(57)【要約】【課題】排気ガス中における還元剤の分散性を向上させ、ＮＯｘの浄化率の向上を図ることが可能な排気ガス浄化装置の提供にある。【解決手段】排気ガス浄化装置１０であって、ケーシング１１と、該ケーシング１１内に配置された酸化触媒１３と、酸化触媒１３の上流側の流入口１４と、酸化触媒１３内に設けた往流通路１５と、ケーシング１１と酸化触媒１３との間に形成された環状通路１６と、酸化触媒１３の下流側の第２端面１３Ｂと側壁１１Ｃとの間の反転部１７と、環状通路１６と接続され環状通路１６の下流側のＳＣＲ触媒２７へ排気ガスを案内する案内口２５とを備え、酸化触媒１３における下流側の第２端面１３Ｂと対向する位置に還元剤供給室１８を設けると共に、該還元剤供給室１８と反転部１７とを連通する連通路１９を形成し、還元剤供給室１８内における周壁１８Ａの内周面に沿って噴射されたＮＨ３が流れるように噴射装置２４を設置する。【選択図】  図１
2011241706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関から排出された排気ガスが流通する排気通路と、
前記排気通路に設けられた酸化触媒と、
前記排気通路における前記酸化触媒よりも下流に設けられた還元触媒と、
前記排気通路における前記酸化触媒と前記還元触媒との間に設けられ還元剤を供給する還元剤供給手段と、を備えた排気ガス浄化装置であって、
側壁と周壁とを有する円筒状のケーシングと、
該ケーシング内に該ケーシングの周壁と間隔をおいて配置された前記酸化触媒と、
前記酸化触媒の上流側に接続された排気ガスの流入口と、
前記酸化触媒内に形成された往流通路と、
前記ケーシングの周壁と前記酸化触媒との間に形成された還流通路と、
前記酸化触媒における下流側の端面に対向してその下流側に形成され、排気ガスを前記還流通路へ反転して導入するように設けられた排気ガスの反転部と、
前記還流通路に接続され、前記還流通路の下流側に配置された前記還元触媒へ排気ガスを案内する排気ガスの案内口と、を備え、
前記酸化触媒における下流側の端面と対向する位置に円筒状の周壁を有する還元剤供給室を設けると共に、該還元剤供給室と前記反転部とを連通する連通路を形成し、
前記還元剤供給手段は、供給された前記還元剤が前記還元剤供給室内における前記周壁の内周面に沿って流れるように設置されていることを特徴とする排気ガス浄化装置。
【請求項２】
前記酸化触媒における下流側の端面と、該端面より後方の前記ケーシングの側壁との間に前記反転部を設け、前記還元剤供給室は、前記ケーシングの側壁より外部に形成し、前記ケーシングの側壁に前記連通路を形成したことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化装置。
【請求項３】
前記酸化触媒における下流側の端面と、該端面より後方の前記ケーシングの側壁との間に仕切り壁を設け、前記端面と前記仕切り壁間に前記反転部を形成すると共に、前記仕切り壁と前記側壁間に前記還元剤供給室を形成し、前記仕切り壁に前記連通路を形成したことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化装置。
【請求項４】
前記連通路は、前記酸化触媒の下流側の端面の中心側と対向する位置に設けられた第１連通路と、前記第１連通路より外周側に設けられた第２連通路とから構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の排気ガス浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、排気ガス浄化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
内燃機関が排出する排気ガス中のＮＯｘ（窒素酸化物）はＮＯｘ浄化装置により浄化されているが、特に、ディーゼルエンジンで用いられるＮＯｘ浄化装置はその排気系にＳＣＲ（選択還元触媒）が用いられている。このＮＯｘ浄化装置においては、尿素などの還元剤をＳＣＲ触媒に供給し尿素から発生するアンモニア（ＮＨ３）をＳＣＲ触媒に吸着させ、この吸着させたアンモニアにより排気ガス中のＮＯｘの選択還元を行っている。
【０００３】
ところで、特許文献１で開示された従来技術においては、第１の端面に連結手段が少なくともほぼ気密に連結され、この連結手段を通って排気ガスがハニカム構造物の往流領域内に流入し、流入した排気ガスは第２の端面の後方にある流れ反転手段によって方向転換された後に還流領域を通って逆流することができる。
特許文献１の図７には、半球状の流れ反転手段内に、測定センサ又は、試薬供給ユニットが設置された例が開示されている。試薬供給ユニットに用いる試薬としては尿素などの還元剤を使用することにより、反転中のガス流に還元剤を供給することができる。還元剤は排気ガス中に分散され、排気ガスと共に還流領域に送られる。なお、開示されていないが、還流領域に設けられたハニカム構造物として、例えば、ＳＣＲ触媒などの還元触媒を担持させたものを使用することにより、還元剤が分解されて生成するＮＨ３ガスがＳＣＲ触媒に吸着され、吸着されたＮＨ３によって排気ガス中に含まれるＮＯｘの選択還元を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００６−５１５４０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１で開示された従来技術においては、反転手段内を反転中のガス流に試薬供給ユニットから還元剤を供給しても、還元剤が排気ガス中に広く分散されずに、そのまま還流領域に送られる恐れがある。この場合、還流領域に設けられたハニカム構造物（ＳＣＲ触媒）には、還元剤が分解されて生成するＮＨ３の吸着ムラが発生する恐れがある。すなわち、ＮＨ３がリッチな部分とリーンな部分とが生じ、リッチな部分ではＮＯｘの選択還元が充分に行われるが、リーンな部分ではＮＯｘの選択還元が充分には行われない。その結果、排気ガスにおけるＮＯｘの浄化率（還元率）が低下してしまう問題がある。
【０００６】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので、本発明の目的は、排気ガス中における還元剤の分散性を向上させ、ＮＯｘの浄化率の向上を図ることが可能な排気ガス浄化装置の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、請求項１記載の発明は、内燃機関から排出された排気ガスが流通する排気通路と、前記排気通路に設けられた酸化触媒と、前記排気通路における前記酸化触媒よりも下流に設けられた還元触媒と、前記排気通路における前記酸化触媒と前記還元触媒との間に設けられ還元剤を供給する還元剤供給手段と、を備えた排気ガス浄化装置であって、側壁と周壁とを有する円筒状のケーシングと、該ケーシング内に該ケーシングの周壁と間隔をおいて配置された前記酸化触媒と、前記酸化触媒の上流側に接続された排気ガスの流入口と、前記酸化触媒内に形成された往流通路と、前記ケーシングの周壁と前記酸化触媒との間に形成された還流通路と、前記酸化触媒における下流側の端面に対向してその下流側に形成され、排気ガスを前記還流通路へ反転して導入するように設けられた排気ガスの反転部と、前記還流通路に接続され、前記還流通路の下流側に配置された前記還元触媒へ排気ガスを案内する排気ガスの案内口と、を備え、前記酸化触媒における下流側の端面と対向する位置に円筒状の周壁を有する還元剤供給室を設けると共に、該還元剤供給室と前記反転部とを連通する連通路を形成し、前記還元剤供給手段は、供給された前記還元剤が前記還元剤供給室内における前記周壁の内周面に沿って流れるように設置されていることを特徴とする。
【０００８】
請求項１記載の発明によれば、排気ガス浄化装置はケーシング内にケーシングの周壁と間隔をおいて酸化触媒が配置された、いわゆる入れ子式の構成を有しており、流入口から流入した排気ガスは、酸化触媒内の往流通路を通過した後、反転部にて流れの方向が逆方向に反転されるが、その一部はそのまま連通路を通って還元剤供給室に流入する。還元剤供給室内に流入した排気ガスは、還元剤供給室内において円筒状の周壁の内周面に沿って流れるように還元剤供給手段から還元剤が供給されることにより、還元剤と共にスワール流（渦巻き流）となって還元剤供給室内を旋回する。このスワール流によって供給された還元剤は排気ガス中に広く分散される。還元剤が分散された排気ガスは、還元剤供給手段から供給される還元剤の供給圧力によって再び連通路を通って還元剤供給室から反転部へと押し出される。
還元剤供給室から押し出された還元剤を含む排気ガスは、酸化触媒通過後に反転部を通って直接還流通路に流入する還元剤を含まない排気ガスと合流し、還流通路内で逆方向に流れつつ旋回する。このため、還元剤を含む排気ガスと還元剤を含まない排気ガスとが混合されて、還元剤が排気ガス中に広く分散される。
排気ガスは還流通路に接続された案内口を通って下流側の還元触媒に流出され、排気ガス中の還元剤は還元触媒に吸着されて排気ガス中に含まれるＮＯｘの選択還元が行われる。このとき、還元剤が排気ガス中に広く分散されていることにより、還元触媒への還元剤の吸着もムラが少なく比較的均一となる。よって、ＮＯｘの浄化率の向上を図ることが可能となる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１に記載の排気ガス浄化装置において、前記酸化触媒における下流側の端面と、該端面より後方の前記ケーシングの側壁との間に前記反転部を設け、前記還元剤供給室は、前記ケーシングの側壁より外部に形成し、前記ケーシングの側壁に前記連通路を形成したことを特徴とする。
【００１０】
請求項２記載の発明によれば、還元剤供給室はケーシングの側壁より外部に設けられているので、円筒状の還元剤供給室をケーシングとは別に作成し、ケーシングの側壁に連通路を形成すれば良い。よって、還元剤供給室の形状を任意に変更可能である。
【００１１】
請求項３記載の発明は、請求項１に記載の排気ガス浄化装置において、前記酸化触媒における下流側の端面と、該端面より後方の前記ケーシングの側壁との間に仕切り壁を設け、前記端面と前記仕切り壁間に前記反転部を形成すると共に、前記仕切り壁と前記側壁間に前記還元剤供給室を形成し、前記仕切り壁に前記連通路を形成したことを特徴とする。
【００１２】
請求項３記載の発明によれば、ケーシング内に仕切り壁を設けるだけで還元剤供給室を形成可能なので、部品点数及び製造工数を削減可能である。
【００１３】
請求項４記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の排気ガス浄化装置において、前記連通路は、前記酸化触媒の下流側の端面の中心側と対向する位置に設けられた第１連通路と、前記第１連通路より外周側に設けられた第２連通路とから構成されていることを特徴とする。
【００１４】
請求項４記載の発明によれば、中心側の第１連通路を通って還元剤供給室に流入した排気ガスは、還元剤供給室内で発生するスワール流によって還元剤と混合された後、外周側の第２連通路を通って反転部へと押し出され、還流通路へ流入される。従って、還元剤供給室への排気ガスの流入と流出とを別々の連通路を介して行うことができ、流入と流出とを１つの連通路を介して行う場合と比較して、還元剤を含む排気ガスをスムースに還流通路に導出することが可能である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、入れ子式の構成を有する排気ガス浄化装置において、酸化触媒の下流側の端面と対向する位置に還元剤供給室を設け、還元剤供給室内における円筒状の周壁の内周面に沿って供給された還元剤が流れるように還元剤供給手段を設置することにより、排気ガス中における還元剤の分散性を向上させ、ＮＯｘの浄化率の向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る排気ガス浄化装置の全体構成を示す縦断面図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】その他の実施形態に係る排気ガス浄化装置の全体構成を示す縦断面図である。
【図５】その他の実施形態に係る排気ガス浄化装置の全体構成を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（本発明の実施形態）
以下、本発明の実施形態に係る排気ガス浄化装置を図１〜図３に基づいて説明する。
図１に示すように、内燃機関としてのディーゼルエンジン（図示せず）から排出された排気ガスが流通する排気通路には、排気ガス中のＮＯｘなどの有害物質を除去するための排気ガス浄化装置１０が設けられている。
排気ガス浄化装置１０は、円筒状のケーシング１１と、ケーシング１１内の中央部に円筒状の支持部材１２内に嵌合された状態で配置された酸化触媒１３とを備え、ケーシング１１と酸化触媒１３とは、いわゆる入れ子式に配置されている。
【００１８】
ケーシング１１は、排気ガスが水平方向に流れるように横置きに配置されている。ケーシング１１は、円筒状の周壁１１Ａと前後両端に設けられた側壁１１Ｂ、１１Ｃとから構成され、金属製の材料から形成されている。なお、図１において、図面の左右方向が排気ガス浄化装置１０における前後方向に相当し、図面の上下方向が排気ガス浄化装置１０における上下方向に相当する。
支持部材１２は、口の狭い側が上流とされ、口の広い側が下流となるように配置され、口の広い側に酸化触媒１３が嵌合され、口の狭い側には排気ガスの流入口１４が形成されている。支持部材１２は、金属製の材料から形成されている。
ケーシング１１と支持部材１２とは、円筒状のケーシング１１と円筒状の支持部材１２とが同心状に配置されると共に、支持部材１２の流入口１４が側壁１１Ｂから上流側に突出するように配置されて、例えば、溶接などにより気密性を維持しつつ一体的に結合されている。また、ケーシング１１と支持部材１２との結合により酸化触媒１３がケーシング１１内にて周壁１１Ａとの間に間隔をおいて配置される。
【００１９】
酸化触媒１３としては、ハニカム形状をしたメタル担体を用いて、メタル担体に白金などの酸化触媒を担持させたものを使用している。酸化触媒１３は第１端面１３Ａと第２端面１３Ｂとを有し、それらの間に流体が貫流可能な多数の空洞が形成されている。この空洞によって排気ガスの往流通路１５が形成されている。また、図１において、第１端面１３Ａが上流側の端面に相当し、第２端面１３Ｂが下流側の端面に相当する。
酸化触媒１３は、排気ガス中に含まれる炭化水素（ＨＣ）を酸化させる作用と排気ガス中に含まれる一酸化窒素（ＮＯ）を酸化させる作用を有する。
【００２０】
ケーシング１１における周壁１１Ａの内周面と酸化触媒１３（支持部材１２）の外周面との間には、円筒状の環状通路１６が形成されている。環状通路１６は排気ガスの還流通路に相当し、往流通路１５の円周方向の外側に環状通路１６が形成されている。
図１に矢印で示すように、往流通路１５においては排気ガスは上流側より下流側に向かう方向（前方より後方に向かう方向）に流れ、環状通路１６においては排気ガスはほぼその逆方向に流れている。
【００２１】
酸化触媒１３における下流側の第２端面１３Ｂと第２端面１３Ｂより後方のケーシング１１の側壁１１Ｃとの間には、排気ガスの反転部１７が形成されている。反転部１７においては、ケーシング１１における側壁１１Ｃの外周が周壁１１Ａと断面円弧状となるように接続されている。
往流通路１５を流れる排気ガスは、第２端面１３Ｂを通って酸化触媒１３より流出し、反転部１７内に流入する。そして、側壁１１Ｃに衝突することにより流れ方向の反転が行われ、排気ガスはその後環状通路１６内に流入する。
【００２２】
酸化触媒１３における下流側の第２端面１３Ｂと対向する位置に反転部１７に接続する
円筒状の還元剤供給室１８が設けられている。還元剤供給室１８は、ケーシング１１の側壁１１Ｃより外部の下流側（後方側）に設けられている。還元剤供給室１８は、円筒状の周壁１８Ａと前後両端に設けられた側壁１８Ｂ、１８Ｃとから構成され、金属製の材料から形成されている。そして、側壁１８Ｂの中心部に形成された孔と側壁１１Ｃの中心部に形成された孔とを連結して管状の連通路１９が取り付けられ、連通路１９は、溶接などにより側壁１１Ｃと一体的に結合されている。なお、連通路１９は還元剤供給室１８と反転部１７とを連通する連通路に相当する。
【００２３】
還元剤供給室１８における周壁１８Ａには還元剤としてのＮＨ３ガスを供給するための噴射ノズル２０が設置されている。噴射ノズル２０は、供給管２１、電磁バルブ２２を介してＮＨ３タンク２３に連結されている。
図示しない制御装置からの制御信号に基づき、電磁バルブ２２が開くことにより、ＮＨ３タンク２３から噴射ノズル２０にＮＨ３ガスの供給が行われ、ＮＨ３の噴射が行われる。なお、噴射装置２４は、還元剤供給手段に相当し、噴射ノズル２０、供給管２１、電磁バルブ２２及びＮＨ３タンク２３などより構成されている。
【００２４】
図２に示すように、噴射ノズル２０は円筒状の周壁１８Ａの内周面に沿って噴射されたＮＨ３ガスが流れるように設置されている。すなわち、噴射ノズル２０はノズルの噴射方向が周壁１８Ａの内周面に沿うように配置されていることにより、噴射ノズル２０から噴射されたＮＨ３ガスは、周壁１８Ａの内周面に沿って図２における左回りに旋回する。連通路１９を通って還元剤供給室１８に流入した排気ガスは、この噴射ノズル２０から噴射されるＮＨ３ガスの噴射圧力を受けて、スワール流（渦巻き流）Ｓとなって還元剤供給室１８内を旋回する。このことにより、供給されたＮＨ３は排気ガス中に分散される。
スワール流Ｓを発生させるには、噴射ノズル２０の噴射方向は周壁１８Ａの内周面の接線方向が効果的であるが、周壁１８Ａの内周面に対しいずれかに傾斜していても可能である。
【００２５】
図１に示すように、環状通路１６の上流から下流方向（図１の前後方向）のほぼ中央部の周壁１１Ａには排気ガスの案内口２５が接続されており、環状通路１６を通る排気ガスは垂直方向に向きを変えて案内口２５に導入される。案内口２５には、円筒状のケーシング２６が結合されており、ケーシング２６は、排気ガスが垂直方向に流れるように縦置きに配置されている。ケーシング２６は、金属製の材料から形成されている。
ケーシング２６内には、ＳＣＲ触媒（選択還元触媒）２７が固定されている。ＳＣＲ触媒２７としては、ハニカム形状をしたメタル担体を用いて、メタル担体にＦｅゼオライトなどの還元触媒を担持させたものを使用している。ＳＣＲ触媒２７には、上下方向に流体が貫流可能な多数の空洞が形成されており、この空洞によって排気ガスの排出通路２８が形成されている。なお、ＳＣＲ触媒２７は案内口２５を介して環状通路１６の下流側に配置された還元触媒に相当する。ＳＣＲ触媒２７は、ＳＣＲ触媒２７に吸着されたＮＨ３によって排気ガス中に含まれるＮＯｘの選択還元を行う。
【００２６】
図３に示すように、反転部１７を通って環状通路１６に流入した排気ガスは、環状通路１６を左回り又は右回りに旋回しつつ案内口２５の方へ排出される。すなわち、環状通路１６に流入した排気ガスは、環状通路１６内を後方より前方に向かう方向に流れつつ、左回り又は右回りに旋回して流れ、案内口２５よりＳＣＲ触媒２７へと排出される。
また、環状通路１６を通る排気ガスの一部は、前方の側壁１１Ｂに当った後向きを変えて案内口２５へ排出される。
【００２７】
次に、上記構成を有する排気ガス浄化装置１０についてその作用説明を行う。
流入口１４から流入した排気ガスは、酸化触媒１３内の往流通路１５を通過し、途中で
排気ガス中に含まれる炭化水素及び一酸化窒素が酸化触媒１３によって酸化される。
酸化触媒１３内を通過した排気ガスは、反転部１７に流入し、反転部１７にて排気ガスの流れの方向が反転されるが、その一部はそのまま連通路１９を通って還元剤供給室１８に流入される。
【００２８】
還元剤供給室１８内に流入された排気ガスは、噴射ノズル２０から噴射されるＮＨ３ガスの噴射圧力を受けて、スワール流Ｓとなって還元剤供給室１８内を旋回する。このスワール流Ｓは縦方向に旋回するスワール流Ｓであって、スワール流Ｓの中心軸線が水平となっている。このスワール流Ｓによって供給されたＮＨ３は排気ガス中に広く分散される。
【００２９】
噴射ノズル２０からのＮＨ３の噴射は、制御装置が所定のタイミングで電磁バルブ２２を開くよう制御することにより行われるが、ＮＨ３の噴射が繰り返し行われることにより、還元剤供給室１８内における排気ガスの圧力が高まり、その一部は再び連通路１９を通って還元剤供給室１８から反転部１７へと押し出される。
【００３０】
還元剤供給室１８から押し出された排気ガスは、ＮＨ３を高密度に含むリッチ状態にあり、これをＮＨ３リッチ排気ガスとする。一方、酸化触媒１３通過後に反転部１７を通って直接環状通路１６に流入する排気ガスは、ＮＨ３をほとんど含まないリーン状態にあり、これをＮＨ３リーン排気ガスとする。
【００３１】
還元剤供給室１８から押し出されたＮＨ３リッチ排気ガスは、反転部１７を通って直接環状通路１６に流入するＮＨ３リーン排気ガスと合流し、環状通路１６に流入される。環状通路１６においては、排気ガスは環状通路１６内を後方より前方に向かう方向に流れつつ、左回り又は右回りに旋回して流れることにより、環状通路１６を通る排気ガスの経路が比較的長く形成され、この経路を通過する過程でＮＨ３リッチ排気ガスとＮＨ３リーン排気ガスとが混合されて、ＮＨ３が排気ガス中に広く分散される。
【００３２】
ＮＨ３が広く分散された排気ガスは、環状通路１６に接続された案内口２５を通って下流側のＳＣＲ触媒２７に流出される。排気ガス中に分散されているＮＨ３は、ＳＣＲ触媒２７に吸着されて排気ガス中に含まれるＮＯｘの選択還元が行われる。このＳＣＲ触媒２７へのＮＨ３の吸着は、ＮＨ３が排気ガス中に広く分散されていることにより、ムラが少なく比較的均一な吸着となる。従って、ＮＯｘの選択還元もムラが少なく比較的均一に行うことができ、ＮＯｘの浄化率の向上を図ることが可能となる。
【００３３】
この本発明の実施形態に係る排気ガス浄化装置１０によれば以下の効果を奏する。
（１）酸化触媒１３における下流側の第２端面１３Ｂと対向する位置に反転部１７に接続する円筒状の還元剤供給室１８を設けると共に、この還元剤供給室１８と反転部１７とを連通する連通路１９を形成し、還元剤供給室１８内における周壁１８Ａの内周面に沿って噴射されたＮＨ３が流れるように噴射ノズル２０が設置されている。よって、連通路１９を通って還元剤供給室１８に流入した排気ガスは、この噴射ノズル２０から噴射されるＮＨ３ガスの噴射圧力を受けて、スワール流Ｓとなって還元剤供給室１８内を旋回する。このスワール流Ｓによって供給されたＮＨ３は排気ガス中に広く分散される。このＮＨ３を広く分散させた排気ガスを環状通路１６を通って下流側のＳＣＲ触媒２７に送ることができるので、ＮＯｘの浄化率の向上を図ることが可能となる。
（２）ケーシング１１における周壁１１Ａの内周面と酸化触媒１３（支持部材１２）の外周面との間には、円筒状の環状通路１６が形成されており、環状通路１６と下流側に配置されたＳＣＲ触媒２７とは、案内口２５を介して接続されている。環状通路１６においては、排気ガスは環状通路１６内を後方より前方に向かう方向に流れつつ、左回り又は右回りに旋回して流れることにより、還元剤供給室１８から押し出されたＮＨ３リッチ排気ガスと反転部１７を通って直接環状通路１６に流入するＮＨ３リーン排気ガスとが混合されて、ＮＨ３が排気ガス中に広く再分散される。ＮＨ３が排気ガス中に広く分散されていることにより、ＳＣＲ触媒２７へのＮＨ３の吸着は、ムラが少なく比較的均一な吸着となる。従って、ＮＯｘの選択還元もムラが少なく比較的均一に行うことができ、ＮＯｘの浄化率の更なる向上を図ることが可能となる。
（３）噴射装置２４は、噴射ノズル２０、供給管２１、電磁バルブ２２及びＮＨ３タンク２３などより構成されており、電磁バルブ２２が開くよう制御されることにより、ＮＨ３タンク２３から噴射ノズル２０にＮＨ３ガスの供給が行われ、ＮＨ３の噴射が行われる。従って、ＮＨ３ガスを排気ガスに直接供給することができるので、尿素などを供給して分解されたＮＨ３を使用する従来技術と比較して、装置の簡略化を図れる。
（４）還元剤供給室１８はケーシング１１の側壁１１Ｃより外部に設けられ、連通路１９によって還元剤供給室１８と反転部１７とが連通されているので、還元剤供給室１８をケーシング１１とは別に作成し、還元剤供給室１８をケーシング１１の側壁１１Ｃに接続させればよく、還元剤供給室１８の形状を任意に変更可能である。
【００３４】
なお、本発明は、上記した実施形態に限定されるものではなく発明の趣旨の範囲内で種々の変更が可能であり、例えば、次のように変更しても良い。
○  本発明の実施形態では、還元剤供給室１８と反転部１７とは中心側に設けられた連通路１９により連通されているとして説明したが、図４に示すように、中心側の第１連通路３１に加えて、外周側に別の第２連通路３２を形成しても良い。この場合には、第１連通路３１を通って還元剤供給室１８に流入した排気ガスは、還元剤供給室１８内で発生するスワール流ＳによってＮＨ３と広く混合された後、遠心力によって第２連通路３２を通って反転部１７へと押し出され、環状通路１６へ流入される。従って、還元剤供給室１８への排気ガスの流入と流出とを別々の連通路を介して行うことができ、流入と流出とを１つの連通路を介して行う場合と比較して、ＮＨ３リッチ排気ガスをスムースに環状通路１６に導出することが可能である。
○  本発明の実施形態では、ケーシング１１の側壁１１Ｃより外部に還元剤供給室１８を設けるとして説明したが、図５に示すように、ケーシング４１内に仕切り壁４２を設け、還元剤供給室４３を形成しても良い。この場合には、仕切り壁４２の形成により、酸化触媒１３における下流側の第２端面１３Ｂと仕切り壁４２間に反転部４４が形成され、仕切り壁４２とケーシング４１の側壁４１Ｃ間に還元剤供給室４３が形成される。そして、仕切り壁４２の中心側には、反転部４４と還元剤供給室４３とを連通する連通路４５が形成されている。従って、ケーシング４１内に仕切り壁４２を設けるだけで還元剤供給室４３を形成可能なので、部品点数及び製造工数を削減可能である。
○  本発明の実施形態では、還元剤供給室１８で縦方向に旋回するスワール流Ｓが形成されるとして説明したが、ケーシング１１と還元剤供給室１８とを垂直方向に配置して、還元剤供給室１８で横方向に旋回するスワール流を発生させても良いし、ケーシング１１と還元剤供給室１８とを斜めに傾斜させても良い。
○  ＳＣＲ触媒２７の下流側に酸化触媒ＤＯＣを設け、排気ガス中に排出されるアンモニアの酸化を行っても良い。また、酸化触媒１３の下流側に排気ガス中に含まれる粒子状物質を捕集するためのＤＰＦ（ディーゼルパティキュレートフィルタ）を配置しても良い。
【符号の説明】
【００３５】
１０  排気ガス浄化装置
１１  ケーシング
１１Ａ  周壁
１１Ｃ  側壁
１３  酸化触媒
１３Ｂ  第２端面
１４  流入口
１５  往流通路
１６  環状通路
１７  反転部
１８  還元剤供給室
１９  連通路
２４  噴射装置
２５  案内口
２７  ＳＣＲ触媒
Ｓ  スワール流
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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