(57)【要約】【課題】入射面と偏向面とが形成された光学素子において、入射面と偏向面とにそれぞれ異なる膜を形成する場合に、一方の面をマスキングすることなく膜を形成することが可能な光学素子を提供する。【解決手段】光学素子３１は、基板３３と、基板３３の一方の面に設置された第１樹脂部３２と、反対側の面に設置された第２樹脂部３４とを有する。第１樹脂部３２は、光源からの光を内部に入射させる入射面３２ｄを有し、第２樹脂部３４は、光を偏向してスライダ３５の光導波路３６の入射端面に集光する偏向面３４ａを有している。入射面３２ｄと偏向面３４ａとは、光学素子３１においてそれぞれ反対側の面に形成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体の上を相対移動して光源から出射した光を近接場光に変換して前記記録媒体に照射するスライダに設けられて、前記光源から出射した光を前記スライダに導く光学素子であって、
前記スライダに対向する面側に形成されて、前記光源から出射した光を内部に入射させる入射面と、
前記スライダに対向する面とは反対側の面に形成されて、前記入射面によって入射させられた光を偏向して前記スライダに導く偏向面と、
を有し、
前記入射面又は前記偏向面のうち少なくとも一方の面には膜が形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
光を透過させる平板状の基板を更に有し、
前記基板の一方の面であって前記スライダに対向する面側に設けられた、前記入射面が形成された樹脂製の第１の部材と、
前記基板を挟んで前記第１の部材が設けられた面とは反対側の面に設けられた、前記偏向面が形成された樹脂製の第２の部材と、
を有し、
前記入射面は、前記偏向面に向けた角度で前記第１の部材に形成されて、前記光源から出射した光を前記第１の部材の内部に入射させて、前記基板を介して前記第２の部材に形成された前記偏向面に前記光を入射させ、
前記偏向面は、前記入射面によって入射させられた光を反射して前記スライダに導くことを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記入射面又は前記偏向面が形成されている面のうち少なくとも一方の面の全体に、前記膜が形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに記載の光学素子。
【請求項４】
前記入射面と前記偏向面とでは、それぞれ異なる機能を有する膜が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の光学素子。
【請求項５】
前記入射面には反射防止機能を有する第１の膜が形成され、前記偏向面には反射機能を有する第２の膜が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の光学素子。
【請求項６】
前記偏向面は、回転楕円面又は回転放物面であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学素子。
【請求項７】
前記入射面は、前記光源から出射した光を収束させる光学パワーを有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学素子。
【請求項８】
前記入射面は、前記光源から出射した光を収束させる光学パワーを有し、
前記偏向面は、回転楕円面又は回転放物面であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学素子。
【請求項９】
前記光源から出射した光を前記入射面に導く導光体と、
前記導光体を前記入射面が形成された面側に固定する固定部と、
を更に有することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の光学素子。
【請求項１０】
前記光源を前記入射面が形成された面側に固定する固定部を更に有することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の光学素子。
【請求項１１】
前記光源から出射した光を前記入射面に入射させるレンズを更に有することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の光学素子。
【請求項１２】
記録媒体の上に相対移動して光源から出射した光を近接場光に変換して前記記録媒体に照射するスライダに設けられて、前記光源から出射した光を前記スライダに導く光学素子であり、前記スライダに接する面側に形成されて、前記光源から出射した光を内部に入射させる入射面と、前記スライダに接する面とは反対側の面に形成されて、前記入射面から入射した光を偏向して前記スライダに導く偏向面と、を有する光学素子の製造方法であって、
光を透過させる平板状の基板の一方の面に第１の樹脂を塗布する第１の工程と、
前記一方の面に塗布された前記第１の樹脂に、前記入射面を含む面の形状を有する第１の型を押し当てることで、前記第１の樹脂に前記入射面を含む面の形状を転写する第２の工程と、
前記入射面を含む面の形状が転写された前記第１の樹脂を硬化させることで、前記入射面が形成された第１の部材を形成する第３の工程と、
前記基板において前記一方の面とは反対側の面に第２の樹脂を塗布する第４の工程と、
前記反対側の面に塗布された前記第２の樹脂に、前記偏向面を含む面の形状を有する第２の型を押し当てることで、前記第２の樹脂に前記偏向面を含む面の形状を転写する第５の工程と、
前記偏向面を含む面の形状が転写された前記第２の樹脂を硬化させることで、前記偏向面が形成された第２の部材を形成する第６の工程と、
前記入射面が形成された前記一方の面又は前記偏向面が形成された前記反対側の面のうち少なくとも１つの面に膜を形成する第７の工程と、
を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項１３】
記録媒体の上に相対移動して光源から出射した光を近接場光に変換して前記記録媒体に照射するスライダに設けられて、前記光源から出射した光を前記スライダに導く光学素子であり、前記スライダに接する面側に形成されて、前記光源から出射した光を内部に入射させる入射面と、前記スライダに接する面とは反対側の面に形成されて、前記入射面から入射した光を偏向して前記スライダに導く偏向面と、を有する光学素子の製造方法であって、
前記入射面を含む面の形状を有する第１の型に第１の樹脂を塗布する第１の工程と、
光を透過させる平板状の基板の一方の面に前記第１の樹脂が塗布された前記第１の型を押し当てることで、前記基板の一方の面に、前記入射面を含む面の形状を有する前記第１の樹脂を設ける第２の工程と、
前記入射面を含む面の形状を有する前記第１の樹脂を硬化させることで、前記入射面が形成された第１の部材を形成する第３の工程と、
前記偏向面を含む面の形状を有する第２の型に第２の樹脂を塗布する第４の工程と、
前記基板において前記一方の面とは反対側の面に、前記第２の樹脂が塗布された前記第２の型を押し当てることで、前記基板の反対側の面に、前記偏向面を含む面の形状を有する前記第２の樹脂を設ける第５の工程と、
前記偏向面を含む面の形状を有する前記第２の樹脂を硬化させることで、前記偏向面が形成された第２の部材を形成する第６の工程と、
前記入射面が形成された前記一方の面又は前記偏向面が形成された前記反対側の面のうち少なくとも１つの面に膜を形成する第７の工程と、
を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。      
【請求項１４】
前記第７の工程では、前記入射面が形成された前記一方の面に反射防止機能を有する第１の膜を形成し、前記偏向面が形成された前記反対側の面に反射機能を有する第２の膜を形成することを特徴とする請求項１２又請求項１３のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項１５】
前記第７の工程では、前記入射面が形成された前記一方の面を、前記反射防止機能を有する前記第１の膜の材料が飛散してくる方向に向けることで、前記入射面が形成された前記一方の面に前記第１の膜を形成し、前記偏向面が形成された前記反対側の面を、前記反射機能を有する前記第２の膜の材料が飛散してくる方向に向けることで、前記偏向面が形成された前記反対側の面に前記第２の膜を形成することを特徴とする請求項１４に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１６】
前記第１の工程、前記第２の工程、及び前記第３の工程によって、前記基板の前記一方の面に複数の前記第１の部材を形成し、
前記第４の工程、前記第５の工程、及び前記第６の工程によって、前記基板の前記反対側の面に複数の前記第２の部材を形成し、
前記第７の工程によって膜を形成した後に、前記基板を切断することで、前記第１の部材及び前記第２の部材を有する光学素子を複数個製造することを特徴とする請求項１２から請求項１５のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光学素子、及び光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録方式では、記録密度が高くなると磁気ビットが外部温度等の影響を顕著に受けるようになる。このため高い保持力を有する記録媒体が必要になるが、そのような記録媒体を使用すると記録時に必要な磁界も大きくなる。記録ヘッドによって発生する磁界は飽和磁束密度によって上限が決まるが、その値は材料限界に近づいており飛躍的な増大は望めない。そこで、記録時に局所的に加熱して磁気軟化を生じさせて、保持力が小さくなった状態で記録し、その後、加熱を止めて自然冷却することにより、記録した磁気ビットの安定性を保証する記録方式が提案されている。この記録方式は熱アシスト磁気記録方式と呼ばれている。
【０００３】
熱アシスト磁気記録方式では、記録媒体の加熱を瞬間的に行うことが望ましい。また、加熱する機構と記録媒体とが接触することは許されない。このため、加熱は光の吸収を利用して行われるのが一般的であり、加熱に光を用いる方式は光アシスト式と呼ばれている。光アシスト式で超高密度記録を行う場合、必要なスポット径は２０ｎｍ程度になるが、通常の光学系では回折限界があるため、光をそこまで集光することはできない。
【０００４】
そのため、入射光波長以下のサイズの光学的開口から発生する近接場光（近視野光と称する場合がある）を利用する近視野光ヘッドが利用されている。しかしながら、従来の近視野光ヘッドは光効率が悪いという課題があった。
【０００５】
そこで、光ヘッドに光を導光する光ファイバーと、ディスクの被記録部分に近赤外レーザー光でスポット加熱するための光アシスト部（光導波路）、光ファイバーから出射する近赤外レーザー光を光アシスト部に導く屈折率分布型レンズ（ＧＲＩＮレンズ）、及び偏向プリズムで構成される光学系と、ディスクの被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う磁気記録部と、ディスクに記録されている磁気情報の読み取りを行う磁気再生部と、を備えた光ヘッドが提案されている（例えば特許文献１）。特許文献１によると、インプリント方式によってＶ溝を有する偏向プリズムを製造する。偏光プリズムの成形時において、光ファイバーからの出射光を集光させるためのファイバー状の屈折率分布型レンズ（ＧＲＩＮレンズ）を、偏向プリズムにインサート成形する。
【０００６】
しかしながら、特許文献１において用いられている屈折率分布型レンズ（ＧＲＩＮレンズ）は、一般的に重金属イオンを添加した特殊な材料を用いてイオン交換法によって製造されるため、製造コストが高いという問題がある。
【０００７】
そこで、屈折率分布型レンズ（ＧＲＩＮレンズ）を用いずに、偏向プリズムの偏向反射面を回転楕円又はこれに類する面形状として、レンズ機能を偏向プリズムに一体化して部品点数を減らすことで製造コストを削減する方法が提案されている。この従来技術に係る光ヘッドについて図１４及び図１５を参照して説明する。図１４及び図１５は、従来技術に係る光ヘッドの断面図である。
【０００８】
従来技術に係る光ヘッド２００は、ディスク２に対する情報記録に光を利用する光ヘッドであって、光学素子２１０（偏向プリズム）とスライダ２２０とを備えている。光学素子２１０においては、スライダ２２０に接する面とは反対側の面にＶ溝部２１１が形成されている。このＶ溝部２１１の断面を図１５に示す。このＶ溝部２１１に、光源から光を導光する光ファイバー３００が固定されている。光学素子２１０は、光ファイバー３００から出射された光を光学素子２１０の内部に入射させる入射面２１２と、入射面２１２から入射した光を偏向する偏向面２１３とを備えている。偏向面２１３は、回転楕円面又はそれに類する面形状を有し、スライダ２２０に設けられている光導波路２２１の入射端面に光スポットを形成する光学パワーを有している。
【０００９】
また、スライダ２２０は、光導波路２２１と、磁気記録部２２２と、磁気再生部２２３とを備えている。光導波路２２１は、光学素子２１０の偏向面２１３によって形成された光スポットを導光してディスク２に向けて射出する。磁気記録部２２２は、ディスク２の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う。磁気再生部２２３は、ディスク２に記録されている磁気情報の読み取りを行う。
【００１０】
以上のように従来技術に係る光ヘッドにおいては、レンズ機能を光学素子２１０（偏向プリズム）の偏向面２１３に持たせて部品点数を減らすことで、光ヘッドの製造コストの抑制を図っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第４３０５５７５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述した従来技術に係る光ヘッド２００においては、光効率を高めるために、光ファイバー３００から出射した光が入射する入射面２１２に反射防止膜を設け、光が反射する偏向面２１３には金属などの反射膜を設けることが望ましい。しかしながら、一般的なインプリント方式によって光ヘッド２００を製造する場合には、転写する形状を片側に集めるため、光学素子２１０において、入射面２１２と偏向面２１３とが、スライダ２２０に接する面とは反対側の面に形成されることになる。このように入射面２１２と偏向面２１３とを同じ側の面に形成した場合、それぞれ異なる機能を有する膜（反射防止膜と反射膜）を、入射面２１２と偏向面２１３とに同時に形成することができない。つまり、反射防止膜を入射面２１２に成膜するときには、偏向面２１３をマスキングする必要があり、反射面を偏向面２１３に成膜するときには、入射面２１２をマスキングする必要がある。従って、反射防止膜及び反射膜を成膜する場合には、製造工程においてマスクの追加やマスクの位置合わせなどの複雑な工程を追加する必要があり、反射防止膜と反射膜とを簡便に成膜することができなかった。その結果、光ヘッドの製造コストが増加する問題があった。
【００１３】
この発明は上記の問題点を解決するものであり、入射面と偏向面とが形成された光学素子において、入射面と偏向面とにそれぞれ異なる膜を形成する場合に、一方の面をマスキングすることなく膜を形成することが可能な光学素子、及び光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この発明の第１の態様は、記録媒体の上を相対移動して光源から出射した光を近接場光に変換して前記記録媒体に照射するスライダに設けられて、前記光源から出射した光を前記スライダに導く光学素子であって、前記スライダに対向する面側に形成されて、前記光源から出射した光を内部に入射させる入射面と、前記スライダに対向する面とは反対側の面に形成されて、前記入射面によって入射させられた光を偏向して前記スライダに導く偏向面と、を有し、前記入射面又は前記偏向面のうち少なくとも一方の面には膜が形成されていることを特徴とする光学素子である。
また、第１の態様の光学素子であって、光を透過させる平板状の基板を更に有し、前記基板の一方の面であって前記スライダに対向する面側に設けられた、前記入射面が形成された樹脂製の第１の部材と、前記基板を挟んで前記第１の部材が設けられた面とは反対側の面に設けられた、前記偏向面が形成された樹脂製の第２の部材と、を有し、前記入射面は、前記偏向面に向けた角度で前記第１の部材に形成されて、前記光源から出射した光を前記第１の部材の内部に入射させて、前記基板を介して前記第２の部材に形成された前記偏向面に前記光を入射させ、前記偏向面は、前記入射面によって入射させられた光を反射して前記スライダに導くことが好ましい。
また、前記入射面又は前記偏向面が形成されている面のうち少なくとも一方の面の全体に、前記膜が形成されていることが好ましい。
また、前記入射面と前記偏向面とでは、それぞれ異なる機能を有する膜が形成されていることが好ましい。
また、前記入射面には反射防止機能を有する第１の膜が形成され、前記偏向面には反射機能を有する第２の膜が形成されていることが好ましい。
また、前記偏向面は、回転楕円面又は回転放物面であることが好ましい。
また、前記入射面は、前記光源から出射した光を集束させる光学パワーを有することが好ましい。
また、前記入射面は、前記光源から出射した光を集束させる光学パワーを有し、前記偏向面は、回転楕円面又は回転放物面であることが好ましい。
また、前記光源から出射した光を前記入射面に導く導光体と、前記導光体を前記入射面が形成された面側に固定する固定部と、を更に有することが好ましい。
また、前記光源を前記入射面が形成された面側に固定する固定部を更に有することが好ましい。
また、前記光源から出射した光を前記入射面に入射させるレンズを更に有することが好ましい。
また、この発明の第２の態様は、記録媒体の上に相対移動して光源から出射した光を近接場光に変換して前記記録媒体に照射するスライダに設けられて、前記光源から出射した光を前記スライダに導く光学素子であり、前記スライダに接する面側に形成されて、前記光源から出射した光を内部に入射させる入射面と、前記スライダに接する面とは反対側の面に形成されて、前記入射面から入射した光を偏向して前記スライダに導く偏向面と、を有する光学素子の製造方法であって、光を透過させる平板状の基板の一方の面に第１の樹脂を塗布する第１の工程と、前記一方の面に塗布された前記第１の樹脂に、前記入射面を含む面の形状を有する第１の型を押し当てることで、前記第１の樹脂に前記入射面を含む面の形状を転写する第２の工程と、前記入射面を含む面の形状が転写された前記第１の樹脂を硬化させることで、前記入射面が形成された第１の部材を形成する第３の工程と、前記基板において前記一方の面とは反対側の面に第２の樹脂を塗布する第４の工程と、前記反対側の面に塗布された前記第２の樹脂に、前記偏向面を含む面の形状を有する第２の型を押し当てることで、前記第２の樹脂に前記偏向面を含む面の形状を転写する第５の工程と、前記偏向面を含む面の形状が転写された前記第２の樹脂を硬化させることで、前記偏向面が形成された第２の部材を形成する第６の工程と、前記入射面が形成された前記一方の面又は前記偏向面が形成された前記反対側の面のうち少なくとも１つの面に膜を形成する第７の工程と、を含むことを特徴とする光学素子の製造方法である。
また、この発明の第３の態様は、記録媒体の上に相対移動して光源から出射した光を近接場光に変換して前記記録媒体に照射するスライダに設けられて、前記光源から出射した光を前記スライダに導く光学素子であり、前記スライダに接する面側に形成されて、前記光源から出射した光を内部に入射させる入射面と、前記スライダに接する面とは反対側の面に形成されて、前記入射面から入射した光を偏向して前記スライダに導く偏向面と、を有する光学素子の製造方法であって、前記入射面を含む面の形状を有する第１の型に第１の樹脂を塗布する第１の工程と、光を透過させる平板状の基板の一方の面に前記第１の樹脂が塗布された前記第１の型を押し当てることで、前記基板の一方の面に、前記入射面を含む面の形状を有する前記第１の樹脂を設ける第２の工程と、前記入射面を含む面の形状を有する前記第１の樹脂を硬化させることで、前記入射面が形成された第１の部材を形成する第３の工程と、前記偏向面を含む面の形状を有する第２の型に第２の樹脂を塗布する第４の工程と、前記基板において前記一方の面とは反対側の面に、前記第２の樹脂が塗布された前記第２の型を押し当てることで、前記基板の反対側の面に、前記偏向面を含む面の形状を有する前記第２の樹脂を設ける第５の工程と、前記偏向面を含む面の形状を有する前記第２の樹脂を硬化させることで、前記偏向面が形成された第２の部材を形成する第６の工程と、前記入射面が形成された前記一方の面又は前記偏向面が形成された前記反対側の面のうち少なくとも１つの面に膜を形成する第７の工程と、を含むことを特徴とする光学素子の製造方法である。
また、前記第７の工程では、前記入射面が形成された前記一方の面に反射防止機能を有する第１の膜を形成し、前記偏向面が形成された前記反対側の面に反射機能を有する第２の膜を形成することが好ましい。
また、前記第７の工程では、前記入射面が形成された前記一方の面を、前記反射防止機能を有する前記第１の膜の材料が飛散してくる方向に向けることで、前記入射面が形成された前記一方の面に前記第１の膜を形成し、前記偏向面が形成された前記反対側の面を、前記反射機能を有する前記第２の膜の材料が飛散してくる方向に向けることで、前記偏向面が形成された前記反対側の面に前記第２の膜を形成することが好ましい。
また、前記第１の工程、前記第２の工程、及び前記第３の工程によって、前記基板の前記一方の面に複数の前記第１の部材を形成し、前記第４の工程、前記第５の工程、及び前記第６の工程によって、前記基板の前記反対側の面に複数の前記第２の部材を形成し、前記第７の工程によって膜を形成した後に、前記基板を切断することで、前記第１の部材及び前記第２の部材を有する光学素子を複数個製造することが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
この発明によると、入射面と偏向面とをそれぞれ反対側の面に形成することで、入射面と偏向面とにそれぞれ異なる膜を成膜するときに、一方の面をマスキングすることなく成膜することが可能となる。そのことにより、入射面又は偏向面に膜を成膜するときに、マスクの追加やマスクの位置合わせなどの複雑な工程を追加する必要がないため、光学素子の製造コストを抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】光記録装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】この発明の第１実施形態に係る光ヘッドの断面図である。
【図３】変形例１に係る光ヘッドの断面図である。
【図４】変形例１に係る光ヘッドの断面図である。
【図５】変形例２に係る光ヘッドの断面図である。
【図６】この発明の第２実施形態に係る光ヘッドの断面図である。
【図７】この発明の第３実施形態に係る光ヘッドの断面図である。
【図８】この発明の実施形態に係る光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図９】この発明の実施形態に係る光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１０】この発明の実施形態に係る光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１１】この発明の実施形態に係る光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１２】この発明の実施形態に係る光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１３】この発明の実施形態に係る光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１４】従来技術に係る光ヘッドの断面図である。
【図１５】従来技術に係る光ヘッドの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（光記録装置の概略構成）
図１に、光学素子として光アシスト式磁気記録ヘッドを搭載した光記録装置（例えばハードディスク装置）の概略構成を示す。光記録装置１は、記録用の複数枚の回転可能なディスク（磁気記録媒体）２と、サスペンション４と、トラッキング用アクチュエータ６と、光アシスト式磁気ヘッド３（以下、「光ヘッド３」と称する）と、図示しない駆動装置と、を筐体１Ａ内に備えている。サスペンション４は、支軸５を支点として矢印Ａの方向（トラッキング方向）に回転可能に設けられている。トラッキング用アクチュエータ６は、サスペンション４に取り付けられている。光ヘッド３は、サスペンション４の先端に取り付けられている。図示しない駆動装置は、ディスク２を矢印Ｂの方向に回転させる。この光記録装置１は、光ヘッド３がディスク２の上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。
【００１８】
［第１実施形態］
図２に、第１実施形態に係る光ヘッド３の断面図を示す。図２は、ディスク２が回転することで光ヘッド３が相対的に移動する方向に沿った断面図を示している。光ヘッド３は、ディスク２に対する情報記録に光を利用する光ヘッドであって、光学素子３１とスライダ３５とを備えている。
【００１９】
光学素子３１は、第１樹脂部３２と、平板状の基板３３と、第２樹脂部３４とを備えている。第１樹脂部３２は、基板３３の一方の面であってスライダ３５に対向する面３３ａに設けられている。第２樹脂部３４は、基板３３において第１樹脂部３２とは反対側の面３３ｂに設けられている。このように第１樹脂部３２と第２樹脂部３４とは、基板３３を間に挟んでそれぞれ反対側に設けられている。なお、第１樹脂部３２がこの発明の「第１の部材」の１例に相当し、第２樹脂部３４がこの発明の「第２の部材」の１例に相当する。
【００２０】
第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４は、光を透過させる流動性材料を用いて製造される。流動性材料としては樹脂が用いられる。樹脂としては、例えば、光硬化性樹脂であるＰＡＫ−２（東洋合成工業株式会社、屈折率１．５１）などが挙げられる。また、基板３３には、光を透過させるガラス基板が用いられる。ガラスとしては、例えばガラスＡＢＣ（日本電気硝子、屈折率１．５２）などが挙げられる。
【００２１】
第１樹脂部３２には、スライダ３５に接する面３２ａ側に窪み３２ｂが形成されている。この窪み３２ｂは、スライダ３５に接する面３２ａ側が開口し、閉じられている側に入射面３２ｄが形成されている。窪み３２ｂには、図示しない光源から光を導光する線状導光体である光ファイバー３００を固定する固定部３２ｃが形成されている。固定部３２ｃは例えばＶ字状の溝部であり、この溝部に光ファイバー３００が接着して固定されている。入射面３２ｄは平面であり、光ファイバー３００から出射した光を光学素子３１の内部に入射させる。具体的には、入射面３２ｄは、後述する第２樹脂部３４の偏向面３４ａに向けた角度で第１樹脂部３２に形成されている。そして、入射面３２ｄは、光ファイバー３００から出射した光を第１樹脂部３２の内部に入射させる。入射面３２ｄから入射した光は、基板３３を介して、第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ａに到達する。
【００２２】
第２樹脂部３４には偏向面３４ａが形成されている。この偏向面３４ａは、第１樹脂部３２に形成された入射面３２ｄによって入射させられた光を偏向してスライダ３５に導く。偏向面３４ａは回転楕円面、回転放物面又はそれらに類する面形状を有し、入射面３２ｄによって入射された光を反射して、スライダ３５に設けられている光導波路３６の入射端面に光スポットを形成する光学パワーを有している。
【００２３】
以上のように、光学素子３１において、入射面３２ｄはスライダ３５に対向する面側に形成されて、光ファイバー３００から出射した光を光学素子３１の内部に入射させる。また、光学素子３１において、偏向面３４ａはスライダ３５に対向する面とは反対側の面に形成されて、入射面３２ｄによって入射させられた光を偏向してスライダ３５に導く。
【００２４】
第１樹脂部３２に形成された入射面３２ｄには、第１の膜としての反射防止膜が形成されている。また、第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ａには、第２の膜としての反射膜が形成されている。反射防止膜には、例えば、ＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜とを積層した膜や、ＳｉＯ２膜とＺｒＯ２膜とを積層した膜などが用いられる。また、反射膜には、例えば、金（Ａｕ）などの膜が用いられる。反射防止膜及び反射膜の具体例を表１に示す。表１には、材料、屈折率、及び膜厚を示している。
【００２５】
【表１】
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【００２６】
反射防止膜については、波長８３０ｎｍ、入射角０°の光に対して反射率が例１で０．５％、例２で０．８％となり、例１、２共に１％以下になっている。また、反射膜については、波長８３０ｎｍ、入射角３０°の光に対してＰ偏光とＳ偏光の平均反射率が例１で７７．４％、例２で８９．９％となり、例１、２共に７０％以上となっている。
【００２７】
スライダ３５は、光導波路３６と、磁気記録部３７と、磁気再生部３８とを備えている。光導波路３６は、光学素子３１の偏向面３４ａによって形成された光スポットを導光してディスク２に向けて射出する。光導波路３６は光学的微小開口を有しており、偏向面３４ａによって導かれた光を近接場光に変換してディスク２に向けて射出する。磁気記録部３７は、ディスク２の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う。磁気再生部３８は、ディスク２に記録されている磁気情報の読み取りを行う。なお、図２では、ディスク２の記録領域の進入側から退出側（図２中の矢印の方向）にかけて、磁気再生部３８、光導波路３６、磁気記録部３７の順に配置されているが、配置順はこの順番に限られない。光導波路３６の退出側直後に磁気記録部３７が位置すれば良いので、例えば、光導波路３６、磁気記録部３７、磁気再生部３８の順に配置しても良い。
【００２８】
光ファイバー３００により導光される光は、例えば、半導体レーザーにより出射される光である。この光の波長は０．８μｍ以上の近赤外波長（近赤外帯域としては、０．８μｍから２μｍ程度であり、具体的な波長としては、８３０ｎｍ、１３１０ｎｍ、１５５０ｎｍなどが挙げられる）が好ましい。光ファイバー３００の射出端面から出射した近赤外レーザー光は、第１樹脂部３２に形成されている入射面３２ｄによって光学素子３１の内部に入射し、第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ａに設けてある光学パワーにより収束光となり、偏向面３４ａによって偏向されて、スライダ３５に設けられた光導波路３６の入射端面に光スポットを形成する。形成された光スポットは、スライダ３５の光導波路３６を導波して光ヘッド３からディスク２に向けて出射する。光導波路３６に入射する光束の光軸は、光導波路３６の入射端面に対して垂直であることが光結合効率の観点から好ましい。
【００２９】
スライダ３５は、浮上しながら磁気記録媒体であるディスク２に対して相対的に移動するが、媒体に付着したごみや媒体に欠陥がある場合には、ディスク２と接触する可能性がある。その場合に発生する摩擦を低減するために、スライダ３５の材質には耐摩擦性の高い硬質の材料を用いることが望ましい。例えば、Ａｌ２Ｏ３を含むセラミック材料、ＡｌＴｉＣやジリコニア、ＴｉＮなどを用いれば良い。また、摩擦防止処理として、スライダ３５のディスク２側の面に耐摩擦性を増すために表面処理を行っても良い。例えば、ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）被膜を用いると、近赤外光の透過率も高く、ダイヤモンドに次ぐＨｖ＝３０００以上の硬度が得られる。
【００３０】
また、スライダ３５のディスク２と対向する面には、浮上特性向上のための空気ベアリング面（ＡＢＳ（Ａｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅ）面とも称する）を有している。スライダ３５の浮上はディスク２に近接した状態で安定させる必要があり、スライダ３５に浮上力を抑える圧力を適宜加える必要がある。このため、光学素子３１の上に固定されるサスペンション４は、光ヘッド３のトラッキングを行う機能の他に、スライダ３５の浮上力を抑える力を適宜加える機能を有している。
【００３１】
光ヘッド３から出射した近赤外レーザー光が微小な光スポットとしてディスク２に照射されると、ディスク２の照射された部分の温度が一時的に上昇してディスク２の保持力が低下する。その保持力が低下した部分に対して、磁気記録部３７により磁気情報が書き込まれる。
【００３２】
以上の構成を有する光ヘッド３の作用を説明する。図示しない光源から出射した光は、光ファイバー３００によって光学素子３１まで導かれる。光ファイバー３００から出射された光は、広がりながら第１樹脂部３２の入射面３２ｄに達し、第１樹脂部３２の内部に進入する。入射面３２ｄから入射した光は第１樹脂部３２を透過して基板３３に進入する。基板３３は透明なガラスで構成されているため、基板３３に進入した光は基板３３を透過して第２樹脂部３４に進入して偏向面３４ａに達する。偏向面３４ａに達した光は偏向面３４ａによって、スライダ３５が取り付けられている方向に偏向される。偏向面３４ａによって偏向された光は第２樹脂部３４、基板３３、及び第１樹脂部３２を透過してスライダ３５に達する。偏向面３４ａは光束を収束させる光学パワーを有しているため、偏向面３４ａによって偏向された光束は収束光となってスライダ３５に達する。そして、偏向面３４ａによって偏向された光束は、スライダ３５が備えている光導波路３６の入射端面に垂直に入射し、光スポットを形成して結合する。
【００３３】
なお、第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４と基板３３との屈折率の差が小さいため、第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４と基板３３との境界で、不要な反射光はほとんど発生しない。また、入射面３２ｄには反射防止膜が成膜されており、偏向面３４ａには反射膜が成膜されているため、これらの面での光量損失が十分小さくなる。その結果、光学素子３１の光利用効率を高めることが可能となる。
【００３４】
以上のように、光学素子３１において、入射面３２ｄと偏向面３４ａとをそれぞれ反対側の面に形成することで、入射面３２ｄに反射防止膜を成膜し、偏向面３４ａに反射膜を成膜するときに、一方の面をマスキングすることなく、それぞれの膜を成膜することが可能となる。その結果、光学素子３１の製造工程において、マスクの追加やマスクの位置合わせなどの複雑な工程を追加する必要がないため、光学素子３１の製造コストを抑制することが可能となる。すなわち、反射防止膜と反射膜とを光学素子３１に簡便に成膜することが可能となる。なお、入射面３２ｄ又は偏向面３４ａの一方の面のみに膜を成膜する場合であっても、膜を成膜しない面をマスキングする必要がないため、光学素子３１の製造コストを抑制することが可能となる。
【００３５】
なお、反射防止膜は、第１樹脂部３２において入射面３２ｄが形成されている面の全体に形成されていても良い。すなわち、第１樹脂部３２において、入射面３２ｄを含む面３２ａの全体に反射防止膜が形成されていても良い。また、反射膜は、第２樹脂部３４において偏向面３４ａが形成されている面の全体に形成されていても良い。すなわち、第２樹脂部３４において、基板３３と接する面の反対側の面（偏向面３４ａを含む面）の全体に反射膜が形成されていても良い。光学素子３１において、入射面３２ｄと偏向面３４ａとがそれぞれ反対側の面に形成されているため、入射面３２ｄや偏向面３４ａ以外の領域に膜が形成されても構わない。そのため、反射防止膜や反射膜を成膜するときに、入射面３２ｄや偏向面３４ａ以外の領域をマスキングする必要がないため、簡素な設備で反射防止膜や反射膜を成膜することが可能となる。その結果、光学素子３１の製造コストを抑制することが可能となる。
【００３６】
また、偏向面３４ａに光束を収束させる光学パワーを持たせることで、光源から出射した光をスライダ３５が備えている光導波路３６の入射端面に集光させる機能を、光学素子３１に一体化させることが可能となる。そのことにより、屈折率分布型レンズ（ＧＲＩＮレンズ）などの集光部品が不要となり、部品点数を削減して光学素子３１のコストを削減することが可能となる。
【００３７】
（変形例１）
次に、上述した第１実施形態に係る光学素子の変形例１について、図３及び図４を参照して説明する。上述した実施形態においては、図示しない光源からの光を光ファイバー３００によって光学素子３１まで導いているが、光ファイバーを用いなくても良い。例えば変形例１に係る光学素子３１のように、レーザーダイオード（ＬＤ）などの光源３１０を、第１樹脂部３２に形成された窪み３２ｂの内部に設けても良い。窪み３２ｂには、光源３１０を固定するための溝部などの固定部が形成されており、光源３１０は、その溝部に接着して固定されている。なお、変形例１に係る光学素子３１は、光ファイバー３００の代わりに光源３１０を直接設ける構成とし、光源以外の構成は第１実施形態に係る光学素子３１と同じである。光源３１０から出射した光は、上述した第１実施形態と同様に、第１樹脂部３２の入射面３２ｄから光学素子３１の内部に進入する。そして、第２樹脂部３４の偏向面３４ａによって偏向されて、収束光となってスライダ３５が備えている光導波路３６の入射端面に垂直に入射し、光スポットを形成して結合する。
【００３８】
また、レーザーダイオードなどの光源３１０を光学素子３１に直接設ける場合には、図４に示すように、光源３１０にて発生した熱を放熱するための放熱板３２０を設けても良い。この場合、放熱板３２０を介して光源３１０を第１樹脂部３２に設ける。放熱板３２０には、例えば銅やアルミニウムなどの金属を用いることが好ましい。
【００３９】
（変形例２）
次に、上述した第１実施形態に係る光学素子の変形例２について、図５を参照して説明する。変形例２においても光ファイバーを用いずに、光源からの光を光学素子３１まで導く。例えば、サスペンション４に設置された支持アーム４ａに、光源部４０を設ける。光源部４０は、光源４１とレンズ４２とを備えている。光源４１には、レーザーダイオード（ＬＤ）などが用いられる。レンズ４２は、光源４１から出射した光を所定の倍率で集光させて、光学素子３１の入射面３２ｄに光を入射させる。このように変形例２においては、光ファイバーなどを用いずに、光源４１から出射した光を光学素子３１の入射面３２ｄに直接入射させる。例えば、光源４１から出射した光をレンズ４２によって、スライダ３５の表面であって光学素子３１と対向する表面に照射する。そして、スライダ３５の表面で光を反射させて光学素子３１の入射面３２ｄに入射させる。この場合、スライダ３５において、光が照射される表面に反射膜を形成しておくことが好ましい。なお、サスペンション４の先端側には、光ヘッド３の上に接着して固定されるフレクシャ４ｂが設けられている。光ヘッド３は、フレクシャ４ｂを介してサスペンション４の先端側に固定されている。変形例２に係る光学素子３１における光源以外の構成は、第１実施形態に係る光学素子３１と同じである。
【００４０】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態に係る光ヘッドについて図６を参照して説明する。上述した第１実施形態に係る光ヘッド３においては、第１樹脂部３２に形成された入射面３２ｄを平面とし、第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ａを回転楕円面、回転放物面、又はそれらに類する面形状としている。第２実施形態に係る光ヘッド３Ａにおいては、第１樹脂部３２に形成された入射面３２ｅを球面又は非球面とし、第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ｂを平面とする。このように、入射面３２ｅを球面又は非球面とすることで、入射面３２ｅは、光ファイバー３００から出射された光束を収束させる光学パワーを有する。なお、第２実施形態に係る光ヘッド３Ａは、入射面３２ｅと偏向面３４ｂとを変えた以外は、第１実施形態に係る光ヘッド３と同じ構成を有している。
【００４１】
光ファイバー３００から出射した光は、広がりながら第１樹脂部３２の入射面３２ｅに達し、第１樹脂部３２の内部に進入する。入射面３２ｅは光束を収束させる光学パワーを有しているため、入射面３２ｅから入射した光束は収束光となって第２樹脂部３４の偏向面３４ｂに達する。偏向面３４ｂに達した光は偏向面３４ｂによって、スライダ３５が取り付けられている方向に偏向される。偏向面３４ｂによって偏向された光は第２樹脂部３４、基板３３、及び第１樹脂部３２を透過してスライダ３５に達する。そして、偏向面３４ｂによって偏向された光束は、スライダ３５が備えている光導波路３６の入射端面に垂直に入射し、光スポットを形成して結合する。
【００４２】
以上のように入射面３２ｅにレンズ機能を持たせることで、光ファイバー３００から出射した光の取り込み角度を広げることが可能となる。すなわち、光学素子３１への入射ＮＡを大きくすることが可能となる。従って、光利用効率を高めることが可能となる。
【００４３】
なお、第２実施形態に係る光ヘッド３Ａにおいても、第１実施形態に係る変形例１及び変形例２と同様に、レーザーダイオードなどの光源を光学素子３１に搭載しても良いし、レンズを介して光を入射面３２ｅに導いても良い。
【００４４】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態に係る光ヘッドについて図７を参照して説明する。上述した第１実施形態に係る光ヘッド３においては偏向面３４ａを回転楕円面、回転放物面、又はそれらに類する面形状とし、第２実施形態に係る光ヘッド３Ａにおいては入射面３２ｅを球面又は非球面としている。第３実施形態に係る光ヘッド３Ｂにおいては、第１樹脂部３２に形成された入射面３２ｆを球面又は非球面とすることで光束を収束させる光学パワーを持たせ、さらに、第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ｃを回転楕円面、回転放物面、又はそれらに類する面形状とすることで光束を収束させる光学パワーを持たせる。このように、入射面３２ｆと偏向面３４ｃとにそれぞれ光学パワーを割り振ることで、入射面３２ｆの曲率半径を、第２実施形態に係る光ヘッド３Ａの入射面３２ｅよりも大きくすることが可能となる。そのことにより、光ファイバー３００の設置位置の精度を緩和することが可能となる。
【００４５】
光ファイバー３００から出射した光は、広がりながら第１樹脂部３２の入射面３２ｆに達し、第１樹脂部３２の内部に進入する。入射面３２ｆは光束を収束させる光学パワーを有しているため、入射面３２ｆから入射した光束は収束光となって第２樹脂部３４の偏向面３４ｃに達する。偏向面３４ｃに達した光は偏向面３４ｃによって、スライダ３５が取り付けられている方向に偏向される。偏向面３４ｃも光束を収束させる光学パワーを有しているため、光束はさらに収束されてスライダ３５に達する。そして、偏向面３４ｃによって偏向された光束は、スライダ３５が備えている光導波路３６の入射端面に垂直に入射し、光スポットを形成して合成する。
【００４６】
なお、第３実施形態に係る光ヘッド３Ｂにおいても、第１実施形態に係る変形例１及び変形例２と同様に、レーザーダイオードなどの光源を光学素子３１に搭載しても良いし、レンズを介して光を入射面３２ｆに導いても良い。
【００４７】
［光学素子の製造方法］
次に、光学素子の製造方法について図８から図１３を参照して説明する。製造方法の１例として、インプリント方式によって第１実施形態に係る光学素子３１を製造する方法について説明する。この実施形態に係る光学素子の製造方法においては、第１樹脂部３２と第２樹脂部３４とをそれぞれ別の工程によって、基板３３の各面に形成する。この実施形態では、第２樹脂部３４を基板３３の一方の面に形成した後、第１樹脂部３２を基板３３の反対側の面に形成する場合について説明する。
【００４８】
（第２樹脂部３４の形成）
まず、図８（ａ）に示すように、ガラス製の平板状の基板３３を用意する。次に、図８（ｂ）に示すように、樹脂塗布装置１００を用いて基板３３の一方の表面に所定量の紫外線硬化樹脂１０１を滴下する。図８（ｃ）に、基板３３の表面に所定量の紫外線硬化樹脂１０２が塗布された状態を示す。次に、図８（ｄ）に示すように、金型昇降装置１１０を用いて、紫外線硬化樹脂１０２の上方から第１金型１１１を基板３３側に降下させる。第１金型１１１には、偏向面３４ａが形成された第２樹脂部３４の形状を転写するための空間１１２が形成されている。そして、図８（ｅ）に示すように、第１金型１１１を紫外線硬化樹脂１０２に押し当てて、基板３３に対して第１金型１１１が所定の位置に設置されるように、第１金型１１１の位置合わせを行う。そして、図８（ｆ）に示すように、ガラス製の基板３３の方向から紫外線を紫外線硬化樹脂１０２に照射することで、紫外線硬化樹脂１０２を硬化させる。図８（ｇ）及び図８（ｈ）に示すように、紫外線硬化樹脂１０２を硬化させた後、第１金型１１１を上昇させる。これにより、基板３３の一方の面に第２樹脂部３４が形成される。
【００４９】
（第１樹脂部３２の形成）
次に、図９（ａ）に示すように、基板３３の向きを反転させる。すなわち、第２樹脂部３４が形成された面を下方に向けて、基板３３において第２樹脂部３４が形成された面の反対側の面を上方に向ける。そして、図９（ｂ）に示すように、樹脂塗布装置１００を用いて基板３３の反対側の表面に所定量の紫外線硬化樹脂１０３を滴下する。図９（ｃ）に示すように、基板３３の反対側の表面に所定量の紫外線硬化樹脂１０４が塗布された状態を示す。次に、図９（ｄ）に示すように、金型昇降装置１１０を用いて、紫外線硬化樹脂１０４の上方から第２金型１１３を基板３３側に降下させる。第２金型１１３には、窪み３２ｂ、入射面３２ｄ、及び固定部３２ｃ（Ｖ字状の溝部）が形成された第１樹脂部３２の形状を転写するための空間１１４が形成されている。そして、図９（ｅ）に示すように、第２金型１１３を紫外線硬化樹脂１０４に押し当てて、基板３３に対して第２金型１１３が所定の位置に設置されるように、第２金型１１３の位置合わせを行う。第２樹脂部３４の位置と、これから形成される第１樹脂部３２の位置とが合うように、第２金型１１３の位置合わせを行う。そして、図９（ｆ）に示すように、ガラス製の基板３３の方向から紫外線を紫外線硬化樹脂１０４に照射することで、紫外線硬化樹脂１０４を硬化させる。図９（ｇ）及び図９（ｈ）に示すように、紫外線硬化樹脂１０４を硬化させた後、第２金型１１３を上昇させる。これにより、基板３３の反対側の面に第１樹脂部３２が形成される。
【００５０】
図８及び図９に示す工程を繰り返すことで、図１０に示すように、基板３３の一方の面に複数の第１樹脂部３２が形成され、基板３３の反対側の面に複数の第２樹脂部３４が形成された光学素子基板５０を製造する。すなわち、第１金型１１１によって複数回、転写することで、複数の第２樹脂部３４を基板３３の一方の面に形成し、第２金型１１３によって複数回、転写することで、複数の第１樹脂部３２を基板３３の反対側の面に形成する。
【００５１】
（反射膜の成膜）
次に、図１１に示すように、複数の第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４が形成された光学素子基板５０を、成膜装置６０内に設置する。第２樹脂部３４に形成された偏向面３４ａを、反射膜の材料が飛散してくる方向に向けて、光学素子基板５０を成膜装置６０内に設置する。１例として、反射膜の材料が、下方から上方に向けて（矢印Ｘの方向に向けて）飛散してくる場合、第２樹脂部３４を下方に向けて光学素子基板５０を成膜装置６０内に設置する。そして、第２樹脂部３４の偏向面３４ａに反射膜を成膜する。この実施形態では、光学素子基板５０の両面に対してマスキングをしない。すなわち、第２樹脂部３４の偏向面３４ａが形成されている面に対してマスキングをせず、さらに、第１樹脂部３２に対してもマスキングをしない。このように偏向面３４ａが形成されている面に対してマスキングをしない場合、偏向面３４ａが形成されている面の全体に反射膜が成膜される。また、第１樹脂部３２に対してもマスキングを行っていないが、基板３３を間にして、反射膜の材料が飛散してくる方向とは反対側に第１樹脂部３２が設置されるため、第１樹脂部３２には反射膜は成膜されない。
【００５２】
（反射防止膜の成膜）
次に、図１２に示すように、第１樹脂部３２に形成された入射面３２ｄを、反射防止膜の材料が飛散してくる方向に向けて、光学素子基板５０を成膜装置６０内に設置する。１例として、反射防止膜の材料が、下方から上方に向けて（矢印Ｘの方向に向けて）飛散してくる場合、第１樹脂部３２を下方に向けて光学素子基板５０を成膜装置６０内に設置する。そして、第１樹脂部３２の入射面３２ｄに反射防止膜を成膜する。反射防止膜を成膜する場合においても、光学素子基板５０の両面に対してマスキングをしない。すなわち、第１樹脂部３２の入射面３２ｄが形成されている面に対してマスキングをせず、さらに、第２樹脂部３４に対してもマスキングをしない。このように入射面３２ｄが形成されている面に対してマスキングをしない場合、入射面３２ｄが形成されている面の全体に反射防止膜が成膜される。また、第２樹脂部３４に対してもマスキングを行っていないが、基板３３を間にして、反射防止膜の材料が飛散してくる方向とは反対側に第２樹脂部３４が設置されるため、第２樹脂部３４には反射防止膜は成膜されない。
【００５３】
（光学素子基板５０の切断）
そして、図１３（ａ）に示すように、光学素子基板５０を、切断装置７０（ダイサー）を用いて個々の光学素子３１に切断することで、図１３（ｂ）に示すように、複数の光学素子３１を作製する。
【００５４】
以上のように、この実施形態に係る光学素子の製造方法によると、光学素子３１において、入射面３２ｄと偏向面３４ａとをそれぞれ反対側の面に形成することで、入射面３２ｄに反射防止膜を成膜し、偏向面３４ａに反射膜を成膜するときに、一方の面をマスキングすることなく、それぞれの膜を成膜することが可能となる。その結果、マスクの追加やマスクの位置合わせなどの複雑な工程を追加する必要がないため、光学素子３１の製造コストを抑制することが可能となる。
【００５５】
以上のように、この実施形態に係る光学素子の製造方法によると、複数の光学素子３１が１枚の基板に形成された状態で反射膜又は反射防止膜を成膜することが可能となる。そのことにより、個々の光学素子３１を成膜用のトレーに設置して成膜する必要がないため、光学素子３１を製造するための工程数を削減することが可能となり、その結果、光学素子３１の製造コストを削減することが可能となる。また、インプリント方式によって光学素子３１を製造することで、光学素子３１の両面の形状（第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４の形状）を精度良く形成することが可能となる。インプリント方式は射出成形において必要なゲートやランナーが不要になるため、樹脂材料の利用効率が高くなり、その結果、光学素子３１の製造コストを削減することが可能となる。
【００５６】
なお、上述した光学素子の製造方法においては、まず、第２樹脂部３４を基板３３の一方の面に形成し、その後、第１樹脂部３２を基板３３の反対側の面に形成しているが、第１樹脂部３２を形成した後に第２樹脂部３４を形成しても良い。
【００５７】
また、基板３３の一方の面に第２樹脂部３４を形成し、その後、第２樹脂部３４の偏向面３４ａに反射膜を成膜し、その後、基板３３の他方の面に第１樹脂部３２を形成し、その後、第１樹脂部３２の入射面３２ｄに反射防止膜を成膜しても良い。また、基板３３の一方の面に第１樹脂部３２を形成し、その後、第１樹脂部３２の入射面３２ｄに反射防止膜を成膜し、その後、基板３３の他方の面に第２樹脂部３４を形成し、その後、第２樹脂部３４の偏向面３４ａに反射膜を成膜しても良い。
【００５８】
また、上述した光学素子の製造方法においては、第１金型１１１及び第２金型１１３を用いて複数回、転写することで、複数の第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４を基板３３の表面に形成しているが、一度に複数の第１樹脂部３２又は第２樹脂部３４を転写しても良い。例えば、複数の第１樹脂部３２の形状を転写するための空間が形成された金型を、基板３３の一方の面に塗布された紫外線硬化樹脂に押し当てて紫外線硬化樹脂を硬化させることで、基板３３の一方の面に複数の第１樹脂部３２を一度に形成する。同様に、複数の第２樹脂部３４の形状を転写するための空間が形成された金型を、基板３３の反対側の面に塗布された紫外線硬化樹脂に押し当てて紫外線硬化樹脂を硬化させることで、基板３３の反対側の面に複数の第２樹脂部３４を一度に形成する。
【００５９】
また、上述した光学素子の製造方法においては、基板上に塗布された樹脂に金型を押し当てることで転写を行っているが、入射面を含む面の形状を有する金型に紫外線硬化樹脂を塗布し、その状態で、基板３３の一方の面にその金型を押し当てることで、基板３３の一方の面に、入射面を含む面の形状を有する紫外線硬化樹脂を設けても良い。そして、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで樹脂を硬化させて、入射面３２ｄが形成された第１樹脂部３２を基板３３の一方の面に形成する。また、偏向面を含む面の形状を有する金型に紫外線硬化樹脂を塗布し、その状態で、基板３３の反対側の面にその金型を押し当てることで、基板３３の反対側の面に、偏向面を含む面の形状を有する紫外線硬化樹脂を設ける。そして、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで樹脂を硬化させて、偏向面３４ａが形成された第２樹脂部３４を基板３３の反対側の面に形成する。これにより、図１０から図１２に示す光学素子基板５０を作製する。そして、図１１及び図１２に示すように、光学素子基板５０において第１樹脂部３２が形成されている面に反射防止膜を成膜し、第２樹脂部３４が形成されている面に反射面を成膜する。そして、図１３に示すように、切断装置７０を用いて光学素子基板５０を切断することで複数の光学素子３１を作製する。このように、金型に紫外線硬化樹脂を設けることで、第１樹脂部３２及び第２樹脂部３４を基板３３に形成しても良い。
【符号の説明】
【００６０】
２  ディスク
３、３Ａ、３Ｂ  光ヘッド
３１  光学素子
３２  第１樹脂部
３２ｄ、３２ｅ、３２ｆ  入射面
３３  基板
３４  第２樹脂部
３４ａ、３４ｂ、３４ｃ  偏向面
３５  スライダ
【図１】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図１４】
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【図１５】
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