(57)【要約】【課題】優れた反射防止性能及び導電性を有し、耐擦傷性及び防汚性が良好で、生産性に優れた反射防止フィルムを提供する。【解決手段】支持体上に、少なくとも下記（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含む低屈折率層用組成物から形成される低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）が１３以下である反射防止フィルム。（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマー（Ｂ）π共役系導電性ポリマー及びアニオン基を有する高分子ドーパントを含む、疎水化処理された導電性ポリマー組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、少なくとも下記（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含む低屈折率層用組成物から形成される低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体に対して前記低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）が１３以下である反射防止フィルム。
（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマー
（Ｂ）π共役系導電性ポリマー及びアニオン基を有する高分子ドーパントを含む、疎水化処理された導電性ポリマー組成物。
【請求項２】
前記π共役系導電性ポリマーが、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、及びポリアニリン誘導体から選ばれるいずれかである請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマーが、下記一般式（１）で表される共重合体である、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ
上記式中、ａ〜ｅは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０かつ０≦ｂ≦７０、但し３０≦ａ＋ｂ≦７０であり、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０である。
（ＭＦ１）：ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ１で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ１２で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＲｆ１３で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性部位を少なくとも１つ以上有する構成成分を表す。
（ＭＢ）：任意の構成成分を表す。
【請求項４】
前記（ＭＢ）がポリシロキサン構造を有する構成成分を含む、請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層用組成物が更に（Ｃ）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層用組成物が更に（Ｄ）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記（Ｄ）無機微粒子が多孔質の無機微粒子又は内部に空洞を有する無機微粒子である、請求項６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記低屈折率層用組成物が更に（Ｅ）電離放射線硬化型の官能基を有する含フッ素防汚剤を含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
前記疎水化処理された導電性ポリマー組成物が、低屈折率層の膜厚方向において支持体側に偏在している、請求項１〜８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
偏光膜と前記偏光膜の表側及び裏側の両面を保護する２枚の保護フィルムとを有する偏光板において、前記保護フィルムの少なくとも一方が、請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム又は請求項１０に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い帯電防止性と反射防止性を有する反射防止フィルム、反射防止フィルムを用いた偏光板及び、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するため、反射防止フィルムをディスプレイの最表面に配置することが知られている。
反射防止フィルムは、一般に、支持体上に直接又は他の層を介して、支持体より低屈折率の、適切な膜厚の低屈折率層が形成されたものである。低い反射率を実現するために、低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料の使用が望まれる。また反射防止フィルムは、ディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。例えば、厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において、高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、及び下層への密着性が必要である。
【０００３】
材料の屈折率を下げるには、フッ素原子を導入する方法が知られており、特に、フッ素含有の架橋性材料を用いることが提案されている（特許文献１〜３参照）。しかしながら、フッ素原子含有層を反射防止フィルムの最表面に用いた場合、屈折率を低下させるために化合物中のフッ素原子の割合を増やすことで、フィルム表面がマイナスに帯電しやすくなり、埃が付着しやすいという問題がある。
【０００４】
埃等の付着を低減するため、反射防止フィルムに導電性を有する層（帯電防止層）を設けて、反射防止フィルムの表面の電荷を漏洩させることが知られている。
例えば、特許文献４，５には、導電性の粒子を含有する帯電防止層を備えた反射防止フィルムが開示されている。この方法は、低屈折率層以外に新たに層を設けることが必要であるため、製造時の設備や時間の負荷が大きく、生産性に劣るという問題を有している。また、従来一般に用いられている帯電防止のための金属酸化物からなる導電性粒子は、屈折率が１．６〜２．２程度のものが多いため、これらの粒子を含有する帯電防止層の屈折率が上がってしまう。帯電防止層の屈折率が高くなると、光学フィルムにおいては、隣接層との屈折率の違いにより意図せぬ干渉ムラが生じたり、反射色の色味が強くなるなどの問題が生じる。
【０００５】
特許文献６〜９には、低屈折率層に導電剤を練り混む方法が挙げられている。この方式の場合、導電性の向上と反射防止性能はトレードオフの関係にあり、低屈折率層への導電剤の練り混み量を増加させると導電性は向上するものの、層の屈折率が上昇して反射防止性能の低下は避けられなかった。そのため、反射防止性能と導電性の性能は必ずしも十分とは言えず、更なる改良が望まれていた。
【０００６】
また、特許文献６〜８には低屈折率層にイオン伝導性や電子伝導性導電性材料を添加する態様が記載されている。これら特許文献の実施例に記載されているのはイオン伝導性材料であり、導電性の向上と反射防止性能がトレードオフの関係であるのに加え、環境湿度によっては必ずしも導電性が十分でない場合もあった。また、本文の例示化合物には、導電性高分子としてポリアニリン、ポリチオフェン等の有機導電性高分子化合物の記載がある。しかしながらこれら化合物はそのまま低屈折率層に導入しただけでは、実質的に導電性を有さず、ドープにより一部を酸化することが必要である。しかしながら、一般に用いられているアニオンドーパントを含む導電性高分子は親水性が高く、フッ素含有ポリマーのような材料とは相溶性が低いため、塗布液の溶解不良、ハジキ故障、膜厚ムラ等の故障が発生し、これら材料を用いて面状に優れる低屈折率層を形成することは困難であった。
【０００７】
特許文献１０には、有機溶剤系でチオフェン誘導体と有機溶剤可溶性のモノマードーパントを用い、電解重合すると有機溶剤に可溶なポリチオフェン誘導体を合成できることが開示されている。しかしながら、この有機溶剤に可溶なポリチオフェン誘導体は、フッ素含有ポリマーとの相溶性は改良される傾向はあるものの、偏光板の保護フィルム用の反射防止フィルムに用いた場合には、アルカリ処理（鹸化処理）によりのモノマードーパントが溶出してしまい、導電性が著しく低下してしまうという課題があることが明らかとなった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−９２３２３号公報
【特許文献２】特開２００３−２２２７０２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６７３２号公報
【特許文献４】特開２００５−１９６１２２号公報
【特許文献５】特開２００３−２９４９０４号公報
【特許文献６】特開２００７−１８５８２４号公報
【特許文献７】特開２００５−３１６４２５号公報
【特許文献８】特開２００７−２９３３２５号公報
【特許文献９】特開２００７−１１４７７２号公報
【特許文献１０】欧州特許第３２８９８１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、優れた反射防止性能及び導電性を有し、耐擦傷性及び防汚性が良好で、生産性に優れた反射防止フィルムを提供することにある。
本発明の更に別の目的は、上記のような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、下記の構成により前記目的を達成したものである。
【００１１】
１．
支持体上に、少なくとも下記（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含む低屈折率層用組成物から形成される低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体に対して前記低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）が１３以下である反射防止フィルム。
（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマー
（Ｂ）π共役系導電性ポリマー及びアニオン基を有する高分子ドーパントを含む、疎水化処理された導電性ポリマー組成物。
２．
前記π共役系導電性ポリマーが、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、及びポリアニリン誘導体から選ばれるいずれかである上記１に記載の反射防止フィルム。
３．
前記（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマーが、下記一般式（１）で表される共重合体である、上記１又は２に記載の反射防止フィルム。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ
上記式中、ａ〜ｅは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０かつ０≦ｂ≦７０、但し３０≦ａ＋ｂ≦７０であり、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０である。
（ＭＦ１）：ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ１で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ１２で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＲｆ１３で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性部位を少なくとも１つ以上有する構成成分を表す。
（ＭＢ）：任意の構成成分を表す。
４．
前記（ＭＢ）がポリシロキサン構造を有する構成成分を含む、上記３に記載の反射防止フィルム。
５．
前記低屈折率層用組成物が更に（Ｃ）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを含有する、上記１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６．
前記低屈折率用組成物が更に（Ｄ）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を有することを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
７．
前記（Ｄ）無機微粒子が多孔質の無機微粒子又は内部に空洞を有する無機微粒子である、上記６に記載の反射防止フィルム。
８．
前記低屈折率層用組成物が更に（Ｅ）電離放射線硬化型の官能基を有する含フッ素防汚剤を含有する、上記１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
９．
前記疎水化処理された導電性ポリマー組成物が、低屈折率層の膜厚方向において支持体側にに偏在している、上記１〜８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
１０．
偏光膜と前記偏光膜の表側及び裏側の両面を保護する２枚の保護フィルムとを有する偏光板において、前記保護フィルムの少なくとも一方が、上記１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
１１．
上記１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム又は上記１０に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、優れた反射防止性能及び導電性を有し、耐擦傷性及び防汚性が良好で、生産性に優れた反射防止フィルムを提供することができる。
また、そのような反射防止フィルムを用いることにより、高品質な偏光板や画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１４】
［低屈折率層］
本発明の反射防止フィルムは、支持体上に、少なくとも下記（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含む低屈折率層用組成物から形成される低屈折率層を有する。
（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマー
（Ｂ）π共役系導電性ポリマー及びアニオン基を有する高分子ドーパントを含む、疎水化処理された導電性ポリマー組成物。
また、本発明の反射防止フィルムは、支持体に対して低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）が１３以下である。ＬｏｇＳＲは、好ましくは３以上１３以下であり、より好ましくは４以上１２以下であり、更に好ましくは５以上１０以下である。
上記構成とすることで、防塵性等に優れ、かつ十分な反射防止性能を備えた反射防止フィルムが得られる。
【００１５】
低屈折率層に使用する前記成分（Ａ）及び（Ｂ）、更にこれらの他に低屈折率層に使用することのできる構成成分について述べる。
〔（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマー〕
低屈折率層を形成するための低屈折率層用組成物は、（Ａ）架橋性基を有する含フッ素ポリマー（以下、（Ａ）含フッ素ポリマーと略称する場合もある。）を含有する。
ここで、架橋性基とは、架橋反応に関与しうる官能基のことを意味する。架橋性基としては、例えば、水酸基又は加水分解可能な基を有するシリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、反応性不飽和２重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、酸無水物、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。
前記（Ａ）含フッ素ポリマーは含フッ素部位と架橋反応に関与しうる官能基を有する部位とを有する分子量約１０００以上のポリマーであれば、特に限定されないが、例えば下記一般式（１）で表される共重合体であることが好ましい。
【００１６】
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ
一般式１中、ａ〜ｅは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０かつ０≦ｂ≦７０、但し３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０の関係を満たす値を表す。
【００１７】
（ＭＦ１）：ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ１で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ１２で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＲｆ１３で表される単量体から重合される構成成分を示す。Ｒｆ１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性部位を少なくとも１つ以上有する構成成分を表す。
（ＭＢ）：任意の構成成分を表す。
【００１８】
（ＭＦ１）〜（ＭＦ３）における各単量体（下記一般式（１−１）〜（１−３）で表される化合物）について説明する。
・ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ１：一般式（１−１）
式中、Ｒｆ１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１−１）の化合物としては重合反応性の観点からは、パーフルオロプロピレン又はパーフルオロブチレンが好ましく、入手性の観点からパーフルオロプロピレンであることが特に好ましい。
【００１９】
・ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ１２：一般式（１−２）
式中、Ｒｆ１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。前記含フッ素アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒｆ１２は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基である。Ｒｆ１２の具体例としては、下記のもの等が挙げられるが、これらに限定されない。
−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ３
【００２０】
・ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＲｆ１３：一般式（１−３）
式中、Ｒｆ１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。前記含フッ素アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒｆ１３は、直鎖状であっても、分岐構造を有するものであってもよい。また、Ｒｆ１３は脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環）を有していてもよい。更に、Ｒｆ１３は炭素−炭素間にエーテル結合を有するものであってもよい。Ｒｆ１３は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５の含フッ素アルキル基である。
Ｒｆ１３としては、具体的には下記のもの等が挙げられるが、これらに限定されない。（直鎖状）
−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２（ＣＦ２）ａＨ、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）ａＦ（ａ：２〜１２の整数）
（分岐構造）
−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ
（脂環式構造）
ペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等
（その他）
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＦ２）ｂＨ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＦ２）ｂＦ（ｂ：２〜１２の整数）、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ
その他、一般式（１−３）で表わされる上記単量体は、例えば特開２００７−２９８９７４号公報の段落［００２５］〜［００３３］に記載のものも使用することができる。
【００２１】
一般式（１）の（ＭＡ）は、架橋性部位（架橋反応に関与しうる反応性部位）を少なくとも１つ以上含有する構成成分を表す。
架橋性部位としては、例えば、水酸基又は加水分解可能な基を有するシリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、反応性不飽和２重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、酸無水物、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。
（ＭＡ）の架橋性部位は、好ましくは反応性不飽和２重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）であり、より好ましくは反応性不飽和２重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）である。
【００２２】
以下に、上記一般式（１）中の（ＭＡ）で表される構成成分の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
【化１】
2011048359.tif 000002
【００２４】
【化２】
2011048359.tif 000003
【００２５】
【化３】
2011048359.tif 000004
【００２６】
【化４】
2011048359.tif 000005
【００２７】
【化５】
2011048359.tif 000006
【００２８】
【化６】
2011048359.tif 000007
【００２９】
【化７】
2011048359.tif 000008
【００３０】
一般式（１）における（ＭＢ）は任意の構成成分を表す。（ＭＢ）は、（ＭＦ１），（ＭＦ２）で表わされる単量体及び（ＭＡ）で表わされる構成成分を形成する単量体と共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができる。
【００３１】
（ＭＢ）を形成するための単量体としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。
【００３２】
（ＭＢ）は、ポリシロキサン構造を有する構成成分を含むことが好ましい。（ＭＢ）としてポリシロキサン構造を含むことにより、反射防止フィルムの導電性ポリマーをフィルムの下部（支持体側）に偏在させやすくなり、反射防止フィルムの滑り性、防汚性を向上させることができる。
より具体的には、（ＭＢ）は、主鎖又は側鎖に下記一般式（２）で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含むことが好ましい。
一般式（２）
【００３３】
【化８】
2011048359.tif 000009
【００３４】
式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表す。
アルキル基としては、炭素数１〜４が好ましく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基等が挙げられる。
アリール基としては炭素数６〜２０が好ましく、置換基を有していてもよい。具体的には、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２は、メチル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
ｐは２〜５００の整数を表し、好ましくは５〜３５０であり、より好ましくは８〜２５０である。
【００３５】
側鎖に一般式（２）で表されるポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えばＪ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．２０００，７８，１９５５、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、エポキシ基、水酸基、カルボキシル、酸無水物基等の反応性基を有するポリマーに対して、相対する反応性基（例えばエポキシ基、酸無水物基に対してアミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）を片末端に有するポリシロキサン（例えばサイラプレーンシリーズ、チッソ株式会社製等）を高分子反応によって導入する方法や、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができる。
【００３６】
主鎖にポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド（市販のものでは、例えばＶＰＳ−０５０１、１００１、ワコー純薬工業（株）社製）等のポリマー型開始剤を用いる方法、重合開始剤、連鎖移動剤由来の反応性基（例えばメルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）をポリマー末端に導入した後、片末端あるいは両末端反応性基（例えばエポキシ基、イソシアネート基等）含有ポリシロキサンと反応させる方法、ヘキサメチルシクロトリシロキサン等の環状シロキサンオリゴマーをアニオン開環重合にて共重合させる方法等が挙げられる。中でもポリシロキサン部分構造を有する開始剤を利用する手法が容易であり好ましい。
【００３７】
一般式（１）中、ａ〜ｅは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０かつ０≦ｂ≦７０、但し３０≦ａ＋ｂ≦７０であり、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０である。
低屈折率化のためには（ＭＦ１）成分及び（ＭＦ２）成分のモル分率（％）ａ＋ｂを高めることが望まれるが、重合反応性の点で一般的な溶液系ラジカル重合反応では５０〜７０％程度の導入が限界でありこれ以上は一般に困難である。本発明においては、ａ＋ｂの下限は４０以上であることが好ましく、４５以上であることがより好ましい。
【００３８】
また、（ＭＦ３）の導入も低屈折率化に寄与する。前記のように（ＭＦ３）成分のモル分率ｃは０≦ｃ≦５０であり、好ましくは５≦ｃ≦２０である。
ａ〜ｃの含フッ素モノマー成分のモル分率の和は、４０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０の範囲であることが好ましく、５０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦７５であることがより好ましい。
【００３９】
（ＭＡ）で表される重合体単位の割合が少なすぎると硬化膜の強度が弱くなる。本発明では特に、（ＭＡ）成分のモル分率は５≦ｄ≦４０の範囲であることが好ましく、１５≦ｄ≦３０の範囲であることが特に好ましい。
【００４０】
（ＭＢ）で表される任意の構成成分のモル分率ｅは０≦ｅ≦５０の範囲であることが好ましく、０≦ｅ≦２０の範囲であることがより好ましく、０≦ｅ≦１０の範囲であることが特に好ましい。
【００４１】
本発明において、塗布面状改良、導電性の上昇、膜の耐擦傷性改良の点から、前記（Ａ）含フッ素ポリマーは、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。従って、前記（ＭＢ）として、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。極性の高い官能基としては、水酸基、アルキルエーテル基、シラノール基、グリシジル基、オキセタニル基、ポリアルキレンオキシド基、カルボキシル基を有することが好ましく、更に好ましくは、水酸基、アルキルエーテル基、ポリアルキレンオキシド基である。
これら官能基を有する重合単位は、モル分率として０．１〜１５％が好ましく、更に好ましくは１〜１０％である。また、これら官能基を有する重合単位の含有率は、全ポリマーに対する質量比で、０．１〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％がより好ましい。
この範囲の極性基の導入により、塗膜面状、導電性の向上、膜強度を両立することができる。但し、水酸基を（Ａ）含フッ素ポリマーの硬化性の官能基として使用する場合には、水酸基のモル分率を高くすることが可能であり、５〜５０％が好ましく、更に好ましくは１０〜３０％である。
また、前述のように（Ａ）含フッ素ポリマー中には、ポリシロキサン構造を導入することが好ましい。（Ａ）含フッ素ポリマー中には、ポリシロキサン構造を導入することにより、低屈折率層の塗膜面状やフィルムの耐擦傷性を悪化させることなく、有機導電性ポリマーを低屈折率層の下部に偏在させて導電性を向上することができる。（Ａ）含フッ素ポリマー中のポリシロキサン構造の含有率は全ポリマーに対する質量比で０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。
【００４２】
前記（Ａ）含フッ素ポリマーの数平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは５，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。
【００４３】
ここで、数平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【００４４】
以下に、前記一般式（１）で表わされる共重合体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、表１には、重合することにより一般式（１）のフッ素含有構成成分を形成する単量体（ＭＦ１）、（ＭＦ２）、（ＭＦ３）、（ＭＡ）、及び（ＭＢ）の組合せとして表記する。表中ａ〜ｅは、各成分の単量体のモル比（％）を表す。表中（ＭＢ）の欄でＥＶＥ以外の成分については、全重合体中の該成分の含有率（質量％：ｗｔ％）をｅの欄にＥＶのモル比に続いて左から順に記載した。表中、分子量はＭｎを表す。
【００４５】
【表１】
2011048359.tif 000010
【００４６】
上記表中の略号は、以下を表す。
（ＭＦ１）成分
ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン
（ＭＦ２）成分
ＦＰＶＥ：パーフルオロプロピルビニルエーテル
（ＭＦ３）成分
ＭＦ３−１：ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ
ＭＦ３−２：ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）８Ｆ
【００４７】
（ＭＢ）成分
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル
ＶＰＳ―１００１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約１万、（株）和光純薬工業製
ＦＭ−０７２１：メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量５０００、（株）チッソ製
ＮＥ−３０：反応性ノニオン乳化剤、エチレンオキサイド部位含有、（株）旭電化工業製
【００４８】
なお、前記（Ａ）含フッ素ポリマー中、加水分解可能な基を有するシリル基（加水分解性シリル基）を架橋性基として含有する場合には、ゾルゲル反応の触媒として公知の酸あるいは塩基触媒を配合することができる。これらの硬化触媒の添加量は、触媒の種類、硬化反応性部位の違いによって任意であるが、一般的には塗布組成物全固形分に対して０．１〜１５質量％程度が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％程度である。
【００４９】
また、前記（Ａ）含フッ素ポリマーが架橋性基として水酸基を含む場合、本発明における低屈折率層用組成物には、この含フッ素ポリマー中の水酸基と反応し得る化合物（硬化剤）を含有することが好ましい。
この硬化剤は水酸基と反応する部位を２個以上有することが好ましく、４個以上有することが更に好ましい。
【００５０】
硬化剤の構造は、水酸基と反応しうる官能基を前記個数有するものであれば特に限定はなく、例えばポリイソシアネート類、イソシアネート化合物の部分縮合物、多量体や、多価アルコール、低分子量ポリエステル皮膜などとの付加物、イソシアネート基をフェノールなどのブロック化剤でブロックしたブロックポリイソシアネート化合物、アミノプラスト類、多塩基酸又はその無水物などを挙げることができる。
【００５１】
硬化剤は、保存時の安定性と架橋反応の活性の両立の観点、及び形成される膜の強度の観点から、酸性条件下で水酸基含有化合物と架橋反応するアミノプラスト類が好ましい。アミノプラスト類は、含フッ素ポリマー中に存在する水酸基と反応可能なアミノ基、すなわちヒドロキシアルキルアミノ基若しくはアルコキシアルキルアミノ基、又は窒素原子に隣接し、かつアルコキシ基で置換された炭素原子を含有する化合物である。具体的には、例えばメラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物等を挙げることができる。
【００５２】
上記メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているもので、具体的にはメラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができる。特に、メラミンとホルムアルデヒドを塩基性条件下で反応して得られるメチロール化メラミン及びアルコキシ化メチルメラミン、並びにその誘導体が好ましく、特に保存安定性からアルコキシ化メチルメラミンが特に好ましい。またメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンについて特に制約はなく、例えば「プラスチック材料講座［８］ユリア・メラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されているような方法で得られる、各種樹脂の使用も可能である。
【００５３】
また上記尿素化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、更には環状尿素構造であるグリコールウリル骨格や２−イミダゾリジノン骨格を有する化合物も好ましい。前記尿素誘導体等のアミノ化合物についても前記「ユリア・メラミン樹脂」等に記載の各種樹脂の使用が可能である。
【００５４】
硬化剤として好適に用いられる化合物としては、含フッ素ポリマーとの相溶性の点から、特にメラミン化合物又はグリコールウリル化合物が好ましく、その中でも反応性の観点から、硬化剤が分子中に窒素原子を含有し、かつ該窒素原子に隣接するアルコキシ基で置換された炭素原子を２個以上含有する化合物であることが好ましい。特に好ましい化合物は下記Ｈ−１、Ｈ−２で表される構造を有する化合物、及びそれらの部分縮合体である。
【００５５】
【化９】
2011048359.tif 000011
【００５６】
式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基又は水酸基を表す。
含フッ素ポリマーに対するアミノプラストの添加量としては、含フッ素ポリマー１００質量部当たり、１〜５０質量部であることが好ましく、３〜４０質量部であることが好ましく、５〜３０質量部であることが更に好ましい。１質量部以上であれば、薄膜としての耐久性を十分に発揮することができ、５０質量部以下であれば低屈折率を維持できるので好ましい。
【００５７】
水酸基含有含フッ素ポリマーと前記硬化剤の反応には、硬化触媒を使用することが好ましい。この系では酸により硬化が促進される為、硬化触媒として酸性物質を使用することが望ましいが、通常の酸を添加すると塗布液中でも架橋反応が進行してしまい、故障（ムラ、ハジキなど）の原因となる。従って、熱硬化系で保存安定性と硬化活性を両立するために、加熱により酸を発生する化合物や、光により酸を発生する化合物を硬化触媒として添加することがより好ましい。具体的な化合物は、特開２００７−２９８９７４号公報、段落［０２２０］〜［０２３０］に記載されている。
【００５８】
低屈折率層用組成物における含フッ素ポリマーの含有量は、組成物の全固形分に対して、１０〜９０質量％であることが好ましく、１５質量％〜６０質量％であることがより好ましく、１８〜５０質量％であることが更に好ましい。低屈折率層中での含フッ素ポリマーの含有量も、層中の全固形分に対して上記範囲であることが好ましい。
【００５９】
〔（Ｂ）導電性ポリマー組成物〕
本発明における導電性ポリマー組成物は、π共役系導電性ポリマーとアニオン基を有する高分子ドーパントを含む。また、この導電性ポリマー組成物は疎水化処理されたものであり、有機溶剤を含有し、全体として均一な溶液となっていることが好ましい。
疎水化処理されたとは、含水率が５質量％以下の比誘電率が２〜３０の有機溶剤中に該導電性ポリマー組成物が２０℃において少なくとも１．０質量％（固形分濃度）可溶なことをいう。ここで、比誘電率は２０℃で測定した値である。また、「可溶」とは溶剤中にπ共役系導電性ポリマー及び高分子ドーパントが単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。有機溶剤とは、本発明の塗布組成物を塗布し乾燥したのちに実質塗膜から蒸発して除去される化合物をいう。
本発明は、親水性が高く従来では水を主成分とする溶媒に溶解されていたπ共役系導電性ポリマーを、後述する疎水化処理、更に必要に応じて有機溶剤との親和性を上げる化合物（可溶化補助剤等）の添加、有機溶剤中での分散剤の添加等の手段により、上記特定の有機溶剤に可溶にし、前記（Ａ）含フッ素ポリマーと混合した組成物を用いて表面抵抗率が低い反射防止フィルムを形成するものである。
以下本発明の導電性ポリマー組成物に含まれる各成分について説明する。
【００６０】
（π共役系導電性ポリマー）
π共役系導電性ポリマーとしては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば特に制限されない。π共役系導電性ポリマーは、高い導電性を有し、化合物安定性に優れ、また低着色であることにより、π共役系複素環式化合物又はπ共役系複素環式化合物の誘導体であることが好ましい。
π共役系導電性ポリマーとしては、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類が挙げられる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリチオフェン類又はポリアニリン類（すなわち、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、及びポリアニリン誘導体）がより好ましい。
π共役系導電性ポリマーは無置換のままでも、充分な導電性、バインダー樹脂への相溶性を得ることができるが、導電性及び相溶性をより高めるためには、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等の官能基をπ共役系導電性ポリマーに導入することが好ましい。
【００６１】
π共役系導電性ポリマーの具体例としては、
ホリピロール類：ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、
ポリチオフェン類：ポリ（チオフェン）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）、
ポリアニリン類：ポリアニリン、ポリ（２−メチルアニリン）、ポリ（３−イソブチルアニリン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）等が挙げられる。
【００６２】
（π共役系導電性ポリマーの偏在性）
フッ素原子は、炭素原子との結合エネルギーが高く安定であり、また外界誘起されにくい低い分極率（動的分極率）を示すため、屈折率、誘電率が低下し、更に分極率が低いことは分子間力が弱いことを意味し、フッ素含有化合物は他の化合物に対して低い表面張力を示し、表面偏在しやすい性質を有している。
従って、本発明の反射防止フィルムの低屈折率層では、含フッ素ポリマーと導電性ポリマーを用いていることから、例えばこれらを含む低屈折率層用組成物を支持体上に塗布し、有機溶剤を乾燥させた後には、含フッ素ポリマーがその低い表面エネルギーのために塗膜内の上部側（支持体から遠い側）に偏在する。このため、π共役系導電性ポリマーを塗膜内の下部側（支持体側）に偏在させることができ、優れた導電性が発現することができる。また、導電性ポリマーが偏在することによって、導電性ポリマーの含有量を減らす事が可能であり、塗膜の面状、コスト、膜強度、反射率等の点で優れた反射防止フィルムを得ることができる。
【００６３】
下部偏在の程度は、上記の塗布組成物中の各成分の構造、組成比等により制御でき、その方法は既に述べた通りである。下部偏在の程度（下部偏在率）は、下記式により求めることができる。
下部偏在率＝［低屈折率層の中央から支持体までの膜厚領域に存在する導電性ポリマーの質量］÷［低屈折率層全体に存在する導電性ポリマーの総質量］×１００（％）
下部偏在率は５５〜１００（％）が好ましく、更に好ましくは６０〜１００（％）、最も好ましくは７０〜１００（％）である。
本発明において、フッ素ポリマーと導電性ポリマーを含む塗布組成物を塗布し、溶剤を乾燥した場合に、フッ素ポリマーの構造や共存する添加剤組成により、下部偏在が進んだ場合には、屈折率の異なる２層に分離したような層構成になることもある。このような場合でも、上記低屈折率層形成用の塗布組成物から形成された塗布膜全体を低屈折率層という。
【００６４】
（アニオン基を有する高分子ドーパント）
アニオン基を有する高分子ドーパント（「ポリアニオンドーパント」ともいう）としては、例えば、置換又は未置換のポリアルキレン、置換又は未置換のポリアルケニレン、置換又は未置換のポリイミド、置換又は未置換のポリアミド、及び置換又は未置換のポリエステルのうち少なくともいずれかの構造を有し、かつアニオン基を有する構造単位を含むポリマーが挙げられる。
【００６５】
ポリアルキレンとは、主鎖がメチレンの繰り返しで構成されているポリマーである。ポリアルキレンの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリ（３，３，３−トリフルオロプロピレン）、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリスチレン等を例示できる。
ポリアルケニレンとは、主鎖に不飽和二重結合（ビニル基）を含む構造単位からなるポリマーである。
ポリイミドとしては、ピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−［４，４’−ジ（ジカルボキシフェニルオキシ）フェニル］プロパン二無水物等の酸無水物と、オキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからのポリイミドを例示できる。
ポリアミドとしては、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０等を例示できる。
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等を例示できる。
【００６６】
上記ポリアニオンドーパントが置換基を有する場合、その置換基としては、アルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、シアノ基、フェニル基、フェノール基、エステル基、アルコキシ基等が挙げられる。有機溶媒への溶解性、耐熱性及びバインダー樹脂への相溶性等を考慮すると、アルキル基、ヒドロキシ基、フェノール基、エステル基が好ましい。
【００６７】
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、へキシル、オクチル、デシル、ドデシル等の鎖状アルキル基と、シクロプロピル、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル基などが挙げられる。
ヒドロキシ基としては、ポリアニオンドーパントの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したヒドロキシ基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。ヒドロキシ基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
アミノ基としては、ポリアニオンドーパントの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したアミノ基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。アミノ基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
フェノール基としては、ポリアニオンドーパントの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したフェノール基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。フェノール基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
エステル基としては、ポリアニオンドーパントの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したアルキル系エステル基、又は芳香族系エステル基が挙げられる。
【００６８】
ポリアニオンドーパントのアニオン基としては、π共役系導電性高分子化合物への酸化ドープが可能であればよいが、硫酸基、リン酸基、スルホ基、カルボキシ基、ホスホ基などが挙げられる。好ましくは−Ｏ−ＳＯ３−Ｘ＋、−ＳＯ３−Ｘ＋、−ＣＯＯ−Ｘ＋（各式においてＸ＋は水素イオン、アルカリ金属イオンを表す。）である。
これらの中でも、π共役系導電性高分子へのドーピング能力の点から、−ＳＯ３−Ｘ＋、−ＣＯＯ−Ｘ＋が更に好ましい。
【００６９】
上記ポリアニオンドーパントの中でも、溶媒溶解性及び導電性の点から、ポリイソプレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸を含む共重合体、ポリスルホエチルメタクリレート、ポリスルホエチルメタクリレートを含む共重合体、ポリ（４−スルホブチルメタクリレート）、ポリ（４−スルホブチルメタクリレート）を含む共重合体、ポリメタリルオキシベンゼンスルホン酸、ポリメタリルオキシベンゼンスルホン酸を含む共重合体、２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸を含む共重合体、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸を含む共重合体等が好ましい。
また、上記アニオン性基と共重合できる成分として、以下の構造を有する成分を用いることが有機溶剤への溶解性の向上のために好ましい。ポリアルキレングリコール構造、ポリスチレン誘導体構造、ポリ（メタ）アクリル酸誘導体構造、ポリ（メタ）アクリロニトリル誘導体構造及びポリエーテル構造。
【００７０】
ポリアニオンドーパントの重合度は、モノマー単位が１０〜１００，０００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１０，０００個の範囲がより好ましい。
【００７１】
ポリアニオンドーパントの含有量は、π共役系導電性ポリマー１モルに対して０．１〜１０モルの範囲であることが好ましく、１〜７モルの範囲であることがより好ましい。ここでモル数は、ポリアニオンドーパントを形成するアニオン基を含むモノマー由来の構造単位数、及びπ共役系導電性ポリマーを形成するピロール、チオフェン、アニリン等のモノマー由来の構造単位数で定義される。ポリアニオンドーパントの含有量が、π共役系導電性ポリマー１モルに対して、０．１モルより少なくなると、π共役系導電性ポリマーへのドーピング効果が弱くなる傾向にあり、導電性が不足することがある。その上、溶媒への分散性及び溶解性が低くなり、均一な分散液を得ることが困難になる。また、ポリアニオンドーパントの含有量が１０モルより多くなると、π共役系導電性ポリマーの含有量が少なくなり、充分な導電性が得られにくい。
【００７２】
低屈折率層用組成物におけるπ共役系導電性ポリマーとポリアニオンドーパントの合計の含有量は、組成物中の全固形分と溶剤の総質量に対して０．０５〜５質量％が好ましく、更に好ましくは０．５〜４．０質量％である。π共役系導電性ポリマーとポリアニオンドーパントの合計の含有量が０．０５質量％以上であると、充分な導電性が得られ、５質量％以下であると、ゲル化や塗布面状の悪化が起こりにくい。
また、π共役系導電性高分子とアニオン基を有する高分子ドーパントの含有量は、低屈折率層の全固形分に対して１質量％〜６０質量％であることが好ましく、２質量％〜３０質量％であることがより好ましい。π共役系導電性高分子の含有率が１質量％以上であることで、反射防止フィルムの表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数ｌｏｇ（ＳＲ）を１３以下とすることができ、防塵性に優れたものとすることができる。π共役系導電性高分子の含有率が６０質量％以下であることで、反射防止フィルムの反射率を十分に低下させることができ、低屈折率層の強度も向上させることができる。
【００７３】
π共役系導電性高分子は多官能フッ素含有モノマーに比べ、一般的に屈折率が低くないが、屈折率は１．４８〜１．６５程度あり、１．６０以下の物が好ましい
π共役系導電性高分子の分子量としては、１０００〜１、０００、０００が好ましく、５０００〜５００、０００が更に好ましい。導電性高分子が粒子状で存在する場合には、平均粒径は５〜３００ｎｍが好ましく１０〜１５０ｎｍが更に好ましい。また粒子は単分散でも多分散であってもかまわない。
【００７４】
なお、π共役系導電性ポリマーとポリアニオンドーパントの組み合わせとしては、特に限定されないが、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ・ＰＳＳ）、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリイソプレンスルホン酸、ポリエチレンジオキシチオフェン・２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、ポリアニリン・ポリスチレンスルホン酸、ポリアニリン・ポリイソプレンスルホン酸、ポリアニリン・２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、ポリピロール・ポリスチレンスルホン酸、ポリピロール・ポリイソプレンスルホン酸、ポリピロール・２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、及びこれら成分を含む共重合体が挙げられる。
この中でも好ましくは、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ・ＰＳＳ）、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリイソプレンスルホン酸、ポリアニリン・２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、及びこれら成分を含む共重合体である。
【００７５】
市販のπ共役系導電性高分子とアニオン基を有する高分子ドーパントとを含む疎水化処理された導電性高分子組成物としては、セプルジーダＳＡＳ−ＰＤ：ポリチオフェン分散液（固形分比４．２％）［信越ポリマー（株）製］、ＥＬＣｏａｔＵＶＨ５１５：疎水化ポリチオフェン（固形分２．７％）［出光テクノファイン（株）製］等が挙げられる。
【００７６】
（導電性ポリマー組成物の疎水化処理）
本発明においては、導電性ポリマー組成物の有機溶剤への溶解性を向上させたり、含フッ素ポリマーとの親和性を向上させるなどの点で、導電性ポリマー組成物を疎水化処理することが必須である。該疎水化処理としては、例えば、ポリアニオンドーパントのアニオン基を修飾して疎水化することなどが挙げられる。
疎水化する方法としては、第１の方法としては、アニオン基をエステル化、エーテル化、アセチル化、トシル化、トリチル化、アルキルシリル化、アルキルカルボニル化する等の方法が挙げられる。中でもエステル化、エーテル化が好ましい。エステル化により疎水化する方法は、例えば、ポリアニオンドーパントのアニオン基を塩素化剤により塩素化し、その後メタノールやエタノール等のアルコールによりエステル化する方法が挙げられる。また、ヒドロキシル基又はグリシジル基を有する化合物で更に不飽和２重結合性基を有する化合物を用いて、スルホ基やカルボキシ基とエステル化して疎水化することもできる。
本発明においては従来公知の種々の方法を用いることができるが、その一例として、特開２００５−３１４６７１号公報、及び特開２００６−２８４３９号公報等に具体的に記載されている。
【００７７】
疎水化する第２の方法としては、塩基系の化合物をポリアニオンドーパントのアニオン基に結合させて疎水化する方法が挙げられる。塩基系の化合物としてはアミン系の化合物が好ましく、１級アミン、２級アミン、３級アミン、芳香族アミン等が挙げられる。具体的には、炭素数が１〜２０のアルキル基で置換された１級〜３級のアミン、炭素数が１〜２０のアルキル基で置換されたイミダゾール、ピリジンなどが挙げられる。有機溶剤への溶解性向上のためにアミンの分子量は５０〜２０００が好ましく、更に好ましくは７０〜１０００、最も好ましくは８０〜５００である。
【００７８】
塩基系疎水化剤であるアミン化合物の量は、π共役系導電性ポリマーのドープに寄与していないポリアニオンドーパントのアニオン基に対して０．１〜１０．０モル当量であることが好ましく、０．５〜２．０モル当量であることがより好ましく、０．８５〜１．２５モル当量であることが特に好ましい。上記範囲で、有機溶剤への溶解性、導電性、塗膜の強度を満足することができる。
本発明においては従来公知の種々の方法を用いることができるが、その一例として、特開２００８−１１５２１５号公報、及び特開２００８−１１５２１６号公報等に具体的に記載されている。
【００７９】
（導電性ポリマー組成物に使用できる有機溶剤）
導電性ポリマー組成物は、必要に応じて有機溶剤を使用する。導電性ポリマー組成物に使用する有機溶剤は、含水率が５質量％以下であり、かつ比誘電率が２〜３０の有機溶剤を使用することが好ましい。また、導電性ポリマー組成物中の導電性ポリマー及び高分子ドーパント等はこの比誘電率が２〜３０の有機溶剤中に分散されていることが好ましい。また、導電性ポリマー組成物において、導電性ポリマー及び高分子ドーパントは、この含水率が５質量％以下で比誘電率が２〜３０の有機溶剤中に少なくとも１．０質量％で可溶であることが好ましい。より好ましくは、前記有機溶剤中に少なくとも５．０質量％可溶であることがより好ましい。
これらの有機溶剤は例えば、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。以下化合物を例示するが（  ）内に比誘電率を記す。
アルコール類としては、例えば１価アルコール又は２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数２〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、エチルアルコール（２５．７）、ｎ−プロピルアルコール（２１．８）、ｉ−プロピルアルコール（１８．６）、ｎ−ブチルアルコール（１７．１）、ｓｅｃ−ブチルアルコール（１５．５）、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（１１．４）などを挙げることができる。また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン（２．３）、トルエン（２．２）、キシレン（２．２）などを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン（７．５）、エチレングリコールモノメチルエーテル（１６）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（８）、エチレングリコールモノエチルエーテル（１４）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（８）、エチレングリコールモノブチルエーテル（９）などを、ケトン類の具体例としては、アセトン（２１．５）、ジエチルケトン（１７．０）、メチルエチルケトン（１５．５）、ジアセトンアルコール（１８．２）、メチルイソブチルケトン（１３．１）、シクロヘキサノン（１８．３）などを、エステル類の具体例としては、酢酸メチル（７．０）、酢酸エチル（６．０）、酢酸プロピル（５．７）、酢酸ブチル（５．０）などを挙げることができる。
【００８０】
導電性ポリマー組成物と含フッ素ポリマーの両者を溶解分散できるという観点からは、有機溶剤の比誘電率は２．３〜２４がより好ましく、更に好ましくは４．０〜２１、特に好ましくは５．０〜２１である。例えば、ｉ−プロピルアルコール、アセトン、プロピレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸メチルが好ましい。特に好ましくは、ｉ−プロピルアルコール、アセトン、プロピレングリコールモノエチルエーテルである。
【００８１】
比誘電率が２〜３０の有機溶剤は２種以上混合して用いることもできる。また、比誘電率が３０を超える有機溶剤、又は水（５質量％以下）を併用することもできるが、比誘電率が２〜３０の有機溶剤も含む混合有機溶剤系のなかで、複数の有機溶剤や水の質量平均の比誘電率が３０を超えないことが、好ましい。この範囲にすることで本発明のπ共役系導電性ポリマー組成物と本発明の含フッ素ポリマーの両者を溶解分散した塗布液形成でき、塗膜の面状の良好な光学フィルムが形成できる。
【００８２】
なお、本発明における比誘電率は、真空に対する比誘電率を意味し、安藤電機製ＴＲＳ−１０Ｔ型誘電率測定装置を用い、変成器ブリッジ法により測定できる。測定温度２０℃、測定周波数１０ｋＨｚで測定とすることができる。
【００８３】
（可溶化補助剤）
可溶化補助剤を導電性ポリマー組成物中に含有させてもよい。
可溶化補助剤を用いることで、π共役系導電性ポリマーの含水率の低い有機溶剤への可溶化を助け、更には低屈折率層用組成物の塗布面状改良や硬化皮膜の強度を上げることができる。
可溶化補助剤は、親水部位、疎水部位、電離放射線硬化性官能基含有部位を有する共重合体であることが好ましく、これら部位がセグメントに分かれているブロック型又はグラフト型の共重合体であることが特に好ましい。このような共重合体は、リビングアニオン重合、リビングラジカル重合、又は上記部位を有したマクロモノマーを用いて重合することができる。
可溶化補助剤については、例えば特開２００６−１７６６８１号公報の［００２２］〜［００３８］等に記載されている。
【００８４】
可溶化補助剤は、共重合体の場合には、親水部と疎水部の重合ユニットの割合は質量比で１対９９〜６０対４０が好ましく、２対９８〜３０対７０がより好ましい。可溶化補助剤の使用量はπ共役系導電性ポリマーとポリアニオンドーパントの合計量に対して、１〜１００質量％が好ましく、更に好ましくは２〜７０質量％、最も好ましくは５〜５０質量％である。
【００８５】
（低分子ドーパント）
本発明においては、ポリアニオンドーパントに加えて低分子のドーパントを併用することも好ましい。低分子のドーパントとしては、一分子内にアニオン基が２個以下の分子量１０００以下の化合物が好ましい。なかでも、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、１，１−オキシビステトラプロピレン誘導体ベンゼンスルホン酸ナトリウム及びビニルアリルスルホン酸からなる群から選択される１種以上の化合物を含有することが好ましい。
【００８６】
（導電性ポリマー組成物の調製方法）
本発明における導電性ポリマー組成物は、π共役系導電性ポリマーとポリアニオンドーパントを有機溶剤に溶解又は分散したものであることが好ましいここで、有機溶剤の含水率は５質量％以下であることが好ましい。
このような導電性ポリマー組成物を調製する方法としては種々あるが、好ましくは以下の２つの方法が挙げられる。
第一の方法は、ポリアニオンドーパントの共存下でπ共役系導電性ポリマーを水中で重合し、その後必要に応じて前記可溶化補助剤又は塩基系疎水化剤を加えて処理し、その後水を有機溶媒に置換する方法である。
第二の方法は、ポリアニオンドーパントの共存下でπ共役系導電性ポリマーを水中で重合し、その後必要に応じて前記可溶化補助剤又は塩基系疎水化剤で処理し、水を蒸発乾固させた後に、有機溶剤を加え可溶化する方法である。
【００８７】
上記の方法において、可溶化補助剤の使用量はπ共役系導電性ポリマーとポリアニオンドーパントの合計量に対して、１〜１００質量％が好ましく、更に好ましくは２〜７０質量％、最も好ましくは５〜５０質量％である。
また、第一の方法において水を有機溶剤に置換する方法は、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンのような水混和性の高い溶剤を加えて用いて均一溶液とした後、限外ろ過を行い水を除去する方法が好ましい。また、水混和性の高い溶剤を用いて含水率をある程度低下させた後、より疎水的な溶剤を混合し減圧下で揮発性の高い成分を除去し溶剤組成を調整する方法が挙げられる。また、塩基系疎水化剤を用いて十分な疎水化を行えば、水との混和性の低い有機溶剤を加えて、分離した２相系とし水相中のπ共役系導電性ポリマーを有機溶剤相に抽出することも可能である。
【００８８】
本発明のπ共役系導電性高分子とアニオン基を有する高分子ドーパントとを含む疎水化処理された導電性高分子組成物の中で、市販品としては、セプルジーダＳＡＳ−ＰＤ［信越ポリマー（株）製］、ＥＬＣｏａｔＵＶＨ５１５［出光テクノファイン（株）製］等が挙げられる。
【００８９】
〔（Ｃ）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー〕
本発明の低屈折率層用組成物は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを含有することが好ましい。
低屈折率層の屈折率を下げるために含フッ素ポリマーのフッ素含率を高くすることは膜中の架橋基密度を下げる方向であり、皮膜の強度が低くなり、耐擦傷性が悪化する。また、導電性付与のため含フッ素ポリマーと導電性ポリマーを低屈折率層に併用する場合は、両者の極性が大きく異なるため、導電性ポリマーとの親和性が低い。溶剤を含む塗布液を塗布・乾燥して低屈折率層を形成する際に、導電性ポリマーとフッ素ポリマーの界面結合が弱く、硬化後の塗膜の強度が低下しやすい。特に、反射防止フィルムにおいて低屈折率層が最表面となる場合、硬化時に酸素による重合阻害を受けやすく、硬化はより弱くなる傾向にある。
前記（Ｃ）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを少量併用することで、導電性ポリマーと含フッ素ポリマーの親和性を改良し皮膜の強度を高め、耐擦傷性を良化させることができる。
【００９０】
該２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
【００９１】
更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００９２】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
これらの化合物のなかでも、分子内に水酸基、アミド基、エチレンオキシド基、プロピレンオキシ基を含有することが好ましい。これら官能基を有する化合物は、導電性ポリマーとフッ素ポリマーの両者との親和性に優れており、塗膜の面状改良や低屈折率層の硬度を高め耐擦傷性を改良することができる。
【００９３】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、特開２００９−０９８６５８号公報［０１１９］〜［０１２１］に記載の化合物が挙げられる。
【００９４】
以上の化合物は単独で使用しても良いし、二種類以上を併用してもよい。
前記（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの添加量は、皮膜を形成する固形分に対して０．１〜５０質量％の範囲が好ましく、１〜３０質量％の範囲がより好ましく、３〜２０質量％の範囲が特に好ましい。この範囲の使用量にすることで、低屈折率層自身の硬度上昇、低屈折率層表層の防汚剤の固定化、隣接層との界面密着性改良等の効果が得られる。
【００９５】
〔（Ｄ）無機微粒子〕
本発明では、低屈折率層に無機微粒子を用いることが、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から好ましい。該無機粒子は、平均粒子サイズが１〜２００ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
【００９６】
無機粒子としては、低屈折率であることからフッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。これら無機粒子のサイズ（１次粒径）は、１〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、２０〜１００ｎｍ、最も好ましくは４０〜９０ｎｍである。
【００９７】
無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形であってもよい。
【００９８】
無機微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
【００９９】
（多孔質又は中空の微粒子）
低屈折率化を図るには、前記（Ｄ）無機微粒子が多孔質の無機微粒子又は内部に空洞を有する無機微粒子であることが好ましい。特に内部に空洞を有する中空構造のシリカ微粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
【０１００】
多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１０１】
多孔質又は中空シリカの塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
【０１０２】
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球形が最も好ましいが不定形であってもよい。
【０１０３】
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１０４】
中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
【０１０５】
中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
【０１０６】
その他、無機微粒子、多孔質又は中空の微粒子の好ましい態様、調製方法、表面処理方法、該表面処理方法などに使用されるオルガノシラン化合物及び金属キレート化合物については、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［００３３］〜［００７８］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０７】
〔（Ｅ）電離放射線硬化型の官能基を有する含フッ素防汚剤〕
低屈折率層に、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、フッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。塗布物のロール状態での保存時のフッ素化合物の裏面転写の抑制及び塗膜の耐擦傷性改良の観点から、電離放射線硬化型の官能基を含有する含フッ素防汚剤を使用することが好ましい。電離放射線硬化型の官能基を有する含フッ素防汚剤は、電離放射線硬化型の官能基を有するフッ素系化合物を含む防汚剤である。電離放射線硬化型の官能基に特に制限はないが、重合性不飽和基が好ましい。これによって塗布物のロール状態での保存時のフッ素化合物の裏面転写抑制及び塗膜の耐擦傷性改良、また、汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。重合性不飽和基として、最も好ましくはメタアクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基である。
含フッ素防汚剤の具体例等については、特開２００７−３０１９７０号公報の段落［０２１８］及び［０２１９］に記載の化合物が挙げられる。
【０１０８】
電離放射線硬化型の官能基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物の好ましい態様は以下の一般式（Ｆ−１）、（Ｆ−２）、（Ｆ−３）で表される化合物である。
【０１０９】
第１の好ましい態様は、下記一般式（Ｆ−１）で表される化合物である。
一般式（Ｆ−１）：
Ｒｆ（ＣＦ２ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｒ２ＯＣＯＣＲ１＝ＣＨ２
【０１１０】
式中、Ｒｆは、フッ素原子又は炭素数が１〜１０であるフルオロアルキル基を示し、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は単結合又はアルキレン基を含む基を示す。ｎは重合度を示す整数であり、重合度ｎはｋ（ｋは１以上の整数のいずれかを示す）以上である。
一般式（Ｆ−１）におけるフッ素原子を含むテロマー型アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類等が挙げられる。
【０１１１】
一般式（Ｆ−１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１１２】
【化１０】
2011048359.tif 000012
【０１１３】
上記一般式（Ｆ−１）で表される化合物は、合成の際にテロメリゼイションを用いると、テロメリゼイションの条件及び反応混合物の分離条件等によっては一般式（Ｆ−１）の基Ｒｆ（ＣＦ２ＣＦ２）ｎＲ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−のｎがそれぞれｋ、ｋ＋１、ｋ＋２、．．．等の複数の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルを含むことがある。
【０１１４】
第２の好ましい態様は、下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物である。
一般式（Ｆ−２）：
Ｆ（ＣＦ２）ｎＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＲ＝ＣＨ２
【０１１５】
一般式（Ｆ−２）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。ｍは１〜６の整数であり、ｎは１〜４の整数を表す。
上記一般式（Ｆ−２）で表されるフッ素原子含有単官能（メタ）アクリレートは、下記一般式（ＦＧ−２）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と（メタ）アクリル酸ハライドとを反応させることにより得ることができる。
一般式（ＦＧ−２）：
Ｆ（ＣＦ２）ｎＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
一般式（ＦＧ−２）中、ｍは１〜６の整数であり、ｎは１〜４の整数を表す。
【０１１６】
前記一般式（ＦＧ−２）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物の具体例としては、特開２００７−１１４７７２号公報に記載の化合物が挙げられる。好ましくは、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９−トリオキサデカン−１−オールを用いる。
【０１１７】
また、前記一般式（ＦＧ−２）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と反応させる（メタ）アクリル酸ハライドとしては、（メタ）アクリル酸フルオライド、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリル酸ブロマイド、（メタ）アクリル酸アイオダイドを挙げることができるが、通常、入手しやすさ等の観点から（メタ）アクリル酸クロライドが好ましい。
【０１１８】
以下に一般式（Ｆ−２）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
（ｂ−１）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２
（ｂ−２）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２
【０１１９】
好ましい第３の態様として、下記一般式（Ｆ−３）で表される化合物を挙げることができる。
一般式（Ｆ−３）：
（Ｒｆ）−［（Ｗ）−（ＲＡ）ｎ］ｍ
【０１２０】
一般式（Ｆ−３）中、Ｒｆはフルオロポリエーテル基又はパーフルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、ＲＡは（メタ）アクリル基を表す。ｎは１〜３、ｍは１〜３の整数を表し、ｎとｍは同時に１であることはない。
【０１２１】
一般式（Ｆ−３）で表される化合物において、Ｗとしては、例えばアルキレン、アリーレン、ヘテロアルキレン、又はそれらの組み合わさった連結基を表す。それらの連結基は、更に、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、スルホンアミド等やそれらの組み合わさった官能基を含有しても良い。
【０１２２】
Ｒｆの好ましい構造としては、以下の構造を挙げることができる。
Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−
ここでｐの平均値は４〜１５である。
一般式（Ｆ−３）で表される化合物の数平均分子量は、４００〜５０００が好ましく、８００〜４０００が更に好ましく、最も好ましくは１０００〜３０００である。
一般式（Ｆ−３）で表される化合物の好ましい具体例や合成方法は国際公開第０５／００８５７０号パンフレットに記載されている。
以下Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−においてｐの平均値が６〜７のものを“ＨＦＰＯ−”と記載し、一般式（Ｆ−３）の具体的化合物を示すが、これらに限定されるものではない。
【０１２３】
（Ｃ−１）：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２ＣＨ２ＣＨ３
（Ｃ−２）：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（Ｃ−３）：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ３Ｈ６ＮＨＣＨ３とトリメチロールプロパントリアクリレートの１：１マイケル付加重合物
【０１２４】
〔その他の添加物〕
（オルガノシラン化合物）
低屈折率層用組成物には、オルガノシラン化合物又は、該オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物等を添加することができる。オルガノシラン化合物の具体的態様は、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［００３３］〜［００７８］に記載されており、本発明においても適用できる。
【０１２５】
（塗布溶剤）
低屈折率層及びその他の各層に使用する溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は２種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃を超える溶剤を少量含有することが好ましい。
【０１２６】
沸点が１００℃以下の溶剤及び沸点が１００℃を超える溶剤は、特開２００８−１５１８６６号公報に記載の化合物が挙げられる。
沸点が１００℃以下の溶剤としては、ケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノン（ＭＥＫと同じ、沸点７９．６℃）が特に好ましい。
沸点が１００℃を超える溶剤は、好ましくは、シクロヘキサノン（沸点１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭｉＢＫと同じ、沸点１１５．９℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、沸点１４６℃）である。
【０１２７】
２種類以上の有機溶剤を使用するもう１つの好ましい例としては、沸点の差が特定の値より大きい２種類の溶剤を使うことが挙げられる。２種の溶媒の沸点の差が２５℃以上であることが好ましく、３５℃以上が特に好ましく、５０℃以上が更に好ましい。沸点の差が大きいことで、有機導電性化合物の下部偏在、バインダーの分離がし易くなる。
【０１２８】
［低屈折率層の形成方法］
低屈折率層に使用する各成分の硬化性官能基に適した硬化条件を選択することができる。好ましい例を以下に述べる。
【０１２９】
（Ａ）水酸基含有含フッ素化合物及び水酸基と反応する化合物とを併用する系
硬化温度は、好ましくは６０〜２００℃、更に好ましくは８０〜１３０℃、最も好ましくは８０〜１１０℃である。支持体が高温で劣化しやすい場合には低温が好ましい。熱硬化に要する時間は、３０秒〜６０分が好ましく、更に好ましくは１分〜２０分である。
また、特に下面が電離放射線硬化性（メタ）アクリレート基含有の光学フィルム構成層の場合には、低屈折率層に（メタ）アクリレート基含有化合物を添加することにより界面結合を強化することができる。好ましい硬化条件については、以下（Ｂ）の系の場合とあわせ後述する。
【０１３０】
（Ｂ）（メタ）アクリレート基含有含フッ素化合物を使用する系
含フッ素化合物が（メタ）アクリレート基を含有する場合には、低屈折率層に更に（メタ）アクリレート基を含有する化合物を併用することが塗膜の強度向上の点で好ましい。電離放射線による照射と、照射の前、照射と同時又は照射後の熱処理とを組み合わせることにより、硬化することが有効である。
以下にいくつかの製造工程のパターンを示すが、これらに限定されるものではない。
下記の他、電離放射線硬化時に同時に熱処理を行う工程も好ましい。
【０１３１】
【表２】
2011048359.tif 000013
【０１３２】
（熱処理）
本発明においては、上記のとおり、電離放射線による照射と組み合わせて熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、光学フィルムの支持体、低屈折率層を含めた構成層を損なうものでなければ特に制限はないが、好ましくは６０〜２００℃、更に好ましくは８０〜１３０℃、最も好ましくは８０〜１１０℃である。
【０１３３】
温度を上げることにより、塗膜内で各成分の配向や分布を調節したり、光硬化の反応を制御することができる。電離放射線照射や熱による硬化前には、各成分が固定化されておらず、各成分の配向が比較的速やかに起こるが、硬化開始後には、各成分が固定され部分的にしか配向は起こらない。熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、３０秒〜２４時間、好ましくは６０秒〜５時間、最も好ましくは３分〜３０分である。
【０１３４】
（電離放射線照射条件）
電離線放射線照射時の膜面温度については、特に制限はないが、ハンドリング性及び面内の性能の均一性から、一般に２０〜２００℃、好ましくは３０〜１５０℃、最も好ましくは４０〜１２０℃である。膜面温度が該上限値以下であれば、バインダー中の低分子成分の流動性が上昇しすぎて面状が悪化したり、支持体が熱によりダメージを受けたりする問題が生じないので好ましい。また該下限値以上であれば、硬化反応の進行が十分で、膜の耐擦傷性が良好なものとなるので好ましい。
【０１３５】
（酸素濃度）
電離放射線照射時の酸素濃度は３体積％以下であることが好ましく、より好ましくは１％体積以下であり、更に好ましくは０．１体積％以下である。酸素濃度３体積％以下で電離放射線を照射する工程に対して、その直前又は直後に酸素濃度３体積％以下の雰囲気下で維持する工程を設けることにより、膜の硬化を十分に促進し、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
【０１３６】
本発明の低屈折率層とは屈折率が１．５０以下の層である。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜３００ｎｍであることが好ましく、７０〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。
【０１３７】
［反射防止フィルムの層構成］
本発明の反射防止フィルムは、支持体上に、屈折率１．５０以下の低屈折率層を有する。また、反射防止フィルムの物理強度を高める目的で後述のハードコート層を有していてもよい。この場合、ハードコート層の位置は支持体と低屈折率層との間が好ましい。
また、反射率を更に低下させる目的で、屈折率が１．５０より高い高屈折率層を有していてもよい。この場合の構成例としては、支持体又は支持体上のハードコート層上に、支持体側から順に高屈折率層／低屈折率層の２層が積層されているものや、屈折率の異なる３層を、支持体側から順に、中屈折率層（支持体又はハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等が挙げられる。なお、支持体上の各層は、全体として光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して形成することができる。
【０１３８】
本発明の反射防止フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。
・支持体／低屈折率層、
・支持体／防眩層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／防眩層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層、
・支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、
【０１３９】
なお、本発明における低屈折率層は、帯電防止効果を有するものであるが、場合によっては、本発明における帯電防止効果を備えた低屈折率層の他に更に別の帯電防止層（導電剤を含有する層）が形成されていてもよい。この場合、別の帯電防止層はいずれの位置に設けてもよいが、下記に示す位置に設けることができる。
・支持体／帯電防止層／低屈折率層、
・支持体／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／帯電防止層／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／帯電防止層／高屈折率層／低屈折率層、
・支持体／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、
・帯電防止層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、
・支持体／帯電防止層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、
・帯電防止層／支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、
・帯電防止層／支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層。
【０１４０】
本発明の反射防止フィルムは、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。
高屈折率層は防眩性のない光拡散性層であってもよい。また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子又は金属酸化物微粒子（例えば、ＡＴＯ、ＩＴＯ）を含む層であることが好ましく、塗布又は大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。防汚層を設ける場合は、上記構成の最上層に設けることができる。
【０１４１】
［高屈折率層］
高屈折率層には、層の屈折率を高めるため、及び硬化収縮を低減するために、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が好ましくは０．２μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下、更に好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また高屈折率層は、上記のハードコート層と同様、マット粒子や無機フィラーを、ハードコート層と同様の量範囲で用いることができる。
また、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた高屈折率層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の低屈折率層に用いられる無機微粒子と同じである。
本発明の高屈折率層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
高屈折率層については、特開２００９−９８６５８の段落［０１９７］〜［０２０６］に記載されている。
【０１４２】
［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、必要に応じて、支持体の表面に設けるものである。特に、支持体と上記高屈折率層（又は中屈折率層）の間に設けることが好ましい。またハードコート層は、層中に上記の高屈折率粒子などを含有させることにより、高屈折率層を兼ねることもできる。
【０１４３】
ハードコート層は、電離放射線硬化性樹脂の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は重合反応させることにより形成することができる。
【０１４４】
またハードコート層は、上記の高屈折率層と同様、マット粒子や無機フィラーを、同様の量範囲で用いることができる。
【０１４５】
このようにして形成された本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が好ましくは３〜７０％、より好ましくは４〜６０％の範囲にあり、そして４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下である。本発明の反射防止フィルムが、これらの範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性及び反射防止性が得られる。
【０１４６】
（面状改良剤）
本発明では支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗布液には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、面状改良剤を含有してもよい。面状改良剤としては、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤が好ましい。
面状改良剤については、特開２００６−２９３３２９号公報の段落［０２５８］〜［０２８５］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１４７】
［支持体］
本発明の反射防止フィルムの支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士フイルム（株）製“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”、“ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ”等）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（「アートン」（商品名）、ＪＳＲ（株）製）、非晶質ポリオレフィン（「ゼオネックス」（商品名）、日本ゼオン（株）製）などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルム及びその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートを用いることも好ましい。
【０１４８】
［鹸化処理］
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、通常、片面に粘着層を設けるなどしてディスプレイの最表面に配置する。支持体が例えばトリアセチルセルロースの場合は、偏光板の偏光膜を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースを用いることができるため、本発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの点から好ましい。
上記のように、本発明の反射防止フィルムをディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用する場合には、接着性を向上させるため、支持体上に低屈折率層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。
鹸化処理については、特開２００６−２９３３２９号公報の段落［０２８９］〜［０２９３］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１４９】
［反射防止フィルムの製造方法］
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に限定されるものではない。
【０１５０】
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。得られた塗布液を用いて、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書参照）等により支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。これらの塗布方式のうち、グラビアコート法で塗布すると、反射防止層の各層を形成する場合のように、塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができるので好ましい。グラビアコート法の中でも、マイクログラビア法は膜厚均一性が高く、より好ましい。
【０１５１】
またダイコート法を用いても、塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、更にダイコート法は前計量方式のため、膜厚制御が比較的容易であり、更に塗布部における溶媒の蒸散が少ないため、好ましい。
【０１５２】
２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１号、同第２９４１８９８号、同第３５０８９４７号、同第３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、｛朝倉書店（１９７３年）｝に記載がある。
【０１５３】
［偏光板］
偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の反射防止フィルムは、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。偏光膜としては、公知の偏光膜を用いることができる。偏光膜については特開２００６−２９３３２９号公報の段落［０２９９］〜［０３０１］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１５４】
［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために使用できる。本発明の反射防止フィルム又は反射防止フィルムを含む偏光板は好ましくは液晶表示装置のディスプレイの表面（表示画面の視認側）に配置される。
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）、ＥＣＢ（ＥｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。液晶表示装置については特開２００６−２９３３２９号公報の段落［０３０３］〜［０３０７］に記載されている。
【実施例】
【０１５５】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１５６】
［ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１、ＨＣ−２）の調製］
各成分を表３に示す組成で作製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
【０１５７】
【表３】
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【０１５８】
上記で使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］；
・ビスコート３６０：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート［大阪有機化学工業（株）社製］；
・ＤＰＣＡ−２０：部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート［日本化薬（株）製］
・シリカゾル：ＭｉＢＫ−ＳＴ［日産化学工業（株）製］
・８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０質量％）：平均粒径８．０μｍ［積水化学（株）製］をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散したＭｉＢＫ分散液）
・イルガキュア１２７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］；
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］；
・ＦＰ−１３：特開２００９−０６３９８３号公報［０３４１］に記載のフッ素系表面改質剤（ＭＥＫの１０質量％溶液として溶解した後に使用）
【０１５９】
［低屈折率層用塗布液（Ｌｎ−１〜２４）の調製］
各成分を表４に示すように混合し、固形分２．５質量％の低屈折率層用塗布液を作製した。表中の数値は不揮発分である固形分の質量部を示す。
Ｌｎ−２〜Ｌｎ−２４は溶解性が良好であったが、Ｌｎ−１は溶解性が不十分であり、塗布には適していなかった。
なお、表４における導電性化合物（Ａ）〜（Ｆ）は、以下のようにして調整した導電性ポリマー組成物（Ａ）〜（Ｆ）中の導電性ポリマーとドーパントを指す。
・（調製例１）導電性ポリマー組成物（Ａ）（水溶液）の調製
ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ、分子量約１０万）（東ソー有機化学株式会社 ＰＳ−５）の２質量％の水溶液１０００ｍｌに、８．０ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）を加え２０℃で混合した。この混合液に、酸化触媒液１００ｍｌ（１５質量％の過硫酸アンモニウムと４．０質量％の硫酸第二鉄を含む）を添加した後に、２０℃で３時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に１０００ｍｌのイオン交換水を添加した後に、限外ろ過法を用いて約１０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして、得られた溶液に１００ｍｌの硫酸水溶液（１０質量％）と１０００ｍｌのイオン交換水とを加え、限外ろ過法を用いて約１０００ｍｌの溶液を除去した。得られた液に１０００ｍｌのイオン交換水を加えた後、限外ろ過法を用いて約１０００ｍｌの液を除去した。この操作を５回繰り返した。これにより約１．１質量％のポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とＰＳＳとを含む水溶液を得た。この水溶液の固形分濃度をイオン交換水で調整して、１．０質量％（２０℃において）の水溶液とし、導電性ポリマー組成物（Ａ）を調製した。この導電性ポリマー組成物（Ａ）は水溶液であり、水の比誘電率は８０である。
【０１６０】
・（調製例２）導電性ポリマー組成物（Ｂ）（水／アセトン溶液）の調製
調製例１で調製した導電性ポリマー組成物（Ａ）の２００ｍｌにアセトンを２００ｍｌ加えた後、限外ろ過により水及びアセトンを２１０ｍｌ除去した。この操作を１度繰り返し、固形分濃度をアセトンで調整し、１．０質量％（２０℃において）の水／アセトン溶液とし、導電性ポリマー組成物（Ｂ）を調製した。この溶液の含水率は１５質量％であり、この溶剤の比誘電率は３０．３であった。
【０１６１】
・（調製例３）導電性ポリマー組成物（Ｃ）（アセトン溶液）の調製
調製例２で調製した導電性ポリマー組成物（Ｂ）の２００ｍｌにトリオクチルアミン２．０ｇを溶解したアセトンを５００ｍｌ加えた後、スターラーにより３時間攪拌した。限外ろ過により水及びアセトンを５１０ｍｌ除去した。固形分濃度をアセトンで調製し、１．０質量％（２０℃において）のアセトン溶液とし、導電性ポリマー組成物（Ｃ）を調製した。この溶液の含水率は２質量％であり、この溶剤の比誘電率は２２．７であった。
【０１６２】
・（調製例４）導電性ポリマー組成物（Ｄ）（メチルエチルケトン溶液）の調製
調製例３で調製した導電性ポリマー組成物（Ｃ）の２００ｍｌにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を３００ｍｌ加え混合し、室温で減圧下で濃縮し、総量が２００ｍｌになるまで濃縮した。固形分をメチルエチルケトンで調整し、１．０質量％（２０℃において）のメチルエチルケトン溶液とし、導電性ポリマー組成物（Ｄ）を調製した。この溶液の含水率は０．０５質量％であり、アセトン残率は１質量％以下であった。この溶剤の比誘電率は１５．５であった。
【０１６３】
・（調製例５）導電性ポリマー組成物（Ｅ）の調製
（アニリン重合物の合成）
１．２モル／リットルの塩酸水溶液１００部に、アニリン１０部を、攪拌しながら、滴下し、１０℃にまで冷却した。この溶液中に、予め２８部の過硫酸アンモニウムをイオン交換水２８部に溶解した水溶液を４時間かけて滴下した。滴下終了後、この混合溶液を更に４時間、１０℃で攪拌した。析出した緑色沈殿物を濾過し、濾液の色がなくなるまでイオン交換水で洗浄した。更に、このようにして得られた沈殿物を集め、集めた沈殿物をアンモニア水溶液中に分散し、２５℃で２時間濾過し、濾液の色がなくなるまでイオン交換水で洗浄した後、乾燥することによって、アニリンの重合物を得た。
【０１６４】
（ポリアニオンドーパントの調製）
２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸２５部（全モノマー成分に対して２０モル％）、片末端メタクロイル基を有する（メトキシポリエチレングリコールメチルメタクリレート）マクロモノマー（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ）１５部（全モノマー成分に対して１５モル％）、スチレン６５部（全モノマー成分に対して６５モル％）及び重合開始剤としてアゾイソブチロニトリル３部を、溶剤としてのイオン交換水２０部及びエチルアルコール１３０部の混合水溶液に溶解させて、単量体混合物を調製した。ポリアニオンドーパント溶液を調製した。 次に、撹拌羽根、不活性ガス導入
管、還流冷却管、温度計及び滴下漏斗を備え付けたセパラブルフラスコに、上記で調製された単量体混合物を仕込み、７５℃にて４時間重合反応を行った。続いて、この溶液に、アゾイソブチロニトリル１部を更に加えて、７５℃で４時間、重合熟成を行なった後、３０℃にまで冷却して、不揮発分４０％のスルホン酸基を有するポリアニオンドーパント溶液を調製した。
【０１６５】
（アニリン重合物へのポリアニオンドーパントのドープ）
次いで、上記のアニリンの重合物５部、上記のポリアニオンドーパント溶液１２５部、及び水３７０部をそれぞれ仕込み、各成分を馴染ませた。“流通式サンドグラインダーミル（ＵＶＭ−２）”（アイメックスＫ．Ｋ製）にジルコニアビーズ（０．５ｍｍ径）を用い、吐出量０．５リットル／ｍｉｎ、周速１０ｍ／ｓｅｃで１時間分散した。分散時の温度は７５℃になるように調節した。このようにして濃度１１％のアニリン重合体組成物を得た。
（溶媒の置換）
次いで、上記のアニリン重合体組成物の２０ｍｌにエチルアルコールを２００ｍｌ加えた後、限外ろ過により水及びエチルアルコールを１００ｍｌ除去した。残る組成物１２０ｍｌにエチルアルコールを２００ｍｌを加え限外ろ過により水及びエチルアルコールを１００ｍｌ除去した。この操作を２度繰り返し、固形分濃度をエチルアルコールで調整し、１．０質量％（２０℃において）の水／エチルアルコール溶液とし、有機導電性ポリマー溶液（Ｅ）を調製した。この溶液の含水率は１質量％であり、混合溶剤の比誘電率は２６．２であった。
【０１６６】
・（調製例６）導電性高分子重合体溶液（Ｆ）の調製
欧州特許３２８９８１号明細書の実施例４に準じて、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレートの共存下で、３−ドデシルオキシチオフェンをアセトニトリル中で電気化学的に重合し、ポリチオフェン誘導体にモノアニオンドーパントを取り込ませた比較用導電性高分子重合体を合成した。このポリチオフェン誘導体を、テトラヒドロフランと酢酸ブチルの９対１質量比の混合溶液に１質量％（２０℃において）になるように溶解し、有機導電性ポリマー溶液（Ｆ）を調製した。この混合溶剤の比誘電率は７．２５であった。
【０１６７】
【表４】
2011048359.tif 000015
【０１６８】
上記で使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・イルガキュア−１２７：光重合開始剤  ［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・ＭＦ１：「（Ｅ）含フッ素防汚剤」で例示した化合物ａ−１
・Ａ−１：下記方法により作製したシリカ微粒子分散液Ａ−１（固形分濃度２２質量％）
・Ａ−２：下記方法により作製した中空シリカ微粒子分散液Ａ−２（固形分濃度２２質量％）
・サイメル３０３：メチロールメラミン樹脂（三井サイテック（株）製）
・キャタリスト４０５０：パラトルエンスルホン酸・トリエチルアミン塩（日本サイテックインダストリーズ（株）製）
・ＡＴＯ−１：
市販の透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」｛固形分濃度４５質量％、日本ペルノックス（株）製｝を帯電防止層用塗布液（ＡＴＯ−１）として用いた。「ペルトロンＣ４４５６Ｓ−７」は、分散剤を用いて分散された導電性微粒子ＡＴＯを含有する透明帯電防止層用塗料である。この塗料による塗膜の屈折率は１．５５であった。表４に示す量は、低屈折率層用塗布液におけるＡＴＯ−１の固形分の量である。
・テトラエトキシシラン：信越化学（株）製
・パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン：東レダウコーニング製
・ＭＥＫ：２−ブタノン（沸点７９．６℃）
・ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）
・ＭｉＢＫ：２−メチル−４−ペンタノン（沸点１１５．９℃）
・ＩＰＡ：イソプロピルアルコール（沸点８２℃）
【０１６９】
（シリカ微粒子分散液Ａ−１の作製）
市販の平均粒子径５０ｎｍのシリカ微粒子分散物（ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ  日産化学（株）製、シリカ固形分濃度３０質量％、溶媒イソプロピルアルコール）を、シリカ固形分濃度が２２質量％になるようにイソプロピルアルコールで希釈し、シリカ微粒子分散液Ａ−１を調製した。
【０１７０】
（中空シリカ微粒子分散液Ａ−２の作製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じサイズを変更して作製）５００ｇに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）１０ｇ、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．０ｇ加え混合した後に、イオン交換水を３ｇを加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．０ｇを添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２２質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた中空シリカ微粒子分散液Ａ−２のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．０質量％であった。
【０１７１】
［反射防止フィルムの作製］
（ハードコート層の形成）
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム  ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士フイルム（株）製））上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１又はＨＣ−２）を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成した。
【０１７２】
（低屈折率層の形成）
得られたハードコート層の上に、前記低屈折率層用塗布液（Ｌｎ−１〜２３のいずれか）を、低屈折率層膜厚が所望の膜厚になるように調節して、マイクログラビア塗工方式で塗布し、下記硬化条件により硬化させ、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
また、上記トリアセチルセルロース上に、ハードコート層を設けずに直接低屈折率層用塗布液Ｌｎ−２４を、低屈折率層膜厚が所望の膜厚になるように調節して、マイクログラビア塗工方式で塗布し、下記硬化条件により硬化させ、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
【０１７３】
低屈折率層の形成における硬化条件を以下に示す。
＜Ｌｎ−１〜Ｌｎ−７、Ｌｎ−１０〜Ｌｎ−２１、Ｌｎ−２４の硬化条件＞
（１）乾燥：８０℃−１２０秒
（２）照射前熱処理：９５℃−５分
（３）ＵＶ硬化：９０℃−１分
酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１２０ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
（４）照射後熱処理：３０℃−５分
＜Ｌｎ−８〜Ｌｎ−９、Ｌｎ−２２〜Ｌｎ−２３の硬化条件＞
・乾燥、熱処理：１００℃−１２０秒
【０１７４】
［反射防止フィルムの鹸化処理］
上記のようにして得られた反射防止フィルム試料に、以下の鹸化処理を行った。
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．００５モル／Ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを、上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬して水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。
【０１７５】
反射防止フィルムにおけるハードコート層（ＨＣ層）、低屈折率層（Ｌｎ層）の組み合わせと各層の屈折率を下記表５に示す。各層の屈折率はアッベ屈折率計で直接測定した。ここで、ＨＣ−１液を用いたＨＣ層の屈折率は硬化後のマトリックス（光拡散性粒子を除く膜の屈折率）の値である。なお、比較例３〜６ではＬｎ層の屈折率が１．５０より高く（記載上は低屈折率層としたが、実質的には低屈折率層とはなっておらず）、反射防止性能が不十分であった。
【０１７６】
【表５】
2011048359.tif 000016
【０１７７】
［反射防止フィルムの評価］
得られたフィルムについて、以下の項目について評価及び測定を行った。
（評価１）平均積分反射率の測定
フィルムをクロスニコルの偏光板に貼り合わせた後、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率（％）を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率（％）を用いた。それぞれの機能層の屈折率と膜厚が等しいとき、機能層間の界面の親和性が悪いと、微視的なムラが生じて、結果、積分反射率が上昇する。
【０１７８】
（評価２）マジック拭き取りテストによる防汚性の評価
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細」（ＺＥＢＲＡ製）のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、５秒後に１０枚重ねに折り束ねた不織布（ベンコット、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で２０往復拭き取る。マジック跡が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価することが出来る。５０回を上限としてふき取ることができた回数を評価した。消えなくなるまでの回数は５回以上であることが好ましく、１０回以上であることが更に好ましく、最も好ましくは５０回以上である。
【０１７９】
（評価３）耐擦傷性の評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行った。
・価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
・こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール｛（株）日本スチールウール製、Ｎｏ．００００｝を巻いて、動かないようバンド固定した。その上で下記条件の往復こすり運動を与えた。
・移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、
・荷重：５００ｇ／ｃｍ２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
・こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△：弱い傷が見える。
△×：中程度の傷が見える。
×：一目見ただけで分かる傷がある。
【０１８０】
（評価４）密着性の評価
反射防止フィルム試料を温度２５℃、６０ＲＨ％の条件で２時間調湿した。各試料の低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記４段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。
◎：１００升において剥がれが全く認められなかった。
○：１００升において１〜２升の剥がれが認められた。
△：１００升において３〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
×：１００升において１１升以上の剥がれが認められた。
【０１８１】
（評価５）表面抵抗値の測定
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて、２５℃、６０ＲＨ％の条件下で測定した。表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数（ＬｏｇＳＲ）を表６の表面抵抗値として記載した。
【０１８２】
（評価６）防塵性の評価
各反射防止フィルム試料の透明支持体側をＣＲＴ表面に張り付け、０．５μｍ以上のホコリ及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立方フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止膜１００ｃｍ２当たり、付着したホコリとティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値について、以下の評価基準で評価した。
Ａ：２０個未満
Ｂ：２０〜４９個
Ｃ：５０〜１９９個
Ｄ：２００個以上
【０１８３】
（評価７）光学的面状の目視評価
フィルムを、（１）三波長蛍光灯下での透過面状検査、並びに（２）機能層塗布面と反対側に油性黒インキを塗り、三波長蛍光灯下での反射面状検査を行って、総合的に面状の均一性（風ムラ、乾燥ムラ、塗布スジムラなどがないこと）を詳細に評価した。
１：面状劣悪
２：目標未達
３：まだ改良を要す
４：かなり良好
５：極めて良好
【０１８４】
（評価８）有機導電性材料の偏在性の測定
反射防止フィルムをミクロトームで０．０５°の角度で斜め切削後、得られた塗膜の切削断面をＴＯＦ−ＳＩＭＳ法にて解析し、導電性ポリマーの膜厚方向の分布を測定した。
その後、下部偏在率を下式にて算出した。
下部偏在率＝［低屈折率層の膜厚方向において、中央から下部５０％の膜厚領域に存在する導電性ポリマーの質量］÷［低屈折率層全体に存在する導電性ポリマーの総質量］×１００（％）
ＴＯＦ−ＳＩＭＳ法による測定は以下の条件にて行った。 
・装置；Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅ１ｅｃｔｒｏｎｉｃｓ（ＰＨＩ）社製 ＴＲＩＦＴＩＩ 
・一次イオン；Ｇａ＋（１５ｋＶ） 
・アパーチャー；Ｎｏ．３（Ｇａ＋電流量：６００ｐＡ相当） 
・マッピング点数；２５６×２５６点 
・検出する二次イオン質量；０〜１０００ａｍｕ［ａｍｕ；ａｔｏｍ ｍａｓｓｕｎｉｔ
］ 
・積算時間；６０分
【０１８５】
以上の結果を下記表に示す。
【０１８６】
【表６】
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【０１８７】
また、実施例１の反射防止フィルムと実施例９の反射防止フィルムの、低屈折率層中の膜厚方向の有機導電性材料の偏在性を上記評価８の方法で評価した結果、実施例１の偏在率は５７％、実施例９の偏在率は８３％であり、実施例９の反射防止フィルムは有機導電性材料の偏在率が高く低表面抵抗値となり、優れた防塵性を有することが分かった。
【０１８８】
［液晶表示装置での評価］
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、実施例及び比較例の反射防止フィルム（鹸化処理済み）に、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
【０１８９】
（液晶表示装置の作製）
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−３７ＧＳ１０、シャープ（株）製）に設けられている偏光板を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
【０１９０】
上記のようにして作製された実施例の反射防止フィルム付き偏光板及び画像表示装置は、偏光板加工処理を施しても、優れた導電性が保持され、それぞれ貼り付けた反射防止フィルムと同様、スジやムラの無い優れた面状、耐傷擦性、防汚性、防塵性及び密着性を示した。一方、比較例７に記載の反射防止フィルムは偏光板加工することによって、表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）が１４まで低下し、防塵性が十分ではない事が分かった。これは、鹸化処理によって、モノマードーパントが泣き出した事で導電性が低下したためと考えられる。また、実施例の液晶表示装置は背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高く、防汚性にすぐれた表示装置が得られた。