(57)【要約】      （修正有）【課題】シールの山部の噛み込みを防止する。【解決手段】シールは、全体閉環状であって、長手方向に沿って横断面形状が相違する３種以上を具備する。また、シール溝に嵌着された嵌着自由状態下で該シール溝の開口部から突出する密封用山部５を有し、上記３種以上の横断面形状は、上記山部が、中央線Ｌ０に関して左右対称形のシンメトリー基本型Ｐ０と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型Ｐ２を、少なくとも有している。切欠部10を形成することで、中央線Ｌ0に関して、横断面形状が非対称とし、かつ、傾斜状に相互に接近する第１・第２平坦面の開放側に、上記切欠部10のある側を向ける。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
全体閉環状であって、長手方向（Ｌ）に沿って横断面形状が相違する３種以上を具備することを特徴とするシール。
【請求項２】
シール溝（３）に嵌着された嵌着自由状態下で該シール溝（３）の開口部（４）から突出する密封用山部（５）を有し、上記３種以上の横断面形状は、上記山部（５）が、中央線（Ｌ0 ）に関して左右対称形のシンメトリー基本型（Ｐ0 ）と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型（Ｐ1 ）と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型（Ｐ2 ）を、少なくとも有している請求項１記載のシール。
【請求項３】
第１平坦面（11）にシール溝（３）が閉環状に凹設された第１部材（１）と、上記シール溝（３）の開口部（４）から密封用山部（５）が突出状として嵌着された全体閉環状のシール（Ｓ）と、上記第１平坦面（11）に対して傾斜角度（θ）をもって相対的に接近して密封閉状態下では相対的に平行に対面する第２平坦面（12）を有する第２部材（２）とを、備えた密封構造に於て、
上記シール（Ｓ）は嵌着自由状態下で長手方向（Ｌ）に沿って横断面形状が相違する３種以上を備え、該３種以上の横断面形状は、上記山部（５）が中央線（Ｌ0 ）に関して左右対称形のシンメトリー基本型（Ｐ0 ）と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型（Ｐ1 ）と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型（Ｐ2 ）を、有し、
上記傾斜角度（θ）をもって相対的に接近した相対的接近状態における第１平坦面（11）と第２平坦面（12）の開放側（Ｒ）に、上記第１・第２非シンメトリー型（Ｐ1 ）（Ｐ2 ）の切欠かれた切欠部（10）（10）が対応するように、配設したことを特徴とする密封構造。
【請求項４】
上記第１部材（１）がゲートバルブ弁体（21）であり、上記第２部材（２）がゲートバルブ弁座部（22）である請求項３記載の密封構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール及び密封構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体処理装置や薄膜形成処理装置等には、高真空状態や高気密状態に処理室内を保持するため、処理材料出入用開口部にゲートバルブが使用される。
従来のゲートバルブ40を、図15〜図18に示す。即ち、半導体処理装置や薄膜形成処理装置等のゲートバルブ40は、処理室41の開口部に設けられたゲートバルブ弁座部42と、これに対して矢印43のように一軸心Ｏ廻りに揺動可能に枢着されたゲートバルブ弁体44を備え、弁体44には全体閉環状のシール溝45が凹設され、このシール溝45に弾性材製のシール46が嵌着されている。
【０００３】
ところで、従来のシール46は、その横断面形状が長手方向にわたって同一に形成されていた（例えば、特許文献１参照）。
図15〜図18に示す従来例に於ても、シール46の横断面形状は、長手方向にわたって同一であって、倒立略台形状の基部47と、蟻溝状のシール溝45の開口部45Ａから突出状の山部48とから成り、しかも、その横断面形状は中心線Ｌ0 に関して左右対称形である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２６５０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来例を示す図15〜図18でも明らかなように、弁体44が矢印43のように一軸心Ｏ廻りに揺動して閉作動し、弁座部42の平坦面（当接面）42Ａに対して、弁体44の対応する平坦面44Ａは、傾斜角度θをもって接近してゆく。図16から図17のように、まず、（図15の）一軸心Ｏに近い（シール溝45の）辺に於て、山部48が平坦面42Ａに押圧され、傾斜状に相対的に接近した両平坦面42Ａ，44Ａの開放側Ｒに、弾性材から成る山部48が逃げるように弾性変形する。その結果、図17に示す逃げ変形部49が、両平坦部42Ａ，44Ａに挟み込まれて、図18のように噛み込みＹを発生する。
【０００６】
さらに、図17から図18のように、（図15の）一軸心Ｏから離れた（シール溝45の）辺に於ても、山部48が両平坦面42Ａ，44Ａの開放側Ｒに逃げるが如くに弾性変形して、その結果、逃げ変形部49が両平坦面42Ａ，44Ａに圧縮されて噛み込みＹを発生する。
このようにして、従来のシールが早期に異常破損を発生する虞があり、例えば、高真空状態や高気密状態に密封すべきゲートバルブ用としては、大きな問題となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで、本発明に係るシールは、全体閉環状であって、長手方向に沿って横断面形状が相違する３種以上を具備する。
また、シール溝に嵌着された嵌着自由状態下で該シール溝の開口部から突出する密封用山部を有し、上記３種以上の横断面形状は、上記山部が、中央線に関して左右対称形のシンメトリー基本型と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型を、少なくとも有している。
【０００８】
また、第１平坦面にシール溝が閉環状に凹設された第１部材と、上記シール溝の開口部から密封用山部が突出状として嵌着された全体閉環状のシールと、上記第１平坦面に対して傾斜角度をもって相対的に接近して密封閉状態下では相対的に平行に対面する第２平坦面を有する第２部材とを、備えた密封構造に於て、上記シールは嵌着自由状態下で長手方向に沿って横断面形状が相違する３種以上を備え、該３種以上の横断面形状は、上記山部が中央線に関して左右対称形のシンメトリー基本型と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型を、有し、上記傾斜角度をもって相対的に接近した相対的接近状態における第１平坦面と第２平坦面の開放側に、上記第１・第２非シンメトリー型の切欠かれた切欠部が対応するように、配設したものである。
また、上記第１部材がゲートバルブ弁体であり、上記第２部材がゲートバルブ弁座部である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ゲートバルブ等に好適なシール及び密封構造が得られる。特に、シール溝の開口部から突出状の密封用山部の噛み込みによるシール破損を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る密封構造の実施の一形態を示す断面側面図である。
【図２】要部正面図である。
【図３】図２の拡大ａ−ａ断面図である。
【図４】図２の拡大ｂ−ｂ断面図である。
【図５】図２の拡大ｃ−ｃ断面図である。
【図６】図２の拡大ｄ−ｄ断面図である。
【図７】断面形状の説明図である。
【図８】作動説明のための要部拡大断面図である。
【図９】作動説明のための要部拡大断面図である。
【図１０】作動説明のための要部拡大断面図である。
【図１１】作動説明のための要部拡大断面図である。
【図１２】密封用山部についての種々の他の実施の形態を示す要部説明図である。
【図１３】シール溝についての種々の他の実施の形態を示す要部説明図である。
【図１４】シールについての種々の他の実施の形態を示す全体簡略説明図である。
【図１５】従来例を示す断面側面図である。
【図１６】従来例の作用と問題点を説明するための要部拡大断面図である。
【図１７】従来例の作用と問題点を説明するための要部拡大断面図である。
【図１８】従来例の作用と問題点を説明するための要部拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図示の実施の形態に基づき本発明を詳説する。
図１と、その要部拡大図に相当する図８に於て、本発明に係る密封構造は、第１平坦面11にシール溝３が全体閉環状に凹設された第１部材１と、このシール溝３に嵌着された全体閉環状のシールＳと、第２平坦面12を有する第２部材２とを、備えている。シール溝３は、具体的には台形状の蟻溝であり、そのシール溝３の開口部４から、シールＳの密封用山部５が突出状として嵌着される。シールＳはゴム等の弾性部材から成る。
【００１２】
第１部材１と第２部材２は、一軸心Ｏ廻りに相対的に揺動運動して開閉作動するように、相互に枢結されている。図１では、第２部材２が固定側であり、第１部材１が軸心Ｏ廻りに揺動開閉可能として枢着されている場合を示し、矢印Ｍは、軸心Ｏ廻りに第１部材１が揺動しつつ閉作動―――第１平坦面11に対して接近する作動―――する方向を示すが、第１平坦面11と第２平坦面12とが、傾斜角度θをもって相対的に接近して、図８から図９，図10と順次、傾斜角度が減少し、最終的には、図11に示すような密封状態下では、第１平坦面11と第２平坦面12とは平行に対面する。なお、対面とは、図11に示すように、微小間隙Ｇが存在する場合、及び、Ｇ＝０として、相互に当接状である場合の両方がありえる。
【００１３】
ところで、図１に於ては、第１部材１がゲートバルブ弁体21であり、第２部材２がゲートバルブ弁座部22である場合を例示しており、半導体処理装置や薄膜形成処理装置等の処理室６の（例えば）横細長状の矩形開口部７を、開閉可能に高気密に封止するゲートバルブ８として、本発明に係る密封構造を応用した場合を示している。なお、図１では、開口部７を有する弁座部22が処理室６の包囲壁の一部を構成（兼用）している場合を示すが、これ以外に、弁座部22を別体として、処理室６に固着することも、自由である（図示省略）。
【００１４】
次に、シールＳについて以下説明すれば、例えば、図１に示した開口部７が水平方向に細長状の矩形である場合には、その開口部７の外形寸法よりも僅かに大きい縦横寸法の矩形状に、シールＳの全体形状が形成される（図２参照）。そして、シールＳは嵌着自由状態下―――第２平坦面２が非接触であって、図３〜図６のようにシール溝３に嵌着されている状態下―――では、長手方向Ｌに沿って、横断面形状が相違する３種以上を備えている。
図２では、シールＳの長手方向に、かつ、時計廻りに、（ａ−ａ）横断面，（ｄ−ｄ）横断面，（ｂ−ｂ）横断面，（ｃ−ｃ）横断面を順次見てゆけば、各々、図３，図６，図４，図５のような形状となる。
【００１５】
具体的には、シールＳは、倒立台形状の基部９と、頂部５Ａが丸味のある山部５とから、形成された横断面形状を具備し、前記３種の横断面形状とは、（図３と図４に示すように、）中央線Ｌ0 に関して左右対称形のシンメトリー基本型Ｐ0 と、左側のみを切欠いた（図６に示すような）第１非シンメトリー型Ｐ1 と、右側のみを切欠いた（図５に示すような）第２非シンメトリー型Ｐ2 から構成される。図７は自由状態のシンメトリー基本型Ｐ0 及び第２非シンメトリー型Ｐ2 とを合わせて図示し、かつ、２点鎖線13をもって、山部５と基部９とを区画して明示している。この図からも明らかなように、シンメトリー基本型Ｐ0 の山部５の頂部から右斜面部14に沿って、切欠部10にて切欠いて、第２非シンメトリー型Ｐ2 とする。なお、第１非シンメトリー型Ｐ1 の場合は、シンメトリー基本型Ｐ0 の左斜面部15を切欠けば良く、図示省略した。
【００１６】
ところで、本発明に於ては、基部９よりも、山部５の形状が重要であり、従って、シール長手方向Ｌに沿って、山部５の横断面形状を相違させて、３種以上とすることが望ましいといえる。
言い換えれば、本発明に係るシールＳは、シール溝３の開口部４から（嵌着自由状態で）突出する山部５の横断面形状を３種以上に相違させて、山部５を中央線Ｌ0 に関して左右対称形としたシンメトリー基本型Ｐ0 と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型Ｐ1 と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型P2 の少なくとも３種を有している。
なお、本発明に於て、中央線Ｌ0 とは、横断面形状におけるシール溝３の開口部４を、第１平坦面11を示す直線の延長線にて閉鎖した線分Ｎに対して、垂直に立てた垂直２等分線（図13（Ａ）（Ｄ）参照）を、言うものとする。
【００１７】
ところで、図１と図２に於て、符号Ｒは、傾斜角度θをもって相対的に第１平坦面11と第２平坦面12とが接近した相対的接近状態における開放側（傾斜角度増加側）を示している。上述した第１・第２非シンメトリー型Ｐ1 ，Ｐ2 は、各々の切欠部10が、上記開放側Ｒに対応する。言い換えると、各切欠部10は、開放側Ｒを向くように配設されている。
具体的に、図１〜図３に示す実施の形態では、全体が横に細長状のシールＳの、図２の左辺・右辺は、その長手方向が開放側Ｒに平行状であるため、（切欠部の無い）図３，４に示す横断面形状―――シンメトリー基本型Ｐ0 ―――であるのに対して、図２の上辺は、図６に示す横断面形状（第１非シンメトリー型Ｐ1 ）として、切欠部10が図２における上方（開放側Ｒ）を向き、かつ、図２の下辺は、図５に示す横断面形状（第２非シンメトリー型Ｐ2 ）として、切欠部10が図２における上方（開放側Ｒ）を向く。
【００１８】
別の見方をすれば、図２に示す細長矩形状のシールＳに包囲された内側を内領域Ｉs と呼び、その外側を外領域Ｏs と呼ぶと、下辺では切欠部10が内領域Ｉs を向くように配設されると共に、上辺では切欠部10が外領域Ｏs を向くように配設される。これは、横断面形状がシンメトリーの従来のシール（パッキン）とは、全く異なる点である。
なお、図２の４つの角部にあっては、この横断面形状を、図３，図４と、図５又は図６との間で、滑らかに少しずつ、変化させるのが望ましい（図示省略）。
【００１９】
図14に於て、（Ａ）は図２に対応する説明のためのシール全体図を示し、Ｒは前記開放側を示すと共に点線は前記切欠部10の位置を示している。図14（Ｂ）〜（Ｅ）は各々別の実施の形態を示し、同図（Ｂ）は、正方形乃至正方形に近い矩形の場合を示し、点線にて示したように、平行な２辺の開放側Ｒに切欠部10を形成し、左辺・右辺は切欠部が無い。
同図（Ｃ）は六角形状であり、左辺・右辺は切欠部が無いシンメトリー基本型Ｐ0 とすると共に、左上斜辺・右上斜辺は点線にて示すように（図の上方の）開放側Ｒに切欠部10を設け、また、左下斜辺・右下斜辺は点線にて示すように（図の上方の）開放側Ｒに切欠部10を設ける。
【００２０】
同図（Ｄ）は、左右に長軸を有する楕円形乃至長円形の場合を示す。上円弧部と下円弧部には、（図の上方の）開放側Ｒに切欠部10を配設し、右円弧部・左円弧部は、切欠部が無い（シンメトリー基本型Ｐ0 とする）。
同図（Ｅ）は、円形の場合を示し、上円弧部と下円弧部には、（図の上方の）開放側Ｒに切欠部10を配設し、右円弧部・左円弧部には切欠部が無い（シンメトリー基本型とする）。
【００２１】
この図14（Ａ）〜（Ｅ）でも明らかなように、上辺乃至上円弧部側では、外領域Ｏs に切欠部10が配設され、下辺乃至下円弧側では内領域Ｉs に切欠部10が配設されていることが分かる。そして、シール横断面形状が、矢印Ｒにて示す開閉方向と直交する水平状中央線Ｌh に関して、非対称であると言うこともできる。
【００２２】
次に、図12（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の各々別の実施の形態を示すシールの要部横断面説明図であり、同図（Ａ）では、山部５が三角山型であり、斜線にて示すように（略三角形状に）切欠部10を切欠形成した場合を示し、同図（Ｂ）では、山部５が角張った台形の場合を示す斜線にて示す（平行四辺形状の）切欠部10を切欠形成した場合を示し、同図（Ｃ）では、丸山型の山部５の場合を示し、頂部から基部へ向かって次第に大きくなる流線型に切欠部10が形成されている場合を示す。既述の図１〜図６では、図12の（Ｂ）と（Ｃ）との中間の断面形状の山部５を示していたといえる。
また、図12（Ｄ）では、半円型（乃至半楕円型）の山部５であって、頂部から基部へ向かって次第に大きくなる流線型の切欠部が形成されている場合を示す。
【００２３】
なお、図12に於て、11は第１平坦面を示し、山部５はこの第１平坦面11から、（嵌着自由状態下では）突出状であり、しかも、切欠部10は、第１平坦面11よりも下方位置に在り、従って、図５，図６を参照すれば明らかなように、シール溝３の内部にまで、切欠部10の基端10ａが侵入状態にある。このように、本発明に於て、シールＳの山部５の形状は種々変形自由である。
【００２４】
次に、図13に於て、シール溝３の断面形状は、設計変更自由であることを示し、同図（Ａ）は、既述の図１〜図６の場合の等辺台型のシール溝３の場合を示し、図13（Ｂ）は、シール溝３が不等辺台型であっても良いことを示し、しかも、同図（Ａ）（Ｂ）は、第１部材１に一体形成されたシール溝３の場合を示している。
これに対し、図13（Ｃ）は、２部品17，18を組み合わせて等辺台型のシール溝３を形成し、あるいは、図13（Ｄ）は２部品17，18を組み合わせて不等辺台型のシール溝３を形成している場合を示す。
【００２５】
また、図13（Ｅ）（Ｆ）（Ｇ）は、シール溝３が倒立Ｔ字型に形成した場合を示し、かつ、同図（Ｅ）は第１部材１に一体に凹設してシール溝３を形成した場合であり、同図（Ｆ）（Ｇ）は、２部品17，18を組み合わせてシール溝３を形成する場合を示している。なお、図示省略したが、これ以外に、シール溝３としては、奥部が円形等に膨出した蟻溝であっても良く。場合によっては、蟻溝ではない矩形であっても良いこともある。
【００２６】
図８〜図11は、図１〜図７に示したシールＳ及びシール溝３の場合の作用を説明する要部断面図であって、図８→図９→図10と、順次、第１平坦面11と第２平坦面12とが相対的に接近して、傾斜角度θがしだいに減少してゆくと、まず、図２の下辺側（図１の一軸心Ｏに近い側）の山部５が第２平坦面12に接触し、その後、図２の上辺側（図１の一軸心Ｏから遠い側）の山部５が第２平坦面12に接触し、斜め方向の押圧力を受けて、上記下辺側の山部５は内領域Ｉs 側へ倒れ込むように圧縮弾性変形を生じ、また、上記上辺側の山部５は外領域Ｏs へ倒れ込むように圧縮弾性変形を生ずるが、各々、倒れ込む側に切欠部10，10を予め形成してあることによって、図10及び図11に示すように、第１平坦面11と第２平坦面12の間に、山部５が噛み込みを発生することがない。即ち、従来例の図17と図18に示したような噛み込みＹを発生することを、防止できる。
このように、本発明では、シール溝３から突出していた山部５が、図８、あるいは、図12の（Ａ）〜（Ｄ）等のいずれであっても、図17，図18の噛み込みＹが防止できる。
【００２７】
ところで、図14（Ａ）〜（Ｅ）に於て、切欠部10を有するシール長手範囲と、切欠部10を有さないシール長手範囲の境界ゾーンでは、滑らかに横断面形状を変化させることが望ましい。
なお、図１に於ては、一軸心Ｏ廻りに揺動しつつ第１部材１が第２部材２へ接近することで、傾斜角度θをもって傾斜状に接近する場合を述べたが、これ以外に、本発明では、所定の一定の傾斜角度θをもって相互接近した後に、揺動して相互に平行となる閉作動を行わせる場合、あるいは、２軸心以上の軸心廻りに、同時又は順次に、揺動させつつ、第１部材１と第２部材２とが相対的に閉作動する場合、さらには、これらの動きを組み合わせた閉作動する場合であっても、応用可能である。
【００２８】
なお、本発明に於て、第１非シンメトリー型Ｐ1 と第２非シンメトリー型Ｐ2 は、図２に例示したように、シール長手方向Ｌに沿って、時計廻り（又は反時計廻り）に、一方向へのみに沿って判断した横断面形状を言うものと定義する（図２及び図５〜図６参照）。
また、図５，図６，図７，図12の各実施の形態にあっても、嵌着自由状態のシールＳの山部５が、第１平坦面11（開口部４）から突出しているところの断面積に於て、シンメトリー基本型Ｐ0 に対する切欠部10の割合は、10％〜40％に設定し、好ましくは、15％〜30％に設定する。下限値未満であれば、噛み込みＹを生ずる虞があり、逆に、上限値を越すと、シール性能が不十分となる。なお、切欠部10は、中央線Ｌ0 に到達しないことが望ましい。また、本発明は、半導体処理装置や薄膜形成処理装置等に用いられるゲートバルブに好適ではあるが、これに限らず、それ以外の用途に使用することも自由である。
【００２９】
本発明は上述のように、全体閉環状であって、長手方向Ｌに沿って横断面形状が相違する３種以上を具備する構成であるので、従来の図15〜図18にて述べた噛み込みＹを生じ易いシール長手方向範囲に対処可能であり、この噛み込みＹを避けるようにシール溝３への嵌着配置が容易に対応可能となった。
【００３０】
また、シール溝３に嵌着された嵌着自由状態下で該シール溝３の開口部４から突出する密封用山部５を有し、上記３種以上の横断面形状は、上記山部５が、中央線Ｌ0 に関して左右対称形のシンメトリー基本型Ｐ0 と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型Ｐ1 と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型Ｐ2 を、少なくとも有している構成であるので、シールＳの横断面を横切るように傾斜状に閉作動するシール長手方向範囲では、第１・第２非シンメトリー型Ｐ1 ，Ｐ2 を対応させて、噛み込みＹを有効に避けることができる。また、それ以外のシール長手方向範囲では、シンメトリー基本型Ｐ0 を対応させて、確実なシール性を発揮させ得る。従って、全体として、高気密・高密封性能を発揮でき、シール寿命も十分に延びる。
【００３１】
また、第１平坦面11にシール溝３が閉環状に凹設された第１部材１と、上記シール溝３の開口部４から密封用山部５が突出状として嵌着された全体閉環状のシールＳと、上記第１平坦面11に対して傾斜角度θをもって相対的に接近して密封閉状態下では相対的に平行に対面する第２平坦面12を有する第２部材２とを、備えた密封構造に於て、上記シールＳは嵌着自由状態下で長手方向Ｌに沿って横断面形状が相違する３種以上を備え、該３種以上の横断面形状は、上記山部５が中央線Ｌ0 に関して左右対称形のシンメトリー基本型Ｐ0 と、左側のみを切欠いた第１非シンメトリー型Ｐ1 と、右側のみを切欠いた第２非シンメトリー型Ｐ2 を、有し、上記傾斜角度θをもって相対的に接近した相対的接近状態における第１平坦面11と第２平坦面12の開放側Ｒに、上記第１・第２非シンメトリー型Ｐ1 ，Ｐ2 の切欠かれた切欠部10，10が対応するように、配設した構成であるので、山部５が開放側Ｒへ逃げるように弾性変形したとしても、第１平坦面11と第２平坦面12との間に挟まれて、噛み込みＹを生ずることがない。従って、シールＳの耐久性に優れ、長期使用期間にわたって優れた密封性（シール性能）を発揮し、例えば、ゲートバルブ等に好適な密封構造である。
【符号の説明】
【００３２】
１  第１部材
２  第２部材
３  シール溝
４  開口部
５  山部
10  切欠部
11  第１平坦面
12  第２平坦面
21  ゲートバルブ弁体
22  ゲートバルブ弁座部
Ｌ  長手方向
Ｌ0   中央線
Ｏ  一軸心
Ｐ0   シンメトリー基本型
Ｐ1   第１非シンメトリー型
Ｐ2   第２非シンメトリー型
Ｒ  開放側
Ｓ  シール
Ｙ  噛み込み
θ  傾斜角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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