(57)【要約】【課題】透明性が高く、低弾性率のプロピレン−エチレンブロック共重合体を提供する。【解決手段】（１）特定の単架橋メタロセン触媒、（２）特定の二架橋メタロセン触媒、（３）多孔質担体、（４）アルミノキサン又は前記メタロセン触媒と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び必要に応じて（５）有機アルミニウム化合物よりなる触媒系を用いて、第一工程としてプロピレンを重合し、第二工程としてプロピレンとエチレンとのランダム共重合を行うことにより得られる、プロピレン−エチレンブロック共重合体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）下記一般式（Ｉ）で表される単架橋メタロセン触媒、（２）下記一般式（III）で表される二架橋メタロセン触媒、（３）多孔質担体、（４）アルミノキサン又は前記メタロセン触媒と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び必要に応じて（５）有機アルミニウム化合物よりなる触媒系を用いて、第一工程としてプロピレンを重合し、第二工程としてプロピレンとエチレンとのランダム共重合を行うことにより得られる、プロピレン−エチレンブロック共重合体。
【化１】
2011038117.tif 000010
（式中、Ｅ1は二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を示す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ水素、炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示す。Ｍ1は、チタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。また、Ｘ1，Ｙ1はそれぞれ共有結合性の配位子を示す。尚、Ｘ1及びＹ1は、それぞれ互いに結合して環構造を形成してもよい。）
【化２】
2011038117.tif 000011
（式中、Ｅ2及びＥ3は二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を示す。Ｒ11〜Ｒ18は、それぞれ水素、炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、Ｒ19及びＲ20は、それぞれｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基、トリメチルシリル基又はトリメチルシリルメチル基を示す。Ｍ2は、チタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。また、Ｘ2，Ｙ2はそれぞれ共有結合性の配位子を示す。尚、Ｘ2及びＹ2は、それぞれ互いに結合して環構造を形成してもよい。）
【請求項２】
前記第一工程の前に、前記触媒系にオレフィンを接触させて予備重合を行う、請求項１に記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体。
【請求項３】
前記予備重合による生成物の量が、前記触媒系中の遷移金属成分１ミリモル当たり１〜１００００ｇである、請求項２に記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体。
【請求項４】
弾性率Ｅが７１ＭＰａ以上３３０ＭＰａ未満、且つ内部ヘイズＨが２５％以上５５％未満である、請求項１〜３のいずれかに記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体。
【請求項５】
エチレン含量が１．０モル％以上６．０モル％以下、極限粘度〔η〕が１．０ｄｌ／ｇ以上４．１ｄｌ／ｇ以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体。
【請求項６】
エチレン含量が１．０モル％以上６．０モル％以下、極限粘度〔η〕が１．０ｄｌ／ｇ以上４．１ｄｌ／ｇ以下、弾性率Ｅが７１ＭＰａ以上３３０ＭＰａ未満、且つ内部ヘイズＨが２５％以上５５％未満である、プロピレン−エチレンブロック共重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性が高く、低弾性率のプロピレン−エチレンブロック共重合体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、エンドクリン問題や焼却時のダイオキシン発生等の問題により、軟質ポリ塩化ビニル樹脂の軟質ポリオレフィン樹脂への代替が検討されている。
透明性が高い軟質ポリオレフィン材料をモルホロジーよく生産できる方法が公開されている（例えば、特許文献１）が、フィルムやラップに使用すると、軟質ポリ塩化ビニル並の透明性は得られていない。
また、メタロセン触媒を用いる透明性の高い軟質材料の製造方法が公開されている（例えば、特許文献２）が、製造時に用いる溶媒中に生成する重合体が完全に溶解するため、溶液粘度が上昇し、溶液中の重合体濃度を高くすることができず、生産性は低い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３２４０５８９号公報
【特許文献２】特開２０００−９５８２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、透明性が高く、低弾性率のプロピレン−エチレンブロック共重合体に関するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、従来、低結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒のみでは担体に担持してもパウダー粒子を維持したまま製造することは不可能であったが、低結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒と高結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒を組み合せて担体に担持することにより、パウダー粒子が固着せずに透明性が高いプロピレン−エチレンブロック共重合体が製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、
１．（１）下記一般式（Ｉ）で表される単架橋メタロセン触媒、（２）下記一般式（III）で表される二架橋メタロセン触媒、（３）多孔質担体、（４）アルミノキサン又は前記メタロセン触媒と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び必要に応じて（５）有機アルミニウム化合物よりなる触媒系を用いて、第一工程としてプロピレンを重合し、第二工程としてプロピレンとエチレンとのランダム共重合を行うことにより得られる、プロピレン−エチレンブロック共重合体、
【化１】
2011038117.tif 000002
（式中、Ｅ1は二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を示す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ水素、炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示す。Ｍ1は、チタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。また、Ｘ1，Ｙ1はそれぞれ共有結合性の配位子を示す。尚、Ｘ1及びＹ1は、それぞれ互いに結合して環構造を形成してもよい。）
【化２】
2011038117.tif 000003
（式中、Ｅ2及びＥ3は二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を示す。Ｒ11〜Ｒ18は、それぞれ水素、炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、Ｒ19及びＲ20は、それぞれｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基、トリメチルシリル基又はトリメチルシリルメチル基を示す。Ｍ2は、チタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。また、Ｘ2，Ｙ2はそれぞれ共有結合性の配位子を示す。尚、Ｘ2及びＹ2は、それぞれ互いに結合して環構造を形成してもよい。）
２．前記第一工程の前に、前記触媒系にオレフィンを接触させて予備重合を行う、上記１に記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体、
３．前記予備重合による生成物の量が、前記触媒系中の遷移金属成分１ミリモル当たり１〜１００００ｇである、上記２に記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体、
４．弾性率Ｅが７１ＭＰａ以上３３０ＭＰａ未満、且つ内部ヘイズＨが２５％以上５５％未満である、上記１〜３のいずれかに記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体、
５．エチレン含量が１．０モル％以上６．０モル％以下、極限粘度〔η〕が１．０ｄｌ／ｇ以上４．１ｄｌ／ｇ以下である、上記１〜４のいずれかに記載のプロピレン−エチレンブロック共重合体、
６．エチレン含量が１．０モル％以上６．０モル％以下、極限粘度〔η〕が１．０ｄｌ／ｇ以上４．１ｄｌ／ｇ以下、弾性率Ｅが７１ＭＰａ以上３３０ＭＰａ未満、且つ内部ヘイズＨが２５％以上５５％未満である、プロピレン−エチレンブロック共重合体
に関するものである。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に、本発明について、詳細に説明する。
本発明のプロピレン−エチレンブロック共重合体の製造方法に用いられる（１）下記一般式（Ｉ）で表される単架橋メタロセン触媒は、高結晶性ポリプロピレンを与える（以下、一般式（Ｉ）で表される単架橋メタロセン触媒を、「高結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒」ともいう）。
【化３】
2011038117.tif 000004
（式中、Ｅ1は二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を示す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ水素、炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示す。Ｍ1は、チタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。また、Ｘ1，Ｙ1はそれぞれ共有結合性の配位子を示す。尚、Ｘ1及びＹ1は、それぞれ互いに結合して環構造を形成してもよい。）
【０００８】
Ｒ1〜Ｒ6の炭化水素基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、特に炭素数１〜１２のものが好ましい。
この炭化水素基は一価の基として、共役五員環基であるシクロペンタジエニル基と結合していてもよく、又、これが複数個存在する場合には、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4のうちの２個又はＲ2、Ｒ5、Ｒ6のうちの２個が結合していてもよい。
該共役五員環としては、置換又は非置換のシクロペンタジエニル基、インデニル基及びフルオレニル基である。
【０００９】
ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素原子が挙げられ、アルコキシ基としては、炭素数１〜１２のものが好ましく挙げられる。
【００１０】
Ｅ1としては、（１）メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基、メチルフェニルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シクロヘキシレン基等の炭素数１〜４のアルキレン基、シクロアルキレン基又はその側鎖低級アルキル若しくはフェニル置換体、（２）シリレン基、ジメチルシリレン基、メチルフェニレン基、ジフェニルシリレン基、ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基等のシリレン基、オリゴシリレン基又はその側鎖低級アルキル若しくはフェニル置換体、（３）ゲルマニウム、リン、窒素、硼素又はアルミニウムを含む炭化水素基［低級アルキル基、フェニル基、ヒドロカルビルオキシ基（好ましくは低級アルコキシ基）等］、具体的には（ＣＨ3）2Ｇｅ基、（Ｃ6Ｈ5）2Ｇｅ基、（ＣＨ3）Ｐ基、（Ｃ6Ｈ5）Ｐ基、（Ｃ4Ｈ9）Ｎ基、（Ｃ6Ｈ5）Ｎ基、（ＣＨ3）Ｂ基、（Ｃ4Ｈ9）Ｂ基、（Ｃ6Ｈ5）Ｂ基、（Ｃ6Ｈ5）Ａｌ基、（ＣＨ3Ｏ）Ａｌ基等が挙げられる。
これらの中で、アルキレン基、シリレン基が好ましい。
【００１１】
Ｍ1は、周期律表ＩＶ族の遷移金属を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウム、又はハフニウムであり、特にジルコニウムが好適である。
【００１２】
Ｘ1及びＹ1は、それぞれ共有結合性の配位子であり、具体的には、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のリン含有炭化水素基（例えば、ジフェニルホスフィン基等）又は炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２の珪素含有炭化水素基（例えば、トリメチルシリル基等）、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２の炭化水素基又はハロゲン含有硼素化合物（例えば、ＢＦ4，Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4）を示す。
これらの中で、ハロゲン原子及び炭化水素基が好ましい。
このＸ1及びＹ1は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００１３】
一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属化合物の具体例として、以下の化合物を挙げることができる。
＜１＞メチレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド，エチレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド，メチレンビス（インデニル）チタニウムクロロヒドリド，エチレンビス（インデニル）メチルチタニウムクロリド，エチレンビス（インデニル）メトキシクロロチタニウム，エチレンビス（インデニル）チタニウムジエトキシド，エチレンビス（インデニル）ジメチルチタニウム，エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）チタニウムジクロリド，エチレンビス（２−メチルインデニル）チタニウムジクロリド，エチレンビス（２，４，７−トリメチルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４，５，６，７−テトラメチルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−５、６−ジメチルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４−（１−ナフチル）インデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４−（２−ナフチル）インデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４−ｉ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−エチル−４−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２−メチル−４−トルイルインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（２，４−ジメチルインデニル）チタニウムジクロリド，エチレンビス（２−メチル−４−トリメチルシリルインデニル）チタニウムジクロリド，エチレンビス（２，４−ジメチル−５，６，７−トリヒドロインデニル）チタニウムジクロリド，エチレン（２，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，５’−ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，エチレン（２−メチル−４−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−ｔ−ブチル−５’−メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，エチレン（２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）（２’，４’，５’−トリメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデンビス（２−メチルインデニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデンビス（インデニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデンビス（２，４−ジメチルインデニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデン（２，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，５’−ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデン（２−メチル−４−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−ｔ−ブチル−５’−メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，エチレンビス（２−メチルベンゾインデニル）チタニウムジクロリド、エチレンビス（ベンゾインデニル）チタニウムジクロリド等のアルキレン基で架橋した共役五員環配位子を２個有する遷移金属化合物，
【００１４】
＜２＞ジメチルシリレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレンビス（インデニル）メチルチタニウムクロリド，ジメチルシリレンビス（インデニル）メトキシクロロチタニウム，ジメチルシリレンビス（インデニル）チタニウムジエトキシド，ジメチルシリレンビス（インデニル）ジメチルチタニウム，ジメチルシリレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレンビス（２−メチルインデニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレンビス（２，４，７−トリメチルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４、５−ベンゾインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４，５，６，７−テトラメチルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−５，６−ジメチルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−（１−ナフチル）インデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−（２−ナフチル）インデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−ｉ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−エチル−４−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−トルイルインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（２，４−ジメチルインデニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−トリメチルシリルインデニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレンビス（２，４−ジメチル−５，６，７−トリヒドロインデニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレン（２，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，５’−ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレン（２−メチル−４−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−ｔ−ブチル−５’−メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレン（２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）（２’，４’，５’−トリメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデンビス（２−メチルインデニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデンビス（インデニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデンビス（２，４−ジメチルインデニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデン（２，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，５’−ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，イソプロピリデン（２−メチル−４−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−ｔ−ブチル−５’−メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，ジメチルシリレンビス（２−メチルベンゾインデニル）チタニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス（ベンゾインデニル）チタニウムジクロリド等のシリレン基架橋共役五員環配位子を２個有する遷移金属化合物、
【００１５】
更には、上記＜１＞〜＜２＞の記載の化合物において、これらの化合物の塩素原子を臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、フェニル基等に置き換えたもの、又、上記遷移金属化合物の中心金属のチタニウムをジルコニウム又はハフニウムに置き換えたものを挙げることができる。
【００１６】
本発明のプロピレン−エチレンブロック共重合体の製造方法に用いられる（２）下記一般式（II）又は（III）で表される二架橋メタロセン触媒は、低結晶性ポリプロピレンを与える（以下、一般式（II）又は（III）で表される二架橋メタロセン触媒を、「低結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒」ともいう）。
【化４】
2011038117.tif 000005
【化５】
2011038117.tif 000006
（式中、Ｅ2及びＥ3は二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を示す。Ｒ9〜Ｒ18は、それぞれ水素、炭化水素基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19及びＲ20は、それぞれｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基、トリメチルシリル基又はトリメチルシリルメチル基を示す。Ｍ2は、チタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。また、Ｘ2，Ｙ2はそれぞれ共有結合性の配位子を示す。尚、Ｘ2及びＹ2は、それぞれ互いに結合して環構造を形成してもよい。）
【００１７】
Ｒ9〜Ｒ18の炭化水素基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、特に炭素数１〜１２のものが好ましい。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19及びＲ20は、それぞれｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基、トリメチルシリル基又はトリメチルシリルメチル基を示す。
この炭化水素基は一価の基として、共役五員環基であるシクロペンタジエニル基と結合していてもよく、又、これが複数個存在する場合には、一般式（II）式においては、Ｒ7とＲ9が、又はＲ8とＲ10が結合していてもよく、一般式（III）においては、Ｒ11〜Ｒ14、Ｒ20が、又はＲ15〜Ｒ19のうちの２個が結合していてもよい。
該共役五員環としては、置換又は非置換のシクロペンタジエニル基、インデニル基及びフルオレニル基である。
【００１８】
ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素原子が挙げられ、アルコキシ基としては、炭素数１〜１２のものが好ましく挙げられる。
【００１９】
このＥ2及びＥ3としては、（１）メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基、メチルフェニルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シクロヘキシレン基等の炭素数１〜４のアルキレン基、シクロアルキレン基又はその側鎖低級アルキル若しくはフェニル置換体、（２）シリレン基、ジメチルシリレン基、メチルフェニレン基、ジフェニルシリレン基、ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基等のシリレン基、オリゴシリレン基又はその側鎖低級アルキル若しくはフェニル置換体、（３）ゲルマニウム、リン、窒素、硼素又はアルミニウムを含む炭化水素基［低級アルキル基、フェニル基、ヒドロカルビルオキシ基（好ましくは低級アルコキシ基）等］、具体的には、（ＣＨ3）2Ｇｅ基、（Ｃ6Ｈ5）2Ｇｅ基、（ＣＨ3）Ｐ基、（Ｃ6Ｈ5）Ｐ基、（Ｃ4Ｈ9）Ｎ基、（Ｃ6Ｈ5）Ｎ基、（ＣＨ3）Ｂ基、（Ｃ4Ｈ9）Ｂ基、（Ｃ6Ｈ5）Ｂ基、（Ｃ6Ｈ5）Ａｌ基、（ＣＨ3Ｏ）Ａｌ基等が挙げられる。
これらの中で、アルキレン基、シリレン基が好ましい。
Ｅ2及びＥ3は互いに同じでも異なっていてもよい。
【００２０】
Ｍ2は、周期律表ＩＶ族の遷移金属を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウム、又はハフニウムであり、特にジルコニウムが好適である。
【００２１】
Ｘ2及びＹ2は、それぞれ共有結合性の配位子であり、具体的には、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のリン含有炭化水素基（例えば、ジフェニルホスフィン基等）又は炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２の珪素含有炭化水素基（例えば、トリメチルシリル基等）、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２の炭化水素基又はハロゲン含有硼素化合物（例えば、ＢＦ4，Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4）を示す。
これらの中で、ハロゲン原子及び炭化水素基が好ましい。
このＸ2及びＹ2は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００２２】
一般式（II）で表される遷移金属化合物の具体例としては、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−トリメチルシリル−４−メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリル−４−メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド等が挙げられる。
上記の記載の化合物において、これらの化合物の塩素原子を臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、フェニル基等に置き換えたもの、又、上記遷移金属化合物の中心金属のチタニウムをジルコニウム又はハフニウムに置き換えたものを挙げることができる。
【００２３】
一般式（III）で表される遷移金属化合物の具体例としては、
（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−トリメチルシリルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−フェニルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）チタニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルインデニル）チタニウムジクロリド等が挙げられる。
上記の記載の化合物において、これらの化合物の塩素原子を臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、フェニル基等に置き換えたもの、又、上記遷移金属化合物の中心金属のチタニウムをジルコニウム又はハフニウムに置き換えたものを挙げることができる。
【００２４】
高結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒と低結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒との混合比率（モル比）は、１/１０００〜１０００/１、好ましくは１/１０００〜１００/１、更に好ましくは、１/１０００〜１０/１である。
この範囲であると、十分な軟質性を有するプロピレン−エチレンブロック共重合体を得ることができる。
【００２５】
次に、（４）触媒成分のうちの（４−１）触媒成分としては、上記（１）触媒成分及び（２）触媒成分の遷移金属化合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうる化合物であれば、いずれのものでも使用できるが、次の一般式（IV）又は（Ｖ）
（〔Ｌ1−Ｒ21〕k+）a（〔Ｚ〕-）b            ・・・（IV）
（〔Ｌ2〕k+）a（〔Ｚ〕-）b                  ・・・（Ｖ）
（但し、Ｌ2は、Ｍ3、Ｒ22Ｒ23Ｍ4、Ｒ243Ｃ又はＲ25Ｍ5である。）
〔（IV），(Ｖ）式中、Ｌ1はルイス塩基、〔Ｚ〕-は、非配位性アニオン〔Ｚ1〕-及び〔Ｚ2〕-、ここで〔Ｚ1〕-は複数の基が元素に結合したアニオン、即ち〔Ｍ3Ｇ1Ｇ2・・・Ｇf〕-（ここで、Ｍ3は周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期律表第１３〜１５族元素を示す。Ｇ1〜Ｇfはそれぞれ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数２〜４０のジアルキルアミノ基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，炭素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数７〜４０のアルキルアリール基，炭素数７〜４０のアリールアルキル基，炭素数１〜２０のハロゲン置換炭化水素基，炭素数１〜２０のアシルオキシ基，有機メタロイド基、又は炭素数２〜２０のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｇ1〜Ｇfのうち２つ以上が環を形成していてもよい。ｆは〔（中心金属Ｍ3の原子価）＋１〕の整数を示す。）、
〔Ｚ2〕-は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基、又は一般的に超強酸と定義される酸の共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位していてもよい。
また、Ｒ21は、水素原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ22及びＲ23はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ24は炭素数１〜２０のアルキル基，アリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示す。
Ｒ25は、テトラフェニルポルフィリン，フタロシアニン等の大環状配位子を示す。
ｋは、〔Ｌ1−Ｒ21〕，〔Ｌ2〕のイオン価数で１〜３の整数、ａは１以上の整数、ｂ＝（ｋ×ａ）である。
Ｍ4は、周期律表第１〜３、１１〜１３、１７族元素を含むものであり、Ｍ5は、周期律表第７〜１２族元素を示す。〕
で表されるものを好適に使用することができる。
【００２６】
ここで、Ｌ1の具体例としては、アンモニア，メチルアミン，アニリン，ジメチルアミン，ジエチルアミン，Ｎ−メチルアニリン，ジフェニルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，トリ−ｎ−ブチルアミン，メチルジフェニルアミン，ピリジン，ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類、トリエチルホスフィン，トリフェニルホスフィン，ジフェニルホスフィン等のホスフィン類、テトラヒドロチオフェン等のチオエーテル類、安息香酸エチル等のエステル類、アセトニトリル，ベンゾニトリル等のニトリル類等を挙げることができる。
【００２７】
Ｒ21の具体例としては水素，メチル基，エチル基，ベンジル基，トリチル基等を挙げることができ、Ｒ22，Ｒ23の具体例としては、シクロペンタジエニル基，メチルシクロペンタジエニル基，エチルシクロペンタジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基等を挙げることができる。
【００２８】
Ｒ24の具体例としては、フェニル基，ｐ−トリル基，ｐ−メトキシフェニル基等を挙げることができ、Ｒ25の具体例としてはテトラフェニルポルフィン，フタロシアニン，アリル，メタリル等を挙げることができる。
【００２９】
また、Ｍ4の具体例としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｂｒ，Ｉ，Ｉ3等を挙げることができ、Ｍ5の具体例としては、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ等を挙げることができる。
【００３０】
また、〔Ｚ1〕-、即ち〔Ｍ3Ｇ1Ｇ2・・・Ｇf〕において、Ｍ3の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓi，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ等、好ましくはＢ及びＡｌが挙げられる。
【００３１】
また、Ｇ1，Ｇ2〜Ｇfの具体例としては、ジアルキルアミノ基として、ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基等、アルコキシ基又はアリールオキシ基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基，フェノキシ基等、炭化水素基としてメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−エイコシル基，フェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，４−ｔ−ブチルフェニル基，３，５−ジメチルフェニル基等、ハロゲン原子としてフッ素，塩素，臭素，ヨウ素，ヘテロ原子含有炭化水素基としてｐ−フルオロフェニル基，３，５−ジフルオロフェニル基，ペンタクロロフェニル基，３，４，５−トリフルオロフェニル基，ペンタフルオロフェニル基，３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基，ビス（トリメチルシリル）メチル基等、有機メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基、トリメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニルアルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニル硼素等が挙げられる。
【００３２】
また、非配位性のアニオン、即ちｐＫａが−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Ｚ2〕-の具体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン（ＣＦ3ＳＯ3）-，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）メチルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）ベンジルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド，過塩素酸アニオン（ＣｌＯ4）-，トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ3ＣＯ2）-，ヘキサフルオロアンチモンアニオン（ＳｂＦ6）-，フルオロスルホン酸アニオン（ＦＳＯ3）-，クロロスルホン酸アニオン（ＣｌＳＯ3）-，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化アンチモン（ＦＳＯ3／ＳｂＦ5）-，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化砒素（ＦＳＯ3／ＡｓＦ5）-，トリフルオロメタンスルホン酸／５−フッ化アンチモン（ＣＦ3ＳＯ3／ＳｂＦ5）-等を挙げることができる。
【００３３】
このような前記（１）触媒成分及び（２）触媒成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、即ち（４−１）触媒成分化合物の具体例としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸メチル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム，テトラフェニル硼酸ベンジルピリジニウム，テトラフェニル硼酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニルホスホニウム，テトラキス〔ビス（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル〕硼酸ジメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリチル，テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラフルオロ硼酸銀，ヘキサフルオロ燐酸銀，ヘキサフルオロ砒素酸銀，過塩素酸銀，トリフルオロ酢酸銀，トリフルオロメタンスルホン酸銀等を挙げることができる。
（４−１）触媒成分は一種用いてもよく、又二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
一方、（４−２）触媒成分のアルミノキサンとしては、一般式（VI）
【化６】
2011038117.tif 000007
（式中、Ｒ26は、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のアルキル基，アルケニル基，アリール基，アリールアルキル基等の炭化水素基又はハロゲン原子を示し、ｗは平均重合度を示し、通常２〜５０、好ましくは２〜４０の整数である。
尚、各Ｒ26は同じでも異なっていてもよい。）
で示される鎖状アルミノキサン、及び一般式（VII）
【化７】
2011038117.tif 000008
（式中、Ｒ26及びｗは前記一般式（VI）におけるものと同じである。）
で示される環状アルミノキサンを挙げることができる。
【００３５】
前記アルミノキサンの製造法としては、アルキルアルミニウムと水等の縮合剤とを接触させる方法が挙げられるが、その手段については特に限定はなく、公知の方法に準じて反応させればよい。
例えば、＜１＞有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、＜２＞重合時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方法、＜３＞金属塩等に含有されている結晶水、無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる方法、＜４＞テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、更に水を反応させる方法等がある。
尚、アルミノキサンとしては、トルエン不溶性のものであってもよい。
これらのアルミノキサンは一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３６】
（１）触媒成分と（２）触媒成分の合計量と（４）触媒成分との使用割合は、（４）触媒成分として（４−１）触媒成分化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは１０：１〜１：１００、より好ましくは２：１〜１：１０の範囲が望ましく、上記範囲内であると、単位質量ポリマー当りの触媒コストが安価で、実用的である。
また、（４−２）触媒成分化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは１：１〜１：１００００００、より好ましくは１：１０〜１：１００００の範囲が望ましい。
この範囲内であると、単位質量ポリマーあたりの触媒コストが安価で、実用的である。
また、（４）触媒成分としては（４−１）触媒成分，（４−２）触媒成分を単独又は二種以上組み合わせて用いることもできる。
【００３７】
また、プロピレン−エチレンブロック共重合体を製造する際の重合用触媒は、上記（１）触媒成分及び（２）触媒成分並びに（４）触媒成分に加えて（５）触媒成分として有機アルミニウム化合物を用いることができる。
ここで、（５）触媒成分の有機アルミニウム化合物としては、一般式（VIII）
Ｒ27vＡｌＪ3-v      ・・・（VIII）
〔式中、Ｒ27は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｊは水素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｖは１〜３の整数である〕
で示される化合物が用いられる。
【００３８】
前記一般式（VIII）で示される化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，ジメチルアルミニウムクロリド，ジエチルアルミニウムクロリド，メチルアルミニウムジクロリド，エチルアルミニウムジクロリド，ジメチルアルミニウムフルオリド，ジイソブチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムヒドリド，エチルアルミニウムセスキクロリド等が挙げられる。
これらの有機アルミニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
【００３９】
プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造方法においては、上述した（１）触媒成分＋（２）触媒成分、（４）触媒成分及び（５）触媒成分を用いて予備接触を行なうこともできる。
予備接触は、（１）触媒成分＋（２）触媒成分に、例えば、（４）触媒成分を接触させることにより行なうことができるが、その方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
これら予備接触により触媒活性の向上や、助触媒である（４）触媒成分の使用割合の低減等、触媒コストの低減に効果的である。
また、予備接触温度は、通常−２０℃〜２００℃、好ましくは−１０℃〜１５０℃、より好ましくは、０℃〜８０℃である。
予備接触においては、溶媒の不活性炭化水素として、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素等を用いることができる。
これらの中で特に好ましいものは、脂肪族炭化水素である。
【００４０】
前記（１）触媒成分と（２）触媒成分の合計量と（５）触媒成分との使用割合は、モル比で好ましくは１：１〜１：１００００、より好ましくは１：５〜１：２０００、更に好ましくは１：１０〜１：１０００の範囲が望ましい。
該（５）触媒成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上させることができるが、あまり多いと有機アルミニウム化合物が無駄になると共に、重合体中に多量に残存し、好ましくない。
【００４１】
多孔質担体としては、具体的には、ＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3，ＭｇＯ，ＺｒＯ2，ＴｉＯ2，Ｆｅ2Ｏ3，Ｂ2Ｏ3，ＣａＯ，ＺｎＯ，ＢａＯ，ＴｈＯ2やこれらの混合物、例えば、シリカアルミナ，ゼオライト，フェライト，グラスファイバー等が挙げられる。
これらの中では、特にＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3が好ましい。
尚、上記多孔質担体は、少量の炭酸塩，硝酸塩，硫酸塩等を含有してもよい。
【００４２】
一方、上記以外の担体として、ＭｇＣｌ2，Ｍｇ（ＯＣ2Ｈ5）2等で代表される一般式ＭｇＲ28xＸ1yで表されるマグネシウム化合物やその錯塩等を挙げることができる。
ここで、Ｒ28は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基、Ｘ1はハロゲン原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、ｘは０〜２、ｙは０〜２であり、かつｘ＋ｙ＝２である。
各Ｒ28及び各Ｘ1はそれぞれ同一でもよく、又、異なってもいてもよい。
【００４３】
また、有機担体としては、ポリスチレン，スチレン−ジビニルベンゼン共重合体，ポリエチレン，ポリ１−ブテン，置換ポリスチレン，ポリアリレート等の重合体やスターチ，カーボン等を挙げることができる。
【００４４】
プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造に用いられる触媒の担体としては、ＭｇＣｌ2，ＭｇＣｌ（ＯＣ2Ｈ5），Ｍｇ（ＯＣ2Ｈ5）2等も好ましい。
【００４５】
また、担体の性状は、その種類及び製法により異なるが、平均粒径は通常１〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍである。
粒径が小さいと重合体中の微粉が増大し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒子が増大し嵩密度の低下やホッパーの詰まりの原因になる。
【００４６】
また、担体の比表面積は、通常１〜１０００ｍ2／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ2／ｇ、細孔容積は通常０．１〜５ｃｍ3／ｇ、好ましくは０．３〜３ｃｍ3／ｇである。
比表面積又は細孔容積が上記範囲であると、触媒活性が上昇する。
尚、比表面積及び細孔容積は、例えば、ＢＥＴ法に従って吸着された窒素ガスの体積から求めることができる。
【００４７】
更に、上記担体が無機酸化物担体である場合には、通常１５０〜１０００℃、好ましくは２００〜８００℃で焼成して用いることが望ましい。
【００４８】
触媒成分の少なくとも一種を前記担体に担持させる場合、（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の少なくとも一方を、好ましくは（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の両方を担持させるのが望ましい。
該担体に、（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の少なくとも一方を担持させる方法については、特に制限されないが、例えば＜１＞（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の少なくとも一方と担体とを混合する方法、＜２＞担体を有機アルミニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物で処理した後、不活性溶媒中で（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の少なくとも一方と混合する方法、＜３＞担体と（１）触媒成分＋（２）触媒成分、及び／又は（４）触媒成分と有機アルミニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物とを反応させる方法、＜４＞（１）触媒成分＋（２）触媒成分又は（４）触媒成分を担体に担持させた後、（４）触媒成分又は（１）触媒成分＋（２）触媒成分と混合する方法、＜５＞（１）触媒成分＋（２）触媒成分と（４）触媒成分との接触反応物を担体と混合する方法、＜６＞（１）触媒成分＋（２）触媒成分と（４）触媒成分との接触反応に際して、担体を共存させる方法等を用いることができる。
尚、上記＜４＞、＜５＞及び＜６＞の方法において、（５）触媒成分の有機アルミニウム化合物を添加することもできる。
【００４９】
プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造に用いられる触媒の製造においては、前記（１）触媒成分＋（２）触媒成分，（４）触媒成分，（５）触媒成分を接触させる際に、弾性波を照射させて触媒を調製してもよい。
弾性波としては、通常音波、特に好ましくは超音波が挙げられる。
具体的には、周波数が１〜１０００ｋＨｚの超音波、好ましくは１０〜５００ｋＨｚの超音波が挙げられる。
このようにして得られた触媒は、一旦、溶媒留去を行って固体として取り出してから重合に用いてもよいし、そのまま重合に用いてもよい。
【００５０】
また、プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造においては、（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の少なくとも一方の担体への担持操作を重合系内で行うことにより触媒を生成させることができる。
例えば、（１）触媒成分＋（２）触媒成分及び（４）触媒成分の少なくとも一方と担体と更に必要により前記（５）触媒成分の有機アルミニウム化合物を加え、エチレン等のオレフィンを常圧〜２ＭＰａ加えて、−２０〜２００℃で１分〜２時間程度予備重合を行い触媒粒子を生成させる方法を用いることができる。
このプロピレン−エチレンブロック共重合体の製造に用いられる触媒における（４−１）触媒成分と担体との使用割合は、質量比で好ましくは１：５〜１：１００００、より好ましくは１：１０〜１：５００とするのが望ましく、（４−２）成分と担体との使用割合は、質量比で好ましくは１：０．５〜１：１０００、より好ましくは１：１〜１：５０とするのが望ましい。
【００５１】
（４）触媒成分として二種以上を混合して用いる場合は、各（４）触媒成分と担体との使用割合が質量比で上記範囲内にあることが望ましい。
また、（１）触媒成分＋（２）触媒成分と担体との使用割合は、質量比で、好ましくは１：５〜１：１００００、より好ましくは１：１０〜１：５００とするのが望ましい。
（４）触媒成分〔（４−１）触媒成分又は（４−２）触媒成分〕と担体との使用割合、又は（１）触媒成分＋（２）触媒成分と担体との使用割合が上記範囲内であると、活性が上昇したり、パウダーモルホロジーも向上する。
【００５２】
このようにして調製された重合用触媒の平均粒径は、通常２〜２００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１００μｍであり、比表面積は、通常２０〜１０００ｍ2／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ2／ｇである。
平均粒径が２μｍ以上であると重合体中の微粉が減少し、２００μｍ以下であると重合体中の粗大粒子が減少する。
比表面積が２０ｍ2／ｇ以上であると活性が上昇し、１０００ｍ2／ｇ以下であると重合体の嵩密度が上昇する。
【００５３】
また、プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造に用いられる触媒において、担体１００ｇ中の遷移金属量は、通常０．０５〜１０ｇ、特に０．１〜２ｇであることが好ましい。
遷移金属量が上記範囲内であると、活性が上昇する。
【００５４】
第一工程のプロピレンの重合は、スラリー重合又は塊状重合より選択することができる。
第二工程のプロピレンとエチレンの共重合は、スラリー、塊状、気相重合より選択することができる。
第一工程及び第二工程は、多段重合にすることもできる。
【００５５】
プロピレン単独重合における重合条件としては、その重合圧は、特に制限はなく、通常、大気圧〜８ＭＰａ、好ましくは０．２〜５ＭＰａ、重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは、３０〜１００℃の範囲で適宜選ばれる。
重合時間は、通常、５分〜２０時間、好ましくは、１０分〜１０時間程度である。
共重合部の重合条件としては、その重合圧は、特に制限はなく、通常、大気圧〜８ＭＰａ、好ましくは０．２〜５ＭＰａ、重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは、２０〜１００℃の範囲で適宜選ばれる。
重合時間は、通常、１分〜２０時間、好ましくは、１分〜１０時間程度である。
供給するプロピレンとエチレンの比率はモル比で、０．０１〜９、好ましくは０．０５〜２．３である。
プロピレン単独重合部及び共重合部における重合体の分子量は、連鎖移動剤の添加、好ましくは水素の添加を行うことで調節することができる。
また、窒素等の不活性ガスを存在させてもよい。
【００５６】
重合溶媒を用いる場合、例えば、ベンゼン，トルエン，キシレン，エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、シクロペンタン，シクロヘキサン，メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ペンタン，ヘキサン，ヘプタン，オクタン等の脂肪族炭化水素、クロロホルム，ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素等を用いることができる。
これらの溶媒は一種を単独で用いてもよく、二種以上のものを組み合わせてもよい。
尚、重合方法によっては無溶媒で行うことができる。
【００５７】
重合に際しては、前記重合用触媒を用いて予備重合を行うことができる。
予備重合は、固体触媒成分に、例えば、少量のオレフィンを接触させることにより行うことができるが、その方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
予備重合に用いるオレフィンについては特に制限はなく、前記に例示したものと同様のもの、例えば、エチレン、炭素数３〜２０のα−オレフィン、又はこれらの混合物等を挙げることができるが、該重合において用いるエチレン又はプロピレンを用いることが有利である。
また、予備重合温度は、通常−２０〜２００℃、好ましくは−１０〜１３０℃、より好ましくは０〜８０℃である。
予備重合においては、溶媒として、脂肪族炭化水素，芳香族炭化水素等を用いることができる。
これらの中で、特に好ましいのは脂肪族炭化水素である。
また、予備重合は無溶媒で行ってもよい。
予備重合においては、予備重合生成物の極限粘度〔η〕（１３５℃デカリン中で測定）が０．２ｄｌ／ｇ以上、特に０．５ｄｌ／ｇ以上、触媒中の遷移金属成分１ミリモル当たりに対する予備重合生成物の量が１〜１００００ｇ、特に１０〜１０００ｇとなるように条件を調整することが望ましい。
【００５８】
本発明の触媒系を用いて得られるプロピレン（Ｐ）−エチレン（Ｅ）ブロック共重合体の〔ＥＥＥ〕のトリアド（ｔｒｉａｄ）連鎖分率ｆEEE≦０．１（モル％）であり、好ましくは０．０８モル％以下であり、更に好ましくは０．０５モル％以下である。
０．１モル％以下であると、透明性が向上する。
【００５９】
トリアド（ｔｒｉａｄ）連鎖分率ｆEEEは、Ｍｇ／Ｔｉ系触媒を用いると大きくなるから、０．１以下にするには、本願発明の触媒系を用いる必要がある。
また、本発明の触媒系を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体は、プロピレンの反応性比をｒ１、エチレンの反応性比をｒ２とした場合、ｒ１・ｒ２≧０．５、好ましくは１．０以上であり、更に好ましくは１．１以上である。
０．５以上を満たさないと、耐熱性が不十分となることがある。
尚、ｒ１・ｒ２は、ホモ重合量とランダム共重合量との割合により制御することができる。
エチレン含量は、１．０モル％以上、好ましくは２．０モル％以上であり、これを満たさないと軟質性が十分でないことがある。
従って、ｒ１・ｒ２を０．５以上にするには、例えば、ホモ重合量を５質量％以上とすればよい。
【００６０】
ｆEEE、ｒ１・ｒ２及び共重合体中のエチレン含量は、下記のようにして求めることができる。
本発明のプロピレン（Ｐ）−エチレン（Ｅ）ブロック共重合体において、以下の三連鎖は、Ａ．Ｚａｍｂｅｌｌｉらにより「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，８，６８７（１９７５）」で提案された13Ｃ−ＮＭＲのピークの帰属に従い、次式で計算することができる。
ＥＰＥ＝Ｉ8
ＰＰＥ＝Ｉ9＋（Ｉ10／２）＋Ｉ11
ＥＥＥ＝（ＥＥＥ／２）＋（ＰＥＥ／４）＝（Ｉ12／２）＋（Ｉ13／４）
ＰＰＰ＝Ｉ14＋（Ｉ10／２）
ＰＥＥ＝Ｉ15
ＰＥＰ＝Ｉ16＋（Ｉ17＋Ｉ18）／４
ここで、Ｉ8＝３３．３ｐｐｍの強度、Ｉ9＝３１．１ｐｐｍの強度、Ｉ10＝３１．２ｐｐｍの強度、Ｉ11＝３４．１ｐｐｍの強度、Ｉ12＝３０．０ｐｐｍの強度、Ｉ13＝３０．４ｐｐｍの強度、Ｉ14＝２９．２ｐｐｍの強度、Ｉ15＝２７．３ｐｐｍの強度、Ｉ16＝２４．７ｐｐｍの強度、Ｉ17＝３４．９ｐｐｍの強度,Ｉ18＝３４．６ｐｐｍの強度である。
【００６１】
Ｔ＝ＥＰＥ＋ＰＰＥ＋ＥＥＥ＋ＰＰＰ＋ＰＥＥ＋ＰＥＰとおくと
各トリアド連鎖分率（モル％）は次式で計算できる。
ｆEPE＝（ＥＰＥ／Ｔ）×１００
ｆPPE＝（ＰＰＥ／Ｔ）×１００
ｆEEE＝（ＥＥＥ／Ｔ）×１００
ｆPPP＝（ＰＰＰ／Ｔ）×１００
ｆPEE＝（ＰＥＥ／Ｔ）×１００
ｆPEP＝（ＰＥＰ／Ｔ）×１００
【００６２】
ジアド（ｄｙａｄ）連鎖分率は、上記トリアド連鎖分率から次式で計算することができる。
ｆPP＝ｆPPP＋〔ｆPPE／２〕
ｆPE＝ｆEPE＋ｆPEP＋〔（ｆPPE＋ｆPEE）／２〕
ｆEE＝ｆEEE＋〔ｆPEE／２〕
【００６３】
また、ｒ１・ｒ２（プロピレンとエチレンの反応性比の積）は、ジアド連鎖分率から次式で計算できる。
ｒ１・ｒ２＝（４ｆEE・ｆPP）／（ｆEP・ｆEP）
【００６４】
更に、エチレン含量（モル％）は、次式で計算することができる。
エチレン含量（モル％）＝ｆEE＋（ｆPE／２）
【００６５】
［13Ｃ−ＮＭＲの測定］
試料２２０ｍｇを１０ｍｍ径ＮＭＲ試料管に採取し、１，２，４−トリクロロベンゼン／重ベンゼン（９０／１０容量％）混合溶媒３ｍＬを添加する。
アルミブロックヒーターを用いて、１４０℃で均一に溶解後、13ＣＮＭＲスペクトルを測定する。
ＮＭＲ測定条件は、次の通り。
ＮＭＲ装置          日本電子製  ＥＸ４００（４００ＭＨｚＮＭＲ装置）
パルス幅            ７．５μｓ（４５度パルス）
パルス繰り返し時間  ４秒
積算回数            １，０００回
測定温度            １３０℃
【００６６】
本発明の触媒系を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体の極限粘度〔η〕は、１．０ｄｌ／ｇ以上であり、好ましくは１．５ｄｌ／ｇ以上であり、更に好ましくは１．７ｄｌ／ｇ以上である。
極限粘度〔η〕が１．０ｄｌ／ｇ未満であると、共重合体パウダーのブロッキング性が十分でないことがある。
極限粘度〔η〕を、１．０ｄｌ／ｇ以上にするには、例えば、重合時に用いる水素の量を少なくすればよい。
【００６７】
本発明の触媒系を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体のキシレン可溶部の極限粘度〔η〕は、１．０ｄｌ／ｇ以上であり、好ましくは１．５ｄｌ／ｇ以上であり、更に好ましくは２．０ｄｌ／ｇ以上である。
キシレン可溶部の極限粘度〔η〕が１．０ｄｌ／ｇ未満であると、共重合体パウダーのブロッキング性が十分でないことがある。
キシレン可溶部の極限粘度〔η〕を、１．０ｄｌ／ｇ以上にするには、例えば、重合時に用いる水素の量を少なくすればよい。
【００６８】
プロピレン−エチレンブロック共重合体のキシレン可溶部の測定法は、以下の通りである。
試料５±０．０５ｇを精秤して１０００ミリリットルナス型フラスコに入れ、更に、ＢＨＴ（酸化防止剤）１±０．０５ｇを添加した後、回転子及びパラキシレン７００±１０ミリリットルを投入した。
次いで、ナス型フラスコに冷却器を取り付け、回転子を作動させながら、１４０±５℃の油浴でフラスコを１２０±３０分間加熱して、試料をパラキシレンに溶解させる。
次に、１０００ミリリットルビーカーにフラスコの内容物を注いだ後、ビーカー内の溶液を回転子で攪拌しながら、室温（２５℃）になるまで放冷（８時間以上）後、析出物を金網でろ取する。
ロ液は、更にろ紙にてろ過した後、ロ液を３０００ミリリットルビーカーに収容されたメタノール２０００±１００ミリリットル中に注ぎ、この液を室温（２５℃）にて回転子で攪拌しながら、２時間以上放置する。
次いで、析出物を金網でろ取した後。５時間以上風乾後、真空乾燥器にて１００±５℃で、２４０〜２７０分間乾燥して、２５℃キシレン可溶成分を回収する。
【００６９】
極限粘度〔η〕の測定は、以下のようにして行なった。
［極限粘度〔η〕の測定］
（株）離合社製ＶＭＲ−０５３型自動粘度計を用い、デカリン溶媒中、温度１３５℃において測定した。
【００７０】
本発明の触媒を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体は、昇温分別クロマトグラフ（ＴＲＥＦ）における０℃の溶出成分が、５０重量％以下、好ましくは４０重量％以下であり、更に好ましくは３５重量％以下である。
０℃の溶出成分が５０重量％を超えると、共重合パウダーのブロッキング性が十分でない。
昇温分別クロマトグラフの測定は、以下のようにして行った。
［昇温分別クロマトグラフの測定］
１４０℃のオルトジクロロベンゼンに完全に溶解させた試料溶液を、温度１３５℃に調節した昇温分別クロマトグラフ（ＴＲＥＦ）カラムに導入し、次いで速度５℃／ｈｒにて徐々に０℃まで降温し、試料を充填剤に吸着させた。
０℃にて３０分間保持した後、カラムにオルトジクロロベンゼンを流通させ、０℃のまま１０分間保持して充填剤に吸着されない成分を溶出させた。
その後、オルトジクロロベンゼンを流通させながら速度４０℃／ｈｒにて１３５℃まで昇温し、順次ポリマー成分を溶出させた。
このとき、溶出ポリマーの濃度を測定することによって溶出曲線を得た。
（測定装置）
ＴＲＥＦカラム：ＧＬサイエンス社製、ステンレスカラム
（４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ）
フローセル：ＧＬサイエンス社製、ＫＢｒセル、光路長１ｍｍ
送液ポンプ：センシュウ科学社製、ＳＳＣ−３１００
バルブオープン：ＧＬサイエンス社製、ＭＯＤＥＬ５５４
ＴＲＥＦオープン：ＧＬサイエンス社製
二系列温調機：理学工業社製、ＲＥＸ−Ｃ１００
濃度検出器：液体クロマトグラフィー用赤外検出器、
ＦＯＸＢＯＲＯ社製  ＭＩＲＡＮ  １Ａ  ＣＶＦ
（測定条件）
溶媒：オルトジクロロベンゼン
試料濃度：７．５ｇ／リットル
注入量：５００μリットル
流速：２．０ミリリットル／ｍｉｎ
カラム充填剤：クロモソルブＰ（３０／６０メッシュ）
【００７１】
本発明の触媒を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体の弾性率Ｅは、３３０（ＭＰａ）未満で、且つ内部ヘイズＨが５５（％）未満である。
用いる（低結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒／高結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒）の割合が高いほど、用いるエチレン量が多いほど、柔軟なプロピレン−エチレンブロック共重合体が得られる。
また、メタロセン触媒を用いるとヘイズは５５％未満に制御することができる。
【００７２】
本発明の触媒を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体（パウダー）は、過酸化物等の分解剤を使用して適当な分子量に調整し、所望の用途（射出やフィルム）に用いることが好ましい。
【００７３】
本発明の触媒を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体には、所望に応じて各種添加剤が添加されていてもよい。
所望に応じて用いられる各種添加剤としては、酸化防止剤、中和剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、又は帯電防止剤等が挙げられる。
これらの添加剤は、１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
例えば、酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。
【００７５】
リン系酸化防止剤の具体例としては、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレン−ジ−ホスホナイト、アデカスタブ１１７８（旭電化（株）製）、スミライザーＴＮＰ（住友化学（株）製）、ＪＰ−１３５（城北化学（株）製）、アデカスタブ２１１２（旭電化（株）製）、ＪＰＰ−２０００（城北化学（株）製）、Ｗｅｓｔｏｎ  ６１８（ＧＥ社製）、アデカスタブＰＥＰ−２４Ｇ（旭電化（株）製）、アデカスタブＰＥＰ−３６（旭電化（株）製）、アデカスタブＨＰ−１０（旭電化（株）製）、ＳａｎｄｓｔａｂＰ−ＥＰＱ（サンド（株）製）、フォスファイト１６８（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられる。
【００７６】
フェノール系酸化防止剤の具体例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、４，４'−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス｛２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、スミライザーＢＨＴ（住友化学（株）製）、ヨシノックスＢＨＴ（吉富製薬（株）製）、アンテージＢＨＴ（川口化学（株）製）、イルガノックス１０７６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、イルガノックス１０１０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、アデカスタブＡＯ−６０（旭電化（株）製）、スミライザーＢＰ−１０１（住友化学（株）製）、トミノックスＴＴ（吉富製薬（株）製）、ＴＴＨＰ（東レ（株）製）、イルガノックス３１１４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、アデカスタブＡＯ−２０（旭電化（株）製）、アデカスタブＡＯ−４０（旭電化（株）製）、スミライザーＢＢＭ−Ｓ（住友化学（株）製）、ヨシノックスＢＢ（吉富製薬（株）製）、アンテージＷ−３００（川口化学（株）製）、イルガノックス２４５（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、アデカスタブＡＯ−７０（旭電化（株）製）、トミノックス９１７（吉富製薬（株）製）、アデカスタブＡＯ−８０（旭電化（株）製）、スミライザーＧＡ−８０（住友化学（株）製）等が挙げられる。
【００７７】
イオウ系酸化防止剤の具体例としては、ジラウリル−３，３'−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３'−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、スミライザーＴＰＬ（住友化学（株）製）、ヨシノックスＤＬＴＰ（吉富製薬（株）製）、アンチオックスＬ（日本油脂（株）製）、スミライザーＴＰＭ（住友化学（株）製）、ヨシノックスＤＭＴＰ（吉富製薬（株）製）、アンチオックスＭ（日本油脂（株）製）、スミライザーＴＰＳ（住友化学（株）製）、ヨシノックスＤＳＴＰ（吉富製薬（株）製）、アンチオックスＳ（日本油脂（株）製）、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ（旭電化（株）製）、ＳＥＥＮＯＸ  ４１２Ｓ（シプロ化成（株）製）、スミライザーＴＤＰ（住友化学（株）製）等が挙げられる。
【００７８】
本発明の触媒系を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体をフィルム、シート用途に供する場合の酸化防止剤としては、イルガノックス１０１０：物質名：ペンタエリスリチル−テトラキス[３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート]、イルガフォス１６８：物質名：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、イルガノックス１０７６：物質名：オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、イルガノックス１３３０：物質名：１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、イルガノックス３１１４：物質名：トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレイト、Ｐ−ＥＰＱ：物質名：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジ−フォスファイト、が特に好ましい。
本発明において酸化防止剤を用いる場合は、プロピレン−エチレンブロック共重合体１００質量部に対し酸化防止剤を０．００１〜１質量部程度添加すればよい。
これにより、黄変等を防ぐことができて好ましい。
【００７９】
上記の酸化防止剤の具体的な使用例を挙げれば、
例１
イルガノックス１０１０    １０００ｐｐｍ
ＰＥＰ−Ｑ                １０００ｐｐｍ
例２
イルガノックス１０７６    １２００ｐｐｍ
ＰＥＰ−Ｑ                  ６００ｐｐｍ
イルガフォス１６８          ８００ｐｐｍ
例３
イルガノックス１０１０    ４００〜１０００ｐｐｍ
イルガフォス１６８        ７５０〜１５００ｐｐｍ
等が挙げられる。
【００８０】
フィルム、シート用途の中和剤としては、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ハイドロタルサイト（ＤＨＴ−４Ａ）：組成式：Ｍｇ4.5Ａｌ2（ＯＨ）13ＣＯ3・３．５Ｈ2Ｏ等が特に好ましい。
【００８１】
フィルム、シート用途のアンチブロッキング剤としては、富士シリシア（株）製の「サイリシア」：合成シリカ系や、水澤化学工業（株）製の「ミズカシル」：合成シリカ系等が特に好ましい。
【００８２】
フィルム、シート用途のスリップ剤としては、エルカ酸アミド、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、ステアリルエルカアミド、オレイルパルミトアミドが特に好ましい。
本発明において造核剤を用いる場合、造核剤の添加量は、通常、プロピレン−エチレンブロック共重合体に対して１０ｐｐｍ以上であり、好ましくは１０〜１００００ｐｐｍの範囲であり、より好ましくは１０〜５０００ｐｐｍの範囲であり、更に好ましくは１０〜２５００ｐｐｍである。
１０ｐｐｍ以上では、低温ヒートシール性が改善され、一方、１００００ｐｐｍを超えるとコストが上昇する。
【実施例】
【００８３】
以下に、実施例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
【００８４】
本発明の触媒を用いて得られるプロピレン−エチレンブロック共重合体のエチレン含量、ｆEEE、ｒ１・ｒ２、極限粘度〔η〕、キシレン可溶部の極限粘度〔η〕等の樹脂特性は、明細書本文中に記載した方法により測定した。
【００８５】
プロピレン−エチレンブロック共重合体の引張弾性率は、プロピレン−エチレンブロック共重合体をプレス成形して試験片を作成し、ＪＩＳ  Ｋ−７１１３に準拠し、測定した。
試験片（２号ダンベル）厚み：１ｍｍ
クロスヘッド速度：５０ｍｍ／ｍｉｎ
ロードセル：１００ｋｇ
【００８６】
プロピレン−エチレンブロック共重合体の内部ヘイズは、プロピレン系ブロック重合体をプレス成形して厚さ１ｍｍの試験片を作製し、表面の散乱を除去するために、試験片表面にシリコーンオイル（信越シリコーン社製，ＫＦ５６）を塗布した後、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠し、測定を行った。
【００８７】
プロピレン−エチレンブロック共重合体の透明性は、上記と同様の試験片について目視にて測定した。
透明性の評価基準は透明性が良好であるものを○、劣るものを×とした。
【００８８】
プロピレン−エチレンブロック共重合体のモルホロジーは、一辺が５ｃｍ以上の塊が発生した場合を×、一辺が１ｃｍ以上５ｃｍ未満の塊が発生した場合を○、一辺が１ｃｍ未満の塊であった場合を◎とした。
【００８９】
実施例１
（１）（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチル−インデニル）ジルコニウムジクロリドの合成
［１］（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）の合成
窒素気流下、１Ｌ三つ口フラスコに、ＴＨＦ１００ｍＬとＭｇ５．０ｇ（２０６ｍｍｏｌ）を加えた。
次に、１，２−ジブロモエタン０．１ｍＬを加え、攪拌し、Ｍｇを活性化した。
３０分間攪拌後、溶媒を抜き出し、新たにＴＨＦ１００ｍＬを添加した。
更に、２−ブロモインデン１０．０ｇ（５１．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２５０ｍＬを２時間かけて滴下した。
滴下終了後、室温で２時間攪拌した後、−７８℃に冷却し、ジクロロジメチルシラン６．２ｍＬ（５１．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１００ｍＬ溶液を１時間で滴下した。
１５時間攪拌後、溶媒を留去し、残渣をヘキサン３００ｍＬで抽出し、溶媒を留去することにより、２−クロロメチルシリルインデン９．６ｇ（４６．２ｍｍｏｌ）を得た。（収率９０％）
【００９０】
次に、窒素気流下、１Ｌ三つ口フラスコに、ＴＨＦ４００ｍＬと２−クロロメチルシリルインデン９．６ｇを加え−７８℃に冷却し、ＬｉＮ（トリメチルシリル）2のＴＨＦ溶液（１．０Ｍ）を４６．２ｍＬ（４６．２ｍｍｏｌ）滴下した。
室温で１５時間攪拌後、溶媒を留去し、ヘキサン３００ｍＬで抽出し、溶媒を留去することにより、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）２．５ｇ（７．２ｍｍｏｌ）を得た。（収率３１％）
【００９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）の測定値
δ：−０．６９，０．７３（１２Ｈ，ジメチルシリレン），３．６６（４Ｈ，−ＣＨ2−），７．１７（８Ｈ，Ａｒ−Ｈ）
【００９２】
［２］（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドの合成
シュレンク瓶に、前記（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）２．５ｇ（７．２ｍｍｏｌ）とエーテル１００ｍＬを添加した。
−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン溶液１．６Ｍ）９．０ｍＬ（１４．８ｍｍｏｌ）を添加した後、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン２０ｍＬで洗浄することにより、リチウム塩を定量的に得た。
シュレンク瓶に、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）のリチウム塩（６．９７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５０ｍＬに溶解し、−７８℃に冷却した。
【００９３】
次に、ヨードメチルトリメチルシラン２．１ｍＬ（１４．２ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、エーテル５０ｍＬを添加して、飽和塩化アンモニウム溶液で洗浄した。
分液後、有機相を乾燥し、溶媒を除去し、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデン）３．０４ｇ（５．９ｍｍｏｌ）を得た。（収率８４％）
【００９４】
窒素気流下において、シュレンク瓶に、前記の（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデン）を３．０４ｇ（５．９ｍｍｏｌ）とエーテル５０ｍＬを添加した。
−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン溶液１．５４Ｍ）７．６ｍＬ（１１．８ｍｍｏｌ）を添加した後、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン４０ｍＬで洗浄することにより、リチウム塩のエーテル付加体３．０６ｇ（５．１ｍｍｏｌ）を得た。(収率８６％）
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＴＨＦ−ｄ8）の測定値
δ：０．０４（ｓ，１８Ｈ，トリメチルシリル），０．４８（ｓ，１２Ｈ，ジメチルシリレン），１．１０（ｔ，６Ｈ，メチル），２．５９（ｓ，４Ｈ，メチレン），３．３８（ｑ，４Ｈ，メチレン），６．２〜７．７（ｍ，８Ｈ，Ａｒ−Ｈ）
【００９６】
窒素気流下で、前記のリチウム塩のエーテル付加体をトルエン５０ｍＬに溶解した。
−７８℃に冷却し、予め−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム１．２ｇ（５．１ｍｍｏｌ）のトルエン懸濁液２０ｍＬを滴下した。
滴下後、室温で６時間攪拌し、反応溶液の溶媒を留去した。
得られた残渣をジクロロメタンにより再結晶化したところ、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド０．９ｇ（１．３３ｍｍｏｌ）を得た。（収率２６％）
【００９７】
1Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）の測定値
δ：０．０（ｓ，１８Ｈ，トリメチルシリル），１．０２，１．１２（ｓ，１２Ｈ，ジメチルシリレン），２．５１（ｄｄ，４Ｈ，メチレン），７．１−７．６（ｍ，８Ｈ，Ａｒ−Ｈ）
【００９８】
（２）共重合
１Ｌのオートクレーブに、液体プロピレン５００ｍＬを投入し、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、１．０ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン５ｍＬと共に投入した。
一方、５０ｍＬのシュレンク瓶に窒素気流下、脱気ヘプタン５ｍＬ、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、０．５ｍｍｏｌ、０．２５ｍＬ）、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）のヘプタンスラリー（Ａｌ担持量：２２．８質量％、０．３ｍｍｏｌ，０．７８ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ／ｍＬ）、ジメチルシリレンビス（２−メチルベンゾインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．２μｍｏｌ，０．０１ｍＬ）及び（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．４μｍｏｌ、０．０２ｍＬ）を投入し、室温で３分間攪拌した。
攪拌終了後、触媒スラリーを触媒投入管より高圧窒素を用いて攪拌下（４００ｒｐｍ）、３５℃で投入した。
投入管の洗浄を目的にヘプタン１０ｍＬを、投入管に仕込み、高圧窒素でプロピレン中に投入した。
その後、５分間かけて４０℃まで昇温し、そのまま１０分間プロピレンの重合を行った。
次に、エチレン分圧が０．２５ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
重合温度が４０℃になるように重合温度を維持した。
１５分後、メタノール３ｍＬを投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【００９９】
実施例２
１Ｌのオートクレーブに、液体プロピレン５００ｍＬを投入し、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、１．０ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン５ｍＬと共に投入した。次に、水素を０．０１ＭＰａ投入した。
一方、５０ｍＬのシュレンク瓶に窒素気流下、脱気ヘプタン５ｍＬ、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、０．５ｍｍｏｌ、０．２５ｍＬ）、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）のヘプタンスラリー（Ａｌ担持量：２２．８質量％、０．５ｍｍｏｌ，１．２５ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ／ｍＬ）、ジメチルシリレンビス（２−メチルベンゾインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．２μｍｏｌ、０．０１ｍＬ）及び（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．８μｍｏｌ、０．０８ｍＬ）を投入し、室温で３分間攪拌した。
攪拌終了後、触媒スラリー２．８ｍＬを触媒投入管より高圧窒素を用いて攪拌下（４００ｒｐｍ）、４５℃で投入した。
投入管の洗浄を目的にヘプタン１０ｍＬを、投入管に仕込み、高圧窒素でプロピレン中に投入した。
その後、５分間かけて５５℃まで昇温し、そのまま２０分間プロピレンの重合を行った。
そして、５分間かけて５５℃まで昇温した。
次に、エチレン分圧が０．２５ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
重合温度が５５℃になるように重合温度を維持した。
１５分後、メタノール３ｍＬを投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１００】
実施例３
１Ｌのオートクレーブに、液体プロピレン５００ｍＬを投入し、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、１．０ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン５ｍＬと共に投入した。次に、水素を０．０３ＭＰａ投入した。
一方、５０ｍＬのシュレンク瓶に窒素気流下、脱気ヘプタン５ｍＬ、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、０．５ｍｍｏｌ、０．２５ｍＬ）、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）のヘプタンスラリー（Ａｌ担持量：２２．８質量％、０．９ｍｍｏｌ，２．４ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ／ｍＬ）、ジメチルシリレンビス（２−メチルベンゾインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．２μｍｏｌ、０．０１ｍＬ）及び（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド（１．６μｍｏｌ、０．１６ｍＬ）を投入し、室温で３分間攪拌した。
攪拌終了後、触媒スラリー２．５ｍＬを触媒投入管より高圧窒素を用いて攪拌下（４００ｒｐｍ）、３５℃で投入した。
投入管の洗浄を目的にヘプタン１０ｍＬを、投入管に仕込み、高圧窒素でプロピレン中に投入した。
その後、５分間かけて４０℃まで昇温し、そのまま２２分間プロピレンの重合を行った。
そして、５分間かけて５５℃まで昇温した。
次に、エチレン分圧が０．２ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
重合温度が５５℃になるように重合温度を維持した。
１０分後、メタノール３ｍＬを投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１０１】
実施例４
（１）（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロライドの合成
シュレンク瓶に、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）０．８３ｇ（２．４ｍｍｏｌ）とエーテル５０ｍＬを投入した。
−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン溶液１．６Ｍ）を３．１ｍＬ（５．０ｍｍｏｌ）投入した後、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン２０ｍＬで洗浄することにより、リチウム塩のエーテル付加体１．１ｇ（２．３ｍｍｏｌ）を得た。
このリチウム塩のエーテル付加体を、ＴＨＦ５０ｍＬに溶解し、−７８℃に冷却した。
臭化ｎ−ブチル０．５７ｍＬ（５．３ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、ヘキサン５０ｍＬで抽出後、溶媒を除去し、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデン）０．８１ｇ（１．７７ｍｍｏｌ）を得た。（収率７４％）
【０１０２】
次に、窒素気流下において、シュレンク瓶に前記の（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデン）０．８１ｇ（１．７７ｍｍｏｌ）とエーテル１００ｍＬを投入した。
−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン溶液１．５４Ｍ）を２．７ｍＬ（４．１５ｍｍｏｌ）投入した後、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサンで洗浄することにより、リチウム塩のエーテル付加体０．２８ｇ（１．４３ｍｍｏｌ）を得た。
窒素気流下で前記のリチウム塩のエーテル付加体を、トルエン５０ｍＬに溶解した。
−７８℃に冷却し、予め、−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム０．３３ｇ（１．４２ｍｍｏｌ）のトルエン懸濁液５０ｍＬを滴下した。
滴下後、室温で６時間攪拌した。
次に、ろ過後、溶媒を留去し、ジクロロメタンより再結晶することにより、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロライド０．２ｇ（０．３２ｍｍｏｌ）を得た。（収率２２％）
【０１０３】
1Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）の測定値
δ：０．８８，０．９９（１２Ｈ，ジメチルシリレン），０．７−１．０，１．１−１．５（１８Ｈ，ｎ−Ｂｕ），７．０−７．６（８Ｈ，ベンゼン環プロトン）
【０１０４】
（２）共重合
１Ｌのオートクレーブに、液体プロピレン５００ｍＬを投入し、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、１．０ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン５ｍＬと共に投入した。次に、水素を０．０３ＭＰａ投入した。
一方、５０ｍＬのシュレンク瓶に窒素気流下、脱気ヘプタン５ｍＬ、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、０．５ｍｍｏｌ、０．２５ｍＬ）、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）のヘプタンスラリー（Ａｌ担持量：２２．８質量％、１．６ｍｍｏｌ、４．２ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ／ｍＬ）、ジメチルシリレンビス（２−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．２μｍｏｌ、０．０１ｍＬ）及び（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロライド（３．０μｍｏｌ、０．３０ｍＬ）を投入し、室温で３分間攪拌した。
攪拌終了後、触媒スラリー４．９ｍＬを触媒投入管より高圧窒素を用いて攪拌下（４００ｒｐｍ）、３５℃で投入した。
投入管の洗浄を目的にヘプタン１０ｍＬを、投入管に仕込み、高圧窒素でプロピレン中に投入した。
その後、５分間かけて４０℃まで昇温し、そのまま２０分間プロピレンの重合を行った。
そして、５分間かけて５５℃まで昇温した。
次に、エチレン分圧が０．１ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
重合温度が５５℃になるように重合温度を維持した。
４０分後、メタノール３ｍＬを投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
尚、ジメチルシリレンビス（４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリドは、特開平６−１００５７９号公報に従って合成した。
【０１０５】
実施例５
（予備重合）
攪拌翼付きの５００ｍＬのシュレンク瓶を１０℃の水浴に浸し、窒素気流下、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）２．０ｇ（Ａｌ担持量：２２．８質量％）、脱水トルエン４０ｍＬを投入し、しばらく攪拌した。
攪拌下、ジメチルシリレンビス（ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロライド（９．０μｍｏｌ）及び（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド（１３．５μｍｏｌ）を順に投入し、２５分間攪拌した。
そして、プロピレン０．１６ＭＰａを投入し、２時間プロピレンの圧力を保持した。
脱圧後、窒素置換を行い、容器全体の質量を測定したところ、質量が２．５ｇ増加していた。
次に、デカンテーションにより上澄みの溶媒を除いた後、脱水ヘプタン５０ｍＬで３回予備重合触媒を洗浄し、最後にもう一度脱水ヘプタンを最初にデカンテーションした際に除いた量投入し、予備重合触媒のヘプタンスラリーを得た。
【０１０６】
（共重合）
５Ｌのオートクレーブに液体プロピレン（２Ｌ）を投入後、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、５．０ｍｍｏｌ、２．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン（５ｍＬ）と共に投入し、５５℃に昇温した。
次に、上記触媒スラリー（１．９ｍＬ）を触媒投入管より高圧窒素（３．０ＭＰａ）を用いて、４００ｒｐｍで攪拌しながら投入した。
更に、投入管の洗浄を目的に脱水ヘプタン（５ｍＬ）を触媒投入管に仕込み、高圧窒素でオートクレーブに投入した。
次に、５５℃で、３０分間重合を行った後、エチレン分圧が０．２ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
６０分間、エチレン分圧が０．２ＭＰａを維持するように投入し続けた。
重合反応終了後、メタノール（５ｍＬ）を投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１０７】
実施例６
実施例５の共重合において、エチレン分圧を０．１ＭＰａとした以外は、実施例５と同様に反応及び操作を行なった。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１０８】
実施例７
（予備重合）
攪拌翼付きの５００ｍＬのシュレンク瓶を１０℃の水浴に浸し、窒素気流下、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）２．４ｇ（Ａｌ担持量：２２．８質量％）、脱水トルエン（４０ｍＬ）を投入し、しばらく攪拌した。
攪拌下、ジメチルシリレンビス（ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロライド（１４．０μｍｏｌ）及び（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド（１４．０μｍｏｌ）を順に投入し、２５分間攪拌した。
そして、プロピレン０．１４ＭＰａを投入し、１時間プロピレンの圧力を保持した。
脱圧後、窒素置換を行い、容器全体の質量を測定したところ、質量が４．０ｇ増加していた。
次に、デカンテーションにより上澄みの溶媒を除いた後、脱水ヘプタン５０ｍＬで３回予備重合触媒を洗浄し、最後にもう一度脱水ヘプタンを最初にデカンテーションした際に除いた量投入し、予備重合触媒のヘプタンスラリーを得た。
【０１０９】
（共重合）
５Ｌのオートクレーブに液体プロピレン（２Ｌ）を投入後、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、５．０ｍｍｏｌ、２．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン（５ｍＬ）と共に投入し、５５℃に昇温した。
次に、上記触媒スラリー（３．０ｍＬ）を触媒投入管より高圧窒素（３．０ＭＰａ）を用いて、４００ｒｐｍで攪拌しながら投入した。
更に、投入管の洗浄を目的に脱水ヘプタン（５ｍＬ）を触媒投入管に仕込み、高圧窒素でオートクレーブに投入した。
次に、５５℃で、３０分間重合を行った後、エチレン分圧が０．２５ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
６０分間、エチレン分圧が０．２ＭＰａを維持するように投入し続けた。
重合反応終了後、メタノール（５ｍＬ）を投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１１０】
比較例１
（予備重合）
攪拌機を備えた内容積１Ｌのガラス製オートクレーブ反応器を窒素ガスで十分に置換した後、ヘプタン４００ｍＬを投入した。
反応器内の温度を２０℃に保ち、トリエチルアルミニウム２８ｍｍｏｌ、ジシクロペンチルジメトキシシラン２．８ｍｍｏｌ及び三塩化チタン触媒（丸紅ソルベイ化学社製「ＸＰ−４０」）５ｇを投入した後、プロピレンを触媒１ｇ当たり３ｇとなるように、連続的に１時間反応器に導入した。
尚、この間、温度は２０℃に保持した。
プロピレンの供給を停止した後、反応器内を窒素ガスで十分に置換し、得られたチタン含有ポリプロピレンを精製ヘプタンで４回洗浄した。
分析の結果、触媒１ｇ当たり２．９ｇのプロピレンが重合していた。
【０１１１】
（共重合）
攪拌機を備えた内容積３００Ｌのステンレス製オートクレーブ反応器を窒素ガスで十分に置換した後、液体プロピレンを２００リットル、水素１ｍｏｌ％、トリエチルアルミニウムを１２０ｍｍｏｌ、ジシクロペンチルジメトキシシラン２９．５ｍｍｏｌを加え、反応器内温度を７０℃に昇温した後、予備重合で得られたチタン含有ポリプロピレンを触媒として２．６ｇ、窒素ガス雰囲気下に加えた。
次に、５５℃で２０分間プロピレンの重合を行った。
その後、エチレンを供給し、エチレンガス濃度が１３ｍｏｌ％とした。
エチレンガス濃度を１３ｍｏｌ％となるように連続的に供給を続け、５５℃で１２０分間プロピレンとエチレンの共重合を行った。
重合体スラリ−を液体サイクロンに通し、液体プロピレンを重合槽へ戻し、共重合体粒子をフラッシュタンクへ送り液体プロピレンを蒸発させ、共重合体粒子を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１１２】
比較例２
１Ｌのオートクレーブに、液体プロピレン５００ｍＬを投入し、室温下でトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、１．０ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）を触媒投入管よりヘプタン５ｍＬと共に投入した。
一方、５０ｍＬのシュレンク瓶に窒素気流下、脱気ヘプタン５ｍＬ、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液（２Ｍ、０．５ｍｍｏｌ、０．２５ｍＬ）、ウィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製シリカ担持メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）のヘプタンスラリー（Ａｌ担持量：２２．８質量％、０．１ｍｍｏｌ、０．２６ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ／ｍＬ）、ジメチルシリレンビス（２−メチルベンゾインデニル）ジルコニウムジクロライド（０．２μｍｏｌ、０．０１ｍＬ）を投入し、室温で３分間攪拌した。
攪拌終了後、触媒スラリー５．０ｍＬを触媒投入管より高圧窒素を用いて攪拌下（４００ｒｐｍ）、３５℃で投入した。
投入管の洗浄を目的にヘプタン１０ｍＬを、投入管に仕込み、高圧窒素でプロピレン中に投入した。
その後、５分間かけて４０℃まで昇温し、そのまま１０分間プロピレンの重合を行った。
次に、エチレン分圧が０．３５ＭＰａとなるようにエチレンを投入した。
重合温度が４０℃になるように重合温度を維持した。
１５分後、メタノール３ｍＬを投入管より投入し、ゆっくりと未反応ガスを抜き、得られたパウダーを加熱乾燥することによりプロピレン−エチレンブロック共重合体を得た。
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１１３】
比較例３
（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドを用いた他は、比較例２と同様に反応及び操作を行なった。
【０１１４】
得られた重合体の樹脂特性評価結果を表１に示す。
【０１１５】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明の低結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒と高結晶性ポリプロピレンを与えるメタロセン触媒を組み合せた担持触媒により、パウダー粒子が固着せず、透明性が高いプロピレン−エチレンブロック共重合体が製造できる。