(57)【要約】【課題】流延膜を剥ぎ取りやすく、また、連続的に安定して剥がすことができるように流延支持体の表面処理を行う。【解決手段】表面処理工程は、金属酸化物の微粒子が分散した液を含む第１の布で、ドラムの周面を研磨する湿式研磨工程４６と、この湿式研磨工程４６の後に、乾いた第２の布で周面を研磨する乾式研磨工程４７と、周面上の微粒子を取り除く洗浄工程４３とを有する。湿式研磨工程４６の前には、周面上の異物をできるだけ除去して周面を一定レベルの清浄度にする予備洗浄工程４１を実施する。第１の布に含まれる液は、酸化クロム微粒子を油性化合物で保持した固形物が潤滑油と前記油性化合物の溶剤とに混合された液である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー溶液が流延されて流延膜が形成される流延支持体の表面処理方法において、
金属酸化物の微粒子が分散した液を含む第１の布で、前記流延支持体の被処理面を研磨する湿式研磨工程と、
前記湿式研磨工程の後に、乾いた第２の布で前記被処理面を研磨する乾式研磨工程と、
前記被処理面上の前記微粒子を取り除く洗浄工程とを有することを特徴とする流延支持体の表面処理方法。
【請求項２】
前記第１の布に含まれる前記液は、前記微粒子を油性化合物で保持した固形物が潤滑油と前記油性化合物の溶剤とに混合された液であることを特徴とする請求項１記載の流延支持体の表面処理方法。
【請求項３】
前記乾式研磨工程では、前記微粒子がより細かくなるように、前記被処理面に前記第２の布を押しあてた状態で移動させることを特徴とする請求項１または２記載の流延支持体の表面処理方法。
【請求項４】
前記被処理面の目的とする鏡面度に応じて、前記乾式研磨工程の回数を決定し、
前記乾式研磨工程を複数回行うことを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の流延支持体の表面処理方法。
【請求項５】
前記被処理面の鏡面度と前記流延膜の前記流延支持体からの剥離力との関係を求め、前記剥離力に基づいて、目的とする鏡面度を決定することを特徴とする請求項４記載の流延支持体の表面処理方法。
【請求項６】
前記剥離力と前記流延膜の前記流延支持体からの剥離時における溶媒含有率との関係を求め、前記剥離時における溶媒含有率に応じて目的とする鏡面度を決定することを特徴とする請求項５記載の流延支持体の表面処理方法。
【請求項７】
前記洗浄工程は、
第１の洗浄液を空隙に保持する弾性体で前記被処理面を洗浄する弾性体洗浄工程と、
弾性体洗浄工程の後に行われ、揮発性の第２の洗浄液を含む布で前記被処理面を洗浄する布洗浄工程とを有することを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項記載の流延支持体の表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶液製膜においてポリマー溶液が流延される流延支持体の表面処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光学用途のポリマーフィルムに対する要求特性は、近年、ますます厳しくなっており、わずかな異物の含有も許容されず、フィルムの光学特性についてもその均一性の要求レベルが上がる一方である。溶液製膜方法は、周知の通り、ポリマーが溶媒に溶解しているドープを流延支持体の上に流延して流延膜を形成し、流延膜を剥ぎ取って乾燥することによりフィルムを製造する方法である。この溶液製膜方法は、流延膜を流延支持体の上で乾燥する過程で、流延膜の流動性により流延膜の露出面が平らになろうとするいわゆるレベリング作用があり、このレベリング作用により、フィルム面の平滑性が溶融製膜に比べて優れるという利点がある。しかし、流延支持体からフィルムを剥がすときの剥離性が悪いとこの利点が損なわれてしまうという問題がある。
【０００３】
そこで、上述の利点を活かしてフィルム面が平滑なフィルムをつくるために、流延支持体の表面形状や表面特性を制御することにより剥離性を向上する対策が長い間採られていた。例えば、流延支持体の表面粗さを、算術平均粗さＲａ等を指標として評価し、一定の算術平均粗さＲａになるまで研磨する等の対策である。しかし、流延支持体の表面を、凹凸が確認されないほどに平滑にしていくと、流延支持体に流延膜が密着しすぎてしまい、かえって流延膜が流延支持体から剥ぎ取りにくくなり、剥ぎ取り位置が変動してフィルムが変形し、段状の凹凸であるいわゆる剥段ムラが発生する等の問題が発生する。
【０００４】
そこで、特許文献１では、流延支持体に所定の間隔及び深さをもつ螺旋状の溝を形成して、フィルムの剥離性と流延支持体の耐汚性とを両立することが開示されている。この特許文献１での耐汚性とは、流延支持体に流延膜の剥げ残りが生じることなく流延支持体の上に析出物が発生しないことを指す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−２６４１５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１では、溝の間隔を１０ｍｍ以下にすべきとしており、また溝の深さを５ｎｍ以下とすることが好ましい旨を開示するが、このような溝が形成されるように精密な表面加工を流延支持体に施すこと、及び加工した表面状態を評価、確認することは決して容易ではなく、時間もかかる。近年では、フィルム製品の広幅化や、生産の高速化に対応するために、流延支持体の幅や長さが大きくされてきており、メンテナンス時間の短縮化が望まれていることから、このような精密加工及び評価、確認作業を要する方法は好ましいとはいえない。
【０００７】
さらに、特許文献１の方法によると、流延膜の剥離に要する力、つまり剥離力を、ある程度小さくすることはできるが、連続的に流延膜を剥がすと剥ぎ取り位置が変動するという問題は依然として残る。
【０００８】
そこで、本発明は、流延支持体から流延膜を剥ぎ取りやすく、また、流延支持体から流延膜を連続的に剥がしても、一定の剥離力で剥ぎ取ることができる流延支持体の簡易な表面処理方法を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ポリマー溶液が流延されて流延膜が形成される流延支持体の表面処理方法において、金属酸化物の微粒子が分散した液を含む第１の布で、前記流延支持体の被処理面を研磨する湿式研磨工程と、前記湿式研磨工程の後に、乾いた第２の布で前記被処理面を研磨する乾式研磨工程と、前記被処理面上の前記微粒子を取り除く洗浄工程とを有することを特徴として構成されている。
【００１０】
上記の方法において、第１の布に含まれる前記液は、前記微粒子を油性化合物で保持した固形物が潤滑油と油性化合物の溶剤とに混合された液であることが好ましい。
【００１１】
乾式研磨工程では、微粒子がより細かくなるように、被処理面に第２の布を押しあてた状態で移動させることが好ましく、被処理面の目的とする鏡面度に応じて、乾式研磨工程の回数を決定し、乾式研磨工程を複数回行うことが好ましい。そして、被処理面の鏡面度と流延膜の流延支持体からの剥離力との関係を求め、剥離力に基づいて、目的とする鏡面度を決定することが好ましい。この場合には、剥離力と流延膜の流延支持体からの剥離時における溶媒含有率との関係を求め、剥離時における溶媒含有率に応じて目的とする鏡面度を決定することがより好ましい。
【００１２】
洗浄工程は、第１の洗浄液を空隙に保持する弾性体で被処理面を洗浄する弾性体洗浄工程と、この弾性体洗浄工程の後に行われ、揮発性の第２の洗浄液を含む布で被処理面を洗浄する布洗浄工程とを有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の流延支持体の表面処理方法は簡易であり、また本発明の方法によれば、流延支持体から流延膜を剥ぎ取りやすく、また、流延支持体から流延膜を連続的に剥がしても、一定の剥離力で剥ぎ取ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】溶液製膜設備の概略図である。
【図２】表面処理工程のフロー図である。
【図３】予備洗浄工程の説明図である。
【図４】研磨工程での概略側面図である。
【図５】研磨工程の説明図である。
【図６】流延膜と本発明の表面処理を実施したドラムとの断面図である。
【図７】乾式研磨工程を１回実施した場合の鏡面度測定用写真である。
【図８】乾式研磨工程を４回実施した場合の鏡面度測定用写真である。
【図９】鏡面度と乾式研磨工程の回数との関係を示すグラフである。
【図１０】剥離力と鏡面度との関係を示すグラフである。
【図１１】流延膜と従来のドラムとの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施態様について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施態様に限定されるものではない。
【００１６】
［溶液製膜方法］
図１に示すように、溶液製膜設備１０は、ポリマーが溶媒に溶解したドープ１１の流延により、溶媒を含む状態のフィルム、すなわち湿潤フィルム１２を形成する流延装置１５と、幅方向に張力を付与した状態で湿潤フィルム１２を乾燥するテンタ装置１６と、テンタ装置１６を出た湿潤フィルム１２を複数のローラ１７で支持しながら乾燥をさらにすすめてフィルム１８とする乾燥室２１と、フィルム１８を冷却する冷却室２２と、フィルム１８をロール状に巻き取る巻取装置２３とを備える。
【００１７】
流延装置１５は、断面円形の中心に回転軸２６ａを有し矢線Ｚ１で示す周方向に回転する流延支持体としてのドラム２６と、ドープ１１を流出する流延ダイ２７とを備える。回転するドラム２６の周面２６ｂに向けて流延ダイ２７からドープ１１を連続的に流出することにより、ドラム２６の周面２６ｂでドープ１１が流延されて流延膜２８が形成される。
【００１８】
ドラム２６の回転方向Ｚ１における流延ダイ２７の上流側には、減圧すべき空間を外部空間と仕切って、内部の雰囲気を吸引する減圧チャンバ３０が備えられる。流延ダイ２７からドラム２６にかけて形成される膜状のドープ（以降、ビードと称する）の上流側のエリアは、この減圧チャンバ３０の雰囲気吸引により減圧されて、ビードが保持される。また、ドラム２６の回転方向Ｚ１における流延ダイ２７の下流には、湿潤フィルム１２を支持して、ドラム２６からの流延膜２８の剥ぎ取り位置ＰＰを一定に保持する剥取ローラ３１が備えられる。
【００１９】
また、流延装置１５には、ドラム２６と流延ダイ２７と剥取ローラ３１との雰囲気の温度を所定範囲に調整する温調機３２が備えられ、ドラム２６には、周面２６ｂの温度を調整する温調機３３が備えられる。これらの温調機３２，３３により、流延膜２８の温度、乾燥速度、ゲル化速度が制御される。
【００２０】
流延膜２８をゲル化することにより固めて剥ぎ取るいわゆる冷却流延の場合には、流延膜２８からの溶媒の蒸発よりもむしろ流延膜２８の冷却に主眼をおくために、ドラム２６の周面２６ｂの温度を−１０℃〜−２℃という低温にする。これに対し、流延膜２８を乾燥することにより固めて剥ぎ取るいわゆる乾燥流延の場合には、流延膜２８から溶媒の蒸発を進めるために、ドラム２６の周面２６ｂの温度を冷却流延の場合よりも高い温度にする。フィルム１８の生産効率をより向上させる観点からは、乾燥流延よりも冷却流延の方が好ましい。なお、乾燥流延の場合には、雰囲気における溶媒ガスの濃度が、流延膜２８の連続的な乾燥に伴い徐々に上昇していくので、流延膜２８の乾燥速度を一定に保持するために、流延装置１５の内部に凝縮器（図示無し）を配して溶媒ガスを凝縮させ、これにより溶媒ガス濃度を所定値以下に保持する。
【００２１】
流延支持体としては、ドラム２６に代えて、無端のバンド（図示無し）を用いてもよい。バンドを用いる場合には、例えば、２つのローラの周面にバンドを巻き掛けるようにして掛け渡し、いずれか一方のローラを周方向に回転させることにより、バンドを周回走行させる。乾燥流延よりも流延膜２８を速く固める冷却流延の場合には、流延膜２８の搬送路の位置の変動がより少ない点でドラム２６を用いる方が好ましい。
【００２２】
本発明は、ドラム２６の材質が、ＳＵＳ３０４等のステンレス製である場合や、周面２６ｂの材質がハードクロムとされている場合に特に有効である。
【００２３】
テンタ装置１６は、湿潤フィルム１２の側端部を保持して湿潤フィルム１２を搬送する保持部材（図示無し）と、搬送されている湿潤フィルム１２に乾燥空気を吹き付ける送風手段とを備える。保持部材は、走行する無端のチェーンに取り付けられており、チェーンの走行によって移動する。この保持部材の移動によって、湿潤フィルム１２は幅方向に張力を付与されながら搬送される。なお、保持部材としてはピンやクリップがある。溶媒含有率が比較的多い湿潤フィルム１２を保持する場合にはピンを用いることが好ましく、溶媒含有率が比較的少ない湿潤フィルム１２を保持する場合にはクリップを用いることが好ましい。したがって、溶媒含有率が非常に多いうちにドラム２６から剥ぎ取られて搬送される冷却流延の場合には、湿潤フィルム１２の搬送方向に沿って、ふたつのテンタ装置１６を設け、上流側の一方はピンを保持手段とするピンテンタ装置、下流側の他方はクリップを保持手段とするクリップテンタ装置とすることが好ましく、乾燥流延の場合には、保持手段をクリップとするクリップテンタ装置のみを使用することが好ましい。
【００２４】
テンタ装置１６の下流には、保持部材で保持された耳部を切断除去する耳切装置３６が設けられており、製品部から切り離された耳部は新たなドープ１１に再利用される。
【００２５】
テンタ装置１６の出口近傍で保持手段による保持を解除された湿潤フィルム１２は、乾燥室２１に案内されると、搬送路に配された複数のローラ１７の周面に掛け渡されて支持される。複数のローラ１７の中には、周方向に回転する駆動ローラがあり、この駆動ローラの回転により、湿潤フィルム１２は搬送される。乾燥室２１には、所定温度に加熱され乾燥した空気が送り込まれ、この空気の送り込みにより、湿潤フィルム１２の乾燥が進められ、製品としてのフィルム１８が得られる。そして、フィルム１８は乾燥機２１の下流側にある冷却室２２で冷却された後、巻取装置でロール状に巻かれる。
【００２６】
以上のように溶液製膜を実施する溶液製膜設備１０に対しては、定期的にメンテナンス作業が行われる。メンテナンス作業として、ドラム２６については、その周面２６ｂの表面処理を実施する。この表面処理は、周面２６ｂに付着した異物を取り除くとともに、周面２６ｂを所定の凹凸形状になるようにするものである。なお、未使用のドラム２６には、周面に凹凸が確認されない程度にまで鏡面処理されているものもある。このようなドラム２６に対しても、以下の表面処理を実施するとよい。
【００２７】
［表面処理方法］
周面２６ｂの表面処理工程４０は、図２に示すように、周面２６ｂに付着した異物を除去する予備洗浄工程４１と、周面２６ｂを研磨する研磨工程４２と、洗浄する洗浄工程４３とからなる。各工程４１〜４３の流れは以下の通りである。
【００２８】
まず、被処理面である周面２６ｂが一定レベルの清浄度であるか否かを確認し、一定レベルに達していない場合には周面２６ｂに付着した異物を洗浄して一定レベルの清浄度にする予備洗浄工程４１を実施する。研磨工程４２の前に、この予備洗浄工程４１により周面２６ｂを一定レベルの清浄度にしておくことで、後工程である研磨工程４２を行ったときに、異物がドラム２６に深く入り込んで目的とする鏡面度の凹凸よりも粗い凹凸ができてしまうことを防止することができる。表面処理工程を開始するに際し、一定レベルの清浄度である場合には、この予備洗浄工程４１は実施しなくてもよい。したがって、一定レベルの清浄度とは、研磨工程４２を実施したときに、目的とする鏡面度における凹凸よりも粗い凹凸を形成してしまうような異物が無いレベルである。
【００２９】
研磨工程４２は、一定レベルの清浄度にある周面２６ｂを、所定の液を含む第１の布で研磨する湿式研磨工程４６と、湿式研磨工程４６の後に乾いた第２の布で研磨する乾式研磨工程４７とを有する。乾式研磨工程４７は、周面２６ｂに、所定の鏡面度を示すような微細な凹凸を形成する工程であり、所定の鏡面度、すなわち目的とする鏡面度に達しない間は、繰り返しこれを行う。所定の鏡面度になったら、研磨工程４２を終える。
【００３０】
研磨工程４２を実施した後の周面２６ｂには、分散液の成分が残っているため、これを取り除く洗浄工程４３を、研磨工程４２の後に行う。洗浄工程４２は、複数の微細な空隙が密に形成された弾性体に第１の洗浄液を吸収させ、洗浄液が保持されたこの弾性体で周面２６ｂを洗浄する弾性体洗浄工程４８と、弾性体洗浄工程４８を経た周面２６ｂを、揮発性の第２の洗浄液を含む布で洗浄する布洗浄工程４９とを有する。この布洗浄工程４９を終えると、表面処理工程は完了し、ドラム２６は溶液製膜に再使用される。この表面処理工程を実施することにより、流延膜２８がドラム２６から剥ぎ取りやすくなり、また、ドラム２６から流延膜２８を一定の剥離力で連続的に剥ぎ取ることができる
【００３１】
予備洗浄工程４１、研磨工程４２、洗浄工程４３の詳細について、それぞれ以下に説明する。
【００３２】
予備洗浄工程４１では、図３に示すように、ドラム２６の周面２６ｂに布５１を接触させた状態で移動させることにより、予備洗浄を行う。図３では、周面２６ｂの法線方向からドラム２６を見たときに布５１の一方の側縁とドラム２６の一方の側縁とが重なるように、布５１を周面２６ｂに当て、このときの位置を移動開始位置ＰＳとしている。この移動開始位置ＰＳから布５１をドラム２６の他方の側縁に向けて、ドラム２６の幅方向Ｙに移動させる。図３では、布５１の中心が移動する移動ラインを矢線ＭＬで示す。布５１の他方の側縁がドラム２６の他方の側縁に重なると、この布５１をドラム２６の周方向へ移動し、コの字状に折り返すようにして再び幅方向Ｙに移動させる。このとき、前回の幅方向Ｙでの移動によって既に予備洗浄をした洗浄エリア（図３の斜線部）ＡＣに布５１が重なるようにして次回の幅方向Ｙでの移動を行ってよい。既に予備洗浄をした洗浄エリアＡＣに重なるようにして布５１を移動させることにより、洗浄効果を向上させることができる。
【００３３】
本実施形態では、ドラム２６を、溶液製膜での回転方向Ｚ１（図１参照）とは逆の方向Ｚ２に適宜回転させて、予備洗浄を進める。このようにしてドラム２６を１回転させることにより１回の予備洗浄を行う。一回の予備洗浄で周面２６ｂの全領域が一定の清浄度に達していない場合には、一定の清浄度に達するまで、１回目と同様にして２回目、３回目と予備洗浄を繰り返す。
【００３４】
布５１には、周面２６ｂに付着している異物をより除去しやすくする洗浄液（以降、予備洗浄液と称する）を含ませてある。予備洗浄液は、異物を溶解したり軟化させる性質があるものであり、さらに、揮発性のあるものが好ましい。例えば、アセトンが挙げられる。また、布５１は、予備洗浄液を適量保持する観点と、周面２６ｂの変形を防止する観点と、異物を除去する観点とのバランスから、紡毛糸で織った柔らかい起毛織物であるフランネルが好ましく、フランネルの中でも一方の面は織物面であり、他方の面は織り目が無い起毛面とされたいわゆる片ネルがより好ましい。片ネルを使用する場合には、起毛面が周面２６ｂに接触するようにしてこれを用いる。なお、紡毛糸としては綿（コットン）が好ましい。
【００３５】
湿式研磨工程４６は、一定の清浄度にはあるが、予備洗浄工程では除去しきれない異物を除去することと、周面２６ｂの傷をより浅い凹凸にすることとのために研磨する工程である。湿式研磨工程４６では、図４，図５に示すように、研磨手段としてのサンダ６０を用いる。サンダ６０は、周面２６ｂに押しあてる第１の布６１と、この第１の布６１が取付けられ、周面２６に押しあてた第１の布６１をモータにより振動させるサンダ本体６２とを備える。第１の布６１は、サンダ本体６２に着脱自在とされており、この第１の布６１は、湿式研磨工程４６や、乾式研磨工程４７の各工程の途中に適宜新たなものに取り替えられたり、湿式研磨工程４６から乾式研磨工程への移行の際に第２の布（図示無し）に代えられる。サンダ６０としては、Ｒｕｐｅｓｕ社製やパナソニック社製等の各種市販品を用いることができる。
【００３６】
サンダ６０は、第１の布６１が周面２６ｂに所定の圧力で接触する接触位置と、周面２６ｂと接触しないように離れた退避位置との間で図４の矢線Ｘに示す通り変位するシフト機構（図示無し）を有する。このシフト機構は、周面２６ｂに第１の布６１を所定の圧力で押しあてた状態で、図５のドラム２６の幅方向Ｙ及び周方向にもサンダ６０を変位させる。シフト機構により第１の布６１の中心が移動する移動ラインを図５では矢線ＭＬで示す。
【００３７】
サンダ６０は、ドラム２６の幅方向Ｙに並ぶようにふたつ配されてあり、湿式研磨工程４６では、周面２６ｂである被処理領域を幅方向Ｙで２分割して、各領域内を移動するサンダ６０でそれぞれ研磨する。そして、本実施形態ではふたつのサンダ６０での湿式研磨処理を同期させている。このように被処理領域を分割して各領域での湿式研磨処理を同期させることにより、湿式研磨工程４６での所要時間をより短くすることができる。ただし、必ずしも、被処理領域を分割して各領域での湿式研磨処理を同期させる必要はない。
【００３８】
図５では、周面２６ｂの法線方向からドラム２６を見たときに一方のサンダ６０の第１の布６１の一側縁とドラム２６の一方の側縁とが重なるように、第１の布６１を周面２６ｂに当て、このときの位置を移動開始位置ＰＳとしている。この移動開始位置ＰＳからサンダ６０をドラム２６の中央に向けて、幅方向Ｙに移動させる。このサンダ６０の布の他側縁がドラム２６の幅方向Ｙにおける中央に達すると、サンダ６０を周方向へ移動し、コの字状に折り返すようにして再び幅方向Ｙに移動させる。他方のサンダ６０は、その移動開始位置ＰＳをドラム２６の幅方向Ｙの中央としており、一方のサンダ６０と同様にコの字状に折り返すようにして移動する。本実施形態では、各サンダ６０は、前回の幅方向Ｙでの移動によって既に湿式研磨をした湿式研磨エリア（図５の斜線部）ＡＳに第１の布６１が再び接することがないようにして次回の幅方向Ｙでの移動を行う。ただし、既に湿式研磨をした湿式研磨エリア（図５の斜線部）ＡＳに重なるように、第１の布６１を移動させてもよい。
【００３９】
ドラム２６を、溶液製膜での回転方向Ｚ１（図１参照）とは逆の方向Ｚ２に適宜回転させて、湿式研磨を進める。このようにしてドラム２６を１回転させることにより１回の湿式研磨を行う。湿式研磨工程は、この１回のみで足りることが通常である。
【００４０】
第１の布６１は、予備洗浄で用いる布５１と同様に、綿を紡毛糸とするフランネルが好ましく、片ネルがより好ましい。ただし、片ネルを使用する場合には、予備洗浄工程と同様に、起毛面を周面２６ｂに接触させて用いる。
【００４１】
第１の布６１には、予備洗浄工程で除去しきれなかった異物を研磨で除去しやすくしたり、周面２６ｂの傷を薄くするように研磨するための液（以降、研磨液と称する）を含ませてある。研磨液は、金属酸化物の微粒子が分散媒に分散した分散液である。この研磨液を第１の布６１に吸収させ、研磨液を保持した第１の布６１で研磨する。金属酸化物の微粒子は、研磨の際に異物や傷を削るいわゆる研磨材として作用する。本実施形態では、金属酸化物として酸化クロムを用いている。酸化クロムには酸化数が異なる種々のものがあるが、本実施形態では酸化クロム（III）（Ｃｒ２Ｏ３）を用いる。なお、酸化クロムの微粒子に加えて、他の金属酸化物を研磨材として用いてもよい。また、金属酸化物の微粒子は粒径が２μｍ程度のものが好ましい。
【００４２】
研磨液は、酸化クロムの微粒子を油性化合物で固めて保持された固形物が、潤滑油と油性化合物の溶剤とに混合された液であることがより好ましい。このような混合液を用いると、酸化クロムの微粒子が研磨材として働き、油性化合物と潤滑油とが周面２６に残っている異物の中でも油性のものを溶解あるいは軟化し、そして、潤滑油は第１の布６１の移動に伴う酸化クロムの微粒子の滑りをより円滑にする。このような研磨液をつくるための上記固形物としては、酸化クロムの微粒子と他の研磨材とをステアリン酸等の油性化合物で固めたいわゆる青棒がある。油性化合物を溶かす溶剤としては、トルエンが挙げられる。
【００４３】
乾式研磨工程４７は、サンダ６０を用いて行うが、開始にあたって湿式研磨工程４６で用いる第１の布６１を乾いた第２の布に代える。第２の布が取り付けられたサンダ６０の移動方向及び方法は湿式研磨工程における移動方向及び方法と同じであるので説明は略す。
【００４４】
乾式研磨工程４７では、湿式研磨工程４６での用いた酸化クロムの微粒子が細かくなるように、第２の布を押しあてた状態で移動させる。そして、乾式研磨工程４７では、酸化クロムの微粒子を周面２６ｂや第２の布に新たに供給することはしない。このように、湿式研磨工程４６により周面２６ｂに残された酸化クロムの微粒子を乾式研磨工程により細かくし、目的とする鏡面度になるまで乾式研磨工程４７を繰り返し行う。ドラム２６を１回転させて実施した乾式研磨処理を、１回のこの乾式研磨工程４７として扱う。
【００４５】
乾式研磨工程４７では、第２の布を適宜新たなものに代えることが好ましい。そして、第２の布の取り替えは、サンダ６０が一定距離移動する度に行うことが好ましい。これにより、周面２６ｂの全領域に渡り、微粒子をより均一な大きさに細かくすることができる。本実施形態では、サンダ６０を２ｍ移動させる毎に、第２の布を新たなものに代えている。
【００４６】
弾性体洗浄工程４８では、周面２６ｂ上に残された微粒子を拭き取るようにして、周面２６ｂを弾性体で洗浄する。この弾性体は空隙が密に形成されており、洗浄液を弾性体に吸収させる。そして空隙に洗浄液を保持した弾性体で周面２６ｂを拭うことにより、微粒子とその他の研磨液成分とを除去する。このとき、湿式研磨工程４６で削り取った異物も併せて除去される。
【００４７】
弾性体に吸収させる洗浄液は揮発性をもつものが好ましく、例えばアセトンが挙げられる。
【００４８】
布洗浄４９では、周面２６ｂに残ったわずかな研磨液成分を取り除き、これにより周面２６ｂの曇りを無くす。布には、弾性体洗浄工程４８で用いた洗浄液と同様に、揮発性をもつ液を含ませておくことが好ましい。なお、弾性体洗浄工程４８での弾性体及び布洗浄工程４９での布の各移動方向は、図３に示す予備洗浄工程４１の場合と同じであるので説明は略す。弾性体洗浄工程４８は１回、布洗浄工程４９は２回程度で足りることが多い。
【００４９】
未使用のドラムのように鏡面処理されたものは、凹凸が全く確認されない。このようなドラムに対して上記のような表面処理をして乾式研磨工程４７の回数を重ねることにより、平滑な周面２６ｂには、微細で均一な深さをもつ凹凸がランダムに形成されるようになる。例えば、表面処理工程において乾式研磨工程４７の回数を１回とした場合には、凹部の幅がやや不均一である。乾式研磨工程４７の回数を２回とした場合には、１回とした場合よりも、凹部の幅がやや均一になり、凹凸が微細になる。さらに乾式研磨工程４７の回数を増やして４回とした場合には、凹凸がより細かで周面２６ｂの全域に均一に形成される。このように、乾式研磨工程の回数を増やすことによって、周面２６ｂに、より多くの凹部をより細かに形成することができる。したがって、以上の表面処理工程を経た周面２６ｂには、微細で均一な凹凸が形成されている。
【００５０】
以上のように微細で均一な凹凸がある周面２６ｂに、ドープ１１（図１参照）を流延しても、ドープ１１は粘度が高いので周面の凹部には入り込まず、図６に示すように、ドラム２６と流延膜２８との間には空隙６５が残る。そして、凹凸が確認されないような平滑さをもつドラムにドープを流延した場合に比べて、流延膜２８とドラム２６との密着力は小さいものとなる。これにより、平滑なドラムを用いた場合に比べて、剥ぎ取り位置ＰＰ（図１参照）における流延膜２８の剥離力を小さくすることができる。また、算術平均粗さＲａが小さくても凹凸のピッチが大きすぎると、凹部にドープが入り込んでしまう。このような場合にも、平滑なドラムを用いた場合と同様に、図１１のように、流延膜２の周面２ａとドラム３との間に空隙が形成されず、流延膜２とドラム３との接触面積が大きく、密着力が大きくなってしまう。このような場合にも、上記の表面処理工程により、微細で均一な凹凸を形成して目的とする鏡面度にすることができる。
【００５１】
本発明における鏡面度とは、白黒の２色で描かれた基準パターンを、鏡面度を測定しようとする被測定物に映しだし、被測定物における白黒の輝度の差を算出した値である。鏡面計は、光源と基準パターンが描かれたパターン板とを備えるプローブを用い、光源から射出された光をパターン板を介して被測定物に当て、被測定物で反射した基準パターン（以下、反射パターンと称する）の像を撮像し、その像の写像性や鮮映度等によって表面の粗さを評価する。反射パターンの像の写像性や鮮映度は、白黒の輝度差で表す。この輝度差が大きいほど、反射パターンが鮮明であり鏡面度が大きいことを意味する。被測定物の表面の凹凸を任意の方向で連続的に計測して、横軸を計測した方向での距離、縦軸を凸部の高さ及び凹部の深さ（以降、凹凸の高さ成分と称する）とするグラフを描くと、この鏡面度は、そのグラフでの凹凸の高さ成分と傾斜成分とを併せて評価していることになる。したがって、鏡面度は、表面粗さの指標である算術平均粗さＲａでは互いに同じ値となるような被測定物の凹凸の違いを明瞭に表す。すなわち、周面２６ｂのＲａはいずれも同じ値であっても、鏡面度は異なることがある。
【００５２】
鏡面度は、市販の鏡面計で測定することができる。本実施形態では、アークハリマ（株）製のＡＨＳ−３００Ｕを用い、校正はメーカー標準ミラーによる。また、鏡面度の測定時における環境温度は、光源の発光量の温度依存性に応じて決定するとよい。例えば、本実施形態では、光源に白色ＬＥＤを用いており、この発光量は１０℃〜３５℃の範囲の環境下で最も大きいので、鏡面度の測定時における環境温度は、１０〜３５℃としてある。
【００５３】
図７，図８は、白黒２色で描かれた同心円の基準パターンを用いた場合の反射パターンである。凹凸が不均一でまばらに形成されている周面による反射パターンの像は、図７に示すように白黒の境界が不鮮明である。これに対し、凹凸が微細で均一な周面による反射パターンの像は、図８に示すように鮮明である。
【００５４】
以上のような反射パターンの像から求めた鏡面度と、乾式研磨工程４７の回数とは、図９に示すように相関関係がある。図９においては、縦軸が鏡面度（単位は無次元）、横軸が乾式研磨工程４７の回数である。乾式研磨工程４７を１回実施した場合には鏡面度は６５０と比較的小さいが、２回実施した場合には６７０、４回実施した場合には７００と、回数が多いほど鏡面度は高い。このように、表面処理工程における乾式研磨工程４７の回数を変えることにより、鏡面度を変えることができる。したがって、鏡面度と乾式研磨工程４７の回数との関係を予め求めておき、この関係に基づいて、目的とする鏡面度に応じて乾式研磨工程４７の回数を、乾式研磨工程４７を開始する前に予め決定しておいてもよい。この方法によると、乾式研磨工程４７を１回終了する毎に周面２６ｂの鏡面度を評価するという必要性がなくなる。なお、凹凸が確認されないような鏡面をもつ未使用のドラムでは、鏡面度が７８０であり、図９においては乾式研磨工程の回数が０（ゼロ）の箇所に記点している。
【００５５】
鏡面度は、乾式研磨工程４７の回数のみならず、第２の布の種類を変えることでも変化させることができる。例えば、予備洗浄工程４１を２回、湿式研磨工程を１回、乾式研磨工程４７を２回、弾性体洗浄工程４８を１回、布洗浄工程４９を１回の表面処理工程の場合に、片ネルを第２の布として用いて起毛面で乾式研磨を行うと鏡面度は６７０、織物面で行うと鏡面度は６３０、羊毛等を縮絨して布状にしたいわゆるフエルトを第２の布として用いて乾式研磨を行うと鏡面度は５５０とすることができる。また、酸化クロムに代えて他の研磨材を用いることによっても、鏡面度を変えることができる。また、サンダ６０としては、各種市販品を用いることができ、サンダを代えることによっても、鏡面度を変えることができる。例えば、予備洗浄工程４１を２回、湿式研磨工程を１回、乾式研磨工程４７を２回、弾性体洗浄工程４８を１回、布洗浄工程４９を１回の表面処理工程の場合にパナソニック社製サンダを用いると鏡面度６７０、Ｒｕｐｅｓｕ社製サンダを用いると鏡面度は６９０となる。このように、乾式研磨工程４７の回数と第２の布の種類と研磨材とサンダ６０の選定との組み合わせによって、周面２６ｂに所望の鏡面度を示す凹凸を形成することができる。
【００５６】
鏡面度を周面２６ｂの粗さの指標とすることにより、剥ぎ取り位置ＰＰにおける流延膜２８の剥離力を調整することができる。表１は、算術平均粗さＲａがいずれも０．５μｍと互いに同じであるにも関わらず鏡面度が異なる周面２６ｂで、それぞれ流延膜２８の剥離力を測定した場合の、鏡面度と剥離力との関係を示す表であり、図１０は表１をグラフにしたものである。図１０の縦軸は、剥離力（単位；Ｎ／ｍ）であり、横軸は鏡面度（単位は無次元）である。剥離力は、流延膜２８を剥離させるときに要する力であり、表１及び図１０では流延膜２８の幅１ｍあたりの力としている。なお、本実施形態では、剥離力を測定する際には幅０．０１ｍあたりの力が測定値として得られるので、その測定値を１００倍した値を表１と図１０とに示してある。図１０においては、実線で示す曲線（Ａ）は、冷却流延を実施し、剥ぎ取り位置ＰＰにおける流延膜２８の溶媒含有率が７０重量％の場合である。また、破線で示す曲線（Ｂ）は乾燥流延を実施し、剥ぎ取り位置ＰＰにおける溶媒含有率が３０重量％の場合である。なお、ＲａはＪＩＳ  Ｂ  ０６５１−１９７６に準じた触針式表面粗さ測定器により測定している。
【００５７】
【表１】
2011037179.tif 000003
【００５８】
曲線（Ａ）と（Ｂ）とのいずれにおいても、図１０に示すように、鏡面度が約５５０〜約６５０の範囲では、鏡面度が大きくなるに従い剥離力は小さくなる。曲線（Ａ）では、鏡面度が約６５０〜約７００の範囲では、鏡面度に関わらず剥離力はほぼ一定であり、約７００以上の範囲では、鏡面度が大きくなるに従い剥離力は大きくなる。また、曲線（Ｂ）では、鏡面度が約６５０〜約６９０の範囲では、鏡面度に関わらず剥離力はほぼ一定であり、約６９０以上の範囲では、鏡面度が大きくなるに従い剥離力は大きくなる。そこで、剥離力と鏡面度とのこれらのような関係を予め求めておき、この関係に基づいて、目的とする鏡面度を決定するとよい。例えば、図１０のグラフのような関係がある場合で、剥離力を２０Ｎ／ｍ以下にしたいときには、曲線（Ａ）の冷却流延の場合には、符号ＧＡで示す範囲、すなわち約６０５〜７４０の範囲の鏡面度となるように、そして、曲線（Ｂ）の乾燥流延の場合には、符号ＧＢで示す範囲、すなわち６４５〜６９０の範囲の鏡面度となるように、表面処理工程を実施すると良い。
【００５９】
また、図１０に示すように、鏡面度のわずかな違いが剥離力に大きな影響を及ぼすという範囲もある。したがって、剥離力に大きな影響を及ぼす範囲で鏡面度を制御しなければならないほど、乾式研磨工程４７の回数のみならず、第２の布の選定や周面２６ｂに対する圧力、研磨材の最終的な細かさをより考慮して乾式研磨工程４７を実施するとよい。
【００６０】
さらに、流延膜２８の剥ぎ取り位置ＰＰにおける溶媒含有率が変わると剥離力は変わる。曲線（Ｂ）は、曲線（Ａ）よりも上方にあり、鏡面度が等しい流延支持体から剥ぎ取る場合の剥離力が大きいことがわかる。そして、剥ぎ取り位置ＰＰにおける溶媒含有率が大きいほど剥がすときに湿潤フィルム１２が伸びやすい。したがって、剥ぎ取り位置ＰＰにおける溶媒含有率と剥離力との関係を求め、剥ぎ取り位置ＰＰにおける溶媒含有率に応じて、目的とする鏡面度を決定することが好ましい。これにより、溶媒含有率に適した剥離力で流延膜２８を剥ぎ取ることができ、フィルム１８のレタデーション等をより精緻に制御することができるようになる。また、以上のように、溶媒含有率と剥離力と鏡面度との関係を予め求めておくことで、乾式研磨工程４７の回数を過度に設定することなく、表面処理工程の要する時間を最小限に抑えることができる。
【００６１】
また、剥離力は、ポリマーの種類によっても変わる。ポリマーによって、ドラム２６との親和力が異なるからである。そこで、ポリマーの種類に応じて、目的とする鏡面度を決定するとよい。
【００６２】
以上のように、本発明の表面処理方法によると、所望の剥取力で流延膜を連続して剥ぎ取ることができるように、しかも簡易に、流延支持体の表面処理を実施することができる。この表面処理方法は、簡易であるために、流延支持体の幅や長さが大きくされてもメンテナンスに要する時間も短くなる。そして、表面処理にあたっては、表面状態を鏡面度で評価するので、表面状態の評価及び確認も簡単かつ短時間で行うことができる。
【００６３】
本発明では、溶液製膜でフィルムとすることができるすべてのポリマーについて適用することができる。本実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いており、セルロースアシレートとしては、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）が特に好ましい。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基に対するアシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（III）の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（III）において、ＡおよびＢは、セルロースの水酸基中の水素原子に対するアシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。ただし、本発明に用いることができるポリマーは、セルロースアシレートに限定されるものではない。
（Ｉ）      ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（II）      ０≦Ａ≦３．０
（III）      ０≦Ｂ≦２．９
【００６４】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位および６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化の場合を置換度１とする）を意味する。
【００６５】
全アシル化置換度、すなわち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６の値は、２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）の値は、０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上であり、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２は、グルコース単位における２位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下、２位のアシル置換度と称する）であり、ＤＳ３は、グルコース単位における３位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下、３位のアシル置換度と称する）であり、ＤＳ６は、グルコース単位において、６位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下、６位のアシル置換度と称する）である。
【００６６】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。２種類以上のアシル基を用いるときには、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位および６位の水酸基がアセチル基により置換されている度合いの総和をＤＳＡとし、２位，３位および６位の水酸基がアセチル基以外のアシル基によって置換されている度合いの総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、２．２２〜２．９０であることが好ましく、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。
【００６７】
また、ＤＳＢは０．３０以上であることが好ましく、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢは、その２０％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましく、より好ましくは２５％以上であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上であることが好ましい。さらに、セルロースアシレートの６位におけるＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であり、さらに好ましくは、０．８０以上であり、特には０．８５以上であるセルロースアシレートも好ましく、これらのセルロースアシレートを用いることで、より溶解性に優れた溶液（ドープ）を作製することができる。特に、非塩素系有機溶媒を使用すると、優れた溶解性を示し、低粘度で濾過性に優れるドープを作製することができる。
【００６８】
本発明におけるセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定はされない。例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどが挙げられ、それぞれ、さらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが挙げられる。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくは、プロピオニル基、ブタノイル基である。
【００６９】
ドープを調製する溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）およびエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明においてドープとは、ポリマーを溶媒に溶解または分散させることで得られるポリマー溶液または分散液を意味している。
【００７０】
上記のハロゲン化炭化水素の中でも、炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度および光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対して２〜２５重量％が好ましく、より好ましくは、５〜２０重量％である。アルコールとしては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００７１】
最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない溶媒組成も検討されている。この場合には、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素数１〜１２のアルコールが好ましく、これらを適宜混合して用いる場合もある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶媒が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステルおよびアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステルおよびアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−および−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も溶媒として用いることができる。
【００７２】
セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されており、これらの記載も本発明に適用することができる。また、溶媒および可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されており、これらの記載も本発明に適用することができる。
【符号の説明】
【００７３】
１０    溶液製膜設備
１２    湿潤フィルム
１８    フィルム
２６    ドラム
２６ｂ  周面
２８    流延膜
６０    サンダ
６１    第１の布
【図１】
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【図２】
2011037179.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2011037179.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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