(57)【要約】【課題】二色比が高く、均一性が高い偏光子を製造可能な方法の提供。【解決手段】（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）２種以上の下記一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素を含有し、液晶性の非着色性化合物を含まない組成物を、スリットコーティング法で塗布する工程を含む偏光子の製造方法である。式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し；Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し；Ｌ1は、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、又は−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；Ａ1は、置換基を有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、又は芳香族複素環基を表し；Ｂ1は、置換基を有していてもよい、２価の芳香族炭化水素基又は２価の芳香族複素環基を表し；ｎは１〜４の整数を表す。2011048309.tif 000076【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）２種以上の下記一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素を含有し、液晶性の非着色性化合物を含まない組成物を、スリットコーティング法で塗布する工程を含む偏光子の製造方法：
【化１】
2011048309.tif 000064
式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し；Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し；Ｌ1は、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、又は−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；Ａ1は、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し；Ｂ1は、置換基を有していてもよい、２価の芳香族炭化水素基又は２価の芳香族複素環基を表し；ｎは１〜４の整数を表し、ｎが２以上のとき複数のＢ1は互いに同一でも異なっていてもよい。
【請求項２】
（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素のうち、少なくとも一種が、下記一般式（Ｉａ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法：
【化２】
2011048309.tif 000065
式中、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し；Ｌ1aは、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；Ａ1aは、下記一般式（IIa）又は（IIIa）で表される基を表し；Ｂ1a及びＢ2aはそれぞれ独立に、下記式（IVa）、（Ｖａ）、又は（VIａ）で表される基を表す；
【化３】
2011048309.tif 000066
式中、Ｒ9は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、又は置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す；
【化４】
2011048309.tif 000067
式中、ｍは０〜２の整数を表す。
【請求項３】
（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素のうち、少なくとも一種が、下記一般式（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で表されるアゾ色素であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法：
【化５】
2011048309.tif 000068
式中、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し；Ｌ1bは、−Ｎ＝Ｎ−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を表し；Ｌ2bは、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、又は−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−を表し；Ａ1bは、下記式（IIb）又は（IIIb）で表される基を表し；ｍは０〜２の整数を表す；
【化６】
2011048309.tif 000069
式中、Ｒ14は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【化７】
2011048309.tif 000070
式中、Ｒ12及びＲ13は、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し、Ａ1cは、下記式（IIc）又は（IIIc）で表される基を表す。
【化８】
2011048309.tif 000071
式中、Ｒ14は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【請求項４】
前記（Ａ）界面活性剤が、
（ｉ）下記一般式（VII）又は（VIII）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位
及び
（ii）下記一般式（IX）で表されるアミド基含有モノマーの重合単位、又は、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び／又はポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから導かれる重合単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法：
【化９】
2011048309.tif 000072
式中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、ｍは４〜８の整数を表す；
2011048309.tif 000073
式中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、ｍは４〜８の整数を表す；
【化１０】
2011048309.tif 000074
式中、Ｒ3は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ10、Ｒ11は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【請求項５】
前記（Ａ）界面活性剤が、下記一般式（Ｘ）で表されるフルオロ脂肪族基含有化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【化１１】
2011048309.tif 000075
式中、Ｒ11、Ｒ22及びＲ33は各々独立に、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基を表し；Ｘ11、Ｘ22及びＸ33は各々独立に、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；ｍ１１、ｍ２２及びｍ３３は各々独立に１〜３の整数を表す。
【請求項６】
前記組成物が、（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマー、及び（Ｅ）光重合開始剤をさらに含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素の含有量が、溶剤を除く全固形分における２０質量％以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光子の製造方法。
【請求項８】
（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素の含有量、及び（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマーの含有量の合計が、溶剤を除く全固形分における５０質量％以上であることを特徴とする請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法によって製造された偏光子。
【請求項１０】
下記［１］、［２］及び［３］の工程：
［１］カラーフィルタ上に形成された配向膜をラビング、又は光照射する工程
［２］該配向膜上に請求項１〜８中に記載の組成物をスリットコーティングする工程
［３］溶剤を蒸発させることにより、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素を配向さ  せて、偏光子とする工程
をこの順で含む積層体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法によって製造された積層体。
【請求項１２】
請求項９に記載の偏光子、又は請求項１１に記載の積層体を有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子の製造方法、積層体の製造方法、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能等が必要となった際には、従来は、それぞれの機能毎に異なった原理によって作動する装置を充当していた。それ故に、それら機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、ＬＣＤ（液晶素子）では表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。ＯＬＥＤ（有機エレクトロルミネッセンス素子）においても外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。従来、これらの偏光板（偏光素子）にはヨウ素が二色性物質として広く使用されてきた。しかしながら、ヨウ素は昇華性が大きいために偏光素子に使用した場合、その耐熱性が十分ではなかった。
【０００３】
そのため、有機系の色素を二色性物質に使用する偏光素子が検討されている。これら有機系の色素においてはヨウ素に比べると耐熱性は改良されているものの、二色性がかなり劣る程度の偏光素子しか得られないなどの問題点があった。
一方、近年、表示性能などの向上を目的に新たな偏光素子の用途開発が進められている。特許文献１では、カラーフィルタ層と液晶材料層との間に偏光層（いわゆる、インセル偏光層）を設けることにより、カラーフィルタの偏光解消を抑制することが提案されている。しかしながら、前記の偏光素子用材料では、インセル偏光層を製造するに十分な耐熱性を有していない。
【０００４】
そこで、最近では他の方法が着目されるようになってきた。この方法として、特許文献２では、配向膜上に有機色素分子を気相から蒸着し配向させている。しかしながら、該特許に記載の方法では、製造上、プロセス自体が煩雑であるという問題点があった。
【０００５】
また、湿式成膜法により、ガラスや透明フィルムなどの基板上に有機色素分子の分子間相互作用などを利用して二色性色素を配向方法が提案されている。湿式成膜法には、スピンコート法、マイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ディップコート法、スプレーコート法等の各種塗布法、又は、スクリーン印刷法、インクジェット法等の印刷技術があるが、このような湿式成膜法で偏光素子を作製する場合、この偏光素子に使用される色素は、高い二色性と均一性で配向する必要があるため、使用する色素に適した湿式成膜法であることが要求される。特許文献３では、平板状色素を含有する水溶液を、せん断応力のかかる方法で塗布することが好ましい旨が記載され、実施例ではマイヤーバーコートを実施している。また、特許文献４に記載の実施例では、スピンコート塗布方法が実施されている。
【０００６】
ところで、液晶表示装置の製造において、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）基板及びカラーフィルタ基板を含めて、基板サイズの大型化は必然の傾向である。近年では、少なくとも一辺の長さが１０００ｍｍ以上となる第五世代以上の基板が主流となっている。かかる基板として、例えば９６０ｍｍ×１１００ｍｍ、１１００ｍｍ×ｌ２５０ｍｍ、１１００ｍｍ×１３００ｍｍ、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ、１８００ｍｍ×２０００ｍｍなどの基板が挙げられるが、このように基板サイズが大型化し、少なくとも一辺の長さが１０００ｍｍ以上の基板表面に、偏光層を形成するためには、組成物の使用効率を改良するための塗布方法の適用が強く求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−９０３１７号公報
【特許文献２】特開平８−２７８４０９号公報
【特許文献３】特開２００２−３１１２４６号公報
【特許文献４】特開２００５−１８９３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者が検討したところ、特許文献３に記載されている、マイヤーバーコート法等、せん断応力のかかる塗布方法により偏光層を形成すると、厚みムラが生じ易いことがわかった。偏光層の厚みムラは、散乱光の発生の原因、ひいてはコントラスト低下の原因となる。一方、特許文献４に記載されている、スピンコート塗布方法では、遠心力により配向が乱れ、配向欠陥が発生するという問題があることがわかった。これらの方法では、高い均一性で、しかも材料の配向性を損なうことなく、高い二色比の偏光層を形成することは困難である。特に、上記大型化した基板の表面に偏光層を形成するためには、上記した通り、使用効率の観点での改良も必要となり、上記方法では、この観点においても不十分である。
【０００９】
本発明は、上記の背景技術に鑑みなされたものであり、以下に示す目的を達成することを課題とする。
本発明は、大面積に塗布した場合であっても、配向欠陥の発生を抑制でき、均一性が高く、且つ二色性の高い偏光子の安定的な製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は、当該方法を利用して製造された偏光子及び積層体を具備する表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有する特定構造のアゾ色素、を含有する組成物を、スリットコーティング法で塗布することで上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の課題は、下記の手段により達成されるものである。
［１］  （Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）２種以上の下記一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素を含有し、液晶性の非着色性化合物を含まない組成物を、スリットコーティング法で塗布する工程を含む偏光子の製造方法：
【００１１】
【化１】
2011048309.tif 000002
式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し；Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し；Ｌ1は、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、又は−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；Ａ1は、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し；Ｂ1は、置換基を有していてもよい、２価の芳香族炭化水素基又は２価の芳香族複素環基を表し；ｎは１〜４の整数を表し、ｎが２以上のとき複数のＢ1は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００１２】
［２］（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素のうち、少なくとも一種が、下記一般式（Ｉａ）で表される化合物であることを特徴とする［１］の方法：
【化２】
2011048309.tif 000003
式中、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し；Ｌ1aは、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；Ａ1aは、下記一般式（IIa）又は（IIIa）で表される基を表し；Ｂ1a及びＢ2aはそれぞれ独立に、下記式（IVa）、（Ｖａ）、又は（VIａ）で表される基を表す；
【００１３】
【化３】
2011048309.tif 000004
式中、Ｒ9は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、又は置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す；
【００１４】
【化４】
2011048309.tif 000005
式中、ｍは０〜２の整数を表す。
【００１５】
［３］（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素のうち、少なくとも一種が、下記一般式（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で表されるアゾ色素であることを特徴とする［１］又は［２］の方法：
【００１６】
【化５】
2011048309.tif 000006
式中、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し；Ｌ1bは、−Ｎ＝Ｎ−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を表し；Ｌ2bは、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、又は−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−を表し；Ａ1bは、下記式（IIb）又は（IIIb）で表される基を表し；ｍは０〜２の整数を表す；
【００１７】
【化６】
2011048309.tif 000007
式中、Ｒ14は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【００１８】
【化７】
2011048309.tif 000008
式中、Ｒ12及びＲ13は、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し、Ａ1cは、下記式（IIc）又は（IIIc）で表される基を表す。
【００１９】
【化８】
2011048309.tif 000009
式中、Ｒ14は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【００２０】
［４］前記（Ａ）界面活性剤が、
（ｉ）下記一般式（VII）又は（VIII）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位
及び
（ii）下記一般式（IX）で表されるアミド基含有モノマーの重合単位、又は、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び／又はポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから導かれる重合単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも１種を含有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの方法：
【化９】
2011048309.tif 000010
式中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、ｍは４〜８の整数を表す；
2011048309.tif 000011
式中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、ｍは４〜８の整数を表す；
【００２１】
【化１０】
2011048309.tif 000012
式中、Ｒ3は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ10、Ｒ11は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００２２】
［５］前記（Ａ）界面活性剤が、下記一般式（Ｘ）で表されるフルオロ脂肪族基含有化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの方法。
【化１１】
2011048309.tif 000013
式中、Ｒ11、Ｒ22及びＲ33は各々独立に、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基を表し；Ｘ11、Ｘ22及びＸ33は各々独立に、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；ｍ１１、ｍ２２及びｍ３３は各々独立に１〜３の整数を表す。
【００２３】
［６］前記組成物が、（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマー、及び（Ｅ）光重  合開始剤をさらに含有することを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの方法。
［７］（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素の含有量が、溶剤を除く全固形分におけ  る２０質量％以上であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの偏光子の製造方法。
［８］（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素の含有量、及び（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマーの含有量の合計が、溶剤を除く全固形分における５０質量％以上であることを特徴とする［６］又は［７］の方法。
［９］［１］〜［８］のいずれかの方法によって製造された偏光子。
［１０］下記［１］、［２］及び［３］の工程：
［１］カラーフィルタ上に形成された配向膜をラビング、又は光照射する工程
［２］該配向膜上に［１〜８中］の組成物をスリットコーティングする工程
［３］溶剤を蒸発させることにより、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素を配  向させて、偏光子とする工程
をこの順で含む積層体の製造方法。
［１１］［１０］の方法によって製造された積層体。
［１２］［９］の偏光子、又は［１１］の積層体を有する表示装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、大面積に塗布した場合であっても、配向欠陥の発生を抑制でき、均一性が高く、且つ二色性の高い偏光子の安定的な製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、当該方法を利用して製造された偏光子及び積層体を具備する表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において、なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
１．偏光子の製造方法
本発明の偏光子の製造方法は、（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び、（Ｃ）２種以上の下記一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素を含有する偏光子用組成物を、スリットコーティング法で塗布することを特徴とする。
【００２６】
（１）偏光子形成用組成物の調製
まず、本発明の製造方法に利用される偏光子形成用の組成物について詳細に説明する。
本発明の製造方法に利用される偏光子形成用の組成物は、（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び、（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素を含有する。但し、該組成物は、液晶性の非着色性化合物を含有しない。即ち、本発明では、アゾ色素分子は自らの配向能によって配向し、その状態が固定されることで偏光子として機能する。例えば、二色性色素とともに液晶化合物を含有する組成物を利用して、液晶化合物の分子の配向に沿って、二色性色素の分子を配向させ、所定の二色比を達成している、いわゆるゲストホスト（ＧＨ）タイプの偏光子とは、本発明の製造方法によって製造される偏光子は区別される。
【００２７】
（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるネマチック液晶性を有するアゾ色素：
【化１２】
2011048309.tif 000014
【００２８】
式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し；Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し；Ｌ1は、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、又は−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；Ａ1は、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し；Ｂ1は、置換基を有していてもよい、２価の芳香族炭化水素基又は２価の芳香族複素環基を表し；ｎは１〜４の整数を表し、ｎが２以上のとき複数のＢ1は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２９】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1〜Ｒ4で表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、３，５−ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００３０】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００３１】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基（−ＣＨ＝Ｎ−もしくは−Ｎ＝ＣＨ−）、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００３２】
Ｒ1〜Ｒ4で表される基としては、好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
【００３３】
Ｒ5及びＲ6で表される置換基を有していてもよいアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。Ｒ5及びＲ6で表されるアルキル基の置換基としては、前記Ｒ1〜Ｒ4で表される置換基と同義である。Ｒ5又はＲ6がアルキル基を表す場合、Ｒ2又はＲ4と連結して環構造を形成してもよい。Ｒ5及びＲ6は、好ましくは水素原子、アルキル基であり、より好ましくは、水素原子、メチル基、又はエチル基である。
【００３４】
Ａ1は、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
該フェニル基又は該ナフチル基が有していてもよい置換基としては、アゾ化合物の溶解性やネマチック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、又は配向を固定化するために導入される重合性基を有する基が好ましく、具体的には、前記Ｒ1〜Ｒ4で表される置換基と同義である。好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子であり、特に好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、ニトロ基、イミノ基、アゾ基である。これらの置換基のうち、炭素原子を有するものについては、炭素原子数の好ましい範囲は、Ｒ1〜Ｒ4で表される置換基についての炭素原子数の好ましい範囲と同様である。
【００３５】
該フェニル基又は該ナフチル基は、これら置換基を１〜５個有していてもよく、好ましくは１個有していることである。フェニル基についてより好ましくは、Ｌ1に対してパラ位に１個置換基を有していることである。
【００３６】
芳香族複素環基としては、単環又は二環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基として具体的には、ピリジル基、キノリル基、チオフェニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、チアジアゾリル基、キノロニル基、ナフタルイミドイル基、チエノチアゾリル基などが挙げられる。
【００３７】
芳香族複素環基としては、ピリジル基、キノリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリ基、チアジアゾリル基、又はチエノチアゾリル基が好ましく、ピリジル基、ベンゾチアゾリル基、チアジアゾリル基、又はチエノチアゾリル基がより好ましく、ピリジル基、ベンゾチアゾリル基、又はチエノチアゾリル基がさらに好ましい。
【００３８】
Ａ1は、特に好ましくは、置換基を有していてもよいフェニル基、ピリジル基、ベンゾチアゾリル基、又はチエノチアゾリル基である。
【００３９】
Ｂ1は、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基、又は２価の芳香族複素環基を表す。ｎは１〜４を表し、ｎが２以上のとき、複数のＢ1は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００４０】
該芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。該芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、及びシアノ基が挙げられる。該芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、メチル基、又はハロゲン原子がさらに好ましい。
【００４１】
該芳香族複素環基としては、単環又は二環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基として具体的には、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアジアゾール基、フタルイミド基、チエノチアゾール基等が挙げられる。中でも、チエノチアゾール基が特に好ましい。
該芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、メチル基、及びエチル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；無置換あるいはメチルアミノ基等のアミノ基；アセチルアミノ基、アシルアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらの置換基のうち、炭素原子を有するものについては、炭素原子数の好ましい範囲は、Ｒ1〜Ｒ4で表される置換基についての炭素原子数の好ましい範囲と同様である。
【００４２】
前記一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素の好ましい例には、下記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）のいずれかで表されるアゾ色素が含まれる。
【００４３】
【化１３】
2011048309.tif 000015
【００４４】
式中、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し；Ｌ1aは、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；Ａ1aは、下記一般式（IIa）又は（IIIa）で表される基を表し；Ｂ1a及びＢ2aはそれぞれ独立に、下記式（IVa）、（Ｖａ）、又は（VIａ）で表される基を表す；
【００４５】
【化１４】
2011048309.tif 000016
【００４６】
式中、Ｒ9は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、又は置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【化１５】
2011048309.tif 000017
【００４７】
式中、ｍは０〜２の整数を表す。
【００４８】
【化１６】
2011048309.tif 000018
【００４９】
式中、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し；Ｌ1bは、−Ｎ＝Ｎ−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を表し；Ｌ2bは、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、又は−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−を表し；Ａ1bは、下記式（IIb）又は（IIIb）で表される基を表し；ｍは０〜２の整数を表す；
【化１７】
2011048309.tif 000019
【００５０】
式中、Ｒ14は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【００５１】
【化１８】
2011048309.tif 000020
【００５２】
式中、Ｒ12及びＲ13は、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し、Ａ1cは、下記式（IIc）又は（IIIc）で表される基を表す。
【化１９】
2011048309.tif 000021
【００５３】
式中、Ｒ14は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基を表す。
【００５４】
前記一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）中、各基が有する置換基の例には、一般式（Ｉ）中のＲ1〜Ｒ4で表される置換基の例と同様である。また、アルキル基等の炭素原子を有する基については、炭素原子数の好ましい範囲は、Ｒ1〜Ｒ4で表される置換基についての炭素原子数の好ましい範囲と同様である。
【００５５】
なお、上記一般式（Ｉ）、（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）で表される化合物は置換基として、重合性基を有していてもよい。重合性基を有していると、硬膜性が良化されるので好ましい。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。エチレン性不飽和重合性基の例には、アクリロイル基、及びメタクリロイル基が含まれる。
重合性基は分子末端に位置するのが好ましく、即ち、式（Ｉ）中では、Ｒ5及び／又はＲ6の置換基として、並びにＡｒ1の置換基として、存在するのが好ましい。
【００５６】
以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に限定されるものではない。
【化２０】
2011048309.tif 000022
【００５７】
【化２１】
2011048309.tif 000023
【００５８】
【化２２】
2011048309.tif 000024
【００５９】
【化２３】
2011048309.tif 000025
【００６０】
【化２４】
2011048309.tif 000026
【００６１】
【化２５】
2011048309.tif 000027
【００６２】
【化２６】
2011048309.tif 000028
【００６３】
【化２７】
2011048309.tif 000029
【００６４】
【化２８】
2011048309.tif 000030
【００６５】
【化２９】
2011048309.tif 000031
【００６６】
【化３０】
2011048309.tif 000032
【００６７】
【化３１】
2011048309.tif 000033
【００６８】
【化３２】
2011048309.tif 000034
【００６９】
【化３３】
2011048309.tif 000035
【００７０】
【化３４】
2011048309.tif 000036
【００７１】
【化３５】
2011048309.tif 000037
【００７２】
【化３６】
2011048309.tif 000038
【００７３】
【化３７】
2011048309.tif 000039
【００７４】
【化３８】
2011048309.tif 000040
【００７５】
【化３９】
2011048309.tif 000041
【００７６】
【化４０】
2011048309.tif 000042
【００７７】
【化４１】
2011048309.tif 000043
【００７８】
【化４２】
2011048309.tif 000044
【００７９】
本発明に係る前記一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素は、Journal of Materials Chemistry (1999), 9(11), 2755-2763に記載の方法に準じて容易に合成することができる。
【００８０】
前記一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素の液晶性については、好ましくは１０〜３００℃、より好ましくは１００〜２５０℃でネマチック液晶相を示す。
【００８１】
前記偏光子形成用組成物は、（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素を含有する。アゾ色素の組み合わせについては特に制限はないが、製造される偏光子が高い偏光度を達成するためには、黒色となる組み合わせで混合するのが好ましい。
本発明の一般式（Ｉａ）で表わされるアゾ色素は、マゼンタのアゾ色素であり、一般式（Ｉｂ）で表わされるアゾ色素は、イエロー又はマゼンタのアゾ色素であり、一般式（Ｉｃ）で表わされるアゾ色素は、シアンのアゾ色素である。
前記偏光子形成用組成物が含有する２種以上の一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素のうち、少なくとも１種は、一般式（Ｉａ）で表されるアゾ色素であることが好ましい。
また、前記偏光子形成用組成物が含有する２種以上の一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素のうち、少なくとも１種は、一般式（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で表されるアゾ色素であることが好ましい。
また、前記偏光子形成用組成物は、少なくとも１種の一般式（Ｉａ）で表されるアゾ色素、及び少なくとも１種の一般式（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で表されるアゾ色素を含有することが好ましい。
また、前記偏光子形成用組成物は、少なくとも１種の一般式（Ｉａ）で表されるアゾ色素、少なくとも１種の一般式（Ｉｂ）で表される化合物、及び少なくとも１種の（Ｉｃ）で表されるアゾ色素を含有しているのがさらに好ましい。
なお、前記偏光子形成用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素以外の色素等である着色材料をさらに含有していてもよい。一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素以外の色素も、液晶性を示す化合物から選択されるのが好ましい。
【００８２】
前記偏光子形成用組成物における、（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素の含有量は、含有される全色素の合計の含有量に対して、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。上限値は１００質量％であり、即ち、含有される色素が全て、一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素であっても勿論よい。
【００８３】
また、前記偏光子形成用組成物に含まれる（Ｂ）溶剤を除く全固形分における、（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素の含有量は、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。上限値は特に制限されないが、（Ａ）界面活性剤の効果が充分となるためには、また、後述する（Ｄ）及び（Ｅ）成分を含有する態様ではそれらの添加効果を充分に得るためには、それぞれある程度の量を添加する必要があり、これらの観点では、前記偏光子形成用組成物に含まれる（Ｂ）溶剤を除く全固形分における、（Ｃ）２種以上の一般式（Ｉ）で表されるアゾ色素の含有量は、９８質量％以下であるのが好ましく、５０質量％以下であるのがより好ましい。
なお、上記したＧＨタイプの偏光子では、形成に用いる組成物は、通常、ホストとなる液晶化合物を、全固形分中９０質量％以上含有し、ゲストの色素の含有量は１〜５質量％程度である。
【００８４】
（Ａ）界面活性剤：
本発明に用いる前記偏光子形成用組成物は、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性アゾ色素とともに、（Ａ）界面活性剤を含有する。界面活性剤は、スリットコーティング時の風ムラ等を防止することを目的として添加される。また、界面活性剤が、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性アゾ色素の分子を、より安定的に水平配向状態とするのにも寄与する場合もある。より具体的には、空気界面において水平配向剤として作用し、空気界面側でのリバースチルトドメインの発生を抑えることができる。
【００８５】
風ムラ防止の観点で添加される界面活性剤の例には、一般なフッ素系ポリマー界面剤が含まれる使用するフッ素系ポリマーとしては、色素のチルト角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。界面活性剤として使用可能なフッ素ポリマーの例としては、特開２００４−１９８５１１号公報、特許第４１９０２７５号公報、特開２００４−３３３８５２号公報、特開２００５−２０６６３８号公報、特願２００８−１９３５６５号公報に記載がある。
【００８６】
前記界面活性剤の一例は、
(ｉ）下記一般式（VII）又は（VIII）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位
及び
（ii）ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び/又はポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから導かれる重合単位
を含む第１のフルオロ脂肪族基含有共重合体である。該第１のフルオロ脂肪族基含有共重合体は、風ムラの軽減に寄与する。
【化４３】
2011048309.tif 000045
【００８７】
式中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、ｍは４〜８の整数を表す。ｍは好ましくは４又は６である。これらの混合物を用いてもよい。
【００８８】
次に、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び／又はポリ（オキシアルキレン）メタクリレートについて説明する（以下アクリレートとメタクリレートの両方を指すときには、両方をまとめて（メタ）アクリレートと呼ぶこともある）。
ポリオキシアルキレン基は（ＯＲ）ｘで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。
【００８９】
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン又はオキシエチレン単位であったり、又は直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロック及びオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。
前記ポリ（オキシアルキレン）鎖は、複数のポリ（オキシアルキレン）単位同士が１つ又はそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など、ここでＰｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つ又はそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
【００９０】
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Pluronic（旭電化工業（株）製）、"アデカポリエーテル"（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Carbowax（グリコ・プロダクス）］、"トリトン"［Toriton（ローム・アンド・ハース（Rohm  and Haas製））および"P.E.G"（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。
公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【００９１】
ポリオキシアルキレン（メタ）アクリレートの好ましい例は、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレート、及びポリオキシプロピレン（メタ）アクリレートである。
【００９２】
第１のフルオロ脂肪族基含有共重合体中における、フルオロ脂肪族基含有モノマーの好ましい共重合比率としては、該フルオロ脂肪族基含有モノマーが前記一般式（VII）で表される化合物である態様では、該モノマーは、全モノマー中の５０質量％以上９９質量％以下が好ましく、より好ましくは７０質量％以上９８質量％以下、特に好ましくは８０質量％以上９８質量％以下である。該フルオロ脂肪族基含有モノマーが前記一般式（VIII）で表される化合物である態様では、該モノマーは、全モノマー中の２０質量％以上６０質量％以下であるのが好ましく、より好ましくは３０質量％以上５５質量％以下、特に好ましくは３５質量％以上５０質量％以下である。
【００９３】
第１のフルオロ脂肪族基含有共重合体の好ましい重量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましい。
【００９４】
以下、第１のフルオロ脂肪族基含有共重合体の具体的な構造の例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、式中の数字は各モノマー成分の質量比率を示し、Ｍｗは重量平均分子量を表す。
【００９５】
【化４４】
2011048309.tif 000046
【００９６】
【化４５】
2011048309.tif 000047
【００９７】
【化４６】
2011048309.tif 000048
【００９８】
上記フルオロ脂肪族基含有共重合体等のフッ素系ポリマーを界面活性剤として、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性アゾ色素と併用し、スリットコーティング法により膜を形成することで、ムラを生じることなく、高い偏光度の偏光子を安定的に形成することができる。さらに、ハジキなどの塗布性も改善される。色素の配向を阻害しないように、風ムラ防止目的で使用される、フッ素系ポリマーの添加量は、（Ｃ）２種以上のアゾ色素の合計量に対して、一般に０．１〜１０質量％の範囲であるのが好ましく、０．５〜１０質量％の範囲にあるのがより好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあるのがさらに好ましい。
【００９９】
本発明に用いられる（Ａ）界面活性剤の他の例は、
（１）下記一般式（III）で表されるフルオロ脂肪族基含有化合物；又は、
（２）上記一般式（VII）又は（VIII）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位、及び一般式（IX）で表されるアミド基含有モノマーの重合単位からなる群から選択される少なくとも一種の重合単位を含む第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体；
である。これらの界面活性剤は、塗膜の空気界面において、アゾ色素分子を、水平配向させるのに寄与する界面活性剤であり、特に、空気界面において水平配向剤として作用し、空気界面側でのリバースチルトドメインの発生を抑える作用を有する。以下、それぞれ説明する。まず、（１）一般式（III）で表されるフルオロ脂肪族基含有化合物について説明する。
【０１００】
【化４７】
2011048309.tif 000049
【０１０１】
式中、Ｒ11、Ｒ22及びＲ33は各々独立に、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基を表し、Ｘ11、Ｘ22及びＸ33は各々独立に、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、ｍ１１、ｍ２２及びｍ３３は各々独立に、１〜３の整数を表す。
【０１０２】
Ｒ11、Ｒ22及びＲ33で各々表される置換基は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。前記末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基は、アルコキシ基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルコキシ基である。アルコキシ基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。以下に、Ｒ11、Ｒ22及びＲ33で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基の例を示す。
【０１０３】
Ｒ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−Ｏ−
Ｒ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−Ｏ−
Ｒ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−Ｏ−
Ｒ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ７：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ８：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ９：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−Ｏ−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−Ｏ−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−Ｏ−
Ｒ１３：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−Ｏ−
Ｒ１４：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−Ｏ−
Ｒ１５：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−Ｏ−
Ｒ１６：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ１７：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ１８：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
【０１０４】
一般式（III）中、Ｘ11、Ｘ22及びＸ33はそれぞれ、好ましくは−ＮＨ−又は−Ｏ−を表し、最も好ましくは−ＮＨ−を表す。ｍ11、ｍ22及びｍ33はそれぞれ、好ましくは２である。
【０１０５】
前記一般式（III）で表される化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【０１０６】
【化４８】
2011048309.tif 000050
【０１０７】
次に、（２）上記一般式（VII）又は（VIII）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位、及び一般式（IX）で表されるアミド基含有モノマーの重合単位からなる群から選択される少なくとも一種の重合単位を含む第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体について説明する。
一般式（VII）又は一般式(VIII) で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについては、上記第１のフルオロ脂肪族基含有共重合体で説明した一般式（VII）又は一般式(VIII) で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーと同義であり、好ましい例も同様である。
【０１０８】
【化４９】
2011048309.tif 000051
【０１０９】
式中、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子又はメチル基がより好ましい。
Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜２０の芳香族基又は炭素数１〜２０のヘテロ環基を表し、これらの置換基はさらに置換基を有していてもよい。また、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜１５の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基であることがさらに好ましい。また、Ｒ10とＲ11が互いに連結して複素環を形成してもよく、形成されるヘテロ環の種類としては、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環などが挙げられる。
【０１１０】
前記第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体は、フルオロ脂肪族基含有モノマー及びアミド基含有モノマーを重合単位として含んでいればよい。該ポリマーにはそれぞれのモノマーは重合単位として２種以上含まれていてもよく、また、それ以外に共重合可能な他のモノマーを一種以上重合単位として含む共重合体であってもよい。このような共重合可能な他の種類のモノマーとしては、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２  Ｐａｇｅ１〜４８３記載のものを用いることができる。例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等を挙げることができる。
【０１１１】
第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体の好ましい質量平均分子量は、２０００〜１００，０００であり、より好ましくは３０００〜８０，０００であり、さらに好ましくは４，０００〜６０，０００である。ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【０１１２】
以下、本発明に使用可能な第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体の例を示すが、以下の具体例に制限されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１１３】
【化５０】
2011048309.tif 000052
【０１１４】
【化５１】
2011048309.tif 000053
【０１１５】
【化５２】
2011048309.tif 000054
【０１１６】
【化５３】
2011048309.tif 000055
【０１１７】
【化５４】
2011048309.tif 000056
【０１１８】
その他、特開２００５−９９２４８号公報、特開２００５−１３４８８４号公報、特開２００６−１２６７６８号公報、特開２００６−２６７１８３号公報記載の水平配向剤を用いることもできる。
【０１１９】
（Ａ）界面活性剤として用いられる、（１）フルオロ脂肪族基含有化合物、又は（２）第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体は、それぞれ１種のみ用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。（１）フルオロ脂肪族基含有化合物、又は（２）第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体の添加量は、（C9２種以上のネマチック液晶性アゾ色素の合計の含有量に対して０．１質量％〜１０質量％であるのが好ましく、０．５質量％〜１０質量％であることがさらに好ましく、０．５質量％〜５質量％であることが特に好ましい。
【０１２０】
本発明に用いる前記偏光子用組成物は、さらに以下の添加剤の１種以上を含有していてもよい。
（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性多官能モノマー：
前記偏光子用組成物は、（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマーの１種以上を含有することが好ましい。
本発明において、「ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマー」とは、成長活性種がラジカル的に重合反応する多官能モノマーであって、非液晶性のモノマーをいう。この多官能モノマーは分子内に２個以上の二重結合を有する多官能モノマーであることが好ましく、エチレン性（脂肪族性）不飽和二重結合であることが特に好ましく、具体的には、アルケン、ジエン、アクリレート、メタクリレート、不飽和多価カルボン酸のジエステル、α、β−不飽和カルボン酸のアミド、不飽和ニトリル、スチレン及びその誘導体、ビニルエステル、ビニルエーテル等の官能基を有する多官能モノマーを挙げることができる。分子内の二重結合の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１５であることがさらに好ましく、２〜６であることがより好ましい。多官能モノマーは、分子内に２個以上のヒドロキシルを有するポリオールと、不飽和脂肪酸とのエステルであることが好ましい。不飽和脂肪酸の例には、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸及びイタコン酸が含まれ、アクリル酸及びメタクリル酸が好ましい。分子内に４個以上のヒドロキシルを有するポリオールは、四価以上のアルコールであるか、あるいは三価以上のアルコールのオリゴマーであることが好ましい。オリゴマーは、エーテル結合、エステル結合又はウレタン結合により多価アルコールを連結した分子構造を有する。多価アルコールをエーテル結合で連結した分子構造を有するオリゴマーが好ましい。
【０１２１】
上記の多官能モノマーは、有機溶媒に可溶であるものが特に好ましい。
そのようなモノマーとしては、沸点が常圧で１００度以上の化合物を挙げることができる。
【０１２２】
上記の多官能モノマーのうち、２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亜合成化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。
【０１２３】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（いずれも商品名、東亜合成化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（いずれも商品名、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（いずれも商品名、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。
【０１２４】
さらなるモノマー及びオリゴマーの例として、２官能又は３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレート；ポリエーテル系ポリオールのポリ（メタ）アクリレート、ポリエステル系ポリオールのポリ（メタ）アクリレート及びポリウレタン系ポリオールのポリ（メタ）アクリレートが含まれる。
【０１２５】
ポリオールとアクリル酸とのエステルからなるモノマーは、三菱レーヨン（株）（商品名：ダイヤビームＵＫ−４１５４）や日本化薬（株）（商品名：ＫＹＡＲＡＤ・ＤＰＨＡ、ＳＲ３５５）から市販されている。
【０１２６】
これらの２官能又は３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独であるいは組み合わせて用いられ、単官能（メタ）アクリレートと組み合わせて用いられてもよい。
【０１２７】
単官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亜合成化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（大阪有機化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１２８】
後述するように、偏光子を作成する際には、ネマチック液晶性色素の配向状態を固定するのが好ましく、固定する手段としては、重合反応を利用して色素の配向を固定する。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。
【０１２９】
前記偏光子形成用組成物中、（Ｂ）溶剤を除く全固形分における、（Ｃ）２種以上のアゾ色素と、（Ｄ）非液晶性の重合性多官能モノマーの総含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。
【０１３０】
（Ｅ）重合開始剤：
（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマーを含有する組成物では、該モノマーを硬化反応させるために、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては、光重合、熱重合に応じて、公知のものを好適に使用することができ、たとえば光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾル化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１３１】
光重合開始剤の使用量は、溶剤を除く全固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。
光重合開始剤の例、光重合開始剤の使用量、及び重合のための光照射エネルギーの値の各々については、特開２００１−９１７４１号公報の段落［００５０］〜［００５１］の記載も本発明に適用できる。
【０１３２】
その他の添加剤：
本発明で用いる前記偏光子形成用組成物には、（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性アゾ色素、並びに所望により添加される（Ｄ）ラジカル重合性基を有する非液晶性の多官能モノマー、及び（Ｅ）重合開始剤の他に、任意の添加剤を配合・併用することができる。添加剤の例としては、非液晶性のバインダーポリマー、ハジキ防止剤、配向膜のチルト角（偏光子膜／配向膜界面での液晶性アゾ色素のチルト角）を制御するための添加剤、空気界面のチルト角（偏光子膜／空気界面での液晶性アゾ色素のチルト角）を制御するための添加剤、糖類、防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤等である。以下、各添加剤について説明する。
【０１３３】
非液晶性のバインダーポリマー：
本発明で用いる前記偏光子形成用組成物には、非液晶性バインダーポリマーを添加してもよい。非液晶性ポリマーの例として、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアセタール系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、硝酸セルロース等の変性セルロース系樹脂ニトロセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース及びエチルセルロースなどのセルロース系樹脂や、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、各種エストラマー等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を混合、もしくは共重合体を用いることも可能である。
非液晶性のバインダーポリマーとしては、特にアクリル系ポリマー（アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする樹脂）が好ましく、有機溶剤に可溶であることが特に好ましい。
【０１３４】
アクリルポリマーの製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法で製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。
【０１３５】
上記のアクリル系ポリマーの具体的な共重合成分については、不飽和カルボン酸（例、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸及びフマル酸）、芳香族ビニル化合物（例、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾールなど）、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレートなど）、（メタ）アクリル酸アルキルアリールエステル（例、ベンジル（メタ）アクリレートなど）、（メタ）アクリル酸置換アルキルエステル（例、グリシジル（メタ）アクリレート、2−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなど）、カルボン酸ビニルエステル（例、酢酸ビニル及びプロピオン酸ビニル）、シアン化ビニル（例、（メタ）アクリロニトリル及びα−クロロアクリロニトリル）、及び脂肪族共役ジエン（例、１、３−ブタジエン及びイソプレン）を挙げることができる。これらの中で、不飽和カルボン酸、芳香族ビニル化合物、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルキルアリールエステル及びカルボン酸ビニルエステルが好ましい。ここで（メタ）アクリル酸はアクリル酸とメタクリル酸を合わせた総称であり、以下も同様に（メタ）アクリレートはアクリレートとメタクリレートの総称である。
【０１３６】
更に側鎖に（メタ）アクリロイル基を有するアクリル系ポリマーや共重合成分としてマクロモノマー（例えばポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートなど）を含むアクリル系グラフトポリマーも好ましいものとして挙げられる。
これらは、１種単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１３７】
ハジキ防止剤：
本発明で用いる前記偏光子形成用組成物中には、塗布時のハジキを防止するための材料として、（Ａ）界面活性剤の他に、他の高分子化合物を添加することができる。この目的で使用する高分子化合物としては、当該液晶性アゾ色素と相溶性を有し、色素のチルト角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ハジキ防止剤として使用可能なポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。アゾ色素の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、（Ｃ）２種以上の液晶性アゾ色素に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲であるのが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあるのがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあるのがさらに好ましい。
【０１３８】
配向膜チルト角制御剤：
前記偏光子形成用組成物には、配向膜側の（Ｃ）２種以上の液晶性アゾ色素分子のチルト角を制御する添加剤を添加してもよい。この様な作用を有する添加剤の例には、分子内に極性基と非極性基の両方を有する化合物が含まれる。分子内に極性基と非極性基の両方を有する化合物としては、ＰO−ＯＨ、ＰO−ＣＯＯＨ、ＰO−Ｏ−ＰO、ＰO−ＮＨ2、ＰO−ＮＨ−ＰO、ＰO−ＳＨ、ＰO−Ｓ−ＰO、ＰO−ＣＯ−ＰO、ＰO−ＣＯＯ−ＰO、ＰO−ＣＯＮＨ−ＰO、ＰO−ＣＯＮＨＣＯ−ＰO、ＰO−ＳＯ3Ｈ、ＰO−ＳＯ3−ＰO、ＰO−ＳＯ2ＮＨ−ＰO、ＰO−ＳＯ2ＮＨＳＯ2−ＰO、ＰO−Ｃ＝Ｎ−ＰO、ＨＯ−Ｐ（−ＯＰO）2、（ＨＯ−）2ＰＯ−ＯＰO、Ｐ（−ＯＰO）3、ＨＯ−ＰＯ（−ＯＰO）2、（ＨＯ−）2ＰＯ−ＯＰO、ＰＯ（−ＯＰO）3、ＰO−ＮＯ2及びＰO−ＣＮならびにこれらの有機塩が好ましい例として挙げられる。ここで、有機塩としては、上記化合物の有機塩（例えば、アンモニウム塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩等）の他、ピリジニウム塩等も好ましく採用することができる。前記分子内に極性基と非極性基の両方を有する化合物の中でも、ＰO−ＯＨ、ＰO−ＣＯＯＨ、ＰO−Ｏ−ＰO、ＰO−ＮＨ2、ＰO−ＳＯ3Ｈ、ＨＯ−ＰＯ（−ＯＰO）2、（ＨＯ−）2ＰＯ−ＯＰO、ＰＯ（−ＯＰO）3もしくはこれらの有機塩が好ましい。ここで、上記各ＰOは非極性基を表し、ＰOが複数ある場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【０１３９】
ＰOとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数１〜３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数１〜３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アリール基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基）が例として挙げられる。これらの非極性基はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が好ましい例として挙げられる。
【０１４０】
配向膜チルト角制御剤の添加量は、一般的には、（Ｃ）２種以上の液晶性アゾ色素の合計質量に対して、０．０００１質量％〜３０質量％程度であるのが好ましく、０．００１質量％〜２０質量％程度であるのがより好ましく、０．００５質量％〜１０質量％程度であるのがさらに好ましい。
本発明では、特開２００６−５８８０１号公報に記載の配向膜チルト制御剤を使用することができる。
【０１４１】
糖類：
本発明で用いる偏光子形成用組成物には、糖類を添加してもよい。糖類を添加することにより色素会合体の会合度を向上させ、その結果として色素の分子配向を高めることができる。
使用可能な糖類としては、単糖、二糖、多糖、及び糖アルコール類などの糖の誘導体が挙げられる。糖類の中でも、本発明の効果を奏するにあたり、分子会合性の点から、水酸基が通常２以上、好ましくは３以上で、好ましくは１８以下、更に好ましくは１２以下であるものが良い。水酸基が多過ぎると色素との相互作用が強すぎて析出して色素膜の配向性を損ねてしまうので好ましくなく、少な過ぎると色素との相互作用が不十分であり配向性を向上させることができないので好ましくない。
【０１４２】
使用する糖類の分子量としては、１，０００以下が好ましく、更に好ましくは７００以下である。糖類の分子量が大きすぎると色素と相分離してしまい、色素膜の配向性を損ねてしまうおそれがあり好ましくない。
【０１４３】
使用する糖類の炭素数としては、通常３６以下、好ましくは２４以下である。糖類の炭素数が多過ぎると、糖類の分子量が大きくなることにより、アゾ色素と相分離してしまい、色素膜の配向性を損ねてしまうおそれがあり好ましくない。
【０１４４】
本発明において用いる糖類は、中でも、単糖、オリゴ糖、単糖アルコールが、前述の最適な水酸基数、分子量範囲を満たすので好ましい。
単糖としては、例えばキシロース、リボース、グルコース、フルクトース、マンノース、ソルボース、ガラクトースなどが挙げられる。
オリゴ糖としては、例えばトレハロース、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルトトリオース、イソマルトトリオース、マルトテトラオース、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、スクロース、メリビオース、ルチノース、プリメベロース、ツラノース、パノース、イソパノース、セロトリオース、マンニノトリオース、ソラトリオース、メレジトース、プランテオース、ゲンチアノース、ウンベリフェロース、ラフィノース、スタキオースなどが挙げられる。
糖アルコールとしては、例えばトレイトール、キシリトール、リビトール、アラビトール、ソルビトール、マンニトールなど前述の単糖及びオリゴ糖を還元した化合物が挙げられる。
【０１４５】
糖類としては、特に好ましくはキシロース、マンノース、マルトース、マルトトリオース、アラビトールが挙げられる。
【０１４６】
なお、これらの糖類、糖アルコール類は各々光学異性体が存在するが、本発明で用いる組成物中にはそれぞれを単独で用いてもよく、両方を含んでいてもよい。また、糖類は、前記組成物中に、１種が単独で用いられていてもよく、２種以上が組み合せて用いられていてもよい。
【０１４７】
本発明で用いる組成物中における、（Ｃ）２種以上の液晶性アゾ色素に対する糖類の含有量は、質量比で０．１以上、１以下の範囲であることが好ましい。更に好ましくは０．２以上、特に好ましくは０．３以上、更に好ましくは０．７以下、特に好ましくは０．６以下である。糖類の含有量が上記範囲であると、会合体の配向度を低下させずに、色素会合体の会合度を上げることができる。
【０１４８】
防黴剤、抗菌剤及び殺菌剤：
本発明で用いる前記偏光子形成用組成物には、防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤を添加してもよい。これらの添加剤を添加することにより、当該組成物の保存安定性を向上させることができる。
なお、本明細書では、「防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤」とは、カビの発生・生育・増殖を抑制する防黴能、微生物を死滅される殺菌能、微生物の発生・生育・増殖を抑制する抗菌能の少なくともいずれかの機能を有する薬剤を意味する。公知の防黴剤、殺菌剤、抗菌剤が使用できる。ただし、前記組成物から形成される偏光子の光学特性を低下させないものであることが好ましい。本発明に使用可能なる防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤としては、例えば、従来の２，４，４’−トリクロロ−２’−ヒドロキシジフェニルなどのフェノール系、二酸化塩素などの塩素系、ヨウ素などのヨウ素系、塩化ベンザルコニウムなどの第４級アンモニウム塩系等が挙げられる。
【０１４９】
また、1,2-benzisothiazoline-3-oneを有効成分とするものとして、Proxel BDN、Proxel BD20、Proxel GXL、Proxel LV、Proxel XL、Proxel XL2、Proxel Ultra10(以上、Avecia社製、商品名)、polyhexametylene biguanide hydrochlorideを有効成分とするものとして、Proxel IB、(Avecia社製、商品名)、Dithio-2,2'-bis(benzmethylamide)を有効成分とするものとしてDensil P(Avecia社製、商品名)等も挙げられる。
【０１５０】
また、下記化合物は、特に極微量で抗菌効果を示すことから特に好ましい。
Ｎｏ．  化合物名
１．    ２−クロロメチル−５−クロロ−３−イソチアゾロン
２．    ２−シアノメチル−５−クロロ−３−イソチアゾロン
３．    ２−ヒドロキシメチル−５−クロロ−３−イソチアゾロン
４．    ２−（３−メチルシクロヘキシル）−３−イソチアゾロン
５．    ２−（４−クロロフェニル）−４，５−ジクロロ−３−イソチアゾロン
６．    ２−（４−エチルフェニル）−３−イソチアゾロン
７．    ２−（４−ニトロフェニル）−５−クロロ−３−イソチアゾロン
８．    ２−クロロメチル−３−イソチアゾロン
９．    ２−メトキシフェニル−４−メチル−５−クロロ−３−イソチアゾロン
１０．  ２−モルフォリノメチル−５−クロロ−３−イソチアゾロン
これらの化合物は、例えば特開平２−２７８号公報等を参考に合成することが可能であるが、商品名：トリバクトラン（ヘキスト社製）等の市販品を利用することも可能である。
【０１５１】
また、本発明で用いることのできる防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤は、これを単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。
上記の防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤の、前記組成物中の含有量は特に限定されないが、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．００１質量％以上であり、一方、通常０．５質量％以下、好ましくは０．３質量％以下である。防黴、抗菌及び殺菌の少なくともいずれかの機能を有する薬剤の含有量が前記範囲であると、薬剤の析出や、成膜の際の相分離等を生じさせることなく、充分な防黴、抗菌又は殺菌効果が得られる。
【０１５２】
Electron-Deficient盤状化合物及びElectron-Rich化合物：
本発明の方法によって得られる偏光子が高い偏光度を有するために、前記組成物は、電子不足である（Electron-Deficient）盤状化合物及び電子リッチである（Electron-Rich）化合物を含有するのが好ましい。電子不足である（Electron-Deficient）盤状化合物及び電子リッチである（Electron-Rich）化合物としては、例えば、特開２００６−３２３３７７に記載のものを用いることができる。
【０１５３】
前記組成物中の電子不足である（Electron-Deficient）盤状化合物の割合は、組成物全体を１００質量部とした場合に、通常０．１質量部以上、好ましくは０．２質量部以上、また、通常５０質量部以下、好ましくは４０質量部以下の範囲である。前記化合物の割合がこの範囲であると、組成物の溶液としての粘度を過剰に増大させることなく、添加効果を得られる。
また、前記組成物中の電子リッチである（Electron-Rich）化合物の割合は、組成物全体を１００質量部とした場合に、通常５０質量部以下、好ましくは４０質量部以下の範囲である。前記化合物の割合がこの範囲であると、組成物の溶液としての粘度を過剰に増大させることなく、添加効果を得られる。
また、電子不足である（Electron-Deficient）盤状化合物と電子リッチである（Electron-Rich）化合物との質量分率は、通常１０／９０〜９０／１０の範囲内であることが好ましい。この範囲を外れると、電子不足である（Electron-Deficient）盤状化合物又は電子リッチである（Electron-Rich）化合物の使用による効果が得られないおそれがあるため好ましくない。
【０１５４】
（Ｂ）溶剤：
前記偏光子形成用組成物は、（Ｂ）溶剤を含有する。即ち、前記偏光子用組成物は、塗布液として調製される。溶剤は、有機溶媒が好ましい。使用可能な有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。炭化水素、アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１５５】
上記偏光子形成用組成物の塗布液の調製方法については特に制限はない。（Ａ）界面活性剤、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性アゾ色素、及び所望により添加される１種以上の上記添加剤を、（Ｂ）溶剤で溶解することによって調製される。なお、塗布液は各成分が完全に溶解していなくても、分散等した状態であってもよい。
【０１５６】
前記組成物は、全固形分の濃度が、０．１〜１０質量％程度の塗布液として調製されるのが好ましく、０．５〜５質量％程度とするのがより好ましい。この濃度範囲の塗布液として調製すると、安定的にスリットコーティングを実施することができる。
【０１５７】
（２）スリットコーティング法による塗布
本発明の方法では、上記偏光子形成用塗布組成物を、スリットコーティング法で基板等の表面に塗布し、偏光子を製造する。スリットコーティング法では、塗布時に塗布液にせん断応力がかからず、高い均一性の膜を安定的に形成することができる。また、スリットコーティング方法では、スリットからの塗布液の押出方向と、配向膜のラビング処理方向又は光照射方向等を一致させることができるので、塗布液の展開方向と配向処理方向とが一致しないことによる配向の乱れ（例えば、スピンコート法では、遠心力で塗布液を表面に展開させるので、展開方向と配向処理方向を全表面において一致させることは不可能である）が生じ難い。本発明では、スリットコーティング法により、上記（Ａ）〜（Ｃ）を含有する組成物を表面に塗布し、（Ｃ）所定の液晶性アゾ色素の分子を、（Ａ）界面活性剤の存在下で配向させることにより、（Ｃ）所定の液晶性アゾ色素の分子を配向処理方向に高い秩序で、しかも層面に対して傾斜させずに、ほぼ完全に水平配向させることができる。その結果、均一性、及び、二色性の高い（具体的には、二色比２０以上の）偏光子を形成することができる。本発明の製造方法により作製された偏光子は、通常の基板の外面側に設置される偏光子のみならず、基板の内面側に設置される偏光子（いわゆる、インセル偏光子）としても好適に適用することができる。
【０１５８】
スリットコーティング法：
スリットコーティング法の一例は、以下の通りである。
何れか一辺の長さが８００ｍｍ以上の基板に、当該基板との相対移動速度が５０〜１５０ｍｍ／ｓｅｃの流延塗布機のスリットダイから、前記偏光子用組成物を塗布して、前記基板表面に膜厚Ｌ1のウエット塗膜を形成する。その後、必要な場合、ウエット塗膜に対してプリベークを行って溶媒を除去して膜厚Ｌ2のプリベーク塗膜を形成する工程を実施する。このとき、前記ウエット塗膜の膜厚Ｌ1は０．１〜２０μｍであることが好ましく、且つ、ドライ塗膜の膜厚Ｌ2は０．０１〜２μｍであることが好ましい。また、前記スリットダイの吐出口と基板表面とのギャップは５０μｍ〜２００μｍの範囲であるのが好ましい。
【０１５９】
前記偏光子用組成物を用いて、スリットコーティング法を利用することで、例えば、第五世代のガラス基板（１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ）を塗布する場合においても、配向均一性の高い偏光子膜を生産性よく製造することができる。
【０１６０】
塗布時の温度は、好ましくは０℃以上、８０℃以下、湿度は好ましくは１０％ＲＨ以上、８０％ＲＨ以下程度である。
【０１６１】
また、スリットコーティング法で偏光子用組成物を塗布するときには、基板を加温してもよいし冷却してもよい。このときの基板の温度は、好ましくは１０℃以上６０℃以下である。上限を上回ると、以下詳述する減圧乾燥を行う前に配向が乱れて乾燥する恐れがあり、下限を下回ると基板表面に水滴が付き塗布の障害になる恐れがある。
また、塗布した偏光子を減圧乾燥してもよく、その際に、基板を加温してもよい。このときの基板の温度は、好ましくは６０℃以下である。上限を上回ると減圧乾燥を行う前に配向が乱れて乾燥する恐れがある。
【０１６２】
本発明の方法では、一方向に配向処理された基板、カラーフィルタ又は配向膜上に、前記基板、カラーフィルタ又は配向膜上の配向処理方向に対して平行でない角度で偏光子用組成物を塗布して、偏光子を形成することができる。さらに、基板の縦又は横方向と略一致する方向に偏光子用組成物を塗布することがより好ましい。これにより、配向欠陥がなく高い偏光度を持つ偏光子を形成することもできる。また、偏光子用組成物の塗布後、必要な偏光角度を持たせるために基板を切り出す必要がなく、生産性が高くなる。
【０１６３】
（３）乾燥、配向工程
上記塗布工程により、前記組成物の塗膜が形成されるが、該塗膜から有機溶媒等の溶質を蒸発させて、前記偏光子用組成物を配向させる。好ましくは室温において自然乾燥することが好ましい。塗布により形成された当該アゾ色素分子の配向状態を乱さない（熱緩和等を避ける）ようにするのが好ましい。なお、減圧処理において、溶媒を蒸発させ、より低温で乾燥することも好ましい。
【０１６４】
ここでいう減圧処理とは、塗膜（偏光子膜）を有する基板を減圧条件下におき、溶媒を蒸発除去することを言う。このとき、偏光子膜を有する基板は高部から底部に流れないよう、水平にしておくことが好ましい。
塗布後、偏光子膜の減圧処理を始めるまでの時間は、短ければ短いほどよく、好ましくは１秒以上３０秒以内である。
減圧処理の方法としては、例えば以下の様な方法が挙げられる。塗布液を塗布して得られた偏光子膜を、その基板とともに減圧処理装置に入れて減圧処理する。例えば特開２００６−２０１７５９の図９や図１０のような減圧処理装置を使用することができる。減圧処理装置の詳細については、特開２００４−１６９９７５号公報に記載されている。
【０１６５】
減圧処理の条件としては、偏光子膜の存在する系内の圧力が、好ましくは２×１０4Ｐａ以下、さらに好ましくは１×１０4Ｐａ以下、特に好ましくは１×１０3Ｐａ以下である。また、好ましくは１Ｐａ以上、更に好ましくは１×１０1Ｐａ以上である。通常、系内が最終的に到達する圧力が前記の通りであることが好ましい。上限を上回ると乾燥できず配向が乱れる恐れがあり、下限を下回ると乾燥が急速過ぎて欠陥が発生する恐れがある。
また、減圧処理時間は、好ましくは５秒以上１８０秒以内である。上限を上回ると配向緩和前に急速に偏光子膜を乾燥できず配向が乱れる恐れがあり、下限を下回ると乾燥できず配向が乱れる恐れがある。
【０１６６】
また、減圧処理する際の系内の温度は、好ましくは１０℃以上６０℃以下である。上限を上回ると乾燥時に対流が起こり偏光子膜に不均一性の発生の恐れがあり、下限を下回ると乾燥できず配向が乱れる恐れがある。
【０１６７】
前記塗膜を乾燥させて、偏光子用組成物を配向させるとき、配向を促進させるために基板を加温してもよい。このときの基板の温度は、好ましくは５０℃以上２００℃以下であり、特に好ましくは７０℃以上１８０℃以下である。この配向温度を低下させるために、偏光子用組成物に可塑剤等の添加剤を併用してもよい。
【０１６８】
例えば、前記偏光子形成用組成物を、配向膜表面に塗布すると、（Ｃ）２種以上の液晶性アゾ色素の分子は、配向膜との界面では配向膜のチルト角で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向する。高い偏光度の偏光子を製造するためには、いずれの界面においてもアゾ色素を水平配向させ、その配向状態に固定するのが好ましい。
なお、本明細書では、「チルト角」とは、アゾ色素の分子の長軸方向と界面（配向膜界面あるいは空気界面）のなす角度を意味する。偏光性能の観点から、好ましい配向膜側のチルト角は０°〜１０°、さらに好ましくは０°〜５°、特に好ましいのは０°〜２°、よりさらに好ましくは０°〜１°である。また、好ましい空気界面側のチルト角は０°〜１０°、さらに好ましくは０〜５°、特に好ましいのは０〜２°である。
【０１６９】
アゾ色素の分子の空気界面側のチルト角を上記範囲まで減少させるために、前記組成物は、（Ａ）界面活性剤として、上記した、（１）一般式（III）で表されるフルオロ脂肪族基含有化合物；又は、（２）一般式（VII）又は（VIII）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位、及び一般式（IX）で表されるアミド基含有モノマーの重合単位からなる群から選択される少なくとも一種の重合単位を含む第２のフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有しているのが好ましい。これらの少なくとも１種の存在下で、アゾ色素分子を配向させることにより、空気界面側のチルト角を、上記範囲まで軽減することができる。
なお、配向膜側チルト角は、空気界面側チルト角と比較して、配向膜の作用により低減される傾向があるが、前記組成物中に上記した配向膜チルト制御剤を添加することで、より配向膜側チルト角を軽減して、アゾ色素分子を安定的に水平配向状態にすることができる。
【０１７０】
（４）硬化工程
前記偏光子形成用組成物が、（Ｄ）非液晶性のラジカル重合性多官能モノマー、及び（Ｅ）重合開始剤、等の硬化性成分を含有する態様では、アゾ色素分子を所望の配向状態とした後、光照射（好ましくは紫外線照射）又は加熱、或いはこれらの組合せにより重合硬化を進行させるのが好ましい。
なお、重合のための光照射エネルギーの値等については、特開２００１−９１７４１号公報の段落［００５０］〜［００５１］の記載を参照することができる。
【０１７１】
以上のようにして偏光素子を形成することができる。
【０１７２】
（５）基板
上記偏光子は、基板上に形成することができる。使用する基板は、偏光子の用途に応じて選択されるであろう。例えば、液晶表示素子、ＯＬＥＤ素子等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス；固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板；シリコン基板；プラスチック基板；並びに、これらに透明導電膜、カラーフィルタ膜、電極、ＴＦＴ等の機能層を形成した基板が挙げられる。これらの基板上には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていたり、密着促進等のために透明樹脂層を設けたりしていてもよい。プラスチック基板には、その表面にガスバリヤー層及び／又は耐溶剤性層を有していることも好ましい。
【０１７３】
本発明に使用する基板の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。また、プラスチック基板は光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例及び好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の段落番号［００１３］の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【０１７４】
本発明の製造方法の一例は、いわゆるインセル偏光子の製造方法である。この例では、基板としては、液晶セル基板として用いられる、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、又はプラスチック基板が挙げられる。カラーフィルタ層による偏光解消によって散乱光が生じるのを抑制するために、当該インセル偏光子を利用する態様では、偏光子は、カラーフィルタ層と液晶層との間に配置されているのが好ましい。よって、基板上に、カラーフィルタを形成し、その上に、前記方法により偏光子を形成するのが好ましい。
【０１７５】
（６）配向膜
本発明の方法には、配向膜を利用するのが好ましい。本発明に利用される配向膜は、当該配向膜上で（Ｃ）２種以上の液晶性アゾ色素の分子を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。中でも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜が好ましい。
【０１７６】
・ラビング処理配向膜
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明の配向膜ではポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。
配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０１７７】
ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている方法により行うことが好ましい。
ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ）  Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。
【０１７８】
ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
ラビング密度と配向膜のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係がある。
【０１７９】
・光配向膜
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献等に記載がある。本発明の配向膜では、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルが好ましい例として挙げられる。特に好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルである。
【０１８０】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光又は非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」とは、前記光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。好ましくは、光照射に用いる光のピーク波長が２００ｎｍ〜７００ｎｍであり、より好ましくは光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光である。
【０１８１】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。
【０１８２】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例、グラントムソンプリズム）やブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、又は偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタや波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【０１８３】
照射する光は、直線偏光の場合、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。前記光の入射角度は、前記光配向材料によって異なるが、例えば、０〜９０°（垂直）、好ましくは４０〜９０である。
非偏光を利用する場合には、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°、好ましくは２０〜６０、特に好ましくは３０〜５０°である。
照射時間は好ましくは１分〜６０分、さらに好ましくは１分〜１０分である。
【０１８４】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作成に必要な回数施す方法や、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【０１８５】
（７）透明樹脂硬化層
本発明の方法により製造した偏光子に、物理強度、耐久性、又は、光学特性を付与するために、偏光子の表面に透明樹脂硬化層を設けることも好ましい。透明樹脂硬化層の層厚は１〜３０μｍの範囲にあることが好ましく、１〜１０μｍであることが特に好ましい。
透明樹脂硬化層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。本発明における透明樹脂硬化層は、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を偏光子の表面に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、無機微粒子を含有することもできる。
【０１８６】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
【０１８７】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【０１８８】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【０１８９】
前記透明樹脂硬化層の形成に用いる重合開始剤としては、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド及びチオキサントン類等が挙げられる。
【０１９０】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のカヤキュア（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど、いずれも商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，１２７，５００，９０７，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など、いずれも商品名）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ、いずれも商品名）等が挙げられる。
【０１９１】
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，１２７，９０７、いずれも商品名）等が挙げられる。
【０１９２】
光重合開始剤は、硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン及びチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ、いずれも商品名）などが挙げられる。
光重合反応は、高屈折率層の塗布及び乾燥後、紫外線照射により硬化反応させることが好ましい。
【０１９３】
透明樹脂硬化層は、脆性の付与のために質量平均分子量が５００以上のオリゴマー又はポリマー、あるいは両者を添加してもよい。
オリゴマー、ポリマーとしては、（メタ）アクリレート系、セルロース系、スチレン系の重合体や、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。好ましくは、側鎖に官能基を有するポリ（グリシジル（メタ）アクリレート）やポリ（アリル（メタ）アクリレート）等が挙げられる。
【０１９４】
透明樹脂硬化層中のオリゴマー及びポリマーの合計量は、樹脂層の全質量に対し５〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは２５〜７０質量％、特に好ましくは３５〜６５質量％である。
【０１９５】
透明樹脂硬化層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることがよりさらに好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
透明樹脂硬化層の形成において、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度や耐久性に優れた透明樹脂硬化層を形成することができ、好ましい。
好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、よりさらに好ましくは１体積％以下である。
【０１９６】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
前記透明樹脂硬化層は、光学異方性の機能をさらに有していてもよい。
【０１９７】
前記透明樹脂硬化層は、以下の方法で製造することができる。
まず、上記材料を含有する硬化性透明樹脂組成物を調製する。該組成物の調製に用いる溶媒としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。具体的には、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エタノール及びブタノールが好ましく、特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エタノールである。
上記溶媒の使用量は、硬化性透明樹脂組成物の固形分濃度が２〜５０質量％となるように使用するのが好ましく、３〜４０質量％となるように使用するのが更に好ましい。
【０１９８】
塗布液の塗布は、前記偏光子の塗布方法が好適に用いられるが、以下の塗布方法であってもよい。
具体的な湿式成膜法としては、原崎勇次著「コーティング工学」株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行、２５３頁から２７７頁や市村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月３日発行、１１８頁から１４９頁などに記載の公知の方法や、例えば、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スリットアンドスピン法、ワイヤバーコーティング法、ロールコーティング法、ブレードコーティング法、フリースパンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、インクジェット法により実施できる。
【０１９９】
透明樹脂硬化層を形成する場合、硬化は、紫外線照射によって行なうことが好ましい。
【０２００】
２．偏光子
本発明の製造方法により製造される偏光子は、（Ａ）界面活性剤の存在下で、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性アゾ色素の分子を配向させることによって形成されているので、高い二色比を有する。よって、薄膜であっても、高い偏光度を達成できる。また、スリットコーティング法を利用して形成されているので、配向欠陥等がなく、均一性の高い薄膜として形成可能である。偏光度の好ましい範囲は、用途によって異なるが、例えば、いわゆるインセルタイプの偏光子として利用する態様では、偏光度は、０．４以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、０．６以上がさらに好ましい。上限については、理論限界が１で１に近いほどよいが、０．９９以下では問題なく、０．９５以下でも大きな問題はなく、０．９０以下でも問題はめだたない。
また、本発明の製造方法によって製造される偏光子の厚さは、０．０１〜２μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【０２０１】
３．積層体、及びその製造方法
本発明は、下記［１］、［２］及び［３］の工程：
［１］カラーフィルタ上に形成された配向膜をラビング、又は光照射する工程
［２］該配向膜上に、（Ａ）界面活性剤、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有  するアゾ色素を含有する偏光子形成用組成物をスリットコーティングする工程
［３］溶剤を蒸発させることにより、（Ｃ）２種以上のネマチック液晶性を有するアゾ色素を配向さ  せて、偏光子とする工程
をこの順で含む積層体の製造方法、及び該方法によって製造された積層体にも関する。
【０２０２】
［１］〜［３］の工程の詳細、及び各工程に用いられる配向膜、偏光子形成用組成物等については、本発明の製造方法で説明した各工程の説明の通りであり、好ましい態様も同様である。また、上記積層体の製造方法に利用されるカラーフィルタとしては、一般的に、表示装置にカラーフィルタ基板として用いられているものを使用することができる。例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、プラスチック基板等の表面にカラーフィルタ層を形成したカラーフィルタ基板等を利用することができる。該カラーフィルタ基板は、カラーフィルタ層の他、透明導電膜、カラーフィルタ膜、電極、ＴＦＴ等の他の機能層を有していてもよい。また、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていてもよい。
【０２０３】
本発明の製造方法によって製造される積層体は、表示装置のカラーフィルタ基板として利用することができる。
【０２０４】
また、本発明の方法によって製造される積層体は転写材料であってもよい。該転写材料を用い、液晶セル基板上等に、偏光子を転写してもよい。
以下、前記偏光子を、液晶表示装置内、特に液晶セル内に形成するのに有用な転写材料について説明する。
３．−１  転写材料
本発明に使用可能な転写材料は、支持体と、偏光子として機能する膜（以下、「偏光膜」という）とを少なくとも有する。さらに、偏光膜上に、少なくとも一層の感光性樹脂層を有しているのが好ましい。感光性樹脂層は、パターニング等の工程を経ない場合であっても、偏光膜の転写を容易にし、有用である。また、例えば、支持体と偏光膜との間には、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性等の力学特性コントロール、あるいは凹凸追従性付与のための層を有していてもよいし、また、偏光膜の色素の配向を制御するための配向層として機能する層が配置されてもよいし、双方の層を有していてもよい。また、感光性樹脂層の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層を設けてもよい。
【０２０５】
上記の転写材料に用いられる支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステル及びポリスルホンが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステル及びノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【０２０６】
前記偏光膜は、上記スリットコーティング法を利用して、上記支持体上に形成される。また、支持体上に配向膜を形成し、その上に、スリットコーティング法により偏光膜を形成してもよい。なお、転写材料が有する偏光膜は、偏光性能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、転写される過程において実施される露光工程を通じて、偏光性能が発現又は変化して、最終的に偏光フィルムに必要な偏光性能を示すものであってもよい。
【０２０７】
感光性樹脂層：
前記転写材料は、感光性樹脂層を有しているのが好ましい。前記感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、前記感光性樹脂層は、少なくとも、（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系と、を含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。
【０２０８】
（１）アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【０２０９】
（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【０２１０】
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【０２１１】
（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【０２１２】
その他の層：
転写材料の、支持体と偏光膜との間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために熱可塑性樹脂層を形成することが好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０２１３】
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【０２１４】
前記熱可塑性樹脂層や前記中間層を、前記配向層と兼用することもできる。特に前記中間層に好ましく用いられるポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンは配向層としても有効であり、中間層と配向層を１層にすることが好ましい。
【０２１５】
樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フィルム材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【０２１６】
偏光膜及び感光性樹脂層、及び所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層及び中間層の各層は、前記偏光膜の形成方法と同様の方法で形成することができる。２以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０２１７】
３．−２  転写材料を用いた偏光膜の形成方法：
本発明でいう転写材料を基板上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記偏光膜及び感光性樹脂層を同時に転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した本発明でいう転写材料を、感光性樹脂層面を基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータ及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した偏光膜表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。
【０２１８】
転写材料を転写する被転写材料である基板については、特に制限されない。例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。被転写材料はまた透明基板上にカラーフィルタ等の層が設けられたものであってもよい。また、被転写材料は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂層との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、７００〜１２００μｍが一般的に好ましい。
偏光膜の上に粘着層を設けるのではなく、被転写材料の上に粘着層を設けておいてもよい。
【０２１９】
４．表示装置
本発明の表示装置は、本発明の製造方法によって製造された偏光子、又は本発明の製造方法によって製造された積層体を少なくとも一つ具備する。その構成等については特に制限はない。具体的には、ＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＥＣＢ、ＩＰＳ、もしくはＯＣＢ等の種々のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置、ＯＬＥＤなどが挙げられる。特に好ましくは、本発明の偏光子を、基板の内面側に設置してなる（いわゆる、インセル偏光子）表示装置であり、さらに好ましくは、カラーフィルタ基板に積層してなる表示装置である。かかる構成にすることにより、カラーフィルタ層による偏光解消に起因して生じる散乱光によるコントラストの低下を軽減することができる。
【実施例】
【０２２０】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。なお、以下において、部及び％は、特に断りの無い限り、すべて、質量基準であるものとする。
【０２２１】
［実施例１］
（配向膜用組成物の調製）
ラビング配向膜用組成物として、以下の組成の成分を調製した。
・配向膜材料：下記のポリビニルアルコール                        ０．４０質量部
・溶剤：水                                                    ７４．７０質量部
メタノール                                            ２４．９０質量部
【０２２２】
【化５５】
2011048309.tif 000057
【０２２３】
（ラビング配向膜付ガラス基板の作製）
得られた配向膜用組成物を、ガラス基板上に＃１４のワイヤーバーで塗布し、８０℃で５分間乾燥を行ったのち、ラビングを行うことにより、膜厚０．７μｍのラビング配向膜付ガラス基板を作製した。なお、ガラス基板は、その厚さが０．７ｍｍで、寸法が１５０ｍｍ×１５０ｍｍであった。
【０２２４】
（偏光子組成物の調製）
本発明の偏光子用組成物として、以下の組成の成分を調製した。
（Ａ）界面活性剤：メガファックＦ７８０  大日本インキ（株）製
（特許第４１９０２７５号実施例１に記載の化合物）                  ０．０１質量部
（Ｂ）溶剤：クロロホルム                                        ９８．９９質量部
（Ｃ）アゾ色素：下記化合物（Ａ−１６）                            ０．５０質量部
下記化合物（Ｄ−１）                              ０．５０質量部
【０２２５】
【化５６】
2011048309.tif 000058
【０２２６】
（偏光子膜の作製）
得られた偏光子用組成物を、塗布幅が１５０ｍｍのスリットダイに送り込み、ダイの吐出口からステージに配置してある前記ラビング配向膜付ガラス基板に塗布して膜厚Ｌ1：６μｍのウエット塗膜を形成した。固定されたダイに対する基板の移動速度（相対移動速度）は１００ｍｍ／ｓｅｃで、ダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１５０μｍであった。
ウエット塗膜を形成した後、７０℃で６０秒乾燥を行い、膜厚Ｌ2：０．０６μｍのドライ塗膜を形成した。
【０２２７】
（偏光子膜の評価）
形成された偏光子膜を以下の方法により評価した。
（１）二色性の評価
二色比は、ヨウ素系偏光素子を入射光学系に配した分光光度計で偏光子膜の吸光度を測定した後、下記式により計算した。得られた偏光子膜における偏光子膜面内の吸収軸方向に振動面を有する偏光に対する５００nmにおける吸光度（Ａｚ）、および偏光子膜面内の偏光軸方向に振動面を有する偏光に対する５００nmにおける吸光度（Ａｙ）とから求めた二色比及び相転移温度を表１に示す。二色比（Ｄ）＝Ａｚ／Ａｙ
Ａｚ：偏光子膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ：偏光子膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
（２）配向欠陥の評価
光学顕微鏡により、配向欠陥発生の有無を目視で検査し、以下の基準で評価した。結果を表１に示す。実施例１で示すとおり、目視では配向欠陥は殆んど観察されず、「○」レベルであった。
◎：全く視認できない。
○：わずかに視認できる。
△：外周部に発生が認められる。
×：全体の部分の殆どに配向欠陥が確認できる。
【０２２８】
下記表に示すとおり、実施例１で使用した式（Ｉ）で表されるアゾ色素は、いずれもネマチック液晶性を有しており、また、実施例１で製造した膜は、偏光膜として充分機能し得る、高い二色比を有していた。さらに、配向欠陥も殆んど観察されず、良好であった。
【０２２９】
［実施例２〜４］
アゾ色素を下記表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様に偏光子膜を作製した。
得られた偏光子膜の二色比及び相転移温度を表１に示す。
実施例２〜４で使用した式（Ｉ）で表されるアゾ色素は、いずれもネマチック液晶性を有しており、かつ各実施例で製造した膜は、偏光膜として充分機能し得る、高い二色比を有していた。さらに、配向欠陥も殆んど観察されず、いずれも「○」レベルであった。
【０２３０】
［実施例５］
（偏光子組成物の調製）
偏光子用組成物として、以下の組成の成分を調製した。
（Ａ）界面活性剤：下記化合物（Ｉ−６）                            ０．０２質量部
（Ｂ）溶剤：クロロホルム                                        ９３．８９質量部
（Ｃ）アゾ色素：下記化合物Ｃ−２２                                １．００質量部
下記化合物Ｄ−１                                  １．００質量部
（Ｄ）非液晶性多官能モノマー：
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学社製）                              ２．００質量部
ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                ２．００質量部
（Ｅ）重合開始剤：イルガキュア９０７
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）                  ０．０６質量部
（Ｆ）増感剤：カヤキュアＤＥＴＸ
（日本化薬（株）製）                                          ０．０３質量部
【０２３１】
【化５７】
2011048309.tif 000059
【０２３２】
【化５８】
2011048309.tif 000060
【０２３３】
（偏光子膜の作製）
得られた偏光子用組成物を、塗布幅が１５０ｍｍのスリットダイに送り込み、ダイの吐出口からステージに配置してある前記ラビング配向膜付ガラス基板に塗布して膜厚Ｌ1：６μｍのウエット塗膜を形成した。固定されたダイに対する基板の移動速度及びダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは実施例１と同様に実施した。
ウエット塗膜を形成した後、５０℃で６０秒乾燥を行い、膜厚Ｌ2：０．３６μｍのドライ塗膜を形成した。その後、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）で５Ｊの紫外線を照射して、塗膜を光重合したのち、さらに、１８０℃で１時間加熱することにより配向状態を固定化した偏光子膜を得た。
【０２３４】
（偏光子膜の評価）
得られた偏光子膜の二色比及び相転移温度を表１に示す。
実施例５で使用した式（Ｉ）で表されるアゾ色素は、いずれもネマチック液晶性を有しており、且つ実施例５で製造した膜は、偏光膜として充分機能し得る高い二色比を有していた。さらに、配向欠陥も殆んど観察されず、「○」レベルであった。
【０２３５】
［実施例６］
（光配向膜用組成物の調製）
光配向膜用組成物として、以下の組成の成分を均一溶液としたのち、０．４５μｍのメンブレンフィルターで加圧濾過して調製した。
・配向膜材料：下記のアゾ化合物                                    １．００質量部
・溶剤：N-メチル−２−ピロリドン                                ４９．５０質量部
２−ブトキシエタノール                                ４９．５０質量部
【０２３６】
【化５９】
2011048309.tif 000061
【０２３７】
（光配向膜付ガラス基板の作製）
得られた光配向膜用組成物を、ガラス基板上にワイヤーバーで塗布し、１００℃で１分間乾燥を行ったのち、超高圧水銀ランプにバンドパスフィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の直線偏光した紫外線を基板に垂直方向から照射し、膜厚０．０７μｍの光配向膜付ガラス基板を作製した。なお、積算光量は５Ｊ／ｃｍ2であった。
【０２３８】
（偏光子組成物の調製）
本発明の偏光子用組成物として、以下の組成の成分を調製した。
（Ａ）界面活性剤：前記化合物（Ｉ−６）                            ０．０１質量部
（Ｂ）溶剤：クロロホルム                                        ９８．９９質量部
（Ｃ）アゾ色素：下記化合物（Ａ−４６）                            ０．５０質量部
下記化合物（Ｂ−１８）                            ０．５０質量部
【０２３９】
【化６０】
2011048309.tif 000062
【０２４０】
（偏光子膜の作製）
得られた偏光子用組成物を、塗布幅が１５０ｍｍのスリットダイに送り込み、ダイの吐出口からステージに配置してある前記光配向膜付ガラス基板に塗布して膜厚Ｌ1：６μｍのウエット塗膜を形成した。固定されたダイに対する基板の移動速度（相対移動速度）は１００ｍｍ／ｓｅｃで、ダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１５０μｍであった。
ウエット塗膜を形成した後、７０℃で６０秒乾燥を行い、膜厚Ｌ2：０．０６μｍのドライ塗膜を形成した。
【０２４１】
（偏光子膜の評価）
得られた偏光子膜の二色比及び相転移温度を表１に示す。実施例６で利用した式（Ｉ）で表されるアゾ色素は、いずれもネマチック液晶性を有しており、かつ実施例６で製造した膜は、偏光膜として充分機能しうる高い二色比を有していた。さらに、配向欠陥も全く観察されず、「◎」レベルであった。
【０２４２】
［比較例１］
（偏光子膜の作製）
前記実施例１の偏光子用組成物を、スピンコーターにて、前記実施例１のラビング配向膜付ガラス基板に塗布した後、７０℃で６０秒間乾燥し、膜厚Ｌ2：０．０６μｍのドライ塗膜を形成した。
【０２４３】
（偏光子膜の評価）
得られた偏光子膜の二色比及び相転移温度を表１に示す。二色比は低下するものの、偏光膜として機能しうるレベルであったが、シュリーレン状の配向欠陥が外周部を中心に観察され、配向欠陥は「△」レベルであった。
【０２４４】
［比較例２］
（偏光子膜の作製）
前記実施例６の偏光子用組成物を、スピンコーターにて、前記実施例６の光配向膜付ガラス基板に塗布したのち、７０℃で６０秒間乾燥し、膜厚Ｌ2：０．０６μｍのドライ塗膜を形成した。
【０２４５】
（偏光子膜の評価）
得られた偏光子膜の二色比及び相転移温度を表１に示す。二色比は低下し、さらに、シュリーレン状の配向欠陥が全面に観察され、配向欠陥は「×」レベルであった。
【０２４６】
【表１】
2011048309.tif 000063
【０２４７】
［比較例３］
（偏光子膜の作製）
前記実施例６の偏光子用組成物に（Ａ）界面活性剤：前記化合物（Ｉ−６）を添加しない以外は、実施例６の方法にて偏光子膜を作製した。
【０２４８】
（偏光子膜の評価）
得られた偏光子膜の二色比は２０と実施例６の結果とほぼ同等レベルであり、シュリーレン状の配向欠陥も観察されなかったが、リバースチルトドメインが全面に観察され、配向欠陥は「△」レベルであった。