(57)【要約】      （修正有）【課題】配向材の流動および拡散が阻碍されない表示パネル用の基板の製造方法を提供する。【解決手段】絵素の開口部が形成されたブラックマトリックス１２が形成された表示パネル用１の基板の表面に、着色層の材料となるネガ型の感光性材料の膜５０１を形成する工程と、感光性材料の膜５０１のうちのブラックマトリックス１２の開口部に形成される部分に光エネルギを照射するとともに、ブラックマトリックス１２に重畳して形成される部分であって開口部の周縁部に形成される部分に、ブラックマトリックス１２の開口部に形成される部分よりも少ない光エネルギを照射する露光工程と、感光性材料の膜５０１を現像して着色層を形成する現像工程により、着色層に開口部に形成される部分に比較して薄いブラックマトリックス１２の重畳部を形成する。【選択図】図４
2011112699.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絵素の開口部が形成されたブラックマトリックスが形成された表示パネル用の基板の表面に着色層の材料となる感光性の材料の膜を形成する工程と、
前記感光性材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスに重畳して形成される部分であって前記開口部の周縁部に形成される部分にフォトマスクの半透光パターンを通じて光エネルギを照射する露光工程と、
前記感光性の材料の膜を現像して着色層を形成する現像工程と、
を含み、
前記現像工程において、前記着色層に前記ブラックマトリックスの重畳する重畳部を形成するとともに、前記重畳部の厚さを前記ブラックマトリックスの前記開口部に形成される部分に比較して薄くすることを特徴とする着色層の形成方法。
【請求項２】
絵素の開口部が形成されたブラックマトリックスが形成された表示パネル用の基板の表面に着色層の材料となるネガ型の感光性の材料の膜を形成する工程と、
前記感光性材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスの開口部に形成される部分に光エネルギを照射するとともに、前記ブラックマトリックスに重畳して形成される部分であって前記開口部の周縁部に形成される部分に前記ブラックマトリックスの開口部に形成される部分よりも少ない光エネルギを照射する露光工程と、
前記感光性の材料の膜を現像して着色層を形成する現像工程と、
を含み、
前記現像工程において、前記着色層に前記ブラックマトリックスの重畳する重畳部を形成するとともに、前記重畳部の厚さを前記ブラックマトリックスの前記開口部に形成される部分に比較して薄くすることを特徴とする着色層の形成方法。
【請求項３】
前記露光工程において、前記感光性材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスの開口部に形成される部分にはフォトマスクに形成される光エネルギを透過可能な透光パターンを通じて光エネルギを照射し、前記ブラックマトリックスに重畳して形成される部分であって前記開口部の周縁部に形成される部分には前記フォトマスクに形成される光エネルギの透過率が前記透光パターンよりも小さい半透光パターンを通じて光エネルギを照射することを特徴とする請求項２に記載の着色層の形成方法。
【請求項４】
絵素の開口部が形成されたブラックマトリックスが形成された表示パネル用の基板の表面に着色層の材料となるポジ型の感光性の材料の膜を形成する工程と、
前記感光性の材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスに重畳する部分に光エネルギを照射する露光工程と、
前記感光性の材料の膜を現像して着色層を形成する現像工程と、
を含み、
前記露光工程において、前記開口部の周縁部に形成される部分に対して照射する光エネルギの照射量を、前記開口部の周縁部に形成される部分以外の部分に対して照射する光エネルギの照射量よりも少なくし、
前記現像工程において、前記着色層に前記ブラックマトリックスの重畳する重畳部を形成するとともに、前記重畳部の厚さを前記ブラックマトリックスの前記開口部に形成される部分に比較して薄くすることを特徴とする着色層の形成方法。
【請求項５】
前記感光性の材料のうち、前記開口部の周縁部に形成される部分以外の部分にはフォトマスクに形成される光エネルギを透過できる透光パターンを通じて光エネルギを照射し、前記開口部の周縁部に形成される部分には前記フォトマスクに形成される透光パターンよりも光エネルギの透過率が低い半透光パターンを通じて光エネルギを照射することを特徴とする請求項４に記載の着色層の形成方法。
【請求項６】
絵素の開口部を有するブラックマトリックスを形成する工程と、
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の着色層の形成方法により着色層を形成する着色層形成工程と、
前記着色層の表面に透明電極を形成する透明電極形成工程と、
を含むことを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の表示パネル用の基板の製造方法により着色層を有する表示パネル用の基板を製造する工程と、
前記表示パネル用の基板の表面に、インクジェット方式の印刷機を用いて配向膜の材料である配向材を滴下して配向材の膜を形成する工程と、
前記表示パネル用の基板と他方の基板とを貼り合わせるとともに前記表示パネル用の基板と前記他方の基板との間に液晶を充填する工程と、
を有することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法に関するものであり、詳しくは、液晶表示パネルなどに適用される表示パネル用の基板のカラー表示用の着色層を感光性材料によりフォトリソグラフィ法を用いて形成する着色層の形成方法と、感光性材料からなる着色層を有する表示パネル用の基板の製造方法と、この表示パネル用の基板が適用された表示パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示パネルは、二枚の表示パネル用の基板を備える。例えば、アクティブマトリックスタイプの液晶表示パネルは、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタとを備える。そして、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタとが所定の微小な間隔をおいて対向して貼り合わせられ、それらの間に液晶が充填されるという構成を有する。
【０００３】
カラーフィルタの片側表面には、絵素を画成するブラックマトリックスと、カラー表示用の所定の色の着色層が形成される。そして、それらの表面には透明電極（共通電極）が形成され、さらに透明電極の表面には、液晶の配向を規制するための配向膜が形成される。一方、ＴＦＴアレイ基板には絵素電極が形成され、絵素電極の表面に配向膜が形成される。
【０００４】
配向膜の形成は、表示パネル用の基板の表面に配向材（＝配向膜の原料となる溶液）を塗布するなどして配向材の膜を形成し、形成した配向材の膜を焼成するという方法が用いられる。そして、配向材の膜の形成には、輪転機などの印刷機を用いる方法が広く用いられている。輪転機を用いる配向材の膜の形成方法は、印刷ローラ（＝印刷版）に配向材を塗布し、塗布した配向材を、表示パネル用の基板の表面に所定の領域に転写するというものである。この方法によれば、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に、精度良く配向材を転写（＝塗布）することができるという利点を有する。一方で、表示パネル用の基板の種類ごとに（特に、画面のサイズごとに）、専用の印刷ローラが必要となるため、設備コストや製造コストの削減が困難である。また、製造する表示パネル用の基板の種類を変更するごとに、輪転機の印刷ローラを交換する必要があるため、設備の柔軟性が低いという問題点もある。
【０００５】
そこで、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材の膜を形成する方法が採用されるようになってきている。インクジェット方式の印刷機は、滴下ノズルによって表示パネル用の基板の表面の所定の位置に配向材を滴下する。滴下された配向材は、表示パネル用の基板の表面を流動して広がっていく。そして、広がった配向材どうしが繋がって一体化することにより、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に、配向材の膜が形成される。
【０００６】
インクジェット方式の印刷機は、配向材の滴下位置や滴下範囲を容易に変更することができる。このため、一基の印刷機で、様々な種類の表示パネル用の基板に対応することができる。したがって、輪転機のように、表示パネル用の基板の種類に応じた印刷ローラを備えておく必要がなく、かつ、表示パネル用の基板の種類を変更するごとに印刷ローラを変更するという手間を省略することができる。このように、インクジェット方式の印刷機によれば、配向膜を形成するための設備コストの削減を図ることができるとともに、設備の柔軟性の向上を図ることができる。
【０００７】
ところで、表示パネル用の基板の表面には、所定の要素が形成されるため、これらの要素によって凹凸が形成されることがある。たとえば、カラーフィルタにフォトリソグラフィ法を用いて着色層を形成する構成では、ブラックマトリックスに対する着色層の位置ずれのマージンを考慮して、着色層の周縁部を、ブラックマトリックスに重畳させる構成が用いられる。このような構成によれば、着色層を形成する工程において、ブラックマトリックスに対して位置ずれした場合であっても、着色層をブラックマトリックスの開口部の全体に形成することができる（＝ブラックマトリックスの開口部に、着色層が形成されない部分が生じることを防止できる）。このような構成では、着色層の周縁部が、ブラックマトリックスの表面に重畳するため、この重畳する部分が、ブラックマトリックスおよび着色層の表面から突起する。
【０００８】
インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下して膜を形成する構成では、表示パネル用の基板の表面に凹凸が存在すると、この凹凸により、滴下された配向材の流動が阻碍されるおそれがある。そして、配向材の流動が阻碍されると、表示パネル用の基板の表面に、配向材の膜が形成されない部分が発生するおそれや、配向材の膜厚が不均一になるおそれがある。
【０００９】
配向材の膜が形成されない部分が生じないようにするためには、滴下する配向材の量を多くする構成が挙げられる。しかしながら、滴下する配向材の量を多くすると、最終的に形成される配向膜の厚さが厚くなり、液晶表示パネルの表示特性（特にガンマ特性）が悪化するおそれがある。また、配向材の使用量が増加するから、原料コストの上昇を招くおそれがある。
【００１０】
配向材の流動性の向上または流動性の低下の防止を図る構成としては、たとえば、表面張力が低い配向材を用いる構成が提案されている（特許文献１参照）。また、配向材が滴下された表示パネル用の基板に振動を加え、配向材を強制的に流動させる構成も提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、表面張力が低い配向材を用いる構成では、使用する配向材が限定される。また、表示パネル用の基板に振動を加える構成では、そのための設備が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００１−４２３３０号公報
【特許文献２】特開平３−２６６８１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記実情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、特に、着色層の周縁部をブラックマトリックスに重畳させる構成において、重畳させる部分の厚さ寸法を小さくすることにより、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、または、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることにより、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下する場合において、配向材の流動および拡散が阻碍されることを防止もしくは抑制できる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、または、使用する配向材の量を増加させることなくもしくは減少させつつ、配向材の膜が形成されない部分の発生を防止もしくは抑制することができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、または、使用する配向材の量を増加させることなくもしくは減少させつつ、配向材の膜の厚さを均一にすることができる着色層の形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法を提供すること、である。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明にかかる着色層の形成方法は、絵素の開口部が形成されたブラックマトリックスが形成された表示パネル用の基板の表面に着色層の材料となる感光性の材料の膜を形成する工程と、前記感光性材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスに重畳して形成される部分であって前記開口部の周縁部に形成される部分にフォトマスクの半透光パターンを通じて光エネルギを照射する露光工程と、前記感光性の材料の膜を現像して着色層を形成する現像工程と、を含み、前記現像工程において、前記着色層に前記ブラックマトリックスの重畳する重畳部を形成するとともに、前記重畳部の厚さを前記ブラックマトリックスの前記開口部に形成される部分に比較して薄くすることを要旨とするものである。
【００１４】
また、本発明にかかる着色層の形成方法は、絵素の開口部が形成されたブラックマトリックスが形成された表示パネル用の基板の表面に着色層の材料となるネガ型の感光性の材料の膜を形成する工程と、前記感光性材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスの開口部に形成される部分に光エネルギを照射するとともに、前記ブラックマトリックスに重畳して形成される部分であって前記開口部の周縁部に形成される部分に前記ブラックマトリックスの開口部に形成される部分よりも少ない光エネルギを照射する露光工程と、前記感光性の材料の膜を現像して着色層を形成する現像工程と、を含み、前記現像工程において、前記着色層に前記ブラックマトリックスの重畳する重畳部を形成するとともに、前記重畳部の厚さを前記ブラックマトリックスの前記開口部に形成される部分に比較して薄くすることを要旨とするものである。
【００１５】
ここで、前記露光工程において、前記感光性材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスの開口部に形成される部分にはフォトマスクに形成される光エネルギを透過可能な透光パターンを通じて光エネルギを照射し、前記ブラックマトリックスに重畳して形成される部分であって前記開口部の周縁部に形成される部分には前記フォトマスクに形成される光エネルギの透過率が前記透光パターンよりも小さい半透光パターンを通じて光エネルギを照射する構成が適用できる。
【００１６】
また、本発明にかかる着色層の形成方法は、絵素の開口部が形成されたブラックマトリックスが形成された表示パネル用の基板の表面に着色層の材料となるポジ型の感光性の材料の膜を形成する工程と、前記感光性の材料の膜のうちの前記ブラックマトリックスに重畳する部分に光エネルギを照射する露光工程と、前記感光性の材料の膜を現像して着色層を形成する現像工程と、を含み、前記露光工程において、前記開口部の周縁部に形成される部分に対して照射する光エネルギの照射量を、前記開口部の周縁部に形成される部分以外の部分に対して照射する光エネルギの照射量よりも少なくし、前記現像工程において、前記着色層に前記ブラックマトリックスの重畳する重畳部を形成するとともに、前記重畳部の厚さを前記ブラックマトリックスの前記開口部に形成される部分に比較して薄くすること要旨とするものである。
【００１７】
ここで、前記感光性の材料のうち、前記開口部の周縁部に形成される部分以外の部分にはフォトマスクに形成される光エネルギを透過できる透光パターンを通じて光エネルギを照射し、前記開口部の周縁部に形成される部分には前記フォトマスクに形成される透光パターンよりも光エネルギの透過率が低い半透光パターンを通じて光エネルギを照射する構成が適用できる。
【００１８】
本発明にかかる表示パネル用の基板の製造方法は、絵素の開口部を有するブラックマトリックスを形成する工程と、前記いずれかの着色層の形成方法により着色層を形成する着色層形成工程と、前記着色層の表面に透明電極を形成する透明電極形成工程と、を含むことを要旨とするものである。
【００１９】
本発明にかかる表示パネルの製造方法は、着色層を有する表示パネル用の基板を前記表示パネル用の基板の製造方法により製造する工程と、前記表示パネル用の基板の表面に、インクジェット方式の印刷機を用いて配向膜の材料である配向材を滴下して配向材の膜を形成する工程と、前記表示パネル用の基板と他方の基板とを貼り合わせるとともに前記表示パネル用の基板と前記他方の基板との間に液晶を充填する工程と、を有することを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明にかかる着色層の形成方法および本発明にかかる表示パネル用の製造方法によれば、着色層の周縁部のうち、ブラックマトリックスに重畳する重畳部の厚さを薄くすることができるから、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法（特に高さ寸法）を小さくすることができる。
【００２１】
すなわち、ブラックマトリックスの開口部の内側に隙間なく着色層を形成するため、着色層を形成する際の位置ずれや寸法公差などを考慮し、着色層の外形の寸法を、ブラックマトリックスの開口部の寸法よりも大きくする。しかしながら、このような構成では、着色層の周縁部に、ブラックマトリックスの表面に重畳する重畳部が形成される。このため、重畳部が、ブラックマトリックスおよび各色の着色層の表面から突起し、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に凹凸が形成される。そして、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に凹凸が形成されると、それらの表面に他の所定の要素を形成する際に、この凹凸が悪影響を与えることがある。
【００２２】
本発明にかかる着色層の形成方法および本発明にかかる表示パネル用の製造方法によれば、位置ずれや寸法公差などに起因して着色層の形成が不完全となる（＝ブラックマトリックスの開口部に着色層が形成されない部分が生じる）ことを防止しつつ、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる。このため、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に、他の所定の要素を形成する場合において、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に形成される凹凸が、他の所定の要素の形成にあたえる悪影響をなくすことができるか、または小さくすることができる。
【００２３】
たとえば、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下して配向材の膜を形成する場合において、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されなくなる。このため、ブラックマトリックスおよび着色層の表面に、配向材の膜が形成されない部分が発生することを防止できる。かつ、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。さらに、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されないから、配向材の滴下量を少なくしても、配向材の膜が形成されない部分が生じることが防止できるとともに、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。
【００２４】
このため、最終的に形成される配向膜の厚さを厚くすることなく、または薄くしつつ、配向膜が形成されない部分が生じることを防止でき、かつ膜の厚さを均一にすることができる。このため、配向膜が部分的に形成されないことによる不良の発生、配向膜の厚さが厚くなることに起因する表示特性の低下、膜厚が不均一なことに起因する表示ムラの発生を、それぞれ防止または抑制することができる。さらに、配向材の使用量を増加させる必要がないから、または使用する量を削減することができるから、材料コストの上昇の防止または材料コストの削減を図ることができる。
【００２５】
本発明にかかる表示パネルの製造方法によれば、表示パネル用の基板の表面（に形成される透明電極）に配向材をインクジェット方式の印刷機を用いて滴下して配向材の膜を形成する工程において、配向材の膜が形成されない部分が生じることを防止できる。さらに、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。このため、最終的に形成される配向膜の厚さを均一にすることができる。したがって、前記作用効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の概略構成を模式的に示した外観斜視図である。
【図２】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成される絵素の一つを抜き出して示した模式図であり、（ａ）は、絵素の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線断面図であって、絵素の断面構造を示した断面図である。
【図３】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法における所定の工程を模式的に示した断面図であり、ブラックマトリックス形成工程を示す。
【図４】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法における所定の工程を模式的に示した断面図であり、着色層形成工程における露光工程（露光処理）を示す。
【図５】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法における所定の工程を模式的に示した断面図であり、着色層形成工程における現像工程を示し、着色層形成工程の完了後の状態を示す。
【図６】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法における所定の工程を模式的に示した断面図であり、透明電極形成工程を示す。
【図７】第一の感光性の材料の膜の露光処理において使用されるフォトマスク（第一のフォトマスク）の一部の構成を、模式的に示した平面図である。
【図８】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法における所定の工程を模式的に示した断面図であり、着色層形成工程における露光工程（露光処理）を示す。
【図９】第二の感光性の材料の膜の露光処理において使用されるフォトマスク（第二のフォトマスク）の一部の構成を、模式的に示した平面図である。
【図１０】本発明の実施形態にかかる表示パネル２の一部の断面構造を、模式的に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下に、本発明の各種実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００２８】
まず、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１について説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、カラー表示用の所定の色の着色層が形成される表示パネル用の基板であり、液晶表示パネルに適用されるカラーフィルタである。
【００２９】
図１は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の概略構成を模式的に示した外観斜視図である。図２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１に形成される絵素を抜き出して示した模式図である。それぞれ、図２（ａ）は、絵素の平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であって、絵素の断面構造を示した断面図である。
【００３０】
図１に示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１には、表示用域１０１（「絵素領域」と称することもある。図１においては一点鎖線で囲まれる領域）と、パネル額縁領域１０２とが設けられる。表示領域１０１は、所定の数の絵素が所定の態様で配列される領域である。パネル額縁領域１０２は、表示領域１０１を囲繞するように設けられる領域である。パネル額縁領域１０２には、液晶を封止するためのシール材の層が形成されるシールパターン領域１０３が設けられる（図１においては、二点鎖線で挟まれる領域）。シールパターン領域１０３は、表示領域１０１を囲繞する帯状の領域である。
【００３１】
図１と図２のそれぞれに示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、ガラスなどからなる透明基板１１を有し、この透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２と、所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと、透明電極（共通電極）１４とが形成される。なお、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１には、その他の所定の要素が設けられることがあるが、図示および説明は省略する。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、以下で説明する構成を除いては、液晶表示パネル用の従来公知のカラーフィルタと同じ構成が適用できる。
【００３２】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１に形成されるブラックマトリックス１２は、一般的なカラーフィルタのブラックマトリックスと略同じ構成が適用できる。簡単に説明すると、次のとおりである。ブラックマトリックス１２は、たとえば、遮光性の材料により形成される膜状の要素（構造物）である。遮光性の材料には、たとえば、黒色の着色剤を含有する感光性の材料（具体的にはたとえば、アクリル系の樹脂などからなる感光性の樹脂組成物）や、所定の種類の金属（具体的にはたとえばクロム（Ｃｒ）など）が適用される。ブラックマトリックス１２は、表示領域１０１においては、略格子状に形成される。すなわち、所定の形状を有する開口部が、所定の態様で配列される構成を有する。ブラックマトリックス１２に形成される各開口部が、各絵素の開口部となる。パネル額縁領域１０２においては、パネル額縁領域１０２の所定の部分を遮光するために、所定の寸法および形状に形成される。
【００３３】
ブラックマトリックス１２に形成される各開口部には、赤色の着色層１３ｒ、緑色の着色層１３ｇ、青色の着色層１３ｂのいずれかが、選択的に形成される。これらの各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、それぞれ、赤色、緑色、青色の各色の着色剤を含有する感光性の材料（たとえば、アクリル系の樹脂などからなる感光性の樹脂組成物）により形成される。
【００３４】
図２に示すように、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの外形（＝輪郭）の寸法は、ブラックマトリックス１２に形成される開口部の寸法よりも大きい。このため、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部は、ブラックマトリックス１２に重畳する。この部分を「重畳部」１３１と称する。図２（ａ）においては、図中の実線が、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの外形（輪郭）を示し、破線が、ブラックマトリックス１２に形成される開口部を示す。そして、図２（ａ）においては、実線と破線の間の領域（＝ブラックマトリックス１２の開口部および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に形成される額縁状の領域）が重畳部１３１となる。各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの重畳部１３１は、それ以外の部分（＝ブラックマトリックス１２の開口部の内部に形成される部分）に比較すると、薄く（＝高さが低く）形成される。このため、重畳部１３１のブラックマトリックス１２の表面からの突出寸法が小さくなり、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の高さ寸法が小さくなる。
【００３５】
ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面には、透明電極（共通電極）１４が形成される（特に、図２（ｂ）参照）。透明電極１４は、略透明な導電性の材料により形成される膜状の要素である。略透明な導電性の材料には、たとえば、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）が適用される。なお、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に、これらを保護するための保護膜が形成され、この保護膜の表面に透明電極１４が形成される構成であってもよい。
【００３６】
ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の寸法が小さいから、透明電極１４の表面に形成される凹凸の寸法も小さくなる。
【００３７】
また、ブラックマトリックス１２の所定の位置には、スペーサが形成されることがある（図略）。スペーサは、セルギャップ（＝液晶の層の厚さ）を規定するための突起状または柱状の要素である。スペーサは、たとえば、各色の着色層と同じ材料により形成される。なお、スペーサが形成されない構成であってもよい。
【００３８】
さらに、透明電極１４の表面には、配向規制構造物が形成されることがある（図略）。配向規制構造物は、液晶の配向を規制するための凸状の要素であり、液晶の配向の態様に応じて所定の形状に形成される。配向規制構造物は、感光性の材料（たとえば、アクリル系の樹脂などからなる感光性の樹脂組成物）により形成される。
【００３９】
そして、透明電極１４の表面には、配向膜２２が形成される。なお、配向膜２２は、本発明の実施形態にかかる表示パネルの製造方法の所定の工程において形成される。本発明の実施形態にかかる表示パネルの製造方法については後述する。
【００４０】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の製造方法は、次のとおりである。図３〜図６、図８は、それぞれ、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法における所定の工程を模式的に示した断面図である。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の製造方法は、ブラックマトリックス形成工程と、着色層形成工程と、透明電極形成工程とを含む。着色層形成工程においては、本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法が適用される。
【００４１】
図３（ａ）は、ブラックマトリックス形成工程を示す。図３（ａ）に示すように、ブラックマトリックス形成工程においては、透明基板１１の表面にブラックマトリックス１２が形成される。ブラックマトリックス１２の形成方法は、クロムＢＭ法、樹脂ＢＭ法、転写法などといった、従来公知の各種方法が適用できる。
【００４２】
簡単に説明すると、次のとおりである。クロムＢＭ法は、透明基板１１の表面に、スパッタ法などを用いて単層または多層のクロム（Ｃｒ）の膜を形成し、形成したクロムの膜を、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法である。樹脂ＢＭ法は、透明基板１１の表面に、ＢＭレジスト（黒色の着色剤を含有する感光性の材料）の膜を形成し、形成したＢＭレジストの膜を、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法である。転写法は、感光性の材料からなり黒色の着色剤を含有するフィルムを透明基板の表面に貼り付け（＝転写またはラミネートし）、貼り付けられたフィルムを、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法である。
【００４３】
次いで、着色層形成工程において、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成される。図３（ｂ）は、着色層形成工程において、着色層の材料である感光性の材料の膜を形成する工程を示す。着色層形成工程において各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成する方法には、本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法が適用される。本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法の内容は、次のとおりである。
【００４４】
各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、感光性の材料により形成される。感光性の材料は、ネガ型であってもよく、ポジ型であってもよい。ただし、感光性の材料がネガ型である場合とポジ型である場合とで、使用するフォトマスクなどが相違する。したがって、以下、分けて説明する。
【００４５】
まず、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが、ネガ型の感光性の材料により形成される構成について説明する。
【００４６】
図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリックス１２が形成された透明基板１１の表面に、所定の色（赤色、緑色、青色のいずれか一色）の着色剤を含有するネガ型の感光性の材料の膜が形成される。説明の便宜上、この感光性の材料の膜５０１を、「第一の感光性の材料の膜」と称する。第一の感光性の材料の膜５０１の形成方法は特に限定されるものではないが、たとえば、スピンコータやスリットコータなどを用いて、透明基板１１の表面に、第一の感光性の材料の膜５０１の原料である溶液を塗布し、その後、硬化させるという方法が適用できる。
【００４７】
そして、露光工程において、形成された第一の感光性材料の膜５０１に、露光処理が施される。図７は、第一の感光性の材料の膜５０１の露光処理において使用されるフォトマスク６０１の一部の構成を、模式的に示した平面図である。このフォトマスク６０１を、説明の便宜上、「第一のフォトマスク」と称する。図７に示すように、第一のフォトマスク６０１には、遮光パターン６０１１と、透光パターン６０１２と、半透光パターン６０１３とが形成される。
【００４８】
遮光パターン６０１１は、露光処理において使用する露光機が発する光エネルギを遮断するパターンである。透光パターン６０１２は、光エネルギを透過させることができるパターンである。半透光パターン６０１３は、光エネルギを弱めて透過させることができるパターン（＝光エネルギの透過率が、透光パターンよりも小さいパターン）である。半透光パターン６０１３には、従来公知のハーフトーン露光用のフォトマスクと同じ構成が適用できる。したがって説明は省略する。
【００４９】
遮光パターン６０１１、透光パターン６０１２、半透光パターン６０１３の具体的な構成は、次のとおりである。
【００５０】
透光パターン６０１２は、第一の感光性の材料の膜５０１の露光処理において、ブラックマトリックス１２に形成される所定の一部の開口部の内部（＝第一の感光性の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分）に対して、光エネルギを照射できる構成を有する。「所定の一部の開口部」とは、ある所定の一色の着色層が形成される開口部をいう。すなわち、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が、赤色の着色層１３ｒ、緑色の着色層１３ｇ、青色の着色層１３ｂの三色の着色層を有する構成であれば、これら三色のうちの一色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成される開口部をいう。
【００５１】
半透光パターン６０１３は、略額縁状の構成を有するパターンであり、各透光パターン６０１２を囲繞するように形成される。すなわち、半透光パターン６０１３は、第一の感光性の材料の膜５０１の露光処理において、ブラックマトリックス１２に形成される前記所定の一部の開口部の外側であって当該開口部を囲繞する部分（＝第一の感光性の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の外側に形成される部分であって、当該開口部の近傍の部分）に対して、光エネルギを照射できる構成を有する。
【００５２】
遮光パターン６０１１は、第一の感光性の材料の膜５０１を除去する部分に対して、光エネルギを照射しないようにできる構成を有する。すなわち、ブラックマトリックス１２のうち、前記所定の一部の開口部を囲繞する部分以外の部分、および、前記所定の一部の開口部以外の開口部の内側に対して、光エネルギを遮断できる構成を有する。
【００５３】
そして、露光工程において、第一の感光性の材料の膜５０１に露光処理が施される。図４は、着色層形成工程における露光工程（露光処理）を示す。露光工程においては、図４に示すように、第一の感光性の材料の膜５０１の所定の部分に、光エネルギが照射される。図４中の矢印は、照射される光エネルギを模式的に示す。
【００５４】
第一の感光性の材料の膜５０１のうち、第一のフォトマスク６０１の透光パターン６０１２が投影される部分には、透光パターン６０１２を透過した光エネルギが照射される。前記のとおり、透光パターン６０１２は、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に対応する寸法および形状に形成されるから、第一の感光性の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分に、光エネルギが照射される。
【００５５】
第一の感光性材料の膜５０１のうち、第一のフォトマスク６０１の半透光パターン６０１３が投影される部分は、半透光パターン６０１３を透過した光エネルギが照射される。半透光パターン６０１３は、透光パターン６０１２に比較して光エネルギの透過率が低いため、この部分に照射される光エネルギの照射量は、透光パターン６０１２が投影される部分に比較すると少ない。そして、半透光パターン６０１３は、透光パターン６０１２を囲繞するように形成されるため、ブラックマトリックス１２の表面に形成される第一の感光性の材料の膜５０１のうち、所定の一部の開口部近傍の部分に、開口部に形成される部分に比較して少ない光エネルギが照射される。
【００５６】
第一の感光性の材料の膜５０１のうち、第一のフォトマスク６０１の遮光パターン６０１１が投影される部分は、光エネルギが遮光パターン６０１１により遮断されるため照射されない。
【００５７】
そして、現像工程において、露光工程を経た第一の感光性の材料の膜５０１に、現像処理が施される。図５（ａ）は、着色層形成工程における現像工程を示す。現像処理が施されると、図５（ａ）に示すように、第一の感光性の材料の膜５０１のうち、第一のフォトマスク６０１の遮光パターン６０１１が投影された部分（＝光エネルギが遮断されて照射されなかった部分）は、現像液に溶解して除去される。一方、透光パターン６０１２が投影された部分および半透光パターンが投影された部分（＝光エネルギが照射された部分）は、現像液に溶解せずに残る。したがって、第一の感光性の材料の膜５０１は、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に形成される部分およびその周囲を囲繞する部分が残り、他の部分は除去される。そして、残った第一の感光性の材料の膜５０１が、所定の一色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとなる。図５（ａ）においては、例として赤色の着色層１３ｒとなる構成を示す。
【００５８】
第一の感光性の材料の膜５０１がネガ型の感光性の材料からなれば、露光処理において光エネルギが照射された部分は、現像液に対して難溶性または不可溶性を示すようになる。そして、難溶性または不可溶性の程度は、光エネルギの照射量に応じて変化する。このため、第一のフォトマスク６０１の半透光パターン６０１３を通じて光エネルギが照射された部分は、透光パターン６０１２を透過した光エネルギが照射された部分に比較すると、光エネルギの照射量が少ないから、現像液に対する難溶性または不可溶性は低くなる。したがって、半透光パターン６０１３を透過した光エネルギが照射された部分は、現像処理後に残る膜の厚さが、透光パターン６０１２を透過した光エネルギが照射された部分に比較すると、薄くなる。
【００５９】
第一の感光性の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分は、第一のフォトマスク６０１の透光パターン６０１２を透過した光エネルギが照射される。これに対して、ブラックマトリックス１２の表面に形成される部分であって、前記所定の一部の開口部を囲繞する部分は、第一のフォトマスク６０１の半透光パターン６０１３を透過した光エネルギが照射される。このため、ブラックマトリックス１２の表面には、前記所定の一部の開口部を囲繞するように、第一の感光性の材料の膜５０１が残る。この部分が重畳部１３１となる。
【００６０】
このような工程を経ると、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に、所定の一色の着色層（図においては、例として赤色の着色層１３ｒを示す）が形成される。
【００６１】
そして、図５（ｂ）に示すように、このような工程を、他の色の着色層（図５（ｂ）においては、例として緑色の着色層１３ｇと青色の着色層１３ｂを示す）についても同様に行う。図５（ｂ）は、着色層形成工程の完了後の状態を示す。この工程を経ると、ブラックマトリックス１２の各開口部に、それぞれ所定の色の着色層１３ｒ、１３ｇ，１３ｂが形成される。なお、前記説明以外の構成は、従来公知の着色感材法が適用できる。
【００６２】
次に、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが、ポジ型の感光性の材料により形成される構成について説明する。
【００６３】
ブラックマトリックス１２が形成された透明基板１１の表面に、所定の色（赤色、緑色、青色のいずれか一色）の着色剤を含有するポジ型の感光性の材料の膜が形成される。説明の便宜上、この感光性の材料の膜５０２を、「第二の感光性の材料の膜」と称する。第二の感光性の材料の膜５０２の形成方法は、第一の感光性の材料の膜の形成方法と、同じ方法が適用できる（図３（ａ）参照）。
【００６４】
そして、露光工程において、形成された第二の感光性材料の膜５０２に、露光処理が施される。図９は、第二の感光性の材料の膜５０２の露光処理において使用されるフォトマスク６０２の一部の構成を、模式的に示した平面図である。このフォトマスク６０２を、説明の便宜上、「第二のフォトマスク」と称する。図９に示すように、第二のフォトマスク６０２には、遮光パターン６０２１と、透光パターン６０２２と、半透光パターン６０２３とが形成される。
【００６５】
遮光パターン６０２１は、露光処理において使用する露光機が発する光エネルギを遮断するパターンである。透光パターン６０２２は、光エネルギを透過させることができるパターンである。半透光パターン６０２３は、光エネルギを弱めて透過させることができるパターン（＝光エネルギの透過率が、透光パターンよりも小さいパターン）である。
【００６６】
遮光パターン６０２１、透光パターン６０２２、半透光パターン６０２３の具体的な構成は、次のとおりである。
【００６７】
遮光パターン６０２１は、第二の感光性の材料の膜５０２の露光処理において、ブラックマトリックス１２に形成される所定の一部の開口部の内部（＝第一の感光性の材料の膜５０１のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分）に対して、光エネルギを遮断して照射しないようにする構成を有する。「所定の一部の開口部」は、ネガ型の感光性の材料が適用される構成と同じである。
【００６８】
第二のフォトマスク６０２に形成される半透光パターン６０２３は、第一のフォトマスク６０１に形成される半透光パターン６０１３と、略同じ構成を有する。ただし、光エネルギの透過率の値は、適用される感光性の材料の膜の特性などに応じて相違することがある。
【００６９】
透光パターン６０２２は、第二の感光性の材料の膜５０２を除去する部分に対して、光エネルギを照射できる構成を有する。すなわち、ブラックマトリックス１２のうち、前記所定の一部の開口部を囲繞する部分以外の部分、および、前記所定の一部の開口部以外の開口部の内側に対して、光エネルギを透過して照射できる構成を有する。
【００７０】
そして、露光工程において、第二の感光性の材料の膜５０２に露光処理が施される。図８は、着色層形成工程における露光工程（露光処理）を示す。露光工程においては、図８に示すように、第二の感光性の材料の膜５０２の所定の部分に、光エネルギが照射される。図８中の矢印は、照射される光エネルギを模式的に示す。
【００７１】
第二の感光性の材料の膜５０２のうち、第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１が投影される部分は、光エネルギが遮光パターン６０２１により遮断されるため照射されない。前記のとおり、遮光パターン６０２１は、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に対応する寸法および形状に形成されるから、第二の感光性の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分には、光エネルギが照射されない。
【００７２】
第二の感光性材料の膜５０２のうち、第二のフォトマスク６０２の半透光パターン６０２３が投影される部分は、半透光パターン６０２３を透過した光エネルギが照射される。半透光パターン６０２３は、透光パターン６０２２に比較して光エネルギの透過率が低いため、この部分に照射される光エネルギの照射量は、透光パターン６０２２が投影される部分に比較すると少ない。そして、半透光パターン６０２３は、遮光パターン６０２１を囲繞するように形成されるため、ブラックマトリックス１２の表面に形成される第二の感光性の材料の膜５０２のうち、所定の一部の開口部近傍の部分に、開口部に形成される部分に比較して少ない光エネルギが照射される。
【００７３】
第二の感光性の材料の膜５０２のうち、第二のフォトマスク６０２の透光パターン６０２２が投影される部分には、透光パターン６０２２を透過した光エネルギが照射される。
【００７４】
そして、現像工程において、露光工程を経た第二の感光性の材料の膜５０２に、現像処理が施される。現像処理が施されると、第二の感光性の材料の膜５０２のうち、第二のフォトマスク６０２の透光パターン６０２２が投影された部分（＝光エネルギが照射された部分）は、現像液に溶解して除去される。一方、遮光パターン６０２１が投影された部分（＝光エネルギが照射されない部分）は、現像液に溶解せずに残る。さらに、半透光パターン６０２３が投影された部分（＝透光パターン６０２２が投影された部分に比較して光エネルギの照射量が少ない部分）は、一部が現像液に溶解し、一部が現像液に溶解せずに残る。
【００７５】
したがって、第二の感光性の材料の膜５０２は、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に形成される部分およびその周囲を囲繞する部分が残り、他の部分は除去される（図５（ａ）参照）。そして、残った第二の感光性の材料の膜５０２が、所定の一色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとなる。このように、現像処理後に残る第二の感光性の材料の膜の形態は、現像処理後に残る第一の感光性の材料の膜と略同じである。
【００７６】
第二の感光性の材料の膜５０２がポジ型の感光性の材料からなれば、露光処理において光エネルギが照射された部分は、現像液に対して可溶性を示すようになる。そして、可溶性の程度は、光エネルギの照射量に応じて変化する。このため、第二のフォトマスク６０２の半透光パターン６０２３を通じて光エネルギが照射された部分は、透光パターン６０２２を透過した光エネルギが照射された部分に比較すると、光エネルギの照射量が少ないから、現像液に対する可溶性は低くなる。このため、半透光パターン６０２３を透過した光エネルギが照射された部分は、現像処理後に残る膜の厚さが、透光パターン６０２２を透過した光エネルギが照射された部分に比較すると、薄くなる。
【００７７】
第二の感光性の材料の膜５０２のうち、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部の内側に形成される部分は、第二のフォトマスク６０２の遮光パターン６０２１により光エネルギが遮断されて照射されない。これに対して、ブラックマトリックス１２の表面に形成される部分であって、前記所定の一部の開口部を囲繞する部分は、第二のフォトマスク６０２の半透光パターン６０２３を透過した光エネルギが照射される。このため、ブラックマトリックス１２の表面には、前記所定の一部の開口部を囲繞するように、第二の感光性の材料の膜５０２が残る。この部分が重畳部１３１となる。
【００７８】
このような工程を経ると、ブラックマトリックス１２の所定の一部の開口部に、所定の一色の着色層が形成される（図５（ａ）参照）。そして、このような工程を、他の色の着色層についても同様に行う（図５（ｂ）参照）。
【００７９】
このように、着色層の材料である感光性の材料には、ネガ型とポジ型のいずれであっても適用可能である。
【００８０】
このような構成によれば、所定の色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に、ブラックマトリックス１２の表面に重畳する重畳部１３１を形成することができる。そして、この重畳部１３１の厚さを、他の部分（＝開口部の内側に形成される部分）に比較して薄くすることができる。
【００８１】
すなわち、ブラックマトリックス１２の開口部の内側に、隙間なく各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成するため、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成する際の位置ずれや寸法公差などを考慮し、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの外形の寸法を、ブラックマトリックスの開口部の寸法よりも大きくする。しかしながら、このような構成では、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に、ブラックマトリックス１２の表面に重畳する重畳部１３１が形成される。このため、重畳部１３１が、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面から突起し、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に凹凸が形成される。
【００８２】
本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法によれば、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部のうち、ブラックマトリックス１２に重畳する重畳部１３１の厚さを薄くすることができるから、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の寸法（特に高さ寸法）を小さくすることができる。このように、本発明の実施形態にかかる着色層の形成方法によれば、位置ずれや寸法公差などに起因して各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの形成が不完全となる（＝ブラックマトリックス１２の開口部に各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成されない部分が生じる）ことを防止しつつ、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面に形成される凹凸の寸法を小さくすることができる。
【００８３】
なお、第一のフォトマスク６０１や第二のフォトマスク６０２の半透光パターン６０１３，６０２３の光エネルギの透過率は、第一の感光性の材料の膜５０１または第二の感光性の材料の膜５０２の特性や、形成する重畳部１３１の厚さ寸法などに応じて、適宜設定される。
【００８４】
形成された各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂ（＝残った第一の感光性材料の膜５０１または第二の感光性材料の膜５０２）は、現像処理の後、ポストベーク（「アフターベーク」と称することもある）される。ポストベークは、残留した現像液の除去、形成された各色の着色層１３ｒ，１３ｇ、１３ｂの基板への密着性の強化などを目的として、現像処理後に行われる熱処理である。ポストベークにおいて、形成された各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが加熱されると、軟化してリフローする。
【００８５】
この結果、重畳部１３１の厚さが薄くなるとともに、形状がなだらかになる。
【００８６】
図６は、透明電極形成工程を示す。図６に示すように、透明電極形成工程において、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂおよびブラックマトリックス１２の表面に、透明電極１４が形成される。透明電極１４の形成方法は特に限定されるものではなく、マスキング法やフォトリソグラフィ法など、従来公知の各種の方法が適用できる。
【００８７】
例えば、マスキング法であれば、前記工程を経た透明基板１１の表面（すなわち、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面）に、所定のパターンの開口部（すなわち、透明電極１４のパターンの開口部）が形成されたマスクが配置され、スパッタリング法などによって、透明な導電性材料が、マスクに形成される開口部を通じて、前記工程を経た透明基板１１の表面に蒸着される。これにより、前記工程を経た透明基板１１の表面に、所定のパターンの透明電極が形成される。また、フォトリソグラフィ法によれば、前記工程を経た透明基板１１の表面に、透明な導電性材料の膜が形成され、形成された導電性材料の膜が、エッチングによって透明電極１４のパターンにパターニングされる。このエッチングには、たとえば塩化第二鉄を用いたウェットエッチングが適用できる。
【００８８】
なお、透明電極形成工程の後に、透明電極１４の表面に、配向規制構造物が形成されることがある。配向規制構造物の形成方法は特に限定されるものではなく、たとえば、感光性の材料をフォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が適用できる。
【００８９】
以上の工程を経て、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が製造される。
【００９０】
次に、本発明の実施形態にかかる表示パネル２について説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が適用された液晶表示パネルである。
【００９１】
図１０は、本発明の実施形態にかかる表示パネル２の一部の断面構造を、模式的に示した断面図である。図１０に示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル２は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１とを備える。そして、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１とが、それぞれのシールパターン領域１０３，２０３に形成されたシール材２４によって、所定の微小な間隔をおいて対向して貼り合わせられる。そして、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１の間のうち、シール材２４に囲繞される領域に、液晶２５が充填される。
【００９２】
本発明の実施形態にかかる表示パネル２のＴＦＴアレイ基板２１には、従来公知の構成を有するＴＦＴアレイ基板が適用できる。したがって、説明は省略する。
【００９３】
次に、本発明の実施形態にかかる表示パネル１の製造方法について説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル１の製造方法は、カラーフィルタ製造工程と、ＴＦＴアレイ基板製造工程と、パネル製造工程（「セル製造工程」と称することもある）とを含む。カラーフィルタ製造工程は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法で説明したとおりである。ＴＦＴアレイ基板製造工程は、従来公知の方法が適用できる。したがって、説明は省略する。
【００９４】
パネル製造工程の内容は、次のとおりである。パネル製造工程においては、まず、前記製造方法により製造された本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１のそれぞれの表面に、配向膜２２，２３が形成される。次いで、形成された配向膜２２，２３の表面に配向処理が施される（なお、配向処理が施されない場合もある）。次いで、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１とが貼り合わせられるとともに、これらの間に液晶２５が充填される。
【００９５】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面に配向膜を形成する方法は、次のとおりである。まず、インクジェット方式の印刷機を用いて、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面の表示領域１０１に、配向材を滴下する。配向材とは、配向膜の原料となる物質（一般的にはポリイミド）を含有する溶液をいう。
【００９６】
滴下された配向材は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面を流動して拡散する。そして、拡散した配向材どうしが繋がり、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面の表示領域１０１の全体にわたって、配向材の膜が形成される。次いで、塗布された配向材は、配向膜焼成装置などを用いて加熱され、焼成される。
【００９７】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１においては、各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの周縁部に形成される重畳部１３１の高さが、開口部に形成される部分よりも低く形成される。また、重畳部１３１はなだらかになる。このため、重畳部１３１が配向材の流動および拡散を阻碍しない。したがって、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面の表示領域１０１に、配向材の膜が形成されない部分が生じることや、配向材の膜の厚さが不均一となることを防止できる。
【００９８】
さらに、配向材の膜が形成されない部分が生じないようにするために、滴下する配向材の量を多くする構成と比較すると、最終的に形成される配向膜２２の厚さを薄くすることができる（または厚くする必要がない）。したがって、配向膜２２の厚さが厚くなることによるガンマ特性の低下を防止することができる（換言すると、配向膜２２の厚さを薄くすることができ、ガンマ特性の向上を図ることができる）。また、配向材の滴下量を増加させる必要がないか、または配向材の量を削減することができるから、材料コストの上昇の防止または材料コストの削減を図ることができる。
【００９９】
次いで、配向処理装置を用いて、焼成した配向膜２２，２３に配向処理を施す。配向処理は、液晶の配向を規定するために、配向膜２２，２３の表面性状を調整する処理である。配向処理は、植毛布などで配向膜の表面を擦るラビング方式や、配向膜２２，２３に光エネルギを照射して配向させる光配向方式など、公知の各種配向処理方法が適用できる。また、配向膜２２，２３に配向処理を施さない構成であってもよい。
【０１００】
なお、ＴＦＴアレイ基板２１の表面に配向膜２３を形成する方法、および配向処理を施す方法は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と同じ方法が適用できる。
【０１０１】
次いで、シールパターニング装置などを用いて、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１のいずれか一方のパネル額縁領域１０２，２０２のシールパターン領域１０３，２０３に、シール材２４が塗布される。そして、シール材２４により囲繞される領域に、液晶が滴下される。
【０１０２】
次いで、減圧雰囲気下において、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１と、ＴＦＴアレイ基板２１とが貼り合わせられる。そして、シール材２４を固化させる。たとえば、シール材として、紫外線硬化型の樹脂材料が適用される構成であれば、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１とが貼り合わせられた後、シール材２４に紫外線を照射して固化させる。なお、シール材２４を固化させた後に、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１とＴＦＴアレイ基板２１との間に液晶を注入する構成であってもよい。
【０１０３】
以上の工程を経て、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が適用された液晶表示パネル２が製造される。
【０１０４】
本発明の実施形態にかかる表示パネル用の製造方法によれば、ブラックマトリックス１２および各色の着色層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面（に形成される透明電極１４の表面）に、インクジェット方式の印刷機を用いて配向材を滴下して配向材の膜２２を形成する場合において、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されなくなる。このため、配向材の膜が形成されない部分が発生することを防止できる。かつ、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。さらに、滴下した配向材の流動および拡散が阻碍されないから、配向材の滴下量を少なくしても、配向材の膜が形成されない部分が生じることが防止できるとともに、配向材の膜の厚さを均一にすることができる。
【０１０５】
そして、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法によれば、配向膜２２を薄く均一な厚さで形成することができる。したがって、配向膜２２の厚さが厚くなることに起因するガンマ特性の低下の防止、または配向膜２２の厚さを薄くすることによるガンマ特性の向上を図ることができる。さらに、配向膜２２の厚さを均一にできるから、配向膜２２の厚さが不均一なことに起因する表示ムラの発生を防止または抑制できる。
【０１０６】
さらに、配向膜２２を薄く形成することにより、配向材の量を少なくすることができるから、製造コストや材料コストの削減を図ることができる。
【０１０７】
また、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の製造方法によれば、配向材が滴下された表示パネル用の基板に振動を加えることにより配向材の流動および拡散を促す構成とは異なり、振動を加えるための設備が不要であるから、設備コストの上昇を招かない。また、表面張力が低い配向材を使用する構成とは異なり、配向材の種類は限定されない。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
以上、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変が可能である。
【０１０９】
たとえば、前記実施形態にかかる液晶表示パネルは、二枚の表示パネル用の基板のうちの一方にカラーフィルタが適用され、他方にＴＦＴアレイ基板が適用される構成を有するが、本発明は、このような構成に限定されるものではない。たとえば、二枚の表示パネル用の基板の一方に、絵素電極、絵素電極を駆動するためのスイッチング素子、ブラックマトリックス、各色の着色層が形成される構成であってもよい。すなわち、ブラックマトリックスと所定の色の着色層が形成される表示パネル用の基板であって、所定の色の着色層が、感光性の材料によりフォトリソグラフィ法を用いて形成される構成であれば、その他の構成に関わりなく適用できる。
【０１１０】
また、前記実施形態においては、着色層の形成方法に適用される構成を示したが、フォトリソグラフィ法により形成される要素であれば、着色層以外の要素にも適用できる。
【符号の説明】
【０１１１】
１  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板
１０１  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の表示領域
１０２  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板のパネル額縁領域
１０３  パネル額縁領域に形成されるシールパターン領域
１１  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の透明基板
１２  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板のブラックマトリックス
１３ｒ  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の赤色の着色層
１３ｇ  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の緑色の着色層
１３ｂ  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の青色の着色層
１３１  着色層の重畳部
１４  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の透明電極
２  本発明の実施形態にかかる表示パネル
２１  ＴＦＴアレイ基板
２２  本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成された配向膜
２３  ＴＦＴアレイ基板に形成された配向膜
２４  シール材
２５  液晶
５０１  第一の感光性の材料の膜
５０２  第二の感光性の材料の膜
６０１  第一のフォトマスク
６０１１  第一のフォトマスクの遮光パターン
６０１２  第一のフォトマスクの透光パターン
６０１３  第一のフォトマスクの半透光パターン
６０２  第二のフォトマスク
６０２１  第二のフォトマスクの遮光パターン
６０２２  第二のフォトマスクの透光パターン
６０２３  第二のフォトマスクの半透光パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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