(57)【要約】【課題】基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化する。【解決手段】基板１を支持するチャック１０と、マスク２を保持するマスクホルダ２０と、チャック１０を移動するステージと、マスクホルダ２０を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャック１０をＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板１の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板１の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行う。露光領域をＹ方向（又はＸ方向）へ変更する際は、マスク２より大きな基板１をＹ方向（又はＸ方向）へ移動する必要が無く、マスク２がマスク２より大きな基板１の上方でＹ方向（又はＸ方向）へ移動される。従って、露光装置のＹ方向（又はＸ方向）の寸法を小さくすることができる。【選択図】図１
2011048209.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
前記チャックを移動するステージと、
前記マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを備え、
前記ステージは、前記チャックをＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、前記マスクホルダ移動装置は、前記マスクホルダをＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
前記チャックをＸＹ方向へ移動するステージと、
前記マスクホルダをＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを備え、
前記ステージ及び前記マスクホルダ移動装置は、前記チャック及び前記マスクホルダを互いに逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記ステージ及び前記マスクホルダ移動装置は、前記チャックの移動及び前記マスクホルダの移動を並行して行うことを特徴とする請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
チャックを移動するステージと、
マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、
ステージによりチャックをＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法。
【請求項５】
基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
チャックをＸＹ方向へ移動するステージと、
マスクホルダをＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、
ステージによりチャックをＸＹ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法。
【請求項６】
ステージによるチャックの移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダの移動とを並行して行うことを特徴とする請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法。
【請求項７】
請求項３に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を用いて露光領域を変更して、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
近年、表示用パネルの各種基板の製造では、大型化及びサイズの多様化に対応するため、比較的大きな基板を用意し、表示用パネルのサイズに応じて、１枚の基板から１枚又は複数枚の表示用パネル基板を製造している。その場合、プロキシミティ方式では、基板の一面を一括して露光しようとすると、基板と同じ大きさのマスクが必要となり、高価なマスクのコストがさらに増大する。そこで、基板より比較的小さなマスクを用い、ステージにより基板をＸＹ方向へステップ移動させて、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光する方式が主流となっている。この様な方式の露光装置として、例えば、特許文献１に記載のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２４１３９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、基板をＸＹ方向へステップ移動させる際に必要なステージの移動量が増加する。そのため、露光装置が大型になって、装置の加工及び運搬に手間が掛かるという問題があった。また、基板のステップ移動に時間が掛かって、タクトタイムが長くなるという問題があった。
【０００６】
本発明の課題は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化することである。また、本発明の課題は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光する際、露光領域の変更を短時間に行うことである。さらに、本発明の課題は、表示用パネル基板を高いスループットで製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを備え、ステージが、チャックをＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置が、マスクホルダをＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行うものである。
【０００８】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法は、マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行うものである。
【０００９】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行うので、露光領域をＹ方向（又はＸ方向）へ変更する際は、マスクより大きな基板をＹ方向（又はＸ方向）へ移動する必要が無く、マスクがマスクより大きな基板の上方でＹ方向（又はＸ方向）へ移動される。従って、露光装置のＹ方向（又はＸ方向）の寸法を小さくすることができる。
【００１０】
また、本発明のプロキシミティ露光装置は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをＸＹ方向へ移動するステージと、マスクホルダをＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを備え、ステージ及びマスクホルダ移動装置が、チャック及びマスクホルダを互いに逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更するものである。
【００１１】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをＸＹ方向へ移動するステージと、マスクホルダをＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをＸＹ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更するものである。
【００１２】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをＸＹ方向へ移動するステージと、マスクホルダをＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをＸＹ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更するので、露光領域の変更に必要なステージの移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、露光装置を小型化することができる。
【００１３】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、ステージ及びマスクホルダ移動装置が、チャックの移動及びマスクホルダの移動を並行して行うものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法は、ステージによるチャックの移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダの移動とを並行して行うものである。露光領域の変更に必要なステージの移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、かつ、両者の移動を並行して行うので、露光領域の変更が短時間に行われる。
【００１４】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を用いて露光領域を変更して、基板の露光を行うものである。露光領域の変更が短時間に行われるので、タクトタイムが短縮され、表示用パネル基板が高いスループットで製造される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法によれば、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行うことにより、マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置のＹ方向（又はＸ方向）の寸法を小さくして、プロキシミティ露光装置を小型化することができる。
【００１６】
また、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法によれば、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをＸＹ方向へ移動するステージと、マスクホルダをＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをＸＹ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更することにより、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化することができる。
【００１７】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法によれば、ステージによるチャックの移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダの移動とを並行して行うことにより、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光する際、露光領域の変更を短時間に行うことができる。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、露光領域の変更を短時間に行うことができるので、タクトタイムを短縮して、表示用パネル基板を高いスループットで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。
【図３】基板の露光領域の一例を示す図である。
【図４】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図５】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図６】本発明の一の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図７】本発明の一の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図８】露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。
【図９】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。
【図１０】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。
【図１１】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図１３】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図１４】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。
【図１５】露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。
【図１６】露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。
【図１７】露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。
【図１８】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１９】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。また、図２は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、負圧ガラス２１、チルト用腕２４、Ｚ−チルト機構２５、及びマスクホルダ移動装置を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２１】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２２】
図１及び図２において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。
【００２３】
基板１の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が配置されている。マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口が設けられており、マスクホルダ２０は、開口の周囲に設けられた図示しない吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ２０の開口の上方には、負圧ガラス２１が設置されており、マスク２と、マスクホルダ２０と、負圧ガラス２１とによって、負圧室が構成されている。負圧室に負圧を掛けることによって、マスク２に重力の方向と反対方向へ浮上する力が掛かり、マスク２のたわみが抑制される。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２４】
なお、図示しない照射光学系では、光源ユニットを複数設け、後述するマスク２の移動に応じて、光源ユニットを切り替えて使用してもよい。あるいは、半導体発光素子を多数並べた光源を用い、後述するマスク２の移動に応じて、点灯する半導体発光素子を変更してもよい。
【００２５】
図２において、チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図２の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図２の図面奥行き方向）へ移動する。Ｘステージ５及びＹステージ７は、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない移動機構により移動される。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。
【００２６】
マスクホルダ２０は、マスクホルダ移動装置により、露光位置の上空に支持されている。マスクホルダ移動装置は、支柱３０ａ、ガイドベース３０ｂ、Ｙガイド３３、Ｙ移動ブロック３４、及びホルダベース３５を含んで構成されている。図１及び図２において、ガイドベース３０ｂは、支柱３０ａにより、Ｘステージ５の移動範囲をまたいで、ベース３の上方に設けられている。Ｙ移動ブロック３４は、ガイドベース３０ｂに設けられたＹガイド３３に搭載され、Ｙガイド３３に沿ってＹ方向へ移動する。ホルダベース３５は、Ｙ移動ブロック３４に取り付けられ、Ｙ移動ブロック３４の移動によりＹ方向へ移動される。Ｙ移動ブロック３４は、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない移動機構により移動される。マスクホルダ２０には、３本のチルト用腕２４が取り付けられており、各チルト用腕２４は、ホルダベース３５に設けられたＺ−チルト機構２５により支持されている。
【００２７】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、またはホルダベース３５のＹ方向への移動により、基板１の露光領域が変更される。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１のアライメントが行われる。また、Ｚ−チルト機構２５によりマスクホルダ２０をＺ方向（図２の図面上下方向）へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００２８】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２９】
図３は、基板の露光領域の一例を示す図である。図３は、基板１の一面を破線で示した４つの露光領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに分けて露光する例を示している。本発明は、これに限らず、基板の一面を３つ又は５つ以上の露光領域に分けて露光する場合にも適用される。
【００３０】
以下、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法について説明する。図４〜図７は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。図４は、図３に示した基板１の露光領域１ａを露光する場合を示している。本実施の形態では、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動して、基板１の露光領域を１ａから１ｂへ変更する。図５は、図３に示した基板１の露光領域１ｂを露光する場合を示している。
【００３１】
さらに、本実施の形態では、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をＹ方向へ移動して、基板１の露光領域を１ｂから１ｃへ変更する。図６は、図３に示した基板１の露光領域１ｃを露光する場合を示している。そして、本実施の形態では、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動して、基板１の露光領域を１ｃから１ｄへ変更する。図７は、図３に示した基板１の露光領域１ｄを露光する場合を示している。
【００３２】
図８は、露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。図８（ａ）は、図３に示した基板１の露光領域１ａを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示し、図８（ｂ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｂを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示している。図８（ａ），（ｂ）に示す様に、基板１の露光領域を１ａから１ｂへ変更する際、実線で示す基板１はＸ方向へＸ０だけ移動される。
【００３３】
図８（ｃ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｃを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示している。図８（ｂ），（ｃ）に示す様に、基板１の露光領域を１ｂから１ｃへ変更する際、破線で示すマスク２はＹ方向へＹ０だけ移動される。このとき、マスク２より大きな基板１をＹ方向へ移動する必要が無く、マスク２がマスク２より大きな基板１の上方でＹ方向へ移動される。従って、露光装置のＹ方向の寸法を小さくすることができる。
【００３４】
なお、長方形の基板に対し、長方形の長辺又は短辺のどちらをＸ方向とし、どちらをＹ方向とするかは、Ｘステージ５及びマスクホルダ移動装置の構造的な強度と荷重の違いによる移動速度の違いを考慮して、移動時間が短くなる様に決定することができる。
【００３５】
以上説明した実施の形態によれば、基板１を支持するチャック１０と、マスク２を保持するマスクホルダ２０と、チャック１０を移動するＸステージ５と、マスクホルダ２０を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動して、基板１の露光領域のＸ方向への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をＹ方向へ移動して、基板１の露光領域のＹ方向への変更を行うことにより、マスク２より大きな基板１の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置のＹ方向の寸法を小さくして、プロキシミティ露光装置を小型化することができる。
【００３６】
図９は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。また、図１０は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。本実施の形態のマスクホルダ移動装置は、ガイドベース３０ｂ、Ｘガイド３１、Ｘ移動バー３２、Ｙガイド３３、Ｙ移動ブロック３４、及びホルダベース３５を含んで構成されている。その他の構成要素は、図１及び図２に示した実施の形態と同様である。
【００３７】
図９において、ガイドベース３０ｂは、Ｘステージ５の移動範囲を挟んで、ベース３上に設けられている。Ｘ移動バー３２は、ガイドベース３０ｂに設けられたＸガイド３１に搭載され、Ｘステージ５の移動範囲をまたいで、Ｘガイド３１に沿ってＸ方向へ移動する。Ｙ移動ブロック３４は、Ｘ移動バー３２に設けられたＹガイド３３に搭載され、Ｙガイド３３に沿ってＹ方向へ移動する。ホルダベース３５は、Ｙ移動ブロック３４に取り付けられ、Ｘ移動バー３２の移動によりＸ方向へ移動され、Ｙ移動ブロック３４の移動によりＹ方向へ移動される。Ｘ移動バー３２及びＹ移動ブロック３４は、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない移動機構により移動される。
【００３８】
以下、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法について説明する。図１１〜図１４は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。図１１は、図３に示した基板１の露光領域１ａを露光する場合を示している。本実施の形態では、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をチャック１０の移動方向と逆方向へ移動して、基板１の露光領域を１ａから１ｂへ変更する。図１２は、図３に示した基板１の露光領域１ｂを露光する場合を示している。
【００３９】
さらに、本実施の形態では、Ｙステージ７によりチャック１０をＹ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をチャック１０の移動方向と逆方向へ移動して、基板１の露光領域を１ｂから１ｃへ変更する。図１３は、図３に示した基板１の露光領域１ｃを露光する場合を示している。そして、本実施の形態では、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をチャック１０の移動方向と逆方向へ移動して、基板１の露光領域を１ｃから１ｄへ変更する。図１４は、図３に示した基板１の露光領域１ｄを露光する場合を示している。
【００４０】
図１５〜図１７は、露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。図１５〜図１７は、図１１〜図１４において、Ｘステージ５又はＹステージ７の移動量と、マスクホルダ移動装置の移動量とを同じにした例を示している。図１５（ａ）は、図３に示した基板１の露光領域１ａを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示し、図１５（ｂ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｂを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示している。図１５に示す様に、基板１の露光領域を１ａから１ｂへ変更する際、破線で示すマスク２はＸ方向へＸ１だけ移動され、実線で示す基板１は逆方向へＸ１だけ移動される。
【００４１】
図１６（ａ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｂを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示し、図１６（ｂ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｃを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示している。図１６に示す様に、基板１の露光領域を１ｂから１ｃへ変更する際、実線で示す基板１はＹ方向へＹ１だけ移動され、破線で示すマスク２は逆方向へＹ１だけ移動される。
【００４２】
図１７（ａ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｃを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示し、図１７（ｂ）は、図３に示した基板１の露光領域１ｄを露光する場合の基板１及びマスク２の位置を示している。図１７に示す様に、基板１の露光領域を１ｃから１ｄへ変更する際、実線で示す基板１はＸ方向へＸ１だけ移動され、破線で示すマスク２は逆方向へＸ１だけ移動される。
【００４３】
図１５〜図１７に示した例の場合、基板１の移動量は、従来のマスク２が移動されない場合の半分で済み、マスク２の移動量も、基板１の移動量と同じで済む。従って、露光領域の変更に必要なＸステージ５又はＹステージ７の移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、露光装置を小型化することができる。
【００４４】
さらに、本実施の形態では、Ｘステージ５又はＹステージ７によるチャック１０の移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダ２０の移動とを並行して行う。露光領域の変更に必要なＸステージ５又はＹステージ７の移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、かつ、両者の移動を並行して行うので、露光領域の変更が短時間に行われる。
【００４５】
なお、図１５〜図１７では、Ｘステージ５又はＹステージ７の移動量と、マスクホルダ移動装置の移動量とを同じにした例を示したが、両者の移動量は、Ｘステージ５、Ｙステージ７、及びマスクホルダ移動装置の構造的な強度と荷重の違いによる移動速度の違いを考慮して、移動時間が最短となる様に決定することができる。
【００４６】
以上説明した実施の形態によれば、基板１を支持するチャック１０と、マスク２を保持するマスクホルダ２０と、チャック１０をＸＹ方向へ移動するＸステージ５及びＹステージ７と、マスクホルダ２０をＸＹ方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、Ｘステージ５又はＹステージ７によりチャック１０をＸＹ方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をチャック１０の移動方向と逆方向へ移動して、基板１の露光領域を変更することにより、基板１の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化することができる。
【００４７】
さらに、Ｘステージ５又はＹステージ７によるチャック１０の移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダ２０の移動とを並行して行うことにより、基板１の一面を複数の露光領域に分けて露光する際、露光領域の変更を短時間に行うことができる。
【００４８】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を用いて露光領域を変更して、基板の露光を行うことにより、露光領域の変更を短時間に行うことができるので、タクトタイムを短縮して、表示用パネル基板を高いスループットで製造することができる。
【００４９】
例えば、図１８は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００５０】
また、図１９は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００５１】
図１８に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１９に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００５２】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
２０  マスクホルダ
２１  負圧ガラス
２４  チルト用腕
２５  Ｚ−チルト機構
３０ａ  支柱
３０ｂ  ガイドベース
３１  Ｘガイド
３２  Ｘ移動バー
３３  Ｙガイド
３４  Ｙ移動ブロック
３５  ホルダベース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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