(57)【要約】【課題】従来の電気光学装置では、コストを軽減することが困難である。【解決手段】複数のＥＬ素子３５が設けられ、ＥＬ素子３５ごとに光を発する発光パネル９と、複数の画素１１が区分され、発光パネル９からの光の量を光の進路の途中で画素１１ごとに選択的に制御することによって画像を形成する画像形成パネル７と、を含み、ＥＬ素子３５は、画素電極８１及び共通電極８５間に、発光層を含む有機層が介在した構成を有しており、且つ画素１１ごとに設けられている、ことを特徴とする電気光学装置。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光素子が設けられ、前記発光素子ごとに光を発する発光部と、
複数の画素が区分され、前記発光部からの光の量を前記光の進路の途中で前記画素ごとに選択的に制御することによって画像を形成する画像形成部と、を含み、
前記発光素子は、互いに対向する一対の電極同士間に、発光層を含む有機層が介在した構成を有しており、且つ前記画素ごとに設けられている、
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記一対の電極の一方は、複数の前記発光素子間で相互に導通しており、
前記一対の電極の他方は、複数の前記発光素子間で相互に導通している、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記複数の画素には、前記複数の発光素子から、複数の種類の色の光が照射され、
前記複数の画素は、それぞれ、前記色の前記種類ごとに分類されており、前記色の前記種類に対応した前記画像を形成する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記複数の種類の色には、赤系の色、緑系の色及び青系の色が含まれている、
ことを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記発光部において、前記発光層の前記進路とは反対側に、前記発光層からの光の少なくとも一部を前記発光層側に反射させる反射層が、前記発光素子ごとに設けられており、
前記発光層と前記反射層との間の距離が、前記色の前記種類ごとに異なっている、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記発光素子と前記画素との間において、前記発光素子ごとに、前記発光素子に対応する前記色の光を透過させるカラーフィルターが設けられている、
ことを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記複数の発光素子は、それぞれ、前記色の前記種類に対応した前記色の光を発する前記発光層を有している、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記発光部と前記画像形成部とが、互いに対向している、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記画像形成部は、照射された光を反射させる光反射性を有しており、
前記発光部からの前記光の前記進路が、前記画像形成部での光反射性によって屈曲している、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記画像形成部は、電界を形成する一対の電極と、前記一対の電極間に介在する液晶と、を有する、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電気光学装置の１つである有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置を利用した表示装置が知られている。このような表示装置では、従来、有機ＥＬ素子を画素ごとに制御するアクティブマトリクス型（以下、ＡＭ型と呼ぶ）の表示装置がある。ＡＭ型の有機ＥＬ装置では、有機ＥＬ素子を画素ごとに制御（駆動）するための回路（以下、画素回路と呼ぶ）が、画素ごとに設けられている。ＡＭ型の有機ＥＬ装置では、画素回路によって、有機ＥＬ素子の発光輝度が制御され得る。つまり、画素回路によって表示における階調表現が実現され得る。
そして、ＡＭ型の有機ＥＬ装置では、従来から、複数のトランジスター素子を有する画素回路が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２１５２１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された画素回路には、５つのトランジスター素子が設けられている。この画素回路によれば、有機ＥＬ素子の駆動電流の画素間でのばらつきを軽減することができる。このため、有機ＥＬ素子の画素間での発光輝度をそろえやすくすることができ、表示装置における表示品位を向上させることができる。
しかしながら、複数のトランジスター素子を有する画素回路では、例えば電圧駆動型の液晶などに対する画素回路に比較して、画素回路の構成が複雑であり、画素回路の製造プロセスも複雑で多岐にわたる。このため、有機ＥＬ装置を利用した表示装置などにおいて、コストを軽減することが困難である。
つまり、従来の電気光学装置では、コストを軽減することが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００６】
［適用例１］複数の発光素子が設けられ、前記発光素子ごとに光を発する発光部と、複数の画素が区分され、前記発光部からの光の量を前記光の進路の途中で前記画素ごとに選択的に制御することによって画像を形成する画像形成部と、を含み、前記発光素子は、互いに対向する一対の電極同士間に、発光層を含む有機層が介在した構成を有しており、且つ前記画素ごとに設けられている、ことを特徴とする電気光学装置。
【０００７】
この適用例の電気光学装置は、発光部と、画像形成部と、を含む。
発光部には、複数の発光素子が設けられている。発光部は、発光素子ごとに光を発する。発光素子は、互いに対向する電極同士間に、発光層を含む有機層が介在した構成を有している。また、発光素子は、画素ごとに設けられている。
画像形成部には、複数の画素が区分されている。画像形成部は、発光部からの光の量を光の進路の途中で画素ごとに選択的に制御することによって画像を形成する。
この電気光学装置では、発光部からの光の量を画素ごとに制御することによって、画像における階調表現が実現され得る。このため、発光部における階調表現を省略しやすくすることができる。この結果、発光部で階調表現を実現する場合に比較して、発光素子ごとに発光を制御する回路を簡略化しやすくすることができる。これにより、電気光学装置のコストを軽減しやすくすることができる。
【０００８】
［適用例２］上記の電気光学装置であって、前記一対の電極の一方は、複数の前記発光素子間で相互に導通しており、前記一対の電極の他方は、複数の前記発光素子間で相互に導通している、ことを特徴とする電気光学装置。
【０００９】
この適用例では、一対の電極の一方が複数の発光素子間で相互に導通しており、一対の電極の他方が複数の発光素子間で相互に導通しているので、１つの発光素子を発光状態に制御すれば、これらの複数の発光素子を発光状態に制御することができる。
【００１０】
［適用例３］上記の電気光学装置であって、前記複数の画素には、前記複数の発光素子から、複数の種類の色の光が照射され、前記複数の画素は、それぞれ、前記色の前記種類ごとに分類されており、前記色の前記種類に対応した前記画像を形成する、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１１】
この適用例では、複数の画素には、複数の発光素子から、複数の種類の色の光が照射される。また、複数の画素は、それぞれ、色の種類ごとに分類されており、色の種類に対応した画像を形成する。上記の構成により、複数の種類の色の画像を表示することができる。
【００１２】
［適用例４］上記の電気光学装置であって、前記複数の種類の色には、赤系の色、緑系の色及び青系の色が含まれている、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１３】
この適用例では、複数の種類の色に、赤系の色、緑系の色及び青系の色が含まれているので、画像のカラー表示が実現され得る。
【００１４】
［適用例５］上記の電気光学装置であって、前記発光部において、前記発光層の前記進路とは反対側に、前記発光層からの光の少なくとも一部を前記発光層側に反射させる反射層が、前記発光素子ごとに設けられており、前記発光層と前記反射層との間の距離が、前記色の前記種類ごとに異なっている、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１５】
この適用例では、発光部において、発光素子ごとに反射層が設けられている。反射層は、発光層の進路とは反対側に設けられている。反射層は、発光層からの光の少なくとも一部を発光層側に反射させる。この構成により、発光層から進路側に向かう光と、発光層を出てから反射層で反射して進路側に向かう光と、を互いに強め合わせやすくすることができる。
そして、この電気光学装置では、発光層と反射層との間の距離が、色の種類ごとに異なっている。このため、発光層からの光に含まれる様々な波長の光のうちで強める光の波長を色の種類ごとに異ならせることができる。これにより、発光素子からの光の色を、色の種類ごとに異ならせることができる。
【００１６】
［適用例６］上記の電気光学装置であって、前記発光素子と前記画素との間において、前記発光素子ごとに、前記発光素子に対応する前記色の光を透過させるカラーフィルターが設けられている、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１７】
この適用例では、発光素子と画素との間において、発光素子ごとに、発光素子に対応する色の光を透過させるカラーフィルターが設けられている。これにより、発光素子からの光の色の純度を高めやすくすることができる。
【００１８】
［適用例７］上記の電気光学装置であって、前記複数の発光素子は、それぞれ、前記色の前記種類に対応した前記色の光を発する前記発光層を有している、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１９】
この適用例では、複数の発光素子は、それぞれ、色の種類に対応した色の光を発する発光層を有している。これにより、複数の発光素子のそれぞれから、各発光素子に対応する種類の色の光を射出させることができる。
【００２０】
［適用例８］上記の電気光学装置であって、前記発光部と前記画像形成部とが、互いに対向している、ことを特徴とする電気光学装置。
【００２１】
この適用例では、発光部と画像形成部とが互いに対向しているので、発光部からの光を画像形成部に照射しやすくすることができる。
【００２２】
［適用例９］上記の電気光学装置であって、前記画像形成部は、照射された光を反射させる光反射性を有しており、前記発光部からの前記光の前記進路が、前記画像形成部での光反射性によって屈曲している、ことを特徴とする電気光学装置。
【００２３】
この適用例では、画像形成部は、照射された光を反射させる光反射性を有している。この電気光学装置では、発光部からの光の進路が、画像形成部での光反射性によって屈曲している。これにより、発光部からの光を画像形成部で反射させた反射光を利用して画像を表示することができる。
【００２４】
［適用例１０］上記の電気光学装置であって、前記画像形成部は、電界を形成する一対の電極と、前記一対の電極間に介在する液晶と、を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【００２５】
この適用例では、画像形成部は、電界を形成する一対の電極と、一対の電極間に介在する液晶と、を有する。これにより、液晶装置を利用して電気光学装置を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１実施形態における表示装置の主要構成を示す斜視図。
【図２】図１中のＡ−Ａ線における断面図。
【図３】本実施形態における画像形成パネルの複数の画素の一部を示す平面図。
【図４】本実施形態における液晶パネルの等価回路図。
【図５】本実施形態における発光パネルの複数のＥＬ素子の一部を示す平面図。
【図６】本実施形態における複数の画素の一部と複数のＥＬ素子の一部とを示す平面図。
【図７】本実施形態における発光パネルの回路構成を示す図。
【図８】図６中のＣ−Ｃ線における断面図。
【図９】図８中のＥＬ素子の拡大図。
【図１０】本実施形態における表示装置の主要構成を示すブロック図。
【図１１】本実施形態における画像形成パネルでの偏光状態を説明する図。
【図１２】第２実施形態における表示パネルを図６中のＣ−Ｃ線に相当する切断線で切断したときの断面図。
【図１３】図１２中のＥＬ素子の拡大図。
【図１４】第３実施形態における表示パネルを図６中のＣ−Ｃ線に相当する切断線で切断したときの断面図。
【図１５】第４実施形態における表示パネルを図６中のＣ−Ｃ線に相当する切断線で切断したときの断面図。
【図１６】本実施形態における表示装置を適用した電子機器の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
実施形態について、有機ＥＬ装置及び液晶装置を利用した表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。有機ＥＬ装置及び液晶装置は、それぞれ、電気光学装置の１つである。
第１実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、制御部５と、を有している。
表示パネル３は、画像形成パネル７と、発光パネル９と、を有している。
【００２８】
画像形成パネル７には、複数の画素１１が設定されている。複数の画素１１は、表示領域１２内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。
ここで、本実施形態では、Ｘ方向は、後述する走査線が延在する方向である。また、Ｙ方向は、平面視でＸ方向と交差する方向である。本実施形態では、Ｙ方向は、後述する信号線が延在する方向でもあり、平面視でＸ方向に対して直交している。
【００２９】
表示装置１では、画像形成パネル７が、発光パネル９から照射された光を、画素１１ごとに選択的に発光パネル９側に反射させることによって、表示面１３に画像を表示することができる。なお、表示領域１２とは、画像が形成され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素１１が誇張され、且つ画素１１の個数が減じられている。
画像形成パネル７は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネル１５と、位相差板１７と、偏光板１９と、を有している。
液晶パネル１５は、駆動素子基板２１と、対向基板２３と、液晶２５と、シール材２７と、を有している。なお、本実施形態では、液晶パネル１５として、反射型の液晶パネルが採用されている。液晶パネル１５では、表示面１３側から対向基板２３を介して液晶２５に入射した光を対向基板２３側に反射させることによって、反射表示を行うことができる。
【００３０】
駆動素子基板２１には、表示面１３側すなわち液晶２５側に、複数の画素１１のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。
対向基板２３は、駆動素子基板２１よりも表示面１３側で駆動素子基板２１に対向し、且つ駆動素子基板２１との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板２３には、表示パネル３における表示面１３の裏面に相当する面である底面２９側すなわち液晶２５側に、後述する共通電極などが設けられている。
【００３１】
液晶２５は、駆動素子基板２１及び対向基板２３の間に介在しており、液晶パネル１５の周縁よりも内側で表示領域１２を囲むシール材２７によって、駆動素子基板２１及び対向基板２３の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶２５として、ＴＮ（Twisted Nematic）型が採用されている。
位相差板１７は、対向基板２３よりも表示面１３側、すなわち液晶２５側とは反対側に設けられている。本実施形態では、位相差板１７は、入射した光に対して１／２波長の位相差を付与する。
偏光板１９は、位相差板１７よりも表示面１３側に設けられている。偏光板１９は、透過軸を有している。偏光板１９は、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。
【００３２】
発光パネル９は、偏光板１９よりも表示面１３側に設けられており、素子基板３１と、封止基板３３と、複数のＥＬ（Electro Luminescence）素子３５と、接着剤３７と、シール材３９と、を有している。発光パネル９は、複数のＥＬ素子３５から封止基板３３を介して底面２９側に光を発する。
【００３３】
素子基板３１には、底面２９側に複数のＥＬ素子３５が設けられている。
封止基板３３は、素子基板３１よりも底面２９側で素子基板３１に対向した状態で設けられている。素子基板３１と封止基板３３とは、接着剤３７を介して接合されている。表示装置１では、ＥＬ素子３５は、接着剤３７によって底面２９側から覆われている。
また、素子基板３１と封止基板３３との間は、発光パネル９の周縁よりも内側で表示領域１２を囲むシール材３９によって封止されている。つまり、表示装置１では、ＥＬ素子３５と接着剤３７とが、素子基板３１及び封止基板３３並びにシール材３９によって封止されている。
【００３４】
ところで、画像形成パネル７では、図３に示すように、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素１１が、１つの画素列５１を構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素１１が、１つの画素行５３を構成している。この観点から、Ｘ方向は、画素行５３が延在する方向であるともみなされ得る。また、Ｙ方向は、画素列５１が延在する方向であるともみなされ得る。
また、液晶パネル１５は、図４に示すように、複数の走査線Ｔｅと、複数の信号線Ｓｅと、走査線駆動回路５５と、信号線駆動回路５７と、を有している。
なお、以下において複数の走査線Ｔｅ及び複数の信号線Ｓｅのそれぞれが識別される場合に、走査線Ｔｅ（ｎ）という表記と、信号線Ｓｅ（ｍ）という表記とが用いられる。ｎ及びｍは、それぞれ、１以上の整数をとり得る変数である。
複数の走査線Ｔｅは、走査線駆動回路５５につながっている。複数の信号線Ｓｅは、信号線駆動回路５７につながっている。
【００３５】
複数の走査線Ｔｅ及び複数の信号線Ｓｅは、格子状に配線されている。複数の走査線Ｔｅは、Ｙ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｘ方向に沿って延びている。複数の信号線Ｓｅは、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｙ方向に沿って延びている。各画素１１は、各走査線Ｔｅと各信号線Ｓｅとの交差に対応して設定されている。
各信号線Ｓｅは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素１１すなわち各画素列５１に対応している。各走査線Ｔｅは、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素１１すなわち各画素行５３に対応している。
また、液晶パネル１５は、画素１１ごとに、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６１と、画素電極６３と、共通電極６５と、を有している。なお、共通電極６５は、マトリクスＭを構成する複数の画素１１間にまたがって一連した状態で設けられている。つまり、共通電極６５は、マトリクスＭを構成する複数の画素１１に平面視で重なる領域に設けられており、複数の画素１１間にまたがって共通して機能する。
【００３６】
ＴＦＴ素子６１のゲート電極は、対応する走査線Ｔｅに電気的につながっている。ＴＦＴ素子６１のソース電極は、対応する信号線Ｓｅに電気的につながっている。各画素１１において、ＴＦＴ素子６１のドレイン電極は、画素電極６３に電気的につながっている。
各画素１１において、画素電極６３と共通電極６５とは、画素電極６３と共通電極６５との間に電界を形成する一対の電極を構成している。液晶２５（図２）は、画素電極６３と共通電極６５との間に介在している。本実施形態では、画素電極６３と共通電極６５とは、互いに対向している。
ＴＦＴ素子６１は、このＴＦＴ素子６１につながる走査線Ｔｅに選択信号が供給されるとオン状態となる。このとき、このＴＦＴ素子６１につながる信号線Ｓｅからデータ信号が供給され、画素電極６３がデータ信号の大きさに応じた電位に保たれる。このとき、共通電極６５を画素電極６３の電位とは異なる電位に保つと、画素電極６３と共通電極６５との間に電位差が発生する。これにより、画素１１ごとに、画素電極６３と共通電極６５との間に電界を発生させることができる。
【００３７】
発光パネル９では、複数のＥＬ素子３５は、図５に示すように、Ｘ方向及びＹ方向に配列している。
ここで、発光パネル９から射出する光の色は、複数の種類の色を包含している。複数の種類の色は、ＥＬ素子３５単位でわけられている。つまり、複数のＥＬ素子３５は、色の種類ごとに分類されている。本実施形態では、複数の種類の色には、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）、及び青系（Ｂ）が含まれている。本実施形態では、発光パネル９から画像形成パネル７に向かって射出する光の色は、図５に示すように、ＥＬ素子３５ごとにＲ、Ｇ及びＢのいずれかに設定されている。つまり、本実施形態では、複数のＥＬ素子３５のそれぞれに、Ｒ、Ｇ及びＢのいずれかの種類が対応付けられている。
なお、以下において、ＥＬ素子３５に対して、対応付けられた色の種類を識別する場合に、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ、及びＥＬ素子３５Ｂという表記が用いられる。
【００３８】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００３９】
発光パネル９では、Ｙ方向に沿って並ぶ複数のＥＬ素子３５が、１つの素子列７１を構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数のＥＬ素子３５が、１つの素子行７３を構成している。
１つの素子列７１を構成する複数のＥＬ素子３５は、それぞれ、対応付けられている色の種類がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、発光パネル９は、複数のＥＬ素子３５ＲがＹ方向に配列した素子列７１Ｒと、複数のＥＬ素子３５ＧがＹ方向に配列した素子列７１Ｇと、複数のＥＬ素子３５ＢがＹ方向に配列した素子列７１Ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、素子列７１Ｒ、素子列７１Ｇ及び素子列７１Ｂが、Ｘ方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、素子列７１という表記と、素子列７１Ｒ、素子列７１Ｇ及び素子列７１Ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００４０】
表示パネル３では、画像形成パネル７の複数の画素１１と、発光パネル９の複数のＥＬ素子３５とが、図６に示すように、平面視で重なっている。そして、表示パネル３では、１つのＥＬ素子３５が１つの画素１１に対応付けられている。
１つの画素１１の領域は、１つのＥＬ素子３５を包含する大きさに設定されている。本実施形態では、画素１１の領域は、１つのＥＬ素子３５の領域よりも広い大きさに設定されている。
【００４１】
発光パネル９は、回路構成を示す図である図７に示すように、ＥＬ素子３５ごとに、画素電極８１と、機能層８３と、共通電極８５と、を有している。
また、発光パネル９は、複数の電源線８７と、共通線８９と、を有している。
複数の電源線８７は、相互に電気的につながっており、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態でＹ方向に延びている。電源線８７は、素子列７１に対応して設けられている。なお、以下においては、素子列７１Ｒに対応する電源線８７が電源線８７Ｒと表記されることがある。同様に、素子列７１Ｇに対応する電源線８７が電源線８７Ｇと表記され、素子列７１Ｂに対応する電源線８７が電源線８７Ｂと表記されることがある。以下においては、電源線８７という表記と、電源線８７Ｒ、電源線８７Ｇ及び電源線８７Ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００４２】
素子列７１ＲにおけるＥＬ素子３５の画素電極８１は、素子列７１Ｒに対応する電源線８７Ｒに電気的につながっている。素子列７１ＧにおけるＥＬ素子３５の画素電極８１は、素子列７１Ｇに対応する電源線８７Ｇに電気的につながっている。同様に、素子列７１ＢにおけるＥＬ素子３５の画素電極８１は、素子列７１Ｂに対応する電源線８７Ｂに電気的につながっている。
共通電極８５は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって一連した状態で設けられている。つまり、共通電極８５は、複数のＥＬ素子３５に平面視で重なる領域に設けられており、複数のＥＬ素子３５間にまたがって共通して機能する。
画素電極８１と共通電極８５とは、画素電極８１を陽極とし、共通電極８５を陰極とする一対の電極を構成している。
各画素電極８１と共通電極８５との間に介在する機能層８３は、後述する発光層を含んでいる。機能層８３では、画素電極８１と共通電極８５との間に発生する電流によって、発光層が発光する。
【００４３】
電源線８７には、制御部５（図１）から電力が供給される。電源線８７に電力が供給されると、電源線８７から画素電極８１と機能層８３を経て共通電極８５に電流が流れる。そして、機能層８３に含まれる発光層が、機能層８３を流れる電流によって発光する。本実施形態では、複数のＥＬ素子３５を素子列７１Ｒ、素子列７１Ｇ及び素子列７１Ｂごとに発光させることができる。
発光パネル９（図２）は、ＥＬ素子３５における発光層からの光が封止基板３３を介して画像形成パネル７側へ射出されるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の１つである。
【００４４】
ここで、表示パネル３の構成について、詳細を説明する。
液晶パネル１５の駆動素子基板２１は、図６中のＣ−Ｃ線における断面図である図８に示すように、第１基板９１を有している。第１基板９１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面１３側に向けられた第１面９２ａと、底面２９側に向けられた第２面９２ｂと、を有している。
第１基板９１の第１面９２ａには、駆動素子層９３が設けられている。駆動素子層９３には、図４に示すＴＦＴ素子６１と、走査線Ｔｅと、信号線Ｓｅと、が含まれている。
【００４５】
駆動素子層９３の表示面１３側には、画素１１ごとに画素電極６３が設けられている。画素電極６３としては、例えば、金や、銀、アルミニウムなどの高い導電性及び高い光反射性を有する材料が採用され得る。本実施形態では、画素電極６３の材料として、アルミニウムが採用されている。本実施形態では、画素電極６３は、反射膜としての機能も有している。
画素電極６３及び駆動素子層９３の表示面１３側には、画素電極６３を表示面１３側から覆う配向膜９５が設けられている。配向膜９５としては、例えば、ポリイミドなどの光透過性を有する材料が採用され得る。なお、配向膜９５には、表示面１３側にラビング処理などの配向処理が施されている。
【００４６】
対向基板２３は、第２基板９７と、対向層９９と、を有している。第２基板９７は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面１３側に向けられた外向面９８ａと、底面２９側に向けられた対向面９８ｂとを有している。
対向層９９は、第２基板９７の対向面９８ｂに設けられている。対向層９９には、絶縁膜１０１と、共通電極６５と、配向膜１０３と、が含まれている。
絶縁膜１０１の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの無機材料や、光透過性を有する樹脂などの有機材料が採用され得る。
【００４７】
共通電極６５は、絶縁膜１０１の底面２９側に設けられている。共通電極６５の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide）などの光透過性を有する材料が採用され得る。本実施形態では、共通電極６５の材料として、ＩＴＯが採用されている。
前述したように、共通電極６５は、複数の画素１１間にまたがって一連した状態で設けられており、複数の画素１１間にまたがって共通して機能する。
なお、本実施形態において、画素１１の領域は、平面視で、１つの画素電極６３と共通電極６５とが重なり合う領域であると定義され得る。
【００４８】
配向膜１０３は、共通電極６５の底面２９側に設けられている。共通電極６５は、配向膜１０３によって底面２９側から覆われている。配向膜１０３の材料としては、例えば、ポリイミドなどの光透過性を有する材料が採用され得る。配向膜１０３には、底面２９側にラビング処理などの配向処理が施されている。
なお、対向基板２３の構成としては、各画素１１の領域を区画する光吸収層を設けた構成も採用され得る。この場合、光吸収層は、対向面９８ｂに設けられる。この構成により、表示におけるコントラストの向上を図りやすくすることができる。光吸収層の材料としては、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などが採用され得る。
【００４９】
駆動素子基板２１及び対向基板２３の間に介在する液晶２５は、配向膜９５と配向膜１０３との間に介在している。
本実施形態では、図２に示すシール材２７は、図８に示す第１基板９１の第１面９２ａと、第２基板９７の対向面９８ｂとによって挟持されている。つまり、液晶パネル１５では、液晶２５は、第１基板９１及び第２基板９７によって保持されている。なお、シール材２７は、配向膜９５及び配向膜１０３の間に設けられていてもよい。この場合、液晶２５は、駆動素子基板２１及び対向基板２３に保持されているとみなされ得る。
本実施形態では、液晶２５は、図８に示すように、Ｌ１なる厚みに設定されている。液晶２５は、入射した光を変調することができる。本実施形態では、液晶２５は、入射した光に位相差を付与することができる。これは、液晶２５のリタデーション（複屈折率と厚みＬ１との積）の設定により実現され得る。本実施形態では、入射した光に１／４波長の位相差を付与するリタデーションが設定されている。
【００５０】
発光パネル９の素子基板３１は、第３基板１１１と、素子層１１３と、を有している。
第３基板１１１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面１３側に向けられた第１面１１２ａと、底面２９側に向けられた第２面１１２ｂとを有している。
素子層１１３は、第３基板１１１の第２面１１２ｂに設けられている。素子層１１３には、絶縁膜１１５と、反射膜１１７と、絶縁膜１１９と、画素電極８１と、隔壁１２１と、機能層８３と、共通電極８５と、が含まれている。
【００５１】
絶縁膜１１５は、第３基板１１１の第２面１１２ｂに設けられている。絶縁膜１１５としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。
絶縁膜１１５の底面２９側には、ＥＬ素子３５ごとに、反射膜１１７が設けられている。反射膜１１７としては、例えば、金や、銀、アルミニウムなどの高い光反射性を有する材料が採用され得る。本実施形態では、反射膜１１７の材料として、アルミニウムが採用されている。
絶縁膜１１５及び反射膜１１７の底面２９側には、反射膜１１７を底面２９側から覆う絶縁膜１１９が設けられている。絶縁膜１１９としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。
絶縁膜１１９の底面２９側には、ＥＬ素子３５ごとに、画素電極８１が設けられている。画素電極８１の材料としては、ＩＴＯやインジウム亜鉛酸化物などが採用され得る。本実施形態では、画素電極８１の材料としてＩＴＯが採用されている。
【００５２】
なお、本実施形態では、複数の画素電極８１は、隣り合う画素電極８１同士間に設けられた配線（図示せず）によって相互に導通している。つまり、複数の画素電極８１は、図７に示すように、複数のＥＬ素子３５間にまたがって電気的に一連した状態で設けられている。そして、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって共通して機能する。
本実施形態では、ＥＬ素子３５ごとに画素電極８１を設ける構成が採用されている。しかしながら、画素電極８１の構成は、これに限定されず、複数のＥＬ素子３５間にまたがって一連した構成も採用され得る。
【００５３】
絶縁膜１１９の底面２９側において、隣り合う画素電極８１同士の間には、各ＥＬ素子３５の領域１２３を区画する隔壁１２１が設けられている。隔壁１２１は、例えば、アクリル系の樹脂やポリイミド樹脂などの光透過性を有する材料で構成されている。本実施形態では、隔壁１２１の材料としてアクリル系の樹脂が採用されている。
隔壁１２１は、平面視で、表示領域１２（図１）にわたって網目状に設けられている。隔壁１２１は、図８に示すように、ＥＬ素子３５ごとに、ＥＬ素子３５の領域１２３を囲んでいる。このため、ＥＬ素子３５は、隔壁１２１によって区画されている。
【００５４】
画素電極８１の底面２９側には、機能層８３が設けられている。
機能層８３の底面２９側には、共通電極８５が設けられている。共通電極８５は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって一連した状態で設けられている。共通電極８５の材料としては、例えば、マグネシウムと銀とを含む合金や、カルシウムなどが採用され得る。本実施形態では、共通電極８５の材料として、マグネシウムと銀とを含む合金（以下、ＭｇＡｇと呼ぶ）が採用されている。
【００５５】
本実施形態では、各ＥＬ素子３５において発光に有効な領域（以下、発光領域と呼ぶ）は、領域１２３内で平面視で画素電極８１と機能層８３と共通電極８５とが重なる領域であると定義され得る。また、本実施形態において、発光機能を発揮させる要素の一群が１つのＥＬ素子３５であると定義され得る。このため、本実施形態では、１つのＥＬ素子３５は、領域１２３に重なる画素電極８１と、機能層８３と、領域１２３に重なる共通電極８５と、を含んでいる。本実施形態では、各ＥＬ素子３５において発光領域は、領域１２３と同等である。
なお、上述した反射膜１１７は、平面視で領域１２３に重なる領域内に設けられる。本実施形態では、反射膜１１７が設けられている領域は、領域１２３と同等である。これにより、反射膜１１７が設けられている領域と発光領域とを同等にすることができるため、画素１１の開口率の低下を抑えやすくすることができる。
【００５６】
封止基板３３は、第４基板１３１と、対向層１３３と、を有している。第４基板１３１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面１３側に向けられた対向面１３２ａと、底面２９側に向けられた外向面１３２ｂとを有している。
対向層１３３は、第４基板１３１の対向面１３２ａに設けられている。対向層１３３は、カラーフィルター１３５と、オーバーコート層１３７と、を含んでいる。
カラーフィルター１３５は、ＥＬ素子３５ごとに設けられている。カラーフィルター１３５は、平面視で領域１２３に重なる領域内に設けられている。
カラーフィルター１３５は、所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルター１３５は、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。ＥＬ素子３５Ｒに対応するカラーフィルター１３５は、Ｒの光を透過させることができる。ＥＬ素子３５Ｇに対応するカラーフィルター１３５はＧの光を透過させ、ＥＬ素子３５Ｂに対応するカラーフィルター１３５はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルター１３５に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルター１３５Ｒ，１３５Ｇ及び１３５Ｂという表記が用いられる。
【００５７】
カラーフィルター１３５の表示面１３側には、オーバーコート層１３７が設けられている。オーバーコート層１３７は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、カラーフィルター１３５を表示面１３側から覆っている。なお、封止基板３３の構成としては、隣り合うカラーフィルター１３５同士間に光吸収層を設けた構成も採用され得る。この場合、光吸収層は、対向面１３２ａに設けられる。この構成により、表示におけるコントラストの向上を図りやすくすることができる。光吸収層の材料としては、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などが採用され得る。
【００５８】
上記の構成を有する素子基板３１及び封止基板３３は、素子基板３１の共通電極８５と封止基板３３のオーバーコート層１３７との間が、接着剤３７を介して接合されている。
本実施形態では、図２に示すシール材３９は、図８に示す第３基板１１１の第２面１１２ｂと、第４基板１３１の対向面１３２ａとによって挟持されている。つまり、本実施形態では、ＥＬ素子３５及び接着剤３７が、第３基板１１１及び第４基板１３１並びにシール材３９によって封止されている。なお、シール材３９は、オーバーコート層１３７及び共通電極８５の間に設けられていてもよい。この場合、ＥＬ素子３５及び接着剤３７は、素子基板３１及び封止基板３３並びにシール材３９によって封止されているとみなされ得る。
【００５９】
ところで、本実施形態では、機能層８３は、図８中のＥＬ素子３５の拡大図である図９に示すように、有機層１４１と、電子注入層１４３と、を含んでいる。
有機層１４１は、画素電極８１の底面２９側に設けられている。電子注入層１４３は、有機層１４１の底面２９側に設けられている。
有機層１４１は、正孔注入層１５１と、正孔輸送層１５３と、発光層１５５と、中間層１５７と、発光層１５９と、発光層１６１と、電子輸送層１６３と、を含んでいる。
正孔注入層１５１は、有機材料を含む材料で構成されており、平面視で隔壁１２１によって囲まれた領域内で、画素電極８１の底面２９側に設けられている。
【００６０】
正孔注入層１５１の有機材料としては、例えば、ＨＩ４０６（出光興産株式会社製）が採用され得る。そして、正孔注入層１５１は、蒸着技術を活用することによって設けられ得る。
なお、蒸着技術を活用した材料の配置は、蒸着法と呼ばれる。本実施形態では、蒸着法で正孔注入層１５１を、平面視で表示領域１２（図１）に重なる領域にわたって形成する方法が採用されている。これにより、正孔注入層１５１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって形成される。このため、隔壁１２１の底面２９側にも、正孔注入層１５１が形成されている。
【００６１】
正孔輸送層１５３は、有機材料を含む材料で構成されており、正孔注入層１５１の底面２９側に設けられている。正孔輸送層１５３の材料としては、例えば、ＨＴ３２０（出光興産株式会社製）が採用され得る。そして、本実施形態では、正孔輸送層１５３は、蒸着法によって形成されている。
発光層１５５は、有機材料を含む材料で構成されており、正孔輸送層１５３の底面２９側に設けられている。
発光層１５５の材料としては、導電性を担保するホスト材料に、電子と正孔との結合により発光する機能を有するドーパントを混入したものが採用され得る。そして、本実施形態では、発光層１５５は、蒸着法によって形成されている。
発光層１５５は、Ｒの光を発する層である。Ｒの光を発する発光層１５５の材料としては、例えば、ホスト材料としてのＢＨ２１５（出光興産株式会社製）に、ドーパントとしてのＲＤ００１（出光興産株式会社製）を混入した構成が採用され得る。
【００６２】
中間層１５７は、有機材料を含む材料で構成されており、発光層１５５の底面２９側に設けられている。中間層１５７を構成する材料としては、例えば、αＮＰＤなどが採用され得る。
発光層１５９は、有機材料を含む材料で構成されており、中間層１５７の底面２９側に設けられている。
発光層１５９の材料としては、導電性を担保するホスト材料に、電子と正孔との結合により発光する機能を有するドーパントを混入したものが採用され得る。そして、本実施形態では、発光層１５９は、蒸着法によって形成されている。
発光層１５９は、Ｂの光を発する層である。Ｂの光を発する発光層１５９の材料としては、例えば、ホスト材料としてのＢＨ２１５（出光興産株式会社製）に、ドーパントとしてのＢＤ１０２（出光興産株式会社製）を混入した構成が採用され得る。
【００６３】
発光層１６１は、有機材料を含む材料で構成されており、発光層１５９の底面２９側に設けられている。
発光層１６１の材料としては、導電性を担保するホスト材料に、電子と正孔との結合により発光する機能を有するドーパントを混入したものが採用され得る。そして、本実施形態では、発光層１６１は、蒸着法によって形成されている。
発光層１６１は、Ｇの光を発する層である。Ｇの光を発する発光層１６１の材料としては、例えば、ホスト材料としてのＢＨ２１５（出光興産株式会社製）に、ドーパントとしてのＧＤ２０６（出光興産株式会社製）を混入した構成が採用され得る。
本実施形態では、複数のＥＬ素子３５は、それぞれ、発光層１５５、発光層１５９及び発光層１６１を有している。このため、各ＥＬ素子３５から底面２９側に向かって射出する光、すなわち各ＥＬ素子３５からカラーフィルター１３５に向かう光には、Ｒの光、Ｂの光及びＧの光が含まれている。本実施形態では、各ＥＬ素子３５からカラーフィルター１３５に向かう光は、略白色を呈している。
【００６４】
電子輸送層１６３は、有機材料を含む材料で構成されており、発光層１６１の底面２９側に設けられている。
電子輸送層１６３の材料としては、Ａｌｑ３（トリス８−キノリノラトアルミニウム錯体）などが採用され得る。そして、本実施形態では、電子輸送層１６３は、蒸着法によって形成されている。
なお、中間層１５７は、電子及び正孔の移動度を調整する機能を有している。中間層１５７によって、発光層１５５、発光層１５９及び発光層１６１のそれぞれにおける発光機能が保たれる。
電子注入層１４３は、電子輸送層１６３の底面２９側に設けられている。電子注入層１４３の材料としては、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、酸化マグネシウムなどが採用され得る。本実施形態では、電子注入層１４３の材料として、フッ化リチウムが採用されている。
【００６５】
制御部５は、表示装置１のブロック図である図１０に示すように、発光制御部１７１と、画像制御部１７３と、を有している。
発光制御部１７１は、発光パネル９に、電力信号ＰＷと、共通信号Ｖｃ１と、を出力する。電力信号ＰＷは、電源線８７に入力される。共通信号Ｖｃ１は、共通線８９に入力される。
電源線８７には、発光制御部１７１から、電力信号ＰＷを介して電力が供給される。他方で、共通線８９は、共通信号Ｖｃ１に応じた電位に保たれる。このとき、本実施形態では、複数のＥＬ素子３５が一斉に発光する。
発光制御部１７１から発光パネル９への電力信号ＰＷ及び共通信号Ｖｃ１の供給を制御することにより、複数のＥＬ素子３５の発光状態が制御され得る。
【００６６】
画像制御部１７３は、液晶パネル１５に、走査信号ＰＬＳと、画像データＤＡＴＡと、共通信号Ｖｃ２と、を出力する。走査信号ＰＬＳは、走査線駆動回路５５に入力される。画像データＤＡＴＡは、信号線駆動回路５７に入力される。共通信号Ｖｃ２は、共通電極６５に入力される。
走査信号ＰＬＳは、１フレーム期間の開始を規定する信号である。画像データＤＡＴＡは、各画素１１における階調を指示するデータであり、画素行５３（図３）単位で信号線駆動回路５７に出力される。
【００６７】
走査線駆動回路５５は、入力された走査信号ＰＬＳに基づいて、走査線Ｔｅ（ｎ）に順次に選択信号ｇｅ（ｎ）を出力する。
信号線駆動回路５７は、入力された画像データＤＡＴＡに基づいて、各画素１１に対応するデータ信号ｄｅ（ｍ）を、複数の信号線Ｓｅ（ｍ）に画素行５３単位でまとめて出力する。
共通電極６５は、共通信号Ｖｃ２に応じた電位に保たれる。
【００６８】
上記の構成を有する表示装置１では、発光パネル９から画像形成パネル７に光を照射した状態で、液晶２５（図８）の配向状態を画素１１ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶２５の配向状態は、画素電極６３及び共通電極６５間に印加する電圧（以下、駆動電圧と呼ぶ）を制御することによって変化し得る。
液晶パネル１５では、画素電極６３と共通電極６５との間に電圧を印加すると、画素電極６３と共通電極６５との間に電界が発生する。この電界によって液晶２５の配向状態を画素１１ごとに変化させることができる。
本実施形態では、液晶２５に電界が作用すると、液晶２５がオン状態になる。他方で、液晶２５に作用する電界が解除されると、液晶２５がオフ状態になる。
配向膜９５及び配向膜１０３のそれぞれには、配向処理が施されている。配向処理が施された配向膜９５及び配向膜１０３によって、液晶２５の初期的な配向状態が規制される。
表示装置１では、駆動電圧が０Ｖのときに、液晶２５がオフ状態にある。他方で、駆動電圧が０Ｖを超えると、液晶２５がオフ状態からオン状態に変化する。
【００６９】
図１１（ａ）は、液晶２５がオフ状態のときの画像形成パネル７における偏光状態を示す図であり、図１１（ｂ）は、液晶２５がオン状態のときの画像形成パネル７における偏光状態を示す図である。
画像形成パネル７では、平面視で偏光板１９の透過軸１９ａが延在する方向をＸ'方向としたときに、位相差板１７の遅相軸１７ａは、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、Ｘ'方向に対して反時計方向に略２２．５度の傾きを有する方向に延在している。
なお、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）において、Ｙ'方向は、平面視でＸ'方向に直交する方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。
【００７０】
表示面１３側から偏光板１９を介して画像形成パネル７に入射した光は、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、偏光板１９の透過軸１９ａの方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１８１として、位相差板１７に入射する。
位相差板１７に入射した直線偏光１８１は、１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１８３として液晶２５に入射する。直線偏光１８３の偏光軸は、平面視でＸ'方向に対して反時計方向に略４５度の傾きを有する方向に沿っている。
液晶２５に入射した直線偏光１８３は、液晶２５がオフ状態にあるときに、図１１（ａ）に示すように、１／４波長の位相差が与えられ、この図で見て左回りの円偏光１８５として画素電極６３に向かう。
円偏光１８５は、画素電極６３で反射し、この図で見て右回りすなわち円偏光１８５とは逆回転の円偏光１８７として液晶２５に入射する。
なお、本実施形態では、画像形成パネル７に入射した光の進路は、偏光板１９から位相差板１７及び液晶２５を経て底面２９側に向かい、画素電極６３で表示面１３側に屈曲している。これは、表示面１３側から底面２９側に向かう光が、画素電極６３の光反射性によって表示面１３側に反射するためである。
【００７１】
液晶２５に入射した円偏光１８７は、１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に対して時計方向に略４５度の傾きを有する方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１８９として位相差板１７に入射する。
位相差板１７に入射した直線偏光１８９は、１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１９１として偏光板１９に入射する。直線偏光１９１の偏光軸は、平面視でＸ'方向に対して時計方向に略９０度の傾きを有する方向（略Ｙ'方向）に沿っている。このため、直線偏光１９１は、ほとんどが偏光板１９によって吸収される。
このように、表示装置１では、液晶２５がオフ状態にあるときには、発光パネル９からの光が画像形成パネル７によって、進路の途中で遮断される。発光パネル９からの光が画像形成パネル７によって遮断される状態は、黒表示と呼ばれる。本実施形態では、液晶２５がオフ状態にあるときに黒表示が行われる所謂ノーマリーブラックの表示モードが採用されている。
【００７２】
他方で、液晶２５がオン状態にあるときに、液晶２５に入射した直線偏光１８３は、図１１（ｂ）に示すように、偏光状態が維持されたまま直線偏光１８３として画素電極６３に向かう。
画素電極６３に向かう直線偏光１８３は、偏光状態が維持されたまま画素電極６３で反射し、液晶２５に入射する。
画素電極６３から液晶２５に入射した直線偏光１８３は、偏光状態が維持されたまま位相差板１７に入射する。位相差板１７に入射した直線偏光１８３は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に略沿った偏光軸を有する直線偏光１９３として偏光板１９に入射する。偏光板１９に入射した直線偏光１９３は、偏光軸が偏光板１９の透過軸１９ａの方向に沿っているため、偏光板１９を透過し得る。
このように、表示装置１では、液晶２５がオン状態にあるときには、発光パネル９からの光が画像形成パネル７を介して表示面１３側に射出し得る。発光パネル９からの光が画像形成パネル７を介して表示面１３側に射出する状態は、白表示と呼ばれる。
【００７３】
表示装置１では、白表示において、液晶２５の分子の傾きを制御することによって、偏光板１９を表示面１３側に透過する光の量を絞る（変化させる）ことができる。すなわち、表示装置１では、白表示において、液晶２５の分子の傾きを制御することによって、偏光板１９を表示面１３側に透過する光の量を制御することができる。これにより、画像形成パネル７を介して表示面１３側に射出する光の量を画素１１ごとに制御することができる。つまり、画像形成パネル７では、表示面１３側に射出する光の輝度を画素１１ごとに変化させることができる。この結果、表示装置１では、表示における階調表現が実現され得る。
表示装置１では、画像形成パネル７を介して表示面１３側に射出する光の輝度は、駆動電圧の大きさに応じて高くなる。つまり、表示装置１では、駆動電圧の大きさを制御することによって、表示における階調表現が実現され得る。
なお、本実施形態では、ノーマリーブラックの表示モードが採用されているが、表示モードは、これに限定されず、ノーマリーホワイト（初期的に“白表示”の状態）も採用され得る。
【００７４】
本実施形態において、ＥＬ素子３５が発光素子に対応し、発光パネル９が発光部に対応し、画像形成パネル７が画像形成部に対応し、画素電極８１及び共通電極８５が一対の電極に対応し、反射膜１１７が反射層に対応している。
本実施形態では、発光パネル９からの光の量を、画像形成パネル７の画素１１ごとに制御することによって、画像における階調表現が実現され得る。このため、有機ＥＬ装置である発光パネル９における階調表現を省略することができる。この結果、有機ＥＬ装置である発光パネル９で階調表現を実現する場合に比較して、ＥＬ素子３５ごとに発光を制御する回路を簡略化しやすくすることができる。これにより、表示装置１のコストを軽減しやすくすることができる。
【００７５】
第２実施形態について説明する。
第２実施形態では、表示パネル３は、図１２に示すように、発光パネル２０１を有している。第２実施形態における表示装置１は、第１実施形態における発光パネル９（図８）が発光パネル２０１に替えられていることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。このため、以下においては、第１実施形態における表示装置１と同一の構成については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００７６】
発光パネル２０１は、素子基板２０３と、封止基板２０５と、を有している。
発光パネル２０１は、機能層８３の構成が、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに異なることと、カラーフィルター１３５及びオーバーコート層１３７が省略されていることとを除いては、第１実施形態における発光パネル９（図８）と同様の構成を有している。このため、以下においては、第１実施形態における発光パネル９と同一の構成については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００７７】
発光パネル２０１では、ＥＬ素子３５から射出して封止基板２０５に向かう光の色が、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに異なっている。ＥＬ素子３５Ｒは、Ｒの光を射出する。ＥＬ素子３５ＧがＧの光を射出し、ＥＬ素子３５ＢがＢの光を射出する。これは、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに、機能層８３の構成を異ならせることによって実現され得る。以下において、機能層８３をＲ、Ｇ及びＢごとに識別する場合に、機能層８３Ｒ、機能層８３Ｇ及び機能層８３Ｂという表記が用いられる。
封止基板２０５は、第４基板１３１を有している。封止基板２０５は、第１実施形態における封止基板３３（図８）からカラーフィルター１３５及びオーバーコート層１３７を省略した構成を有している。
【００７８】
機能層８３は、図１２中のＥＬ素子３５Ｒの拡大図である図１３に示すように、有機層２０７を有している。
機能層８３Ｒにおける有機層２０７は、領域１２３内において、表示面１３側から底面２９側に向かって順に、正孔注入層１５１、正孔輸送層１５３、発光層１５５、及び電子輸送層１６３を有している。
図示を省略するが、機能層８３Ｇにおける有機層２０７は、領域１２３内において、表示面１３側から底面２９側に向かって順に、正孔注入層１５１、正孔輸送層１５３、発光層１６１、及び電子輸送層１６３を有している。
【００７９】
同様に、機能層８３Ｂにおける有機層２０７は、領域１２３内において、表示面１３側から底面２９側に向かって順に、正孔注入層１５１、正孔輸送層１５３、発光層１５９、及び電子輸送層１６３を有している。
第２実施形態では、発光層１５５と、発光層１５９と、発光層１６１とは、Ｘ方向に並ぶＥＬ素子３５間で相互に分離している。つまり、発光層１５５、発光層１５９と、発光層１６１とは、それぞれ、Ｘ方向に並ぶＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｂ及びＥＬ素子３５Ｇごとに個別に設けられている。
これは、マスクを用いたマスク蒸着法を活用することによって、発光層１５５、発光層１５９と、発光層１６１とを、それぞれ、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｂ及びＥＬ素子３５Ｇごとに個別に形成することによって実現され得る。
【００８０】
第２実施形態では、発光パネル２０１が発光部に対応している。
第２実施形態においても、第１実施形態と同様の効果が得られる。
また、第２実施形態では、第１実施形態に比較して、有機層２０７の厚みを薄くしやすい。さらに、第２実施形態では、カラーフィルター１３５を省略することができる。これらにより、第２実施形態では、第１実施形態に比較して、発光パネル２０１の厚みを薄くしやすくすることができる。この結果、第２実施形態では、第１実施形態に比較して、表示装置１を薄くしやすくすることができる。
なお、第２実施形態においても、複数の画素電極８１は、隣り合う画素電極８１同士間に設けられた配線（図示せず）によって相互に導通している。つまり、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって電気的に一連した状態で設けられている。そして、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって共通して機能する。
第２実施形態においても、ＥＬ素子３５ごとに画素電極８１を設ける構成が採用されている。しかしながら、画素電極８１の構成は、これに限定されず、複数のＥＬ素子３５間にまたがって一連した構成も採用され得る。
【００８１】
第３実施形態について説明する。
第３実施形態では、表示パネル３は、図１４に示すように、発光パネル２１１を有している。第３実施形態における表示装置１は、第１実施形態における発光パネル９（図８）が発光パネル２１１に替えられていることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。このため、以下においては、第１実施形態における表示装置１と同一の構成については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
発光パネル２１１は、素子基板２１３と、封止基板２０５と、を有している。
発光パネル２１１は、画素電極８１の厚みが、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに異なることと、封止基板３３が封止基板２０５に替えられていることとを除いては、発光パネル９（図８）と同様の構成を有している。このため、以下においては、第１実施形態における発光パネル９や、第２実施形態における発光パネル２０１と同一の構成については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００８２】
発光パネル２１１では、反射膜１１７と共通電極８５との間の距離が、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに異なる距離に設定されている。
ＥＬ素子３５Ｒでは、反射膜１１７と共通電極８５との間の距離が、Ｄ１の距離に設定されている。ＥＬ素子３５Ｇでは、反射膜１１７と共通電極８５との間の距離が、Ｄ２の距離に設定されている。ＥＬ素子３５Ｂでは、反射膜１１７と共通電極８５との間の距離が、Ｄ３の距離に設定されている。
発光パネル２１１では、Ｄ１と、Ｄ２と、Ｄ３とは、Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３の関係を満たしている。
そして、発光パネル２１１では、Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３の関係は、画素電極８１の厚みをＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに異なる厚みに設定することによって実現されている。発光パネル２１１では、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂのうち、ＥＬ素子３５Ｒにおける画素電極８１の厚みが最も厚い。発光パネル２１１では、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂのうち、ＥＬ素子３５Ｂにおける画素電極８１の厚みが最も薄い。
【００８３】
発光パネル２１１では、ＥＬ素子３５のそれぞれにおいて、機能層８３における有機層１４１（図９）からの光には、発光層１５５からのＲの光と、発光層１５９からのＢの光と、発光層１６１からのＧの光と、が含まれている。
ＥＬ素子３５のそれぞれにおいて、機能層８３から射出する光には、機能層８３から底面２９側に向かう光と、機能層８３から表示面１３側に向かう光とが含まれる。
機能層８３から表示面１３側に向かう光の一部は、画素電極８１を透過してから、反射膜１１７で底面２９側に反射する。
【００８４】
このとき、ＥＬ素子３５Ｒでは、反射膜１１７で底面２９側に反射した反射光に含まれるＲの光と、機能層８３から直接的に底面２９側に向かう光（以下、直接光と呼ぶ）に含まれるＲの光とが、共振現象によって互いに強め合う。換言すれば、ＥＬ素子３５Ｒでは、Ｄ１の距離は、反射光に含まれるＲの光と直接光に含まれるＲの光とが互いに強め合う距離に設定されている。
ＥＬ素子３５Ｇでは、反射光に含まれるＧの光と、直接光に含まれるＧの光とが、共振現象によって互いに強め合う。ＥＬ素子３５Ｇでは、Ｄ２の距離は、反射光に含まれるＧの光と直接光に含まれるＧの光とが互いに強め合う距離に設定されている。
同様に、ＥＬ素子３５Ｂでは、反射光に含まれるＢの光と、直接光に含まれるＢの光とが、共振現象によって互いに強め合う。ＥＬ素子３５Ｂでは、Ｄ３の距離は、反射光に含まれるＢの光と直接光に含まれるＢの光とが互いに強め合う距離に設定されている。
【００８５】
発光パネル２１１では、これらのＤ１、Ｄ２及びＤ３の距離の設定により、ＥＬ素子３５ＲからＲの光を射出させ、ＥＬ素子３５ＧからＧの光を射出させ、ＥＬ素子３５ＢからＢの光を射出させることができる。
第３実施形態では、発光パネル２１１が発光部に対応している。
第３実施形態においても、第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれと同様の効果が得られる。
なお、第３実施形態においても、複数の画素電極８１は、隣り合う画素電極８１同士間に設けられた配線（図示せず）によって相互に導通している。つまり、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって電気的に一連した状態で設けられている。そして、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって共通して機能する。
第３実施形態においても、ＥＬ素子３５ごとに画素電極８１を設ける構成が採用されている。しかしながら、画素電極８１の構成は、これに限定されず、複数のＥＬ素子３５間にまたがって一連した構成も採用され得る。この場合、画素電極８１を素子列７１Ｒ、素子列７１Ｇ及び素子列７１Ｂ（図５）ごとに設ける構成が採用され得る。
第３実施形態では、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに画素電極８１の厚みが異なるので、画素電極８１を素子列７１Ｒ、素子列７１Ｇ及び素子列７１Ｂごとに設けることが好都合である。
【００８６】
第４実施形態について説明する。
第４実施形態では、表示パネル３は、図１５に示すように、発光パネル２２１を有している。第４実施形態における表示装置１は、第１実施形態における発光パネル９（図８）が発光パネル２２１に替えられていることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。このため、以下においては、第１実施形態における表示装置１と同一の構成については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
発光パネル２２１は、素子基板２１３と、封止基板３３と、を有している。
発光パネル２２１は、第３実施形態における発光パネル２１１（図１４）の封止基板２０５が封止基板３３に替えられていることを除いては、発光パネル２１１と同様の構成を有している。このため、以下においては、第１実施形態や、第２実施形態や、第３実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００８７】
第４実施形態では、発光パネル２２１が発光部に対応している。
第４実施形態においても、第１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態のそれぞれと同様の効果が得られる。
また、第４実施形態では、ＥＬ素子３５と画像形成パネル７との間にカラーフィルター１３５が介在しているので、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂのそれぞれから射出した光の色純度が高められる。これにより、表示装置１の表示における表示品位の向上が図られる。
なお、第４実施形態においても、複数の画素電極８１は、隣り合う画素電極８１同士間に設けられた配線（図示せず）によって相互に導通している。つまり、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって電気的に一連した状態で設けられている。そして、複数の画素電極８１は、複数のＥＬ素子３５間にまたがって共通して機能する。
第４実施形態においても、ＥＬ素子３５ごとに画素電極８１を設ける構成が採用されている。しかしながら、画素電極８１の構成は、これに限定されず、素子列７１ごとに、素子列７１内の複数のＥＬ素子３５間にまたがって一連した構成も採用され得る。
第４実施形態においても、ＥＬ素子３５Ｒ、ＥＬ素子３５Ｇ及びＥＬ素子３５Ｂごとに画素電極８１の厚みが異なるので、画素電極８１を素子列７１Ｒ、素子列７１Ｇ及び素子列７１Ｂごとに設けることが好都合である。
【００８８】
なお、第１〜第４実施形態では、それぞれ、ＴＮ型の液晶２５を例に説明したが、液晶２５はこれに限定されず、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の型が採用され得る。
また、第１〜第４実施形態では、それぞれ、表示装置１の構成として、反射型の液晶パネル１５の表示面１３側に発光パネル９，２０１，２１１，２２１を配置した構成が採用されている。この場合、発光パネル９，２０１，２１１，２２１は、それぞれ、所謂フロントライトとして機能する。しかしながら、表示装置１の構成は、これに限定されず、透過型の液晶パネルの底面２９側に発光パネル９，２０１，２１１，２２１を配置した構成も採用され得る。この場合、発光パネル９，２０１，２１１，２２１は、それぞれ、所謂バックライトとして機能する。
【００８９】
また、第１〜第４実施形態では、それぞれ、画像形成パネル７に液晶パネル１５が採用されているが、画像形成パネル７はこの構成に限定されず、電気泳動素子を利用した電気泳動パネルも採用され得る。
また、第１〜第４実施形態では、それぞれ、発光パネル９，２０１，２１１，２２１としてトップエミッション型の有機ＥＬ装置が採用されている。しかしながら、発光パネル９，２０１，２１１，２２１の構成は、これに限定されず、ボトムエミッション型の有機ＥＬ装置も採用され得る。
【００９０】
また、第１実施形態及び第４実施形態では、それぞれ、発光パネル９，２２１にカラーフィルター１３５を設けた構成が例示されているが、表示パネル３の構成はこれに限定されない。表示パネル３の構成としては、液晶パネル１５にカラーフィルター１３５を設けた構成も採用され得る。
さらに、第１実施形態及び第４実施形態のそれぞれにおいて、液晶パネル１５にもカラーフィルター１３５を付加した構成も採用され得る。この構成では、発光パネル９，２２１と、液晶パネル１５の双方にカラーフィルター１３５が設けられるので、光の色純度を一層向上させることができる。
【００９１】
また、第２実施形態では、カラーフィルター１３５を省略した構成が例示されているが、表示パネル３の構成はこれに限定されない。表示パネル３の構成としては、第２実施形態における表示パネル３にカラーフィルター１３５を設けた構成も採用され得る。これにより、第２実施形態における表示パネル３での光の色純度を向上させることができる。
第２実施形態における表示パネル３にカラーフィルター１３５を設けた構成としては、発光パネル２０１にカラーフィルター１３５を設けた構成、及び、液晶パネル１５にカラーフィルター１３５を設けた構成のいずれの構成も採用され得る。
さらに、第２実施形態における表示パネル３では、発光パネル２０１及び液晶パネル１５の双方にカラーフィルター１３５を設けた構成も採用され得る。これにより、第２実施形態における表示パネル３での光の色純度を一層向上させることができる。
【００９２】
上述した表示装置１は、例えば、図１６に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、携帯電話機である。この電子機器５００は、操作ボタン５１１を有している。表示部５１０は、操作ボタン５１１で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器５００では、表示部５１０に表示装置１が適用されているので、表示部５１０におけるコストを軽減しやすくすることができる。
なお、電子機器５００としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピューター、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。
【符号の説明】
【００９３】
１…表示装置、３…表示パネル、５…制御部、７…画像形成パネル、９…発光パネル、１１…画素、１３…表示面、１５…液晶パネル、２５…液晶、２９…底面、３１…素子基板、３３…封止基板、３５…ＥＬ素子、３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ…ＥＬ素子、６３…画素電極、６５…共通電極、８１…画素電極、８３…機能層、８５…共通電極、８７…電源線、８９…共通線、１３５…カラーフィルター、１４１…有機層、１４３…電子注入層、１５１…正孔注入層、１５３…正孔輸送層、１５５…発光層、１５７…中間層、１５９…発光層、１６１…発光層、１６３…電子輸送層、１７１…発光制御部、１７３…画像制御部、２０１…発光パネル、２０７…有機層、２１１…発光パネル、２１３…素子基板、２２１…発光パネル、５００…電子機器、５１０…表示部、５１１…操作ボタン。
【図１】
2011029530.tif 000003
【図２】
2011029530.tif 000004
【図３】
2011029530.tif 000005
【図４】
2011029530.tif 000006
【図５】
2011029530.tif 000007
【図６】
2011029530.tif 000008
【図７】
2011029530.tif 000009
【図８】
2011029530.tif 000010
【図９】
2011029530.tif 000011
【図１０】
2011029530.tif 000012
【図１１】
2011029530.tif 000013
【図１２】
2011029530.tif 000014
【図１３】
2011029530.tif 000015
【図１４】
2011029530.tif 000016
【図１５】
2011029530.tif 000017
【図１６】
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