(57)【要約】【課題】基板処理装置の高さが増大することを抑制しつつ、飛散した処理液を好適に回収することができる基板処理装置、および、カップ外に処理液が漏れることを好適に防止できるカバー部材を提供する。【解決手段】基板を保持する基板保持部１１と、上部に開口Ａを有する略筒形状を呈して基板保持部１１の周囲を囲むカップ１２と、カップ１２の外側に設けられるカバー本体４１と、を備え、前記開口Ａの縁部は、高さ位置が比較的低い第１縁部ＥＬと高さ位置が比較的高い第２縁部ＥＨとを有する。カバー本体４１は、第２縁部ＥＨの高さ位置より低い範囲で前記第１縁部ＥＬの上方を覆う。これにより、処理液が第１縁部ＥＬの上方からカップの外側に漏れることを防止できる。第１縁部の上端は依然として第２縁部より低いので、基板処理装置の高さが増大することを抑制することができる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
上部に開口を有する略筒形状を呈して前記基板保持部の周囲を囲むカップと、
前記カップの外側に設けられるカバー本体と、
を備え、
前記カップの上部に形成された切り欠きによって、前記開口の縁部は、高さ位置が比較的低い第１縁部と高さ位置が比較的高い第２縁部とを有し、
前記カバー本体は、前記第２縁部の高さ位置より低い範囲で前記第１縁部の上方を覆う基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部と略一致している基板処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部より前記カップの中央側に張り出している基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記カバー本体は、受け止めた処理液を前記カップの上部の外面に案内する基板処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記カバー本体は、
略水平な板状の天板部と、
前記天板部から下方に延びている垂れ壁部と、
を備えている基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記垂れ壁部は、前記開口の外側に配置されている基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記カップの上部には、前記開口がその上端に形成された側壁部と、
前記側壁部の周囲に設けられ、前記側壁部との間で処理液を回収可能な処理液溜まり用空間を形成する外壁部と、
を備え、
前記カバー本体で受け止められた処理液を、前記処理液溜まり用空間で回収する基板処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記外壁部に支持されて前記カバー本体を保持するブラケット部を備えている基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記ブラケット部は、前記外壁部の内外面と当接可能な１対の脚部を備え、前記ブラケット部を下降させて前記一対の脚部の間に前記外壁部を差し込むことで前記ブラケット部を前記カップに連結可能であり、かつ、前記ブラケット部を上昇させて前記一対の脚部の間から外壁部を抜くことで前記ブラケット部を前記カップから離脱可能である基板処理装置。
【請求項１０】
請求項７から請求項９のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記側壁部は前記開口にむかって内向きに傾斜しており、
前記外壁部は略垂直であり、
前記側壁部の下部と前記外壁部の下部とが連続しているとともに、
前記側壁部の下部、及び、前記外壁部の下部の少なくともいずれか一方には、前記カップの内部に処理液を導くための貫通孔が形成されている基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板に処理液を供給するノズル、及び、基板に接触して基板を洗浄する洗浄ブラシの少なくともいずれかを備えた処理具と、
前記処理具を基板の上方とカップの外側との間で移動させる際、前記処理具を前記第１縁部の上方を通過させる移動機構と、
を備えている基板処理装置。
【請求項１２】
上部に開口を有する略筒形状を呈して基板の周囲を囲むカップであって、前記開口の縁部が、高さ位置の比較的低い第１縁部と高さ位置の比較的高い第２縁部とを含んで形成されているカップに付設するためのカバー部材であって、
前記第２縁部の高さ位置より低い範囲で前記第１縁部の上方を覆うカバー本体と、
前記カップに支持されて、前記カバー本体を保持するブラケット部と、
を備えているカバー部材。
【請求項１３】
請求項１２に記載のカバー部材において、
前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部と略一致しているカバー部材。
【請求項１４】
請求項１２に記載のカバー部材において、
前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部より前記カップの中央側に張り出しているカバー部材。
【請求項１５】
請求項１２から請求項１４のいずれかに記載のカバー部材において、
前記カバー本体は、前記カバー本体で受け止めた処理液を、前記カップの外面に案内するカバー部材。
【請求項１６】
請求項１２から請求項１５のいずれかに記載のカバー部材において、
前記カバー本体は、
略水平な板状の天板部と、
前記天板部から下方に延びている垂れ壁部と、
を備えているカバー部材。
【請求項１７】
請求項１６に記載のカバー部材において、
前記垂れ壁部は平面視で前記開口の外側に配置されているカバー部材。
【請求項１８】
請求項１２から請求項１７のいずれかに記載のカバー部材において、
前記ブラケット部は前記カップに着脱自在であるカバー部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）をカップ内で処理する基板処理装置、および、カップに付設するためのカバー部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の基板処理装置は、基板を保持する基板保持部と、基板保持部の周囲を囲み、上部に開口部を有する略筒形状を呈するカップと、ノズルや洗浄ブラシなどの洗浄具と、洗浄具を基板の上方とカップの外側との間で移動させる移動機構とを備えている。そして、基板保持部は基板を保持し、移動機構はカップの外側から基板の上方に洗浄具を移動させ、洗浄具は基板に処理を行う。処理が終了すると、移動機構は洗浄具をカップの外側へ退避させる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
カップの上部には切り欠きが形成されている。洗浄具はこの切り欠きを通過して、基板の上方とカップの外側との間を移動する。これにより、洗浄具の可動域を低く抑えることができるので、基板処理装置全体の高さを低く抑えることができる。また、上下方向に積層可能な基板処理装置の数を増加させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１９２１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、カップの切り欠きから処理液等がカップの外側に漏れるという不都合がある。カップの外側の部位に付着した処理液によって基板処理装置が汚損され、基板の周囲の雰囲気を清浄に維持・管理することが困難になる。
【０００６】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板処理装置の高さが増大することを抑制しつつ、飛散した処理液を好適に回収することができる基板処理装置、および、カップ外に処理液が漏れることを好適に防止できるカバー部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、上部に開口を有する略筒形状を呈して前記基板保持部の周囲を囲むカップと、前記カップの外側に設けられるカバー本体と、を備え、前記カップの上部に形成された切り欠きによって、前記開口の縁部は、高さ位置が比較的低い第１縁部と高さ位置が比較的高い第２縁部とを有し、前記カバー本体は、前記第２縁部の高さ位置より低い範囲で前記第１縁部の上方を覆う基板処理装置である。
【０００８】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、第１縁部の上方を覆うカバー本体によって、処理液が第１縁部の上方からカップの外側に漏れることを好適に防止することができる。また、カバー本体は第２縁部より低い範囲で覆っているので、カバー本体の上端は、依然として第２縁部より低い。このため、カバー本体を設けても、基板処理装置の高さが増大することを抑制することができる。
【０００９】
本発明において、前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部と略一致していることが好ましい（請求項２）。カップの開口を塞ぐようにカバー本体が開口の上方に張り出していないので、基板保持部に対する基板の搬送を、開口を通じて好適に行うことができる。
【００１０】
また、本発明において、前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部より前記カップの中央側に張り出していることが好ましい（請求項３）。カバー本体は処理液をより好適に受け止めることができる。
【００１１】
また、本発明において、前記カバー本体は、受け止めた処理液を前記カップの上部の外面に案内することが好ましい（請求項４）。カバー本体は受け止めた処理液を開口を通じてカップ内に戻さないので、基板の処理品質が劣化することを防止できる。
【００１２】
また、本発明において、前記カバー本体は、略水平な板状の天板部と、前記天板部から下方に延びている垂れ壁部と、を備えていることが好ましい（請求項５）。カバー本体は垂れ壁部を備えているので、受け止めた処理液を好適に下方に案内することができる。
【００１３】
また、本発明において、前記垂れ壁部は、前記開口の外側に配置されていることが好ましい（請求項６）。カバー本体は、受け止めた処理液をカップの上部の外面に好適に案内することができる。
【００１４】
また、本発明において、前記カップの上部には、前記開口がその上端に形成された側壁部と、前記側壁部の周囲に設けられ、前記側壁部との間で処理液を回収可能な処理液溜まり用空間を形成する外壁部と、を備え、前記カバー本体で受け止められた処理液を、前記処理液溜まり用空間で回収することが好ましい（請求項７）。この構成によれば、カバー本体によって受け止められた処理液は処理液溜まり用空間で回収されるので、処理液がカップ外に漏れることを好適に防止できる。また、カバー本体によって受け止められた処理液が開口を通じてカップの内部に戻される場合に比べて、基板の処理品質が劣化することを防止できる。
【００１５】
また、本発明において、前記外壁部に支持されて前記カバー本体を保持するブラケット部を備えていることが好ましい（請求項８）。ブラケット部によってカバー本体をカップに連結することで、カバー本体を適切な位置に容易に設置できる。また、ブラケット部は外壁部に支持されているので、ブラケット部を側壁部に支持する場合に比べて、ブラケット部に処理液が付着することを防止することができる。
【００１６】
また、本発明において、前記ブラケット部は、前記外壁部の内外面と当接可能な１対の脚部を備え、前記ブラケット部を下降させて前記一対の脚部の間に前記外壁部を差し込むことで前記ブラケット部を前記カップに連結可能であり、かつ、前記ブラケット部を上昇させて前記一対の脚部の間から外壁部を抜くことで前記ブラケット部を前記カップから離脱可能であることが好ましい（請求項９）。簡易な構造でカップに着脱可能なブラケット部を構成することができる。これにより、カバー本体をカップに容易に装着したり、カップから容易に取り外すことができる。
【００１７】
また、本発明において、前記側壁部は前記開口にむかって内向きに傾斜しており、前記外壁部は略垂直であり、前記側壁部の下部と前記外壁部の下部とが連続しているとともに、前記側壁部の下部、及び、前記外壁部の下部の少なくともいずれか一方には、前記カップの内部に処理液を導くための貫通孔が形成されていることが好ましい（請求項１０）。側壁部と外壁部との間には、断面視で略三角形を上下反転させた形状の空間が形成され、処理液を好適に回収することができる。また、その空間の底部に貫通孔が配置されているので、回収した処理液をスムーズにカップの内部に導くことができる。
【００１８】
また、本発明において、基板に処理液を供給するノズル、及び、基板に接触して基板を洗浄する洗浄ブラシの少なくともいずれかを備えた処理具と、前記処理具を基板の上方とカップの外側との間で移動させる際、前記処理具を前記第１縁部の上方を通過させる移動機構と、を備えていることが好ましい（請求項１１）。第２縁部の上方を通過する経路で処理具を移動する場合に比べて、第１縁部の上方を通過する経路で処理具を移動する場合の方が、処理具の高さ位置を比較的に低く抑えることができる。よって、基板処理装置の全体の高さ寸法を低く抑えることができる。
【００１９】
また、請求項１２に記載の発明は、上部に開口を有する略筒形状を呈して基板の周囲を囲むカップであって、前記開口の縁部が、高さ位置の比較的低い第１縁部と高さ位置の比較的高い第２縁部とを含んで形成されているカップに付設するためのカバー部材であって、前記第２縁部の高さ位置より低い範囲で前記第１縁部の上方を覆うカバー本体と、前記カップに支持されて、前記カバー本体を保持するブラケット部と、を備えているカバー部材である。
【００２０】
［作用・効果］請求項１２に記載の発明によれば、カバー部材は第１縁部の上方を覆うカバー本体を備えているので、処理液が第１縁部の上方からカップの外側に漏れることを好適に防止することができる。また、カバー本体は第２縁部より低い範囲で覆っているので、カバー本体の上端は依然として第２縁部より低い。さらに、ブラケット部を介してカバー本体をカップに連結するので、カバー本体を適切な位置に容易に設置できる。
【００２１】
また、本発明において、前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部と略一致していることが好ましい（請求項１３）。平面視においてカバー本体が開口に張り出していないので、開口を通じた基板搬送や、開口の上方から処理液を供給するなどの基板処理を妨げることがない。
【００２２】
本発明において、前記カバー本体の先端は、平面視で前記第１縁部より前記カップの中央側に張り出していることが好ましい（請求項１４）。カバー本体は処理液をより効果的に受け止めることができる。
【００２３】
また、本発明において、前記カバー本体は、前記カバー本体で受け止めた処理液を、前記カップの外面に案内することが好ましい（請求項１５）。カバー本体は受け止めた処理液を開口を通じてカップ内に戻さないので、基板の処理品質が劣化することを防止できる。
【００２４】
また、本発明において、前記カバー本体は、略水平な板状の天板部と、前記天板部から下方に延びている垂れ壁部と、を備えていることが好ましい（請求項１６）。カバー本体は垂れ壁部を備えているので、受け止めた処理液を好適に下方に案内することができる。
【００２５】
また、本発明において、前記垂れ壁部は平面視で前記開口の外側に配置されていることが好ましい（請求項１７）。カバー本体は、受け止めた処理液をカップの外面に好適に案内することができる。
【００２６】
また、本発明において、前記ブラケット部は前記カップに着脱自在であることが好ましい（請求項１８）。カバー部材をカップに容易に装着したり、カップから容易に取り外すことができる。
【００２７】
なお、本明細書は、次のような基板処理装置およびカバー部材に係る発明も開示している。
【００２８】
（１）請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記カバー本体は、前記第１縁部に対応する範囲のみに設けられている基板処理装置。
【００２９】
前記（１）に記載の発明によれば、カバー本体が不要に大きくなることがない。
【００３０】
（２）請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記基板保持部は、基板を回転可能である基板処理装置。
【００３１】
前記（２）に記載の発明によれば、回転している基板に行う処理は処理液の飛散量が多いが、本基板処理装置によれば、このような処理を好適に行うことができる。なお、処理液の飛散量が多い処理としては、基板を回転させつつ処理液を供給する処理や、基板を回転させることで基板上の処理液を振り切る処理などが例示される。
【００３２】
（３）請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記カップの上部の内面は、前記開口に向かって内向きに傾斜している基板処理装置。
【００３３】
前記（３）に記載の発明によれば、カップは飛散する処理液を好適に受け止めることができる。
【００３４】
（４）請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記カップの上部の外面は、前記開口に向かって内向きに傾斜している基板処理装置。
【００３５】
前記（４）に記載の発明によれば、カバー本体によって、カップの上部の外面に案内された処理液を容易に回収することができる。
【００３６】
（５）請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１縁部は、互いに分離した複数箇所に配置されており、前記カバー本体は、第１縁部ごとに別個に設けられている基板処理装置。
【００３７】
前記（５）に記載の発明によれば、第１縁部を必要な位置に必要な広さだけ配置することができる。
【００３８】
（６）請求項８または請求項９に記載の基板処理装置において、前記ブラケット部は、前記カバー本体の両側を保持している基板処理装置。
【００３９】
前記（６）に記載の発明によれば、カバー本体を確実に保持することができる。
【００４０】
（７）請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記カバー本体は、受け止めた処理液をカップの内部へ案内する基板処理装置。
【００４１】
前記（７）に記載の発明によれば、処理液がカップ外に漏れることを確実に防止できる。
【００４２】
（８）請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記カバー本体は、略水平な板状の天板部と、前記天板部から下方に延びている垂れ壁部とを備え、前記垂れ壁部は前記カップの内部に進入している基板処理装置。
【００４３】
前記（８）に記載の発明によれば、カバー本体は、受け止めた処理液をカップの内部に好適に案内することができる。
【００４４】
（９）請求項８に記載の基板処理装置において、前記ブラケット部は、前記カップに固定されている基板処理装置。
【００４５】
前記（９）に記載の発明によれば、カバー本体を堅牢にカップに装着することができる。
【００４６】
（１０）請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記カップは略円筒形状を呈する基板処理装置。
【００４７】
（１１）請求項１２から請求項１８のいずれかに記載のカバー部材において、前記カバー本体は、前記カップの外側から覆うカバー部材。
【００４８】
前記（１１）に記載の発明によれば、カバー部材をカップの内側に装着しなくて済み、基板の処理品質の劣化を防ぐことができる。
【００４９】
（１２）請求項１２から請求項１８のいずれかに記載のカバー部材において、前記第１縁部は、基板の上方と前記カップの外側との間で移動する処理具が通過する範囲に形成されているカバー部材。
【００５０】
前記（１２）に記載の発明によれば、カップおよび処理具にカバー部材を加えて構成される装置全体の大きさが、大きくなることを防止することができる。
【００５１】
（１３）請求項１２から請求項１４のいずれかに記載のカバー部材において、前記カバー本体は、前記カバー本体で受け止めた処理液を、前記カップの内部へ案内するカバー部材。
【００５２】
前記（１３）に記載の発明によれば、処理液がカップの外側に漏れることを確実に防止できる。
【００５３】
（１４）請求項１２から請求項１４のいずれかに記載のカバー部材において、前記カバー本体は、略水平な板状の天板部と、前記天板部から下方に延びている垂れ壁部と、を備え、前記垂れ壁部は、平面視で前記開口の内側に配置されているカバー部材。
【００５４】
前記（１４）に記載の発明によれば、カバー本体は、受け止めた処理液をカップの内部に好適に案内することができる。
【発明の効果】
【００５５】
この発明に係る基板処理装置によれば、第１縁部の上方を覆うカバー本体によって、処理液が第１縁部の上方からカップの外側に漏れることを好適に防止することができる。また、カバー本体は第２縁部より低い範囲で覆っているので、カバー本体の上端は、依然として第２縁部より低い。このため、カバー本体を設けても、基板処理装置の高さが増大することを抑制することができる。
【００５６】
また、この発明に係るカバー部材によれば、カバー部材は第１縁部の上方を覆うカバー本体を備えているので、処理液が第１縁部の上方からカップの外側に漏れることを好適に防止することができる。また、カバー本体は第２縁部より低い範囲で覆っているので、カバー本体の上端は依然として第２縁部より低い。さらに、ブラケット部を介してカバー本体をカップに連結するので、カバー本体を適切な位置に容易に設置できる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の要部の斜視図である。
【図３】実施例に係る基板処理装置の要部の分解斜視図である。
【図４】実施例に係る基板処理装置の平面図である。
【図５】図４におけるａ−ａ矢視の断面図である。
【図６】処理液の経路を模式的に示した、図４におけるｂ−ｂ矢視の断面図である。
【図７】処理液の経路を模式的に示した、図４におけるａ−ａ矢視の断面図である。
【図８】変形実施例に係る基板処理装置の要部断面図である。
【図９】変形実施例に係る基板処理装置の要部断面図である。
【図１０】変形実施例に係る基板処理装置の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５８】
以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明する。
図１は実施例に係る基板処理装置の概略構成図であり、図２は基板処理装置の要部の斜視図であり、図３は基板処理装置の要部の分解斜視図であり、図４は基板処理装置の平面図であり、図５は図４におけるａ−ａ矢視の断面図である。
【００５９】
本実施例の基板処理装置１は、基板Ｗに洗浄処理を行う装置である。基板処理装置１は、基板保持部１１と、カップ１２と、カバー部材１３と、洗浄ブラシ１４と、移動機構１５と、ノズル１６と、制御部１７と、を備えている。
【００６０】
図１に示すように、基板保持部１１は基板Ｗを回転可能に保持する。基板保持部１１は、スピンチャック２１とモータ２３とを備えている。スピンチャック２１は、基板Ｗの下面中央部を吸着して、基板Ｗを水平姿勢で保持する。スピンチャック２１の下部中央にはモータ２３の出力軸２３ａの先端が連結されている。モータ２３の出力軸２３ａが回転駆動することで、スピンチャック２１と基板Ｗは略鉛直軸を中心として回転する。
【００６１】
なお、基板保持部１１の構成は、上記の例に限られない。たとえば、基板Ｗより若干大きい円盤状のベース部材であって、その下面にモータ２３の出力軸２３ａが連結されているベース部材と、このベース部材の上面周縁部に適当な間隔をあけて設けられた複数個（例えば６個）の支持ピンと、を備え、各支持ピンが基板Ｗを水平姿勢で当接保持するように変更してもよい。
【００６２】
図１及び図２に示すように、カップ１２は、上部に開口Ａを有する略筒形状を呈して基板保持部１１の周囲を囲む。カップ１２は、互いに別体の上側カップ３１、及び、下側カップ３２を備えており、上側カップ３１が下側カップ３２の上方に積層されている。
【００６３】
上側カップ３１の下部には垂直壁部３３が形成されている。垂直壁部３３の内面３３ｉ及び外面３３ｏは垂直である。上側カップ３１の上部には傾斜壁部３４と外壁部３５が形成されている。傾斜壁部３４と外壁部３５の下端は、それぞれ垂直壁部３３の上端と連続している。これら垂直壁部３３、傾斜壁部３４、及び、外壁部３５は一体に形成されている。
【００６４】
傾斜壁部３４は内向き斜め上方に延びている。傾斜壁部３４の内面３４ｉは垂直壁部３３の内面３３ｉと連続している。傾斜壁部３４の上端には上述の開口Ａが形成されている。すなわち、傾斜壁部３４の上端は上述の開口Ａの縁部Ｅを成している。傾斜壁部３４の下部には、その外面３４ｏから内面３４ｉにかけて貫通する貫通孔Ｂが形成されている。
【００６５】
図２に明示するように、傾斜壁部３４の上部には切り欠きＫが形成されている。この切り欠きＫにより、開口Ａの縁部Ｅの一部は、部分的に低くなっている。開口Ａの縁部Ｅのうち、高さ位置が比較的低い部分を第１縁部ＥＬと呼び、高さ位置が比較的高い部分を第２縁部ＥＨと呼ぶ。本実施例では、第１縁部ＥＬの高さ位置は、基板保持部１１に保持された基板Ｗの高さ位置よりも高く設定されている。
【００６６】
図４に明示するように、切り欠きＫは１箇所であり、切り欠きＫの幅（円弧の長さ）は、周方向に約数十度にわたっている。また、切り欠きＫの深さ（平面視でカップ１２の半径方向に対する距離）は、傾斜壁部３４の約半分程度である。なお、切り欠きＫの配置、及び、大きさは適宜に選択設計される事項である。例えば、洗浄ブラシ１４が通過する位置に切り欠きＫを形成することが望ましい。傾斜壁部３４は、この発明における側壁部に相当する。
【００６７】
図１に明示するように、外壁部３５は、垂直壁部３３から鉛直上方に延びており、外壁部３５の外面３５ｏは垂直壁部３３の外面３３ｏと面一に連続している。外壁部３５の内面３５ｉは、傾斜壁部３４の外面３４ｏと連続している。外壁部３５の上端の高さ位置は、第２縁部ＥＨの高さ位置よりも低い。本実施例では、外壁部３５の上端の高さ位置は、第１縁部ＥＬの高さ位置と略同じである。外壁部３５と傾斜壁部３４との間には、平面視で円環形状に連なり、断面視で略楔形（略三角形を上下反転させた形状）を呈し、上方が開放されている処理液溜まり用空間Ｃが形成されている。
【００６８】
下側カップ３２は、上側カップ３１の下部に連結されている。下側カップ３２は、出力軸２３ａの周囲を包み込む底部を有している。
【００６９】
図２に示すように、カバー部材１３は、カバー本体４１とブラケット部４２とを備えている。カバー本体４１は、カップ１２の外側に設けられている。カバー本体４１は、第２縁部ＥＨより低い範囲で、第１縁部ＥＬの上方を覆う（図５参照）。
【００７０】
図３を参照する。カバー本体４１は、天板部４５と垂れ壁部４６とを備えている。図５に示すように、天板部４５は第１縁部ＥＬより高く、第２縁部ＥＨより低い高さ位置で、略水平に配置される板状物である。
【００７１】
図３乃至図５を参照する。天板部４５は平らな板状物であり（図５参照）、平面視で略円弧形状を呈している（図４参照）。図４に示すように、天板部４５の周方向の長さは第１縁部ＥＬと略同じ長さを有している。天板部４５の内側（先端側）の端面４５ａは、平面視で第１縁部ＥＬと略一致している。この端面４５ａは、カバー本体４１の先端に相当する。
【００７２】
図３に示すように、垂れ壁部４６は円弧形状に湾曲した板状物である。また、図５に示すように、垂れ壁部４６は、天板部４５の外側（基端側）の部位から略鉛直下方に延びている。垂れ壁部４６は開口Ａの外側、すなわち、傾斜壁部３４の上方に配置されている。垂れ壁部４６の下端の高さ位置は、第１縁部ＥＬより低い。本実施例では、これら天板部４５、及び、垂れ壁部４６が一体に形成されている。
【００７３】
このように構成されるカバー本体４１は、カップ１２内から第１縁部ＥＬを越えて飛散する処理液を受け止める。また、カバー本体４１は、受け止めた処理液を外面３４ｏ上に落下させる。このようにカバー本体４１によって外面３４ｏに案内された処理液は、上述した処理液溜まり用空間Ｃに回収される。なお、外面３４ｏは、この発明における「カップの上部の外面」に相当する。
【００７４】
ブラケット部４２はカバー本体４１を保持する。ブラケット部４２はカップ１２に支持されている。ブラケット部４２は、カバー保持部４７とアーム部４８とを備えている。カバー保持部４７は、その先端部４７ａの一側面で、カバー本体４１の一側端を保持する。アーム部４８は、略Ｌ字形状に屈曲した板状物であり、互いに略直角な関係にある第１片４８ａと第２片４８ｂを有する。第１辺は、カバー保持部４７の後端部４７ｂの上面４７ｃに取り付けられている。第２片４８ｂは、カバー保持部４７の後端面４７ｄから離間して位置で、当該後端面４７ｄと略平行に後端部４７ｂの下部付近まで延びている。第２片４８ｂと後端部４７ｂとの間の離隔距離ｄは、外壁部３５の肉厚と略同等程度である。
【００７５】
そして、後端部４７ｂと第２片４８ｂとの間に外壁部３５の上端を対向させて、ブラケット部４２を下方向に押し込む。これにより、後端部４７ｂとアーム部４８との間に外壁部３５が差し込まれ、ブラケット部４２は外壁部３５に固定される。通常時では、カバー部材１３は上述のようにカップ１２に支持された状態である。なお、外壁部３５に取り付けられたブラケット部４２を上方に引き上げれば、ブラケット部４２を外壁部３５から離脱させることができる。後端部４７ｂと第２片４８ｂとは、この発明における一対の脚部に相当する。
【００７６】
再び図１を参照する。洗浄ブラシ１４は、基板Ｗに接触して基板Ｗを洗浄する。洗浄ブラシ１４は、ナイロンブラシやスポンジ等公知のものが適宜に選択される。
【００７７】
図４を参照する。移動機構１５は、洗浄ブラシ１４を基板Ｗの上方とカップ１２の外側との間で移動させる。また、移動機構１５は、洗浄ブラシ１４を上下方向に昇降させる。移動機構１５は、ガイドレール５１と、移動台５３と、昇降柱部５５と、保持アーム５７と、を備えている。
【００７８】
ガイドレール５１は、平面視でカップ１２の外側に敷設され、移動台５３を水平な１軸方向に案内する。移動台５３は、ガイドレール５１上を前進移動、及び、後退移動する。移動台５３には昇降柱部５５の下部が固定されている。昇降柱部５５は、シリンダー等で構成されており、その上端が移動台５３に対して上下動可能に構成されている。昇降柱部５５の上部には保持アーム５７が連結されている。保持アーム５７は、洗浄ブラシ１４を保持する。この保持アーム５７は、洗浄ブラシ１４を回転させる図示省略の回転駆動部を備えており、洗浄ブラシ１４をその縦軸心の回りに回転可能に保持する。
【００７９】
そして、移動台５３が移動することで、洗浄ブラシ１４は平面視でカップ１２の内側と外側との間にわたって移動する。また、昇降柱部５５が伸縮することで、洗浄ブラシ１４は基板Ｗを処理する高さ位置と、基板Ｗの上方とカップ１２の外側との間で搬送される高さ位置とに昇降する。前者の高さ位置は、洗浄ブラシ１４の下端が基板Ｗの上面と当接可能な洗浄ブラシの高さであり、以下では単に「処理高さ」という。また、後者の高さ位置は、洗浄ブラシ１４の下端がカバー本体４１の上端より高く、かつ、第２縁部ＥＨより低くなるような洗浄ブラシ１４の高さであり、以下では単に「搬送高さ」という。図１では、処理高さにある洗浄ブラシ１４を実線で明示している。また、図５では搬送高さに有る洗浄ブラシ１４を実線で明示している。
【００８０】
図１及び図４を参照する。ノズル１６は、カップ１２の上方に固定的に設置されている。ノズル１６の位置としては、開口Ａを通じた基板Ｗの搬入、搬出動作と干渉しないように、開口Ａの上方から外れた位置が好ましい。
【００８１】
ノズル１６には、配管６１の一端が連通接続されている。配管６１の他端は処理液供給源６３に連通接続されている。処理液供給源６３は処理液を供給する。処理液としては純水が例示される。処理液配管６１には処理液の流量を調節可能な流量調節弁６５が設けられている。
【００８２】
制御部１７は、上述した各構成の動作を統括的に制御する。具体的には、モータ２３の回転、移動台５３の水平移動、昇降柱部５５の伸縮、回転駆動部（図示省略）の駆動、及び、流量調節弁６５の弁体の開度を制御する。制御部１７はこれらの制御に関して予め設定される処理レシピ（処理プログラム）など各種情報を記憶する固定ディスク等の記憶媒体と、この処理レシピに基づいて各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）や、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）等によって実現されている。
【００８３】
次に、実施例に係る基板処理装置１の動作について説明する。ここでは、基板Ｗが既にスピンチャック２１に吸着保持されており、洗浄ブラシ１４はカップ１２の外側に待機しているものとして説明する。
【００８４】
図５を参照する。制御部１７は、昇降柱部５５の制御により、洗浄ブラシ１４を搬送高さに調整する。続いて、制御部１７は、移動台５３を前進させる。これにより、洗浄ブラシ１４はカバー本体４１の上方を通過して、カップ１２の外側から開口Ａの上方に移動する。
【００８５】
続いて、制御部１７は、昇降柱部５５を制御して洗浄ブラシ１４を下降させ、洗浄ブラシを処理高さに調整する（図５では処理高さにある洗浄ブラシ１４を点線で示している）。
【００８６】
制御部１７が洗浄ブラシ１４を処理高さに下降させる際、制御部１７はさらにモータ２３を駆動して基板Ｗを回転させるとともに、流量調節弁６５を制御してノズル１６から処理液を吐出させる。また、制御部１７は、図示省略の回転駆動部を制御して、洗浄ブラシ１４を回転させる。これにより、基板Ｗ上に供給された処理液は、遠心力を受けて基板Ｗの全面に広がり、基板Ｗの周縁から基板Ｗ外へ捨てられる。洗浄ブラシ１４は回転しながら基板Ｗに接触して基板Ｗを洗浄する。この洗浄処理においては、制御部１７は移動台５３を制御して、基板Ｗ上の任意の位置に洗浄ブラシ１４を移動させてもよい。
【００８７】
図６、図７を参照する。図６、図７は、それぞれ処理液の経路を模式的に示した図であり、図６は図４におけるｂ−ｂ矢視の断面図、図７は図４におけるａ−ａ矢視の断面図である。図６、図７では、処理高さにある洗浄ブラシ１４を示す。
【００８８】
図示するように、洗浄処理では基板Ｗから処理液が飛散する。飛散した処理液の大部分は、上側カップ３１の内壁、具体的には、傾斜壁部３４の内面３４ｉおよび垂直壁部３３の内面３３ｉに受け止められる。傾斜壁部３４および垂直壁部３３は、受け止めた処理液を下方へ案内する。下方に案内された処理液は下側カップ３２によって回収される。
【００８９】
また、図７に示すように、カバー本体４１は、第１縁部ＥＬの上方を越えて飛散した処理液を受け止める。カバー本体４１は、受け止めた処理液を傾斜壁部３４の外面３４ｏに案内する。外面３４ｏに案内された処理液は、処理液溜まり用空間Ｃ（図１参照）に回収される。処理液溜まり用空間Ｃに回収された処理液は、貫通孔Ｂを通じて、カップ１２の内部に導かれる。カップ１２の内部に導かれた処理液は、内面３３ｉを伝って下方に流下し、下側カップ３２によって回収される。
【００９０】
上述の洗浄処理を開始して所定の時間が経過すると、制御部１７は、回転駆動部を制御して洗浄ブラシ１４の回転を停止させ、昇降柱部５５を制御して洗浄ブラシ１４を再び搬送高さまで上昇させる。引き続いて、制御部１７は移動台５３を後退させる。これにより、洗浄ブラシ１４はカバー本体４１の上方を通過してカップ１２の外側へ移動する（図５参照）。また、制御部１７は、流量調節弁６５を制御して処理液の供給を停止させる。さらに、制御部１７は、モータ２３の回転数を増大させて、基板Ｗを高速で回転させる。これにより、基板Ｗ上の処理液を振り切り、基板Ｗを乾燥させる。
【００９１】
このような乾燥処理においても、図６、図７に模式的に示す処理液の経路のように、飛散した処理液が傾斜壁部３４、垂直壁部３３、及び、カバー本体４１によって受け止められる。
【００９２】
所定の乾燥処理が終了すると、制御部１７はモータ２３を制御して基板Ｗを静止させる。続いて、図示省略の搬送機構によって基板Ｗが開口Ａを通じてカップ１２の内部から搬出される。
【００９３】
このように、実施例に係る基板処理装置１によれば、第１縁部ＥＬの上方を覆うカバー本体４１を備えているので、処理液が第１縁部ＥＬの上方からカップ１２の外側に漏れることを好適に防止することができる。なおかつ、カバー本体４１の上端は第２縁部ＥＨより低いので、カバー本体４１の上方を洗浄ブラシ１４が比較的低い高さ位置で通過できる。これにより、洗浄ブラシ１４の高さ方向の可動域を抑制し、基板処理装置１全体の高さ寸法を低減することができる。
【００９４】
また、カバー本体４１の先端である端面４５ａが平面視で第１縁部ＥＬと略一致しているので、カバー本体４１は開口Ａを塞ぐように張り出していない。したがって、基板保持部１１に対する基板Ｗの搬送を好適に行うことができる。また、カバー本体４１は、第１縁部ＥＬに対応する範囲にのみ設けられているので、カバー本体４１が不要に大きくなることがない。
【００９５】
また、カバー本体４１は処理液を傾斜壁部３４の外面３４ｏに案内するので、カバー本体４１に受け止められた処理液は開口Ａを通じてカップ１２の内部に戻されることはない。このため、基板Ｗの処理品質が劣化することを防止できる。
【００９６】
また、カバー本体４１は天板部４５と垂れ壁部４６を備えているので、処理液を的確に下方に案内できる。また、垂れ壁部４６は平面視で開口Ａの外側に配置されているので、カバー本体４１に受け止められた処理液を外面３４ｏに確実に案内することができる。
【００９７】
カバー本体４１を保持するブラケット部４２は外壁部３５に取り付けられているので、カップ１２（第１縁部ＥＬ）に対応した適切な位置にカバー本体４１を容易に配置することができる。
【００９８】
また、ブラケット部４２はカップ１２に対して着脱自在であるので、カバー部材１３をカップ１２に装着した状態と、カップ１２からカバー部材１３を取り外した状態とを簡易に切り替えることができる。
【００９９】
また、ブラケット部４２は、外壁部３５を狭持可能な後端部４７ｂと第２片４８ｂとを備えているので、ブラケット部４２の着脱を、ブラケット部４２を上下方向に抜き差しするのみで行うことができる。また、ブラケット部４２の構造を簡略化することができる。
【０１００】
また、カップ１２はその上部に外壁部３５を有しており、外壁部３５は傾斜壁部３４との間で処理液溜まり空間Ｃを形成している。このような構成により、カバー本体４１で受け止められた処理液を処理液溜まり用空間Ｃで回収することができる。この結果、処理液がカップ１２外に漏れることを確実に防止できる。また、処理液溜まり用空間Ｃは、カップ１２の内部ではなくカップ１２の上部外面に位置しているので、基板Ｗの処理に影響を与えることなく処理液を回収できる。
【０１０１】
また、傾斜壁部３４の外面３４ｏは内向きに傾斜しているので、カバー本体４１によって案内された処理液を、処理液溜まり用空間Ｃの下方に導くことができる。また、傾斜壁部３４の下部には貫通孔Ｂが形成されているので、回収した処理液を内面３４ｉからカップ１２の内部に導入することができる。導入された処理液は内面３４ｉ、内面３３ｉを伝って流下するので、基板Ｗの処理に影響を与えることがない。
【０１０２】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【０１０３】
（１）上述した実施例では、カバー本体４１の天板部４５と垂れ壁部４６とのなす角度は略９０度であったが、これに限られない。たとえば、天板部４５と垂れ壁部４６とのなす角度は略９０度より小さい角度、または、略９０度より大きい角度に変更してもよい。
【０１０４】
（２）上述した実施例では、カバー本体は断面視で略「Ｌ」字形状を呈し、処理液を受け止めるカバー本体４１の内面は互いに略直交する２つの平坦面で構成されていたが、これに限られない。図８を参照する。図８は変形実施例に係る基板処理装置の要部断面図である。図示するように、処理液を受け止める内面が湾曲しているカバー本体７２に変更してもよい。この変形実施例では、カバー本体７２は断面視で円弧形状を呈している。なお、カバー本体７２は、変形実施例におけるカバー部材７１を構成している。
【０１０５】
（３）上述した実施例では、カバー本体４１の先端である端面４５ａは平面視で第１縁部ＥＬと略一致していたが、これに限られない。図８に示すように、カバー本体７２の先端７２ａを、平面視で第１縁部ＥＬよりカップ１２の中央側に張り出すように変更してもよい。カバー本体７２の先端７２ａが開口Ａを覆うように差し出ているので、処理液を回収できる範囲を効果的に広げることができる。
【０１０６】
（４）上述した実施例では、ブラケット部４２はカップ１２に着脱自在であったが、これに限られない。すなわち、カップ１２に固定的に取り付けられるブラケット部に変更してもよい。たとえば、図８に示すように、カップ１２と一体に形成されたブラケット部７３に変更してもよい。あるいは、ブラケット部４２をカップ１２にボルトなどの締結具で連結するように変更してもよい。
【０１０７】
（５）上述した実施例では、カバー本体４１は受け止めた処理液を傾斜壁部３４の外面３４ｏに案内するが、これに限られない。たとえば、受け止めた処理液を直接、すなわち、開口Ａを通じてカップ１２の内部に案内するように変更してもよい。図９を参照する。図９は、変形実施例に係る基板処理装置の要部断面図である。図示するように、カバー本体７５は、第１縁部ＥＬより内側（カップ１２の中央側）の位置で略鉛直方向に延びている垂れ壁部７６を備えている。垂れ壁部７６の上端は第１縁部ＥＬより高く、垂れ壁部７６は第１縁部ＥＬの上方に飛散する処理液を受け止める。また、垂れ壁部７６の下端は第１縁部ＥＬより低く、垂れ壁部７６は受け止められた処理液をカップ１２の内部に案内する。なお、垂れ壁部７６は第１縁部ＥＬに沿って湾曲している。
【０１０８】
（６）上述した実施例では、カバー本体４１は天板部４５と垂れ壁部４６とを備えて構成されていたが、これに限られない。図９に示すカバー本体７５のように天板部を省略し、垂れ壁部７６のみで構成してもよい。
【０１０９】
（７）上述した実施例では、ブラケット部４２は外壁部３５に取り付けられていたが、これに限られない。図９に示すように、傾斜壁部３４の外面３４ｏに載置されるブラケット部７７に変更してもよい。なお、これらカバー本体７５とブラケット部７７とによってカバー部材７８が構成される。
【０１１０】
（８）上述した実施例では、第１縁部ＥＬが一箇所に形成されていたが、これに限られない。図１０を参照する。図１０は変形実施例に係る基板処理装置の平面図である。図示するように、複数の第１縁部ＥＬを互いに分離して形成してもよい。この場合では、第１縁部ＥＬごとに別個のカバー部材８１を設置するように構成してもよい。なお、図１０に示すカバー部材８１はカバー本体８２を備え、カバー部材８１の先端は、カバー本体８２の内側（先端側）の端面８２ａである。そして、このカバー部材８１の先端８２ａは、平面視で第１縁部ＥＬよりカップ１２の中央側に張り出している。
【０１１１】
（９）上述した実施例では、ブラケット部４２はカバー本体４１の両側にそれぞれ設けられていたが、これに限られない。ブラケット部４２がカバー本体４１を保持する位置は適宜に設計、選択される。たとえば、図１０に示すように、カバー部材８１は、カバー本体８２の中央部で保持するブラケット部８３を備えるように変更してもよい。
【０１１２】
（１０）上述した実施例では、カップ１２の形状、特に垂直壁部３３、傾斜壁部３４、及び、外壁部３５について詳細に説明したが、これに限られない。カップ１２の形状は適宜に選択することができる。たとえば、図８に示すように、垂直壁部３３より外側に張り出した位置に外壁部７４が配置されていてもよい。あるいは、図９に示すように、上側カップ３１は、外壁部３５を省略して、垂直壁部３３と傾斜壁部３４とによって構成してもよい。
【０１１３】
（１１）上述した実施例では、傾斜壁部３４に貫通孔Ｂが形成されていたが、図８、図９に示す変形実施例のように、貫通孔Ｂを省略してもよい。あるいは、外壁部３５に貫通孔を形成するように変更してもよい。
【０１１４】
（１２）上述した実施例の動作説明では、カバー部材１３はカップ１２に取り付けられたままであったが、適宜に着脱、交換してもよい。たとえば、形状、寸法、または、第１縁部ＥＬに対する端面４５ａの位置が異なる複数のカバー部材１３を準備し、カップ１２に装着するカバー部材１３を取り換えることで、カバー部材１３の上端の高さ位置を調整してもよい。たとえば、洗浄ブラシ１４を使用しない処理を基板Ｗに行うときは、その上端が比較的高いカバー部材１３を選択し、これをカップ１２に装着する。これにより、第１縁部ＥＬの上方に飛散する処理液をより確実に受け止めることができる。
【０１１５】
（１３）上述した実施例では、移動機構１５は洗浄ブラシ１４を移動させたが、移動機構１５が移動させる処理具は洗浄ブラシ１４に限られない。たとえば、基板Ｗに処理液を供給するノズルを移動させるように移動機構を構成してもよい。図１０には、３つの吐出口８４ａを有するノズル８４を移動する移動機構８５を例示する。あるいは、洗浄ブラシ１４及びノズルの双方を移動させる移動機構を構成してもよい。この場合において、移動機構は、洗浄ブラシ１４とノズルとを一体に移動可能であってもよいし、洗浄ブラシ１４とノズルとを互いに独立して移動可能であってもよい。
【０１１６】
（１４）上述した実施例では、移動機構１５は、洗浄ブラシ１４を水平方向及び上下方向に移動可能に構成されていたが、これに限られない。例えば、処理具がノズルの場合では、処理高さと搬送高さとが同じでよいときもある。このようなノズルに対しては、水平方向のみに当該ノズルを移動する移動機構を適用してもよい。
【０１１７】
たとえば、図１０に示す移動機構８５は水平方向のみにノズル８４を移動する。具体的には、移動機構８５は固定台８７と、固定台８７に揺動可能に取り付けられた保持アーム８８とを備えている。保持アーム８８は、その先端でノズル８４を保持している。そして、保持アーム８８が固定台８７に対して回転することで、ノズル８４は略水平面内で旋回移動する。移動機構８５によるノズル８４の移動は、この旋回移動のみであり、移動機構８５はノズル８４を昇降移動できない。
【０１１８】
（１５）上述した実施例では、基板保持部１１は基板Ｗを回転可能に保持するが、これに限られない。回転不能な基板保持部に変更してもよい。
【０１１９】
（１６）上述した実施例では、処理液として純水を例示したがこれに限られない。処理液としては、各種のリンス液、または、各種の薬液を適宜に選択してもよい。
【０１２０】
（１７）上述した各実施例および各変形実施例の各構成を適宜に組み合わせるように変更してもよい。
【符号の説明】
【０１２１】
１  …基板処理装置
１１  …基板保持部
１２  …カップ
１３、７１、７８、８１  …カバー部材
１４  …洗浄ブラシ
１５、８５  …移動機構
１６、８４  …ノズル
１７  …制御部
３４  …傾斜壁部
３５、７４  …外壁部
４１、７２、７５、８２  …カバー本体
４２、７３、７７、８３  …ブラケット部
４５  …天板部
４５ａ  …端面
４６、７６  …垂れ壁部
７２ａ、８２ａ  …先端
Ｗ  …基板
Ａ  …開口
Ｂ  …貫通孔
Ｃ  …処理液溜まり用空間
Ｅ  …縁部
ＥＬ  …第１縁部
ＥＨ  …第２縁部
Ｋ  …切り欠き
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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