(57)【要約】【課題】安定した電気的特性を有する酸化物半導体を用いた半導体装置を提供することを目的の一つとする。【解決手段】酸化物半導体層に対して、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下で脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理を行い、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で加酸化処理のための冷却工程を行うことで高純度化及びＩ型化した酸化物半導体層を形成する。該酸化物半導体層を含む薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製する。【選択図】図１
2011129895.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極層及び該ゲート電極層を覆うゲート絶縁層を形成した後、前記ゲート電極層及び前記ゲート絶縁層を減圧状態に保持された処理室に導入し、
前記処理室内の残留水分を除去しつつ水素及び水分が除去されたスパッタガスを導入し、前記処理室内に装着された金属酸化物のターゲットを用いて前記ゲート絶縁層上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層を窒素、又は希ガス雰囲気下での加熱処理により脱水化または脱水素化した後、酸素雰囲気下での冷却処理により酸素を供給し、
前記脱水化または脱水素化させ、かつ酸素を供給した酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ゲート絶縁層、前記酸化物半導体層、前記ソース電極層、及び前記ドレイン電極層上にスパッタリング法により絶縁層を形成することを
特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
ゲート電極層及び該ゲート電極層を覆うゲート絶縁層を形成した後、前記ゲート電極層及び前記ゲート絶縁層を減圧状態に保持された処理室に導入し、
前記処理室内の残留水分を除去しつつ水素及び水分が除去されたスパッタガスを導入し、前記処理室内に装着された金属酸化物のターゲットを用いて前記ゲート絶縁層上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層を窒素、又は希ガス雰囲気下での加熱処理により脱水化または脱水素化した後、酸素及び窒素、又は露点−４０℃以下の大気雰囲気下での冷却処理により酸素を供給し、
前記脱水化または脱水素化させ、かつ酸素を供給した酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ゲート絶縁層、前記酸化物半導体層、前記ソース電極層、及び前記ドレイン電極層上にスパッタリング法により絶縁層を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、２００℃乃至７００℃の加熱処理により脱水化または脱水素化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記酸化物半導体層を形成する前記処理室は、クライオポンプを用いて排気することで残留水分を除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記絶縁層を形成する処理室は、クライオポンプを用いて排気することで残留水分を除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、前記絶縁層上に保護絶縁層を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、前記金属酸化物のターゲットは、インジウム、ガリウム、又は亜鉛を含む金属酸化物であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
酸化物半導体を用いる半導体装置及びその作製方法に関する。
【０００２】
なお、本明細書中において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置である。
【背景技術】
【０００３】
絶縁表面を有する基板上に形成された半導体薄膜を用いて薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を構成する技術が注目されている。薄膜トランジスタは液晶テレビに代表されるような表示装置に用いられている。薄膜トランジスタに適用可能な半導体薄膜としてシリコン系半導体材料が公知であるが、その他の材料として酸化物半導体が注目されている。
【０００４】
酸化物半導体の材料としては、酸化亜鉛又は酸化亜鉛を成分とするものが知られている。そして、電子キャリア濃度が１０１８／ｃｍ３未満である非晶質酸化物（酸化物半導体）なるもので形成された薄膜トランジスタが開示されている（特許文献１乃至３参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１６５５２７号公報
【特許文献２】特開２００６−１６５５２８号公報
【特許文献３】特開２００６−１６５５２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら酸化物半導体は薄膜形成工程において化学量論的組成からのずれが生じてしまう。例えば、酸素の過不足によって酸化物半導体の電気伝導度が変化してしまう。また、酸化物半導体の薄膜形成中に混入する水素や水分が酸素（Ｏ）−水素（Ｈ）結合を形成して電子供与体となり、電気伝導度を変化させる要因となる。さらにＯ−Ｈは極性分子なので、酸化物半導体によって作製される薄膜トランジスタのような能動デバイスに対して特性の変動要因となる。
【０００７】
このような問題に鑑み本発明の一形態は、安定した電気的特性を有する酸化物半導体を用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
酸化物半導体層を用いる薄膜トランジスタの電気的特性変動を抑止するため、変動要因となる水素、水分、水酸基又は水素化物（水素化合物ともいう）などの不純物を酸化物半導体層より意図的に排除し、かつ不純物の排除工程によって同時に減少してしまう酸化物半導体を構成する主成分材料である酸素を供給することによって、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化する。
【０００９】
よって酸化物半導体中の水素は少なければ少ないほどよく、酸化物半導体に含まれる水素が好ましくは１×１０１６／ｃｍ３以下として、酸化物半導体に含まれる水素をゼロに近いほど極力除去する。
【００１０】
また、高純度化された酸化物半導体中にはキャリアが極めて少なく（ゼロに近い）、キャリア濃度は１×１０１４／ｃｍ３未満、好ましくは１×１０１２／ｃｍ３未満、さらに好ましくは１×１０１１／ｃｍ３以下である。酸化物半導体中にキャリアが極めて少ないため、薄膜トランジスタでは、オフ電流を少なくすることができる。オフ電流は少なければ少ないほど好ましい。オフ電流（リーク電流ともいう）とは、−１Ｖ〜−１０Ｖの間のいずれかのゲート電圧を印加した場合の薄膜トランジスタのソース、ドレイン間を流れる電流のことであり、本明細書に開示する酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタは、チャネル幅（ｗ）が１μｍあたりの電流値が１００ａＡ／μｍ以下、好ましくは１０ａＡ／μｍ以下、さらに好ましくは１ａＡ／μｍ以下である。さらに、ｐｎ接合がなく、ホットキャリア劣化がないため、これらに薄膜トランジスタの電気的特性が影響を受けない。
【００１１】
上記水素の濃度範囲は、二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ：Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）で得られたもの、またはそのデータに基づいて得られる。また、キャリア濃度はホール効果測定により求めることができる。ホール効果測定器の例として、比抵抗／ホール測定システムＲｅｓｉＴｅｓｔ８３１０（東陽テクニカ製）を挙げることができる。比抵抗／ホール測定システムＲｅｓｉＴｅｓｔ８３１０は、磁場の向きと大きさを一定の周期で変化させ、それと同期してサンプルに現れるホール起電圧のみを検出するＡＣ（交流）ホール測定が可能であり、移動度が小さくて抵抗率の高い材料についても、ホール起電圧を検出できる。
【００１２】
また、酸化物半導体膜中だけでなく、ゲート絶縁層内に存在する水分などの不純物を低減し、上下に接して設けられる膜と酸化物半導体膜の界面に存在する水分などの不純物も低減する。
【００１３】
水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体膜を形成後、酸化物半導体膜が露出した状態で窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理）を行い、酸化物半導体膜の含有水分を低減する。次に、酸素、酸素及び窒素、又は大気（超乾燥エア）（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で徐冷する。
【００１４】
脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体膜を用いて、薄膜トランジスタの電気特性を向上させるとともに、量産性と高性能の両方を備えた薄膜トランジスタを実現する。
【００１５】
加熱温度の条件を振り、窒素雰囲気下で加熱処理を行った複数の試料を昇温脱離分析装置ＴＤＳ（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）測定で測定した結果を図４、図５、図６及び図７に示す。
【００１６】
昇温脱離分析装置は、試料を高真空中で加熱・昇温中に試料から脱離、発生するガス成分を四重極質量分析計で検出、同定する装置であり、試料表面、内部から脱離するガス及び分子が観察できる。電子科学株式会社製の昇温脱離分析装置（製品名：ＥＭＤ−ＷＡ１０００Ｓ）を用い、測定条件は、昇温約１０℃／分とし、１×１０−８（Ｐａ）から測定を開始して、測定中は約１×１０−７（Ｐａ）の真空度である。
【００１７】
図３７は、ガラス基板のみの試料（比較試料）と、ガラス基板上にスパッタリング法により膜厚５０ｎｍのＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を成膜した試料（試料１）とを比較したＴＤＳの結果を示すグラフである。図３７はＨ２Ｏについて測定した結果を示し、３００℃付近にピークが見られることからＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜から水分（Ｈ２Ｏ）などの不純物が脱離されていることが確認できる。
【００１８】
また、ガラス基板上にスパッタリング法により膜厚５０ｎｍのＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を成膜した試料（試料１）と、窒素雰囲気下での加熱温度を３５０℃とし１時間の加熱処理を行った試料（試料２）と、窒素雰囲気下での加熱温度を３７５℃とし１時間の加熱処理を行った試料（試料３）と、窒素雰囲気下での加熱温度を４００℃とし１時間の加熱処理を行った試料（試料４）と、窒素雰囲気下での加熱温度を４２５℃とし１時間の加熱処理を行った試料（試料５）と、窒素雰囲気下での加熱温度を４５０℃とし１時間の加熱処理を行った試料（試料６）を比較した。
【００１９】
図４はＨ２ＯのＴＤＳ結果を示し、図５はＯＨのＴＤＳ結果を示し、図６はＨのＴＤＳ結果を示し、図７はＯのＴＤＳ結果を示す。なお、上記加熱条件での窒素雰囲気の酸素濃度は、２０ｐｐｍ以下である。
【００２０】
図４乃至図６の結果から、窒素雰囲気での加熱温度が高ければ高いほど、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜中から脱離する水分（Ｈ２Ｏ）、ＯＨ、Ｈなどの不純物が低減されていることがわかる。
【００２１】
また、図７で示すように、窒素雰囲気での加熱処理によって酸素のピークも減っている。
【００２２】
以上の結果より、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜の加熱処理を行うことにより、主として水分が放出されることがわかる。すなわち、加熱処理によりＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜から水分（Ｈ２Ｏ）の脱離が主として起こり、図５で示すＨ、図６で示すＯＨ及び図７で示すＯのＴＤＳの測定値は、水分子が分解して生成されたものが影響している。
【００２３】
次に、窒素雰囲気下で加熱処理を行い、酸素雰囲気中で冷却した試料７をＴＤＳ測定した。ガラス基板上に、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系の酸化物半導体成膜用ターゲット（Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［ａｔｏｍ比］）を用いて、基板とターゲットの間との距離を６０ｍｍ、圧力０．４Ｐａ、ＲＦ電源０．５ｋＷ、アルゴン及び酸素（アルゴン：酸素＝３０ｓｃｃｍ：１５ｓｃｃｍ）雰囲気下で膜厚５０ｎｍのＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を形成し、得られた膜を窒素雰囲気下、１時間３０分かけて昇温し、４５０℃で１時間加熱した後、酸素雰囲気中で約５時間冷却して、試料７を形成した。なお、同様に成膜し、窒素雰囲気下で加熱した後、冷却時も窒素雰囲気下のままで酸素雰囲気中としなかった膜を試料８として形成した。
【００２４】
図４４（Ａ）に試料７の酸素（Ｏ）のＴＤＳ結果を、図４４（Ｂ）に試料８の酸素（Ｏ）のＴＤＳ結果を示す。図４４（Ａ）の冷却時に酸素雰囲気中とした試料７は、図４４（Ｂ）の酸素雰囲気中としなかった試料８よりも酸素のピークが大きく、試料７の膜中に酸素が供給されたことが確認できる。
【００２５】
図４４よりわかるように、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって、酸化物半導体層に酸素を供給し、酸素が排出されたことで生じた酸素欠損を補填することができるため、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化することが可能となる。
【００２６】
本明細書では、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理を脱水化、又は脱水素化のための加熱処理と呼ぶ。本明細書では、この加熱処理によってＨ２として脱離させていることのみを脱水素化と呼んでいるわけではなく、Ｈ、ＯＨなどを脱離することを含めて脱水化、又は脱水素化と便宜上呼ぶこととする。
【００２７】
酸化物半導体層に脱水化、又は脱水素化の加熱処理を行うことにより酸化物半導体層を酸素欠乏型としてＮ型化（Ｎ−、Ｎ＋など）させ、その後、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって酸化物半導体層に酸素を供給し、高純度化及びＩ型化させる。これにより、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製し、提供することが可能となる。
【００２８】
本明細書で開示する発明の構成の一形態は、ゲート電極層及び該ゲート電極層を覆うゲート絶縁層を形成した後、該ゲート電極層及び該ゲート電極層を減圧状態に保持された処理室に導入し、処理室内の残留水分を除去しつつ水素及び水分が除去されたスパッタガスを導入し、処理室内に装着された金属酸化物のターゲットを用いてゲート絶縁層上に酸化物半導体層を形成し、酸化物半導体層を窒素、又は希ガス雰囲気下での加熱処理により脱水化または脱水素化した後、酸素雰囲気下での冷却処理により酸素を供給し、脱水化または脱水素化させ、かつ酸素を供給した酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、ゲート絶縁層、酸化物半導体層、ソース電極層、及びドレイン電極層上にスパッタリング法により絶縁層を形成する。
【００２９】
本明細書で開示する発明の構成の一形態は、ゲート電極層及び該ゲート電極層を覆うゲート絶縁層を形成した後、該ゲート電極層及び該ゲート電極層を減圧状態に保持された処理室に導入し、処理室内の残留水分を除去しつつ水素及び水分が除去されたスパッタガスを導入し、処理室内に装着された金属酸化物のターゲットを用いてゲート絶縁層上に酸化物半導体層を形成し、酸化物半導体層を窒素、又は希ガス雰囲気下での加熱処理により脱水化または脱水素化した後、酸素及び窒素、又は露点−４０℃以下の大気雰囲気下での冷却処理により酸素を供給し、脱水化または脱水素化させ、かつ酸素を供給した酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、ゲート絶縁層、酸化物半導体層、ソース電極層、及びドレイン電極層上にスパッタリング法により絶縁層を形成する。
【００３０】
上記半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層、又は絶縁層は、クライオポンプ等の吸着型の真空ポンプを用いて排気して不純物濃度が低減された成膜室（処理室）内で、成膜することが好ましい。吸着型の真空ポンプとしては、例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。上記吸着型の真空ポンプは、酸化物半導体層、又は絶縁層に含まれる水素、水、水酸基又は水素化物の量を低減するように作用する。
【００３１】
また、酸化物半導体層、又は絶縁層を成膜する際に用いるスパッタガスも水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【００３２】
また、上記半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜を成膜するためのターゲットは、酸化亜鉛を主成分として含むものを用いることができる。また、ターゲットとして、インジウム、ガリウム、亜鉛を含む金属酸化物を用いることができる。
【００３３】
また、酸化物半導体層に対して、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下で脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理が行われ、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で加酸化処理のための冷却工程が行われることを特徴とする。
【００３４】
よって、脱水化、又は脱水素化処理及び加酸化処理において、酸化物半導体層（及び基板）に与える温度変化の段階は、昇温時、恒温時、冷却時とあるが、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体から酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）へのガス（雰囲気）の切り替えは、恒温時でもよいし、冷却開始時でもよいし、冷却中でもよい。
【００３５】
上記構成は、上記課題の少なくとも一つを解決する。
【００３６】
本明細書中で用いる酸化物半導体膜としては、四元系金属酸化物であるＩｎ−Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜や、三元系金属酸化物であるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ａｌ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ系や、二元系金属酸化物であるＩｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｚｎ−Ｍｇ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｍｇ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ｍｇ−Ｏ膜や、Ｉｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｏ膜、Ｚｎ−Ｏ膜などの酸化物半導体膜を用いることができる。また、上記酸化物半導体膜にＳｉＯ２を含んでもよい。
【００３７】
また、酸化物半導体膜は、ＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）で表記される薄膜を用いることができる。ここで、Ｍは、Ｇａ、Ａｌ、ＭｎおよびＣｏから選ばれた一または複数の金属元素を示す。例えばＭとして、Ｇａ、Ｇａ及びＡｌ、Ｇａ及びＭｎ、またはＧａ及びＣｏなどがある。ＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）で表記される構造の酸化物半導体膜のうち、ＭとしてＧａを含む構造の酸化物半導体を、上記したＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ酸化物半導体とよび、その薄膜をＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜ともよぶこととする。
【００３８】
また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、ゲート線またはソース線に対して、駆動回路保護用の保護回路を同一基板上に設けることが好ましい。保護回路は、酸化物半導体を用いた非線形素子を用いて構成することが好ましい。
【００３９】
また、ゲート絶縁層、及び酸化物半導体膜を大気に触れさせることなく連続的に処理（連続処理、インサイチュ（ｉｎｓｉｔｕ）工程、連続成膜とも呼ぶ）してもよい。大気に触れさせることなく連続処理することで、ゲート絶縁層と酸化物半導体膜の界面が、水やハイドロカーボンなどの、大気成分や大気中に浮遊する不純物に汚染されることなく各積層界面を形成することができるので、薄膜トランジスタ特性のばらつきを低減することができる。
【００４０】
本明細書中で連続処理とは、ＰＣＶＤ法またはスパッタリング法で行う第１の処理工程からＰＣＶＤ法またはスパッタリング法で行う第２の処理工程までの一連のプロセス中、被処理基板の置かれている雰囲気が汚染雰囲気に触れることなく、常に真空中、不活性ガス雰囲気（窒素雰囲気または希ガス雰囲気）、酸素ガス、酸素及び窒素を含むガス（例えばＮ２Ｏガス）、又は超乾燥エア（露点が−４０℃以下、好ましくは−５０℃以下）で制御されていることを言う。連続処理を行うことにより、清浄化された被処理基板の水分等の再付着を回避して成膜などの処理を行うことができる。
【００４１】
同一チャンバー内で第１の処理工程から第２の処理工程までの一連のプロセスを行うことは本明細書における連続処理の範囲にあるとする。
【００４２】
また、異なるチャンバーで第１の処理工程から第２の処理工程までの一連のプロセスを行う場合、第１の処理工程を終えた後、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を含む大気にふれることなくチャンバー間を基板搬送して第２の処理を施すことも本明細書における連続処理の範囲にあるとする。
【００４３】
なお、第１の処理工程と第２の処理工程の間に、基板搬送工程、アライメント工程、徐冷工程、または第２の工程に必要な温度とするため基板を加熱または冷却する工程等を有しても、本明細書における連続処理の範囲にあるとする。
【００４４】
ただし、洗浄工程、ウエットエッチング、レジスト形成といった液体を用いる工程が第１の処理工程と第２の処理工程の間にある場合、本明細書でいう連続処理の範囲には当てはまらないとする。
【発明の効果】
【００４５】
安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを作製することができる。また、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の一態様を示す作製工程の断面図である。
【図２】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図３】本発明の一形態に用いる電気炉の断面図。
【図４】ＴＤＳ測定結果を示すグラフである。
【図５】ＴＤＳ測定結果を示すグラフである。
【図６】ＴＤＳ測定結果を示すグラフである。
【図７】ＴＤＳ測定結果を示すグラフである。
【図８】本発明の一態様を示す作製工程の断面図である。
【図９】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図１０】本発明の一態様を示す作製工程の断面図である。
【図１１】本発明の一態様を示す作製工程の断面図である。
【図１２】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図１３】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図１４】半導体装置を説明する図である。
【図１５】半導体装置を説明する図である。
【図１６】半導体装置を説明する図である。
【図１７】半導体装置の画素等価回路を説明する図である。
【図１８】半導体装置を説明する図である。
【図１９】半導体装置を説明するブロック図。
【図２０】信号線駆動回路の構成を説明する図。
【図２１】シフトレジスタの構成を示す回路図。
【図２２】シフトレジスタの動作を説明する回路図及びタイミングチャート。
【図２３】半導体装置を説明する図である。
【図２４】薄膜トランジスタの電気特性評価の結果を示す図。
【図２５】半導体装置を説明する図である。
【図２６】電子機器を示す図である。
【図２７】電子機器を示す図である。
【図２８】電子機器を示す図である。
【図２９】電子機器を示す図である。
【図３０】電子機器を示す図である。
【図３１】本発明の一態様を示す半導体装置の作製方法を説明する図である。
【図３２】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図３３】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図３４】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図３５】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図３６】本発明の一態様を示す半導体装置を説明する図である。
【図３７】ＴＤＳ測定結果を示すグラフである。
【図３８】本発明の一態様に用いる熱処理装置を説明する図である。
【図３９】本発明の一態様に用いる熱処理装置を説明する図である。
【図４０】酸化物半導体を用いた逆スタガ型の薄膜トランジスタの縦断面図である。
【図４１】図４０に示すＡ−Ａ’断面におけるエネルギーバンド図（模式図）である。
【図４２】（Ａ）ゲート（ＧＥ１）に正の電位（＋ＶＧ）が印加された状態を示し、（Ｂ）ゲート（ＧＥ１）に負の電位（−ＶＧ）が印加された状態を示す図である。
【図４３】真空準位と金属の仕事関数（φＭ）、酸化物半導体の電子親和力（χ）の関係を示す図である。
【図４４】ＴＤＳ測定結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
以下では、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されず、その形態および詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。また、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００４８】
（実施の形態１）
半導体装置及び半導体装置の作製方法を図１及び図２を用いて説明する。
【００４９】
図２（Ａ）は半導体装置の有する薄膜トランジスタ４７０の平面図であり、図２（Ｂ）は図２（Ａ）の線Ｃ１−Ｃ２における断面図である。薄膜トランジスタ４７０は逆スタガ型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板である基板４００上に、ゲート電極層４０１、ゲート絶縁層４０２、酸化物半導体層４０３、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂを含む。また、薄膜トランジスタ４７０を覆い、酸化物半導体層４０３に接する絶縁層４０７が設けられ、絶縁層４０７上に保護絶縁層４９９が積層されている。
【００５０】
酸化物半導体層４０３は、薄膜トランジスタ４７０の電気的特性変動を抑止するため、変動要因となる水素、水分、水酸基又は水素化物（水素化合物ともいう）などの不純物を酸化物半導体層より意図的に排除し、かつ不純物の排除工程によって同時に減少してしまう酸化物半導体を構成する主成分材料である酸素を供給することによって、高純度化及び電気的にＩ型（真性）化された酸化物半導体層である。
【００５１】
よって酸化物半導体層４０３中の水素は少なければ少ないほどよく、酸化物半導体層４０３に含まれる水素濃度が好ましくは１×１０１６／ｃｍ３以下として、酸化物半導体層４０３に含まれる水素をゼロに近いほど極力除去する。
【００５２】
また、高純度化された酸化物半導体層４０３中にはキャリアが極めて少なく（ゼロに近い）、キャリア濃度は１×１０１４／ｃｍ３未満、好ましくは１×１０１２／ｃｍ３未満、さらに好ましくは１×１０１１／ｃｍ３以下である。酸化物半導体層４０３中にキャリアが極めて少ないため、薄膜トランジスタ４７０では、オフ電流を少なくすることができる。オフ電流は少なければ少ないほど好ましい。薄膜トランジスタ４７０は、チャネル幅（ｗ）が１μｍあたりの電流値が１００ａＡ／μｍ以下、好ましくは１０ａＡ／μｍ以下、さらに好ましくは１ａＡ／μｍ以下である。さらに、ｐｎ接合がなく、ホットキャリア劣化がないため、これらに薄膜トランジスタ４７０の電気的特性が影響を受けない。
【００５３】
水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体層を形成後、酸化物半導体層が露出した状態で窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理）を行い、酸化物半導体層の含有水分を低減する。次に、酸素、酸素及び窒素、又は大気（超乾燥エア）（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却する。
【００５４】
脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層４０３を用いて、薄膜トランジスタ４７０の電気特性を向上させるとともに、量産性と高性能の両方を備えた薄膜トランジスタを実現する。
【００５５】
また、酸化物半導体層４０３内だけでなく、ゲート絶縁層４０２内、及び上下に接して設けられる膜と酸化物半導体層４０３の界面、具体的にはゲート絶縁層４０２と酸化物半導体層４０３の界面、及び絶縁層４０７と酸化物半導体層４０３の界面に存在する水分などの不純物を低減する。
【００５６】
よって、ゲート絶縁層４０２、絶縁層４０７の成膜時にも水素、水酸基及び水分がなるべく含まれないように水素、水分などの不純物を脱離し排気することが好ましい。また、基板４００に吸着した水素、水分などの不純物を脱離し排気するために、ゲート絶縁層４０２、酸化物半導体層４０３、絶縁層４０７の成膜前に予備加熱を行うことが好ましい。
【００５７】
チャネル形成領域を含む酸化物半導体層４０３としては、半導体特性を有する酸化物材料を用いればよい。酸化物半導体層としては、四元系金属酸化物であるＩｎ−Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜や、三元系金属酸化物であるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ａｌ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜や、二元系金属酸化物であるＩｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｚｎ−Ｍｇ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｍｇ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ｍｇ−Ｏ膜や、Ｉｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｏ膜、Ｚｎ−Ｏ膜などの酸化物半導体膜を用いることができる。また、上記酸化物半導体膜にＳｉＯ２を含んでもよい。
【００５８】
また、酸化物半導体層は、ＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）で表記される薄膜を用いることができる。ここで、Ｍは、Ｇａ、Ａｌ、ＭｎおよびＣｏから選ばれた一または複数の金属元素を示す。例えばＭとして、Ｇａ、Ｇａ及びＡｌ、Ｇａ及びＭｎ、またはＧａ及びＣｏなどがある。ＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）で表記される構造の酸化物半導体膜のうち、ＭとしてＧａを含む構造の酸化物半導体を、上記したＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ酸化物半導体とよび、その薄膜をＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜ともよぶこととする。
【００５９】
図４０は、酸化物半導体を用いたバックゲート電極を有するデュアルゲート型の薄膜トランジスタの縦断面図を示す。ゲート電極（ＧＥ１）上にゲート絶縁膜（ＧＩ）を介して酸化物半導体層（ＯＳ）が設けられ、その上にソース電極（Ｓ）及びドレイン電極（Ｄ）が設けられ、ソース電極（Ｓ）およびドレイン電極（Ｄ）を覆うように絶縁層が設けられ、絶縁層上にゲート電極（ＧＥ１）と重畳する領域にバックゲート電極（ＧＥ２）が設けられている。
【００６０】
図４１には、図４０のＡ−Ａ’断面におけるエネルギーバンド図（模式図）を示す。また、図４１中の黒丸（●）は電子を示し、白丸（○）は正孔を示す。ドレイン電極に正の電圧（ＶＤ＞０）を印加した上で、破線はゲート電極に電圧を印加しない場合（ＶＧ＝０）、実線はゲート電極に正の電圧（ＶＧ＞０）を印加する場合を示す。ゲート電極に電圧を印加しない場合は高いポテンシャル障壁のために電極から酸化物半導体側へキャリア（電子）が注入されず、電流を流さないオフ状態を示す。一方、ゲートに正の電圧を印加するとポテンシャル障壁が低下し、電流を流すオン状態を示す。
【００６１】
図４２には、図４０におけるＢ−Ｂ’の断面におけるエネルギーバンド図（模式図）を示す。図４２（Ａ）は、ゲート電極（ＧＥ１）に正の電位（＋ＶＧ）が与えられた状態であり、ソース電極とドレイン電極との間にキャリア（電子）が流れるオン状態を示している。また、図４２（Ｂ）は、ゲート電極（ＧＥ１）に負の電位（−ＶＧ）が印加された状態であり、オフ状態（少数キャリアは流れない状態）である場合を示す。
【００６２】
図４３は、真空準位と金属の仕事関数（φＭ）、酸化物半導体の電子親和力（χ）の関係を示す。
【００６３】
常温において金属中の電子は縮退しており、フェルミ準位は伝導帯内に位置する。一方、従来の酸化物半導体はｎ型であり、そのフェルミ準位（ＥＦ）は、バンドギャップ中央に位置する真性フェルミ準位（Ｅｉ）から離れて、伝導帯寄りに位置している。なお、酸化物半導体において水素の一部はドナーとなりｎ型化する要因の一つであることが知られている。
【００６４】
これに対して本発明に係る酸化物半導体は、ｎ型不純物である水素を酸化物半導体から除去し、酸化物半導体の主成分以外の不純物が極力含まれないように高純度化することにより真性（ｉ型）とし、又は真性型とせんとしたものである。すなわち、不純物を添加してｉ型化するのでなく、水素や水等の不純物を極力除去したことにより、高純度化されたｉ型（真性半導体）又はそれに近づけることを特徴としている。そうすることにより、フェルミ準位（ＥＦ）は真性フェルミ準位（Ｅｉ）と同じレベルにまですることができる。
【００６５】
酸化物半導体のバンドギャップ（Ｅｇ）が３．１５ｅＶで、電子親和力（χ）は４．３ｅＶと言われている。ソース電極およびドレイン電極を構成するチタン（Ｔｉ）の仕事関数は、酸化物半導体の電子親和力（χ）とほぼ等しい。この場合、金属−酸化物半導体界面において、電子に対してショットキー型の障壁は形成されない。
【００６６】
このとき電子は、図４２（Ａ）で示すようにゲート絶縁膜と高純度化された酸化物半導体との界面における、酸化物半導体側のエネルギー的に安定な最低部を移動する。
【００６７】
また、図４２（Ｂ）において、ゲート電極（ＧＥ１）に負の電位が与えられると、少数キャリアであるホールは実質的にゼロであるため、電流は限りなくゼロに近い値となる。
【００６８】
例えば、薄膜トランジスタのチャネル幅Ｗが１×１０４μｍでチャネル長が３μｍの素子であっても、オフ電流が１０−１３Ａ以下であり、０．１Ｖ／ｄｅｃ．（ゲート絶縁膜厚１００ｎｍ）のサブスレッショルドスイング値（Ｓ値）が得られる。
【００６９】
このように、酸化物半導体の主成分以外の不純物が極力含まれないように高純度化することにより、薄膜トランジスタの動作を良好なものとすることができる。
【００７０】
また、薄膜トランジスタ４７０はシングルゲート構造の薄膜トランジスタを用いて説明したが、必要に応じて、チャネル形成領域を複数有するマルチゲート構造の薄膜トランジスタも形成することができる。
【００７１】
本実施の形態では、酸化物半導体層４０３として、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を用いる。
【００７２】
図１（Ａ）乃至（Ｄ）に、図２に示す薄膜トランジスタ４７０の作製工程の断面図を示す。
【００７３】
図１（Ａ）において、絶縁表面を有する基板である基板４００上にゲート電極層４０１を設ける。形成されたゲート電極層の端部はテーパ形状であると、上に積層するゲート絶縁層の被覆性が向上するため好ましい。なお、レジストマスクをインクジェット法で形成してもよい。レジストマスクをインクジェット法で形成するとフォトマスクを使用しないため、製造コストを低減できる。
【００７４】
絶縁表面を有する基板４００に使用することができる基板に大きな制限はないが、少なくとも、後の加熱処理に耐えうる程度の耐熱性を有していることが必要となる。バリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板を用いることができる。
【００７５】
また、ガラス基板としては、後の加熱処理の温度が高い場合には、歪み点が７３０℃以上のものを用いると良い。また、ガラス基板には、例えば、アルミノシリケートガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラスなどのガラス材料が用いられている。なお、酸化ホウ素と比較して酸化バリウム（ＢａＯ）を多く含ませることで、より実用的な耐熱ガラスが得られる。このため、Ｂ２Ｏ３よりＢａＯを多く含むガラス基板を用いることが好ましい。
【００７６】
なお、上記のガラス基板に代えて、セラミック基板、石英基板、サファイア基板などの絶縁体でなる基板を用いても良い。他にも、結晶化ガラスなどを用いることができる。また、プラスチック基板等も適宜用いることができる。
【００７７】
下地膜となる絶縁膜を基板４００とゲート電極層４０１の間に設けてもよい。下地膜は、基板４００からの不純物元素の拡散を防止する機能があり、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、又は酸化窒化シリコン膜から選ばれた一又は複数の膜による積層構造により形成することができる。
【００７８】
ゲート電極層４０１は、モリブデン、チタン、クロム、タンタル、タングステン、アルミニウム、銅、ネオジム、スカンジウム等の金属材料またはこれらを主成分とする合金材料を用いて、単層でまたは積層して形成することができる。
【００７９】
例えば、ゲート電極層４０１の２層の積層構造としては、アルミニウム層上にモリブデン層が積層された２層の積層構造、または銅層上にモリブデン層を積層した２層構造、または銅層上に窒化チタン層若しくは窒化タンタル層を積層した２層構造、窒化チタン層とモリブデン層とを積層した２層構造とすることが好ましい。３層の積層構造としては、タングステン層または窒化タングステン層と、アルミニウムとシリコンの合金またはアルミニウムとチタンの合金層と、窒化チタン層またはチタン層とを積層した積層とすることが好ましい。なお、透光性を有する導電膜を用いてゲート電極層を形成することもできる。透光性を有する導電膜としては、透光性導電性酸化物等をその例に挙げることができる。
【００８０】
次いで、ゲート電極層４０１上にゲート絶縁層４０２を形成する。
【００８１】
ゲート絶縁層４０２は、プラズマＣＶＤ法又はスパッタリング法等を用いて、酸化シリコン層、窒化シリコン層、酸化窒化シリコン層、窒化酸化シリコン層、酸化アルミニウム層、窒化アルミニウム層、酸化窒化アルミニウム層、窒化酸化アルミニウム層、又は酸化ハフニウム層を単層で又は積層して形成することができる。なお、ゲート絶縁層４０２中に水素が多量に含まれないようにすることが好ましい。スパッタリング法により酸化シリコン膜を成膜する場合には、ターゲットとしてシリコンターゲット又は石英ターゲットを用い、スパッタガスとして酸素又は、酸素及びアルゴンの混合ガスを用いて行う。
【００８２】
ゲート絶縁層４０２は、ゲート電極層４０１側から窒化シリコン層と酸化シリコン層を積層した構造とすることもできる。例えば、第１のゲート絶縁層としてスパッタリング法により膜厚５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の窒化シリコン層（ＳｉＮｙ（ｙ＞０））を形成し、第１のゲート絶縁層上に第２のゲート絶縁層として膜厚５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の酸化シリコン層（ＳｉＯｘ（ｘ＞０））を積層して、膜厚１００ｎｍのゲート絶縁層とする。ゲート絶縁層４０２の膜厚は、薄膜トランジスタに要求される特性によって適宜設定すればよく３５０ｎｍ乃至４００ｎｍ程度でもよい。
【００８３】
また、ゲート絶縁層４０２、酸化物半導体膜に水素、水酸基及び水分がなるべく含まれないようにするために、成膜の前処理として、スパッタリング装置の予備加熱室でゲート電極層４０１が形成された基板４００、又はゲート絶縁層４０２までが形成された基板４００を予備加熱し、基板４００に吸着した水素、水分などの不純物を脱離し排気することが好ましい。なお、予備加熱室に設ける排気手段はクライオポンプが好ましい。なお、この予備加熱の処理は省略することもできる。またこの予備加熱は、絶縁層４０７の成膜前に、ソース電極層４０５ａ及びドレイン電極層４０５ｂまで形成した基板４００にも同様に行ってもよい。
【００８４】
次いで、ゲート絶縁層４０２上に、膜厚２ｎｍ以上２００ｎｍ以下の酸化物半導体膜を形成する。
【００８５】
なお、酸化物半導体膜をスパッタリング法により成膜する前に、アルゴンガスを導入してプラズマを発生させる逆スパッタを行い、ゲート絶縁層４０２の表面に付着しているゴミを除去することが好ましい。逆スパッタとは、ターゲット側に電圧を印加せずに、アルゴン雰囲気下で基板側にＲＦ電源を用いて電圧を印加して基板にプラズマを形成して表面を改質する方法である。なお、アルゴン雰囲気に代えて窒素、ヘリウム、酸素などを用いてもよい。
【００８６】
酸化物半導体膜はスパッタリング法により成膜する。酸化物半導体膜は、四元系金属酸化物であるＩｎ−Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜や、三元系金属酸化物であるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ａｌ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ系や、二元系金属酸化物であるＩｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ膜、Ｚｎ−Ｍｇ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｍｇ−Ｏ膜、Ｉｎ−Ｍｇ−Ｏ膜や、Ｉｎ−Ｏ膜、Ｓｎ−Ｏ膜、Ｚｎ−Ｏ膜などの酸化物半導体膜を用いる。本実施の形態では、酸化物半導体膜をＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系の酸化物半導体成膜用ターゲットを用いてスパッタリング法により成膜する。また、酸化物半導体膜は、希ガス（代表的にはアルゴン）雰囲気下、酸素雰囲気下、又は希ガス（代表的にはアルゴン）及び酸素雰囲気下においてスパッタリング法により形成することができる。また、スパッタリング法を用いる場合、ＳｉＯ２を２重量％以上１０重量％以下含むターゲットを用いて成膜を行ってもよい。
【００８７】
酸化物半導体膜を、成膜する際に用いるスパッタガスは水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【００８８】
酸化物半導体膜をスパッタリング法で作製するためのターゲットとして、酸化亜鉛を主成分とする金属酸化物のターゲットを用いることができる。また、金属酸化物のターゲットの他の例としては、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体成膜用ターゲット（組成比として、Ｉｎ２Ｏ３：Ｇａ２Ｏ３：ＺｎＯ＝１：１：１［ｍｏｌ比］、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：０．５［ａｔｏｍ比］）を用いることができる。また、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体成膜用ターゲットとして、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［ａｔｏｍ比］、又はＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：２［ａｔｏｍ比］の組成比を有するターゲットを用いることもできる。酸化物半導体成膜用ターゲットの充填率は９０％以上１００％以下、好ましくは９５％以上９９．９％以下である。充填率の高い酸化物半導体成膜用ターゲットを用いることにより、成膜した酸化物半導体膜は緻密な膜となる。
【００８９】
減圧状態に保持された処理室内に基板を保持し、基板温度を１００℃以上６００℃以下好ましくは２００℃以上４００℃以下とする。基板を加熱しながら成膜することにより、成膜した酸化物半導体膜に含まれる不純物濃度を低減することができる。また、スパッタリングによる損傷が軽減される。そして、処理室内の残留水分を除去しつつ水素及び水分が除去されたスパッタガスを導入し、金属酸化物をターゲットとして基板４００上に酸化物半導体膜を成膜する。処理室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、排気手段としては、ターボ分子ポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプを用いて排気した成膜室は、例えば、水素原子、水（Ｈ２Ｏ）など水素原子を含む化合物（より好ましくは炭素原子を含む化合物も）等が排気されるため、当該成膜室で成膜した酸化物半導体膜に含まれる不純物の濃度を低減できる。
【００９０】
酸化物半導体膜を成膜する場合、酸化物半導体膜を成膜する処理室はもちろんのこと、酸化物半導体膜に接する膜、及び酸化物半導体膜の成膜前後の工程において、処理室内に残留する水分が不純物として混入しないよう、クライオポンプなどの排気手段を用いることが好ましい。
【００９１】
成膜条件の一例としては、基板とターゲットとの距離を１００ｍｍ、圧力０．６Ｐａ、直流（ＤＣ）電源０．５ｋＷ、酸素（酸素流量比率１００％）雰囲気下の条件が適用される。なお、パルス直流（ＤＣ）電源を用いると、成膜時に発生する粉状物質（パーティクル、ゴミともいう）が軽減でき、膜厚分布も均一となるために好ましい。酸化物半導体膜は好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下とする。なお、適用する酸化物半導体材料により適切な厚みは異なり、材料に応じて適宜厚みを選択すればよい。
【００９２】
スパッタリング法にはスパッタ用電源に高周波電源を用いるＲＦスパッタリング法、ＤＣスパッタリング法、さらにパルス的にバイアスを与えるパルスＤＣスパッタリング法がある。ＲＦスパッタリング法は主に絶縁膜を成膜する場合に用いられ、ＤＣスパッタリング法は主に金属膜を成膜する場合に用いられる。
【００９３】
また、材料の異なるターゲットを複数設置できる多元スパッタ装置もある。多元スパッタ装置は、同一チャンバーで異なる材料膜を積層成膜することも、同一チャンバーで複数種類の材料を同時に放電させて成膜することもできる。
【００９４】
また、チャンバー内部に磁石機構を備えたマグネトロンスパッタリング法を用いるスパッタ装置や、グロー放電を使わずマイクロ波を用いて発生させたプラズマを用いるＥＣＲスパッタリング法を用いるスパッタ装置がある。
【００９５】
また、スパッタリング法を用いる成膜方法として、成膜中にターゲット物質とスパッタガス成分とを化学反応させてそれらの化合物薄膜を形成するリアクティブスパッタリング法や、成膜中に基板にも電圧をかけるバイアススパッタリング法もある。
【００９６】
次いで、酸化物半導体膜をフォトリソグラフィ工程により島状の酸化物半導体層４３０に加工する（図１（Ａ）参照。）。また、島状の酸化物半導体層４３０を形成するためのレジストマスクをインクジェット法で形成してもよい。レジストマスクをインクジェット法で形成するとフォトマスクを使用しないため、製造コストを低減できる。
【００９７】
なお、ここでの酸化物半導体膜のエッチングは、ウェットエッチングに限定されずドライエッチングを用いてもよい。
【００９８】
所望の加工形状にエッチングできるように、材料に合わせてエッチング条件（エッチング液、エッチング時間、温度等）を適宜調節する。
【００９９】
また、ゲート絶縁層４０２にコンタクトホールを形成する場合、その工程は酸化物半導体層４３０の形成時に行うことができる。
【０１００】
次いで、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体層４３０に窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃（又は基板の歪み点）、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理、第１の加熱処理ともいう）を行い、酸化物半導体層の含有水分を低減する。
【０１０１】
次に、加熱された酸化物半導体層を酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却する。よって、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化し、酸化物半導体層４０３を形成する（図１（Ｂ）参照。）。
【０１０２】
第一原理計算により酸化物半導体（ＩＧＺＯ）表面に対する酸素の吸着エネルギーの計算を行った。なお、第一原理計算はａｃｃｅｌｒｙｓ社製の第一原理計算ソフトＣＡＳＴＥＰを用いた。吸着エネルギー（Ｅａｄ）は、Ｏ２とＩＧＺＯの内部エネルギー（Ｅ（Ｏ２）＋Ｅ（ＩＧＺＯ））からＯ２が吸着したＩＧＺＯの内部エネルギー（Ｅ（Ｏ２が吸着したＩＧＺＯ））を引いた、「Ｅａｄ＝（Ｅ（Ｏ２）＋Ｅ（ＩＧＺＯ））―Ｅ（Ｏ２が吸着したＩＧＺＯ）」で定義する。計算の結果、酸素の吸着は発熱反応であり、その発熱のエネルギーは１．４６ｅＶで有る事がわかった。
【０１０３】
一方、水素分子が存在すると、酸素分子と「２Ｈ２＋Ｏ２→２Ｈ２Ｏ」の酸化反応が脱水化、又は脱水素化の加熱処理によって生じうる。よって、酸素の吸着により得られたエネルギーが該反応に用いられることにより、該反応が起こると、Ｈ２はＩＧＺＯの外へ出ることができずにＩＧＺＯ内にとどまってしまうおそれがある。よって、ＩＧＺＯに対して十分に脱水化、脱水素化処理を行うことができなくなる。
【０１０４】
従って、上記水を生成する反応が生じないように、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理を行うことで酸化物半導体層の脱水化、又は脱水素化処理を行ってから、酸素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で冷却し、酸化物半導体を構成する主成分材料である酸素を供給することによって、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化することが好ましい。
【０１０５】
本実施の形態では、加熱処理装置の一つである電気炉に基板を導入し、酸化物半導体層に対して窒素雰囲気下４５０℃において１時間の加熱処理を行い、酸素雰囲気下で冷却を行う。
【０１０６】
酸化物半導体層に対して、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下で脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理が行われ、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で加酸化処理のための冷却工程が行われることを特徴とする。
【０１０７】
よって、脱水化、又は脱水素化処理及び加酸化処理において、酸化物半導体層（及び基板）に与える温度変化の段階は、昇温時、恒温時、冷却時とあるが、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体から酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）へのガス（雰囲気）の切り替えは、恒温時でもよいし、冷却開始時でもよいし、冷却中でもよい。
【０１０８】
なお、加熱処理装置は電気炉に限られず、抵抗発熱体などの発熱体からの熱伝導または熱輻射によって、被処理物を加熱する装置を備えていてもよい。例えば、ＧＲＴＡ（Ｇａｓ  Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌ）装置、ＬＲＴＡ（Ｌａｍｐ  Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌ）装置等のＲＴＡ（Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌ）装置を用いることができる。ＬＲＴＡ装置は、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、高圧ナトリウムランプ、高圧水銀ランプなどのランプから発する光（電磁波）の輻射により、被処理物を加熱する装置である。ＧＲＴＡ装置は、高温のガスを用いて加熱処理を行う装置である。気体には、アルゴンなどの希ガス、または窒素のような、加熱処理によって被処理物と反応しない不活性気体が用いられる。
【０１０９】
例えば、脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理として、６５０℃〜７００℃の高温に加熱した不活性ガス中に基板を移動させて入れ、数分間加熱した後、基板を移動させて高温に加熱した不活性ガス中から出すＧＲＴＡを行ってもよい。ＧＲＴＡを用いると短時間での高温加熱処理が可能となる。
【０１１０】
なお、脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理においては、窒素、またはヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性気体に、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物などが含まれないことが好ましい。または、加熱処理装置に導入する窒素、またはヘリウム、ネオン、アルゴン等の希ガスの純度を、６Ｎ（９９．９９９９％）以上、好ましくは７Ｎ（９９．９９９９９％）以上、（即ち不純物濃度を１ｐｐｍ以下、好ましくは０．１ｐｐｍ以下）とすることが好ましい。
【０１１１】
ここで、酸化物半導体層４３０の加熱処理の一形態として、電気炉６０１を用いた加熱方法について、図３を用いて説明する。
【０１１２】
図３は、電気炉６０１の概略図である。チャンバー６０２の外側にはヒーター６０３が設けられており、チャンバー６０２を加熱する。また、チャンバー６０２内には、基板６０４を搭載するサセプター６０５が設けられており、チャンバー６０２内に基板６０４を搬入または搬出する。また、チャンバー６０２にはガス供給手段６０６及び排気手段６０７が設けられている。ガス供給手段６０６により、チャンバー６０２にガスを導入する。また、排気手段６０７により、チャンバー６０２内を排気する、またはチャンバー６０２内を減圧にする。なお、電気炉６０１の昇温特性を０．１℃／ｍｉｎ以上２０℃／ｍｉｎ以下とすることが好ましい。また、電気炉６０１の降温特性を０．１℃／ｍｉｎ以上１５℃／ｍｉｎ以下とすることが好ましい。
【０１１３】
ガス供給手段６０６は、ガス供給源６１１ａ、ガス供給源６１１ｂ、圧力調整弁６１２ａ、圧力調整弁６１２ｂ、精製器６１３ａ、精製器６１３ｂ、マスフローコントローラ６１４ａ、マスフローコントローラ６１４ｂ、ストップバルブ６１５ａ、ストップバルブ６１５ｂを有する。本実施の形態では、ガス供給源６１１ａ、ガス供給源６１１ｂとチャンバー６０２の間に精製器６１３ａ、精製器６１３ｂを設けることが好ましい。精製器６１３ａ、精製器６１３ｂ、を設けることで、ガス供給源６１１ａ、ガス供給源６１１ｂからチャンバー６０２内に導入されるガスの、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を、当該精製器６１３ａ、精製器６１３ｂによって除去することで、チャンバー６０２内への水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物の侵入を低減することができる。
【０１１４】
本実施の形態では、ガス供給源６１１ａ、ガス供給源６１１ｂから、窒素または希ガスをチャンバー６０２に導入し、チャンバー内を窒素または希ガス雰囲気とし、２００℃乃至７００℃（又は基板６０４の歪み点）、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃に加熱されたチャンバー６０２において、基板６０４上に形成された酸化物半導体層４３０を加熱することで、酸化物半導体層４３０の脱水化、又は脱水素化を行うことができる。
【０１１５】
または、排気手段によって減圧下で、２００℃乃至７００℃（又は基板６０４の歪み点）、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃に加熱されたチャンバー６０２において、基板６０４上に形成された酸化物半導体層４３０を加熱することで、酸化物半導体層４３０の脱水化、又は脱水素化を行うことができる。
【０１１６】
次に、ガス供給源６１１ａから、窒素または希ガスをチャンバー６０２への導入を止めると共に、ヒーターをオフ状態にする。次に、ガス供給源６１１ｂから酸素、又は酸素及び窒素をチャンバー６０２内に導入し、加熱装置のチャンバー６０２を徐々に冷却する。即ち、チャンバー６０２内を酸素雰囲気とし、基板６０４を徐々に冷却する。ここでは、ガス供給源６１１ｂからチャンバー６０２内に導入する酸素に、水、水素などの不純物が含まれないことが好ましい。または、ガス供給源６１１ｂからチャンバー６０２内に導入する酸素の純度を６Ｎ（９９．９９９９％）以下、好ましくは７Ｎ（９９．９９９９９％）（即ち、酸素中の不純物濃度を１ｐｐｍ、好ましくは０．１ｐｐｍ）以下とすることが好ましい。
【０１１７】
酸素、又は酸素及び窒素の代わりに、大気雰囲気下で酸化物半導体層の冷却を行ってもよいが、チャンバー６０２内に導入される大気は、水、水素などの不純物が含まれないことが好ましく、好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下の超乾燥エアとする。
【０１１８】
脱水化、又は脱水素化するために加熱された酸化物半導体層を酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化し、酸化物半導体層４０３を形成することができる。
【０１１９】
なお、チャンバー６０２を加熱するヒーターをオフするタイミングと、窒素または希ガスと、酸素、酸素及び窒素、又は大気とを切り替えるタイミングは同時であってもよく、脱水化、又は脱水素化処理を行った後であれば、ヒーターをオフするタイミングより、窒素または希ガスと、酸素、酸素及び窒素、又は大気とを切り替えるタイミングが早くても、遅くてもよい。
【０１２０】
この結果、後に形成される薄膜トランジスタの信頼性を高めることができる。
【０１２１】
なお、減圧下で加熱処理を行った場合は、加熱処理後にチャンバー６０２に酸素、酸素及び窒素、又は大気（超乾燥エア）を流して圧力を大気圧に戻して冷却すればよい。
【０１２２】
また、ガス供給源６１１ｂから酸素をチャンバー６０２に導入すると同時に、ヘリウム、ネオン、アルゴンなどの希ガスまたは窒素の一方または両方をチャンバー６０２内に導入してもよい。
【０１２３】
また、加熱装置がマルチチャンバーの場合、加熱処理と冷却処理を異なるチャンバーで行うことができる。代表的には、窒素または希ガスが充填され、且つ２００℃乃至７００℃（又は基板６０４の歪み点）、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃に加熱された第１のチャンバーにおいて、基板上の酸化物半導体層を加熱する。次に、窒素または希ガスが導入された搬送室を経て、酸素、酸素及び窒素、又は大気（超乾燥エア）が充填された第２のチャンバーに、上記加熱処理された基板を移動し、冷却処理を行う。以上の工程により、スループットを向上させることができる。
【０１２４】
また、酸化物半導体層の脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理及び加酸化処理は、島状の酸化物半導体層に加工する前の酸化物半導体膜に行うこともできる。その場合には、脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理、及び加酸化処理後に、処理装置から基板を取り出し、フォトリソグラフィ工程を行う。
【０１２５】
酸化物半導体層に対する脱水化、脱水素化の効果を奏する加熱処理は、酸化物半導体層成膜後、酸化物半導体層上にソース電極及びドレイン電極を積層させた後に行ってもよい。
【０１２６】
また、ゲート絶縁層４０２にコンタクトホールを形成する場合、その工程は酸化物半導体層４３０に脱水化、又は脱水素化処理を行う前でも行った後に行ってもよい。
【０１２７】
次いで、ゲート絶縁層４０２、及び酸化物半導体層４０３上に、ソース電極層及びドレイン電極層（これと同じ層で形成される配線を含む）となる導電膜を形成する。導電膜をスパッタ法や真空蒸着法で形成すればよい。ソース電極層及びドレイン電極層（これと同じ層で形成される配線を含む）となる導電膜の材料としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗから選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜等が挙げられる。また、Ａｌ、Ｃｕなどの金属層の一方または双方にＣｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗなどの高融点金属層を積層させた構成としても良い。また、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｄ、Ｓｃ、ＹなどＡｌ膜に生ずるヒロックやウィスカーの発生を防止する元素が添加されているＡｌ材料を用いることで耐熱性を向上させることが可能となる。
【０１２８】
また、導電膜は、単層構造でも、２層以上の積層構造としてもよい。例えば、シリコンを含むアルミニウム膜の単層構造、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する２層構造、チタン膜と、そのチタン膜上に重ねてアルミニウム膜を積層し、さらにその上にチタン膜を成膜する３層構造などが挙げられる。
【０１２９】
また、ソース電極層及びドレイン電極層（これと同じ層で形成される配線を含む）となる導電膜としては導電性の金属酸化物で形成しても良い。導電性の金属酸化物としては酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム酸化スズ合金（Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２、ＩＴＯと略記する）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）または前記金属酸化物材料にシリコン若しくは酸化シリコンを含ませたものを用いることができる。
【０１３０】
導電膜成膜後に加熱処理を行う場合には、この加熱処理に耐える耐熱性を導電膜に持たせることが好ましい。
【０１３１】
フォトリソグラフィ工程により導電膜上にレジストマスクを形成し、選択的にエッチングを行ってソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂを形成した後、レジストマスクを除去する（図１（Ｃ）参照。）。
【０１３２】
フォトリソグラフィ工程でのレジストマスク形成時の露光には、紫外線やＫｒＦレーザ光やＡｒＦレーザ光を用いる。酸化物半導体層４０３上で隣り合うソース電極層の下端部とドレイン電極層の下端部との間隔幅によって後に形成される薄膜トランジスタのチャネル長Ｌが決定される。なお、チャネル長Ｌ＝２５ｎｍ未満の露光を行う場合には、数ｎｍ以上数１０ｎｍ以下と極めて波長が短い超紫外線（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）を用いてフォトリソグラフィ工程でのレジストマスク形成時の露光を行う。超紫外線による露光は、解像度が高く焦点深度も大きい。従って、後に形成される薄膜トランジスタのチャネル長Ｌを１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることも可能であり、回路の動作速度を高速化でき、さらにオフ電流値が極めて小さいため、低消費電力化も図ることができる。
【０１３３】
なお、導電膜のエッチングの際に、酸化物半導体層４０３は除去されないようにそれぞれの材料及びエッチング条件を適宜調節する。
【０１３４】
本実施の形態では、導電膜としてＴｉ膜を用いて、酸化物半導体層４０３にはＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系酸化物半導体を用いて、エッチャントとしてアンモニア過水（３１重量％過酸化水素水：２８重量％アンモニア水：水＝５：２：２）を用いる。
【０１３５】
なお、フォトリソグラフィ工程では、酸化物半導体層４０３は一部のみがエッチングされ、溝部（凹部）を有する酸化物半導体層となることもある。また、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂを形成するためのレジストマスクをインクジェット法で形成してもよい。レジストマスクをインクジェット法で形成するとフォトマスクを使用しないため、製造コストを低減できる。
【０１３６】
また、酸化物半導体層とソース電極層及びドレイン電極層の間に、酸化物導電層を形成してもよい。酸化物導電層とソース電極層及びドレイン電極層を形成するための金属層は、連続成膜が可能である。酸化物導電層はソース領域及びドレイン領域として機能しうる。
【０１３７】
ソース領域及びドレイン領域として、酸化物導電層を酸化物半導体層とソース電極層及びドレイン電極層との間に設けることで、ソース領域及びドレイン領域の低抵抗化を図ることができ、トランジスタの高速動作をすることができる。
【０１３８】
また、フォトリソグラフィ工程で用いるフォトマスク数及び工程数を削減するため、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたレジストマスクを用いてエッチング工程を行ってもよい。多階調マスクを用いて形成したレジストマスクは複数の膜厚を有する形状となり、エッチングを行うことでさらに形状を変形することができるため、異なるパターンに加工する複数のエッチング工程に用いることができる。よって、一枚の多階調マスクによって、少なくとも二種類以上の異なるパターンに対応するレジストマスクを形成することができる。よって露光マスク数を削減することができ、対応するフォトリソグラフィ工程も削減できるため、工程の簡略化が可能となる。
【０１３９】
次いで、Ｎ２Ｏ、Ｎ２、またはＡｒなどのガスを用いたプラズマ処理を行って露出している酸化物半導体層の表面に付着した吸着水などを除去してもよい。また、酸素とアルゴンの混合ガスを用いてプラズマ処理を行ってもよい。
【０１４０】
次に、酸化物半導体層４０３の一部に接する保護絶縁膜となる絶縁層４０７を形成する。
【０１４１】
絶縁層４０７は、少なくとも１ｎｍ以上の膜厚とし、スパッタ法など、絶縁層４０７に水、水素等の不純物を混入させない方法を適宜用いて形成することができる。絶縁層４０７に水素が含まれると、その水素の酸化物半導体層への侵入、又は水素による酸化物半導体層中の酸素の引き抜き、が生じ酸化物半導体層のバックチャネルが低抵抗化（Ｎ型化）してしまい、寄生チャネルが形成されるおそれがある。よって、絶縁層４０７はできるだけ水素を含まない膜になるように、成膜方法に水素を用いないことが重要である。
【０１４２】
本実施の形態では、絶縁層４０７として膜厚２００ｎｍの酸化シリコン膜をスパッタ法を用いて成膜する。成膜時の基板温度は、室温以上３００℃以下とすればよく、本実施の形態では１００℃とする。酸化シリコン膜のスパッタ法による成膜は、希ガス（代表的にはアルゴン）雰囲気下、酸素雰囲気下、または希ガス（代表的にはアルゴン）及び酸素雰囲気下において行うことができる。また、ターゲットとして酸化シリコンターゲットまたはシリコンターゲットを用いることができる。例えば、シリコンターゲットを用いて、酸素、及び窒素雰囲気下でスパッタ法により酸化シリコンを形成することができる。絶縁層４０７は、水分や、水素イオンや、ＯＨ−などの不純物を含まない無機絶縁膜を用い、代表的には酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、または酸化窒化アルミニウム膜などを用いる。
【０１４３】
この場合において、処理室内の残留水分を除去しつつ絶縁層４０７を成膜することが好ましい。酸化物半導体層４０３及び絶縁層４０７に水素、水酸基又は水分が含まれないようにするためである。
【０１４４】
処理室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、排気手段としては、ターボポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプを用いて排気した成膜室は、例えば、水素原子や、水（Ｈ２Ｏ）など水素原子を含む化合物等が排気されるため、当該成膜室で成膜した絶縁層４０７に含まれる不純物の濃度を低減できる。
【０１４５】
絶縁層４０７を成膜する際に用いるスパッタガスは水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【０１４６】
次いで、不活性ガス雰囲気下、または酸素ガス雰囲気下で加熱処理（第２の加熱処理）（好ましくは２００℃以上４００℃以下、例えば２５０℃以上３５０℃以下）を行ってもよい。例えば、窒素雰囲気下で２５０℃、１時間の加熱処理を行う。この加熱処理を行うと、酸化物半導体層の一部（チャネル形成領域）が絶縁層４０７と接した状態で加熱される。
【０１４７】
以上の工程を経ることによって、脱水化または脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理を行い、膜中の水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層４０３を含む薄膜トランジスタ４７０が形成される。
【０１４８】
また、絶縁層に欠陥を多く含む酸化シリコン層を用いると、酸化シリコン層形成後の加熱処理によって酸化物半導体層中に含まれる水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を絶縁層に拡散させ、酸化物半導体層中に含まれる該不純物をより低減させる効果を奏する。
【０１４９】
絶縁層４０７上にさらに保護絶縁層を形成してもよい。例えば、ＲＦスパッタ法を用いて窒化シリコン膜を形成する。ＲＦスパッタ法は、量産性がよいため、保護絶縁層の成膜方法として好ましい。保護絶縁層は、水分や、水素イオンや、ＯＨ−などの不純物を含まず、これらが外部から侵入することをブロックする無機絶縁膜を用い、窒化シリコン膜、窒化アルミニウム膜、窒化酸化シリコン膜、窒化酸化アルミニウム膜などを用いる。本実施の形態では、保護絶縁層として保護絶縁層４９９を、窒化シリコン膜を用いて形成する（図１（Ｄ）参照。）。
【０１５０】
本実施の形態では、保護絶縁層４９９として、絶縁層４０７まで形成された基板４００を１００℃〜４００℃の温度に加熱し、水素及び水分が除去された高純度窒素を含むスパッタガスを導入しシリコン半導体のターゲットを用いて窒化シリコン膜を成膜する。この場合においても、絶縁層４０７と同様に、処理室内の残留水分を除去しつつ保護絶縁層４９９を成膜することが好ましい。
【０１５１】
保護絶縁層の形成後、さらに大気中、１００℃以上２００℃以下、１時間以上３０時間以下での加熱処理を行ってもよい。この加熱処理は一定の加熱温度を保持して加熱してもよいし、室温から、１００℃以上２００℃の加熱温度への昇温と、加熱温度から室温までの降温を複数回くりかえして行ってもよい。また、この加熱処理を、絶縁層の形成前に、減圧下で行ってもよい。減圧下で加熱処理を行うと、加熱時間を短縮することができる。
【０１５２】
酸化物半導体層に脱水化または脱水素化の加熱処理を行うことにより酸化物半導体層を酸素欠乏型としてＮ型化（Ｎ−、Ｎ＋など）させ、その後、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって酸化物半導体層に酸素を供給し、高純度化及びＩ型化させる。これにより、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製し、提供することが可能となる。
【０１５３】
（実施の形態２）
半導体装置及び半導体装置の作製方法を図８及び図９を用いて説明する。実施の形態１と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態１と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０１５４】
図９（Ａ）は半導体装置の有する薄膜トランジスタ４６０の平面図であり、図９（Ｂ）は図９（Ａ）の線Ｄ１−Ｄ２における断面図である。薄膜トランジスタ４６０はボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板である基板４５０上に、ゲート電極層４５１、ゲート絶縁層４５２、ソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂ、及び酸化物半導体層４５３を含む。また、薄膜トランジスタ４６０を覆い、酸化物半導体層４５３に接する絶縁層４５７が設けられている。酸化物半導体層４５３は、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を用いる。
【０１５５】
薄膜トランジスタ４６０は、薄膜トランジスタ４６０を含む領域全てにおいてゲート絶縁層４５２が存在し、ゲート絶縁層４５２と絶縁表面を有する基板である基板４５０の間にゲート電極層４５１が設けられている。ゲート絶縁層４５２上にはソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂが設けられている。そして、ゲート絶縁層４５２、及びソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂ上に酸化物半導体層４５３が設けられている。本実施の形態では、ソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂは酸化物半導体層４５３の外周部より外側に延在している。
【０１５６】
酸化物半導体層４５３は、薄膜トランジスタ４６０の電気的特性変動を抑止するため、変動要因となる水素、水分、水酸基又は水素化物（水素化合物ともいう）などの不純物を酸化物半導体層より意図的に排除し、かつ不純物の排除工程によって同時に減少してしまう酸化物半導体を構成する主成分材料である酸素を供給することによって、高純度化及び電気的にＩ型（真性）化された酸化物半導体層である。
【０１５７】
よって酸化物半導体層４５３中の水素は少なければ少ないほどよく、酸化物半導体層４５３に含まれる水素濃度が好ましくは１×１０１６／ｃｍ３以下として、酸化物半導体層４５３に含まれる水素をゼロに近いほど極力除去する。
【０１５８】
また、高純度化された酸化物半導体層４５３中にはキャリアが極めて少なく（ゼロに近い）、キャリア濃度は１×１０１４／ｃｍ３未満、好ましくは１×１０１２／ｃｍ３未満、さらに好ましくは１×１０１１／ｃｍ３以下である。酸化物半導体層４５３中にキャリアが極めて少ないため、薄膜トランジスタ４６０では、オフ電流を少なくすることができる。オフ電流は少なければ少ないほど好ましい。薄膜トランジスタ４６０は、チャネル幅（ｗ）が１μｍあたりの電流値が１００ａＡ／μｍ以下、好ましくは１０ａＡ／μｍ以下、さらに好ましくは１ａＡ／μｍ以下である。さらに、ｐｎ接合がなく、ホットキャリア劣化がないため、これらに薄膜トランジスタ４６０の電気的特性が影響を受けない。
【０１５９】
水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体層を形成後、酸化物半導体層が露出した状態で窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理）を行い、酸化物半導体層の含有水分を低減する。次に、酸素、酸素及び窒素、又は大気（（超乾燥エア））（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却する。
【０１６０】
脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層４５３を用いて、薄膜トランジスタ４６０の電気特性を向上させるとともに、量産性と高性能の両方を備えた薄膜トランジスタを実現する。
【０１６１】
また、酸化物半導体層４５３内だけでなく、ゲート絶縁層４５２内、及び上下に接して設けられる膜と酸化物半導体層４５３の界面、具体的にはゲート絶縁層４５２と酸化物半導体層４５３の界面、及び絶縁層４５７と酸化物半導体層４５３の界面に存在する水分などの不純物を低減する。
【０１６２】
図８（Ａ）乃至（Ｄ）に、図９に示す薄膜トランジスタ４６０の作製工程の断面図を示す。
【０１６３】
絶縁表面を有する基板である基板４５０上にゲート電極層４５１を設ける。なお、下地膜となる絶縁膜を基板４５０とゲート電極層４５１の間に設けてもよい。ゲート電極層４５１の材料は、実施の形態１に示すゲート電極層４０１と同様に形成することができる。
【０１６４】
ゲート電極層４５１上にゲート絶縁層４５２を形成する。ゲート絶縁層４５２は、実施の形態１に示すゲート絶縁層４０２と同様に形成することができる。
【０１６５】
ゲート絶縁層４５２上に、導電膜を形成し、フォトリソグラフィ工程により島状のソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂに加工する（図８（Ａ）参照。）。ソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂは、実施の形態１に示すソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂと同様に形成することができる。
【０１６６】
次に、ゲート絶縁層４５２、及びソース電極層またはドレイン電極層４５５ａ、４５５ｂ上に酸化物半導体膜を形成する。本実施の形態では、酸化物半導体膜としてＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系の酸化物半導体成膜用ターゲットを用いてスパッタ法により成膜する。酸化物半導体膜を、フォトリソグラフィ工程により島状の酸化物半導体層４８３に加工する（図８（Ｂ）参照。）。
【０１６７】
この場合において、処理室内の残留水分を除去しつつ酸化物半導体膜を成膜することが好ましい。酸化物半導体膜に水素、水酸基又は水分が含まれないようにするためである。
【０１６８】
処理室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、排気手段としては、ターボポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプを用いて排気した成膜室は、例えば、水素原子や、水（Ｈ２Ｏ）など水素原子を含む化合物等が排気されるため、当該成膜室で成膜した酸化物半導体膜に含まれる不純物の濃度を低減できる。
【０１６９】
酸化物半導体膜を、成膜する際に用いるスパッタガスは水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【０１７０】
次いで、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体層４８３に窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理）を行い、酸化物半導体層の含有水分を低減する。
【０１７１】
次に、加熱された酸化物半導体層を酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却する。よって、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化し、酸化物半導体層４５３を形成する（図８（Ｃ）参照。）。
【０１７２】
本実施の形態では、加熱処理装置の一つである電気炉に基板を導入し、酸化物半導体層に対して窒素雰囲気下４５０℃において１時間の加熱処理を行い、酸素雰囲気下で冷却を行う。
【０１７３】
酸化物半導体層に対して、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下で脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理が行われ、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で加酸化処理のための冷却工程が行われることを特徴とする。
【０１７４】
よって、脱水化、又は脱水素化処理及び加酸化処理において、酸化物半導体層（及び基板）に与える温度変化の段階は、昇温時、恒温時、冷却時とあるが、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体から酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）へのガス（雰囲気）の切り替えは、恒温時でもよいし、冷却開始時でもよいし、冷却中でもよい。
【０１７５】
次に、酸化物半導体層４５３に接する保護絶縁膜となる絶縁層４５７を形成する。
【０１７６】
絶縁層４５７は、少なくとも１ｎｍ以上の膜厚とし、スパッタ法など、絶縁層４５７に水、水素等の不純物を混入させない方法を適宜用いて形成することができる。絶縁層４５７に水素が含まれると、その水素の酸化物半導体層への侵入、又は水素による酸化物半導体層中の酸素の引き抜き、が生じ酸化物半導体層のバックチャネルが低抵抗化（Ｎ型化）してしまい、寄生チャネルが形成されるおそれがある。よって、絶縁層４５７はできるだけ水素を含まない膜になるように、成膜方法に水素を用いないことが重要である。
【０１７７】
本実施の形態では、絶縁層４５７として膜厚２００ｎｍの酸化シリコン膜をスパッタ法を用いて成膜する。成膜時の基板温度は、室温以上３００℃以下とすればよく、本実施の形態では１００℃とする。酸化シリコン膜のスパッタ法による成膜は、希ガス（代表的にはアルゴン）雰囲気下、酸素雰囲気下、または希ガス（代表的にはアルゴン）及び酸素雰囲気下において行うことができる。また、ターゲットとして酸化シリコンターゲットまたはシリコンターゲットを用いることができる。例えば、シリコンターゲットを用いて、酸素、及び窒素雰囲気下でスパッタ法により酸化シリコンを形成することができる。絶縁層４５７は、水分や、水素イオンや、ＯＨ−などの不純物を含まない無機絶縁膜を用い、代表的には酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、または酸化窒化アルミニウム膜などを用いる。
【０１７８】
この場合において、処理室内の残留水分を除去しつつ絶縁層４５７を成膜することが好ましい。酸化物半導体層４５３及び絶縁層４５７に水素、水酸基又は水分が含まれないようにするためである。
【０１７９】
処理室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、排気手段としては、ターボポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプを用いて排気した成膜室は、例えば、水素原子や、水（Ｈ２Ｏ）など水素原子を含む化合物等が排気されるため、当該成膜室で成膜した絶縁層４５７に含まれる不純物の濃度を低減できる。
【０１８０】
絶縁層４５７を、成膜する際に用いるスパッタガスは水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【０１８１】
次いで、不活性ガス雰囲気下、または酸素ガス雰囲気下で加熱処理（第２の加熱処理）（好ましくは２００℃以上４００℃以下、例えば２５０℃以上３５０℃以下）を行ってもよい。例えば、窒素雰囲気下で２５０℃、１時間の加熱処理を行う。この加熱処理を行うと、酸化物半導体層が絶縁層４５７と接した状態で加熱される。
【０１８２】
以上の工程を経ることによって、脱水化または脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理を行い、膜中の水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層４５３を含む薄膜トランジスタ４６０が形成される（図８（Ｄ）参照。）。
【０１８３】
絶縁層４５７上にさらに保護絶縁層を形成してもよい。例えば、ＲＦスパッタ法を用いて窒化シリコン膜を形成する。ＲＦスパッタ法は、量産性がよいため、保護絶縁層の成膜方法として好ましい。保護絶縁層は、水分や、水素イオンや、ＯＨ−などの不純物を含まず、これらが外部から侵入することをブロックする無機絶縁膜を用い、窒化シリコン膜、窒化アルミニウム膜、窒化酸化シリコン膜、窒化酸化アルミニウム膜などを用いる。
【０１８４】
絶縁層４５７の形成後（又は保護絶縁層の形成後）、さらに大気中、１００℃以上２００℃以下、１時間以上３０時間以下での加熱処理を行ってもよい。この加熱処理は一定の加熱温度を保持して加熱してもよいし、室温から、１００℃以上２００℃の加熱温度への昇温と、加熱温度から室温までの降温を複数回くりかえして行ってもよい。また、この加熱処理を、絶縁層の形成前に、減圧下で行ってもよい。減圧下で加熱処理を行うと、加熱時間を短縮することができる。
【０１８５】
酸化物半導体層に脱水化または脱水素化の加熱処理を行うことにより酸化物半導体層を酸素欠乏型としてＮ型化させ、その後、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって酸化物半導体層に酸素を供給し、高純度化及びＩ型化させる。これにより、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製し、提供することが可能となる。
【０１８６】
また、本実施の形態は実施の形態１と自由に組み合わせることができる。
【０１８７】
（実施の形態３）
本実施の形態では、チャネルストップ型の薄膜トランジスタの一例について図３４（Ａ）、図３４（Ｂ）及び図３４（Ｃ）を用いて説明する。また、図３４（Ｃ）は薄膜トランジスタの上面図の一例であり、図中Ｚ１―Ｚ２の鎖線で切断した断面図が図３４（Ｂ）に相当する。実施の形態１と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態１と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０１８８】
図３４（Ａ）において、基板１４００上にゲート電極層１４０１を形成する。次いで、ゲート電極層１４０１を覆うゲート絶縁層１４０２上に、酸化物半導体層を形成する。
【０１８９】
本実施の形態では、酸化物半導体層１４０３としてスパッタリング法を用いたＳｎ−Ｚｎ−Ｏ系の酸化物半導体を用いる。
【０１９０】
酸化物半導体膜の成膜直後、または酸化物半導体膜の島状形状への加工後に脱水化、又は脱水素化のための加熱処理を行う。
【０１９１】
水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体膜が露出した状態で窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理）を行い、酸化物半導体膜の含有水分を低減する。次に、酸素、酸素及び窒素、又は大気（超乾燥エア）（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却する。よって、酸化物半導体膜を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化し、酸化物半導体層１４０３を形成する（図３４（Ａ）参照。）。
【０１９２】
脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理を行い、膜中の水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層を用いて、薄膜トランジスタの電気特性を向上させるとともに、量産性と高性能の両方を備えた薄膜トランジスタを実現する。
【０１９３】
次いで、酸化物半導体層１４０３に接して、チャネル保護層１４１８を形成する。酸化物半導体層１４０３上にチャネル保護層１４１８を形成することによって、後のソース領域またはドレイン領域形成工程時におけるダメージ（エッチング時のプラズマやエッチング剤による膜減りなど）を防ぐことができる。従って薄膜トランジスタ１４３０の信頼性を向上させることができる。
【０１９４】
また、脱水化、又は脱水素化の後、大気に触れることなく連続的にチャネル保護層１４１８を形成することもできる。大気に触れさせることなく連続的に処理することで、界面が、水やハイドロカーボンなどの、大気成分や大気中に浮遊する不純物元素に汚染されることなく各積層界面を形成することができるので、薄膜トランジスタ特性のばらつきを低減することができる。
【０１９５】
チャネル保護層１４１８としては、酸化物絶縁材料（酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコンなど）を用いることができる。作製法としては、スパッタリング法を用いることができる。チャネル保護層１４１８は成膜後にエッチングにより形状を加工する。本実施の形態では、スパッタリング法により酸化シリコン膜を形成し、フォトリソグラフィーによるマスクを用いてエッチング加工することでチャネル保護層１４１８を形成する。
【０１９６】
次いで、チャネル保護層１４１８及び酸化物半導体層１４０３上にソース電極層１４０５ａ、ドレイン電極層１４０５ｂをそれぞれ形成して薄膜トランジスタ１４３０を作製する（図３４（Ｂ）参照）。ソース電極層１４０５ａ及びドレイン電極層１４０５ｂは、実施の形態１に示すソース電極層４０５ａ及びドレイン電極層４０５ｂと同様に形成することができる。
【０１９７】
また、チャネル保護層１４１８を形成後、窒素雰囲気下、または大気雰囲気下（大気中）において薄膜トランジスタ１４３０に加熱処理（好ましくは１５０℃以上３５０℃未満）を行う。例えば、窒素雰囲気下で２５０℃、１時間の加熱処理を行う。該加熱処理を行うと、酸化物半導体層１４０３がチャネル保護層１４１８と接した状態で加熱されることになり、薄膜トランジスタ１４３０の電気的特性のばらつきを軽減することができる。この加熱処理（好ましくは１５０℃以上３５０℃未満）は、チャネル保護層１４１８の形成後であれば特に限定されず、他の工程、例えば平坦化膜として機能する絶縁層を形成する際の加熱処理や、透明導電膜を低抵抗化させるための加熱処理と兼ねることで、工程数を増やすことなく行うことができる。
【０１９８】
酸化物半導体層に脱水化または脱水素化の加熱処理を行うことにより酸化物半導体層を酸素欠乏型としてＮ型化させ、その後、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって酸化物半導体層に酸素を供給し、高純度化及びＩ型化させる。これにより、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製し、提供することが可能となる。
【０１９９】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２００】
（実施の形態４）
薄膜トランジスタを含む半導体装置の作製工程について、図１０乃至図１３を用いて説明する。
【０２０１】
図１０（Ａ）において、透光性を有する基板１００にはバリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板を用いることができる。
【０２０２】
次いで、導電層を基板１００全面に形成した後、第１のフォトリソグラフィ工程を行い、レジストマスクを形成し、エッチングにより不要な部分を除去して配線及び電極（ゲート電極層１０１を含むゲート配線、容量配線１０８、及び第１の端子１２１）を形成する。このとき少なくともゲート電極層１０１の端部にテーパー形状が形成されるようにエッチングする。
【０２０３】
ゲート電極層１０１を含むゲート配線と容量配線１０８、端子部の第１の端子１２１は、実施の形態１に示すゲート電極層４０１に示す材料を適宜用いることができる。また、ゲート電極層１０１を耐熱性導電性材料で形成する場合は、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、Ｎｄ（ネオジム）、スカンジウム（Ｓｃ）から選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜、または上述した元素を成分とする窒化物で形成する。
【０２０４】
次いで、ゲート電極層１０１上にゲート絶縁層１０２を全面に成膜する。
【０２０５】
例えば、ゲート絶縁層１０２としてスパッタリング法により酸化珪素膜を用い、１００ｎｍの厚さで形成する。勿論、ゲート絶縁層１０２はこのような酸化珪素膜に限定されるものでなく、酸化窒化珪素膜、窒化珪素膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜などの他の絶縁膜を用い、これらの材料から成る単層または積層構造として形成しても良い。
【０２０６】
次いで、ゲート絶縁層１０２上に、膜厚２ｎｍ以上２００ｎｍ以下の酸化物半導体膜を形成する。本実施の形態では、酸化物半導体膜としてＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系の酸化物半導体成膜用ターゲットを用いてスパッタ法により成膜する。
【０２０７】
この場合において、処理室内の残留水分を除去しつつ酸化物半導体膜を成膜することが好ましい。酸化物半導体膜に水素、水酸基又は水分が含まれないようにするためである。
【０２０８】
処理室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、排気手段としては、ターボポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプを用いて排気した成膜室は、例えば、水素原子や、水（Ｈ２Ｏ）など水素原子を含む化合物等が排気されるため、当該成膜室で成膜した酸化物半導体膜に含まれる不純物の濃度を低減できる。
【０２０９】
酸化物半導体膜を成膜する際に用いるスパッタガスは水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【０２１０】
次に、酸化物半導体膜を第２のフォトリソグラフィ工程により島状の酸化物半導体層１３３に加工する。例えば燐酸と酢酸と硝酸を混ぜた溶液を用いたウェットエッチングにより、不要な部分を除去して酸化物半導体層１３３を形成する（図１０（Ａ）参照）。なお、ここでのエッチングは、ウェットエッチングに限定されずドライエッチングを用いてもよい。
【０２１１】
ドライエッチングに用いるエッチングガスとしては、塩素を含むガス（塩素系ガス、例えば塩素（Ｃｌ２）、塩化硼素（ＢＣｌ３）、塩化珪素（ＳｉＣｌ４）、四塩化炭素（ＣＣｌ４）など）が好ましい。
【０２１２】
また、ドライエッチングに用いるエッチングガスとして、フッ素を含むガス（フッ素系ガス、例えば四弗化炭素（ＣＦ４）、六弗化硫黄（ＳＦ６）、三弗化窒素（ＮＦ３）、トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）など）、臭化水素（ＨＢｒ）、酸素（Ｏ２）、これらのガスにヘリウム（Ｈｅ）やアルゴン（Ａｒ）などの希ガスを添加したガス、などを用いることができる。
【０２１３】
ドライエッチング法としては、平行平板型ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）法や、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ：誘導結合型プラズマ）エッチング法などを用いることができる。所望の加工形状にエッチングできるように、エッチング条件（コイル型の電極に印加される電力量、基板側の電極に印加される電力量、基板側の電極温度等）を適宜調節する。
【０２１４】
ウエットエッチングに用いるエッチング液としては、燐酸と酢酸と硝酸を混ぜた溶液、アンモニア過水（３１重量％過酸化水素水：２８重量％アンモニア水：水＝５：２：２）などを用いることができる。また、ＩＴＯ０７Ｎ（関東化学社製）を用いてもよい。
【０２１５】
また、ウエットエッチング後のエッチング液はエッチングされた材料とともに洗浄によって除去される。その除去された材料を含むエッチング液の廃液を精製し、含まれる材料を再利用してもよい。当該エッチング後の廃液から酸化物半導体層に含まれるインジウム等の材料を回収して再利用することにより、資源を有効活用し低コスト化することができる。
【０２１６】
なお、所望の加工形状にエッチングできるように、材料に合わせてエッチング条件（エッチング液、エッチング時間、温度等）を適宜調節する。
【０２１７】
次いで、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を低減するため、酸化物半導体層１３３に窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理）を行い、酸化物半導体層の含有水分を低減する。
【０２１８】
次に、加熱された酸化物半導体層を酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却する。よって、酸化物半導体層を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化し、酸化物半導体層１０３を形成する（図１０（Ｂ）参照。）。
【０２１９】
本実施の形態では、加熱処理装置の一つである電気炉に基板を導入し、酸化物半導体層に対して窒素雰囲気下４５０℃において１時間の加熱処理を行い、酸素雰囲気下で冷却を行う。
【０２２０】
酸化物半導体層に対して、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下で脱水化、又は脱水素化処理のための加熱処理が行われ、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で加酸化処理のための冷却工程が行われることを特徴とする。
【０２２１】
よって、脱水化、又は脱水素化処理及び加酸化処理において、酸化物半導体層（及び基板）に与える温度変化の段階は、昇温時、恒温時、冷却時とあるが、窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体から酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）へのガス（雰囲気）の切り替えは、恒温時でもよいし、冷却開始時でもよいし、冷却中でもよい。
【０２２２】
次に、酸化物半導体層１０３上に金属材料からなる導電膜１３２をスパッタリング法や真空蒸着法で形成する（図１０（Ｃ）参照。）。
【０２２３】
導電膜１３２の材料としては、実施の形態１に示すソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂと同様の材料を適宜用いることができる。
【０２２４】
導電膜１３２成膜後に加熱処理を行う場合には、この加熱処理に耐える耐熱性を導電膜に持たせることが好ましい。
【０２２５】
次に、第３のフォトリソグラフィ工程を行い、レジストマスクを形成し、エッチングにより不要な部分を除去してソース電極層またはドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂ、及び第２の端子１２２を形成する（図１０（Ｄ）参照。）。この際のエッチング方法としてウェットエッチングまたはドライエッチングを用いる。例えば導電膜１３２としてアルミニウム膜、またはアルミニウム合金膜を用いる場合は、燐酸と酢酸と硝酸を混ぜた溶液を用いたウェットエッチングを行うことができる。また、アンモニア過水（３１重量％過酸化水素水：２８重量％アンモニア水：水＝５：２：２）を用いたウェットエッチングにより、導電膜１３２をエッチングしてソース電極層またはドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを形成してもよい。このエッチング工程において、酸化物半導体層１０３の露出領域も一部エッチングされ、凹部を有する酸化物半導体層となる場合がある。
【０２２６】
また、この第３のフォトリソグラフィ工程において、ソース電極層またはドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと同じ材料である第２の端子１２２を端子部に残す。なお、第２の端子１２２はソース配線（ソース電極層またはドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを含むソース配線）と電気的に接続されている。
【０２２７】
また、多階調マスクにより形成した複数（代表的には二種類）の厚さの領域を有するレジストマスクを用いると、レジストマスクの数を減らすことができるため、工程簡略化、低コスト化が図れる。
【０２２８】
次に、レジストマスクを除去し、ゲート絶縁層１０２、酸化物半導体層１０３、ソース電極層またはドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを覆う絶縁層１０７を形成する。
【０２２９】
絶縁層１０７は、少なくとも１ｎｍ以上の膜厚とし、スパッタ法など、絶縁層１０７に水、水素等の不純物を混入させない方法を適宜用いて形成することができる。絶縁層１０７に水素が含まれると、その水素の酸化物半導体層への侵入、又は水素による酸化物半導体層中の酸素の引き抜き、が生じ酸化物半導体層のバックチャネルが低抵抗化（Ｎ型化）してしまい、寄生チャネルが形成されるおそれがある。よって、絶縁層１０７はできるだけ水素を含まない膜になるように、成膜方法に水素を用いないことが重要である。
【０２３０】
本実施の形態では、絶縁層１０７として膜厚２００ｎｍの酸化シリコン膜をスパッタ法を用いて成膜する。成膜時の基板温度は、室温以上３００℃以下とすればよく、本実施の形態では１００℃とする。酸化シリコン膜のスパッタ法による成膜は、希ガス（代表的にはアルゴン）雰囲気下、酸素雰囲気下、または希ガス（代表的にはアルゴン）及び酸素雰囲気下において行うことができる。また、ターゲットとして酸化シリコンターゲットまたはシリコンターゲットを用いることができる。例えば、シリコンターゲットを用いて、酸素、及び窒素雰囲気下でスパッタ法により酸化シリコンを形成することができる。絶縁層１０７は、水分や、水素イオンや、ＯＨ−などの不純物を含まない無機絶縁膜を用い、代表的には酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、または酸化窒化アルミニウム膜などを用いる。
【０２３１】
この場合において、処理室内の残留水分を除去しつつ絶縁層１０７を成膜することが好ましい。酸化物半導体層１０３及び絶縁層１０７に水素、水酸基又は水分が含まれないようにするためである。
【０２３２】
処理室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、排気手段としては、ターボポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプを用いて排気した成膜室は、例えば、水素原子や、水（Ｈ２Ｏ）など水素原子を含む化合物等が排気されるため、当該成膜室で成膜した絶縁層１０７に含まれる不純物の濃度を低減できる。
【０２３３】
絶縁層１０７を成膜する際に用いるスパッタガスは水素、水、水酸基又は水素化物などの不純物が、濃度ｐｐｍ程度、濃度ｐｐｂ程度まで除去された高純度ガスを用いることが好ましい。
【０２３４】
次いで、絶縁層１０７を形成した後、加熱処理を行ってもよい。不活性ガス雰囲気下、または酸素ガス雰囲気下で加熱処理（第２の加熱処理）（好ましくは２００℃以上４００℃以下、例えば２５０℃以上３５０℃以下）を行ってもよい。例えば、窒素雰囲気下で２５０℃、１時間の加熱処理を行う。この加熱処理を行うと、酸化物半導体層が絶縁層１０７と接した状態で加熱される。
【０２３５】
以上の工程で薄膜トランジスタ１７０を作製することができる（図１１（Ａ）参照。）。
【０２３６】
次に、第４のフォトリソグラフィ工程を行い、レジストマスクを形成し、絶縁層１０７のエッチングによりドレイン電極層１０５ｂに達するコンタクトホール１２５を形成する。また、ここでのエッチングにより第２の端子１２２に達するコンタクトホール１２７、第１の端子１２１に達するコンタクトホール１２６も形成する。この段階での断面図を図１１（Ｂ）に示す。
【０２３７】
次いで、レジストマスクを除去した後、透光性導電膜を成膜する。透光性導電膜の材料としては、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム酸化スズ合金（Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２、ＩＴＯと略記する）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）または前記金属酸化物材料にシリコン若しくは酸化シリコンを含ませたものを用いることができる。
【０２３８】
次に、第５のフォトリソグラフィ工程を行い、レジストマスクを形成し、エッチングにより不要な部分を除去して画素電極層１１０を形成する。
【０２３９】
また、この第５のフォトリソグラフィ工程において、容量部におけるゲート絶縁層１０２及び絶縁層１０７を誘電体として、容量配線１０８と画素電極層１１０とで保持容量が形成される。
【０２４０】
また、この第５のフォトリソグラフィ工程において、第１の端子１２１及び第２の端子１２２をレジストマスクで覆い端子部に形成された透明導電膜１２８、１２９を残す。透明導電膜１２８、１２９はＦＰＣとの接続に用いられる電極または配線となる。第１の端子１２１上に形成された透明導電膜１２８は、ゲート配線の入力端子として機能する接続用の端子電極となる。第２の端子１２２上に形成された透明導電膜１２９は、ソース配線の入力端子として機能する接続用の端子電極である。
【０２４１】
次いで、レジストマスクを除去し、この段階での断面図を図１１（Ｃ）に示す。なお、この段階での平面図が図１２に相当する。
【０２４２】
また、図１３（Ａ１）、図１３（Ａ２）は、この段階でのゲート配線端子部の平面図及び断面図をそれぞれ図示している。図１３（Ａ１）は図１３（Ａ２）中のＥ１−Ｅ２線に沿った断面図に相当する。図１３（Ａ１）において、保護絶縁膜１５４上に形成される透明導電膜１５５は、入力端子として機能する接続用の端子電極である。また、図１３（Ａ１）において、端子部では、ゲート配線と同じ材料で形成される第１の端子１５１と、ソース配線と同じ材料で形成される接続電極層１５３とがゲート絶縁層１５２を介して重なり、透明導電膜１５５で導通させている。なお、図１１（Ｃ）に図示した透明導電膜１２８と第１の端子１２１とが接触している部分が、図１３（Ａ１）の透明導電膜１５５と第１の端子１５１が接触している部分に対応している。
【０２４３】
また、図１３（Ｂ１）、及び図１３（Ｂ２）は、図１１（Ｃ）に示すソース配線端子部とは異なるソース配線端子部の平面図及び断面図をそれぞれ図示している。また、図１３（Ｂ１）は図１３（Ｂ２）中のＦ１−Ｆ２線に沿った断面図に相当する。図１３（Ｂ１）において、保護絶縁膜１５４上に形成される透明導電膜１５５は、入力端子として機能する接続用の端子電極である。また、図１３（Ｂ１）において、端子部では、ゲート配線と同じ材料で形成される電極層１５６が、ソース配線と電気的に接続される第２の端子１５０の下方にゲート絶縁層１５２を介して重なる。電極層１５６は第２の端子１５０とは電気的に接続しておらず、電極層１５６を第２の端子１５０と異なる電位、例えばフローティング、ＧＮＤ、０Ｖなどに設定すれば、ノイズ対策のための容量または静電気対策のための容量を形成することができる。また、第２の端子１５０は、保護絶縁膜１５４を介して透明導電膜１５５と電気的に接続している。
【０２４４】
ゲート配線、ソース配線、及び容量配線は画素密度に応じて複数本設けられるものである。また、端子部においては、ゲート配線と同電位の第１の端子、ソース配線と同電位の第２の端子、容量配線と同電位の第３の端子などが複数並べられて配置される。それぞれの端子の数は、それぞれ任意な数で設ければ良いものとし、実施者が適宣決定すれば良い。
【０２４５】
こうして５回のフォトリソグラフィ工程により、５枚のフォトマスクを使用して、ボトムゲート型のスタガ構造の薄膜トランジスタである薄膜トランジスタ１７０を有する画素薄膜トランジスタ部、保持容量を完成させることができる。そして、これらを個々の画素に対応してマトリクス状に配置して画素部を構成することによりアクティブマトリクス型の表示装置を作製するための一方の基板とすることができる。本明細書では便宜上このような基板をアクティブマトリクス基板と呼ぶ。
【０２４６】
アクティブマトリクス型の液晶表示装置を作製する場合には、アクティブマトリクス基板と、対向電極が設けられた対向基板との間に液晶層を設け、アクティブマトリクス基板と対向基板とを固定する。なお、対向基板に設けられた対向電極と電気的に接続する共通電極をアクティブマトリクス基板上に設け、共通電極と電気的に接続する第４の端子を端子部に設ける。この第４の端子は、共通電極を固定電位、例えばＧＮＤ、０Ｖなどに設定するための端子である。
【０２４７】
また、容量配線を設けず、画素電極を隣り合う画素のゲート配線と保護絶縁膜及びゲート絶縁層を介して重ねて保持容量を形成してもよい。
【０２４８】
本明細書に開示する薄膜トランジスタは、酸化物半導体膜をチャネル形成領域に用いており、良好な動特性を有するため、これらの駆動技術を組み合わせることができる。
【０２４９】
また、発光表示装置を作製する場合、有機発光素子の一方の電極（カソードとも呼ぶ）は、低電源電位、例えばＧＮＤ、０Ｖなどに設定するため、端子部に、カソードを低電源電位、例えばＧＮＤ、０Ｖなどに設定するための第４の端子が設けられる。また、発光表示装置を作製する場合には、ソース配線、及びゲート配線に加えて電源供給線を設ける。従って、端子部には、電源供給線と電気的に接続する第５の端子を設ける。
【０２５０】
酸化物半導体層に脱水化または脱水素化の加熱処理を行うことにより酸化物半導体層を酸素欠乏型としてＮ型化させ、その後、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却することによって酸化物半導体層に酸素を供給し、高純度化及びＩ型化させる。これにより、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を作製し、提供することが可能となる。
【０２５１】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２５２】
（実施の形態５）
本実施の形態では、半導体装置の作製方法の他の例を説明する。
【０２５３】
図３８に酸化物半導体の脱水化、脱水素化と加酸化処理を行うための熱処理装置の一例を示す。熱処理装置は、酸化物半導体膜が形成された基板２５０を保持するカセット２６０ａの出し入れを行うロード室２５１と、カセット２６０ｂの出し入れを行うアンロード室２５４との間に、脱水、脱水素化処理を行う処理室２５２、加酸化処理を行う処理室２５３が備えられている。なお、処理室２５２には加熱手段としてランプ光源２５８が設けられている。
【０２５４】
ロード室２５１、処理室２５２、処理室２５３には真空排気装置２５９が接続されており、排気管からロード室２５１、処理室２５２、処理室２５３内の気体が排気される。ロード室２５１、処理室２５２、処理室２５３の選択はバルブを開閉して切り替えることで行う。また、ロード室２５１、処理室２５２、処理室２５３、アンロード室２５４には給気管により、ガス供給手段から水素、水分がｐｐｂレベルにまで低減された高純度のガスが供給される。
【０２５５】
ロード室２５１と、処理室２５２と、処理室２５３と、アンロード室２５４との間にはそれぞれシャッター２５６ａ、２５６ｂ、２５６ｃが設けられており、基板２５０の搬出入に伴って開閉する。
【０２５６】
基板を保持したカセット２６０ａをロード室２５１に搬入する。ロード室２５１を真空排気装置２５９で排気し、減圧した後、窒素ガス、又は不活性ガスを供給する。同様に処理室２５２も真空排気装置２５９で排気し、減圧した後、処理室２５２に窒素ガス、又は不活性ガスを供給する。
【０２５７】
カセット２６０ａより基板２５０を取り出し、シャッター２５６ａを開いて窒素又は不活性ガス雰囲気下の処理室２５２へ搬送する。ランプ光源２５８を用いて窒素、または不活性気体雰囲気下での２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理（脱水化、又は脱水素化のための加熱処理）を行い、酸化物半導体膜の含有水分等の不純物を低減する。なお、脱水化、又は脱水素化のための加熱処理は、減圧下で行ってもよい。
【０２５８】
次に、処理室２５３を真空排気装置２５９で排気し、減圧した後、処理室２５３に酸素ガス、酸素及び窒素を含むガス（例えばＮ２Ｏガス）、又は超乾燥エア（露点が−４０℃以下、好ましくは−５０℃以下）を供給する。次に、シャッター２５６ａを開いて、加熱処理された基板２５０を、酸素、酸素及び窒素、又は超乾燥エア雰囲気下の処理室２５３へ搬送し、酸素、酸素及び窒素、又は超乾燥エア雰囲気下において冷却する。酸素、酸素及び窒素、又は超乾燥エア雰囲気下において冷却することで、酸化物半導体膜に酸素を供給し、酸化物半導体膜を高純度化及び電気的にＩ型（真性）化することができる。
【０２５９】
次に、加酸化処理を行った基板２５０はシャッター２５６ｃを開いてアンロード室２５４へ搬送され、カセット２６０ｂに保持される。アンロード室２５４も処理室２５３と同様に酸素及び窒素を含むガス（例えばＮ２Ｏガス）、又は超乾燥エア（露点が−４０℃以下、好ましくは−５０℃以下）が供給された、酸素、酸素及び窒素、又は超乾燥エア雰囲気下としておく。
【０２６０】
以上のように、図３８の熱処理装置を用いて、酸化物半導体層の脱水、脱水素化のための加熱処理及び加酸化処理を行うことができる。
【０２６１】
このように高純度化された酸化物半導体膜を用いることで、安定な電気特性を有し信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
【０２６２】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２６３】
（実施の形態６）
本実施の形態では、半導体装置の作製方法の他の例を説明する。
【０２６４】
図３９に酸化物半導体の脱水化、脱水素化と加酸化処理を行うための熱処理装置の一例を示す。熱処理装置は、酸化物半導体膜が形成された基板２０８を保持するカセット２０６の出し入れを行うカセット搬出入室２００と、複数枚の基板２０８を収納した状態のカセット２０６を保持した状態で清浄化された気体を導入し熱処理を行う熱処理室２０１が備えられている。
【０２６５】
カセット搬出入室２００は真空排気装置２１４が接続されており、排気管２１０からカセット搬出入室２００内の気体が排気される。また、カセット搬出入室２００には給気管２１２により、ガス供給手段（１）２１６から窒素ガスまたは不活性ガスが供給される。
【０２６６】
カセット搬出入室２００と熱処理室２０１との間には仕切弁２０４が設けられており、カセット２０６の搬出入に伴って開閉する。熱処理室２０１に搬送されたカセット２０６は、クリーン槽２０２の中に保持される。
【０２６７】
熱処理室２０１には給気管２２０が接続され、ガス供給手段（１）２１６から窒素ガスまたは不活性ガスが供給され、ガス供給手段（２）２１８から酸素ガスが供給されるようになっている。ガス供給手段（１）２１６及びガス供給手段（２）２１８から供給されるガスは水素、水分がｐｐｂレベルにまで低減された高純度のガスが供給される。
【０２６８】
熱処理室２０１に供給されたガスは、ヒータ２２２で加熱され、送風機２２４によってクリーン槽２０２に送られる。クリーン槽２０２に流れ込むガスはフィルタ２２６によって微粒子が取り除かれる。
【０２６９】
熱処理室２０１内では、ガスが循環するように構成されているが、一部が排気管２２８によって熱処理室２０１から排気される。排気されるガスの量は排気管２２８に取り付けられているダクト２３２の開度によって調整される。排気されたガスはガス精製装置２３０によって、再び水分等の不純物が取り除かれ、給気管２２０に戻される。また、一部のガスは排気装置２３４によって排出される。
【０２７０】
図３９の熱処理装置を用いて、酸化物半導体層の脱水、脱水素化のための加熱処理及び加酸化処理を行うことができる。
【０２７１】
このように高純度化された酸化物半導体膜を用いることで、安定な電気特性を有し信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
【０２７２】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２７３】
（実施の形態７）
本実施の形態では、実施の形態１と一部工程が異なる一例を示す。本実施の形態は、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂの形成後に脱水化、又は脱水素化の加熱処理を行う例を図３１に示す。なお、図１と同一の部分には同じ符号を用いて説明する。
【０２７４】
実施の形態１と同様に、絶縁表面を有する基板４００上にゲート電極層４０１、ゲート絶縁層４０２、酸化物半導体層４３０を形成する（図３１（Ａ）参照。）。
【０２７５】
酸化物半導体層４３０上にソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂを形成する（図３１（Ｂ）参照。）。
【０２７６】
次に酸化物半導体層４３０、及びソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂに対して不活性ガス雰囲気（窒素、またはヘリウム、ネオン、アルゴン等）下或いは減圧下において脱水化処理または脱水素化処理として加熱処理を行う。この加熱処理によって、酸化物半導体層４３０は低抵抗化し、低抵抗化した酸化物半導体層となる。その後、加熱された酸化物半導体層に加酸化処理として酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下において徐冷を行う。加酸化処理は酸化物半導体層の露出領域に行われるため、半導体層４９５の一部が選択的に酸素過剰な状態となる。その結果、ゲート電極層４０１と重なるチャネル形成領域４９６はＩ型となり、ソース電極層４０５ａに重なる高抵抗ソース領域４９７ａと、ドレイン電極層４０５ｂに重なる高抵抗ドレイン領域４９７ｂとが自己整合的に形成される（図３１（Ｃ）参照。）。
【０２７７】
なお、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂの材料は、ここでの加熱処理に耐える材料、例えばタングステン、モリブデンなどを用いることが好ましい。
【０２７８】
次いで、半導体層４９５に接してスパッタリング法またはＰＣＶＤ法により絶縁層４０７を形成し、保護絶縁層４９９を積層する。本実施の形態では、絶縁層４０７としてスパッタリング法により酸化シリコン層を形成し、保護絶縁層４９９としてスパッタリング法により窒化シリコン層を形成する。
【０２７９】
以上の工程で薄膜トランジスタ４９４が形成される（図３１（Ｄ）参照。）。
【０２８０】
なお、ドレイン電極層４０５ｂ（及びソース電極層４０５ａ）と重畳した酸化物半導体層において高抵抗ドレイン領域４９７ｂ（又は高抵抗ソース領域４９７ａ）を形成することにより、薄膜トランジスタの信頼性の向上を図ることができる。具体的には、高抵抗ドレイン領域４９７ｂを形成することで、ドレイン電極層４０５ｂから高抵抗ドレイン領域４９７ｂ、チャネル形成領域４９６にかけて、導電性を段階的に変化させうるような構造とすることができる。そのため、ドレイン電極層４０５ｂに高電源電位ＶＤＤを供給する配線に接続して動作させる場合、ゲート電極層４０１とドレイン電極層４０５ｂとの間に高電界が印加されても高抵抗ドレイン領域がバッファとなり局所的な高電界が印加されず、トランジスタの耐圧を向上させた構成とすることができる。
【０２８１】
このように高純度化された酸化物半導体層を用いることで、安定な電気特性を有し信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
【０２８２】
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２８３】
（実施の形態８）
半導体装置及び半導体装置の作製方法を、図３２を用いて説明する。実施の形態１と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態１と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０２８４】
図３２に示す薄膜トランジスタ４７１はゲート電極層４０１及び酸化物半導体層４０３のチャネル領域に重なるように絶縁膜を介して導電層４０９を設ける例である。
【０２８５】
図３２は半導体装置の有する薄膜トランジスタ４７１の断面図である。薄膜トランジスタ４７１はボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板である基板４００上に、ゲート電極層４０１、ゲート絶縁層４０２、酸化物半導体層４０３、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂ、絶縁層４０７、保護絶縁層４９９、及び導電層４０９を含む。導電層４０９は、ゲート電極層４０１と重なるように、保護絶縁層４９９上に設けられている。
【０２８６】
導電層４０９は、ゲート電極層４０１、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂと同様な材料、方法を用いて形成することができる。画素電極層を設ける場合は、画素電極層と同様な材料、方法を用いて形成してもよい。本実施の形態では、導電層４０９としてチタン膜、アルミニウム膜、及びチタン膜の積層を用いる。
【０２８７】
導電層４０９は、電位がゲート電極層４０１と同じでもよいし、異なっていても良く、第２のゲート電極層として機能させることもできる。また、導電層４０９がフローティング状態であってもよい。
【０２８８】
導電層４０９を酸化物半導体層４０３と重なる位置に設けることによって、薄膜トランジスタの信頼性を調べるためのバイアス−熱ストレス試験（以下、ＢＴ試験という）において、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタ４７１のしきい値電圧の変化量を低減することができる。特に、基板温度を１５０℃まで上昇させた後にゲートに印加する電圧を−２０Ｖとする−ＢＴ試験において、しきい値電圧の変動を抑えることができる。
【０２８９】
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２９０】
（実施の形態９）
半導体装置及び半導体装置の作製方法を、図３３を用いて説明する。実施の形態１と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態１と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０２９１】
図３３に示す薄膜トランジスタ４７２は、ゲート電極層４０１及び酸化物半導体層４０３のチャネル領域に重なるように、絶縁層４０７、保護絶縁層４９９、及び絶縁層４１０を介して導電層４１９が設けられる形態である。
【０２９２】
図３３は、半導体装置が有する薄膜トランジスタ４７２の断面図である。薄膜トランジスタ４７２はボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板である基板４００上に、ゲート電極層４０１、ゲート絶縁層４０２、酸化物半導体層４０３、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂ、絶縁層４０７、絶縁層４１０、及び導電層４１９を含む。導電層４１９は、ゲート電極層４０１と重なるように、絶縁層４１０上に設けられている。
【０２９３】
本実施の形態で示す薄膜トランジスタは、保護絶縁層４９９上に平坦化膜として機能する絶縁層４１０を積層し、絶縁層４０７、保護絶縁層４９９及び絶縁層４１０に形成されたドレイン電極層４０５ｂに達する開口に導電膜を形成し、所望の形状にエッチングして導電層４１９及び画素電極層４１１を形成する。このように画素電極層４１１を形成する工程で、導電層４１９を形成することができる。本実施の形態では、画素電極層４１１、導電層４１９として酸化珪素を含む酸化インジウム酸化スズ合金（酸化珪素を含むＩｎ−Ｓｎ−Ｏ系酸化物）を用いる。
【０２９４】
また、導電層４１９は、ゲート電極層４０１、ソース電極層４０５ａ、ドレイン電極層４０５ｂと同様な材料及び作製方法を用いて形成してもよい。
【０２９５】
導電層４１９は、電位がゲート電極層４０１と同じでもよい。または、異なっていても良い。導電層４１９は、第２のゲート電極層として機能させることもできる。また、導電層４１９がフローティング状態であってもよい。
【０２９６】
導電層４１９を酸化物半導体層４０３と重なる位置に設けることによって、薄膜トランジスタの信頼性を調べるためのＢＴ試験において、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタ４７２のしきい値電圧の変化量を低減することができる。
【０２９７】
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０２９８】
（実施の形態１０）
半導体装置及び半導体装置の作製方法を、図３５（Ａ）及び図３５（Ｂ）を用いて説明する。実施の形態３と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態３と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０２９９】
図３５（Ａ）に示す薄膜トランジスタ１４３１はゲート電極層１４０１及び酸化物半導体層１４０３のチャネル領域に重なるようにチャネル保護層１４１８及び絶縁層１４０７を介して導電層１４０９を設ける例である。
【０３００】
図３５（Ａ）は半導体装置の有する薄膜トランジスタ１４３１の断面図である。薄膜トランジスタ１４３１はボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板である基板１４００上に、ゲート電極層１４０１、ゲート絶縁層１４０２、酸化物半導体層１４０３、及びソース電極層１４０５ａ、ドレイン電極層１４０５ｂ、絶縁層１４０７、導電層１４０９を含む。導電層１４０９は、ゲート電極層１４０１と重なるように、絶縁層１４０７上に設けられている。
【０３０１】
導電層１４０９は、ゲート電極層１４０１、ソース電極層１４０５ａ、ドレイン電極層１４０５ｂと同様な材料、方法を用いて形成することができる。画素電極層を設ける場合は、画素電極層と同様な材料、方法を用いて形成してもよい。本実施の形態では、導電層１４０９としてチタン膜、アルミニウム膜、及びチタン膜の積層を用いる。
【０３０２】
導電層１４０９は、電位がゲート電極層１４０１と同じでもよいし、異なっていても良く、第２のゲート電極層として機能させることもできる。また、導電層１４０９がフローティング状態であってもよい。
【０３０３】
導電層１４０９を酸化物半導体層１４０３と重なる位置に設けることによって、薄膜トランジスタの信頼性を調べるためのバイアス−熱ストレス試験（以下、ＢＴ試験という）において、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタ１４３１のしきい値電圧の変化量を低減することができる。
【０３０４】
また、図３５（Ｂ）に図３５（Ａ）と一部異なる例を示す。図３５（Ａ）と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、図３５（Ａ）と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０３０５】
図３５（Ｂ）に示す薄膜トランジスタ１４３２はゲート電極層１４０１及び酸化物半導体層１４０３のチャネル領域に重なるようにチャネル保護層１４１８、絶縁層１４０７及び絶縁層１４０８を介して導電層１４０９を設ける例である。
【０３０６】
図３５（Ｂ）では、絶縁層１４０７上に平坦化膜として機能する絶縁層１４０８を積層する。
【０３０７】
図３５（Ｂ）の構造においても、導電層１４０９を酸化物半導体層１４０３と重なる位置に設けることによって、薄膜トランジスタの信頼性を調べるためのＢＴ試験において、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタ１４３２のしきい値電圧の変化量を低減することができる。
【０３０８】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０３０９】
（実施の形態１１）
本実施の形態では、実施の形態１と構造が一部異なる例を図３６に示す。実施の形態１と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態１と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０３１０】
図３６における構造において、酸化物半導体層４０３とソース電極層の間にソース領域（Ｎ＋層、バッファ層ともいう）を、酸化物半導体層とドレイン電極層との間にドレイン領域（Ｎ＋層、バッファ層ともいう）を有する例を示す。例えば、ソース領域及びドレイン領域に、Ｎ型の導電型を示す酸化物半導体層を用いる。本実施の形態では、ソース領域またはドレイン領域４０４ａ、４０４ｂとしてＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を用いる。
【０３１１】
また、薄膜トランジスタ４７３のソース領域またはドレイン領域４０４ａ、４０４ｂとして、酸化物半導体層を用いる場合は、チャネル形成領域として用いる酸化物半導体層４０３の膜厚よりも薄く、且つ、より高い導電率（電気伝導度）を有するのが好ましい。
【０３１２】
また、ソース領域またはドレイン領域として、酸化物半導体層とソース電極層及びドレイン電極層の間に、酸化物導電層を形成してもよい。酸化物導電層とソース電極及びドレイン電極を形成するための金属層は、連続成膜が可能である。
【０３１３】
ソース領域及びドレイン領域として、酸化物導電層を酸化物半導体層とソース電極層及びドレイン電極層との間に設けることで、ソース領域及びドレイン領域の低抵抗化を図ることができ、トランジスタの高速動作をすることができる。ソース領域及びドレイン領域として酸化物導電層を用いることは、周辺回路（駆動回路）の周波数特性を向上させるために有効である。金属電極（Ｔｉ等）と酸化物半導体層との接触に比べ、金属電極（Ｔｉ等）と酸化物導電層との接触は、接触抵抗を下げることができるからである。
【０３１４】
本実施の形態では、島状の酸化物半導体層へ加工した後に、酸化物半導体層に窒素、または希ガス（アルゴン、ヘリウムなど）の不活性気体雰囲気下、或いは減圧下において２００℃乃至７００℃、好ましくは３５０℃乃至７００℃、より好ましくは４５０℃乃至７００℃の加熱処理を行った後、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気下で冷却を行う。酸化物半導体層を上記雰囲気下で加熱処理及び冷却することで、酸化物半導体層の脱水化、又は脱水素化処理、及び加酸化処理を行うことができ、高純度化及び電気的にＩ型（真性）化した酸化物半導体層４０３とすることができる。
【０３１５】
また、絶縁層４０７を形成後、窒素雰囲気下、または大気雰囲気下（大気中）において薄膜トランジスタ４７３に加熱処理（好ましくは１５０℃以上３５０℃未満）を行ってもよい。例えば、窒素雰囲気下で２５０℃、１時間の加熱処理を行う。該加熱処理を行うと、酸化物半導体層４０３が絶縁層４０７と接した状態で加熱されることになり、薄膜トランジスタ４７０の電気的特性のばらつきを軽減することができる。
【０３１６】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０３１７】
（実施の形態１２）
本実施の形態では、断面から見て酸化物半導体層を窒化物絶縁層で囲む例を図２３に示す。図２３は、実施の形態１に示す薄膜トランジスタと酸化物絶縁層の上面形状及び端部の位置が異なる点、ゲート絶縁層の構成が異なる点以外は同じであるため、実施の形態１と同一部分または同様な機能を有する部分、及び工程は、実施の形態１と同様に行うことができ、繰り返しの説明は省略する。
【０３１８】
図２３に示す薄膜トランジスタ６５０はボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板３９４上に、ゲート電極層３９１、窒化物絶縁層を用いたゲート絶縁層６５２ａ、酸化物絶縁層を用いたゲート絶縁層６５２ｂ、酸化物半導体層３９２、ソース電極層３９５ａ、及びドレイン電極層３９５ｂを含む。また、薄膜トランジスタ６５０を覆い、酸化物半導体層３９２に積層する酸化物絶縁層６５６が設けられている。酸化物絶縁層６５６上にはさらに窒化物絶縁層を用いた保護絶縁層６５３が形成されている。保護絶縁層６５３は窒化物絶縁層であるゲート絶縁層６５２ａと接する構成とする。
【０３１９】
本実施の形態では、薄膜トランジスタ６５０においてゲート絶縁層をゲート電極層側から窒化物絶縁層と酸化物絶縁層との積層構造とする。また、窒化物絶縁層である保護絶縁層６５３の形成前に、酸化物絶縁層６５６と、ゲート絶縁層６５２ｂを選択的に除去し、窒化物絶縁層であるゲート絶縁層６５２ａが露出するように加工する。
【０３２０】
少なくとも酸化物絶縁層６５６、ゲート絶縁層６５２ｂの上面形状は、酸化物半導体層３９２の上面形状よりも広く、薄膜トランジスタ６５０を覆う上面形状とすることが好ましい。
【０３２１】
さらに酸化物絶縁層６５６の上面と、酸化物絶縁層６５６及びゲート絶縁層６５２ｂの側面とを覆い、かつ窒化物絶縁層であるゲート絶縁層６５２ａに接して、窒化物絶縁層である保護絶縁層６５３を形成する。
【０３２２】
窒化物絶縁層からなる保護絶縁層６５３及びゲート絶縁層６５２ａは、スパッタ法やプラズマＣＶＤ法で得られる窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化アルミニウム膜、酸化窒化アルミニウム膜などの水分、水素イオン、ＯＨ−などの不純物を含まず、これらが外部から侵入することをブロックする無機絶縁膜を用いる。
【０３２３】
本実施の形態では、窒化物絶縁層からなる保護絶縁層６５３として、酸化物半導体層３９２の下面、上面、及び側面を囲むようにＲＦスパッタ法を用い、膜厚１００ｎｍの窒化シリコン層を設ける。
【０３２４】
図２３に示す構造とすることで、酸化物半導体層は、接して囲う様に設けられるゲート絶縁層６５２ｂ及び酸化物絶縁層６５６によって、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物は低減され、かつ窒化物絶縁層であるゲート絶縁層６５２ａ及び保護絶縁層６５３によってさらに外部を覆うように囲まれているので、保護絶縁層６５３の形成後の製造プロセスにおいて、外部からの水分の侵入を防ぐことができる。また、タッチパネル、例えば表示装置としてデバイスが完成した後にも長期的に、外部からの水分の侵入を防ぐことができデバイスの長期信頼性を向上することができる。
【０３２５】
また、本実施の形態では一つの薄膜トランジスタを窒化物絶縁層で囲む構成を示したが特に限定されず、複数の薄膜トランジスタを窒化物絶縁層で囲む構成としてもよいし、画素部の複数の薄膜トランジスタをまとめて窒化物絶縁層で囲む構成としてもよい。少なくともアクティブマトリクス基板の画素部の周縁を囲むように保護絶縁層６５３とゲート絶縁層６５２ａとが接する領域を設ける構成とすればよい。
【０３２６】
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０３２７】
（実施の形態１３）
本実施の形態では、同一基板上に少なくとも駆動回路の一部と、画素部に配置する薄膜トランジスタを作製する例について以下に説明する。
【０３２８】
画素部に配置する薄膜トランジスタは、実施の形態１乃至４に従って形成することができる。また、実施の形態１乃至１０に示す薄膜トランジスタはｎチャネル型ＴＦＴであるため、駆動回路のうち、Ｎチャネル型ＴＦＴで構成することができる駆動回路の一部を画素部の薄膜トランジスタと同一基板上に形成する。
【０３２９】
アクティブマトリクス型表示装置のブロック図の一例を図１９（Ａ）に示す。表示装置の基板上５３００には、画素部５３０１、第１の走査線駆動回路５３０２、第２の走査線駆動回路５３０３、信号線駆動回路５３０４を有する。画素部５３０１には、複数の信号線が信号線駆動回路５３０４から延伸して配置され、複数の走査線が第１の走査線駆動回路５３０２、及び第２の走査線駆動回路５３０３から延伸して配置されている。なお走査線と信号線との交差領域には、各々、表示素子を有する画素がマトリクス状に配置されている。また、表示装置の基板５３００はＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）等の接続部を介して、タイミング制御回路５３０５（コントローラ、制御ＩＣともいう）に接続されている。
【０３３０】
図１９（Ａ）では、第１の走査線駆動回路５３０２、第２の走査線駆動回路５３０３、信号線駆動回路５３０４は、画素部５３０１と同じ基板５３００上に形成される。そのため、外部に設ける駆動回路等の部品の数が減るので、コストの低減を図ることができる。また、基板５３００外部に駆動回路を設けた場合、配線を延伸させる必要が生じ、配線間の接続数が増える。同じ基板５３００上に駆動回路を設けた場合、その配線間の接続数を減らすことができ、信頼性の向上、又は歩留まりの向上を図ることができる。
【０３３１】
なお、タイミング制御回路５３０５は、第１の走査線駆動回路５３０２に対し、一例として、第１の走査線駆動回路用スタート信号（ＧＳＰ１）、走査線駆動回路用クロック信号（ＧＣＫ１）を供給する。また、タイミング制御回路５３０５は、第２の走査線駆動回路５３０３に対し、一例として、第２の走査線駆動回路用スタート信号（ＧＳＰ２）（スタートパルスともいう）、走査線駆動回路用クロック信号（ＧＣＫ２）を供給する。信号線駆動回路５３０４に、信号線駆動回路用スタート信号（ＳＳＰ）、信号線駆動回路用クロック信号（ＳＣＫ）、ビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）（単にビデオ信号ともいう）、ラッチ信号（ＬＡＴ）を供給するものとする。なお各クロック信号は、周期のずれた複数のクロック信号でもよいし、クロック信号を反転させた信号（ＣＫＢ）とともに供給されるものであってもよい。なお、第１の走査線駆動回路５３０２と第２の走査線駆動回路５３０３との一方を省略することが可能である。
【０３３２】
図１９（Ｂ）では、駆動周波数が低い回路（例えば、第１の走査線駆動回路５３０２、第２の走査線駆動回路５３０３）を画素部５３０１と同じ基板５３００に形成し、信号線駆動回路５３０４を画素部５３０１とは別の基板に形成する構成について示している。当該構成により、単結晶半導体を用いたトランジスタと比較すると電界効果移動度が小さい薄膜トランジスタによって、基板５３００に形成する駆動回路を構成することができる。したがって、表示装置の大型化、工程数の削減、コストの低減、又は歩留まりの向上などを図ることができる。
【０３３３】
また、実施の形態１乃至１０に示す薄膜トランジスタは、Ｎチャネル型ＴＦＴである。図２０（Ａ）、図２０（Ｂ）ではｎチャネル型ＴＦＴで構成する信号線駆動回路の構成、動作について一例を示し説明する。
【０３３４】
信号線駆動回路は、シフトレジスタ５６０１、及びスイッチング回路５６０２を有する。スイッチング回路５６０２は、スイッチング回路５６０２＿１〜５６０２＿Ｎ（Ｎは自然数）という複数の回路を有する。スイッチング回路５６０２＿１〜５６０２＿Ｎは、各々、薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋ（ｋは自然数）という複数のトランジスタを有する。薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋは、Ｎチャネル型ＴＦＴである例を説明する。
【０３３５】
信号線駆動回路の接続関係について、スイッチング回路５６０２＿１を例にして説明する。薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋの第１端子は、各々、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋと接続される。薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋの第２端子は、各々、信号線Ｓ１〜Ｓｋと接続される。薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋのゲートは、配線５６０４＿１と接続される。
【０３３６】
シフトレジスタ５６０１は、配線５６０５＿１〜５６０５＿Ｎに順番にＨレベル（Ｈ信号、高電源電位レベル、ともいう）の信号を出力し、スイッチング回路５６０２＿１〜５６０２＿Ｎを順番に選択する機能を有する。
【０３３７】
スイッチング回路５６０２＿１は、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋと信号線Ｓ１〜Ｓｋとの導通状態（第１端子と第２端子との間の導通）を制御する機能、即ち配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋの電位を信号線Ｓ１〜Ｓｋに供給するか否かを制御する機能を有する。このように、スイッチング回路５６０２＿１は、セレクタとしての機能を有する。また薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋは、各々、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋと信号線Ｓ１〜Ｓｋとの導通状態を制御する機能、即ち配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋの電位を信号線Ｓ１〜Ｓｋに供給する機能を有する。このように、薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋは、各々、スイッチとしての機能を有する。
【０３３８】
なお、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋには、各々、ビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）が入力される。ビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）は、画像情報又は画像信号に応じたアナログ信号である場合が多い。
【０３３９】
次に、図２０（Ａ）の信号線駆動回路の動作について、図２０（Ｂ）のタイミングチャートを参照して説明する。図２０（Ｂ）には、信号Ｓｏｕｔ＿１〜Ｓｏｕｔ＿Ｎ、及び信号Ｖｄａｔａ＿１〜Ｖｄａｔａ＿ｋの一例を示す。信号Ｓｏｕｔ＿１〜Ｓｏｕｔ＿Ｎは、各々、シフトレジスタ５６０１の出力信号の一例であり、信号Ｖｄａｔａ＿１〜Ｖｄａｔａ＿ｋは、各々、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋに入力される信号の一例である。なお、信号線駆動回路の１動作期間は、表示装置における１ゲート選択期間に対応する。１ゲート選択期間は、一例として、期間Ｔ１〜期間ＴＮに分割される。期間Ｔ１〜ＴＮは、各々、選択された行に属する画素にビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）を書き込むための期間である。
【０３４０】
期間Ｔ１〜期間ＴＮにおいて、シフトレジスタ５６０１は、Ｈレベルの信号を配線５６０５＿１〜５６０５＿Ｎに順番に出力する。例えば、期間Ｔ１において、シフトレジスタ５６０１は、ハイレベルの信号を配線５６０５＿１に出力する。すると、薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋはオンになるので、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋと、信号線Ｓ１〜Ｓｋとが導通状態になる。このとき、配線５６０４＿１〜５６０４＿ｋには、Ｄａｔａ（Ｓ１）〜Ｄａｔａ（Ｓｋ）が入力される。Ｄａｔａ（Ｓ１）〜Ｄａｔａ（Ｓｋ）は、各々、薄膜トランジスタ５６０３＿１〜５６０３＿ｋを介して、選択される行に属する画素のうち、１列目〜ｋ列目の画素に書き込まれる。こうして、期間Ｔ１〜ＴＮにおいて、選択された行に属する画素に、ｋ列ずつ順番にビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）が書き込まれる。
【０３４１】
以上のように、ビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）が複数の列ずつ画素に書き込まれることによって、ビデオ信号用データ（ＤＡＴＡ）の数、又は配線の数を減らすことができる。よって、外部回路との接続数を減らすことができる。また、ビデオ信号が複数の列ずつ画素に書き込まれることによって、書き込み時間を長くすることができ、ビデオ信号の書き込み不足を防止することができる。
【０３４２】
なお、シフトレジスタ５６０１及びスイッチング回路５６０２としては、実施の形態１乃至１０に示す薄膜トランジスタで構成される回路を用いることが可能である。この場合、シフトレジスタ５６０１が有する全てのトランジスタの極性をＮチャネル型、又はＰチャネル型のいずれかの極性のみで構成することができる。
【０３４３】
ここで、走査線駆動回路の構成について説明する。走査線駆動回路は、シフトレジスタを有している。また場合によってはレベルシフタやバッファ等を有していても良い。走査線駆動回路において、シフトレジスタにクロック信号（ＣＬＫ）及びスタートパルス信号（ＳＰ）が入力されることによって、選択信号が生成される。生成された選択信号はバッファにおいて緩衝増幅され、対応する走査線に供給される。走査線には、１ライン分の画素のトランジスタのゲート電極が接続されている。そして、１ライン分の画素のトランジスタを一斉にＯＮにしなくてはならないので、バッファは大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。
【０３４４】
走査線駆動回路及び／または信号線駆動回路の一部に用いるシフトレジスタの一形態について図２１及び図２２を用いて説明する。
【０３４５】
走査線駆動回路、信号線駆動回路のシフトレジスタについて、図２１及び図２２を参照して説明する。シフトレジスタは、第１のパルス出力回路１０＿１乃至第Ｎのパルス出力回路１０＿Ｎ（Ｎは３以上自然数）を有している（図２１（Ａ）参照）。図２１（Ａ）に示すシフトレジスタの第１のパルス出力回路１０＿１乃至第Ｎのパルス出力回路１０＿Ｎには、第１の配線１１より第１のクロック信号ＣＫ１、第２の配線１２より第２のクロック信号ＣＫ２、第３の配線１３より第３のクロック信号ＣＫ３、第４の配線１４より第４のクロック信号ＣＫ４が供給される。また第１のパルス出力回路１０＿１では、第５の配線１５からのスタートパルスＳＰ１（第１のスタートパルス）が入力される。また２段目以降の第ｎのパルス出力回路１０＿ｎ（ｎは、２以上Ｎ以下の自然数）では、一段前段のパルス出力回路からの信号（前段信号ＯＵＴ（ｎ−１）という）（ｎ≧２の自然数）が入力される。また第１のパルス出力回路１０＿１では、２段後段の第３のパルス出力回路１０＿３からの信号が入力される。同様に、２段目以降の第ｎのパルス出力回路１０＿ｎでは、２段後段の第（ｎ＋２）のパルス出力回路１０＿（ｎ＋２）からの信号（後段信号ＯＵＴ（ｎ＋２）という）が入力される。従って、各段のパルス出力回路からは、後段及び／または二つ前段のパルス出力回路に入力するための第１の出力信号（ＯＵＴ（１）（ＳＲ）〜ＯＵＴ（Ｎ）（ＳＲ））、別の配線等に電気的に接続される第２の出力信号（ＯＵＴ（１）〜ＯＵＴ（Ｎ））が出力される。なお、図２１（Ａ）に示すように、シフトレジスタの最終段の２つの段には、後段信号ＯＵＴ（ｎ＋２）が入力されないが、一例としては、別途第６の配線１６より第２のスタートパルスＳＰ２、第７の配線１７より第３のスタートパルスＳＰ３をそれぞれ入力する構成とすればよい。または、別途シフトレジスタの内部で生成された信号であってもよい。例えば、画素部へのパルス出力に寄与しない第（ｎ＋１）のパルス出力回路１０＿（ｎ＋１）、第（ｎ＋２）のパルス出力回路１０＿（ｎ＋２）を設け（ダミー段ともいう）、当該ダミー段より第２のスタートパルス（ＳＰ２）及び第３のスタートパルス（ＳＰ３）に相当する信号を生成する構成としてもよい。
【０３４６】
なお、クロック信号（ＣＫ）は、一定の間隔でＨレベルとＬレベル（Ｌ信号、低電源電位レベル、ともいう）を繰り返す信号である。ここで、第１のクロック信号（ＣＫ１）〜第４のクロック信号（ＣＫ４）は、順に１／４周期分遅延している（すなわち、互いに９０°位相がずれている）。本実施の形態では、第１のクロック信号（ＣＫ１）〜第４のクロック信号（ＣＫ４）を利用して、パルス出力回路の駆動の制御等を行う。なお、クロック信号は、入力される駆動回路に応じて、ＧＣＫ、ＳＣＫということもあるが、ここではＣＫとして説明を行う。
【０３４７】
第１の入力端子２１、第２の入力端子２２及び第３の入力端子２３は、第１の配線１１〜第４の配線１４のいずれかと電気的に接続されている。例えば、図２１（Ａ）において、第１のパルス出力回路１０＿１は、第１の入力端子２１が第１の配線１１と電気的に接続され、第２の入力端子２２が第２の配線１２と電気的に接続され、第３の入力端子２３が第３の配線１３と電気的に接続されている。また、第２のパルス出力回路１０＿２は、第１の入力端子２１が第２の配線１２と電気的に接続され、第２の入力端子２２が第３の配線１３と電気的に接続され、第３の入力端子２３が第４の配線１４と電気的に接続されている。
【０３４８】
第１のパルス出力回路１０＿１〜第Ｎのパルス出力回路１０＿Ｎの各々は、第１の入力端子２１、第２の入力端子２２、第３の入力端子２３、第４の入力端子２４、第５の入力端子２５、第１の出力端子２６、第２の出力端子２７を有しているとする（図２１（Ｂ）参照）。第１のパルス出力回路１０＿１において、第１の入力端子２１に第１のクロック信号ＣＫ１が入力され、第２の入力端子２２に第２のクロック信号ＣＫ２が入力され、第３の入力端子２３に第３のクロック信号ＣＫ３が入力され、第４の入力端子２４にスタートパルスが入力され、第５の入力端子２５に後段信号ＯＵＴ（３）が入力され、第１の出力端子２６より第１の出力信号ＯＵＴ（１）（ＳＲ）が出力され、第２の出力端子２７より第２の出力信号ＯＵＴ（１）が出力されていることとなる。
【０３４９】
次に、パルス出力回路の具体的な回路構成の一例について、図２１（Ｃ）で説明する。
【０３５０】
第１のパルス出力回路１０＿１は、第１のトランジスタ３１〜第１１のトランジスタ４１を有している（図２１（Ｃ）参照）。また、上述した第１の入力端子２１〜第５の入力端子２５、及び第１の出力端子２６、第２の出力端子２７に加え、第１の高電源電位ＶＤＤが供給される電源線５１、第２の高電源電位ＶＣＣが供給される電源線５２、低電源電位ＶＳＳが供給される電源線５３から、第１のトランジスタ３１〜第１１のトランジスタ４１に信号、または電源電位が供給される。ここで図２１（Ｃ）の各電源線の電源電位の大小関係は、第１の高電源電位ＶＤＤ＞第２の高電源電位ＶＣＣ＞低電源電位ＶＳＳとする。なお、第１のクロック信号（ＣＫ１）〜第４のクロック信号（ＣＫ４）は、一定の間隔でＨレベルとＬレベルを繰り返す信号であるが、ＨレベルのときＶＤＤ、ＬレベルのときＶＳＳであるとする。なお電源線５２の電位ＶＣＣを、電源線５１の電位ＶＤＤより低くすることにより、動作に影響を与えることなく、トランジスタのゲート電極に印加される電位を低く抑えることができ、トランジスタのしきい値のシフトを低減し、劣化を抑制することができる。
【０３５１】
図２１（Ｃ）において第１のトランジスタ３１は、第１端子が電源線５１に電気的に接続され、第２端子が第９のトランジスタ３９の第１端子に電気的に接続され、ゲート電極が第４の入力端子２４に電気的に接続されている。第２のトランジスタ３２は、第１端子が電源線５３に電気的に接続され、第２端子が第９のトランジスタ３９の第１端子に電気的に接続され、ゲート電極が第４のトランジスタ３４のゲート電極に電気的に接続されている。第３のトランジスタ３３は、第１端子が第１の入力端子２１に電気的に接続され、第２端子が第１の出力端子２６に電気的に接続されている。第４のトランジスタ３４は、第１端子が電源線５３に電気的に接続され、第２端子が第１の出力端子２６に電気的に接続されている。第５のトランジスタ３５は、第１端子が電源線５３に電気的に接続され、第２端子が第２のトランジスタ３２のゲート電極及び第４のトランジスタ３４のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第４の入力端子２４に電気的に接続されている。第６のトランジスタ３６は、第１端子が電源線５２に電気的に接続され、第２端子が第２のトランジスタ３２のゲート電極及び第４のトランジスタ３４のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第５の入力端子２５に電気的に接続されている。第７のトランジスタ３７は、第１端子が電源線５２に電気的に接続され、第２端子が第８のトランジスタ３８の第２端子に電気的に接続され、ゲート電極が第３の入力端子２３に電気的に接続されている。第８のトランジスタ３８は、第１端子が第２のトランジスタ３２のゲート電極及び第４のトランジスタ３４のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第２の入力端子２２に電気的に接続されている。第９のトランジスタ３９は、第１端子が第１のトランジスタ３１の第２端子及び第２のトランジスタ３２の第２端子に電気的に接続され、第２端子が第３のトランジスタ３３のゲート電極及び第１０のトランジスタ４０のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が電源線５２に電気的に接続されている。第１０のトランジスタ４０は、第１端子が第１の入力端子２１に電気的に接続され、第２端子が第２の出力端子２７に電気的に接続され、ゲート電極が第９のトランジスタ３９の第２端子に電気的に接続されている。第１１のトランジスタ４１は、第１端子が電源線５３に電気的に接続され、第２端子が第２の出力端子２７に電気的に接続され、ゲート電極が第２のトランジスタ３２のゲート電極及び第４のトランジスタ３４のゲート電極に電気的に接続されている。
【０３５２】
図２１（Ｃ）において、第３のトランジスタ３３のゲート電極、第１０のトランジスタ４０のゲート電極、及び第９のトランジスタ３９の第２端子の接続箇所をノードＡとする。また、第２のトランジスタ３２のゲート電極、第４のトランジスタ３４のゲート電極、第５のトランジスタ３５の第２端子、第６のトランジスタ３６の第２端子、第８のトランジスタ３８の第１端子、及び第１１のトランジスタ４１のゲート電極の接続箇所をノードＢとする（図２２（Ａ）参照）。
【０３５３】
図２２（Ａ）に、図２１（Ｄ）で説明したパルス出力回路を第１のパルス出力回路１０＿１に適用した場合に、第１の入力端子２１乃至第５の入力端子２５と第１の出力端子２６及び第２の出力端子２７に入力または出力される信号を示している。
【０３５４】
具体的には、第１の入力端子２１に第１のクロック信号ＣＫ１が入力され、第２の入力端子２２に第２のクロック信号ＣＫ２が入力され、第３の入力端子２３に第３のクロック信号ＣＫ３が入力され、第４の入力端子２４にスタートパルスが入力され、第５の入力端子２５に後段信号ＯＵＴ（３）が入力され、第１の出力端子２６より第１の出力信号ＯＵＴ（１）（ＳＲ）が出力され、第２の出力端子２７より第２の出力信号ＯＵＴ（１）が出力される。
【０３５５】
なお、薄膜トランジスタとは、ゲートと、ドレインと、ソースとを含む少なくとも三つの端子を有する素子である。また、ゲートと重畳した領域にチャネル領域が形成される半導体を有しており、ゲートの電位を制御することで、チャネル領域を介してドレインとソースの間に流れる電流を制御することが出来る。ここで、ソースとドレインとは、薄膜トランジスタの構造や動作条件等によって変わるため、いずれがソースまたはドレインであるかを限定することが困難である。そこで、ソース及びドレインとして機能する領域を、ソースもしくはドレインと呼ばない場合がある。その場合、一例としては、それぞれを第１端子、第２端子と表記する場合がある。
【０３５６】
ここで、図２２（Ａ）に示したパルス出力回路を複数具備するシフトレジスタのタイミングチャートについて図２２（Ｂ）に示す。なおシフトレジスタが走査線駆動回路である場合、図２２（Ｂ）中の期間６１は垂直帰線期間であり、期間６２はゲート選択期間に相当する。
【０３５７】
なお、図２２（Ａ）に示すように、ゲートに第２の電源電位ＶＣＣが印加される第９のトランジスタ３９を設けておくことにより、ブートストラップ動作の前後において、以下のような利点がある。
【０３５８】
ゲート電極に第２の電源電位ＶＣＣが印加される第９のトランジスタ３９がない場合、ブートストラップ動作によりノードＡの電位が上昇すると、第１のトランジスタ３１の第２端子であるソースの電位が上昇していき、第１の電源電位ＶＤＤより大きくなる。そして、第１のトランジスタ３１のソースが第１端子側、即ち電源線５１側に切り替わる。そのため、第１のトランジスタ３１においては、ゲートとソースの間、ゲートとドレインの間ともに、大きなバイアス電圧が印加されるために大きなストレスがかかり、トランジスタの劣化の要因となりうる。そこで、ゲート電極に第２の電源電位ＶＣＣが印加される第９のトランジスタ３９を設けておくことにより、ブートストラップ動作によりノードＡの電位は上昇するものの、第１のトランジスタ３１の第２端子の電位の上昇を生じないようにすることができる。つまり、第９のトランジスタ３９を設けることにより、第１のトランジスタ３１のゲートとソースの間に印加される負のバイアス電圧の値を小さくすることができる。よって、本実施の形態の回路構成とすることにより、第１のトランジスタ３１のゲートとソースの間に印加される負のバイアス電圧も小さくできるため、ストレスによる第１のトランジスタ３１の劣化を抑制することができる。
【０３５９】
なお、第９のトランジスタ３９を設ける箇所については、第１のトランジスタ３１の第２端子と第３のトランジスタ３３のゲートとの間に第１端子と第２端子を介して接続されるように設ける構成であればよい。なお、本実施形態でのパルス出力回路を複数具備するシフトレジスタの場合、走査線駆動回路より段数の多い信号線駆動回路では、第９のトランジスタ３９を省略してもよく、トランジスタ数を削減する利点がある。
【０３６０】
なお第１のトランジスタ３１乃至第１１のトランジスタ４１の半導体層として、酸化物半導体を用いることにより、薄膜トランジスタのオフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高めることが出来ると共に、劣化の度合いを低減することが出来るため、回路内の誤動作を低減することができる。また酸化物半導体を用いたトランジスタ、アモルファスシリコンを用いたトランジスタに比べ、ゲート電極に高電位が印加されることによるトランジスタの劣化の程度が小さい。そのため、第２の電源電位ＶＣＣを供給する電源線に、第１の電源電位ＶＤＤを供給しても同様の動作が得られ、且つ回路間を引き回す電源線の数を低減することができるため、回路の小型化を図ることが出来る。
【０３６１】
なお、第７のトランジスタ３７のゲート電極に第３の入力端子２３によって供給されるクロック信号、第８のトランジスタ３８のゲート電極に第２の入力端子２２によって供給されるクロック信号は、第７のトランジスタ３７のゲート電極に第２の入力端子２２によって供給されるクロック信号、第８のトランジスタのゲート電極に第３の入力端子２３によって供給されるクロック信号となるように、結線関係を入れ替えても同様の作用を奏する。なお、図２２（Ａ）に示すシフトレジスタにおいて、第７のトランジスタ３７及び第８のトランジスタ３８が共にオンの状態から、第７のトランジスタ３７がオフ、第８のトランジスタ３８がオンの状態、次いで第７のトランジスタ３７がオフ、第８のトランジスタ３８がオフの状態とすることによって、第２の入力端子２２及び第３の入力端子２３の電位が低下することで生じる、ノードＢの電位の低下が第７のトランジスタ３７のゲート電極の電位の低下、及び第８のトランジスタ３８のゲート電極の電位の低下に起因して２回生じることとなる。一方、図２２（Ａ）に示すシフトレジスタにおいて、第７のトランジスタ３７及び第８のトランジスタ３８が共にオンの状態から、第７のトランジスタ３７がオン、第８のトランジスタ３８がオフの状態、次いで、第７のトランジスタ３７がオフ、第８のトランジスタ３８がオフの状態とすることによって、第２の入力端子２２及び第３の入力端子２３の電位が低下することで生じるノードＢの電位の低下を、第８のトランジスタ３８のゲート電極の電位の低下による一回に低減することができる。そのため、第７のトランジスタ３７のゲート電極に第３の入力端子２３からクロック信号ＣＫ３が供給され、第８のトランジスタ３８のゲート電極に第２の入力端子２２からクロック信号ＣＫ２が供給される結線関係とすることが好適である。なぜなら、ノードＢの電位の変動回数が低減され、ノイズを低減することが出来るからである。
【０３６２】
このように、第１の出力端子２６及び第２の出力端子２７の電位をＬレベルに保持する期間に、ノードＢに定期的にＨレベルの信号が供給される構成とすることにより、パルス出力回路の誤動作を抑制することができる。
【０３６３】
以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い表示装置を作製することができる。
【０３６４】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０３６５】
（実施の形態１４）
薄膜トランジスタを作製し、該薄膜トランジスタを画素部、さらには駆動回路に用いて表示機能を有する半導体装置（表示装置ともいう）を作製することができる。また、薄膜トランジスタを用いて、駆動回路の一部または全体を、画素部と同じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。
【０３６６】
表示装置は表示素子を含む。表示素子としては液晶素子（液晶表示素子ともいう）、発光素子（発光表示素子ともいう）を用いることができる。発光素子は、電流または電圧によって輝度が制御される素子をその範疇に含んでおり、具体的には無機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、有機ＥＬ等が含まれる。また、電子インクなど、電気的作用によりコントラストが変化する表示媒体も適用することができる。
【０３６７】
また、表示装置は、表示素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むＩＣ等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに、該表示装置を作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素子基板は、電流を表示素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極となる導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であっても良いし、あらゆる形態があてはまる。
【０３６８】
なお、本明細書中における表示装置とは、画像表示デバイス、表示デバイス、もしくは光源（照明装置含む）を指す。また、コネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または表示素子にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て表示装置に含むものとする。
【０３６９】
半導体装置の一形態に相当する液晶表示パネルの外観及び断面について、図１５を用いて説明する。図１５（Ａ）及び図１５（Ｃ）は、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１、及び液晶素子４０１３を、第１の基板４００１と第２の基板４００６との間にシール材４００５によって封止した、パネルの平面図であり、図１５（Ｂ）は、図１５（Ａ）または図１５（Ｃ）のＭ−Ｎにおける断面図に相当する。
【０３７０】
第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とを囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２と、走査線駆動回路４００４の上に第２の基板４００６が設けられている。よって画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、液晶層４００８と共に封止されている。また第１の基板４００１上のシール材４００５によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路４００３が実装されている。
【０３７１】
なお、別途形成した駆動回路の接続方法は、特に限定されるものではなく、ＣＯＧ方法、ワイヤボンディング方法、或いはＴＡＢ方法などを用いることができる。図１５（Ａ）は、ＣＯＧ方法により信号線駆動回路４００３を実装する例であり、図１５（Ｃ）は、ＴＡＢ方法により信号線駆動回路４００３を実装する例である。
【０３７２】
また第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４は、薄膜トランジスタを複数有しており、図１５（Ｂ）では、画素部４００２に含まれる薄膜トランジスタ４０１０と、走査線駆動回路４００４に含まれる薄膜トランジスタ４０１１とを例示している。薄膜トランジスタ４０１０、４０１１上には絶縁層４０４１、４０４２、４０２１が設けられている。
【０３７３】
薄膜トランジスタ４０１０、４０１１は、実施の形態１乃至１０のいずれか一の薄膜トランジスタを適宜用いることができ、同様な工程及び材料で形成することができる。薄膜トランジスタ４０１０、４０１１は、脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体膜を用いている。従って、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１は電気的特性の安定な信頼性の高い薄膜トランジスタである。
【０３７４】
絶縁層４０２１上において、駆動回路用の薄膜トランジスタ４０１１の酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる位置に導電層４０４０が設けられている。導電層４０４０を酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる位置に設けることによって、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタ４０１１のしきい値電圧の変化量を低減することができる。また、導電層４０４０は、電位が薄膜トランジスタ４０１１のゲート電極層と同じでもよいし、異なっていても良く、第２のゲート電極層として機能させることもできる。また、導電層４０４０の電位がＧＮＤ、０Ｖ、或いはフローティング状態であってもよい。
【０３７５】
また、液晶素子４０１３が有する画素電極層４０３０は、薄膜トランジスタ４０１０のソース電極層又はドレイン電極層と電気的に接続されている。そして液晶素子４０１３の対向電極層４０３１は第２の基板４００６上に形成されている。画素電極層４０３０と対向電極層４０３１と液晶層４００８とが重なっている部分が、液晶素子４０１３に相当する。なお、画素電極層４０３０、対向電極層４０３１はそれぞれ配向膜として機能する絶縁層４０３２、４０３３が設けられ、絶縁層４０３２、４０３３を介して液晶層４００８を挟持している。
【０３７６】
なお、第１の基板４００１、第２の基板４００６としては、透光性基板を用いることができ、ガラス、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、ポリエステルフィルム、またはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。
【０３７７】
また４０３５は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、画素電極層４０３０と対向電極層４０３１との間の距離（セルギャップ）を制御するために設けられている。なお球状のスペーサを用いていても良い。また、対向電極層４０３１は、薄膜トランジスタ４０１０と同一基板上に設けられる共通電位線と電気的に接続される。共通接続部を用いて、一対の基板間に配置される導電性粒子を介して対向電極層４０３１と共通電位線とを電気的に接続することができる。なお、導電性粒子はシール材４００５に含有させる。
【０３７８】
また、配向膜を用いないブルー相を示す液晶を用いてもよい。ブルー相は液晶相の一つであり、コレステリック液晶を昇温していくと、コレステリック相から等方相へ転移する直前に発現する相である。ブルー相は狭い温度範囲でしか発現しないため、温度範囲を改善するために５重量％以上のカイラル剤を混合させた液晶組成物を用いて液晶層４００８に用いる。ブルー相を示す液晶とカイラル剤とを含む液晶組成物は、応答速度が１ｍｓｅｃ以下と短く、光学的等方性であるため配向処理が不要であり、視野角依存性が小さい。また配向膜を設けなくてもよいのでラビング処理も不要となるため、ラビング処理によって引き起こされる静電破壊を防止することができ、作製工程中の液晶表示装置の不良や破損を軽減することができる。よって液晶表示装置の生産性を向上させることが可能となる。特に、酸化物半導体層を用いる薄膜トランジスタは、静電気の影響により薄膜トランジスタの電気的な特性が著しく変動して設計範囲を逸脱する恐れがある。よって酸化物半導体層を用いる薄膜トランジスタを有する液晶表示装置にブルー相の液晶材料を用いることはより効果的である。
【０３７９】
なお透過型液晶表示装置の他に、半透過型液晶表示装置でも適用できる。
【０３８０】
また、液晶表示装置では、基板の外側（視認側）に偏光板を設け、内側に着色層、表示素子に用いる電極層という順に設ける例を示すが、偏光板は基板の内側に設けてもよい。また、偏光板と着色層の積層構造も本実施の形態に限定されず、偏光板及び着色層の材料や作製工程条件によって適宜設定すればよい。また、表示部以外にブラックマトリクスとして機能する遮光膜を設けてもよい。
【０３８１】
薄膜トランジスタ４０１１、４０１０上には、酸化物半導体層に接して絶縁層４０４１が形成されている。絶縁層４０４１は、実施の形態１で示した絶縁層４０７と同様な材料及び方法で形成すればよい。ここでは、絶縁層４０４１として、実施の形態１を用いてスパッタリング法により酸化シリコン層を形成する。また、絶縁層４０４１上に接して保護絶縁層４０４２を形成する。また、保護絶縁層４０４２は実施の形態１で示した保護絶縁層４９９と同様に形成すればよく、例えば窒化シリコン層を用いることができる。また、保護絶縁層４０４２上に薄膜トランジスタの表面凹凸を低減するため平坦化絶縁膜として機能する絶縁層４０２１で覆う構成となっている。
【０３８２】
また、平坦化絶縁膜として絶縁層４０２１を形成する。絶縁層４０２１としては、ポリイミド、アクリル、ベンゾシクロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる。また上記有機材料の他に、低誘電率材料（ｌｏｗ−ｋ材料）、シロキサン系樹脂、ＰＳＧ（リンガラス）、ＢＰＳＧ（リンボロンガラス）等を用いることができる。なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層４０２１を形成してもよい。
【０３８３】
絶縁層４０２１の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパッタリング法、ＳＯＧ法、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法（インクジェット法、スクリーン印刷、オフセット印刷等）、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター等を用いることができる。絶縁層４０２１の焼成工程と半導体層のアニールを兼ねることで効率よく半導体装置を作製することが可能となる。
【０３８４】
画素電極層４０３０、対向電極層４０３１は、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと示す。）、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する透光性の導電性材料を用いることができる。
【０３８５】
また、画素電極層４０３０、対向電極層４０３１として、導電性高分子（導電性ポリマーともいう）を含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性組成物を用いて形成した画素電極は、シート抵抗が１００００Ω／□以下、波長５５０ｎｍにおける透光率が７０％以上であることが好ましい。また、導電性組成物に含まれる導電性高分子の抵抗率が０．１Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。
【０３８６】
導電性高分子としては、いわゆるπ電子共役系導電性高分子が用いることができる。例えば、ポリアニリンまたはその誘導体、ポリピロールまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体、若しくはこれらの２種以上の共重合体などがあげられる。
【０３８７】
また別途形成された信号線駆動回路４００３と、走査線駆動回路４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電位は、ＦＰＣ４０１８から供給されている。
【０３８８】
接続端子電極４０１５が、液晶素子４０１３が有する画素電極層４０３０と同じ導電膜から形成され、端子電極４０１６は、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１のソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜で形成されている。
【０３８９】
接続端子電極４０１５は、ＦＰＣ４０１８が有する端子と、異方性導電膜４０１９を介して電気的に接続されている。
【０３９０】
また図１５においては、信号線駆動回路４００３を別途形成し、第１の基板４００１に実装している例を示しているがこの構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。
【０３９１】
また、ブラックマトリクス（遮光層）、偏光部材、位相差部材、反射防止部材などの光学部材（光学基板）などは適宜設ける。例えば、偏光基板及び位相差基板による円偏光を用いてもよい。また、光源としてバックライト、サイドライトなどを用いてもよい。
【０３９２】
アクティブマトリクス型の液晶表示装置においては、マトリクス状に配置された画素電極を駆動することによって、画面上に表示パターンが形成される。詳しくは選択された画素電極と該画素電極に対応する対向電極との間に電圧が印加されることによって、画素電極と対向電極との間に配置された液晶層の光学変調が行われ、この光学変調が表示パターンとして観察者に認識される。
【０３９３】
液晶表示装置の動画表示において、液晶分子自体の応答が遅いため、残像が生じる、または動画のぼけが生じるという問題がある。液晶表示装置の動画特性を改善するため、全面黒表示を１フレームおきに行う、所謂、黒挿入と呼ばれる駆動技術がある。
【０３９４】
また、垂直同期周波数を通常の１．５倍若しくは２倍以上にすることで応答速度を改善する、所謂、倍速駆動と呼ばれる駆動技術もある。
【０３９５】
また、液晶表示装置の動画特性を改善するため、バックライトとして複数のＬＥＤ（発光ダイオード）光源または複数のＥＬ光源などを用いて面光源を構成し、面光源を構成している各光源を独立して１フレーム期間内で間欠点灯駆動する駆動技術もある。面光源として、３種類以上のＬＥＤを用いてもよいし、白色発光のＬＥＤを用いてもよい。独立して複数のＬＥＤを制御できるため、液晶層の光学変調の切り替えタイミングに合わせてＬＥＤの発光タイミングを同期させることもできる。この駆動技術は、ＬＥＤを部分的に消灯することができるため、特に一画面を占める黒い表示領域の割合が多い映像表示の場合には、消費電力の低減効果が図れる。
【０３９６】
これらの駆動技術を組み合わせることによって、液晶表示装置の動画特性などの表示特性を従来よりも改善することができる。
【０３９７】
また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、さらに画素部または駆動回路と同一基板上に保護回路を設けることが好ましい。保護回路は、酸化物半導体層を用いた非線形素子を用いて構成することが好ましい。例えば、保護回路は画素部と、走査線入力端子及び信号線入力端子との間に配設されている。本実施の形態では複数の保護回路を配設して、走査線、信号線及び容量バス線に静電気等によりサージ電圧が印加され、画素トランジスタなどが破壊されないように構成されている。そのため、保護回路にはサージ電圧が印加されたときに、共通配線又は共通配線に電荷を逃がすように構成する。また、保護回路は、走査線に対して並列に配置された非線形素子によって構成されている。非線形素子は、ダイオードのような二端子素子又はトランジスタのような三端子素子で構成される。例えば、画素部の薄膜トランジスタと同じ工程で形成することも可能であり、例えばゲート端子とドレイン端子を接続することによりダイオードと同様の特性を持たせることができる。
【０３９８】
図２５は、本明細書に開示する作製方法により作製されるＴＦＴ基板２６００を用いて半導体装置として液晶表示モジュールを構成する一例を示している。
【０３９９】
図２５は液晶表示モジュールの一例であり、ＴＦＴ基板２６００と対向基板２６０１がシール材２６０２により固着され、その間にＴＦＴ等を含む画素部２６０３、液晶層を含む表示素子２６０４、着色層２６０５が設けられ表示領域を形成している。また、ＴＦＴ基板２６００及び対向基板２６０１は偏光板２６０６、偏光板２６０７を備えている。着色層２６０５はカラー表示を行う場合に必要であり、ＲＧＢ方式の場合は、赤、緑、青の各色に対応した着色層が各画素に対応して設けられている。ＴＦＴ基板２６００と対向基板２６０１の外側には偏光板２６０６、偏光板２６０７、拡散板２６１３が配設されている。光源は冷陰極管２６１０と反射板２６１１により構成され、回路基板２６１２は、フレキシブル配線基板２６０９によりＴＦＴ基板２６００の配線回路部２６０８と接続され、コントロール回路や電源回路などの外部回路が組みこまれている。また偏光板と、液晶層との間に位相差板を有した状態で積層してもよい。
【０４００】
また、液晶表示モジュールには、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏ−ｃｅｌｌ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）モード、ＡＦＬＣ（ＡｎｔｉＦｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）モードなどを用いることができる。
【０４０１】
このように、本明細書に開示される半導体装置としては、特に限定されず、ＴＮ液晶、ＯＣＢ液晶、ＳＴＮ液晶、ＶＡ液晶、ＥＣＢ型液晶、ＧＨ液晶、高分子分散型液晶、ディスコティック液晶などを用いることができるが、中でもノーマリーブラック型の液晶パネル、例えば垂直配向（ＶＡ）モードを採用した透過型の液晶表示装置とすることが好ましい。垂直配向モードとしては、いくつか挙げられるが、例えば、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−Ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＡＳＶ（Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｓｕｐｅｒ  Ｖｉｅｗ）モードなどを用いることができる。
【０４０２】
また、ＶＡ型の液晶表示装置にも適用することができる。ＶＡ型の液晶表示装置とは、液晶表示パネルの液晶分子の配列を制御する方式の一種である。ＶＡ型の液晶表示装置は、電圧が印加されていないときにパネル面に対して液晶分子が垂直方向を向く方式である。また、画素（ピクセル）をいくつかの領域（サブピクセル）に分け、それぞれ別の方向に分子を倒すよう工夫されているマルチドメイン化あるいはマルチドメイン設計といわれる方法を用いることができる。
【０４０３】
以上により、半導体装置として信頼性の高い液晶表示パネルを作製することができる。
【０４０４】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０４０５】
（実施の形態１５）
半導体装置として電子ペーパーの例を示す。
【０４０６】
スイッチング素子と電気的に接続する素子を利用して電子インクを駆動させる電子ペーパーに用いてもよい。電子ペーパーは、電気泳動表示装置（電気泳動ディスプレイ）とも呼ばれており、紙と同じ読みやすさ、他の表示装置に比べ低消費電力、薄くて軽い形状とすることが可能という利点を有している。
【０４０７】
電気泳動ディスプレイは、様々な形態が考えられ得るが、プラスの電荷を有する第１の粒子と、マイナスの電荷を有する第２の粒子とを含むマイクロカプセルが溶媒または溶質に複数分散されたものであり、マイクロカプセルに電界を印加することによって、マイクロカプセル中の粒子を互いに反対方向に移動させて一方側に集合した粒子の色のみを表示するものである。なお、第１の粒子または第２の粒子は染料を含み、電界がない場合において移動しないものである。また、第１の粒子の色と第２の粒子の色は異なるもの（無色を含む）とする。
【０４０８】
このように、電気泳動ディスプレイは、誘電定数の高い物質が高い電界領域に移動する、いわゆる誘電泳動的効果を利用したディスプレイである。電気泳動ディスプレイは、液晶表示装置には必要な偏光板、対向基板も必要ない。
【０４０９】
上記マイクロカプセルを溶媒中に分散させたものが電子インクと呼ばれるものであり、この電子インクはガラス、プラスチック、布、紙などの表面に印刷することができる。また、カラーフィルタや色素を有する粒子を用いることによってカラー表示も可能である。
【０４１０】
また、アクティブマトリクス基板上に適宜、二つの電極の間に挟まれるように上記マイクロカプセルを複数配置すればアクティブマトリクス型の表示装置が完成し、マイクロカプセルに電界を印加すれば表示を行うことができる。例えば、実施の形態１乃至４の薄膜トランジスタによって得られるアクティブマトリクス基板を用いることができる。
【０４１１】
なお、マイクロカプセル中の第１の粒子および第２の粒子は、導電体材料、絶縁体材料、半導体材料、磁性材料、液晶材料、強誘電性材料、エレクトロルミネセント材料、エレクトロクロミック材料、磁気泳動材料から選ばれた一種の材料、またはこれらの複合材料を用いればよい。
【０４１２】
図１４は、半導体装置の例としてアクティブマトリクス型の電子ペーパーを示す。半導体装置に用いられる薄膜トランジスタ５８１としては、実施の形態１で示す薄膜トランジスタと同様に作製できる。また、実施の形態２乃至４で示す薄膜トランジスタも本実施の形態における薄膜トランジスタ５８１として適用することができる。
【０４１３】
薄膜トランジスタ５８１は、脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層を用いている。従って、薄膜トランジスタ５８１は電気的特性の安定な信頼性の高い薄膜トランジスタである。
【０４１４】
図１４の電子ペーパーは、ツイストボール表示方式を用いた表示装置の例である。ツイストボール表示方式とは、白と黒に塗り分けられた球形粒子を表示素子に用いる電極層である第１の電極層及び第２の電極層の間に配置し、第１の電極層及び第２の電極層に電位差を生じさせて球形粒子の向きを制御することにより、表示を行う方法である。
【０４１５】
基板５８０上に設けられた薄膜トランジスタ５８１はボトムゲート構造の薄膜トランジスタであり、酸化物半導体層と接する絶縁膜５８３に覆われている。薄膜トランジスタ５８１のソース電極層またはドレイン電極層は第１の電極層５８７と、絶縁層５８３、絶縁層５８５に形成する開口で接しており電気的に接続している。第１の電極層５８７と第２の電極層５８８との間には黒色領域５９０ａ及び白色領域５９０ｂを有し、周りに液体で満たされているキャビティ５９４を含む球形粒子５８９が設けられており、球形粒子５８９の周囲は樹脂等の充填材５９５で充填されている（図１４参照。）。第１の電極層５８７が画素電極に相当し、第２の電極層５８８が共通電極に相当する。第２の電極層５８８は、薄膜トランジスタ５８１と同一基板上に設けられる共通電位線と電気的に接続される。共通接続部を用いて、一対の基板間に配置される導電性粒子を介して第２の電極層５８８と共通電位線とを電気的に接続することができる。
【０４１６】
また、ツイストボールの代わりに、電気泳動素子を用いることも可能である。透明な液体と、正に帯電した白い微粒子と負に帯電した黒い微粒子とを封入した直径１０μｍ〜２００μｍ程度のマイクロカプセルを用いる。第１の電極層と第２の電極層との間に設けられるマイクロカプセルは、第１の電極層と第２の電極層によって、電場が与えられると、白い微粒子と、黒い微粒子が逆の方向に移動し、白または黒を表示することができる。この原理を応用した表示素子が電気泳動表示素子であり、一般的に電子ペーパーとよばれている。電気泳動表示素子は、液晶表示素子に比べて反射率が高いため、補助ライトは不要であり、また消費電力が小さく、薄暗い場所でも表示部を認識することが可能である。また、表示部に電源が供給されない場合であっても、一度表示した像を保持することが可能であるため、電波発信源から表示機能付き半導体装置（単に表示装置、または表示装置を具備する半導体装置ともいう）を遠ざけた場合であっても、表示された像を保存しておくことが可能となる。
【０４１７】
以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い電子ペーパーを作製することができる。
【０４１８】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０４１９】
（実施の形態１６）
半導体装置として発光表示装置の例を示す。表示装置の有する表示素子としては、ここではエレクトロルミネッセンスを利用する発光素子を用いて示す。エレクトロルミネッセンスを利用する発光素子は、発光材料が有機化合物であるか、無機化合物であるかによって区別され、一般的に、前者は有機ＥＬ素子、後者は無機ＥＬ素子と呼ばれている。
【０４２０】
有機ＥＬ素子は、発光素子に電圧を印加することにより、一対の電極から電子および正孔がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャリア（電子および正孔）が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成し、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このような発光素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。
【０４２１】
無機ＥＬ素子は、その素子構成により、分散型無機ＥＬ素子と薄膜型無機ＥＬ素子とに分類される。分散型無機ＥＬ素子は、発光材料の粒子をバインダ中に分散させた発光層を有するものであり、発光メカニズムはドナー準位とアクセプター準位を利用するドナー−アクセプター再結合型発光である。薄膜型無機ＥＬ素子は、発光層を誘電体層で挟み込み、さらにそれを電極で挟んだ構造であり、発光メカニズムは金属イオンの内殻電子遷移を利用する局在型発光である。なお、ここでは、発光素子として有機ＥＬ素子を用いて説明する。
【０４２２】
図１７は、半導体装置の例としてデジタル時間階調駆動を適用可能な画素構成の一例を示す図である。
【０４２３】
デジタル時間階調駆動を適用可能な画素の構成及び画素の動作について説明する。ここでは酸化物半導体層をチャネル形成領域に用いるｎチャネル型のトランジスタを１つの画素に２つ用いる例を示す。
【０４２４】
画素６４００は、スイッチング用トランジスタ６４０１、駆動用トランジスタ６４０２、発光素子６４０４及び容量素子６４０３を有している。スイッチング用トランジスタ６４０１はゲートが走査線６４０６に接続され、第１電極（ソース電極及びドレイン電極の一方）が信号線６４０５に接続され、第２電極（ソース電極及びドレイン電極の他方）が駆動用トランジスタ６４０２のゲートに接続されている。駆動用トランジスタ６４０２は、ゲートが容量素子６４０３を介して電源線６４０７に接続され、第１電極が電源線６４０７に接続され、第２電極が発光素子６４０４の第１電極（画素電極）に接続されている。発光素子６４０４の第２電極は共通電極６４０８に相当する。共通電極６４０８は、同一基板上に形成される共通電位線と電気的に接続される。
【０４２５】
なお、発光素子６４０４の第２電極（共通電極６４０８）には低電源電位が設定されている。なお、低電源電位とは、電源線６４０７に設定される高電源電位を基準にして低電源電位＜高電源電位を満たす電位であり、低電源電位としては例えばＧＮＤ、０Ｖなどが設定されていても良い。この高電源電位と低電源電位との電位差を発光素子６４０４に印加して、発光素子６４０４に電流を流して発光素子６４０４を発光させるため、高電源電位と低電源電位との電位差が発光素子６４０４の順方向しきい値電圧以上となるようにそれぞれの電位を設定する。
【０４２６】
なお、容量素子６４０３は駆動用トランジスタ６４０２のゲート容量を代用して省略することも可能である。駆動用トランジスタ６４０２のゲート容量については、チャネル領域とゲート電極との間で容量が形成されていてもよい。
【０４２７】
ここで、電圧入力電圧駆動方式の場合には、駆動用トランジスタ６４０２のゲートには、駆動用トランジスタ６４０２が十分にオンするか、オフするかの二つの状態となるようなビデオ信号を入力する。つまり、駆動用トランジスタ６４０２は線形領域で動作させる。駆動用トランジスタ６４０２は線形領域で動作させるため、電源線６４０７の電圧よりも高い電圧を駆動用トランジスタ６４０２のゲートにかける。なお、信号線６４０５には、電源線電圧＋駆動用トランジスタ６４０２のＶｔｈ以上の電圧をかける。
【０４２８】
また、デジタル時間階調駆動に代えて、アナログ階調駆動を行う場合、信号の入力を異ならせることで、図１７と同じ画素構成を用いることができる。
【０４２９】
アナログ階調駆動を行う場合、駆動用トランジスタ６４０２のゲートに発光素子６４０４の順方向電圧＋駆動用トランジスタ６４０２のＶｔｈ以上の電圧をかける。発光素子６４０４の順方向電圧とは、所望の輝度とする場合の電圧を指しており、少なくとも順方向しきい値電圧を含む。なお、駆動用トランジスタ６４０２が飽和領域で動作するようなビデオ信号を入力することで、発光素子６４０４に電流を流すことができる。駆動用トランジスタ６４０２を飽和領域で動作させるため、電源線６４０７の電位は、駆動用トランジスタ６４０２のゲート電位よりも高くする。ビデオ信号をアナログとすることで、発光素子６４０４にビデオ信号に応じた電流を流し、アナログ階調駆動を行うことができる。
【０４３０】
なお、図１７に示す画素構成は、これに限定されない。例えば、図１７に示す画素に新たにスイッチ、抵抗素子、容量素子、トランジスタまたは論理回路などを追加してもよい。
【０４３１】
次に、発光素子の構成について、図１８を用いて説明する。ここでは、駆動用ＴＦＴがＮ型の場合を例に挙げて、画素の断面構造について説明する。図１８（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）の半導体装置に用いられる駆動用ＴＦＴであるＴＦＴ７００１、７０１１、７０２１は、実施の形態１で示す薄膜トランジスタと同様に作製できる。また、実施の形態２乃至４で示す薄膜トランジスタをＴＦＴ７００１、７０１１、７０２１として適用することもできる。
【０４３２】
ＴＦＴ７００１、７０１１、７０２１は、脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体層を用いている。従って、ＴＦＴ７００１、７０１１、７０２１は電気的特性の安定な信頼性の高い薄膜トランジスタである。
【０４３３】
発光素子は発光を取り出すために少なくとも陽極または陰極の一方が透明であればよい。そして、基板上に薄膜トランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、画素構成はどの射出構造の発光素子にも適用することができる。
【０４３４】
上面射出構造の発光素子について図１８（Ａ）を用いて説明する。
【０４３５】
図１８（Ａ）に、駆動用ＴＦＴであるＴＦＴ７００１がＮ型で、発光素子７００２から発せられる光が陽極７００５側に抜ける場合の、画素の断面図を示す。図１８（Ａ）では、発光素子７００２の陰極７００３と駆動用ＴＦＴであるＴＦＴ７００１が電気的に接続されており、陰極７００３上に発光層７００４、陽極７００５が順に積層されている。陰極７００３は仕事関数が小さく、なおかつ光を反射する導電膜であれば様々の材料を用いることができる。例えば、Ｃａ、Ａｌ、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ等が望ましい。そして発光層７００４は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。複数の層で構成されている場合、陰極７００３上に電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層の順に積層する。なおこれらの層を全て設ける必要はない。陽極７００５は透光性を有する導電性材料を用いて形成し、例えば酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと示す。）、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する導電膜を用いても良い。
【０４３６】
陰極７００３及び陽極７００５で発光層７００４を挟んでいる領域が発光素子７００２に相当する。図１８（Ａ）に示した画素の場合、発光素子７００２から発せられる光は、矢印で示すように陽極７００５側に射出する。
【０４３７】
次に、下面射出構造の発光素子について図１８（Ｂ）を用いて説明する。駆動用ＴＦＴ７０１１がＮ型で、発光素子７０１２から発せられる光が陰極７０１３側に射出する場合の、画素の断面図を示す。図１８（Ｂ）では、駆動用ＴＦＴ７０１１と電気的に接続された透光性を有する導電膜７０１７上に、発光素子７０１２の陰極７０１３が成膜されており、陰極７０１３上に発光層７０１４、陽極７０１５が順に積層されている。なお、陽極７０１５が透光性を有する場合、陽極上を覆うように、光を反射または遮蔽するための遮蔽膜７０１６が成膜されていてもよい。陰極７０１３は、図１８（Ａ）の場合と同様に、仕事関数が小さい導電性材料であれば様々な材料を用いることができる。ただしその膜厚は、光を透過する程度（好ましくは、５ｎｍ〜３０ｎｍ程度）とする。例えば２０ｎｍの膜厚を有するアルミニウム膜を、陰極７０１３として用いることができる。そして発光層７０１４は、図１８（Ａ）と同様に、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極７０１５は光を透過する必要はないが、図１８（Ａ）と同様に、透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。そして遮蔽膜７０１６は、例えば光を反射する金属等を用いることができるが、金属膜に限定されない。例えば黒の顔料を添加した樹脂等を用いることもできる。
【０４３８】
陰極７０１３及び陽極７０１５で、発光層７０１４を挟んでいる領域が発光素子７０１２に相当する。図１８（Ｂ）に示した画素の場合、発光素子７０１２から発せられる光は、矢印で示すように陰極７０１３側に射出する。
【０４３９】
次に、両面射出構造の発光素子について、図１８（Ｃ）を用いて説明する。図１８（Ｃ）では、駆動用ＴＦＴ７０２１と電気的に接続された透光性を有する導電膜７０２７上に、発光素子７０２２の陰極７０２３が成膜されており、陰極７０２３上に発光層７０２４、陽極７０２５が順に積層されている。陰極７０２３は、図１８（Ａ）の場合と同様に、仕事関数が小さい導電性材料であれば様々な材料を用いることができる。ただしその膜厚は、光を透過する程度とする。例えば２０ｎｍの膜厚を有するＡｌを、陰極７０２３として用いることができる。そして発光層７０２４は、図１８（Ａ）と同様に、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極７０２５は、図１８（Ａ）と同様に、光を透過する透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。
【０４４０】
陰極７０２３と、発光層７０２４と、陽極７０２５とが重なっている部分が発光素子７０２２に相当する。図１８（Ｃ）に示した画素の場合、発光素子７０２２から発せられる光は、矢印で示すように陽極７０２５側と陰極７０２３側の両方に射出する。
【０４４１】
なお、ここでは、発光素子として有機ＥＬ素子について述べたが、発光素子として無機ＥＬ素子を設けることも可能である。
【０４４２】
なお、発光素子の駆動を制御する薄膜トランジスタ（駆動用ＴＦＴ）と発光素子が接続されている例を示したが、駆動用ＴＦＴと発光素子との間に電流制御用ＴＦＴが接続されている構成であってもよい。
【０４４３】
なお半導体装置は、図１８に示した構成に限定されるものではなく、本明細書に開示する技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０４４４】
次に、発光表示パネル（発光パネルともいう）の外観及び断面について、図１６を用いて説明する。図１６（Ａ）は、第１の基板上に形成された薄膜トランジスタ及び発光素子を、第２の基板との間にシール材によって封止した、パネルの平面図であり、図１６（Ｂ）は、図１６（Ａ）のＨ−Ｉにおける断面図に相当する。
【０４４５】
第１の基板４５０１上に設けられた画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂを囲むようにして、シール材４５０５が設けられている。また画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂの上に第２の基板４５０６が設けられている。よって画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂは、第１の基板４５０１とシール材４５０５と第２の基板４５０６とによって、充填材４５０７と共に密封されている。このように外気に曝されないように気密性が高く、脱ガスの少ない保護フィルム（貼り合わせフィルム、紫外線硬化樹脂フィルム等）やカバー材でパッケージング（封入）することが好ましい。
【０４４６】
また第１の基板４５０１上に設けられた画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂは、薄膜トランジスタを複数有しており、図１６（Ｂ）では、画素部４５０２に含まれる薄膜トランジスタ４５１０と、信号線駆動回路４５０３ａに含まれる薄膜トランジスタ４５０９とを例示している。
【０４４７】
薄膜トランジスタ４５０９、４５１０は、実施の形態１乃至１０のいずれか一の薄膜トランジスタを適宜用いることができ、同様な工程及び材料で形成することができる。薄膜トランジスタ４５０９、４５１０は、脱水化、又は脱水素化処理として、窒素、または不活性気体雰囲気下、或いは減圧下での加熱処理によって膜中の含有水分を低減させた後、加酸化処理として、酸素、酸素及び窒素、又は大気（好ましくは露点−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下）雰囲気中で冷却した酸化物半導体膜を用いている。従って、薄膜トランジスタ４５０９、４５１０は電気的特性の安定な信頼性の高い薄膜トランジスタである。
【０４４８】
なお、駆動回路用の薄膜トランジスタ４５０９としては、薄膜トランジスタの酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる位置に導電層を設けた構造とする。本実施の形態において、薄膜トランジスタ４５０９、４５１０はｎチャネル型薄膜トランジスタである。
【０４４９】
絶縁層４５４２上において駆動回路用の薄膜トランジスタ４５０９の酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる位置に導電層４５４０が設けられている。導電層４５４０を酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる位置に設けることによって、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタ４５０９のしきい値電圧の変化量を低減することができる。また、導電層４５４０は、電位が薄膜トランジスタ４５０９のゲート電極層と同じでもよいし、異なっていても良く、第２のゲート電極層として機能させることもできる。また、導電層４５４０の電位がＧＮＤ、０Ｖ、或いはフローティング状態であってもよい。
【０４５０】
また、導電層４５４０は外部の電場を遮蔽する、すなわち外部の電場が内部（薄膜トランジスタを含む回路部）に作用しないようにする機能（特に静電気に対する静電遮蔽機能）も有する。導電層の４５４０の遮蔽機能により、静電気などの外部の電場の影響により薄膜トランジスタの電気的な特性が変動することを防止することができる。
【０４５１】
また、薄膜トランジスタ４５１０の酸化物半導体層を覆う絶縁層４５４２が形成されている。薄膜トランジスタ４５１０のソース電極層又はドレイン電極層は薄膜トランジスタ上に設けられた絶縁層４５４２及び絶縁層４５５１に形成された開口において配線層４５５０と電気的に接続されている。配線層４５５０は第１の電極４５１７と接して形成されており、薄膜トランジスタ４５１０と第１の電極４５１７とは配線層４５５０を介して電気的に接続されている。
【０４５２】
絶縁層４５４２は、実施の形態１で示した絶縁層４０７と同様な材料及び方法で形成すればよい。
【０４５３】
発光素子４５１１の発光領域と重なるようにカラーフィルタ層４５４５が、絶縁層４５５１上に形成される。
【０４５４】
また、カラーフィルタ層４５４５の表面凹凸を低減するため平坦化絶縁膜として機能するオーバーコート層４５４３で覆う構成となっている。
【０４５５】
また、オーバーコート層４５４３上に絶縁層４５４４が形成されている。絶縁層４５４４は、実施の形態１で示した保護絶縁層４９９と同様に形成すればよく、例えば窒化シリコン膜をスパッタリング法で形成すればよい。
【０４５６】
また４５１１は発光素子に相当し、発光素子４５１１が有する画素電極である第１電極４５１７は、薄膜トランジスタ４５１０のソース電極層またはドレイン電極層と配線層４５５０を介して電気的に接続されている。なお発光素子４５１１の構成は、第１電極４５１７、電界発光層４５１２、第２電極４５１３の積層構造であるが、示した構成に限定されない。発光素子４５１１から取り出す光の方向などに合わせて、発光素子４５１１の構成は適宜変えることができる。
【０４５７】
隔壁４５２０は、有機樹脂膜、無機絶縁膜または有機ポリシロキサンを用いて形成する。特に感光性の材料を用い、第１電極４５１７上に開口部を形成し、その開口部の側壁が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。
【０４５８】
電界発光層４５１２は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。
【０４５９】
発光素子４５１１に酸素、水素、水分、二酸化炭素等が侵入しないように、第２電極４５１３及び隔壁４５２０上に保護膜を形成してもよい。保護膜としては、窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、ＤＬＣ膜等を形成することができる。
【０４６０】
また、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂ、または画素部４５０２に与えられる各種信号及び電位は、ＦＰＣ４５１８ａ、４５１８ｂから供給されている。
【０４６１】
接続端子電極４５１５が、発光素子４５１１が有する第１電極４５１７と同じ導電膜から形成され、端子電極４５１６は、薄膜トランジスタ４５０９のソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜から形成されている。
【０４６２】
接続端子電極４５１５は、ＦＰＣ４５１８ａが有する端子と、異方性導電膜４５１９を介して電気的に接続されている。
【０４６３】
発光素子４５１１からの光の取り出し方向に位置する場合、第１の基板４５０１及び第２の基板４５０６は透光性でなければならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。
【０４６４】
また、充填材４５０７としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）またはＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）を用いることができる。例えば充填材として窒素を用いればよい。
【０４６５】
また、必要であれば、発光素子の射出面に偏光板、又は円偏光板（楕円偏光板を含む）、位相差板（λ／４板、λ／２板）などの光学フィルムを適宜設けてもよい。また、偏光板又は円偏光板に反射防止膜を設けてもよい。例えば、表面の凹凸により反射光を拡散し、映り込みを低減できるアンチグレア処理を施すことができる。
【０４６６】
シール材は、スクリーン印刷法、インクジェット装置またはディスペンス装置を用いて形成することができる。シール材は、代表的には可視光硬化性、紫外線硬化性または熱硬化性の樹脂を含む材料を用いることができる。また、フィラーを含んでもよい。
【０４６７】
信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂは、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜によって形成された駆動回路で実装されていてもよい。また、信号線駆動回路のみ、或いは一部、又は走査線駆動回路のみ、或いは一部のみを別途形成して実装しても良く、図１６の構成に限定されない。
【０４６８】
以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い発光表示装置（表示パネル）を作製することができる。
【０４６９】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０４７０】
（実施の形態１７）
本明細書に開示する半導体装置は、電子ペーパーとして適用することができる。電子ペーパーは、情報を表示するものであればあらゆる分野の電子機器に用いることが可能である。例えば、電子ペーパーを用いて、電子書籍（電子ブック）、ポスター、電車などの乗り物の車内広告、クレジットカード等の各種カードにおける表示等に適用することができる。電子機器の一例を図２６、図２７に示す。
【０４７１】
図２６は、電子ペーパーで作られたポスター２６３１を示している。広告媒体が紙の印刷物である場合には、広告の交換は人手によって行われるが、本明細書に開示する電子ペーパーを用いれば短時間で広告の表示を変えることができる。また、表示も崩れることなく安定した画像が得られる。なお、ポスターは無線で情報を送受信できる構成としてもよい。
【０４７２】
また、図２７は、電子書籍の一例である電子書籍２７００を示している。例えば、電子書籍２７００は、筐体２７０１および筐体２７０３の２つの筐体で構成されている。筐体２７０１および筐体２７０３は、軸部２７１１により一体とされており、該軸部２７１１を軸として開閉動作を行うことができる。このような構成により、紙の書籍のような動作を行うことが可能となる。
【０４７３】
筐体２７０１には表示部２７０５が組み込まれ、筐体２７０３には表示部２７０７が組み込まれている。表示部２７０５および表示部２７０７は、続き画面を表示する構成としてもよいし、異なる画面を表示する構成としてもよい。異なる画面を表示する構成とすることで、例えば右側の表示部（図２７では表示部２７０５）に文章を表示し、左側の表示部（図２７では表示部２７０７）に画像を表示することができる。
【０４７４】
また、図２７では、筐体２７０１に操作部などを備えた例を示している。例えば、筐体２７０１において、電源２７２１、操作キー２７２３、スピーカ２７２５などを備えている。操作キー２７２３により、頁を送ることができる。なお、筐体の表示部と同一面にキーボードやポインティングデバイスなどを備える構成としてもよい。また、筐体の裏面や側面に、外部接続用端子（イヤホン端子、ＵＳＢ端子、またはＡＣアダプタおよびＵＳＢケーブルなどの各種ケーブルと接続可能な端子など）、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。さらに、電子書籍２７００は、電子辞書としての機能を持たせた構成としてもよい。
【０４７５】
また、電子書籍２７００は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすることも可能である。
【０４７６】
（実施の形態１８）
本明細書に開示する半導体装置は、さまざまな電子機器（遊技機も含む）に適用することができる。電子機器としては、例えば、テレビジョン装置（テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
【０４７７】
図２８（Ａ）は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置９６００は、筐体９６０１に表示部９６０３が組み込まれている。表示部９６０３により、映像を表示することが可能である。また、ここでは、スタンド９６０５により筐体９６０１を支持した構成を示している。
【０４７８】
テレビジョン装置９６００の操作は、筐体９６０１が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機９６１０により行うことができる。リモコン操作機９６１０が備える操作キー９６０９により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部９６０３に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機９６１０に、当該リモコン操作機９６１０から出力する情報を表示する表示部９６０７を設ける構成としてもよい。
【０４７９】
なお、テレビジョン装置９６００は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向（送信者から受信者）または双方向（送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など）の情報通信を行うことも可能である。
【０４８０】
図２８（Ｂ）は、デジタルフォトフレームの一例を示している。例えば、デジタルフォトフレーム９７００は、筐体９７０１に表示部９７０３が組み込まれている。表示部９７０３は、各種画像を表示することが可能であり、例えばデジタルカメラなどで撮影した画像データを表示させることで、通常の写真立てと同様に機能させることができる。
【０４８１】
なお、デジタルフォトフレーム９７００は、操作部、外部接続用端子（ＵＳＢ端子、ＵＳＢケーブルなどの各種ケーブルと接続可能な端子など）、記録媒体挿入部などを備える構成とする。これらの構成は、表示部と同一面に組み込まれていてもよいが、側面や裏面に備えるとデザイン性が向上するため好ましい。例えば、デジタルフォトフレームの記録媒体挿入部に、デジタルカメラで撮影した画像データを記憶したメモリを挿入して画像データを取り込み、取り込んだ画像データを表示部９７０３に表示させることができる。
【０４８２】
また、デジタルフォトフレーム９７００は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、所望の画像データを取り込み、表示させる構成とすることもできる。
【０４８３】
図２９（Ａ）は携帯型遊技機であり、筐体９８８１と筐体９８９１の２つの筐体で構成されており、連結部９８９３により、開閉可能に連結されている。筐体９８８１には表示部９８８２が組み込まれ、筐体９８９１には表示部９８８３が組み込まれている。また、図２９（Ａ）に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部９８８４、記録媒体挿入部９８８６、ＬＥＤランプ９８９０、入力手段（操作キー９８８５、接続端子９８８７、センサ９８８８（力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、においまたは赤外線を測定する機能を含むもの）、マイクロフォン９８８９）等を備えている。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも本明細書に開示する半導体装置を備えた構成であればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図２９（Ａ）に示す携帯型遊技機は、記録媒体に記録されているプログラムまたはデータを読み出して表示部に表示する機能や、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお、図２９（Ａ）に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。
【０４８４】
図２９（Ｂ）は大型遊技機であるスロットマシンの一例を示している。スロットマシン９９００は、筐体９９０１に表示部９９０３が組み込まれている。また、スロットマシン９９００は、その他、スタートレバーやストップスイッチなどの操作手段、コイン投入口、スピーカなどを備えている。もちろん、スロットマシン９９００の構成は上述のものに限定されず、少なくとも本明細書に開示する半導体装置を備えた構成であればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。
【０４８５】
図３０（Ａ）は携帯型のコンピュータの一例を示す斜視図である。
【０４８６】
図３０（Ａ）の携帯型のコンピュータは、上部筐体９３０１と下部筐体９３０２とを接続するヒンジユニットを閉状態として表示部９３０３を有する上部筐体９３０１と、キーボード９３０４を有する下部筐体９３０２とを重ねた状態とすることができ、持ち運ぶことが便利であるとともに、使用者がキーボード入力する場合には、ヒンジユニットを開状態として、表示部９３０３を見て入力操作を行うことができる。
【０４８７】
また、下部筐体９３０２はキーボード９３０４の他に入力操作を行うポインティングデバイス９３０６を有する。また、表示部９３０３をタッチ入力パネルとすれば、表示部の一部に触れることで入力操作を行うこともできる。また、下部筐体９３０２はＣＰＵやハードディスク等の演算機能部を有している。また、下部筐体９３０２は他の機器、例えばＵＳＢの通信規格に準拠した通信ケーブルが差し込まれる外部接続ポート９３０５を有している。
【０４８８】
上部筐体９３０１には更に上部筐体９３０１内部にスライドさせて収納可能な表示部９３０７を有しており、広い表示画面を実現することができる。また、収納可能な表示部９３０７の画面の向きを使用者は調節できる。また、収納可能な表示部９３０７をタッチ入力パネルとすれば、収納可能な表示部の一部に触れることで入力操作を行うこともできる。
【０４８９】
表示部９３０３または収納可能な表示部９３０７は、液晶表示パネル、有機発光素子または無機発光素子などの発光表示パネルなどの映像表示装置を用いる。
【０４９０】
また、図３０（Ａ）の携帯型のコンピュータは、受信機などを備えた構成として、テレビ放送を受信して映像を表示部に表示することができる。また、上部筐体９３０１と下部筐体９３０２とを接続するヒンジユニットを閉状態としたまま、表示部９３０７をスライドさせて画面全面を露出させ、画面角度を調節して使用者がテレビ放送を見ることもできる。この場合には、ヒンジユニットを閉状態として表示部９３０３を表示させず、さらにテレビ放送を表示するだけの回路の起動のみを行うため、最小限の消費電力とすることができ、バッテリー容量の限られている携帯型のコンピュータにおいて有用である。
【０４９１】
また、図３０（Ｂ）は、腕時計のように使用者の腕に装着可能な形態を有している携帯電話の一例を示す斜視図である。
【０４９２】
この携帯電話は、少なくとも電話機能を有する通信装置及びバッテリーを有する本体、本体を腕に装着するためのバンド部、腕に対するバンド部の固定状態を調節する調節部９２０５、表示部９２０１、スピーカ９２０７、及びマイク９２０８から構成されている。
【０４９３】
また、本体は、操作スイッチ９２０３を有し、電源入力スイッチや、表示切り替えスイッチや、撮像開始指示スイッチの他、例えばボタンを押すとインタネット用のプログラムが起動されるなど、各ファンクションを対応づけることができる。
【０４９４】
この携帯電話の入力操作は、表示部９２０１に指や入力ペンなどで触れること、または操作スイッチ９２０３の操作、またはマイク９２０８への音声入力により行われる。なお、図３０（Ｂ）では、表示部９２０１に表示された表示ボタン９２０２を図示しており、指などで触れることにより入力を行うことができる。
【０４９５】
また、本体は、撮影レンズを通して結像される被写体像を電子画像信号に変換する撮像手段を有するカメラ部９２０６を有する。なお、特にカメラ部は設けなくともよい。
【０４９６】
また、図３０（Ｂ）に示す携帯電話は、テレビ放送の受信機などを備えた構成として、テレビ放送を受信して映像を表示部９２０１に表示することができ、さらにメモリなどの記憶装置などを備えた構成として、テレビ放送をメモリに録画できる。また、図３０（Ｂ）に示す携帯電話は、ＧＰＳなどの位置情報を収集できる機能を有していてもよい。
【０４９７】
表示部９２０１は、液晶表示パネル、有機発光素子または無機発光素子などの発光表示パネルなどの映像表示装置を用いる。図３０（Ｂ）に示す携帯電話は、小型、且つ、軽量であるため、バッテリー容量が限られており、表示部９２０１に用いる表示装置は低消費電力で駆動できるパネルを用いることが好ましい。
【０４９８】
なお、図３０（Ｂ）では”腕”に装着するタイプの電子機器を図示したが、特に限定されず、携行できる形状を有しているものであればよい。
【実施例１】
【０４９９】
本実施例では、発明の一形態である薄膜トランジスタを作製し、その電気特性を評価した結果を示す。
【０５００】
本実施例の薄膜トランジスタの作製方法を説明する。ガラス基板上に下地膜として、ＣＶＤ法により膜厚１５０ｎｍの酸化窒化シリコン膜を形成し、酸化窒化シリコン膜上にゲート電極層としてスパッタ法により膜厚１５０ｎｍのタングステン膜を形成し、ゲート電極層上にゲート絶縁層としてＣＶＤ法により膜厚１００ｎｍの酸化窒化シリコン膜を形成した。
【０５０１】
ゲート絶縁層上に、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系の酸化物半導体成膜用ターゲット（Ｉｎ２Ｏ３：Ｇａ２Ｏ３：ＺｎＯ＝１：１：１［ｍｏｌ比］、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：０．５［ａｔ．比］）を用いて、基板とターゲットの間との距離を６０ｍｍ、圧力０．４Ｐａ、ＲＦ電源０．５ｋＷ、アルゴン及び酸素（アルゴン：酸素＝３０ｓｃｃｍ：１５ｓｃｃｍ）雰囲気下で膜厚５０ｎｍの半導体膜を成膜し、エッチングを行って島状の半導体層を形成した。
【０５０２】
次に、半導体層を窒素雰囲気下、１時間３０分かけて昇温し、４５０℃で１時間加熱した後、大気中で冷却した。
【０５０３】
半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層としてチタン膜（膜厚５０ｎｍ）、アルミニウム膜（膜厚２００ｎｍ）、及びチタン膜（膜厚５０ｎｍ）の積層を、スパッタ法により形成した。
【０５０４】
半導体層、ソース電極層及びドレイン電極層上に、基板とターゲットの間との距離を６０ｍｍ、圧力０．４Ｐａ、ＲＦ電源１．５ｋＷ、アルゴン及び酸素（アルゴン：酸素＝４０ｓｃｃｍ：１０ｓｃｃｍ）雰囲気下で膜厚３００ｎｍの酸化シリコン膜を絶縁層として成膜した。
【０５０５】
次に窒素雰囲気下、２５０℃で１時間加熱した。
【０５０６】
以上の工程で本実施例の薄膜トランジスタを作製した。なお薄膜トランジスタの半導体層のチャネル長（Ｌ）は３μｍ、チャネル幅（Ｗ）は５０μｍであった。
【０５０７】
薄膜トランジスタの信頼性を調べるための手法の一つに、バイアス−熱ストレス試験（以下、ＢＴ試験という）がある。ＢＴ試験は加速試験の一種であり、長期間の使用によって起こる薄膜トランジスタの特性変化を、短時間で評価することができる。特に、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタのしきい値電圧の変化量は、信頼性を調べるための重要な指標となる。ＢＴ試験前後において、しきい値電圧の変化量が少ないほど、信頼性が高い薄膜トランジスタであるといえる。
【０５０８】
具体的には、薄膜トランジスタが形成されている基板の温度（基板温度）を一定に維持し、薄膜トランジスタのソースおよびドレインを同電位とし、ゲートにソースおよびドレインとは異なる電位を一定時間印加する。基板温度は、試験目的に応じて適宜設定すればよい。また、ゲートに印加する電位がソースおよびドレインの電位よりも高い場合を＋ＢＴ試験といい、ゲートに印加する電位がソースおよびドレインの電位よりも低い場合を−ＢＴ試験という。
【０５０９】
ＢＴ試験の試験強度は、基板温度、ゲート絶縁膜に加えられる電界強度、電界印加時間により決定することができる。ゲート絶縁膜に加えられる電界強度は、ゲートと、ソースおよびドレインの電位差をゲート絶縁膜の膜厚で除して決定される。例えば、膜厚が１００ｎｍのゲート絶縁膜に印加する電界強度を２ＭＶ／ｃｍとしたい場合は、電位差を２０Ｖとすればよい。
【０５１０】
本実施例の薄膜トランジスタについてＢＴ試験を行った結果を説明する。
【０５１１】
なお、電圧とは２点間における電位差のことをいい、電位とはある一点における静電場の中にある単位電荷が持つ静電エネルギー（電気的な位置エネルギー）のことをいう。ただし、一般的に、ある一点における電位と基準となる電位（例えば接地電位）との電位差のことを、単に電位もしくは電圧と呼び、電位と電圧が同義語として用いられることが多い。このため、本明細書では特に指定する場合を除き、電位を電圧と読み替えてもよいし、電圧を電位と読み替えてもよいこととする。
【０５１２】
ＢＴ試験は、基板温度を１５０℃、ゲート絶縁膜に印加する電界強度を２ＭＶ／ｃｍ、印加時間を１時間とし、−ＢＴ試験について行った。
【０５１３】
まず、−ＢＴ試験について説明する。ＢＴ試験対象となる薄膜トランジスタの初期特性を測定するため、基板温度を４０℃とし、ソース−ドレイン間電圧（以下、ドレイン電圧（Ｖｄ）という）を１Ｖと１０Ｖとし、ソース−ゲート間電圧（以下、ゲート電圧という）を−２０Ｖ〜＋２０Ｖまで変化させたときのソース−ドレイン電流（以下、ドレイン電流（Ｉｄ）という）の変化特性、すなわちＶｇ−Ｉｄ特性を測定した。ここでは基板温度を試料表面への吸湿対策として４０℃としているが、特に問題がなければ、基板温度を室温（２５℃）として測定してもかまわない。
【０５１４】
次に、基板温度を１５０℃まで上昇させた後、薄膜トランジスタのソースおよびドレインの電位を０Ｖとした。続いて、ゲート絶縁膜へ印加される電界強度が２ＭＶ／ｃｍとなるようにゲートに電圧を印加した。ここでは、薄膜トランジスタのゲート絶縁層の厚さが１００ｎｍであったため、ゲートに−２０Ｖを印加し、そのまま１時間保持した。ここでは印加時間を１時間としたが、目的に応じて適宜時間を変更してもよい。
【０５１５】
次に、ゲート、ソースおよびドレインへ電圧を印加したまま、基板温度を４０℃まで下げた。この時、基板温度が下がりきる前に電圧の印加をやめてしまうと、余熱の影響によりＢＴ試験で薄膜トランジスタに与えられたダメージが回復されてしまうため、電圧は印加したまま基板温度を下げる必要がある。基板温度が４０℃になった後、電圧の印加を終了させた。なお、厳密には降温時間も印加時間に加える必要があるが、実際には数分で４０℃まで下げることができたため、これを誤差範囲内と考え、降温時間は印加時間に加えていない。
【０５１６】
次に、初期特性の測定と同じ条件でＶｇ−Ｉｄ特性を測定し、−ＢＴ試験後のＶｇ−Ｉｄ特性を得た。
【０５１７】
なお、ＢＴ試験に際しては、まだ一度もＢＴ試験を行っていない薄膜トランジスタを用いて試験を行うことが重要である。例えば、一度＋ＢＴ試験を行った薄膜トランジスタを用いて−ＢＴ試験を行うと、先に行った＋ＢＴ試験の影響により、−ＢＴ試験結果を正しく評価することができない。また、一度＋ＢＴ試験を行った薄膜トランジスタを用いて、再度＋ＢＴ試験を行った場合等も同様である。ただし、これらの影響を踏まえて、あえてＢＴ試験を繰り返す場合はこの限りではない。
【０５１８】
図２４に、ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタのＶｇ−Ｉｄ特性を示す。図２４において、横軸はゲート電圧（Ｖｇ）で、縦軸はゲート電圧に対するドレイン電流（Ｉｄ）を対数目盛で示している。
【０５１９】
図２４は、−ＢＴ試験前後における薄膜トランジスタのＶｇ−Ｉｄ特性を示している。初期特性（Ｖｄ＝１Ｖ、１０Ｖ）は、−ＢＴ試験前の薄膜トランジスタのＶｇ−Ｉｄ特性であり、−ＢＴ（Ｖｄ＝１Ｖ、１０Ｖ）は、−ＢＴ試験後の薄膜トランジスタのＶｇ−Ｉｄ特性である。
【０５２０】
図２４から、−ＢＴ（Ｖｄ＝１Ｖ、１０Ｖ）は、初期特性（Ｖｄ＝１Ｖ、１０Ｖ）に比べてしきい値電圧の変化がほとんど見られなかった。以上のことから、ＢＴ試験においてしきい値電圧の変化がないため、本実施例の薄膜トランジスタは、ＢＴ試験における信頼性が高い薄膜トランジスタであることが確認できた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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