(57)【要約】【課題】エチレン系不飽和付加モノマーの重合又は共重合に適した新たな触媒の提供。【解決手段】Ａ）式３，４及び５の金属錯体とＢ）特定の活性剤との反応生成物である、エチレン系不飽和付加重合性モノマーの重合又は共重合の触媒に適した、金属錯体触媒を開示する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）式３、４及び５：
【化１】
2011093934.tif 000039
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＸ2は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム又はプロメチウムであり；
ＭIIはリチウム、ナトリウム、カリウム又はマグネシウムであり；
Ｎは窒素原子であり；
Ｘ1はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ又はＥｔ2Ｏであり；
ｔは０、１、２、３、４、５又は６の数であり；
ｓは０、１又は２の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｐは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ、ｉｉは０、１又は２の数であって、ｉ及びｉｉの合計が１、２又は３の数の１つを表す］の金属錯体；並びに
Ｂ）ａ）Ｃ1〜Ｃ30有機硼素化合物又は有機アルミニウム化合物
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
ｃ）非ポリマー相溶性、非配位性、イオン形成性化合物、並びに
ｄ）ヒドロカルビルナトリウム、ヒドロカルビルリチウム、ヒドロカルビル亜鉛、ヒドロカルビルマグネシウムハロゲン化物及びジヒドロカルビルマグネシウム
から選ばれる少なくとも１種の活性剤
のＡ）及びＢ）を−７８℃〜２５０℃の温度で反応媒体中で一緒にした反応生成物である、エチレン系不飽和付加モノマーの重合又は共重合を触媒するのに適した金属錯体触媒。
【請求項２】
反応媒体が、温度−５℃〜１６０℃の、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素及びハロ炭化水素の少なくとも１種から選ばれたものである請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
ＭIがネオジムであり、ＭIIがリチウム、ナトリウム又はカリウムである請求項１に記載の触媒。
【請求項４】
担体を更に含む請求項１に記載の触媒。
【請求項５】
担体がクレイ、シリカ、層状珪酸塩、アルミナ、活性炭、グラファイト及びカーボンブラックの少なくとも一つから選ばれる請求項４に記載の触媒。
【請求項６】
活性剤が
ａ）各アルキル基の炭素数が１〜４であるトリアルキルアルミニウム化合物及び
ｂ）それぞれ炭素数が１〜２０のヒドロカルビル基を有する、ハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）硼素化合物又はハロゲン化テトラキス（ヒドロカルビル）硼素もしくはアルミニウム化合物
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項７】
活性剤が
ａ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はテトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート及び
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項８】
活性剤が
ａ）トリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド及び
ｂ）三フッ化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム又は四フッ化チタン
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項９】
下記式：
【化２】
2011093934.tif 000040
［式中、ＭIは元素周期表の第３族、第４族若しくは第５族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であるが、但し、金属錯体が式Ｉａ又はＩｂである場合にはＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム若しくは元素周期表の第３族金属又はアクチニド元素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の一つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
Ｐは炭素原子、窒素原子又は燐原子であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル及びヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルからなる群から選ばれる基であり；且つ基Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに結合でき；
Ｙは２つの基を結合する二価架橋基であり、Ｙは１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
Ｘ1、Ｘ2は、それぞれ独立して、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ1又はＸ2は、Ｍにπ結合した非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｄは、それぞれ独立に、３０個以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基配位子であり；
ｓは０、１、３又は４の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ，ｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４の数であり；
ｐは１又は２であり；
ｍは０又は１の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜５の数の１つであり；且つ
ｙは１〜２０の数の１つである］
の一つに係る金属錯体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属錯体組成物、それらの製造及びエチレン性不飽和付加重合性モノマーの（ホモ）重合によって又はエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合によってポリマーを製造する触媒としてのそれらの使用に関する。
【０００２】
更に詳しくは、本発明は、金属錯体、それらの製造及び共役エチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合によって又は共役エチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合によって共役ジエンのポリマーを製造する触媒としてのそれらの使用に関する。
【０００３】
使用する金属錯体組成物はランタニド及びアクチニドを含む第３族金属の化合物、好ましくはランタニド化合物、より好ましくはネオジム化合物と活性剤化合物及び場合によっては触媒担体との組合せである。
【０００４】
更に詳しくは、本発明は、少なくとも１個の金属−窒素又は金属−燐結合及びその他に少なくとも１個の金属ハロゲン化物結合、より詳細には少なくとも１個の金属−窒素結合及び少なくとも１個の金属ハロゲン化物結合を含む金属錯体及び触媒の製造並びに共役ジエンのホモポリマー又はコポリマーの製造、好ましくはこれらに限定されるものではないが、１，３−ブタジエンのホモ重合又は１，３−ブタジエンとスチレン又はイソプレンとの共重合による共役ジエンのホモポリマー又はコポリマーの製造用に製造された触媒を使用することに関する。より好ましくは、コポリマーのポリジエン又はポリジエン配列は主にシス単位を含む。
【背景技術】
【０００５】
共役エチレン性不飽和付加重合性モノマーからのポリマー及びそれらの製造用金属錯体触媒は公知である。
【０００６】
ポリマーの分子量及び分子量分布並びにポリジエン部分の微細構造、例えばポリブタジエンの場合にはシス−１，４−、トランス−１，４−及び１，２−ポリブタジエン比についての知識は、望ましい性質を有するポリマーの製造に非常に重要である。いくつかの特許が、得られるポリジエンのいくつかの特性を記載しているが、重合活性を向上させ、且つ魅力的なポリマーシス選択性を保持しながらポリマーの分子量を変化させるための努力はほとんどなされていない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
金属錯体上の配位子の種類及び配列がポリマーの微細構造に対して支配的な影響を及ぼし得るのに対して、金属錯体（プレ触媒）（ｐｒｅｃａｔａｌｙｓｔ）と助触媒との混合物が、ポリマーの分子量及び重合反応の重合活性に支配的な影響を及ぼし得ることを認識することは有益であろう。ポリジエンの望ましい高シス選択性は、適当なプレ触媒を特異的な活性剤と組合せて選択することによって達成し得るが、活性剤成分を含む同一反応条件下におけるプレ触媒の交換はより高いトランス比をもたらす。他方、適当な型及び量の助触媒を選択することによって、ポリジエンの分子量及び重合反応の重合活性を調整することが望ましい。更に、化合物の取り扱い及び貯蔵がより容易にできるように、室温及びそれより高温において乾燥状態で及び溶液中で安定な触媒前駆体及び触媒が必要とされている。さらに、触媒又は触媒成分をそれほど長時間、エージング（攪拌、振盪又は貯蔵）させる必要なく、重合反応器に直接注入し得る触媒成分が得られれば望ましい。特に、溶液重合法又は連続重合法に関しては、液体又は溶解触媒又は触媒成分は、重合容器中への正確な計量供給により適当である。さらに、失活することなく、より長時間、広い温度範囲において安定且つ効率的な共役ジエン用の高活性重合触媒を得ることが非常に望ましい。また、高シス含量且つ高分子量のポリジエンを効率的に製造できれば有益である。高比率のシス−１，４−ポリブタジエンを有する高分子量ポリブタジエンはタイヤのトレッド又はサイドの製造に魅力的な材料である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合又は１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合用の金属錯体が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の一実施態様によれば、式Ｉａ及びＩｂ：
【００１０】
【化１】
2011093934.tif 000002
【００１１】
［式中、ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム若しくは元素周期表の第３族の金属又はアクチニド元素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の１つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
ＲA、ＲB、ＲC及びＲDは、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
基ＲA及び／又はＲBはいずれも、Ｔ−ＭI−Ｔ結合基を介する場合を除いて、基ＲC及び／又はＲDのいずれにも結合せず；
Ｘは、それぞれ独立に、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘはアミド基、燐化物基、ＭI若しくはＭIIにπ結合した環状非局在化芳香族基又はＭI若しくはＭIIにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｄは、それぞれ独立に、３０個以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基配位子であり；
ｓは０又は１の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｐは１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜５の数の１つであり；且つ
ｙは１〜２０の数の１つである］
の１つに対応する金属錯体が提供される。
【００１２】
この金属錯体の式量は、好ましくは２５，０００ｇ／モル未満、より好ましくは２０，０００ｇ／モル未満である。
【００１３】
本発明によれば、更に、１当量の、式ＩＩに対応する第３族金属、ランタニド又はアクチニド化合物と１当量超で且つ３当量未満の、式ＩＩＩａ及び／又はＩＩＩｂ
【００１４】
【化２】
2011093934.tif 000003
【００１５】
［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、ＲA、ＲB、ＲC、ＲD、ｔ、Ｄ及びＸは前記定義の通りであり；
ｎはゼロ又は１の数であり；且つ
ｕは１又は２の数である］
に対応する第１族又は第２族錯体との組合せから得られる金属錯体が提供される。
【００１６】
本発明によれば、更に、式Ｉａ及びＩｂ［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、ＲA、ＲB、ＲC、ＲD、Ｘ、Ｄ、ｏ、ｓ、ｐ、ｔ及びｙは前記定義の通りであり；基ＲA及び／又はＲBはいずれも、Ｔ−ＭI−Ｔ結合基を介する場合を除いて、基ＲC及び／又はＲDのいずれにも結合しない］の１つに対応する金属錯体の製造方法であって、式ＩＩ［式中、ＭI、Ｘ、ｔ及びＤは前記定義の通りである］の化合物を式ＩＩＩａ及び／又はＩＩＩｂ［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、ＲA、ＲB、ＲC、ＲD、ｔ、Ｄ及びＸは前記定義の通りであり；ｎはゼロ又は１の数であり；且つｕは１又は２の数である］に対応する、１当量超で且つ３当量未満の第１族又は第２族化合物とを接触させることを含んでなる方法が提供される。
【００１７】
本発明に係る別の実施態様においては、式ＶＩＩの１つに対応する金属錯体が提供される。
【００１８】
【化３】
2011093934.tif 000004
【００１９】
｛式中、ＭIは元素周期表の第３族、第４族若しくは第５族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であり；
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の１つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
Ｐは炭素原子、窒素原子又は燐原子であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；且つ基Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに結合することができ；
Ｙは２つの基を結合させる二価架橋基であって、１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり、好ましくはＹは（ＣＲ112）a又は（ＣＲ132）bＯ（ＣＲ142）c又は（ＣＲ152）dＳ（ＣＲ162）e又は１，２−二置換芳香環系［Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルである］であり；
Ｘ1、Ｘ2は、それぞれ独立に、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ1、Ｘ2は、Ｍにπ結合した非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｄは、それぞれ独立に、３０個以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基配位子であり；
ｓは０、１、２、３又は４の数であり（好ましくは０、１、３又は４であり）；
ｏは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ、ｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４の数であり；
ｐは１又は２の数であり；
ｍは０又は１の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜５の数の１つであり；且つ
ｙは１〜２０の数の１つである｝。
【００２０】
ｉ及びｉｉはそ、れぞれ独立に、好ましくは０、１、２又は３の数であり；好ましくは、ｉとｉｉとの合計は１、２、３又は４の数の１つを表し、従ってゼロであることができない（ｉ＋ｉｉ≠０）。
【００２１】
前記金属錯体の式量は、好ましくは２５，０００ｇ／モル未満、より好ましくは２０，０００ｇ／モル未満である。
【００２２】
本発明によれば、更に、式ＶＩＩＩに対応する化合物と式ＩＸに対応する化合物との反応によって生じる金属錯体が提供される。
【００２３】
【化４】
2011093934.tif 000005
【００２４】
［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｙ、Ｐ、Ｄ、Ｘ1、ｍ及びｔは前記定義の通りである］。
【００２５】
本発明によれば、更に、式ＶＩＩａ、ＶＩＩｂ及びＶＩＩｃ： 
【００２６】
【化５】
2011093934.tif 000006
【００２７】
［式中、ＭII、Ｔ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｙ、Ｐ、Ｄ、Ｘ1、Ｘ2、ｋ、ｓ、ｐ、ｔ、ｏ及びｙは前記定義の通りであり；
ＭIは、元素周期表第３族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であり；
ｉ及びｉｉは、それぞれ独立に、前記定義の通りであり、好ましくは０、１、２又は３の数であり；好ましくは、ｉとｉｉとの合計は１、２、３又は４の数の１つであり、従ってゼロであることはできず（ｉ＋ｉｉ≠０）；且つ
Ｃは炭素原子である］
の１つに対応する金属錯体の製造方法であって、
式ＶＩＩＩ：
ＭI（Ｘ1）3＊ｔＤ
［式中、ＭI、Ｄ、ｔ及びＸ1は前記定義の通りである］
の化合物を式ＩＸａ、ＩＸｂ又はＩＸｃ：
【００２８】
【化６】
2011093934.tif 000007
【００２９】
［式中、ＭII、Ｔ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｙ、Ｄ及びｔは前記定義の通りであり；Ｃは炭素原子である］
に対応する化合物の１つと接触させることを含む方法が提供される。
【００３０】
本発明によれば、好ましくは、Ｘ1はフッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子であり、Ｔは窒素原子である。
【００３１】
更に好ましくは、ＭIIは元素周期表第１族の原子である。
【００３２】
好ましい一実施態様においては、式ＶＩＩＩ：
ＭI（Ｘ1）3＊ｔＤ
｛式中、ＭI、Ｄ及びｔは前記定義の通りであり、Ｘ1はフッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又はヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素を数えず）を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］である｝
の化合物を、式ＩＸｄ／ｅ又はＩＸｆ：
【００３３】
【化７】
2011093934.tif 000008
【００３４】
［式中、ＭII、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｄ、Ｎ及びｔは前記定義の通りであり、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルである］
の１つの化合物と溶媒中で接触させる。
【００３５】
好ましい一実施態様においては、式ＶＩＩＩ：
ＭI（Ｘ1）3＊ｔＤ
［式中、Ｄ及びｔは前記定義の通りであり；ＭIはランタニド金属であり；Ｘ１はフッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子である］
の化合物１当量を、式ＩＸｄ／ｅ及びＩＸｆ（前記参照）［式中、ＭII、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｄ、Ｎ及びｔは前記定義の通りであり、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルである］
に対応する１つの化合物と溶媒中で接触させる。
【００３６】
本発明によれば、好ましくは、ＭIは金属ネオジム、ランタン、セリウム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム又はジスプロシウムの１つであり、更に好ましくはＭIはネオジムである。
【００３７】
前述したものは、以下に詳述するように、１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合又は１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合に有用である。
【００３８】
本発明によれば、更に
１）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤（助触媒）及び、場合によっては、担体（担体材料）との組合せ；又は
２）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤及び、場合によっては、担体とを接触させることによって形成された反応生成物；
３）１種又はそれ以上の前記金属錯体及び、場合によっては、担体を活性化法に供することによって形成された生成物
を含んでなる、１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合又は１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合用の触媒が提供される。
【００３９】
本発明は、また、１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合用又は１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合用の触媒の製造方法であって、（１）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤及び、場合によっては、担体とを接触させるか、あるいは（２）１種又はそれ以上の前記金属錯体及び、場合によっては、担体を活性化法に供することを含んでなる方法を提供する。
【００４０】
本発明は、また、１種又はそれ以上のエチレン性不飽和付加重合性モノマーを重合条件下で、場合によっては、不活性脂肪族、脂環式若しくは環状又は芳香族炭化水素の存在下において、
１）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤及び、場合によっては、担体との組合せ；又は
２）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤及び、場合によっては、担体とを接触させることによって形成された反応生成物；
３）１種又はそれ以上の前記金属錯体及び、場合によっては、担体を活性化法に供することによって形成された生成物
を含む触媒と接触させることを含んでなる重合方法を提供する。
【００４１】
前記重合は、溶液、懸濁液、スラリー又は気相プロセス条件下で実施でき、触媒又はその個々の成分はプロセス条件に従って、不均一状態で、即ち、担持された状態で使用することもできるし、又は均一状態でも使用できる。触媒は、同一又は異なる性質の１種又はそれ以上の追加触媒と組合せて、同一反応器中で同時に若しくは連続して、且つ／又は別の反応器中で連続して使用できる。触媒は、１種又はそれ以上のエチレン性不飽和付加重合性モノマーを含んでなる反応混合物の存在下において、インシトゥ（ｉｎ  ｓｉｔｕ）で、又は該反応混合物への添加前に形成できる。
【００４２】
本発明によれば、１種のエチレン性不飽和付加重合性モノマー、特に１種の共役エチレン性ポリ不飽和付加重合性モノマーを含むホモポリマーが提供される。
【００４３】
本発明によれば、更に、１種より多いエチレン性不飽和付加重合性モノマー、特に、共役エチレン性ポリ不飽和付加重合性モノマーと第２の型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの組合せを含むコポリマーが提供される。
【００４４】
エチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合用触媒、好ましくは共役エチレン性ポリ不飽和付加重合性モノマーの重合用触媒は、本発明によれば、改良された触媒特性を有し、共役ジエンの重合に特に有用である。更に、本発明の錯体は、それらの触媒特性に悪影響を与えずに、モノマー不純物を掃去するのに使用できるアルキルアルミニウム化合物と相溶性であり、それらと組合せて使用できる。
【００４５】
本発明のホモポリマー及びコポリマーは、多くの有用な形状、成形品、フィルム、発泡体、ゴルフボール、タイヤ、ホース、コンベヤー及び他のベルト、ガスケット、シール、靴の製造に、また、プラスチックの改質に使用できる。
【００４６】
本明細書中における元素周期表への言及は全て１９８９年にＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．が発行し且つ著作権を有する元素周期表を参照するものとする。また、１種又はそれ以上の族への言及は全てこの元素周期表において、族の番号付けにＩＵＰＡＣ系を用いて示された１種又はそれ以上の族への言及とする。
【００４７】
用語「中性ルイス塩基配位子」とは、本発明の金属錯体の金属原子に対して配位結合を形成できるのに充分な求核性を有する、荷電していない基を意味する。好ましい中性ルイス塩基配位子基Ｄは一酸化炭素、アセチルアセトネート、エーテル、チオエーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、ホスフィン類、ホスファイト類、ポリホスフィン、アルコール、ニトリル、エステル、オレフィン及び共役ジエンである。本発明に係る金属錯体は、中性ルイス塩基配位子の配位子錯体として存在できる。
【００４８】
式ＩＶａ又はＩＶｂ：
【００４９】
【化８】
2011093934.tif 000009
【００５０】
の１つに対応する、本発明に係る好ましい金属錯体において、
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の１つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム又はプロメチウムであり；
ＲA及びＲBはヒドロカルビル、特にアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリール、さらにとりわけ、メチル、エチル、１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル、シクロヘキシル、フェニル、２，６−ジアルキルフェニル、ベンジル、トリメチルシリル及びヒドロカルビルシリルであり；且つ２つの配位子（ＲA）（ＲB）Ｔは、ＭI結合基を介する場合を除いて、互いには結合せず；
Ｄは、それぞれ独立に、一酸化炭素；ホスフィン類ＰＲi3及びホスファイト類Ｐ（ＯＲi）3［式中、Ｒiはそれぞれ独立に、ヒドロカルビル、シリルである］、特にトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン及び１，２−ビス（ジメチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリフェニルホスファイト；チオエーテル、特にジメチルチオエーテル、メチルフェニルチオエーテル、ジエチルチオエーテル；エーテル及びポリエーテル、特にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）；アミン及びポリアミン、特にピリジン、ビピリジン、ピロリジン、ピペリジン、テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）及びトリエチルアミン（ＴＥＡ）；オレフィン、特にエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン、スチレン、ジビニルベンゼン；炭素数４〜４０の共役ジエン、特にブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，４−ヘキサジエン；アルコール、特にメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール；ニトリル、特にアセトニトリル、アクリロニトリル、プロパンニトリル、ベンゾニトリル；エステル、特に酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、安息香酸メチルから選ばれ；
Ｘ基は、フッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又はヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、又は−ＯＲ基［式中、Ｒはそれぞれ独立して水素、又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり、より好ましい基はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
ｓは０又は１の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｐは１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜３の数の１つであり；且つ
ｙは１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０の数である。
【００５１】
この金属錯体の式量は、好ましくは２０，０００ｇ／モル未満、より好ましくは１５，０００ｇ／モル未満である。
【００５２】
ＭIは、好ましくはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウムを含んでなり、より好ましくはネオジムである。
【００５３】
ＭIIは、好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウム又はマグネシウム原子を含んでなる。
【００５４】
Ｔは、好ましくは窒素を含む。
【００５５】
Ｄは、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）を含む。
【００５６】
Ｘは、好ましくはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子であり、Ｔは窒素原子である。
【００５７】
ＭIIは、更に好ましくは元素周期表の第１族の原子であり、ｎはゼロの数である。
【００５８】
更に好ましくは、ＲAとＲCとが同一であるように選び、ＲBとＲDとが同一であるように選ぶ。
【００５９】
好ましい一実施態様において、式ＩＩ［式中、Ｘ基はフッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又はヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、又は−ＯＲ基（式中、Ｒは、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである）である］の化合物を、１当量より多く且つ３当量未満の、式ＩＩＩａ及びＩＩＩｂの第１族又は第２族化合物と溶媒中で接触させる。
【００６０】
本発明に係る好ましい金属錯体は、１当量の、式ＩＩに対応する第３族金属、ランタニド又はアクチニド化合物と、１．５当量より多く且つ２．５当量未満の、式ＩＩＩｃ：
【００６１】
【化９】
2011093934.tif 000010
【００６２】
［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、ＲA、ＲB、ｔ、Ｄ及びＸは前記定義の通りであり；Ｔは好ましくは窒素である］
に対応する第１族化合物との反応によって得られた金属錯体である。
【００６３】
本発明に係る特に好ましい金属錯体は式Ｖａ又はＶｂに対応する：
【００６４】
【化１０】
2011093934.tif 000011
【００６５】
｛式中、
ＲA、ＲB及びｔは前記定義の通りであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム又はプロメチウムであり；
Ｎは窒素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族の金属、特にリチウム、ナトリウム又はカリウムであり；
Ｘは、それぞれ独立に、フッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり、より好ましい基はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ、ＴＥＡ、ＴＭＥＤＡ、Ｅｔ2Ｏであり；
ｏは１の数であり；
ｐは１の数であり；
ｓは０又は１の数であり；且つ
ｙは１、２、３、４、５又は６の数であり；且つ
２つの配位子（ＲA）（ＲB）Ｎは、ＭI結合基を介する場合を除いて、互いには結合しない｝。
【００６６】
この金属錯体の式量は、好ましくは１５，０００ｇ／モル未満、より好ましくは９，０００ｇ／モル未満である。
【００６７】
本発明に係る特に好ましい金属錯体は、１当量の、式ＩＩに対応するランタニド化合物と、１．５当量より多く且つ２．５当量未満の、式ＩＩＩｃ［式中、ＭIIは第１族金属である］に対応する第１族化合物との反応によって得られた金属錯体である。
【００６８】
更に好ましい実施態様においては、１当量の、式ＩＩ［式中、ＭIはネオジムであり、ｔ及びＤは前記定義の通りであり、Ｘはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子である］の化合物を、１．５当量より多く且つ２．５当量未満の、式ＩＩＩｃ［式中、ＲA及びＲBは前記定義の通りであり、ＭIIは元素周期表の第１族の原子である］に対応する第１族化合物とを溶媒中で接触させる。
【００６９】
本発明に係る最も好ましい金属錯体は、式ＶＩａ又はＶＩｂに対応する。
【００７０】
【化１１】
2011093934.tif 000012
【００７１】
［式中、ＲA及びＲBはアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリール、特にメチル、エチル、１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル、シクロヘキシル、フェニル、２，６−ジアルキルフェニル、ベンジル、トリメチルシリル及びベンジル（ジメチル）シリル、ｔ−ブチル（ジメチル）シリル、ｎ−ブチル（ジメチル）シリルであり；且つＲAとＲBとは、Ｎ結合基を介する場合を除いて、互いには結合せず；
Ｎｄはネオジムであり；
ＭIIはリチウム、ナトリウム又はカリウムであり；
Ｘはフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ又はＥｔ2Ｏであり；
ｔは０、１、２又は３の数であり；
ｓは０の数であり；
ｙは１、２、３又は４の数である］。
【００７２】
この金属錯体の式量は好ましくは６，０００ｇ／モル未満である。
【００７３】
金属錯体は、好ましくはシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニル配位子のようなハプト−５−結合配位子（これらに限定されるものではない）並びにアリル又はペンタジエニル配位子（これらに限定されるものではない）のようなハプト−３−結合配位子を含まない。
【００７４】
本発明に係る金属錯体の非限定的代表例としては、以下のネオジム錯体が挙げられる。
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチルメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジクロロネオジメート］；
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ナトリウム［ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ジヨードネオジメート］；
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カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチル−シリル）アミド）ジヨードネオジメート］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジフルオロネオジメート］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジブロモネオジメート］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジクロロネオジメート］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジヨードネオジメート］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジフルオロネオジメート］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジクロロネオジメート］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジブロモネオジメート］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジヨードネオジメート］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジフルオロネオジメート］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジクロロネオジメート］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ジブロモネオジメート］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−べンジル−シリル）アミド）ジヨードネオジメート］。
【００７５】
当業者ならば、前記リストの追加の構成員として、対応するルイス塩基付加物及びその第１族金属ハロゲン化物付加物が挙げられることがわかるであろう。
【００７６】
本発明に係る金属錯体の非限定的代表例として、以下のネオジム錯体が挙げられる。
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−−ｔ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−−ｔ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ベンジル−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ベンジル−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−イソ−ブチルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−フェニル−Ｎ−ベンジルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−フェニル−Ｎ−ベンジルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−フェニル−Ｎ−ベンジルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−フェニル−Ｎ−ベンジルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ピロリルアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ピロリルアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ピロリルアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ピロリルアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ−ピペリジノアミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ−ピペリジノアミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ−ピペリジノアミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ−ピペリジノアミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル）アミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル）アミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル）アミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル）アミド）ネオジムヨージド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ネオジムフルオリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ネオジムクロリド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ネオジムブロミド；
ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド）ネオジムヨージド。
【００７７】
当業者ならば、前記リストの追加の構成員として、対応するルイス塩基付加物及びその第１族金属ハロゲン化物付加物が挙げられることがわかるであろう。
【００７８】
式ＶＩＩａ、ＶＩＩｂ又はＶＩＩｃ（式は前記参照）の１つに対応する、本発明に係る特に好ましい金属錯体は、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6が、ヒドロカルビル、特にアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリール、更にとりわけ、メチル、エチル、１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル、シクロヘキシル、フェニル、２，６−ジアルキルフェニル、ベンジル、トリメチルシリル及びヒドロカルビルシリルであり；
Ｄが、それぞれ独立に、一酸化炭素；ホスフィン類ＰＲi3及びホスファイト類Ｐ（ＯＲi）3［式中、Ｒiは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル、シリルである］、特にトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン及び１，２−ビス（ジメチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリフェニルホスファイト；チオエーテル、特にジメチルチオエーテル、メチルフェニルチオエーテル、ジエチルチオエーテル；エーテル及びポリエーテル、特にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）；アミン及びポリアミン、特にピリジン、ビピリジン、ピロリジン、ピペリジン、テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）及びトリエチルアミン（ＴＥＡ）；オレフィン、特にエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン、スチレン、ジビニルベンゼン；炭素数４〜４０の共役ジエン、特にブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，４−ヘキサジエン；アルコール、特にメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール；ニトリル、特にアセトニトリル、アクリロニトリル、プロパンニトリル、ベンゾニトリル；エステル、特に酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、安息香酸メチルから選ばれ；
Ｘ1が、それぞれ独立に、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ1がアミド基、燐化物基、Ｍにπ結合した環状非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；特にＸ1基はフッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又はヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に、又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり、より好ましい基がフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
Ｘ2が、それぞれ独立に、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ2が、Ｍにπ結合した環状非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；特にＸ2基は、ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、シリル基、又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり、より好ましい基がアルキル又はアリールであり；
ｉ、ｉｉが、それぞれ独立に、前記定義の通りであるか、又は好ましくは０、１、２又は３の数であり；好ましくはｉとｉｉとの合計が、１、２、３又は４の数の１つを表し、従って、ゼロであってはならず（ｉ＋ｉｉ≠０）；ＭII、Ｔ、Ｙ、ｋ、ｓ、ｐ、ｏ、ｙ及びｔが前記定義の通りであり；
１当量の、式ＶＩＩＩ（前記参照）の化合物と０．３当量より多く且つ４当量未満の、式ＩＸａ、ＩＸｂ又はＩＸｃ（前記参照）に対応する化合物の１つとを接触させることを含んでなる。
【００７９】
本発明に係る特に好ましい金属錯体は、式ＶＩＩｄ、ＶＩＩｅ又はＶＩＩｆ：
【００８０】
【化１２】
2011093934.tif 000013
【００８１】
［式中、ＭI、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、ＭII、Ｘ1、Ｘ2、Ｙ、Ｄ、ｋ、ｓ、ｐ、ｏ、ｙ、ｉ、ｉｉ及びｔは前記定義の通りである］
の１つに対応し、この金属錯体の式量は好ましくは１０，０００ｇ／モル未満であり；１当量の、式ＶＩＩＩ（前記参照）の化合物と０．５当量より多く且つ３当量未満の、式ＩＸｄ／ｅ又はＩＸｆ（前記参照）に対応する化合物の１つとを溶媒中で接触させることを含む。
【００８２】
ＭIは、好ましくはランタニド金属、より好ましくはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウムを含み；
ＭIIは、好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウム又はマグネシウム原子、より好ましくはリチウム、ナトリウム及びカリウムを含み；
Ｄは、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル（Ｅｔ２Ｏ）、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）を含む。
【００８３】
本発明に係る、さらに特に好ましい金属錯体は、１当量の、式ＶＩＩＩ（前記参照）に対応するランタニド化合物と、式ＩＸｄ／ｅ又はＩＸｆ（前記参照）に対応する化合物の１つとの反応によって得られた、式ＶＩＩｇ、ＶＩＩｈ又はＶＩＩｉ：
【００８４】
【化１３】
2011093934.tif 000014
【００８５】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＸ2はアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリール、特にメチル、エチル、１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル、シクロヘキシル、フェニル、２，６−ジアルキルフェニル、ベンジル、トリメチルシリル及びベンジル（ジメチル）シリル、ｔ−ブチル（ジメチル）シリル、ｎ−ブチル（ジメチル）シリルであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、好ましくはＭIはネオジムであり；
Ｎは窒素であり；
ＭIIはリチウム、ナトリウム又はカリウムであり；
Ｘ1はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
Ｘ2はヒドロカルビル、特にアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリール、とりわけメチル、エチル、１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル、シクロヘキシル、フェニル、２，６−ジアルキルフェニル、ベンジル、トリメチルシリル及びヒドロカルビルシリルであり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ又はＥｔ２Ｏであり；
ｔは０、１、２、３、４、５又は６の数であり；
ｓは０、１又は２の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ、ｉｉは０、１又は２の数であり；好ましくはｉとｉｉとの合計は１、２又は３の数の１つを表し、従ってゼロであることができない（ｉ＋ｉｉ≠０）］
の１つに対応する金属錯体であり、この金属錯体の式量は好ましくは６，０００ｇ／モル未満である。
【００８６】
金属錯体は、好ましくはシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニル配位子（これらに限定されるものではない）のようなヘプト５結合配位子を含まない。
【００８７】
一般に、錯体は、式ＭI（Ｘ1）3＊ｔD（式ＶＩＩＩ）に対応する第３族、第４族若しくは第５族金属、ランタニド又はアクチニド化合物を、式ＩＸ、ＩＸａ、ＩＸｂ、ＩＸｃ、ＩＸｄ／ｅ若しくはＩＸｆ［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｙ、Ｐ、Ｄ、Ｘ、Ｘ1、Ｘ2、ｎ、ｍ、ｉ、ｉｉ、ｓ、ｐ、ｏ、ｙ、ｋ及びｔは前記定義の通りである］に対応する化合物又はそれらのルイス塩基付加物の１つと、第３族、第４族若しくは第５族金属、ランタニド又はアクチニド化合物（式ＶＩＩＩ）対式ＩＸ、ＩＸａ、ＩＸｂ、ＩＸｃ、ＩＸｄ／ｅ若しくはＩＸｆの１つに対応する化合物のモル比を１：０．１〜１：５．０、好ましくは１：０．３〜１：３．０、より好ましくは１：０．５〜１：２．７、最も好ましくは１：０．８〜１：２．５として、適当な非干渉性溶媒又は反応媒体中で−１００℃〜３００℃、好ましくは−７８℃〜１５０℃、最も好ましくは−２０℃〜１２５℃の温度において接触させることによって製造できる。
【００８８】
「非干渉性」とは、溶媒が式ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩｂ、ＶＩＩｃ、ＶＩＩｄ、ＶＩＩｅ、ＶＩＩｆ、ＶＩＩｇ、ＶＩＩｈ又はＶＩＩｉの金属錯体の形成を妨げないことを意味する。錯体の形成に適当な反応媒体は脂肪族及び芳香族炭化水素及びハロ炭化水素、エーテル、アミン、アルコール、アミド、ニトリル及びエステルである。例としては、直鎖及び分岐鎖炭化水素、例えばイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びそれらの混合物；環状及び脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン及びそれらの混合物；塩素化、フッ素化又はクロロフッ素化炭化水素、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及びペルフルオロ化Ｃ4〜Ｃ10アルカン；芳香族及びヒドロカルビル置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びスチレン；各アルキル基の炭素数が１〜４のアルキルエーテル、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ及びジオキサン；（ポリ）アルキレングリコールのＣ1〜Ｃ4ジアルキルエーテル誘導体、例えばＤＭＥ；芳香族又は脂肪族アミン、例えばテトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）及びトリエチルアミン（ＴＥＡ）；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）及びジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）；ニトリル、特にアセトニトリル、プロパンニトリル、ベンゾニトリル；エステル、特に酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ブチルが挙げられる。これらの混合物もまた適当である。好ましい溶媒としては、ジエチルエーテル、トルエン、ＤＭＥ及びＴＨＦが挙げられる。
【００８９】
回収方法は通常、反応媒体及び／又は任意の考えられる副生成物及び／又は未反応出発原料からの生成物の分離を含む。溶媒及び他の揮発性成分は、反応媒体の脱揮によって有利に除去する。所望ならば、第２の溶媒への抽出を使用できる。抽出を使用する場合には、無極性脂肪族、芳香族又は塩素化溶媒、例えばペンタン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム又はジクロロメタン及びそれらの混合物（これらに限定されるものではない）を使用できる。あるいは、目的生成物が不溶性沈殿物である場合には、濾過又は他の分離方法を使用できる。
【００９０】
本発明の式ＶＩＩＩの第３族、ランタニド又はアクチニド化合物に関する非限定的代表例としては以下のネオジム化合物が挙げられる。三臭化ネオジム；三塩化ネオジム；三ヨウ化ネオジム；三フッ化ネオジム、塩化二臭化ネオジム；臭化二塩化ネオジム；フッ化二臭化ネオジム；臭化二フッ化ネオジム；フッ化二塩化ネオジム；及び塩化二フッ化ネオジム。
【００９１】
当業者ならば、前記リストの追加の構成員として、対応するルイス塩基付加物が挙げられることがわかるであろう。
【００９２】
一般に、前記錯体は、適当な非干渉性溶媒又は反応媒体中で−１００℃〜３００℃、好ましくは−７８℃〜１５０℃、最も好ましくは０℃〜１２５℃の温度において、式ＩＩ（前記参照）に対応する第３族金属、ランタニド又はアクチニド化合物と、式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂ（前記参照）に対応する第１族若しくは第２族化合物又はそれらのルイス塩基付加物とを接触させることによって製造でき、第３族金属、ランタニド又はアクチニド化合物（式ＩＩ）対第１族化合物（式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂ）のモル比は１：０．１〜１：２．８、好ましくは１：０．５〜１：２．５、より好ましくは１：１．１〜１：２．５、最も好ましくは１：１．５〜１：２．５であり；第３族金属、ランタニド又はアクチニド化合物（式ＩＩ）対第２族化合物（式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂ）のモル比は１：０．０５〜１：１．４、好ましくは１：０．２５〜１：１．２５、より好ましくは１：０．６〜１：１．２５、最も好ましくは１：０．７５〜１：１．２５である。
【００９３】
［非干渉性］とは、溶媒が式Ｉａ、Ｉｂ、ＩＶａ、ＩＶｂ、Ｖａ、Ｖｂ、ＶＩａ又はＶＩｂの金属錯体の形成を妨げないことを意味する。錯体の形成に適当な反応媒体は、脂肪族及び芳香族炭化水素及びハロ炭化水素、エーテル、アミン、アルコール、アミド、ニトリル及びエステルである。例としては、以下のものが挙げられる。直鎖及び分岐鎖炭化水素、例えば、イソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びそれらの混合物；環状及び脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン及びそれらの混合物；塩素化、フッ素化又はクロロフッ素化炭化水素、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及びペルフルオロ化Ｃ4〜Ｃ10アルカン；芳香族及びヒドロカルビル−置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びスチレン；各アルキル基の炭素数が１〜４であるアルキルエーテル、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ及びジオキサン；（ポリ）アルキレングリコールのＣ1〜Ｃ4ジアルキルエーテル誘導体、例えばＤＭＥ；芳香族又は脂肪族アミン、例えばテトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）及びトリエチルアミン（ＴＥＡ）；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）及びジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）；ニトリル、特にアセトニトリル、プロパンニトリル、ベンゾニトリル；エステル、特に酢酸メチル及び酢酸ブチル。前記溶媒の混合物も適当である。好ましい溶媒としては、ジエチルエーテル、トルエン、ＤＭＥ及びＴＨＦが挙げられる。
【００９４】
回収方法は通常、反応媒体及び／又は考えられる任意の副生成物及び／又は未反応出発原料からの生成物の分離を含む。溶媒及び他の揮発性成分は、反応媒体の脱揮によって有利に除去される。所望ならば、第２の溶媒中への抽出を使用できる。抽出を用いる場合には、無極性の脂肪族、芳香族又は塩素化溶媒、例えばペンタン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム又はジクロロメタン及びそれらの混合物（これらに限定されものではない）を使用できる。あるいは、目的生成物が不溶性沈殿物である場合には、濾過又は他の分離方法を使用できる。
【００９５】
本発明の式ＩＩの第３族金属、ランタニド又はアクチニド化合物に関する非限定的代表例としては、以下のネオジム化合物が挙げられる。三臭化ネオジム；三塩化ネオジム；三ヨウ化ネオジム；三フッ化ネオジム、塩化二臭化ネオジム；臭化二塩化ネオジム；フッ化二臭化ネオジム；臭化二フッ化ネオジム；フッ化二塩化ネオジム；及び塩化二フッ化ネオジム。
【００９６】
当業者ならば、前記リストの追加の構成員として、それらの対応するルイス塩基付加物が挙げられることがわかるであろう。
【００９７】
本発明に係る式ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｃ又はＩＩＩｄの、第１族又は第２族化合物の非限定的代表例として、以下の化合物が挙げられる。
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジデシルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｓ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｓ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｓ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｓ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−プロピルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミド）］；
リチウム［（Ｎ，Ｎ−フェニルベンジルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ，Ｎ−フェニルベンジルアミド）］；
カリウム［（Ｎ，Ｎ−フェニルベンジルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ，Ｎ−フェニルベンジルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ピロリルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ピロリルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ピロリルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ピロリルアミド）］；
リチウム［（Ｎ−ピペリジルアミド）］；
ナトリウム［（Ｎ−ピペリジルアミド）］；
カリウム［（Ｎ−ピペリジルアミド）］；
マグネシウム［（Ｎ−ピペリジルアミド）］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミド］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミド］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミド］；
マグネシウム［Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミド］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチル−シリル）アミド］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチル−シリル）アミド］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチル−シリル）アミド］；
マグネシウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチル−シリル）アミド］；
リチウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド］；
ナトリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド］；
カリウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド］；
マグネシウム［Ｎ，Ｎ−ビス（ジメチル−ベンジル−シリル）アミド］。
【００９８】
当業者ならば、前記リストの追加の構成員として、対応するルイス塩基付加物及びその第１族金属ハロゲン化物付加物が挙げられることがわかるであろう。
【００９９】
エチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合において、又はエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合において、有用な本発明に係る触媒組成物、好ましくは共役エチレン性不飽和付加重合性モノマーの重合において、又は共役エチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合において、有用な本発明に係る触媒組成物は、
１）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤（助触媒）及び、場合によっては、担体との組合せ；又は
２）１種又はそれ以上の前記金属錯体と１種又はそれ以上の活性剤及び、場合によっては、担体とを接触させることによって形成された反応生成物；あるいは
３）１種又はそれ以上の前記金属錯体及び、場合によっては、担体を活性化法に供することによって形成された生成物
を含む。
【０１００】
触媒組成物は、１）１種若しくはそれ以上の金属錯体を１種若しくはそれ以上の活性剤及び、場合によっては、担体と接触させるか、又は２）１種又はそれ以上の前記金属錯体を、場合によっては、担体の存在下で活性化法に供する方法において、前記金属錯体を触媒活性にすることによって形成する。
【０１０１】
活性剤又は助触媒を用いた又は活性化法による金属錯体の活性化方法は、活性化化合物の単離を場合によっては含む別の反応工程において実施することもできるし、あるいは好ましくは、例えば重合反応器中においてインシトゥ（ｉｎ  ｓｉｔｕ）で又は重合反応器の直前のエージング反応器中で実施することもできる。金属錯体の活性化後に活性化錯体の分離及び／又は精製が必要ない場合には、活性化は好ましくはインシトゥ（ｉｎ  ｓｉｔｕ）で実施する。金属錯体の活性化方法は、適当な非干渉性溶媒又は反応媒体中で−７８℃〜２５０℃、好ましくは−５℃〜１６０℃、より好ましくは１０℃〜１１０℃の温度において実施する。触媒組成物の形成に適当な反応媒体は、脂肪族及び芳香族炭化水素及びハロ炭化水素である。例としては、直鎖及び分岐鎖炭化水素、例えばイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びそれらの混合物；環状及び脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン及びそれらの混合物；塩素化、フッ素化又はクロロフッ素化炭化水素、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及びペルフルオロ化Ｃ4〜Ｃ10アルカン；芳香族及びヒドロカルビル−置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びスチレンが挙げられる。有利には、活性化に使用する反応媒体は、それに続く重合に使用するのと同じ反応媒体であり、その際には第２の溶媒系を使用せずにすむ。前記反応媒体の他に、この例としては、石油化学工業において溶媒として市販されている、ヘプタン又は鉱油フラクション、例えば軽若しくはレギュラーガソリン、ナフサ、ケロシン又は軽油及び他の安価な脂肪族炭化水素又はそれらの混合物が挙げられる。本発明の利点は、本発明に係る金属錯体触媒前駆体を、室温で又は高温、例えば５０℃（これに限定されるものではない）ですら、固体状態において長期間貯蔵できることである。さらに、適当な溶媒中の触媒溶液もまた、室温で少なくとも数時間貯蔵できる。これは、工場における生産の融通性を高める。本発明の更なる利点は、本発明の触媒が通常、別のエージング工程を必要としない（ラン１〜１１、１３、１６、１８参照）ことであり、任意のエージング工程を使用するのが望ましい場合には、長いエージング時間を必要としない（ラン１２、１７参照）ので有利である。従って、触媒成分を望ましい順序で重合反応器中に添加するだけで、重合反応を開始できる。重合は、例えば最終成分としての金属錯体の添加によって（例えばラン２、３及び５を参照）又は最終成分としての共役ジエンの添加によって開始できる。任意のエイジング工程を触媒製造／重合方法に組み込む場合には、エージング時間は短く、例えば６０分未満、好ましくは４０分未満、より好ましくは３０分未満、更に好ましくは１０分未満、又はそれより短い時間であり、広い温度範囲、例えば、０℃〜１５０℃（これに限定されるものではない）において高触媒活性で実施できる。触媒製造、触媒エージング及び重合の温度範囲は独立して選ばれ、−５０℃〜＋２５０℃、好ましくは−５℃〜＋１６０℃、より好ましくは１０℃〜１１０℃である。例えば、重合ラン８��重合温度７０℃）の触媒活性は、ポリマーの転化率次第で、ポリブタジエン１７，０ｋｇ／ミリモル（ネオジム）／時（［ｋｇ｛ポリマー｝／ミリモル｛Ｎｄ｝［時］］）に達する。別の例として、重合ラン１７（重合温度８０℃）の触媒活性は、ポリブタジエン５２９，１ｇ／ミリモル（ネオジム）／時（［ｋｇ｛ポリマー｝／ミリモル｛Ｎｄ｝［時］］）に達する。重合反応は、重合反応器に最終触媒成分を添加すると、それほど待ち時間なしに（直ちに）誘発できるので有利である。
【０１０２】
本発明において使用するのに適当な活性化助触媒としては以下のものが挙げられる。
１）中性ルイス酸、特にａ）有機第１３族化合物、特にｉ）Ｃ1〜Ｃ30有機硼素化合物又は有機アルミニウム化合物、とりわけ、（ヒドロカルビル）アルミニウム−又は（ヒドロカルビル）硼素化合物、中でも、トリアリール及びトリアルキルアルミニウム化合物、例えばトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム；アルキルアルミニウムヒドリド、例えばジイソブチルアルミニウムヒドリド；アルキルアルコキシアルミニウム化合物、例えばジブチルエトキシアルミニウム；ハロゲン化アルミニウム化合物、例えば塩化ジエチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニウム、塩化ジイソブチルアルミニウム、塩化エチル（オクチル）アルミニウム、エチルアルミニウムセスキクロリド、塩化エチル（シクロヘキシル）アルミニウム、塩化ジシクロヘキシルアルミニウム、塩化ジオクチルアルミニウム及びｉｉ）有機第１３族化合物の有機ハロゲン化（ペルハロゲン化を含む）誘導体、特にハロゲン化Ｃ1〜Ｃ30有機硼素又は有機アルミニウム化合物、とりわけ、ハロゲン化（ヒドロカルビル）アルミニウム−又は（ヒドロカルビル）硼素化合物、中でも、フッ素化又はペルフルオロ化トリ（アリール）硼素又は−アルミニウム化合物、例えばトリス（ペンタフルオロフェニル）硼素、トリス（ペンタフルオロフェニル）アルミニウム、トリス（ｏ−ノナフルオロビフェニル）硼素、トリス（ｏ−ノナフルオロビフェニル）アルミニウム、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］硼素、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］アルミニウム；又はｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン、特にメチルアルモキサン（ＭＡＯ）、トリイソブチルアルミニウム改質メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）、若しくはイソブチルアルモキサン；あるいは
２）非ポリマー相溶性非配位性イオン形成化合物（酸化条件下におけるこのような化合物の使用を含む）、特に相溶性非配位性アニオンのアンモニウム−、ホスホニウム−、オキソニウム−、カルボニウム−、シリリウム−、スルホニウム−又はフェロセニウム−塩の使用；及び前記活性化化合物の組合せ。
【０１０３】
前記活性化助触媒は、種々の金属錯体に関して以下の参考文献中に既に教示されている。米国特許第５，１３２，３８０号、第５，１５３，１５７号、第５，０６４，８０２号、第５，３２１，１０６号、第５，７２１，１８５号、第５，３５０，７２３号及びＷＯ−９７／０４２３４号（１９９７年３月１４日に出願された米国特許出願第０８／８１８，５３０号。）
【０１０４】
本発明において使用するのに適当な活性剤としては、ヒドロカルビルナトリウム、ヒドロカルビルリチウム、ヒドロカルビル亜鉛、ヒドロカルビルマグネシウムハロゲン化物、ジヒドロカルビルマグネシウム、特にアルキルナトリウム、アルキルリチウム、アルキル亜鉛、アルキルマグネシウムハロゲン化物、ジアルキルマグネシウム、例えばｎ−オクチルナトリウム、ブチルリチウム、ネオペンチルリチウム、メチルリチウム、エチルリチウム、フェニルリチウム、ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛、ブチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、オクチルマグネシウムクロリド、ジブチルマグネシウム、ジオクチルマグネシウム、ブチル（オクチル）マグネシウムが挙げられる。
【０１０５】
本発明において使用するのに特に望ましい活性化助触媒は、中性の任意のルイス酸の組合せ；特に各アルキル基中の炭素数が１〜４であるトリアルキルアルミニウム化合物と１種又はそれ以上のＣ1〜Ｃ30ヒドロカルビル−置換第１３族ルイス酸化合物、特に各ヒドロカルビル基中の炭素数が１〜２０のハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）硼素又は−アルミニウム化合物、特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン又はトリス（ペンタフルオロフェニル）アルマンとの組合せ；さらにこのような中性ルイス酸混合物とポリマー又はオリゴマーアルモキサンとの組合せ；及び単一中性ルイス酸、特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン又はトリス（ペンタフルオロフェニル）アルマンとポリマー又はオリゴマーアルモキサンとの組合せである。本発明による利益は、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン／アルモキサン混合物のこのような組合せを用いた最も効率的な触媒活性化が低減されたアルモキサンレベルで起こるという発見である。金属錯体：トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン：アルモキサンの好ましいモル比は１：１：１〜１：５：５、より好ましくは１：１：１．５〜１：５：３である。本発明によって比較的低レベルのアルモキサンが意外にも高効率で使用できるため、高価なアルモキサン活性剤をより少ない量で用いて高触媒効率でジエンポリマーを製造できる。さらに、より低レベルのアルミニウム残基を有する、従ってより透明度の高いポリマーが得られる。
【０１０６】
本発明の一実施態様において活性剤として有用な適当なイオン形成化合物は、プロトンを供与できるブレンステッド酸のカチオン、及び相溶性非配位性又は弱配位性アニオンを含んでなる。本明細書中で使用する用語「非配位性」とは、金属含有前駆体錯体及びそれから得られる触媒誘導体に配位せず、その結果、重合が進行できるようにオレフィンモノマーのようなルイス塩基で置換されるのに充分に不安定であり続けるか、又はこのような錯体に弱くしか配位せず、アニオン若しくは物質を意味する。非配位性アニオンは特に、カチオン性金属錯体中の電荷均衡アニオンの役割を果たす場合には、アニオン置換基又はそのフラグメントを前記カチオンに移動させずに、その結果、中性錯体を形成するアニオンを意味する。「相溶性アニオン」は、最初に形成された錯体が分解する際に中性まで分解されず、且つ続いて行われる所望の重合又は錯体の他の使用を妨害していないアニオンである。
【０１０７】
好ましいアニオンは、電荷を有する金属又はメタロイドコアを含んでなる単一配位錯体を含むものであり、このアニオンは、二成分を合する際に形成されることができる活性触媒種（金属カチオン）の電荷を均衡させることができる。また、前記アニオンは、オレフィン性、ジオレフィン性及びアセチレン性不飽和化合物又は他の中性ルイス塩基、例えば、エーテル又はニトリルによって置換されるのに充分に不安定でなければならない。適当な金属としては、アルミニウム、金及び白金が挙げられるがこれらに限定されない。単一金属又はメタロイド原子を含む配位錯体を含んでなるアニオンを含む化合物は、言うまでもなく公知であり、多くの化合物が、特にアニオン部分中に単一の硼素原子を含むこのような化合物が市販されている。好ましくは、このような活性剤は下記一般式によって表すことができる。
【０１０８】
（Ｌ*−Ｈ）+dＡd-
［式中、Ｌ*は中性ルイス塩基であり；
（Ｌ*−Ｈ）+はブレンステッド酸であり；
Ａd-はｄ−の電荷を有する非配位性相溶性アニオンであり；
ｄは１〜３の整数である］。
【０１０９】
より好ましくは、Ａd-は下記式に対応する：
［Ｍ*Ｑ4］-
［式中、
Ｍ*は、＋３の正規酸化状態の硼素又はアルミニウムであり；
Ｑは、それぞれ独立に、水素化物、ジアルキルアミド、ハロゲン化物、ヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、ハロカルビル、ヒドロカルビルオキシド、ヒドロカルビルオキシ置換−ヒドロカルビル、有機金属置換−ヒドロカルビル、有機メタロイド置換−ヒドロカルビル、ハロヒドロカルビルオキシ、ハロヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ハロカルビル−置換ヒドロカルビル及びハロ−置換シリルヒドロカルビル基（ペルハロゲン化ヒドロカルビル−、ペルハロゲン化ヒドロカルビルオキシ−及びペルハロゲン化シリルヒドロカルビルオキシ基を含む）から選ばれ、Ｑは炭素数が２０以下であるが、但し、Ｑがハロゲン化物であるのは多くても１つである］。
適当なヒドロカルビルオキシドＱ基の例は、米国特許第５，２９６，４３３号に開示されている。
【０１１０】
より好ましい実施態様において、ｄは１であり、即ち、対イオンは単一の負電荷を有し、Ａ-である。本発明の触媒の製造において特に有用な硼素を含んでなる活性化助触媒は、下記一般式で表されることができる。
【０１１１】
（Ｌ＊−Ｈ）+（ＢＱ4）-
［式中、（Ｌ＊−Ｈ）+は、前記定義の通りであり；
Ｂは３の正規酸化状態の硼素であり；
Ｑは非水原子２０以下のヒドロカルビル−、ヒドロカルビルオキシ−、フッ素化ヒドロカルビル−、フッ素化ヒドロカルビルオキシ−、又はフッ素化シリルヒドロカルビル−基であるが、Ｑがヒドロカルビルであるのは多くても１つである］。
【０１１２】
最も好ましくはＱはそれぞれフッ素化アリール基、特にペンタフルオロフェニル又はノナフルオロビフェニル基である。好ましいＢＱ4-アニオンはメチルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はテトラキス（ノナフルオロビフェニル）ボレートである。
【０１１３】
本発明の改良触媒の製造において活性化助触媒として使用できる硼素化合物の非限定的具体例は、以下の通りである。三置換アンモニウム塩：例えば、トリメチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラフェニルボレート、メチルジオクタデシルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラフェニルボレート、メチルテトラデシルオクタデシルアンモニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウム）テトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムビス（７，８−ジカルボウンデカボレート）コバルテート（ＩＩＩ）、トリメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジ（テトラデシル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジ（オクタデシル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｓｅｃ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウム）−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｔ−ブチル）アンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート及びＮ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウム）テトラキス−（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート；ジアルキルアンモニウム塩：例えばジ（オクタデシル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジ（テトラデシル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；三置換ホスホニウム塩：例えばトリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジ（オクタデシル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びトリス（２，６−ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート。
【０１１４】
好ましいのは、長鎖アルキル一置換、二置換及び三置換アンモニウム錯体、特にＣ14〜Ｃ20アルキルアンモニウム錯体のテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩、特にメチルジ（オクタデシル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びメチルジ（テトラデシル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、又はこれらを含む混合物である。このような混合物としては、２つのＣ14、Ｃ16又はＣ18アルキル基及び１つのメチル基を含むアミンから得られるプロトン化アンモニウムカチオンが挙げられる。このようなアミンは、Ｗｉｔｃｏ  Ｃｏｒｐ．から商品名Ｋｅｍａｍｉｎｅ（商標）Ｔ９７０１として、また、Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｅｌから商品名Ａｒｍｅｅｎ（商標）Ｍ２ＨＴとして入手できる。
【０１１５】
本発明において最も好ましい触媒活性剤の例としては、以下の化合物の前述のトリヒドロカルビルアンモニウム−、特にメチルビス（テトラデシル）アンモニウム−又はメチルビス（オクタデシル）アンモニウム−塩が挙げられる：ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）イミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ウンデシルイミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ヘプタデシルイミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４．５−ビス（ウンデシル）イミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン−４，５−ビス（ヘプタデシル）イミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）イミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ウンデシルイミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−２−ヘプタデシルイミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４，５−ビス（ウンデシル）イミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−４，５−ビス（ヘプタデシル）イミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−５，６−ジメチルベンゾイミダゾリド；ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）−５，６−ビス（ウンデシル）ベンゾイミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）イミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ウンデシルイミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ヘプタデシルイミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−４，５−ビス（ウンデシル）イミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマンー４，５−ビス（ヘプタデシル）イミダゾリド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）イミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ウンデシルイミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−２−ヘプタデシルイミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−４，５−ビス（ウンデシル）イミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−４，５−ビス（ヘプタデシル）イミダゾリニド、ビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−５，６−ジメチルベンゾイミダゾリド、及びビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン）−５，６−ビス（ウンデシル）ベンゾイミダゾリド。前記活性化助触媒は、以下の文献において異なる金属錯体に関して既に教示されている：ＥＰ  １  ５６０  ７５２Ａ１。
【０１１６】
特に不均一触媒系に使用するのに適当な別のアンモニウム塩は、有機金属化合物、特にトリ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アルミニウム化合物とヒドロキシアリールトリス（フルオロアリール）ボレート化合物のアンモニウム塩との反応時に形成される。得られる化合物は、脂肪族液体に一般に不溶な有機金属オキシアリールトリス（フルオロアリール）ボレート化合物である。適当な化合物の例としては、トリ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アルミニウム化合物とヒドロキシアリールトリス（アリール）ボレートとの反応生成物が挙げられる。適当なヒドロキシアリールトリス（アリール）ボレートとしては、以下の化合物のアンモニウム塩、特に前述の長鎖アルキルアンモニウム塩が挙げられる。（４−ジメチルアルミニウムオキシフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジメチルアルミニウムオキシ−３，５−ジ（トリメチルシリル）フェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジメチルアルミニウムオキシ−３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジメチルアルミニウムオキシベンジル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジメチルアルミニウムオキシ−３−メチルフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジメチルアルミニウムオキシ−テトラフルオロフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（５−ジメチルアルミニウムオキシ−２−ナフチル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（４−ジメチルアルミニウムオキシフェニル）フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（２−（４−（ジメチルアルミニウムオキシフェニル）プロパン−２−イル）フェニルオキシ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジエチルアルミニウムオキシフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジエチルアルミニウムオキシ−３，５−ジ（トリメチルシリル）フェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジエチルアルミニウムオキシ−３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジエチルアルミニウムオキシベンジル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジエチルアルミニウムオキシ−３−メチルフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジエチルアルミニウムオキシ−テトラフルオロフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（５−ジエチルアルミニウムオキシ−２−ナフチル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（４−ジエチルアルミニウムオキシフェニル）フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（２−（４−（ジエチルアルミニウムオキシフェニル）プロパン−２−イル）フェニルオキシ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシ−３，５−ジ（トリメチルシリル）フェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシ−３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）トリス（ペンタ��ルオロフェニル）ボレート、（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシベンジル）トリス（ペンタオロフェニル）ボレート、（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシ−３−メチルフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシ−テトラフルオロフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（５−ジイソプロピルアルミニウムオキシ−２−ナフチル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（４−ジイソプロピルアルミニウムオキシフェニル）フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及び４−（２−（４−（ジイソプピルアルミニウムオキシフェニル）プロパン−２−イル）フェニルオキシ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート。
【０１１７】
特に好ましいアンモニウム化合物は、メチルジ（テトラデシル）アンモニウム（４−ジエチルアルミニウムオキシフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジ（ヘキサデシル）アンモニウム（４−ジエチルアルミニウムオキシフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジ（オクタデシル）アンモニウム（４−ジエチルアルミニウムオキシフェニル）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びそれらの混合物である。前述の錯体は米国特許第５，８３４，３９３号及び第５，７８３，５１２号に開示されている。
【０１１８】
別の適当なイオン形成性活性化助触媒は、下記式で表されるカチオン性酸化剤と非配位性相溶性アニオンとの塩を含む。
【０１１９】
（Ｏｘe+）d（Ａd-）e
［式中、Ｏｘe+は電荷ｅ＋のカチオン性酸化剤であり；
ｄは１〜３の整数であり；
ｅは１〜３の整数であり；
Ａd-は前記定義の通りである］。
【０１２０】
カチオン性酸化剤の例としては以下のものが挙げられる。フェロセニウム、ヒドロカルビル置換フェロセニウム、Ｐｂ+2又はＡｇ+。Ａd-の好ましい実施態様は、活性化助触媒を含むブレンステッド酸に関して前に定義したアニオン、特にテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【０１２１】
別の適当なイオン形成性活性化助触媒は、下記式で表されるカルベニウムイオンと非配位性相溶性アニオンとの塩である化合物を含む。
＠+Ａ-
［式中、＠+は、Ｃ1〜Ｃ20カルベニウムイオンであり；
Ａ-は、電荷−１の非配位性相溶性アニオンである］。
好ましいカルベニウムイオンはトリチルカチオン、特にトリフェニルメチリウムである。
【０１２２】
好ましいカルベニウム塩活性化助触媒は、トリフェニルメチリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチリウムテトラキス（ノナフルオロビフェニル）ボレート、トリトリルメチリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びそれらのエーテル置換付加物である。
【０１２３】
さらに適当なイオン形成性活性化助触媒は、下記式で表される、シリリウムイオンと非配位性相溶性アニオンとの塩である化合物を含む。
【０１２４】
Ｒ3Ｓｉ+Ａ-
［式中、ＲはＣ1〜Ｃ10ヒドロカルビルであり；
Ａ-は前記定義の通りである］。
【０１２５】
好ましいシリリウム塩活性化助触媒はトリメチルシリリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリメチルシリリウムテトラキス（ノナフルオロビフェニル）ボレート、トリエチルシリリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びそれらの他の置換付加物である。シリリウム塩は、Ｊ．Ｃｈｅｍ  Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，１９９３，３８３〜３８４及びＬａｍｂｅｒｔ，Ｊ．Ｂ．，ｅｔ  ａｌ．，Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１９９４，１３，２４３０〜２４４３にすでに一般的に開示されている。付加重合触媒用の活性化助触媒としての前記シリリウム塩の使用は、米国特許第５，６２５，０８７号において特許請求されている。
【０１２６】
アルコール、メルカプタン、シラノール及びオキシムとトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとのいくつかの錯体もまた、有効な触媒活性剤であり、本発明に従って使用できる。このような活性剤は、米国特許第５，２９６，４３３号に開示されている。
【０１２７】
活性化助触媒はまた、組合せて使用できる。特に好ましい組合せは、各ヒドロカルビル基の炭素数が１〜４であるトリ（ヒドロカルビル）アルミニウム又はトリ（ヒドロカルビル）ボラン化合物とオリゴマー又はポリマーアルモキサン化合物との混合物である。
【０１２８】
使用する触媒／活性剤のモル比は、好ましくは１；１０，０００〜１０：１、より好ましくは１：５０００〜１０：１、最も好ましくは１：２５００〜１：１である。アルモキサンは、活性化助触媒として単独で使用する場合には、好ましくは大きいモル比で、一般にはモルベースで金属錯体の量の少なくとも５０倍で使用する。トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランは、活性化助触媒として使用する場合には、好ましくは金属錯体に対するモル比０．５：１〜１０：１で、より好ましくは１：１〜６：１、最も好ましくは１：１〜５：１で使用する。残りの活性化助触媒は一般に好ましくは、金属錯体とほぼ等モル量で使用する。
【０１２９】
相溶性非配位性又は弱配位性アニオンを含む前記イオン形成性化合物を活性剤として使用する場合には、本発明に係る金属錯体は、アルキル化されている（即ち、金属錯体のＸ基の１つがアルキル又はアリール基である）のが好ましい。硼素を含む活性剤が好ましい。最も好ましいのは、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（ｏ−ノナフルオロビフェニル）ボラン、テトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート、トリス（ペンタフルオロフェニル）アルマン、トリス（ｏ−ノナフルオロビフェニル）アルマンを含む活性剤である。
【０１３０】
有機金属化合物が活性剤として選ばれる場合の金属錯体中の金属中心に対する活性剤のモル比は、通常は１：１０〜１０，０００：１、より好ましくは１：１０〜５０００：１、最も好ましくは１：１〜２，５００：1の範囲である。非配位性又は弱配位性アニオンを含有又は生成する化合物を活性剤として選択する場合には、モル比は通常は１：１００〜１，０００：１、好ましくは１：２〜２５０：１の範囲である。
【０１３１】
本発明において特に望ましい活性化助触媒は、任意の中性ルイス酸、特に各アルキル基の炭素数が１〜４であるトリアルキルアルミニウム化合物と１つ又はそれ以上のＣ1〜Ｃ30ヒドロカルビル置換第１３族ルイス酸化合物、特に各ヒドロカルビル基の炭素数が１〜２０であるハロゲン化テトラキス（ヒドロカルビル）硼素又は−アルミニウム化合物、特にテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートとの組合せ、さらに単一中性ルイス酸、特にテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はテトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートとポリマー又はオリゴマーアルモキサンとの組合せである。本発明に係る利益は、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラン／アルモキサン混合物のこのような組合せを用いた最も高効率の触媒活性化が、低減されたアルモキサンレベルで起こるという発見である。
【０１３２】
金属錯体：テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラン：アルモキサンの好ましいモル比は１：１：１〜１：５：１．０００、より好ましくは１：１：１．５〜１：５：５００である。本発明によって比較的低レベルのアルモキサンが意外にも高効率で使用できるため、高価なアルモキサン活性剤をより少ない量で用いて高触媒効率でジエンポリマーを製造できる。さらに、より低レベルのアルミニウム残基を有する、従ってより透明度の高いポリマーが得られる。金属錯体：テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラン：任意の中性ルイス酸、特にトリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド化合物の好ましいモル比は１：１：１０〜１：１０：１０００、より好ましくは１：１：２０〜１：５：５００である。この場合にもまた、より低レベルのアルミニウム残基を有する、従ってより透明度の高いポリマーが得られる。
【０１３３】
本発明において使用するのに特に望ましい活性化助触媒は、任意の中性ルイス酸、特にトリヒドロカルボニルアルミニウム化合物、中でも各アルキルの炭素数が１〜５であるトリアルキルアルミニウム化合物と、少なくとも１つの金属ハロゲン化物結合を有する中性ルイス酸、特にペルハロゲン化金属又は遷移金属、特に三フッ素化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム、四フッ化チタンとの組合せ、さらに単一中性ルイス酸、特に三フッ化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム、四フッ化チタンとポリマー又はオリゴマーアルモキサンとの組合せ（金属錯体：金属フッ化物：アルモキサンのモル比１：１：１〜１：５：１０．０００、より好ましくは１：１：１０〜１：５：５．０００）、さらに単一中性ルイス酸、特に三フッ化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム、四フッ化チタンとトリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド化合物（金属錯体：テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラン：トリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド化合物のモル比１：１：１０〜１：１０：１０００、より好ましくは１：１：２０〜１：５：５００）との組合せである。
【０１３４】
本発明に係る金属錯体及び活性剤の他に、触媒組成物はまた、いわゆる掃去剤として使用される別の有機金属化合物を少量含むことができる。掃去剤は、反応混合物中の活性低下不純物と反応させるか又はそれらを不動化するために添加する。それはいつでも添加できるが、通常は金属錯体及び活性剤（助触媒）の添加前に反応混合物に添加する。通常は、有機アルミニウム化合物を掃去剤として使用する。適当な掃去剤の例は、トリオクチルアルミニウム、トリエチルアルニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、トリ−イソブチルアルミニウム、メチルアルモキサン又はＭＭＡＯである。金属錯体及び活性剤は、触媒組成物中に単一成分として又はいくつかの成分の混合物として存在することができる。例えば、混合物は、分子量分布のようなポリマーの分子特性に影響を与える必要がある場合に望ましいことがある。
【０１３５】
反応系は場合によっては、活性剤成分及び／又は金属錯体の担体又は担体材料として働く固体材料を含む。担体材料は、以下の材料の１つから選ぶことができる。クレイ、シリカ、木炭（活性炭）、グラファイト（黒鉛）、膨張クレイ、膨張黒鉛、カーボンブラック、層状珪酸塩、及びアルミナ。クレイ及び層状珪酸塩としては、マガディアイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、セピオライト、アタパルガイト、スメクタイト及びラポナイトが挙げられるがこれらに限定されない。本発明の担持触媒系は、いくつかの方法で製造できる。金属錯体及び場合によっては活性剤は、担体材料の添加前に合することができる。混合物は、通常は液体のアルカン又は芳香族溶媒中の従来の溶液中で製造できる。溶媒は好ましくは、オレフィンモノマーの液相重合用の重合希釈剤として使用するのにも適当である。あるいは、活性剤を担体材料上に配置してから、金属錯体を添加することもできるし、又は逆に、金属錯体を担体材料に適用してから、活性剤を添加することもできる。担持触媒は予備重合されることができる。さらに、第三成分は、担持触媒の製造の任意の段階で添加できる。第三成分は、ルイス酸または塩基官能基を含む化合物と定義でき、その例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、テトラエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン及びビス−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）のような化合物（これらに限定されるものではない）が挙げられる。この触媒は、Ｈ．Ｃ．Ｌ．ＡｂｂｅｎｉｈｕｉｓによってＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．３７（１９９８）３５６〜５８に、Ｍ．ＢｕｉｓｉｏらによってＭｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ  Ｍａｔｅｒ．，５（１９９５）２１１に及びＪ．Ｓ．ＢｅｃｋらによってＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１４（１９９２）１０８３４に記載された固相固定化（ＳＰＩ）法、並びに細孔容積含浸（ＰＶＩ）法（ＷＯ  ９７／２４３４４参照）のような方法を用いて担体材料に担持されることができる。含浸担体の単離は、濾過によって又は存在する揮発性材料（即ち、溶媒）を減圧下で若しくは加熱によって除去することによって行うことができる。
【０１３６】
担体は存在するならば、好ましくは触媒（金属に基づく）：担体の重量比を１：１００，０００〜１：１０、より好ましくは１：５０，０００〜１：２０、最も好ましくは１：１０，０００〜１：３０とするような量で使用する。適当な気相反応は、反応において使用する１種又はそれ以上のモノマーの凝縮又は不活性希釈剤の凝縮を用いて、反応器から熱を除去できる。
【０１３７】
重合方法においては、触媒は触媒有効量で、即ち、ポリマーをうまく形成する任意の量で使用する。このような量は、当業者によれば、日常実験によって容易に求めることができるが、一般には、使用する触媒：重合性化合物のモル比は１０-12：１〜１０-1：１、より好ましくは１０-12：１〜１０-3：１である。
【０１３８】
触媒は、エチレン性不飽和付加重合性モノマーを、好ましくは炭素数２〜１００，０００の共役エチレン性付加重合性モノマーを、ホモポリマーの場合には単独で又はコポリマーの場合には異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと組合せて、ホモ重合又は共重合するのに使用できる。好ましいモノマーとしては、エテン、プロペン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル及びメタクリル酸ｎ−ブチルから選ばれたα−オレフィン並びに内部共役オレフィン、環状共役オレフィン及び非環状共役オレフィンを含んでなる群から選ばれた共役ジエンが挙げられる。好ましい共役ジエンは、１，３−ブタジエン、イソプレン（２−メチル−１，３−ブタジエン）、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２，４−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，３−ヘプタジエン、１，３−オクタジエン、２−メチル−２，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、２，４−ヘキサジエン、１，３−シクロオクタジエンである。より好ましくは、ブタジエン、イソプレン及び／又はシクロペンタジエンを共役ジエンとして使用し、エチレン、プロペン及びスチレンをα−オレフィンとして使用する。
【０１３９】
本発明の重合方法において触媒を使用して特に望ましく形成されるポリマーは、共役ジエン、特にブタジエン又はイソプレンのホモポリマー、コポリマー及びターポリマー、及び少なくとも１種の共役ジエン、特にブタジエンと少なくとも１種の異なる型の共役ジエン、特にイソプレンとの、又はα−オレフィン、特にエチレン、プロペン及びスチレンとのランダム又はブロックコポリマーである。特に好ましいのは、ブタジエン又はイソプレンのホモ重合及び少なくとも１種の共役ジエン、特にブタジエンと少なくとも１種の異なる型の共役ジエン、特にイソプレンとの、又は少なくとも１種のα−オレフィン、特にスチレンとのランダム共重合又はブロック共重合、場合によっては三元重合である。非常に好ましいホモポリマーはブタジエンを含んでなり、非常に好ましいコポリマーは、ブタジエン又はイソプレンから選ばれた共役ジエンを含んでなるか、あるいはブタジエン及びスチレンを含んでなる。
【０１４０】
一般に、共役ジエンのホモ重合又は１つの型の共役ジエンモノマーと異なる型のモノマー、α−オレフィン又は共役ジエンのモノマーとの共重合は、チーグラー−ナッタ又はカミンスキー−シン型重合反応に関して先行技術においてよく知られた条件、例えば５０〜２５０℃の温度において実施できる。重合は大気圧、減圧下又は５００ＭＰａまでの又はそれ以上の高圧において、連続的又は不連続的に実施できる。ホモ重合又は共重合は、好ましくは０．０１〜５００ＭＰａ、最も好ましくは０．０１〜１０ＭＰａ、特に０．１〜２ＭＰａの圧力において実施する。これより高い圧力も適用できる。このような高圧方法においても、本発明に係る金属錯体の使用によって良好な結果を得ることができる。スラリー及び溶液重合は、通常、比較的低い圧力で、好ましくは１０ＭＰａ未満で行われる。重合は気相及び液体反応媒体中で実施できる。重合は一般に、回分、連続又は半連続重合条件下で実施する。重合方法は、気相重合として（例えば、流動床又は攪拌床反応器中で）、溶液重合（形成されるホモポリマー又はコポリマーが反応混合物中に実質的に可溶である）として、懸濁／スラリー重合（形成されるポリマーは反応媒体中に実質的に不溶である）として、固相粉体重合として、又はいわゆるバルク重合法（過剰量の重合すべきモノマーを反応媒体として使用する）として実施できる。
【０１４１】
触媒は、また、同一反応器中で又は直列若しくは並列に接続された別々の反応器中で、少なくとも１種の追加均一又は不均一重合触媒と組合せて使用して、所望の特性を有するポリマーブレンドを製造できる。このような方法の例は、ＷＯ９４／００５００（米国特許出願第０７／９０４，７７０号に対応）及び米国特許第５，８４４，０４５号に開示されている。
【０１４２】
触媒の使用量は一般に、溶媒又は分散剤中のその濃度が１０-8〜１０-3モル／Ｌ、好ましくは１０-7〜１０-4モル／Ｌになるような量である。
【０１４３】
溶液又はスラリー法による重合又は共重合法に適当な溶媒、分散剤又は希釈剤は典型的には非配位性の不活性液体であり、直鎖及び分岐鎖炭化水素、例えばプロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、環状及び脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン、芳香族及びアルキル−置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン及びキシレンとそれらの異性体並びにそれらの混合物、さらにペンタメチルヘプタン又は鉱油フラクション、例えば軽若しくはレギュラーガソリン、ナフサ、ケロシン又は軽油を含む（これらに限定されるものではない）群から選ばれることができる。ペルフッ素化Ｃ4〜Ｃ10アルカンのようなフッ素化炭化水素流体も適当である。更なる適当な溶媒として、重合方法においてコモノマーとして作用できる液体オレフィン、例えばシクロペンタジエン、ブタジエンイソプレン、ブテン、ペンテン及びヘキセン並びにシクロオクタジエン（異性体を含む）が挙げられる。これらの混合物も適当である。芳香族炭化水素、例えばベンゼン及びトルエンも使用できる。コスト面を考慮して、石油化学工業によって溶媒として販売されているような低価格脂肪族炭化水素又はそれらの混合物を技術的規模の重合法に使用するのが好ましい。脂肪族炭化水素を溶媒として使用する場合には、溶媒は場合によっては、少量の芳香族炭化水素、例えばトルエンを含むことができる。従って、活性剤として例えばメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）を使用する場合には、ＭＡＯを溶解された形態で重合反応器に供給するためにＭＡＯ用の溶媒としてトルエンを使用できる。このような溶媒を使用する場合には、溶媒の乾燥又は精製が望ましく；これは、当業者によく知られた方法によって問題なく実施できる。
【０１４４】
重合又は共重合は、好ましくはプロピレン、プロパン、ブタン、ブテン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン（それらの異性体を含む）及びそれらの混合物のような炭化水素中で回分、連続又は半連続溶液又はバルク重合条件下で−１０℃〜２００℃、好ましくは０℃〜１３０℃の温度で実施する。重合は、直接又は並列に接続された１つ又はそれ以上の連続攪拌反応器又は流動床、気相反応器中で実施できる。モノマー及び／又は溶媒は、当業界でよく知られた反応器に添加できる。触媒はまた、使用前に担持及び／又は予備重合させることができる。連続法が好ましく、この場合には、有利には、触媒、溶媒及びジエンの反応成分混合物を反応器系に実質的に連続的に又は頻繁に供給し、高効率の反応及びそこから連続的に除去される目的生成物を確認するために連続的に監視する。例えば、重合方法用の多くの担持配位触媒及び触媒系は、程度の差はあっても、水、酸素、一酸化炭素、アセチレン化合物及び硫黄化合物のような触媒毒に対して感受性が高いことがよく知られている。このような化合物が持ち込まれると、反応器に乱れが生じ、等級外製品が生産されるおそれがある。典型的には、多くの場合、温度、粘度、分子量、発熱量、流量又は触媒生産性のようなポリマー変数を測定することによって、コンピューター制御システムを使用して、プロセス変数を許容限界内に保持できる、重合方法を懸濁又は気相重合条件下で実施する場合には、温度は一般的に１５０℃未満である。
【０１４５】
本発明の触媒を用いると、高い反応器温度でもこの触媒の使用によって容易に高分子量ポリマーが得られる。ジエンポリマーの分子量は水素、ジ−及びトリヒドロカルビルアルミニウム化合物（例えば、トリイソプロピルアルミニウム、ジイソプロピルアルミニウムヒドリド、トリエチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド及びジイソプロピルアルミニウムクロリド（これらに限定されるものではない））、１，５−シクロオクタジエン又は同様な連鎖移動剤の使用によって容易に減少され得るので、この結果は非常に望ましい。さらに、高分子量は、スチレン（これに限定されるものではない）のような芳香族モノマーの使用によっても減少され得る（ラン１８参照）。更に、ポリマー溶解性の改良、溶液粘度の低下及びより高いポリマー濃度により、生産性が増大される。
【０１４６】
本発明の触媒を用いると、ホモポリマー及び異なるコモノマーが混和されたコポリマーが容易に製造することができる。
【０１４７】
本発明のホモポリマー、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリスチレン、ポリエチレン及びポリプロピレン、好ましくはポリブタジエン、ポリイソプレン及びポリスチレン、より好ましくはポリブタジエン及びポリイソプレン（これらに限定されるものではない）並びに本発明のコポリマー、例えばジエン−ジエン、ジエン−α−オレフィン又は芳香族α−オレフィン−非芳香族α−オレフィンコポリマー又はターポリマー、好ましくはブタジエン−イソプレン、ブタジエン−スチレン、ブタジエン−エチレン及びブタジエン−プロペンコポリマー、より好ましくはブタジエン−イソプレン及びブタジエン−スチレンコポリマー（これらに限定されるものではない）は、完全に非晶質のコポリマーとして又は程度の差はあるが拡大された結晶領域を含むコポリマーとして製造できる。
【０１４８】
本発明の触媒及び重合方法を用いると、使用するモノマーに応じて及び使用するコモノマー比、特にジエン型Ａ：エチレン性不飽和付加重合性モノマー型の比又はジエン型Ａ：ジエン型Ｂの比に応じて、程度の差はあるが結晶質、非晶質又はゴム状若しくはゴムホモポリマー又はコポリマーを製造できる。
【０１４９】
好ましくは、コポリマー中の１つの型のモノマーの百分率、好ましくは１つの型の共役ジエンの百分率は、０％超で１００％未満である。ポリブタジエンホモポリマーの又はジエン−ジエンコポリマーのポリブタジエン含量は好ましくは高シス−１，４−ポリブタジエンを含む。
【０１５０】
重合又は共重合によって得られるポリマーは、それ自体公知の方法によって処理することができる。一般に、触媒はそれ自体公知の方法で、例えば水又はアルコールを用いて、ポリマーの処理のある時点で失活させる。本発明に係る触媒系の使用の結果としてポリマー又はコポリマー中の触媒量、特にハロゲン及び金属の含量は非常に少ないので、触媒残渣の除去はたいてい省くことができる。しかし、所望ならば、ポリマー中の触媒残渣のレベルを公知の方法で、例えば洗浄によって低減させることができる。失活工程後にストリッピング工程（ポリマーからの有機溶媒の除去）を行うことができる。
【０１５１】
重合又は共重合は、また、連続して又は同時にいくつかの工程で実施できる。必要に応じて、触媒組成物、温度、水素濃度、圧力、滞留時間などは工程毎に変化させることができる。このようにして、広い特性分布、例えば分子量分布を有する生成物を得ることも可能である。オレフィンの重合に本発明の触媒を用いることによって、５０，０００〜１，５００，０００ｇ／モル、好ましくは１００，０００〜１，０００，０００ｇ／モルの分子量及び１．０〜５０、好ましくは１．０〜２０の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を有するポリマーを得ることができる。
【０１５２】
付加重合メカニズムによる共役ジエンの重合又は共重合は、残留オレフィン性ビニル、Ｅ（ｅｎｔｅｇｅｇｅｎ）及びＺ（ｚｕｓａｍｍｅｎ）二重結合の形成をもたらす。ブタジエンの場合には、これらは、ビニル（又は１，２−、若しくは１，２−ポリブタジエン）、トランス（又はトランス−１，４−若しくはトランスー１，４−ポリブタジエン）及びシス（又はシス−１，４−若しくはシス−１，４−ポリブタジエン）二重結合と称される。本発明の利点は、シス含量の高いポリブタジエンポリマー又はコポリマーを製造できることである。好ましくは、Ｚ又はシス単位である共役ジエンの重合によって得られるポリマー又はコポリマー中の残留オレフィン二重結合の割合は、共役ジエンの重合によって得られる残留オレフィン二重結合の総量の５０〜１００％、より好ましくは６０〜１００％、更に好ましくは８０〜９９％、更に好ましくは９０〜９９％、更に好ましくは９５〜９９％の範囲である。有利には、高シス−１，４−含量を有する共役ジエンポリマーはまた、０〜３０％、好ましくは０〜２０％のビニル含量（１，２−ポリブタジエン並びに／又は１，２−及び３，４−ポリイソプレン）を有し、より好ましくはホモ−又はコポリマーのポリブタジエンフラクションの１，２−ポリブタジエン含量は０〜１０％、さらに好ましくは０〜５％である。有利には、本発明によれば、ポリブタジエンのシス含量は、例えば、９４．０％（ラン１２参照）又は９７．９％（ラン３参照）（これらに限定されない）のように非常に高くすることができる。
【０１５３】
１つの型の共役ジエンモノマーと第２のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの形成された共重合生成物は好ましくは、ランダム又はブロックコポリマーであるように選ばれることができ、より好ましくはコポリマーは、ブタジエン及びスチレン（ラン１８参照）又はブタジエン及びイソプレンを含む。
【０１５４】
前記したような本発明のポリマーは、プラスチックの改質に、特にＨＩＰＳ（耐衝撃性ポリスチレン）の製造におけるポリスチレンの改質に使用するのに適している。
【０１５５】
本発明の重合方法は、個々の目的に合わせたコポリマーの製造を可能にする。詳細には、活性剤及び金属錯体並びに触媒製造方法、さらに重合反応に使用する溶媒（非芳香族又は芳香族）、ジエンモノマーの濃度及び重合温度の選択によって、ポリマーの微細構造（シス含量、トランス含量及びビニル含量の比）、ポリマー粘度（ムーニー粘度）、得られるポリマーの分子量、分子量分布及び所定の触媒の重合活性を調整できる。非限定的例は以下の通りである。
【０１５６】
ネオジム錯体１を改質メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）と合した場合（ラン１）には平均分子量（Ｍｗ）は９７４，０００ｇ／モルであることができ、同様な重合条件下で金属錯体１をジイソブチルアルミニウムヒドリド及び三フッ素化硼素エーテラートと合した場合（ラン１１）にははるかに低い平均分子量Ｍｗ＝３９４，０００ｇ／モルが得られた。錯体１をシクロヘキサン溶媒中でジイソブチルアルミニウムヒドリド及びイソブチルアルモキサン（ＩＢＡＯ）と合した場合（ラン３）にはシス含量は９７．９％であることができるが、錯体１をトリエチルアルミニウム及び［ＣＰｈ3］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］と合した場合（ラン１０）にも６６．６％に達することができる。分子量分布は小さくすることができ、例えば、２．５（これに限定されるものではない）であることができ、これはシングルサイト重合方法（ラン４）に典型的であるが、ＭＷＤは７．６であることもできる（ラン６）。
【０１５７】
ランタン錯体９を改質メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）と合した場合（ラン１７）には、ムーニー粘度は高くなる、例えば、３８．２（これに限定されるものではない）であることができ、ネオジム錯体６を同様な重合条件下でＭＭＡＯと合した場合（ラン１３）にはこれより低い２５．８のムーニー値が得られた。錯体５を（ＭＭＡＯ）と合した場合にはシス含量は９４．０％であることができるが、錯体９をＭＭＡＯと合した場合（ラン１６）にも６９．５％であることができる。分子量分布（ＭＷＤ）は小さくすることができ、例えば、２．２（これに限定されるものではない）であることができ、これはシングルサイト重合（ラン１３）に典型的であるが、ＭＷＤは４．７であることもできる（ラン１２）。
【０１５８】
既に前述した別の利点は、触媒のエージング（前記参照）を回避できることである。
【０１５９】
ジエン重合反応に関する本発明の別の利点は、触媒製造方法（例えば触媒成分の添加順序及び触媒エージング）が、ポリマー微細構造及び分子量のようなホモポリマー及びコポリマーの特性に有利な影響を与えることができることである。
【０１６０】
本発明のホモポリマー及びコポリマーは、多くの有用な形状、成形品、フィルム、発泡体、ゴルフボール、タイヤ、ホース、コンベヤー及び他のベルト、ガスケット、シール、靴の製造に、また、プラスチックの改質、例えば、耐衝撃性ポリスチレン又は耐衝撃性改良ポリプロピレンの製造に使用できる。
【実施例】
【０１６１】
本発明は、具体的には開示しなかった成分の不存在下で実施可能であることは言うまでもない。以下の実施例を、本発明をさらに説明するために記載するが、これらは本発明を限定するものと解してはならない。特に断らない限り、全ての部及び百分率は重量基準で表す。用語「一夜」は、使用する場合には、約１６〜１８時間の時間を意味し、「室温」は、使用する場合には、２０〜２５℃の温度を意味する。
【０１６２】
有機金属化合物が関連する試験は全て、標準シュレンク（Ｓｃｈｅｌｅｎｋ）装置及び方法を用いて又はグローブボックス中で不活性雰囲気中において実施した。以下において、「ＴＨＦ」はテトラヒドロフランを、「Ｍｅ」は「メチル」を、「Ｅｔ」はエチルを、「Ｂｕ」は「ブチル」を、「Ｐｈ」は「フェニル」を、「ＭＭＡＯ」又は「ＭＭＡＯ−３ａ」はＡＫＺＯ  Ｎｏｂｅｌから購入された「改質メチルアルモキサン」を、ＴＭＢはトリメトキシベンゼンを表す。前記圧力は絶対圧力である。重合は、窒素雰囲気下で水分及び酸素を排除して実施した。生成物は、ＳＥＣ（サイズ排除クロマトグラフィー）、元素分析、ＮＭＲ（Ｂｒｕｋｅｒ  Ａｎａｌｙｔｉｃ  ＧｍｂＨのＡｖａｎｃｅ  ４００装置（1Ｈ＝４００ＭＨｚ；13Ｃ＝１００ＭＨｚ））及びＩＲ（Ｂｒｕｋｅｒ  Ｏｐｔｉｃｓ  ＧｍｂＨのＩＦＳ  ６６  ＦＴ−ＩＲスペクトロメーター）によって特性決定した。ＩＲサンプルは、膨潤剤としてＣＳ2を用い、２倍又は４倍に溶解することよって製造した。ＤＳＣ（示差走査熱量測定法）は、ＴＡ  ＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓのＤＳＣ  ２９２０を用いて測定した。Ｍｎ及びＭｗは分子量であり、ＳＥＣのユニバーサル・キャリブレーションによって求めた。ブタジエン又はイソプレンポリマーの１，４−シス−、１，４−トランス−及び１，２−ポリジエン含量の比は、ＩＲ及び13Ｃ  ＮＭＲスペクトル分析法によって求めた。ポリマーのガラス転移温度は、ＤＳＣ測定によって求めた。
１．遷移金属錯体の合成
【０１６３】
【化１４】
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【０１６４】
１．１：ビス（ジイソプロピルアミド）ネオジムブロミド*リチウムブロミド付加物１の製造
フラスコ中で０℃においてＮｄＢｒ3（ＴＨＦ）3  ６，０ｇ（１０ミリモル）とＴＨＦ  ２００ｍＬとを合した。リチウムジイソプロピルアミド１．２８ｇ（２０．０ミリモル）のＴＨＦ  １００ｍＬ中溶液約１００ｍＬを０℃において添加した。混合物を室温まで加温し、さらに１８時間撹拌した。溶媒を真空下で除去し、残渣をペンタンで抽出した。抽出物を遠心分離して（又は濾過して）、不溶性物質を除去した。透明なペンタン溶液を蒸発乾固した。収率：８７％。
【０１６５】
【化１５】
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【０１６６】
１．２：ビス（ジイソプロピルアミド）ネオジムクロリド*リチウムクロリド付加物２の製造
フラスコ中で０℃においてＮｄＣｌ3（ＴＨＦ）3  ４．７ｇ（１０ミリモル）とＴＨＦ  ２００ｍＬとを合した。リチウムジイソプロピルアミド１．２８ｇ（２０．０ミリモル）のＴＨＦ  １００ｍＬ中溶液約１００ｍＬを０℃において添加した。混合物を室温まで加温し、さらに１８時間撹拌した。溶媒を真空下で除去し、残渣をペンタンで抽出した。抽出物を遠心分離して（又は濾過して）、不溶性物質を除去した。透明なペンタン溶液を蒸発乾固した。収率：７８％。
１．３：（Ｅｔ2Ｏ）ＬｉＮ（iＰｒ）−ＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ（Ｐｈ）−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨＮ（iＰｒ）Ｌｉ（Ｅｔ2Ｏ）  （３）の製造
１−アザ−１，３−ジエン（ｉＰｒ）Ｎ＝ＣＨ−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ（Ｐｈ）  ２０．０ｇ（１０６．８ミリモル）のジエチルエーテル１００ｍＬ中溶液を室温でリチウム１．０ｇ（１４２．８ミリモル）と合した。混合物は、リチウム添加時に顕著に温められ、これを２４時間撹拌した。続いて、得られた溶液を濾過によって残りのリチウムから分離し、濾過された溶液を容量５０ｍＬまで蒸発させ、−５℃において貯蔵した。同温度において、淡黄色のＮ，Ｎ’−ジリチウム−ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−ジアミン（Ｅｔ2Ｏ）ＬｉＮ（iＰｒ）−ＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ（Ｐｈ）−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−Ｎ（iＰｒ）Ｌｉ（Ｅｔ2Ｏ）（３）の結晶が形成された。収量：２３．０ｇ（４２．７ミリモル，８０％）。
１．４：（ＴＨＦ）3ＬｉＮ［（iＰｒ）2Ｃ6Ｈ3］−ＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ（Ｐｈ）−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−Ｎ［（iＰｒ）2Ｃ6Ｈ3］Ｌｉ（ＴＨＦ）3  （４）の製造
１−アザ−１，３−ＰｈＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＨ＝Ｎ［（iＰｒ）2Ｃ6Ｈ3］  １０．０ｇ（３３．０ミリモル）のＴＨＦ  １００ｍＬ中溶液を室温でリチウム０．３ｇ（４３．０ミリモル）と合し、４８時間撹拌した。続いて、得られた溶液を蒸発させた。得られた固体残渣をジエチルエーテル１５０ｍＬで抽出した。得られたジエチルエーテル溶液を濾過後に０℃で貯蔵した。同温度において、淡黄色のＮ，Ｎ’−ジリチウム−ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−（ＴＨＦ）3ＬｉＮ［（iＰｒ）2Ｃ6Ｈ3］−ＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ（Ｐｈ）−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−Ｎ［（iＰｒ）2Ｃ6Ｈ3］Ｌｉ（ＴＨＦ）3  （４）の結晶が形成された。収量：１４．０ｇ（１３．１ミリモル，８０％）。
【０１６７】
【化１６】
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【０１６８】
１．５：ジスプロシウム錯体Ｃ68Ｈ108Ｎ4Ｏ8Ｃｌ4Ｌｉ2Ｄｙ2  （５）の製造
フラスコ中で０℃において、ＤｙＣｌ3  ３．４０ｇ（１２．６５ミリモル）をジメトキシエタン（ｄｍｅ）１００ｍＬと合した。この溶液を室温まで温め、ジリチウム（ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−ジアミド）−化合物［｛Ｌｉ（ＯＥｔ2）｝2｛（iＰｒ）ＮＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ（Ｐｈ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨＮ（iＰｒ）｝］（３）  ６．８０ｇ（１２．６５ミリモル）を添加した。混合物をさらに２４時間攪拌した。沈殿した塩化リチウム（ＬｉＣｌ）を濾去した。濾過された溶液を容量５０ｍＬまで蒸発させ、０℃において貯蔵した。ジスプロシウム化合物５（Ｍ＝１５９０．３２ｇ／モル）の黄色結晶を濾過によって単離し、真空中で乾燥させた。収量：７．４７ｇ（９．４０ミリモル，ＤｙＣｌ3に関して７５％，）。
【０１６９】
【化１７】
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【０１７０】
１．６：ネオジム錯体Ｃ38Ｈ64Ｎ2Ｏ6Ｂｒ2ＬｉＮｄ  （６）の製造
フラスコ中で−２０℃において、ジメトキシエタン（ｄｍｅ）２００ｍＬ中ジリチウム（ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−ジアミド）−化合物［｛Ｌｉ（ＯＥｔ2）｝2｛（iＰｒ）ＮＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ（Ｐｈ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨＮ（iＰｒ）｝］（３）  ６．８０ｇ（１２．６５ミリモル）をＮｄＢｒ3（ＴＨＦ）4  ８．５０ｇ（１２．６５ミリモル）と合した。混合物を室温まで温め、４８時間撹拌した。その後、反応溶媒を真空中で除去し、油状残渣をジエチルエーテル２００ｍｌで抽出した。溶媒を−２０℃の温度に冷却した。同温度において、ＬｉＢｒ（ｄｍｅ）2の無色結晶が沈殿し、続いてこれを濾去した。濾過された溶液を容量１００ｍＬまで蒸発させ、室温で貯蔵した。ゆっくりと、ネオジム錯体６の結晶が形成された。錯体６（Ｍ＝９５５．９ｇ）を濾過によって単離し、真空中で乾燥させた。収量：２．３０ｇ（２．４０ミリモル，ＮｄＢｒ3（ＴＨＦ）4に関して１９％）。
【０１７１】
【化１８】
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【０１７２】
１．７：ネオジム錯体Ｃ64Ｈ98Ｎ4Ｏ6ＬｉＮ  （７）の製造
フラスコ中で−２０℃において、ジメトキシエタン（ｄｍｅ）１５０ｍＬ中ジリチウム（ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−ジアミド）−化合物［｛Ｌｉ（ＯＥｔ2）｝2｛（iＰｒ）ＮＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ（Ｐｈ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨＮ（iＰｒ）｝］（３）  ６．８０ｇ（１２．６５ミリモル）を攪拌しながらＮｄＢｒ3（ＴＨＦ）4  ４．２５ｇ（６．３０ミリモル）と合した。混合物を室温まで温め、２４時間撹拌した。その後、反応溶媒を真空中で除去し、油状残渣をジエチルエーテル１００ｍｌで抽出した。沈殿したＬｉＢｒ（ｄｍｅ）2を濾去した。濾過された溶液を温度−２０℃まで冷却し、沈殿したＬｉＢｒ（ｄｍｅ）2を濾去した。濾過された溶液を５℃において貯蔵し、それによってネオジム錯体７の結晶が形成された。錯体７（Ｍ＝１１７０．６８ｇ）を濾過によって単離し、真空中で乾燥させた。収量：５．５０ｇ（４．７３ミリモル，ＮｄＢｒ3（ＴＨＦ）4に関して７５％）。
【０１７３】
【化１９】
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【０１７４】
１．８：ランタン錯体Ｃ108Ｈ156Ｎ4Ｏ6Ｂｒ4Ｌｉ2Ｌａ2  （８）の製造
フラスコ中で−２０℃において２００ｍＬテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中ＬａＢｒ3（ＴＨＦ）4  ４．２０ｇ（６．３０ミリモル）を攪拌しながら、ジリチウム（ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−ジアミド）−化合物［｛Ｌｉ（ＴＨＦ）3｝2｛（Ｃ6Ｈ3−２，６−（iＰｒ）2｝ＮＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ（Ｐｈ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨＮ｛Ｃ6Ｈ3−２，６−（iＰｒ）2｝］  （４）  ６．６１ｇ（６．２５ミリモル）と合した。混合物を４８時間撹拌した。その後、溶媒を蒸発させた。残渣をジエチルエーテル２５０ｍＬ中に溶解させ、沈殿した臭化リチウムを真空中で除去した。濾過された溶液を−２０℃の温度まで冷却し、同温度で数日間貯蔵した。ランタン錯体８の結晶が形成された。錯体８（Ｍ＝２２１７．５ｇ）を濾過によって単離し、真空中で乾燥させた。収量：２．８０ｇ（２．５２ミリモル，ＬａＢｒ3（ＴＨＦ）4に関して４０％）。
【０１７５】
【化２０】
2011093934.tif 000021
【０１７６】
１．９：ランタン錯体Ｃ60Ｈ88Ｎ4Ｏ4Ｂｒ4Ｌｉ2Ｌａ2  （９）の製造
フラスコ中で温度−２０℃において２００ｍＬジメトキシエタン（ｄｍｅ）中ＬａＢｒ3（ＴＨＦ）4  ７．５０ｇ（１１．２５ミリモル）を攪拌しながら、ジリチウム（ヘキサ−１，５−ジエン−１，６−ジアミド）−化合物［｛Ｌｉ（ＯＥｔ2）｝2｛（iＰｒ）ＮＣＨ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ（Ｐｈ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨＮ（iＰｒ）｝］  （３）  ６．０５ｇ（１１．２５ミリモル）と合した。混合物を４８時間撹拌した。その後、溶媒を蒸発させた。残渣をジエチルエーテル２５０ｍＬ中に溶解させ、沈殿臭化リチウムを真空中で除去した。濾過された溶液を容量１００ｍＬまで蒸発させ、−２０℃において貯蔵した。ランタン錯体９の結晶が形成された。錯体９（Ｍ＝１５４０．６９ｇ）を濾過によって単離し、真空中で乾燥させた。収量：８．０４ｇ（６．１９ミリモル，ＬａＢｒ3（ＴＨＦ）4に関して５５％）。
【０１７７】
２．重合
２．１：重合手順の説明−方法１
重合は、二重壁２Ｌスチール反応器中で実施した。反応器は、有機溶媒、金属錯体、活性剤、ルイス酸又は他の成分の添加の前に、窒素でパージした。重合反応器は、特に断らない限り、７０℃に調整した。次いで、以下の成分を以下の順序で添加した：有機溶媒、活性剤１、共役ジエンモノマー。混合物を１時間撹拌した。次いで、以下の成分を以下の順序で２Ｌスチール反応器中に添加した：場合によっては第２活性剤成分及び／又はルイス酸。続いて、金属錯体を添加して、重合を開始させた。特に断らない限り、重合は７０℃で実施した。重合時間は、実験に応じて変化させた。
【０１７８】
重合プロセスを停止させるために、ポリマー溶液を、メタノール５０ｍＬ及びポリマー用安定剤としてのＩｒｇａｎｏｘ  １５２０（メタノール１ＬはＩｒｇａｎｏｘ  ２ｇを含む）を含む第３の二重壁スチール反応器に移した。この混合物を１５分間攪拌した。次に、回収したポリマーを１時間スチームでストリッピングして、溶媒及び他の揮発分を除去し、オーブン中で４５℃において２４時間乾燥させた。
【０１７９】
２．２：重合手順の説明−方法２
重合は、二重壁２Ｌスチール反応器中で実施した。反応器は、有機溶媒、金属錯体、活性剤、ルイス酸又は他の成分の添加の前に、窒素でパージした。重合反応器は、特に断らない限り、８０℃に調整した。次いで、以下の成分を以下の順序で添加した：有機溶媒、活性剤１の一部、共役ジエンモノマー。混合物を１時間撹拌した。
【０１８０】
温度値が８０℃を超えないならば重合反応器と同じ温度に調整された（重合プロセスのために、これより高温を選択したとしても、２００ｍＬの反応器は依然として８０℃に調整された）別の２００ｍＬ二重壁スチール反応器中に、以下の成分を以下の順序で添加した：有機溶媒及び活性剤１の一部。混合物を０．５時間撹拌した。次いで、場合によっては第２活性剤成分及び／又はルイス酸、続いて金属錯体を添加し、得られた混合物をさらに３０分間撹拌した。
【０１８１】
２Ｌ重合器中に２００ｍＬスチール反応器の内容物を添加することによって重合を開始した。特に断らない限り、重合は８０℃で実施した。重合時間は、実験に応じて変化させた。
【０１８２】
重合プロセスを停止させるために、ポリマー溶液を、ポリマー用安定剤としてＩｒｇａｎｏｘ  １５２０を含むメタノール５０ｍＬ（メタノール１ＬはＩｒｇａｎｏｘ  ２ｇを含む）を含む第３の二重壁スチール反応器に移した。この混合物を１５分間攪拌した。次に、回収したポリマーを１時間スチームでストリッピングして、溶媒及び他の揮発分を除去し、オーブン中で４５℃において２４時間乾燥させた。
【０１８３】
２．３：重合手順の説明−方法３
重合は、二重壁２Ｌスチール反応器中で実施した。反応器は、有機溶媒、金属錯体、活性剤、ルイス酸又は他の成分の添加の前に、窒素でパージした。重合反応器は、特に断らない限り、８０℃に調整した。次いで、以下の成分を以下の順序で添加した：有機溶媒、活性剤１、共役ジエンモノマー。混合物を１時間撹拌した。次いで、以下の成分を以下の順序で２Ｌスチール反応器に添加した：場合によっては第２活性剤及び／又はルイス酸。続いて、金属錯体を添加して、重合を開始させた。特に断らない限り、重合は８０℃で実施した。重合時間は実験に応じて変化させた。
【０１８４】
重合プロセスを停止させるために、ポリマー溶液を、メタノール５０ｍＬ及びポリマー用安定剤としてのＩｒｇａｎｏｘ  １５２０（メタノール１ＬはＩｒｇａｎｏｘ  ２ｇを含む）を含む第３の二重壁スチール反応器に移した。この混合物を１５分間攪拌した。次に、回収したポリマーを１時間スチームでストリッピングして、溶媒及び他の揮発分を除去し、オーブン中で４５℃において２４時間乾燥させた。
３  重合例
３．１：１，３−ブタジエンのホモ重合
Ａ）  錯体１及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４０ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５４０ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．１ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  １０．０ミリモルを含むヘプタン溶液３．９ｇ）を重合反応器に添加し、１００分間撹拌した。その後、シクロヘキサン３．８ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０１８５】
１０分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは７３．４％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン３９．７ｇが回収された。
【０１８６】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９７．３％；トランス−１，４−ポリブタジエン２．０％；１，２−ポリブタジエン０．７％を含んでいた。ポリマーの分子量は、９７４，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は２．８（Ｍn＝３３８，０００；Ｍz＝１，８２０，０００）になった。ムーニー値は８５．３となり、溶融エンタルピー（□ＨSL）は４３．３Ｊ／ｇとなり、ガラス転移温度は−１０７．２℃となった。
【０１８７】
Ｂ）  錯体１、ＩＢＡＯを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン２）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４２ｇ中で重合温度８０℃で実施した。従って、シクロヘキサン５４２ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５３．９ｇ（１．０モル）及びＩＢＡＯ（ＩＢＡＯ  ３０．０ミリモルを含むヘプタン溶液１１．２ｇ）を重合反応器に添加し、７５分間撹拌した。その後、シクロヘキサン４．０ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  ２８．６ｍｇ（０．０５ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０１８８】
４４分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは４３．３％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン２３．５ｇが回収された。
【０１８９】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９６．５％；トランス−１，４−ポリブタジエン２．０％；１，２−ポリブタジエン１．５％を含んでいた。ムーニー値は８８．１となり、溶融エンタルピー（□ＨSL）は３９．１Ｊ／ｇとなり、ガラス転移温度は−１０７．４℃となった。
【０１９０】
Ｃ）  錯体１、ｉＢｕ2ＡｌＨ及びＩＢＡＯを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン３）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４０ｇ中で重合温度８０℃において実施した。従って、シクロヘキサン５４０ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．３ｇ（１．０モル）、ＩＢＡＯ（ＩＢＡＯ  １５．０ミリモルを含むヘプタン溶液５．６ｇ）及びシクロヘキサン３．７ｇ中ジイソブチルアルミニウムヒドリド２７０ｍｇ（２ミリモル）を重合反応器に添加し、８０分間撹拌した。その後、シクロヘキサン３．５ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  １４．３ｍｇ（０．０２５ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０１９１】
１時間１７分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは７０．２％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン３８．０ｇが回収された。
【０１９２】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９７．９％；トランス−１，４−ポリブタジエン１．４％；１，２−ポリブタジエン０．７％を含んでいた。ポリマーの分子量は、５６６，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は３．３（Ｍn＝１７１，０００；Ｍz＝１，１８８，０００）になった。ムーニー値は９１．０となった。
【０１９３】
Ｄ）  錯体１及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン４）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はトルエン溶媒５４１ｇ中で重合温度５０℃において実施した。従って、トルエン５４１ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．０ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  ２５．１ミリモルを含むヘプタン溶液９．８ｇ）を重合反応器に添加し、８１分間撹拌した。その後、トルエン３．１ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  ２８．８ｍｇ（０．０５ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０１９４】
２時間１５分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは６２．３％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン３３．７ｇが回収された。
【０１９５】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９３．０％；トランス−１，４−ポリブタジエン６．１％；１，２−ポリブタジエン０．９％を含んでいた。ポリマーの分子量は、４７７，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は２．５（Ｍn＝１８５，０００；Ｍz＝６５４，０００）になった。ムーニー値は８１．３となった。
【０１９６】
Ｅ）  錯体１、Ｅｔ3Ａｌ及びＢ（Ｃ6Ｆ5）3を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン５）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４３ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５４３ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．１ｇ（１．０モル）及びシクロヘキサン１．４５ｇ中トリエチルアルミニウム０．３４１ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、１時間１８分間撹拌した。その後、シクロヘキサン３．４ｇ中に溶解されたトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン２０．５ｍｇ（０．０４ミリモル）及びシクロヘキサン３．４ｇに溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０１９７】
１時間３５分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは５７．３％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン３１．０ｇが回収された。
【０１９８】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９２．４％；トランス−１，４−ポリブタジエンを６．９％；１，２−ポリブタジエンを０．８％を含んでいた。ポリマーの分子量は、７２６，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は３．１（Ｍn＝２３３，０００；Ｍz＝１，７３０，０００）になった。ムーニー値は１１２．７となった。
【０１９９】
Ｆ）  錯体１、ｉＢｕ2ＡｌＨ及びＢ（Ｃ6Ｆ5）3を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン６）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５３９ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５３９ｇ及び蒸留された、酸素を含まない（脱ガスされた）水２７ｍｇ（１．５ミリモル）を重合反応器に添加し、室温で１５分間撹拌した。続いて、トリエチルアルミニウム２２７．３ｍｇ（２．０ミリモル）、ジイソブチルアルミニウムヒドリド１３５ｍｇ（１．０ｍｇ）及び１，３−ブタジエンモノマー５４．２ｇ（１．０モル）を重合反応器に添加し、７０℃において１時間１８分攪拌した。その後、シクロヘキサン３．５ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２００】
２時間後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは２１．６％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン１１．７ｇが回収された。
【０２０１】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９５．４％；トランス−１，４−ポリブタジエンを３．７％；１，２−ポリブタジエンを０．９％を含んでいた。ポリマーの分子量は、７２８，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は７．６（Ｍn＝９６，０００；Ｍz＝２，０５０，０００）になった。
【０２０２】
Ｇ）  錯体２、Ｅｔ3Ａｌ及びＢ（Ｃ6Ｆ5）3を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン７）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４０ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５４０ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．０ｇ（１．０モル）及びシクロヘキサン２．４ｇ中トリエチルアルミニウム０．３４１ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、２８分間撹拌した。その後、シクロへキサン溶媒３．２ｇに溶解されたトリ（ペンタフルオロフェニル）ボラン２０．５ｍｇ（０．０４ミリモル）及びシクロヘキサン３．６ｇに溶解されたネオジム錯体２  ９．７ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２０３】
１時間３０分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは５５．５％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン３０．０ｇが回収された。
【０２０４】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９１．５％；トランス−１，４−ポリブタジエンを７．８％；１，２−ポリブタジエンを０．８％を含んでいた。ポリマーの分子量は、４８６，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は３．３（Ｍn＝１４７，０００；Ｍz＝１，３８８，０００）になった。ムーニー値は５４．２になった。
【０２０５】
Ｈ）  錯体１、Ｅｔ3Ａｌ及び［（Ｃ18Ｈ37）2ＮＭｅＨ］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン８）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４２ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５４２ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５３．９ｇ（１．０モル）及びシクロヘキサン１．８３ｇ中トリエチルアルミニウム０．３４１ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、１時間４１分間撹拌した。その後、、メチルシクロヘキサン３００ｍｇに溶解された［（Ｃ18Ｈ37）2ＮＭｅＨ］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］  ３６．４７ｍｇ（０．０３ミリモル）及びシクロヘキサン３．２ｇに溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２０６】
１時間８分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは８３．５％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン４５．２ｇが回収された。
【０２０７】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを８０．１％；トランス−１，４−ポリブタジエンを１８．８％；１，２−ポリブタジエンを１．１％を含んでいた。ムーニー値は１５５．３になった。
【０２０８】
Ｉ）  錯体１、ｉＢｕ2ＡｌＨ及び［（Ｃ18Ｈ37）2ＮＭｅＨ］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン９）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４０ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５４０ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．２ｇ（１．０モル）及びシクロヘキサン１．５ｇ中ジイソブチルアルミニウムヒドリド０．４０５ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、１時間１１分間撹拌した。その後、メチルシクロヘキサン３００ｍｇに溶解された［（Ｃ18Ｈ37）2ＮＭｅＨ］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］  ３６．４７ｍｇ（０．０３ミリモル）及びシクロヘキサン３．４ｇに溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２０９】
１時間２分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは６６．８％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン３６．１ｇが回収された。
【０２１０】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを８３．５％；トランス−１，４−ポリブタジエンを１５．２％；１，２−ポリブタジエンを１．３％を含んでいた。ポリマーの分子量は、４１４，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は５．８（Ｍn＝７１，０００；Ｍz＝１，２００，０００）になった。ムーニー値は８７．３になった。
【０２１１】
Ｊ）  錯体１、Ｅｔ3Ａｌ及び［ＣＰｈ3］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１０）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はトルエン溶媒５４０ｇ中で実施した。従って、トルエン５４０ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．２ｇ（１．０モル）及びトルエン２．１ｇ中トリエチルアルミニウム０．３４１ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、１時間撹拌した。その後、トルエン溶媒３．４ｇに溶解された［ＣＰｈ3］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］  ２０．１ｍｇ（０．０３ミリモル）及びトルエン４．８ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２１２】
１時間３４分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは８０．６％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン４３．６ｇが回収された。
【０２１３】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを６６．６％；トランス−１，４−ポリブタジエンを３１．８％；１，２−ポリブタジエンを１．５％含んでいた。ポリマーの分子量は、３００，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は５．０（Ｍn＝６０，０００；Ｍz＝１，９００，０００）になった。ムーニー値は２３．６になった。
【０２１４】
Ｋ）  錯体１、ｉ−Ｂｕ2ＡｌＨ及びＢＦ3を用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１１）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はトルエン溶媒５４１ｇ中で実施した。従って、トルエン５４１ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．２ｇ（１．０モル）及びトルエン３．８ｇ中ジイソプロピルアルミニウムヒドリド０．４０５ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、１時間４５分間撹拌した。その後、トルエン溶媒４．６ｇに溶解されたＢＦ3*Ｅｔ2Ｏ  ６．５ｍｇ（０．０４６ミリモル）及びトルエン６．６ｇ中に溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２０ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２１５】
２時間５０分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは８３．７％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン４５．３ｇが回収された。
【０２１６】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを８６．２％；トランス−１，４−ポリブタジエンを１２．６％；１，２−ポリブタジエンを１．２％含んでいた。ポリマーの分子量は、３９４，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は４．０（Ｍn＝９８，０００；Ｍz＝１，５３０，０００）になった。ムーニー値は３０．５になった。
【０２１７】
Ｌ）  錯体５及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１２）
実験は、前記の一般的重合手順（２．２）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５０８ｇ及びトルエン溶媒７０ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５０８ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５５．２ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  １５．１ミリモルを含むヘプタン溶液５．９ｇ）を重合反応器に添加した。トルエン７０ｇ及びＭＭＡＯ  １５．０ミリモルを含むヘプタン溶液５．９ｇを、別の反応器中で金属錯体５  １５９ｍｇ（０．１０ミリモル）と混合し、３０分間撹拌した。
【０２１８】
その後、得られた混合物を重合反応器に移して、重合反応を開始させた。
【０２１９】
１時間３３分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．２．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは２７．７％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン１５．３ｇが回収された。
【０２２０】
ポリマーは、13Ｃ−ＮＭＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９４．０％；トランス−１，４−ポリブタジエンを３．０％；１，２−ポリブタジエンを３．０％含んでいた。ポリマーの分子量は、５１２，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は４．７４（Ｍn＝１０８，０００；Ｍz＝１，４３０，０００）になった。
【０２２１】
Ｍ）  錯体６及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１３）
実験は、前記の一般的重合手順（２．３）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５００ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン４９６．７ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．１ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  ３０．３ミリモルを含むヘプタン溶液１１．８ｇ）を重合反応器に添加し、１時間３０分間撹拌した。その後、シクロヘキサン３．３ｇに溶解されたネオジム錯体６  ９５．６ｍｇ（０．１０ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２２２】
２時間１６分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．３．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは８２．１％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン４４．４ｇが回収された。
【０２２３】
ポリマーは、13Ｃ−ＮＭＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９３．５％；トランス−１，４−ポリブタジエンを５．５％；１，２−ポリブタジエンを１．０％含んでいた。ポリマーの分子量は、２８３，５００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は２．２３（Ｍn＝１２７，０００；Ｍz＝５９２，０００）になった。ムーニー値は２５．８になった。
【０２２４】
Ｎ）  錯体７及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１４）
実験は、前記の一般的重合手順（２．３）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５００ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン４９５．６ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．１ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  ３０．３ミリモルを含むヘプタン溶液１１．６ｇ）を重合反応器に添加し、１時間７分間撹拌した。その後、シクロヘキサン４．４ｇに溶解されたネオジム錯体７  ９５．０ｍｇ（０．０８１ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２２５】
１時間３９分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．２．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは５．１％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン２．８ｇが回収された。
【０２２６】
Ｏ）  錯体８及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１５）
実験は、前記の一般的重合手順（２．２）に従って実施した。重合はシクロヘキサン５００．９ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン４０１．０ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５５．１ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  １５．３ミリモルを含むヘプタン溶液６．０ｇ）を重合反応器に添加した。シクロヘキサン９０．５ｇ及びＭＭＡＯ  １５．２ミリモルを含むヘプタン溶液５．９ｇを、別の反応器中でシクロヘキサン９．４ｇ中に溶解された金属錯体８  １０３．７ｍｇ（０．０４７ミリモル）と混合し、１時間１６分間撹拌した。
【０２２７】
その後、得られた混合物を重合反応器に移して、重合反応を開始させた。
【０２２８】
１時間３５分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．２．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは３．５％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン１．９ｇが回収された。
【０２２９】
Ｐ）  錯体９及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１６）
実験は、前記の一般的重合手順（２．３）に従って実施した。重合はシクロヘキサン５００ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン４９１．６ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．１ｇ（１．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  ３０．３ミリモルを含むヘプタン溶液１１．８ｇ）を重合反応器に添加し、３４分間撹拌した。その後、シクロヘキサン８．４ｇ中に溶解されたネオジム錯体９  ８２．４ｍｇ（０．０５３ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２３０】
１時間４６分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．３．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは４６．８％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン２５．３ｇが回収された。
【０２３１】
ポリマーは、ＩＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを６９．５％；トランス−１，４−ポリブタジエンを１２．５％；１，２−ポリブタジエンを８．５％含んでいた。ムーニー値は３３．９になった。
【０２３２】
Ｑ）  錯体９及びＭＭＡＯ−３ａを用いた１，３−ブタジエンの重合（ラン１７）
実験は、前記の一般的重合手順（２．２）に従って実施した。重合はシクロヘキサン２０００．７ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン１９０１ｇ、１，３−ブタジエンモノマー２１８．０ｇ（４．０モル）及びＭＭＡＯ（ＭＭＡＯ  ３１．０ミリモルを含むヘプタン溶液１１．９ｇ）を重合反応器に添加した。シクロヘキサン９１．５ｇ及びＭＭＡＯ  ３１．０ミリモルを含むヘプタン溶液１１．９ｇを、別の反応器中でシクロヘキサン７．５ｇに溶解された金属錯体９  １６４．８ｍｇ（０．１０７ミリモル）と混合し、４４分間撹拌した。
【０２３３】
その後、得られた混合物を重合反応器に移して、重合反応を開始させた。
【０２３４】
１時間３４分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．２．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは４４．５％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン９７．０ｇが回収された。
【０２３５】
ポリマーは、13Ｃ−ＮＭＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを９３．７％；トランス−１，４−ポリブタジエンを４．７％；１，２−ポリブタジエンを１．７％含んでいた。ムーニー値は３８．２になった。
【０２３６】
３．２：１，３−ブタジエンとスチレンとの共重合
Ｒ）  錯体１、Ｅｔ3Ａｌ及び［Ｃ18Ｈ37］2ＮＭｅＨ］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］を用いた１，３−ブタジエンとスチレンとの共重合（ラン１８）
実験は、前記の一般的重合手順（２．１）に従って実施した。重合はシクロヘキサン溶媒５４２ｇ中で実施した。従って、シクロヘキサン５４２ｇ、１，３−ブタジエンモノマー５４．１ｇ（１．０モル）、スチレン２０．９ｇ（０．２０モル）及びシクロヘキサン１．５ｇ中トリエチルアルミニウム０．３４１ｇ（３．０ミリモル）を重合反応器に添加し、３時間８分間撹拌した。その後、メチルシクロヘキサン３００ｍｇに溶解された［Ｃ18Ｈ37］2ＮＭｅＨ］［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］（ＲＩＢＳ  ２）３６．４７ｍｇ（０．０３ミリモル）及びシクロヘキサン４．０ｇに溶解されたネオジム錯体１  １１．５ｍｇ（０．０２ミリモル）を重合反応器に添加して、重合反応を開始させた。
【０２３７】
３時間２分後に、前述のようにして重合反応を停止させた（２．１．参照）。この時点で、モノマーのポリブタジエンへの転化レベルは２７．３％であった。ストリッピングプロセスの結果、ポリブタジエン１４．８ｇが回収された。
【０２３８】
ポリマーは、ＩＲ及び13Ｃ−ＮＭＲ測定によって、シス−１，４−ポリブタジエンを８５．４％；トランス−１，４−ポリブタジエンを１３．４％；１，２−ポリブタジエンを１．０％；スチレンを０．２％含んでいた。ポリマーの分子量は、３６２，０００ｇ／モルとなり、多分散度（分子量分布）は５．０（Ｍn＝７２，０００；Ｍz＝２，３６３，０００）になった。
３．３：重合活性−比較
【０２３９】
【表１】
2011093934.tif 000022
【０２４０】
*…１５分後に測定；
**…１０分後に測定；
***…８分後に測定。
【０２４１】
【表２】
2011093934.tif 000023
【０２４２】
*…３０分後に測定；
**…６０分後に測定；
３．４：分子量−比較
【０２４３】
【表３】
2011093934.tif 000024
【０２４４】
【表４】
2011093934.tif 000025
【０２４５】
３．５：分子量分布（ＭＷＧ）＆ムーニー粘度−比較
【０２４６】
【表５】
2011093934.tif 000026
【０２４７】
【表６】
2011093934.tif 000027
【０２４８】
３．６：微細構造−ブタジエンフラクションの比較
【０２４９】
【表７】
2011093934.tif 000028
【０２５０】
*…スチレン含量は０．２％。
【０２５１】
【表８】
2011093934.tif 000029
【産業上の利用可能性】
【０２５２】
前記したような本発明のポリマーは、プラスチックの改質に、特にＨＩＰＳ（耐衝撃性ポリスチレン）の製造におけるポリスチレンの改質に使用するのに適している。
【０２５３】
以下に本発明及びその関連態様を列挙する。
１．下記式：
【化２１】
2011093934.tif 000030
［式中、ＭIは元素周期表の第３族、第４族若しくは第５族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であるが、但し、金属錯体が式Ｉａ又はＩｂである場合にはＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム若しくは元素周期表の第３族金属又はアクチニド元素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の一つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
Ｐは炭素原子、窒素原子又は燐原子であり；
ＲA、ＲB、ＲC、ＲD、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；基ＲA及び／又はＲBはいずれも、Ｔ−ＭI−Ｔ結合基を介する場合を除いて、基ＲC及び／又はＲDのいずれにも結合せず；且つ基Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに結合でき；
Ｙは２つの基を結合する二価架橋基であり、Ｙは１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
Ｘは、それぞれ独立に、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘはアミド基、燐化物基、ＭI若しくはＭIIにπ結合した環状非局在化芳香族基又はＭI若しくはＭIIにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｘ1、Ｘ2はそれぞれ独立して、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ1又はＸ2は、Ｍにπ結合した非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｄは、それぞれ独立に、３０個以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基配位子であり；
ｓは０、１、３又は４の数であるが、但し金属錯体が式Ｉａ又はＩｂである場合には。ｓは０又は１の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ，ｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４の数であり；
ｐは１、２、３又は４の数であるが、ただし、金属錯体が式ＶＩＩである場合には、ｐは１又は２であり；
ｍは０又は１の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜５の数の１つであるが、但し金属錯体が式Ｉａ又はＩｂである場合には、ｔは０〜３の数の１つであり；且つ
ｙは１〜２０の数の１つである］
の一つに係る金属錯体。
２．式ＩＶａ又はＩＶｂ：
【化２２】
2011093934.tif 000031
｛式中、ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の１つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム又はプロメチウムであり；
ＲA及びＲBはアルキル、環状アルキル、アリール又はアルカリールであり；且つ２つの配位子（ＲA）（ＲB）Ｔは、ＭI結合基を介する場合を除いて、互いには結合せず；
Ｄは、それぞれ独立に、一酸化炭素；ホスフィン類ＰＲi3及びホスファイト類Ｐ（ＯＲi）3［式中、Ｒiは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル、シリルである］；チオエーテル；エーテル；ポリエーテル；アミン；ポリアミン；オレフィン；炭素数４〜４０の共役ジエン；アルコール；ニトリル；又はエステルから選ばれ；
Ｘ基はフッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又はヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基又は−ＯＲ基［式中、Ｒはそれぞれ独立して水素、又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり；
ｓは０又は１の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｐは１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜３の数の１つであり；且つ
ｙは１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０の数である｝
を有し且つ式量が２０，０００ｇ／モル未満である態様１に記載の金属錯体。
３．式Ｖａ又はＶｂ：
【化２３】
2011093934.tif 000032
｛式中、ＲA、ＲB及びｔは態様１に定義した通りであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム又はプロメチウムであり；
Ｎは窒素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族の金属であり；
Ｘは、それぞれ独立に、フッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に水素、又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ、ＴＥＡ、ＴＭＥＤＡ、Ｅｔ2Ｏであり；
ｏは１の数であり；
ｐは１の数であり；
ｓは０又は１の数であり；且つ
ｙは１、２、３、４、５又は６の数であり；且つ
２つの配位子（ＲA）（ＲB）Ｎは、ＭI結合基を介する場合を除いて、互いには結合しない｝
を有し且つ式量が１５，０００ｇ／モルより小さい態様１又は２に記載の金属錯体。
４．式ＶＩＩａ、ＶＩＩｂ又はＶＩＩｃ：
【化２４】
2011093934.tif 000033
｛式中、ＭII、Ｔ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｐ、Ｄ、Ｘ1、Ｘ2、ｋ、ｓ、ｐ、ｔ、ｏ及びｙは態様１に定義した通りであり；
ＭIは元素周期表第３族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であり；
Ｙは（ＣＲ112）a又は（ＣＲ132）bＯ（ＣＲ142）c又は（ＣＲ152）dＳ（ＣＲ162）e又は１，２−二置換芳香環系［Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルである］であり；
ｉ及びｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２又は３の数であり；ｉとｉｉとの合計は１、２、３又は４の数の１つであり、従ってゼロであることはできない（ｉ＋ｉｉ≠０）｝の１つに対応する態様１に記載の金属錯体。
５．ＭIが元素周期表第３族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリールであり；
Ｄが、それぞれ独立に、一酸化炭素；ホスフィン類ＰＲi3及びホスファイト類Ｐ（ＯＲi）3［式中、Ｒiは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル、シリルである］；チオエーテル；エーテル及びポリエーテル；アミン及びポリアミン；オレフィン；炭素数４〜４０の共役ジエン；ニトリル；及びエステルから選ばれ；
Ｘ1が、それぞれ独立に、フッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、又は−ＯＲ基［式中、Ｒはそれぞれ独立して、１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり；
Ｘ2が、それぞれ独立に、ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基、シリル基又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に、水素、又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］であり；
ｉ及びｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２又は３の数であり；ｉとｉｉとの合計は、１、２、３又は４の数の１つを表し、従って、ゼロであることはできず（ｉ＋ｉｉ≠０）；
ＭII、Ｔ、Ｙ、Ｐ、ｋ、ｓ、ｐ、ｔ、ｏ及びｙは態様１に定義した通りであり、
前記錯体の式量が２０，０００ｇ／モル未満である態様４に記載の金属錯体。
６．式ＶＩＩｄ、ＶＩＩｅ又はＶＩＩｆ：
【化２５】
2011093934.tif 000034
［式中、
ＭIは元素周期表の第３族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は態様１に定義した通りであり；且つＲ7、Ｒ8、Ｒ9、及びＲ10は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
Ｎは窒素原子であり；
ＭII、Ｘ1、Ｘ2、Ｙ、Ｄ、ｋ、ｓ、ｐ、ｏ、ｙ、ｉ、ｉｉ及びｔは態様１に定義した通りであり；
ｉとｉｉとの合計は１、２、３又は４の数の１つを表し、従って、ゼロであることはできない（ｉ＋ｉｉ≠０）］
の１つに対応し且つ式量が１０，０００ｇ／モル未満である態様１に記載の金属錯体。
７．式ＶＩＩｇ、ＶＩＩｈ又はＶＩＩｉ：
【化２６】
2011093934.tif 000035
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＸ2はアルキル、環状アルキル、アリール、アルカリール、特にメチル、エチル、１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル、シクロヘキシル、フェニル、２，６−ジアルキルフェニル、ベンジル、トリメチルシリル及びベンジル（ジメチル）シリル、ｔ−ブチル（ジメチル）シリル、ｎ−ブチル（ジメチル）シリルであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウムであり；
ＭIIはリチウム、ナトリウム又はカリウムであり；
Ｘ1はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
Ｘ2はアルキル、環状アルキル、アリール及びアルカリールから選ばれ；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ又はＥｔ2Ｏであり；
ｔは０、１、２、３、４、５又は６の数であり；
ｓは０、１又は２の数であり；
ｏ及びｐは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ、ｉｉは０、１又は２の数であり；ｉとｉｉとの合計は１、２又は３の数の１つを表し、従って、ゼロであることはできない（ｉ＋ｉｉ≠０）］
の１つに対応し且つ式量が６，０００ｇ／モル未満である態様６に記載の金属錯体。
８．ＭIがネオジムである態様１〜７のいずれかに記載の金属錯体。
９．（Ａ）式ＩＩ：
ＭI（Ｘ1）3*ｔＤ
式ＩＩ
に対応する化合物を式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂ：
【化２７】
2011093934.tif 000036
に対応する化合物又はそのルイス塩基付加物とを接触させて、態様１の式Ｉａ又はＩｂの金属錯体を生成するか；あるいは
（Ｂ）式ＶＩＩＩ：
ＭI（Ｘ1）3*ｔＤ
式ＶＩＩＩ
に対応する化合物を式ＩＸ：
【化２８】
2011093934.tif 000037
［式中、ＭI、ＭII、Ｔ、ＲA、ＲB、ＲC、ＲD、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｙ、Ｐ、Ｄ、Ｘ、Ｘ１、ｍ及びｔは前記態様の１つに定義した通りであり；ｎはゼロ又は１の数であり；且つｕは０又は２の数である］
の化合物と接触させて、態様１に記載の式ＶＩＩの金属錯体を生成せしめることを含んでなる前記態様のいずれか１項に記載の金属錯体の調製方法。
１０．式ＩＩに対応するネオジム化合物と式ＩＩＩａ［式中、Ｔは窒素であり、ｎはゼロであり、且つｕは１である］に対応する第１族化合物又はそのルイス塩基付加物とを、非干渉性溶媒又は反応媒体中で−７５℃〜１５０℃の温度において、式ＩＩのネオジム化合物対式ＩＩＩａの第１族化合物のモル比１：１．５〜１：２．５の範囲で接触させることを含む態様９に記載の方法。
１１．式ＶＩＩＩ｛式中、ＭI、Ｄ及びｔは前記定義の通りであり、且つＸ1基はフッ化物、塩化物、臭化物若しくはヨウ化物、又はヒドロカルビル基、ヒドロカルビルシリル基、ハロ−置換ヒドロカルビル基又は−ＯＲ基［式中、Ｒは、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、アシル−置換ヒドロカルビル、アリールカルボニル−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビル、アシル又はアリールカルボニルである］である｝に対応する化合物と式ＩＸｄ／ｅ又はＩＸｆ：
【化２９】
2011093934.tif 000038
［式中、ＭII、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｄ、Ｎ及びｔは前記定義の通りであり、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルである］
の化合物とを溶媒中で接触させる態様９に記載の方法。
１２．ＭIがランタニド金属であり；Ｘ1がフッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子であり；且つＲ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10が、それぞれ独立に、水素又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；式ＶＩＩＩの化合物対式ＩＸｄ／ｅ又はＩＸｆの１つに対応する化合物のモル比が１：０．１〜１：５．０の範囲であり；且つ反応を非干渉性溶媒又は反応媒体中で−１００℃〜３００℃の温度で実施する態様１１に記載の方法。
１３．態様９〜１２のいずれかに記載の方法によって得られる金属錯体。
１４．ａ）態様１〜８又は１３のいずれかに記載の少なくとも１種の前記金属錯体；
ｂ）１種又はそれ以上の活性剤化合物；及び
ｃ）場合によっては、触媒担体
を含んでなる、１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーのホモ重合及び１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合のための金属錯体触媒組成物。
１５．前記活性剤化合物がａ）Ｃ1〜Ｃ30有機硼素化合物又は有機アルミニウム化合物、（ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン、（ｃ）非ポリマー相溶性非配位性イオン形成性化合物並びに（ｄ）ヒドロカルビルナトリウム、ヒドロカルビルリチウム、ヒドロカルビル亜鉛、ヒドロカルビルマグネシウムハロゲン化物及びジヒドロカルビルマグネシウムから選ばれる態様１４に記載の触媒組成物。
１６．前記活性剤化合物が、
ａ）各アルキル基の炭素数が１〜４であるトリアルキルアルミニウム化合物；及び
ｂ）各ヒドロカルビル基の炭素数がそれぞれ１〜２０であるハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）硼素化合物又はハロゲン化テトラキス（ヒドロカルビル）硼素若しくは−アルミニウム化合物
の組合せを含む態様１４に記載の触媒組成物。
１７．前記活性剤化合物が、
ａ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はテトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートと
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
との組合せを含む態様１４〜１６のいずれかに記載の触媒組成物。
１８．前記活性剤化合物が、
ａ）トリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド化合物と
ｂ）三フッ化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム又は四フッ化チタン
との組合せを含む態様１４又は１５に記載の触媒組成物。
１９．態様１４〜１８のいずれかに記載の金属錯体触媒組成物を使用することを特徴とする１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーのホモ重合及び１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合方法。
２０．金属錯体（ａ）をインシトゥ（ｉｎ  ｓｉｔｕ）で（重合性モノマーの存在下で）活性剤（ｂ）によって活性化する態様１９に記載の方法。
２１．ブタジエン又はイソプレンのホモ重合を含む態様１９又は２０に記載の方法。
２２．９０〜９９％のシス−ポリブタジエン及び１０％以下の１，２−ポリブタジエンを有するホモポリマーを製造するブタジエンのホモ重合を含む態様２1に記載の方法。
２３．ブタジエンとイソプレン又はスチレンとのランダム若しくはブロック共重合又は三元重合を含む態様１９又は２０に記載の方法。
２４．コポリマー中の共役ジエンモノマーのそれぞれの割合が少なくとも８０％であり、ポリブタジエンのシス−ポリブタジエンフラクションの割合が少なくとも９０％であり、１，２−ポリブタジエンの割合が５％以下であるランダム又はブロック共重合を含む態様２３に記載の方法。
２５．態様２２又は２４に従って得られるポリマー。
２６．成形品、フィルム、発泡体、ゴルフボール、タイヤ、ホース、ベルト、ガスケット、シール又は靴の製造のための態様２５に記載のポリマーの使用。
２７．耐衝撃性ポリスチレン又は耐衝撃性改良ポリプロピレンの製造のための態様２５に記載のポリマーの使用。
２８．１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーのホモ重合及び１つの型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーと少なくとも１種の異なる型のエチレン性不飽和付加重合性モノマーとの共重合のための、態様１〜８又は態様１３のいずれかに記載の金属錯体の使用。