(57)【要約】【課題】防湿性を維持しながら可撓性を向上させ、さらに、生産性も向上させる。【解決手段】有機発光装置１Ａは、可撓性を有する基材２と、基材２上に設けられた有機発光素子４と、有機発光素子４を覆う保護膜５とを備え、保護膜５は、有機発光素子４上に設けられ有機発光素子４を覆う第１の無機層５ａと、第１の無機層５ａ上に設けられ有機ポリマーを含み可撓性を有する可撓層５ｂと、可撓層５ｂ上に設けられ可撓層５ｂを覆う第２の無機層５ｃとを具備している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する基材と、
前記基材上に設けられた有機発光素子と、
前記有機発光素子を覆う保護膜と、
を備え、
前記保護膜は、
前記有機発光素子上に設けられ、前記有機発光素子を覆う第１の無機層と、
前記第１の無機層上に設けられ、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層と、
前記可撓層上に設けられ、前記可撓層を覆う第２の無機層と、
を具備していることを特徴とする有機発光装置。
【請求項２】
前記保護膜は、
前記第１の無機層上に前記有機発光素子を囲うように設けられ、前記第１の無機層に対する前記可撓層の載置領域を限定する限定層
をさらに具備していることを特徴とする請求項１記載の有機発光装置。
【請求項３】
可撓性を有する基材と、前記基材上に設けられた有機発光素子と、前記有機発光素子を覆う保護膜とを備え、前記保護膜は、前記有機発光素子上に設けられ、前記有機発光素子を覆う第１の無機層と、前記第１の無機層上に設けられ、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層と、前記可撓層上に設けられ、前記可撓層を覆う第２の無機層とを具備している有機発光装置と、
前記有機発光装置に電流を印加する電流印加装置と、
を備えることを特徴とする照明装置。
【請求項４】
可撓性を有する基材と、前記基材上に設けられた複数の有機発光素子と、前記複数の有機発光素子を覆う保護膜とを備え、前記保護膜は、前記複数の有機発光素子上に設けられ、前記複数の有機発光素子を覆う第１の無機層と、前記第１の無機層上に設けられ、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層と、前記可撓層上に設けられ、前記可撓層を覆う第２の無機層とを具備している有機発光装置と、
前記複数の有機発光素子にそれぞれ電流を印加する電流印加装置と、
前記複数の有機発光素子により画像を表示するように前記電流印加装置を制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
可撓性を有する基材上に有機発光素子を設ける工程と、
前記基材上に前記有機発光素子を覆うように第１の無機層を設ける工程と、
前記第１の無機層上に、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層を設ける工程と、
前記可撓層上に前記可撓層を覆うように第２の無機層を設ける工程と、
を有することを特徴とする有機発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光装置、照明装置、表示装置及び有機発光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子などの有機発光素子は水分に曝されると、その有機発光素子に電極材料や有機材料の劣化によって非発光部であるダークスポットが発生する。このダークスポットの成長は有機発光素子の発光輝度を低下、すなわち寿命を低下させてしまう。有機発光素子内部への水分侵入を防ぐためには、通常、有機発光素子に対向するガラス上に乾燥剤を配置し、樹脂シールにより有機発光素子を封止する方法が用いられてきたが、所望の可撓性が得られないことから、薄膜による封止が行われている。
【０００３】
一方、近年、有機発光素子の薄型軽量化やフレキシブル性を実現するため、有機発光素子を設ける基板としてプラスチック基板などのフレキシブル基板が用いられている。このフレキシブル基板を用いた場合には、封止用の薄膜である保護膜は高い防湿性を有するだけでなく、曲げに対しても安定した可撓性を有することが必要である。半導体などの保護膜として用いられているシリコン窒化膜等の無機膜は、膜厚を１μｍより大きくすることで高い防湿性を得ることが可能である。
【０００４】
ところが、前述のように１μｍより大きい膜厚を有する無機膜では、十分な可撓性を得ることができず、保護膜を曲げた際に、その保護膜にクラックが入ってしまう。一方、無機膜をクラックが入らない程度に薄くすると、保護膜の防湿性が低下してしまう。このため、防湿性及び可撓性を両立することは困難である。そこで、防湿性を維持しながら所望の可撓性を得るため、薄膜の積層による封止が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この薄膜の積層による封止では、クラックが入らない程度に薄くした薄膜が積層され、保護膜が構成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−８７２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述の薄膜の積層による封止によって可撓性はある程度向上するが、所望の防湿性を得るため、保護膜を構成する薄膜の積層数を４層やそれ以上の多層にして構成する必要がある。このため、保護膜を構成する薄膜の積層数が多くなり、可撓性が低下してしまい、加えて、製造工程数も増加するため、生産性が低下してしまう。
【０００７】
本発明はこのような課題を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、防湿性を維持しながら可撓性を向上させることができ、さらに、生産性も向上させることができる有機発光装置、照明装置、表示装置及び有機発光装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、有機発光装置において、可撓性を有する基材と、基材上に設けられた有機発光素子と、有機発光素子を覆う保護膜とを備え、保護膜は、有機発光素子上に設けられ、有機発光素子を覆う第１の無機層と、第１の無機層上に設けられ、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層と、可撓層上に設けられ、可撓層を覆う第２の無機層とを具備していることである。
【０００９】
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、照明装置において、可撓性を有する基材と、基材上に設けられた有機発光素子と、有機発光素子を覆う保護膜とを備え、保護膜は、有機発光素子上に設けられ、有機発光素子を覆う第１の無機層と、第１の無機層上に設けられ、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層と、可撓層上に設けられ、可撓層を覆う第２の無機層とを具備している有機発光装置と、有機発光装置に電流を印加する電流印加装置とを備えることである。
【００１０】
本発明の実施の形態に係る第３の特徴は、表示装置において、可撓性を有する基材と、基材上に設けられた複数の有機発光素子と、複数の有機発光素子を覆う保護膜とを備え、保護膜は、複数の有機発光素子上に設けられ、複数の有機発光素子を覆う第１の無機層と、第１の無機層上に設けられ、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層と、可撓層上に設けられ、可撓層を覆う第２の無機層とを具備している有機発光装置と、複数の有機発光素子にそれぞれ電流を印加する電流印加装置と、複数の有機発光素子により画像を表示するように電流印加装置を制御する制御装置とを備えることである。
【００１１】
本発明の実施の形態に係る第４の特徴は、有機発光装置の製造方法において、可撓性を有する基材上に有機発光素子を設ける工程と、基材上に有機発光素子を覆うように第１の無機層を設ける工程と、第１の無機層上に、有機ポリマーを含み、可撓性を有する可撓層を設ける工程と、可撓層上に可撓層を覆うように第２の無機層を設ける工程とを有することである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、防湿性を維持しながら可撓性を向上させることができ、さらに、生産性も向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る有機発光装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】図１に示す有機発光装置の一部を拡大して示す拡大断面図である。
【図３】図１に示す有機発光装置の製造工程を説明するための第１の工程断面図である。
【図４】第２の工程断面図である。
【図５】第３の工程断面図である。
【図６】図１に示す有機発光装置の他の製造工程を説明するための第１の工程断面図である。
【図７】図６に示す製造工程を説明するための平面図である。
【図８】第２の工程断面図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態に係る有機発光装置の概略構成を示す断面図である。
【図１０】図９に示す有機発光装置の概略構成を示す平面図である。
【図１１】図９に示す有機発光装置の製造工程を説明するための第１の工程断面図である。
【図１２】第２の工程断面図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態に係る有機発光装置の概略構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の第４の実施の形態に係る照明装置の概略構成を示すブロック図である。
【図１５】本発明の第５の実施の形態に係る表示装置の概略構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１５】
図１に示すように、本発明の第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａは、可撓性を有する基材２と、その基材２上に設けられた保護膜３と、その保護膜３上に設けられた有機発光素子４と、その有機発光素子４を覆う保護膜５とを備えている。
【００１６】
基材２は、可撓性を有するフレキシブル基材である。この基材２としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板などの樹脂基板が用いられる。
【００１７】
保護膜３は、基材２上に設けられた可撓層３ａと、その可撓層３ａ上に設けられた無機層３ｂとにより構成されている。この保護膜３は絶縁層であり、基材２の防湿性が充分でない場合に基材２と有機発光素子４との間に設けられる。これにより、有機発光素子４に対して基材２から水分が浸入することが防止される。
【００１８】
可撓層３ａは、有機ポリマーを含んでおり、可撓性を有する層である。有機ポリマーにより可撓層３ａの可撓性及び防湿性が向上している。可撓層３ａの厚さは例えば２５μｍであり、可撓性及び防湿性の向上のため１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。可撓層３ａとしては、有機ポリマーを含有するシリカ膜やアルミナ膜、チタニア膜、ジルコニア膜が用いられる。シリカ膜は、例えば、有機ポリマーを含有するテトラエトキシオルソシリケート（ＴＥＯＳ）を焼成することにより生成される。
【００１９】
無機層３ｂは、高い防湿性を有する層である。無機層３ｂの厚さは例えば０．５μｍであり、可撓性の向上のため１μｍ以下が好ましい。無機層３ｂとしては、例えば、シリコン窒化（ＳｉＮ）膜などが用いられる。
【００２０】
有機発光素子４は、第１電極、発光層及び第２電極などにより構成されている。発光層は第１電極と第２電極により挟まれて積層されており、第１電極及び第２電極に電流が印加されると、発光層が発光する。この有機発光素子４としては、例えば、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子などが用いられる。
【００２１】
保護膜５は、有機発光素子４上に設けられた無機層５ａと、その無機層５ａ上に設けられた可撓層５ｂと、その可撓層５ｂ上に設けられた無機層５ｃとにより構成されている。この保護膜５は絶縁層であり、有機発光素子４を覆うように基材２上に設けられる。これにより、有機発光素子４に対する水分の浸入が防止される。
【００２２】
無機層５ａは、高い防湿性を有し、有機発光素子４を覆う層である。無機層５ａの厚さは例えば０．５μｍであり、可撓性の向上のため１μｍ以下が好ましい。無機層５ａとしては、例えば、シリコン窒化（ＳｉＮ）膜などが用いられる。この無機層５ａが第１の無機層として機能する。
【００２３】
可撓層５ｂは、有機ポリマーを含んでおり、可撓性を有する層である。有機ポリマーにより可撓層５ｂの可撓性及び防湿性が向上している。可撓層５ｂの厚さは例えば２５μｍであり、可撓性及び防湿性の向上のため１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。可撓層５ｂとしては、有機ポリマーを含有するシリカ膜やアルミナ膜、チタニア膜、ジルコニア膜などが用いられる。シリカ膜は、例えば、有機ポリマーを含有するテトラエトキシオルソシリケート（ＴＥＯＳ）を焼成することにより生成される。
【００２４】
無機層５ｃは、高い防湿性を有し、可撓層５ｂを覆う層である。無機層５ｃの厚さは例えば０．５μｍであり、可撓性の向上のため１μｍ以下が好ましい。無機層５ｃとしては、例えば、シリコン窒化（ＳｉＮ）膜などが用いられる。特に、無機層５ｃは可撓層５ｂを完全に覆っており、可撓層５ｂの端部が外部に露出することを防止している。これにより、水分が外部から可撓層５ｂを介して有機発光素子４に進入することを確実に抑止することができる。この無機層５ｃが第２の無機層として機能する。
【００２５】
ここで、可撓層５ｂは無機層５ｃを平坦化する平坦化層としても機能する。例えば、図２に示すように、有機発光素子４の表面に不純物Ｆ（前工程での付着物、例えば埃や異物）が付着していた場合でも、可撓層５ｂの存在により無機層５ｃが平坦になる。
【００２６】
例えば、可撓層５ｂが存在せずに無機層５ａの上に直接無機層５ｃが成膜された場合には、不純物Ｆによる無機層５ａの凸部のため、無機層５ｃは平坦とならず、その湾曲部分から水分が浸入しやすく、防湿性が低下してしまう。その湾曲部分の発生を避けるため、無機層５ａあるいは無機層５ｃ自体を厚く生成することは可撓性を低下させてしまう。したがって、無機層５ａ及び無機層５ｃは例えば１μｍ以下と薄く生成されるため、どうしても前述の湾曲部分が無機層５ｃに発生する。この湾曲部分である凸部の根元付近から水分が内部へと浸入することになる。
【００２７】
そこで、前述の可撓層５ｂを不純物Ｆによる無機層５ａの凸部を埋没させる程度の厚さで無機層５ａ上に設けることによって、可撓層５ｂが無機層５ａの凹凸を吸収し、その可撓層５ｂの表面（有機発光素子４側と反対の面）は平坦となる。その結果、可撓層５ｂの平坦な表面に設けられる無機層５ｃも平坦となり、無機層５ｃにおける湾曲部分の発生が防止されるので、無機層５ｃの防湿性の低下を抑えることができる。なお、不純物Ｆが無機層５ａの表面に付着していた場合でも、可撓層５ｂが無機層５ａ上の不純物Ｆの凹凸を吸収し、その可撓層５ｂの表面（有機発光素子４側と反対の面）は平坦となる。これにより、前述と同様、無機層５ｃにおける湾曲部分の発生が防止されるので、無機層５ｃの防湿性の低下を抑えることができる。
【００２８】
次に、前述の有機発光装置１Ａの製造方法について説明する。
【００２９】
図３に示すように、まず、ＰＥＮ基板などの基材２上に保護膜３、すなわち可撓層３ａ及び無機層３ｂを設け、その無機層３ｂのほぼ中央に有機発光素子４を設ける。その後、有機発光素子４が設けられた基材２上に、有機発光素子４を覆うように無機層５ａを設ける。
【００３０】
詳述すると、可撓層３ａは、例えばスプレー塗布などの塗布方法により、基材２上の全面に生成されて設けられる。他の塗布方法としては、スピンコート塗布やインクジェット塗布、ディスペンサ塗布、バーコーダ塗布、グラビアコーター塗布、ダイコーター塗布、スクリーン印刷塗布などが挙げられる。また、無機層３ｂは、基材２上の可撓層３ａの全面に例えばプラズマＣＶＤなどの生成方法により生成されて設けられる。他の生成方法としては、スパッタリングや真空蒸着、電子ビーム蒸着、イオンプレーティング、触媒ＣＶＤなどが挙げられる。
【００３１】
有機発光素子４は、第１電極、発光層及び第２電極を順次無機層３ｂ上に積層することにより生成され、保護膜３上に設けられる。また、無機層５ａも、無機層３ｂと同様に例えばプラズマＣＶＤなどの生成方法により、基材２上の有機発光素子４を完全に覆うように基材２上の全面に生成されて設けられる。
【００３２】
次いで、図４に示すように、マスクＭを位置決めし、そのマスクＭを用いて可撓層５ｂを生成するための材料の塗布を行う。マスクＭは無機層５ａ上の所定領域（例えば、有機発光素子４を覆う所定領域）だけに可撓層５ｂを生成するためのマスクである。これにより、図５に示すように、可撓層５ｂが無機層５ａ上の所定領域に生成される。最後に、その可撓層５ｂ上に可撓層５ｂを完全に覆うように無機層５ｃを設ける。これにより、図１に示す有機発光装置１Ａが完成する。
【００３３】
詳述すると、可撓層５ｂは、例えば、マスクＭを用いたスプレー塗布により有機発光素子４を覆うように無機層５ａの所定領域に生成されて設けられる。他の塗布方法としては、スピンコート塗布やインクジェット塗布、ディスペンサ塗布、バーコーダ塗布、グラビアコーター塗布、ダイコーター塗布、スクリーン印刷塗布などが挙げられる。また、無機層５ｃは、前述の無機層３ｂ及び無機層５ａと同様に例えばプラズマＣＶＤなどの生成方法により、有機発光素子４上の可撓層５ｂを完全に覆うように基材２上の全面に生成されて設けられる。
【００３４】
ここで、可撓層３ａ及び可撓層５ｂとしては、例えば、有機ポリマーを含むシリカ膜などが用いられる。この生成材料としては、例えば、有機ポリマーを含有するテトラエトキシオルソシリケート（ＴＥＯＳ）が用いられる。この有機ポリマーを含有するテトラエトキシオルソシリケートが基材２上の全面あるいは無機層５ａの所定領域にスプレーにより塗布され、その後、加熱されて焼成される。すると、縮合反応が生じ、有機ポリマーを含むシリカ膜が生成される。
【００３５】
通常、有機発光素子４は熱（例えば１００℃程度の熱）により劣化してしまうが、可撓層３ａ及び可撓層５ｂとして、有機ポリマーを含むシリカ膜を用いた場合には、可撓層３ａ及び可撓層５ｂを例えば８０℃程度の低温で生成することが可能であるため、その生成中における有機発光素子４の熱劣化を抑止することができる。このため、可撓層３ａ及び可撓層５ｂとして有機ポリマーを含むシリカ膜を用いることが好ましい。
【００３６】
また、無機層３ｂ、無機層５ａ及び無機層５ｃとしては、例えば、シリコン窒化（ＳｉＮ）膜などが用いられる。無機層３ｂ、無機層５ａ及び無機層５ｃとしてシリコン窒化膜を用いた場合には、無機層３ｂ、無機層５ａ及び無機層５ｃを例えば６０℃程度の低温で成膜することが可能であるため、成膜中の有機発光素子４の熱劣化を抑止することができる。このため、無機層３ｂ、無機層５ａ及び無機層５ｃとしてシリコン窒化膜を用いることが好ましい。
【００３７】
次に、前述の製造方法と異なる他の製造方法について説明する。
【００３８】
まず、前述の製造方法と同じく、基材２上に保護膜３、すなわち可撓層３ａ及び無機層３ｂを設け、その無機層３ｂのほぼ中央に有機発光素子４を設ける。その後、有機発光素子４が設けられた基材２上に、有機発光素子４を覆うように無機層５ａを設ける（図３参照）。
【００３９】
次いで、図６及び図７に示すように、無機層５ａ上に限定層６を有機発光素子４を囲う枠形状に設け、その後、可撓層５ｂを生成するための材料の塗布を行う。限定層６は、無機層５ａ上の所定領域（例えば、有機発光素子４を覆う所定領域）だけに可撓層５ｂを生成するための層である。可撓層５ｂの生成後、限定層６が除去される。これにより、図８に示すように、可撓層５ｂが無機層５ａ上の所定領域に生成される。最後に、その可撓層５ｂ上に可撓層５ｂを完全に覆うように無機層５ｃを設ける。これにより、図１に示す有機発光装置１Ａが完成する。
【００４０】
詳述すると、限定層６は、有機発光素子４から所定距離だけ離間させてその有機発光素子４を囲うように枠形状に無機層５ａ上に設けられ、無機層５ａに対する可撓層５ｂの生成領域、すなわち載置領域を限定する層である。限定層６としては、例えば、シランカップリング剤などの撥水層（撥液層）が用いられる。この撥水層は、可撓層５ｂの生成材料をはじくことが可能な材料により生成される。限定層６は可撓層５ｂが生成されると、不要となるため除去される。このような限定層６を用いることによって、可撓層５ｂの載置領域を限定することが可能となるので、無機層５ａ上の所望領域に正確に可撓層５ｂを設けることができる。
【００４１】
また、可撓層５ｂは、例えばスプレー塗布により、無機層５ａ上の限定層６により限定された載置領域上に生成され、有機発光素子４を覆うように無機層５ａの所定領域に設けられる。他の塗布方法としては、インクジェット塗布やディスペンサ塗布、バーコーダ塗布、グラビアコーター塗布、ダイコーター塗布、スクリーン印刷塗布などが挙げられる。
【００４２】
ここで、有機ポリマー無しの可撓層を有する保護膜と、有機ポリマーを含む可撓層（可撓層３ａや可撓層５ｂ）を有する保護膜（保護膜３や保護膜５）とについて可撓性の評価を行う。
【００４３】
まず、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）基板上に下記の構成１の保護膜（シリカ膜）又は構成２の保護膜（有機ポリマーを含むシリカ膜）を形成し、その形成後、ＰＥＮ基板を曲げて保護膜の状態を評価した。なお、ＰＥＮ基板の厚さは２００μｍである。また、シリコン窒化膜（ＳｉＮ）をプラズマＣＶＤにより生成し、可撓層をスプレー塗布により生成し、焼成条件を大気雰囲気下で８０℃、１時間とした。
【００４４】
構成１は、ＳｉＮ（厚さ０．５μｍ）／シリカ（厚さ２５μｍ）／ＳｉＮ（厚さ０．５μｍ）の積層構造であり、構成２は、ＳｉＮ（厚さ０．５μｍ）／有機ポリマー含有シリカ（厚さ２５μｍ）／ＳｉＮ（厚さ０．５μｍ）の積層構造である。
【００４５】
構成１では、曲率半径６０ｍｍまで曲げた際に、保護膜にクラックが入ったのに対し、構成２では、曲率半径１．５ｍｍまで曲げた際にも、保護膜にはクラックが入らず、保護膜は高い可撓性を有することが確認された。したがって、有機ポリマーにより保護膜の可撓性は向上する。なお、０．５〜１．０μｍ程度のＳｉＮ膜は、異物などが無い平坦面であれば十分な防湿性能を有する。そこで、可撓層５ｂにより凹凸を平坦化することで薄いＳｉＮ膜でも十分な防湿性を得ることができる。
【００４６】
以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、有機ポリマーを含む可撓層５ｂを無機層５ａと無機層５ｃとの間に設けて保護膜５を構成することによって、防湿性が高く可撓性が低い無機層５ａ、５ｃを薄くして可撓性を高め、その薄膜化により低下する防湿性を、有機ポリマーを含む可撓層５ｂにより補うことが可能となる。さらに、可撓層５ｂに有機ポリマーを含有させることによって、可撓層５ｂの可撓性が向上する。これらのことから、防湿性を維持しながら可撓性を向上させることができる。加えて、可撓層５ｂに有機ポリマーを含有させることによって、保護膜５の層数を従来に比べ少なくすることが可能となる。これにより、製造工程数が減少するため、生産性を向上させることができる。
【００４７】
また、基材２がプラスチック基板などの防湿性が充分でない基材である場合でも、その基材２上に可撓層３ａ及び無機層３ｂにより保護膜３を構成することによって、前述と同様に、防湿性が高く可撓性が低い無機層３ｂを薄くして可撓性を高め、その薄膜化により低下する防湿性を、有機ポリマーを含む可撓層３ａにより補うことが可能となる。さらに、可撓層３ａに有機ポリマーを含有させることによって、可撓層３ａの可撓性が向上する。これらのことから、防湿性を維持しながら可撓性を向上させることができる。加えて、可撓層３ａに有機ポリマーを含有させることによって、保護膜３の層数を従来に比べ少なくすることが可能となる。これにより、製造工程数が減少するため、生産性を向上させることができる。
【００４８】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態について図９ないし図１２を参照して説明する。
【００４９】
本発明の第２の実施の形態は、基本的に第１の実施の形態と同様である。第２の実施の形態では、第１の実施の形態との相違点について説明し、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００５０】
図９及び図１０に示すように、本発明の第２の実施の形態に係る有機発光装置１Ｂおいては、限定層５ｄが無機層５ａ上に設けられている。この限定層５ｄは、無機層５ａ上の所定領域（例えば、有機発光素子４を覆う所定領域）だけに可撓層５ｂを生成するための層である。
【００５１】
詳述すると、限定層５ｄは、無機層５ａ上に有機発光素子４を囲うように枠形状（図１０参照）に設けられ、無機層５ａに対する可撓層５ｂの生成領域、すなわち載置領域を限定する層である。この限定層５ｄは可撓性を有しており、保護膜５の一部として機能する。限定層５ｄにより囲まれた内部領域には、可撓層５ｂの材料が供給される。このとき、限定層５ｄは、可撓層５ｂの材料をせき止めるダムとして機能する側壁となる。限定層５ｄとしては、例えば、レジスト膜などが用いられる。このような限定層５ｄを用いることによって、可撓層５ｂの載置領域を限定することが可能となるので、無機層５ａ上の所望領域に正確に可撓層５ｂを設けることができる。
【００５２】
次に、前述の有機発光装置１Ｂの製造方法について説明する。
【００５３】
まず、第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａの製造方法と同じく、基材２上に保護膜３、すなわち可撓層３ａ及び無機層３ｂを設け、その無機層３ｂのほぼ中央に有機発光素子４を設ける。その後、有機発光素子４が設けられた基材２上に、有機発光素子４を覆うように無機層５ａを設ける（図３参照）。
【００５４】
次いで、図１１に示すように、無機層５ａ上に限定層５ｄを有機発光素子４を囲う枠形状に設け、その後、枠形状の限定層５ｄにより囲まれた内部領域に可撓層５ｂを生成するための材料を供給する塗布を行う。これにより、図１２に示すように、可撓層５ｂの材料が枠形状の限定層５ｄにより囲まれた内部領域に充填され、可撓層５ｂが無機層５ａ上の所定領域に生成される。最後に、その可撓層５ｂ上に可撓層５ｂを完全に覆うように無機層５ｃを設ける。これにより、図９に示す有機発光装置１Ｂが完成する。
【００５５】
以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第１の実施の形態において限定層６を可撓層５ｂの生成後に除去する場合に比べ、限定層５ｄを除去する必要がなく、製造工程数が減少するので、生産性を向上させることができる。
【００５６】
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態について図１３を参照して説明する。
【００５７】
本発明の第３の実施の形態は、基本的に第１の実施の形態と同様である。第３の実施の形態では、第１の実施の形態との相違点について説明し、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００５８】
図１３に示すように、本発明の第３の実施の形態に係る有機発光装置１Ｃにおいては、基材２が可撓性に加え所望の防湿性を有する基材であり、その基材２に直接、有機発光素子４及び保護膜５が設けられている。基材２としては、例えば、高い防湿性を有するガラス基板などが用いられており、水分が基材２から有機発光素子４に浸入することが防止されている。なお、ガラス基板は、その厚さが所望の可撓性を有する程度の厚さになるように形成されている。
【００５９】
以上説明したように、本発明の第３の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第１の実施の形態に比べ、基材２上に生成する層数が減少し、製造工程数が減少するので、生産性を向上させることができる。
【００６０】
（第４の実施の形態）
本発明の第４の実施の形態について図１４を参照して説明する。
【００６１】
図１４に示すように、本発明の第４の実施の形態に係る照明装置１１は、第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａと、その有機発光装置１Ａに電流を印加する電流印加装置１２とを備えている。なお、第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａに替えて、第２の実施の形態に係る有機発光装置１Ｂあるいは第３の実施の形態に係る有機発光装置１Ｃが設けられてもよい。
【００６２】
有機発光装置１Ａは例えば１個あるいは複数個設けられている。この個数は所望する光量に応じて決定される。電流印加装置２２は、有機発光装置１Ａが備える有機発光素子４に電流を印加する。この電流印加により有機発光素子４が発光し、照明装置１１は光を照射する。
【００６３】
以上説明したように、本発明の第４の実施の形態によれば、第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａ（あるいは第２の実施の形態に係る有機発光装置１Ｂ又は第３の実施の形態に係る有機発光装置１Ｃ）を用いることによって、防湿性及び可撓性が向上し、輝度劣化や装置破損などが防止されるので、装置信頼性を向上させることができる。さらに、生産性も向上するので、低コスト化を実現することができる。
【００６４】
（第５の実施の形態）
本発明の第５の実施の形態について図１５を参照して説明する。
【００６５】
図１５に示すように、本発明の第５の実施の形態に係る表示装置２１は、複数の有機発光素子４を具備する有機発光装置１Ｄと、その有機発光装置１Ｄの各有機発光素子４にそれぞれ電流を印加する電流印加装置２２と、その電流印加装置２２を制御する制御装置２３とを備えている。
【００６６】
有機発光装置１Ｄは、画像を表示するための画素として例えばマトリクス状に配置された複数の有機発光素子４を有している。すなわち、これらの有機発光素子４が無機層３ｂの上にマトリクス状に設けられており（図１５参照）、それらの全有機発光素子４を覆うように全有機発光素子４上に無機層５ａが設けられており、同様に、全有機発光素子４を覆うように無機層５ａ上の所定領域に可撓層５ｂが設けられ、その可撓層５ｂを覆うように可撓層５ｂ上に無機層５ｃが設けられている。
【００６７】
したがって、第５の実施の形態に係る有機発光装置１Ｄは、第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａ（図１参照）の有機発光素子４が複数個存在する構造の装置である。ここで、第２の実施の形態に係る有機発光装置１Ｂ（図９参照）あるいは第３の実施の形態に係る有機発光装置１Ｃ（図１３参照）と同様の構造を採用し、その構造で有機発光素子４を複数個設ける構造が用いられてもよい。なお、第２の実施の形態に係る有機発光装置１Ｂの構造を採用した場合には、限定層５ｄは全有機発光素子４の周囲を一度に囲う枠形状に無機層５ａ上に形成される。
【００６８】
電流印加装置２２は、制御装置２３の制御に応じて各有機発光素子４に電流を印加する。制御装置２３は、ＣＰＵやメモリなどを有しており、画像に関する画像データに基づいて各有機発光素子４により画像を表示するように電流印加装置２２を制御する。これにより、表示装置２１は各有機発光素子４により画像を表示することになる。なお、画像データは、制御装置２３が備えるメモリなどの記憶部に設けられている。
【００６９】
以上説明したように、本発明の第５の実施の形態によれば、第１の実施の形態に係る有機発光装置１Ａ（あるいは第２の実施の形態に係る有機発光装置１Ｂ又は第３の実施の形態に係る有機発光装置１Ｃ）を用いることによって、防湿性及び可撓性が向上し、輝度劣化や装置破損などが防止されるので、装置信頼性を向上させることができる。さらに、生産性も向上するので、低コスト化を実現することができる。
【００７０】
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。例えば、前述の実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。また、前述の実施の形態においては、各種の数値を挙げているが、それらの数値は例示であり、限定されるものではない。
【符号の説明】
【００７１】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ…有機発光装置、２…基材、４…有機発光素子、５…保護膜、５ａ…無機層（第１の無機層）、５ｂ…可撓層、５ｃ…無機層（第２の無機層）、５ｄ…限定層、１１…照明装置、１２…電流印加装置、２１…表示装置、２２…電流印加装置、２３…制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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