(57)【要約】【課題】ムラの少ない塗膜を形成できる樹脂組成物を提供すること。【解決手段】樹脂、重合性化合物、式（Ｆ）で表される化合物、及び溶剤を含む樹脂組成物は、ムラの少ない塗膜を形成できる。2011132503.tif 000029［式（Ｆ）中、Ｌ1は、２価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に、３価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、１価のＣ1-8脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子の少なくとも３つは、フッ素原子で置換されている。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０以上２２以下の整数を表す。但しｍ＋ｎは３以上２２以下である。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂、重合性化合物、式（Ｆ）で表される化合物、及び溶剤を含む樹脂組成物。
【化１】
2011132503.tif 000026
［式（Ｆ）中、Ｌ1は、２価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。
Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に、３価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、１価のＣ1-8脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子の少なくとも３つは、フッ素原子で置換されている。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０以上２２以下の整数を表す。但しｍ＋ｎは３以上２２以下である。］
【請求項２】
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ独立に、式（ｆ１）で表される基である請求項１に記載の樹脂組成物。
−ＣpＨ2p−ＣqＦ2q+1        （ｆ１）
［式（ｆ１）中、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、１以上４以下の整数を表す。］
【請求項３】
Ｒ1及びＲ2が直鎖状のＣ1-8脂肪族炭化水素基である請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
ｑが４である請求項２又は３に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
式（Ｆ）で表される化合物が、式（Ｆ１−１）で表される化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂組成物。
【化２】
2011132503.tif 000027
［式（Ｆ１−１）中、ｍ及びｎは前記と同じ意味である。］
【請求項６】
ｍ＋ｎが、３以上６以下である請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項７】
樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体（ａ）に由来する構造単位と、炭素−炭素二重結合及び環状エーテル構造を有する単量体（ｂ）｛但し単量体（ａ）とは異なる｝に由来する構造単位とを含む共重合体である請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項８】
単量体（ｂ）が、式（ｂ１−１）で表される化合物及び式（ｂ１−２）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項７に記載の樹脂組成物。
【化３】
2011132503.tif 000028
［式（ｂ１−１）及び式（ｂ１−２）中、Ｒ3は、水素原子又はＣ1-4脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｌ4は、単結合又はＣ1-6脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置換されていてもよい。
なお式（ｂ１−１）中のＲ3及びＬ4は、それぞれ、式（ｂ１−２）中のＲ3及びＬ4と同じものでもよく、異なっていてもよい。］
【請求項９】
さらに重合開始剤を含む請求項１〜８のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項１０】
重合開始剤が、ビイミダゾール化合物を含む重合開始剤である請求項９に記載の樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて形成される塗膜。
【請求項１２】
請求項９又は１０に記載の樹脂組成物を用いて形成されるパターン。
【請求項１３】
請求項１１に記載の塗膜及び請求項１２に記載のパターンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む液晶表示装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載の塗膜及び請求項１２に記載のパターンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物、この樹脂組成物から得られる塗膜及びパターン、並びに前記塗膜及び／又はパターンを含む表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置（例えば液晶表示装置）に用いられるカラーフィルタの画素パターンやコート層等の透明膜は、通常、樹脂組成物（特に感光性樹脂組成物）を用いて形成される。表示装置のコート層及びパターン等の製造では、通常、スピン塗布法やスリット＆スピン法等によって樹脂組成物が基板上に塗布される。そのため、ムラの少ない均一な塗膜を形成できる樹脂組成物が求められている。従来、感光性樹脂組成物としては、例えば、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含有するものが知られている（特許文献１など）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１８１０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来から知られた樹脂組成物では、塗布時のムラについては、必ずしも充分に満足できない場合があった。本発明の課題は、ムラの少ない塗膜を形成できる樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の発明を含む。
［１］  樹脂、重合性化合物、式（Ｆ）で表される化合物、及び溶剤を含む樹脂組成物。
【０００６】
【化１】
2011132503.tif 000002
【０００７】
式（Ｆ）中、Ｌ1は、２価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。
Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に、３価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、１価のＣ1-8脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子の少なくとも３つは、フッ素原子で置換されている。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０以上２２以下の整数を表す。但しｍ＋ｎは３以上２２以下である。
【０００８】
［２］  Ｒ1及びＲ2が、それぞれ独立に、式（ｆ１）で表される基である［１］に記載の樹脂組成物。
−ＣpＨ2p−ＣqＦ2q+1        （ｆ１）
［式（ｆ１）中、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、１以上４以下の整数を表す。］
【０００９】
［３］  Ｒ1及びＲ2が直鎖状のＣ1-8脂肪族炭化水素基である［１］又は［２］に記載の樹脂組成物。
【００１０】
［４］  式（ｆ１）中のｑが４である［２］又は［３］に記載の樹脂組成物。
【００１１】
［５］  式（Ｆ）で表される化合物が、式（Ｆ１−１）で表される化合物である［１］〜［４］のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００１２】
【化２】
2011132503.tif 000003
［式（Ｆ１−１）中、ｍ及びｎは前記と同じ意味である。］。
【００１３】
［６］  ｍ＋ｎが、３以上６以下である［１］〜［５］のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００１４】
［７］  樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体（ａ）に由来する構造単位と、炭素−炭素二重結合及び環状エーテル構造を有する単量体（ｂ）｛但し単量体（ａ）とは異なる｝に由来する構造単位とを含む共重合体である［１］〜［６］のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００１５】
［８］  単量体（ｂ）が、式（ｂ１−１）で表される化合物及び式（ｂ１−２）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である［７］に記載の樹脂組成物。
【００１６】
【化３】
2011132503.tif 000004
【００１７】
式（ｂ１−１）及び式（ｂ１−２）中、Ｒ3は、水素原子又はＣ1-4脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｌ4は、単結合又はＣ1-6脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置換されていてもよい。
なお式（ｂ１−１）中のＲ3及びＬ4は、それぞれ、式（ｂ１−２）中のＲ3及びＬ4と同じものでもよく、異なっていてもよい。
【００１８】
［９］  さらに重合開始剤を含む［１］〜［８］のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００１９】
［１０］  重合開始剤が、ビイミダゾール化合物を含む重合開始剤である［９］に記載の樹脂組成物。
【００２０】
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて形成される塗膜。
【００２１】
［１２］  ［９］又は［１０］に記載の樹脂組成物を用いて形成されるパターン。
【００２２】
［１３］  ［１１］に記載の塗膜及び［１２］に記載のパターンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む液晶表示装置。
【００２３】
［１４］  ［１１］に記載の塗膜及び［１２］に記載のパターンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む有機ＥＬ表示装置。
【発明の効果】
【００２４】
式（Ｆ）で表される化合物を含有する本発明の樹脂組成物は、ムラの少ない塗膜を形成できる。そのため大型表示装置のコート層及び画素パターン等の製造に適している。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、式（Ｆ）で表される化合物（以下、「式（Ｆ）で表される化合物」を「化合物（Ｆ）」と略称することがある。他の式で表される化合物等も同様に略称することがある。）及び溶剤（Ｈ）を含有し、場合により重合開始剤（Ｃ）、重合開始助剤（Ｄ）、多官能チオール（Ｅ）及びその他の添加剤（Ｇ）を含有していてもよい。前記各成分は、特に断りが無い限り、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、本発明の樹脂組成物に含まれる各成分を順に説明する。
【００２６】
〈樹脂（Ａ）〉
樹脂（Ａ）は、現像液（特に好ましくはアルカリ現像液）に対して可溶であるものが好ましい。アルカリ現像液に可溶な樹脂としては、例えば、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体（ａ）と；炭素−炭素二重結合を有し、単量体（ａ）とは異なる単量体（ｘ）と；の共重合体が挙げられる。単量体（ａ）及び単量体（ｘ）は、それぞれ、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下これらを順に説明する。
【００２７】
単量体（ａ）としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、コハク酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４−シクロヘキセンジカルボン酸、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等の不飽和ジカルボン酸類無水物；
などが挙げられる。
【００２８】
なお本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。
【００２９】
共重合反応性やアルカリ溶解性などの点から、単量体（ａ）は、好ましくは、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であり、より好ましくはメタクリル酸である。
【００３０】
単量体（ｘ）は、好ましくは、炭素−炭素二重結合及び環状エーテル構造を有する単量体（ｂ）を含む。単量体（ｂ）は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。単量体（ｂ）としては、エポキシ構造（即ちオキシラン構造）を有する単量体（ｂ１）、オキセタン構造を有する単量体（ｂ２）、及びテトラヒドロフラン構造（即ちオキソラン構造）を有する単量体（ｂ３）などが挙げられる。これらの中でも、エポキシ構造を有する単量体（ｂ１）及びオキセタン構造を有する単量体（ｂ２）が好ましく、エポキシ構造を有する単量体（ｂ１）がより好ましい。
【００３１】
エポキシ構造は、
（１）単環のオキシラン環を有する構造（即ちアルケンをエポキシ化した構造）（以下「構造（１）」と略称する）、及び
（２）脂環式炭化水素の環とオキシラン環が縮合した構造（下記式（ｂ１−０）で表される構造）（以下「構造（２）」と略称する）に分類できる。
【００３２】
【化４】
2011132503.tif 000005
［式（ｂ１−０）中、Ｗ0は脂環式炭化水素の環を表す。］
【００３３】
さらに構造（２）は、
（２−１）脂環式炭化水素の環が単環であるもの（式（ｂ１−０）で表される構造において、Ｗ0が単環の脂環式炭化水素の環である構造）（以下「構造（２−１）」と略称する）、及び、
（２−２）脂環式炭化水素の環が多環であるもの（式（ｂ１−０）で表される構造において、Ｗ0が橋かけ環である構造）（以下「構造（２−２）」と略称する）
に分類できる。これらの中でも、構造（２）が好ましく、構造（２−２）がより好ましい。
【００３４】
構造（１）を有する単量体（ｂ１）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、特開平７−２４８６２５号公報に記載の式（ｂ１−３）で表される単量体などが挙げられる｛式（ｂ１−３）中、Ｒ4〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ1-10アルキル基を表す。ｍ１は１〜５の整数を表す。｝。なお本明細書及び特許請求の範囲において、「Ｃx-y」とは「炭素数がｘ以上ｙ以下である」ことを意味する。
【００３５】
【化５】
2011132503.tif 000006
【００３６】
構造（１）を有する単量体（ｂ１−３）としては、例えば、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、及び２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレンなどが挙げられる。
【００３７】
構造（２−１）を有する単量体（ｂ１）としては、例えば、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、２，３−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００３８】
構造（２−２）を有する単量体（ｂ１）は、炭素−炭素二重結合を、多環式の脂肪族炭化水素基中に有していてもよく、環に結合する側鎖中に有していてもよい。多環としては、例えばノルボルナン環、トリシクロデカン環などが挙げられ、これらの中でもトリシクロデカン環が好ましい。
【００３９】
構造（２−２）を有する単量体（ｂ１）としては、例えば、エポキシノルボルニル（メタ）アクリレート｛例えば３，４−エポキシノルボルニル（メタ）アクリレート｝、式（ｂ１−１）で表される単量体、及び式（ｂ１−２）で表される単量体が挙げられる。
【００４０】
【化６】
2011132503.tif 000007
【００４１】
式（ｂ１−１）及び式（ｂ１−２）中、Ｒ3は、水素原子又はＣ1-4脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｌ4は、単結合又は２価のＣ1-6脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置換されていてもよい。なお式（ｂ１−１）中のＲ3及びＬ4は、それぞれ、式（ｂ１−２）中のＲ3及びＬ4と同じものでもよく、異なっていてもよい。同様に本明細書の他の式で共通する記号も、各式同士で、同じものでもよく、異なっていてもよい。ここで、「−ＣＨ2−が−Ｏ−等で置換されている脂肪族炭化水素基」等とは、「見掛け上、脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−が−Ｏ−等で置換されたとみなされる基」等を意味し、「実際上、脂肪族炭化水素基を合成した後に、−ＣＨ2−を−Ｏ−等で置換して得られる基」等を意味しない。「水素原子がフッ素原子で置換されている脂肪族炭化水素基」等の表現も同様の意味である。
【００４２】
Ｒ3のヒドロキシ基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基などが挙げられる。Ｒ3は、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、又は２−ヒドロキシエチル基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。
【００４３】
Ｌ4の−Ｏ−等で置換されていてもよい２価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、メチレンオキシ基（−ＣＨ2−Ｏ−）、エチレンオキシ基｛−（ＣＨ2）2−Ｏ−｝、プロパンジイルオキシ基｛−（ＣＨ2）3−Ｏ−等｝、メチレンスルファンジイル基（−ＣＨ2−Ｓ−）、エチレンスルファンジイル基｛−（ＣＨ2）2−Ｓ−｝、プロパンジイルスルファンジイル基｛−（ＣＨ2）3−Ｓ−等｝、メチレンイミノ基（−ＣＨ2−ＮＨ−）、エチレンイミノ基｛−（ＣＨ2）2−ＮＨ−｝、プロパンジイルイミノ基｛−（ＣＨ2）3−ＮＨ−等｝などが挙げられる。Ｌ4は、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、エチレンスルファンジイル基、又はエチレンイミノ基であり、より好ましくは単結合又はエチレンオキシ基である。
【００４４】
単量体（ｂ１−１）及び単量体（ｂ１−２）は、それぞれ、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。さらに単量体（ｂ１−１）及び単量体（ｂ１−２）の混合物を使用してもよい。これらの混合物を使用する場合、単量体（ｂ１−１）：単量体（ｂ１−２）のモル比は、好ましくは５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、さらに好ましくは２０：８０〜８０：２０である。
【００４５】
好ましい単量体（ｂ１−１）は、式（ｂ１−１−１）〜式（ｂ１−１−１５）のいずれかで表される。これらの中でも、単量体（ｂ１−１−１）、単量体（ｂ１−１−３）、単量体（ｂ１−１−５）、単量体（ｂ１−１−７）、単量体（ｂ１−１−９）、及び単量体（ｂ１−１−１１）〜単量体（ｂ１−１−１５）がより好ましく、単量体（ｂ１−１−１）、単量体（ｂ１−１−７）、単量体（ｂ１−１−９）、及び単量体（ｂ１−１−１５）がさらに好ましい。
【００４６】
【化７】
2011132503.tif 000008
【００４７】
好ましい単量体（ｂ１−２）は、式（ｂ１−２−１）〜式（ｂ１−２−１５）のいずれかで表される。これらの中でも、単量体（ｂ１−２−１）、単量体（ｂ１−２−３）、単量体（ｂ１−２−５）、単量体（ｂ１−２−７）、単量体（ｂ１−２−９）、及び単量体（ｂ１−２−１１）〜単量体（ｂ１−２−１５）がより好ましく、単量体（ｂ１−２−１）、単量体（ｂ１−２−７）、単量体（ｂ１−２−９）、及び単量体（ｂ１−２−１５）がさらに好ましい。
【００４８】
【化８】
2011132503.tif 000009
【００４９】
オキセタン構造を有する単量体（ｂ２）としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］メチルオキセタン、３−エチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］メチルオキセタン、３−メチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］エチルオキセタン、３−エチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］エチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−（メタ）アクリロキシオキセタンなどが挙げられる。これらの中でも、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタンが好ましい。
【００５０】
テトラヒドロフラン構造を有する単量体（ｂ３）としては、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフリルメトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフリルメトキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５１】
単量体（ｘ）は、単量体（ａ）及び単量体（ｂ）とは異なる単量体（ｃ）を含んでいてもよい。単量体（ｃ）としては、例えば、炭素−炭素二重結合を有するカルボン酸エステル類、炭素−炭素二重結合を有するアミド類、側鎖に重合性の不飽和結合（炭素−炭素二重結合又は三重結合）を有する芳香族化合物、置換ビニル化合物、Ｎ−置換マレイミド類、ジエン類、多環式不飽和化合物などが挙げられる。単量体（ｃ）は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５２】
単量体（ｃ）としては、例えば、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（該分野では「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」との慣用名で呼ばれることもある）、４−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート、５−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル類；
酢酸ビニル又はプロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル類；
ジメチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミドなどの炭素−炭素二重結合を有するアミド類；
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレンなどの側鎖に重合性の不飽和結合を有する芳香族化合物；
アクリロニトリル、メタクリロニトリル又はα−クロロ（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；
クロロエチレン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、フルオロエチレン、ジフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンなどのハロゲン化ビニル化合物；
Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどのジエン類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなどの多環式不飽和化合物；
などが挙げられる。
【００５３】
単量体（ｃ）の中でも、ベンジルアクリレート、スチレン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンが好ましい。
【００５４】
単量体（ｘ）としては、単量体（ｂ）又は単量体（ｃ）のいずれか一方のみを使用してもよく、これらの両方を使用してもよい。単量体（ｘ）は、好ましくは単量体（ｂ）を含む。即ち単量体（ｘ）は、好ましくは単量体（ｂ）のみであるか、又は単量体（ｂ）及び単量体（ｃ）の両方であり、より好ましくは単量体（ｂ）のみである。単量体（ｂ）を含む共重合体は、樹脂組成物から得られる塗膜又はパターンの耐熱性、耐光性、耐溶剤性、機械特性が向上する。
【００５５】
樹脂（Ａ）が、単量体（ａ）と単量体（ｂ）との共重合体である場合、共重合体の全構成単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は、好ましくは２〜９８モル％（より好ましくは５〜６０モル％、さらに好ましくは１０〜５０モル％）であり、単量体（ｂ）に由来する構造単位は、好ましくは２〜９８モル％（より好ましくは４０〜９５モル％、さらに好ましくは５０〜９０モル％）である。この範囲であれば、樹脂組成物の保存安定性及び現像性、並びに塗膜やパターンの残膜率及び耐溶剤性が良好になる傾向がある。
【００５６】
樹脂（Ａ）が、単量体（ａ）と単量体（ｃ）との共重合体である場合、共重合体の全構造単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は２〜９８モル％であり、単量体（ｃ）に由来する構造単位は２〜９８モル％であることが好ましい。この範囲であれば、保存安定性や耐熱性が良好になる傾向がある。より好ましくは、単量体（ａ）と単量体（ｃ）との共重合体の全構造単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は５〜５０モル％であり、単量体（ｃ）に由来する構造単位は５０〜９５モル％である。この範囲であれば、現像性や残膜率も良好になる傾向がある。
【００５７】
樹脂（Ａ）が、単量体（ａ）、単量体（ｂ）及び単量体（ｃ）の共重合体である場合、共重合体の全構造単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は２〜９７モル％であり、単量体（ｂ）に由来する構造単位は２〜９７モル％であり、単量体（ｃ）に由来する構造単位は１〜９６モル％であることが好ましい。この範囲であれば、保存安定性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。より好ましくは、単量体（ａ）、単量体（ｂ）及び単量体（ｃ）の共重合体の全構造単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は１０〜５０モル％であり、単量体（ｂ）に由来する構造単位は２０〜８０モル％であり、単量体（ｃ）に由来する構造単位は１０〜７０モル％である。この範囲であれば、現像性、残膜率や耐溶剤性も良好になる傾向がある。
【００５８】
樹脂（Ａ）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著  発行所（株）化学同人  第１版第１刷  １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び該文献で引用されている文献を参考にして、単量体を重合することによって製造できる。より詳しくは、所定量の単量体（ａ）、並びに単量体（ｂ）及び／又は単量体（ｃ）、重合開始剤及び溶剤を反応容器に仕込み、窒素置換した酸素不存在下で、攪拌、加熱、保温することによって共重合体を製造できる。この共重合の仕込方法や反応温度は、製造設備や重合による発熱量等を考慮しながら、適宜調整すればよい。
【００５９】
得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよい。特に、後述する溶剤（Ｈ）を重合溶媒として使用すれば、重合後の共重合体溶液から溶剤を除去せずに、そのまま樹脂組成物に使用することができ、製造工程を簡略化できる。また共重合体溶液を濃縮してもよいし、希釈してもよい。さらに再沈殿などの方法で固体（粉体）として取り出した共重合体を使用してもよい。
【００６０】
樹脂（Ａ）は、さらに、側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）を有していてもよい。構造単位（ｄ）は、式（ｄ１）又は式（ｄ２）で表されるように、好ましくは１−アルキル−１−エテンカルボニル基、より好ましくは（メタ）アクリロイル基を末端に有する。
【００６１】
【化９】
2011132503.tif 000010
【００６２】
式（ｄ１）及び式（ｄ２）中、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ1-6アルキル基（好ましくは水素原子又はメチル基）を表す。なお式（ｄ１）及び式（ｄ２）中の＊印は、それぞれ、構造単位（ｄ１）及び構造単位（ｄ２）中の結合位置を表す。他の化学式でも同様である。
【００６３】
側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）は、単量体（ａ）、並びに単量体（ｂ）及び／又は単量体（ｃ）を共重合した後、単量体（ａ）に由来するカルボキシ基又はカルボニルオキシカルボニル基（カルボン酸無水物構造）に、例えば特開２００５−１８９５７４号公報に記載の方法と同様にして、炭素−炭素二重結合及び環状エーテル構造を有する単量体（ｂ）、好ましくは炭素−炭素二重結合及びエポキシ構造を有する単量体（ｂ１）｛例えば式（ｂ１−４）又は式（ｂ１−５）で表される単量体｝を付加させることによって形成できる［式（ｂ１−４）又は式（ｂ１−５）中、Ｒ8は前記と同じである。
］。
【００６４】
【化１０】
2011132503.tif 000011
【００６５】
側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）は、詳しくは、以下のようにして形成できる。単量体（ａ）、並びに単量体（ｂ）及び／又は単量体（ｃ）を共重合した後に、反応容器内の雰囲気を窒素から空気に置換し、共重合に用いた単量体（ａ）の量に対して５〜８０モル％の単量体（ｂ）を添加する。次いで共重合体に用いた単量体（ａ）及び付加反応に用いる単量体（ｂ）の合計量に対して、０．００１〜５質量％の反応触媒（例えばトリスジメチルアミノメチルフェノール等）及び０．００１〜５質量％の重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）を添加し、６０〜１３０℃で１〜１０時間反応させる。なお共重合と同様に、この付加反応でも、製造設備や付加反応による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整すればよい。
【００６６】
この付加反応では、付加反応に用いる単量体（ｂ）の量は、共重合に用いた単量体（ａ）の量に対して、好ましくは１０〜７５モル％、より好ましくは１５〜７０モル％である。この範囲内であれば、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度が良好になる傾向がある。
【００６７】
側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）を含む共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮又は希釈してもよい。さらに再沈殿などの方法で固体（粉体）として取り出した共重合体を使用してもよい。
【００６８】
樹脂（Ａ）の酸価は、好ましくは５０〜１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、より好ましくは６０〜１３５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、さらに好ましくは７０〜１３５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）である。この範囲であれば、現像液に対する溶解性が向上して未露光部が溶解しやすくなる。
ここで酸価は酸性基を有する重合体１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、通常は水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することによって求めることができる。
【００６９】
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは２，０００〜５０，０００、さらに好ましくは３，０００〜３０，０００である。この範囲であれば、樹脂組成物の塗布性が良好で、現像時の残膜率を保持しながら、高い現像速度が得られる傾向がある。なお重量平均分子量は、ポリスチレンを標準とするゲル浸透クロマトグラフィーで求められる。
【００７０】
樹脂（Ａ）の分子量分布｛即ち重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）｝は、好ましくは１．１〜６．０、より好ましくは１．２〜４．０である。この範囲であれば、現像性に優れる傾向がある。
【００７１】
樹脂組成物中の樹脂（Ａ）の含有量は、樹脂組成物の固形分中、好ましくは５〜９０質量％（より好ましくは１０〜７０質量％）である。この範囲であれば、現像液への溶解性が充分であり、非露光部分（非画素部分）の基板上に現像残渣が発生しにくくなる。また現像時に露光部分（画素部分）の膜減りが生じにくく、残膜率が高くなる傾向がある。なお本明細書において「組成物の固形分」とは、「溶剤を除く樹脂組成物の各成分の合計」をいう。この固形分は、ガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィーなどの公知の手段によって測定できる。
【００７２】
〈重合性化合物（Ｂ）〉
重合性化合物（Ｂ）としては、例えば重合性の炭素−炭素不飽和結合を有する化合物などが挙げられる。重合性化合物（Ｂ）は、好ましくは、炭素−炭素不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物（以下「３官能以上の重合性化合物」という）である。
【００７３】
３官能以上の重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。
【００７４】
これらの中でも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましい。
【００７５】
重合性化合物（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の合計中、好ましくは５〜７５質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１５〜６５質量％である。この範囲であれば、硬化が充分におこり、現像前後で膜厚の低下が防止されて、パターンにアンダーカットが入りにくくなり、パターンの密着性が良好になる傾向がある。またこの範囲であれば、樹脂組成物の感度、並びに塗膜及びパターンの強度、平滑性、耐熱性、耐薬品性が良好になる傾向がある。
【００７６】
〈重合開始剤（Ｃ）〉
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、重合開始剤（Ｃ）、好ましくは光重合開始剤（Ｃ）を含有していてもよい。重合開始剤（Ｃ）は、加熱又は光照射によって活性ラジカルや酸などを発生し、重合を開始する化合物であり、公知の重合開始剤を用いることができる。
【００７７】
重合開始剤（Ｃ）として、例えば、ビイミダゾール化合物、アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物等が挙げられる。これらの中でも、ビイミダゾール化合物、アセトフェノン化合物、オキシム化合物及びトリアジン化合物が好ましく、感度に優れるビイミダゾール化合物がより好ましい。
【００７８】
ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等を参照）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等を参照）、４，４’，５，５’位のフェニル基がアルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ）により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等を参照）等が挙げられる。
【００７９】
これらの中でも、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール｛特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール｝、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが好ましい。
【００８０】
アセトフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２，３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。
【００８１】
トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００８２】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００８３】
オキシム化合物としては、Ｏ−アシルオキシム系化合物が挙げられ、その具体例としては、１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−ブタン−１，２−ジオン  ２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−オクタン−１，２−ジオン  ２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン  １−Ｏ−アセテート、１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン  １−Ｏ−アセテート等が挙げられる。
【００８４】
ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【００８５】
ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
【００８６】
さらに重合開始剤（Ｃ）として、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等を使用してもよい。
【００８７】
また重合開始剤（Ｃ）として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されているような、連鎖移動を起こし得る基を有する重合開始剤を使用してもよい。尚、連鎖移動を起こし得る基を有する重合開始剤は、樹脂（Ａ）の共重合に使用して、構造単位として樹脂（Ａ）に組み込むこともできる。
【００８８】
連鎖移動を起こし得る基を有する重合開始剤としては、例えば、式（Ｃ１）〜（Ｃ６）で表される重合開始剤が挙げられる。
【００８９】
【化１１】
2011132503.tif 000012
【００９０】
重合開始剤（Ｃ）を使用する場合、その含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対して、好ましくは０．１〜４０質量部、より好ましくは１〜３０質量部である。この範囲であれば、樹脂組成物が光や熱に対して高感度となり、この樹脂組成物を用いて形成した塗膜やパターンの強度や平滑性が良好になる傾向がある。
【００９１】
〈重合開始助剤（Ｄ）〉
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、重合開始助剤（Ｄ）を含有していてもよい。重合開始助剤（Ｄ）は、通常、重合開始剤（Ｃ）と組み合わせて用いられ、重合開始剤（Ｃ）によって開始された重合を促進するために用いられる。
【００９２】
重合開始助剤（Ｄ）を使用する場合、その含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜５０質量部、より好ましくは０．１〜４０質量部である。この範囲の重合開始助剤（Ｄ）を用いれば、得られる樹脂組成物の光や熱に対する感度がさらに高まり、この樹脂組成物を用いて形成する塗膜やパターンの生産性が向上する傾向がある。
【００９３】
重合開始助剤（Ｄ）としては、アミン化合物、チオキサントン化合物、カルボン酸化合物などが挙げられる。
【００９４】
アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン類；４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称：ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどの芳香族アミン類；が挙げられる。またアミン化合物として、商品名「ＥＡＢ−Ｆ」（保土谷化学工業（株）製）などの市販品を用いてもよい。
【００９５】
チオキサントン化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
【００９６】
カルボン酸化合物としては、（フェニルチオ）酢酸、（メチルフェニルチオ）酢酸、（エチルフェニルチオ）酢酸、（メチルエチルフェニルチオ）酢酸、（ジメチルフェニルチオ）酢酸、（メトキシフェニルチオ）酢酸、（ジメトキシフェニルチオ）酢酸、（クロロフェニルチオ）酢酸、（ジクロロフェニルチオ）酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、（ナフチルチオ）酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類などが挙げられる。
【００９７】
重合開始助剤（Ｄ）として、式（Ｄ１）で表される化合物を使用してもよい。
【００９８】
【化１２】
2011132503.tif 000013
【００９９】
式（Ｄ１）中、Ｗ1は、Ｃ6-12芳香環を表し、前記芳香環の水素原子はハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など）で置換されていてもよい。Ｌ5は、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ9は、直鎖状、分枝鎖状又は環式のＣ1-6脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ10は、直鎖状、分枝鎖状又は環式のＣ1-12脂肪族炭化水素基、又はＣ6-12芳香族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基及び前記芳香族炭化水素基の水素原子は、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など）で置換されていてもよい。
【０１００】
Ｗ1の芳香環としては、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、ナフタレン環、フェニルベンゼン環などが挙げられる。Ｗ1のハロゲン化芳香環としては、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。Ｗ1は、好ましくはベンゼン環（フェニレン基）又はナフタレン環（ナフチレン基）である。
【０１０１】
Ｒ9の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、２−メチルプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。Ｒ9は、好ましくはメチル基である。
【０１０２】
Ｒ10の脂肪族炭化水素基としては、Ｒ9で列挙した基に加えて、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、ヘキシルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などが挙げられる。Ｒ10のハロゲン化脂肪族炭化水素基としては、トリフルオロメチル基、１−クロロブチル基、２−クロロブチル基、３−クロロブチル基、１−ブロモヘキシル基、２−ブロモドデシル基などが挙げられる。Ｒ10の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基などが挙げられる。またＲ10のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロフェニルフェニル基、ブロモフェニルフェニル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基などが挙げられる。Ｒ10は、好ましくはフェニル基、ビフェニリル基、又はナフチル基である。
【０１０３】
重合開始助剤（Ｄ１）としては、例えば、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，３−ｄ］チアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，３−ｄ］オキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン等が挙げられる。
【０１０４】
上述のものの中でも、式（Ｄ１−１）で表される２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、式（Ｄ１−２）で表される２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、及び式（Ｄ１−３）で表される２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリンが好ましい。
【０１０５】
【化１３】
2011132503.tif 000014
【０１０６】
重合開始助剤（Ｄ１）を含む樹脂組成物は高感度となり、塗膜やパターンの生産性が向上する傾向がある。重合開始助剤（Ｄ１）は、光又は熱の作用により退色するので、これを使用すれば、塗膜やパターンの可視光透過率を向上させることができる。
【０１０７】
重合開始助剤（Ｄ１）の含有量は、重合開始助剤（Ｄ）の含有量中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは６５質量％以上であり、好ましくは１００質量％以下である。この範囲の量で重合開始助剤（Ｄ１）を使用すれば、塗膜の可視光透過率が高くなる。
【０１０８】
また重合開始助剤（Ｄ）として、式（Ｄ２）又は式（Ｄ３）で表される化合物を使用してもよい。
【０１０９】
【化１４】
2011132503.tif 000015
【０１１０】
式（Ｄ２）又は式（Ｄ３）中、Ｗ2及びＷ3は、それぞれ独立に、Ｃ6-12芳香環又は複素環を表し、前記芳香環及び前記複素環の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｌ6及びＬ7は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−（好ましくは−Ｓ−）を表す。Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、直鎖状、分枝鎖状又は環式のＣ1-12脂肪族炭化水素基、又はＣ6-12芳香族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基及び前記芳香族炭化水素基の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はＣ1-6アルコキシ基で置換されていてもよい。
【０１１１】
Ｗ2及びＷ3の芳香環及び複素環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、及びピラジン環など、並びにこれらの組合せ（例えばナフタレン環、イソベンゾフラン環、ベンゾイミダゾール環など）が挙げられる。Ｗ2及びＷ3のハロゲン化芳香環としては、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。Ｗ2及びＷ3は、それぞれ独立に、好ましくはベンゼン環又はナフタレン環である。
【０１１２】
Ｒ11及びＲ12の脂肪族炭化水素基、ハロゲン化脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びハロゲン化芳香族炭化水素基としては、Ｒ10で列挙したものなどが挙げられる。Ｒ11又はＲ12のヒドロキシ基で置換された脂肪族炭化水素基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基等が挙げられる。Ｒ11又はＲ12のヒドロキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等が挙げられる。Ｒ11又はＲ12のアルコキシ基で置換された脂肪族炭化水素基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、ブトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロポキシブチル基等が挙げられる。Ｒ11又はＲ12のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、メトキシフェニル基、エトキシナフチル基等が挙げられる。Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基である。
【０１１３】
重合開始助剤（Ｄ２）又は（Ｄ３）としては、例えば、
ジメトキシナフタレン、ジエトキシナフタレン、ジプロポキシナフタレン、ジイソプロポキシナフタレン、ジブトキシナフタレンなどのジアルコキシナフタレン類；
ジメトキシアントラセン、ジエトキシアントラセン、ジプロポキシアントラセン、ジイソプロポキシアントラセン、ジブトキシアントラセン、ジペンタオキシアントラセン、ジヘキサオキシアントラセン、メトキシエトキシアントラセン、メトキシプロポキシアントラセン、メトキシイソプロポキシアントラセン、メトキシブトキシアントラセン、エトキシプロポキシアントラセン、エトキシイソプロポキシアントラセン、エトキシブトキシアントラセン、プロポキシイソプロポキシアントラセン、プロポキシブトキシアントラセン、イソプロポキシブトキシアントラセンなどのジアルコキシアントラセン類；
ジメトキシテトラセン、ジエトキシテトラセン、ジプロポキシテトラセン、ジイソプロポキシテトラセン、ジブトキシテトラセンなどのジアルコキシテトラセン類；
等が挙げられる。
【０１１４】
〈多官能チオール（Ｅ）〉
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、多官能チオール（Ｅ）を含有していてもよい。
ここで「多官能チオール」とは、「分子内に２個以上のスルファニル基を有する化合物」を意味する。多官能チオール（Ｅ）の中でも、脂肪族炭化水素基の炭素原子と結合するスルファニル基を２つ以上有する化合物が、樹脂組成物の感度を向上させるため、好ましい。
【０１１５】
多官能チオール（Ｅ）としては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、ブタンジオールビス（２−スルファニルアセテート）、エチレングリコールビス（２−スルファニルアセテート）、トリメチロールプロパントリス（２−スルファニルアセテート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−スルファニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−スルファニルアセテート）、トリスヒドロキシエチルトリス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブチレート）、１，４−ビス（３−スルファニルブチリルオキシ）ブタン等が挙げられる。
【０１１６】
多官能チオール（Ｅ）を使用する場合、その含有量は、重合開始剤（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは０．５〜１００質量部、より好ましくは１〜９０質量部である。この範囲の量で多官能チオール（Ｅ）を使用すれば、感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向がある。また多官能チオール（Ｅ）は、重合開始剤（Ｃ）であるビイミダゾール化合物と組み合わせて使用することが好ましい。この組合せを使用すれば、感度が高くなる傾向がある。
【０１１７】
〈化合物（Ｆ）〉
本発明の樹脂組成物は、式（Ｆ）で表される化合物を含有することを特徴の１つとする。化合物（Ｆ）を使用することによって、ムラの少ない均一な塗膜やパターンを製造できる。また本発明の樹脂組成物は、耐熱性の高い塗膜も形成できる。
以下、式（Ｆ）中の基について順に説明する。
【０１１８】
【化１５】
2011132503.tif 000016
【０１１９】
式（Ｆ）中、Ｌ1は、２価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。Ｌ1としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基等が挙げられる。これらの中でも、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイル基が好ましい。
【０１２０】
式（Ｆ）中、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に、３価のＣ2-8脂肪族炭化水素基を表す。
Ｌ2及びＬ3としては、例えば式（ｆ２−１）〜式（ｆ２−１１）で表される基が挙げられ、これらの中でも式（ｆ２−１）で表される基が好ましい。なお下記式中の＊印は結合位置を表し、この位置で式（Ｆ）中の酸素原子と結合する。
【０１２１】
【化１６】
2011132503.tif 000017
【０１２２】
式（Ｆ）中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、１価のＣ1-8脂肪族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基の水素原子の少なくとも３つは、フッ素原子で置換されている。Ｒ1及びＲ2としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基のような直鎖状の脂肪族炭化水素基で少なくとも３つの水素原子がフッ素原子で置換されているもの（例えばトリフルオロメチル基など）；
２−メチルエチル基、２−メチルプロピル基、２，２−ジメチルエチル基、２−ブチル基、２−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基のような分枝鎖状の脂肪族炭化水素基で少なくとも３つの水素原子がフッ素原子で置換されているもの（例えば２−トリフルオロメチルプロピル基）；
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基のような環式の脂肪族炭化水素基で少なくとも３つの水素原子がフッ素原子で置換されているもの（例えばペンタフルオロエチルシクロヘキシル基）；
が挙げられる。これらの中でも、直鎖状のものが好ましく、少なくとも３つのフッ素原子を有するエチル基、プロピル基、ブチル基及びヘキシル基がより好ましい。
【０１２３】
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、好ましくは式（ｆ１）で表される基である：
−ＣpＨ2p−ＣqＦ2q+1      （ｆ１）
【０１２４】
式（ｆ１）中、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、１以上４以下の整数を表す。ｐは、好ましくは１又は２、より好ましくは２である。ｑは、好ましくは３又は４、より好ましくは４である。また式（ｆ１）で表される基が直鎖状であることが好ましい。式（ｆ１）で表される基の中でも、２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基｛ｎ−ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2−｝、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基｛ｎ−ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2−｝、４，４，５，５，６，６，７，７，７−ノナフルオロヘプチル基｛ｎ−ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）3−｝、５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロオクチル基｛ｎ−ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）4−｝が好ましく、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基がより好ましい。
【０１２５】
式（Ｆ）中、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０以上、好ましくは１以上、より好ましくは２以上の整数を表し、２２以下、好ましくは１０以下、より好ましくは６以下の整数を表す。但しｍ＋ｎは、３以上、好ましくは４以上であり、２２以下、好ましくは１０以下、より好ましくは６以下である。
【０１２６】
化合物（Ｆ）は、好ましくは式（Ｆ１）で表される［式（Ｆ１）中、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは前記と同じ意味である。−ＣpＨ2p−ＣqＦ2q+1で表される基の説明は、式（ｆ１）で表される基の説明と同じである。］。
【０１２７】
【化１７】
2011132503.tif 000018
【０１２８】
化合物（Ｆ１）の中でも、式（Ｆ１−１）〜式（Ｆ１−３）で表される化合物が好ましく、化合物（Ｆ１−１）がより好ましく、ｍ＋ｎが３以上６以下である化合物（Ｆ１−１）がさらに好ましい［式（Ｆ１−１）〜式（Ｆ１−３）中、ｍ及びｎは前記と同じ意味である。式（Ｆ１−１）中の−Ｃ4Ｆ9は、好ましくは直鎖状である。］
【０１２９】
【化１８】
2011132503.tif 000019
【０１３０】
化合物（Ｆ）の含有量は、樹脂組成物の固形分中、好ましくは０．００１〜０．１５質量％。より好ましくは０．０１〜０．１質量％、さらに好ましくは０．０２〜０．１質量％である。化合物（Ｆ）の含有量がこの範囲にあると、ムラのない塗膜が得られやすくなる。
【０１３１】
化合物（Ｆ）は様々な反応経路で製造できる。例えば、好ましい化合物（Ｆ１）は、式（ｆ３）で表される化合物と式（ｆ４）で表される化合物（即ち２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール）とを用いるエーテル化反応によって製造できる。また好ましい化合物（Ｆ１）は、オムノバ社からＰｏｌｙＦｏｘTM  ＰＦ−７００２などとして市販されている。
【０１３２】
【化１９】
2011132503.tif 000020
【０１３３】
〈その他の添加剤（Ｇ）〉
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、その他の添加剤（Ｇ）を含有していてもよい。
その他の添加剤（Ｇ）としては、例えば、着色剤、顔料分散剤、充填剤、樹脂（Ａ）と異なる高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤、レベリング剤などが挙げられる。
【０１３４】
着色剤としては、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists 出版）でピグメントに分類されている化合物が挙げられる。詳しくは、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、８３、８６、９３、９４、１０９、１１０、１１７、１２５、１２８、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１６６、１７３、１９４、２１４などの黄色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５、７１、７３などのオレンジ色の顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９７、１０５、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１８０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、２６５などの赤色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、６０などの青色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１９、２３、２９、３２、３６、３８などのバイオレット色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８などの緑色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５などのブラウン色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、７などの黒色顔料；
などが挙げられる。なお本明細書では、最初の顔料にのみ「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」等を記載し、それに続く同じ記載の顔料は番号のみを記載した。
【０１３５】
顔料分散剤として、界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、電気的には、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性に分類でき、化合物的には、エステル系、アミン系、アクリル系、シリコーン系などに分類できる。界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類などが挙げられる。また市販の界面活性剤、例えば、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（登録商標）（共栄社化学（株）製）、ソルスパース（登録商標）（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（ＣＩＢＡ社製）、アジスパー（登録商標）（味の素ファインテクノ（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（ビックケミー社製）なども使用できる。
【０１３６】
充填剤としては、例えば、ガラス、シリカ、アルミナ等が挙げられる。
高分子化合物としては、例えば、エポキシ樹脂（例えばオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂）、マレイミド樹脂等の硬化性樹脂ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂等が挙げられる。
【０１３７】
密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１３８】
酸化防止剤としては、例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール等が挙げられる。また酸化防止剤は、チバ・ジャパン社などから「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」などの商品名で市販されている。
【０１３９】
紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネート、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１４０】
光安定剤としては、例えば、コハク酸と（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−イル）エタノールとからなる高分子；Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ'”−テトラキス（４，６−ビス（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン；デカンジオイックアシッドとビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステルと１，１−ジメチルエチルヒドロパーオキシドとの反応物；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）−［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート；２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート；メチル（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等が挙げられる。
【０１４１】
連鎖移動剤としては、例えば、ドデカンチオール、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等が挙げられる。
【０１４２】
レベリング剤としては例えば、シリコーン系レベリング剤が挙げられる。シリコーン系レベリング剤とは、分子中にシロキサン結合を有するレベリング剤である。シリコーン系レベリング剤としては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のストレートシリコーンオイル；ポリエーテル変性シリコーンオイル等の変性シリコーンオイル（ポリシロキサン骨格の主鎖又は側鎖に有機基を導入したもの）；ポリシロキサン結合により形成された三次元ポリマーからなるシリコーンレジン等が挙げられ、これらの中でも変性シリコーンオイル（好ましくはポリエーテル変性シリコーンオイル）が好適である。具体的には、東レ・ダウコーニング（株）から市販されているＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ８４００（ポリエーテル変性シリコーンオイル）、信越化学工業（株）から市販されているＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社から市販されているＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０等が挙げられる。
【０１４３】
添加剤（Ｇ）としてレベリング剤を添加する場合、レベリング剤の含有量は、樹脂組成物の固形分中、０．００１質量％以上０．２質量％以下が好ましく、より好ましくは０．００２質量％以上０．１質量％以下、さらに好ましくは０．００５質量％以上０．０５質量％以下である。レベリング剤を前記の範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができる。
【０１４４】
〈溶剤（Ｈ）〉
溶剤（Ｈ）としては、樹脂（Ａ）等の各成分を均一に溶解又は分散し、かつ各成分と反応しないものが適している。塗布性及び乾燥性の点から、沸点が１００℃〜２００℃である有機溶剤が好ましい。溶剤（Ｈ）としては、例えば、以下のものを使用できる。
【０１４５】
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類。
【０１４６】
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテルプロピレングリコールプロピルメチルエーテル、プロピレングリコールエチルプロピルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類。
【０１４７】
メトキシブタノール、エトキシブタノール、プロポキシブタノール、ブトキシブタノール等のブタンジオールモノアルキルエーテル類；
メトキシブチルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシブチルアセテート、ブトキシブチルアセテート等のブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類；
メトキシブチルプロピオネート、エトキシブチルプロピオネート、プロポキシブチルプロピオネート、ブトキシブチルプロピオネート等のブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート類。
【０１４８】
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類。
【０１４９】
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類。
【０１５０】
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル等のエステル類。
【０１５１】
テトラヒドロフラン、ピラン等の環状エーテル類；
γ−ブチロラクトン等の環状エステル類。
【０１５２】
上述のものの中でも、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類（より好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、ケトン類（より好ましくはシクロヘキサノン）、ブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類（より好ましくはメトキシブチルアセテート）、ブタンジオールモノアルキルエーテル類（より好ましくはメトキシブタノール）、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類（より好ましくはジエチレングリコールエチルメチルエーテル）、エステル類（より好ましくは３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル）が好ましい。
【０１５３】
溶剤（Ｈ）の含有量は、樹脂組成物中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上であり、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下である。
【０１５４】
〈塗膜、パターン、表示装置〉
本発明の塗膜は、前記樹脂組成物を、基体（例えばガラス、シリコン、金属、プラスチックなどの基板、或いは樹脂層又は無機化合物層が形成された基板など）に塗布した後、熱重合及び／又は光重合することによって塗膜を形成できる。塗膜を形成するための塗布方法には特に限定は無く、スピンコート法などの公知の方法を使用できる。
【０１５５】
本発明のパターンは、例えばインクジェット機器などを用いて、本発明の樹脂組成物をパターン状に塗布した後、熱重合又は光重合することによって形成できる。また光重合開始剤（Ｃ）を含有する本発明の感光性樹脂組成物を用いれば、フォトリソグラフ法によってもパターンを形成できる。フォトリソグラフ法では、通常、感光性樹脂組成物の塗布、溶剤除去、露光前の加熱（プリベーク）、露光、現像、現像後の加熱（ポストベーク）、及び各工程を経てパターンが形成される。
【０１５６】
本発明の塗膜及びパターンは、例えば、表示装置のカラーフィルタ又はアレイ基板などの構成部品である透明膜、カラーフィルタの着色パターン、フォトスペーサ、オーバーコート、絶縁膜、液晶配向制御用突起、マイクロレンズ、コート層などに好適である。本発明の塗膜及びパターンは、基板に対して充分な密着性を示すので、この基板上に形成される塗膜又はパターンとして特に有用である。前記表示装置としては、好ましくは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【実施例】
【０１５７】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、上記・下記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
なお以下では、成分量における「％」及び「部」は、特記がない限り、「質量％」及び「質量部」である。
【０１５８】
１．樹脂（Ａ）の合成
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して、窒素雰囲気とし、３−メトキブチルアセテート１３０部及び３−メトキシ−１−ブタノール１１０部を入れ、撹拌しながら８０℃まで加熱した。次いでメタクリル酸４０部、単量体（ｂ１−１−１）及び単量体（ｂ１−２−１）の混合物｛混合物中の単量体（ｂ１−１−１）：単量体（ｂ１−２−１）のモル比＝５０：５０｝３６０部、及びアゾビスジメチルバレロニトリル３６重量部を３−メトキシブチルアセテート２１０部及び３−メトキシ−１−ブタノール１７０部に溶解させた混合溶液を５時間かけて滴下し、さらに３時間熟成した後、室温まで冷却して、固形分４３．１％、酸価６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの共重合体の溶液を得た。この共重合体を樹脂（Ａ１）とする。得られた樹脂（Ａ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は７８００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９５であった。
【０１５９】
【化２０】
2011132503.tif 000021
【０１６０】
得られた樹脂（Ａ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行なった。
装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ  Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ
標準：ポリスチレン
【０１６１】
２．樹脂組成物の調製
以下に示す各成分を表１に示す量で混合して、樹脂組成物１〜６を得た。
樹脂（Ａ）：樹脂（Ａ１）溶液（表１には、固形分換算した樹脂（Ａ１）の部数を示す）
重合性化合物（Ｂ）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）
重合開始剤（Ｃ）：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール（Ｂ−ＣＩＭ；保土谷化学（株）製）
重合開始助剤（Ｄ）：２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン  多官能チオール（Ｅ）：ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）（ＰＥＭＰ；ＳＣ有機化学（株）製）
化合物（Ｆ）：式（Ｆ１−１−１）で表されるＰｏｌｙＦｏｘTM  ＰＦ−７００２（オムノバ社製、式（Ｆ１−１−１）中、ｍ’＋ｎ’≒４〜５）
その他の添加剤（Ｇ）
（Ｇ１）：オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（スミエポキシＥＳＣＮ−１９５ＸＬ−８０；住友化学（株）製）
（Ｇ２）：ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４（チバ・ジャパン社製）
（Ｇ３）：３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３；信越化学工業（株）製）
（Ｇ４）：ポリエーテル変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング（株）製  ＳＨ８４００）
溶剤（Ｈ）
（Ｈ１）：３−エトキシプロピオン酸エチル
（Ｈ２）：３−メトキシ−１−ブタノール
（Ｈ３）：３−メトキシブチルアセテート
（Ｈ４）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（Ｈ５）：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
【０１６２】
【化２１】
2011132503.tif 000022
【０１６３】
【表１】
2011132503.tif 000023
【０１６４】
３．樹脂組成物の評価
上記組成物１〜７から得られる塗膜のムラ（ストリエーション及びモヤムラ）を以下のようにして評価した。
また組成物４及び組成物６のそれぞれから得られる塗膜の耐熱性を以下のようにして評価した。
【０１６５】
（１）ストリエーション評価
組成物１〜７から得られる塗膜のストリエーションを評価するため、まず表２に示す組成の着色樹脂組成物を用いて、シリコン基板上に着色パターンを形成し、次いで組成物１〜７を用いて、着色パターンを形成したシリコン基板上に塗膜を形成した。ここでストリエーションとは、着色パターンの段差に由来する塗膜の放射線状のムラのことをいう。
【０１６６】
【表２】
2011132503.tif 000024
【０１６７】
４インチのシリコン基板を、中性洗剤、水及び２−プロパノールで順次洗浄してから乾燥した。このシリコン基板上に、着色樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が３．０μｍになるようにスピンコートした。次にスピンコートした着色樹脂組成物層を、クリーンオーブン中、９０℃で３分間プリベークした。冷却後、この着色樹脂組成物層を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を１００μｍとし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ2の露光量（３６５ｎｍ基準）で露光した。なお、このときの着色樹脂組成物層への露光は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタ（ＵＶ−３５；旭テクノグラス（株）製）を通過させて行った。またフォトマスクとして、パターン（１０ｍｍ角の正方形の透光部を有し、前記正方形の間隔が１００ｍｍ）が同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。露光後、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液で露光した着色樹脂組成物層を２３℃で８０秒間浸漬して現像し、水洗した後、オーブン中、２２０℃で２０分間ポストベークを行い、シリコン基板上に１０ｍｍ角の着色パターンを形成した。
【０１６８】
着色パターンを形成したシリコン基板に、スピンコーターを用いて硬化後の膜厚が２．０μｍになるような条件で、組成物１〜６を塗布した。その後、減圧乾燥機（ＶＣＤマイクロテック（株）製）で減圧度を１．０Ｔｏｒｒ（約１．３×１０2Ｐａ）まで減圧して、乾燥させた。次いで９０℃設定のホットプレート上で２分間プリベークして塗膜を形成した。冷却後、塗膜表面をＮａランプで照射した後、目視にて塗膜表面を確認した。基板上に、ストリエーションが認めらない場合は良好（○）であると、認められる場合は不良（×）であると評価した。結果を表３に示す。
【０１６９】
（２）モヤムラ評価
ストリエーション評価と同様の方法で、着色パターンを形成していないシリコン基板上に、組成物１〜７を用いて塗膜を形成し、塗膜表面をＮａランプにて照らした後、目視にて塗膜表面を確認した。塗膜上に不均一なモヤ状のムラが認めらない場合は良好（○）であると、モヤ状のムラが確認できたが僅かな場合は実用上問題ないレベル（△）であると、モヤ状のムラが認められる場合は不良（×）であると評価した。結果を表３に示す。
【０１７０】
（３）耐熱性評価
２インチ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）を、中性洗剤、水及び２−プロパノールで順次洗浄してから、乾燥した。このガラス基板上に、組成物４又は組成物６をスピンコート法により塗布し、クリーンオーブン中１００℃で３分間ベークし、続けて２２０℃で２０分間ベークして、塗膜を形成した。このようにして形成した塗膜をクリーンオーブン中２４０℃で４時間加熱し、その前後で、塗膜の波長４００ｎｍにおける透過率（％）を顕微分光測光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２００；ＯＬＹＭＰＵＳ社製）で測定し、式（ｉ）から透過率の保持率を求めた：
透過率の保持率（％）
＝１００×加熱後の透過率（％）／加熱前の透過率（％）      （ｉ）
【０１７１】
結果を表３に示す。透過率の保持率が９０％以上である場合、その塗膜の耐熱性は良好であると判断できる。
【０１７２】
【表３】
2011132503.tif 000025
【０１７３】
表１〜３に示す結果から、化合物（Ｆ）を含有する組成物１〜４及び７は、化合物（Ｆ）を含有しない組成物５及び６に対して、ムラが少ない塗膜を形成できることが分かる。また組成物４から得られた塗膜は、組成物６から得られた塗膜よりも透過率の保持率が良好であり、耐熱性に優れている。
【産業上の利用可能性】
【０１７４】
化合物（Ｆ）を含有する本発明の樹脂組成物は、塗布性が良好であり、ムラの少ない塗膜及びパターンを形成できる。そのため本発明の樹脂組成物を用いれば、高品質な表示装置を高い歩留まりで製造できる。特に本発明の樹脂組成物は、大型表示装置のコート層及び画素パターン等の製造に好適である。