(57)【要約】【課題】輝度ムラが少なく安定した発光特性が得られる有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子、電気光学装置、電子機器を提供すること。【解決手段】本適用例の有機ＥＬ素子の製造方法は、陽極を含む膜形成領域を区画する隔壁部を形成する第１工程と、膜形成領域に正孔注入輸送層形成材料を含む第１液状体を塗布して乾燥させ、陽極上に正孔注入輸送層を形成する第２工程と、膜形成領域に発光層形成材料と架橋剤とを含む第２液状体を塗布して乾燥させ、正孔注入輸送層上に発光層前駆体を形成する第３工程と、発光層前駆体を不活性ガス雰囲気下で熱処理する第４工程と、熱処理が施された発光層前駆体を溶媒に晒して発光層前駆体の可溶な部分を取り除き、発光層前駆体の一部であって溶媒に対して不溶な発光層を形成する第５工程と、発光層上に陰極を形成する第６工程と、を備えた。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を含む機能層が陽極と陰極との間に設けられた有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記陽極を含む膜形成領域を区画する隔壁部を形成する第１工程と、
前記膜形成領域に正孔注入輸送層形成材料を含む第１液状体を塗布して乾燥させ、前記陽極上に正孔注入輸送層を形成する第２工程と、
前記膜形成領域に発光層形成材料と架橋剤とを含む第２液状体を塗布して乾燥させ、前記正孔注入輸送層上に発光層前駆体を形成する第３工程と、
前記発光層前駆体を不活性ガス雰囲気下で熱処理する第４工程と、
熱処理が施された前記発光層前駆体を溶媒に晒して前記発光層前駆体の可溶な部分を取り除き、前記発光層前駆体の一部であって前記溶媒に対して不溶な発光層を形成する第５工程と、
前記発光層上に前記陰極を形成する第６工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記第３工程は、予め前記架橋剤が導入された前記発光層形成材料を用いることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記第３工程は、正孔輸送性を有する前記架橋剤を用いることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記第３工程は、前記膜形成領域に液滴吐出法を用いて前記第２液状体を塗布することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記第５工程は、熱処理が施された前記発光層前駆体を有する基板に対して前記溶媒を塗布し、前記溶媒が塗布された前記基板を基板面と垂直に交わる軸回りに回転させて、前記溶媒に可溶な前記発光層前駆体を除去することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
陽極と、
前記陽極上に設けられた正孔注入輸送層と、
前記正孔注入輸送層上に設けられ、発光層前駆体の一部が架橋して溶媒に対して不溶化し、前記発光層前駆体のうち前記溶媒に可溶な部分が取り除かれて得られた発光層と、
前記発光層上に設けられた陰極と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項７】
前記発光層は、正孔輸送性を有する架橋剤を含んでいることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項８】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子、または請求項６または７に記載の有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子の製造方法、有機ＥＬ素子、電気光学装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光層を含む多層の有機膜からなる機能層が一対の電極間に設けられた有機ＥＬ素子の製造方法として、隔壁部により区画された膜形成領域に機能層形成材料を含む液状体を液滴として吐出して乾燥させることにより機能層を形成する液滴吐出法（インクジェット法）が知られている。
【０００３】
液滴吐出法を用いた場合には、隔壁部が形成された基板上において、成膜に必要な所定量の上記液状体を膜形成領域にどのように吐出して配置するか、また吐出された上記液状体をどのように乾燥させるか、などの成膜条件によって、乾燥後の有機膜の膜厚分布が変動する。いくつかの有機膜が積層された機能層の立体的な形状も個々の有機膜がどのように成膜されたかで異なってくる。例えば、膜形成領域において中央部分の膜厚が厚い凸形状や、中央部分の膜厚が薄い凹形状となる場合があって、一定の形状とすることが難しい。とりわけ、積層された有機膜の中でも発光層の膜厚が均一でなければ発光ムラ（輝度ムラ）が発生するという課題がある。
【０００４】
この課題を解決するために、例えば特許文献１には、第１隔壁部上に第２隔壁部が積層された所謂二層バンクにより膜形成領域を区画し、膜形成領域に吐出される液状体の粘度に応じて、第１隔壁部のうち第２隔壁部から膜形成領域内に突出した部分の表面積を変える方法が記載されている。具体的には、低粘度の液状体が吐出される膜形成領域では、上記表面積を小さくし、高粘度の液状体が吐出される膜形成領域では、上記表面積を大きくしている。
【０００５】
また、特許文献２には、基板上において形成された機能膜を有効とする１つ以上の機能膜形成領域を備えた機能有効領域と、該機能有効領域の周囲に設けられ１つ以上の調整膜形成領域を備えた調整領域とに、配置する液状材料の総量を減圧乾燥後に得られた上記機能膜の厚さ方向の断面形状に応じて変える方法が記載されている。具体的には、機能膜の周辺側の膜厚が中央側の膜厚よりも厚いときには調整領域に配置する液状材料の量を多くし、周辺側の膜厚が中央側の膜厚よりも薄いときには調整領域に配置する液状材料の量を少なくするとしている。
【０００６】
また、例えば特許文献３には、基板上の隔壁部により区画された膜形成領域に第一の量を液状材料を配置して成膜された機能膜の厚さ方向の断面形状に応じて、隔壁部の高さを変える方法が記載されている。具体的には、機能膜の周辺側の膜厚が中央側の膜厚よりも厚いときには隔壁部の高さを第一の高さよりも低くし、周辺側の膜厚が中央側の膜厚よりも薄いときには隔壁部の高さを第一の高さよりも高くするとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１２７６２号公報
【特許文献２】特開２００７−２８９８２６号公報
【特許文献３】特開２００７−３１０１５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来の方法を用いても、乾燥を施す基板の大きさや基板上における膜形成領域の大きさおよび配置などに関連して塗布された液状体の乾燥速度がばらついたり、膜形成領域や隔壁部に対する濡れ性が液状体の種類ごとに異なるなどにより、膜厚が均一な発光層を形成することが難しいという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。また、以下の形態または適用例において、「上」とは、基板から見て構成物が配置された方向を示し、「○○上に」と記載された場合、○○の上に接するように配置される場合または○○の上に他の構成物を介して配置される場合または○○の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００１０】
［適用例１］本適用例の有機ＥＬ素子の製造方法は、発光層を含む機能層が陽極と陰極との間に設けられた有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記陽極を含む膜形成領域を区画する隔壁部を形成する第１工程と、前記膜形成領域に正孔注入輸送層形成材料を含む第１液状体を塗布して乾燥させ、前記陽極上に正孔注入輸送層を形成する第２工程と、前記膜形成領域に発光層形成材料と架橋剤とを含む第２液状体を塗布して乾燥させ、前記正孔注入輸送層上に発光層前駆体を形成する第３工程と、前記発光層前駆体を不活性ガス雰囲気下で熱処理する第４工程と、熱処理が施された前記発光層前駆体を溶媒に晒して前記発光層前駆体の可溶な部分を取り除き、前記発光層前駆体の一部であって前記溶媒に対して不溶な発光層を形成する第５工程と、前記発光層上に前記陰極を形成する第６工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
この方法によれば、第４工程において、架橋剤が含まれた発光層前駆体を熱処理することにより、正孔注入輸送層の近傍において発光層形成材料が架橋剤を介して架橋する。第５工程で熱処理された発光層前駆体を溶媒に晒すことによって、発光層前駆体のうち架橋していない部分は溶媒に溶ける。発光層前駆体のうち架橋して溶媒に不溶となった部分が正孔注入輸送層をなぞるように残り、これが発光層となる。発光層前駆体の架橋の程度は、架橋剤の含有割合や熱処理における温度や時間によって容易に管理可能である。その結果、架橋剤を含まない第２液状体を塗布して発光層を形成する場合に比べて、第２液状体の乾燥による膜厚変動の影響を問題とせずに、膜形成領域においてほぼ一定の膜厚を有する発光層を正孔注入輸送層上に形成することができる。すなわち、発光ムラ（輝度ムラ）が少ない有機ＥＬ素子を歩留まりよく製造することができる。
【００１２】
［適用例２］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第３工程は、予め前記架橋剤が導入された前記発光層形成材料を用いるとしてもよい。
この方法によれば、発光層形成材料と架橋剤とを混合して第２液状体を作る場合に比べて、発光層形成材料に対する架橋剤の割合を一定として、発光層形成材料を安定的に架橋させることができる。
【００１３】
［適用例３］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第３工程は、正孔輸送性を有する前記架橋剤を用いることが好ましい。
この方法によれば、正孔注入輸送層と発光層との間のエネルギーレベルの差が小さくなり、正孔注入輸送層から発光層への正孔の輸送性を向上させることができる。すなわち、発光効率を改善することができる。
【００１４】
［適用例４］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第３工程は、前記膜形成領域に液滴吐出法を用いて前記第２液状体を塗布することが好ましい。
この方法によれば、必要量の第２液状体を液滴として膜形成領域に安定的に塗布することができる。また、例えば、第２液状体を発光色が異なる多種とした場合には、発光色ごとの塗り分けを容易に行える。
【００１５】
［適用例５］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第５工程は、熱処理が施された前記発光層前駆体を有する基板に対して前記溶媒を塗布し、前記溶媒が塗布された前記基板を基板面と垂直に交わる軸回りに回転させて、前記溶媒に可溶な前記発光層前駆体を除去することが好ましい。
この方法によれば、溶媒に溶けた発光層前駆体を基板上から速やかに除去することができる。すなわち、発光層前駆体から架橋した発光層だけを容易に取り出すことができる。
【００１６】
［適用例６］本適用例の有機ＥＬ素子は、陽極と、前記陽極上に設けられた正孔注入輸送層と、前記正孔注入輸送層上に設けられ、発光層前駆体の一部が架橋して溶媒に対して不溶化し、前記発光層前駆体のうち前記溶媒に可溶な部分が取り除かれて得られた発光層と、前記発光層上に設けられた陰極と、を備えたことを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、発光層前駆体のうち架橋していない、あるいは架橋が不完全な部分は溶媒に溶けて取り除かれているため、発光層前駆体の一部が架橋し膜厚がほぼ一定の発光層となって、発光ムラ（輝度ムラ）が少ない有機ＥＬ素子を提供することができる。
【００１８】
［適用例７］上記適用例の有機ＥＬ素子において、前記発光層は、正孔輸送性を有する架橋剤を含んでいることが好ましい。
この構成によれば、正孔注入輸送層から発光層への正孔輸送性が改善された有機ＥＬ素子を提供できる。
【００１９】
［適用例８］本適用例の電気光学装置は、上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子、または上記適用例の有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、発光ムラ（輝度ムラ）が少なく、安定した発光特性を有する電気光学装置を提供することができる。なお、有機ＥＬ素子における発光は、単色に限らず、多色の発光が得られる有機ＥＬ素子においても適用できるため、例えば見栄えのよいフルカラー表示が可能な表示装置としての電気光学装置を提供できる。
【００２０】
［適用例９］本適用例の電子機器は、上記適用例の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、発光ムラ（輝度ムラ）が少なく、安定した発光特性が得られるため、高い性能と品質とを有する電子機器を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】（ａ）は発光装置の構成を示す概略平面図、（ｂ）は有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図。
【図２】有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート。
【図３】（ａ）〜（ｅ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図４】（ｆ）〜（ｉ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図５】スピンコート法を説明する概略斜視図。
【図６】実施例における発光層の形成状態と発光プロファイルとを示す図。
【図７】比較例における発光層の形成状態と発光プロファイルとを示す図。
【図８】光書き込みヘッドの構成を示す概略斜視図。
【図９】画像形成装置の構成を示す概略断面図。
【図１０】表示装置を示す概略正面図。
【図１１】表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００２３】
（第１実施形態）
＜電気光学装置＞
まず、本実施形態の有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を備えた電気光学装置について、図１を参照して説明する。
本実施形態の電気光学装置は、後述する画像形成装置において感光体ドラムに光を照射して感光させる光書き込みヘッドとして好適に用いられる発光装置の一例である。
【００２４】
図１（ａ）は発光装置の構成を示す概略平面図、同図（ｂ）は有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図である。
図１（ａ）に示すように、本実施形態の電気光学装置としての発光装置３０は、長細い矩形の素子基板１と、素子基板１上において長手方向に配列した複数の発光素子としての有機ＥＬ素子１０と、有機ＥＬ素子１０ごとに設けられ、これを駆動させる駆動素子６と、これら駆動素子６の駆動を制御する制御回路９とを備えている。有機ＥＬ素子１０は、略円形の発光領域を有しており、その大きさはおよそ２５μｍである。また、長手方向においておよそ４２．２５μｍの配置ピッチで千鳥状に配置されており、その数は例えば１２２８８０個である。すなわち、有機ＥＬ素子１０の配置密度は、１２００ｄｐｉ相当である。
【００２５】
図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子１０は、素子基板１上に設けられた陽極２と、陽極２上に順に積層された正孔注入輸送層３と、発光層４と、陰極５とを有する。陽極２と陰極５とに挟まれた正孔注入輸送層３および発光層４を機能層と呼ぶこともある。
有機ＥＬ素子１０は、陽極２と陰極５との間に電流を流すことにより、発光層４が励起され発光するようになっている。有機ＥＬ素子１０の陰極５には共通配線８が接続され、陽極２には駆動素子６を介して電源線７が接続されている。この駆動素子６は、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）等のスイッチング素子で構成されている。そして、制御回路９により駆動素子６の動作が制御され、駆動素子６により有機ＥＬ素子１０への通電が制御されるようになっている。
【００２６】
素子基板１は、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。素子基板１の上に形成される陽極２は、例えばＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明導電膜からなる。
【００２７】
陽極２上に設けられる機能層（正孔注入輸送層３および発光層４）は、液滴吐出法（インクジェット法）により形成されたものである。液滴吐出法とは、膜形成材料を溶媒に溶解あるいは分散させた溶液（液状組成物）を塗布して乾燥させ、溶媒を除去して膜形成材料からなる膜を形成する方法である。
陽極２は、その周縁部が例えばＳｉＯ2などの無機材料からなる絶縁膜１１によって額縁状に覆われており、絶縁膜１１上に形成された例えばフェノール系樹脂やポリイミド系樹脂などの有機材料からなる隔壁部１２によって実質的に区画されている。隔壁部１２によって区画された陽極２を含む膜形成領域に対して、インクジェットヘッドのノズルから予め決められた量の液状組成物を液滴として吐出するものである。
【００２８】
正孔注入輸送層３の液状組成物（第１液状体）としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらに高沸点溶媒を加えたものが好適に用いられる。高沸点溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ヘキサメチルホスソルアミド（ＨＭＰＡ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３−ジメチルー２−イミダゾリジン（ＤＭＩ）およびその誘導体、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のグリコールエーテル類といったものが挙げられる。なお、正孔注入輸送層３の液状組成物は、上記に限定されず、例えば、トリフェニルアミンのようなアミン骨格誘導体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フェニル誘導体を、適宜な分散媒、例えばポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなども使用可能である。
【００２９】
発光層４の膜形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。例えば、本実施形態では、発光波長帯域が赤色に対応した発光層４が採用されている。もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層４を採用するようにしてもよい。
【００３０】
具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
これらの発光材料を溶解させる溶媒としては、例えばキシレンなどが挙げられる。また、液滴吐出法（インクジェット法）ではノズルの乾燥を防止するために沸点の高い溶媒が望ましく、例えばトリメチルベンゼンやシクロヘキシルベンゼンなどが利用される。
【００３１】
陰極５は、例えばＣａを厚さおよそ１０ｎｍ程度に形成し、さらにＡｌを厚さ２００ｎｍ程度に形成した積層構造の電極とし、Ａｌを反射層として機能させたものである。
【００３２】
これら複数の有機ＥＬ素子１０は、水分や酸素などの影響で発光寿命が阻害されないように、封止層１３によって覆われている。封止層１３は、ガス透過性が低い例えばＳｉＯ2（酸化シリコン）やＳｉＯＮ（酸化窒化シリコン）などの無機化合物やこれら無機化合物の積層体からなる。
発光装置３０の構成は、これに限定されず、例えば複数の有機ＥＬ素子１０が設けられた素子基板１と、ガラス等の基板からなり水分や酸素などを吸着するゲッター材を備えた封止基板とを接合させた封止構造を採用することもできる。
【００３３】
本実施形態の発光装置３０は、発光層４からの発光を陰極５により反射させ、透明あるいは半透明な素子基板１側から取り出す、所謂ボトムエミッション型である。
なお、発光装置３０は、ボトムエミッション型に限定されず、陰極５を透明な導電材料により構成すると共に、上述した封止基板を透明なガラス等を用いることによって、発光層４からの発光を封止基板側から取り出すトップエミッション型とすることも可能である。
【００３４】
なお、この例では、有機ＥＬ素子１０を駆動する駆動素子６として、素子基板１上にＴＦＴ素子を作り込んだが、駆動素子６を素子基板１上に作り込まず、駆動素子６を外付けにしてもよい。具体的には素子基板１の端子領域に駆動素子６としてのドライバーＩＣをＣＯＧ実装する。またはドライバーＩＣを実装したフレキシブル回路基板を素子基板１に実装する方法が挙げられる。
【００３５】
この発光装置３０は、後述する画像形成装置の光書き込みヘッドに用いられるものであって、感光体ドラムに有機ＥＬ素子１０からの光を照射して、その感光面を感光させるものである。そして、感光体ドラムの感光体は、発光層４の発光波長帯域に感度を持つものが採用される。
【００３６】
発光装置３０を光書き込みヘッドとして用いる場合、複数の有機ＥＬ素子１０ごとの発光特性（輝度特性など）がほぼ同水準で安定していることが求められる。それを実現するため理想的には、有機ＥＬ素子１０における機能層（特に発光層４）が、所望の膜厚で一定していることが望ましい。
無機材料からなる陽極２や陰極５は、真空蒸着等の方法を採用することにより、均質な状態で所望の膜厚を確保可能である。それに比べて、液滴吐出法（インクジェット法）を用いる機能層の形成は、所望の膜厚を複数の有機ＥＬ素子１０に亘って確保することが難しいという課題を有している。
【００３７】
本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、後述する有機ＥＬ素子１０の製造方法を用いて形成されており、架橋剤を含む発光層前駆体が正孔注入輸送層３上に形成され、その一部が正孔注入輸送層３の近傍において架橋して溶媒に対して不溶化し、発光層前駆体のうち溶媒に可溶な部分が取り除かれることにより形成された発光層４を有している。溶媒に対して不溶化した発光層４は架橋剤を介して完全架橋した状態となっており、ほぼ一定の膜厚を有する。また、複数の有機ＥＬ素子１０間においても発光層４の膜厚ばらつきが抑制されるため、安定した発光特性（輝度特性）を有している。より具体的な発光層４の形成方法については、次に説明する有機ＥＬ素子１０の製造方法において、実施例を挙げて説明する。
【００３８】
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
図２は有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート、図３（ａ）〜（ｅ）および図４（ｆ）〜（ｉ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図、図５はスピンコート法を説明する概略斜視図、図６は実施例における発光層の形成状態と発光プロファイルとを示す図、図７は比較例における発光層の形成状態と発光プロファイルとを示す図である。
【００３９】
図２に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子１０の製造方法は、隔壁部１２を形成する隔壁部形成工程（ステップＳ１）と、基板の表面を表面処理する表面処理工程（ステップＳ２）と、正孔注入輸送層３を形成する正孔注入輸送層形成工程（ステップＳ３）と、正孔注入輸送層３上に発光層前駆体を形成する発光層前駆体形成工程（ステップＳ４）と、発光層前駆体を基にして発光層４を形成する発光層形成工程（ステップＳ５）と、陰極５を形成する陰極形成工程（ステップＳ６）とを備えている。
【００４０】
図２のステップＳ１は、隔壁部形成工程である。隔壁部形成工程では、図３（ａ）に示すように、まず陽極２の周縁部を額縁状に覆う絶縁膜１１を形成する。絶縁膜１１の形成方法としては、例えば、陽極２を含む素子基板１の表面を感光性レジストで被覆し、陽極２の周縁部を除く部分だけに感光性レジストを残すように露光・現像する。その後、真空蒸着法やスパッタ法を用いてＳｉＯ2膜を全面に成膜し、陽極２上に残った感光性レジストを剥離する方法が挙げられる。これにより、平面視では陽極２上が略円形に開口した絶縁膜１１が形成される。そして、絶縁膜１１と陽極２とをフェノール系やポリイミド系の感光性樹脂で覆い、複数の陽極２がそれぞれ区画されるように感光性樹脂をパターニングして隔壁部１２を形成する。詳しくは、陽極２の周縁部を覆う絶縁膜１１が膜形成領域Ａの内側にはみ出るように隔壁部１２を形成する。そして、ステップＳ２へ進む。
【００４１】
図２のステップＳ２は、表面処理工程である。表面処理工程では、隔壁部１２が形成された素子基板１を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより陽極２や絶縁膜１１の表面、および隔壁部１２の表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。次にＣＦ4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる隔壁部１２の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。すなわち、無機材料からなる陽極２や絶縁膜１１の表面に親液性を付与し、有機材料からなる隔壁部１２の表面に撥液性を付与する表面処理を行う。なお、隔壁部１２自体が撥液性を有するならば、後段のプラズマ処理を不要とすることも可能である。そして、ステップＳ３へ進む。
【００４２】
図２のステップＳ３は、正孔注入輸送層形成工程である。正孔注入輸送層形成工程では、図３（ｂ）に示すように、正孔注入輸送層形成材料としてのＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液を含む第１液状体３Ｌをインクジェットヘッド５０のノズル５２から液滴として膜形成領域Ａに吐出する。吐出された第１液状体３Ｌは膜形成領域Ａにおいて濡れ広がる。また膜形成領域Ａにおいて表面張力によって盛り上がるまで第１液状体３Ｌが吐出される。これにより膜形成領域Ａごとに所定量の第１液状体３Ｌが安定的に塗布される。およそ１５０℃で加熱乾燥することにより第１液状体３Ｌから溶媒成分が除去され、図３（ｃ）に示すように膜形成領域Ａにおいて陽極２上に正孔注入輸送層３が形成される。乾燥後の正孔注入輸送層３の膜厚が５０ｎｍ〜６０ｎｍとなるように第１液状体３Ｌにおける正孔注入輸送層形成材料（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液）の濃度が設定されている。そして、ステップＳ４へ進む。
【００４３】
図２のステップＳ４は発光層前駆体形成工程である。発光層前駆体形成工程では、まず発光層形成材料を含む第２液状体４Ｌを用意する。第２液状体４Ｌは、例えば、赤色発光材料であるPoly［{2-methoxy-5-（2-ethylhexyioxy}-1,4-（1-cyanovinylenephenylene))-co-{2,5-bis（N,N'-diphenylamino)-1,4-phenylene}］に対して１ｗｔ％〜５０ｗｔ％の割合で架橋剤としてのＴＦＢ（poly（2,7-（9,9-di-n-octylfluorenne）-alt-（1,4-phenylene-((4-sec-butylphenyl）imino-1,4-phenylene))))を混合させた溶質をおよそ１．５ｗｔ％の割合で含んだトリメチルベンゼン溶液である。
なお、発光材料に対する架橋剤の割合は、後に説明する熱処理後の発光層前駆体における架橋状態によって適宜調整される。上記割合があまりに小さいと所望の膜厚の発光層４を得ることが困難となり、上記割合があまりに大きいと架橋が進み過ぎて、かえって膜厚がばらつくおそれがある。したがって、上記割合が１０ｗｔ％〜２０ｗｔ％の範囲であることが好ましい。
【００４４】
架橋剤としてのＴＦＢは、正孔注入層と発光層との間に設けられる正孔輸送性を有するバインダーとして用いられるものであって、正孔注入輸送層３と発光層４との間のエネルギー障壁を低下させて、正孔輸送性を改善できる。すなわち、発光層４における発光効率を向上させるものである。
なお、架橋剤はこれに限定されず、以下の正孔輸送性を有するバインダーも使用可能である。
ＰＦＢ；poly(9,9-dioctylfluorene-co-bis-N,N'-(4-butylphenyl)-bis-N,N'-phenyl-1,4-phenylenediamine)
ＰＦＭ；poly(9,9-dioctylfluorene-co-bis-N,N'-(4-methylphenyl)-bis-N,N'-phenyl-1,4-phenylenediamine)
ＰＦＭＯ；poly(9,9-dioctylfluorene-co-bis-N,N'-(4-methoxyphenyl)-bis-N,N'-phenyl-1,4-phenylenediamine)
ＢＦＢ；poly(9,9-dioctylfluorene-co-bis-N,N'-(4-butylphenyl)-bis-N,N'-phenylbenzidine)
【００４５】
次に図３（ｄ）に示すように、インクジェットヘッド５０のノズル５２から第２液状体４Ｌを液滴として膜形成領域Ａに吐出する。吐出された第２液状体４Ｌは膜形成領域Ａにおいて濡れ広がる。また膜形成領域Ａにおいて表面張力によって盛り上がるまで第２液状体４Ｌが吐出される。これにより膜形成領域Ａごとに所定量の第２液状体４Ｌが安定的に塗布される。およそ１３０℃で加熱乾燥することにより第２液状体４Ｌから溶媒成分が除去され、図３（ｅ）に示すように膜形成領域Ａにおいて正孔注入輸送層３上に発光層前駆体４ａが形成される。乾燥後の発光層前駆体４ａの膜厚が８０ｎｍ〜１００ｎｍとなるように第２液状体４Ｌにおける溶質の濃度が設定されている。そして、ステップＳ５へ進む。
【００４６】
図２のステップＳ５は、発光層形成工程である。発光層形成工程では、発光層前駆体４ａが形成された素子基板１を窒素雰囲気下でおよそ１８０℃、１時間、熱処理する。熱処理を施すことにより正孔注入輸送層３の近傍において架橋剤を含む発光層前駆体４ａが架橋する。発光層前駆体４ａの架橋した部分は、溶媒であるトリメチルベンゼンに対して不溶となる。言い換えれば、発光層前駆体４ａの架橋していない部分は、溶媒であるトリメチルベンゼンに対して溶解する。発光層前駆体４ａのうち正孔注入輸送層３の近傍の部分が架橋する原理としては、正孔注入輸送層３に含まれるＳ（イオウ）成分が架橋剤として機能したり、同じく正孔注入輸送層３に含まれる有機酸からプロトンが供給されて架橋が進むと考えられている。
【００４７】
次に図４（ｆ）に示すように、熱処理された発光層前駆体４ａを溶媒に晒し、発光層前駆体４ａのうち溶媒に可溶な部分を取り除く。すなわち、架橋していない発光層前駆体４ａを溶媒に溶かして取り除く。ムラなく溶媒に晒して発光層前駆体４ａのうち溶媒に可溶な部分を取り除く方法としては、図５に示すようなスピンコート法を用いることが望ましい。
【００４８】
実際に発光装置３０を製造する工程では、素子基板１が複数面付けされたマザー基板Ｗが用いられる。スピンコート装置３００は、マザー基板Ｗを載置して軸回りに回転可能なテーブル３０１と、軸上においてテーブル３０１に対向配置されたノズル３０２とを備えている。このようなスピンコート装置３００を用いれば、テーブル３０１を所定の速度で回転させながらノズル３０２から溶媒をマザー基板Ｗに向けて吐出して、マザー基板Ｗの表面全体に溶媒をムラなく行き渡らせることができる。溶媒に溶けた発光層前駆体４ａは、マザー基板Ｗが回転しているため、遠心力によってテーブル３０１の外周側に排出される。マザー基板Ｗの大きさにもよるが、およそ３０秒程度、マザー基板Ｗを溶媒に晒すことによって架橋していない発光層前駆体４ａをマザー基板Ｗ上からきれいに取り除くことができる。その結果、図４（ｇ）に示すように膜形成領域Ａにおいて正孔注入輸送層３の表面をなぞるように溶媒に不溶化した発光層前駆体４ａすなわち発光層４が形成される。その膜厚は１０ｎｍ〜３０ｎｍである。
なお、本工程で用いる溶媒は、前述したトリメチルベンゼンに限定されるものではなく、シクロヘキシルベンゼンやトルエンなどの溶媒も用いることができる。そして、ステップＳ６へ進む。
【００４９】
図２のステップＳ６は、陰極形成工程である。陰極形成工程では、図４（ｈ）に示すように、素子基板１の発光層４と隔壁部１２とを覆うように陰極５を形成する。陰極５の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層４に近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。陰極５の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層４の熱による損傷を防止できるという点では、真空蒸着法が好ましい。本実施形態では、膜厚がおよそ１０ｎｍとなるようにＣａ層を成膜した後に、膜厚がおよそ２００ｎｍとなるようにＡｌ層を成膜して陰極５とした。さらに、図４（ｉ）に示すように陰極５を覆って膜厚がおよそ４００ｎｍとなるようにＳｉＯＮ層を成膜して封止層１３とした。
【００５０】
このような有機ＥＬ素子１０の製造方法によれば、図６に示すように、正孔注入輸送層３の表面をなぞるように積層された発光層４を形成することができ、その膜厚はほぼ一定である。つまり正孔注入輸送層３の断面形状における凹凸に係らず、ほぼ一定の膜厚を有する発光層４を備えた有機ＥＬ素子１０を歩留まりよく製造することができる。また、該有機ＥＬ素子１０を駆動すると、膜形成領域Ａにおいて輝度がほぼフラットな発光プロファイルが得られる。
すなわち、複数の有機ＥＬ素子１０における輝度ばらつきが抑制され、安定した発光特性が得られる発光装置３０を製造することができる。
なお、発光プロファイルを示すグラフにおける縦軸の輝度（Ｃｄ／ｍ2）は最大輝度を「１」として置き換えたものである。
【００５１】
（比較例）
次に、比較例について説明する。比較例の有機ＥＬ素子の製造方法は、上記実施例に対して、図２のステップＳ３までは同一であり、正孔注入輸送層３上に架橋剤を含まない第２液状体を液滴として吐出する。そして、窒素雰囲気下で１３０℃に加熱し、１時間程度乾燥させて、膜厚が８０ｎｍ〜１００ｎｍの発光層４を形成した。
【００５２】
図７に示すように、正孔注入輸送層３上に形成された比較例の発光層４の断面形状は、膜形成領域Ａの中央部分で膜厚が薄く、隔壁部１２に向かって膜厚が厚くなっている。このような発光層４の発光プロファイルは、膜形成領域Ａの中央付近で輝度が最大となる山型となっている。比較例の有機ＥＬ素子は、膜形成領域Ａつまり発光領域において輝度ムラが生じており、複数の有機ＥＬ素子間においても安定した輝度特性が得られない。また、発光領域の中央付近において集中的に電流が流れるため、発光寿命が短くなり易い。
【００５３】
このような比較例の有機ＥＬ素子と比較すれば、上記実施例の有機ＥＬ素子１０における発光プロファイルが如何にフラットなものであるかが分かる。言い換えれば、発光層４が如何に一定の膜厚で形成されているかが分かる。
【００５４】
次に、本実施形態の電気光学装置としての発光装置を適用した光書き込みヘッド、および光書き込みヘッドを備えた電子機器としての画像形成装置について説明する。図８は光書き込みヘッドの構成を示す概略斜視図、図９は画像形成装置の構成を示す概略断面図である。
【００５５】
＜光書き込みヘッド＞
図８に示すように、本実施形態の電気光学装置としての光書き込みヘッド８０は、上記実施形態の発光装置３０と、発光装置３０を支持する支持体３１と、結像レンズユニット３２とを備えている。図中のＸ方向は素子基板１上において複数の有機ＥＬ素子１０が千鳥状に配列した配列方向であり、Ｙ方向はＸ方向に直交する方向である。光書き込みヘッド８０は、その長軸をＸ方向に一致させると共に感光体ドラム４１の母線に沿うように、感光体ドラム４１の外周面に対して配設される。支持体３１は、感光体ドラム４１側が開口されており、感光体ドラム４１に向かって光を射出するように発光装置３０を支持固定している。
【００５６】
結像レンズユニット３２は、内部に例えばセルフォック（登録商標）レンズアレイなどのレンズ群（図示省略）を備えており、発光装置３０と感光体ドラム４１との間に位置するように支持体３１に支持固定されている。結像レンズユニット３２は、発光装置３０における有機ＥＬ素子１０からの発光を一端側で集光し、その他端側から射出して感光体ドラム４１の外周面に照射して静電潜像を形成する。
【００５７】
＜画像形成装置＞
図９に示すように、本実施形態の電子機器としての画像形成装置１００は、上記光書き込みヘッド８０（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）を露光装置として対応する４個の感光体ドラム（像担持体）４１Ｋ，４１Ｃ，４１Ｍ，４１Ｙにそれぞれ配置したタンデム方式として構成されたものである。
【００５８】
画像形成装置１００は、駆動ローラー９１と従動ローラー９２とテンションローラー９３とを備え、これら各ローラーに中間転写ベルト９０を、図９中の矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ，４１Ｃ，４１Ｍ，４１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム４１Ｋ，４１Ｃ，４１Ｍ，４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００５９】
ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ，４１Ｃ，４１Ｍ，４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図９中の矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００６０】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する光書き込みヘッド８０（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００６１】
また、光書き込みヘッド８０（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラー４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。また、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）が設けられている。
【００６２】
各光書き込みヘッド８０（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、有機ＥＬ素子１０の配列方向（Ｘ方向）が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転軸に平行となるように設置されている。そして、各光書き込みヘッド８０（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
【００６３】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いる。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラーで現像ローラーへ搬送し、現像ローラー表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラーを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００６４】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラー４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラー６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラー対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着される。その後、排紙ローラー対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００６５】
なお、図９中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、符号６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラー、符号６５は二次転写ローラー６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラー対、符号６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
【００６６】
このように画像形成装置１００には、図８に示した発光装置３０を有する光書き込みヘッド８０が露光装置として備えられている。したがって、１２００ｄｐｉの密度で配置された有機ＥＬ素子１０の発光特性（輝度特性など）が安定しているため、露光後に高精細でくっきりとした画像を得ることができる。また、発光装置３０が従来に比べて長い発光寿命を有しているため、光書き込みヘッド８０の寿命に伴う交換作業などのメンテナンスが軽減されている。なお、光書き込みヘッド８０を備えた画像形成装置１００は上記実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。
【００６７】
（第２実施形態）
次に、本発明を適用した電気光学装置の他の実施形態について表示装置を例に説明する。図１０は表示装置を示す概略正面図、図１１は表示装置の要部構造を示す概略断面図である。
【００６８】
図１０および図１１に示すように、本実施形態の表示装置２００は、それぞれの画素２０７に対応して有機ＥＬ素子２１２（図１１参照）が設けられた素子基板２０１と、複数の有機ＥＬ素子２１２を封着する封着層２３５（図１１参照）を介して素子基板２０１を封止する封止基板２０２とを備えている。
【００６９】
素子基板２０１は、有機ＥＬ素子２１２を駆動する駆動素子を備えた回路部２１１（図１１参照）を有している。そして、表示領域２０６において赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のうち同一の発光色が得られる表示用の画素２０７が、同一方向に配列する所謂ストライプ方式の構成となっている。なお、画素２０７は、実際には非常に微細なものであり、図示の都合上拡大している。
【００７０】
素子基板２０１は、封止基板２０２よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、駆動素子であるＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）素子２０８（図１１参照）を駆動する２つの走査線駆動回路部２０３と１つのデータ線駆動回路部２０４とが設けられている。素子基板２０１の端子部２０１ａには、これらの駆動回路部２０３，２０４と外部駆動回路とを接続するためのフレキシブルな中継基板２０５が実装されている。
【００７１】
図１１に示すように、表示装置２００において、有機ＥＬ素子２１２は、陽極２３１と、陽極２３１を区画する隔壁部２３３と、陽極２３１上に積層形成された有機膜からなる発光層を含む機能層２３２とを有している。また、機能層２３２を介して陽極２３１と対向するように形成された陰極２３４を有している。
【００７２】
隔壁部２３３は、フェノールまたはポリイミドなどの絶縁性を有する感光性樹脂からなり、画素２０７を構成する陽極２３１の周囲を一部覆って、複数の陽極２３１をそれぞれ区画するように設けられている。
【００７３】
陽極２３１は、素子基板２０１上に形成されたＴＦＴ素子２０８の３端子のうちの１つに接続しており、例えば、透明電極材料であるＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）を厚さ１００ｎｍ程度に成膜した電極である。なお、図示省略したが、陽極２３１の下層（平坦化層２２８側）に、絶縁層を介してＡｌからなる反射層が設けられている。当該反射層は、機能層２３２における発光を封止基板２０２側に反射するものである。また、当該反射層はＡｌに限定されず、発光を反射する機能（反射面）を有していればよい。例えば、絶縁性の有機材料あるいは無機材料を用いて凹凸を有する反射面を形成する方法、陽極２３１自体を反射機能を有する導電材料で構成し、表面層にＩＴＯ膜を形成する方法などが挙げられる。
【００７４】
陰極２３４は、同じく、ＩＴＯなどの透明電極材料により形成されている。
【００７５】
封止基板２０２は、透明なガラス等からなる基板を用いている。有機ＥＬ素子２１２に面する側には、画素２０７の配置に対応した赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、３色のフィルターエレメント２３６Ｒ，２３６Ｇ，２３６Ｂとこれを区画する遮光部２３７が設けられている。
【００７６】
表示装置２００は、いわゆるトップエミッション型の構造となっており、陽極２３１と陰極２３４との間に駆動電流を流して機能層２３２での発光を上記反射層で反射させ、フィルターエレメント２３６Ｒ，２３６Ｇ，２３６Ｂを介して封止基板２０２側から取り出す構成となっている。トップエミッション型の構造であるため、素子基板２０１は、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００７７】
素子基板２０１には、有機ＥＬ素子２１２を駆動する回路部２１１が設けられている。すなわち、素子基板２０１の表面にはＳｉＯ2を主体とする下地保護層２２１が下地として形成され、その上にはシリコン層２２２が形成されている。このシリコン層２２２の表面には、ＳｉＯ2および／またはＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２２３が形成されている。
【００７８】
また、シリコン層２２２のうち、ゲート絶縁層２２３を挟んでゲート電極２２６と重なる領域がチャネル領域２２２ａとされている。なお、このゲート電極２２６は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２２２を覆い、ゲート電極２２６を形成したゲート絶縁層２２３の表面には、ＳｉＯ2を主体とする第１層間絶縁層２２７が形成されている。
【００７９】
また、シリコン層２２２のうち、チャネル領域２２２ａのソース側には、低濃度ソース領域および高濃度ソース領域２２２ｃが設けられる一方、チャネル領域２２２ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域および高濃度ドレイン領域２２２ｂが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light  Doped  Drain）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２２２ｃは、ゲート絶縁層２２３と第１層間絶縁層２２７とにわたって開孔するコンタクトホール２２５ａを介して、ソース電極２２５に接続されている。このソース電極２２５は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２２２ｂは、ゲート絶縁層２２３と第１層間絶縁層２２７とにわたって開孔するコンタクトホール２２４ａを介して、ソース電極２２５と同一層からなるドレイン電極２２４に接続されている。
【００８０】
ソース電極２２５およびドレイン電極２２４が形成された第１層間絶縁層２２７の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化層２２８が形成されている。この平坦化層２２８は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、ＴＦＴ素子２０８やソース電極２２５、ドレイン電極２２４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００８１】
そして、陽極２３１が、この平坦化層２２８の表面上に形成されると共に、該平坦化層２２８に設けられたコンタクトホール２２８ａを介してドレイン電極２２４に接続されている。すなわち、陽極２３１は、ドレイン電極２２４を介して、シリコン層２２２の高濃度ドレイン領域２２２ｂに接続されている。陰極２３４は、ＧＮＤに接続されている。したがって、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子２０８により、上記電源線から陽極２３１に供給され陰極２３４との間で流れる駆動電流を制御する。有機ＥＬ素子２１２は、陽極２３１と陰極２３４との間の機能層２３２を流れる電流量に応じた輝度で発光する。これにより、カラー表示を可能としている。
【００８２】
フィルターエレメント２３６Ｒに対向して設けられた有機ＥＬ素子２１２は、赤色の発光が得られる機能層２３２Ｒを有している。また、フィルターエレメント２３６Ｇに対向して設けられた有機ＥＬ素子２１２は、緑色の発光が得られる機能層２３２Ｇを有している。同様に、フィルターエレメント２３６Ｂに対向して設けられた有機ＥＬ素子２１２は、青色の発光が得られる機能層２３２Ｂを有している。
【００８３】
各機能層２３２Ｒ，２３２Ｇ，２３２Ｂは、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを主成分とする正孔注入輸送層と、発光色に応じて形成された発光層とが積層されたものである。発光層は、架橋剤を含む発光層前駆体を熱処理して、溶媒に可溶な架橋していない部分が取り除かれ、溶媒に不溶な架橋した部分により構成されたのもであって、ほぼ一定の膜厚を有する。
【００８４】
有機ＥＬ素子２１２を有する素子基板２０１は、透明な熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封着層２３５を介して透明な封止基板２０２と隙間なくベタ封止されている。
【００８５】
なお、表示装置２００は、トップエミッション型に限定されず、反射機能を有する不透明なＡｌ等の導電材料を用いて陰極２３４を成膜し、有機ＥＬ素子２１２の発光を陰極２３４で反射させて、素子基板２０１側から取り出すボトムエミッション型の構造としてもよい。
【００８６】
上記有機ＥＬ素子２１２の製造方法は、各機能層２３２Ｒ，２３２Ｇ，２３２Ｂを液滴吐出法（インクジェット法）を用いて形成するものである。
まず、隔壁部２３３により区画された陽極２３１を含む膜形成領域に正孔注入輸送層形成材料を含む第１液状体をインクジェットヘッドのノズルから液滴として吐出する。そして、吐出された第１液状体を乾燥することにより、陽極２３１上に正孔注入輸送層を形成する。
【００８７】
続いて、膜形成領域に発光層形成材料と架橋剤とを含む第２液状体をインクジェットヘッドのノズルから液滴として吐出する。そして、吐出された第２液状体を乾燥することにより、正孔注入輸送層上に発光層前駆体を形成する。形成された発光層前駆体を窒素雰囲気下で熱処理して、正孔注入輸送層の近傍の発光層前駆体を架橋させる。架橋していない発光層前駆体を溶媒に溶かして取り除き、溶媒に不溶となった発光層前駆体を残して発光層とする。これらの製造工程における製造条件は、第１実施形態における有機ＥＬ素子１０の製造方法を適用することができる。
【００８８】
本実施形態では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光色が得られる有機ＥＬ素子２１２を形成するので、第２液状体は発光色に対応して３種類用意される。赤色の発光層形成材料と架橋剤とを含む第２液状体は、第１実施形態の第２液状体４Ｌを用いることができる。
【００８９】
緑色発光材料としては、例えば、Poly［(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl）-co-（1,4-benzo-{2,1',3}-thiadiazole）］が挙げられる。
青色発光材料としては、例えば、Poly［(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl）-co-（9,10-anthrecene）］が挙げられる。
これらの発光材料と架橋剤としてのＴＦＢとを含む第２液状体を用いて、異なる発光色が得られる発光層を液滴吐出法を用いて塗り分け形成する。
【００９０】
発光色ごとに上記製造工程を繰り返して発光層を順次形成してもよいし、発光色ごとに発光層前駆体を形成した後に、一括して各色の発光層前駆体を溶媒に晒して、溶媒に可溶な部分を取り除き、架橋して溶媒に不溶となった部分を残して各色の発光層を形成してもよい。溶媒に可溶な発光層前駆体を取り除く方法としては、第１実施形態と同様にスピンコート法を用いて溶媒を塗布することが望ましい。わずかな時間で溶媒に可溶な発光層前駆体を取り除くことができるので、異なる発光色の発光層前駆体が残渣となって残ることを抑制することができる。
【００９１】
このようにして形成された有機ＥＬ素子２１２は、発光色ごとにほぼ一定の膜厚を有する発光層を有している。したがって、発光色ごとに安定した発光特性（輝度特性）が得られる。表示装置２００は、有機ＥＬ素子２１２からの発光が発光色ごとに設けられたフィルターエレメント２３６Ｒ，２３６Ｇ，２３６Ｂを透過する。ゆえに、輝度ムラが少ない状態で色ごとにねらいのピーク波長を有する発光が得られるので、見栄えのよいカラー表示が可能である。
【００９２】
表示装置２００が搭載される電子機器としては、携帯型電話機を初めとする携帯型情報端末や、パーソナルコンピューター、デジタルカメラ、ビデオカメラ、ナビゲーターなどのモニター、薄型のテレビなどが挙げられる。
【００９３】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００９４】
（変形例１）上記有機ＥＬ素子１０の製造方法において、第２液状体４Ｌの構成は、これに限定されない。例えば、予めＴＦＢなどの架橋剤を発光材料に導入したものを溶質として溶媒に溶かしたものを用いてもよい。具体的には発光材料の主鎖または側鎖に架橋剤であるＴＦＢを予め結合させておく。これによれば、発光材料と架橋剤と溶媒とを混ぜ合わせて第２液状体４Ｌを構成する場合に比べて、調合量ばらつきの影響を排除し、且つ発光材料に対する架橋剤の割合を一定として、発光層前駆体を一定の割合で安定的に架橋させることができる。
【００９５】
（変形例２）上記有機ＥＬ素子１０において、機能層の構成は、これに限定されない。例えば、発光層前駆体の架橋を促すことができるＳ（イオウ）や有機酸を含む構成ならば、正孔注入輸送層３を正孔注入層と正孔輸送層とに分けて積層させてもよい。発光層４への正孔の輸送性をさらに改善して高い発光輝度が得られる有機ＥＬ素子１０とすることができる。
【００９６】
（変形例３）上記表示装置２００において、有機ＥＬ素子２１２は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光が得られる機能層２３２Ｒ，２３２Ｇ，２３２Ｂを有する構成に限定されない。例えば、白色発光が得られる機能層２３２としてもよい。発光色ごとに塗り分ける必要がないので、製造工程をより簡素化できる。
【００９７】
（変形例４）上記有機ＥＬ素子１０を備えた電気光学装置は、光書き込みヘッド８０に限定されない。例えば、光源として有機ＥＬ素子１０を備えた照明装置が挙げられる。
【符号の説明】
【００９８】
２…陽極、３…正孔注入輸送層、３Ｌ…第１液状体、４…発光層、４ａ…発光層前駆体、４Ｌ…第２液状体、５…陰極、１０…有機ＥＬ素子、１２…隔壁部、３０…発光装置、８０…電気光学装置としての光書き込みヘッド、１００…画像形成装置、２００…電気光学装置としての表示装置、２１２…有機ＥＬ素子、２３１…陽極、２３２，２３２Ｒ，２３２Ｇ，２３２Ｂ…機能層、２３３…隔壁部、２３４…陰極、Ａ…膜形成領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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