(57)【要約】【課題】測定装置を複雑化又は大型化することなく、結像光学系の光学特性の測定結果の経時変化等に起因する測定誤差を高精度に求める。【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差を測定する方法において、投影光学系ＰＬの像面の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において投影光学系ＰＬの波面収差を測定する工程と、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）のうち少なくとも一部の測定点において投影光学系ＰＬの波面収差をさらに少なくとも１回測定する工程と、それらの波面収差の測定結果に基づいて投影光学系ＰＬの波面収差の経時変化に起因する測定誤差を求める工程と、を含む。【選択図】図２
2011029431.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結像光学系の光学特性を測定する方法において、
前記結像光学系の物体面または像面の複数の測定点において前記結像光学系の第１組の光学特性を測定する工程と、
前記複数の測定点のうち少なくとも一部の測定点において前記結像光学系の第２組の光学特性を少なくとも１回測定する工程と、
前記第１組及び第２組の光学特性に基づいて前記結像光学系の光学特性の測定誤差を求める工程と、
を含むことを特徴とする光学特性測定方法。
【請求項２】
前記光学特性の測定誤差は、前記光学特性の経時的な変化を含み、
前記光学特性の測定誤差を用いて、前記第１組及び第２組の光学特性から求められる前記結像光学系の光学特性を補正する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学特性測定方法。
【請求項３】
前記光学特性の測定誤差を求める工程は、前記光学特性をツェルニケ関数を用いて表すことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学特性測定方法。
【請求項４】
前記光学特性の測定誤差を求める工程は、前記光学特性を、前記結像光学系の瞳面上の座標と、前記結像光学系の物体面上または像面上の座標との関数を用いて表すことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光学特性測定方法。
【請求項５】
前記第１組の光学特性を測定するときの前記複数の測定点の測定順序と、前記第２組の光学特性を測定するときの前記複数の測定点の測定順序とは同じであることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光学特性測定方法。
【請求項６】
前記第１組の光学特性を測定するときの前記複数の測定点の測定順序と、前記第２組の光学特性を測定するときの前記複数の測定点の測定順序とは異なることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光学特性測定方法。
【請求項７】
前記光学特性の測定誤差は、前記光学特性の経時的な変化を含み、
前記結像光学系の光学特性の測定誤差を求める工程は、前記光学特性の経時的な変化を時間に関する関数で表し、
前記時間に関する関数を用いて、前記複数の測定点で任意の時間に測定される前記結像光学系の光学特性を求めることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の光学特性測定方法。
【請求項８】
結像光学系の光学特性を測定する装置において、
前記結像光学系の物体面または像面の複数の測定点において前記結像光学系の光学特性を測定する特性測定系と、
前記複数の測定点において測定される前記結像光学系の第１組の光学特性と、前記複数の測定点のうち少なくとも一部の測定点において少なくとも１回測定される前記結像光学系の第２組の光学特性とに基づいて前記結像光学系の光学特性の測定誤差を求める演算装置と、
を備えることを特徴とする光学特性測定装置。
【請求項９】
前記光学特性の測定誤差は、前記光学特性の経時的な変化を含み、
前記演算装置は、前記光学特性の測定誤差を用いて、前記第１組及び第２組の光学特性から求められる前記結像光学系の光学特性を補正することを特徴とする請求項８に記載の光学特性測定装置。
【請求項１０】
前記演算装置は、前記光学特性の測定誤差を求めるために、前記光学特性をツェルニケ関数を用いて表すことを特徴とする請求項８または請求項９に記載の光学特性測定装置。
【請求項１１】
前記演算装置は、前記光学特性の測定誤差を求めるために、前記光学特性を、前記結像光学系の瞳面上の座標と、前記結像光学系の物体面上または像面上の座標との関数を用いて表すことを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか一項に記載の光学特性測定装置。
【請求項１２】
前記光学特性の測定誤差は、前記光学特性の経時的な変化を含み、
前記演算装置は、前記結像光学系の光学特性の測定誤差を求めるために、前記光学特性の経時的な変化を時間に関する関数で表し、前記時間に関する関数を用いて、前記複数の測定点で任意の時間に測定される前記結像光学系の光学特性を求めることを特徴とする請求項８から請求項１１のいずれか一項に記載の光学特性測定装置。
【請求項１３】
結像光学系の光学特性を調整する方法において、
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の光学特性測定方法を用いて前記結像光学系の光学特性の測定誤差を測定し、
前記測定誤差に基づいて前記結像光学系の光学特性を調整する
ことを特徴とする光学特性調整方法。
【請求項１４】
投影光学系を介して物体を露光する露光方法において、
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の光学特性測定方法を用いて前記投影光学系の光学特性を測定することを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
投影光学系を介して物体を露光する露光装置において、
前記投影光学系の光学特性を測定するために請求項８から請求項１２のいずれか一項に記載の光学特性測定装置を備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、結像光学系の光学特性を測定する光学特性測定技術、結像光学系の光学特性を調整する光学特性調整技術、並びにその光学特性測定技術を用いる露光技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等を製造するためのリソグラフィ工程中で使用される露光装置（投影露光装置）において、レチクル（又はフォトマスク）のパターンを基板上に高精度に転写するためには、投影光学系のディストーション、像面湾曲、又は波面収差等の光学特性を所定の状態に維持する必要がある。そのためには、投影光学系の光学特性を正確に測定する必要があり、従来より例えばフィゾー型干渉計等を用いて投影光学系の像面上の複数の測定点において順次所定の光学特性を測定し、これらの複数の測定結果から像面上での光学特性の分布を求める測定装置が使用されている。
【０００３】
このように複数の測定点において順次所定の光学特性を測定する場合、短期的な経時変化によって次第に測定値が変化するため、最終的に得られる光学特性の分布にも経時変化による変動量が含まれる。そのような経時変化による変動量を正確に評価するために、像面上に所定の基準点を設定し、その基準点における測定値の経時変化を基準として他の測定点における測定値の補正を行う方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３７２８１８７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のように基準点における測定値の経時変化を基準とする方法では、基準点における光学特性を測定するための光学系を別途用意するか、又は基準点における測定を他の測定点における測定より多く実施する必要がある。しかしながら、基準点用の光学系を別途用意する方法は装置構成が複雑化し、大型化するとともに、基準点用の光学系と他の測定点用の光学系とが完全に同一ではないために、測定値の経時変化に差が生じ、補正誤差が発生する恐れがある。
【０００６】
また、基準点における測定回数を他の測定点における測定回数より多くする方法は、基準点と他の測定点とが同一座標ではないことから、測定値の経時変化に差が生じて補正誤差が発生する可能性がある。
本発明は、このような事情に鑑み、測定装置を複雑化又は大型化することなく、結像光学系の光学特性の測定結果の経時変化等に起因する測定誤差を高精度に求めることができるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による光学特性測定方法は、結像光学系の光学特性を測定する方法において、その結像光学系の物体面または像面の複数の測定点においてその結像光学系の第１組の光学特性を測定する工程と、その複数の測定点のうち少なくとも一部の測定点においてその結像光学系の第２組の光学特性を少なくとも１回測定する工程と、その第１組及び第２組の光学特性に基づいてその結像光学系の光学特性の測定誤差を求める工程と、を含むものである。
【０００８】
また、本発明による光学特性測定装置は、結像光学系の光学特性を測定する装置において、その結像光学系の物体面または像面の複数の測定点においてその結像光学系の光学特性を測定する特性測定系と、その複数の測定点において測定されるその結像光学系の第１組の光学特性と、その複数の測定点のうち少なくとも一部の測定点において少なくとも１回測定されるその結像光学系の第２組の光学特性とに基づいてその結像光学系の光学特性の測定誤差を求める演算装置と、を含むものである。
【０００９】
また、本発明による光学特性調整方法は、結像光学系の光学特性を調整する方法において、本発明の光学特性測定方法を用いてその結像光学系の光学特性の測定誤差を測定し、その測定誤差に基づいてその結像光学系の光学特性を調整するものである。
また、本発明による露光方法は、投影光学系を介して物体を露光する露光方法において、本発明の光学特性測定方法を用いてその投影光学系の光学特性を測定するものである。
【００１０】
また、本発明による露光装置は、投影光学系を介して物体を露光する露光装置において、その投影光学系の光学特性を測定するために本発明の光学特性測定装置を備えるものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、複数の測定点のうち少なくとも一部の測定点において結像光学系の所定の光学特性を複数回測定するため、例えばその複数回の測定結果の間の変動量に基づいて結像光学系の光学特性の測定結果の経時変化等に起因する測定誤差を求めることができる。従って、測定点とは別に基準点を設ける必要がないため、測定装置を複雑化又は大型化することなく、結像光学系の光学特性の測定結果の経時変化等に起因する測定誤差を高精度に求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】（Ａ）は実施形態の一例の露光装置の概略構成を示す一部を切り欠いた図、（Ｂ）はテストレチクルのパターンの一例を示す平面図である。
【図２】（Ａ）は投影光学系の波面収差を測定中の波面収差測定器１８を示す断面図、（Ｂ）は投影光学系の露光領域内の複数の測定点を示す平面図、（Ｃ）は波面収差の経時変化の一例を示す図である。
【図３】図２（Ａ）の撮像素子２５の受光面に集光される多数のスポット光の配置の一例を示す図である。
【図４】波面収差の測定動作の一例を示すフローチャートである。
【図５】（Ａ）は経時変化による測定誤差の一例を示す図、（Ｂ）は各回の測定値の差分の一例を示す図、（Ｃ）は各回の測定値の差分の他の例を示す図である。
【図６】投影光学系の瞳面上の座標及び像面上の座標を示す図である。
【図７】（Ａ）は波面収差の測定動作の第１変形例を示すフローチャート、（Ｂ）は波面収差の測定動作の第２変形例を示すフローチャート、（Ｃ）は波面収差の測定動作の第３変形例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態の一例につき図１〜図６を参照して説明する。
図１（Ａ）は本実施形態のスキャニングステッパーよりなる走査露光型の露光装置の概略構成を示す。図１（Ａ）において、露光装置は、露光用の光源１と、光源１からの照明光（露光光）ＩＬでレチクルＲ（マスク）を照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを移動するレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ上に露光する投影光学系ＰＬと、ウエハＷを移動するウエハステージＷＳＴと、装置全体の動作を統括制御するコンピュータよりなる主制御系１１等とを備えている。
【００１４】
光源１としては例えばＡｒＦエキシマレーザ光源（波長１９３ｎｍ）が使用されているが、その他にＫｒＦエキシマレーザ光源（波長２４８ｎｍ）又は水銀ランプ等も使用できる。光源１から射出されるほぼ直線偏光の照明光ＩＬは、周知のビーム送光系２、照明光ＩＬの偏光状態を異なる方向の直線偏光又は円偏光等に変換する偏光状態可変部３、及びビーム形状可変部４を介して、マイクロフライアイレンズ５に入射する。マイクロフライアイレンズ５の射出面（照明光学系の瞳面）に多数の二次光源からなる面光源が形成される。また、その照明光学系の瞳面には、照明条件を通常照明、輪帯照明、２極照明、変形照明等に切り替えるための可変開口絞り部（不図示）が設置されている。なお、マイクロフライアイレンズ５の代わりに、ロッドインテグレータ（内面反射型インテグレータ）等の他のオプティカルインテグレータ、又は回折光学素子とオプティカルインテグレータとを組み合わせた光学系等を使用しても良い。
【００１５】
マイクロフライアイレンズ５から射出された照明光ＩＬは、第１リレー光学系６、レチクルブラインド７、第２リレー光学系８Ａ、コンデンサ光学系８Ｂ、及び光路折り曲げ用のミラー９を介して、レチクルＲのパターン面（下面）の照明領域を均一な照度分布で照明する。ビーム送光系２からコンデンサ光学系８Ｂ及びミラー９までの部材を含んで照明光学系ＩＬＳが構成されている。光源１及び偏光状態可変部３の動作は主制御系１１内の照明系制御部によって制御されている。
【００１６】
照明光ＩＬのもとで、レチクルＲの照明領域内のパターンは投影光学系ＰＬを介して投影倍率β（βは例えば１／４，１／５等の縮小倍率）で、ウエハＷの一つのショット領域上の露光領域１５（図２（Ｂ）参照）に転写露光される。ウエハＷは、例えばシリコンよりなる直径が２００〜４５０ｍｍ程度の円板状の基材上にフォトレジスト（感光剤）を塗布したものである。以下、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で図１（Ａ）の紙面に平行な方向にＸ軸を、図１（Ａ）の紙面に垂直な方向にＹ軸を取って説明する。本実施形態では、露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ軸に平行な方向（Ｙ方向）であり、レチクルＲ上の照明領域及びウエハＷ上の露光領域（照明領域と光学的に共役な領域）１５は非走査方向（Ｘ方向）に細長い矩形領域である。
【００１７】
また、投影光学系ＰＬを構成する所定の光学部材、例えばレンズエレメント１４Ａ，１４Ｂは、不図示のレンズ枠及びＺ方向に伸縮可能な３箇所の駆動素子１３Ａ，１３Ｂを介して鏡筒に支持されている。主制御系１１内の結像特性制御部が、駆動系１２を介して駆動素子１３Ａ，１３Ｂを駆動することによって、レンズエレメント１４Ａ，１４ＢのＺ方向の位置、並びにＸ軸及びＹ軸の周りの傾斜角を制御できる。これによって、投影光学系ＰＬの光学特性としての所定の結像特性（本実施形態では波面収差）を補正（調整）できる。なお、駆動可能なレンズエレメント１４Ａ，１４Ｂの位置及び個数は、制御対象の結像特性に応じて任意に設定可能である。
【００１８】
次に、レチクルＲを吸着保持するレチクルステージＲＳＴは、レーザ干渉計（不図示）の測定値に基づいて、レチクルベース（不図示）上の光軸ＡＸに垂直な平面内でレチクルＲの移動又は位置決めを行う。一方、ウエハＷをウエハホルダ（不図示）を介して吸着保持するウエハステージＷＳＴは、レーザ干渉計（不図示）の測定値に基づいて、ウエハベースＷＢ上の光軸ＡＸに垂直な平面内でウエハＷの連続移動及びステップ移動を行う。また、ウエハステージＷＳＴには、不図示のオートフォーカスセンサの測定値に基づいて、ウエハＷの表面を投影光学系ＰＬの像面に合焦させるために、ウエハＷのフォーカス位置（光軸ＡＸ方向の位置）及び傾斜角を制御するＺステージ機構も組み込まれている。
【００１９】
露光時には、主制御系１１内の露光制御部の制御のもとで不図示のアライメント系によってレチクルＲとウエハＷとのアライメントが行われた後、偏光状態可変部３によって照明光ＩＬの偏光状態が所定状態に設定される。その後、光源１の発光を開始して、レチクルＲのパターンの投影光学系ＰＬによる像でウエハＷの１つのショット領域を走査露光する動作と、光源１の発光を停止して、ウエハＷをステップ移動する動作とが繰り返される。これによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の全部のショット領域にレチクルＲのパターンの像が転写される。また、本実施形態の露光装置が米国特許出願公開第２００５／２５９２３４号に示すような液浸型である場合には、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に不図示の液体供給機構から純水等の液体が供給される。
【００２０】
さて、このような露光に際しては、投影光学系ＰＬの結像特性が所定の状態に調整されている必要がある。そのためには、先ずその結像特性を高精度に測定する必要がある。そこで、ウエハベースＷＢ上にウエハステージＷＳＴと並列に測定ステージＭＳＴが移動可能に載置され、測定ステージＭＳＴには、投影光学系ＰＬの波面収差を測定するための波面収差測定器１８が設置されている。主制御系１１には、波面収差測定器１８の検出信号の処理等を行う測定部１７が接続されている。
【００２１】
測定部１７は、波面収差測定器１８から供給される検出信号を処理して、投影光学系ＰＬの像面の図２（Ｂ）に示す露光領域１５内の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）（ｉ＝１〜Ｊ１；ｊ＝１〜Ｊ２：Ｊ１，Ｊ２は２以上の整数）中の一つの測定点における波面収差を求め、求めた波面収差を主制御系１１内の結像特性演算部に供給する。測定点Ｐ（ｉ，ｊ）は、一例としてＹ方向に４列でＸ方向に４行に配列されている（ｉ＝１〜４；ｊ＝１〜４）。結像特性演算部は、複数の測定点における複数回の測定結果を処理して経時的な変動量に起因する測定誤差を求め、その測定誤差を補正する（詳細後述）。測定誤差が補正された波面収差の測定結果は、主制御系１１内の結像特性制御部に供給される。
【００２２】
結像特性制御部は、その結像特性演算部から供給される投影光学系ＰＬの波面収差が目標範囲内に維持されるように、駆動系１２を介してレンズエレメント１４Ａ，１４Ｂ等を駆動する。なお、波面収差測定器１８は、測定ステージＭＳＴに着脱可能に保持されていてもよい。また、ウエハステージＷＳＴに波面収差測定器１８を設置してもよい。測定ステージＭＳＴには、レチクルＲのアライメントマークの像の位置を検出する空間像測定系（不図示）も設けられている。
【００２３】
また、レチクルステージＲＳＴの上方にスライド機構（不図示）によって移動可能に拡散板１０が配置されている。投影光学系ＰＬの波面収差の測定時には、照明光学系ＩＬＳからの照明光ＩＬの光路に拡散板１０が配置されるとともに、レチクルステージＲＳＴ上にレチクルＲの代わりに図１（Ｂ）のテストレチクルＲ１がロードされる。なお、必ずしも拡散板１０を使用しなくともよい。
【００２４】
図１（Ｂ）に示すように、テストレチクルＲ１のパターン面の遮光膜中には、Ｘ方向、Ｙ方向に所定間隔で配置された複数の波面収差測定用の円形の開口１９と、これらの開口１９より大きい校正用の円形（又は正方形等でもよい）の開口２０と、複数のアライメントマーク（不図示）とが形成されている。テストレチクルＲ１の複数の開口１９の像の位置が、図２（Ｂ）の投影光学系ＰＬの像面上の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）に対応している。
【００２５】
図２（Ａ）は、波面収差測定時の図１の投影光学系ＰＬと波面収差測定器１８との位置関係の一例を示す。図２（Ａ）において、投影光学系ＰＬの上方に順次テストレチクルＲ１及び拡散板１０が配置され、図１の照明光学系ＩＬＳからの照明光ＩＬで拡散板１０が照明され、拡散板１０で拡散された照明光ＩＬでテストレチクルＲ１が照明される。そして、一例としてテストレチクルＲ１の照明領域内の或る測定用の開口１９の投影光学系ＰＬによる像（一次像）が波面収差測定器１８によって検出される。なお、図２（Ａ）では説明の便宜上、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと波面収差測定器１８の光軸とは一致しているが、波面収差測定器１８の光軸は投影光学系ＰＬの像面のいずれかの測定点上にある。投影光学系ＰＬの波面収差が極めて小さい場合には、投影光学系ＰＬの瞳面（射出瞳と共役な面）における波面は点線Ａ１で示すように平面波であるが、実際には或る程度の波面収差が残存しているため、その波面は実線Ａ２で示すように歪んでいる。
【００２６】
波面収差測定器１８は、光軸ＡＸに垂直な上面を有し、この上面の遮光膜中に照明光ＩＬを通過させる円形のピンホール２１ａが形成された円板状のガラス板よりなる開口板２１と、ピンホール２１ａを通過した光束（ほぼ球面波）をほぼ平行光束に変換する対物レンズ２２とを備えている。開口板２１の上面（ピンホール２１ａの形成面）は、投影光学系ＰＬの像面上に配置される。ピンホール２１ａの中心は、波面収差測定器１８の光軸（対物レンズ２２の光軸）上にある。一例として、ピンホール２１ａの直径は１０μｍ程度であり、測定用の開口１９の像の直径は５〜８μｍ程度であり、図１（Ｂ）の校正用の開口２０の像の直径は３０μｍ程度である。即ち、測定用の開口１９の像は検出用のピンホール２１ａよりも小さく、校正用の開口２０の像はピンホール２１ａよりも大きい。
【００２７】
さらに、波面収差測定器１８は、対物レンズ２２からの光束の波面を分割するように多数の微小レンズ２４ａがＸ方向、Ｙ方向に密着して配置されたマイクロレンズアレイ２４と、多数の微小レンズ２４ａによって形成される多数のスポット光を受光するＣＣＤ型又はＣＭＯＳ型等の２次元の撮像素子２５とを備えている。撮像素子２５の検出信号が測定部１７に供給されている。
【００２８】
図２（Ａ）において、投影光学系ＰＬの波面収差の測定時には、開口板２１の上面（ピンホール２１ａの形成面）は、テストレチクルＲ１のパターン面と投影光学系ＰＬに関して光学的に共役な面上に配置され、テストレチクルＲ１の測定対象の開口１９の像の中心である図２（Ｂ）の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）のいずれかが波面収差測定器１８の光軸（ピンホール２１ａの中心）上に来るように、波面収差測定器１８が位置決めされる。この位置決めは図１（Ａ）の測定ステージＭＳＴの駆動によって行われる。その後、照明光ＩＬの照射を開始すると、テストレチクルＲ１の開口１９の投影光学系ＰＬによる像がピンホール２１ａ内に形成され、対物レンズ２２及びマイクロレンズアレイ２４によって撮像素子２５上に多数のスポット光が形成される。
【００２９】
図３は、測定時の図２（Ａ）の撮像素子２５の受光面を示す拡大図である。図３に示すように、図２（Ａ）の個々の微小レンズ２４ａ（仮に５行×５列とする）によって集光された光が、それぞれ図２（Ａ）の開口１９の像（二次像）ＩＬＡ，ＩＬＢ，…，ＩＬＹを形成する。これらの像の光量重心をそれぞれ結像位置とすると、例えば各微小レンズ２４ａの光軸上の位置等の所定の基準位置５３Ａ，５３Ｂ，…，５３Ｙから対応する結像位置までの変位を表すベクトル５１Ａ，５１Ｂ，…，５１Ｙが波面収差の情報を含んでいる。撮像素子２５の各画素からの検出信号を画像処理することによって、測定部１７では、一例としてそのベクトル５１Ａ〜５１Ｙの情報を求め、この情報から投影光学系ＰＬを通過した測定光の波面（位相分布）を求める。さらに、この波面の理想波面からのずれを求めることで測定点Ｐ（ｉ，ｊ）における投影光学系ＰＬの波面収差を求めることができる。なお、このように波面収差を求める方法は、例えば特開２００２−７１５１４号公報にも開示されている。
【００３０】
本実施形態では、図６に示すように、投影光学系ＰＬの瞳面ＰＰＬ上の極座標（ρ，θ）（直交座標系（ξ，η））で表される位置の波面収差を表現するために、正規直交関数系列である表１のツェルニケ多項式（Zernike's polynomial）Ｚｉ（ｉ＝１，２，…，Ｉ）（Ｉは２以上の整数）を用いる。波面収差を１次からＩ次までのツェルニケ多項式Ｚｉで展開した場合の各次数の係数ａｉによってその波面収差が評価できる。なお、表１では、１次〜１３次までのツェルニケ多項式Ｚｉ（Ｉ＝１３）のみが示されているが、実際には例えば１次〜３６次までのツェルニケ多項式Ｚｉ（Ｉ＝３６）が使用される。
【００３１】
［表１］ツェルニケ多項式Ｚｉ
Ｚ１：  １，  Ｚ２：  ρcosθ，  Ｚ３：  ρsinθ                                Ｚ４：  ２ρ2−１，  Ｚ５：  ρ2cos２θ，  Ｚ６：  ρ2sin２θ
Ｚ７：  (３ρ3−２ρ)cosθ，  Ｚ８：  (３ρ3−２ρ)sinθ
Ｚ９：  ６ρ4−６ρ2＋１
Ｚ１０：  ρ3cos３θ，  Ｚ１１：  ρ3sin３θ
Ｚ１２：  (４ρ4−３ρ2)cos２θ，  Ｚ１３：  (４ρ4−３ρ2)sin２θ
【００３２】
次に、波面収差測定器１８を用いて投影光学系ＰＬの結像特性としての波面収差を測定する動作の一例につき図４のフローチャートを参照して説明する。この動作は主制御系１１によって制御されるとともに、例えば露光工程中で定期的に実行される。
【００３３】
先ず、図４のステップ１０２において、図１（Ａ）のレチクルステージＲＳＴ上にテストレチクルＲ１をロードし、その上に拡散板１０を配置し、図２（Ｂ）の投影光学系ＰＬの像面の露光領域１５内の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）（測定点数をｐとする。）に順次例えば経路１６に沿って波面収差測定器１８のピンホール２１ａを移動し、それぞれ波面収差を測定する（１回目の測定結果）。この場合、複数の測定点において波面収差を順次測定している間に短期的な経時変化によって、測定値が次第に変化する。その経時変化による測定誤差を補正するために、本実施形態では、その全部の測定点における波面収差の測定を２回以上（例えば４回）繰り返す（２回目以降の測定結果）。その測定回数をｑとすると、ｑは２以上の整数であり、例えば４である。これらの測定結果は、ｐ個の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）における１回目〜ｑ回目の波面収差の情報（例えばツェルニケ多項式の係数）として、測定部１７から主制御系１１内の結像特性演算部に供給される。以下の計算はその結像特性演算部で実行される。
【００３４】
例えば表１の２次及び３次のツェルニケ多項式Ｚｉの係数で表される収差（ディストーション）ＡＢ（ｔ）にそれぞれ図２（Ｃ）の曲線Ｃ１及びＣ２で示すような次第に減少する経時変化があったとすると、１回目、２回目、３回目、及び４回目の測定結果はそれぞれ図５（Ａ）の測定結果Ａ５１，Ａ５２，Ａ５３，及びＡ５４のようになる。図５（Ａ）（図５（Ｂ）以下も同様）において、各測定点Ｐ（ｉ，ｊ）のベクトルの始点Ｖ１は理想像点であり、終点Ｖ２は測定される像点である。
【００３５】
その複数回の測定結果から経時変化に起因する成分を以下のように求める。先ず、その測定結果を、投影光学系ＰＬの波面収差と、その波面収差の経時変化成分と、測定値のばらつきとの合成と仮定する。図６に示すように、投影光学系ＰＬの像面ＩＰＬにおける直交座標系を（ｙ，ｚ）（極座標系（ｈ，α））、時間をｔ、測定結果をΦｓ（ｙ，ｚ，ｔ）とすると、測定結果Φｓ（ｙ，ｚ，ｔ）は次のように表すことができる。座標（ｙ，ｚ）は例えば測定点Ｐ（ｉ，ｊ）の座標を表している。
【００３６】
Φｓ（ｙ，ｚ，ｔ）＝Φｐ（ｙ，ｚ）＋Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）＋Φｎ  …（１）
ここで、Φｐ（ｙ，ｚ）は投影光学系ＰＬの波面収差、Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）はその波面収差の経時変化成分、Φｎは測定値のばらつきである。
また、本実施形態では、投影光学系ＰＬの波面収差Φ（ｙ，ｚ）の像面内の分布（各測定点Ｐ（ｉ，ｊ）における値）を、次のように像面座標（ｙ，ｚ）と瞳面座標（ρ，θ）との関数である収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）及びその係数Ｍiを用いて表すものとする。
【００３７】
2011029431.tif 000003
収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）はツェルニケ多項式Ｚｉ（瞳面座標の関数）の関数として表されている。ｉ＝１〜３６の範囲の収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）がＦＺｉとして表２に表されている。なお、波面収差を式（２）のように表すこと、及びｉ＝１〜７１までの収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）は、例えば特開２００３−２５７８１２号公報に開示されている。また、式（２）は例えばｉ＝１〜７１までの収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）で展開され、この場合には１次〜１６次のツェルニケ多項式Ｚｉの多項式となっているが、必要に応じて更に高次の成分まで用いてもよい。
【００３８】
［表２］収差多項式ＦＺｉ（＝Ｆi（ｙ，ｚ））
ＦＺ１：  Ｚ１，  ＦＺ２：  Ｚ２，  ＦＺ３：  Ｚ３，  ＦＺ４：  Ｚ４
ＦＺ５：  ｙ×Ｚ２＋ｚ×Ｚ３
ＦＺ６：  Ｚ５，  ＦＺ７：  Ｚ６
ＦＺ８：  ｙ×Ｚ２−ｚ×Ｚ３，  ＦＺ９：  ｚ×Ｚ２＋ｙ×Ｚ３
ＦＺ１０：  ｚ2×Ｚ２−ｙ×ｚ×Ｚ３，  ＦＺ１１：  −ｙ×ｚ×Ｚ２＋ｙ2×Ｚ３
ＦＺ１２：  ｙ×Ｚ４，  ＦＺ１３：  ｚ×Ｚ４
ＦＺ１４：  Ｚ７，  ＦＺ１５：  Ｚ８
ＦＺ１６：  ｙ2×Ｚ２＋ｙ×ｚ×Ｚ３，  ＦＺ１７：  ｙ×ｚ×Ｚ２＋ｚ2×Ｚ３
ＦＺ１８：  ｙ×Ｚ５＋ｚ×Ｚ６，  ＦＺ１９：  −ｚ×Ｚ５＋ｙ×Ｚ６
ＦＺ２０：  (ｙ2＋ｚ2)×Ｚ４
ＦＺ２１：  (２×(ｙ2＋ｚ2)−１)×ｙ×Ｚ２＋(２×(ｙ2＋ｚ2)−１)×ｚ×Ｚ３
ＦＺ２２：  ｙ×Ｚ７＋ｚ×Ｚ８，  ＦＺ２３：  Ｚ９
ＦＺ２４：  (ｙ2−ｚ2)×Ｚ５＋２×ｙ×ｚ×Ｚ６
ＦＺ２５：  (ｙ2＋ｚ2)×Ｚ５，  ＦＺ２６：  (ｙ2＋ｚ2)×Ｚ６
ＦＺ２７：  (２×(ｙ2＋ｚ2)−１)×ｙ×Ｚ２−(２×(ｙ2＋ｚ2)−１)×ｚ×Ｚ３
ＦＺ２８：  (２×(ｙ2＋ｚ2)−１)×ｚ×Ｚ２＋(２×(ｙ2＋ｚ2)−１)×ｙ×Ｚ３
ＦＺ２９：  (ｙ2−ｚ2)×Ｚ４，  ＦＺ３０：  ２×ｙ×ｚ×Ｚ４
ＦＺ３１：  Ｚ１２，  ＦＺ３２：  Ｚ１３
ＦＺ３３：  ｙ×Ｚ７−ｚ×Ｚ８，  ＦＺ３４：  ｚ×Ｚ７−ｙ×Ｚ８
ＦＺ３５：  (２×(ｙ2−ｚ2)−１)×ｙ×Ｚ２＋(２×(ｙ2−ｚ2)−１)×ｚ×Ｚ３
ＦＺ３６：  (４×ｙ2−１)×ｚ×Ｚ２＋(４×ｚ2−１)×ｙ×Ｚ３
【００３９】
なお、必ずしも式（２）の収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）を用いる必要はなく、波面収差Φ（ｙ，ｚ）を例えばオフセット成分（一律成分）、倍率成分、湾曲成分、及び偏心成分などの複数の単純な成分の和として表してもよい。さらに、測定時に発生しやすい経時変化を表す関数を適宜設定し、この関数を用いて波面収差Φ（ｙ，ｚ）を表してもよい。
【００４０】
本実施形態では、式（１）中の波面収差Φｐ（ｙ，ｚ）及び経時変化成分Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）をそれぞれ収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）及び係数Ｍｐi及びＭｄi（ｔ）を用いて次のように表す。
【００４１】
2011029431.tif 000004
ここで、収差多項式の係数である係数Ｍｄi（ｔ）は経時変化することから時間ｔの関数とし、さらに以下の式（５）のように係数ａijを用いて時間ｔの冪級数で表す。なお、ほぼ一定の時間間隔で測定が行われるような場合には、時間ｔではなく、測定順序を示す変数を用いて係数Ｍｄi（ｔ）を表してもよい。
【００４２】
更に、初期状態の経時変化量を０とした方が後述の最適化計算の解が求めやすい場合には、式（６）のように定数項を省略してもよい。
【００４３】
2011029431.tif 000005
なお、係数Ｍｄi（ｔ）は指数関数など他の関数で表してもよく、さらに実際に発生している経時変化を近似するのに適切な関数を用いて表してもよい。
次に、係数ａijの適切な値を求めることで経時変化量を算出する。そのために、図２（Ｂ）の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）の番号（測定点番号）をｌ（１≦ｌ≦ｐ：図２（Ｂ）ではｐ＝１６）、ｍ回目（１≦ｍ≦ｑ）の測定結果をΦｓ（ｙl，ｚl，ｔlm）とすると、測定結果Φｓ（ｙl，ｚl，ｔlm）と同じ測定点（ｌ番目の測定点）のｍ回目と異なるｎ回目の測定結果Φｓ（ｙl，ｚl，ｔln）との差分Ｄｉｆｆmnは次のようになる。
【００４４】
2011029431.tif 000006
そこで、図４のステップ１０４において、ステップ１０２の実際の測定結果のうち、ｌ番目の測定点のｍ回目の測定結果をΦｍlm、ｎ回目の測定結果をΦｍlnとして、これらの差分（＝Φｍlm−Φｍln）を計算する。さらに、ステップ１０２の測定結果を式（１）で表し、式（７）の差分Ｄｉｆｆmnを計算する。図５（Ｂ）の計算結果Ｂ５１，Ｂ５２，Ｂ５３は、それぞれ図５（Ａ）の測定結果Ａ５１，Ａ５２、測定結果Ａ５２，Ａ５３、測定結果Ａ５３，Ａ５４の差分であり、図５（Ｃ）の計算結果Ｃ５１，Ｃ５２，Ｃ５３は、それぞれ図５（Ａ）の測定結果Ａ５１，Ａ５３、測定結果Ａ５１，Ａ５４、測定結果Ａ５２，Ａ５４の差分である。
【００４５】
次のステップ１０６において、以下のように各測定点のｍ回目の測定結果とそれと異なるｎ回目（ｎ≠ｍ）の測定結果との差分の自乗和よりなる目的関数Ｄｉｆｆtotalを設定し、最適化計算を行う。この場合、測定点の数はｐ、全測定回数はｑであり、ｑ！通りの組み合わせの差分を計算することができる。以下の式では全ての組み合わせの和が計算される。なお、式（７）に式（４）及び式（６）が適用されている。
【００４６】
2011029431.tif 000007
そして、式（８）が最小になるように、最適化計算によって式（６）の経時変化の係数ａij（パラメータ）の値を決定する。最適化計算には減衰最小二乗法や遺伝的アルゴリズムなどを用いることができる。なお、式（８）中の測定値のばらつきΦｎ（ｔ）の項は、ランダムなばらつきが想定される場合には計算上無視してもよく、何らかの周期性がある場合にはそのΦｎ（ｔ）を適切な関数で置き換えてもよい。
【００４７】
次のステップ１０８において、決定された経時変化の係数ａijを用いて式（６）及び式（４）から、ｐ個の各測定点におけるｑ回の各測定時の測定結果の経時変化成分Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）を計算する。次のステップ１１０において、各測定点におけるｑ回の各測定時の波面収差の測定結果Φｍlmから経時変化成分Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）を減算して、式（１）の波面収差Φｐ（ｙ，ｚ）（式（３）で表される）及び測定ばらつきΦｎを求める。次のステップ１１２において、各測定点におけるｑ回の測定値（波面収差Φｐ（ｙ，ｚ）＋Φｎ）の平均値＜Φｐ（ｙ，ｚ）＞を求める。この平均化によって、測定ばらつきΦｎの影響は減少するため、各測定点Ｐ（ｉ，ｊ）における経時変化成分（測定誤差）が除去された投影光学系ＰＬの波面収差を高精度に求めることができる。
【００４８】
その経時変化成分が除去された波面収差（平均値＜Φｐ（ｙ，ｚ）＞）の情報は、主制御系１１内の結像特性演算部から結像特性制御部に供給される。一例として、ステップ１１４において、その結像特性制御部は、その波面収差の目標値からのずれを補正するように駆動系１２を介して投影光学系ＰＬの波面収差を調整（補正）する。これによって、投影光学系ＰＬの波面収差を目標とする状態に高精度に維持できる。
【００４９】
本実施形態の作用効果等は次の通りである。
（１）本実施形態の露光装置は、投影光学系ＰＬ（結像光学系）の波面収差（光学特性）を測定する測定装置を備えている。その測定装置は、投影光学系ＰＬの像面の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において投影光学系ＰＬの波面収差を測定する波面収差測定器１８（特性測定系）と、その複数の測定点において測定される波面収差の１回目の測定結果（第１組の光学特性）と、その複数の測定点において測定される波面収差の２回目〜ｑ回目の測定結果（第２組の光学特性）とに基づいて投影光学系ＰＬの波面収差の測定誤差としての経時変化成分Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）を求める主制御系１１内の結像特性演算部（演算装置）と、を備えている。
【００５０】
また、本実施形態の投影光学系ＰＬの波面収差の測定方法は、投影光学系ＰＬの像面の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において波面収差の１回目の測定結果を求める工程（ステップ１０２の前半）と、その複数の測定点において波面収差の２回目〜ｑ回目の測定結果を求める工程（ステップ１０２の後半）と、その波面収差のｑ回の測定結果に基づいて波面収差の測定誤差としての経時変化成分を求めるステップ１０４〜１０８とを含んでいる。
【００５１】
本実施形態によれば、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）の全部において投影光学系ＰＬの波面収差を複数回測定しているため、その複数回の測定結果の差分に基づいて波面収差の経時変化に起因する測定誤差を求めることができる。従って、測定点とは別に基準点を設ける必要がないため、測定装置を複雑化又は大型化することなく、投影光学系ＰＬの波面収差の測定結果の経時変化に起因する測定誤差を高精度に求めることができる。
【００５２】
なお、本実施形態では、投影光学系ＰＬの像面の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）で波面収差を測定しているが、例えば投影光学系ＰＬに測定ステージＭＳＴ側から照明光ＩＬを照射して、投影光学系ＰＬの物体面上の複数の測定点で波面収差等を測定してもよい。
また、本実施形態では、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）の全部の測定点で波面収差の測定をｑ回繰り返しているが、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において１回測定される波面収差と、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）のうち少なくとも一部の測定点においてさらに少なくとも１回繰り返して測定される波面収差とに基づいて、例えば式（８）が最小になるように経時変化に起因する測定誤差を求めるようにしてもよい。
【００５３】
（２）また、その結像特性演算部は、投影光学系ＰＬの波面収差について求められた経時変化成分Φｄ（ｙ，ｚ，ｔ）よりなる測定誤差をその波面収差の測定結果から減算することによって、その波面収差の測定結果を補正している（ステップ１１０）。従って、経時変化成分に影響されることなく、波面収差を正確に求めることができる。
なお、本発明は、経時変化成分以外の測定誤差、例えば露光装置の投影光学系ＰＬを通過する積算照射量、周囲の温度、及び／又は大気圧等に起因する測定誤差を測定する場合にも適用可能である。
【００５４】
（３）また、波面収差を測定する際に、波面収差の測定結果をツェルニケ多項式（ツェルニケ関数）を用いて表している。従って、ツェルニケ多項式の係数からディストーション、像面湾曲等の種々の収差を容易に求めることもできる。なお、波面収差をツェルニケ多項式とは別の関数等で表してもよい。
（４）また、投影光学系ＰＬの波面収差を測定する際に、波面収差の測定結果を投影光学系ＰＬの像面座標（ｙ，ｚ）と瞳面座標（ρ，θ）との関数である収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）及びその係数Ｍiを用いて表している（式（２））。従って、像面上の複数の測定点における波面収差を容易に表現できる。
【００５５】
（５）また、本実施形態では、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において波面収差を測定する際の測定順序（経路１６）はｑ回の測定時に同じであるため、測定結果の処理が容易である。
しかしながら、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）における１回目の測定時の測定順序（経路１６）と、２回目以降の測定時の測定順序とが異なっていてもよい。
【００５６】
（６）また、本実施形態の露光装置における投影光学系ＰＬの波面収差（光学特性）の調整方法は、上記の波面収差の測定方法を用いて投影光学系ＰＬの波面収差の経時変化成分に起因する測定誤差を測定し（ステップ１０２〜１１２）、その測定誤差に基づいて波面収差を補正（調整）している（ステップ１１４）。この調整方法によれば、投影光学系ＰＬの波面収差を目標とする状態に高精度に維持できる。
【００５７】
（７）また、本実施形態の露光装置は、投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光装置において、投影光学系ＰＬの波面収差（光学特性）を測定するために上記の測定装置を備えている。
また、本実施形態の露光方法は、投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光方法において、上記の測定方法を用いて投影光学系ＰＬの波面収差を測定している。
【００５８】
この露光装置又は露光方法によれば、例えば露光工程を中断してオンボディで投影光学系ＰＬの波面収差を測定する場合に、例えば積算照射量の影響の緩和によって投影光学系ＰＬの波面収差が次第に変化しても、その経時変化による測定誤差を正確に求めることができる。従って、投影光学系ＰＬの波面収差を高精度に求めることができる。
なお、上記の実施形態では、式（８）の目的関数Ｄｉｆｆtotalが最小になるような係数ａijを最適化計算によって求めている。この場合、最適化計算では初期値によって得られる解が変わる可能性があり、より適切な初期値を選択することが望ましい。このため、図７（Ａ）の第１変形例又は図７（Ｂ）の第２変形例で示すように初期値を選択してもよい。なお、図７（Ａ）、図７（Ｂ）、及び後述の図７（Ｃ）の各工程中で図４の工程に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５９】
図７（Ａ）の測定方法においては、ステップ１０２に続くステップ１２０において、各回の式（１）の波面収差の測定結果Φｓ（ｙ，ｚ，ｔ）を、式（２）のように物体面及び像面上の分布を表す収差多項式Ｆi（ｙ，ｚ）で近似し、その係数Ｍiを求める。次のステップ１２２において、その各回の測定結果から求めた係数Ｍiの経時的な変化を例えば式（５）のように係数ａij（経時変化係数）を用いて近似し、係数ａijの値を決定する。この場合、各回の測定中の時間ｔとしては、各回の測定中の平均的な時間ｔｉ（ｉ＝１〜ｑ）を使用してもよい。これによって、各回の測定結果中の経時変化量（測定誤差）を計算できる。その後、ステップ１１０において、各回の測定結果から、その経時変化量を減算することで実際の波面収差を求めることができる。
【００６０】
図７（Ｂ）の測定方法においては、ステップ１０２，１２０，１２２において、図７（Ａ）の方法と同様に、各回の測定結果から、測定結果の経時的な変化を表す例えば式（５）の係数ａij（経時変化係数）を計算する。次のステップ１２４において、ステップ１２２で算出された係数ａijを初期値として、図４のステップ１０６と同様に式（８）の目的関数Ｄｉｆｆtotalが最小になるような係数ａij（パラメータ）の値を決定する。このようにステップ１２２で求めた係数を初期値とすることで、最適化計算においてより最適な解が求まりやすくなる。この後のステップ１０８及び１１０の動作は図４の場合と同様である。
【００６１】
また、図７（Ｃ）の第３変形例で示すように、図２（Ｂ）の各測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において任意の時間に測定される波面収差を計算してもよい。図７（Ｃ）において、ステップ１０２，１２０，１２２，１２４，１０８では、図７（Ｂ）の方法と同様に各回の測定値から求めた係数ａijを初期値として、式（８）の目的関数Ｄｉｆｆtotalが最小になるような係数ａijの値を決定し、各回の測定時の経時変化量を算出する。次のステップ１１０，１１２において、求めた経時変化量を各回の測定結果から減算し、減算後の各回の測定結果を平均化して測定ばらつきの誤差を低減する。次のステップ１２６において、式（１）に式（６）（又は式（５））及び式（４）を代入して、各測定点Ｐ（ｉ，ｊ）における任意の時間ｔにおける波面収差を計算する。
【００６２】
このように、経時変化を表す係数ａijを用いることによって、任意の時間の状態（ここでは波面収差）が計算可能で、測定中の時間内であれば高精度に各測定点における波面収差を推定できる。また、測定時間外であっても、経時変化が緩やかであれば、その波面収差を予測可能である。
なお、上記の実施形態では、投影光学系ＰＬの経時変化と波面収差測定器１８の経時変化とを区別せずに扱っているが、波面収差測定器１８自体の経時変化は少ないとともに、両方の経時変化に起因する経時変化量を算出し、この経時変化量を測定結果から補正することで、投影光学系ＰＬの波面収差を高精度に求めることができる。
【００６３】
なお、上記の実施形態及びその変形例においては以下のような変形が可能である。
（１）上記の実施形態では、投影光学系ＰＬの波面収差を波面収差測定器１８を用いて測定しているが、投影光学系ＰＬの波面収差をフィゾー型干渉計等を用いて測定する場合にも本発明が適用できる。
（２）上記の実施形態では、投影光学系ＰＬの光学特性として波面収差を測定しているが、投影光学系ＰＬのディストーション又は像面湾曲（複数の測定点におけるベストフォーカス位置）等の一つ又は複数の収差を測定対象とする場合にも本発明が適用できる。また、本発明は投影光学系ＰＬの偏光特性を測定する場合にも適用可能である。
【００６４】
なお、本発明は、走査露光型の露光装置のみならず、ステッパーのような一括露光型の露光装置において投影光学系ＰＬの光学特性を測定する場合も適用できる。
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスやマスク自体を製造するための露光装置にも広く適用できる。
【００６５】
また、本発明は、露光装置の投影光学系の光学特性の測定のみならず、各種の光学装置、例えば、天体望遠鏡、眼科的検査装置、又は携帯カメラ若しくは携帯電話に備えられる小型カメラ等の結像光学系の波面収差等の光学特性を測定する際にも同様に適用することができる。
このように本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
【符号の説明】
【００６６】
ＰＬ…投影光学系、Ｒ１…テストレチクル、Ｗ…ウエハ、Ｐ（ｉ，ｊ）…測定点、１１…主制御系、１５…露光領域、１７…測定部、１８…波面収差測定器、１９…測定用の開口、２１ａ…ピンホール、２４…マイクロレンズアレイ、２５…撮像素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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