(57)【要約】【課題】環境によらず、安定してＣセット画像を抑制できる帯電部材の提供。【解決手段】支持体及び表面層を有する帯電部材であって、該表面層が、バインダー樹脂、導電性粒子及び特定の構造を有するパーフルオロポリエーテルを含有することを特徴とする帯電部材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体及び表面層を有する帯電部材であって、該表面層が、バインダー樹脂、導電性粒子及び下記式１で示されるパーフルオロポリエーテルを含有することを特徴とする帯電部材：
【化１】
2011112920.tif 000080
（式１中、a及びcは５〜１００の整数であり、ｂは２〜６の整数であり、Ｘは下記式２で示す基である）、
【化２】
2011112920.tif 000081
（式２中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基、Ｙは*−ＣＨ２ＣＨ２−、*−ＯＣＨ２−、*−ＯＣＨ２ＣＨ２−、および*−Ｃ６Ｈ４−ＮＲ１３−ＣＯ−から選ばれる何れかであり、*は、上記式２のケイ素原子への結合部位を示す。Ｒ１３は水素原子または炭素数１〜８の炭化水素基である。Ｚは炭素数１〜８の炭化水素基、下記化学式（４）で示される基及び下記化学式（５）で示される基から選ばれるいずれかある。）、
【化３】
2011112920.tif 000082
（式４中、Ｒ３〜Ｒ８は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基であり、ｍは１〜３の整数である）、
【化４】
2011112920.tif 000083
（式５中、Ｒ９〜Ｒ１２は各々独立に炭素数１〜３の炭化水素基であり、ｎは０〜６の整数である）。
【請求項２】
請求項１に記載の帯電部材と、該帯電部材と当接して配置されている感光体とを有し、電子写真装置の本体に着脱可能に構成されていることを特徴とするプロセスカ−トリッジ。
【請求項３】
請求項１に記載の帯電部材と、該帯電部材と当接して配置されている感光体とを有していることを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は帯電部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
接触帯電に用いる帯電部材には、電子写真感光体と長時間にわたって当接した場合に、容易には回復しない変形（以降、コンプレッションセットを略して、「Ｃセット」という）が表面に生じることがある。Ｃセットが生じた部分とＣセットが生じていない部分とでは帯電能力に差が生じ易く、濃度ムラを有する電子写真画像（以降「Ｃセット画像」という）の原因ともなる。ゴムや発泡体からなる柔軟な弾性層がＣセットを生じさせる原因の一つとして知られているが、このような弾性層の有無に関わらず、帯電部材の表面層に生じるＣセットもＣセット画像の原因となることがある。特に、表面層は、表面層から感光体に放電するなどして感光体を帯電させる機能を有するため、Ｃセットの量自体は僅かであっても、Ｃセット画像を生じさせることがある。特許文献１では、第１の酸化物粒子にカーボンブラックを被覆した複合粒子と、第２の金属酸化物と、バインダーとを含有する最外層を備えた帯電部材が、Ｃセット画像の軽減に有効であることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−７２３１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは、上記特許文献１に記載の帯電部材についての検討を重ねた結果、Ｃセット画像の抑制には有効であるものの、高湿環境でのＣセット画像の抑制効果には未だ改善の余地があるとの認識を得た。そこで、本発明の目的は、多様な環境下において安定してＣセット画像を抑制できる帯電部材を提供することにある。また、本発明の課題は、多様な環境下において安定して高品位な電子写真画像を形成できる電子写真装置およびプロセスカートリッジを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る帯電部材は、支持体及び表面層を有する帯電部材であって、該表面層が、バインダー樹脂、導電性粒子及び下記式１で示されるパーフルオロポリエーテルを含有することを特徴とする：
【化１】
2011112920.tif 000002
（式１中、a及びcは５〜１００の整数であり、ｂは２〜６の整数であり、Ｘは下記式２で示す基である）、
【化２】
2011112920.tif 000003
（式２中、Ｒ1及びＲ２は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基、Yは*−ＣＨ２ＣＨ２−、*−ＯＣＨ２−、*−ＯＣＨ２ＣＨ２−、および*−Ｃ６Ｈ４−ＮＲ１３−ＣＯ−から選ばれる何れかであり、*は、上記式２のケイ素原子への結合部位を示す。ここで、R１３は水素原子または炭素数１〜８の炭化水素基である。Ｚは炭素数１〜８の炭化水素基、下記化学式（４）で示される基及び下記化学式（５）で示される基から選ばれるいずれかある。）、
【化３】
2011112920.tif 000004
（式４中、Ｒ３〜Ｒ８は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基であり、ｍは１〜３の整数である）、
【化４】
2011112920.tif 000005
（式５中、Ｒ９〜Ｒ１２は各々独立に炭素数１〜３の炭化水素基であり、ｎは０〜６の整数である）。
【０００６】
また、本発明に係るプロセスカ−トリッジは、上記の帯電部材と、該帯電部材と当接して配置されている感光体とを有し、電子写真装置の本体に着脱可能に構成されていることを特徴とする。更に、本発明に係る電子写真装置は、上記の帯電部材と、該帯電部材と当接して配置されている感光体とを有していることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、高湿環境下においてもＣセット画像を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明に係る帯電部材の説明図である。
【図２】本発明に係る電子写真装置の断面図である。
【図３】本発明に係るプロセスカートリッジの断面図である。
【図４】本発明に係る帯電ローラの電気抵抗値の測定方法の説明図である。
【図５】帯電ローラと電子写真感光体との当接状態の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［帯電ローラ］
図１は本発明に係る帯電部材の一例である帯電ローラの断面図である。帯電ローラは、導電性の支持体１、導電性の弾性層２、及び表面層３を有している。
【００１０】
［表面層］
表面層３はバインダー樹脂、導電性粒子及び下記式１で示されるパーフルオロポリエーテルを含有している。
【化５】
2011112920.tif 000006
上記式１中、a及びcは５〜１００の整数であり、ｂは２〜６の整数であり、Ｘは下記式２で示す基である。
【化６】
2011112920.tif 000007
上記式２中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基を示す。
Yは*−ＣＨ２ＣＨ２−、*−ＯＣＨ２−、*−ＯＣＨ２ＣＨ２−、および*−Ｃ６Ｈ４−ＮＲ１３−ＣＯ−から選ばれる何れかであり、*は、上記式２のケイ素原子への結合部位を示す。ここで、Ｒ１３は水素原子または炭素数１〜８の炭化水素基である。また、Ｚは炭素数１〜８の炭化水素基、下記化学式（４）で示される基及び下記化学式（５）で示される基から選ばれるいずれかある。
【化７】
2011112920.tif 000008
上記式４中、Ｒ３〜Ｒ８は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基であり、ｍは１〜３の整数である。
【化８】
2011112920.tif 000009
上記式５中、Ｒ９〜Ｒ１２は各々独立に炭素数１〜３の炭化水素基であり、ｎは０〜６の整数である。
【００１１】
上記式１で示したパーフルオロポリエーテルは、パーフルオロアルキレンオキサイド由来のユニットからなる重合体の末端にシリル基を有する。Ｃセットは高温高湿の環境において発生しやすい。これは、高温高湿環境下においては、表面層中への水分の侵入により、表面層中の樹脂が膨潤して可塑化し、外力に対して変形しやすくなるためであると考えられる。そして、本発明に係るパーフルオロポリエーテルは、長鎖のパーフルオロポリエーテル構造を有し、末端にシリル基を有するという分子構造によって表面層の表面が疎水化され、表面層中への水分の侵入が抑えられていると考えられる。そのため、高温高湿環境下での表面層中の樹脂の膨潤とそれに伴う表面層の可塑化とが抑制され、その結果、ＣセットおよびＣセット画像を有効に抑制されているものと考えられる。
【００１２】
上記式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｚ、上記式（４）中のＲ３〜Ｒ８並びにＲ１３で示した炭素数１〜８の炭化水素基の具体例を以下に示す。
・直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基（２−メチルペンチル基）、３−メチルペンチル基、２−エチルブチル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、イソヘプチル基（２−メチルヘキシル基）、３−メチルヘキシル基、２−エチルヘプチル基、２−プロピルブチル基、オクチル基、イソオクチル基（２−メチルヘプチル基）、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、３−プロピルペンチル基など）
・アルケニル基（例えば、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基など）。
・アリール基（フェニル基、トリル基、ベンジル基など）。
【００１３】
また、上記式（５）中のＲ９〜Ｒ１２の炭素数１〜３の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基などが挙げられる。
【００１４】
パーフルオロアルキレンサイド由来のユニットは、パーフルオロプロピレンオキサイド由来のユニットを含有していることが必要である。パーフルオロプロピレンオキサイド由来のユニットを含有するパーフルオロポリエーテルは吸湿性を抑制する効果が大きい。
【００１５】
式１に示すパーフルオロプロピレンオキサイド由来のユニット数は、５〜１００である。より好ましくは、１５〜１００である。これにより、更にＣセット画像の発生を抑制することができる。
【００１６】
パーフルオロポリエーテルの末端にシリル基を導入する方法としては、予め末端にビニル基、水酸基、酸フルオライド基を有するパーフルオロポリエーテルとシラン化合物を反応させることにより合成が可能である。以下に合成方法を例示する。
【００１７】
例えば、末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテルを開始物質とした場合、ヒドロシランを白金系触媒の存在下に付加反応（ヒドロシリル化反応）させることにより合成することができる。例えば、末端にヒドロキシル基を有するパーフルオロポリエーテルを開始物質とした場合には、アルコキシシランと脱アルコール縮合反応させることにより合成することができる。または、末端に酸フルオライド基を有するパーフルオロポリエーテルを開始物質とした場合には、トリメチルアミン等の受酸剤の存在下で、アミノ変性シランと反応させることにより合成することができる。
【００１８】
また、式４または式５に示すポリシロキサン基を導入する場合は、パーフルオロポリエーテルの末端をビニルシリル基とし、下記式６または式７に示すヒドロシランを白金系触媒の存在下に付加反応（ヒドロシリル化反応）させることにより合成することができる。
【化９】
2011112920.tif 000010
上記式６中、Ｒ３〜Ｒ８は各々独立に炭素数１〜８の炭化水素基であり、ｍは１〜３である。
【化１０】
2011112920.tif 000011
式７中、Ｒ９〜Ｒ１２は各々独立に炭素数１〜３の炭化水素基であり、ｎは０〜６である。
【００１９】
［導電性粒子］
導電性粒子としてはカーボンブラック、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛等の金属酸化物系導電性粒子、アルミニウム、鉄、銅、銀等の金属系導電性粒子を挙げることができる。また、これら導電性粒子は、単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。また、導電性粒子として、シリカ粒子に導電性粒子を被覆した複合粒子を用いることもできる。以下に、上記の複合粒子について説明する。
【００２０】
複合粒子１００質量部に対して、シリカ粒子は５質量部〜９５質量部が好ましい範囲である。シリカ粒子と末端にシリル基を有するパーフルオロポリエーテルとの親和性が良好で、複合粒子の吸湿性を抑制する効果が高い。また、複合粒子の体積抵抗値が低く、表面層の抵抗調整が容易である。シリカ粒子の量についてのより好ましい範囲は、１０質量部〜９０質量部である。
【００２１】
複合粒子は以下のように製造する。例えばカーボンブラックで被覆されたシリカ粒子は、カーボンブラックとシリカ粒子をホイール型混練機にて粉体にせん断を加えることにより作成する。混練条件としては、混練時間及びホイール回転数は適時設定し、カーボンブラックのほとんどがシリカ粒子に付着するまで混練する。本発明の複合粒子は、シリカ粒子が接着剤を介して導電性粒子を被覆することが好ましい。接着剤としては、アルコキシシランから生成するオルガノシラン化合物ならびにポリシロキサン、変性ポリシロキサン、末端変性ポリシロキサンまたはこれらの混合物が挙げられる。接着剤は公知の粉体表面処理方法によりコア粒子表面に付着される。公知の付着方法としては、乾式法及び湿式法が挙げられ、湿式法としては、水溶液法、有機溶媒法及びスプレー法が挙げられる。
【００２２】
複合粒子の体積抵抗値は、１０５Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。複合粒子の体積抵抗値を１０５Ω・ｃｍ以下とすると帯電部材の抵抗調整が容易である。また、複合粒子の体積抵抗値は、２３℃／５０％ＲＨ環境下で三菱化学（株）製の抵抗測定装置に、複合粒子を適量投入し、１０．１ＭＰａの圧力をかけて圧縮したものを測定対象試料とする。この装置に、微小電流計（商品名：ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ  Ｒ８３４０Ａ  ＵＬＴＲＡ  ＨＩＧＨ  ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ  ＭＥＴＥＲ、（株）アドバンテスト製）を接続して、２００Ｖの電圧を印加して３０秒後の電流を測定する。そして、試料（複合粒子）の厚みと電極面積とから計算し、体積抵抗率を求める。
【００２３】
［バインダー樹脂］
バインダー樹脂として、公知のバインダー樹脂を用いることができる。バインダー樹脂としては、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、スチレン−エチレン・ブチレン−オレフィン共重合体及びオレフィン−エチレン・ブチレン−オレフィン共重合体等が使用できる。
【００２４】
これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いても、また共重合体であってもよい。パーフルオロポリエーテル重合体は、表面層の強度と吸湿性の抑制効果とを高いレベルで両立させるために、バインダー樹脂１００質量部に対して０．０１質量部以上、特には０．１〜３０質量部を含有させることが好ましい。複合粒子は、バインダー樹脂に対して５質量部〜７０質量部の範囲で含有することが好ましい。この範囲とすることにより、適度な導電性を得ることができ、放電が安定するため、Ｃセット画像を抑制する効果が更に良好となる。
【００２５】
表面層には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、有機系の絶縁性粒子を含有してもよい。有機系の絶縁性粒子の例としては高分子化合物からなる粒子が挙げられる。高分子化合物の中でも、粒子としたとき、比較的硬度が高く変形しにくく、帯電部材のバインダーに均一に存在させるといった観点から、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂及びシリコーン樹脂が好ましい。その他の絶縁性粒子として、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、マイカ、ゼオライト及びベントナイト等の粒子を挙げることができる。これらの粒子は１種を使用しても、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、表面処理、変性、官能基や分子鎖の導入、コーティング、表面処理等が施されていても構わない。
【００２６】
表面層は静電スプレー塗布やディッピング塗布等の塗布法により形成することができる。または、予め所定の膜厚に成膜されたシート形状又はチューブ形状の層を接着又は被覆することにより形成することもできる。あるいは、型内で所定の形状に材料を硬化、成形する方法も用いることができる。
【００２７】
表面層の最適な電気抵抗値は、感光体特性または電子写真プロセスの種類によって異なるが、体積抵抗率は２３℃／５０％ＲＨ環境下で１０３Ω・ｃｍ以上１０１４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。リークの発生を抑えつつ、感光体に対する良好な帯電性能を維持できるためである。表面層の体積抵抗率は、以下の通り測定する。まず、ローラ状態の帯電部材から表面層を剥し、５ｍｍ×５ｍｍ程度の短冊形に切り出す。両面に金属を蒸着して電極とガード電極とを作製し、測定用試料を得る。あるいは、アルミシートの上に塗布して表面層塗膜を形成し、塗膜面に金属を蒸着して測定用試料を得る。得られた測定用試料について微小電流計（ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ  Ｒ８３４０Ａ  ＵＬＴＲＡ  ＨＩＧＨ  ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ  ＭＥＴＥＲ  （株）アドバンテスト社製）を用いて２００Ｖの電圧を印加する。３０秒後の電流を測定し、膜厚と電極面積とから計算して体積抵抗率を求める。
表面層の厚さとしては、１〜１００μｍ、特には５〜５０μｍが好ましい。
【００２８】
［支持体］
導電性の支持体は、その上に設けられる弾性層の支持および帯電に必要な電流の導通といった役割がある。導電性支持体の材質としては、鉄、アルミニウム、チタン、銅又はニッケル等の金属、これらの金属を含む炭素鋼、ステンレス、ジュラルミン、真鍮又は青銅等の合金が挙げられる。
【００２９】
［弾性層］
導電性の弾性層は、例えば高分子弾性体に導電剤を分散して成形される。高分子弾性体としては、以下のものが挙げられる。エピクロルヒドリンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム等の合成ゴムが挙げられる。または、スチレン・ブタジエン・スチレン−ブロックコポリマー、スチレン・エチレンブチレン・スチレン−ブロックコポリマー等の熱可塑性エラストマーが挙げられる。高分子弾性体としては特にエピクロルヒドリンゴムが好適に用いられる。エピクロルヒドリンゴムは、ポリマー自体が中抵抗領域の導電性を有し、導電剤の添加量が少なくても良好な導電性を発揮することができる。また、位置による電気抵抗のバラツキも小さくすることが出来るので、高分子弾性体として好適に用いられる。
【００３０】
エピクロルヒドリンゴムとしては、以下のものが挙げられる。エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル共重合体及びエピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体。この中でも安定した中抵抗領域の導電性を示すことから、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体が特に好適に用いられる。エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体は、重合度や組成比を任意に調整することで導電性や加工性を制御できる。
【００３１】
導電剤としては、イオン導電剤または電子導電剤を用いることができる。弾性層の電気抵抗率のムラを小さくするという目的により、イオン導電剤を含有することが好ましい。イオン導電剤が高分子弾性体の中に均一に分散し、導電性弾性体の電気抵抗を均一化することにより、帯電ローラを直流電圧のみの電圧印加で使用したときでも均一な帯電を得ることができる。
【００３２】
イオン導電剤としては、イオン導電性を示すイオン導電剤であれば特に限定されるものではない。イオン導電剤としては、以下のものが挙げられる。過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カルシウム等の無機イオン物質が挙げられる。ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、過塩素酸テトラブチルアンモニウム等の四級アンモニウム塩が挙げられる。トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、パーフルオロブタンスルホン酸カリウム等の有機酸無機塩が挙げられる。これらを単独又は２種類以上組み合わせて用いることができる。イオン導電剤の中でも、環境変化に対して抵抗が安定なことから特に過塩素酸４級アンモニウム塩が好適に用いられる。電子導電剤としては、電子導電性を示す導電性粒子であれば特に限定されるものではない。例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック等のカーボンブラック、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛等の金属酸化物系導電性粒子、アルミニウム、鉄、銅、銀等の金属系導電性粒子を挙げることができる。また、これら導電剤は、単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００３３】
導電剤の配合量は、導電性弾性体の体積抵抗率が、低温低湿環境（１５℃／１０％ＲＨ）、常温常湿環境（２３℃／５０％ＲＨ）および高温高湿環境（３０℃／８０％ＲＨ）で、１×１０３〜１×１０９Ω・ｃｍになるように決めることが好ましい。良好な帯電性能を発揮する帯電部材を得られるためである。この他にも導電性弾性体には必要に応じて、可塑剤、充填剤、加硫剤、加硫促進剤、老化防止剤、スコーチ防止剤、分散剤及び離型剤の配合剤を加えることもできる。
【００３４】
弾性層の形成方法としては、上記の導電性弾性体の原料を密閉型ミキサーで混合して、例えば、押し出し成形、射出成形、又は、圧縮成形の如き公知の方法により形成するのが好ましい。また、弾性層は、導電性支持体の上に直接導電性弾性体を成形して作製してもよいし、予めチューブ形状に成形した導電性弾性体を導電性支持体上に被覆形成させてもよい。なお、弾性層の作製後に表面を研磨して形状を整えてもよい。  
【００３５】
［電子写真装置］
図２は本発明に従う電子写真装置の概略構成図である。感光体４を帯電する帯電装置５、露光を行う潜像形成装置１１、潜像をトナー像に現像する現像装置６、トナー像を転写材７に転写する転写装置８、感光体上の転写トナーを回収するクリーニング装置１０、トナー像を定着する定着装置９等から構成される。図２において、１２は帯電前露光装置、１３は弾性規制ブレード、１４はトナー供給ローラ、１８は現像バイアス印加電源、１９は帯電バイアス印加電源、２０は転写バイアス印加電源を示す。  感光体４は、導電性基体上に感光層を有する回転ドラム型である。感光体は矢示の方向に所定の周速度（プロセススピード）で回転駆動される。帯電装置５は、感光体に所定の押圧力で当接されることにより接触配置される接触式の帯電ローラを有する。帯電ローラは、感光体の回転に従い回転する従動回転であり、帯電用電源から所定の直流電圧を帯電ローラへ印加することにより、感光体を所定の電位に帯電する。感光体に静電潜像を形成する潜像形成装置１１としては、例えばレーザービームスキャナーなどの露光装置が用いられる。一様に帯電された感光体に画像情報に対応した露光を行うことにより、感光体上へ静電潜像が形成される。現像装置６は、感光体に近接または接触して配設される接触式の現像ローラを有する。感光体の帯電極性と同極性に静電的処理されたトナーを反転現像により、静電潜像をトナー像に可視化現像する。転写装置８は、接触式の転写ローラを有する。感光体からトナー像を普通紙などの転写材７（転写材は、搬送部材を有する給紙システムにより搬送される）に転写する。クリーニング装置１０は、ブレード型のクリーニング部材及び回収容器を有し、転写した後、感光体上に残留する転写残トナーを機械的に掻き落とし回収する。ここで、現像装置にて転写残トナーを回収する現像同時クリーニング方式を採用することにより、クリーニング装置を取り除くことも可能である。定着装置９は、加熱されたロール等で構成され、転写されたトナー像を転写材に定着し、機外に排出する。感光体４、帯電装置５、現像装置６、及び、クリーニング装置１０などを一体化し、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に設計された図３に示すプロセスカートリッジを用いることもできる。図３において、１３は弾性規制ブレード、１４はトナー供給ローラ、３０はトナーシールを示す。
【実施例】
【００３６】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
【００３７】
[末端にシリル基を有するパーフルオロポリエーテルの作製]
（製造例１）パーフルオロポリエーテル１
【化１１】
2011112920.tif 000012
上記式Ａ中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。式Ａで示す化合物は、ＵＳＰ３６６０３１５やＪ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ.Ｓｃｉ.Ｃｈｅｍ.Ａ８（3）,４９９（１９７４）に記載された方法に従って、両末端にカルボン酸フルオリド基を有するパーフルオロポリエーテルを用いて合成できる。本製造例においては、具体的には、フッ化セシウムをテトラグライムに溶解させた溶液に、窒素雰囲気下、−３３℃にてシュウ酸フルオリドを加えて１時間攪拌した。その後、−７８℃に冷却し、更にシュウ酸フルオリドとヘキサフルオロプロピレンオキシドを加え、これらを反応させることにより両末端が−ＣＦ２Ｏ−Ｃｓ基である重合開始剤を得た。この重合開始剤をテトラグライムに加え、窒素雰囲気下、−４０℃に保ちながら、重合促進剤としてのヘキサフルオロプロペンを加え、続いて−３２℃にてヘキサフルオロプロピレンオキシドを加え重合させる。得られた重合体を１５０℃に加熱して、両末端の−ＣＦ２Ｏ−Ｃｓ基からフッ化セシウムを脱離させ、両末端がカルボン酸フルオリド基を有するパーフルオロポリエーテルを得た。このパーフルオロポリエーテル３０２．１１ｇ（３０ｍｍｏｌ）にジエチルエーテル３００．００ｇを加え、アイスバスにより冷却しながら、窒素雰囲気下、１．０Ｍのメチルマグネシウムヨージドのジエチルエーテル溶液を９０ｍｌ（９０ｍｍｏｌ）滴下し、３０分間加熱還流した。室温に放冷後、８×１０２Ｐａにて減圧留去してジエチルエーテルを除去し、８５重量％のリン酸を５．００ｇ加え、オイルバスにより１５０℃に保ちながら１時間攪拌した。水で洗浄した後、ろ過して得られた溶液を１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して上記式Ａで示した液状のパーフルオロポリエーテルを得た。次に上記式Ａの液状のパーフルオロポリエーテル２０１．４０ｇ（２０ｍｍｏｌ）にトリフルオロキシレン５０．００ｇを加えた。攪拌しながら、塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（塩化白金酸２質量％）を０．０５ｇ加えた。オイルバスにより、１００℃に保ちながら、式Ａ−１で示されるシラン化合物５．１６ｇ（６０ｍｍｏｌ）を滴下ロートを用いて滴下し２時間攪拌した。
【化１２】
2011112920.tif 000013
【００３８】
混合物を室温まで放冷した後、ろ過して得られた溶液を１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して下記式Ａ−２に示されるパーフルオロポリエーテル１を得た。
【化１３】
2011112920.tif 000014
上記式Ａ−２中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。
【００３９】
（製造例２）パーフルオロポリエーテル２
【化１４】
2011112920.tif 000015
上記式Ｂ中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。式Ｂで示す化合物は、前記式Ａで示す化合物を用いて作製する。式Ａで示す化合物３０２．１０ｇ（３０ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を３００．００ｇ加え、室温、窒素雰囲気下、１．０ＭのボランのＴＨＦ溶液を１５ｍｌ滴下した。１時間攪拌した後、水５．００ｇ、３．０Ｍの水酸化ナトリウム水を５ｍｌ、３０重量％過酸化水素水を５．００ｇ加えて、さらに１時間攪拌した。水で洗浄した後、ろ過して得られた溶液を１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して式Ｂで示す化合物を得た。得られた式Ｂで示す両末端にヒドロキシル基を有する液状のパーフルオロポリエーテル化合物１５１．５９ｇ（１５ｍｍｏｌ）にトリフルオロキシレン５０．００ｇを加えた。攪拌しながら、下記式Ｂ−１で示されるシラン化合物４．６０ｇ（２０ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシドを０．００５ｇ加えた。オイルバスにて１５０℃に保ちながら３時間攪拌した。
【化１５】
2011112920.tif 000016
【００４０】
１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して下記式Ｂ−２に示されるパーフルオロポリエーテル２を得た。
【化１６】
2011112920.tif 000017
上記式Ｂ−２中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。
【００４１】
（製造例３）パーフルオロポリエーテル３
式Ｃで示す化合物は、製造例１に記載の両末端がカルボン酸フルオリド基を有するパーフルオロポリエーテルを用いて作製する。このパーフルオロポリエーテル３０２．１１ｇ（３０ｍｍｏｌ）にジエチルエーテル３００．００ｇを加えた。この溶液を、水素化アルミニウムリチウム１．０３ｇとジエチルエーテル５０．００ｇからなる溶液に滴下し、１時間攪拌する。アイスバスで冷却しながら１０重量％重曹水を１０ｇ加えた後、水で洗浄し、ろ過して得られた溶液を１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して式Ｃで示す化合物を得た。製造例２における式Ｂで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を式Ｃで示すパーフルオロポリエーテル化合物１５１．１７ｇ（１５ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例２と同様にして製造し、下記式Ｃ−１に示すパーフルオロポリエーテル３を得た。
【化１７】
2011112920.tif 000018
上記式Ｃ中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。
【化１８】
2011112920.tif 000019
上記式Ｃ−１中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。
【００４２】
（製造例４）パーフルオロポリエーテル４
製造例１中に記載の方法にて作製した下記式Ｄで示す両末端に酸フルオライド基を有する液状のパーフルオロポリエーテル化合物１５１．６２ｇ（１５ｍｍｏｌ）にトリフルオロキシレン５０．００ｇを加えた。攪拌しながら、２０℃において、式Ｄ−１で示されるアミノ変性シラン化合物１４．４６ｇ（６０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン５．０５ｇ（５０ｍｍｏｌ）加えた。オイルバスにて６０℃に保ちながら２時間攪拌した。
【化１９】
2011112920.tif 000020
上記式Ｄ中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。
【化２０】
2011112920.tif 000021
【００４３】
１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して下記式Ｄ−２に示されるパーフルオロポリエーテル４を得た。
【化２１】
2011112920.tif 000022
上記式Ｄ−２中、ａとｃの和の平均が６０、ｂは４である。
【００４４】
（製造例５）パーフルオロポリエーテル５
製造例４において式Ｄで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｅで示すパーフルオロポリエーテル化合物７５．０６ｇ（１５ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ｄ−１で示されるアミノ変性シラン化合物を式Ｅ−１で示すアミノ変性シラン化合物１３．５０ｇ（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例４と同様にして下記式Ｅ−２で示すパーフルオロポリエーテル５を得た。
【化２２】
2011112920.tif 000023
上記式Ｅ中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。）
【化２３】
2011112920.tif 000024
【化２４】
2011112920.tif 000025
上記式Ｅ−２中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００４５】
（製造例６）パーフルオロポリエーテル６
製造例１において、式Ａで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した下記式Ｆで示すパーフルオロポリエーテル化合物１０３．４８ｇ（２０ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ａ−１で示されるシラン化合物を式Ｆ−１で示すシラン化合物８．８８グラム（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例１と同様にして下記式Ｆ−２に示すパーフルオロポリエーテル６を得た。
【化２５】
2011112920.tif 000026
上記式Ｆ中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは４である。
【化２６】
2011112920.tif 000027
【化２７】
2011112920.tif 000028
上記式Ｆ−２中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは４である。
【００４６】
（製造例７）パーフルオロポリエーテル７
製造例２において式Ｂで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｇで示すパーフルオロポリエーテル化合物８１．０３ｇ（１５ｍｍｏｌ）に変更した。また式Ｂ−１で示されるシラン化合物を式Ｇ−１で示すシラン化合物１２．１２ｇ（２０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例２と同様にして式Ｇ−２に示すパーフルオロポリエーテル７を得た。
【化２８】
2011112920.tif 000029
上記式Ｇ中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは６である。
【化２９】
2011112920.tif 000030
【化３０】
2011112920.tif 000031
上記式Ｇ−２中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは６である。
【００４７】
（製造例８）パーフルオロポリエーテル８
【化３１】
2011112920.tif 000032
上記式Ｈ中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００４８】
上記式Ｈで示される両末端に酸フルオライド基を有するパーフルオロポリエーテル化合物７５．０６ｇ（１５ｍｍｏｌ）にトリフルオロキシレン５０．００ｇを加えた。攪拌しながら、２０℃において、式Ｈ−１で示されるアミノ変性シラン化合物１１．５８ｇ（６０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミンを５．０５ｇ（５０ｍｍｏｌ）加えた。オイルバスにて６０℃に保ちながら２時間攪拌した。
【化３２】
2011112920.tif 000033
【００４９】
混合物を室温まで放冷した後、ろ過して得られた溶液を１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去した。トリフルオロキシレン50.00ｇを加えた後、オイルバスにて１００℃に加熱した後、塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（塩化白金酸２質量％）を０．０５ｇ加えた。オイルバスにて１００℃に保ちながら、式Ｈ−２で示されるシラン化合物６．２４ｇ（３０ｍｍｏｌ）を滴下ロートを用いて滴下し２時間攪拌した。
【化３３】
2011112920.tif 000034
【００５０】
混合物を室温まで放冷した後、ろ過して得られた溶液を１００℃、８×１０２Ｐａにて減圧留去して、式１中のＸが下記式Ｈ−３に示す構造を有し、かつ、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２であるパーフルオロポリエーテル８を得た。
式Ｈ−３
HSi(CH3)2-[OSi(CH3)2]1-OSi(CH3)2-CH2CH2-Si(CH3)2-C6H4-N(CH3)CO-
【００５１】
（製造例９）パーフルオロポリエーテル９
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Iで示すシラン化合物８．４６ｇ（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして式１中のＸが下記式I−１に示す構造を有し、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２であるパーフルオロポリエーテル９を得た。
【化３４】
2011112920.tif 000035
式Ｉ−１
HSi(CH3)2-[OSi(CH3)2]2-OSi(CH3)2-CH2CH2-Si(CH3)2-C6H4-N(CH3)CO-
【００５２】
（製造例１０）パーフルオロポリエーテル１０
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Ｊで示すシラン化合物１０．６８ｇ（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして式１中のＸが下記式Ｊ−１に示す構造を有し、かつ、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２であるパーフルオロポリエーテル１０を得た。
【化３５】
2011112920.tif 000036
式Ｊ−１
HSi(CH3)2-[OSi(CH3)2]3-OSi(CH3)2-CH2CH2-Si(CH3)2-C6H4-N(CH3)CO-
【００５３】
（製造例１１）パーフルオロポリエーテル１１
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Ｋで示すシラン化合物１１．２８ｇ（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして式１中のＸが下記式Ｋ−１に示す構造を有し、かつ、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２であるパーフルオロポリエーテル１１を得た。
【化３６】
2011112920.tif 000037
式Ｋ−１
HSi(C3H7)2-[OSi(C3H7)2]1-OSi(C3H7)2-CH2CH2-Si(CH3)2-C6H4-N(CH3)CO-
【００５４】
（製造例１２）パーフルオロポリエーテル１２
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Ｌで示すシラン化合物３．６００ｇ（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして下記式Ｌ−１に示すパーフルオロポリエーテル１２を得た。
【化３７】
2011112920.tif 000038
【化３８】
2011112920.tif 000039
上記式Ｌ−１中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００５５】
（製造例１３）パーフルオロポリエーテル１３
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Ｍで示すシラン化合物５．８２g（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして下記式Ｍ−１に示すパーフルオロポリエーテル１３を得た。
【化３９】
2011112920.tif 000040
【化４０】
2011112920.tif 000041
上記式Ｍ−１中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００５６】
（製造例１４）パーフルオロポリエーテル１４
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Ｎで示すシラン化合物８．０４ｇ（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして下記式Ｎ−１に示すパーフルオロポリエーテル１４を得た。
【化４１】
2011112920.tif 000042
【化４２】
2011112920.tif 000043
上記式Ｎ−１中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００５７】
（製造例１５）パーフルオロポリエーテル１５
製造例８において、式Ｈ−２で示されるシラン化合物を式Ｏで示すシラン化合物１６．９２ｇ（３０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例８と同様にして下記式Ｏ−１に示すパーフルオロポリエーテル１５を得た。
【化４３】
2011112920.tif 000044
【化４４】
2011112920.tif 000045
上記式Ｏ−１中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００５８】
（製造例１６）パーフルオロポリエーテル１６
製造例２において、式Ｂに示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｐに示すパーフルオロポリエーテル化合物３１．３５ｇ（１５ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例２と同様にして下記式Ｐ−１に示すパーフルオロポリエーテル１６を得た。
【化４５】
2011112920.tif 000046
上記式Ｐ中、ａとｃの和の平均が１０、ｂは２である。
【化４６】
2011112920.tif 000047
上記式Ｐ−１中、ａとｃの和の平均が３０、ｂは２である。
【００５９】
（製造例１７）パーフルオロポリエーテル１７
製造例１において式Ａに示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｑで示すパーフルオロポリエーテル化合物２９．３７ｇ（２０ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ａ−１に示されるシラン化合物を式Ｑ−１で示されるシラン化合物１１．１６ｇ（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例１と同様にして下記式Ｑ−２に示すパーフルオロポリエーテル１７を得た。
【化４７】
2011112920.tif 000048
上記式Ｑ中、ａとｃの和の平均が１０、ｂは２である。
【化４８】
2011112920.tif 000049
【化４９】
2011112920.tif 000050
上記式Ｑ−２中、ａとｃの和の平均が１０、ｂは２である。
【００６０】
（製造例１８）パーフルオロポリエーテル１８
製造例４において、式Ｄで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｒで示すパーフルオロポリエーテル化合物３１．６２ｇ（１５ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ｄ−１で示されるアミノ変性シラン化合物を式Ｒ−１で示すアミノ変性シラン化合物１１．５８ｇ（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例４と同様にして下記式Ｒ−２で示すパーフルオロポリエーテル１８を得た。
【化５０】
2011112920.tif 000051
上記式Ｒ中、ａとｃの和の平均が１０、ｂは２である。
【化５１】
2011112920.tif 000052
【化５２】
2011112920.tif 000053
上記式Ｒ−２中、ａとｃの和の平均が１０、ｂは２である。
【００６１】
（製造例１９）パーフルオロポリエーテル１９
製造例４において式Ｄで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｓで示すパーフルオロポリエーテル化合物２４５．９４ｇ（１５ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ｄ−１で示されるアミノ変性シラン化合物を式Ｓ−１で示すアミノ変性シラン化合物１６．６２ｇ（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例４と同様にして下記式Ｓ−２に示すパーフルオロポリエーテル１９を得た。
【化５３】
2011112920.tif 000054
上記式Ｓ中、ａとｃの和の平均が１００、ｂは２である。
【化５４】
2011112920.tif 000055
【化５５】
2011112920.tif 000056
上記式Ｓ−２中、ａとｃの和の平均が１００、ｂは２である。
【００６２】
（製造例２０）パーフルオロポリエーテル２０
製造例１９の式Ｓ−１に示されるアミノ変性シラン化合物を式Ｔに示すアミノ変性シラン化合物９．９０ｇ（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例１９と同様にして下記式Ｔ−１に示すパーフルオロポリエーテル２０を得た。
【化５６】
2011112920.tif 000057
【化５７】
2011112920.tif 000058
上記式Ｔ−１中、ａとｃの和の平均が１００、ｂは２である。
【００６３】
（製造例２１）パーフルオロポリエーテル２１
製造例１７の式Ｑに示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｕに示すパーフルオロポリエーテル化合物３２９．４０ｇ（２０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例１７と同様にして下記式Ｕ−１に示すパーフルオロポリエーテル２１を得た。
【化５８】
2011112920.tif 000059
上記式Ｕ中、ａとｃの和の平均が１００、ｂは２である。
【化５９】
2011112920.tif 000060
上記式Ｕ−１中、ａとｃの和の平均が１００、ｂは２である。
【００６４】
（製造例２２）パーフルオロポリエーテル２２
製造例１において式Ａで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｖで示すパーフルオロポリエーテル化合物１０３．４８ｇ（２０ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ａ−１で示されるシラン化合物を式Ｖ−１で示すシラン化合物８．８８ｇ（６０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例１と同様にして下記式Ｖ−２に示すパーフルオロポリエーテル２２を得た。
【化６０】
2011112920.tif 000061
上記式Ｖ中、ａとｃの和の平均が２００、ｂは４である。
【化６１】
2011112920.tif 000062
【化６２】
2011112920.tif 000063
（式中、ａとｃの和の平均が２００である。ｂは４である。）
【００６５】
（製造例２３）パーフルオロポリエーテル２３
製造例４において、式Ｄで示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｗで示すパーフルオロポリエーテル化合物１６１．９８ｇ（５ｍｍｏｌ）に変更した。また、式Ｄ−１で示されるアミノ変性シラン化合物を式Ｗ−１で示されるアミノ変性シラン化合物３．９０ｇ（２０ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例４と同様にして下記式Ｗ−２に示すパーフルオロポリエーテル２３を得た。
【化６３】
2011112920.tif 000064
上記式Ｗ中、ａとｃの和の平均が２００、ｂは４である。
【化６４】
2011112920.tif 000065
【化６５】
2011112920.tif 000066
上記式Ｗ−２中、ａとｃの和の平均が２００、ｂは４である。
【００６６】
（製造例２４）パーフルオロポリエーテル２４
製造例２において式Ｂに示されるパーフルオロポリエーテル化合物を同様の手順にて作製した式Ｘに示すパーフルオロポリエーテル化合物１６２．５３ｇ（５ｍｍｏｌ）に変更した。それ以外は製造例２と同様にして下記式Ｘ−１に示すパーフルオロポリエーテル２４を得た。
【化６６】
2011112920.tif 000067
上記式Ｘ中、ａとｃの和の平均が２００、ｂは４である。
【化６７】
2011112920.tif 000068
上記式Ｘ−１中、ａとｃの和の平均が２００、ｂは４である。
【００６７】
（製造例２５）複合導電性微粒子１
シリカ粒子（平均粒子径１５ｎｍ、体積抵抗率２．０×１０１２Ω・ｃｍ）５．０ｋｇに、メチルハイドロジェンポリシロキサン１００ｇを、エッジランナーを稼動させながら添加し、５８８Ｎ／ｃｍ（６０ｋｇ／ｃｍ）の線荷重で３０分間混合攪拌を行った。この時の攪拌速度は２２ｒｐｍであった。その中に、カーボンブラック粒子（粒子径１８ｎｍ、体積抵抗率２．１×１０-１Ω・ｃｍ、ｐＨ３．５）５．０ｋｇを、エッジランナーを稼動させながら１０分間かけて添加し、更に５８８Ｎ／ｃｍ（６０ｋｇ／ｃｍ）の線荷重で６０分間混合攪拌を行った。このようにしてメチルハイドロジェンポリシロキサンを被覆したシリカ粒子の表面にカーボンブラックを付着させた後、乾燥機を用いて８０℃で６０分間乾燥を行い、複合導電性微粒子１を得た。この時の攪拌速度は２２ｒｐｍであった。なお、得られた複合導電性微粒子１は平均粒径が１５ｎｍ、体積抵抗率は２．１×１０２Ω・ｃｍであった。
【００６８】
（製造例２６）複合導電性微粒子２
製造例２５のカーボンブラック粒子の添加量を２．５ｋｇとした以外は、製造例２５と同様に製造した。得られた複合導電性微粒子２は平均粒径が１５ｎｍ、体積抵抗率は３．５×１０２Ω・ｃｍであった。
【００６９】
（製造例２７）複合導電性微粒子３
製造例２５のカーボンブラック粒子の添加量を１０．０ｋｇとした以外は、製造例２５と同様に製造した。得られた複合導電性微粒子３は平均粒径が１６ｎｍ、体積抵抗率は１．１×１０２Ω・ｃｍであった。
【００７０】
（製造例２８）複合導電性微粒子４
製造例２５のシリカ粒子の添加量を１．０ｋｇ、カーボンブラック粒子の添加量を９．０ｋｇとした以外は、製造例２５と同様に製造した。得られた複合導電性微粒子４は平均粒径が１８ｎｍ、体積抵抗率は１．５×１０１Ω・ｃｍであった。
【００７１】
（製造例２９）導電性弾性ローラ
下記表１−１に示した原料を１００℃に温度調節した加圧式ニーダーにて１０分間混練した。更に、加硫促進剤としてのテトラメチルチウラムモノスルフィド１質量部、加硫剤としての硫黄２質量部を加えて更に１０分間、温度２５℃に調節したオープンロールで混練して原料コンパウンドを調製した。
【表１】
2011112920.tif 000069
【００７２】
直径６ｍｍ、長さ２５２．５ｍｍの鋼製円柱形状シャフトの表面をニッケルメッキ加工した導電性の支持体を用意した。この支持体の両端を除く幅２３０ｍｍの領域に、熱硬化性接着剤（カーボン含有量２質量％、メチルイソブチルケトン含有量５０質量％）を塗布し、温度８０℃で３０分間で加熱し、更に温度１６０℃で３０分間で加熱して接着層を硬化させた。
【００７３】
一方、得られた原料コンパウンドをゴム押出機（内径５０ｍｍ、Ｌ／Ｄ  ２０）により、スクリュー回転数１５ｒｐｍ、シリンダ温度、ヘッド温度を７０℃に温度調節した条件にて導電性支持体の周囲にローラ状になるように成形した。ローラ状の成形物を電気オーブンにて１６０℃で３０分、加硫および接着剤の硬化を行った。次に、ゴム部分の両端部を除去し、弾性層部分の長手方向幅を２３２ｍｍとした。その後、ゴム部分をプランジ研磨機（砥石  ＧＣ１２０、砥石径  φ３００ｍｍ、砥石回転数  ２５００ｒｐｍ、ワーク回転数  ３３３ｒｐｍ）により研磨し、端部直径８．３ｍｍ、中央部直径８．５ｍｍのクラウン形状の導電性弾性ローラを得た。導電性弾性ローラはローラ抵抗が１×１０６Ω、表面粗さはＲｚｊｉｓ１９９４が４．５μｍ、硬度は８０度（アスカーＣ）であった。
【００７４】
（実施例１）
［表面層塗料の作製］  表面層塗料
カプロラクトン変性アクリルポリオール溶液（水酸基価  ８０）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が１４質量％となるように調整した。この溶液７１４．３質量部（アクリルポリオール固形分１００質量部）に対して、下記表１−２に示した成分を加え、混合溶液を調製した。
【表２】
2011112920.tif 000070
【００７５】
（＊１）ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）とイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の各ブタノンオキシムブロック体の７：３混合物。
（＊２）パーフルオロポリエーテル１を５０％溶解させたトリフルオロキシレン溶液を用意し、パーフルオロポリエーテル１がアクリルポリオール固形分１００質量部に対して、上記質量部になるように添加したもの。
【００７６】
上記の混合溶液において、ブロックイソシアネート混合物（＊１）は、イソシアネート量としては「ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０」となる量であった。
【００７７】
内容積４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２００ｇを、メディアとしての平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇと共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて１８時間分散した。分散した後、平均粒子径が１０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂粒子を２．３５ｇ添加した。その後、１時間分散し、ガラスビーズを除去して表面層形成用の塗料を得た。
【００７８】
［帯電ローラの作製］
上記塗料を用いて、製造例２９で作製した導電性弾性ローラにディッピング塗布を施した。ディッピング塗布は以下の通りに行った。すなわち、ディッピング塗布降下速度は３０ｍｍ／ｓ、浸漬時間９秒、ディッピング塗布引き上げ速度は、初期速度２０ｍｍ／ｓ、最終速度２ｍｍ／ｓ、その間は、時間に対して直線的に速度を変化させて行った。その後、常温で３０分間以上風乾し、次いで、温度８０℃の熱風循環乾燥機中で１時間、更に温度１６０℃で１時間乾燥して、導電性の弾性層上に表面層を形成して、帯電ローラを得た。
【００７９】
［帯電ローラの抵抗測定］
図４に示す電気抵抗値測定用の機器を用いて、帯電ローラの電気抵抗を測定した。  まず、帯電ローラを軸受け３３により、円柱形金属３２（直径３０ｍｍ）に対して帯電ローラが平行になるように当接させる（図４（ａ））。図４（ａ）において、１は導電性支持体、５は帯電ローラを示す。次に、図示しないモータにより周速４５ｍｍ／ｓで回転駆動される円柱形金属３２に従い、帯電ローラが従動回転する。従動回転中、図４（b）の様に、安定化電源３４から直流電圧−２００Ｖを印加し、帯電ローラに流れる電流値を電流計３５で測定する。印加電圧及び電流値から帯電ローラの抵抗を算出した。帯電ローラは、Ｎ／Ｎ（常温常湿：２３℃／５５％ＲＨ）環境に２４時間以上放置した後に電気抵抗値を測定した。帯電ローラの電気抵抗値は、６．５×１０５Ωであった。
【００８０】
［Ｃセット画像評価試験］
図２に示す構成を有する電子写真装置として、キヤノン社製カラーレーザープリンター（カラーレーザージェット３８００）を記録メディアの出力スピード２００ｍｍ／ｓ（Ａ４縦出力）に改造して用いた。画像の解像度は、６００ｄｐｉ、１次帯電の出力は直流電圧−１１００Ｖである。図３に示す構成を有するプロセスカートリッジとして、上記プリンター用のブラック用プロセスカートリッジを用いた。上記プロセスカートリッジに評価する帯電ローラを装着した。そして、図５に示すように、帯電ローラ５を感光体４に対して、一端で４．９Ｎ、両端で合計９．８Ｎのバネによる押し圧力で当接させた。図５において１は導電性支持体を示す。このプロセスカートリッジを４０℃、９５％ＲＨ環境に１ヶ月間置いた。次に、プロセスカートリッジを２３℃／５５％ＲＨ環境に６時間置いた後、前記電子写真装置に装着し、同様の環境にて画像を出力した。出力した画像についてＣセット画像の評価を行った。評価結果を表２に示す。ここで、評価の基準は以下の通りである。
ランク１：Ｃセット画像の発生は無し。
ランク２：画像に軽微なスジが認められる。
ランク３：画像に帯電ローラのピッチで生じたスジが認められる。
ランク４：画像に多くのスジが認められる。
【００８１】
［Ｃセット量の測定］
画像出力後、プロセスカートリッジから帯電ローラを取り外し、Ｃセット部及び非Ｃセット部における帯電ローラの半径をそれぞれ測定した。非Ｃセット部の半径とＣセット部の半径の差がＣセット量である。測定は、東京光電子工業（株）の全自動ローラ測定装置を用いた。帯電ローラ長手中央部、及び、その中央部から左右それぞれ９０ｍｍ位置の３個所について、帯電ローラを１°ずつ回転させ、Ｃセット部、非Ｃセット部に対応する位置の半径を測定した。次に非Ｃセット部の半径の最大値とＣセット部の半径の最小値の差を算出した。３箇所の中で最も半径の差が大きい値を本発明のＣセット量とした。本発明の帯電ローラは、Ｃセット画像は未発生のランク１であり、良好な画像が得られた。
【００８２】
（実施例２〜４）
複合粒子の種類および添加量を表２−１に示したように変更した以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製した。表２−１の質量部は前記アクリルポリオール固形分１００質量部に対しての質量部である。作製した帯電ローラについて実施例１と同様にして評価した。
【表３】
2011112920.tif 000071
【００８３】
（実施例５〜８）
実施例１におけるパーフルオロポリエーテル１をパーフルオロポリエーテル１８に変え、添加量を０.１質量部、１０質量部、３０質量部または４０質量部に変えた。それら以外は、実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様にして評価した。
【００８４】
（実施例９〜１１）
実施例１におけるパーフルオロポリエーテル１をパーフルオロポリエーテル２、３または４に変更した以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様にして評価した。
【００８５】
（実施例１２）
カプロラクトン変性アクリルポリオール溶液（水酸基価  ８０）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が１５質量％となるように調整した。この溶液６６６．６質量部（アクリルポリオール固形分１００質量部）に対して下記表１−３の材料を加えて混合溶液を調製した。
【表４】
2011112920.tif 000072
（＊１）は、実施例１に同じ。また、上記の混合溶液において、ブロックイソシアネート混合物（＊１）は、イソシアネート量としては「ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０」となる量であった。
【００８６】
内容積４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２００ｇを、メディアとしての平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇと共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて２４時間分散した。分散した後、平均粒子径が１０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂粒子を２．５５ｇ添加した。その後、１時間分散し、ガラスビーズを除去して表面層形成用の塗料を得た。この塗料を用いた以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様にして評価した。
【００８７】
（実施例１３〜２２）
実施例１２におけるパーフルオロポリエーテル５をパーフルオロポリエーテル６〜１５に変更した以外は実施例１２と同様にして帯電ローラを作製し、を実施例１と同様にして評価した。
【００８８】
（実施例２３）
カプロラクトン変性アクリルポリオール溶液（水酸基価  ８０）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が１６質量％となるように調整した。この溶液６２５．０質量部（アクリルポリオール固形分１００質量部）に対して、下記表１−４成分を加え、混合溶液を調製した。
【表５】
2011112920.tif 000073
【００８９】
（＊１）は実施例１に同じ。また、上記の混合溶液において、ブロックイソシアネート混合物は、イソシアネート量としては「ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０」となる量であった。
【００９０】
内容積４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２００ｇを、メディアとしての平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇと共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて２４時間分散した。分散した後、平均粒子径が１０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂粒子を３．２０ｇ添加した。その後、その後、１時間分散し、ガラスビーズを除去して表面層形成用の塗料を得た。この塗料を用いた以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様にして評価した。
【００９１】
（実施例２４〜２８）
実施例２３におけるパーフルオロポリエーテル１６をパーフルオロポリエーテル１７〜２１に変更した以外は実施例２３と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様にして評価した。
【００９２】
（実施例２９）
フッ素変性ポリオール溶液（水酸基価  ３２）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が２０質量％となるように調整した。この溶液５００．０質量部（フッ素変性ポリオール固形分１００質量部）に対して、下記表１−５に示した成分を加え混合溶液を調製した。
【表６】
2011112920.tif 000074
【００９３】
（＊１）は実施例１に同じ。（＊３）はパーフルオロポリエーテル２２を５０％溶解させたトリフルオロキシレン溶液を用意し、パーフルオロポリエーテル２２がフッ素変性ポリオール固形分１００質量部に対して、上記質量部になるように添加したもの。  
【００９４】
内容積４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２００ｇを、メディアとしての平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇと共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて１２時間分散した。分散した後、平均粒子径が１０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂粒子を３．２０ｇ添加した。その後、１時間分散し、ガラスビーズを除去して表面層形成用の塗料を得た。この塗料を用いた以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様に評価した。
【００９５】
（実施例３０及び３１）
実施例２９におけるパーフルオロポリエーテル２２をパーフルオロポリエーテル２３または２４に変更した以外は実施例２９と同様に帯電ローラを作製し、実施例１と同様に評価した。
【００９６】
（比較例１）
パーフルオロポリエーテルを添加しない以外は実施例１２と同様にして帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラについて、実施例１と同様に評価した。
【００９７】
（比較例２）
フッ素変性ポリオール溶液（水酸基価  ３２）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が２１質量％となるように調整した。この溶液４７６．１質量部（フッ素変性ポリオール固形分１００質量部）に対して、下記表１−６の成分を加え、混合溶液を調製した。
【表７】
2011112920.tif 000075
【００９８】
（＊１）は実施例１に同じ。また、上記混合溶液において、ブロックイソシアネート混合物は、イソシアネート量としては「ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０」となる量であった。
【００９９】
内容積４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２００ｇを、メディアとしての平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇと共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて１２時間分散した。分散した後、平均粒子径が１０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂粒子を２．００ｇ添加した。その後、１時間分散し、ガラスビーズを除去して表面層形成用の塗料を得た。この塗料を用いた以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様に評価した。
【０１００】
（比較例３）
実施例１２においてパーフルオロポリエーテル５を式Yに示すパーフルオロポリエーテル２５に変更した以外は実施例１２と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様に評価した。
【化６８】
2011112920.tif 000076
（アウシモント社  ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｚ  ＤＯＬ  ｐ／ｑ＝１）  
【０１０１】
（比較例４）
実施例１２においてパーフルオロポリエーテル５を式Ｚに示すパーフルオロオクチルエチルトリメトキシシランに変更した以外は実施例１２と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様に評価した。
【化６９】
2011112920.tif 000077
【０１０２】
（比較例５）
カプロラクトン変性アクリルポリオール溶液（水酸基価  ８０）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が１５質量％となるように調整した。この溶液６６６．６質量部（アクリルポリオール固形分１００質量部）に対して、下記表１−７の成分を加え、混合溶液を調製した。
【表８】
2011112920.tif 000078
（＊１）は実施例１に同じ。また、上記混合溶液において、ブロックイソシアネート混合物は、イソシアネート量としては「ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０」となる量であった。
【０１０３】
内容積４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２００ｇを、メディアとしての平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇと共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて２４時間分散した。分散した後、平均粒子径が１０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂粒子を２．５４ｇ添加した。その後、１時間分散し、ガラスビーズを除去して表面層形成用の塗料を得た。この塗料を用いた以外は実施例１と同様にして帯電ローラを作製し、実施例１と同様に評価した。
【０１０４】
上記各実施例および比較例の評価結果を下記表２に示す。
【表９】
2011112920.tif 000079
【符号の説明】
【０１０５】
１    導電性支持体
２    弾性層
３    表面層
４    感光体
【図１】
2011112920.tif 000084
【図２】
2011112920.tif 000085
【図３】
2011112920.tif 000086
【図４】
2011112920.tif 000087
【図５】
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