(57)【要約】      （修正有）【課題】安定的な制御力が得られ、基板の下垂や皺の発生を抑制して処理が行える位置制御装置を提供する。【解決手段】基板の上側縁部の一方面に転接する第１ローラ２３と、第１ローラと基板の搬送方向に対して略同位置で、上側縁部の他方面に、第１ローラの転接地点の２地点２４ａ，２４ｂで転接する第２ローラ２４と、両ローラを、各転接地点における回転方向が基板の搬送方向に対して斜上方に向かう微小偏角を有するように回転可能に支持し、かつ、一方が他方に対してまたは相互に接離可能な一対の支持部材２５，２６と、一対の支持部材の一方または両方を相互に近接する方向に付勢する付勢手段５１と、付勢手段を介して一対の支持部材の接離方向位置を調節する位置調節手段５と、を備え、両ローラで、基板の上側縁部を屈曲させつつ送出可能であり、接離方向位置の調節により基板の屈曲度に応じた持ち上げ力を付与可能に構成する。【選択図】図５
2011146437.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送しその搬送経路にて前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の上下幅方向の位置制御装置であって、
前記可撓性基板の上側縁部の一方の面に転接する第１ローラと、
前記第１ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記上側縁部の他方の面に、前記第１ローラの転接地点の上方および下方の２地点で転接する第２ローラと、
前記第１および第２ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して斜上方に向かう微小偏角を有するように回転可能に支持し、かつ、一方が他方に対してまたは相互に接離可能な一対の支持部材と、
前記一対の支持部材の一方または両方を相互に近接する方向に付勢する付勢手段と、
前記付勢手段を介して前記一対の支持部材の接離方向位置を調節する位置調節手段と、を備え、
前記第１および第２ローラで、前記可撓性基板の上側縁部を屈曲させつつ送出可能であり、前記接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた持ち上げ力を前記可撓性基板に付与可能に構成されている、可撓性基板の位置制御装置。
【請求項２】
前記第２ローラが、前記２地点に対応した上下２つのローラで構成されている、請求項１に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項３】
前記第１ローラの周面の上下縁部が断面円弧状をなし、前記第２ローラの上下２地点に対応する各周面の前記第１ローラに隣接したそれぞれの縁部が断面円弧状をなしている、請求項１または２に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項４】
前記第１ローラの周面の上下縁部と、前記第２ローラの前記それぞれの縁部とが、前記接離方向位置の調節により少なくとも一部において相互に当接可能であり、それらの間に前記可撓性基板を挟持可能である、請求項３に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項５】
前記第１ローラの周面の上下縁部に当接可能な前記第２ローラの前記上下縁部の少なくとも一部が、前記第１ローラの周面に対応した断面凹円弧状をなしている、請求項４に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項６】
前記可撓性基板の上下幅方向位置を検知する検知手段をさらに備え、前記検知手段の検出値に基づいて前記位置調節手段を駆動する駆動手段をさらに備えている、請求項１〜５の何れか一項に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項７】
前記第１および第２ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記可撓性基板の下側縁部の一方の面に転接する第１下側ローラと、
前記下側縁部の他方の面に、前記下側第１ローラの転接地点の上方および下方の２地点で転接する第２下側ローラと、
前記第１および第２下側ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して斜下方に向かう微小偏角を有するように回転可能に支持し、かつ、一方が他方に対してまたは相互に接離可能な一対の下側支持部材と、
前記一対の下側支持部材の一方または両方を相互に近接する方向に付勢する下側付勢手段と、
前記下側付勢手段を介して前記一対の下側支持部材の接離方向位置を調節する下側位置調節手段と、をさらに備え、
前記第１および第２下側ローラで、前記可撓性基板の下側縁部を屈曲させつつ送出可能であり、前記下側支持部材の接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた引き下げ力を前記可撓性基板の下側縁部に付与可能に構成されている、請求項１〜６の何れか一項に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項８】
帯状の可撓性基板を搬送しその搬送経路にて前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の幅方向の位置制御装置であって、
前記可撓性基板の各側縁部の一方の面に転接する各側の第１ローラと、
前記各第１ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記各側縁部の他方の面に、前記各第１ローラの転接地点の幅方向外方および中央側の２地点で転接する各側の第２ローラと、
前記各側の第１および第２ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して幅方向外方に向かう微小偏角を有するようにそれぞれ回転可能に支持し、かつ、それぞれの側で一方が他方に対してまたは相互に接離可能な各側一対の支持部材と、
前記各側一対の支持部材のそれぞれの側における一方または両方を相互に近接する方向に付勢する各側の付勢手段と、
前記各側の付勢手段を介して前記各側一対の支持部材のそれぞれの接離方向位置を調節する各側の位置調節手段と、を備え、
前記各側の第１および第２ローラで、前記可撓性基板の各側縁部をそれぞれ屈曲させつつ送出可能であり、前記各接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた展張力を前記可撓性基板に付与可能に構成されている、可撓性基板の位置制御装置。
【請求項９】
前記各側の第２ローラが、それぞれ前記２地点に対応した２つのローラで構成されている、請求項８に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状の可撓性基板を搬送しその搬送経路にて前記基板に成膜等の処理を行なう装置における可撓性基板の幅方向位置の制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体薄膜などの薄膜積層体の基板には、通常、剛性基板が用いられるが、軽量でロールを介した取り扱いの利便性による生産性向上やコスト低減を目的として、プラスチックフィルムなどの可撓性基板が用いられる場合がある。特許文献１には、巻出しロールから供給される帯状可撓性基板（ポリイミドフィルム）を所定のピッチで間欠的に搬送しながら、前記可撓性基板の搬送方向に配列された複数の成膜ユニットで、前記可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層形成し、製品ロールとして巻取る薄膜積層体（薄膜光電変換素子）の製造装置が開示されている。
【０００３】
このような薄膜積層体の製造装置には、横姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を水平方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプと、縦姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を上下方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプがある。後者は、前者に比べて設置面積が小さく、基板表面が汚染されにくい等の利点があるが、光電変換層を複数設ける場合等、成膜ユニットの数が多くなり搬送スパンが長くなると、成膜部の両側のガイドローラのみで重力に抗して上下幅方向位置すなわち搬送高さを一定に維持するのが困難になり、可撓性基板の表面に皺が発生したり、可撓性基板が垂れ下がったりする傾向が顕著になる。
【０００４】
そこで、多数並設された成膜ユニット（例えば、化学蒸着、物理蒸着などの真空蒸着ユニット）の間に、可撓性基板の上側縁部を挟持しつつ送出するグリップローラ対を設けることが提案されている（特許文献２〜４参照）。この装置では、各グリップローラ対の挟持部における回転方向が、可撓性基板の搬送方向に対して斜上方に向かう傾斜を有することで、可撓性基板に対して挟持圧および傾斜角に応じた持ち上げ力を付与し、それらを制御することで、可撓性基板の搬送高さを一定に維持するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−７２４０８号公報
【特許文献２】特開２００９−３８２７６号公報
【特許文献３】特開２００９−３８２７７号公報
【特許文献４】特開２００９−５７６３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記グリップローラは、可撓性基板に対する安定的な把持力を得るために、ローラ表面に摩擦係数の大きいゴム材を使用している。しかし、成膜条件にも依るが、成膜ユニット間に設置されるグリップローラは高温度に曝される場合があり、耐熱性のゴム材を用いても把持力の変動やゴム材の劣化に伴う把持力の低下が懸念された。また、平坦なローラ周面による挟持は、ローラ表面の摩擦力に依存するため、接圧が小さくなる微調整領域で把持力を喪失する虞があり、安定的な制御を行なうために高度な接圧調整を必要とした。
【０００７】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、高温度下や微調整領域でも安定的な制御力が得られ、帯状可撓性基板を長距離に亘り搬送しつつも幅方向位置を一定に維持でき、下垂や皺の発生を抑制して高品質の処理が行える可撓性基板の位置制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決することを目的として、本発明は、帯状の可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送しその搬送経路にて前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の上下幅方向の位置制御装置であって、前記可撓性基板の上側縁部の一方の面に転接する第１ローラ（２３，２７）と、前記第１ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記上側縁部の他方の面に、前記第１ローラの転接地点の上方および下方の２地点（２４ａ，２４ｂ，２８ａ，２８ｂ）で転接する第２ローラ（２４，２８）と、前記第１および第２ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して斜上方に向かう微小偏角を有するように回転可能に支持し、かつ、一方が他方に対してまたは相互に接離可能な一対の支持部材（２５，２６）と、前記一対の支持部材の一方または両方を相互に近接する方向に付勢する付勢手段（５１，５１′）と、前記付勢手段を介して前記一対の支持部材の接離方向位置を調節する位置調節手段（５）と、を備え、前記第１および第２ローラで、前記可撓性基板の上側縁部を屈曲させつつ送出可能であり、前記接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた持ち上げ力を前記可撓性基板に付与可能に構成されている、可撓性基板の位置制御装置にある。
【０００９】
本発明の主要な態様では、前記第２のローラが、前記２地点に対応した上下２つのローラ（２４ａ，２４ｂ）で構成されている。また、前記第１のローラ（２３，２７）の周面の上下縁部（２３１，２３２，２７１，２７２）が断面円弧状をなし、前記第２のローラの上下２地点に対応する各周面の前記第１のローラに隣接したそれぞれの縁部（２４１，２４２，２８１，２８２）が断面円弧状をなしている。
【００１０】
本発明の好適な態様では、前記第１のローラの周面の上下縁部（２３１，２３２，２７１，２７２）と、前記第２のローラの前記それぞれの縁部（２４１，２４２，２８１，２８２）とが、前記接離方向位置の調節により少なくとも一部において相互に当接可能であり、それらの間に前記可撓性基板を挟持可能である。前記第１のローラの周面の上下縁部に当接可能な前記第２のローラの前記上下縁部の少なくとも一部（２８５，２８６）が、前記第１のローラの周面に対応した断面凹円弧状をなしている。
【００１１】
本発明において、前記可撓性基板の上下幅方向位置を検知する検知手段をさらに備え、前記検知手段の検出値に基づいて前記位置調節手段を駆動する駆動手段をさらに備えていることが好ましい。
【００１２】
本発明のさらに好適な態様では、前記第１および第２ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記可撓性基板の下側縁部の一方の面に転接する第１下側ローラと、前記下側縁部の他方の面に、前記下側第１ローラの転接地点の上方および下方の２地点で転接する第２下側ローラと、前記第１および第２下側ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して斜下方に向かう微小偏角を有するように回転可能に支持し、かつ、一方が他方に対してまたは相互に接離可能な一対の下側支持部材と、前記一対の下側支持部材の一方または両方を相互に近接する方向に付勢する下側付勢手段と、前記下側付勢手段を介して前記一対の下側支持部材の接離方向位置を調節する下側位置調節手段と、をさらに備え、前記第１および第２下側ローラで、前記可撓性基板の下側縁部を屈曲させつつ送出可能であり、前記下側支持部材の接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた引き下げ力を前記可撓性基板の下側縁部に付与可能に構成されている。
【００１３】
本発明に係る可撓性基板の位置制御装置は、前記第１および第２ローラが可撓性基板の各側縁部にそれぞれ配設される場合、縦姿勢のみならず、横姿勢を含む下記の態様をとりうる。すなわち、本発明は、帯状の可撓性基板を搬送しその搬送経路にて前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の幅方向の位置制御装置であって、前記可撓性基板の各側縁部の一方の面に転接する各側の第１ローラと、前記各第１ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記各側縁部の他方の面に、前記各第１ローラの転接地点の幅方向外方および中央側の２地点で転接する各側の第２ローラと、前記各側の第１および第２ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して幅方向外方に向かう微小偏角を有するようにそれぞれ回転可能に支持し、かつ、それぞれの側で一方が他方に対してまたは相互に接離可能な各側一対の支持部材と、前記各側一対の支持部材のそれぞれの側における一方または両方を相互に近接する方向に付勢する各側の付勢手段と、前記各側の付勢手段を介して前記各側一対の支持部材のそれぞれの接離方向位置を調節する各側の位置調節手段と、を備え、前記各側の第１および第２ローラで、前記可撓性基板の各側縁部をそれぞれ屈曲させつつ送出可能であり、前記各接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた展張力を前記可撓性基板に付与可能に構成されている、可撓性基板の位置制御装置にもある。
【００１４】
上記態様において、前記各側の第２ローラが、それぞれ前記２地点に対応した２つのローラで構成されていても良く、さらに、先述した他の好適な態様をとりうる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る可撓性基板の位置制御装置は、上述したような構成により、各転接地点における回転方向が可撓性基板の搬送方向に対して斜上方に向かう微小偏角を有する第１および第２のローラで、可撓性基板の縁部を屈曲させつつ送出することで、前記偏角に応じた持ち上げ力を可撓性基板に付与可能であるとともに、前記支持部材を介して第１および第２のローラの接離方向位置を調節し、可撓性基板の屈曲度を調節することにより、可撓性基板に付与される持ち上げ力を調整可能であり、フィードバック制御等の制御手法を併用することで、可撓性基板の上下幅方向位置を一定に維持可能である。
【００１６】
特に、上記のような可撓性基板の屈曲度に応じた持ち上げ力の調整は、可撓性基板の張力と剛直性を利用し、ローラ表面の摩擦係数に依存しない。そのため、ローラの材質に金属など、耐熱性や耐久性に優れた高強度材料を使用可能であり、それにより、成膜ユニットの熱や経時変化の影響を排除できる。したがって、高温度下や微調整領域でも安定的な制御力が得られ、上下幅方向位置を一定に維持して下垂や皺の発生を抑制し、高品質の処理が可能となる。
【００１７】
本発明において、前記第２のローラが、前記２地点に対応した上下２つのローラで構成されている態様では、第２ローラの個々のローラ形状が簡素化され、かつ、第１ローラと第２のローラの部品を共通化できる。
【００１８】
本発明において、前記第１のローラの周面の上下縁部が断面円弧状をなし、前記第２のローラの上下２地点に対応する各周面の前記第１のローラに隣接した上下縁部が断面円弧状をなしている態様では、第１および第２のローラによる可撓性基板の屈曲が大きい領域でも、可撓性基板に損傷を与えることがなく、かつ、第１および第２のローラの接離に伴う可撓性基板の屈曲度の変化に応じて、各ローラの断面円弧状縁部における可撓性基板との接触面積が増減することになり、可撓性基板に付与される持ち上げ力に対する良好な制御特性が得られる。
【００１９】
本発明において、前記第１のローラの周面の上下縁部と、前記第２のローラの上下縁部とが、前記接離方向位置の調節により少なくとも一部において相互に当接可能であり、それらの間に前記可撓性基板を挟持可能である態様では、第１および第２のローラの近接度が小さい領域では、可撓性基板の屈曲による保持力のみが付与される一方、第１および第２のローラの近接度が大きい領域では、可撓性基板の屈曲に加えて、第１および第２のローラの上下縁部の挟持により大きな持ち上げ力が得られる。したがって、搬送スパンが長くより大きな持ち上げ力を恒常的に必要とする場合に有利である。
【００２０】
さらに、本発明において、前記第１のローラの周面の上下縁部に当接可能な前記第２のローラの前記上下縁部の少なくとも一部が、前記第１のローラの周面に対応した断面凹円弧状をなしている態様では、上述した第１および第２のローラの上下縁部による挟持が、断面円弧状の第１ローラ周面と、断面凹円弧状の第２のローラ縁部または縁部から周面にかけての広い亘り漸次進行することで、持ち上げ力の大きい領域で良好な制御特性が得られる。
【００２１】
さらに、本発明において、前記第１および第２ローラと前記可撓性基板の搬送方向に対して略同位置で、前記可撓性基板の下側縁部の一方の面に転接する第１下側ローラと、前記下側縁部の他方の面に、前記下側第１ローラの転接地点の上方および下方の２地点で転接する第２下側ローラと、前記第１および第２下側ローラを、前記各転接地点における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して斜下方に向かう微小偏角を有するように回転可能に支持し、かつ、一方が他方に対してまたは相互に接離可能な一対の下側支持部材と、前記一対の下側支持部材の一方または両方を相互に近接する方向に付勢する下側付勢手段と、前記下側付勢手段を介して前記一対の下側支持部材の接離方向位置を調節する下側位置調節手段と、をさらに備え、前記第１および第２下側ローラで、前記可撓性基板の下側縁部を屈曲させつつ送出可能であり、前記下側支持部材の接離方向位置の調節により前記可撓性基板の屈曲度に応じた引き下げ力を前記可撓性基板の下側縁部に付与可能に構成されているので、前記可撓性基板を上下に展張しつつその上下幅方向位置を制御可能であり、可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制して高品質の処理を行なう上で一層有利である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明実施形態に係る製造装置の全体構成を示す概略平面図である。
【図２】本発明実施形態に係る製造装置の１つの成膜ユニットを示す概略平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】本発明第１実施形態に係る可撓性基板の位置制御装置を示す図３の要部拡大断面図である。
【図５】本発明第１実施形態に係る可撓性基板の位置制御装置を搬送方向上流側から見た要部拡大断面図である。
【図６】本発明第１実施形態に係る可撓性基板の位置制御装置のローラユニット付近を示す図３の要部拡大図である。
【図７】本発明第２実施形態に係る可撓性基板の位置制御装置のローラユニット付近を示す図６に対応する要部拡大図である。
【図８】本発明第１実施形態に係る可撓性基板の位置制御装置の変形例を示す図５に対応する概略図である。
【図９】本発明第３実施形態に係る可撓性基板の位置制御装置を搬送方向上流側から見た断面図概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２４】
図１は、本発明に係る可撓性基板の位置制御装置が実施される薄膜積層体の製造装置１００の全体構成を示す概略平面図である。図において、製造装置１００、例えば、太陽電池用の薄膜光電変換素子を構成する薄膜積層体の製造装置１００は、帯状の可撓性基板１（フレキシブルフィルム）の搬送系を構成する巻出し部１０および巻取り部３０を備え、可撓性基板１を縦姿勢で巻出し部１０から巻取り部３０へと所定ピッチで間欠的に搬送しつつ、それらの間の搬送経路に沿って配設された成膜部２０で、可撓性基板１に複数の薄膜を順次積層形成するように構成されている。
【００２５】
上記巻出し部１０、成膜部２０、巻取り部３０を覆う各室構造は、相互に気密に連結され、装置全体が、所定の真空度に維持された共通の真空室内に収容されている。図示例の製造装置１００は、２系統の薄膜積層体の製造ラインが平行にレイアウトされており、巻出し部１０および巻取り部３０は、各系統にそれぞれ配設されているが、成膜部２０は、２系統に共通の室構造（４０，４０・・・）内に収容されている。
【００２６】
巻出し部１０は、巻出しロール１１から可撓性基板１を巻出して供給する巻出し装置（１１）、巻出された可撓性基板１を成膜部２０に送給する巻出し側フィードローラ１２、巻出し側のフィルム張力を検出する張力検出ローラ１３ａおよび１３ｂ、成膜部２０の上流側で可撓性基板１を成膜部２０に案内するガイドローラ１４から主に構成されている。
【００２７】
成膜部２０の下流側に配設された巻取り部３０は、成膜部２０の下流側で可撓性基板１を案内するガイドローラ３４、該ガイドローラ３４における可撓性基板１の上下幅方向位置（搬送高さ）を制御する側端位置制御（ＥＰＣ）ローラ３５、アイドルローラ３６、巻取り側のフィルム張力を検出する張力検出ローラ３３ａおよび３３ｂ、巻取り側フィードローラ３２、および可撓性基板１をコアの周囲に巻取りロール３１として巻取る巻取り装置（３１）から主に構成され、張力検出ローラ３３ｂは、フィルム張力を積極的に制御する機能も有している。
【００２８】
上記巻出し部１０および巻取り部３０を構成する各ローラは、可撓性基板１を縦姿勢で搬送するために、何れも軸方向が鉛直方向に配向されている。但し、側端位置制御ローラ３５は、その軸方向を鉛直方向に対して傾動可能に構成されており、前記ガイドローラ３４における可撓性基板１の上下幅方向位置の検出値に基づいて回転軸を傾動させ、可撓性基板１の送出方向を上方または下方に微調整することにより、ガイドローラ３４における可撓性基板１の上下幅方向位置を補正し、一定に維持可能としている。
【００２９】
成膜部２０は、巻出し部１０と巻取り部３０との間における可撓性基板１の直線的な搬送経路に沿って所定のピッチで配列された複数の成膜ユニット４１で構成されている。成膜部２０の室構造は、成膜ユニット４１毎に区分された複数の室構造ユニット４０からなり、各室構造ユニット４０は相互に気密に連結され、先述した共通真空室の一部を構成している。各成膜ユニット４１は、プラズマＣＶＤなどの化学蒸着（ＣＶＤ）や、スパッタなどの物理蒸着（ＰＶＤ）を行なうための真空蒸着ユニットで構成される。
【００３０】
例えば、可撓性基板１に光電変換素子を積層形成する薄膜太陽電池の製造装置１００では、ｐｉｎ構造の光電変換層をプラズマＣＶＤにより積層形成する複数の成膜ユニット４１（ａ，ｂ・・・）、前記光電変換層の表面および可撓性基板１の裏面にそれぞれ電極層をスパッタリングにより積層形成する複数の成膜ユニット４１（ｉ，ｊ）を備えている。
【００３１】
図２は、プラズマＣＶＤ用の１つの成膜ユニット４１を概略的に示している。図において、成膜ユニット４１は、相互に対向する面が開口された固定チャンバー４２と、図示しない流体圧シリンダ等の進退駆動手段により前記固定チャンバー４２に対して接離可能に設けた可動チャンバー４３とを備え、固定チャンバー４２内にはヒータ４４ａを内蔵した接地電極４４が配設されている。また、可動チャンバー４３内には、表面に多数のガス噴出孔を有する高周波電極４５が配設され、この高周波電極４５は、真空室外部の図示しない高周波電源に接続されている。
【００３２】
上記成膜ユニット４１は、可撓性基板１の間欠的な搬送サイクルの停止期間中に、可動チャンバー４３を固定チャンバー４２に圧接し、可撓性基板１を挟んだ状態で成膜チャンバー（４２，４３）を閉鎖した後、排気管４５ｂを通じて成膜チャンバー（４２，４３）内をさらに減圧しながら、ガス導入管４５ａを通じて薄膜成分を含む原料ガスを成膜チャンバー（４２，４３）内に導入し、高周波電極４５に高周波高電圧を印加してプラズマを発生させ、加熱された可撓性基板１の表面に原料ガスの化学反応により薄膜を形成可能である。
【００３３】
薄膜太陽電池の発電効率を向上すべく光電変換層を複数設ける場合には、成膜ユニット４１の総数は１０以上になり、幅が１ｍ以上の大型の可撓性基板１では、巻出し側ガイドローラ１４から巻取り側ガイドローラ３４に至る搬送スパンは１０ｍ以上にもなる。そこで、製造装置１００には、成膜部２０における可撓性基板１の上下幅方向位置を一定に維持するための位置制御装置が設けられている。
【００３４】
位置制御装置は、図２および図３に示すように、成膜部２０における各成膜ユニット４１，４１・・・の間で、可撓性基板１の上側縁部を転支する上側ローラユニット２１，２１′・・・、および、可撓性基板１の下側縁部を転支する下側ローラユニット２２，２２・・・を含み、それらのうち、少なくとも１つの上側ローラユニット２１は、可撓性基板１に付与する持ち上げ力を制御可能に構成され、さらに、その搬送方向上流側で、可撓性基板１の上下幅方向位置を検知するセンサ４９、該センサ４９の検出値に基づいて前記少なくとも１つの上側ローラユニット２１による持ち上げ力を制御する制御機構５および制御部５０をさらに備えてなる。
【００３５】
先述したように、成膜部２０は、成膜ユニット４１毎に区分された複数の室構造ユニット４０からなり、各室構造ユニット４０は、その周辺部に配設される主構造材４６、該主構造材４６に対して開閉可能に設けられている側壁４７、主構造材４６の上部に固定された天井パネル４８などで構成されている。高周波電極４５を含む可動チャンバー４３およびその図示しない進退駆動手段は、各側壁４７に取付けられている。各室構造ユニット４０の接合部には、可撓性基板１を通過させるための開口４６０が各主構造材４６を貫通して設けられており、この開口４６０の上側および下側において、各上側ローラユニット２１，２１′および各下側ローラユニット２２は、それぞれの回転方向が搬送方向に対して斜上方および斜下方に向かう微小偏角α，βを有するように角度調整手段７を介して主構造材４６に取付けられている。
【００３６】
（第１実施形態）
図４および図５は、本発明の第１実施形態に係る上側ローラユニット２１およびその制御機構５を示している。各図において、上側ローラユニット２１は、可撓性基板１の上側縁部の表面に転接する第１ローラ２３、上側縁部の裏面に転接する第２ローラ２４、およびそれらを回転可能に支持しかつスプリング５１を介して相互に接離可能に支持する可動側および固定側支持部材２５，２６で構成され、さらに、第２ローラ２４は、第１ローラ２３の転接領域の上方および下方に配置された上下２つのローラ２４ａ，２４ｂで構成されている。
【００３７】
第２ローラ２４を構成する上ローラ２４ａおよび下ローラ２４ｂは、図５に示すように、固定側支持部材２６の先端（下端）に設けた支軸２６ａに、それぞれベアリングを介して回転自在に支持されている。上下のベアリングは、それぞれ上方および下方への軸方向荷重を受圧可能なボールベアリングやアンギュラーコンタクトボールベアリングなどで構成され、中間にスペーサ２４ｃが介装されることで、上ローラ２４ａおよび下ローラ２４ｂの軸方向位置および間隔が固定されている。
【００３８】
第１ローラ２３も基本的には同様であって、可動側支持部材２５の先端（下端）に設けた支軸（図示せず）に、前記下ローラ２４ｂと同様に軸方向荷重を受圧可能なベアリングを介して回転自在に支持され、軸方向位置が固定されている。
【００３９】
上記第１ローラ２３および第２ローラ２４の上下ローラ２４ａ，２４ｂは、いずれも金属製であり、同形状とすることで部品の共通化が図られている。この第１実施形態のローラユニット２１では、図６に示すように、第１ローラ２３が、周面の平坦部２３３の上下両側に断面円弧状の縁部２３１，２３２を有し、第２ローラ２４の上下ローラ２４ａ，２４ｂも同様に、平坦部２４３，２４４の上下両側に断面円弧状の縁部２４１，２４２を有している。
【００４０】
そして、上記第１ローラ２３と、第２ローラ２４の上下ローラ２４ａ，２４ｂとは、図６中矢印で示されるような接離方向の移動において、それぞれの平坦部２３３，２４３，２４４が相互に当接不可能である一方、第１ローラ２３の上側縁部２３１と、上ローラ２４ａの下側縁部２４１、および、第１ローラ２３の下側縁部２３２と、下ローラ２４ｂの上側縁部２４２とが、相互に当接可能な軸方向位置に配設されている。
【００４１】
上記構成により、第１ローラ２３が第２ローラ２４から離反し、可撓性基板１の裏面に第２ローラ２４の上下の平坦部２４３，２４４のみが転接する状態から、第１ローラ２３を第２ローラ２４に接近させると、第１ローラ２３の平坦部２３３が可撓性基板１の表面に転接し、第１ローラ２３を第２ローラ２４にさらに接近させるに伴い、第２ローラ２４の上下の平坦部２４３，２４４と第１ローラ２３の平坦部２３３との間で屈曲され、かつ各平坦部２３３，２４３，２４４から断面円弧状の各縁部２３１，２４１および２３２，２４２に転接領域が拡がり、第１ローラ２３の更なる接近によって、第１ローラ２３の上下縁部２３１，２４１と第２ローラ２４の対応する縁部２３２，２４２とで可撓性基板１が屈曲状態で挟持されることになる。
【００４２】
可撓性基板１として用いられるポリイミドフィルムなどのプラスチックフィルムは、フレキシブルではあるが剛直性であり、かつ、図１に示したように、成膜部２０の上流側および下流側のガイドローラ１４，３４間で張力を付与されている。このような可撓性基板１の上側縁部が、第１ローラ２３と第２ローラ２４とで屈曲状態で転支されることで、その屈曲度に応じたローラ軸方向の保持力を生じることになる。この保持力は、ローラ表面の摩擦係数に依存せず、表面が平滑な金属ローラでも屈曲度に応じた保持力が得られる。
【００４３】
先述した通り、第１ローラ２３と第２ローラ２４は、それぞれの転接領域での回転方向が、可撓性基板１の搬送方向に対して斜上方に向かう微小偏角αを有しているので、このような第１ローラ２３と第２ローラ２４で、可撓性基板１の上側縁部が屈曲されつつ送出されることで、可撓性基板１に屈曲度に応じた持ち上げ力が付与されることになる。したがって、第１ローラ２３と第２ローラ２４との接離方向位置を調節し、可撓性基板１の屈曲度を変化させることで、可撓性基板１に対する持ち上げ力を調整可能である。
【００４４】
さらに、可撓性基板１の屈曲度が大きい状態で第１ローラ２３の上下縁部２３１，２４１と第２ローラ２４の対応する縁部２３２，２４２とによる挟持が加わることで、可撓性基板１に対する保持力が最大になる。一方、可撓性基板１の屈曲度が小さい領域では、各ローラ表面における搬送方向への滑りが主体的になるが、金属ローラの表面は平滑であるため、可撓性基板１への擦過による損傷が回避される。
【００４５】
次に、上記第１ローラ２３および第２ローラ２４を回転可能に支持する可動側および固定側支持部材２５，２６およびそれらの接離方向位置を調節する制御機構５について説明する。
【００４６】
第２ローラ２４に対応する固定側支持部材２６は、図４および図５に示すように、その基端（上端）部において、角度調整手段７を構成するブラケット７１に固定されている。ブラケット７１は、第２ローラ２４の軸方向に対して垂直な支持部７１ａと、該支持部７１ａの一側から該支持部７１ａに対して垂直かつ上方に延びる基部７１ｂとを有し、支持部７１ａに固定側支持部材２６の基端部が固定されている。そして、ブラケット７１の基部７１ｂと、固定板７０との間にシム７３を介在させ、ボルト７２で、基部７１ｂを主構造材４６の垂直面に固定することにより、シム７３の厚さおよび／または枚数に応じてブラケット７１の取付け角度を調整可能であり、それにより、固定側支持部材２６に支持された第２ローラ２４および固定側支持部材２６に可動側支持部材２５を介して支持された第１ローラ２３の転接領域における微小偏角αを調整可能である。
【００４７】
第１ローラ２３に対応する可動側支持部材２５は、図５に示すように、その中間部において、前記固定側支持部材２６に固着されたブラケット２６ｂの先端部に、軸２５ａを介して揺動可能に支持され、軸２５ａを中心とした可動側支持部材２５の揺動により、第１ローラ２３が第２ローラ２４に対して接離可能となっている。
【００４８】
さらに、可動側支持部材２５は、前記中間部（２５ａ）からクランク状に屈曲して上方に延出した腕部２５ｂを有し、この腕部２５ｂの先端に、スプリング５１を支承するためのリテーナバー５１ａがナット５１ｂで固定されている。リテーナバー５１ａは、腕部２５ｂから、固定側支持部材２６の基端部に向けて第２ローラ２４の軸方向と交差する方向に延び、操作アーム５３の先端部５３ａとの間にスプリング５１を介装した状態で該先端部５３ａに挿通され、さらに、リテーナバー５１ａの先端部は、固定側支持部材２６の基端部に設けた長孔２６ｃに挿通されている。
【００４９】
スプリング５１により、可動側支持部材２５の腕部２５ａが、操作アーム５３から離反する方向に付勢され、軸２５ａを中心に腕部２５ａと反対側に位置した第１ローラ２３が第２ローラ２４側に付勢される。操作アーム５３をリテーナバー５１ａに沿って変位させて、スプリング５１の支持点を変位させることにより、スプリング５１を介して、第１ローラ２３と第２ローラ２４との接離方向位置を調節可能である。
【００５０】
操作アーム５３は、その基端部において、回動軸５４の下端に固定されている。回動軸５４は、主構造材４６にブラケット５４ｂを介して固定された軸受５４ａで回動自在に支持され、その上端は、シール軸受６を介して室構造ユニット４０の天井部（４８）を貫通し、真空室（４０）の外部で、レバー５５を介してアクチュエータ５６（リニアアクチュエータ）の出力軸５６ａに連結されている。
【００５１】
シール軸受６は、天井パネル４８の開口部４８０に、ベースプレート６０やＯリングなどを介して気密に取付けられており、そのハウジングの内部に、ベアリングおよび磁気シールを備えてなり、真空室内外の差圧を維持した状態で回動軸５４を回動自在に支持可能であり、回動軸５４を介してアクチュエータ５６の駆動を真空室（４０）の内部に伝達可能である。なお、シール軸受６および回動軸５４が設置されない開口部４８０は、耐熱ガラスなどの透明部材が装着され、真空室内部を観察するための観察窓となっている。
【００５２】
アクチュエータ５６としては、図示例では、サーボモータの回転をネジ送り機構などで直線往復動に変換するリニアアクチュエータを用いているが、ロータリーアクチュエータを用いて駆動軸５４を直接または間接的に回動するように構成することもできる。アクチュエータ５６は、センサ４９の検出値に基づいて制御部５０から出力される制御信号によって進退または回転駆動される。
【００５３】
センサ４９は、図３に示すように、制御可能な上側ローラユニット２１が設置された成膜ユニット４１間に対して、１ユニット分だけ搬送方向上流側にずれた成膜ユニット４１間に、プリセットタイプの上側ローラユニット２１′に隣接して主構造材４６に取付けられている。センサ４９は、例えば、可撓性基板１の上端位置（上下幅方向位置）を非接触で検出する反射型または透過型の光学センサなど周知の位置センサを利用可能である。
【００５４】
なお、プリセットタイプの上側ローラユニット２１′および各下側ローラユニット２２は、上述した制御可能な上側ローラユニット２１における固定側支持部材２６とスプリング５１との間に、操作アーム５３の代わりにリテーナバー５１ａに嵌合するスペーサを介装することで、共通のローラユニットから構成可能である。
【００５５】
次に、上記実施形態に基づき、製造装置１００による薄膜積層体の製造過程における可撓性基板１の上下幅方向位置制御について各図面を参照しながら説明する。
【００５６】
図１において、可撓性基板１は、巻出し部１０から成膜部２０を経て巻取り部３０へと所定のサイクルタイムで間欠的に搬送される。すなわち、可撓性基板１の間欠的な搬送サイクルの搬送期間では、成膜部２０における各成膜ユニット４１の可動チャンバー４３は固定チャンバー４２から離反しており、巻出し側フィードローラ１２と巻取り側フィードローラ３２とが同期して駆動され、可撓性基板１が、各成膜ユニット４１の可動チャンバー４３と固定チャンバー４２との間を１ユニット分だけ搬送され、それに応じて、可撓性基板１が巻出しロール１１から巻出され、かつ巻取りロール３１に巻取られる。
【００５７】
その際、成膜部２０の上流側および下流側ガイドローラ１４，３４間での可撓性基板１のフィルム張力は、張力検出ローラ１３ｂおよび３３ｂによって一定に維持され、かつ、下流側ガイドローラ３４における可撓性基板１の上下幅方向位置すなわち搬送高さは側端位置制御ローラ３５によって一定に制御されており、さらに、成膜部２０の各成膜ユニット４１間において、位置制御装置を構成する各ローラユニット２１，２１′，２２・・・で、可撓性基板１の上側縁部および下側縁部が転支されることにより、可撓性基板１の自重による垂下が抑制されるとともに、幅方向に展張されることで皺の発生が抑制される。しかし、先述したように、ガイドローラ１４，３４間の搬送スパンが長距離であり、かつ、可撓性基板１の物性が搬送方向に一様でないことにより、可撓性基板１の上下幅方向位置が上下に偏位する場合がある。
【００５８】
そこで、可撓性基板１の１ユニット分の搬送が終了し、各成膜ユニット４１の成膜チャンバー（４３，４２）が閉鎖され、搬送サイクルの停止期間中に成膜工程が実施されるのと並行して、略中央の成膜ユニット４１（ｆ）の下流側に設けたセンサ４９が、可撓性基板１の上端位置（上下幅方向位置）を検知する。基準ラインから上方または下方に有意な偏位を生じている場合には、偏位方向や偏位量に応じた検出値が制御部５０に取得され、制御部５０は、この検出値に基づいて、アクチュエータ５６を進退駆動し、上側ローラユニット２１の第１および第２ローラ２３，２４の接離方向の位置を調整する。
【００５９】
例えば、センサ４９によって、可撓性基板１の上端が下方に有意な偏位を生じていることが検知された場合には、図４および図５において、アクチュエータ５６の出力軸５６ａを偏位量に応じ前進させる。すると、出力軸５６ａの前進に応じてレバー５５が回転し、レバー５５の回転が回動軸５４を介して操作アーム５３に伝達され、操作アーム５３の回転により、スプリング５１の支持点（５３ａ）が、可動側支持部材２５の腕部２５ｂ側に変位し、第１ローラ２３が第２ローラ２４側に変位することによって、第１および第２ローラ２３，２４で屈曲状態に転支されている可撓性基板１の屈曲度が増加する。
【００６０】
次いで、各成膜ユニット４１の成膜工程が終了し、各成膜チャンバー（４３，４２）が開放された後、再び、巻出し側フィードローラ１２と巻取り側フィードローラ３２とが同期して回転され、可撓性基板１が、各成膜ユニット４１に沿って１ユニット分だけ搬送されると、下側ローラユニット２２の転接による引き下げ力に対して、上側ローラユニット２１の転接による持ち上げ力が優勢となり、それによって、可撓性基板１が展張されつつ上方に引き上げられ、可撓性基板１の下方への偏位が補正される。
【００６１】
可撓性基板１の１ユニット分の搬送が終了すると、再度、各成膜ユニット４１の成膜チャンバー（４３，４２）が閉鎖され、次の成膜工程が実施され、これと並行して、前記同様にセンサ４９により、可撓性基板１の上端位置が検知され、上側ローラユニット２１の第１および第２ローラ２３，２４の接離方向の位置がさらに調整される。センサ４９によって、可撓性基板１の上方への偏位が検知された場合には、上述したのと逆の操作で上側ローラユニット２１による持ち上げ力が減少され、上方への偏位が補正される。
【００６２】
このように、搬送サイクルの停止期間における成膜工程と並行した上下幅方向位置の検知とそれに基づく上側ローラユニット２１の接離方向位置の調整プロセス、および、搬送期間における可撓性基板１の搬送力を利用した上下幅方向位置の補正プロセスが、交互に実行されることによって、可撓性基板１の上下幅方向位置が一定または所定の公差内に維持される。また、搬送期間中に上下幅方向位置の監視とそれに基づく上側ローラユニット２１の接離方向位置の調整あるいは修正を実行することもできる。
【００６３】
上記実施形態では、可撓性基板１を間欠的にステップ搬送しながら、その停止期間中に各成膜ユニット４１で成膜工程を実施する製造装置１００において、ステップ動作で上下幅方向位置制御を実施する場合を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、共通真空室内で可撓性基板を連続的に搬送しながら成膜を行なう成膜装置にも実施可能であり、その場合、センサで可撓性基板の上下幅方向位置を常時監視しながらそれに基づく上側ローラユニット２１の接離方向位置の調整を実行することで、可撓性基板１の上下幅方向位置を一定または所定の公差内に維持可能である。
【００６４】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る上側ローラユニット２１Ｂについて図面を参照しながら説明する。第２実施形態の上側ローラユニット２１Ｂも、図７に示すように、可撓性基板１の上側縁部の表面に転接する第１ローラ２７、上側縁部の裏面に転接する第２ローラ２８、およびそれらを回転可能に支持しかつ相互に接離可能に支持する可動側および固定側支持部材２５，２６で構成されている。第１および第２ローラ２７，２８が、可動側および固定側支持部材２５，２６に軸方向荷重を受圧可能なベアリングを介して回転自在に支持され、それぞれの軸方向位置が固定されている点は上述した第１実施形態と同様である。
【００６５】
第１ローラ２７は、基本的には第１実施形態と同様であるが、その周面２７１，２７２が第１実施形態より曲率の大きい断面円弧状をなす太鼓形ローラに近い形状となっている。一方、第２ローラ２８は、前記第１ローラ２７の周面２７１，２７２に対応した断面凹円弧状の周面２８５，２８６を含む１つの鼓形ローラで構成されており、第１ローラ２７による転接地点の上方および下方に位置した縁部２８ａ，２８ｂにおいて、可撓性基板１に転接可能となっている。
【００６６】
また、第１ローラ２７は、断面円弧状の周面２７１，２７２の中間に部分的な平坦部２７３を有し、それに対応して第２ローラ２８も、断面凹円弧状の周面２８５，２８６の中間に部分的な平坦部２８３を有している。さらに、第２ローラ２８は、断面凹円弧状の周面２８５，２８６と上下両側の縁部２８ａ，２８ｂとを滑らかに連結する断面円弧状の縁部２８１，２８２を有している。
【００６７】
上記構成により、第１ローラ２７が第２ローラ２８から離反し、可撓性基板１の裏面に第２ローラ２８の上下の縁部２８ａ，２８ｂのみが転接する状態から、第１ローラ２７を第２ローラ２８に接近させると、第１ローラ２７の平坦部２７３が可撓性基板１の表面に転接し、第１ローラ２７をさらに接近させるに伴い、可撓性基板１が第２ローラ２８の上下の縁部２８ａ，２８ｂと第１ローラ２７の周面２７１，２７２との間で屈曲され、断面円弧状の周面２７１，２７２および各縁部２８１，２８２に転接領域が拡がり、第１ローラ２７の更なる接近によって、第１ローラ２７の上下縁部２７１，２８１と第２ローラ２８の対応する周面２８５，２８６および各平坦部２７３，２８３で可撓性基板１が屈曲状態で挟持されることになる。
【００６８】
可撓性基板１の上側縁部が、上記のように第１ローラ２７と第２ローラ２８とで屈曲状態で転支されることで、その屈曲度に応じたローラ軸方向の保持力が生じ、先述したように、可撓性基板１の搬送方向に対して斜上方に向かう微小偏角αを有する第１ローラ２７と第２ローラ２８で、可撓性基板１の上側縁部が屈曲されつつ送出されることで、可撓性基板１に屈曲度に応じた持ち上げ力が付与され、第１ローラ２７と第２ローラ２８との接離方向位置を調節し、可撓性基板１の屈曲度を変化させることで、可撓性基板１に対する持ち上げ力を調整可能である。
【００６９】
さらに、第２実施形態の上側ローラユニット２１Ｂでは、曲率の大きい断面円弧状の縁部２７１，２８１および断面凹円弧状の周面２８５，２８６によって、可撓性基板１の屈曲度に応じて比較的広い転接領域が得られ、可撓性基板１に対する保持力を大きく変化させることができる。
【００７０】
（第１実施形態の変形例）
次に、図８は、本発明の第１実施形態に係る変形例を示す概略図であり、第１実施形態と同様の部材には同様の符号を付し概略的に説明する。この変形例の上側ローラユニット２１Ｃでは、第２ローラ２４を構成する上下ローラ２４ａ，２４ｂが、第１ローラ２３の幅以上に上下方向に離間して配置されている。このため、第１ローラ２３が第２ローラ２４に接近しても第１ローラ２３と第２ローラ２４の上下ローラ２４ａ，２４ｂとは当接せず、可撓性基板１は、各ローラ２３，２４による屈曲のみで保持され、屈曲度を変化のみによって可撓性基板１に対する持ち上げ力の調整がなされる。したがって、各ローラ２３，２４による挟持は得られないが、第２ローラ２４の上下ローラ２４ａ，２４ｂの間に第１ローラ２３が大きく入り込むことで大きな屈曲度が得られる。
【００７１】
また、この変形例の上側ローラユニット２１Ｃでは、スプリング５１′が、真空室の外部に配設され、アクチュエータ５６の進退駆動によりスプリング５１′の支持点が直接的に変位し、スプリング５１′の制御された付勢力が、付勢力伝達機構を構成するレバー５５′、回動軸５４′、操作アーム５３′を介して、真空室内の可動側支持部材２５に伝達され、第１ローラ２３と第２ローラ２４との接離方向位置（入り込み量）を調節可能である。上記のような変形例は、１つの第２ローラ２８を備えた第２実施形態についても同様に構成可能である。
【００７２】
（第３実施形態）
上記各実施形態では、帯状可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送し成膜を行なう薄膜積層体の製造装置１００としての実施形態について述べたが、本発明に係る位置制御装置は、図９に示す第３実施形態のように、帯状可撓性基板を横姿勢で水平方向に搬送し成膜を行なう薄膜積層体の製造装置３００にも実施可能である。
【００７３】
図９において、本発明第３実施形態の製造装置３００は、所定の真空度に維持された室構造ユニット３４０（真空室）の内部に、可撓性基板１を挟んでその上下に対向配置された電極３４５（ターゲット）と、接地電極３４４とからなる成膜ユニット３４１が配設されている。成膜ユニット３４１の搬送方向上流側および下流側には、搬送手段を構成するガイドロール（アイドルロール）やフィードロール、テンションロールなどが配設され、さらにそれらの搬送方向上流側および下流側に、可撓性基板１の巻出しロールおよび巻取りロールが配設されている点は、前記各実施形態と同様であるが、当然ながら、各ロールの回転軸は何れも水平方向に配向されている。
【００７４】
製造装置３００は、可撓性基板１の搬送経路の幅方向両側において、可撓性基板１の幅方向各側縁部を転支するローラユニット３２１，３２１と、それらによる幅方向各側に向かう展張力を制御する制御機構３０５，３０５を備えている。各ローラユニット３２１，３２１は、それぞれの回転方向が搬送方向に対して幅方向外方に向かう微小偏角α，βを有するように角度調整手段３０７，３０７を介して構造材に取付けられている。
【００７５】
各側のローラユニット３２１，３２１は、いずれも可撓性基板１の側縁部表面に上側から転接する第１ローラ３２３、側縁部裏面に下側から転接する第２ローラ３２４、およびそれらを回転可能に支持しかつスプリング３５１を介して相互に接離可能に支持する可動側および固定側支持部材３２５，３２６で構成され、さらに、第２ローラ３２４は、第１ローラ３２３の転接領域の外側および内側に同軸配置された２つのローラ３２４ａ，３２４ｂで構成されている。
【００７６】
各側の第２ローラ３２４（固定支持部材３２６）が下になるように横向きに配置されている点、および、各可動支持部材３２７が揺動軸付近で屈曲している点を除けば、各側のローラユニット３２１，３２１は、基本的に第１実施形態（図５，６）と同様の構成であり、それぞれの第１ローラ２３および第２ローラ３２４（ローラ３２４ａ，３２４ｂ）の軸方向位置が固定されている点も同様である。
【００７７】
一方、各側の制御機構３０５，３０５は、基本的に第１実施形態の変形例（図８）に係る制御機構５′と同様の構成となっており、スプリング３５１，３５１が、真空室（３４０）の外部に配設され、アクチュエータ３５６，３５６の進退駆動によって制御されたスプリング３５１，３５１の付勢力が、付勢力伝達機構を構成するレバー３５５，３５５、回動軸３５４，３５４、操作アーム３５３，３５３を介して、真空室内の可動側支持部材３２５，３２５に伝達され、第１ローラ２３と第２ローラ２４（ローラ３２４ａ，３２４ｂ）との接離方向位置を調節可能である。
【００７８】
可撓性基板１の搬送経路の幅方向両側には、可撓性基板１の各側縁部の位置を検知するセンサ３４９，３４９が配設されており、各センサ３４９，３４９の検知に基づいて、制御部３５０によりアクチュエータ３５６，３５６が個別に進退駆動されることで、各ローラユニット３２１，３２１の第１ローラ３２３と第２ローラ３２４との接離方向位置が制御され、可撓性基板１の各側縁部にはそれぞれの屈曲度に応じた展張力が付与され、それに応じて可撓性基板１が幅方向に展張されかつその幅方向位置が制御される。
【００７９】
この製造装置３００では、可撓性基板１の下面側に接地電極３４４が配設され、可撓性基板１の自重による影響は小さく、かつ、各側の各ローラユニット３２１，３２１に同様に作用する。したがって、各側のスプリング３５１，３５１の初期変位および各アクチュエータ３５６，３５６の制御量は、基本的に同等に設定される。各アクチュエータ３５６，３５６による制御は、可撓性基板１を幅方向に展張しつつ、可撓性基板１の幅方向の変位や蛇行を補正するために、各側センサ３４９の検知に基づいて制御部３５０により個別にかつ連携して実施される。
【００８０】
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記以外にも本発明の技術的思想に基づいてさらに各種の変形および変更が可能である。
【００８１】
例えば、上記第１実施形態の第２ローラ２４の上下ローラ２４ａ，２４ｂが一体に構成されていても良いし、上記第２実施形態の第２ローラ２８が、中間の平坦部２８３において上下に分割され、固定側支持部材２６に第１実施形態と同様に個別に回転可能に支持されていても良い。また、上記各実施形態では、第１ローラ２３，２７および第２ローラ２４ａ，２４ｂ，２８が、いずれも金属ローラで構成される場合を示したが、成膜条件などによっては、各ローラを、金属製ローラ本体の周面に耐熱性ゴム被覆を施したローラで構成することもできる。
【００８２】
さらに、上記各実施形態では、第１および第２のローラを回転可能に支持する一対の支持部材が、可動側支持部材２５と固定側支持部材２６で構成される場合を示したが、支持部材が、共に固定軸を中心に揺動可能に支持され相互に接離可能な２つの可動支持部材で構成されても良い。また、上記各実施形態では、付勢手段（スプリング５１）にコイルスプリングを用いる場合を示したが、スパイラルスプリングやリーフスプリング等、周知の各種スプリング形式を利用できる。
【００８３】
さらに、上記各実施形態では、可撓性基板１の搬送経路に沿って多数並設された成膜ユニット４１の各隣接ユニット間に、それぞれ、上側ローラユニット２１，２１′・・・および下側ローラユニット２２・・・が設置され、略中央の１つの上側ローラユニット２１が制御可能であり、それ以外がプリセットタイプである場合を示したが、複数の上側ローラユニット２１を一斉もしくは個別に制御可能とすることもできる。
【００８４】
また、成膜ユニット４１の搬送方向の長さが比較的小さい場合等には、１ないし２ユニット置きにローラユニットを設置することもでき、さらに、成膜ユニット４１の数が少なく（例えば２つ）搬送スパンが比較的短距離の場合には、制御可能な上側ローラユニット２１とその下方に配置されるプリセットタイプの下側ローラユニット２２とで位置制御装置を構成するか、または、制御可能な上側ローラユニット２１のみで位置制御装置を構成することもできる。上記後者の場合、可撓性基板１に作用する重力と、上側ローラユニット２１の持ち上げ力を平衡させることによって、可撓性基板の上下幅方向位置を一定に維持する制御がなされる。
【００８５】
さらに、上記各実施形態では、可撓性基板１の搬送方向および第１および第２ローラの微小偏角α，βの方向が一定の場合を示したが、角度調整手段７に正逆反転機構を具備することで、可撓性基板１の逆方向への搬送を含む成膜工程に実施することもできる。
【００８６】
上記各実施形態では、本発明に係る可撓性基板の位置制御装置を太陽電池用の薄膜積層体の製造装置に実施する場合について述べたが、本発明に係る位置制御装置は、有機ＥＬ等の半導体薄膜の製造装置は勿論、塗装、洗浄、乾燥、熱処理、表面加工など、成膜以外にも、可撓性基板の位置制御や展張が求められる各種処理装置に適用できる。また、本発明に係る可撓性基板の位置制御装置は、可撓性基板を縦姿勢（または傾斜姿勢）で横方向（斜方向を含む）に搬送する場合、可撓性基板を横姿勢で水平方向、上下方向、あるいは斜方向に搬送する各場合に実施可能である。
【符号の説明】
【００８７】
１  可撓性基板
５  制御機構
６  シール軸受
７  角度調整手段
１０  巻出し部
１１  巻出しロール
１２  巻出し側フィードローラ
１３ａ，１３ｂ  張力検出ローラ
１４  ガイドローラ
２０  成膜部
２１，２１′２１Ｂ  上側ローラユニット
２２  下側ローラユニット
２３，２７  第１ローラ
２４，２８  第２ローラ
２４ａ  上ローラ
２４ｂ  下ローラ
２５  可動側支持部材
２６  固定側支持部材
３０  巻取り部
３１  巻取りロール
３２  巻取り側フィードローラ
３３ａ，３３ｂ  張力検出ローラ
３４  ガイドローラ
３５  側端位置制御ローラ
４０  室構造ユニット
４１  成膜ユニット
４２  固定チャンバー
４３  可動チャンバー
４６  主構造材
４８  天井パネル
４８０  開口部
４９  センサ
５０  制御部
５１  スプリング（付勢手段）
５３  操作アーム
５４  回動軸
５５  レバー
５６  アクチュエータ
１００，３００  製造装置
３２１  ローラユニット
３２３  第１ローラ
３２４  第２ローラ
３４０  室構造ユニット
３４１  成膜ユニット
３４９  センサ
３５０  制御部
３５１  スプリング（付勢手段）
３５３  操作アーム
３５４  回動軸
３５５  レバー
３５６  アクチュエータ
α，β  微小偏角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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