(57)【要約】【課題】瞳面における露光光ＥＬの強度分布を調整できる露光装置等を提供する。【解決手段】  二次元面内に配置された複数の反射面を有する反射光学部材１６は、複数の反射面の間の少なくとも一部に設けられ、反射面に入射する入射光又は反射面によって反射される反射光の少なくとも一方の光量を調整する調整部材２２を備えている。  調整部材２２は、複数の反射面の間から出し入れ可能であり、反射面からの調整部材２２の突出量を個別に調整することで、照明光学系または投影光学系の瞳面、またはこの瞳面と共役な位置における露光光ＥＬの強度分布を補正することができる。【選択図】図３
2011129576.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次元面内に配置された複数の反射面を有する反射光学部材において、
前記複数の反射面の間の少なくとも一部に設けられ、前記反射面に入射する入射光または前記反射面によって反射される反射光の少なくとも一方の光量を調整する調整部材を備えたことを特徴とする反射光学部材。
【請求項２】
前記複数の反射面は、反射面が形成された複数の反射光学素子を前記二次元面内に配置することによって形成されることを特徴とする請求項１に記載の反射光学部材。
【請求項３】
前記調整部材は、前記調整部材を構成する材質又は前記調整部材の表面に形成された薄膜により、前記入射光又は前記反射光の少なくとも一方を吸収又は反射の少なくとも一方を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射光学部材。
【請求項４】
前記調整部材は、熱膨張率が互いに異なる複数の材質の組み合わせによって形成されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の反射光学部材。
【請求項５】
前記調整部材は、導電性材料で形成されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の反射光学部材。
【請求項６】
入射した照明光を反射する反射光学装置において、
二次元面内に配置された複数の反射面を有する反射光学部材と、
前記複数の反射面の間の少なくとも一部に設けられる調整部材と、
前記調整部材を駆動し、前記反射面に入射する照明光または前記反射面によって反射される照明光の少なくとも一方の光量を調整する駆動装置とを備える反射光学装置。
【請求項７】
前記駆動装置は、前記複数の反射面の間から突出する前記調整部材の突出量を調整することを特徴とする請求項６に記載の反射光学装置。
【請求項８】
前記調整部材は、導電性部材によって構成され、
前記調整部材と前記反射光学素子との間に設けられ、前記導電性部材と前記反射光学素子との間の電気的な性質を遮断する絶縁部材を有し、
前記駆動装置は、前記反射光学素子と前記導電性部材との間に印加する電圧を調整することを特徴とする請求項６に記載の反射光学装置。
【請求項９】
前記駆動装置は、前記反射光学素子と前記調整部材との間に印加する電圧値を調整することにより、前記調整部材を前記反射面側に湾曲させることを特徴とする請求項８に記載の反射光学装置。
【請求項１０】
前記調整部材は、熱膨張率が互いに異なる複数の材質の組み合わせによって構成されることを特徴とする請求項６に記載の反射光学装置。
【請求項１１】
前記駆動装置は、前記調整部材の温度を調整することを特徴とする請求項１０に記載の反射光学装置。
【請求項１２】
前記駆動装置は、前記調整部材を加熱又は冷却の少なくとも一方を行うことにより、前記調整部材を前記反射面側に湾曲させることを特徴とする請求項１１に記載の反射光学装置。
【請求項１３】
複数の反射光学部材を用いて、物体を照明する照明光学系において、
前記複数の反射光学部材のうち少なくとも一つは、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の反射光学部材であることを特徴とする照明光学系。
【請求項１４】
複数の反射光学部材を用いて、物体を照明する照明光学系において、
前記複数の反射光学部材のうち少なくとも一つの反射光学部材を有する請求項６から請求項１２の何れか一項に記載の反射光学装置を備えたことを特徴とする照明光学系。
【請求項１５】
前記複数の反射光学部材のうち少なくとも一つの反射光学部材は、瞳面またはその近傍に設置されることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載の照明光学系。
【請求項１６】
照明光学系により形成された照明光を用いて、パターン像を物体に露光する露光装置において、
前記照明光学系は、請求項１３から請求項１５のいずれか一項に記載の照明光学系であることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
前記照明光学系の瞳面又は前記瞳面と共役な位置における前記照明光の強度分布を検出する光強度検出装置をさらに備えたことを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記光強度検出装置の検出結果に基づいて、前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
リソグラフィ工程を含む、デバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１６から１８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて露光するデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィ技術を利用して、半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスを製造する際に、照明光を反射する反射光学部材及び反射光学装置、その反射光学部材あるいは反射光学装置を備えた照明光学系、さらには、その照明光学系を備えた露光装置、その露光装置を用いて露光する工程を含むマイクロデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子、液晶表示素子等の各種デバイスを製造するためのリソグラフィ工程において、レチクル又はフォトマスク等に形成されたデバイス用の回路パターンを介した露光光で、感光性材料（レジスト）が塗布された基板（ウエハ又はガラスプレート等）を露光するために、一括露光型の投影露光装置（ステッパー）または走査露光型の投影露光装置（スキャニングステッパー）などの露光装置が使用されている。
【０００３】
近年、より集積度の高いデバイスを製造するために、より高精細な回路パターンを基板上に形成する露光技術が求められている。この回路パターンの高精細化を達成する手段の一つとして、より波長の短い光を用いた投影露光装置の開発が進められており、５〜２０ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ（Extreme UltraViolet：極端紫外）光を用いたＥＵＶ露光装置が注目されている。このようなＥＵＶ光を用いて、デバイス用の回路パターンを介した露光光で基板を露光する場合、ＥＵＶ光に対して高い透過率を示す硝材が限定されることから、このＥＵＶ露光装置は、照明光学系及び投影光学系のそれぞれが複数の反射光学素子、例えばモリブデンとケイ素とが繰り返して積層された多層膜ミラー等により構成される（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３４９００９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＥＵＶ露光装置では、多層膜ミラーが使用されるが、ＥＵＶ光をミラー表面に照射した時、ミラー表面に有機物が堆積したり、多層膜が酸化したりするため、反射率が低下してしまう。このため、レチクル（又はマスク）上の照度や照度分布が変化するばかりでなく、照明光学系の瞳面又はこの瞳面と共役な位置での露光光の強度分布も変化する恐れがあった。
【０００６】
照明光学系の瞳面又はこの瞳面と共役な位置での露光光の強度分布が変化することによって、投影光学系の結像性能（例えば、投影光学系の結像面内における縦方向に伸びるラインパターンの線幅と横方向に伸びるラインパターンの線幅との差）に影響を与えてしまう。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑み、照明光学系の瞳面又はこの瞳面と共役な位置での強度分布を調整することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様は、二次元面内に配置された複数の反射面を有する反射光学部材において、前記複数の反射面の間の少なくとも一部に設けられ、前記反射面に入射する入射光または前記反射面によって反射される反射光の少なくとも一方の光量を調整する調整部材を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の第２の態様は、入射した照明光を反射する反射光学装置において、二次元面内に配置された複数の反射面を有する反射光学部材と、前記複数の反射面の間の少なくとも一部に設けられる調整部材と、前記調整部材を駆動し、前記反射面に入射する照明光または前記反射面によって反射される照明光の少なくとも一方の光量を調整する駆動装置とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、照明光学系の瞳面又はこの瞳面と共役な位置での露光光の強度分布を調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施例１にかかる露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】入射側フライアイミラー１４と射出側フライアイミラー１６の反射面を示す図で        ある。
【図３】（Ａ）図２における射出側フライアイミラー１６の反射領域Ａの拡大図である。        （Ｂ）図３（Ａ）のＰ−Ｐ´間の断面を示した図である。
【図４】光強度検出装置２０で検出される露光光ＥＬの強度分布を示した図である。
【図５】光強度検出装置２０による検出結果に基づいて、調整部材２２の突出量を調整し        た際の射出側フライアイミラー１６の一部の断面を示した図である。
【図６】制御装置による調整が行われた後、光強度検出装置２０で検出される露光光ＥＬ        の強度分布を示した図である。
【図７】本発明の実施例２に係る射出側フライアイミラー３６の一部の断面を示した図で        ある。
【図８】本発明の実施例３に係る射出側フライアイミラー４６の一部の断面を示した図で        ある。
【発明を実施するための形態】
【実施例１】
【００１２】
実施例１に係る形態について、図１から図６を参照して説明する。                        
【００１３】
図１は、本実施例に係る露光装置１００の全体構成を概略的に示した図である。この露光装置１００は、露光光ＥＬとして約５〜４０ｎｍの波長を有するＥＵＶ（Extreme Ultra Violet：極端紫外）光を用いて、投影光学系ＰＬに対してレチクルＲとウエハＷとを相対的に移動させながら、レチクルＲに形成されたパターン像を、感光性材料（レジスト）が塗布されたウエハＷ上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の投影露光装置である。
【００１４】
以下の説明において、図１に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、投影光学系ＰＬの光軸に平行な方向をＺ軸、Ｚ軸に垂直な平面内で紙面に平行な方向をＸ軸、紙面に垂直な方向をＹ軸として、各部材の構成とそれらの位置関係について説明する。
【００１５】
露光装置１００は、図１に示されるように、レーザプラズマ光源装置２と、レーザプラズマ光源装置２から射出された露光光ＥＬで、デバイス用の回路パターンが形成されたレチクル（又はマスク）Ｒを照明する照明光学系と、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳと、投影光学系ＰＬと、ウエハＷを保持する不図示のウエハホルダを有するウエハステージＷＳと、を備えている。
【００１６】
レーザプラズマ光源装置２は、ＣＯ2レーザや半導体レーザ励起によるＹＡＧレーザ光源又はエキシマレーザ光源等の高出力レーザ光源４と、高出力レーザ光源４から射出されるレーザ光を集光する集光レンズ６と、レーザプラズマ光源装置２のターゲットとしてのキセノンガス（Ｘｅ）やクリプトンガス（Ｋｒ）等を噴出するノズル８と、発生した光を集光する集光ミラー１０とを備えている。
【００１７】
高出力レーザ光源４から射出されたレーザ光は、集光レンズ６により一点に集光され、その集光点には、レーザプラズマ光源装置２のターゲットとしてのキセノンガスやクリプトンガス等がノズル８から射出されており、そのターゲットが高出力レーザ光源４から射出されるレーザ光のエネルギーでプラズマ状態に励起される。そして、これが低ポテンシャル状態に遷移する際に、ＥＵＶ光、波長１００ｎｍ以上の紫外光、可視光及び他の波長の光を射出する。
【００１８】
集光ミラー１０は、集光レンズ６により集光されるレーザ光の集光点と、集光ミラー１０の第１焦点位置またはその近傍とが一致するように配置されている。集光ミラー１０の反射面には、ＥＵＶ光を反射する多層の薄膜が形成されており、特定波長のＥＵＶ光（例えば、波長約１３．５ｎｍのＥＵＶ光）のみを選択的に反射することができる。例えば、モリブデン（Ｍｏ）とケイ素（Ｓｉ）とが繰り返して積層された集光ミラー１０を用いると、波長約１３．５ｎｍのＥＵＶ光を選択的に反射することができる。
【００１９】
したがって、レーザプラズマ光源装置２により射出された露光光ＥＬは、集光ミラー１０の第２焦点位置またはその近傍に集光した後、照明光学系に入射する。
【００２０】
照明光学系は、レーザプラズマ光源装置２から射出された露光光ＥＬを反射し、照度均一化光学系１３に導く斜入射ミラー１２と、斜入射ミラー１２で反射した露光光ＥＬを入射し、入射した露光光ＥＬのレチクルＲ上における照度分布を均一にする照度均一化光学系１３と、照度均一化光学系１３で照度が均一になった露光光ＥＬをレチクルＲに照射するコンデンサミラー１８とにより構成される。
【００２１】
斜入射ミラー１２の反射面は、露光光ＥＬがほぼ平行光となるように球面状に形成されている。また、照度均一化光学系１３は、入射側フライアイミラー１４と射出側フライアイミラー１６（反射光学部材）によって構成され、レチクルＲ上の照明領域における露光光ＥＬの照度分布を均一にすることができる。本実施例で用いる照度均一化光学系１３の詳細については後述する。コンデンサミラー１８は、その反射面が凹面状に形成されており、照度均一化光学系１３から射出された露光光ＥＬを反射して、レチクルＲ上に円弧状の照明領域を形成するように配置されている。なお、コンデンサミラー１８に変えて、複数の反射ミラーを組み合わせたコンデンサ光学系を用いても良い。
【００２２】
斜入射ミラー１２、入射側フライアイミラー１４、射出側フライアイミラー１６、コンデンサミラー１８の各反射面には、例えば、モリブデン（Ｍｏ）とケイ素（Ｓｉ）とが繰り返して積層されたＥＵＶ光を反射する多層の薄膜が形成されている。
【００２３】
レチクルステージＲＳは、所定領域にデバイス用の回路パターンが形成されたレチクルＲを、静電吸着して保持する不図示のレチクルホルダを備えている。また、レチクルステージＲＳは、不図示のレチクルベース上のガイド面に載置されて、リニアモータ等を含むレチクルステージ駆動部（不図示）により、Ｙ方向に所定の走査速度で駆動されると共に、Ｘ方向、Ｚ方向、及びＺ軸に平行な軸の周りの回転方向（θZ方向）に微小駆動される。レチクルステージＲＳのガイド面上の位置は、レチクル干渉計（不図示）によって、例えば、０．１〜０．５ｎｍ程度の分解能で常時計測されている。その位置情報に基づいて、レチクルステージ制御部（不図示）が上記のレチクルステージ駆動部を介して、レチクルステージＲＳの位置及び速度を制御する。
【００２４】
投影光学系ＰＬは、複数の反射鏡（例えば、４枚、６枚又は８枚等）によって構成され、ウエハＷ側がテレセントリックな反射光学系である。本実施例における投影光学系ＰＬの実効的な開口数（ＮＡ）は、例えば０．２５である。この投影光学系ＰＬのＮＡの値は、０．２５以下あるいは０．２５以上に設定してもよい。また、複数の反射鏡のそれぞれの反射面にも、例えば、モリブデン（Ｍｏ）とケイ素（Ｓｉ）とが繰り返して積層されたＥＵＶ光を反射する多層の薄膜が形成されている。
【００２５】
ウエハステージＷＳは、ウエハＷを静電吸着して保持する不図示のウエハホルダを備えている。ウエハステージＷＳは、投影光学系ＰＬの下方に、水平に配置された不図示のウエハベース上のＺ軸に垂直なガイド面（ＸＹ平面）上に複数のエアベアリングを介して非接触で浮上支持されるＸＹステージ（不図示）とＺチルトステージ（不図示）とを備えている。Ｚチルトステージは、例えばＺ方向に変位可能な３箇所のＺ駆動部を個別に駆動して、ＺチルトステージのＺ方向の位置、及びＸ軸に平行な軸の周りの回転方向（θX方向）、Ｙ軸に平行な軸の周りの回転方向（θY方向）、Ｚ軸に平行な軸の周りの回転方向（θZ方向）の回転角を調整する。なお、ウエハベースは、複数の防振台を介して、床部材に支持されている。
【００２６】
また、ウエハステージＷＳは、ウエハベース上でリニアモータ又は平面モータ等の駆動部（不図示）によって、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θX方向、θY方向及びθZ方向に駆動される。なお、ガイド面上のＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θX方向、θY方向及びθZ方向の少なくとも１方向の位置は、ウエハステージ干渉計（不図示）によって、例えば０．１〜０．５ｎｍ程度の分解能で常時計測されている。その位置情報に基づいて、ステージ制御部（不図示）が駆動部を介してウエハステージＷＳの位置及び速度を制御する。
【００２７】
さらに、ウエハステージＷＳには、投影光学系ＰＬの瞳面における露光光ＥＬの強度分布を測定する光強度検出装置２０が設けられている。光強度検出装置２０は、ピンホールが形成されたピンホール部材とＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラにより構成される。
【００２８】
ピンホール部材は、ウエハWの露光面に等しい高さまたはその近傍に設置されている。ピンホール部材に設けられるピンホールの直径は、１μｍ〜５００μｍ程度の大きさである。このとき、５μｍ〜１００μｍ程度の直径を有するピンホールを用いることで、ピンホールによる半影ボケと回折ボケとが同程度となるため、瞳面における露光光ＥＬの強度分布を良好に測定することができる。ＣＣＤカメラは、ピンホールを通過した露光光ＥＬを測定できる位置に設けられる。例えば、ウエハWの露光面から−Ｚ方向へずれた位置に設けられる。
【００２９】
光強度検出装置２０は、ウエハＷ面上に形成される投影光学系ＰＬの投影領域の一部がピンホールを介してＣＣＤカメラに入射することで、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布に対応する強度分布を測定することができる。このとき、露光光ＥＬを直接ＣＣＤカメラに入射することで測定しても良いし、蛍光板に露光光ＥＬを一旦照射し、露光光ＥＬを可視光に変換してから測定してもよい。また、ピンホール部材とＣＣＤカメラとの間に、露光光ＥＬの瞳面強度分布が良好に測定できるように、レンズやミラー等の光学部材が設けられていても良いことは勿論である。  このような構成において、ウエハＷ上の１つのショット領域を露光するときには、円弧状に形成された露光光ＥＬが照明光学系によりレチクル面に照射され、レチクル面の照明領域で反射した露光光ＥＬが投影光学系ＰＬに入射する。
【００３０】
その間、レチクルＲとウエハＷとは投影光学系ＰＬに対して投影光学系ＰＬの縮小倍率に従った所定の速度比でＹ方向に同期して移動する。このようにして、レチクルＲのパターンはウエハＷ上の一つのショット領域に露光される。その後、ウエハステージＷＳを駆動してウエハＷをステップ移動した後、ウエハＷ上の次のショット領域に対してレチクルＲのパターンが走査露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の複数のショット領域に対して順次レチクルＲのパターンの像が露光される。
【００３１】
ここで、本実施例で用いる照度均一化光学系１３について、図２から図４を用いて説明する。図２（Ａ）は、照度均一化光学系１３の一部を構成し、露光光ＥＬが入射する入射側フライアイミラー１４の反射面を示しており、図２（Ｂ）は、入射側フライアイミラー１４で反射した露光光ＥＬをコンデンサミラー１８に向けて反射する射出側フライアイミラー１６の反射面を示している。
【００３２】
入射側フライアイミラー１４は、レチクルＲの照明領域と実質的に相似な円弧状の形状を有する複数の要素ミラー１４ａが並列に配置して構成される。この入射側フライアイミラー１４は、レチクルＲ面又はウエハＷ面と光学的に共役な位置又はその近傍の位置に配置されている。また、要素ミラー１４ａの反射面は、射出側フライアイミラー１６の複数の要素ミラー１６ａ（反射光学素子）の反射面又はその近傍に露光光ＥＬが集光するように、球面または非球面状の曲面を有している。
【００３３】
射出側フライアイミラー１６は、複数の方形状の要素ミラー１６ａと、複数の要素ミラー１６ａを個別または複数個のブロック毎に保持する保持面が形成されたミラー保持基板２１（図３参照）とを備える。要素ミラー１６ａの反射面は二次元面内に並列に配置されている。要素ミラー１６ａは、要素ミラー１４ａとほぼ同数個設けられ、球面または非球面状の曲面を有している。また、射出側フライアイミラー１６は、照明光学系の射出瞳または投影光学系の入射瞳と共役な位置又はその近傍の位置に配置されている。ミラー保持基板２１は、図３に示すように、要素ミラー１６ａの間に形成されたスリット（不図示）を有する。このスリット内には、後述する調整部材２２ａ１〜２２ａ５が挿入される。
【００３４】
次に、射出側フライアイミラー１６を備える反射光学装置２９について説明する。
【００３５】
図３（Ａ）は、図２（Ｂ）に示される射出側フライアイミラー１６の反射面の一部（反射領域Ａ）を拡大した図である。また、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のＰ−Ｐ´間の断面を示した図である。
【００３６】
反射光学装置２９は、射出側フライアイミラーを構成する複数の要素ミラー１６ａと、要素ミラー１６ａの間に配置され、かつミラー保持基板２１に形成されたスリット内に挿入される調整部材２２と、ミラー保持基板２１の保持面とは反対面側に設けられ、調整部材２２のそれぞれに連結された複数の部材駆動装置２４と、複数の部材駆動装置２４を制御し、調整部材２２のそれぞれを独立的に、要素ミラー１６ａの反射面から突出させる制御装置２５とを備えている。部材駆動装置２４は、例えば、モータやピエゾ素子等のアクチュエータを使用することができる。調整部材２２のそれぞれは、部材駆動装置２４が制御装置２５に制御されることによって、要素ミラー１６ａの反射面から突出する突出量が調整される。
【００３７】
図３（Ａ）に示すように、ＸＹ方向の二次元面内に設けられた複数の要素ミラー１６ａの反射面の間には、前述した複数の調整部材２２が設けられている。これら調整部材２２は、露光光ＥＬの一部又は全部を、吸収又は反射可能な材質を用いて、平板状に加工されている。その材質は、例えば、ステンレス、アルミ、セラミックス、ガラス又は鉛等が挙げられる。また、ステンレス、アルミ、セラミックス、ガラス等の表面に、金の薄膜や前述した多層の薄膜を形成してもよい。
【００３８】
図３（Ｂ）において、図３（Ａ）に示す要素ミラー１６ａのうちＰからＰ´に向けて設けられる要素ミラー１６ａを、それぞれ順に１６ａ１、１６ａ２、１６ａ３、１６ａ４、１６ａ５と符号を付し、複数の要素ミラー１６ａ１〜１６ａ５の間に、ＰからＰ´に向けて設けられる調整部材２２を、それぞれ順に２２ａ１、２２ａ２、２２ａ３、２２ａ４、２２ａ５と符号を付し、複数の調整部材２２ａ１〜２２ａ５を駆動する部材駆動装置２４を、それぞれ順に２４ａ１、２４ａ２、２４ａ３、２４ａ４、２４ａ５と符号を付して説明する。詳述すると、調整部材２２ａ１は部材駆動装置２４ａ１に連結されており、調整部材２２ａ２は部材駆動装置２４ａ２に連結されており、調整部材２２ａ３は部材駆動装置２４ａ３に連結されており、調整部材２２ａ４は部材駆動装置２４ａ４に連結されており、調整部材２２ａ５は部材駆動装置２４ａ５に連結されている。
【００３９】
次に、反射光学装置２９を用いた照明光学系の瞳面又はこの瞳面と共役な位置での光強度分布の補正動作について説明する。
【００４０】
まず、レチクルステージＲＳにレチクルＲの代わりにテストレチクルを搬送し、テストレチクルをレチクルホルダで静電吸着する。テストレチクルのパターン面には、レチクルＲを照明する際に、レチクルＲに照明される照明形状を含む大きさの反射面が形成されている。なお、テストレチクルのパターン面の全面を反射面としてもよい。
【００４１】
さらに、光強度検出装置２０のピンホール部材の表面が投影光学系ＰＬの像面と一致し、かつ投影光学系ＰＬの投影領域内に配置されるように、ウエハステージＷＳを駆動する。
【００４２】
次に、レーザプラズマ光源装置２から露光光ＥＬを射出する。レーザプラズマ光源装置２から射出された露光光ＥＬは、照明光学系の照度均一化光学系１３に入射する。照度均一化光学系１３に入射した露光光ＥＬは、入射側フライアイミラー１４において、射出側フライアイミラー１６の要素ミラー１６ａの反射面又はその近傍で集光するように、要素ミラー１４ａごとに分割して反射される。要素ミラー１６ａの位置又はその近傍では、このとき、二次光源像が形成される。さらに、要素ミラー１６ａで反射された露光光ＥＬは、コレクタミラー１８を介して、テストレチクルの反射面を照明する。
【００４３】
テストレチクルの反射面で反射された露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬを介して光強度検出装置２０に入射する。光強度検出装置２０に設けられたピンホール部材のピンホールを通過した露光光ＥＬを、ＣＣＤカメラで観察し、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布に対応する光強度分布を検出する。なお、光強度検出装置２０が備えるピンホール部材のピンホールの位置は、ウエハステージＷＳを制御することによって、投影光学系ＰＬの投影領域内の複数の測定点のそれぞれに位置決めされる。
【００４４】
図４は、光強度検出装置２０が備えるピンホール部材のピンホールが、投影光学系ＰＬの投影領域内の複数の測定点のうち、所定の測定点に位置決めされた際に、光強度検出装置２０検出した光強度分布結果の一部を示している。縦軸は光強度、横軸は位置を示している。
【００４５】
例えば、要素ミラー１６ａ１に入射し、その後反射された露光光ＥＬの一部の光強度分布は、位置Ｘ１で示され、要素ミラー１６ａ２に入射し、その後反射された露光光ＥＬの光強度分布は、位置Ｘ２で示され、要素ミラー１６ａ３に入射し、その後反射された露光光ＥＬの光強度分布は、位置Ｘ３で示され、要素ミラー１６ａ４に入射し、その後反射された露光光ＥＬの一部は、位置Ｘ４で示され、要素ミラー１６ａ５に入射し、その後反射された露光光ＥＬの一部は、位置Ｘ５で示される。
【００４６】
このとき、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布に強度ムラが生じている場合、図４に示されるように、位置Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５で示される光強度が互いに異なる。なお、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布に強度ムラが生じる要因としては、レーザプラズマ光源装置２から射出される露光光ＥＬ自身に強度ムラが生じている場合や、要素ミラー１６ａの反射面に対する有機物の堆積等が考えられる。
【００４７】
光強度検出装置２０の検出結果に基づいて、図５に示されるように、反射光学装置２９を制御する。すなわち、制御装置２５が部材駆動装置２４を制御することによって、複数の要素ミラー１６ａ１〜１６ａ５の間に設けられた調整部材２２ａ１〜２２ａ５が、要素ミラー１６ａ１〜１６ａ５の反射面から突出する突出量がそれぞれ調整される。
【００４８】
例えば、図４に示されるように、計測された光強度が他の位置より高い位置、すなわち、位置Ｘ３の光強度を弱めるために、要素ミラー１６ａ３に入射する露光光ＥＬの一部を遮光するように、部材駆動装置２４ａ２を駆動し、調整部材２２ａ２の反射面からの突出量を調整する。あるいは、要素ミラー１６ａ３から反射する露光光ＥＬの一部を遮光するように、部材駆動装置２４ａ３を駆動し、調整部材２２ａ３の反射面からの突出量を調整する。また、図４に示されるように、位置Ｘ１、Ｘ４における露光光ＥＬの光強度と比較して、位置Ｘ２、Ｘ５における露光光ＥＬの光強度がより強いため、部材駆動装置２４ａ１、２４ａ２、２４ａ４、２４ａ５を駆動し、調整部材２２ａ１、２２ａ２、２２ａ４、２２ａ５の反射面からの突出量を調整する。これらにより、調整部材２２ａ１〜２２ａ５の反射面からの突出量を調整すると、図５のようになる。このように、光強度検出装置２０で計測された光強度分布結果から、調整すべき調整部材２２を特定することができる。
【００４９】
上述した投影光学系ＰＬの投影領域内の複数の測定点のうち、所定の測定点において投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布の調整が終了した後、光強度検出装置２０を移動させる。そして、投影光学系ＰＬの投影領域内の他の測定点において、上記と同様に、光強度検出装置２０を用いて、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布を検出する。
【００５０】
このとき、位置Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５で検出される露光光ＥＬの光強度が異なる場合は、さらに部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５を駆動させて、調整部材２２ａ１〜２２ａ５の反射面からの突出量を個別に調整する。その後、再び、光強度検出装置２０を移動し、投影光学系ＰＬの投影領域内の複数の測定点において、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布を検出し、その検出結果に基づいて、部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５を駆動させて、調整部材２２ａ１〜２２ａ５の反射面からの突出量を個別に調整する。
【００５１】
これらの動作は、投影光学系ＰＬの投影領域内の複数の測定点を順に複数回繰り返し行われる。そして、その計測結果に基づいて、調整部材２２ａ１〜２２ａ５の反射面からの突出量を個別に調整する。そして、投影光学系ＰＬの投影領域内のあらゆる測定点で検出される投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布が図６のように、すなわち位置Ｘ１から位置Ｘ５における露光光ＥＬの光強度を均一にすることができる。
【００５２】
なお、意図的に露光領域内の各位置での瞳面強度分布を変えることにより、露光領域の場所毎に、照明条件を変えられるようにしても良い。
【００５３】
このように、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布の調整が終了すると、ウエハステージＷＳにウエハＷを搬送するとともに、レチクルステージＲＳに回路パターンが形成されたレチクルＲを搬送し、各種計測と位置調整を行った後に、露光光ＥＬをウエハＷに照射することにより、レチクルＲに形成された所望の回路パターンをウエハＷ面上に露光する。
【００５４】
以上の露光動作を実施することにより、瞳面における強度調整が行われた結像性能の高い回路パターンをウエハＷ面上に露光することができる。
【実施例２】
【００５５】
本実施例２に係る照度均一化光学系１３の一部を構成する射出側フライアイミラー３６について、図７を参照して説明する。図７は、射出側フライアイミラー３６の断面の一部を示した図である。なお、実施例１と相違する部分について主に説明するものとし、実施例１と同じ構成については説明を省略する。
【００５６】
反射光学装置３９は、射出側フライアイミラー３６を構成する複数の要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５と、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５の間に配置される導電性部材３２ａ１〜３２ａ５（調整部材）と、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５及び導電性部材３２ａ１〜３２ａ５の間に配置される絶縁部材３３ａ１〜３３ａ５と、ミラー保持基板３１の保持面とは反対面側に設けられ、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５と導電性部材３２ａ１〜３２ａ５とに電線を介して接続され、それぞれ独立的に印加電圧を調整可能な電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５と、電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５を制御し、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５のそれぞれを独立的に、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５の反射面側に湾曲させる制御装置３５とを備えている。詳述すると、導電性部材３２ａ１と絶縁部材３３ａ１とは、要素ミラー３６ａ１と要素ミラー３６ａ２との間に形成されたミラー保持基板３１のスリット内に挿入されている。導電性部材３２ａ２と絶縁部材３３ａ２とは、要素ミラー３６ａ２と要素ミラー３６ａ３との間に形成されたミラー保持基板３１のスリット内に挿入されている。導電性部材３２ａ３と絶縁部材３３ａ３とは、要素ミラー３６ａ３と要素ミラー３６ａ４との間に形成されたミラー保持基板のスリット内に挿入されている。導電性部材３２ａ４と絶縁部材３３ａ４とは、要素ミラー３６ａ４と要素ミラー３６ａ５との間に形成されたミラー保持基板３１のスリット内に挿入されている。導電性部材３２ａ５と絶縁部材３３ａ５とは、要素ミラー３６ａ５と要素ミラー３６ａ６（不図示）との間に形成されたミラー保持基板３１のスリット内に挿入されている。なお、要素ミラー３６の反射面から突出する導電性部材の突出量は、それぞれ同じに設定されている。
【００５７】
導電性部材３２ａ１〜３２ａ５は、導電性のある材質であり、例えば、アルミ箔やステンレス箔によって構成され、露光光ＥＬの一部又は全部を吸収又は反射することができる。
また、導電性材料３２ａ１〜３２ａ５と電線を介して接続される要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５は、導電性のある材質を用いてあるいは導電性の膜が形成された部材で構成される。導電性材料３２ａ１〜３２ａ５と要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５との間に電圧を印加すると、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５に導電性材料３２ａ１〜３２ａ５とは異なる極性の電荷が帯電されるため、導電性材料３２ａ１〜３２ａ５を要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５の反射面の方向へ変形または湾曲させることができる。
【００５８】
絶縁部材３３ａ１〜３３ａ５は、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５と導電性部材３２ａ１〜３２ａ５との間で、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５と導電性部材３２ａ１〜３２ａ５との間の電気的な性質を遮断している。絶縁部材３３ａ１〜３３ａ５の材質としては、例えば、ガラスなどの無機材料、またはシリコンゴム、天然ゴム等の弾性を有する材質のものが挙げられる。
【００５９】
要素ミラー３６ａ１と導電性部材３２ａ１との間に電圧を印加すると、要素ミラー３６ａ１と導電性部材３２ａ１との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ１の先端部を要素ミラー３６ａ１の反射面側に変形又は湾曲することができる。同様に、要素ミラー３６ａ２と導電性部材３２ａ２との間に電圧を印加すると、要素ミラー３６ａ２と導電性部材３２ａ２との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ２の先端部を要素ミラー３６ａ２の反射面側に変形又は湾曲することができ、要素ミラー３６ａ３と導電性部材３２ａ３との間に電圧を印加すると、要素ミラー３６ａ３と導電性部材３２ａ３との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ３の先端部を要素ミラー３６ａ３の反射面側に変形又は湾曲することができ、要素ミラー３６ａ４と導電性部材３２ａ４との間に電圧を印加すると、要素ミラー３６ａ４と導電性部材３２ａ４との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ４を要素ミラー３６ａ４の先端部を反射面側に変形又は湾曲することができ、要素ミラー３６ａ５と導電性部材３２ａ５との間に電圧を印加すると、要素ミラー３６ａ５と導電性部材３２ａ５との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ５の先端部を要素ミラー３６ａ５の反射面側に変形又は湾曲することができる。
【００６０】
導電性部材３２ａ１〜３２ａ５は、露光光ＥＬの一部又は全部を吸収又は反射することができるため、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５の反射面側に変形又は湾曲する導電性部材３２ａ１〜３２ａ５の変形量または湾曲量を調整することにより、露光光ＥＬの光量を要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５毎に調整することができる。これらは、電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５の電圧を調整することにより可能である。例えば、要素ミラー３６ａ１と導電性部材３２ａ１との間に印加する電圧値は、０Ｖ、１００Ｖ、２００Ｖであり、電圧値が０Ｖのとき、要素ミラー３６ａ１と導電性部材３２ａ１との間に静電気力は働かず、導電性部材３２ａ１は要素ミラー３６ａ１の反射面側に変形又は湾曲しない。すなわち、要素ミラー３６ａ１で反射する露光光ＥＬは導電性部材３２ａ１に遮られることなく、要素ミラー３６ａ１から射出される。一方、電圧値が１００Ｖのとき、要素ミラー３６ａ１と導電性部材３２ａ１との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ１は要素ミラー３６ａ１の反射面側に変形又は湾曲する。このとき、導電性部材３２ａ１は要素ミラー３６ａ１の反射面への回転方向に、約３０度変形し、要素ミラー３６ａ１に入射する入射光又は要素ミラー３６ａ１で反射する反射光の約１０％を遮ることができる。また、電圧値が２００Ｖのとき、要素ミラー３６ａ１と導電性部材３２ａ１との間にクーロン力が働き、導電性部材３２ａ１は要素ミラー３６ａ１の反射面側に変形又は湾曲する。このとき、導電性部材３２ａ１は要素ミラー３６ａ１の反射面への回転方向に、約４５度変形し、要素ミラー３６ａ１に入射する入射光又は要素ミラーで反射する反射光の約２０％を遮ることができる。このように、要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５と導電性部材３２ａ１〜３２ａ５との間に印加する電圧をおのおの調整することで、照明光学系の瞳面における露光光ＥＬの強度分布を要素ミラー３６ａ１〜３６ａ５毎に調整することができる。
【００６１】
これらの電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５は、制御装置３５の制御によって、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５の変形量または湾曲量を調整している。
【００６２】
このとき、制御装置３５は、光強度検出装置２０で測定した露光光ＥＬの瞳面強度分布結果に基づいて、電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５を個別に制御し、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５の変形量または湾曲量を個別に調整することができる。
【実施例３】
【００６３】
本実施例３に係る照度均一化光学系１３の一部を構成する射出側フライアイミラー４６について、図８を参照して説明する。図８は、射出側フライアイミラー４６の断面の一部を示した図である。なお、実施例１と相違する部分について主に説明するものとし、実施例１と同じ構成については説明を省略する。
【００６４】
反射光学装置４９は、射出側フライアイミラー４６を構成する複数の要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５と、要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５の間に配置され、かつミラー保持基板４１に形成されたスリット内に挿入される金属部材４２ａ１〜４２ａ５（調整部材）と、ミラー保持基板４１の保持面とは反対面側に設けられ、金属部材４２ａ１〜４２ａ５のそれぞれに連結された温度調節装置４４ａ１〜４４ａ５と、温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５を制御し、金属部材４２ａ１〜４２ａ５のそれぞれを独立的に加熱または冷却する制御装置４５とを備えている。なお、温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５は、例えば、ペルチェ素子等の冷却装置やヒータ等の加熱装置、またはそれらを組み合わせて用いることが挙げられる。
【００６５】
金属部材４２ａ１〜４２ａ５は、熱膨張率が互いに異なる複数の材質の組み合わせによって構成される。その材質は、例えば、鉄とニッケルの合金にマンガン、クロム等の添加物を添加したものである。これらの添加物の添加量を調整することで熱膨張率の異なる合金材料を生成し、冷間圧延等により接合することで、金属部材４２ａ１〜４２ａ５を作製することができる。なお、上述した鉄とニッケルの合金にマンガン、クロム等の添加物を添加したものに加えて、形状記憶合金が用いてもよい。
【００６６】
そして、金属部材４２ａ１〜４２ａ５を加熱することによって、対応する要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５の反射面側に湾曲させる場合、金属部材４２ａ１〜４２ａ５を構成する少なくとも２種類の材質のうち、熱膨張率のより小さな材質を、要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５の反射面に近い側に配置する。他方、金属部材４２ａ１〜４２ａ５を冷却することによって、対応する要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５の反射面側に湾曲させる場合、金属部材４２ａ１〜４２ａ５を構成する少なくとも２種類の材質のうち、熱膨張率のより大きな材質を、要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５の反射面に近い側に配置する。
【００６７】
温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５は、金属部材４２ａ１〜４２ａ５に与える熱量を調整し、その温度を変化させることで、金属部材４２ａ１〜４２ａ５を要素ミラー４６ａ１〜４６ａ５の反射面側へ変形又は湾曲することができる。
【００６８】
これらの温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５は、制御装置３５の制御によって、金属部材４２ａ１〜４２ａ５の変形量または湾曲量を調整している。
【００６９】
このとき、制御装置３５は、光強度検出装置２０で測定した露光光ＥＬの瞳面強度分布結果に基づいて、温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５を個別に制御し、金属部材４２ａ１〜４２ａ５の加熱または冷却を行うことができる。
【００７０】
上記各実施例において上述した露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型の投影露光装置としたが、これに限定されることはなく、ステップ・アンド・リピート方式の一括露光型の投影露光装置でもよい。
【００７１】
投影光学系ＰＬは、レチクルRのパターンをウエハW上に露光する構成であればよく、具体的な構成は特に制限されない。例えば、投影光学系ＰＬの入射瞳がレチクルRのパターン面を挟んで投影光学系ＰＬとは反対側に位置する逆瞳タイプの投影光学系等の様々な光学系を用いることができる。
【００７２】
入射側フライアイミラー１４を構成する要素ミラー１４ａと射出側フライアイミラー１６を構成する要素ミラー１６ａの個数は、任意に設定することができる。要素ミラー１４ａまたは要素ミラー１６ａの個数をより多く設けることによって、露光光ＥＬの照度分布をより均一にすることができる。さらに、要素ミラー１６ａの間に設けられる調整部材２２をより多く設置することができるため、瞳面における露光光ＥＬの強度分布をより細かく調整することができる。また、射出側フライアイミラー１６を構成する要素ミラー１６ａの形状は、必ずしも矩形状に限定されない。例えば、三角形や六角形等の多角形状の要素ミラーを用いて射出側フライアイミラーを構成し、多角形の辺で隣接する要素ミラーの間に調整部材を設けてもよいことは勿論である。
【００７３】
光強度検出装置２０は、ピンホール部材とＣＣＤカメラによって構成されるが、これに限定されない。例えば、フォトマル（Photomultiplier）やフォトダイオード等を用いて、投影光学系ＰＬの瞳面内の光強度分布に対応する強度分布を測定できれば良い。また、光強度検出装置２０は、ウエハステージＷＳ上に設けられていても良いし、ウエハステージＷＳとは異なる別のステージに設けられていても良い。
【００７４】
露光光ＥＬの強度分布測定を行う際に用いたテストレチクルとして、テストレチクルのパターン面に、レチクルＲに照明される照明形状を含む大きさの反射面を有するパターンや全面が反射面のパターンを用いたが、これに限定されない。すなわち、パターン面にピンホールまたは反射ドットが形成されたテストレチクルや、パターン面に回路パターンが形成されたレチクルＲを用いても良い。例えば、レチクルＲを用いる場合、露光動作を開始する前に光強度検出装置２０による露光光ＥＬの強度分布を測定し、その結果を記憶する。ウエハＷへの回路パターンの露光を行った後に、再度、光強度検出装置２０による露光光ＥＬの強度分布測定を行い、露光動作開始前に測定して記憶した強度分布結果が得られるように、部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５を駆動し、調整部材２２ａ１〜２２ａ５を調整してもよい。
【００７５】
調整部材２２ａ１〜２２ａ５、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５及び金属部材４２ａ１〜４２ａ５は、露光光ＥＬの一部又は全部を吸収又は反射する材質に限るものではなく、基板の表面に単層または多層の薄膜を形成し、膜の種類や膜厚、膜の層間長を組み合わせることにより、露光光ＥＬの反射又は吸収を調整できる構成にしてもよい。例えば、モリブデン（Ｍｏ）とケイ素（Ｓｉ）とが繰り返して積層された多層の薄膜であれば、波長約１３．５ｎｍの露光光ＥＬを効率よく反射することができる。
【００７６】
また、調整部材２２ａ１〜２２ａ５又は導電性部材３２ａ１〜３２ａ５及び金属部材４２ａ１〜４２ａ５は、要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａに入射する入射光又は要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａを反射する反射光の光量を調整しやすいように、あらかじめ、調整部材２２ａ１〜２２ａ５の先端を変形又は湾曲させてもよい。
【００７７】
さらに、調整部材２２ａ１〜２２ａ５、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５、金属部材４２ａ１〜４２ａ５の少なくとも一つは、平板状に加工された部材で構成されるが、平板状の部材の一部に切欠き部を形成し、切欠き部を入射光又は反射光が通過するようにし、あるいは平板状の部材の中央部分に開口部を形成し、この開口部を入射光又は反射光が通過するようにしてもよい。このように切欠き部又は開口部を加工することで、要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａに入射する入射光または要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａによって反射される反射光の中心付近の光量をその周辺部より多く減光することができるため、瞳面における露光光ＥＬの強度分布を精度よく調整することができる。
【００７８】
さらに、調整部材２２ａ１〜２２ａ５、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５及び金属部材４２ａ１〜４２ａ５は、射出側フライアイミラー１６を構成するすべての要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａの間に設けられる必要はなく、要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａの間の少なくとも一部に設けられていればよい。例えば、要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａに入射する露光光ＥＬの一部が、Ｙ方向の成分を持たず、Ｘ方向およびＺ方向のみの成分を有する場合、調整部材２２ａ１〜２２ａ５、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５及び金属部材４２ａ１〜４２ａ５のうち、Ｙ方向に長手方向を有する調整部材２２ａ１〜２２ａ５、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５及び金属部材４２ａ１〜４２ａ５を、Ｘ方向に沿って配列すればよい。
【００７９】
ミラー保持基板２１、３１、４１は、必ずしも設けられることはなく、要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａを特定の位置に保持または設置できればよい。また、要素ミラー１６ａとミラー保持基板２１とを一体成形してもよい。例えば、１枚の石英ガラスを加工し、複数の要素ミラー部と調整部材２２を出し入れ可能なスリット部とを形成し、複数の要素ミラー部にＥＵＶ光を反射可能な単層または多層の薄膜を形成することで、要素ミラー１６ａ、３６ａ、４６ａとミラー保持基板２１、３１、４１とが一体となった反射光学部材を作製することができる。
【００８０】
部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５、電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５及び温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５は、必ずしも要素ミラー１６ａ毎に設けられる必要はなく、１つの部材駆動装置２４、電圧調整装置３４及び温度調整装置４４を用いて、複数の調整部材２２ａ１〜２２ａ５、導電性部材３２ａ１〜３２ａ５及び金属部材４２ａ１〜４２ａ５を個別に駆動してもよい。また、部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５と制御装置２５、電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５と制御装置３５及び温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５と制御装置４５は、必ずしも別々に設けることはなく、制御装置２５が部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５の機構を備える構成、制御装置３５が電圧調整装置３４ａ１〜３４ａ５の機構を備える構成、制御装置４５が温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５の機構を備える構成としてもよい。
【００８１】
本実施例１で用いられる部材駆動装置２４ａ１〜２４ａ５による調整部材２２ａ１〜２２ａ５の駆動方向は、必ずしも要素ミラー１６ａが配列される二次元面に垂直な方向（Ｚ軸に平行な方向）である必要はない。例えば、露光光ＥＬの反射方向に対して垂直になるように調整部材２２ａ１〜２２ａ５の駆動方向を設定することで、露光光ＥＬを効率的に反射することができる。また、それぞれの要素ミラー１６ａに入射する露光光ＥＬの入射角がそれぞれ異なるため、調整部材２２の駆動方向を個別に設定することで、より効率的に露光光ＥＬを反射することができる。
【００８２】
本実施例１で用いられる反射光学装置２９は、必ずしも部材駆動装置２４及び制御装置２５を備える必要はない。すなわち、調整部材２２を手動で調整する機構を設け、その突出量を手動で調整できるようにすればよい。これにより、部材駆動装置２５を稼動するための電源が不要となり、反射光学素子と調整部材２２のみで構成されるため、本発明を容易にかつ安価に実施できる。
【００８３】
本実施例３で用いられる温度調整装置４４ａ１〜４４ａ５は、金属部材４２ａ１〜４２ａ５に電流を供給し、その電流量を調整することにより、金属部材４２ａ１〜４２ａ５における熱量又は温度を調整する機構を備えていてもよい。電流量を調整することで金属部材４２ａ１〜４２ａ５５の温度を均一に、早く調整することができる。
【００８４】
本実施例３で用いられる金属部材４２ａ１〜４２ａ５は、必ずしも２種類の熱膨張率の異なる材質で構成される必要はなく、３種類以上の材質を組み合わせて形成することで、印加した熱量に対する金属部材４２ａ１〜４２ａ５の変形量又は湾曲量を自由に調整することができる。
【００８５】
さらに、各実施例は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることはなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、もしくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems : 微小電気機械システム）、薄膜磁気ヘッド及びＤＮＡチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。さらに、本発明の態様は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）を、フォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の製造工程にも適用することができる。
【００８６】
上述した実施例の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブデバイスを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てられることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。なお、各実施例は、要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることができる。
【符号の説明】
【００８７】
Ｒ…レチクル  ＲＳ…レチクルステージ  Ｗ…ウエハ  ＷＳ…ウエハステージ  ＰＬ…投影光学系  ２…レーザプラズマ光源装置  ４…高出力レーザ光源  ６…集光レンズ  ８…ノズル  １０…集光ミラー  １２…斜入射ミラー  １３…照度均一化光学系    １４…入射側フライアイミラー  １６、３６、４６…射出側フライアイミラー  １６ａ、１６ａ１〜１６ａ５、３６ａ１〜３６ａ６、４６ａ１〜４６ａ６…要素ミラー  １８…コレクタミラー  ２０…光強度検出装置  ２１、３１、４１…ミラー保持基板  ２２、２２ａ１〜２２ａ５…調整部材  ２４、２４ａ１〜２４ａ５…部材駆動装置  ２５、３５、４５…制御装置  ３２ａ１〜３２ａ５…導電性部材  ３３、３３ａ１〜３３ａ５…絶縁部材  ３４、３４ａ１〜３４ａ５…電圧調整装置    ４２ａ１〜４２ａ５…金属部材  ４４ａ１〜４４ａ５…温度調整装置
【図１】
2011129576.tif 000003
【図２】
2011129576.tif 000004
【図３】
2011129576.tif 000005
【図４】
2011129576.tif 000006
【図５】
2011129576.tif 000007
【図６】
2011129576.tif 000008
【図７】
2011129576.tif 000009
【図８】
2011129576.tif 000010