(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子を提供することができる、圧電素子の製造方法、および前記製造方法によって製造された圧電素子を有する液滴噴射ヘッドの製造方法、ならびに信頼性の高い液滴噴射装置を提供する。【解決手段】圧電素子の製造方法は、第１電極を形成する工程Ｓ１と、第１電極の上に圧電体層を形成する工程Ｓ２と、圧電体層の上に第２電極を形成する工程Ｓ３と、を有し、第１電極および第２電極の少なくとも一方を形成する工程Ｓ１、Ｓ２は、分散剤を用いて導電性材料を分散させた感光性材料を塗布した後に乾燥し、第１の膜を形成する工程Ｓ１１と、第１の膜を、露光処理する工程Ｓ１２と、露光処理された第１の膜を現像処理し、第２の膜を形成する工程Ｓ１３と、を含む。【選択図】図１
2011071410.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極の上に圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層の上に第２電極を形成する工程と、
を有する圧電素子の製造方法であって、
前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方を形成する工程は、
分散剤を用いて導電性材料を分散させた感光性材料を塗布した後に乾燥し、第１の膜を形成する工程と、
前記第１の膜を、露光処理する工程と、
露光処理された前記第１の膜を現像処理し、第２の膜を形成する工程と、
を含む、圧電素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記導電性材料は、金属粒子、導電性金属酸化物粒子、および導電性高分子のうち、少なくとも１つを含む、圧電素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記感光性材料は、感光性樹脂材料に前記導電材料のうち、前記金属粒子および前記導電性金属酸化物粒子の少なくとも一方を分散させて形成する、圧電素子の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方を形成する工程は、
前記第２の膜を熱処理し、前記感光性樹脂材料を灰化する工程、を更に含む、圧電素子の製造方法。
【請求項５】
請求項３において、
前記感光性樹脂材料は、ポリイミド、ポリビニルアルコール誘導体、およびフォトレジストのうち少なくとも１つを含む、圧電素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１または２において、
前記感光性材料は、前記導電性高分子を前記分散剤に分散させて形成する、圧電素子の製造方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記導電性高分子は、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリメチルチオフェン、ポリフラン、ポリピペラジン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィドおよびグラファイトのうち、少なくとも１つを含む、圧電素子の製造方法。
【請求項８】
請求項２において、
前記金属粒子は、Ａｇ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｃｕ、ＮｉおよびＷのうち、少なくとも１つを含む、圧電素子の製造方法。
【請求項９】
請求項２において、
前記導電性金属酸化物粒子は、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯおよびＬＮＯのうち、少なくとも１つを含む、圧電素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項２において、
前記金属粒子、導電性金属酸化物粒子の形状が、球状、もしくは、ワイヤー状である、圧電素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項において、
前記第２の膜の平面視における面積が、前記圧電体層の平面視における面積よりも小さくなるように、露光処理を行う、圧電素子の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれか１項において、
前記圧電体層を形成する工程は、前記第２電極を形成した後、前記第２電極を前記圧電体層のエッチングマスクとすることによって、前記圧電体層をパターニングすることを含む、圧電素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の圧電素子の製造方法を含む、液滴噴射ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の液滴噴射ヘッドの製造方法によって製造された液滴噴射ヘッドを有する、液滴噴射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電素子および液滴噴射ヘッドの製造方法、並びに液滴噴射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、画像記録装置およびディスプレー製造装置等に用いることができるインクジェットプリンター等の液滴噴射装置において、インク等の液滴を噴射するための液滴噴射ヘッドに圧電素子を用いること知られている。このような圧電素子は、例えば、駆動信号等の電圧を印加することによって圧電体を変形させることにより、圧電素子の下方に形成される振動板を変形させて圧力室内の容積を変化させることができる。これによって、液滴噴射ヘッドは、ノズル孔から圧力室内に供給されたインクなどの液滴を噴射させることができる。
【０００３】
このような圧電素子を構成する電極の材料として、Ｐｔ、Ｉｒ、ＩｒＯ２等の導電材料を用いることが知られている（特許文献１）。このような導電材料を、圧電素子を構成する電極として用いる場合、例えば、図１５に示す方法が知られている。この製造方法は、工程Ｓ１１１〜Ｓ１１６に示すように、導電材料をパターニングするために露光および現像処理を行ってレジスト層を形成し、エッチング処理を行い、不要となるレジスト層を、剥離剤を用いて剥離する必要がある。したがって、製造プロセスが煩雑化し、その結果、製造コストが高いという問題がある。
【０００４】
また、上記の導電材料は、比較的エッチングされにくい材料であるため、反応性ガスや反応性イオンを用いたドライエッチングを行う必要がある。従って、従来の製造プロセスでは、導電層および圧電体層等にダメージを与える可能性が指摘されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２２３４０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の様態の１つは、生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子を製造できる、圧電素子の製造方法を提供することにある。
【０００７】
本発明の様態の１つは、上記圧電素子を有する液滴噴射ヘッドの製造方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の様態の１つは、上記液滴噴射ヘッドを有する液滴噴射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明の様態の１つである圧電素子の製造方法は、
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極の上に圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層の上に第２電極を形成する工程と、
を有する圧電素子の製造方法であって、
前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方を形成する工程は、
分散剤を用いて導電性材料を分散させた感光性材料を塗布した後に乾燥し、第１の膜を形成する工程と、
前記第１の膜を、露光処理する工程と、
露光処理された前記第１の膜を現像処理し、第２の膜を形成する工程と、
を含む。
【００１０】
なお、本発明に係る記載では、「〜の上」という文言を、例えば、「特定のもの（以下「Ａ」という）の「上」に他の特定のもの（以下「Ｂ」という）を形成する」などと用いている。本発明に係る記載では、この例のような場合に、Ａ上に直接Ｂを形成するような場合と、Ａ上に他のものを介してＢを形成するような場合とが含まれるものとして、「〜の上」という文言を用いている。同様に、「〜の下」という文言は、Ａ下に直接Ｂを形成するような場合と、Ａ下に他のものを介してＢを形成するような場合とが含まれるものとする。
【００１１】
本発明によれば、生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子を製造できる、圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００１２】
（２）本発明の様態の１つにおいて、
前記導電性材料は、金属粒子、導電性金属酸化物粒子、および導電性高分子のうち、少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００１３】
（３）本発明の様態の１つにおいて、
前記感光性材料は、感光性樹脂材料に前記導電材料のうち、前記金属粒子および前記導電性金属酸化物粒子の少なくとも一方を分散させて形成してもよい。
【００１４】
（４）本発明の様態の１つにおいて、
前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方を形成する工程は、
前記第２の膜を熱処理し、前記感光性樹脂材料を灰化する工程、を更に含んでいてもよい。
【００１５】
（５）本発明の様態の１つにおいて、
前記感光性樹脂材料は、ポリイミド、ポリビニルアルコール誘導体、およびフォトレジストのうち少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００１６】
（６）本発明の様態の１つにおいて、
前記感光性材料は、前記導電性高分子を前記分散剤に分散させて形成してもよい。
【００１７】
（７）本発明の様態の１つにおいて、
前記導電性高分子は、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリメチルチオフェン、ポリフラン、ポリピペラジン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィドおよびグラファイトのうち、少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００１８】
（８）本発明の様態の１つにおいて、
前記金属粒子は、Ａｇ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｃｕ、ＮｉおよびＷのうち、少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００１９】
（９）本発明の様態の１つにおいて、
前記導電性金属酸化物粒子は、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯおよびＬＮＯのうち、少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００２０】
（１０）前記金属粒子、導電性金属酸化物粒子の形状が、球状、もしくは、ワイヤー状あってもよい。
【００２１】
（１１）本発明の様態の１つにおいて、
前記第２の膜の平面視における面積が、前記圧電体層の平面視における面積よりも小さくなるように、露光処理を行ってもよい。
【００２２】
（１２）本発明の様態の１つにおいて、
前記圧電体層を形成する工程は、前記第２電極を形成した後、前記第２電極を前記圧電体層のエッチングマスクとすることによって、前記圧電体層をパターニングすることを含んでいてもよい。
【００２３】
（１３）本発明の様態の１つである液滴噴射ヘッドの製造方法は、上記いずれかの圧電素子の製造方法を含む。
【００２４】
（１４）本発明の様態の１つである液滴噴射装置は、上記の液滴噴射ヘッドの製造方法によって製造された液滴噴射ヘッドを含む。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本実施形態に係る圧電素子の製造方法のフローチャート図。
【図２】第１実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図３】第１実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図４】第２実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図５Ａ】第２実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図５Ｂ】第２実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図５Ｃ】第２実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図５Ｄ】第２実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図５Ｅ】第２実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図６】第３実施形態に係る圧電素子の製造方法のフローチャート図。
【図７】第３実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図８】第３実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図。
【図９】本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの要部を模式的に示す断面斜視図。
【図１０】本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法を模式的に示す断面図。
【図１１Ａ】本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法を模式的に示す断面図。
【図１１Ｂ】本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法を模式的に示す断面図。
【図１２】本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法を模式的に示す断面図。
【図１３】本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法を模式的に示す断面図。
【図１４】本実施形態に係る液滴噴射装置の要部を模式的に示す斜視図。
【図１５】従来技術に係る圧電素子の製造方法のフローチャート図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下に、本発明を適用した実施形態の一例について図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の実施形態のみに限定されるものではない。本発明は、以下の実施形態およびその変形例を自由に組み合わせたものを含む。
【００２７】
１．  圧電素子の製造方法
１．１  第１実施形態
以下、図面を参照して、第１実施形態に係る圧電素子の製造方法について説明する。
【００２８】
図１（Ａ）および図１（Ｂ）は、本実施形態に係る圧電素子の製造方法のフローチャートを示す図である。図２および図３は、本実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図である。
【００２９】
図１（Ａ）に示すように、本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、第１電極２０を形成する工程（Ｓ１）と、第１電極２０の上に圧電体層３０を形成する工程（Ｓ２）と、圧電体層３０の上に第２電極４０を形成する工程（Ｓ３）と、を有する。さらに、本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、図１（Ｂ）に示すように、第１電極２０を形成する工程（Ｓ１）が、第１の膜２１を形成する工程（Ｓ１１）と、露光処理する工程（Ｓ１２）と、現像処理する工程（Ｓ１３）と、を含む。
【００３０】
また、図１（Ｂ）に示すように、本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、現像処理する工程（Ｓ１３）の後に、熱処理する工程（Ｓ１４）を更に含んでもよい。
【００３１】
（第１電極形成工程Ｓ１）
図２（Ａ）に示すように、準備された基板１０の上（基板１０の第１の面１１の上）に、第１の膜２１を形成する（Ｓ１１）。基板１０は、例えば、プレート状の部材であってもよく、材質および形状は特に限定されない。基板１０は、単層の絶縁性部材であってもよく、図示はされないが、複数のプレート状部材からなる積層体であってもよい。基板１０が積層体である場合、少なくとも基板１０の第１電極２０が形成される面（第１の面１１）が、絶縁性を有する層によって形成されていればよい。基板１０は、例えば、弾性を有する振動板であってもよい。
【００３２】
第１の膜２１は、分散剤を用いて導電材料を分散させた感光性材料を用いて形成される。第１の膜２１の形成方法は特に限定されず、公知の成膜技術によって形成されてもよい。例えば、スピンコート法、スリットコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法、ディッピング法等の塗布法により、形成されてもよい。
【００３３】
塗布された感光性材料は、塗布された後、乾燥処理される。乾燥処理する温度は、例えば分散剤を取り除くことができる温度であればよい。乾燥処理の温度は、用いられた分散剤によって適宜決定されれば良く、特に限定されない。塗布された感光性材料を、例えば８０℃以上、１５０℃以下の温度で乾燥してもよい。乾燥処理を行う手段は、所定の温度に加熱することが出来る限り特に限定されず、例えばホットプレート、赤外線炉および電気炉等の公知の加熱機器によって乾燥処理することができる。
【００３４】
以下に、本実施形態に係る感光性材料の詳細を説明する。
【００３５】
本発明の感光性材料における感光性とは、放射線等のエネルギー線を選択的に露光し、現像液によって現像処理することによって、特定の領域を選択的に除去できる特性を意味する。したがって、感光性材料は、例えば、放射線等のエネルギー線によって露光された領域が現像液によって選択的に除去可能となるポジ型のレジストであってもよいし、露光されない領域が現像液によって選択的に除去可能となるネガ型のレジストであってもよい。
【００３６】
本実施形態に係る感光性材料は、導電材料が分散剤中に均一に分散した組成物であることができる。つまりは、本実施形態に係る感光性材料は、（１）感光性を有する樹脂材料（以下、感光性樹脂材料とも言う）に、導電材料が均一に分散した組成物か、（２）感光性を有する導電性高分子（有機導電体）の粒子が、分散剤に分散した組成物であることができる。
【００３７】
本実施形態に係る感光性材料が、（１）感光性樹脂材料に、導電材料が均一に分散した組成物である場合、感光性樹脂材料としては、感光性を有する樹脂である限り特に限定されない。感光性の樹脂材料は、フォトレジストであってもよい。例えば、公知の感光性ポリイミド、およびポリビニルアルコール誘導体等の感光性樹脂組成物であってもよい。感光性の樹脂材料は、不飽和結合含有重合性化合物、光重合開始剤等も含む感光性樹脂組成物であってもよい。
【００３８】
また、樹脂材料は、公知の感光性樹脂材料の前駆体組成物であるポリマーであってもよい。
【００３９】
樹脂材料中に分散する導電材料としては、導電性を有し、分散させることができる粒子であれば、特に限定されない。本実施形態に係る導電材料としては、例えば、金属粒子、導電性金属酸化物および導電性高分子を用いることができる。導電材料は、金属粒子、導電性金属酸化物および導電性高分子のうち少なくとも１つを含んでいてもよい。つまりは、導電材料は、複数の異なる導電材料を含んでいてもよい。導電材料の平均粒度は、それぞれの材料によって異なるが、樹脂材料に均一に分散させることができる程度の粒度のものを適宜選択することができる。例えば、導電材料に球状の金属粒子を用いる場合、金属粒子の平均粒径ｄ５０が、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下のものを用いることができる。ワイヤー状の粒子を用いる場合は、短軸方向の直径が、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下のものを用いることができる。粒径、形状を制御することにより、膜厚の制御、露光時の光に対する透過性、反応性等を制御することが可能となる。
【００４０】
金属粒子としては、例えば、Ａｇ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｃｕ、ＮｉおよびＷのうち、少なくとも１つを用いてもよい。つまりは、導電材料は、異なる複数の金属粒子を含んでいてもよい。導電性金属酸化物としては、例えば、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯおよびＬＮＯのうち、少なくとも１つを用いてもよい。つまりは、導電材料は、異なる複数の導電性金属酸化物を含んでいてもよい。導電性高分子としては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピペラジン、ポリアリニンおよびポリアセチレンのうち、少なくとも１つを用いてもよい。
【００４１】
本実施形態に係る感光性材料が、（２）感光性を有する導電性高分子（有機導電体）の粒子が、分散剤に分散した組成物である場合、感光性を有する導電性高分子（有機導電体）としては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリメチルチオフェン、ポリフラン、ポリピペラジン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィドおよびグラファイトのうち、少なくとも１つを用いてもよい。つまりは、導電性高分子として、異なる複数の材料を用いてもよい。
【００４２】
ここで、本実施形態に係る感光性材料が、（２）感光性を有する導電性高分子（有機導電体）の粒子が、分散剤に分散した組成物である場合、感光性材料を塗布した後、分散剤を乾燥工程によって除去することで、第１の膜２１は導電性を有することができる。したがって、第１の膜２１を所望の形状にパターニングすることによって電極を形成することができる。
【００４３】
導電材料が分散した感光性材料を形成するために、分散剤を用いる。分散剤は、導電材料を感光性材料に均一に分散させることができるものであれば、特に限定されない。例えば、分散剤は、樹脂材料の前駆体組成物に含まれる分散剤であってもよい。前駆体組成物に含まれる分散剤として、例えば、カルボン酸、脂肪酸、およびそれらのエステル類などの酸基を有する分散剤であってもよい。また、分散剤は、樹脂を溶解する有機溶剤であってもよい。また、感光性材料が、（２）感光性を有する導電性高分子（有機導電体）の粒子が、分散剤に分散した組成物である場合は、導電材料としての導電性高分子が、塗布するのに適した粘性を有するように、分散剤を加えることができる。
【００４４】
分散剤として用いられる有機溶剤は、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン等のケトン類、エチレングリゴールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、その他、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン、トリクロロエチレン等や、これらのうちの少なくとも１つを含む有機溶剤混合物であってもよい。
【００４５】
また、本実施形態に係る有機溶剤としては、１気圧下での沸点が、２００℃以下のものを好適に選択することができる。これによれば、塗布後の脱分散剤処理のための乾燥処理において、熱による樹脂等の有機成分の熱分解を誘発する温度よりも、十分に低い温度で、安全かつ確実に分散剤成分のみを除去することができるため、信頼性の高い圧電素子を形成することができる。
【００４６】
また、本実施形態に係る感光性材料は、ノニオン性、カチオン性、アニオン性の界面活性剤、多価カルボン酸などの湿潤剤、両親和性物質、高立体障害の置換基を有する樹脂など、必要に応じて、安定化剤、沈降防止剤、可塑剤、酸化防止剤等を含んでいてもよい。
【００４７】
次に、図２（Ｂ）に示すように、第１の膜２１を基板１０上に形成した後、紫外線等のエネルギー線１１０と、所望の露光パターン形状を有するマスク１２０と、を用いて、第１の膜２１を露光処理する（Ｓ１２）。なお、図２（Ｂ）においては、ポジ型のレジストを第１の膜２１の材料として用いた場合を示しているが、ネガ型のレジストを用いた場合は、第１の膜２１において電極を形成したい領域を露光することができるマスクを用いることができる（図示せず）。エネルギー線１１０の波長は、第１の膜２１の材質から好適な範囲が適宜選択される。
【００４８】
次に、図２（Ｃ）に示すように、現像液１３０を用いて、電極として不要な領域の第１の膜２１を除去し、所望のパターンを有する第２の膜２２を形成する（Ｓ１３）。使用可能な現像液１３０は、特に限定されず、第１の膜２１の材料によって適宜選択することができる。例えば、第１の膜２１がポジ型のレジストである場合、現像液１３０は、アンモニウム塩等の有機アルカリ現像液であってもよい。また、第１の膜２１がネガ型のレジストである場合、現像液１３０は、例えば、キシレン系等の有機溶剤であってもよい。
【００４９】
本実施形態に係る感光性材料が、（２）感光性を有する導電性高分子（有機導電体）の粒子が、分散剤に分散した組成物である場合、第２の膜２２を第１電極２０とすることができる（図示せず）。
【００５０】
次に、図１（Ｂ）に示すように、本実施形態に係る感光性材料が、（１）感光性樹脂材料に、導電材料が均一に分散した組成物である場合、本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、第２の膜２２を熱処理し、感光性樹脂材料を灰化する工程（Ｓ１４）を更に含む。
【００５１】
図２（Ｄ）に示すように、パターニングされた第２の膜２２を熱処理し、第２の膜２２に含まれる感光性樹脂材料からなる有機成分を灰化すること（アッシング）によって除去し、第１電極２０を形成してもよい（Ｓ１４）。感光性樹脂材料が除去された第１電極２０は、金属粒子等の導電材料を含むため、導電性を有し、圧電素子の下部電極を構成することができる。熱処理の温度は、第２の膜２２に含まれる感光性樹脂等の有機成分を灰化し、除去できる温度であればよい。第２の膜２２を熱処理する温度は、例えば、２００℃以上、９００℃以下の温度範囲であればよい。熱処理を行う手段は、所定の温度に加熱することが出来る限り特に限定されず、例えば赤外線炉および電気炉等の公知の焼成炉によって熱処理することができる。
【００５２】
また、図示はしないが、第１電極２０は、図示されないリード部に電気的に接続されていてもよい。また、図示はしないが、第２の膜２２をパターニングする際、リード部を同時にパターニングして形成してもよい。リード部は、図示しない駆動電圧発生回路または接地回路に電気的に接続されていてもよい。
【００５３】
（圧電体層形成工程Ｓ２）
図３（Ａ）に示すように、第１電極２０の少なくとも一部を覆うように、圧電体層３０を形成する（Ｓ２）。圧電体層３０の形成方法は特に限定されず、圧電体材料を、第１電極２０を覆うように形成し、所望の形状を有するようにパターニングすることによって形成してもよい。例えば、ゾルゲル法、ＣＶＤ法、スパッタ法などによって形成することができる。ゾルゲル法においては、前駆体溶液をスピンコート法、印刷法などにより塗布、予備加熱、結晶化アニールの一連の作業を複数回繰り返して所望の膜厚にしてもよい。圧電体層３０のパターニングは、フォトリソグラフィー等の方法を用いマスク等を形成して行ってもよい。圧電体層３０の形状は、特に限定されないが、第１電極２０が露出しないように覆い、上面３１と、上面３１から基板１０の第１の面１１へ連続するテーパー面３２とを有していてもよい。圧電体層３０は、圧電特性を有した多結晶体からなる。圧電体層３０の構造及び材料は、圧電特性を有していればよく、特に限定されない。圧電体層３０の材質としては、一般式ＡＢＯ３で示されるペロブスカイト型酸化物（たとえば、Ａは、Ｐｂを含み、Ｂは、ＺｒおよびＴｉを含む）を好適に用いることができる。このような材質の具体的な例としては、チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３）（以下、「ＰＺＴ」と略すことがある）、ニオブ酸チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ，Ｎｂ）Ｏ３）（以下、「ＰＺＴＮ」と略すことがある）、およびチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、ニオブ酸カリウムナトリウム（（Ｋ，Ｎａ）ＮｂＯ３）などが挙げられる。
【００５４】
（第２電極形成工程Ｓ３）
図３（Ｂ）に示すように、第２電極４０は、圧電体層３０の上方に形成される。第２電極４０は、圧電体層３０の上方にて、圧電体層３０の上面３１とテーパー面３２を連続して覆っていてもよい。また、圧電体層３０から、基板１０の第１の面１１上に連続して形成されていてもよい。第２電極４０は、導電性を有した層からなり、圧電素子の上部電極を構成する。また、複数の圧電素子１００が隣り合うように形成される場合、第２電極４０は、共通の上部電極であってもよい。第２電極４０の構造及び材料は、導電性を有する限り、特に限定されない。第２電極４０の形成方法は特に限定されず、スパッタ法、蒸着法、印刷法等の公知の成膜方法を用いて形成し、所望の形状にパターニングしてもよい。例えば、第２電極４０は、単層で形成されていてもよい。あるいは、第２電極４０は、複数の膜の積層体で形成されていてもよい。第２電極４０は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）などの高融点金属や、ＩｒＯ２、ＳｒＲｕＯ３、ＬａＮｉＯ３などの導電性金属酸化物、導電性高分子のいずれかを含む金属層であってもよい。
【００５５】
また、第１電極２０と同じ材料である感光性樹脂材料を圧電体層３０の上方に成膜して、第１電極形成工程Ｓ１と同様の工程によって第２電極４０を形成してもよい（図示せず）。これによれば、第２電極４０の製造工程において、マスク露光によるパターニングが容易となり、プロセスを短縮し、低コスト化することができる。
【００５６】
以上のいずれかの工程により、圧電素子１００を製造することができる。
【００５７】
また、図３（Ｃ）に示すように、圧電素子１００は、第２電極４０の上方に保護膜５０を形成してもよい。保護膜５０を形成することによって、上部電極である第２電極４０を、大気中の水分等の外的要因から保護することができ、高い信頼性を有する圧電素子１００を製造することができる。保護膜５０は、図３（Ｃ）に示すように、少なくとも圧電体層３０のテーパー面３２を覆う第２電極４０の上方と、上面３１を覆う第２電極４０の一部とを連続して覆っていてもよい。
【００５８】
保護膜５０は、例えば、シリコン系酸化膜、シリコン系窒化膜、シリコン系酸窒化膜、酸化アルミニウムを用いることができ、よりヤング率の小さい材料を好適に用いることができる。保護膜５０の材質として、例えば、パラキシリレン系、ポリイミド系、ポリアミド系、又はエポキシ系の材料を用いてもよい。パラキシリレン系樹脂として、ｐｏｌｙ−ｍｏｎｏｃｈｌｏｒｏ−ｐａｒａｘｙｌｙｌｅｎｅ（パリレンＣ）、ｐｏｌｙ−ｐａｒａｘｙｌｙｌｅｎｅ（パリレンＮ）等を用いてもよい。これらの樹脂は、疎水性が高く、ガスをほとんど透過しないため、大気中の水分から圧電体層３０および第２電極４０をより確実に保護することができる。また、保護膜５０の材質として、有機−無機ハイブリッド材料を用いてもよい。有機−無機ハイブリッド材料としては、例えば、シリコーン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂などの材料を用いてもよい。保護膜５０の材質に有機−無機ハイブリッド材料を用いることで、柔軟性や成形性を有し、かつ、高い強度を有する保護膜５０を形成することができ、圧電素子１００の信頼性を高めることができる。
【００５９】
また、保護膜５０の材料に感光性を持たせてもよい。これによれば、保護膜５０の製造工程において、マスク露光によるパターニングが容易となり、プロセスを短縮し、低コスト化することができる。
【００６０】
また、図示はしないが、第２電極４０は、配線層と電気的に接続していてもよい。第２電極４０と電気的に接続された配線層は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）などのいずれかを含む金属層であってもよい。配線層は、第２電極４０のリード部であってもよい。配線層は、図示しない駆動電圧発生回路または接地回路に電気的に接続されていてもよい。
【００６１】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、例えば、以下の特徴を有する。
【００６２】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、第１電極２０を形成する工程において、第１電極２０の材料として、導電材料が分散した感光性材料を用いることにより、図１５に示す従来の圧電素子の製造方法に比べて、製造工程数を減らすことができる。すなわち、本実施形態係る圧電素子の製造方法によれば、導電膜の上にレジスト層を形成し、導電膜をエッチングすることにより電極を形成する工程を必要としない。
【００６３】
また、従来の製造方法で必要なレジスト材料や、エッチング用のエッチングガス、およびレジスト層を剥離するための剥離剤の材料が不要となり、コスト削減を行うことができる。
【００６４】
したがって、より低コストで、生産性の高いプロセスからなる圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００６５】
また、本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、ドライエッチングなどのエッチング工程を経ずに第１電極２０を形成することができるため、例えばドライエッチングによる第１電極２０の物理的ダメージを低減することができる。また、ウエットエッチングによって、電極を形成する製造方法と比較した場合は、エッチャントによる化学的ダメージを低減することができる。
【００６６】
したがって、信頼性の高い圧電素子を製造することができる圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００６７】
以上により、本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子を提供することができる、圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００６８】
１．２  第２実施形態
以下、図面を参照して、第２実施形態に係る圧電素子の製造方法について説明する。
【００６９】
図４および図５は、本実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図である。
【００７０】
図１（Ａ）に示すように、本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、第１電極２０を形成する工程（Ｓ１）と、第１電極２０の上に圧電体層３０を形成する工程（Ｓ２）と、圧電体層３０の上に第２電極４０を形成する工程（Ｓ３）と、を有する。
【００７１】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、図１（Ｂ）に示すように、第２電極４０を形成する工程（Ｓ３）が、少なくとも、第１の膜２１を形成する工程（Ｓ１１）と、露光処理する工程（Ｓ１２）と、現像処理する工程（Ｓ１３）と、を含む点で第１実施形態とは異なる。なお、第２実施形態に係る圧電素子の製造方法に関して、第１実施形態と同様の構成は、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００７２】
（第１電極形成工程Ｓ１）
まず、図４（Ａ）に示すように、基板１０の上（第１の面１１の上）に第１電極２０を形成する（Ｓ１）。第１電極２０は、導電性を有した層からなり、圧電素子１００の下部電極を構成する。また、複数の圧電素子１００が隣り合うように形成される場合、第１電極２０は、共通の下部電極であってもよい。第１電極２０の構成および材質は、導電性を有する限り特に限定されない。第１電極２０の形成方法は特に限定されず、例えばスパッタ法、真空蒸着、ＣＶＤ法、印刷法などの公知の成膜方法によって形成し、所望の形状にパターニングしてもよい。第１電極２０は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）などの高融点金属や、ＩｒＯ２、ＳｒＲｕＯ３、ＬａＮｉＯ３などの導電性金属酸化物、導電性高分子のいずれかを含む導電層であってもよい。第１電極２０は、単層の導電膜で形成されていてもよい。あるいは、第１電極２０は、複数の導電膜の積層体で形成されていてもよい。
【００７３】
また、第１電極２０は、第１実施形態で形成された第１の膜２１を形成することによって形成されてもよい（図１（Ｂ）、図２（Ａ）〜図２（Ｄ）参照）。これによれば、第１電極２０の製造工程において、マスク露光によるパターニングが容易となり、更にプロセスを短縮し、低コスト化することができる。
【００７４】
また、図示はしないが、第１電極２０は、図示されないリード部に電気的に接続されていてもよい。リード部は、図示しない駆動電圧発生回路または接地回路に電気的に接続されていてもよい。
【００７５】
（圧電体層形成工程Ｓ２）
図４（Ｂ）に示すように、第１電極２０の上に、圧電体層３０を形成する（Ｓ２）。第１実施形態と同様に、圧電体層３０は、上面３１と、上面３１に連続するテーパー面３２とを有していてもよい。圧電体層３０の材質、構成、および製造方法は、第１実施形態において説明した内容を適用することができる。しかしながら、本実施形態においては、テーパー面３２は、上面３１から第１電極２０の上面（第１電極２０の露出面）に至るように形成される。
【００７６】
（第２電極形成工程Ｓ３）
図５Ａに示すように、第１電極２０および圧電体層３０を覆うように第１の膜４１を形成する（Ｓ１１）。第１の膜４１は、少なくとも圧電素子３０の上面３１覆うことができる。また、図５Ａに示すように、第１電極２０の上面（露出面）から、圧電素子３０のテーパー面３２および上面３１を連続して覆っていてもよい。なお、第１の膜４１の材質、構成および製造方法は、第１実施形態の第１の膜２１について説明した内容を適用することができる。
【００７７】
次に、図５Ｂに示すように、第１の膜４１を形成した後、紫外線等のエネルギー線１１０と、所望の露光パターン形状を有するマスク１２０と、を用いて、第１の膜４１を露光処理する（Ｓ１２）。露光処理に関する説明は、第１実施形態において説明した内容を適用することができる。
【００７８】
次に、図５Ｃに示すように、現像液１３０を用いて、電極として不要な領域の第１の膜４１を除去し、所望のパターンを有する第２の膜４２を形成する（Ｓ１３）。現像処理に関する説明は、第１実施形態において説明した内容を適用することができる。
【００７９】
ここで、第２の膜４１は、第２の膜４１の一方向における幅Ｗ１が、圧電体層３０の同一方向における上面３１の幅Ｗ２よりも小さくなるように形成されてもよい。第２の膜４１の端部が、圧電体層３０の上面３１の端部よりも内側に位置するように形成されてもよい。つまりは、第２の膜４１の平面視における面積が、圧電体層の平面視における面積（上面３１の面積）よりも小さくなるように、露光処理を行ってもよい。これによれば、圧電素子の上部電極を構成する第２電極４０と、下部電極を構成する第１電極２０との間におけるリーク電流の発生を抑制することができる。
【００８０】
本実施形態に係る感光性材料が、（２）感光性を有する導電性高分子（有機導電体）の粒子が、分散剤に分散した組成物である場合、第２の膜４２を第２電極４０とすることができる（図示せず）。
【００８１】
次に、本実施形態に係る感光性材料が、（１）感光性樹脂材料に、導電材料が均一に分散した組成物である場合、第２の膜４２を熱処理して電極を形成する熱処理する工程（Ｓ１４）を更に含む。
【００８２】
図５Ｄに示すように、パターニングされた第２の膜４２を熱処理し、第２の膜４２に含まれる感光性樹脂材料からなる有機成分をアッシングすることによって除去し、第２電極４０を形成する（Ｓ１４）。熱処理に関する説明は、第１実施形態において説明した内容を適用することができる。
【００８３】
以上のいずれかの工程により、圧電素子１００を製造することができる。
【００８４】
また、図５Ｅに示すように、圧電素子１００は、第１電極２０、圧電体層３０および第２電極４０の上方に保護膜５０を形成してもよい。保護膜５０は、第１電極２０の上面（露出面）から、圧電体層３０のテーパー面３２および上面３１を介し、第２電極４０の上方に至るように形成されてもよい。保護膜５０に関する説明は、第１実施形態における説明を適用することができる。
【００８５】
また、図示はしないが、第２電極４０は、配線層と電気的に接続していてもよい。第２電極４０と電気的に接続された配線層は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）などのいずれかを含む金属層であってもよい。配線層は、第２電極４０のリード部であってもよい。配線層は、図示しない駆動電圧発生回路または接地回路に電気的に接続されていてもよい。
【００８６】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、例えば、以下の特徴を有する。
【００８７】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、第２電極４０を形成する工程において、第２電極４０の材料として、導電材料が分散した感光性材料を用いることにより、図１５に示す従来の圧電素子の製造方法に比べて、製造工程数を減らすことができる。すなわち、本実施形態係る圧電素子の製造方法によれば、導電膜の上にレジスト層を形成し、導電膜をエッチングすることによって電極を形成する工程を必要としない。
【００８８】
また、従来の製造方法で必要なレジスト材料や、エッチング用のエッチングガス、およびレジスト層を剥離するための剥離剤の材料が不要となり、コスト削減を行うことができる。
【００８９】
したがって、より低コストで、生産性の高いプロセスからなる圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００９０】
また、本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、ドライエッチングなどのエッチング工程を経ずに第２電極４０を形成することができるため、例えばドライエッチングによる圧電体層３０および第１電極２０への物理的ダメージを低減することができる。また、ウエットエッチングによって、電極を形成する製造方法と比較した場合は、エッチャントによる化学的ダメージを低減することができる。
【００９１】
したがって、信頼性の高い圧電素子を製造することができる圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００９２】
以上により、本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子を提供することができる、圧電素子の製造方法を提供することができる。
【００９３】
１．３  第３実施形態
以下、図面を参照して、第３実施形態に係る圧電素子の製造方法について説明する。
【００９４】
図６は、本実施形態に係る圧電素子の製造方法のフローチャートを示す図である。図７および図８は、本実施形態に係る圧電素子の製造方法の要部を模式的に示す断面図である。
【００９５】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、図６に示すように、圧電体層を形成する工程（Ｓ２）および第２電極を形成する工程（Ｓ３）における製造工程において、第２実施形態とは異なる。具体的には、圧電体層３０を形成する前に、第２電極４０が形成される。なお、第３実施形態に係る圧電素子の製造方法に関して、第２実施形態と同様の構成は、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００９６】
（第１電極形成工程Ｓ１）
まず、図７（Ａ）に示すように、基板１０の上（第１の面１１の上）に第１電極２０を形成する（Ｓ１）。第１電極２０に関する説明は、第２実施形態における説明を適用することができる。
【００９７】
（圧電体層形成工程Ｓ２−１）
図７（Ｂ）に示すように、第１電極２０の上に、圧電材料層３０ａを形成する（Ｓ２−１）。本実施形態に係る圧電材料層３０ａとは、第１および第２実施形態における圧電体層３０形成する工程において、圧電体層３０が、第１電極２０の上方に塗布され、所望の形状にパターニングされていない状態を意味する。圧電材料層３０ａの材質についての説明は、第１実施形態における圧電体層３０に関した説明を適用することができる。
【００９８】
（第２電極形成工程Ｓ３）
図８（Ａ）および図８（Ｂ）に示すように、圧電材料層３０ａの上方に第１の膜４１を形成し、所望の形状を有した第２電極４０を形成する（Ｓ１１〜Ｓ１３またはＳ１１〜Ｓ１４）。第２電極４０を形成する工程についての説明は、第２実施形態における説明を適用することができる（図５Ａ〜図５Ｄ参照）。
【００９９】
（圧電体層形成工程Ｓ２−２）
図８（Ｃ）に示すように、圧電材料層３０ａの上方に形成された第２電極４０をエッチングマスクとして用いて、圧電材料層３０ａをエッチングし、所望の形状を有する圧電材料３０を形成する。圧電体層３０は、Ａｇ等からなる第２電極４０に比べて、エッチングレートが大きいため、第２電極４０をマスクとして用いることができる。エッチング方法は、特に限定されないが、例えば、ＣＦ４とＡｒの混合ガスを用いてドライエッチングを行い、圧電体層３０を形成してもよい。
【０１００】
以上のいずれかの工程により、圧電素子１００を製造することができる。
【０１０１】
また、図示はしないが、圧電素子１００は、第１電極２０、圧電体層３０および第２電極４０の上方に保護膜５０を形成してもよい。保護膜５０に関する説明は、第２実施形態における説明を適用することができる。
【０１０２】
また、図示はしないが、第２電極４０は、配線層と電気的に接続していてもよい。第２電極４０と電気的に接続された配線層は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、金（Ａｕ）などのいずれかを含む金属層であってもよい。配線層は、第２電極４０のリード部であってもよい。配線層は、図示しない駆動電圧発生回路または接地回路に電気的に接続されていてもよい。
【０１０３】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法は、第２実施形態と同様の特徴を有し、以下の特徴をさらに有する。
【０１０４】
本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、圧電体層３０を形成する工程において、圧電体層を所望の形状にパターニングする際に必要となるレジスト形成工程およびエッチング後のレジスト剥離工程を行う必要がなく、より製造工程数を減らすことができる。圧電体層３０のパターニングに必要なレジスト材料および剥離剤等の材料が不要となるため、製造コストを更に低減することができる。
【０１０５】
以上により、本実施形態に係る圧電素子の製造方法によれば、より生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子を提供することができる、圧電素子の製造方法を提供することができる。
【０１０６】
２．  液滴噴射ヘッドの製造方法
以下、図面を参照して、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法について説明する。図９は、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法により製造された液滴噴射ヘッド３００を模式的に示す分解斜視図である。図１０〜図１３は、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法の要部を模式的に示す断面図である。
【０１０７】
図９に示すように、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法によって製造された液滴噴射ヘッド３００は、上述されたいずれかの圧電素子の製造方法によって製造された圧電素子１００を含むことを特徴とする。図９に示すように、液滴噴射ヘッド３００は、少なくとも１つの圧電素子１００と、圧電素子１００の下方に形成された基板１０と、基板１０の下方に形成された圧力室板６０と、圧力室板６０の下方に形成され、少なくとも１つのノズル孔７１を有するノズル板７０と、圧電素子１００を上方から封止する封止板８０と、を含む。
【０１０８】
本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法は、上記の第１〜第３実施形態に係る圧電素子の製造方法のいずれかを含むことができる。したがって、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法の一例として、第１実施形態に係る圧電素子の製造方法を含む場合を以下に説明する。しかしながら、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法は、以下の説明には限定されず、第２および第３実施形態に係る圧電素子の製造方法を含む場合も含まれる。
【０１０９】
また、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法は、圧力室板６０、ノズル板７０を形成するために用いられる材質が単結晶シリコン等を用いる場合と、ステンレス等を用いる場合とによって異なる。以下において、圧力室板６０、ノズル板７０の材質に単結晶シリコンを用いた場合の液滴噴射ヘッドの製造方法を一例として記載する。本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法は、特に以下の製造方法に限定されず、ニッケルやステンレス鋼、ステンレス等を材料として用いる場合は、公知の電鋳法等の工程を含んでいてもよい。また、各工程の先後は、以下に記載の製造方法に限定されるものではない。
【０１１０】
まず、図１０（Ａ）に示すように、準備された単結晶シリコンからなる基板６０ａの上に、基板１０を形成する。基板１０は、液滴噴射ヘッド３００の振動板であってもよい。基板１０は、プレート状の部材であって、圧電素子１００が上方に形成される第１の面１１と、第１の面１１と反対の面である第２の面１２とを有する。基板１０の構造及び材料は、弾性を有する限り特に限定されない。例えば、基板１０は、図１に示すように、複数の膜の積層体で形成されていてもよい。このとき、基板１０は、例えば、酸化ジルコニウムや酸化シリコンなどの絶縁膜、ニッケルなどの金属膜、ポリイミドなどの高分子材料膜、からなる複数の膜の積層体であってもよい。基板１０の形成方法は、特に限定されず、公知の成膜技術によって形成される。図１０（Ａ）に示すように、例えば、基板１０は、弾性板を構成する弾性層１０ａをスパッタ法等によって形成した後、絶縁層１０ｂを弾性層１０ａの上にスパッタ法等によって形成してもよい。例えば、弾性層１０ａには酸化ジルコニウムを用い、絶縁層１０ｂには酸化シリコンを用いてもよい。
【０１１１】
ここで、基板１０において、基板６０ａの後述される圧力室６１が形成される領域６１ａとオーバーラップする領域を可動領域１５とする。基板１０は、弾性を有するため、機械的応力を加えられることによって変形することができる。言い換えれば、後述される圧電素子１００が変位することによって変位し、後述される圧力室６１の体積を変化させることができる。
【０１１２】
また、ここで、図１０（Ａ）に示すように、基板６０ａに形成される圧力室６１の長手方向を第１の方向２００とする。また、第１の方向に直交する方向を、第２の方向２１０とする（図示せず）。
【０１１３】
次に、図１０（Ｂ）に示すように、基板１０の第１の面１１上において、少なくとも可動領域１５内の一部の領域に第１電極２０を形成する。第１電極２０の形成方法に係る説明は、第１実施形態における説明を適用することができる（図２参照）。図１０（Ｂ）に示すように、第１電極２０は、第１の方向２００における両端部を可動領域１５内に有するように形成されてもよい。また、図示はされないが、第１電極２０は、第１の方向２００に直交する第２の方向２１０において、基板１０の第１の面１１において、隣り合うように形成された複数の可動領域１５を連続して覆うように形成されてもよい。
【０１１４】
次に、図１１（Ａ）に示すように、第１電極２０を覆うように圧電体層３０を形成する。圧電体層３０の形成方法に係る説明は、第１実施形態における説明を適用することができる（図３（Ａ）参照）。このとき、図１１（Ｂ）に示すように、圧電体層３０は、第２の方向２１０における両端部を、可動領域１５内に有するように形成される。
【０１１５】
次に、図１２に示すように、圧電体層３０の上方に第２電極４０を形成する。これによれば、第１電極２０と第２電極４０とで圧電体層３０が挟持される駆動領域を形成することができる。第２電極４０の形成方法に係る説明は、第１実施形態における説明を適用することができる。上述のように、第２電極４０は、共通の上部電極であってもよい。つまりは、図１２に示すように、隣り合う複数の圧電体層３０を連続して覆うように、第２電極４０を形成してもよい。
【０１１６】
以上のいずれかの方法によって、圧電素子１００を形成することができる。
【０１１７】
また、図示はしないが、圧電素子１００の上方に保護膜５０を形成してもよい。保護膜５０にかかる説明は、第１実施形態における説明を適用することができる。
【０１１８】
次に、図１３（Ａ）に示すように、封止領域８１が形成された封止板８０を圧電素子１００の上方より搭載する。ここで、圧電素子１００は、封止領域８１内に封止されることができる。封止板８０は、例えば、接着剤によって圧電素子１００を封止してもよい。次に、図１３（Ｂ）に示すように、基板６０ａを所定の厚みに薄くし、圧力室６１などを区画する。例えば、所定の厚みを有した基板６０ａに対し、所望の形状にパターニングされるようにマスク（図示せず）を基板１０が形成された面と反対の面に形成し、エッチング処理することによって、圧力室６１、壁部６２、供給路６３、連通路６４およびリザーバ６５を区画する（図９参照）。圧力室６１の形状は、特に限定されない。圧力室６１の形状は、例えば、平面視において平行四辺形であってもよく、矩形であってもよい。圧力室６１の数は特に限定されず、１つであってもよいし、複数設けられていてもよい。以上によって、基板１０の下方に圧力室６１を有した圧力室板６０を形成することができる。圧力室板６１を形成した後、図１３（Ｃ）に示すように、ノズル孔７１を有したノズル板７０を、例えば接着剤等により所定の位置に接合する。これによって、ノズル孔７１は、圧力室６１と連通する。ノズル孔７１の形状は、液体を吐出することができる限り、特に限定されない。ノズル孔７１を介することで、圧力室６１内に供給された液体を、例えば、ノズル板７０の下方（圧力室６１とは反対の方向）に向けて吐出することができる。また、ノズル孔７１の数は特に限定されず、１つであってもよいし、複数設けられていてもよい。
【０１１９】
以上のいずれかの方法により、液滴噴射ヘッド３００を製造することができる。なお、前述の通り、液滴噴射ヘッド３００の製造方法は、上述の製造方法に限定されずに、圧力室板６０およびノズル板７０を、電鋳法等を用いて一体形成してもよい。
【０１２０】
本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法は、例えば、以下の特徴を有する。
【０１２１】
本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法によれば、第１電極２０および第２電極４０の少なくとも一方を、感光性導電材料を用いて形成することができるため、従来の圧電素子の製造方法に比べて、製造工程数を減らすことができ、製造コストを低減することができる。
【０１２２】
また、エッチングや剥離剤に晒す回数が減るため、圧電素子１００等に対するダメージを低減することができるため、信頼性の高い圧電素子を有する液滴噴射ヘッド３００を製造することができる。
【０１２３】
以上により、本実施形態に係る液滴噴射ヘッドの製造方法によれば、生産性の高いプロセスで、信頼性の高い圧電素子１００を有する液滴噴射ヘッド３００を提供することができる。
【０１２４】
３．  液滴噴射装置
次に、本実施形態に係る液滴噴射装置について説明する。本実施形態に係る液滴噴射装置は、本発明に係る液滴噴射ヘッドを有する。ここでは、本実施形態に係る液滴噴射装置１０００がインクジェットプリンターである場合について説明する。図１４は、本実施形態に係る液滴噴射装置１０００を模式的に示す斜視図である。
【０１２５】
液滴噴射装置１０００は、ヘッドユニット１０３０と、駆動部１０１０と、制御部１０６０と、を含む。また、液滴噴射装置１０００は、装置本体１０２０と、給紙部１０５０と、記録用紙Ｐを設置するトレイ１０２１と、記録用紙Ｐを排出する排出口１０２２と、装置本体１０２０の上面に配置された操作パネル１０７０と、を含むことができる。
【０１２６】
ヘッドユニット１０３０は、例えば、上述した液滴噴射ヘッド３００から構成されるインクジェット式記録ヘッド（以下単に「ヘッド」ともいう）を有する。ヘッドユニット１０３０は、さらに、ヘッドにインクを供給するインクカートリッジ１０３１と、ヘッドおよびインクカートリッジ１０３１を搭載した運搬部（キャリッジ）１０３２と、を備える。
【０１２７】
駆動部１０１０は、ヘッドユニット１０３０を往復動させることができる。駆動部１０１０は、ヘッドユニット１０３０の駆動源となるキャリッジモータ１０６０と、キャリッジモータ１０６０の回転を受けて、ヘッドユニット１０３０を往復動させる往復動機構１０４２と、を有する。
【０１２８】
往復動機構１０４２は、その両端がフレーム（図示せず）に支持されたキャリッジガイド軸１０４４と、キャリッジガイド軸１０４４と平行に延在するタイミングベルト１０４３と、を備える。キャリッジガイド軸１０４４は、キャリッジ１０３２が自在に往復動できるようにしながら、キャリッジ１０３２を支持している。さらに、キャリッジ１０３２は、タイミングベルト１０４３の一部に固定されている。キャリッジモータ１０６０の作動により、タイミングベルト１０４３を走行させると、キャリッジガイド軸１０４４に導かれて、ヘッドユニット１０３０が往復動する。この往復動の際に、ヘッドから適宜インクが吐出され、記録用紙Ｐへの印刷が行われる。
【０１２９】
制御部１０６０は、ヘッドユニット１０３０、駆動部１０１０および給紙部１０５０を制御することができる。
【０１３０】
給紙部１０５０は、記録用紙Ｐをトレイ１０２１からヘッドユニット１０３０側へ送り込むことができる。給紙部１０５０は、その駆動源となる給紙モータ１０５１と、給紙モータ１０５１の作動により回転する給紙ローラ１０５２と、を備える。給紙ローラ１０５２は、記録用紙Ｐの送り経路を挟んで上下に対向する従動ローラ１０５２ａおよび駆動ローラ１０５２ｂを備える。駆動ローラ１０５２ｂは、給紙モータ１０５１に連結されている。制御部１０６０によって供紙部１０５０が駆動されると、記録用紙Ｐは、ヘッドユニット１０３０の下方を通過するように送られる。
【０１３１】
ヘッドユニット１０３０、駆動部１０１０、制御部１０６０および給紙部１０５０は、装置本体１０２０の内部に設けられている。
【０１３２】
液滴噴射装置１０００では、本発明に係る液滴噴射ヘッド３００を有することができる。本発明に係る液滴噴射ヘッド３００は、上述のように、用いられる圧電素子が製造工程において受けるダメージが低減されているため、信頼性が高い。そのため、高い信頼性を有する液滴噴射装置１０００を得ることができる。
【０１３３】
なお、上述した例では、液滴噴射装置１０００が、画像記録装置等のインクジェットプリンターである場合について説明したが、本発明の液滴噴射装置１０００は、ディスプレー製造装置等の工業的な液体吐出装置として用いられることもできる。この場合に吐出される液体（液状材料）としては、各種の機能性材料を溶媒や分散剤によって適当な粘度に調整したもの、または、メタルフレーク等を含むものなどを用いることができる。
【０１３４】
上記のように、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは、当業者には容易に理解できよう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。
【符号の説明】
【０１３５】
１０  基板、１１  第１の面、１２  第２の面、１５  可動領域、
２０  第１電極、２１  第１の膜、２２  第２の膜、
３０  圧電体層、３０ａ  圧電材料層、３１  上面、３２  テーパー面、
４０  第２電極、４１  第１の膜、４２  第２の膜、
５０  保護膜、６０  圧力室板、６０ａ  基板、６１  圧力室、６２  壁部、
６３  供給路、６４  連通路、６５  リザーバ、７０  ノズル板、７１  ノズル孔、
８０  封止板、８１  封止領域、１００  圧電素子、
１１０  エネルギー線、１２０  マスク、１３０  現像液
２００  第１の方向、２１０第２の方向、
３００  液滴噴射ヘッド、１０００  液滴噴射装置、
１０１０  駆動部、１０２０  装置本体、１０２１  トレイ、１０２２  排出口、
１０３０  ヘッドユニット、１０３１  インクカートリッジ、１０３２  キャリッジ、
１０６０  キャリッジモータ、１０４２  往復動機構、１０４３  タイミングベルト、１０４４  キャリッジガイド軸、１０５０  給紙部、１０５１  給紙モータ、
１０５２  給紙ローラ、１０６０  制御部、１０７０  操作パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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