(57)【要約】【課題】バイパス管の圧力損失に起因する不要なガスの消費を抑制あるいは解消する。【解決手段】主ガス供給系と、複数の供給先を相互接続し主ガス供給系から供給された主ガスを各供給先に分配するバイパス管３と、主ガスにおける余剰ガスを外部に排気する排気制御弁８と、主ガスに対する補足ガスを補給制御弁６を介して供給先に補給する補給系と、供給先へのガス供給圧力Ｐに基づいて補給制御弁６及び排気制御弁８を制御する制御系とを備えるガス供給装置であって、制御系は、個別に設定された補給制御弁６の開閉制御に関する供給しきい値Ｔｋ及び排気制御弁８の開閉制御に関する排気しきい値Ｔｈに基づいて補給制御弁６及び排気制御弁８を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主ガス供給系と、複数の供給先を相互接続し前記主ガス供給系から供給された主ガスを各供給先に分配するバイパス管と、主ガスにおける余剰ガスを外部に排気する排気制御弁と、主ガスに対する補足ガスを補給制御弁を介して前記供給先に補給する補給系と、前記供給先へのガス供給圧力Ｐに基づいて前記排気制御弁及び前記補給制御弁を制御する制御系とを備えるガス供給装置であって、
前記制御系は、個別に設定された前記補給制御弁の開閉制御に関する供給しきい値Ｔｋ及び前記排気制御弁の開閉制御に関する排気しきい値Ｔｈに基づいて前記排気制御弁及び前記補給制御弁を制御することを特徴とするガス供給装置。
【請求項２】
制御系は、ガス供給圧力Ｐを計測する圧力計と、該圧力計が計測したガス供給圧力Ｐを供給しきい値Ｔｋと比較し、ガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回ると補給制御弁を開状態に制御する第１ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）と、圧力計が計測したガス供給圧力Ｐを排気しきい値Ｔｈと比較し、ガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回ると排気制御弁を開状態に制御する第２ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）とからなることを特徴とする請求項１記載のガス供給装置。
【請求項３】
主ガス供給系は、水分を含む液化天然ガスを気化させた再生ガスを主ガスとして出力し、補給系は、天然ガスを補足ガスとして出力することを特徴とする請求項１または２記載のガス供給装置。
【請求項４】
バイパス管を介して複数の供給先を相互接続して主ガスを各供給先に分配供給すると共に、排気制御弁を介して余剰ガスを外部に排気し、かつ、補給制御弁を介して補足ガスを前記供給先に補給するガス供給方法であって、
個別に設定された前記補給制御弁の開閉制御に関する供給しきい値Ｔｋ及び前記排気制御弁の開閉制御に関する排気しきい値Ｔｈに基づいて前記排気制御弁及び前記補給制御弁を開閉することを特徴とするガス供給方法。
【請求項５】
第１ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）によってガス供給圧力Ｐを供給しきい値Ｔｋと比較し、ガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回ると補給制御弁を開状態に制御し、第２ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）によってガス供給圧力Ｐを排気しきい値Ｔｈと比較し、ガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回ると排気制御弁を開状態に制御することを特徴とする請求項４記載のガス供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス供給装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＬＰＧ（液化石油ガス）を原料としてメタンやブタン等の炭化水素を製造するプラントでは、前処理としてＬＰＧに含まれる水分を脱水処理している。この脱水処理には、燃焼器が発する熱を用いてＬＰＧから水分を分離・除去する脱水塔が用いられており、上記燃焼器の燃料としては、ランニングコストをできるだけ低減するために、例えば水分を含んだ比較的低級な燃料液（例えば水分含有ＬＮＧ（液化天然ガス））の再生ガス（水蒸気を含んだ天然ガス）が用いられる。より具体的には、このようなプラントには、上記脱水処理の処理量を確保するために、複数の脱水塔及び再生ガス発生装置が設けられると共に、複数の再生ガス発生装置をバイパス管を介して相互接続することにより、再生ガスが各脱水塔の燃焼器に均等に供給されるように構成されている。
【０００３】
また、上記プラントでは、上記再生ガス発生装置とは別に、燃料ガスを燃焼器に供給する燃料供給装置が燃焼器毎（つまり脱水塔毎）に設けられている。この燃料供給装置は、再生ガスの発生量（つまり、燃焼器への燃料ガスの供給量）が不安定であることへの対策として設けられているものであり、各燃焼器が必要とする再生ガス（燃料ガス）の不足を補足するための補足燃料を各燃焼器に供給するものである。この補足燃料は、例えば再生ガスよりも高級な液化天然ガスである。すなわち、各燃焼器には、主燃料として比較的低級な再生ガス（低級燃料ガス）が、また補足燃料として比較的高級な液化天然ガス（高級燃料ガス）がそれぞれ供給されるようになっている。
【０００４】
さらに、上記プラントでは、再生ガスの一部を外部に排気するガス排気系が備えられている。このガス排気系は、再生ガスの発生量が燃焼器の需要量を上回った場合に、当該需要量を超える再生ガスを外部に排気するためのものである。
このような再生ガスの排気制御及び上記高級燃料ガスの供給制御は、燃焼器の受入口における低級燃料ガスの供給圧力に基づいて行われるものである。すなわち、上記プラントでは、低級燃料ガスの供給圧力が所定の排気しきい値を上回るとガス排気系から再生ガスを排気し、一方、低級燃料ガスの供給圧力が供給しきい値を下回ると、圧力不足を補うように高級燃料ガスを燃焼器に供給する。
例えば下記特許文献１には、複数の燃焼器に対する燃料供給技術の一例として、燃料供給系統を構成する燃料配管を介してガスタービン燃料を複数のガスタービン燃焼器に供給する燃料流量監視制御装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２７８３９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記従来のプラントでは、バイパス管の圧力損失が原因となって不要な高級燃料ガスを燃焼器に供給する事態が発生する。すなわち、第１の燃焼器と第２の燃焼器とを接続するバイパス管に圧力損失が存在するために、ある燃焼器（第１の燃焼器）に隣接する燃焼器（第２の燃焼器）の受入口における低級燃料ガスの供給圧力が供給しきい値を下回った状態、かつ、第１の燃焼器の受入口における低級燃料ガスの供給圧力が排気しきい値を上回る状態となることが起こり得る。このような状態において、第１の燃焼器では排気系が作動して再生ガスを排気する一方、第２の燃焼器では高級燃料ガスが供給される事態となり、この結果として不要に高級燃料ガスが消費される。
【０００７】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、上述したバイパス管の圧力損失に起因する不要なガスの消費を抑制あるいは解消することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明では、ガス供給装置に係る第１の解決手段として、主ガス供給系と、複数の供給先を相互接続し主ガス供給系から供給された主ガスを各供給先に分配するバイパス管と、主ガスにおける余剰ガスを外部に排気する排気制御弁と、主ガスに対する補足ガスを補給制御弁を介して供給先に補給する補給系と、供給先へのガス供給圧力Ｐに基づいて排気制御弁及び補給制御弁を制御する制御系とを備えるガス供給装置であって、制御系は、個別に設定された補給制御弁の開閉制御に関する供給しきい値Ｔｋ及び排気制御弁の開閉制御に関する排気しきい値Ｔｈに基づいて排気制御弁及び補給制御弁を制御する、という手段を採用する。
【０００９】
ガス供給装置に係る第２の解決手段として、上記第１の解決手段において、制御系は、ガス供給圧力Ｐを計測する圧力計と、該圧力計が計測したガス供給圧力Ｐを供給しきい値Ｔｋと比較し、ガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回ると補給制御弁を開状態に制御する第１ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）と、圧力計が計測したガス供給圧力Ｐを排気しきい値Ｔｈと比較し、ガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回ると排気制御弁を開状態に制御する第２ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）とからなる、という手段を採用する。
【００１０】
ガス供給装置に係る第３の解決手段として、上記第１または第２の解決手段において、主ガス供給系は、水分を含む液化天然ガスを気化させた再生ガスを主ガスとして出力し、補給系は、天然ガスを補足ガスとして出力する、という手段を採用する。
【００１１】
また、本発明では、ガス供給方法に係る第１の解決手段として、バイパス管を介して複数の供給先を相互接続して主ガスを各供給先に分配供給すると共に、排気制御弁を介して余剰ガスを外部に排気し、かつ、補給制御弁を介して補足ガスを供給先に補給するガス供給方法であって、個別に設定された補給制御弁の開閉制御に関する供給しきい値Ｔｋ及び排気制御弁の開閉制御に関する排気しきい値Ｔｈに基づいて排気制御弁及び補給制御弁を開閉する、という手段を採用する。
【００１２】
ガス供給方法に係る第２の解決手段として、上記第１の解決手段において、第１ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）によってガス供給圧力Ｐを供給しきい値Ｔｋと比較し、ガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回ると補給制御弁を開状態に制御し、第２ＰＩＣ（Peripheral Interface Controller）によってガス供給圧力Ｐを排気しきい値Ｔｈと比較し、ガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回ると排気制御弁を開状態に制御する、という手段を採用する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、供給しきい値Ｔｋ及び排気しきい値Ｔｈが個別に設定されているので、両しきい値を単一の値として補給制御弁及び排気制御弁の開閉を制御する場合よりも、バイパス管の圧力損失に起因する無駄なガスの消費を抑制あるいは防止することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る燃料ガス供給装置Ａの構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る燃料ガス供給装置Ａの動作を示すタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
図１に示すように、本実施形態に係る燃料ガス供給装置Ａは、再生ガス生成部１、主供給管２、バイパス管３、天然ガス供給部４、補給管５、補給制御弁６、排気管７、排気制御弁８、圧力計（ＰＴ）９、第１ＰＩＣ１０及び第２ＰＩＣ１１から構成されている。
【００１６】
このような構成要素からなる本燃料ガス供給装置Ａは、ＬＰＧ（Liquefied Petroleum Gas：液化石油ガス）を原料としてメタンやブタン等の炭化水素を製造する化学プラントにおいて、ＬＰＧに含まれる水分を除去するための脱水塔に燃料ガスを供給するためのものガス供給装置である。図１には、上記脱水塔として第１脱水塔Ｄ1及び当該第１脱水塔Ｄ1に設けられた第１燃焼器Ｘ1のみが明示されているが、上記化学プラントには、複数の脱水塔、つまり第１脱水塔Ｄ1、第２脱水塔（図示略）、……が備えられており、各々に燃料ガスの供給先である第１燃焼器Ｘ1、第２燃焼器（図示略）、……が設けられている。
【００１７】
なお、図１において、バイパス管３を除く他の構成要素は、第１脱水塔Ｄ1に関する燃料ガス供給設備であり、他の第２脱水塔、……には、第１脱水塔Ｄ1と同様な燃料ガス供給設備が設けられている。すなわち、第１脱水塔Ｄ1、第２脱水塔、……の各燃料ガス供給設備は、バイパス管３を介して相互接続されている。
【００１８】
再生ガス生成部１は、水分を含んだ比較的低級な燃料液、例えば水分含有ＬＮＧ（液化天然ガス）から再生ガス、例えば水蒸気を含んだ天然ガスを発生させる燃料ガス供給源である。この再生ガス生成部１は、このような再生ガスを主燃料ガスとして主供給管２に出力する。主供給管２は、上記再生ガス生成部１と第１燃焼器Ｘ1との間に敷設されたガス配管である。これら再生ガス生成部１及び主供給管２は、本実施形態における主ガス供給系を構成している。
【００１９】
バイパス管３は、第１脱水塔Ｄ1の主供給管２と第２脱水塔の主供給管（図示略）とを相互接続するガス配管である。このバイパス管３は、再生ガス生成部１及び第２脱水塔に設けられた再生ガス生成部おける再生ガスの発生量が比較的大きく変動することへの対策として、第１脱水塔Ｄ1と第２脱水塔との間で再生ガスを分配し合う（融通し合う）ために設けられている。このようなバイパス管３は、第１脱水塔Ｄ1と第２脱水塔との間に敷設されるものなので、他の配管（主供給管２、補給管５及び排気管７）に比べて長く、この分圧力損失が大きい。比較的大規模な化学プラントでは、バイパス管３の長さが数百メートルに及ぶこともある。
【００２０】
天然ガス供給部４は、天然ガスを上記主燃料ガスに対する補足燃料ガスとして補給管５に出力する燃料ガス供給源である。補給管５は、上記天然ガス供給部４と主供給管２の途中部位との間に敷設されたガス配管である。補給制御弁６は、上記補給管５の途中部位に設けられた制御弁であり、第１ＰＩＣ１０から入力される駆動信号に基づいて自らの開口度を調節する。これら天然ガス供給部４、本実施形態における補給管５及び補給制御弁６は補給系を構成している。
【００２１】
排気管７は、主供給管２の途中部位（第１燃焼器Ｘ1の燃料ガス受入口に近い部位）から分岐するように一端が主供給管２に接続されたガス配管であり、主燃料ガスにおける余剰ガス（主燃料ガスの一部）を外部（他端）に排気するためのものである。排気制御弁８は、排気管７の途中部位に設けられた制御弁であり、第２ＰＩＣ１１から入力される駆動信号に基づいて自らの開口度を調節する。このような排気管７及び排気制御弁８は、本実施形態における排気系を構成している。
【００２２】
圧力計（ＰＴ）９は、主供給管２における上記燃料ガス受入口に近い部位に取り付けられており、当該燃料ガス受入口における変量ガスの圧力を計測し、その計測値をガス供給圧力Ｐとして第１ＰＩＣ１０及び第２ＰＩＣ１１に出力する。第１ＰＩＣ１０は、上記補給制御弁６の開閉制御に関する供給しきい値Ｔｋを記憶し、当該供給しきい値Ｔｋと上記ガス供給圧力Ｐとに基づいて補給制御弁６を制御する制御器である。すなわち、この第１ＰＩＣ１０は、供給圧力Ｐと供給しきい値Ｔｋとを比較し、ガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回る場合には補給制御弁６を閉状態から開状態に制御する。
【００２３】
第２ＰＩＣ１１は、上記排気制御弁８の開閉制御に関する排気しきい値Ｔｈを記憶し、当該排気しきい値Ｔｈとガス供給圧力Ｐとに基づいて排気制御弁８を制御する制御器である。すなわち、この第２ＰＩＣ１１は、ガス供給圧力Ｐと排気しきい値Ｔｈとを比較し、ガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回る場合には排気制御弁８を閉状態から開状態に制御する。これら圧力計（ＰＴ）９、第１ＰＩＣ１０及び第２ＰＩＣ１１は、本実施形態における制御系を構成している。
【００２４】
ここで、第１ＰＩＣ１０が補給制御弁６を制御するための拠り所としている供給しきい値Ｔｋ及び第２ＰＩＣ１１が排気制御弁８を制御するための拠り所としている排気しきい値Ｔｈは、予め個別に設定された値（圧力値）である。また、供給しきい値Ｔｋが排気しきい値Ｔｈを超える値とすることは本燃料ガス供給装置Ａの目的上あり得ないので、両者間には下式（１）の関係がある。
Ｔｋ＜Ｔｈ                （１）
すなわち、排気しきい値Ｔｈは供給しきい値Ｔｋよりも大きな値（圧力値）に設定されている。
【００２５】
次に、本燃料ガス供給装置Ａの動作について図２をも参照して詳しく説明する。
最初に、本燃料ガス供給装置Ａでは、再生ガス生成部１と天然ガス供給部４とが燃料ガス需要先（第１燃焼器Ｘ1、第２燃焼器、……）に対する燃料ガス供給源として設けられているが、再生ガス生成部１及び天然ガス供給部４のうち再生ガスを発生させる再生ガス生成部１が主たる燃料ガス供給源である。
【００２６】
すなわち、上記ガス供給圧力Ｐが以下の関係式（２）を満足する状態、つまりガス供給圧力Ｐが燃料ガス需要先が要求する所望の燃料供給量を満足する状態では、図２に示すように、補給制御弁６及び排気制御弁８はいずれも閉状態に設定され、再生ガス生成部１で発生した再生ガスが主燃料ガスとして燃料ガス需要先に供給される。
Ｔｋ＜Ｐ＜Ｔｈ                （２）
【００２７】
つまり、ガス供給圧力Ｐが関係式（２）を満足する状態はガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを上回る状態なので、第１ＰＩＣ１０は、補給制御弁６を閉状態に制御する。また、ガス供給圧力Ｐが関係式（２）を満足する状態はガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを下回る状態なので、第２ＰＩＣ１１は、排気制御弁８を閉状態に制御する。この結果として、再生ガス生成部１で発生した再生ガスのみが燃料ガス需要先に供給されると共に、排気系を介した燃料ガスの排気は行われない。
【００２８】
このような定常状態において、再生ガス生成部１における再生ガスの発生量は比較的大きく変動するので、ガス供給圧力Ｐが関係式（２）を満足しない状態に至ることがある。すなわち、再生ガスの発生量（燃料ガス需要先への燃料ガス供給量）が減少すると、これに伴なってガス供給圧力Ｐが低下し、一方、再生ガスの発生量（燃料ガス需要先への燃料ガス供給量）が増加すると、これに伴なってガス供給圧力Ｐが上昇する。
【００２９】
例えば、ガス供給圧力Ｐが低下して供給しきい値Ｔｋを下回ると、第１ＰＩＣ１０は、補給制御弁６を閉状態から開状態に状態変更させる。この結果、再生ガス（主燃料ガス）の燃料ガス需要先への供給量減少を補うように、天然ガス供給部４が出力する天然ガスが補足燃料ガスとして燃料ガス需要先に供給され燃料不足が解消される。そして、これによってガス供給圧力Ｐは関係式（２）を満足する状態に復帰する。
【００３０】
一方、ガス供給圧力Ｐが上昇して排気しきい値Ｔｈを上回ると、第２ＰＩＣ１１は、排気制御弁８を閉状態から開状態に状態変更させる。この結果、燃料ガスの一部が排気系を介して外部に排気されるので、燃料ガス需要先への燃料ガスの供給過多が解消される。そして、これによってガス供給圧力Ｐは関係式（２）を満足する状態に復帰する。
【００３１】
以上が本燃料ガス供給装置Ａの全体的な動作であるが、このような本燃料ガス供給装置Ａによれば、供給しきい値Ｔｋと排気しきい値Ｔｈとが上式（１）の関係にある、つまり図２に示すように補給制御弁６と排気制御弁８とが閉状態から開状態に移行するガス供給圧力Ｐが異なっているので、以下のような利点がある。
【００３２】
すなわち、主供給管２はバイパス管３を介して第２脱水塔に備えられた主供給管と相互接続されているが、バイパス管３は、上述したように比較的長いガス配管であり、よって圧力損失が大きい。このように第１脱水塔Ｄ1の主供給管２と第２脱水塔の主供給管とがバイパス管３によって接続された配管構成では、第１脱水塔Ｄ1燃料ガスのガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回った状態において、第２脱水塔におけるガス供給圧力Ｐは、バイパス管３の圧力損失が原因で排気しきい値Ｔｈを上回っていない状態にあることが生じ得る。
【００３３】
このような配管構成において、仮に個別に設定された供給しきい値Ｔｋと排気しきい値Ｔｈとを用いるのではなく、単一のしきい値を用いて補給制御弁６及び排気制御弁８を制御した場合、当該補給制御弁６及び排気制御弁８の開閉が単一のしきい値を基準として制御されるので、第２脱水塔におけるガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回っていない状態にあるにも拘らず、排気制御弁８を開状態として燃料ガスを排気してしまう事態が生じ得る。また、第２脱水塔におけるガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを上回っている状態にあるにも拘らず、第１脱水塔Ｄ1におけるガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回る状態になった時点で、補給制御弁６を開状態として天然ガス（補足燃料ガス）を第１燃焼器Ｘ1に供給してしまう事態が生じ得る。
【００３４】
これに対して、燃料ガス供給装置Ａでは、供給しきい値Ｔｋと排気しきい値Ｔｈとが個別（現実的には式（１）を満足するようにＴｋ＜Ｔｈ）に設定されているので、例えば第２脱水塔におけるガス供給圧力Ｐが排気しきい値Ｔｈを上回った状態、つまり第１脱水塔Ｄ1燃料ガスのガス供給圧力Ｐが第２脱水塔におけるガス供給圧力Ｐよりも上記圧力損失分だけ高くなった状態で、排気制御弁８が閉状態から開状態に移行させることが可能となるので、再生ガス（主燃料ガス）を無駄に排気することを抑制あるいは防止することが可能である。
【００３５】
また、本燃料ガス供給装置Ａでは、同様に供給しきい値Ｔｋと排気しきい値Ｔｈとが個別（現実的には式（１）を満足するようにＴｋ＜Ｔｈ）に設定されているので、例えば第１脱水塔Ｄ1におけるガス供給圧力Ｐが供給しきい値Ｔｋを下回った状態、つまり第１脱水塔Ｄ1におけるガス供給圧力Ｐが第２脱水塔におけるガス供給圧力Ｐよりも上記圧力損失分だけ低くなった状態で、補給制御弁６を開状態として天然ガス（補足燃料ガス）を第１燃焼器Ｘ1に供給することが可能であり、よって天然ガス（補足燃料ガス）の無駄な消費を抑制あるいは防止することが可能である。
【００３６】
このような本燃料ガス供給装置Ａによれば、個別に設定された供給しきい値Ｔｋ及び排気しきい値Ｔｈを用いて補給制御弁６及び排気制御弁８の開閉を制御するので、再生ガス（主燃料ガス）の無駄な排気及び当該再生ガスよりも高級な天然ガス（補足燃料ガス）の無駄な消費を抑制あるいは防止することが可能である。
【００３７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような変形例が考えられる。
（１）上記実施形態では、圧力計（ＰＴ）９、第１ＰＩＣ１０及び第２ＰＩＣ１１によって制御系を構成したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば供給しきい値Ｔｋと排気しきい値Ｔｈとを個別に記憶する単一の制御器と圧力計（ＰＴ）９とによって制御系を構成しても良い。
【００３８】
（２）上記実施形態では、主ガス（主燃焼ガス）として水分を含む液化天然ガスを気化させた再生ガスを採用し、またこの再生ガスよりも高級な補足ガスとして高級な天然ガスを採用したが、本願発明はこれに限定されない。主ガスは常時消費するので比較的低級（安価）なガスであれば良く、また補足ガスは不足を補うものなので比較的高級なものを使用しえる。例えば水分を含む液化石油ガスを気化させた再生ガスを採用し、また補足ガスとして石油ガスを採用しても良い。また、主ガス及び補足ガスは、燃料ガスに限定されるものではない。
【符号の説明】
【００３９】
Ａ…燃料ガス供給装置、１…再生ガス生成部、２…主供給管、３…バイパス管、４…天然ガス供給部、５…補給管、６…補給制御弁、７…排気管、８…排気制御弁、９…圧力計（ＰＴ）、１０…第１ＰＩＣ、１１…第２ＰＩＣ、Ｄ1…第１脱水塔、Ｘ1…第１燃焼器
【図１】
2011085291.tif 000003
【図２】
2011085291.tif 000004