(57)【要約】【課題】縞感度の正確な値を容易に得ることができ、高精度に測定できる斜入射干渉計を提供すること。【解決手段】プリズム底面１４１に対する予備測定用光の入射角θｉを変更し、撮像手段１６にて検出される合成光の参照光領域の強度に基づいて入射角θｉが臨界角θＣ１となる状態を検出する。続いてプリズム底面１４１に対する入射角θｉを前記臨界角θＣ１に固定する。この臨界角θＣ１でプリズム底面１４１に測定用光を入射する。測定用光は予備測定用光より波長が長いので、一部の光がプリズム底面１４１を透過し合成光が形成される。この合成光に基づいて被測定面Ｓを測定する。縞感度の値は、予備測定用光および測定用光の波長から正確に定まるので、被測定面Ｓに対する入射角θｔを直接測定する必要がなく、容易に該縞感度の正確な値を得ることができる。該縞感度で測定することで高精度に測定できる。【選択図】図６
2011038963.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源から出射された光の一部を参照光として底面にて反射するとともに、他の光を測定光として前記底面から被測定面に対して斜めに出射し、前記被測定面にて反射した測定光と前記参照光との合成光を出射するプリズムと、前記合成光により形成される干渉縞を撮像する撮像手段と、前記干渉縞の撮像画像に基づいて前記被測定面の形状を算出する算出手段とを備えた斜入射干渉計であって、
前記光源は、所定の波長の予備測定用光、および前記所定の波長より波長が長い測定用光を出射可能に構成され、
前記光源の光路後段に設けられ、前記光源から出射された光の偏光方向を一方向に揃える偏光手段と、
前記光源から出射された光の前記底面に対する入射角を変更する入射角変更手段と、
前記光源および前記入射角変更手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
前記光源に前記予備測定用光を出射させる予備光出射制御部と、
前記入射角変更手段を制御して前記予備測定用光の前記底面に対する入射角を変更し、前記撮像手段により検出される前記合成光の参照光領域の強度に基づいて、前記入射角が前記底面に対して臨界角となる状態を検出する臨界角状態検出部と、
前記入射角変更手段を制御し、前記光源から出射された光の前記底面に対する入射角を前記臨界角に固定する入射角固定部と、
前記入射角固定部が前記入射角を前記臨界角に固定した後、前記光源に前記測定用光を出射させる測定用光出射制御部とを備え、
前記算出手段は、前記測定用光に基づく合成光により形成される干渉縞の撮像画像に基づいて前記被測定面の形状を算出する
ことを特徴とする斜入射干渉計。
【請求項２】
請求項１に記載の斜入射干渉計において、
前記光源は、特定の２波長のレーザ光のみを出射する半導体素子を備える
ことを特徴とする斜入射干渉計。
【請求項３】
請求項１に記載の斜入射干渉計において、
前記光源は、出射する光の波長を変更可能に構成された波長可変レーザである
ことを特徴とする斜入射干渉計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、斜入射干渉計に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、うねりの大きな被測定面を測定できる干渉計として斜入射干渉計が知られている（例えば、特許文献１の図１１参照）。
【０００３】
図９は、特許文献１に記載の斜入射干渉計１Ｂの構成を示す図である。
斜入射干渉計１Ｂは、レーザ光源１１、レンズ１２、１３、１５、プリズム１４、および撮像手段１６を備える。レーザ光源１１から出射された光は、レンズ１２、１３により平行光とされた後、プリズム１４に入射する。プリズム１４に入射した光の一部は、プリズム１４の底面１４１にて測定基準となる参照光として反射し、残りは測定光としてプリズム１４外へ出射（以下同修正）されて被測定面Ｓに入射する。被測定面Ｓに入射した測定光は、該被測定面Ｓにて反射した後、プリズム１４に入射して参照光と合成され、合成光となる。合成光は、レンズ１５を介し、撮像手段１６上に干渉縞を形成する。干渉縞は、撮像手段１６に撮像される。従って、撮像手段１６にて撮像された干渉縞の撮像画像に基づいて所定の演算を行うことで、被測定面Ｓの形状を得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−３２６９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、斜入射干渉計１Ｂでは、干渉縞間が表す被測定面Ｓの高低差の値、すなわち縞感度Λの値の正確さが測定精度に影響を与える。従って、高精度に測定するためには、縞感度Λの正確な値を得る必要がある。この縞感度Λの値は、レーザ光の波長をλ、被測定面Ｓに対する測定光の入射角をθｔとすると、次式（１）で示され、被測定面Ｓに対する測定光の入射角θｔに依存する。
【０００６】
【数１】
2011038963.tif 000003
【０００７】
従って、縞感度Λの正確な値を得、被測定面Ｓを高精度に測定するためには、入射角θｔの正確な値を得る必要がある。
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の斜入射干渉計１Ｂでは、被測定面Ｓに対する測定光の入射角θｔの正確な値を得るためには、装置全体を精度よく組み立てることにより入射角θｔを正確に所定の値に設定するか、装置全体を組立後、入射角θｔを正確に測定する必要があり、入射角θｔの正確な値を得ることが困難である。そのため、特許文献１に記載の斜入射干渉計１Ｂでは、縞感度Λの正確な値を得ることが困難であり、高精度に測定することができないという問題がある。
【０００９】
本発明の目的は、縞感度の正確な値を容易に得ることができ、高精度に測定することができる斜入射干渉計を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の斜入射干渉計は、光源と、前記光源から出射された光の一部を参照光として底面にて反射するとともに、他の光を測定光として前記底面から被測定面に対して斜めに出射し、前記被測定面にて反射した測定光と前記参照光との合成光を出射するプリズムと、前記合成光により形成される干渉縞を撮像する撮像手段と、前記干渉縞の撮像画像に基づいて前記被測定面の形状を算出する算出手段とを備えた斜入射干渉計であって、前記光源は、所定の波長の予備測定用光、および前記所定の波長より波長が長い測定用光を出射可能に構成され、前記光源の光路後段に設けられ、前記光源から出射された光の偏光方向を一方向に揃える偏光手段と、前記光源から出射された光の前記底面に対する入射角を変更する入射角変更手段と、前記光源および前記入射角変更手段を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記光源に前記予備測定用光を出射させる予備光出射制御部と、前記入射角変更手段を制御して前記予備測定用光の前記底面に対する入射角を変更し、前記撮像手段により検出される前記合成光の参照光領域の強度に基づいて、前記入射角が前記底面に対して臨界角となる状態を検出する臨界角状態検出部と、前記入射角変更手段を制御し、前記光源から出射された光の前記底面に対する入射角を前記臨界角に固定する入射角固定部と、前記入射角固定部が前記入射角を前記臨界角に固定した後、前記光源に前記測定用光を出射させる測定用光出射制御部とを備え、前記算出手段は、前記測定用光に基づく合成光により形成される干渉縞の撮像画像に基づいて前記被測定面の形状を算出することを特徴とする。
【００１１】
本発明では、まず、予備光出射制御部が光源に予備測定用光を出射させる。次に、臨界角状態検出部が、入射角変更手段を制御してプリズムの底面に対する予備測定用光の入射角を変更し、撮像手段により検出される合成光の参照光領域の強度に基づいて、入射角が臨界角となる状態を検出する。続いて、入射角固定部が、入射角が臨界角となる状態と検出された際の入射角となるように入射角変更手段を制御し、光源から出射される光のプリズムの底面に対する入射角を臨界角に固定する。次に、測定用光出射制御部が光源に測定用光を出射させる。測定用光は、予備測定用光より波長が長いので、プリズムの底面に対する臨界角が予備測定用光の臨界角よりも大きく、一部の光がプリズムの底面を透過し、合成光を形成する。
【００１２】
ここで、プリズムの底面に対する予備測定用光の臨界角は、予備測定用光の波長から定まり、被測定面に対する測定用光の入射角は、前記臨界角および測定用光の波長から定まり、縞感度の値は、被測定面に対する前記入射角および測定用光の波長から正確に定まる。結局、縞感度の値は、予備測定用光および測定用光の波長から正確に定まる。そこで、算出手段は、合成光により形成される干渉縞に基づき、前記縞感度で被測定面の形状を算出する。
【００１３】
以上のように、本発明では、波長の短い予備測定用光をプリズムの底面に入射して入射角が臨界角となる状態を検出し、該入射角で波長の長い測定用光を前記底面に入射させることで、装置全体を精度よく組み立てたり、被測定面に対する入射角を直接測定したりすることなく、予備測定用光および測定用光の波長から定まる入射角で被測定面に測定用光を入射できる。縞感度の値は、被測定面に対する前記入射角および測定用光の波長から定まるので、本発明では、装置全体を精度よく組み立てたり、被測定面に対する入射角を直接測定したりすることなく、容易に縞感度の正確な値を得ることができる。また、該縞感度で被測定面を測定することで高精度に被測定面を測定できる。
【００１４】
本発明の斜入射干渉計では、前記光源は、特定の２波長のレーザ光のみを出射する半導体素子を備えることが好ましい。
本発明によれば、光源として、例えばＤＶＤ用の波長（６５０ｎｍ）の赤色レーザ光や、ＣＤ用の波長（７８０ｎｍ）の赤外レーザ光などの特定の２波長のレーザ光のみを出射する半導体素子を備えるものを用いるので、光源に汎用品を用いることができ、コストを削減できる。
【００１５】
本発明の斜入射干渉計では、前記光源は、出射する光の波長を変更可能に構成された波長可変レーザであることが好ましい。
本発明によれば、光源は、出射する光の波長を変更できるので、所望する縞感度に応じて予備測定用光および測定用光の波長を選択することで、所望の縞感度で被測定面を測定することができ、斜入射干渉計の利便性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る斜入射干渉計の構成を示す図。
【図２】プリズムの底面および被測定面を示す拡大図。
【図３】斜入射干渉計による被測定面の測定工程を示すフローチャート。
【図４】プリズムに入射する光の波長と該光に対するプリズムの屈折率との関係を示す図。
【図５】プリズムの底面に入射する光の入射角と反射強度との関係を示す図。
【図６】レーザ光源が測定用光を出射する際の斜入射干渉計の構成を示す図。
【図７】本発明の第２実施形態に係る斜入射干渉計の構成を示す図。
【図８】第２実施形態の斜入射干渉計による被測定面の測定工程を示すフローチャート。
【図９】従来の斜入射干渉計の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態に係る斜入射干渉計１の構成を示す図である。以下、前述した斜入射干渉計１Ｂの機能部位と同一機能部位には同一符号を付し、その説明を省略若しくは簡略化する。
斜入射干渉計１は、レーザ光源１１、レンズ１２、１３、１５、プリズム１４、撮像手段１６、偏光手段としての偏光板１７、入射角変更手段２、および制御手段３を備える。
【００１８】
レーザ光源１１は、特定の２波長のレーザ光のみを出射する半導体素子を備えて構成される。本実施形態では、レーザ光源１１は、ＤＶＤ用の波長λ１（６５０ｎｍ）の赤色レーザ光、およびＣＤ用の波長λ２（７８０ｎｍ）の赤外レーザ光を出射可能な半導体素子を備えて構成され、汎用品が用いられる。
【００１９】
偏光板１７は、レーザ光源１１から出射された光の偏光方向を一方向に揃え、該光をプリズム１４の底面１４１に対しＰ偏光とする。
入射角変更手段２は、レーザ光源１１から出射された光を反射する平面鏡２１と、制御手段３による制御の下、平面鏡２１の角度を調整する調整部２２とを備え、レーザ光源１１から出射された光のプリズム１４の底面１４１に対する入射角θｉを変更する。
【００２０】
図２は、プリズム１４の底面１４１および被測定面Ｓを示す拡大図である。
プリズム１４は、レーザ光源１１から出射された光の一部を参照光として底面１４１にて反射するとともに、他の光を測定光として底面１４１から被測定面Ｓに対して斜めに出射する。そして、プリズム１４は、被測定面Ｓにて反射した測定光と、参照光とを合成して合成光とし、該合成光をプリズム１４外へ出射する。このプリズム１４は、一般的なプリズム硝子材であるＢＫ７から形成されている。なお、図２中、θｉはプリズム底面１４１への光の入射角、θｔは出射角（被測定面Ｓに対する入射角）、ｎｇはプリズム１４の屈折率、ｎａは空気の屈折率を示す。
【００２１】
図１に戻って、撮像手段１６は、ＣＣＤ(Charge Coupled Device) を有する。撮像手段１６上には、プリズム１４から出射される合成光により干渉縞が形成される。撮像手段１６は、この干渉縞を撮像する。なお、撮像手段１６は、プリズム底面１４１にて反射した参照光の領域の強度、被測定面Ｓにて反射した測定光の領域の強度、および参照光領域と測定光領域とが重なり合う合成光領域の強度を検出する。
【００２２】
制御手段３は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）を有し、レーザ光源１１および入射角変更手段２を制御する。制御手段３は、予備光出射制御部３１、臨界角状態検出部３２、入射角固定部３３、測定用光出射制御部３４、および算出手段としての算出部３５を備える。各手段３１〜３５の機能は、以下に説明する斜入射干渉計１による被測定面Ｓの測定工程の中で合わせて説明する。
【００２３】
図３は、斜入射干渉計１による被測定面Ｓの測定工程を示すフローチャートである。
斜入射干渉計１が作業者に操作されることにより、予備光出射制御部３１は、レーザ光源１１に波長λ１（６５０ｎｍ）の光を予備測定用光として出射させる（工程Ｓ１）。
【００２４】
工程Ｓ１の後、臨界角状態検出部３２は、入射角変更手段２を制御してプリズム底面１４１に対する予備測定用光の入射角θｉを変更し、撮像手段１６により検出される予備測定用光に基づく光の強度に基づいて、プリズム底面１４１に対し入射角θｉが臨界角θＣ１となる状態を検出する（工程Ｓ２）。
【００２５】
以下、工程Ｓ２の原理を説明する。
プリズム１４の屈折率をｎｇ、空気の屈折率をｎａ、プリズム底面１４１への光の入射角をθｉ、出射角（被測定面Ｓに対する入射角）をθｔとすると、スネルの法則により次式（２）が成り立つ。
【００２６】
【数２】
2011038963.tif 000004
【００２７】
ｎｇ＞ｎａから、入射角θｉが次式（３）を満たす臨界角θＣ以上のとき、プリズム底面１４１への入射光は全反射される。式（３）から、臨界角θＣは、屈折率ｎｇが小さいほど大きくなることが分かる。
【００２８】
【数３】
2011038963.tif 000005
【００２９】
図４は、プリズム１４（ＢＫ７）に入射する光の波長λと該光に対するプリズム１４の屈折率ｎｇとの関係を示す図である。
プリズム１４に入射する光の波長λと該光に対するプリズム１４の屈折率ｎｇとの関係は、相関関係にあり、入射光の波長λに対応して所定の屈折率ｎｇが定まる。波長λ２（７８０ｎｍ）の長い測定用光のほうが、波長λ１（６５０ｎｍ）の短い予備測定用光よりも屈折率ｎｇが小さくなる。波長λ１（６５０ｎｍ）の予備測定用光の屈折率ｎｇλ１は１．５１４５２となり、波長λ２（７８０ｎｍ）の測定用光の屈折率ｎｇλ２は１．５１１１８となる。臨界角θＣは、前述したように屈折率ｎｇが小さいほど大きくなるので、屈折率ｎｇλ２の小さい測定用光は、屈折率ｎｇλ１の大きい予備測定用光よりも臨界角θＣが大きくなることが分かる。
【００３０】
図５は、プリズム底面１４１に入射するＰ偏光の予備測定用光および測定用光の入射角θｉと反射強度との関係を示す図である。
プリズム底面１４１に入射する予備測定用光および測定用光の入射角θｉと反射強度との関係は、相関関係にあり、反射強度に対応して所定の入射角θｉが定まる。図５から、予備測定用光の臨界角θＣ１は４１．３２０°となり、測定用光の臨界角θＣ２は、４１．４３２°となることが分かる。入射角θｉが臨界角θＣに近づくと、反射強度は急激に大きくなる。
【００３１】
そこで、臨界角状態検出部３２は、工程Ｓ２において、平面鏡２１の角度を制御し、例えばプリズム底面１４１に対する予備測定用光の入射角θｉを徐々に大きくしていく。すると、入射角θｉが臨界角θＣ１に近づくと反射強度が急激に大きくなり、プリズム底面１４１にて反射する参照光の強度の変化率も急激に大きくなるので、臨界角状態検出部３２は、例えば撮像手段１６にて検出される参照光領域の強度の変化率が所定の閾値を越えた際に、プリズム底面１４１に対する予備測定用光の入射角θｉが臨界角θＣ１となる状態と検出する。
【００３２】
臨界角θＣ１近傍での参照光の強度の変化率は、微小な入射角θｉの変化に対しても非常に大きな値となるため、撮像手段１６にて検出される参照光領域の強度の変化率から入射角θｉが臨界角θＣ１となる状態を検出する場合、一般のＣＣＤを有する撮像手段１６でも十分に検出可能という利点がある。なお、臨界角状態検出部３２は、撮像手段１６にて検出される参照光領域の強度が所定の閾値を超えた際に、入射角θｉが臨界角θＣ１となる状態と検出してもよい。
【００３３】
工程２の後、入射角固定部３３は、参照光領域の強度の変化率が所定の閾値を越えた際の角度で平面鏡２１の角度を固定することで、プリズム底面１４１に対するレーザ光源１１からの光の入射角θｉを前記臨界角θＣ１に固定する（工程Ｓ３）。
【００３４】
図６は、レーザ光源１１が測定用光を出射する際の斜入射干渉計１の構成を示す図である。
工程Ｓ３の後、測定用光出射制御部３４は、レーザ光源１１に測定用光を出射させる（工程Ｓ４）。これにより、測定用光が予備測定用光の臨界角θＣ１でプリズム底面１４１に入射することとなる。臨界角θＣ１（４１．３２０°）でプリズム底面１４１に入射した測定用光の反射強度は、０．５７程度（図５）となるので、測定用光の一部の光は、プリズム底面１４１を透過し、被測定面Ｓにて反射した後、合成光を形成する。従って、該合成光により被測定面Ｓを測定することが可能となる。
【００３５】
この際、以下に示す前述の式（２）に基づき、被測定面Ｓに対する入射角θｔは、プリズム底面１４１に対する入射角θｉ（臨界角θＣ１）から所定の値に定まり、８６．１７９°となる。
【００３６】
【数４】
2011038963.tif 000006
【００３７】
そして、入射角θｔが定まるので、以下に示す前述の式（１）から、縞感度Λの値も所定の値に正確に定まり、５８５２ｎｍ（＝７．５λ２）となる。
【００３８】
【数５】
2011038963.tif 000007
【００３９】
以上のように、結局、縞感度Λの値は、予備測定用光および測定用光の波長λ１、λ２に基づいて所定の値に正確に定まる。
工程Ｓ４の後、算出部３５が、撮像手段１６にて取得される干渉縞の撮像画像に基づいて、前記縞感度Λで被測定面Ｓの形状を算出する（工程Ｓ５）。
【００４０】
以上の本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
波長λ１の短い予備測定用光をプリズム底面１４１に入射して入射角θｉが臨界角θＣ１となる状態を検出し、該入射角θｉで波長λ２の長い測定用光を前記底面１４１に入射させることで、装置全体を精度よく組み立てたり、装置全体を組立後に被測定面Ｓに対する入射角θｔを直接測定したりすることなく、予備測定用光および測定用光の波長から定まる入射角θｔで被測定面Ｓに測定用光を入射できる。縞感度Λの値は、前記入射角θｔおよび測定用光の波長λ２から定まるので、本実施形態では、装置全体を精度よく組み立てたり、被測定面Ｓに対する入射角θｔを直接測定することなく、容易に縞感度Λの正確な値を得ることができる。また、該縞感度Λで被測定面Ｓを測定することで高精度に被測定面Ｓを測定できる。
【００４１】
レーザ光源１１は、ＤＶＤ用の波長λ１（６５０ｎｍ）の赤色レーザ光、およびＣＤ用の波長λ２（７８０ｎｍ）の赤外レーザ光を出射する半導体素子を備えて構成されているので、汎用品を用いることができ、コストを削減できる。
【００４２】
〔第２実施形態〕
図７は、本実施形態に係る斜入射干渉計１Ａの構成を示す図、図８は、斜入射干渉計１Ａによる被測定面Ｓの測定工程を示すフローチャートである。
本実施形態では、レーザ光源１１Ａとして、出射光の波長を変更可能に構成された波長可変レーザを用いる。レーザ光源１１Ａから出射する予備測定用光および測定用光の波長λ１、λ２は、設定したい縞感度Λに応じて選択する。予備光出射制御部３１Ａは、工程Ｓ１Ａにおいて、設定したい縞感度Λに応じて選択された波長λ１の光をレーザ光源１１Ａに出射させる。また、測定用光出射制御部３４Ａは、工程Ｓ４Ａにおいて、設定したい縞感度Λに応じて選択された波長λ２の光をレーザ光源１１Ａに出射させる。本実施形態の他の構成および工程は、第１実施形態と同様である。
【００４３】
以下、予備測定用光および測定用光の波長λ１、λ２の選択の仕方を説明する。縞感度Λを、測定用光の波長λ２のａ倍にする場合、前述した式（１）から次式（５）が導出される。
【００４４】
【数６】
2011038963.tif 000008
【００４５】
そして、前述した式（２）および上記式（５）から次式（６）が導出される。
【００４６】
【数７】
2011038963.tif 000009
【００４７】
従って、縞感度Λを測定用光の波長λ２の５倍（ａ＝５）にする場合、空気の屈折率ｎａを１とすると、式（６）より次式（７）が導出される。
【００４８】
【数８】
2011038963.tif 000010
【００４９】
よって、この式（７）を満たすように、予備測定用光および測定用光の波長λ１、波長λ２を選択する。例えば、適宜の測定用光の波長λ２をまず選択する。すると、図４の波長λと屈折率ｎａとの関係を示すデータから、波長λ２に対応した屈折率ｎｇλ２が定まる。屈折率ｎｇλ２が定まると、式（７）より入射角θｉ（予備測定用光のプリズム底面１４１に対する臨界角θＣ１）が定まる。
すると、図５に参照される屈折率ｎｇ（波長λ）に応じたプリズム底面１４１への入射角θｉと反射強度とのデータに基づき、予備測定用光が全反射される際に、すなわち反射強度が０．９以上の所定の値となる際に、前記入射角θｉ（臨界角θＣ１）となる予備測定用光の波長λ１が定まる。
【００５０】
以上のように、本実施形態では、レーザ光源１１Ａは、出射する光の波長を変更できるので、所望する縞感度Λに応じた予備測定用光および測定用光の波長λ１、λ２を選択することで、所望の縞感度Λで被測定面Ｓを測定することができ、斜入射干渉計１Ａの利便性を向上できる。
【００５１】
〔実施形態の変形〕
なお、本発明は前記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記第１実施形態では、レーザ光源１１は、特定の２波長のレーザ光のみを出射する半導体素子を備えていたが、レーザ光源は、波長λ１、λ２の異なる光を出射する２つの半導体素子を備え、各半導体素子から出射される光が同軸でレーザ光源外へ出射されるように構成されていてもよい。
【００５２】
前記各実施形態では、偏光手段である偏光板１７は、レンズ１３と入射角変更手段２との間に設けられていたが、偏光手段は、レーザ光源１１とレンズ１２との間に設けられていてもよく、適宜の位置に設けられていてよい。
前記各実施形態では、入射角変更手段２は、平面鏡２１の角度を調整することで、レーザ光源１１，１１Ａから出射される光のプリズム底面１４１に対する入射角θｉを変更したが、入射角変更手段は、光源やレンズ、偏光手段全体をプリズム底面１４１を中心に回転移動させることで、プリズム底面１４１に対する入射角θｉを変更してもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１     斜入射干渉計
１Ａ   斜入射干渉計
２     入射角変更手段
３     制御手段
１１   レーザ光源
１１Ａ レーザ光源
１４   プリズム
１６   撮像手段
１７   偏光板（偏光手段）
３１   予備光出射制御部
３１Ａ 予備光出射制御部
３２   臨界角状態検出部
３３   入射角固定部
３４   測定用光出射制御部
３４Ａ 測定用光出射制御部
３５   算出部（算出手段）
１４１ プリズムの底面
【図１】
2011038963.tif 000011
【図２】
2011038963.tif 000012
【図３】
2011038963.tif 000013
【図４】
2011038963.tif 000014
【図５】
2011038963.tif 000015
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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