(57)【要約】【課題】スリット型ダイコーターを用い、低粘度の塗布液を使用し、安定した膜厚でストライプ状の複数の薄膜を形成する塗布方法及びこの塗布方法より形成された有機エレクトロニクス素子を提供することである。【解決手段】スリット型ダイコーターから塗布液を供給し、該スリット型ダイコーターのリップ先端部を基材に近接させ、該基材と該スリット型ダイコーターのリップ先端部との間にビードを形成させて、該スリット型ダイコーターのリップ先端部と該基材とを相対的に移動させながら該リップ先端部のスリット出口から流出される該塗布液を、少なくとも２条のストライプ状に塗布する塗布方法において、該スリット型ダイコーターのリップ先端部が、塗布幅手に少なくとも１つの該塗布液を撥液する撥液層を有することを特徴とする塗布方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリット型ダイコーターから塗布液を供給し、該スリット型ダイコーターのリップ先端部を基材に近接させ、該基材と該スリット型ダイコーターのリップ先端部との間にビードを形成させて、該スリット型ダイコーターのリップ先端部と該基材とを相対的に移動させながら該リップ先端部のスリット出口から流出される該塗布液を、少なくとも２条のストライプ状に塗布する塗布方法において、該スリット型ダイコーターのリップ先端部が、塗布幅手に少なくとも１つの該塗布液を撥液する撥液層を有することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
前記撥液層の構成材料が、フッ素樹脂含有無電解金属メッキ、ダイアモンドライクカーボン及びアモルファスフッ素樹脂から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
【請求項３】
基材上に、第１の電極と第２の電極との間に、発光層を含む複数層からなる有機化合物層を積層した構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機化合物層が請求項１または２に記載の塗布方法により形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリット型ダイコーターを使用し、低粘度塗布液を薄膜にストライプ状で塗布する塗布方法と、この塗布方法より形成された有機エレクトロニクス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、連続走行する帯状基材に塗布液を塗布する方法として、下記に示す２通りの塗布方法が知られている。第１の方法は、予め必要な塗布液膜形成量よりも余剰な塗布液を基材上に付与した後、なんらかの掻き取り手段で余剰分を取り除く、後計量型塗布方式である。後計量型塗布方式としては、ブレード塗布法、エアーナイフ塗布法、ワイヤーバー塗布法、グラビア塗布法、リバース塗布法、リバースロール塗布法が知られている。
【０００３】
他の１つの方法は、所望の塗膜を形成するのに要する量だけ塗布液を基材上に吐出させて塗布する前計量型塗布方式である。前計量型塗布方式としては、スリット型ダイコーターを用いたエクストルージョン塗布法、スライドコーターを用いたスライド塗布法、カーテン塗布法、インクジェットヘッドを用いたインクジェット記録方式等が知られている。上記の前計量型塗布装置の中でも、スリット型ダイコーターは、他の方式の塗布装置と比較して、塗布精度の高く高品位の塗膜が得ら、高速、薄膜、多層塗布適性等の対応が可能であることから、例えば、光学用フィルム、インクジェット記録用紙、熱現像記録材料、有機エレクトロルミネッセンスパネル（以下、有機ＥＬパネルともいう）等の製造に広く使用されている。
【０００４】
有機ＥＬパネルは、ディスプレー及び照明分野等において使用されており、現在は蒸着法による製膜方式を用いて製造されているが、生産性の向上や製造コスト低減の観点から、近年ではロールトゥーロール方式と言われる塗布方式での製造が検討されている。加えて、薄膜塗布装置に対しては、高機能化や薄層化、塗布膜の膜厚の均一化及びさらなる高生産性の要望が高くなっている。
【０００５】
例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子ともいう）を構成している有機化合物層、例えば、正孔輸送層、発光層等を塗布方式により形成する場合、使用する塗布液の粘度は、その多くが４．０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度となっている。
【０００６】
一方、ロールトゥーロール方式において、更に生産性を上げる方法としては、基材の幅を広くし、基材上に形成された複数列の電極に合わせ、有機化合物層（例えば、正孔輸送層、発光層等）を、スリット型ダイコーターを使用した塗布方式によりストライプ状に多条の塗膜を形成し、有機ＥＬ素子とした後、条毎に切断して有機ＥＬパネルを製造する方法も検討されている。ストライプ状に多条の塗膜を形成する方法として、コーターのスリットに、スリットを多条に分割するガイドを設けたエクストルージョン型コーターを用いて電極を製造する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、特許文献１に記載されている様なコーター内部に分割ガイドのみを設けて、ストライプ状の形成物を得る方法では、特に、有機ＥＬ素子を構成する有機化合物層の形成に用いられる塗布液は極めて低粘度であり、塗布液の濡れ拡がりによる回り込み等により、所望の線幅を有するストライプ状塗設物を安定して形成することが困難である。
【０００７】
また、低粘度の塗布液を使用し、基材上に多条の塗膜を安定に形成する方法が更に検討されてきた。例えば、ダイヘッドの先端のランド部に所望ピッチで多数の溝を形成したダイヘッドを使用し、ダイヘッドから塗布液を膜状に吐出して基材上に塗布する際に、ダイヘッドと基材との間の塗布ギャップを大きくすることで、膜状に吐出された塗布液が溝をきっかけとして割れる様にし、この状態で塗布することで基材上に、切れ目を有するストライプ状の塗膜を形成する方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００８】
しかしながら、特許文献２に記載の塗布方法では、低粘度・薄膜塗布ではストライプ塗膜の幅、膜厚が不安定となる、塗布幅の寸法バラツキが大きくストライプ状の塗布が不安定となり易い、塗布部と非塗布部の幅のコントロールが困難で安定塗布が出来ない、あるいは、塗布ギャップの大きさにより、塗布部と非塗布が形成されるため、小ピッチ（塗布部の幅＋非塗布部の幅）にしか対応出来ず、塗布部と非塗布部の設定の自由度が小さい等の課題を有していることが判明した。
【０００９】
この様な状況から、スリット型ダイコーターを用いたエクストルージョン塗布法を用いて、低粘度塗布液を基材上に、基材の搬送方向に対して非塗布部と塗布部とを交互にストライプ状に塗布し、更にそのストライプ状に塗布された塗膜の各条の膜厚及び幅を安定に塗布する塗布方法を開発すること及びこの塗布方法により形成された有機エレクトロルミネッセンス素子を開発することができる方法が切望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−６６６３号公報
【特許文献２】特開２００７−３１３４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は、スリット型ダイコーターを用いたエクストルージョン塗布法を用いて、低粘度塗布液を基材上に、基材の搬送方向に対して非塗布部と塗布部とを交互にストライプ状に塗布し、更にそのストライプ状に塗布された塗膜の各条の膜厚及び幅を安定に塗布する塗布方法を提供すること及びこの塗布方法により形成された有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１３】
１．スリット型ダイコーターから塗布液を供給し、該スリット型ダイコーターのリップ先端部を基材に近接させ、該基材と該スリット型ダイコーターのリップ先端部との間にビードを形成させて、該スリット型ダイコーターのリップ先端部と該基材とを相対的に移動させながら該リップ先端部のスリット出口から流出される該塗布液を、少なくとも２条のストライプ状に塗布する塗布方法において、該スリット型ダイコーターのリップ先端部が、塗布幅手に少なくとも１つの該塗布液を撥液する撥液層を有することを特徴とする塗布方法。
【００１４】
２．前記撥液層の構成材料が、フッ素樹脂含有無電解金属メッキ、ダイアモンドライクカーボン及びアモルファスフッ素樹脂から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１に記載の塗布方法。
【００１５】
３．基材上に、第１の電極と第２の電極との間に、発光層を含む複数層からなる有機化合物層を積層した構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機化合物層が前記１または２に記載の塗布方法により形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、スリット型ダイコーターを用いたエクストルージョン塗布法を用いて、低粘度塗布液を基材上に、基材の搬送方向に対して非塗布部と塗布部とを交互にストライプ状に塗布し、更にそのストライプ状に塗布された塗膜の各条の膜厚及び幅を安定に塗布する塗布方法を提供すること及びこの塗布方法により形成された有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】撥液部を備えたスリット型ダイコーターを使用し、塗布を行っている状態の概略斜視図である。
【図２】図１に示される撥液部を備えたスリット型ダイコーターの概略斜視図である。
【図３】スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの一例を示す工程図である。
【図４】スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの他の一例を示す工程図である。
【図５】スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの他の一例を示す工程図である。
【図６】スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの他の一例を示す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００１９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、スリット型ダイコーターから塗布液を供給し、該スリット型ダイコーターのリップ先端部を基材に近接させ、該基材と該スリット型ダイコーターのリップ先端部との間にビードを形成させて、該スリット型ダイコーターのリップ先端部と該基材とを相対的に移動させながら該リップ先端部のスリット出口から流出される該塗布液を、少なくとも２条のストライプ状に塗布する塗布方法において、該スリット型ダイコーターのリップ先端部が、塗布幅手に少なくとも１つの該塗布液を撥液する撥液層を有することを特徴とする塗布方法により、低粘度塗布液を基材上に、基材の搬送方向に対して非塗布部と塗布部とを交互にストライプ状に塗布し、更にそのストライプ状に塗布された塗膜の各条の膜厚及び幅を安定かつ高精度で塗布することのできる塗布方法を実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態を図１から図６を参照しながら説明する。なお、本発明の塗布方法は、これら例示する装置構成に限定されるものではない。
【００２１】
図１は、スリット型ダイコーターを使用し、塗布を行っている状態の概略図である。尚、図１では、基材として帯状基材を使用した場合を示している。
【００２２】
はじめに、図１の（ａ）について説明する。
【００２３】
図１の（ａ）は、前計量型塗布方式であるスリット型ダイコーター１を使用し、塗布を行っている状態を示す概略断面図である。
【００２４】
図１の（ａ）において、１はスリット型ダイコーターを示す。スリット型ダイコーター１はブロック１０１ａと、ブロック１０１ｂと、側板１０１ｃ（図１には不表示、図２を参照）と、側板１０１ｄ（図１には不表示、図２を参照）とを有し、ボルト等で締結することで組み立てられている。
【００２５】
リップ１０３は、バックリップ１０３ａとフロントリップ１０３ｂとを有している。リップ１０３には、本発明に係る撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄ（図１には不表示、図２を参照）を有している。本発明の塗布方法においては、撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄ（図１には不表示、図２を参照）は、塗布液に対する接触角が極めて高い材料で構成され、塗布液を撥液することにより塗布がなされない領域（非塗布部ともいう）を形成する設計となっている。なお、本発明に係る撥液部（撥液層）の構成材料及び形成方法についての詳細は、後述する。
【００２６】
１０４はブロック１０１ａと、ブロック１０１ｂとの間隙に形成したスリットを示し、１０５はマニホールドと呼ばれる塗布液を一旦溜めるための部分であり、ここには塗布液供給管１０６から塗布液が送り込まれる。
【００２７】
塗布液の粘度は、膜の機能性、膜厚等を考慮し、４．０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、より好ましくは３．０ｍＰａ・ｓ以下であり、本発明の塗布方法は、これらの粘度特性を備えた塗布液を用いた塗布において、その効果をいかんなく発揮することができる。
【００２８】
本発明において、塗布液の粘度は、東機産業株式会社製のＥ型粘度計  ＶＩＳＣＯＮＩＣ  ＥＤ型及びコントローラーＥ−２００型を使用し、温度２５℃で測定した値を示す。
【００２９】
マニホールド１０５で塗布幅方向に溜められた塗布液はスリット１０４を通ってスリット１０４の先端のスリット出口１０４ａからリップ１０３とバックアップロール２に巻回し支持された帯状基材３との間に供給され塗布される。供給された塗布液は、ビードＱを形成しバックアップロール２に巻回し支持された帯状基材３上に塗布され、塗膜４が形成される。
【００３０】
スリット出口１０４ａは、後述する図２に示すスリット出口１０４ａ１とスリット出口１０４ａ２と、スリット出口１０４ａ３とを有している。
【００３１】
塗布する時、スリット出口１０４ａから供給された塗布液のビードのスリット出口の圧力は負圧或いはゼロとすることが好ましい。本発明で、ゼロの状態とは、大気圧との差がゼロであることを言う。但し、本発明では誤差としては±０．００１ＭＰａの範囲を含める。負圧の状態とは、コーター周囲の気圧よりも低い状態を言い、負圧が強くなりすぎるとビード維持が難しくなるため、−０．０１ＭＰａ以上が好ましい。
【００３２】
Ｘはスリット出口１０４ａから供給された塗布液が帯状基材３に塗布される塗布位置を示す。塗布位置Ｘを境にして、塗布前の帯状基材３側を上流側、塗膜４が形成された帯状基材３側を下流側と言う。
【００３３】
図１の（ａ）に示す様に、スリット型ダイコーター１を使用した塗布方法は、減圧室を配設することなく行う方法である。
【００３４】
図１の（ａ）に示す様に、スリット型ダイコーター１を使用した塗布は、塗布の開始に合わせ、必要とする塗布液をスリット出口から供給された状態で、スリット型ダイコーター１を待機位置から塗布位置に移動手段（不図示）により移動し、スリット型ダイコーター１の先端のリップ１０３（バックリップ１０３ａとフロントリップ１０３ｂ）を帯状基材３に近接させ、そのリップ１０３の先端部と帯状基材３との間隙（コーターギャップＡ）にビードＱを形成させ、塗布液を帯状基材３に転移（液付き）させる塗布方式である。
【００３５】
リップ１０３の先端部と帯状基材３との間隙は、膜厚分布の安定性、スリット型ダイコーターの振動、帯状基材の搬送に伴う振動等を考慮し、ウェット膜厚に対して３０倍から３００倍であることが好ましい。
【００３６】
塗布速度は、同伴エアーの影響、搬送安定性等を考慮し、０．１ｍ／分から１０．０ｍ／分が好ましい。ここで言う塗布速度とは、スリット型ダイコーターと基材との相対速度であり、スリット型ダイコーターを固定して基材が可動の場合、基材を固定してスリット型ダイコーターが可動の場合、基材をコーターの両方が可動の場合を含む。
【００３７】
図１の（ａ）においては、スリット型ダイコーター１を固定して基材である帯状基材３を搬送して塗布する方式について述べているが、本発明の塗布方法においては、基材を固定してスリット型ダイコーターを移動させる、あるいは基材とスリット型ダイコーターの両方が移動する場合を含む。
【００３８】
次いで、図１の（ｂ）について説明する。
【００３９】
図１の（ｂ）は、図１の（ａ）のＳで示される領域における塗布状態を示す概略平面図である。本発明は、図１の（ｂ）に示す様に、低粘度の塗布液を薄膜でストライプ状に塗布する塗布方法に関する。
【００４０】
図１の（ｂ）において、４ａ〜４ｃはスリット型ダイコーター１のスリット出口１０４ａ１〜１０４ａ３（図１には不表示、図２を参照）から流出した塗布液で形成された塗膜を示す。塗膜４ａから４ｃのウェット膜厚は、塗布性、コスト等を考慮し０．１μｍ〜５．０μｍであることが好ましい。
【００４１】
ウェット膜厚とは、下式で算出される理論膜厚を言う。
【００４２】
ウェット膜厚＝塗布液供給量／（塗布幅×塗布速度）
乾燥後の塗膜の膜厚は、膜の機能性を考慮し、０．０１μｍから０．５μｍ以下が好ましい。
【００４３】
５ａ〜５ｄはスリット型ダイコーター１のリップ部に形成した撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄ（図１は不表示、図２参照）により形成された非塗布部を示す。
【００４４】
本発明の塗布方法においては、図１の（ｂ）に示す様に、スリット型ダイコーター１を使用し、塗布液を帯状基材３の上に塗布すると、帯状基材３の搬送方向（図中の矢印方向）に非塗布部５ａ〜５ｄと塗膜４ａ〜４ｃとが交互にストライプ状に形成されている。
【００４５】
図２は、図１に示されるスリット型ダイコーター１の概略図斜視である。図２の（ａ）は、図１に示されるスリット型ダイコーター１の全体構成を示す概略斜視図である。図２の（ｂ）は、図２の（ａ）の撥水部１０２ａ〜１０２ｄを有するブロック１０１ｂの概略斜視図である。図２の（ｃ）は、図２の（ａ）で示すスリット型ダイコーター１の概略断面図である。
【００４６】
図２において、１はスリット型ダイコーターを示す。１０２ａはリップ１０３の先端部の塗布幅手端部に設けた撥液部（撥液層）を示す。１０２ｂはリップ１０３の先端部の塗布幅内に設けられた撥液部（撥液層）を示す。１０２ｃはリップ１０３の先端部の塗布幅内に設けられた撥液部（撥液層）を示す。１０２ｄはリップ１０３の先端部の塗布幅手の他方の端部に設けられた撥液部（撥液層）を示す。
【００４７】
撥液部（撥液層）１０２ａは、バックリップ１０３ａとフロントリップ１０３ｂとの同じ塗布幅手位置に付けられており、ブロック１０１ａと、ブロック１０１ｂとの間隙にはスリット１０４が形成された状態となっている。撥液部（撥液層）１０２ｄも同じ構造となっている。
【００４８】
撥液部（撥液層）１０２ｂはバックリップ１０３ａとフロントリップ１０３ｂとの同じ塗布幅手位置に付けられており、ブロック１０１ａと、ブロック１０１ｂとの間隙にはスリット１０４が形成された状態となっている。撥液部（撥液層）１０２ｃも同じ構造となっている。
【００４９】
１０４ａ１は、撥液部（撥液層）１０２ａと、撥液部（撥液層）１０２ｂとに挟まれたスリット１０４（図１参照）の先端のスリット部を示す。撥液部（撥液層）のないスリット部１０４ａ１から流出した塗布液は、図１の（ｂ）に示した塗膜４ａを形成する。
【００５０】
１０４ａ２は、撥液部（撥液層）１０２ｂと、撥液部（撥液層）１０２ｃとに挟まれたスリット１０４（図１参照）の先端のスリット部を示す。撥液部（撥液層）のないスリット部１０４ａ２から流出した塗布液は、図１の（ｂ）に示した塗膜４ｂを形成する。
【００５１】
１０４ａ３は、撥液部（撥液層）１０２ｃと、撥液部（撥液層）１０２ｄとに挟まれたスリット１０４（図１参照）の先端のスリット部を示す。撥液部（撥液層）のないスリット部１０４ａ３から流出した塗布液は、図１の（ｂ）に示した塗膜４ｃを形成する。
【００５２】
図２に示すスリット型ダイコーター１は、リップ１０３の先端部の塗布幅手に設けられた撥液部（撥液層）１０２ａから撥液部（撥液層）１０２ｄで塗膜４（図１参照）を３分割する様になっている。他の符号は図１と同義である。
【００５３】
尚、リップの先端部に設ける撥液部（撥液層）の数は、図２では１０２ａ〜１０２ｄの４箇所となっているが、基材の幅、非塗布部の幅、塗布部の幅、塗布部の数等により適宜選択することが可能となっている。又、スリット部の数も撥液部（撥液層）の数により増減することが可能であり必要に応じて適宜設定する。
【００５４】
本発明の塗布方法においては、上記図１、図２に代表される構成のスリット型ダイコーターにおいて、撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄの塗布液に対する２５℃における接触角が、５０°以上であることが好ましい。
【００５５】
更には、撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄに対する塗布液の２５℃における接触角が、スリット型ダイコーター１の図２に記載のスリット１０４の撥液部（撥液層）のないスリット部１０４ａ１〜１０４ａ４に対する塗布液の２５℃における接触角より、１０°以上高いことが、安定して非塗布部と塗布部とを交互にストライプ状に塗布することができる観点から好ましい。
【００５６】
本発明でいう接触角は、撥液部あるいはスリット部材表面に３μｌの塗布液を滴下し、接触角測定器（協和界面科学（株）製接触角計ＣＡ−ＤＴ）を用いて、滴下から１５ｓｅｃ後の静的接触角を測定して求める。
【００５７】
次いで、スリット型ダイコーターに本発明に係る撥液部（撥液層）を形成する工程について、図３〜図６を用いて説明する。図３〜図６においては、代表例としてブロック１０１ｂに撥液部１０２を形成する工程を断面図として示しているが、スリット型ダイコーターのスリット部を構成する他方のブロック１０１ａについても、同様の方法で撥液部を形成する。
【００５８】
図３は、スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの一例を示す工程図である。
【００５９】
図３に記載の撥液層の形成方法としては、
１）第１ステップとして、撥液部（撥液層）のフロントリップ１０３ｂ面に、撥液部を形成するための凹状スリット部６を形成する（図３の（ａ））。
【００６０】
２）第２ステップとして、フロントリップ１０３ｂ面全体に、撥液性を備えたエネルギー（熱、光等）硬化性樹脂７を塗設する（図３の（ｂ））。なお、図３では、紫外線硬化性樹脂を用いた撥液部形成方法を一例として説明する。
【００６１】
３）第３ステップとして、１）項で形成した凹状スリット部６以外の領域をマスク部材（遮光部材）Ｍで覆った後、エネルギー線照射光源Ｌより紫外線を照射して、凹状スリット部６のエネルギー硬化性樹脂７を硬化した（図３の（ｃ））。
【００６２】
４）第４ステップとして、マスク部材Ｍで被覆した領域の未硬化のエネルギー硬化性樹脂７を除去した後、凹状スリット部６に付与した硬化済樹脂７′を、フロントリップ１０３ｂ面と同一平面となるまで鏡面研磨加工（トリミング）Ｔを行った（図３の（ｄ））。
【００６３】
５）以上の様にして、図３の（ｅ）に示す様に、フロントリップ１０３ｂ面に撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ｂを作製する。同様にして、ブロック１０１ａについても、バックリップ１０３ａ面に撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ａを作製する。なお、図３に記載の構成において、撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄの深さＷに関して、撥液効果を十分に得ることができる深さを設定する。
【００６４】
図４は、スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの他の一例を示す工程図である。
【００６５】
図４においては、上記図３の（ａ）、（ｂ）と同等にして、フロントリップ１０３ｂ面に撥液性を備えたエネルギー（熱、光等）硬化性樹脂７を塗設した後、マスク部材（遮光部材）Ｍは使用しないで、付与したエネルギー硬化性樹脂７の全てにエネルギー線照射光源Ｌより紫外線を照射して、硬化する（図４の（ｃ）参照）。次いで、図４の（ｄ）に示す様に、硬化済樹脂７′を、フロントリップ１０３ｂ面と同一平面となるまで、鏡面研磨加工（トリミング）Ｔを行って、図４の（ｅ）に示す様に、フロントリップ１０３ｂ面に撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成した本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ｂを作製する。同様にして、ブロック１０１ａについても、バックリップ１０３ａ面に撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ａを作製する。
【００６６】
図５は、スリット型ダイコーターに撥液層を形成するプロセスの他の一例を示す工程図である。
【００６７】
図５に記載の撥液部（撥液層）の形成方法は、上記図３、図４に示した方法とは異なり、ブロック１０１ｂのフロントリップ１０３ｂ面上に凸状の撥液部を形成する方法である。
【００６８】
図５に記載の方法では、はじめに、ブロック１０１ｂのフロントリップ１０３ｂ面上に撥液性を備えたエネルギー（熱、光等）硬化性樹脂７を均一に塗設する（図５の（ａ））。次いで、撥液部を形成する以外の領域をマスク部材（遮光部材）Ｍで覆った後、エネルギー線照射光源Ｌより紫外線を照射して、撥液部を形成するエネルギー硬化性樹脂７を硬化（図５の（ｂ））し、マスク部材Ｍで被覆した領域の未硬化のエネルギー硬化性樹脂７を除去した後、図５の（ｃ）に示す様に、フロントリップ１０３ｂ面に、凸状の撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ｂを作製する。同様にして、ブロック１０１ａについても、バックリップ１０３ａ面に撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ａを作製する。
【００６９】
図６は、スリット型ダイコーターに、薄膜形成手段を用いて撥液層を形成するプロセスの一例を示す工程図である。
【００７０】
上記図３〜図５では、撥液性を備えたエネルギー硬化性樹脂を用いた撥液部の形成方法についてその一例を説明したが、図６に示す方法は、従来公知の薄膜形成手段、例えば、化学メッキ法、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法などを用いて、撥液部を形成する方法である。
【００７１】
図６の（ａ）に示す様に、フロントリップ１０３ｂ面の撥液部を形成する以外の領域をマスク部材Ｍで覆った後、薄膜形成手段８により、撥液部（撥液層）９を形成（図６の（ｂ））することで、図６の（ｃ）に示す様に、フロントリップ１０３ｂ面に、凸状の撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ｂを作製する。同様にして、ブロック１０１ａについても、バックリップ１０３ａ面に撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成して、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ａを作製する。
【００７２】
本発明では、上記薄膜形成手段の中でも、無電解メッキ法あるいは大気圧プラズマ法により凸状の撥液部（撥液層）を形成することが好ましい。代表的な大気圧プラズマ法としては、特開平１１−６１４０６号公報、同１１−１３３２０５号公報、特開２０００−１２１８０４号公報、同２０００−１４７２０９号公報、同２０００−１８５３６２号公報等に記載されている方法を挙げることができる。
【００７３】
図６においては、ブロック１０１ｂ上に凸状の撥液部（撥液層）を形成する方法の一例を示したが、前述の図３や図４に記載した様に、撥液部（撥液層）のフロントリップ１０３ｂ面に、撥液部を形成するための凹状スリット部６を形成し、その上に薄膜形成手段により、撥液部（撥液層）を形成した後に、フロントリップ１０３ｂ面と同一平面となるまで、鏡面研磨加工（トリミング）を行って、フロントリップ１０３ｂ面に、凸状の撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成する方法を用いて、本発明に係る撥液部（撥液層）を有するブロック１０１ｂを作製することも可能である。
【００７４】
次いで、撥液部の形成に用いる材料について説明する。
【００７５】
本発明に係るスリット型ダイコーターの撥液部を形成する材料としては、特に制限はないが、使用する塗布液の接触角が５０°以上となる特性を備えた材料であることが好ましい。
【００７６】
撥液部の形成に用いる撥液能を備えた材料としては、基本的に表面エネルギーを低くする物質から構成され、表面エネルギーを低くする物質としては、例えば、長鎖アルキル基、フッ素基、珪素基を有する物質を挙げることが出来る。具体的に撥液材料としては、例えば、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体と、共重合主鎖に環状構造物を有する含フッ素共重合体と、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンと、ジクロロジフルオロエチレンとの共重合体と、アクリロニトリル、ステアリン酸ビニル、ステアリルビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ステアリル、その他フッ素原子が含まれるコモノマーと、これらと共重合可能なコモノマー、例えば（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルや、ビニル基を有する化合物として、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルとを共重合させて得られる共重合体とが挙げられる。
【００７７】
又、撥液材料となる具体的な商品としては、フッ素系として、フルオネートＫ−７０３（ＤＩＣ）、フロリナート（住友スリーエム）、サイトップＣＴＸ−１０５Ａ（旭硝子）、フロロバリアー（泰成商会）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン）、ＰＴＦＥグリース（ニチアス）、ＬＰ−８Ｔ（信越シリコーン）等が挙げられる。又、シリコーン樹脂（ＳＨ２００：東レシリコーン等）を汎用ポリマー（アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂）、フッ素樹脂含有無電解金属メッキ、ダイアモンドライクカーボン、アモルファスフッ素樹脂等が挙げられるが、その中でも、フッ素樹脂含有無電解金属メッキ、ダイアモンドライクカーボン及びアモルファスフッ素樹脂から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。具体的には、樹脂含有無電解金属メッキとしては、無電解ニッケルメッキ、フッ素樹脂を混合した無電解ニッケルメッキ（例えば、日本カニゼン社製のカニフロン等）、アモルファスフッ素樹脂としては、例えば、旭硝子社製「サイトップ」を挙げることができる。
【００７８】
また、ダイアモンドライクカーボン層は、大気圧プラズマ処理装置を使用して、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ベンゼン等の炭化水素ガスの分解により作製することができる。ダイアモンドライクカーボン層は、電子構造はＳＰ２及びＳＰ３であり、ダイヤモンド結合を含むアモルファス状態からなる膜であって、これはラマン分析、ＴＥＭ制限視野回折及びＥＳＣＡによる結合エネルギーの測定から判断することができる。
【００７９】
図１〜図６に示すスリット型ダイコーターを使用した本発明の塗布方法は、ハードコート層、反射防止層等を有する反射防止フィルム、光学フィルム、有機ＥＬ素子を構成している各層の内、塗布方式で形成可能な機能層（例えば、正孔輸送層、発光層等）、液晶ディスプレーに用いられるカラーフィルター、光学フィルター、各種コーティングフィルムの製造に適用することが可能である。
【００８０】
尚、本発明の塗布方法で反射防止フィルム、光学フィルムを製造する際に使用する材料は、特開２００８−２９６４２１号公報、同２００８−２４２００３号公報、同２００８−２２４７１８号公報、同２００８−２００６００号公報、同２００７−０９８８３３号公報、同２００６−２９３２０１号公報、同２００６−２８５２１７号公報等に記載されている公知の材料を使用することが可能である。
【００８１】
又、本発明の塗布方法で有機ＥＬ素子を製造する際に使用する材料は、国際公開第０６／１００８６８号パンフレット、特開２００６−２９４５３６号公報、特開２００７−７３３３２号公報等に記載されている公知の材料を使用することが可能である。
【実施例】
【００８２】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、下記文中「部」とは「質量部」を表す。
【００８３】
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【００８４】
実施例１
〔帯状基材の作製〕
基材として厚さ１２５μｍ、幅３３０ｍｍ、長さ５００ｍのポリエチレンナフタレートフィルム（帝人・デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＮと略記する）の帯状基材を準備した。
【００８５】
〔塗布液の調製〕
アセトン１００質量部に市販の染料、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２４９の１．５質量部を溶解した塗布液を調製し、粘度が１．０ｍＰａ・ｓになるようにポリビニルブチレート（ＰＶＢ）の添加量で適宜調整して準備した。塗布液の粘度は、東機産業株式会社製のＥ型粘度計  ＶＩＳＣＯＮＩＣ  ＥＤ型及び同社製コントローラーＥ−２００型を使用し、温度２５℃で測定した値を示す。
【００８６】
〔スリット型ダイコーターの作製〕
（スリット型ダイコーター１の作製）
図３に示す各部が下記の寸法から構成される撥液部（撥液層）を有するスリット型ダイコーター１を作製した。
【００８７】
スリット型ダイコーターの幅Ｋ                                    ３３０ｍｍ
撥液部（撥液層）のフロントリップからの深さＪｂ                    １０ｍｍ
撥液部（撥液層）のバックリップからの深さＪａ                      １０ｍｍ
撥液部（撥液層）１０２ａのリップの塗布幅手の幅Ｌ１                １５ｍｍ
撥液部（撥液層）１０２ｂのリップの塗布幅手の幅Ｌ２                  ３ｍｍ
撥液部（撥液層）１０２ｃのリップの塗布幅手の幅Ｌ３                  ３ｍｍ
撥液部（撥液層）１０２ｄのリップの塗布幅手の幅Ｌ４                １５ｍｍ
スリット出口１０４ａ１の塗布幅手の幅Ｎ１                          ９８ｍｍ
スリット出口１０４ａ１の塗布幅手の幅Ｎ２                          ９８ｍｍ
スリット出口１０４ａ１の塗布幅手の幅Ｎ３                          ９８ｍｍ
スリット間隙Ｏ（スリット１０４の間隙）                            ２０μｍ
塗布幅                                                          ３００ｍｍ
撥液部（撥液層）の形成は、スリット型ダイコーター内面の撥液部（撥液層）形成部に深さ０．５ｍｍの凹部（図３に記載の凹状スリット部６）を形成し、スリット型ダイコーター内面全面に、撥液部（撥液層）１０２を、フッ素樹脂含有無電解金属メッキを用いて形成した後、スリット型ダイコーター内面をトリミングすることで不要部を除去して撥液部（撥液層）１０２ａ〜１０２ｄを形成した。
【００８８】
（スリット型ダイコーター２の作製）
上記スリット型ダイコーター１の作製において、撥液部（撥液層）１０２の形成材料として、フッ素樹脂含有無電解金属メッキに代えて、ダイアモンドライクカーボンを用いた以外は同様にして、スリット型ダイコーター２を作製した。
【００８９】
（スリット型ダイコーター３の作製）
上記スリット型ダイコーター１の作製において、撥液部（撥液層）１０２の形成材料として、フッ素樹脂含有無電解金属メッキに代えて、アモルファスフッ素樹脂を用いた以外は同様にして、スリット型ダイコーター３を作製した。
【００９０】
（スリット型ダイコーター４の作製）
上記スリット型ダイコーター１の作製において、撥液部（撥液層）の位置のスリットを埋め、代わりに特開２００１−６６６３号公報（特許文献１）の実施例及び図１〜図６に記載のシムを用いた以外は同様にして、スリット型ダイコーター４を作製した。
【００９１】
（スリット型ダイコーター５の作製）
上記スリット型ダイコーター１の作製において、撥液部（撥液層）の位置に切り欠き（図３に記載の凹状スリット部６）を設けた状態の特表２００７−５１５７５６号公報に記載の実施例４で用いたスリット型ダイコーターとした以外は同様にして、スリット型ダイコーター５を作製した。なお、切り欠き部（図３に記載の凹状スリット部６）のリップ先端からの深さＷを２ｍｍとした。
【００９２】
〔ストライプ状塗膜の塗布〕
準備したスリット型ダイコーター１〜５を使用し、減圧室は配設せずに準備した上記塗布液を、図１に示す様に塗膜４ａ〜４ｃが３条のストライプ状となる様にして、下記に示す塗布条件で、上記準備した帯状基材上に塗布した後、乾燥して試料１０１〜１０５を作製した。
【００９３】
尚、試料１０１〜１０５を作製するに際し、スリット出口から供給された塗布液のビードのスリット出口の圧力は、明細書本文中に記載の方法で測定した値を示す。ウェット膜厚は塗布液供給流量を変化することで調整した。
【００９４】
ウェット膜厚とは、下式で算出される理論膜厚を言う。
【００９５】
ウェット膜厚＝塗布液供給流量／（塗布幅×塗布速度）
乾燥後の膜厚は、各条に付き幅手３箇所、長さ方向に５箇所を測定し、その平均値とした。
【００９６】
（塗布条件）
塗布条件としては、塗布幅３００ｍｍ、塗布長５００ｍ、塗布液をスリット出口から供給された塗布液のビードのスリット出口の圧力を−０．００１ＭＰａ、塗布速度は５ｍ／分、リップ先端部から押し出される塗布液で帯状基材上に形成される塗膜のウェット膜厚を２．０μｍ、コーターギャップをウェット膜厚の１００倍の２００μｍ、塗布液の塗布時の温度は２５℃とした。なお、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。
【００９７】
〔評価〕
作製した試料１０１〜１０５について、塗布開始から５ｍまでの試料（塗布初期試料という）と、塗布終了の４９５〜５００ｍ位置の試料（塗布終了時試料という）をサンプリングし、下記に記載の測定方法に従って、形成した各条の膜厚安定性及び塗布幅安定性を評価した。
【００９８】
（膜厚安定性の評価）
濃度と膜厚との関係が比例関係にあることから、塗布初期試料及び塗布終了時試料の各条について、コニカミノルタフォトイメージング社製のコニカデンシトメーターＰＤＭ−７を使用し、幅手方向に１０ｍｍ間隔で濃度を測定し、各試料について３１点の濃度のバラツキ幅（％）を、次式より計算で求め、下記の基準に従って膜厚安定性を評価した。
【００９９】
膜厚のバラツキ幅＝（（最高濃度−最小濃度）／平均濃度）×１００（％）
◎：膜厚のバラツキ幅が、１．０％未満である
○：膜厚のバラツキ幅が、１．０％以上、３．０％未満である
×：膜厚のバラツキ幅が、３．０％以上である
（塗布幅安定性の評価）
（株）ミツトヨ製の測定顕微鏡ＭＦ−Ａ４０２０を使用し、各条の長さ方向に１ｍ間隔で計１０点の塗布幅（設定値：３００ｍｍ）を測定し、下式に従って、塗布幅のバラツキ（％）を求め、下記の基準に従って塗布幅安定性を評価した。
【０１００】
塗布幅のバラツキ幅＝（（最高幅−最小幅）／平均幅）×１００（％）
◎：塗布幅のバラツキ幅が、１．０％未満である
○：塗布幅のバラツキ幅が、１．０％以上、３．０％未満である
×：塗布幅のバラツキ幅が、３．０％以上である
以上により得られた結果を、表１に示す。なお、上記測定において、塗膜４ａ〜４ｃ間での評価差は認められなかったので、表１には代表した水準（塗膜４ｂ）の評価結果を記載する。
【０１０１】
【表１】
2011131116.tif 000002
【０１０２】
表１に記載の結果より明らかな様に、本発明で規定する撥液部（撥液層）を有したスリット型ダイコーター１〜３を用いて作製した試料１０１〜１０３は、比較例である切り欠きを有したスリット型ダイコーター５を使用して作製した試料１０５に比較し、いずれも膜厚安定性、幅安定性に優れていることを確認した。
【０１０３】
また、シムを有したスリット型ダイコーター４を使用して作製した試料１０４では、塗布液が濡れ広がって、安定してストライプ状塗膜を形成することができず、加えて、膜厚均一性も極めて悪かった。
【０１０４】
以上の結果より、本発明の撥液部（撥液層）を有したスリット型ダイコーターを用いた塗布方法の有効性が確認された。
【０１０５】
実施例２
《有機ＥＬパネルの作製》
帯状の有機ＥＬパネル構造体（可撓性基材／第１電極（陽極）／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／第２電極（陰極）／接着剤／封止部材）を、以下に示す手順に従って作製した後、断裁して有機ＥＬパネル２０１〜２０４を作製した。なお、正孔輸送層、発光層、電子輸送層は、図１、図２に示すスリット型ダイコーターを用いて塗布・形成し、第２電極（陰極）は、蒸着方式で成膜して形成した。
【０１０６】
（スリット型ダイコーターの準備）
実施例１で作製したスリット型ダイコーター１〜３、５を準備した。準備したスリット型ダイコーター１〜３、５で作製した有機ＥＬパネルをそれぞれ試料２０１〜２０４とした。
【０１０７】
（帯状基材の準備）
基材として厚さ１２５μｍ、幅３３０ｍｍ、長さ５００ｍのポリエチレンナフタレートフィルム（帝人・デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＮと略記する）の帯状基材を準備した。尚、帯状基材には、予め第１電極及び第２電極用取り出し電極を形成する位置を示すためにアライメントマークを、第１電極が形成される面及び反対の面の同じ位置に設けた。
【０１０８】
（第１電極及び第２電極用取り出し電極の形成）
上記ＰＥＮに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って、ＰＥＮの上に５×１０−１Ｐａの真空環境条件で厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ膜（インジウムチンオキシド）をスパッタリング法により、マスクパターン成膜を行い、取り出し電極を有する１２ｍｍ×５ｍｍの大きさの第１電極及び１０ｍｍ×３ｍｍの大きさの第２電極用取り出し電極を一定間隔で３列に形成し、一旦巻き取り保管した。
【０１０９】
（正孔輸送層の形成）
準備したスリット型ダイコーター１〜３、５を使用し、上記作製した第１電極及び第２電極用取り出し電極までが長さ方向に３列連続に形成されたロール状のＰＥＴに、下記の帯電除去処理した後、バックアップロールに保持されたＰＥＮの長さ方向に形成された３列の第１電極及び第２電極用取り出し電極上に（但し、両端の１０ｍｍは除く）、下記正孔輸送層形成用塗布液を、下記に示す塗布条件で塗布した後、下記に記載の条件で乾燥・加熱処理を行い、３条の正孔輸送層を形成した。
【０１１０】
〈帯電除去処理〉
帯電除去処理は、第１電極形成側に非接触式帯電防止装置を、裏面側に接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置はヒューグルエレクトロニクス（株）製フレキシブルＡＣ式イオナイズィングバーＭＯＤＥＬ４１００Ｖを使用し行った。接触式帯電防止装置は都ローラー工業（株）製導電性ガイドロールＭＥ−１０２を使用し行った。
【０１１１】
〈正孔輸送層形成用塗布液の調製〉
ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製  Ｂｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＡＩ  ４０８３）を純水で６５％、メタノール５％で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。正孔輸送層形成用塗布液の粘度は０．７ｍＰａ・ｓであった。粘度はブルックフィールド社製  デジタル粘度計  ＬＶＤＶ−Ｉを使用し、２０℃で測定した値を示す。
【０１１２】
〈正孔輸送層形成用塗布液の塗布条件〉
塗布条件としては、正孔輸送層形成用塗布液を、スリット出口から供給された塗布液のビードのスリット出口の圧力を−０．００１ＭＰａ、塗布速度５ｍ／分、ウェット膜厚は２．０μｍ、コーターギャップをウェット膜厚の１００倍の２００μｍ、正孔輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は２５℃、露点温度−２０℃以下のＮ２ガス環境の大気圧下で、且つ清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）で行った。ウェット膜厚は、流量（供給量）／（塗布幅×塗布速度）により算出した理論値を示す。
【０１１３】
尚、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。
【０１１４】
〈乾燥及び加熱処理条件〉
正孔輸送層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、正孔輸送層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ１００ｍｍ、流出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１２０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、３条の正孔輸送層を形成した。
【０１１５】
（発光層の形成）
上記方法に従って３条の正孔輸送層までが形成されたロール状のＰＥＴを、下記に示す帯電除去処理した後、３条の正孔輸送層上（但し、ＰＥＮの両端の１０ｍｍは除く）に、準備したスリット型ダイコーター１〜３、５を使用し、減圧室は配設せずに下記発光層形成用塗布液を、以下に示す塗布条件で塗布した。塗布した後、乾燥部で下記に示す条件により乾燥・加熱処理を行い、３条の正孔輸送層の上に３条の発光層を形成した後、一旦巻き取り保管した。
【０１１６】
〈帯電除去処理〉
帯電除去処理は、発光層側については非接触式帯電防止装置を、裏面側については接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置及び触式帯電防止装置は、正孔輸送層を形成する時と同じものを使用した。
【０１１７】
〈発光層形成用塗布液の調製〉
ジカルバゾール誘導体（ＣＢＰ）                             １．００質量％
イリジウム錯体（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）                          ０．０５質量％
トルエン                                                 ９８．９５質量％
発光層形成用塗布液の粘度は、０．７９ｍＰａ・ｓであった。
【０１１８】
粘度はブルックフィールド社  デジタル粘度計  ＬＶＤＶ−Ｉを使用し、２０℃で測定した値を示す。
【０１１９】
〈発光層形成用塗布液の塗布条件〉
塗布条件としては、発光層形成用塗布液をスリット出口から供給された塗布液のビードのスリット出口の圧力を−０．００１ＭＰａ、塗布速度５ｍ／分、ウェット膜厚は２．０μｍ、コーターギャップをウェット膜厚の１００倍の２００μｍ、発光層形成用塗布液の塗布時の温度は２５℃、露点温度−２０℃以下のＮ２ガス環境の大気圧下で、且つ、清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）で行った。尚、塗布速度は、正孔輸送層の塗布速度と同じ測定方法で行った。
【０１２０】
〈乾燥及び加熱処理条件〉
発光層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、発光層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ１００ｍｍ、流出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１２０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、発光層を形成した。
【０１２１】
（電子輸送層の形成）
上記方法に従って３条の発光層までが形成されたロール状のＰＥＮを、下記に記載の方法で帯電除去処理した後、３条の発光層上（但し、ＰＥＮの両端の１０ｍｍは除く）に、準備したスリット型ダイコーター１〜３、５を使用し、減圧室は配設せずに、下記電子輸送層形成用塗布液を、下記に示す塗布条件で塗布した。塗布した後、乾燥部で下記に記載の条件により乾燥・加熱処理を行い３条の電子輸送層までを形成したＰＥＮを作製し、電子輸送層を形成した後、一旦巻き取り保管した。
【０１２２】
〈帯電除去処理〉
帯電除去処理は、電子輸送層側については非接触式帯電防止装置を、裏面側については接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置及び触式帯電防止装置は、正孔輸送層を形成する時と同じものを使用した。
【０１２３】
〈電子輸送層形成用塗布液の調製〉
電子輸送層形成用塗布液として、０．５質量％の電子輸送材料１を含有する１−ブタノール溶液を準備した。
【０１２４】
【化１】
2011131116.tif 000003
【０１２５】
〈電子輸送層形成用塗布液の塗布条件〉
塗布条件としては、電子輸送層形成用塗布液を、スリット出口から供給された塗布液のビードのスリット出口の圧力を−０．００１ＭＰａ、塗布速度５ｍ／ｍｉｎ、ウェット膜厚は２．０μｍ、コーターギャップをウェット膜厚の１００倍の２００μｍ、電子輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は２５℃、露点温度−２０℃以下のＮ２ガス環境の大気圧下で、且つ、清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）で行った。尚、塗布速度は、正孔輸送層の塗布速度と同じ測定方法で行った。
【０１２６】
〈乾燥及び加熱処理条件〉
電子輸送層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、電子輸送層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ１００ｍｍ、流出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１２０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、電子輸送層を形成した。
【０１２７】
（第２電極の形成）
引き続き、電子輸送層まで形成されたＰＥＴに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って形成された電子輸送層上に、第１電極の大きさ及び第２電極用取り出し電極に接触出来る大きさに合わせて、５×１０−４Ｐａの真空下にて第２電極形成材料としてアルミニウムを使用し、第１電極上及び第２電極用取り出し電極に接続する様に蒸着法にてマスクパターン成膜し、厚さ１００ｎｍの第２電極を積層した。
【０１２８】
（接着剤の塗設）
第２電極までが形成されたＰＥＴに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って第１電極及び第２電極用取り出し電極の端部を除いて発光領域及び発光領域の周辺に紫外線硬化型の液状接着剤（エポキシ樹脂系）を使用し、厚さ３０μｍで塗設した。
【０１２９】
（封止部材の貼合）
次いで、以下に示す帯状シート封止部材を接着剤塗設面にロールラミネータ法により積重し、大気圧環境化にて押圧０．１ＭＰａでロール圧着した後、波長３６５ｎｍの高圧水銀ランプを、照射強度２０ｍＷ／ｃｍ２、距離１５ｍｍで１分間照射し固着させ貼合し、複数の有機ＥＬパネルが連続的に繋がった状態とした。
【０１３０】
〈封止部材の準備〉
封止部材として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人・デュポン社製）を使用し、無機膜（ＳｉＮ）をバリア層に使用した２層構成の帯状シート封止部材を準備した。ＰＥＴの厚さ１００μｍ、バリア層の厚さ２００ｎｍとした。尚、ＰＥＴフィルムのバリア層の成膜はスパッタリング法により実施した。ＪＩＳ  Ｋ−７１２９Ｂ法（１９９２年）に準拠した方法で、主としてＭＯＣＯＮ法により測定した水蒸気透過度は０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙであった。ＪＩＳ  Ｋ７１２６Ｂ法（１９８７年）に準拠した方法で主としてＭＯＣＯＮ法により測定した酸素透過度は０．１ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであった。
【０１３１】
（断裁）
上記作製した複数の有機ＥＬパネルが連続的に繋がった状態のものを、個別の有機ＥＬパネルの大きさにＰＥＮに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って断裁し個別の有機ＥＬパネル２０１〜２０４を作製した。
【０１３２】
《有機ＥＬパネルの評価》
上記作製した各有機ＥＬパネルについて、塗布開始から５ｍまでの試料（塗布初期試料という）と、塗布終了の４９５〜５００ｍ位置の試料（塗布終了時試料という）をそれぞれｎ５サンプリングし、リーク電流特性、発光ムラ耐性（輝度ムラ耐性）を下記に記載の方法に従って評価した。
【０１３３】
〔リーク電流特性の評価〕
定電圧電源を用いて、逆方向の電圧（逆バイアス）を５Ｖ、５秒間印加し、その時有機ＥＬ素子に流れる電流を測定した。サンプル１０枚の発光領域について測定を行い、最大電流値をリーク電流とし、下記の基準に従ってリーク電圧特性を評価した。
【０１３４】
◎：最大電流値が１×１０−６Ａ未満
○：最大電流値が１×１０−６Ａ以上、１×１０−５Ａ未満
×：最大電流値が１×１０−５Ａ以上
〔発光ムラ耐性（輝度ムラ耐性）の評価〕
定電圧電源を用いて、各有機ＥＬパネルに直流５Ｖを印加し、サンプル中央部の発光部６箇所の輝度差を目視で観察し、下記の基準に従って発光ムラ耐性（輝度ムラ耐性）を評価した。
【０１３５】
◎：輝度の差が全くない
○：６箇所中、１箇所の輝度が異なる
×：６箇所中、２箇所以上で輝度が異なる
〔各評価結果〕
上記方法に従って、リーク電流特性及び発光ムラ耐性（輝度ムラ耐性）を評価した結果、本発明の撥液部（撥液層）を有したスリット型ダイコーター１〜３を使用して作製した有機ＥＬパネル２０１〜２０３は、いずれもリーク電流特性、発光ムラ耐性（輝度ムラ耐性）がすべて◎であったのに対して、切り欠きを有したスリット型ダイコーター５を使用して作製した有機ＥＬパネル２０４は、リーク電流特性が×、発光ムラ耐性（輝度ムラ耐性）は○であり、本発明の有効性が確認された。
【符号の説明】
【０１３６】
１  スリット型ダイコーター
１０１ａ、１０１ｂ  ブロック
１０１ｃ  側板
１０２、１０２ａ〜１０２ｄ、９  撥液部（撥液層）
１０３  リップ
１０３ａ  バックリップ
１０３ｂ  フロントリップ
１０４  スリット
１０４ａ、１０４ａ１から１０４ａ２  撥液部（撥液層）のないスリット部
１０５  マニホールド
１０６  
２  バックアップロール
３  帯状基材
４、４ａ〜４ｃ  塗膜
５ａ〜５ｄ  非塗布部
６  凹状スリット部
７  エネルギー硬化性樹脂
７′  硬化済樹脂
８  薄膜形成手段
Ｌ  エネルギー線照射光源
Ｍ  マスク部材
Ｑ  ビード
Ｔ  トリミング
Ｗ  撥液部（撥液層）の深さ
Ｘ  塗布位置
Ｊａ、Ｊｂ  撥液部（撥液層）の幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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