(57)【要約】【課題】アルミニウムを主体とする基板の陽極酸化処理により表面硬度を高めることができる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。【解決手段】アルミニウムを主体とする基板１の表面に陽極酸化処理を施してアルマイト皮膜２を形成する磁気記録媒体用基板１０の製造方法において、前記陽極酸化処理をしゅう酸浴による直流パルス電解で行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムを主体とする基板の表面に陽極酸化処理を施してアルマイト皮膜を形成する磁気記録媒体用基板の製造方法において、
前記陽極酸化処理をしゅう酸浴による直流パルス電解で行うことを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
前記陽極酸化処理により前記基板の表面硬度をＨｖ６５０以上とすることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項３】
前記陽極酸化処理により前記基板の表面硬度をＨｖ７００以上とすることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用基板の製造方法に関し、特にハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に搭載する磁気記録媒体に用いて好適である。
【背景技術】
【０００２】
現在、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）の記録装置として、ＨＤＤが広く用いられている。その磁気記録媒体（ハードディスク）として、アルミニウム合金基板を使用したアルミ磁気記録媒体とガラス基板を使用したガラス磁気記録媒体とが用いられている。
また最近では、携帯用ＰＣが広く用いられるようになってきた。携帯用ＰＣには、運搬時や使用時での落下や衝撃に対応する事が求められている。
携帯用途に対応するＨＤＤには、運搬時や使用時での落下や衝撃によって、磁気ヘッドとの衝撃によって傷が付かない、耐衝撃性の良好な磁気記録媒体が求められている。
アルミニウム合金基板は、アルミニウム合金板の表面にＮｉ−Ｐめっきをして製造され、安価で加工性が良好なことから主流となっているが、最近の磁気記録媒体に要求される耐衝撃性は高く、前記のアルミニウム合金基板を用いたアルミ磁気記録媒体では、十分に応える事が出来ない。
そこで、アルミ磁気記録媒体に代わって、高価であり、加工性に劣るが、表面硬度が高く耐衝撃性に優れたガラス基板を使用したガラス磁気記録媒体がこの用途に使われている。
しかし、ガラス磁気記録媒体は、高価であるため、安価なアルミ磁気記録媒体に対する要求は強く、耐衝撃性改善の検討がなされている。すなわち、表面硬度の高いアルミニウム合金基板の検討がなされている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、アルミニウムを主体とする基板を有機酸浴に浸漬して陽極酸化処理を行った後、硫酸浴に浸漬して陽極酸化処理を行うことなどのハードディスク用基板の製造方法により、基板表面のビッカース硬度Ｈｖを４５０〜５００にできることが記載されている。
また、特許文献２には、クロム酸と硫酸の混酸を用いたアルマイト（陽極酸化）処理により同程度の表面硬度が得られることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平２−２７０１３０号公報
【特許文献２】特開昭６２−１４９０２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１，２の陽極酸化処理では、ガラス基板並の表面硬度は示さず、耐衝撃性の向上の要求には、十分に応える事が出来ていない。
本発明は、上述の点に鑑み、アルミニウムを主体とする基板の陽極酸化処理により表面硬度を高めることができる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の目的を達成するため、アルミニウムを主体とする基板の表面に陽極酸化処理を施してアルマイト皮膜を形成する磁気記録媒体用基板の製造方法において、前記陽極酸化処理をしゅう酸浴による直流パルス電解で行うことを特徴とする。
ここで、アルミニウムを主体とする基板上のアルマイト皮膜の硬度Ｈｖを７００以上、厚さを４μｍ以上にすることにより、磁気記録媒体用基板の耐衝撃性を１５００Ｇ以上にすることができる。
そして、硬度Ｈｖを６００以上、好ましくは６５０、より好ましくは７００以上にするために、アルミニウムを主体とする基板の表面に、しゅう酸浴による陽極酸化処理を直流パルス電解で行うことにより、アルマイト皮膜を形成する。
アルマイト皮膜は、図２に示すように多孔質構造であり、孔３のサイズを小さくし、アルマイト皮膜２の密度を高めることにより、硬度は高くなる。
陽極酸化（アルマイト）反応は、アルミニウムの溶解と酸化がほぼ同時に起るため、孔を小さくするためには、一般に使用されている硫酸浴よりもアルミニウムが溶解し難いしゅう酸にし、液温を低くすることが好ましい。
これのみではＨｖ６００が限界である。より硬度を上げるために、一般に行われている直流電解から、パルス電解に変更することにより、最大電流の連続通電時間を低減し、ジュール熱を抑え、基板の発熱を抑え、基板部の低温化が可能になる。
【０００７】
これにより、アルミニウムを主体とする基板の表面に硬度が高いアルマイト皮膜を形成する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、アルミニウムを主体とする基板の表面硬度をＨｖ６００以上にすることができるので、携帯用ＨＤＤに要求される耐衝撃性を満足する磁気記録媒体用基板を安価に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態の製造方法により製造する磁気記録媒体用基板を示す断面模式図である。
【図２】しゅう酸浴を用いて形成されるアルマイト皮膜の構造を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図において、同一ないし同等部分には同一の符号を付して説明を省略する。
図１に示すように、本発明の実施形態の製造方法により製造される磁気記録媒体用基板１０は、アルミニウムを主体とする基板１の表面にアルマイト皮膜２が形成されてなる。
アルミニウムを主体とする基板１としては、純Ａｌ基板や一般的なＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板がいずれも使用可能である。
アルマイト皮膜２は、アルミニウムを主体とする基板１がしゅう酸浴中で陽極酸化処理されて形成されたもの（以下、「しゅう酸アルマイト皮膜」ともいう。）であり、Ｈｖ６００以上、好ましくは６５０、より好ましくは７００以上の高い硬度を有し、その膜厚は４〜１５μｍとすることが望ましい。
この実施形態の磁気記録媒体用基板１０の製造方法は次のとおりである。
先ず、しゅう酸浴にアルミニウムを主体とする基板１を浸漬する。このとき、基板１を正電極とし、これに対抗して負電極を浸漬する。
上記しゅう酸浴としては、しゅう酸３０〜６０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温−５〜＋５℃の浴を使用する。
【００１１】
次に、直流パルスを所定の電流密度で上記正電極と負電極の間に印加する。
ここで印加する直流パルスは、周波数１０〜２００Ｈz、Ｄｕｔｙ６０〜９５％、電流密度０．３〜４Ａ／ｄｍ２、電圧５０〜９０Ｖであることが好ましい。
そして、形成するしゅう酸アルマイト皮膜２の膜厚は、当該陽極酸化時間で制御する。
この結果、アルミニウムを主体とする基板１が酸化されて、当該基板１の表面には硬度の高い多孔質構造を有するしゅう酸アルマイト皮膜２が形成される。
【実施例】
【００１２】
以下に、上述の実施形態を具体的にした実施例について説明する。
〔実施例１〕
しゅう酸３０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温５℃のしゅう酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流パルス、周波数１００Ｈｚ、Ｄｕｔｙ７０％、電流密度２Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔実施例２〕
しゅう酸３０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温０℃のしゅう酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流パルス、周波数１００Ｈｚ、Ｄｕｔｙ７０％、電流密度２Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔実施例３〕
しゅう酸３０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温０℃のしゅう酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流パルス、周波数１００Ｈｚ、Ｄｕｔｙ９０％、電流密度２Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
【００１３】
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔実施例４〕
しゅう酸３０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温０℃のしゅう酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流パルス、周波数５０Ｈｚ、Ｄｕｔｙ９０％、電流密度２Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔実施例５〕
しゅう酸６０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温０℃のしゅう酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流パルス、周波数５０Ｈｚ、Ｄｕｔｙ９０％、電流密度２Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔比較例１〕
しゅう酸３０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温０℃のしゅう酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流電解、電流密度２Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
【００１４】
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔比較例２〕
硫酸１５０ｇ／Ｌ、残部水よりなる浴温０℃の硫酸浴にＡｌ合金板を浸漬し、これに、直流電解、電流密度Ａ／ｄｍ２を印加して陽極酸化処理を行った後、封孔処理を施した。
この結果、Ａｌ合金基板表面に膜厚１０μｍのしゅう酸アルマイト皮膜が積層された磁気記録媒体用基板を得た。
〔評価〕
次に、得られた磁気記録媒体用基板に対して、マイクロビッカース硬度計による硬度測定を実施した。その測定結果を表１に示す。
【００１５】
【表１】
2011146112.tif 000003
表１から分かるように、実施例１，５ではＨｖ６００以上、実施例２，３ではＨｖ６５０以上、実施例４ではＨｖ７００以上が得られたが、比較例１，２ではＨｖ６００に達しなかった。
【符号の説明】
【００１６】
１  アルミニウムを主体とする基板
２  アルマイト皮膜
３  孔
【図１】
2011146112.tif 000004
【図２】
2011146112.tif 000005