(57)【要約】【課題】固定されたウエハの温度制御性能を損なうことなく、異なるサイズのウエハを充分に吸着固定できるようにする。【解決手段】ウエハＷの形状に対応して形成され、そのウエハＷが収容される開口孔２１、及び開口孔２１の下側開口縁下方に延設され、開口孔２１にウエハＷが収容された状態でそのウエハＷの下面に接触して保持する保持爪２２を有するウエハホルダ２と、概略平面状の静電吸着面３０１を有し、静電吸着面にウエハホルダ２及びそれによって保持されたウエハＷが載置された状態で保持爪２２を収容する保持爪収容溝３Ｍが形成された静電チャック３と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハの形状に対応して形成され、そのウエハが収容される開口孔、及び当該開口孔の下側開口縁下方に延設され、前記開口孔にウエハが収容された状態でそのウエハの下面に接触して保持する保持爪を有するウエハホルダと、
概略平面状の静電吸着面を有し、当該静電吸着面に前記ウエハホルダ及びそれによって保持されたウエハが載置された状態で前記保持爪を収容する保持爪収容溝が形成された静電チャックとを備えるウエハ保持機構。
【請求項２】
前記静電チャックが、前記静電吸着面に前記ウエハホルダ及びそれによって保持されたウエハが載置された状態で、前記ウエハホルダ及び前記ウエハを静電吸着するものである請求項１記載のウエハ保持機構。
【請求項３】
前記保持爪が、開口孔の下側開口縁全周から下方に延設されている請求項１又は２記載のウエハ保持機構。
【請求項４】
前記ウエハホルダが、前記保持爪から開口孔内側に延設されて、当該保持爪のウエハ下面に接触するウエハ接触面と略同一平面上に位置する支持面を有し、当該支持面により前記ウエハ下面の少なくとも略中央部を支持する支持体を有し、
前記静電チャックが、前記支持体を収容する支持体収容溝を有する請求項１、２又は３記載のウエハ保持機構。
【請求項５】
前記保持爪が、上方に延設する突起部を有し、当該突起部の上端が前記ウエハの下面に接触するものである請求項１、２又は３記載のウエハ保持機構。
【請求項６】
前記突起部が、前記保持爪において周方向に略等間隔に３つ以上設けられている請求項５記載のウエハ保持機構。
【請求項７】
前記静電吸着面に異なるサイズのウエハを保持する保持爪に対応した保持爪収容溝が形成されている請求項１、２、３、５又は６記載のウエハ保持機構。
【請求項８】
前記静電吸着面に異なるサイズのウエハを保持する保持爪及び支持体に対応した保持爪収容溝及び支持体収容溝が形成されている請求項４記載のウエハ保持機構。
【請求項９】
前記ウエハホルダにおける開口孔の上側開口縁全周にテーパ面が形成されている請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載のウエハ保持機構。
【請求項１０】
ウエハの形状に対応して形成され、そのウエハが収容される開口孔、及び当該開口孔の下側開口縁下方に延設され、前記開口孔にウエハが収容された状態でそのウエハの下面に接触して保持する保持爪を有するウエハホルダ。
【請求項１１】
ウエハの形状に対応して形成され、そのウエハが収容される開口孔、及び当該開口孔の下側開口縁下方に延設され、前記開口孔にウエハが収容された状態でそのウエハの下面に接触して保持する保持爪を有するウエハホルダが載置されるものであって、
概略平面状の静電吸着面を有し、当該静電吸着面に前記ウエハホルダ及びそれによって保持されたウエハが載置された状態で前記保持爪を収容する保持爪収容溝が形成された静電チャック。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異なるサイズのウエハを静電チャックによって保持するためのウエハ保持機構、当該ウエハ保持機構に用いられるウエハホルダ及び静電チャックに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造装置の処理チャンバ内で半導体ウエハを保持する方式としては、試料台上に静電チャックを設け、当該静電チャック上に載置したウエハを静電吸着するものがある。
【０００３】
この種の静電チャックとしては、特許文献１に示すように、静電チャックと基板との間にウエハホルダを介在させることなく、静電チャックに複数枚の基板を設置できるものがある。具体的にこの静電チャックは、上面がウエハを静電吸着するチャック領域が複数形成されており、このチャック領域は、基板上面に突設された複数の島状部の各上面部に形成されている。これによって、各島状部の上面毎にウエハを載置することによって複数枚のウエハを同時に吸着できるように構成されている。なお、ウエハを載置した状態において、各島状部間の空間には、ウエハホルダが配置される。
【０００４】
しかしながら、この静電チャックを用いて１つの島状部よりもサイズの大きいウエハ（例えば静電チャックと同じサイズのウエハ）を保持する場合には、ウエハが複数の島状部に跨って保持されることになる。そうすると、ウエハの下面において静電吸着される部分と静電吸着されない部分とが存在し、ウエハの固定が不十分になってしまうという問題がある。このようなことから、特許文献１に示すものでは、ウエハを充分に固定するためには、島状部に対応した特定のサイズのウエハしか取り扱うことができず、汎用性に欠くという問題がある。
【０００５】
また、静電チャックによっては、ウエハ下面と接触することによって、このウエハを加熱又は冷却する機能を有するものがあるが、複数の島状部に跨ってウエハが固定されると、島状部に接触している部分と島状部に接触していない部分との温度斑が生じてしまう。そうすると、ウエハの温度制御性能が悪くなるという問題もある。
【０００６】
さらに、島状部よりも小さいウエハを固定するためには、当該島状部の内部にサイズの小さい島状部を形成する必要がある。ところが、このように内部に島状部を形成すると、内部の島状部の外延にウエハホルダが配置される空間を形成する必要があり、外部の島状部のチャック領域が小さくなってしまい、ウエハの固定が不十分になるだけでなく、温度制御も難しいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−６６４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、固定されたウエハの温度制御性能を損なうことなく、異なるサイズのウエハを充分に固定できるようにすることをその主たる所期課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち本発明に係るウエハ保持機構は、ウエハの形状に対応して形成され、そのウエハが収容される開口孔、及び当該開口孔の下側開口縁下方に延設され、前記開口孔にウエハが収容された状態でそのウエハの下面に接触して保持する保持爪を有するウエハホルダと、概略平面状の静電吸着面を有し、当該静電吸着面に前記ウエハホルダ及びそれによって保持されたウエハが載置された状態で前記保持爪を収容する保持爪収容溝が形成された静電チャックとを備えることを特徴とする。
【００１０】
このようなものであれば、平面状の静電吸着面に保持爪収容溝を設けて保持爪を収容する構成とし、ウエハ及びウエハホルダが載置される静電吸着面を同一平面としているので、サイズの異なるウエハを載置した場合でも、ウエハに静電吸着面を確実に接触させることができる。また、保持爪のみが保持爪収容溝に収容されるようにしているので、保持爪収容溝のサイズを小さくすることができる。これにより、サイズの異なるウエハを載置してウエハが保持爪収容溝を跨る場合であっても、ウエハに接触しない部分を小さくすることができる。したがって、ウエハの温度斑を生じにくくすることができ、温度制御性能を損なうことがなく、異なるサイズのウエハそれぞれを十分に固定することができる。
【００１１】
静電チャック上にウエハを静電吸着させた状態でウエハを移動させる際、静電チャック上に載置されたウエハホルダがガタつくことによって、粉塵（例えばパーティクル）が発生してしまい、ウエハに付着してしまうことがある。この問題を好適に解決するためには、前記静電チャックが、前記静電吸着面に前記ウエハホルダ及びそれによって保持されたウエハが載置された状態で、前記ウエハホルダ及び前記ウエハを静電吸着するものであることが望ましい。これならば、ウエハだけでなく、ウエハホルダも静電吸着することにより、ウエハホルダがガタつくことを防止することができる。
【００１２】
例えば上記ウエハ保持機構を用いてウエハにイオン注入する場合、照射されるイオンビームが静電吸着面に照射されてスパッタ粒子が発生し、このスパッタ粒子がウエハに付着してしまうことがある。また、イオンビームが静電吸着面に照射されることで、静電吸着面のチャージアップをまねき、結果としてウエハ近傍での電位分布が変動して、イオンビームの軌道が偏向されてしまうこともある。これらの問題を好適に解決するためには、前記保持爪が、開口孔の下側開口縁全周から下方に延設されていることが望ましい。これならば、開口孔がウエハの形状に対応して形成されると共に、保持爪が開口縁全周に延設されていることにより、開口孔及びウエハの間に形成される間隙からイオンビームが静電吸着面に照射されることを防止することができる。
【００１３】
ウエハを保持した状態で保持爪がウエハ下面の外縁部と接触する場合には、当該ウエハが薄型のものであると、ウエハの中央部が自重により撓んでしまう。この撓みによって、ウエハホルダからウエハが離脱（抜け落ち）してしまう恐れがあり、また、ウエハ下面と他の部材との擦れによるパーティクルの発生やウエハ下面に傷が生じるという問題がある。この問題を解決するためには、前記ウエハホルダが、前記保持爪から開口孔内側に延設されて、当該保持爪のウエハ下面に接触するウエハ接触面と略同一平面上に位置する支持面を有し、当該支持面により前記ウエハ下面の少なくとも略中央部を支持する支持体を有し、前記静電チャックが、前記支持体を収容する支持体収容溝を有することが望ましい。
【００１４】
保持爪とウエハ下面との接触面積を可及的に小さくして、接触による粉塵（例えばパーティクル）の発生を抑えるためには、前記保持爪が上方に延設する突起部を有し、当該突起部の上端が前記ウエハの下面に接触するものであることが望ましい。
【００１５】
突起部の具体的な実施の態様としては、前記保持爪において周方向に略等間隔に３つ以上設けられていることが考えられる。また、突起部は、略全周に亘って設けられた突条をなすものであっても良い。
【００１６】
ウエハホルダの機械的強度を強くするためには、ウエハホルダの平板部の厚みを大きくすることが考えられる。しかしながら、そうすると、ウエハホルダに収容されたウエハに対して斜めからイオンビーム等を照射する場合に、ウエハホルダの開口孔の上側開口縁がイオンビームを遮ってしまい、ウエハの周端部にイオンビームを照射することができないという問題がある。この問題を好適に解決するためには、前記ウエハホルダにおける開口孔の上側開口縁全周にテーパ面が形成されていることが望ましい。
【００１７】
前記静電吸着面に異なるサイズのウエハを保持する保持爪に対応した保持爪収容溝が形成されていることが望ましい。具体的には、異なるサイズのウエハを保持する保持爪に対応した異なる保持爪収容溝が重なるように設けられていても良いし、一方が他方を包含するように設けられていても良い。同様に、ウエハホルダが支持体を有するものである場合には、前記静電吸着面に異なるサイズのウエハを保持する保持爪及び支持体に対応した保持爪収容溝及び支持体収容溝が形成されていることが望ましい。
【００１８】
また、本発明に係るウエハホルダとしては、ウエハの形状に対応して形成され、そのウエハが収容される開口孔、及び当該開口孔の下側開口縁下方に延設され、前記開口孔にウエハが収容された状態でそのウエハの下面に接触して保持する保持爪を有することを特徴とする。
【００１９】
さらに、本発明に係る静電チャックは、ウエハの形状に対応して形成され、そのウエハが収容される開口孔、及び当該開口孔の下側開口縁下方に延設され、前記開口孔にウエハが収容された状態でそのウエハの下面に接触して保持する保持爪を有するウエハホルダが載置されるものであって、概略平面状の静電吸着面を有し、当該静電吸着面に前記ウエハホルダ及びそれによって保持されたウエハが載置された状態で前記保持爪を収容する保持爪収容溝が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
このように構成した本発明によれば、固定されたウエハの温度制御性能を損なうことなく、異なるサイズのウエハを充分に吸着固定できるようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係るウエハ保持機構の全体構成を示す模式図である。
【図２】同実施形態のウエハホルダの平面図である。
【図３】同実施形態の保持爪及び保持爪収容溝を主として示す部分拡大断面図である。
【図４】同実施形態の静電チャックの載置板の平面図である。
【図５】変形実施形態の保持爪及び保持爪収容溝を主として示す部分拡大断面図である。
【図６】変形実施形態のウエハホルダの平面図である。
【図７】変形実施形態のウエハホルダの部分拡大断面図である。
【図８】変形実施形態の静電チャックの載置板の平面図である。
【図９】変形実施形態に係るウエハホルダを部分的に示す平面図である。
【図１０】変形実施形態に係るウエハホルダのＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】変形実施形態に係るウエハホルダのＢ−Ｂ線断面図である。
【図１２】変形実施形態に係る保持爪、支持体及び収容溝を主として示す拡大断面図である。
【図１３】支持体の変形例を示す平面図である。
【図１４】支持体の変形例を示す平面図である。
【図１５】支持体の変形例を示す平面図である。
【図１６】支持体の変形例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に本発明に係るウエハ保持機構の一実施形態について図面を参照して説明する。
【００２３】
本実施形態に係るウエハ保持機構１００は、例えばイオン注入装置等の半導体製造装置において処理対象となるウエハＷを保持するものであり、図１に示すように、ウエハＷを収容するウエハホルダ２と、当該ウエハホルダ２に収容されたウエハＷを静電吸着する静電チャック３とを備えている。
【００２４】
以下、ウエハホルダ２及び静電チャック３について詳述する。
【００２５】
ウエハホルダ２は、例えばシリコン又はグラファイト（カーボン）等の導電性を有する非金属から形成されており、図１及び図２に示すように、ウエハＷの形状に対応して形成され、そのウエハＷが収容される開口孔２１と、その開口孔２１の下側開口縁下方に延設され、開口孔２１にウエハＷが収容された状態でそのウエハＷの下面に接触して保持する保持爪２２とを有する。本実施形態のウエハホルダ２は、平面視において概略円形状をなすものであるが、その他、概略矩形状をなすもの等、種々の形状であっても良い。このウエハホルダ２は、図示しない搬送ロボットによって、半導体製造装置の処理チャンバ内に搬送され、処理後においてその処理チャンバ内から外部に搬出される。
【００２６】
開口孔２１は、収容するウエハＷの平面視形状と略同一形状をなす孔であり、本実施形態では、ウエハホルダ２に複数個形成されている。また、図２において開口孔２１は、平面矩形状のウエハを収容することから矩形状をなすものであるが、平面円形状のウエハを収容するものであれば円形状をなすものとする。
【００２７】
保持爪２２は、開口孔２１の下側開口縁全周から下方に延設されている。この保持爪２２は、図３に示すように断面概略Ｌ字形状をなすものであり、その垂直部２２ａの内面が開口孔２１の内面と同一面を形成するように設けられている。また垂直部２２ａから屈曲した水平部２２ｂの上面がウエハ接触面として、開口孔２１にウエハＷが収容された状態でその下面の周端部と接触することによって、ウエハＷが開口孔２１に保持される。
【００２８】
また、ウエハホルダ２の開口孔２１が形成されている平板部の厚みは、ウエハＷの厚みと略同一としている。つまり、後述する静電チャック３に静電吸着された状態において、ウエハＷ及びウエハホルダ２の上面は、略同一平面上に位置することになる（図１、図３参照）。
【００２９】
静電チャック３は、図１に示すように、セラミックス等の絶縁体からなる平板状をなす載置板３１と、当該載置板３１内に埋設された内部電極３２と、当該内部電極３２に電圧を印加する給電端子３３とを備えている。本実施形態の静電チャック３は双極型のものであり、載置板３１内部に正電極３２ａ及び負電極３２ｂが設けられている。また、給電端子３３は、各正電極３２ａに連結される正電極用給電端子３３ａと、各負電極３２ｂに連結される負電極用給電端子３３ｂとからなる。この給電端子３３には、吸着用電源３４が接続される。そして、吸着用電源３４によって内部電極３２に電圧を印加することによって、載置板３１内で誘電分極現象が生じ、載置板３１上面が概略平面状の静電吸着面３０１となる。
【００３０】
なお、載置板３１内には、ウエハホルダ２及びウエハＷの帯電を取り除くためのアースピン３５が設けられている。このようにアースピン３５を設けることによって、ウエハ保持機構１００をイオン注入装置に用いた場合に、イオンビームがウエハホルダ２及びウエハＷに照射されることによって、それらの表面が帯電して絶縁破壊が生じることを防止している。
【００３１】
また、静電チャック３の静電吸着面３０１（載置板３１上面）には、図４に示すように、ウエハホルダ２及びそれによって保持されたウエハＷが載置された状態で保持爪２２のみを収容する保持爪収容溝３Ｍが形成されている。なお、ウエハホルダ２は図示しない搬送ロボットによって静電チャック３に対して上下方向に昇降移動されて、静電吸着面３０１上に載置され又は静電吸着面３０１から持ち上げられる。
【００３２】
保持爪収容溝３Ｍは、固定すべきウエハＷのサイズによって予め形成されている。本実施形態の保持爪収容溝３Ｍは凹溝であり、載置されるウエハホルダ２に設けられた保持爪２２に対応して形成されている。本実施形態では、保持爪２２が平面視概略矩形状をなすものであり、それに合わせて保持爪収容溝３Ｍも平面視概略矩形状をなす。また、保持爪収容溝３Ｍの断面形状は概略コの字形状をなすものであり、その寸法は保持爪２２の形状によって決まる。より詳細には、保持爪収容溝３Ｍの断面寸法は、ウエハＷが跨って載置された際に、当該ウエハＷへの温度影響及び吸着影響が実質的に無視できる程度のものである。本実施形態の保持爪収容溝３Ｍの断面寸法は、幅２ｍｍであり、深さ２ｍｍである。
【００３３】
そして、本実施形態の静電チャック３は、静電吸着面３０１にウエハホルダ２及びそれによって保持されたウエハＷが載置された状態で、ウエハホルダ２及びウエハＷを静電吸着する。一方で、静電チャック３は、載置板３１と同じサイズのウエハＷが載置された場合であっても、温度制御性能を損なうことなく、充分に静電吸着して固定する。
【００３４】
次に、保持爪収容溝３Ｍと内部電極３２及びアースピン３５との配置関係について説明する。
【００３５】
図１及び図４に示すように、１枚のウエハＷに対して、そのウエハＷが載置される領域Ｘ１内部に、少なくとも１組の正電極３２ａ及び負電極３２ｂと、少なくとも１本のアースピン３５とが設けられるようにしている。つまり、１つの保持爪収容溝３Ｍに囲まれる領域Ｘ１内部に、少なくとも１組の正電極３２ａ及び負電極３２ｂと少なくとも１本のアースピン３５が設けられるようにしている。また、ウエハホルダ２が載置される領域Ｘ２に、１枚のウエハＷと同様に、少なくとも１組の正電極３２ａ及び負電極３２ｂと、少なくとも１本のアースピン３５とが設けられるようにしている。
【００３６】
＜本実施形態の効果＞
このように構成した本実施形態に係るウエハ保持機構１００によれば、平面状の静電吸着面３０１に保持爪収容溝３Ｍを設けて保持爪２２を収容する構成とし、ウエハＷ及びウエハホルダ２が載置される静電吸着面３０１を同一平面としているので、サイズの異なるウエハＷを載置した場合でも、ウエハＷに静電吸着面３０１を確実に接触させることができる。また、保持爪２２のみが保持爪収容溝３Ｍに収容されるようにしているので、保持爪収容溝３Ｍのサイズを小さくすることができる。これにより、サイズの異なるウエハＷを載置してウエハＷが保持爪収容溝３Ｍを跨る場合であっても、ウエハＷに接触しない部分を小さくすることができる。したがって、ウエハＷの温度斑を生じにくくすることができ、温度制御性能を損なうことがなく、異なるサイズのウエハＷそれぞれを十分に固定することができる。
【００３７】
＜その他の変形実施形態＞
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
【００３８】
例えば、保持爪２２が、図５に示すように、保持爪２２の水平部２２ｂ上面から上方に延設する突起部２２１を有し、当該突起部２２１の上端が前記ウエハＷの下面に接触するように構成することが考えられる。このとき、突起部２２１は、図６に示すように、保持爪２２において周方向に略等間隔に３つ以上設けられていることが望ましい。
【００３９】
また、前記実施形態では、ウエハホルダ２の厚さがウエハＷと同一であったが、このようなものでは、ウエハＷの厚さが薄いもの（例えば１ｍｍ程度）であると、ウエハホルダ２の機械的強度が弱くなってしまう。したがって、ウエハホルダ２の機械的強度を増すためには、ウエハホルダ２の厚さを大きくする必要がある。このとき、ウエハＷに対して斜めからイオンビームを照射する場合に、そのイオンビームの照射を遮らないようにするために、図７に示すように、ウエハホルダ２における開口孔２１の上側開口縁全周を切り欠くことによってテーパ面２Ｔを形成するようにしても良い。
【００４０】
さらに、前記実施形態の保持爪収容溝３Ｍは断面略コの字状をなす凹溝であったが、その他、断面Ｃ字状をなすもの等、保持爪２２が収容される形状であれば良い。
【００４１】
その上、前記実施形態では、同じサイズの複数のウエハを同時に保持するだけでなく、静電チャックと略同一サイズのウエハを保持可能なものであったが、種々（例えば３種類以上）のサイズのウエハを保持可能にすることもできる。このとき、静電チャックの静電吸着面（載置板上面）には、図８に示すように、種々のサイズを保持するウエハホルダの保持爪に対応した保持爪収容溝３Ｍを形成する。このとき、保持爪だけを収容する構成としているので、異なるサイズの保持爪収容溝が重なるように構成しても良いし、一方の保持爪収容溝の内部に他方の保持爪収容溝が包含されるように構成しても良い。
【００４２】
加えて、前記実施形態のウエハホルダ２がウエハ撓み防止構造を有するものであっても良い。このウエハ撓み防止構造は、図９〜図１１に示すように、保持爪２２から開口孔２１内側に延設されて、ウエハＷ下面の少なくとも略中央部を支持する１又は複数の支持体２３から構成される。
【００４３】
この支持体２３は、ウエハ下面の略中央部に接触して、ウエハＷを支持する支持面２３ａを有している。この支持面２３ａは、保持爪２２のウエハ下面に接触するウエハ接触面（水平部２２ｂの上面２２ｂ１）と略同一平面上に位置しており、支持体２３の上面により形成される。具体的に支持体２３は、一端及び他端がそれぞれ、保持爪２２の水平部２２ｂにおいて互いに異なる部分に接続されて、保持爪２２内の空間に架け渡されている。本実施形態の支持体２３は直線状をなすものであり、複数の支持体２３が保持爪２２内の空間内において等間隔となるように、保持爪２２と一体に形成されている。そして、それら複数の支持体２３の上面全体が、保持爪２２の水平部２２ｂ上面２２ｂ１（ウエハ接触面）と同一平面上となるように構成されている。なお、支持体２３は保持爪２２と一体ではなく、別体として保持爪２２に固定されるものであっても良い。
【００４４】
これによりウエハＷは、保持爪２２が接触する周端部以外の下面内側（略中央部）が支持体２３により部分的に支持される。このように支持体２３を設けることによって、例えば０．１ｍｍや０．０５ｍｍ等の薄型のシリコンウエハを周端部のみで保持した場合に生じる自重による撓み、この撓みによって起こる抜け落ち、パーティクルの発生やウエハ下面の傷を防止することができる。
【００４５】
またこの支持体２３に対応して、静電チャック３には、図１２に示すように、保持爪収容溝３Ｍに加えて、支持体２３を収容する支持体収容溝３Ｍａが形成されている。支持体２３は保持爪２２に連続して形成されているため、保持爪収容溝３Ｍと支持体収容溝３Ｍａは連通して形成されている。なお、図１２においては、内部電極等の静電チャック３の内部構造は省略している。
【００４６】
なお、上記のウエハ撓み防止構造は、複数の支持体２３を略等間隔に架け渡すことによって形成されているが、その他、概略十字状をなす支持体２３（図１３参照）や概略格子状をなす支持体２３（図１４参照）を保持爪２２内の空間に架け渡すように形成しても良いし、図１５に示すように、１又は複数の湾曲又は屈曲した支持体２３を互いに交わらないように架け渡すように形成しても良い。さらに、図１６に示すように、平面視において環状をなす内部支持体２３１と、当該内部支持体２３１と保持爪２２とを連結する連結支持体２３２とからなる支持体２３から構成しても良い。なお、図示しないが、支持体が、その一端のみを保持爪に接続され、他端を自由端とした構成としても良い。
【００４７】
また、前記実施形態のウエハホルダの開口孔内面及び保持爪の垂直部内面に、ウエハの面方向の向きを合わせるためのオリフラ又はノッチを設けても良い。
【００４８】
その上、前記実施形態の静電チャックは、双極型のものであったが、単極型のものであっても良い。
【００４９】
なお、本発明で取り扱う静電チャックは表面にエンボス加工が施されているものでも良い。エンボス加工により表面に形成された凸部の高さが略同一であれば、静電吸着面は概略平面形状であると言える。
【００５０】
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５１】
１００・・・ウエハ保持機構
Ｗ    ・・・ウエハ
２    ・・・ウエハホルダ
２１  ・・・開口孔
２２  ・・・保持爪
３    ・・・静電チャック
３０１・・・静電吸着面
３Ｍ  ・・・保持爪収容溝
２２１・・・突起部
２Ｔ  ・・・テーパ面
２３  ・・・支持体
３Ｍａ・・・支持体収容溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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