(57)【要約】【課題】簡単な構成及び工程で、支持層が剥離された樹脂層を良好に平滑化することができ、高品質な積層基板を効率的に製造することを可能にする。【解決手段】製造装置２０は、感光性ウエブ２２をガラス基板２４に接着して貼り付け基板２４ａを得る貼り付け機構４６と、前記取り付け基板２４ａからベースフイルム２６を剥離して積層基板１１２を得る剥離機構１１４と、前記ベースフイルム２６が剥離された樹脂層表面１２４に圧着され、前記積層基板１１２と相対的に移動することにより前記樹脂層表面１２４の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構１２０とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持層と少なくとも１層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る貼り付け機構と、
前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る剥離機構と、
前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着され、前記積層基板と相対的に移動することにより前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構と、
を備えることを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項２】
請求項１記載の製造装置において、前記圧着ローラ機構は、前記積層基板の両面に配設される一対のローラ部材と、
前記一対のローラ部材を互いに近接する方向に付勢し、該一対のローラ部材で前記樹脂層を加圧する弾性部材と、
を備えることを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項３】
請求項２記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、非粘着ゴムローラであることを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項４】
請求項２又は３記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、ゴム硬度５０〜８０のゴムローラであることを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれか１項に記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、軸方向中央が山高なクラウン形状を有することを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項６】
請求項２〜５のいずれか１項に記載の製造装置において、前記一対のローラ部材と前記積層基板とは、相対的に２６ｃｍ／ｓｅｃ以下の速度で移動することを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項７】
請求項２〜６のいずれか１項に記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、０．４ＭＰａ以上の圧着力で前記積層基板を挟持することを特徴とする積層基板の製造装置。
【請求項８】
支持層と少なくとも１層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る工程と、
前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る工程と、
前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着ローラ機構を圧着し、前記圧着ローラ機構と前記積層基板とを相対的に移動させることにより、前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる工程と、
を有することを特徴とする積層基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持層と少なくとも１層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着した後、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を製造する積層基板の製造装置法及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、ＰＤＰパネル用基板では、感光性樹脂（感光材料）層を有する感光性シート体（感光性ウエブ）を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光性樹脂層と保護フイルムとが、順次、積層されている。
【０００３】
そこで、この種の感光性シート体の貼り付けに使用される貼付装置は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離した後、前記基板に感光性樹脂層を貼り付ける方式が採用されている。
【０００４】
例えば、特許文献１に開示されているドライレジストフイルムのラミネート方法では、図９に示すように、基板予熱部、ラミネート部、基板冷却部、基板上フイルム切断部及びフイルム除去部が、基板１の搬送方向に沿って、順次、配設されている。この基板１は、基板予熱部の予熱ヒータ２よって所定の温度に加熱された後、ラミネート部に送られている。
【０００５】
ラミネート部には、一対のラミネートローラ３ａ、３ｂが配置されており、前記ラミネートローラ３ａ、３ｂ間には、基板１とドライレジストフイルム４とが送られるため、前記ドライレジストフイルム４が前記基板１に熱圧着されている。なお、ドライレジストフイルム４は、予め、カバーフイルム５が剥離されており、図示しないレジスト層が基板１側に向かって熱圧着されている。
【０００６】
さらに、ドライレジストフイルム４が熱圧着された基板１は、搬送ローラ６を介して基板冷却部に送られ、基板冷却手段７を介して冷却されている。基板冷却部によりドライレジストフイルム４が冷却されることにより、このドライレジストフイルム４のレジスト層が硬化するとともに、基板１との密着力が向上している。従って、次段の基板上フイルム切断部において、ドライレジストフイルム４を切断する際に、切断の応力でレジスト層の剥離が発生することを防止している。
【０００７】
次いで、基板１同士を連結しているドライレジストフイルム４は、基板上フイルム切断部でカッターを備えた基板上フイルム切断手段８により切断されるとともに、前記基板１は、フイルム除去部に送られている。このフイルム除去部では、基板１が加熱ロール９により再加熱された後、フイルム剥離手段１０を介して前記基板１間を連結し且つ切断工程で形成された切断面間のドライレジストフイルム４が、前記基板１から除去されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−１８３１４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記の従来技術では、基板１からドライレジストフイルム４が剥離される際、レジスト層に突起状物（毛羽立ち）が発生し易い。特に、ドライレジストフイルム４が剥離された基板１の貼り付けられるウェブ搬送方向の前後端には、突起状物の発生が顕著になっている。
【００１０】
ところで、例えば、プロキシミティー露光方式では、マスクと被露光基板とに所定の距離（ギャップ）を空けた状態で、平行光を照射することにより、マスクパターンを直接投影してレジスト層に露光処理を行っている。この所定の距離は、通常、１６０μｍに設定されている。
【００１１】
しかしながら、レジスト層に１６０μｍ以上の突起状物が発生していると、この突起状物がマスクに付着し易く、前記突起状物が露光範囲内に入って露光不良が惹起されるという問題がある。
【００１２】
本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な構成及び工程で、支持層が剥離された樹脂層を良好に平滑化することができ、高品質な積層基板を効率的に製造することが可能な積層基板の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る積層基板の製造装置は、支持層と少なくとも１層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る貼り付け機構と、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る剥離機構と、前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着され、前記積層基板と相対的に移動することにより前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構とを備えている。
【００１４】
また、圧着ローラ機構は、積層基板の両面に配設される一対のローラ部材と、前記一対のローラ部材を互いに近接する方向に付勢し、該一対のローラ部材で樹脂層を加圧する弾性部材とを備えることが好ましい。
【００１５】
さらに、一対のローラ部材は、非粘着ゴムローラであることが好ましい。
【００１６】
さらにまた、一対のローラ部材は、ゴム硬度５０〜８０のゴムローラであることが好ましい。
【００１７】
また、一対のローラ部材は、軸方向中央が山高なクラウン形状を有することが好ましい。
【００１８】
さらに、一対のローラ部材と積層基板とは、相対的に２６ｃｍ／ｓｅｃ以下の速度で移動することが好ましい。
【００１９】
さらにまた、一対のローラ部材は、０．４ＭＰａ以上の圧着力で積層基板を挟持することが好ましい。
【００２０】
また、本発明に係る積層基板の製造方法は、支持層と少なくとも１層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る工程と、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る工程と、前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着ローラ機構を圧着し、前記圧着ローラ機構と前記積層基板とを相対的に移動させることにより、前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる工程とを有している。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、支持層が樹脂層から剥離された後、圧着ローラ機構が前記樹脂層に圧着された状態で、前記圧着ローラ機構と積層基板とが相対的に移動する。このため、樹脂層は、支持層の剥離により形成される凹凸形状が良好に平坦化され、簡単な構成及び工程で、高品質な積層基板を効率的に製造することが可能になる。従って、露光処理時に、樹脂層がマスクに付着することがなく、良好な露光処理が確実に遂行される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。
【図２】前記製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。
【図３】前記長尺状感光性ウエブに接着ラベルが接着された状態の説明図である。
【図４】前記製造装置を構成する圧着ローラ機構の概略斜視説明図である。
【図５】前記圧着ローラ機構の概略正面説明図である。
【図６】ばね強度とニップバンドとの関係説明図である。
【図７】前記ばね強度と接圧との関係説明図である。
【図８】圧着前後の高さ変動の説明図である。
【図９】特許文献１のドライレジストフイルムのラミネート方法の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１に示すように、本発明の第１の実施形態に係る積層基板の製造装置２０は、プリント配線用基板、液晶、ＰＤＰ又は有機ＥＬ用カラーフィルタ等の製作工程で、長尺状感光性ウエブ２２の感光性樹脂層２９（後述する）をガラス基板２４に熱転写する作業を行う。
【００２４】
図２に示すように、製造装置２０に使用される感光性ウエブ２２は、可撓性ベースフイルム（支持層）２６、クッション層（熱可塑性樹脂層）２７、中間層（酸素遮断膜）２８、感光性樹脂層２９及び保護フイルム３０を積層して構成される。なお、感光性ウエブ２２は、ベースフイルム２６、感光性樹脂層２９及び保護フイルム３０により構成されていてもよい。
【００２５】
ベースフイルム２６は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で形成され、クッション層２７は、エチレンと酸化ビニル共重合体で形成され、中間層２８は、ポリビニルアルコールで形成され、感光性樹脂層２９は、アルカリ可溶性バインダとモノマーと光重合開始材と着色剤を含む着色感光性樹脂組成物で形成され、保護フイルム３０は、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等で形成される。
【００２６】
図１に示すように、製造装置２０は、感光性ウエブ２２をロール状に巻回した感光性ウエブロール２２ａを収容し、この感光性ウエブロール２２ａから前記感光性ウエブ２２を送り出すウエブ送り出し機構３２と、送り出された前記感光性ウエブ２２の保護フイルム３０に、幅方向に切断可能なハーフカット部位３４を形成するハーフカット機構３６と、接着ラベル３８（図３参照）を保護フイルム３０に接着させるラベル接着機構４０とを備える。
【００２７】
ラベル接着機構４０の下流には、感光性ウエブ２２をタクト送りから略連続送りに変更するためのリザーバ機構４２と、前記感光性ウエブ２２から保護フイルム３０を所定の長さ間隔で剥離させる保護フイルム剥離機構４４と、ガラス基板２４を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する加熱機構４５と、前記保護フイルム３０の剥離により露出した感光性樹脂層２９を前記ガラス基板２４に貼り付ける貼り付け機構４６とが配設される。なお、貼り付け機構４６によりガラス基板２４に感光性ウエブ２２が貼り付けられた積層体を、以下、貼り付け基板２４ａという。
【００２８】
貼り付け機構４６の下流には、各ガラス基板２４間の前記感光性ウエブ２２を切断する基板間ウエブ切断機構４８が配設される。この基板間ウエブ切断機構４８の上流には、運転開始時及び運転終了時に使用されるウエブ切断機構４８ａが設けられる。
【００２９】
ウエブ送り出し機構３２の下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ２２の後端と、新たに使用される感光性ウエブ２２の先端とを接合させる接合台４９が配設される。この接合台４９の下流には、感光性ウエブロール２２ａの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端位置検出器５１が配設される。
【００３０】
ハーフカット機構３６は、ウエブ送り出し機構３２に収容巻回されている感光性ウエブロール２２ａのロール径を算出するためのローラ対５０の下流に配置される。ハーフカット機構３６は、感光性ウエブ２２の搬送方向（矢印Ａ方向）に直交する方向に進退自在な回転丸刃（カッタ）５４を備える。
【００３１】
図２に示すように、ハーフカット部位３４は、少なくとも保護フイルム３０を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム３０を確実に切断するために感光性樹脂層２９乃至中間層２８まで切り込むように、回転丸刃５４の切り込み深さが設定される。
【００３２】
ラベル接着機構４０は、ガラス基板２４間に対応して保護フイルム３０の残存部分３０ｂを残すため、剥離側前方の剥離部分３０ａａと剥離側後方の剥離部分３０ａｂとを連結する接着ラベル３８を供給する。図２に示すように、保護フイルム３０は、残存部分３０ｂを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分３０ａａとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分３０ａｂとする。
【００３３】
図１に示すように、ラベル接着機構４０は、最大７枚の接着ラベル３８を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド５８ａ〜５８ｇを備えるとともに、前記吸着パッド５８ａ〜５８ｇによる前記接着ラベル３８の貼り付け位置には、感光性ウエブ２２を下方から保持するための受台５９が昇降自在に配置される。
【００３４】
リザーバ機構４２は、上流側の感光性ウエブ２２のタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ２２の連続搬送との速度差を吸収するが、さらにテンション変動を防ぐために、揺動自在な２連のローラ６０で構成されるダンサー６１を備えることが好ましい。
【００３５】
保護フイルム剥離機構４４は、リザーバ機構４２の下流に配置されるとともに、サクションドラム６２と、感光性ウエブ２２を挟んでこのサクションドラム６２に接する剥離ローラ６４とを備える。剥離ローラ６４を介して感光性ウエブ２２から鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム３０は、残存部分３０ｂを除いて保護フイルム巻き取り軸６６に巻き取られる。保護フイルム巻き取り軸６６は、保護フイルム３０に所定のテンションを付与するために、例えば、トルクモータ６８に連結される。
【００３６】
保護フイルム剥離機構４４の下流側には、感光性ウエブ２２にテンションを付与可能なテンション制御機構７６が配設される。テンション制御機構７６は、シリンダ７８を備え、このシリンダ７８の駆動作用下に、テンションピックアップローラ８０が揺動変位することにより、このテンションピックアップローラ８０が摺接する感光性ウエブ２２のテンションが調整可能である。なお、テンション制御機構７６は、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。
【００３７】
加熱機構４５は、ガラス基板２４を矢印Ｃ方向に搬送するための搬送機構８４と複数の加熱炉８６とを備え、この搬送機構８４は、矢印Ｃ方向に配列される複数の樹脂製円板状搬送ローラ８８を有する。
【００３８】
貼り付け機構４６は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるラミネート用ゴムローラ９０ａ、９０ｂを備える。ゴムローラ９０ａ、９０ｂには、バックアップローラ９２ａ、９２ｂが摺接するとともに、前記バックアップローラ９２ｂは、ローラクランプ部９４を介してゴムローラ９０ｂ側に押圧される。
【００３９】
ゴムローラ９０ａの近傍には、感光性ウエブ２２が前記ゴムローラ９０ａに接触することを防止するための接触防止ローラ９６が配設される。この接触防止ローラ９６は、図示しないアクチュエータを介して移動可能である。
【００４０】
貼り付け機構４６と基板間ウエブ切断機構４８との間には、フイルム搬送ローラ９８ａと基板搬送ローラ９８ｂとが配設される。基板間ウエブ切断機構４８の下流側には、複数のローラ１１０ａが配列される搬送系１１０が設けられる。搬送系１１０の矢印Ｃ方向（下流側）の端部には、貼り付け基板２４ａからベースフイルム２６を剥離して積層基板１１２を得る剥離機構１１４が配設される。
【００４１】
剥離機構１１４は、アクチュエータ（図示せず）を介して移動可能な一対のチャック１１６ａ、１１６ｂを備える。チャック１１６ａ、１１６ｂは、貼り付け基板２４ａを構成するガラス基板２４の搬送方向両端から外部に突出するベースフイルム２６の両側部を把持自在な位置に位置調整可能である。チャック１１６ａ、１１６ｂの下方には、貼り付け基板２４ａのガラス基板２４を吸着保持するために複数の吸着パッド１１８が配設される。
【００４２】
剥離機構１１４の下流には、圧着ローラ機構１２０が配設される。図４及び図５に示すように、圧着ローラ機構１２０は、積層基板１１２の少なくとも一端部側両面に配設される一対のローラ部材１２２ａ、１２２ｂと、前記ローラ部材１２２ａ、１２２ｂを互いに近接する方向に付勢し、該ローラ部材１２２ａ、１２２ｂでベースフイルム２６が剥離された樹脂層表面（クッション層２７等）１２４を加圧する弾性部材、例えば、スプリング１２６とを備える。
【００４３】
ローラ部材１２２ａ、１２２ｂは、それぞれ壁部１２８に支持される軸部１３０ａ、１３０ｂを有する。軸部１３０ａ、１３０ｂには、ブラケット１３２ａ、１３２ｂが設けられるとともに、前記ブラケット１３２ａ、１３２ｂ間には、スプリング１２６が介装されて該ブラケット１３２ａ、１３２ｂ同士を互いに近接する方向に引張する。
【００４４】
軸部１３０ａ、１３０ｂの先端部には、非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂが回転自在に設けられる。非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、例えば、シリコーンゴム製のローラで構成され、軸方向中央が山高なクラウン形状を有する。
【００４５】
非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、ゴム硬度３０〜８０、より好ましくは、ゴム硬度５０〜８０に設定されるとともに、スプリング１２６を介して、０．４ＭＰａ以上の圧着力で積層基板１１２を挟持する。非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂと積層基板１１２とは、相対的に２６ｃｍ／ｓｅｃ以下の速度で移動する。
【００４６】
図１に示すように、製造装置２０内は、仕切り壁１４０を介して第１クリーンルーム１４２ａと第２クリーンルーム１４２ｂとに仕切られる。第１クリーンルーム１４２ａには、ウエブ送り出し機構３２からテンション制御機構７６までが収容されるとともに、第２クリーンルーム１４２ｂには、貼り付け機構４６以降が収容される。第１クリーンルーム１４２ａと第２クリーンルーム１４２ｂとは、貫通部１４４を介して連通する。
【００４７】
このように構成される製造装置２０の動作について、本発明に係る製造方法との関連で以下に説明する。
【００４８】
先ず、図１に示すように、ウエブ送り出し機構３２に取り付けられている感光性ウエブロール２２ａから感光性ウエブ２２が繰り出され、この感光性ウエブ２２は、ハーフカット機構３６に送られる。
【００４９】
ハーフカット機構３６では、回転丸刃５４を介して感光性ウエブ２２にハーフカット部位３４が形成される（図２参照）。そして、ハーフカット処理された感光性ウエブ２２は、図１に示すように、保護フイルム３０の残存部分３０ｂの寸法に対応して矢印Ａ方向に搬送された後、一旦停止されて回転丸刃５４の走行作用下に次なるハーフカット部位３４が形成される。このため、感光性ウエブ２２には、残存部分３０ｂを挟んで前方の剥離部分３０ａａと後方の剥離部分３０ａｂとが設けられる（図２参照）。
【００５０】
さらに、感光性ウエブ２２は、ラベル接着機構４０に搬送されて、保護フイルム３０の所定の貼り付け部位が受台５９上に配置される。ラベル接着機構４０では、所定枚数の接着ラベル３８が吸着パッド５８ａ〜５８ｇにより吸着保持され、各接着ラベル３８が保護フイルム３０の残存部分３０ｂを跨いで、前方の剥離部分３０ａａと後方の剥離部分３０ａｂとに一体的に接着される（図３参照）。
【００５１】
保護フイルム剥離機構４４では、感光性ウエブ２２がサクションドラム６２と剥離ローラ６４とに挟持されて、前記感光性ウエブ２２のベースフイルム２６が前記サクションドラム６２に吸着保持されている。この状態で、サクションドラム６２が回転されるとともに、保護フイルム３０には、トルクモータ６８を介して所定のトルクが付与されている。
【００５２】
従って、保護フイルム３０は、残存部分３０ｂを残して感光性ウエブ２２から剥離され、剥離ローラ６４を介して保護フイルム巻き取り軸６６に巻き取られる。なお、剥離部位には、除電エアを吹き付けることが好ましい。
【００５３】
保護フイルム剥離機構４４の作用下に、保護フイルム３０が残存部分３０ｂを残してベースフイルム２６から剥離された後、感光性ウエブ２２は、テンション制御機構７６によってテンション調整が行われる。感光性ウエブ２２は、運転開始時にはフイルム搬送ローラ９８ａの回転作用下に、その後は貼り付け基板２４ａを挟持する基板搬送ローラ９８ｂの回転作用下に、貼り付け機構４６に定量搬送される。その際、接触防止ローラ９６が上方に待機するとともに、ゴムローラ９０ｂが下方に配置されている。
【００５４】
一方、加熱機構４５では、貼り付け機構４６におけるラミネート温度に対応して各加熱炉８６内の加熱温度が設定されている。ガラス基板２４は、搬送機構８４を構成する搬送ローラ８８の回転作用下に、各加熱炉８６に、順次、タクト搬送される。このガラス基板２４は、感光性ウエブ２２の感光性樹脂層２９の貼り付け部分に対応してゴムローラ９０ａ、９０ｂ間に一旦配置される。
【００５５】
この状態で、ローラクランプ部９４を介してバックアップローラ９２ｂ及びゴムローラ９０ｂを上昇させることにより、ゴムローラ９０ａ、９０ｂ間にガラス基板２４が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ９０ａの回転作用下に、このガラス基板２４には、感光性樹脂層２９が加熱溶融により転写（ラミネート）される。
【００５６】
ここで、ラミネート条件としては、速度が１．０ｍ／ｍｉｎ〜１０．０ｍ／ｍｉｎ、ゴムローラ９０ａ、９０ｂの温度が８０℃〜１５０℃、前記ゴムローラ９０ａ、９０ｂのゴム硬度が４０度〜９０度、該ゴムローラ９０ａ、９０ｂのプレス圧（線圧）が５０Ｎ／ｃｍ〜４００Ｎ／ｃｍである。
【００５７】
ゴムローラ９０ａ、９０ｂを介してガラス基板２４に感光性ウエブ２２の１枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ９０ａの回転が停止される。一方、ガラス基板２４に感光性ウエブ２２がラミネートされた貼り付け基板２４ａは、基板搬送ローラ９８ｂによりクランプされる。そして、ゴムローラ９０ｂは、ゴムローラ９０ａから離間する方向に退避してクランプが解除される。
【００５８】
これにより、一枚分のラミネート処理が終了し、次なるラミネート処理が開始されるまでの時間の中で、加熱機構４５を介して所定の温度に加熱されたガラス基板２４が、ゴムローラ９０ａ、９０ｂ間に搬送されて配置されるとともに、前記ゴムローラ９０ａに摺接する感光性ウエブ２２の微動送りが行われる。
【００５９】
ガラス基板２４に感光性ウエブ２２が貼り付けられた貼り付け基板２４ａは、矢印Ｃ方向に定量搬送される。そして、各ガラス基板２４間の感光性ウエブ２２が、基板間ウエブ切断機構４８を介して切断された貼り付け基板２４ａは、搬送系１１０を介して剥離機構１１４に搬送される。
【００６０】
剥離機構１１４では、貼り付け基板２４ａのガラス基板２４側が吸着パッド１１８の吸引作用下に保持される一方、各チャック１１６ａ、１１６ｂは、ガラス基板２４の搬送方向両端から内方に突出するベースフイルム２６の搬送方向両端部を把持する。さらに、チャック１１６ａ、１１６ｂは、所定の方向に駆動制御されることにより、前記チャック１１６ａ、１１６ｂに把持されるベースフイルム２６は、クッション層２７から分離されて貼り付け基板２４ａから剥離されることにより、積層基板１１２が得られる。
【００６１】
積層基板１１２では、ベースフイルム２６が剥離される際に、樹脂層表面１２４の貼り付けられるウェブ搬送方向の前後端には、突起状物（毛羽立ち）が発生し易い。これは、保護フイルム３０の残存部分３０ｂが収縮して、ラミネート時に不要な部分までガラス基板２４にラミネートされた際に、ベースフイルム２６の剥離に伴って前記残存部分３０ｂと一体に前記不要な部分が伸びて毛羽立ち状態になるからである。
【００６２】
このため、本実施形態では、ベースフイルム２６が剥離された積層基板１１２は、樹脂層表面１２４の凹凸形状を平坦化させるために、搬送系１１０の作用下に圧着ローラ機構１２０に搬送される。
【００６３】
圧着ローラ機構１２０では、図４及び図５に示すように、一対のローラ部材１２２ａ、１２２ｂが、積層基板１１２の一端部側両面を所定の圧着力（４ＭＰａ以上）で挟持するとともに、前記積層基板１１２は、矢印Ｃ方向に２６ｃｍ／ｓｅｃ以下の速度で移動する。
【００６４】
このため、樹脂層表面１２４は、ベースフイルム２６の剥離により形成された凹凸形状が良好に平坦化され、簡単な構成及び工程で、高品質な積層基板１１２を効率的に製造することが可能になる。従って、積層基板１１２の露光処理時に、樹脂層表面１２４の突起状物がマスク（図示せず）に付着することがなく、良好な露光処理が確実に遂行されるという効果が得られる。
【００６５】
この場合、ローラ部材１２２ａ、１２２ｂを構成する非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、例えば、シリコーンゴム製のローラであり、軸方向中央が山高なクラウン形状を有している。従って、特にローラ部材１２２ａに樹脂層表面１２４が付着することがなく、前記樹脂層表面１２４の平坦化処理が良好に遂行可能になる。
【００６６】
さらに、非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、ゴム硬度３０〜８０、より好ましくは、ゴム硬度５０〜８０に設定されるとともに、スプリング１２６を介して、０．４ＭＰａ以上の圧着力で積層基板１１２を挟持している。
【００６７】
図６には、ゴム硬度５０、７０及び８０の３種類のゴムローラにおいて、ばね強度（ゴムローラを積層基板１１２に押し当てる力）と各ゴムローラの潰れ幅（ニップバンド）との関係が示されている。これにより、ゴム硬度が高い程、ばね強度が弱い程、ゴムローラの潰れ幅が小さくなっている。
【００６８】
そして、図７には、ゴム硬度５０、７０及び８０の３種類のゴムローラにおいて、ばね強度と各ゴムローラの圧着力（接圧）との関係が示されている。従って、ゴム硬度が低い程（ニップバンドが大きい程）、ゴムローラの接触面積が大きくなるため、前記ゴムローラの圧着力が低下している。一方、ばね強度が低い程、ゴムローラの圧着力が低下している。
【００６９】
このため、本実施形態では、非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、ゴム硬度３０〜８０、より好ましくは、ゴム硬度５０〜８０に設定されている。ゴム硬度３０未満では、ローラが柔らかすぎて、樹脂層表面１２４の突起状物（凹凸形状）を平坦化させることができないからである。また、ゴム硬度８０を超えると、ローラが硬すぎてニップバンドが狭くなり、圧着力が局部的に増大して突起状物の位置ばらつきに対応することができないからである。しかも、ガラス基板２４が破損するおそれがあるからである。
【００７０】
さらに、本実施形態では、非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、０．４ＭＰａ以上の圧着力で積層基板１１２を挟持している。圧着力が０．４ＭＰａ未満であると、樹脂層表面１２４の突起状物（凹凸形状）を所望の状態まで確実に平坦化させることができないからである。
【００７１】
例えば、図８には、ゴム硬度５０で且つばね強度中（圧着力が０．４ＭＰａ未満）のゴムローラと、ゴム硬度５０で且つばね強度強（圧着力が０．４ＭＰａ）のゴムローラとを用いて、圧着前後における樹脂層表面１２４の高さを検出した結果が示されている。なお、樹脂層表面１２４の良好な高さは、図示しないプロキシミティー露光機に使用されるマスクと積層基板１１２との距離である１６０．００μｍを閾値としている。
【００７２】
これにより、圧着力が０．４ＭＰａ未満のゴムローラでは、圧着後の高さが２００μｍ程度であって、樹脂層表面１２４の突起状物を良好に平坦化させることができなかった。一方、圧着力が０．４ＭＰａのゴムローラでは、圧着後の高さが１４０μｍ程度であって、樹脂層表面１２４の突起状物を良好に平坦化させることができた。
【００７３】
さらにまた、本実施形態では、積層基板１１２は、非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂに対して矢印Ｃ方向に２６ｃｍ／ｓｅｃ以下の速度で移動している。積層基板１１２の移動速度が２６ｃｍ／ｓｅｃを超えると、樹脂層表面１２４の突起状物を良好に平坦化させることができないからである。このため、本実施形態では、樹脂層表面１２４の平坦化が容易且つ確実に遂行可能になる。
【００７４】
また、非粘着ゴムローラ１３４ａ、１３４ｂは、軸方向中央が山高なクラウン形状を有している。従って、ニップバンドの大きさにより樹脂層表面１２４の突起状物を潰す範囲が変動するため、前記突起状物の位置に応じて潰す範囲を容易に調整することができる。
【００７５】
なお、本実施形態では、剥離機構１１４が、各貼り付け基板２４ａから、予め切断されたベースフイルム２６を剥離する接続剥離方式を用いているが、これに限定されるものではない。例えば、各貼り付け基板２４ａに一体に貼り付けられているベースフイルム２６を、巻き取りローラ等により連続的に巻き取って剥離する連続剥離方式を採用してもよい。
【符号の説明】
【００７６】
２０…製造装置                    ２２…感光性ウエブ
２４ａ…貼り付け基板              ２６…ベースフイルム
２９…感光性樹脂層                ３０…保護フイルム
３２…ウエブ送り出し機構          ３６…ハーフカット機構
４０…ラベル接着機構              ４２…リザーバ機構
４４…保護フイルム剥離機構        ４５…加熱機構
４６…貼り付け機構                ４８…基板間ウエブ切断機構
７６…テンション制御機構          ９０ａ、９０ｂ…ゴムローラ
１１０…搬送系                    １１０ａ…ローラ
１１２…積層基板                  １１４…剥離機構
１１６ａ、１１６ｂ…チャック      １２０…圧着ローラ機構
１２２ａ、１２２ｂ…ローラ部材    １２４…樹脂層表面
１２６…スプリング                １３４ａ、１３４ｂ…非粘着ゴムローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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