(57)【要約】      （修正有）【課題】生産（成膜）開始前のターゲットクリーニングを、ダミー基板を使用することなく実施できる、生産性を向上させたインラインスパッタリング装置を提供する。【解決手段】基板が通過する排気可能なチャンバー１０内に成膜手段が配置され、チャンバーを少なくとも一基連通して配置する基板通過型であり、チャンバー内で基板が通過する搬送路と成膜手段の間を進退できる、巻き取り可能な遮蔽部材であるロールシャッター２０を設けた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が通過する排気可能なチャンバー内に成膜手段が配置され、該チャンバーを少なくとも一基連通して配置する基板通過型の基板処理装置において、
前記チャンバー内で前記基板が通過する搬送路と前記成膜手段の間を進退できる、巻き取り可能な遮蔽部材を設けたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記遮蔽部材は、前記チャンバーとゲートバルブを介して接続する気密可能な遮蔽部材用チャンバー内に格納され、該遮蔽部材の前記チャンバーへの進退は前記ゲートバルブを介して行われることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記成膜手段は、スパッタリングにより前記基板に成膜を可能とするものであることを特徴とする請求項１又は請求項２の何れかの一項に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願の発明は、基板に対して真空中で連続して処理する基板処理装置に関するものであり、特に、基板の搬送路に沿って複数の真空チャンバーが配置されたインラインスパッタリング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、連通して複数のチャンバーが配置する、基板通過型の基板処理装置であるインラインスパッタリング装置では、生産（成膜）開始前にダミー基板を使用してターゲットクリーニング、あるいは、プリスパッタを実施することで生産時において連続生産を可能にしていた。
【０００３】
しかし、上記のようにダミー基板を使用し、ターゲットクリーニングを実施するには、大量のダミー基板が必要となっていた。
そのため、特許文献１に開示されるインラインスパッタリング装置では、シャッター機構を設けてプリスパッタを行うことを可能としている。
【０００４】
また、特許文献２では、スパッタリング装置以外のシャッター機構を有する基板処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−１５８３０５
【特許文献２】特開２００１−１３１７３３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
基板処理装置において、例えば、インラインスパッタリング装置では、生産（成膜）開始前のターゲットクリーニングを実施する際に、大量のダミー基板が必要となり、多大なコストがかかってしまう。
そこで、特許文献１に開示されるインラインスパッタリング装置の構造を採用することで、ダミー基板の使用を抑えることが可能となってきている。
【０００７】
しかし、インラインスパッタリング装置内に板状のシャッター板を伴う機構部を設けることで内部構造が複雑になる可能性があり、また、メンテナンスを必須とするシャッター板への対応が困難になる可能性もあり、解決すべき課題は残されていた。
【０００８】
本発明の目的は、上記のような問題に対して、ダミー基板を使用することなく、メンテナンス性を改善し生産性を向上させたインラインスパッタリング装置等の基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための本発明の基板処理装置は、 基板が通過する排気可能なチャンバー内に成膜手段が配置され、チャンバーを少なくとも一基連通して配置する基板通過型であり、チャンバー内で基板が通過する搬送路と成膜手段の間を進退できる、巻き取り可能な遮蔽部材を設けたことを特徴とする。
【００１０】
また、上記目的を達成するための本発明の基板処理装置は、遮蔽部材がチャンバーとゲートバルブを介して接続する気密可能な遮蔽部材用チャンバー内に格納され、遮蔽部材のチャンバーへの進退はゲートバルブを介して行われることを特徴とする。
【００１１】
また、上記目的を達成するための本発明の基板処理装置は、成膜手段がスパッタリングにより基板に成膜を可能とするものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、上記のように、例えばインラインスパッタリング装置において、巻き取り可能なロールシャッターを用いることで、ダミー基板を使用したターゲットクリーニング等の作業を行う必要が無く、ダミー基板にかかるコストの低減と生産性の向上をはかることができる。
【００１３】
さらに、ロールシャッターは、スパッタチャンバーとスリットバルブを介して設置されたシャッター用チャンバーに格納されているため、ロールシャッターは、基板処理装置の稼働中、非稼働中に関わらず交換可能であり、メンテナンス性の向上をはかることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態に係る基板処理装置を構成するチャンバーの側面から見たロールシャッタ−作動時の概略図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板処理装置を構成するチャンバーの上面から見たロールシャッタ−作動時の概略図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板処理装置を構成するチャンバーの上面から見たロールシャッタ−格納時の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る基板処理装置を構成するチャンバーの側面から見たロールシャッタ−作動時の概略図を示し、図２は、本発明の実施形態に係る基板処理装置を構成するチャンバーの上面から見たロールシャッタ−作動時の概略図を示し、図３は、本発明の実施形態に係る基板処理装置を構成するチャンバーの上面から見たロールシャッタ−格納時の概略図を示す。
【００１６】
また、本発明の実施形態に係るチャンバーを有する基板処理装置には、通常、内部空間を所要の減圧レベルに排気する排気手段、基板等の処理対象物に対して、例えば、スパッタリングを利用した成膜等の処理を施すための電力供給手段を含めたカソード等の成膜手段、基板を順次搬送する搬送手段等が設けられているが、これらの手段等の図示は説明の便宜上、省略されている。
【００１７】
本発明の実施形態は、図1及び図２に示すように、シャッター用チャンバー１には、その内部に格納された遮蔽部材である巻き取り可能なロールシャッター２０と、そのロールシャッター２０をスパッタチャンバー１０内に挿入するシャフト２２を有する。
【００１８】
ロールシャッター２０は、例えば、1ｍｍ厚以下のエンボス表面処理された
Ｃｕ板もしくはＡｌ板で、ローラー形状に沿って十分に曲形変形できる素材であるが限定されるものではない。
【００１９】
また、ロール３は、ロールシャッター２０に十分な引っ張り応力を与えるためのテンションスプリング４が内蔵されており、スパッタチャンバー１０内で成膜中、そのテンションスプリング４により一定の荷重がかけられることで、ロールシャッター２０はシャッター板と同等な形状に維持させることができる。
【００２０】
ロールシャッター２０を移動させるシャフト２２は、シャッター用チャンバー１の外の電動モーター６からシャッター用チャンバー１内に導入されたボールネジ２５により動力導入され、ロール３に設けられたテンションスプリング４以上の大きさの駆動力で移動する。
【００２１】
ロールシャッター２０は、ロール３の側面に取り付けられたシャフト２２にシャッター固定板２１を介して固定され、シャフト２２がシャフトガイド２３内を移動してスパッタチャンバー１０内に挿入され、遮蔽状態となる。
また、シャフト２２は、スパッタチャンバー１０内に設置されたガイドローラー２４上を移動していく。
【００２２】
そのガイドローラー２４は、スパッタチャンバー１０内で、不図示のカソードと基板１１の搬送路となる基板搬送用ローラー１１上の間に、ともに干渉しない位置に設けられている。
さらに、ガイドローラー２４は、シャフト２２の駆動を容易にするため、耐熱性を考慮した樹脂にて成型され、さらに、ガイドローラー２４の交換はメンテナンス性を考慮し、例えば、固定部を極力排除し交換容易な構造となっている。
【００２３】
また、図３に示すように、ロールシャッター２０は、シャッター用チャンバー１に回収時には専用のローラーに巻きつけられている。
使用後のロールシャッター２０を交換するには、シャッター用チャンバー１を大気開放し、シャッター用チャンバー１上部に設けられた不図示の蓋を開放することにより、シャッター用チャンバー１内に固定されたロール３から取り外し、交換可能となる。このとき、ゲートバルブ２は閉じた状態となる。
【００２４】
ロールシャッター２０の遮蔽動作及び回収動作の方法は、例えば以下のように行われる。
スパッタチャンバー１の上流側（基板５の搬送方向に対して上方）に配置された不図示の一つ前のチャンバーに設置させた基板センサーが、一定時間において基板５を検出しない場合、かつ、不図示のカソードにて電力が継続的に印加されている場合、あるいは、基板処理装置内にある最終基板が、スパッタチャンバー１０から搬出された信号を検出した場合、ゲートバルブ２を介して取り付けられているシャッター用チャンバー１内に設置されているロールシャッター２０が、自動的にスパッタチャンバー１の不図示のカソード前面に移動して、付着防止機構として稼動する。
【００２５】
付着防止機構として稼動中に、次の基板がスパッタチャンバー１０以前の前工程チャンバーに挿入され、基板５の検出と同時にロールシャッター２０はシャッター用チャンバー１に回収を開始し、通常の成膜可能な状態となる。
ロールシャッター２０の回収時間は、前工程チャンバーからの基板移動時間において、その成膜処理に影響を与えない時間で回収されるものとする。
【００２６】
以上の実施形態で説明された構成、形状、大きさおよび配置関係については本発明が理解・実施できる程度に概略的に示したものにすぎず、また数値および各構成の組成（材質）等については例示にすぎない。
従って本発明は、説明された実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示される技術的思想の範囲を逸脱しない限り様々な形態に変更することができる。
【符号の説明】
【００２７】
１  シャッター用チャンバー
２  ゲートバルブ
３  ロール
４  テンションスプリング
５  基板
６  電動モーター
１０  スパッタチャンバー
１１  基板搬送用ローラー
２０  ロールシャッター
２１  シャッター固定板
２２  シャフト
２３  シャフトガイド
２４  ガイドローラー
２５  ボールネジ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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