(57)【要約】【課題】搬送される基板上に異物が存在する場合であっても、マスクを傷つけることがなく、高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】近接スキャン露光装置１は、複数のマスク保持部１１より搬入側の基板搬送機構１０上に、基板Ｗ上の異物を検出するための異物検出機構４０を有する。異物検出機構４０によって基板Ｗ上に付着した異物Ｇが検出されると、その異物検出信号に基づいてマスク保持部１１をマスクＭに対して近接退避する近接退避機能によりマスク保持部１１を退避させることでマスクＭと異物Ｇとの衝突が避けられてマスクを傷つけることがなく、さらに、異物Ｇを通過した後は再度マスク保持部１１をマスクＭに近接させて再度露光開始することで、基板Ｗの無駄な部分を最小限に抑えながら高精度に露光を行うことができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定方向に搬送する基板搬送機構と、
パターンを形成した複数のマスクをそれぞれ保持し、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部と、
前記各マスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記複数のマスク保持部の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、
前記複数のマスク保持部より搬入側の基板搬送機構上に設けられ、前記基板上の異物を検出するための異物検出機構と、
該異物検出機構の異物検出信号に基づいて前記マスク保持部を前記基板に対して近接退避する近接退避機能を備えた制御部と、を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。
【請求項２】
前記異物検出機構が前記基板上に異物があることを検出したとき、前記異物が下方を通過する前記マスク保持部のみを前記基板に対して退避させるとともに、前記異物が前記マスク保持部の下方を通過した後、前記マスク保持部を前記基板に対して近接させて再び露光を開始することを特徴とする請求項１に記載の近接スキャン露光装置。
【請求項３】
前記異物検出機構が前記基板上に異物があることを検出したとき、前記異物が下方を通過する前記マスク保持部のみを前記基板に対して退避させるとともに、残りの前記マスク保持部を前記基板に対して近接させた状態に維持して露光を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の近接スキャン露光装置。
【請求項４】
前記異物検出機構は、前記所定方向と交差する方向に沿って並列配置されたＣＣＤカメラ、またはラインセンサであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の近接スキャン露光装置。
【請求項５】
基板を所定方向に搬送する基板搬送機構と、パターンを形成した複数のマスクをそれぞれ保持し、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部と、前記各マスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記複数のマスク保持部の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記複数のマスク保持部より搬入側の前記基板搬送機構上に設けられ、前記基板上の異物を検出するため異物検出機構と、を備え、前記所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置の制御方法であって、
前記搬送される基板上の異物の有無を前記異物検出機構によって検出する工程と、
前記異物検出機構により異物が検出されたとき、前記マスク駆動部を駆動して前記マスク保持部を前記基板から退避させる工程と、
前記異物を通過した後に前記マスク駆動部を駆動して前記マスク保持部を前記基板に近接させる工程と、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置の制御方法。
【請求項６】
前記異物検出機構が前記基板上に異物があることを検出したとき、前記異物が下方を通過する前記マスク保持部のみを前記基板に対して退避させるとともに、残りの前記マスク保持部を前記基板に対して近接させた状態に維持して露光を行うことを特徴とする請求項５に記載の近接スキャン露光装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接スキャン露光装置及びその制御方法に関し、より詳細には、基板を搬送しながら露光する際に、基板に付着する異物との接触を防止する近接スキャン露光装置及びその制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造される。従来のこの種の分割逐次露光装置としては、例えば、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置し、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成するようにしたものが知られている。また、特許文献１では、一定速度で搬送されている基板に対して、露光用光をマスクを介して照射し、基板上にマスクのパターンを露光転写する近接スキャン露光方法が知られている。さらに、特許文献２では、近接スキャン露光方法において、基板上に付着したごみの高さに応じてマスク駆動部を駆動し、ごみの接触によるマスクの破損を防止することが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２９２９５５号公報
【特許文献２】特開２００８−３１１５１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の露光装置では、近接スキャン露光方式であるため、基板上に異物があった場合、異物の大きさによってはマスクと接触し、マスクを傷つけてしまうという問題がある。特に、小型のマスクが使用される場合には、マスクの撓みによるマスク平坦度のうねりが比較的小さいので、露光精度を向上させるべくマスクと基板の間のギャップが小さく設定されており、異物によりマスクが傷つけられる可能性がより高くなる。
また、特許文献２に記載の近接スキャン露光方法では、マスクを退避させることが記載されるのみで、退避した後は露光されずに、異物の後方に位置する基板の部分が無駄になってしまうという課題がある。
【０００５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、搬送される基板上に異物が存在する場合であっても、マスクを傷つけることがなく、高精度に露光を行うことができ、且つ、異物通過後は、再び露光を行うようにして歩留まりを向上することができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  基板を所定方向に搬送する基板搬送機構と、
パターンを形成した複数のマスクをそれぞれ保持し、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部と、
前記各マスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記複数のマスク保持部の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、
前記複数のマスク保持部より搬入側の基板搬送機構上に設けられ、前記基板上の異物を検出するための異物検出機構と、
該異物検出機構の異物検出信号に基づいて前記マスク保持部を前記基板に対して近接退避する近接退避機能を備えた制御部と、を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。
（２）  前記異物検出機構が前記基板上に異物があることを検出したとき、前記異物が下方を通過する前記マスク保持部のみを前記基板に対して退避させるとともに、前記異物が前記マスク保持部の下方を通過した後、前記マスク保持部を前記基板に対して近接させて再び露光を開始することを特徴とする（１）に記載の近接スキャン露光装置。
（３）  前記異物検出機構が前記基板上に異物があることを検出したとき、前記異物が下方を通過する前記マスク保持部のみを前記基板に対して退避させるとともに、残りの前記マスク保持部を前記基板に対して近接させた状態に維持して露光を行うことを特徴とする（１）又は（２）に記載の近接スキャン露光装置。
（４）  前記異物検出機構は、前記所定方向と交差する方向に沿って並列配置されたＣＣＤカメラ、またはラインセンサであることを特徴とする（１）から（３）のいずれかに記載の近接スキャン露光装置。
（５）  基板を所定方向に搬送する基板搬送機構と、パターンを形成した複数のマスクをそれぞれ保持し、前記所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部と、前記各マスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記複数のマスク保持部の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記複数のマスク保持部より搬入側の前記基板搬送機構上に設けられ、前記基板上の異物を検出するため異物検出機構と、を備え、前記所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置の制御方法であって、
前記搬送される基板上の異物の有無を前記異物検出機構によって検出する工程と、
前記異物検出機構により異物が検出されたとき、前記マスク駆動部を駆動して前記マスク保持部を前記基板から退避させる工程と、
前記異物を通過した後に前記マスク駆動部を駆動して前記マスク保持部を前記基板に近接させる工程と、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置の制御方法。
（６）  前記異物検出機構が前記基板上に異物があることを検出したとき、前記異物が下方を通過する前記マスク保持部のみを前記基板に対して退避させるとともに、残りの前記マスク保持部を前記基板に対して近接させた状態に維持して露光を行うことを特徴とする（５）に記載の近接スキャン露光装置の制御方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の近接スキャン露光装置によれば、複数のマスク保持部より搬入側の基板搬送機構上に、基板上の異物を検出するための異物検出機構が設けられ、この異物検出機構の異物検出信号に基づいてマスク保持部を基板に対して近接退避する近接退避機能を備えた制御部が設けられているので、搬送される基板上に異物が存在する場合であっても、異物がマスクの下方に達する前に異物が検出され、マスク保持部を退避させることでマスクと異物との衝突が避けられてマスクを傷つけることがなくなる。さらに、異物を通過した後は、再度マスク保持部をマスクに近接させて再度露光開始することで基板の無駄な部分を最小限に抑えながら高精度に露光を行うことができる。
【０００８】
また、本発明の近接スキャン露光装置の制御方法によれば、搬送される基板上の異物の有無を異物検出機構によって検出する工程と、異物が検出されたときマスク駆動部を駆動してマスク保持部を基板から退避させる工程と、前記異物を通過した後に前記マスク駆動部を駆動して前記マスク保持部を前記基板に近接させる工程と、を備える。これにより、異物がマスクの下方に達する前に異物が検出されると、マスクを基板から退避させることでマスクと異物との衝突が避けられてマスクを傷つけることがなくなり、さらに、異物を通過した後は再度マスク保持部をマスクに近接させて再度露光開始することで、基板の無駄な部分を最小限に抑えながら高精度に露光を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態である近接スキャン露光装置の平面図である。
【図２】図１における近接スキャン露光装置の正面図である。
【図３】異物検出機構を示す模式図である。
【図４】異物検出時の露光装置の制御方法を説明するための概略図である。
【図５】異物検出時の露光装置の制御方法を説明するためのフローチャートである。
【図６】他の異物検出機構を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明に係る近接スキャン露光装置及び露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１１】
先ず、本実施形態の近接スキャン露光装置１の構成について概略説明する。図１及び図２に示すように、本実施形態のスキャン露光装置１は、基板（カラーフィルタ基板）Ｗを浮上させて支持すると共に、所定方向（図１のＸ方向）に搬送する基板搬送機構１０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向（図１のＹ方向）に沿って千鳥状に二列配置された複数（図１に示す実施形態において、左右それぞれ６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１を駆動するマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１４と、スキャン露光装置１の各作動部分の動きを制御する制御部１５と、を主に備える。
【００１２】
基板搬送機構１０は、基板ＷをＸ方向に搬送する領域、即ち、複数のマスク保持部１１の下方領域、及びその下方領域からＸ方向両側に亘る領域に設けられた浮上ユニット１６と、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送する基板駆動ユニット１７とを備える。浮上ユニット１６は、複数のフレーム１９上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介して排気エアパッド２０や吸排気エアパッド２１からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット１７は、図１に示すように、浮上ユニット１６によって浮上、支持された基板Ｗの一端を保持する吸着パッド２２を備え、モータ２３、ボールねじ２４、及びナット（図示せず）からなるボールねじ機構２５によって、ガイドレール２６に沿って基板ＷをＸ方向に搬送する。なお、図２に示すように、複数のフレーム１９は、地面にレベルブロック１８を介して設置された装置ベース２７上に他のレベルブロック２８を介して配置されている。また、基板Ｗは、ボールねじ機構２５の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
【００１３】
マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。また、マスク駆動部１２は、Ｚ方向のチルト機構をさらに有してもよい。
【００１４】
また、図１に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部１１ａ，１１ｂ間には、各マスク保持部１１ａ，１１ｂのマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ２が配設されている。マスクチェンジャ２により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ３，４との間でローダー５により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ３，４とマスクチェンジャ２とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行われる。
【００１５】
図２に示すように、マスク保持部１１の上部に配置される照射部１４は、光源６、ミラー７、オプチカルインテグレータ（図示せず）、シャッター（図示せず）等を備える。光源６としては、紫外線を含んだ露光用光ＥＬを放射する、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザが使用される。
【００１６】
このような近接スキャン露光装置１は、浮上ユニット１６の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１の空気流によって基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に搬送する。そして、マスク保持部１１の下方に位置する基板Ｗに対して、照射部１４からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンを基板Ｗに塗布されたカラーレジストに転写する。
【００１７】
また、図２に示すように、複数のマスク保持部１１より搬入側の基板搬送機構１０上には、基板Ｗ上のごみ等の異物を検出するための異物検出機構４０が設けられている。この異物検出機構４０は、近接スキャン露光装置１の動作中に異物の有無の検出を定常的に行い、制御部１５の要求に応じて異物（ごみ）検出信号を出力する。この制御部１５には、異物検出信号に基づいてマスク保持部１１を基板Ｗに対して近接退避する近接退避機能が設けられている。
この近接退避機能は、異物を検出した場合に、マスク駆動部１２のＺ方向駆動部３４を駆動し、異物の接触によるマスクＭの破損を防止するために必要高さ迄退避させる。そして、異物を通過した後は、再度マスク駆動部１２のＺ方向駆動部３４を駆動してマスク保持部１１を基板Ｗに近接させる。
【００１８】
図３に示すように、異物検出機構４０は、所定方向と交差する方向に沿って並列配置されたＣＣＤカメラ４１と、ＣＣＤカメラの側方に配置されたフラッシュ光源４２とを備える。なお、フラッシュ光源４２は、図３に示すように、ＣＣＤカメラ４１の上流側及び下流側の両側に複数台設けられても良いが、上流側又は下流側の片側に設けられても良い。また、フラッシュ光源４２の光は、例えば、赤外線からなる。
【００１９】
この異物検出機構４０では、フラッシュ光源４２を点灯させ、それと同期してＣＣＤカメラ４１で基板Ｗを撮像し、撮像した基板Ｗを画像データとして保存する。そして、基板Ｗの画像データを閾値処理し、二値化して、異物Ｇと認識できる閾値を基準として、基板上の異物Ｇの存在を確認する。閾値の指定方法としては、Ｐタイル法、モード法、判別分析法、動的閾値決定法、レベルスライス、ラブラシアンヒストグラム法、微分ヒストグラムなどがある。
【００２０】
異物検出機構４０により異物が検出された場合の動作を、図４を用いて説明する。ここで、図４の基板Ｗは図２の基板Ｗの如くＸ方向（搬送方向）より露光機内部に搬入される。
搬送方向Ｘに浮上搬送された基板Ｗは、異物検出機構４０により基板Ｗ上の異物Ｇの有無を検出される。そして、セル１Ｗ１及びセル２Ｗ２に異物Ｇが無い場合には、セル１Ｗ１及びセル２Ｗ２が同時に露光される。次に、セル３Ｗ３及びセル４Ｗ４が露光されるが、異物検出機構４０によりセル４Ｗ４上の異物Ｇの存在が確認されていた場合には、マスク保持部１１ａは位置Ｊで異物Ｇを避けるため必要高さ迄退避する。そして、異物Ｇを避けた後、セル４Ｗ４とセル６Ｗ６の間の非露光部分Ｋがマスク保持部１１ａの下方まで移動し、マスク保持部１１と基板Ｗのギャップを正規ギャップ（例えば、１００〜４００μｍ、好ましくは、１００〜２００μｍ）迄近接させ、再度、セル６Ｗ６の露光を行う。この為、セル４Ｗ４の一部は非露光領域Ｈとなり、無駄なセルは、セル４Ｗ４だけとなる。この場合、セル６Ｗ６が露光エリアに入る前に近接動作が完了するようすればよく、異物Ｇを避けた直後に、マスク保持部１１ａを近接させるようにしてもよいし、また、基板Ｗの搬送速度を一時的に減速又は停止しても良い。
そして、セル３Ｗ３及びセル５Ｗ５に関しては異物Ｇが無いため、マスク保持部１１を退避させること無く、そのまま露光される。
【００２１】
また、異物検出機構４０は、マスク保持部１１より搬入側（基板の流れの上流側）に設けられているので、基板Ｗに異物が存在した場合にそれがマスク保持部１１に到達する前に予め検出される。この為、Ｚ方向駆動部３４の退避動作が間に合うようであれば、所定の搬送速度のまま搬送し続けても良いし、退避動作が間に合わないようであれば、一時的に減速又は停止しても良い。このように減速又は停止する場合には、セル２Ｗ２の積算露光量に影響を与えるため、セル２Ｗ２に対応する光源６の供給電力を落としても良いし、一時的にシャッターで遮光を行っても良い。或いは、Ｚ方向駆動部３４の近接動作が間に合うようであれば、所定の搬送速度のまま搬送し続けても良いし、退避動作が間に合わないようであれば、一時的に減速又は停止しても良い。
【００２２】
即ち、異物検出機構４０は、図２に示すように、露光エリアから所定の距離、即ち、搬入側及び搬出側マスク保持部１１ａ，１１ｂからそれぞれ距離Ａ，Ｂ離れている。このため、異物が異物検出機構４０で検出されてから露光エリアを通過するまでの時間は、該距離Ａ，Ｂと、基板Ｗの搬送速度によって決定される。このため、Ｚ方向駆動部３４の駆動タイミング、基板Ｗの搬送速度の変更、シャッタータイミングなどは、セル上での異物の位置に基づき、マスクと異物との衝突を回避しつつ、歩留まりを向上できるように決定される。なお、露光エリア内の異物の通過は、エンコーダ（図示せず）を用いて検出してもよい。
【００２３】
以下、図５を参照し、具体的な処理について説明する。
まず、基板Ｗは、基板搬送機構１０の浮上ユニット１６によって浮上支持されるとともに、基板駆動ユニット１７の吸着パッド２２に吸着される。この状態で、基板駆動ユニット１７のボールねじ機構２５が駆動することで、基板Ｗがマスク保持部１１に向けて搬送される。
【００２４】
そして、異物検出機構４０は基板Ｗが異物検出エリア範囲内に搬送されたことを検出すると（ステップＳ１）、異物の検出動作を開始する（ステップＳ２）。そして、異物検出結果を読み取り（ステップＳ３）、異物の検出がなければ、基板Ｗはそのまま搬送され（ステップＳ４）、マスクＭと基板Ｗとのギャップが正規ギャップとなる位置で露光される。
一方、異物が検出されると、マスク駆動部１２のＺ方向駆動部３４を駆動して、マスク保持部１１を異物との干渉領域から上方に退避させ、異物の接触によるマスクＭの破損を防止する（ステップＳ５）。なお、マスク保持部１１が上方に退避している間も、基板Ｗは搬送されており、上方に退避させたマスク保持部１１以外は露光が継続的に行われている。
【００２５】
そして、異物を避けた後、未露光セルの先端位置迄基板を搬送し続け（ステップＳ６）、未露光セルの先端位置迄到達した場合には異物検出結果の読み取り（ステップＳ８）を行い、異物が無い場合には、Ｚ方向駆動部３４を駆動して、マスク保持部１１を正規ギャップとなる位置に移動させ（ステップＳ９）、露光動作が再開される（ステップＳ１０）。また、異物があった場合には、次の未露光セルの次先端位置迄基板を搬送し（ステップＳ１１）、ステップＳ７からの動作が繰り替えされる。
【００２６】
以上のように、本実施形態の近接スキャン露光装置１及びその制御方法によれば、複数のマスク保持部１１より搬入側の基板搬送機構１０上に、基板Ｗ上の異物を検出するための異物検出機構４０が設けられ、制御部１５には、この異物検出機構４０の異物検出信号に基づいてマスク保持部１１をマスクＭに対して近接退避する近接退避機能が設けられているので、搬送される基板Ｗ上に異物が存在する場合であっても、異物がマスクＭの下方に達する前に異物が検出され、マスク保持部１１を退避させることでマスクＭと異物との衝突が避けられてマスクを傷つけることがなくなる。さらに、異物を通過した後は、再度マスク保持部１１をマスクＭに近接させて再度露光開始することで基板Ｗの無駄な部分を最小限に抑えることができる。そして、異物を通過する前後の近接スキャン露光装置１は、マスクの平坦度が良好な複数の小型のマスクＭを用いて露光が行われるので、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップも小さく設定でき、異物によるマスクＭの損傷を確実に防止できると共に、高精度な露光を実現することができる。
【００２７】
図６（ａ）及び（ｂ）は、他の異物検出機構を示す側面図である。この異物検出機構は、投光部５０と受光部５１とを備えたラインセンサ４０ａによって構成される。投光部５０の検出光としては、例えば、赤外線からなる。受光部５１では、複数の受光素子５１ａを備えており、単体で設置されてもよいし、搬送方向Ｘと直交する方向に並んで複数台設定されてもよい。
【００２８】
そして、図６（ａ）に示すように、散乱光が検出されない場合には、異物がないとして検出され、図６（ｂ）に示すように、散乱光が検出された場合には、異物があるとして検出する。
【００２９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、適宜、変更、改良等が可能である。
上記実施形態においては、基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と基板駆動ユニット１７によって基板Ｗを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板を上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
また、本発明では、所定方向にステップ移動される基板に対してステップ毎に繰り返し露光を行う、所謂ステップ式近接露光装置にも適用可能であり、露光方法を限定するものではない。
【００３０】
そして、上記実施形態においては、基板Ｗがカラーフィルタ基板である場合について述べたが、これに限られず、所定の露光パターンを形成するものであれば半導体基板等如何なるものであってもよい。
【符号の説明】
【００３１】
１  近接スキャン露光装置
１０  基板搬送機構
１１  マスク保持部
１２  マスク駆動部
１４  照射部
１５  制御部
４０  異物検出機構
ＥＬ  露光用光
Ｍ  マスク
Ｗ  カラーフィルタ基板（基板）
【図１】
2011118364.tif 000003
【図２】
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【図３】
2011118364.tif 000005
【図４】
2011118364.tif 000006
【図５】
2011118364.tif 000007
【図６】
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