(57)【要約】【課題】本発明は、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることができる電磁波反射部材の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明においては、透明基板上に右旋回性塗工液を塗布することにより右旋回性塗膜を形成し、上記右旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層を形成する工程と、上記右円偏光選択反射層上に、左旋回性塗工液を塗布することにより左旋回性塗膜を形成し、上記左旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより左円偏光選択反射層を形成する工程と、を有することを特徴とする電磁波反射部材の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図１
2011137855.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第一棒状化合物、および、右旋回性を与えるカイラル剤を含有する右旋回性塗工液を塗布することにより右旋回性塗膜を形成し、前記右旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより前記第一棒状化合物の重合を行い、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層を形成する右円偏光選択反射層形成工程と、
前記右円偏光選択反射層上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第二棒状化合物、および、左旋回性を与えるカイラル剤を含有する左旋回性塗工液を塗布することにより左旋回性塗膜を形成し、前記左旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより前記第二棒状化合物の重合を行い、左円偏光選択反射層を形成する左円偏光選択反射層形成工程と、
を有することを特徴とする電磁波反射部材の製造方法。
【請求項２】
前記右円偏光選択反射層形成工程におけるエネルギー照射が紫外線照射であり、前記紫外線照射の強度が４００ｍＪ／ｃｍ２以上であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波反射部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることができる電磁波反射部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
可視光線ないし赤外線の波長域において、所望の波長を選択的に反射できる部材として、コレステリック液晶を用いた選択反射部材が知られている。これら選択反射部材は、所望の光（電磁波）のみを選択的に反射することができるため、例えば可視光線は透過させて熱線のみを反射する熱線反射膜や透過性断熱膜としての利用が期待されている。
【０００３】
コレステリック液晶を用いて電磁波を反射する電磁波反射部材については、例えば以下の文献が知られている。特許文献１には、広帯域で近赤外線を反射する薄膜コーティングを施した透明基板と、近赤外線部に鋭い波長選択反射性を有するコレステリック液晶製のフィルタとからなる積層体が開示されている。この技術は、可視光の透過率を低下させることなく、近赤外線を高効率で反射させることを目的としている。また、特許文献２には、赤外線波長範囲内において、入射する放射の少なくとも４０％を反射する１種またはそれ以上のコレステリック層を含む断熱コーティングが開示されている。この技術は、コレステリック層を用いることで、所望の断熱効果を得ることを目的としている。
【０００４】
さらに、特許文献３には、特定の方法により光反射率が向上された高分子液晶層と、この高分子液晶層を支持する支持体とを備える高分子液晶層構造体であって、特定波長の光に対して反射率が３５％以上である高分子液晶層構造体が開示されている。この技術は、主に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられるものであり、フッ素系非イオン性界面活性剤を用いることで、高分子液晶層の反射率を向上させるものである。また、特許文献４には、可視光を透過させ、かつ特定波長域の近赤外線を選択的に反射させる、コレステリック液晶構造を有する高分子固化体層からなる選択反射層Ａを有する近赤外線遮蔽層を備えた近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルムが開示されている。この技術は、主にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いられるものであり、近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルムにより、ＰＤＰが周囲に与える電磁波の影響を抑制するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平４−２８１４０３号公報
【特許文献２】特表２００１−５１９３１７号公報
【特許文献３】特許第３４１９５６８号
【特許文献４】特開２００８−２０９５７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
電磁波反射部材の選択反射層には、右円偏光のみを選択的に反射する右円偏光選択反射層と、左円偏光のみを選択的に反射する左円偏光選択反射層とが考えられる。さらに、右円偏光選択反射層または左円偏光選択反射層を形成するために、それぞれ、右旋回性または左旋回性を与えるカイラル剤を用いる方法が考えられる。しかしながら、右旋回性を与えるカイラル剤は一般的に普及しているのに対して、左旋回性を与えるカイラル剤はほとんど知られていないのが現状である。
【０００７】
また、電磁波反射部材が、右円偏光選択反射層のみではなく、反射帯域が重複する右円偏光選択反射層および左円偏光選択反射層の両方を有していれば、右円偏光および左円偏光の両方を反射できるため、その反射帯域における反射率の向上が期待できる。しかしながら、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることは困難であることが予想される。その理由は、右円偏光選択反射層および左円偏光選択反射層が、それぞれ異なる旋回性を有するためである。すなわち、右円偏光選択反射層においては棒状化合物が右旋回しているため、その右円偏光選択反射層の表面（両層の界面）で、棒状化合物に左旋回性を付与しようとすると、右旋回の棒状化合物の影響により、所望の左旋回性を棒状化合物に付与することができず、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を得ることができないことが予想される。
【０００８】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることができる電磁波反射部材の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明においては、透明基板上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第一棒状化合物、および、右旋回性を与えるカイラル剤を含有する右旋回性塗工液を塗布することにより右旋回性塗膜を形成し、上記右旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより上記第一棒状化合物の重合を行い、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層を形成する右円偏光選択反射層形成工程と、上記右円偏光選択反射層上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第二棒状化合物、および、左旋回性を与えるカイラル剤を含有する左旋回性塗工液を塗布することにより左旋回性塗膜を形成し、上記左旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより上記第二棒状化合物の重合を行い、左円偏光選択反射層を形成する左円偏光選択反射層形成工程と、を有することを特徴とする電磁波反射部材の製造方法を提供する。
【００１０】
本発明によれば、右円偏光選択反射層を実質的に完全に硬化させることにより、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることができる。
【００１１】
上記発明においては、上記右円偏光選択反射層形成工程におけるエネルギー照射が紫外線照射であり、上記紫外線照射の強度が４００ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましい。実質的に完全に硬化させた右円偏光選択反射層を容易に得ることができるからである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明においては、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の電磁波反射部材の製造方法の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明により得られる電磁波反射部材を例示する概略断面図である。
【図３】地上での太陽光スペクトルである。
【図４】第一反射帯域における波長および反射率の関係を例示するグラフである。
【図５】第一反射帯域および第二反射帯域における波長および反射率の関係を例示するグラフである。
【図６】第一反射帯域および第二反射帯域における波長および反射率の関係を例示するグラフである。
【図７】実施例１−１〜１−５で得られた電磁波反射部材における波長および反射率の関係を示すグラフである。
【図８】実施例２で得られた電磁波反射部材における波長および反射率の関係を示すグラフである。
【図９】実施例３で得られた電磁波反射部材における波長および反射率の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の電磁波反射部材の製造方法について詳細に説明する。
【００１５】
本発明の電磁波反射部材の製造方法は、透明基板上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第一棒状化合物、および、右旋回性を与えるカイラル剤を含有する右旋回性塗工液を塗布することにより右旋回性塗膜を形成し、上記右旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより上記第一棒状化合物の重合を行い、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層を形成する右円偏光選択反射層形成工程と、上記右円偏光選択反射層上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第二棒状化合物、および、左旋回性を与えるカイラル剤を含有する左旋回性塗工液を塗布することにより左旋回性塗膜を形成し、上記左旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより上記第二棒状化合物の重合を行い、左円偏光選択反射層を形成する左円偏光選択反射層形成工程と、を有することを特徴とするものである。
【００１６】
図１は、本発明の電磁波反射部材の製造方法の一例を示す概略断面図である。図１においては、まず、透明基板１を準備する（図１（ａ））。次に、透明基板１上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第一棒状化合物、および、右旋回性を与えるカイラル剤を含有する右旋回性塗工液を塗布し、乾燥することにより、右旋回性塗膜１２を形成する（図１（ｂ））。この際、第一棒状化合物は、カイラル剤によってコレステリック構造を形成する。さらに、右旋回性塗膜１２にエネルギー照射２１を行うことにより第一棒状化合物の重合を行い、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層２を得る（図１（ｃ）、（ｄ））。これにより、コレステリック構造を形成した第一棒状化合物は固定化される。
【００１７】
本発明において、「実質的に完全に硬化した」とは、エネルギー照射に伴って重合した右円偏光選択反射層２の硬度が、ほぼ一定になることをいう。通常、重合が進むにつれて、右円偏光選択反射層２の硬度は高くなっていくが、所定のエネルギー以上のエネルギーを照射すると、それ以降は、右円偏光選択反射層２の硬度は一定になる。その一定になる硬度を最大硬度と定義した場合に、本発明においては、最大硬度の８０％以上となるようにエネルギー照射を行うことが好ましく、最大硬度の８５％以上となるようにエネルギー照射を行うことがより好ましく、最大硬度の９０％以上となるようにエネルギー照射を行うことがさらに好ましい。
【００１８】
次に、右円偏光選択反射層２上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第二棒状化合物、および、左旋回性を与えるカイラル剤を含有する左旋回性塗工液を塗布し、乾燥することにより、左旋回性塗膜１３を形成する（図１（ｅ））。この際、第二棒状化合物は、カイラル剤によってコレステリック構造を形成する。さらに、左旋回性塗膜１３にエネルギー照射２２を行うことにより第二棒状化合物の重合を行い、左円偏光選択反射層３を得る（図１（ｆ）、（ｇ））。これにより、コレステリック構造を形成した第二棒状化合物は固定化され、電磁波反射部材が得られる。
【００１９】
このように、本発明によれば、右円偏光選択反射層を実質的に完全に硬化させることにより、右円偏光選択反射層の上に、良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を直接設けることができる。右円偏光選択反射層が実質的に完全に硬化した状態であれば、左円偏光選択反射層を形成する際に、右旋回の棒状化合物の影響を小さくすることができ、所望の左旋回性を棒状化合物に付与することができる。
【００２０】
また、本発明における選択反射層（右円偏光選択反射層または左円偏光選択反射層）は、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する層である。選択反射層は、層の一方の面から入射する光（電磁波）のうち右円偏光成分または左円偏光成分を選択反射し、残りの成分を透過する機能を有する。このように特定の円偏光成分のみを反射できる材料として、コレステリック液晶材料が知られている。コレステリック液晶材料は、液晶のプレーナー配列のヘリカル軸に沿って入射した光（電磁波）の右旋および左旋の２つの円偏光のうち一方の偏光を選択的に反射する性質を有する。この性質は、円偏光二色性として知られ、コレステリック液晶分子の螺旋構造における旋回方向を適宜選択すると、その旋回方向と同一の旋光方向を有する円偏光が選択的に反射される。
【００２１】
この場合の最大旋光偏光光散乱は、下記式（１）：
λ＝ｎａｖ・ｐ      （１）
において選択波長λで生じる。なお、式（１）中、ｎａｖはヘリカル軸に直交する平面内の平均屈折率であり、ｐは液晶分子の螺旋構造におけるヘリカルピッチである。
【００２２】
また、反射波長のバンド幅Δλは、下記式（２）：
Δλ＝Δｎ・ｐ      （２）
で表される。なお、式（２）中、Δｎは、コレステリック液晶材料の複屈折率である。すなわち、コレステリック液晶材料からなる選択反射層は、選択波長λを中心とした波長バンド幅Δλの範囲の光（電磁波）の右旋または左旋の円偏光成分の一方を反射し、他方の円偏光成分と他の波長領域の無偏光の光（電磁波）とを透過させる。従って、コレステリック液晶材料のｎａｖおよびｐを適宜選択することにより、所望の電磁波を反射させることができる。
以下、本発明の電磁波反射部材の製造方法について工程ごとに説明する。
【００２３】
１．右円偏光選択反射層形成工程
まず、本発明における右円偏光選択反射層形成工程について説明する。本発明における右円偏光選択反射層形成工程は、透明基板上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第一棒状化合物、および、右旋回性を与えるカイラル剤を含有する右旋回性塗工液を塗布することにより右旋回性塗膜を形成し、上記右旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより上記第一棒状化合物の重合を行い、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層を形成する工程である。
【００２４】
なお、本発明においては、右円偏光選択反射層形成工程を２回以上繰り返しても良い。これにより、二層以上の右円偏光選択反射層を得ることができる。
【００２５】
（１）右旋回性塗工液
本発明における右旋回性塗工液は、第一棒状化合物と、右旋回性を与えるカイラル剤とを有するものである。さらに、右旋回性塗工液は、通常、第一棒状化合物およびカイラル剤を分散させる溶媒を含有するものである。また、右旋回性塗工液は、さらに重合開始剤を含有していても良い。
【００２６】
（ｉ）第一棒状化合物
本発明における第一棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な化合物である。ここで、上記重合性官能基は、通常、三次元架橋可能な重合性官能基である。「三次元架橋」とは、棒状化合物を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。また、上記重合性官能基は、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基であることが好ましい。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和三重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００２７】
また、上記第一棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましく、中でもネマチック液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料としては、下記化学式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【００２８】
【化１】
2011137855.tif 000003
【００２９】
ここで、化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５５−２２６８（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。
【００３０】
また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化
学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。
【００３１】
【化２】
2011137855.tif 000004
【００３２】
さらに、第一棒状化合物として、ＳＩＤ  ０６  ＤＩＧＥＳＴ  １６７３−１６７６に開示された下記化学式（１８）に表わされる化合物を例示することができる。
【００３３】
【化３】
2011137855.tif 000005
【００３４】
なお、本発明においては、第一棒状化合物を１種類のみ用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、第一棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。
【００３５】
（ii）右旋回性を与えるカイラル剤
右旋回性を与えるカイラル剤は、上記棒状化合物に右旋回性を与えて、コレステリック構造を形成するものである。上記カイラル剤としては、例えば、下記の一般式（１９）、（２０）又は（２１）で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。
【００３６】
【化４】
2011137855.tif 000006
【００３７】
【化５】
2011137855.tif 000007
【００３８】
【化６】
2011137855.tif 000008
【００３９】
上記一般式（１９）又は（２０）において、Ｒ１は水素又はメチル基を示す。Ｙは上記に示す式（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）の任意の一つであるが、中でも、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｖ）及び（ｖｉｉ）のいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すｃ及びｄは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。また、カイラル剤として、以下のような化学式で表わされるものも用いることができる。
【００４０】
【化７】
2011137855.tif 000009
【００４１】
また、本発明においては、上記カイラル剤の添加量によって、反射する光の波長を調整することができる。第一棒状化合物および上記カイラル剤の合計に対する上記カイラル剤の割合は、例えば１．０重量％〜５．０重量％の範囲内、中でも２．０重量％〜４．０重量％の範囲内であることが好ましい。
【００４２】
(iii)その他の成分
本発明における右旋回性塗工液は、さらに重合開始剤を含有することが好ましい。重合反応が生じやすくなるからである。重合開始剤の種類は、特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択することが好ましい。具体的には、光重合開始剤および熱重合開始剤等を挙げることができる。また、右旋回性塗工液における重合開始剤の割合は特に限定されるものではなく、所望の重合反応が生じる程度に重合開始剤を添加することが好ましい。
【００４３】
また、本発明における右旋回性塗工液は、通常、溶媒を含有する。上記溶媒としては、第一棒状化合物およびカイラル剤を分散させることができ、所望の右旋回性塗膜を得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、例えばシクロヘキサノン等を挙げることができる。
【００４４】
（２）透明基板
次に、本発明における透明基板について説明する。本発明における透明基板は、右円偏光選択反射層を支持できるものであれば特に限定されるものではない。中でも透明基板は、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００４５】
透明基板は、所望の透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材でも用いることができる。透明基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、（メタ）アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができる。なかでもポリエチレンテレフタレートからなる透明基板が用いられることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。
【００４６】
また、透明基板としてガラス等のリジッド材を用いても良い。なお、透明基板の厚みについては、電磁波反射部材の用途および透明基板を構成する材料等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。
【００４７】
（３）右円偏光選択反射層の形成方法
本発明においては、まず、右旋回性塗工液を用いて透明基板上に、右旋回性塗膜を形成し、次に、その右旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより、実質的に完全に硬化した右円偏光選択反射層を形成する。
【００４８】
透明基板上に右旋回性塗工液を塗布する方法としては、一般的な塗布法を用いることができ、具体的にはバーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。また、通常は、透明基板上に塗布した右旋回性塗工液を乾燥し、溶媒を除去することにより、右旋回性塗膜を得る。
【００４９】
右旋回性塗膜に照射するエネルギーの種類は、第一棒状化合物の分子内に含まれる重合性官能基の種類によって異なるものであるが、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、および熱等を挙げることができる。中でも、本発明においては、紫外線照射を行うことが好ましい。また、エネルギー照射の強度としては、実質的に硬化した右円偏光選択反射層を得ることができる強度であれば特に限定されるものではない。例えば、紫外線照射を行う場合は、紫外線照射の強度は、４００ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、６００ｍＪ／ｃｍ２以上であることがより好ましく、８００ｍＪ／ｃｍ２以上であることがさらに好ましい。
【００５０】
右円偏光選択反射層の厚さは、特に限定されるものではないが、０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００５１】
２．左円偏光選択反射層形成工程
次に、本発明における左円偏光選択反射層形成工程について説明する。本発明における左円偏光選択反射層形成工程は、上記右円偏光選択反射層上に、分子内に重合性官能基を有し、コレステリック構造を形成可能な第二棒状化合物、および、左旋回性を与えるカイラル剤を含有する左旋回性塗工液を塗布することにより左旋回性塗膜を形成し、上記左旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより上記第二棒状化合物の重合を行い、左円偏光選択反射層を形成する工程である。
【００５２】
なお、本発明においては、左円偏光選択反射層形成工程を２回以上繰り返しても良い。これにより、二層以上の左円偏光選択反射層を得ることができる。また、左円偏光選択反射層形成工程においては、右円偏光選択反射層に接する左円偏光選択反射層を実質的に完全に硬化させることが好ましい。
【００５３】
本発明における左旋回性塗工液は、第二棒状化合物と、左旋回性を与えるカイラル剤とを有するものである。さらに、左旋回性塗工液は、通常、第二棒状化合物およびカイラル剤を分散させる溶媒を含有するものである。また、左旋回性塗工液は、さらに重合開始剤を含有していても良い。
【００５４】
本発明における第二棒状化合物は、上述した「（１）右旋回性塗工液  （ｉ）第一棒状化合物」に記載した種々の棒状化合物と同様のものを用いることができる。本発明においては、第二棒状化合物は、第一棒状化合物と同じであっても良く、異なっていても良い。
【００５５】
また、左旋回性を与えるカイラル剤は、上記棒状化合物に左旋回性を与えて、コレステリック構造を形成するものである。上記カイラル剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ＡＤＥＫＡ社製ＣＮＬ−７１６等を挙げることができる。
【００５６】
また、第二棒状化合物および上記カイラル剤の合計に対する上記カイラル剤の割合については、上述した、第一棒状化合物と右旋回性を与えるカイラル剤との関係と同様であるので、ここでの記載は省略する。なお、左旋回性塗工液における重合開始剤および溶媒についても、上述した「（１）右旋回性塗工液  (iii)その他の成分」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００５７】
また、本発明においては、まず、左旋回性塗工液を用いて、右円偏光選択反射層上に左旋回性塗膜を直接形成し、次に、その左旋回性塗膜にエネルギー照射を行うことにより、左円偏光選択反射層を形成する。左旋回性塗工液の塗布方法、左旋回性塗膜へのエネルギー照射方法およびその他の事項については、上述した「（３）右円偏光選択反射層の形成方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００５８】
左円偏光選択反射層の厚さは、特に限定されるものではないが、０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００５９】
３．電磁波反射部材
次に、本発明により得られる電磁波反射部材について説明する。本発明により得られる電磁波反射部材は、一または二以上の右円偏光選択反射層と、一または二以上の左円偏光選択反射層とを有するものである。具体的には、図１（ｇ）に示すように、右円偏光選択反射層２および左円偏光選択反射層３を一層ずつ有するもの、図２（ａ）に示すように、右円偏光選択反射層２ａおよび２ｂと、左円偏光選択反射層３とを有するもの、図２（ｂ）に示すように、右円偏光選択反射層２ａおよび２ｂと、左円偏光選択反射層３ａおよび３ｂとを有するもの、図２（ｃ）に示すように、右円偏光選択反射層２と、左円偏光選択反射層３ａおよび３ｂとを有するもの等を挙げることができる。
【００６０】
また、本発明の電磁波反射部材は、赤外領域（λ＝８００ｎｍ以上の領域）に反射ピークを有する赤外線反射部材であることが好ましい。車両用の熱線反射ガラス、建築用の熱線反射ガラス、太陽電池用の熱線反射フィルム等に有用な赤外線反射部材とすることができるからである。
【００６１】
中でも、本発明においては、電磁波反射部材が、地上での太陽光スペクトルの赤外領域で最も短波長側に位置するピークを含む第一輻射エネルギー帯域に対応する第一反射帯域を有し、上記第一反射帯域における最大反射率をＲ１とし、上記Ｒ１の半値の反射率となる短波長側の波長をλ１とした場合に、上記λ１が９００ｎｍ〜１０１０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。第一輻射エネルギー帯域に含まれる赤外線を効率良く反射することができるからである。
【００６２】
図３は、地上での太陽光スペクトルである。この「地上での太陽光スペクトル」は、温帯における地上での平均的太陽光の輻射エネルギー（Ｗｍ−２／ｎｍ）の分布を示すものである（ＡＭ１．５Ｇ）。なお、地球軌道上での太陽光スペクトル（ＡＭ０）では、輻射エネルギーの分布はなだらかになるが、輻射エネルギーは大気中での反射、散乱、吸収等により減衰する。その結果、地上では、図３に示すような太陽光スペクトルが得られる。なお、本明細書においては、「地上での太陽光スペクトル」を単に「太陽光スペクトル」と称する場合がある。
【００６３】
また、図４において、電磁波反射部材は、地上での太陽光スペクトルの赤外領域で最も短波長側に位置するピークを含む第一輻射エネルギー帯域２１に対応する第一反射帯域３１を有する。また、第一輻射エネルギー帯域２１は、通常、波長１０１０ｎｍ付近にピークを有し、その波長範囲は、９５０ｎｍ〜１１５０ｎｍである。一方、第一反射帯域３１は、最大反射率Ｒ１を与える波長が、第一輻射エネルギー帯域２１の波長範囲内にあるものをいい、単一の選択反射層により形成されたものであっても良く、複数の選択反射層により形成されたものであっても良い。本発明においては、最大反射率Ｒ１の半値（１／２Ｒ１）の反射率となる短波長側の波長をλ１とした場合に、λ１が９００ｎｍ〜１０１０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００６４】
ここで、λ１の上限が１０１０ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第一輻射エネルギー帯域のピーク波長は１０１０ｎｍ付近であり、そのピーク波長の近傍において、赤外線のエネルギー密度は大きくなる。従って、第一輻射エネルギー帯域のピーク波長近傍の赤外線を効率良く反射するためには、少なくとも、最大反射率Ｒ１の半値となるλ１が、第一輻射エネルギー帯域のピーク波長以下であることが好ましい。
【００６５】
さらに、λ１の上限は９７０ｎｍであることが好ましく、９６０ｎｍであることがより好ましく、９５０ｎｍであることがさらに好ましい。λ１の上限が９５０ｎｍであることがより好ましい理由は以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第一輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲＳ１とし、そのＲＳ１の半値の強度となる短波長側の太陽光スペクトル波長をλＳ１とした場合に、λＳ１は９５０ｎｍ付近となる。そのため、λ１≦λＳ１の関係を満たすように、λ１の値を設定することで、第一反射帯域は、第一輻射エネルギー帯域において赤外線のエネルギー密度が大きい部分をほぼカバーすることができる。そのため、より効果的に赤外線の反射を行うことができる。
【００６６】
一方、λ１の下限が９００ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、λ１はＲ１の半値の反射率の波長であるため、第一反射帯域は、λ１よりも短波長側に裾野の反射領域を有する。この裾野の反射領域の波長範囲は、現行の材料系においては、最大で１００ｎｍ程度が想定される。そのため、λ１の下限が９００ｎｍ未満であると、裾野の反射領域における最も短い波長が８００ｎｍ未満となり、可視光領域に達する可能性がある。その場合、電磁波反射部材が赤味がかり、電磁波反射部材を介した視認性が低下する可能性がある。そのため、λ１の下限は９００ｎｍであることが好ましい。
【００６７】
また、図４に示すように、第一反射帯域３１における最大反射率をＲ１とし、Ｒ１の半値（１／２Ｒ１）の反射率となる長波長側の波長をλ２とする。λ２の波長範囲は特に限定されるものではないが、例えば１０１０ｎｍ〜１２１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。さらに、λ２の下限は１０５０ｎｍであることが好ましく、１０８０ｎｍであることがより好ましく、１０９０ｎｍであることがさらに好ましい。λ２の下限が１０９０ｎｍであることがより好ましい理由は以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第一輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲＳ１とし、そのＲＳ１の半値の強度となる長波長側の太陽光スペクトル波長をλＳ２とした場合に、λＳ２は通常１０９０ｎｍ付近となる。そのため、λＳ２≦λ２の関係を満たすように、λ２の値を設定することが好ましい。一方、λ２の上限は１１５０ｎｍであることが好ましい。
【００６８】
また、第一反射帯域のピーク波長の位置は、特に限定されるものではないが、第一輻射エネルギー帯域のピーク波長の近傍にあることが好ましく、例えば９００ｎｍ〜１１５０ｎｍの範囲内、中でも９５０ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、λ１およびλ２の間隔（λ２−λ１）は、例えば５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、中でも１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００６９】
次に、第一反射帯域を得ることが可能な選択反射層の層構成について説明する。選択反射層の層構成は、所望の第一反射帯域を得ることができれば特に限定されるものではない。図４に示すような反射帯域を有する選択反射層の層構成としては、例えば図１（ｇ）に示すように、第一反射帯域に対応する右円偏光選択反射層２と、第一反射帯域に対応する左円偏光選択反射層３とを有する層構成を挙げることができる。
【００７０】
また、本発明における電磁波反射部材は、図５に示すように、第二反射帯域３２を有していても良い。なお、図５においては、便宜上、第一反射帯域３１および第二反射帯域３２を独立に記載しているが、実際には、両者が重複する部分において、合算された反射率が計測される（図６においても同様である）。また、第二反射帯域３２は、地上での太陽光スペクトルの赤外領域で二番目に短波長側に位置するピークを含む第二輻射エネルギー帯域２２に対応するものである。第二輻射エネルギー帯域２２は、通常、波長１２５０ｎｍ付近にピークを有し、その波長範囲は、１１５０ｎｍ〜１３７０ｎｍである。一方、第二反射帯域３２は、最大反射率Ｒ２を与える波長が、第二輻射エネルギー帯域２２の波長範囲内にあるものをいい、単一の選択反射層により形成されたものであっても良く、複数の選択反射層により形成されたものであっても良い。本発明においては、最大反射率Ｒ２の半値（１／２Ｒ２）の反射率となる長波長側の波長をλ４とした場合に、λ４は１２５０ｎｍ〜１４５０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００７１】
ここで、λ４の下限が１２５０ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域のピーク波長は１２５０ｎｍ付近であり、そのピーク波長の近傍において、赤外線のエネルギー密度は大きくなる。従って、第二輻射エネルギー帯域のピーク波長近傍の赤外線を効率良く反射するためには、少なくとも、最大反射率Ｒ２の半値となるλ４が、第二輻射エネルギー帯域のピーク波長以上であることが好ましい。そのため、λ４の下限は１２５０ｎｍであることが好ましい。
【００７２】
さらに、λ４の下限は１３３０ｎｍであることが好ましい。その理由は以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲＳ２とし、そのＲＳ２の半値の強度となる長波長側の太陽光スペクトル波長をλＳ４とした場合に、λＳ４は１３３０ｎｍ付近となる。そのため、λＳ４≦λ４の関係を満たすように、λ４の値を設定することで、第二反射帯域は、第二輻射エネルギー帯域において赤外線のエネルギー密度が大きい部分をほぼカバーすることができる。そのため、より効果的に赤外線の反射を行うことができる。
【００７３】
一方、λ４の上限が１４５０ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、上述したように、一つの選択反射層において、λ１およびλ２の間隔（λ２−λ１）は最大で２００ｎｍ程度になる。これは、図５に示す第二反射帯域３２においても同様であり、λ３およびλ４の間隔（λ４−λ３）は最大で２００ｎｍ程度になる。なお、λ３は、Ｒ２の半値（１／２Ｒ２）の反射率となる短波長側の波長である。一方、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域のピークが１２５０ｎｍ付近であることを考慮した場合、λ４を１４５０ｎｍよりも大きくすると、λ３が１２５０ｎｍよりも大きくなり、第二反射帯域は、第二輻射エネルギー帯域において赤外線のエネルギー密度が大きい部分をほとんどカバーできなくなる。そのため、λ４の上限は１４５０ｎｍであることが好ましい。また、第二反射帯域が、第二輻射エネルギー帯域をさらに効率良くカバーするためには、λ４の上限は１４００ｎｍであることがより好ましい。
【００７４】
また、λ３の波長範囲は特に限定されるものではないが、例えば１０５０ｎｍ〜１２５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０５０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。また、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲＳ２とし、そのＲＳ２の半値の強度となる短波長側の太陽光スペクトル波長をλＳ３とした場合に、λＳ３は通常１１５０ｎｍ付近となる。そのため、λ３≦λＳ３の関係を満たすように、λ３の値を設定することが好ましい。そのため、λ３は１０５０ｎｍ〜１１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、第二反射帯域が、第二輻射エネルギー帯域をさらに効率良くカバーするためには、λ３は、１１００ｎｍ〜１１５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。
【００７５】
また、第二反射帯域のピーク波長の位置は、特に限定されるものではないが、第二輻射エネルギー帯域のピーク波長の近傍にあることが好ましく、例えば１１７５ｎｍ〜１３２５ｎｍの範囲内、中でも１２２５ｎｍ〜１２７５ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、λ３およびλ４の間隔（λ４−λ３）については、上述したλ１およびλ２の間隔（λ２−λ１）と同様である。
【００７６】
次に、第一反射帯域および第二反射帯域を得ることが可能な選択反射層の層構成について説明する。選択反射層の層構成は、所望の第一反射帯域および第二反射帯域を得ることができれば特に限定されるものではない。図５に示すような反射帯域を有する選択反射層の層構成としては、例えば図２（ａ）に示すように、第一反射帯域に対応する右円偏光選択反射層２ａと、第二反射帯域に対応する右円偏光選択反射層２ｂと、第一反射帯域に対応する左円偏光選択反射層３とを有する層構成を挙げることができる。一方、本発明においては、図６に示すように、第二反射帯域の反射率のピークを５０％以上にすることもできる。図６に示すような反射帯域を有する選択反射層の層構成としては、例えば図２（ｂ）に示すように、第一反射帯域に対応する右円偏光選択反射層２ａと、第二反射帯域に対応する右円偏光選択反射層２ｂと、第一反射帯域に対応する左円偏光選択反射層３ａと、第二反射帯域に対応する左円偏光選択反射層３ｂとを有する層構成を挙げることができる。
【００７７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００７８】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、後述する「部」とは、特に断りのない限り、「重量部」を意味する。
【００７９】
［実施例１−１］
透明基板として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルムを準備した。次に、両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９６．９５部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））３．０５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液１とした。
【００８０】
次に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９５．６５部と、重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（左旋回性、ＣＮＬ−７１６（ＡＤＥＫＡ社製））４．３５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液２とした。
【００８１】
その次に、上記の二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記のシクロヘキサン溶液１を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置（フュージョン社製、Ｈバルブ、以下同じ）を用いて紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ２（照射量測定はフュージョン社製、ＵＶ  ＰｏｗｅｒＭＡＰにて測定、以下同じ）照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、二軸延伸フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、右円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。
【００８２】
更に上記の右円偏光選択反射層の上にバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液２を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、左旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、左円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。これにより、電磁波反射部材を得た。
【００８３】
［実施例１−２］
右旋回性塗膜に照射する紫外線の強度、および、左旋回性塗膜に照射する紫外線の強度をともに４００ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１−１と同様にして、電磁波反射部材を得た。
【００８４】
［実施例１−３］
右旋回性塗膜に照射する紫外線の強度、および、左旋回性塗膜に照射する紫外線の強度をともに６００ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１−１と同様にして、電磁波反射部材を得た。
【００８５】
［実施例１−４］
右旋回性塗膜に照射する紫外線の強度、および、左旋回性塗膜に照射する紫外線の強度をともに８００ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１−１と同様にして、電磁波反射部材を得た。
【００８６】
［実施例１−５］
右旋回性塗膜に照射する紫外線の強度、および、左旋回性塗膜に照射する紫外線の強度をともに１２００ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１−１と同様にして、電磁波反射部材を得た。
【００８７】
［評価１］
実施例１−１〜１−５で得られた電磁波反射部材の反射特性を、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定（正反射角５°で測定）した。その結果を図７に示す。図７に示されるように、実施例１−１〜１−５では、９５０ｎｍ〜１１００ｎｍ付近の反射帯域において、５０％以上の反射率が得られていることから、右円偏光選択反射層の上に形成された左円偏光選択反射層が、良好な反射性を発揮していることが確認された。また、実施例１−１では、反射帯域のピークが２つ確認され、実施例１−２では、反射帯域の高波長側にショルダーが確認された。一方、紫外線の強度の高い実施例１−３〜１−５では、２つ目のピークもショルダーも確認されなかった。このことから、右円偏光選択反射層をより完全に硬化させることで、より良好な反射性を有する左円偏光選択反射層を形成できることが確認された。
【００８８】
［実施例２］
透明基板として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルムを準備した。次に、両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９６．９５部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））３．０５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液１とした。
【００８９】
次に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９７．５５部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））２．４５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液２とした。
【００９０】
更に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９５．６５部と、重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（左旋回性、ＣＮＬ−７１６（ＡＤＥＫＡ社製））４．３５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液３とした。
【００９１】
その次に、上記の二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記のシクロヘキサン溶液１を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、二軸延伸フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、右円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。
【００９２】
更に上記の右円偏光選択反射層の上にバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液２を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、右円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。
【００９３】
最後に上記の右円偏光選択反射層の上にバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液３を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、左旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、左円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。これにより、電磁波反射部材を得た。
【００９４】
［実施例３］
透明基板として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルムを準備した。最初に、両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９６．９５部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））３．０５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液１とした。
【００９５】
２番目に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９７．５５部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））２．４５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液２とした。
【００９６】
３番目に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９５．６５部と、重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（左旋回性、ＣＮＬ−７１６（ＡＤＥＫＡ社製））４．３５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液３とした。
【００９７】
最後に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）  ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９６．６５部と、重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（左旋回性、ＣＮＬ−７１６（ＡＤＥＫＡ社製））３．３５部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）を添加した（固形分３０重量％）。これをシクロヘキサノン溶液４とした。
【００９８】
塗布はまず、上記の二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記のシクロヘキサン溶液１を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、二軸延伸フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、右円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。
【００９９】
次に上記の右円偏光選択反射層の上にバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液２を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、右円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。
【０１００】
３番目に上記の右円偏光選択反射層の上にバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液３を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、左旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、左円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。
【０１０１】
最後に上記の左円偏光選択反射層の上にバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液４を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、左旋回性塗膜を得た。そして、得られた塗膜に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ２照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、左円偏光選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。これにより、電磁波反射部材を得た。
【０１０２】
［評価２］
実施例２、３で得られた電磁波反射部材の反射特性を、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定（正反射角５°で測定）した。その結果を図８および図９に示す。
【０１０３】
図８に示されるように、実施例２で得られた電磁波反射部材では、１０３０ｎｍ付近にピークを有する反射帯域において、５０％以上の反射率が得られていることから、右円偏光選択反射層の上に形成された左円偏光選択反射層が、良好な反射性を発揮していることが確認された。また、図９に示されるように、実施例３で得られた電磁波反射部材では、１０３０ｎｍ付近にピークを有する反射帯域、および、１２００ｎｍ付近にピークを有する反射帯域の両方において、約５０％以上の反射率が得られていることから、右円偏光選択反射層の上に形成された２層の左円偏光選択反射層が、良好な反射性を発揮していることが確認された。
【符号の説明】
【０１０４】
１…透明基板、２…右円偏光選択反射層、３…左円偏光選択反射層、１２…右旋回性塗膜、１３…左旋回性塗膜、２１、２２…エネルギー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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