(57)【要約】      （修正有）【課題】印画物に確実にセミグロス感を付与するとともに耐久性に優れた保護層転写シートを提供する。【解決手段】基材シート１と転写層１１とからなる保護層転写シートであって、転写層は、基材シート側から、保護層２、凹凸層３、ヒートシール層４とがこの順で積層されてなり、凹凸層は、ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて被転写体上に転写層を転写した際に、保護層表面に微細凹凸部を発現させる。【選択図】図１
2011000865.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材シートと転写層とからなる保護層転写シートであって、
前記転写層は、基材シート側から、保護層、凹凸層、ヒートシール層とがこの順で積層されてなり、
前記凹凸層は、前記ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、
被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて当該被転写体上に前記転写層を転写した際に、前記保護層表面に微細凹凸部が発現することを特徴とする保護層転写シート。
【請求項２】
前記凹凸層が有する前記凹凸部の十点平均粗さをＲｚとした場合に、Ｒｚが２μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の保護層転写シート。
【請求項３】
前記凹凸層が、少なくともセルロース系樹脂とアクリル樹脂を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の保護層転写シート。
【請求項４】
前記転写層が前記基材シートの表面の一部に形成され、当該基材シートの表面に当該転写層と面順次に１色以上の昇華性染料層又は１色以上の熱溶融型色彩層である着色熱転写層が形成されてなる請求項１乃至３のいずれか１項に記載の保護層転写シート。
【請求項５】
前記基材シートの他方の面に、耐熱潤滑層が設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の保護層転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護層転写シートに関し、さらに詳しくは印画物に耐久性と、優れたセミグロス感を付与することのできる保護層転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、昇華性染料を色材とする色材層をポリエステルフィルム等の基材シートに担持させた熱転写シートと、被転写材、例えば、紙やプラスチックフィルム等に受容層を形成した受像シートを重ね合わせ、昇華染料を受像シートに転写することで画像を得る昇華転写方式が知られている。このような昇華転写方式によれば、熱転写シートに印加するエネルギー量によってドット単位で染料の移行量を制御出来るため濃度階調が可能であることから、画像が非常に鮮明であり、且つ透明性、中間調の色再現性、階調性に優れフルカラー写真画像に匹敵する高品質の印画物を形成することができる。このような特徴を有する昇華転写方式は、上述の優れた性能とともに、今日のマルチメディアに関連したさまざまなハ−ドおよびソフトの発達により、コンピュ−タグラフィックス、衛生通信による静止画像そしてＣＤＲＯＭその他に代表されるデジタル画像およびビデオ等のアナログ画像のフルカラ−ハ−ドコピ−システムとして、急速にその市場を拡大している。
【０００３】
しかしながら感熱昇華転写方式は、上記の如く階調性画像の形成に優れるものの、形成された印画物は通常の印刷インキによるものとは異なり、色材が顔料でなく比較的低分子量の染料であり且つビヒクルが存在しないため、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性に劣ると言う欠点を有する。そこで、近時、昇華染料の熱転写によって得られた印画物上に、熱転写性樹脂層を有する保護層熱転写シートを重ね合わせ、サーマルヘッドや加熱ロール等を用いて熱転写性樹脂層を転写させ、印画物上に保護層を形成する方法が知られている。このように画像上に保護層を形成することで画像の耐久性を向上させることができる。
【０００４】
また、表面に保護層を有する印画物は、その用途によっては表面が高光沢性を有するものでなく、コート紙の様な非光沢性（セミグロス感）の風合の印画物を得たいとの市場の根強い要望がある。ここで印画物にセミグロス感を付与させる方法として、例えば特許文献１には、熱転写時の加熱量を可変制御して保護層の表面光沢量を可変させることについての記載がされている。また、特許文献２には、基材上に離型層、保護層を面順次に積層した保護層熱転写シートにおいて、離型層にフィラー（粒子）を含有させることで、離型層の上に積層される保護層を凹凸にさせることについての記載がされている。また、特許文献３には、熱転写後の印画物を表面が凹凸形状を有するエンボス版を型押しすることで印画物表面にセミグロス感を付与することについて記載がされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１２２７５６号公報
【特許文献２】特開２００４−１０６２６０号公報
【特許文献３】特開２００６−１８２０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、印画物表面に深い凹凸を形成することができず所望のセミグロス感を付与することができない。また、特許文献２に記載の方法では色材受容層表面にフィラーが存在することから、印画物にざらつきや濃度むら、白抜けが生じてしまう。また、特許文献３によれば、エンボス板の凹凸パターンによっては印画物に一定のセミグロス感を付与することができるものの、印画物形成後別途印画物表面（保護層）に凹凸を設けねばならず製造コストの点から好ましくない。特に、保護層にエンボス版を押しあてることにより保護層表面に凹凸を形成した場合には、保護層の厚さにばらつきが生じ保護層の機能である耐久性を著しく低下させる恐れがある。
【０００７】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、印画物に確実にセミグロス感を付与するとともに耐久性に優れた保護層転写シートを提供することを主たる課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための本発明は、基材シートと転写層とからなる保護層転写シートであって、前記転写層は、基材シート側から、保護層、凹凸層、ヒートシール層とがこの順で積層されてなり、前記凹凸層は、前記ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて当該被転写体上に前記転写層を転写した際に、前記保護層表面に微細凹凸部が発現することを特徴とする。
【０００９】
また、前記凹凸層が有する前記凹凸部の十点平均粗さをＲｚとした場合に、Ｒｚが
２μｍ以上１０μｍ以下であってもよい。また、前記凹凸層が、少なくともセルロース系樹脂とアクリル樹脂を含んでいてもよい。
【００１０】
また、前記転写層が前記基材シートの表面の一部に形成され、当該基材シートの表面に当該転写層と面順次に１色以上の昇華性染料層又は１色以上の熱溶融型色彩層である着色熱転写層が形成されていてもよい。
【００１１】
また、前記基材シートの他方の面に、耐熱潤滑層が設けられていてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の保護層転写シートによれば、別途、保護層表面に凹凸を設ける工程を行うことなく印画物に確実にセミグロス感を付与することができるとともに、保護層が転写された印画物の耐久性を低下させることもない。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本願発明の保護層転写シートの層構成を示す概略断面図である。
【図２】被転写体上に転写層が転写される前の保護層転写シートの概略断面図である。
【図３】被転写体上に転写層が転写された後の印画物の概略断面図である
【図４】凹凸層の表面状態の一例を表す図である。
【図５】着色熱転写層が形成された本願発明の保護層転写シートの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本発明の保護層転写シートについて図面を用いて具体的に説明する。図１に示すように本発明の保護層転写シート１０は、基材シート１と、基材シート１側から、保護層２、凹凸層３、ヒートシール層４とがこの順で積層された転写層１１とから形成されている。ここで、本発明の保護層転写シートは、被転写体２０と保護層転写シート１０とを重ね合わせて当該被転写体２０上に前記転写層１１を転写した際に、保護層２の表面に微細凹凸部が発現するように凹凸層３の表面に予め微細凹凸部が設けられている点に特徴を有する。
【００１５】
以下、保護層転写シートを構成する各層について図１を用いてさらに詳細に説明する。
【００１６】
（基材シート）
基材シート１は本発明の保護層転写シート１０における必須の構成であり、保護層２を保持するために設けられる。基材シートの材料については特に限定されないが、転写層１１を被転写体２０上に転写する際に加えられる熱に耐え、取り扱い上支障のない機械的特性を有することが望ましい。このような基材として、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等の各種プラスチックフィルムまたはシートを挙げることができる。また、基材シート１の厚さは、その強度及び耐熱性が適切になるように材料に応じて適宜設定することができ、２．５〜１００μｍ程度が一般的である。
【００１７】
（保護層）
図１に示すように基材シート１上（図１に示す場合には基材シート１の上面）には基材シート１から剥離可能な保護層２が形成されている。保護層２は、本発明の保護層転写シート１０における必須の構成であり、被転写体２０上に転写層１１が転写されることにより形成される印画物３０の耐久性を向上させるとともに、転写後に微細な凹凸部が発現することで印画物３０にセミグロス感を付与するために設けられる。
【００１８】
ここで、転写後の保護層２に微細な凹凸部が発現するメカニズムについて図２、図３を用いて具体的に説明する。なお、図２は、被転写体２０上に保護層２を含む転写層１１が転写される前の保護層転写シートの概略断面図であり、図３は被転写体２０上に保護層２を含む転写層１１が転写された後の印画物の概略断面図である。
【００１９】
図２に示すように、本発明の保護層転写シート１０は、基材シート１上に保護層２、凹凸層３、ヒートシール層４とが積層されてなる転写層１１が設けられることにより形成されており、凹凸層３における前記ヒートシール層４と接する面には微細凹凸部が設けられている。また、微細凹凸部が設けられた凹凸層３上に形成されるヒートシール層４の表面（ヒートシール層４における凹凸層３と接しない面）には、ヒートシール層４の形成時に凹凸層３が有する微細凹凸部がそのまま発現することから、ヒートシール層４の表面も微細凹凸部を有する。なお、図２に示すように保護層２と凹凸層３が接する面には微細凹凸部が存在しないことから、転写前の保護層２の表面は平坦であり、転写前の段階では保護層２の表面に微細な凹凸部は発現していない。
【００２０】
次に、後述する熱転写方法等により、保護層転写シート１０と被転写体２０を重ね合わせた後に所定のエネルギーをかけることで転写層１１が基材シート１から剥離するとともに転写層１１と被転写体２０とが接着転写され印画物３０が形成される。この際、図３に示すように、ヒートシール層４の表面が有する微細凹凸部が被転写体２０に押し当てられることで、ヒートシール層４の表面が有する微細凹凸部は保護層２の表面に移行し、これにより保護層２の表面に（印画物３０の表面）に微細凹凸部が発現する。
【００２１】
具体的には図３に示すように、転写層１１を被転写体２０上に転写する前の凹凸層３の表面に予め設けられた凸部（又はヒートシール層４の表面が有する凸部）をＤ１とすると転写後はＤ１に対応する凸部Ｄ１１が保護層２の表面に発現し、凹凸層３の表面に設けられた凹部（又はヒートシール層４の表面が有する凹部）Ｄ２に対応する凹部Ｄ１２が保護層２の表面に発現する。
【００２２】
このように、転写後の保護層３の表面には微細凹凸部が発現することから、別途、印画物の表面に凹凸部を形成する工程を行うことなく印画物の表面にセミグロス感を確実に付与することができる。更には、転写前後において保護層３自体の厚さに変化が生じないことから、印画物表面の耐久性を低下させることもない。
【００２３】
保護層２を形成する材料は、上記メカニズムにより、転写時に凹凸層３の表面に予め設けられた微細凹凸部に対応する微細凹凸部を、保護層２の表面に発現させることが可能な材料であれば特に限定されない。このような材料として、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、紫外線吸収性樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、これらの各樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線吸収性樹脂等が挙げられる。
【００２４】
また、電離放射線硬化性樹脂を含有する保護層２は、耐可塑剤性や耐擦過性が特に優れている点で保護層２の材料として好適に用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては特に限定されることはなく、従来公知の電離放射線硬化性樹脂の中から適宜選択して用いることができ、例えば、ラジカル重合性のポリマー又はオリゴマーを電離放射線照射により架橋、硬化させ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、電子線や紫外線によって重合架橋させたものを用いることができる。紫外線吸収性樹脂を含有する保護層２は、印画物に耐光性を付与することに優れている。
【００２５】
紫外線吸収性樹脂としては、例えば、反応性紫外線吸収剤を熱可塑性樹脂又は上記の電離放射線硬化性樹脂に反応、結合させて得た樹脂を使用することができる。より具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系のような従来公知の非反応性の有機系紫外線吸収剤に、付加重合性二重結合（例えばビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基など）、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基のような反応性基を導入したものが挙げられる。
【００２６】
また、本願発明の保護層転写シート１０は、転写後の保護層２の表面に微細凹凸部を発現させ、印画物３０に深いセミグロス感を付与するために、その表面に微細凹凸部を有する凹凸層３を予め設けた点に特徴を有し、転写後の保護層２の表面に発現する微細凹凸部の十点平均粗さＲｚについて特に限定はない。なお、転写後の保護層２の表面に発現する微細凹凸部の凸部の十点平均粗さＲｚが１μｍ以上３μｍ以下である場合には、保護層２を含む転写層１１が転写された印画物３０に特に深いセミグロス感を付与することができる。したがって、転写後の保護層２の表面に発現する微細凹凸部の十点平均粗さが上記範囲となるように凹凸層３の表面が予め有する微細凹凸部の十点平均粗さを適宜調整しておくことが好ましい。
【００２７】
保護層２の厚さについても特に限定はないが、印画物３０表面の耐久性を考慮すると、保護層２の厚さは０．５μｍ〜２μｍ程度であることが好ましい。
【００２８】
保護層２の形成方法としては、上記樹脂の１種または２種以上を適当な溶剤により、溶解または分散させて保護層用塗工液を調製し、これを基材シート１上にグラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００２９】
（離型層）
基材シート１からの保護層２の剥離性を向上させるために、基材シート１と保護層２との間にの離型層を形成することとしてもよい（図示しない）。離型層を形成する樹脂としては、従来公知の離型性樹脂であれば特に限定されることはなく、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、フッ素樹脂、フッ素変性樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、熱架橋性エポキシ−アミノ樹脂及び熱架橋性アルキッド−アミノ樹脂等が挙げられる。また、離型層２は、１種の樹脂からなるものであってもよく、２種以上の樹脂からなるものであってもよい。また離型層２は、離型性樹脂に加えイソシアネート化合物等の架橋剤、錫系触媒、アルミニウム系触媒等の触媒を用いて形成することとしてもよい。なお、離型層は、転写時に被転写体２０側へ移行してもよく、基材シート１側に残ることとしてもよく、また離型層の厚みは０．５〜５μｍ程度が一般的である。離型層の形成方法としては、上記樹脂を適当な溶剤により、溶解または分散させて離型層用塗工液を調製し、これを基材シート１上にグラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００３０】
（凹凸層）
保護層２上（図１に示す場合にあっては保護層２の上面）にはその表面に微細凹凸部を有する凹凸層３が設けられている。凹凸層３は本発明の保護層転写シート１０における必須の構成であり転写後の保護層２の表面に微細凹凸を発現させるために設けられる。
【００３１】
凹凸層３の表面に予め形成される微細凹凸部の形状（微細凹凸部の十点平均粗さ、微細凹凸部における凸部の配置パターン等）については、保護層２の表面に発現を所望する微細凹凸に応じて適宜選択することができ特に限定はない。なお、凹凸層３の表面に予め形成される微細凹凸部の十点平均粗さＲｚを２μｍ以上１０μｍ以下とした場合には、保護層２の表面に発現する微細凹凸部の十点平均粗さＲｚを１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定することができ、保護層２を含む転写層１１が転写された印画物３０に深い特にセミグロス感を付与することができる。従って、凹凸層３の表面に予め形成される微細凹凸部の十点平均粗さＲｚは２μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【００３２】
なお、十点平均粗さはＪＩＳ  ０６０１−１９９４表面粗さの規格に準拠して測定された値である。
【００３３】
また図４に示すように、凹凸層３の表面には、表面の形状が（ｉ）１００μｍ×１００μｍの正方形状の凸部、（ｉｉ）２００μｍ×１００μｍの長方形状の凸部、（ｉｉｉ）１００μｍ×２００μｍの長方形状の凸部、（ｉｖ）３００μｍ×１００μｍの長方形状凸部、（ｖ）１００μｍ×３００μｍの長方形状の凸部がランダムに配置されることにより微細凹凸部が形成されていることが好ましく、１０００μｍ×１０００μｍの単位面積あたりに（ｉ）の凸部が５〜２０個、（ｉｉ）の凸部が１〜１０個、（ｉｉｉ）の凸部が１〜１０個、（ｉｖ）の凸部が１〜７個、（ｖ）の凸部が１〜７個ランダムに配置されることにより微細凹凸部が形成され、各凸部表面の表面積の合計が、単位面積の２０％〜６０％の範囲となるように配置されていることがさらに好ましい。凸部が上記のように配置されることにより形成される微細凹凸部を凹凸層３の表面に形成することで、転写後に保護層２の表面に発現する微細凹凸部により、印画物表面に深いセミグロス感を付与することが可能となる。
【００３４】
凹凸層３を形成する材料については、その表面に微細な凹凸を形成することができる材料であれば特に限定はなく、例えば、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が８０〜１２０℃のものが好ましく用いられる。また、上記の熱可塑性樹脂は単独で、あるいは混合して使用することができる。
【００３５】
（微細凹凸部の形成方法）
凹凸層３の表面へ微細凹凸部を形成する方法についても特に限定はなく、例えば、保護層２上に上記樹脂の１種または２種以上を溶液、あるいはエマルジョンなど塗布可能な形にしたものを、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の従来公知の手段により塗布した後、所望の凹凸形状を有するエンボス版を型押しすることにより形成する方法や、微細凹凸部に対応する凹凸形状を有する印刷版を用い上記樹脂を塗布可能な形にしたものをグラビア印刷することで形成する方法が挙げられる。
【００３６】
なお、所定の凹凸形状を有する印刷版を用いて凹凸層３の表面に微細凹凸部を設ける場合には、凹凸層３の材料として、上記樹脂の中でもアクリル樹脂とセルロース系の樹脂が混合されてなる樹脂を好ましく用いることができる。アクリル樹脂とセルロース系の樹脂が含有された樹脂は、インク粘度の上昇を防止しつつ、インク中の固形分を高くすることができることから、印刷版の凹凸形状を確実に印刷することができ、所望の微細凹凸部を確実に凹凸層３の表面に設けることができる。また、アクリル樹脂とセルロース系樹脂の混合比は１：２程度であることが好ましい。
【００３７】
（ヒートシール層）
凹凸層３上（図１に示す場合にあっては凹凸層３の上面）には、ヒートシール層４が設けられている。ヒートシール層４は、本発明の保護層転写シート１０における必須の構成であり本発明の保護層転写シート１０を良好に被転写体２０上に接着せしめるために設けられる。また、微細凹凸部が設けられた凹凸層３上にヒートシール層４を形成する際に、ヒートシール層４の表面には凹凸層３の表面に設けられた微細凹凸部に対応する微細凹凸部が発現することから、図１に示すようにヒートシール層４の表面（凹凸層３と接しない面）も微細凹凸部を有している。
【００３８】
ヒートシール層４の材料については特に限定はなく、従来公知の接着性樹脂等を適宜選択して用いることができる。このような接着性樹脂として、例えば、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル─酢酸ビニル共重合樹脂、スチレン─アクリル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂等の樹脂が挙げられる。ヒートシール層４の形成方法としては、上記樹脂の１種または２種以上を溶液、あるいはエマルジョンなど塗布可能な形にしたものを、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥することにより形成できる。なお、ヒートシール層４の厚さは、０．１μｍ〜５μｍ程度が好ましい。
【００３９】
また、ヒートシール層４は、上記樹脂と、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリシレート系化合物等の有機系の紫外線吸収剤や、また亜鉛、チタン、セリウム、スズ、鉄等の酸化物の如き無機系の紫外線吸収能を有する微粒子の添加剤を加えることができる。また、添加剤として、着色顔料、白色顔料、体質顔料、充填剤、帯電防止剤、酸化防止剤、蛍光増白剤等も適宜、必要に応じて使用することができる。
【００４０】
（耐熱潤滑層）
基材層１の転写層１１との反対面（図１に示す場合には基材層１の下面）に耐熱潤滑層５を設けることとしてもよい。耐熱潤滑層５は、本発明の転写材１０における任意の層であるが、後述する熱転写方式による転写を行う場合には、サーマルヘッドの滑り性をよくし、かつスティッキングを防止することができることから、当該転写方法により転写を行う場合には耐熱潤滑層５が設けられていることが好ましい。
【００４１】
耐熱潤滑層５は、耐熱性のある熱可塑性樹脂バインダーと、熱離型剤または滑剤のはたらきをする物質とを、基本的な構成成分とする。熱可塑性樹脂バインダーは、耐熱性を有する熱可塑性樹脂バインダーであれば特に限定はなく、このような熱可塑性樹脂バインダーとしては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、酢酸セルロース、フッ化ビニリデン樹脂、ナイロン、ポリビニルカルバゾール、塩化ゴム、環化ゴム及びポリビニルアルコールが挙げられることができる。また、これらの樹脂は、ガラス転移点が６０℃以上のもの、またはＯＨ基またはＣＯＯＨ基を有する熱可塑性樹脂にアミノ基を２個以上有する化合物またはジイソシアネートもしくはトリイソシアネートを加えて若干の架橋硬化を起させたものが好ましい。
【００４２】
上記の熱可塑性樹脂に配合する、熱離型剤または滑剤は、ポリエチレンワックス、パラフィンワックスの様なワックス類、高級脂肪酸のアミド、エステル又は塩類、高級アルコール及びレシチン等のリン酸エステル類のような加熱により溶融してその作用をするものと、フッ素樹脂や無機物質の粉末のように、固体のままで役立つものとがある。尚、これらの滑剤又は熱離型剤に加えて、他の離型剤、例えば、フッ素含有樹脂の粉末、グアナミン樹脂の粉末及び木粉のいずれかを併用することも出来、この場合には更に高い効果が得られる。
【００４３】
耐熱潤滑層５を形成する組成物について得に限定はないが、前記の熱可塑性樹脂バインダー１００質量部に対し、上記の滑剤又は熱離型剤の作用をする物質を１０〜１００質量部の割合で配合されていることが好ましい。また、耐熱潤滑層５の形成についても特に限定はないが、例えば、適宜の溶剤で練ってインキとし、ロールコーティング法、グラビアコーティング法，スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法等のコーティング法により、基材層１の転写層１１との反対面に、塗布し、乾燥することによって行うことができる。耐熱潤滑層５の厚さについても特に限定はないが０．０１〜１．０ｇ／ｍ２程度が一般的であり、好ましくは０．１〜０．２ｇ／ｍ２である。
【００４４】
また、本発明の保護層転写シート１０は、上述した転写層１１を基材シート１に単独で設ける構成としてよいし、図５に示すようにＹ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）、又はＢｋ（ブラック）等の各色の昇華性染料層や、Ｙ、Ｍ、Ｃ又はＢｋの熱溶融型色彩層とともに面順次に設ける構成としてもよい。上記昇華性染料層は従来公知の方法で適当な昇華性染料と適当なバインダー樹脂とから形成され、上記熱溶融型色彩層は従来公知の方法で適当な顔料と適当なワックスなどの熱溶融性物質から形成される。
【００４５】
（被転写体）
上記保護層転写シート１０の転写に使用可能な被転写体２０としては、特に限定されず、例えば、従来公知の基材上に染料受容性を有する受容層を設けたもの等を挙げることができる。被転写体２０おける基材としては、例えば、普通紙、上質紙、トレーシングペーパー、プラスチックフィルム等を挙げることができ、その基材について特に限定されない。上記被転写体２０における受容層は、コーティング法、サーマルヘッドや熱ロール等による形成法等にて形成することができる。なお、上記被転写体２０は、基材自体が染料受容性を有していれば、受容層を設ける必要がない。
【００４６】
（転写方法）
本発明の保護層転写シート１０を用い熱転写法にて被転写体２０上に画像形成及び保護層転写を行う場合、熱転写プリンタを、昇華転写用、熱溶融転写用、保護層転写用というように別々に転写条件を設定してもよいし、また、共通のプリンタでそれぞれ印字エネルギーを適切に調整して行ってもよい。また、加熱手段として特に限定されず、その他、熱板、ホットスタンパー、熱ロール、ラインヒーター、アイロンなどを用いて転写を行うこととしてもよい。また、保護層２は、形成された画像の全面に転写してもよいし、セミグロス感を付与したい部分のみに転写してもよい。
【実施例】
【００４７】
次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
（実施例１）
＜保護層用組成物＞
アクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ−８３、三菱レイヨン社製）５０部
メチルエチルケトン                                      ２５部
トルエン                                                ２５部
＜凹凸層用組成物＞
セルロース系樹脂：アクリル系樹脂＝２：１                ３０部
メチルエチルケトン                                      ３５部
トルエン                                                ３５部
＜ヒートシール層用組成物＞
ポリエステル樹脂(バイロン２００、東洋紡績社製)          ６９．６部
反応性紫外線吸収剤を反応結合したアクリル共重合体
ＵＶＡ６３５Ｌ（ＢＡＳＦジャパン製）                    １７．４部
シリカ(サイリシア３１０、富士シリシア社製)              ２５部
メチルエチルケトン                                      ２０部
トルエン                                                ２０部
＜耐熱潤滑層用組成物＞
ポリアミドイミド樹脂（ＨＲ−１５ＥＴ、東洋紡績社製）    ５０部
ポリアミドイミドシリコーン樹脂（ＨＲ−１４ＥＴ、東洋紡績社製）    ５０部
ステアリルリン酸亜鉛（ＬＢＴ−１８３０精製、堺化学社製）          １０部
ステアリン酸亜鉛（ＧＦ−２００、日本油脂社製）          １０部
ポリエステル樹脂（バイロン２２０、東洋紡績社製）          ３部
無機フィラー（タルク、平均粒径４．２μｍ）              １０部
【００４８】
基材シートとして厚さ４．５μｍの東レ社製ＰＥＴを用い、該基材シートの一方の面に上記の保護層用塗工液をグラビアコーティング法にて塗工し、厚さ１μｍの保護層を形成し、該保護層上に、凹凸形状を有する印刷版を用いて、上記の凹凸層用塗工液をグラビア印刷法にて印刷することで、その表面の十点平均粗さＲｚが下表１の値となる微細凹凸部が形成された凹凸層を形成した。次いで、凹凸層上に上記のヒートシール層用塗工液をグラビアコーティング法にて塗工し、厚さ１．４μｍのヒートシール層を形成した。また、基材シート１の他方の面には、上記の耐熱潤滑層用塗工液をグラビアコーティング法にて塗工し、厚さ０．４μｍの耐熱潤滑層５を形成して、本発明の実施例１の保護層転写シートを得た。
【００４９】
なお、十点平均粗さはＪＩＳ  ０６０１−１９９４表面粗さの規格に準拠した方法により測定を行った。（以下、実施例２〜実施例５、比較例１及び保護層転写後の印画物表面の十点平均粗さＲｚ測定も同様）。
【００５０】
（実施例２〜実施例５）
凹凸層が有する微細凹凸部の十点平均粗さＲｚを下表１の値とした以外は実施例１と同一の条件により実施例２〜実施例５の保護層転写シートを得た。
【００５１】
（比較例１）
凹凸層を形成しない以外は実施例１と同一の条件により比較例１の保護層転写シートを得た。
【００５２】
【表１】
2011000865.tif 000003
【００５３】
（印画物の形成）
次に、キヤノン製プリンタ（ＣＰ７１０）を用いて、被転写体としての同プリンタ用専用受像紙に黒ベタ印画を行った。次に、黒ベタ印画後の被転写体と実施例１〜５、比較例１の保護層転写シートと重ね合わせ保護層を転写し実施例１〜５、比較例１の保護層が転写された印画物を得た。次いで、得られた印画物の表面粗さ（十点平均粗さＲｚ）を測定した。表面粗さの測定結果を併せて表１に示した。
【００５４】
（セミグロス感評価試験）
実施例１〜実施例５、比較例１の保護層転写シートを用いて得られた上記印画物のセミグロス感の評価試験を行った。セミグロス感評価試験は実施例１〜実施例５および比較例１の印画物表面にセミグロス感を付与することができたか否かを目視により行った。このとき、印画物の表面に深いセミグロス感を付与することができたものを◎とし、セミグロス感を付与することができたものを○、セミグロス感が付与されていないものを×とした。評価結果を併せて表１に示した。
【００５５】
表１から明らかなように、凹凸層が設けられていない比較例１の保護層転写シートが転写された印画物にはセミグロス感を付与することができないのに対し、凹凸層が設けられた実施例１〜実施例５の保護層転写シートが転写された印画物には優れたセミグロス感を付与することが確認された。
【符号の説明】
【００５６】
１…基材シート
２…保護層
３…凹凸層
４…ヒートシール層
５…耐熱潤滑層
１０…保護層転写シート
１１…転写層
２０…被転写体
３０…印画物
【図１】
2011000865.tif 000004
【図２】
2011000865.tif 000005
【図３】
2011000865.tif 000006
【図４】
2011000865.tif 000007
【図５】
2011000865.tif 000008