(57)【要約】【課題】三次元の複雑な立体形状を有する成形品に均一な膜厚でかつ電波の透過可能な金属層を形成することができ、設備が簡単で工程時間が短く、低コストで大量生産が容易なレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法を提供する。【解決手段】透明樹脂基体２の表面に酸化処理をして改質層１１を形成し、その改質層１１に触媒金属粒子を付与して、改質層１１に触媒金属粒子が分散して吸着された樹脂−金属コンポジット層３を形成する。そして、樹脂−金属コンポジット層３の表面に無電解めっきを行い、めっき金属２１が分散した状態で析出されてなる不連続金属層４を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーダ装置のビーム経路内に配置されるレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法であって、
透明樹脂基体の表面に酸化処理をして改質層を形成する酸化処理工程と、
該酸化処理工程により前記透明樹脂基体に形成された改質層に触媒金属粒子を付与して、前記改質層に前記触媒金属粒子が分散して吸着された樹脂−金属コンポジット層を形成する触媒付与工程と、
該触媒付与工程により形成された樹脂−金属コンポジット層の表面に無電解めっきを行い、めっき金属が分散した状態で析出されてなる不連続金属層を形成する無電解めっき処理工程と、を含むことを特徴とするレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法。
【請求項２】
前記酸化処理工程では、オゾン溶液を用いて前記透明樹脂基体をオゾン処理することにより前記改質層を形成することを特徴とする請求項１に記載のレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法。
【請求項３】
前記無電解めっき処理工程では、前記めっき液に前記透明樹脂基体を浸漬して前記透明樹脂基体と前記めっき液を静置することを特徴とする請求項１又は２に記載のレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法。
【請求項４】
前記無電解めっき処理工程では、前記透明樹脂基体が前記めっき液に浸漬されていないときは前記めっき液を液循環させることを特徴とする請求項３に記載のレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法。
【請求項５】
レーダ装置のビーム経路内に配置されるレーダ装置ビーム経路内用成形品であって、
透明樹脂基体と、
該透明樹脂基体の表面に触媒金属粒子が分散して形成された樹脂−金属コンポジット層と、
該樹脂−金属コンポジット層の表面に無電解めっきによりめっき金属が分散した状態で析出されてなる不連続金属層と、を有することを特徴とするレーダ装置ビーム経路内用成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば車両のフロントグリルの背後に配置されたレーダ装置のビーム経路内に配置されるレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法およびレーダ装置ビーム経路内用成形品に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、車両前方の障害物との距離や、前方車両との車間距離を測定するレーダ装置は、その性能を発揮するためには、車両前部の中心位置に設けるのが好ましい。したがって、車両のフロントグリル近傍にアンテナを取り付けることとなるが、意匠面からアンテナはなるべく外部から視認不可とするのが望ましい。したがって、車両に装備されるレーダ装置は、フロントグリルの背後に配置される。
【０００３】
フロントグリルには、車両製造会社のエンブレムや該車両に特有な装飾品が装着されている。したがって、レーダ装置から照射されるミリ波等の電波は、フロントグリル等を介して前方に放射され、前方車両や前方障害物などの対象物で反射され、この反射光がフロントグリル等を介してレーダ装置に戻るビーム経路をとる。
【０００４】
したがって、フロントグリル等の、レーダ装置のビーム経路内に配置される箇所には、電波透過損失が少なく且つ所定の美観を提供する材料及び塗料を用いることが好ましい。
【０００５】
従来は、レーダ装置が配置される部位に対応するフロントグリルの部位に窓部を設け、電波が透過可能な電波透過カバーを窓部に挿入して、窓部とフロントグリル本体とに一体感を持たせることが行われていた（例えば特許文献１を参照）。
【０００６】
特許文献１に開示される電波透過カバーは、凹凸をもって形成された複数の樹脂層が積層されて形成されたものである。この被覆部品においては、樹脂層間に凹凸をもって蒸着されている金属層によって、フロントグリルのフィン部材が電波透過カバー中にも連続して存在しているような印象を与えることができる。
【０００７】
このような電波透過カバーに蒸着される金属としてインジウムが用いられる。インジウムを被蒸着材に蒸着する場合、インジウムは被蒸着材の表面に一様な膜状に蒸着されるのではなく、微細な島状に蒸着される。すなわち、インジウムを被蒸着材に蒸着した場合、被蒸着材の表面はインジウムが蒸着された微細な島状の蒸着部と、何も蒸着されていない非蒸着部とが微細に混在した状態となっている。この場合、電波はこの非蒸着部を透過して出入可能であり、かつ、蒸着部は微細な島状にインジウムが蒸着されているため、被蒸着材の表面は金属光沢をもつ部材として視認される。
【０００８】
なお、上記する特許文献１と同一の技術分野に属し、該特許文献１と同様に金属層を蒸着もしくはスパッタリング等の乾式方法によって形成する技術が特許文献２、３に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−１５９０３９号公報
【特許文献２】特許第３３６６２９９号公報
【特許文献３】特許第３５９７０７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１〜３に示すように、蒸着もしくはスパッタリング等の乾式方法によってワークの表面に電波を透過可能な金属層を形成する場合、乾式方法では、真空チャンバー内にワークをセットし、金属層を形成するので、大がかりな設備装置が必要な上、工程時間が長く、コスト高であり、大量生産が困難である。
【００１１】
また、乾式方法の場合、そのプロセスの特徴により、被形成面が二次元の簡単な平面形状を有するときは被形成面の全面に亘って均一な厚さの金属層を形成できるが、被形成面が三次元の複雑な立体形状を有するときは被形成面の全面に亘って均一な厚さの金属層を形成することができない。
【００１２】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、三次元の複雑な立体形状を有する成形品に均一な膜厚でかつ電波の透過可能な金属層を形成することができ、設備が簡単で工程時間が短く、低コストで大量生産が容易なレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法およびレーダ装置ビーム経路内用成形品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決する本発明のレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法は、レーダ装置のビーム経路内に配置されるレーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法であって、透明樹脂基体の表面に酸化処理をして改質層を形成する酸化処理工程と、酸化処理工程により透明樹脂基体に形成された改質層に触媒金属粒子を付与して、改質層に触媒金属粒子が分散して吸着された樹脂−金属コンポジット層を形成する触媒付与工程と、触媒付与工程により形成された樹脂−金属コンポジット層の表面に無電解めっきを行い、めっき金属が分散した状態で析出されてなる不連続金属層を形成する無電解めっき処理工程を含むことを特徴としている（請求項１）。
【００１４】
本発明によれば、無電解めっき処理により不連続金属層を形成するので、レーダ装置ビーム経路内用成形品を簡単な設備で流れ作業により生産でき、工程時間が短く、低コストで大量に生産することができる。また、透明樹脂基体が三次元の複雑な立体形状を有する場合であっても、従来の蒸着やスパッタリングのように面の方向に影響を受けることなく、表面全体に亘って均一な層厚の不連続金属層を形成することができる。
【００１５】
本発明は、好ましくは、酸化処理工程では、オゾン溶液を用いて透明樹脂基体をオゾン処理することにより、改質層を形成する（請求項２）。
【００１６】
本発明によれば、酸化処理工程から無電解めっき処理工程までを湿式プロセスにより行うことができる。したがって、更に工程時間を短くすることができ、結果としてさらなる低コスト化を図ることができる。
【００１７】
本発明は、好ましくは、無電解めっき処理工程では、めっき液に透明樹脂基体を浸漬して透明樹脂基体とめっき液を静置する（請求項３）。
【００１８】
本発明によれば、めっき液中に透明樹脂基体を浸漬して透明樹脂基体とめっき液を静置するので、めっき液の液循環やめっき液中における透明樹脂基体の揺動によってめっき金属の析出速度が速められるのを抑制することができる。したがって、樹脂−金属コンポジット層の表面にめっき金属が分散した状態で析出させることができ、不連続金属層に積極的に不連続性を持たせることができる。
【００１９】
本発明は、好ましくは、無電解めっき処理工程では、透明樹脂基体がめっき液に浸漬されていないときはめっき液を液循環させることを特徴としている（請求項４）。
【００２０】
本発明によれば、透明樹脂基体をめっき液に浸漬されていないときはめっき液を液循環させるので、液循環不足によるめっき液の自己分解を防ぎ、めっき液の高寿命化を図ることができる。
【００２１】
本発明のレーダ装置ビーム経路内用成形品は、レーダ装置のビーム経路内に配置されるレーダ装置ビーム経路内用成形品であって、透明樹脂基体と、透明樹脂基体の表面に触媒金属粒子が分散して形成された樹脂−金属コンポジット層と、樹脂−金属コンポジット層の表面に無電解めっきによりめっき金属が分散した状態で析出されてなる不連続金属層と、を有することを特徴としている（請求項５）。
【００２２】
本発明によれば、樹脂−金属コンポジット層の表面にめっき金属が分散した状態で析出された不連続金属層が形成されているので、レーダ装置の電波を、分散するめっき金属の間に透過させて出入可能であり、かつ、金属光沢を持つ成形品として外部から視認させることができる。
【００２３】
そして、不連続金属層は、無電解めっきにより形成されるので、レーダ装置ビーム経路内用成形品を簡単な設備で流れ作業により生産でき、工程時間が短く、低コストで大量に生産することができる。また、透明樹脂基体が三次元の複雑な立体形状を有する場合であっても、その表面に均一な層厚の不連続金属層を形成することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、無電解めっき処理により不連続金属層を形成するので、レーダ装置ビーム経路内用成形品を簡単な設備で流れ作業により生産でき、工程時間が短く、低コストで大量に生産することができる。また、透明樹脂基体が三次元の複雑な立体形状を有する場合であっても、従来の蒸着やスパッタリングのように面の方向に影響を受けることなく、表面全体に亘って均一な層厚の不連続金属層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】成形品の断面構造を模式的に示す図。
【図２】レーダ装置ビーム経路内用成形品の製造方法を示すフローチャート。
【図３】めっき処理工程を説明するフローチャート。
【図４】レーダ装置ビーム経路内用成形品の表面を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１は、本実施の形態におけるレーダ装置ビーム経路内用成形品の断面構造を模式的に示す図である。
【００２７】
レーダ装置ビーム経路内用成形品１は、図１に示すように、透明樹脂基体２と、該透明樹脂基体２の表面に設けられた樹脂−金属コンポジット層３と、樹脂−金属コンポジット層３の表面に設けられた不連続金属層４を有する。
【００２８】
透明樹脂基体２は、例えば自動車のフロントグリルやエンブレムの形状に成形された樹脂成形体であり、透明な樹脂材料によって構成されている。
【００２９】
透明樹脂基体２は、電波透過損失が小さく且つ誘電特性に優れた材料により構成される。誘電特性として、例えば、比誘電率ε’と誘電損失ｔａｎδが指標となる。好ましくは、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂からなる。本発明において透明樹脂基体２に用いられる透明樹脂の１つである環状ポリオレフィン樹脂、例えばポリノルボルネン系樹脂やポリシクロヘキセン系樹脂は非晶性のため、透明性に優れた性質を有する。
【００３０】
透明樹脂基体２に用いられる透明樹脂として、電波透過損失が小さく且つ誘電特性に優れた環状ポリオレフィン樹脂を用いる場合は、環状ポリオレフィン樹脂層からなる基体表面をプラズマエッチング処理及び／又は高濃度オゾン水処理することにより、透明樹脂基体２の濡れ性が向上し、錫及び／又は錫合金層との密着性が格段に向上する。
【００３１】
透明樹脂基体２の透明樹脂には、必要に応じてその他のポリマーを配合することができる。その他のポリマーの例として、ゴム、その他の熱可塑性樹脂が挙げられる。ゴムとして、例えば、天然ゴム、ポリブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体ゴム、スチレン・ブタジエン共重合体ゴム、スチレン・イソプレン共重合体ゴム、スチレン・ブタジエン・イソプレン共重合体ゴム、ジエン系ゴムの水素添加物、エチレン・プロピレン共重合体などのエチレン・α−オレフィン共重合体などの飽和ポリオレフィンゴム、エチレン・プロピレン・ジエン共重合体、α−オレフィン・ジエン共重合体、ウレタンゴム、シリコーンゴム、ポリエーテル系ゴム、アクリルゴム、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体ゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴムなどの熱可塑性エラストマー、水素添加熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、１，２−ポリブタジエン系熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。
【００３２】
その他の熱可塑性樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ＬＬＤＰＥ、超低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、シンジオタクトポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフテレート、ポリブチレンテレフテレートなどのポリエステル、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、シンジオタクトポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、芳香族ポリアミド、ポリカーボネートなどが挙げられる。これらその他の熱可塑性樹脂は、単独または２種以上を組み合わせ用いることができ、その配合量は透明樹脂が有する電波透過性、耐久性、及び耐磨耗性を失わない量であり、透明樹脂に対して５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下である。
【００３３】
透明樹脂基体２の透明樹脂には、必要に応じて添加剤を配合することができる。添加剤の例として、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、防曇剤、防霧剤、可塑剤、顔料、近赤外吸収剤、帯電防止剤などが挙げられる。
【００３４】
透明樹脂基体２の成形体は、溶融成形法、溶液流延法など、通常行われている方法で製造することができる。溶融成形法としては、Ｔダイやインフレーション成形などの溶融押し出し法、カレンダー法、熱プレス法、射出成形法などが挙げられる。溶液流延法は、各成分を溶媒に溶解又は分散させた液状体を支持体上に流延し、溶媒を乾燥する。これに用いる溶剤として、例えば、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素、シクロヘキサン、デカリンなどの脂環式炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルベンゼンなどのハロゲン化合物などが挙げられる。液状物中の透明樹脂濃度は、通常、０．１〜６０質量％、好ましくは３〜４５質量％である。液状物を支持体上に流延する方法として、例えば、バーコータ、ドクターブレード、マイヤバー、ロールコータ、ダイコータ、スプレー、エアナイフコート、スピンコート、ディップコートなどが挙げられる。溶媒の乾燥除去は、常法によって行い、残留溶剤含量は５質量％以下、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下となるように乾燥させる。
【００３５】
樹脂−金属コンポジット層３は、透明樹脂基体２の表面に例えばパラジウムなどの触媒金属粒子が分散して形成されている。樹脂−金属コンポジット層３は、透明樹脂基体２に酸化処理をして改質層１１を形成し、その改質層１１に触媒金属粒子１２を分散させて吸着させることによって形成される。樹脂−金属コンポジット層３は、例えば２０〜１００ｎｍの層厚を有する。
【００３６】
不連続金属層４は、無電解めっきにより、樹脂−金属コンポジット層３に例えばニッケルなどのめっき金属２１が分散した状態で析出されて形成される。めっき金属２１は、樹脂−金属コンポジット層３の表面に不連続に析出しており、互いの隙間にレーダ装置の電波を透過させて出入可能で、かつ金属色調を呈する間隔で分散して配置されている（例えば図４を参照）。
【００３７】
外部からレーダ装置ビーム経路内用成形品１に入射した自然光は、透明樹脂基体２および樹脂−金属コンポジット層３を透過し、金属層４で反射する。したがって、レーダ装置ビーム経路内用成形品１は、金属光沢を持つ部品として外部から視認される。
【００３８】
上記構成を有するレーダ装置ビーム経路内用成形品１は、樹脂−金属コンポジット層３の表面にめっき金属２１が分散した状態で析出された不連続金属層４が形成されているので、レーダ装置の電波を、分散するめっき金属２１の間に透過させて出入可能であり、かつ、金属光沢を有する成形品として外部から視認させることができる。
【００３９】
そして、不連続金属層４は、無電解めっきにより形成されるので、レーダ装置ビーム経路内用成形品１を簡単な設備で流れ作業により生産でき、工程時間が短く、低コストで大量に生産することができる。そして、ニッケル等のめっき金属を用いることができ、従来のインジウムと比較して材料コストを低減できる。そして、無電解めっきにより、透明樹脂基体２が三次元の複雑な立体形状を有する場合であっても、その表面に均一な層厚の不連続金属層４を形成することができる。
【００４０】
次に、上記構成を有するレーダ装置ビーム経路内用成形品１の製造方法について図２のフローチャートに基づいて説明する。
【００４１】
レーダ装置ビーム経路内用成形品１の製造方法は、酸化処理工程Ｓ１と、アルカリ処理工程Ｓ２と、触媒付与処理工程Ｓ３と、活性化処理工程Ｓ４と、無電解めっき処理工程Ｓ５を含む。
【００４２】
酸化処理工程Ｓ１では、透明樹脂基体２に酸化処理をしてその表面に改質層１１を形成する処理が行われる。改質層１１を形成するには、紫外線（ＵＶ）照射処理、プラズマ処理、光触媒を塗布した後に紫外線照射を行う処理、オゾン溶液やオゾンガスによるオゾン処理などを用いることができるが、オゾン溶液を用いたオゾン処理が特に好ましい。
【００４３】
オゾン溶液を用いたオゾン処理を行うことにより、酸化処理工程Ｓ１から無電解めっき処理工程Ｓ５までを湿式プロセスにより行うことができ、他の処理よりも工程時間を短くすることができ、低コスト化を図ることができる。
【００４４】
オゾン処理では、透明樹脂基体２をオゾン溶液で処理して透明樹脂基体２の表面に極性基をもつ改質層１１を形成する。この改質層１１は、透明樹脂基体２の表面に形成されるナノ(nm)レベル以下の細孔を有する層である。オゾン溶液で処理するには、オゾン溶液中に透明樹脂基体２を浸漬する方法、透明樹脂基体２にオゾン溶液をスプレーする方法などがある。透明樹脂基体２をオゾン溶液中に浸漬する方法によれば、スプレーによる接触に比べてオゾン溶液からオゾンが離脱し難いので好ましい。
【００４５】
オゾン溶液中のオゾン濃度は、透明樹脂基体２の表面の活性化に大きく影響を及ぼし、 10ppm程度から活性化の効果が見られるが、20ppm 以上とすればその活性化の効果が飛躍的に高まり、より短時間の処理が可能である。また濃度が低いと劣化が先行する場合があるので、オゾン濃度は高い方が好ましい。オゾン溶液中のオゾンによる酸化によって、改質層にはOH基、 C=O基、COOH基などの極性基が生成する。
【００４６】
オゾン溶液は、通常は水を溶媒とするが、有機又は無機の極性溶媒を溶媒とすることも好ましい。これにより処理時間をさらに短縮することが可能となる。有機極性溶媒としては、メタノール，エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、蟻酸，酢酸などの有機酸類、あるいはこれらを水やアルコール系溶媒と混合したものが例示される。また無機極性溶媒としては、硝酸、塩酸、フッ化水素酸などの無機酸が例示される。
【００４７】
なお、オゾン処理における処理温度は、原理的には高いほど反応速度が大きくなるが、温度が高くなるほどオゾン溶液中のオゾンの溶解度が低くなり、40℃を超える温度においてオゾン溶液中のオゾン濃度を40ppm 以上とするには、処理雰囲気を大気圧以上に加圧する必要があり、装置が大がかりなものとなる。処理温度は、室温程度でも可能である。
【００４８】
オゾン処理におけるオゾン溶液と透明樹脂基体２との接触時間は、樹脂種によって異なるが、２〜30分とするのが好ましい。２分未満では、オゾン濃度を20ppm 以上としてもオゾン処理による効果の発現が困難となり、30分を超えると透明樹脂基体２の劣化が生じるようになる。
【００４９】
また、オゾン処理において、高濃度オゾン溶液を透明樹脂基体２の表面に接触させた状態で紫外線を照射することも好ましい。照射される紫外線は、 310nm以下の波長のものが好ましく、 260nm以下、さらには 150〜 200nm程度のものが望ましい。また、紫外線照射量は、50mJ／cm2 以上とすることが望ましい。このような紫外線を照射できる光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、エキシマレーザー、バリア放電ランプ、マイクロ波無電極放電ランプなどを用いることができる。
【００５０】
透明樹脂基体２をオゾン溶液中に浸漬した状態で紫外線を照射するには、紫外線光源をオゾン溶液中に入れた状態で照射してもよいし、オゾン溶液の液面上方から照射してもよい。またオゾン溶液の容器を透明石英など紫外線透過性の材料から形成したものとすれば、オゾン溶液の容器外部から照射することもできる。
【００５１】
アルカリ処理工程Ｓ２では、酸化処理工程Ｓ１の後に、改質層１１に少なくともアルカリ成分を含むクリーナコンディショナ溶液を接触させる処理が行われる。このアルカリ処理を行うことにより、改質層１１の濡れ性が向上し、後の触媒付与工程Ｓ３における触媒金属粒子の吸着性を格段に向上させることができる。
【００５２】
アルカリ成分は、改質層１１の表面を分子レベルで水に可溶化する機能をもち、改質層１１表面の脆化層を除去して極性基をより多く表出させるため、触媒付与工程Ｓ３において金属微粒子をより多く生成することができる。
【００５３】
このアルカリ成分としては、改質層１１の表面を分子レベルで溶解して脆化層を除去できるものを用いることができ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどを用いることができる。
【００５４】
クリーナコンディショナ溶液と改質層１１との接触時間は特に制限されないが、10℃で１分以上とするのが好ましい。接触時間が短すぎると、極性基に吸着する界面活性剤量が不足する場合がある。しかし接触時間が長くなり過ぎると、極性基が表出した層まで溶解する場合がある。１〜10分間程度で十分である。また温度は高い方が望ましく、温度が高いほど接触時間を短縮することが可能であるが、10〜70℃程度で十分である。
【００５５】
触媒付与処理工程Ｓ３では、改質層１１に触媒金属粒子を付与して樹脂−金属コンポジット層３を形成する処理が行われる。樹脂−金属コンポジット層３は、改質層１１に触媒金属粒子が分散して吸着されることによって形成される。具体的には、改質層１１に金属化合物溶液を接触させて、触媒金属のコロイド及びイオンの少なくとも一方を含む金属化合物溶液を改質層１１に浸入させる。
【００５６】
改質層１１では樹脂の分子鎖の切断などによって極性基が形成されているので、その極性基に触媒金属のコロイドあるいはイオンが吸着することで、樹脂−金属コンポジット層３が形成される。
【００５７】
金属化合物溶液としては、金属錯イオンを含むアルカリ性のもの、あるいは金属コロイドを含む酸性のものが知られ、いずれも用いることができるが、金属粒径が小さいアルカリ性のものが好ましい。改質層１１への浸透性、分散性が良いため、めっき金属２１の密着強度がより向上するからである。なお、触媒金属粒子とは、無電解めっき時の触媒となるものであり、パラジウムが一般的である。金属化合物溶液には、パラジウムとすずを混合したものが用いられる。
【００５８】
改質層１１に金属化合物溶液を接触させるには、改質層１１が形成されている透明樹脂基体２の表面に金属化合物溶液をスプレーなどで塗布してもよいし、金属化合物溶液中に透明樹脂基体２を浸漬することもできる。これによって、金属化合物溶液が改質層１１の表面から内部に拡散浸透し、極性基に金属化合物のイオンあるいはコロイドが吸着し、還元反応により金属化合物がナノレベルの微細な触媒金属粒子となって樹脂−金属コンポジット層３が形成される。樹脂−金属コンポジット層３の厚さは２０〜１００ｎｍの範囲が好ましい。
【００５９】
活性化工程Ｓ４では、触媒付与工程Ｓ３によって改質層１１に吸着された金属化合物溶液から、すずを除去する処理が行われる。例えば、透明樹脂基体２の表面を塩酸で洗浄することにより、すずが除去される。すずの除去により、後の無電解めっき処理工程Ｓ５におけるめっき金属２１の析出を容易化できる。
【００６０】
無電解めっき処理工程Ｓ５では、めっき液に透明樹脂基体２を浸漬して、樹脂−金属コンポジット層３の表面に無電解めっきを行い、めっき金属２１が分散した状態で析出されてなる不連続金属層４を形成する。不連続金属層４の層厚は、２５〜６０ｎｍの範囲が好ましい。無電解めっきは、例えば４０℃のめっき液に透明樹脂基体２を１０秒間浸漬することにより行われる。
【００６１】
浸漬時間が長くなりすぎると、めっき金属２１が連続的に成長して一様な膜状となり、樹脂−金属コンポジット層３の表面を被覆し、不連続金属層４の不連続性が損なわれて、レーダ装置の電波を透過する電波透過性が低下するおそれがある。したがって、浸漬時間を制御して、めっき金属２１が分散した状態で析出されるようにめっき処理が行われる。
【００６２】
無電解めっきを行う場合に、空気等の酸素含有ガスをめっき液中に吹き込むバブリング、めっき液の攪拌、被めっき部材の揺動等により、めっき浴内でめっき液を液循環させて、めっき液の自己分解を防ぎ、めっき液の性状を安定化させることが従来から行われているが、無電解めっき中に、めっき液の液循環を行うと、めっき金属２１の析出速度が速められて、めっき金属２１が短時間で連続的に成長して一様な膜状となり、不連続金属層４の不連続性が損なわれるおそれがある。
【００６３】
そこで、無電解めっき処理工程Ｓ５では、透明樹脂基体２がめっき液に浸漬されているときは、めっき液と透明樹脂基体２を静置する処理が行われる。したがって、めっき液の液循環やめっき液中における透明樹脂基体の揺動によってめっき金属の析出速度が速められるのを抑制することができる。したがって、樹脂−金属コンポジット層３の表面にめっき金属が分散した状態で析出させることができ、不連続金属層４に積極的に不連続性を持たせることができる。
【００６４】
また、無電解めっき処理工程Ｓ５では、透明樹脂基体２がめっき液に浸漬されていないときは、バブリングや攪拌等によりめっき液を液循環させる処理が行われる。したがって、液循環不足によるめっき液の自己分解を防ぎ、めっき液の長寿命化を図ることができる。
【００６５】
なお、めっき液の静置は、例えばバブリングや攪拌等によるめっき液の液循環を停止させて、めっき液を積極的に流動させないようにし、透明樹脂基体２の静置は、透明樹脂基体２をめっき液に浸漬させた状態で透明樹脂基体２の位置を固定することにより行われる。
【００６６】
図３は、無電解めっき処理工程Ｓ５におけるめっき方法を説明するフローチャートである。
【００６７】
まず、ステップＳ１１では、無電解めっき浴内の薬液、温度、ｐＨ等の調整を行う。そして、ステップＳ１２で、バブリングや攪拌等によりめっき液の液循環を行う。そして、ステップＳ１３では、めっき液の液循環が停止され、その液循環が停止されためっき液に透明樹脂基体２を浸漬してめっき液および透明樹脂基体２を静置し、無電解めっきが行われる。そして、ステップＳ１４では、透明樹脂基体２をめっき液から引き上げて取り出し、ステップＳ１５で、再びめっき液の液循環が開始される。
【００６８】
そして、ステップＳ１６に示すように、複数の透明樹脂基体２に個々にめっき処理を行う場合には、各めっき処理が終わるまで、ステップＳ１３からステップＳ１５の処理が繰り返し行われる。なお、ステップＳ１１の調整処理は、繰り返し処理の間に適宜行われる。
【００６９】
上記構成を有するレーダ装置ビーム経路内用成形品１によれば、樹脂−金属コンポジット層３の表面にめっき金属２１が分散した状態で析出された不連続金属層４が形成されているので、レーダ装置の電波を、分散するめっき金属２１の間に透過させて出入可能であり、かつ、金属光沢を持つ成形品１として外部から視認させることができる。
【００７０】
また、上記したレーダ装置ビーム経路内用成形品１の製造方法によれば、無電解めっき処理により不連続金属層４を形成するので、レーダ装置ビーム経路内用成形品１を簡単な設備で流れ作業により生産でき、工程時間が短く、低コストで大量に生産することができる。また、透明樹脂基体２が三次元の複雑な立体形状を有する場合であっても、従来の蒸着やスパッタリングのように面の方向に影響を受けることなく、表面全体に亘って均一な層厚を有する不連続金属層４を形成することができる。したがって、電波透過性を有し、かつ、透明樹脂基体２の表面全体が金属光沢を有するレーダ装置ビーム経路内用成形品１を製造することができる。
【実施例】
【００７１】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００７２】
（１）酸化処理工程
透明樹脂基体２を、４０ｐｐｍのオゾンを含有するオゾン水溶液に浸漬し、室温で８分間浸漬するオゾン処理を行い、透明樹脂基体２の表面に改質層１１を形成した。
【００７３】
（２）アルカリ処理工程
オゾン処理工程後の透明樹脂基体２を、５０℃に加温されたクリーナコンディショナ溶液（ＮａＯＨ：５０ｇ／Ｌおよびラウリル硫酸Ｎａ：１ｇ／Ｌを含む）に２分間浸漬し、透明樹脂基体２の表面の濡れ性を向上させる処理を行った。
【００７４】
（３）触媒付与工程
アルカリ処理後の透明樹脂基体２を水洗・乾燥後、塩化パラジウム０．１ｗｔ％、塩化すず５ｗｔ％、塩酸３Ｎの混合溶液に３２℃で２分間浸漬して、樹脂−金属コンポジット層３を形成した。
【００７５】
（４）活性化工程
触媒付与工程後の透明樹脂基体２を塩酸１Ｎで洗浄し、樹脂−金属コンポジット層３から塩化すずを除去する処理を行った。
【００７６】
（５）無電解めっき工程
活性化工程後の透明樹脂基体２を無電解めっき浴に投入して、４０℃のニッケルめっき液に１０秒間浸漬して、樹脂−金属コンポジット層３の表面にニッケルを無電解めっきし、金属層４を形成した。
【００７７】
図４は、本実施例に示す方法により形成されたレーザ装置ビーム経路内用成形品の表面を示す模式図である。レーザ装置ビーム経路内用成形品１は、図４に示すように、樹脂−金属コンポジット層３の表面に、ニッケルからなるめっき金属２１が分散した状態で析出されている。各めっき金属２１は、互いの隙間にレーダ装置の電波を透過させて出入可能で、かつ金属色調を呈する間隔で分散して配置されている。
【００７８】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【符号の説明】
【００７９】
１  レーダ装置ビーム経路内用成形品
２  透明樹脂基体
３  樹脂−金属コンポジット層
４  不連続金属層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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