(57)【要約】【課題】発熱を抑制できると共に、発生した磁気ノイズ及び外部から伝わる磁気ノイズを遮蔽できる電気ケーブル、電力供給装置、基板処理装置及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】電力供給装置３１は、電気ケーブル３３と、電気ケーブル３３の長手方向における少なくとも一部を収容し且つ磁気ノイズを遮蔽する液体金属が収容される収容スペース３６が内部に形成される第１収容部材３４とを備えている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電線と、
前記電線の外周面との間に隙間を介在させた状態で該電線を収容する筒状の収容部材と、
前記電線の外周面と前記収容部材の内周面との間の隙間内に収容され、磁気ノイズを遮蔽する遮蔽用液体と、を備えることを特徴とする電気ケーブル。
【請求項２】
駆動装置に電力を供給するための電力供給装置であって、
電気ケーブルと、
前記電気ケーブルの長手方向における少なくとも一部を収容し且つ磁気ノイズを遮蔽する遮蔽用液体を収容可能な収容スペースを有する第１収容部材と、を備えることを特徴とする電力供給装置。
【請求項３】
前記第１収容部材は、内部が前記収容スペースとして機能する筒状であることを特徴とする請求項２に記載の電力供給装置。
【請求項４】
前記第１収容部材は、可撓性を有する材料で形成されていることを特徴とする請求項３に記載の電力供給装置。
【請求項５】
前記第１収容部材の内周面に対して隙間を介在させた状態で対向する外周面を有する筒状の第２収容部材をさらに備え、
前記第２収容部材内には、前記電気ケーブルの長手方向における少なくとも一部が収容され、
前記第１収容部材と前記第２収容部材との間の隙間には、前記遮蔽用液体が収容可能であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の電力供給装置。
【請求項６】
前記第１収容部材内には、前記電気ケーブルが複数収容されており、
前記第１収容部材の内周面と前記複数の電気ケーブルの外周面との間の隙間には、前記遮蔽用液体が収容可能であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の電力供給装置。
【請求項７】
駆動装置に電力を供給するための電力供給装置であって、
請求項１に記載の複数の電気ケーブルと、
前記複数の電気ケーブルの長手方向における少なくとも一部を収容する筒状の集束部材と、を備えることを特徴とする電力供給装置。
【請求項８】
前記第１収容部材は、前記収容スペースとして機能する溝部を有することを特徴とする請求項２に記載の電力供給装置。
【請求項９】
前記遮蔽用液体は、液体金属を含むことを特徴とする請求項２〜請求項８のうち何れか一項に記載の電力供給装置。
【請求項１０】
基板に特定の処理を施す基板処理装置であって、
請求項１に記載の電気ケーブルを介して供給された電力に基づき駆動する駆動装置を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
基板に特定の処理を施す基板処理装置であって、
請求項２〜請求項９のうち何れか一項に記載の電力供給装置と、
前記電力供給装置の前記電気ケーブルを介して供給された電力に基づき駆動する駆動装置と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
内部の温度が所定温度領域の範囲内で調整されるチャンバをさらに備え、
前記駆動装置は、前記チャンバ内に配置されていることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程は、請求項１０〜請求項１２のうち何れか一項に記載の基板処理装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、駆動装置に電力を供給するための電気ケーブル、電気ケーブルを備える電力供給装置、該電力供給装置及び駆動装置を備える基板処理装置、及び該基板処理装置を用いるデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、モータなどの駆動装置に電力を供給するための電力供給装置として、例えば特許文献１に記載の電力供給装置が提案されている。上記電力供給装置は、導線と、該導線を被覆する絶縁性の小径チューブと、該小径チューブの外周面に対向する内周面を有する絶縁性の大径チューブとを有する電気ケーブルを備えている。こうした電気ケーブルにおいて小径チューブの外周面と大径チューブの内周面との間には、所定間隔の隙間が形成されており、該隙間内には、所定温度に調整された冷却水が充填されている。そのため、駆動装置への給電に伴い導線が発熱したとしても、該導線は、冷却水によって小径チューブを介して冷却されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１１７６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、電気ケーブルの導線からは、駆動装置に電力を供給する際に、該電力に応じた磁気ノイズが発生することがある。こうした磁気ノイズは、各チューブ及び冷却水では遮蔽することが困難である。
【０００５】
電気ケーブルから発生する磁気ノイズを遮蔽する方法としては、錫などで形成されるメッシュ状のノイズ遮蔽部材を、電気ケーブルの外周側に巻き付ける方法がある。しかしながら、このメッシュを用いた遮蔽方法では、メッシュには多数の網目があり、該網目を介して磁気ノイズが電気ケーブルから放射されたり、網目を介して外部から電気ケーブルに磁気ノイズが伝わったりする。そのため、磁気ノイズを十分に遮蔽できない問題があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、発熱を抑制できると共に、発生した磁気ノイズ及び外部から伝わる磁気ノイズを遮蔽できる電気ケーブル、電力供給装置、基板処理装置及びデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明は、実施形態に示す図１〜図７に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の電気ケーブルは、電線（６０）と、前記電線（６０）の外周面（６０ａ）との間に隙間（６１）を介在させた状態で該電線（６０）を収容する筒状の収容部材（６２）と、前記電線（６０）の外周面（６０ａ）と前記収容部材（６２）の内周面（６２ａ）との間の隙間（６１）内に収容され、磁気ノイズを遮蔽する遮蔽用液体と、を備えることを要旨とする。
【０００８】
上記構成によれば、電線（６０）に電流が流れる際に該電線から発生した磁気ノイズは、電線（６０）の外周面（６０ａ）と収容部材（６２）の内周面（６２ａ）との間の隙間（６１）内に収容される遮蔽用液体によって、電気ケーブル外に放射されることが規制される。また、電気ケーブル外からの磁気ノイズによる影響を電線が受けることが、上記隙間（６１）内に収容される遮蔽用液体によって規制される。さらに、電流が流れることによって電線が発熱したとしても、該電線で発生した熱エネルギーは、遮蔽用液体によって吸収される。
【０００９】
また、本発明の電力供給装置は、駆動装置（１６，１８，２３，２８）に電力を供給するための電力供給装置であって、電気ケーブル（３３，４０，５２）と、前記電気ケーブル（３３，４０，５２）の長手方向における少なくとも一部を収容し且つ磁気ノイズを遮蔽する遮蔽用液体を収容可能な収容スペース（３６，４４，５１）を有する第１収容部材（３４，４１）と、を備えることを要旨とする。
【００１０】
上記構成によれば、電気ケーブル（３３，４０，５２）に電流が流れる際に該電気ケーブルから発生した磁気ノイズは、収容スペース（３６，４４，５１）内に収容される遮蔽用液体によって、電力供給装置外に放射されることが規制される。また、電力供給装置外からの磁気ノイズによる影響を電気ケーブル（３３，４０，５２）が受けることが、収容スペース（３６，４４，５１）内に収容される遮蔽用液体によって規制され、ひいては駆動装置（１６，１８，２３，２８）の誤作動が抑制される。さらに、電流が流れることによって電気ケーブルが発熱したとしても、該電気ケーブルで発生した熱エネルギーは、遮蔽用液体によって吸収される。
【００１１】
なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、発熱を抑制できると共に、発生した磁気ノイズ及び外部から伝わる磁気ノイズを遮蔽できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の実施形態における露光装置を示す概略構成図。
【図２】（ａ）（ｂ）は第１の実施形態の電力供給装置を模式的に示す断面図。
【図３】（ａ）（ｂ）は第１の実施形態の電力供給装置を模式的に示す断面図。
【図４】（ａ）（ｂ）は第２の実施形態の電力供給装置を模式的に示す断面図。
【図５】（ａ）（ｂ）は別の実施形態の電気ケーブルを模式的に示す断面図。
【図６】デバイスの製造例のフローチャート。
【図７】半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（第１の実施形態）
以下に、本発明を具体化した第１の実施形態について図１〜図３に基づき説明する。なお、本実施形態では、投影光学系の光軸に平行な方向をＺ軸方向とし、Ｚ軸方向に垂直な平面内で走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向をＹ軸方向とし、その走査方向に直交する非走査方向をＸ軸方向として説明する。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの回転方向をθｘ方向、θｙ方向、θｚ方向ともいう。
【００１５】
図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、光源装置１２から射出される、波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域である極端紫外光、即ちＥＵＶ（Extreme Ultraviolet ）光を露光光ＥＬとして用いるＥＵＶ露光装置である。こうした露光装置１１は、内部が大気よりも低圧の真空雰囲気であって且つ所定温度領域の範囲内に設定される露光チャンバ１３（図１では二点鎖線で囲まれた部分）を備え、該露光チャンバ１３には、連結部１４を介して光源装置１２が接続されている。また、露光チャンバ１３内には、光源装置１２から露光チャンバ１３内に供給された露光光ＥＬで所定のパターンが形成された反射型のレチクルＲを照明する照明光学系１５と、パターンの形成されたパターン形成面Ｒａが−Ｚ方向側（図１では下側）に位置するようにレチクルＲを保持するレチクルステージ１６とが設けられている。また、露光チャンバ１３内には、レチクルＲを介した露光光ＥＬでレジストなどの感光性材料が塗布されたウエハＷを照射する投影光学系１７と、露光面（感光性材料が塗布されたウエハ表面）Ｗａが＋Ｚ方向側（図１では上側）に位置するようにウエハＷを保持するウエハステージ１８とが設けられている。
【００１６】
光源装置１２は、波長が５〜２０ｎｍのＥＵＶ光を露光光ＥＬとして出力する装置であって、図示しないレーザ励起プラズマ光源を備えている。このレーザ励起プラズマ光源では、例えば半導体レーザ励起を利用したＹＡＧレーザやエキシマレーザなどの高出力レーザで高密度のＥＵＶ光発生物質（ターゲット）を照射することによりプラズマが発生され、該プラズマからＥＵＶ光が露光光ＥＬとして放射される。こうした露光光ＥＬは、図示しない集光光学系によって集光されて露光チャンバ１３内に出力される。
【００１７】
照明光学系１５は、露光チャンバ１３の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定される筐体１９（図１では実線で囲まれた部分）を備えている。この筐体１９内には、光源装置１２から筐体１９内に入射された露光光ＥＬを反射可能な複数枚の図示しない反射ミラーが設けられている。そして、各反射ミラーによって順に反射された露光光ＥＬは、後述する鏡筒２４内に設置された折り返し用の反射ミラー２０に入射し、該反射ミラー２０で反射した露光光ＥＬがレチクルステージ１６に保持されるレチクルＲに導かれる。なお、照明光学系１５を構成する各反射ミラー（折り返し用の反射ミラー２０も含む。）の反射面には、モリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）を交互に積層した多層膜である反射層がそれぞれ形成されている。
【００１８】
レチクルステージ１６は、投影光学系１７の物体面側に配置されており、レチクルＲを静電吸着するための第１静電吸着保持装置２１を備えている。この第１静電吸着保持装置２１は、誘電性材料から構成され且つ吸着面２２ａを有する基体２２と、該基体２２内に配置される図示しない複数の電極部とから構成されている。そして、図示しない電圧印加部から電圧が各電極部にそれぞれ印加された場合、基体２２から発生されるクーロン力により、吸着面２２ａにレチクルＲが静電吸着される。
【００１９】
また、レチクルステージ１６は、レチクルステージ駆動部２３の駆動によって、Ｙ軸方向に移動可能である。すなわち、レチクルステージ駆動部２３は、第１静電吸着保持装置２１に保持されるレチクルＲをＹ軸方向に所定ストロークで移動させる。また、レチクルステージ駆動部２３は、レチクルＲをＸ軸方向（図１において紙面と直交する方向）、Ｚ軸方向及びθｚ方向に微動させることが可能である。なお、レチクルＲのパターン形成面Ｒａに露光光ＥＬが照明される場合、該パターン形成面Ｒａの一部には、Ｘ軸方向に延びる略円弧状の照明領域が形成される。
【００２０】
投影光学系１７は、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン形成面Ｒａを照明することにより形成されたパターンの像を所定の縮小倍率（例えば１／４倍）に縮小させる光学系であって、露光チャンバ１３の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定される鏡筒２４を備えている。この鏡筒２４内には、複数枚（一例としては６枚であって、図１では１枚のみ図示）の反射型のミラー２５が収容されている。そして、物体面側であるレチクルＲ側から導かれた露光光ＥＬは、各ミラー２５に順に反射され、ウエハステージ１８に保持されるウエハＷに導かれる。なお、各ミラー２５の反射面には、モリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）を交互に積層した多層膜である反射層がそれぞれ形成されている。
【００２１】
ウエハステージ１８は、ウエハＷを静電吸着するための第２静電吸着保持装置２６を備え、該第２静電吸着保持装置２６は、誘電性材料から構成され且つ吸着面２７ａを有する基体２７と、該基体２７内に配置される図示しない複数の電極部とから構成されている。そして、図示しない電圧印加部から電圧が各電極部にそれぞれ印加された場合、基体２７から発生されるクーロン力により、吸着面２７ａにウエハＷが静電吸着される。また、ウエハステージ１８には、第２静電吸着保持装置２６を保持する図示しないウエハホルダと、該ウエハホルダのＺ軸方向における位置及びＸ軸周り、Ｙ軸周りの傾斜角を調整する図示しないＺレベリング機構とが組み込まれている。
【００２２】
こうしたウエハステージ１８は、ウエハステージ駆動部２８によって、Ｙ軸方向に移動可能である。すなわち、ウエハステージ駆動部２８は、第２静電吸着保持装置２６に保持されるウエハＷをＹ軸方向に所定ストロークで移動させる。また、ウエハステージ駆動部２８は、第２静電吸着保持装置２６に保持されるウエハＷをＸ軸方向に所定ストローク移動させることが可能であると共に、Ｚ軸方向に微動させることが可能である。
【００２３】
そして、ウエハＷの一つのショット領域にレチクルＲのパターンを形成する場合、照明光学系１５によって照明領域をレチクルＲに形成した状態で、レチクルステージ駆動部２３の駆動によって、レチクルＲをＹ軸方向（例えば、＋Ｙ方向側から−Ｙ方向側）に所定ストローク毎に移動させるとともに、ウエハステージ駆動部２８の駆動によって、ウエハＷをレチクルＲのＹ軸方向に沿った移動に対して投影光学系１７の縮小倍率に応じた速度比でＹ軸方向（例えば、−Ｙ方向側から＋Ｙ方向側）に同期して移動させる。そして、一つのショット領域へのパターンの形成が終了した場合、ウエハＷの他のショット領域に対するパターンの形成が連続して行われる。
【００２４】
なお、本実施形態において、第１静電吸着保持装置２１、レチクルステージ駆動部２３、第２静電吸着保持装置２６及びウエハステージ駆動部２８は、露光チャンバ１３外に設置される電源３０から電力が供給されることによりそれぞれ駆動する。また、照明光学系１５及び投影光学系１７には、それらの光学系を構成する光学部材（反射ミラー２５など）を変位させるべく駆動する図示しない光学部材保持装置が設けられており、こうした光学部材保持装置についても、露光チャンバ１３外に設置される電源３０から電力がそれぞれ供給される。
【００２５】
そこで次に、ウエハステージ駆動部２８に電源３０Ａからの電力を供給するための電力供給装置３１、及びウエハステージ１８に電源３０Ｂからの電力を供給するための電力供給装置３２について説明する。
【００２６】
まず、電力供給装置３１について、図１及び図２に基づき説明する。
図１及び図２に示すように、電力供給装置３１は、露光チャンバ１３外に配置される電源３０Ａと、露光チャンバ１３内に設置されるウエハステージ駆動部２８とを電気的に接続する装置である。こうした電力供給装置３１は、電源３０Ａ側からウエハステージ駆動部２８に向けて延びる複数本（図２（ａ）では３本、図２（ｂ）では５本図示）の電気ケーブル３３を備えており、該各電気ケーブル３３は、導線と、該導線を被覆し且つ絶縁性材料で構成される被覆部材とをそれぞれ有している。
【００２７】
また、電力供給装置３１には、各電気ケーブル３３において露光チャンバ１３内に位置する部分を内部に収容する筒状（本実施形態では、円筒状）の第１収容部材３４が設けられており、該第１収容部材３４は、可撓性を有すると共に磁気ノイズを遮蔽不能な材料（例えば、合成樹脂）で構成されている。また、第１収容部材３４内には、該第１収容部材３４と同軸配置される筒状（本実施形態では、円筒状）の第２収容部材３５が設けられている。この第２収容部材３５は、可撓性を有すると共に磁気ノイズを遮蔽不能な材料（即ち、第１収容部材３４と同一材料）で構成されており、該第２収容部材３５の長手方向における両端は、第１収容部材３４の長手方向における両端と略同一位置に位置している。また、第２収容部材３５の外径は、第１収容部材３４の内径よりも小さくなるように構成されており、第１収容部材３４の内周面３４ａと第２収容部材３５の外周面３５ａとの間には、断面略円環状をなす収容スペース３６が形成されている。また、第２収容部材３５内に形成されたケーブル用空間３７内には、各電気ケーブル３３において露光チャンバ１３内に位置する部分がそれぞれ配置されている。
【００２８】
各収容部材３４，３５の両端部には、収容スペース３６を密閉するための環状（本実施形態では、円環状）の閉塞部材３８がそれぞれ設けられている。そして、このように密閉された収容スペース３６内には、磁気ノイズを遮蔽する遮蔽用液体の一種である液体金属（例えば、インジウムや水銀）が充填されている。
【００２９】
電源３０Ａから各電気ケーブル３３を介してウエハステージ駆動部２８に電力が供給された場合、各電気ケーブル３３からは、それらに流れる電流量に応じた熱エネルギーが発生する。こうした熱エネルギーは、各電気ケーブル３３に流れる電流量が多いほど大きくなる。そして、各電気ケーブル３３で発生した熱エネルギーは、第２収容部材３５、第１収容部材３４を介して電力供給装置３１外に伝達されようとする。
【００３０】
しかし、各収容部材３４，３５間の収容スペース３６内には、液体金属が収容されている。この液体金属は、第１収容部材３４を介して、露光チャンバ１３の設定温度とほぼ同一温度となるように調整されている。そのため、各電気ケーブル３３で発生した熱エネルギーは、第２収容部材３５を介して収容スペース３６内の液体金属に吸収される。したがって、電気ケーブル３３で発生した熱エネルギーが露光チャンバ１３内における各種部材（例えば、投影光学系１７の鏡筒２４やウエハステージ２６）に伝達されることが抑制される。
【００３１】
しかも、収容スペース３６内の液体金属は、各電気ケーブル３３から放射される磁気ノイズ、及び外部から伝達されてきた磁気ノイズを遮蔽できる。そのため、外部からの磁気ノイズによって、各電気ケーブル３３に流れる電流の大きさが不必要に変化することが規制され、ウエハステージ駆動部２８の誤作動が抑制される。また、各電気ケーブル３３から放射された磁気ノイズによって、露光チャンバ１３内の各駆動源（例えば、レチクルステージ駆動部２３）が誤作動することも抑制される。
【００３２】
次に、電力供給装置３２について、図１及び図３に基づき説明する。
図１及び図３に示すように、電力供給装置３２は、露光チャンバ１３外に配置される電源３０Ｂと、露光チャンバ１３内に設置されるウエハステージ１８とを電気的に接続する装置である。こうした電力供給装置３２は、電源３０Ｂ側からウエハステージ１８に向けて延びる複数本（図３（ａ）では４本、図３（ｂ）では３本図示）の電気ケーブル４０を備えており、該各電気ケーブル４０は、導線と、該導線を被覆し且つ絶縁性材料で構成される被覆部材とをそれぞれ有している。
【００３３】
また、電力供給装置３２には、略直方体状をなす収容部材４１が設けられており、該収容部材４１の重力方向における上面４１ａ側には、露光チャンバ１３の側壁側からウエハステージ１８側まで延びる溝部４２が設けられている。この溝部４２の重力方向における上側の開口は、平板状の蓋部材４３によって閉塞されている。なお、図３（ａ）では、溝部４２内の収容スペース４４の様子を描くことができるように、蓋部材４３を二点鎖線で図示している。
【００３４】
こうした溝部４２内の収容スペース４４には、各電気ケーブル４０において露光チャンバ１３内に位置する部分が収容されている。また、収容スペース４４には、磁気ノイズを遮蔽する遮蔽用液体の一種である液体金属が貯留されており、収容スペース４４において各電気ケーブル４０は、液体金属内にそれぞれ没入されている。
【００３５】
電源３０Ｂから各電気ケーブル４０を介してウエハステージ１８に電力が供給された場合、各電気ケーブル４０からは、それらに流れる電流量に応じた熱エネルギーが発生する。そして、各電気ケーブル４０で発生した熱エネルギーは、収容スペース４４内の液体金属によって吸収される。しかも、この液体金属は、収容部材４１を介して、露光チャンバ１３の設定温度とほぼ同一温度となるように調整されている。そのため、各電気ケーブル４０で発生した熱エネルギーが露光チャンバ１３内における各種部材（例えば、投影光学系１７の鏡筒２４やウエハステージ２６）に伝達されることが抑制される。しかも、収容スペース４４内の液体金属は、各電気ケーブル４０から放射される磁気ノイズ、及び外部から伝達されてきた磁気ノイズを遮蔽できる。
【００３６】
なお、本実施形態では、ウエハステージ駆動部２８及びウエハステージ１８用の電力供給装置３１，３２について説明したが、電力供給が必要な他の装置においても、電力供給装置３１又は電力供給装置３２のような装置を介して電力が供給される。
【００３７】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）電気ケーブル３３，４０から発生した磁気ノイズは、電気ケーブル３３，４０を包囲するような位置に設けられた収容スペース３６，４４内の液体金属によって好適に遮断される。また、こうした液体金属は、電力供給装置３１，３２外から伝達されてきた磁気ノイズを遮断することもできる。そのため、電力供給装置３１，３２を介して電力が供給されるウエハステージ駆動部２８及びウエハステージ１８の誤作動を抑制できる。
【００３８】
（２）また、電流が流れる電気ケーブル３３，４０から発生した熱エネルギーは、収容スペース３６，４４内の液体金属によって吸収される。しかも、こうした液体金属は、第１収容部材３４、収容部材４１を介して、露光チャンバ１３の設定温度と同一温度となるように温度調整されている。そのため、露光チャンバ１３内において電力供給装置３１，３２と対向する部品に、電気ケーブル３３，４０で発生した熱エネルギーが伝達（輻射）されることを抑制できる。
【００３９】
（３）また、電気ケーブル３３，４０からは、該電気ケーブル３３，４０を構成する部材（例えば、被覆部材）からアウトガスが発生することがある。しかし、本実施形態では、電気ケーブル３３，４０から発生したアウトガスを、該電気ケーブル３３，４０を包囲するような位置に設けられた収容スペース３６，４４内の液体金属によって封止することができる。したがって、電気ケーブル３３，４０から発生したアウトガスが、レチクルＲ、ウエハＷ及び光学部材などに付着することに起因した露光不良の発生を抑制できる。
【００４０】
（４）また、電力供給装置３２では、電気ケーブル４０に液体金属が接触している。そのため、電気ケーブル４０から発生した熱エネルギーを、より効率良く吸収でき、該電気ケーブル４０の温度上昇を効率良く抑制できる。
【００４１】
（５）また、従来のようにメッシュ状の部材を電気ケーブルに巻き付けることにより、電気ケーブルからの磁気ノイズの放射を抑制する方法では、磁気ノイズの放射を確実に抑制するためには電気ケーブルに対して何重にもメッシュ状の部材を巻き付ける必要がある。この場合、メッシュ状の部材を含む電気ケーブルは、非常に太くなってしまい、曲げることが困難となる可能性がある。しかも、電気ケーブルが接続される駆動装置の駆動によって、電気ケーブルが動く場合には、その動きに対する制約が大きくなる。
【００４２】
この点、本実施形態の電力供給装置３１は、液体金属を収容する収容スペース３６を大きくしても各収容部材３４，３５は可撓性を有しているため、従来の場合と比較して曲げやすい。また、当然、電気ケーブル３３が接続される駆動装置の駆動によって電気ケーブル３３が動く場合であっても、従来の場合と比較して制約が小さくなる。よって、駆動装置の駆動の妨げとなることを抑制できる。
【００４３】
同様に、本実施形態の電力供給装置３２では、電気ケーブル４０は、液体金属が充填された溝部４２内に沈められた状態で配置されている。そのため、電気ケーブル４０が接続される駆動装置の駆動によって電気ケーブル４０が動く場合であっても、該電気ケーブル４０を、溝部４２内において自由に変位させることができる。よって、駆動装置の駆動の妨げとなることを抑制できる。
【００４４】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態を説明する。なお、第２の実施形態は、電力供給装置の構成が第１の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１の実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１の実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００４５】
図４（ａ）（ｂ）に示すように、本実施形態の電力供給装置５０は、露光チャンバ１３の側壁から駆動装置（例えば、レチクルステージ１６）まで延びる筒状（本実施形態では円筒状）の第１収容部材３４を備えている。この第１収容部材３４の長手方向における両端には、該第１収容部材３４内の収容スペース５１を閉塞するための略円板状の閉塞部材３８がそれぞれ設けられており、該収容スペース５１は、密閉されている。
【００４６】
こうした第１収容部材３４内の収容スペース５１には、露光チャンバ１３外に配置される電源３０から駆動装置に電力を供給するための複数本（図４（ａ）では３本、図４（ｂ）では５本図示）の電気ケーブル５２が収容されている。また、収容スペース５１内には、液体金属が充填されている。
【００４７】
なお、各電気ケーブル５２は、閉塞部材３８に貫通形成された挿通孔を介して収容スペース５１内外に挿通している。そして、閉塞部材３８の各挿通孔周辺には、該挿通孔の側面と電気ケーブル５２の外周面との間に形成される僅かな隙間から液体金属が外部に漏れ出ることを抑制するための封止部（図示略）がそれぞれ設けられている。
【００４８】
したがって、本実施形態では、上記第１の実施形態の効果（１）〜（５）と同等の効果を得ることができる。
なお、上記各実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
【００４９】
・各実施形態において、電気ケーブル３３，４０，５２は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、電線６０と、該電線６０の外周面６０ａとの間に隙間６１を介在させた状態で電線６０を収容する筒状の収容部材６２とを備えた構成であってもよい。また、電線６０の外周面６０ａと収容部材６２の内周面６２ａとの間の隙間６１内には、液体金属を充填さてもよい。
【００５０】
第２の実施形態において、電気ケーブルを、図５（ａ）（ｂ）に示す電気ケーブルとした場合には、収容スペース５１内に液体金属を充填させなくてもよい。このように構成しても、上記各実施形態と同等の効果を得ることができる。
【００５１】
また、図５（ａ）（ｂ）に示す電気ケーブルで電力を駆動装置に供給する場合には、上記各実施形態で述べた各電力供給装置を用いなくてもよい。
・各実施形態において、駆動装置に接続される電気ケーブルが１本のみである場合、該電気ケーブルは、導線を被覆する被覆部材を備えない構成であってもよい。
【００５２】
・各実施形態において、電気ケーブルは、同軸ケーブルであってもよい。
・各実施形態において、電力供給装置３１，３２，５０は、第１収容部材３４や収容部材４１の温度を調整するための温度調整機構を備えた構成であってもよい。
【００５３】
・第１の実施形態において、電力供給装置３２は、収容スペース４４内の液体金属を循環させる機能を設けた構成でもよい。また、こうした液体金属を、ウエハＷ、レチクルＲ及び各種光学部材の冷却時に冷媒として用いてもよい。
【００５４】
・各実施形態において、遮蔽用液体は、複数種類の液体金属を混合させてなる液体であってもよい。
・各実施形態において、露光装置１１は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置１１は、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。
【００５５】
・各実施形態において、光源装置１２で用いられるＥＵＶ光発生物質は、気体状の錫（Ｓｎ）でもよいし、液体状又は固体状の錫でもよい。また、ＥＵＶ光発生物質として、キセノン（Ｘｅ）を用いてもよい。
【００５６】
・各実施形態において、光源装置１２は、放電型プラズマ光源を有する装置でもよい。
・各実施形態において、露光装置１１を、ステップ・アンド・リピート方式の装置に具体化してもよい。
【００５７】
・本発明の基板処理装置を、ウエハＷなどの基板に対して露光装置以外の装置、例えば、ウエハに感光性材料を塗布したり、感光性材料に形成されたパターンを現像したりする塗布現像装置や、基板の検査装置などに具体化してもよい。
【００５８】
次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図６は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【００５９】
まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【００６０】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００６１】
図７は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）においては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００６２】
基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。
【符号の説明】
【００６３】
１１…基板処理装置としての露光装置、１３…露光チャンバ、１６…駆動装置としてのレチクルステージ、１８…駆動装置としてのウエハステージ、２３，２８…駆動装置としてのステージ駆動部、３１，３２，５０…電力供給装置、３３，４０，５２…電気ケーブル、３４…第１収容部材（集束部材）、３４ａ…内周面、３５…第２収容部材、３５ａ…外周面、３６，５１…隙間としての収容スペース、４２…溝部、６０…電線、６０ａ…外周面、６１…隙間、６２…収容部材、６２ａ…内周面、Ｗ…基板としてのウエハ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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