(57)【要約】      （修正有）【課題】空隙によって引き起こされる欠陥レベルを低減するインプリントリソグラフィを提供する。【解決手段】充填期間にわたってパターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップを含む。媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する（例えば、散乱又は反射する）光が充填期間中に収集され測定されて界面の１つ又は複数の空隙に関するデータが入手され、データと時間との関係から充填期間の終了時間が導出される。この方法によって、後続の工程ステップをより迅速に実行することができ、欠陥が未充填の空隙の残りの部分から発生する危険が低減する。【選択図】図３
2011082514.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、
前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって前記基板及び／又はパターン形成された表面上で前記パターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、
前記充填期間中に前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して前記界面の１つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、
前記データと時間との関係から予想終了時間を導出するステップと、
を含むインプリント方法。
【請求項２】
光源から前記界面へ前記光を誘導するステップを含む、請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項３】
前記データが、前記１つ又は複数の空隙のサイズに関する情報を含む、請求項１又は請求項２に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項４】
前記データが前記１つ又は複数の空隙のサイズの変化速度に関連した情報を含む、前記請求項１〜３のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項５】
前記界面から発する前記光が合焦して前記界面の画像を形成し、前記画像を分析して前記データが得られる一組の空隙が選択される、前記請求項１〜４のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項６】
前記空隙の組の前記空隙の各々が、前記空隙のサイズに関する統計値より大きいサイズを有する、請求項５に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項７】
１つ又は複数の以前にパターン形成された層の未充填の空隙から生じる欠陥レベルから得た情報を用いて前記関係が変更される学習工程を含む、前記請求項１〜６のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項８】
１つ又は複数の別の処理ステップの開始時間が、前記予想終了時間から決定される、前記請求項１〜７のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項９】
前記インプリント可能な液体媒体がＵＶ硬化性の媒体であり、前記１つ又は複数の別の処理ステップが前記ＵＶ硬化性の媒体を照明期間にわたってＵＶ放射で照明するステップを含む、請求項８に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１０】
ＵＶ放射での照明に続けて、前記ＵＶ硬化性の媒体が、実質的に変化しない粘度を有する抑制期間を示す、請求項９に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１１】
前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の照明ステップが、前記予想終了時間より前に開始する、請求項１０に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１２】
凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、
前記パターン形成された表面を前記基板及び／又は前記パターン形成された表面上で前記インプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、
前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光の測定から収集したデータから前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのに必要な予想時間を計算するステップと、
を含むインプリント方法。
【請求項１３】
インプリント可能な媒体がインプリントテンプレートのパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって基板上で前記インプリントテンプレートの前記パターン形成された表面と前記インプリント可能な媒体とを互いに接触させるステップと、
前記充填期間中に前記インプリント可能な媒体と前記インプリントテンプレートの前記パターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して前記界面の１つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、
前記データと時間との関係から前記充填期間の終了時間を予想するステップと、
を含むインプリント方法。
【請求項１４】
インプリントテンプレートを保持するインプリントホルダであって、前記インプリントテンプレートがパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との接触によって基板上にインプリント可能な液体媒体をパターン形成するパターン形成された表面を有するインプリントホルダと、
前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の前記凹部を実質的に充填する充填期間中に、前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光から導出される信号を生成する検出器と、
前記充填期間中に界面の１つ又は複数の空隙に関する信号からデータを導出し、データと時間との関係から充填期間の予想終了時間を導出するコンピュータと、
を備えるインプリント装置。
【請求項１５】
インプリントテンプレートを保持するインプリントホルダであって、前記インプリントテンプレートがパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との接触によって基板上に前記インプリント可能な液体媒体をパターン形成する前記パターン形成された表面を有するインプリントホルダと、
前記基板を保持する基板テーブルと、
前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の１つ又は複数の空隙を含む界面から発する光を収集し測定し、そこから信号を生成する検出器と、
前記検出器によって生成された前記信号から導出されたデータから前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのに必要な予想終了時間を計算するコンピュータと、
を備えるインプリント装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、インプリントリソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ分野では、所与の基板領域上のフィーチャの密度を増大するために、リソグラフィパターン内のフィーチャのサイズを低減するという従来からの要望がある。フォトリソグラフィ分野では、小さいフィーチャへの努力によってコスト高ではあるが液浸リソグラフィ及び極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィなどの技術が開発されてきた。
【０００３】
[0003]  ますます関心が寄せられている潜在的にコスト高でない小さいフィーチャ（例えば、ナノメートルサイズのフィーチャ又はサブミクロンサイズのフィーチャ）を得る方法が、一般に「スタンプ」（多くの場合、インプリントテンプレート又はインプリントリソグラフィテンプレートと呼ばれる）を用いて基板上にパターンを転写するいわゆるインプリントリソグラフィである。インプリントリソグラフィの利点は、フィーチャの解像度が、例えば、放射源の放射波長又は投影システムの開口数によって制限されないということである。逆に、解像度は、主としてインプリントテンプレート上のパターンの密度によって制限される。
【０００４】
[0004]  インプリントリソグラフィは、パターン形成する基板の表面上のインプリント可能な媒体のパターン形成工程を含む。パターン形成は、インプリント可能な媒体がパターン形成された表面の凹部に流入し、パターン形成された表面上の突起によって脇に押しのけられるように、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とインプリント可能な媒体の層とを貼り合わせる（例えば、インプリントテンプレートをインプリント可能な媒体に近づけるか、又はインプリント可能な媒体をインプリントテンプレートに近づけるか、あるいはその両方を互いに近づけることで）ステップを含んでいてもよい。凹部は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面のパターンフィーチャを画定する。通常、パターン形成された表面とインプリント可能な媒体とが貼り合わされた時にインプリント可能な媒体は流動可能である。インプリント可能な媒体のパターン形成に続けて、例えば、インプリント可能な媒体を化学線に当てることで、インプリント可能な媒体は、好適には非流動又は凍結状態（すなわち、固定状態）にされる。次に、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とパターン形成されたインプリント可能な媒体は分離される。次に、通常、基板とパターン形成されたインプリント可能な媒体は、さらに処理されて基板のパターン形成又は別のパターン形成が実行される。インプリント可能な媒体は、通常、パターン形成する基板の表面上に液滴の形態で提供されるが、代わりに、スピンコーティングなどを用いて提供してもよい。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  ＵＶインプリントリソグラフィ、特にステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）などのインプリントリソグラフィは、通常、ＵＶ硬化性フォトレジストなどの硬化性のインプリント可能な液体媒体の液滴のアレイを基板上に計量分配し、その後、インプリントテンプレートのパターン形成された表面を液滴のアレイに整列させるか、又はインプリントテンプレートのパターン形成された表面を基板に整列させ、インプリントテンプレートのパターン形成された表面が液滴に接触するようにパターン形成された表面と基板とを貼り合わせる。ここでは便宜上「ＵＶ」という用語を使用しているが、インプリント可能な液体媒体を硬化させる任意の好適な化学線を含むものと解釈すべきである。パターン形成された表面及び／又は基板は移動して充填期間にわたって接触状態に置かれるため、液滴は拡散し流出してパターン形成された表面の凹部を実質的に充填する。液滴の間にギャップがあるとパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体の間の界面にインプリント可能な液体媒体によって充填されると最終的に消滅する空隙が生まれることがある。そのような空隙の内部のガス又は蒸気は場合によってインプリント可能な液体媒体によって置き換えなければならない。したがって、ガス又は蒸気が媒体又はテンプレート内に拡散しなければならないとすると空隙の充填は時間がかかる。
【０００６】
[0006]  インプリント可能な液体媒体は、通常、その後、インプリントテンプレートと基板が硬化性のインプリント可能な液体媒体がその間に挟まれて保持期間にわたって接触し、ＵＶ放射によって硬化する。ＵＶインプリントリソグラフィでは、ＵＶ放射は、ＵＶ放射を透過するか、又は透過しないように構成されたインプリントテンプレートを通してＵＶ硬化性の媒体上へ誘導される。例えば、インプリントテンプレートは石英などの材料であってもよい。ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体が硬化した媒体の結果として得られるパターン形成された層が自立する程度に硬化すると、インプリントテンプレートは基板と結果として得られるパターン形成された層から離れることができる。「自立」とは、インプリントテンプレートが基板と結果として得られるパターン形成された層から離れると、パターン形成された層がパターン形成された表面のインプリントされた形状を維持するのに十分な粘度を備え又は十分にゲル化又は固化し又は硬化しているという意味である。次に、インプリントテンプレートは、他の基板又は同じ基板の別の部分と接触し、この工程が繰り返される。硬化層内のパターンは、例えば光リソグラフィで一般に使用されるような従来のエッチング技術によって下にある基板に転写できる。
【０００７】
[0007]  インプリント可能な液体媒体が硬化又は固化した時にインプリント可能な液体媒体とパターン形成された表面との間の界面に空隙が残っている場合、これらの空隙は、結果として得られる自立したパターン形成された層内の望ましくない欠陥として存在する。したがって、インプリント可能な液体媒体が流動状態の間に空隙を実質的に充填することが望ましい。
【０００８】
[0008]  充填期間と呼ばれる空隙の充填を確実にするために要する時間によって、光リソグラフィなどの他のリソグラフィ技術と比較して処理量が低下することがある。これは、インプリントリソグラフィ方法にとって問題になり得る。インプリント可能な液体媒体の液滴が空隙に流入してパターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのにかかる時間は、通常２秒を超える工程全体のうち最も時間がかかるステップのうちの１つである。インプリント可能な液体媒体が凹部に流入して凹部を実質的に充填するのにかかる時間のために、インプリント可能な液体媒体の粘度は空隙が充填されるまで流れを促進するためできるだけ低く保つ必要がある。ＵＶインプリントリソグラフィでは、自立したパターン形成された層へのＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の硬化はパターン形成された表面の凹部が充填されたという高い確率を確保するために十分な時間が経過してから開始する。これは、パターン形成された表面の凹部が十分に充填されるまでＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の粘度が増大しないことを確実にするためである。硬化が通常起こる保持期間は、ＵＶインプリントリソグラフィでは硬化のためにさらに例えば０．５〜１秒の時間を必要とすることが多く、したがって、総工程時間に大幅に影響することがある。
【０００９】
[0009]  例えば、空隙によって引き起こされる低い欠陥レベルを確保するのに要する時間の寄与を可能にするインプリントリソグラフィ方法及び装置を提供することが望ましい。例えば、空隙によって引き起こされる欠陥レベルを増大させることなく工程処理量を増大させるために、インプリントテンプレートのパターン形成された表面と、インプリントリソグラフィ、特にＳＦＩＬなどのＵＶインプリントリソグラフィによって形成される基板上のパターン形成された層とのより迅速な分離を可能にするインプリントリソグラフィ方法及び装置を提供することが望ましい。例えば、充填期間及び／又は保持期間の長さを最小限に低減しながら従来技術の１つ又は複数の問題を低減又は克服し、あるいは従来技術の代替方法又は装置を提供することを可能にするインプリントリソグラフィ方法及び装置を提供することが望ましい。例えば、既存のインプリントリソグラフィ装置又は方法、特にＵＶインプリントリソグラフィ装置又は方法にわずかな変更を加えることで本発明のある実施形態を実行することができるように、インプリントリソグラフィ装置又は方法の物理的特徴及び特性への大幅な変更を必要としないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することが望ましい。
【００１０】
[0010]  本発明のある実施形態は、凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、
基板及び／又はパターン形成された表面上に流動可能な液体としてのインプリント可能な液体媒体を提供するステップと、
インプリント可能な液体媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって基板及び／又はパターン形成された表面上でパターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、
充填期間中にインプリント可能な液体媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して界面の１つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、
データと時間との関係から予想終了時間を導出するステップと、
を含むインプリント方法を提供する。
【００１１】
[0011]  データと時間との関係は時間と共に縮小する空隙に基づく関係であってもよく、したがって、液体媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填しているように最大の空隙も最終的には完全に消滅してもよい。データと時間との関係は時間と共に散乱する放射の量、結像される空隙のサイズなどの減少に基づいていてもよい。この関係は、充填期間が進むにつれて時間と共に予想されるデータの変化についての理論的及び／又は経験的（すなわち、実際的）情報に基づいていてもよい。
【００１２】
[0012]  本明細書に記載する特徴（例えば、以下の特徴）は、適宜、本発明の方法及び装置のすべての様々な実施形態に適用可能である。以下の特徴の組合せは、適宜、本明細書に記載の、例えば、特許請求の範囲に記載の方法及び装置の一部として使用することができる。本明細書に記載の方法及び装置は、特にＵＶインプリントリソグラフィ、特にステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）に適している。
【００１３】
[0013]  インプリントテンプレートと基板との接触ステップで、パターン形成された表面がインプリント可能な液体媒体に最初に接触する時の最初の接触でインプリントテンプレートのパターン形成された表面と基板とが平行である必要はない。
【００１４】
[0014]  この方法は、光源からの光を界面へ誘導するステップを含んでいてもよい。本明細書で「光」とは、可視光、赤外光、紫外光などの任意の好適な電磁放射を意味する。紫外光を使用する場合、インプリント可能な液体媒体を硬化させない波長であることが望ましい。通常、光は可視光であってもよい。
【００１５】
[0015]  「界面から発する」とは、光が界面から反射し、散乱し、屈折することなどの動作を意味する。通常、光は、界面及びその内側もしくはその上の空隙から反射又は散乱する。「インプリント可能な液体媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する光」という用語は、パターン形成された表面と界面の空隙内のガス／蒸気との界面から発する光も含むと解釈すべきである。
【００１６】
[0016]  界面の空隙はインプリント可能な液体媒体が充填期間内に到達しなかった領域であり、界面にガス及び／又は蒸気の泡として存在する。言い換えれば、空隙はガス又は蒸気を含んでいてもよいがインプリント可能な液体媒体は含まない。空隙の屈折率は通常インプリント可能な液体媒体の屈折率とは異なるので、空隙とインプリント可能な液体媒体及び／又はパターン形成された表面との間の表面は、光を反射、屈折、又は散乱する。空隙はインプリントテンプレートのパターン形成された表面の縁部に空隙を含んでいてもよい。
【００１７】
[0017]  データは、空隙のサイズに関連した情報を含んでいてもよい。データは、空隙のサイズの変化速度に関連した情報を含んでいてもよい。例えば、データは空隙によって散乱された光に関連していてもよく、その場合、空隙のサイズと散乱した光の性質及び／又は強度との間に関係があってもよい。
【００１８】
[0018]  界面から発する光は合焦して界面と空隙の画像を形成してもよく、画像を分析して界面の１つ又は複数の空隙に関するデータが得られる一組の空隙を選択することができる。言い換えれば、充填期間の終了時間を最も決定しやすい一組の空隙、通常は、最大の空隙を選択してもよい。例えば、カメラなどの結像装置を用いて界面及び／又は空隙の画像を形成してもよい。
【００１９】
[0019]  空隙の組は、各々の空隙が空隙のサイズに関連した統計値よりも大きいサイズを有する一組の空隙であってもよい。市販の画像分析ソフトウェアを用いて、例えば、空隙の表面積ベースの直径（すなわち、空隙が画像内の空隙と同じ表面積を有する円であったと仮定した場合に空隙が有する直径）の分布に基づいて、空隙のサイズの分布を測定してもよい。サイズの分布から、平均値、中央値などの統計値から、ｄ９０（空隙の面積の９０％がｄ９０よりも小さいサイズを有するサイズ）を選択し、選択した統計値よりも大きい空隙の組だけを用いてデータを生成してもよい。空隙の組は、平均して、界面の残りよりも大きい空隙を有する界面の画像の領域から選択してもよい。例えば、データは単一の空隙、例えば存在する最大の空隙から得てもよい。
【００２０】
[0020]  この方法は、１つ又は複数の以前にパターン形成された層の未充填の空隙から生じる欠陥レベルから得た情報を用いてデータと時間との関係が変更される学習工程を含んでいてもよい。欠陥レベルに関する情報は、画像分析などの任意の好適な方法によって測定することができる。予想終了時間に空隙から生じる高い欠陥レベルが検出された場合、関係を調整してデータから導出した予想終了時間を増加させてもよい。
【００２１】
[0021]  １つ又は複数の別の処理ステップの開始時間は、予想終了時間から決定することができる。別の処理ステップの開始は、予想終了時間の前、それと同時、又はその後であってもよい。
【００２２】
[0022]  例えば、インプリント可能な液体媒体がＵＶ硬化性の媒体である場合、１つ又は複数の別の処理ステップはＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体を照明期間にわたってＵＶ放射で照明するステップを含んでいてもよい。ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の照明ステップは、例えば、予想終了時間より前に開始してもよい。これは、ＵＶ照明期間の開始に続けてＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体が実質的に変化しない粘度を有する抑制期間（例えば、抑制期間に粘度が１０％を超えて増大しない）を示す場合に特に有用である。例えば、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体はアクリレートレジスト又はビニルエーテルレジストであってもよい。
【００２３】
[0023]  アクリレート及びシリコン含有アクリレートは、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体内で使用するのに好適なモノマーである。
【００２４】
[0024]  ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体は、ＵＶ生成触媒により触媒される反応によって硬化する媒体であってもよい。例えば、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体は、ビニルエーテルＵＶフォトレジストであってもよい。ビニルエーテルモノマー、特にシリコーン基を含むモノマーが本発明のある実施形態で使用される（Ｋｉｍ他、Ｊ．Ｖａｃ  Ｓｃｉ  Ｔｅｃｈ  Ｂ，２００５，２３，２９６７）。そのようなビニルエーテルの重合は酸によって開始すると考えられ、ＵＶ照明によってプロトンを形成する光酸発生剤は開始剤分子として使用することができる。
【００２５】
[0025]  本発明のある実施形態は、凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、
基板及び／又はパターン形成された表面上に流動可能な液体としてのインプリント可能な液体媒体を提供するステップと、
パターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、
インプリント可能な液体媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する光の測定から収集したデータからインプリント可能な液体媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのに必要な予想時間を計算するステップと、
を含むインプリント方法を提供する。
【００２６】
[0026]  本発明のある実施形態は、
基板上に流動可能な液体としてのインプリント可能な媒体を提供するステップと、
インプリント可能な媒体がインプリントテンプレートのパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって基板上でインプリントテンプレートのパターン形成された表面とインプリント可能な媒体とを互いに接触させるステップと、
充填期間中にインプリント可能な媒体とインプリントテンプレートのパターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して界面の１つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、
データと時間との関係から充填期間の終了時間を予想するステップと、
を含むインプリント方法を提供する。
【００２７】
[0027]  本発明のある実施形態は、
インプリントテンプレートを保持するように構成されたインプリントホルダであって、インプリントテンプレートがパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との接触によって基板上にインプリント可能な液体媒体をパターン形成するパターン形成された表面を有するインプリントホルダと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
インプリント可能な液体媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填する充填期間中にインプリント可能な液体媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する光から導出される信号を生成するように構成された検出器と、
充填期間中に界面の１つ又は複数の空隙に関する信号からデータを導出し、データと時間との関係から充填期間の予想終了時間を導出するように構成されたコンピュータと、
を備えるインプリント装置を提供する。
【００２８】
[0028]  ある実施形態では、インプリント装置は、インプリント可能な液体媒体を基板上に計量分配するディスペンサをさらに備える。
【００２９】
[0029]  本発明のある実施形態は、
インプリントテンプレートを保持するように構成されたインプリントホルダであって、インプリントテンプレートがパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との接触によって基板上にインプリント可能な液体媒体をパターン形成するパターン形成された表面を有するインプリントホルダと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
インプリント可能な液体媒体とパターン形成された表面との間の１つ又は複数の空隙を含む界面から発する光を収集し測定し、そこから信号を生成するように構成された検出器と、
検出器によって生成された信号から導出されたデータからインプリント可能な液体媒体がパターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのに必要な予想終了時間を計算するように構成されたコンピュータと、
を備えるインプリント装置を提供する。
【００３０】
[0030]  ある実施形態では、インプリント装置は、インプリント可能な液体媒体を基板及び／又は装置の動作を制御するように配置されたコントローラ上に計量分配するディスペンサをさらに備える。
【００３１】
[0031]  以下の特徴は適宜、本発明の実施形態の方法及び装置の様々な実施形態のすべてに適用可能である。以下の特徴の組合せは、適宜、本明細書に記載の、例えば、特許請求の範囲に記載の方法及び装置の一部として使用することができる。
【００３２】
[0032]  この装置は、光を界面へ誘導するように構成された光源を備えていてもよい。好適には、この装置は、検出器に界面の画像を形成するように構成された合焦装置をさらに備えていてもよい。例えば、この装置は、界面の画像を形成するように配置されたカメラを備えていてもよい。検出器及び／又は光源は、インプリント可能な液体媒体の硬化を意図したいかなるＵＶ放射も阻害しないように配置可能である。したがって、検出器及び／又は光源を、例えば基板の上の場所に配置して界面から発する光の収集と測定とを可能にし、次に、基板上のインプリント可能な液体媒体のＵＶ照明に先立って基板から離れた場所に移動させてもよい。
【００３３】
[0033]  この装置は、画像を分析して界面の空隙の画像からデータを得るように構成された画像アナライザをさらに備えていてもよい。
【００３４】
[0034]  コントローラは、予想終了時間から決定される１つ又は複数の開始時間に１つ又は複数の別の処理ステップを開始するように配置してもよい。これらの開始時間は、予想終了時間の前、それと同時、又はその後であってもよい。
【００３５】
[0035]  インプリント可能な液体媒体はＵＶ硬化性の媒体であってもよく、１つ又は複数の別の処理ステップは照明期間にわたってＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体をＵＶ放射で照明するステップを含んでいてもよい。例えば、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の照明ステップは、予想終了時間に先立って開始してもよい。
【００３６】
[0036]  本発明のある実施形態は、本発明のある実施形態による装置のコントローラであって、予想終了時間から決定される１つ又は複数の開始時間に１つ又は複数の別の処理ステップを開始するように配置されるコントローラを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
[0037]  以下、添付の図面を参照しながら、本発明の特定の実施形態について説明する。
【図１】[0038]ＵＶインプリントリソグラフィの一例の概略図である。
【図２ａ】[0039]基板とインプリントテンプレートとが互いに接触した状態でインプリントテンプレートを通して見たインプリント可能なＵＶ硬化性の液体媒体の液滴が上にある基板領域の概略平面図である。
【図２ｂ】[0039]基板とインプリントテンプレートとが互いに接触した状態でインプリントテンプレートを通して見たインプリント可能なＵＶ硬化性の液体媒体の液滴が上にある基板領域の概略平面図である。
【図２ｃ】[0039]基板とインプリントテンプレートとが互いに接触した状態でインプリントテンプレートを通して見たインプリント可能なＵＶ硬化性の液体媒体の液滴が上にある基板領域の概略平面図である。
【図３】[0040]空隙に関連するデータから導出されたパラメータＸが時間の関数として変動する様子を示す曲線のグラフである。
【図４】[0041]測定時間ＴＭに測定されたパラメータＸ（横座標）の関数としての充填期間ＴＥ（縦座標）の予想終了時間のグラフである。
【図５】[0042]空隙充填期間の概略時系列チャートである。
【図６】[0042]空隙充填期間の概略時系列チャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
[0043]  図１は、紫外線（ＵＶ）を透過する透明な又は半透明のテンプレートとインプリント可能な媒体としてのＵＶ硬化性液体（本明細書では「ＵＶ」という用語が便宜上使用されているが、インプリント可能な媒体を硬化させる任意の適切な化学線放射を含むものと解釈すべきである）の使用を含むＵＶインプリントリソグラフィの一例を示す。ＵＶ硬化性液体は、多くの場合、ホットインプリントリソグラフィで使用される熱硬化性及び熱可塑性樹脂よりも粘性が低く、したがって、はるかに速く移動してテンプレートのパターンフィーチャを充填することができる。
【００３９】
[0044]  基板６は、平坦化及び転写層８を備える。平坦化及び転写層８上にＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体１０が提供されている。石英のインプリントテンプレート１２がＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体１０に接触する（すなわち、インプリントされる）。石英のインプリントテンプレート１２を通してＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体１０上に印加されるＵＶ放射１４によってＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体１０を硬化させることで、石英のインプリントテンプレート１２のパターンフィーチャによって形成されたパターンが固体化する。インプリントテンプレート１２を除去した後で、ＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体１０のより薄い領域が基板までエッチングされるようにＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体１０がエッチングされる。ＵＶインプリントリソグラフィによって基板をパターン形成する特定の方法は、ＩＣ製造で従来使用されている光ステッパと同様の方法で基板を細かいステップでパターン形成するためのいわゆるステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）である。この方法は、インプリントテンプレートをＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体にインプリントすることで基板の複数の小さい領域を同時に印刷するステップと、インプリントテンプレートを通してＵＶ放射を「発光」してインプリントテンプレートの下でＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体を硬化させるステップと、インプリントテンプレートをＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体から分離するステップと、基板の隣接する部分に移行して動作を反復するステップとを含んでいてもよい。
【００４０】
[0045]  そのようなステップアンドリピート処理のフィールドサイズは小さく、パターンの変形とクリティカルディメンションの変動を低減するのを助けるため、ＳＦＩＬは、集積回路及び高いオーバレイ精度を要するその他のデバイスの製造に特に適している。
【００４１】
[0046]  ＵＶインプリントの詳細情報については、例えば、米国特許出願公開第２００４−０１２４５６６号、米国特許第６，３３４，９６０号、ＰＣＴ特許出願公開ＷＯ０２／０６７０５５号、及び「Ｍｏｌｄ−ａｓｓｉｓｔｅｄ  ｎａｎｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ：Ａ  ｐｒｏｃｅｓｓ  ｆｏｒ  ｒｅｌｉａｂｌｅ  ｐａｔｔｅｒｎ  ｒｅｐｌｉｃａｔｉｏｎ」、Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．Ｂ１４（６），１９９６年１１月／１２月と題されたＪ．Ｈａｉｓｍａ氏の論文を参照されたい。
【００４２】
[0047]  図２ａは、インプリントテンプレート（図示せず）を通して見た基板の領域２０の平面図を概略的に示す。線２０は必ずしも物理的に存在しなくてもよく、基板の一領域の境界を示すためにのみ存在している。インプリント可能な液体媒体のディスペンサを用いてインプリント可能な液体媒体２１の複数の液滴が基板の領域２０上に提供される。インプリント可能な液体媒体の液滴が基板上に提供されると、インプリントテンプレートはインプリント可能な液体媒体の液滴と接触できる（インプリントテンプレート及び／又は基板を適当に動かすことで）。
【００４３】
[0048]  図２ｂは、インプリントテンプレートが一定時間インプリント可能な液体媒体と接触した時の（インプリントテンプレートは図示せず）インプリント可能な液体媒体２１の液滴を示す。インプリントテンプレートをインプリント可能な液体媒体に接触させることで、インプリント可能な液体媒体２１の液滴は拡散する。インプリント可能な液体媒体の液滴は少なくともある程度互いに接触し、合体を開始する。このインプリント工程はヘリウムなどのガス雰囲気内で実行することができる。したがって、インプリント可能な液体媒体２１の液滴が互いに接触すると、ガス２２のポケット（例えば、ヘリウムガスのポケット）が液滴２１、インプリントテンプレート及び基板の間に捕捉されてインプリントテンプレートのパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との間の界面に空隙を形成する。空隙と呼んではいるが、界面のこれらの空隙はガス又は蒸気で充填されていてもよい。空隙をインプリント可能な液体媒体で充填し、ガスを空隙から拡散させることができるようにすることが望ましい。これを実行するには、空隙を充填できるようにガスを例えば基板及び／又はインプリントテンプレート内に拡散させる時間が必要である。
【００４４】
[0049]  図２ｃは、基板の領域２０に関して空隙が部分的に充填される際の残りの空隙の場所を概略的に示す。空隙は最終的には完全に消滅する。インプリント可能な液体媒体が硬化した後にまだ存在する空隙があれば、硬化した媒体の結果として得られるパターン形成された層とその後に基板上に及び／又は基板内に形成される任意のデバイス内に欠陥が生まれることがある。
【００４５】
[0050]  インプリント可能な液体媒体の液滴と空隙は図では均一なサイズと間隔で示されているが、実際にはそのような規則性は存在しないこともあり、任意の特定の時間に界面に存在する空隙のサイズの統計的分布があってもよい。
【００４６】
[0051]  図３は、空隙に関連するデータから導出されたパラメータＸが時間の関数として変動する様子を示す曲線のグラフを示す。縦軸はＸ、横軸は時間を表し、横軸のゼロ値は充填期間ＴＳの開始に対応する。任意には、充填期間はインプリントテンプレートがインプリント可能な液体媒体に最初に接触する時に開始すると考えてもよい。パラメータＸは、時間ｔに界面にある空隙に関連する任意の好適なパラメータであってもよい。この例では、Ｘ＝０の時に空隙は完全に充填されている。例えば、パラメータＸは、空隙の組のｄ９０値（ｄ９０は空隙の面積の９０％がｄ９０より小さい直径を有するサイズ）であってもよい。Ｘは、例えば、界面の画像の画像分析によって導出されるパラメータであってもよい。
【００４７】
[0052]  図３は、時間の関数としてのＸの挙動の概略を表す４本の曲線を示す。曲線Ａ及びＤは、界面での例えば９９．５％の確率範囲内の統計的変動から予想される、最小充填時間ＴＡ及び最大充填時間ＴＤが予想される最も極端な挙動を表す。
【００４８】
[0053]  曲線１及び２は、極値の間の代表的なＸの挙動対時間を示す（曲線１は充填時間ＴＥを有する）。時間ＴＭでのＸの測定（但し、ＴＭはＴＡより前の時間、ＴＥはＴＡとＴＤの間の時間）によって、曲線１の形状の情報から、空隙を完全に充填すべき予想時間ＴＥを導出することができる。
【００４９】
[0054]  実際、Ｘを時間に関連付ける曲線は、任意の特定のシステム、すなわち、インプリントリソグラフィ装置、基板、インプリントテンプレート、インプリント可能な液体媒体などの構成で測定可能である。曲線の情報から、ＴＥとＸ（ＴＭ）との関係を予想してもよい。そのような関係を縦軸のＴＥが横軸のＸ（ＴＭ）の関数として変化する様子を示すグラフとして図４に示す。図４には測定時間ＴＭも示されている。これは、明らかに、空隙が充填されると予想されるいかなる予想時間ＴＥよりも早くなければならない。Ｘ（ＴＭ）とＴＥとの関係は、本発明のある実施形態を特定のシステムで実施する前に、理論的又は経験的に適切に得られる。しかし、この関係は本発明のある実施形態の方法を用いて実行されるインプリントから導出されるＸ（ＴＭ）とＴＥとの関係に関する追加情報を含めることでさらに変更することができる。言い換えれば、本発明のある実施形態はＸ（ＴＭ）とＴＥとの関係が使用時に更新される学習工程を組み込んでいてもよい。
【００５０】
[0055]  単一の時間ＴＭでのＸの測定値を得るだけでなく、時間ＴＭにＸの測定値を得て時間ＴＭ＋ΔＴにΔＸの測定値を得てもよい。Ｘ、ΔＸの測定値の差を用いてΔＸ／ΔＴ、すなわち、ＴＭでのＸの変化率を提供してもよい。ＴＭでのΔＸ／ΔＴとＸ対時間の曲線から導出可能なΔＸ／ΔＴとＴＥとの関係の情報から、ΔＸ／ΔＴの値を用いてＸ（ＴＭ）だけを用いる場合よりもおそらくはより高精度にＴＥを提供することができる。別の実施形態では、ＴＭでのΔＸ／ΔＴの情報だけを用いてＴＥが推定される。
【００５１】
[0056]  この実施形態に先立って、処理の次のステップへ移行する前に空隙が充填されていた高い確率を確保するには、インプリント可能な液体媒体の硬化前に界面からすべての空隙が解消されている高い可能性（例えば、９９．５％）を確保するには充填時間をＴＤ又はそれ以上に長くしておく必要があろう。
【００５２】
[0057]  図５は、ＴＳで開始し時間の増加と共に左から右へ進む充填期間の時系列チャートを示す。ＴＭ、ＴＡ及びＴＤのシーケンスが示されている。ＴＭでのＸ（ＴＭ）の測定によって、図４の曲線からＴＥを導出して、例えば９９．５％の確度ですべての空隙が充填される時間を高信頼に推定することができる。これは、工程ステップをＴＤまで遅らせる必要がないということを意味する。工程ステップはＴＥまで待てばよい。
【００５３】
[0058]  本発明のある実施形態がＵＶインプリントリソグラフィに適用される場合、インプリント可能な液体媒体はＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体であってもよい。インプリント可能な液体媒体は、例えば、抑制期間を示すＵＶ硬化性の媒体であってもよい。
【００５４】
[0059]  ＵＶインプリントリソグラフィで使用されるＵＶ硬化性のインプリント可能な媒体は最初は短い期間にわたって抑制されるＵＶ硬化を示してもよい。例えば、アクリレートタイプのレジストは酸素抑制を受ける。レジスト配合物に溶解した酸素がアクリレートと開始剤との混合物内の光生成ラジカルと反応することが実証されている（Ｍ．Ｄ．Ｄｉｃｋｅｙ他、ＡｌＣｈＥ  Ｊ．，２００５，５１，２５４７及びＭ．Ｄ．Ｄｉｃｋｅｙ他、ＡｌＣｈＥ  Ｊ．，２００６，５２，７７７）。ラジカルは酸素と反応して安定したペルオキシラジカルを形成し、この反応は重合反応と比較して迅速である。これによって、アクリレートの所望の重合反応が実行される前に一定の抑制期間が生まれると考えられる。抑制期間は、例えば、開始剤濃度、酸素濃度、及びＵＶ出力に依存していてもよい（Ｍ．Ｄ．Ｄｉｃｋｅｙ他、ＡｌＣｈＥ  Ｊ．，２００５，５１，２５４７）。抑制期間は０．５秒から最大数秒である。
【００５５】
[0060]  ビニルエーテルタイプのレジストは、また１〜２秒程度の抑制期間を示す（Ｃ．Ｄｅｃｋｅｒ他、Ｐｒｏｇｒ．Ｏｒｇ．Ｃｏａｔ．２００１，４２，２５３）。酸触媒ビニルエーテル重合反応の場合の抑制期間の基礎の仕組みは十分には分かっていない。Ｄｅｃｋｅｒ他によって、ＰＡＧの光分解（例えば、スルホニウム塩）と実際のプロトン生成物との間に短い遅延を置くことが提案されていた。
【００５６】
[0061]  アクリレートとビニルエーテルの両方の重合反応で観察される抑制期間は、ＵＶインプリントリソグラフィ工程の処理能力を制限することがある。以前であれば、インプリント可能な液体媒体を硬化させるためのＵＶ照明はすべての空隙が消滅して初めて開始したであろう。インプリント可能な媒体配合物の粘度（及びその他の関連する物理特性）は、抑制期間内に大幅に変化することはない。言い換えれば、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体１０がインプリントテンプレート１２のパターン形成された表面の凹部に流入する能力が抑制期間内に大幅に損なわれることはない。
【００５７】
[0062]  したがって、空隙の充填の予想終了時間ＴＥに先立ってＵＶ照明を開始することで、インプリントテンプレート１２のパターン形成された表面の凹部の充填に大幅に影響を与えることなく、ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の硬化を最終的に達成する化学工程を開始することができる。抑制期間が経過する前に充填ステップが完了する（すなわち、凹部がＵＶ硬化性の液体で実質的に充填される）ことが極めて望ましい。抑制期間の終了に続けて、ＵＶ硬化性の媒体の粘度は急速に増大し、それによってインプリントテンプレート１２のパターン形成された表面の凹部へのＵＶ硬化性の液体の流れは遅くなるか、又は阻止される。
【００５８】
[0063]  ＵＶ照明期間は充填の予想終了時間ＴＥのいくらか前に開始できるので、パターン形成された表面に凹部を実質的に充填するＵＶ硬化性の媒体の能力を全く損なうことなく最初の接触ＴＳからインプリントの完了までの全体の期間を低減することができ、ＵＶ照明は従来技術の方法と同じ長さの時間だけ同じ出力で印加される。
【００５９】
[0064]  本発明のある実施形態の利点は、本発明のある実施形態を実施するために、既存のＵＶインプリントリソグラフィ装置又は方法に検出器の組み込みなどの小さい機械的改造又は変更を加えるだけでよいという点である。工程ステップが実行されるタイミングの変更は、装置のソフトウェア制御の変更によって実行される。例えば、ＵＶ照明ステップの開始は、ＴＤまで待つ代わりにＴＥと同時又はその前であってもよい。
【００６０】
[0065]  本発明は、インプリントリソグラフィ装置及び方法に関する。この装置及び／又は方法は、電子デバイス及び集積回路などのデバイスの製造、又は集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、有機発光ダイオードの製造などのその他の用途に使用することができる。特に、これらの方法及び装置は、基板上にパターン形成されたフィーチャが約１μｍ以下、通常１００ｎｍ以下、又は１０ｎｍ以下のフィーチャの幅又はクリティカルディメンションを有する高解像度リソグラフィに好適である。
【００６１】
[0066]  リソグラフィは、基板上にいくつかのパターンを塗布するステップであって、パターンが集積回路などのデバイスを共に形成するようにパターンが互いに積み上げられるステップを含んでいてもよい。各パターンの以前に提供されたパターンとのアライメントは重要な問題である。パターンが互いに十分に正確に整列していないと、層間の電気的接続の一部が欠落する結果を招くことがある。これによって、デバイスが機能しなくなることがある。したがって、リソグラフィ装置は、各パターンを以前に提供されたパターン及び／又は基板上に提供されたアライメントマークに整列させるためのアライメント装置を含むのが普通である。
【００６２】
[0067]  通常、基板は基板ホルダに締結され、基板ホルダとインプリントテンプレート又は複数のインプリントテンプレートはインプリントの間に互いに対して移動可能である。一般に、コンピュータプログラムを実行しているコンピュータなどのコントローラは、アライメント装置からの情報を用いて各パターンがインプリントされる際に基板とインプリントテンプレート又は複数のテンプレートの相対位置を制御する。
【００６３】
[0068]  上記実施形態では、単一のチャンバ内に単一のインプリントテンプレート、単一のインプリントテンプレートホルダ、単一の基板ホルダ及び単一の基板が提供される。別の実施形態では、インプリントをより効率的又は迅速に（例えば、並列に）実行するために１つ又は複数のチャンバ内に２つ以上のインプリントテンプレート、２つ以上のインプリントテンプレートホルダ、２つ以上の基板ホルダ及び／又は２つ以上の基板を提供してもよい。例えば、ある実施形態では、複数の（例えば、２つ、３つ、又は４つの）基板ホルダを含む装置が提供される。ある実施形態では、複数の（例えば、２つ、３つ、又は４つの）インプリントテンプレート構成（すなわち、インプリントテンプレートホルダ及び／又はインプリントテンプレート）を含む装置が提供される。ある実施形態では、基板ホルダあたり１つのインプリントテンプレート構成を使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、基板ホルダあたり２つ以上のインプリントテンプレート構成を使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、複数の（例えば、２つ、３つ、又は４つの）インプリント可能な媒体のディスペンサを含む装置が提供される。ある実施形態では、基板ホルダあたり１つのインプリント可能な媒体のディスペンサを使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、インプリントテンプレート構成あたり１つのインプリント可能な媒体のディスペンサを使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、複数の基板ホルダを含む装置が提供された場合、基板ホルダは装置内の機能を共用できる。例えば、基板ホルダは、基板ハンドラ、基板カセット、ガス供給システム（例えば、インプリント中にヘリウム環境を生成するための）、インプリント可能な媒体のディスペンサ、及び／又は放射出口（インプリント可能な媒体を硬化させるための）を共用することができる。ある実施形態では、２つ以上の基板ホルダ（例えば、３つ又は４つの）が装置の１つ又は複数の機能（例えば、１つ、２つ、３つ、４つ、又は５つの機能）を共用する。ある実施形態では、装置の１つ又は複数の（例えば、１つ、２つ、３つ、４つ、又は５つの）機能がすべての基板ホルダの間で共用される。
【００６４】
[0069]  パターン形成の後にパターン形成された表面をインプリント可能な媒体から解放するのを助けるために、パターン形成された表面は、チタニア、アルミナ、酸化タンタル又はそれらの混合物を含むか又は基本的にこれらから構成される離型層を含んでいてもよく、あるいは有機離型層を含んでいてもよい。
【００６５】
[0070]  インプリント可能な液体媒体は、インプリントテンプレートを通して印加されるＵＶ放射などの化学線によって硬化できる。これを容易にするために、多孔質の固体媒体はＵＶ放射などの化学線を透過してもよい（すなわち、透明又は半透明であってもよい）。シリカはこの目的に有用である。
【００６６】
[0071]  本明細書では、「基板」という用語は、基板の部分を形成するか、又は別の基板上に提供された任意の表面層、例えば、平坦化層又は反射防止コーティング層を含むと解釈される。
【００６７】
[0072]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。
【００６８】
[0073]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を様々に変更することができることは当業者には明らかであろう。
【００６９】
[0074]  以下の番号の条項に本発明の実施形態を示す。
１．凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、
前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって前記基板及び／又はパターン形成された表面上で前記パターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、
前記充填期間中に前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して前記界面の１つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、
前記データと時間との関係から予想終了時間を導出するステップと、
を含むインプリント方法。
２．光源から前記界面へ前記光を誘導するステップを含む、条項１に記載のインプリント方法。
３．前記データが前記１つ又は複数の空隙のサイズに関する情報を含む、条項１又は条項２に記載のインプリントリソグラフィ方法。
４．前記データが前記１つ又は複数の空隙のサイズの変化速度に関連した情報を含む、前記条項のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
５．前記界面から発する前記光が合焦して前記界面の画像を形成し、前記画像を分析して前記データが得られる一組の空隙が選択される、前記条項のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
６．前記空隙の組の前記空隙の各々が前記空隙のサイズに関する統計値より大きいサイズを有する、条項５に記載のインプリントリソグラフィ方法。
７．１つ又は複数の以前にパターン形成された層の未充填の空隙から生じる欠陥レベルから得た情報を用いて前記関係が変更される学習工程を含む、前記条項のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
８．１つ又は複数の別の処理ステップの開始時間が、前記予想終了時間から決定される、前記条項のいずれか１項に記載のインプリントリソグラフィ方法。
９．前記インプリント可能な液体媒体がＵＶ硬化性の媒体であり、前記１つ又は複数の別の処理ステップが前記ＵＶ硬化性の媒体を照明期間にわたってＵＶ放射で照明するステップを含む、条項８に記載のインプリントリソグラフィ方法。
１０．ＵＶ放射での照明に続けて、前記ＵＶ硬化性の媒体が、実質的に変化しない粘度を有する抑制期間を示す、条項９に記載のインプリントリソグラフィ方法。
１１．前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の照明ステップが、前記予想終了時間より前に開始する、条項１０に記載のインプリントリソグラフィ方法。
１２．前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体が、アクリレートレジスト又はビニルエーテルレジストである、条項１０又は条項１１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
１３．凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、
前記パターン形成された表面を前記基板及び／又はパターン形成された表面上でインプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、
前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光の測定から収集したデータから前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのに必要な予想時間を計算するステップと、
を含むインプリント方法。
１４．インプリント可能な媒体がインプリントテンプレートのパターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって基板上で前記インプリントテンプレートの前記パターン形成された表面と前記インプリント可能な媒体とを互いに接触させるステップと、
前記充填期間中に前記インプリント可能な媒体と前記インプリントテンプレートの前記パターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して前記界面の１つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、
前記データと時間との関係から前記充填期間の終了時間を予想するステップと、
を含むインプリント方法。
１５．インプリントテンプレートを保持するように構成されたインプリントホルダであって、前記インプリントテンプレートが、パターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との接触によって基板上に前記インプリント可能な液体媒体をパターン形成する前記パターン形成された表面を有するインプリントホルダと、
前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填する充填期間中に、前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光から導出される信号を生成するように構成された検出器と、
前記充填期間中に前記界面の１つ又は複数の空隙に関する信号からデータを導出し、前記データと時間との関係から前記充填期間の予想終了時間を導出するように構成されたコンピュータと、
を備えるインプリント装置。
１６．インプリントテンプレートを保持するように構成されたインプリントホルダであって、前記インプリントテンプレートがパターン形成された表面とインプリント可能な液体媒体との接触によって基板上に前記インプリント可能な液体媒体をパターン形成する前記パターン形成された表面を有するインプリントホルダと、
前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の１つ又は複数の空隙を含む界面から発する光を収集し測定し、そこから信号を生成するように構成された検出器と、
前記検出器によって生成された前記信号から導出されたデータから前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填するのに必要な予想終了時間を計算するように構成されたコンピュータと、
を備えるインプリント装置。
１７．光を前記界面上へ誘導するように構成された光源をさらに備える、条項１５又は条項１６に記載の装置。
１８．前記界面の画像を前記検出器に形成するように配置された合焦デバイスをさらに備える、条項１５から１７のいずれか１項に記載の装置。
１９．前記画像を分析して前記界面の１つ又は複数の空隙の画像から前記データを得るように構成された画像アナライザをさらに備える、条項１８に記載の装置。
２０．前記装置の動作を制御するように構成され、前記予想終了時間から決定される１つ又は複数の開始時間に１つ又は複数の別の処理ステップを開始するように配置されるコントローラをさらに備える、条項１５から１９のいずれか１項に記載の装置。
２１．前記インプリント可能な液体媒体がＵＶ硬化性の媒体であり、前記１つ又は複数の別の処理ステップが照明期間にわたって前記ＵＶ硬化性の媒体をＵＶ放射で照明するステップを含む、条項２０に記載の装置。
２２．前記ＵＶ硬化性のインプリント可能な液体媒体の照明ステップが、前記予想終了時間に先立って開始する、条項２１に記載の装置。
２３．前記予想終了時間から決定される１つ又は複数の開始時間に１つ又は複数の別の処理ステップを開始するように配置される、条項１５から２２のいずれか１項に記載の装置のコントローラ。
【図１】
2011082514.tif 000003
【図２ａ】
2011082514.tif 000004
【図２ｂ】
2011082514.tif 000005
【図２ｃ】
2011082514.tif 000006
【図３】
2011082514.tif 000007
【図４】
2011082514.tif 000008
【図５】
2011082514.tif 000009
【図６】
2011082514.tif 000010
【外国語明細書】
2011082514000001.pdf