(57)【要約】【課題】機能膜を塗布したレンズ部の吸湿を防ぎ、吸湿によるレンズ部の変形や高温リフロー処理後の機能膜のひび割れや皺の発生を最小限に抑えることのできるウェハレンズ積層体、撮像レンズの製造方法、撮像モジュールの製造方法及び電子機器の製造方法を提供する。【解決手段】基板の少なくとも一方の面に光硬化性樹脂製の複数のレンズ部が形成された１枚のウェハレンズに対して、基板の少なくとも一方の面の複数のレンズ部に対向する位置に他の部材を積層してなるウェハレンズ積層体の製造方法であって、ウェハレンズのレンズ部に機能性を有する機能膜を形成する機能膜形成工程と、機能膜形成工程後に、乾燥環境下でウェハレンズに対して他の部材を積層する積層工程と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の少なくとも一方の面に光硬化性樹脂製の複数のレンズ部が形成された１枚のウェハレンズに対して、前記基板の少なくとも一方の面の前記複数のレンズ部に対向する位置に他の部材を積層してなるウェハレンズ積層体の製造方法であって、
前記レンズ部に機能性を有する機能膜を形成する機能膜形成工程と、
前記機能膜形成工程後に、乾燥環境下で前記ウェハレンズに対して前記他の部材を積層する積層工程と、を備えることを特徴とするウェハレンズ積層体の製造方法。
【請求項２】
基板の少なくとも一方の面に光硬化性樹脂製の複数のレンズ部が形成された１枚のウェハレンズに対して、前記基板の少なくとも一方の面の前記複数のレンズ部に対向する位置に他の部材を積層してなるウェハレンズ積層体の製造方法であって、
前記レンズ部に機能性を有する機能膜を形成する機能膜形成工程と、
前記機能膜形成工程後に、前記ウェハレンズを乾燥する乾燥工程と、
前記乾燥工程の直後に、前記ウェハレンズに対して前記他の部材を積層する積層工程と、を備えることを特徴とするウェハレンズ積層体の製造方法。
【請求項３】
前記他の部材が、別のウェハレンズであることを特徴とする請求項１又は２に記載のウェハレンズ積層体の製造方法。
【請求項４】
前記他の部材が、複数の撮像素子部が形成された撮像素子部材であることを特徴とする
請求項１又は２に記載のウェハレンズ積層体の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のウェハレンズ積層体の製造方法により得られたウェハレンズ積層体を、前記複数のレンズ部毎にダイシングして個片化するダイシング工程を備えることを特徴とする撮像レンズの製造方法。
【請求項６】
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のウェハレンズ積層体の製造方法により得られたウェハレンズ積層体を、前記複数のレンズ部及び撮像素子部毎にダイシングして個片化するダイシング工程を備えることを特徴とする撮像モジュールの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の撮像モジュールの製造方法により得られた撮像モジュールを、リフロー処理により回路基板上に実装することを特徴とする電子機器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハレンズ積層体の製造方法、撮像レンズの製造方法、撮像モジュールの製造方法及び電子機器の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学レンズの製造分野においては、ガラス基板に対し硬化性樹脂からなるレンズ部を設けることで、耐熱性の高い光学レンズを得る技術が検討されている（例えば、特許文献１参照）。この技術を適用した光学レンズの製造方法の一例として、ガラス基板の表面に硬化性樹脂からなる光学部材を複数設けたいわゆる「ウェハレンズ」を形成し、その後にレンズ部ごとにガラス基板をカットする方法も提案されている。
このようなウェハレンズは撮像装置、特に携帯電話用のカメラのような小型の光学系を大量に一括生産できる点で優れているが、技術的な課題も存在する。
というのも、昨今ではこのような携帯電話用カメラにおいても高解像度化が進み、レンズ枚数も増える傾向にある。従って、そのような光学系をウェハレンズで構成する場合、単一のガラス基板にレンズ部を形成したウェハレンズではなく、複数枚のウェハレンズを積層したウェハレンズ積層体から構成する必要が生じてくる。
例えば、２枚のウェハレンズを積層させたウェハレンズ積層体では、２枚のウェハレンズの互いに対向するレンズ部同士（物体側からＳ１面、Ｓ２面、Ｓ３面、Ｓ４面とした場合にＳ２面とＳ３面のレンズ部同士）は、密閉された空間に接する。そのため、このような密閉空間に配置されるＳ２面やＳ３面のレンズ部に、反射防止効果などを持つ機能膜が塗布されている場合、当該レンズ部が吸湿してしまうと、吸湿による膨張でレンズ部の変形や、吸湿後の高温リフローによる機能膜のひび割れや皺の発生が生じてしまう。
【０００３】
一方、電子部材を酸素吸収剤及び脱湿剤とともにガスバリア製容器内に収納して電子部材を保存する方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。このような保存方法とすることで、ベーキング工程による乾燥を必要とせずに、高温リフロー時のデラミネーション等の問題を防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３９２６３８０号公報
【特許文献２】特開２００９−２１４９２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献２では、電子部材を酸素吸収剤及び脱湿剤とともにガスバリア製容器内に収納して保存した後、リフロー工程を行っており、上述のウェハレンズ積層体のようにウェハレンズを積層する点については、何等記載されていない。
したがって、例えば、既に吸湿してしまったウェハレンズを積層してウェハレンズ積層体とし、その後、脱湿剤とともにガスバリア製容器内に保管した場合、ウェハレンズ積層体の密閉空間に配置されるＳ２面やＳ３面のレンズ部は吸湿しているので、その後、脱湿剤とともにガスバリア製容器内に保存しても、十分に乾燥させることができない。また、その後、リフロー工程を行った場合、Ｓ２面やＳ３面の光学面に塗布された機能膜にひび割れや皺が発生してしまい、レンズ部の変形も生じてしまうという問題がある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、機能膜を塗布したレンズ部の吸湿を防ぎ、吸湿によるレンズ部の変形や高温リフロー処理後の機能膜のひび割れや皺の発生を最小限に抑えることのできるウェハレンズ積層体、撮像レンズの製造方法、撮像モジュールの製造方法及び電子機器の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一の態様によれば、基板の少なくとも一方の面に光硬化性樹脂製の複数のレンズ部が形成された１枚のウェハレンズに対して、前記基板の少なくとも一方の面の前記複数のレンズ部に対向する位置に他の部材を積層してなるウェハレンズ積層体の製造方法であって、
前記レンズ部に機能性を有する機能膜を形成する機能膜形成工程と、
前記機能膜形成工程後に、乾燥環境下で前記ウェハレンズに対して前記他の部材を積層
する積層工程と、を備えることを特徴とするウェハレンズ積層体の製造方法が提供される。
【０００７】
本発明の他の態様によれば、基板の少なくとも一方の面に光硬化性樹脂製の複数のレンズ部が形成された１枚のウェハレンズに対して、前記基板の少なくとも一方の面の前記複数のレンズ部に対向する位置に他の部材を積層してなるウェハレンズ積層体の製造方法であって、
前記レンズ部に機能性を有する機能膜を形成する機能膜形成工程と、
前記機能膜形成工程後に、前記ウェハレンズを乾燥する乾燥工程と、
前記乾燥工程の直後に、前記ウェハレンズに対して前記他の部材を積層する積層工程と、を備えることを特徴とするウェハレンズ積層体の製造方法が提供される。
【０００８】
本発明の他の態様によれば、請求項１〜３のいずれか一項に記載のウェハレンズ積層体
の製造方法により得られたウェハレンズ積層体を、前記複数のレンズ部毎にダイシングして個片化するダイシング工程を備えることを特徴とする撮像レンズの製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の他の態様によれば、請求項１、２、４のいずれか一項に記載のウェハレンズ積層体の製造方法により得られたウェハレンズ積層体を、前記複数のレンズ部及び撮像素子部毎にダイシングして個片化するダイシング工程を備えることを特徴とする撮像モジュールの製造方法が提供される。
【００１０】
本発明の他の態様によれば、請求項６に記載の撮像モジュールの製造方法により得られた撮像モジュールを、リフロー処理により回路基板上に実装することを特徴とする電子機器の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、機能膜を塗布したレンズ部の吸湿を防ぎ、吸湿によるレンズ部の変形や高温リフロー処理後の機能膜のひび割れや皺の発生を最小限に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】撮像モジュールとそれに用いられる撮像レンズの概略構成を示す断面図である。
【図２】(a)、(b)は、撮像レンズの製造工程を説明するための図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
［撮像モジュール］
図１に示す通り、撮像モジュール１は撮像レンズ２、光学的ローパスフィルタ４、撮像素子６などから構成されており、撮像レンズ２の下方に、光学的ローパスフィルタ４、撮像素子６が配置されている。撮像素子６としては例えばＣＭＯＳ型イメージセンサが用いられる。
【００１４】
撮像レンズ２は２群のレンズ群８，１０、スペーサ７から構成されている。
レンズ群８はガラス基板１２を有している。
ガラス基板１２の上面には樹脂部１６が形成されている。ガラス基板１２と樹脂部１６との間にはＩＲカットコート１４、絞り１８aが形成されている。樹脂部１６は凸レンズ部１６ａとその周辺部の非レンズ部１６ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凸レンズ部１６ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８aは非レンズ部１６ｂで覆われている。
ガラス基板１２の下面には樹脂部２２が形成されている。ガラス基板１２と樹脂部２２との間にはＩＲカットコート２０、絞り１８bが形成されている。樹脂部２２は凹レンズ部２２ａとその周辺部の非レンズ部２２ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凹レンズ部２２ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８bは非レンズ部２２bで覆われている。
レンズ群８はガラス基板１２、ＩＲカットコート１４，２０、樹脂部１６，２２、絞り１８a，１８bにより構成されている。
【００１５】
レンズ群１０はガラス基板３０を有している。
ガラス基板３０の上面には樹脂部３２が形成されている。樹脂部３２は凹レンズ部３２ａとその周辺部の非レンズ部３２ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凹レンズ部３２ａは表面が非球面形状を呈している。
ガラス基板３０の下面には樹脂部３４が形成されている。ガラス基板３０と樹脂部３４との間には絞り１８cが形成されている。樹脂部３４は凸レンズ部３４ａとその周辺部の非レンズ部３４ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凸レンズ部３４ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８cは非レンズ部３４bで覆われている。
レンズ群１０はガラス基板３０、樹脂部３２，３４、絞り１８cにより構成されている。
【００１６】
レンズ群８の樹脂部１６，２２とレンズ群１０の樹脂部３２，３４とは公知の光硬化性樹脂から構成されている。
当該光硬化性樹脂としては、例えば下記に示すようなアクリル樹脂，アリルエステル樹脂，エポキシ系樹脂などが使用可能である。特に、反応の遅いエポキシ樹脂が本発明では面形状の転写精度が良好な点で効果的である。
アクリル樹脂，アリルエステル樹脂を使用する場合にはラジカル重合により反応硬化させることができ、エポキシ樹脂を使用する場合にはカチオン重合により反応硬化させることができる。
レンズ群８，１０の各部位を構成する樹脂の種類は互いに同じでもよいし、異なってもいてもよい。
樹脂の詳細は下記（１）〜（３）の通りである。
【００１７】
（１）アクリル樹脂
重合反応に用いられる(メタ)アクリレートは特に制限はなく、一般的な製造方法により製造された下記(メタ)アクリレートを使用することができる。エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、アルキレン(メタ)アクリレート、芳香環を有する(メタ)アクリレート、脂環式構造を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。これらを１種類又は２種類以上を用いることができる。
特に脂環式構造を持つ(メタ)アクリレートが好ましく、酸素原子や窒素原子を含む脂環構造であってもよい。例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メ
タ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、ビシクロヘプチル(メタ)アクリ
レート、トリシクロデシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレートや、イソボロニル(メタ)アクリレート、水添ビスフェノール類のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また特にアダマンタン骨格を持つと好ましい。例えば、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート（特開２００２−１９３８８３号公報参照）、アダマンチルジ（メタ）アクリレート（特開昭５７−５００７８５）、アダマンチルジカルボン酸ジアリル（特開昭６０―１００５３７）、パーフルオロアダマンチルアクリル酸エステル（特開２００４−１２３６８７）、新中村化学製  2-メチル-2-アダマン
チルメタクリレート、1,3-アダマンタンジオールジアクリレート、1,3,5-アダマンタントリオールトリアクリレート、不飽和カルボン酸アダマンチルエステル（特開２０００−１１９２２０）、３，３’−ジアルコキシカルボニル-1,1’ビアダマンタン（特開２００１−２５３８３５号公報参照）、１，１’−ビアダマンタン化合物（米国特許第３３４２８８０号明細書参照）、テトラアダマンタン（特開２００６−１６９１７７号公報参照）、２−アルキル−２−ヒドロキシアダマンタン、２−アルキレンアダマンタン、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等の芳香環を有しないアダマンタン骨格を有する硬化性樹脂（特開２００１−３２２９５０号公報参照）、ビス(ヒドロキシフェニル)アダマンタン類やビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン（特開平１１−３５５２２号公報、特開平１０−１３０３７１号公報参照）等が挙げられる。
また、その他反応性単量体を含有することも可能である。(メタ)アクリレートであれば、例えば、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、などが挙げられる。
多官能(メタ)アクリレートとして、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールセプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００１８】
（２）アリルエステル樹脂
アリル基を持ちラジカル重合による硬化する樹脂で、例えば次のものが挙げられるが、特に以下のものに限定されるわけではない。
芳香環を含まない臭素含有（メタ）アリルエステル（特開２００３−６６２０１号公報参照）、アリル（メタ）アクリレート（特開平５−２８６８９６号公報参照）、アリルエステル樹脂（特開平５−２８６８９６号公報、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アクリル酸エステルとエポキシ基含有不飽和化合物の共重合化合物（特開２００３−１２８７２５号公報参照）、アクリレート化合物（特開２００３−１４７０７２号公報参照）、アクリルエステル化合物（特開２００５−２０６４号公報参照）等が挙げられる。
【００１９】
（３）エポキシ樹脂
エポキシ樹脂としては、エポキシ基を持ち光又は熱により重合硬化するものであれば特に限定されず、硬化開始剤としても酸無水物やカチオン発生剤等を用いることができる。エポキシ樹脂は硬化収縮率が低いため、成形精度の優れたレンズとすることができる点で好ましい。
エポキシの種類としては、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が挙げられる。その一例として、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−５，５−スピロ−（３，４−エポキシシクロヘキサン）−１，３−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル等を挙げることができる。
硬化剤は硬化性樹脂材料を構成する上で使用されるものであり特に限定はない。また、本発明において、硬化性樹脂材料と、添加剤を添加した後の光学材料の透過率を比較する場合、硬化剤は添加剤には含まれないものとする。硬化剤としては、酸無水物硬化剤やフェノール硬化剤等を好ましく使用することができる。酸無水物硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸等を挙げることができる。また、必要に応じて硬化促進剤が含有される。硬化促進剤としては、硬化性が良好で、着色がなく、熱硬化性樹脂の透明性を損なわないものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）等のイミダゾール類、３級アミン、４級アンモニウム塩、ジアザビシクロウンデセン等の双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン、ホスホニウム塩等を用いることができ、これらを１種、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【００２０】
撮像レンズ２では、レンズ群８の非レンズ部２２ｂとレンズ群１０の非レンズ部３２ｂとの間に接着剤が塗布され、レンズ群８とレンズ群１０とが接着されている。図１ではレンズ群８とレンズ群１０は接着剤を介して直接接合された形で図示されているが、図示されないスペーサ部材を非レンズ部２２ｂと非レンズ部３２ｂの間に設けて接着剤によって接合されていてもよい。非レンズ部２２ｂ，３２ｂは凹レンズ部２２ａ，３２ａのフランジ部に相当している。
レンズ群１０には、非レンズ部３４ｂに当接するようにスペーサ７が接着されており、スペーサ７を介して、光学的ローパスフィルタ４の上面に接着されている。スペーサ７には開口部７aが形成されており、この開口部７aに凸レンズ部３４ａが配置されている。
【００２１】
撮像レンズ２では、凸レンズ部１６ａ、凹レンズ部２２ａ、凹レンズ部３２ａ、凸レンズ部３４ａは各表面が非球面形状を呈しており、光軸が一致している。
特に撮像レンズ２では、レンズ群８の凸レンズ部１６ａが物体側に配置され、レンズ群１０の凸レンズ部３４ａが像側に配置されている。
物体側から像側に向けて、凸レンズ部１６ａがレンズ群８の物体側光学面である「Ｓ１面」を、凹レンズ部２２ａがレンズ群８の像側光学面である「Ｓ２面」を、凹レンズ部３２ａがレンズ群１０の物体側光学面である「Ｓ３面」を、凸レンズ部３４ａがレンズ群１０の像側光学面である「Ｓ４面」をそれぞれ構成している。
【００２２】
［撮像モジュール（撮像レンズ）の製造方法］
続いて、撮像モジュール１の製造方法（撮像レンズ２の製造方法を含む）について簡単に説明する。
始めに、ガラス基板１２に対し、必要に応じてＩＲカットコート１４，２０を形成する。ＩＲカットコートは、公知の真空蒸着法やスパッタ、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などを使用して、ガラス基板１２の表裏両面に対しそれぞれＩＲカットコートを形成する。ＩＲカットコート（赤外線遮蔽膜）は、赤外線を遮光するための膜であり、波長３６５ｎｍの光に対しては５０％以上の透過率を有している。
【００２３】
次に、ガラス基板１２に対し、例えば遮光性フォトレジストを塗布してこれを所定形状にパターニングし、複数の絞り１８aを形成する。遮光性フォトレジストとしては、樹脂にカーボンブラックを混入させたフォトレジストや金属製のフォトレジスト等特に限定なく使用可能である。
【００２４】
その後、光硬化性樹脂を成形型に滴下し、当該成形型とウェハ状のガラス基板１２とのうち一方を他方に押圧して成形型とガラス基板１２との間に光硬化性樹脂を充填し、光照射して光硬化性樹脂を硬化させる。その結果、ガラス基板１２に複数の凸レンズ部１６ａが形成される。ここで、光硬化性樹脂が特にエポキシ樹脂の場合には、光照射しても反応が完全に進行しないために、離型した際にガラス基板１２の反りが発生しにくい。
その後、ガラス基板１２を裏返し、上記と同様にしてガラス基板１２に複数の絞り１８b、複数の凹レンズ部２２ａを形成する。
【００２５】
レンズ部１６a，２２aを形成した後、成形型をガラス基板１２から離型する。離型は、凸レンズ部１６aの形成後と、凹レンズ部２２aの形成後、にそれぞれ離型するようにしても良いし、両面のレンズ部１６a，２２aの形成後に一括して離型しても良い。
そして、離型工程後、ガラス基板１２の両面のレンズ部１６a，２２aに対してポストキュアし加熱加工する。ポストキュアは、恒温槽の中で両面のレンズ部１６a，２２aに対して一括して行っても良いし、レンズ部１６a，２２aをそれぞれ離型した後、一方のレンズ部毎に行っても良い。このように離型することによって、複数のレンズ部１６a，２２aを有するウェハレンズ５１（図２(a)参照）が製造される。ポストキュアは、ウェハレンズ５１の反りの抑制及び効率を考えると、レンズ部１６ａ及び２２ａを設けて離型された後に一括して行うことが好ましい。
【００２６】
その後、上記ウェハレンズ５１を製造したのと同様にして、ガラス基板３０にも複数の絞り１８c、複数の凹レンズ部３２ａ、凸レンズ部３４ａを形成し、離型する。離型後は、上述のポストキュアを行う。なお、このガラス基板３０にはＩＲカットコートを施さなくても良い。このようにして複数のレンズ部３２ａ，３４ａを有するウェハレンズ５２（図２(a)参照）が製造される。
【００２７】
その後、樹脂部２２，３２の表面に反射防止膜３６を形成する（機能膜形成工程）。
真空蒸着装置内にレンズ群１０（反射防止膜３６がない状態のレンズ群１０）を装着し、装置内の圧力を所定圧力（例えば２×１０−３Ｐａ）まで減圧すると共に、真空蒸着装置上部のヒータよりレンズ群１０を所定温度（例えば２４０℃）の温度になるまで加熱する。
【００２８】
その後、第１層３６ａを構成する蒸着源を用いて第１層３６ａを形成する。
この場合、好ましくは、成膜温度を、リフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度に対し−４０〜＋４０℃の範囲内で保持する。
例えば、第１層３６ａとして（Ｔａ２Ｏ５＋５％ＴｉＯ２）膜を形成する場合には、蒸発源としてオプトラン社製OA600を用い、電子銃加熱により当該蒸着源を蒸発させればよ
い。蒸着中は、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を５Å／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。リフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度が例えば２４０℃である場合には、成膜温度（蒸着装置内の温度）を２００〜２８０℃の範囲内で保持する。
【００２９】
その後、第１層３６ａに続けて、第２層３６ｂを構成する蒸着源を用いて第２層３６ｂを形成する。
この場合も、好ましくは、第１層３６ａを形成する場合と同様に、成膜温度を、リフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度に対し−４０〜＋４０℃の範囲内で保持する。
例えば、第２層３６ｂとしてＳｉＯ２膜を形成する場合には、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を５Å／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。リフロー処理で溶融しようとする導電性ペーストの溶融温度が例えば２４０℃である場合には、成膜温度（蒸着装置内の温度）を２００〜２８０℃の範囲内で保持する。
なお、樹脂部１６，３４の表面にも反射防止膜（図示しない）を形成しても良い。
【００３０】
撮像素子６におけるゴーストの発生を抑制する意味では、反射防止膜は樹脂部３４の表面に設けられることが効果的であり、反射防止膜と樹脂部３４との界面でのクラックの発生等の問題を抑制するために、樹脂部３４のみに反射防止膜を設けることが好ましい。
反射防止膜３６は、上述のポストキュア工程を行った後に設けられてもよく、ポストキュア工程を行う前に行ってもよい。
【００３１】
上述のように反射防止膜３６を形成した後、乾燥処理を行う（乾燥工程）。
乾燥処理は、例えば２５℃±１℃の常温で、湿度３０％程度で２４時間以上放置して乾燥させることが好ましい。
【００３２】
その後、乾燥環境下で非レンズ部２２ｂ，３２ｂのうち少なくとも一方に接着剤を塗布して、ウェハレンズ５１，５２を互いに接着して積層する（積層工程）（図２(b)参照）。ここで、乾燥環境下とは、２５℃以上、湿度３０％以下で行うことが好ましい。より好ましくは、６０℃以上、湿度１０％以下である。また、上記乾燥工程を行わなかった場合には、この積層工程では２５℃以上、湿度３０％以下で少なくとも１０時間以上保管した後にウェハレンズ５１，５２を積層させることが好ましい。
なお、反射防止膜３６を形成した後、すぐに（１時間以内に）上記乾燥環境下でウェハレンズ５１，５２を積層すれば、乾燥処理（乾燥工程）を行わなくても良い。また、上記乾燥工程で乾燥させた後、すぐにウェハレンズ５１，５２を接着させれば、積層する際に乾燥環境下で積層させなくても構わない。
【００３３】
また、非レンズ部２２ｂと非レンズ部３２ｂとの間は、接着剤を介して直接接着されていてもよく、間に図示されないスペーサを介して接着されていてもよい。
さらに、スペーサ７と、レンズ群１０の非レンズ群３４bのうち少なくとも一方に接着剤を塗布して、スペーサ７とレンズ群１０を互いに接着する。
その結果、ウェハレンズ積層体５０が製造される（図２(b)参照）。
【００３４】
その後、ダイサーなどを使用して、図２(b)に示す通り、１組の凸レンズ部１６ａ，凹レンズ部２２ａ，凹レンズ部３２ａ，凸レンズ部３４ａを一単位として、その組ごとにウェハレンズ積層体５０をダイシングライン６０で切断（ダイシング）して断片化する（ダイシング工程）。
その結果、複数の撮像レンズ２が製造される。
ここでは、複数のウェハレンズ５１，５２を積層してウェハレンズ積層体５０とした後に切断して撮像レンズ２を形成したが、撮像レンズが単レンズ群で構成される場合はウェハレンズを積層することなく切断することで撮像レンズが得られる。
樹脂部１６，２２，３２，３４をダイシングする場合、例えば、砥粒による切断でエンドレス刃（回転刃）を用いるダイサーを使用し、エンドレス刃の回転数を３〜７ｍｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。
樹脂部１６，２２，３２，３４をダイシングする場合、物体側の樹脂部１６から像側の樹脂部３４に向けて切断することが好ましい。ダイシング中は、樹脂部１６，２２，３２，３４のダイシング部分で粉塵が舞うため、好ましくはダイシング部分に対し防塵用の純水を流しながら（噴出しながら）切断する。
【００３５】
その後は、ケーシング（図示略）に対し、撮像レンズ２を組み込むとともに（接着するとともに）、光学的ローパスフィルタ４、撮像素子６を設置し、撮像モジュール１が製造される。
本実施の形態においては、ダイシングにより撮像レンズ２を作製した後に、光学的ローパスフィルタ４や撮像素子６を設置する形態としたが、ウェハレンズ積層体５０と複数の撮像素子６が設けられた基板を積層した後にダイシングすることで、撮像モジュール１を得ることも可能である。
【００３６】
電子機器の製造方法の一例として、撮像モジュール１と他の電子部品とをプリント配線基板に実装する場合には、プリント配線基板上にあらかじめ半田を配置し、そこへ撮像モジュール１と電子部品とを配置してからＩＲリフロー炉に投入・加熱して半田を溶融させ、その後冷却することにより、撮像モジュール１と電子部品とをプリント配線基板に同時に実装することができる。
【実施例】
【００３７】
下記に示す通り、「サンプル１〜サンプル８」のウェハレンズ積層体を製造した。なお、ウェハレンズ積層体の製造については、上述した実施形態の手順に従って製造したものとし、Ｓ２面及びＳ３面に反射防止膜（いずれもレンズ側から二酸化シリコン、酸化チタン、二酸化シリコンの３層構成）を形成した。ウェハレンズ積層体を製造した後、リフロー処理（ピーク温度２６０℃、トータル時間１５分間）を行い、リフロー後の反射防止膜のひび割れ、皺の発生を確認した。
【００３８】
（サンプル１）
反射防止膜を塗布した直後（塗布後１時間以内）に、乾燥環境下（２５℃、湿度３０％）でウェハレンズを積層した。この条件で積層したウェハレンズは、反射防止膜を塗布した面が吸湿していないので、その後の工程でリフローを実施しても、反射防止膜にひび割れ、皺の発生が無く、光学面の変形も小さかった。
【００３９】
（サンプル２）
反射防止膜を塗布した後、常温・高湿度環境下（２５℃、湿度５５％）で２４時間以上保管した後、すぐにウェハレンズを積層した。この条件で積層したウェハレンズは、反射防止膜を塗布した面が吸湿してしまっているので、積層後、リフローを実施すると、反射防止膜にひび割れ、皺が発生し、光学面も大きく変形した。
【００４０】
（サンプル３）
反射防止膜を塗布した後、常温・高湿度環境下（２５℃、湿度５５％）で２４時間以上保管した後、常温・乾燥環境下（２５℃、湿度３０％）で１０時間保管して乾燥した上で、ウェハレンズを積層した。積層後、リフローを実施すると、反射防止膜のひび割れは無いが、皺の発生が見られ、光学面の変形が大きかった。
【００４１】
（サンプル４）
反射防止膜を塗布した後、常温・高湿度環境下（２５℃、湿度５５％）で２４時間以上保管した後、常温・乾燥環境下（２５℃、湿度３０％）で２４時間保管して乾燥した上で、ウェハレンズを積層した。積層後、リフローを実施すると、反射防止膜のひび割れは無く、皺の発生が見られたが、光学面の変形は小さかった。
【００４２】
（サンプル５）
反射防止膜を塗布した後、常温・高湿度環境下（２５℃、湿度５５％）で２４時間以上保管した後、常温・乾燥環境下（６０℃、湿度１０％）で１０時間保管して乾燥した上で、ウェハレンズを積層した。積層後、リフローを実施すると、反射防止膜のひび割れ、皺の発生が見られず、光学面の変形も小さかった。
【００４３】
（サンプル６）
反射防止膜を塗布した後、常温・乾燥環境下（２５℃、湿度３０％）で２４時間以上保管した後、すぐにウェハレンズを積層した。積層後、リフローを実施すると、反射防止膜のひび割れは無いが、皺の発生が見られ、光学面の変形は小さかった。
【００４４】
（サンプル７）
反射防止膜を塗布した後、常温・高湿度環境下（２５℃、湿度５５％）で２４時間以上保管して十分に吸湿させた後、すぐにウェハレンズを積層した。積層後、温度１２５℃、湿度３０％下で２時間ベーキングし、さらにリフローを実施すると、反射防止膜のひび割れ、皺が発生し、光学面の変形も大きかった。これは、吸湿した部分が密閉空間に接しているため、ベーキング工程を実施しても、十分に乾燥させることができていないためである。
【００４５】
（サンプル８）
反射防止膜を塗布した後、常温・高湿度環境下（２５℃、湿度５５％）で２４時間以上保管して十分に吸湿させた後、すぐにウェハレンズを積層した。積層後、脱湿剤と一緒にガスバリア製容器内に保管しても、その後、リフローを実施すると、反射防止膜にひび割れ、皺が発生し、光学面の変形も大きかった。なお、脱湿剤による保管時間は１６８時間である。これは、吸湿した部分が密閉空間に接しているため、脱湿剤と一緒に保管しても十分に乾燥させることができないためである。
【００４６】
以上のサンプル１〜８について、反射防止膜塗布後の時間、積層環境、リフロー前の所処理、リフロー後の結果等を表１に示す。表１中、反射防止膜のひび割れ、皺の発生の評価基準については以下の通りである。
◎：反射防止膜のひび割れ無し、皺の発生無し、光学面の変形５０ｎｍ未満
○：反射防止膜のひび割れ無し、皺の発生有り、光学面の変形５０ｎｍ未満
△：反射防止膜のひび割れ無し、皺の発生有り、光学面の変形５０ｎｍ以上
×：反射防止膜のひび割れ有り、皺の発生有り、光学面の変形５０ｎｍ以上
【００４７】
【表１】
2011257464.tif 000003
【００４８】
なお、上記実施例では、２枚のウェハレンズを積層させるとしたが、１枚のウェハレンズに対して撮像素子をスペーサを介して積層させた場合についても、サンプル１〜８と同様にしてそれぞれサンプルを作製した。その結果、反射防止膜が塗布されたレンズ面について、サンプル１〜８と同様の結果を得た。
【符号の説明】
【００４９】
１  撮像モジュール
２  撮像レンズ
４  光学的ローパスフィルタ
６  撮像素子
７  スペーサ
８，１０  レンズ群
１２  ガラス基板
１４  ＩＲカットコート
１６  樹脂部
１６ａ  凸レンズ部
１６ｂ  非レンズ部
１８a，１８b，１８c  絞り
２０  ＩＲカットコート
２２  樹脂部
２２ａ  凹レンズ部
２２ｂ  非レンズ部
３０  ガラス基板
３２  樹脂部
３２ａ  凹レンズ部
３２ｂ  非レンズ部
３４  樹脂部
３４ａ  凸レンズ部
３４ｂ  非レンズ部
３６  反射防止膜（機能膜）
３６a  第１層
３６b  第２層
５０  ウェハレンズ積層体
５１，５２  ウェハレンズ
６０  ダイシングライン
【図１】
2011257464.tif 000004
【図２】
2011257464.tif 000005