(57)【要約】      （修正有）【課題】群管理装置へ接続する基板処理装置間の各種パラメータを一括比較する。【解決手段】複数台の基板処理装置を群管理装置２０によって集中管理する基板処理システムにおいて、群管理装置２０は比較元装置Ａ１と比較先装置Ａ２から各種パラメータを通信インタフェースを介して取得し、装置パラメータ一括比較画面４０を表示装置２５に表示させる。オペレータが一括比較開始ボタン４８を選択すると、一括比較処理を開始し、一括比較処理が終了すると、比較結果画面５０を表示装置２５に表示させる。オペレータは比較結果画面５０の相違点有無表示列５４によってパラメータ種別毎に相違点の有無を確認し、全パラメータ種別の中で何れのパラメータ種別に相違点があるかを確認する。相違点の詳細を確認する場合、オペレータは詳細確認ボタン５７を選択し、画面出力またはＣＳＶ形式ファイルへの出力で確認する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理を施す複数台の基板処理装置と、前記複数台の基板処理装置に接続される群管理装置とを備えている基板処理システムであって、
前記群管理装置は、前記基板処理装置から所定のパラメータファイルを取得して、パラメータ比較を行う対象の基板処理装置から取得したパラメータファイル種別とパラメータファイル名とを表示部にそれぞれ表示し、前記表示部に表示された複数のパラメータファイルを比較するためのボタンが押下されると、比較元のパラメータファイルと比較先のパラメータファイルとを比較して、その比較結果を表示することを特徴とする基板処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理システムに関する。
例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという）や液晶表示装置（以下、ＬＣＤという）の製造工場のＣＩＭ（computer integrated manufacturing ）に利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣやＬＣＤの製造工場のＣＩＭで使用されている基板処理システムにおいては、複数台の基板処理装置を群管理装置に接続し、群管理装置によって集中的に管理している。
群管理装置は、次のような多数の装置パラメータを管理している。
（１）装置の構成を定義したパラメータ。
（２）装置のメカニカル系の動作（動作速度、動作位置）を定義したパラメータ。
（３）基板処理条件としての温度、ガス流量、圧力等の設定を定義したパラメータ。
（４）基板処理中に異常が発生した場合のエラー処理を定義したパラメータ。
従来の基板処理システムにおいては、これらのパラメータを一つずつ選択して比較操作を行い、比較結果の確認作業を実施している。したがって、比較対象の全パラメータの比較および確認作業を行うのために、時間を要していた。
そこで、装置パラメータを通信プログラムを使用して基板処理装置から吸い上げ、装置パラメータを比較する機能を群管理装置に設けた基板処理システムが提案されている。例えば、特許文献１参照。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３１９１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板処理装置が群管理装置の管理対象として追加される場合には、同一種類の基板処理を実施する基板処理装置相互間の機差（個体差）による基板処理への影響を回避するために、新旧の基板処理装置相互間で各種パラメータを比較し、パラメータの相違（パラメータ設定ミス、設定漏れ等）をチェックする必要がある。
しかしながら、従来の基板処理システムにおいては、基板処理装置と群管理装置との間のパラメータを比較し得るに過ぎない。
【０００５】
本発明の目的は、群管理装置へ接続する基板処理装置相互間の各種パラメータを一括して比較することができる基板処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願が開示する発明のうち代表的なものは、次の通りである。
基板に処理を施す複数台の基板処理装置と、前記複数台の基板処理装置に接続される群管理装置とを備えている基板処理システムであって、
前記群管理装置は、前記基板処理装置から所定のパラメータファイルを取得して、パラメータ比較を行う対象の基板処理装置から取得したパラメータファイル種別とパラメータファイル名とを表示部にそれぞれ表示し、前記表示部に表示された複数のパラメータファイルを比較するためのボタンが押下されると、比較元のパラメータファイルと比較先のパラメータファイルとを比較して、その比較結果を表示することを特徴とする基板処理システム。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、群管理装置へ接続する基板処理装置相互間の各種パラメータを一括して比較することができる。
さらに、比較した結果を表示することで、相違点を確認することができる。また、相違点の詳細はファイルへ出力することで、確認することができる。したがって、基板処理装置相互間の各種パラメータの比較を精度良く、かつ、時間をかけずに実施することができるため、群管理装置の管理対象として、追加するのにかかる時間を短縮することができる。その結果、装置の稼動率の向上だけでなく、システムとしての稼動率も向上する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態である基板処理システムを示すブロック図である。
【図２】実行プログラム群を示すブロック図である。
【図３】装置パラメータ一括比較画面を示す画面図である。
【図４】装置パラメータ一括比較結果表示画面を示す画面図である。
【図５】相違項目のみを出力した場合の一例を示す画面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【００１０】
本実施形態に係る基板処理システムは、ＩＣ製造工場の前工程を制御するものとして構成されており、図１に示されているように、複数の基板処理装置Ａ１〜Ａｎが接続された群管理装置２０を備えている。
各基板処理装置Ａ１〜Ａｎはパーソナルコンピュータやパネルコンピュータによって構築された各制御コントローラを備えており、各制御コントローラには基板処理装置Ａ１〜Ａｎ毎の固有の装置パラメータを保持する記憶領域Ｂ１〜Ｂｎが構成されている。
複数の基板処理装置Ａ１〜Ａｎは群管理装置２０のネットワーク１１に、各ＳＥＣＳインタフェース（半導体製造装置通信規定による通信インタフェース）Ｃ１〜Ｃｎをそれぞれ介して接続されている。
【００１１】
群管理装置２０は、ＣＰＵ２２およびメモリ２３等を含む制御装置２１と、ＬＣＤ表示装置あるいはＣＲＴ表示装置等からなる表示装置２５およびキーボードやタッチパネルからなる入力装置２６等を含むユーザインタフェース装置（ＵＩ装置）２４と、を備えている。群管理装置２０は通信インタフェースＣ１〜Ｃｎを介して基板処理装置Ａ１〜Ａｎの生産履歴データ、稼動状態データおよび障害情報等、また、起動時には基板処理装置Ａ１〜Ａｎによって送信された装置パラメータ等を取得する。
【００１２】
群管理装置２０には図２に示された実行プログラム群３０がインストールされている。実行プログラム群３０は、管理プログラム３１と、画面表示プログラム３２と、装置パラメータ収集プログラム３３と、装置通信プログラム３４と、装置パラメータ一括比較プログラム３５と、を備えている。
装置パラメータ収集プログラム３３は装置パラメータを各基板処理装置Ａ１〜Ａｎから装置通信プログラム３４によって吸い上げる。
画面表示プログラム３２は、図３に示された装置パラメータ一括比較画面（以下、一括比較画面という）４０、図４に示された装置パラメータ一括比較結果画面（以下、比較結果画面という）５０等、を表示装置２５に表示させる。
【００１３】
図３に示されているように、画面表示プログラム３２は一括比較画面４０に比較元パラメータ定義テーブル４１Ａおよび比較先パラメータ定義テーブル４１Ｂをそれぞれ表示させる。比較元パラメータ定義テーブル４１Ａおよび比較先パラメータ定義テーブル４１Ｂには、一括比較対象指定列４２Ａ、４２Ｂ、ファイルタイプ列４３Ａ、４３Ｂ、ファイルネーム列４４Ａ、４４Ｂ、がそれぞれ設けられている。
また、画面表示プログラム３２は一括比較画面４０に、スクロールボタン４５、パラメータ定義登録・変更ボタン（登録変更ボタンという）４７、一括比較開始ボタン４８を、それぞれ表示させる。
【００１４】
図４に示されているように、画面表示プログラム３２は比較結果画面５０に装置パラメータ一括比較結果テーブル（以下、結果テーブルという）５１を表示させる。結果テーブル５１には比較結果対象指定列５２、ファイルタイプ列５３、相違点有無表示列５４、比較結果列５５、がそれぞれ設けられている。
また、画面表示プログラム３２は比較結果画面５０に比較結果詳細確認ボタン（以下、詳細確認ボタンという）５７を、それぞれ表示させる。詳細確認ボタン５７は画面表示またはＣＳＶ形式ファイルへの出力が可能であり、詳細確認ボタン５７には、全項目の比較結果を出力させる全項目出力ボタン５８と、相違項目のみを出力させる相違項目出力ボタン５９と、が設けられている。
【００１５】
次に、本実施形態に係る基板処理システムにおける装置パラメータ一括比較方法を、基板処理装置Ａ１（以下、比較元装置Ａ１とする）と同一種類の成膜処理を実施する基板処理装置Ａ２（以下、比較先装置Ａ２とする）がＩＣ製造工場に新規に導入される場合、を例にして説明する。
【００１６】
装置パラメータ収集プログラム３３は比較元装置Ａ１の装置パラメータファイルおよび比較先装置Ａ２の装置パラメータファイルを装置通信プログラム３４によってそれぞれ吸い上げる。
装置パラメータ一括比較を実施する前に、管理プログラム３１はパラメータ種別毎に一括比較の対象とするパラメータファイルの登録作業を実施する。
画面表示プログラム３２は一括比較画面４０を表示装置２５に表示させる。オペレータが登録変更ボタン４７を選択（例えば、マウスでクリック）すると、装置パラメータ一括比較プログラム３５は登録・変更可能な状態に切り替わる。パラメータ種別毎の装置パラメータファイルは、比較元装置Ａ１および比較先装置Ａ２から装置通信プログラム３４を使用して吸い上げたファイル一覧から選択して、登録・変更する。したがって、人為的入力ミス等でファイル名を間違って登録するような問題は、発生しない。
【００１７】
オペレータが一括比較開始ボタン４８を選択すると、一括比較プログラム３５は一括比較処理を開始する。
一括比較処理は、全パラメータファイル種別について実施することができる。しかし、必要なパラメータファイル種別に限定して実施することもできる。一括比較処理の対象または非対象の指定は、一括比較対象指定列４２Ａ、４２Ｂによって実施する。本実施形態においては、一括比較対象指定列４２Ａ、４２Ｂに「＊」が表示されたパラメータファイル種別は、一括比較処理の対象であり、「＊」が表示されないパラメータファイル種別は、一括比較処理の非対象である。一括比較対象指定列４２Ａ、４２Ｂの対応する行を選択（例えば、マウスでクリック）することにより、対象と非対象とが切り替わる。
【００１８】
一括比較プログラム３５が一括比較処理を終了すると、画面表示プログラム３２は比較結果画面５０を表示装置２５に表示させる。
オペレータは、比較結果画面５０の相違点有無表示列５４によってパラメータ種別毎に相違点の有無を確認することができるとともに、全パラメータ種別の中で何れのパラメータファイル種別に相違点があるかを、一目で確認することができる。
相違点の有無は、相違点有無表示列５４によって確認することができる。本実施形態においては、相違点有無表示列５４に「＊」が表示されたパラメータファイル種別は「相違点有り」であり、「＊」が表示されないパラメータファイル種別は「相違点無し」である。
【００１９】
パラメータファイル種別の相違点の詳細を確認する場合においては、オペレータは詳細確認ボタン５７を選択する。比較結果の詳細は、画面出力またはＣＳＶ形式ファイルへの出力で確認することができる。比較結果の詳細は、全項目出力ボタン５８を選択（例えば、マウスでクリック）することにより、全項目の比較結果を出力させることができるし、相違項目出力ボタン５９を選択することにより、相違項目のみを出力させることもできる。
図５は、相違項目のみを出力した場合の一例を示している。
【００２０】
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
【００２１】
（１）群管理装置に接続された複数台の基板処理装置相互間における各種パラメータの相違点の有無を短時間で比較することができる。
【００２２】
（２）基板処理装置に固有のパラメータは基板処理装置相互間で相違することが必然であるので、一括比較が不能であるが、このような相違が必然であるパラメータについては、一括比較パラメータの登録・変更の際に、比較対象から外すことにより、無駄な比較処理を省略することができる。
【００２３】
（３）群管理装置に接続された複数台の基板処理装置相互間における各種パラメータの一括比較処理を自動的に実施することにより、各種パラメータの設定ミスや設定洩れによる実際の基板処理への悪影響を低減することができるので、ロットアウト（全品不良）の発生を防止することができる。
【００２４】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００２５】
例えば、装置パラメータ一括比較方法は、基板処理装置と同一種類の成膜処理を実施する基板処理装置がＩＣ製造工場に新規に導入される場合に限らず、群管理装置に接続された複数台の基板処理装置相互間における各種パラメータの相違点の有無する場合等に実施することができる。
【００２６】
群管理装置は基板処理装置と同じフロアに設置する必要はなく、クリーンルーム外（例えば、事務室）に設置することもできる。また、群管理装置は基板処理装置と同じフロアに設置しておき、クリーンルーム外（例えば、事務室）に設置された端末装置（パーソナルコンピュータ等）により遠隔操作するように構成してもよい。
【００２７】
基板処理装置はバッチ式や枚葉式および縦型や横型に限定されることはなく、本発明は単数または複数の基板処理装置によって製造プロセスが実施される基板処理システム全般に適用することができる。
【００２８】
さらに、基板処理装置はＣＶＤ処理を実施するものに限らず、酸化や拡散、アニール等の熱処理（thermal treatment ）を実施するものであってもよい。
【００２９】
前記実施形態においてはＩＣの製造工場における複数の基板処理装置の群制御について説明したが、本発明はこれに限らず、ガラス基板に処理を施す複数のＬＣＤ装置の群制御についても適用することができる。
【符号の説明】
【００３０】
Ａ１〜Ａｎ…基板処理装置、Ｂ１〜Ｂｎ…記憶領域、Ｃ１〜Ｃｎ…ＳＥＣＳインタフェース、
２０…群管理装置、２１…制御装置、２２…ＣＰＵ、２３…メモリ、２４…ユーザインタフェース装置（ＵＩ装置）、２５……表示装置、２６…入力装置、
３０…実行プログラム群、３１…管理プログラム、３２…画面表示プログラム、３３…装置パラメータ収集プログラム、３４…装置通信プログラム、３５…装置パラメータ一括比較プログラム、
４０…装置パラメータ一括比較画面（一括比較画面）、４１Ａ…比較元パラメータ定義テーブル、４１Ｂ…比較先パラメータ定義テーブル、４２Ａ、４２Ｂ…一括比較対象指定列、４３Ａ、４３Ｂ…ファイルタイプ列、４４Ａ、４４Ｂ…ファイルネーム列、４５…スクロールボタン、４７…パラメータ定義登録・変更ボタン（登録変更ボタン）、４８…一括比較開始ボタン、
５０…装置パラメータ一括比較結果画面（比較結果画面）、５１…装置パラメータ一括比較結果テーブル（結果テーブル）、５２…比較結果対象指定列、５３…ファイルタイプ列、５４…相違点有無表示列、５５…比較結果列、５７…比較結果詳細確認ボタン（詳細確認ボタン）、５８…全項目出力ボタン、５９…相違項目出力ボタン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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