(57)【要約】【課題】高い導電性を有し、光透過性導電性層と金属部との密着性が高く、生産性に優れた光透過性電極を提供する【解決手段】光透過性支持体上に、導電性金属酸化物粒子および導電性高分子化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含有する光透過性導電性層と、該光透過性導電性層上に開口部を有する金属部とを有する光透過性電極であって、該光透過性導電層が金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子を含有することを特徴とする光透過性電極。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性支持体上に、導電性金属酸化物粒子および導電性高分子化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含有する光透過性導電性層と、該光透過性導電性層上に開口部を有する金属部とを有する光透過性電極であって、該光透過性導電層が金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子を含有することを特徴とする光透過性電極。
【請求項２】
前記開口部を有する金属部が銀塩拡散転写法を用いて形成された金属部であることを特徴とする請求項１記載の光透過性電極。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬ素子、無機ＥＬ素子、タッチパネル、電子ペーパー等の用途に用いることのできる光透過性電極に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光透過性電極は、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬディスプレイ）、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパーなどに用いられている。特に近年折り曲げの可能な光透過性フィルムを支持体とした光透過性電極に注目が集まっている。広く応用されている光透過性フィルムを支持体とした光透過性電極としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の光透過性フィルムの表面の少なくとも一方に、インジウム−スズの複合酸化物（ＩＴＯ）を真空蒸着法やスパッタリング法等のドライプロセスにて製膜されたものが挙げられる。ところが、薄いＩＴＯ膜の導電性は決して十分ではないため、面積が大きなデバイスではロスが大きくなり支障をきたすことがある。このような問題を生じさせないため、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くする方法、あるいはＩＴＯ膜を加熱処理する方法が一般的に用いられる。
【０００３】
しかしながら、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くした場合、ＩＴＯ膜の色が黄色を呈する問題が発生したり、あるいは厚いＩＴＯ膜は曲げに弱くクラックが入り導電性が損なわれるトラブルが生じたりする問題も発生する。さらには、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くするには生産性が悪くなる。また、加熱処理については支持体として光透過性フィルムを用いた場合は、高い温度がかけられないために高い導電性を得ることは難しいという問題が存在する。
【０００４】
また、導電性高分子化合物を光透過性フィルムに製膜した光透過性電極も提案されており、導電性高分子化合物により形成される光透過性導電性層は、層自体に柔軟性があるため、クラックなどの問題を生じにくいメリットはあるが、導電性はＩＴＯよりも劣るものであった。
【０００５】
一方、光透過性電極として開口部を有する金属部からなるグリッド電極を利用することも知られている（例えば特許文献１）。しかしながら、開口部を有する金属部を例えば無機ＥＬディスプレイの電極として用いた場合、開口部には電位がかからないため、金属の上しか発光しないという問題があった。
【０００６】
このような問題を改善するために、光透過性導電性層と開口部を有する金属部を併用することは知られ開示されている（例えば、特許文献２や３参照）。また、ＥＬディスプレイ用の電極として光透過性導電性層と開口部を有する金属部を併用し、その開口部に電気絶縁層やカラーフィルター層を設ける例が開示されている（例えば、特許文献４参照）。これら各公報では支持体上に光透過性導電性層、開口部を有する金属部がこの順に設けられている。
【０００７】
しかしながら、これら開示技術においては、光透過性導電層はＩＴＯなどの導電性金属酸化物半導体を真空環境下で製膜する方法が利用されており、これでは、曲げの耐性が十分ではなく、また、生産性も悪いものとなる。
【０００８】
また、エレクトロルミネッセンスの電極や銀の溶解析出を利用した電気化学的な表示装置の電極として、導電性高分子化合物などからなる光透過性導電性層上に開口部を有する金属部を作製し、用いる例が開示されている（例えば特許文献５や６参照）。これら各公報においては、ＩＴＯなどの導電性金属酸化物半導体を真空環境下で製膜する方法で光透過性導電性層を作製していないことから曲げ耐性等の問題は発生しない。しかしながら例えば特許文献５にあるように、微細に開口部を有する金属部を光透過性導電性層が設けられた支持体に貼り合わせ、電極を作製する場合、微細な金属部に傷が入り断線してしまう場合もあった。また、導電性高分子化合物と金属の密着が悪く、光透過性電極を作製する工程、あるいはその後の工程において、開口部を有する金属部と光透過性導電性層が剥離してしまう場合もあった。
【０００９】
また、支持体上に開口部を有する金属部、導電性高分子化合物などからなる光透過性導電性層をこの順に設ける例（例えば、特許文献５や７参照）も知られており、光透過性導電性層だけの導電性を高くするには層の厚みを厚くする必要があるが、この場合、開口部を有する金属部が光透過性電極の中に深く埋まってしまい、開口部を有する金属部の極めて高い導電性を利用することが困難になる場合もあった。また逆に光透過性導電性層を薄くすると、光透過性導電性層の抵抗値が高くなり、開口部を有する金属部のみからなるグリッド電極と同じような特性がでてきてしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００９−２４５７４８号公報
【特許文献２】特開平６−１４０６４６号公報
【特許文献３】特開２００９−９９５７４号公報
【特許文献４】特開平１０−１６２９６１号公報
【特許文献５】特開２００６−３５２０７３号公報
【特許文献６】特開２００５−３３８２３０号公報
【特許文献７】特開２００９−８７８４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って、本発明の目的は高い導電性を有し、光透過性導電性層と開口部金属部との密着性が高く、生産性に優れた光透過性電極を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の目的は以下の手段によって達成された。
１．光透過性支持体上に、導電性金属酸化物粒子および導電性高分子化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含有する光透過性導電性層と、該光透過性導電性層上に開口部を有する金属部とを有する光透過性電極であって、該光透過性導電層が金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子を含有することを特徴とする光透過性電極。
２．前記開口部を有する金属部が銀塩拡散転写法を用いて形成された金属部であることを特徴とする上記１記載の光透過性電極。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、高い導電性を有し、光透過性導電性層と金属部との密着性が高く、生産性に優れた光透過性電極を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の光透過性電極は光透過性支持体上に、光透過性導電性層、開口部を有する金属部がこの順に積層されてなる。さらに金属部の上面に、あるいは光透過性支持体の光透過性導電性層の反対面に紫外線吸収層、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層等の公知の機能層を設けることもできる。
【００１５】
本発明の光透過性電極に用いられる光透過性支持体としては、全光線透過率が好ましくは５０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８５％以上の光透過性支持体であれば何れでも使用できる。光透過性支持体の例としては、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、ポリフッ化ビニリデン、セロハン、セルロイド、シクロオレフィン、ガラス等が挙げられる。さらに本発明において光透過性支持体は易接着層を有していても良い。
【００１６】
本発明の光透過性電極は少なくとも光透過性支持体の一方の面に光透過性導電性層が設けられている。本発明において光透過性導電性層とは全光線透過率が少なくとも３０％以上、好ましくは５０％以上で、表面抵抗率が少なくとも１０７Ω／□以下、好ましくは１０５Ω／□以下、さらに好ましくは１０４Ω／□以下の層のことを示す。光透過性導電性層は環境上の観点から水系塗液を塗布、乾燥して形成することにより光透過性導電性層とすることが好ましい。またスクリーン印刷方式等の印刷法により、パターン状に光透過性導電性層を印刷することも可能である。
【００１７】
上記、光透過性導電性層は、例えば酸化錫、インジウム−錫の混合酸化錫（ＩＴＯ）、アンチモン−錫の混合酸化物（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、インジウム−亜鉛の混合酸化物（ＩＺＯ）、アンチモン−亜鉛の混合酸化物（ＡＺＯ）等の導電性金属酸化物粒子、あるいは例えばポリピロール、ポリアニリン、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）などの公知の導電性高分子化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含有する。またこれらは単独で用いても良いし、あるいは複数を組み合わせて用いても良い。
【００１８】
本発明の光透過性導電性層に導電性金属酸化物粒子を用いる場合、その形状はいかなる形の粒子でも用いることができるが、球形より針状粒子、羽毛状粒子、鱗片状粒子など非球形粒子であるほうが比較的低い表面抵抗値を得られ易いので好ましい。その使用量は導電性金属酸化物粒子の種類、形状、導電性金属酸化物粒子とバインダーとの比率等に応じて変化するが、１〜２５００ｍｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは１０〜５００ｍｇ／ｍ２である。導電性高分子化合物を用いる場合にはその好ましい使用量は１０〜２５００ｍｇ／ｍ２、さらに好ましくは５０〜１０００ｍｇ／ｍ２である。
【００１９】
本発明の光透過性導電性層は金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子（好ましくは粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度、ナノワイヤの場合は好ましくは直径１〜数十ｎｍ、長さ数ｎｍ〜数μｍのナノワイヤ）を含有する。例えば、金属微粒子としては金、銀、パラジウム、ニッケル、白金等のコロイドあるいはこれらの複合コロイドや銀ナノワイヤなどが上げられ、金属硫化物微粒子としてはパラジウム、銀、ニッケル、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合して得られる金属硫化物等が挙げられる。光透過性導電性層における金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子の含有量は、固形分で１ｍ２あたり０．１〜１０ｍｇ程度が適当である。
【００２０】
本発明の光透過性導電性層は特に導電性物質として導電性金属酸化物粒子を用いる場合は必ず、また導電性高分子化合物を用いる場合でも光透過性導電性層と光透過性支持体の密着性を上げるなどの目的で導電性高分子化合物以外のバインダーを用いるが好ましい。バインダーとしては公知の水溶性高分子化合物、高分子ラテックスの水系分散物などを用いることで水系塗工ができるため、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を出さない点で好ましく、さらにはこれらを併用して用いることができる。
【００２１】
バインダー成分としての高分子ラテックスとしては単独重合体や共重合体など各種公知のラテックスを用いることができる。単独重合体としては酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、メタクリロニトリル、ブタジエン、イソプレンなどの重合体があり、共重合体としてはエチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ｐ−メトオキシスチレン共重合体、スチレン・酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル・マレイン酸ジエチル共重合体、メチルメタクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルメタクリレート・ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、メチルメタクリレート・酢酸ビニル共重合体、メチルメタクリレート・塩化ビニリデン共重合体、メチルアクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルアクリレート・ブタジエン共重合体、メチルアクリレート・スチレン共重合体、メチルアクリレート・酢酸ビニル共重合体、アクリル酸・ブチルアクリレート共重合体、メチルアクリレート・塩化ビニル共重合体、ブチルアクリレート・スチレン共重合体、ポリエステル、各種ウレタン等がある。この中でも耐候性の観点からポリエステルラテックスやアクリルラテックスおよびウレタンラテックスを用いることが好ましく、さらに各種材料との接着性の観点からウレタンラテックス、特に耐候性の高い無黄変型ウレタンポリカーボネートラテックスが好ましい。高分子ラテックスの水系分散物の平均粒子径は０．０１〜０．３μｍであることが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜０．１μｍである。また、これら高分子ラテックスは複数種類のラテックスを混合して用いることも可能である。
【００２２】
本発明の光透過性導電性層のバインダーとして用いる水溶性高分子化合物としてはポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、無水マレイン酸とスチレンの共重合体等が挙げられ、またゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリリジン等のタンパク質、カラギーナン、ヒアルロン酸などムコ多糖類、「高分子の化学反応」（大河原  信著  １９７２、化学同人社）２．６．４章記載のアミノ化セルロース、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリジアリルアミン、アリルアミンとジアリルアミンの共重合体、ジアリルアミンと無水マレイン酸との共重合体、ジアリルアミンと二酸化硫黄との共重合体などが挙げられる。これら水溶性高分子化合物の中ではタンパク質やポリエチレンイミン、ポリアリルアミン等のアミノ基を有する高分子化合物を用いることが好ましい。
【００２３】
本発明の光透過性導電性層に導電性高分子化合物を含有させる場合、導電性高分子化合物の全バインダー成分量（全樹脂成分量）における比率は５０〜１００質量％、好ましくは７５〜９５質量％が好ましい。水溶性高分子化合物と高分子ラテックスの比率は１０：０〜１：９が好ましい。全バインダー成分の塗布量としては１００ｍｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは１５０〜１０００ｍｇ／ｍ２である。さらに導電性金属酸化物粒子も光透過性導電層に含有させることも可能であるが、この場合導電性金属酸化物粒子と全バインダー量の比率は１：１以下が好ましく、さらに好ましくは１：２以下である。
【００２４】
本発明の光透過性導電性層に導電性金属酸化物粒子を含有させかつ、導電性高分子化合物を含有させない場合、導電性金属酸化物粒子と全バインダー成分の比率は２０：１〜１：１０、好ましくは１０：１〜１：５、さらに好ましくは３：１〜１：３である。また、全バインダー成分における水溶性高分子と高分子ラテックスの比率は１：１〜１：１００が好ましく、さらに好ましくは１：２〜１：２０である。全バインダー成分の塗布量としては１００ｍｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは１５０〜１０００ｍｇ／ｍ２である。
【００２５】
本発明の光透過性導電性層は膜強度を高め、傷等が入りにくくするよう、架橋剤により架橋されていることが好ましい。架橋剤としてはアルデヒド化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、カルボジイミド化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、活性ハロゲン化合物、少なくとも２個のビニルスルホニル基を有する化合物等、公知の架橋剤を用いることができる。特に本発明においては、下記一般式Ｉもしくは下記一般式IIで示される化合物を用いることが好ましい。
【００２６】
【化１】
2011198672.tif 000002
【００２７】
式中Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ存在してもしなくても良い２価の連結基を示す。存在する場合、好ましくは、炭素数１〜５の置換されていても良いアルキレン基、アリーレン基、カルバモイル基、スルファモイル基、酸素、硫黄、イミノ基等を示し、これらは組み合わさっていても良い。Ｒ１は水素原子、炭素数１〜５の置換されていても良いアルキル基、置換されていても良いベンゼン、ナフタレン等のアリール基を示し、中でも水素原子が好ましい。
【００２８】
【化２】
2011198672.tif 000003
【００２９】
式中、Ｌは少なくとも一個の水酸基を有するｍ価の基であり、ｍは２〜４である。一般式IIにおいて、Ｌとしては、２〜４価の炭素数１〜１０の非環状炭化水素基、窒素原子、酸素原子および／またはイオウ原子を含有する５または６員の複素環基、５または６員の環状炭化水素基、または炭素数７〜１０のシクロアルキレン基が挙げられる。非環状炭化水素基としては、好ましくは１〜８の炭素数を有するアルキレン基である。Ｌで表されるそれぞれの基は、置換基を有していても良く、または、ヘテロ原子（例えば窒素原子、酸素原子および／またはイオウ原子）、カルボニル基またはカルバミド基を介し相互に結合しても良い。Ｌは、例えば、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４を有する１種以上のアルコキシ基、また塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、アセトキシ基等で置換されていても良い。
【００３０】
上記一般式Ｉの化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００３１】
【化３】
2011198672.tif 000004
【００３２】
上記一般式IIの化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
【化４】
2011198672.tif 000005
【００３４】
本発明の光透過性導電性層における架橋剤の添加量は光透過性導電性層の全樹脂成分量に対して１〜７質量％が好ましく、さらに好ましくは２〜５質量％である。
【００３５】
さらに光透過性導電性層にはシリカなどのマット剤、滑剤、顔料、染料、界面活性剤、紫外線吸収剤等を含有させることができる。
【００３６】
本発明において開口部を有する金属部を形成させる方法としては、銀塩感光材料を用いる方法、同方法を用いさらに得られた銀画像に無電解めっきや電解めっきを施す方法、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストなどの導電性インキを印刷する方法、銀インクなどの導電性インクをインクジェット法で印刷する方法、無電解めっき等で銅などの金属からなる導電性層を形成し、あるいは光透過性導電性層の上に蒸着やスパッタなどで導電性層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銅箔などの金属箔を貼り、さらにその上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法など、公知の方法を用いることができるが、視認されにくい極微細な線からなり、かつ高い金属部の密着性を得るためには銀塩感光材料を用いる方法、中でも銀塩拡散転写法を用いることが好ましい。
【００３７】
開口部を有する金属部は光透過性を得るために、金属細線からなる。金属細線はできるだけ均一なもの、好ましくは線幅、厚み共にそのフレの範囲が１０％以内であるような金属細線を作製することが好ましい。開口部を有する金属部を形成する金属細線の厚みは０．６μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．３μｍ以下である。また、金属細線の線幅についてはその幅は狭ければ狭いほど光透過性は高くなるが、一方で、狭すぎると金属細線の抵抗値が高くなりすぎることから、少なくとも５０μｍ以下、好ましくは１０〜３０μｍの線幅であることが好ましい。金属細線は格子状あるいは網目状となって金属部を形成していることが好ましいが、金属細線を構成する金属としては金、銀、銅、ニッケル、亜鉛、クロム、錫、アルミ、あるいはそれらの合金等の金属を用いることができるが、本発明においては銀塩拡散転写法を用いる手法を用いて開口部を有する金属部を作製することが好ましいことから、銀を用いることが最も好ましい。また複数の金属を積層し、金属細線とすることもできる。
【００３８】
上記開口部を有する金属部を銀塩拡散転写法で作製するには、光透過性支持体上の光透過性導電性層上にハロゲン化銀乳剤層を設けることで光透過性導電性材料前駆体とし、これを露光、現像することで得られる、あるいは現像後にめっき処理することで得られる。
【００３９】
光透過性導電性材料前駆体においては上述の通りハロゲン化銀乳剤層が設けられる。ハロゲン化銀に関する銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術はそのまま用いることもできる。
【００４０】
ハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀乳剤粒子の形成には、順混合、逆混合、同時混合等の、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｉｔｅｍ  １７６４３（１９７８年１２月）および１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）で記載されていような公知の手法を用いることができる。中でも同時混合法の１種で、粒子形成される液相中のｐＡｇを一定に保ついわゆるコントロールドダブルジェット法を用いることが、粒径のそろったハロゲン化銀乳剤粒子が得られる点において好ましい。本発明の光透過性導電性材料前駆体においては、好ましいハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒径は０．２５μｍ以下、特に好ましくは０．０５〜０．２μｍである。本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤粒子のハロゲン化物組成には好ましい範囲が存在し、塩化物を８０モル％以上含有するのが好ましく、９０モル％以上が塩化物であることが特に好ましい。
【００４１】
ハロゲン化銀乳剤の製造においては、必要に応じてハロゲン化銀粒子の形成あるいは物理熟成の過程において、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、あるいはロジウム塩もしくはその錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などVIII族金属元素の塩、もしくはその錯塩を共存させても良い。また、種々の化学増感剤によって増感することができ、イオウ増感法、セレン増感法、貴金属増感法など当業界で一般的な方法を、単独、あるいは組み合わせて用いることができる。また本発明に用いる光透過性導電性材料前駆体においてハロゲン化銀乳剤は必要に応じて色素増感することもできる。
【００４２】
また、ハロゲン化銀乳剤層に含有するハロゲン化銀量とゼラチン量の比率は、ハロゲン化銀（銀換算）とゼラチンとの質量比（銀／ゼラチン）が１．２以上、より好ましくは１．５以上である。また、ハロゲン化銀乳剤層が含有するハロゲン化銀量は銀換算で２〜１０ｇ／ｍ２であることが好ましい。
【００４３】
ハロゲン化銀乳剤層には、さらに種々の目的のために、公知の写真用添加剤を用いることができる。これらは、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｉｔｅｍ  １７６４３（１９７８年１２月）および１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）に記載、あるいは引用された文献に記載されている。
【００４４】
光透過性導電性材料前駆体にはハロゲン化銀乳剤層と光透過性導電性層との間やハロゲン化銀乳剤層の上の層に非感光性層を設けることができる。これらの非感光性層は、水溶性高分子化合物を主たるバインダーとする層である。ここでいう水溶性高分子化合物とは、現像液で容易に膨潤し、下層のハロゲン化銀乳剤層、あるいは光透過性導電性層まで現像液を容易に浸透させるものであれば任意のものが選択できる。
【００４５】
具体的には、ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリビニルアルコール等を用いることができる。特に好ましい水溶性高分子化合物は、ゼラチン、アルブミン、カゼイン等のタンパク質である。本発明の効果を十分に得るためには、この非感光性層のバインダー量としては、ハロゲン化銀乳剤層の総バインダー量に対して２０〜１００質量％の範囲が好ましく、特に３０〜８０質量％が好ましい。
【００４６】
これら非感光性層には、必要に応じてＲｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｉｔｅｍ  １７６４３（１９７８年１２月）および１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）に記載されているような公知の写真用添加剤を含有させることができる。また、処理後のハロゲン化銀乳剤層の剥離を妨げない限りにおいて、架橋剤により硬膜させることも可能である。
【００４７】
光透過性導電性材料前駆体にはハロゲン化銀乳剤層の感光波長域に吸収極大を有する非増感性染料または顔料を、画質向上のためのハレーション、あるいはイラジエーション防止剤として用いることは好ましい。ハレーション防止剤としては、好ましくは上記した光透過性導電性層、あるいは光透過性導電性層とハロゲン化銀乳剤層の間に必要に応じて設けられる中間層、または光透過性支持体を挟んで設けられる裏塗り層に含有させることができる。イラジエーション防止剤としては、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのが良い。添加量は、目的の効果が得られるのであれば広範囲に変化しうるが、例えばハレーション防止剤として裏塗り層に含有させる場合、１ｍ２あたり、約２０ｍｇ〜約１ｇの範囲が望ましく、好ましくは、極大吸収波長における吸光度として、０．５以上である。
【００４８】
光透過性導電性材料前駆体の露光について説明する。光透過性導電性材料前駆体のハロゲン化銀乳剤層は像様（所望の細線パターン）に露光されるが、露光方法として、透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。上記したレーザー光で露光する方法においては、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードともいう）を用いることができる。
【００４９】
光透過性導電性材料前駆体の銀塩拡散転写現像液による現像処理について説明する。上記のように像様に露光された光透過性導電性材料前駆体のハロゲン化銀乳剤層は、銀塩拡散転写現像液で処理することにより物理現像が起こり、現像可能なだけの潜像核を有さないハロゲン化銀が可溶性銀錯塩形成剤により溶解されて銀錯塩となり、光透過性導電性層上で還元されて金属銀が析出し金属部を得ることができる。一方、現像可能なだけの潜像核を有するハロゲン化銀はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、不要になったハロゲン化銀乳剤層（黒化銀もこれに含まれる）および中間層、保護層、裏塗り層等は除去されて、金属部が光透過性導電性層上に露出する。
【００５０】
現像処理後のハロゲン化銀乳剤層等の光透過性導電性層の上に設けられた層や裏塗り層の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。また、剥離紙等で転写剥離する方法は、ハロゲン化銀乳剤層上の余分なアルカリ液（銀錯塩拡散転写用現像液）を予めローラ等で絞り取っておき、ハロゲン化銀乳剤層等と剥離紙を密着させてハロゲン化銀乳剤層等を剥離紙に転写させて剥離する方法である。剥離紙としては吸水性のある紙や不織布、あるいは紙の上にシリカのような微粒子顔料とポリビニルアルコールのようなバインダーとで吸水性の空隙層を設けたものが用いられる。
【００５１】
光透過性導電性材料前駆体の現像処理において使用する、銀塩拡散転写現像の現像液について説明する。現像液は、可溶性銀錯塩形成剤および還元剤を含有するアルカリ液である。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して金属微粒子あるいは金属硫化物微粒子上に金属銀を析出させるための化合物である。
【００５２】
現像液に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウムやチオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウムやチオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、オキサゾリドン類、２−メルカプト安息香酸およびその誘導体、ウラシルのような環状イミド類、アルカノールアミン、ジアミン、特開平９−１７１２５７号公報に記載のメソイオン性化合物、米国特許第５，２００，２９４号明細書に記載のようなチオエーテル類、５，５−ジアルキルヒダントイン類、アルキルスルホン類、他に、「Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ（４ｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ，ｐ４７４〜４７５）」、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著に記載されている化合物が挙げられる。
【００５３】
これらの可溶性銀錯塩形成剤は単独で、または複数組み合わせて使用することができる。
【００５４】
現像液に用いられる還元剤は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｉｔｅｍ  １７６４３（１９７８年１２月）および１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）に記載されているような写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロロハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、アスコルビン酸およびその誘導体、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。これらの還元剤は単独で、または複数組み合わせて使用することができる。
【００５５】
可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液１Ｌあたり０．００１〜５モルが好ましく、より好ましくは０．００５〜１モルの範囲である。還元剤の含有量は現像液１Ｌあたり０．０１〜１モルが好ましく、より好ましくは０．０５〜１モルの範囲である。
【００５６】
現像液のｐＨは１０以上が好ましく、さらに１１〜１４が好ましい。所望のｐＨに調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ剤、リン酸、炭酸などの緩衝剤を単独、または組み合わせて含有させる。また、本発明の現像液には、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸カリウム等の保恒剤を含むことが好ましい。
【００５７】
また、上記現像処理および水洗処理することで得られた開口部を有する金属部は後処理を施すこともできる。後処理液としては例えば還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物などの水溶液が一例としてあげられる。このような後処理液に５０〜７０℃、さらに好ましくは６０〜７０℃で１０秒以上、好ましくは３０秒〜３分の処理を行えば、導電性は向上し、さらに高温高湿下でもその表面抵抗率が変動しなくなるので好ましい。
【００５８】
現像、水洗処理後に作製した開口部を有する金属部には導電性を上げるため、あるいは色調を変えるためなどの種々の目的でめっき処理を行うことも可能である。本発明におけるめっき処理としては、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、または無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。まためっき処理の後には酸化処理も行うことができる。
【００５９】
本発明において無電解めっき処理を施す場合、無電解めっきを促進させる目的でパラジウムを含有する溶液で活性化処理することもできる。パラジウムとしては２価のパラジウム塩あるいはその錯体塩の形でも良いし、また金属パラジウムであっても良い。しかし、液の安定性、処理の安定性から好ましくはパラジウム塩あるいはその錯塩を用いることが良い。
【００６０】
本発明における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術、例えば無電解ニッケルめっき、無電解コバルトめっき、無電解金めっき、銀めっきなどを用いることができるが、上記の必要な導電性と透明性を得るためには無電解銅めっきを行うことが好ましい。
【００６１】
本発明における無電解銅めっき液には硫酸銅や塩化銅など銅の供給源、ホルマリンやグリオキシル酸、テトラヒドロホウ酸カリウム、ジメチルアミンボランなど還元剤、ＥＤＴＡやジエチレントリアミン５酢酸、ロシェル塩、グリセロール、メソ−エリトリトール、アドニール、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、ズルシトール、イミノ２酢酸、ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジアミン４酢酸、１，３−ジアミノプロパン−２−オール、グリコールエーテルジアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の銅の錯化剤、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのｐＨ調整剤などが含有される。さらにその他に浴の安定化やめっき皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレングリコール、黄血塩、ビピリジル、ｏ−フェナントロリン、ネオクプロイン、チオ尿素、シアン化物などを含有させることもできる。めっき液は安定性を増すためエアレーションを行うことが好ましい。
【００６２】
無電解銅めっきでは前述の通り種々の錯化剤を用いることができるが、錯化剤の種類により酸化銅が共析し、導電性に大きく影響したり、あるいはトリエタノールアミンなど銅イオンとの錯安定定数の低い錯化剤は銅が沈析しやすいため、安定しためっき液やめっき補充液が作り難いなどということが知られている。従って工業的に通常用いられる錯化剤は限られており、本発明においても同様の理由でめっき液の組成として特に錯化剤の選択は重要である。特に好ましい錯化剤としては銅錯体の安定定数の大きいＥＤＴＡやジエチレントリアミン５酢酸などが挙げられ、このような好ましい錯化剤を用いためっき液としては例えばプリント基板の作製に使用される高温タイプの無電解銅めっきがある。高温タイプの無電解銅めっきの手法については「無電解めっき  基礎と応用」（電気鍍金研究会編）ｐ１０５などに詳しく記載されている。高温タイプのめっきでは通常６０〜７０℃で処理し、処理時間は無電解めっき後に電解めっきを施すかどうかで変わってくるが、通常１〜３０分、好ましくは３〜２０分無電解めっき処理を行うことで本発明の目的を達することができる。
【００６３】
本発明において銅以外の無電解めっき処理を行う場合は例えば「めっき技術ガイドブック」（東京鍍金材料協同組合技術委員会編、１９８７年）ｐ４０６〜４３２記載の方法などを用いることができる。
【００６４】
本発明においては電解めっきを施すこともできる。電解めっき法としては銅めっき、ニッケルめっき、亜鉛めっき、スズめっき等の公知のめっき方法を用いることができ、その方法として例えば「めっき技術ガイドブック」（東京鍍金材料協同組合技術委員会編、１９８７年）記載の方法を用いることができる。どのめっき法を用いるかは製造する導電性材料の用途によって異なるが、導電性をさらに高めるためにめっきする場合、銅めっきやニッケルめっきが好ましい。銅めっきのめっき法として好ましい方法としては硫酸銅浴めっき法やピロリン酸銅浴めっき法、ニッケルめっき法としてはワット浴めっき法、黒色めっき法などが好ましい。
【実施例】
【００６５】
本発明の実施例を以下に示す。なお、記載中百分率は特に断りのない限り、質量基準である。
【００６６】
（実施例１）
「光透過性電極１の作製」
光透過性支持体として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルム（三菱ガス化学社製ユーピロンシート。全光線透過率９０％）を用い、下記処方に従い、易接着層塗液を作製し、ポリカーボネートフィルム上に塗布し、６０℃で５分乾燥させた。乾燥後５０℃２４時間加温処理することで易接着層塗布済みポリカーボネートフィルムを作製した。
【００６７】
＜易接着層塗液処方／１ｍ２あたり＞
ハイドランＷＬＳ２１０（ＤＩＣ社製ポリカーボネート系ウレタンラテックス）
７７０ｍｇ（固形分２７０ｍｇ）
ゼラチン                                        ３０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                            １ｍｇ
サイリシア４５０（富士シリシア化学社製シリカ）  １．２５ｍｇ
ＶＳ−２                                        ９ｍｇ
尿素                                            １８ｍｇ
【００６８】
【化５】
2011198672.tif 000006
【００６９】
続いて、硫化パラジウムゾル液を下記のようにして作製した。
【００７０】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液    塩化パラジウム                          ５ｇ
塩酸                                    ４０ｍＬ
蒸留水                                  １０００ｍＬ
Ｂ液    硫化ソーダ                              ８．６ｇ
蒸留水                                  １０００ｍＬ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００７１】
下記処方に従い、光透過性導電性層塗液を作製し、上記作製したポリカーボネートフィルムの易接着層上に塗布し、１００℃で１０分乾燥させた。
【００７２】
＜光透過性導電性層塗液処方Ａ／１ｍ２あたり＞
バイトロンＰ  ＨＣ  Ｖ４（日信社製ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ系分散液）
２４ｇ（固形分２８８ｍｇ）
ゼラチン                                        ３０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                            １ｍｇ
ジメチルスルホキシド                            １ｍｇ
ＶＳ−２                                        １２ｍｇ
前記硫化パラジウムゾル（硫化パラジウムとして）  ０．４ｍｇ
【００７３】
得られた光透過性導電性層の表面抵抗率は、ダイアインスツルメンツ社製、ロレスターＧＰ／ＥＳＰプローブを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に従い測定した所、５００Ω／□であった。また得られた光透過性導電性層塗布済みポリカーボネートフィルムの全光線透過率は８５％であった。
【００７４】
続いて、支持体に近いほうから順に下記組成の中間層１、ハロゲン化銀乳剤層１、および最外層１をこの順に上記光透過性導電性層の上に塗布した。また光透過性支持体の反対面に裏塗り層１を塗布し、光透過性導電性材料前駆体を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸とを用い金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。
【００７５】
＜中間層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              ５ｍｇ
【００７６】
＜ハロゲン化銀乳剤層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤                                  ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール          ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              ２０ｍｇ
【００７７】
＜最外層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）        １０ｍｇ
界面活性剤Ｓ−１                                  １０ｍｇ
【００７８】
＜裏塗り層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          ２ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径５μｍ）            ２０ｍｇ
染料１                                            ２００ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              ４００ｍｇ
【００７９】
【化６】
2011198672.tif 000007
【００８０】
このようにして得た光透過性導電性材料前駆体を、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介し、細線幅２０μｍで格子間隔２５０μｍの網目パターンのポジ透過原稿を密着させて露光した。
【００８１】
その後、先に露光した光透過性導電性材料前駆体を下記組成の拡散転写現像液中に１５℃で９０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層１、中間層１、最外層１および裏塗り層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして光透過性導電性層上に厚み０．１μｍ、細線幅２０μｍのメッシュ状金属パターン（開口部を有する金属部）を得、光透過性電極Ａを得た。
【００８２】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム                                              ２５ｇ
ハイドロキノン                                              １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン                                ２ｇ
亜硫酸カリウム                                              ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン                                  １５ｇ
臭化カリウム                                              １．２ｇ
全量を水で１０００ｍＬ
８５％リン酸水溶液にてｐＨ＝１２．２に調整した。
【００８３】
上記のようにして得られたメッシュ状金属パターンが形成された光透過性電極Ａの表面抵抗率は、ダイアインスツルメンツ社製、ロレスターＧＰ／ＥＳＰプローブを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に従い測定した。また、下記方法に従い、画像の密着性、電極性能評価を実施した。結果を表１に示す。
【００８４】
＜光透過性導電性層に設けられた導電性パターンの密着性＞
得られたメッシュ状金属パターン面に日東電工社製ポリエステル粘着テープＮｏ．３１を金属面に気泡の入らないように貼り付け、その後勢い良くテープを剥がし剥離テストを行った。剥離テストの評価は○が剥離なし、△が一部剥離あり、×が全面剥離の３段階とした。
【００８５】
＜電極性能評価＞
平均粒子サイズが０．０２μｍのＢａＴｉＯ3微粒子を、３０％のシアノレジン液に分散し、誘電体層厚みが２５μｍになるように厚み７５μｍの背面電極となるアルミシート上に塗布し、温風乾燥機を用いて１２０℃で１時間乾燥した。東芝社製青緑発光ＥＬ蛍光体（堀場社製ＬＡ−５００にて評価。平均サイズ２７μｍ）の粒子を、３０％濃度のシアノレジン液に蛍光体とシアノレジンの質量比率が、３．５：１になるように分散し、上記の光透過性電極Ａの導電性面上に、蛍光体層厚みが４０μｍになるように塗布した。温風乾燥機を用いて１２０℃で１時間乾燥した。
【００８６】
光透過性電極Ａ上の蛍光体層面と背面電極上の誘電体層面を重ね、熱圧着して、ＥＬ素子を形成する際に、それぞれ厚み８０μｍのアルミシートを用いて外部接続用の端子を取り出した後、素子を２枚のナイロン６からなる吸水性シートと２枚のＳｉＯ２層を有する防湿フィルムと挟んで熱圧着した。ＥＬ素子のサイズは、９０ｃｍ×６０ｃｍであった。このようにして作製した本発明の発光素子を１００Ｖ・１ＫＨｚの駆動を行い、全面光ったものを○、格子状にしか光らない場合を×、全面光っているが、明らかに格子の部分が強く光っている場合を△とした。
【００８７】
（実施例２）
「光透過性電極Ｂ」
下記処方に従い、光透過性導電性層を作製する以外は実施例１と同様にして、光透過性電極Ｂを作製し、実施例１と同様に評価した。この結果を表１に示す。なお、光透過性導電性層の表面抵抗率は２０００Ω／□、その厚みは０．６μｍであった。また、開口部を有する金属部の厚みは０．１μｍ、細線幅２０μｍであった。
【００８８】
＜光透過性導電性層塗液処方Ｂ／１ｍ２あたり＞
ハイドランＷＬＳ２１０（ＤＩＣ社製ポリカーボネート系ウレタンラテックス。粒径１００ｎｍ以下）                                ５００ｍｇ（固形分１７５ｍｇ）
ゼラチン                                    ３０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                        １ｍｇ
ＶＳ−２                                    １２ｍｇ
Ｘ５００（住友金属鉱山社製ＩＴＯ水分散液）  １ｇ（固形分２００ｍｇ）
実施例１で作製した硫化パラジウムゾル（硫化パラジウムとして）
０．４ｍｇ
【００８９】
（比較例１）
「比較光透過性電極Ｃ」
実施例１で作製した易接着層塗布済みポリカーボネートフィルムの易接着層の上に下記処方の光透過性導電性層を塗布し、１００℃で１０分乾燥した。なお、得られた光透過性導電性層の表面抵抗率は５００Ω／□であった。続いてその上に下記処方の物理現像核層を塗布し、６０℃で１０分乾燥させた。
【００９０】
＜光透過性導電性層塗液処方Ｃ／１ｍ２あたり＞
バイトロンＰ  ＨＣ  Ｖ４                          ２４ｇ（固形分２８８ｍｇ）
ゼラチン                                          ３０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              １ｍｇ
ジメチルスルホキシド                              １ｍｇ
ＶＳ−２                                          １２ｍｇ
【００９１】
＜物理現像核液処方／１ｍ２あたり＞
実施例１で作製した硫化パラジウムゾル（硫化パラジウムとして）  １ｍｇ
ハイドランＷＬＳ２１０                            ２５８ｍｇ（固形分９０ｍｇ）
ゼラチン                                          １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              １ｍｇ
サイリシア４５０（富士シリシア化学社製シリカ）    １．２５ｍｇ
ＶＳ−２                                          ４ｍｇ
【００９２】
得られた物理現像核層塗布済みポリカーボネートフィルムの上に実施例１と同様にして、中間層１、ハロゲン化銀乳剤層１、最上層１、裏塗り層１を塗布し、光透過性導電性材料前駆体を作製した。得られた光透過性導電性材料前駆体を実施例１同様に露光、現像し光透過性電極Ｄを作製し、実施例１同様に評価した。この結果を表１に示す。なお、開口部を有する金属部の厚みは０．１μｍであった。
【００９３】
（比較例２）
「比較光透過性電極Ｄ」
比較例１の光透過性導電性層塗布工程まで比較例１と同様にして、光透過性導電性層を塗布し、さらに下記処方に従いハロゲン化銀乳剤層２を塗布し、また、実施例１と同様にして光透過性支持体の反対面に実施例１で用いた裏塗り層１を塗布し光透過性導電性材料前駆体を作製した。ハロゲン化銀乳剤は写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀４０モル％と臭化銀６０モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸とを用い金イオウ増感を施した。
【００９４】
＜ハロゲン化銀乳剤層２組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          １ｇ
ハロゲン化銀乳剤                                  ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール          ３．０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              ２０ｍｇ
グリオキサール（４０％水溶液）                    ５０ｍｇ
【００９５】
続いて、実施例１と同様にして細線幅２０μｍで格子間隔２５０μｍの網目パターンのネガ透過原稿を密着させて露光した。その後、下記処方の直接現像液に２０℃で９０秒間浸漬した後、続いて２％酢酸溶液に２０℃で３０秒浸漬させ停止処理し、ダイヤフィックス定着液（三菱製紙社製）で２０℃１８０秒浸漬処理し、光透過性電極Ｄを作製した。開口部を有する金属部の厚みは１μｍ、細線幅２０μｍであった。得られた光透過性電極Ｄを実施例１同様に評価した。この結果を表１に示す。
【００９６】
＜直接現像液＞
亜硫酸ナトリウム                            ７０ｇ／Ｌ
ハイドロキノン                              １８ｇ／Ｌ
１−フェニル−３−ピラゾリドン            ０．７ｇ／Ｌ
炭酸カリウム                                ３０ｇ／Ｌ
臭化カリウム                                  ３ｇ／Ｌ
Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールアミン      ３ｇ／Ｌ
水酸化ナトリウム                ｐＨ＝１０．５となる量
【００９７】
（比較例３）
「比較光透過性電極Ｅ」
ポリカーボネートフィルムに易接着層、光透過性導電性層を塗布しない以外は比較例１と同様に光透過性導電性材料前駆体を作製し、比較例１と同様にして光透過性電極Ｅを作製し、評価した。光透過性電極Ｅの開口部を有する金属部の厚みは０．１μｍ、細線幅２０μｍであった。この結果を表１に示す。
【００９８】
（実施例３）
「光透過性電極Ｆ」
下記処方に従い、金属パラジウムゾルを作製した。
【００９９】
＜金属パラジウムゾル処方＞
３％ポリビニルピロリドン水溶液              ５０ｇ
塩化パラジウム                              ４．４３ｍｇ
アスコルビン酸                              １．９８ｍｇ
４０℃で１０分混合する。
【０１００】
下記処方に従い、光透過性導電性層塗液を作製し、実施例１で作製した易接着層塗布済みポリカーボネートフィルムの易接着層上に塗布し、１００℃で１０分乾燥させた。
【０１０１】
＜光透過性導電性層塗液処方Ａ／１ｍ２あたり＞
バイトロンＰ  ＨＣ  Ｖ４（日信社製ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ系分散液）
２４ｇ（固形分２８８ｍｇ）
ゼラチン                                  ３０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                      １ｍｇ
ジメチルスルホキシド                      １ｍｇ
ＶＳ−２                                  １２ｍｇ
前記金属パラジウムゾル（パラジウムとして）０．３ｍｇ
【０１０２】
得られた光透過性導電性層の表面抵抗率は、ダイアインスツルメンツ社製、ロレスターＧＰ／ＥＳＰプローブを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に従い測定した所、５００Ω／□であった。また光透過性導電性層塗布済みポリカーボネートフィルムの全光線透過率は８５％であった。
【０１０３】
得られた光透過性導電性層の上に、厚み１５μｍのドライフィルムレジスト（旭化成社製ＳＵＮＦＯＲＴシリーズＳＰＧ）をラミネートし、さらに水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介さず、細線幅２０μｍで格子間隔２５０μｍの網目パターンのネガ透過原稿を密着させて露光し、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液中で揺動させながら４０秒間現像した。前記導電性材料前駆体を５％クリーナー１６０（メルテックス社製脱脂液）で６０℃１分脱脂処理し、その後Ｃｕ５１００番無電解銅めっき液（メルテックス社製）で５０℃３分無電解めっきを施した。なお、脱脂およびめっき処理の後には水洗工程を設けている。無電解めっき処理の後、４０℃の３％水酸化ナトリウム水溶液をスプレーで吹き付けることにより、ドライフィルムレジストを剥離、除去し水洗、乾燥させて光透過性電極Ｆを作製した。なお、光透過性電極Ｆの開口部を有する金属部の厚みは０．２μｍ、細線幅２０μｍであった。
【０１０４】
得られた光透過性電極Ｆを実施例１と同様にして評価した。この結果を表１に示す。
【０１０５】
【表１】
2011198672.tif 000008
【０１０６】
表１より本発明の光透過性電極は高い導電性が得られ、密着性、電極性能共に良いことが判る。
【０１０７】
（比較例４）
「比較光透過性電極Ｇ」
比較例１で作製した光透過性導電性層塗布済みポリカーボネートフィルム上に下記処方の無電解めっき触媒層を塗布した後、実施例３と同様にしてドライフィルムレジストをラミネートし、露光、現像、無電解めっき、ドライフィルムレジストの除去をこの順で行うことで比較光透過性電極Ｇを作製した。得られた光透過性電極Ｆを実施例１と同様にして評価した。この結果を表１に示す。
【０１０８】
＜物理現像核液処方／１ｍ２あたり＞
実施例３で作製した金属パラジウムゾル（パラジウムとして）    １ｍｇ
ハイドランＷＬＳ２１０                            ２５８ｍｇ（固形分９０ｍｇ）
ゼラチン                                          １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                              １ｍｇ
サイリシア４５０（富士シリシア化学社製シリカ）    １．２５ｍｇ
ＶＳ−２                                          ４ｍｇ
【０１０９】
（実施例４）
実施例１で作製した硫化パラジウムゾルを用いる代わりに、カレー・リー（Carey  Lea）法により作製された銀ゾルを用いる以外、実施例１と同様にして光透過性電極を作製した。その後実施例１と同様にして評価した結果、実施例１同様の結果を得た。
【０１１０】
以上の結果から判るように、光透過性支持体上に、導電性金属酸化物粒子および導電性高分子化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含有する光透過性導電性層と、該光透過性導電性層上に開口部を有する金属部とを有する光透過性電極であって、該光透過性導電層が金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子を含有することを特徴とする光透過性電極を用いることで、高い導電性を有し、光透過性導電性層と金属部との密着性が高く、生産性に優れた光透過性電極が得られる。