(57)【要約】【課題】スループットの低下を抑えながら、デフォーカスを低減することができる露光装置を提供する。【解決手段】マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備えた露光装置であって、基板を保持するチャックを駆動する駆動部と、基板上の複数のショット領域のそれぞれの領域内において複数の計測点で高さを計測する計測部と、前記計測部による複数の計測点での高さの計測を制御すると共に、前記駆動部による前記チャックの駆動を制御する制御部と、を有する露光装置を提供する。【選択図】図１
2011086777.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備えた露光装置であって、
基板を保持するチャックを駆動する駆動部と、
基板上の複数のショット領域のそれぞれの領域内において複数の計測点で高さを計測する計測部と、
前記計測部による複数の計測点での高さの計測を制御すると共に、前記駆動部による前記チャックの駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
連続して露光すべき複数の基板のうち先頭からｎ枚目（ｎは自然数）までの基板を露光する場合には、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のうち第１の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測するように前記計測部を制御し、前記計測部で計測された複数の計測点の高さからそのショット領域の高さを決定して、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させるように前記駆動部を制御し、
前記複数の基板のうちｎ＋１枚目以降の基板を露光する場合には、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のうち前記第１の数よりも少ない第２の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測するように前記計測部を制御し、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のうち前記ｎ＋１枚目以降の基板上の前記第２の数のショット領域に相当するショット領域における複数の計測点の高さから第１の平面を求め、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の前記第２の数のショット領域における複数の計測点の高さから第２の平面を求めて前記複数のショット領域のそれぞれについて前記第１の平面と前記第２の平面との前記基板の高さ方向のずれ量を算出し、前記計測部で計測された複数の計測点の高さから決定された前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれの高さに前記基板の高さ方向のずれ量を加えた高さに基づいて、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させるように前記駆動部を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１の数のショット領域は、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のうち全てのショット領域を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２の数のショット領域は、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のうち端部の２つのショット領域を含み、
前記２つのショット領域を結ぶ直線は、前記ｎ＋１枚目以降の基板の中心又はその近傍を通ることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備えた露光装置を用いて、基板を露光する露光方法であって、
連続して露光すべき複数の基板のうち先頭からｎ枚目までの基板上の複数のショット領域のうち第１の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測する第１の計測ステップと、
前記第１の計測ステップで計測された複数の計測点の高さからそのショット領域の高さを決定して、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させながら前記ｎ枚目の基板を露光する第１の露光ステップと、
前記複数の基板のうちｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のうち前記第１の数よりも少ない第２の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測する第２の計測ステップと、
前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のうち前記ｎ＋１枚目以降の基板上の前記第２の数のショット領域に相当するショット領域における複数の計測点の高さから第１の平面を算出する第１の算出ステップと、
前記ｎ＋１枚目以降の基板上の前記第２の数のショット領域における複数の計測点の高さから第２の平面を算出する第２の算出ステップと、
前記複数のショット領域のそれぞれについて、前記第１の算出ステップで算出された前記第１の平面と前記第２の算出ステップで算出された前記第２の平面との前記基板の高さ方向のずれ量を算出する第３の算出ステップと、
前記第１の計測ステップで計測された複数の計測点の高さから決定された前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれの高さに前記基板の高さ方向のずれ量を加えた高さに基づいて、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させながら前記ｎ＋１枚目以降の基板を露光する第２の露光ステップと、
を有することを特徴とする露光方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置では、連続して露光すべき（例えば、同一のロットに含まれる）複数の基板のうち１枚目の基板については、全てのショット領域の高さを計測し、露光時にショット領域ごとのずれ量（高さ方向）を補正している。また、連続して露光すべき複数の基板のうち２枚目以降の基板については、１番目のショット領域の高さのみを計測し、１枚目の基板の１番目のショット領域の高さとの差分を他のショット領域に反映させて露光時にショット領域ごとのずれ量を補正している。このような技術に関しては、幾つか提案されている（特許文献１及び２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２０３８３８号公報
【特許文献２】特開平１０−２９４２５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来技術では、連続して露光すべき複数の基板間で回転（Ｒｏｌｌｉｎｇ）成分や傾き（Ｐｉｔｃｈｉｎｇ）成分（即ち、基板の状態）が異なる場合、その成分が露光時に考慮されないため、デフォーカスを引き起こす可能性がある。例えば、２枚目以降の基板の１番目のショット領域の高さが１枚目の基板の１番目のショット領域の高さと同一でありながら２枚目以降の基板にうねりがあった場合を考える。このような場合、従来技術では、２枚目以降の基板の１番目のショット領域の高さと１枚目の基板の１番目のショット領域の高さとの差分がゼロであるため、他のショット領域に差分（即ち、うねりに対応する適正な差分）が反映されなくなってしまう。その結果、実際の回転成分や傾き成分が考慮されないまま露光され、デフォーカスを引き起こしてしまう。
【０００５】
また、連続して露光すべき複数の基板の全てについて、全てのショット領域の高さを計測してショット領域ごとのずれ量を補正すれば、デフォーカスを低減させることができるが、露光装置の処理速度（スループット）が大幅に低下してしまう。
【０００６】
そこで、本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、スループットの低下を抑えながら、デフォーカスを低減することができる技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備えた露光装置であって、基板を保持するチャックを駆動する駆動部と、基板上の複数のショット領域のそれぞれの領域内において複数の計測点で高さを計測する計測部と、前記計測部による複数の計測点での高さの計測を制御すると共に、前記駆動部による前記チャックの駆動を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、連続して露光すべき複数の基板のうち先頭からｎ枚目（ｎは自然数）までの基板を露光する場合には、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のうち第１の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測するように前記計測部を制御し、前記計測部で計測された複数の計測点の高さからそのショット領域の高さを決定して、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させるように前記駆動部を制御し、前記複数の基板のうちｎ＋１枚目以降の基板を露光する場合には、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のうち前記第１の数よりも少ない第２の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測するように前記計測部を制御し、前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のうち前記ｎ＋１枚目以降の基板上の前記第２の数のショット領域に相当するショット領域における複数の計測点の高さから第１の平面を求め、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の前記第２の数のショット領域における複数の計測点の高さから第２の平面を求めて前記複数のショット領域のそれぞれについて前記第１の平面と前記第２の平面との前記基板の高さ方向のずれ量を算出し、前記計測部で計測された複数の計測点の高さから決定された前記ｎ枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれの高さに前記基板の高さ方向のずれ量を加えた高さに基づいて、前記ｎ＋１枚目以降の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させるように前記駆動部を制御することを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、スループットの低下を抑えながら、デフォーカスを低減する技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す図である。
【図２】図１に示す露光装置において、制御部による駆動部及び計測部の制御を説明するための図である。
【図３】図１に示す露光装置において、プレート上のショット領域とショット領域の領域内における計測点との関係を示す図である。
【図４】図１に示す露光装置の露光動作を説明するためのフローチャートである。
【図５】図１に示す露光装置において、プレート上のショット領域とショット領域の領域内における計測点との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す図である。露光装置１は、ステップ・アンド・スキャン方式で、マスクのパターンを液晶デバイス用のガラスプレートなどの大型の基板上に転写する投影露光装置であって、本実施形態では、連続して露光すべき（例えば、同一のロットに含まれる）複数の基板を露光する。
【００１３】
露光装置１は、マスク２３のパターンをプレート３６に投影する投影光学系１０を備えている。また、投影光学系１０の物体面側にはマスクステージ２０が配置され、投影光学系１０の像面側にはプレートステージ３０が配置されている。マスクステージ２０とプレートステージ３０とはそれぞれ独立して駆動可能であり、これらの位置はレーザ干渉測長器５０で計測される。
【００１４】
マスクステージ２０は、ステージ基板２１と、ステージ基板２１の上に配置されたＸＹθステージ２２とを含み、チャック（不図示）を介して、マスク２３を保持する。従って、マスクステージ２０は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに駆動可能に、且つ、ＸＹ平面内で回転可能にマスク２３を保持する。なお、Ｘ軸方向とＹ軸方向とは、互いに直交する方向とする。マスクステージ２０の上方には、投影光学系１０を介して、マスク２３及びプレート３６を観察する観察光学系４２が配置され、更に、観察光学系４２の上方には、マスク２３を照明する照明光学系４４が配置されている。
【００１５】
プレートステージ３０は、ステージ定盤３１の上に配置されたＹ軸ステージ３２、Ｘ軸ステージ３３及びθＺステージ３４を有する。また、θＺステージ３４の上には、プレート３６を保持するチャック３５が配置されている。従って、プレートステージ３０は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれに駆動可能に、且つ、ＸＹ平面内で回転可能にプレート３６を保持する。なお、チャック３５は、後述するように、駆動部６０によって駆動され、プレート３６を露光する際に、Ｙ軸ステージ３２、Ｘ軸ステージ３３及びθＺステージ３４と協同して、プレート３６の表面（ショット領域）を投影光学系１０の像面（焦点面）に位置させる。
【００１６】
レーザ干渉測長器５０は、レーザヘッド５１と、干渉ミラー５２及び５３と、θＺステージ３４に取り付けられた第１の反射ミラー５４と、ステージ基板２１に取り付けられた第２の反射ミラー５５とを含む。レーザヘッド５１からのレーザ光の位置（投影光学系１０の光軸方向の位置）は、マスクステージ２０については、投影光学系１０の物体面の位置に設定される。一方、プレートステージ３０については、レーザヘッド５１からのレーザ光の位置（投影光学系１０の光軸方向の位置）は、投影光学系１０の像面の位置から距離Ｌだけ変位した位置に設定される。
【００１７】
計測部７０は、投影光学系１０とプレート３６との間に配置され、プレート３６上の複数のショット領域のそれぞれの領域内において複数の計測点で高さを計測する。制御部８０は、ＣＰＵやメモリを有し、露光装置１の全体（動作）を制御する。例えば、制御部８０は、計測部７０によるプレート３６上のショット領域の領域内における複数の計測点での高さの計測を制御すると共に、駆動部６０によるチャック３５の駆動を制御する。
【００１８】
図２を参照して、制御部８０による駆動部６０及び計測部７０の制御について説明する。上述したように、プレート３６は、チャック３５によって保持されている。計測部７０は、例えば、４つのＺ計測センサ７１、７２、７３及び７４で構成され、プレート３６上の任意の位置（計測点）の高さを計測して、その計測結果（高さ）を制御部８０に入力する。制御部８０は、入力された計測結果からそのショット領域の高さを決定し、プレート３６上の表面が投影光学系１０の像面に位置するために必要な駆動部６０によるプレート３６の駆動量を算出して、かかる駆動量を含む制御データを駆動部６０に入力する。駆動部６０は、例えば、４つのアクチュエータ６１、６２、６３及び６４で構成され、制御部８０から入力される制御データに応じてチャック３５を駆動し、プレート３６上の表面を投影光学系１０の像面に位置させる。
【００１９】
ここで、露光装置１において、連続して露光すべき複数のプレートを露光する場合の制御について説明する。なお、本実施形態では、複数のプレートのそれぞれは、行方向に３つのショット領域、列方向に２つのショット領域が配列された６つのショット領域（１番目のショット領域乃至６番目のショット領域）を有するものとする。
【００２０】
複数のプレートのうち１枚目のプレートを露光する場合には、制御部８０は、図３（ａ）に示すように、６つのショット領域のうち全てのショット領域の領域内における４つの計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４の高さを計測するように計測部７０を制御する。また、制御部８０は、６つのショット領域のそれぞれの領域内における４つの計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４の高さから１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの高さを決定する。そして、制御部８０は、複数のショット領域のそれぞれの高さに基づいて、１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれを投影光学系１０の像面に位置させるように駆動部６０を制御しながら１枚目のプレートを露光する。
【００２１】
複数のプレートのうち２枚目以降のプレートを露光する場合には、制御部８０は、図３（ｂ）に示すように、６つのショット領域のうち端部の２つのショット領域の領域内における４つの計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４の高さを計測するように計測部７０を制御する。なお、端部の２つのショット領域は、２つのショット領域を結ぶ直線がプレートの中心又はその近傍を通るショットであって、本実施形態では、１番目のショット領域及び４番目のショット領域（１番目のショット領域の対角ショット領域）である。次いで、制御部８０は、１枚目のプレート上の１番目のショット領域及び４番目のショット領域（２枚目以降のプレートにおいて計測点を計測したショット領域に相当）における４つの計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４の高さから第１の平面Ｐ１を求める（算出する）。同様に、制御部８０は、２枚目以降のプレート上の１番目のショット領域及び４番目のショット領域における４つの計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４の高さから第２の平面Ｐｎを求める（算出する）。このように、制御部８０は、１枚目のプレートの近似平面である第１の平面Ｐ１と、２枚目以降のプレートの近似平面である第２の平面Ｐｎとを求める。次に、制御部８０は、プレート上の６つのショット領域のそれぞれについて、第１の平面Ｐ１と第２の平面Ｐｎとのプレートの高さ方向のずれ量（第１の平面Ｐ１と第２の平面Ｐ２との差分）を算出する。また、制御部８０は、１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの高さに第１の平面Ｐ１と第２の平面Ｐｎとのプレートの高さ方向のずれ量を加えた高さ（即ち、２枚目以降のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの高さ）を算出する。そして、２枚目以降のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの高さに基づいて、６つのショット領域のそれぞれを投影光学系１０の像面に位置させるように駆動部６０を制御しながら２枚目以降のプレートを露光する。
【００２２】
ここで、プレート上のショット領域の領域内における各計測点の高さから第１の平面Ｐ１及び第２の平面Ｐｎを算出する処理の一例を説明する。任意の平面ＰをＺ＝Ａｘ＋Ｂｙ＋Ｃ（式１）として定義し、各計測点における計測結果（高さ）Ｚと任意の平面Ｐとの差の２乗を最小とする定数Ａ、Ｂ及びＣを導出して近似平面を算出する。
【００２３】
プレート上のショット領域の領域内の計測点（の位置）を（ｘｉ、ｙｉ）、計測点（ｘｉ、ｙｉ）における計測結果（高さ）をｚｉとする。ここで、ｉ＝１〜ｎとすると、計測結果の最大数はｎとなる。また、式１を行列式で表現すると、以下の式２が得られる。
【００２４】
【数１】
2011086777.tif 000003
【００２５】
ここで、式２の左辺の右側の行列をＤ、左辺の行列をＥとし、式１を最小とする定数Ａ、Ｂ及びＣを、式２を展開した以下の式３から求める。なお、ＤＴは行列Ｄの転置行列を表し、（ＤＴＤ）−１は（ＤＴＤ）の逆行列を表す。
【００２６】
【数２】
2011086777.tif 000004
【００２７】
また、式３から求まる定数Ａ、Ｂ及びＣを用いて以下の式４を定義し、プレート上のショット領域の中心座標を（ｘｍｎ、ｙｍｎ）として式４に代入することで、ショット領域ごとの高さを算出することができる。これにより、第１の平面Ｐ１と第２の平面Ｐｎとのプレートの高さ方向のずれ量（第１の平面Ｐ１と第２の平面Ｐ２との差分）を算出することが可能となる。なお、ｍはプレートの枚数を表し、ｎはプレート上のショット領域の番号を表す。
Ｚｍｎ＝Ａｘｍｎ＋Ｂｙｍｎ＋Ｃ    ・・・（式４）
以下、図４を参照して、露光装置１の露光動作（即ち、連続して露光すべき複数のプレートを露光する処理）について説明する。なお、かかる露光動作は、上述したように、制御部８０が露光装置１の各部を統括的に制御することで実現される。また、複数のプレートのそれぞれは、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示したショット領域の配列と同様に、６つのショット領域を有するものとする。
【００２８】
Ｓ４０２では、露光装置１の内部に搬入され、プレートステージ３０（チャック３５）に保持されたプレートが複数のプレートのうち１枚目のプレートであるかどうかを判定する。１枚目のプレートであると判定された場合には、Ｓ４０４に移行し、１枚目のプレートでない（即ち、２枚目以降のプレートである）と判定された場合には、Ｓ４１０に移行する。
【００２９】
Ｓ４０４（第１の計測ステップ）では、１枚目のプレート上の６つのショット領域のうち、全てのショット領域のそれぞれの領域内における計測点（４つの計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４）の高さを計測する。なお、１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの領域内における計測点の計測結果（高さ）は、制御部８０のメモリなどに格納される。
【００３０】
Ｓ４０６（第１の露光ステップ）では、１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれを露光する。具体的には、６つのショット領域のそれぞれの領域内における計測点の高さから各ショット領域の高さを決定して、１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれを投影光学系１０の像面に位置させながら１枚目のプレートを露光する。なお、１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの高さは、制御部８０のメモリなどに格納される。
【００３１】
Ｓ４０８では、Ｓ４０６で露光されたプレートを露光装置１の外部に搬出すると共に、次に露光するプレート（即ち、２枚目以降のプレート）を露光装置１の内部に搬入して、Ｓ４０２に移行する。
【００３２】
Ｓ４１０（第２の計測ステップ）では、２枚目以降のプレート上の６つのショット領域のうち、１番目のショット領域及び４番目のショット領域のそれぞれの領域内における計測点の高さを計測する。なお、２枚目以降のプレート上の１番目のショット領域及び４番目のショット領域のそれぞれの領域内における計測点の計測結果（高さ）は、制御部８０のメモリなどに格納される。
【００３３】
Ｓ４１２（第１の算出ステップ）では、Ｓ４０４での計測結果を用いて、１枚目のプレートの近似平面である第１の平面Ｐ１を算出する。具体的には、１枚目のプレート上の１番目のショット領域及び４番目のショット領域のそれぞれの領域内における計測点の高さから第１の平面Ｐ１を算出する。
【００３４】
同様に、Ｓ４１４（第２の算出ステップ）では、Ｓ４１０での計測結果を用いて、２枚目以降のプレートの近似平面である第２の平面Ｐｎを算出する。具体的には、２枚目以降のプレート上の１番目のショット領域及び４番目のショット領域のそれぞれの領域内における計測点の高さから第２の平面Ｐｎを算出する。
【００３５】
Ｓ４１６（第３の算出ステップ）では、プレート上の６つのショット領域のそれぞれについて、Ｓ４１２で算出された第１の平面Ｐ１とＳ４１４で算出された第２の平面Ｐ２とのプレートの高さ方向のずれ量を算出する。
【００３６】
Ｓ４１８（第２の露光ステップ）では、２枚目以降のプレート上の６つのショット領域のそれぞれを露光する。具体的には、Ｓ４０４での計測結果から決定された１枚目のプレート上の６つのショット領域のそれぞれの高さにＳ４１６で算出されたプレートの高さ方向のずれ量を加えた高さを求める。そして、かかる高さに基づいて、２枚目以降のプレート上の６つのショット領域のそれぞれを投影光学系１０の像面に位置させながら２枚目以降のプレートを露光する。
【００３７】
Ｓ４２０では、Ｓ４１８で露光されたプレートが複数のプレートのうち最後のプレートであるかどうかを判定する。最後のプレートであると判定された場合には、Ｓ４２２に移行して、Ｓ４１８で露光されたプレートを露光装置１の外部に搬出して、露光動作を終了する。最後のプレートでないと判定された場合には、Ｓ４２４に移行して、Ｓ４１８で露光されたプレートを露光装置１の外部に搬出すると共に、次に露光するプレートを露光装置１の内部に搬入して、Ｓ４０２に移行する。
【００３８】
このように、本実施形態の露光装置１は、連続して露光すべき複数のプレートのうち２枚目以降のプレートを露光する場合には、全てのショット領域の領域内で計測点の高さを計測するのではなく、一部のショット領域のみの領域内で計測点の高さを計測する。従って、露光装置１は、複数のプレートの全てについて、全てのショット領域の計測点の高さ（即ち、全てのショット領域の高さ）を計測する場合と比較して、処理速度（スループット）の低下を抑えることができる。また、２枚目以降のプレートを露光する場合には、１枚目のプレート上の複数のショット領域のそれぞれの高さに第１の平面と第２の平面とのプレートの高さ方向のずれ量を加えた高さを２枚目以降のプレートの各ショット領域の高さとしている。従って、連続して露光すべきプレート間で回転成分や傾き成分（即ち、基板の状態）が異なる場合であっても、その成分が露光時に考慮され、プレートの回転成分や傾き成分に起因するデフォーカスを低減させることができる。従って、露光装置１は、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス（液晶デバイス、半導体素子、撮像素子（ＣＣＤなど）、薄膜磁気ヘッドなど）を提供することができる。かかるデバイスは、露光装置１を用いてフォトレジスト（感光剤）が塗布された基板（ガラスプレート、ウエハ等）を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。
【００３９】
なお、本実施形態では、２枚目以降のプレートを露光する際に第１の平面を算出しているが、１枚目のプレートを露光する際に第１の平面を算出して、制御部８０のメモリなどに格納してもよい。また、本実施形態では、１枚目のプレートを露光する際には、プレート上の全てのショット領域の領域内における計測点の高さをまとめて計測してから各ショット領域を露光している。但し、プレート上の１つのショット領域の領域内における計測点の高さを計測し、かかる１つのショット領域を露光するというように、各ショット領域における計測点の高さの計測と、かかるショット領域の露光とを繰り返すようにしてもよい。
【００４０】
更に、本実施形態では、１枚目のプレートでは、全てのショット領域のそれぞれの領域内の計測点の高さを計測し、２枚目以降のプレートでは、２つのショット領域のそれぞれの領域内の計測点の高さを計測している。但し、露光装置１の露光動作を以下のように制御した場合にも、全てのショット領域の高さを計測する場合と比較して、スループットの低下を抑えることができる。具体的には、複数のプレートのうち先頭からｎ枚目（ｎは自然数）までのプレートに関しては、ｎ枚目のプレート上の複数のショット領域のうち第１の数のショット領域の領域内における計測点の高さを計測する。そして、第１の数のショット領域の領域内における計測点の高さからそのショット領域の高さを決定して、ｎ枚目のプレート上の複数のショット領域のそれぞれを投影光学系の像面に位置させながらｎ枚目のプレートを露光する。一方、複数のプレートのうちｎ枚目以降のプレートに関しては、ｎ枚目以降のプレート上の複数のショット領域のうち第１の数よりも少ない第２の数のショット領域の領域内における計測点の高さを計測する。次に、ｎ枚目のプレート上の複数のショット領域のうちｎ＋１枚目以降のプレート上の第２の数のショット領域に相当するショット領域における計測点の高さから第１の平面を算出する。同様に、ｎ＋１枚目以降のプレート上の台２の数のショット領域における計測点の高さから第２の平面を算出する。そして、ｎ枚目のプレート上の複数のショット領域のそれぞれの高さに第１の平面と第２の平面とのプレートの高さ方向のずれ量を加えた高さをｎ＋１枚目のプレート上の複数のショット領域のそれぞれの高さとして、ｎ＋１枚目のプレートを露光する。なお、計測点の高さを計測するショット領域の数は、デフォーカスに影響を与えるため、許容されるデフォーカスやプレートに存在する回転成分や傾き成分の大きさに応じて設定する必要がある。
【００４１】
また、レイアウト等などの関係によって、１枚目のプレート上の各ショット領域の領域内における計測点と２枚目以降のプレート上の各ショット領域の領域内における計測点とを同じ位置に配置できない場合も考えられる。例えば、図５（ｂ）に示すように、２枚目以降のプレート上の４番目のショット領域の領域内においては、２つの計測点ＭＰ５及びＭＰ６しか配置できない場合を考える。この場合、図５（ａ）に示すように、１枚目のプレート上の４番目のショット領域の領域内に、２枚目以降のプレート上の４番目のショット領域の領域内における２つの計測点ＭＰ５及びＭＰ６（の位置）に相当する２つの計測点ＭＰ５及びＭＰ６を配置すればよい。なお、１枚目のプレートの近似平面である第１の平面は、１枚目のプレート上の１番目のショット領域の領域内における計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４、及び、４番目のショット領域の領域内における計測点ＭＰ５及びＭＰ６から算出される。同様に、２枚目以降のプレートの近似平面である第２の平面は、２枚目以降のプレート上の１番目のショット領域の領域内における計測点ＭＰ１乃至ＭＰ４、及び、４番目のショット領域の領域内における計測点ＭＰ５及びＭＰ６から算出される。
【００４２】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
2011086777.tif 000005
【図２】
2011086777.tif 000006
【図３】
2011086777.tif 000007
【図４】
2011086777.tif 000008
【図５】
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