(57)【要約】      （修正有）【課題】成形後のガラス基板の型離れが良好で、しかも、研磨加工等の後工程を短時間で行い得るガラス基板を成形できるガラス基板成形用金型及びガラス基板製造方法の提供する。【解決手段】上型の第２押圧成形面及び下型３の第１押圧成形面３１は、第１領域３２と、第１領域３２の外周側に第１領域３２を囲むように配設された第２領域３３とを備えている。又、第１領域３２は、第２領域３３よりも表面粗さが大きくなるように構成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１押圧成形面と第２押圧成形面との間に配設された溶融状のガラス素材を、前記第１押圧成形面と第２押圧成形面とで押圧することによって板状のガラス基板に成形するガラス基板成形用金型であって、
前記第１押圧成形面と第２押圧成形面との少なくとも一方は、第１領域と、前記第１領域の外周側に前記第１領域を囲むように配設された第２領域とを備え、
前記第１領域は、前記第２領域よりも表面粗さが大きくなるように構成されていることを特徴とするガラス基板成形用金型。
【請求項２】
前記ガラス基板成形用金型は、上型と、下型とを備え、
前記第１押圧成形面は、前記下型に設けられ、
前記第１領域は、前記第１押圧成形面の中心部を含むように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板成形用金型。
【請求項３】
前記第１領域は、円形状に形成されているとともに、その径方向に所定幅で、全周に渡って区画された複数の区画領域を備え、
前記複数の区画領域は、互いに隣接する２つのうちの径外側のものが径内側のものよりも表面粗さが小さくなるようにして配設されていることを特徴とする請求項１又は２記載のガラス基板成形用金型。
【請求項４】
前記第１領域は、円形状に形成されているとともに、その径方向外側に行くに従って漸次表面粗さが小さくなるように構成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のガラス基板成形用金型。
【請求項５】
前記第１領域は、その表面粗さが０．１μｍ〜３μｍの範囲になるように構成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のガラス基板成形用金型。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載のガラス基板成形用金型を用いてガラス基板を成形するガラス基板製造方法であって、
前記第１押圧成形面と第２押圧成形面との間に溶融状のガラス素材を配設し、前記第１押圧成形面と第２押圧成形面とで前記ガラス素材を押圧することにより板状のガラス基板を得ることを特徴とするガラス基板製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板成形用金型及びガラス基板製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、板状のガラス基板を製造するガラス基板製造方法として、例えば押圧成形面を有する上型と押圧成形面を有する下型とを備えたガラス基板成形用金型を用いて行なう方法が知られている。この方法は、下型の押圧成形面に供給された溶融状のガラス素材を、下型の押圧成形面と上型の押圧成形面とで押圧して板状のガラス基板に成形する。しかし、下型の押圧成形面及び上型の押圧成形面を平滑な面に形成していると成形後のガラス基板が押圧成形面から外れに難くなり、ガラス基板の型離れが悪くなるという問題点がある。
【０００３】
一方、押圧成形面に粗面領域を形成したガラス基板成形用金型を用いて行なうものとして、例えば特許文献１に開示されたものがある。この方法は、上型の押圧成形面を、平滑領域と、平滑領域の外周側に配設され平滑領域よりも表面粗さが粗い粗面領域とで構成しておき、上型の押圧成形面と下型の押圧成形面との間に配設された溶融状のガラス素材をそれらの両押圧成形面で押圧して円板状のガラス基板を成形するようにしたものである。このような粗面領域を設けたものであれば、ガラス基板の型離れを改善できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２０８０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、例えば得られたガラス基板を情報記録媒体用として使用する場合は、その得られたガラス基板の中心部を取り除いてドーナツ状に形成した後、その表面を研磨加工等する。
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に開示のもののように、平滑領域の外周側に粗面領域を配設したのでは、その粗面領域の全体を平滑面になるまで研磨加工しなければならず、研磨加工等の後工程に時間がかかることになる。
【０００７】
本発明は、成形後のガラス基板の型離れが良好で、しかも、研磨加工等の後工程を短時間で行い得るガラス基板を成形できるガラス基板成形用金型及びガラス基板製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の一態様に係るガラス基板成形用金型は、互いに対向する第１押圧成形面と第２押圧成形面との間に配設された溶融状のガラス素材を、前記第１押圧成形面と第２押圧成形面とで押圧することによって板状のガラス基板に成形するガラス基板成形用金型であって、前記第１押圧成形面と第２押圧成形面との少なくとも一方は、第１領域と、前記第１領域の外周側に前記第１領域を囲むように配設された第２領域とを備え、前記第１領域は、前記第２領域よりも表面粗さが大きくなるように構成されていることを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、第１領域によって、成形後のガラス基板の型離れを良好にできる。また、例えば情報記録媒体用として使用する場合には、中心部に貫通孔を形成した後に両面を研磨するが、その貫通孔を形成する際に、第１領域を殆ど除去できる。従って、その後の研磨で第１領域を除去するための時間を短くできる。
【００１０】
他の一態様では、上述のガラス基板成形用金型において、前記ガラス基板成形用金型は、上型と、下型とを備え、前記第１押圧成形面は、前記下型に設けられ、前記第１領域は、前記第１押圧成形面の中心部を含むように構成されているものとすることができる。
【００１１】
ガラス素材を第１押圧成形面に供給する際、真円度の高いものにするためには第１押圧成形面の中心部に滴下し始めるのが好ましいが、最初に滴下される下型の第１押圧成形面の中心部は、ガラス素材が最も温度の高い状態で供給される。そのため、例えば第１押圧成形面の中心部の表面粗さ（Ｒａ）が平滑な面になっている場合には、その中心部にガラス素材が強固に接着し（融着）、成形後のガラス基板が離れ難くなり、引き剥がしに大きな力が要ると共に、引き剥がした際に、上記中心部に接着したガラス素材の一部が破断して接着したまま残ってしまう場合がある。このような場合には、第１押圧成形面を再研磨等しなければ使用できず、工程が中断してしまう。
【００１２】
そこで、上記のように構成することにより、第１領域を、下型の第１押圧成形面の中心部を含むように構成すれば、供給されたガラス素材と第１領域との間に空気を介在させることができ、小さい力で容易に剥がすことができるとともに、ガラス素材の一部が破断して接着したまま残ってしまうようなことを防止できる。
【００１３】
また、他の一態様では、上述のガラス基板成形用金型において、前記第１領域は、円形状に形成されているとともに、その径方向に所定幅で、全周に渡って区画された複数の区画領域を備え、前記複数の区画領域は、互いに隣接する２つのうちの径外側のものが径内側のものよりも表面粗さが小さくなるようにして配設されている構成とできる。
【００１４】
この構成によれば、例えば最もガラス素材が接着し易い径内側の区画領域を、研磨工程で除去するのに時間を要する程度の大きさに粗くしておいても、情報記録媒体用基板に形成する際の貫通孔の穴あけで除去できる大きさにできる。その一方、径外側の区画領域を、研磨工程で比較的除去し易い程度の表面粗さで広範囲に形成でき、成形後の型離れを良好にできる。
【００１５】
また、他の一態様では、上述のガラス基板成形用金型において、前記第１領域は、円形状に形成されているとともに、その径方向外側に行くに従って漸次表面粗さが小さくなるように構成されているものとすることができる。
【００１６】
この構成によれば、情報記録媒体用基板に形成する際の中心部の貫通孔の穴あけで、表面粗さの大きい部分を除去できるとともに、その除去した後の第１領域は、径方向に表面粗さの差が大きい部分がなく、研磨工程で除去し易いものにできる。
【００１７】
また、他の一態様では、これら上述の何れかのガラス基板成形用金型において、前記第１領域は、その表面粗さが０．１μｍ〜３μｍの範囲になるように構成されているものとすることができる。
【００１８】
この構成によれば、これにより、成形後のガラス基板の型離れをよくできるとともに、研磨工程での除去時間が長くなるのを抑えることができる。
【００１９】
又、本発明の一態様に係るガラス基板製造方法は、これら上述の何れかのガラス基板成形用金型を用いてガラス基板を成形するガラス基板製造方法であって、前記第１押圧成形面と第２押圧成形面との間に溶融状のガラス素材を配設し、前記第１押圧成形面と第２押圧成形面とで前記ガラス素材を押圧することにより板状のガラス基板を得ることを特徴とする方法である。
【００２０】
この構成によれば、成形後のガラス基板の型離れが良好で、しかも、研磨加工等の後工程を短時間で行うことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明にかかるガラス基板成形用金型は、成形後のガラス基板の型離れが良好で、しかも、研磨加工等の後工程を短時間で行い得るガラス基板を成形できる。そして、ガラス基板の型離れが良好で、研磨加工等の後工程を短時間で行い得るガラス基板製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態のガラス基板成形用金型の要部の正面図である。
【図２】図１の下型の平面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線の一部を省略した拡大断面図である。
【図４】下型の第１押圧成形面にガラス素材を供給する際の説明図である。
【図５】ガラス素材を下型の第１押圧成形面と上型の第２押圧成形面とで押圧した状態の要部の正面図である。
【図６】第２実施形態の下型の平面図である。
【図７】図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線の一部を省略した拡大断面図である。
【図８】第３実施形態の下型の平面図である。
【図９】図８のＩＸ−ＩＸ線の一部を省略した拡大断面図である。
【図１０】成形したガラス基板の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態のガラス基板成形用金型の要部の正面図である。
【００２４】
本発明のガラス基板成形用金型１は、ガラス基板、例えば情報記録媒体用に供されるものを成形する金型である。この第１実施形態のガラス基板成形用金型１は、上型２と、上型２の下方側に配設された下型３とを備えている。
【００２５】
下型３は、その上面に、円形状の第１押圧成形面３１を備えている。この第１押圧成形面３１は、後述の上型２の第２押圧成形面２１と対向し、第１押圧成形面３１と第２押圧成形面２１との間に配設された溶融状のガラス素材１０を、第１押圧成形面３１と第２押圧成形面２１とによって所定厚さの円板状に押圧成形できるようになっている（図５参照）。
【００２６】
第１押圧成形面３１は、図２、図３に示すように、径内側の円形状の第１領域３２と、第１領域３２の径外側（外周側）に、第１領域３２を囲むように第１領域３２の全周部に配設された第２領域３３とを備えている。
【００２７】
第１領域３２は、この実施形態では、第１押圧成形面３１の中心Ｏを中心とする円形状の領域で、その直径Ｒ１が２５ｍｍである。この第１領域３２の表面粗さ（Ｒａ）は、３．０μｍになるように形成されている。尚、表面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１に規定されている算術平均高さのことであり、例えば触針式表面粗さ測定機を用いて測定できる。
【００２８】
第２領域３３は、第１領域３２と同心の円環状の領域で、その外周の直径Ｒ２が６５ｍｍで、内周の直径が２５ｍｍである。この第２領域３３の表面粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍになるように形成されている。
【００２９】
これらの第１領域３２と第２領域３３とは、例えば、次のようにして形成できる。第１押圧成形面３１を、例えば研磨加工又は研削加工を施して形成するに際して調整することによって行なう。或いは、第１領域３２及び第２領域３３を研磨加工等によって表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍになるように形成し、その後、第１領域３２をブラスト処理或いはエッチング処理によって粗面化させて表面粗さ（Ｒａ）が３．０μｍになるように形成する。
【００３０】
又、この実施形態の下型３は、図示しないカートリッジヒーター（インサートヒーター）等の加熱部材によって第１押圧成形面３１が所定の温度で保持され得るように構成されている。尚、この第１押圧成形面３１の温度は、特に限定されないが、用いるガラス素材のガラス転移点（Ｔｇ）に対してー２００°Ｃ〜＋１００°Ｃの範囲（この実施形態では、５００°Ｃ）に保持するのが好ましい。
【００３１】
又、この実施形態では、下型３は、図示しない駆動装置によって、図１の上下方向に移動可能とされており、これにより、第１押圧成形面３１が後述の上型２の第２押圧成形面２１に退行・接近する方向に移動可能になっている。
【００３２】
尚、この下型３の材質は、特に限定されず、例えばステンレス、超硬合金、鋳鉄、セラミック等を使用できる。
【００３３】
上型２は、図１に示すように、その下面に、円形状の第２押圧成形面２１を備えている。又、この実施形態では、第２押圧成形面２１は、第１押圧成形面３１と同様に、図示しないが第１領域と第２領域とを備えている。これらの第１領域と第２領域との夫々は、第１押圧成形面３１の第１領域３２、第２領域３３と同構成を採っている。
【００３４】
又、この上型２も、下型３と同様に、図示しないカートリッジヒーター（インサートヒーター）等の加熱部材によって、第２押圧成形面２１が所定の温度で保持され得るように構成されている。尚、この第２押圧成形面２１の温度も、特に限定されないが、用いるガラス素材のガラス転移点（Ｔｇ）に対してー２００°Ｃ〜＋１００°Ｃの範囲に保持するのが好ましい。
【００３５】
尚、この上型２の材質についても、特に限定されず、例えばステンレス、超硬合金、鋳鉄、セラミック等を使用できる。
【００３６】
次に、このガラス基板成形用金型１を用いてガラス基板を成形する方法について説明する。まず、溶融状（この実施形態では１１００°Ｃ〜１２００°Ｃの状態）にしたガラス素材１０を、下型３の第１押圧成形面３１に供給する。
【００３７】
このガラス素材１０としては、例えばＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、ＣａＯを主成分としたソ−ダライムガラス、又は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｒ２Ｏ（Ｒ＝Ｋ，Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス、或いは、Ｌｉ２Ｏ−ＳｉＯ２系ガラス、さらには、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス等を使用できるが、これに限定されず、種々のものを使用できる。
【００３８】
又、ガラス素材１０を、第１押圧成形面３１に供給する際、図４に示すように第１押圧成形面３１の中心Ｏの位置に滴下し始めるのが好ましい。これにより、ガラス素材１０を、真円度の高い円形状に押圧できる。
【００３９】
その後、下型３を上昇させ、第１押圧成形面３１に供給されたガラス素材１０を、第１押圧成形面３１と上型２の第２押圧成形面２１とで押圧する。これにより、所定厚さの円板状のガラス基板１０ａを得ることができる。
【００４０】
その後、下型３を下降させ、ガラス基板１０ａを金型１から取り出すが、その際、上型２の第２押圧成形面２１及び下型３の第１押圧成形面３１が表面粗さ（Ｒａ）３．０μｍの第１領域３２を備えているため、容易に剥がすことができる。
【００４１】
又、溶融状のガラス素材１０が供給される際に最初に滴下される下型３の第１押圧成形面３１の中心Ｏ及びその近傍は、ガラス素材１０の温度が最も高い状態で供給される。そのため、例えば下型３の中心Ｏ及びその近傍の表面粗さ（Ｒａ）が、例えば０．１μｍ以下の平滑な面になっているような場合には、第１押圧成形面３１にガラス素材１０が強固に接着し（融着）、成形後のガラス基板が離れ難くなり、引き剥がしに大きな力が要ると共に、引き剥がした際に、上記中心Ｏ及びその近傍に接着したガラス素材１０の一部が破断して接着したまま残ってしまう場合がある。このような場合には、第１押圧成形面３１を再研磨等しなければ使用できず、工程が中断してしまう。
【００４２】
しかし、この実施形態では、第１押圧成形面３１の中心部に第１領域３２が配設されているため、供給されたガラス素材１０と第１領域３２との間に空気を介在させることができ、小さい力で容易に剥がすことができるとともに、ガラス素材の一部が破断して接着したまま残ってしまうようなことを防止できる。
【００４３】
このようにして得られたガラス基板１０ａは、図１０に示すように、その両面１１夫々に、上型２の第２押圧成形面２１、下型３の第１押圧成形面３１が転写されており、第１領域が転写された径内側の第１領域転写部１１ａと、第２領域が転写された径外側の第２領域転写部１１ｂとを備えている。
【００４４】
以上のようにして得たガラス基板１０ａは、この実施形態では、機械加工等の加工が施されてドーナツ状の情報記録媒体用基板に成形される。
【００４５】
より詳しくは、得れられたガラス基板１０ａは、その中心部が、コアドリル等で穴あけされ、例えば直径２０ｍｍの大きさの貫通孔１２（図１０の一点鎖線で示す）が形成されてドーナツ状に形成される。従って、この状態で、第１領域転写部１１ａが殆ど除去される。
【００４６】
その後、両面１１が研磨（研削を含む）されて平滑な面（例えば表面粗さが０．２ｎｍ〜０．４ｎｍの面）に形成されるが、その研磨に際して、第１領域転写部１１ａを殆ど研磨することなく、表面粗さが第１領域転写部１１ａよりも小さい第２領域転写部１１ｂを研磨すればよく、容易に短時間で平滑面に形成できる。従って、第１領域転写部１１ａを有しないものを研磨する場合に比べて、研磨工程に要する時間が殆ど差違のないものにできる。
【００４７】
次に、第２実施形態のガラス基板成形用金型１００について、図６及び図７に基づいて説明する。第２実施形態の下型１３０の第１押圧成形面１３１及び上型１２０の第２押圧成形面１２１は、先の第１実施形態のものと同様に、第１領域１３２、１２２と、第２領域１３３、１２３とを備えている。
【００４８】
下型１３０の第１領域１３２は、この第２実施形態では、第１押圧成形面１３１の中心Ｏを中心とする円形状の領域で、その直径Ｒ３が３０ｍｍである。又、第１領域１３２は、径方向に所定幅で全周に渡って区画された複数（この第２実施形態では２つ）の区画領域１３２ａ、１３２ｂを備えている。
【００４９】
２つの区画領域は、互いに隣接するうちの径外側の径大区画領域１３２ｂが径内側の径小区画領域１３２ａよりも表面粗さが小さくなるようにして配設されている。より詳しくは、径小区画領域１３２ａは、上記中心Ｏを中心にした直径Ｒ４が１０ｍｍの円形状の領域で、その表面粗さ（Ｒａ）は、３．０μｍに形成されている。
【００５０】
径大区画領域１３２ｂは、径小区画領域１３２ａと同心で、内径が１０ｍｍで、外径が３０ｍｍのドーナツ状の領域で、その表面粗さ（Ｒａ）は、１．０μｍに形成されている。
【００５１】
第２領域１３３は、内径が３０ｍｍで、外径が６５ｍｍのドーナツ状の領域で、その表面粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍに形成されている。
【００５２】
上型１２０の第２押圧成形面１２１の第１領域１２２と第２領域１２３とは、下型１３０の第１領域１３２、第２領域１３３夫々と同構成を採っている。第２実施形態のその他は、先の第１実施形態のものと同構成を採っている。
【００５３】
この第２実施形態のように構成することにより、最もガラス素材が接着し易い径小区画領域１３２ａを、研磨工程で除去するのに時間を要する程度の大きさに粗くしておいても、情報記録媒体用基板に形成する際の貫通孔１２の穴あけで除去できる。その一方、径外側の区画領域１３２ｂを、研磨工程で比較的除去し易い程度の表面粗さで広範囲に形成でき、成形後の型離れを良好にできる。
【００５４】
次に、第３実施形態のガラス基板成形用金型２００について、図８及び図９に基づいて説明する。第２実施形態の下型２３０の第１押圧成形面２３１及び上型２２０の第２押圧成形面２２１も、先の第１実施形態のものと同様に、第１領域２３２、２２２と、第２領域２３３、２２３とを備えている。
【００５５】
下型１３０の第１領域２３２は、この第３実施形態では、第１押圧成形面２３１の中心Ｏを中心とする円形状の領域で、その直径Ｒ５が３０ｍｍである。第１領域２３２の表面粗さ（Ｒａ）は、径外側（外周側）に行くに従って漸次小さくなるように構成されている。
【００５６】
詳しくは、第１領域２３２は、その中心Ｏで表面粗さ（Ｒａ）が最も大きく、３．０μｍに形成されている。そして、径外側（外周側）に行くに従ってその表面粗さ（Ｒａ）が漸次小さくなるように形成され、第２領域２３３との境界で第２領域２３３と同じになるように形成されている。
【００５７】
第２領域２３３は、その表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍになるように形成されている。
【００５８】
上型２２０の第２押圧成形面２２１の第１領域２２２と第２領域２２３とは、下型２３０の第１領域２３２、第２領域２３３夫々と同構成を採っている。第３実施形態のその他は、先の第１実施形態のものと同構成を採っている。
【００５９】
この第３実施形態のように構成することにより、径方向外側に漸次表面粗さを小さくしているため、情報記録媒体用基板に形成する際の貫通孔１２の穴あけで、表面粗さの大きい部分を除去できるとともに、その除去した後の第１領域２３２は、径方向に表面粗さの差が大きい部分なく、研磨工程で比較的除去し易いものにできる。
【００６０】
尚、上記実施形態では、上型の第２押圧成形面と下型の第１押圧成形面とに、夫々、第１領域と第２領域とを形成したが、この形態のものに限らず、適宜変更でき、上型の第２押圧成形面と下型の第１押圧成形面との何れか一方に、第１領域と第２領域とを形成すればよい。
【００６１】
ただし、下型の第１押圧成形面の中心及びその近傍は、溶融状のガラス素材１０が供給される際に最初に滴下されてガラス素材が強固に接着しやすいので、少なくとも下型の第１押圧成形面に第１領域と第２領域とを形成しておくのが好ましい。
【００６２】
又、上型の第２押圧成形面と下型の第１押圧成形面との夫々に、第１領域と第２領域とを形成する場合において、第２押圧成形面と下型の第１押圧成形面との夫々の第１領域を同じにしてもよいが、異なるものにしてもよい。
【００６３】
又、第１領域の表面粗さの大きさは、特に限定されない。ただし、表面粗さが０．１μｍよりも小さくなると、成形後のガラス基板の型離れをよくできなくなる。一方、表面粗さが３．０μｍを超えると、研磨工程での除去時間が長くなってしまう。従って、第１領域を、０．１μｍよりも小さく、３．０μｍを超えない範囲内の表面粗さのものにしておくのが好ましい。
【００６４】
又、第１領域の大きさについても、特に限定されない。ただし、情報記録媒体用基板に形成する際にあける貫通孔１２と同程度の大きさ又はそれ以下の大きさのものにしておけば、貫通孔１２をあける際に、全部又は大部分を除去できる点で好ましい。
【００６５】
又、上記実施形態では、下型３を上側に可動させるようにしているが、この形態のものに限らず、適宜変更できる。例えば下型３を可動させずに上型２を下側に可動させるようにし、或いは、下型３を上側に可動させるとともに、上型２を下側に可動させるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６６】
１、１００、２００    ガラス基板成形用金型
２、１２０、２２０    上型
３、１３０、２３０    下型
３１、１３１，２３１    第１押圧成形面
２１、１２１、２２１    第２押圧成形面
３２、１３２，２３２    第１領域
３３、１３３，２３３    第２領域
１０    ガラス素材
１０ａ    ガラス基板
【図１】
2011256052.tif 000003
【図２】
2011256052.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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