(57)【要約】【課題】本発明は、フレキシブル性を備えるにもかかわらず、ガスバリア性に優れ、寸法安定性が良好であり、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、フレキシブル性を有する第１ガラス基板、および上記第１ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第１補強層を有する第１積層体と、フレキシブル性を有する第２ガラス基板、および上記第２ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第２補強層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有する光学装置であって、上記第１補強層および上記第２補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする光学装置を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル性を有する第１ガラス基板、および前記第１ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第１補強層を有する第１積層体と、
フレキシブル性を有する第２ガラス基板、および前記第２ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第２補強層を有する第２積層体と、
前記第１積層体および前記第２積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有する光学装置であって、
前記第１補強層および前記第２補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記第１補強層と前記第２補強層とが同一の厚みであり、かつ同一の材料からなることを特徴とする、請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記第１積層体が、前記第１積層体上に第１補強基板が形成されたものであり、
前記第２積層体が、前記第２積層体上に第２補強基板が形成されたものであり、
さらに、前記第１補強基板と前記第２補強基板とは熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記第１補強基板と前記第２補強基板とが厚みが同一であり、かつ同一の材料からなることを特徴とする、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の光学装置。
【請求項５】
前記第１積層体が、前記第１ガラス基板と前記第１補強層との間に着色層が形成された構成を有するカラーフィルターであることを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブルな光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在のフラットパネルディスプレイは、その用途をテレビやデスクトップモニターのみならず、携帯用ノートパソコン、携帯電話、携帯用ページャー、携帯用ゲーム機等の携帯型電子機器等にまで広く拡大していることから、さらなる軽量化、小型化、および、薄型化が求められている。その一方で、近年中に実施化が計画されている地上デジタル放送の本格普及や、今後のユビキタスネットワークのさらなる進化に対応して、モバイルディスプレイの普及拡大が確実に予測されることから、これに備えて現在のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型・軽量であるフレキシブルディスプレイの実用化が求められている。
【０００３】
ここで、フレキシブルディスプレイは、従来のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型化・軽量化されるという利点を有するのみならず、自在に変形させることも可能になることから、例えば、ローラブル（巻き取り可能な）モバイルディスプレイを実現することもでき、よりモバイルに適したディスプレイを得ることができるという利点もある。また、フレキシブルディスプレイは長尺のフィルムを用いて連続プロセスによって製造することも可能になることから、大量生産性に優れるという利点も期待されている。
【０００４】
ところで、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、および電子ペーパー等に代表されるフラットパネルディスプレイを構成する部材としては、これまで主としてガラス基板が用いられてきたところ、フレキシブル化するに当たっては当該ガラス基板に代えて、可撓性を有する基板を用いる必要がある。従来、このような可撓性を有する基板としては、樹脂製フィルムが用いられることが一般的であった（例えば、特許文献１、２）。しかしながら、ガラス基板に代えて樹脂製フィルムが用いられた場合には次のような問題点があった。
まず第１に、樹脂製フィルムはガラス基板と比較して寸法安定性が劣るため、ディスプレイ等を作製する際にトータルピッチがズレてしまうという問題点があった。
第２に、樹脂製フィルムはガラス基板と比較してガスバリア性に劣るため、作製されたディスプレイの耐久性が劣るという問題点があった。このような問題点は、特に有機ＥＬディスプレイを作製する場合に顕著であった。
さらに第３に、樹脂製フィルムはバリア性を向上させるために、例えば、ＳｉＯＮ膜を形成すると透過率の低下が起こるという問題や、樹脂製フィルム上にＳｉＯＮ膜、オーバーコート層、およびＳｉＯＮ膜をこの順で積層した場合には、膜厚が光の波長の数倍（１００ｎｍ〜２００ｎｍ）のときに光学干渉が起こり、透過率の低下につながるという問題点もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−６２５９１号公報
【特許文献２】特開２００３−８９１６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、フレキシブル性を備えるにもかかわらずガスバリア性に優れ、寸法安定性が良好であり、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明は、フレキシブル性を有する第１ガラス基板、および上記第１ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第１補強層を有する第１積層体と、フレキシブル性を有する第２ガラス基板、および上記第２ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第２補強層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有する光学装置であって、上記第１補強層および上記第２補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする光学装置を提供する。
【０００８】
本発明によれば、上記第１積層体および上記第２積層体が、フレキシブル性を有するガラス基板（第１ガラス基板、第２ガラス基板）に樹脂材料からなる補強層（第１補強層、第２補強層）が積層された構成を有するものであることにより、本発明の光学装置を全体としてフレキシブル性を有するものにすることができる。また、ガラス基板が用いられていることにより、第１積層体および第２積層体をトータルピッチ（寸法安定性）が優れたものにできる。
また、本発明によれば、第１積層体および第２積層体にガラス基板（第１ガラス基板、第２ガラス基板）が用いられていることによりガスバリア性に優れるため、外部からの酸素および水蒸気等の侵入による光学素子の劣化を抑制することができる。
また、上記第１補強層と上記第２補強層との熱膨張係数が実質的に同一であることにより、第１積層体と第２積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体として寸法安定性が高い光学装置を得ることができる。
【０００９】
さらに、本発明の光学装置は、上記第１積層体および第２積層体がフレキシブル性を有することから、例えば、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセスを適宜採用することにより、低コストで製造することが可能である。
このようなことから、本発明によればガスバリア性に優れ、フレキシブル性を備えるにもかかわらず寸法安定性が高く、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することができる。
【００１０】
本発明においては上記第１補強層と上記第２補強層とが同一の厚みであり、かつ同一の材料からなることが好ましい。これにより、本発明に用いられる第１補強層と第２補強層との熱膨張係数を同一にすることができるため、第１積層体と第２積層体との寸法安定性の差に起因する表示品質の低下を防止し、幅広い温度領域において良好な画像を表示させることが可能になるからである。
【００１１】
本発明においては、上記第１積層体が、上記第１積層体上に第１補強基板が形成されたものであり、上記第２積層体が、上記第２積層体上に第２補強基板が形成されたものであり、さらに、上記第１補強基板と上記第２補強基板とは熱膨張係数が実質的に同一であることが好ましい。これにより、第１積層体および第２積層体の強度を向上させることができる結果、本発明の光学装置がフレキシブル性を有することに起因して破損しやすくなることを防止できるからである。また、上記第１補強基板と上記第２補強基板とは熱膨張係数が実質的に同一であることにより、熱膨張係数の差に起因する表示品質の低下を防止し、幅広い温度領域において良好な画像を表示させることが可能になるからである。このような観点から、本発明においては、上記第１補強基板と上記第２補強基板とが同一の厚みであり、かつ同一の材料からなることが好ましい。
【００１２】
また本発明においては、上記第１積層体が上記第１ガラス基板と上記第１補強層との間に調色層が形成された構成を有するカラーフィルターであることが好ましい。これにより、本発明の光学装置をフレキシブル性を有する表示装置として用いることが可能になるからである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学装置は、フレキシブル性を備えるにもかかわらずガスバリア性に優れ、寸法安定性が良好であり、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の光学装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に用いられる第１積層体の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明において第１積層体をカラーフィルターとして用いる場合の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明において第１積層体をカラーフィルターとして用いる場合の他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明において第１積層体をカラーフィルターとして用いる場合の他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の光学装置について詳細に説明する。
【００１６】
上述したように、本発明の光学装置は、フレキシブル性を有する第１ガラス基板、および上記第１ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第１補強層を有する第１積層体と、フレキシブル性を有する第２ガラス基板、および上記第２ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第２補強層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有するものであって、上記第１補強層および上記第２補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とするものである。
【００１７】
このような本発明の光学装置について図を参照しながら説明する。図１は本発明の光学装置の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように本発明の光学装置１は、光学素子１０が、第１積層体２０および第２積層体３０によって挟持された構成を有するものである。ここで、本発明の光学装置１において上記第１積層体２０は、フレキシブル性を有する第１ガラス基板２１と、当該第１ガラス基板２１上に形成され、樹脂材料からなる第１補強層２２とを有するものである。また、本発明の光学装置１において上記第２積層体３０は、フレキシブル性を有する第２ガラス基板３１と、当該第２ガラス基板３１上に形成され、樹脂材料からなる第２補強層３２とを有するものである。そして、本発明の光学装置１は、上記第１補強層２２および上記第２補強層３２の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とするものである。
【００１８】
なお、図１においては光学素子として有機ＥＬ素子が用いられた例を示したが、本願に係る光学装置は、このような例に限定されるものではなく任意の機能を有する光学素子を用いることができるものである。
【００１９】
本発明によれば、上記第１積層体および上記第２積層体が、フレキシブル性を有するガラス基板（第１ガラス基板、第２ガラス基板）に樹脂材料からなる補強層（第１補強層、第２補強層）が積層された構成を有するものであることにより、本発明の光学装置を全体としてフレキシブル性を有するものにすることができる。また、ガラス基板が用いられていることにより、第１積層体および第２積層体をトータルピッチ（寸法安定性）が優れたものにできる。
また、本発明によれば、第１積層体および第２積層体にガラス基板（第１ガラス基板、第２ガラス基板）が用いられていることによりガスバリア性に優れるため、外部からの酸素および水蒸気等の侵入による光学素子の劣化を抑制することができる。
また、上記第１補強層と上記第２補強層との熱膨張係数が実質的に同一であることにより、第１積層体と第２積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体として寸法安定性が高い光学装置を得ることができる。
さらに、本発明の光学装置は、上記第１積層体および第２積層体がフレキシブル性を有することから、例えば、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセスを適宜採用することにより、低コストで製造することが可能である。
このようなことから、本発明によればガスバリア性に優れ、フレキシブル性を備えるにもかかわらず寸法安定性が高く、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することができる。
【００２０】
本発明の光学装置は少なくとも第１積層体、光学素子、および第２積層体を有するものであり、必要に応じて他の任意の構成を有してもよいものである。
以下、本発明に用いられる各構成について順に説明する。
【００２１】
１．第１積層体
まず、本発明に用いられる第１積層体について説明する。本発明に用いられる第１積層体は、フレキシブル性を有する第１ガラス基板と、上記第１ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第１補強層とを有するものである。
【００２２】
（１）第１ガラス基板
本発明に用いられる第１ガラス基板について説明する。本発明に用いられる第１ガラス基板はフレキシブル性を有するものである。本発明の光学装置は第１積層体に用いられる第１ガラス基板がフレキシブル性を有するものであることにより、全体としてフレキシブル性を有するものとすることができ、かつガスバリア性にも優れ、さらに低コストで製造することも可能となるのである。
【００２３】
本発明に用いられる第１ガラス基板としては、フレキシブル性を有するものであれば特に限定されるものではない。ここで、上記「フレキシブル性を有する」とは、ガラス基板が応力によって容易に曲がり変形し、復元できる程度の厚みと剛性を有することを意味するものである。そして、本発明においては、少なくとも曲げ半径１００ｍｍで繰り返し１０回の曲げ試験を行った際に割れやヒビが生じない場合に、フレキシブル性を有すると評価する。もっとも、本発明に用いられる第１ガラス基板としては、より好ましくは曲げ半径５０ｍｍ、さらに好ましくは曲げ半径３０ｍｍで同様に評価した場合でも、割れやヒビが生じない程度のフレキシブル性を有することが好ましい。なお、当該フレキシブル性の程度は、主として第１ガラス基板の厚みを調整することにより制御することができる。
【００２４】
本発明に用いられる第１ガラス基板の厚みは、第１ガラス基板にフレキシブル性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、ガスバリア性等の諸性能を勘案して適宜決定することができるものである。中でも本発明に用いられる第１ガラス基板の厚みは１μｍ〜１５０μｍの範囲内であることが好ましく、２０μｍ〜１２０μｍの範囲内であることがより好ましく、５０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが特に好ましい。第１ガラス基板の厚みが上記範囲よりも厚いと、本発明の光学装置の用途によっては光学装置全体のフレキシブル性が不十分になってしまう場合があるからである。また、例えば、本発明の光学装置を有機ＥＬ表示装置として使用した場合、有機ＥＬ素子の発光層からの光が第１ガラス基板を入射した位置から、第１ガラス基板から光が出射した位置までの距離が大きくなり、光の混色が起きやすくなる場合があるからである。一方、第１ガラス基板の厚みが上記範囲よりも薄いと、第１ガラス基板のガスバリア性が不十分になってしまう可能性があるからである。また第１ガラス基板の厚みが薄いと強度不足でクラックが入ったり、割れたりするからである。
【００２５】
本発明に用いられる第１ガラス基板の厚みは、後述する第２ガラス基板の厚みとの差が０〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、第２ガラス基板の厚みと同一であることが好ましい。これにより、第１ガラス基板と第２ガラス基板との熱膨張係数をほぼ同一にすることができ、本発明の光学装置をさらにトータルピッチのズレが少ないものとすることができるからである。
【００２６】
本発明に用いられる第１ガラス基板のガスバリア性としては、本発明の光学装置の用途や、本発明の光学装置に用いられる光学素子の種類等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる第１ガラス基板のガスバリア性は、酸素透過率（ＯＴＲ）が１×１０−３ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましく、１×１０−４ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることがより好ましい。
また、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が１×１０−５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、１×１０−６ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましい。これよりも水蒸気透過率が高いと水蒸気、酸素などにより光学素子が劣化する懸念があるからである。特に光学素子として有機ＥＬ素子が用いられる場合には発光特性が失われ、ダークスポットなどが発生するなどの問題が生じる可能性があるからである。
ここで、上記酸素透過率および水蒸気透過率の値は、酸素透過率はＭＯＣＯＮ社のＯＸ-ＴＲＡＮ装置を用い、２３℃、９０％ＲＨの環境下、水蒸気透過率はＭＯＣＯＮ社のＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ装置を用い、４０℃、９０％ＲＨの環境下で測定することができる。
【００２７】
本発明に用いられる第１ガラス基板は、ディスプレイ用に用いられる無アルカリガラスが望ましい。具体的には、ＯＡ１０（日本電気硝子社）、ＡＮ１００（旭硝子社）、ＮＡ３５（ＮＨテクノガラス社）、ＥＡＧＬＥ（コーニング社）、および１７３７材（コーニング社）などガラス製造各社のガラスを、適宜厚みを調整して用いることが望ましい。その他ソーダライム材、低屈折ガラス、高屈折ガラスなど用いても良く、基本的にガスバリア性に優れるガラスであれば積層可能である。
なお、ガラスの厚みを調整する方法としては、例えば、任意の厚みを有するガラス基板を機械を用いた機械研磨法、またはエッチング等の化学的研磨法で研磨することにより厚みを小さくする方法を挙げることができる。このような方法によれば、ガラス基板の厚みを任意に調整することができることに加えて、研磨後のガラス基板の表面粗さ（Ｒａ）を小さくできるという利点がある。
【００２８】
（２）第１補強層
次に、第１積層体に用いられる第１補強層について説明する。本発明に用いられる第１補強層は樹脂材料からなるものであり、上記第１ガラス基板上に形成されることにより、当該第１ガラス基板の破損を防止するものである。また、本発明に用いられる第１補強層は、後述する第２補強層と熱膨張係数が実質的に同一であるものである。
【００２９】
なお、本発明において熱膨張係数が実質的に同一とは、第１補強層と第２補強層の熱膨張係数の差が、±１０％以下であることを意味するものである。もっとも、後述するように第１補強層は第２補強層と厚みが同一であり、同一の樹脂材料からなることが好ましい。
【００３０】
本発明に用いられる第１補強層としては、後述する第２補強層と熱膨張係数が実質的に同一であり、上記第１ガラス基板を所望の程度に補強できるものであれば特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる第１補強層は、熱膨張係数が第１ガラス基板の熱膨張係数により近いことが望ましい。第１補強層の熱膨張係数が第１ガラス基板の熱膨張係数により近いことにより、第１補強層と第１ガラス基板との熱膨張係数の差に起因して第１積層体が反ったり、撓んだりしてしまうことを防止できるからである。このような観点から、第１補強層の熱膨張係数は第１ガラス基板の熱膨張係数の２倍以内であることが好ましい。より具体的には、第１補強層の熱膨張係数は０．９ｐｐｍ／℃〜３．０ｐｐｍ／℃の範囲内であることが好ましく、０．９ｐｐｍ／℃〜２．５ｐｐｍ／℃の範囲内であることがより好ましく、０．９ｐｐｍ／℃〜２．０ｐｐｍ／℃の範囲内であることがさらに好ましい。
【００３１】
ここで、上記第１補強層の熱膨張係数は、例えば、熱機械的分析装置Ｔｈｅｒｍｏ  Ｐｌｕｓ  ＴＭＡ８３１０（リガク社製）によって、昇温速度１０℃／ｍｉｎで、引っ張り加重：１〜１０ｇ程度で測定することができる。
【００３２】
第１補強層に用いられる樹脂材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体の部分ケン化ポリマーなどを含むポリビニルアルコール系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ＰＥＴ（ポリテレフタル酸エチレン）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などのポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびポリサルホン樹脂等を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの樹脂材料であっても好適に用いられることができるが、なかでもＰＥＴまたはＰＥＮが用いられることが特に好ましい。ＰＥＴおよびＰＥＮは熱膨張係数が他の樹脂と比較して相対的に小さく、第１ガラス基板の熱膨張係数に近いからである。
【００３３】
なお、第１補強層に用いられる樹脂材料は１種類のみであってもよく、あるいは２種類以上であってもよい。また、第１補強層に用いられる樹脂材料は、後述する第２補強層に用いられる樹脂材料と同一であることが好ましい。
【００３４】
また第１補強層の厚みは、上記第１ガラス基板のフレキシブル性を損なわない範囲内であれば特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる第１補強層の厚みは、１０μｍ〜５００μｍの範囲内であることが好ましく、５０μｍ〜２５０μｍの範囲内であることがより好ましく、７５μｍ〜１５０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いと、第１補強層による第１ガラス基板の補強効果が不十分になる場合があるからである。また、厚みが薄いとバリア性が不十分になる場合があるからである。一方、厚みが上記範囲よりも厚いと、第１積層体のフレキシブル性が損なわれるおそれがあるからである。
【００３５】
なお、第１補強層に用いられる樹脂材料として、後述する第２補強層と同一の樹脂材料が用いられる場合、本発明における第１補強層の厚みは、第２補強層の厚みと同一であることが好ましい。これにより、第１補強層と第２補強層との熱膨張係数を同一にすることができ、本発明の光学装置を寸法安定性の高いものにできるからである。
【００３６】
（３）任意の構成
本発明に用いられる第１積層体は、少なくとも上記第１ガラス基板、および第１補強層を有するものであるが、必要に応じて他の任意の構成を有してもよいものである。第１積層体に用いられる任意の構成としては、本発明の光学装置の用途や使用態様等に応じて適宜所望の機能を有する構成を用いることができるものであり、特に限定されるものではない。このような任意の構成としては、例えば、上記第１補強層上に配置された第１補強基板を挙げることができる。このような第１補強基板が用いられることにより、本発明に用いられる第１積層体をさらに補強し、光学装置の製造工程等において破損することをより効果的に防止することができる。
【００３７】
図２は、本発明に用いられる第１積層体が上記第１補強基板を有する場合の一例を示す概略断面図である。図２に例示するように、本発明に用いられる第１積層体２０は、第１補強層２２上に第１補強基板２３が形成されているものであってもよい。
【００３８】
上記第１補強基板としては、本発明に用いられる第１積層体を補強することができるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の光学装置の用途等に応じて適宜、任意の材料からなる基板を選択して用いることができる。本発明に用いられる第１補強基板を構成する材料としては、例えば、ガラス等の無機材料からなる基板や樹脂材料等からなる基板を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの基板であっても第１補強基板として好適に用いることができるが、なかでも樹脂材料からなる基板が用いられることが好ましい。樹脂材料からなる基板は、可撓性に優れるため第１積層体のフレキシブル性を損なうことなく補強することが可能になるからである。
【００３９】
第１補強基板として用いられる樹脂材料の例としては、例えば、ＰＥＴ、ＰＥＮ等を挙げることができる。
【００４０】
また、本発明に用いられる第１補強基板の厚みとしては、本発明に用いられる第１補強基板の可撓性を、第１積層体のフレキシブル性を損なわない程度にできる範囲内であれば特に限定されるものではなく、第１補強基板を構成する材料等に応じて適宜決定することができる。中でも本発明に用いられる第１補強基板の厚みは１０μｍ〜５００μｍの範囲内であることが好ましく、５０μｍ〜２５０μｍの範囲内であることがより好ましく、７５μｍ〜１５０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも厚いと、第１積層体のフレキシブル性が不十分になってしまう場合があるからである。また厚みが厚いとコスト高になるという問題点も生じ得る。一方、厚みが上記範囲よりも薄いと、第１補強基板を使用することによる補強効果が不十分となってしまう場合があるからである。また、厚みが薄いと強度不足で第１積層体が反り易くなってしまうおそれもあるからである。
【００４１】
なお、後述する第２積層体に第２補強基板が用いられる場合、第１補強基板は第２補強基板と熱膨張係数が実質的に同一であることが好ましい。ここで、熱膨張係数が実質的に同一であるとは、第１補強基板と第２補強基板との熱膨張係数の差が±１５％以下であることを意味するものである。もっとも、後述する第２積層体に第２補強基板が用いられる場合、本発明に用いられる第１補強基板は、第２補強基板と厚みが同一であり、かつ同一の材料からなるものであることが好ましい。これにより、第１積層体と第２積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体としてより寸法安定性が高い光学装置を得ることができるからである。
【００４２】
（４）第１積層体
本発明に用いられる第１積層体は、上述したように第１ガラス基板、および第１補強層を有するものであり、本発明の光学装置の用途に応じて任意の構成を採用することにより、所望の機能を奏する部材として使用することができるものである。ここで、本発明に用いられる第１積層体の使用態様としては、本発明の光学装置の用途に応じて適宜決定することができるものであるが、一例として本発明の光学装置を表示装置として用いる場合に、第１積層体をカラーフィルターとして用いる態様を挙げることができる。より具体的には、上記光学素子として液晶素子、有機ＥＬ素子、および電子ペーパー用素子等を用い、本願の光学装置を表示装置として用いる場合においては、上記第１ガラス基板と上記第１補強層との間に調色層を形成することにより、本発明における第１積層体をカラーフィルターとして用いることができる。
【００４３】
図３は、本発明における第１積層体の使用態様の一例を示す概略断面図である。図３に例示するように、本発明における第１積層体２０は、第１ガラス基板２１と第１補強層２２との間に調色層２４（２４Ｒ、２４Ｇ，２４Ｂ）を形成することにより、カラーフィルターとして用いることができる。
【００４４】
このように、本発明における第１積層体をカラーフィルターとして使用する場合、上記調色層としては、本発明に用いられる光学素子の機能に応じて所望の色を表示させることができるものであれば特に限定されるものではない。このような調色層の態様としては、調色層が着色層である態様（第１態様）、調色層が着色層と、上記着色層上に形成された色変換層とからなる態様（第２態様）、調色層が色変換層である態様（第３態様）が挙げられる。
以下、それぞれの態様について説明する。
【００４５】
（第１態様）
本態様において、調色層とは着色層を指すものである。上記図３に例示したように、本態様の第１積層体２０は、調色層が、着色層２４（図３中では、赤色着色層２４Ｒ、緑色着色層２４Ｇ、青色着色層２４Ｂ）からなるものである。なお、本態様においては、図３に示すように各着色層２５の間に遮光部２４を形成してもよい。
【００４６】
各色の着色層は、画素に対応して規則的に配列される。着色層の配列としては、各色の着色層が巨視的に見て平均的に配列されていれば特に限定されるものではなく、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等が挙げられる。
【００４７】
上記着色層は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである。
赤色着色層に用いられる着色剤としては、例えばペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色着色層に用いられる着色剤としては、例えばハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色着色層に用いられる着色剤としては、例えば銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００４８】
また、着色層に用いられるバインダ樹脂としては、透明な樹脂が挙げられる。
着色層の形成方法として印刷法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
また、着色層の形成方法としてフォトリソグラフィー法を用いる場合、バインダ樹脂としては、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂が使用される。通常は、電子線硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂が用いられる。
紫外線硬化性樹脂を使用する場合には、バインダ樹脂に光重合開始剤が単独または複数組み合わせて使用される。また、紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を用いてもよい。
【００４９】
また、着色層の形成方法としては、例えば着色剤をバインダ樹脂に混合、分散または可溶化させて着色層形成用塗工液を調製し、この着色層形成用塗工液を用いてフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法、あるいは、着色層形成用塗工液を用いてインクジェット法によりパターニングする方法が用いられる。
【００５０】
本発明に用いられる着色層の膜厚としては、一般的なカラーフィルタに用いられる着色層の膜厚と同様とすることができる。
【００５１】
（第２態様）
本態様において調色層とは、着色層と上記着色層上に形成された色変換層とからなるものを指す。
【００５２】
図４は、本態様の第１積層体の一例を示す概略断面図である。図４に示すように、本態様の第１積層体２０は、調色層が、着色層２４（図４中では、赤色着色層２４Ｒ、緑色着色層２４Ｇ、青色着色層２４Ｂ）と、各色の着色層２４上に形成された色変換層２４’（図４中では、赤色色変換層２４’Ｒ，緑色色変換層２４’Ｇ、および青色色変換層２４’Ｂ）と、からなるものである。なお、本態様においては、図４に示すように各着色層２４の間に遮光部２５を形成してもよい。
【００５３】
本態様によれば、調色層が、着色層と、着色層上に形成された色変換層とからなるものであることから、光学装置の発光層からの光の色相補正が可能となり、３原色のバランスの優れた第１積層体とすることができる。
【００５４】
（ｉ）着色層
本態様に用いられる着色層については、上述したものと同様であるため、ここでの記載は省略する。
【００５５】
（ｉｉ）色変換層
本態様に用いられる色変換層は、着色層に対応して設けられるものであり、通常は赤色色変換層、緑色色変換層および青色色変換層の３種類の色変換層を有するものである。本態様においては、３種類の色変換層が全て着色層上に形成されていてもよく、３種類の色変換層のうち１種類または２種類の色変換層が着色層上に形成されていてもよい。
【００５６】
また、本態様に用いられる色変換層の構成は、本発明の第１積層体を適用する有機ＥＬ素子の発光層の構成により異なるものとなる。
【００５７】
上記色変換層に用いられる材料は、入射光を吸収して各色の蛍光を発する色変換蛍光体が樹脂中に分散または溶解されたものであり、３色とも通常の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに使用される色変換層の材料と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００５８】
上記色変換層においては、色変換層が形成されていない場合に透過層が形成されていてもよい。
透過層が形成されている場合、この透過層は、赤色着色層上に形成されている場合は赤色光を透過するものであり、緑色着色層上に形成されている場合は緑色光を透過するものであり、青色着色層上に形成されている場合は青色光を透過するものであれば特に限定されるものではなく、例えば色変換蛍光体を含まず、通常用いられる樹脂からなるものとすることができる。
【００５９】
上記色変換層の厚みとしては、０．５μｍ〜３０μｍ程度であることが好ましく、より好ましくは５μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは８μｍ〜１５μｍの範囲内である。色変換層の厚みが厚すぎると色変換層の構成による段差（凹凸）が大きくなり、その表面を平坦化するのが困難となるからである。逆に、色変換層の厚みが薄すぎると、色変換効率が低下する可能性があるからである。また、色変換層の厚みを薄膜化するために色変換層中の有機蛍光体の含有量を増やすと濃度消光が生じるおそれがある。
【００６０】
色変換層の形成方法としては、例えば上記各色変換蛍光体および樹脂を必要に応じて溶剤、希釈剤もしくは適宜な添加剤と共に混合して、各色変換層形成用塗工液を調製し、この各色変換層形成用塗工液を用いてフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法、あるいは、上記の各色変換層形成用塗工液を用いて印刷法によりパターニングする方法が用いられる。
【００６１】
なお、本態様において着色層と色変換層とが上記ガラス基板上に積層される順番は、着色層、色変換層の順であってもよく、またこの逆順であってもよい。
【００６２】
（第３態様）
本態様において調色層とは、色変換層を指す。
【００６３】
図５は、本態様の第１積層体の一例を示す概略断面図である。本態様の第１積層体２０は、調色層が、色変換層２４’（図５中では、赤色色変換層２４’Ｒ，緑色色変換層２４’Ｇ、および青色色変換層２４’Ｂ）からなるものである。なお、図５に例示するように、本態様においては、色変換層２４’の間に遮光部２５を有していてもよい。
【００６４】
本態様に用いられる色変換層は、発光層の発光光源の種類に応じて特に限定されるものではなく、色変換層が所望の色相補正を行うことができれば特に限定されるものではないが、上記色変換層が青系の光を赤色に変化させる赤色色変換層、および青系の光を緑色に変換させる緑色色変換層を有する色変換層であることが好ましい。色変換層への入射光は一般に青色光の成分を含むものであるか、あるいは青色光および緑色光の成分を含むものである場合が多いからである。発光層からの光が青色光であるため、青色色変換層を形成する必要はないが、色変換層を平坦化させるために、赤色色変換層および緑色色変換層と同等の厚みを有する透過層を形成してもよい。
【００６５】
赤色色変換層、緑色色変換層、および透過層については、上述したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００６６】
（その他）
本発明においては、調色層が着色層であることが好ましい。着色層に含まれる顔料を調整することにより、第１積層体からなるカラーフィルターの発色を良好なものに調整することができるからである。
【００６７】
２．第２積層体
次に、本発明に用いられる第２積層体について説明する。上述したように、本発明に用いられる第２積層体は、フレキシブル性を有する第２ガラス基板と、上記第２ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第２補強層とを有するものである。
本発明の光学装置は、本発明に用いられる第２積層体の第２ガラス基板がフレキシブル性を有するものであることにより、全体としてフレキシブル性を有するものとすることができ、かつフレキシブル性を有することにより、ガスバリア性にも優れ、かつＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセス等により低コストで製造することも可能となるのである。
【００６８】
上記第２積層体に用いられる第２ガラス基板については、上記第１積層体に用いられるものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。
【００６９】
また、上記第２補強層については、上述した第１補強層と熱膨張係数が実質的に同一である樹脂材料からなるものであれば特に限定されるものではない。第２補強層に用いられる樹脂材料については、上記第１補強層とほぼ同様のものを用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。さらに本発明に用いられる第２補強層は、熱膨張係数が第２ガラス基板の熱膨張係数により近いことが望ましい。第２補強層の熱膨張係数が第２ガラス基板の熱膨張係数により近いことにより、第２補強層と第２ガラス基板との熱膨張係数の差に起因して第２積層体が反ったり、撓んだりしてしまうことを防止できるからである。このような観点から、第２補強層の熱膨張係数は第２ガラス基板の熱膨張係数の２倍以内であることが好ましい。より具体的には、第２補強層の熱膨張係数は０．９ｐｐｍ／℃〜３．０ｐｐｍ／℃の範囲内であることが好ましく、０．９ｐｐｍ／℃〜２．５ｐｐｍ／℃の範囲内であることがより好ましく、０．９ｐｐｍ／℃〜２．０ｐｐｍ／℃の範囲内であることがさらに好ましい。
【００７０】
なお、上記第２積層体に用いられる第２ガラス基板、および第２補強層は上記第１積層体に用いられるものと同一の材料からなり、かつ同一の厚みからなるものであることが好ましい。これにより、第１積層体と、第２積層体との熱膨張係数をほぼ一致させることができるため、本発明の光学装置を、寸度変化に伴う表示品質の低下が生じにくいものとすることができるからである。
【００７１】
また、本発明に用いられる第２積層体には、上記第２ガラス基板および第２補強層以外の任意の構成を有するものであってもよい。本発明に用いられる任意の構成としては、本発明の光学装置の用途や使用態様等に応じて適宜所望の機能を有する構成を用いることができ、特に限定されるものではない。このような任意の構成としては、上記第２補強層上に配置される第２補強基板を挙げることができる。このような第２補強基板が用いられることにより、本発明に用いられる第２積層体を補強し、光学装置の製造工程等において破損することをより効果的に防止することができる。
ここで、上記第２補強基板としては、上述した第１補強基板と同一のものを用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
【００７２】
なお、上述した第１積層体に第１補強基板が用いられる場合、第２補強基板は第１補強基板と熱膨張係数が実質的に同一であることが好ましい。ここで、「熱膨張係数が実質的に同一である」の意味については前述したとおりである。さらに、上述した第１積層体に第１補強基板が用いられる場合、本発明に用いられる第２補強基板は、第１補強基板と厚みが同一であり、かつ同一の材料からなるものであることが好ましい。これにより、第１積層体と第２積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体としてより寸法安定性が高い光学装置を得ることができるからである。
【００７３】
３．光学素子
次に、本発明に用いられる光学素子について説明する。本発明に用いられる光学素子としては、本発明の光学装置の用途に応じて適宜選択されるものである。ここで、本発明における光学素子とは、光学的機能を有するものであり、当該光学的機能とは、例えば、発光機能、画像表示機能等を挙げることができる。上記光学素子として発光機能を有するものを使用した場合、本発明の光学装置は発光装置（照明装置）として使用することができ、上記光学素子として画像表示機能を有するものを使用した場合、本発明の光学装置を表示装置として使用することができる。
【００７４】
上記画像表示機能を有する光学素子としては、例えば、液晶表示装置に用いられる液晶セル、有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ素子、および電子ペーパー装置に用いられる電子ペーパー用素子（粒子移動タイプ、液晶タイプ、電気化学タイプ等）等を挙げることができる。ここで、上記光学素子として液晶セルを用いることにより本発明の光学装置は液晶表示装置となり、有機ＥＬ素子を用いることにより有機ＥＬ表示装置となり、さらに電子ペーパー用素子を用いることにより電子ペーパー装置となる。
【００７５】
上記液晶セル、有機ＥＬ素子、および電子ペーパー用素子としては特に限定されるものではなく、一般的に公知の素子を用いることができる。
なお、本発明においてはこれらのいずれの素子であっても好適に用いることができるが、第１積層体および第２積層体に、それぞれ第１ガラス基板、第２ガラス基板が用いられていることにより、第１積層体および第２積層体はガスバリア性に優れたものになっている。このため、本発明においては特に有機ＥＬ素子が用いられることが好ましい。また、光学素子として有機ＥＬ素子が用いられることにより、本発明の光学装置が有機ＥＬ表示装置となる場合、当該有機ＥＬ表示装置としてはパッシブマトリクス（ＰＭ）型であってもよく、あるいなアクティブマトリクス（ＡＭ）型であってもよい。
【００７６】
４．光学装置
上述したように、本発明の光学装置は、第１積層体と第２積層体との間に光学素子が挟持された構成を有するものであるが、本発明において光学素子が第１積層体と第２積層体との間に挟持される態様としては、本発明に用いられる光学素子の種類等に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されるものではない。したがって、本発明においては、第１積層体および第２積層体が、それぞれ第１ガラス基板および第２ガラス基板が光学素子側に配置されるように光学素子が挟持される態様であってもよく、あるいは反対に第１ガラス基板および第２ガラス基板が外側に配置されるように光学素子が挟持される態様であってもよい。例えば、上記光学素子として有機ＥＬ素子を用い、本発明の光学装置を有機ＥＬ表示装置として用いる場合においては前者の態様が好ましい。このような態様によればデガス等の影響により、有機ＥＬ素子が劣化してしまうことを防止できるからである。
【００７７】
５．光学装置の製造方法
本発明の光学装置は、上述したように第１積層体と第２積層体との間に光学素子が挟持せることができる方法により適宜製造することできる。このような方法としては、例えば、第１積層体を作製する第１積層体作製工程と、第２積層体を作製する第２積層体作製工程と、上記第１積層体および第２積層体を用い、光学素子を第１積層体および第２積層体で挟持させる封止工程とを用いる方法を例示することができる。また、第１積層体あるいは第２積層体上の一方に光学素子を直接形成した後、他方の積層体を当該光学素子上に配置する方法も用いることができる。
【００７８】
上記第１積層体作製工程、および第２積層体作製工程において第１積層体および第２積層体を作製する方法としては、上述したような構成を有する第１積層体および第２積層体を作製することができる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、任意の厚みのガラス基板を用い、当該ガラス基板上に樹脂材料からなる補強層を形成する補強層形成工程と、上記ガラス基板を研磨するガラス基板研磨工程と、を有する方法を例示することができる。このような方法により、第１積層体および第２積層体を作製することができる。また、このような方法によれば上記ガラス板研磨工程でガラス基板の厚みを任意に調整することができることに加え、ガラス基板の表面粗さ（Ｒａ）が小さいものとすることができるという利点がある。上記方法によれば、例えば、研磨後のガラス基板の表面粗さ（Ｒａ）を２ｎｍ以下にすることも可能となる。
【００７９】
上記補強層形成工程に用いられるガラス基板としては、フレキシブル性を有するものであってもよく、あるいはフレキシブル性を有しないものであってもよい。第１積層体作製工程において作製される第１積層体は、最終的にフレキシブル性を有するものとなるが、本工程に用いられるガラス基板がフレキシブル性を有しない場合であっても、後述するガラス基板研磨工程においてガラス基板の厚みが薄くされることにより、フレキシブル性が付与されるため、本工程においてはフレキシブル性の有無は問わないのである。むしろ、本工程においては、高い位置精度や厚み精度で調色層を形成することができるという観点から、本工程に用いられるガラス基板はフレキシブル性を有さないものであることが好ましい。したがって、上記研磨前のガラス基板の厚みは、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましく、０．３ｍｍ〜１．１ｍｍの範囲内であることがより好ましく、０．４ｍｍ〜０．７ｍｍの範囲内であることがさらに好ましい。
なお、第１積層体あるいは第２積層体の製造コストを抑えるには、量産されたガラス基板を用いることがよい。それ以外のガラス基板とコスト高になってしまう。またガラス基板研磨工程での負担を考えると研磨前のガラス基板は極力薄いものを用いるのが良いが、あまり薄すぎると製造ラインの搬送トラブルを招くおそれがある。
【００８０】
本発明に用いられるガラス基板としては、ディスプレイ用に用いられる無アルカリガラスが望ましい。具体的には、ＯＡ１０（日本電気硝子社）、ＡＮ１００（旭硝子社）、ＮＡ３５（ＮＨテクノガラス社）、ＥＡＧＬＥ（コーニング社）、および１７３７材（コーニング社）などガラス製造各社のガラスを用いることが望ましい。
その他ソーダライム材、低屈折ガラス、高屈折ガラスなど用いても良く、基本的にガスバリア性に優れるガラスであれば積層可能である。
【００８１】
次に、上記補強層形成工程について説明する。本工程において補強層を形成する方法としては、所望の樹脂材料を用いて所定の厚みの補強層を形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、樹脂材料を含有する補強層形成用組成物を上記ガラス基板上（調色層が形成されている場合は調色層上）に塗布した後、これを必要に応じて硬化させる方法や、あるいは所望の樹脂材料からなる樹脂フィルムをガラス基板上（調色層が形成されている場合は調色層上）に貼り合わせる方法等を挙げることができるが、この限りではない。なお、上記所望の樹脂材料からなる樹脂フィルムをガラス基板上に貼り合わせる方法の場合には、上記樹脂フィルムとガラス基板との間に接着剤層を介在させてもよい。
【００８２】
次に、上記ガラス基板研磨工程について説明する。本工程は上記補強層が形成されたガラス基板を補強層が形成された面とは反対側から研磨することにより、第１積層体および第２積層体がフレキシブル性を備える程度にガラス基板の厚みを低減する工程である。ここで、本工程においてガラス板を研磨する際には、補強層が形成されていることによってガラス基板の強度が向上されているため、この程度の厚みまでガラス基板を研磨したとしても、ガラス基板に破損等を生じることを著しく低減することができる。
【００８３】
本工程においてガラス基板を研磨する方法としては、ガラス基板の厚みを上記範囲内にすることができる方法であれば特に限定されるものではない。このような研磨方法としては、例えば、機械を用いた機械研磨法、エッチング等の化学的研磨法を挙げることができる。
機械研磨法としては、一般的な精密機器に用いられる無機材料からなる透明基板を研磨する方法と同様であるのでここでの説明は省略する。
また、化学的研磨方法としては、ドライエッチングであってもよいし、ウェットエッチングであってもよい。通常ウェットエッチングが好適に用いられる。これは、ウェットエッチングはコストや生産効率の点で有利であるからであり、かつ、化学反応で溶解が進行するため、エッチング剤を選択することにより、エッチング速度を制御することが容易であるからである。
【００８４】
本工程において研磨された後のガラス基板の厚みとしては、０．０１ｍｍ〜０．２ｍｍの範囲内であれば特に限定されるものではないが、なかでも０．０１ｍｍ〜０．１５ｍｍの範囲内であることがより好ましく、０．０５ｍｍ〜０．１ｍｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いとガラス基板研磨工程において研磨する際に、クラック、ピンホールなどが発生しやすくなるからである。また厚すぎると研磨後のガラス基板のフレキシブル性が不十分となる場合があるからである。なお、上述したように本工程において研磨されるガラス基板には補強層が形成されていることから、上記範囲にまでガラス基板を研磨したとしても、破損等を生じることなく、高い厚み精度で研磨することが可能である。
【００８５】
次に、上記封止工程について説明する。フレキシブル性を有する第１積層体および第２積層体を用い、光学装置を両積層体の間に挟まれるように封止する工程である。本工程において光学素子を第１積層体および第２積層体で封止する方法としては、上記光学素子を確実に封止できる方法であれば特に限定されるものではない。ここで、上記第１積層体および第２積層体はフレキシブル性を有するため、本工程をＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセスにより実施することができる。また、本工程においては、光学素子を封止するために必要に応じてシール材等を用いる方法も任意に用いることができる。
【００８６】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８７】
以下、実施例を示すことにより本発明についてより具体的に説明する。
【００８８】
［実施例］
ＯＡ１０（日本電気硝子社）のガラス基板（１５０×１５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍ）、に遮光部および着色層を作製した。ここで、遮光部はブラックレジスト（ＴＯＫ社製）をプレベーク（８０℃×１８０ｓｅｃ）後に厚み１μｍ程度になるよう塗布し、プレベーク後、マスク露光（露光量：１００ｍＪ／ｃｍ２程度）、現像（ＫＯＨ：１％溶液を用いて約６０ｓｅｃ現像した後、水洗６０ｓｅｃ）し、さらにポストベーク（２３０℃で３０分）することにより形成した。次いで、着色層を形成するため、着色レジストをＲ，Ｇ，Ｂの順、１色毎に、同様の方法で作製した。
次に、第１補強層としてＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を用い、これをＵＶ硬化型接着剤を用いて真空下で、上記ガラス基板の着色層が形成された側に張り合わせた。このとき、接着剤の膜厚は約５０μｍであった。貼り合せ後、ＵＶ光を照射しＵＶ硬化型接着剤を硬化させた。次に、フレキシブル性を出すために第１補強層を貼り合せたガラス基板を、着色層が形成された側とは反対側からポリッシュ研磨し、荒削りでガラス基板の厚みを０．７ｍｍから０．１１ｍｍまで薄膜化した。さらに仕上げ研磨によりガラス基板の厚みを０．１ｍｍの厚みに仕上げた。このようにして作製した第１積層体は、第１ガラス基板（０．１ｍｍ）、接着剤（０．０５ｍｍ）、第１補強層（０．１ｍｍ）を合わせたトータルで厚みが０．２５ｍｍであった。なお、仕上げ研磨後の第１ガラス基板の表面粗さ（Ｒａ）は２ｎｍ以下であった。また、作製した第１積層体のトータルピッチ（寸法安定性）は１．５μｍ／１００ｍｍ以下を達成した。ここで、トータルピッチの評価は、遮光部形成時に十字パターンをガラス基板の４つの角に形成しておき、十字パターンの中心座標を測定することで設計値に対する伸び縮みを評価する方法によって行った。測定装置は、ＳＩＭＣ−８００(ソキア社製)を用いた。評価に際して、測定装置の環境は２３．０℃で管理し、測定基板も２３．０℃になるまで測定ステージ上に保持した後、測定を行った。
【００８９】
作製した第１積層体上に、ＩＴＯ成膜、ＩＴＯ膜のパターニング、絶縁層、隔壁、有機ＥＬ素子（白色）、カソードを順次形成し、ＰＭ型の有機ＥＬ素子を作製した。
【００９０】
ＯＡ１０（日本電気硝子社）のガラス基板（１５０×１５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍ）、を用い、当該ガラス基板上に、ＵＶ硬化型接着剤を用いて第２補強層としてのＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を貼り合わせた。このとき、接着剤の膜厚は約５０μｍであった。
次に、第２補強層が形成された面とは反対側からガラス基板を研磨し、ガラス基板の厚みを０．１ｍｍとした。このようにして作製した第２積層体を、上記第１積層体上に形成された有機ＥＬ素子上に配置し、封止した。これにより有機ＥＬ表示装置を作製した。
【００９１】
［比較例］
ガラス基板に変えて、ＰＥＴフィルムにＳｉＯＮを１００ｎｍの厚みで積層させたバリアフィルムを用い、当該バリアフィルム上に実施例と同様の方法により着色層、および有機ＥＬ素子を作製した。
次に、ＰＥＴフィルムにＳｉＯＮを１００ｎｍ積層させたバリアフィルムを用い、当該バリアフィルムを、上記有機ＥＬ素子上に配置し、封止した。これにより有機ＥＬ表示装置を作製した。
【００９２】
［評価］
実施例、比較例において作製した有機ＥＬ表示装置について点灯試験を行った結果、実施例では水分などのデガスに起因する素子の劣化、ダークスポットは見られなかった。
これに対して比較例では、バリア性の不十分が起因すると見られる黒点（ダークスポット）が多数発生した。
【符号の説明】
【００９３】
１  …  光学装置
１０  …  光学素子
２０  …  第１積層体
２１  …  第１ガラス基板
２２  …  第１補強層
２３  …  第１補強基板
２４  …  調色層
２５  …  遮光部
３０  …  第２積層体
３１  …  第２ガラス基板
３２  …  第２補強層
【図１】
2011082070.tif 000003
【図２】
2011082070.tif 000004
【図３】
2011082070.tif 000005
【図４】
2011082070.tif 000006
【図５】
2011082070.tif 000007