(57)【要約】      （修正有）【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置を提供する。【解決手段】蒸着物質１１５を放射する蒸着源１１０と、蒸着源１１０の一側に配され、複数の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向して配され、複数のパターニングスリット１５１が配されるパターニングスリットシート１５０と、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板１３１を備える遮断板アセンブリー１３０と、パターニングスリットシート１５０に対する基板５００の相対的な位置を検出する位置検出部材と、基板５００に対するパターニングスリットシート１５０の相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備える薄膜蒸着装置。【選択図】図４
2011190536.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、
前記パターニングスリットシートに対する前記基板の相対的な位置を検出する位置検出部材と、
前記位置検出部材から検出された前記相対的な位置を用いて、前記基板に対する前記パターニングスリットシートの相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備え、
前記薄膜蒸着装置と前記基板とは互いに離隔するように配され、
前記薄膜蒸着装置と前記基板とは互いに相対的に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記パターニングスリットシートは第１アラインマークを備え、
前記基板は第２アラインマークを備え、
前記位置検出部材は、前記第１アラインマークと前記第２アラインマークとを撮影するカメラをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記第２アラインマークは、前記基板の移動方向と実質的に平行な一つ以上のストライプマークを備えることを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記カメラと前記パターニングスリットシートとの間に介されて、前記カメラの焦点が結ばれる位置を制御する焦点制御部材をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項５】
前記焦点制御部材は回転自在に形成され、前記焦点制御部材上には、互いに屈折率の異なるように形成された第１ホールと第２ホールとがそれぞれ形成されることを特徴とする請求項４に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記第１ホール及び第２ホールのうちいずれか一側には透明体が介在されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記第１ホールと前記第２ホールとが交互に前記カメラの光軸上に配されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記カメラは、光軸に沿って往復動しつつ映像を撮影することを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記位置検出部材は、
前記基板の移動方向と実質的に平行な方向にレーザーを照射するレーザー照射部材と、
前記照射されるレーザーと同軸上に配され、所定形状の第３アラインマークが表示された一つ以上の測定部材と、をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記アライン制御部材は、前記第１方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも２つの第１アクチュエータを備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記アライン制御部材は、前記基板の蒸着面と垂直な方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも３つの第２アクチュエータを備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記複数の遮断板は、等間隔で配されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記遮断板アセンブリーは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されることを特徴とする請求項１６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配されることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１９】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、
前記パターニングスリットシートに対する前記基板の相対的な位置を検出する位置検出部材と、
前記位置検出部材から検出された前記相対的な位置を用いて、前記基板に対する前記パターニングスリットシートの相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備え、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２０】
前記パターニングスリットシートは第１アラインマークを備え、
前記基板は第２アラインマークを備え、
前記位置検出部材は、前記第１アラインマークと前記第２アラインマークとを撮影するカメラをさらに備えることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２１】
前記第２アラインマークは、前記基板の移動方向と実質的に平行な一つ以上のストライプマークを備えることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２２】
前記カメラと前記パターニングスリットシートとの間に介されて、前記カメラの焦点が結ばれる位置を制御する焦点制御部材をさらに備えることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２３】
前記焦点制御部材は回転自在に形成され、前記焦点制御部材上には、互いに屈折率の異なるように形成された第１ホールと第２ホールとがそれぞれ形成されることを特徴とする請求項２２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２４】
前記第１ホール及び第２ホールのうちいずれか一側には透明体が介在されることを特徴とする請求項２３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２５】
前記第１ホールと前記第２ホールとが交互に前記カメラの光軸上に配されることを特徴とする請求項２３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２６】
前記カメラは、光軸に沿って往復動しつつ映像を撮影することを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２７】
前記位置検出部材は、
前記基板の移動方向と実質的に平行な方向にレーザーを照射するレーザー照射部材と、
前記照射されるレーザーと同軸上に配され、所定形状の第３アラインマークが表示された一つ以上の測定部材と、をさらに備えることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２８】
前記アライン制御部材は、前記第１方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも２つの第１アクチュエータを備えることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２９】
前記アライン制御部材は、前記基板の蒸着面と垂直な方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも３つの第２アクチュエータを備えることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３０】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３１】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項３０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３２】
前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項３０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３３】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定程度離隔するように形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３４】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３５】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３６】
前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３７】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項３６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３８】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、
前記二列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、
前記二列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配されることを特徴とする請求項３６に記載の薄膜蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は薄膜蒸着装置に係り、さらに詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は、視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく応答速度が速いという長所を持っていて、次世代ディスプレイ装置として注目されている。
【０００３】
有機発光表示装置は、互いに対向する第１電極と第２電極との間に発光層及びこれを含む中間層を備える。この時、前記電極及び中間層はいろいろな方法で形成されうるが、そのうち一つの方法が独立蒸着方式である。蒸着方法を用いて有機発光表示装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを持つファインメタルマスク（ｆｉｎｅ ｍｅｔａｌ ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【０００４】
しかし、かかるＦＭＭを利用する方法は、５Ｇ以上のマザーガラスを使用する大面積化には適していない限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によりマスクの曲げ現象が発生するが、この曲げ現象によるパターンの歪曲が発生しうるためである。これは、パターンに高精細を要する現在の傾向と背馳することである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記のような従来のＦＭＭを用いた蒸着方法の限界を乗り越えるためのものであって、大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングの可能な薄膜蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、前記パターニングスリットシートに対する前記基板の相対的な位置を検出する位置検出部材と、前記位置検出部材から検出された前記相対的な位置を用いて、前記基板に対する前記パターニングスリットシートの相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備え、前記薄膜蒸着装置と前記基板とは互いに離隔するように配され、前記薄膜蒸着装置と前記基板とは互いに相対的に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【０００７】
本発明において、前記パターニングスリットシートは第１アラインマークを備え、前記基板は第２アラインマークを備え、前記位置検出部材は、前記第１アラインマークと前記第２アラインマークとを撮影するカメラをさらに備える。
【０００８】
ここで、前記第２アラインマークは、前記基板の移動方向と実質的に平行な一つ以上のストライプマークを備える。
ここで、前記カメラと前記パターニングスリットシートとの間に介し、前記カメラの焦点が結ばれる位置を制御する焦点制御部材をさらに備える。
ここで、前記焦点制御部材は回転自在に形成され、前記焦点制御部材上には、互いに屈折率の異なるように形成された第１ホールと第２ホールとがそれぞれ形成される。
ここで、前記第１ホール及び第２ホールのうちいずれか一側には透明体が介在する。
【０００９】
ここで、前記第１ホールと前記第２ホールとが交互に前記カメラの光軸上に配される。
ここで、前記カメラは、光軸に沿って往復動しつつ映像を撮影できる。
本発明において、前記位置検出部材は、前記基板の移動方向と実質的に平行な方向にレーザーを照射するレーザー照射部材と、前記照射されるレーザーと同軸上に配され、所定形状の第３アラインマークが表示された一つ以上の測定部材と、をさらに備える。
【００１０】
本発明において、前記アライン制御部材は、前記第１方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも２つの第１アクチュエータを備える。
本発明において、前記アライン制御部材は、前記基板の蒸着面と垂直な方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも３つの第２アクチュエータを備える。
【００１１】
前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成される。
前記複数の遮断板は、等間隔で配される。
前記遮断板アセンブリーは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備える。
【００１２】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成される。
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配される。
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配される。
【００１３】
他の側面による本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、  前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、前記パターニングスリットシートに対する前記基板の相対的な位置を検出する位置検出部材と、前記位置検出部材から検出された前記相対的な位置を用いて、前記基板に対する前記パターニングスリットシートの相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備え、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【００１４】
本発明において、前記パターニングスリットシートは第１アラインマークを備え、前記基板は第２アラインマークを備え、前記位置検出部材は、前記第１アラインマークと前記第２アラインマークとを撮影するカメラをさらに備える。
【００１５】
ここで、前記第２アラインマークは、前記基板の移動方向と実質的に平行な一つ以上のストライプマークを備える。
ここで、前記カメラと前記パターニングスリットシートとの間に介在して、前記カメラの焦点が結ばれる位置を制御する焦点制御部材をさらに備える。
【００１６】
ここで、前記焦点制御部材は回転自在に形成され、前記焦点制御部材上には、互いに屈折率の異なるように形成された第１ホールと第２ホールとがそれぞれ形成される。
ここで、前記第１ホール及び第２ホールのうちいずれか一側には透明体が介在する。
ここで、前記第１ホールと前記第２ホールとが交互に前記カメラの光軸上に配される。
【００１７】
ここで、前記カメラは、光軸に沿って往復動しつつ映像を撮影する。
本発明において、前記位置検出部材は、前記基板の移動方向と実質的に平行な方向にレーザーを照射するレーザー照射部材と、前記照射されるレーザーと同軸上に配され、所定形状の第３アラインマークが表示された一つ以上の測定部材と、をさらに備える。
【００１８】
本発明において、前記アライン制御部材は、前記第１方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも２つの第１アクチュエータを備える。
【００１９】
本発明において、前記アライン制御部材は、前記基板の蒸着面と垂直な方向に沿って前記パターニングスリットシートが移動するように所定の駆動力を提供する、少なくとも３つの第２アクチュエータを備える。
ここで、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成される。
【００２０】
ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドする。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成される。
ここで、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定程度離隔するように形成される。
【００２１】
ここで、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着される。
ここで、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
本発明において、前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成される。
【００２２】
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされている。
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、前記二列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の薄膜蒸着装置によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まり及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易になる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成図である。
【図２】図１の変形例を示す図面である。
【図３】図１の静電チャックの一例を示す概略図である。
【図４】図１の薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図５】図４の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側断面図である。
【図６】図４の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平断面図である。
【図７】図４の薄膜蒸着アセンブリーの基板及びパターニングスリットシートの背面と、前記基板の背面に表示されたアラインマークとを示す図面である。
【図８】図４の薄膜蒸着アセンブリーの焦点制御部材、カメラ及び基板間の関係を示す図面である。
【図９】図４の薄膜蒸着アセンブリーの焦点制御部材、カメラ及び基板間の関係を示す図面である。
【図１０】図４の薄膜蒸着アセンブリーのレーザー照射部材、測定部材及び基板間の関係を示す図面である。
【図１１】図１の薄膜蒸着装置で、リアルタイムアラインのために必要なカメラの配置を示す図面である。
【図１２】図１の薄膜蒸着装置で、リアルタイムアラインのために必要なアクチュエータの配置を示す図面である。
【図１３】図１の薄膜蒸着装置で、リアルタイムアラインのために必要なアクチュエータの配置を示す図面である。
【図１４】本発明の他の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１５】本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１６】本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１７】図１６の薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図１８】図１６の薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図１９】本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、添付した図面を参照して本発明による望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
図１は、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成図で、図２は、図１の変形例を図示したものである。図３は、静電チャック６００の一例を示す概略図である。
【００２６】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置は、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を備える。
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８を備えることができる。
【００２７】
第１ラック７１２には、蒸着が行われる前の基板５００が多く積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を捉えて第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載置した後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。
【００２８】
導入室７１６に隣接しては第１反転室７１８が備えられ、第１反転室７１８に位置した第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させて、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。
【００２９】
静電チャック６００は、図３から分かるように、セラミックからなる本体６０１の内部に電源が印加される電極６０２が埋め立てられたものであって、この電極６０２に高電圧が印加されることによって、本体６０１の表面に基板５００を付着させる。
図１からみれば、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せるようになり、この状態で静電チャック６００は導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることによって、蒸着部７３０では基板５００が下方を向かうように位置する。
【００３０】
アンローディング部７２０の構成は、前述したローディング部７１０の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で第２反転ロボット７２９が反転させて搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離して第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を通じてローディング部７１０に回送される。
【００３１】
しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初に固定される時から静電チャック６００の下面に基板５００を固定させて、そのまま蒸着部７３０に移送させてもよい。この場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９と第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９は不要になる。
【００３２】
蒸着部７３０は、少なくとも一つの蒸着用チャンバーを備える。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は第１チャンバー７３１を備え、この第１チャンバー７３１内に複数の薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００が配される。図１に図示された本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバー７３１内に、第１薄膜蒸着アセンブリー１００、第２薄膜蒸着アセンブリー２００、第３薄膜蒸着アセンブリー３００及び第４薄膜蒸着アセンブリー４００の４つの薄膜蒸着アセンブリーが設置されているが、その数は、蒸着物質及び蒸着条件によって可変できる。前記第１チャンバー７３１は、蒸着が進まれる間に真空に維持される。
【００３３】
また、図２による本発明の他の一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は互いに関連された第１チャンバー７３１及び第２チャンバー７３２を備え、第１チャンバー７３１には第１、２薄膜蒸着アセンブリー１００、２００が、第２チャンバー７３２には第３、４薄膜蒸着アセンブリー３００、４００が配されうる。この時、チャンバーの数が追加されうるということは言うまでもない。
【００３４】
一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０により、少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０により前記ローディング部７１０に戻される。
【００３５】
次いで、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリー１００を説明する。図４は、図１の薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図であり、図５は、図４の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側断面図であり、図６は、図４の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平断面図である。
【００３６】
図４ないし図６を参照すれば、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリー１３０及びパターニングスリット１５１を備える。また、本発明の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー１００は、カメラ１７０、焦点制御部材１８０、レーザー照射部材１９０などを備える位置検出部材と、アクチュエータ（図１２及び図１３参照）などを備えるアライン制御部材とをさらに備える。このような位置検出部材とアライン制御部材とについては、後で詳細に説明する。
【００３７】
ここで、図４ないし図６には、説明の便宜のためにチャンバーを図示していないが、図４ないし図６のあらゆる構成は、適切な真空度が維持される第１チャンバー内に配されることが望ましい。これは蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００３８】
さらに詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット１５１を通過して基板５００に所望のパターンで蒸着させるためには、基本的にチャンバー（図示せず）の内部は高真空状態を維持せねばならない。また遮断板１３１及びパターニングスリットシート１５０の温度が蒸着源１１０温度より十分に低くて初めて（約１００゜以下）、蒸着源ノズル１２１とパターニングスリット１５１との間の空間を高真空状態に維持できる。このように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０との温度が十分に低ければ、所望しない方向に放射される蒸着物質１１５はいずれも遮断板アセンブリー１３０面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生しなくて蒸着物質の直進性を確保できるようになる。この時、遮断板アセンブリー１３０は高温の蒸着源１１０に向かっており、蒸着源１１０と近い所は最大１６７゜ほどに温度が上昇するため、必要な場合に部分冷却装置（図示せず）がさらに備えられうる。
【００３９】
このような第１チャンバー内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【００４０】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００に対して相対的に移動するが、望ましくは、薄膜蒸着アセンブリー１００に対して基板５００をＡ方向に移動させることができる。
さらに詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、マスクのサイズが基板サイズと同一またはそれより大きくなければならなかった。したがって、基板サイズが増大するほどマスクも大型化せねばならず、したがって、このような大型のマスクの製作が容易でなく、マスクを引っ張って精密なパターンでアラインすることも容易でないという問題点があった。
【００４１】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着アセンブリー１００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板５００が図４の矢印Ａ方向に移動しつつ、スキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には、基板５００がチャンバー（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板５００は固定されていて、薄膜蒸着アセンブリー１００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【００４２】
したがって、本発明の薄膜蒸着アセンブリー１００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリー１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅と、基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成されれば、パターニングスリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されても構わない。もちろん、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅が基板５００のＸ軸方向への幅より小さく形成されるとしても、基板５００と薄膜蒸着アセンブリー１００との相対的移動によるスキャニング方式により、十分に基板５００全体に対して蒸着が行えるようになる。
【００４３】
このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート１５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これはディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【００４４】
このように、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが一定程度離隔することが望ましい。これについては、後で詳細に記述する。
一方、第１チャンバー内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
【００４５】
前記蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が満たされる坩堝１１２と、この坩堝１１２を取り囲む冷却ブロック１１１とが備えられる。冷却ブロック１１１は、坩堝１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバーの内部に発散されることを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、坩堝１１１を加熱させるヒーター（図示せず）が備えられている。
【００４６】
蒸着源１１０の一側、さらに詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１は等間隔で形成されうる。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、このような蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１を通過して被蒸着体である基板５００側に向かうようになる。
【００４７】
蒸着源ノズル部１２０の一側には遮断板アセンブリー１３０が備えられる。前記遮断板アセンブリー１３０は、複数の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備えられる遮断板フレーム１３２とを備える。前記複数の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配されうる。ここで、前記複数の遮断板１３１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は、図面からみた時にＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形に形成されうる。このように配された複数の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切る。すなわち、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、前記遮断板１３１によって、図６から分かるように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間Ｓが分離される。
【００４８】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１の間に配されうる。これは、言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１の間に一つの蒸着源ノズル１２１が配されることである。望ましくは、蒸着源ノズル１２１は、互いに隣接している遮断板１３１の間の正中央に位置できる。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されず、互いに隣接している遮断板１３１の間に複数の蒸着源ノズル１２１が配されてもよい。ただし、この場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１を、互いに隣接している遮断板１３１の間のほぼ中央に位置させることが望ましい。
【００４９】
このように、遮断板１３１が、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切ることによって、一つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過して基板５００に蒸着されることである。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されずに直進性を維持するように、蒸着物質のＺ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００５０】
このように、遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影（ｓｈａｄｏｗ）のサイズを大幅に縮小することができ、したがって、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とを一定程度離隔させることができる。これについては、後述する。
【００５１】
一方、前記複数の遮断板１３１の外側には遮断板フレーム１３２がさらに備えられうる。遮断板フレーム１３２は、複数の遮断板１３１の側面にそれぞれ備えられて、複数の遮断板１３１の位置を固定すると同時に、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質がＹ軸方向に分散されないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００５２】
前記蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０とは、一定程度離隔することが望ましい。これにより、蒸着源１１０から発散される熱が遮断板アセンブリー１３０に伝導されることを防止できる。しかし、本発明の思想はこれに制限されない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０との間に適切な断熱手段が備えられる場合、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０とが結合して接触してもよい。
【００５３】
一方、前記遮断板アセンブリー１３０は、薄膜蒸着アセンブリー１００から着脱自在に形成されうる。本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００では、遮断板アセンブリー１３０を用いて蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、ほぼ遮断板アセンブリー１３０内に蒸着される。したがって、遮断板アセンブリー１３０を薄膜蒸着アセンブリー１００から着脱自在に形成して、長時間蒸着後に遮断板アセンブリー１３０に蒸着物質が多く溜まれば、遮断板アセンブリー１３０を薄膜蒸着アセンブリー１００から分離して、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。このような構成を通じて、蒸着物質リサイクル率を高めることによって、蒸着効率が向上してコストダウンとなる効果が得られる。
【００５４】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。前記フレーム１５５は、窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。各パターニングスリット１５１は、Ｙ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化して蒸着源ノズル１２１を通過した蒸着物質１１５は、パターニングスリット１５１を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。
【００５５】
前記パターニングスリットシート１５０は金属薄板で形成され、引張された状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニングスリット１５１は、ストライプタイプでパターニングスリットシート１５０に、エッチングを通じて形成される。
【００５６】
ここで、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源ノズル１２１の総数よりパターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２つの遮断板１３１の間に配された蒸着源ノズル１２１の数よりパターニングスリット１５１の数がさらに多く形成される。前記パターニングスリット１５１の数は、基板５００に形成される蒸着パターンの数に対応させることが望ましい。
【００５７】
一方、前述した遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定程度離隔するように形成され、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、別途の連結部材１３５によって互いに連結されうる。さらに詳細には、高温状態の蒸着源１１０により遮断板アセンブリー１３０の温度は最大１００℃以上上昇するため、上昇した遮断板アセンブリー１３０の温度がパターニングスリットシート１５０に伝導されないように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とを一定ほど離隔させることである。
【００５８】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着アセンブリー１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は、基板５００から一定程度離隔するように形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮小させたことである。
【００５９】
従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触により基板に既に形成されていたパターンが掻かれるなど不良が発生するという問題点が存在している。また、マスクを基板に対して移動させることができないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化することによってマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成し難いという問題点が存在している。
【００６０】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００では、パターニングスリットシート１５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔するように配させる。これは、遮断板１３１を備えて、基板５００に生成される陰影が小さくなることによって実現可能になる。
【００６１】
このような本発明によってパターニングスリットシートを基板より小さく形成した後、このパターニングスリットシートを基板に対して相対移動させることによって、従来ＦＭＭ方法のように大きいマスクを製作する必要がなくなった。また、基板とパターニングスリットシートとの間が離隔されているため、相互接触による不良を防止する効果が得られる。また、工程で基板とパターニングスリットシートとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果が得られる。
【００６２】
以下では、本発明の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー１００のアライン精度と間隔精度とを満たすための位置検出部材とアライン制御部材とについて詳細に説明する。
【００６３】
前述したように、本発明の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー１００は、パターニングスリットシート１５０が基板５００から一定程度離隔するように形成され、パターニングスリットシート１５０が基板５００に対してＺ軸方向に相対的に移動しつつ蒸着が行われることを特徴とする。ところが、このようにパターニングスリットシート１５０が移動しつつ精密な薄膜をパターニングするためには、パターニングスリットシート１５０と基板５００との位置精度が非常に重要である。また、パターニングスリットシート１５０と基板５００との間隔が変動すればパターン位置が揺れるため、可能な限り一定の間隔（例えば、１００μｍ）を維持せねばならない。このために、本発明の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー１００は、位置検出部材とアライン制御部材とを備えて、パターニングスリットシート１５０と基板５００との精密な位置を検出し、これら相互間を整列させることを一特徴とする。
【００６４】
図４ないし図６に図示されたように、本発明の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー１００はカメラ１７０と焦点制御部材１８０とを備え、このようなカメラ１７０と焦点制御部材１８０とを用いて、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００との間隔を正確に検出する。
【００６５】
さらに詳細には、カメラ１７０は、フレーム１５５に形成された第１アラインマーク１５９と、基板５００の背面上に形成された第２アラインマーク（図７の５０１参照）とをリアルタイムで測定する。前記カメラ１７０は、蒸着の進行中の真空チャンバー内で円滑な視野確保ができるように備えられる。
【００６６】
基板５００及びパターニングスリットシート１５０の背面と、前記基板５００の背面上に表示された第２アラインマーク５０１とを図示した図７を参照すれば、基板５００の背面エッジには、ストライプ状の第２アラインマーク５０１が複数形成されている。前記複数の第２アラインマーク５０１は、基板５００の進行方向、すなわち、図７の矢印Ｙ方向と平行に形成されており、フレーム１５５に形成された第１アラインマーク１５９と対応する位置に形成されている。すなわち、カメラ１７０は、フレーム１５５に形成された第１アラインマーク１５９を通じて基板５００の第２アラインマーク５０１を撮影することである。
【００６７】
この時、前記第２アラインマーク５０１がストライプ状に形成される理由は、次の通りである。一般的に従来の薄膜蒸着装置では、アラインマークとして円、十字、方形などのマークを使用した。このような形状のマークは停止状態の基板をアラインする場合には使用できるが、本発明のように基板が移動する場合には、カメラを通じて獲得される映像が一定でないため、その適用が容易ではない。したがって、本発明では簡潔なストライプ状のアラインマークを備えて、基板が移動する途中でもカメラを通じて獲得される映像を一定にして、基板の移動中にもリアルタイムでアライン可能にすることを一特徴とする。
【００６８】
一方、本発明では、基板５００とパターニングスリットシート１５０とが一定程度離隔しているところ、一つのカメラ１７０を用いて、相異なる位置にある基板５００までの距離とパターニングスリットシート１５０までの距離とを共に測定せねばならない。その方法は、次の通りである。
【００６９】
まず、図４、図８及び図９に図示されたような焦点制御部材１８０を、カメラ１７０と基板５００との間に配する。ここで、前記焦点制御部材１８０は、概略扁平な円板状に形成され、円板上に２つのホール１８１、１８２が形成されている。ここで、第１ホール１８１は、空いている空間の状態で何も満たされていないが、第２ホール１８２にはガラスなどの透明な物体が挟み込まれる。すなわち、第１ホール１８１が形成された領域と第２ホール１８２が形成された領域との屈折率が相異なる。そして、前記焦点制御部材１８０は、図８の矢印Ｒ方向に回転自在に備えられる。
【００７０】
したがって、焦点制御部材１８０が回転することによって、カメラ１７０の直下方に第１ホール１８１が位置している時と、カメラ１７０の直下方に第２ホール１８２が位置している時とのカメラ１７０の焦点が合う位置が変わる。なぜなら、第１ホール１８１を満たしている空気の屈折率と、第２ホール１８２を満たしているガラスなどの透明な物体の屈折率とが互いに異なるためである。
【００７１】
例えば、図８に図示されたように、カメラ１７０の直下方に第１ホール１８１が位置している時は、カメラ１７０の焦点が基板５００に合うようになって、カメラ１７０から基板５００までの距離を測定できる。一方、図９に図示されたように、カメラ１７０の直下方に第２ホール１８２が位置している時は、カメラ１７０の焦点がパターニングスリットシート１５０に合うようになって、カメラ１７０からパターニングスリットシート１５０までの距離を測定できる。
【００７２】
または図面には図示されていないが、カメラ自体が光軸に沿って移動しつつ映像を撮影してもよい。すなわち、カメラ１７０が図６の矢印Ｍ方向に沿って移動しつつ映像を撮影できる。この場合、カメラ１７０が基板５００側に近付いた時はカメラ１７０の焦点が基板５００に合うようになって、カメラ１７０から基板５００までの距離を測定でき、カメラ１７０が基板５００から遠ざかった時はカメラ１７０の焦点がパターニングスリットシート１５０に合うようになって、カメラ１７０からパターニングスリットシート１５０までの距離を測定できることである。
【００７３】
このように、焦点制御部材１８０が回転することによって、カメラ１７０から基板５００までの距離と、カメラ１７０からパターニングスリットシート１５０までの距離とが交互に測定されるため、パターニングスリットシート１５０と基板５００との間の距離をリアルタイムで測定することができる。
【００７４】
一方、図４及び図１０に図示されたように、基板５００の蒸着面、すなわち、ＸＹ平面上での基板５００のチルト角度を測定するために、基板５００（または静電チャック６００）上にレーザー照射部材１９０をさらに備え、チャンバー（図示せず）の内部には、第１測定部材１９１及び第２測定部材１９２をさらに備えることができる。前記第１測定部材１９１及び第２測定部材１９２は、前記レーザー照射部材１９０と同一軸上に配されうる。そして、第１測定部材１９１及び第２測定部材１９２上には、十字状の第３アラインマーク１９２ａが表示されている。したがって、基板５００が図４の矢印Ａ方向に移動している間、レーザー照射部材１９０から第１測定部材１９１及び第２測定部材１９２側にレーザーＬ１Ｌ２を照射し、前記照射されたレーザーＬ１Ｌ２は、第１測定部材１９１及び第２測定部材１９２から検出される。この時、レーザーＬ１Ｌ２が第３アラインマーク１９２ａ上のどの位置に照射されたかを用いて、ＸＹ平面上での基板５００のチルト角度を測定することである。例えば、図１０に図示されたように、第１測定部材１９１に表示されたアラインマーク（図示せず）の中心と照射されたレーザーＬ１との間の距離Ｄ１と、第２測定部材１９２に表示された第３アラインマーク（図４の１９２ａ参照）の中心と照射されたレーザーＬ２との間の距離Ｄ２を用いて、ＸＹ平面上での基板５００のチルト角度を測定できる。
【００７５】
ここで、図面には、第１測定部材１９１と第２測定部材１９２との２つの測定部材が備えられると図示されているが、本発明はこれに制限されず、装置に要求される仕様によって一つまたはそれ以上の測定部材が自在に配されうる。ただし、基板の移動初期には基板の進行距離が短いので、第１測定部材１９１で測定される距離の精度が落ち、基板の移動末期には基板が益々第２測定部材１９２側に近付くことによって、第２測定部材１９２で測定される距離の精度が落ちるので、チャンバーの前方及び後方にそれぞれ少なくとも一つの測定部材を配置して、測定区間全般にわたって測定の信頼度を向上させることが望ましい。
【００７６】
一方、図１１には、このようなリアルタイムアラインのために必要なカメラの配置が図示されている。
薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とのリアルタイムアラインのためには、図１１に図示されたように、少なくとも７個の水平アラインカメラ１７１ａ、１７１ｂ、１７１ｃ、１７１ｄ、１７１ｅ、１７１ｆ、１７１ｇと、最小限７個の垂直アラインカメラ１７２ａ、１７２ｂ、１７２ｃ、１７２ｄ、１７２ｅ、１７２ｆ、１７２ｇが要求される。その理由は、次の通りである。
【００７７】
いずれか一瞬間での基板５００の水平方向の位置を正確に測定するためには、３つの水平アラインカメラが必要である。なぜなら、３点が分かって初めて一つの平面が決定されるためである。同じ理由で、いずれか一瞬間での基板５００の垂直方向の位置を正確に測定するためには、３つの垂直アラインカメラが必要である。すなわち、いずれか一瞬間での基板５００の３次元上での位置を正確に測定するためには、３つの水平アラインカメラと３つの垂直アラインカメラ、すなわち、総６個のカメラが必要である。
【００７８】
すなわち、３つの水平アラインカメラ１７１ａ、１７１ｂ、１７１ｃと３つの垂直アラインカメラ１７２ａ、１７２ｂ、１７２ｃとがあれば、基板５００の先端部が薄膜蒸着アセンブリー１００を通過し始める時点での、基板５００の３次元上の位置を正確に測定できる。また、３つの水平アラインカメラ１７１ｃ、１７１ｄ、１７１ｅと、３つの垂直アラインカメラ１７２ｃ、１７２ｄ、１７２ｅとがあれば、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００の中央部を通過する時点での基板５００の３次元上での位置を正確に測定できる。また、３つの水平アラインカメラ１７１ｅ、１７１ｆ、１７１ｇと、３つの垂直アラインカメラ１７２ｅ、１７２ｆ、１７２ｇとがあれば、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００を完全に通過する時点での、基板５００の３次元上の位置を正確に測定できる。
【００７９】
すなわち、薄膜蒸着アセンブリー１００のパターニングスリットシート１５０の前方部に形成されたカメラ１７１ｃ、１７２ｃを、基板５００の先端部が薄膜蒸着アセンブリー１００を通過し始める時点の撮影と、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００の中央部を通過する時点の撮影とにいずれも使用する。また、薄膜蒸着アセンブリー１００のパターニングスリットシート１５０の後方部に形成されたカメラ１７１ｅ、１７２ｅを、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００の中央部を通過する時点の撮影と、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００を抜け出る時点の撮影とにいずれも使用する。
【００８０】
このような構成によって、基板のアラインのために必要なカメラの数を最小化させることができ、したがって、コストダウンで装置の構成が簡単になる効果が得られる。
図１２及び図１３は、図１の薄膜蒸着装置でリアルタイムアラインのために必要なアクチュエータの配置を示す図面である。図１２を参照すれば、基板５００の蒸着面上で基板の移動方向（矢印Ｙ方向）と平行な方向、すなわち、Ｘ軸方向の基板５００の反りを補正するために、最小限２つの第１アクチュエータ１９５ａ、１９５ｂが要求される。また、図１３を参照すれば、基板５００の蒸着面と垂直な方向、すなわち、Ｚ軸（図４参照）方向への反りを補正するために、最小限３つの第２アクチュエータ１９７ａ、１９７ｂ、１９７ｃが要求される。ここで、基板５００はＬＭレール（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ ｒａｉｌ）とＬＭブロック（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ ｂｌｏｃｋ）とを備える所定のＬＭシステム（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ ｓｙｓｔｅｍ）によって精密移送されるので、基板５００の移動方向、すなわち、Ｙ軸方向の反りは考慮しなくてもよい。
【００８１】
ここで、２つの第１アクチュエータ１９５ａ、１９５ｂを同方向に駆動させることによって、基板５００をＸ軸方向に移動できる。また、２つの第１アクチュエータ１９５ａ、１９５ｂを互いに逆方向に駆動させることによって、基板５００を基板５００の蒸着面と平行な平面上で回転させることができる。
【００８２】
また、３つの第２アクチュエータ１９７ａ、１９７ｂ、１９７ｃを同方向に駆動させることによって、基板５００をＺ軸方向に移動できる。また、３つの第２アクチュエータ１９７ａ、１９７ｂ、１９７ｃを相異なる方向に駆動させることによって、基板５００を基板５００のＸ軸を中心に、またはＹ軸を中心に回転させることができる。
【００８３】
このような構成によって、最小限のアクチュエータのみで基板の反りを補正する効果が得られる。
【００８４】
図１４は、本発明の望ましい他の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００を概略的に示す斜視図である。
図１４に図示された実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、第１遮断板アセンブリー１３０、第２遮断板アセンブリー１４０、パターニングスリットシート１５０を備える。
ここで、図１４には、説明の便宜のためにチャンバーを図示していないが、図１４のあらゆる構成は適切な真空度が維持されるチャンバー内に配されることが望ましい。  これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００８５】
このようなチャンバー（図示せず）内には被蒸着体である基板５００が配される。そして、チャンバー（図示せず）内で基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
蒸着源１１０及びパターニングスリットシート１５０の詳細な構成は、前述した図４による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第一遮断板アセンブリー１３０は、図４による実施形態の遮断板アセンブリーと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
【００８６】
本実施形態では、第１遮断板アセンブリー１３０の一側に第２遮断板アセンブリー１４０が備えられる。前記第２遮断板アセンブリー１４０は、複数の第２遮断板１４１と、第２遮断板１４１の外側に備えられる第２遮断板フレーム１４２とを備える。
前記複数の第２遮断板１４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備えられうる。そして、前記複数の第２遮断板１４１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの第２遮断板１４１は、図面から見た時、ＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。
【００８７】
このように配された複数の第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を区切る役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【００８８】
ここで、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と一対一対応するように配されうる。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１とアラインされて互いに平行に配されうる。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３１と第２遮断板１４１とは、互いに同じ平面上に位置するようになる。図面には、第１遮断板１３１の長さと第２遮断板１４１のＸ軸方向の幅とが同一であると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、パターニングスリット１５１との精密なアラインが要求される第２遮断板１４１は相対的に薄く形成する一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板１３１は相対的に厚く形成して、その製造を容易にすることも可能であるといえる。
【００８９】
前述したような薄膜蒸着アセンブリー１００は、図１から分かるように、第１チャンバー７３１内に複数が連続して配されうる。この場合、各薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００は、相異なる蒸着物質を蒸着させることができ、この時、各薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００のパターニングスリットのパターンを相異なるパターンにして、例えば、赤、緑、青色の画素を一括蒸着するなどの成膜工程を進めることができる。
【００９０】
ここで、本発明の他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーでは、カメラ１７０、焦点制御部材１８０、レーザー照射部材１９０などを備える位置検出部材と、アクチュエータ（図１２及び図１３参照）などを備えるアライン制御部材とをさらに備えて、薄膜蒸着アセンブリーに対する基板のアラインを正確かつ容易に行うことを一特徴とする。これについては第１実施形態で詳細に説明したが、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
【００９１】
図１５は、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００を概略的に示す斜視図である。
図１５を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。
【００９２】
ここで、図１５には、説明の便宜のためにチャンバーを図示していないが、図１５のあらゆる構成は、適宜な真空度が維持される第１チャンバー内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
そして、第１チャンバー（図示せず）内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【００９３】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー９００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進行することを一特徴とする。さらに詳細には、薄膜蒸着アセンブリー９００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板５００が図１５の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には、基板５００が第１チャンバー（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板５００は固定されており、薄膜蒸着アセンブリー９００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うこともできる。
【００９４】
したがって、本発明の薄膜蒸着アセンブリー９００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を作ることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリー９００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート９５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されうる。このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート９５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート９５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート９５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化する程度さらに有利になる。
【００９５】
このように、薄膜蒸着アセンブリー９００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着アセンブリー９００と基板５００とが一定程度離隔することが望ましい。これについては、後述する。
一方、チャンバー内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質９１５が収納及び加熱される蒸着源９１０が配される。前記蒸着源９１０内に収納されている蒸着物質９１５が気化することによって基板５００に蒸着が行われる。
【００９６】
さらに詳細に、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を坩堝９１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒーター９１２とを備える。
【００９７】
蒸着源９１０の一側、詳細には、蒸着源９１０から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部９２０が配される。そして、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル９２１は等間隔で形成されうる。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、このような蒸着源ノズル部９２０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。このように、蒸着源ノズル部９２０上にＹ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成する場合、パターニングスリットシート９５０のそれぞれのパターニングスリット９５１を通過する蒸着物質により形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル９２１の一つのサイズのみにより影響されるので（すなわち、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル９２１が一つのみ存在することになるので）、陰影が発生しなくなる。また、複数の蒸着源ノズル９２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス（ｆｌｕｘ）差が発生するとしてもその差が相殺されて、蒸着均一度が一定に維持される効果が得られる。
【００９８】
一方、蒸着源９１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられる。フレーム９５５は窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート９５０が結合される。そして、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かうようになる。この時、前記パターニングスリットシート９５０は、従来のファインメタルマスク（以下、ＦＭＭ）、特にストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作されうる。この時、蒸着源ノズル９２１の総数よりパターニングスリット９５１の総数がさらに多く形成されうる。
【００９９】
一方、前述した蒸着源９１０及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、互いに一定程度離隔するように形成され、蒸着源９１０及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０が連結部材９３５により連結されて、互いに一体に形成されうる。ここで連結部材９３５は、蒸着源ノズル９２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材９３５が、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０の左右方向のみに形成されて、蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは図示の便宜のためのものであり、本発明の思想はこれに制限されず、連結部材９３５がボックス形態の密閉型に形成されて蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向移動を同時にガイドすることもできる。
【０１００】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー９００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着アセンブリー９００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート９５０は基板５００から一定程度離隔するように形成される。
【０１０１】
さらに詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化することによってマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成し難いという問題点が存在している。
【０１０２】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー９００では、パターニングスリットシート９５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔するように配させる。
【０１０３】
このような本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行えること、マスク製作が容易になる効果が得られる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果が得られる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果が得られる。
【０１０４】
ここで、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００（図１５）では、カメラ１７０、焦点制御部材１８０、レーザー照射部材１９０などを備える位置検出部材と、アクチュエータ（図１２及び図１３参照）などを含むアライン制御部材をより備えて、薄膜蒸着装置に対する基板のアラインＥＬ正確で容易に行うことを一特徴とする。これについては、第１実施形態で詳細に説明したので、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
【０１０５】
図１６は、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００を示す図面である。図面を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。ここで、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒーター９１２とを備える。一方、蒸着源９１０の一側には蒸着源ノズル部９２０が配され、蒸着源ノズル部９２０にはＹ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。一方、蒸着源９１０と基板５００との間にはパターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられ、パターニングスリットシート９５０にはＸ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。そして、蒸着源９１０及び蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって結合される。
【０１０６】
本実施形態では、蒸着源ノズル部９２０に形成された複数の蒸着源ノズル９２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述した実施形態と区別される。さらに詳細には、蒸着源ノズル９２１は、２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂで形成され、前記２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは、交互に配される。この時、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは、ＸＺ平面上で所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【０１０７】
すなわち、本実施形態では、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂが所定角度チルトされて配されるようにする。ここで、第１列の蒸着源ノズル９２１ａは、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂに向かうようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル９２１ａに向かうようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル９２１ａは、パターニングスリットシート９５０の右側端部に向かうように配され、右側列に配された蒸着源ノズル９２１ｂは、パターニングスリットシート９５０の左側端部に向かうように配されることができる。
【０１０８】
図１７は、本発明による薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面であり、図１８は、本発明による薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。図１７と図１８とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせた時に基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚さが相対的に増大して蒸着膜の均一度が上昇するということが分かる。
【０１０９】
このような構成によって、基板の中央と終端部分での成膜厚さ差が低減して、全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が高くなる効果が得られる。
【０１１０】
ここで、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着装置では、カメラ１７０、焦点制御部材１８０、レーザー照射部材１９０などを備える位置検出部材と、アクチュエータ（図１２及び図１３参照）などを備えるアライン制御部材とをさらに備えて、薄膜蒸着装置に対する基板のアラインを正確かつ容易に行うことを一特徴とする。これについては、第１実施形態で詳細に説明したので、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
【０１１１】
図１９は、本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を図示する。
図１９を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光表示装置は基板３０上に形成される。前記基板３０は透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材で形成できる。前記基板３０上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。
【０１１２】
前記絶縁膜３１上には、図１９に示したようなＴＦＴ ４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。
前記絶縁膜３１の上面には所定パターンに配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め立てられている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体で形成されうる。
【０１１３】
前記ゲート絶縁膜３２の上面には、前記活性層４１と対応する所にＴＦＴ ４０のゲート電極４２が形成される。そして、前記ゲート電極４２を覆うように層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングのエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングしてコンタクトホールを形成させて、前記活性層４１の一部を露出させる。
次いで、前記層間絶縁膜３３上にソース／ドレイン電極４３が形成されるが、コンタクトホールを通じて露出された活性層４１に接触するように形成される。前記ソース／ドレイン電極４３を覆うように保護膜３４が形成され、エッチング工程を通じて前記ドレイン電極４３の一部を露出させる。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために別途の絶縁膜をさらに形成してもよい。
【０１１４】
一方、前記有機発光素子６０は、電流のフローによって赤、緑、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するためのものであって、前記保護膜３４上に第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
【０１１５】
そして、前記第１電極６１を覆うように画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に所定の開口６４を形成した後、この開口６４に限定された領域内に有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には第２電極６２を形成する。
【０１１６】
前記画素定義膜３５は各画素を区切るものであって、有機物で形成されて、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。
前記第１電極６１と第２電極６２とは互いに絶縁されており、有機発光膜６３に相異なる極性の電圧を加えて発光がなされるようにする。
【０１１７】
前記有機発光膜６３は、低分子または高分子有機物が使われうるが、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機物は、図１ないし図３に示した蒸着装置及び蒸着ソースユニット１０を用いて真空蒸着の方法で形成されうる。
【０１１８】
先ず、画素定義膜３５に開口６４を形成した後、この基板３０を図１のようにチャンバー２０内へ移送する。そして、第１蒸着ソース１１と第２蒸着ソース１２とに目標有機物を収納した後、蒸着する。この時、ホストとドーパントとを同時に蒸着させる場合には、第１蒸着ソース１１と第２蒸着ソース１２とにそれぞれホスト物質とドーパント物質とを収納して蒸着させる。
【０１１９】
このような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２もやはり同じ蒸着工程で形成できる。
一方、前記第１電極６１はアノード電極の機能を行え、前記第２電極６２はカソード電極の機能を行えるが、もちろん、これら第１電極６１と第２電極６２との極性は逆になってもよい。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２は、あらゆる画素を覆うように形成されうる。
【０１２０】
前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で備えられ、反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物で反射層を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で透明電極層を形成できる。これらの第１電極６１は、スパー跡地リング方法などにより成膜された後、フォトリソグラフィ法などによりパターニングされる。
【０１２１】
一方、前記第２電極６２も透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物が有機発光膜６３の方向に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。この時、蒸着は前述した有機発光膜６３の場合と同じ方法で行える。
【０１２２】
本発明はその他にも、有機ＴＦＴの有機膜または無期膜などの蒸着にも使用でき、その他に多様な素材の成膜工程に適用できる。
本発明は図面に図示された実施形態を参考として説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本発明は、薄膜蒸着装置関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１２４】
１００  薄膜蒸着アセンブリー
１１０  蒸着源
１２０  蒸着源ノズル部
１３０  遮断板アセンブリー
１３１  遮断板
１３２  遮断板フレーム
１５０  パターニングスリットシート
１５５  フレーム
５００  基板
６００  静電チャック
【図１】
2011190536.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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