(57)【要約】【課題】基板を回転させながら基板に対して液処理するにあたり、カップ内の排気量を抑えながら、カップからのミストの跳ね返りを抑制し、基板へのミストの付着を低減できる液処理装置及び液処理方法を提供すること。【解決手段】ウエハＷへのレジストの吐出を行っている間に、流路形成部材５０から外側カップ４２の内壁面を伝うように、洗浄液を吐出させ、外側カップ４２の内壁に洗浄液の液膜を形成させる。ウエハＷから振り切られたレジストは洗浄液の液膜により捕捉される。レジストを捕捉した洗浄液は、外側カップ４２の底部に設けられた樋部５３に回収され、再び流路形成部材５０から外側カップ４２の内壁面へ吐出される。【選択図】図１１
2011086826.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板保持部に水平に保持された基板にノズルから処理液を供給して処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板を囲むカップと、
前記カップの下方側から当該カップ内の雰囲気を吸引排気するための吸引排気部と、
前記基板を回転させて処理液が当該基板から振り切られるときに、当該処理液のミストを捕捉するためのミスト捕捉液を、前記基板と同じ高さかそれよりも高い位置から前記カップの内周面に供給するために前記カップの周方向に沿って設けられたミスト捕捉液の供給口と、を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記ミスト捕捉液の供給口は、ミスト捕捉液の吐出の向きが基板の回転と同じ向きとなるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記ミスト捕捉液の供給口からのミスト捕捉液の供給量を調整するための供給量調整部と、
前記基板の回転数に応じて捕捉液の供給量を設定したデータを記憶する記憶部と、
前記データから基板の回転数に応じた供給量を読み出し、この供給量となるように前記供給量調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記ミスト捕捉液は、基板を洗浄するための洗浄液であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記供給口よりも下方側に設けられ、前記前記ミスト捕捉液を回収するための回収部と、この回収部にて回収した前記ミスト捕捉液を前記供給口に循環させる循環部と、を備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項６】
基板保持部に水平に保持された基板に処理液を供給して処理を行う液処理方法において、
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次に、基板保持部を鉛直軸回りに回転させると共に当該基板にノズルから処理液を供給する工程と、
前記基板保持部に保持された基板を囲むカップ内の雰囲気を吸引排気する工程と、
前記基板を回転させて処理液が当該基板から振り切られるときに、当該処理液のミストを捕捉するためのミスト捕捉液を、前記基板と同じ高さかそれよりも高い位置にてカップの周方向に沿って設けられた供給口から前記カップの内周面に供給し、処理液のミストを捕捉する工程と、を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項７】
基板保持部に水平に保持された基板にノズルから処理液を供給して処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項６に記載の液処理方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルから例えば半導体ウエハ等の基板に処理液を供給すると共に基板を回転させながら液処理を行う技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程の中には、基板に処理液を供給すると共に基板を回転させながら液処理を行う工程がある。具体的には、例えばレジスト液をスピンコーティングにより基板へ供給する工程、基板の表面にレジスト膜が形成された後、基板の周縁部のレジストを除去するために溶剤を供給する工程、基板の現像処理後に基板を洗浄液により洗浄する工程、基板の表面を例えばパーティクルの除去のために洗浄する工程等が挙げられる。なお、洗浄工程の場合には、洗浄液が処理液となる。
【０００３】
これらの処理は、例えば図１７に示すようにウエハＷを吸着保持するスピンチャック１１と、このスピンチャック１１を回転させる回転駆動部１２と、ウエハＷに処理液を供給するための処理液ノズル１３と、前記スピンチャック１１の周囲を取り囲み、下部に廃液路１４、排気管１５が接続されたカップ２０と、を備えている。また、カップ２０の上方にはファンフィルタユニット（ＦＦＵ）１６が設けられ、当該ＦＦＵ１６からの気体の供給と排気管１５からの吸引排気とが相俟って、カップ２０内に下降気流が形成される。
【０００４】
前記排気管１５は工場排気に接続され、カップ２０の雰囲気を排気することができるが、環境への配慮等から排気量をできるだけ抑えることが要請されている。しかし、カップ２０内の排気量が不十分な場合には、カップ２０内の下降気流が逆流し、処理液のミストがウエハＷの表面に付着してパーティクルとなる問題がある。
また、ウエハＷが大口径化する傾向にあり、これに伴ってウエハＷの周速度が大きくなることから、カップ２０内における逆流が起こりやすくなる。
【０００５】
一方、特許文献１及び２には、カップの内壁面に洗浄液を吐出する吐出口を設け、当該内壁面に沿って洗浄液を流して、カップ内を洗浄する装置が掲載されている。しかし、これら装置は、カップの排気量の低減が求められる課題については明言されておらず。また基板への液処理後に洗浄を行うため、洗浄している間は次のウエハを液処理することができないことから、ウエハの製造効率の向上にはあまり寄与するとは考えられない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平４−２００６７３号公報
【特許文献２】特開平５ー２５１３２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、その目的は、基板を回転させながら基板に対して液処理するにあたり、カップ内の排気量を抑えながら、カップからのミストの跳ね返りを抑制し、基板へのミストの付着を低減できる液処理装置及び液処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る液処理装置は、
基板保持部に水平に保持された基板にノズルから処理液を供給して処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板を囲むカップと、
前記カップの下方側から当該カップ内の雰囲気を吸引排気するための吸引排気部と、
前記基板を回転させて処理液が当該基板から振り切られるときに、当該処理液のミストを捕捉するためのミスト捕捉液を、前記基板と同じ高さかそれよりも高い位置から前記カップの内周面に供給するために前記カップの周方向に沿って設けられたミスト捕捉液の供給口と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、前記液処理装置は以下の構成を取っても良い。
１．前記ミスト捕捉液の供給口は、ミスト捕捉液の吐出の向きが基板の回転と同じ向きである。
２．前記ミスト捕捉液の供給口からのミスト捕捉液の供給量を調整するための供給量調整部と、
前記基板の回転数に応じて捕捉液の供給量を設定したデータを記憶する記憶部と、
前記データから基板の回転数に応じた供給量を読み出し、この供給量となるように前記供給量調整部を制御する制御部と、を備えた構成。
３．前記ミスト捕捉液は、基板を洗浄するための洗浄液である。
４．前記供給口よりも下方側に設けられ、前記前記ミスト捕捉液を回収するための回収部と、この回収部にて回収した前記ミスト捕捉液を前記供給口に循環させる循環部と、を備えた構成。
【００１０】
また、本発明に係る液処理方法は、
基板保持部に水平に保持された基板に処理液を供給して処理を行う液処理方法において、
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次に、基板保持部を鉛直軸回りに回転させると共に当該基板にノズルから処理液を供給する工程と、
前記基板保持部に保持された基板を囲むカップ内の雰囲気を吸引排気する工程と、
前記基板を回転させて処理液が当該基板から振り切られるときに、当該処理液のミストを捕捉するためのミスト捕捉液を、前記基板と同じ高さかそれよりも高い位置にてカップの周方向に沿って設けられた供給口から前記カップの内周面に供給し、処理液のミストを捕捉する工程と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、基板を回転させて処理液が当該基板から振り切られるときに、ミスト捕捉液をカップの内周面に供給してこの捕捉液に処理液のミストを捕捉しているため、基板から飛散してカップ内壁に衝突したミストの反射が抑えられる。カップ内壁にてミストが反射しても、カップ内の雰囲気の吸引排気量を大きくすれば、カップ内から逆流するミスト量が抑えられるが、本発明によれば、カップ内の雰囲気の吸引排気量を抑えながらカップ外へのミストの飛散を低減することができる。このようにカップ内の雰囲気の吸引排気量を小さくできることから、工場内において処理装置に対する排気容量の割り当てが小さくなる状況に対応できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態に係るレジスト塗布装置の縦断面図である。
【図２】前記レジスト塗布装置の外側カップとウエハとの位置関係を説明する説明図である。
【図３】前記レジスト塗布装置の外側カップの斜視図である。
【図４】流路形成部材と外側カップとの関係を示す斜視図である。
【図５】洗浄液吐出口を示す正面図及び斜視図である。
【図６】洗浄液循環部の構成を模式的に示した模式図である。
【図７】前記レジスト塗布装置を制御する制御部の構成を示した構成図である。
【図８】ウエハの塗布レシピと洗浄液の吐出量との対応関係を示したグラフである。
【図９】ウエハの回転数と洗浄液の吐出量との関係を示した表である。
【図１０】洗浄液吐出口より洗浄液が吐出されている様子を説明する説明図である。
【図１１】ウエハより振り切られたレジストミストが洗浄液により捕捉される様子を説明する説明図である。
【図１２】ウエハより振り切られたリンス液が洗浄液により捕捉される様子を説明する説明図である。
【図１３】ミストの飛散量と洗浄液の吐出量との相関関係を示した相関図である。
【図１４】他の実施の形態に係るレジスト塗布装置の洗浄液吐出口を模式的に示した模式図である。
【図１５】他の実施の形態に係るレジスト塗布装置の洗浄液吐出口を模式的に示した模式図である。
【図１６】前記洗浄液吐出口より洗浄液が吐出される様子を模式的に示す模式図である。
【図１７】従来のレジスト塗布装置の縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係る液処理装置をレジスト塗布装置に適用した実施形態について説明する。図１に示すようにレジスト塗布装置は、真空吸着することによりウエハＷを水平に保持するスピンチャック３１を備えている。このスピンチャック３１は下方より接続された回転駆動部３２により昇降可能であり、鉛直軸回りに回転することが可能である。前記スピンチャック３１の周囲を取り囲むようにしてカップ４０が設けられ、当該カップ４０は内側カップ４１と、外側カップ４２と、から構成されている。
【００１４】
前記内側カップ４１は、スピンチャック３１に保持されたウエハＷの下方に位置し、ウエハＷの裏面側周縁部と近接して対向する位置から外側下方へ傾斜した環状のガイド部４１ａと、このガイド部４１ａの内周縁に連続し、中央部がスピンチャック３１により貫通された水平な円板部４１ｂと、から構成される。前記ガイド部４１ａはウエハＷよりこぼれ落ちたレジスト液が流れ落ちるのをガイド（案内）する役割を有している。前記外側カップ４２は、内側カップ４１の外側を取り囲んで設けられ、その上縁がスピンチャック３１に保持されたウエハＷと同じか概ね低い位置に設定された円筒部４２ａと、この円筒部４２ａの上縁から内側上方へ向けて斜めに伸びだした傾斜壁４２ｂと、を備えている。
【００１５】
前記内側カップ４１の外壁面と外側カップ４２の内壁面とで囲まれる環状空間は環状流路４４として形成される。この環状流路４４は、カップ４０の内部を流れる下降気流や、回転しているウエハＷより振り切られたレジストや洗浄液が流れる流路となる。
外側カップ４２の底部には、後述する樋部５３が設けられ、当該樋部５３に隣接して下方より廃液路３４が接続されている。また、前記廃液路３４よりスピンチャック３１寄りの位置に２本の排気管３５が突入する形で設けられ、排気管３５の側壁によって気体と液体とを分離することが可能となる。前記樋部５３をあふれた液は廃液路３４より廃液される。前記排気管３５は、下流にて夫々合流し、図示しないダンパを介して例えば工場の排気ダクトに接続されている。
【００１６】
ここで外側カップ４２の傾斜壁４２ｂからスピンチャック３１に保持されたウエハＷの周縁部までの水平方向の距離に関して述べる。図２（ａ）に示すようにウエハＷの半径をｒ（ｍｍ）、スピンチャック３１の中心点から水平に伸びだした直線上における傾斜壁４２ｂと交わる点までの距離をＲ（ｍｍ）とし、ウエハＷの接線と、この接線と傾斜壁４２ｂとの交点に形成される接線との成す角度をθとすると、角度θは式θ＝COS−１（ｒ／R）で示すことができる。この角度θを小さくしたほうがレジストが外側カップ４２から反射し難いことから、上記の計算式より距離Ｒが半径ｒに近い値となる方が良い。即ち、角度の観点からは、ウエハＷの周縁から傾斜壁４２ｂまでの距離が近い方がよい。しかし、距離の観点からは、当該距離が近すぎた場合に、ウエハＷより飛散したレジストミストが外側カップ４２より跳ね返って、ウエハＷに付着してしまう。従って、スピンチャック３１に保持されたウエハＷの表面の周縁から傾斜壁４２ｂまでの水平方向の距離は、角度の観点及び距離の観点から液の跳ね返りの少ない距離例えば１０〜５０ｍｍに設定されている。
【００１７】
また、図２（ｂ）よりウエハＷより飛散するレジスト液の進行方向と傾斜壁４２ｂとが垂直面上で成す角度をφとすると、飛散するレジスト液の運動をベクトルで表した場合、水平面に沿って、傾斜壁４２ｂに角度θで入射するベクトルの反射ベクトルと、垂直面に沿って、傾斜壁４２ｂに角度φで入射するベクトルの反射ベクトルとの合成ベクトルとしてレジスト液が傾斜壁４２ｂにて跳ね返る。即ちレジスト液は斜め下向きに跳ね返る。従って、レジスト液の反射を抑制するため、この実施の形態では例えば角度θが３８度、角度φが３０度に設定されている。
前記内側カップ４１、外側カップ４２は、親水性の素材例えばステンレスから構成されるか、あるいは夫々の樹脂カップ４１、４２の表面には親水性材料により被膜が形成されている。これによりカップ４１、４２の表面には、飛散したレジスト液が付着し難くなっている。
【００１８】
前記外側カップ４２の傾斜壁４２ｂには、図４に示すように貫通孔５１が周方向に沿って複数形成されている。傾斜壁４２ｂの内側の面（下方側の面）には、貫通孔５１毎に図５に示すように基端側から先端側に広がる湾曲状のガイドカバー部５１ａが設けられ、貫通孔５１はガイドカバー部５１ａ内の基端部に開口している。ガイドカバー部５１ａの先端側の開口部は、後述の洗浄液の吐出口５１ｂに相当し、この吐出口５１ｂは、ウエハＷの回転方向と同じ向きに形成されている。一方、傾斜壁４２ｂの外面には、貫通孔５１の並びに沿って当該貫通孔５１を覆うように流路形成部材５０が設けられている。この流路形成部材５０内には、外側カップ４２の周方向に伸びる環状の流路５０ａが形成され、前記貫通孔５１は当該流路５０ａに開口している。従って、流路５０ａ内に供給された後述の洗浄液は貫通孔５１を介して傾斜壁４２ｂの内面側に吐出され、更にガイドカバー部５１ａにガイドされて横向きに吐出される。ガイドカバー部５１ａの開口部５１ｂをウエハＷの回転方向と同じ方向へ向けて形成し、当該開口部５１ｂより洗浄液を流す理由は、ウエハＷより飛散したレジストミストの速度と洗浄液の吐出速度との相対速度が小さくなって、洗浄液にレジストミストが捕捉されやすくなるためである。
【００１９】
前記流路形成部材５０には、図４に示すように洗浄液を供給するための供給管５２が接続され、この供給管５２は、塗布装置本体の外装部である筐体８０の外部へ引き出されている。図１では供給管５２は、流路形成部材５０に便宜上１箇所接続した構成として表しているが、例えば外側カップ４２の直径方向に互いに対向した２箇所に接続してもよいし、３箇所以上で接続していてもよい。
また、図１及び図３に示すように、外側カップ４２の底部の内壁には、上方よりカップ４０の壁面を伝って流れてきた洗浄液を受け止め、回収するために、周方向に沿って樋部５３が設けられている。樋部５３には下方より回収管５４の一端が接続され、当該回収管５４の他端は筐体８０の外部へ引き出され、バッファタンク６５に接続されている。
【００２０】
供給管５２の説明に戻って、この供給管５２は切り替えバルブ６１により上流側が分岐管５２ａと分岐管６６ｂとに分岐されている。前記供給管５２における切り替えバルブ６１の下流側には、上流側からポンプ６２と、フィルタ６３と、エアーオペレートバルブ６４と、がこの順に設けられている。前記ポンプ６２は、後述の制御部により制御されており、洗浄液の流量を、ウエハＷの回転数を含む塗布レシピに基づいて調整する役割を有している。前記フィルタ６３の一次側には、エアー抜き用の配管６６ｃがバッファタンク６５の気相部に接続されている。
【００２１】
分岐管６６ｂの上流側は、洗浄液供給源である洗浄液タンク６０に接続されている。洗浄液供給源６０内の洗浄液は、カップ２０内を洗浄するための溶剤（シンナー）であって、ミスト捕捉液の機能を有している。即ちこの例ではミスト捕捉液が洗浄液を兼用しているということができる。この洗浄液供給源６０にはバルブＶ１が配設された配管６６ａを介して加圧ガス供給源６７が接続されている。
分岐管５２ａの下流側は、洗浄液を一時的に貯留するバッファタンク６５に接続されている。バッファタンク６５にはバルブＶ３が配設された配管６６ｄを介して廃液部６８が接続され、また既述の回収管５４が接続されている。更にまた、バッファタンク６５内には液面検出計６５ａが設けられている。
【００２２】
ここで、切り替えバルブ６１は後述する制御部により流路の切り替えが行われ、洗浄液を循環するときにはバッファタンク６５側に切り替わると共に、液面検出計６５ａの液面検出レベルが設定レベルを下回ったときには、洗浄液供給源６０側に切り替わり、カップ４０へ新しい洗浄液が供給される。
図１に戻って、内側カップ４１のガイド部４１ａには、ベベル洗浄ノズル７１が嵌め込まれて設けられ、このベベル洗浄ノズル７１は洗浄液を吐出するための吐出口７１ａがウエハＷの裏面周縁部を向くように形成されている。ベベル洗浄ノズル７１は図示しない配管を介してリンス液供給源に接続されている。
【００２３】
前記カップ４０は筐体８０に収納されており、この筐体８０の側壁には、シャッター８２により開閉され、図示しない搬送アームを介してウエハＷを搬出入するための搬出入口８１が設けられている。前記筐体８０内の上部にファンフィルタユニット（ＦＦＵ）８３が設けられ、このＦＦＵ８３は上方より接続された配管８４を介して清浄気体例えばクリーンエアーを筐体８０内に供給して下降気流を形成する役割を持つ。また、筐体８０の底部には当該筐体８０内の雰囲気を吸引排気するための排気路８５が設けられている。前記ＦＦＵ８３からの下降気流と、既述のカップ４０の排気管３５及び排気管８５とによる吸引排気とが相俟って筐体８０内及びカップ４０内に下降気流が形成される。
【００２４】
筐体８０内には、カップ４０の上方にレジストを吐出するレジストノズル７２及びプリウェット液である溶剤を吐出する溶剤ノズル７３が設けられている。これらノズルは夫々供給管７２ａ、７３ａを介してレジスト供給源７４及び溶剤供給源７５へ接続されると共に、ウエハＷの上方の所定位置とカップ４０の側方の待機位置との間で図示しない搬送アームにより移動できるように構成されている。
【００２５】
図７は制御部９０を模式的に示したものであり、制御部９０は、例えば中央演算処理装置（ＣＰＵ）９１と、レジスト塗布装置を動作させるプログラム９２と、記憶部９３と、データバス９４とを含むコンピュータからなる。このコンピュータには、本発明の実施形態に係る液処理装置の動作を行うためのプログラムが、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリカード等の記憶媒体を介してインストールされている。前記制御部９０には、回転駆動部３２、レジスト供給系９５、洗浄液供給系９６等が接続している。洗浄液供給系９６は図６に示す洗浄液供給のための機器群を指しており、例えばポンプ６２、切り替えバルブ６１及び液面検出計６５ａ等が相当する。前記記憶部９３には、塗布レシピ毎に、ウエハＷの回転数データ、洗浄液の吐出データ、レジスト液の吐出データが記憶されている。例えばプログラム９２がレシピ１のデータを取得すると、これに伴ってウエハＷの回転数データ、洗浄液の吐出データ、レジスト液の吐出データを取得でき、これらデータに基づいて回転駆動部３２、レジスト供給系９５、洗浄液供給系９６を制御する。
【００２６】
次に、上述の実施の形態の作用を説明する。図８は塗布レシピの一例を示したものであり、図９はウエハＷの回転数と洗浄液の吐出量との関係の一例を示したものである。先ず、図示しない搬送アームを用いてウエハＷを搬出入口８１より筐体８０内に搬入し、例えば回転駆動部３２に組み合わされた図示しない昇降部によりスピンチャック３１を上昇させ、当該スピンチャック３１にウエハＷを載置して、真空吸着させる。その後、スピンチャック３１は下降してウエハＷは、カップ４０の内部に収められる。なお、ウエハＷのスピンチャック３１に対する受け渡しは図示しない昇降ピンにより行うようにしてもよい。このとき、カップ４０内には前述の下降気流が形成されており、この下降気流は環状流路を流れ、排気管３５より排気される。
【００２７】
次に、外側カップ４２の内壁面へ洗浄液の供給を行う（図８の時刻ｔ０）。具体的には、バッファタンク６５に洗浄液が貯留され、設定された液面レベルを上回っている状態であるとすると、切り替えバルブ６１がバッファタンク６５側に切り替わっており、洗浄液はバッファタンク６５からポンプ６２を介して流路形成部材５０内に例えば３００ｃｃ／ｍｉｎで送られ、カップ４０内の周方向に並ぶ貫通孔５１より外側カップ４２の内壁面へ吐出される。このとき、図１０の例では吐出口５１ｂはウエハＷの回転方向である右方向を向いているため、洗浄液は内壁面を伝って、右斜め下方へ流れていく。そして、洗浄液は外側カップ４２の下方へ向かうにつれて、隣接する吐出口５１ｂから吐出された洗浄液と合流し、外側カップ４２の全周に亘って、洗浄液の液膜が形成されることになる。外側カップ４２の底部へ流れてきた洗浄液は、樋部５３に受け止められて、回収管５４を介してカップ４０の外部のバッファタンク６５へ一旦貯留される。また、樋部５３からあふれ出た洗浄液は、廃液管３４よりカップ４０の外部へ排出される。
【００２８】
続いて、スピンチャック３１によりウエハＷを例えば３０００ｒｐｍの回転数で回転させる（図８の時刻ｔ１）。この回転するウエハＷにより気流が発生し、当該気流は内側カップ４１と外側カップ４２との間に形成される環状流路４４を流れ、排気管３５よりカップ４０の外部へ排出される。なお、図示しない移動機構により、予めウエハＷの中心部上方の位置に移動させておいた溶剤ノズル７３から、ウエハＷの回転開始直前にてウエハＷへ例えばシンナーを供給し、当該ウエハＷの表面を濡らすプリウェットを行う。その後、溶剤ノズル７３を待機位置へ退避させると同時にレジストノズル７２をウエハＷの中心部上方の位置へ移動させる。
【００２９】
そして、レジストノズル７２よりウエハＷの中央部へレジストの吐出を行う。吐出されたレジストは、ウエハＷの回転による遠心力により中心部から周縁部へ向けて伸展されていくと共に余分なレジストはウエハＷの表面から振り切られ、外側カップ４２の内壁面を流れる洗浄液に捕捉されて樋部５３よりカップ４０の外部へ排出される。更にまた、ミストとなったレジストの一部は、前述の下降気流に乗って環状流路４４を流れ、排気管３５よりカップ４０の外部へ排出されるが、レジストミストの大部分は、図１１に示すように外側カップ４２に衝突する。このとき外側カップ４２に形成された吐出口５１ｂは、ウエハＷの回転方向と同じ方向を向いて形成されていることから、洗浄液はウエハＷの回転方向と同じ方向に流れる。このため、洗浄液とウエハＷから飛散したレジストミストとの相対速度が小さくなり、レジストミストは洗浄液に捕捉されやすい。洗浄液に捕捉されたレジストのミストは、洗浄液と共に外側カップ４２の内壁面を伝って、樋部５３よりカップ４０の外部へ排出される。
【００３０】
レジストミストを捕捉した洗浄液は、既述のようにバッファタンク６５に一時的に貯留されて、切り替えバルブ６１、ポンプ６２の順に流れ、フィルタ６３にてパーティクルや気泡を取り除かれた後に、エアーオペレートバルブ６４を介して流路形成部材５０より再び外側カップ４２の内壁面に供給される。つまり、洗浄液は、外側カップ４２の内壁面にてレジストミストを捕捉した後、回収されて、パーティクル等が取り除かれ、再びレジストミストを捕捉するために、外側カップ４２の内壁面に供給されることが繰り返される。
【００３１】
レジスト塗布処理の終了後、レジストノズル７３を待機位置へ退避させると共に、ウエハＷの回転数を１００ｒｐｍまで減速する（図８の時刻ｔ２）。このときウエハＷの回転数が低いため、ウエハＷの表面のレジストの液膜の平坦性が確保される。このときもレジストミストが発生するが、ウエハＷの回転数が高い状態に比べ、レジストミストの発生が少なく、飛散するレジストミストの速度も遅いため、洗浄液の吐出量は制御部によりレシピに記載された吐出量例えば１００ｃｃ／ｍｉｎに設定され、当該レジストミストの捕捉を行っている。
【００３２】
次に、レシピに従ってウエハＷの回転数を１０００ｒｐｍまで上昇させ、洗浄液の吐出量を２００ｃｃ／ｍｉｎに設定する（図８の時刻ｔ３）。この状態で所定の時間例えば２０秒間程度、レジスト膜厚を調整すると共にレジストを乾燥させてレジスト膜を形成する。洗浄液の吐出は、レジストの吐出停止後、引き続き例えば５秒間行われ、図８の時刻ｔ３’にて洗浄液の吐出を停止する。
その後、ベベル洗浄ノズル７１よりウエハＷの裏面周縁部へリンス液である溶剤の吐出を行う（図８の時刻ｔ４）。このリンス液の吐出は例えば５秒間行なわれ、ウエハＷの裏面周縁部のレジストが洗浄される。また、図１２に示すように回転しているウエハＷよりリンス液が振り切られるが、予めリンス液の吐出前例えば５秒前（図８の時刻ｔ４’）にて、流路形成部材５０より外側カップ４２の内壁面に洗浄液を流し、洗浄液の液膜を形成していることから、既述のように洗浄液の液膜にリンス液のミストが捕捉される。このときの洗浄液の吐出量は、例えば２００ｃｃ／ｍｉｎである。
【００３３】
次に、ウエハＷの回転数を２５００ｒｐｍまで上昇させて、ウエハＷよりリンス液の振り切り工程を行う（図８の時刻ｔ５）。この振り切り工程は例えば５秒間行われ、洗浄液の吐出量は例えば３００ｃｃ／ｍｉｎに設定される。そして、ウエハＷの回転数を１０００ｒｐｍとし（図８のｔ６）、ウエハＷを所定の時間回転し続けて、乾燥を行う。その後、ウエハＷの回転を停止して（図８のｔ７）、既述のウエハＷの搬入時とは逆の手順で搬送アームにウエハＷが受け渡され、レジスト塗布装置から搬出される。
洗浄液の供給は、流路形成部材５０より外側カップ４２の内壁面に供給したものを再利用しているが、循環している洗浄液が時間の経過に伴って揮発し、循環している洗浄液の量が少なくなったとき、具体的には液面検出計６５ａの検出する液面レベルが設定された液面レベルを下回ったときに、切り替えバルブ６１により流路が洗浄液供給源６０側と接続し、洗浄液供給源６０から新しい洗浄液の供給が行われる。
【００３４】
また、上述のように塗布レシピ中に塗布液を塗布している間だけ（塗布前後の短時間を含む）、洗浄液を吐出する代わりに、上述のレシピにおける洗浄液の吐出量とウエハの回転数との関係は図９のテーブルに示すように設定されており、ウエハＷの回転数が０ｒｐｍのときには、洗浄液を５０ｃｃ／ｍｉｎ吐出させているが、洗浄液の吐出を停止してもよい。
ここで、図１３は洗浄液の量とミストの飛散量との関係をウエハＷの回転数毎に示した図である。この図１３より、ウエハＷの回転数を大きくする毎にミストの飛散を抑制するための洗浄液の量が増加することが分かる。また、ウエハＷの回転数が大きく、洗浄液の量が少ない場合にはミストの飛散量が増加することが分かる。更にまた、各回転数毎に洗浄液の量を増加させると、ミストの飛散量が減少することが分かる。従って、これらの特性を考慮して、既述のように洗浄液の吐出量を調整している。なお、処理液を使用する時間が短いレシピの場合、洗浄液の吐出量は、必ずしもウエハＷの回転数に応じて調整しなくても良い。
【００３５】
上述の実施の形態によれば、ウエハＷを回転させてレジスト液が当該ウエハＷから振り切られるときに、洗浄液をカップ４０の内周面に供給してこの洗浄液にレジスト液のミストを捕捉しているため、ウエハＷから飛散してカップ４０内壁に衝突したミストの反射が抑えられる。カップ４０内壁にてミストが反射しても、カップ４０内の雰囲気の吸引排気量を大きくすれば、カップ４０内から逆流するミスト量が抑えられるが、カップ内の雰囲気の吸引排気量を抑えながら、カップ４０外へのミストの飛散を低減することができる。このようにカップ４０内の雰囲気の吸引排気量を小さくできることから、工場内において処理装置に対する排気容量の割り当てが小さくなる状況に対応できるという効果がある。
【００３６】
更に上述の実施形態は、以下のような利点がある。  
レジストミストを捕捉した洗浄液は、樋部５３より回収され、再利用されるため、洗浄液の使用量を低減することができる。  
また、洗浄液を吐出するポンプ６２は、ウエハＷの回転数に応じて洗浄液の吐出量が制御されているため、ポンプ６２の省電力化を図りながら、飛散するレジストミストの捕捉を効率的に行うことができる。また、ウエハＷに対する液処理とカップ４０の洗浄処理を同時に行うことができるため、スループットの向上を図ることができる。
【００３７】
上述の実施の形態ではプロセスレシピに洗浄液の吐出量が書き込まれ、ＣＰＵがレシピを読み出すことによりタイミングに応じた（結果としてウエハＷの回転数に応じた）洗浄液の吐出量が設定されることになるが、既述のようにウエハＷの回転数と洗浄液の吐出量とを対応させたテーブルを用意し、ＣＰＵがこのテーブルからウエハＷの回転数に応じた洗浄液の吐出量を読み出すようにしてもよい。  
ミスト捕捉液は洗浄液を用いることに限られないが、既述のように洗浄液を兼用することがカップ４０内の洗浄を同時に行えることから好ましい。また、本発明はレジスト塗布装置に限られず背景の項目で記載したように、現像装置、洗浄装置に用いても良い。
【００３８】
以上において、本発明は、「ミスト捕捉液を、ウエハＷと同じ高さかそれよりも高い位置からカップ４０の内周面に供給する」ことが必要であるが捕捉液の供給口５１ｂをウエハＷの表面よりも低い位置にて例えば斜め上方側に捕捉液を吐出するように構成し、その結果捕捉液がウエハＷの表面と同じ高さかそれよりも高い位置に到着する場合であっても、上記のカギカッコ内の意味に含まれる、即ち本発明の技術的範囲に含まれることになる。
【００３９】
次に上述の実施の形態の変形例について説明する。図１４の例は、前記外側カップ４２の内壁面を、山の部分と谷の部分とが縦方向に並行状に伸び、これにより周方向に山の部分と谷の部分とが繰り返される波形状に形成している。この内壁面の表面には、洗浄液吐出口１１１がその吐出口を開く形で設けられている。そして、洗浄液吐出口１１１より吐出された洗浄液は、山の頂部と山の頂部との間Ｓ、即ち互いに隣接する波の高い部分の間Ｓを流れていく。従って、洗浄液の積極的な流れができるため、粘性が高いレジストを速やかに押し流すことができるという利点がある。
【００４０】
図１５の例は、外側カップ４２の内壁面の周方向に沿って溝部１２０を形成し、こうして環状に形成された溝部１２０内に例えば等間隔に複数の洗浄液吐出口１２１を設けている。この洗浄液吐出口１２１は、ウエハＷの回転方向例えば右方向を向いて形成されている。従って、洗浄液吐出口１２１より吐出された洗浄液は、図１６に示すように溝部１２０内をウエハＷの回転方向へガイドされながら溢れ出して内壁面を伝って下方へ流れていく。このため洗浄液吐出口１２１の高さレベルにおいて既に幅広の液膜が形成されているので、内壁面全体に液膜が形成されやすくなる。
【符号の説明】
【００４１】
Ｗ          ウエハ
３１        スピンチャック
３２        回転駆動部
３５        排気管
４０        カップ
４１        内側カップ
４２        外側カップ
４２ａ      円筒部
４２ｂ      傾斜壁
４４        環状流路
５０        流路形成部材
５１        貫通孔
５３        樋部
６２        ポンプ
９０        制御部
９３        記憶部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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