(57)【要約】【課題】  金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる課題である、ケミカルエッチングのパターン精度不良及びアルミニウム層を透明基材上に接着する際の接着不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な透明導電部材を提供する。【解決手段】  透明導電部材１０は、透明基材１上に透明接着剤層４を介して、アルミニウムパターン層２が積層されてなり該アルミニウムパターン層の少なくとも上面（透明基材に対してアルミニウムパターン層が形成された側と同じ向きとなる面）のアルミニウム酸化物皮膜３の厚みを０〜１３Åとした。且つ、該透明接着剤層を硝子転移温度が３０度Ｃ以上のウレタン樹脂から構成する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、硝子転移温度が３０度Ｃ以上のウレタン樹脂からなる透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が積層されてなり、該アルミニウムパターン層の少なくとも上面（該透明基材に対して該アルミニウムパターン層が形成された側と同じ向きとなる面）のアルミニウム酸化物皮膜の厚みが０〜１３Åである、事を特徴とする透明導電部材。
【請求項２】
請求項１記載の透明導電部材を電磁波遮蔽フィルタとして用い、これと光学フィルタとを積層した、事を特徴とす多機能フィルタ。
【請求項３】
請求項１記載の透明導電部材から成る電磁波遮蔽フィルタ又は請求項２記載の多機能フィルタを、其の前面に配置した、事を特徴とす画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定パターンで形成された導電性層を有し、各種用途、中でも特に画像表示装置の前面に配置する電磁波遮蔽フィルタに好適に用いることが出来る、透明導電性部材、それを用いた多機能フィルタ、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電部材の代表例としては、画像表示装置（ディスプレイとも云う）の前面に配置して用いる、可視光線は透過しｋＨｚ〜ＧＨｚ帯域の電磁波は遮蔽する、光透過性の電磁波遮蔽フィルタが挙げられる。其の中でも代表的なものは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰとも云う）前面設置用の電磁波遮蔽フィルタである。斯かる電磁波遮蔽フィルタに於いては、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させたメッシュ状の金屬パターンが多く用いられている。該金屬パターンは、透明基材に金屬箔を透明接着剤で貼り合せた後、フォトリソグラフィー法により金屬箔をメッシュ状にケミカルエッチング（腐蝕加工）して作ることができる（特許文献１、特許文献２）。
【０００３】
金屬箔の材質としては、特許文献などでは特に限定しない文献が多い（特許文献１、特許文献２）中で、例示される金屬としては銅の他、アルミニウム（特許文献２）等の高電導率のものが挙げられている。しかし、事実上、市場に流通している電磁波遮蔽フィルタの金屬メッシュは、銅、具体的には銅箔しか用いられておらず、アルミニウム箔を用いたものは無く実用化されてい無い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３１８５９６号公報
【特許文献２】特許第３３８８６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、画像表示装置の普及促進において、高価な電磁波遮蔽フィルタはその妨げとなっており、電磁波遮蔽フィルタの低コスト化の為には、銅箔よりも安価なアルミニウム箔の採用が考えられる。
そこで、我々は、低コスト化を狙い、金屬パターン（メッシュ等）の金屬材料として、銅箔よりも安価なアルミニウム箔を用いた電磁波遮蔽フィルタ用途の透明導電部材の検討を行った。しかし、その結果、実用化する為には、実は、次の解決すべき課題が存在することが判明した。
尚、以下の課題は、パターンの線幅及び厚みの寸法が１００μｍ程度以上の場合は目立た無い。高品質の画像表示装置用途等の為に透視性を追及すべく、パターンの線幅及び厚みの寸法が１０〜２０μｍ程度以下に微細化した場合に於いて、特に顕在化して来るものであることも判明した。
【０００６】
〔新たに見出された課題（１）〕
（ａ）アルミニウム自体の化学的活性（反応性）が高く、表面に１００Å程度のアルミニウム酸化物皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。
（ｂ）エッチング液（腐蝕液）に接触した領域の酸化物皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されてい無い部分に対して、急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難である。
（ｃ）上記（ａ）及び（ｂ）の結果として、金属パターンのライン部の輪郭に、ギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線が発生し、ラインのパターン精度が、銅箔の場合に比べてアルミニウムは劣る。
【０００７】
以上の結果、銅箔と比べて画像表示装置で要求される精度の微細なパターン（例えばライン幅１０〜２０μｍ、パターンの厚み１０〜２０μｍ程度）が得られ無い。そして、ギザは光透過性を実現する開口部の面積率のムラとなって表示画面の面ムラに繋がり、断線は電磁波遮蔽性能の低下に繋がる。
【０００８】
ここで、図４、図５を参照して、アルミニウム箔をケミカルエッチングでアルミニウムパターンとする際の不安定なエッチングと、それによって発生するパターン精度不良を説明する。
【０００９】
図４（ａ）はエッチングによる腐蝕が進行する前の状態を示し、図４（ｂ）はエッチングによる腐食が進行中の状態を示す。図４（ａ）及び図４（ｂ）では、エッチング液５１でレジストパターン５２の非形成部の領域に於いて露出しているアルミニウム箔５４をエッチングする様子を示す。
図４（ａ）及び図４（ｂ）の場合、アルミニウム層５３の上面及び下面の都合表裏両面にアルミニウム酸化物皮膜３を有する状態のアルミニウム箔５４は、透明基材１の片面に、透明接着剤層４で接着固定され積層されて、これがアルミニウム箔積層体５５となっている。
【００１０】
そして、図４（ｂ）のように、エッチングが進行すると、レジストパターン５２の非形成部でエッチング液５１に接触するアルミニウム箔５４の露出部分の酸化物皮膜３は、露出部の全面で均一にエッチングが進行せず、部分的にエッチングが先行し、この腐蝕先行部分５６からアルミニウム層５３のエッチングがなされて行く。
【００１１】
此の結果、エッチングが完了した状態では、図５の平面図にて概念的に示すように、アルミニウムパターン２のラインには、ギザや断線などのパターン精度不良が多発する。
【００１２】
〔新たに見出された課題（２）〕
（ｄ）詳細な理由、機構は不明であるが、通常の金屬箔接着用に使われる接着剤を用いて接着した場合に於いて、銅箔とアルミニウム箔とを比較すると、一般に、アルミニウム箔の方が銅箔に比べて接着力が低い。
（ｅ）其の為、レジストパターンを形成した上でエッチングし、アルミニウム箔５４と透明接着剤層４との界面に迄エッチングが進行した際に、図６の斷面図の如く、アルミニウム箔５４と透明接着剤層４との接着界面にエッチング液５１が進入する。
（ｆ）其の為、接着界面へのエッチング進入部分５７が生じ、アルミニウム箔５４（がエッチング加工された結果のアルミニウムパターン層２）が透明接着剤層４から浮き上がる。其の結果として、一般に、透明接着剤層４と金屬パターン層との接着力は、銅箔の場合に比べてアルミニウムは劣る傾向にある。
（ｇ）透明接着剤層との接着力（即ち、透明基材との接着力でもある）が低下すると、各種後加工時或いは使用時に、アルミニウムパターン層の剥脱や断線等の損傷を生じ易くなる。
【００１３】
即ち、本発明の課題は、金屬パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターンのパターン精度不良、及び透明接着剤層への接着力不良とを解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な、電磁波遮蔽フィルタ等の用途に好適な透明導電部材を提供することである。
また、該透明導電部材を電磁波遮蔽フィルタを用いた多機能フィルタ、これらフィルタを用いた画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
そこで、本発明の透明導電部材では、
透明基材上に、硝子転移温度が３０度Ｃ以上のウレタン樹脂からなる透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が積層されてなり、該アルミニウムパターン層の少なくとも上面（該透明基材に対して該アルミニウムパターン層が形成された側と同じ向きとなる面）のアルミニウム酸化物皮膜の厚みが０〜１３Åである、事を特徴とする透明導電部材とした。
【００１５】
斯くの如く、少なくとも上面側のアルミニウム層の酸化物皮膜の厚みを特定の薄さに規定することで、アルミニウムパターン層をケミカルエッチング（加工）で形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為に、ライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、更には、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキやヘーズ（曇価）の上昇を避けられる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価な透明導電部材を実用化できる。
又、透明基材とアルミニウムパターン層とを接着する透明接着剤層の硝子転移温度を特定の温度以上に設定した為、ケミカルエッチング時の透明基材とアルミニウムパターン層との接着力の低下を解消出來、アルミニウムパターン層の接着性の良好な電磁波遮蔽フィルタが実現できる。
又、製造面でも、アルミニウム酸化物皮膜はその儘でケミカルエッチング可能な為、該皮膜の除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコストアップを避けられる。
【００１６】
また、本発明の多機能フィルタは、
上記透明導電部材を電磁波遮蔽フィルタとして用い、これと光学フィルタとを積層した多機能フィルタとした。
この構成によって、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能も備えた多機能化がなされ、透明基材の共通化、フィルタの薄型化が可能となり、更には低コスト化も可能となる。
【００１７】
また、本発明の画像表示装置は、
上記透明導電部材から成る電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを、其の前面に配置した画像表示装置とした。
この構成によって、低コスト化が可能となり、画像表示装置の普及促進を図れる。
【発明の効果】
【００１８】
（１）本発明の透明導電部材によれば、金屬パターンに銅よりも安価なアルミニウムを用いても、ケミカルエッチング形成時のライン輪郭のギザ（ｚｉｇｚａｇ）や断線が解消してパターン精度が向上し、導電性乃至電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキ、ヘーズの上昇を避けられ、且つ透明接着剤層更には透明基材に対する接着性が良好で、後加工時或いは使用時にアルミニウムパターン層の剥脱や損傷が生じ難く、安価な、電磁波遮蔽フィルタ等に好適な透明導電部材を実用できる。
しかも、製造面でも、アルミニウム酸化物皮膜は其の儘でケミカルエッチングできるので、酸化物皮膜の追加的な除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコストアップも避けられる。
（２）本発明の多機能フィルタによれば、低コスト化など、上記透明導電部材による電磁波遮蔽フィルタとしての効果が得られる多機能フィルタとなる。
（３）本発明の画像表示装置によれば、低コスト化など上記電磁波遮蔽フィルタ乃至は上記多機能フィルタの効果が得られる画像表示装置となり、その普及促進が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明による透明導電部材の一形態を示す断面図。
【図２】本発明による多機能フィルタの一形態を示す断面図。
【図３】本発明による画像表示装置の形態例を示す断面図。
【図４】アルミニウムパターン層のエッチング時にパターン精度不良が生じる原因を説    明する断面図。
【図５】アルミニウムパターン層のパターン精度不良を概念的に説明する平面図。
【図６】アルミニウムパターン層のエッチング時にパターン接着不良が生じる原因を説    明する断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明について、実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【００２１】
先ず、図１の断面図で例示する透明導電部材１０は、本発明の透明導電部材の一形態を示し、同図の場合では、アルミニウムパターン層２は、其の上面及び下面の表面にはアルミニウム酸化物皮膜（単に、「酸化物皮膜」とも呼稱する）３を有し、少なくとも上面の酸化物皮膜３の厚みが０〜１３Åの範囲となっている。そして、同図の形態例では、このアルミニウムパターン層２は、その下面側の酸化物皮膜３の下面に於いて、特定の透明接着剤層４によって透明基材１に接着固定され積層されている構成のものである。透明接着剤層４はアルミニウムパターン層２の開口部も含めて透明基材１の全面に形成されている。
【００２２】
なお、本発明にて「上面」とは、透明基材に対してアルミニウムパターン層が形成された側と同じ向きとなる面（図面では上方を向く面でもある）を言い、「下面」とは「上面」と逆向きの面（図面では下方を向く面でもある）を言う。
【００２３】
［透明基材］
透明基材１は、可視光線帯域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すれば良く、硝子、石英、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でも良い。但し、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、可撓性の樹脂フィルム（乃至シート）が好ましい。尚、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
【００２４】
樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリオウロピレン、シクロオレフィン重合体等のポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。中でも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。
【００２５】
透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、可撓性の樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。
【００２６】
尚、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでも良い。
【００２７】
［アルミニウムパターン層］
アルミニウムパターン層２はアルミニウムで形成したパターン層であり、該層自体は不透明だが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、導電性（乃至電磁波遮蔽性能）と光透過性とを両立させた層である。而かも、本発明のアルミニウムパターン層２は少なくとも其の上面に特定の厚み範囲０〜１３Åのアルミニウの酸化物皮膜３を有する。尚、１Å＝０．１ｎｍである。
【００２８】
アルミニウムパターン層のアルミニウムは純粋なアルミニウム単体でも良いが、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でも良く、これらを纏めて本発明ではアルミニウムと云う。アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は電磁波遮蔽性能の点では高い方が好ましく、純度が９９．０％以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターンは、ＪＩＳ  Ｈ４１６０（アルミニウム及びアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ  Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。
【００２９】
アルミニウムパターンの厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。
【００３０】
アルミニウムパターン層の平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ（網目、格子）形状、ストライプ（縞、平行線群）形状、スパイラル中でもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、其の他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区劃するライン部（線部又は線條部）となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一寸法となる。
【００３１】
尚、上記パターンは、本発明の透明導電部材をディスプレイ前面用の電磁波遮蔽フィルタ用途に使う場合には、画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設け無いベタパターンか、在っても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する画像表示領域の外方周囲に有することがある。
【００３２】
パターンのライン部のライン幅（線幅）は、例えば、５〜５０μｍ、本発明の効果がより際立つ点では、より細い５〜３０μｍであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。
【００３３】
（パターン形成）
アルミニウムパターン層のパターンを形成するには、透明基材上にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽フィルタに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
【００３４】
アルミニウムパターン層をケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
エッチングは、アルミニウム層の上面のレジストパターン非形成部に於けるアルミニウム酸化物皮膜も含めて行われる。エッチングの前処理として、該上面のアルミニウム酸化物皮膜の除去は特に必要無い。
そして、レジストパターン形成部に対応した、上面や下面のアルミニウム酸化物皮膜３は、アルミニウムパターン層２の上面や下面の酸化物皮膜３となって残る。
【００３５】
［アルミニウム酸化物皮膜］
アルミニウム酸化物皮膜３はアルミニウム酸化物を含む層であり、Ａｌ2Ｏ3に代表されるアルミニウム酸化物（が少なくとも主成分となる）層である。アルミニウムパターン層２をアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウム酸化物皮膜は箔の上面及び下面の表裏両面に存在する。本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターン層の少なくとも上面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましくは１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。
少なくとも上面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、該酸化物皮膜が例え存在した儘でも、安定したケミカルエッチングが可能となり、銅を安価なアルミニウムに変更したが故のパターン精度不良を回避できる。
【００３６】
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法で製造され、アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温雰囲気（２０℃、５０％ＲＨ前後）中で製造保管することによって、化学的に活性なアルミニウムは表面に不可逆的にアルミニウム酸化物皮膜が形成されるが、本発明の様に薄い酸化物皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化皮膜となる。
【００３７】
また、アルミニウムパターン層上面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、即ち酸化物皮膜が存在し無くても良い。
ただ、アルミニウムの酸化物皮膜は、不動態膜と言われるように、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中に於いて、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化乃至は腐蝕が進行することを防止する機能を有するので、この点では２〜３Å程度の、緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化物皮膜を形成しておいても良い。
【００３８】
尚、上面にアルミニウム酸化物皮膜が存在し無いアルミニウムパターン層は、真空中、不活性気体中でパターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化皮膜生成前にアルミニウム層の上面を樹脂被覆し酸化反応を遮断するなどすれば可能である。其の後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウム酸化物皮膜が存在し無いアルミニウムパターン層となる。
【００３９】
アルミニウム酸化物皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにする方法は各種有るが、アルミニウムパターン層にアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的の厚みに調整できる。
【００４０】
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化し無いように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウム酸化物皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍し無いという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００４１】
尚、アルミニウム酸化物皮膜の厚みは、ハンターホール法、螢光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定する。
【００４２】
アルミニウム酸化物皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターン層のパターン形成の為のケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化物皮膜である為、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化物皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。尚、下面のアルミニウム酸化物皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化物皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状ギザ発生への寄与は無視出来る為、パターン精度の点からは特に規定の必要は無い。但し、該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化物皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、又開口部の透明性を低下させることも有り得る。この為、下面のアルミニウム酸化物皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化物皮膜の膜厚も上面と同様に０〜１３Åとする。尚、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化物皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚の透明なアルミニウム酸化物皮膜を殘留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐蝕液による着色から保護することも出来る。
ただ、下面のアルミニウム酸化物皮膜も上面の酸化物皮膜と同程度の厚みで存在するとすれば、下面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みについても、上記した上面のアルミニウム酸化物皮膜と同厚みに規定をすることができる。
【００４３】
（黒化処理層）
尚、アルミニウムパターン層２は其の表面に黒化処理層を形成しても良い。  黒化処理層は、アルミニウムパターン層や其の表面の酸化物皮膜３による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターンの表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。
【００４４】
ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすれば良いのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。また、透明導電部材を其の上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、後述画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのが良い。
【００４５】
黒化処理層としては、電磁波遮蔽フィルタ用の金屬メッシュに於いて公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化処理層としては、金屬などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金屬乃至は合金、金屬酸化物、金屬硫化物等の金屬化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えば黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
【００４６】
［透明接着剤層］
透明接着剤層４は、アルミニウムパターン層を透明基材に固定する為の層であり、例えば、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定する為に使用される。
【００４７】
透明接着剤層としては、アルミニウムパターン層の開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤を選択する。例えば、ウレタン樹脂接着剤、アクリル樹脂接着剤、エポキシ樹脂接着剤、ゴム系接着剤等である。中でも、ウレタン樹脂接着剤、例えば２液硬化型ウレタン樹脂接着剤は、接着力等の点で好ましい。２液硬化型ウレタン樹脂接着剤としては、ポリオール化合物を主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオール化合物としては、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。又、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系等である。尚、ここで、各「・・系イソシアネート化合物」の中には、各イソシアネート化合部物の多量体、付加体、ブロック体等が包含される。上記のポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物は、各々複数種使用してもよい。
【００４８】
尚、原因や機構は不明であるが、一般に、同じ接着剤を使用した場合に於いても、アルミニウム箔（アルミニウム酸化物皮膜３を表裏面に有するアルミニウム層５３）は銅箔に比べて接着力は低目となる。そして、アルミニウム箔５４と透明接着剤層４との接着力が低下すると、図６の如くアルミニウム箔５４と透明接着剤層４との界面にエッチング液が進入し、アルミニウムパターン層２の周縁部に接着界面へのエッチング進入部分５７が生じる。其の結果、アルミニウム箔５４と透明接着剤層４との接着力が更に低下する。
本発明者らが検討した結果、斯かる接着力の低下は、透明接着剤としてウレタン樹脂、特に、２液硬化型ウレタン樹脂を選択し、且つ固化（２液硬化型の場合は硬化）した状態に於ける硝子転移温度が３０度Ｃ（攝氏３０度）以上、より好ましくは４０度Cのものを選択することにより、斯かる接着力の低下が改善されることが見出された。
尚、透明接着剤層の硝子転移温度の上限は、本發明の目的上は特に制限は無い。但し、ウレタン樹脂は有機高分子である以上、現実に有り得る硝子転移温度には自ずと限度が有り、又、価格、量産性、接着力以外の物性との両立等も考慮すると、現実的に選択できる透明接着剤層の硝子転移温度は、通常は、１００度C以下、より一般的には８０°C以下となる。
２液硬化型ウレタン樹脂の硬化（固化）した状態に於ける硝子転移温度を３０度Ｃ以上とする為には、以下の何れかの手段を１つ或いは２つ以上適用する。（１）２液硬化型ウレタン樹脂接着剤を構成するポリオール化合物に対するポリイソシアネート化合物の添加量を加減する。（２）２液硬化型ウレタン樹脂接着剤を構成するポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物の分子量、分子構造、官能基（水酸基乃至イソシアネート基）数等を選択乃至加減する。
尚、硝子転移温度の測定法としては、硬化した２液硬化型ウレタン樹脂接着剤を、ＤＳＣ（示差走査熱量測定）による熱量変化の測定により求めるか、又はレオメーターによるｔａｎδ＝Ｇ’’（損失弾性率）／Ｇ’（貯蔵弾性率）の測定によって求める。
【００４９】
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、これらを接着剤を介する様に積層することで形成できる。該形成法は、塗工法、印刷法などである。
【００５０】
本発明の透明導電部材は、後述の如く、各種用途に利用される。その代表的用途が、ＰＤＰ等の画像表示装置の前面（画面）に装着して、画面から輻射される電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽フィルタである。又、其の場合、該電磁波遮蔽フィルタは、それ単独で用いられることは少なく、通常は、他の光学フィルタと組合せ、複合化して、多機能フィルタとして用いられる。以下、代表的な用途である、電磁波遮蔽フィルタを含む多機能フィルタ及びこれを用いた画像表示装置について具体的に説明する。
【００５１】
［多機能フィルタ］
多機能フィルタ２０は、上記した本発明の透明導電部材を用いた電磁波遮蔽フィルタに更に光学フィルタを積層し、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能を備えたフィルタである。図２はこのような、多機能フィルタ２０の一形態を示す断面図であり、電磁波遮蔽フィルタ１０の片面に光学フィルタ５が直接積層された構成のフィルタである。
積層面は電磁波遮蔽フィルタ１０の何れかの片面の他、両面でもよい。なお、積層面が片面の場合、透明基材の下面側の面、アルミニウムパターンの上面側の面、何れでもよい。
【００５２】
電磁波遮蔽フィルタに更に光学フィルタを積層した多機能フィルタとすることによって、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能も備えた多機能化がなされ、透明基材の共通化、フィルタの薄型化が可能となり、ひいては低コスト化も可能となる。
【００５３】
（光学フィルタ）
光学フィルタ５としては、光学フィルタ機能を有する公知の光学フィルタを適宜選択すればよい。光学フィルタ機能としては、例えば、近赤外線を吸収する近赤外線吸収機能、紫外線を吸収する紫外線吸収機能、ＰＤＰディスプレイのネオン光を吸収するネオン光吸収機能、表示画像を好みの色調に補正する色補正機能などの特定光透過機能、反射防止機能（防眩、反射防止、防眩及び反射防止のいずれか）、或いは特開２００７−２７２１６１号公報に記載の外光反射防止によるコントラスト向上機能を有する薄膜微小ルーバ等である。
光学フィルタ５は、上記した、近赤外線吸収機能、反射防止機能、コントラスト向上機能などの各種光学フィルタ機能のうち１機能或いは２機能以上を備える。
【００５４】
これら各種の光学フィルタ機能は、例えば、近赤外線吸収機能、ネオン光吸収機能、色補正機能などは、これら機能に応じた色素（近赤外線吸収色素、ネオン光吸収色素、色補正色素）を用い、紫外線吸収機能は紫外線吸収剤を用いるなど、公知の材料・方法で実現できる。例えば、これら材料を樹脂中に分散させた樹脂層を光学フィルタ層として、公知の塗工法、押出法などで形成することができる。また、樹脂層は単層又は多層構成によって、複数機能を兼用することができる。
また、反射防止機能なども含めて光学フィルタ機能を担う光学フィルタ層は、適宜透明基材に積層して光学フィルタとすることもある。なお、ここでの透明基材としては、前述電磁波遮蔽フィルタの透明基材で列記した材料を使用できる。
【００５５】
［その他の層］
上記した電磁波遮蔽フィルタ、多機能フィルタには、更にその他の層、例えば、アルミニウムパターンの上面側の凹凸を平坦化する平坦化樹脂層、表面を保護する表面保護層、ハードコート層、汚染防止機能層、帯電防止機能層、粘着剤層、耐衝撃層等の、これらのフィルタに於いて公知の各種機能層を積層することができる。これらの層は、複数の機能層を１層で兼用することもできる。
【００５６】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上記した電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを前面（画面）に配置した画像表示装置であり、より具体的には上記した電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを画像表示素子の観察者側に配置した表示装置である。なお、前面とは画像表示装置の観察者側面である。また、配置は公知の形態によればよい。
【００５７】
このような画像表示装置とすることによって、その低コスト化が可能となり、画像表示装置の普及促進を図れる。
【００５８】
（画像表示素子）
該画像表示素子としては、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰとも云う）、陰極線管（ＣＲＴとも云う）、液晶表示素子（ＬＣＤとも云う）、電界発光素子（ＥＬとも云う）等で、電磁波が発生する素子である。例えば、ＰＤＰでは、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの帯域の不要な電磁波が発生する。
【００５９】
（配置の形態）
電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを、画像表示素子の観察者側に配置する配置形態には、大別して、電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを画像表示素子の観察者側の面に空間を介さず、但し通常は接着剤層を介して、直接積層して配置する形態〔図３（ａ）〕と、電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを空間を介して画像表示素子の観察者側に配置する形態〔図３（ｂ）〕とがある。
【００６０】
図３（ａ）に示す直接積層して配置する形態の画像表示装置４０は、電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０を、画像表示素子３０の観察者側の面に空隙を空けずに直接に積層した表示装置となっている。電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０を画像表示素子３０の観察者側の面に直貼りすることによって得ることができる。その際、必要に応じて透明な接着剤を介して積層する。接着剤（含む粘着剤）は電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０の一部として備えられた接着剤層、或いは積層時にこれらの間に適用したものなど公知のもので良い。透明な接着剤には、上記した透明接着剤層で列記した接着剤などを使用できる。
【００６１】
一方、図３（ｂ）に示す空間を介して配置する形態の画像表示装置４０の場合は、一旦、電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０を透明基板６の面に直接積層した板状積層体２１としたものを、画像表示素子２０の観察者側に空間を空けて配置したものである。
【００６２】
なお、図３（ｂ）の様に、電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０を空間を空
けて配置する形態では、これら電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０が剛直な板状体ではなくシート又はフィルム状でフレキシブルで形状維持ができないときに、透明基板６と積層した板状積層体２１とすることで、形状維持ができるようになる点で好適である。
また、板状積層体２１において、図３（ｂ）に例示の形態では、電磁波遮蔽フィルタ１０又は多機能フィルタ２０は透明基板６に対して観察者側の面に積層してあるが、この逆に、画像表示素子側の面に積層したものでもよい。
【００６３】
（透明基板）
なお、透明基板６としては、形状維持可能な板状体、例えば、硝子、セラミックスなどの無機板、樹脂板などが使用できる。樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。
透明基板の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
【００６４】
本発明による透明導電部材は、各種用途に使用可能である。代表的な用途としては前記の電磁波遮蔽フィルタであるが、其の他、透明アンテナ、タッチパネル電極、電波吸收体等にも使用できる。
電磁波遮蔽材としては、特に、テレビジョン受像装置、測定機器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器、電話機、電子看板、遊戯機器等の表示部等に用いられるＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＥＬなどの各種画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にＰＤＰ用として好適である。又、その他、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車輛、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジ等の各種家電製品の窓等に於ける電磁波遮蔽用途にも使用可能である。
透明アンテナとしては、特に、携帯電話機の筺体や窓部に設置して通話電波等の電波の送受信用途に、自動車の窓硝子に設置してＧＰＳ（地球位置検知システム）衛星の位置情報電波の受信用途に、建築物の窓硝子に設置して進入（窓硝子破壊）監視用途に、或いはＲＦIＤ（radio frequency identification）タグ等に設置して商品管理用途に利用される。各々の目的に応じた電波を送受信する。
【実施例】
【００６５】
［実施例１］
先ず、アルミニウムパターンとする金属箔として、厚み１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔（商品名；１Ｎ３０、製造メーカ；住軽アルミ箔社）を用意した。このアルミニウム箔の表面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みを測定したところ、上面下面とも８Åだった。
また、透明基材として、両面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
【００６６】
次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記アルミニウム箔の光沢面とを、硬化後の硝子転移温度が３０度Ｃである透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、５０℃で３日間養生して、アルミニウム箔と透明基材間に厚み３μｍの透明接着剤層を有する連続帯状のアルミニウム箔積層シートを得た。
【００６７】
次いで、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部及びライン部とから成るメッシュ状領域、及びメッシュ状領域を囲繞する外縁部に額縁状の開口部非形成の接地用領域を有するアルミニウムパターンを形成した。
【００６８】
上記エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対して、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートのアルミニウム箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部のアルミニウム箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液でエッチングして除去して、メッシュ状の開口部を有したアルミニウムパターンを形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００６９】
メッシュ状領域のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、該ライン部と該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの透明導電部材の中間体を得て、ロール状に巻き取った。
【００７０】
得られたロール状の、透明導電部材フィルタの中間体を、ロール・トウ・ロールで連続的に黒化処理装置に供給し、中間体のアルミニウムパターン面に対してニッケル化合物の黒化処理層を形成し、巻き取って、実施例１の透明導電部材を得た。
【００７１】
得られたアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキ（任意に１０箇所測定した線幅の標準偏差の３倍で評価、以下も同樣）は４．５μｍであり、面ムラは外観上問題無く、又、斷線も無かった。
【００７２】
又、得られた透明導電部材のアルミニウムメッシュパターン表面に幅２５ｍｍのセロファン粘着テープ（商品名；セロテープ（登録商標）、製造メーカ；ニチバン社）を、其の粘着剤層が該メッシュと対峙する向きで貼り合わせた後、剥離する剥離試験を実施した（以下、同樣に剥離試験を実施）。その結果、剥離後のセロファン粘着テープ上に付着して、透明基材上から剥離したアルミニウムメッシュパターンは無かった。
斯くして、得られた実施例１の透明導電部材は、ＰＤＰ前面用の電磁波遮蔽フィルタとして好適なものであった。
【００７３】
［実施例２］
実施例１に於いて、透明接着剤層として、硬化後の硝子転移温度が６７度Ｃである透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤を用いた他は、実施例１と同様にして、実施例２の透明導電部材を得た。
得られたアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキは４．５μｍであり、面ムラは外観上問題無く、又、斷線も無かった。
又、剥離試験を実施した結果、透明基材上から剥離したアルミニウムメッシュパターンは無かった。
【００７４】
［比較例１］
実施例１に於いて、透明接着剤層として、硬化後の硝子転移温度が１０度Ｃである透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤を用いた他は、実施例１と同様にして、比較例１の透明導電部材を得た。
得られたアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキは４．５μｍであり、面ムラは外観上問題無く、又、斷線も無かった。
又、剥離試験を実施した結果、透明基材上からアルミニウムメッシュパターンの一部が剥離してセロファン粘着テープ上に付着した。
【００７５】
［比較例２］
実施例１に於いて、アルミニウム箔表面のアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１５Åのものを使用した以外は同様にして電磁波遮蔽フィルタを得た。
得られたアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのラインに斷線が多発し（ライン幅のバラツキ２０μｍ以上）、外観的にも目視で面ムラが目立ち、また表面抵抗値も実施例１のものより低下した。
又、剥離試験を実施した結果、透明基材上から剥離したアルミニウムメッシュパターンは無かった。
【符号の説明】
【００７６】
１  透明基材
２  アルミニウムパターン層
３  アルミニウム酸化物皮膜（酸化物皮膜）
４  透明接着剤層
５  光学フィルタ
６  透明基板
１０  透明導電部材（電磁波遮蔽フィルタ）
２０  多機能フィルタ
２１  板状積層体
３０  画像表示素子
４０  画像表示装置
５１  エッチング液
５２  レジストパターン
５３  アルミニウム層
５４  アルミニウム箔
５５  アルミニウム箔積層体（シート）
５６  腐食先行部分
５７  接着界面へのエッチング進入部分
【図１】
2011071269.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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