(57)【要約】      （修正有）【課題】高い弾性復元力を有する自己治癒性塗料の転写箔化により、塗料の飛散を防止し、容易に鏡面化できる転写箔を提供する。【解決手段】ベースフィルム３上に、ベースフィルムとは密着し弾性樹脂層とは離型する離型層５、弾性復元力を有し熱硬化型または紫外線硬化型からなる自己治癒性樹脂層７、アンカー層９、接着層１１からなる転写箔を形成する。アンカー層は、ポリ塩化ビニル共重合体樹脂、二液硬化型アクリルウレタン、塩酢ビ、ポリエステル系または熱硬化性樹脂からなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルム上に、離型層、弾性的形状回復性能を有する自己治癒性樹脂層、アンカー層および接着層が順次積層されている転写箔であって、
前記離型層は、転写移行せず、前記ベースフィルムに密着し、前記弾性樹脂層とは離型する性能を有し、
前記アンカー層は、ポリ塩化ビニル共重合体樹脂、二液硬化型アクリルウレタン、塩酢ビ、ポリエステル系または熱硬化性樹脂からなることを特徴とする自己治癒性転写箔。
【請求項２】
請求項１に記載した自己治癒性転写箔において、
自己治癒性樹脂層は熱硬化型またはＵＶ硬化型からなり、
接着層はアクリル系、塩酢ビ系、オレフィン系若しくはそれらの複合樹脂、または熱硬化性樹脂からなることを特徴とする自己治癒性転写箔。
【請求項３】
請求項１または２に記載した自己治癒性転写箔において、
ベースフィルム上において離型層等の積層側と反対側には界面活性剤系、金属化合物系若しくはポリマー系の帯電防止層が積層され、またはベースフィルムが帯電防止剤を混入した帯電防止機能を備えていることを特徴とする自己治癒性転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写箔に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
転写箔は、樹脂成形品等の被転写体に接着層を介して熱転写やインモールド成形により転写する加工法に用いられるものであり、被転写体の表面を保護したり、帯電防止機能を付与したり、任意の色や模様で加飾したりできることから、家電製品、自動車内・外装品、音響製品、家具調度製品等に広く用いられている。
【０００３】
而して、表面は擦られると傷が付いてしまうため、被転写体を擦られ易い環境で使用する場合には、従来は、転写箔にハードコート層を設け、転写後にはそのハードコート層が被転写体の表面にくるようにして保護を図っている。しかしながら、擦傷力が強い場合にはハードコート層にも傷が付いてしまう。
【０００４】
ところで、最近では、自己治癒性樹脂塗料と呼ばれる塗料が市販されている。この自己治癒性樹脂塗料は、高い弾性復元力を有する樹脂からなるものであり、この塗料をスプレー法などで被塗布体の表面に塗布するとその被塗布体の表面に傷が一旦付けられても消失することが確認されている。しかしながら、塗布する際には周囲に塗料が飛散するため環境上問題があることや、鏡面にすることが難しいことから、利用範囲は限定されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−３４２１２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のような自己治癒性樹脂塗料は、特許文献１に示すように塗布用の塗料としては既に用いられているが、転写箔化できれば、塗料が飛散し易かったり鏡面にし難かったりと言った問題を解決することができ、用途も一層拡大するものと期待される。
そこで、本発明は、上記課題を解決するために、自己治癒性樹脂を転写箔化することに成功した、新規且つ有用な転写箔を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、請求項１の発明は、ベースフィルム上に、離型層、弾性的形状回復性能を有する自己治癒性樹脂層、アンカー層および接着層が順次積層されている転写箔であって、前記離型層は、転写移行せず、前記ベースフィルムに密着し、前記弾性樹脂層とは離型する性能を有し、前記アンカー層は、ポリ塩化ビニル共重合体樹脂、二液硬化型アクリルウレタン、塩酢ビ、ポリエステル系または熱硬化性樹脂からなることを特徴とする自己治癒性転写箔である。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１に記載した自己治癒性転写箔において、自己治癒性樹脂層は熱硬化型またはＵＶ硬化型からなり、接着層はアクリル系、塩酢ビ系、オレフィン系若しくはそれらの複合樹脂、または熱硬化性樹脂からなることを特徴とする自己治癒性転写箔である。
【０００９】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載した自己治癒性転写箔において、ベースフィルム上において離型層等の積層側と反対側には界面活性剤系、金属化合物系若しくはポリマー系の帯電防止層が積層され、またはベースフィルムが帯電防止剤を混入した帯電防止機能を備えていることを特徴とする自己治癒性転写箔である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の自己治癒性転写箔では、自己治癒性能及び形状回復性能を有する弾性樹脂層が転写箔化されているので、被転写体に転写することにより容易に表面に載せることができ、塗料が周囲に飛散するようなことはない。また、インモールド成形では金型の表面を鏡面処理することで自己治癒性樹脂の表面層を容易に鏡面化できる。
しかも、従来の転写箔と同様に、加飾用のインク等を積層させることができるので、従来の転写箔と同様に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態に係る自己治癒性転写箔の積層構造図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る転写箔の製造装置である。
【図３】インモールド成形品に付いた擦り傷の消失経過を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
先ず、本発明の実施の形態に係る転写箔１の積層構造を、図１にしたがって説明する。この転写箔１は、インモールド成形用、ロール式やホットスタンピング式の熱転写用等、熱と圧力を加えて転写する転写箔として好適に使用できる。
転写箔１は、ベースフィルム３の一面上に、離型層５、自己治癒性樹脂層７、アンカー層９および接着層１１が順次積層されてなり、ベースフィルム３の他面上に帯電防止層１３が積層されてなる。なお、図１では、視認の便宜のため、各層の厚さは均一に示されている。
【００１３】
ベースフィルム３は、可とう性フィルムからなり、これを構成する材料としては所望の耐熱性や機械的強度等を有すれば、特に限定されず、従来の一般的なインモールド成形や熱転写用に用いられてきた公知のものを使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリプロピレン、ポリエチレン、ナイロン、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の延伸または未延伸の透明プラスチック、紙、金属、これらの複合体等が挙げられるが、特に、耐熱性と機械的強度がよいポリエチレンテレフタレートが最適である。
ベースフィルム３の厚さは、通常１０〜２００μｍ程度である。
【００１４】
離型層５は、ベースフィルム３と自己治癒性樹脂層７との分離を可能にする層であり、転写移行しないものである。離型層５を構成する材料は、特に限定されず、従来の一般的なインモールド成形や熱転写用に用いられてきた公知のものを使用できる。例えば、離型性樹脂、離型剤を添加または共重合させた樹脂、または架橋反応により硬化する硬化性樹脂を含むものであり、離型性樹脂や離型剤を含んだ樹脂としては、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂、メラミン系樹脂、ワックス類、各種のワックス等の離型剤を添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂等が挙げられ、電離放射線の照射により硬化する硬化性樹脂としては、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリエーテル変性シリコーン樹脂等が挙げられ、これらを単一または併用することができる。自己治癒性樹脂層７が熱硬化型の場合には密着力がかなり強力なので、離型層５にはポリエーテル変性シリコーンと電離放射線硬化性樹脂の混合品が推奨され、ＵＶ硬化型の場合には熱硬化型よりは密着力が弱いので、ビニル系樹脂が推奨される。
離型層５の膜厚は、成膜性と離型し易さを考慮して通常、０．０１〜２０μｍ程度、好ましくは０．１〜１０μｍ程度である。
【００１５】
自己治癒性樹脂層を構成する材料は従来の転写箔を構成するいずれの層よりも密着力が強いので、上記した樹脂類から、離型力の良いものを選択したり、離型力の良いものを接着性タイプのものと併用したり、膜厚を増やしたりすることで、離型力を調整して、転写後に自己治癒性樹脂層７が離型層５から綺麗に離型するようにしている。
離型層５は、上記樹脂類を溶媒に分散または溶解して、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコート、キスコート、ナイフコート、ダイコート、コンマコート、フローコート、スプレーコート等の印刷法やコーティング法等の公知の方法で、ベースフィルム３上に塗布し、加熱乾燥する。また、硬化タイプによっては電磁放射線を照射することにより形成できる。
【００１６】
自己治癒性樹脂層７は、三次元構造を有しており、変形しても経時的に変形前の形状へ弾性的に復元する、すなわち弾性的形状回復機能を有する樹脂からなる。
自己治癒性樹脂としては、アクリル系、ウレタン系、ポリカーボネート系、ポリスチレン系、ポリエステル系、シリコーン系、フッ素系等の樹脂あるいはその共重合体やブレンドしたもので、比較的柔らかく弾性があり、変形しやすいものが挙げられる。
ナトコ株式会社は、「自己治癒性クリヤー」として種々の自己治癒性樹脂を塗料として製造・販売しているが、その中でも紫外線硬化型と熱硬化型のものが本願発明では好適に使用できることが確認されている。熱硬化型としては、特開平１１−２２８９０５号公報に示すように、ポリジメチルシロキサン系共重合体を用いたものが典型的なものであり、紫外線硬化型としては、特開２００１−２７４４号公報に示すように、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを用いたものが典型的なものである。
【００１７】
自己治癒性樹脂層７の膜厚は、回復性を考慮して、通常、３〜１００μｍ程度である。
自己治癒性樹脂層７は、熱硬化型の場合には、離型層５と同様にして形成できる。紫外線硬化型の場合には、更に紫外線に照射することになる。
【００１８】
アンカー層９は、自己治癒性樹脂層７を保護すると共に、硬化した自己治癒性樹脂層７と次に積層する接着層１１との間に介挿されてそれぞれの層と密着させるために設けるものである。自己治癒性樹脂はその上に接着層や加飾層を密着させることが難しく、このアンカー層９の介挿は重要である。
アンカー層９を構成する材料としては、ポリ塩化ビニル共重合体樹脂、二液硬化型アクリルウレタン、塩酢ビ、ポリエステル系、メラミン系やエポキシ系等の熱硬化性樹脂が挙げられる。
アンカー層９の膜厚は、密着性を考慮して、通常、１〜２μｍ程度である。
アンカー層９は、離型層５と同様にして形成できる。
【００１９】
接着層１１は、加飾層を設ける場合には、加飾用インクなどが密着し、直接被転写体に載せる場合には、当該被転写体と密着するものである。
従って、接着層１１を構成する材料としては、加飾層を設ける場合には密着する相手側との加飾素材と親和性のあるものを適宜選択して使用し、直接被転写体に載せる場合には、相手側の被転写体に適した相溶性、感熱性、感圧性の樹脂を適宜選択して使用する。
接着層１１を構成する材料としては、アクリル系、塩酢ビ系、オレフィン系若しくはそれらの複合樹脂、熱硬化性樹脂が挙げられる。
接着層１１の膜厚は、密着性を考慮して、通常、０．１〜５．０μｍ程度である。
接着層１１は、離型層５と同様にして形成できる。
【００２０】
加飾層は、公知の顔料や染料等の着色剤を含んだ各種印刷インキにより、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、凸版印刷法等の公知の印刷法により形成したり、金属蒸着膜を転写したりすることにより形成できる。加飾層を設けた場合にはその上に更に接着層を設けることになる。
【００２１】
帯電防止層１３は、箔への塵の付着を防止するためにも設けるものであり、自己治癒性塗料が帯電し易いことから、設けることが推奨されている。
帯電防止層１３は表面電気抵抗を１０１０Ω／□以下であることが好ましく、また、転写箔１の製造中の熱処理に耐えられる、通常は１７０℃程度の高温に５分程度は劣化しないで耐えられるものが推奨される。
帯電防止層１３を構成する材料としては、界面活性剤系、金属化合物系、ポリマー系が挙げられる。これらを単一または併用して使用することができる。
帯電防止層１３は、離型層５と同様にして形成できる。
なお、帯電防止層１３を設ける代わりに、ベースフィルム３に上記成分を含ませて帯電防止機能を付与してもよい。  
【００２２】
転写箔１は、通常の転写箔製造装置１４、例えば図２に示すようなものを用いて製造できる。
巻出し側のローラ１５には、ベースフィルム３が巻回されている。この巻出し側のローラ１５からベースフィルム３が巻出されて、搬送ローラの助けを経て所定の経路ラインにそって搬送され、途中で層の形成処理が行われた後、巻取り側のローラ１７に巻き取られるようになっている。ベースフィルム３の搬送経路の上流側には、離型剤５等の塗料の収容された容器１９が配置されており、グラビア印刷法により各層が形成されるようになっている。また、その下流側には乾燥炉２１（合計６つ）が設けられている。また、電離放射線やUVの照射部２３がさらに下流側に設けられている。
【００２３】
一つの層は、巻出し側のローラ１５から巻き出されたベースフィルム３上に塗布され、乾燥炉で乾燥された後に、巻取り側のローラ１７に巻き取られるようになっている。次の層を積層するときには、巻取り側のローラ１７と巻出し側のローラ１５が交換されて、直前の層形成では巻取り側にあったローラが巻出し側に配置されて行われる。
このようにして、順次各層が積層されている。
通常は、防塵性を考慮して、ベースフィルム３の両面側のうち帯電防止層１３を形成した後に、その反対側に離型層５等が形成され積層されていく。
【実施例１】
【００２４】
（自己治癒性樹脂層：熱硬化型）
ベースフィルム３として、ポリエチレンテレフタレート（東洋紡製、商品名：E-5100、厚さ：５０μｍ）を準備し、上記の製造装置１４を用いて以下の工程順に各層を形成し積層した。
〈帯電防止層形成工程〉
使用塗料：  界面活性剤系（ＤＩＣ製グラビア用塗料）
ライン速度：１５ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  表面電気抵抗が１０１０Ω／□以下になるもの
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １００℃
第３乾燥炉  １００℃
第４乾燥炉  １００℃
第５乾燥炉  １００℃
第６乾燥炉  １００℃
【００２５】
〈離型層形成工程〉
使用塗料：  ポリエーテル変性シリコーン樹脂
電離放射線硬化性樹脂（ラボ製  Ｙ−７０、２成分混合品）
ライン速度：２０ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  ０．５μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  ６０℃
第２乾燥炉  ７０℃
第３乾燥炉  ７０℃
第４乾燥炉  ７０℃
第５乾燥炉  ８０℃
第６乾燥炉  ８０℃
【００２６】
〈自己治癒性樹脂層形成工程〉
使用塗料：  熱硬化型（ナトコ製  ＮＴ―３２）
ライン速度：５ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  １７μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １３０℃
第３乾燥炉  １３０℃
第４乾燥炉  １５０℃
第５乾燥炉  １５０℃
第６乾燥炉  １７５℃
【００２７】
〈アンカー層形成工程〉
使用塗料：  二液硬化型アクリルウレタン系（昭和インク製  ＨＣアンカー、イソシアネート系硬化剤）
ライン速度：１２ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  １μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １００℃
第３乾燥炉  １２０℃
第４乾燥炉  １２０℃
第５乾燥炉  １２０℃
第６乾燥炉  １２０℃
【００２８】
〈接着層形成工程〉
使用塗料：  アクリル系（昭和インク製  ＢＣＴ−２）
ライン速度：１２ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  １．５μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １３０℃
第３乾燥炉  １３０℃
第４乾燥炉  １３０℃
第５乾燥炉  １３０℃
第６乾燥炉  １３０℃
【００２９】
得られた転写箔をインモールド成形用に用いて樹脂成形品を製造し、真鍮ブラシにより擦り傷を作り、その消失、すなわち回復力を確認したところ、図３に示すように劇的に回復したことが確認された。
【実施例２】
【００３０】
（自己治癒性樹脂層：UV硬化型）
ベースフィルム３として、ポリエチレンテレフタレート（東洋紡製、商品名：E-5100、厚さ：５０μｍ）を準備し、上記の製造装置１４を用いて以下の工程順に各層を形成し積層した。
〈帯電防止層形成工程〉
使用塗料：  界面活性剤系（ＤＩＣ製グラビア用塗料）
ライン速度：１５ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  表面電気抵抗が１０１０Ω／□以下になるもの
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １００℃
第３乾燥炉  １００℃
第４乾燥炉  １００℃
第５乾燥炉  １００℃
第６乾燥炉  １００℃
【００３１】
〈離型層形成工程〉
使用塗料：  ビニル系樹脂（ラボ製  ＰＮＴ−１２４）
ライン速度：２０ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  ０．５μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １００℃
第３乾燥炉  １００℃
第４乾燥炉  １００℃
第５乾燥炉  １００℃
第６乾燥炉  １００℃
【００３２】
〈自己治癒性樹脂層形成工程〉
使用塗料：  ＵＶ硬化型（ナトコ製  ＮＴ―１２）
ライン速度：５ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  １７μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １３０℃
第３乾燥炉  １３０℃
第４乾燥炉  １３０℃
第５乾燥炉  １５０℃
第６乾燥炉  １５０℃
ＵＶ照射条件：３００ｍｊ
【００３３】
〈アンカー層形成工程〉
使用塗料：  塩酢ビ／ウレタン／ポリエステル系（ＤＩＣ製  ８１１１３）
ライン速度：１２ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  １μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １００℃
第３乾燥炉  １３０℃
第４乾燥炉  １３０℃
第５乾燥炉  １３０℃
第６乾燥炉  １３０℃
【００３４】
〈接着層形成工程〉
使用塗料：  塩酢ビ系（ＤＩＣ製  ８１１１８）
ライン速度：１２ｍ／ｍｉｎ
塗工膜厚：  １．５μｍ
乾燥温度：  第１乾燥炉  １００℃
第２乾燥炉  １３０℃
第３乾燥炉  １３０℃
第４乾燥炉  １３０℃
第５乾燥炉  １３０℃
第６乾燥炉  １３０℃
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明の転写箔は、従来の転写箔と同じように使用できる。
【符号の説明】
【００３６】
１…転写箔
３…ベースフィルム                    ５…離型層
７…自己治癒性樹脂層                  ９…アンカー層
１１…接着層                          １３…帯電防止層
１４…転写箔の製造装置                １５、１７…ローラ
１９…塗料の収容容器                  ２１…乾燥炉
２３…電離放射線等の照射部
【図１】
2011161888.tif 000003
【図２】
2011161888.tif 000004
【図３】
2011161888.tif 000005