(57)【要約】【課題】粉末及び造形物を積載している基板をテーブル面上に上下方向空間を形成した状態にて容易に設置することができる三次元造形製品の製造装置の構成を提供すること。【解決手段】粉末１２及び造形物１３を基板３上に積載する三次元造形製品の製造装置において、テーブル２上に枠体７を立設し、当該枠体７から水平方向に突接した支柱及び／又は当該枠体７におけるテーブル２の内側方向を低部とする段差部位の上に、基板３を載置すると共に、当該載置が行われる前記支柱及び／又は前記段差部位の領域内における３個の位置による三角形又は４個の位置による四角形の内側に基板３の重心が存在するような配置状態による支持が可能である一方、支柱の上側方向に突出している突部及び／又は枠体７の内壁を基板３の水平方向周囲部に３個以上の位置から当接させることによって、前記課題を達成し得る三次元造形製品の製造装置。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
造形タンク内にて上下方向に移動可能なテーブルの上側に位置し、上側に隣接している粉末が焼結によって固化した際、当該粉末と接着し得る素材を少なくとも表面部分にて有している基板及び前記テーブルの上側にて金属又は非金属の粉末を撒布し、かつ当該撒布された粉末の上側表面を平坦化したうえで、最上位に位置している造形対象となる領域に、電磁波又は電子線を所定の厚さの層に沿って照射することによって焼結層を形成した後、当該焼結が行われた端部及び／又は上面に対する切削によって成形を行う工程を順次反復している三次元造形製品の製造装置において、テーブル上に枠体を立設し、当該枠体から水平方向に突接した支柱及び／又は当該枠体におけるテーブルの内側方向を低部とする段差部位の上に、基板を載置すると共に、当該載置が行われる前記支柱及び／又は前記段差部位の領域内における３個の位置による三角形又は４個の位置による四角形の内側に基板の重心が存在するような配置状態による支持が可能である一方、支柱において少なくとも上側方向に突出している突部及び／又は枠体の内壁を基板の水平方向周囲部に当接させると共に、当該当接を行う領域においては、相互に隣接し合う３個以上の当接位置からの法線同士の交差角度が何れも１８０度よりも小さい状態であるような状態が必ず実現していることによって基板の水平方向の移動を阻止している三次元造形製品の製造装置。
【請求項２】
基板を２本以上の支柱上のみに載置し、かつ基板の水平方向周囲部を２個以上の突部に当接していることを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項３】
円形状の基板を２本以上の支柱に載置し、かつ突部の当接面が前記円形に沿った円弧状を呈していることを特徴とする請求項２記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項４】
矩形状の基板を３本以上の支柱に載置し、かつ支柱の長手方向に直交している当接面を有する突部が、矩形辺に当接するか、又は前記長手方向と部分的に直交しかつ部分的に平行状態である当接面を有する突部が矩形状の角部に当接していることを特徴とする請求項２記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項５】
矩形状の基板を相互に向い合いかつ接続した状態にある４本以上の支柱に載置し、基板の水平方向周囲部の４辺を突部及び内壁の双方に当接するか、又は内壁のみに当接することを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項６】
矩形状の基板を支柱及び段差部位上に載置し、かつ基板の水平方向周囲部を突部及び枠体の内壁に当接させていることを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項７】
水平方向周囲部の１辺及びその内側近傍を段差部位上に載置し、前記１辺と相向い合う他の１辺及びその内側近傍を支柱に載置しており、かつ前記他の１辺を当接面が前記支柱の長手方向と平行状態にある突部に当接しており、他の３辺を突部又は枠体の内壁に当接していることを特徴とする請求項６記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項８】
矩形状の基板の相向かい合う２辺及びその内側近傍、又は合い向かい合う４辺及びその内側近傍を段差部位に載置し、水平方向周囲部の４辺が枠体の内壁に当接していることを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項９】
枠体の下端において支柱の突設方向及びその反対側に両側脚部を突設し、当該両側脚部にそれぞれ挿通用孔を設ける一方、テーブルにおいても各支柱の突設方向によって複数個の挿通用孔を設け、双方の挿通用孔に対し、止着用杵又は止着用ボルトを挿貫し、当該挿貫する位置を選択することによって、各枠体を固定する位置を調整しかつ選択し得る請求項８記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１０】
基板の水平方向周囲部に対する当接面が支柱の長手方向と直交しているか又は直交している部分を含む突部につき、当該支柱に沿って固定及び移動の何れをも選択可能であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１１】
支柱としてボルトを採用し、突部としてナットを採用することを特徴とする請求項１０記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１２】
突部として支柱の長手方向に摺動自在の鍔部を採用し、鍔部においては、前記長手方向と直交する方向に固定用ボルトを螺合しており、しかも当該ボルトの先端が前記長手方向周囲部と当接し得ることを特徴とする請求項１０記載の三次元造形製品の製造設置。
【請求項１３】
基板の水平方向周囲部に対する当接面が当該支柱と平行状態であるか、又は部分的に直交しかつ部分的に平行状態である突部を中途部位に係着している支柱につき、枠体に対し、固定及び移動の何れをも選択可能としたうえで前記枠体を挿貫していることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１４】
ボルトを枠体に螺合していることを特徴とする請求項１３記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１５】
支柱を枠体及び当該枠体の水平方向突出部に対し摺動自在としたうえで、当該水平方向突出部においては、支柱の長手方向と直交する方向に固定用ボルトを螺合しており、しかも当該ボルトの先端が前記長手方向周囲部と当接し得ることを特徴としている請求項１３記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１６】
支柱のうち、基板の水平方向周囲部が当接していない側の領域及び前記水平方向周囲部が当接していない枠体に対し、粉末支持板を架設していることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１７】
テーブルにおいて、枠体を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ当該傾斜状態の下端部の位置において、焼結されなかった粉末を排出するための排出穴を設けていることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１８】
テーブルにおいて、枠体を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、相向かい合う一方側端から、他方側端にかけて順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ他方側端においては、２本の鉛直方向支柱を介して枠体を支持しており、かつ前記２本の鉛直方向支柱の間には、当該２本の鉛直方向支柱の上端又は当該２本の鉛直方向支柱の何れか一方側において回動自在である開閉板を備えていることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６の何れか一項記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１９】
基板の一部を構成している金属板の上側部分に、三次元造形製品を形成している粉末と同一の粉末を素材とする成形層を固着していることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上下方向に移動可能なテーブル上に積載した金属又は非金属による粉末に対し、各層毎に、電磁波を照射することによって焼結させながら積層し、所定の三次元造形製品を製作する三次元造形製品製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
金属又は非金属粉末をレーザー光線などの電磁波又は電子線の放射に基づく焼結によって三次元造形製品を成形する技術分野においては、色々な構成が提案されているが、何れの場合においても、
（ａ）粉末の落下に伴う撒布及び撒布された粉末の上側表面又はその近傍を摺動する平坦化工程、
（ｂ）造形領域に対するレーザー光線などの電磁波又は電子線を照射することによって、当該照射領域を焼結する工程、
（ｃ）前記（ｂ）の焼結が行われた端部及び／又は上面を回転工具によって切削しながら端部及び／又は上面の成形を行う工程
を不可欠としており、前記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を繰り返すことによって最終的に必要な三次元形状を成形することになる。
【０００３】
特定の粉末層について前記（ｃ）の工程を終了した場合には、造形対象物及びその周囲に位置している粉末の高さ位置の１層分だけ低下させ、次の粉末層につき、前記（ａ）の工程に戻ることになる。
【０００４】
このため粉末を積載しているテーブルは上下方向に移動可能な状態に設置されている。
【０００５】
最も低いレベル位置にある粉末層を直接テーブル上面に接触させた場合には、当該粉末層が前記（ｂ）の焼結工程において、テーブル上面に接着し、造形が終了した対象物をテーブルから円滑に取り出すことができない。
【０００６】
このような状況に対処するため、特許文献１においては、通常テーブル（特許文献１においては「支持手段２」と表現されている。）の面上に粉末が焼結によって固化した際、当該粉末と接着可能な素材を選択した基板を設置する構成が採用されている。
【０００７】
通常、既存の造形部分が前記（ａ）の平坦化装置の移動の影響を受けることから、当該造形部分も上記移動方向に移動しようとすることを阻止するため、前記基板がテーブル面上に安定した状態を維持することを必要とする。
【０００８】
このような必要性を反映して、特許文献１の構成においては、基板はテーブルの下側からのボルトの挿通によって固定されている。
【０００９】
しかしながら、基板とテーブルとが支柱によって固定している場合には、電磁波又は電子線の照射による熱エネルギーが、基板及びテーブルを介した熱伝動によって散逸し、粉末を基板に対し所定の強度によって接着する場合に支障が生じることになり兼ねない。
【００１０】
しかも、テーブルの下側からのボルトの挿通作業は煩雑であると共に、基板をも造形対象物における下端部の構成部とする場合には、ボルトの挿通による孔が残存するという不都合を免れることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第４０５４０７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、各粉末層のうち焼結の対象領域とされている部位と、テーブルの間に基板を介在させている三次元造形製品の製造装置において、前記基盤をテーブルとの間にて上下方向の空間を形成する状態にて設置し、かつ基板面に対し、テーブルの側からボルトを挿通することを不要とする三次元造形製品の製造装置の構成を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明の基本構成は、造形タンク内にて上下方向に移動可能なテーブルの上側に位置し、上側に隣接している粉末が焼結によって固化した際、当該粉末と接着し得る素材を少なくとも表面部分にて有している基板及び前記テーブルの上側にて金属又は非金属の粉末を撒布し、かつ当該撒布された粉末の上側表面を平坦化したうえで、最上位に位置している造形対象となる領域に、電磁波又は電子線を所定の厚さの層に沿って照射することによって焼結層を形成した後、当該焼結が行われた端部及び／又は上面に対する切削によって成形を行う工程を順次反復している三次元造形製品の製造装置において、テーブル上に枠体を立設し、当該枠体から水平方向に突接した支柱及び／又は当該枠体におけるテーブルの内側方向を低部とする段差部位の上に、基板を載置すると共に、当該載置が行われる前記支柱及び／又は前記段差部位の領域内における３個の位置による三角形又は４個の位置による四角形の内側に基板の重心が存在するような配置状態による支持が可能である一方、支柱において少なくとも上側方向に突出している突部及び／又は枠体の内壁を基板の水平方向周囲部に当接させると共に、当該当接を行う領域においては、相互に隣接し合う３個以上の当接位置からの法線同士の交差角度が何れも１８０度よりも小さい状態であるような状態が必ず実現していることによって基板の水平方向の移動を阻止している三次元造形製品の製造装置からなる。
【発明の効果】
【００１４】
前記の基本構成に基づき、本発明においては、枠体の介在によって基板とテーブルとの間に上下方向の空間が形成され、基板からテーブルへの熱伝動が阻止され、粉末材料が効率的に基板に接着することが可能となり、しかもテーブルの側からのボルトによる固着作用を伴わずに、基板を簡単に支柱及び／又は段差部位に載置し、かつ基板の水平方向周囲部と前記突部及び／又は枠体の内壁との当接によって、基板の水平方向の移動を阻止し、安定した状態にて設置することが可能となる。
【００１５】
しかもこのような設置の場合には、特許文献１の場合のようなボルトの挿通を不要としていることから、基板を造形対象物の下端側における構成部分とする場合においても、ボルトの挿通による孔が残存することはあり得ず、得ず、しかもテーブルと基板の間に上下方向の空間が存在することから、特許文献１の場合のようなテーブルにおいて加熱された基板を冷却するための設備を不要とすることができる。
【００１６】
更には、特許文献１の構成の場合には、必然的にテーブルを平坦面とすることを必要としたのに対し、前記基本構成の場合には、実施例２及び同３において後述するように、テーブル面において傾斜状態を形成することによって、焼結の対象に至らなかった粉末を容易に排出し得るような構成を採用することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例１における粉末支持板を使用した構成を示す鉛直方向側断面図であり、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は粉末を基板及び粉末支持板から落下させ、テーブル＋枠体内に保持させるに至る状態を示す。
【図２】実施例２におけるテーブルの構成を示す鉛直方向断面図である（尚、支柱及び突部の図示は省略されている。）。
【図３】実施例３におけるテーブルの構成を示す鉛直方向断面図である（尚、支柱及び突部の図示は省略されている。）。
【図４】実施例４における基板の構成を示す鉛直方向断面図である。
【図５】基板を支柱上に載置する実施形態を示す平面図であって、（ａ）及び（ｂ）は、円形の基板をそれぞれ支柱が２本及び３本の支柱に載置し、かつ水平方向周囲部にそれぞれ２個及び３個の突部を当接させている場合を示しており、（ｃ）、（ｄ）は矩形状の基板を、それぞれ３本及び４本の支柱上に載置し、かつそれぞれ３個及び４個の突部に当接させている場合を示す（尚、支柱の先端側の点線部分は、支柱が基板を下側から支えている状況を示す。）。
【図６】矩形状の基板を支柱に載置する実施形態を説明しており、（ａ）は水平方向周囲部である４辺のうち１辺に突部を当接させており、他の３辺に枠体の内壁を当接させる場合の平面図及び鉛直方向側断面図をそれぞれ示しており、（ｂ）、（ｃ）は水平方向周囲部の４辺の全てに枠体の内壁を当接させている場合の平面図及び鉛直方向側断面図をそれぞれ示す（但し、（ｃ）は、（ｂ）のＡＡ方向に沿った鉛直方向側断面図である。尚、各図面における支柱の先端側の点線部分は、支柱が基板を下側から支えている状況を示す。）。
【図７】矩形状の基板を、支柱及び枠体の段差部位部分上に載置する実施形態を示しており、（ａ）、（ｂ）は水平方向周囲部の１辺に枠体の内壁を当接させており、他の３辺に突部を当接させている場合の平面図及び鉛直方向側断面図をそれぞれ示しており（但し、（ｂ）は（ａ）のＡＡ方向に沿った鉛直方向側断面図である。）、（ｃ）は水平方向周囲部の２辺に枠体の内壁を当接させており、他の２辺に突部を当接させている場合の平面図を説明しており、（ｄ）は水平方向周囲部の３辺に枠体の内壁を当接させており、他の１辺に突部を当接させている場合の平面図を示している（但し、（ａ）、（ｂ）の場合には、基板を相互に接続した状態にある４本の支柱上に載置されており、２個の突部は支柱の長手方向に対し部分的に直交しかつ部分的に平行状態にあり、（ｃ）の場合には、基板を２本の支柱上に載置しており、突部は当該支柱の長手方向と直交しており、（ｄ）の場合には、基板を２本の相互に接続した状態にある支柱上に載置しており、突部は支柱長手方向と平行状態にある。尚、各図面における支柱の先端側の点線部分及び枠体の内側の点線部分は、支柱及び段差が基板を下側から支えている状況を示す。）。
【図８】矩形状の基板を段差部位上に載置している実施形態を示す平面図であって、（ａ）は２個の段差に載置し、水平方向周囲部の４辺に枠体の内壁を当接させている場合を示しており、（ｂ）は４個の段差に載置し、水平方向周囲部の４辺に枠体の内壁を当接させている場合を示す（尚、枠体の内側の点線部分は、段差が基板を支えている状態を示す。）。
【図９】基板の水平方向周囲部に対する当接面が支柱と直交しているか又はそのような直交部分を含む突部が、固定及び移動の何れをも選択可能である実施形態の側断面図であって、（ａ）は支柱がボルトであって、突部がナットである場合を示しており、（ｂ）は突部として支柱に対し摺動自在の鍔部を採用し、鍔部に螺合している固定用ボルトによって固定及び移動を選択している場合を示す。
【図１０】支柱の中途部位に基板の水平方向周囲部に対する当接面が当該支柱と平行状態であるか、又は部分的に直交しかつ部分的に平行状態である突部を係着し、支柱が枠体に対して固定及び移動自在としている実施形態の側断面図であって、（ａ）はボルトを枠体に螺合している場合を示しており、（ｂ）は支柱をテーブルの枠体に摺動可能な状態にて挿貫させたうえで、水平方向突出部と螺合している固定用ボルトによって、固定及び移動を自在としている場合を示す。
【図１１】支柱において、上側方向に突出している突部を備えた状態を説明する鉛直方向側断面図であって、（ａ）は突部の当接面が支柱の長手方向と直交している場合を示しており、（ｂ）は突部の当接面が支柱の長手方向と平行状態である場合を示しており、（ｃ）は突部の当接面が支柱の長手方向と部分的に直交し（基板から外側に位置している部分が当該直交部分を示す。）かつ部分的に平行状態である場合を示している。
【図１２】枠体がテーブル面に沿って移動自在である実施形態を示しており、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は鉛直方向側断面図である。
【図１３】基板を載置している支柱及び／又は段差部位の領域内における３個の位置による三角形又は４個の位置による四角形の内側に基板の重心（Ｇ）が位置するような配置による支持が可能であることを説明するための平面図であって、（ａ）は３個の位置による三角形の場合を示しており、（ｂ）は４個の位置による四角形において特に対角線の交点に重心が存在する場合を示している。
【図１４】突部及び／又は枠体の内壁による当接領域において、相互に隣接し合う３個の当接位置からの法線同士の法線の交差角度が１８０度より小さい状態であるような状態が必ず実現していることによって、水平方向面による全方向の基板を動かそうとする力に対し、当接に伴う抗力を持って対抗し得ることを説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、テーブル２上に立設している枠体７から同一高さにてテーブル２の内側方向に向けて水平方向内側に突設している支柱及び／又は枠体７においてテーブル２の内側を低部とする段差部位上に基板３を載置しており、かつ支柱に備えており、かつ支柱よりも少なくとも上側方向に突出している突部及び／又は枠体７の内壁に、基板３の水平方向周囲部が当接しており、基板３の水平方向の移動を阻止している。
【００１９】
前記載置が行われる前記支柱及び／又は前記段差部位の領域においては、必ず基板３の重心を内側に位置するようにして囲んだ状態とするような３個の位置が必ず存在する状態にて基板３の支持が行われる。
【００２０】
前記要件の根拠について具体的に説明するに、基板３上に積載されている粉末１２及び造形物１３による単位面積当たりの重量は等しい状態にある。
【００２１】
このような場合、例えば図１３（ａ）に示すように、３個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ）による三角形ＡＢＣの内側に基板３の重心（Ｇ）が存在する場合において、Ｃの位置と重心（Ｇ）とを延長した直線ＣＧとＡの位置及びＢの位置を結ぶ直線ＡＢの交点をＳ１とした場合、直線ＣＧＳ１の両側は、粉末１２、固形物、及び基板３の片側部分の重量として同等であって、直線ＣＧＳ１を基準とした場合、両側の粉末１２、造形物１３及び基板３の各部分に作用する重力がバランスしており、基板３においては、重力を原因として直線ＣＧＳ１を回転中心とするような回転モーメントが生じていない。
【００２２】
ここで、Ａの位置、Ｂの位置、Ｃの位置において全体の重量Ｍを支えている抗力をそれぞれＭＡ、ＭＢ、ＭＣとした場合には、ＭＡ＋ＭＢ＋ＭＣ＝Ｍが成立する。
【００２３】
他方、直線ＣＧＳ１とＡの位置、Ｂの位置との距離をそれぞれａ１、ｂ１とした場合には、前記のように回転モーメントが生じないことは、ａ１ＭＡ＝ｂ１ＭＢが成立することを意味している。
【００２４】
同様に、図１３（ａ）に示すように、直線ＢＧの延長と直線ＣＡとの交点をＳ２とし、直線ＢＧＳ２とＣの位置及びＡの位置との距離をそれぞれｃ２、ａ２とした場合には、直線ＣＧＳ１の場合と同様に、直線ＢＧＳ２を回転中心とする回転モーメントが生じていないことから、ｃ２ＭＣ＝ａ２ＭＡが成立する。
【００２５】
更には、直線ＡＧと直線ＢＣとの交点をＳ３とし、直線ＡＧＳ３とＢの位置、Ｃの位置からの距離をそれぞれｂ３、ｃ３とした場合には、
ｂ３ＭＢ＝ｃ３ＭＣ
が成立する。
【００２６】
前記各関係式から、
ＭＡ＝Ｍ／（ａ１／ｂ１＋ａ２／ｃ２＋１）
ＭＢ＝Ｍ／（ｂ１／ａ１＋ｂ３／ｃ３＋１）
Ｍｃ＝Ｍ／（ｃ２／ａ２＋ｃ３／ｂ３＋１）
を得ることができる。
【００２７】
即ち、３個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ）による三角形ＡＢＣの内側に基板３の重心（Ｇ）が存在する場合には、前記３点Ａ、Ｂ、Ｃにおいて重量を備えているＭＡ、ＭＢ、ＭＣが何れも正の値であって、負の値となっていないために、重力に基づく回転モーメントを伴わずに、安定した状態にて基板３が支持されることになる。
【００２８】
実際には、前記支柱及び／又は段差部位は連続しており、Ａ、Ｂ、Ｃのような３個の位置のように、孤立した状態による支持ではない以上、３個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ）による三角形ＡＢＣの内側に基板３の重心（Ｇ）が存在する場合には、当然基板３を安定した状態にて支持することができる。
【００２９】
前記支柱及び／又は前記段差部位の領域内における４個の位置による四角形の内側に基板３の重心（Ｇ）が位置する場合において説明するに、前記４個の位置のうち、３個の位置による三角形の内側に重心（Ｇ）が位置するのであれば、図１３（ａ）に示す３個の位置の場合に関する説明からも明らかなように、当然基板３を安定した状態にて支持することができる。
但し、特に図１３（ｂ）に示すように、４個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）による四角形ＡＢＣＤの内側に基板３の重心（Ｇ）を内側に位置するも、重心（Ｇ）が四角形ＡＢＣＤの対角線の交点（直線ＡＣ、ＢＤの交点）に存在する場合には、重心（Ｇ）は４個の位置のうちの３個の位置による三角形（三角形ＡＢＤ、ＢＡＣ、ＣＢＤ、ＤＡＣ）の何れの内側に位置することができないので、特に考察を必要とする。
【００３０】
図１３（ｂ）において、Ａの位置、Ｂの位置、Ｃの位置、Ｄの位置において、全体の重量Ｍが支えている抗力をそれぞれＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤとし、交点である重心（Ｇ）の位置からＡの位置、Ｂの位置、Ｃの位置、Ｄの位置への距離をａ、ｂ、ｃ、ｄとし、Ａの位置及びＣの位置の対角線ＤＧＢに対する距離をそれぞれａ１、ｃ１とし、Ｂの位置及びＤの位置から対角線ＡＧＣに対する距離をそれぞれｂ１、ｄ１とした場合、各対角線を回転中心とする回転モーメントが生じていないことから、
ａ１ＭＡ＝ｃ１ＭＣ
ｂ１ＭＢ＝ｄ１ＭＤ
がそれぞれ成立する。
【００３１】
ａ１／ａ＝ｃ１ｃ
が成立し、
ｂ１／ｂ＝ｄ１ｄ
が成立することから、結局
ａＭＡ＝ｂＭＣ
ｂＭＢ＝ｂＭＢ
が成立することになる。
【００３２】
言うまでもなく、各抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤと全体の重量との間には、
ＭＡ＋ＭＢ＋ＭＣ＋ＭＤ＝Ｍ
が成立するが、上記３式だけでは４個の抗力であるＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤを特定することはできない。
但し、仮に抗力ＭＡが正の値ではなくＭＡ＝０であるならば、上記関係式からＭＣ＝０とならざるを得ない。
【００３３】
しかしながら、抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤは共にそれぞれＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各位置とその周囲の単位面積当たりに等しい重量に対応する点において共通していることから、仮にＭＡ＝ＭＣ＝０であるならば、ＭＢとＭＤもまた同様の支持状態になる以上、ＭＢ＝ＭＤ＝０となるが、その場合には抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤの総和が全体の重量Ｍに等しいという前記の基本関係式を維持することができない。
【００３４】
したがって、抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤの何れも零ではあり得ず、必然的に正の値でなければならない。
【００３５】
かくして、特に図１３（ｂ）に示すように、３個の位置による三角形の何れに対してもその内側に基板３の重心（Ｇ）が存在しないが、４個の位置による四角形の内側に重心（Ｇ）が存在するような配置関係の場合においても、必然的に基板３の安定した支持が可能となる。
【００３６】
前記の基本構成においては、前記突部及び／又は前記内壁によって当接を行う領域においては、相互に隣接し合う３個以上の当接位置からの法線同士の交差角度が何れも１８０度よりも小さい状態であるような状態が必ず実現していることによって基板３の水平方向の移動を阻止している。
【００３７】
上記状態であるような当接位置が、特に３個以上存在ことに関する根拠について説明するに、例えば図１４に示すように、基板の水平方向周囲部に３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒが存在した場合において、当接位置Ｐ、Ｑからの法線の交点をＯとした場合、角度ＰＯＱが１８０度よりも小さい場合には、交点ＯからＰの位置、Ｑの位置及び双方の位置の中間の位置に向かうような方向の力Ｘに対し、Ｐの位置及びＱの位置から法線方向に向かう抗力ｐ、ｑの双方によるベクトル合成によって、当該力Ｘとバランスするような状態を実現し
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防止することが可能となる。
尚、前記力Ｘが基板３に対して作用する位置は千差万別であって、決して前記交点Ｏに限定する訳ではないが、作用する位置如何に拘らず、前記力Ｘと抗力ｐ、ｑのベクトル合成によって力のバランスが生ずることに変わりはない。
【００３８】
同様に、図１４に示すように、Ｑの位置及びＲの位置からの各法線の交点Ｏ’から、Ｑの位置及びＲの位置及びその中間方向に向かうような方向の力Ｘ’に対し、Ｑの位置及びＲの位置における各抗力ｑ、ｒのベクトル合成によって前記力Ｘ’との間にてバランスが
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法線の交点Ｏ’’からＲの位置及びその中間の位置の方向に向かうような方向の力Ｘ’’に対し、Ｒの位置及びＰの位置における各抗力ｒ、ｑのベクトル合成によって前記力Ｘ’
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結局基板３の水平方向の移動を防止することが可能となる。
【００３９】
図１４は特に３個の当接位置の場合について説明しているが、当接の位置が４個の場合においても、隣接し合う当接位置からの法線の交差角度が１８０度よりも小さい場合には、全く同様に基板３に対して作用する力に対して、バランスし得る抗力を形成することが可能となる。
【００４０】
のみならず、当接位置の数が多い程、前記交差角度が小さくなる以上、安定した状態にて前記抗力によるバランス状態を形成することが可能となる。
尚、前記のような作用する力と抗力とのバランス以外に、基板３においては、粉末１２、造形物１３及び基板３の重心を回転中心とする水平方向の回転モーメントが発生しており、仮に当該回転モーメントの方向が前記３個以上の当接位置の当接面に沿った方向にて発生している場合には、前記抗力によって、当該回転を防止することは不可能となる場合が生ずる（例えば、当接に基づく摩擦力が前記回転モーメントに基づく回転力を阻止し得ない場合）が、実際にはそのような３個以上の当接面に沿うような回転モーメントが生ずることはあり得ない以上、この点に関する考察は本来不要である。
【００４１】
前記基本構成からも明らかなように、基板３を載置する態様としては、支柱のみとする場合、及び支柱＋段差部位とする場合、段差部位のみによる場合の３態様が存在し、基板３の水平方向周囲部を当接する態様としては、突部のみによる場合、突部＋枠体７の内壁による場合、枠体７の内壁のみによる場合とが存在する。
但し、基板３を段差部位に載置する場合には、当該段差部位と別に、突部を備える支柱における載置は不要であって、必然的に基板３の水平方向周囲部に対する当接は、枠体７の内壁によって行われることになる。
尚、従来技術においては、テーブル２と基板３の間に加熱板（ヒーター）又は冷却板（クーラー）を介在させることが行われているが、前記基本構成においても、基板３の支柱及び／又は前記段差部位の間に、加熱板（ヒーター）又は冷却板（クーラー）を介在させることは当然可能であり（但し図示せず）、造形条件に即してその何れかを選択することができる。
【００４２】
基板３を支柱のみによって載置する場合には、様々な実施形態が存在する。
【００４３】
図５（ａ）は、最低数である２本の支柱を突設した実施形態を示しているが、当該２本の支柱が平行ではなく直交状態を呈しており、しかも載置によって支持する位置として重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る三角形ＡＢＣを設定することが可能であることから、安定した状態にて基板３を支持することができる。
【００４４】
図５（ａ）に示す実施形態は、円形状の基板３を載置しており、かつ突部の当接面は円弧状を呈しており、しかも、図５（ａ）に示すように、相互に隣接し合う３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒからの法線同士の交差角度が何れも１８０度よりも小さい状態である状態を実現していることから、既に説明したように、基板３を水平方向への移動を阻止することが可能となる。
【００４５】
図５（ｂ）は図５（ａ）と同様に、円形状の基板３を３本の支柱上に載置させ、かつ各支柱に設けられた円弧状の突部によってその水平方向周囲部に当接させている実施形態を示す。
【００４６】
図５（ｂ）の実施形態においても、重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る三角形ＡＢＣが存在することによって、基板３を安定した状態にて支持しており、更には３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒからの３本の法線につき、隣接し合う法線同士の角度が１８０度よりも小さいことによって、基板３の水平方向の移動を当然阻止することができる。
尚、図５（ａ）、（ｂ）のような円形状の基板３の場合に、仮に基板３の重心位置（Ｇ）を中心とする水平方向の回転モーメントが生じた場合には、３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒによる当接が当該回転モーメントを防止することは不可能となる場合が生ずるが、実際の作業現場ではこのような回転モーメントの原因となるような力が発生し得ないことは既に指摘したとおりである。
【００４７】
基板３の形状は以下の実施形態において説明するように、通常矩形であり、しかも矩形状の基板３の水平方向周囲部に対しては、図１１（ａ）に示すように、当接面が支柱の長手方向と直交する突部によって各辺に当接する場合、図１１（ｂ）に示すように、当接面が支柱の長手方向と平行状態である突部によって各辺を当接する場合、更には図１１（ｃ）に示すように、当接面が部分的に支柱の長手方向と直交し（基板３から外側に位置している部分が、当該直交部分を示す。）かつ部分的に平行状態である突部によって各角部に当接する実施形態を適宜選択することができる。
【００４８】
前記突部５は少なくとも上側方向に突出していることを必要としているのは、支柱４上に載置している基板３の水平方向外周部と当接する必要性に由来しているが、このような突部５としては、図９（ａ）、（ｂ）において後述するようなナット５及び鍔部５のように、支柱４の長手方向の全周囲方向に突出する実施形態もまた当然採用可能である。
【００４９】
図５（ｃ）は、矩形状の基板３を３本の支柱４に載置している実施形態を示しており、１個の突部の当接面は、支柱の長手方向と直交しているが、他の２個の突部の当接面は、支柱の長手方向と部分的に直交しかつ部分的に平行状態として、基板３の２箇所の角部と当接している。
【００５０】
図５（ｃ）の実施形態においても、重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る三角形ＡＢＣが存在することによって、基板３を安定した状態にて支持しており、更には隣接し合う３個の位置Ｐ、Ｑ、Ｒからの３本の法線同士の交差角度が１８０度よりも小さいことによって、基板３の水平方向の移動を当然阻止することができる。
【００５１】
図５（ｄ）は、矩形状の基板３を４本の突部に載置し、かつ４本の突部の当接面が何れも基板３の長手方向と直交している実施形態を示している。
図５（ｃ）の実施形態においても、重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る四角形ＡＢＣＤが存在することによって、基板３を安定した状態にて支持しており、更には隣接し合う４個の位置Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓからの４本の法線同士の交差角度が１８０度よりも小さいこと（実際には約９０度）によって、基板３の水平方向の移動を当然阻止することができる（以下の実施形態は、何れも矩形状の基板３の載置した状態を示しており、当該載置の領域において重心（Ｇ）を内側に位置するようにして囲むような載置による４個の位置が必ず存在すること、及び隣接する４個の当接位置の支持部位の存在し、当該当接位置からの法線同士の交差角度が１８０度より小さいこと（実際には約９０度）が自明であることから、これらに関する説明は省略する。）。
尚、図５（ｄ）の実施形態とは別に、後述するような矩形状の基板３の水平方向周囲部及びその近傍を支柱に載置し、かつ当接面を支柱の長手方向と平行状態であるような実施形態もまた当然実現可能である（但し、当該実施形態は図示されていない。）。
【００５２】
図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の各実施形態においては、２本ないし４本の支柱４に基板３を載置する場合があるが、粉末１２及び造形物１３の重量如何によっては、支柱の数を更に増加させることが当然可能である。
尚、テーブル２上に立設されている枠体７は、図５（ａ）、（ｂ）に示すように一体構成の場合と、図５（ｃ）、（ｄ）に示すように示すようにそれぞれ支柱４ごとに対応して分離されている構成との双方を選択することができる。
【００５３】
基板３の形態は特に限定される訳ではないが、図５（ｃ）、（ｄ）のような矩形状の場合（就中、正方形の場合）が通常採用されており、稀には図５（ａ）、（ｂ）のように、実施形態は、円形を採用される場合がある。
【００５４】
図６は、矩形状の基板３を支柱上に載置し、かつ基板３の水平方向周囲部に対する当接に、枠体７の内壁が関与している実施形態を示す。
【００５５】
当該実施形態のうち、図６（ａ）の平面図は、相互に向い合いかつ接続した状態にある４本の支柱上に基板３を載置し、かつ当接面が支柱の長手方向と平行状態による１個の突部、及び３個の内壁によって４辺からなる基板３の水平方向周囲部に当接している実施形態を示し、図６（ｂ）の平面図及び（ｃ）の鉛直方向側断面図は、交互に接続している４本の支柱上に基板３を載置し、かつ基板３の４辺からなる水平方向周囲部が、何れも枠体７の内壁を当接している実施形態を示している（尚、図６（ａ）に対応する鉛直方向断面図は、図６（ｃ）との対比、更には後述するような図７（ｂ）、図９（ａ）、（ｂ）、図１０（ａ）、（ｂ）が鉛直方向断面図によって十分理解可能なので省略した。）。
【００５６】
図６（ａ）及び（ｂ）、（ｃ）のような実施形態もまた、当然安定した載置状態、及び水平方向の移動を阻止し得る状態を実現している。
【００５７】
図７は、矩形状の基板３を支柱及び段差部位上に載置している実施形態を示す。
【００５８】
そして、図７（ａ）及び（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は、それぞれ基板３を相互に向い合いかつ接続した状態にある２本の支柱と１個の段差部位に載置している実施形態、相互に接続している２本の支柱と相向い合う２個の段差部位に載置している実施形態、相互に向い合いかつ接続した状態にある２本の支柱と相互に隣接し合っている３個の段差部位に載置している実施形態を示している（図７（ｃ）、（ｄ）に対応する各鉛直方向側断面図については、図７（ｂ）、及び後述する図９（ａ）、（ｂ）、図１０（ａ）、（ｂ）から十分理解可能なので省略した。）。
【００５９】
通常段差部位は、広幅の載置状態を実現し、しかも既に説明したように、基板３を載置している段差部位に隣接する内壁を、基板３の水平方向周囲部に当接しているので、基板３を安定した状態にて支持することができると共に、設計上極めて有意義である。
【００６０】
上記実施形態においては、段差部位の数は通常１ないし３に限定されるが、支柱の数は特に限定される訳ではない。
但し、段差部位の数が増加するに従って、必要とする支柱の数は減少する傾向にある。
【００６１】
図７（ａ）及び（ｂ）は、当接面が支柱の長手方向と部分的に直交しかつ部分的に平行状態である突部を採用しており、図７（ｃ）、（ｄ）は当接面が当該長手方向に対し直交している突部、及び当接面が当該長手方向に対し平行状態である突部を採用しているが、突部の当接面の形態は、支柱の配置状態に対応して適宜選択すれば良い。
【００６２】
図８は、矩形状の基板３を段差部位のみによって載置している実施形態を示す。
【００６３】
そして図８（ａ）は、基板３が相向い合う２個の段差部位上に載置され、かつ水平方向周囲部の４辺が全て実際の内壁に当接している実施形態を示しており、図８（ｂ）は基板３を段差部位に載置し、かつ４個の内壁に当接している実施形態を示す。
【００６４】
これらの実施形態の場合には、支柱への載置を伴わずに、基板３の安定した載置状態及び当接状態を実現することが可能となる。
【００６５】
図５（ｄ）、図７（ｂ）に示す各実施形態のように、突部の当接面が支柱の長手方向と直交している場合及び図５（ａ）、（ｂ）のように、前記当接面がそのような直交部分を含んでいる場合には、突部５につき、各支柱４に沿って移動及び固定の何れをも選択可能とする実施形態を採用することができる。
【００６６】
このような実施形態としては、図９（ａ）に示すように、支柱４としてボルト４を採用し、突部としてナット５を採用する構成、及び図９（ｂ）に示すように、突部５として支柱４の長手方向に摺動自在の鍔部５を採用し、当該鍔部５においては、前記長手方向と直交する方向に固定用ボルト６を螺合しており、しかも当該固定用ボルト６の先端が前記長手方向周囲部と当接し得る構成が好適に採用されている。
【００６７】
前記各実施形態の場合には、図９（ａ）のナット５、及び図９（ｂ）の鍔部５の水平方向の位置を調整し、かつそれぞれボルト４及び支柱４における所定位置に固定することによって、色々な形状及び大きさの基板３に対応することができ、しかも基板３の水平方向の位置を調整することができる。
【００６８】
図６（ａ）、図７（ｄ）に示す各実施形態のように、突部の当接面が支柱の長手方向と平行状態である場合、及び図５（ｃ）、図７（ａ）のように、前記当接面が支柱の長手方向と直交しかつ部分的に平行状態であるような場合には、前記突部を中途部位に固定している支柱４につき枠体７に対し、固定及び移動の何れをも選択可能とする実施形態もまた採用可能である。
【００６９】
このような実施形態としては、図１０（ａ）に示すように、ボルト４を枠体７に螺合している構成、更には図１０（ｂ）に示すように、枠体７を挿貫している支柱４を枠体７及び当該枠体７の水平方向突出部７１に対し摺動自在としたうえで、当該水平方向突出部７１においては、支柱４の長手方向と直交する方向に固定用ボルト６を螺合しており、しかも当該ボルト６の先端が前記長手方向周囲部と当接し得る構成が好適に採用されている（尚、図１０（ａ）は、突部の当接面が平行状態の場合を示しており、図１０（ｂ）は、突部の当接が部分的に直交しかつ部分的に平行状態である場合を示している。
【００７０】
前記実施形態においても、図１０（ａ）に示すボルト４の位置及び図１０（ｂ）に示す支柱４の位置を外側からの操作によって調整することによって、色々な形状及び大きさの基板３に対応することができ、しかも基板３の水平方向の位置を調整することができる。
尚、図１０（ａ）の場合のように、支柱としてボルト４を採用する場合には、当該ボルト４が回転しながら突設方向に移動することから、突部においても、当該ボルト４と螺合する構成を採用し、基板３に対し上側が突設した状態を維持すると良い。
【００７１】
図６（ｂ）及び図８（ａ）、（ｂ）による実施形態の場合には、枠体７の内壁であるため、支柱４に突部５を備える必要がない。
【００７２】
突部を設けることを不要としていることによって基板３の水平方向周囲部が常に枠体７の内壁と当接していることから、一見必要以上に広い面積の基板３を使用せざるを得ないが如くである。
【００７３】
しかしながら、上記実施形態の場合であっても、必ずしも広い面積の基板３を用意する必要はない。
【００７４】
具体的には図１２に示すように、枠体７の下端において支柱４の突設方向及びその反対側に両側脚部７２を突設し、当該両側脚部７２にそれぞれ挿通用孔７０を設ける一方、テーブル２においても各支柱４の突設方向によって複数個の挿通用孔２０を設け、双方の挿通用孔２０、７０に対し、止着用杵８又は止着用ボルト８を挿貫し、当該挿貫する位置を選択することによって、各枠体７を固定する位置を調整しかつ選択することによって、色々な形状及び大きさの基板３に対応すると共に、基板３の水平方向の位置を調整することができる。
【００７５】
本発明において採用し得る粉末１２としては、金属粉末、セラミック粉末、樹脂によって被覆された金属又はセラミック粉末１２、樹脂によって被覆された砂等を採用することができる。
【００７６】
前記の基本構成において使用する基板３は、最初に前記（ａ）の工程によって粉末１２が基板３面に撒布され、かつ前記（ｂ）の焼結によって粉末１２が固化した際、接着することを必要としており、基板３の素材としては、前記接着が可能であるならば、どのような素材でも選択可能である。
【００７７】
通常、前記のように例示した粉末１２と同一素材を採用する場合が多く、この場合には必然的に基板３は三次元造形製品の最下端部を構成することになる。
【００７８】
言うまでもなく、発明の前記基本構成、更には前記各実施形態においても、基板３面上に前記（ａ）の粉末１２の撒布及び平坦化工程を実現し、基板３の上側において（ｂ）の焼結工程を実現し、更には上側に前記（ｃ）の成形工程を実現しながら、三次元造形製品の製造を行うことになる。
【００７９】
以下、実施例に即して説明する。
【実施例１】
【００８０】
実施例１は、図１に示すように、支柱のうち、基板３の水平方向周囲部が当接していない側の領域及び前記水平方向周囲部が当接していない枠体７に対し、粉末支持板９を架設していることを特徴としている。
【００８１】
このような実施例１においては、図１（ａ）の状態から（ｂ）のように粉末支持板９を除去することによって、図１（ｃ）、（ｄ）に示すように、粉末１２をテーブル２と枠体７によって形成される空間内に載積させた状態としたうえで、テーブル２を上側に移動することによって、粉末１２をコンテナの外側に排出することが可能となる。
【実施例２】
【００８２】
実施例２は、図２に示すように、テーブル２において、枠体７を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ当該傾斜状態の下端部の位置において、焼結されなかった粉末１２を排出するための排出用穴２１を設けていることを特徴としている。
【００８３】
粉末１２をテーブル２及び基板３面上に積載した場合（例えば、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、図６（ａ）、図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示す実施形態の場合）、及び基板３面上に積載した場合（例えば、図６（ｂ）及び図８（ａ）、（ｂ）に示す実施形態の場合）において、全粉末１２が焼結の対象となる訳ではない。
【００８４】
ましてや、実施例１のように粉末支持板９上に残留している粉末１２は、当然焼結及び造形の対象とならない。
【００８５】
このような場合、焼結されない粉末１２が造形物１３を基板３と共にテーブル２から上側に取り出した後には、必然的にテーブル２の低部に残留することになる。
【００８６】
実施例２の場合には、当該残留した粉末１２は前記傾斜状態している低部に沿って下降し、最低位置にある穴を介して造形タンク１の低部に排出することができ、当該粉末１２を再利用することができる。
尚、前記傾斜状態を設ける領域として、枠体７を立設している位置の内側の全領域だけでなく、当該位置から更に内側に離れた位置の全領域をも選択可能としているのは、図６（ｂ）及び図８に示す実施形態において、図１２に示すように、枠体７を支柱４の当接方向によって固定する位置を選択可能とする場合、枠体７を突設している位置から所定の内側の領域範囲に至るまで、テーブル２が平坦形状であることを必要としていることに由来している。
【実施例３】
【００８７】
実施例３は、図３に示すように、テーブル２において、枠体７を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、相向かい合う一方側端から、他方側端にかけて順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ他方側端においては、２本の鉛直方向支柱１１を介して枠体７を支持しており、かつ前記２本の鉛直方向支柱１１の間には、当該２本の鉛直方向支柱１１の上端又は当該２本の鉛直方向支柱１１の何れか一方側において回動自在である開閉板１０を備えていることを特徴としている。
【００８８】
実施例３においても、実施例２の場合と同様に、焼結及び造形の対象とならなかった粉末１２をテーブル２面上に落下させたうえで、鉛直方向支柱１１の間に位置している開閉板１０を開くことによって、テーブル２面から粉末１２を外部に排出することが可能となり、実施例２と同じような効率的な粉末１２の外部への排出及び当該粉末１２の再利用を実現することができる（尚、図３は２本の鉛直方向支柱１１の上端において、回動自在である開閉板１０が開いた状態を示しているが、造形が行われている段階では、当然開閉板１０は鉛直方向支柱１１の間に位置しており、閉じた状態を示すことになる。）。
尚、実施例３においても、傾斜状態を設ける領域として、枠体７を立設する位置から更に内側に離れた位置の全領域をも対象としているが、その根拠は実施例２の場合と同様である。
【実施例４】
【００８９】
実施例４は、図４に示すように、基板３の一部を構成している金属板３２の上側部分３１に、三次元造形製品を形成している粉末１２と同一の粉末１２を素材とする成形層を固着していることを特徴としている。
【００９０】
このように、金属板３２上に三次元造形製品を形成している粉末１２と同一の素材を採用することによって、前記（ｂ）の焼結に基づく粉末１２の固化に際し、前記粉末１２との固着を実現することができる。
【００９１】
前記成形層は、三次元造形製品の最下層を形成する一方、造形が終了した段階において、前記最下端に位置している金属板３２を切断することになる。
【００９２】
このような切断によって、金属板３２は次の金属工程における基板３面の一部を形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明は、基板を使用している三次元造形製品の製造装置の全構成に利用することができる。
【符号の説明】
【００９４】
１  造形タンク
２  テーブル
２０  挿通用孔
２１  排出用穴
３  基板
３１  基板のうちの粉末を採用した上側部分
３２  基板のうちの下側の金属板
４  支柱及びその実施形態であるボルト
５  突部及びその実施形態であるナット並びに鍔部
６  固定用ボルト
７  枠体
７０  挿通用孔
７１  水平突出部
７２  両側脚部
８  止着用杵又は止着用ボルト
９  粉末支持板
１０  開閉板
１１  鉛直方向支柱
１２  粉末
１３  造形物
【図１】
2011218742.tif 000006
【図２】
2011218742.tif 000007
【図３】
2011218742.tif 000008
【図４】
2011218742.tif 000009
【図５】
2011218742.tif 000010
【図６】
2011218742.tif 000011
【図７】
2011218742.tif 000012
【図８】
2011218742.tif 000013
【図９】
2011218742.tif 000014
【図１０】
2011218742.tif 000015
【図１１】
2011218742.tif 000016
【図１２】
2011218742.tif 000017
【図１３】
2011218742.tif 000018
【図１４】
2011218742.tif 000019
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月6日(2010.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上下方向に移動可能なテーブル上に積載した金属又は非金属による粉末に対し、各層毎に、電磁波を照射することによって焼結させながら積層し、所定の三次元造形製品を製作する三次元造形製品製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
金属又は非金属粉末をレーザー光線などの電磁波又は電子線の放射に基づく焼結によって三次元造形製品を成形する技術分野においては、色々な構成が提案されているが、何れの場合においても、
（ａ）粉末の落下に伴う撒布及び撒布された粉末の上側表面又はその近傍を摺動する平坦化工程、
（ｂ）造形領域に対するレーザー光線などの電磁波又は電子線を照射することによって、当該照射領域を焼結する工程、
（ｃ）前記（ｂ）の焼結が行われた端部及び／又は上面を回転工具によって切削しながら端部及び／又は上面の成形を行う工程
を不可欠としており、前記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を繰り返すことによって最終的に必要な三次元形状を成形することになる。
【０００３】
特定の粉末層について前記（ｃ）の工程を終了した場合には、造形対象物及びその周囲に位置している粉末の高さ位置の１層分だけ低下させ、次の粉末層につき、前記（ａ）の工程に戻ることになる。
【０００４】
このため粉末を積載しているテーブルは上下方向に移動可能な状態に設置されている。
【０００５】
最も低いレベル位置にある粉末層を直接テーブル上面に接触させた場合には、当該粉末層が前記（ｂ）の焼結工程において、テーブル上面に接着し、造形が終了した対象物をテーブルから円滑に取り出すことができない。
【０００６】
このような状況に対処するため、特許文献１においては、通常テーブル（特許文献１においては「支持手段２」と表現されている。）の面上に粉末が焼結によって固化した際、当該粉末と接着可能な素材を選択した基板を設置する構成が採用されている。
【０００７】
通常、既存の造形部分が前記（ａ）の平坦化装置の移動の影響を受けることから、当該造形部分も上記移動方向に移動しようとすることを阻止するため、前記基板がテーブル面上に安定した状態を維持することを必要とする。
【０００８】
このような必要性を反映して、特許文献１の構成においては、基板はテーブルの下側からのボルトの挿通によって固定されている。
【０００９】
しかしながら、基板とテーブルとが支柱によって固定している場合には、電磁波又は電子線の照射による熱エネルギーが、基板及びテーブルを介した熱伝動によって散逸し、粉末を基板に対し所定の強度によって接着する場合に支障が生じることになり兼ねない。
【００１０】
しかも、テーブルの下側からのボルトの挿通作業は煩雑であると共に、基板をも造形対象物における下端部の構成部とする場合には、ボルトの挿通による孔が残存するという不都合を免れることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第４０５４０７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、各粉末層のうち焼結の対象領域とされている部位と、テーブルの間に基板を介在させている三次元造形製品の製造装置において、前記基盤をテーブルとの間にて上下方向の空間を形成する状態にて設置し、かつ基板面に対し、テーブルの側からボルトを挿通することを不要とする三次元造形製品の製造装置の構成を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明の基本構成は、造形タンク内にて上下方向に移動可能なテーブルの上側に位置し、上側に隣接している粉末が焼結によって固化した際、当該粉末と接着し得る素材を少なくとも表面部分にて有している基板及び前記テーブルの上側にて金属又は非金属の粉末を撒布し、かつ当該撒布された粉末の上側表面を平坦化したうえで、最上位に位置している造形対象となる領域に、電磁波又は電子線を所定の厚さの層に沿って照射することによって焼結層を形成した後、当該焼結が行われた端部及び／又は上面に対する切削によって成形を行う工程を順次反復している三次元造形製品の製造装置において、テーブル上に枠体を立設し、当該枠体から水平方向に突接した支柱及び／又は当該枠体の上端のうちテーブルと向い合う内側を低い位置とし内壁を隔てた外側を高い位置としている段差部の前記低い位置の上に基板を載置し、かつ支柱において少なくとも上側方向に突出した状態にて備えられている突部及び／又は枠体の内壁を基板の水平方向周囲部に対して当接している三次元造形製品の製造装置からなる。
【発明の効果】
【００１４】
前記の基本構成に基づき、本発明においては、枠体の介在によって基板とテーブルとの間に上下方向の空間が形成され、基板からテーブルへの熱伝動が阻止され、粉末材料が効率的に基板に接着することが可能となり、しかもテーブルの側からのボルトによる固着作用を伴わずに、基板を簡単に支柱及び／又は段差部に載置し、かつ基板の水平方向周囲部と前記突部及び／又は枠体の内壁との当接によって、基板の水平方向の移動を阻止し、安定した状態にて設置することが可能となる。
【００１５】
しかもこのような設置の場合には、特許文献１の場合のようなボルトの挿通を不要としていることから、基板を造形対象物の下端側における構成部分とする場合においても、ボルトの挿通による孔が残存することはあり得ず、得ず、しかもテーブルと基板の間に上下方向の空間が存在することから、特許文献１の場合のようなテーブルにおいて加熱された基板を冷却するための設備を不要とすることができる。
【００１６】
更には、特許文献１の構成の場合には、必然的にテーブルを平坦面とすることを必要としたのに対し、前記基本構成の場合には、実施例２及び同３において後述するように、テーブル面において傾斜状態を形成することによって、焼結の対象に至らなかった粉末を容易に排出し得るような構成を採用することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例１における粉末支持板を使用した構成を示す鉛直方向側断面図であり、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は粉末を基板及び粉末支持板から落下させ、テーブル＋枠体内に保持させるに至る状態を示す。
【図２】実施例２におけるテーブルの構成を示す鉛直方向断面図である（尚、支柱及び突部の図示は省略されている。）。
【図３】実施例３におけるテーブルの構成を示す鉛直方向断面図である（尚、支柱及び突部の図示は省略されている。）。
【図４】実施例４における基板の構成を示す鉛直方向断面図である。
【図５】基板を支柱上に載置する実施形態を示す平面図であって、（ａ）及び（ｂ）は、円形の基板をそれぞれ支柱が２本及び３本の支柱に載置し、かつ水平方向周囲部にそれぞれ２個及び３個の突部を当接させている場合を示しており、（ｃ）、（ｄ）は矩形状の基板を、それぞれ３本及び４本の支柱上に載置し、かつそれぞれ３個及び４個の突部に当接させている場合を示す（尚、支柱の先端側の点線部分は、支柱が基板を下側から支えている状況を示す。）。
【図６】矩形状の基板を支柱に載置する実施形態を説明しており、（ａ）は水平方向周囲部である４辺のうち１辺に突部を当接させており、他の３辺に枠体の内壁を当接させる場合の平面図及び鉛直方向側断面図をそれぞれ示しており、（ｂ）、（ｃ）は水平方向周囲部の４辺の全てに枠体の内壁を当接させている場合の平面図及び鉛直方向側断面図をそれぞれ示す（但し、（ｃ）は、（ｂ）のＡＡ方向に沿った鉛直方向側断面図である。尚、各図面における支柱の先端側の点線部分は、支柱が基板を下側から支えている状況を示す。）。
【図７】矩形状の基板を、支柱及び枠体の段差部部分上に載置する実施形態を示しており、（ａ）、（ｂ）は水平方向周囲部の１辺に枠体の内壁を当接させており、他の３辺に突部を当接させている場合の平面図及び鉛直方向側断面図をそれぞれ示しており（但し、（ｂ）は（ａ）のＡＡ方向に沿った鉛直方向側断面図である。）、（ｃ）は水平方向周囲部の２辺に枠体の内壁を当接させており、他の２辺に突部を当接させている場合の平面図を説明しており、（ｄ）は水平方向周囲部の３辺に枠体の内壁を当接させており、他の１辺に突部を当接させている場合の平面図を示している（但し、（ａ）、（ｂ）の場合には、基板を相互に接続した状態にある４本の支柱上に載置されており、２個の突部は支柱の長手方向に対し部分的に直交しかつ部分的に平行状態にあり、（ｃ）の場合には、基板を２本の支柱上に載置しており、突部は当該支柱の長手方向と直交しており、（ｄ）の場合には、基板を２本の相互に接続した状態にある支柱上に載置しており、突部は支柱長手方向と平行状態にある。尚、各図面における支柱の先端側の点線部分及び枠体の内側の点線部分は、支柱及び段差が基板を下側から支えている状況を示す。）。
【図８】矩形状の基板を段差部上に載置している実施形態を示す平面図であって、（ａ）は２個の段差に載置し、水平方向周囲部の４辺に枠体の内壁を当接させている場合を示しており、（ｂ）は４個の段差に載置し、水平方向周囲部の４辺に枠体の内壁を当接させている場合を示す（尚、枠体の内側の点線部分は、段差が基板を支えている状態を示す。）。
【図９】基板の水平方向周囲部に対する当接面が支柱と直交しているか又はそのような直交部分を含む突部が、固定及び移動の何れをも選択可能である実施形態の側断面図であって、（ａ）は支柱がボルトであって、突部がナットである場合を示しており、（ｂ）は突部として支柱に対し摺動自在の鍔部を採用し、鍔部に螺合している固定用ボルトによって固定及び移動を選択している場合を示す。
【図１０】支柱の中途部位に基板の水平方向周囲部に対する当接面が当該支柱と平行状態であるか、又は部分的に直交しかつ部分的に平行状態である突部を係着し、支柱が枠体に対して固定及び移動自在としている実施形態の側断面図であって、（ａ）はボルトを枠体に螺合している場合を示しており、（ｂ）は支柱をテーブルの枠体に摺動可能な状態にて挿貫させたうえで、水平方向突出部と螺合している固定用ボルトによって、固定及び移動を自在としている場合を示す。
【図１１】支柱において、上側方向に突出している突部を備えた状態を説明する鉛直方向側断面図であって、（ａ）は突部の当接面が支柱の長手方向と直交している場合を示しており、（ｂ）は突部の当接面が支柱の長手方向と平行状態である場合を示しており、（ｃ）は突部の当接面が支柱の長手方向と部分的に直交し（基板から外側に位置している部分が当該直交部分を示す。）かつ部分的に平行状態である場合を示している。
【図１２】枠体がテーブル面に沿って移動自在である実施形態を示しており、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は鉛直方向側断面図である。
【図１３】基板を載置している支柱及び／又は段差部の領域内における３個の位置による三角形又は４個の位置による四角形の内側に基板の重心（Ｇ）が位置するような配置による支持が可能であることを説明するための平面図であって、（ａ）は３個の位置による三角形の場合を示しており、（ｂ）は４個の位置による四角形において特に対角線の交点に重心が存在する場合を示している。
【図１４】突部及び／又は枠体の内壁による当接領域において、相互に隣接し合う３個の当接位置からの法線同士の法線の交差角度が１８０度より小さい状態であるような状態が必ず実現していることによって、水平方向面による全方向の基板を動かそうとする力に対し、当接に伴う抗力を持って対抗し得ることを説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、テーブル２上に立設している枠体７から同一高さにてテーブル２の内側方向に向けて水平方向内側に突設している支柱４及び／又は枠体７の上端のうちテーブルと向い合う内側を低い位置とし内壁を隔てた外側を高い位置としている段差部７３の前記低い位置の上に基板３を載置し、かつ支柱４に備えており、かつ支柱４よりも少なくとも上側方向に突出している突部及び／又は枠体７の内壁に、基板３の水平方向周囲部に対し当接しており、基板３の水平方向の移動を阻止している。
【００１９】
前記水平方向の移動の阻止について立ち入って説明するに、前記載置が行われる前記支柱４及び／又は前記段差部７３の領域においては、必ず基板３の重心を内側に位置するようにして囲んだ状態とするような３個の位置が必ず存在する状態にて基板３の支持が行われることを必要としている。
【００２０】
前記要件の根拠について具体的に説明するに、基板３上に積載されている粉末１２及び造形物１３による単位面積当たりの重量は等しい状態にある。
【００２１】
このような場合、例えば図１３（ａ）に示すように、３個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ）による三角形ＡＢＣの内側に基板３の重心（Ｇ）が存在する場合において、Ｃの位置と重心（Ｇ）とを延長した直線ＣＧとＡの位置及びＢの位置を結ぶ直線ＡＢの交点をＳ１とした場合、直線ＣＧＳ１の両側は、粉末１２、固形物、及び基板３の片側部分の重量として同等であって、直線ＣＧＳ１を基準とした場合、両側の粉末１２、造形物１３及び基板３の各部分に作用する重力がバランスしており、基板３においては、重力を原因として直線ＣＧＳ１を回転中心とするような回転モーメントが生じていない。
【００２２】
ここで、Ａの位置、Ｂの位置、Ｃの位置において全体の重量Ｍを支えている抗力をそれぞれＭＡ、ＭＢ、ＭＣとした場合には、ＭＡ＋ＭＢ＋ＭＣ＝Ｍが成立する。
【００２３】
他方、直線ＣＧＳ１とＡの位置、Ｂの位置との距離をそれぞれａ１、ｂ１とした場合には、前記のように回転モーメントが生じないことは、ａ１ＭＡ＝ｂ１ＭＢが成立することを意味している。
【００２４】
同様に、図１３（ａ）に示すように、直線ＢＧの延長と直線ＣＡとの交点をＳ２とし、直線ＢＧＳ２とＣの位置及びＡの位置との距離をそれぞれｃ２、ａ２とした場合には、直線ＣＧＳ１の場合と同様に、直線ＢＧＳ２を回転中心とする回転モーメントが生じていないことから、ｃ２ＭＣ＝ａ２ＭＡが成立する。
【００２５】
更には、直線ＡＧと直線ＢＣとの交点をＳ３とし、直線ＡＧＳ３とＢの位置、Ｃの位置からの距離をそれぞれｂ３、ｃ３とした場合には、
ｂ３ＭＢ＝ｃ３ＭＣ
が成立する。
【００２６】
前記各関係式から、
ＭＡ＝Ｍ／（ａ１／ｂ１＋ａ２／ｃ２＋１）
ＭＢ＝Ｍ／（ｂ１／ａ１＋ｂ３／ｃ３＋１）
Ｍｃ＝Ｍ／（ｃ２／ａ２＋ｃ３／ｂ３＋１）
を得ることができる。
【００２７】
即ち、３個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ）による三角形ＡＢＣの内側に基板３の重心（Ｇ）が存在する場合には、前記３点Ａ、Ｂ、Ｃにおいて重量を備えているＭＡ、ＭＢ、ＭＣが何れも正の値であって、負の値となっていないために、重力に基づく回転モーメントを伴わずに、安定した状態にて基板３が支持されることになる。
【００２８】
実際には、前記支柱４及び／又は段差部７３は連続しており、Ａ、Ｂ、Ｃのような３個の位置のように、孤立した状態による支持ではない以上、３個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ）による三角形ＡＢＣの内側に基板３の重心（Ｇ）が存在する場合には、当然基板３を安定した状態にて支持することができる。
【００２９】
前記支柱４及び／又は前記段差部７３の領域内における４個の位置による四角形の内側に基板３の重心（Ｇ）が位置する場合において説明するに、前記４個の位置のうち、３個の位置による三角形の内側に重心（Ｇ）が位置するのであれば、図１３（ａ）に示す３個の位置の場合に関する説明からも明らかなように、当然基板３を安定した状態にて支持することができる。
但し、特に図１３（ｂ）に示すように、４個の位置（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）による四角形ＡＢＣＤの内側に基板３の重心（Ｇ）を内側に位置するも、重心（Ｇ）が四角形ＡＢＣＤの対角線の交点（直線ＡＣ、ＢＤの交点）に存在する場合には、重心（Ｇ）は４個の位置のうちの３個の位置による三角形（三角形ＡＢＤ、ＢＡＣ、ＣＢＤ、ＤＡＣ）の何れの内側に位置することができないので、特に考察を必要とする。
【００３０】
図１３（ｂ）において、Ａの位置、Ｂの位置、Ｃの位置、Ｄの位置において、全体の重量Ｍが支えている抗力をそれぞれＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤとし、交点である重心（Ｇ）の位置からＡの位置、Ｂの位置、Ｃの位置、Ｄの位置への距離をａ、ｂ、ｃ、ｄとし、Ａの位置及びＣの位置の対角線ＤＧＢに対する距離をそれぞれａ１、ｃ１とし、Ｂの位置及びＤの位置から対角線ＡＧＣに対する距離をそれぞれｂ１、ｄ１とした場合、各対角線を回転中心とする回転モーメントが生じていないことから、
ａ１ＭＡ＝ｃ１ＭＣ
ｂ１ＭＢ＝ｄ１ＭＤ
がそれぞれ成立する。
【００３１】
ａ１／ａ＝ｃ１ｃ
が成立し、
ｂ１／ｂ＝ｄ１ｄ
が成立することから、結局
ａＭＡ＝ｂＭＣ
ｂＭＢ＝ｂＭＢ
が成立することになる。
【００３２】
言うまでもなく、各抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤと全体の重量との間には、
ＭＡ＋ＭＢ＋ＭＣ＋ＭＤ＝Ｍ
が成立するが、上記３式だけでは４個の抗力であるＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤを特定することはできない。
但し、仮に抗力ＭＡが正の値ではなくＭＡ＝０であるならば、上記関係式からＭＣ＝０とならざるを得ない。
【００３３】
しかしながら、抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤは共にそれぞれＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各位置とその周囲の単位面積当たりに等しい重量に対応する点において共通していることから、仮にＭＡ＝ＭＣ＝０であるならば、ＭＢとＭＤもまた同様の支持状態になる以上、ＭＢ＝ＭＤ＝０となるが、その場合には抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤの総和が全体の重量Ｍに等しいという前記の基本関係式を維持することができない。
【００３４】
したがって、抗力ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤの何れも零ではあり得ず、必然的に正の値でなければならない。
【００３５】
かくして、特に図１３（ｂ）に示すように、３個の位置による三角形の何れに対してもその内側に基板３の重心（Ｇ）が存在しないが、４個の位置による四角形の内側に重心（Ｇ）が存在するような配置関係の場合においても、必然的に基板３の安定した支持が可能となる。
【００３６】
前記の基本構成においては、前記突部及び／又は前記内壁によって当接を行う領域においては、相互に隣接し合う３個以上の当接位置からの法線同士の交差角度が何れも１８０度よりも小さい状態であるような状態が必ず実現していることによって基板３の水平方向の移動を阻止することが可能となる。
【００３７】
上記状態であるような当接位置が、特に３個以上存在ことに関する根拠について説明するに、例えば図１４に示すように、基板３の水平方向周囲部に３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒが存在した場合において、当接位置Ｐ、Ｑからの法線の交点をＯとした場合、角度ＰＯＱが１８０度よりも小さい場合には、交点ＯからＰの位置、Ｑの位置及び双方の位置の中間の位置に向かうような方向の力Ｘに対し、Ｐの位置及びＱの位置から法線方向に向かう抗力ｐ、ｑの双方によるベクトル合成によって、当該力Ｘとバランスするような状態を実現し
2011218742.tif 000020
防止することが可能となる。
尚、前記力Ｘが基板３に対して作用する位置は千差万別であって、決して前記交点Ｏに限定する訳ではないが、作用する位置如何に拘らず、前記力Ｘと抗力ｐ、ｑのベクトル合成によって力のバランスが生ずることに変わりはない。
【００３８】
同様に、図１４に示すように、Ｑの位置及びＲの位置からの各法線の交点Ｏ’から、Ｑの位置及びＲの位置及びその中間方向に向かうような方向の力Ｘ’に対し、Ｑの位置及びＲの位置における各抗力ｑ、ｒのベクトル合成によって前記力Ｘ’との間にてバランスが
2011218742.tif 000021
法線の交点Ｏ’’からＲの位置及びその中間の位置の方向に向かうような方向の力Ｘ’’に対し、Ｒの位置及びＰの位置における各抗力ｒ、ｑのベクトル合成によって前記力Ｘ’
2011218742.tif 000022
結局基板３の水平方向の移動を防止することが可能となる。
【００３９】
図１４は特に３個の当接位置の場合について説明しているが、当接の位置が４個の場合においても、隣接し合う当接位置からの法線の交差角度が１８０度よりも小さい場合には、全く同様に基板３に対して作用する力に対して、バランスし得る抗力を形成することが可能となる。
【００４０】
のみならず、当接位置の数が多い程、前記交差角度が小さくなる以上、安定した状態にて前記抗力によるバランス状態を形成することが可能となる。
尚、前記のような作用する力と抗力とのバランス以外に、基板３においては、粉末１２、造形物１３及び基板３の重心を回転中心とする水平方向の回転モーメントが発生しており、仮に当該回転モーメントの方向が前記３個以上の当接位置の当接面に沿った方向にて発生している場合には、前記抗力によって、当該回転を防止することは不可能となる場合が生ずる（例えば、当接に基づく摩擦力が前記回転モーメントに基づく回転力を阻止し得ない場合）が、実際にはそのような３個以上の当接面に沿うような回転モーメントが生ずることはあり得ない以上、この点に関する考察は本来不要である。
【００４１】
前記基本構成からも明らかなように、基板３を載置する態様としては、支柱４のみとする場合、及び支柱４＋段差部７３とする場合、段差部７３のみによる場合の３態様が存在し、基板３の水平方向周囲部を当接する態様としては、突部のみによる場合、突部＋枠体７の内壁による場合、枠体７の内壁のみによる場合とが存在する。
但し、基板３を段差部７３に載置する場合には、当該段差部７３と別に、突部を備える支柱４における載置は不要であって、必然的に基板３の水平方向周囲部に対する当接は、枠体７の内壁によって行われることになる。
尚、従来技術においては、テーブル２と基板３の間に加熱板（ヒーター）又は冷却板（クーラー）を介在させることが行われているが、前記基本構成においても、基板３の支柱４及び／又は前記段差部７３の間に、加熱板（ヒーター）又は冷却板（クーラー）を介在させることは当然可能であり（但し図示せず）、造形条件に即してその何れかを選択することができる。
【００４２】
基板３を支柱４のみによって載置する場合には、様々な実施形態が存在する。
【００４３】
図５（ａ）は、最低数である２本の支柱４を突設した実施形態を示しているが、当該２本の支柱４が平行ではなく直交状態を呈しており、しかも載置によって支持する位置として重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る三角形ＡＢＣを設定することが可能であることから、安定した状態にて基板３を支持することができる。
【００４４】
図５（ａ）に示す実施形態は、円形状の基板３を載置しており、かつ突部の当接面は円弧状を呈しており、しかも、図５（ａ）に示すように、相互に隣接し合う３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒからの法線同士の交差角度が何れも１８０度よりも小さい状態である状態を実現していることから、既に説明したように、基板３を水平方向への移動を阻止することが可能となる。
【００４５】
図５（ｂ）は図５（ａ）と同様に、円形状の基板３を３本の支柱４上に載置させ、かつ各支柱４に設けられた円弧状の突部によってその水平方向周囲部に当接させている実施形態を示す。
【００４６】
図５（ｂ）の実施形態においても、重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る三角形ＡＢＣが存在することによって、基板３を安定した状態にて支持しており、更には３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒからの３本の法線につき、隣接し合う法線同士の角度が１８０度よりも小さいことによって、基板３の水平方向の移動を当然阻止することができる。
尚、図５（ａ）、（ｂ）のような円形状の基板３の場合に、仮に基板３の重心位置（Ｇ）を中心とする水平方向の回転モーメントが生じた場合には、３個の当接位置Ｐ、Ｑ、Ｒによる当接が当該回転モーメントを防止することは不可能となる場合が生ずるが、実際の作業現場ではこのような回転モーメントの原因となるような力が発生し得ないことは既に指摘したとおりである。
【００４７】
基板３の形状は以下の実施形態において説明するように、通常矩形であり、しかも矩形状の基板３の水平方向周囲部に対しては、図１１（ａ）に示すように、当接面が支柱４の長手方向と直交する突部によって各辺に当接する場合、図１１（ｂ）に示すように、当接面が支柱４の長手方向と平行状態である突部によって各辺を当接する場合、更には図１１（ｃ）に示すように、当接面が部分的に支柱４の長手方向と直交し（基板３から外側に位置している部分が、当該直交部分を示す。）かつ部分的に平行状態である突部によって各角部に当接する実施形態を適宜選択することができる。
【００４８】
前記突部５は少なくとも上側方向に突出していることを必要としているのは、支柱４上に載置している基板３の水平方向外周部と当接する必要性に由来しているが、このような突部５としては、図９（ａ）、（ｂ）において後述するようなナット５及び鍔部５のように、支柱４の長手方向の全周囲方向に突出する実施形態もまた当然採用可能である。
【００４９】
図５（ｃ）は、矩形状の基板３を３本の支柱４に載置している実施形態を示しており、１個の突部の当接面は、支柱４の長手方向と直交しているが、他の２個の突部の当接面は、支柱４の長手方向と部分的に直交しかつ部分的に平行状態として、基板３の２箇所の角部と当接している。
【００５０】
図５（ｃ）の実施形態においても、重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る三角形ＡＢＣが存在することによって、基板３を安定した状態にて支持しており、更には隣接し合う３個の位置Ｐ、Ｑ、Ｒからの３本の法線同士の交差角度が１８０度よりも小さいことによって、基板３の水平方向の移動を当然阻止することができる。
【００５１】
図５（ｄ）は、矩形状の基板３を４本の突部に載置し、かつ４本の突部の当接面が何れも基板３の長手方向と直交している実施形態を示している。
図５（ｃ）の実施形態においても、重心（Ｇ）を内側に位置するように配置し得る四角形ＡＢＣＤが存在することによって、基板３を安定した状態にて支持しており、更には隣接し合う４個の位置Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓからの４本の法線同士の交差角度が１８０度よりも小さいこと（実際には約９０度）によって、基板３の水平方向の移動を当然阻止することができる（以下の実施形態は、何れも矩形状の基板３の載置した状態を示しており、当該載置の領域において重心（Ｇ）を内側に位置するようにして囲むような載置による４個の位置が必ず存在すること、及び隣接する４個の当接位置の支持部位の存在し、当該当接位置からの法線同士の交差角度が１８０度より小さいこと（実際には約９０度）が自明であることから、これらに関する説明は省略する。）。
尚、図５（ｄ）の実施形態とは別に、後述するような矩形状の基板３の水平方向周囲部及びその近傍を支柱４に載置し、かつ当接面を支柱４の長手方向と平行状態であるような実施形態もまた当然実現可能である（但し、当該実施形態は図示されていない。）。
【００５２】
図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の各実施形態においては、２本ないし４本の支柱４に基板３を載置する場合があるが、粉末１２及び造形物１３の重量如何によっては、支柱４の数を更に増加させることが当然可能である。
尚、テーブル２上に立設されている枠体７は、図５（ａ）、（ｂ）に示すように一体構成の場合と、図５（ｃ）、（ｄ）に示すように示すようにそれぞれ支柱４ごとに対応して分離されている構成との双方を選択することができる。
【００５３】
基板３の形態は特に限定される訳ではないが、図５（ｃ）、（ｄ）のような矩形状の場合（就中、正方形の場合）が通常採用されており、稀には図５（ａ）、（ｂ）のように、実施形態は、円形を採用される場合がある。
【００５４】
図６は、矩形状の基板３を支柱４上に載置し、かつ基板３の水平方向周囲部に対する当接に、枠体７の内壁が関与している実施形態を示す。
【００５５】
当該実施形態のうち、図６（ａ）の平面図は、相互に向い合いかつ接続した状態にある４本の支柱４上に基板３を載置し、かつ当接面が支柱４の長手方向と平行状態による１個の突部、及び３個の内壁によって４辺からなる基板３の水平方向周囲部に当接している実施形態を示し、図６（ｂ）の平面図及び（ｃ）の鉛直方向側断面図は、交互に接続している４本の支柱４上に基板３を載置し、かつ基板３の４辺からなる水平方向周囲部が、何れも枠体７の内壁を当接している実施形態を示している（尚、図６（ａ）に対応する鉛直方向断面図は、図６（ｃ）との対比、更には後述するような図７（ｂ）、図９（ａ）、（ｂ）、図１０（ａ）、（ｂ）が鉛直方向断面図によって十分理解可能なので省略した。）。
【００５６】
図６（ａ）及び（ｂ）、（ｃ）のような実施形態もまた、当然安定した載置状態、及び水平方向の移動を阻止し得る状態を実現している。
【００５７】
図７は、矩形状の基板３を支柱４及び段差部７３上に載置している実施形態を示す。
【００５８】
そして、図７（ａ）及び（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は、それぞれ基板３を相互に向い合いかつ接続した状態にある２本の支柱４と１個の段差部７３に載置している実施形態、相互に接続している２本の支柱４と相向い合う２個の段差部７３に載置している実施形態、相互に向い合いかつ接続した状態にある２本の支柱４と相互に隣接し合っている３個の段差部７３に載置している実施形態を示している（図７（ｃ）、（ｄ）に対応する各鉛直方向側断面図については、図７（ｂ）、及び後述する図９（ａ）、（ｂ）、図１０（ａ）、（ｂ）から十分理解可能なので省略した。）。
【００５９】
通常段差部７３は、広幅の載置状態を実現し、しかも既に説明したように、基板３を載置している段差部７３に隣接する内壁を、基板３の水平方向周囲部に当接しているので、基板３を安定した状態にて支持することができると共に、設計上極めて有意義である。
【００６０】
上記実施形態においては、段差部７３の数は通常１ないし３に限定されるが、支柱４の数は特に限定される訳ではない。
但し、段差部７３の数が増加するに従って、必要とする支柱４の数は減少する傾向にある。
【００６１】
図７（ａ）及び（ｂ）は、当接面が支柱４の長手方向と部分的に直交しかつ部分的に平行状態である突部を採用しており、図７（ｃ）、（ｄ）は当接面が当該長手方向に対し直交している突部、及び当接面が当該長手方向に対し平行状態である突部を採用しているが、突部の当接面の形態は、支柱４の配置状態に対応して適宜選択すれば良い。
【００６２】
図８は、矩形状の基板３を段差部７３のみによって載置している実施形態を示す。
【００６３】
そして図８（ａ）は、基板３が相向い合う２個の段差部７３上に載置され、かつ水平方向周囲部の４辺が全て実際の内壁に当接している実施形態を示しており、図８（ｂ）は基板３を段差部７３に載置し、かつ４個の内壁に当接している実施形態を示す。
【００６４】
これらの実施形態の場合には、支柱４への載置を伴わずに、基板３の安定した載置状態及び当接状態を実現することが可能となる。
【００６５】
図５（ｄ）、図７（ｂ）に示す各実施形態のように、突部の当接面が支柱４の長手方向と直交している場合及び図５（ａ）、（ｂ）のように、前記当接面がそのような直交部分を含んでいる場合には、突部５につき、各支柱４に沿って移動及び固定の何れをも選択可能とする実施形態を採用することができる。
【００６６】
このような実施形態としては、図９（ａ）に示すように、支柱４としてボルト４を採用し、突部としてナット５を採用する構成、及び図９（ｂ）に示すように、突部５として支柱４の長手方向に摺動自在の鍔部５を採用し、当該鍔部５においては、前記長手方向と直交する方向に固定用ボルト６を螺合しており、しかも当該固定用ボルト６の先端が前記長手方向周囲部と当接し得る構成が好適に採用されている。
【００６７】
前記各実施形態の場合には、図９（ａ）のナット５、及び図９（ｂ）の鍔部５の水平方向の位置を調整し、かつそれぞれボルト４及び支柱４における所定位置に固定することによって、色々な形状及び大きさの基板３に対応することができ、しかも基板３の水平方向の位置を調整することができる。
【００６８】
図６（ａ）、図７（ｄ）に示す各実施形態のように、突部の当接面が支柱４の長手方向と平行状態である場合、及び図５（ｃ）、図７（ａ）のように、前記当接面が支柱４の長手方向と直交しかつ部分的に平行状態であるような場合には、前記突部を中途部位に固定している支柱４につき枠体７に対し、固定及び移動の何れをも選択可能とする実施形態もまた採用可能である。
【００６９】
このような実施形態としては、図１０（ａ）に示すように、ボルト４を枠体７に螺合している構成、更には図１０（ｂ）に示すように、枠体７を挿貫している支柱４を枠体７及び当該枠体７の水平方向突出部７１に対し摺動自在としたうえで、当該水平方向突出部７１においては、支柱４の長手方向と直交する方向に固定用ボルト６を螺合しており、しかも当該ボルト６の先端が前記長手方向周囲部と当接し得る構成が好適に採用されている（尚、図１０（ａ）は、突部の当接面が平行状態の場合を示しており、図１０（ｂ）は、突部の当接が部分的に直交しかつ部分的に平行状態である場合を示している。
【００７０】
前記実施形態においても、図１０（ａ）に示すボルト４の位置及び図１０（ｂ）に示す支柱４の位置を外側からの操作によって調整することによって、色々な形状及び大きさの基板３に対応することができ、しかも基板３の水平方向の位置を調整することができる。
尚、図１０（ａ）の場合のように、支柱４としてボルト４を採用する場合には、当該ボルト４が回転しながら突設方向に移動することから、突部においても、当該ボルト４と螺合する構成を採用し、基板３に対し上側が突設した状態を維持すると良い。
【００７１】
図６（ｂ）及び図８（ａ）、（ｂ）による実施形態の場合には、枠体７の内壁であるため、支柱４に突部５を備える必要がない。
【００７２】
突部を設けることを不要としていることによって基板３の水平方向周囲部が常に枠体７の内壁と当接していることから、一見必要以上に広い面積の基板３を使用せざるを得ないが如くである。
【００７３】
しかしながら、上記実施形態の場合であっても、必ずしも広い面積の基板３を用意する必要はない。
【００７４】
具体的には図１２に示すように、枠体７の下端において支柱４の突設方向及びその反対側に両側脚部７２を突設し、当該両側脚部７２にそれぞれ挿通用孔７０を設ける一方、テーブル２においても各支柱４の突設方向によって複数個の挿通用孔２０を設け、双方の挿通用孔２０、７０に対し、止着用杵８又は止着用ボルト８を挿貫し、当該挿貫する位置を選択することによって、各枠体７を固定する位置を調整しかつ選択することによって、色々な形状及び大きさの基板３に対応すると共に、基板３の水平方向の位置を調整することができる。
【００７５】
本発明において採用し得る粉末１２としては、金属粉末、セラミック粉末、樹脂によって被覆された金属又はセラミック粉末１２、樹脂によって被覆された砂等を採用することができる。
【００７６】
前記の基本構成において使用する基板３は、最初に前記（ａ）の工程によって粉末１２が基板３面に撒布され、かつ前記（ｂ）の焼結によって粉末１２が固化した際、接着することを必要としており、基板３の素材としては、前記接着が可能であるならば、どのような素材でも選択可能である。
【００７７】
通常、前記のように例示した粉末１２と同一素材を採用する場合が多く、この場合には必然的に基板３は三次元造形製品の最下端部を構成することになる。
【００７８】
言うまでもなく、発明の前記基本構成、更には前記各実施形態においても、基板３面上に前記（ａ）の粉末１２の撒布及び平坦化工程を実現し、基板３の上側において（ｂ）の焼結工程を実現し、更には上側に前記（ｃ）の成形工程を実現しながら、三次元造形製品の製造を行うことになる。
【００７９】
以下、実施例に即して説明する。
【実施例１】
【００８０】
実施例１は、図１に示すように、支柱４のうち、基板３の水平方向周囲部が当接していない側の領域及び前記水平方向周囲部が当接していない枠体７に対し、粉末支持板９を架設していることを特徴としている。
【００８１】
このような実施例１においては、図１（ａ）の状態から（ｂ）のように粉末支持板９を除去することによって、図１（ｃ）、（ｄ）に示すように、粉末１２をテーブル２と枠体７によって形成される空間内に載積させた状態としたうえで、テーブル２を上側に移動することによって、粉末１２をコンテナの外側に排出することが可能となる。
【実施例２】
【００８２】
実施例２は、図２に示すように、テーブル２において、枠体７を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ当該傾斜状態の下端部の位置において、焼結されなかった粉末１２を排出するための排出用穴２１を設けていることを特徴としている。
【００８３】
粉末１２をテーブル２及び基板３面上に積載した場合（例えば、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、図６（ａ）、図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示す実施形態の場合）、及び基板３面上に積載した場合（例えば、図６（ｂ）及び図８（ａ）、（ｂ）に示す実施形態の場合）において、全粉末１２が焼結の対象となる訳ではない。
【００８４】
ましてや、実施例１のように粉末支持板９上に残留している粉末１２は、当然焼結及び造形の対象とならない。
【００８５】
このような場合、焼結されない粉末１２が造形物１３を基板３と共にテーブル２から上側に取り出した後には、必然的にテーブル２の低部に残留することになる。
【００８６】
実施例２の場合には、当該残留した粉末１２は前記傾斜状態している低部に沿って下降し、最低位置にある穴を介して造形タンク１の低部に排出することができ、当該粉末１２を再利用することができる。
尚、前記傾斜状態を設ける領域として、枠体７を立設している位置の内側の全領域だけでなく、当該位置から更に内側に離れた位置の全領域をも選択可能としているのは、図６（ｂ）及び図８に示す実施形態において、図１２に示すように、枠体７を支柱４の当接方向によって固定する位置を選択可能とする場合、枠体７を突設している位置から所定の内側の領域範囲に至るまで、テーブル２が平坦形状であることを必要としていることに由来している。
【実施例３】
【００８７】
実施例３は、図３に示すように、テーブル２において、枠体７を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、相向かい合う一方側端から、他方側端にかけて順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ他方側端においては、２本の鉛直方向支柱１１を介して枠体７を支持しており、かつ前記２本の鉛直方向支柱１１の間には、当該２本の鉛直方向支柱１１の上端又は当該２本の鉛直方向支柱１１の何れか一方側において回動自在である開閉板１０を備えていることを特徴としている。
【００８８】
実施例３においても、実施例２の場合と同様に、焼結及び造形の対象とならなかった粉末１２をテーブル２面上に落下させたうえで、鉛直方向支柱１１の間に位置している開閉板１０を開くことによって、テーブル２面から粉末１２を外部に排出することが可能となり、実施例２と同じような効率的な粉末１２の外部への排出及び当該粉末１２の再利用を実現することができる（尚、図３は２本の鉛直方向支柱１１の上端において、回動自在である開閉板１０が開いた状態を示しているが、造形が行われている段階では、当然開閉板１０は鉛直方向支柱１１の間に位置しており、閉じた状態を示すことになる。）。
尚、実施例３においても、傾斜状態を設ける領域として、枠体７を立設する位置から更に内側に離れた位置の全領域をも対象としているが、その根拠は実施例２の場合と同様である。
【実施例４】
【００８９】
実施例４は、図４に示すように、基板３の一部を構成している金属板３２の上側部分３１に、三次元造形製品を形成している粉末１２と同一の粉末１２を素材とする成形層を固着していることを特徴としている。
【００９０】
このように、金属板３２上に三次元造形製品を形成している粉末１２と同一の素材を採用することによって、前記（ｂ）の焼結に基づく粉末１２の固化に際し、前記粉末１２との固着を実現することができる。
【００９１】
前記成形層は、三次元造形製品の最下層を形成する一方、造形が終了した段階において、前記最下端に位置している金属板３２を切断することになる。
【００９２】
このような切断によって、金属板３２は次の金属工程における基板３面の一部を形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明は、基板を使用している三次元造形製品の製造装置の全構成に利用することができる。
【符号の説明】
【００９４】
１  造形タンク
２  テーブル
２０  挿通用孔
２１  排出用穴
３  基板
３１  基板のうちの粉末を採用した上側部分
３２  基板のうちの下側の金属板
４  支柱及びその実施形態であるボルト
５  突部及びその実施形態であるナット並びに鍔部
６  固定用ボルト
７  枠体
７０  挿通用孔
７１  水平突出部
７２  両側脚部
７３  段差部
８  止着用杵又は止着用ボルト
９  粉末支持板
１０  開閉板
１１  鉛直方向支柱
１２  粉末
１３  造形物
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
造形タンク内にて上下方向に移動可能なテーブルの上側に位置し、上側に隣接している粉末が焼結によって固化した際、当該粉末と接着し得る素材を少なくとも表面部分にて有している基板及び前記テーブルの上側にて金属又は非金属の粉末を撒布し、かつ当該撒布された粉末の上側表面を平坦化したうえで、最上位に位置している造形対象となる領域に、電磁波又は電子線を所定の厚さの層に沿って照射することによって焼結層を形成した後、当該焼結が行われた端部及び／又は上面に対する切削によって成形を行う工程を順次反復している三次元造形製品の製造装置において、テーブル上に枠体を立設し、当該枠体から水平方向に突接した支柱及び／又は当該枠体の上端のうちテーブルと向い合う内側を低い位置とし内壁を隔てた外側を高い位置としている段差部の前記低い位置の上に基板を載置し、かつ支柱において少なくとも上側方向に突出した状態にて備えられている突部及び／又は枠体の内壁を基板の水平方向周囲部に対して当接している三次元造形製品の製造装置。
【請求項２】
基板を２本以上の支柱上のみに載置し、かつ基板の水平方向周囲部を２個以上の突部に当接していることを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項３】
円形状の基板を２本以上の支柱に載置し、かつ突部の当接面が前記円形に沿った円弧状を呈していることを特徴とする請求項２記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項４】
矩形状の基板を３本以上の支柱に載置し、かつ支柱の長手方向に直交している当接面を有する突部が、矩形辺に当接するか、又は前記長手方向と部分的に直交しかつ部分的に平行状態である当接面を有する突部が矩形状の角部に当接していることを特徴とする請求項２記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項５】
矩形状の基板を相互に向い合いかつ接続した状態にある４本以上の支柱に載置し、基板の水平方向周囲部の４辺を突部及び内壁の双方に当接するか、又は内壁のみに当接することを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項６】
矩形状の基板を支柱及び段差部上に載置し、かつ基板の水平方向周囲部を突部及び枠体の内壁に当接させていることを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項７】
水平方向周囲部の１辺及びその内側近傍を段差部上に載置し、前記１辺と相向い合う他の１辺及びその内側近傍を支柱に載置しており、かつ前記他の１辺を当接面が前記支柱の長手方向と平行状態にある突部に当接しており、他の３辺を突部又は枠体の内壁に当接していることを特徴とする請求項６記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項８】
矩形状の基板の相向かい合う２辺及びその内側近傍、又は合い向かい合う４辺及びその内側近傍を段差部に載置し、水平方向周囲部の４辺が枠体の内壁に当接していることを特徴とする請求項１記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項９】
枠体の下端において支柱の突設方向及びその反対側に両側脚部を突設し、当該両側脚部にそれぞれ挿通用孔を設ける一方、テーブルにおいても各支柱の突設方向によって複数個の挿通用孔を設け、双方の挿通用孔に対し、止着用杵又は止着用ボルトを挿貫し、当該挿貫する位置を選択することによって、各枠体を固定する位置を調整しかつ選択し得る請求項８記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１０】
基板の水平方向周囲部に対する当接面が支柱の長手方向と直交しているか又は直交している部分を含む突部につき、当該支柱に沿って固定及び移動の何れをも選択可能であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１１】
支柱としてボルトを採用し、突部としてナットを採用することを特徴とする請求項１０記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１２】
突部として支柱の長手方向に摺動自在の鍔部を採用し、鍔部においては、前記長手方向と直交する方向に固定用ボルトを螺合しており、しかも当該ボルトの先端が前記長手方向周囲部と当接し得ることを特徴とする請求項１０記載の三次元造形製品の製造設置。
【請求項１３】
基板の水平方向周囲部に対する当接面が当該支柱と平行状態であるか、又は部分的に直交しかつ部分的に平行状態である突部を中途部位に係着している支柱につき、枠体に対し、固定及び移動の何れをも選択可能としたうえで前記枠体を挿貫していることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１４】
ボルトを枠体に螺合していることを特徴とする請求項１３記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１５】
支柱を枠体及び当該枠体の水平方向突出部に対し摺動自在としたうえで、当該水平方向突出部においては、支柱の長手方向と直交する方向に固定用ボルトを螺合しており、しかも当該ボルトの先端が前記長手方向周囲部と当接し得ることを特徴としている請求項１３記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１６】
支柱のうち、基板の水平方向周囲部が当接していない側の領域及び前記水平方向周囲部が当接していない枠体に対し、粉末支持板を架設していることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１７】
テーブルにおいて、枠体を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ当該傾斜状態の下端部の位置において、焼結されなかった粉末を排出するための排出穴を設けていることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１８】
テーブルにおいて、枠体を支えている位置の全内側又は当該位置から離れた更なる内側の領域に、相向かい合う一方側端から、他方側端にかけて順次下降するような傾斜状態を形成し、かつ他方側端においては、２本の鉛直方向支柱を介して枠体を支持しており、かつ前記２本の鉛直方向支柱の間には、当該２本の鉛直方向支柱の上端又は当該２本の鉛直方向支柱の何れか一方側において回動自在である開閉板を備えていることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６の何れか一項記載の三次元造形製品の製造装置。
【請求項１９】
基板の一部を構成している金属板の上側部分に、三次元造形製品を形成している粉末と同一の粉末を素材とする成形層を固着していることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８の何れか一項に記載の三次元造形製品の製造装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2011218742.tif 000023
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2011218742.tif 000024