(57)【要約】      （修正有）【課題】水素ガスなどを安全上に輸送できる二重の封じ込めチューブ、及び流体輸送システムを提供する。【解決手段】流体輸送システムは、内壁を有する第１柔軟チューブ３０５と外壁を有する第２柔軟チューブ３１０を備える。第２チューブは第１チューブの内側に配置され、第１チューブの内壁と第２チューブの外壁との間に離間部材３１５が配置される。第１柔軟チューブは第１流体を輸送するように構成され、第２柔軟チューブは第２流体を輸送するように構成される。第１流体が第２流体を周辺環境から隔絶するように第１および第２柔軟チューブが構成され、漏れ検出のために第１流体を監視することができる。【選択図】図３Ａ
2011129905.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内壁を有し、第１流体を輸送するように構成される第１柔軟チューブと、
外壁を有し、第２流体を輸送するように構成され、前記第１チューブの内側に配置される第２柔軟チューブと、
前記第１チューブの内壁と前記第２チューブの外壁との間に配置される離間部材と、を備え、
前記第１流体が前記第２流体を周辺環境から隔絶するように、前記第１および第２柔軟チューブが構成されることを特徴とする流体輸送システム。
【請求項２】
前記第１および第２チューブが転がりループ状に構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記離間部材が前記第２チューブの外壁から実質的に放射状に延び、前記第１チューブ内で前記第２チューブを実質的に中心に位置づけることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記離間部材が、前記第２チューブの外壁から前記第１チューブの内壁に向けて延びることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記離間部材が、前記第１チューブの内壁と前記第２チューブの外壁との両方に固定されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記離間部材が前記第２チューブと一体であることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記離間部材が前記第１チューブと一体であることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
チャンバを画成する分配装置をさらに備え、該分配装置は、
前記チャンバ内に少なくとも部分的に配置されるマニホールドと、
前記分配装置に取り付けられる第１取り付け具であって、該第１取り付け具と前記チャンバとの間で前記第１流体を流通させるように構成された第１取り付け具と、
前記マニホールドに取り付けられる第２取り付け具であって、該第２取り付け具と前記マニホールドとの間で前記第２流体を流通させるように構成された第２取り付け具と、を有し、
前記第１取り付け具が前記第１チューブに取り付けられ、前記第２取り付け具が前記第２チューブに取り付けられることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
内壁を有し、第３流体を輸送するように構成され、前記第１チューブに固定される第３柔軟チューブと、
外壁を有し、第４流体を輸送するように構成され、前記第３チューブの内部に配置される第４柔軟チューブと、
前記第３チューブの内壁と前記第４チューブの外壁との間に配置される離間部材と、をさらに備え、
前記第３流体が前記第４流体を周辺環境から隔絶するように、前記第３および第４柔軟チューブが構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
チャンバを画成する分配装置をさらに備え、該分配装置は、
前記チャンバ内に少なくとも部分的に配置されるマニホールドと、
前記分配装置に取り付けられる第１取り付け具であって、該第１取り付け具と前記チャンバとの間で流体を流通させるように構成された第１取り付け具と、
前記マニホールドに取り付けられる第２取り付け具であって、該第２取り付け具と前記マニホールドとの間で流体を流通させるように構成された第２取り付け具と、
前記分配装置に取り付けられる第３取り付け具であって、該第３取り付け具と前記チャンバとの間で流体を流通させるように構成された第３取り付け具と、
前記マニホールドに取り付けられる第４取り付け具であって、該第４取り付け具と前記マニホールドとの間で流体を流通させるように構成された第４取り付け具と、を備え、
前記第１取り付け具が前記第１チューブに取り付けられ、前記第２取り付け具が前記第２チューブに取り付けられ、前記第３取り付け具が前記第３チューブに取り付けられ、前記第４取り付け具が前記第４チューブに取り付けられることを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記離間部材が、前記第２チューブの外壁に沿って前記第２チューブの中心線と実質的に平行に延びることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１流体の監視によって前記第２チューブの破損を検出するように前記第１および第２柔軟なチューブが構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１チューブが前記第２チューブに固定されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１チューブ内の流体圧力を監視するように構成された圧力モニタをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
請求項１の流体輸送システムを備えるリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
この出願は、２００９年１２月８日に出願された米国仮特許出願第６１／２６７，６８３号に対する３５ Ｕ．Ｓ．Ｃ．１１９（ｅ）の下での利益を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
【０００２】
（発明の分野）
本発明は一般にリソグラフィに関し、より詳細には、冷媒（primary fluid）の封じ込めが最重要である流体輸送に関する。
【背景技術】
【０００３】
リソグラフィ装置は、パターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に転写する機械である。リソグラフィ装置は例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いられる。この例では、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々のレイヤ上に形成される回路パターンを作成することができる。このパターンは、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は、典型的に基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層へのパターンの結像によって行われる。一般に、単一の基板は、連続してパターニングされる隣接するターゲット部分のネットワークを含む。既知のリソグラフィ装置は、ターゲット部分にパターン全体を一度に露光することで各ターゲット部分が照射されるいわゆるステッパーと、所与の方向（「走査」方向）に放射ビームによりパターンを走査する一方、この方向と平行にまたは逆平行に基板を同期して走査することで各ターゲット部分が照射されるいわゆるスキャナとを含む。パターンを基板上にインプリントすることで、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００４】
リソグラフィ装置内では、種々の目的のために水素ガスが使用される。水素ガスは有害であり、したがって安全上の懸念のために、水素を輸送するチューブは、破裂およびその後の無制御の放出に抵抗するために剛体でなければならない。しかしながら、一部の応用では、リソグラフィ装置の静止したすなわち静的な部分と、リソグラフィ装置の移動するすなわち動的な部分との間で水素を輸送することが要求される。これらの応用形態では、静止部分と動的部分の相対運動のために剛体のチューブを使用することができない。したがって、相対運動を受け入れる柔軟なチューブを使用しなくてはならない。
【０００５】
水素の搬送に柔軟なチューブを用いる場合、安全上の理由から二重の封じ込めチューブ（dual containment tube）が使用される。二重封じ込めチューブは、小径のチューブの周りが大径のチューブによって囲まれている。内側のチューブは水素を輸送し、外側のチューブは、内側のチューブが漏れた場合の予備の封じ込めとして機能する。
【０００６】
従来のチューブ構成に問題がない訳ではない。従来の二重封じ込めチューブは、ペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）樹脂製の内側チューブと、フッ化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）樹脂製の外側チューブとを有する。これらの材料は堅く、静止部分と動的部分の相対運動に対する抵抗力を付加する。これらの材料はその剛性のために早期故障しやすい傾向があり、運動サイクルが数百万回になる応用形態には適していない。これらの材料の剛性のために、最も小型の従来型の二重封じ込めチューブでも最小曲げ半径が大きくなりすぎる。曲げ半径が大きいと、チューブのキンク（ねじれ）につながる。また、曲げ半径が大きいと、従来のチューブの限界を特別に受け入れるために別個のアセンブリが必要になる過度の容積をチューブが占める必要がある。別個のアセンブリは、望まれない重量の増加を伴い、リソグラフィ装置の製造コストを不必要に増加させる。さらに、従来の二重封じ込めチューブの取り付け具（fitting）は標準的な超高純度（ＵＨＰ）取り付け具と互換性がなく、非互換の取り付け具を適応させるために大きくて重いアダプタを使用しなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、静止部品と移動部品との間で流体を輸送する従来のシステムおよび方法は重大な欠点を有する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この部分は、本発明のいくつかの態様を要約していくつかの好適な実施形態を簡潔に紹介することを目的とする。この部分の目的が不明瞭になることを避けるために、単純化または省略が行われることがある。このような単純化または省略には、本発明の範囲を限定するという意図はない。本書で具現化され広く説明される本発明の原理と一致して、本発明は改善された流体封じ込めシステムおよび方法を含む。これらの要望を満足させるため、本発明の実施形態は二重封じ込めシステムおよび方法に向けられている。
【０００９】
例えば、一実施形態は、内壁を持つ第１柔軟チューブを有する流体輸送システムを提供する。流体輸送システムは、外壁を持つ第２柔軟チューブも有する。第２チューブは第１チューブの内側に配置され、第１チューブの内壁と第２チューブの外壁との間に離間部材（standoff）が配置される。第１柔軟チューブは第１流体を輸送するように構成され、第２柔軟チューブは第２流体を輸送するように構成される。第１流体が第２流体を周辺環境から隔絶するように、第１および第２柔軟チューブが構成される。
【００１０】
さらなる例では、別の実施形態が、第１端部、第２端部および内壁を有する第１チューブを介して第１流体を流通させ、第１端部、第２端部および外壁を有する第２チューブを介して第２流体を流通させる方法を提供する。第２チューブは第１チューブの内側に配置される。第１および第２チューブは柔軟であり、第２チューブの外壁と第１チューブの内壁との間に離間部材が配置される。この方法は、第１チューブの第１端部と第２端部の間に第１の差圧を作り出すことを含む。第２チューブの第１端部と第２端部の間に第２の差圧が作り出される。第１チューブの第１端部は、第１チューブの第２端部に対して移動される。
【００１１】
さらに別の例示的な実施形態では、内壁を有し第１流体を輸送するように構成された第１柔軟チューブを備える流体輸送システムが提供される。また、外壁を有し第２流体を輸送するように構成された第２柔軟チューブも設けられる。第２チューブは第１チューブの内側に配置される。システムは、第１チューブの内壁と第２チューブの外壁との間に配置された、第１チューブと第２チューブを遠ざけるためのデバイスも備える。第１流体が第２流体を周辺環境から隔絶するように、第１および第２柔軟チューブが構成される。
【００１２】
本発明のさらなる特徴および利点は、本発明の様々な実施の形態の構造および作用とともに、添付の図面を参照して以下で詳細に説明される。本発明は、本書で説明される特定の実施形態に限定されないことに注意する。このような実施形態は、例証目的で本書に提示されているに過ぎない。本書に含まれる教示に基づけば、さらなる実施形態は関連分野の当業者にとって明らかであろう。
【００１３】
本書に包含され明細書の一部をなす添付の図面は本発明を例証し、詳細な説明とともに本発明の原理を説明し、関連分野の当業者が本発明を実施し使用できるようにする役割を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１Ａ】反射型リソグラフィ装置を示す図である。
【図１Ｂ】透過型リソグラフィ装置を示す図である。
【図２】ＥＵＶリソグラフィ装置の例を示す図である。
【図３Ａ】二重腔チューブアセンブリの例を示す図である。
【図３Ｂ】二重腔チューブアセンブリの断面例を示す図である。
【図３Ｃ】二重腔チューブアセンブリの別の断面例を示す図である。
【図３Ｄ】複合型二重腔チューブアセンブリの例を示す図である。
【図３Ｅ】複合型二重腔チューブアセンブリの例を示す図である。
【図３Ｆ】複合型二重腔チューブアセンブリの例を示す図である。
【図４】二重封じ込め流体輸送アセンブリの一例を示す図である。
【図５】静止した分配装置の一例を示す図である。
【図６Ａ】動的な分配装置の一例を示す図である。
【図６Ｂ】二重封じ込め流体輸送システムの例示的な実施形態の模式図である。
【図６Ｃ】動的な分配装置の別の例を示す図である。
【図６Ｄ】二重封じ込め流体輸送システムの別の例示的な実施形態の模式図である。
【図７】流体連通の例示的な方法のフローチャートである。
【００１５】
本発明の特徴および利点は、同様の参照符号が全文書を通して対応する要素を特定する図面とともに以下で述べられる詳細な説明からより明らかになるだろう。一般に、図面において同様の参照符号は、同一の、機能的に類似の、および／または構造が類似の要素を表している。要素が最初に現れる図面は、対応する参照番号の左端の数字で表される。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
Ｉ．概説
本発明は、本発明の様々な「実施形態」についての以下の説明でより良く理解される。したがって、特定の「実施形態」は本発明の概説であるが、それぞれの実施形態自体は本発明の全てを表す訳ではない。多くの場合、ある特定の実施形態の個々の要素は、同様のまたは対応する機能を実行する別の実施形態における異なる要素で置換することができる。本明細書は、流体輸送方法および装置に関する。本明細書は本発明の特徴を組み入れた１つまたは複数の実施形態を開示する。開示された実施形態は本発明の例示に過ぎない。本発明の範囲は開示された実施形態には限定されない。本発明は添付の請求項により定義される。
【００１７】
説明される実施形態、および「一実施形態」、「実施形態」、「例示的な実施形態」等への明細書内での言及は、説明する実施形態が特定の特徴、構造または特性を備えてもよいが、必ずしもあらゆる実施形態がその特定の特徴、構造または特性を備える必要はないことを示している。また、このような表現は同一の実施形態を必ずしも指し示すものではない。さらに、実施形態とともに特定の特徴、構造または特性が記載される場合、明示的に記載されているか否かに関わらず、そのような特徴、構造または特性を他の実施形態とともに実現することは当業者の知識内であると理解されたい。
【００１８】
内壁を有する第１柔軟チューブを備える流体輸送システム用のシステムおよび方法が開示される。流体輸送システムは、外壁を有する第２柔軟チューブも備える。第２チューブは第１チューブの内側に配置され、第１チューブの内壁と第２チューブの外壁との間に離間部材が配置される。第１柔軟チューブは第１流体を輸送するように構成され、第２柔軟チューブは第２流体を輸送するように構成される。第１流体が第２流体を周辺環境から隔絶するように第１および第２柔軟チューブが構成される。
【００１９】
しかしながら、この種の実施形態をより詳細に説明する前に、本発明の実施形態を実装可能である例示的な環境を提示することが有益である。
【００２０】
ＩＩ．例示的なリソグラフィ環境
Ａ．例示的な反射型および透過型リソグラフィシステム
図１Ａおよび図１Ｂは、リソグラフィ装置１００およびリソグラフィ装置１００’をそれぞれ模式的に示す図である。リソグラフィ装置１００およびリソグラフィ装置１００’はそれぞれ、放射源ＳＯによって提供される放射ビームＢ（例えばＤＵＶ放射またはＥＵＶ放射）を調整する照明系（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク、レチクル、または動的パターニングデバイス）ＭＡを支持するよう構成されるとともに、パターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成された第１ポジショナＰＭに接続されている支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えば、レジストでコーティングされたウェーハ）Ｗを保持するよう構成されるとともに、基板を正確に位置決めするよう構成された第２ポジショナＰＷに接続されている基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、を備える。リソグラフィ装置１００およびリソグラフィ装置１００’は、パターニングデバイスＭＡにより放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）目標部分Ｃに投影するように構成された投影系ＰＳも備える。リソグラフィ装置１００では、パターニングデバイスＭＡおよび投影系ＰＳが反射型であり、リソグラフィ装置１００’では、パターニングデバイスＭＡおよび投影系ＰＳが透過型である。
【００２１】
照明系ＩＬは、放射ビームＢの向きや形状を変え、または放射ビームＢを統制するために、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子、あるいは他の種類の光学素子などの各種の光学素子、またはこれらの組合せを含み得る。
【００２２】
支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡの向き、リソグラフィ装置１００および１００’の構成、及びパターニングデバイスＭＡが真空環境で保持されるか否か等のその他の条件に応じた方式でパターニングデバイスＭＡを保持する。支持構造ＭＴは、機械的固定、真空固定、静電固定、またはパターニングデバイスＭＡを保持するその他の固定技術を用いてもよい。支持構造ＭＴは、例えばフレームまたはテーブルであってもよく、これらは固定されていてもよいし必要に応じて移動可能であってもよい。支持構造ＭＴは、例えば投影系ＰＳに対して所望の位置にパターニングデバイスを位置決めすることを保証してもよい。
【００２３】
「パターニングデバイス」ＭＡなる用語は、基板Ｗの目標部分Ｃにパターンを生成するために放射ビームＢの断面にパターンを与えるのに使用される何らかのデバイスを指すものと広義に解釈される。放射ビームＢに付与されたパターンは、目標部分Ｃに生成される集積回路等のデバイスにおける特定の機能層に対応する。
【００２４】
パターニングデバイスＭＡは、（図１Ｂのリソグラフィ装置１００’のような）透過型であってもよいし、（図１Ａのリソグラフィ装置１００のような）反射型であってもよい。パターニングデバイスＭＡには例えばマスク、プログラム可能ミラーアレイ、及びプログラム可能ＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィにおいて周知であり、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、減衰型位相シフトマスク、さらには多様なハイブリッド型マスクなどのマスク種類が含まれる。プログラム可能ミラーアレイは例えば、微小ミラーのマトリックス配列で構成される。各微小ミラーは、入射する放射ビームを異なる複数の方向に反射するよう個別的に傾斜可能である。ミラーマトリックスにより反射された放射ビームには、傾斜されたミラーによってパターンが付与されている。
【００２５】
「投影系」なる用語は、屈折光学素子、反射光学素子、反射屈折光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子、またはこれらの組合せを含む何らかの投影系を包含することができる。過剰な放射または過剰の電子を他の気体が吸収するので、ＥＵＶまたは電子ビーム放射のために真空環境を使用してもよい。したがって、真空壁および真空ポンプの助けを借りて、ビーム経路の全体に真空環境が与えられてもよい。
【００２６】
リソグラフィ装置１００および／またはリソグラフィ装置１００’は２つ以上（２つの場合にはデュアルステージと呼ばれる）の基板テーブル（及び／または２つ以上のマスクテーブル）ＷＴを備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては、追加の基板テーブルＷＴが並行して使用されるか、あるいは１以上のテーブルで露光が行われている間に１以上の他の基板テーブルＷＴで準備工程が実行されるようにしてもよい。
【００２７】
図１Ａおよび図１Ｂを参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。例えば光源ＳＯがエキシマレーザである場合には、光源ＳＯとリソグラフィ装置１００、１００’とは別体であってもよい。この場合、光源ＳＯはリソグラフィ装置１００、１００’の一部を構成しているとはみなされなく、放射ビームＢは光源ＳＯからビーム搬送系ＢＤ（図１Ｂ）を介してイルミネータＩＬへと到達する。ビーム搬送系ＢＤは例えば適当な方向変更用ミラー及び／またはビームエキスパンダを含む。あるいは例えば光源ＳＯが水銀ランプである場合には、光源ＳＯはリソグラフィ装置１００、１００’に一体に構成されていてもよい。光源ＳＯとイルミネータＩＬとは、またビーム搬送系ＢＤが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射系と総称されることがある。
【００２８】
イルミネータＩＬは放射ビームの角強度分布を調整するアジャスタＡＤ（図１Ｂ）を備えてもよい。一般には、イルミネータの瞳面における照度分布の少なくとも外径及び／または内径の値（通常それぞれ「σｏｕｔｅｒ」、「σｉｎｎｅｒ」と呼ばれる）が調整される。加えてイルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の要素（図１Ｂ）を備えてもよい。イルミネータＩＬはビーム断面における所望の均一性及び照度分布を得るべく放射ビームＢを調整するために用いられる。
【００２９】
図１Ａを参照すると、放射ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴに保持されているパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射して、当該パターニングデバイスによりパターンが付与される。リソグラフィ装置１００、１００’では、放射ビームＢはパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡから反射される。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡから反射された後に、放射ビームＢは投影系ＰＳを通過する。投影系ＰＳはビームＢを基板Ｗの目標部分Ｃに合焦させる。第２ポジショナＰＷと位置センサＩＦ２（例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）により基板テーブルＷＴは正確に移動され、放射ビームＢの経路に異なる複数の目標部分Ｃをそれぞれ位置決めする。同様に、第１ポジショナＰＭおよび別の位置センサＩＦ１を使用して、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを正確に位置決めすることができる。マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡおよび基板Ｗを位置合わせすることができる。
【００３０】
図１Ｂを参照すると、支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）に保持されるパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に放射ビームＢが入射し、パターニングデバイスによってパターンが付与される。マスクＭＡの通過後、放射ビームＢは投影系ＰＳを通過し、投影系ＰＳが基板Ｗの目標部分Ｃにビームを合焦させる。第２ポジショナＰＷと位置センサＩＦ（例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）の助けにより、基板テーブルＷＴを正確に移動させて、例えば放射ビームＢの経路に異なる目標部分Ｃを位置決めすることができる。同様に、例えば走査中またはマスクライブラリからのマスク交換後に、第１ポジショナＰＭと別の位置センサ（図１Ｂには明示されていない）により放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡは正確に位置決めされてもよい。
【００３１】
一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、ロングストロークモジュール（粗い位置決め用）及びショートストローク（ＳＳ）モジュール（精細な位置決め用）により実現される。これらモジュールは、第１ポジショナＰＭの一部を構成する。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２ポジショナＰＷの一部を構成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールにより実現される。ステッパの場合には（スキャナとは異なり）、マスクテーブルＭＴはショートストロークモジュールにのみ接続されていてもよいし、マスクテーブルＭＴは固定されていてもよい。マスクＭＡと基板Ｗとは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２、及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせされる。図示される基板アライメントマークは専用の目標部分を占有しているが、基板アライメントマークは目標部分間の領域に配置されていてもよい（スクライブラインアライメントマークとして公知である）。同様に、マスクＭＡに複数のダイがある場合には、マスクアライメントマークがダイ間に配置されてもよい。
【００３２】
リソグラフィ装置１００、１００’は以下のモードのうち少なくとも１つで使用することができる。
１．ステップモードにおいては、放射ビームＢに付与されたパターンの全体が１回の照射で１つの目標部分Ｃに投影される間、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴは実質的に静止状態とされる（すなわち１回の静的な露光）。そして基板テーブルＷＴがＸ方向及び／またはＹ方向に移動されて、異なる目標部分Ｃが露光される。
２．スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影される間、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期して走査される（すなわち１回の動的な露光）。支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影系ＰＳの拡大（縮小）特性及び像反転特性により定められる。
３．別のモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影される間、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴはプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルＷＴは移動または走査される。パルス放射源ＳＯが用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは走査中に基板テーブルＷＴが移動するたびに、または連続するパルスとパルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、本明細書のプログラム可能ミラーアレイなどのプログラム可能パターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに適用可能である。
【００３３】
上記のモードを組み合わせて動作させてもよいし、モードに変更を加えて動作させてもよく、さらに全く別のモードを用いてもよい。
【００３４】
本明細書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書における「ウエーハ」あるいは「ダイ」という用語がそれぞれ「基板」あるいは「目標部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置）、メトロロジツール、及び／またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ＩＣを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。
【００３５】
さらなる実施形態では、リソグラフィ装置１００は、ＥＵＶリソグラフィのためのＥＵＶ放射ビームを生成する極紫外（ＥＵＶ）光源を含む。一般に、ＥＵＶ源は放射系（後述）に設けられ、対応する照明系はＥＵＶ源のＥＵＶ放射ビームを調整する。
【００３６】
Ｂ．例示的なＥＵＶリソグラフィ装置
図２は、本発明の一実施形態に係るＥＵＶリソグラフィ装置２００を模式的に示す図である。図２において、ＥＵＶリソグラフィ装置１００は、放射系４２、照明光学ユニット４４、及び投影系ＰＳを含む。放射系４２は、放電プラズマにより放射ビームが形成される放射源ＳＯを含む。一実施形態においては、ＥＵＶ放射は例えばＸｅガス、Ｌｉ蒸気、またはＳｎ蒸気等の気体または蒸気により生成される。この気体または蒸気中に高温プラズマが形成されてＥＵＶ領域の電磁放射スペクトルの放射が発せられる。この高温プラズマは、例えば放電により少なくとも部分的にイオン化されたプラズマを生成することにより形成される。効率的に放射を生成するためには、Ｘｅ、Ｌｉ、Ｓｎ蒸気またはその他の適する気体または蒸気の例えば１０Ｐａの分圧が必要である。放射源ＳＯが発する放射はソースチャンバ４７からガスバリアまたは汚染物質トラップ４９を通じてコレクタチャンバ４８へと向かう。ガスバリアまたは汚染物質トラップ４９は、ソースチャンバ４７の開口またはその後方に配置されている。一実施例においてはガスバリア４９はチャネル構造を含んでもよい。
【００３７】
コレクタチャンバ４８は、斜入射型コレクタから形成される放射コレクタ５０（コレクタミラーまたはコレクタとも呼ばれる）を含む。放射コレクタ５０は、放射コレクタ上流側部５０ａ及び放射コレクタ下流側部５０ｂを有する。コレクタ５０を通過した放射は格子スペクトルフィルタ５１で反射され、コレクタチャンバ４８の開口に位置する仮想的点源５２に集束する。
【００３８】
コレクタチャンバ４８を出た放射ビーム５６は、照明光学ユニット４４において垂直入射リフレクタ５３、５４で反射され、レチクルテーブルまたはマスクテーブルＭＴに位置決めされたレチクルまたはマスク（図示せず）に入射する。パターンが付与されたビーム５７が形成され、投影系ＰＳにおいて反射素子５８、５９を介して基板（図示せず）に結像される。基板はウェーハステージまたは基板テーブルＷＴに支持されている。いくつかの実施例においては、照明光学ユニット４４及び投影系ＰＳは図２に示すよりも多い（または少ない）素子を含んでもよい。例えば、リソグラフィ装置の形式に応じて、格子スペクトルフィルタ５１を設けてもよいし設けなくてもよい。一実施例においては、照明光学ユニット４４及び投影系ＰＳは図２に示すよりも多くのミラーを含んでもよい。例えば、投影系ＰＳは、反射素子５８、５９に加えて１つ乃至４つの反射素子が組み込まれていてもよい。図２においては、参照番号１８０は２つのリフレクタ（例えばリフレクタ１４２、１４３）の間の空間を示している。
【００３９】
一実施例においては、コレクタミラー５０は、斜入射ミラーに代えてまたは斜入射ミラーとともに、垂直入射コレクタを含んでもよい。また、コレクタミラー５０としてリフレクタ１４２、１４３、１４６を有する入れ子状のコレクタを説明しているが、これはコレクタの一例に過ぎない。
【００４０】
また、図２に模式的に示される格子５１に代えて、透過型の光学フィルタを用いてもよい。ＥＵＶ透過型の光学フィルタは、ＵＶ放射の低透過光学フィルタまたはＵＶ放射の実質的吸収光学フィルタと同様に、当業者に公知である。よって、本明細書における「格子スペクトルフィルタ」は、格子フィルタまたは透過フィルタを含む「分光フィルタ」をも指し示す。図２には示されていないが、ＥＵＶ透過光学フィルタが追加されてもよい。ＥＵＶ透過光学フィルタは例えば、コレクタミラー５０の上流に設けられてもよいし、照明ユニット４４及び／または投影系ＰＳに設けられてもよい。
【００４１】
光学素子に関して「上流」「下流」という場合には、ある光学素子が別の１つまたは複数の光学素子に対し「光学的に上流」「光学的に下流」に位置することを示す。リソグラフィ装置２００を通過する放射ビームの光路において、第２の光学素子よりもソースＳＯに近い第１の光学素子は第２の光学素子の上流に設けられていると言えるし、第２の光学素子は第１の光学素子の下流に設けられていると言える。例えば、コレクタミラー５０は分光フィルタ５１の上流に設けられており、光学素子５３は分光フィルタ５１の下流に設けられている。
【００４２】
図２に示されるすべての光学素子（及び本実施例で模式的に図示されていないが追加可能である光学素子）は、ソースＳＯにより生成される汚染物質（例えばＳｎ）の堆積に弱いおそれがある。特に放射コレクタ（及び分光フィルタ５１がある場合にはそれも同様）において問題となり得る。このため、光学素子を清浄化するクリーニングデバイスが設けられ、光学素子に清浄化方法が適用されてもよい。垂直入射ミラー５３、５４及び反射素子５８、５９またはその他の光学素子（例えば追加されたミラー、格子等）にも清浄化方法が適用されてもよい。
【００４３】
放射コレクタ５０が斜入射型コレクタである実施例においてコレクタ５０は光軸Ｏに沿って配置されている。ソースＳＯまたはその像もまた光軸Ｏに沿って配置されていてもよい。放射コレクタ５０は、リフレクタ１４２、１４３、１４６（「シェル」、または複数のWolter型リフレクタを含むWolter型リフレクタとしても知られる）を備えてもよい。リフレクタ１４２、１４３、１４６は入れ子状であり、光軸Ｏに関し回転対称である。図２において、内側のリフレクタを参照番号１４２で示し、中間のリフレクタを参照番号１４３で示し、外側のリフレクタを参照番号１４６で示す。放射コレクタ５０は、ある体積（すなわち外側リフレクタ１４６の内部容積）を包囲する。通常は外側リフレクタ１４６の内部容積は円筒状に閉じられているが、小さい開口が複数あってもよい。
【００４４】
リフレクタ１４２、１４３、１４６それぞれの表面の少なくとも一部は、１つまたは複数の反射層である。このため、リフレクタ１４２、１４３、１４６（放射コレクタが４以上のリフレクタまたはシェルを有する実施例においては追加されたリフレクタも）の少なくとも一部は、ソースＳＯからのＥＵＶ放射を反射して集光するよう設計されている。また、リフレクタ１４２、１４３、１４６の少なくとも一部はＥＵＶ放射を反射及び集光しないように設計されている。これら反射層の表面にさらに保護用のキャップ層が設けられてもよい。キャップ層は反射層表面の少なくとも一部に光学フィルタとして設けられてもよい。
【００４５】
放射コレクタ５０は、ソースＳＯまたはその像の近傍に配置されていてもよい。各リフレクタ１４２、１４３、１４６は、少なくとも２つの隣接する反射面を備えてもよい。ソースＳＯから遠い反射面は、ソースＳＯに近接する反射面に比べて光軸Ｏと小角度を有して配置されている。この構成により、斜入射型コレクタ５０は、光軸Ｏに沿って伝播する（Ｅ）ＵＶ放射ビームを生成する。少なくとも２つのリフレクタが実質的に同軸に配置され、光軸Ｏに実質的に回転対称に延びている。なお、放射コレクタ５０は、外側リフレクタ１４６の外表面または外側リフレクタ１４６の周囲に、例えば保護ホルダやヒータ等の更なる構成を備えてもよい。
【００４６】
本明細書に記載の実施例において、「レンズ」「レンズ素子」なる用語は文脈が許す限り、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁的光学素子、及び静電的光学素子のいずれかまたは任意の組合せを示してもよい。
【００４７】
また、本明細書における「放射」及び「ビーム」なる用語は、（例えば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長λを有する）紫外（ＵＶ）放射、（例えば約５乃至２０ｎｍの範囲に含まれる波長（例えば１３．５ｎｍ）を有するか、５ｎｍ未満で作動する硬Ｘ線）極紫外（ＥＵＶまたは軟Ｘ線）放射を含むあらゆる電磁放射、及びイオンビームまたは電子ビーム等の粒子ビームを含む。一般に、７８０乃至３０００ｎｍ（またはそれ以上）の間の波長を有する放射は赤外放射とみなされる。ＵＶとはおよそ１００乃至４００ｎｍの波長を有する放射をいう。リソグラフィにおいては水銀放電ランプにより生成される波長がしばしば用いられる。４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線である。真空ＵＶ（ＶＵＶ、つまり空気に吸収されるＵＶ）とはおよそ１００乃至２００ｎｍの波長を有する放射をいう。深紫外（ＤＵＶ）とは一般に約１２６から約４２８ｎｍの波長を有する放射をいう。一実施例においては、エキシマレーザが、リソグラフィ装置で使用されるＤＵＶ放射を生成可能である。なお、例えば約５乃至２０ｎｍの波長を有する放射とは約５乃至２０ｎｍの範囲の少なくとも一部のある波長域を有する放射を言うものと理解されたい。
【００４８】
ＩＩＩ．二重封じ込め流体輸送システム
本書で説明するリソグラフィ装置とともに使用可能である二重封じ込め流体輸送システム用のシステムおよび方法が開示される。一実施例では、複合流体輸送システムは二つの柔軟なチューブを有し、第２チューブが第１チューブの内部に配置される。第２チューブの外壁から第１チューブの内壁を離間部材が分離している。第１チューブ内の流体が第２チューブ内の流体を周囲環境から隔離するようにチューブが構成される。
【００４９】
従来の装置と異なり、本書で述べる二重封じ込め流体輸送装置は柔軟である。したがって、この装置は、剛性のために早期故障する傾向が無く、また数百万回の動作をするアプリケーションに適している。二重封じ込め流体輸送システムの柔軟さにより、従来の装置よりも小さい、ねじれのない最小曲げ半径が実現される。二重封じ込め流体輸送システムは従来の装置よりも軽量であり、かさばらず、安価に製造することができる。さらに、二重封じ込め流体輸送システムは、標準の超高純度取り付け具とも互換性を有する。
【００５０】
図３Ａは、複合型二重腔チューブアセンブリ３００の例を示す。二重腔チューブアセンブリ３００は、二重封じ込め流体輸送の一部であり、少なくとも一つの流体を輸送する。二重腔チューブアセンブリ３００は、柔軟な外側チューブ３０５を有する。外側チューブ３０５は、例えば窒素ガス（Ｎ２）などの非反応性の流体である、第１の流体を輸送する。外側チューブは、例えばポリウレタン（ＰＵＲ）である反応性が最小の材料で製造することができ、この材料は、転がりループ（rolling loop）の動的力に耐え、二重腔チューブアセンブリ３００を支持する。
【００５１】
二重腔チューブアセンブリ３００は、外側チューブ３０５の内部に配置される柔軟な内側チューブ３１０内で第２の流体を輸送することができる。内側チューブ３１０は、外側チューブ３０５よりも柔軟性が高い。外側チューブは、例えば真空システムや超高純度（ＵＨＰ）システムで使用されるポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）である反応性が最小の材料で製造することができる。一実施例では、内側チューブ３１０は、水素ガス（Ｈ２）などの有害物質を輸送する。内側チューブ３１０が第２流体を輸送するとき、第１流体が外側チューブ外部の周囲環境から第２流体を隔絶する。さらなる実施例では、第１および第２流体が同一の流体であってもよい。さらなる実施例では、外側チューブ３０５が空気を含んでもよい。
【００５２】
二重腔チューブアセンブリ３００は少なくとも一つの離間部材（standoff）３１５を有する。離間部材は、外側チューブ３０５の内壁３２０と内側チューブ３１０の外壁３２５との間に配置される。一実施例では、離間部材３１５および内側チューブ３１０は、ポリマーの押し出しにより形成される一体構造である。離間部材３１５は、内側チューブ３１０の外壁３２５から実質的に放射状に延びる。離間部材３１５はまた、内側チューブ３１０の外壁３２５の少なくとも一部に沿って延び、内側チューブ３１０の中心と実質的に平行に延びてもよい。離間部材３１５は、本書で述べる機能を実行するのに適した任意の形状をとることができ、図３Ａに示した形状に限定されない。
【００５３】
離間部材３１５は、外側チューブ３０５内で内側チューブ３１０を中心に置き、内側チューブ３１０に剛性を与え、外側チューブ３０５内に流体の流路を保持する。離間部材３１５は、二重腔チューブアセンブリ３００が曲げられたときに外側チューブ３０５がねじれないようにする。離間部材３１５は、内側チューブ３１０の外壁が外側チューブ３０５の内壁３２０とこすれないようにする。離間部材３１５の面３３０は、外側チューブ３０５の内壁３２０と滑りばめ（sliding fit）または隙間ばめ（clearance fit）にされ、二重腔チューブアセンブリ３００の屈曲中の摩擦と応力を低減する。ＰＴＦＥで形成された離間部材を使用することで、十分な潤滑を提供して、二重腔チューブアセンブリ３００の屈曲中の過度の摩耗を防止している。
【００５４】
図３Ｂは、二重腔チューブアセンブリ３００の例示的な断面３４０を示す。断面３４０は、外側チューブ３０５の内壁３２０、内側チューブ３１０および離間部材３１５を表している。この例では、離間部材３１５が内側チューブ３１０と一体的な部分であって、内側チューブ３１０の外壁３２５から実質的に放射状に延びている。
【００５５】
図３Ｃは、二重腔チューブアセンブリ３００の別の例示的な断面３７０を示す。断面３７０は、内側チューブ３１０の外壁３２５と離間部材３１５を表している。この襟では、離間部材は内側チューブ３１０の一体的な部分ではない。
【００５６】
図３Ｄは、別の例示的な複合型二重腔チューブアセンブリ３００を示す。この例では、離間部材３１５が外側チューブ３０５の一体的な部分であり、外側チューブ３０５の内壁３２０から内側チューブ３１０の外壁３２５に向けて、実質的に放射状に内側に延びる。
【００５７】
図３Ｅは、別の例示的な複合型二重腔チューブアセンブリ３００を示す。この例では、離間部材３１５が内側チューブ３１０の一体的な部分である。図３Ｅに示すように、離間部材３１５は、離間部材３１５内に別個の流路３９２を画成する。離間部材３１５と外側チューブ３０５の内壁３２０との間の隙間ばめが、空間３９４を画成する。外側チューブ３０５の全体に差圧が加えられるとき、第１の流体が流路３９２を通して流れることができる。第１の流体は、空間３９４を通して流れてもよい。
【００５８】
図３Ｆは、別の例示的な複合型二重腔チューブアセンブリ３００を示す。この例では、二重腔チューブアセンブリは、離間部材３１５が内側チューブおよび外側チューブの両方と一体的である単一の構造を含む。この構造は、外側チューブの内壁３２０と内側チューブの外壁３２５との間に空間３９２を画成する。
【００５９】
図４は、二つの相対移動するポイントの間で少なくとも一つの流体を輸送する二重封じ込め流体輸送アセンブリ４００の一例を示す。流体輸送アセンブリ４００は、転がりループ（rolling loop）４０５状に配置された、少なくとも一つの二重腔チューブアセンブリ３００を備える。転がりループ４０５の内径は、外側チューブ３０５および内側チューブ３１０最小曲げ半径よりも大きい。複数の二重腔チューブアセンブリ３００を使用する場合、二重腔チューブアセンブリ３００が互いに固定されてチューブスラブ（tube slab）４１０にまとめられる。一実施例では、図４に示すように、チューブスラブ４１０内のチューブは互いに実質的に平行となるように固定され、他のチューブ内を流れる流体が混じり合わないようになっている。チューブスラブ４１０は、二重腔チューブアセンブリ３００のねじれおよびつぶれに対する抵抗力を高める。
【００６０】
一実施例では、転がりループ４０５の一端は地面に対して固定された一端で終結し、転がりループの他端は移動端で終結する。転がりループ４０５の半径と、固定端と移動端の間での相対的な直線移動の方向とが実質的に同一平面内にあるように、転がりループ４０５の方向を定めることができる。半径は、移動平面と実質的に直交していてもよい。分配装置４１５は、転がりループ４０５の固定端または移動端のいずれかに配置されるか、あるいはその両端に配置され、二重腔チューブアセンブリ３００を支えることができる。分配装置４１５は、二重腔チューブアセンブリ３００を、他のチューブ類、例えば一重封じ込めチューブなどに適応させる。一実施形態では、それぞれが転がりループを有する二つのチューブスラブ４１０を使用してもよい。固定端および移動端の間での相対移動の方向と実質的に直交する平面に対して、二つのチューブスラブ４１０を対称に配置してもよい。
【００６１】
固定端と移動端との間で相対移動がなされると、転がりループ４０５が転がって固定側と移動側の間で相対移動する。一実施例として、図４に示す方向は移動範囲の中心を表しており、図示の両方向で等しく移動する。転がりループの静止点に対する不均等な移動を使用してもよい。転がり時、離間部材３１５は、外側チューブ３０５がねじれるポイントまで外側チューブ３０５が屈曲しないようにし、また内側チューブのねじれを防ぐ。離間部材３１５は、内側チューブ３１０内と外壁３２５および内壁３２０の間の空間内との両方に流路を保持する。内側チューブ３１０内の二点間での第１の差圧により内側チューブ３１０内に流体が流れ、外側チューブ３０５内の間での第２の差圧により外側チューブ３０５内に流体が流れる。外側チューブ３０５内の流体圧力および流れを監視することで、内側チューブ３１０および外側チューブ３０５の破損を検出する。例えば、内側チューブ３１０を通して液体が流れ、外側チューブ３０５の容積をセンサが監視する場合、内側チューブ３１０内の液体が周囲環境に達することなく、漏れを検出することができる。
【００６２】
図５は、剛体チューブなどの一重封じ込めチューブに二重腔チューブアセンブリ３００を適合させる分配装置５００の一例を示す。分配装置５００は少なくとも一つの二重腔チューブアセンブリ３００を適合させ、図５に示すように二つの二重腔チューブアセンブリ５０２Ａ、５０２Ｂを適合させることに限定されない。図５に示す二つの二重腔チューブアセンブリ５０２Ａ、５０２Ｂは、別々の二重腔チューブアセンブリ３００であり、二重腔チューブアセンブリ３００を参照して本明細書で説明している。
【００６３】
分配装置５００は、内側チューブマニホールド５１０に連結された内側流体ポート５０５を有する。内側流体ポート５０５は、取り付け具（fitting）によって第１の一重封じ込めチューブに連結される。内側チューブマニホールド５１０は、少なくとも一つの内側チューブ取り付け具によって、二重腔チューブアセンブリ３００の内側チューブ３１０に連結される。これらの接続により、第１の一重封じ込めチューブと内側チューブ３１０との間に気密な封じ込め構造が与えられる。
【００６４】
分配装置５００は、分配装置５００によって画成されるチャンバ５２０に連結される外側流体ポート５１５を有する。外側流体ポート５１５は、取り付け具によって第２の一重封じ込めチューブに連結される。内側チューブマニホールド５１０の少なくとも一部がチャンバ５２０内に配置される。チャンバ５２０は、少なくとも一つの外側チューブ取り付け具によって、二重腔チューブアセンブリ３００のそれぞれの外側チューブ３０５とも連結される。外側チューブ取り付け具は、内側チューブ取り付け具と実質的に同軸であってもよい。これらの接続により、第２の一重封じ込めチューブと外側チューブ３０５との間に気密な封じ込め構造が与えられる。
【００６５】
使用時、分配装置５００は、二重腔チューブアセンブリ３００のそれぞれを一組の一重封じ込めチューブに適合させる一方、分配装置５００内では二重の封じ込めを提供する。第１の一重封じ込めチューブと内側チューブ取り付け具との間の差圧によって、内側チューブマニホールド５１０を通して流体が流れる。第２の一重封じ込めチューブと外側チューブ取り付け具との間の差圧によって、チャンバ５２０を通して流体が流れる。
【００６６】
図６Ａは、剛体チューブなどの一重封じ込めチューブに二重腔チューブアセンブリ３００を適合させる分配装置６００の一例を示す。分配装置６００は少なくとも一つの二重腔チューブアセンブリ３００を適合させ、図６Ａに示すように二つの二重腔チューブアセンブリ６０２Ａ、６０２Ｂを適合させることに限定されない。図６Ａに示す二つの二重腔チューブアセンブリ６０２Ａ、６０２Ｂは、別々の二重腔チューブアセンブリ３００であり、二重腔チューブアセンブリ３００を参照して本明細書で説明している。
【００６７】
分配装置６００は、内側チューブマニホールド６１０に連結された内側流体ポート６０５を有する。内側流体ポート６０５は、取り付け具によって一重封じ込めチューブと連結される。内側チューブマニホールド６１０は、内側チューブ取り付け具によって、二重腔チューブアセンブリ３００のそれぞれの内側チューブ３１０とも連結される。例えば、図６Ａに示すように、内側チューブマニホールド６１０は、とげのある（barbed）内側チューブ取り付け具によって、第１の二重腔チューブアセンブリ６０２Ａの第１内側チューブ６０３Ａに連結され、また、第２のとげのある内側チューブ取り付け具によって、第２の二重腔チューブアセンブリ６０２Ｂの第２内側チューブ６０３Ｂに連結される。これらの接続により、内側流体ポート６０５と内側チューブ６０３Ａ、６０３Ｂとの間に気密な封じ込め構造が与えられる。
【００６８】
分配装置６００は、分配装置６００によって画成されるチャンバ６１５も有する。内側チューブマニホールド６１０の少なくとも一部がチャンバ６１５内に配置される。チャンバ６１５は、外側チューブ取り付け具によって、二重腔チューブアセンブリ６０２Ａ、６０２Ｂの外側チューブ６０４Ａ、６０４Ｂに連結される。例えば、図６に示すように、チャンバ６１５は、外側チューブ取り付け具によって、第１の二重腔チューブアセンブリ６０２Ａの第１外側チューブ６０４Ａに連結され、また、第２の外側チューブ取り付け具によって、第２の二重腔チューブアセンブリ６０２Ｂの第２外側チューブ６０４Ｂに連結される。外側チューブ取り付け具は、内側チューブ取り付け具と実質的に同軸であってもよい。これらの接続により、チャンバ６１５と外側チューブ６０４Ａ、６０４Ｂとの間に気密の封じ込め構造が与えられる。一実施例では、分配装置６００は、外側チューブ６０４Ａ、６０４Ｂ内の圧力を調整するため、分配装置６００の外部にチャンバ６１５内の流体を放出する取り外し可能なオリフィス６２０を有する。図６Ｂは、分配装置６００の実施例内の流体経路の例示的な模式図を示す。
【００６９】
分配装置６００は、二重腔チューブアセンブリ３００のそれぞれを一流体用の一重封じ込めチューブに適合させる一方、他の流体を放出して、分配装置６００内に二重の封じ込め構造を提供する。内側流体ポート６０５と内側チューブ６０３Ａ、６０３Ｂとの間の差圧により、内側チューブマニホールド６１０を通して流体が流れる。外側チューブ６０４Ａ、６０４Ｂと分配装置６００の外装との間の差圧により、チャンバ６１５を通して流体が流れる。
【００７０】
図６Ｂは、二重封じ込め流体輸送システムの例示的な実施形態の模式図６５０である。図示のシステムは、分配装置５００、転がりループ４０５および分配装置６００を備える。模式図６５０は、分配装置５００、転がりループ４０５および分配装置６００を通した流体の流れを表している。
【００７１】
図６Ｃは、分配装置６００の別の実施形態を示す。この構造は、図６Ａおよび図６Ｂに示したものと類似している。しかしながら、図６Ａの装置とは異なり、図６Ｃの装置は、短ストロークステージなどの離れた場所に内側流体ポート６０５を配置する、任意の長さの単一で柔軟な二重腔チューブアセンブリ６７５が設けられている。この実施形態では、チャンバ６１５（図６Ａを参照）内の流体が、オリフィス６２０から離れた場所で放出される。アセンブリ６７５は、標準的な１２×１０のチューブ取り付け具６３５によってアセンブリ６００の残りの部分と接続される。アセンブリ６７５は、標準的な封止構造６２５およびとげのある内側チューブ取り付け具６３０によって、内側流体ポート６０５およびオリフィス６２０と接続される。
【００７２】
図６Ｄは、二重封じ込め流体輸送システム６７０の例示的な実施形態の模式図である。システム６７０は、分配装置５００と、転がりループ４０５と、アセンブリ６７５およびリモートのオリフィス６２０を備える図６Ｃに表した実施形態に係る分配装置６００とを備える。システム６７０は、分配装置５００、転がりループ４０５、分配装置６００、およびリモートのオリフィス６２０からの流体の放出を含むアセンブリ６７５を通した流体流れの一例を示す。
【００７３】
図７は、本書に開示された装置を使用して二つの流体を流通させる例示的な方法７００のフローチャートである。例えば、第１の流体は、第１端部、第２端部および内壁を有する第１柔軟チューブを経由して流通する。第２の流体は、第１端部、第２端部および外壁を有する第２柔軟チューブを経由して流通する。少なくとも一つの離間部材が第１チューブの内壁から第２チューブの外壁を分離することによって、第１および第２チューブを互いに対して位置決めしている。
【００７４】
ステップ７１０で、第１チューブの第１端部と第２端部の間に第１の差圧が形成される。ステップ７２０で、第２チューブの第１端部と第２端部の間に第２の差圧が形成される。ステップ７３０で、第１チューブの第１端部が第１チューブの第２端部に対して移動される。二つの実質的に同じ場所の間で移動が繰り返されてもよい。一実施例では、空間と重量を節約するために、第１および第２チューブが転がりループ状に配置されてもよい。ステップ７４０で、第１チューブの外装を越えて第１流体が放出される。第１チューブが取り付けられているチャンバ内のオリフィスを経由して第１流体を放出することができる。さらに、ステップ７５０で、第１流体が監視され、第１および第２チューブで漏れが発生しているか否かを判定することができる。ステップ７６０で、別の場所に向けられる接続を通して第２流体が流れる。
【００７５】
ＩＶ．結語
「発明の概要」および「要約」の部分は、「発明の名称」とともに、本発明および特許請求の範囲を限定する意図はないことが認められるべきである。「発明の概要」および「要約」の部分は、発明者によって考案された本発明の実施形態のうち一つまたは複数について述べているが、全ての例示的な実施形態について述べている訳ではない。したがって、本発明および添付の特許請求の範囲をいかなる方法によっても限定する意図はない。
【００７６】
特定の機能および関係の実現を例証する機能的な構成要素の助けを用いて本発明を説明してきた。これらの機能的な構成要素の境界は、説明の便宜上、適宜定義されている。それらの特別な機能および関係が適切に実行される限り、別の境界も定義することができる。
【００７７】
特定の実施形態についての上記説明は本発明の一般的性質を完全に公開しており、したがって、当分野の能力に含まれる知識を適用することによって、過度の実験をすることなく、および本発明の一般概念から逸脱することなく、種々の応用に対してそのような特定の実施形態を直ちに修正しおよび／または適応させることができる。したがって、そのような修正および適応は、本書に提示された教示および助言に基づき、開示された実施形態の意義および等価物の範囲内であると意図されている。本書の言葉遣いおよび専門用語は説明を目的としており限定のためではなく、本明細書の言葉遣いおよび専門用語は教示および助言を考慮して当業者によって解釈されるべきものである。
【００７８】
本発明の広がりおよび範囲は、上述した例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、特許請求の範囲およびそれらの等価物にしたがってのみ規定されるべきである。
【図１Ａ】
2011129905.tif 000003
【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
2011129905.tif 000011
【図４】
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【図５】
2011129905.tif 000013
【図６Ａ】
2011129905.tif 000014
【図６Ｂ】
2011129905.tif 000015
【図６Ｃ】
2011129905.tif 000016
【図６Ｄ】
2011129905.tif 000017
【図７】
2011129905.tif 000018
【外国語明細書】
2011129905000001.pdf