(57)【要約】【課題】メンテナンス時間を短縮して処理の効率や装置の稼働効率を向上させたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】内部に配置され減圧された処理室内において基板状の試料が配置される真空容器と、この真空容器が連結され減圧された内部を前記試料が搬送される搬送容器と、この搬送容器と前記真空容器とが連結された状態で前記搬送室と前記処理室とを連通してその内部を処理前または処理後の前記試料が搬送される通路と、前記通路の内側壁面を覆って取り付けられ取り外し可能なカバー部材とを備え、前記処理室内において前記試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理する真空処理装置。【選択図】図４
2011035415.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に配置され減圧された処理室内において基板状の試料が配置される真空容器と、この真空容器が連結され減圧された内部を前記試料が搬送される搬送容器と、この搬送容器と前記真空容器とが連結された状態で前記搬送室と前記処理室とを連通してその内部を処理前または処理後の前記試料が搬送される通路と、前記通路の内側壁面を覆って取り外し可能に取り付けられ、かつ取り付けられた状態で前記通路の内側の向かい合う長手方向の内側壁面に沿ってこれを覆う板バネ部材の対を備えたカバー部材とを備え、前記処理室内において前記試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理する真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空処理装置であって、 
前記カバー部材の表面に前記処理に伴って生成された生成物が付着する真空処理装置。 
【請求項３】
請求項１または２に記載の真空処理装置であって、 
前記カバー部材はそれぞれの前記板バネ部材の両端側において前記通路の角部の内側壁面と当接する部分がこの通路の高さ方向または幅方向に変位可能に構成された真空処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の真空処理装置であって、 
前記板バネ部材は前記カバー部材から取り外し可能にされた真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空容器内側の処理室内においてプラズマを用いて試料を処理する真空処理装置であって、真空にされた内部を試料が搬送される搬送室と処理室とを連通して試料が内側を通る通路を備えた真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記のような装置、特に、試料を処理するための処理室を内部に有した容器を少なくとも１つ備え、減圧された処理室において処理対象となる半導体ウエハ，基板等の試料をプラズマにより処理する処理装置においては、処理の微細化，精密化とともに、処理対象である基板の処理の効率の向上が求められてきた。このために、近年では、一つの装置に複数の処理室が接続されて備えられた、いわゆるマルチチャンバタイプの装置が開発され、試料に対して一つの装置で複数行程の処理を施したり、複数の試料を並行して処理したりすることにより、処理の効率を向上させることが行われてきた。 
【０００３】
このような複数の処理室あるいは処理容器を備えて処理を行う装置では、それぞれの処理室あるいはチャンバが、内部のガスやその圧力が減圧可能に調節され基板を搬送するためのロボットアーム等が備えられた搬送室（搬送チャンバ）に接続されている。
【０００４】
このような構成により、処理前または処理後の基板は１つの処理室から他の処理室へ減圧されたり不活性ガスが導入された搬送室内を搬送され、外気と接触することなく処理が連続的に施される。このため基板の汚染が抑制され処理の歩留まりや効率が向上するまた、処理室や搬送室の内側を昇圧あるいは減圧する時間を省いたり削減したりすることができ、処理の工程が短縮され基板の処理全体に係る手間や時間を抑えて処理の効率が向上する。 
【０００５】
また、このような装置では各処理容器が装置本体、あるいは搬送室から着脱が可能に備えられており、装置本体を交換しなくとも処理容器やその組合せを換えることで新しい処理のプロセスに対応することができ、ひいては基板処理を行って製品を製造するコストを低く抑えることができる。 
【０００６】
このような装置の各処理容器内の処理室と搬送室との間には、試料を両者の間で搬送するため、これらを連通する通路が配置されている。通常、このような通路は処理容器や搬送室を内部に有する搬送容器の側壁に配置され、隣接して配置された側壁を貫通する通路の内側を通り、搬送手段であるロボットアームに保持された試料が搬送室と処理室との間でやりとりされる。
【０００７】
このような処理容器が着脱可能に備えられたプラズマ処理装置の従来の技術としては、特許文献１に開示されたものが知られている。この従来技術では、半導体ウエハを処理するチャンバがクラスターツールと連結されるものであり、チャンバ内に配置された基板処理位置に対してチャンバ本体内のスリット通路内を基板がロボットにより搬送，搬出される。このスリット通路は、少なくとも１つの弁ドアにより開閉される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特表２００２−５２０８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記従来技術は、次の点についての考慮が不十分であったため、問題が生じていた。
【００１０】
すなわち、試料である基板は処理室内に供給される処理用のガスを電界または磁界の印加により形成されたプラズマを用いて処理されるが、処理が終了した後も試料の周囲には励起された処理用のガスや生成物、あるいは処理用のガスが存在しており、試料が搬出される際には試料と共にこれらのガスや生成物が試料に伴って移動する。
【００１１】
これらガスや生成物のなかには、搬送の途中に周囲の装置の壁面に付着するものがあり、特に、装置の大きさの制限から、試料と搬送手段であるロボットアームの大きさに近づけて形成されることが多い処理室−搬送室間の通路の内壁にはこれらのガスや生成物が付着しやすくなる。   
【００１２】
このため、この通路の壁面では反応性の高いガスとの反応や生成物の付着等の相互作用が生じて、壁面の汚染や変質が進行することになり、進行の度合に応じてこれをクリーニングすることが必要となる。   
【００１３】
このような通路は上記の通り大きさの制約があることから、クリーニングやメンテナンスに手間が掛かり、メンテナンス時間が多くなっていた。ひいては、装置の稼働時間が少なくなって稼働効率，処理の効率を損なうことに繋がっていた点について、上記従来技術は考慮されていなかった。   
【００１４】
さらには、この作業を行う作業者に長時間，不自然な姿勢で作業を行わせていた。また、生成物の除去は、通常、ウエットと呼ばれる拭き取り作業が一般的であるが、拭き取り後に生成物の拭き残しが生じやすく、また作業中に通路の内壁面を傷付けたりして、メンテナンスの精度を損なうことにつながっていたことについては考慮されていなかった。   
【００１５】
本発明の目的は、メンテナンス時間を短縮して処理の効率や装置の稼働効率を向上させたプラズマ処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的は、内部に配置され減圧された処理室内において基板状の試料が配置される真空容器と、この真空容器が連結され減圧された内部を前記試料が搬送される搬送容器と、この搬送容器と前記真空容器とが連結された状態で前記搬送室と前記処理室とを連通してその内部を処理前または処理後の前記試料が搬送される通路と、前記通路の内側壁面を覆って取り外し可能に取り付けられ、かつ取り付けられた状態で前記通路の内側の向かい合う長手方向の内側壁面に沿ってこれを覆う板バネ部材の対を備えたカバー部材とを備え、前記処理室内において前記試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理する真空処理装置により達成される。上記のカバー部材には、前記処理に伴って生成された生成物が付着する。
【００１７】
さらに、前記カバー部材はそれぞれの前記板バネ部材の両端側において前記通路の角部の内側壁面と当接する部分がこの通路の高さ方向または幅方向に変位可能に構成されたことにより達成される。
【００１８】
さらにまた、前記板バネ部材は前記カバー部材から取り外し可能にされたことにより達成される。 
【００１９】
さらに、前記カバー部材は、それぞれの前記板バネ部材の両端側においてこれら板バネ部材と連結された接続部材を有し、この接続部材は、その上下方向の幅が前記搬送室または前記処理室の方向に小さくなるくさび形状のガイドとこのガイドを挟んで上下に配置された２つのピースとを有し、これらピースが前記ガイドの前記搬送室または前記処理室方向の移動に伴って上下方向に離間する構成により達成される。   
【００２０】
さらにまた、前記接続部材は、それぞれの前記板バネ部材と所定のガタを有して連結されて前記板バネ部材に対し前記通路の幅方向に変位可能に構成されたことにより達成される。   
【００２１】
さらに、前記接続部材は、前記板バネ部材，前記ガイド及び前記ピースを含む複数の部品に分解、あるいはこれら部品から組立て可能に構成されたことにより達成される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施例に係る真空処理装置の構成の概略を示す上面図である。
【図２】本発明の実施例に係る真空処理装置の構成の概略を示す側面図である。
【図３】図１に示す真空処理装置の搬送容器と真空容器との連結部分を拡大して示す上面図である。
【図４】図３に示した接続トンネルとインナーカバー近傍の構成を拡大して示す３面図である。
【図５】図４に示す接続トンネルに装着されるインナーカバーの構成を示す３面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施例について、以下、図面を用いて詳細に説明する。 
【００２４】
図１，図２は本発明の実施例に係る真空処理装置の構成の概略を示す図である。図１は、上方から見た平面図であり、図２は、側方から見た側面図である。 
【００２５】
これらの図において、本実施例の真空処理装置１００は大きく前後２つのブロックに分けられる。装置本体である真空処理装置１００の図上下方に位置する前方側は装置に供給されたウエハが大気圧下で減圧されるチャンバへ搬送されて処理室へ供給される大気側ブロック１０１である。真空処理装置１００の図上上方に位置する後方側は、処理ブロック１０２である。 
【００２６】
大気側ブロック１０１は、内部に搬送ロボット（図示せず）を備えた箱体形状を備えた筐体１０６を有し、この筐体１０６の前面側に処理用またはクリーニング用のウエハが収納されている複数のウエハカセット１０７及びダミーウエハ用のダミーカセット１０８が並べられて着脱自在に取り付けられて配置されている。さらに、筐体１０６内部に配置された搬送ロボットはこれらのカセット１０７，１０８とロック室１０９，１０９′との間でウエハを搬入あるいは搬出する作業を行う。また、大気側ブロック１０１はその筐体１０６の側面上に配置された位置合せ部１１０を備えて、この位置合せ部１１０内において搬送されるウエハをカセット１０７，１０８或いはロック室１０９または１０９′内のウエハ配置の姿勢に合わせてその位置合わせを行う。 
【００２７】
処理ブロック１０２には、内部が減圧される真空容器の内部にウエハが処理される空間である処理室が配置された処理ユニット１０３，１０３′とこれらの処理室にウエハを減圧下で搬送しその上方から見た平面形状が略多角形（本実施例では略５角形）に構成される搬送ユニット１０５及びこの搬送ユニット１０５と大気側ブロック１０１とを接続する複数のロック室１０９，１０９′とを備えており、これらは減圧されて高い真空度の圧力に維持可能なユニットであり、処理ブロックは真空ブロックである。 
【００２８】
また、本実施例における処理ブロック１０２の処理ユニット１０３，１０３′は、搬送ユニット１０５の上記略五角形の隣接した２つの辺に並列するように配置されている。本実施例では、これらの処理ユニット１０３，１０３′はカセット１０７から処理ブロック１０２に搬送されるウエハにエッチング処理を行う処理室を備えたエッチング処理ユニットであり、搬送ユニット１０５はこれらの処理ユニットが着脱可能に取り付けられ内部の室が高い真空度に減圧されて維持されてウエハが搬送される空間である真空搬送容器111を備えている。
【００２９】
また、複数のロック室１０９，１０９′は、図示しない真空は行き装置が接続されて、それぞれがその内部に処理対象の半導体ウエハが載置された状態で、この内部が高度な真空の状態と大気圧との状態とで圧力を維持可能に構成された空間を有して、図上その前後端部に配置された図示しないゲートバルブにより、大気側ブロック１０１あるいは筐体１０６および真空搬送容器１１１の内部の間が連通可能に開閉される。本実施例では、これらのロック室１０９，１０９′はそれぞれ同等の機能を有しており、いずれか一方が真空から大気圧および大気圧から真空への圧力辺かのいずれかのみを実施するものではないが、求められる仕様により一方を何れかに限定して試用しても良い。 
【００３０】
さらに、この処理ブロック１０２では、上記処理ユニット１０３，１０３′の各々が内部を減圧可能でエッチングを行う処理室を有する真空容器１１３，１１３′（図示せず）を有している。これら真空容器１１３，１１３′のそれぞれには、減圧を実施するための真空排気装置１１４，１１４′（図示せず）がそれらの下方に配置されている。さらに、上記真空容器１１３，１１３′およびこれに連結された１１４，１１４′をその上方で支持する支持台であるガダイ１１５，１１５′とこのガダイ１１５，１１５上に配置されて、各ガダイと真空容器１１３，１１３′との間を連結して真空容器１１３，１１３′を支持する複数の支持柱により、各処理ユニット１０３，１０３′を真空処理装置１００が設置される床面上に固定し保持している。
【００３１】
さらに、上記真空容器１１３，１１３′とガダイ１１５，１１５′との間には空間があり、これらの空間は、各々のユニットあるいは処理室内での処理に必要な排気部やこれらに電力供給する電源等のユーティリティを収納する箱状のフレーム１１２，１１２′が配置されるとともに、上記真空排気装置１１４，１１４′が配置されている。すなわち、メンテナンスが必要な空間となっている。   
【００３２】
さらに、これら真空容器１１３，１１３′の上方には、その内部に配置された処理室にプラズマを形成するための磁場を与える電磁コイルを収納しているコイルケース１２０，１２０′が配置されている。また、フレーム１１２と真空容器１１３との間には、各真空容器１１３，１１３′に取り付けられてコイルケース１２０，１２０′を上下に移動させるリフター・クレーン等の起重装置１２１，１２１′が備えられている。これらの起重装置１２１，１２１′により、真空容器１１３，１１３′内部を開放して保守・点検作業を使用者は容易に行うことができる。   
【００３３】
本実施例では、起重装置１２１，１２１′はそれぞれが、平面形状が略多角形状の真空搬送容器１１１の多角形のそれぞれの辺の側面に取り付けられた処理ユニット１０３，１０３′に備えられており、それぞれの真空容器１１３，１１３′の側面に取り付けられている。その側面は、それぞれが隣接する真空容器の側と反対となる真空容器の側方の面に取り付けられている。また、起重装置１２１，１２１′の下方の空間であって、ガダイ１１５，１１５′との間の空間にフレーム１１２，１１２′が配置されており、限られた処理ユニット１０３，１０３′の周囲の空間を有効利用している。   
【００３４】
図３を用いて本発明の真空処理装置に係るインナーカバーを備えたゲート部の構成を説明する。図３は、図１に示す真空処理装置の搬送容器と真空容器との連結部分を拡大して示す上面図である。この図において、処理ユニットの真空容器の上部に配置された電界，磁界を形成するための構造や搬送室内に配置された試料搬送用のロボットアームのについては図示されていない。また、図１で引用した各部については一部説明を省力する。   
【００３５】
本図に示すように、本実施例の真空処理装置１００の処理ブロック１０２の後方側で真空搬送容器１１１の側面に真空容器１１３，１１３′を備えた、処理ユニット１０３，１０３′が接続される。この際、真空容器１１３，１１３′の側壁と真空搬送容器１１１の側壁に配置された接続フランジ３０１，３０１′とが接続して各々の内部の通路同士が連続して接続トンネル３０２，３０２′が形成される。この図においては、真空容器113，１１３′の上部に配置されてその内部に処理用のガスが供給されプラズマが形成される処理室を有する放電容器３０４，３０４′が示されている。   
【００３６】
真空搬送容器１１１と真空容器１１３，１１３′とが連結された状態で、各々の内部に配置された搬送室，処理室との間を連通する接続トンネル３０２，３０２′が配置されている。この接続トンネル３０２，３０２′は、処理室および搬送室の間で試料がやりとりされる際に内部を通過する通路であって、これらの室の内部に連なるゲートある。この接続トンネル３０２，３０２′の内側には、後述のようにインナーカバーが配置され、接続トンネル３０２，３０２′の内側壁面に対して密着するように着脱可能に装着される。   
【００３７】
接続トンネル３０２，３０２′の搬送室側の端部の開口は、真空搬送容器１１１に取り付けられたゲートバルブ３０３，３０３′により開閉される。このゲートバルブ３０３，３０３′は搬送室内と接続トンネル３０２，３０２′あるいは処理室内との間をその弁体が上下方向及び水平方向に移動してゲートの開口を覆うことにより閉塞するものであり、接続トンネル３０２，３０２′の搬送室側の開口の周囲の搬送室の側壁面と当接して接続トンネル３０２，３０２′を封止するリング状のシール部材がその弁体の搬送室の側壁面との当接面の外周側部分に配置されている。ゲートバルブ３０３が接続トンネル３０２を開放する際には、閉塞時とは逆に水平方向，上下方向に移動してゲートの開口の覆いを無くす。   
【００３８】
図４は、図３に示した接続トンネルとインナーカバー近傍の構成を拡大して示す図である。図４（ａ）は接続トンネル近傍部分を示す上面図、図４（ｂ）は接続トンネルの近傍を搬送室内側から見た正面図、図４（ｃ）は図４（ａ）のＡ−Ａ断面を示す縦断面図である。   
【００３９】
これらの図において、インナーカバー４０１を含む接続トンネル３０２近傍の構成について説明する。図４（ａ）に斜線部で示すインナーカバー４０１は、真空搬送容器１１１と真空容器１１３とが連結され接続された状態で、接続トンネル３０２の内側においてその内側の壁面にほぼ隙間無く密着するように取り付けられ、かつこの接続トンネル３０２から着脱可能に構成されているものである。この装着の際、インナーカバー４０１は、まず接続トンネル３０２の内側に挿入されてその内壁面の全体について略隙間が無いような状態に位置決めされ、その後、インナーカバー４０１の外側表面の各部分について接続トンネルの壁面との間で精密に密着して隙間を無くす様に調節される。   
【００４０】
図４（ｂ），（ｃ）に示すように、本実施例において、接続トンネル３０２は接続フランジ３０１と真空容器１１３の側壁とが接続された状態でその両者のそれぞれの部材により構成されて。前者が真空搬送容器１１１内の搬送室４０３と後者が真空容器１１３内の処理室４０２と連通することで両室が接続されている。これらの図に示されるように、接続フランジ３０１は真空搬送容器１１１側壁に設けられた開口の内側に挿入されており、その搬送室４０３側の上下方向に平坦な端面は搬送室４０３の内側壁面の一部をなしている。   
【００４１】
この端面は、ゲートバルブ３０３の弁体の外周側部分と当接してこれらの間で接続トンネル３０２の内外が密封されて封止されることでシール面４０５となる。さらに、ゲートバルブ３０３の弁体の当接する面の外周側には、接続フランジ３０１の搬送室４０３側の端面と当接する部分に接続トンネル３０２の開口の外周側を囲むようにリング状のシール部材４０４が配置されており、ゲートバルブ３０３の接続トンネル３０２側へ水平方向に移動して押し付ける動作により上記した封止を行う。   
【００４２】
ゲートバルブ３０３の弁体は、接続トンネル３０２の開口を覆うためこの断面より大きな形状を有している。また、シール部材４０４が当接してシール面４０５を構成する接続フランジ３０１の搬送室４０３側の端面は、その構成上インナーカバー４０１の外周側になっている。つまり、本実施例では、シール部材４０４はインナーカバー４０１の搬送室４０３側の端面とは接しないように構成されている。   
【００４３】
このような構成において、本実施例では、接続フランジ３０１が真空搬送容器１１１の側壁部分の開口に嵌入されて真空搬送容器１１１に対して位置決めされる。さらに、この状態で接続フランジ３０１の下部に配置された断面Ｌ字状のフランジ部４０８の上に真空容器１１３が載せられて接続フランジ３０１または真空搬送容器１１１に対して位置決めされる。   
【００４４】
次に、図５を用いて図４に示すインナーカバーの構成について詳細に説明する。図５は、図４に示す接続トンネルに装着されるインナーカバーの構成を示す３面図である。図５（ａ）は、図４に示すインナーカバーの上面図、図５（ｂ）は、インナーカバーを搬送室側から見た正面図、図５（ｃ）は、インナーカバーをＣ方向から見た側面図である。   
【００４５】
本実施例において、接続トンネル３０２の内側壁面を密着するように覆うインナーカバー４０１は、その装着前には、接続トンネル３０２の幅方向に平坦な内側壁面（図４(ｂ)の上下方向で向かい合う内壁面）４０６，４０６′と当接する場合に、これらの内壁面の平面にフィットして密着しやすいよう、その接続トンネル３０２の上下に向かい合う内壁に装着される部分は、図５（ａ），（ｂ）の左右端部から上下方向に凸に弓なり形状にされた板部材５０１，５０１′を有しており、これらの板部材５０１，５０１′は板バネとして作用する。   
【００４６】
さらに、インナーカバー４０１は、これら接続トンネル３０２の上下方向に向かい合う内側壁面４０６，４０６′に沿って密着してこれを覆う板部材５０１（または５０１′）の両側端部であって、接続トンネル３０２の幅方向の両側端部の内側壁面（図４（ｂ）の左右方向で向かい合う内側壁面４０７，４０７′に沿って密着してこれを覆う部材を備えており、この部材は接続ブロック５０２，５０２′として上下に配置される２つの板部材５０１，５０１′の両側端部と連結されて接続されている。この２つの板部材５０１，５０１′を接続する接続ブロック５０２，５０２′は、図５(ｂ)，(ｃ)に示すようにくさび形状のガイド５０３，５０３′及びこれを上下に挟んで配置されるピースＡの５０４，５０４′及びピースＢの５０５，５０５′とを備えている。   
【００４７】
このガイド５０３，５０３′とピースＡ５０４，５０４′，ピースＢ５０５，５０５′とは、インナーカバー４０１の接続トンネル３０２への装着時に接続トンネル３０２の軸方向、つまり、搬送室４０３及び処理室４０２に向かう方向についてテーパーを有したくさび形状を有したガイド５０３，５０３′の傾斜部分において、両者が嵌合するように構成されている。   
【００４８】
この嵌合面は図５（ｃ）に示すテーパー形状で構成され、この図において示すように、ガイド５０３は、この上下に配置されるピースＡ５０４，ピースＢ５０５にスプリングピン５０６によって係合して連結されガイド５０３内を貫通しているピン５０７にねじ締結されたガイド用ボルト５０８を締めまたは緩めることで、ガイド用ボルト５０８の軸の方向（上記接続トンネルの軸の方向）についてガイドが上下のピースＡ５０４，ピースＢ５０５に対して相対的に移動する。   
【００４９】
例えば、ガイド用ボルト５０８を緩めることでガイド５０３は搬送室４０３側に相対的に移動し、これに伴って上下のピースＡ５０４，ピースＢ５０５はそれぞれ上，下に移動して、これらと接続トンネル３０２との間の隙間を大きくする方向に移動する。逆に、ガイド用ボルト５０８を締めつけることで、ガイド５０３を処理室４０２方向に相対的に移動させ、接続トンネル３０２内の上下（高さ）方向にピースＡ５０４，ピースＢ５０５、つまり接続ブロック５０２を押し付けながら、接続トンネル３０２内でインナーカバー４０１を固定可能となっている。   
【００５０】
このように、ガイド５０３とピースＡ５０４，ピースＢ５０５との嵌合面であるテーパー形状を構成する傾斜があるため、これらの相対移動によって接続ブロック５０２全体の高さが変動することを利用し、ガイド用ボルト５０８を緩めることで接続ブロック５０２全体の高さが減少し、接続トンネルとインナーカバーとの隙間を大きくしてこれを取外し容易にし、一方、ガイド用ボルト５０８を締めることで接続ブロック５０２の高さを大きくして接続トンネル３０２の内壁面にこれを押し付けて固定可能となるよう構成される。   
【００５１】
インナーカバー４０１は、板部材５０１，５０１′は弓なりの形状を内側に押し込んで凹まされて接続トンネル３０２内に挿入されたのち、押し込みを開放することで、板バネの付勢力が板部材５０１，５０１′を接続トンネル３０２内側壁面に押し付けて、これらを密着させてこれらの間の隙間を無くすように作用する。これにより、処理室４０２内のプラズマを用いた試料の処理により生成された生成物等が隙間に入り処理やメンテナンスに悪影響を及ぼすことが抑制される。   
【００５２】
また、接続ブロック５０２，５０２′の接続トンネル３０２の内壁面への押し付けにより、板部材５０１，５０１′の接続ブロック５０２，５０２′との連結部の近傍部分である両端部はそれぞれ上または下方向に変位して接続トンネル３０２の内壁面と密着するように当接する。この接続ブロック５０２は、インナーカバー４０１の両側端部に配置されるが、上記の高さの変移の調節により接続トンネル３０２の角部（隅部）において、内側壁面と密着するように当接して、生成物等が隙間に入り処理やメンテナンスに悪影響を及ぼすことが抑制される。さらに、この密着性を高めるため、接続トンネルの角部は断面が所定の半径の曲線となるような曲面で構成され、この隅部と当接する接続ブロック５０２，５０２′のピースＡ５０４，５０４′及びピースＢ５０５，５０５′もこの形状に合わせて角部の断面が曲線となるような曲面に構成されている。   
【００５３】
インナーカバー４０１の接続ブロック５０２，５０２′と板部材５０１，５０１′とは、ピースＡ５０４，５０４′、ピースＢ５０５，５０５′の各々に軸方向に配置された着脱可能なピース用ボルト５０９，５０９′と板部材５０１，５０１′の端部のクランク状に延在したフランジ部５１０，５１０′とが係合して連結するよう、取り付けられる。尚、接続トンネル３０２の幅方向における寸法のバラツキに対応して密着できるよう、板部材５０１，５０１′と接続ブロック５０２とは所定のガタを有して連結されている。つまり、ピース用ボルト５０９と板部材５０１，５０１′のフランジ部５１０，５１０′は、繋げられた状態で隙間を有して緩く連結されており、接続トンネル３０２の幅方向の寸法公差よりも調整可能な範囲を多くしている。   
【００５４】
ガイド５０３にはピン５０７が貫通して配置され、かつこのピン５０７がスライド可能な長穴５１１が明けられている。ピン５０７の両端にはピースＡ５０４，Ｂ５０５が組み付けられている。さらに、接続ブロック５０２の上記高さの変動に対応してこれらピースが上下方向に揃って移動できるよう長穴５１１が貫通して配置されており、スプリングピン５０６によりピースＡ５０４，Ｂ５０５及びガイド５０３を含む複数の部品を接続ブロック５０２として一体となるように組み立てられている。   
【００５５】
また、ピースＡ５０４及びピースＢ５０５に形成されるスプリングピン５０６用の穴は貫通しないことで、接続トンネルの内壁面に到達する反応性ガスとの接触を避けて、インナーカバー４０１あるいは接続ブロック５０２またはこれを組み立てられて構成する部品の交換までの寿命を長くすることができる。上記の構成は、接続ブロック５０２′についても同様である。   
【００５６】
さらに、インナーカバー４０１は、接続トンネル３０２から搬送室４０３または処理室４０２側に移動させて取り外した後、板部材５０１,５０１′とピースＡ５０４,５０４′、ピースＢ５０５，５０５′とを連結するピース用ボルト５０９，５０９′を取り外すことで、板部材５０１，５０１′のみの取り外して交換が可能となっている。さらに、接続トンネル３０２から取り外した後、連結用の各ボルトを取り外すことで、板部材５０１，両端の接続ブロック５０２だけでなく、接続ブロック５０２を構成する部品であるピースＡ５０４，５０４′、ピースＢ５０５，５０５′、ガイド５０３，５０３′、スプリングピン５０６，５０６′等に付着した反応生成物の除去が容易にできる。   
【００５７】
また、インナーカバー４０１の取り外しの方向としては、本実施例では搬送室４０３内側に移動させる例を示しているが、処理室４０２側に移動させて取り外す構成として取り外しあるいは取り付けの際に接続トンネル３０２と搬送室４０３とをゲートバルブ３０３を動作させて封止することで、搬送室４０３を大気に対して開放することなく、作業対象の真空容器１１３，１１３′、あるいは処理ユニット１０３，１０３′のメンテナンスや部品交換の作業を行うことができる。これにより、他の処理ユニットにおいて並行して試料の処理を行いつつ対象の処理ユニットで部品交換やメンテナンス作業を行ったり、作業後の処理再開までの時間を短縮することが可能となる。このように、処理装置の稼働効率が向上し、ひいては処理の効率が向上する。   
【００５８】
以上の実施例によれば、処理室内に生成された生成物やガスによる接続トンネルの内側への悪影響を抑制し、またメンテナンスやクリーニングの作業時間が短縮され、作業の効率が向上される。また、装置の保守，点検や部品交換等の作業時間また処理再開までの時間等の非処理時間が短縮され、装置の稼働効率が向上する。ひいては、これにより処理の効率が向上する。
【符号の説明】
【００５９】
１００…真空処理装置、１０１…大気側ブロック、１０２…処理ブロック、１０３，１０３′…処理ユニット、１０５…搬送ユニット、１０６…筐体、１０７…カセット、１０８…ダミーカセット、１０９，１０９′…ロック室、１１０…位置合せ部、１１１…真空搬送容器、１１２…フレーム、１１３，１１３′…真空容器、１１４，１１４′…真空排気装置、１１５，１１５′…ガダイ、１２０，１２０′…コイルケース、１２１，１２１′…起重装置、３０１，３０１′…接続フランジ、３０２，３０２′…接続トンネル、３０３，３０３′…ゲートバルブ、３０４，３０４′…放電容器、４０１…インナーカバー、４０２…処理室、４０３…搬送室、４０４…シール部材、４０５…シール面、４０６，４０６′，４０７,４０７′…内側壁面、４０８，５１０…フランジ部、５０１,５０１′…板部材、５０２,５０２′…接続ブロック、５０３,５０３′…ガイド、５０４，５０４′…ピースＡ、５０５，５０５′…ピースＢ、５０６…スプリングピン、５０７…ピン、５０８…ガイド用ボルト、５０９…ピース用ボルト、５１１…長穴。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【手続補正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に配置され減圧された処理室内において基板状の試料が配置される真空容器を備え、前記処理室において前記試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理する真空処理装置であって、
この真空容器が連結され減圧された内部を前記試料が搬送される搬送容器と、
この搬送容器と前記真空容器とが連結された状態で前記搬送室と前記処理室とを連通してその内部を処理前または処理後の前記試料が搬送される通路と、
前記通路の内側壁面を覆って取り外し可能に取り付けられたカバー部材であって取り付けられた状態で前記通路の向かい合う壁面を覆う１対の板バネ部材と、これらの板バネ部材の各々の両端部と連結され前記向かい合う壁面の方向について伸縮する１対の接続部材とを有したカバー部材とを備え、
前記板バネ部材の各々は前記カバー部材が取り付けられていない状態で各々が覆う前記向かい合う内側壁面の方向に向かって凸に弓なりの形状を有し、前記カバー部材が前記通路内に配置された状態で前記接続部材が伸長することにより前記内側壁面の各々に押し付けられて密着してこれらを覆う真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空処理装置であって、 
前記カバー部材は、前記通路内に取り付けられた状態で前記接続部材が伸長することにより前記通路の角部を密着して覆う真空処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の真空処理装置であって、 
前記接続部材が伸長してその伸長の方向の両端部の表面が前記通路の角部を密着して覆う真空処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の真空処理装置であって、
前記接続部材が前記伸長の方向両端部の各々において１対の前記板バネ部材の各々と所定のガタを有して連結された真空処理装置。