(57)【要約】【課題】低損失な高周波伝送線路を提供する。【解決手段】高周波伝送線路１００は、半導体基板１０上のグランドプレーン１５と信号線群とを利用したマイクロストリップライン構造の伝送線路である。信号線群は、第１の配線層に形成される第１の信号線１１と、第２の配線層に形成される第２の信号線１２および第３の信号線１３とを含む。第１の信号線１１の左端部と第２の信号線１２とは、ビアホール１４Ａにより電気的に接続され、第１の信号線１１の右端部と第３の信号線１３とは、ビアホール１４Ｂにより電気的に接続される。【選択図】図１
2011055302.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と信号線群とを利用したマイクロストリップライン構造の高周波伝送線路であって、
前記信号線群は、
第１の配線層に形成される第１の信号線と、
第２の配線層に形成される第２および第３の信号線とを含み、
前記第２の信号線が形成される方向は、前記第３の信号線が形成される方向と同じであり、
前記第１の信号線が形成される方向は、前記第２および第３の信号線が形成される方向と同じであり、
前記第１の信号線は、前記第２および第３の信号線を覆うように、前記第２および第３の信号線の上部に形成され、
前記第２の信号線は、前記第１の信号線の左端の部分である左端部の下部に形成され、
前記第３の信号線は、前記第１の信号線の右端の部分である右端部の下部に形成され、
前記第１の信号線には、前記左端部と前記右端部との間に、ｍ（１以上の整数）行ｎ（２以上の整数）列の行列を構成する複数のスリットが形成され、
前記第１の信号線の左端部と前記第２の信号線とは、第１のビアホールにより電気的に接続され、
前記第１の信号線の右端部と前記第３の信号線とは、第２のビアホールにより電気的に接続される、
高周波伝送線路。
【請求項２】
前記半導体基板上には接地電極層が形成され、
前記接地電極層は、前記第１および第２の配線層の下部に設けられる、
請求項１に記載の高周波伝送線路。
【請求項３】
前記接地電極層の面積は、前記第１の信号線の面積より大きい、
請求項２に記載の高周波伝送線路。
【請求項４】
前記行列におけるｎ個の列の各々に対応するｍ個のスリットは、前記第１の信号線の長さ方向に並ぶように配置され、
前記行列におけるｍ個の行の各々に対応するｎ個のスリットは、前記第１の信号線の幅方向に並ぶように配置される、
請求項１〜３のいずれかに記載の高周波伝送線路。
【請求項５】
前記高周波伝送線路は、さらに、
前記第２の配線層に形成されるメタルを含み、
前記メタルは、前記第２の信号線と前記第３の信号線との間に形成され、
前記メタルは、前記第１の信号線、前記第２の信号線、前記第３の信号線、前記第１のビアホールおよび前記第２のビアホールのいずれとも電気的に非接続とされる、
請求項１に記載の高周波伝送線路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種通信機器やレーダ等の高周波半導体装置内のＭＭＩＣ(Monolithic Microwave Integrated Circuit)チップに搭載される高周波伝送線路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、シリコン（Ｓｉ）系半導体デバイスの微細化が進み、６５ｎｍプロセスルールに基づくＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）の量産が実現されている。ＣＭＯＳ技術の微細化により、トランジスタの使用可能周波数も次第に大きくなり、車載レーダやＨＤＭＩ（High-Definition Multimedia Interface）無線システムなどの準ミリ波・ミリ波帯でのアプリケーションに向けて研究開発が進められている。
【０００３】
シリコン系半導体デバイスは導電性基板であるため、伝送線路や受動素子などの損失が大きいという課題がある。そこで、シリコン基板上の配線層の最下層配線層をグランドプレーンとしたマイクロストリップライン構造を用いて、伝送線路などの低損失化が図られている。主に、シリコン基板上の配線層の最上層配線を信号線として、このようなマイクロストリップライン構造を構成している。
【０００４】
しかし、シリコン系半導体デバイスの微細化技術が進むにつれ、配線層の歩留り向上のために、レイアウトルールや面積率の制約が厳しくなってきている。特に短ノードのプロセスでは、配線層厚が薄いため、大面積で均一な配線を形成するのが困難となる。そのため、信号線幅を太くすることが出来ないレイアウトルールや、面積率の上限ルールなどのルールを満たすレイアウトをしなければならず、信号線のレイアウトの自由度は大きく低下する。
【０００５】
これらの微細化技術に伴うレイアウトルールを満たすために、特許文献１には、マイクロストリップライン構造における信号線にスリット（穴）を設ける技術が開示されている。
【０００６】
図９は、特許文献１に示される、従来のマイクロストリップライン構造の高周波伝送線路を示す図である。以下においては、高周波伝送線路が伝送する高周波の信号を、高周波伝送信号という。
【０００７】
図９には、信号線１０１、グランドプレーン（グランドプレート）１０２が示される。信号線１０１は、高周波信号を伝送する高周波信号線である。グランドプレーン１０２は、最下層配線層に形成される。信号線１０１には、複数のスリット１０３が設けられる。スリット１０３は、穴である。
【０００８】
図９のように、信号線１０１にスリット１０３を設けることにより、レイアウトルールなどの制約を柔軟に回避することが出来る。また、信号線１０１に１つ以上のスリット１０３を設けることにより、信号線１０１とグランドプレーンとの配線容量を変化させることができ、伝送線路の特性インピーダンスを調節することが出来る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第３４７３５１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
図９の従来の高周波伝送線路では、マイクロストリップライン構造の構成要素である信号線１０１にスリット１０３を設けることにより、微細加工技術に伴うレイアウトルールや面積率等の制約を柔軟に回避するという対策を講じていた。
【００１１】
しかし、図９のように、１つの信号線１０１と、グランドプレーン１０２とを利用した高周波伝送線路では、信号線１０１のインピーダンスを、基板裏にグランドがある構造のマイクロストリップラインのインピーダンスと同じにした場合、グランドプレーン１０２と信号線１０１との間の層間膜が小さくなる影響で信号線１０１の幅が非常に狭くなる。そのため、信号線１０１の導体損が大きくなる。さらにレイアウトルール等の制約により信号線１０１にスリット１０３を設ける必要があり、さらに信号線１０１の損失が増加する。
【００１２】
本発明は、上述の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、低損失な高周波伝送線路を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述の課題を解決するために、この発明のある局面に従う高周波伝送線路は、半導体基板と信号線群とを利用したマイクロストリップライン構造の伝送線路である。前記信号線群は、第１の配線層に形成される第１の信号線と、第２の配線層に形成される第２および第３の信号線とを含む。前記第２の信号線が形成される方向は、前記第３の信号線が形成される方向と同じであり、前記第１の信号線が形成される方向は、前記第２および第３の信号線が形成される方向と同じであり、前記第１の信号線は、前記第２および第３の信号線を覆うように、前記第２および第３の信号線の上部に形成され、前記第２の信号線は、前記第１の信号線の左端の部分である左端部の下部に形成され、前記第３の信号線は、前記第１の信号線の右端の部分である右端部の下部に形成され、前記第１の信号線には、前記左端部と前記右端部との間に、ｍ（１以上の整数）行ｎ（２以上の整数）列の行列を構成する複数のスリットが形成され、前記第１の信号線の左端部と前記第２の信号線とは、第１のビアホールにより電気的に接続され、前記第１の信号線の右端部と前記第３の信号線とは、第２のビアホールにより電気的に接続される。
【００１４】
すなわち、高周波伝送線路は、半導体基板と信号線群とを利用したマイクロストリップライン構造の伝送線路である。信号線群は、第１の配線層に形成される第１の信号線と、第２の配線層に形成される第２および第３の信号線とを含む。第１の信号線の左端部と第２の信号線とは、第１のビアホールにより電気的に接続され、第１の信号線の右端部と第３の信号線とは、第２のビアホールにより電気的に接続される。
【００１５】
すなわち、信号線群は、２つの配線層において形成される複数の信号線で構成される。そのため、信号を伝達する信号線群において、半導体基板と電磁界的に結合する信号線群の表面積が大きくなる。この場合、信号線群の特性インピーダンスを、従来のマイクロストリップライン構造における信号線の特性インピーダンスと同じにした場合、当該信号線群の幅は狭くなる。しかし、信号線群は、第１、第２、第３の信号線から構成されるため、当該信号線群のトータルの導体損は小さくなり、低損失な高周波伝送線路を実現することができる。
【００１６】
また、前記半導体基板上には接地電極層が形成され、前記接地電極層は、前記第１および第２の配線層の下部に設けられることが好ましい。
【００１７】
また、前記接地電極層の面積は、前記第１の信号線の面積より大きいことが好ましい。
【００１８】
また、前記行列におけるｎ個の列の各々に対応するｍ個のスリットは、前記第１の信号線の長さ方向に並ぶように配置され、前記行列におけるｍ個の行の各々に対応するｎ個のスリットは、前記第１の信号線の幅方向に並ぶように配置されることが好ましい。
【００１９】
また、前記高周波伝送線路は、さらに、前記第２の配線層に形成されるメタルを含み、前記メタルは、前記第２の信号線と前記第３の信号線との間に形成され、前記メタルは、前記第１の信号線、前記第２の信号線、前記第３の信号線、前記第１のビアホールおよび前記第２のビアホールのいずれとも電気的に非接続とされることが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、低損失な高周波伝送線路を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】第１の実施の形態における高周波伝送線路の断面図である。
【図２】第１の信号線の平面図である。
【図３】第１の実施の形態の高周波伝送線路に対する、シミュレーションによる高周波特性評価結果を示す図である。
【図４】第１の信号線の平面図である。
【図５】第１の実施の形態の変形例における高周波伝送線路の断面図である。
【図６】第２の実施の形態における高周波伝送線路の断面図である。
【図７】第２の実施の形態における第１の信号線の平面図である。
【図８】高周波伝送線路の断面図である。
【図９】従来のマイクロストリップライン構造の高周波伝送線路を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明は繰り返さない。
【００２３】
＜第１の実施の形態＞
図１は、第１の実施の形態における高周波伝送線路１００の断面図である。
【００２４】
図１を参照して、高周波伝送線路１００は、マイクロストリップライン構造の高周波伝送線路である。
【００２５】
高周波伝送線路１００は、半導体基板１０と、第１の信号線１１と、第２の信号線１２と、第３の信号線１３と、グランドプレーン１５と、誘電体層１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃと、ビアホール１４Ａ，１４Ｂとを含む。
【００２６】
半導体基板１０は、例えば、シリコンで形成される導電性半導体基板である。
【００２７】
半導体基板１０上には、接地電極層としてのグランドプレーン１５が形成される。すなわち、半導体基板１０上の第３の配線層には、グランドプレーン１５が形成される。つまり、本実施の形態の高周波伝送線路１００は第３の配線層にグランドプレーンを構成したマイクロストリップライン構造である。
【００２８】
グランドプレーン１５上には、誘電体層１６Ｃが形成される。誘電体層１６Ｃ上には、誘電体層１６Ｂが形成される。誘電体層１６Ｂ上には、誘電体層１６Ａが形成される。
【００２９】
第１の信号線１１は、誘電体層１６Ａ内の第１の配線層に形成される。第２の信号線１２および第３の信号線１３は、誘電体層１６Ｂ内の第２の配線層に形成される。グランドプレーン１５は、第１の配線層および第２の配線層の下部に設けられる。
【００３０】
第１の信号線１１、第２の信号線１２および第３の信号線１３は、高周波の信号を伝送する信号線群（以下、高周波信号線群ともいう）を構成する。
【００３１】
図２は、第１の信号線１１の平面図である。図２は、図１の第１の信号線１１を上から見た図である。
【００３２】
図１および図２を参照して、グランドプレーン１５の面積は、第１の信号線１１の面積より大きい。
【００３３】
また、第２の信号線１２は、第１の信号線１１の左端の部分（以下、左端部という）の下部に形成される。第３の信号線１３は、第１の信号線１１の右端の部分（以下、右端部という）の下部に形成される。第１の信号線１１は、第２の信号線１２および第３の信号線１３を覆うように、第２の信号線１２および第３の信号線１３の上部に形成される。第２の信号線１２の形状は、第３の信号線１３の形状と同じである。
【００３４】
第１の信号線１１には、左端部と右端部との間に、複数のスリット１７が形成される。各スリット１７は、細長い隙間である。第１の信号線１１に形成される複数のスリット１７は、ｍ（１以上の整数）行ｎ（２以上の整数）列の行列（以下、スリット行列という）を構成する。図２の例では、第１の信号線１１に形成される複数のスリット１７は、３行２列のスリット行列を構成する。
【００３５】
図２に示されるように、スリット行列における２個の列の各々に対応する３個のスリット１７は、第１の信号線１１の長さ方向（垂直方向）に並ぶように配置される。また、スリット行列における３個の行の各々に対応する２個のスリットは、第１の信号線１１の幅方向（水平方向）に並ぶように配置される。
【００３６】
なお、第１の信号線１１に設けられるスリット１７の数は、６個に限定されず、例えば、７個以上であってもよい。
【００３７】
図２に示されるように、第２の信号線１２が形成される方向は、第３の信号線１３が形成される方向と同じである。また、第１の信号線１１が形成される方向は、第２の信号線１２および第３の信号線１３が形成される方向と同じである。
【００３８】
図１および図２を参照して、第１の信号線１１の左端部と第２の信号線１２とは、ビアホール１４Ａにより電気的に接続される。第１の信号線１１の右端部と第３の信号線１３とは、ビアホール１４Ｂにより電気的に接続される。すなわち、第２の信号線１２は、ビアホール１４Ａを介して、積層方向に、第１の信号線１１と接続される。また、第３の信号線１３は、ビアホール１４Ｂを介して、積層方向に、第１の信号線１１と接続される。
【００３９】
ビアホール１４Ａ，１４Ｂは、それぞれ１個以上のビアホールの集合体であるビアホール群であっても良い。ビアホール１４Ａ，１４Ｂが複数のビアホールの集合体である場合、第１の信号線１１、第２の信号線１２および第３の信号線１３の各々が伝送する信号の位相を均一にするために、それぞれ同じ数だけ配置され、また各信号線の長さ方向（垂直方向）にレイアウトルールを満たすように同間隔で配置される。
【００４０】
（シミュレーション結果）
図３は、第１の実施の形態の高周波伝送線路１００に対する、シミュレーションによる高周波特性評価結果を示す図である。なお、図３には、比較のために、第１の配線層に形成された第１の信号線のみで構成された、従来の高周波伝送線路の特性結果も示す。以下においては、高周波伝送線路が伝送する高周波伝送信号の損失を、単に、高周波伝送線路の損失ともいう。
【００４１】
図３において、実線は、本実施の形態の高周波伝送線路１００の特性結果を示す。点線は、従来の高周波伝送線路の特性結果を示す。
【００４２】
本発明者は、本実施の形態の高周波伝送線路１００に対し、高周波特性を測定するためのシミュレーションを実施した。シミュレーションを実施した高周波伝送線路１００の長さは、５００μｍである。
【００４３】
シミュレーションの結果、本実施の形態の高周波伝送線路１００の損失は６０ＧＨｚで０．７２ｄＢ／ｍｍであった。一方、従来例の高周波伝送線路の損失は６０ＧＨｚで０．８１ｄＢ／ｍｍであった。これにより、本実施の形態の高周波伝送線路１００により、伝送する高周波伝送信号の損失が改善できることを確認出来た。
【００４４】
なお、従来例の高周波伝送線路において、信号線の特性インピーダンスを５０Ωとした場合、当該信号線の幅は８μｍであった。一方、本実施の形態の高周波伝送線路１００において、高周波信号線群の特性インピーダンスを５０Ωとした場合、高周波信号線群の幅は４μｍであった。すなわち、本実施の形態の構成によれば、高周波伝送線路の小型化も実現した。
【００４５】
本実施の形態の高周波伝送線路１００では、第２の信号線１２は、ビアホール１４Ａを介して、積層方向に、第１の信号線１１と接続される。また、第３の信号線１３は、ビアホール１４Ｂを介して、積層方向に、第１の信号線１１と接続される。
【００４６】
そのため、高周波伝送線路１００における高周波信号線群において、グランドプレーン１５（半導体基板１０）と電磁界的に結合する高周波信号線群の表面積が大きくなる。この場合、高周波信号線群の特性インピーダンスを、従来例の高周波伝送線路の信号線の特性インピーダンスと同じにした場合、当該高周波信号線群の幅は狭くなる。しかし、本実施の形態の高周波信号線群は、複数の信号線（第１、第２、第３の信号線）から構成されるため、当該高周波信号線群のトータルの導体損は小さくなる。
【００４７】
したがって、高周波伝送線路１００において高周波伝送信号の損失を低減することができる。すなわち、低損失な高周波伝送線路を実現することが出来る。
【００４８】
また、高周波信号線群の特性インピーダンスが小さくなるため、特性インピーダンスが５０Ωの場合の信号線幅は、従来の高周波伝送線路の幅よりも細くすることができる。すなわち、高周波伝送線路を小型化することができる。
【００４９】
つまり、本実施の形態の高周波伝送線路１００における高周波信号線群の幅は、従来の高周波伝送線路の幅より細くなる。しかしながら、本実施の形態の高周波伝送線路１００では、第２の信号線１２および第３の信号線１３を積層方向に第１の信号線１１と接続している。そのため、従来の高周波伝送線路よりも低損失な高周波伝送線路を実現することが出来る。また、各配線層のレイアウトルールや面積率にも柔軟に対応することが出来る。
【００５０】
以上により、本実施の形態によれば、小型化および低損失化を両立した高周波伝送線路を実現することができる。
【００５１】
また、本実施の形態の高周波伝送線路１００によれば、プロセスの微細化に伴うレイアウトや面積率などの各ルールを満たすように、信号線において、幅方向に２列以上のスリットを形成し、スリットの両端より外側の信号線の両端部のみ下層の配線層の信号線とビアホールにより接続させる。
【００５２】
これにより、レイアウトルールや面積率の制約が厳しい微細プロセスにおいても、伝送する高周波伝送信号の損失を低減することが出来る。
【００５３】
なお、本実施の形態における第１の信号線１１は、例えば、図４に示される構成であってもよい。
【００５４】
図４は、第１の信号線１１の平面図である。図４は、図１の第１の信号線１１を上から見た図である。
【００５５】
図１および図４を参照して、第２の信号線１２は、第１の信号線１１の左端部の下部に形成される。第３の信号線１３は、第１の信号線１１の右端部の下部に形成される。第１の信号線１１は、第２の信号線１２および第３の信号線１３を覆うように、第２の信号線１２および第３の信号線１３の上部に形成される。
【００５６】
第１の信号線１１には、複数のスリット１７が形成される。図４の第１の信号線１１に形成される複数のスリット１７は、３行４列のスリット行列を構成する。
【００５７】
図４に示されるように、第１の信号線１１の左端部および右端部の各々には、列方向に並ぶスリット１７が形成される。すなわち、第１の信号線１１および第２の信号線１２の各々には、列方向に並ぶスリット１７が形成される。
【００５８】
＜第１の実施の形態の変形例＞
第１の実施の形態では、高周波信号線群が、２つの配線層の信号線で構成されていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、高周波信号線群は、３つ以上の配線層の信号線で構成されてもよい。第１の実施の形態の変形例では、一例として、高周波信号線群が、３つの配線層の信号線で構成される高周波伝送線路を示す。
【００５９】
図５は、第１の実施の形態の変形例における高周波伝送線路１１１の断面図である。
【００６０】
図５を参照して、高周波伝送線路１１１は、図１の高周波伝送線路１００と比較して、誘電体層１６Ｄ、第４の信号線１８、第５の信号線１９およびビアホール１４Ｃ，１４Ｄをさらに含む点が異なる。それ以外は、高周波伝送線路１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。
【００６１】
高周波伝送線路１１１は、マイクロストリップライン構造の高周波伝送線路である。
【００６２】
グランドプレーン１５上には、誘電体層１６Ｄが形成される。誘電体層１６Ｄ上には、誘電体層１６Ｃが形成される。
【００６３】
第４の信号線１８および第５の信号線１９は、誘電体層１６Ｃ内の第４の配線層に形成される。第４の配線層は、前述した第２の配線層より１つ下の配線層である。
【００６４】
第４の信号線１８の形状は、第２の信号線１２の形状と同じである。また、第５の信号線１９の形状は、第３の信号線１３の形状と同じである。
【００６５】
第４の信号線１８は、ビアホール１４Ｃにより、第２の信号線１２と電気的に接続される。第５の信号線１９は、ビアホール１４Ｄにより、第３の信号線１３と電気的に接続される。
【００６６】
第１の信号線１１、第２の信号線１２、第３の信号線１３、第４の信号線１８および第５の信号線１９は、高周波信号線群を構成する。
【００６７】
第１の実施の形態の変形例における高周波伝送線路１１１の構成によれば、高周波伝送線路１１１における高周波信号線群において、グランドプレーン１５と電磁界的に結合する高周波信号線群の表面積が、高周波伝送線路１００より大きくなる。この場合、高周波伝送線路１１１における高周波信号線群の特性インピーダンスを、従来の高周波伝送線路の信号線の特性インピーダンスと同じにした場合、当該高周波信号線群の幅は狭くなる。しかし、高周波伝送線路１１１における高周波信号線群は、複数の信号線（第１〜第５の信号線）から構成されるため、当該高周波信号線群のトータルの導体損は小さくなる。
【００６８】
したがって、高周波伝送線路１１１の構成によれば、低損失な高周波伝送線路を実現することが出来る。
【００６９】
なお、信号線が形成される配線層が多層であり、第１の信号線１１が形成される第１の配線層と、グランドプレーン１５が形成される第３の配線層以外に配線層が３層以上ある場合、全ての配線層で、第２の信号線１２および第３の信号線１３と同じ形状の信号線を形成し、それぞれの信号線をビアホールで接続した構成にしても構わない。
【００７０】
＜第２の実施の形態＞
次に、ダミーメタルを使用した高周波伝送線路について説明する。
【００７１】
図６は、第２の実施の形態における高周波伝送線路１１２の断面図である。
【００７２】
図６を参照して、高周波伝送線路１１２は、図１の高周波伝送線路１００と比較して、ダミーメタル２０をさらに含む点が異なる。それ以外は、高周波伝送線路１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。
【００７３】
高周波伝送線路１１２は、マイクロストリップライン構造の高周波伝送線路である。
【００７４】
ダミーメタル２０は、誘電体層１６Ｂ内の第２の配線層に形成される。
【００７５】
図７は、第２の実施の形態における第１の信号線１１の平面図である。図７は、図６の第１の信号線１１を上から見た図である。
【００７６】
図７の第１の信号線１１は、図２の第１の信号線１１と比較して、第１の信号線１１の下部に複数のダミーメタル２０が形成されている点が異なる。それ以外は、図２の第１の信号線１１と同様なので詳細な説明は繰り返さない。
【００７７】
図６および図７に示されるように、ダミーメタル２０は、第２の信号線１２と第３の信号線１３との間に形成される。ダミーメタル２０は、第１の信号線１１、第２の信号線１２、第３の信号線１３、ビアホール１４Ａおよびビアホール１４Ｂのいずれとも電気的に非接続とされる。
【００７８】
ダミーメタル２０は、第２の配線層に形成される信号線の占有率（面積率）が低く、レイアウトルールを満たしていない場合などに配置することが好ましい。占有率（面積率）を満たしていれば、ダミーメタルの形状、大きさ、数などに制約はない。ただし、ダミーメタルを複数個並べる場合、それらのダミーメタルは全て同じ形状、同じ大きさであり、お互いのダミーメタル間隔は等間隔であることが好ましい。
【００７９】
（シミュレーション結果）
本発明者は、本実施の形態の高周波伝送線路１１２に対し、高周波特性を測定するためのシミュレーションを実施した。シミュレーションを実施した高周波伝送線路１１２の長さは、５００μｍである。
【００８０】
シミュレーションの結果、本実施の形態の高周波伝送線路１１２の損失は６０ＧＨｚで０．７２ｄＢ／ｍｍであった。すなわち、ダミーメタル２０を使用していない高周波伝送線路１００の損失と同等の値が得られた。これにより、従来例の高周波伝送線路と比べて損失が改善されていることが確認出来た。
【００８１】
以上により、本実施の形態の高周波伝送線路１１２においても、第１の実施の形態と同様な効果が得られる。すなわち、低損失な高周波伝送線路を実現することが出来る。また、高周波伝送線路の小型化も実現される。つまり、小型化および低損失化を両立した高周波伝送線路を実現することができる。
【００８２】
なお、信号線が形成されていない配線層では、ダミーメタルを配置しないことが好ましい。信号線とグランドプレーンとの間にダミーメタルが存在すると、信号線とグランドプレーンとの電磁結合に影響を及ぼし、損失などの高周波特性が変化する可能性がある。
【００８３】
しかし、面積率の下限のルールを満たさない場合は、該当する配線層にてダミーメタルを形成しても構わない。
【００８４】
（その他の高周波伝送線路の構成）
なお、本発明における高周波伝送線路は、以下の図８に示す構成であってもよい。
【００８５】
図８は、高周波伝送線路１１３の断面図である。
【００８６】
図８を参照して、高周波伝送線路１１３は、図１の高周波伝送線路１００と比較して、第１の信号線１１および第２の信号線１２の代わりに第６の信号線２１を含む点と、ビアホール１４Ｅをさらに含む点とが異なる。それ以外は、高周波伝送線路１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。
【００８７】
第６の信号線２１は、誘電体層１６Ｂ内の第２の配線層に形成される。第６の信号線２１は、ビアホール１４Ａ，１４Ｅ，１４Ｂにより、第１の信号線１１と電気的に接続される。
【００８８】
第６の信号線２１は第１の信号線１１と同じ形状であることが好ましい。
【００８９】
なお、レイアウトや面積率のルールが各配線層で異なれば、各信号線（第１の信号線１１および第６の信号線２１）に形成されるスリットの大きさや数が異なっていても構わない。
【００９０】
（その他）
本発明の高周波伝送線路１００，１１１，１１２，１１３の各々は、各種通信機器やレーダ等の高周波半導体装置内のＭＭＩＣ(Monolithic Microwave Integrated Circuit)チップに搭載される高周波伝送線路である。
【００９１】
なお、本発明の高周波伝送線路（１００，１１１，１１２，１１３）に形成されるビアホールは信号線の幅方向に２列以上あることが好ましい。また、本発明の高周波伝送線路における半導体基板１０はシリコン等の導電性の基板であることが好ましい。
【００９２】
また、本発明の高周波伝送線路において、第１の信号線１１、第２の信号線１２、第３の信号線１３、第４の信号線１８、第５の信号線１９、第６の信号線２１およびビアホール１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ，１４Ｅの材料は銅（Ｃｕ）であることが好ましい。
【００９３】
本発明の高周波伝送線路において、グランドプレーン１５は、第３の配線層の面積率の上限を超える場合は、グランドプレーン１５に、例えば、メッシュ状や格子状のスリットを設け、第３の配線層の面積率を満たすようなレイアウトにしても構わない。
【００９４】
以上、本発明における高周波伝送線路について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を本実施の形態に施したもの、あるいは異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本発明の範囲内に含まれる。
【００９５】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明は、高周波の信号を伝送する低損失な高周波伝送線路として、利用することができる。
【符号の説明】
【００９７】
１０  半導体基板
１１  第１の信号線
１２  第２の信号線
１３  第３の信号線
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ，１４Ｅ  ビアホール
１５  グランドプレーン
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ  誘電体層
１７  スリット
１８  第４の信号線
１９  第５の信号線
２０  ダミーメタル
２１  第６の信号線
１００，１１１，１１２，１１３  高周波伝送線路
１０１  信号線
１０２  グランドプレーン
１０３  スリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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