、シール強度の低下や液晶組成物の漏れの恐れがある。
【０００７】
本発明は、上述の事情を鑑みてしたものであり、金属の腐食を抑制することができる表示パネル及び表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の表示パネルは、ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、前記薄膜トランジスタ基板は、前記ガラス基板上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第１透明導電膜と、前記第１透明導電膜上に形成され、前記端部に至る前に終端している金属配線と、を有することを特徴とする表示パネルである。
【０００９】
ここで、「透明導電膜」は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等により形成された光透過性のある導電膜を意味する。
【００１０】
また、本発明の表示パネルでは、前記金属配線は、前記薄膜トランジスタのゲート配線と同時に成膜される配線とすることができる。
【００１１】
また、本発明の表示パネルでは、前記薄膜トランジスタ基板は、前記金属配線より上層に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第２透明導電膜と、を更に有し、前記第２透明導電膜は、少なくとも前記金属配線を介して、前記第１透明導電膜と電気的に接続されている、とすることができる。
【００１２】
本発明の表示装置は、上述した表示パネルのうちのいずれかの表示パネルと、前記表示パネルを固定する固定部材を有する筐体と、を備える表示装置である。
【００１３】
本発明の表示パネル基板は、切断線に沿って切断される表示パネル基板であって、ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、前記薄膜トランジスタ基板は、前記ガラス基板上に形成され、前記切断線に跨って延びる第１透明導電膜と、前記第１透明導電膜と電気的に接続され、前記切断線を挟んで対向して終端する金属配線と、を有し、前記対向して終端する金属配線のうち、少なくとも一方の金属配線は、前記透明導電膜上に形成されている、ことを特徴とする表示パネル基板である。
【００１４】
ここで、「切断線」は、切断される予定である線の部分を意味し、通常、外観上識別できるように形成されていないものであるが、識別できるように形成されていてもよい。
【００１５】
また、本発明の表示パネル基板では、前記少なくとも一方の金属配線は前記薄膜トランジスタのゲート配線と同時に成膜される配線である、とすることができる。
【００１６】
また、本発明の表示パネル基板では、前記薄膜トランジスタ基板は、前記少なくとも一方の金属配線より上層に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記切断線に跨って延びる第２透明導電膜と、を更に備え、前記第２透明導電膜は、少なくとも前記対向して終端する金属配線を介して、前記第１透明導電膜に電気的に接続されている、とすることができる。
【００１７】
また、本発明の表示パネル基板は、前記切断線に沿って切断される部分は、表示装置に利用される表示装置用部分と、前記表示装置用部分に隣接して配置され、前記表示装置用部分の検査に用いられる検査用端子を備える検査用部分と、から構成されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置について示す図である。
【図２】図１の液晶表示パネルについて概略的に示す図である。
【図３】図２のＡで示された領域について拡大して示された図である。
【図４】図３のIV−IV線における断面を示す図である。
【図５】図３のＶ−Ｖ線に示される切断面の様子が示されている。
【図６】本発明の第２実施形態に係る液晶表示パネル基板について示す図である。
【図７】図６のＢで示された領域について拡大して示された図である。
【図８】図７のVIII−VIII線における断面を示す図である。
【図９】液晶表示パネル基板の製造方法について概略的に示す図である。
【図１０】本発明の第３実施形態に係る液晶表示パネル基板について示す図である。
【図１１】図１０のＣで示された領域について拡大して示された図である。
【図１２】図１１のXII−XII線における断面を示す図である。
【図１３】図１１のXIII−XIII線における断面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、図面において、同一又は同等の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２０】
［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００について示す図である。この図に示されるように、液晶表示装置１００は、液晶表示パネル２００と、液晶表示パネル２００を挟むように固定する上フレーム１１０及び下フレーム１２０と、により構成されている。
【００２１】
図２には、液晶表示パネル２００が概略的に示されている。この図２に示されるように、液晶表示パネル２００は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板２１０と、カラーフィルタ基板２２０と、これらの基板を固定すると共に、液晶組成物を内部に封止するシール剤２３０とにより構成されている。液晶表示パネル２００のＴＦＴ基板２１０には、表示する階調に対応する階調電圧が印加されるデータ信号線２５０と、データ信号線２５０に印加された階調電圧を画素電極に導くためのトランジスタの導通／非導通を制御するための走査信号線２６０と、画素電極と対をなして液晶組成物を配向させる電界を形成するためのコモン信号線２７０と、を有している。なお、この図においては、図が煩雑にならないように信号線の数を減らし、簡略化して記載している。
【００２２】
液晶表示パネル２００は、複数の液晶表示パネルが配置された液晶表示パネル基板から単体の液晶表示パネル２００として切り取られており、図に示されるように、各信号線は、隣接する基板と電気的に接続させるために切断面まで延びている。
【００２３】
図３は、図２のＡで示された領域におけるＴＦＴ基板２１０について拡大して示した図である。Ａで示された領域は、コモン信号線２７０が液晶表示パネル２００の切断面まで延びている部分である。図４は図３のIV−IV線における断面を示す図である。図３及び図４に示されるように、コモン信号線２７０は、ガラス基板２７５上に成膜された透明導電膜２７２と、この透明導電膜２７２上に金属配線として成膜された銅配線２７１とで構成されており、このうち銅配線２７１が切断面の手前で終端し、透明導電膜２７２のみが切断面にまで延びている。なお、透明導電膜２７２及び銅配線２７１は絶縁膜２７６で覆われている。図５には、図３のＶ−Ｖ線に示される切断面の様子が示されている。この図５に示されるように、切断面にはガラス基板上に成膜された透明導電膜２７２のみが現われ、銅配線２７１は現われていない。
【００２４】
図３乃至図５に示された切断面近傍におけるコモン信号線２７０の構成は、データ信号線２５０及び走査信号線２６０においても同様である。
【００２５】
したがって、金属配線である銅配線２７１が空気に触れることがないため、金属配線の腐食を抑制することができる。
【００２６】
［第２実施形態］
図６は、本発明の第２実施形態に係る液晶表示パネル基板３００を示す図である。液晶表示パネル基板３００は、単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板であり、図６にはその一部について示されている。図６に示されるように、液晶表示パネル基板３００は、第１実施形態の液晶表示パネル２００と同様の液晶表示パネルがある表示装置領域３１０と、その表示装置領域３１０の周囲にあり、表示装置領域３１０の液晶表示パネルの電気的な検査のために使用される端子を含むデータ信号線検査領域３１２、走査信号線検査領域３１４及びコモン信号線検査領域３１６と、を有している。データ信号線検査領域３１２は、表示装置領域３１０の各データ信号線３５０を接続した端子であるデータ信号共通線３１３を有し、走査信号線検査領域３１４は、表示装置領域３１０の各走査信号線３６０を接続した端子である走査信号共通線３１５を有し、コモン信号線検査領域３１６は、表示装置領域３１０のコモン信号線３７０が接続された端子であるコモン信号共通線３１７を有している。また、液晶表示パネル基板３００は、図６に一点鎖線で示された切断線３２０に沿って切断される。
【００２７】
図７は、図６のＢで示された領域におけるＴＦＴ基板３０１について拡大して示された図である。Ｂで示された領域は、コモン信号線３７０が切断線３２０を超えてコモン信号線検査領域３１６まで延びている部分である。図８は図７のVIII−VIII線における断面を示す図である。図７及び図８に示されるように、コモン信号線３７０は、ガラス基板３７５上に成膜された透明導電膜３７２と、この透明導電膜３７２上に金属配線として成膜された銅配線３７１とで構成されており、このうち銅配線３７１が切断線３２０の手前で終端し、透明導電膜３７２のみが切断線３２０を越えて、コモン信号線検査領域３１６にまで延び、データ信号共通線３１３の一部を形成している。また、コモン信号線検査領域３１６における透明導電膜３７２上には、切断線３２０を挟んで終端した銅配線３７１に対向して、銅配線３７３が形成され、透明導電膜３７２と共にデータ信号共通線３１３を形成している。なお、透明導電膜３７２、銅配線３７１及び銅配線３７３は絶縁膜３７６で覆われている。
【００２８】
図９は、液晶表示パネル基板３００のＴＦＴ基板３０１の製造方法の一部について概略的に示している。なお、図９の各ステップにおいて、図面の左側には、ＴＦＴ基板３０１の切断線３２０付近の積層の様子が示され、図面の右側には、これと同時に形成される薄膜トランジスタの部分の積層の様子が示されている。以下では、図面の左側のＴＦＴ基板３０１の切断線３２０付近の製造方法を中心に説明する。
【００２９】
図９に示されるように、まず、ステップＳ１０１において、ガラス基板３７５上に透明導電膜３７２を成膜する。引き続き、ステップＳ１０２において、銅配線となる銅の金属膜３８１を成膜し、ステップＳ１０３において、レジスト３８２を塗布する。次に、ステップＳ１０４で、切断線３２０の付近をハーフマスクとし、その他の部分をフルマスクとした露光を行い、切断線３２０付近のみレジスト３８２を薄くする。この後、ステップＳ１０５では、図面の右側の薄膜トランジスタの形成処理において、ステップＳ１０４でマスク無しで露光され、レジスト３８２が除去された部分について、更に金属膜３８１及び透明導電膜３７２のエッチング処理を行い、これらの層は除去され、ゲート線部分が分離して残される。
【００３０】
引き続き、ステップＳ１０６において、ハーフレジストをエッチング処理により除去し、ステップＳ１０７において、金属膜３８１をエッチングにより切り離すことにより銅配線３７１及び３７３を形成する。最後にステップＳ１０８においてレジストを剥離する。これにより、切断線３２０を跨る部分を透明導電膜３７２のみで接続され、その他の部分を透明導電膜３７２と透明導電膜３７２上に形成された銅配線３７１及び３７３とにより形成された配線を有するＴＦＴ基板が製造される。なお、切断線３２０周辺の透明導電膜のみで接続される部分は、電気抵抗を減らすため短い方が望ましい。
【００３１】
したがって、切断線３２０の周りを透明導電膜３７２のみで接続することにより、液晶表示パネルの表示装置領域３１０の周囲に形成された各信号線検査領域を使用して検査を行うことができると共に、切断後には銅配線が空気に触れることがないため、金属配線の腐食を抑制することができる。
【００３２】
また、ガラス基板上の透明導電膜上にゲート配線のある薄膜トランジスタの形成工程と同時に形成することができるため、製造工程を増やすことなく実現することができる。
【００３３】
［第３実施形態］
図１０は、本発明の第３実施形態に係る液晶表示パネル基板４００を示す図である。液晶表示パネル基板４００は、第２実施形態と同様に、単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板であり、図１０にはその一部について示されている。図１０に示されるように、液晶表示パネル基板４００は、第１実施形態の液晶表示パネル２００と同様の液晶表示パネルがある表示装置領域４１０と、その表示装置領域４１０の周囲にあり、表示装置領域４１０の液晶表示パネルの電気的な検査のために使用される端子を含むデータ信号線検査領域４１２、走査信号線検査領域４１４及びコモン信号線検査領域４１６と、を有している。データ信号線検査領域４１２は、表示装置領域４１０の各データ信号線４５０を接続した端子であるデータ信号共通線４１３を有し、走査信号線検査領域４１４は、表示装置領域４１０の各走査信号線４６０を接続した端子である走査信号共通線４１５を有し、コモン信号線検査領域４１６は、表示装置領域４１０のコモン信号線４７０が接続された端子であるコモン信号共通線４１７を有している。また、また、液晶表示パネル基板４００は、図１０に一点鎖線で示された切断線４２０に沿って切断される。
【００３４】
図１１は、図１０のＣで示された領域におけるＴＦＴ基板４０１について拡大して示した図である。Ｃで示された領域は、データ信号線４５０が切断線４２０を超えてデータ信号線検査領域４１２まで電気的に接続されている部分である。図１２は図１１のXII−XII線における断面を示す図である。図１０乃至図１２に示されるように、表示装置領域４１０のデータ信号線４５０は、切断線４２０の手前で終端し、スルーホール４７７を介して透明導電膜４７４に電気的に接続され、透明電極４７４は、更に、スルーホール４７８及びゲート信号線の配線と同じ層の金属膜４５１を介して、透明導電膜４７２に電気的に接続される。透明導電膜４７２及び４７４は、絶縁膜４７９を介して配置され、それぞれ切断線４２０を越えて延び、データ信号線検査領域４１２に続いている。データ信号線検査領域４１２のデータ信号共通線４１３は、表示装置領域４１０から切断線４２０を越えて延びる透明導電膜４７２と、透明導電膜４７２上に形成されることにより透明導電膜４７２と電気的に接続され、切断線４２０の近くで終端する銅配線４７３とにより構成され、銅配線４７３は更に、スルーホール４７６を介して透明導電膜４７４と電気的に接続されている。
【００３５】
図１３は図１１のXIII−XIII線における断面を示す図である。この図１３に示されるように、切断線４２０における断面では、ガラス基板上に成膜された透明導電膜４７２及び４７４のみが現われ、データ信号線４５０の銅配線は現われていない。
【００３６】
したがって、切断線４２０の周りを透明導電膜４７２及び４７４のみで接続することにより、液晶表示パネルの表示装置領域４１０の周囲に形成されたデータ信号線検査領域を使用して検査を行うことができると共に、切断後には銅配線が空気に触れることがないため腐食を抑制することができる。
【００３７】
また、第３実施形態においても第２実施形態と同様に、ガラス基板上の透明導電膜上にゲート配線のある薄膜トランジスタの形成工程と同時に形成することができるため、製造工程を増やすことなく実現することができる。
【００３８】
なお、上述の各実施形態では、金属配線を銅配線としたが、アルミニウムやこれらの合金等を使用したその他の金属配線であってもよい。
【符号の説明】
【００３９】
１００  液晶表示装置、１１０  上フレーム、１２０  下フレーム、２００  液晶表示パネル、２１０  ＴＦＴ基板、２２０  カラーフィルタ基板、２３０  シール剤、２５０  データ信号線、２６０  走査信号線、２７０  コモン信号線、２７１  銅配線、２７２  透明導電膜、２７５  ガラス基板、２７６  絶縁膜、３００  液晶表示パネル基板、３０１  ＴＦＴ基板、３１０  表示装置領域、３１２  データ信号線検査領域、３１３  データ信号共通線、３１４  走査信号線検査領域、３１５  走査信号共通線、３１６  コモン信号線検査領域、３１７  コモン信号共通線、３２０  切断線、３５０  データ信号線、３６０  走査信号線、３７０  コモン信号線、３７１  銅配線、３７２  透明導電膜、３７３  銅配線、３７５  ガラス基板、３７６  絶縁膜、３８１  金属膜、３８２  レジスト、４００  液晶表示パネル基板、４０１  ＴＦＴ基板、４１０  表示装置領域、４１２  データ信号線検査領域、４１３  データ信号共通線、４１４  走査信号線検査領域、４１５  走査信号共通線、４１６  コモン信号線検査領域、４１７  コモン信号共通線、４２０  切断線、４５０  データ信号線、４５１  金属膜、４６０  走査信号線、４７０  コモン信号線、４７２  透明導電膜、４７３  銅配線、４７４  透明導電膜、４７６，４７７  スルーホール、４７９  絶縁膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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