(57)【要約】      （修正有）【課題】ヘキサヒドロピロロキノリンの製造法を提供する。【解決手段】式：2011256110.tif 000047（環Ｂは、置換基を有していてもよいベンゼン環を、Ｒ１は置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ２は水素原子またはＣ１−４アルキル基を、Ｊはアルキル基またはアラルキル基を示す。）で表される化合物またはその塩を環化させることを特徴とするヘキサヒドロピロロキノリンまたはその塩の製造法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2011256110.tif 000043
もしくは
【化２】
2011256110.tif 000044
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよいベンゼン環を、Ｒ１は置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ２は水素原子またはＣ１−４アルキル基を、Ｊはアルキル基またはアラルキル基を示す。）で表される化合物またはその塩を環化させることを特徴とする式：
【化３】
2011256110.tif 000045
もしくは
【化４】
2011256110.tif 000046
（式中の各記号は前記と同意義を示す。）で表される化合物またはその塩の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ヘキサヒドロピロロキノリンの製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タキキニンとは、一群の神経ペプチドの総称であり、哺乳動物ではサブスタンスＰ（以下、ＳＰ）、ニューロキニンＡ（以下、ＮＫＡと略す）およびニューロキニンＢ（以下、ＮＫＢと略す）が知られている。これらのペプチドは生体内に存在するそれぞれの受容体（ニューロキニン１、ニューロキニン２、ニューロキニン３、以下それぞれＮＫ１、ＮＫ２、ＮＫ３と略す）に結合することによって、さまざまな生物活性を発揮することが知られている。
【０００３】
特に、ＮＫ２受容体の拮抗薬は、ニューロキニンA依存性の病理の予防及び治療に有用であると考えられるが、それらは、肺疾患（特に、喘息の気管支痙攣、咳、慢性閉塞性肺疾患並びに肺過敏）、胃腸管疾患（特に、腸管痙攣、過敏性腸症候群、炎症性腸疾患、潰瘍のない消化不良、胃食道逆流症及びＧＩ管障害）、中枢神経疾患（例、鬱、不安症）、泌尿器疾患（例、排尿障害）、鎮痛疾患（例、神経性疼痛、リウマチなどの炎症性疾患に伴う疼痛など）などの疾患の予防及び治療において有用であると考えられる（Expert Opin. Ther. Targets、2003年、7巻(3)、343頁）。
【０００４】
このような、ＮＫ２受容体の拮抗薬として、
国際公開ＷＯ２００５−１０５８０２号パンフレットには、次式（Ｉ０）
【化１】
2011256110.tif 000002
〔式中、
Ｒ１は、(1)無置換、(2)水素原子、(3)置換基を有していてもよい炭化水素基または(4)アシルを示し；
Ｒ２は、(1)水素原子、(2)置換基を有していてもよい炭化水素基、(3)置換基を有していてもよいヒドロキシ、(4)置換基を有していてもよいアミノ、(5)置換基を有していてもよいチオール、(6)置換基を有していてもよい複素環基または(7)アシルを示し；
Ｒ３は、(1)無置換、(2)水素原子、(3)置換基を有していてもよい炭化水素基、(4)置換基を有していてもよいヒドロキシ、(5)置換基を有していてもよいアミノ、(6)置換基を有していてもよいチオールまたは(7)アシルを示し；
Ｒ４およびＲ５は、同一または異なって、それぞれ、(1)水素原子、(2)置換基を有していてもよい炭化水素基、(3)置換基を有していてもよいヒドロキシ、(4)置換基を有していてもよいアミノ、(5)置換基を有していてもよいチオールまたは(6)アシルを示し；
Ｒ６は、(1)（置換基を有していてもよい環状基）-カルボニル、(2)置換基を有していてもよいアルケニルカルボニル、(3)(i)置換基を有していてもよいシクロアルキル、(ii)置換基を有していてもよいアミノおよび(iii)置換基を有していてもよい複素環基から選ばれる置換基を有するアルキルカルボニルまたは(4)置換基を有していてもよい複素環基を示し；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、同一または異なって、それぞれ、(1)水素原子、(2)ハロゲン、(3)シアノ、(4)ニトロ、(5)置換基を有していてもよい炭化水素基、(6)置換基を有していてもよいヒドロキシ、(7)置換基を有していてもよいアミノ、(8)置換基を有していてもよいチオール、(9)置換基を有していてもよい複素環基または(10)アシルを示すか；あるいは
Ｒ７およびＲ８、Ｒ８およびＲ９、ならびにＲ９およびＲ１０は、隣接する炭素原子とともに環を形成してもよく；
ｎは、１ないし５の整数を示し；
--- は、無置換または単結合を表し；そして
--- は、単結合または二重結合を表す。〕で表される化合物またはその塩（本明細書中、化合物（Ｉ０）と称する場合がある）、およびその製造方法が、開示されている。
【０００５】
また、ＮＫ２受容体の拮抗薬として、未公開であり、公知技術ではないが、本願の出願人の一方が出願した特願２００６−５４００６１号には、
次式（Ｉ０’）
【化２】
2011256110.tif 000003
［式中、
Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を、Ｒは水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ結合手または置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基を、Ｘ３は置換基を有する２価のＣ１−５鎖状炭化水素基を、Ｙは結合手または置換基を有していてもよいイミノ基（−ＮＨ−）を、Ｚは置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を示す。］で表される化合物またはその塩（本明細書中、化合物（Ｉ０’）と称する場合がある）、およびその製造方法が、開示されている。
しかし、なお、化合物（Ｉ０）および化合物（Ｉ０’）の新たな製造方法が求められている。
【０００６】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００５−１０５８０２号パンフレット
【非特許文献１】Expert Opin. Ther. Targets、２００３年、７巻（３）、ｐ．３４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ＮＫ２受容体拮抗薬として有用な式（Ｉ）
【化３】
2011256110.tif 000004
［式中、環Ｂは置換基を有していてもよいベンゼン環を、Ｒ１は置換されていてもよい炭化水素基を、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ結合手または置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基を、Ｘ３は置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基を、Ｙは結合手または置換基を有していてもよいイミノ基（−ＮＨ−）を、Ｚは置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を示す。］
で表される化合物もしくはそのエナンチオマーまたはその塩（本明細書中、これらを化合物（Ｉ）と称する場合がある。）等の製造中間体として使用することができる、式
【化４】
2011256110.tif 000005
もしくは
【化５】
2011256110.tif 000006
（式中の各記号は前記と同意義を示す。）で表される化合物またはその塩
の製造方法を提供することを目的とする。化合物（Ｉ）は、ＮＫ２受容体の拮抗薬として有用な上記の化合物（Ｉ０）に包含される化合物またはそのエナンチオマーである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、式：
【化６】
2011256110.tif 000007
もしくは
【化７】
2011256110.tif 000008
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよいベンゼン環を、Ｒ１は置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ２は水素原子またはＣ１−４アルキル基を、Ｊはアルキル基またはアラルキル基を示す。）で表される化合物またはその塩を環化させることを特徴とする式：
【化８】
2011256110.tif 000009
もしくは
【化９】
2011256110.tif 000010
（式中の各記号は前記と同意義を示す。）で表される化合物またはその塩の製造法等を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ＮＫ２受容体の拮抗薬として有用な化合物（Ｉ）の製造中間体の製造方法、すなわちヘキサヒドロピロロキノリンの製造法が提供される。
【発明の実施の形態】
【００１０】
本明細書中、「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００１１】
本発明の、化合物（Ｉ）の製造中間体およびその製造方法、ならびに化合物（Ｉ）の製造について、以下に説明する。
【００１２】
各式中の記号について、説明する。
【００１３】
環Ｂで示されるベンゼン環の置換基としては、たとえば以下の置換基があげられる。以下、置換基Ａ群と呼ぶことにする。
すなわち、置換基Ａ群は、たとえば、
（１）ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）；
（２）Ｃ１−３アルキレンジオキシ（例、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、プロピレンジオキシなど）；
（３）ニトロ；
（４）シアノ；
（５）エステル化されていてもよいカルボキシル〔例、カルボキシル、置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニル、置換されていてもよいＣ６−１４アリールオキシ−カルボニル、置換されていてもよいＣ７−１６アラルキルオキシ−カルボニルなど〕
（６）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル；
（７）置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルケニル；
（８）置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルキニル；
（９）置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル；
（１０）置換されていてもよいＣ６−１４アリール；
【００１４】
（１１）置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル；
（１２）置換されていてもよいＣ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル；
（１３）置換されていてもよい複素環基；
（１４）ヒドロキシ；
（１５）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ；
（１６）置換されていてもよいＣ６−１４アリールオキシ；
（１７）置換されていてもよいＣ７−１６アラルキルオキシ；
（１８）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルオキシ；
（１９）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルオキシ；
（２０）置換されていてもよいモノ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ；
【００１５】
（２１）置換されていてもよいジ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ；
（２２）置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニルオキシ；
（２３）置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルオキシ；
（２４）置換されていてもよい複素環オキシ（好ましくは、置換されていてもよい芳香族複素環オキシ）；
（２５）メルカプト；
（２６）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルチオ；
（２７）置換されていてもよいＣ６−１４アリールチオ；
（２８）置換されていてもよいＣ７−１６アラルキルチオ；
【００１６】
（２９）ホルミル；
（３０）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニル；
（３１）置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニル；
（３２）置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニル；
（３３）置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル−カルボニル；
（３４）置換されていてもよい複素環−カルボニル；
（３５）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニル；
（３６）置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニル；
（３７）置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルフィニル；
（３８）置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルフィニル；
（３９）スルホ；
【００１７】
（４０）スルファモイル；
（４１）スルフィナモイル；
（４２）スルフェナモイル；
（４３）チオカルバモイル；
（４４）置換基を有していてもよいカルバモイル基〔特に、置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルなど〕；
（４５）置換されていてもよいアミノ基［例、アミノ、置換されていてもよいモノ−又はジ−低級（Ｃ１−６）アルキルアミノ、置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ３−８シクロアルキルアミノ、置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニルアミノ、ホルミルアミノ、置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルアミノ、置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニルアミノ、置換されていてもよい複素環−カルボニルアミノ、置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイルアミノ、置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニルアミノ、置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニルアミノ］などである。
【００１８】
環Ｂの置換基の種類としては水素（無置換）またはフッ素が好ましい。環Ｂにおける置換基の位置としては、下記の構造式の６位、７位、８位、９位のいずれであっても良いが、なかでも６位が好ましい。環Ｂの置換基の数は０個（無置換）から４個まで可能であり、０個（無置換）または１個が好ましく、０個（無置換）がさらに好ましい。
【００１９】
【化１０】
2011256110.tif 000011
【００２０】
置換基Ａ群の「エステル化されていてもよいカルボキシル」としての「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニル」の「低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニル」としては、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルなどが用いられる。
置換基Ａ群の「エステル化されていてもよいカルボキシル」としての「置換されていてもよいＣ６−１４アリールオキシ−カルボニル」の「Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル」としては、たとえばフェノキシカルボニルなどが用いられる。
置換基Ａ群の「エステル化されていてもよいカルボキシル」としての「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル」の「Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル」としては、たとえばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルなどが用いられる。
【００２１】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル」の「低級（Ｃ１−６）アルキル」としては、たとえばメチル、エチル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ-ブチル、ｔｅｒｔ-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシルなどが用いられる。
【００２２】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルケニル」の「低級（Ｃ２−６）アルケニル」としては、たとえばビニル、１−プロペン−１−イル、２−プロペン−１−イル、イソプロペニル、２−ブテン−１−イル、４−ペンテン−１−イル、５−へキセン−１−イルなどが用いられる。
【００２３】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルキニル」の「低級（Ｃ２−６）アルキニル」としては、たとえばエチニル、１−プロピン−１−イル、２−プロピン−１−イル、４−ペンチン−１−イル、５−へキシン−１−イルなどが用いられる。
【００２４】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル」の「Ｃ３−８シクロアルキル」としては、たとえばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが用いられる。
【００２５】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリール」の「Ｃ６−１４アリール」としては、たとえばフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−ビフェニリル、３−ビフェニリル、４−ビフェニリル、２−アンスリルなどが用いられる。該Ｃ６−１４アリールは、部分的に飽和されていてもよく、部分的に飽和されたＣ６−１４アリールとしては、たとえばテトラヒドロナフチルなどが挙げられる。
【００２６】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル」の「Ｃ７−１６アラルキル」としては、たとえばベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、２−ビフェニリルメチル、３−ビフェニリルメチル、４−ビフェニリルメチル）などが用いられる。
【００２７】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」の「Ｃ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」としては、たとえばスチリルなどが用いられる。
【００２８】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環基」の「複素環基」としては、たとえば、炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１ないし３種、１ないし５個のヘテロ原子を含む３ないし１４員（単環、２環又は３環式）複素環基があげられる。たとえばピロリル（例、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、フリル（例、２−フリル、３−フリル）、チエニル（例、２−チエニル、３−チエニル）、ピラゾリル（例、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル）、イミダゾリル（例、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、イソオキサゾリル（例、３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル）、オキサゾリル（例、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イソチアゾリル（例、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル）、チアゾリル（例、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル）、トリアゾリル（１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル）、オキサジアゾリル（１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル）、チアジアゾリル（１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル）、テトラゾリル、ピリジル（例、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピリダジニル（例、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル）、ピリミジニル（例、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル）、ピラジニル、イソインドリル（例、１−イソインドリル、２−イソインドリル、３−イソインドリル、４−イソインドリル、５−イソインドリル、６−イソインドリル、７−イソインドリル）、インドリル（例、１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル）、ベンゾ［ｂ］フラニル（例、２−ベンゾ［ｂ］フラニル、３−ベンゾ［ｂ］フラニル、４−ベンゾ［ｂ］フラニル、５−ベンゾ［ｂ］フラニル、６−ベンゾ［ｂ］フラニル、７−ベンゾ［ｂ］フラニル）、ベンゾ［ｃ］フラニル（例、１−ベンゾ［ｃ］フラニル、４−ベンゾ［ｃ］フラニル、５−ベンゾ［ｃ］フラニル）、ベンゾ［ｂ］チエニル、（例、２−ベンゾ［ｂ］チエニル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ［ｂ］チエニル、６−ベンゾ［ｂ］チエニル、７−ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンゾ［ｃ］チエニル（例、１−ベンゾ［ｃ］チエニル、４−ベンゾ［ｃ］チエニル、５−ベンゾ［ｃ］チエニル）、インダゾリル（例、１−インダゾリル、２−インダゾリル、３−インダゾリル、４−インダゾリル、５−インダゾリル、６−インダゾリル、７−インダゾリル）、ベンゾイミダゾリル（例、１−ベンゾイミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、４−ベンゾイミダゾリル、５−ベンゾイミダゾリル）、１，２−ベンゾイソオキサゾリル（例、１，２−ベンゾイソオキサゾール−３−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−４−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−５−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−６−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−７−イル）、ベンゾオキサゾリル（例、２−ベンゾオキサゾリル、４−ベンゾオキサゾリル、５−ベンゾオキサゾリル、６−ベンゾオキサゾリル、７−ベンゾオキサゾリル）、１，２−ベンゾイソチアゾリル（例、１，２−ベンゾイソチアゾール−３−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−５−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−６−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−７−イル）、ベンゾチアゾリル（例、２−ベンゾチアゾリル、４−ベンゾチアゾリル、５−ベンゾチアゾリル、６−ベンゾチアゾリル、７−ベンゾチアゾリル）、イソキノリル（例、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル）、キノリル（例、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、８−キノリル）、シンノリニル（例、３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル）、フタラジニル（例、１−フタラジニル、４−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル、７−フタラジニル、８−フタラジニル）、キナゾリニル（例、２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル）、キノキサリニル（例、２−キノキサリニル、３−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル、７−キノキサリニル、８−キノキサリニル）、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジル（ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−２−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−３−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−４−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−５−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−６−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−７−イル）、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジル（イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−２−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−５−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−６−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−７−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−８−イル）などの芳香族複素環基；たとえばオキサゾリジニル（例、イミダゾリニル（例、１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル）、アジリジニル（例、１−アジリジニル、２−アジリジニル）、アゼチジニル（例、１−アゼチジニル、２−アゼチジニル）、ピロリジニル（例、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル）、ピペリジニル（例、１−ピペリジニル、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル）、アゼパニル（例、１−アゼパニル、２−アゼパニル、３−アゼパニル、４−アゼパニル）、アゾカニル（例、１−アゾカニル、２−アゾカニル、３−アゾカニル、４−アゾカニル）、ピペラジニル（例、１，４−ピペラジン−１−イル、１，４−ピペラジン−２−イル）、ジアゼパニル（例、１，４−ジアゼパン−１−イル、１，４−ジアゼパン−２−イル、１，４−ジアゼパン−５−イル、１，４−ジアゼパン−６−イル）、ジアゾカニル（１，４−ジアゾカン−１−イル、１，４−ジアゾカン−２−イル、１，４−ジアゾカン−５−イル、１，４−ジアゾカン−６−イル、１，５−ジアゾカン−１−イル、１，５−ジアゾカン−２−イル、１，５−ジアゾカン−３−イル）、１−モルホリニル、４−チオモルホリニル、２−オキサゾリジニルなどの非芳香族複素環基；前出の芳香族複素環基の一部が水素化された複素環基、たとえば、インドリル、ジヒドロキノリルなどの複素環基；前出の非芳香族複素環基の一部が脱水素化された複素環基、たとえば、ジヒドロフラニルなどがあげられる。
【００２９】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ」の「低級（Ｃ１−６）アルコキシ」としては、たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどが用いられる。
【００３０】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリールオキシ」の「Ｃ６−１４アリールオキシ」としては、たとえば、フェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシなどが用いられる。
【００３１】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキルオキシ」の「Ｃ７−１６アラルキルオキシ」としては、たとえば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシなどが用いられる。
【００３２】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルオキシ」の「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルオキシ」としては、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシなどが用いられる。
【００３３】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルオキシ」の「低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルオキシ」としては、たとえばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、プロポキシカルボニルオキシ、ブトキシカルボニルオキシなどが用いられる。
【００３４】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいモノ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ」の「モノ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ」としては、たとえばメチルカルバモイルオキシ、エチルカルバモイルオキシなどが用いられる。
【００３５】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいジ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ」の「ジ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ」としては、たとえばジメチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシなどが用いられる。
【００３６】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニルオキシ」の「Ｃ６−１４アリール−カルボニルオキシ」としては、たとえば、ベンゾイルオキシ、ナフチルカルボニルオキシなどが用いられる。
【００３７】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルオキシ」の「モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルオキシ」としては、たとえば、フェニルカルバモイルオキシ、ナフチルカルバモイルオキシなどが用いられる。
【００３８】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環オキシ」の「複素環オキシ」の複素環部分としては、前述の「置換基されていてもよい複素環基」の「複素環基」と同様のものが用いられる。具体的には、たとえば、炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１ないし３種、１ないし５個のヘテロ原子を含む５ないし１４員複素環−オキシなどが用いられる。
【００３９】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環オキシ」としての「置換されていてもよい芳香族複素環オキシ」の「芳香族複素環オキシ」としては、たとえば、炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１ないし３種、１ないし５個のヘテロ原子を含む３ないし１４員芳香族複素環−オキシなどが用いられる。
【００４０】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルチオ」の「低級（Ｃ１−６）アルキルチオ」としては、たとえばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ｓｅｃ-ブチルチオ、ｔｅｒｔ-ブチルチオなどが用いられる。
【００４１】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリールチオ」の「Ｃ６−１４アリールチオ」としては、たとえばフェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオなどが用いられる。
【００４２】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキルチオ」の「Ｃ７−１６アラルキルチオ」としては、たとえばベンジルチオ、フェネチルチオなどが用いられる。
【００４３】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニル」の「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニル」としては、たとえばアセチル、プロピオニル、ピバロイルなどが用いられる。
【００４４】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニル」の「Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル」としては、たとえばシクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニルなどが用いられる。
【００４５】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニル」の「Ｃ６−１４アリール−カルボニル」としては、たとえば、ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイルなどが用いられる。
【００４６】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル−カルボニル」の「Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル」としては、たとえば、フェニルアセチル、３−フェニルプロピオニルなどが用いられる。
【００４７】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環−カルボニル」の複素環部分としては、前述した「置換されていてもよい複素環基」の「複素環基」と同様のものが用いられる。具体的には、「置換されていてもよい、炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１ないし３種、１ないし５個のヘテロ原子を含む３ないし１４員複素環−カルボニル」が用いられ、たとえば、ニコチノイル、イソニコチノイル、テノイル、フロイル、１−モルホリニルカルボニル、４−チオモルホリニルカルボニル、アジリジン−１−イルカルボニル、アジリジン−２−イルカルボニル、アゼチジン−１−イルカルボニル、アゼチジン−２−イルカルボニル、ピロリジン−１−イルカルボニル、ピロリジン−２−イルカルボニル、ピロリジン−３−イルカルボニル、ピペリジン−１−イルカルボニル、ピペリジン−２−イルカルボニル、ピペリジン−３−イルカルボニル、アゼパン−１−イルカルボニル、アゼパン−２−イルカルボニル、アゼパン−３−イルカルボニル、アゼパン−４−イルカルボニル、アゾカン−１−イルカルボニル、アゾカン−２−イルカルボニル、アゾカン−３−イルカルボニル、アゾカン−４−イルカルボニル、１，４−ピペラジン−１−イルカルボニル、１，４−ピペラジン−２−イルカルボニル、１，４−ジアゼパン−１−イルカルボニル、１，４−ジアゼパン−２−イルカルボニル、１，４−ジアゼパン−５−イルカルボニル、１，４−ジアゼパン−６−イルカルボニル、１，４−ジアゾカン−１−イルカルボニル、１，４−ジアゾカン−２−イルカルボニル、１，４−ジアゾカン−５−イルカルボニル、１，４−ジアゾカン−６−イルカルボニル、１，５−ジアゾカン−１−イルカルボニル、１，５−ジアゾカン−２−イルカルボニル、１，５−ジアゾカン−３−イルカルボニルなどが用いられる。
【００４８】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニル」の「低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニル」としては、たとえば、メチルスルホニル、エチルスルホニルなどが用いられる。
【００４９】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニル」の「Ｃ６−１４アリールスルホニル」としては、たとえば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル、２−ナフチルスルホニルなどが用いられる。
【００５０】
置換基Ａ群の「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルフィニル」の「低級（Ｃ１−６）アルキルスルフィニル」としては、たとえば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニルなどが用いられる。
【００５１】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルフィニル」の「Ｃ６−１４アリールスルフィニル」としては、たとえば、フェニルスルフィニル、１−ナフチルスルフィニル、２−ナフチルスルフィニルなどが用いられる。
【００５２】
置換基Ａ群の「置換基を有していてもよいカルバモイル基」としての「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイル」の「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイル」としては、たとえばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイルなどが用いられる。
【００５３】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいモノ−又はジ−低級（Ｃ１−６）アルキルアミノ」の「モノ−又はジ−低級（Ｃ１−６）アルキルアミノ」としては、たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどが用いられる。
【００５４】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルアミノ」の「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルアミノ」としては、たとえばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ピバロイルアミノなどが用いられる。
【００５５】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよい複素環−カルボニルアミノ」の「複素環−カルボニルアミノ」の「複素環−カルボニル」としては、上記した「置換されていてもよい複素環−カルボニル」の「複素環−カルボニル」と同様のものが用いられ、たとえばピリジル−カルボニルアミノなどが用いられる。
【００５６】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルアミノ」の「低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルアミノ」としては、たとえばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノなどが用いられる。
【００５７】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニルアミノ」の「低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニルアミノ」としては、たとえばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノなどが用いられる。
【００５８】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ３−８シクロアルキルアミノ」の「モノ−又はジ−Ｃ３−８シクロアルキルアミノ」としては、たとえばシクロプロピルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノなどが用いられる。
【００５９】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニルアミノ」の「Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニルアミノ」としては、たとえばシクロプロピルカルボニルアミノ、シクロペンチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノなどが用いられる。
【００６０】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ」の「モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ」としては、たとえばフェニルアミノ、ジフェニルアミノなどが用いられる。
【００６１】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ」の「モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ」としては、たとえばベンジルアミノなどが用いられる。
【００６２】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニルアミノ」の「Ｃ６−１４アリール−カルボニルアミノ」としては、たとえばベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノなどが用いられる。
【００６３】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ基」としての「置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニルアミノ」の「Ｃ６−１４アリールスルホニルアミノ」としては、たとえばフェニルスルホニルアミノ、２−ナフチルスルホニルアミノ、１−ナフチルスルホニルアミノなどが用いられる。
【００６４】
これら「低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニル」、「Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル」、「Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル」、「低級（Ｃ１−６）アルキル基」、「低級（Ｃ２−６）アルケニル」、「低級（Ｃ２−６）アルキニル」、「Ｃ３−８シクロアルキル」、「Ｃ６−１４アリール」、「Ｃ７−１６アラルキル」、「Ｃ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」、「複素環基」、「低級（Ｃ１−６）アルコキシ」、「Ｃ６−１４アリールオキシ」、「Ｃ７−１６アラルキルオキシ」、「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルオキシ」、「低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルオキシ」、「モノ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ」、「ジ−低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイルオキシ」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニルオキシ」、「モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルオキシ」、「複素環オキシ」、「芳香族複素環オキシ」、「低級（Ｃ１−６）アルキルチオ」、「Ｃ６−１４アリールチオ」、「Ｃ７−１６アラルキルチオ」、「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニル」、「Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニル」、「Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル」、「低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニル」、「Ｃ６−１４アリールスルホニル」、「低級（Ｃ１−６）アルキルスルフィニル」、「Ｃ６−１４アリールスルフィニル」、「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイル」、「モノ−又はジ−低級（Ｃ１−６）アルキルアミノ」、「低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルアミノ」、「低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルアミノ」、「低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニルアミノ」、「モノ−又はジ−Ｃ３−８シクロアルキルアミノ」、「Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニルアミノ」、「複素環−カルボニルアミノ」、「モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ」、「モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ」、「Ｃ６−１４アリールスルホニルアミノ」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニルアミノ」、「カルバモイルアミノ」は、たとえば以下のような置換基をそれぞれ置換可能な位置に、１個ないし５個、有していてもよい。これらを置換基Ｂ群と呼ぶことにする。
【００６５】
すなわち、置換基Ｂ群は、たとえば、
(1)ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；
(1)ヒドロキシ；
(1)ニトロ；
(1)シアノ；
(1)Ｃ１−６アルキル（該Ｃ１−６アルキルはハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００６６】
(1)Ｃ２−６アルケニル（該Ｃ２−６アルケニルはハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００６７】
(1)Ｃ２−６アルキニル（該Ｃ２−６アルキニルはハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００６８】
(1)Ｃ６−１４アリール（該Ｃ６−１４アリールはハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００６９】
(1)Ｃ６−１４アリールオキシ（該Ｃ６−１４アリールオキシはハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００７０】
(1)Ｃ７−１６アラルキルオキシ（該Ｃ７−１６アラルキルオキシはハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００７１】
(1)炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし４個のヘテロ原子を含むモノ−又はジ−５ないし１０員複素環基（例、フリル、ピリジル、チエニル、ピロリジノ、１−ピペリジニル、４−ピペリジル、ピペラジル、１−モルホリニル、４−チオモルホリニル、アゼパン−１−イル、アゾカン−１−イル、アゾナン−１−イル、３，４−ジヒドロイソキノリン−２−イルなど）（該複素環基はハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００７２】
(1)置換されていてもよいアミノ基〔たとえば、Ｃ１−６アルキル、Ｃ２−６アルケニル、Ｃ６−１４アリール、Ｃ７−１６アラルキル、複素環基および複素環−低級（Ｃ１−６）アルキルから成る群から選ばれる１または２個の置換基で置換されていてもよいアミノ基（該Ｃ１−６アルキル、Ｃ２−６アルケニル、Ｃ６−１４アリール、Ｃ７−１６アラルキル、複素環基および複素環−Ｃ１−６アルキルはそれぞれハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル（但し、アルキルおよびアルケニルの置換基ではない）、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい。なお、「複素環」および「複素環−低級（Ｃ１−６）アルキル」の「複素環」は前述の「置換基されていてもよい複素環基」の「複素環基」と同様のものが用いられる。〕；
【００７３】
(1)Ｃ３−８シクロアルキル；
(1)Ｃ１−６アルコキシ（該Ｃ１−６アルコキシはハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）；
【００７４】
(1)ホルミル；
(1)Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例、アセチル）；
(1)Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル；
(1)Ｃ６−１４アリール−カルボニル；
(1)Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル；
(1)Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル；
(1)Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル；
(1)Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル；
(1)Ｃ１−６アルキルチオ；
(1)Ｃ１−６アルキルスルフィニル；
(1)Ｃ１−６アルキルスルホニル；
(1)カルバモイル；
(1)チオカルバモイル；
(1)モノ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど）；
(1)ジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル（例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイルなど）；
【００７５】
(1)モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル（例、フェニルカルバモイル、１−ナフチルカルバモイル、２−ナフチルカルバモイルなど）；および
(1)炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし４個のヘテロ原子を含むモノ−又はジ−５ないし７員複素環−カルバモイル（例、２−ピリジルカルバモイル、３−ピリジルカルバモイル、４−ピリジルカルバモイル、２−チエニルカルバモイル、３−チエニルカルバモイルなど）が挙げられる。
【００７６】
また、置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環−カルボニル」の「複素環−カルボニル」は、（ｉ）上記した置換基Ｂ群から選ばれる置換基（ただし、"(8)Ｃ６−１４アリール基"、および"(11)炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし４個のヘテロ原子を含むモノ−又はジ−５ないし１０員複素環基"（該Ｃ６−１４アリール基および該複素環基はハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、モノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１４アリール−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル、Ｃ１−６アルキルチオ、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイルなどで置換されていてもよい）を除く）、（ii）上記した置換基Ｂ群から選ばれる置換基などを有していてもよいＣ６−１４アリール基、（iii）前述した置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環基」などから選ばれる１ないし５個の置換基を置換可能な位置に有していてもよい。
【００７７】
置換基Ａ群の「置換基を有していてもよいカルバモイル基」としては、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル（特に、置換基Ｂ群の「置換されていてもよいアミノ基」で置換されていてもよい低級アルキル）、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルケニル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルキニル、上記した置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリール、上記した置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル、上記した置換されていてもよい複素環基、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ；ホルミル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニル、上記した置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニル、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニル、上記した置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル−カルボニル、上記した置換されていてもよい複素環−カルボニル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニルなどから選ばれる１または２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基が用いられ、具体的には、カルバモイル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルバモイル、上記した置換されていてもよい複素環−カルボニルなどが好ましく、たとえばカルバモイル、モノ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイルなど）、ジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル（例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイルなど）、（炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし４個のヘテロ原子を含む５ないし７員複素環−Ｃ１−６アルキル）（Ｃ１−６アルキル）−カルバモイル（例、（チエニルエチル）（エチル）カルバモイルなど）、モノ−又はジ−（モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキルアミノ−Ｃ１−６アルキル）−カルバモイル（例、（ジメチルアミノ−エチル）カルバモイル、（ジメチルアミノ−プロピル）カルバモイル、（ジメチルアミノ−ブチル）カルバモイルなど）、モノ−又はジ−（炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし４個のヘテロ原子を含む５ないし７員複素環−Ｃ１−６アルキル）−カルバモイル（例、（１−ピペリジニルエチル）−カルバモイル、（１−モルホリニルエチル）−カルバモイル、（１−モルホリニルプロピル）−カルバモイル、（ピリジルメチル）−カルバモイルなど）、モノ−又はジ−（炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし４個のヘテロ原子を含む５ないし７員複素環）カルバモイル（例、２−ピリジルカルバモイル、３−ピリジルカルバモイル、４−ピリジルカルバモイル、２−チエニルカルバモイル、３−チエニルカルバモイルなど）などが用いられる。また、「置換基を有していてもよいカルバモイル基」としては、同様の置換基を有していてもよい５ないし７員の環状アミノ−カルボニル（例、１−ピロリジニルカルボニル、１−ピペリジニルカルボニル、１−ピペラジニルカルボニル、ヘキサメチレンイミノカルボニル）なども用いられる。
【００７８】
置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ」としては、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルケニル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルキニル、上記した置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリール、上記した置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ、ホルミル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニル、上記した置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニル、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニル、上記した置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル−カルボニル、上記した置換されていてもよい複素環−カルボニル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニル、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニル、上記した置換基を有していてもよいカルバモイルなどから選ばれる１または２個の置換基で置換されていてもよいアミノが用いられ、なかでもアミノ、上記した置換されていてもよいモノ−又はジ−低級（Ｃ１−６）アルキルアミノ、上記した置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ３−８シクロアルキルアミノ、上記した置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリールアミノ、上記した置換されていてもよいモノ−又はジ−Ｃ７−１６アラルキルアミノ、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリール−カルボニルアミノ、ホルミルアミノ、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル−カルボニルアミノ、上記した置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル−カルボニルアミノ、上記した置換されていてもよい複素環−カルボニルアミノ、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ−カルボニルアミノ、上記した置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキルスルホニルアミノ、上記した置換されていてもよいＣ６−１４アリールスルホニルアミノ、上記した置換基を有していてもよいカルバモイルアミノ基などが好ましく用いられる。
【００７９】
環Ｂとして特に好ましくは、１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、臭素）で置換されていてもよいベンゼン環である。
【００８０】
Ｒ１は置換されていてもよい炭化水素基を示す。
Ｒ１で示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」としては、それぞれ置換基Ａ群の
「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル」の「低級（Ｃ１−６）アルキル」；
「置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルケニル」の「低級（Ｃ２−６）アルケニル」；
「置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルキニル」の「低級（Ｃ２−６）アルキニル」；
「置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル」の「Ｃ３−８シクロアルキル」；
「置換されていてもよいＣ６−１４アリール」の「Ｃ６−１４アリール」；
「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル」の「Ｃ７−１６アラルキル」；
「置換されていてもよいＣ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」の「Ｃ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」等があげられる。
Ｒ１の「置換基を有していてもよい炭化水素基」の炭化水素基に置換してもよい「置換基」とは、置換基Ａ群から選ばれる１ないし３個の置換基があげられる。
その中で、Ｒ１としては、置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル、置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキルまたは置換されていてもよいＣ６−１４アリールが好ましく、(1)ハロゲン原子、ヒドロキシ、ハロゲン原子で置換されていてよいＣ１−３アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキシなど）、モノ−またはジ−（Ｃ１−３アルキル）アミノ（例、メチルアミノ、ジメチルアミノなど）およびＣ１−３アルキル−カルボニル（例、アセチル、プロピオニルなど）から選ばれる１個ないし３個の置換基を有していてもよいＣ１−３アルキル基（例、メチル、エチル、ｎ−プロピルなど）、(2)Ｃ３−６シクロアルキル基（例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなど）または(3) ハロゲン原子、ヒドロキシ、ハロゲン原子で置換されていてよいＣ１−３アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキシなど）、モノ−またはジ−（Ｃ１−３アルキル）アミノ（例、メチルアミノ、ジメチルアミノなど）およびＣ１−３アルキル−カルボニル（例、アセチル、プロピオニルなど）から選ばれる１個ないし３個の置換基を有していてもよいフェニルがより好ましく、ｎ−プロピル基、メトキシメチル基、シクロプロピル基またはフェニル基がさらに好ましい。
【００８１】
Ｒ１の「置換基を有していてもよい複素環基」の「複素環基」としては、置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環基」の「複素環基」があげられる。その中で、５または６員複素環基が好ましく、チエニル基またはイミダゾリル基がより好ましく、チエニル基がさらに好ましい。Ｒ１の「置換基を有していてもよい複素環基」の複素環基に置換してもよい「置換基」としては、置換基Ａ群から選ばれる１ないし３個の置換基があげられる。
【００８２】
Ｒ１として特に好ましくは、Ｃ１−３アルコキシで置換されていてもよいＣ１−６アルキル、またはＣ６−１４アリールである。
【００８３】
Ｘ１およびＸ２はそれぞれ結合手または置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基を示す。
Ｘ１およびＸ２の「置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基」の「２価のＣ１−５鎖状炭化水素基」としては、メチレン（−ＣＨ２−）、エチレン（−（ＣＨ２）２−）、プロピレン（−（ＣＨ２）３−）、ブチレン（−（ＣＨ２）４−）、ペンチレン基（−（ＣＨ２）５−）等があげられる。そのなかでも、メチレン（−ＣＨ２−）またはエチレン（−（ＣＨ２）２−）が好ましい。Ｘ１およびＸ２の「置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基」の「置換基」としては、置換基Ａ群およびオキソから選ばれる１ないし３個の置換基があげられる。無置換が好ましい。
Ｘ１およびＸ２としては、一方がメチレン（−ＣＨ２−）であり、かつ他方がエチレン（−（ＣＨ２）２−）である態様がより好ましい。
【００８４】
Ｘ３は置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基を示す。
Ｘ３の「置換基を有する２価のＣ１−５鎖状炭化水素基」の「２価のＣ１−５鎖状炭化水素基」とは、メチレン（−ＣＨ２−）、エチレン（−（ＣＨ２）２−）、プロピレン（−（ＣＨ２）３−）、ブチレン（−（ＣＨ２）４−）、ペンチレン基（−（ＣＨ２）５−）があげられ、メチレン（−ＣＨ２−）が好ましい。Ｘ３の「置換基を有していてもよい２価のＣ１−５鎖状炭化水素基」の置換基としては、置換基Ａ群およびオキソから選ばれる１ないし６個の置換基があげられる。そのなかでも、置換基としては、ハロゲン原子又はハロゲン原子で置換された低級（Ｃ１−６）アルキルが好ましく、フッ素原子又はフッ素原子で置換されたＣ１−３アルキル基がより好ましい。すなわち、なかでも、Ｘ３は(1)フッ素原子および(2)フッ素原子で置換されたＣ１−３アルキル基から選ばれる置換基を有していてもよいメチレンが好ましく、メチレン（−ＣＨ２−）、ジフルオロメチレン（−ＣＦ２−）、フルオロメチレン（−ＣＨＦ−）、ビス（トリフルオロメチル）メチレン（−Ｃ（ＣＦ３）２−、（トリフルオロメチル）メチレン（−ＣＨ（ＣＦ３）−）が特に好ましい。
【００８５】
Ｙは結合手または置換基を有していてもよいイミノ基を示す。その中で、結合手、イミノ基（無置換）が好ましい。
Ｙの「置換基を有していてもよいイミノ基」の置換基は、置換基Ａ群の「置換されていてもよいアミノ」の置換基があげられる。
【００８６】
Ｚは置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を示す。
Ｚの「置換基を有していてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」としては、それぞれ置換基Ａ群の
「置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル」の「低級（Ｃ１−６）アルキル」；
「置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルケニル」の「低級（Ｃ２−６）アルケニル」；
「置換されていてもよい低級（Ｃ２−６）アルキニル」の「低級（Ｃ２−６）アルキニル」；
「置換されていてもよいＣ３−８シクロアルキル」の「Ｃ３−８シクロアルキル」；
「置換されていてもよいＣ６−１４アリール」の「Ｃ６−１４アリール」；
「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル」の「Ｃ７−１６アラルキル」；
「置換されていてもよいＣ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」の「Ｃ６−１４アリール−Ｃ２−６アルケニル」等があげられる。その中で、低級（Ｃ２−６）アルケニル、低級（Ｃ２−６）アルキニルまたはＣ６−１４アリールが好ましく、エテニル、エチニルまたはフェニルがより好ましく、フェニルがさらに好ましい。
【００８７】
Ｚの「置換基を有していてもよい複素環基」の「複素環基」としては、置換基Ａ群の「置換されていてもよい複素環基」の「複素環基」があげられる。その中で、５ないし１０員芳香族複素環基が好ましく、５または６員芳香族単環式複素環基（例、ピラゾリル、ピリジル、ピロリル、チアゾリル、オキサジアゾリルなど）または８ないし１０員芳香族縮合複素環基（例、インドリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ピラゾロピリジル、ベンズイミダゾリル、イミダゾピリジルなど）がより好ましく、ピラゾール−３−イル、ピリジン−３−イル、インドール−２−イル、ベンゾ［ｂ］フラン−２−イル、ベンゾ［ｂ］チエン−２−イル、ピラゾロ［１,５−ａ］ピリジン−２−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−２−イルなどがさらに好ましい。
【００８８】
Ｚの「置換基を有していてもよい炭化水素基」または「置換基を有していてもよい複素環基」の炭化水素基または複素環基に置換してもよい「置換基」としては、置換基Ａ群から選ばれる１ないし５個の置換基があげられる。
該置換基としては、好ましくは、(i) ハロゲン原子、(ii) シアノ、(iii) 置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル、(iv) 置換されていてもよいＣ６−１４アリール、(v) 置換されていてもよい複素環基、(vi) 置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ、(vii) 置換されていてもよいアミノ基等から選ばれ、
より好ましくは、(i) ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子等）、(ii) シアノ、(iii) １ないし３個のハロゲン原子（例、フッ素原子等）で置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルキル（例、メチル等）、(iv) ハロゲン原子（例、フッ素原子等）、Ｃ１−６アルコキシ（例、メトキシ等）等から選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよいＣ６−１４アリール（例、フェニル等）、(v) １ないし３個のＣ１−６アルキル（例、メチル等）で置換されていてもよい複素環基（例、５ないし６員芳香族複素環基（例、ピラゾリル、チアゾリル、ピロリル、ピリジル、オキサジアゾリル等）、５ないし６員非芳香族複素環基（例、ピロリジニル等）等）、(vi) ハロゲン原子（例、フッ素原子等）、Ｃ３−８シクロアルキル（例、シクロプロピル等）等から選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよい低級（Ｃ１−６）アルコキシ（例、メトキシ等）、(vii) Ｃ１−６アルキル（例、メチル等）でモノ−またはジ−置換されていてもよいアミノ基等から選ばれる。
【００８９】
Ｊで示されるアルキル基としては、例えば、Ｃ１−６アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、およびヘキシル）があげられる。中でも、ｔ-ブチル基が好ましい。
Ｊで示されるアラルキル基としては、例えば、Ｃ７−１４アラルキル基（例、ベンジル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、および３−フェニルプロピル）があげられる。中でも、ベンジル基が好ましい。
【００９０】
Ｒ２で示されるＣ１−４アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔｅｒｔ−ブチルがあげられる。
Ｒ２としては、中でも、水素およびメチルが好ましい。
【００９１】
化合物（Ｉ）は、たとえば以下の反応式で示される方法またはこれに準じた方法などにより得られる。反応式中では、記載を省略しているが、反応式中の各化合物は、それぞれ記載された構造式の化合物のエナンチオマーを包含する。
なお、反応式中の各化合物は、塩を形成していてもよい。このような塩としては、たとえば金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。金属塩の好適な例としては、たとえばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩などのアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩の好適な例としては、たとえばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、２，６−ルチジン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジベンジルエチレンジアミンなどとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例としては、たとえば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例としては、たとえばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、たとえばアルギニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、たとえばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。このうち、薬学的に許容し得る塩が好ましい。たとえば、化合物内に酸性官能基を有する場合にはアルカリ金属塩（例、ナトリウム塩、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（例、カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩など）などの無機塩、アンモニウム塩など、また、化合物内に塩基性官能基を有する場合には、たとえば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸など無機酸との塩、または酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸との塩が挙げられる。
また、反応式中の各化合物は水和物および非水和物の何れであってもよい。該水和物としては、例えば、０．５水和物、１水和物、１．５水和物、２水和物等が挙げられる。
【００９２】
各工程で得られた化合物は反応液のままか粗製物として次の反応に用いることもできるが、常法に従って反応混合物から単離することもでき、それ自体が公知の手段、たとえば、抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、クロマトグラフィーなどの分離手段により容易に精製することができる。あるいは、式中の化合物が市販されている場合には市販品をそのまま用いることもできる。
【００９３】
化合物（Ｉ）は、例えば、以下の反応式１に示す方法で合成できる。すなわち、化合物（ＩＩａ）を脱保護に付し、化合物（ＩＩＩ）とした後（工程１）、化合物（ＩＩＩ）のアミノ基を化合物（ＩＶ）でアシル化することにより（工程２）、化合物（Ｉ）を製造することができる。
【００９４】
［反応式１］
【化１１】
2011256110.tif 000012
［式中、各記号は、前記と同意義を示す。］
【００９５】
工程１は、化合物（ＩＩａ）の保護基を脱保護することにより、化合物（ＩＩＩ）を合成する方法である。本反応は、例えば、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社１９９９年刊「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，  ３ｒｄ  Ｅｄ．」（Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．  Ｇｒｅｅｎｅ，  Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．  Ｍ．  Ｗｕｔｓ著）に記載の方法に準じて実施することができる。
置換基Ｊがｔｅｒｔ−ブチル基の場合、例えば、反応剤として塩酸含有酢酸エチル溶液が用いられる。必要に応じて、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、エチレンジクロライド、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドをくわえてもよい。好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランである。反応温度は通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。
【００９６】
置換基Ｊがベンジル基の場合、例えば、反応剤として水素雰囲気下、パラジウム炭素が用いられる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、エチレンジクロライド、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸などが挙げられる。中でもメタノール、エタノールが好ましい。反応温度は通常０℃ないし６０℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。使用する水素の圧力は１から２００気圧の範囲で、好ましくは１気圧から１０気圧の範囲である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。
【００９７】
工程２は化合物（ＩＩＩ）のアミノ基を適当な縮合剤および必要により塩基の存在下、化合物（ＩＶ）でアシル化し化合物（Ｉ）を合成する方法である。化合物（ＩＶ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ）の使用量１モルに対して、約１モルないし２モル、好ましくは約１モルないし１．２モルである。縮合剤の使用量は、化合物（ＩＩＩ）の使用量１モルあたり、約１モルないし１０モル、好ましくは約１モルないし１．２モルである。縮合剤としては、たとえば、カルボジイミド類（ＤＣＣ（すなわち、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＷＳＣ（すなわち、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩）、ＤＩＣ（すなわち、２−ジメチルアミノイソプロピルクロリド塩酸塩）など）、りん酸誘導体（たとえば、シアノりん酸ジエチル、ジフェニルりん酸アジド、ＢＯＰ−Ｃｌ（すなわち、ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）ホスホン酸クロリド）など）などが挙げられる。塩基としては、たとえば、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、ルチジンなどの芳香族アミン類、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリンなどの３級アミン類、アンモニアまたはこれら二種以上の混合物などが用いられる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、エチレンジクロライド、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸などが挙げられる。中でもメタノール、エタノールが好ましい。反応温度は、通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。また、化合物（Ｉ）は、化合物（ＩＩＩ）を化合物（ＩＶ）の反応性誘導体（たとえば、酸ハライド、酸無水物、活性エステル、エステル、酸イミダゾリド、酸アジドなど）と反応させることによっても得ることができる。かくして得られた化合物（Ｉ）は、自体公知の分離精製手段、例えば濃縮、溶媒抽出、晶出、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離してもよい。
【００９８】
化合物（Ｉ）の合成に必要な化合物（ＩＩａ）は、以下の反応式２に示す方法で合成できる。
すなわち、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）の反応により得られる化合物（ＶＩＩ）（工程３）をアニリン化合物（ＶＩＩＩ）と脱水縮合することで、化合物（ＩＸ）を製造する（工程４）；
化合物（ＩＸ）を水素化し、化合物（Ｘａ）および／または（Ｘｂ）を製造する（工程５）；
化合物（Ｘａ）および／または（Ｘｂ）を脱保護し、化合物（ＸＩａ）および／または（ＸＩｂ）を製造する（工程６）；
化合物（ＸＩａ）および／または（ＸＩｂ）をアシル化反応に付し、（ＸＩＩａ）および／または（ＸＩＩｂ）を製造する（工程７）；
（ＸＩＩａ）および／または（ＸＩＩｂ）を還元し、ついで環化させることで化合物（ＩＩａ）および／または（ＩＩｂ）を製造する（工程８）。
【００９９】
［反応式２］
【化１２】
2011256110.tif 000013
［反応式２（つづき）］
【化１３】
2011256110.tif 000014
［式中の記号は前記と同意義である。Ｌについては、後述する。］
【０１００】
［工程３］
工程３は適当な塩基の存在下、化合物（Ｖ）と（ＶＩ）の反応により、化合物（ＶＩＩ）を合成する方法である。式（ＶＩ）中、Ｌは、反応が進行する限り特に限定されないが、例えば、Ｃ１−６アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、およびヘキシル）が挙げられる。
化合物（ＶＩ）の使用量は、化合物（Ｖ）の使用量１モルに対して、約１モルないし１０モル、好ましくは約１モルないし２モルである。
本反応の溶媒は反応が進行する限り特に限定はないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、エチレンジクロライド、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸などが挙げられる。中でもテトラヒドロフランなどが好ましい。反応温度は、通常−１００℃ないし１００℃、好ましくは−１００℃ないし４０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。塩基はカルボニル基のα位にアルキル基を導入する際に通常用いられる、例えば第四版実験化学講座、２１巻、２・１０・１項に記載の内容に準じる反応剤、例えば水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキサイドカリウム、ＬＤＡ（リチウムジイソプロピルアミド）を用いることができ、好ましくはＬＤＡ（リチウムジイソプロピルアミド）である。
【０１０１】
［工程４］
工程４は化合物（ＶＩＩ）と（ＶＩＩＩ）を適当な触媒下、脱水縮合させることでエナミン（ＩＸ）を合成する方法である。
化合物（ＶＩＩＩ）の使用量は、化合物（ＶＩＩ）の使用量１モルに対して、約１モルないし１０モル、好ましくは約１モルないし３モルである。
本反応にはディーン・スターク装置を使用することができる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定はないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、エチレンジクロライド、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。中でもトルエン、シクロヘキサンなどが好ましい。反応温度は通常０℃ないし２００℃、好ましくは６０℃ないし１３０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。触媒としては例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸などのプロトン酸が挙げられ、好ましくはｐ−トルエンスルホン酸が挙げられる。本反応は、モレキュラーシーブ（商品名）共存下に行ってもよい。該モレキュラーシーブは脱水剤として汎用されているものであり、モレキュラーシーブ３Ａ（Ｋ９Ｎａ３［（ＡｌＯ２）１２（ＳｉＯ２）１２］・２７Ｈ２Ｏ）、モレキュラーシーブ４Ａ（Ｎａ１２［（ＡｌＯ２）１２（ＳｉＯ２）１２］・２７Ｈ２Ｏ）、モレキュラーシーブ５Ａ（Ｃａ４．５  Ｎａ３［（ＡｌＯ２）１２］・３０Ｈ２Ｏ）、モレキュラーシーブ１３Ｘ（Ｎａ８６［（ＡｌＯ２）８６（ＳｉＯ２）１０６］・ｘＨ２Ｏ）などが挙げられる。好ましくはモレキュラーシーブ３Ａ、モレキュラーシーブ４Ａである。該モレキュラーシーブは、使用前に活性化（焼成）しても、購入品をそのまま用いてもよい。
【０１０２】
［工程５］
工程５は化合物（ＩＸ）をモノあるいはビスホスフィンおよび遷移金属からなる錯体の存在下に水素化し、（Ｘａ）および／または（Ｘｂ）を合成する方法である。本反応の溶媒は反応を阻害しないものであればよく、例えば、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、トルエン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどの脂肪族エステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、トリフルオロエタノールなどのアルコール系溶媒などを用いることができる。これらの溶媒は単独で用いても、また混合して用いても差し支えない。中でもテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが好ましい。反応温度は、通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし６０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし４８時間である。使用する水素の圧力は１から２００気圧の範囲で、好ましくは１気圧から１０気圧の範囲である。
【０１０３】
本反応における遷移金属錯体の種類としては、例えば、ビス（シクロオクタ−１，５−ジエン）ロジウム（Ｉ）トリフルオロメタンスルホン酸塩、ジ−μ−クロロビス（シクロオクタ−１，５−ジエン）二ロジウム（Ｉ）、ジ−μ−クロロビス（ペンタメチルシクロペンタジエン）二ロジウム（Ｉ））などの有機ロジウム錯体、ビス（シクロオクタ−１，５−ジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ酸塩などの有機イリジウム錯体などが用いられる。この他、通常水素化反応に用いられる有機金属錯体を挙げることができ、ホスフィンが配位可能、もしくはホスフィンと置換可能な配位子を有する有機金属錯体であれば、特に、上記に限定されるものではない。上記遷移金属錯体の使用量は、反応容器や経済性によっても異なるが反応基質である化合物（ＩＸ）に対しモル比で１／１０ないし１／１００,０００用いることができ、好ましくは１／２５ないし１／１０，０００の範囲で使用することができる。
本反応におけるホスフィンの種類としては、例えば、以下に表される光学活性フェロセン化合物、式：
【化１４】
2011256110.tif 000015
（式中、Ｒc１，Ｒc２は、同一または異なって、置換基を有していてもよいアルキル基（例、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例、シクロヘキシル基、シクロペンチル基など）、アリール基（例、フェニル基、２−トリル基、３，５−キシリル基、１−ナフチル基、４−フルオロフェニル基など）、複素環基（例、２−フリル基など）を示す。）で表されるフェロセン誘導体またはその鏡像体、式：
【化１５】
2011256110.tif 000016
（式中、Ｒc３，Ｒc４は、同一または異なって、置換基を有していてもよいアルキル基（例、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例、シクロヘキシル基、シクロペンチル基など）、アリール基（例、フェニル基、２−トリル基、３，５−キシリル基、１−ナフチル基、４−フルオロフェニル基など）、複素環基（例、2-フリル基など）を示す。）で表されるフェロセン誘導体またはその鏡像体、式：
【化１６】
2011256110.tif 000017
（式中、Ｒc５，Ｒc６は、同一または異なって、置換基を有していてもよいアルキル基（例、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例、シクロヘキシル基、シクロペンチル基など）、アリール基（例、フェニル基、２−トリル基、３，５−キシリル基、１−ナフチル基、４−フルオロフェニル基など）、複素環基（例、2-フリル基など）を示す。）で表されるフェロセン誘導体またはその鏡像体、式：
【化１７】
2011256110.tif 000018
（式中、Ｒc７，Ｒc８は、同一または異なって、置換基を有していてもよいアルキル基（例、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ノルボルニル基など）、アリール基（例、フェニル基、２−トリル基、３，５−キシリル基、１−ナフチル基、４−フルオロフェニル基など）、複素環基（例、２-フリル基など）を示す。）で表されるフェロセン誘導体またはその鏡像体、
以下に表される光学活性ホスフィン、式：
【化１８】
2011256110.tif 000019
（式中、Ｒc９，Ｒc１０は、異なって、置換基を有していてもよいアルキル基（例、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例、シクロヘキシル基など）、アリール基（例、フェニル基、２−トリル基、３，５−キシリル基、１−ナフチル基、４−フルオロフェニル基など）、複素環基（例、２−フリル基など）を示す。）で表される化合物またはその鏡像体、
以下に表される光学活性ホスフィン、式：
【化１９】
2011256110.tif 000020
（式中、Ｒc１１は、異なって、置換基を有していてもよいアルキル基（例、メチル基など）、シクロアルキル基（例、シクロヘキシル基、シクロペンチル基など）、アリール基（例、フェニル基、２−トリル基、３，５−キシリル基、１−ナフチル基、４−フルオロフェニル基など）、複素環基（例、２-フリル基など）を示す。）で表される化合物またはその鏡像体、などを用いることができ、好ましくは、式：
【化２０】
2011256110.tif 000021
で表される化合物である。ホスフィンの使用量は遷移金属錯体に対し、１ないし２０当量、好ましくは２ないし５当量である。
【０１０４】
遷移金属前駆体とホスフィンとの錯体は、遷移金属前駆体とホスフィンとを反応混合物中に順次または同時に添加して反応混合物内で生成させ、単離することなくそのまま反応に用いることができる。また、遷移金属前駆体とホスフィンとの錯体をあらかじめ生成させ自体公知の方法、例えば濃縮、溶媒抽出、晶出、転溶、クロマトグラフィーなどによって単離して、これを用いても差し支えがない。
【０１０５】
［工程６］
工程６は（Ｘａ）および／または（Ｘｂ）のアラルキル基を除去して化合物（ＸＩａ）および／または（ＸＩｂ）を合成する方法である。本反応は、例えば、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社１９９９年刊「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，  ３ｒｄ  Ｅｄ．」（Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．  Ｇｒｅｅｎｅ，  Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．  Ｍ．  Ｗｕｔｓ著）に記載の方法が挙げられる。環Ａがｐ−メトキシフェニル基の場合、例えば酸性条件下、反応剤としてアニソールが用いられる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、トリフルオロ酢酸およびトリフルオロメタンスルホン酸の使用が好ましい。反応温度は通常０℃ないし１００℃、好ましくは２０℃ないし８０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。
【０１０６】
［工程７］
工程７は、化合物（ＸＩａ）および／または（ＸＩｂ）をアシル化反応に付し化合物（ＸＩＩａ）および／または（ＸＩＩｂ）を合成する方法である。本反応は置換基Ｊの種類によるが、例えば、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社１９９９年刊「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ， ３ｒｄ Ｅｄ．」（Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ． Ｇｒｅｅｎｅ， Ｐｅｔｅｒ Ｇ． Ｍ． Ｗｕｔｓ著）に記載の方法に準じて実施する事ができる。
【０１０７】
アシル化剤ＪＯ−ＣＯ−ＣｌまたはＪＯ−ＣＯ−ＯＪの使用量は、通常０．５当量から１０当量であり、好ましくは、１当量から２当量であり、さらに好ましくは、１当量から１．２当量である。
置換基Ｊがｔｅｒｔ−ブチル基の場合、反応剤として、たとえば、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フタルイミドなどが用いられる。塩基として、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなどの無機塩基類、ピリジン、ルチジン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリンなどの有機塩基類またはこれら二種以上の混合物が用いられる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、エチレンジクロライド、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。なかでもアセトニトリルなどが好ましく、二種類以上の溶媒を混合して用いてもよい。反応温度は、通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。
【０１０８】
本発明は、式：
【化２１】
2011256110.tif 000022
もしくは
【化２２】
2011256110.tif 000023
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよいベンゼン環を、Ｒ１は置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ２は水素原子またはＣ１−４アルキル基を、Ｊはアルキル基またはアラルキル基を示す。）で表される化合物またはその塩を環化させることを特徴とする式：
【化２３】
2011256110.tif 000024
もしくは
【化２４】
2011256110.tif 000025
（式中の各記号は前記と同意義を示す。）で表される化合物またはその塩の製造法である。
【０１０９】
この製造法は、工程８−１と工程８−２とに分ける事ができる。
［工程８−１］
工程８−１は化合物（ＸＩＩａ）および／または（ＸＩＩｂ）のラクタム部カルボニル基を還元する反応により、化合物（ＸＩＩ'ａ）および／または（ＸＩＩ’ｂ）を合成する方法である。還元剤としては、例えばリチウムトリエチルボロヒドリドが用いられる。
還元剤の使用量は、通常０．５当量から１０当量であり、好ましくは、１当量から２当量であり、さらに好ましくは、１当量から１．２当量である。反応溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、トルエン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどの脂肪族エステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルなどのエーテル系溶媒が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。反応温度は通常−１００℃ないし１００℃、好ましくは−１００℃ないし４０℃である。反応時間は通常１分間ないし５０時間、好ましくは１０分間ないし１０時間である。
【０１１０】
［工程８−２］
工程８−２は化合物（ＸＩＩ’ａ）および／または（ＸＩＩ’ｂ）を酸性条件下、環化させる反応により、化合物（ＩＩａ）および／または（ＩＩｂ）を合成する方法である。反応溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、中でもジクロロメタン、メタノール、エタノールが好ましい。反応温度は通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。反応時間は通常１分間ないし５０時間、好ましくは１０分間ないし１０時間である。酸性添加剤としては、例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸などのプロトン酸などを用いることができ、好ましくは１０−カンファースルホン酸が挙げられる。
【０１１１】
工程８−１から工程８−２への工程については、途中段階で、（ＸＩＩ’ａ）および／または（ＸＩＩ’ｂ）は単離することなく次の工程に用いることもできる。
【０１１２】
化合物（Ｉ）を合成するのに必要な化合物（ＩＶ）は以下の方法で合成できる。
すなわち、化合物（ＸＩＩＩ）と化合物（ＸＩＶ）の反応により得られる化合物（ＸＶ）を用い、化合物（ＸＶＩ）のアミノ基にアシル化し、化合物（ＩＶ）が合成できる。
【０１１３】
［工程９］
【化２５】
2011256110.tif 000026
［式中の記号は前記と同意義である。］
【０１１４】
工程９はカルボン酸（ＸＩＩＩ）とヒドロキシこはく酸イミド（ＸＩＶ）を縮合させて、エステル（ＸＶ）を合成する反応である。本反応の縮合剤としては、たとえば、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）や１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩などが用いられる。
ヒドロキシこはく酸イミド（ＸＩＶ）の使用量は、通常０．５当量から１０当量であり、好ましくは、１当量から２当量であり、さらに好ましくは、１当量から１．２当量である。必要に応じて、塩基を加えても良く、たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが用いられる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、なかでもジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが好ましく、二種類以上の溶媒を混合して用いてもよい。反応温度は、通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。
【０１１５】
［工程１０］
工程１０は、エステル（ＸＶ）とアミノ酸（ＸＶＩ）を縮合させて、アミド（ＶＩ）を合成する反応である。
アミノ酸（ＸＶＩ）の使用量は、通常０．５当量から１０当量であり、好ましくは、１当量から２当量であり、さらに好ましくは、１当量から１．２当量である。本反応には、塩基として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基やトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基が用いられる。本反応の溶媒は、反応が進行する限り特に限定されないが、なかでも水、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが好ましく、二種類以上の溶媒を混合して用いてもよい。反応温度は、通常０℃ないし１００℃、好ましくは１０℃ないし４０℃である。反応時間は通常１時間ないし１００時間、好ましくは１時間ないし２４時間である。
【実施例】
【０１１６】
以下に、参考例および実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１１７】
参考例１  N-(4-ブロモフェニル)-2-ニトロベンゼンスルホンアミド
【化２６】
2011256110.tif 000027
4-ブロモアニリン (5.82 g) と酢酸ナトリウム (5.54 g) を含むエタノール (25 ml)-水 (25 ml) 混合液に、塩化 2-ニトロベンゼンスルホニル (12.3 g) を室温で加えた。反応液を 70℃に昇温し、45分間攪拌した後、室温に冷却した。水 (300 ml) を添加後、濃塩酸を用い反応液の pH を 1-2 とし、沈殿物を濾取した。得られた固体をエタノール (40 ml)-水 (10 ml) から再結晶し、標記化合物 (13.0 g) を淡黄色固体として得た。融点 111 ℃。
1H-NMR (CDCl3)δ: 6.90-7.29 (6H, m), 7.54-7.58 (1H, m), 7.66-7.70 (1H, m), 7.78-7.86 (2H, m).
【０１１８】
参考例２  (3R*)-3-[(R*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]-2-オキソピロリジン-1-カルボン酸ベンジル  および  (3R*)-3-[(S*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]-2-オキソピロリジン-1-カルボン酸ベンジル
【化２７】
2011256110.tif 000028
リチウムヘキサメチルジシラジド (1.1M, 37 ml) の THF (90 ml) 溶液にアルゴン雰囲気下 78 ℃で、2-オキソピロリジン-1-カルボン酸ベンジル (7.15 g) の THF (25 ml) 溶液を滴下した。-78 ℃にて 30 分間攪拌後、ベンズアルデヒド (3.97 ml) の THF (25 ml) 溶液を 78℃で滴下し、さらに１時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液に対し無水硫酸ナトリウムを用い乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1→1:1 v/v)で溶出して、第一溶出部から (R*, R*)の標記化合物 (3.45 g) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.71-1.78 (1H, m), 2.13-2.23 (1H, m), 2.48 (1H, br s), 2.90-2.94 (1H, m), 3.54-3.61 (1H, m), 3.78-3.82 (1H, m), 5.28 (2H, m), 5.42 (1H, d, J = 2.4 Hz), 7.27-7.44 (10H, m).
第二溶出部から (R*, S*) の標記化合物 (4.13 g) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.65-1.72 (2H, m), 2.85-2.92 (1H, m), 3.50-3.57 (1H, m), 3.76-3.78 (1H, m), 4.66 (1H, br s), 4.88 (1H, d, J = 8.9 Hz), 5.29 (2H, m), 7.28-7.44 (10H, m).
【０１１９】
参考例３  (3R*)-2-ヒドロキシ-3-[(S*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]ピロリジン-1-カルボン酸ベンジル
【化２８】
2011256110.tif 000029
(3R*)-3-[(S*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]-2-オキソピロリジン-1-カルボン酸ベンジル (1.09 g) のトルエン (35 ml) 溶液に、アルゴン雰囲気下 78℃で 水素化ジイソブチルアルミニウム (0.99M, 7.09 ml) を滴下した。反応液を 78℃にて１時間攪拌後、メタノールを加え反応を停止させ、室温で攪拌した。不溶物を濾過操作にて除去後、濾液を濃縮した後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (1:2→2:3 v/v)で溶出し、標記化合物 (160 mg) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.91-2.10 (1H, m), 2.37-2.55 (1H, m), 3.21-3.68 (3H, m), 4.55-4.88 (1H, m), 5.13-5.64 (1H, m), 5.14 (2H, s), 7.29-7.41 (10H, m).
【０１２０】
参考例４  (3R*)-3-[(S*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]-2-メトキシピロリジン-1-カルボン酸ベンジル (高極性ジアステレオマー体、低極性ジアステレオマー体；立体配置は未決定)
【化２９】
2011256110.tif 000030
(3R*)-2-ヒドロキシ-3-[(S*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]ピロリジン-1-カルボン酸ベンジル (139 mg) のメタノール (4.5 ml) 溶液に、10-カンファスルホン酸 (9.80 mg) を室温で加えた。反応液を 30分間攪拌後、トリエチルアミン (9.00 μl) を加え液性を塩基性にした。濃縮後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、クロロホルム-酢酸エチル (9:1 v/v)で溶出し、第一溶出部より標記化合物 (低極性ジアステレオマー, 55.1 mg) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.53-2.19 (2H, m), 2.29-2.39 (1H, m), 3.32-3.58 (5H, m), 4.76-4.83 (1H, m), 5.08-5.22 (1H, m), 7.35-7.38 (10H, m).
第二溶出部より標記化合物 (高極性ジアステレオマー, 64.6 mg) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.36-1.48 (1H, m), 1.90-2.04 (1H, m), 2.50 (1H, t, J = 8.0 Hz), 3.30-3.47 (5H, m), 4.33 (1H, dd, J = 42 Hz, 8.0 Hz), 5.14-5.28 (2H, m), 5.45 (1H, d, J = 42 Hz), 7.28-7.42 (10H, m).
【０１２１】
参考例５  (3R*)-3-[(R*)-{(4-ブロモフェニル)[(2-ニトロフェニル)スルホニル]アミノ}(フェニル)メチル]-2-メトキシピロリジン-1-カルボン酸ベンジル
【化３０】
2011256110.tif 000031
(3R*)-3-[(S*)-ヒドロキシ(フェニル)メチル]-2-メトキシピロリジン-1-カルボン酸ベンジル (低極性ジアステレオマー体, 10.0 mg, 29.3 μmol)、N-(4-ブロモフェニル)-2-ニトロベンゼンスルホンアミド (15.7 mg)、トリフェニルホスフィン (23.0 mg) のトルエン溶液 (0.4 ml) に、アルゴン雰囲気下、ジイソプロピル アゾジアルボキシレート (1.9M, 46.0 μl)を添加した。反応液を 50℃にて１時間攪拌後、酢酸エチルを加え濃縮した。濃縮後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、 (i) クロロホルム、(ii) トルエン-酢酸エチル (20:1 v/v)、(iii) ヘキサン-酢酸エチル (2:1 v/v) で溶出し、標記化合物 (14.6 mg) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.31-2.42 (2H, m), 2.49-2.63 (1H, m), 2.82 and 2.98 (total 3H, s), 3.37-3.68 (2H, m), 4.38-4.52 (1H, m), 4.93-5.22 (2H, m), 5.63 (1H, d, J = 9.6 Hz), 6.55 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.01 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.16-7.67 (10H, m).
【０１２２】
参考例６  (3R*)-3-[(R*)-[(4-ブロモフェニル)アミノ](フェニル)メチル]-2-メトキシピロリジン-1-カルボン酸ベンジル
【化３１】
2011256110.tif 000032
(3R*)-3-[(R*)-{(4-ブロモフェニル)[(2-ニトロフェニル)スルホニル]アミノ}(フェニル)メチル]-2-メトキシピロリジン-1-カルボン酸ベンジル(12.0 mg)、炭酸カリウム (4.40 mg) のアセトニトリル溶液 (0.5 ml) に、チオフェノール (3.30 μl)を室温で添加した。反応液を 70℃にて２時間攪拌後、濾過操作により不溶物を取り除いた。濾液を濃縮後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、トルエン-酢酸エチル (20:1 v/v) で溶出し、標記化合物 (7.80 mg) を無色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.10-2.32 (3H, m), 3.16-3.62 (5H, m), 4.34 (1H, br s), 4.47-4.74 (2H, m), 4.98-5.22 (2H, m), 6.37-6.45 (2H, m), 7.11-7.42 (12H, m).
【０１２３】
参考例７  3-(メトキシアセチル)-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン
【化３２】
2011256110.tif 000033
リチウムジイソプロピルアミド (ジイソプロピルアミン (19.2 g) および n-ブチルリチウム (1.6M, 110 ml) より調製) の テトラヒドロフラン/n-ブチルリチウム (250 ml-110 ml) 溶液に、1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン (23.7 g) のテトラヒドロフラン (75 ml) 溶液を窒素雰囲気下 -78℃で加え、30分間攪拌した。メトキシ酢酸メチル (22.8 ml) を滴下した後、反応液を室温まで昇温し、16時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1 v/v)→酢酸エチルで溶出し、標記化合物 (30.1 g)を淡黄色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.96-2.10 (1H, m), 2.45-2.61 (1H, m), 3.16-3.40 (2H, m), 3.46 (3H, s), 3.69 (1H, dd, J = 9.3, 6.5 Hz), 3.80 (3H, s), 4.26 (1H, d, J = 17.9 Hz), 4.30-4.44 (2H, m), 4.65 (1H, d, J = 17.9 Hz), 6.79-6.92 (2H, m), 7.08-7.18 (2H, m).
【０１２４】
参考例８  (3Z)-3-(1-アニリノ-2-メトキシエチリデン)-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン
【化３３】
2011256110.tif 000034
3-(メトキシアセチル)-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン (30.1 g) とアニリン(10.1 g) のトルエン/シクロヘキサン (400 ml, 1:3 v/v) 溶液に、p-トルエンスルホン酸一水和物 (0.52 g) を加え、ディーン・スターク装置を用い 2時間加熱還流した。室温まで冷却後、反応液を減圧下溶媒留去した後、残留物をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1 v/v)→酢酸エチルで溶出し、標記化合物の粗生成物を淡黄色油状物として得た。得られた粗生成物を 50℃でジイソプロピルエーテル (200 ml) に溶解し、攪拌した。種結晶を加え、液温を0℃に下げ得られた結晶を、濾別後、減圧乾燥し、標題化合物 (24.2 g) を淡黄色結晶として得た。濾液を濃縮後、残留物をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1 v/v)→酢酸エチルで溶出した後、上記と同様の再結晶法を行なうことで、標記化合物 (2.6 g)を淡黄色結晶として得た。融点 67 ℃。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.77 (2H, t, J = 7.3 Hz), 3.23-3.32 (2H, m), 3.37 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.05 (2H, s), 4.42 (2H, s), 6.82-6.91 (2H, m), 7.00 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.07 (2H, d, J = 7.5 Hz), 7.15-7.33 (4 H, m), 10.11 (1H, s).
【０１２５】
参考例９  (3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン
【化３４】
2011256110.tif 000035
[Rh(COD)2]OTf（Tfは、トリフルオロメタンスルホニル基を示す） (53.4 mg) と (S)-1-[(R)-2-ジ-(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル) ホスフィノフェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスフィン (101 mg) を含むシュレンク管に、アルゴン雰囲気下、脱気メタノール (10 ml) を加えた。20分間攪拌後、調製した触媒溶液を、(3Z)-3-(1-アニリノ-2-メトキシエチリデン)-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン (1.0 g) のメタノール (10 ml) 溶液が入ったガラスオートクレーブ容器に移した。反応液を水素雰囲気下 (1MPa)、50℃で24時間攪拌した。上記の操作を再度行ない、得られた二つの反応液を併せた後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1 v/v)→酢酸エチルで溶出し、標記化合物の粗生成物 (1.76 g) を淡黄色固体として得た。得られた粗生成物を60℃でジイソプロピルエーテル (40 ml) に溶解し、攪拌した。ヘキサン (20 ml) と種結晶を加え、さらにヘキサン (60 ml) を滴下した。液温を0℃に下げさらに1時間攪拌後、結晶を濾別、減圧乾燥し、標題化合物 (1.26 g) を淡黄色結晶として得た。融点 56 ℃。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.00-2.15 (2H, m), 2.80-2.86 (1H, m), 3.11-3.20 (2H, m), 3.31 (3H, s), 3.48-3.52 (1H, m), 3.61-3.66 (1H, m), 3.77 (3H, s), 4.02-4.08 (1H, m), 4.28 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.41 (1H, d, J = 14.4 Hz), 6.65-6.80 (5H, m), 7.09-7.20 (4H, m).
【０１２６】
参考例１０  (3S)-3-[(1S)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン  および／または  (3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン
【化３５】
2011256110.tif 000036
(3Z)-3-(1-アニリノ-2-メトキシエチリデン)-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン (88 mg)、[Rh(COD)2]OTf（Tfは、トリフルオロメタンスルホニル基を示す）(4.6 mg)、および光学活性ホスフィン (表１（表１−１））を含むガラスオートクレーブに、脱気メタノール (2.5 ml) を加え、水素雰囲気下 (1MPa)、50℃で24時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した。収率、鏡像体過剰率を表１（表１−２）に示す。
【０１２７】
［表１］
【表１−１】
2011256110.tif 000037
【表１−２】
2011256110.tif 000038
【０１２８】
参考例１１  (3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-2-オキソピロリジン-1-カルボン酸 tert-ブチル
【化３６】
2011256110.tif 000039
(3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-1-(4-メトキシベンジル)ピロリジン-2-オン (1.0 g) とアニソール (6.1 ml) を含む トリフルオロ酢酸 (9.0 ml) 溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸 (5.0 ml) を加え、反応液を70℃で20時間攪拌した。減圧濃縮後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で処理し、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1 v/v)→酢酸エチル→酢酸エチル-メタノール (9:1 v/v) で溶出し、(3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]ピロリジン-2-オンの粗生成物を得た。アセトニトリル (25 ml) に溶解後、二炭酸ジ-tert-ブチル (0.81 ml) とN,N-ジメチル-4-アミノピリジン (412 mg) を室温で加え、16時間攪拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出後、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (4:1→1:2 v/v)で溶出し、標記化合物 (686 mg)を淡黄色油状物として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.51 (9H, s), 1.94-2.22 (2H, m), 2.85-2.96 (1H, m), 3.34 (3H, s), 3.48-3.80 (4H, m), 4.01 (1H, br s), 4.23 (1H, d, J = 8.7 Hz), 6.63-6.77 (3H, m), 7.10-7.21 (2H, m).
【０１２９】
実施例１
(3aR*,4R*,9bR*)-8-ブロモ-4-フェニル-2,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-1H-ピロロ[3,2-c]キノリン-1-カルボン酸 ベンジル
【化３７】
2011256110.tif 000040
(3R*)-3-[(R*)-[(4-ブロモフェニル)アミノ](フェニル)メチル]-2-メトキシピロリジン-1-カルボン酸 ベンジル (26.4 mg) のジクロロメタン溶液 (2 ml) に、アルゴン雰囲気下、室温にて 10-カンファスルホン酸 (5.00 mg) を加え、30分間攪拌した。反応液にトリエチルアミンを加え、液性を塩基性にした後、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1→2:1 v/v)で溶出し、標記化合物 (19.7 mg)をアモルファスとして得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.02-2.21  (1H， m)， 2.51-2.59  (1H， m)， 3.32-3.49  (1H， m)， 3.93  (1H， s)， 4.66-4.73  (1H， m)， 5.16-5.47  (4H， m) 6.44-6.51  (1H， m)， 7.10-7.82  (12H， m).
【０１３０】
実施例２
(3aR,4R,9bR)-4-(メトキシメチル)-2,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-1H-ピロロ[3,2-c] -キノリン-1-カルボン酸 t-ブチル
【化３８】
2011256110.tif 000041
(3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-2-オキソピロリジン-1-カルボン酸 t-ブチル (350 mg) の乾燥 THF (7.0 ml) 溶液に、水素化トリエチルホウ素リチウム (1M, 1.58 ml) を窒素雰囲気下 78℃で滴下し、１時間攪拌した。反応液を水で処理し、酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒留去し、(3R)-3-[(1R)-1-アニリノ-2-メトキシエチル]-2-ヒドロキシピロリジン-1-カルボン酸 tert-ブチル
【化３９】
2011256110.tif 000042
の粗生成物を得た。得られた粗生成物をメタノール (7.0 ml) に溶解した後、室温にて 10-カンファスルホン酸 (293 mg) を加えた。二時間攪拌後、トリエチルアミン (0.29 ml)を加え、濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサン-酢酸エチル (9:1→1:1 v/v)で溶出して、標記化合物 (313 mg) を無色油状物として得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.46-1.63 (9H, m), 1.68-2.44 (3H, m), 3.24-3.55 (4H, m), 3.41 (3H, s), 3.74 (1H, br s), 4.08-4.24 (1H, m), 5.11-5.33 (1H, m), 6.51 (1H, dd, J = 7.9, 0.9 Hz), 6.71 (1H, t, J = 7.0 Hz), 7.02 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.41-7.70 (1H, m).