(57)【要約】【課題】絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた層間絶縁膜、該層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供する。【解決手段】（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、及び、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物を含有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にメチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つはｔｅｒｔ−ブチル基である。Ｒ３は−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。2011013390.tif 000034【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、及び、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物を含有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2011013390.tif 000030
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にメチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つはｔｅｒｔ−ブチル基である。Ｒ３は−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。
【請求項２】
前記（Ｃ）一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物が、下記化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−２）及び（Ｉ−３）から選択される化合物である請求項１に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2011013390.tif 000031
【請求項３】
前記（Ｃ）一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物が、下記化合物（Ｉ−１）である請求項２に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
2011013390.tif 000032
【請求項４】
前記（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物が下記構造の化合物である請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化４】
2011013390.tif 000033
前記構造中、ＤにおけるＨと１，２−ナフトキノンジアジド基の割合（モル比）は５０：５０〜１：９９である。
【請求項５】
前記（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂が、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種を分子内に有するアルカリ可溶性樹脂である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
（Ｄ−１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を分子内に有する架橋剤を含有する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂が、オキシラニル基およびオキセタニル基のいずれも分子内に有しないアルカリ可溶性樹脂であり、且つ、（Ｄ−１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を分子内に有する架橋剤を含有する請求項６に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
（Ｄ−２）メラミン類から選択される少なくとも１種の架橋剤を含有する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜。
【請求項１０】
請求項９に記載の層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の層間絶縁膜を具備する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、該層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物を用いた層間絶縁膜、それを用いた有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置などには、パターン形成された層間絶縁膜が設けられている。この層間絶縁膜の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なく、しかも十分な平坦性が得られるといったことから、感光性樹脂組成物が広く使用されている。
上記表示装置における層間絶縁膜には、絶縁性、耐溶剤性、耐熱性、及びＩＴＯスパッタ適性に優れるといった硬化膜の物性に加えて、高い透明性が望まれている。このため、透明性に優れたアクリル系樹脂を膜形成成分として用いることが試みられている。
【０００３】
層間絶縁膜を形成するための感光性樹脂組成物としては、例えば、末端に不飽和結合を有する側鎖を持つアルカリ可溶性アクリル重合体と、１，２−キノンジアジド化合物と、溶剤と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
また、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基を有するラジカル重合性化合物、及び他のラジカル重合性化合物の共重合体である、アルカリ水溶液に可溶な樹脂と、感光性酸生成化合物と、を含有する感光性樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
しかしながら、上記感光性樹脂組成物により絶縁膜を形成する場合、硬膜時及び後工程時に高温に晒されると透過率が低下し、十分な透明性が得られないという問題があった。また、これらのアクリル系層間絶縁膜では極性の高い官能基が多く含まれるため、十分な絶縁性が得られない場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２５６９７４号公報
【特許文献２】特許第２９６１７２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、及び、該層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物を用いてなる絶縁性と高い透明性を有する層間絶縁膜を提供することを課題とする。
また、本発明のさらなる目的は、絶縁性と高い透明性を有する層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題に対して鋭意検討を行ったところ、特定のフェノール系部分構造を有する化合物をアクリル系のアルカリ可溶性樹脂と併用することで、ポジ型層間絶縁膜の耐熱透明性が向上し、さらに、形成された層間絶縁膜の比誘電率を低下することを見いだし、本発明を完成した。
即ち、上記課題は下記の＜１＞〜＜１１＞の構成により解決される。
＜１＞（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、及び、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物を含有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物である。
【０００８】
【化１】
2011013390.tif 000002
【０００９】
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にメチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つはｔｅｒｔ−ブチル基である。Ｒ３は−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。
＜２＞  前記（Ｃ）一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物が、下記化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−２）及び（Ｉ−３）から選択される化合物である請求項１に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【００１０】
【化２】
2011013390.tif 000003
【００１１】
＜３＞  前記（Ｃ）一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物が、下記化合物（Ｉ−１）である＜２＞に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【００１２】
【化３】
2011013390.tif 000004
【００１３】
＜４＞  前記（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物が下記構造の化合物である＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【００１４】
【化４】
2011013390.tif 000005
【００１５】
前記構造中、ＤにおけるＨと１，２−ナフトキノンジアジド基の割合（モル比）は５０：５０〜１：９９である。
＜５＞  前記（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂が、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種を分子内に有するアルカリ可溶性樹脂である＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜６＞  （Ｄ−１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を分子内に有する架橋剤を含有する＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜７＞  前記（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂が、オキシラニル基およびオキセタニル基のいずれも分子内に有しないアルカリ可溶性樹脂であり、且つ、（Ｄ−１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を分子内に有する架橋剤を含有する＜６＞に記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
【００１６】
＜８＞  （Ｄ−２）メラミン類から選択される少なくとも１種の架橋剤を含有する＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜９＞  ＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜。
＜１０＞  ＜９＞に記載の層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
＜１１＞  ＜９＞に記載の層間絶縁膜を具備する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、及び、該層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物を用いてなる絶縁性と高い透明性を有する層間絶縁膜を提供することができる。
また、本発明によれば、絶縁性と高い透明性を有する層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ＴＦＴを用いた有機ＥＬ表示装置の要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
≪層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物≫
以下、本発明の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物について詳細に説明する。
本発明の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物（以下、単に「感光性樹脂組成物」と称する場合がある。）は、（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、及び、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物を含有することを特徴とする。
【００２０】
【化５】
2011013390.tif 000006
【００２１】
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にメチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つはｔｅｒｔ−ブチル基である。Ｒ３は−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。
以下、層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物を構成する（Ａ）〜（Ｃ）成分について説明する。
【００２２】
＜（Ａ）アクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂＞
本発明の感光性樹脂組成物は、重合成分としてアクリル系の繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂（以下、単に「アルカリ可溶性樹脂（Ａ）」と称する場合がある）を含有する。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、アクリル系の繰り返し単位を含む重合体であって、分子内にアルカリ可溶性基を有し、アルカリ水溶液に可溶である樹脂である限り特に限定されるものではないが、アルカリ可溶性基として、カルボキシル基を有することによってアルカリ可溶性が付与された樹脂が好適に使用される。
本発明のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）に含まれるアクリル系の繰り返し単位の割合は、透過率が高いパターンを形成しうるという観点から２０モル％〜１００モル％が好ましく、３５モル％〜１００モル％が更に好ましく、最適には５０モル％〜１００モル％である。
また、本発明のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、形成された樹脂組成物膜が高透過率、且つ、低比誘電率であるという観点から、分子内に更に脂環構造を有するものが好ましい。
脂環構造としては、脂環５員環、脂環６員環、又はそれらが２つ以上連結した脂環構造等が好ましく、具体的には、シクロヘキシル、ｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニルオキシエチル、ジシクロペンタニル、イソボニル等が挙げられ、中でも、感光性樹脂組成物を用いてなる膜の耐熱性、絶縁安定性、及びＩＴＯスパッタ適性の点から、シクロヘキシル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニルオキシエチル、ジシクロペンタニルが好ましい。
【００２３】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ１）と、アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ２）と、を含む共重合体（以下、適宜、特定共重合体（Ａ）と称する。）であることが好ましい。この特定共重合体（Ａ）は、必要に応じて、以下に示す、（Ａ１）、（Ａ２）とは異なる繰り返し単位（Ａ３）を含んでいてもよい。
以下、（Ａ１）〜（Ａ３）の繰り返し単位について説明する。
【００２４】
〔脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ１）〕
脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ１）としては、前述のような脂環構造を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。
脂環構造を有するモノマーとして、具体的には、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸イソボニルなどが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが好ましい。
【００２５】
脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００２６】
本発明における特定共重合体（Ａ）中の脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ１）の含有量は、各種耐性と現像性の両立の点から、５モル％〜６０モル％が好ましく、８モル％〜５５モル％がより好ましく、１０モル％〜５０モル％が更に好ましい。
【００２７】
〔アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ２）〕
本発明における特定共重合体（Ａ）は、感光性樹脂組成物の現像液に対する溶解性向上の観点から、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）、及び、炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ２−２）のいずれか一方を含む。
【００２８】
−カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）−
カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）としては、例えば、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸などの、分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する繰り返し単位が挙げられる。
【００２９】
カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）を得るために用いられる不飽和カルボン酸としては以下に挙げるようなものが用いられる。
即ち、不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸などが挙げられる。
また、不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などが挙げられる。
【００３０】
また、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）を得るために用いられる不飽和多価カルボン酸は、その酸無水物であってもよい。具体的には、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などが挙げられる。また、不飽和多価カルボン酸は、多価カルボン酸のモノ（２−メタクリロイロキシアルキル）エステルであってもよく、例えば、コハク酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）などが挙げられる。
【００３１】
更に、不飽和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモノ（メタ）アクリレートであってもよく、例えば、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレートなどが挙げられる。
【００３２】
また、不飽和カルボン酸としては、アクリル酸−２−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸−２−カルボキシエチルエステル、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、４−カルボキシスチレン等も用いることができる。
【００３３】
なかでも、現像性の観点から、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）を形成するためには、アクリル酸、メタクリル酸、又は不飽和多価カルボン酸の無水物等を用いることが好ましい。
【００３４】
カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００３５】
−炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ２−２）−
炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ２−２）とは、後述の炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）中に存在する２級水酸基と、酸無水物とを反応させて得られた繰り返し単位であることが好ましい。
酸無水物としては、公知のものが使用でき、具体的には、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物；無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物などの酸無水物が挙げられる。これらの中では、現像性の観点から、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、又は無水コハク酸、が好ましい。
酸無水物の２級水酸基に対する反応率は、現像性の観点から、好ましくは１０モル％〜１００モル％、更に好ましくは３０モル％〜１００モル％である。
【００３６】
アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ２）は、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）の１種単独で構成されていてもよいし、炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ２−２）の１種単独で構成されていてもよく、これらを２種混合したもので構成されていてもよい。
【００３７】
本発明における特定共重合体（Ａ）中のアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ２）の含有量は、現像性の観点から、１モル％〜５０モル％が好ましく、３モル％〜４５モル％がより好ましく、５モル％〜４０モル％が更に好ましい。なお、ここで、アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ２）の含有量は、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）と、炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ２−２）との総含有量を指す。
【００３８】
〔（Ａ１）、（Ａ２）以外の繰り返し単位（Ａ３）〕
本発明における特定共重合体（Ａ）には、（Ａ１）、（Ａ２）以外の繰り返し単位として、炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）や、エポキシ基及び/又はオキセタン基を有する繰り返し単位（Ａ３−２）、その他の繰り返し単位（Ａ３−３）を含んでいてもよい。
【００３９】
−炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）−
炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）としては、炭素間不飽和結合基（重合性基）を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。特に、炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）としては、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とを含む化合物中のエポキシ環がカルボキシル基と付加してなる構造を有する繰り返し単位、又は、カルボキシル基と炭素間不飽和結合基とを含む化合物中のカルボキシル基がエポキシ環と付加してなる構造を有する繰り返し単位であることが好ましい。より具体的には、前述のカルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ２−１）のカルボキシル基に、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とを含む化合物中のエポキシ環を反応させた繰り返し単位、又は、後述のエポキシ環を有するモノマーに由来する繰り返し単位中のエポキシ環に、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基と炭素間不飽和結合基とを含む化合物のカルボキシル基を反応させた繰り返し単位であることが好ましい。このような反応により、炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）中に２級水酸基が導入される。
【００４０】
エポキシ環と炭素間不飽和結合基とを含む化合物としては、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とをそれぞれ１個以上有する化合物であればよく、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート、アリルグリシジルエーテルなどの化合物を挙げることができる。
これらの中でも、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレートが好ましく、グリシジルメタアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレートが、溶剤耐性、耐熱性の観点から最も好ましい。
【００４１】
炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００４２】
本発明における特定共重合体（Ａ）中の炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）の含有量は、各種耐性と現像性の両立の点から、０モル％〜６０モル％が好ましく、０モル％〜５５モル％がより好ましく、０モル％〜５０モル％が更に好ましい。
【００４３】
−オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ａ３−２）−
オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ａ３−２）としては、オキシラニル基含有不飽和化合物及びオキセタニル基含有不飽和化合物に由来する繰り返し単位が挙げられる。
オキシラニル基含有不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロへキシルメチルメタクリレートなどが、共重合反応性および得られる層間絶縁膜の耐熱性、表面硬度を高める点から好ましく用いられる。
【００４４】
オキセタニル基含有不飽和化合物としては、例えばオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
オキセタニル基含有不飽和化合物としては、例えば特開２００１−３３０９５３公報に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
このような化合物として、具体的には３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフロロメチルオキセタンなどが、得られる感光性樹脂組成物のプロセスマージンが広く、かつ、得られる層間絶縁膜の耐薬品性を高める点から好ましく用いられる。これらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。
繰り返し単位（Ａ３−２）は、１種のみを含んでもよく、２種以上含んでいてもよい。本発明における特定共重合体（Ａ）中の繰り返し単位（Ａ３−２）の含有量は、形成された膜の各種耐性と透明性の点から、０モル％〜５０モル％が好ましく、０モル％〜４５モル％がより好ましく、０モル％〜４０モル％が更に好ましい。
【００４５】
−その他の繰り返し単位（Ａ３−３）−
その他の繰り返し単位（Ａ３−２）としては、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３−１）及び（Ａ３−２）の繰り返し単位以外と異なる構造を有するものである。特定共重合体（Ａ）に含まれてもよいものとしては、特に制限はないが、ビニルモノマーに由来する繰り返し単位や芳香環構造を含む繰り返し単位などが好ましい。
【００４６】
ビニルモノマーに由来する繰り返し単位を含むことで、特定共重合体（Ａ）のパターン形成性が向上する場合がある。
（Ａ３−３）の繰り返し単位を形成しうるビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。
このようなビニルモノマーの具体例としては、上記例示化合物類に包含される公知の化合物が適宜使用される。
【００４７】
本発明における特定共重合体（Ａ）は、感光性樹脂組成物から形成された膜パターンの現像性が良好になるという観点から、芳香環構造を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
芳香環構造を有する繰り返し単位は、以下に示すモノマーに由来するものが好ましい。
即ち、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンが挙げられ、このうち、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレンが好ましい。
【００４８】
その他の繰り返し単位（Ａ３−３）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００４９】
本発明における特定共重合体（Ａ）中の（Ａ３−３）の繰り返し単位の含有量は、各種耐性と現像性の両立の点から、０モル％〜５０モル％が好ましく、０モル％〜４５モル％がより好ましく、０モル％〜４０モル％が更に好ましい。
【００５０】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、好ましいものとして、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を分子内に有するアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。このような樹脂の好ましい具体例としては、例えばメタクリル酸／トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート／２−メチルシクロヘキシルアクリレート／メタクリル酸グリシジル／Ｎ−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）メタクリルアミド共重合体、メタクリル酸／テトラヒドロフルフリルメタクリレート／メタクリル酸グリシジル／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／ラウリルメタクリレート／α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／（３−エチルオキセタン−３−イル）メタクリレート／トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／スチレン共重合体、メタクリル酸／３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート／スチレン／トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート共重合体などを挙げることができる。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、後述するオキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する架橋剤（Ｄ−１）を含有する場合においては、オキシラニル基およびオキセタニル基のいずれも含有しないアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を用いることも好ましい。以下、このようなアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、下記に例示したアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、５０００〜８００００である。
【００５１】
【化６】
2011013390.tif 000007
【００５２】
【化７】
2011013390.tif 000008
【００５３】
【化８】
2011013390.tif 000009
【００５４】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは２×１０３〜１×１０５、より好ましくは５×１０３〜５×１０４である。Ｍｗが２×１０３未満であると、現像マージンが十分ではなくなる場合があり、得られる塗膜の残膜率などが低下したり、得られる層間絶縁膜のパターン形状、耐熱性などに劣ることがあり、一方１×１０５を超えると、感度が低下したりパターン形状に劣ることがある。また、Ｍｗとポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）との比である分子量分布（以下、「Ｍｗ／Ｍｎ」という。）は、好ましくは５．０以下、より好ましくは３．０以下である。Ｍｗ／Ｍｎが５．０を越えると、得られる層間絶縁膜のパターン形状が劣ることがある。上記のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を含む層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく容易に所定のパターン形状を形成することができる。
【００５５】
本発明の感光性樹脂組成物中のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、２０質量％〜９０質量％であることが好ましく、２５質量％〜８５質量％であることがより好ましく、３０質量％〜８０質量％であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。
【００５６】
＜（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物を含有する。本発明における（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物は、１，２−キノンジアジド部分構造を有する化合物であり、分子内に少なくとも１個の１，２−キノンジアジド部分構造を有することを要し、２個以上有するものが好ましい。
（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物は、未露光部においては感光性樹脂組成物塗布膜のアルカリ溶解性を抑制し、露光部ではカルボン酸を発生することにより感光性樹脂組成物塗布膜のアルカリ溶解性を向上させることにより、ポジ型のパターン形成を可能とする。
１，２−キノンジアジド化合物は、例えば、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類と、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などと、を脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。
【００５７】
前記１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類としては、例えば、ベンゾキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド等が使用できるが、感度の点では、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリドの使用が好ましい。
【００５８】
前記ヒドロキシ化合物としては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，３’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン，２，３，４，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４ｂ，５，９ｂ，１０−テトラヒドロ−１，３，６，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチルインデノ［２，１−ａ］インデン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］−エチリデン］ビスフェノールなどが使用できる。
【００５９】
前記アミノ化合物としては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、３，３’−ジアミノ４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ３，３’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどが使用できる。
【００６０】
１，２−キノンジアジド化合物の合成の際には、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドと、ヒドロキシ化合物及び／又はアミノ化合物と、は、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド１モルに対して、ヒドロキシ基とアミノ基の合計が０．５〜１当量になるように配合されることが好ましい。脱塩酸剤とｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドの好ましい割合は、１／１〜１／０．９の範囲である。好ましい反応温度は０〜４０℃、好ましい反応時間は１〜２４時間とされる。
【００６１】
反応溶媒としては、ジオキサン、１，３−ジオキソラン、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等の溶媒が用いられる。脱塩酸剤としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
【００６２】
１，２−キノンジアジド化合物としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【００６３】
【化９】
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【００６４】
【化１０】
2011013390.tif 000011
【００６５】
【化１１】
2011013390.tif 000012
【００６６】
【化１２】
2011013390.tif 000013
【００６７】
上記構造中、Ｄは、Ｈ、又は下記に示す群から選択される１つの基である。
【００６８】
【化１３】
2011013390.tif 000014
【００６９】
但し、上記構造中、少なくとも１つのＤが、上記のキノンジアジド基であればよい。
【００７０】
本発明においては、１，２−キノンジアジド化合物の中でも、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物が好ましい。１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好となる。
１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物の中でも、以下の構造を有する化合物が特に高感度であることから好ましく使用することができる。
【００７１】
【化１４】
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【００７２】
更に、最も好ましい１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物としては、下記化合物である。ＤにおけるＨと１，２−ナフトキノンジアジド基の割合（モル比）としては、感度と透明性の観点から５０：５０〜１：９９であることが好ましい。
【００７３】
【化１５】
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【００７４】
本発明の感光性樹脂組成物において、１，２−キノンジアジド化合物の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の総量を１００質量部としたとき、１質量部〜１００質量部が好ましく、３質量部〜８０質量部がより好ましい。
１，２−キノンジアジド化合物としては、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。さらに、光酸発生剤と併用してもよい。
光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物、或いはそれらの混合物を、適宜選択して使用することができる。
【００７５】
光酸発生剤として、具体的には、例えば、ジアゾニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物、ジアゾジスルホン化合物、ジスルホン化合物、ｏ−ニトロベンジルスルホネート化合物を挙げることができる。
光酸発生剤としては、発生酸として、ｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子吸引基の置換したアルキル乃至はアリールカルボン酸、同じく電子吸引基の置換したジスルホニルイミドなどを発生させる化合物が好ましい。ここで、電子吸引基としては、Ｆ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
【００７６】
また、光酸発生剤として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、或いは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、及び特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることもできる。
【００７７】
更に、光酸発生剤として、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
光酸発生剤の添加量は、感光性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して、０．５〜１５質量部が好ましく、１〜５質量部がより好ましい。
【００７８】
また、本発明の感光性樹脂組成物において、光酸発生剤としてスルホニウム塩化合物を添加する場合はその分解を促進させるために増感剤を添加することが好ましい。
増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、スルホニウム塩化合物と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより重合開始剤は化学変化を起こして分解し、ラジカル、酸或いは塩基を生成する。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。
即ち、多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ４−メチルクマリン）が挙げられる。
なかでも、増感剤として、特にアントラセン誘導体が好ましい。
【００７９】
増感剤の添加量は、スルホニウム塩化合物１００質量部に対して、２０〜２００質量部が好ましく、３０〜１５０質量部がより好ましい。
【００８０】
＜（Ｃ）一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物＞
本発明の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物には、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２０００以下である化合物（以下、適宜、「特定フェノール系化合物（Ｃ）」と称する）を含有する。
【００８１】
【化１６】
2011013390.tif 000017
【００８２】
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にメチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つはｔｅｒｔ−ブチル基である。Ｒ３は−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にメチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つはｔｅｒｔ−ブチル基であるが、Ｒ１及びＲ２の双方がｔｅｒｔ−ブチル基であることが好ましい。
また、Ｒ３は−Ｏ−又は−ＮＨ−を表し、−Ｏ−であることが好ましい。
【００８３】
特定フェノール系化合物（Ｃ）を含有させることによって、ベーク工程時の酸化による着色が低減され、優れた透明性を有する層間絶縁膜を得ることができ、さらに、アクリル系樹脂を主成分とする本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜の比誘電率を低下させるという驚くべき効果も発現する。
分子量が６００以上２０００以下である特定フェノール系化合物（Ｃ）は、分子内に前記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分子内に２つ以上有するが、この部分構造は、２つ以上６以下含むことが好ましく、更に好ましくは、２つ以上４つ以下の範囲で含む化合物である。
【００８４】
このような化合物の例としては、テトラキス{メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート}メタン、テトラキス{メチレン−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート}メタン、３，９−ビス[２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ〕−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ[５・５]ウンデカン、３，９−ビス[２−〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニロキシ〕−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ[５・５]ウンデカン、Ｎ−Ｎ‘ヘキサン１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］、Ｎ−Ｎ‘オクタン１，８−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］等が挙げられる。
【００８５】
本発明に用いられる特定フェノール系化合物（Ｃ）の分子量６００以上２０００以下であるが、ベーク時の飛散性の観点から、分子量は７００以上であることが好ましい。また、本発明にかかるアクリル系アルカリ可溶性樹脂（Ａ）との相溶性の観点からは、上記の如き部分構造を有する繰り返し単位を含む重合体（高分子化合物）ではなく、単分子化合物であることが好ましい。
本発明に用いられる特定フェノール系化合物（Ｃ）は、Ｒ３がＯである、エステル結合を含むことが、ベーク後の透明性の観点から好ましい。エステル結合を有する特定フェノール系化合物は、本発明にかかるアクリル系アルカリ可溶性樹脂（Ａ）との相溶性に優れるために、優れた透明性改良効果を示すものと考えられる。
これらの特定フェノール系化合物の中でもベーク後の透明性の観点から更に好ましい特定フェノール系化合物としては、下記化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−２）及び（Ｉ−３）が挙げられ、最も好ましくは下記化合物（Ｉ−１）である。
【００８６】
【化１７】
2011013390.tif 000018
【００８７】
特定フェノール系化合物は、市販品としても入手可能であり、例えば、上記（Ｉ−１）としては、商品名イルガノックス１０１０（チバジャパン製）、アデカスタブＡＯ−６０（ＡＤＥＫＡ製）等が、上記（Ｉ−２）の商品名としては、スミライザーＧＡ−８０（住友化学製）、アデカスタブＡＯ−８０（ＡＤＥＫＡ製）等が、上記（Ｉ−３）としては、商品名イルガノックス１０９８（チバジャパン製）等が、それぞれ挙げられる。
【００８８】
特定フェノール系化合物（Ｃ）は、本発明の感光性樹脂組成物に１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。特定フェノール系化合物（Ｃ）の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．１質量％〜６質量％であることが好ましく、０．２質量％〜５質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜４質量％が最適である。含有量を０．１％質量％以上６質量％以下とすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時のも感度が発現される。
【００８９】
＜その他の添加物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を添加してもよい。本発明に用いうる酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等を挙げることができるが、リン系酸化防止剤よりイオウ系酸化防止剤と併用する方が好ましい。併用可能なイオウ系酸化防止剤の例としては、スミライザーＴＰＬ−Ｒ（住友化学（株）製）、スミライザーＴＰＭ（住友化学（株）製）、スミライザーＴＰＳ（住友化学（株）製）、スミライザーＴＰ−Ｄ（住友化学（株）製）、スミライザーＭＢ（住友化学（株）製）等を挙げることができる。イオウ系酸化防止剤を併用する場合の含有量としては感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常０．１質量％〜５質量％であり、好ましくは０．２質量％〜４質量％である。
また、酸化防止剤以外の添加剤として、“高分子添加剤の新展開（日刊工業新聞社）”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。これらの添加剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常５質量％未満、好ましくは３質量％未満に留めるべきである。
【００９０】
本発明の感光性樹脂組成物は、硬化性向上の目的で、さらに、架橋剤を含んでいてもよい。
＜（Ｄ−１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する架橋剤＞
本発明の感光性樹脂組成物はオキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する架橋剤（Ｄ−１）を含んでもよい。特にアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、オキシラニル基およびオキセタニル基のいずれも含有しない場合は、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する架橋剤（Ｄ−１）を用いることが好ましい。
架橋剤（Ｄ−１）の例として、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する共重合体（以下、特定共重合体（Ｄ１）と述べることがある）を挙げることができる。以下で詳しく説明する。
特定共重合体（Ｄ１）としては、その構造内に脂環構造を含むことが、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の透明性、現像性、及び絶縁安定性が良好となるといった観点から、好ましい。
【００９１】
本発明において、特定共重合体（Ｄ１）は、脂環構造を有する繰り返し単位（Ｄ１−１）と、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ｄ１−２）と、を含む共重合体であることが好ましく、更に必要に応じて、（Ｄ１−３）その他の繰り返し単位を含んでいてもよい。但し、特定共重合体（Ｄ１）は、その構造中に、カルボキシル基は含まれない。また、特定共重合体（Ｄ１）は、透明性、絶縁安定性の点から、アクリル系エポキシ共重合体であることが好ましい。
【００９２】
〔脂環構造を有する繰り返し単位（Ｄ１−１）〕
脂環構造を有する繰り返し単位（Ｄ１−１）としては、前述のような脂環構造を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。
脂環構造を有するモノマーとして、具体的には、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸イソボニルなどが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが好ましい。
【００９３】
脂環構造を有する繰り返し単位（Ｄ１−１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
本発明における特定共重合体（Ｄ１）中の脂環構造を有する繰り返し単位（Ｄ１−１）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の透明性、絶縁安定性に優れるといった点から、１モル％〜８０モル％が好ましく、３モル％〜７０モル％がより好ましく、５モル％〜６０モル％が更に好ましい。
【００９４】
〔オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ｄ１−２）〕
オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ｄ１−２）としては、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。
オキシラニル基を有するモノマーとして、具体的には、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロへキシル−ｎ−ブロピル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロへキシル−ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、１−ビニル−２，３−エポキシシクロヘキサン、１−ビニル−３，４−エポキシシクロヘキサン、１−アリル−２，３−エポキシシクロヘキサン、１−アリル−３，４−エポキシシクロヘキサンなどの化合物を挙げることができ、中でも、グリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、が、耐溶剤性、耐熱性の観点から好ましい。
【００９５】
オキセタニル基を有するモノマーとしては、例えば特開２００１−３３０９５３にあるようなオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
このようなモノマーとして、具体的には３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフロロメチルオキセタンなどが得られる感光性樹脂組成物のプロセスマージンが広く、かつ、得られる層間絶縁膜の耐薬品性を高める点から好ましい。
【００９６】
オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ｄ１−２）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００９７】
本発明における特定共重合体（Ｄ１）のオキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する繰り返し単位（Ｄ１−２）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐溶剤性、耐熱性に優れるといった点から、２０モル％〜９８モル％が好ましく、３０モル％〜９５モル％がより好ましく、４０モル％〜９０モル％が更に好ましい。
【００９８】
〔（Ｄ１−３）その他の繰り返し単位〕
本発明における特定共重合体（Ｄ１）は、その他の繰り返し単位（Ｄ１−３）を含んでいてもよい。このその他の繰り返し単位（Ｄ１−３）としては、ビニルモノマーに由来する繰り返し単位であることが好ましい。
その他の繰り返し単位（Ｄ１３）を形成しうるビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。
このようなビニルモノマーの具体例としては、例えば、アクリル系樹脂に含まれうる、その他の繰り返し単位（A３-３）において挙げたモノマーが同様に挙げられる。
【００９９】
これらの中でも、（メタ）アクリル酸エステル類、又はスチレン類が好ましい。最も好ましくは（メタ）アクリル酸エステル類であり、（メタ）アクリル酸エステル類の中でも、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテルが現像によるパターン形成性と透明性の観点から好ましい。
【０１００】
その他の繰り返し単位（Ｄ１−３）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
本発明における特定共重合体（Ｄ１）中のその他の繰り返し単位（Ｄ１−３）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の透明性、現像性に優れるといった点から、０モル％〜５０モル％が好ましく、３モル％〜４０モル％がより好ましく、５モル％〜３０モル％が更に好ましい。
【０１０１】
上述のような特定共重合体（Ｄ１）は、重合した際に、少なくとも、（Ｄ１−１）及び（Ｄ１−２）の繰り返し単位、必要に応じて（Ｄ１−３）の繰り返し単位を形成しうるモノマーを共重合によって合成することができる。
【０１０２】
以下、本発明に好適に使用しうる特定共重合体（Ｄ１）の例示を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、下記に例示した化合物の重量平均分子量は、４０００〜４１０００である。
【０１０３】
【化１８】
2011013390.tif 000019
【０１０４】
本発明で用いる特定共重合体（Ｄ１）の分子量には特に制限はないが、アルカリ溶解速度、膜物性等の観点から、重量平均分子量で、１，０００〜３００，０００が好ましく、２，０００〜２００，０００がより好ましく、３，０００〜１００，０００が特に好ましい。なお、この重量平均分子量は、ＧＰＣ法により測定した値である。
本発明における架橋剤としては、上記特定共重合体（Ｄ１）以外の化合物も用いることができる。上記エポキシ共重合体以外の化合物の例としてはセロキサイド２０２１Ｐ、同３０００、エポリードＧＴ４０１、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０Ｅ（以上、ダイセル化学工業（株）製）などを挙げる事が出来る。
本発明における架橋剤は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。本発明における架橋剤の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は、前述したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の総量を１００質量部としたとき、１質量部〜１００質量部が好ましく、３質量部〜８０質量部がより好ましい。添加量がこの範囲にあると、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐溶剤性、耐熱性、絶縁安定性が優れたものとなる。
【０１０５】
＜（Ｄ−２）メラミン類＞
本発明における架橋剤の他の好ましい例として、（Ｄ−２）メラミン類が挙げられる。架橋剤として使用されるメラミン類（Ｄ−２）は、好ましくは、下記一般式で表される化合物である。 
【０１０６】
【化１９】
2011013390.tif 000020
【０１０７】
（式中、Ｒ４〜Ｒ９は同一でも異なっていてもよく、水素原子または−ＣＨ２ＯＲ基を示し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示す。ただし、Ｒ４〜Ｒ９の１つは必ず−ＣＨ２ＯＲ基である。） 
上記一般式で表わされるメラミン類としては、例えばヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチロールメラミン、部分メチロール化メラミンおよびそのアルキル化体、テトラメチロールベンゾグアナミン、部分メチロール化ベンゾグアナミンおよびそのアルキル化体等を挙げることができる。 
【０１０８】
これら（Ｄ−２）メラミン類は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、ニカラックＭｓ−１１、ニカラックＭｗ−３０（以上、三和ケミカル社製）などを好ましく使用することができる。 
【０１０９】
これら（Ｄ−２）メラミン類を架橋剤として用いる場合の添加量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは１〜１００重量部、より好ましくは５〜５０重量部である。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。
【０１１０】
本発明の感光性樹脂組成物は、上述の必須成分である（Ａ）〜（Ｃ）、好ましい併用成分である光酸発生剤、（Ｄ−１）（Ｄ−２）のような架橋剤等の他に、（Ｅ）熱ラジカル発生剤、（Ｆ）密着促進剤、（Ｇ）界面活性剤、（Ｈ）感熱性酸生成化合物、（Ｉ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、（Ｊ）溶剤などの任意成分を目的に応じて、さらに含んでいてもよい。
以下、任意成分について説明する。
【０１１１】
＜（Ｅ）熱ラジカル発生剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｅ）熱ラジカル発生剤を含んでいてもよい。
本発明における熱ラジカル発生剤としては、一般にラジカル発生剤として知られているものを用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）などの重合性化合物と重合反応を開始、促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する。
【０１１２】
以下、熱ラジカル発生剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
本発明において、好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。
本発明においては、得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性の観点から、有機過酸化物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物がより好ましく、ビベンジル化合物が特に好ましい。
【０１１３】
また、ビベンジル化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【０１１４】
【化２０】
2011013390.tif 000021
【０１１５】
上記一般式（１）中、複数存在するＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数が１〜２０の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、又はハロゲン原子を表す。
【０１１６】
一般式（１）で表される化合物として、具体的には、２、３−ジメチル−２、３−ジフェニルブタン、α、α’−ジメトキシ−α、α’−ジフェニルビベンジル、α、α’−ジフェニル−α−メトキシビベンジル、α、α’−ジメトキシ−α、α’ジメチルビベンジル、α、α’−ジメトキシビベンジル、３、４−ジメチル−３、４−ジフェニル−ｎ−ヘキサン、２、２、３、３−テトラフェニルコハク酸ニトリル、ジベンジルなどを挙げることができる。
【０１１７】
本発明に用いる（Ｅ）熱ラジカル発生剤として好ましくは、１０時間半減期温度が１００℃以上２３０℃以下の範囲の化合物であり、より好ましくは１２０℃以上２２０℃以下の化合物である。
１０時間半減期温度がこの温度範囲にあることによって、優れた特性の硬化膜を得ることができる。
熱ラジカル発生剤の１０時間半減期温度とは、特定温度下にて１０時間放置した場合において、測定する化合物の半量が分解し、ラジカルを発生する温度のことをいう。
【０１１８】
１０時間半減期温度が１００℃以上２３０℃以下の範囲の化合物としては、上記した化合物のうち、日油株式会社製の、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ、ノフマーＢＣ−９０（２、３−ジメチル−２、３−ジフェニルブタン）などが挙げられ、これらが、本発明に用いる熱ラジカル発生剤として好ましいものである。
理由は明らかではないが、より高温で分解しラジカルを発生する熱ラジカル発生剤が好ましく、得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性が良好となる。
【０１１９】
本発明における（Ｅ）熱ラジカル発生剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
（Ｅ）熱ラジカル発生剤の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を１００質量部としたとき、０．１質量部〜１００質量部が好ましく、更に好ましくは１質量部〜５０質量部、５質量部〜３０質量部であることが膜物性向上の観点から最も好ましい。
【０１２０】
＜（Ｆ）密着促進剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、必要により、固体表面への密着性付与のために、有機ケイ素化合物、シランカップリング剤、レベリング剤等の密着促進剤を添加してもよい。
これらの例としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、アセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレートなどが挙げられる。
感光性樹脂組成物に密着促進剤を用いる場合は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。
【０１２１】
＜（Ｇ）界面活性剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、塗布性を向上するため、［Ｇ］界面活性剤を含有することができる。ここで［Ｇ］界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤またはノニオン系界面活性剤を好適に用いることができ、例えば特開２００１−３３０９５３に記載の各種界面活性剤を用いる事ができる。
これらの界面活性剤は単独でまたは２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物において、これらの［Ｇ］界面活性剤は、アルカリ可溶性樹脂［Ａ］１００重量部に対して好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で用いられる。［Ｇ］界面活性剤の使用量が５重量部を超えると、基板上に塗膜を形成する際、塗膜の膜あれが生じやすくなることがある。
【０１２２】
＜（Ｈ）感熱性酸生成化合物＞
（Ｈ）感熱性酸生成化合物は、得られる層間絶縁膜の耐熱性や硬度をより向上させるために用いることができる。その例としては、例えばスルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩などのオニウム塩を挙げることができる。
上記スルホニウム塩の例として、例えばアルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩などを挙げることができる。
感熱製酸生成化合物としては、スルホニウム塩またはベンゾチアゾニウム塩が好ましく用いられ、特に４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートまたは３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネートが好ましく用いられる。
これらの市販品としては、例えばサンエイドＳＩ−Ｌ８５、同ＳＩ−Ｌ１１０、同ＳＩ−Ｌ１４５、同ＳＩ−Ｌ１５０、同ＳＩ−Ｌ１６０（以上、三新化学工業（株）製）などが挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｈ）成分の使用割合は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは５重量部以下である。［Ｈ］成分の使用量が２０重量部を超える場合には、塗膜形成工程において析出物が析出し、塗膜形成に支障をきたす場合がある。
【０１２３】
＜（Ｉ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物＞
上記（Ｉ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物（以下、適宜、「重合性化合物（Ｉ）」とい称する）としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレートまたは３官能以上の（メタ）アクリレートを好適に挙げることができる。
上記単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。これらの市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることができる。
上記２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。これらの市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることができる。
【０１２４】
上記３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどを挙げることができ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることができる。
これらのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく用いられ、そのうちでもトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらの単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独であるいは組み合わせて用いられる。
本発明の感光性樹脂組成物における重合性化合物（Ｉ）の使用割合は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下である。このような割合で（Ｉ）成分を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる層間絶縁膜の耐熱性および表面硬度を向上させることができる。この使用量が５０重量部を超えると、基板上に感光性樹脂組成物の塗膜を形成する工程において膜荒れが生じることがある。
【０１２５】
＜（Ｊ）溶剤＞
本発明の感光性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、（Ｃ）特定フェノール系化合物  及び、任意に配合されるその他の成分を均一に溶解し、且つ、これらの成分と反応しないものが用いられる。
このような溶媒としては、上述したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を製造する際に使用しうる溶媒として例示したものを、同様に挙げることができる。
なかでも、各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成のしやすさなどの点から、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エステルまたはジエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのうち、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチルまたはエトキシプロピオン酸エチルが特に好ましく使用できる。
【０１２６】
さらに前記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。これらのうち、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトンまたはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好ましい。
【０１２７】
本発明の感光性樹脂組成物調製用の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、溶媒全量に対して５０重量％以下、好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下とすることができる。高沸点溶媒の使用量がこの使用量を越えると、塗膜の膜厚均一性、感度および残膜率が低下する場合がある。
【０１２８】
本発明の感光性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、溶液中に占める溶媒以外の成分の固形分濃度は、使用目的や所望の膜厚の値などに応じて任意に設定することができるが、好ましくは５〜５０重量％、より好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは１２〜３５重量％である。
このようにして調製された組成物溶液は、孔径０．２μｍ程度の開口部を有するミリポアフィルタなどを用いて濾過したうえで使用に供してもよい。
【０１２９】
≪層間絶縁膜、有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置≫
本発明の層間絶縁膜は、本発明の層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物からなる塗膜に対し、光によりエネルギーを付与し、エネルギー付与領域の現像性を向上させ、現像により当該領域を除去し、好ましくは熱硬化処理することで形成されるものである。
このような層間絶縁膜は、透明性、耐熱性、及び絶縁性に優れ、特に、電子デバイス用に有効である。本発明でいう電子デバイスとは、有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置用の電子デバイスを意味し、本発明の感光性樹脂組成物は、この有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置用の層間絶縁膜に特に効果を発揮するのである。
本発明の感光性樹脂組成物は以下のようなパターン形成方法に適用され、所望の形状の層間絶縁膜を形成することができる。
【０１３０】
〔パターン形成方法〕
本発明の感光性樹脂組成物を用いて、パターン状の硬化膜を形成する方法としては、（１）本発明の感光性樹脂組成物を適当な基板上に塗布し、（２）塗布されたこの基板をベーキングし（プリベーク）、（３）活性光線又は放射線で露光し、（４）必要に応じ後加熱し、（５）水性現像液で現像し、（６）必要に応じ全面露光し、そして（７）熱硬化（ポストベーク）する、といったパターン形成方法が用いられる。このパターン形成方法を用いることで、基板上に、所望の形状（パターン）の硬化膜を形成することができる。
【０１３１】
また、上記のパターン形成方法において、（４）における後加熱、及び（６）における全面露光は、任意の工程であって、必要に応じて行えばよい。
【０１３２】
上記のパターン形成方法のように、（１）本発明の感光性樹脂組成物を、硬化後の厚みが所望厚み（例えば、０．１〜３０μｍ）になるように、半導体素子上又はガラス基板上に塗布した後、少なくとも、（２）プリベーク、（３）露光、（５）現像、及び（７）熱硬化することで、有機ＥＬ表示装置用、又は液晶表示装置用のパターン状の硬化膜を形成することができる。
【０１３３】
以下、パターン形成方法についてより詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は（１）適当な基板上に塗布される。
基板は、形成される硬化膜の用途に応じて選択されればよく、例えば、シリコンウエハのような半導体基板又はセラミック基板や、ガラス、金属、又はプラスチックからなる基板が用いられる。硬化膜が半導体装置用であれば、シリコンウエハを、硬化膜が表示装置用であれば、ガラス基板を用いるのが一般的である。
塗布方法には、スプレーコーティング、スピンコーティング、スリットコーティング、オフセット印刷、ローラーコーティング、スクリーン印刷、押し出しコーティング、メニスカスコーティング、カーテンコーティング、及びディップコーティング等が用いられるが、これらに限られることはない。
この（１）塗布工程により、基板上には感光性樹脂組成物層が形成される。
【０１３４】
上記（１）塗布工程後、感光性樹脂組成物層中に残留する溶媒を蒸発させるために、（２）プリベークが行われる。この（２）プリベークは、７０℃〜１３０℃の温度で、数分から３０分の範囲で行われる。
【０１３５】
次いで、（２）プリベークにより乾燥した感光性樹脂組成物層に対し、（３）所望のパターンを備えたマスクを介して、活性光線又は放射線を用いた露光が施される。露光エネルギーは一般的に１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であり、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２エネルギーであることが好ましい。活性光線又は放射線として、Ｘ線、電子ビーム、紫外線、可視光線などを使用することができる。最も好ましい放射線は、波長が４３６ｎｍ（ｇ−ライン）、４０５ｎｍ（ｈ−ライン）、及び３６５ｎｍ（ｉ−ライン）を有するものである。また、紫外光レーザー等、レーザー方式により露光も可能である。
この（３）露光工程により、基板上の感光性樹脂組成物層には、水性現像液により現像される領域と、現像されない領域と、が形成される。本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ作用を有しているため、露光部が水性現像液により現像される領域となる。
【０１３６】
（３）活性光線又は放射線によって露光された基板は、（４）７０〜１３０℃の温度に加熱（後加熱）するのが有利である。後加熱は、短時間、一般的には、数秒〜数分で行われる。本工程は、通常、露光後ベーキングと技術上称される。
【０１３７】
次いで、（３）露光（（４）後加熱）後の感光性樹脂組成物層は、（５）水性現像液で現像される。この現像により、感光性樹脂組成物層の露光部が水性現像液により現像され、未露光部が基板上に残ることで、所望な形状（パターン）の感光性樹脂組成物層が形成される。
水性現像液には、無機アルカリ（例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水）、１級アミン（例えば、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン）、２級アミン（例えば、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン）、３級アミン（例えば、トリエチルアミン）、アルコールアミン（例えば、トリエタノールアミン）、４級アンモニウム塩（例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド）、及びこれらの混合物を用いたアルカリ溶液がある。最も好ましい現像液は、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドを含有するものである。加えて、現像液には、適当な量の界面活性剤が添加されてよい。
また、現像は、ディップ、スプレー、パドリング、又は他の同様な現像方法によって実施してもよい。
【０１３８】
（５）現像工程後、基板上に残存する感光性樹脂組成物層は、場合によっては、脱イオン水を使用してすすぎ洗いされてもよい。
【０１３９】
更に、（５）現像工程後には、基板上に残存する感光性樹脂組成物層は、必要に応じて、（６）全面露光が施される。この全面露光の露光エネルギーは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーであることが好ましい。
この（６）全面露光を行うことで、表示装置用の硬化膜を形成する際には、その透明性が向上するため、好ましい。
【０１４０】
次いで、（５）現像工程後において基板上に残存する感光性樹脂組成物層は、最終的なパターン状の硬化膜を得るため、（７）熱硬化処理が施される。この熱硬化は、耐熱性、耐薬品性、膜強度の大きい硬化膜を形成するために実施される。一般的な感光性ポリイミド前駆体組成物を用いた場合は、約３００〜４００℃の温度で加熱硬化されてきた。一方、本発明の感光性樹脂組成物は、１５０℃〜３００℃、より具体的には１６０℃〜２５０℃の加熱により、従来の感光性ポリイミド前駆体組成物と同等以上の膜物性を有する硬化膜が得られる。
【０１４１】
本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、熱による片よくの懸念がないために、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。
本発明の有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
【実施例】
【０１４２】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１４３】
（合成例）
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：バインダーＣの合成＞
共重合体を形成するためのモノマー成分として、メタクリル酸（以下、ＭＡＡと記載）  １２．４７ｇ、スチレン（以下、Ｓｔと記載）（４．６６ｇ）、及びジシクロペンタニルメタクリレート（以下、ＤＣＭと記載）  １６．２５ｇを使用し、ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５ｇを使用し、これらを溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４０．８１ｇ中において重合反応させることによりバインダーＣの前駆体であるバインダーＣ’溶液を得た。なお、重合温度は、６０℃〜１００℃に調整した。
上記バインダーＣ’溶液に、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）１１．６１ｇ、アセチルアセトネートクロム  ０．１７ｇ、及びＰＧＭＥＡ  １４．１９ｇを加えて反応させることによりバインダーＣのＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）得た。なお、反応温度を９０℃〜１２０℃に調整した。
得られたバインダーＣのＧＰＣにより測定した重量平均分子量は３００００であった。
【０１４４】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：バインダーＤの合成＞
フラスコ内を窒素置換した後、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル９.０ｇを溶解したジエチレングリコールジメチルエーテル溶液４５９.０ｇを仕込んだ。引き続きスチレン２２.５ｇ、メタクリル酸６７.５ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート４５.０ｇおよびメタクリル酸グリシジル９０.０ｇを仕込んだ後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間保持した後、９０℃で１時間加熱させて重合を終結させた。 
その後、反応生成溶液を多量の水に滴下し反応物を凝固させた。この凝固物を水洗後、テトラヒドロフラン２００ｇに再溶解し、多量の水で再度、凝固させた。 
この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を６０℃で４８時間真空乾燥し、目的とする共重合体を得た。その後固形分濃度が３０重量％になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルを用いて共重合体溶液とした。
【０１４５】
＜比較アルカリ可溶性樹脂：バインダーＥの合成＞
８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン４０部、Ｎ−フェニル−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）６０部、１，５−ヘキサジエン２．８部、（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０５部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル４００部を、窒素置換した耐圧ガラス反応器に仕込み、攪拌下に８０℃で２時間の重合反応を行ない、脂環式オレフィン重合体の溶液を得た。得られた脂環式オレフィン重合体水素化物の重量平均分子量は４，３３０、数平均分子量は２，６００、水素化率は９９．９％であった。脂環式オレフィン重合体水素化物の溶液を、孔径０．２μｍのフッ素樹脂製フィルターでろ過して活性炭を分離して脂環式オレフィン重合体溶液４７６部を得た。ろ過は滞りなく行えた。ろ過後の脂環式オレフィン重合体溶液をロータリーエバポレーターで濃縮し、固形分濃度３５．０％の脂環式オレフィン重合体溶液（２）を得た。
【０１４６】
＜線状エポキシ共重合体（Ｂ）：架橋剤４の合成＞
線状エポキシ共重合体を形成するためのモノマー成分として、ＤＣＭ（ＦＡ−５１３Ｍ、日立化成製、２２．０３ｇ）、ＧＭＡ（１１３．７２ｇ）、及びＨＥＭＡ（１３．０１ｇ）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＶ−６０１（和光純薬製、２０．０ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（３４７．０ｇ）中において４時間重合反応させることにより架橋剤４のＰＧＭＥＡ溶液（Ｍｗ．５０００、固形分濃度：３０質量％）を得た。なお、重合温度は、温度９０℃に調整した。
得られた架橋剤４のＧＰＣにより測定した重量平均分子量は５０００であった。
【０１４７】
（比較例１）
＜感光性樹脂組成物の作製＞
下記組成を溶解混合し、０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過し、比較例１の感光性樹脂組成物を得た。
・上述の合成法で得られたバインダーＣ溶液          （固形分で１２．０部相当の量）
〔（Ａ）アルカリ可溶性樹脂〕
・感光剤（東洋合成製  ＴＡＳ−２００  下記構造）                        ５．０部
〔（Ｂ）キノンジアジド化合物〕
・上述の合成法で得られた架橋剤４                    （固形分で５．０部相当の量）
・密着促進剤（信越化学製  ＫＢＭ−４０３  下記構造）                    ０．５部
・熱ラジカル発生剤（日油製  ノフマーＢＣ−９０  下記構造）              ０．４部
・溶剤（ＰＧＭＥＡ）                                                  ７７．１部
・界面活性剤（ＤＩＣ製  メガファックＦ１７２）                      ０．００５部
【０１４８】
（実施例１〜１０、及び比較例２〜１０）
比較例１の各成分量を、下記表１及び表２に記載のように変更した以外は、比較例１と同様にして、実施例１〜１０、及び比較例２〜１０の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
【０１４９】
【表１】
2011013390.tif 000022
【０１５０】
【表２】
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【０１５１】
表１、表２において用いた感光剤、密着促進剤（ＫＢＭ−４３０）、及び熱ラジカル発生剤（ノフマーＢＣ−９０）、特定フェノール系化合物（Ｃ）、架橋剤の詳細を下記に示す。また、表における化合物の前述のもの以外の略称は、以下の通りである。
ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート
ＢＴＥＡＣ：ベンジルトリエチルアンモニウム
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
【０１５２】
【化２１】
2011013390.tif 000024
【０１５３】
【化２２】
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【０１５４】
【化２３】
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【０１５５】
【化２４】
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【０１５６】
＜透明性の評価＞
ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、スピンナーを用いて、各感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層を、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて２３０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。
この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表２に示す。この値が９２％以上のとき、硬化膜の透明性は良好であるといえる。
【０１５７】
＜耐熱透明性の評価＞
上記透明性評価後の基板をオーブンにて２３０℃で２時間更に加熱した後、光線透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表３に示す。この値が８１％以上のとき、硬化膜の耐熱透明性は良好であるといえる。
【０１５８】
【表３】
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【０１５９】
表３より、本発明に係る特定フェノール系化合物（Ｃ）を添加した実施例の感光性樹脂組成物により形成された膜は、いずれも高い透明性、耐熱透明性を示すことが分かる。また、本発明に係る特定フェノール系化合物（Ｃ）以外の低分子量のフェノール系化合物や、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系安定化剤を添加した場合（比較例１〜６）や、特定フェノール系化合物（Ｃ）を比較アルカリ可溶性樹脂である脂環式オレフィン重合体に添加した場合（比較例９）のいずれにおいても、優れた透明性、耐熱透明性は得られないことが分かる。
【０１６０】
＜絶縁安定性の評価＞
ベアウエハ（Ｎ型低抵抗）（ＳＵＭＣＯ社製）上に、感光性樹脂組成物を、スピンナーを用いて塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプリベークして膜厚３．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物を、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、この基板をオーブンにて２３０℃で１時間加熱することにより、硬化膜を得た。
この硬化膜について、ＣＶｍａｐ９２Ａ（Ｆｏｕｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ  Ｉｎｃ．社製）を用い、測定周波数１ＭＨｚで比誘電率を測定した。結果を表４に示す。
【０１６１】
【表４】
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【０１６２】
表４の結果より、本発明の感光性樹脂組成物では、特定フェノール系化合物（Ｃ）を添加しない場合と比較して、比誘電率が低下することが分かった。一般にアクリル系のアルカリ可溶性樹脂を用いた層間絶縁膜では比誘電率が高くなる場合があり、比誘電率を０．１以上低下させることができる本発明の技術は非常に有用である。また、比較例９と比較例８との対比により、アルカリ可溶性樹脂を公知の環状オレフィン樹脂に変更した場合は、本発明に係る特定フェノール系化合物（Ｃ）を添加しても、比誘電率の低下は生じないことがわかる。
【０１６３】
次に、本発明の表示装置の作製方法を、有機ＥＬ表示装置の作製方法を例に挙げて説明するが、本発明は前記感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、液晶表示装置への応用においても様々な構造をとることができる。
【０１６４】
（実施例１１）
ＴＦＴを用いた有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した（図１参照）。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ３Ｎ４から成る絶縁膜３を形成した。次に、この絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）を絶縁膜３上に形成した。この配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
【０１６５】
更に、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上へ平坦化層４を形成した。絶縁膜３上への平坦化膜４の形成は、実施例３の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク（１２０℃×２分）した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、２２０℃で３０分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。更に、配線２の平均段差は５００ｎｍ、作製した平坦化膜の膜厚は２０００ｎｍであった。
【０１６６】
次に、得られた平坦化膜４上に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を形成した。まず、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５を、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ＩＴＯエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液（モノエタノールアミンとＤＭＳＯの混合液）を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
【０１６７】
次に、第一電極の周縁を覆う形状の絶縁層８を形成した。絶縁層には、実施例３の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で絶縁膜８を形成した。この絶縁層を設けることによって、第一電極とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
【０１６８】
更に、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。
【０１６９】
以上のようにして、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続してなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置であることが分かった。
【０１７０】
（実施例１２）
特許第３３２１００３号公報の図１及び図２に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜１７を以下のようにして形成し、実施例１２の液晶表示装置を得た。
即ち、実施例３の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例１１における有機ＥＬ表示装置の平坦化膜４の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜１７を形成した。
【０１７１】
得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。
【符号の説明】
【０１７２】
１：ＴＦＴ
２：配線
３：絶縁膜
４：平坦化膜
５：第一電極
６：ガラス基板
７：コンタクトホール
８：絶縁膜
【図１】
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