(57)【要約】      （修正有）【課題】パージ時間を短縮し、スループットを向上する。【解決手段】基板９を出し入れする基板収納口及び基板収納口に着脱自在に装着されたドア１０ａを備えたキャリア１０を載置する基板授受ポートと、基板授受ポートに載置されたキャリア１０のドア１０ａを保持する可動部４０と、可動部４０に保持されたドア１０ａを可動部４０と共に移動させて基板収納口を開閉するキャリア開閉装置と、可動部４０及び基板収納口を少なくとも囲うチャンバ６０と、可動部４０に設けられ、基板収納口からキャリア１０内にガス６２を導入するガス導入部６３、６６と、を備える。【選択図】図１１
2011061155.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を出し入れする基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う基板処理装置であって、
前記キャリアを載置する基板授受ポートと、
前記基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部と、
前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共に移動させて前記基板収納口を開閉するキャリア開閉装置と、
前記可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバと、
前記可動部に設けられ、前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入部と、を備える
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を出し入れする基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う基板の搬送方法であって、
基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバ内で、前記可動部が前記ドアを保持するドア保持工程と、
前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共にキャリア開閉装置が移動させて前記基板収納口を開く開工程と、
前記可動部に設けられたガス導入部が前記開工程で開けた前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入工程と、
前記基板を前記キャリアから搬送する工程と、を有する
ことを特徴とする基板の搬送方法。
【請求項３】
基板を出し入れする基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う半導体装置の製造方法であって、
基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバ内で、前記可動部が前記ドアを保持するドア保持工程と、
前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共にキャリア開閉装置が移動させて前記基板収納口を開く開工程と、
前記可動部に設けられたガス導入部が前記開工程で開けた前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入工程と、
前記基板を前記キャリア内から処理室内に搬送し前記処理室内にて前記基板を処理する工程と、を有する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置及び基板の搬送方法、並びに半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
バッチ式の基板処理装置に対して複数枚の基板を搬送する基板収納容器として、例えばＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ。以下、「ポッド」と称する場合がある。）として構成されたキャリアが用いられる。キャリアは、基板が搬送される基板収納口と基板収納口に着脱自在に装着されたドアとを備え、略立方体の箱形状に構成されている。また、基板処理装置には、キャリアのドアを着脱することで基板収納口を開閉するキャリア開閉装置（以下、「ポッドオープナ」と称する場合がある。）が設けられている。キャリア内の酸素濃度上昇による基板表面への自然酸化膜の形成を抑制し、キャリア内空間の汚染による基板へのパーティクルの付着等を抑制するため、基板収納口を開放する時には、給気管によって基板収納口からキャリア内に窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスを供給し、キャリア内をパージするようにしていた（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−７８０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような従来技術を用いた場合、キャリアのドアの開放時における不活性ガスの給気管とキャリアの基板出し入れ口との距離が大きすぎたり、基板収納口とキャリアのドアとの隙間が小さすぎたりするため、キャリア内に不活性ガスが流れ込みにくく、キャリア内のパージに要する時間が増大し、基板処理のスループット（単位時間当たりの処理能力）が低下してしまう場合があった。
【０００５】
本発明の目的は、キャリア内のパージに要する時間を短縮し、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置及び基板の搬送方法、並びに半導体装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、基板が搬送される基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う基板処理装置であって、前記キャリアを載置する基板授受ポートと、前記基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部と、前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共に移動させて前記基板収納口を開閉するキャリア開閉装置と、前記可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバと、前記可動部に設けられ、前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入部と、を備える基板処理装置が提供される。
【０００７】
本発明の他の態様によれば、基板が搬送される基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う基板の搬送方法であって、基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバ内で、前記可動部が前記ドアを保持するドア保持工程と、前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共にキャリア開閉装置が移動させて前記基板収納口を開く開工程と、前記可動部に設けられたガス導入部が前記開工程で開けた前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入工程と、前記基板を前記キャリアから搬送す
る工程と、を有する基板の搬送方法が提供される。
【０００８】
本発明のさらに他の態様によれば、基板が収納される基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う半導体装置の製造方法であって、基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバ内で、前記可動部が前記ドアを保持するドア保持工程と、前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共にキャリア開閉装置が移動させて前記基板収納口を開く開工程と、前記可動部に設けられたガス導入部が前記開工程で開けた前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入工程と、前記基板を前記キャリア内から処理室内に搬送し前記処理室内にて前記基板を処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る基板処理装置及び基板の搬送方法、並びに半導体装置の製造方法によれば、キャリア内のパージに要する時間を短縮し、基板処理のスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施の形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置の構成の概要を示す斜視図である。
【図２】図１に示すポッドオープナの正面側の構成とウエハ授受ポートの構成とを示す斜視図である。
【図３】図２のウエハ授受ポート上にポッドを載置した状態を示す斜視図である。
【図４】図２のポッドオープナの背面側の構成を一部省略して示す斜視図である。
【図５】図４に示すクロージャの近傍（Ｖ部）を拡大して示す斜視図である。
【図６】図４のポッドオープナをチャンバで被覆した状態を示す斜視図である。
【図７】図１に示すポッドオープナの近傍における不活性ガスの給排気口の位置を、ポッドオープナの正面側から一部省略して示す正面図である。
【図８】図７の右側面図である。
【図９】本発明の一実施の形態に係るウエハ授受ポート及びポッドオープナの近傍の構成を示す平面図である。
【図１０】図９に示すポッドオープナの動作説明図であり、（ａ）は、ポッドオープナがポッドのドアを取り外す前の状態を示し、（ｂ）は、ポッドオープナがドアを取り外した状態を示し、（ｃ）は、ポッドオープナに固定された穴付きノズルが窒素ガスを噴出する位置に移動した状態を示し、（ｄ）は、ポッドオープナの背面側に設けられた背面壁がチャンバに密着してウエハ出し入れ口を塞いでいる状態を示す。
【図１１】図１０の動作の続きを示す動作説明図であり、（ａ）は、図１０（ｄ）に続いて、穴付きノズルから窒素ガスを噴出してポッド内をパージしている状態を示し、（ｂ）は、ドアをチャンバ内の所定の位置に退避させた状態を示し、（ｃ）は、マッピング装置がチャンバ内のウエハの収容位置をマッピングしている状態を示す。
【図１２】（ａ）は、本発明の実施例１に係るポッドオープナの近傍の構成と窒素ガスの流れとを模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、図１２（ａ）に示された穴付きノズルの構成を模式的に示す正面図である。
【図１３】本発明の実施例１（穴付きノズル）と比較例１とにおけるパージに要する時間（パージ時間）を比較した図である。
【図１４】（ａ）は、本発明の実施例２に係るポッドオープナの近傍の構成と窒素ガスの流れとを模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示された穴付きノズルの構成を模式的に示す正面図である。
【図１５】本発明の実施例２と比較例１とにおけるパージ時間に対するポッド内の酸素濃度の変化を示す図である。
【図１６】本発明の実施例３に係るパージ時間に対するポッド内の酸素濃度の変化を、穴付きノズルから噴出する窒素ガスの流量毎に示す図である。
【図１７】本発明の実施例４に係るパージ時間に対するポッド内の酸素濃度の変化を、穴付きノズルから噴出する窒素ガスの流速毎に示す図である。
【図１８】（ａ）は、参考例１に係るポッドオープナの近傍の構成と窒素ガスの流れとを模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、図１８（ａ）に示すボックス内に配置された穴付きノズルの構成を模式的に示す正面図である。
【図１９】図１８に示す穴付きノズルから噴出する窒素ガスの流量及び方向を変化させたときにおけるボックス内の酸素濃度の上昇量を示す図である。
【図２０】参考例２に係るバッチ式ＣＶＤ装置の動作を示すタイムチャート図である。
【図２１】図２０に示すタイムチャートに従ってバッチ式ＣＶＤ装置を動作させたときに、ポッド内で計測されたパーティクル量を示す図である。
【図２２】本発明の実施例５に係るバッチ式ＣＶＤ装置の動作を示すタイムチャート図である。
【図２３】図２２に示すタイムチャートに従ってバッチ式ＣＶＤ装置を動作させたときに、ポッド内で計測されたパーティクル量を示す図である。
【図２４】ポッドオープナとは別個に動作する開閉機構部の近傍の構成を示す平面図である。
【図２５】フィルタとポッドオープナとの動作説明図であり、（ａ）は、ポッドオープナがポッドのドアを取り外す前の状態を示し、（ｂ）は、ポッドオープナがドアを取り外してチャンバ内を密閉しつつ、フィルタから窒素ガスが供給された状態を示し、（ｃ）は、ポッドオープナが退避位置に移動した状態を示す。
【図２６】本発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜本発明の一実施形態＞
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【００１２】
（１）基板処理装置の構成
本実施の形態に係る基板処理装置は、図１に例示するように、バッチ式ＣＶＤ装置（バッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置）１として構成されている。バッチ式ＣＶＤ装置１は、気密室構造に構築された筐体２を備えている。筐体２内の一端部（以下、後端部とする。）の上部には、ヒータユニット３が垂直方向に据え付けられている。ヒータユニット３の内部には、プロセスチューブ４が同心に配置されている。プロセスチューブ４には、プロセスチューブ４内に原料ガスやパージガス等を導入するためのガス導入管５と、プロセスチューブ４内を真空排気するための排気管６と、が接続されている。筐体２の後方下部の側部には、ボートエレベータ７が設置されている。ボートエレベータ７は、プロセスチューブ４の真下に配置されたボート８を垂直方向に昇降させるように構成されている。ボート８は、多数枚のウエハ９を、その中心を揃えて水平に配置した状態で支持し、プロセスチューブ４内に形成されている処理室４ａ内外に搬送されるように構成されている。
【００１３】
筐体２の正面壁にはポッド出し入れ口（図示せず）が開設されている。ポッド出し入れ口はフロントシャッタによって開閉されるようになっている。ポッド出し入れ口には、ポッド（キャリア）１０の位置合わせを実行するポッドステージ１１が設置されている。ポッド１０は、ポッド出し入れ口を通してポッドステージ１１上に搬送されるようになっている。なお、ポッド１０は、ポッド１０内外にウエハ９を出し入れする開口であるウエハ収納口（基板収納口）１０ｂと、該ウエハ収納口１０ｂに着脱自在に装着されたドア１０ａと、を備えており、略立方体の箱形状に構成されている。なお、ポッド１０内には、処
理対象或いは処理後のウエハ９を複数枚収納可能に構成されたウエハ収納室１０ｃが形成されている。
【００１４】
筐体２内の前後方向の中央部の上部には、回転式のポッド棚１２が設置されている。回転式のポッド棚１２は、例えば合計十六個のポッド１０を保管するように構成されている。すなわち、回転式のポッド棚１２は、略卍形状に形成された例えば四段の棚板が上下方向に配置されて水平面内で回転自在に支承されており、モータ等の間欠回転駆動装置（図示せず）によってピッチ送り的に一方向に回転するようになっている。筐体２内のポッド棚１２の下側には、基板としてのウエハ９をポッド１０に対して授受するウエハ授受ポート（基板授受ポート）１３が一対、垂直方向に上下二段に配置されて設置されている。一対のウエハ授受ポート１３には、後記するポッドオープナ（キャリア開閉装置）２０がそれぞれ設置されている。
【００１５】
筐体２内のポッドステージ１１とポッド棚１２及びウエハ授受ポート１３との間には、ポッド搬送装置１４が設置されている。ポッド搬送装置１４は、ポッドステージ１１とポッド棚１２及びウエハ授受ポート１３との間、及びポッド棚１２とウエハ授受ポート１３との間で、ポッド１０を搬送するように構成されている。また、ウエハ授受ポート１３とボート８との間には、ウエハ移載装置１５が設置されている。ウエハ移載装置１５は、ウエハ授受ポート１３とボート８との間でウエハ９を搬送するように構成されている。さらに、ボートエレベータ７の脇にはボートチェンジャ１６が設置されている。ボートチェンジャ１６は、複数台のボート８をボートエレベータ７に対して入れ替えるように構成されている。
【００１６】
上下のウエハ授受ポート１３にそれぞれ設置されたポッドオープナ２０は、同一の構成である。そのため、ポッドオープナ２０の構成については、上段のウエハ授受ポート１３に設置されたものを例に挙げて説明する。
【００１７】
図１に示すように、キャリア開閉装置としてのポッドオープナ２０は、筐体２内においてウエハ授受ポート１３とウエハ移載装置１５とを仕切るように垂直に立脚された側壁をなすベース２１を備えている。また、図２及び図３に示すように、ベース２１には、ポッド１０のドア１０ａに対して若干大きめに相似する四角形に形成されたウエハ出し入れ口２２が開設されている。ちなみに、ベース２１は上下のポッドオープナ２０で共用されているため、ベース２１には、上下で一対のウエハ出し入れ口２２が垂直方向で縦に並ぶように開設されている。
【００１８】
また、ベース２１の下部には、ポッドオープナ２０、エアシリンダ装置２６及びロータリーアクチュエータ５０の動作を制御するともに、フィルタ６３ａからクロージャ収容室６１内及びウエハ収納室１０ｃ内への窒素ガス６２の供給、及び穴付きノズル６７からウエハ収納室１０ｃ内への窒素ガス６２の導入を制御する制御部としてのコントローラ８０が設置されている。
【００１９】
図２に示すように、ベース２１のウエハ授受ポート１３側の主面（以下、正面とする。）におけるウエハ出し入れ口２２の下側には、アングル形状の支持台２３が水平に固定されている。支持台２３の平面視の形状は、一部が切り欠かれた略正方形の枠形状に形成されている。支持台２３の上面には、一対のガイドレール２４がベース２１の正面と平行方向（以下、左右方向とする。）にそれぞれ配置されている。左右に配置された各ガイドレール２４は、ベース２１の正面と直角方向（以下、前後方向とする。）に延在するようにそれぞれ敷設されている。左右に配置された各ガイドレール２４には、載置台２７が複数個のガイドブロック２５を介して前後方向に摺動自在に支承されている。載置台２７は、支持台２３の上面に据え付けられたエアシリンダ装置２６によって前後方向に往復移動で
きるようになっている。
【００２０】
図２に示すように、載置台２７は、一部が切り欠かれた略正方形の枠形状に形成されている。載置台２７の上面には、位置決めピン２８が三本、正三角形の頂点に配置されて垂直に突設されている。三本の位置決めピン２８は、ポッド１０が図３に示すように載置台２７の上に載置された状態において、ポッド１０の下面に没設された三箇所の位置決め凹部（図示せず）に嵌入するようになっている。
【００２１】
図４に示すように、ベース２１のウエハ移載装置１５側の主面（以下、背面とする。）におけるウエハ出し入れ口２２の下側には、ガイドレール３０が左右方向に水平に敷設されている。ガイドレール３０には、アングル形状に形成された左右方向移動台３１が左右方向に往復移動し得るように摺動自在に支承されている。左右方向移動台３１の垂直部材には、エアシリンダ装置３２が左右方向に水平に据え付けられている。エアシリンダ装置３２のピストンロッド３２ａの先端は、ベース２１に固定されている。すなわち、左右方向移動台３１は、エアシリンダ装置３２の往復作動によって左右方向に往復駆動されるようになっている。
【００２２】
図５に示すように、左右方向移動台３１の水平部材の上面には、一対のガイドレール３３が左右にそれぞれ配置されている。左右に配置された各ガイドレール３３は、前後方向に延在するように敷設されている。両ガイドレール３３には、前後方向移動台３４が前後方向に往復移動し得るように摺動自在に支承されている。前後方向移動台３４の片側端部には、ガイド孔３５が左右方向に延在するように開設されている。左右方向移動台３１の一側面にはブラケット３６が固定されている。ブラケット３６には、ロータリーアクチュエータ３７が垂直方向上向きに据え付けられている。ロータリーアクチュエータ３７のアーム３７ａの先端に垂直に立脚されたガイドピン３８は、前後方向移動台３４のガイド孔３５に摺動自在に嵌入されている。すなわち、前後方向移動台３４は、ロータリーアクチュエータ３７の往復回動によって前後方向に往復駆動されるように構成されている。
【００２３】
前後方向移動台３４の上面には、ブラケット３９が垂直に立脚されている。ブラケット３９の正面には、ウエハ出し入れ口２２に対して若干大きめに相似する長方形の平板形状に形成されたクロージャ４０が垂直に固定されている。つまり、クロージャ４０は、前後方向移動台３４によって前後方向に往復移動できるようになっているとともに、左右方向移動台３１によって左右方向にも往復移動できるようになっている。そして、クロージャ４０が前進移動し、クロージャ４０のベース２１側を向いた主面（以下、「正面」とする。）がベース２１の背面に当接することにより、ウエハ出し入れ口２２を閉塞し得るようになっている。
【００２４】
なお、図５に示すように、ベース２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の縁辺部には、封止部材としてのパッキン５４が敷設されている。パッキン５４は、ポッド１０をベース２１に押し付けた時に、ポッド１０のウエハ収納口１０ｂの縁辺部とベース２１のウエハ出し入れ口２２の縁辺部とをシールするように構成されている。また、クロージャ４０の正面における外周縁近傍には、封止部材としてのパッキン５５が敷設されている。パッキン５５は、クロージャ４０をベース２１に押し付けた時に、クロージャ４０の正面の外周縁近傍とベース２１の背面のウエハ出し入れ口２２の縁辺部とをシールするように構成されている。さらに、クロージャ４０の正面においてパッキン５５の内側には、封止部材としてのパッキン５６が敷設されている。パッキン５６は、ドア１０ａに付着した異物がウエハ移載装置１５の設置室側へ侵入するのを防止するよう構成されている。なお、便宜上、図４及び図５においては後記するチャンバ６０およびバックシール機構部６８の図示が省略されている。
【００２５】
図４に示すように、クロージャ４０の上下方向の中心線上には、一対の解錠軸４１が左右に配置されて前後方向に挿通されて回転自在に支承されている。両解錠軸４１におけるクロージャ４０のベース２１と反対側の主面（以下、「背面」とする。）側の端部には、一対のプーリー４２が固定されている。両プーリー４２間には、連結片４４を有するベルト４３が巻き掛けられている。クロージャ４０の背面における一方のプーリー４２の上側には、エアシリンダ装置４５が水平に据え付けられている。エアシリンダ装置４５のピストンロッドの先端は、ベルト４３の連結片４４に連結されている。すなわち、両解錠軸４１は、エアシリンダ装置４５の伸縮作動によって往復回動するようになっている。図２に示すように、両解錠軸４１のクロージャ４０の正面側の端部には、ドア１０ａの錠前（図示せず）に係合する係合部４１ａが直交して突設されている。
【００２６】
図２、図４、図６、及び図９に示すように、ベース２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の片脇には、ロータリーアクチュエータ５０がその回転軸が垂直方向になるように据え付けられている。ロータリーアクチュエータ５０の回転軸には、略Ｃ字形状に形成されたアーム５１の一端が、水平面内で一体回動するように固定されている。アーム５１は、ベース２１に開設された挿通孔５２に挿通されている。ベース２１の背面側にあるアーム５１の先端部には、マッピング装置５３が固定されている。
【００２７】
図６及び図９に示すように、ベース２１の背面には、チャンバ６０が上段及び下段のポッドオープナ２０のクロージャ４０をそれぞれ収容するように敷設されている。チャンバ６０は、仕切板７０によって上段のチャンバ６０ａと下段のチャンバ６０ｂとに２分されている。チャンバ６０内に形成されたクロージャ収容室６１の左右方向の長さは、クロージャ４０が左右方向に移動してウエハ出し入れ口２２を完全に開口させるのを許容し得るようにそれぞれ設定されている。図９に示すように、チャンバ６０の側壁の一部には、不活性ガスである窒素ガス６２の流路となるガス供給部としての給気管６３が接続されている。なお、図９では、窒素ガス６２の流れ方向を矢印で示す。給気管６３の先端にはガス供給部としての例えば微細な細孔を複数備えたセラミックの多孔体等により構成されるフィルタ６３ａが接続されている。このフィルタ６３ａを介して、チャンバ６０内及びウエハ収容室１０ｃ内に窒素ガス６２が低速かつ無指向にて供給される。
【００２８】
また、図７、図８、及び図９に示すように、チャンバ６０の側壁には、窒素ガス６２の流路となる給気管６６が更に貫設されている。給気管６６はフレキシブルチューブで構成されている。給気管６６の先端部には、クロージャ収容室６１内及びウエハ収納室１０ｃ内に窒素ガス６２を導入するガス導入部としての穴付きノズル６７が取り付けられている。穴付きノズル６７は、図１２（ｂ）及び図１４（ｂ）に示すようにクロージャ４０の側面に固定されており、クロージャ４０の前後方向及び左右方向の移動に伴ってクロージャ収容室６１内を移動する。また、穴付きノズル６７は、上下方向に延在する中空管であって、その先端が塞がれており、かつ、その外周面上には上下方向に一列に複数の貫通穴があけられている。したがって、これらの穴から窒素ガス６２が噴出することになるため、穴付きノズル６７から噴出した窒素ガス６２には、指向性があることになる。よって、穴付きノズル６７の外周面上の貫通穴の向きをウエハ収納室１０ｃと正対するように調節し、固定することによって、窒素ガス６２をウエハ収納室１０ｃ内の奥深くまで短時間で大量に流入させることができる。また、穴付きノズル６７の外周面上に形成する貫通穴の大きさや数を変えることによって、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流量や流速を適宜調節することができる。したがって、穴付きノズル６７の外周面上の貫通穴がウエハ収納室１０ｃと正対するときに窒素ガス６２を噴出せば、ウエハ収納室１０ｃ内の雰囲気を短時間でパージすることができる。
【００２９】
図９に示すように、ベース２１の一部には、クロージャ収容室６１内及びウエハ収納室１０ｃ内の雰囲気をパージするために噴出させた窒素ガス６２を排気する排気管６４が、
クロージャ収容室６１に連通するように接続されている。上段及び下段のウエハ出し入れ口２２に正対するチャンバ６０の位置には、ウエハ出し入れ口６５がそれぞれ開設されている。各ウエハ出し入れ口６５は、ポッド１０のドア１０ａを挿入し得る大きさの四角形の開口として構成されている。
【００３０】
図９に示すように、クロージャ４０の背面には、背面壁６９をチャンバ６０のウエハ出し入れ口６５に向かってせり出すことのできるバックシール機構部６８が設けられている。バックシール機構部６８は、図５に示す前後方向移動台３４及びブラケット３９と同様の部材（図示せず）と、このバックシール機構部６８のブラケット（図示せず）とブラケット３９とにそれぞれ固定されたエアシリンダ装置（図示せず）と、を備えている。バックシール機構部６８の前後方向移動台（図示せず）は、前後方向移動台３４とは独立して前後方向に往復移動しうるように、ガイドレール３３に支承されている。バックシール機構部６８における前後方向移動台とブラケットとは、連結されて一体化している。また、バックシール機構部６８のブラケットは、バックシール機構部６８のエアシリンダ装置を介して、ブラケット３９に連結されている。また、バックシール機構部６８のブラケットには、クロージャ４０と同じ大きさであって、ウエハ出し入れ口６５より大きい矩形板である背面壁６９が固定されている。したがって、バックシール機構部６８のエアシリンダ装置のピストンロッドが伸長することによって、背面壁６９は、チャンバ６０のウエハ出し入れ口６５に向かってウエハ出し入れ口６５を塞ぐようにせり出し、チャンバ６０におけるウエハ出し入れ口６５の縁辺部と密着することができる構成となっている。
【００３１】
図９に示すように、背面壁６９はウエハ出し入れ口６５の開口寸法よりも大きく構成されている。背面壁６９の背面側の外周縁近傍には、背面壁６９とチャンバ６０との密閉性を高めるためのパッキン５７が敷設されている。パッキン５７は、フィルタ６３ａ及び穴付きノズル６７から窒素ガス６２を噴出させてクロージャ収容室６１内及びウエハ収納室１０ｃ内の雰囲気を窒素ガス６２でパージする際に、クロージャ収容室６１内及びウエハ収納室１０ｃ内に存在する大気中の酸素や水分さらにはパーティクル等が、筐体２におけるウエハ移載装置１５の設置室側に流入することを防止する。また、背面壁６９は、クロージャ４０よりも給気管６６の方に寄せられてクロージャ４０に固定されている。つまり、背面壁６９は、バックシール機構部６８の移動方向である前後方向と直交する方向にずらされて取り付けられている。背面壁６９とバックシール機構部６８とでクロージャ４０の背面部が構成される。すなわち、クロージャ４０の背面部は、クロージャ４０とウエハ出し入れ口６５との間隔を調整自在に、かつ該間隔の調整方向と直交する方向にずらされてクロージャ４０に設けられている。このように、背面壁６９が給気管６６寄りに配置されることによって、背面壁６９とチャンバ６０とが密着している時に、クロージャ４０とポッド１０のウエハ収納口１０ｂとの間の隙間が広くなり、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｃ内に流れ易くなり、ウエハ収納室１０ｃ内の雰囲気を効率的にパージできるようになる。尚、さらに好ましくは、図９に示すように、穴付きノズル４０の放置箇所は、クロージャ４０の給気管６６側の側面であって背面壁６９の背面とすると、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｅ内によりいっそう流れやすくなる。
【００３２】
なお、上述したようにフィルタ６３ａは微細な細孔を複数備えた例えばセラミックの多孔体等により構成されるため、フィルタ６３ａから噴出する窒素ガス６２は、低速で、かつ、無指向性である。したがって、フィルタ６３ａから窒素ガス６２を噴出させてクロージャ収容室６１内及びウエハ収納室１０ｃ内の雰囲気を窒素ガス６２でパージする際には、クロージャ収容室６１内に存在するパーティクルがクロージャ収容室６１内を飛散してしまうことを抑制でき、ウエハ９へのパーティクルの付着を抑制できる。
【００３３】
主に支持台２３、一対のガイドレール２４、載置台２７、複数個のガイドブロック２５
、エアシリンダ装置２６、位置決めピン２８により、本実施形態にかかるウエハ授受ポート（基板授受ポート）１３が構成されている。ウエハ授受ポート１３はポッド１０を載置するように構成されている。
【００３４】
また、主に、クロージャ４０、解錠軸４１、プーリー４２、ベルト４３、連結片４４、エアシリンダ装置４５により、本実施形態に係る可動部が構成されている。可動部は、ウエハ授受ポート１３に載置されたポッド１０のドア１０ｂを保持するように構成されている。
【００３５】
また、主に、ベース２１、ガイドレール３０、３３、エアシリンダ装置３２、前後方向移動台３４、ブラケット３６、ロータリーアクチュエータ３７、ガイドピン３８、ブラケット３９、及び前記可動部により、本実施形態に係るポッドオープナ（キャリア開閉装置）２０が構成されている。ポッドオープナ２０は、可動部に保持されたポッド１０のドア１０ｂを可動部と共に移動させてポッド１０のウエハ収納口１０ｂを開閉するように構成されている。
【００３６】
また、本実施形態に係るチャンバ６０は、可動部及びポッド１０のウエハ収納口１０ｂを少なくとも囲うように構成されている。
【００３７】
また、本実施形態に係るガス導入部は、主に、給気管６６、穴付きノズル６７により構成されている。また、本実施形態に係るガス供給部は、主に、給気管６３、フィルタ６３ａにより構成されている。ガス導入部は、可動部に設けられており、ポッド１０のウエハ収納口１０ｂからポッド１０内に不活性ガスを導入するように構成されている。ガス供給部は、ガス導入部からポッド１０内に導入される不活性ガスよりも低指向性の不活性ガスをチャンバ６０内に供給するように構成されている。
【００３８】
（２）基板処理装置の動作
次に、本実施形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置１の動作を、主に図１，３，１０，１１を参照しながら説明する。係る動作は、半導体装置の製造工程の一工程として行われる。なお、説明を理解し易くするため、以下の説明においては、上下で一対のウエハ授受ポート１３のうち、上段のウエハ授受ポート１３を上段ポートＡとし、下段のウエハ授受ポート１３を下段ポートＢとする。
【００３９】
（ポッド載置工程）
図１に示すように、筐体２のポッド出し入れ口から搬入され、ポッドステージ１１に載置されたポッド（キャリア）１０は、ポッド搬送装置１４によって指定されたポッド棚１２に適宜に搬送されて一時的に保管される。ポッド棚１２に保管されたポッド１０は、ポッド搬送装置１４によって適宜にピックアップされ、上段ポートＡに搬送されて、図３に示すように上段ポートＡの載置台２７上に移載される。この際、ポッド１０の下面に没設された位置決め凹部が、載置台２７の三本の位置決めピン２８とそれぞれ嵌合されることにより、ポッド１０と載置台２７との位置合わせが実行される。
【００４０】
（ドア保持工程）
ポッド１０がウエハ授受ポート１３の載置台２７に載置されて位置合わせが行われると、載置されたポッド１０のドア１０ａを保持する可動部及びポッド１０のウエハ収納口１０ｂを少なくとも囲うチャンバ６０内で、可動部がドア１０ａを保持するドア保持工程が行われる。
【００４１】
具体的には、載置台２７がエアシリンダ装置２６によってベース２１の方向に押され、図１０（ａ）に示すように、ウエハ収納口１０ｂの開口縁辺部であるポッド１０の開口側
端面が、ベース２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の開口縁辺部に押し付けられる。このとき、パッキン５４及びパッキン５６により、前記ポッド１０の開口側端面とベース２１の正面とがシールされる。また、ポッド１０がベース２１の方向に押されると、クロージャ４０の解錠軸４１がドア１０ａの鍵穴に挿入される。この状態で、解錠軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動されると、解錠軸４１はドア１０ａ側の錠前に係合した係合部４１ａによってドア１０ａの錠前の施錠を解除する。
【００４２】
（ウエハ収納口１０ｂの開工程）
次いで、可動部に保持されたポッド１０のドア１０ａを可動部と共にポッドオープナ２０が移動させて、ポッド１０のウエハ収納口１０ｂを開く開工程が行われる。
【００４３】
具体的には、前後方向移動台３４が、ロータリーアクチュエータ３７の作動によってベース２１から離れる方向に移動する。そして、図１０（ｂ）に示すように、クロージャ４０は、ポッド１０のドア１０ａを保持した状態でチャンバ６０のクロージャ収容室６１内に後退することにより、ドア１０ａをポッド１０のウエハ収納口１０ｂから抜き出す。これにより、ポッド１０のウエハ収納口１０ｂは開放された状態になる。
【００４４】
ポッド１０のウエハ収納口１０ｂが開放されたら、図１０（ｃ）に示すように、穴付きノズル６７から噴出した窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｃに直接流入できる位置になるように、好ましくは背面壁６９の中心とウエハ出し入れ口６５の中心とが前後方向で揃う位置になるように、左右方向移動台３１がウエハ収納口１０ｂに対して左右方向に退避動作を行う。
【００４５】
次いで、図１０（ｄ）に示すように、バックシール機構部６８を動作させることにより、背面壁６９をチャンバ６０のウエハ取り出し口６５に向かってせり出させる。その結果、背面壁６９とチャンバ６０とがパッキン５７を介して密着し、クロージャ収容室６１が筐体２におけるウエハ移載装置１５の設置室側から隔離された状態になる。
【００４６】
（ガス導入工程）
次いで、可動部に設けられたガス導入部が、上述の開工程で開けたウエハ収納口１０ｂからポッド１０内にガスを導入するガス導入工程が行われる。
【００４７】
具体的には、背面壁６９によってクロージャ収容室６１を密閉した後に、窒素ガス６２がフィルタ６３ａ及び穴付きノズル６７からクロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃに噴出される。噴出された窒素ガス６２は、フィルタ６３ａ及び穴付きノズル６７から排気管６４に向かって流れることによって、クロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃの雰囲気をパージする。このとき、背面壁６９がチャンバ６０に向かってせり出しているため、クロージャ４０と背面壁６９との間の隙間が大きくなることから、噴出された窒素ガス６２は、この隙間を流れることになる。窒素ガス６２がクロージャ４０と背面壁６９の隙間を流れることにより、バックシール機構部６８が作動することによって発生したパーティクルが、クロージャ収容室６１から排気管６４を通して効率的に除去されることになる。
【００４８】
図１０（ｄ）の状態でフィルタ６３ａ及び穴付きノズル６７から窒素ガス６２を噴出すると、図１１（ａ）に示すように、噴出した窒素ガス６２がクロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃに流入した後に排気管６４から流出する。この窒素ガス６２の流れにより、クロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃに存在する大気中の酸素や水分さらにはパーティクル等がパージされる。
【００４９】
（基板処理工程）
チャンバ６０のクロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によってパージされたら、ウエハ９をポッド１０内から処理室４ａ内に搬送し、処理室４ａ内にてウエハ９を処理する工程が行われる。
【００５０】
具体的には、左右方向移動台３１がエアシリンダ装置３２の作動によってウエハ出し入れ口２２から離れる方向に移動する。これにより、図１１（ｂ）に示すように、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が、ベース２１のウエハ出し入れ口２２から離間したクロージャ収容室６１の退避位置に移動する。このクロージャ４０の退避移動により、チャンバ６０のウエハ出し入れ口６５、ベース２１のウエハ出し入れ口２２及びポッド１０のウエハ収納口１０ｂがそれぞれ開放された状態になる。この際、上述の各工程によって、クロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃの雰囲気が窒素ガス６２によってパージされているため、大気中の酸素や水分等が筐体２におけるウエハ移載装置１５の設置室側に放出されることはなく、それらによるウエハ移載装置１５の設置室の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の発生は防止される。
【００５１】
クロージャ４０が退避位置に移動すると、図１１（ｃ）に示すように、マッピング装置５３がロータリーアクチュエータ５０の作動によって移動して、マッピング装置５３がウエハ収納室１０ｃへウエハ出し入れ口６５、ウエハ出し入れ口２２、及びウエハ収納口１０ｂを潜り抜けて挿入される。ウエハ収納室１０ｃに挿入されたマッピング装置５３は、ウエハ収納室１０ｃに収納された複数枚のウエハ９を検出することによってマッピングする。ここで、マッピングとは、ウエハ収納室１０ｃ内のウエハ９の所在位置（ウエハ９がどの保持溝にあるのか）を確認することである。マッピング作業が終了すると、マッピング装置５３は、ロータリーアクチュエータ５０の作動によって元の待機位置に戻される。
【００５２】
マッピング装置５３が待機位置に戻されると、上段ポートＡにおいて開けられたポッド１０の複数枚のウエハ９はボート８にウエハ移載装置１５によって順次装填（チャージング）されて行く。この際、ウエハ移載装置１５の移載空間の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の発生は防止されているため、移載中のウエハ９の自然酸化膜の堆積やパーティクルの付着等の弊害の発生は防止される。
【００５３】
この上段ポートＡにおけるウエハ移載装置１５によるウエハ９のボート８への装填作業中に、下段ポートＢにはポッド棚１２から別のポッド１０がポッド搬送装置１４によって搬送されて移載され、前述した載置台２７上での位置決めに続いてそれ以降の作業が同時進行される。このように下段ポートＢにおいてマッピング作業迄が同時進行されていると、上段ポートＡにおけるウエハ９のボート８への装填作業の終了と同時に、下段ポートＢに待機させたポッド１０についてのウエハ移載装置１５によるウエハ９のボート８への装填作業を開始することができる。すなわち、ウエハ移載装置１５はポッド１０の入替え作業についての待ち時間を浪費することなくウエハ移載作業を連続して実施することができるため、本実施の形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置１によれば、そのスループットを高めることができる。
【００５４】
上段ポートＡにおいてウエハ移載装置１５によるウエハ９のボート８への装填作業が終了すると、空のポッドを閉じる作業が前述したポッドを開ける作業と略逆の順序で実行される。すなわち、クロージャ４０に保持されて退避していたドア１０ａが、ウエハ出し入れ口２２の位置に左右方向移動台３１によって戻され、前後方向移動台３４によってウエハ出し入れ口２２に挿入されてポッド１０のウエハ収納口１０ｂに嵌入される。ドア１０ａがウエハ収納口１０ｂに嵌入されると、解錠軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動され、ドア１０ａの錠前を施錠する。ドア１０ａの施錠が終了すると、載置台２７がエアシリンダ装置２６によってベース２１から離れる方向に移動し、ポッド１０の開口側端面がベース２１の正面から離れる。
【００５５】
ドア１０ａによりウエハ収納口１０ｂが閉塞された上段ポートＡの空のポッド１０は、ポッド棚１２にポッド搬送装置１４によって搬送されて一時的に保持される。空のポッド１０が上段ポートＡから搬出されると、次のポッド１０が上段ポートＡに搬入される。以降、上段ポートＡ及び下段ポートＢにおいて、前述した作業が必要回数繰り返される。
【００５６】
以上のようにして、ウエハ移載装置１５による上段ポートＡ及び下段ポートＢからボート８へのウエハ９の装填作業が交互に繰り返されることによって、複数枚のウエハ９がポッド１０からボート８に装填されて行く。この際、バッチ処理するウエハ９の枚数（例えば、百枚〜百五十枚）は一台のポッド１０に収納されたウエハ９の枚数（例えば、二十五枚）よりも何倍も多いため、複数台のポッド１０が上段ポートＡと下段ポートＢとにポッド搬送装置１４によって交互に繰り返し供給されることになる。
【００５７】
予め指定された枚数のウエハ９がポッド１０からボート８に移載されると、ウエハ授受ポート１３にとっては実質的に待機中となる成膜処理がプロセスチューブ４において実行される。すなわち、ボート８は、ボートエレベータ７によって持ち上げられて、プロセスチューブ４内に形成された処理室４ａ内に搬入される。ボート８が上限に達すると、ボート８を保持したシールキャップの上面の周辺部がプロセスチューブ４をシール状態に閉塞するため、処理室４ａは気密に閉じられた状態になる。処理室４ａが気密に閉じられた状態で、所定の真空度に排気管６によって真空排気され、ヒータユニット３によって所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入管５によって所定の流量だけ供給される。これにより、所定の膜がウエハ９に形成される。そして、予め設定された処理時間が経過すると、ボート８がボートエレベータ７によって下ろされることにより、処理済みウエハ９を保持したボート８が元の装填及び排出ステーション（以下、装填ステーションという。）に搬出される。
【００５８】
（基板搬出工程）
以上の成膜処理の実行中に上段ポートＡ及び下段ポートＢにおいては、他方のボート８に保持された処理済みウエハ９の排出（ディスチャージング）作業が同時進行されている。この際にも、フィルタ６３ａ及び穴付きノズル６７から窒素ガス６２が噴出されることにより、クロージャ収容室６１及びポッド１０のウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によってパージされるため、ウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２で満たされることになる。すなわち、装填ステーションに搬出されたボート８の処理済みウエハ９は、ウエハ移載装置１５によってピックアップされ、上段ポートＡに予め搬入されてドア１０ａを外されて開放された空のポッド１０に収納される。上段ポートＡでの空のポッド１０への所定の枚数のウエハ９の収容が終了すると、クロージャ４０に保持されて退避していたドア１０ａがウエハ出し入れ口２２の位置に左右方向移動台３１によって戻され、前後方向移動台３４によってウエハ出し入れ口２２に挿入されポッド１０のウエハ収納口１０ｂに嵌入される。ドア１０ａがウエハ収納口１０ｂに嵌入されると、解錠軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動され、ドア１０ａの錠前を施錠する。これにより、ウエハ収納室１０ｃには窒素ガス６２が密封された状態になる。ドア１０ａの施錠が終了すると、載置台２７がエアシリンダ装置２６によってベース２１から離れる方向に移動され、ポッド１０の開口側端面がベース２１の正面から離される。次いで、処理済みのウエハ９が収納されたポッド１０は、ポッド棚１２にポッド搬送装置１４によって搬送される。
【００５９】
処理済みのウエハ９を収納してポッド棚１２に戻されたポッド１０は、ポッド棚１２からポッドステージ１１へポッド搬送装置１４によって搬送される。ポッドステージ１１に移載されたポッド１０は、ポッド出し入れ口から筐体２の外部に搬出されて、洗浄工程や成膜検査工程等の次工程へ搬送される。そして、新規のウエハ９を収納したポッド１０が筐体２内のポッドステージ１１にポッド出し入れ口から搬入される。
【００６０】
なお、ポッド１０のポッドステージ１１への搬入搬出（ポッドローディング及びポッドアンローディング）作業及びポッドステージ１１とポッド棚１２との間の入替え作業は、プロセスチューブ４におけるボート８の搬入搬出（ボートローディング及びボートアンローディング）作業や成膜処理の間に同時進行されるため、バッチ式ＣＶＤ装置１の全体としての作業時間は短縮される。
【００６１】
以降、以上説明したウエハ装填排出方法及び成膜方法が繰り返されることにより、バッチ式ＣＶＤ装置１によって、例えばＣＶＤ法による成膜等の所定の基板処理が実施される。
【００６２】
ここで、本実施の形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置１を用いて１つのポッド１０に収容されたウエハ９を成膜処理する方法（半導体装置の製造方法）を簡略化して、図２６のフローチャートにまとめる。
【００６３】
図２６中のＳ１（ドア保持工程）では、クロージャ４０がドア１０ａを保持する。Ｓ２（開工程）では、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が背面方向への後退と左右方向への移動を行う。Ｓ３（ガス導入工程）では、穴付きノズル６７およびフィルタ６３ａからウエハ収納室１０ｃに窒素ガス６２が導入される。Ｓ４では、ドア１０ａを保持したクロージャ４０がクロージャ収容室６１内の退避位置に移動する。また、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が左右方向と前後方向への移動を行い、ポッド１０の正面位置に移動する。さらに、ウエハ９が空になった空ポッド１０を回転棚へ移動させる。Ｓ５では、ウエハ収納室１０ｃからボート８にウエハ９がウエハ移載装置１５によって移載される。Ｓ６（処理工程）では、ボート８に装填されたウエハ９がプロセスチューブ４内で薄膜形成処理を施される。回転棚から空ポッド１０を基板授受ポートに載置し、Ｓ１〜Ｓ４を行った後、Ｓ７では、薄膜形成されたウエハ９がボート８からウエハ収納室１０ｃにウエハ移載装置１５によって再び移載される。Ｓ８では、クロージャ収容室６１内の退避位置にあるドア１０ａを保持したクロージャ４０が左右方向に移動する。Ｓ９では、穴付きノズル６７からウエハ収納室１０ｃに窒素ガス６２が導入される。Ｓ１０では、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が左右方向の移動と正面方向への前進を行う。Ｓ１１では、クロージャ４０が保持していたドア１０ａをウエハ収納口１０ｂに嵌入して開放する。
【００６４】
（３）本実施形態による効果
本実施形態によれば、次の（ａ）〜（ｄ）のうち少なくとも１つの効果が得られる。
【００６５】
（ａ）本実施形態によれば、クロージャ４０の側面に取り付けられた穴付きノズル６７から高速で、かつ、指向性を持った窒素ガス６２が噴出されるため、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃ内に窒素ガス６２の大きな流れが形成される。また、クロージャ４０がドア１０ａを保持した状態で背面方向に後退してさらに左右方向に退避した後に、穴付きノズル６７から窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｃ内に向けて噴出されるため、ベース２１とドア１０ａとの間の隙間が大きくなった状態で窒素ガス６２が噴出される。その結果、ウエハ収納室１０ｃ内の奥深くまで窒素ガス６２が流入しやすくなり、ポッド１０内の窒素ガス６２によるパージに要する時間が従来よりも短縮される。その結果、基板処理のスループットが向上する。
【００６６】
（ｂ）従来、ウエハ出し入れ口６５を閉塞するには、チャンバ６０に密着するまでクロージャ４０を背面方向に移動させなければならず、大がかりな動作機構が必要であった。これに対し、本実施形態によれば、バックシール機構部６８を設けることにより、大きな設備スペースを必要としない簡便な動作機構で、上記と同様の機能が発揮されるようになる。これにより、基板処理装置の製造コストを低減させ、基板処理コストを低減させること
が出来る。また、バックシール機構部６８を動作させることにより、クロージャ収容室６１を密封することができ、ウエハ移載装置１５の設置室側の汚染や酸素濃度上昇等の弊害の発生を防止することができ、基板処理の歩留りを改善させることが可能となる。
【００６７】
（ｃ）本実施形態によれば、ポッドオープナ２０の背面側に、ポッドオープナ２０と共にクロージャ収容室６１内を移動しながらも別個に動作する背面壁６９が設置されている。その結果、クロージャ収容室６１と筐体２のウエハ移載装置１５の設置室側とを隔離するために、クロージャ４０がチャンバ６０に密着するまで背面方向に後退する必要がなくなり、ドア１０ａを開け始めてから窒素ガス６２を噴出すまでに要する時間を短縮できる。これにより、基板処理のスループットを向上させることが可能となる。
【００６８】
（ｄ）本実施形態によれば、ポッドオープナ２０と背面壁６９との間、すなわちバックシール機構部６８に隙間が形成され、この隙間がフィルタ６３ａ及び穴付きノズル６７から排気管６４へ向かう窒素ガス６２の流路として機能する。そのため、クロージャ収容室６１及びウエハ収納室１０ｃにおける雰囲気の滞留が抑制される。その結果、窒素ガス６２によるパージに要する時間を短縮できると共に、バックシール機構部６８の動作によって発生したパーティクルを、クロージャ収容室６１内から排気管６４を通して効率的に排出することができる。これにより、穴付きノズル６７から窒素ガス６２が噴出されても、ウエハ収納室１０ｃ内にパーティクルが流入しなくなり、ウエハ９へのパーティクル付着に起因する弊害が発生し難くなる。
【００６９】
ところで、バックシール機構部６８及び背面壁６９の代わりに、図２４に示すようなポッドオープナ２０とは別個に左右方向に移動し、かつ、ウエハ出し入れ口６５の開閉動作を行う開閉機構部９０をクロージャ収容室６１内に設置することも考えられる。開閉機構部９０を設置すれば、開閉機構部９０がクロージャ収容室６１の気密性を保ちながらドア１０ａを保持したクロージャ４０（ポッドオープナ２０）がクロージャ収容室６１の退避位置まで移動することにより、ウエハ収納口１０ｂと開閉機構部９０との間に大きな隙間が形成されるため、窒素ガス６２のウエハ収納室１０ｃへの流入を改善できると考えられる。しかし、この場合、開閉機構部９０を設けるために複雑な駆動機構を設けることになってしまい、コストやクロージャ収容室６１内の被占有空間が増大するのに加え、新たな駆動機構から発生するパーティクルがウエハ９へ悪影響を及ぼすという問題が生じやすい。
【００７０】
＜本発明の他の実施形態＞
本発明は前記の一実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００７１】
例えば、フィルタ６３ａの代わりに、外周面に貫通穴をランダムに、かつ、無数にあけた給気管を使用してもよい。しかし、この場合は、貫通穴を無数にあける工程を必要としないフィルタの方が、コストが安くなるという点で優れる。穴付きノズル６７の代わりに、フィルタ６３ａ同様のフィルタや、外周面に貫通穴をランダムにかつ無数にあけた給気管を使用してもよい。
【００７２】
また、穴付きノズル６７として、スリット状の貫通穴をあけた給気管を使用してもよい。しかし、円形の貫通穴の方がスリット状の貫通穴を開けるよりも容易であることから、円形の貫通穴を有する穴付きノズル６７の方がコスト的に安くなるという点で優れる。
【００７３】
また、穴付きノズル６７をクロージャ４０に固定する代わりに、フィルタ６３ａの近傍に接続してもよい。この場合、図１０の（ｃ）に示すように、クロージャ４０が背面方向に後退した後にさらに左右方向に退避しなくても、背面方向に後退した時点で、穴付きノ
ズル６７から窒素ガス６２を噴出すことができるので、窒素ガス６２によるパージを開始するまでに要する時間を短縮できるというメリットがある。しかし、穴付きノズル６７をクロージャ４０付近に設けた方が、パージ自体に要する時間を短縮できるという点で優れる。
【００７４】
また、ウエハ授受ポート１３は、上下二段でなくてもよく、一段だけもよいし、上中下三段のように三段以上でもよい。
【００７５】
また、マッピング装置５３をウエハ収納室１０ｃ内に挿入する装置として、ロータリーアクチュエータ５０の代わりに、ＸＹ軸ロボット等を採用してもよい。なお、マッピング装置は省略してもよい。
【００７６】
また、前記の一実施の形態では、バッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置を使用する場合について説明したが、本発明は係る形態に限らず、ＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）成膜装置等の他の成膜装置、拡散装置、酸化・窒化装置、エッチング装置などのバッチ式基板処理装置に対しても好適に適用可能である。また、基板は、ウエハ９に限定されるものではなく、ホトマスクやプリント配線基板、液晶パネル、コンパクトディスク、及び磁気ディスク等であってもよい。
【実施例】
【００７７】
（比較例１）
比較例１で使用するバッチ式ＣＶＤ装置の構成と動作を、図２５を用いて説明する。図２５は、比較例１で使用するバッチ式ＣＶＤ装置の主要部の概要を、図１０及び図１１に準じて表したものである。図２５に記載された構成要素の中で図１０の構成要素に対応するものには、図１０で用いた符号と同一の符号を付す。比較例１で使用するバッチ式ＣＶＤ装置は、図１０に示すバッチ式ＣＶＤ装置１を基準にして、穴付きノズル６７、バックシール機構部６８、及び背面壁６９が取り除かれている。したがって、比較例１で使用するバッチ式ＣＶＤ装置においてウエハ収納室１０ｃ内からウエハ９を取り出すには、以下の一連の動作が必要である。先ず、図２５（ａ）に示すように、クロージャ４０がドア１０ａを保持する。続いて、図２５（ｂ）に示すように、クロージャ４０が、ドア１０ａを保持したまま、チャンバ６０と密着してウエハ出し入れ口６５を塞ぐまで、背面方向に後退する。そして、窒素ガス６２をフィルタ６３ａから噴出して排気管６４から排気することにより、ウエハ収納室１０ｃ内及びクロージャ収容室６１内を窒素ガス６２でパージする。続いて、図２５（ｃ）に示すように、ドア１０ａを保持したクロージャ４０を、クロージャ収容室６１内で左右方向に移動させて退避させる。
【００７８】
比較例１では、ウエハ収納室１０ｃの容積を３０Ｌ、フィルタ６３ａから噴出する窒素ガス６２の流量を１００Ｌ／ｍｉｎとし、ポッド１０内にウエハ９をフルチャージした条件下で、ウエハ収納室１０ｃ内及びクロージャ収容室６１内を窒素ガス６２でパージしながら、所定の時間毎のウエハ収納室１０ｃの酸素濃度を測定した。また、比較例１では、ウエハ収納室１０ｃの酸素濃度が１５，０００ｐｐｍに低下した時点をパージの完了時とした。
【００７９】
図２５（ｂ）に示す状態において、窒素ガス６２を噴出し始めてからパージが完了するまでに要した時間は、１つのポッド１０につき１７０秒（ｓ）であった。したがって、比較例１では、容積３０Ｌのポッド１０をパージするのに約３００Ｌの窒素ガス６２を使用していることになり、パージの効率が悪い。これは、図２５（ｂ）の状態において、ドア１０ａを保持したクロージャ４０とベース２１との間の隙間が小さく、かつ、フィルタ６３ａから噴出された窒素ガス６２に指向性がないことから、窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｃの奥まで入り込み難いためである。仮に、比較例１において１バッチに６個のポッ
ド１０を使用した場合、チャージ・ディスチャージで３２分要することになり、このチャージ・ディスチャージに要する時間がバッチ式ＣＶＤ装置のスループットを低下させる一因となる。
【００８０】
（実施例１）
実施例１では、比較例１で使用した図２５に示すバッチ式ＣＶＤ装置において、フィルタ６３ａの代わりに、穴付きノズル６７をクロージャ４０に固定して使用した。実施例１で使用するバッチ式ＣＶＤ装置の主要部の概要を図１２に示す。なお、図１２に記載したバッチ式ＣＶＤ装置の構成要素の中で図９に記載した構成要素に対応するものには、図９で用いた符号と同一の符号を付す。
【００８１】
なお、実施例１では、穴付きノズル６７の取り付けノズル数を２個クロージャ４０に固定することとした（同形状の中空管を左右方向に並列に、かつ、前記中空管の外周面上の貫通穴が同じ向きとなるように配置した）。穴付きノズル６７が備える穴の穴径をφ３ｍｍ、穴ピッチを１０ｍｍ、穴数を１０個（計２０個）とした。窒素ガス６２の流量を１００Ｌ／ｍｉｎとした。ウエハ収納室１０ｃ内にウエハ９をフルチャージした。さらに、実施例１では、図１２に示すように、穴付きノズル６７から噴出した窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｃ内に直接流入するように、穴付きノズル６７のノズル（穴）の方向を調節した。また、実施例１では、比較例１と同様に、窒素ガス６２でパージしながら所定の時間毎のウエハ収納室１０ｃの酸素濃度を測定し、ウエハ収納室１０ｃの酸素濃度が１５，０００ｐｐｍに低下した時点をパージの完了時とした。
【００８２】
実施例１では、図１２に示す状態で窒素ガス６２を噴出させ始めてからパージが完了するまでに要した時間は、１つのポッド１０につき１１０秒であった。比較例１及び実施例１で測定したパージに要する時間の測定結果を図１３に示す。図１３より、実施例１のように、フィルタ６３ａの代わりに穴付きノズル６７を使用することによって、１つのポッド１０のパージに要する時間を６０秒短縮できることが分かる。
【００８３】
（実施例２）
実施例２では、実施例１で使用した図１２に示す穴付きノズル６７のノズル（穴）の向きを前後方向と平行にした。さらに、実施例２では、図１４に示すように、穴付きノズル６７から窒素ガス６２を噴出す前にクロージャ４０を左右方向に移動させることにより、ドア１０ａを保持するクロージャ４０とベース２１との間の隙間を大きくして、窒素ガス６２がウエハ収納室１０ｃの奥まで流入しやすくした。実施例２では、これらの変更点以外は実施例１と同様にしてポッド１０のパージに要する時間を測定した。
【００８４】
実施例２では、図１４に示す状態で窒素ガス６２を噴出させ始めてからパージが完了するまでに要する時間は、１つのポッド１０につき８０秒であった。比較例１及び実施例２で測定したパージに要する時間の測定結果を図１５に示す。図１５より、実施例２のようにフィルタ６３ａの代わりに穴付きノズル６７を使用し、さらに穴付きノズル６７からウエハ収納室１０ｃへの窒素ガス６２の流路を広げることによって、１つのポッド１０のパージに要する時間を９０秒短縮できることが分かる。
【００８５】
（実施例３）
実施例３では、図１４に示す状態において窒素ガス６２の噴出流量を変化させることにより、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流量とポッド１０のパージに要する時間との関係を調べた。実施例３では、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の噴出流量を５０Ｌ／ｍｉｎ、１００Ｌ／ｍｉｎ、及び１５０Ｌ／ｍｉｎの３パターンとする以外は実施例２と同様にして、ポッド１０のパージに要する時間を測定した。
【００８６】
実施例３の測定結果を図１６に示す。図１６に示すように、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流量が５０Ｌ／ｍｉｎの場合は、１つのポッド１０のパージに要する時間は１４０秒であった。また、該窒素ガス６２の流量が１００Ｌ／ｍｉｎの場合は８０秒であった。また、該窒素ガス６２の流量が１５０Ｌ／ｍｉｎの場合は６０秒であった。したがって、実施例３の測定結果から、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流量を増やすことにより、１つのポッド１０のパージに要する時間を短縮できることが分かる。
【００８７】
（実施例４）
次いで、実施例４では、図１４に示す状態において穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流速を変化させることにより、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流速とポッド１０のパージに要する時間との関係を調べた。
【００８８】
実施例４では、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流速を６．３ｍ／ｓ、１１．８ｍ／ｓ、及び２６．５ｍ／ｓの３パターンとする以外は実施例２と同様にして、ポッド１０内のパージに要する時間を測定した。なお、これらの流速は、穴付きノズル６７の穴径を変化させることで流速を変化させた。具体的には、穴付きノズル６７の穴径をφ２ｍｍにした場合の窒素ガス６２の流速が６．３ｍ／ｓであり、穴径をφ３ｍｍにした場合の流速が１１．８ｍ／ｓであり、穴径をφ４ｍｍにした場合の流速が２６．５ｍ／ｓである。なお、これらの流速は計算値である。
【００８９】
実施例４の測定結果を図１７に示す。図１７の測定結果から、穴付きノズル６７から噴出する窒素ガス６２の流速を変化させても、１つのポッド１０のパージに要する時間には殆ど影響がないことが分かる。
【００９０】
（参考例１）
参考例１では、図１８（ａ）に示すように、パーティクルの発生源であるバックシール機構部６８を無くした場合であって、実施例３で使用した図１４に示すバッチ式ＣＶＤ装置の主要部に対して、筐体２におけるウエハ移載装置１５の設置室の代わりとなるボックス８０をベース２１の背面側に取り付けた。さらに、ボックス８０内の右側（図１８（ａ）を参照）であって、ウエハ出し入れ口６５の近傍のチャンバ６０に穴付きノズル６７ａを取り付けた。穴付きノズル６７ａが備える穴の穴径はφ１ｍｍ、穴ピッチは４ｍｍ、穴数は８０個とした。穴付きノズル６７ａから窒素ガス６２を噴出させることにより、ウエハ出し入れ口６５の近傍に窒素ガスのガスカーテンを形成して、クロージャ収容室６１内の雰囲気とボックス８０内の雰囲気とがウエハ出し入れ口６５を介して混合してしまうことを抑制した。なお、図１８（ａ）では、図９に示す構成要素と同様に機能する構成要素には、図９で用いた符号と同一の符号を付す。また、図９、１０、１１に示すバックシール機構部６８および背面壁６９を有するバッチ式ＣＶＤ装置でも、図１８ａに示すボックス８０をベース２１の背面側に取り付けた。
【００９１】
参考例１では、穴付きノズル６７ａが形成するエアカーテンのシール性能を評価するため、穴付きノズル６７ａから噴出する窒素ガス６２の流量と窒素ガス６２の噴出方向とを変化させながら、ボックス８０内において酸素濃度を測定した。具体的には、図１９に示すように、図１８（ａ）に示す右側から左側に向けて穴付きノズル６７ａから窒素ガス６２を５０Ｌ／ｍｉｎ、１００Ｌ／ｍｉｎ、または１５０Ｌ／ｍｉｎの流量で噴出する３つのパターンのそれぞれについて、各パターンのボックス８０内での酸素濃度を測定した。さらに、図１８（ａ）に示す左側から右側に向けて穴付きノズル６７ａから窒素ガス６２を１００Ｌ／ｍｉｎの流量で噴出するパターンについて、ボックス８０内での酸素濃度を測定した。また、図９、１０、１１に示すバッチ式ＣＶＤ装置では、背面壁６９でウエハ取り出し口６５を閉じた状態（図１１（ａ）の状態）にて、ボックス８０内での酸素濃度
を測定した。
【００９２】
参考例１の測定結果を図１９に示す。穴付きノズル６７ａから噴出する窒素ガス６２の流量とその噴出方向とを変化させると、図１８（ａ）に示す左側から右側に向けて穴付きノズル６７ａから１００Ｌ／ｍｉｎ流量で噴出する場合がボックス８０内の酸素上昇量９０００ｐｐｍと最も良かった。これに対し、背面壁６９にてウエハ取り出し口６５を閉じた状態では、ボックス８０内の酸素上昇量０ｐｐｍであるため、好ましくは、背面壁６９にてウエハ取り出し口６５を閉じた方が、クロージャ収容室６１内からボックス８０内への酸素の拡散を十分に抑制できる。したがって、参考例１の測定結果を検討すれば、バッチ式ＣＶＤ装置１からバックシール機構部６８及び背面壁６９を取り除くことによってクロージャ収容室６１におけるパーティクルの発生を抑制できるし、穴付きノズル６７ａによるエアカーテンにより、ある程度の、筐体２におけるウエハ移載装置１５の設置室内への酸素や水分さらにはパーティクルの拡散や混入を抑制できることが分かるが、好ましくは、背面壁６９にてウエハ取り出し口６５を閉じた状態とした方が良いことが分かる。。
【００９３】
なお、図１８（ｂ）に示す穴付きノズル６７ａを、図１８（ａ）に示すようにボックス８０内に設けるのではなく、図９に示すクロージャ収容室６１内のフィルタ６３ａの位置に設けるように変更することも考えられる。しかし、穴付きノズル６７ａをフィルタ６３ａの位置に設置しても、参考例１と同様の効果であると考えられる。
【００９４】
（参考例２）
窒素ガス６２の噴出し口を穴付きノズルにすると、穴付きノズル６７から噴出される窒素ガス６２の流速が大きく、パーティクルがウエハ収納室１０ｃ内の雰囲気中に飛散してしまう可能性が考えられる。そこで、参考例２では、穴付きノズル６７から噴出される窒素ガス６２によるパーティクルの飛散に与える影響を調べるため、ウエハ収納室１０ｃ内におけるパーティクルの個数を測定した。
【００９５】
測定に際しては、図１４に示す機構を有するバッチ式ＣＶＤ装置（穴付きノズル６７を具備する）と図２５に示す機構を有するバッチ式ＣＶＤ装置（フィルタ６３ａを具備する）とをそれぞれ用いた。また、窒素ガス６２の噴出流量を１００Ｌ／ｍｉｎとし、ポッド１０内にウエハ９を装填することなく空のポッド１０を使用した。
【００９６】
また、測定に際しては、図２０に示すタイムフローで測定を行った。
【００９７】
すなわち、図１４に示す機構を有するバッチ式ＣＶＤ装置では、図２０の上段に示すように、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が背面方向へ後退しさらに左右方向に退避する動作を５秒間で行った後に、穴付きノズル６７からウエハ収納室１０ｃに向けて窒素ガス６２が８０秒間噴出され、その後ドア１０ａを保持するクロージャ４０がクロージャ収容室６１の退避位置に移動する動作を５秒間で完了し、続いてウエハ出し入れ口６５が開放された状態で９０秒間放置され（参考例２ではポッド１０にウエハ９が充填されていない）、最後にクロージャ４０がクロージャ収容室６１の退避位置から最初の位置に戻ってドア１０ａをウエハ収納口１０ｂに嵌入する動作を５秒間で完了する、という一連の動作が行われた。そして、この図２０の上段に示す一連の動作中に１０秒間隔で、ウエハ収納室１０ｃにおいて、粒径が０．１μｍ以上のパーティクルの個数を計測した。
【００９８】
同様に、図２５に示す機構を有するバッチ式ＣＶＤ装置では、図２０の下段に示すように、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が背面方向へ後退する動作を５秒間で行った後に、フィルタ６３ａから窒素ガス６２が１７０秒間噴出され、その後は図１４に示す機構を有するバッチ式ＣＶＤ装置と同様にして、上記一連の動作及びパーティクルの測定が行われた。
【００９９】
参考例２の測定結果を図２１に示す。
【０１００】
図２１のグラフから、図１４に示す穴付きノズル６７を用いた場合は、窒素ガス６２によるパージが完了した時点（８５秒）において、ウエハ収納室１０ｃ内で粒径が０．１μｍ以上のパーティクルが６個計測されており、さらにクロージャ４０がクロージャ収容室６１の退避位置に移動した後に（９０秒以降）、パーティクルの計測個数が急増していることが分かる。これは、バックシール機構部６８を構成しているエアシリンダ装置のこすれや背面壁６９のパッキン５７のこすれ等によって発生したパーティクルが、穴付きノズル６７から噴出された流速の大きな窒素ガス６２によって、ウエハ収納室１０ｃ内に吹き込まれてしまうためであると考えられる。
【０１０１】
また、図２１のグラフから、図２５に示すフィルタ６３ａを用いた場合は、図２０の下段に示す一連の動作が完了するまで（２７５秒）、ウエハ収納室１０ｃ内で粒径が０．１μｍ以上のパーティクルは計測されていないことが分かる。これは、フィルタ６３ａからクロージャ収容室６１内に窒素ガス６２を穏やかに噴出すると、フィルタ６３ａ側が正圧、排気管６４側が負圧となるため、クロージャ収容室６１においてフィルタ６３ａから排気管６４への窒素ガス６２の緩やかな流れが形成されるためであると考えられる。すなわち、係る流れにより、バックシール機構部６８で発生したパーティクルを排気管６４へ流すことができるのである。また、フィルタ６３ａから噴出する窒素ガス６２は、流速が低く、かつ、指向性がないため、ウエハ収納室１０ｃ内にパーティクルが運ばれ難いためであると考えられる。
【０１０２】
以上により、図２５に示すフィルタ６３ａを用いたバッチ式ＣＶＤ装置では、ウエハ収納室１０ｃにおいて、パーティクルによる汚染をより効果的に抑制できることが分かる。ちなみに、フィルタ６３ａからの窒素ガス６２の供給を止めた場合、ウエハ収納室１０ｃ及びクロージャ収容室６１が負圧となってしまい、外部の酸素がウエハ収納室１０ｃ及びクロージャ収容室６１に流入し、酸素濃度が上昇してしまう恐れがある。すなわち、ウエハ収納室１０ｃ及びクロージャ収容室６１の圧力を保つためにも、フィルタ６３ａから窒素ガス６２を供給することが好ましい。尚、好ましくは、図７に示す排気管６４に圧力制御器としての圧力調整弁を設け、クロージャ収容室６１内外の圧力を監視する差圧計をチャンバ６０に設けて該差圧計の検出する結果に基づき、クロージャ収容室６１内の圧力がクロージャ収容室６１外の圧力より大きくなるように制御すると、外気のクロージャ収容室内への侵入を抑制できるので良い。さらに好ましくは、キャリア内の圧力がクロージャ収容室６１内の圧力より大きく、さらにクロージャ収容室６１内の圧力が、クロージャ収容室６１外の圧力より大きくなるように制御すると良い。
【０１０３】
（実施例５）
上述のように、クロージャ収容室６１内におけるパーティクルの発生場所の１つは、バックシール機構部６８の駆動装置等であるものと考えられる。バックシール機構部６８の駆動装置等はクロージャ４０の背面側に集中している。これらの考察と参考例２の測定結果とを勘案すると、好ましくは、パーティクルが発生した時にフィルタ６３ａから排気管６４への窒素ガス６２の穏やかな流れを形成していれば、パーティクルのウエハ収納室１０ｃ内への飛散を抑制できると考えられる。
【０１０４】
しかし、フィルタ６３ａから排気管６４への窒素ガス６２の穏やかな流れを形成するようにすると、窒素ガス６２をウエハ収納室１０ｃ内の奥まで流入させることが困難となり、ウエハ収納室１０ｃ内の窒素ガス６２によるパージに要する時間が増大してしまう恐れが生じる。これに対し、好ましくは、パーティクルが発生しやすい時にはフィルタ６３ａから排気管６４への窒素ガス６２の穏やかな流れを形成し、パーティクルが発生し難い時
には穴付きノズル６７からウエハ収納室１０ｃ内に向けて窒素ガス６２を噴出すようにすれば、ウエハ収納室１０ｃ内へのパーティクルの飛散を抑制しつつ、ウエハ収納室１０ｃ内の窒素ガス６２によるパージを短時間で完了できると考えられる。
【０１０５】
このような窒素ガス６２によるパージ方法の効果を確認するために、実施例５では、図２２に示すタイムフローに従って、ウエハ収納室１０ｃにおいてパーティクルの個数を計測した。具体的には、図１０に示すバッチ式ＣＶＤ装置１を用いて、図２２に示すように、先ずフィルタ６３ａから窒素ガス６２を噴出してフィルタ６３ａから排気管６４への窒素ガス６２の穏やかな流れを１０秒間形成する。この１０秒間の前半５秒で、ドア１０ａを保持したクロージャ４０が背面方向へ後退しさらに左右方向に退避する動作を行い、残り５秒間でクロージャ４０の動作によって発生したパーティクルを排気管６４へ排出する。続く８０秒間では、窒素ガス６２の噴出しをフィルタ６３ａから穴付きノズル６７に切り替えて、穴付きノズル６７から噴出した窒素ガス６２をウエハ収納室１０ｃの奥まで流入させることにより、ウエハ収納室１０ｃの窒素ガス６２によるパージを完了させる。続く１００秒間では、窒素ガス６２の噴出しを穴付きノズル６７からフィルタ６３ａに再度切り替える。この１００秒間の最初の５秒で、ドア１０ａを保持するクロージャ４０がクロージャ収容室６１の退避位置に移動し、続く９０秒間では、ウエハ出し入れ口６５が開放されたまま放置され、最後の５秒で、クロージャ４０がクロージャ収容室６１の退避位置から最初の位置に戻ってドア１０ａをウエハ収納口１０ｂに嵌入する。そして、この図２２に示す一連の動作では、ウエハ収納室１０ｃにおいて、粒径が０．１μｍ以上のパーティクルの個数が１０秒間隔で計測した。
【０１０６】
実施例５の測定結果を図２３に示す。また、比較対象として、参考例２で測定した図２０の上段に示すタイムフローに従う測定結果も図２３に併せて示す。図２３のグラフから、実施例５のパージ方法を用いた場合は、図２２に示す一連の動作が完了するまで（１９０秒）、ウエハ収納室１０ｃ内で粒径が０．１μｍ以上のパーティクルは計測されなかったことが分かる。したがって、図２２に示すタイムフローに従うパージ方法であれば、穴付きノズル６７だけから窒素ガス６２を噴出したときよりも、ウエハ収納室１０ｃ内に飛散するパーティクルの個数を減らせることが分かる。よって、実施例５に係るパージ方法によれば、バックシール機構部６８の動作に起因して発生するパーティクルによるウエハ９の汚染や基板処理の歩留り悪化を抑制できる。
【０１０７】
＜本発明の好ましい態様＞
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
【０１０８】
本発明の一態様によれば、基板を出し入れする基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う基板処理装置であって、
前記キャリアを載置する基板授受ポートと、
前記基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部と、
前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共に移動させて前記基板収納口を開閉するキャリア開閉装置と、
前記可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバと、
前記可動部に設けられ、前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入部と、を備える基板処理装置が提供される。
【０１０９】
好ましくは、前記ガス導入部から前記キャリア内に導入されるガスよりも低指向性のガスを前記チャンバ内に供給するガス供給部をさらに備える。
【０１１０】
また好ましくは、前記キャリア開閉装置が前記ドアと共に前記可動部を移動させて、前記ガス導入部が前記基板収納口と正対している間に、前記ガス導入部から前記キャリア内
へガスを導入する制御部をさらに備える。
【０１１１】
また好ましくは、前記ガス導入部から前記キャリア内に導入されるガスよりも低指向性のガスを前記チャンバ内に供給するガス供給部と、
前記ガス供給部から前記低指向性のガスが前記チャンバ内に供給されている間であって、かつ、前記キャリア開閉装置が前記ドアと共に前記可動部を移動させて、前記ガス導入部が前記基板収納口と正対している間に、前記ガス導入部から前記キャリア内へガスを導入する制御部と、を備える。
【０１１２】
また好ましくは、
前記ガス導入部から前記キャリア内に導入されるガスよりも低指向性のガスを前記チャンバ内に供給するガス供給部と、
前記キャリア開閉装置が前記ドアと共に前記可動部を移動させる間は、前記ガス供給部から前記チャンバ内に前記低指向性のガスを供給し、前記ガス導入部が前記キャリア内へガスを導入する間は、前記ガス供給部から前記チャンバ内に前記低指向性のガスを供給しないようにする制御部と、を備える。
【０１１３】
また好ましくは、
前記チャンバは、前記キャリアの前記基板収納口と正対する位置に第２の基板収納口を有し、
前記可動部には、前記第２の基板収納口を塞ぐ背面部が前記可動部との間隔を調節自在に、かつ、前記間隔の調節方向と直行する方向にずらされて取り付けられている。
【０１１４】
また好ましくは、
前記可動部と前記背面部と間の隙間が、前記ガス導入部から導入されたガスの流路となる。
【０１１５】
また、好ましくは、
前記ガス導入部から前記チャンバによって形成された空間に導入された前記ガスを前記空間の系外に排出する排気管と、
前記空間の系外の気圧よりも前記キャリア内の気圧の方が高くなるように前記空間からの排気量を調節するように前記排気管を制御する制御器と、を備える。
【０１１６】
本発明の他の態様によれば、基板を出し入れする基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う基板の搬送方法であって、
基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバ内で、前記可動部が前記ドアを保持するドア保持工程と、
前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共にキャリア開閉装置が移動させて前記基板収納口を開く開工程と、
前記可動部に設けられたガス導入部が前記開工程で開けた前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入工程と、
前記基板を前記キャリアから搬送する工程と、を有する基板の搬送方法が提供される。
【０１１７】
本発明のさらに他の態様によれば、基板を出し入れする基板収納口及び前記基板収納口に着脱自在に装着されたドアを備えたキャリアを取り扱う半導体装置の製造方法であって、
基板授受ポートに載置された前記キャリアの前記ドアを保持する可動部及び前記基板収納口を少なくとも囲うチャンバ内で、前記可動部が前記ドアを保持するドア保持工程と、
前記可動部に保持された前記ドアを前記可動部と共にキャリア開閉装置が移動させて前記基板収納口を開く開工程と、
前記可動部に設けられたガス導入部が前記開工程で開けた前記基板収納口から前記キャリア内にガスを導入するガス導入工程と、
前記基板を前記キャリア内から処理室内に搬送し前記処理室内にて前記基板を処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法が提供される。
【符号の説明】
【０１１８】
１        バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）
９        ウエハ（基板）
１０      ポッド（キャリア）
１０ａ    ドア
１０ｂ    ウエハ収納口（基板収納口）
１３      ウエハ授受ポート（基板授受ポート）
２０      ポッドオープナ（キャリア開閉装置）
６０      チャンバ
６２      窒素ガス（ガス）
【図１】
2011061155.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2011061155.tif 000009
【図８】
2011061155.tif 000010
【図９】
2011061155.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2011061155.tif 000013
【図１９】
2011061155.tif 000014
【図２０】
2011061155.tif 000015
【図２１】
2011061155.tif 000016
【図２２】
2011061155.tif 000017
【図２３】
2011061155.tif 000018
【図２４】
2011061155.tif 000019
【図２６】
2011061155.tif 000020
【図１２】
2011061155.tif 000021
【図１３】
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【図１４】
2011061155.tif 000023
【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図２５】
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