(57)【要約】【課題】本発明における第1の光吸収層に相当する層の、３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の波長領域内の少なくとも１部の波長の光における吸光度が１未満である場合に比べて、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差の減少が抑制された表示媒体、書込装置、及び表示装置を提供する。【解決手段】表示媒体１１が、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板、電極１８、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成とされ、遮光層２２Ｒが、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、
反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、
青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光、に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、
前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、
第２の電極と、
第３の電極と、
反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、
前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、
前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、
第４の電極と、
をこの順に備えた表示媒体。
【請求項２】
前記第１の光吸収層が、複数の層からなる積層体である請求項１に記載の表示媒体。
【請求項３】
第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体について、
前記第１の電極と前記第２の電極の間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、
を備えた書込装置。
【請求項４】
第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、
を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示媒体、書込装置、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、表面が親水化処理されたカーボンブラックと、重合度が１０００以上３０００以下の水溶性樹脂と、水と、を含有し、カーボンブラックと水溶性樹脂との含有比率が質量比で１：３〜１：１０の範囲である表示デバイス用水性遮光塗料組成物を用いて形成された遮光膜を有する表示デバイスが提案されている。
【０００３】
特許文献２には、一対の電極間に、特定波長領域の可視光を反射する液晶層もしくは特定波長領域の可視光を吸収して着色する液晶層のうちの何れかの液晶層と、特定波長領域の可視光を吸収して吸収した可視光の光量に応じて抵抗値を変化させる光導電層とが積層された変調層が複数積層されてなる光変調素子が提案されている。
【０００４】
特許文献３には、外光を反射する液晶層と、入射光の強度に応じて抵抗値を変化させる光導電層とが少なくとも積層された光アドレス型光変調層が複数積層されてなり、入射光が照射される光導電層の少なくとも入射光側の位置に、光導電層の吸収波長領域及び他の光導電層の吸収波長領域において相互に吸収の異なる波長領域の入射光を遮る光機能層を備えた光変調素子が提案されている。
【０００５】
特許文献４には、光変調素子へ画像を書き込む方法として、駆動電圧の周波数を調整する方法が提案されている。特許文献４で用いられている表示素子としては、一対の電極と、液晶層と、光導電層と、を含む光アドレス型光変調層を複数積層してなる表示素子が用いられている。
【０００６】
特許文献５には、部分けん化ポリビニルアルコールを含む遮光層を備えた光変調素子が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１８１０４０号公報
【特許文献２】特開２００３−１４０１８４号公報
【特許文献３】特開２００７−１１４４７２号公報
【特許文献４】特開２００７−１０１７８１号公報
【特許文献５】特開２００７−１０１９０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差が、擬似太陽に暴露されたことによって減少することが抑制された表示媒体、書込装置、及び表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の本発明により達成される。すなわち、
【００１０】
請求項１に係る発明は、第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体である。
【００１１】
請求項２に係る発明は、前記第１の光吸収層が、複数の層からなる積層体である請求項１に記載の表示媒体である。
【００１２】
請求項３に係る発明は、第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体について、前記第１の電極と前記第２の電極の間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、を備えた書込装置である。
【００１３】
請求項４に係る発明は、第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体と、前記第１の電極と前記第２の電極の間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、を備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１、３、４に記載の発明によれば、本発明における第1の光吸収層に相当する層の、３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の波長領域内の少なくとも一部の波長の光における吸光度が１未満である場合に比べて、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差が、擬似太陽に暴露されたことによって減少することが抑制される、という効果を奏する。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、第１の光吸収層を単層構成とした場合に比べて、第１の光吸収層の厚みが容易に調整される、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施の形態における、表示媒体、書込装置、及び表示媒体の一例を示す構成図である。
【図２】本実施の形態における表示媒体、書込装置、及び表示媒体の図１とは異なる態様を示す模式図である。
【図３】実施例及び比較例における遮光層のスペクトルを示す線図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の書込装置及び書込方法の一の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１８】
図１に示すように、本実施の形態に係る表示装置１０は、書込装置１３と、表示媒体１１と、を備えている。書込装置１３は、表示媒体１１に画像の書き込みを行う装置である。
【００１９】
表示媒体１１は、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板１５、電極１８、液晶層２０Ｒ、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成とされている。
【００２０】
なお、本実施の形態においては、表示媒体１１が、本発明の表示媒体に相当し、書込装置１３が、本発明の書込装置に相当し、表示装置１０が、本発明の表示装置に相当する。また、電極１６が、本発明の表示媒体における第１の電極に相当し、液晶層２０Ｂが第１の液晶層に相当し、液晶層２０Ｇが第２の液晶層に相当し、積層体２１が積層体に相当する。また、遮光層２２Ｒが第１の光吸収層に相当し、光導電層２４Ｒが第１の光導電層に相当し、電極１７が第２の電極に相当する。また、電極１８が第３の電極に相当し、液晶層２０Ｒが第３の液晶層に相当し、遮光層２２Ｃが第２の光吸収層に相当する。また、光導電層２６Ｃが第２の光導電層に相当し、電極１９が第４の電極に相当する。
【００２１】
本実施の形態の表示媒体１１において、基板１２、基板１５、及び基板１４は、必ずしも設ける必要はないが、表示媒体１１の形状保持や表面保護のため設けることがよい。また、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板１５、電極１８、液晶層２０Ｒ、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４は、上記順に設けられた構成であればよく、間に接着層や隔離層等の他の層をはさんだ構成であってもよい。
【００２２】
液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２０Ｒは、各々、電場によって特定の色の光の反射状態及び透過状態を変調する機能を有し、且つ選択した状態が無電場で保持される性質（所謂、メモリ性）を有する層である。表示層２０Ｂは、層内に含まれる液晶を反射状態とされたときの色が青色の層である。表示層２０Ｇは、層内に含まれる液晶を反射状態とされたときの色が緑色の層である。表示層２０Ｒは、層内に含まれる液晶を反射状態とされたときの色が赤色の層である。すなわち、表示層２０Ｂは青色の光を選択反射し、表示層２０Ｇは緑色の光を選択反射し、表示層２０Ｒは赤色の光を選択反射する層である。
【００２３】
光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、互いに異なる波長領域の光を吸収することによって、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。本実施の形態では、光導電層２４Ｒは、詳細は後述するが、青色及び緑色の何れか一方または双方の波長領域の光が照射されると、該光の強度に応じて抵抗値が低下して、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示すように構成されている。また、光導電層２４Ｃは、赤色の波長領域の光が照射されると、該光の強度に応じて抵抗値が低下して、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示すように構成されている。
【００２４】
遮光層２２Ｃは、光導電層２６Ｃが感度を有する赤色の波長領域の光のうちの、予め定められた波長または波長領域の光（以下、「第２の波長領域の光」と称する場合がある）を遮光する。また、遮光層２２Ｃは、光導電層２４Ｒが感度を有する緑色及び青色の少なくとも一方の波長領域の光のうちの、予め定められた波長または波長領域の光（以下、「第１の波長領域の光」と称する場合がある）を透過する。
【００２５】
この第１の波長領域の光は、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの少なくとも一方への画像書込時に、光導電層２４Ｒへ照射される光である。このため、この第１の波長領域は、光導電層２４Ｒが感度を有する光の波長領域から適宜定めればよい。本実施の形態では、第１の波長領域は、赤色の波長領域の光のうちの特定の波長領域が、光導電層２６Ｃの感度や後述する遮光層２２Ｃの遮光性能に応じて予め定められる。
また、第２の波長領域の光は、液晶層２０Ｒへの画像書込時に、光導電層２６Ｃへ照射される光である。このため、この第２の波長領域は、光導電層２６Ｃが感度を有する光の波長領域から適宜定めればよい。本実施の形態では、第２の波長領域は、青色及び緑色の波長領域の光のうちの特定の波長領域が、光導電層２４Ｒの感度や後述する遮光層２２Ｒの遮光性能に応じて予め定められる。
【００２６】
なお、本実施の形態では、「遮光」とは、少なくとも対象の波長領域内の全領域の光に対する吸光度が少なくとも１以上であることを示し、２以上、３以上であってもよい。
【００２７】
一方、遮光層２２Ｒは、上記第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされている。
【００２８】
このように、本実施の形態の表示媒体１１は、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板、電極１８、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成において、この遮光層２２Ｒが、第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされているので、液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、液晶層２０Ｒ自体の構成を調整することなく、遮光層２２Ｒの特性が本実施の形態における特性の少なくとも一部を満たさない場合に比べて、液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２０Ｒの各液晶層における、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差が、擬似太陽に暴露されたことによって減少することが抑制されると考えられる。
【００２９】
以下、本実施の形態の表示媒体１１の各構成について詳細に説明する。
【００３０】
なお、本実施の形態の表示媒体１１では、基板１２側が表示面側とされており、基板１４側が非表示面側とされている。
【００３１】
基板１２、基板１４、及び基板１５各々は、絶縁性を有している。また、基板１２、基板１４、及び基板１５各々は、透光性を有している。
【００３２】
これらの基板１２、基板１４、及び基板１５各々には、必要に応じて、その表面に、液晶配向層、耐摩耗層、ガスの混入を防止するバリア層など公知の機能性膜を形成してもよく、また各基板は複数層から構成されていてもよい。
【００３３】
基板１２、基板１５、及び基板１４は、外力に耐える強度を有するシート形状の物体であり、表示面側に設けられた基板１２は少なくとも入射光を、表示面と反対側に設けられた基板１５及び基板１４は、後述する光源３５から照射される光を透過する。
【００３４】
これらの基板１２、基板１５、及び基板１４としては、透明な絶縁体シートもしくはフィルムが好適に用いられる。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）、トリアセチルセルロース等の透明性樹脂やガラス、セラミック等が用いられる。これらの基板として、透明性樹脂を使用する場合には、必要に応じて水蒸気バリア層を付加形成することが望ましい。フレキシブル基板が得られること、成形が容易なこと、コストの点などから光透過性の樹脂基板を用いることがより有利である。
これらの基板１２、基板１５、及び基板１４の厚みとしては、２５μｍ以上５００μｍ以下の範囲程度が良い。
【００３５】
なお、本実施の形態において、「絶縁」及び「絶縁性」とは、体積抵抗率で１０１２Ωｃｍ以上の範囲を意味する。一方、導電性とは、体積抵抗率で１０１０Ωｃｍ以下の範囲を意味する。また、本実施の形態において、「透明」とは、可視領域の光を実質的に透過（透過率８０％以上）することをいう。また、本実施の形態において「透過」とは、対象とする波長領域の光に対する透過率が８０％以上であることをいう。
【００３６】
電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９は、導電性（体積抵抗で２０００Ωｃｍ以下、以下これに準ずる）を有している。これらの電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９のうち、複数の液晶層（液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２６Ｃ）のうちの最も非表示面に設けられた液晶層２０Ｒより、表示面側に設けられている電極１６、電極１７、及び電極１８は、少なくとも基板１２側から入射した入射光を透過する。そして、液晶層２０Ｒより非表示面側に設けられた電極１９は、書込時に光源３５（詳細後述、図１参照）から照射される光を透過する。
【００３７】
電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９としては、例えば、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）などの金属薄膜、酸化インジウム錫（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの導電性金属酸化物、ポリピロールなど導電性高分子の薄膜など透光性の電気伝導体が用いられる。これらの電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９の厚みは特に限定されないが、１０ｎｍ以上１０μｍ以下の範囲から選択され、蒸着、スパッタリングなどにより形成される。
【００３８】
表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々は、電場によって特定の色の光の反射及び透過状態を変調する機能を有し、且つ選択した状態が無電場で保持される性質（所謂、メモリ性）を有する層である。
【００３９】
上述のように、表示層２０Ｂは、反射状態とされたときには、Ｂ（ブルー）色の光を反射する。表示層２０Ｇは、反射状態とされたときには、Ｇ（グリーン）色の光を反射する。表示層２０Ｒは、反射状態とされたときには、Ｒ（レッド）の色を反射する。
【００４０】
これらの液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２６Ｃのうち、同じ電極間に設けられている液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇは、反射状態と透過状態との間で変化するために必要な電圧が異なる。
【００４１】
なお、表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々は、曲げや圧力などの外力に対して破壊されない構造であることがよい。
【００４２】
表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々には、カイラルネマチック液晶（コレステリック液晶）をゼラチンバインダー（高分子マトリックス）中に分散させたＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）構造が用いられる。なお、本実施の形態では、表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々がＰＤＬＣ構造を採用する場合を説明するが、この構造に限ることなく、コレステリック液晶を、リブを介し電極間距離を固定したセルに配置する方式やカプセル化液晶により実現してもよい。また、液晶もコレステリック液晶に限ることなく、スメクチックＡ液晶、ネマチック液晶、ディスコティック液晶などが利用される。
【００４３】
これらの各表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々に含まれる液晶が反射状態とされたときの色は、液晶としてコレステリック液晶を用いる場合には、該コレステリック液晶の螺旋ピッチにより調整される。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、ネマチック液晶に対するカイラル剤の添加量で調整される。また、コレステリック液晶の螺旋ピッチの温度依存性を補償するために、捩じれ方向が異なる、または逆の温度依存性を示す複数のカイラル剤を添加する公知の手法を用いてもよい。
【００４４】
各表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々の層厚は、１μｍ以上１００μｍの範囲が挙げられる。
【００４５】
表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々に含まれる液晶材料としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知の液晶組成物が利用される。液晶材料には２色性色素などの色素、粒子などの添加剤を加えてもよく、高分子マトリクス中に分散したものや、高分子ゲル化したものや、マイクロカプセル化したものでもよい。また、液晶は高分子、低分子のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。
【００４６】
光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、互いに異なる波長領域の光を吸収することによって、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。詳細には、光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、電場下で、各々が感度を有する光を照射されると、内部光電効果による電荷の移動が発生し、光の強度に応じて抵抗値が小さくなる性質を有する。
【００４７】
本実施の形態では、光導電層２４Ｒは、電極１６及び電極１７の電極間に設けられている液晶層である液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの反射状態とされたときの色である青色及び緑色の波長領域の光に対して感度を有する。本実施の形態では、この青色及び緑色の波長領域の光のうちの、予め定められた波長領域または波長として、上記第１の波長領域が定められている。このため、光導電層２４Ｒは、本実施の形態では、第１の波長領域の光（例えば、青色または緑色の光）が照射されることで、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。このため、光導電層２４Ｒの色は、本実施の形態では、赤として視認される。
【００４８】
一方、光導電層２６Ｃは、電極１８及び電極１９の電極間に設けられている液晶層である液晶層２０Ｒの反射状態とされたときの色である赤色の波長領域の光に対して感度を有する。本実施の形態では、この赤色の波長領域の光のうちの、予め定められた波長領域または波長として、上記第２の波長領域が定められている。このため、光導電層２６Ｃは、本実施の形態では、第２の波長領域の光（例えば、赤色の光）が照射されることで、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。このため、光導電層２６Ｃの色は、本実施の形態では、シアンとして視認される。
【００４９】
光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、上記特性を有する層であればよいが、これらの光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃとしては、（ａ）無機半導体材料として、アモルファス・シリコンや、ＺｎＳｅ、ＣｄＳなどの化合物半導体により構成される層、（ｂ）光照射によって電荷を発生する電荷発生材料及び電界によって電荷移動を生ずる電荷輸送材料の混合物や積層体により構成される層などが挙げられる。
【００５０】
詳細には、光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、ａ−Ｓｉ：Ｈ、ａ−Ｓｅ、Ｔｅ−Ｓｅ、Ａｓ2Ｓｅ3、ＣｄＳｅ、ＣｄＳなどの無機光導電体、あるいはアゾ顔料、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、キナクリドン顔料、ピロロピロール顔料、インジゴ顔料などの電荷発生材料とアリールアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、ポリビニルカルバゾールなどの電荷輸送材料とを組合せた有機光導電体などにより構成される。
【００５１】
また、光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃの層厚としては、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲が挙げられる。
【００５２】
電荷発生層２４Ｒ３、及び電荷発生層２６Ｃ３は、各々の光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃが、上述の電気的特性分布を示す波長領域の光を吸収して、電荷を発生させる機能を有する層である。
【００５３】
電荷発生層２４Ｒ３及び電荷発生層２６Ｃ３各々を構成する電荷発生材料としては、例えば、金属または無金属フタロシアニン化合物、ビスおよびトリスアゾ化合物、ペリレン化合物、スクアリリウム化合物、アズレニウム化合物、アントロン化合物、ピリリウム化合物、多環キノン化合物、インジゴ化合物、縮合芳香族系化合物、キサンテン化合物、キナクリドン化合物、シアニン色素、ピロピロール色素などの有機材料が挙げられるが、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン等の各種フタロシアニン結晶が用いられる。
【００５４】
電荷発生層２４Ｒ３及び電荷発生層２６Ｃ３の各々の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などドライな膜形成方法のほか、上記電荷発生材料をバインダー樹脂に分散した塗布液をバーコート法、スピンコート法、ロールコート法、ディップ法、キャスティング法、ブレードコーティング法、スプレーコーティング法などのウエットな膜形成方法が挙げられる。上記塗布液を用いる場合、該塗布液中の電荷発生材料の濃度としては、１質量％以上２０質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上５質量％以下が挙げられる。
【００５５】
上記塗布液に含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、及びこれらの共重合体などの絶縁性樹脂が挙げられる。これらバインダー樹脂は単独で用いても２種以上を併用してもよい。前記塗布液を調整するための溶媒としては、バインダー樹脂を溶解する溶媒が用いられ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の環状または鎖状のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエチレン、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、リグロイン等の鉱油、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。
【００５６】
これらの電荷発生層２４Ｒ３及び電荷発生層２６Ｃ３各々の層厚としては、１０ｎｍ以上１μｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が挙げられる。１０ｎｍより薄いと光感度が不足し、かつ均一な膜の作製が難しくなり、また１μｍより厚くなると、光感度は飽和し、膜内応力によって、剥離が生じやすくなる。
【００５７】
電荷輸送層２４Ｒ２は、電荷発生層２４Ｒ３で発生した電荷が注入されて、注入した電荷を印加された電場方向に輸送する機能を有する層である。
同様に、電荷輸送層２６Ｃ２は、電荷発生層２６Ｃ３で発生した電荷が注入されて、注入した電荷を印加された電場方向に輸送する機能を有する層である。
【００５８】
電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２は、電荷輸送材料を含んで構成される。この電荷輸送材料としては、正孔を輸送する正孔輸送材料と電子を輸送する電子輸送材料が挙げられる。
【００５９】
正孔輸送材料としては、カルバゾール系、トリアゾール系、オキサジアゾール系、イミダゾール系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系、ベンジジン系の化合物が挙げられ、電子輸送材料としては、キノン系、ジフェノキノン系、テトラシアノキノジメタン系、キサントン系、ベンゾフェノン系、及びニトロフルオレノン系の化合物が挙げられる。中でも、ベンジジン系化合物とスチルベン系化合物が安定性、正孔輸送能力が高いことから良い。なお、本実施の形態では、電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２は、正孔輸送層であるとして説明するが、この形態に限られず、電子輸送層として機能する層を用いても良い。
【００６０】
電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２に含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が適用される。特に、ポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２のバインダーとした場合、電荷輸送特性が良好である上に、強度や柔軟性、透明性のバランスに優れているため、よい。
【００６１】
電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２における電荷輸送材料とバインダー樹脂との質量混合比（電荷輸送材料／バインダー樹脂）としては、１／１０以上１０／１以下の範囲、好ましくは３／７以上７／３以下の範囲が挙げられる。
【００６２】
電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２の作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法などが適用される。溶剤塗布法の場合には、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いられる。また、この電荷輸送層形成時に用いる塗布液中の電荷輸送材料の濃度としては、２質量％以上５０質量％以下の範囲、好ましくは５質量％以上１５質量％以下の範囲が挙げられる。
【００６３】
この電荷輸送層２４Ｒ２及び電荷輸送層２６Ｃ２の層厚としては、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲、好ましくは３μｍ以上２０μｍ以下の範囲が挙げられる。１μｍより薄いと耐電圧が低くなり信頼性確保が困難となり、１００μｍより厚くなると表示層とのインピーダンスマッチングが困難となり、設計が難しくなる。
【００６４】
なお、電荷輸送層２４Ｒ２及び/または電荷輸送層２６Ｃ２の上に第二電荷発生層を設け、所謂Ｄｕａｌ−ＣＧＬ構成の光導電層としてもよい。その場合の第二電荷発生層の材料としては、電荷発生層２４Ｒ３及び電荷発生層２６Ｃ３で用いたものと同じものが用いられる。
【００６５】
遮光層２２Ｃと２２Ｒは、顔料を分散した樹脂、染料を溶解した樹脂、染料で染色した樹脂などが利用される。
【００６６】
顔料としては、例えば、カドミウム系、クロム系、コバルト系、マンガン系、カーボン系などの無機顔料、アゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系などの有機顔料が利用される。
【００６７】
染料としては、ニトロソ染料、ニトロ染料、アゾ染料、スチルベンアゾ染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料、キノリン染料、ポリメチン染料、チアゾール染料、インドフェノール染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、硫化染料、アミノケトン染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料などが利用される。
【００６８】
遮光層２２Ｃは、液晶層２０Ｒと光導電層２６Ｃとの層間に設けられている。
遮光層２２Ｃは、光導電層２６Ｃが感度を有する赤色の波長領域の光のうちの、少なくとも上記第２の波長領域の光を遮光する。また、遮光層２２Ｃは、光導電層２４Ｒが感度を有する緑色及び青色の少なくとも一方の波長領域の光のうちの、少なくとも上記第１の波長領域の光を透過する。
なお、本実施の形態では、「遮光」とは、少なくとも対象の波長領域内の全領域の光に対する吸光度が少なくとも１以上であることを示し、２以上、３以上であってもよい。
【００６９】
この遮光層２２Ｃの第２の波長領域の光に対する遮光性能としては、例えば、光源３５Ｒから照射される第２の波長領域の光に対して、吸光度が１以上の遮光性能がよく、吸光度２以上の遮光性能を示すことがさらによい。
【００７０】
この遮光層２２Ｃには、例えば、顔料を分散した樹脂が利用され、水溶性の樹脂液に顔料を分散した塗液を塗布乾燥して形成される。
この遮光層２２Ｃに用いられる顔料としては、上記遮光層２２Ｃとして要求される性能を満たすものであればよく、例えば、青色顔料であるフタロシアニン系顔料等が挙げられる。この遮光層２２Ｃに用いる顔料としては、単一の顔料であっても２種以上の顔料を混合して用いても構わない。
【００７１】
この遮光層２２Ｃに用いられる樹脂としては、水溶性樹脂または非水溶性樹脂が利用されるが、駆動電圧低減などの点で水溶性樹脂が好ましい。この水溶性樹脂としては、例えば完全けん化、または部分けん化ポリビニルアルコール、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、水溶性ポリ（メタ）アクリル酸共重合体、ポリアルキレンオキサイド、水溶性ポリエステル、ポリエチレングリコール、および水溶性マレイン酸樹脂などが挙げられるが、製造性や他の層との密着性が良好なことからから、ポリビニルアルコールや、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマールなどのポリビニルアルコール誘導体が特に望ましい。
【００７２】
この遮光層２２Ｃの形成方法としてはスクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が用いられる。塗布法においては、上記顔料を上記樹脂とともに適当な溶剤に分散ないし溶解させて調整した塗布液を用いればよい。
【００７３】
この遮光層２２Ｃの層厚は、所定の遮光性能を有していれば特に限定されないが、表示媒体１１の携帯性や可撓性を損なわない範囲であればよく、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。
【００７４】
遮光層２２Ｒは、表示素子３２より表示面側に配置された表示素子３０に設けられている。この遮光層２２Ｒは、表示素子３０において、液晶層２０Ｂと液晶層２０Ｇとの積層体２１と、光導電層２４Ｒと、の層間に設けられている。
【００７５】
遮光層２２Ｒは、光導電層２４Ｒが感度を有する緑色及び青色の少なくとも一方の波長領域の光のうちの、少なくとも上記第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度を１以上とされている。
【００７６】
この遮光層２２Ｒの、上記第１の波長領域の光に対する遮光性能としては、第１の波長領域の光に対して、吸光度が１以上の遮光性能であることが必須であり、吸光度２以上や、吸光度３以上であってもよい。
【００７７】
そして、この遮光層２２Ｒの、上記３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度については、この全波長領域について、吸光度が１以上であることが必須であるが、吸光度２以上や、吸光度３以上であってもよい。
【００７８】
この遮光層２２Ｒの遮光性能としては、上記特性を満たせば良く、さらに、３４０ｎｍ未満の波長領域の光に対する吸光度が１以上であってもよい。
【００７９】
この遮光層２２Ｒには、例えば顔料を分散した樹脂が利用され、水溶性、または非水溶性の樹脂液に顔料を分散した塗液を塗布乾燥して形成される。
この遮光層２２Ｒに用いられる顔料としては、遮光層２２Ｒとして要求される上記の遮光性能を満たすものであればよく、例えば、赤色顔料としてピロロピロール系顔料やキナクリドン系顔料、黄色顔料としてインドリン系顔料や水酸化鉄系顔料を、単一または２種以上の混合して用いればよい。
【００８０】
この遮光層２２Ｒに用いられる樹脂としては、水溶性樹脂としては、前述の樹脂と同様のものが使用できる。非水溶性樹脂としては、例えば、アルキド（フタル酸）樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂などの樹脂が用いられる。なお、これらの樹脂には、ポリイソシアネートなどの硬化剤や増粘剤など添加物を含んでいてもよい。
【００８１】
この遮光層２２Ｒの形成方法としてはスクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が用いられる。塗布法においては、上記顔料を上記樹脂とともに適当な溶剤に分散または溶解させて調整した塗布液を用いればよい。
【００８２】
この遮光層２２Ｒの層厚は、所定の遮光性能を有していれば特に限定されないが、表示媒体１１の携帯性や可撓性を損なわない範囲であればよく、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。
【００８３】
遮光層２２Ｒは、画像解像度の低下を抑制する観点から、絶縁性（体積抵抗率で１０１２Ωｃｍ以上）であることがよく、遮光層２２Ｒの体積抵抗率は、体積抵抗率で１０１３Ωｃｍ以上であることがさらによい。
【００８４】
遮光層２２Ｒの体積抵抗率の調整は、遮光層２２Ｒの塗布液に含まれるイオン成分をイオン交換樹脂を用いて削減することによって調整される。
【００８５】
なお、上述した遮光層２２Ｃについても、画像解像度の低下を抑制する観点から、絶縁性（体積抵抗率で１０１２Ωｃｍ以上）であることがよく、遮光層２２Ｃの体積抵抗率は、体積抵抗率で１０１３Ωｃｍ以上であることがさらによい。遮光層２２Ｃの体積抵抗率の調整についても、遮光層２２Ｒの体積抵抗率の調整方法と同じ方法を用いればよい。
【００８６】
遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度は、１５０μＳ／ｃｍ以下とされていることがよい。遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度が１５０μＳ／ｃｍ以下に調整されていることで、遮光層２２Ｒから液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇ側へ、あるいは遮光層２２Ｒの成膜時に、イオン成分が液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇへ拡散してこれらの液晶層が汚染されることが抑制される、と考えられる。なお、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇがイオン成分によって汚染された状態で、電極１６及び電極１７に電圧が印加されると、イオン伝導によって液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇにかかる電圧が低下してしまい、イオン汚染されていない状態とは異なる特性を示すようになり、画質劣化が生じる場合があると考えられる。しかし、遮光層２２Ｒのイオン伝導度が、１５０μＳ／ｃｍ以下に調整されることで、遮光層２２Ｒから液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇへのイオン成分の拡散が抑制されると考えられる。
【００８７】
なお、この遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度は、電気伝導率計（ＤＳ―１５：ＨＯＲＩＢＡ製）を用いて、２５．０℃の環境で遮光層塗布液を測定した値である。
【００８８】
遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度を、１５０μＳ/ｃｍ以下に調整するためには、遮光層２２Ｒの塗布液中に含まれるイオン成分をイオン交換樹脂を用いて削減すればよい。
【００８９】
なお、上述した遮光層２２Ｃについても、遮光層２２Ｃから液晶層２０Ｒ側へ、あるいは遮光層２２Ｃの成膜時に、イオン成分が液晶層２０Ｒへ拡散して液晶層２０Ｒが汚染されることを抑制する観点から、その塗布液のイオン伝導度は、１５０μＳ／ｃｍ以下とされていることがよい。遮光層２２Ｃの塗布液のイオン伝導度の調整方法についても、遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度の調整方法と同じ方法を用いればよい。
【００９０】
なお、本実施の形態の表示媒体１１では、遮光層２２Ｒが１層で構成されているものとして説明するが、図２に示すように、遮光層２２Ｒを多層構成とした構成であってもよい。なお、図２に示す表示媒体１１Ａは、図１に示す表示媒体１１の、遮光層２２Ｒを、２層の遮光層２２Ｒ１及び遮光層２２Ｒ２の積層体として構成した表示媒体１１Ａとした以外は、表示媒体１１と同じ構成であるため、同じ機能を示す部材及び層には同じ符号を付与して詳細な説明を省略する。なお、図２に示す表示装置１０Ａについても、図１に示す表示装置１０の表示媒体１１にかえて、表示媒体１１Ａを用いた以外は同じ構成であるため詳細な説明を省略する。
【００９１】
図２に示す表示媒体１１Ａは、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板１５、電極１８、液晶層２０Ｒ、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成とされている。そして、この遮光層２２Ｒが、遮光層２２Ｒ１及び遮光層２２Ｒ２の２層構成とされている。なお、本実施の形態では、遮光層２２Ｒを多層構成とする場合には、図２に示すように２層構成である場合を説明するが、多層構成であればよく、３層以上であってもよい。
【００９２】
遮光層２２Ｒ１及び遮光層Ｒ２は、遮光層２２Ｒ１及び遮光性Ｒ２の積層体として構成されたときに、上記遮光層２２Ｒの遮光性能を実現する構成とされていればよい。
【００９３】
このように、遮光層２２Ｒを複数層として構成することによって、遮光層２２Ｒを単層構成とする場合に比べて、各層の層厚がおさえられ、成膜性に優れ、遮光層２２Ｒを構成する各層の塗布溶液のゲル化や凝集化が進行するまでの猶予時間（所謂、ポットライフ）が、遮光層２２Ｒを単層構成とする場合に比べて長くなる、と考えられる。
なお、多層構成とされた遮光層２２Ｒの各層（遮光層２２Ｒ１及び遮光層Ｒ２）の各々層厚は、遮光層２２Ｒを何層構成とするか等によっても異なるが、例えば、０．５μｍ以上５．０μｍ以下が挙げられる。
【００９４】
なお、遮光層２２Ｒを構成する遮光層２２Ｒ１と遮光層Ｒ２との層間に、透光性を有する隔離層（図示省略）を設けた構成としてもよい。この隔離層としては、多層構成の遮光層２２Ｒとして形成されたときに、上記遮光層２２Ｒとしての特性を阻害しない材料で構成すればよい。このような隔離層を、多層構成とされた遮光層２２Ｒを構成する各層の層間（遮光層２２Ｒ１と遮光層Ｒ２との層間）に設けることで、隔離層を設けない場合に比べて、多層構成とされた遮光層２２Ｒを構成する各層の密着性や膜質が向上する場合がある。
【００９５】
なお、遮光層２２Ｒを多層構成とした場合には、遮光層２２Ｒを構成する各遮光層（遮光層２２Ｒ１及び遮光層Ｒ２）の塗布液の各々イオン伝導度は、単層構成の遮光層２２Ｒと同じ範囲に調整すればよい。
【００９６】
以下、本実施の形態の表示媒体１１を備えた表示装置１０、及び表示媒体１１に画像を書き込む書込装置について、詳細に説明する。
【００９７】
図１に示すように、表示装置１０に設けられた書込装置１３は、光照射部３４、制御部３８、電圧印加部４０、及び光学模様表示部４２を含んで構成されている。
光照射部３４、電圧印加部４０、及び光学模様表示部４２は、制御部３８に電気的に接続されている。
【００９８】
制御部３８は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、及びＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）を含むマイクロコンピュータとして構成されており、書込装置１３内の装置各部を制御する。
【００９９】
電圧印加部４０は、電圧印加部４１及び電圧印加部４３を含んで構成されている。電圧印加部４１は、表示媒体１１の電極１６及び電極１７に電気的に接続されており、電極１６及び電極１７に電圧を印加する。電圧印加部４３は、表示媒体１１の電極１８及び電極１９に電気的に接続されており、電極１８及び電極１９に電圧を印加する。
【０１００】
書込装置１３には、表示媒体１１を装着するためのスロット（図示省略）が設けられており、このスロット（図示省略）に表示媒体１１が装着されることで、スロット（図示省略）に設けられたコネクタ（図示省略）等を介して表示媒体１１の電極１６及び電極１７が電圧印加部４１に電気的に接続され、表示媒体１１の電極１８及び電極１９が電圧印加部４３に電気的に接続される。
また、表示媒体１１が書込装置１３の図示を省略するスロットに装着されると、表示媒体１１は、基板１４側から基板１２側へ向かって光照射部３４から光（第１の波長領域の光及び第２の波長領域の光）を照射される状態となる。
【０１０１】
電圧印加部４０は、制御部３８から入力された信号に基づいた電圧を、表示媒体１１の電極１６及び電極１７、及び電極１８及び電極１９に印加する構成とされていればよい。電圧印加部４０としては、例えば、バイポーラ高電圧アンプなどが用いられる。
【０１０２】
光照射部３４は、複数の光源３５を含んで構成されている。これらの複数の光源３５は、表示媒体１１に表示される各画素に対応する位置に光を照射する位置に設けられている。各光源３５は、光源３５Ｒと光源３５Ｂとを含んで構成されている。光源３５Ｂは、光導電層２４Ｒが感度を有する波長領域の光として、上記第１の波長領域の光を表示媒体１１に向かって照射する。光源３５Ｒは、光導電層２６Ｃが感度を有する波長領域の光として、上記第２の波長領域の光を表示媒体１１に向かって照射する。
【０１０３】
上記光源３５Ｂ及び光源３５Ｒとしては、例えば、ＬＥＤ、無機ＥＬ、有機ＥＬ、レーザー等が用いられる。
【０１０４】
なお、本実施の形態では、光源３５は、表示媒体１１に画像が表示されたときの該画像の各画素に対応して設けられているものとして説明するが、このような構成に限られない。例えば、光源３５Ｂ及び光源３５Ｒを含んだ構成の１つの光源３５を、基板１４の面方向に沿って走査露光させる構成としてもよい。
【０１０５】
光学模様表示部４２は、光照射部３４の光源３５Ｒ及び光源３５Ｂから出射されて表示媒体１１に照射される光の一部または全てを遮光する。この光学模様表示部４２による遮光は、制御部３８の制御によって行われる。光学模様表示部４２は、光源３５Ｒ及び光源３５Ｂから表示媒体１１に照射される光の光路を遮光する構成であればよく、一例として、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等の表示媒体が挙げられる。
【０１０６】
光学模様表示部４２は、例えば、画素毎に設けられた光源３５から出射された光を画素毎、または各画素に対応する光源３５Ｒ及び光源３５Ｂ毎に遮光するために、制御部３８の制御によって、遮光対象の光源３５（光源３５Ｒ、光源３５Ｂ）の光路を遮断するように、光学模様表示部４２の対応する領域に黒色画像等を表示する。
【０１０７】
本実施の形態の表示装置１０及び書込装置１３では、制御部３８の制御によって、電圧印加部４１から電極１６及び電極１７へ、電圧印加部４３から電極１８及び電極１９へ電圧を印加しつつ、第１の波長領域の光（すなわち、青色及び緑色の少なくとも一方の光）、及び第２の波長領域の光（すなわち赤色の光）を、光照射部３４から光学模様表示部４２を介して表示媒体１１の基板１４側から基板１２側へ向かって照射する。
【０１０８】
光源３５Ｒから出射されて、光学模様表示部４２を透過した第２の波長領域の光が光導電層２６Ｃへ照射されることで、光導電層２６Ｃの該光の照射領域の抵抗値が変化する。この光導電層２６Ｃの抵抗値の変化によって、電極１８及び電極１９間に印加された電圧における表示層２０Ｒの分圧が変化し、表示層２０Ｒの液晶が透過状態から反射状態、または反射状態から透過状態へと変化する。これによって、表示層２０Ｒに画像が表示される。
【０１０９】
一方、光源３５Ｂから出射されて、光学模様表示部４２を透過した第１の波長領域の光が光導電層２４Ｒへ照射されることで、光導電層２４Ｒの該光の照射領域の抵抗値が変化する。この光導電層２４Ｒの抵抗値の変化によって、電極１６及び電極１７間に印加された電圧における表示層２０Ｂ及び表示層２０Ｇの分圧が変化し、表示層２０Ｂ及び表示層２０Ｇの何れか一方または双方の液晶が透過状態から反射状態、または反射状態から透過状態へと変化する。これによって、表示層２０Ｂ及び表示層２０Ｇの何れか一方または双方に画像が表示される。
【０１１０】
これによって、表示媒体１１に画像が書き込まれる。
【０１１１】
表示装置１０に設けられ、書込装置１３によって画像を書き込まれる表示媒体１１は、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板、電極１８、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成において、この遮光層２２Ｒが、第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされている。
このため、表示装置１０及び書込装置１３では、液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２０Ｒの各液晶層について、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差の減少が抑制されると考えられる。
【実施例】
【０１１２】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。なお、実施例中「部」および「％」は、特に断らない限りそれぞれ「質量部」および「質量％」を表す。
【０１１３】
（実施例１）
―積層体１の作製―
――基板１４、電極１９、シアンの光導電層２６Ｃ、及び遮光層２２Ｃの積層体１−Ａの作製――
まず、電極１９としてＩＴＯ膜（厚さ８００Å）の形成された１２５μｍ厚のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（ハイビーム：東レ製）１４のＩＴＯ膜上に、電荷発生層２６Ｃ３を形成した。
具体的には、電荷発生材料としてクロロガリウムフタロシアニン、バインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂（エスレックＢＸ−５：積水化学工業社製）を用い、その質量比が１：１となるようブタノールに混合した後ダイノーミルで分散し、４質量％のブタノール分散液（塗布液Ａ）を調製した。
上記ＩＴＯ膜１９上に、塗布液Ａをスピンコート法により、塗布後、１００℃で１５分間乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層２６Ｃ３を形成した。
【０１１４】
次に、この電荷発生層２６Ｃ３上に電荷輸送層２６Ｃ２を形成した。
具体的には、まず、電荷輸送材料として、Ｎ，Ｎ´−ビス（４−エチルフェニル）−１，１´―ビフェニル−４，４´−ジアミン、バインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂（ＰＣＺ３００：三菱瓦斯化学社製）を用い、その質量比が３：２となるよう、モノクロロベンゼンに溶解し、２０質量％溶液（塗布液Ｂ）を調製した。
この塗布液Ｂを電荷発生層２６Ｃ３上にスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で４５分間乾燥し、膜厚６．５μｍの電荷輸送層２６Ｃ２を形成した。
以上のようにして光導電層２６Ｃを形成した。
【０１１５】
この光導電層２６Ｃ上に、ポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）を、溶媒としての水／エタノール混合溶媒（質量混合比＝７０／３０）に溶解した塗布液（固形分濃度４質量％）を、スピンコート法により塗布後、１００℃で１５分間乾燥して０．５μｍ厚の第一隔離層を形成した。
【０１１６】
次に、この第一隔離層上に、ポリビニルアセタール樹脂（エスレックＢＸ−５：積水化学工業社製）を、溶媒としてのブタノール溶液に溶解した塗布液（固形分濃度２質量％）を、スピンコート法により塗布後、１００℃で１５分間乾燥して０．１μｍ厚の第二隔離層を形成した。
【０１１７】
さらに、この第二隔離層上に、遮光層２２Ｃを形成した。
具体的には、フタロシアニン系青色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ１５：６の水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：１となるように混合し、水分散液（塗布液Ｃ、固形分濃度８質量％）を調製した。
この塗布液Ｃを、スピンコート法を用いて塗布後、１００℃で６０分間乾燥し、膜厚１．０μｍの遮光層２２Ｃを形成した。
【０１１８】
また、この塗布液Ｃを用いて、透明なＰＥＴフィルム上に、膜厚１．０μｍの遮光層を形成し、３７０ｎｍ以上７００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを分光光度計Ｕ―４１００（日立製作所製）を用いて測定したところ、図３の線図５０に示す結果が得られた。
【０１１９】
次に、この遮光層２２Ｃ上に、接着層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤（タケラックＡ３１５／タケネートＡ５０：三井化学社製）をスピンコート法を用いて塗布、１００℃で１０分間乾燥し１．２μｍの接着層を形成した。
【０１２０】
このようにして、積層体１―Ａを形成した。
【０１２１】
――基板１５、電極１８、及び液晶層２０Ｒの積層体１−Ｂの作製――
一方、別のＰＥＴ（厚さ１２５μｍ）上に電極として形成されたＩＴＯ膜（厚さ８００Å）１８上に、表示層２０Ｒを形成した。
具体的には、ネマチック液晶（Ｅ７：メルク社製）、カイラル剤１（ＣＢ１５：メルク社製）、カイラル剤２（Ｒ１０１１：メルク社製）を適量混合し、赤の色光を選択反射するコレステリック液晶を調製した。
このコレステリック液晶を４．２μｍ径のセラミック多孔質膜をセットした膜乳化装置（マイクロキット：ＳＰＧテクノ社製）を用いて０．２５％のドデシルベンゼン酸ナトリウム水溶液中で乳化を実施した。得られたエマルジョンのコレステリック液晶ドロップの平均粒径を、レーザー粒度分布計を用いて測定したところ、約１５μｍと見積もられた。
【０１２２】
上記のようにして得られたエマルジョンを一昼夜放置し、液晶ドロップの沈降後、上澄みを取り除くことにより、液晶ドロップの体積率が約６０％の濃縮エマルジョンを得た。このエマルジョンに、液晶とゼラチンの重量比が７：３となるように、あらかじめ調製しておいた１０％ゼラチン水溶液を加えることによりＲ表示層塗布液（塗布液Ｄ）を作製した。
この塗布液Ｄを、アプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚２０μｍの表示層２０Ｒを形成した。
【０１２３】
このようにして、積層体１―Ｂを形成した。
【０１２４】
前記形成した１―Ａと１―Ｂとを接着層と表示層２０Ｒが接するようにして密着させ、７０℃でラミネートを行い、積層体１を作製した。
【０１２５】
―積層体２の作製―
――基板１５、電極１７、光導電層２４Ｒの積層体１−Ｂの作製――
まず、電極１７としてＩＴＯ膜（厚さ８００Å）の形成された１２５μｍ厚のＰＥＴフィルム（基板１５に相当）のＩＴＯ膜（電極１７に相当）上に、電荷発生層２４Ｒ３を形成した。
具体的には、電荷発生材料としてジブロモアンスアンスロン、バインダー樹脂としてポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ：積水化学工業社製）を用い、その質量比が１：３となるようにブタノールに混合、ダイノーミルで分散し、４質量％のブタノール分散液（塗布液Ｅ）を調製した。
【０１２６】
上記電極１７としてのＩＴＯ膜上に、塗布液Ｅをスピンコート法により塗布後、１００℃で１５分間乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層２４Ｒ３を形成した。
次に、この電荷発生層２４Ｒ３上に電荷輸送層２４Ｒ２を形成した。
具体的には、前記調製した荷輸送材料を含む塗布液Ｂを電荷発生層２４Ｒ３上にスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で４５分間乾燥し、膜厚６．５μｍの電荷輸送層２４Ｒ２を形成した。以上のようにして光導電層２４Ｒを形成した。
【０１２７】
さらに、前記と同様にして、第一隔離層と第二隔離層を形成した。さらに、形成した第二隔離層の上に、遮光層２２Ｒを形成した。
具体的には赤色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ２５４と黄色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ１３９の水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料Ｐ．Ｒ．２５４とＰ．Ｙ．１３９とバインダー樹脂の質量比が０．８：０．２：１となるように混合し、水分散液（塗布液Ｆ）を調製した。
この塗布液Ｆをスピンコート法を用いて塗布後、乾燥し、膜厚１．５μｍの遮光層２２Ｒを形成した。
【０１２８】
さらに、この遮光層２２Ｒ上に、接着層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤（タケラックＡ３１５／タケネートＡ５０：三井化学社製）をスピンコート法を用いて塗布、１００℃で１０分間乾燥し１．２μｍの接着層を形成した。
このようにして、積層体２―Ａを作製した。
【０１２９】
――基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ、及び液晶層２０Ｇの積層体２−Ｂの作製――
一方、別のＰＥＴ基板（厚さ１２５μｍ）（基板１２に相当）上に電極１６として形成されたＩＴＯ膜（厚さ８００Å）上に、表示層２０Ｂおよび表示層２０Ｇを形成した。なお、基板１２としてはＩＴＯが形成された側とは反対側の表面に３４０ｎｍ以下の紫外光をカットする紫外光遮光層が形成されたものを用いた。
【０１３０】
具体的には、ネマチック液晶（Ｅ７：メルク社製）、カイラル剤１（ＣＢ１５：メルク社製）、カイラル剤２（Ｒ１０１１：メルク社製）を適量混合し、青色の色光を選択反射するコレステリック液晶を調製した。
このコレステリック液晶を４．２μｍ径のセラミック多孔質膜をセットした膜乳化装置（マイクロキット：ＳＰＧテクノ社製）を用いて０．２５％のドデシルベンゼン酸ナトリウム水溶液中で乳化を実施した。得られたエマルジョンのコレステリック液晶ドロップの平均粒径を、レーザー粒度分布計を用いて測定したところ、約１５μｍと見積もられた。
上記のようにして得られたエマルジョンを一昼夜放置し、液晶ドロップの沈降後、上澄みを取り除くことにより、液晶ドロップの体積率が約６０％の濃縮エマルジョンを得た。このエマルジョンに、液晶とゼラチンの重量比が７：３となるように、あらかじめ調製しておいた１０％ゼラチン水溶液を加え、さらにゼラチンを架橋する架橋剤として３０％のグリオキサール水溶液を塗布液中固形分の５％になるよう添加し、Ｂ表示層塗布液（塗布液Ｇ）を作製した。この塗布液Ｇをアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚１５μｍの表示層２０Ｂを形成した。
【０１３１】
同様にして、ネマチック液晶（Ｅ７：メルク社製）、カイラル剤１（ＣＢ１５：メルク社製）、カイラル剤２（Ｒ１０１１：メルク社製）を適量混合し、緑色の色光を選択反射するコレステリック液晶を調製した。このコレステリック液晶を前記と同様に乳化、調液を行い、Ｇ表示層塗布液（塗布液Ｈ）を作製した。この塗布液Ｈを、アプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚１５μｍの表示層２０Ｇを形成した。
【０１３２】
このようにして、積層体２―Ｂを作製した。
【０１３３】
前記形成した２―Ａと２―Ｂを接着層と表示層２０Ｇが接するようにして密着させ、７０℃でラミネートを行い、積層体２を形成した。
【０１３４】
―表示媒体Ａ１の作製―
次に、積層体１と積層体２を貼り合わせて一体化し、表示媒体Ａ１を作製した。
【０１３５】
具体的には、積層体１の液晶層塗布基板１５の液晶塗布面とは逆側に、接着層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤（タケラックＡ３１５／タケネートＡ５０：三井化学社製）をスピンコート法を用いて塗布、３０℃で６０分間乾燥し１．２μｍの接着層を形成した。
この接着層と、積層体２の光導電層塗布基板１５の光導電層塗布面と逆側面が接するようにして、密着させ、５０℃でラミネートを行い、表示媒体Ａ１を作製した。
【０１３６】
（実施例２）
実施例１で作製した表示媒体Ａ１において、遮光層２２Ｒを、下記の遮光層２２Ｒ１及び遮光層２２Ｒ２の２層の積層体とした以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体Ａ２を作製した。
【０１３７】
遮光層２２Ｒ2の形成は、具体的には、赤色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４の水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：１となるように混合し、水分散液（塗布液）を調製した。この塗布液をスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で１５分間乾燥し、遮光層２２Ｒ２を形成した。上記成膜した遮光層２２Ｒ2の厚みは１．０μｍであった。
【０１３８】
次に、この遮光層２２Ｒ2上に、下記方法で遮光層２２Ｒ1を形成した。この遮光層２２Ｒ２の形成は、具体的には、黄色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ１３９と、バインダー樹脂としてポリメチルメタクリレート樹脂（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：２となるように酢酸ｎプロピルに混合し、酢酸ｎプロピル分散液（塗布液）を調製した。この塗布液をスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で１５分間乾燥し、遮光層２２Ｒ1を形成した。
上記成膜した遮光層２２Ｒ1の厚みは１．０μｍであった。
【０１３９】
また、上記遮光層２２Ｒ１及び遮光層２２Ｒ２の２層構成の遮光層２２Ｒを透明なＰＥＴフィルム上に同じ厚み（１．０μｍ）に成膜し、３７０ｎｍ以上７００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを分光光度計Ｕ―４１００（日立製作所製）を使用して測定したところ、図３の線図５０に示すように、実施例１と同じ結果が得られた。
【０１４０】
（比較例１）
実施例１で作製した表示媒体Ａ１において、遮光層２２Ｒを、下記の比較遮光層１とした以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で比較表示媒体Ｂ１を作製した。
【０１４１】
比較遮光層１の形成は、具体的には、赤色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：１となるように混合し、水分散液（塗布液）を調製した。この塗布液をスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で１５分間乾燥し、遮光層２２Ｒを形成した
この比較遮光層１の厚みは１．０μｍであった。
【０１４２】
また、上記比較遮光層１を透明なＰＥＴフィルム上に同じ厚み（１．０μｍ）に成膜し、３７０ｎｍ以上７００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを分光光度計Ｕ−４１００（日立製作所製）を使用して測定したところ、図３の線図５２に示す結果が得られた。
【０１４３】
―反射率評価―
上記実施例１〜実施例２及び比較例１で作製した、表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２及び比較表示媒体Ｂ１の各々について、２５℃５０％ＲＨの環境下で、電極間（電極１８及び電極１９に相当するＩＴＯ間）に５０Ｈｚの矩形交流電圧を印加するとともに６００μＷ/cm2の露光量の光（波長６６０ｎｍ）を０．２秒間照射した後に、該電圧印加と露光を解除することによって、書き込みを行ない、シアン表示したときの反射率を積分球型分光測色計ＣＭ−２０２２（ミノルタ製）を用いて測定した。つづいて、上記の明書込において、書込光である６００μＷ／ｃｍ２の光を照射しないこと以外は全く同様の操作を行なった。この状態は書込光を照射しない暗書込に相当する。この状態の反射率を同様にして測定した。
【０１４４】
次に、実施例１〜実施例２及び比較例１で作製した、表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２及び比較表示媒体Ｂ１の各々について、屋外での実使用を想定した耐久試験として、２５℃５０％ＲＨの環境下において、擬似太陽光（装置：サンテストＣＰＳ＋（東洋精機）、照射光：キセノンランプ／約１０万ルクス）を、基板１２側から３時間照射した。
【０１４５】
そして、擬似太陽光露光に伴う明暗反射率の変化を調べたところ、表１に示す結果が得られた。
【０１４６】
【表１】
2011137943.tif 000003
【０１４７】
表１に示されるように、実施例１〜実施例２で作製した表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２は、比較例１で作製した比較表示媒体Ｂ１に比べて、擬似太陽光に長時間暴露されても明反射率の低下はみられなかった。
詳細には、比較例１で作製した比較表示媒体Ｂ１は、擬似太陽光による暴露（３時間）で明反射率が著しく低下した。一方実施例１〜２で作製した表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２は、疑似太陽光による暴露時間が３時間を経過してもなお、明反射率の低下はみられなかった。
【符号の説明】
【０１４８】
１０  表示装置
１１  表示媒体
１３  書込装置
１６、１７、１８、１９  電極
２０Ｂ、２０Ｇ、２０Ｒ  表示層
２２Ｒ、２２Ｃ  遮光層
２４Ｒ、２６Ｃ  光導電層
４０  電圧印加部
【図１】
2011137943.tif 000004
【図２】
2011137943.tif 000005
【図３】
2011137943.tif 000006