(57)【要約】【課題】塗布性に優れ、かつ解像性に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）、感光物質（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、溶剤（Ｄ）が、エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ１）と、ヒドロキシ基を有する有機溶剤（Ｄ２）とを含む溶剤である感光性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）、感光物質（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、溶剤（Ｄ）が、エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ１）と、ヒドロキシ基を有する有機溶剤（Ｄ２）とを含む溶剤である感光性樹脂組成物。
【請求項２】
ヒドロキシ基を有する有機溶剤（Ｄ２）が、１気圧において１００〜２００℃の沸点を有する有機溶剤である請求項１記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
溶剤（Ｄ）が、エーテル結合を有し、かつエステル結合及びヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ３）を、さらに含んでなる溶剤である請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ１）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである請求項１〜３のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
エーテル結合を有し、かつエステル結合及びヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ３）が、ジエチレングリコールジアルキルエーテルである請求項３記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、少なくとも、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）に由来する繰り返し単位を含有するケイ素含有アクリル樹脂である請求項１〜５のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）が、式（I）で表される化合物である請求項６記載の感光性樹脂組成物。
【化１】
2011022557.tif 000018
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ２は、−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−または−（ＣＨ２）ｗ−を表し、Ｒ２に含まれる−ＣＨ２−は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ３〜Ｒ１１は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該アリール基及び該アラルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。］
【請求項８】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、少なくとも、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（Ａ２）とを重合してなる共重合体を含有するケイ素含有アクリル樹脂である請求項６又は７記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、さらに（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）とは異なる）を重合してなる共重合体を含有するケイ素含有アクリル樹脂である請求項８記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）とは異なる）が、式（II）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む化合物である請求項１〜９のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
Ｒ１２ｎＳｉ（ＯＲ１３）４−ｎ    （II）
［式（II）中、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、オキシラニル基、アクリロイル基又はメタクリロイル基で置換されていてもよい。ｎは、０〜３の整数を表す。ｎが２以下の整数である場合、Ｒ１３は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ１２は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。］
【請求項１１】
感光物質（Ｃ）が光酸発生剤である請求項１〜１０のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
熱硬化促進剤（Ｅ）を含有する請求項１〜１１のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン。
【請求項１４】
請求項１３記載のパターンを含む表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイに代表される表示素子が数多く開発され、実用化されてきている。これらの表示素子に含まれるパターンを製造するために、種々の感光性樹脂組成物が提案されており、例えば有機ケイ素重合体、酸発生剤及び有機溶剤を含有し、該有機溶剤がメチルイソブチルケトンである感光性樹脂組成物が開示されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平４−１０７５６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記の有機ケイ素重合体、酸発生剤及び有機溶剤を含んで構成された感光性樹脂組成物の塗布性及び前記感光性樹脂組成物から形成されるパターンの解像性は、必ずしも十分に満足できるものではなかった。本発明の課題は、塗布性に優れ、かつ解像性に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は以下の［１］〜［１４］を提供するものである。
［１］ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）、感光物質（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、溶剤（Ｄ）が、エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ１）と、ヒドロキシ基を有する有機溶剤（Ｄ２）とを含む溶剤である感光性樹脂組成物。
［２］ヒドロキシ基を有する有機溶剤（Ｄ２）が、１気圧において１００〜２００℃の沸点を有する有機溶剤である前記［１］記載の感光性樹脂組成物。
［３］溶剤（Ｄ）が、エーテル結合を有し、かつエステル結合及びヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ３）を、さらに含んでなる溶剤である前記［１］又は［２］記載の感光性樹脂組成物。
［４］エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ１）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである前記［１］〜［３］のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
［５］エーテル結合を有し、かつエステル結合及びヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ３）が、ジエチレングリコールジアルキルエーテルである前記［３］記載の感光性樹脂組成物。
［６］ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、少なくとも、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）に由来する構造単位を含有するケイ素含有アクリル樹脂である前記［１］〜［５］のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
［７］ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）が、式（I）で表される化合物である前記［６］記載の感光性樹脂組成物。
【化１】
2011022557.tif 000002
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ２は、−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−または−（ＣＨ２）ｗ−を表し、Ｒ２に含まれる−ＣＨ２−は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ３〜Ｒ１１は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該アリール基及び該アラルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。］
［８］ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、少なくとも、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（Ａ２）とを重合してなる共重合体を含有するケイ素含有アクリル樹脂である前記［６］又は［７］記載の感光性樹脂組成物。
［９］ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、さらに（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く）を重合してなる共重合体を含有するケイ素含有アクリル樹脂である前記［８］記載の感光性樹脂組成物。
［１０］シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）が、式（II）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む化合物である前記［１］〜［９］のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
Ｒ１２ｎＳｉ（ＯＲ１３）４−ｎ    （II）
［式（II）中、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、オキシラニル基、アクリロイル基又はメタクリロイル基で置換されていてもよい。ｎは、０〜３の整数を表す。ｎが２以下の整数である場合、Ｒ１３は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ１２は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。］
［１１］感光物質（Ｃ）が光酸発生剤である前記［１］〜［１０］のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
［１２］熱硬化促進剤（Ｅ）を含有する前記［１］〜［１１］のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
［１３］前記［１］〜［１２］のいずれか記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン。
［１４］前記［１３］記載のパターンを含む表示素子。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、塗布性に優れ、かつ解像性に優れたパターンを形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）を含有する。
【０００８】
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とは、ケイ素原子を含むアクリル樹脂であって、例えば、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体である。
【０００９】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、好ましくは、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）（以下、「（Ａ１）」という場合がある。）に由来する構造単位を、少なくとも含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であり、特に、（Ａ１）と共重合可能な単量体と重合してなる共重合体を、含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。
【００１０】
（Ａ１）は、ケイ素原子を有し、非加水分解性である、つまり加水分解性基（例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基又はアシルオキシ基など）を含有しない化合物であって、重合性不飽和結合を含有する化合物である。
【００１１】
（Ａ１）は、下記式（I）で表される化合物であることが好ましい。
【化２】
2011022557.tif 000003
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ２は、−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−または−（ＣＨ２）ｗ−を表し、Ｒ２に含まれる−ＣＨ２−は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ３〜Ｒ１１は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該アリール基及び該アラルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。］
【００１２】
Ｒ１は、水素原子又はメチル基である。
Ｒ２としては、例えば、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−；
メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基などのアルカンジイル基；
−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−、−Ｏ−Ｃ３Ｈ６−、−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−、−Ｓ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＨ２−、−ＮＨ−Ｃ２Ｈ４−、−ＮＨ−Ｃ３Ｈ６−などのヘテロ原子含有アルカンジイル基などが挙げられる。中でも、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−Ｏ−ＣＨ２−、＊−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ３Ｈ６−が挙げられる（＊は、Ｃとの結合手を表す。）。
【００１３】
Ｒ３〜Ｒ１１は、非加水分解性である１価の基の中から選ぶことができる。このような非加水分解性の基として、非重合性の基及び重合性の基からなる群から選ばれるいずれかの基を選ぶことができる。本明細書において、非加水分解性基とは、加水分解性基（例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基又はアシルオキシ基など）が加水分解される条件において、加水分解されずに、そのまま安定に存在する性質を有する基をいう。
【００１４】
前記のＲ３〜Ｒ１１としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基などの炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基；
フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基などのアリール基；
ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのアラルキル基が挙げられる。好ましいＲ３〜Ｒ１１としてはメチル基、エチル基、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基等が挙げられ、より好ましくはメチル基、フェニル基が挙げられる。
【００１５】
（Ａ１）としては、例えば、（トリメチルシリルメチル）メタクリレート、（フェニルジメチルシリル）メチルメタクリレート、１−（３−メタクリロイルオキシプロピル）−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−（３−メタクリロイルオキシプロピル）ポリジメチルシロキサン、３−アクリロイルオキシプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルビニルシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、トリフェニルビニルシラン、トリメチルシリルメタクリレート、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、ビニルトリメチルシラン、ビニルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、フェニルジメチルビニルシラン、フェニルメチルビニルシランなどが挙げられる。これらは、単独で又は２種以上組合わせて用いることができる。
【００１６】
（Ａ１）としては、例えば、ＦＭ−０７１１（Ｍｗ：１０００、式（I−１））、ＦＭ−０７２１（Ｍｗ：５０００、式（I−１））、ＦＭ−０７２５（Ｍｗ：１００００、式（I−１））、ＦＭ−０７０１（Ｍｗ：４２０、式（I−１））、ＦＭ−０７０１Ｔ（Ｍｗ：４２０、式（I−２））（いずれも、チッソ（株）製）、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（Ｍｗ：４６００、式（I−１））、Ｘ−２４−８２０１（Ｍｗ：２１００）、Ｘ−２２−２４２６（Ｍｗ：１２０００、式（I−１））、Ｘ−２２−２４０４（Ｍｗ：４２０、式（I−２））、Ｘ−２２−２４０６（いずれも、信越化学工業（株）製）などの市販品を用いてもよい。
【００１７】
【化３】
2011022557.tif 000004
［式（I−１）中、Ｒ８、ｗおよびｙは、前記と同じ意味を表す。］
【００１８】
（Ａ１）と共重合可能な単量体としては、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）（以下、「（Ａ２）」という場合がある。）が挙げられ、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）と（Ａ２）とを重合してなる共重合体を、少なくとも含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。
【００１９】
（Ａ２）における、不飽和カルボン酸とは、不飽和結合を有するカルボン酸であり、不飽和カルボン酸無水物とは、不飽和結合を有するカルボン酸無水物である。
【００２０】
（Ａ２）としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸類；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等の不飽和ジカルボン酸類無水物；
コハク酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類などが挙げられる。中でも、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが、共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性が高い点から好ましく用いられる。これらは、単独で又は２種以上組合わせて用いることができる。本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。
【００２１】
さらに、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。以下「（Ａ３）」という場合がある。）を重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。
【００２２】
（Ａ３）としては、エポキシ基、オキセタニル基、活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基と不飽和結合とを有する化合物であることが好ましい。例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンなどが挙げられる。中でも、好ましくは３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンが挙げられる。
【００２３】
前記のエポキシ基と不飽和結合とを有する化合物は、環式オレフィンをエポキシ化した構造を有し、かつ不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。当該環式オレフィンとしては、例えば、ジシクロペンテン、トリシクロデセン、ノルボルネン、イソノルボルネン、ビシクロオクテン、ビシクロノネン、ビシクロウンデセン、トリシクロウンデセン、ビシクロドデセン、トリシクロドデセンなどが挙げられ、中でも、炭素数が８〜１２の化合物が好ましい。より好ましくは、下記式（III）で表される化合物及び式（IV）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。
【００２４】
【化４】
2011022557.tif 000005
［式（III）及び式（IV）中、Ｒは、水素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘは、単結合又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。
］
【００２５】
Ｒとしては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などの脂肪族炭化水素基；
ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−（ヒドロキシメチル）エチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基などのヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基が挙げられる。中でも、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基及び２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子及びメチル基が挙げられる。
【００２６】
Ｘとしては、例えば、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基；
−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−、−Ｏ−Ｃ３Ｈ６−、−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−、−Ｓ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＨ２−、−ＮＨ−Ｃ２Ｈ４−、−ＮＨ−Ｃ３Ｈ６−などのヘテロ原子含有アルキレン基などが挙げられる。中でも、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、−Ｏ−ＣＨ２−＊及び−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−＊が挙げられ、より好ましくは単結合及び−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−＊が挙げられる（＊はＯとの結合手を表す。）。
【００２７】
式（III）で表される化合物としては、例えば、式（III−１）〜式（III−１５）で表される化合物などが挙げられる。中でも、好ましくは式（III−１）、式（III−３）、式
（III−５）、式（III−７）、式（III−９）、式（III−１１）〜式（III−１５）で表される化合物が挙げられ、より好ましくは式（III−１）、式（III−７）、式（III−９）、式（III−１５）で表される化合物が挙げられる。
【００２８】
【化５】
2011022557.tif 000006
【００２９】
式（IV）で表される化合物としては、例えば、式（IV−１）〜式（IV−１５）で表される化合物などが挙げられる。中でも、好ましくは式（IV−１）、式（IV−３）、式（IV−５）、式（IV−７）、式（IV−９）、式（IV−１１）〜式（IV−１５）で表される化合物が挙げられ、より好ましくは式（IV−１）、式（IV−７）、式（IV−９）、式（IV−１５）で表される化合物が挙げられる。
【００３０】
【化６】
2011022557.tif 000007
【００３１】
式（III）で表される化合物及び式（IV）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の
比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、（式（III）で表される化合物）：（式（IV）で表される化合物）が、好ましくは５：９５〜９５：５、
より好ましくは１０：９０〜９０：１０、特に好ましくは２０：８０〜８０：２０である。
【００３２】
活性メチレン基とは、隣接位置にカルボニル基をもち、求核試薬に対する反応活性をもつ−ＣＨ２−のことをいい、活性メチン基とは活性メチレン基と同様の−ＣＨ（−）−のことをいう。活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基と不飽和結合とを有する化合物は、式（Ｖａ）で表される２価の基又は式（Ｖｂ）で表される１価の基と不飽和結合とを有する化合物であることが好ましい。
−Ｘａ−ＣＨＲｋ−Ｘｂ−Ｒｍ            （Ｖａ）
−Ｘｃ−ＣＨＲｎ−Ｘｄ                （Ｖｂ）
［式（Ｖａ）及び式（Ｖｂ）中、Ｒｋ、Ｒｍ及びＲｎは、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、ＲｋとＲｍとは互いに結合して環を形成していてもよい。Ｘａ、Ｘｂ及びＸｃは、互いに独立に、−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表す。Ｘｄは、ニトロ基又はシアノ基を表す。＊はＣとの結合手を表す。］
【００３３】
前記の活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基と不飽和結合とを有する化合物としては、例えば、式（V−１）〜式（V−１８）で表される。
化合物などが挙げられる。中でも、式（V−１）で表される２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテートが好ましい。
【００３４】
【化７】
2011022557.tif 000008
【００３５】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、さらに、その他の共重合可能な単量体（Ａ４）（ただし、（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）を除く。以下「（Ａ４）」という場合がある。）を重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることができる。
【００３６】
（Ａ４）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル類；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。
）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリールエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなどのビシクロ不飽和化合物類；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミドなどのジカルボニルイミド誘導体類；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどのビニル化合物が挙げられる。
これらのうち、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドなどが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。これらは、単独で又は２種以上組合わせて用いることができる。
【００３７】
前記のとおり、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、好ましくは、（Ａ１）に由来する構造単位を、少なくとも含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であり、より好ましくは（Ａ１）と、（Ａ１）と共重合可能な単量体、好ましくは（Ａ２）とを重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である。また、必要に応じて、（Ａ３）から導かれる構造単位、さらに（Ａ４）から導かれる構造単位が含まれていてもよい。
【００３８】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、（Ａ１）及び（Ａ２）に由来する構造単位のみからなる場合、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）において、（Ａ１）及び（Ａ２）に由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ１）に由来する構造単位；５０〜９５モル％
（Ａ２）に由来する構造単位；５〜５０モル％
【００３９】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、（Ａ１）及び（Ａ２）に由来する構造単位に加えて、（Ａ３）及び（Ａ４）に由来する構造単位を含む場合、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）〜（Ａ４）に由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ１）に由来する構造単位；５〜７５モル％
（Ａ２）に由来する構造単位；５〜５０モル％
（Ａ３）に由来する構造単位；０〜８５モル％
（Ａ４）に由来する構造単位；０〜５０モル％
【００４０】
構造単位の比率が前記の範囲にあると、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とシロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）との相溶性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好で、解像性が良好である傾向にある。
【００４１】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著  発行所（株）化学同人  第１版第１刷  １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。具体的には、共重合体を構成する所定量の（Ａ１）及び（Ａ２）などの化合物、重合開始剤及び溶剤を反応容器中に仕込み、窒素置換による酸素不存在下で攪拌、加熱、保温することにより、重合体が得られる。なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用しても、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよく、また、再沈殿などの方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
【００４２】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量が前記の範囲にあると、塗布性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好で、解像性が良好である傾向にある。
【００４３】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の分子量分布が前記の範囲にあると、現像性が良好で解像性に優れる傾向にある。
【００４４】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分に対して、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％である。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の含有量が前記の範囲にあると、耐熱光透過率がより向上する傾向にある。ここで固形分とは、感光性樹脂組成物全量から溶剤を除いた量のことをいう。
本明細書において、耐熱光透過率とは、感光性樹脂組成物を含む塗膜を加熱したときの、加熱前後の可視光領域での光透過率の変化率をいう。
【００４５】
本発明の感光性樹脂組成物は、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）を含有する。シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）は、加水分解性基が結合したケイ素原子を有する化合物であることが好ましい。加水分解性基が結合したケイ素原子を有する化合物とは、酸性又は塩基性の条件下で加水分解性基が脱離し、シラノール化合物を生成する化合物のことをいう。加水分解性基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基又はアシルオキシ基等が挙げられる。
シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）は、下記式（II）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む化合物であることが好ましい。
Ｒ１２ｎＳｉ（ＯＲ１３）４−ｎ    （II）
［式（II）中、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、オキシラニル基又は（メタ）アクリロイル基で置換されていてもよい。ｎは、０〜３の整数を表す。ｎが２以下の整数である場合、Ｒ１３は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ１２は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。］
【００４６】
シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）は、式（II）で表されるモノマーに由来する構造単位を含むオリゴマー、ポリマー又はこれらの混合物である。
【００４７】
Ｒ１２及びＲ１３としては、例えば、脂肪族炭化水素基としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、及びこれらの重水素置換体、アリール基としてフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、及びこれらの重水素、フッ素、又は塩素の各置換体、アラルキル基としてトリル基、キシリル基、メシチル基、及びこれらの重水素化物、フッ素化物、塩化物が挙げられる。中でも、メチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、トリジューテリオメチル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ペンタジューテリオフェニル基、特に好ましくは、メチル基、フェニル基が挙げられる。
該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、オキシラニル基又は（メタ）アクリロイル基に置換されていてもよい。
前記アミノ基は置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数３〜１２のシクロアルキリデン基等が挙げられ、これらの置換基に含まれる水素原子は、アミノ基に置換されていてもよい。置換基を有するアミノ基としては、具体的には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−（３−アミノプロピル）アミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−（１−メチルブチリデン）アミノ基、Ｎ−（１−メチルペンチリデン）アミノ基等が挙げられる。
【００４８】
式（II）で表されるモノマーは、例えば、アルコキシシラン、シランカップリング剤等が挙げられる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラキス（２−メタクリロイルオキシエトキシ）シラン、テトラキス（２−アクリロイルオキシエトキシ）シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルシラン、ベンジルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、キシリルトリメトキシシラン、（トリフルオロメチルフェニル）トリメトキシシラン、ビフェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−スルファニルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００４９】
シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）としては、例えば、オルガノポリシロキサンレジンが挙げられる。オルガノポリシロキサンレジンは、メチルポリシロキサンレジンとメチルフェニルポリシロキサンレジンとに大別される。
【００５０】
メチルポリシロキサンレジンとしては、一般にＳｉＯ２、ＣＨ３ＳｉＯ３／２、（ＣＨ３）２ＳｉＯ、（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２の構造単位を組み合わせてできる三次元網状構造の共重合体が挙げられる。
【００５１】
メチルフェニルポリシロキサンレジンとしては、一般にＳｉＯ２、ＣＨ３ＳｉＯ３／２、Ｃ６Ｈ５ＳｉＯ３／２、（ＣＨ３）２ＳｉＯ、（Ｃ６Ｈ５）３ＳｉＯ３／２、（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２、（Ｃ６Ｈ５）（ＣＨ３）ＳｉＯ、（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯの構造単位を組み合わせてできる三次元網状構造の共重合体が挙げられる。
メチルフェニルポリシロキサンレジンは、メチルポリシロキサンレジンと比較して耐熱性が高い。
【００５２】
オルガノポリシロキサンレジンとしては、例えば、ＫＲ−２４２Ａ、ＫＣ−８９、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−２５１、ＫＲ−４００、ＫＲ−４０１Ｎ、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１７、Ｘ−４１−１０５３、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−２７１、ＫＲ−２８２、ＫＲ−３００、ＫＲ−３１１、ＫＲ−２１２、ＫＲ−２１３、ＫＲ−４００、ＫＲ−２５５、ＥＳ−１００１Ｎ、ＥＳ−１００２Ｔ、ＥＳ−１０２３、ＥＳ−５２０６、ＥＳ−５２３０、ＥＳ−５２３５、ＥＳ−９７０６（いずれも、信越化学工業（株）製）などの市販品を用いてもよい。
【００５３】
シロキサン化合物（Ｂ）のシラノール含有率は、１％以下であることが好ましい。本明細書において、シラノール含有率とは、赤外分光分析による３５００ｃｍ−１のＯＨ基（シラノール由来基）と１２７１ｃｍ−１のシリコン−メチル基による吸収ピークの吸光度比、即ち、Ａｂｓ（３５００ｃｍ−１）／Ａｂｓ（１２７１ｃｍ−１）をいう。
【００５４】
シロキサン化合物（Ｂ）の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分（組成物中の成分の中で、２５℃で固体のものをいう。）に対して質量分率で、好ましくは２０〜９０質量％、より好ましくは４０〜８０質量％である。シロキサン化合物（Ｂ）の含有量が、前記の範囲にあると、耐熱光透過率がより向上する傾向にある。
【００５５】
ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）を含むことによって、本発明の感光性樹脂組成物の耐熱光透過率が向上する。
【００５６】
本発明の感光性樹脂組成物は、感光物質（Ｃ）を含有する。感光物質（Ｃ）としては、光酸発生剤及び光塩基発生剤などが挙げられ、好ましくは光酸発生剤である。
【００５７】
光酸発生剤には、非イオン性化合物とイオン性化合物とがある。
【００５８】
非イオン性化合物としては、例えば、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、スルホンベンゾトリアゾール化合物などが挙げられる。
【００５９】
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物などが挙げられる。好ましいハロゲン含有化合物としては、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。
【００６０】
ジアゾケトン化合物としては、例えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物などが挙げられる。好ましいジアゾケトン化合物としては、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとのエステル化合物、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンとのエステル化合物、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ジフェノールとのエステなどが挙げられる。
【００６１】
ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタンなどが挙げられる。
【００６２】
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。好ましいスルホン化合物としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン、４−クロロフェニル−４−メチルフェニルジスルホン化合物などが挙げられる。
【００６３】
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネートなどが挙げられる。好ましくは、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリメシレート、トロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、２，６−ジニトロベンジルベンゼンスルホネートなどが挙げられる。イミノスルホネートとしては、例えば、ＰＡＩ−１０１（みどり化学（株）製）、ＰＡＩ−１０６（みどり化学（株）製）、ＣＧＩ−１３１１（チバ・ジャパン（株）製）を用いることができる。
【００６４】
カルボン酸エステル化合物としては、例えば、カルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステルが挙げられる。
【００６５】
スルホンイミド化合物としては、例えば、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ（カンファスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５− エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド��Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（エチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（プロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘキシルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（オクチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミドなどが挙げられる。
【００６６】
スルホンベンゾトリアゾール化合物としては、例えば、１−トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゾトリアゾール、１−ノナフルオロブチルスルホニルオキシベンゾトリアゾール、１−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００６７】
イオン性化合物としては、オニウムカチオンとルイス酸又はプロトン酸由来のアニオンとから構成されているものを使用することができる。
オニウムカチオンとしては、例えば、ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホニウム、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウム、ジメチル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキシ）スルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウム、又はジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムなどが挙げられる。中でも、好ましいオニウムカチオンとしては、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム又はトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムなどが挙げられる。
【００６８】
ルイス酸由来のアニオンとしては、例えば、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート又はテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。プロトン酸由来のアニオンとしては、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ペンタフルオロエタンスルホネート、カンファースルホネート等が挙げられる。好ましいルイス酸又はプロトン酸由来のアニオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート又はテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。前記のオニウムカチオン及びルイス酸又はプロトン酸由来のアニオンは、任意に組合わせることができる。
【００６９】
イオン性化合物としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート；
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート；
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート；
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート；
ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、エチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジエチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネートなどが挙げられる。中でも、好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、より好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、又はトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００７０】
光塩基発生剤としては、例えば、コバルトなどの遷移金属錯体、オルトニトロベンジルカルバメート類、α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類、オキシム化合物、α−アミノアセトフェノン系化合物、ビイミダゾール化合物などが挙げられる。
【００７１】
光照射により発生する塩基の種類としては、有機塩基又は無機塩基のいずれも用いることができるが、光照射による塩基の発生効率、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とシロキサン化合物（Ｂ）との重合反応における該塩基の触媒効果、前記重合反応により得られた重合体の反応溶液への溶解性などの点から、α−アミノアセトフェノン系化合物又はビイミダゾール化合物が好ましい。
【００７２】
遷移金属錯体としては、例えば、ブロモペンタアンモニアコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサアンモニアコバルト過塩素酸塩、ヘキサメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサプロピルアミンコバルト過塩素酸塩などが挙げられる。
【００７３】
オルトニトロベンジルカルバメート類としては、例えば、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジンなどが挙げられる。
【００７４】
α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類としては、例えば、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジンなどが挙げられる。
【００７５】
オキシム化合物としては、例えば、プロピオニルアセトフェノンオキシム、プロピオニルベンゾフェノンオキシム、プロピオニルアセトンオキシム、ブチリルアセトフェノンオキシム、ブチリルベンゾフェノンオキシム、ブチリルアセトンオキシム、アジポイルアセトフェノンオキシム、アジポイルベンゾフェノンオキシム、アジポイルアセトンオキシム、アクロイルアセトフェノンオキシム、アクロイルベンゾフェノンオキシム、アクロイルアセトンオキシム、Ｏ−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、下記式（VI）で表される化合物（Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン)（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１；チバ・ジャパン（株）製））、下記式（VII）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは式（VI）で表される化合物が挙げられる。
【００７６】
【化８】
2011022557.tif 000009
【００７７】
α−アミノアセトフェノン系化合物としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２，３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノンのオリゴマーなどが挙げられる。
【００７８】
ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報など参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報など参照。）、４，４’，５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報など参照。）などが挙げられ、好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’４−トリス（２−クロロフェニル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニル−１，１’−ビイミダゾールが挙げられる。
【００７９】
中でも、本発明の感光性樹脂組成物が含有する感光物質（Ｃ）としては、露光部の硬化速度を高め、現像時のパターンの膜減りを抑制し、残膜率が向上することから、光酸発生剤であることが好ましい。
【００８０】
感光物質（Ｃ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して、好ましくは０．１〜４０質量％、より好ましくは１〜３０質量％である。感光物質（Ｃ）の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物が高感度となり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成した画素部の強度や、前記の画素の表面における平滑性が良好になる傾向がある。
【００８１】
本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤（Ｄ）を含有する。本発明の感光性樹脂組成物に用いられる溶剤（Ｄ）は、エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ１）（以下、「有機溶剤（Ｄ１）」という場合がある。）と、ヒドロキシ基を有する有機溶剤（Ｄ２）（以下、「有機溶剤（Ｄ２）」という場合がある。）とを少なくとも含む溶剤である。
【００８２】
有機溶剤（Ｄ１）は、エステル結合及びエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤であり、特に、１つのエステル結合及び１つ以上のエーテル結合を有し、かつヒドロキシ基を有さない有機溶剤であることが好ましい。
【００８３】
そのような有機溶剤（Ｄ１）としては、例えば、エチレングリコールメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテートなどが挙げられ、中でも、好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。
【００８４】
有機溶剤（Ｄ２）は、ヒドロキシ基を有する有機溶剤であり、例えば、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エタノール、プロパノール、ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールまたはグリセリンなどが挙げられる。
【００８５】
前記の有機溶剤（Ｄ２）の中でも、１気圧における沸点が１００〜２００℃であるものが好ましい。特に、沸点が低すぎると、基板上に塗布後の塗膜にムラが生じやすい傾向にあるため、１００℃以上であることが好ましく、さらには１１０℃以上、特には１１５℃以上であることがより好ましい。また、沸点が高すぎるとプリベークで溶剤を除去する際に塗膜中に残存しやすく、ムラが生じたり、現像時にパターンが膜減りしたりする傾向にあるため、２００℃以下であることが好ましく、さらには１８０℃以下、特には１７５℃以下であることがより好ましい。
そのような有機溶剤（Ｄ２）としては、具体的には、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、３−メトキシ−１−ブタノール、ジアセトンアルコールなどが挙げられ、特に好ましくは、３−メトキシ−１−ブタノールが挙げられる。
【００８６】
さらに、溶剤（Ｄ）は、エーテル結合を有し、かつエステル結合及びヒドロキシ基を有さない有機溶剤（Ｄ３）（以下、「有機溶剤（Ｄ３）」という場合がある。）を含んでなる溶剤であることが好ましい。
【００８７】
有機溶剤（Ｄ３）としては、例えば、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルジ−ｎ−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｎ−ヘキシルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールメチルモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールメチル−ｎ−ヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル、テトラジエチレングリコールメチルエチルエーテル、テトラエチレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、テトラエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、テトラエチレングリコールメチル−ｎ−ヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−ヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチル−ｎ−ヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラプロピレングリコールジエチルエーテル、テトラジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、テトラプロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、テトラプロピレングリコールメチル−ｎ−ヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテルなどが挙げられる。中でも、ジエチレングリコールジアルキルエーテルであることが好ましく、具体的には、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルが好ましい。
【００８８】
前記の有機溶剤（Ｄ１）、（Ｄ２）及び（Ｄ３）は、それぞれ１種または２種以上組合わせて用いることができる。
溶剤（Ｄ）が有機溶剤（Ｄ１）及び（Ｄ２）のみである場合、有機溶剤（Ｄ１）及び（Ｄ２）は、任意の比率で混合して用いることができ、その混合比率は、質量比（溶剤の合計量に対しての質量分率）で、以下の範囲にあることが好ましい。
有機溶剤（Ｄ１）；５０〜９０質量％（より好ましくは５０〜８０質量％）
有機溶剤（Ｄ２）；１０〜５０質量％（より好ましくは２０〜５０質量％）
【００８９】
溶剤（Ｄ）が有機溶剤（Ｄ１）、（Ｄ２）及び（Ｄ３）を含む場合、有機溶剤（Ｄ１）、（Ｄ２）及び（Ｄ３）は、任意の比率で混合して用いることができ、その混合比率は、質量比（溶剤の合計量に対しての質量分率）で、以下の範囲にあることが好ましい。
有機溶剤（Ｄ１）；１０〜８０質量％（より好ましくは４０〜８０質量％）
有機溶剤（Ｄ２）；１０〜５０質量％（より好ましくは１０〜４０質量％）
有機溶剤（Ｄ３）；１０〜８０質量％（より好ましくは１０〜５０質量％）
【００９０】
各有機溶剤の混合比率が前記の範囲にあると、基板上に塗布後の塗膜、またはプリベーク後の塗膜においてムラが生じにくい傾向にあり、好ましい。
【００９１】
溶剤（Ｄ）は、前述した有機溶剤のみで構成されることが好ましいが、本発明の効果を損なわない程度であれば、その他の有機溶剤を含むことができる。そのような有機溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。
【００９２】
本発明の感光性樹脂組成物における溶剤（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは４０〜９０質量％、より好ましくは６０〜８５質量％である。溶剤（Ｄ）の含有量が前記の範囲にあると、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター（ダイコーター、カーテンフローコーターと呼ばれることもある。）、インクジェットなどの塗布装置で塗布したときの平坦性が良好になる傾向があり、また、パターンや塗膜を形成した時に膜厚が不足しない傾向がある。
【００９３】
本発明の感光性樹脂組成物は、熱硬化促進剤（Ｅ）を含むことができる。熱硬化促進剤（Ｅ）は、アルコキシシランの脱水縮合反応を熱存在下で加速させるものであれば、特に限定はされないが、中でも、有機チタン含有化合物、有機ジルコン化合物が好ましい。
【００９４】
有機チタン含有化合物として、具体的には、テトライソプロポキシチタン（ＴＰＴ；日本曹達（株）製）、テトラ−ｎ−ブトキシチタン（ＴＢＴ；日本曹達（株）製）、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン（ＴＯＴ；日本曹達（株）製）、チタニウム-i-プロポキシオクチレングリコレート（ＴＯＧ；日本曹達（株）製）、ジ-i-プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン（Ｔ―５０；日本曹達（株）製）、プロパンジオキシチタンビス（エチルアセトアセテート）（Ｔ―６０；日本曹達（株）製）、トリ-n-ブトキシチタンモノステアレート（ＴＢＳＴＡ；日本曹達（株）製）、チタニウムステアレート（Ｓ−１５１；日本曹達（株）製）、ジイソプロポキシチタン  ジイソステアレート（Ｓ−１５２；日本曹達（株）製）、（２−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾイルオキシ）トリブトキシチタン（Ｓ−１８１；日本曹達（株）製）などが挙げられる。
また、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）、Ｄ−２５（信越化学工業（株）製）、Ｄ−３０（信越化学工業（株）製）、Ｂ−１（日本曹達（株）製）、Ｂ−２（日本曹達（株）製）、Ｂ−３（日本曹達（株）製）、Ｂ−４（日本曹達（株）製）、Ｂ−５（日本曹達（株）製）、Ｂ−６（日本曹達（株）製）、Ｂ−７（日本曹達（株）製）、Ｂ−８（日本曹達（株）製）、Ｂ−９（日本曹達（株）製）、Ｂ−１０（日本曹達（株）製）などの市販品を用いることもできる。
【００９５】
有機ジルコン化合物としては、テトラ−１−ブトキシジルコニウム含有物（ＴＢＺＲ；日本曹達（株）製）、テトラブトキシジルコニウム（ＩＶ）とアセチルアセトンの反応生成物の含有物（ＺＲ−１８１；日本曹達（株）製）、テトラブトキシジルコニウムとアセチルアセトンの反応生成物の含有物（ＺＡＡ；日本曹達（株）製）などが挙げられる。
また、ＺＲ−１５１（日本曹達（株）製）などの市販品を用いることもできる。
【００９６】
熱硬化促進剤（Ｅ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して質量分率で、０．５〜２０質量％、より好ましくは１．０〜１０質量％である。熱硬化促進剤（Ｅ）の含有量が前記の範囲にあると、溶解コントラストが向上するので、解像性やパターン形状が良好になる傾向があり、好ましい。
【００９７】
また、本発明の効果を損なわない程度であれば、光増感剤（Ｆ）を用いることができる。光増感剤（Ｆ）としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラセン系化合物などが挙げられる。具体的には以下のような化合物が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上組合わせて用いることができる。
【００９８】
前記のベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００９９】
前記のチオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
【０１００】
前記のアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。
【０１０１】
その他にも、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などが例示される。
【０１０２】
また、光増感剤（Ｆ）としては、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されている連鎖移動を起こしうる基を有する化合物を使用することもできる。連鎖移動を起こしうる基を有する化合物は、前記の共重合体の構成成分として感光性樹脂組成物に含まれていてもよい。前記の連鎖移動を起こしうる基を有する化合物としては、例えば、下記式（５）〜（１０）の化合物が挙げられる。
【０１０３】
【化９】
2011022557.tif 000010
【０１０４】
光増感剤（Ｆ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜４０質量％である。
【０１０５】
さらに、感光物質（Ｃ）に光重合開始助剤（Ｇ）を組合わせて用いることができる。この場合、光重合開始助剤を２種以上組合わせて用いることもできる。
光重合開始助剤（Ｇ）としては、例えば、アミン化合物、カルボン酸化合物、多官能チオール化合物、下記式（VIII）で表される化合物などが挙げられる。
【０１０６】
アミン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン化合物；
４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称、ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。
【０１０７】
カルボン酸化合物としては、例えば、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。
【０１０８】
多官能チオール化合物としては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブタノエート）、１，４−ビス（３−メルカプトブトキシ）ブタンが挙げられる。
【０１０９】
【化１０】
2011022557.tif 000011
［式（VIII）中、環Ｘは、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香族環を表す。
Ｙは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｒ１４は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ１５は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基を表す。］
【０１１０】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
また、炭素数６〜１２の芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。
【０１１１】
ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、ナフタレン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。
【０１１２】
炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチル−ｎ−プロピル基、２−メチル−ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【０１１３】
ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチル−ｎ−プロピル基、２−メチル−ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１−クロロ−ｎ−ブチル基、２−クロロ−ｎ−ブチル基、３−クロロ−ｎ−ブチル基などが挙げられる。
【０１１４】
ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロブロモフェニル基、ビフェニル基、クロロビフェニル基、ジクロロビフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、ブロモナフチル基、ジブロモナフチル基などが挙げられる。
【０１１５】
式（VIII）で表される化合物として、具体的には、例えば、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，３−ｄ］チアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリンなどが挙げられる。
【０１１６】
中でも好ましくは、下記式（VIII−１）で表される２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、下記式（VIII−２）で表される２−ベンゾイルメチレン−３−メチルーナフト［１，２−ｄ］チアゾリン及び下記式（VIII−３）で表される２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリンが挙げられる。
【０１１７】
【化１１】
2011022557.tif 000012
【０１１８】
光重合開始助剤（Ｇ）として、より好ましくは、アミン化合物、多官能チオール、前記式（VIII）で表される化合物である。
【０１１９】
光重合開始助剤（Ｇ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜４０質量％である。光重合開始助剤（Ｇ）の量が前記の範囲にあると、得られる感光性樹脂組成物の感度がさらに高くなり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成するパターン基板の生産性が向上する傾向にある。
【０１２０】
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集剤、連鎖移動剤などの添加剤を併用することもできる。
【０１２１】
充填剤としては、例えば、ガラス、シリカ、アルミナなどが挙げられる。
【０１２２】
他の高分子化合物としては、例えば、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂及びポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタンなどの熱可塑性樹脂を用いることができる。
【０１２３】
レベリング剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、例えば、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性などの界面活性剤などが挙げられる。これらは、それぞれ単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。前記の界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類などが挙げられる。具体的には、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ソルスパース（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（ＥＦＫＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製）、ＰＢ８２１（味の素（株）製）などを用いることができる。
【０１２４】
酸化防止剤としては、例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどが挙げられる。
【０１２５】
紫外線吸収剤としては、例えば、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【０１２６】
また凝集剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
連鎖移動剤としては、例えば、ドデシルメルカプタン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテンなどが挙げられる。
【０１２７】
本発明の感光性樹脂組成物は、光路長が１ｃｍの石英セルに充填し、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で透過率を測定した場合、平均透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【０１２８】
また、本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜とした際に、塗膜の平均透過率が９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。この平均透過率は、加熱硬化（例えば、１００〜２５０℃、５分〜３時間）後の厚みが２μｍの塗膜に対して、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域において透明性に優れた塗膜を提供することができる。
【０１２９】
本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、以下のようにして基材上に塗布し、光硬化及び現像を行って、塗膜やパターンを形成することができる。
まず、この組成物を基板（通常はガラス）又は先に形成された感光性樹脂組成物の固形分からなる層の上に塗布し、塗布された感光性樹脂組成物層からプリベークすることにより溶剤などの揮発成分を除去して、平滑な塗膜を得る。このようにして得られた塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して紫外線を照射する。この際、露光部全体に均一に平行光線が照射され、かつマスクと基板の正確な位置合わせが行われるよう、マスクアライナーやステッパなどの装置を使用するのが好ましい。さらにこの後、硬化の終了した塗膜をアルカリ水溶液に接触させて非露光部を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状が得られる。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。
塗布方法としては、例えば、スピンコート、流延塗布法、ロール塗布法、スリット  アンド  スピンコート又はスリットコート法などにより行なわれる。塗布後、加熱乾燥（プリベーク）、又は減圧乾燥後に加熱して、溶剤などの揮発成分を揮発させることによって、感光性樹脂組成物層が形成される。ここで、加熱の温度は、通常、７０〜２００℃、好ましくは８０〜１３０℃である。該感光性樹脂組成物層は揮発成分をほとんど含まない。
また、前記感光性樹脂組成物層の厚みは、１〜８μｍ程度である。
【０１３０】
なお、露光後、露光部分の硬化を促進させるために、加熱処理を行うことが好ましい。
その加熱条件は、感光性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。
【０１３１】
パターニング露光後の現像に使用する現像液は、通常、アルカリ性化合物と界面活性剤を含む水溶液である。
アルカリ性化合物は、無機アルカリ性化合物、有機アルカリ性化合物のいずれであってもよい。無機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが挙げられる。
また、有機アルカリ性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。これらの無機及び有機アルカリ性化合物は、それぞれ単独で又は２種以上組合わせて用いることができる。アルカリ現像液中のアルカリ性化合物の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。
【０１３２】
アルカリ現像液中の界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類などが挙げられる。
カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
これらの界面活性剤は、それぞれ単独で用いることも、また２種以上組合わせて用いることもできる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【０１３３】
現像後、水洗いを行い、さらに必要に応じて１００〜３００℃で１０〜６０分のポストベークを施すこともできる。
【０１３４】
本発明の感光性樹脂組成物を用いて、以上のような各工程を経て、基板上あるいはカラーフィルタ基板上に、塗膜又はパターンを形成することができる。この塗膜又はパターンは、液晶に使用されるフォトスペーサとして有用である。また、乾燥塗膜へのパターニング露光の際に、ホール形成用フォトマスクを使用すれば、ホールを形成することができ、層間絶縁膜として有用である。さらに、乾燥塗膜への露光の際に、フォトマスクを使用せず全面露光及び加熱硬化、あるいは加熱硬化のみで透明膜を形成することができ、この透明膜は、オーバーコートとして有用であり、また、タッチパネルにも用いることができる。
【０１３５】
本発明の感光性樹脂組成物は、耐熱光透過率に優れる硬化樹脂を提供できる。また、本発明の感光性樹脂組成物を用いると、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成することができ、フォトスペーサ、絶縁膜、液晶配向制御用突起、オーバーコート、着色パターンの膜厚をあわせるためのコート層、光導波路材料及び光スイッチング材料など、表示素子装置に用いられるパターン膜の形成に用いることができる。
【実施例】
【０１３６】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す％及び部は、特に断らないかぎり質量基準である。
【０１３７】
［合成例１］  
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸３０部、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（I−ａ）〕１３５部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（V−ａ）〕１８０部及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６０部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１５部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持した。その後室温まで冷却して、固形分３５．０％、酸価６５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａａ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａａの重量平均分子量Ｍｗは、９．９×１０３であった。
【０１３８】
【化１２】
2011022557.tif 000013
【０１３９】
【化１３】
2011022557.tif 000014
【０１４０】
［合成例２］
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、３−エトキシプロピオン酸エチル１８０部、３−メトキシ−１−ブタノール１２０部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸３０部、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（I−ａ）〕１３５部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（V−ａ）〕１８０部及び、３−エトキシプロピオン酸エチル９６部、３−メトキシ−１−ブタノール６４部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１５部を３−エトキシプロピオン酸エチル１０８部、３−メトキシ−１−ブタノール７２部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持した。その後室温まで冷却して、固形分３５．２％、酸価６５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａｂ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａｂの重量平均分子量Ｍｗは、１．５×１０４であった。
【０１４１】
〈分子量の測定〉
前記の樹脂Ａａ及び樹脂Ａｂの重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定については、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置      ；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム    ；ＳＨＩＭＡＤＺＵ  Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒      ；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速      ；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器    ；ＲＩ
【０１４２】
［実施例１］
合成例１で得られた樹脂Ａａを含む樹脂溶液（Ａ）１４３部（固形分換算５０部）、ＫＲ−２１３（信越化学工業（株）製）（Ｂ）２０部、ＫＣ−８９Ｓ（信越化学工業（株）製）（Ｂ）３０部、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＰＩ−２０７４；ローディア社製）（Ｃ）５部、２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ;日本化薬（株）製）（Ｆ）１．５部、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）（Ｅ）４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）３０部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（Ｄ３）５１部、ジアセトンアルコール（Ｄ２）３１部を混合して感光性樹脂組成物１を得た。得られた感光性樹脂組成物１について、下記の方法によりその評価を行った。
【０１４３】
＜パターン形成＞
２インチ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）を、中性洗剤、水及びアルコールで順次洗浄してから、乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物１をスピンコート法により塗布し、クリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークした。
放冷後、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射した。
なお、フォトマスクとして、１０μｍのラインアンドスペースパターンが形成されたフォトマスクを用いた。また、光照射時には、感光性樹脂組成物１を塗布した基板とフォトマスクとの間隔が１００μｍになるように設定した。
光照射後、ホットプレートで１００℃、５分間ベークした。その後、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液に、２５℃で８０秒間浸漬して現像し、水洗後、オーブン中、２２０℃で３０分間ポストベークを行い、パターンを得た。放冷後、得られたパターンの膜厚は、膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ３；日本真空技術（株）製）を用いて測定したところ、３．１μｍであった。
【０１４４】
＜感光性樹脂組成物の平均透過率＞
感光性樹脂組成物１について、紫外可視分光光度計（Ｖ−６５０ＤＳ；日本分光（株）製）（石英セル、光路長；１ｃｍ）を用いて、４００〜７００ｎｍにおける平均透過率（％）を測定した。結果を表１に示す。
【０１４５】
＜塗膜の平均透過率＞
光照射時に、フォトマスクを使用しない以外は、前記と同様の操作を行い、ポストベーク後の膜厚が２.０μｍになるように、塗膜を作製した。作製した塗膜の波長４００〜７００ｎｍにおける平均透過率（％）を、顕微分光測光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２００；ＯＬＹＭＰＵＳ社製）を用いて測定した。結果を表１に示す。
【０１４６】
＜解像性評価＞
得られたパターンを走査型電子顕微鏡（Ｓ−４０００；（株）日立製作所製）を用いて観察したところ、１０μｍのラインアンドスペースパターンを解像していた。１０μｍのラインアンドスペースパターンが解像している場合を解像性良好と判断し、解像していない場合を解像性不良と判断した。解像性が良好である場合を○として、結果を表１に示す。
【０１４７】
＜放射状ムラ評価＞
厚さ１．５μｍの１ｃｍ角ドットパターンを２ｃｍ間隔で形成したシリコン基板に、スピンコート法により、プリベーク後の膜厚が２．８μｍとなるように感光性樹脂組成物１を塗布し、クリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークした。該基板をナトリウムランプ下で観察したところ、放射状のムラは認められなかった。放射状のムラが認められない場合を塗布性良好と判断し、放射状のムラが認められる場合を塗布性不良と判断した。塗布性が良好である場合を○として、結果を表１に示す。
【０１４８】
＜無定形ムラ評価＞
シリコン基板上に、スピンコート法により、プリベーク後の膜厚が２．８μｍとなるように感光性樹脂組成物１を塗布し、クリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークした。該基板をナトリウムランプ下で観察したところ、無定形ムラは認められなかった。無定形ムラが認められなかった場合を塗布性良好と判断し、無定形ムラが認められる場合を塗布性不良と判断した。塗布性が良好である場合を○として、結果を表１に示す。
【０１４９】
＜膜厚差評価＞
無定形ムラ評価と同様の操作を行い得られた基板において、基板の端部と中央部の膜厚を膜厚測定装置でそれぞれ測定し、その差を算出した。結果は、膜厚差０．３μｍであり、良好であった。膜厚差が小さいほど、塗布性が良好である。
【０１５０】
［実施例２］
ジアセトンアルコールを乳酸エチルに代える以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５１】
［実施例３］
ジアセトンアルコールを３−メトキシ−１−ブタノールに代える以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５２】
［実施例４］
ジアセトンアルコールをプロピレングリコールモノメチルエーテルに代える以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５３】
［比較例１］
ＫＲ−２１３（信越化学工業（株）製）（Ｂ）４０部、ＫＣ−８９Ｓ（信越化学工業（株）製）（Ｂ）６０部、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＰＩ−２０７４；ローディア社製）（Ｃ）５部、２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ;日本化薬（株）製）（Ｆ）１．５部、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）（Ｅ）４部、メチルイソブチルケトン１００部を混合して感光性樹脂組成物を得た。実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５４】
【表１】
2011022557.tif 000015
【０１５５】
［実施例５］
合成例１で得られた樹脂Ａａを含む樹脂溶液（Ａ）１４３部（固形分換算５０部）、ＫＲ−２１３（信越化学工業（株）製）（Ｂ）２０部、ＫＣ−８９Ｓ（信越化学工業（株）製）（Ｂ）３０部、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＰＩ−２０７４；ローディア社製）（Ｃ）５部、２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ;日本化薬（株）製）（Ｆ）１．５部、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）（Ｅ）４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）５０部、乳酸エチル（Ｄ２）６２部を混合して感光性樹脂組成物を得た。得られた感光性樹脂組成物について、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表２に示す。
【０１５６】
［実施例６］
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）５０部及び乳酸エチル（Ｄ２）６２部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）３０部及び乳酸エチル（Ｄ２）８２部に代える以外は、実施例５と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表２に示す。
【０１５７】
［実施例７］
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）５０部及び乳酸エチル（Ｄ２）６２部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）１０部及び乳酸エチル（Ｄ２）１０２部に代える以外は、実施例５と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表２に示す。
【０１５８】
［実施例８］
乳酸エチルを、３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）に代える以外は、実施例５と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表２に示す。
【０１５９】
［実施例９］
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）５０部及び乳酸エチル（Ｄ２）６２部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）３０部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）８２部に代える以外は、実施例５と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表２に示す。
【０１６０】
［実施例１０］
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）５０部及び乳酸エチル（Ｄ２）６２部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）１０部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）１０２部に代える以外は、実施例５と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表２に示す。
【０１６１】
【表２】
2011022557.tif 000016
【０１６２】
［実施例１１］
合成例２で得られた樹脂Ａｂを含む樹脂溶液（Ａ）１４３部（固形分換算５０部）、ＫＲ−２１３（信越化学工業（株）製）（Ｂ）２０部、ＫＣ−８９Ｓ（信越化学工業（株）製）（Ｂ）３０部、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＰＩ−２０７４；ローディア社製）（Ｃ）５部、２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ;日本化薬（株）製）（Ｆ）１．５部、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）（Ｅ）４部、３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）６８部、３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）４５部を混合して感光性樹脂組成物を得た。得られた感光性樹脂組成物について、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表３に示す。
【０１６３】
［実施例１２］
３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）６８部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）４５部を、３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）８９部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）２５部に代える以外は、実施例１１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表３に示す。
【０１６４】
［実施例１３］
３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）６８部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）４５部を、３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）２７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）６２部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）２５部に代える以外は、実施例１１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表３に示す。
【０１６５】
［実施例１４］
３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）６８部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）４５部を、３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）４８部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）４１部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）２５部に代える以外は、実施例１１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表３に示す。
【０１６６】
［実施例１５］
３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）６８部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）４５部を、３−エトキシプロピオン酸エチル（Ｄ１）２７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）２１部及び３−メトキシ−１−ブタノール（Ｄ２）２５部に代える以外は、実施例１１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にしてその評価を行った。結果を表３に示す。
【０１６７】
【表３】
2011022557.tif 000017
【０１６８】
本発明の感光性樹脂組成物は塗布性に優れ、かつ本発明の感光性樹脂組成物からなるパターンは、解像性に優れることがわかる。一方、比較例では、優れた解像性及び塗布性を確認することができなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１６９】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、解像性に優れたパターン及びムラが抑制され膜厚が均一な塗膜を形成することができる。