(57)【要約】【課題】透光性部材同士の接合強度が強く剥離しない光学物品の提供【解決手段】第一透光性部材１１と第二透光性部材１２とこれらを分子接合するプラズマ重合膜１６とを積層して偏光変換素子１を構成した。プラズマ重合膜１６による分子接合Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉのシロキサン結合によって互いに強固なものとなり、かつ、プラズマ重合膜１６は弾性力を有するので、接合する透光性部材の線膨張係数が相違しても、この相違に対応することができる。プラズマ重合膜１６の厚さは接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加しているので、外縁部に異物が入り込んでも、その異物に対応してプラズマ重合膜が弾性変形するから、十分な接合強度を維持することができ、接合される第一透光性部材１１と第二透光性部材１２とが剥がれることがない。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の透光性部材が積層された積層光学部品であって、前記透光性部材の主面を接合面として分子接合するプラズマ重合膜が少なくとも一方の接合面に成膜されて形成され、
前記プラズマ重合膜の厚さが接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加している
ことを特徴とする積層光学部品。
【請求項２】
複数の透光性部材が積層された積層光学部品であって、前記透光性部材の主面を接合面として分子接合するプラズマ重合膜が向かい合う接合面の両面に成膜されて形成され、
前記プラズマ重合膜の一方の厚さは接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加し、もう一方のプラズマ重合膜の厚さは接合面の中心部と外縁部とで概ね同じ厚さである
ことを特徴とする積層光学部品。
【請求項３】
請求項１または２に記載された積層光学部品において、
前記複数の透光性部材は波長変換素子を構成するものであり、前記複数の透光性部材のうち少なくとも１つは水晶板である
ことを特徴とする積層光学部品。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載された積層光学部品を切断して形成された
ことを特徴とする光学物品。
【請求項５】
請求項４に記載された光学物品において、
前記複数の透光性部材のうち少なくとも１つは、前記プラズマ重合膜との接合面に光学機能膜が形成される
ことを特徴とする光学物品。
【請求項６】
透光性部材が投入されるチャンバーと、このチャンバーの内部にプラズマ重合膜の原料ガスを供給するガス供給部と、前記チャンバーの内部に対向配置される一対の電極と、この一対の電極のうち一方の電極に近接配置される載置部と、この載置部に設けられるとともに前記透光性部材を設置するトレイと、このトレイと前記透光性部材との間に前記原料ガスが回り込むことを許容するスペースを開けて前記透光性部材を保持する保持部とを備えた
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項７】
請求項６に記載された成膜装置において、
前記保持部は前記透光性部材の角部を支持するとともに前記トレイに設けられたスペーサを有する
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項８】
透光性部材が投入されるチャンバーと、このチャンバーの内部に設けられる載置部と、この載置部に設けられるとともにプラズマ重合膜が成膜された透光性部材を設置するトレイと、前記透光性部材に成形されたプラズマ重合膜の表面を活性化させる表面活性化ガスを供給する活性化媒体供給装置と、前記トレイと前記透光性部材との間に前記表面活性化ガスが回り込むことを許容するスペースを開けて前記透光性部材を保持する保持部とを備えた
ことを特徴とする活性化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は複数の透光性部材の間にプラズマ重合膜が挟まれて接合された積層光学部品、この積層光学部品から得られる光学物品及び透光性部材にプラズマ重合膜を成膜する成膜装置、並びにプラズマ重合膜を活性化する活性化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の透光性部材を互いに接合して成形される積層光学部品が知られている。例えば、積層光学部品として、複数の水晶板を接合して成形される波長変換素子、ガラス基材の端面にＰＳ変換膜又は反射膜等を形成し、これらを接合するとともに光出射面に水晶板を接着した偏光変換素子、さらには、三角柱状のガラス基材の端面に光学機能膜を形成し、これらを接合したプリズムが知られている。
これらの積層光学部品では、隣り合う透光性部材同士の接合に接着剤が用いられているものが多いが、接着剤を用いることの不都合を考慮して、他の接合方法による従来例がある。
【０００３】
従来例として、例えば、複数の水晶板同士を直接接合するものがある（特許文献１，２参照）。この直接接合は、水晶板の接合面を水の存在下でプラズマ処理して接合面にシラノール基を形成し、このシラノール基の存在する表面を合わせて脱水縮合させることにより、水晶板間がシラン結合によって接合されるものである。
また、従来例として、プラズマ重合法により形成された接合膜を透光性光学部材に形成し、この接合膜を間に挟んで隣り合う透光性光学部材同士を接合する方法がある（特許文献３）。
特許文献３で示される従来例では、チャンバーの内部に一対の電極を配置し、これらの電極の一方に成膜対象の透光性部材である基板を配置したプラズマ重合装置が用いられる。チャンバーの内部にプラズマ重合膜（接合膜）の原料ガスを送り、基板の一面に接合膜が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２３３１４３号公報
【特許文献２】特開２００８−２６８２４４号公報
【特許文献３】特開２００９−１７３９４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１，２で示される従来例は、水晶板同士を直接接合するものであるが、接合面の外周部分は通常汚れやすいので、接合強度が弱くなるという課題がある。特に、水晶板同士を接合する層は薄いもしくは接合する層が存在しないため、外周部分に異物が挟まると、水晶板が剥がれやすい。
【０００６】
特許文献３で示される従来例は、プラズマ重合法で形成された接合膜を介して基板を互いに接合するものであるが、特許文献１，２と同様に、接合面の外周部分が汚れやすいので、接合部分に異物、特に、外周部分に異物が挟まった場合には接合強度を十分に保てないという課題がある。
【０００７】
本発明の目的は、透光性部材同士の接合強度が強く剥離しない積層光学部品、光学物品、成膜装置及び活性化装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
［適用例１］
本適用例に係わる発明は、複数の透光性部材が積層された積層光学部品であって、前記透光性部材の主面を接合面として分子接合するプラズマ重合膜が少なくとも一方の接合面に成膜されて形成され、前記プラズマ重合膜の厚さが接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加していることを特徴とする積層光学部品。
この構成の本適用例では、プラズマ重合膜による分子接合はＳｉ−Ｏ−Ｓｉのシロキサン結合によって互いに強固なものとなる。プラズマ重合膜は弾性力を有するので、接合する透光性部材の線膨張係数が相違しても、対応することができる。
しかも、本適用例では、プラズマ重合膜の厚さが接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加しているので、外縁部に異物が入り込んでも、その異物に対応してプラズマ重合膜が弾性変形するから、十分な接合強度を維持することができ、接合される透光性部材が剥がれることがない。
【０００９】
［適用例２］
本適用例に係わる発明は、複数の透光性部材が積層された積層光学部品であって、前記透光性部材の主面を接合面として分子接合するプラズマ重合膜が向かい合う接合面の両面に成膜されて形成され、前記プラズマ重合膜の一方の厚さは接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加し、もう一方のプラズマ重合膜の厚さは接合面の中心部と外縁部とで概ね同じ厚さであることを特徴とする積層光学部品。
この構成の本適用例では、プラズマ重合膜の一方の厚さが中心部から外縁部へ向けて単調増加しているので、前述の通り、接合する透光性部材との間の外周部分に異物が挟まっても、この異物に対応してプラズマ重合膜が弾性変形するので、大きな接合強度を維持することができる。
しかも、プラズマ重合膜のもう一方の厚さは接合面の中心部と外縁部とで概ね同じ厚さとされているので、この透光性部材と隣接する透光性部材へのプラズマ重合膜の成膜作業を不要にできる。そのため、積層光学部品の生産性を向上させることができる。これに対して、特許文献３で示される従来例では、プラズマ重合装置で成膜されるのは基板の一面に限定されるため、多くの成膜工程が必要とされ、製造コストが高いものとなる。
【００１０】
［適用例３］
本適用例に係わる発明は、前記複数の透光性部材は波長変換素子を構成するものであり、前記複数の透光性部材のうち少なくとも１つは水晶板であることを特徴とする積層光学部品。
この構成の本適用例では、水晶板を含む透光性部材同士が剥がれることがない波長変換素子を提供することができる。
【００１１】
［適用例４］
本適用例に係わる発明は、前述の積層光学部品を切断して形成されたことを特徴とする光学物品。
この構成の本適用例では、積層光学部品を切断することで、複数の光学物品を同時に製造することが可能となり、生産性が向上する。
【００１２】
［適用例５］
本適用例に係わる発明は、前記複数の透光性部材のうち少なくとも１つは、前記プラズマ重合膜との接合面に光学機能膜が形成されることを特徴とする光学物品。
この構成の本適用例では、波長選択膜、偏光分離膜、反射膜等の光学機能膜を透光性部材に形成することで、プリズムや、偏光変換素子等の光学物品を容易に得ることができる。
【００１３】
［適用例６］
本適用例に係わる発明は、透光性部材が投入されるチャンバーと、このチャンバーの内部にプラズマ重合膜の原料ガスを供給するガス供給部と、前記チャンバーの内部に対向配置される一対の電極と、この一対の電極のうち一方の電極に近接配置される載置部と、この載置部に設けられるとともに前記透光性部材を設置するトレイと、このトレイと前記透光性部材との間に前記原料ガスが回り込むことを許容するスペースを開けて前記透光性部材を保持する保持部とを備えたことを特徴とする成膜装置。
この構成の本適用例では、透光性部材を設置したトレイをチャンバーの内部の載置部に載置する。この状態で、ガス供給部から原料ガスをチャンバー内に供給し、かつ、電極に電圧をかけることで、チャンバー内にプラズマが発生する。このプラズマのエネルギーによって原料ガス中の分子が分解し、この分解した分子が再結合することで重合し、この重合物がトレイに設置された透光性部材の表面（トレイ側の面とは反対側の面）に付着して重合膜となる。本適用例では、透光性部材とトレイとの間にスペースがあるので、このスペースに原料ガスが回り込み、透光性部材の裏面（トレイ側の面）に重合物が付着して重合膜となる。透光性部材の裏面に回り込む重合物は透光性部材の中心部に比べて外縁部が多く付着しやすい。そのため、透光性部材の表面に成膜されるプラズマ重合膜は中央部と外縁部とで厚さに変わりがないのに対して、透光性部材の裏面に成膜されるプラズマ重合膜は中央部に比べて外縁部の厚さが厚くなる。
従って、本適用例では、透光性部材の一面に中心部に比べて外縁部が厚く成形されたプラズマ重合膜と他面に厚さが中心部と外縁部とで同じプラズマ重合膜とを同時に成膜することができるので、生産性を向上させることができる。
【００１４】
［適用例７］
本適用例に係わる発明は、前記保持部は前記透光性部材の角部を支持するとともに前記トレイに設けられたスペーサーを有することを特徴とする成膜装置。
この構成の本適用例では、透光性部材のトレイ側の面に成膜されるプラズマ重合膜の厚さをスペーサーの高さを設定することで容易に調整することができる。そして、透光性部材がトレイに収納されることになるので、チャンバーの外で、スペーサーの高さを調整することで、トレイに対して適正に位置決めされた透光性部材をチャンバー内に設置することができる。そのため、成膜のための作業が容易となる。
【００１５】
［適用例８］
本適用例に係わる発明は、透光性部材が投入されるチャンバーと、このチャンバーの内部に設けられる載置部と、この載置部に設けられるとともにプラズマ重合膜が成膜された透光性部材を設置するトレイと、前記透光性部材に成形されたプラズマ重合膜の表面を活性化させる表面活性化ガスを供給する活性化媒体供給装置と、前記トレイと前記透光性部材との間に前記表面活性化ガスが回り込むことを許容するスペースを開けて前記透光性部材を保持する保持部とを備えたことを特徴とする活性化装置。
この構成の本適用例では、透光性部材の両面に成膜されたプラズマ重合膜を同時に活性化させることができる。そのため、活性化のための作業を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる光学物品を示す端面図。
【図２】第１実施形態のプラズマ重合装置を示す概略図。
【図３】第１実施形態の透光性部材がトレイに載置された状態を示す斜視図。
【図４】（Ａ）は前記透光性部材がトレイに載置された状態を示す平面図、（Ｂ）は、その側面図。
【図５】プラズマ重合膜形成工程を説明する概略図。
【図６】（Ａ）は貼合工程を説明する概略図、（Ｂ）は切断工程を説明する概略図。
【図７】（Ａ）は端部処理工程を説明する概略図、（Ｂ）（Ｃ）は位相差板設置工程を説明する概略図。
【図８】本発明の第２実施形態にかかる光学物品を示す概略図。
【図９】プラズマ重合膜形成工程を説明する概略図。
【図１０】貼合工程を説明する概略図。
【図１１】切断工程を説明する概略図。
【図１２】本発明の第３実施形態にかかる光学物品の一部を示す斜視図。
【図１３】第３実施形態の貼り合わせ工程を説明する断面図。
【図１４】成膜対象である基材のサイズと膜厚分布との関係を示すグラフ。
【図１５】サンプル内の膜厚分布を示すグラフ。
【図１６】成膜対象である基材のサイズと基材の中心部の接触角との関係を示すグラフ。
【図１７】サンプル内の接触角分布を示すグラフ。
【図１８】スペーサーの変形例を示すもので、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は平面図。
【図１９】スペーサーの異なる変形例を示すもので、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は平面図。
【図２０】保持部の変形例を示すもので、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。ここで、各実施形態の説明において、同一構成要素は同一符号を付して説明を省略もしくは簡略にする。
本発明の第１実施形態を図１から図７に基づいて説明する。第１実施形態は光学物品としてＰＳ変換素子と称される偏光変換素子１を例示したものである。この偏光変換素子１は、例えば、液晶プロジェクター装置に用いられている。
図１は第１実施形態にかかる偏光変換素子１の端面を示す図である。
図１において、偏光変換素子１は、第一透光性部材１１と第二透光性部材１２とが光学機能膜を挟んで交互に配置された板状部材である。本実施形態では、光学機能膜として偏光分離膜１３と反射膜１４とがあり、これらの偏光分離膜１３と反射膜１４とは交互に配置されている。第一透光性部材１１と第二透光性部材１２との偏光分離膜１３の光射出面側には選択的に位相差板１５が設けられている。
第一透光性部材１１及び第二透光性部材１２は、その光入射側の平面と光出射側の平面とが平行とされ、これらの平面に対して４５°の角度をもって反射膜１４と偏光分離膜１３とが互いに平行に配置されている。本実施形態では、偏光変換素子１は左右対称構造とされ、その中心部には位相差板１５が並んで配置されている。
第一透光性部材１１や第二透光性部材１２は、ともに、ケイ素含有のガラス、例えば、石英ガラスから成形されている。
【００１８】
偏光分離膜１３は、入射した光線束（Ｓ偏光光とＰ偏光光）を、Ｓ偏光の部分光束（Ｓ偏光光）とＰ偏光の部分光束（Ｐ偏光光）とに分離し、Ｓ偏光光を反射し、Ｐ偏光光を透過する機能を有する。
反射膜１４は入射したＳ偏光光をそのまま反射する機能を有する。
偏光分離膜１３は第一透光性部材１１の一面に形成され、反射膜１４は第一透光性部材１１の他面に形成されている。反射膜１４と第二透光性部材１２との間及び偏光分離膜１３と第二透光性部材１２との間には接合層を構成するプラズマ重合膜１６が設けられている。
これらのプラズマ重合膜１６のうち反射膜１４に隣接するプラズマ重合膜１６は４辺に沿って形成された外縁部が中心部に比べて厚さが厚い。つまり、このプラズマ重合膜１６の厚さが接合面の中心部から外縁部へ向けて単調増加している。中心部と外縁部との膜厚の比は第一透光性部材１１及び第二透光性部材１２の大きさとの関係で適宜設定されるが、例えば、第一透光性部材１１及び第二透光性部材１２の周縁の位置と中心位置との膜厚の比が０．８対１．０程度である。
一方、偏光分離膜１３に隣接するプラズマ重合膜１６は外縁部と中心部とにかかわらずほぼ同じ厚さである。
位相差板１５は、短冊状の１／２波長板であり、その幅寸法は偏光分離膜１３と反射膜１４との間の寸法と対応している。位相差板１５はＳｉＯ２の単結晶からなる水晶から形成され、この水晶は人工水晶でも天然水晶でもよい。
【００１９】
次に、第１実施形態にかかる光学物品を製造する装置について図２から図４に基づいて説明する。
図２はプラズマ重合装置の概略図である。本実施形態ではプラズマ重合装置１００は、第一透光性部材１１を成形するための板状の光学ブロック１１Ａの両面にプラズマ重合膜１６を成膜する成膜装置と、成膜されたプラズマ重合膜１６を活性化させる活性化装置とを兼ねる。このプラズマ重合装置１００の詳細な構造は特開２００８−３０７８７３号公報に記載されているので、以下、概略を説明する。
図２において、プラズマ重合装置１００は、チャンバー１０１と、このチャンバー１０１の内部にそれぞれ設けられる第１電極１１１及び第２電極１１２と、これらの第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加する電源回路１２０と、チャンバー１０１の内部にガスを供給するガス供給部１４０と、を備えた構造である。
【００２０】
第１電極１１１は、載置部１１１Ａを有するものであり、この載置部１１１Ａの上部にはトレイＴが着脱自在に取り付けられる。トレイＴは平面矩形状の光学ブロック１１Ａを複数収納するものである。
チャンバー１０１にはトレイＴと光学ブロック１１Ａとの間に後述する原料ガスを含む混合ガスを回り込ませるように排気をするガス排気装置１７０が接続されている。このガス排気装置１７０は第１電極１１１に隣接して設けられた排気管１７１と、この排気管１７１を通ってトレイＴの近傍の原料ガスを排出するためのポンプからなる吸引部１７２とを備えている。
【００２１】
電源回路１２０は、マッチングボックス１２１と高周波電源１２２とを備える。
ガス供給部１４０は、液状の膜材料を貯蔵する貯液部１４１と、液状の膜材料を気化して原料ガスに変化させる気化装置１４２と、キャリアガスを貯留するガスボンベ１４３とを備える。
これらの貯液部１４１、気化装置１４２及びガスボンベ１４３とチャンバー１０１とが配管１０２で接続されており、ガス状の膜材料とキャリアガスとの混合ガスをチャンバー１０１の内部に配置される第２電極１１２に供給するように構成される。この第２電極１１２は、内部が空洞とされ、チャンバー１０１に対向する部分が気化装置１４２と連通され、第１電極１１１に対向する部分に混合ガスを拡散させる複数の孔部Ｐが形成されている。
【００２２】
この原料ガスとしては、例えば、メチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン等のオルガノシロキサン、トリメチルガリウム、トリエチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルインジウム、トリエチルインジウム、トリメチル亜鉛、トリエチル亜鉛のような有機金属系化合物、各種炭化水素系化合物、各種フッ素系化合物等が挙げられる。
このような原料ガスを用いて得られるプラズマ重合膜は、これらの原料が重合してなるもの（重合物）、つまり、ポリオルガノシロキサン、有機金属ポリマー、炭化水素系ポリマー、フッ素系ポリマー等で構成されることになる。
【００２３】
図３は第１実施形態の平板状の光学ブロック１１ＡがトレイＴに載置された状態を示す斜視図であり、図４（Ａ）は光学ブロック１１ＡがトレイＴに載置された状態を示す平面図、（Ｂ）は、その側面図である。
図３及び図４において、トレイＴは平面矩形状の板状部材であり、その上面にはトレイＴとの間に原料ガスが回り込むことを許容するスペースＳを開けて平板状の光学ブロック１１Ａを保持する保持部としてのスペーサーＳＰが設けられている。本実施形態では、平板状の光学ブロック１１Ａが３列３行、合計９枚が同時に成膜される。
本実施形態では、ガス排気装置１７０が作動される際にスペースＳにある混合ガスを円滑に外部に排出するために、トレイＴの厚さ方向に複数の孔ＴＨが形成されている。そして、トレイＴを載置する載置部１１１Ａには孔ＴＨから排出された混合ガスを排気管１７１側に案内するための案内部１１１Ｂが形成されている。
【００２４】
スペーサーＳＰは３行３列に配置された平板状の光学ブロック１１Ａを配置するために、４行４列、合計１６個配置されており、光学ブロック１１Ａの４つの角部をそれぞれ支持するものである。スペーサーＳＰは短寸角柱状に形成され、その頂面の一部で光学ブロック１１Ａの角部底面と当接するものであり、光学ブロック１１Ａは、その自重によりスペーサーＳに支持される。
隣り合う光学ブロック１１Ａの間の寸法はｄであり、光学ブロック１１ＡとトレイＴとの間の間隔寸法はＨである。これらの寸法ｄ，Ｈは原料ガスが光学ブロック１１Ａの反射膜１４に回り込むのに十分な寸法とされ、例えば、寸法ｄは２ｍｍ以上であり、寸法Ｈは１ｍｍ以上とすると、光学ブロック１１Ａの外縁からの寸法Ｌが５ｍｍの範囲で外縁から回り込んで成膜されたプラズマ重合膜１６の厚さが均一となる。この厚さは偏光分離膜１３に成膜されるプラズマ重合膜１６の膜厚に対して１０〜２０％程度である。そして、総膜厚で５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下程度となるように、反射膜１４側に成膜することが好ましい。
活性化するための装置は、プラズマ重合膜１６の表面を活性化させる手段であれば、その具体的な構成を問うものではないが、本実施形態では、プラズマ重合膜１６にプラズマを照射する装置を用いる。ただし、本発明では、プラズマを照射するもの以外にも、オゾンガスを放出する装置を例示することができる。
【００２５】
次に、第１実施形態の光学物品の製造方法を図５から図７に基づいて説明する。
［光学機能膜形成工程］
第一透光性部材１１を成形するための光学ブロック１１Ａ及び第二透光性部材１２を形成するための光学ブロック１２Ａを予め用意する。これらの光学ブロック１１Ａ，１２Ａの材質は第一透光性部材１１や第二透光性部材１２と同じである。光学ブロック１１Ａ，１２Ａの板面を平滑に研磨して鏡面仕上げとする。
光学ブロック１１Ａの一面に偏光分離膜１３を形成し、他面に反射膜１４を形成する。偏光分離膜１３を形成するため、光学ブロック１１Ａの一方の平面に、まず、第１層として低屈折層を形成し、その上に、高屈折層を形成し、この低屈折層と高屈折層とを交互に形成するとともに、その最上層を高屈折層とする。これらの層の形成は従来と同様に蒸着等の方法で行う。反射膜１４は従来と同様の方法で成形する。
【００２６】
［プラズマ重合膜形成工程］
図５（Ａ）〜（Ｃ）に示される通り、光学ブロック１１Ａに設けられた偏光分離膜１３の最上層にプラズマ重合膜を形成する。
このプラズマ重合膜形成工程では、まず、装置外で、トレイＴに設けられたスペーサーＳＰの上に平板状の光学ブロック１１Ａを複数枚設置する。これらの光学ブロック１１Ａを設置したトレイＴをチャンバー１０１の内部の載置部１１１Ａに載置する。そして、ガス供給部１４０を作動させてチャンバー１０１の内部に原料ガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する。供給された混合ガスは第２電極１１２からチャンバー１０１の内部に充填され、図５（Ａ）に示される通り、光学ブロック１１Ａに設けられた偏光分離膜１３の最上層に原料ガスを含む混合ガスが露出される。本実施形態では、光学ブロック１１ＡとトレイＴとの間にスペースＳが形成されているので、混合ガスは偏光分離膜１３だけでなく、光学ブロック１１Ａの反射膜１４も露出されることになる。
【００２７】
第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加することにより、これらの電極１１１，１１２の間に存在するガスの分子が電離し、プラズマが発生する。このプラズマのエネルギーにより原料ガス中の分子が分解する。この分解した分子が再結合することで重合し、図５（Ｂ）に示される通り、重合物が偏光分離膜１３の最上層表面に付着、堆積する。これにより、図５（Ｃ）に示される通り、偏光分離膜１３の最上層にプラズマ重合膜１６が形成される。同様に、光学ブロック１１Ａの反射膜１４に重合物が付着、堆積し、光学ブロック１１Ａの反射膜１４にプラズマ重合膜１６が形成される。ここで、光学ブロック１１Ａの反射膜１４に積層されるプラズマ重合膜１６は重合物が光学ブロック１１Ａの端部から中央部に回り込むため、外縁部の厚さが中心部の厚さに比べて厚くなる。つまり、プラズマ重合膜の厚さは中央部から外縁部に向かって単調増加している。
その後、ガス排気装置１７０を作動させる。すると、吸引部１７２によってチャンバー１０１の中央部に偏在している混合ガスはトレイＴの近傍まで引き寄せられる。これにより、トレイＴと光学ブロック１１Ａとの間のスペースＳに混合ガスが入り込みやすくなり、光学ブロック１１Ａの反射膜１４にプラズマ重合膜１６の積層が促進する。
【００２８】
［表面活性化工程］
その後、プラズマ重合膜１６の表面をプラズマ照射により活性化させる。
第１電極１１１と第２電極１１２との間で放電させることで、プラズマが照射される。
本実施形態では、光学ブロック１１ＡとトレイＴとの間にスペースＳがあるので、偏光分離膜１３の表面に成膜されたプラズマ重合膜１６だけでなく反射膜１４に成膜されたプラズマ重合膜１６も同時に活性化される。
【００２９】
［貼合工程］
プラズマ重合膜１６が偏光分離膜１３と反射膜１４とにそれぞれ成膜された光学ブロック１１Ａと平板状の光学ブロック１２Ａとを交互に積層して貼り合わせ積層光学部品１Ａを製造する。
そのため、図６（Ａ）に示される通り、光学ブロック１１Ａの偏光分離膜１３に成膜されたプラズマ重合膜１６の上に光学ブロック１２Ａを隣接配置し、この光学ブロック１２Ａの上に別の光学ブロック１１Ａを隣接配置する。プラズマ重合膜１６の表面に平面が鏡面仕上げとされた光学ブロック１２Ａが貼り合わされる。なお、互いに接合された光学ブロック１１Ａ，１２Ａの端部をずらした状態で積層する。
【００３０】
［切断工程］
光学ブロック１１Ａ，１２Ａを複数積層して得られた積層光学部品１Ａを所定形状に切断する。
図６（Ｂ）に示される通り、積層された光学ブロック１１Ａ，１２Ａに、その平面に対して４５°の方向Ｌに沿って所定間隔毎に切断する。切断された１つのブロック１１Ｃを図７（Ａ）に示す。
［端部処理工程］
図７（Ａ）に示される通り、ブロック１１Ｃは端面が平行四辺形とされる。そして、ブロック１１Ｃには偏光分離膜１３と反射膜１４とが所定間隔毎に配置された構造となる。
その後、ブロック１１Ｃの所定位置をその平面に対して垂直な方向Ｖ１に沿って切断して端部処理をする。
［位相差板設置工程］
図７（Ｂ）に示される通り、切断されたブロック１１Ｃを左右に並べて接合し、これらのブロック１１Ｃの偏光分離膜１３の光射出面側に選択的に位相差板１５を固定する。固定方法は、接着剤を用いて固定する方法、プラズマ重合膜による分子接合などを用いることができる。これにより、偏光変換素子１が製造される（図７（Ｃ）参照）。
【００３１】
従って、第１実施形態では、次の作用効果を奏することができる。
（１）第一透光性部材１１と第二透光性部材１２とこれらを分子接合するプラズマ重合膜１６とを積層して偏光変換素子１を構成した。プラズマ重合膜１６による分子接合Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉのシロキサン結合によって互いに強固なものとなる。そして、プラズマ重合膜１６は弾性力を有するので、接合する透光性部材と光学膜との線膨張係数が相違しても、この相違に対応することができる。
（２）プラズマ重合膜１６は中心部に比べて外縁部の厚さが厚いので、外縁部に異物が入り込んでも、その異物に対応してプラズマ重合膜が弾性変形し、十分な接合強度を維持することができる。そのため、接合される第一透光性部材１１と第二透光性部材１２とが剥がれることがない。
【００３２】
（３）第一透光性部材１１を成形するための光学ブロック１１Ａと、第二透光性部材１２を成形するための光学ブロック１２Ａと、これらの光学ブロック１１Ａ，１２Ａの間に挟まれ隣り合う光学ブロック１１Ａ，１２Ａを分子接合するプラズマ重合膜１６とを積層して積層光学部品１Ａを成形し、このうち、光学ブロック１１Ａの両面にそれぞれプラズマ重合膜１６を成膜したので、この光学ブロック１１Ａの両側にそれぞれ光学ブロック１２Ａを配置し、これらを積層するだけで積層光学部品１Ａが製造される。そのため、積層光学部品１Ａを製造するために、光学ブロック１２Ａへのプラズマ重合膜の成膜作業を不要にできるため、積層光学部品１Ａの生産性、ひいては、偏光変換素子１の生産性を向上させることができる。
【００３３】
（４）積層光学部品１Ａを切断して偏光変換素子１を製造するため、複数の偏光変換素子１を同時に製造することが可能となり、生産性が向上する。
【００３４】
（５）光学ブロック１１Ａは、２つのプラズマ重合膜１６のうち１つのプラズマ重合膜１６との接合面に偏光分離膜１３が成膜され、残りのプラズマ重合膜１６との接合面に反射膜１４が成膜されたので、容易に偏光変換素子１を得ることができる。
【００３５】
（６）チャンバー１０１と、このチャンバー１０１の内部にプラズマ重合膜１６の原料ガスを供給するガス供給部１４０と、チャンバー１０１の内部に対向配置される第１電極１１１及び第２電極１１２と、第１電極１１１に近接配置される載置部１１１Ａと、この載置部１１１Ａに設けられるとともに光学ブロック１１Ａを設置するトレイＴと、このトレイＴとの間に原料ガスが回り込むことを許容するスペースＳを開けて光学ブロック１１Ａを保持するスペーサーＳＰとを備えて成膜装置を構成した。このチャンバー１０１の内部で発生したプラズマの重合物は光学ブロック１１Ａの第２電極１１２に対向する面に成膜された偏光分離膜１３の上に均一に成膜される。しかも、光学ブロック１１ＡとトレイＴとの間にスペースＳがあるので、このスペースＳに原料ガスを含む混合ガスが回り込み、光学ブロック１１Ａのトレイ側に面する反射膜１４にも重合物が付着してプラズマ重合膜１６が中心部では薄く外縁部では厚く成膜される。従って、中心部に比べて外縁部が厚く成形されたプラズマ重合膜１６と中心部と外縁部とで同じ厚さのプラズマ重合膜１６とを同時に成膜することができるので、生産性を向上させることができる。
【００３６】
（７）スペーサーＳＰは光学ブロック１１Ａの角部一面を支持する端面を有するので、光学ブロック１１Ａの支持位置がずれても、光学ブロック１１Ａを確実に支持することができる。
【００３７】
（８）トレイＴは載置部１１１Ａに着脱自在に設けられているので、チャンバー１０１の外で、スペーサーＳＰの高さを調整することで、トレイＴに対して適正に位置決めされた光学ブロック１１Ａをチャンバー１０１内に設置することができる。そのため、成膜のための作業が容易となる。
【００３８】
（９）チャンバー１０１と、このチャンバー１０１の内部に設けられる載置部１１１Ａと、トレイＴとの間に表面活性化ガスが回り込むことを許容するスペースＳを開けて光学ブロック１１Ａを保持するスペーサーＳＰとを備えて活性化装置を構成したので、短冊状光学ブロック１１Ａの両面に成膜されたプラズマ重合膜１６を同時に活性化させることができるため、プラズマ重合膜１６の活性化作業を容易に行うことができる。
（１０）成膜装置と活性化装置とを１台のプラズマ重合装置１００で構成したため、個別に装置を設ける場合に比べて装置設置スペースをとらないだけでなく、プラズマ重合膜１６の成膜後から活性化まで光学ブロック１１Ａを搬送しなくてもよいので、作業性が良好となる。
【００３９】
次に、本発明の第２実施形態を図８から図１１に基づいて説明する。
第２実施形態は光学物品としてプリズム２を例示したものである。このプリズム２は光ピックアップ用の素子として利用される。
図８はプリズム２の端面を示す図である。
図８において、プリズム２は、入射光側の第一透光性部材２１と、出射光側の第二透光性部材２２と、これらの第一透光性部材２１と第二透光性部材２２との間に設けられた光学機能膜２３と、この光学機能膜２３と第二透光性部材２２との間に設けられたプラズマ重合膜２６とを備えた構造である。
【００４０】
第一透光性部材２１と第二透光性部材２２とは、それぞれ端面が直角三角形とされた三角柱部材であり、その端面の形状及び長さは同じである。
第一透光性部材２１及び第二透光性部材２２は、同じ材料であり、ケイ素系のガラスであり、例えば、石英ガラスから成形されている。
光学機能膜２３は偏光分離作用を有する偏光分離膜であり、複数層から構成される。これらの層のうち奇数の層は、低屈折材料層である酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主体とし、偶数の層は、高屈折材料層である酸化チタン（ＴｉＯ２）を主体とする。
プラズマ重合膜２６は中心部に比べて外縁部の厚さが厚く形成されている。
【００４１】
次に、第２実施形態にかかる光学物品の製造方法を図９から図１１に基づいて説明する。
［光学機能膜形成工程］
第一透光性部材２１を成形するための光学ブロック２１Ａ及び第二透光性部材２２を形成するための光学ブロック２２Ａを予め用意する。これらの光学ブロック２１Ａ，２２Ａの材質は第一透光性部材２１や第二透光性部材２２と同じである。光学ブロック２１Ａ，２２Ａの板面を平滑に研磨して鏡面仕上げとする。
光学ブロック２１Ａの両面にそれぞれ光学機能膜２３を真空蒸着，イオンアシスト蒸着、イオンプレーティング法、スパッタ法等の従来と同様の方法を用いて形成する。
【００４２】
［プラズマ重合膜形成工程］
プラズマ重合膜形成工程と表面活性化工程とは第１実施形態のプラズマ重合装置１００を用いて実施する。
このプラズマ重合膜形成工程では、まず、装置外で、トレイＴに設けられたスペーサーＳＰの上に光学ブロック２１Ａを設置し、トレイＴをチャンバー１０１の内部の載置部１１１Ａに載置する。そして、ガス供給部１４０を作動させてチャンバー１０１の内部に原料ガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する。供給された混合ガスはチャンバー１０１の内部に充填され、図９（Ａ）に示される通り、光学ブロック２１Ａに設けられた光学機能膜２３に原料ガスを含む混合ガスが露出される。光学ブロック２１ＡとトレイＴとの間にスペースＳが形成されているので、混合ガスは第２電極１１２側に面する光学機能膜２３だけでなく、トレイＴ側に面する光学機能膜２３も露出されることになる。
【００４３】
第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加することにより、プラズマが発生する。このプラズマのエネルギーにより原料ガス中の分子が分解する。この分解した分子が再結合することで重合し、図９（Ｂ）に示される通り、重合物が光学機能膜２３に付着、堆積する。これにより、図９（Ｃ）に示される通り、光学機能膜２３にプラズマ重合膜２６が形成される。同様に、光学ブロック２１Ａの反対側の光学機能膜２３に重合物が付着、堆積し、光学ブロック２１Ａの他方の光学機能膜２３にプラズマ重合膜２６が形成される。ここで、光学ブロック２１Ａの光学機能膜２３に積層されるプラズマ重合膜２６は重合物が光学ブロック２１Ａの端部から中心部に回り込むため、外縁部の厚さが中心部の厚さに比べて厚くなる。また、本実施形態でも、ガス排気装置１７０の作動に伴って光学ブロック１１Ａの反射膜１４に混合ガスを回り込みやすくなる。
【００４４】
［表面活性化工程］
その後、プラズマ重合膜２６の表面を活性化させる（図９（Ｄ）参照）。
本実施形態でも、光学ブロック２１ＡとトレイＴとの間にスペースＳがあるので、光学ブロック２１Ａの両面の光学機能膜２３の表面にそれぞれ成膜されたプラズマ重合膜２６が同時に活性化される。
［貼合工程］
図１０（Ａ）に示される通り、プラズマ重合膜２６が両側の光学機能膜２３に成膜された光学ブロック２１Ａと、光学機能膜及びプラズマ重合膜が形成されていない光学ブロック２２Ａとを交互に積層して貼り合わせ積層光学部品２Ａを製造する。第２実施形態では、光学ブロック２１Ａ，２２Ａを水平方向にずらして配置する。
【００４５】
［切断工程］
複数枚の光学ブロック２１Ａ，２２Ａを積層して得られた積層光学部品２Ａを所定形状に切断する工程を図１０に基づいて説明する。
図１０（Ａ）で示される通り、積層された光学ブロック２１Ａ，２２Ａに光学素子平面に対して４５°の方向Ｌに沿って所定間隔毎に切断する。切断された１つのブロック１１Ｃを図１０（Ｂ）に示す。図１０（Ｂ）に示される通り、ブロック１１Ｃは端面が平行四辺形とされる。
【００４６】
その後、図１１（Ａ）に示される通り、ブロック１１Ｃの端部を揃えて上下に複数積層し、左右両側部分をトリミングする。つまり、最も左側に位置する光学機能膜２３の上縁同士をつなげ、かつ、最も右側に位置する光学機能膜２３の下縁同士をつなげるようにブロック１１Ｃの平面に対して垂直な方向Ｖ１に沿って切断する。切断された状態が図１１（Ｂ）に示されている。図１１（Ｂ）では、複数（図では４個）のプリズム２が並んで一体に形成された状態であるので、これらをブロック１１Ｃの平面に対して垂直な方向Ｖ２に沿って切断する。これにより、複数（図では４個）のプリズム２が同時に成形されることになる。
従って、第２実施形態では、第１実施形態の効果（１）〜（１１）と同様な効果を奏することができる。
【００４７】
次に、本発明の第３実施形態を図１２から図１３に基づいて説明する。
第３実施形態は光学物品として波長変換素子３を例示したものである。この波長変換素子３はレーザー機器等に利用される。
図１２は波長変換素子３の一部を示す斜視図である。
図１２において、波長変換素子３は、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とが間にプラズマ重合膜３６を介して交互に配置された構造である。
本実施形態では、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とは、ともに水晶から平面矩形状の板材に形成されており、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とは合わせて１５０枚程度が接合されている。
【００４８】
図１３（Ａ）（Ｂ）には波長変換素子３の一部を構成する部材であって図１２の実線で示された部材の断面が示されている。図１３（Ａ）は分解断面図であり、図１３（Ｂ）は断面図である。
図１３（Ａ）において、第一透光性部材３１の第二透光性部材３２と対向する面にはプラズマ重合膜３６が成膜されている。このプラズマ重合膜３６は中心部３６Ａより４辺に沿って形成された外縁部３６Ｂの膜厚が厚くなっている。図１３（Ｂ）に示される通り、プラズマ重合膜３６を間に挟んで第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とが積層されて２枚構成の波長変換素子３が形成される。また、第一透光性部材３１だけでなく、第二透光性部材３２の第一透光性部材３１と対向する面にもプラズマ重合膜３６を形成するものでもよい（想像線参照）。
【００４９】
次に、第３実施形態の光学物品の製造方法を説明する。
［プラズマ重合膜形成工程］
プラズマ重合膜形成工程と表面活性化工程とは第１実施形態のプラズマ重合装置１００を用いで実施する。
このプラズマ重合膜形成工程では、まず、装置外で、トレイＴに設けられたスペーサーＳＰの上に複数の第一透光性部材３１を設置し、トレイＴをチャンバー１０１の内部の載置部１１１Ａに載置する。なお、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２との双方の両面にプラズマ重合膜３６を成膜する場合には、１個のトレイＴの上に第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とを同時に配置するものでもよい。
【００５０】
そして、ガス供給部１４０を作動させてチャンバー１０１の内部に原料ガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する。供給された混合ガスはチャンバー１０１の内部に充填される。第１実施形態や第２実施形態と同様に、第一透光性部材３１とトレイＴとの間にスペースＳが形成されているので、混合ガスは第２電極１１２側の面だけでなく、トレイＴ側の面も露出されることになる。
【００５１】
第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加することにより、プラズマが発生する。このプラズマのエネルギーにより原料ガス中の分子が分解する。この分解した分子が再結合することで重合し、重合物が第一透光性部材３１の両面に付着、堆積する。ここで、第一透光性部材３１のトレイＴ側の面に積層されるプラズマ重合膜３６は重合物が第一透光性部材３１の端部から中心部に回り込むため、外縁部の厚さが中心部の厚さに比べて厚くなる。また、本実施形態でも、ガス排気装置１７０の作動に伴って第一透光性部材３１のトレイ側の面に混合ガスを回り込みやすくなる。
【００５２】
［表面活性化工程］
その後、前記各実施形態と同様に、プラズマ重合膜３６の表面を活性化させる。本実施形態でも、第一透光性部材３１とトレイＴとの間にスペースＳがあるので、第一透光性部材３１の両面にそれぞれ成膜されたプラズマ重合膜３６が同時に活性化される。
【００５３】
［貼合工程］
第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とを交互に貼り合わせて波長変換素子３を製造する。そのため、図１３（Ａ）（Ｂ）に示される通り、プラズマ重合膜３６が成膜された第一透光性部材３１とプラズマ重合膜が形成されていない第二透光性部材３２とを積層して貼り合わせて一組の部品を製作し、さらに、これらの部品同士を、プラズマ重合膜３６を間に挟んで互いに接合する（想像線参照）。なお、一組の部品を作製するにあたり、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とを１枚ずつだけでなく複数枚ずつ配列するものであってもよい。
さらに、本実施形態では、図１３（Ｃ）に示される通り、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２との双方の両面にプラズマ重合膜３６が成膜される場合にあっては、厚さが中心部３６Ａから外縁部３６Ｂへ向けて単調増加するプラズマ重合膜３６と厚さが概ね同じプラズマ重合膜３６とを対向させて複数枚の第一透光性部材３１と第二透光性部材３２とを交互に配置し、接合する。
【００５４】
従って、第３実施形態では、第１実施形態の効果（１）（２）（６）〜（１０）と同様な効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
【実施例】
【００５５】
［実験例１］
トレイＴと成膜対象の基材との間の寸法であるスペーサーＳＰの高さ寸法Ｈ、隣り合う基材の間の寸法ｄ、基材のサイズによる回り込みの厚さの関係について実験をした。
トレイＴ及びスペーサーＳＰは図３及び図４で示されるものを使用した。
基材は平面矩形状のものを用い、その角部から中心までの寸法を異なる３つのサイズのものを用いた。小サイズの基材は、縦寸法が２８．５ｍｍ、横寸法が３３．５ｍｍ、角部から中心までの寸法が２２．０ｍｍのものであり、中サイズの基材は、縦寸法が４３．０ｍｍ、横寸法が４８．０ｍｍ、角部から中心までの寸法が３２．２ｍｍのものであり、大サイズの基材は、縦寸法が７５．０ｍｍ、横寸法が７８．０ｍｍ、角部から中心までの寸法が５４．１ｍｍのものである。これらの基材において、それぞれ、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが５ｍｍであって隣り合う基材の間の寸法ｄが５ｍｍのサンプルＰ１、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが５ｍｍであって隣り合う基材の間の寸法ｄが１０ｍｍのサンプルＰ２、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが１５ｍｍであって隣り合う基材の間の寸法ｄが５ｍｍのサンプルＰ３、及びスペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが１５ｍｍであって隣り合う基材の間の寸法ｄが１０ｍｍのサンプルＰ４について、サンプル角から５ｍｍの位置とサンプル中心との膜厚バラツキを膜厚分布として測定した。
【００５６】
その結果を図１４のグラフに示す。図１４において、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが５ｍｍであるサンプルＰ１，Ｐ２において、隣り合う基材の間の寸法ｄが大きいＰ２が小さいＰ１より膜厚分布が低いことがわかる。同様に、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが１５ｍｍであるサンプルＰ３，Ｐ４において、隣り合う基材の間の寸法ｄの大きいＰ４が小さいＰ３より膜厚分布の低いことがわかる。また、隣り合う基材の寸法ｄが５ｍｍであるサンプルＰ１，Ｐ３において、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈの大きいＰ３が小さいＰ１より膜厚分布が低いことがわかる。以上の実験結果から、スペーサーＳＰの高さを高くし、隣り合う基材の間の寸法ｄが大きいことが膜厚のバラツキを少なくすることがわかる。
また、図１５には所定のサンプルにおける膜厚分布グラフが示されている。図１５において、Ｅ１は膜厚が３０．０ｎｍ〜３０．８ｎｍのエリアであり、Ｅ２は膜厚が３０．８ｎｍ〜３１．６ｎｍのエリアであり、Ｅ３は膜厚が３１．６ｎｍ〜３２．４ｎｍのエリアであり、Ｅ４は膜厚が３２．４ｎｍ〜３３．２ｎｍのエリアであり、Ｅ５は膜厚が３３．２ｎｍ〜３４．０ｎｍのエリアであり、Ｅ６は膜厚が３４．０ｎｍ〜３４．８ｎｍのエリアであり、Ｅ７は膜厚が３４．８ｎｍ〜３５．６ｎｍのエリアである。基板の中心から角部に向かうに従って膜厚の大きなエリアとなることがわかる。
【００５７】
［実験例２］
実験例２は基材に成膜したプラズマ重合膜に活性化工程を酸素プラズマで実施した場合の実験である。プラズマ重合膜は活性化の程度に応じて接触角が小さくなる。
トレイＴと成膜対象の基材との間の寸法であるスペーサーＳＰの高さ寸法Ｈ、隣り合う基材の間の寸法ｄ、基材の中心部の接触角の関係について実験をした。
実験例２では実験例１と同様に、トレイＴ及びスペーサーＳＰは図３及び図４で示されるものを使用した。サンプルとして、基材の角部から中心までの寸法を異なる３つのサイズのものを用い、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈと隣り合う基材の間の寸法ｄとが相違するＰ１からＰ４のサンプルで実験を行った。
その結果を図１６のグラフに示す。接触角が５０°以下であれば十分に活性化されており、必要な接合強度を得ることが可能である。従って、図１６で示されるサンプルでは十分な接合強度を得ることができる。図１６では、基材サイズが大サイズ、中サイズ、小サイズに従って基材の角から中心までの寸法が小さくなるので、接触角が小さくなる。基材サイズが小さいものではサンプルＰ１からＰ４では接触角の大小の判別がつきにくいが、中サイズ及び大サイズでは、スペーサーＳＰの高さ寸法Ｈが５ｍｍであるサンプルＰ１，Ｐ２において、隣り合う基材の間の寸法ｄが大きいＰ２が小さいＰ１より接触角が小さいことがわかる。
【００５８】
また、図１７には所定のサンプルにおける接触角分布グラフが示されている。
図１７において、ｅ１は接触角が３３°〜３５°のエリアであり、ｅ２は接触角が３１°〜３３°のエリアであり、ｅ３は接触角が２９°〜３１°のエリアであり、ｅ４は接触角が２７°〜２９°のエリアであり、ｅ５は接触角が２５°〜２７°のエリアである。
図１７に示される通り、外側から中心に向かうに従って接触角が大きくなることがわかる。これは、外側が中心に比べて活性化するための酸素プラズマの露出が大きいことに起因する。
【００５９】
なお、本発明は、上述した一実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
例えば、前記実施形態では、スペーサーＳＰの形状を短寸角柱状としたが、本発明のスペーサーＳＰはこれに限定されるものではなく、例えば、図１８で示されるものや図１９で示されるものであってもよい。
図１８はスペーサーＳＰの変形例が示されている。図１８の（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は平面図である。図１８において、スペーサーＳＰは短寸角柱状の角部に成膜対象である第一透光性部材３１を収納する凹部ＳＰ１が形成されている。この凹部ＳＰ１は第一透光性部材３１の位置決めを行うものであり、この凹部ＳＰ１により、第一透光性部材３１の設置作業が容易となる。
図１９はスペーサーＳＰの図１８で示されるものとは異なる変形例が示されている。図１９の（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は平面図である。図１９において、スペーサーＳＰは円錐台状に形成されている。
【００６０】
また、本発明では、保持部はスペーサーＳＰに限定されない。例えば、図２０に示されるように成膜対象である第一透光性部材３１の端面を支持する支持部材であってもよい。図２０は保持部の変形例を示すもので、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は平面図である。
図２０において、支持部材は第一透光性部材３１の端面を押圧する押圧部材ＨＰと、この押圧部材ＨＰを第一透光性部材３１に向けて付勢するばねＨＳとを備え、このばねＨＳの端部がトレイＴの周縁から切り立った起立部Ｔ１に係止されている。この構成の支持部材は第一透光性部材３１を挟んで４カ所配置されており、そのため、第一透光性部材３１がトレイＴとの間でスペースＳをもって支持される。
そして、前記各実施形態では、トレイＴの厚さ方向に複数の孔ＴＨを形成したが、本発明では、孔ＴＨを省略してもよい。
【００６１】
前記実施形態では、成膜装置と活性化装置とを１つのプラズマ重合装置１００から構成したが、本発明では、成膜装置と活性化装置とを別の装置から構成してもよい。
また、前記実施形態では、トレイＴに複数枚の成膜対象を設置したが、本発明では、トレイＴに１枚の成膜対象を設置するものでもよい。
さらに、第１実施形態及び第２実施形態では、第二透光性部材１２，２２を構成する光学ブロック１２Ａにもプラズマ重合膜１６，２６を成膜し、プラズマ重合膜１６，２６が成膜された光学ブロック１１Ａと貼り合わせる構成であってもよい。この場合、光学ブロック１１Ａと光学ブロック１２Ａとを同時にトレイＴに設置するものでもよい。
そして、第３実施形態では、第一透光性部材３１と第二透光性部材３２との少なくとも一方が水晶であればよく、水晶にかえてガラス材を用いた波長変換素子でも本発明を適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、光ピックアップ、液晶プロジェクター、その他の装置に用いられる光学物品に利用できる。
【符号の説明】
【００６３】
１…偏光変換素子（光学物品）、２…プリズム（光学物品）、３…波長変換素子、１１，２１，３１…第一透光性部材、１２，２２，３２…第二透光性部材、１３…偏光分離膜（光学機能膜）、１４…反射膜（光学機能膜）、２３…光学機能膜、１６，２６，３６…プラズマ重合膜、３６Ａ…中心部、３６Ｂ…外縁部、１００…プラズマ重合装置（成膜装置、活性化装置）、１０１…チャンバー、１１１…第１電極、１１１Ａ…載置部、１１２…第２電極、Ｓ…スペース、Ｔ…トレイ、ＳＰ…スペーサー（保持部）
【図１】
2011118257.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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