(57)【要約】【課題】シールド用の導電膜と遮光膜との間の短絡を抑制した横電界方式の液晶表示装置を提供すること。【解決手段】他方の基板２６の液晶３２と接する側に金属製の遮光膜２８が形成され、液晶３２と接する面と反対側の面には導電膜３１が形成され、前記遮光膜２８は、一方の基板１１に配設されている共通配線１４と導電性部材３６で接続され、導電膜３１は接続体３８でグラウンド電位と接続されている横電界方式の液晶表示装置１０において、他方の基板２６に形成された遮光膜２８は、接続体３８が形成される辺側の一部に平面視で接続体３８より幅広な切り欠き部２８ａが接続体３８の形成される位置に対応して設けられ、遮光膜２８の切り欠き部２８ａに沿って、遮光膜２８より厚さが厚い絶縁性樹脂からなる突起３０ａが形成されている。【選択図】図１
2011022182.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板の周縁部がシール材で張り合わされ、前記一対の基板間に液晶が封入され、
前記一対の基板の一方には第１電極と第２電極とが形成され、
前記第１電極と前記第２電極との間に生じる電界によって前記液晶が駆動される横電界
方式の液晶表示装置であって、
前記一対の基板の他方には、前記液晶と接する側の面には金属材料で形成された遮光膜
が形成され、前記液晶と接する面と反対側の面には導電性材料で形成された導電膜が形成
され、
前記他方の基板に形成された前記遮光膜は、前記一方の基板に配設されている共通配線
と導電性部材によって電気的に接続されており、
前記導電膜は導電性材料からなる接続体によってグラウンド電位と接続されている液晶
表示装置において、
前記他方の基板に形成された前記遮光膜は、前記接続体が形成される辺側の一部に平面
視で前記接続体より幅広な切り欠き部が前記接続体の形成される位置に対応して設けられ
、
前記遮光膜の前記切り欠き部に沿って、前記遮光膜より厚さが厚い絶縁性樹脂からなる
突起が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記遮光膜に形成された切り欠き部及び前記突起は、前記接続体が形成される辺側と、
前記辺側に対して垂直な方向とに連続して形成されていることを特徴とする請求項１に記
載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記切り欠き部は、前記他方の基板の接続体が形成される辺側と、前記辺側の両側の辺
の外周に沿って形成されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記他方の基板には、オーバーコート層及び柱状スペーサーが形成されており、
前記突起は、前記オーバーコート層又は前記柱状スペーサーと同じ材料及び同じ製造工
程で形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記突起は、前記オーバーコート層及び前記柱状スペーサーと同じ材料で形成された各
層が積層されて形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記一対の基板の一方には、前記一対の基板の他方よりも延在された延在部が形成され
、前記延在部には前記グラウンド電位と接続するための導電パッドが形成されていること
を特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記導電パッドは前記導電膜と前記接続体によって接続されていることを特徴とする請
求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記一対の基板の一方には、前記一対の基板の他方よりも延在された延在部が形成され
、前記延在部には前記グラウンド電位と接続するための導電パッドが形成されており、
前記導電パッドと前記導電膜とが前記接続体によって接続されていることを特徴とする
請求項１〜７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記接続体は、導電性ペーストであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載
の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、横電界方式の液晶表示装置に関する。詳しくは、本発明は、導電性材料から
なる静電シールドとしての導電膜と金属材料からなる遮光膜間の短絡故障の発生を抑制し
た横電界方式の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
横電界方式の液晶表示装置は、液晶層を挟んで配置される一対の基板、例えばアレイ基
板とカラーフィルター基板のうちのアレイ基板の内面側に一対の電極が互いに絶縁して設
けられており、概ね横方向の電界を液晶分子に対して印加するものである。この横電界方
式の液晶表示装置としては、一対の電極が平面視で重ならないＩＰＳ（In-Plane Switchi
ng）モードのものと、重なるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードのものとが知られ
ており、広い視野角を得ることができるという効果があるので、近年多く用いられるよう
になってきている。
【０００３】
しかし、横電界方式の液晶表示装置は、一対の基板の内の一方の基板にのみ液晶を駆動
するための一対の電極を備えており、他方の基板には電極を備えていない。そのため、他
方の基板側から静電気等に起因する電界が印加された場合、この電界は直接液晶に対して
作用するため、表示の異常が発生してしまうという課題がある。
【０００４】
そこで、このような課題を解決するために、従来から横電界方式の液晶表示装置には、
カラーフィルター基板に静電気等に対するシールド機能を有する導電性材料で形成された
導電層や導電膜を設けることが行われている。
【０００５】
例えば、下記特許文献１には、確実かつ容易に静電気対策が可能な液晶表示装置が開示
されている。すなわち、下記特許文献１に開示された液晶表示装置５０によれば、図８に
示したように、シールド膜５２が、外付けされた接続体５３と第一および第二電極を有す
る基板５４と対向する基板５１の実装部の配線５６とを介して所定電位に接続されている
。このような実装部の配線５６と外付けの接続体５３との利用によって、所定電位への接
続によって静電気対策の確実化を図ることが容易に可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−０９６４７５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述のように、横電界方式の液晶表示装置では、カラーフィルター基板の表示面側には
、静電気等に対しシールド機能を有する導電膜が形成されている。そして、導電膜には、
この導電膜に帯電した静電気を放電するために、外部のグラウンド（ＧＮＤ）電位と導電
性材料からなる接続体によって電気的に接続されている。
【０００８】
一方、遮光膜は、樹脂材料もしくは金属材料で形成されているが、樹脂材料で遮光膜を
形成すると、高い遮光性を得るためには樹脂膜を厚く形成する必要があり、液晶表示装置
の薄型化が困難となる。そのため、液晶表示装置の薄型化に対処するためには、遮光性が
高い金属材料で形成された遮光膜を用いることとなる。しかし、横電界方式の液晶表示装
置においては、金属材料で遮光膜を形成して電気的にフローティング状態とすると、遮光
膜に静電気が帯電してしまい、表示画質に不具合が発生するおそれがある。この不具合を
解消するために、金属性の遮光膜は、帯電している静電気を共通配線に流して共通配線と
同電位とするため、導電性部材からなる例えばトランスファ電極により共通配線と電気的
に接続されている。なお、縦電界方式の液晶表示装置では、遮光膜と液晶との間に対向電
極が形成されているので、このような不都合は生じない。
【０００９】
しかし、カラーフィルター基板の導電膜と外部のＧＮＤ電位とを接続体を用いて接続し
た場合、カラーフィルター基板に形成されている遮光膜を金属材料で形成すると、この遮
光膜に電気的に接続されている共通配線と導電膜との間で短絡故障が発生するおそれがあ
る。
【００１０】
なお、上記特許文献１に開示されている液晶表示装置５０では、接続体５３は、対向基
板５１のシールド膜５２上に配置されて当該シールド膜５２に接続され、対向基板５１の
端面を伝って素子基板５４上へ至り、導通部５５上へ延在して当該導通部５５に接続され
、当該導通部５５を介して配線５６に接続されている。そのため、対向基板５１の端面に
金属で構成された遮光膜が形成されていた場合に、この遮光膜と対向基板５１の端面を伝
っている接続体５３とが接してしまう可能性が大きくなり、シールド膜と遮光膜との間に
短絡故障が発生し易くなってしまう。
【００１１】
本発明者らは、上記のような従来技術の問題点を解決すべく種々検討を重ねた結果、導
電膜とＧＮＤ電位とを電気的に接続させる接続体が遮光膜と接することを抑制すれば上述
したような課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。すな
わち、本発明の目的は、導電膜と外部の基板等を配線等で接続しても、導電膜と共通配線
間で短絡することを抑制することが可能な横電界方式の液晶表示装置を提供することにあ
る。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、
一対の基板の周縁部がシール材で張り合わされ、前記一対の基板間に液晶が封入され、
前記一対の基板の一方には第１電極と第２電極とが形成され、
前記第１電極と前記第２電極との間に生じる電界によって前記液晶が駆動される横電界
方式の液晶表示装置であって、
前記一対の基板の他方には、前記液晶と接する側の面には金属材料で形成された遮光膜
が形成され、前記液晶と接する面と反対側の面には導電性材料で形成された導電膜が形成
され、
前記他方の基板に形成された前記遮光膜は、前記一方の基板に配設されている共通配線
と導電性部材によって電気的に接続されており、
前記導電膜は導電性材料からなる接続体によってグラウンド電位と接続されている液晶
表示装置において、
前記他方の基板に形成された前記遮光膜は、前記接続体が形成される辺側の一部に平面
視で前記接続体より幅広な切り欠き部が前記接続体の形成される位置に対応して設けられ
、
前記遮光膜の前記切り欠き部に沿って、前記遮光膜より厚さが厚い絶縁性樹脂からなる
突起が形成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の液晶表示装置では、一対の基板の他方、例えばカラーフィルター基板に形成さ
れる接続体が形成された辺側には、前記接続体より幅広な絶縁性樹脂からなる突起か形成
されている。このような構成とすると、接続体が形成される位置の遮光膜と接続体との間
に形成された突起により、接続体が突起を越えて遮光膜側に進入し難くなり、接続体と遮
光膜とが電気的に接触することが抑制される。そのため、本発明の液晶表示装置によれば
、遮光膜に電気的に接続されている共通配線と導電膜との間に生じる短絡を抑制すること
ができるようになる。
【００１４】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記遮光膜に形成された切り欠き部及び前記
突起は、前記接続体が形成される辺側と、前記辺側に対して垂直な方向とに連続して形成
されていることが好ましい。
【００１５】
本発明の液晶表示装置では、突起は、接続体が形成された辺側とこの辺側に対して垂直
な方向にも突起が連続して形成されている。このような構成とすることで、液晶表示装置
における接続体が配置される辺に隣接する側面側においても接続体と遮光膜とが電気的に
接触することが抑制されるため、より遮光膜に電気的に接続されている共通配線と導電膜
との間に生じる短絡を抑制することができるようになる。加えて、接続体が形成されると
きに突起に高い応力がかかったとしても、垂直に形成された突起が存在していることによ
り、接続体と接する突起にかかる応力を分散させることができる。そのため、本発明の液
晶表示装置によれば、接続体の形成時に突起が破壊されることを抑制でき、より接続体と
遮光膜とが電気的に接触することを抑制することができる。
【００１６】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記切り欠き部は、前記他方の基板の接続体
が形成される辺側と、前記辺側の両側の辺の外周に沿って形成されていることが好ましい
。
【００１７】
本発明の液晶表示装置によれば、突起はカラーフィルター基板の角部に形成されている
ので、遮光膜が切り欠かれても、遮光にはそれほど影響がでないため、コントラストが良
好な液晶表示装置が得られる。
【００１８】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記他方の基板には、オーバーコート層及び
柱状スペーサーが形成されており、
前記突起は、前記オーバーコート層又は前記柱状スペーサーと同じ材料及び同じ製造工
程で形成されていることが好ましい。
【００１９】
本発明の液晶表示装置では、突起をカラーフィルター基板の製造工程に用いられるオー
バーコート層又は柱状スペーサーと同じ材料及び同じ工程によって形成することができる
。従って、本発明の液晶表示装置によれば、特別な製造工程を設ける必要がなく突起を形
成することができる。
【００２０】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記突起は、前記オーバーコート層及び前記
柱状スペーサーと同じ材料で形成された各層が積層されて形成されていることが好ましい
。
【００２１】
本発明の液晶表示装置では、突起をカラーフィルター基板の製造工程に用いられるオー
バーコート層及び柱状スペーサーと同じ材料で形成された各層を積層することで形成して
いる。そのため、本発明の液晶表示装置によれば、突起をオーバーコート層及び柱状スペ
ーサーと同じ材料を積層することで形成することにより各層の形成が短時間で済み、液晶
表示装置の製造を効率よくすることができる。さらに、オーバーコート層も柱状スペーサ
ーと同じ材料で形成される各層も従来の製造工程において同時に形成することができるの
で、特別な製造工程を設ける必要はない。
【００２２】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記一対の基板の一方には、前記一対の基板
の他方よりも延在された延在部が形成され、前記延在部には前記グラウンド電位と接続す
るための導電パッドが形成されていることが好ましい。
【００２３】
本発明の液晶表示装置では、アレイ基板の延在部、いわゆる実装領域にＧＮＤ電位に電
気的に接続するための導電パッドが備えられている。導電パッドは、ある程度の大きさを
持って形成することができるので、外部のＧＮＤ電位と導電パッドとを容易に電気的に接
続することができる。よって、本発明の液晶表示装置によれば、導電パッドを介して、外
部のＧＮＤ電位と容易に且つ確実に接続することができるので、信頼性の高い液晶表示装
置を提供することができる。
【００２４】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記導電パッドは前記導電膜と前記接続体に
よって接続されていることが好ましい。
【００２５】
本発明の液晶表示装置では、一対の基板の一方にＧＮＤ電位に電気的に接続するための
導電パッドが形成されている、導電パッドは、ある程度の大きさを以て形成することがで
きるため、導電パッドとＧＮＤ電位との間の電気的な接続を容易に行うことができる。よ
って、本発明の液晶表示装置によれば、導電パッドを介してＧＮＤ電位との間を容易に且
つ確実に接続することができるので、信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる
。
【００２６】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記一対の基板の一方には、前記一対の基板
の他方よりも延在された延在部が形成され、前記延在部には前記グラウンド電位と接続す
るための導電パッドが形成されており、
前記導電パッドと前記導電膜とが前記接続体によって接続されていることが好ましい。
【００２７】
本発明の液晶表示装置では、導電パッドは、ある程度の大きさを持って形成することが
できるので、接続体をこの導電パッドに容易に電気的に接続することができる。よって、
本発明の液晶表示装置によれば、導電パッドを介して、接続体及びＧＮＤ電位を容易にか
つ確実に接続することができ、信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。
【００２８】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記接続体は、導電性ペーストであることが
好ましい。
【００２９】
本発明の液晶表示装置によれば、接続体に導電性ペーストを用いることにより、導電膜
とＧＮＤ電位及び導電パッドとの電気的な接続を容易に行うことができる。また、導電性
ペーストは、硬化前はやわらかく、隙間にも侵入しやすいが、本発明の液晶表示装置によ
れば、導電性ペーストが塗布される箇所には突起が形成されているため、導電性ペースト
が遮光膜に接することを抑制でき、導電性ペーストと遮光膜とが短絡することを抑制する
ことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】実施形態1の液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１の表示領域内の１画素分の拡大平面図である。
【図３】図２のIII−III線に沿った拡大断面図である。
【図４】実施形態1の液晶表示装置のカラーフィルター基板を透過し遮光膜を示した平面図である。
【図５】図５Ａは図１のVA−VA線での概略断面図であり、図５Ｂは図１のVB−VB線での概略断面図である。
【図６】図６Ａはカラーフィルター基板に形成された遮光膜の一部に切り欠き部が形成された状態を示した斜視図であり、図６Ｂは図６Ａの切り欠き部に突起を形成した状態を示した図である。
【図７】図７Ａは実施形態２の液晶表示装置の図５Ｂに対応する断面図であり、図７Ｂは図６Ｂに対応する斜視図である。
【図８】従来例の液晶表示装置の断面図である。
【図９】図９Ａは従来例を示す図４に対応する平面図であり、図９Ｂは図９ＡにIXB−IXB線での図５Ｂに対応する概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明を実施するための形態を図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、以
下に示す各実施形態は、本発明の技術思想を具体化するためにＦＦＳモードの液晶表示装
置を例にとって説明するものであって、本発明をこの実施形態に記載されたＦＦＳモード
の液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲に含ま
れるその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。なお、この明細書におけ
る説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の
大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸
法に比例して表示されているものではない。
【００３２】
また、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線が形
成された面ないしは液晶と対向する側の面を示すものとし、「裏面」とは表示面側（カラ
ーフィルター基板の場合）ないしバックライト側（アレイ基板の場合）の面を示すものと
する。また、本発明における横電界方式の液晶表示装置は、液晶注入法を用いて製造され
たものにも適用可能であるが、以下においては液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤ
Ｆ」という）法を用いて製造されたものを例として説明する。さらに、液晶表示装置はマ
ザー基板を用いて作製されるが、以下においては、説明の便宜上、１個のＦＦＳモードの
液晶表示装置を代表して説明する。
［実施形態１］
【００３３】
本発明の実施形態１のＦＦＳモードの液晶表示装置１０を図１〜図４を参照して説明す
る。本実施形態に係る液晶表示装置１０は、図１に示すように、アレイ基板１１及びカラ
ーフィルター基板２６と、両基板１１、２６を貼り合わせるシール材３３とを備え、アレ
イ基板１１、カラーフィルター基板２６及びシール材３３により囲まれた領域に液晶３２
が封入された、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）型の液晶表示装置である。この液晶表
示装置１０においては、シール材３３により囲まれた内側の領域に表示領域３４が形成さ
れており、この表示領域３４の周囲に設けられる画像が認識されない領域が液晶表示装置
１０の非表示領域３５となる。また、実施形態１にかかる液晶表示装置１０はＯＤＦ法で
製造されたものであるため、液晶注入口は形成されていない。そして、カラーフィルター
基板２６の裏面には静電シールドとしてのＩＴＯ（Indium Thin Oxide）又はＩＺＯ（Ind
ium Zink Oxide）等からなる導電膜３１（図３参照）が成膜されている。
【００３４】
アレイ基板１１は、ガラス等で形成された矩形状の第１の透明基板１２の表面に液晶駆
動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板１１はカラーフィルター基板
２６よりもその長手方向の長さが長く、両基板１１、２６を貼り合わせた際に外部に延在
する延在部１２ａが形成されるようになっており、この延在部１２ａには駆動信号を出力
するＩＣチップあるいはＬＳＩ等からなるドライバーＩＣ４０や導電パッド３７等が設け
られている。また、このドライバーＩＣ４０からは、更に共通配線１４が延在している。
さらに、この導電パッド３７は、外部基板を通じてＧＮＤ電位４１と電気的に接続されて
いる（図５Ｂ参照）。なお、本実施形態１では、外部基板の一例としてＦＰＣ（Flexible
Printed Circuit）３９を用いている。
【００３５】
アレイ基板１１の表示領域３４内には、図２及び図３に示すように、複数本の走査線１
３及び信号線１７に加えて、複数本の走査線１３間にこの走査線１３と平行な複数本のコ
モン配線１４ａが設けられている。また、これらの走査線１３、コモン配線１４ａ及び露
出している透明基板１２を覆うように酸化ケイ素又は窒化ケイ素等の無機絶縁材料からな
るゲート絶縁膜１５が設けられている。そして、ソース電極Ｓ、ゲート電極Ｇ、ドレイン
電極Ｄ、及び半導体層１６からなるスイッチング素子としての薄膜トランジスターＴＦＴ
（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）が走査線１３及び信号線１７の交差部近傍に形成され
ている。
【００３６】
さらに、これらを覆うように表面の安定化のための酸化ケイ素又は窒化ケイ素等の無機
絶縁材料からなるパッシベーション膜１８が成膜され、さらに、アレイ基板１１の表面を
平坦化するための有機絶縁材料からなる層間膜１９が成膜されている。
【００３７】
次いで、フォトリソグラフィー法及びエッチング法により、コモン配線１４ａ上のゲー
ト絶縁膜１５及びパッシベーション膜１８を貫通するように第１のコンタクトホール２０
が形成される。この第１のコンタクトホール２０の形成には、乾式エッチング法の１種で
あるプラズマエッチング法や緩衝フッ酸による湿式エッチング法を採用し得る。これによ
り、コモン配線１４ａが露出される。
【００３８】
次いで、層間膜１９が形成された透明基板１２の表面全体に亘って例えばＩＴＯやＩＺ
Ｏからなる透明導電性層が被覆され、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によって
、それぞれの画素毎に層間膜１９の表面に下電極２１が形成される。このとき、それぞれ
の画素毎の下電極２１は第１のコンタクトホール２０を介してコモン配線１４ａと電気的
に接続される。従って、この下電極２１は共通電極として作動する。
【００３９】
更に、下電極２１が形成された第1の透明基板１２の表面全体に亘って窒化ケイ素層な
いし酸化ケイ素層からなる絶縁膜２２が形成される。このとき、ドレイン電極Ｄ上のコン
タクトホール形成予定部分の層間膜１９の表面も絶縁膜２２によって被覆される。次いで
、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によって、ドレイン電極Ｄ上のコンタクトホ
ール形成予定部分の層間膜１９及び絶縁膜２２に対して第２のコンタクトホール２３が形
成される。
【００４０】
更に、絶縁膜２２が形成された第１の透明基板１２の表面全体に亘って例えばＩＴＯや
ＩＺＯからなる透明導電性層が被覆され、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によ
って、それぞれの画素毎に絶縁膜２２の表面に複数のスリット２４が形成された上電極２
５が形成される。この上電極２５は、第２のコンタクトホール２３において薄膜トランジ
スターＴＦＴのドレイン電極Ｄが電気的に接続されており、画素電極として作動する。こ
の後、表示領域３４の上電極２５を含む表面全体に配向膜（図示省略）が設けられること
により実施形態１の液晶表示装置１０のアレイ基板１１となる。なお、複数本の走査線１
３及び信号線１７により囲まれた領域が１サブ画素領域ＰＡとなる。
【００４１】
また、カラーフィルター基板２６は、ガラス等からなる第２の透明基板２７の表面に、
アレイ基板１１の走査線１３、信号線１７及び薄膜トランジスターＴＦＴに対応する位置
、並びに非表示領域３５を被覆するように金属材料からなる遮光膜２８が形成される。
【００４２】
更に、表示領域３４内の遮光膜２８で囲まれた第２の透明基板２７の表面には、所定の
色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等のカラーフィルター層２９が形成され、また
、遮光膜２８及びカラーフィルター層２９の表面が被覆されるようにオーバーコート層３
０が形成されている。このオーバーコート層３０は絶縁性の透明な樹脂膜からなるもので
あり、カラーフィルター基板２６の表面をできるだけ平坦にするとともに、カラーフィル
ター層２９から不純物が液晶３２内に拡散しないようにするために設けられているもので
ある。
【００４３】
なお、本実施形態１の液晶表示装置１０では、図４〜図６に示すように、導電性ペース
ト３８が形成された辺側の遮光膜２８の一部に、平面視で導電性ペースト３８より幅広な
切り欠き部２８ａが導電性ペースト３８の形成される位置と導電性ペースト３８が形成さ
れる辺側に対して垂直な方向とに連続して設けられている（図６Ａ参照）。そして、この
遮光膜の切り欠き部２８ａに沿って、遮光膜２８より厚さが厚い突起３０ａがオーバーコ
ート層３０と同じ材料で形成されている（図６Ｂ参照）。なお、この突起については後述
する。
【００４４】
そして、オーバーコート層３０表面には配向膜（図示省略）が形成される。一方、透明
基板２７の裏側には導電シールドとしての導電膜３１がスパッタリング等で成膜されて、
本実施形態１のカラーフィルター基板２６となる。
【００４５】
なお、本実施形態１の液晶表示装置１０では、導電膜３１と上述したアレイ基板１１の
延在部１２ａに形成された導電パッド３７とが、導電性材料からなる導電性ペースト３８
で電気的に接続されている。
【００４６】
また、液晶表示装置１０の延在部１２ａと反対側の辺の両側のシール材３３の角部付近
には、カラーフィルター基板２６の遮光膜２８とアレイ基板１１の共通配線１４を電気的
に接続する導電性部材、例えばトランスファ電極３６が形成されている（図１、図５Ａ参
照）。
【００４７】
そして、上述したアレイ基板１１及びカラーフィルター基板２６は、例えばアレイ基板
１１の表示領域３４に液晶３２が滴下され、カラーフィルター基板２６の非表示領域３５
には紫外光により硬化できる樹脂等で形成されたシール材３３が塗布され、両基板１１、
２６が張り合わされる。その後、シール材３３に紫外光を照射しシール材３３を硬化させ
、アレイ基板１１の延在部１２ａにドライバー４０や導電パッド３７等を設置し、導電性
ペースト３８を塗布して本実施形態１にかかる液晶表示装置１０が完成する。なお、カラ
ーフィルター基板２６とアレイ基板１１の間には、両基板のセルギャップを一定に保つた
めの柱状スペーサー４２（図３参照）が形成されている。
【００４８】
次に、図５及び図９を参照して、本実施形態１の液晶表示装置１０と、従来の横電界方
式の液晶表示装置１０'に対して導電性ペーストによって導電膜を導電パッドに電気的に
接続した場合とを対比して説明する。なお、従来の横電界方式の液晶表示装置１０'につ
いては、実施形態１の液晶表示装置１０と共通する構成には同一の符号を参照し、その詳
細な説明は省略する。
【００４９】
図５Ａに示すように、本実施形態１の液晶表示装置１０は、カラーフィルター基板２６
の遮光膜２８とアレイ基板１１の共通配線１４がトランスファ電極３６により電気的に接
続され、同電位となっている。これは、従来の横電界方式の液晶表示装置１０'も同様で
ある。
【００５０】
ここで、図９Ａに示す従来の横電界方式の液晶表示装置１０'では、図９Ｂに示すよう
に導電性ペースト３８を塗布したときに、導電性ペースト３８が遮光膜２８'と接触して
しまう可能性がある。この場合、遮光膜２８'は共通配線１４と同電位とされているため
、導電性ペースト３８で電気的に接続されている導電膜３１との間で短絡故障が発生する
こととなる。
【００５１】
しかし、本実施形態１の液晶表示装置１０によれば、上述したように、導電性ペースト
３８が形成された辺側のカラーフィルター基板２６に形成された遮光膜２８は、遮光膜２
８の一部に平面視で導電性ペースト３８より幅広な切り欠き部２８ａが導電性ペースト３
８の形成される位置と導電性ペースト３８が形成される辺側に対して垂直な方向とに連続
して設けられている（図６Ａ参照）。さらに、この遮光膜の切り欠き部２８ａに沿って、
遮光膜２８より厚さが厚い突起３０ａがオーバーコート層３０と同じ材料で形成されてい
る（図６Ｂ参照）。
【００５２】
そのため、図５Ｂに示すように、導電性ペースト３８を塗布した際、導電性ペースト３
８が形成される位置の遮光膜２８と導電性ペースト３８との間に形成された突起３０ａに
より、導電性ペースト３８が突起３０ａを越えて遮光膜２８側に進入し難くなり、導電性
ペースト３８と遮光膜２８とが電気的に接触することが抑制される。従って、実施形態１
の液晶表示装置１０によれば、遮光膜２８に電気的に接続されている共通配線１４と導電
膜３１との間に生じる短絡を抑制することができるようになる。
【００５３】
なお、突起３０ａは、導電性ペースト３８が塗布された辺側とこの辺側に対して垂直な
方向にも連続して形成されている（図６Ｂ参照）。このような構成とすることで、導電性
ペースト３８を塗布した際に突起３０ａが形成されている辺に対して垂直な辺側からも導
電性ペースト３８が突起３０ａを越えて遮光膜２８を電気的に接触することが抑制される
。しかも、導電性ペースト３８を塗布するときに突起３０ａに高い応力がかかったとして
も、垂直に形成された突起が存在していることにより、導電性ペースト３８と接する突起
にかかる応力を分散させることができる。そのため、実施形態１の液晶表示装置１０によ
れば、導電性ペースト３８の形成時に突起３０ａが破壊されることを抑制でき、より導電
性ペースト３８と遮光膜２８とが電気的に接触することを抑制することができる
【００５４】
また、突起３０ａをオーバーコート層３０と同じ材料で形成することで、特別な製造工
程を設ける必要がなく突起を形成することができる。
【００５５】
なお、本実施形態１では、突起はオーバーコート層と同じ材料で形成した例を示したが
、これに限らず、柱状スペーサーと同じ材料で突起を形成してもよい。この場合でも、上
記と同様の効果を奏することができる。
[実施形態２]
【００５６】
実施形態１の液晶表示装置１０では、突起はオーバーコート層又は柱状スペーサーと同
じ材料で形成された例を示したが、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、突起をオーバ
ーコート層及び柱状スペーサーと同じ材料を積層して形成した例を説明する。なお、実施
形態２の液晶表示装置１０Ａでは、実施形態１の液晶表示装置１０とは突起の構成が異な
るのみなので、実施形態１の液晶表示装置１０と共通する構成には同一の符号を参照し、
詳細な説明は省略する。
【００５７】
本実施形態２の液晶表示装置１０Ａによれば、上記実施形態１で述べたように、導電性
ペースト３８が形成された辺側のカラーフィルター基板２６に形成された遮光膜２８は、
遮光膜２８の一部に平面視で導電性ペースト３８より幅広な切り欠き部２８ａが導電性ペ
ースト３８の形成される位置と導電性ペースト３８が形成される辺側に対して垂直な方向
とに連続して設けられている（図６Ａ参照）。そして、本実施形態２の液晶表示装置１０
Ａでは、図７Ａに示すように、この遮光膜の切り欠き部２８ａに沿って、遮光膜２８より
厚さが厚い突起４３がオーバーコート層３０及び柱状スペーサー４２と同じ材料で積層さ
れて形成されている。
【００５８】
すなわち、図７Ａに示すように、まずオーバーコート層３０と同じ材料でオーバーコー
ト層３０を形成する工程と同時に突起３０ｂを形成し、その後、柱状スペーサー４２と同
じ材料で柱状スペーサー４２を形成する工程と同時に突起４２ａを形成して、突起４３を
積層して形成されている。
【００５９】
このような構造とすることにより、本発明の実施形態２に係る液晶表示装置１０Ａによ
れば、上記実施形態１と同様に、図７Ｂに示すように、導電性ペースト３８を塗布した際
、導電性ペースト３８が形成される位置の遮光膜２８と導電性ペースト３８との間に形成
された突起４３により、導電性ペースト３８が突起４３を越えて遮光膜２８側に進入し難
くなり、導電性ペースト３８と遮光膜２８とが電気的に接触することが抑制される。
【００６０】
さらに突起４３をオーバーコート層３０及び柱状スペーサー４２と同じ材料を積層する
ことで形成することにより各層の形成が短時間で済み、液晶表示装置の製造を効率よくす
ることができる。さらに、突起４３は、オーバーコート層３０及び柱状スペーサー４２と
同じ材料で形成されるため、各層の形成も従来の製造工程において同時に形成することが
できるので、特別な製造工程を設ける必要がなくなる。
【００６１】
なお、上記実施形態１、２では、接続体として導電性ペーストを用いた場合を説明した
が、この接続体は、これに限られず、導電性であればよい。
【符号の説明】
【００６２】
１０、１０'、１０Ａ：液晶表示装置  １１：アレイ基板  １２：透明基板  １２ａ：延
在部  １３：走査線  １４：共通配線  １４ａ：コモン配線  １５：ゲート絶縁膜  １６
：半導体層  １７：信号線  １８：パッシベーション膜  １９：層間膜  ２０：コンタク
トホール  ２１：下電極  ２２：絶縁膜  ２３：コンタクトホール  ２４：スリット  ２
５：上電極  ２６：カラーフィルター基板  ２７：透明基板  ２８、２８'：遮光膜  ２
８ａ：切り欠き部  ２９：カラーフィルター層  ３０：オーバーコート層  ３０ａ：突起
３０ｂ：突起  ３１：導電膜  ３２：液晶  ３３：シール材  ３４：表示領域  ３５：
非表示領域  ３６、３６'：トランスファ電極  ３７：導電パッド  ３８：導電性ペース
ト  ４０：ドライバー  ４１：グラウンド（ＧＮＤ）電位  ４２：柱状スペーサー  ４２
ａ：突起  ４３：突起  Ｄ：ドレイン電極  Ｇ：ゲート電極  Ｓ：ソース電極  ＰＡ：サ
ブ画素領域  ＴＦＴ：薄膜トランジスター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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