(57)【要約】【課題】磁性粒子を含む液体内に挿入される挿入部材の効率的な洗浄処理を可能とした分析装置を提供すること。【解決手段】本発明は、磁性粒子を含む試薬を用いて検体を分析する分析装置であって、磁性粒子が含まれる容器内に挿入される試薬プローブ２２ａと、試薬プローブ２２ａを洗浄するプローブ洗浄部とを備え、プローブ洗浄部は、洗浄液が供給される洗浄槽６２９ａ内へ磁力を供給する電磁石６２９ｅを備えることによって、洗浄液Ｗｂの液流とともに洗浄槽６２９ａ内に磁界を発生させることによって、試薬プローブ２２ａ表面に吸着した磁性粒子５１を除去できるため、試薬プローブ２２ａの効率的な洗浄処理を可能にする。【選択図】図３１
2011137785.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性粒子を含む試薬を用いて検体を分析する分析装置において、
前記磁性粒子が含まれる容器内に挿入される挿入部材と、
前記挿入部材を洗浄する洗浄手段と、
を備え、
前記洗浄手段は、
洗浄液が供給される洗浄槽と、
前記洗浄槽内に磁界を発生させる磁界発生手段と、
を備えたことを特徴とする分析装置。
【請求項２】
前記洗浄槽内における前記磁界発生手段による磁界の発生を制御する洗浄槽磁界制御手段をさらに備え、
前記洗浄槽磁界制御手段は、前記洗浄手段によって前記集磁部材が洗浄される場合に前記磁界発生手段に前記洗浄層内における磁界を発生させることを特徴とする請求項１に記載の分析装置。
【請求項３】
前記磁界発生手段は、電磁石を備え、
前記洗浄槽磁界制御手段は、前記電磁石へ供給する電流を制御することによって、前記洗浄槽内における磁界発生手段による磁界の発生を制御することを特徴とする請求項２に記載の分析装置。
【請求項４】
前記磁界発生手段は、
永久磁石と、
前記永久磁石を、前記洗浄槽に近接した位置または前記永久磁石による磁界が前記洗浄槽内に及ばない位置のいずれかに移送する磁石移送手段と、
を備え、
前記洗浄槽磁界制御手段は、前記磁石移送手段に、前記永久磁石を前記洗浄槽に近接した位置に移送させることによって前記磁界発生手段に前記洗浄槽内における磁界を発生させ、前記永久磁石を前記永久磁石による磁界が洗浄槽に及ばない位置に移送させることによって前記磁界発生手段に前記洗浄槽内における磁界の発生を停止させることを特徴とする請求項２に記載の分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検体に含まれる測定対象物と試薬に含まれる磁性粒子との反応物の光学的特性をもとに検体を分析する分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
分析装置は、血液検体や尿検体などの多数の液体検体に対する分析処理を同時に行い、さらに、多成分を迅速に、かつ、高精度で分析できるため、免疫検査、生化学検査、輸血検査などさまざまな分野での検査に用いられている。このうち、免疫学検査を行う分析装置においては、抗体抗原反応を利用して検体中の分析対象を検出している。すなわち、このような分析装置においては、分析対象と特異的に結合する抗体または抗原を有する磁性粒子を含む試薬と、分析対象と特異的に結合する抗体または抗原を有する標識物質を含む試薬とを検体内に分注し、分析対象の抗原または抗体と磁性粒子、標識物質とを結合させた反応物を生成後、この反応物の光学的特性を取得することによって、検体内の分析対象を検出している。そして、分析装置においては、分析処理が終了するごとに、試薬および検体を分注する各試薬プローブを洗浄することによって、分析装置内の汚染を防止している。
【０００３】
ここで、各試薬プローブの洗浄機構として、排液口を有する洗浄槽内に分注処理の終了した試薬プローブを挿入し、排液口からの排液流量よりも洗浄層内への洗浄液の供給流量が多くなるように洗浄槽内へ洗浄液を供給して試薬プローブ外側を洗浄する洗浄機構が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２４０７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、試薬プローブは、金属製であるため、表面に磁性粒子が付着しやすく、磁性粒子を含む試薬を分注した後も、試薬プローブ表面に磁性粒子が付着したまま残存してしまう場合が多い。しかしながら、従来の洗浄機構においては、単に試薬プローブ外側に洗浄液を流すだけであるため、試薬プローブ表面に付着したまま残存する磁性粒子を効率よく除去することが難しかった。特に、試薬プローブの洗浄処理の場合、試薬プローブ内部に対しては洗浄液の吸引および吐出を繰り返すことによって液圧をかけることができ、この液圧で十分に洗浄することができるのに対し、試薬プローブの外部表面は、液圧をかけることができず液流のみで磁性体を除去しなければならず、磁性粒子が残存する場合があった。このため、従来の分析装置においては、分析装置内の汚染を防止するため、分析処理ごとに使い捨ての保護用キャップを試薬プローブ先端に装着し、分注処理を行なっていた。
【０００６】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、磁性粒子を含む液体内に挿入される挿入部材の効率的な洗浄処理を可能とした分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる分析装置は、磁性粒子を含む試薬を用いて検体を分析する分析装置において、前記磁性粒子が含まれる容器内に挿入される挿入部材と、前記挿入部材を洗浄する洗浄手段と、を備え、前記洗浄手段は、洗浄液が供給される洗浄槽と、前記洗浄槽内に磁界を発生させる磁界発生手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
また、この発明にかかる分析装置は、前記洗浄槽内における前記磁界発生手段による磁界の発生を制御する洗浄槽磁界制御手段をさらに備え、前記洗浄槽磁界制御手段は、前記洗浄手段によって前記集磁部材が洗浄される場合に前記磁界発生手段に前記洗浄層内における磁界を発生させることを特徴とする。
【０００９】
また、この発明にかかる分析装置は、前記磁界発生手段は、電磁石を備え、前記洗浄槽磁界制御手段は、前記電磁石へ供給する電流を制御することによって、前記洗浄槽内における磁界発生手段による磁界の発生を制御することを特徴とする。
【００１０】
また、この発明にかかる分析装置は、前記磁界発生手段は、永久磁石と、前記永久磁石を、前記洗浄槽に近接した位置または前記永久磁石による磁界が前記洗浄槽内に及ばない位置のいずれかに移送する磁石移送手段と、を備え、前記洗浄槽磁界制御手段は、前記磁石移送手段に、前記永久磁石を前記洗浄槽に近接した位置に移送させることによって前記磁界発生手段に前記洗浄槽内における磁界を発生させ、前記永久磁石を前記永久磁石による磁界が洗浄槽に及ばない位置に移送させることによって前記磁界発生手段に前記洗浄槽内における磁界の発生を停止させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、磁性粒子を含む試薬を用いて検体を分析する分析装置において、磁性粒子が含まれる容器内に挿入される挿入部材と、挿入部材を洗浄する洗浄手段とを備え、洗浄手段は、洗浄槽内に磁界を発生させる磁界発生手段とを備えることによって、洗浄液の液流とともに洗浄槽内に磁界を発生させることによって、挿入部材表面に吸着した磁性粒子を挿入部材表面から除去できるため、磁性粒子を含む液体内に挿入される挿入部材の効率的な洗浄処理を可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、実施の形態１にかかる分析装置の構成を示す模式図である。
【図２】図２は、図１に示す集磁棒移送部、測光部および集磁棒洗浄部の概略を示す斜視図である。
【図３】図３は、図１に示す分析装置における検体内の測定対象物、試薬中に含まれる磁性粒子および標識粒子の反応と、測光部による測定処理とを説明する図である。
【図４】図４は、図２に示す集磁棒の断面図である。
【図５】図５は、図２に示す集磁棒の先端部分を示す斜視図である。
【図６】図６は、図２に示す集磁棒の洗浄処理時における磁力の無効化を説明する図である。
【図７】図７は、図１に示す分析装置の要部における複合体の回収処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図８】図８は、図２に示す集磁棒の先端部分の他の例を示す斜視図である。
【図９】図９は、実施の形態１にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。
【図１０】図１０は、図９に示す集磁棒の断面図である。
【図１１】図１１は、図９に示す集磁棒の反応容器内での回収処理時における磁力の有効化を説明する図である。
【図１２】図１２は、図９に示す集磁棒の洗浄処理時における磁力の無効化を説明する図である。
【図１３】図１３は、図９に示す分析装置の要部における複合体の回収処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図１４】図１４は、実施の形態２にかかる分析装置の構成を示す模式図である。
【図１５】図１５は、図１４に示す集磁棒洗浄部に備わる洗浄槽の断面図である。
【図１６】図１６は、図１４に示す集磁棒の洗浄処理時における磁力の無効化を説明する図である。
【図１７】図１７は、図１４に示す分析装置の要部における複合体の回収処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図１８】図１８は、図１４に示す集磁棒洗浄部に備わる洗浄槽の他の例を示す断面図である。
【図１９】図１９は、図１４に示す集磁棒洗浄部に備わる洗浄槽の他の例を示す横断面図である。
【図２０】図２０は、実施の形態２にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。
【図２１】図２１は、図２０に示す集磁棒洗浄部に備わる洗浄槽の断面図である。
【図２２】図２２は、図２１に示す洗浄槽の要部の説明図である。
【図２３】図２３は、図２０に示す分析装置における集磁棒の洗浄処理を説明する図である。
【図２４】図２４は、図２０に示す分析装置の要部における複合体の回収処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２５】図２５は、図１４に示す分析装置における集磁棒の他の例を説明する図である。
【図２６】図２６は、図２５に示す集磁棒を備えた分析装置の要部における複合体の回収処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２７】図２７は、図２０に示す分析装置における集磁棒の他の例を説明する図である。
【図２８】図２８は、図２７に示す集磁棒を備えた分析装置の要部における複合体の回収処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２９】図２９は、実施の形態３にかかる分析装置の構成を示す模式図である。
【図３０】図３０は、図２９に示すプローブ洗浄部が備えるプローブ洗浄槽の断面図である。
【図３１】図３１は、図２９に示す分析装置における試薬プローブの洗浄処理を説明する図である。
【図３２】図３２は、図２９に示す分析装置の要部における第１試薬分注処理からプローブ洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図３３】図３３は、図２９に示すプローブ洗浄部に備わる洗浄槽の他の例を示す断面図である。
【図３４】図３４は、図２９に示すプローブ洗浄部に備わる洗浄槽の他の例を示す横断面図である。
【図３５】図３５は、実施の形態３にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。
【図３６】図３６は、図３５に示すプローブ洗浄部が備えるプローブ洗浄槽の断面図である。
【図３７】図３７は、図３６に示すプローブ洗浄槽の要部の説明図である。
【図３８】図３８は、図３６に示す分析装置における試薬プローブの洗浄処理を説明する図である。
【図３９】図３９は、図３６に示す分析装置の要部における第１試薬分注処理からプローブ洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図４０】図４０は、実施の形態１にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。
【図４１】図４１は、図４０に示す分析装置における検体内の測定対象物、試薬中に含まれる磁性粒子および標識粒子の反応を説明する図である。
【図４２】図４２は、図４０に示す分析装置における測光部による測定処理を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明にかかる実施の形態である分析装置について、血液、尿または唾液などの体液検体に対して表面増強されたラマン散乱光（ＳＥＲＳ）を測定して分析を行なう分析装置を例に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、図面の記載において、同一部分には同一の符号を付している。
【００１４】
（実施の形態１）
まず、実施の形態１について説明する。図１は、本実施の形態１にかかる分析装置の構成を示す模式図である。図１に示すように、実施の形態１にかかる分析装置１は、検体に含まれる測定対象物と磁性粒子と標識物質との複合体に対してレーザ光を発し、複合体からの表面増強されたラマン散乱光を測定する測定機構２と、測定機構２を含む分析装置１全体の制御を行なうとともに測定機構２における測定結果の分析を行なう制御機構４とを備える。分析装置１は、これらの二つの機構が連携することによって複数の検体に対する分析を自動的に行なう。
【００１５】
測定機構２について説明する。測定機構２は、大別して、反応テーブル１０、検体移送部１９、検体分注部２０、第１試薬庫２１、第１試薬分注部２２、プローブ洗浄部２３、第２試薬庫２４、第２試薬分注部２５、プローブ洗浄部２６、攪拌部２７、集磁棒移送部２８、集磁棒洗浄部２９、測光部３０、容器洗浄部３１を備える。
【００１６】
反応テーブル１０は、反応容器１１への検体や試薬の分注、反応容器１１の攪拌、洗浄を行うために反応容器１１を所定の位置まで移送する。この反応テーブル１０は、後述する制御部４１の制御のもと、図示しない駆動機構が駆動することによって、反応テーブル１０の中心を通る鉛直線を回転軸として回動自在である。
【００１７】
検体移送部１９は、血液、尿または唾液等の液体検体を収容した複数の検体容器１９ａを保持し、図中の矢印方向に順次移送する複数の検体ラック１９ｂを備える。検体移送部１９上の検体吸引位置に移送された検体容器１９ａ内の検体は、検体分注部２０によって、反応テーブル１０上に配列して搬送される反応容器１１に分注される。
【００１８】
検体分注部２０は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行うアームを備える。このアームの先端部には、検体の吸引および吐出を行う検体プローブが取り付けられている。検体分注部２０は、図示しない吸排シリンジまたは圧電素子を用いた吸排機構を備える。検体分注部２０は、上述した検体移送部１９上の所定位置に移送された検体容器１９ａの中から検体プローブによって検体を吸引し、アームを図中反時計回りに旋回させ、反応テーブル１０上の反応容器１１内に検体を吐出する。
【００１９】
第１試薬庫２１は、第１試薬が収容された第１試薬ボトル２１ａを複数収納できる。第２試薬庫２４は、第２試薬が収容された第２試薬ボトル２４ａを複数収納できる。この第１試薬ボトル２１ａ内の第１試薬、および、第２試薬ボトル２４ａ内の第２試薬は、反応テーブル１０の反応容器１１内にそれぞれ分注される。第１試薬庫２１および第２試薬庫２４は、図示しない駆動機構が駆動することによって、時計回りまたは反時計回りに回動自在であり、所望の試薬ボトルを第１試薬分注部２２または第２試薬分注部２５による試薬吸引位置まで移送する。ここで、検体内の測定対象物は、たとえば、抗体、タンパク質、ペプチド、アミノ酸、炭水化物、ホルモン、ステロイド、ビタミン、細菌、ＤＮＡ、ＲＮＡ、細胞、ウィルスに加え、任意の抗原物質、ハプテン、抗体およびこれらの組み合わせなどがある。第１試薬は、分析対象である検体内の測定対象物と結合する抗原または抗体を固相した磁性粒子を含む試薬である。第２試薬は、検体内の測定対象物と結合する標識物質を含む試薬である。標識物質は、原子レベルの表面粗さを持つ金または銀を含む粒子であり、この金または銀を含む粒子の表面には、測定対象物と結合可能である抗原または抗体がコーティングされている。
【００２０】
第１試薬分注部２２は、第１試薬の吸引および吐出を行なう試薬プローブが先端部に取り付けられ鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行なうアームを備える。第１試薬分注部２２は、図示しない吸排シリンジまたは圧電素子を用いた吸排機構を備える。第１試薬分注部２２は、第１試薬庫２１によって所定位置に移動された第１試薬ボトル２１ａ内の試薬を、試薬プローブによって吸引し、アームを旋回させ、反応テーブル１０によって第１試薬吐出位置に搬送された反応容器１１に分注する。第２試薬分注部２５は、第１試薬分注部２２と同様の構成を有し、第２試薬庫２４によって所定位置に移動された第２試薬ボトル２４ａ内の試薬を、試薬プローブによって吸引し、アームを旋回させ、反応テーブル１０によって第２試薬吐出位置に搬送された反応容器１１に分注する。
【００２１】
プローブ洗浄部２３，２６は、第１試薬分注部２２の試薬プローブの軌跡上、第２試薬分注部２５の試薬プローブの軌跡上にそれぞれ配置され、試薬プローブの内側と外側との洗浄を行う。試薬分注が終了した試薬プローブは、プローブ洗浄部２３，２６によって洗浄された後、次の試薬の分注処理を行なう。
【００２２】
攪拌部２７は、反応容器１１に分注された検体と試薬との攪拌を行い、反応を促進させる。反応容器１１内に分注された検体、第１試薬および第２試薬は、攪拌部２７によって反応が促進される。この結果、反応容器１１内には検体に含まれる測定対象物と磁性粒子と標識物質との複合体が生成する。この複合体は、磁性粒子を有する。この磁性粒子は、磁界が及ぶ領域に位置する場合には、この磁界において磁力を有し、磁界発生源に引き寄せられる。この結果、磁性粒子を有する複合体も磁界発生源に引き寄せられる。
【００２３】
集磁棒移送部２８は、図２に示すように、反応容器内１１に対して磁界を発生する集磁棒２８ａが先端部に取り付けられ昇降および回転を自在に行なうアーム２８ｂを有する。集磁棒移送部２８は、検体および試薬を収容し所定の集磁位置に位置する反応容器１１の内部、後述する測光部３０による測光位置、または、後述する集磁棒洗浄部２９による洗浄位置に集磁棒２８ａを移送する。具体的には、集磁棒移送部２８は、所定の軌跡Ｌ２にしたがって、反応テーブル１０に移送される反応容器１１であって軌跡Ｌ１上の所定の集磁位置に位置する反応容器１１の内部、測光部３０内部の測光位置、または、集磁棒洗浄部２９の洗浄槽２９ａ内部に、集磁棒２８ａを移送する。
【００２４】
集磁棒移送部２８は、図２に示すように、アーム２８ｂの他端に接続し、このアーム２８ｂの他端を通過する鉛直線が中心軸である支柱２８ｃを有する。そして、集磁棒移送部２８は、この支柱２８ｃを回転させる回転機構２８ｄと支柱２８ｃを昇降させる昇降機構２８ｅとを有する。この回転機構２８ｄは、プーリ２８２ｄに接続するとともに装置本体の不動部分に固定された回転用モータ２８１ｄと、支柱２８ｃに一体となって設けられたプーリ２８４ｄと、プーリ２８２ｄおよびプーリ２８４ｄに掛け渡された回転用ベルト２８３ｄとを備える。回転用モータ２８１ｄが時計回りまたは反時計回りに対応する向きで回転した場合、回転用モータ２８１ｄの回転がプーリ２８２ｄ、回転ベルト２８３ｄ、プーリ２８４ｄに順次伝達することによって支柱２８ｃが時計回りまたは反時計周りに回転する。この支柱２８ｃの回転によって、支柱２８ｃが接続するアーム２８ｂが矢印Ｙ５のように軌跡Ｌ２に沿って回転する。そして、昇降機構２８ｅは、プーリ２８２ｅに接続するとともに分析装置１内部の不動部分に固定された昇降用モータ２８１ｅと、支柱２８ｃ下端に一体となって設けられた昇降板２８６ｅと、支柱２８ｃと平行となるように分析装置１内部の不動部分に固定され下端にプーリ２８４ｅが設けられたネジ軸２８５ｅと、プーリ２８２ｅおよびプーリ２８４ｅに掛け渡された昇降用ベルト２８３ｅとを備える。ネジ軸２８５ｅは、昇降板２８６ｅ内を貫通しており、昇降板２８６ｅとネジ軸２８５ｅとは、たとえばボールねじ機構を構成している。昇降用モータ２８１ｅが上昇方向または下降方向に対応する向きで回転した場合、昇降用モータ２８１ｅの回転がプーリ２８２ｅ、昇降用ベルト２８３ｅ、プーリ２８４ｅに順次伝達することによってネジ軸２８５ｅが回転し、このネジ軸２８５ｅの回転にともない昇降板２８６ｅも上昇または下降することによって、支柱２８ｃが上昇または下降する。この支柱２８ｃの昇降によって、支柱２８ｃが接続するアーム２８ｂも矢印Ｙ６のように昇降する。
【００２５】
集磁棒移送部２８は、検体、第１試薬および第２試薬が分注され、複合体が生成された反応容器１１内に集磁棒２８ａを挿入する。反応容器１１内に挿入された集磁棒２８ａは、先端から反応容器１１内に磁界を発生させることによって、集磁棒２８ａの先端表面に反応容器１１内の複合体における磁性粒子を吸着し、複合体を集磁する。その後、集磁棒移送部２８は、アーム２８ｂを回転移動することによって後述する測光部３０の開口３０ｃ上に集磁棒２８ｃを移送し、アーム２８ｂを下降することによって開口３０ｃを介して測光部３０の測光位置まで集磁棒２８ａを挿入する。そして、測光部３０による測光処理が終了した後、集磁棒移送部２８は、集磁棒２８ａを洗浄するため、測光部３０による測光位置から、後述する集磁棒洗浄部２９における洗浄槽２９ａ内に、複合体が先端表面に吸着した集磁棒２８ａを移送する。なお、集磁棒移送部２８は、後述するように、集磁棒２８ａ内部が筒状となっており、この筒状となった内部を図中上下に移動可能である磁性体の制御棒２８ｈと、この制御棒２８ｈに接合するストッパ部材２８ｊとを備える。
【００２６】
集磁棒洗浄部２９は、図２に示すように、側面に、洗浄液タンクと接続し洗浄液を供給する洗浄液供給管２９ｂと、底面に、排液タンクと接続し洗浄液等を排出する排液管２９ｃが接続する所定の洗浄槽２９ａを有し、測光部３０による測光処理が終了した集磁棒２８ａを洗浄する。洗浄槽２９ａは、上部に開口をもつ略角柱状を有し、集磁棒２８ａを収容して集磁棒２８ａの洗浄を行う。なお、集磁棒洗浄部２９は、集磁棒２８ａの制御棒２８ｈ上部が装着可能であって軌跡Ｌ２上に位置する凹部２９ｆを有し、ストッパ部材２８ｊを凹部２９ｆ側上面に掛けることができる板状部材２９ｅと、この板状部材２９ｅと接続し分析装置１内部の不動部分に固定された支柱２９ｄとを有する。図２に示すように、板状部材２９ｅが洗浄槽２９ａ上方から所定距離分、離間して位置するように、支柱２９ｄの高さ、および、支柱２９ｄと板状部材２９ｅとの接続箇所が設定されている。
【００２７】
測光部３０は、集磁棒２８ａが集磁した複合体に対して測光処理を行なって、複合体の光学的特性を測定する。測光部３０は、複合体が凝集した凝集体の表面増強されたラマン散乱光を測定し、測定結果を制御機構４に出力する。
【００２８】
容器洗浄部３１は、図示しないノズルによって、集磁棒２８ａによる複合体の集磁処理によって複合体が取り除かれた反応容器１１内の混合液を吸引して排出するとともに、洗剤や洗浄水等の洗浄液を注入および吸引することで反応容器１１を洗浄する。この洗浄した反応容器１１は再利用されるが、検査内容によっては１回の測定終了後に反応容器１１を廃棄してもよい。
【００２９】
次に、制御機構４について説明する。制御機構４は、制御部４１、入力部４２、分析部４３、記憶部４４および出力部４５を備える。測定機構２および制御機構４が備えるこれらの各部は、制御部４１に電気的に接続されている。
【００３０】
制御部４１は、ＣＰＵ等を用いて構成され、分析装置１の各部の処理および動作を制御する。制御部４１は、これらの各構成部位に入出力される情報について所定の入出力制御を行い、かつ、この情報に対して所定の情報処理を行う。
【００３１】
入力部４２は、キーボード、マウス等を用いて構成され、検体の分析に必要な諸情報や分析動作の指示情報等を外部から取得する。分析部４３は、測光部３３から取得したラマン分光結果に基づいて検体の分析を行う。
【００３２】
記憶部４４は、情報を磁気的に記憶するハードディスクと、分析装置１が処理を実行する際にその処理にかかわる各種プログラムをハードディスクからロードして電気的に記憶するメモリとを用いて構成され、検体の分析結果等を含む諸情報を記憶する。記憶部４４は、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＰＣカード等の記憶媒体から情報を読み取ることができる補助記憶装置を備えてもよい。
【００３３】
出力部４５は、プリンタ、スピーカー等を用いて構成され、検体の分析結果を含む諸情報を出力する。出力部４５は、図示しない通信ネットワークを介して所定の形式にしたがった情報を外部装置に出力してもよい。
【００３４】
以上のように構成された分析装置１では、列をなして順次搬送される複数の反応容器１１に対して、検体分注部２０が検体容器１９ａ中の検体を分注し、第１試薬分注部２２が第１試薬ボトル２１ａ中の第１試薬を分注し、第２試薬分注部２５が第２試薬ボトル２４ａ中の第２試薬を分注する。具体的には、各反応容器１１には、検体分注部２０によって検体容器１９ａから検体が注入されるとともに、図３（１）に示すように、磁性粒子５１を含む第１試薬と標識物質である金粒子５２を含む第２試薬が注入される。この磁性粒子５１および金粒子５２は、検体中の測定対象物５０と反応し、この結果、図３（２）に示すように、磁性粒子５１、金粒子５２および測定対象物５０が結合した複合体５３が形成される。その後、集磁棒移送部２８は、図３（２）の矢印Ｙ１に示すように、この複合体５３が形成された反応容器１１内部に、集磁棒２８ａを挿入する。そして、図３（３）の矢印Ｙ２に示すように、集磁棒２８ａが反応容器１１内に先端から磁界を発生させることによって集磁棒２８ａ先端表面に複合体５３の磁性粒子が引き寄せられて吸着し、集磁棒２８ａの先端表面に複合体５３が凝集した凝集体５４が形成される。このようにして、集磁棒２８ａは先端表面に複合体５３を集磁する。その後、集磁棒２８ａは、表面に凝集体５４を吸着させた状態で、集磁棒移送部２８によって矢印Ｙ３のように反応容器１１内部から引き上げられ、測光部３０の測光位置に移送される。
【００３５】
そして、図３（４）に示すように、測光部３０は、レーザ光源３０ａと、図示しない集光機構と、ラマン分光計３０ｂとを備える。測光部３０では、レーザ光源３０ａから発せられたレーザ光Ｌｉは、集磁棒２８ａ表面に吸着する凝集体５４に入射し、凝集体５４で表面増強されたラマン散乱光Ｌｆは、ラマン分光計３０ｂによって測定される。ラマン分光計３０ｂによる測定結果は、後述する制御部４１に出力される。この測定結果を分析部４３が分析することで、検体の成分分析等が自動的に行われる。また、容器洗浄部３１が集磁棒２８ａによる複合体５３の集磁処理が終了し複合体５３が取り除かれた後に搬送される反応容器１１を搬送させながら洗浄することで、一連の分析動作が連続して繰り返し行われる。そして、測光部３０によって測定が終了した集磁棒２８ａは、集磁棒洗浄部２９によって洗浄された後に、次の測定対象の反応容器１１に対して複合体５３の集磁処理を行う。
【００３６】
ここで、本実施の形態１にかかる分析装置１においては、集磁棒２８ａは、常に磁界を発生させているのではなく、反応容器１１内に磁界を発生させ、さらに、この磁界の発生を停止させることが可能である。言い換えると、集磁棒２８ａは、磁界の発生をオンまたはオフとすることができる。そして、制御部４１は、反応容器１１内における集磁棒２８ａによる磁界の発生を制御する集磁棒磁界制御部４６を備え、この集磁棒磁界制御部４６が反応容器１１内における集磁棒２８ａによる磁界の発生、および、この磁界の発生の停止を制御することによって、反応容器１１からの複合体５３（凝集体５４）の集磁と、測光終了後の凝集体５４が吸着する集磁棒２８ａの洗浄を円滑に行っている。
【００３７】
次に、この集磁棒２８ａについて詳細に説明する。図４は、図２に示す集磁棒２８ａを長手方向に切断した断面図であり、図５は、図２に示す集磁棒２８ａの先端部分を示す斜視図である。図４および図５に示すように、集磁棒２８ａは、外筒２８ｇを備える。この外筒２８ｇは、内部が空洞である構造を有するとともに、少なくとも先端が磁性体材料で形成され、さらに上面が開口した円柱形状を有する。この外筒２８ｇの先端部分は、２方向から切り欠くことによって形成された尖形状を有する。また、外筒２８ｇ上部は、アーム２８ｂ先端に設けられた孔に装着されアーム２８ｂに固定接続されている。
【００３８】
外筒２８ｇの空洞内には、外筒２８ｇの空洞内を上下に移動可能である制御棒２８ｈが挿入されている。制御棒２８ｈの下部先端には永久磁石２８ｉが接続されている。この永久磁石２８ｉは、ネオジウム元素から構成される永久磁石であるほか、フェライト磁石であってもよい。制御棒２８ｈと永久磁石２８ｉは、接着剤を介して接合されるほか、溶接によって接合される場合もある。また、制御棒２８ｈ先端が磁性体で形成される場合には、永久磁石２８ｉが発生する磁界によって制御棒２８ｈと永久磁石２８ｉとを接続することも可能である。制御棒２８ｈの長さは、制御棒２８ｈの下部先端の永久磁石２８ｉが外筒２８ｇ内部の空洞底面に接触した場合であっても、制御棒２８ｈの上部先端がアーム２８ｂ条面から突出するように設定されている。制御棒２８ｈは、軸受け２８ｋによってアーム２８ｂに支持されている。そして、制御棒２８ｈの上部先端にはストッパ部材２８ｊが設けられている。
【００３９】
集磁棒２８ａにおいては、制御棒２８ｈ下部先端の永久磁石２８ｉの位置が、複合体５３の集磁箇所に近接した位置に変更することによって、上記反応容器１１内における磁界を発生させ、永久磁石２８ｉの位置が複合体５３の集磁箇所から離間した位置であって永久磁石２８ｉの磁界が複合体５３の集磁箇所に及ばない位置に変更することによって、反応容器１１内における磁界の発生が停止する。
【００４０】
まず、集磁棒２８ａが反応容器１１内に磁界を発生させる場合について説明する。図４に示すように、制御棒２８ｈが重力などにしたがって外筒２８ｇの空洞底部まで挿入されている場合には、永久磁石２８ｉが外筒２８ｇの下端に近接して位置することとなる。すなわち、この場合には、永久磁石２８ｉは外筒２８ｇ先端の切り欠いた２つの平面２８ｍに近接して位置する。この結果、これらの平面２８ｍからは永久磁石２８ｉの磁界が発せられることとなり、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生が可能となる。複合体５３が形成された反応容器１１内に、この状態の集磁棒２８ａを挿入した場合、集磁棒２８ａ先端の平面２８ｍから反応容器１１内に磁界を発生させることができる。この結果、外筒２８ｇの２つの平面２８ｍ表面に、図３（３）に示す矢印Ｙ２のように磁性体である複合体５３が引き寄せられ、集磁棒２８ａは、平面２８ｍ表面に凝集体５４を形成して複合体５３を集磁することが可能になる。このように、複合体５３の集磁処理時に、永久磁石２８ｉの位置が集磁箇所である平面２８ｍに近接した位置となるように、制御棒２８ｈが外筒２８ｇの空洞底部まで挿入されることによって、反応容器１１における集磁棒２８ａによる磁界の発生が可能になる。そして、集磁棒２８ａは、複合体５３の集磁処理、および、測光部３０による測光処理においては、この状態を保持する。すなわち、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂの移動処理を制御し、外筒２８ｇの空洞底部まで制御棒２８ｈが挿入された状態の集磁棒２８ａを反応容器１１内に挿入することによって、反応容器１１内に磁界を発生させ、集磁部材移送部２８によって集磁棒２８ａが測光部３０における測光位置に移送時されるまでは、この集磁棒２８ａの状態を保持することで、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生を維持させている。
【００４１】
次に、集磁棒２８ａが集磁棒２８ａ先端から発生させた磁界が停止される場合について説明する。集磁棒２８ａは、制御棒２８ｈ下部先端の永久磁石２８ｉの位置が、集磁箇所である平面２８ｍから永久磁石２８ｉの磁界の及ばない離間した位置に変更した場合に、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生が停止する。そして、測光部３０による平面２８ｍ表面の凝集体５４の測光処理が終わった後であって集磁棒洗浄部２９によって集磁棒２８ａが洗浄される場合に、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生が停止する。
【００４２】
図６は、集磁棒２８ａの洗浄処理時における集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生の停止を説明する図である。この図６および図２を参照して、集磁棒洗浄処理時における集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生を説明する。まず、集磁棒磁界制御部４６は、測光部３０による平面２８ｍ表面の凝集体５４の測光処理が終了した場合、集磁棒移送部２８に対して、集磁棒２８ａを測光部３０による測光位置から集磁棒洗浄部２９による洗浄位置まで移動させる。具体的には、集磁棒磁界制御部４６は、集磁棒移送部２８に対し、アーム２８ｂを上昇させ集磁棒２８ａを測光部３０内から上昇させた後、図２に示す軌跡Ｌ２に沿ってアーム２８ｂを回転させることによって、集磁棒洗浄部２９上まで集磁棒２８ａを移動させる。
【００４３】
そして、図６に示すように、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂの移動動作を制御することによって、板状部材２９ｅの凹部２９ｆ内に制御棒２８ｈ上部を装着し、板状部材２９ｅの凹部２９ｆ側上面にストッパ部材２８ｊを掛ける。その状態で、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂを矢印Ｙ８のように下降させる。このアーム２８ｂの下降にしたがって、アーム２８ｂに固定接続される集磁棒２８ａの外筒２８ｇも矢印Ｙ９のように集磁棒洗浄部２９における洗浄槽２９ａ内に下降する。
【００４４】
これに対し、集磁棒２８ａ内にあった制御棒２８ｈは、上部のストッパ部材２８ｊが板状部材２９ｅに掛けられているため、アーム２８ｂが下降した場合であっても、下降せず、そのままの高さを保持する。したがって、図６に示すように、制御棒２８ｈ下端は、アーム２８ｂの下降にしたがい外筒２８ｇが下降することによって、外筒２８ｇの空洞内上方に位置が変わることとなる。すなわち、制御棒２８ｈ全体は、外筒２８ｇに対して相対的に上昇する。これにともない、制御棒２８ｈ下端に接続する永久磁石２８ｉの位置も、外筒２８ｇの空洞内上部であって平面２８ｍへ永久磁石２８ｉの磁界が及ばない位置に変わる。言い換えると、永久磁石２８ｉの位置は、外筒２８ｇの空洞底部から空洞上部に変わることによって、複合体５３の集磁位置である平面２８ｍから離間した位置であって、永久磁石２８ｉの磁界が平面２８ｍに及ばない位置に変わることになる。この結果、複合体５３の集磁処理および測光処理において反応容器１１内において発生させた集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は停止する。すなわち、集磁棒磁界制御部４６は、集磁棒洗浄部２９によって集磁棒２８ａが洗浄される場合に、制御棒２８ｈのストッパ部材２８ｊが板状部材２８ｅに掛かかるようにアーム２８ｂを回転させ、その後、アーム２８ｂを下降させることによって、外筒２８ｇのみを洗浄槽２９ａ内に挿入して、集磁棒２８ａから集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生を停止させる。
【００４５】
分析装置１は、このように集磁棒２８ａからの磁界の発生が停止した状態で、集磁棒２８ａが挿入された洗浄槽２９ａ内に洗浄液供給管２９ｂから洗浄液Ｗａを供給させ、集磁棒２８ａを洗浄している。この場合、平面２８ｍ表面から発せられた磁界によって平面２８ｍ表面に吸着していた凝集体５４は、吸着の要因であった集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生が停止し、磁界が及ばないことから、平面２８ｍへの吸着が解除され、集磁棒２８ａ表面から図６の矢印Ｙ１０のように剥がれて離脱する。そして、集磁棒２８ａから離脱した凝集体５４は、洗浄液Ｗａの水流にしたがって下方に流される。集磁棒洗浄部２９は、この凝集体５４を含む洗浄液Ｗａを、排液管２９ｃを介して洗浄槽２９ａ外へ廃棄することによって、集磁棒２８ａ表面に吸着した凝集体５４を取り除いている。
【００４６】
このように、分析装置１においては、集磁棒２８ａは、反応容器１１内に磁界を発生させることによって反応容器１１から複合体５３を先端表面に集磁するとともに、この磁界の発生を停止することが可能である。このため、分析装置１においては、集磁棒２８ａ先端から磁界を発生させることによって複合体５３（凝集体５４）を適切に集磁することができるとともに、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生を停止することによって測光処理後の集磁棒２８ａ表面から複合体５３を適切に取り除くことができる。したがって、分析装置１によれば、集磁棒に保護キャップを装着しなくとも、集磁棒２８ａ表面から複合体５３を適切に除去できるため、装置内汚染の防止と廃棄物の低減との双方が可能になる。
【００４７】
もちろん、分析装置１においては、集磁棒２８ａを直接、反応容器１１の反応液内に挿入することによって複合体５３を集磁しているため、反応容器外から複合体を集磁し複合体以外の未反応物質を除去して複合体を残存させていた従来のＢＦ（ｂｏｕｎｄ−ｆｒｅｅ）分離処理を行なう場合と比較し、複合体５３の集磁を効率よく行うことができる。また、分析装置１においては、従来のＢＦ分離処理を行なう必要がないため、ＢＦ分離処理の効率化を図らずとも、高い精度で分析処理を行なうことができる。また、分析装置１においては、集磁棒２８ａ表面に凝集体５４が吸着した状態でＳＥＲＳ測光を行うことができるため、従来の液中で複合体の光学的特性を測定する方法と比較して、液中に含まれる夾雑物の影響を大幅に低減することができ、高い精度で分析処理を行なうことができる。
【００４８】
なお、図６に示す集磁棒洗浄部２９では、洗浄液供給管２９ｂは、洗浄槽２９ａ側面に、洗浄槽２９ａを貫通して設けられ、洗浄液もしくは水を洗浄槽２９ａ内に供給する。また、排液管２９ｃからの排液量は、排液管２９ｃに設けられる図示しない電磁弁の開閉によって制御される。集磁棒洗浄処理において、この洗浄槽２９ａ内に洗浄液高さＰｗを超えない量であって一定量の洗浄液が供給されるまでは、電磁弁は閉じたままとする。なお、排液管２９ｃに電磁弁以外の機構を設け、流量制御を行なってもよい。
【００４９】
次に、複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理までにおける分析装置１の要部の動作処理を説明する。図７は、分析装置１の要部における複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【００５０】
図７に示すように、集磁棒磁界制御部４６は、集磁棒移送部２８のアーム２８ｂを回転移動させることによって、集磁棒２８ａを反応テーブル１０に収容される反応容器１１のうち所定の集磁位置に位置する反応容器１１上に移送する（ステップＳ２）。そして、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂを下降させることによって集磁棒２８ａを反応容器１１内に下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ４）。この場合、集磁棒２８ａにおける制御棒２８ｈは重力にしたがい外筒２８ｇの空洞底部まで挿入するため、制御棒２８ｈの底部側先端に接続する永久磁石２８ｉは、複合体５３の集磁面である平面２８ｍに近接する。このため、集磁棒２８ａ先端の平面２８ｍから磁界が発せられる状態となっている。したがって、この状態で集磁棒２８ａが反応容器１１内に下降した場合には、集磁棒２８ａ先端から発せられる磁界もともに反応容器１１内に移動するため、集磁棒２８ａは反応容器１１内に磁界を発生させることとなる。そして、集磁棒２８ａ先端の平面２８ｍ表面には、複合体５３が吸着し、凝集体５４が形成される。なお、アーム２８ｂは、集磁棒２８ａの外筒２８ｇの磁性体部分の上端が反応容器１１内の液面よりも上方に位置するように、集磁棒２８ａを反応容器１１内に下降する。外筒２８ｇの磁性体部分の上端が液面よりも下方に位置した場合、外筒２８ｍ下端の平面２８ｍ以外に、外筒２８ｇの磁性体部分の上端にも複合体５３が引き寄せられてしまい、複合体５３の平面２８ｍにおける集磁効率が低減してしまうためである。また、集磁棒２８ａの反応容器１１内への下降速度は、５０ｍ／秒以下であることが望ましい。
【００５１】
そして、集磁棒磁界制御部４６は、集磁棒２８ａの先端に凝集体５４が形成される所定の集磁時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ６）。この集磁時間は、０．１秒以上である必要があり、複合体５３の集磁効率を一定以上とするためには２秒以上であることが望ましい。集磁棒磁界制御部４６は、この集磁時間を経過するまでステップＳ６の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ６：Ｙｅｓ）、反応容器１１から集磁棒２８ａを取り出すために、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒２８ａを反応容器１１内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ８）。この集磁棒２８ａの反応容器１１からの上昇速度は、下降速度と等しいか、あるいは、それ以下に設定することが望ましい。
【００５２】
次いで、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂを回転移動させて集磁棒２８ａを測光部３０上に移送し（ステップＳ１０）、アーム２８ｂを下降させることによって集磁棒２８ａを測光部３０内の測光位置まで下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ１２）。この場合、集磁棒２８ａに対する制御棒２８ｈ先端の永久磁石２８ｉの位置は変わっていないため、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は維持される。したがって、集磁棒２８ａは、先端の平面２８ｍ表面に凝集体５４を吸着した状態のまま測光部３０内に移送され、測光処理が実施される。その後、集磁棒磁界制御部４６は、この集磁棒２８ａ先端に吸着する凝集体５４への測光処理が終了したか否かを判断する（ステップＳ１４）。たとえば、集磁棒磁界制御部４６は、所定の測光時間が経過した場合に測光処理が終了したと判断する。この測光時間は、測光部３０の検出手段の種類によって異なり、いずれであっても０．１秒以上である。また、測光時間は、表面増強されたラマン散乱光を検出する場合には１秒以上であることが望ましい。
【００５３】
そして、集磁棒磁界制御部４６は、測光処理が終了するまでステップＳ１４の判断処理を繰り返し、測光処理が終了したと判断した場合（ステップＳ１４：Ｙｅｓ）、アーム２８ｂを上昇させることによって、集磁棒２８ａを測光部３０内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ１６）。その後、集磁棒磁界制御部４６は、測光処理が終了した集磁棒２８ａを洗浄するため、アーム２８ｂを回転させることによって、集磁棒洗浄部２９の洗浄槽２９ａ上に集磁棒２８ａを移送する（ステップＳ１８）。この集磁棒２８ａの洗浄槽２９ａ上への移送が完了した時点で、集磁棒２８ａの制御棒２８ｈ上部のストッパ部材２８ｊが、集磁棒洗浄部２９における板状部材２９ｅの凹部２９ｆ側上面に掛けられた状態となる。すなわち、ストッパ部材２８ｊをストッパ回避部材である板状部材２９ｅの凹部２９ｆ側上面に装着することができる（ステップＳ２０）。
【００５４】
この状態で、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂを下降させることによって、集磁棒２８ａを洗浄槽２９ａ内に下降する（ステップＳ２２）。この場合、集磁棒２８ａ内にあった制御棒２８ｈは、上部のストッパ部材２８ｊが板状部材２９ｅに掛けられているため、アーム２８ｂが下降した場合であっても下降せず、そのままの高さを保持する。これにともない、制御棒２８ｈ下端に接続する永久磁石２８ｉも、そのままの高さを保持する。これに対し、外筒２８ｇは、アーム２８ｂの下降にしたがって下降するため、永久磁石２８ｉから、外筒２８ｇ先端の平面２８ｍは離れてしまう。このため、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は停止し、平面２８ｍには、永久磁石２８ｉの磁界は及ばなくなる。なお、この集磁棒２８ａの洗浄槽２９ａ内の下降速度は、０．１ｍｍ／秒以上であり、１５０ｍｍ／秒程度であることが望ましい。また、アーム２８ｂの下降速度を調整することによって、制御棒２８ｈの外筒２８ｇに対する相対的な上昇速度は調整可能である。また、ストッパ部材２８ｊおよび板状部材２９ｅの設置高さを調整することによって、制御棒２８ｈの外筒２８ｇに対する相対的な上昇量は調整可能である。
【００５５】
その後、制御部４１は、洗浄槽２９ａ内に洗浄液の供給を開始し（ステップＳ２６）、集磁棒２８ａの洗浄を行う。この場合、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は停止しているため、外筒２８ｇ先端の平面２８ｍに吸着していた凝集体５４は、洗浄液内に離脱し、排液管２９ｃを介して廃棄される。また、制御部４１は、洗浄液が洗浄槽２９ａ内の洗浄液高さＰｗを上回ったり下回ったりしないように、排液管２９ｃに設けられた電磁弁を制御し、排液量を調整する。また、制御部４１は、電磁弁を制御することによって、洗浄液高さを保持するとともに、洗浄槽２９ａ内に洗浄液の流れを形成する。また、洗浄液高さＰｗは、集磁棒２８ａが洗浄槽２９ａ内に挿入された場合、集磁棒２８ａの外筒２８ｇの磁性体部分の上端を上回る高さとする。
【００５６】
集磁棒磁界制御部４６は、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ２８）。この洗浄時間は、０．１秒以上である必要があり、確実な複合体５３除去のためには２秒以上であることが望ましい。集磁棒磁界制御部４６は、この洗浄時間を経過するまでステップＳ２８の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ２８：Ｙｅｓ）、洗浄槽２９ａから集磁棒２８ａを取り出すために、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒２８ａを洗浄槽２９ａ内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ３０）。この集磁棒２８ａの洗浄槽２９ａからの上昇速度は、集磁棒２８ａの外筒２８ｇの先端方面への洗浄液付着を防止するため、外筒２８ｇの先端表面が洗浄液高さＰｗを越えるまでは、５０ｍｍ／秒以下とする。そして、アーム２８ｂが上昇することにより、外筒２８ｇも上昇し、制御棒２８ｈが外筒２８ｇの空洞内に永久磁石２８ｉが空洞底部に位置するよう装着される。これによって、集磁棒２８ａは、集磁棒２８ａ先端から磁界が発せられる状態となる。集磁棒磁界制御部４６は、次に分析対象の反応容器がある場合には、ステップＳ２に戻り、集磁棒２８ａを反応容器１１上に移送する。
【００５７】
その後、制御部４１は、洗浄槽２９ａへの洗浄液の供給を停止する（ステップＳ３２）。実質的には、制御部４１は、集磁棒２８ａの外筒２８ｇの先端が洗浄液高さＰｗよりも高い位置に移動した場合、すなわち、外筒２８ｇの先端と液面との接触がなくなった場合、洗浄液の供給を停止する。外筒２８ｇの先端と液面との接触がなくなったか否かは、静電容量型液面検知法等を用いて判断できる。そして、制御部４１は、洗浄槽２９ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ３６）、集磁棒２８ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ２〜ステップＳ３６の一連の処理を繰り返すことによって、集磁棒２８ａによる集磁処理、測光処理および集磁棒洗浄処理が分析処理ごとに行われる。
【００５８】
また、本実施の形態１においては、図５に示すように、外筒２８ｇの先端は、２方向から先端部分を切り欠いた形状としている。これは、永久磁石２８ｉを外筒２８ｇの先端にできるだけ近づけることができるようにするためである。この結果、２つの平面２８ｍから効率よく磁界を発することができるため、これらの２つの平面２８ｍ表面に複合体５３を円滑に凝集させて集磁することができる。また、凝集箇所が集磁する面を平面とすることによって、測光部３０による測光処理において、焦点距離、焦点深度を一定に近づけることができることから、ばらつきの少ない測定が可能となり、分析精度を高めることができる。なお、集磁棒２８ａは、先端に平面形状を設け複合体５３の集磁面とすればよいため、図８に示すように、一方向のみから切り欠いた形状としても良い。
【００５９】
また、本実施の形態１においては、集磁棒２８ａとして、先端部のみに永久磁石２８ｉを接合した制御棒２８ｈを有する場合を例に説明したが、もちろんこれに限らず、制御棒２８ｈ全体を永久磁石によって形成してもよい。また、制御棒２８ｈ先端のみならず、制御棒２８ｈ全体を磁性体で形成してもよく、さらに磁性体を複数接続して形成しても良い。
【００６０】
また、本実施の形態１においては、永久磁石２８ｉを用いて集磁棒先端からの磁界の発生および磁界の発生の停止を可能とする場合を例に説明したが、永久磁石に代えて、磁性体によって形成される導線を巻回したコイルによって形成される電磁石を用いることも可能である。以下、電磁石を用いて集磁棒の磁界を制御した場合について説明する。図９は、実施の形態１にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。図９に示すように、実施の形態１にかかる分析装置の他の構成である分析装置１０１は、図１に示す分析装置１と比較し、集磁棒移送部２８に代えて集磁棒移送部１２８を備え、集磁棒洗浄部２９に代えて集磁棒洗浄部１２９を備えた測定機構１０２を備える。そして、分析装置１０１の制御機構１０４は、分析装置１と比較し、制御部４１に代えて、集磁棒磁界制御部１４６を備えた制御部１４１を有する。
【００６１】
集磁棒移送部１２８は、永久磁石ではなく電磁石を備えた構成を有する。図１０は、図９に示す集磁棒移送部１２８が有する集磁棒を説明する図であり、この集磁棒を長手方向に切断した断面図である。
【００６２】
図１０に示すように、集磁棒移送部１２８は、アーム２８ｂ先端に装着された集磁棒１２８ａを備える。この集磁棒１２８ａは、集磁棒２８ａと同様に内部が空洞である外筒２８ｇを備える。外筒２８ｇの空洞内には、下部先端に電磁石１２８ｉが接続された制御棒１２８ｈが固定配置されている。制御棒１２８ｈ内部は、電磁石１２８ｉに接続し電磁石１２８ｉに電流を供給する接続線１２８ｍが貫通しており、この接続線１２８ｍは制御棒１２８ｈ上部からアーム２８ｂに沿って延伸し、集磁棒磁界制御部１４６に接続する。
【００６３】
集磁棒磁界制御部１４６は、電磁石１２８ｉへ供給する電流を制御することによって、反応容器１１内における集磁棒１２８ａによる磁界の発生を制御する。集磁棒１２８ａは、電磁石１２８ｉへ供給される電流によって磁界の発生が制御されるため、集磁棒２８ａに備えられたストッパ部材２８ｊを省いた構成である。これにともない、集磁棒洗浄部１２９は、集磁棒洗浄部２９から支柱２９ｄおよび板状部材２９ｅを省いた構成を有する。
【００６４】
集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａから磁界を発生させる場合には、制御棒１２８ｈ先端の電磁石１２８ｉに電流が供給されるように制御する。これによって、電磁石１２８ｉに電流が流れて磁界が発生し、電磁石１２８ｉが近接する外筒２８ｇ先端の平面２８ｍから磁界が発せられる。
【００６５】
図１１に示すように、集磁棒１２８ａは、このように先端から磁界が発せられる状態で集磁棒１２８ａを複合体５３が形成された反応容器１１内に挿入されることによって、反応容器１１内に磁界を発生させる。この結果、集磁棒１２８ａの外筒２８ｇの２つの平面２８ｍ表面に、矢印Ｙ１２のように磁性体である複合体５３が引き寄せられ、平面２８ｍ表面に凝集体５４が形成されることによって複合体５３を集磁することが可能になる。このように、集磁棒１２８ａは、集磁棒磁界制御部１４６の電流制御のもと、複合体５３の集磁処理、および、測光部３０による測光処理においては、この磁界が有効化した状態を保持する。
【００６６】
これに対し、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａによる磁界の発生を停止させる場合には、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流の供給が停止されるように制御する。これによって、電磁石１２８ｉには電流が流れなくなり、電磁石１２８ｉによる磁界が消失するため、集磁棒１２８ａにおける磁界の発生も停止する。集磁棒磁界制御部１４６は、測光部３０による平面２８ｍ表面の凝集体５４の測光処理が終わった後であって集磁棒洗浄部１２９によって集磁棒１２８ａが洗浄される場合に、電磁石１２８ｉへの電流供給を停止し、集磁棒１２８ａによる磁界の発生を停止する。
【００６７】
具体的には、集磁棒磁界制御部１４６は、アーム２８ｂに、測光処理が終了した集磁棒１２８ａを洗浄槽２９ａ上に移送させた後、図１２の矢印Ｙ８に示すように、アーム２８ｂを下降させる。これにともない、集磁棒１２８ａも洗浄槽２９ａ内に下降する。その後、集磁棒磁界制御部１４６は、電磁石１２８ｉへの電流の供給を停止し、集磁棒１２８ａによる次回の発生を停止する。分析装置１０１は、この集磁棒１２８ａからの磁界が消失した状態で、洗浄槽２９ａ内に洗浄液供給管２９ｂから洗浄液Ｗａを供給して、集磁棒１２８ａを洗浄している。この場合、集磁棒１２８ａ先端から発せられる磁界によって平面２８ｍ表面に引き寄せられることによって吸着していた凝集体５４は、吸着の要因であった集磁棒１２８ａの磁界が消失することから、平面２８ｍへの吸着が解除され、集磁棒１２８ａ表面から図１２の矢印Ｙ１０のように剥がれて離脱する。そして、集磁棒１２８ａから離脱した凝集体５４は、洗浄液Ｗａの水流にしたがって下方に流される。集磁棒洗浄部１２９は、この凝集体５４を含む洗浄液Ｗａを、排液管２９ｃを介して洗浄槽２９ａ外へ廃棄することによって、集磁棒１２８ａ表面に吸着した凝集体５４を取り除いている。
【００６８】
このように、分析装置１０１においても、分析装置１と同様に、電磁石１２８ｉへの電流供給を制御することで反応容器１１内における集磁棒１２８ａによる磁界の発生または磁界の発生の停止が可能であるため、集磁棒に保護キャップを装着せずとも、複合体５３の集磁とともに集磁棒１２８ａの洗浄も適切に実行できることから、装置内汚染の防止と廃棄物の低減との双方が可能になる。
【００６９】
次に、図１３を参照して、複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理までにおける分析装置１０１の要部の動作処理を説明する。図１３に示すように、図７に示すステップＳ２およびステップＳ４と同様に、集磁棒磁界制御部１４６は、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒１２８ａを反応テーブル１０の所定の集磁位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ１０２）、集磁棒１２８ａを反応容器１１内に下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ１０４）。そして、集磁棒磁界制御部１４６は、反応容器１１内の複合体５３の集磁のため、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を開始する（ステップＳ１０５）。この結果、電磁石１２８ｉから磁界が発せられ、集磁棒１２８ａは反応容器１１内に磁界を発生させることとなる。そして、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ６およびステップＳ８と同様に、所定の集磁時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ１０６）、この集磁時間を経過するまでステップＳ１０６の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ１０６：Ｙｅｓ）、アーム２８ｂを上昇させて、集磁棒１２８ａを反応容器１１内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ１０８）。
【００７０】
次いで、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１０およびステップＳ１２と同様に、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒１２８ａを測光部３０上に移送後（ステップＳ１１０）、集磁棒１２８ａを測光部３０の測光位置まで下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ１１２）。この間も、集磁棒磁界制御部１４６は、電磁石１２８ｉへの電流供給を継続させているため、集磁棒１２８ａによる磁界の発生は維持されることから、集磁棒１２８ａには、先端の平面２８ｍ表面に凝集体５４を吸着した状態を維持する。その後、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１４と同様に、測光部３０による測光処理が終了したか否かを判断し（ステップＳ１１４）、測光処理が終了するまでステップＳ１１４の判断処理を繰り返し、測光処理が終了したと判断した場合（ステップＳ１１４：Ｙｅｓ）、ステップＳ１６と同様に、集磁棒１２８ａを測光部３０内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ１１６）。
【００７１】
そして、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１８およびステップＳ２２と同様に、測光処理が終了した集磁棒１２８ａを洗浄するため、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒洗浄部１２９の洗浄槽２９ａ上に集磁棒１２８ａを移送後（ステップＳ１１８）、集磁棒１２８ａを洗浄槽２９ａ内に下降する（ステップＳ１２２）。次いで、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を停止し（ステップＳ１２４）、電磁石１２８ｉから発せられる磁界は消失するため、集磁棒１２８ａによる磁界の発生は停止する。これによって集磁棒１２８ａからの磁界は消失するため、洗浄液の供給が開始された場合（ステップＳ１２６）、集磁棒１２８ａ表面から凝集体５４が洗浄液内に離脱可能となり、集磁棒１２８ａの洗浄を適切に行うことができる。次に、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ２８と同様に、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ１２８）、この洗浄時間を経過するまでステップＳ１２８の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ１２８：Ｙｅｓ）、ステップＳ３０と同様に、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒１２８ａを洗浄槽２９ａ内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ１３０）。その後、制御部４１は、ステップＳ３２およびステップＳ３６と同様に、洗浄槽２９ａへの洗浄液の供給を停止し（ステップＳ１３２）、洗浄槽２９ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ１３６）、集磁棒１２８ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ１０２〜ステップＳ１３６の一連の処理を繰り返すことによって、集磁棒１２８ａによる集磁処理、測光処理および集磁棒洗浄処理が分析処理ごとに行われる。
【００７２】
また、実施の形態１では、集磁棒２８ａを移送する集磁棒移送部として、集磁棒２８ａを一端に備えたアーム２８ｂの他端に支柱２８ｃを接続し、この支柱２８ｃを回転および昇降させる回転機構２８ｄ、昇降機構２８ｅを備えた集磁棒移送部２８を例に説明したが、もちろんこれに限らず、ｘｙｚステージを用いて集磁棒２８ａを移送するものであってもよい。
【００７３】
（実施の形態２）
次に、実施の形態２について説明する。実施の形態１では、集磁棒の洗浄処理において集磁棒のよる磁界の発生を停止した場合を説明したが、実施の形態２では、集磁棒を洗浄する洗浄槽内に磁界を発生させることによって、集磁棒表面からの凝集体の離脱をさらに確実化させている。
【００７４】
図１４は、実施の形態２例にかかる分析装置の構成を示す模式図である。図１４に示すように、本実施の形態２にかかる分析装置２０１は、図１に示す分析装置１と比較し、集磁棒洗浄部２９に代えて、洗浄槽内に磁界を発生可能である集磁棒洗浄部２２９を備えた測定機構２０２を備える。そして、分析装置２０１の制御機構２０４は、分析装置１と比較し、制御部４１に代えて、集磁棒磁界制御部４６に加え、洗浄槽内における磁界の発生を制御する洗浄槽磁界制御部２４６をさらに備えた制御部２４１を有する。
【００７５】
図１５は、図１４に示す集磁棒洗浄部２２９を説明する図であり、集磁棒洗浄部２２９を構成する洗浄槽２２９ａを縦方向に切断した断面図である。図１５に示すように、洗浄槽２２９ａは、側面に凹部を有し、この凹部に電磁石２２９ｅが装着された構成を有する。電磁石２２９ｅは、電流が供給されることによって磁界を生じ、装着された洗浄槽２２９ａ内に磁界を発生させる。洗浄槽磁界制御部２４６は、電磁石２２９ｅへ供給する電流を制御することによって、洗浄槽２２９ａ内における電磁石２２９ｅによる磁界の発生を制御する。そして、洗浄槽磁界制御部２４６は、集磁棒洗浄部２２９によって集磁棒２８ａが洗浄される場合に電磁石２２９ｅに洗浄槽２２９ａ内に磁界を発生させている。
【００７６】
具体的には、図１６に示すように、洗浄槽磁界制御部２４６は、測光処理が終了した集磁棒２８ａを洗浄する場合に、電磁石２２９ｅに電流を供給して磁界を発生させている。これによって、洗浄槽２２９ａ内に磁界が発生する。ここで、集磁棒洗浄処理においては、矢印Ｙ８に示すアーム２８ｂの下降にともない、矢印Ｙ９のように集磁棒２８ａの外筒２８ｇのみが洗浄槽２２９ａ内に下降する。そして、板状部材２９ｅに掛けられた制御棒２８ｈはそのままの位置を保持するため、永久磁石２８ｉと外筒２８ｇ先端とは離間し、集磁棒２８ａからの磁界の発生は停止する。そして、分析装置２０１においては、さらに洗浄槽２２９ａ内に洗浄槽２２９ａ側面方向からの磁界が発生する。この状態において、洗浄槽２２９ａ内には洗浄液供給管２９ｂから洗浄液Ｗａが供給される。この結果、平面２８ｍ表面に引き寄せられることによって吸着していた凝集体５４は、吸着の要因であった集磁棒２８ａの磁界が消失することから平面２８ｍへの吸着が解除されるとともに、洗浄槽２２９ａ側面方向から洗浄槽２２９ａ内に発生した磁界によって、洗浄槽２２９ａ側面側に矢印Ｙ２０のように引き寄せられることによって、集磁棒２８ａ表面から剥がれて離脱する。この場合、洗浄槽２２９ａ内には、洗浄液が供給されるため、洗浄液の流れによっても、平面２８ｍから離脱するように力が加えられる。そして、集磁棒２８ａから離脱した凝集体５４は、洗浄槽２２９ａの内部側面のうち電磁石２２９ｅ装着側に浮遊しながら、洗浄液Ｗａの水流にしたがって下方に流され、排液管２９ｃを介して洗浄槽２９ａ外へ廃棄される。
【００７７】
この電磁石２２９ｅが洗浄槽２２９ａ内に発生させた磁界は、集磁棒２８ａ先端表面からの凝集体５４の離脱を確実化するため、集磁棒２８ａから発せられる磁界に比べて等しいか、より強いことが望ましい。
【００７８】
このように、実施の形態２にかかる分析装置２０１においては、集磁棒２８ａの洗浄処理時に、集磁棒２８ａにおける洗浄槽内の磁界の発生を停止させるとともに、洗浄液の水流のみならず洗浄槽２２９ａ側面方向から洗浄槽２２９ａ内に磁界を発生させることによって、実施の形態１に比して、さらに確実に集磁棒２８ａ先端の平面２８ｍに吸着した凝集体を集磁棒２８ａから離脱させることができる。したがって、分析装置２０１によれば、分析装置１と同様に、集磁棒に保護キャップを装着せずとも、複合体５３の集磁とともに集磁棒２２８ａの洗浄も適切に実行できることから、装置内汚染の防止と廃棄物の低減との双方が可能になる。
【００７９】
次に、図１７を参照して、複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理までにおける分析装置２０１の要部の動作処理を説明する。図１７に示すように、図７に示すステップＳ２およびステップＳ４と同様に、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒２８ａを反応テーブル１０の所定の集磁位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ２０２）、集磁棒２８ａを反応容器１１内に下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ２０４）。この場合、制御棒２８ｈは外筒２８ｇの空洞底部まで挿入し、永久磁石２８ｉは外筒２８ｇ先端の平面２８ｍに近接していることから、集磁棒２８ａは反応容器１１内に磁界が発生させることとなる。そして、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ６およびステップＳ８と同様に、所定の集磁時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ２０６）、この集磁時間を経過するまでステップＳ２０６の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ２０６：Ｙｅｓ）、アーム２８ｂを上昇させて、集磁棒２８ａを反応容器１１内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ２０８）。
【００８０】
次いで、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ１０およびステップＳ１２と同様に、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒２８ａを測光部３０上に移送後（ステップＳ２１０）、集磁棒２８ａを測光部３０の測光位置まで下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ２１２）。この間も、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は維持されたままであることから、集磁棒２８ａは、先端の平面２８ｍ表面に凝集体５４を吸着した状態を維持する。その後、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ１４と同様に、測光部３０による測光処理が終了したか否かを判断し（ステップＳ２１４）、測光処理が終了するまでステップＳ２１４の判断処理を繰り返し、測光処理が終了したと判断した場合（ステップＳ２１４：Ｙｅｓ）、ステップＳ１６と同様に、集磁棒２８ａを測光部３０内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ２１６）。
【００８１】
そして、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ１８〜ステップＳ２２と同様に、測光処理が終了した集磁棒２８ａを洗浄するため、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒洗浄部２２９の洗浄槽２２９ａ上に集磁棒２８ａを移送し（ステップＳ２１８）、ストッパ部材２８ｊをストッパ回避部材である板状部材２９ｅの凹部２９ｆ側上面に装着する（ステップＳ２２０）。そして、集磁棒磁界制御部４６は、集磁棒２８ａを洗浄槽２９ａ内に下降する（ステップＳ２２２）。このアーム２８ｂの下降にともない、集磁棒２８ａの外筒２８ｇのみが洗浄槽２２９ａ内に下降し、板状部材２９ｅに掛けられた制御棒２８ｈはそのままの位置を保持するため、永久磁石２８ｉと外筒２８ｇ先端とは離間し、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は停止する。
【００８２】
そして、洗浄槽磁界制御部２４６は、洗浄槽２２９ａにおける電磁石２２９ｅへの電流を開始する（ステップＳ２２５）。これによって、電磁石２２９ｅは磁界を発生し、洗浄槽２２９ａ内に磁界が発生する。続いて、制御部２４１によって洗浄液の供給が開始される（ステップＳ２２６）。この場合、磁界の発生が停止した集磁棒２８ａ表面の凝集体５４の吸着が解除されるとともに、洗浄槽２２９ａの側面方向から発せられる磁界によって凝集体５４が洗浄槽２２９ａ側面に引き寄せられて、凝集体５４は確実に集磁棒２８ａ表面から洗浄液内に離脱する。この結果、集磁棒２８ａの洗浄を適切に行うことができる。
【００８３】
次に、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ２８と同様に、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ２２８）、この洗浄時間を経過するまでステップＳ２２８の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ２２８：Ｙｅｓ）、ステップＳ３０と同様に、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒２８ａを洗浄槽２２９ａ内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ２３０）。この場合、洗浄槽２２９ａの電磁石２２９ｅによる磁界は発生したままであるため、洗浄液内に離脱した凝集体５４は、洗浄槽２２９ａ側面側に引き寄せられたままとなり、集磁棒２８ａに再度付着することはない。
【００８４】
その後、制御部２４１は、ステップＳ３２と同様に、洗浄槽２２９ａへの洗浄液の供給を停止し（ステップＳ２３２）、その後、洗浄槽磁界制御部２４６は、電磁石２２９ｅへの電流供給を停止する（ステップＳ２３４）。そして、制御部２４１は、ステップＳ３６と同様に、洗浄槽２２９ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ２３６）、集磁棒２８ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ２０２〜ステップＳ２３６の一連の処理を繰り返すことによって、集磁棒２８ａによる集磁処理、測光処理および集磁棒洗浄処理が分析処理ごとに行われる。
【００８５】
なお、実施の形態２にかかる集磁棒洗浄部２２９の洗浄槽として、側面に電磁石２２９ｅが装着された洗浄槽２２９ａについて説明したが、もちろんこれに限らない。集磁棒２８ａから洗浄液内に離脱した凝集体５４が再度集磁棒２８ａ表面に再付着しないように洗浄槽内に磁界を発生させることができればよいため、図１８に示すように、底部に凹部を有し、この凹部に電磁石２２９ｅが装着された洗浄槽２２９１ａを用いてもよい。また、装着する電磁石２２９ｅの個数は、２個に限らない。図１９は、横方向に切断した洗浄槽の他の例の断面図である。集磁棒洗浄部２２９の洗浄槽として、図１９に示すように、４面の各側面にそれぞれ電磁石２２９ｅを装着した洗浄槽２２９２ａを用いてもよい。この洗浄槽２２９２ａのように、洗浄槽の各側面に電磁石を設けることによって、２面にのみ電磁石を設けた場合と比較し、洗浄槽内の洗浄液内にさらに強い磁界を発生させることができるとともに、さらに均一な強さの磁界を発生させることができる。もちろん、洗浄槽に設ける電磁石２２９ｅは単数であってもよい。
【００８６】
また、本実施の形態２においては、電磁石２２９ｅを用いて洗浄槽２２９ａ内に磁界を発生させた場合を例に説明したが、電磁石に代えて永久磁石を用いることも可能である。以下、洗浄槽内への磁界発生手段として、永久磁石を用いた場合について説明する。図２０は、実施の形態２にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。図２０に示すように、実施の形態２にかかる分析装置の他の構成である分析装置３０１は、図１４に示す分析装置２０１と比較し、集磁棒洗浄部２２９に代えて集磁棒洗浄部３２９を備えた測定機構３０２を備える。そして、分析装置３０１の制御機構３０４は、分析装置１と比較し、制御部４１に代えて、集磁棒磁界制御部４６を備えるとともに、洗浄槽内への磁界の発生を制御する洗浄槽磁界制御部３４６をさらに備えた制御部３４１を有する。
【００８７】
図２１は、図２０に示す集磁棒洗浄部３２９を説明する図であり、集磁棒洗浄部３２９を構成する洗浄槽３２９ａを縦方向に切断した断面図である。図２１に示すように、洗浄槽３２９ａは、側面に凹部を有し、矢印Ｙ３１に示すように、この凹部に近接または当接可能である永久磁石３２９ｅが設けられている。この永久磁石３２９ｅは、ネオジウム元素から構成される永久磁石であるほか、フェライト磁石であってもよい。永久磁石３２９ｅは、それぞれ軸柱３２９ｆに固定接続されており、各軸柱３２９ｆは、図２２に示す磁石移送機構３２９ｕとそれぞれ接続する。
【００８８】
図２２に示すように、磁石移送機構３２９ｕは、プーリ３２９ｊに接続するとともに装置本体の不動部分に固定された移送用モータ３２９ｋと、軸柱３２９ｆ右端に一端が固定接続された移動板３２９ｇと、軸柱３２９ｆと平行となるように設置された回転ベルト３２９ｈとを備える。回転ベルト３２９ｈは、装置内の不動部分に固定されたプーリ２３９ｉとプーリ３２９ｊとに掛け渡されており、移動板３２９ｇの他端が接続されている。移送用モータ３２９ｋが矢印Ｙ３６のように左または右に対応する向きで回転した場合、移送用モータ３２９ｋの回転がプーリ３２９ｊ、回転ベルト３２９ｈ、プーリ３２９ｉに順次伝達することによって、回転ベルト３２９ｈが矢印Ｙ３７のように回転し、これによって、回転ベルト３２９ｈが接続する移動板３２９ｇも図中右方向または左方向に移動する。この移動板３２９ｇの右または左の移動にともなって、移動板３２９ｇに接続する軸柱３２９ｆも図中右方向または左方向に移動する。この結果、軸柱３２９ｆに固定接続する永久磁石３２９ｅも、矢印Ｙ３８のように図中右方向または左方向に移動する。
【００８９】
洗浄槽３２９ａにおいては、磁石移送機構３２９ｕが、永久磁石３２９ｅを、洗浄槽３２９ａに近接した位置または永久磁石３２９ｅの磁界が洗浄槽３２９ａに及ばない位置のいずれかに移送する。そして、洗浄槽磁界制御部３４６は、この磁石移送機構３２９ｕに、永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに近接した位置に移送させることによって洗浄槽３２９ａ内に磁界を発生させる。そして、洗浄槽磁界制御部３４６は、磁石移送機構３２９ｕに、永久磁石３２９ｅを永久磁石３２９ｅの磁界が洗浄槽３２９ａに及ばない位置に移送させることによって洗浄槽３２９ａにおける磁界の発生を停止する。洗浄槽磁界制御部３４６は、洗浄槽磁界制御部２４６と同様に、集磁棒洗浄部３２９によって集磁棒２８ａが洗浄される場合に、永久磁石３２９ｅおよび磁石移送機構３２９ｕによって構成される磁界供給機構に、洗浄槽３２９ａ内に磁界を発生させ、集磁棒２８ａ表面から離脱した凝集体の集磁棒２８ａへの再付着を防止している。
【００９０】
具体的には、図２３に示すように、測光処理が終了した集磁棒２８ａを洗浄する場合であって、矢印Ｙ８に示すアーム２８ｂの下降にともない矢印Ｙ９のように集磁棒２８ａの外筒２８ｇのみが洗浄槽３２９ａ内に下降したときに、洗浄槽磁界制御部３４６は、矢印Ｙ３４のように、磁石移送機構３２９ｕに永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに近接した位置に移送させる。これによって、洗浄槽３２９ａ内に磁界を発生させる。この状態において、洗浄槽３２９ａ内には洗浄液供給管２９ｂから洗浄液Ｗａが供給される。この結果、平面２８ｍ表面に引き寄せられることによって吸着していた凝集体５４は、吸着の要因であった集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生が停止することから平面２８ｍへの吸着が解除されるとともに、洗浄槽３２９ａ側面方向から洗浄槽３２９ａ内に発生した磁界によって、洗浄槽３２９ａ側面側に矢印Ｙ３５のように引き寄せられることによって、集磁棒２８ａ表面から剥がれて離脱する。この場合、洗浄槽３２９ａ内には、洗浄液Ｗａが供給されるため、洗浄液Ｗａの流れによっても、平面２８ｍから離脱するように力が加えられる。そして、集磁棒２８ａから離脱した凝集体５４は、洗浄槽３２９ａの内部側面のうち永久磁石３２９ｅ装着側に浮遊しながら、洗浄液Ｗａの水流にしたがって下方に流され、排液管２９ｃを介して洗浄槽３２９ａ外へ廃棄される。なお、永久磁石３２９ｅが洗浄槽３２９ａ内に発生させる磁界は、集磁棒２８ａ先端表面からの凝集体５４の離脱を確実化するため、集磁棒２８ａ内部に設けられた磁性体の磁界に比べて等しいか、より強いことが望ましい。
【００９１】
このように、分析装置３０１においても、分析装置２０１と同様に、集磁棒２８ａの洗浄処理時に、集磁棒２８ａにおける洗浄槽内の磁界の発生を停止させるとともに、洗浄液の液流のみならず洗浄槽３２９ａ側面方向から洗浄槽３２９ａ内に磁界を発生させることによって、実施の形態１に比して、さらに確実に、集磁棒２８ａ先端の平面２８ｍに吸着した凝集体５４を集磁棒２８ａから離脱させることができる。
【００９２】
次に、図２４を参照して、複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理までにおける分析装置３０１の要部の動作処理を説明する。図２４に示すように、図７に示すステップＳ２およびステップＳ４と同様に、集磁棒磁界制御部４６は、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒２８ａを反応テーブル１０の所定の集磁位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ３０２）、集磁棒２８ａを反応容器１１内に下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ３０４）。この場合、制御棒２８ｈは外筒２８ｇの空洞底部まで挿入するため、永久磁石２８ｉは外筒２８ｇ先端の平面２８ｍに近接していることから、集磁棒２８ａは反応容器１１内に磁界を発生させることとなる。そして、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ６およびステップＳ８と同様に、所定の集磁時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ３０６）、この集磁時間を経過するまでステップＳ３０６の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ３０６：Ｙｅｓ）、アーム２８ｂを上昇させて、集磁棒２８ａを反応容器１１内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ３０８）。
【００９３】
次いで、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ１０およびステップＳ１２と同様に、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒２８ａを測光部３０上に移送後（ステップＳ３１０）、集磁棒２８ａを測光部３０の測光位置まで下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ３１２）。この間も、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は維持されたままであることから、集磁棒２８ａには、先端の平面２８ｍ表面に凝集体５４を吸着した状態を維持する。その後、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ１４と同様に、測光部３０による測光処理が終了したか否かを判断し（ステップＳ３１４）、測光処理が終了するまでステップＳ３１４の判断処理を繰り返し、測光処理が終了したと判断した場合（ステップＳ３１４：Ｙｅｓ）、ステップＳ１６と同様に、集磁棒２８ａを測光部３０内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ３１６）。
【００９４】
そして、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ１８〜ステップＳ２２と同様に、測光処理が終了した集磁棒２８ａを洗浄するため、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒洗浄部３２９の洗浄槽３２９ａ上に集磁棒２８ａを移送し（ステップＳ３１８）、ストッパ部材２８ｊをストッパ回避部材である板状部材２９ｅの凹部２９ｆ側上面に装着する（ステップＳ２２０）。そして、集磁棒磁界制御部４６は、集磁棒２８ａを洗浄槽３２９ａ内に下降する（ステップＳ３２２）。このアーム２８ｂの下降にともない、集磁棒２８ａ先端からの磁界の発生は停止する。
【００９５】
そして、洗浄槽磁界制御部３４６は、磁石移送機構３２９ｕを駆動させて永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに近接または当接させて、永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに装着する（ステップＳ３２５）。これによって、洗浄槽３２９ａ内に磁界が発生する。そして、制御部３４１によって洗浄液の供給が開始された場合（ステップＳ３２６）、磁界の発生が停止した集磁棒２８ａ表面の凝集体５４の吸着が解除されるとともに、洗浄槽３２９ａの側面方向から発せられる磁界によって、洗浄槽３２９ａ側面側に凝集体５４が引き寄せられて、確実に集磁棒２８ａ表面から洗浄液内に離脱する。この結果、集磁棒２８ａの洗浄を適切に行うことができる。
【００９６】
次に、集磁棒磁界制御部４６は、ステップＳ２８と同様に、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ３２８）、この洗浄時間を経過するまでステップＳ３２８の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ３２８：Ｙｅｓ）、ステップＳ３０と同様に、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒２８ａを洗浄槽２２９ａ内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ３３０）。この場合、洗浄槽３２９ａに装着された永久磁石３２９ｅによる磁界は洗浄槽３２９ａに発生したままであるため、洗浄液内に離脱した凝集体５４は、洗浄槽３２９ａ側面側に引き寄せられた状態となることから集磁棒２８ａに再度付着することはない。
【００９７】
その後、制御部３４１は、ステップＳ３２と同様に、洗浄槽３２９ａへの洗浄液の供給を停止し（ステップＳ３３２）、その後、洗浄槽磁界制御部３４６は、磁石移送機構３２９ｕに永久磁石３２９ｅを永久磁石３２９ｅの磁界が洗浄槽３２９ａに及ばない位置に移送させることによって、洗浄槽３２９ａから永久磁石３２９ｅを取り外し（ステップＳ３３４）、洗浄槽３２９ａ内における磁界の発生を停止する。そして、制御部３４１は、ステップＳ３６と同様に、洗浄槽３２９ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ３３６）、集磁棒２８ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ３０２〜ステップＳ３３６の一連の処理を繰り返すことによって、集磁棒２８ａによる集磁処理、測光処理および集磁棒洗浄処理が分析処理ごとに行われる。
【００９８】
また、本実施の形態２においては、永久磁石２２８ｉを備えた集磁棒２８ａを有する集磁棒移送部２８に限らず、図９および図１０に示す電磁石１２８ｉを有する集磁棒移送部１２８を採用することももちろん可能である。
【００９９】
図２５は、集磁棒移送部として、図１４に示す分析装置２０１における集磁棒移送部２８に代えて集磁棒移送部１２８を採用した場合について説明する図である。また、図２５は、集磁棒１２８ａの集磁棒洗浄部２２９における洗浄処理を説明する図である。なお、制御部２４１は、集磁棒磁界制御部４６に代えて図９に示す集磁棒磁界制御部１４６を備える。
【０１００】
この図２５に示すように、この場合も同様に、洗浄槽磁界制御部２４６は、矢印Y８のようにアーム２８ｂを下降して洗浄槽２２９ａ内に集磁棒１２８ａを下降させて集磁棒１２８ａを洗浄する。そして、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を停止して集磁棒１２８ａからの磁界の発生を停止し、洗浄槽磁界制御部１４６は、洗浄槽２２９ａの電磁石２２９ｅに電流を供給して洗浄槽２２９ａ内に磁界を発生させる。この状態において、洗浄槽２２９ａ内には洗浄液供給管２９ｂから洗浄液Ｗａが供給された結果、平面２８ｍ表面に吸着していた凝集体５４は、平面２８ｍへの吸着が解除されるとともに、洗浄槽２２９ａ側面方向から洗浄槽２２９ａ内に発生させた磁界によって、洗浄槽２２９ａ側面側に矢印Ｙ３５のように引き寄せられることによって、集磁棒１２８ａ表面から剥がれて離脱する。そして、集磁棒１２８ａから離脱した凝集体５４は、洗浄液Ｗａの水流にしたがって下方に流され、排液管２９ｃを介して洗浄槽２２９ａ外へ廃棄される。
【０１０１】
この場合も、集磁棒１２８ａの洗浄処理時に集磁棒１２８ａにおける洗浄槽内の磁界の発生を停止させるとともに、洗浄液の液流のみならず洗浄槽２２９ａ内に磁界を発生させることによって、さらに確実に集磁棒１２８ａ先端の平面２８ｍに吸着した凝集体５４を集磁棒１２８ａから離脱させることができる。
【０１０２】
次に、図２６を参照して、図２５に示す集磁棒１２８ａおよび洗浄槽２２９ａを有する分析装置における、複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理までの動作処理を説明する。図２６に示すように、図７に示すステップＳ２およびステップＳ４と同様に、集磁棒磁界制御部１４６は、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒１２８ａを反応テーブル１０の所定の集磁位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ４０２）、集磁棒１２８ａを反応容器１１内に下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ４０４）。そして、図１３のステップＳ１０５と同様に、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を開始する（ステップＳ１０５）。集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ６およびステップＳ８と同様に、所定の集磁時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ４０６）、この集磁時間を経過するまでステップＳ４０６の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ４０６：Ｙｅｓ）、アーム２８ｂを上昇させて、集磁棒１２８ａを反応容器１１内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ４０８）。
【０１０３】
次いで、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１０およびステップＳ１２と同様に、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒１２８ａを測光部３０上に移送後（ステップＳ４１０）、集磁棒１２８ａを測光部３０の測光位置まで下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ４１２）。この間も集磁棒磁界制御部１４６は電磁石１２８ｉへの電流供給を継続させているため集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生は維持されたままであることから、集磁棒１２８ａは、先端の平面２８ｍ表面に凝集体５４を吸着した状態を維持する。その後、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１４と同様に、測光部３０による測光処理が終了したか否かを判断し（ステップＳ４１４）、測光処理が終了するまでステップＳ４１４の判断処理を繰り返し、測光処理が終了したと判断した場合（ステップＳ４１４：Ｙｅｓ）、ステップＳ１６と同様に、集磁棒１２８ａを測光部３０内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ４１６）。
【０１０４】
そして、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１８およびステップＳ２２と同様に、測光処理が終了した集磁棒１２８ａを洗浄するため、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒洗浄部３２９の洗浄槽２２９ａ上に集磁棒１２８ａを移送後（ステップＳ４１８）、集磁棒１２８ａを洗浄槽２２９ａ内に下降する（ステップＳ４２２）。次いで、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を停止し（ステップＳ４２４）、集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生を停止する。さらに、洗浄槽磁界制御部１４６は、洗浄槽２２９ａにおける電磁石２２９ｅへの電流を開始する（ステップＳ４２５）。この状態で制御部２４１によって洗浄液の供給が開始される（ステップＳ４２６）。この場合、磁界が消失した集磁棒１２８ａ表面から凝集体５４が洗浄液内に離脱可能となり、さらに、洗浄槽２２９ａ側面方向から発せられる磁界によって、洗浄槽２２９ａ側面側に、離脱した凝集体５４が洗浄槽２２９ａ側面に引き寄せられるため、集磁棒１２８ａの洗浄を適切に行うことができる。
【０１０５】
次に、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ２８と同様に、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ４２８）、この洗浄時間を経過するまでステップＳ４２８の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ４２８：Ｙｅｓ）、ステップＳ３０と同様に、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒１２８ａを洗浄槽２２９ａ内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ４３０）。この場合、洗浄槽２２９ａ側面の電磁石２２９ｅによる磁界は洗浄槽２２９ａに発生したままであるため、集磁棒１２８ａ表面から洗浄液内に離脱した凝集体５４は、洗浄槽２２９ａ側面側に引き寄せられた状態となることから集磁棒１２８ａに再度付着することはない。
【０１０６】
その後、制御部２４１は、ステップＳ３２と同様に、洗浄槽２２９ａへの洗浄液の供給を停止し（ステップＳ４３２）、その後、洗浄槽磁界制御部１４６は、電磁石２２９ｅへの電流供給を停止し（ステップＳ４３４）、洗浄槽２２９ａ内における磁界の発生を停止する。そして、制御部２４１は、ステップＳ３６と同様に、洗浄槽２２９ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ４３６）、集磁棒１２８ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ４０２〜ステップＳ４３６の一連の処理を繰り返すことによって、集磁棒１２８ａによる集磁処理、測光処理および集磁棒洗浄処理が分析処理ごとに行われる。
【０１０７】
また、図２７を参照して、集磁棒移送部として、図２０に示す分析装置３０１における集磁棒移送部２８に代えて集磁棒移送部１２８を採用した場合について説明する。この場合、図２０における制御部３４１は、集磁棒磁界制御部４６に代えて図９に示す集磁棒磁界制御部１４６を備える。
【０１０８】
この図２７に示すように、この場合も同様に、洗浄槽磁界制御部３４６は、矢印Y８のようにアーム２８ｂを下降して洗浄槽３２９ａ内に集磁棒１２８ａを下降させて集磁棒１２８ａを洗浄する。そして、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を停止して集磁棒１２８ａからの磁界の発生を停止し、洗浄槽磁界制御部３４６は、磁石移送機構３２９ｕに永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに近接した位置に移送させることによって洗浄槽３２９ａ内に磁界を発生させる。この状態において、洗浄槽３２９ａ内に洗浄液供給管２９ｂから洗浄液Ｗａが供給された結果、平面２８ｍ表面に吸着していた凝集体５４は、平面２８ｍへの吸着が解除されるとともに、洗浄槽３２９ａ側面方向から洗浄槽３２９ａ内に発生させた磁界によって、洗浄槽３２９ａ側面側に矢印Ｙ３５のように引き寄せられることによって、集磁棒１２８ａ表面から剥がれて離脱する。そして、集磁棒１２８ａから離脱した凝集体５４は、洗浄液Ｗａの水流にしたがって下方に流され、排液管２９ｃを介して洗浄槽３２９ａ外へ廃棄される。
【０１０９】
この場合も、集磁棒１２８ａの洗浄処理時に集磁棒１２８ａにおける洗浄槽内の磁界の発生を停止させるとともに、洗浄液の液流のみならず洗浄槽３２９ａ内に磁界を発生させることによって、さらに確実に集磁棒１２８ａ先端の平面２８ｍに吸着した凝集体を集磁棒１２８ａから離脱させることができる。
【０１１０】
次に、図２８を参照して、図２７に示す集磁棒１２８ａおよび洗浄槽３２９ａを有する分析装置における、複合体５３の集磁処理から集磁棒洗浄処理までの動作処理を説明する。図２８に示すように、図７に示すステップＳ２およびステップＳ４と同様に、集磁棒磁界制御部１４６は、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒１２８ａを反応テーブル１０の所定の集磁位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ５０２）、集磁棒１２８ａを反応容器１１内に下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ５０４）。そして、図１３のステップＳ１０５と同様に、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を開始する（ステップＳ５０５）。集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ６およびステップＳ８と同様に、所定の集磁時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ５０６）、この集磁時間を経過するまでステップＳ５０６の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ５０６：Ｙｅｓ）、アーム２８ｂを上昇させて、集磁棒１２８ａを反応容器１１内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ５０８）。
【０１１１】
次いで、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１０およびステップＳ１２と同様に、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒１２８ａを測光部３０上に移送後（ステップＳ５１０）、集磁棒１２８ａを測光部３０の測光位置まで下降させる集磁棒下降処理を行う（ステップＳ５１２）。この間も集磁棒磁界制御部１４６は電磁石１２８ｉへの電流供給を継続させているため集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生は維持されたままであることから、集磁棒１２８ａには、先端の平面２８ｍ表面に凝集体５４を吸着した状態を維持する。その後、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１４と同様に、測光部３０による測光処理が終了したか否かを判断し（ステップＳ５１４）、測光処理が終了するまでステップＳ５１４の判断処理を繰り返し、測光処理が終了したと判断した場合（ステップＳ５１４：Ｙｅｓ）、ステップＳ１６と同様に、集磁棒１２８ａを測光部３０内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ５１６）。
【０１１２】
そして、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ１８およびステップＳ２２と同様に、測光処理が終了した集磁棒１２８ａを洗浄するため、アーム２８ｂを制御することによって、集磁棒洗浄部３２９の洗浄槽３２９ａ上に集磁棒１２８ａを移送後（ステップＳ５１８）、集磁棒１２８ａを洗浄槽３２９ａ内に下降する（ステップＳ５２２）。次いで、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａの電磁石１２８ｉへの電流供給を停止し（ステップＳ５２４）、集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生を停止する。これによって集磁棒１２８ａからの磁界は消失する。さらに、洗浄槽磁界制御部３４６は、磁石移送機構３２９ｕを駆動させて永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに近接または当接させて、永久磁石３２９ｅを洗浄槽３２９ａに装着する（ステップＳ５２５）。この状態で制御部３４１によって洗浄液の供給が開始される（ステップＳ５２６）。この場合、磁界が消失した集磁棒１２８ａ表面から凝集体５４が洗浄液内に離脱可能となり、さらに、洗浄槽３２９ａ側面に装着された永久磁石３２９ｅから発する磁界によって、洗浄槽３２９ａ側面側に、離脱した凝集体５４が洗浄槽３２９ａ側面に引き寄せられるため、集磁棒１２８ａの洗浄を適切に行うことができる。
【０１１３】
次に、集磁棒磁界制御部１４６は、ステップＳ２８と同様に、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断し（ステップＳ５２８）、この洗浄時間を経過するまでステップＳ５２８の判断処理を繰り返し、集磁時間を経過したと判断した場合（ステップＳ５２８：Ｙｅｓ）、ステップＳ３０と同様に、アーム２８ｂを上昇させて集磁棒１２８ａを洗浄槽３２９ａ内から上昇させる集磁棒上昇処理を行う（ステップＳ５３０）。この場合、洗浄槽３２９ａに装着された永久磁石３２９ｅによる磁界は洗浄槽２２９ａに発生したままであるため、集磁棒１２８ａ表面から洗浄液内に離脱した凝集体５４は、洗浄槽２２９ａ側面側に引き寄せられた状態となることから集磁棒１２８ａに再度付着することはない。
【０１１４】
その後、制御部３４１は、ステップＳ３２と同様に、洗浄槽３２９ａへの洗浄液の供給を停止し（ステップＳ５３２）、その後、洗浄槽磁界制御部３４６は、磁石移送機構３２９ｕに永久磁石３２９ｅを永久磁石３２９ｅの磁界が洗浄槽３２９ａに及ばない位置に移送させることによって、洗浄槽３２９ａから永久磁石３２９ｅを取り外し（ステップＳ５３４）、洗浄槽３２９ａ内における磁界の発生を停止する。そして、制御部３４１は、ステップＳ３６と同様に、洗浄槽３２９ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ５３６）、集磁棒１２８ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ５０２〜ステップＳ５３６の一連の処理を繰り返すことによって、集磁棒１２８ａによる集磁処理、測光処理および集磁棒洗浄処理が分析処理ごとに行われる。
【０１１５】
（実施の形態３）
つぎに、実施の形態３について説明する。実施の形態１および実施の形態２においては、集磁棒の洗浄について説明したが、実施の形態３では、磁性粒子を含む第１試薬を分注する試薬プローブの洗浄について説明する。実施の形態３では、試薬プローブを洗浄するプローブ洗浄槽内に磁界を発生させることによって、試薬プローブ表面に付着した磁性粒子の除去を効率化させている。
【０１１６】
図２９は、実施の形態３にかかる分析装置の構成を示す模式図である。図２９に示すように、実施の形態３にかかる分析装置６０１は、図１に示す分析装置１と比較し、プローブ洗浄部２３に代えて、プローブ洗浄部６２３を備えた測定機構６０２を備える。そして、分析装置６０１の制御機構６０４は、分析装置１と比較し、制御部４１に代えて、集磁棒磁界制御部４６に加えプローブ洗浄槽磁界制御部６４７をさらに備えた制御部６４１を有する。
【０１１７】
図３０は、図２９に示すプローブ洗浄部６２３を説明する図であり、プローブ洗浄部６２３を構成するプローブ洗浄槽６２３ａを縦方向に切断した断面図である。図３０に示すように、プローブ洗浄槽６２３ａは、側面に凹部を有し、この凹部に電磁石６２３ｅが装着された構成を有する。電磁石６２３ｅは、電流が供給されることによって磁界を生じ、装着されたプローブ洗浄槽６２３ａ内に磁界を発生させる。プローブ洗浄槽磁界制御部６４７は、電磁石６２３ｅへ供給する電流を制御することによって、電磁石６２３ｅによるプローブ洗浄槽６２３ａにおける磁界の発生を制御する。そして、プローブ洗浄槽磁界制御部６４７は、プローブ洗浄部６２３によって試薬プローブが洗浄される場合に、電磁石６２３ｅに電流を供給して、プローブ洗浄槽６２３ａ内に磁界を発生させている。なお、プローブ洗浄槽６２３ａには、側面に、洗浄液タンクと接続し洗浄液を供給する洗浄液供給管６２３ｂと、底面に、排液タンクと接続し洗浄液等を排出する排液管６２３ｃが接続する。
【０１１８】
具体的には、図３１に示すように、プローブ洗浄槽磁界制御部６４７は、磁性粒子を含む第１試薬の分注処理が終了し、矢印Ｙ６０のようにプローブ洗浄槽６２３ａ内に挿入された試薬プローブ２２ａを洗浄する場合に、プローブ洗浄槽６２３ａの電磁石６２３ｅに電流を供給して磁界を生じさせている。これによって、プローブ洗浄槽６２３ａ内に磁界が発生する。この状態において、プローブ洗浄槽６２３ａ内には、洗浄液供給管６２３ｂから洗浄液Ｗｂが供給される。なお、プローブ洗浄槽６２３ａに供給される洗浄液Ｗｂは、洗浄液高さＰｗ２を超えないように供給量と排出量が制御される。
【０１１９】
ところで、試薬プローブ２２ａは、金属製であるため、表面に磁性粒子５１が吸着しやすく、磁性粒子５１を含む試薬を分注した後も、プローブ表面に磁性粒子が吸着したまま残存してしまう場合が多い。
【０１２０】
そこで、分析装置６０１においては、磁性粒子５１を含む第１試薬を分注する試薬プローブ２２ａの洗浄処理において、プローブ洗浄槽６２３ａ内部に、プローブ洗浄槽６２３ａ側面方向から磁界を発生させる。これによって、試薬プローブ２２ａ表面に付着した磁性体である磁性粒子５１を、図３１の矢印Ｙ６１に示すように、プローブ洗浄槽６２３ａ側面側に引き寄せて、試薬プローブ２２ａ表面から磁性粒子５１を剥がして離脱させている。さらに、プローブ洗浄槽６２３ａ内には、洗浄液Ｗｂが供給されるため、洗浄液Ｗｂの流れによっても、試薬プローブ２２ａ表面から磁性粒子５１が離脱するように力が加えられる。なお、試薬プローブ２２ａから離脱した磁性粒子５１は、プローブ洗浄槽６２３ａの内部側面のうち電磁石６２３ｅ装着側に浮遊しながら、洗浄液Ｗｂの水流にしたがって下方に流され、排液管６２３ｃを介してプローブ洗浄槽６２３ａ外へ廃棄される。そして、電磁石６２３ｅが洗浄槽６２３ａに発生させる磁界の大きさは、試薬プローブ２２ａ表面からの磁性粒子５１の離脱を確実化するため、プローブ洗浄槽６２３ａの大きさや磁性粒子５１の磁性特性、供給される洗浄液の流量などによって設定される。
【０１２１】
このように、実施の形態３にかかる分析装置６０１は、洗浄液の液流のみならずプローブ洗浄槽６２３ａ側面方向からプローブ洗浄槽６２３ａ内に磁界を発生させることによって、試薬プローブ２２ａ表面に吸着した磁性粒子５１を試薬プローブ２２ａ表面から効率よく離脱させることができる。したがって、分析装置６０１によれば、試薬プローブ２２ａに保護キャップを装着せずとも、試薬プローブ２２ａ表面から磁性粒子５１を適切に除去できるため、装置内汚染の防止と廃棄物の低減との双方が可能になる。
【０１２２】
次に、第１試薬分注処理から第１試薬を分注したプローブの洗浄処理までにおける分析装置６０１の要部の動作処理を説明する。図３２は、分析装置６０１の要部における第１試薬分注処理からプローブ洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１２３】
図３２に示すように、制御部６４１は、第１試薬分注部２２のアーム（図示しない）を回転移動させることによって、試薬プローブ２２ａを第１試薬庫２１に収容される第１試薬ボトルのうち所定の吸引位置に位置する第１試薬ボトル２１ａ上に移送する（ステップＳ６０２）。そして、制御部６４１は、このアームを下降させることによって試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ内に下降させる試薬プローブ下降処理を行う（ステップＳ６０４）。その後、制御部６４１は、第１試薬分注部２２における吸排機構を駆動させることによって、所定量の第１試薬を試薬プローブ２２ａ内に吸引する試薬吸引処理を行なう（ステップＳ６０６）。そして、制御部６４１は、第１試薬ボトル２１ａから試薬プローブ２２ａを取り出すため、アームを上昇させて試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ内から上昇させる試薬プローブ上昇処理を行う（ステップＳ６０８）。
【０１２４】
次いで、制御部６４１は、アームを回転移動させて試薬プローブ２２ａを反応テーブル１０に収容される反応容器１１のうち所定の第１試薬吐出位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ６１０）、アームを下降させることによって試薬プローブ２２ａをこの反応容器１１内まで下降させる試薬プローブ下降処理を行う（ステップＳ６１２）。その後、制御部６４１は、第１試薬分注部２２における吸排機構を駆動させることによって、プローブ２２ａ内に吸引した所定量の第１試薬を反応容器１１内に吐出する試薬吐出処理を行なう（ステップＳ６１４）。
【０１２５】
そして、制御部６４１は、アームを上昇させることによって、試薬プローブ２２ａを反応容器１１内から上昇させる試薬プローブ上昇処理を行う（ステップＳ６１６）。その後、制御部６４１は、第１試薬分注処理が終了した試薬プローブ２２ａを洗浄するため、アームを回転させることによって、プローブ洗浄部６２３の洗浄槽６２３ａ上に試薬プローブ２２ａを移送する（ステップＳ６１８）。続いて、制御部６４１は、アームを下降させることによって、試薬プローブ２２ａをプローブ洗浄槽６２３ａ内に下降する（ステップＳ６２２）。
【０１２６】
そして、プローブ洗浄槽磁界制御部６４７は、プローブ洗浄槽６２３ａにおける電磁石６２３ｅへの電流供給を開始する（ステップＳ６２５）。これによって、プローブ洗浄槽６２３ａ内に磁界が発生する。続いて、制御部６４１によって洗浄液の供給が開始される（ステップＳ６２６）。また、制御部６４１は、洗浄液がプローブ洗浄槽６２３ａ内の洗浄液高さＰｗ２を上回ったり下回ったりしないように、排液管６２３ｃに設けられた電磁弁を制御し、排液量を調整する。また、制御部６４１は、電磁弁を制御することによって、洗浄液高さを保持するとともに、プローブ洗浄槽６２３ａ内に洗浄液の流れを形成する。これによって、洗浄液の液流のみならずプローブ洗浄槽６２３ａ側面方向からプローブ洗浄槽６２３ａ内に発生させた磁界によって、試薬プローブ２２ａ表面に吸着した磁性粒子５１が除去される。制御部６４１は、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ６２８）。この洗浄時間は、試薬プローブ２２ａから磁性粒子５１が移動する時間を考慮し、０．１秒以上である必要があり、確実な磁性粒子５１除去のためには２秒以上であることが望ましい。制御部６４１は、この洗浄時間を経過するまでステップＳ６２８の判断処理を繰り返し、洗浄時間を経過したと判断した場合（ステップＳ６２８：Ｙｅｓ）、プローブ洗浄槽６２３ａから試薬プローブ２２ａを取り出すために、アームを上昇させて試薬プローブ２２ａをプローブ洗浄槽６２３ａ内から上昇させる試薬プローブ上昇処理を行う（ステップＳ６３０）。この試薬プローブ２２ａのプローブ洗浄槽６２３ａからの上昇速度は、試薬プローブ２２ａ表面への洗浄液付着を防止するため、試薬プローブ２２ａの先端表面が洗浄液高さＰｗ２を越えるまでは、５０ｍｍ／秒以下とする。なお、制御部６４１は、次に試薬分注対象の反応容器がある場合には、ステップＳ６０２に戻り、試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ上に移送する。
【０１２７】
その後、制御部６４１は、プローブ洗浄槽６２３ａへの洗浄液の供給を停止する（ステップＳ６３２）。実質的には、制御部６４１は、試薬プローブ２２ａの先端が洗浄液高さＰｗ２よりも高い位置に移動した場合、すなわち、試薬プローブ２２ａの先端と液面との接触がなくなった場合、洗浄液の供給を停止する。試薬プローブ２２ａの先端と液面との接触がなくなったか否かは、静電容量型液面検知法等を用いて判断できる。その後、洗浄槽磁界制御部６４６は、電磁石６２３ｅへの電流供給を停止して（ステップＳ６３４）、プローブ洗浄槽６２３ａ内における磁界の発生を停止する。そして、制御部６４１は、プローブ洗浄槽６２３ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ６３６）、試薬プローブ２２ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ６０２〜ステップＳ６３６の一連の処理を繰り返すことによって、第１試薬分注処理が分析処理ごとに行われる。
【０１２８】
なお、実施の形態３にかかるプローブ洗浄部６２３の洗浄槽として、側面に電磁石６２３ｅが装着されたプローブ洗浄槽６２３ａについて説明したが、もちろんこれに限らない。試薬プローブ２２ａから洗浄液内に離脱した磁性粒子５１が試薬プローブ２２ａから離脱できるようにプローブ洗浄槽内に磁界を発生させることができればよいため、図３３に示すように、底部に凹部を有し、この凹部に電磁石６２３ｅが装着されたプローブ洗浄槽６２３１ａを用いてもよい。また、装着する電磁石６２３ｅの個数は、２個に限らない。図３４は、横方向に切断したプローブ洗浄槽の他の例の断面図である。プローブ洗浄部６２３の洗浄槽として、図３４に示すように、４面の各側面にそれぞれ電磁石６２３ｅを装着したプローブ洗浄槽６２３２ａを用いてもよい。このプローブ洗浄槽６２３２ａのように、プローブ洗浄槽の各側面に電磁石を設けることによって、２面にのみ電磁石を設けた場合と比較し、プローブ洗浄槽内の洗浄液内にさらに強い磁界を発生させることができるとともに、さらに均一な強さで磁界を発生させることができる。もちろん、洗浄槽に設ける電磁石６２３ｅは単数であってもよい。
【０１２９】
また、本実施の形態３においては、電磁石６２３ｅを用いてプローブ洗浄槽６２３ａ内に磁界を発生させた場合を例に説明したが、電磁石に代えて永久磁石を用いることも可能である。以下、プローブ洗浄槽内への磁界発生手段として、永久磁石を用いた場合について説明する。図３５は、実施の形態３にかかる分析装置の他の構成を示す模式図である。図３５に示すように、実施の形態３にかかる分析装置の他の構成である分析装置７０１は、図２９に示す分析装置６０１と比較し、プローブ洗浄部６２３に代えてプローブ洗浄部７２３を備えた測定機構７０２を備える。そして、分析装置７０１の制御機構７０４は、分析装置６０１と比較し、制御部６４１に代えて、プローブ洗浄槽内への磁界の発生を制御するプローブ洗浄槽磁界制御部７４７を備えた制御部７４１を有する。
【０１３０】
図３６は、図３５に示すプローブ洗浄部７２３を説明する図であり、プローブ洗浄部７２３を構成するプローブ洗浄槽７２３ａを縦方向に切断した断面図である。図３６に示すように、プローブ洗浄槽７２３ａは、側面に凹部を有し、矢印Ｙ７１に示すように、この凹部に近接または当接可能である永久磁石７２３ｅが設けられている。この永久磁石７２３ｅは、ネオジウム元素から構成される永久磁石であるほか、フェライト磁石であってもよい。永久磁石７２３ａは、それぞれ軸柱７２３ｆに固定接続されており、各軸柱７２３ｆは、図３７に示す磁石移送機構７２３ｕとそれぞれ接続する。
【０１３１】
図３７に示すように、磁石移送機構７２３ｕは、プーリ７２３ｊに接続するとともに装置本体の不動部分に固定された移送用モータ７２３ｋと、軸柱７２３ｆ右端に一端が固定接続された移動板７２３ｇと、軸柱７２３ｆと平行となるように設置された回転ベルト７２３ｈとを備える。回転ベルト７２３ｈは、装置内の不動部分に固定されたプーリ２３９ｉとプーリ７２３ｊとに掛け渡されており、移動板７２３ｇの他端が接続されている。移送用モータ７２３ｋが矢印Ｙ７６のように左または右に対応する向きで回転した場合、移送用モータ７２３ｋの回転がプーリ７２３ｊ、回転ベルト７２３ｈ、プーリ７２３ｉに順次伝達することによって、回転ベルト７２３ｈが矢印Ｙ７７のように回転し、これによって、回転ベルト７２３ｈが接続する移動板７２３ｇも右または左に移動する。この移動板７２３ｇの右または左の移動にともなって、移動板７２３ｇに接続する軸柱７２３ｆも図中右方向または左方向に移動する。この結果、軸柱７２３ｆに固定接続する永久磁石７２３ｅも、矢印Ｙ７８のように図中右方向または左方向に移動する。
【０１３２】
プローブ洗浄槽７２３ａにおいては、磁石移送機構７２３ｕが、永久磁石７２３ｅを、プローブ洗浄槽７２３ａに近接した位置または永久磁石７２３ｅの磁界がプローブ洗浄槽７２３ａに及ばない位置のいずれかに移送する。そして、プローブ洗浄槽磁界制御部７４７は、この磁石移送機構７２３ｕに、永久磁石７２３ｅをプローブ洗浄槽７２３ａに近接した位置に移送させることによってプローブ洗浄槽７２３ａ内に磁界を発生させる。そして、プローブ洗浄槽磁界制御部７４７は、磁石移送機構７２３ｕに、永久磁石７２３ｅを永久磁石７２３ｅの磁界がプローブ洗浄槽７２３ａに及ばない位置に移送させることによってプローブ洗浄槽７２３ａ内における磁界の発生を停止する。プローブ洗浄槽磁界制御部７４７は、プローブ洗浄部７２３によって試薬プローブ２２ａが洗浄される場合に、永久磁石７２３ｅおよび磁石移送機構７２３ｕによって構成される磁界発生機構に、プローブ洗浄槽７２３ａ内に磁界を発生させ、試薬プローブ２２ａ表面から離脱した磁性粒子の試薬プローブ２２ａへの再付着を防止している。
【０１３３】
具体的には、図３８に示すように、プローブ洗浄槽磁界制御部７４７は、第１試薬分注処理が終了し、矢印Ｙ７０のようにプローブ洗浄槽７２３ａ内に挿入された試薬プローブ２２ａを洗浄する場合に、矢印Ｙ７３のように、磁石移送機構７２３ｕに永久磁石７２３ｅをプローブ洗浄槽７２３ａに近接した位置に移送させる。これによって、プローブ洗浄槽７２３ａ内に磁界が発生する。この状態において、プローブ洗浄槽７２３ａ内には、洗浄液供給管６２３ｂから洗浄液Ｗｂが供給される。この結果、洗浄液Ｗｂの液流とプローブ洗浄槽７２３ａ側面方向から発せられた磁界によって、試薬プローブ２２ａ表面に付着した磁性粒子５１を、図３８の矢印Ｙ７４に示すように、プローブ洗浄槽７２３ａの側面側に引き寄せて、試薬プローブ２２ａ表面から磁性粒子５１を剥がして離脱させている。なお、永久磁石７２３ｅが発する磁界は、試薬プローブ２２ａ表面からの磁性粒子５１の離脱を確実化するため、プローブ洗浄槽７２３ａの大きさや磁性粒子５１の磁性特性、供給される洗浄液の流量などによって設定される。
【０１３４】
このように、図３５に示す分析装置７０１においても、分析装置６０１と同様に、洗浄液の液流のみならずプローブ洗浄槽７２３ａ内にプローブ洗浄槽７２３ａ側面方向から磁界を発生させることによって、効率よく、試薬プローブ２２ａ表面に吸着した磁性粒子５１を試薬プローブ２２ａ表面から離脱させることができる。
【０１３５】
次に、第１試薬分注処理から第１試薬を分注したプローブの洗浄処理までにおける分析装置７０１の要部の動作処理を説明する。図３９は、分析装置７０１の要部における第１試薬分注処理からプローブ洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１３６】
図３９に示すように、制御部７４１は、第１試薬分注部２２のアーム（図示しない）を駆動することによって、試薬プローブ２２ａを第１試薬庫２１に収容される第１試薬ボトルのうち所定の集磁位置に位置する第１試薬ボトル２１ａ上に移送し（ステップＳ７０２）、試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ内に下降させる試薬プローブ下降処理を行う（ステップＳ７０４）。その後、制御部７４１は、第１試薬分注部２２における吸排機構を駆動させることによって第１試薬を試薬プローブ２２ａ内に吸引する試薬吸引処理を行なう（ステップＳ７０６）。そして、制御部７４１は、アームを上昇させて試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ内から上昇させる試薬プローブ上昇処理を行い（ステップＳ７０８）、試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ内から取り出す。
【０１３７】
次いで、制御部７４１は、アームを動作させて、試薬プローブ２２ａを所定の第１試薬分注位置に位置する反応容器１１上に移送し（ステップＳ７１０）、試薬プローブ２２ａをこの反応容器１１内まで下降させる試薬プローブ下降処理を行う（ステップＳ７１２）。その後、制御部７４１は、第１試薬分注部２２における吸排機構を駆動させることによってプローブ２２ａ内に吸引した所定量の第１試薬を反応容器１１内に吐出する試薬吐出処理を行なう（ステップＳ７１４）。
【０１３８】
そして、制御部７４１は、アームを駆動することによって、試薬プローブ２２ａを反応容器１１内から上昇させる試薬プローブ上昇処理を行い（ステップＳ７１６）、第１試薬分注処理が終了した試薬プローブ２２ａを洗浄するためにプローブ洗浄部７２３の洗浄槽７２３ａ上に試薬プローブ２２ａを移送する（ステップＳ７１８）。続いて、制御部７４１は、アームを下降させることによって、試薬プローブ２２ａをプローブ洗浄槽７２３ａ内に下降する（ステップＳ７２２）。
【０１３９】
そして、プローブ洗浄槽磁界制御部７４７は、磁石移送機構７２３ｕを駆動させて永久磁石７２３ｅをプローブ洗浄槽７２３ａに近接または当接させて、永久磁石７２３ｅをプローブ洗浄槽７２３ａに装着する（ステップＳ７２５）。これによって、プローブ洗浄槽７２３ａ内に磁界を発生させる。続いて、制御部７４１によって洗浄液の供給が開始される（ステップＳ７２６）。また、制御部７４１は、洗浄液がプローブ洗浄槽７２３ａ内の洗浄液高さＰｗ２を上回ったり下回ったりしないように、排液管６２３ｃに設けられた電磁弁を制御し、排液量を調整するとともに、プローブ洗浄槽７２３ａ内に洗浄液の流れを形成する。制御部７４１は、所定の洗浄時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ７２８）。制御部７４１は、この洗浄時間を経過するまでステップＳ７２８の判断処理を繰り返し、洗浄時間を経過したと判断した場合（ステップＳ７２８：Ｙｅｓ）、プローブ洗浄槽７２３ａから試薬プローブ２２ａを取り出すために、アームを上昇させて試薬プローブ２２ａをプローブ洗浄槽７２３ａ内から上昇させる試薬プローブ上昇処理を行う（ステップＳ７３０）。制御部７４１は、次に分析対象の反応容器がある場合には、ステップＳ２に戻り、試薬プローブ２２ａを第１試薬ボトル２１ａ上に移送する。
【０１４０】
その後、制御部７４１は、プローブ洗浄槽７２３ａへの洗浄液の供給を停止する（ステップＳ７３２）。その後、プローブ洗浄槽磁界制御部７４７は、磁石移送機構７２３ｕに永久磁石７２３ｅを永久磁石７３２ｅの磁界がプローブ洗浄槽７２３ａに及ばない位置に移送させることによって、プローブ洗浄槽７２３ａから永久磁石７２３ｅを取り外し（ステップＳ７３４）、プローブ洗浄槽７２３ａ内における磁界の発生を停止する。そして、制御部７４１は、プローブ洗浄槽７２３ａに残存する洗浄液を排水して（ステップＳ７３６）、試薬プローブ２２ａの洗浄処理を終了する。このように、ステップＳ７０２〜ステップＳ７３６の一連の処理を繰り返すことによって、第１試薬分注処理が分析処理ごとに行われる。
【０１４１】
また、本実施の形態１〜３においては、いわゆるラマン散乱光（ＳＥＲＳ）を測定して分析を行なう分析装置を例に説明したが、もちろんこれに限らず、磁性粒子と検体内の測定対象物とを抗原抗体反応を用いて反応させ、反応物の磁性特性をもとに反応物を集磁する分析装置であれば適用可能である。たとえば、磁性粒子と検体内の測定対象物との反応物に、さらに、酵素と作用することによって発光する標識物質を結合させた複合体の発光特性を測定する分析装置に適用可能である。そこで、実施の形態１〜３のうち、実施の形態１で説明した分析装置１０１に複合体の発光特性を測定する場合について、図４０を参照して説明する。図４０は、実施の形態１にかかる分析装置の他の構成を示す模式図であり、図４０に示す分析装置８０１は、図９に示す分析装置１０１と比較し、測光部３０に代えて、蛍光などの発光を測定する測光部８３０を備える。そして、分析装置８０１の制御機構８０４は、制御部１４１に代えて、測光部８３０を含む測定機構８０２の各構成部位を制御する制御部８４１と、測光部８３０による測定結果をもとに検体を分析する分析部８４３とを有する。制御部８４１は、集磁棒磁界制御部１４６を備える。
【０１４２】
この分析装置８０１においては、列をなして順次搬送される複数の反応容器１１に対して、検体分注部２０が検体容器１９ａ中の検体を分注し、第１試薬分注部２２が磁性粒子を含む第１試薬ボトル２１ａ中の試薬を分注し、第２試薬分注部２５が標識物質を含む第２試薬ボトル２４ａ中の第２試薬を分注する。すなわち、各反応容器１１には、検体分注部２０によって検体容器１９ａから検体が注入されるとともに、図４１（１）に示すように、磁性粒子８５１を含む第１試薬と、酵素と作用することによって発光する標識物質８５２を含む第２試薬が注入される。この磁性粒子８５１および標識物質８５２は、検体中の測定対象物８５０と反応し、この結果、図４１（２）に示すように、磁性粒子８５１、標識物質８５２および測定対象物８５０が結合した複合体８５３が形成される。その後、集磁棒移送部１２８は、図４１（２）の矢印Ｙ８０１に示すように、この複合体８５３が形成された反応容器１１内部に、集磁棒１２８ａを挿入する。この場合、集磁棒１２８ａの磁界は、集磁棒磁界制御部１４６の制御によって有効化されている。そして、図４１（３）に示すように、集磁棒１２８ａの磁界によって集磁棒１２８ａ先端表面に反応容器１１内の複合体８５３が引き寄せられて吸着する。このように、集磁棒１２８ａは、実施の形態１と同様に、複合体８５３を集磁する。その後、集磁棒１２８ａは、集磁棒移送部１２８によって矢印Ｙ８０３のように反応容器１１内部から引き上げられ、測光部８３０の測光位置に移送される。
【０１４３】
そして、図４２に示すように、測光部８３０には、標識物質８５２と作用する酵素８６６を含む基質液Ｗｓが収容された測定容器８１１が配置されている。集磁棒１２８ａ表面に集磁された複合体８５３は、この酵素８６６と作用し反応物８５４となって発光する。この作用を実現するには、集磁棒１２８ａ表面に集磁した複合体８５３を、酵素８６６を含む基質液Ｗｓ内に再度懸濁させる必要がある。言い換えると、複合体８５３を表面に集磁した集磁棒１２８ａを、測定容器８１１内に挿入し、この集磁棒１２８ａ表面に吸着する複合体８５３を集磁棒１２８ａ表面から離脱させる必要がある。そこで、分析装置１０１と同様に、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生を停止して、複合体８５３の集磁棒１２８ａ表面への吸着の要因であった集磁棒１２８ａの磁界を消失させる。この結果、複合体８５３は、集磁棒１２８ａ表面への吸着が解除され、集磁棒１２８ａ表面から円滑に離脱する。離脱した複合体８５３は、基質液Ｗｓ内に分散し、基質液Ｗｓ内の酵素８６６と作用し反応物８５４となって光Ｌｓを発する。そして、集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生は停止したままであることから、磁性を有する反応物８５４が集磁棒１２８ａの表面に再度付着することはない。このように、分析装置８０１では、測定容器８１１内に集磁棒１２８ａを挿入後に集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生を停止することによって、従来の棒磁石からなる集磁棒を使用した場合と比較して、複合体８５３の基質液Ｗｓ内への再懸濁を適切かつ効率的に行うことができる。
【０１４４】
測光部８３０には、図示しない集光機構と分光計８３０ｂとがさらに設けられており、分光計８３０ｂによって、測定容器８１１内の反応液から発する発光が測定される。分光計８３０ｂは、たとえば、化学発光で生じた微弱な発光を検出する光電子倍増管を有しており、発光量を測定する。また、測光部８３０は、光学フィルターを保持し、発光強度に応じて光学フィルターにより減光された測定値によって真の発光強度を算出する機構を備えていてもよい。なお、測定容器８１１は、分光計８３０ｂによる測定処理ごとに、分析項目に対応する基質液が収容された新たな測定容器に交換される。
【０１４５】
そして、測定処理が終了した集磁棒１２８ａは、測定容器８１１から取り出される。この場合、集磁棒磁界制御部１４６は、集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生を停止させたままとし、この状態で集磁棒移送部１２８に集磁棒１２８ａを集磁棒洗浄部１２９の洗浄槽２９ａ内に移送する。したがって、集磁棒１２８ａ先端からの磁界の発生は停止したままであるため、磁性を有する反応物８５４が集磁棒１２８ａに再度付着することはない。このため、集磁棒１２８ａの測定容器８１１からの取り出し速度は、各処理に要する時間に合わせて自由に設定可能であり、たとえば０．１〜５０ｍｍ／秒の範囲から選択可能である。
【０１４６】
続いて、集磁棒１２８ａは、集磁棒洗浄部１２９において、図１に示す分析装置１０１における集磁棒洗浄処理と同様に磁界の発生が停止した状態で洗浄される。したがって、分析装置８０１においても、反応容器１１から複合体８５３を磁界によって集磁する集磁棒１２８ａは、集磁棒１２８ａによる磁界の発生によって反応容器１１内の複合体８５３を適切に集磁することができるとともに、集磁棒１２８ａによる磁界の発生を停止することによって測光処理後の集磁棒１２８ａ表面から複合体８５３を適切に取り除くことができる。
【０１４７】
このため、分析装置８０１によれば、集磁棒に保護キャップを装着しなくとも、集磁棒１２８ａ表面から反応物を適切に除去できるため、装置内汚染の防止と廃棄物の低減との双方が可能になる。もちろん、分析装置８０１においては、分析装置１０１と同様に、集磁棒１２８ａを直接、反応容器１１の反応液内に挿入して複合体８５３を集磁しているため、反応容器外から複合体を集磁し複合体以外の未反応物質を除去して複合体を残存させていた従来のＢＦ分離処理を行なう場合と比較し、複合体８５３の集磁を効率よく行うことができる。
【０１４８】
また、本実施の形態１〜３として説明した分析装置のレイアウトは一例であり、このレイアウトによって分注順序が拘束されるものではない。
【符号の説明】
【０１４９】
１，１０１，２０１，３０１，６０１，７０１，８０１  分析装置
２，１０２，２０２，３０２，６０２，７０２，８０２  測定機構
４，１０４，２０４，３０４，６０４，７０４，８０４  制御機構
１０  反応テーブル
１１  反応容器
１９  検体移送部
１９ａ  検体容器
１９ｂ  検体ラック
２０  検体分注部
２１  第１試薬庫
２１ａ  第１試薬ボトル
２２  第１試薬分注部
２３，２６  プローブ洗浄部
２４  第２試薬庫
２４ａ  第２試薬ボトル
２５  第２試薬分注部
２７  攪拌部
２８  集磁棒移送部
２８ａ  集磁棒
２８ｂ  アーム
２８ｃ  支柱
２８ｄ  回転機構
２８ｅ  昇降機構
２９  集磁棒洗浄部
２９ａ  洗浄槽
３０  測光部
３１  容器洗浄部
４１，２４１，３４１，６４１，７４１，８４１  制御部
４２  入力部
４３  分析部
４４  記憶部
４５  出力部
４６，１４６  集磁棒磁界制御部
２４６，３４６  洗浄槽磁界制御部
６４７，７４７  プローブ洗浄槽磁界制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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