(57)【要約】【課題】  ホログラム転写箔の転写時に、剥離層が基材フィルムからきれいに剥離すると共に、ホログラム層の賦形を容易にするというトレードオフを解消するホログラム転写箔及びそれを用いたホログラム転写体を提供する。【解決手段】  基材フィルム２と、基材フィルム２の一方に配置された剥離層３と、剥離層３の基材フィルム２とは反対側に配置され、ホログラムレリ−フパターンを形成したホログラム層５と、ホログラム層５に対して剥離層３の反対側に配置されたヒートシール層８と、剥離層３とホログラム層５の間に配置されたオフセット層４と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図１
2011000760.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方に配置された剥離層と、
前記剥離層の前記基材フィルムとは反対側に配置され、ホログラムレリ−フパターンを形成したホログラム層と、
前記ホログラム層に対して前記剥離層の反対側に配置されたヒートシール層と、
前記剥離層と前記ホログラム層の間に配置されたオフセット層と、
を備えた
ことを特徴とするホログラム転写箔。
【請求項２】
前記オフセット層は、ワックスを含むことを特徴とする請求項１に記載のホログラム転写箔。
【請求項３】
前記オフセット層は、アクリル樹脂からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のホログラム転写箔。
【請求項４】
前記オフセット層は、イソシア硬化型である
ことを特徴とする請求項３に記載のホログラム転写箔。
【請求項５】
前記オフセット層の塗布量（ｇ／ｍ2）は、以下の条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１つに記載のホログラム転写箔。
１＜Ｍ＜２５
ただし、Ｍは前記オフセット層の塗布量（ｇ／ｍ2）である。
【請求項６】
前記ヒートシール層は、
前記ヒートシール層の厚みより大きい粒径の添加粒子を第１の添加粒子とし、
前記ヒートシール層の厚みより小さい粒径の第２の添加粒子を含む
ことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１つに記載のホログラム転写箔。
【請求項７】
前記添加粒子は、シリカからなる
ことを特徴とする請求項６に記載のホログラム転写箔。
【請求項８】
前記ヒートシール層は、ワックスを含む
ことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載のホログラム転写箔。
【請求項９】
前記ホログラム層は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなる
ことを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１つに記載のホログラム転写箔。
【請求項１０】
前記ホログラム層は、樹脂の架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含む
ことを特徴とする請求項９に記載のホログラム転写箔。
【請求項１１】
前記樹脂は、ポリウレタンアクリレートからなり、
前記架橋構造調整添加剤は、オリゴマーからなる
ことを特徴とする請求項１０に記載のホログラム転写箔。
【請求項１２】
前記ホログラム層は、ワックスを含む
ことを特徴とする請求項９乃至請求項１１のいずれか１つに記載のホログラム転写箔。
【請求項１３】
前記剥離層は、ワックスが分散したアクリル樹脂からなる
ことを特徴とする請求項１乃至請求項１２のいずれか１つに記載のホログラム転写箔。
【請求項１４】
前記ホログラム層と前記ヒートシール層の間に、前記ホログラム層と屈折率の異なる蒸着層を有する
ことを特徴とする請求項１乃至請求項１３のいずれか１つに記載のホログラム転写箔。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれか１つに記載の前記ホログラム転写箔と、
前記ホログラム転写箔を転写した被転写体と、
からなる
ことを特徴とするホログラム転写体。
【請求項１６】
前記被転写体は、カード、紙又は冊子である
ことを特徴とする請求項１５に記載のホログラム転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はホログラム転写箔に係り、特に被転写体に所望のパターンでホログラムを転写するためのホログラム転写箔及びそれを用いたホログラム転写体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ホログラムは、例えば、立体的画像の再生や光の干渉を利用した意匠用途、偽造が困難であることを利用した偽造防止用途、画像や情報の記録・再生媒体用途、光の回折、反射、散乱等を制御する光学素子用途等に利用されている光学物品である。
【０００３】
ホログラムには、レリーフホログラム、体積ホログラム等のホログラムがある。レリーフホログラムは、表面に微細な凹凸を形成することにより、画像、情報の記録、再生を行なうものである。また、体積ホログラムは、情報をホログラム層の厚み方向に、物体からの光の波面に相当する干渉縞を透過率変調、屈折率変調の形で層内に記録することで形成されるホログラムである。
【０００４】
ここでいうホログラムとは、立体画像に限らず、一定の連続パターンあるいは不連続パターンを形成した光学素子、例えば、回折格子やモスアイと呼ばれる反射防止素子も含まれる。
【０００５】
ホログラムの形成方法としては、物品からの反射光と参照光の干渉現象を利用して記録し形成する方法、対象物に関するデジタルデータから計算機により干渉縞データを作製する計算機ホログラムによる方法、回折格子等のパターンを電子線により描画する方法等が挙げられる。
【０００６】
このようなホログラムを物品に付与する方法として、ホログラム転写箔を利用する方法がある。従来のホログラム転写箔、例えば、レリーフ型のホログラム転写箔は、基材フィルム上に剥離層を介してホログラム層となる樹脂層を形成し、この樹脂層にホログラムレリーフパターンを形成してホログラム層とし、ホログラムレリーフパターン上に反射層を設け、さらに、ヒートシール性の接着剤層を設けたような構成である（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２７２２９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このようなホログラム転写箔の転写時に、剥離層が基材フィルムからきれいに剥離するには、剥離層に耐熱性を持たせ、剥離層と基材フィルムに適度な熱を与える必要がある。しかしながら、転写箔にホログラム層を有し、剥離層とホログラム層が当接している場合、剥離層に耐熱性を持たせると、剥離層がホログラム層に混入してしまい、ホログラム層が耐熱性を持ってしまう。そして、ホログラム層は、ＵＶ硬化前から耐熱性があると熱エンボスによる賦形がしにくくなってしまうという課題があった。
【０００９】
本発明は、従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ホログラム転写箔の転写時に、剥離層が基材フィルムからきれいに剥離すると共に、ホログラム層の賦形を容易にするというトレードオフを解消するホログラム転写箔及びそれを用いたホログラム転写体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成する本発明のホログラム転写箔は、基材フィルムと、前記基材フィルムの一方に配置された剥離層と、前記剥離層の前記基材フィルムとは反対側に配置され、ホログラムレリ−フパターンを形成したホログラム層と、前記ホログラム層に対して前記剥離層の反対側に配置されたヒートシール層と、前記剥離層と前記ホログラム層の間に配置されたオフセット層と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
また、前記オフセット層は、ワックスを含むことを特徴とする。
【００１２】
また、前記オフセット層は、アクリル樹脂からなることを特徴とする。
【００１３】
また、前記オフセット層は、イソシア硬化型であることを特徴とする。
【００１４】
また、前記オフセット層の塗布量（ｇ／ｍ2）は、以下の条件式を満足することを特徴とする請求項４に記載のホログラム転写箔。
１＜Ｍ＜２５
ただし、Ｍは前記オフセット層の塗布量（ｇ／ｍ2）である。
【００１５】
また、前記ヒートシール層は、前記ヒートシール層の厚みより大きい粒径の添加粒子を第１の添加粒子とし、前記ヒートシール層の厚みより小さい粒径の第２の添加粒子を含むことを特徴とする。
【００１６】
また、前記添加粒子は、シリカからなることを特徴とする。
【００１７】
また、前記ヒートシール層は、ワックスを含むことを特徴とする。
【００１８】
また、前記ホログラム層は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなることを特徴とする。
【００１９】
また、前記ホログラム層は、樹脂の架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含むことを特徴とする。
【００２０】
また、前記樹脂は、ポリウレタンアクリレートからなり、前記架橋構造調整添加剤は、オリゴマーからなることを特徴とする。
【００２１】
また、前記ホログラム層は、ワックスを含むことを特徴とする。
【００２２】
また、前記剥離層は、ワックスが分散したアクリル樹脂からなることを特徴とする。
【００２３】
また、前記ホログラム層と前記ヒートシール層の間に、前記ホログラム層と屈折率の異なる蒸着層を有することを特徴とする。
【００２４】
さらに、本発明のホログラム転写体は、前記ホログラム転写箔と、前記ホログラム転写箔を転写した被転写体と、からなることを特徴とする。
【００２５】
また、前記被転写体は、カード、紙又は冊子であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、ホログラム転写箔の転写時に、剥離層が基材フィルムからきれいに剥離すると共に、ホログラム層の賦形を容易にするというトレードオフを解消するホログラム転写箔及びそれを用いたホログラム転写体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態のホログラム転写箔を示す図である。
【図２】本実施形態のヒートシール層を示す図である。
【図３】本実施形態のホログラム転写箔を用いた転写例を示す図である。
【図４】本実施形態のホログラム転写箔の製造方法を示す図である。
【図５】本実施形態のホログラム転写箔の製造方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２９】
図１は本発明のホログラム転写箔の一実施形態を示す概略断面図である。図１において、ホログラム転写箔は、基材フィルム２と、基材フィルム２の一方に配置された剥離層３と、剥離層３の基材フィルム２とは反対側に配置されたオフセット層４と、オフセット層４の剥離層３とは反対側に配置されたホログラムレリ−フパターンを形成したホログラム層５と、ホログラム層５のオフセット層４とは反対側に配置された蒸着層６と、基材フィルム２の他方に配置されたタイミングマーク７と、蒸着層６のホログラム層５とは反対側に配置されたヒートシール層８と、を備える。
【００３０】
まず、基材フィルム２について説明する。
【００３１】
本発明のホログラム転写箔１を構成する基材フィルム２は、寸法安定性、耐熱性、強靭性等を有するものを使用することができ、例えば、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ナイロン（登録商標）、ポリノルボルネン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、セロファン、ビニロン（登録商標）、アセテート、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリアミドイミド等の樹脂フィルム、コンデンサペーパー等の紙、これらの複合体等を使用することができる。基材フィルム２の厚みは、使用する材質を考慮して適宜設定することができ、例えば、６〜５０μｍ程度の範囲で設定することができる。特に、１６〜２５μｍ程度の範囲が好ましい。
【００３２】
次に、剥離層３について説明する。
【００３３】
本発明のホログラム転写箔１を構成する剥離層３は、被転写体に転写されて最表面に位置するものであり、転写時の剥離性、箔切れ性の向上、および、転写されたホログラム層の保護層の作用をなすものである。また、塩ビカバー等の使用を考慮して、硬質で耐可塑剤性のあるアクリル樹脂あるいはセルロース樹脂をベースにし、膜を切れやすくするため、無機微粒子や微粉末ポリエチレンワックスなどを分散させると好ましい。ワックスは、重量比１０〜２０％含むと好ましい。
【００３４】
このような剥離層３としては、例えば、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面活性剤、金属酸化物等の中、１種若しくは２種以上を混合したものが用いられる。
【００３５】
特に、剥離層は基材フィルムと転写層との間の剥離力が１〜５ｇ／インチ（９０°剥離）になるように、その材質等を適宜選択して形成するのが好ましい。この剥離層はインキ化し、塗布等の公知の方法によって基材フィルムの表面に形成することができ、その厚みは剥離力、箔切れ等を考慮すると０．１〜４μｍの範囲が好ましい。
また、剥離層３は、第１の剥離層と第２の剥離層とを組み合わせた積層構成とすることも可能である。
【００３６】
また、剥離層３の塗布量は、２〜２．５ｇ／ｍ2が好ましい。剥離層３の塗布量が２ｇ／ｍ2を下回ると、オフセット層４のアタックを受け、剥離しにくくなる。また、剥離層３の塗布量が２．５ｇ／ｍ2を上回ると、剥離層３が厚くなり、箔切れが悪くなる。
【００３７】
次に、オフセット層４について説明する。
【００３８】
オフセット層４は、剥離層３とホログラム層５の間に配置され、剥離層３のインキがホログラム層５に混入しないように形成される。オフセット層４には、ワックス成分を含むアクリル樹脂又はポリエステル樹脂を用いると好ましい。また、イソシア硬化型のアクリル樹脂又はポリエステル樹脂を用いるとさらに好ましい。オフセット層４の耐熱性は、１８０℃〜２００℃が好ましい。
【００３９】
オフセット層４の塗布量は、１〜２５ｇ／ｍ2が好ましい。オフセット層４の塗布量が１ｇ／ｍ2を下回ると、剥離層３のインキのホログラム層５への混入を防ぎにくくなる。また、オフセット層４の塗布量が２５ｇ／ｍ2を上回ると、箔切れが悪くなる。
【００４０】
次に、ホログラム層５について説明する。
【００４１】
本発明のホログラム転写箔１を構成するホログラム層５におけるホログラムとは、立体画像に限らず、一定の連続パターンあるいは不連続パターンを形成した光学素子、例えば、回折格子やモスアイと呼ばれる反射防止素子も含まれる。例えば、ホログラム層５は、レリーフ型のホログラム層とすることができる。
【００４２】
ホログラム層５は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなることが好ましい。また、その樹脂には、架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含むことが好ましい。
【００４３】
ホログラム層５がレリーフ型のホログラムの場合は、微細な凹凸パターンを形成するために、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等を用いて形成され、厚みは０．１〜２０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍの範囲で設定することができる。１〜２μｍ程度の範囲がさらに好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂の場合、１．７〜３．０μｍが好ましい。この場合、下限を下回ると、放射線硬化の硬化疎外限界となり、上限を上回ると、転写時の切れ性が悪化してしまう恐れがある。
【００４４】
熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、セルロース樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂等、有機成分とゾルゲル反応可能な金属アルコキシド基を含有した有機−無機ハイブリッド樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ナイロン（登録商標）、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独あるいは２種以上の組み合わせで使用することができ、また、各種イソシアネート樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を配合してもよい。
【００４５】
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用することができる。モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂が挙げられ、特に耐熱性や加工性の観点から、特開２０００−６３４５９号公報に記載されているようなウレタン変性アクリル樹脂が好ましく用いられる。
【００４６】
また、ホログラム層５に使用する光硬化性樹脂として、特開昭６１−９８７５１号公報、特開昭６３−２３９０９号公報、特開昭６３−２３９１０号公報に記載されているような光硬化性樹脂を挙げることができる。
【００４７】
また、レリーフホログラムの凹凸パターン形状を正確に形成するために、反応性をもたないアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のポリマーを添加することができる。
【００４８】
また、光カチオン重合を利用する場合には、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用することができる。
【００４９】
また、上記の電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型（ハイブリッド型）を選定することができる。
【００５０】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を挙げることができる。
【００５１】
光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用することができる。
【００５２】
光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用することができ、また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用することができる。
【００５３】
さらに、ホログラム層５には、ホログラムの凹凸パターンの形成を容易とするために、離型剤を添加することができる。離型剤としては、公知の離型剤や界面活性剤、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス等の固形ワックス、フッ素化合物、フッ素ポリマー、リン酸エステル、シリコーンオイル、シリコーン樹脂等が挙げられる。
【００５４】
また、レリーフの凹凸形状を正確なものとしたり、硬度、耐熱性を付与するために、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機酸化物微粒子や金属アルコキシド、金属アルコキシドオリゴマー等を添加することもできる。
【００５５】
さらに、ホログラム層５には、重合防止剤、酸化防止剤、増感剤、紫外線吸収剤、安定化剤、可塑剤、消泡剤等を添加することができる。
【００５６】
本実施形態では、ホログラム形成層にエンボスホログラム及び回折格子柄の凹凸が形成されたホログラムを押圧し、複製エンボスホログラム及び回折格子柄の複製ホログラムを形成し、その後、ＵＶ硬化を行う。また、剥離層３と同様に、無機微粒子や微粉末ポリエチレンワックスなどを分散させると好ましい。さらに、膜の切れを樹脂自体が持つため、オリゴマーを添加すると好ましい。また、ホログラム層は、転写時に、熱によるレリーフの消失や輝度の低下をしない程度で架橋密度を小さくした方が、膜が切れやすくなるため、光開始剤を使用すると好ましい。さらに、架橋密度を調整するため、ＵＶの照射時間、照射強度、照射量、を適宜調整するとさらに好ましい。
【００５７】
なお、ホログラム材料としては、特開２００２−２６８５２３号公報、特開２０００−２７２２９５号公報、特許３３５７０１３号公報、特許３３５７０１４号公報、特開２００５−５５４７３号公報、特開２００１−３２９０３１号公報又は特開２００５−１１５２６４号公報等に記載された材料を参考にするとよい。
【００５８】
本実施形態の蒸着層６は、ホログラム層５と組み合わされてホログラムを発現し、しかも下層を隠蔽させないホログラム効果薄膜が用いられる。蒸着層６は、コロナ処理を行ったホログラム層５に易接着処理を行った後、物理蒸着装置により、ＴｉＯ２又はＺｎＳで厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの薄膜を形成することで透明反射層として形成される。
【００５９】
なお、蒸着層６の材料に関しては、特公平５−８７８３５号公報に記載された材料を参考にするとよい。特に、高耐久性のためには酸化劣化しないＴｉＯ２が好ましいが、安価で高輝度のためにはＺｎＳが好ましい。
【００６０】
なお、蒸着層６の材料に関しては、特公平５−８７８３５号公報に記載された材料を参考にするとよい。
【００６１】
次に、タイミングマーク７について説明する。
【００６２】
タイミングマーク７は、基材フィルム２に直接印刷される打ち出しのためのマークである。
【００６３】
次に、ヒートシール層８について説明する。
【００６４】
本実施形態では、ヒートシール層８は、低温接着性をよくし、紙に接着しやすくするため、水系エチレン−アクリル酸共重合体エマルジョンを用いるのが好ましい。
【００６５】
ヒートシール層８としては、熱可塑性樹脂を使用するのが好ましい。また、熱可塑性樹脂としては、従来からヒートシール剤として使用されている熱可塑性樹脂を使用することができる。例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレンゴム等のゴム系、ポリメチル（メタ）アクリル酸、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリエチル（メタ）アクリレート、ポリプロピル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、ポリ（２−エチルヘキシル）（メタ）アクリレート等のアクリル樹脂系、ポリスチレン、アクリル−スチレン共重合体等のポリスチレン系、ポリイソブチルエーテル等のポリビニルエーテル系、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフィン系、その他、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリルアミド、ポリメチロールアクリルアミド、ポリエステル系、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、ポリエチレンオキシド等が使用できる。また、共重合体として、例えば、酢酸ビニル−ブチル（メタ）アクリレート、酢酸ビニル−オクチル（メタ）アクリレート等の酢酸ビニルとアクリル樹脂の共重合体、塩化ビニル−ブチル（メタ）アクリレート、塩化ビニリデン−ブチル（メタ）アクリレート等の共重合体、エチレン−ブチル（メタ）アクリレート、エチレン−メチル（メタ）アクリレート等の共重合体等を使用することができる。また、これらの樹脂は２種以上を用いてもよい。軟化温度、密着性の観点から、エチレン−（メタ）アクリル酸、エチレン−メチル（メタ）アクリレート等の、オレフィン樹脂とアクリル樹脂の共重合体、または、オレフィン樹脂とアクリル樹脂のブレンド物が特に好ましい。
【００６６】
なお、本発明ではヒートシール層８に、箔切れ性を向上させるために、公知のフィラー、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、コロイド状微粒子等を添加してもよい。但し、これらの微粒子は、通常、転写時の熱で軟化することはないため、低温シール性の観点から、ヒートシール層８中の含有量を１０重量％以下とすることが好ましい。
【００６７】
また、図２に示すように、塗布厚より第１の添加粒子６ａの径を大きくすることで、第１の添加粒子６ａの一部を膜からはみ出させることが好ましい。例えば、ヒートシール層８の膜厚を７〜９μｍとし、それ以上の粒径を持つ第１の添加粒子６ａを一部配合することが好ましい。また、図２に示すように、ヒートシール層８に一方の面から熱を与えると、ヒートシール層８の膜厚より小さい粒径を持つシリカ等からなる第２の添加粒子６ｂは、熱とは反対の方向に重合し、ワックス等からなる第３の添加粒子６ｃは、熱の方向に重合する。このように熱を与えることにより、ヒートシール層８を切れやすい構造とすることができる。
【００６８】
なお、ヒートシール層８の材料に関しては、特許第３１４０８２０号公報、特開平４−１８５４９８号公報、特開平９−３９３９１号公報、に記載された材料を参考にするとよい。
【００６９】
本発明のホログラム転写箔の転写は、加熱、加圧することにより行なうことができ、転写装置としては、熱スタンプ型、ロール型等の転写方式を使用することができる。また、本発明のホログラム転写箔の被転写体としては、例えば、冊子、紙、合成紙、プラスチック、金属等のフィルムやシート、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。プラスチックとしては、例えば、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を挙げることができる。また、ホログラムが具備する意匠性を利用する目的で、包装紙や包装用フィルム、プレミアムカード、雑誌や書籍等を被転写体としてもよい。また、ホログラムが偽造困難である点を利用して、高い偽造防止性が要求される真正性証明用媒体、例えば、銀行等の預貯金カード、通帳、クレジットカード、身分証明書、受験票、パスポート、紙幣、商品券、株券、乗車券、航空券、交通機関や公衆電話等のプリペイドカード等を被転写体としてもよい。あるいは、高級腕時計、貴金属、宝飾品、いわゆるブランド品と言われる世界的に著名な高級商品で、偽造の対象となり易い物品や、それに付属するタグ、音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、ゲームソフト等が記録された記録媒体、それらのケース等の物品も被転写体として挙げることができる。また、ホログラム層には、必要に応じて情報を記録することも可能である。
【００７０】
さらに、本発明のホログラム転写箔の被転写体として、光学的機能を備えたり、反射光を制御する光学素子、例えば、反射板、反射防止板、偏光板、導光板等のように、ディスプレイや計器類、携帯電話等の表示窓の内部あるいは表面に設置する部材を挙げることができる。
【００７１】
本発明のホログラム転写箔の転写は、被転写体の一部への転写、全面への転写、いずれであってもよく、また、一部への転写の場合、複雑な模様や文字等の転写型を用いて転写してもよい。さらに、ホログラム転写箔を被転写体に転写することで、ホログラム転写体を構成する。
【００７２】
図３は、上述の本発明のホログラム転写箔１を用いた転写例を示す図である。図３に示されるように、被転写体１１上に本発明のホログラム転写箔１をヒートシール層８が接するように載置し、所望のパターンの熱スタンプ２１により基材フィルム２側から熱圧着してヒートシールを行い、その後、基材フィルム２側を剥離する。この剥離に際して、ヒートシール層８に含有される微粒子により、ヒートシールされた部位と他の部位との境界で良好な箔切れが生じて、熱スタンプ２１で押圧された領域の剥離層３、ホログラム層５、蒸着層６、ヒートシール層８が被転写体１１に転写される。また、熱スタンプ２１で押圧された領域では、微粒子も軟化してシール性を発現するので、ヒートシール層８の接着性が極めて高いものとなる。
【００７３】
次に、本発明にかかるホログラム転写箔の製造方法について、図１に示したホログラム転写箔１を例として説明する。図４及び図５は、本実施形態のホログラム転写箔の製造方法を示す図である。
【００７４】
本発明の製造方法は、基材フィルム２上に剥離層３を形成し、この剥離層３上にオフセット層４を形成する工程と、オフセット層４上にホログラム層５となる樹脂層を形成し、この樹脂層にホログラムレリーフパターンを形成してホログラム層５とする工程と、このホログラム層５のホログラムレリーフパターン上に蒸着層６を設ける工程と、蒸着層６上にヒートシール層８を設ける工程と、を有している。なお、ホログラム層５のホログラムレリーフパターン上に蒸着層６を設ける工程の前に、基材フィルム２にタイミングマーク７をシルクスクリーン印刷し、その上にバックコート層７を形成する工程を行うと好ましい。
【００７５】
図４（ａ）に示す基材フィルム２上へ図４（ｂ）に示すように形成する剥離層３は、上述の剥離層３に使用する材料を、必要に応じてアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノール等の溶剤と混合して塗布液とする。この塗布液を公知の塗布方法、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、カーテンコート法、フローコート法、リップコート法、ドクターブレードコート法、コンマコート法、ダイコート法、スピンコート法等により基材フィルム２上に塗布して剥離層３を形成することができる。尚、塗布後は、必要に応じて、例えば、５０〜１８０℃で乾燥して溶剤を揮散させ、必要に応じて、再度乾燥を行なって、剥離層３を形成することができる。
［基材フィルム］
・ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下「ＰＥＴフィルム」という。）
（東レ（株）製  ルミラー２５Ｔ６０Ｃ）
【００７６】
本実施形態では、以下の材料からなる塗布液を塗布し、１００℃で２０秒乾燥して形成した。なお、塗布液に硬化剤を入れても良い。
［剥離層］
ＣＡＰ  Ｂ２０                                      １００重量部
ＫＴ−１１                                          １００重量部
【００７７】
次に、図４（ｃ）に示すように、剥離層３上にオフセット層４を形成する。本実施形態のオフセット層４は、以下の材料からなるアクリル塗布液を塗布し、１００℃で２０秒乾燥して形成した。
［オフセット層］
ハクリニス  ４８ｗｘ６                              １００重量部
ＫＴ−１１                                          １００重量部
【００７８】
また、ホログラム層５の形成は、まず、上述のホログラム層５に使用する材料を、必要に応じてアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノール等の溶剤と混合して塗布液とする。この塗布液を公知の塗布方法、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、カーテンコート法、フローコート法、リップコート法、ドクターブレードコート法、コンマコート法、ダイコート法、スピンコート法等により、図４（ｄ）に示すように、オフセット層４上に塗布して樹脂層を形成する。尚、塗布後は、必要に応じて、例えば、５０〜１８０℃で乾燥して溶剤を揮散させ、必要に応じて、再度乾燥を行なって、樹脂層を形成することができる。
【００７９】
レリーフ型のホログラム層５の形成では、レーザー光や電子線を用いて作製したホログラムまたは回折格子を原版とし、この原版を未硬化状態の樹脂層に密着させ、その状態で樹脂層を、紫外線、電子線のような電離放射線や、熱により硬化させてホログラム層５を形成する。あるいは、上記の原版を母型とし、電鋳法により作製したニッケルスタンパー、熱可塑性樹脂を利用して熱プレスすることにより凹凸パターンを複製したスタンパー、熱硬化性樹脂あるいは光硬化性樹脂組成物を凹凸パターンに流し込み硬化させることにより作製した樹脂製スタンパー等を、未硬化状態の樹脂層に密着させ、その状態で樹脂層を、紫外線、電子線のような電離放射線や、熱により硬化させてホログラム層５を形成する。
【００８０】
また、常温での固体の樹脂層を形成した後、この未硬化状態の樹脂層にホログラム原版あるいは原版から作製したスタンパーを密着（必要に応じて加熱密着）させ、原版あるいはスタンパーを剥離した後、紫外線、電子線、熱等により樹脂層を硬化させてホログラム層５としてもよい。
【００８１】
また、屈折率変調の促進、重合反応の完結のために、干渉露光後、紫外線による全面露光や加熱等の処理を適宜行なうことができる。
【００８２】
本実施形態のホログラム層５は、まず、ホログラム形成用塗液を塗布し、１００℃で３０秒乾燥し、厚さ２μｍでホログラム形成層が形成される。ホログラム形成用塗液は以下の成分からなる。
【００８３】
［ホログラム層］
・光硬化性樹脂（ザ・インクテック（株）製  ＭＨＸ４０５）
ポリウレタンアクリレート                        …  重量比３４％
光重合開始剤                                    …  重量比  ２％
溶剤（離型性シリコーン）                        …  重量比６５％
【００８４】
その後、ホログラム形成層にエンボスホログラム及び回折格子柄の凹凸が形成されたホログラムを押圧し、複製エンボスホログラム及び回折格子柄の複製ホログラムを形成する。
【００８５】
ホログラム複製について説明する。まず、レーザー光を用いてホログラム原版を作製し、このホログラム原版を、連続複製装置のエンボスローラーに装着する。次いで、ホログラム層ベースを、連続複製装置の給紙側に設置し、エンボスローラーに２０ｍ／分の速度で供給して、プレス圧１×１０5Ｐａ、ロール温度１４０℃で圧着して、凹凸パターンを樹脂層に形成した。引き続き、高圧水銀灯より発生した紫外線を通常の１／２の照射量で照射して樹脂層を硬化させ、レリーフを形成してホログラム層５とする。
【００８６】
次に、図５（ａ）に示すように、蒸着層６を形成する工程を行う。
【００８７】
本実施形態の蒸着層６は、蒸着層６は、コロナ処理を行ったホログラム層５に易接着処理を行った後、物理蒸着装置により、ＴｉＯ２又はＺｎＳで厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの薄膜を形成することで透明反射層として形成される。
【００８８】
レリーフ型のホログラム層５のレリーフパターン上に蒸着層６を設ける工程では、真空蒸着、スパッタリング、反応性スパッタリング、イオンプレーティング、電気めっき、コーティング等の公知の方法を用いることができる。
【００８９】
蒸着層６は以下の成分からなる。
【００９０】
［蒸着層］
・ＺｎＳ及びＴｉＯ２
【００９１】
ここで、図５（ｂ）に示すように、基材フィルム２にタイミングマーク７をシルクスクリーン印刷する。
【００９２】
［タイミングマーク］
・墨シルクインキ
（（株）セイコーアドバンス製  ＪＥＴＥ１墨）
【００９３】
図５（ｃ）に示すように、本実施形態の蒸着層６上にヒートシール層８を設ける工程では、ヒートシール性を有する熱可塑性樹脂、中空樹脂粒子、水およびアルコールを含有する塗布液（エマルジョン状態のものが好ましい）を蒸着層６上に塗布し、１００〜１３０℃、好ましくは１３０℃で１分乾燥を行い、必要に応じて、再度乾燥することによりヒートシール層８を形成する。使用する熱可塑性樹脂、微粒子は上述の材料を使用することができる。
【００９４】
［ヒートシール層］
・塗布液（（株）昭和インク工業所製  ＴＨＤＨＳ−Ｓ（６４）−１５）
【００９５】
本実施形態で作成されたホログラム箔を、１２０℃で、ホログラム転写機（セキュリティーフォイリング社：マイクロポイズＰＲＯ）にて紙に転写したところ、箔切れよく良好に転写された。
【００９６】
なお、蒸着層６に直接接着しない受容層を形成する際は、蒸着層６上に、まず、着色ＯＰニスメジウム、ＴＨＦプランマー又はシリカで厚さ０．４〜０．８ｇ／ｍ2のアンカー層を形成して、その後、厚さ２．５〜４．０ｇ／ｍ2の受容層を形成すると好ましい。また、乾燥は、１００℃で３０秒行うと好ましい。
【００９７】
以上、本発明のホログラム転写箔を実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施形態に限定されず種々の変形が可能である。
【符号の説明】
【００９８】
１…ホログラム転写箔
２…基材フィルム
３…剥離層
４…オフセット層
５…ホログラム層
６…蒸着層
７…タイミングマーク
８…ヒートシール層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2011000760.tif 000006
【図５】
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