(57)【要約】【課題】  本発明は、光学特性、耐熱性に優れた光学フィルム、特にディスプレイ用光学フィルムを提供する。【解決手段】  特定のＮ−置換マレイミド系樹脂残基単位を含むマレイミド系樹脂よりなり、厚みが１０〜４００μｍである光学フィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位を含むマレイミド系樹脂よりなり、厚みが１０〜４００μｍであることを特徴とする光学フィルム。
【化１】
2011132542.tif 000009
（１）
（ここで、Ｒはヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。）
【請求項２】
上記一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位が４０モル％以上であるマレイミド系樹脂よりなることを特徴とする請求項１記載の光学フィルム。
【請求項３】
上記一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位が４０〜９０モル％、下記一般式（２）で表されるオレフィン残基単位が６０〜１０モル％であるマレイミド系樹脂よりなることを特徴とする請求項１又は２記載の光学フィルム。
【化２】
2011132542.tif 000010
（２）
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に水素、炭素数１から６の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状アルキル基を示す。）
【請求項４】
Ｎ−置換マレイミド残基単位が、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド残基単位であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の光学フィルム。
【請求項５】
オレフィン残基単位が、２−メチルプロペン残基単位であることを特徴とする請求項３又は４記載の光学フィルム。
【請求項６】
偏光子保護フィルム、位相差フィルム、透明導電性基板フィルム、フラットパネルディスプレイ基板用フィルムより選ばれるフィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の光学フィルム。
【請求項７】
液晶ディスプレイ基板用フィルムであることを特徴とする請求項１〜６6のいずれか記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性、耐熱性に優れた光学フィルム、特にディスプレイ用光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイパネル、電子ペーパーなどに代表されるフラットパネルディスプレイには、透明樹脂からなる光学フィルムが使用されている。光学フィルムの使用によりディスプレイの薄型化、軽量化、携帯化が可能となり、薄型テレビ、コンピューターモニター、ノートブックパソコン、携帯電話、カーナビゲーション等への応用が急速に展開されている。しかしながら、現在使用されている光学フィルムは必ずしも市場のニーズを満たしたものではない。例えば偏光子保護フィルムとしてはトリアセチルセルロースフィルム（以下、ＴＡＣフィルム）が用いられているが、耐熱性に課題がある。また、位相差フィルムとしてはポリカーボネートフィルム（以下、ＰＣフィルム）を延伸、配向させたものが広く使用されている。しかし、ＰＣフィルムは光弾性係数が大きいため、複屈折が大きく、外部からの応力によって複屈折が変化しやすいなどの課題がある。
【０００３】
透明導電性基板フィルムは、透明フィルム上に透明導電膜が積層された構成になっている。この透明フィルムは耐熱性、光学特性に優れていることが求められており、ポリエーテルサルフォン（以下、ＰＥＳ）やポリアリレート（以下、ＰＡＲ）が用いられている。しかし、ＰＥＳからなるフィルムは透明性に劣り、ＰＡＲからなるフィルムも光学特性に不満足な点が多いという課題がある。
【０００４】
さらに、ディスプレイ基板用フィルムの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイの製造工程において、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）形成工程、パネルの張り合わせ工程、配向膜形成工程、透明電極形成工程などで、１５０℃から２００℃以上の高いプロセス温度が必要となり、ディスプレイ基板用フィルムには高い耐熱性が要求される。また、ディスプレイの表示特性に対する要求も年々厳しくなっていることから、ディスプレイ基板用フィルムに対しても優れた光学特性が求められている。この用途で検討が進められているＰＥＳは薄黄色から茶色に着色していること、光弾性定数が大きく、わずかな応力や歪により複屈折（光学的な異方性）を生じる、屈折率の波長依存性が大きいなど光学的な特性にも課題があり、基板用フィルムとしての特性を十分満足していない。
【０００５】
アルキルマレイミド類とオレフィン類からなる光学フィルムが報告されている（例えば、特許文献１，２参照）が、更なる耐熱性向上、柔軟性向上が求められている。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−０８０２４０号公報
【特許文献２】特開平０９−３２８５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、特定のＮ−置換マレイミド残基単位を含むマレイミド系樹脂からなる光学特性、耐熱性に優れた光学フィルムを提供することにある。さらに詳細には、光学特性、耐熱性に優れた偏光子保護フィルム、位相差フィルム、透明導電性基板フィルム、フラットパネルディスプレイ基板用フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のＮ−置換マレイミド残基単位からなる光学フィルムが、光学特性および耐熱性に優れることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、下記一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位を含むマレイミド系樹脂よりなり、厚みが１０〜４００μｍであることを特徴とする光学フィルムに関するものである。
【００１０】
【化１】
2011132542.tif 000002
（１）
（ここで、Ｒはヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。）
以下、本発明の光学フィルムについて詳細に説明する。
【００１１】
本発明は、上記一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位を含むマレイミド系樹脂よりなり、厚みが１０〜４００μｍであることを特徴とする光学フィルムに関するものである。ここで、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位中のＲはヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。なお、ヒドロキシアルキル基、カルボキシルアルキル基、アミノアルキル基は、分岐状アルキル基であってもよい。さらに、アミノアルキル基の窒素上にアルキル置換基が置換したものであってもよい。
【００１２】
そして、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基としては、例えばヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられ、炭素数１から４のアミノアルキル基としては、例えばアミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ブチル基等が挙げられ、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基としては、例えばカルボキシルメチル基、２−カルボキシルエチル基、３−カルボキシルプロピル基、４−カルボキシルブチル基等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、Ｒとしては、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、カルボキシル基、２−カルボキシルエチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ブチル基等が好ましく、特にヒドロキシ基、２−ヒドロキシエチル基、２−カルボキシルエチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基等が好ましい。
【００１３】
具体的な一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位としては、例えば、Ｎ−ヒドロキシマレイミド残基単位、Ｎ−ヒドロキシメチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）マレイミド残基単位、Ｎ−（４−ヒドロキシブチル）マレイミド残基単位、Ｎ−アミノメチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（３−アミノプロピル）マレイミド残基単位、Ｎ−（４−アミノブチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））エチルマレイミド残基単位、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））エチルマレイミド残基単位、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−カルボキシルマレイミド残基単位、Ｎ−カルボキシルメチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（３−カルボキシルプロピル）マレイミド残基単位、Ｎ−（４−カルボキシルブチル）マレイミド残基単位等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、Ｎ−ヒドロキシマレイミド残基単位、Ｎ−ヒドロキシメチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））エチルマレイミド残基単位、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））エチルマレイミド残基単位、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−カルボキシルマレイミド残基単位、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド残基単位等が好ましく、特にＮ−ヒドロキシマレイミド残基単位、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド残基単位、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド残基単位等が好ましい。
【００１４】
本発明の光学フィルムは、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位を含むマレイミド系樹脂よりなり、その中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、マレイミド系樹脂中のＮ−置換マレイミド残基単位が４０モル％以上であることが好ましい。その際のマレイミド系樹脂を構成する他の単量体残基単位としては、例えば下記一般式（２）で表されるオレフィン残基単位；アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位等のアクリル酸アルキルエステル類残基単位；メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位等のメタクリル酸アルキルエステル類残基単位；スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のビニル芳香族炭化水素類残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位、ピバル酸ビニル残基単位等のカルボン酸ビニルエステル類残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位等のＮ−置換マレイミド類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位等が挙げられる。これらのマレイミド系樹脂を構成する他の単量体残基単位の中でも、特に光学特性、耐熱性、機械強度に優れる光学フィルムが得られることから、下記一般式（２）で表されるオレフィン残基単位が好ましい。
【００１５】
【化２】
2011132542.tif 000003
（２）
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に水素、炭素数１から６の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状アルキル基を示す。）
ここで、一般式（２）で表されるオレフィン残基単位中のＲ１、Ｒ２はそれぞれ独立に水素、炭素数１から６の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状アルキル基を示す。そして、炭素数１から６の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１から６の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基が挙げられ、炭素数１から６の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基が挙げられる。これらの中でもＲ１、Ｒ２としては、耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、メチル基が好ましい。
【００１６】
具体的な一般式（２）で表されるオレフィン残基単位としては、例えばエチレン残基単位、プロピレン残基単位、２−メチルプロペン残基単位、１−ブテン残基単位、２−メチル−１−ブテン残基単位、２−エチル−１−ブテン残基単位、１−ヘキサン残基単位、２−メチル−１−ヘキサン残基単位、２−エチル−１−ヘキサン残基単位、２−プロピル−１−ヘキサン残基単位、２−イソプロピル−１−ヘキサン残基単位、２−シクロプロピル−１−ヘキサン残基単位等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、２−メチルプロペン残基単位が好ましい。
【００１７】
本発明の光学フィルムを構成するマレイミド樹脂に用いることが可能な一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位と一般式（２）で表されるオレフィン残基単位の配合割合は、特に制限はなく、その中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位４０〜９０モル％、一般式（２）で表されるオレフィン残基単位６０〜１０モル％であることが好ましい。
【００１８】
本発明の光学フィルムに用いるマレイミド系樹脂のゲルパーミエイションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算による数平均分子量は、１０，０００〜５００，０００が好ましく、特に好ましくは３０，０００〜１００，０００である。
【００１９】
本発明の光学フィルムに用いるマレイミド系樹脂の製造方法としては、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂が得られる限り如何なる製造方法をも用いることができ、例えば下記一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類をラジカル重合することにより、マレイミド系樹脂を得ることができる。
【００２０】
【化３】
2011132542.tif 000004
（３）
（ここで、Ｒ３はヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。）
ここで、一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類中のＲ３はヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。なお、ヒドロキシアルキル基、カルボキシルアルキル基、アミノアルキル基は、分岐状アルキル基であってもよい。さらに、アミノアルキル基の窒素上にアルキル置換基が置換したものであってもよい。
【００２１】
そして、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基としては、例えばヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられ、炭素数１から４のアミノアルキル基としては、例えばアミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ブチル基等が挙げられ、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基としては、例えばカルボキシルメチル基、２−カルボキシルエチル基、３−カルボキシルプロピル基、４−カルボキシルブチル基等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、Ｒ３としては、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、カルボキシル基、２−カルボキシルエチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ブチル基等が好ましく、特にヒドロキシ基、２−ヒドロキシエチル基、２−カルボキシルエチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基等が好ましい。
【００２２】
具体的な一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類としては、例えばＮ−ヒドロキシマレイミド、Ｎ−ヒドロキシメチルマレイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）マレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシブチル）マレイミド、Ｎ−アミノメチルマレイミド、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド、Ｎ−（３−アミノプロピル）マレイミド、Ｎ−（４−アミノブチル）マレイミド、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルマレイミド、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））エチルマレイミド、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））ブチルマレイミド、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルマレイミド、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））エチルマレイミド、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））プロピルマレイミド、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））ブチルマレイミド、Ｎ−カルボキシルマレイミド、Ｎ−カルボキシルメチルマレイミド、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド、Ｎ−（３−カルボキシルプロピル）マレイミド、Ｎ−（４−カルボキシルブチル）マレイミド等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、Ｎ−ヒドロキシマレイミド、Ｎ−ヒドロキシメチルマレイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルマレイミド、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））エチルマレイミド、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））ブチルマレイミド、Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルマレイミド、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））エチルマレイミド、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））プロピルマレイミド、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））ブチルマレイミド、Ｎ−カルボキシルマレイミド、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド等が好ましく、特にＮ−ヒドロキシマレイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド、Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド等が好ましい。
【００２３】
一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類のラジカル重合方法としては、特に制限はなく、公知のラジカル重合方法を用いることが可能であり、例えば水性媒体中で懸濁剤を用いた懸濁重合方法、乳化重合方法、トルエン等の有機溶剤を用いた溶液重合方法、溶媒を使用しない塊状重合方法等が挙げられる。
【００２４】
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーブチルピバレート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系開始剤が挙げられる。
【００２５】
ラジカル重合を行う際に使用可能な溶媒としては、特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；１，２−ジクロロエタン等が挙げられ、これらの混合溶媒も用いることが可能である。
【００２６】
ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００２７】
また、本発明の光学フィルムに好ましく用いることが可能な一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位と一般式（２）で表されるオレフィン残基単位よりなるマレイミド系樹脂の製造方法は、特に制限は無く、例えば［１］一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類と、下記一般式（４）で表されるオレフィン類をラジカル重合する方法（以下、合成方法（１）とする）；［２］下記一般式（５）で表される無水マレイン酸残基単位と前記一般式（２）で表されるオレフィン残基単位よりなる無水マレイン酸重合体と下記一般式（６）で表されるアミン類との反応により製造する方法（以下、合成方法（２）とする）等が好ましく用いられる。
【００２８】
【化４】
2011132542.tif 000005
（４）
（ここで、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立に水素、炭素数１から６の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状アルキル基を示す。）
【００２９】
【化５】
2011132542.tif 000006
（５）
【００３０】
【化６】
2011132542.tif 000007
（６）
（ここで、Ｒ６はヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。）
本発明の光学フィルムに好ましく用いられる一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位と一般式（２）で表されるオレフィン残基単位よりなるマレイミド系樹脂の合成方法（１）に用いられる一般式（４）で表されるオレフィン残基中のＲ４、Ｒ５はそれぞれ独立に水素、炭素数１から６の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状アルキル基を示し、炭素数１から６の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１から６の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基が挙げられ、炭素数１から６の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基が挙げられる。これらの中でもＲ４、Ｒ５としては、耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、メチル基が好ましい。
【００３１】
具体的な一般式（４）で表されるオレフィン類としては、例えばエチレン、プロピレン、２−メチルプロペン、１−ブテン、２−メチル−１−ブテン、２−エチル−１−ブテン、１−ヘキサン、２−メチル−１−ヘキサン、２−エチル−１−ヘキサン、２−プロピル−１−ヘキサン、２−イソプロピル−１−ヘキサン、２−シクロプロピル−１−ヘキサン等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、２−メチルプロペンが好ましい。
【００３２】
合成方法（１）における一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類と一般式（４）で表されるオレフィン類をラジカル重合する方法としては、特に制限はなく、前記一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド類の重合方法と同じ重合方法を用いることが好ましい。
【００３３】
本発明の光学フィルムに好ましく用いられる一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位と一般式（２）で表されるオレフィン残基単位よりなるマレイミド系樹脂の合成方法（２）に用いられる一般式（６）で表されるアミン類中のＲ６はヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基、炭素数１から４のアミノアルキル基、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基を示す。なお、ヒドロキシアルキル基、カルボキシルアルキル基、アミノアルキル基は、分岐状アルキル基であってもよい。さらに、アミノアルキル基の窒素上にアルキル置換基が置換したものであってもよい。
【００３４】
そして、炭素数１から４のヒドロキシアルキル基としては、例えばヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられ、炭素数１から４のアミノアルキル基としては、例えばアミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ブチル基等が挙げられ、炭素数２から５のカルボキシルアルキル基としては、例えばカルボキシルメチル基、２−カルボキシルエチル基、３−カルボキシルプロピル基、４−カルボキシルブチル基等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、Ｒ６としては、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、カルボキシル基、２−カルボキシルエチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ブチル基等が好ましく、特に、ヒドロキシ基、２−ヒドロキシエチル基、２−カルボキシルエチル基、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基等が好ましい。
【００３５】
具体的な一般式（６）で表されるアミン類としては、例えばヒドロキシアミン、ヒドロキシメチルアミン、（２−ヒドロキシエチル）アミン、（３−ヒドロキシプロピル）アミン、（４−ヒドロキシブチル）アミン、アミノメチルアミン、（２−アミノエチル）アミン、（３−アミノプロピル）アミン、（４−アミノブチル）アミン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルアミン、（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））エチルアミン、（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルアミン、（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））ブチルアミン、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルアミン、（２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））エチルアミン、（３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））プロピルアミン、（４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））ブチルアミン、カルボキシルアミン、カルボキシルメチルアミン、（２−カルボキシルエチル）アミン、（３−カルボキシルプロピル）アミン、（４−カルボキシルブチル）アミン等が挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れる光学フィルムが得られることから、ヒドロキシアミン、ヒドロキシメチルアミン、（２−ヒドロキシエチル）アミン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルアミン、（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））エチルアミン、（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルアミン、Ｎ−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））ブチルアミン、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルアミン、（２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））エチルアミン、（３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））プロピルアミン、（４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ））ブチルアミン、カルボキシルアミン、（２−カルボキシルエチル）アミン等が好ましく、特にヒドロキシアミン、（２−ヒドロキシエチル）アミン、（２−カルボキシルエチル）アミン、（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルアミン等が好ましい。
【００３６】
合成方法（２）における一般式（５）で表される無水マレイン酸残基単位と、一般式（２）で表されるオレフィン残基単位よりなる無水マレイン酸重合体と一般式（６）で表されるアミン類との反応方法としては、特に制限が無く、例えば無水マレイン酸残基単位とオレフィン残基単位を反応させ無水マレイン酸重合体を得た後、該無水マレイン酸重合体とアミン類を溶媒に分散あるいは溶解させアミド酸とした後、加熱により脱水閉環する方法が挙げられる。
【００３７】
無水マレイン酸残基単位とオレフィン残基単位の反応より得られる無水マレイン酸重合体の製造方法としては、特に制限は無く、その中でも、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位と一般式（２）で表されるオレフィン残基単位を反応させて得られる本発明で用いるマレイミド系樹脂の製造方法と同じ製造方法であることが好ましい。
【００３８】
そして、得られた無水マレイン酸重合体と一般式（６）で表されるアミン類を溶媒に分散あるいは溶解させアミド酸とした後、加熱により脱水閉環することにより、本発明の光学フィルムで用いられるマレイミド系樹脂が得られるものであり、その際のアミン類を分散あるいは溶解させる溶媒としては、特に制限はなく、例えばメタノール、エタノール、プロパノ−ル等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤；酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類が挙げられる。また、加熱により脱水閉環する方法としては、例えば上記で得られたアミド酸を更に溶剤中で脱水閉環する方法、押出し機中で脱水閉環する方法等が挙げられる。その際の脱水閉環の温度は１２０℃以上が好ましく、特に好ましくは１５０℃以上である。
【００３９】
本発明の光学フィルムに用いるマレイミド系樹脂には、より熱安定性に優れる光学フィルムが得られることから、酸化防止剤を含んでなるものであることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独で用いてもよく、それぞれを併用して用いても良い。そして、特に熱安定性に優れる光学フィルムが得られることから、フェノール系酸化防止剤が好ましく、更には熱安定性に加えて熱着色性にも優れる光学フィルムが得られることから、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用する際の配合量は、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を０〜１０００重量部が好まし
く、特に好ましくは１００〜５００重量部である。
【００４０】
また、該酸化防止剤の添加量としては、高温暴露時の熱安定性、耐熱着色に優れ、ブリード、ヘーズ悪化等が無い光学フィルムが得られることからマレイミド系樹脂１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましく、特に好ましくは０．５〜３．０重量部である。
【００４１】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えばペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、チオジエチレン−ビス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナミド）等が挙げられる。
【００４２】
リン系酸化防止剤としては、例えばトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、ビス（２，４−ビス（１，１−ジメチルエチル）−６−メチルフェニル）エチルエステル亜りん酸、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）（１，１−ビフェニル）−４，４’−ジイルビスホスフォナイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトール−ジホスファイト等が挙げられる。
【００４３】
硫黄系酸化防止剤としては、例えばジドデシル３，３’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。
【００４４】
ラクトン系酸化防止剤としては、例えば３−ヒドロキシ−５，７−ジ−ｔ−ブチル−フラン−２−オンとｏ−キシレンの反応生成物が挙げられる。
【００４５】
また、本発明の光学フィルムに用いるマレイミド系樹脂には、ヒンダードアミン系光安定剤を含んでいてもよく、該ヒンダードアミン系光安定剤としては、熱着色抑制効果に優れる光学フィルムが得られることから、分子量が１０００以上が好ましく、特に好ましくは１５００以上である。さらに、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量としては、熱着色防止効果および光安定化効果に優れる光学フィルムが得られることからマレイミド系樹脂１００重量部に対して、０．０１〜１．５重量部が好ましく、特に好ましくは０．０５〜１重量部、さらに好ましくは０．１〜０．５重量部である。
【００４６】
さらに、マレイミド系樹脂には、紫外線吸収剤を含んでいてもよく、該紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて添加することもできる。これら添加剤は一種類以上組み合わせて用いることもできる。
【００４７】
マレイミド系樹脂には、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が加えられていてもよい。
【００４８】
本発明の光学フィルムは、厚みが１０〜４００μｍであり、好ましくは２０〜３００μｍ、さらに好ましくは８０〜１３０μｍである。ここで、フィルム厚みが１０μｍ未満の場合、光学フィルムの機械特性および支持性が低下する。一方、フィルム厚みが４００μｍを超える場合、フィルムの重量が増加すると共に、フィルムからの溶媒の除去に長時間を要するなど生産性が低下するため好ましくない。なお、フィルムの厚さは用途に応じて適宜決めることができる。
【００４９】
本発明の光学フィルムの製造方法としては、本発明の光学フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよく、例えば溶融押出し法、溶液キャスト法、プレス成形法等の一般的な成形加工法により成形可能であり、その中でも特に光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。
【００５０】
ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させてフィルムを得る方法である。樹脂溶液とする際の溶媒は、マレイミド系樹脂が溶解可能であれば如何なる溶媒でも使用可能であり、該溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルフォキシド；ジオキサン；シクロヘキサノン；テトラハイドロフラン；アセトン；酢酸エチル；酢酸メチル；シエチルエーテル等を挙げることができる。また、流延する方法としては、例えばＴダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法、アプリケーター法等が用いられ、工業的には、ダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えばガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスチック基板などが挙げられる。
【００５１】
本発明の光学フィルムの厚みは均一であることが望ましく、厚みむらは１０μｍ以下が好ましく、特に好ましくは５μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以下である。
【００５２】
本発明の光学フィルムの位相差は液晶ディスプレイの表示品位に大きな影響を与えるため、偏光子保護フィルム、透明導電性基板フィルム、フラットパネルディスプレイ基板用フィルム、液晶ディスプレイ基板用フィルムに用いる場合には、位相差が小さいことが重要であり、位相差が１０ｎｍ以下が好ましく、特に好ましくは５ｎｍ以下である。本発明の光学フィルムは、光弾性定数が小さいため位相差の小さな光学フィルムとして用いることができる。
【００５３】
一方、位相差フィルムとして用いる場合にはフィルムの位相差を所定の位相差値に設定する必要がある。一般的には樹脂のガラス転移温度近傍での延伸により数十〜数百ｎｍ程度の位相差を付与する。位相差フィルムの場合でも一旦設定した位相差が使用環境下、あるいはディスプレイの製造工程で変化しないことが重要である。本発明の特定のマレイミド系樹脂よりなる光学フィルムはガラス領域での光弾性定数が小さく位相差の安定したフィルムを得ることができる。位相差機能を偏光子保護フィルム、プラスチックディスプレイ基板フィルムに付与した機能複合フィルムとしても使用できる。
【００５４】
本発明の光学フィルムは、延伸し光学フィルムとすることもでき、該フィルムの延伸方法としては、１軸延伸法あるいは２軸延伸法を用いることが可能であり、該１軸延伸法としては、例えばテンターにより延伸する方法、カレンダーにより圧延して延伸する方法、ロール間で延伸する方法、自由幅１軸延伸法、定幅１軸延伸法などを挙げることができ、該２軸延伸方法としては、例えばテンターにより延伸する方法、遂次２軸延伸法、同時２軸延伸法などが挙げられる。
【００５５】
本発明の光学フィルムは、大気雰囲気下における湿気や酸化によるディスプレイの劣化を保護するために、少なくとも一層以上のガスバリア層を積層してなる積層体であることが好ましい。該ガスバリア層としては、例えば酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化タンタル、アルミ膜などの無機層；ポリビニルアルコール、ポリオレフィンなどの有機層が挙げられ、特に、光学特性、ガスバリア性能、高精細なディスプレイに重要である寸法安定性に優れる光学フィルムが得られることから酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素を主体とするものが好ましい。ガスバリア層の厚みは無機層の場合は１〜１０００ｎｍが好ましく、特に好ましくは１０〜３００ｎｍであり、有機層の場合には０．１〜１００μｍが好ましく、特に好ましくは１〜５０μｍである。これらガスバリア層は有機層と無機層を積層化、多層化することもできる。ガスバリア層は、蒸着、スパッタ、ＰＥＣＶＤ、ＣａｔＣＶＤ、コーティングやラミネーティングなど公知の手法により形成することができる。
【００５６】
本発明の光学フィルムは、フィルムの表面性、耐傷付き性、ＴＦＴ形成時の耐薬品性を向上させるために、少なくとも一層以上のハードコート層を有する積層体とすることが好ましい。該ハードコート層としては、例えばシリコン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルシリコン系樹脂、紫外線硬化型樹脂、ウレタン系ハードコート剤などならなる層が挙げられ、これらは、一種類以上で用いることができる。その中でも透明性、耐傷付き性、耐薬品性に優れる光学フィルムが得られることから、紫外線硬化型樹脂が好ましい。該紫外線硬化型樹脂としては、例えば紫外線硬化型アクリルウレタン、紫外線硬化型エポキシアクリレート、紫外線硬化型（ポリ）エステルアクリレート、紫外線硬化型オキセタンなどから選ばれる一種類以上の紫外線硬化型樹脂が挙げられる。ハードコート層の厚みは、０．１〜１００μｍが好ましく、特に好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは２〜２０μｍである。
【００５７】
また、該光学フィルムとガスバリア層及び／又はハードコート層の間にプライマー処理をすることもできる。
【００５８】
本発明の光学フィルムは、光学特性、耐熱性に優れ偏光子保護フィルム、位相差フィルム、透明導電性基板フィルム、フラットパネルディスプレイ基板用フィルムとして使用できる。
【００５９】
本発明で使用できる偏光子保護フィルムは、例えばポリビニルアルコール・ヨウ素系からなる偏光板に対して、その表面を保護するために両面あるいは片面に貼り合わせて使用することも可能である。
【００６０】
本発明の光学フィルムは耐熱性に優れることから、フラットパネルディスプレイ基板用フィルム、特に液晶ディスプレイ基板用フィルムとしても使用できる。該フィルム上へのカラーフィルターの形成は、例えばフォトリソグラフィー法、印刷法、電着法など公知の方法が用いられる。該フィルム上へのＴＦＴの形成は、公知の技術、例えばＳ．Ｉ．Ｄ．Ｏ．  ３  Ｄｉｇｅｓｔ  ｐ−９９２（２００３年）に記載の方法で実施することができる。
【発明の効果】
【００６１】
本発明の光学フィルムは、透明性、低複屈折などの光学特性に優れ、かつ耐熱性に優れるものであり、偏光子保護フィルム、位相差フィルム、透明導電性基板フィルム、フラットパネルディスプレイ基板用フィルム、特に液晶ディスプレイ基板用フィルムなど各種光学フィルム用途に適したものである。
【実施例】
【００６２】
以下に、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。特に断りのない限り、用いた溶媒・試薬は市販品を用いた。
【００６３】
なお、実施例により用いた分析・評価方法を以下に示す。
【００６４】
〜光学フィルムに用いるマレイミド系樹脂の組成〜
元素分析（ジェイサイエンス製、ＣＨＮ元素分析装置ＭＴ５型）および核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−Ａ４００）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
【００６５】
〜数平均分子量〜
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、ＣＣＤＰ  ＲＥ−８０００）を用い、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算から求めた。
【００６６】
〜透明性の評価方法〜
全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。
【００６７】
〜位相差量の測定〜
高分子素材の偏光顕微鏡入門（粟屋裕著、アグネ技術センター版、第５章、ｐｐ７８〜８２（２００１））に記載のセナルモン・コンペンセーターを用いた偏光顕微鏡（Ｓｅｎａｒｍｏｎｔ干渉法）により位相差の測定を行った。
【００６８】
〜位相差むらの測定〜
位相差むらは、１ｃｍ間隔で位相差を測定したときの位相差の値のばらつきで評価した。すなわち、平均の位相差に対してのバラツキを位相差むらとした。
【００６９】
〜光弾性定数の測定〜
光弾性定数は、光レオメーター（ＨＲＳ−１００、オーク製作所製）を用い引張り速度１％／ｓで測定した。
【００７０】
〜耐熱性の評価方法〜
ガラス転移温度（Ｔｇ）は、（株）セイコ−電子製ＤＳＣ６２００を用い窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／ｍｉｎで行った。
【００７１】
合成例１（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド単独重合体の合成）
無水マレイン酸３９０ｇ（４ｍｏｌ）、モノエタノールアミン２４４ｇ（４ｍｏｌ）をそれぞれ１０００ｍｌのアセトンに溶かし、これらを氷浴中の８００ｍｌのアセトンへ同時に２時間かけて滴下した。続けて氷浴中で４時間撹拌した。冷凍庫で一晩放置し、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレアミン酸の粗結晶を得た。濾液を濃縮、冷却を繰り返しさらに粗結晶を回収した。得られた粗結晶はアセトンで再結晶し精製した。Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレアミン酸の収率は８３％であった。
【００７２】
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレアミン酸８５ｇ（０．６ｍｏｌ）をメタノール１０００ｍｌに溶解し、硫酸を少量加えて還流を行った。途中無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、さらに還流を行い、計２０時間反応させた。その後メタノールをロータリーエバポレーターで除き、得られた粘性液をクロロホルムで希釈した。クロロホルム溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水、および食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；クロロホルム）によりＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミドの粗結晶を単離した。得られた粗結晶はクロロホルム−ヘキサン混合溶媒で再結晶し精製した。収率は３５．０％であった。
【００７３】
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド：  粉末状；  融点  ７３−７４℃；  １Ｈ−ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ  ６．７５（ｓ，ＣＨ＝ＣＨ，  ２Ｈ），  ３．７９（ｍ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ，２Ｈ），  ３．７４（ｍ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ，２Ｈ），  ２．１７（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，ＯＨ）；  １３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ  １７１．１９（Ｃ＝Ｏ），  １３４．２４（ＣＨ＝ＣＨ），  ６０．７０（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ），  ４０．６０（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）
得られたＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミドの１，２−ジクロロエタン溶液（１Ｍ）を５００ｍｌの３つ口フラスコに入れ後、開始剤（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル：和光純薬製）を投入し、重合を６０℃で１５時間行った。反応後の溶液を大量の沈殿剤（ジエチルエーテル）に注ぎ、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド単独重合体を得た。反応率は７２％であった。
【００７４】
合成例２（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド共重合体の合成）
合成例１で合成したＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミドの１，２−ジクロロエタン溶液（１Ｍ）をキャピラリーを設置した５０ｍｌの３つ口フラスコに入れ、２−メチルプロペンをバブリングにより飽和状態にした後、開始剤（２，２’−アゾビス（４−メトキシ２，４−ジメチルバレロニトリル）：和光純薬製）を投入し、重合を３０℃で５時間行った。反応後の溶液を大量の沈殿剤（イソプロパノール）に注ぎ、ポリマーを沈殿させた。Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミドをベースとした反応率は１００％であった。元素分析より生成ポリマーは５２モル％のＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド残基単位および４８モル％の２−メチルプロペン残基単位よりなるＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド共重合体であることが確認できた。
【００７５】
合成例３（Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド単独重合体の合成）
無水マレイン酸４９ｇ（０．５ｍｏｌ）、β−アラニン４５ｇ（０．５ｍｏｌ）を酢酸６００ｍｌとトルエン１００ｍｌの混合溶媒に加え、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ  ｗａｔｅｒ  ｔｒａｐを取り付けて還流を行った。溶液が透明になった後に、濃硫酸を数滴加え、５時間かけて２００ｍｌの水と酢酸の混合物を取り除いた。減圧蒸留で酢酸を取り除いた後、エーテル可溶部を再結晶しＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミドの粗結晶を得た。得られた粗結晶はエーテルでさらに再結晶し精製した。収率は１８％であった。
【００７６】
Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド：  粉末状；  融点  １０６−１０７℃；  １Ｈ−ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ  ６．７３（ｓ，ＣＨ＝ＣＨ，２Ｈ），  ３．８４（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ，２Ｈ），  ２．７１（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ，２Ｈ）；  １３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ  １７６．３５（ＣＯＯＨ），  １７０．３０（ＮＣ＝Ｏ），  １３４．２４（ＣＨ＝ＣＨ），  ３３．２０（ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），  ３２．４３（ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ）
得られたＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミドの１，２−ジクロロエタン溶液（１Ｍ）を５００ｍｌの３つ口フラスコに入れ後、開始剤（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル：和光純薬製）を投入し、重合を６０℃で１５時間行った。反応後の溶液を大量の沈殿剤（ジエチルエーテル）に注ぎ、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド単独重合体を得た。反応率は６５％であった。
【００７７】
合成例４（Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド共重合体の合成）
合成例３で合成したＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミドの１，２−ジクロロエタン溶液（１Ｍ）をキャピラリーを設置した５００ｍｌの３つ口フラスコに入れ、２−メチルプロペンをバブリングにより飽和状態にした後、開始剤（２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）：和光純薬製）を投入し、重合を３０℃で１５時間行った。反応後の溶液を大量の沈殿剤（ジエチルエーテル）に注ぎ、ポリマーを沈殿させた。Ｎ−（２−カルボキシルエチル）マレイミドをベースとした反応率は１００％であった。元素分析より生成ポリマーは５０．６モル％のＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド残基単位および４９．４モル％の２−メチルプロペン残基単位よりなるＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド共重合体であることが確認できた。
【００７８】
合成例５（Ｎ−ヒドロキシマレイミド共重合体の合成）
Ｎ−ヒドロキシマレイミド（アルドリッチ製）の１，２−ジクロロエタン溶液（１Ｍ）をキャピラリーを設置した５００ｍｌの３つ口フラスコに入れ、２−メチルプロペンをバブリングにより飽和状態にした後、開始剤（２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）：和光純薬製）を投入し、重合を３０℃で１５時間行った。反応後の溶液を大量の沈殿剤（ジエチルエーテル）に注ぎ、ポリマーを得た。Ｎ−ヒドロキシマレイミドをベースとした反応率は８５％であった。元素分析より生成ポリマーは５０．４モル％のＮ−ヒドロキシマレイミド残基単位および４９．６モル％の２−メチルプロペン残基単位よりなるＮ−ヒドロキシマレイミド共重合体であることが確認できた。
【００７９】
合成例６（Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド共重合体の合成）
無水マレイン酸３９０ｇ（４ｍｏｌ）、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアミン４０８ｇ（４ｍｏｌ）をそれぞれ１０００ｍｌのアセトンに溶かし、合成例１と同様に反応を行った。Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレアミン酸の収率は９０％であった。Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレアミン酸１２０ｇ（０．６ｍｏｌ）をメタノール１０００ｍｌに溶解し合成例１と同様を行った。Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミドの収率は４３％であった。
【００８０】
得られたＮ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミドの１，２−ジクロロエタン溶液（１Ｍ）をキャピラリーを設置した１０００ｍｌの３つ口フラスコに入れ、２−メチルプロペンをバブリングにより飽和状態にした後、開始剤（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル：和光純薬製）を投入し、重合を６０℃で１５時間行った。反応後の溶液を大量の沈殿剤（ジエチルエーテル）に注ぎ、ポリマーを沈殿させた。Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミドをベースとした反応率は９５％であった。元素分析より生成ポリマーは５１．５モル％のＮ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド残基単位および４８．５モル％の２−メチルプロペン残基単位よりなるＮ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ））プロピルマレイミド共重合体であることが確認できた。
【００８１】
実施例１
合成例１で得られたＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド単独重合体１００重量部を４００重量部のジメチルホルムアミドに溶解し２０重量％溶液とし、前記マレイミド系樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．２重量部を添加し、バーコーターを用いた溶液キャスト法により厚み１２０μｍ、厚みむらが２μｍのフィルムを作製した。得られたフィルムについて評価した。その結果を表１に示す。
【００８２】
実施例２
合成例２で得られたＮ−（２−ヒドロキシエチル）マレイミド共重合体１００重量部を４００重量部のジメチルホルムアミドに溶解し２０重量％溶液とし、前記マレイミド系樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．３重量部を添加し、アプリケーターにより溶液流延装置のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体に流延し、８０℃、１００℃および１４０℃で各々１時間乾燥した後、幅３００ｍｍ、厚み９０μｍ、厚みむらが１μｍのフィルムを得た。得られたフィルムをＰＥＴから剥離し更に１４０℃で２時間乾燥した。得られたフィルムについて評価した。その結果を表１に示す。
【００８３】
実施例３
合成例３で得られたＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド単独重合体１００重量部を４００重量部のアセトンに溶解し２０重量％溶液とし、前記マレイミド系樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．３重量部を添加し、バーコーターを用いた溶液キャストにより厚み９０μｍのフィルムを得た。得られたフィルムについて評価した。その結果を表１に示す。
【００８４】
実施例４
合成例４で得られたＮ−（２−カルボキシルエチル）マレイミド共重合体１００重量部を４００重量部のアセトンに溶解し２０重量％溶液とし、前記マレイミド系樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．３重量部を添加し、アプリケーターにより溶液流延装置のＰＥＴ支持体に流延し、４０℃、６０℃および１２０℃で各々１時間乾燥した後、幅３００ｍｍ、厚み９０μｍ、厚みむらが１μｍのフィルムを得た。得られたフィルムをＰＥＴから剥離し更に１４０℃で１０分間乾燥した。得られたフィルムについて評価した。その結果を表１に示す。
【００８５】
実施例５
合成例５で合成したＮ−ヒドロキシマレイミド共重合体１００重量部を４００重量部のジメチルホルムアミドに溶解し２０重量％溶液とし、前記マレイミド系樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．３重量部を添加し、バーコーターを用いた溶液キャスト法により厚み１００μｍ、厚みむらが２μｍのフィルムを作製した。得られたフィルムについて、評価した。その結果を表１に示す。
【００８６】
実施例６
合成例６で合成したＮ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）マレイミド共重合体１００重量部を４００重量部のジメチルホルムアミドに溶解し２０重量％溶液とし、前記マレイミド系樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．３重量部を添加し、バーコーターを用いた溶液キャスト法により厚み１０５μｍ、厚みむらが１μｍのフィルムを作製した。得られたフィルムについて評価した。その結果を表１に示す。
【００８７】
実施例７
実施例２で得られたフィルムを５ｃｍ角に切断後、二軸延伸機（井本製作所製）を用い、１４０℃の条件下にて１軸延伸し、フィルムを作製した。得られたフィルムの位相差は１３７ｎｍであった。得られたフィルムに５ＭＰａの応力を掛け、応力前後の位相差の変化を評価したところ位相差変化は２ｎｍ以下であり位相差の安定性に優れ、位相差フィルムに好適であった。さらに、該フィルムは、液晶ディスプレイ基板用フィルムにも好適であった。
【００８８】
実施例８
実施例１で得られたフィルム両面にアクリル系ＵＶコート剤（日本合成製）を塗布し高圧水銀灯を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２にて空気硬化させた。得られたフィルム上に、下記の方法で透明導電膜（ＩＴＯ膜）を形成した。
【００８９】
透明導電膜の製膜条件：製膜温度：１８０℃、バックグランド圧：１ｘ１０−７ｔｏｒｒ、スパッタガス圧０．６Ｐａ（Ａｒ：８０ＳＣＣＭ、Ｏ２：２０ＳＣＣＭ）、印加電圧：ＲＦマグネトロン５００ｗ（ＲＦ出力５００ｗ）。
【００９０】
その結果、スパッタによる変形が認められなかったことから透明導電性基板フィルムに好適であった。さらに、該フィルムは、液晶ディスプレイ基板用フィルムにも好適であった。
【００９１】
実施例９
実施例１で得られたフィルムの両面に、４００ｎｍの酸化ケイ素膜を形成後、アクリル系ＵＶコート剤（日本合成製）塗布し、実施例８と同様に透明導電膜（ＩＴＯ膜）を形成した。さらにＩＴＯ膜にポリイミド配向膜（デュポン製）をスピンコートにより塗布し、１８０℃で１時間ベーク後、ラビング処理を行った。このようにして作製したフィルム基板にスペーサー（ミクロパール：積水ファインケミカル製）を散布し、２枚を上下ラビング方向が垂直となるようにシール剤（ストラクトボンド：三井化学製）で固定した。シール剤を硬化後真空注入により液晶を注入し封止剤（ファトレック：積水ファインケミカル製）で封止し液晶セルを作成した。セル上下に偏光版（日東電工ＮＰＦ）を張り付け、表示特性を評価した。白色表示および黒色表示とも均一でむらのない表示が可能であることから、プラスチック基板フィルムに好適であった。さらに、該フィルムは、液晶ディスプレイ基板用フィルムにも好適であった。
【００９２】
実施例１０
沃素染色したＰＶＡ延伸フィルムの両面を実施例２で得られたフィルムをポリエステル系接着剤（東洋モートン社製，商品名「ＴＭ−５９３」）を用いて張り合わせた。６０℃および８０℃で各々１時間乾燥を行った。その結果、膨れ、気泡などの不良は見られず良好な外観を有する偏光板を作成することができた。さらに、得られた偏光板を２枚吸収軸が直行する形で組み合わせ全光線透過率を測定したところ０．０８％であった。
【００９３】
これらのことから、本発明の光学フィルムは偏光版の偏光子保護フィルムに好適であった。さらに、該フィルムは、液晶ディスプレイ基板用フィルムにも好適であった。
【００９４】
比較例１
ポリカーボネート樹脂（帝人製パンライト）１００重量部を４００重量部のトルエンに溶解し２０重量％溶液とし、前記ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１重量部とビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．３重量部を添加し、アプリケーターにより溶液流延装置のＰＥＴ支持体に流延し、８０℃、１００℃および１２０℃で各々１時間乾燥した後、幅３００ｍｍ、厚み１００μｍ、厚みむらが５μｍのフィルムを得た。得られたフィルムをＰＥＴから剥離し更に１２０℃で２時間乾燥した。得られたフィルムについて評価した。その結果を表１に示す。
【００９５】
得られたフィルムは、ヘーズ及び光弾性定数が大きく透明性に劣り、そのうえ位相差が大きくかつ位相差むらも大きいことから、光学フィルムに適したものではなかった。
【００９６】
比較例２
比較例１で作成したポリカーボネートフィルムを５ｃｍ角に切断後、二軸延伸機（井本製作所製）を用い、１５０℃の条件下にて１軸延伸し、フィルムを作製した。得られたフィルムの位相差は１３７ｎｍであった。得られたフィルムに５ＭＰａの応力を掛け、応力前後の位相差の変化を評価したところ位相差変化は２８ｎｍと大きく、位相差の安定性が悪く位相差フィルムに適したものではなかった。
【００９７】
比較例３
比較例１で作成したポリカーボネートフィルムを用いて実施例８と同様の実験を行ったが、スパッタによるＩＴＯ膜製膜時にフィルムが変形し、透明導電性基板フィルムを得ることはできなかった。
【００９８】
比較例４
比較例１のフィルムを用いて、実施例１０と同様に偏光板を作成したが水分の抜けが悪く乾燥時に発泡や膨れが見られ、良好な外観の偏光板を得ることはできなかった。さらに、得られた偏光板を２枚吸収軸が直行する形で組み合わせ全光線透過率を測定したところ２．８％であった。
【００９９】
【表１】
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