(57)【要約】【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持可能なキャリア部材と、該キャリア部材を垂直姿勢状態で搬送できる搬送レールとを備えた基板搬送機構であって、
前記キャリア部材の側面には、永久磁石からなる少なくとも一つのキャリア側ガイドマグネット、及びキャリア側駆動マグネットを有し、
前記搬送レールは、前記キャリア側ガイドマグネットに対向する位置に配設されたレール側ガイドマグネットと、前記キャリア側駆動マグネットに対向する位置に配設されたレール側駆動マグネットとを有し、
前記キャリア側ガイドマグネットの少なくとも一つは、搬送空間と成膜空間との境界に位置し、
前記キャリア側ガイドマグネット及び前記レール側ガイドマグネットからの磁力による作用によって、前記キャリア部材は垂直姿勢が維持されるとともに、前記搬送レール側と非接触状態で搬送可能に構成されたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記キャリア側ガイドマグネットは、前記キャリア部材に少なくとも２つ備えられ、前記キャリア側駆動マグネットを挟んで上側及び下側のいずれにも配設されることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記搬送レールは、前記キャリア部材の姿勢を検知する変位センサを備え、
前記レール側ガイドマグネットの少なくとも１つは、磁力の強度が調整可能な電磁石で構成され、
前記変位センサの測定値に基づいて前記電磁石の出力を調整して前記キャリア部材の姿勢を制御することが可能に構成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載された基板搬送装置。
【請求項４】
前記キャリア側ガイドマグネットの少なくとも一つは、窪み部を有し、
前記キャリア側ガイドマグネットに対向して配設された前記キャリア側駆動マグネットの一部が、前記窪み部に入り込むように配設されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板搬送装置を備えることを特徴とする真空処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板搬送装置を備えた真空処理装置を用いることを特徴とする成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を垂直に起立させた状態で搬送可能な基板搬送装置及びこの基板搬送装置を備えた真空処理装置並びにこの基板搬送装置を備えた真空処理装置を用いた成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空容器内で成膜処理が行われる基板は、キャリアのホルダに取付けられた状態で真空容器内を搬送される。キャリアにはキャリアマグネットが取付けられており、真空容器側にはモータによって駆動制御可能に構成された駆動用マグネットが配設されている。このキャリアマグネットが駆動用マグネットとの間で引き合うことで、駆動用マグネットの動作に伴いキャリアが移動できるように構成されている（例えば、特許文献１乃至３参照）。
【０００３】
駆動用マグネット側には、キャリア側を垂直姿勢で支持するためベアリングを用いたガイドが配設されている。このガイドがキャリア側に取付けられたガイドプレートと接触することにより、キャリアは駆動用マグネットと接触せずに垂直姿勢を保ちながら移動することができる。
【０００４】
また、駆動用マグネットは永久磁石が表面にらせん状に交互に配置された磁気ネジとして構成されている。すなわち、らせん状に磁化された駆動用マグネットとの間で磁気カップリングを形成可能に交互の磁極を有してキャリアマグネットは形成されている。そのため、駆動用マグネットの回転に連動して基板が保持されたキャリアは進退動することができる。このようにして、キャリアマグネットが取付けられたキャリアの搬送が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２１８８４４号公報
【特許文献２】特開平５−４９２３２号公報
【特許文献３】特開平５−５２２４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、真空環境下においては摩擦抵抗が大きく、また、限られた潤滑材しか使用できない。そのため、ベアリングを用いた場合にもその接触部分は磨耗しやすく、キャリアとベアリングを用いたガイドとの接触部分や、キャリアを下方側で支持するベアリングとの接触部分が磨耗しやすい。従って、磨耗により損傷した部品の交換作業が必要となり、生産コストの増加につながるという問題があった。
【０００７】
さらに、スループット向上の要請からキャリア搬送速度は上昇する傾向にあり、接触部分はこれまで以上に磨耗しやすい環境になりつつある。磨耗により生じたパーティクルが基板に付着することで膜質が低下し磁気ディスクなどの性能が悪化するおそれがある。すなわち、製品の歩留まり低下につながるという問題があった。
【０００８】
また、真空環境下においてはアウトガスの発生を抑える必要上、限られた材料しか使用できないため接触部の衝撃緩和構造には設計上の制約が多く、振動、衝撃によるキャリア搬送不具合や基板表面へのダメージ、基板の脱落等の不具合が起こりやすい。特にキャリア搬送速度の上昇に伴い、振動、衝撃が増加しやすい傾向があり、搬送速度が制限されるという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、上述した問題点に鑑みて、キャリアを非接触で支持することでパーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減、さらには材料選定の自由度向上を達成することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る基板搬送装置は、基板を保持可能なキャリア部材と、キャリア部材を垂直姿勢状態で搬送できる搬送レールとを備えた基板搬送機構であって、キャリア部材の側面には、永久磁石からなる少なくとも一つのキャリア側ガイドマグネット、及びキャリア側駆動マグネットを有し、搬送レールは、キャリア側ガイドマグネットに対向する位置に配設されたレール側ガイドマグネットと、キャリア側駆動マグネットに対向する位置に配設されたレール側駆動マグネットとを有し、キャリア側ガイドマグネットの少なくとも一つは、搬送空間と成膜空間との境界に位置し、キャリア側ガイドマグネット及びレール側ガイドマグネットからの磁力による作用によって、キャリア部材は垂直姿勢が維持されるとともに、搬送レール側と非接触状態で搬送可能に構成されたことを特徴とする。また、本発明に係る真空処理装置は、このような基板搬送装置を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の基板搬送装置により、真空環境下での接触部を全て無くす、或いは減少させることができ、発塵、磨耗、振動、衝撃の悪影響を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るインライン式成膜装置の概略構成図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る成膜室のＩ−Ｉ断面概略図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の側面概略図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る一部のキャリア側ガイドマグネットとレール側ガイドマグネットの拡大模式図である。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
【図７】本発明の第３の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
【図８】本発明の第４の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
【図９】本発明の第５の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。以下に説明する部材、配置等は本発明を具体化した一例であって、本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿って各種改変できることは勿論である。
【００１４】
（第1の実施形態）
図1乃至図５は本発明に係る第1の実施形態を示し、図１はインライン式成膜装置の概略構成図、図２は成膜室のＩ−Ｉ断面概略図、図３は基板搬送装置の側面概略図、図４は断面拡大図、図５は一部のキャリア側ガイドマグネットとレール側ガイドマグネットの拡大模式図である。
【００１５】
図１に示すインライン式成膜装置Ｓは、ロードロック室ＬＬ、アンロードロック室ＵＬ、成膜室Ｓ１やその他の処理室などとして機能する複数の真空室を含んでおり、それらの真空室が四角形状に連結されている。基板Ｇは、インライン式成膜装置の基板搬送路に沿って搬送され各処理室で所定の処理を施される。また、本実施形態における基板Ｇとしては、磁気ディスクや光ディスクなどの記憶メディアに用いられる円盤状部材が好適に用いられるが、後述する基板ホルダ１１を交換することにより、種々の形状のガラス基板、アルミニウム若しくはアルミニウム合金などの金属基板、シリコン基板、樹脂基板などを用いることができる。
【００１６】
本願明細書では、真空処理装置としてスパッタリング装置である成膜室Ｓ１を例に挙げて説明するが本発明はこの限りではない。例えば、他のＰＶＤ装置やＣＶＤ装置などの成膜装置、若しくはアッシング装置やドライエッチング装置などにも基板搬送装置２は好適に適用可能である。
【００１７】
図２に示す成膜室Ｓ１は、インライン式成膜装置Ｓを構成する処理室の一つであり、基板Ｇを垂直姿勢で保持した状態で成膜処理を行うことができるように構成されている。この成膜室Ｓ１内には蒸着源としてのターゲットＴＧを搭載可能なカソード１と、基板Ｇを垂直姿勢で保持して移送可能な基板搬送装置２が少なくとも備えられ、真空ポンプ７で内部を排気できるように構成されている。基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持する、いわゆる縦型搬送装置であり、インライン式成膜装置Ｓを構成する各成膜室間で基板Ｇを移送できるように構成されている。
【００１８】
カソード１は、基板搬送装置２に保持された基板Ｇに成膜するために、成膜室Ｓ１内の側壁に取付けられている。そのため、カソード１に任意のターゲットＴＧを装着することにより、基板Ｇの成膜面に平行にターゲットＴＧを配置することができる。また、本実施形態に係るスパッタリング装置Ｓにおいては、基板搬送装置２に保持された基板Ｇの両面に同時に成膜処理を行うため基板Ｇの搬送ルートを挟んだ両側にそれぞれ複数のカソード１が配設されている。
【００１９】
図３乃至図５に基づいて基板搬送装置２の構成を説明する。
基板搬送装置２は、基板Ｇを保持した状態で移動可能なキャリア部材４と、キャリア部材４を垂直姿勢に支持しながらスムーズに移動させる搬送レール６とを有して構成されている。搬送レール６は成膜室Ｓ１側に固定されており、キャリア部材４の片側の側面に対向して配設されるレール側駆動マグネット２８と、搬送空間Ｔ側に位置するキャリア部材４の上下両側の側面にそれぞれ対向して配設されるレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４と、キャリア部材４の下面側に配設されるタッチダウンベアリング２６と、を主要構成要素として備えている。
【００２０】
キャリア部材４は、略板状の部材であり、基板Ｇを保持できる基板ホルダ１１が上側のプロセス空間Ｐ側に位置するように取付けられている。キャリア部材４は、縦方向に起立した状態（垂直姿勢）で搬送されるため、基板ホルダ１１によって保持された基板Ｇも垂直姿勢のまま搬送される。キャリア部材４に取付けられる基板ホルダ１１は複数とすることもできる。キャリア部材４には、レール側駆動マグネット２８とレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４に対向する位置にそれぞれキャリア側駆動マグネット１３とキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が取付けられている。また、キャリア部材４は搬送する基板Ｇの数量に応じて搬送レール６に設置される。
【００２１】
キャリア側駆動マグネット１３は、キャリアの進行方向に対して交互の極性に着磁された永久磁石から構成され、レール側駆動マグネット２８の磁力に吸着するように構成されている。キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８は、それぞれ対向する位置に配設されたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４と同極の永久磁石から構成されている。
【００２２】
レール側駆動マグネット２８は、キャリア部材４の搬送方向に沿って配設されたリニアモータコイルによって構成されている。不図示の制御回路によってリニアモータコイルを制御することによって、リニアモータコイルと引き合うキャリア側駆動マグネット１３に非接触状態で引力を及ぼすことができる。すなわち、レール側駆動マグネット２８は、キャリア側駆動マグネット１３に及ぼす磁力を介してキャリア部材４に駆動力を与え、位置や搬送速度を制御することができる。なお、レール側駆動マグネット２８として、キャリア側駆動マグネット１３と磁気カップリングを形成するらせん磁化マグネット（磁気ネジ）を用いることもできる。
【００２３】
レール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４は、搬送されるキャリア部材４を挟んだ両側の上側と下側に対向する位置にそれぞれ配設された永久磁石であり、キャリア部材４の搬送方向に沿って配置されている。レール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４を、キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８と反発する磁性とすることで、非接触状態でキャリア部材４が垂直姿勢であるときを中立位置とすることができる。また、キャリア部材４の搬送時の揺れを抑制することができ、その際、キャリア部材４側は搬送レール６側と非接触状態を維持することができる。
【００２４】
なお、キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８及びレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４は、矩形上の磁石を搬送方向に沿って並べるように、キャリア部材４及びレール側にそれぞれ取付けられている。そして、キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８とレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４では、磁石が並べられる間隔（ピッチ）が異なっている。
【００２５】
例えば、キャリア側ガイドマグネット１５を構成する永久磁石群は、搬送方向に沿ってそれぞれ第１の所定間隔を有してキャリア部材４に取付けられており、一方、レール側ガイドマグネット２１を構成する永久磁石群は、搬送方向に沿ってそれぞれ第２の所定間隔を有してレール側に取付けられている場合において、第１の所定間隔と第２の所定間隔は異なっている。このように磁石を配置することで、キャリア部材４が移動してもいずれかの磁石は対向して位置することになり、キャリア部材４の移動による磁力の変化を少なくすることができる。
【００２６】
また、レール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４のうち、上側に配設されるレール側ガイドマグネット２１，２３は、搬送空間Ｔ側の上側、すなわち、プロセス空間Ｐと搬送空間Ｔの境目付近に位置している。永久磁石には磁性を有するパーティクルを付着させて除去する作用があるため、プロセス空間Ｐと搬送空間Ｔの境目付近に磁石を配置することで、搬送空間Ｔ側から成膜処理が行われるプロセス空間Ｐにパーティクルが侵入することを防ぐことができる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３に対向するキャリア側ガイドマグネット１５，１７も、レール側ガイドマグネット２１，２３と同様に搬送空間Ｔ側からプロセス空間Ｐへのパーティクルの侵入を防ぐ効果がある。
【００２７】
一方、レール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４のうち、下側に配設されるレール側ガイドマグネット２２，２４は搬送空間Ｔ側の下側に位置している。このように配置されることで、真空排気などの際に真空室の底部から撒き上がったパーティクルをレール側ガイドマグネット２２，２４に付着させて除去することができる。また、レール側ガイドマグネット２２，２４に対向するキャリア側ガイドマグネット１６，１８も、レール側ガイドマグネット２２，２３と同様にパーティクルを除去する効果がある。
【００２８】
なお、レール側ガイドマグネット２１，２２に比べて、レール側ガイドマグネット２３，２４の方がやや磁力が強い磁石を用いている。キャリア側駆動マグネット１３とレール側駆動マグネット２８との引力によってキャリア部材４がレール側駆動マグネット２８側に偏ることを防ぐためである。もちろん、キャリア側ガイドマグネット１７，１８をキャリア側ガイドマグネット１５，１６よりも強い磁石を使用することでも同様の効果を得ることができる。
【００２９】
タッチダウンベアリング２６は、キャリア部材４の下部側に配設された多数のベアリングから構成されている。基板搬送装置２の正常運転状態においては、タッチダウンベアリング２６はキャリア部材４と非接触であるが、装置停止時や異常時にキャリア部材１０の荷重を支持することができる。タッチダウンベアリング２６の代わりに磁力（斥力）を有するマグネットを使用してもよい。また、タッチダウンベアリング２６と接するキャリア部材４の下部表面は平滑に仕上げられたヨーク４ａが形成されており、タッチダウンベアリング２６と滑らかに接することができる。
【００３０】
また、図５に示すように本実施形態においては、キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８のうち、上側の一方に配設されたキャリア側ガイドマグネット１７は、レール側ガイドマグネット２３の形状に沿って湾曲した断面形状に形成されている。
【００３１】
キャリア側ガイドマグネット１７は、凹状の窪み部１７ａを有する形状であり、この窪み部１７ａにレール側ガイドマグネット２３の一部が入り込むように配置されている。窪み部１７ａはキャリア部材４の搬送方向に平行に形成されており、搬送中は常時、レール側ガイドマグネット２３の中央部が窪み部１７ａに被接触状態を保ちながら入り込んでいる。言い換えると、レール側ガイドマグネット２３は、上側と下側でキャリア側ガイドマグネット１７に挟みこまれる部分を有している。
【００３２】
このため、左右方向だけではなく上下方向に対してもレール側ガイドマグネット２３からの斥力を及ぼすことができる。つまり、窪み部１７ａにレール側ガイドマグネット２３が入り込んでいるため、窪み部１７ａの上下方向の位置に対してレール側ガイドマグネット２３は磁気的な中立位置を有している。なお、レール側ガイドマグネット２３とキャリア側ガイドマグネット１７は上下方向に磁力を受ける配置であれば良く、例えば、レール側ガイドマグネット２３を凹状に形成し、キャリア側ガイドマグネット１７を凸状に形成してもよい。もちろん、レール側ガイドマグネット２３若しくはキャリア側ガイドマグネット１７を複数に分割して構成してもよい。       
【００３３】
このキャリア側ガイドマグネット１７によって、キャリア部材４搬送中の上下方向の振動などを抑制することができる。また、キャリア部材４が上下方向に対して非接触で浮上している状態での上下位置決めを行うことができる。もちろん、キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１８にもキャリア側ガイドマグネット１７と同様の構造とすることができる。なお、レール側ガイドマグネット２３は、窪み部１７ａ側に対向する放射状の磁極を有するものであると好適である。放射状の磁極とされることで、窪み部１７ａから上下方向の磁気の影響を強めることができる。
【００３４】
ここで、基板搬送装置２を備えたインライン式成膜装置Ｓを用いた成膜方法について説明する。
基板Ｇは、基板搬送装置２によって垂直に保持された状態で前工程側（上流側）から搬送され、ターゲットＴＧの前面に停止若しくは通過する。このときターゲットＴＧからスパッタされた成膜物質が基板Ｇ上に堆積される。形成されるスパッタ物質の種類と数に応じて、多数のターゲットＴＧ若しくは複数の成膜室が構成される。成膜された基板Ｇはキャリア部材４に保持されたまま後工程（下流側）に搬送される。
【００３５】
基板搬送装置２を上述のように構成することによって、キャリア部材４が非接触支持されることになりパーティクルなどの発生を抑えることができるとともに、材料選定の自由度を上げることができる。キャリア部材４が非接触に支持されることから、より高速での搬送も可能であり、高スループット処理にも適している。また、ベアリングなどの部材の交換回数が減少し、保守部品費、作業費を低減することができる。さらに、キャリア部材４を非接触支持するによって搬送時の衝撃が緩和される。
【００３６】
本実施形態に係る基板搬送装置２を備えたインライン式成膜装置Ｓを用いて成膜することによって、パーティクルの付着が少ない良好な膜質を有する磁気ディスク若しくは光ディスクを低コストで製造することができる。
【００３７】
（第２の実施形態）
図６は、本発明の第２の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。なお、以下の各実施の形態において、第１の実施の形態と同様部材、配置等には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００３８】
本実施形態に係る基板搬送装置３２は、第１の実施の形態に係る基板搬送装置２において、レール側ガイドマグネット２１，２２を電磁石に置き換え、キャリア部材４の姿勢を検知する変位センサ３１ａ，３１ｂをさらに備える構成としたものである。このような構成とすることで、搬送中のキャリア部材４の姿勢制御を電磁石の出力を制御することによって行うことができる。もちろん、レール側ガイドマグネット２１，２２とは別部材として調整用の電磁石と姿勢検知センサを備える構成とすることもできる。
【００３９】
本実施形態に用いる変位センサ３１ａ，３１ｂは、キャリア部材４から反射された測定光ｉの戻り位置を検知することでキャリア部材４の姿勢を検知するセンサであり、それぞれの変位センサ３１ａ，３１ｂとキャリア部材４との距離を測定することでキャリア部材４の姿勢を測定している。もちろん、変位センサ３１ａ，３１ｂは、磁気センサや画像処理回路を備えたセンサなどによっても構成することができる。
【００４０】
また、レール側ガイドマグネット２１，２２として用いられる電磁石は、入力された電力によって磁力の出力を調整することができるものである。電磁石に入力される電力値は、変位センサ３１ａ，３１ｂの測定値を参照して、キャリア部材４が所定の姿勢になるように不図示の姿勢制御回路が算出した値である。すなわち、姿勢制御回路では、あらかじめキャリア部材４が最適姿勢を示す測定値を設定値しておいて、この設定値と変位センサ３１ａ，３１ｂからの測定値が同じ値になるように電磁石からなるレール側ガイドマグネット２１，２２に電流を印加する制御を行っている。
【００４１】
このような構成とすることで、搬送中のキャリア部材４の姿勢制御や位置の補正ができるため、基板搬送装置２を組み立てる際の部品組付け精度を比較的平易な水準に止めることができ、組み付け作業性を改善することができる。また、キャリア部材４の浮上位置や姿勢を精密に調整することによってキャリア部材４が受ける振動を緩和することができ、キャリア部材４の搬送速度の向上することができる。
【００４２】
（第３の実施形態）
図７は、本発明の第３の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。なお、以下の各実施の形態において、第１の実施の形態と同様部材、配置等には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００４３】
本実施形態に係る基板搬送装置４２は、第１の実施形態に係る基板搬送装置２において、タッチダウンベアリング２６をサポートマグネット２７に変更し、キャリア部材４の底部に底部支持マグネット１４を取付けたものである。このような構成とすることで、停止時のキャリア部材４の自重を非接触で支持することができる。接触回数や接触時間の減少が図れるため、一層の発塵の防止を図ることができる。
【００４４】
（第４の実施形態）
図８は、本発明の第４の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
本実施形態に係る基板搬送装置５２は、第２の実施の形態に係る基板搬送装置４２において、レール側ガイドマグネット２１，２２、及び、キャリア側ガイドマグネット１５，１６の代わりに、レール側ガイドマグネット４５、及び、キャリア側ガイドマグネット４６とを備えたものである。必要なマグネットの数を減らすことができる。
【００４５】
（第５の実施形態）
図９は、本発明の第５の実施形態に係る基板搬送装置の断面拡大図である。
本実施形態に係る基板搬送装置６２は、第３の実施形態に係る基板搬送装置５２において、キャリア部材４を支持できるガイドベアリング６５，６６を備えたものである。ガイドベアリング６５，６６は、キャリア側ガイドマグネット１７，１８が配設されたキャリア部材４の裏面側に接触可能に配設されている。ガイドベアリング６５，６６は、キャリア部材４の横方向の揺れが一定量以上になった場合にそれを規制するためのものであり、正常動作時にはガイドベアリング６５，６６はキャリア部材４と接することはない。
【００４６】
また、第４の実施の形態に係る基板搬送装置５２と第５の実施の形態に係る基板搬送装置６２において、それぞれ、レール側ガイドマグネット４５とキャリア側ガイドマグネット４６と有さない構成としてもよい。このように、レール側ガイドマグネット２１，２２とキャリア側ガイドマグネット１５，１６の磁力を調整することによって磁石の配置位置を少なくすることができる。
【００４７】
さらに、上述した各基板搬送装置２，３２，４２，５２，６２に用いられる磁石の磁力を調整するによって、タッチダウンベアリング２６若しくはサポートマグネット２７を有さない構成とすることもできる。
【００４８】
上述した各基板搬送装置２，３２，４２，５２，６２に用いられる永久磁石の磁極の組み合わせを変更してもよい。例えば、基板搬送装置２において、レール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４とキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８は、斥力を及ぼすような組み合わせとされているが、これらを引き合う組み合わせに変更することができる。
【００４９】
この場合、キャリア側駆動マグネット１３とレール側駆動マグネット２８とは斥力を及ぼすような組み合わせとすることになる。また、キャリア部材４の垂直姿勢で中立になるように、キャリア側駆動マグネット１３とレール側駆動マグネット２８は前後方向に２列に分割して構成することが望ましい。この際、キャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８は強磁性を有する磁性材料（例えば鉄鋼材料）から構成してもよい。キャリア部材４を強磁性材料で構成するとキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８を取付ける必要がなくなる。
【符号の説明】
【００５０】
Ｓ  インライン式成膜装置
Ｓ１  成膜室
ＬＬ  ロードロック室
ＵＬ  アンロードロック室
ＴＧ  ターゲット
Ｇ  基板
ｉ  測定光
１  カソード
２，３２，４２，５２，６２  基板搬送装置  
４  キャリア部材
４ａ  ヨーク
６  搬送レール
７  真空ポンプ
１１  基板ホルダ
１３  キャリア側駆動マグネット
１４  底部支持マグネット
１５，１６，１７，１８，４６  キャリア側ガイドマグネット
１７ａ  窪み部
２１，２２，２３，２４，４５  レール側ガイドマグネット
２６  タッチダウンベアリング
２７  サポートマグネット
２８  レール側駆動マグネット
３１ａ，３１ｂ  変位センサ
６５，６６  ガイドベアリング
【図１】
2011029540.tif 000003
【図２】
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【図３】
2011029540.tif 000005
【図４】
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【図５】
2011029540.tif 000007
【図６】
2011029540.tif 000008
【図７】
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【図８】
2011029540.tif 000010
【図９】
2011029540.tif 000011