(57)【要約】【課題】電気的特性が向上した薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置を提供する。【解決手段】本基板上に形成された第１ゲート電極と、第１ゲート電極を含む上部に形成されたゲート絶縁膜と、第１ゲート電極を含むゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、活性層上に形成された保護層と、保護層上に活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、ソース電極とドレイン電極との間の保護層上に形成された第２ゲート電極とを備える薄膜トランジスタを提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成された第１ゲート電極と、
前記第１ゲート電極を含む前記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、
前記第１ゲート電極を含む前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、
前記活性層上に形成された保護層と、
前記保護層上に前記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記保護層上に形成された第２ゲート電極とを備えることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項２】
前記保護層が前記活性層を含む前記基板の上部に形成され、前記ソース電極及びドレイン電極が、前記保護層に形成されたコンタクトホールを介して前記活性層に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項３】
前記第２ゲート電極が、前記第１ゲート電極と重なるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項４】
前記第２ゲート電極が、前記ソース電極及びドレイン電極から離隔していることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項５】
前記ソース電極及びドレイン電極と第２ゲート電極とが、同一物質で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項６】
前記酸化物半導体が、酸化亜鉛（ＺｎＯ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項７】
前記酸化物半導体に、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びバナジウム（Ｖ）からなる群より選択された少なくとも１つのイオンがドープされていることを特徴とする請求項６に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項８】
前記基板と前記第１ゲート電極との間に形成されたバッファ層をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項９】
基板上に第１ゲート電極を形成するステップと、
前記第１ゲート電極を含む前記基板の上部にゲート絶縁膜を形成するステップと、
前記第１ゲート電極を含む前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により活性層を形成するステップと、
前記活性層上に保護層を形成するステップと、
前記保護層上に前記活性層と接続するソース電極及びドレイン電極と、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に配置される第２ゲート電極とを形成するステップとを含むことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１０】
前記保護層を形成するステップは、
前記活性層を含む上部に前記保護層を形成するステップと、
前記保護層にコンタクトホールを形成するステップとを含むことを特徴とする請求項９に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１１】
前記ソース電極及びドレイン電極と第２ゲート電極とを形成するステップは、
前記コンタクトホールが埋められるように前記保護層上に導電層を形成するステップと、
前記導電層をパターニングして、前記コンタクトホールを介して前記活性層と接続する前記ソース電極及びドレイン電極と、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に配置される第２ゲート電極とを形成するステップとを含むことを特徴とする請求項９に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１２】
前記導電層をパターニングするとき、前記保護層をエッチング停止層として用いることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１３】
前記第２ゲート電極を、前記第１ゲート電極と重なるように形成することを特徴とする請求項９に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１４】
前記第２ゲート電極を、前記ソース電極及びドレイン電極から離隔するように形成することを特徴とする請求項９に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１５】
前記酸化物半導体が、酸化亜鉛（ＺｎＯ）を含むことを特徴とする請求項９に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１６】
前記酸化物半導体に、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びバナジウム（Ｖ）からなる群より選択された少なくとも１つのイオンがドープされていることを特徴とする請求項１５に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１７】
前記基板上にバッファ層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１８】
第１電極、有機発光層、及び第２電極からなる有機電界発光素子と、前記有機電界発光素子の動作を制御するための薄膜トランジスタとが形成された第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板とを備え、
前記薄膜トランジスタは、
前記第１基板上に形成された第１ゲート電極と、
前記第１ゲート電極を含む前記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、
前記第１ゲート電極を含む前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、
前記活性層上に形成された保護層と、
前記保護層上に前記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記保護層上に形成された第２ゲート電極とを備えることを特徴とする有機電界発光表示装置。
【請求項１９】
前記保護層が前記活性層を含む前記基板の上部に形成され、前記ソース電極及びドレイン電極が、前記保護層に形成されたコンタクトホールを介して前記活性層に接続されていることを特徴とする請求項１８に記載の有機電界発光表示装置。
【請求項２０】
前記第２ゲート電極が、前記第１ゲート電極と重なるように形成されていることを特徴とする請求項１８に記載の有機電界発光表示装置。
【請求項２１】
前記第２ゲート電極が、前記ソース電極及びドレイン電極から離隔していることを特徴とする請求項１８に記載の有機電界発光表示装置。
【請求項２２】
前記ソース電極及びドレイン電極と第２ゲート電極とが、同一物質で形成されていることを特徴とする請求項１８に記載の有機電界発光表示装置。
【請求項２３】
前記酸化物半導体が、酸化亜鉛（ＺｎＯ）を含むことを特徴とする請求項１８に記載の有機電界発光表示装置。
【請求項２４】
前記酸化物半導体に、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びバナジウム（Ｖ）からなる群より選択された少なくとも１つのイオンがドープされていることを特徴とする請求項２３に記載の有機電界発光表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置に関し、より詳細には、二重ゲート構造の薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）は、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を提供する活性層と、チャネル領域と重なり、かつゲート絶縁膜により活性層と絶縁されるゲート電極とからなる。
【０００３】
このように構成された薄膜トランジスタの活性層は、一般に、非晶質シリコンやポリシリコンなどの半導体物質で形成される。ところが、活性層が非晶質シリコンで形成されると、移動度（ｍｏｂｉｌｉｔｙ）が低く、高速で動作する駆動回路の実現が難しく、ポリシリコンで形成された場合は、移動度は高いものの、閾値電圧が不均一なため、別の補償回路を付加しなければならないという問題がある。
【０００４】
また、低温ポリシリコン（Ｌｏｗ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｐｏｌｙ−Ｓｉｌｉｃｏｎ：ＬＴＰＳ）を用いた従来の薄膜トランジスタの製造方法では、レーザ熱処理などのような高価な工程が含まれる上、特性の制御が難しいため、大面積の基板に適用しにくいという問題がある。
【０００５】
これらの問題を解決すべく、最近では酸化物半導体を活性層として用いるための研究が進められている。
【０００６】
特許文献１には、酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ：ＺｎＯ）または酸化亜鉛（ＺｎＯ）を主成分とする酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタが開示されている。
【０００７】
酸化亜鉛（ＺｎＯ）を主成分とする酸化物半導体は、非晶質形態で、かつ安定した材料として評価されており、この酸化物半導体を活性層として用いると、別の工程装置を追加購入しなくても、従来の工程装置を用いて低温で薄膜トランジスタを製造することができ、イオン注入工程が省略されるなど、様々な利点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２７３６１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタは、構造及び工程条件により電気的特性が変化しやすくなるため、信頼性が低いという問題がある。特に、定電圧または低電流駆動時に電流特性が低下して閾値電圧が変化し、これにより、電気的特性が低下してしまうという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、電気的特性が向上した薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置を提供することにある。
【００１１】
また、本発明が他の目的とするところは、製造工程に用いられるマスクの数を減少させることのできる薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板と、上記基板上に形成された第１ゲート電極と、上記第１ゲート電極を含む上記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、上記第１ゲート電極を含む上記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、上記活性層上に形成された保護層と、上記保護層上に上記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極と上記ドレイン電極との間の上記保護層上に形成された第２ゲート電極とを備える薄膜トランジスタが提供される。
【００１３】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、基板上に第１ゲート電極を形成するステップと、上記第１ゲート電極を含む上記基板の上部にゲート絶縁膜を形成するステップと、上記第１ゲート電極を含む上記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により活性層を形成するステップと、上記活性層上に保護層を形成するステップと、上記保護層上に上記活性層と接続するソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極と上記ドレイン電極との間に配置される第２ゲート電極とを形成するステップとを含む薄膜トランジスタの製造方法が提供される。
【００１４】
また、上記課題を解決するために、本発明のさらに別の観点によれば、第１電極、有機発光層、及び第２電極からなる有機電界発光素子と、上記有機電界発光素子の動作を制御するための薄膜トランジスタとが形成された第１基板と、上記第１基板に対向するように配置された第２基板とを備え、上記薄膜トランジスタは、上記第１基板上に形成された第１ゲート電極と、上記第１ゲート電極を含む上記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、上記第１ゲート電極を含む上記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、上記活性層上に形成された保護層と、上記保護層上に上記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極と上記ドレイン電極との間の上記保護層上に形成された第２ゲート電極とを備える有機電界発光表示装置が提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の実施形態に係る薄膜トランジスタは、二重ゲート構造を有する。活性層の両側に配置された２つのゲート電極に印加されるバイアス電圧により活性層の両面にチャネルが形成されるため、従来の薄膜トランジスタに比べて電流（ｏｎ  ｃｕｒｒｅｎｔ）特性が向上し、バイアス電圧の大きさを調整すると、閾値電圧ＶＴＨを所望のレベルに容易に調整することができる。このため、向上した電気的特性を有する。また、本発明の実施形態に係る薄膜トランジスタは、１つのゲート電極がソース電極及びドレイン電極と同一平面に同一物質で形成されるため、別のマスクを追加しなくても、二重ゲート構造を容易に実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態に係る薄膜トランジスタを説明するための断面図である。
【図２】ゲート電圧ＶＧに応じたドレイン電流ＩＤの変化（ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｃｕｒｖｅ）を示すグラフである。
【図３ａ】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタの製造方法を説明するための断面図である。
【図３ｂ】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタの製造方法を説明するための断面図である。
【図３ｃ】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタの製造方法を説明するための断面図である。
【図３ｄ】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタの製造方法を説明するための断面図である。
【図４ａ】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置の一実施例を説明するための平面図である。
【図４ｂ】本発明の一実施形態による薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置の一実施例を説明するための断面図である。
【図５】図４ａの有機電界発光素子を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態による薄膜トランジスタを説明するための断面図である。
【００１９】
図１に示すように、基板１０上にバッファ層１１が形成され、バッファ層１１上に第１ゲート電極１２が形成される。第１ゲート電極１２を含む基板１０の上部にはゲート絶縁膜１３が形成され、第１ゲート電極１２を含むゲート絶縁膜１３上には酸化物半導体により活性層１４が形成される。活性層１４は、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含み、チャネル領域が第１ゲート電極１２と重なるように配置される。酸化物半導体としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）が使用可能であり、酸化亜鉛（ＺｎＯ）には、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びバナジウム（Ｖ）からなる群より選択された少なくとも１つのイオンがドープされ得る。
【００２０】
また、活性層１４を含む基板１０の上部には保護層１５が形成され、保護層１５上には、ソース領域及びドレイン領域の活性層１４と接続するソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂと、ソース電極１６ａとドレイン電極１６ｂとの間に配置される第２ゲート電極１６ｃとが形成される。ソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂは、保護層１５に形成されたコンタクトホールを介してソース領域及びドレイン領域の活性層１４に接続され、第２ゲート電１６ｃから所定距離離隔する。第２ゲート電極１６ｃは、第１ゲート電極１２と一部または全部重なり得る。
【００２１】
このように構成された薄膜トランジスタの第１ゲート電極１２及び第２ゲート電極１６ｃには互いに同一または互いに異なるバイアス電圧ＶＧが印加され得る。１つのゲート電極のみを備える従来の薄膜トランジスタは、ゲート電極にバイアス電圧が印加されると、ゲート電極に隣接する活性層の一面にのみチャネルが形成されるが、本発明の薄膜トランジスタは、第１ゲート電極１２及び第２ゲート電極１６ｃに隣接する活性層１４の両面にチャネルが形成されるため、電流（ｏｎ  ｃｕｒｒｅｎｔ）特性が従来の薄膜トランジスタに比べて向上する。
【００２２】
図２は、ゲート電圧ＶＧに応じたドレイン電流ＩＤの変化（ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｃｕｒｖｅ）を示すグラフである。従来の薄膜トランジスタ（点線Ａ）に比べて本発明の薄膜トランジスタ（実線Ｂ）が向上した閾値電圧ＶＴＨ特性を有するものと測定された。
【００２３】
また、第１ゲート電極１２及び第２ゲート電極１６ｃに印加されるバイアス電圧ＶＧの大きさをそれぞれ調整すると、閾値電圧ＶＴＨを所望のレベルに容易に調整することができる。
【００２４】
次に、薄膜トランジスタの製造過程に基づいて本発明の実施形態をより詳細に説明する。
【００２５】
図３ａ〜図３ｄは、本発明の一実施形態による薄膜トランジスタの製造方法を説明するための断面図である。
【００２６】
図３ａに示すように、基板１０上にバッファ層１１を形成した後、バッファ層１１上に第１ゲート電極１２を形成する。基板１０としては、シリコン（Ｓｉ）などの半導体基板、ガラスやプラスチックなどの絶縁基板、または金属基板を使用する。第１ゲート電極１２は、Ａｌ、Ｃｒ、ＭｏＷなどの金属で形成することができる。
【００２７】
図３ｂに示すように、第１ゲート電極１２を含む基板１０の上部にゲート絶縁膜１３を形成する。そして、第１ゲート電極１２を含むゲート絶縁膜１３上に酸化物半導体層を形成した後、パターニングして、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含む活性層１４を形成する。このとき、チャネル領域が第１ゲート電極１２と重なるように活性層１４をパターニングする。
【００２８】
ゲート絶縁膜１３は、シリコン酸化物（ＳｉＯ）、シリコン窒化物（ＳｉＮ）などの絶縁物で形成する。酸化物半導体層は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）で形成するか、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びバナジウム（Ｖ）からなる群より選択された少なくとも１つのイオンがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ）、例えば、ＺｎＯ、ＺｎＧａＯ、ＺｎＩｎＯ、ＺｎＳｎＯ、ＧａＩｎＺｎＯなどで形成する。
【００２９】
図３ｃに示すように、活性層１４を含む基板１０の上部に保護層１５を形成し、パターニングして、活性層１４のソース領域及びドレイン領域が露出するようにコンタクトホール１５ａを形成する。
【００３０】
図３ｄに示すように、コンタクトホール１５ａが埋められるように、保護層１５上に、Ｍｏ、ＭｏＷ、Ａｌ、ＡｌＮｄ、ＡｌＬｉＬａなどで導電層を形成し、パターニングして、コンタクトホール１５ａを介してソース領域及びドレイン領域の活性層１４と接続するソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂと、ソース電極１６ａとドレイン電極１６ｂとの間に配置される第２ゲート電極１６ｃとを形成する。このとき、ソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂは、第２ゲート電極１６ｃから所定距離離隔して電気的に分離されるようにし、第２ゲート電極１６ｃは、第１ゲート電極１２と一部または全部重なるようにする。
【００３１】
上記導電層をパターニングする過程において保護層１５をエッチング停止層（ｅｔｃｈ  ｓｔｏｐ  ｌａｙｅｒ）として用いれば、エッチング工程が容易になり、活性層１４の損傷や汚染を効果よく防止することができる。
【００３２】
このように構成された本発明の実施形態に係る薄膜トランジスタは、有機電界発光表示装置に適用可能である。
【００３３】
図４ａ及び図４ｂは、本発明による薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置の一実施例を説明するための平面図及び断面図である。図４ａ及び図４ｂを参照して、画像を表示する表示パネル２００を中心に概略的に説明する。
【００３４】
図４ａに示すように、基板２１０は、画素領域２２０と、画素領域２２０の周辺の非画素領域２３０とに分けられる。基板２１０の画素領域２２０には、走査ライン２２４とデータライン２２６との間にマトリクス方式で接続された複数の有機電界発光素子３００が形成され、基板２１０の非画素領域２３０には、画素領域２２０の走査ライン２２４及びデータライン２２６から伸びた走査ライン２２４及びデータライン２２６と、有機電界発光素子３００の動作のための電源供給ライン（図示せず）と、パッド２２８を介して外部から供給された信号を処理し、走査ライン２２４及びデータライン２２６に供給する走査駆動部２３４及びデータ駆動部２３６とが形成される。
【００３５】
図５に示すように、有機電界発光素子３００は、アノード電極３１７と、カソード電極３２０と、アノード電極３１７とカソード電極３２０との間に形成された有機発光層３１９とを備える。有機発光層３１９は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、及び電子注入層をさらに含むことができる。有機電界発光素子３００はまた、有機電界発光素子３００の動作を制御するための薄膜トランジスタと、信号を保持させるためのキャパシタとをさらに備えることができる。
【００３６】
薄膜トランジスタは、図１のような構造を有し、図３ａ〜図３ｄを参照して説明した本発明の製造方法によって製造可能である。
【００３７】
このように構成された薄膜トランジスタを備える有機電界発光素子３００を、図４ａ及び図５に基づいてより詳細に説明すると、次のとおりである。
【００３８】
基板２１０上にバッファ層１１が形成され、画素領域２２０のバッファ層１１上に第１ゲート電極１２が形成される。このとき、画素領域２２０には、第１ゲート電極１２と接続する走査ライン２２４が形成され、非画素領域２３０には、画素領域２２０の走査ライン２２４から伸びる走査ライン２２４と、外部から信号を受信するためのパッド２２８とが形成され得る。
【００３９】
第１ゲート電極１２を含む基板１０の上部には、ゲート絶縁膜１３により第１ゲート電極１２と絶縁され、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含む活性層１４が形成される。
【００４０】
活性層１４を含む基板１０の上部には保護層１５が形成され、保護層１５には、活性層１４のソース領域及びドレイン領域が露出するようにコンタクトホールが形成される。保護層１５上には、コンタクトホールを介してソース領域及びドレイン領域の活性層１４と接触するソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂと、ソース電極１６ａとドレイン電極１６ｂとの間に配置される第２ゲート電極１６ｃとが形成される。このとき、画素領域２２０には、ソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂと接続するデータライン２２６が形成され、非画素領域２３０には、画素領域２２０のデータライン２２６から伸びるデータライン２２６と、外部から信号を受信するためのパッド２２８とが形成される。
【００４１】
ソース電極１６ａ及びドレイン電極１６ｂと第２ゲート電極１６ｃとを含む基板１０の上部には平坦化層１７が形成され、平坦化層１７には、ソース電極１６ａまたはドレイン電極１６ｂが露出するようにビアホールが形成される。そして、ビアホールを介してソース電極１６ａまたはドレイン電極１６ｂと接続するアノード電極３１７が形成される。
【００４２】
アノード電極３１７を含む平坦化層１７上には、アノード電極３１７の一部の領域（発光領域）が露出するように画素定義膜３１８が形成され、露出したアノード電極３１７上には有機発光層３１９が形成される。そして、有機発光層３１９を含む画素定義膜３１８上にはカソード電極３２０が形成される。
【００４３】
図４ｂに示すように、上記ように有機電界発光素子３００が形成された基板２１０の上部には、画素領域２２０を封止させるための封止基板４００が基板２１０に対向するように配置され、封止材４１０により封止基板４００が基板２１０に貼り合わされ、表示パネル２００が完成する。
【００４４】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００４５】
１０、２１０    基板
１１    バッファ層
１２    第１ゲート電極
１３    ゲート絶縁膜
１４    活性層
１５    保護層
１７    平坦化層
２００    表示パネル
３００    有機電界発光素子
３１７    アノード電極
３１８    画素定義膜
３１９    有機発光層
３２０    カソード電極
４００    封止基板
４１０    封止材
１６ａ    ソース電極
１６ｂ    ドレイン電極
１６ｃ    第２ゲート電極
【図１】
2011082487.tif 000003
【図２】
2011082487.tif 000004
【図３ａ】
2011082487.tif 000005
【図３ｂ】
2011082487.tif 000006
【図３ｃ】
2011082487.tif 000007
【図３ｄ】
2011082487.tif 000008
【図４ａ】
2011082487.tif 000009
【図４ｂ】
2011082487.tif 000010
【図５】
2011082487.tif 000011