(57)【要約】      （修正有）【課題】分散性、及び、加熱時の保存安定性が非常に高く、光堅牢性に優れた顔料分散物を得ることのできる顔料誘導体、これを用いた顔料分散体、及びその顔料分散体から構築される顔料水性インクを提供する。【解決手段】一般式（１−１）等で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体、及びこれを用いた顔料分散体、及びその顔料分散物。2011057731.tif 000080一般式（１−１）Ａ及びＢは、それぞれ独立に、５〜６員の複素環を表す。ｎは１〜３の整数を表す。一般式（１−１）中、Ａ１は、エチレン基等表し、Ｂ１は水酸基又は−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基を表し、Ａ２はイオン性親水性基を表す。ｍは１〜４の整数を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体。
【化１】
2011057731.tif 000066
【化２】
2011057731.tif 000067
一般式（１−１）及び（１−２）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、５〜６員の複素環を表す。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２もしくは３の場合は、［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表される構造は、ＡもしくはＢを介した２量体もしくは３量体を表す。
一般式（１−１）中、Ａ１は、エチレン基、フェニレン基及びナフチレン基からなる群から選択される基を表し、置換基を有していてもよい。Ｂ１は水酸基又は−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基を表し、Ａ２はイオン性親水性基を表す。ｍは１〜４の整数を表す。
一般式（１−２）中、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２の低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基又は水酸基を表し、Ｗは、Ｂ群で示される化合物群から選ばれる２価の連結基であり、Ａ３およびＢ２は、それぞれ独立に、−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈで示される基又は水酸基を表す。ここでＬは、エチレン基、フェニレン基およびナフチレン基からなる群から選択される基であって、これらは置換基を有していてもよい。
【化３】
2011057731.tif 000068
Ｒ’は、水素原子、アルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。
【請求項２】
一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される化合物又はその塩が、一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物であることを特徴とする請求項１の顔料誘導体。
【化４】
2011057731.tif 000069
【化５】
2011057731.tif 000070
一般式（２−１）及び（２−２）中、Ｇはアルキル基、アリール基、または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ及びＱは、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。ＨｅｔはＡ群から選ばれる５員複素環基を表す。＊は、一般式（２−１）及び（２−２）中のアゾ基との結合部位を表す。（Ａ群の化合物中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。）
【化６】
2011057731.tif 000071
ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２もしくは３の場合は、下記一般式（Ａ）で表される構造が、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｈｅｔもしくは、置換基Ｑを介した２量体もしくは３量体を表す。
【化７】
2011057731.tif 000072
一般式（２−１）中、Ａ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義は、一般式（１−１）におけるＡ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義と同様である。
一般式（２−２）中、Ｑ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義は、一般式（１−２）におけるＱ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義と同様である。
【請求項３】
一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される化合物又はその塩が、一般式（３−１）若しくは（３−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物であることを特徴とする請求項２の顔料誘導体。
【化８】
2011057731.tif 000073
【化９】
2011057731.tif 000074
一般式（３−１）及び（３−２）中、Ｇ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺの定義は、一般式（２−１）及び（２−２）におけるＧ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺの定義と同様である。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２もしくは３の場合は、下記一般式（Ｂ）で表される構造が、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚもしくは置換基Ｑを介した２量体もしくは３量体を表す。
【化１０】
2011057731.tif 000075
一般式（３−１）中、Ａ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義は、一般式（１−１）におけるＡ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義と同様である。
一般式（３−２）中、Ｑ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義は、一般式（１−２）におけるＱ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義と同様である。
【請求項４】
一般式（４）で表される顔料と、請求項１又は２に記載の顔料誘導体とを含有する顔料分散体。
【化１１】
2011057731.tif 000076
一般式（４）中、Ｇはアルキル基、アリール基、または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ及びＱは、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。ＨｅｔはＡ群から選ばれる５員複素環基を表す。＊は、一般式（４）で示されるアゾ基との結合部位を表す。    （Ａ群の化合物中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。）
【化１２】
2011057731.tif 000077
ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２もしくは３の場合は、一般式（４）で表される顔料は、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｈｅｔもしくは、置換基Ｑを介した２量体もしくは３量体を表す。
【請求項５】
一般式（５）で表される顔料と、請求項３に記載の顔料誘導体とを含有する顔料分散体。
【化１３】
2011057731.tif 000078
一般式（５）中、Ｇはアルキル基、アリール基、または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺは、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２もしくは３の場合は、一般式（５）で表される顔料は、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚもしくは置換基Ｑを介した２量体もしくは３量体を表す。
【請求項６】
前記顔料が一般式（６）で表されることを特徴とする請求項４又は５に記載の顔料分散体。
【化１４】
2011057731.tif 000079
一般式（６）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を示し、Ｇは一価の置換基を有していても良い５〜６員含窒素複素環を示す。
【請求項７】
請求項４〜６のいずれかに記載の顔料分散体を用いることを特徴とする顔料水性インク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非凝集性に優れた水系又は非水系顔料分散体を提供するための顔料誘導体及びこれと顔料とを含む顔料分散体及び顔料水性インクに関し、より詳細には、塗料、カラーレジスト、水系又は非水系のインクジェット用インキ等の顔料分散体に適した顔料誘導体及びこれと顔料とを含む顔料分散体及び顔料水性インクに関し、分散性に優れ、高堅牢性に優れた顔料分散体及び顔料水性インクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、顔料は、塗料やインキビヒクル中で分散されると、凝集を生じて流動性を悪化させ、他の顔料との混合時の色分れ、塗面光沢の低下等、各種の好ましくない現象を生じることが多い。
【０００３】
このような顔料の欠陥を改良するために、界面活性剤、金属石けん、各種樹脂などによる顔料の表面処理や、有機顔料の各種の誘導体の利用などが提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１や特許文献２ではアゾ系色素のトリアジン系酸型誘導体が、特許文献３ではアゾ系色素を除くアミノ基を有する有機顔料からのトリアジン系酸型誘導体、特許文献４ではキナクリドン色素とトリアジン系誘導体などの利用が報告されている。しかしながら、未だに誘導体の色相の鮮明性等の点や、特に、色あせの原因である光堅牢性は充分に満足し得るものが得られていないのが実状である。
【０００５】
また、顔料の分散技術は、インクジェット記録の分野に於いては非常に重要である。このインクジェット記録は、微細なノズルからインクを小滴として吐出し、文字や図形を被記録体表面に記録する方法である。インクジェット記録方式としては電歪素子を用いて電気信号を機械信号に変換し、ノズルヘッド部分に貯えたインクを断続的に吐出して被記録体表面に文字や記号を記録する方法、ノズルヘッド部分に貯えたインクを吐出部分に極近い一部を急速に加熱して泡を発生させ、その泡による体積膨張で断続的に吐出して、被記録体表面に文字や記号を記録する方法などが実用化されている。
【０００６】
このようなインクジェット記録に用いられるインクは顔料分散体としての粒度分布が小さいこと、熱が加わってもその粒度分布に変化がないこと、様々な被記録体表面に均一に印字できムラがないことなどの特性が要求されている。
【０００７】
しかしながら、上記のインク物性を満足できる形態まで改善し、更に高い光堅牢性を付与したインクの技術は未だ世の中には存在していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平７−１２６５４６号公報
【特許文献２】特許第４１６８１１８号明細書
【特許文献３】特開平９−１２２４７０号公報
【特許文献４】特開２００７−１８６６８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記従来技術の問題点を解決するために為されたものであり、本発明は、有機顔料を含有する塗料、カラーレジスト、水系又は非水系のインクジェット用インキ等のビヒクル中での顔料の結晶成長を防止し、その結果、分散安定性に優れた水系又は非水系の顔料分散体を得ることのできる顔料誘導体、これを用いた顔料分散剤及び顔料水性インクを提供することを目的とする。
【００１０】
より具体的には、分散性、及び、加熱時の保存安定性が非常に高く、光堅牢性に優れた顔料分散物を得ることのできる顔料誘導体、これを用いた顔料分散体、及びその顔料分散体から構築される顔料水性インクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らが鋭意検討したところ、光堅牢性を満足するには従来にはない新規な顔料を用い、易分散性及び加熱時の保存安定性を達成するには分散対象である顔料の骨格に類似した顔料誘導体が必要なことが判った。これにより、上記問題点を解決し得る水系又は非水系顔料分散剤として使用し得る実用上極めて有用な顔料誘導体、及びこれを用いた顔料水性インクの開発が達成できた。
【００１２】
すなわち、本発明の上記目的は下記方法によって達成された。
【００１３】
〔１〕  一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体。
【００１４】
【化１】
2011057731.tif 000002
【００１５】
【化２】
2011057731.tif 000003
【００１６】
一般式（１−１）及び（１−２）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立に、５〜６員の複素環を表す。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表される構造は、Ａ若しくはＢを介した２量体若しくは３量体を表す。
一般式（１−１）中、Ａ１は、エチレン基、フェニレン基及びナフチレン基からなる群から選択される基を表し、置換基を有していてもよい。Ｂ１は水酸基又は−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基を表し、Ａ２はイオン性親水性基を表す。ｍは１〜４の整数を表す。
一般式（１−２）中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２の低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基又は水酸基を表し、Ｗは、Ｂ群で示される化合物群から選ばれる２価の連結基であり、Ａ３及びＢ２は、それぞれ独立に、−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈで示される基又は水酸基を表す。ここでＬは、エチレン基、フェニレン基及びナフチレン基からなる群から選択される基であって、これらは置換基を有していてもよい。
【００１７】
【化３】
2011057731.tif 000004
【００１８】
Ｒ’は、水素原子、アルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。
【００１９】
〔２〕  一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される化合物又はその塩が、一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物であることを特徴とする上記〔１〕の顔料誘導体。
【００２０】
【化４】
2011057731.tif 000005
【００２１】
【化５】
2011057731.tif 000006
【００２２】
一般式（２−１）及び（２−２）中、Ｇはアルキル基、アリール基、又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ及びＱは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。ＨｅｔはＡ群から選ばれる５員複素環基を表す。＊は、一般式（２−１）及び（２−２）中のアゾ基との結合部位を表す。（Ａ群の化合物中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。）
【００２３】
【化６】
2011057731.tif 000007
【００２４】
ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、下記一般式（Ａ）で表される構造が、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｈｅｔ若しくは、置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【００２５】
【化７】
2011057731.tif 000008
【００２６】
一般式（２−１）中、Ａ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義は、一般式（１−１）におけるＡ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義と同様である。
一般式（２−２）中、Ｑ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義は、一般式（１−２）におけるＱ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義と同様である。
【００２７】
〔３〕  一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される化合物又はその塩が、一般式（３−１）若しくは（３−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物であることを特徴とする上記〔２〕の顔料誘導体。
【００２８】
【化８】
2011057731.tif 000009
【００２９】
【化９】
2011057731.tif 000010
【００３０】
一般式（３−１）及び（３−２）中、Ｇ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺの定義は、一般式（２−１）及び（２−２）におけるＧ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺの定義と同様である。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、下記一般式（Ｂ）で表される構造が、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ若しくは置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【００３１】
【化１０】
2011057731.tif 000011
【００３２】
一般式（３−１）中、Ａ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義は、一般式（１−１）におけるＡ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義と同様である。
一般式（３−２）中、Ｑ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義は、一般式（１−２）におけるＱ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義と同様である。
【００３３】
〔４〕  一般式（４）で表される顔料と、上記〔１〕又は〔２〕に記載の顔料誘導体とを含有する顔料分散体。
【００３４】
【化１１】
2011057731.tif 000012
【００３５】
一般式（４）中、Ｇはアルキル基、アリール基、又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ及びＱは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。ＨｅｔはＡ群から選ばれる５員複素環基を表す。＊は、一般式（４）で示されるアゾ基との結合部位を表す。（Ａ群の化合物中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。）
【００３６】
【化１２】
2011057731.tif 000013
【００３７】
ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、一般式（４）で表される顔料は、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｈｅｔ若しくは、置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【００３８】
〔５〕  一般式（５）で表される顔料と、上記〔３〕に記載の顔料誘導体とを含有する顔料分散体。
【００３９】
【化１３】
2011057731.tif 000014
【００４０】
一般式（５）中、Ｇはアルキル基、アリール基、又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、一般式（５）で表される顔料は、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ若しくは置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【００４１】
〔６〕  前記顔料が一般式（６）で表されることを特徴とする上記〔４〕又は〔５〕に記載の顔料分散体。
【００４２】
【化１４】
2011057731.tif 000015
【００４３】
一般式（６）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を示し、Ｇは一価の置換基を有していても良い５〜６員含窒素複素環を示す。
【００４４】
〔７〕  上記〔４〕〜〔６〕のいずれかに記載の顔料分散体を用いることを特徴とする顔料水性インク。
【発明の効果】
【００４５】
本発明の顔料誘導体によれば、従来の顔料誘導体と比べると、分散性すなわち易分散性（分散時の進行）に優れており、作成された顔料分散体においては、加熱時の保存安定性が良好でかつそれを用いた顔料水性インクで印字した画像は従来にない光堅牢性が実現できる。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
以下、本発明について詳細に説明する。
まず、本明細書において用いられる一価の置換基について若干説明する。本明細書において用いられる一価の置換基としては、以下の基（これらの基を「置換基」と称する）が挙げられる。
例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、ヒドラジノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又は複素環アゾ基、イミド基、ホスホノ基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよく、更なる置換基としては、以上に説明した置換基から選択される基を挙げることができる。
【００４７】
本明細書において用いられる脂肪族基とは、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基を意味する。また、本明細書で用いられる芳香族基とは、アリール基及び置換アリール基を意味する。
【００４８】
更に詳しくは、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００４９】
アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の置換基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。
【００５０】
アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の置換基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の置換基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。
アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
【００５１】
アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。
複素環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の置換基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族の複素環基であり、単環構造であっても、２つ以上の環が縮合した多環構造であってもよい。また、上記複素環基としては、Ｎ、Ｏ、Ｓ原子のいずれかを少なくとも含む複素環基が好ましい。例えば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、インドリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、インダゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イソオキサゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，３，４−チアジアゾリル基、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、１，３，５−トリアジル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。
【００５２】
アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。
シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。
複素環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の複素環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。
【００５３】
アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。
アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００５４】
アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。
アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【００５５】
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【００５６】
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。
アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。
複素環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換の複素環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。
スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。
【００５７】
アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。
アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合している複素環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。
アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００５８】
アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。
アリール又は複素環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換の複素環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ等が挙げられる。
【００５９】
イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。
ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。
ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。
ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。
ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。
シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。
【００６０】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、該水素原子が上記の置換基で置換されていても良い。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００６１】
以下、本発明の顔料誘導体について詳細に説明する。
本発明の顔料誘導体は、一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である。
【００６２】
【化１５】
2011057731.tif 000016
【００６３】
【化１６】
2011057731.tif 000017
【００６４】
一般式（１−１）及び（１−２）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立に、５〜６員の複素環を表す。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表される構造は、Ａ若しくはＢを介した２量体若しくは３量体を表す。
一般式（１−１）中、Ａ１は、エチレン基、フェニレン基及びナフチレン基からなる群から選択される基を表し、置換基を有していてもよい。Ｂ１は水酸基又は−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基を表し、Ａ２はイオン性親水性基を表す。ｍは１〜４の整数を表す。
一般式（１−２）中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２の低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基又は水酸基を表し、Ｗは、Ｂ群で示される化合物群から選ばれる２価の連結基であり、Ａ３及びＢ２は、それぞれ独立に、−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈで示される基又は水酸基を表す。ここでＬは、エチレン基、フェニレン基及びナフチレン基からなる群から選択される基であって、これらは置換基を有していてもよい。
【００６５】
【化１７】
2011057731.tif 000018
【００６６】
Ｒ’は、水素原子、アルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。
【００６７】
先ず、一般式（１−１）で表される化合物、及び、一般式（１−２）で表される化合物は、いずれも、上記［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表されるアゾ構造を有している。この顔料誘導体のアゾ構造は、同等の［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表されるアゾ顔料（Ａ，Ｂ，ｎの定義は前記同様）に対して強い相互作用を呈する。ここで、［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表されるアゾ顔料は、光堅牢性が非常に高いという知見を本発明者らは得ている。
更に、一般式（１−１）で表される化合物、及び、一般式（１−２）で表される化合物は、いずれも、［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表されるアゾ構造の反対側の末端に、水性媒体（及び必要に応じて併用される分散剤）に対して相互作用可能なイオン性親水性基を有しており、かつ、このアゾ構造とイオン性親水性基とが、剛直鎖（一般式（１−１）においては、フタルイミドに由来する２価の基とトリアジン環基とが組み合わされた基であり、一般式（１−２）においては、フェニレン基とトリアジン環基とが組み合わされた基である）を介して連結されている。よって、イオン性親水性基は、常に、アゾ構造に対して離れた状態で位置することになるため、イオン性親水性基がアゾ構造に近接するなどして、イオン性親水性基が有する本来の親水性能が損なわれる虞れが低減される。このように、一般式（１−１）又は（１−２）で表される化合物は、イオン性親水性基の親水性能を最大限に発揮することができる化合物である。
よって、一般式（１−１）又は（１−２）で表される化合物は、特に［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表されるアゾ構造と組み合わされた場合、分散性、及び、加熱時の保存安定性が非常に高く、光堅牢性に優れた顔料分散物を得ることのできる顔料誘導体となる。
【００６８】
以下、各置換基について詳細に説明する。
【００６９】
一般式（１−１）及び（１−２）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立に、５〜６員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族の複素環基を表し、それらは更に縮環していてもよい。より好ましくは、炭素数３から３０の５〜６員の芳香族の複素環基であり、更に好ましくは炭素数３〜１０の５員の芳香族の複素環基である。
【００７０】
前記Ａ及びＢの示す複素環基として、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン又はチアゾリンである。好ましくは、ピリジン、ピロール、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、チアゾール又はチアジアゾールであり、より好ましくは、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、チアゾール又はチアジアゾールであり、更に好ましくはチオフェン、ピラゾール又はチアゾールである。
【００７１】
前記複素環基が、更に置換基を有することが可能な基であるときは、以下に挙げたような置換基を更に有してもよい。
【００７２】
炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、複素環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、複素環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、複素環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。
【００７３】
前記Ａ及びＢの有しても良い好ましい置換基としては、直鎖又は分岐鎖アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、複素環オキシ基、アシル基又はイオン性親水性基である。より好ましくは、直鎖又は分岐鎖アルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシル基又はイオン性親水性基である。更に好ましくは、直鎖又は分岐鎖アルキル基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基又はイオン性親水性基である。最も好ましくは、直鎖又は分岐鎖アルキル基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基又はイオン性親水性基である。
【００７４】
ｎは１〜３の整数を表す。ｎとして好ましいｎは１又は２であり、更に好ましくはｎは２である。
ｎが２若しくは３の場合は、［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表される構造は、Ａ若しくはＢを介した２量体若しくは３量体を表す。ｎが２若しくは３の場合の結合様式としては、Ａ及びＢが示す複素環が、直接単結合で連結されていてもよい。また２価の置換基若しくは３価の置換基を介して連結されていても良く、すなわちＡ及びＢの有することができる置換基を介して結合しても良い。より好ましいＡ及びＢが示す複素環基の連結様式は２価若しくは３価の連結基を介して連結する様式である。
【００７５】
ｎが２の場合の連結基として好ましくは、置換基を有していても良いアルキレン基（例、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アルケニレン基（例、エテニレン、プロぺニレン）、アルキニレン基（例、エチニレン、プロピニレン）、アリーレン基（例、フェニレン、ナフチレン）、二価の複素環基（例、６−クロロ−１、３、５−トリアジン−２、４ージイル基、ピリミジン２、４−ジイル基、キノキサリンー２、３−ジイル基、ピリダジン−３，６−ジイル）、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子、アルキル基又はアリール基）、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−又はこれらの組み合わせ（例えば−ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−等）であることが好ましい。上記連結基群の中でもより好ましくは、置換基を有していても良いアルキレン基、置換基を有していても良いアリーレン基、置換基を有していても良い２価の複素環基、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、及びその組み合わせであり、更に好ましくは、置換基を有していても良いアルキレン基、置換基を有していても良いアリーレン基、置換基を有していても良い２価の複素環基であり、特に好ましくは置換基を有していても良い２価の複素環基である。
【００７６】
２価の連結基の総炭素数は０乃至５０であることが好ましく、０乃至３０であることがより好ましく、０乃至１０であることが最も好ましい。
【００７７】
ｎが３の場合の連結基として好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、３価の複素環基、＞Ｎ−、又はこれらの組み合わせ（例えば＞ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、＞ＮＣＯＮＨ−等）であることが好ましい。より好ましくはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基又は３価の複素環基であり、更に好ましくはアルキレン基、アリーレン基又は３価の複素環基である。
【００７８】
３価の連結基の総炭素数は０乃至５０であることが好ましく、０乃至３０であることがより好ましく、０乃至１０であることが最も好ましい。
【００７９】
一般式（１−１）において、Ａ１は、エチレン、フェニレン又はナフチレンの２価の基を表しこれらは置換基を有していてもよい。Ａ１として好ましくはエチレン又はフェニレンの２価の基であり、置換基としては、先述のＡ及びＢが有することのできる置換基と同義であり、中でも好ましい置換基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基又はイオン性親水性基である。
【００８０】
Ａ２はイオン性親水性基を表し、詳しくは、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基又は４級アンモニウム基である。イオン性親水性基の中でも、カルボキシル基、スルホ基又は４級アンモニウム基が好ましく、更に好ましくはカルボキシル基又はスルホ基である。
【００８１】
Ｂ１は水酸基又は、−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基を示す。より好ましくは−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基である。
−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基に誘導できる代表的な化合物例は、Ａ２がカルボキシル基の場合、グリシン、アラニン、β−アラニン、フェニルアラニンなどのアミノ酸、ｐ−アミノ安息香酸、４−アミノフタル酸、５−アミノイソフタル酸などが挙げられる。Ａ２がスルホ基の場合、タウリン、スルファニル酸、３，５−ジスルホアニリン又はトビアス酸が挙げられる。
【００８２】
ｍは１〜４の整数を表す。より好ましくは、ｍは１〜３であり、更に好ましくは１〜２である。
【００８３】
本発明の一般式（１−１）で表される顔料誘導体として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ト）を含むものである。
【００８４】
（イ）Ａ及びＢの示す複素環基として好ましいものは５員の複素環基であり、特に好ましくはチオフェン、ピラゾール又はチアゾールである。
【００８５】
（ロ）Ａ及びＢが表す複素環基の置換基として、特に好ましい基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基又はイオン性親水性基である。
【００８６】
（ハ）Ａ１として特に好ましくはエチレン又はフェニレンの２価の基であり、置換基として特に好ましい置換基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基又はイオン性親水性基である。
【００８７】
（ニ）Ａ２の表すイオン性親水性基の中でも、特に好ましくはカルボキシル基又はスルホ基である。
【００８８】
（ホ）Ｂ１の表す基として特に好ましくは−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基である。
【００８９】
（ヘ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【００９０】
（ト）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【００９１】
なお、一般式（１−１）で表される顔料誘導体の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料誘導体が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料誘導体がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料誘導体が最も好ましい。
【００９２】
一般式（１−２）において、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２の低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基又は水酸基を表す。炭素数１〜２の低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基の例として、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基が挙げられる。Ｑ１及びＱ２として、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、水酸基であり、更に好ましくは水素原子又はメチル基である。
【００９３】
Ａ３及びＢ２は、それぞれ独立に−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈで示される基又は−ＯＨ基の何れかである。−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈ中のＬはエチレン基、フェニレン基及びナフチレン基から選択される基であり、好ましくはエチレン基又はナフチレン基である。
【００９４】
−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈで表される基を誘導する化合物として代表的な例は、タウリン、スルファニル酸、３，５−ジスルホアニリン又はトビアス酸が挙げられる。中でもタウリン、スルファニル酸又はトビアス酸がより好ましく、更に好ましくは、タウリン、トビアス酸である。
【００９５】
一般式（１−２）中のＷは、Ｂ群から選ばれる２価の連結基を表され、これらの組み合わせ（例えば、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−など）であっても良い。好ましくは、アルキレン基、アリーレン基、エーテル基、アミノ基、スルホニル基や、Ｂ群で示される連結基の組み合わせでなるエステル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ基、フェノキシ基が好ましい。中でも、アルキレン基、アリーレン基、アミノ基、エステル基、カルバモイル基、アルコキシ基が好ましく、特に好ましくは、アルキレン基、アリーレン基、アミノ基、エステル基、カルバモイル基である。
【００９６】
本発明の一般式（１−２）で表される顔料誘導体として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（チ）を含むものである。
【００９７】
（イ）Ａ及びＢの示す複素環基として好ましいものは５員の複素環基であり、特に好ましくはチオフェン、ピラゾール又はチアゾールである。
【００９８】
（ロ）Ａ及びＢが表す複素環基の置換基として、特に好ましい基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基又はイオン性親水性基である。
【００９９】
（ハ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０１００】
（ニ）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
（ホ）Ｑ１及びＱ２としては、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、水酸基が好ましく、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
【０１０１】
（へ）Ｗが表すＢ群から選ばれる２価の連結基（これらの組み合わせであっても良い）として特に好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アミノ基、エステル基、カルバモイル基である。
（ト）Ａ３及びＢ２が表す−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈにおいて、個の基を誘導する化合物として代表的な例として特に好ましくはタウリン、トビアス酸である。
【０１０２】
（チ）Ｌはエチレン基、フェニレン基及びナフチレン基から選択される基であり、特に好ましくはエチレン基又はナフチレン基である。
【０１０３】
なお、一般式（１−２）で表される顔料誘導体の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料誘導体が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料誘導体がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料誘導体が最も好ましい。
【０１０４】
一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体は、一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体であることが好ましい。
【０１０５】
【化１８】
2011057731.tif 000019
【０１０６】
【化１９】
2011057731.tif 000020
【０１０７】
一般式（２−１）及び（２−２）中、Ｇはアルキル基、アリール基、又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ及びＱは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。ＨｅｔはＡ群から選ばれる５員複素環基を表す。＊は、一般式（２−１）及び（２−２）中のアゾ基との結合部位を表す。（Ａ群の化合物中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。）
【０１０８】
【化２０】
2011057731.tif 000021
【０１０９】
ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、下記一般式（Ａ）で表される構造が、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｈｅｔ若しくは、置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【０１１０】
【化２１】
2011057731.tif 000022
【０１１１】
一般式（２−１）中、Ａ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義及び詳細は、一般式（１−１）におけるＡ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義及び詳細と同様であり、好ましい例及び好ましい値も同様である。
【０１１２】
一般式（２−２）中、Ｑ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義及び詳細は、一般式（１−２）におけるＱ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義及び詳細と同様であり、好ましい例も同様である。
【０１１３】
一般式（２−１）及び（２−２）中、Ｇが表すアルキル基は、置換基を有していても良い炭素数１〜３０のアルキル基であり、好ましくは置換基を有していていも良い炭素数１〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは置換基を有していても良い炭素数１〜１８のアルキル基である。Ｇが表すアリール基は、置換基を有していても良い炭素数１〜３０のアリール基であり、好ましくは置換基を有していても良い置換基を有していても良い炭素数１〜１２のアリール基であり、更に好ましくは置換基を有していても良い炭素数１〜６のアリール基である。なお、アリール基は縮合環であっても良い。
【０１１４】
Ｇが表す５〜６員の複素環基は、置換基を有していても良い芳香族若しくは非芳香族の複素環基である。それらは更に縮環していてもよい。より好ましくは、炭素数３から３０の５若しくは６員の芳香族の複素環基であり、更に好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基である。Ｇの示す複素環基としては、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン又はチアゾリンが好ましい。中でもピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、フタラジン、キノキサリン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン又はチアゾリンがより好ましく、続いて、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンが更に好ましく、特に好ましくは、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０１１５】
Ｒ及びＱはそれぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表わす。
一般式（２−１）及び（２−２）中、Ｒ及びＱの好ましい置換基例を詳細に説明する。
【０１１６】
Ｒ及びＱが水素原子又は一価の置換基を示す場合、この一価の置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基）、アシルアミノ基（アミド基）、アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、又はイミド基を挙げることができ、各々は更に置換基を有していてもよい。
【０１１７】
中でも特に好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基、アルコキシ基、アミド基、ウレイド基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、又はアルコキシカルボニル基であり、特に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、又は複素環基が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基が最も好ましい。
【０１１８】
以下に、前記Ｒ及びＱを更に詳しく説明する。
【０１１９】
Ｒ及びＱで表されるハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。中でも塩素原子、又は臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
【０１２０】
Ｒ及びＱで表されるアルキル基は、置換若しくは無置換のアルキル基が含まれる。置換又は無置換のアルキル基は、炭素原子数が１〜３０のアルキル基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。中でも、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基、及びハロゲン原子、スルホ基(塩の形でもよい) 又はカルボキシル基(塩の形でもよい)が好ましい。前記アルキル基の例には、メチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、ヒドロキシエチル、シアノエチル又は４−スルホブチルを挙げることが出来る。
【０１２１】
Ｒ及びＱで表されるシクロアルキル基は、置換若しくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換基又は無置換のシクロアルキル基は、炭素原子数が５〜３０のシクロアルキル基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記シクロアルキル基の例にはシクロヘキシル、シクロペンチル、又は４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。
【０１２２】
Ｒ及びＱで表されるアラルキル基は、置換若しくは無置換のアラルキル基が含まれる。置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アラルキルの例にはベンジル及び２−フェネチルを挙げることが出来る。
【０１２３】
Ｒ及びＱで表されるアルケニル基は、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基を表す。好ましくは炭素数２−３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテンー１−イル、２−シクロヘキセンー１−イルなどを挙げることが出来る。
【０１２４】
Ｒ及びＱで表されるアルキニル基は、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル、又はプロパルギルを挙げることが出来る。
【０１２５】
Ｒ及びＱで表されるアリール基は、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、又はｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルである。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。
【０１２６】
Ｒ及びＱで表される複素環基は、５又は６員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の置換基であり、それらは更に縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３から３０の５若しくは６員の芳香族の複素環基である。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記複素環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。
【０１２７】
Ｒ及びＱで表されるアルコキシ基は、置換若しくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換若しくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシ及び３−カルボキシプロポキシなどを挙げることが出来る。
【０１２８】
Ｒ及びＱで表されるアリールオキシ基は、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることが出来る。
【０１２９】
Ｒ及びＱで表されるシリルオキシ基は、炭素数３から２０のシリルオキシ基が好ましく、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１３０】
Ｒ及びＱで表されるで表される複素環オキシ基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の複素環オキシ基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記複素環オキシ基の例には、例えば、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１３１】
Ｒ及びＱで表されるアシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシルオキシ基の例には、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１３２】
Ｒ及びＱで表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記カルバモイルオキシ基の例には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１３３】
Ｒ及びＱで表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニルオキシ基の例には、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１３４】
Ｒ及びＱで表されるで表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１３５】
Ｒ及びＱで表されるアミノ基は、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることが出来る。
【０１３６】
Ｒ及びＱで表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシルアミノ基の例には、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１３７】
Ｒ及びＱで表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アミノカルボニルアミノ基の例には、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１３８】
Ｒ及びＱで表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１３９】
Ｒ及びＱで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１４０】
Ｒ及びＱで表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記スルファモイルアミノ基の例には、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１４１】
Ｒ及びＱで表されるアルキル及びアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基の例には、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１４２】
Ｒ及びＱで表されるアルキルチオ基は、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることが出来る。
【０１４３】
Ｒ及びＱで表されるアリールチオ基は炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールチオ基の例には、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオなどを挙げることが出来る。
【０１４４】
Ｒ及びＱで表される複素環チオ基は、炭素数２から３０の置換又は無置換の複素環チオ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記複素環チオ基の例には、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオなどを挙げることが出来る。
【０１４５】
Ｒ及びＱで表されるスルファモイル基は、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記スルファモイル基の例には、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることが出来る。
【０１４６】
Ｒ及びＱで表されるアルキル及びアリールスルフィニル基は、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキル及びアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることが出来る。
【０１４７】
Ｒ及びＱで表されるアルキル及びアリールスルホニル基は、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキル及びアリールスルホニル基の例には、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることが出来る。
【０１４８】
Ｒ及びＱで表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合している複素環カルボニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニルなどを挙げることが出来る。
【０１４９】
Ｒ及びＱで表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニル基の例には、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることが出来る。
【０１５０】
Ｒ及びＱで表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニル基の例には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることが出来る。
【０１５１】
Ｒ及びＱで表されるカルバモイル基は、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記カルバモイル基の例には、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることが出来る。 
【０１５２】
Ｒ及びＱで表されるホスフィノ基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィノ基の例には、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノなどを挙げることが出来る。
【０１５３】
Ｒ及びＱで表されるホスフィニル基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニル基の例には、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニルなどを挙げることが出来る。
【０１５４】
Ｒ及びＱで表されるホスフィニルオキシ基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニルオキシ基の例には、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシなどを挙げることが出来る。
【０１５５】
Ｒ及びＱで表されるホスフィニルアミノ基は、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニルアミノ基の例には、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノなどを挙げることが出来る。
【０１５６】
Ｒ及びＱで表されるシリル基は、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシリル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記シリル基の例には、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリルなどを挙げることが出来る。
【０１５７】
Ｒ及びＱで表されるアゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることが出来る。
【０１５８】
Ｒ及びＱで表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることが出来る。
【０１５９】
Ｒ及びＱが二価の置換基を示す場合、二価の置換基としては、アルキレン基（例、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アルケニレン基（例、エテニレン、プロぺニレン）、アルキニレン基（例、エチニレン、プロピニレン）、アリーレン基（例、フェニレン、ナフチレン）、二価の複素環基（例、６−クロロ−１、３、５−トリアジン−２、４ージイル基、ピリミジン２、４−ジイル基、キノキサリンー２、３−ジイル基、ピリダジン−３，６−ジイル）、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子、アルキル基又はアリール基）、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−又はこれらの組み合わせ（例えば−ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−等）であることが好ましい。
【０１６０】
置換基の例としては、一価の置換基で説明した置換基と同義である。
【０１６１】
上記Ｒ’のアルキル基及びアリール基は、上記で説明した一価の置換基と同義である。
【０１６２】
更に好ましくは、炭素数１０以下のアルキレン基、炭素数１０以下のアルケニレン基、炭素数１０以下のアルキニレン基、炭素数６以上１０以下のアリーレン基、二価の複素環基、−Ｓ−、−ＳＯ−、―ＳＯ２−又はこれらの組み合わせ（例えば−ＳＣＨ２ＣＨ２Ｓ−、−ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ−等）であることが更に好ましい。
【０１６３】
二価の連結基の総炭素数は０乃至５０であることが好ましく、０乃至３０であることがより好ましく、０乃至１０であることが最も好ましい。
【０１６４】
Ｒ及びＱが３価の置換基を示す場合、３価の置換基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、３価の複素環基、＞Ｎ−、又はこれらの組み合わせ（例えば＞ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、＞ＮＣＯＮＨ−等）であることが好ましい。より好ましくはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基又は３価の複素環基であり、更に好ましくはアルキレン基、アリーレン基又は３価の複素環基である。
【０１６５】
３価の連結基の総炭素数は０乃至５０であることが好ましく、０乃至３０であることがより好ましく、０乃至１０であることが最も好ましい。
【０１６６】
一般式（２−１）及び（２−２）中、Ｈｅｔは上記Ａ群から選ばれる５員複素環基を表す。
Ｈｅｔが表す複素環基の例としては、上記Ａ群の内、（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）が好ましく、更に（２）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）が好ましく、特に（２）、（５）、（６）、（７）、（１０）が好ましく、その中でも（２）、（７）が好ましく、（２）が最も好ましい。
【０１６７】
Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４で表される置換基としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基。例えばメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、sec-ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル、シクロペンチル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリニル、ピラゾリニル、トリアゾリニル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジル、２−ベンゾチアゾリニル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。
【０１６８】
本発明のアゾ顔料がイオン性親水性基を置換基として含有する場合は、多価金属カチオンとの塩（例えば、マグネシウム、カルシウム、バリウム）であることが好ましく、レーキ顔料であることが特に好ましい。
【０１６９】
上記Ａ群において、Ｘ及びＷ０の好ましい置換基例は、それぞれ独立に電子求引性基である。特に、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子求引性基であり、より好ましくは、σｐ値が０．３０以上の電子求引性基であることが好ましい。上限としては１．０以下の電子求引性基である。
【０１７０】
σｐ値が０．２０以上の電子求引性基であるＸの具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、σｐ値が０．２０以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられる。
【０１７１】
Ｘ及びＷ０の好ましい例としては、それぞれ独立に炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、炭素数１〜１２のカルバモイル基、炭素数２〜１２のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフイニル基、炭素数６〜１８のアリールスルフイニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１８のアリールスルホニル基、炭素数０〜１２のスルファモイル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキルオキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキルチオ基、炭素数７〜１８のハロゲン化アリールオキシ基、２つ以上のσｐ０．２０以上の他の電子求引性基で置換された炭素数７〜１８のアリール基、及び窒素原子、酸素原子、又はイオウ原子を有する５〜８員環で炭素数１〜１８のヘテロ環基を挙げることができる。
【０１７２】
更に好ましくは、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１８のアリールスルホニル基、又は炭素数０〜１２のスルファモイル基である。特に好ましいものは、シアノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１２のアリールスルホニル基、又は炭素数０〜８のスルファモイル基であり、その中でもシアノ基、メタンスルホニル基、フェニルスルホニル基、スルファモイル基が好ましく、更にシアノ基、メタンスルホニル基が好ましく、シアノ基が最も好ましい。
【０１７３】
上記Ａ群において、Ｚの好ましい例は、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のヘテロ環基、置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のアリールスルホニル基又はアシル基を示す。特に好ましい置換基は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のへテロ環基、置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のアリールスルホニル基又はアシル基であり、その中でも特に好ましい置換基は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のへテロ環基が好ましく、特に、置換若しくは無置換のへテロ環基が好ましく、置換若しくは無置換の含窒素へテロ環基が最も好ましい。置換基の例としては、上記Ａ群におけるＸ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４で挙げた置換基と同じものを挙げることができる。
【０１７４】
上記Ａ群において、Ｙ及びＷ1〜Ｗ４の好ましい例は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換の総炭素数Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数Ｃ６〜Ｃ１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロ環基が好ましく、その中でも、水素原子、総炭素原子数Ｃ１〜Ｃ８の直鎖アルキル基及び又は分岐のアルキル基が好ましく、特に水素原子、又はＣ１〜Ｃ８のアルキル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。
【０１７５】
本発明の一般式（２−１）で表される顔料誘導体として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（チ）を含むものである。
【０１７６】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０１７７】
（ロ）Ｒ及びＱの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基が最も好ましい。
【０１７８】
（ハ）Ａ１として特に好ましくはエチレン又はフェニレンの２価の基であり、置換基として特に好ましい置換基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基又はイオン性親水性基である。
【０１７９】
（ニ）Ａ２の表すイオン性親水性基の中でも、特に好ましくはカルボキシル基又はスルホ基である。
【０１８０】
（ホ）Ｂ１の表す基として特に好ましくは−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基である。
【０１８１】
（ヘ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０１８２】
（ト）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【０１８３】
（チ）Ｈｅｔの表す５員複素環基として特に好ましくは、Ａ群中の（２）である。
【０１８４】
なお、一般式（２−１）で表される顔料誘導体の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料誘導体が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料誘導体がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料誘導体が最も好ましい。
【０１８５】
本発明の一般式（２−２）で表される顔料誘導体として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（リ）を含むものである。
【０１８６】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０１８７】
（ロ）Ｒ及びＱの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基が最も好ましい。
【０１８８】
（ハ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０１８９】
（ニ）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【０１９０】
（ホ）Ｈｅｔの表す５員複素環基として特に好ましくは、Ａ群中の化合物（２）である。
【０１９１】
（ヘ）Ｑ１及びＱ２としては、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、水酸基が好ましく、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
【０１９２】
（ト）Ｗが表すＢ群から選ばれる２価の連結基（これらの組み合わせであっても良い）として特に好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アミノ基、エステル基、カルバモイル基である。
【０１９３】
（チ）Ａ３及びＢ２が表す−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈにおいて、個の基を誘導する化合物として代表的な例として特に好ましくはタウリン、トビアス酸である。
【０１９４】
（リ）Ｌはエチレン基、フェニレン基及びナフチレン基から選択される基であり、特に好ましくはエチレン基又はナフチレン基である。
【０１９５】
なお、一般式（２−２）で表される顔料誘導体の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料誘導体が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料誘導体がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料誘導体が最も好ましい。
【０１９６】
一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体は、一般式（３−１）若しくは（３−２）で表される化合物、その塩、水和物又は溶媒和物である顔料誘導体であることが好ましい。
【０１９７】
【化２２】
2011057731.tif 000023
【０１９８】
【化２３】
2011057731.tif 000024
【０１９９】
一般式（３−１）及び（３−２）中、Ｇ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺの定義及び詳細は、一般式（２−１）及び（２−２）におけるＧ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺの定義及び詳細と同様であり、好ましい例も同様である。ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、下記一般式（Ｂ）で表される構造が、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ若しくは置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【０２００】
【化２４】
2011057731.tif 000025
【０２０１】
一般式（３−１）中、Ａ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義及び詳細は、一般式（１−１）におけるＡ１、Ａ2、Ｂ１及びｍの定義及び詳細と同様であり、好ましい例も同様である。
一般式（３−２）中、Ｑ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義及び詳細は、一般式（１−２）におけるＱ１、Ｑ２、Ｗ、Ａ３及びＢ２の定義及び詳細と同様であり、好ましい例も同様である。
【０２０２】
以下、一般式（３−１）及び（３−２）中、Ｘ、Ｙ及びＺの好ましい置換基例を詳細に説明する。
【０２０３】
Ｘ、Ｙ及びＺが水素原子又は一価の置換基を示す場合、この一価の置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基）、アシルアミノ基（アミド基）、アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、又はイミド基を挙げることができ、各々は更に置換基を有していてもよい。
【０２０４】
中でも特に好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基、アルコキシ基、アミド基、ウレイド基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、又はアルコキシカルボニル基であり、特に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、又は複素環基が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基が最も好ましい。
【０２０５】
前記Ｘ、Ｙ及びＺが表す各置換基については、一般式（２−１）又は（２−２）のＲ及びＱが表す各置換基の詳細及び好ましい例と同義である。
【０２０６】
本発明の一般式（３−１）で表される顔料誘導体として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（リ）を含むものである。
【０２０７】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０２０８】
（ロ）Ｒ及びＱの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２０９】
（ハ）Ｘ、Ｙ及びＺの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２１０】
（ニ）Ａ１として特に好ましくはエチレン又はフェニレンの２価の基であり、置換基として特に好ましい置換基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基又はイオン性親水性基である。
【０２１１】
（ホ）Ａ２の表すイオン性親水性基の中でも、特に好ましくはカルボキシル基又はスルホ基である。
【０２１２】
（ヘ）Ｂ１の表す基として特に好ましくは−ＮＨ−Ａ１−Ａ２で表される基である。
【０２１３】
（ト）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０２１４】
（チ）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【０２１５】
（リ）Ｈｅｔの表す５員複素環基として特に好ましくは、Ａ群中の化合物（２）である。
【０２１６】
なお、一般式（３−１）で表される顔料誘導体の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料誘導体が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料誘導体がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料誘導体が最も好ましい。
【０２１７】
本発明の一般式（３−２）で表される顔料誘導体として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（リ）を含むものである。
【０２１８】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０２１９】
（ロ）Ｒ及びＱの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２２０】
（ハ）Ｘ、Ｙ及びＺの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２２１】
（ニ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０２２２】
（ホ）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【０２２３】
（ヘ）Ｑ１及びＱ２としては、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、水酸基が好ましく、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
【０２２４】
（ト）Ｗが表すＢ群から選ばれる２価の連結基（これらの組み合わせであっても良い）として特に好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アミノ基、エステル基、カルバモイル基である。
【０２２５】
（チ）Ａ３及びＢ２が表す−ＮＨ−Ｌ−ＳＯ３Ｈにおいて、個の基を誘導する化合物として代表的な例として特に好ましくはタウリン、トビアス酸である。
【０２２６】
（リ）Ｌはエチレン基、フェニレン基及びナフチレン基から選択される基であり、特に好ましくはエチレン基又はナフチレン基である。
【０２２７】
なお、一般式（３−２）で表される顔料誘導体の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料誘導体が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料誘導体がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料誘導体が最も好ましい。
【０２２８】
本発明は、一般式（４）で表される顔料と、一般式（１−１）若しくは（１−２）で表される顔料誘導体、あるいは、一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される顔料誘導体とを含有する顔料分散体にも関し、顔料分散体は、一般式（４）で表される顔料と一般式（２−１）若しくは（２−２）で表される顔料誘導体とを含有することがより好ましい。
【０２２９】
以下、一般式（４）について説明する。
【０２３０】
【化２５】
2011057731.tif 000026
【０２３１】
一般式（４）中、Ｇはアルキル基、アリール基、又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ及びＱは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。ＨｅｔはＡ群から選ばれる５員複素環基を表す。＊は、一般式（４）で示されるアゾ基との結合部位を表す。（Ａ群の化合物中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ０、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。）
【０２３２】
【化２６】
2011057731.tif 000027
【０２３３】
ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、一般式（４）で表される顔料は、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｈｅｔ若しくは、置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【０２３４】
一般式（４）中のＧ、Ｒ、Ｑ、Ｈｅｔ及びｎについては、一般式（２−１）又は（２−２）で説明したＧ、Ｒ、Ｑ、Ｈｅｔ及びｎの詳細及び好ましい例と同義である。
【０２３５】
本発明の一般式（４）で表される顔料として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ホ）を含むものである。
【０２３６】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０２３７】
（ロ）Ｒ及びＱの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基が最も好ましい。
【０２３８】
（ハ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０２３９】
（ニ）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【０２４０】
（ホ）Ｈｅｔの表す５員複素環基として特に好ましくは、Ａ群中の化合物（２）である。
【０２４１】
なお、一般式（４）で表される顔料の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料が最も好ましい。
【０２４２】
上記一般式（４）で表される顔料として、下記一般式（５）で表される顔料がより好ましい。
【０２４３】
【化２７】
2011057731.tif 000028
【０２４４】
一般式（５）中、Ｇはアルキル基、アリール基、又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。ｎが２若しくは３の場合は、一般式（５）で表される顔料は、置換基Ｒ、Ｇ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ若しくは置換基Ｑを介した２量体若しくは３量体を表す。
【０２４５】
一般式（５）中のＧ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎについては、一般式（３−１）及び（３−２）で説明したＧ、Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎの詳細及び好ましい例と同義である。
【０２４６】
本発明の一般式（５）で表される顔料として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ホ）を含むものである。
【０２４７】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０２４８】
（ロ）Ｒ及びＱの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２４９】
（ハ）Ｘ、Ｙ及びＺの特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２５０】
（ニ）ｎが示す整数として特に好ましくはｎが２である。
【０２５１】
（ホ）ｎが２の場合の連結様式として特に好ましくは、２価の置換基を介して連結されている様式であり、その２価の連結基して特に好ましいものは、置換基を有していても良い２価の複素環基である。２価の連結基の総炭素数として特に好ましくは０〜１０である。
【０２５２】
なお、一般式（５）で表される顔料の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料が最も好ましい。
【０２５３】
特に、本発明の顔料分散体は、一般式（５）で表される顔料と、一般式（３−１）若しくは（３−２）で表される顔料誘導体とを含有することが好ましい。
【０２５４】
また、本発明の顔料分散体において、一般式（４）又は（５）で表される顔料は、一般式（６）で表される顔料が好ましい。
【０２５５】
【化２８】
2011057731.tif 000029
【０２５６】
一般式（６）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を示し、Ｇは一価の置換基を有していても良い５〜６員含窒素複素環を示す。
【０２５７】
一般式（６）中、Ｒ１及びＲ２については、一般式（３−１）及び（３−２）で説明したＲの詳細及び好ましい例と同義である。Ｘ１及びＸ２については、一般式（３−１）及び（３−２）で説明したＸの詳細及び好ましい例と同義である。Ｙ１及びＹ２については、一般式（３−１）及び（３−２）で説明したＹの詳細及び好ましい例と同義である。Ｚ１及びＺ２については、一般式（３−１）及び（３−２）で説明したＺの詳細及び好ましい例と同義である。Ｇについては、一般式（３−１）及び（３−２）で説明したＧの詳細及び好ましい例と同義である。
【０２５８】
本発明の一般式（６）で表される顔料として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ハ）を含むものである。
【０２５９】
（イ）Ｇは好ましくは炭素数３〜１０の６員芳香族複素環基を表し、特に好ましくはピラジン、ピリダジン、ピリミジン又はトリアジンである。
【０２６０】
（ロ）Ｒ１、Ｒ２、Ｑ１及びＱ２の特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２６１】
（ハ）Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１及びＺ２の特に好ましい例は、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基又はアルコキシカルボニル基である。
【０２６２】
なお、一般式（６）で表される顔料の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である顔料が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である顔料がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である顔料が最も好ましい。
【０２６３】
以下に前記一般式（１−１）〜一般式（３−２）で示される顔料誘導体、一般式（４）〜一般式（６）で示される顔料の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる顔料誘導体及び顔料は、下記の例に限定されるものではない。また、以下の具体例の構造は化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示されるが、記載された構造以外の互変異性体のものであっても良いことはいうまでもない。
【０２６４】
以下、一般式（１−１）〜一般式（３−２）で表される顔料誘導体における置換基Ａの具体例を示す。
【０２６５】
【化２９】
2011057731.tif 000030
【０２６６】
【化３０】
2011057731.tif 000031
【０２６７】
以下、一般式（１−１）〜一般式（３−２）で表される顔料誘導体における置換基Ｂ及び一般式（４）〜一般式（６）で示される顔料における置換基Ｈｅｔの具体例を示す。
【０２６８】
【化３１】
2011057731.tif 000032
【０２６９】
【化３２】
2011057731.tif 000033
【０２７０】
【化３３】
2011057731.tif 000034
【０２７１】
以下に一般式（１−１）で表される顔料誘導体の具体例を示す。
【０２７２】
【表１】
2011057731.tif 000035
【０２７３】
【表２】
2011057731.tif 000036
【０２７４】
【表３】
2011057731.tif 000037
【０２７５】
【表４】
2011057731.tif 000038
【０２７６】
【表５】
2011057731.tif 000039
【０２７７】
【表６】
2011057731.tif 000040
【０２７８】
【表７】
2011057731.tif 000041
【０２７９】
【表８】
2011057731.tif 000042
【０２８０】
以下、一般式（１−２）で表される顔料誘導体の具体例を示す。
【０２８１】
【表９】
2011057731.tif 000043
【０２８２】
【表１０】
2011057731.tif 000044
【０２８３】
【表１１】
2011057731.tif 000045
【０２８４】
【表１２】
2011057731.tif 000046
【０２８５】
【表１３】
2011057731.tif 000047
【０２８６】
【表１４】
2011057731.tif 000048
【０２８７】
【表１５】
2011057731.tif 000049
【０２８８】
【表１６】
2011057731.tif 000050
【０２８９】
以下、一般式（４）、一般式（５）、及び一般式（６）で表される顔料の具体例を一般式（７）の構造を使って下記表に示す。
【０２９０】
【表１７】
2011057731.tif 000051
【０２９１】
【表１８】
2011057731.tif 000052
【０２９２】
【表１９】
2011057731.tif 000053
【０２９３】
【表２０】
2011057731.tif 000054
【０２９４】
【表２１】
2011057731.tif 000055
【０２９５】
【表２２】
2011057731.tif 000056
【０２９６】
【表２３】
2011057731.tif 000057
【０２９７】
【表２４】
2011057731.tif 000058
【０２９８】
本発明において、一般式（１−１）〜一般式（３−２）で示される顔料誘導体、一般式（４）〜一般式（６）で示される顔料は、酸基のある場合には、酸基の一部あるいは全部が塩型のものであってもよく、塩型の顔料と遊離酸型の顔料が混在していてもよい。上記の塩型の例としてＮａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、又は有機アミンの塩が挙げられる。有機アミンの例として、低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換低級アルキルアミン、カルボキシ置換低級アルキルアミン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有するポリアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は１種類に限られず複数種混在していてもよい。
【０２９９】
更に、一般式（１−１）〜一般式（３−２）で示される顔料誘導体、及び、一般式（４）〜一般式（６）で示される顔料において、その１分子中に酸基が複数個含まれる場合は、その複数の酸基は塩型あるいは酸型であり互いに異なるものであってもよい。また、これらの顔料誘導体、及び、顔料は、結晶中に水分子を含む水和物、あるいは、溶媒（例えば、メタノール，エタノール，２−プロパノール，ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類や、ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトアミド，Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性溶媒、アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒など）を含む溶媒和物であっても良い。
【０３００】
また、一般式（１−１）〜一般式（３−２）で示される顔料誘導体における顔料構造、及び、一般式（４）〜一般式（６）で示される顔料に関しては、その互変異性体（例えば、アゾ−ヒドラゾンの互変異性体）も、本発明においては、これらの一般式に含まれるものとする。
【０３０１】
〔顔料の製造〕
以下に一般式（４）〜一般式（６）で表される顔料の製造方法の一例について説明する。例えば複素環アミン（一般にジアゾ成分という）を酸性条件でジアゾニウム化し、これを複素環からなるカプラー成分と混合することでカップリング反応が進行する。常法による後処理を行って、一般式（４）〜一般式（６）の顔料を製造することができる。
【０３０２】
上記ジアゾ成分である複素環アミンは、一般的には公知慣用の方法、例えば、Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４１，１９５８，１０５２〜１０５６やＨｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４２，１９５９，３４９〜３５２等に記載の方法、及び、それに準じた方法で製造することができる。
上記カプラー成分は、国際公開第０６／０８２６６９号や特開２００６−５７０７６号公報に記載の方法、及び、それに準じた方法で製造することができる。
上記ジアゾ成分のジアゾニウム化反応は、例えば、硫酸、リン酸、酢酸、塩酸、メタンスルホン酸などの酸性溶媒中、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸、亜硝酸イソアミル等の試薬を１５℃以下の温度で１０分〜６時間程度反応させることで行うことができる。
カップリング反応は、上述の方法で得られたジアゾニウム塩とカプラー成分とを４０℃以下、好ましくは、２５℃以下で１０分〜１２時間程度反応させることで行うことができる。
このようにして反応させたものは、結晶が析出しているものもあるが、一般的には反応液に水、あるいはアルコール系溶媒を添加し、結晶を析出させ、結晶を濾取することができる。また、反応液にアルコール系溶媒、水等を添加して結晶を析出させて、析出した結晶を濾取することができる。濾取した結晶を必要に応じて洗浄・乾燥して、一般式（４）〜一般式（６）で表される顔料を得ることができる。
【０３０３】
上記の製造方法によって、上記一般式（４）〜一般式（６）で表される顔料は粗顔料（クルード）として得られるが、本発明の顔料として用いる場合、後処理を行うことが望ましい。この後処理の方法としては、例えば、ソルベントソルトミリング、ソルトミリング、ドライミリング、ソルベントミリング、アシッドペースティング等の磨砕処理、溶媒加熱処理などによる顔料粒子制御工程、樹脂、界面活性剤及び分散剤等による表面処理工程が挙げられる。
【０３０４】
本発明の一般式（４）〜一般式（６）で表される化合物は後処理として溶媒加熱処理及び／又はソルベントソルトミリングを行うことが好ましい。
溶媒加熱処理に使用される溶媒としては、例えば、水、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、イソプロパノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の極性非プロトン性有機溶媒、氷酢酸、ピリジン、又はこれらの混合物等が挙げられる。上記で挙げた溶媒に、更に無機又は有機の酸又は塩基を加えても良い。溶媒加熱処理の温度は所望する顔料の一次粒子径の大きさによって異なるが、４０〜１５０℃が好ましく、６０〜１００℃が更に好ましい。また、処理時間は、３０分〜２４時間が好ましい。
【０３０５】
ソルベントソルトミリングとしては、例えば、粗顔料と、無機塩と、それを溶解しない有機溶剤とを混練機に仕込み、その中で混練磨砕を行うことが挙げられる。上記無機塩としては、水溶性無機塩が好適に使用でき、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等の無機塩を用いることが好ましい。また、平均粒子径０．５〜５０μｍの無機塩を用いることがより好ましい。当該無機塩の使用量は、粗アゾ顔料に対して３〜２０質量倍とするのが好ましく、５〜１５質量倍とするのがより好ましい。有機溶剤としては、水溶性有機溶剤が好適に使用でき、混練時の温度上昇により溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から高沸点溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えばジエチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、液体ポリエチレングルコール、液体ポリプロピレングリコール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−ブトキシエタノール、２ー（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングルコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール又はこれらの混合物が挙げられる。当該水溶性有機溶剤の使用量は、粗アゾ顔料に対して０．１〜５質量倍が好ましい。混練温度は、２０〜１３０℃が好ましく、４０〜１１０℃が特に好ましい。混練機としては、例えばニーダーやミックスマーラー等が使用できる。
【０３０６】
〔顔料誘導体の製造〕
本発明の顔料誘導体は以下の方法で製造されるが、これに限定していない。
方法（１）は、一般式（４）〜一般式（６）で表される顔料の骨格（窒素原子など）や置換基を修飾又は置換する方法でイオン性親水性基を有する化合物を連結する。
【０３０７】
【化３４】
2011057731.tif 000059
【０３０８】
反応式１及び反応式２中、Ｍは顔料、ジアゾ成分又はカプラー成分を表し、Ｒ１及びＲ２は置換基を示すが、Ｒ１とＲ２は、上記一般式（１−１）においては、−ＮＨ−Ａ１−Ａ２、及びＢ１に対応し、上記一般式（１−２）においては、Ａ３、及びＢ２に対応している。よって、Ｒ１とＲ２は、何れか一方、若しくは両方にイオン性親水性基が置換されている。Ｒ３は脱離基でありＲ３としてクロロ原子、アルコキシ基やアリールオキシ基が挙げられる。顔料にイオン性親水性基を有する化合物を共有結合で連結する方法（１）と、顔料のアゾカップリングの原料（ジアゾ成分とカプラー成分）がイオン性親水性基を有する化合物を共有結合で連結しておき、これらを前述の顔料の製造で説明した方法でアゾカップリングする方法（２）が挙げられる。出発原料としてＭ−ＮＨ２若しくはＭ−ＣＯＲ３のＭが顔料である場合（すなわち、Ｍが［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］ｎで表される顔料（Ａ及びＢは、それぞれ独立に、５〜６員の複素環を表す）である場合）は方法（１）であり、Ｍ−ＮＨ２若しくはＭ−ＣＯＲ３のＭがジアゾ成分やカプラー成分である場合は方法（２）による顔料誘導体の製造法を意味する。
【０３０９】
反応式１中、Ｍ−ＮＨ２中の−ＮＨ２は、特に限定されず−ＮＨ２の代わりに顔料上の求核種であれば上記のスキームにしたがって反応を実施することができる。求核種としては、顔料上の窒素原子、炭素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。例えば、反応（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は４−アミノフタルイミドを顔料、ジアゾ成分又はカプラー成分に結合させて、に塩化シアヌル若しくは塩化シアヌル誘導体を導入する方法である。反応（ｄ）は塩化シアヌル誘導体と顔料、ジアゾ成分又はカプラー成分を連結しＭが顔料であれば顔料誘導体が、Ｍがジアゾ成分又はカプラー成分であれば、それらをアゾカップリングすることで所望の顔料誘導体を誘導することができる。
【０３１０】
反応式２中、Ｍ−ＣＯＲ３中の−ＣＯＲ３は、特にこの置換基に限定されず、例えば−ＣＯＲ３のように求電子置換反応できる反応種や、顔料上の窒素原子、炭素原子、酸素原子、硫黄原子などへの求電子反応であれば上記の反応式２に従って反応を実施することができる。例えば、反応（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）はフェニレンジアミンを顔料、ジアゾ成分又はカプラー成分に結合し、アミド結合を形成させる方法である。この反応式２におけるＲ３は例えばクロロ原子やアルコキシ基、アリールオキシ基が挙げられる。次に塩化シアヌル若しくは塩化シアヌル誘導体を導入する方法である。反応（ｈ）は塩化シアヌル誘導体と顔料、ジアゾ成分又はカプラー成分を連結しＭが顔料であれば顔料誘導体が、Ｍがジアゾ成分又はカプラー成分であれば、それらをアゾカップリングすることで所望の顔料誘導体を誘導することができる。
【０３１１】
〔顔料分散体の作成〕
本発明の顔料分散体について説明する。顔料誘導体及び顔料による顔料分散体について、顔料１００％質量部に対し、顔料誘導体を０．１〜５０％質量部の割合で配合するのが好ましい。より好ましくは、０．５〜４０％質量部であり、更に好ましくは１．０〜４０％質量部における配合である。顔料誘導体が０．１％質量部以上で、顔料及び顔料分散体の凝集原因である顔料の結晶成長を抑制でき、また分散ポリマーとの相互作用が良好となり、結果、顔料及び顔料誘導体の分散が易分散化できる。また、顔料誘導体を５０％質量部以下で使用することで顔料誘導体の酸基由来のアニオン電荷が過剰とならず顔料分散体における媒体で程よく安定化され凝集が抑制されることで顔料及び顔料誘導体の分散が易分散化できる。
【０３１２】
本発明の顔料誘導体の使用方法としては、顔料誘導体と顔料とを粉体で配合して用いるのが一般的であるが、水系又は非水系ビヒクルに顔料とともに添加しても良い。また、予め顔料自体の調製時に配合して利用することもできる。また、上記の粗顔料の後処理を顔料誘導体と混合した状態で実施しても良い。
【０３１３】
本発明の顔料分散体の構成要素である顔料誘導体は、少なくとも一般式（１−１）〜一般式（３−２）で表される化合物又はその塩（例えば、金属塩、アンモニウム塩若しくはアミン塩）からなり、これを用いて一般式（４）〜一般式（６）の顔料を分散できる。
【０３１４】
本発明における顔料分散体は、前記一般式（１−１）〜一般式（３−２）で表される顔料誘導体、一般式（４）〜一般式（６）で表される顔料、及びビニルポリマー（以下「樹脂」又は「特定樹脂」ともいう）を含有する。
本発明における顔料を含有する顔料分散体は、特定樹脂及び顔料更に顔料誘導体等を用いて従来の物理的、化学的方法によって製造することができる。例えば、特開平９−１５１３４２号、特開平１０−１４００６５号、特開平１１−２０９６７２号、特開平１１−１７２１８０号、特開平１０−２５４４０号、又は特開平１１−４３６３６号の各公報に記載の方法により製造することができる。具体的には、特開平９−１５１３４２号及び特開平１０−１４００６５号の各公報に記載の転相法と酸析法等が挙げられ、中でも、分散安定性の点で転相法が好ましい。
【０３１５】
ａ）転相法
転相法は、基本的には、自己分散能又は溶解能を有する樹脂と顔料との混合溶融物を水に分散させる自己分散（転相乳化）させる方法であり、顔料を含有する顔料分散体を得ることができる。ここで、混合溶融物とは、溶解せず混合した状態、溶解して混合した状態、又はこれら両者の状態のいずれの状態を含むものをいう。「転相法」のより具体的な製造方法は、特開平１０−１４００６５号に記載の方法が挙げられる。
ｂ）酸析法
酸析法は、樹脂と顔料とからなる含水ケーキを用意し、その含水ケーキ中の、樹脂が有するアニオン性基の一部又は全部を、塩基性化合物を用いて中和することによって、顔料を含有する顔料分散体を製造する方法である。
酸析法は、具体的には、（１）樹脂と顔料とをアルカリ性水性媒体中に分散し、必要に応じて加熱処理を行なって樹脂のゲル化を図る工程と、（２）ｐＨを中性又は酸性にすることによって樹脂を疎水化して、樹脂を顔料に強く固着する工程と、（３）必要に応じて、濾過及び水洗を行って含水ケーキを得る工程と、（４）含水ケーキを中の、樹脂が有するアニオン性基の一部又は全部を、塩基性化合物を用いて中和し、その後、水性媒体中に再分散する工程と、（５）必要に応じて加熱処理を行い、樹脂のゲル化を図る工程と、を含む方法がある。
【０３１６】
上記の転相法及び酸析法のより具体的な製造方法は、特開平９−１５１３４２号、特開平１０−１４００６５号の各公報に記載の方法が挙げられる。
【０３１７】
本発明において、顔料及び顔料誘導体等を含有する顔料分散体は、特定樹脂を水性分散物として得る工程、具体的には下記の工程（１）及び工程（２）を含む方法により顔料を及び顔料誘導体等を含有する顔料分散体の分散物を調製する調製工程を設けて得ることができ、また、本発明の顔料水性インクの製造は、この調製工程を設け、得られた顔料及び顔料誘導体等を含有する顔料分散体の分散物を水と水溶性有機溶媒更には添加剤と共に用いて水性インクとする方法により好適に行なえる。
工程（１）：既述の本発明における特定樹脂、有機溶媒、中和剤、顔料、及び水を含有する混合物を攪拌等により分散して分散物を得る工程
工程（２）：前記分散物から前記有機溶媒を除去する工程
【０３１８】
攪拌方法には特に制限はなく、一般に用いられる混合攪拌装置や、必要に応じて例えば、ボールミル、ロールミル、ビーズミル、高圧ホモジナイザー、高速攪拌型分散機、超音波ホモジナイザ−などを使用することができる。
【０３１９】
有機溶媒としては、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、及びエーテル系溶媒が好ましく挙げられる。
前記アルコール系溶媒としては、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、エタノール等が挙げられる。前記ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。前記エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒の中では、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒とｉ−プロピルアルコール等のアルコール系溶媒が好ましく、メチルエチルケトンが最も好ましい。
【０３２０】
中和剤は、解離性基の一部又は全部が中和され、特定樹脂が水中で安定した乳化又は分散状態を形成するために用いられる。特定樹脂が解離性基としてアニオン性の解離基を有する場合、用いられる中和剤としては有機アミン化合物、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物等の塩基性化合物が挙げられる。前記有機アミン化合物の例としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノプロピルアミン、ジプロピルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−エタノールアミン、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアニン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等が挙げられる。前記アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。中でも、水中での分散安定化の観点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、トリエタノールアミンが好ましく、特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
【０３２１】
前記塩基性化合物の含有量は、解離性基１００モル％に対して、５〜１２０モル％の範囲が好ましく、１０〜１２０モル％の範囲がより好ましく、８０〜１２０モル％の範囲が更に好ましい。該含有量は、５モル％以上であると水中での分散安定化に効果的であり、１２０モル％以下であると水溶性成分を低下させる効果がある。
【０３２２】
前記工程（２）では、前記工程（１）で得られた分散物から、減圧蒸留等の常法により有機溶剤を留去して水系へと転相することで、顔料の粒子表面が前記樹脂で被覆された顔料を含有する顔料分散体の分散物を得ることができる。得られた分散物中の有機溶媒は実質的に除去されており、ここでの有機溶媒の量は、好ましくは０．２質量％以下であり、更に好ましくは０．１質量％以下である。
【０３２３】
より具体的には、例えば、（１）アニオン性基を有する、本発明における特定樹脂を有機溶剤に溶解した溶液と塩基性化合物（中和剤）と水とを混合して中和する工程と、（２）得られた混合液に顔料を混合して懸濁液とした後に、分散機等で顔料を分散して顔料分散液を得る工程と、（３）有機溶剤を例えば蒸留して除去することによって、顔料を、アニオン性基を有する特定樹脂で被覆し、水性媒体中に分散させて水性分散体とする工程と、を設けて、インクジェット記録用水性インクを製造することができる。
なお、より具体的には、特開平１１−２０９６７２２号公報及び特開平１１−１７２１８０号の記載を参照することができる。
【０３２４】
本発明の顔料分散体中に含まれる顔料の平均粒子径は、１０〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、５０〜１５０ｎｍの範囲が更に好ましい。平均粒子径は、１０ｎｍ以上であると製造適性が向上し、４００ｎｍ以下であると保存安定性が良好になる。なお、顔料を含有する顔料分散体の粒径分布に関しては、特に制限はなく、広い粒径分布を持つもの、又は単分散の粒径分布を持つもののいずれでもよい。
顔料分散体中の顔料の平均粒子径及び粒径分布は、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用いて、動的光散乱法により体積平均粒径を測定することにより求められるものである。
【０３２５】
本発明における顔料分散体中における顔料の含有量としては、顔料分散体の分散安定性、濃度の観点から、１〜１０質量％が好ましく、２〜８質量％がより好ましく、２〜６質量％が特に好ましい。
【０３２６】
〔ポリマー〕
本発明の顔料分散体は、顔料分散性の向上を目的に、ポリマーを含有しても良い。
顔料分散に使用するポリマーは、ポリアクリル酸エステル、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、含珪素ポリマー、含硫黄ポリマーからなる群から選ばれた１種以上を主成分とすることが好ましい。本発明で用いるアセチレングリコール系界面活性剤、アセチレンアルコール系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、ジ（トリ）エチレングリコールモノブチルエーテル及び（ジ）プロピレングリコールモノブチルエーテルから選ばれた１種以上からなる物質は好適な分散を行なうことでポリマーが安定に色剤を包含できる。
【０３２７】
更に、顔料の分散に寄与するポリマーを構築する物質の疎水基は少なくともアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基から選ばれた１種以上であることが好ましい。そして、前述の親水性官能基を有する物質の親水基が少なくともカルボキシル基、スルホン酸基、ヒドロキシル基、アミノ基、若しくはアミド基又はそれらの塩基であることが好ましい。それら分散ポリマーを形成する物質の具体例として２重結合を有するアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基あるいはアリール基を有するモノマーやオリゴマー類を用いることができる。例えばスチレン、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ブチルメタクリレート、（α，２，３又は４）−アルキルスチレン、（α，２，３又は４）−アルコキシスチレン、３，４−ジメチルスチレン、α−フェニルスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、その他アルキル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基のジエチレングリコール又はポリエチレングリコールの（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、その他含フッ素、含塩素、含珪素（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、マレイン酸アミド、（メタ）アクリル酸等の１官能の他に架橋構造を導入する場合は（モノ、ジ、トリ、テトラ、ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール及び１，１０−デカンジオール等の（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリン（ジ、トリ）（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ又はＦのエチレンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等アクリル基やメタクリル基を有する化合物を用いることができる。
【０３２８】
また、ポリアクリル酸エステル、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、含珪素ポリマー、含硫黄ポリマーからなる群から選ばれた１種以上を主成分とするようにこれらのポリマーを添加しながら作成することもできる。
【０３２９】
重合開始剤は過硫酸カリウムや過硫酸アンモニウムの他に、過硫酸水素やアゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル、過酸化ジブチル、過酢酸、クメンヒドロパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロキシパーオキシド、パラメンタンヒドロキシパーオキシドなどラジカル重合に用いられる一般的な開始剤を用いることができる。
【０３３０】
本発明における、乳化重合では連鎖移動剤を用いることもできる。例えば、ｔ−ドデシルメルカプタンの他にｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、キサントゲン類であるジメチルキサントゲンジスルフィド、ジイソブチルキサントゲンジスルフィド、あるいはジペンテン、インデン、１，４−シクロヘキサジエン、ジヒドロフラン、キサンテンなどが挙げられる。
【０３３１】
本発明における顔料分散体中におけるポリマーの含有量としては、１〜２０質量％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。
【０３３２】
〔顔料水性インク〕
＜水溶性溶媒＞
本発明の顔料水性インクは、前記した顔料分散体を用いて得られるものであり、顔料水性インクがインクジェット用インクである場合には、更に、水溶性溶媒を含むことが好ましい。
水溶性溶媒としては、水溶性有機溶剤が挙げられる。水溶性有機溶剤は乾燥防止剤、湿潤剤あるいは浸透促進剤の目的で使用される。
ノズルのインク噴射口において該インクジェット用インクが乾燥することによる目詰まりを防止する目的で乾燥防止剤が用いられ、乾燥防止剤や湿潤剤としては、水より蒸気圧の低い水溶性有機溶剤が好ましい。また、インクジェット用インクを紙により良く浸透させる目的で浸透促進剤として、水溶性有機溶剤が好適に使用される。
【０３３３】
水溶性有機溶媒の例として、グリセリン、１，２，６−ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレングリセリルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテル、２−ブテン−１，４−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ペンタンジオール、４−メチル−１，２−ペンタンジオール等のアルカンジオール（多価アルコール類）；ヴルコース、マンノース、フルクトース、リボース、キシロース、アラビノース、ガラクトース、アルドン酸、グルシトール、（ソルビット）、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、トレハロース、マルトトリオース等の糖類；糖アルコール類；ピアルロン酸類；尿素類等のいわゆる固体湿潤剤；エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素数１〜４のアルキルアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテルなどのグリコールエーテル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルスルポキシド、ソルビット、ソルビタン、アセチン、ジアセチン、トリアセチン、スルホラン等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。
【０３３４】
乾燥防止剤や湿潤剤の目的としては，ポリオール化合物が有用であり、例えば、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、テトラエチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０３３５】
浸透剤の目的としては、ポリオール化合物が好ましく、脂肪族ジオールとしては、例えば、２-ブチル−２-エチルー１,３-プロパンジオール、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、５−ヘキセン−１，２−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールなどが挙げられる。これらの中でも、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールが好ましい例として挙げることができる。
浸透剤の添加量は、インクの全質量に対して１．５〜５質量％の範囲が好ましい。１．５質量％以上ではにじみが軽減され、印字品質が向上する。５質量％以下では、見合った浸透性の向上効果が得られ、印字品質が向上し、粘度増加の弊害がない。
【０３３６】
本発明に使用される水溶性溶媒は、単独で使用しても、２種類以上混合して使用しても構わない。水溶性溶媒の好ましい例として、グリセリン、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレングリセリルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテルを挙げることができる。
水溶性有機溶媒の含有量としては、インクの全質量に対して５質量％以上６０質量％以下、好ましくは、１０質量％以上４０質量％以下で使用される。
本発明に使用される水の添加量は特に制限は無いが、インクの全質量に対して好ましくは、１０質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは、３０質量％以上８０質量％以下である。更に好ましくは、５０質量％以上７０質量％以下である。
【０３３７】
＜界面活性剤＞
本発明の顔料水性インクは、表面張力調整剤を含有することが好ましい。表面張力調整剤としてはノニオン、カチオン、アニオン、ベタイン界面活性剤が挙げられる。表面張力の調整剤の添加量は、インクジェットで良好に打滴するために、本発明のインクの表面張力を２０〜６０ｍＮ／ｍに調整する量が好ましく、より好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、更に好ましくは２５〜４０ｍＮ／ｍに調整できる量である。
本発明における界面活性剤としては、分子内に親水部と疎水部を合わせ持つ構造を有する化合物等が有効に使用することができ、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤のいずれも使用することができる。更には、上記高分子物質（高分子分散剤）を界面活性剤としても使用することもできる。その具体的には、アセチレングリコール系界面活性剤、アセチレンアルコール系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤から選ばれた１種以上であることが好ましい。これらの界面活性剤を用いることで普通紙上のにじみが更に低減され、専用紙上での線幅を適当な程度に調整することができる。
【０３３８】
顔料水性インクは、インクの全質量に対して、前述のアセチレングリコール系界面活性剤、アセチレンアルコール系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤から選ばれた１種以上を０．１質量％以上５質量％以下含むことが好ましい。インクジェットインクのような低粘度、小ドット径及び動的挙動があるものは、動的表面張力を４０ｍＮ／ｍ以下にする添加量が好ましい。動的表面張力が４０ｍＮ／ｍを超えるとにじみが多くなる。５％を超えると印字品質の効果が頭打ちであり、添加しても粘度が上昇して使いづらくなり、ヘッドの先端にインクが付着しやすくなり、印字が乱れやすくなる。０．１質量％未満では印字品質向上の効果が低くなる。より好ましい添加量は０．１５〜２％である。
【０３３９】
アニオン系界面活性剤の具体例としては、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルポコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルポコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ−オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられ、これらの１種、又は２種以上を選択することができる。
ノニオン性界面活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ｔ−オクチルフェノキシエチルポリエトキシエタノール、ノニルフェノキシエチルポリエトキシエタノール等が挙げられ、これらの１種、又は２種以上を選択することができる。
カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられ、具体的には、例えば、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２−ヘプタデセニル−ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
【０３４０】
＜その他成分＞
本発明の顔料水性インクは、その他の添加剤を含有してもよい。その他の添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、褪色防止剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、防錆剤、酸化防止剤、乳化安定剤、防腐剤、消泡剤、粘度調整剤、分散安定剤、キレート剤等の公知の添加剤が挙げられる。
【０３４１】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ニッケル錯塩系紫外線吸収剤、などが挙げられる。
【０３４２】
褪色防止剤としては、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。有機の褪色防止剤としてはハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類などがあり、金属錯体としてはニッケル錯体、亜鉛錯体などがある。
【０３４３】
防黴剤としてはデヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、ソルビン酸ナトリウム、ペンタクロロフェノールナトリウムなどが挙げられる。
【０３４４】
ｐＨ調整剤としては、調合される記録用インクに悪影響を及ぼさずにｐＨを所望の値に調整できるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルコールアミン類（例えば、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−アミノ−２−エチル−１，３プロパンジオールなど）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アンモニウム水酸化物（例えば、水酸化アンモニウム、第４級アンモニウム水酸化物）、ホスホニウム水酸化物、アルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。
【０３４５】
防錆剤としては、例えば、酸性亜硫酸塩、チオ硫酸ナトリウム、チオジグリコール酸アンモン、ジイソプロピルアンモニウムニトライト、四硝酸ペンタエリスリトール、ジシクロヘキシルアンモニウムニトライトなどが挙げられる。これらはインク中に０．０２質量％〜１．００質量％使用するのが好ましい。その添加量の適正値は０．００５質量％〜０．５質量％である。０．００５質量％以上で防錆効果が得られ、０．５質量％未満では色剤の分散安定性が良好である。より好ましい添加量は０．００８質量％〜０．１質量％である。
【０３４６】
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤（ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む）、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、りん系酸化防止剤などが挙げられる。
【０３４７】
キレート剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸ナトリウム、ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム、ウラミル二酢酸ナトリウムなどが挙げられる。その添加量の適正値は０．００５％〜１％である。０．００５％以上では十分なキレート効果が得られ、１％以下ではとキレート効果が保たれた状態で色剤の分散安定性が良好である。より好ましい添加量は０．０１％〜０．３％である。
【０３４８】
＜樹脂微粒子＞
本発明の顔料水性インクは樹脂微粒子あるいはポリマーラテックスを含有してもよい。樹脂微粒子あるいはポリマーラテックスとしては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂等を用いることができる。アクリル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン系樹脂を好ましい例として挙げることができる。
樹脂微粒子の好ましい例として、自己分散性ポリマー微粒子を挙げることができる。自己分散性ポリマー微粒子とは、他の界面活性剤の不存在下に、ポリマー自身が有する官能基（特に、酸性基又はその塩）によって、水性媒体中で分散状態となりうる高分子ポリマーであって、遊離の乳化剤を含有しない高分子ポリマーの微粒子を意味する。ここで分散状態とは、水性媒体中に高分子ポリマーが液体状態で分散された乳化状態（エマルジョン）、及び、水性媒体中に高分子ポリマーが固体状態で分散された分散状態（サスペンジョン）の両方の状態を含むものである。本発明では高分子ポリマーが固体状態で分散された分散状態となりうる高分子ポリマーであることが好ましい。
本発明で好ましく用いられる自己分散性ポリマー微粒子は、自己分散性の観点から、親水性の構成単位と芳香族基含有モノマーに由来する構成単位とを含む高分子ポリマーを含むことが好ましい。
【０３４９】
前記親水性の構成単位は、親水性基含有モノマーに由来するものであれば特に制限はなく、１種の親水性基含有モノマーに由来するものであっても、２種以上の親水性基含有モノマーに由来するものであってもよい。前記親水性基としては、特に制限はなく、解離性基であってもノニオン性親水性基であってもよい。前記親水性基は、自己分散促進の観点、形成された乳化又は分散状態の安定性の観点から、解離性基であることが好ましく、アニオン性の解離基であることがより好ましい。前記解離性基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、中でも、インク組成物を構成した場合の定着性の観点から、カルボキシル基が好ましい。解離性基含有モノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸モノマー、不飽和スルホン酸モノマー、不飽和リン酸モノマー等が挙げられる。
不飽和カルボン酸モノマーとして具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−メタクリロイルオキシメチルコハク酸等が挙げられる。不飽和スルホン酸モノマーとして具体的には、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、３−スルホプロピル（メタ）アクリレート、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコン酸エステル等が挙げられる。不飽和リン酸モノマーとして具体的には、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。分散安定性、吐出安定性の観点から、不飽和カルボン酸モノマーが好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸がより好ましい。
【０３５０】
前記芳香族基含有モノマーは、芳香族基と重合性基とを含む化合物であれば特に制限はない。前記芳香族基は芳香族炭化水素に由来する基であっても、芳香族複素環に由来する基であってもよい。水性媒体中での粒子形状安定性の観点から、芳香族炭化水素に由来する芳香族基であることが好ましい。また前記重合性基は、縮重合性の重合性基であっても、付加重合性の重合性基であってもよい。本発明においては水性媒体中での粒子形状安定性の観点から、付加重合性の重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を含む基であることがより好ましい。
芳香族基含有モノマーは、芳香族炭化水素に由来する芳香族基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマーであることが好ましく、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーであることがより好ましい。前記芳香族基含有モノマーとしては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、スチレン系モノマー等が挙げられる。中でも、ポリマー鎖の親水性と疎水性のバランスとインク定着性の観点から、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、及びフェニル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、フェノキシエチル（メタ）アクリレートであることがより好ましく、フェノキシエチルアクリレートであることが特に好ましい。
【０３５１】
なお、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。自己分散性ポリマー微粒子は、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーに由来する構成単位を含み、その含有量が１０質量％〜９５質量％であることが好ましい。芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーの含有量が１０質量％〜９５質量％であることで、自己乳化又は分散状態の安定性が向上し、更にインク粘度の上昇を抑制することができる。自己分散状態の安定性、芳香環同士の疎水性相互作用による水性媒体中での粒子形状の安定化、粒子の適度な疎水化による水溶性成分量の低下の観点から、１５質量％〜９０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２５質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。
自己分散性ポリマー微粒子は、例えば、芳香族基含有モノマーからなる構成単位と、解離性基含有モノマーからなる構成単位とから構成することができるが、必要に応じて、その他の構成単位を更に含んで構成することができる。
【０３５２】
前記その他の構成単位を形成するモノマーとしては、前記芳香族基含有モノマーと解離性基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に制限はない。中でも、ポリマー骨格の柔軟性やガラス転移温度（Ｔｇ）制御の容易さの観点から、アルキル基含有モノマーであることが好ましい。
前記アルキル基含有モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するエチレン性不飽和モノマー；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎーヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド；Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｎ−，イソ）ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｎ−、イソ）ブトキシエチル（メタ）アクリルアミド等のＮ−アルコキシアルキル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
本発明における自己分散性ポリマー微粒子を構成する高分子ポリマーの分子量範囲は、重量平均分子量で、３０００〜２０万であることが好ましく、５０００〜１５万であることがより好ましく、１００００〜１０万であることが更に好ましい。重量平均分子量を３０００以上とすることで水溶性成分量を効果的に抑制することができる。また、重量平均分子量を２０万以下とすることで、自己分散安定性を高めることができる。
【０３５３】
なお、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）によって測定することできる。
自己分散性ポリマー微粒子を構成する高分子ポリマーは、ポリマーの親疎水性制御の観点から、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーを共重合比率として１５〜９０質量％とカルボキシル基含有モノマーとアルキル基含有モノマーとを含み、酸価が２５〜１００であって、重量平均分子量が３０００〜２０万であることが好ましく、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーを共重合比率として１５〜８０質量％とカルボキシル基含有モノマーとアルキル基含有モノマーとを含み、酸価が２５〜９５であって、重量平均分子量が５０００〜１５万であることがより好ましい。
自己分散性ポリマー微粒子の平均粒径は、１０ｎｍ〜１μｍの範囲が好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲が更に好ましく、２０〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。
自己分散性ポリマー微粒子の添加量はインクの全質量に対して、０．５〜２０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。
自己分散性ポリマー微粒子のガラス転移温度Ｔｇは３０℃以上であることが好ましく、４０℃以上がより好ましく、５０℃以上が更に好ましい。
また、ポリマー粒子の粒径分布に関しては、特に制限は無く、広い粒径分布を持つもの、又は単分散の粒径分布を持つもの、いずれでもよい。また、単分散の粒径分布を持つポリマー微粒子を、２種以上混合して使用してもよい。
【０３５４】
＜プリント性を向上させる液体組成物＞
本発明には、プリント性を向上させる液体組成物を印字媒体に付与することが好ましい例として挙げることができる。
本発明に用いることができるプリント性を向上させる液体組成物の好ましい一例として、インクのｐＨを変化させることにより凝集物を生じさせる液体組成物を挙げることができる。このとき、液体組成物のｐＨは１〜６であることが好ましく、ｐＨは２〜５であることがより好ましく、ｐＨは３〜５であることが更に好ましい。液体組成物の成分として、ポリアクリル酸、酢酸、グリコール酸、マロン酸、リンゴ酸、マレイン酸、アスコルビン酸、コハク酸、グルタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、乳酸、スルホン酸、オルトリン酸、ピロリドンカルボン酸、ピロンカルボン酸、ピロールカルボン酸、フランカルボン酸、ビリジンカルボン酸、クマリン酸、チオフェンカルボン酸、ニコチン酸、若しくはこれらの化合物の誘導体、又はこれらの塩等の中から選ばれることが好ましい。これらの化合物は、１種類で使用されてもよく、２種類以上併用されてもよい。
【０３５５】
また、本発明に用いることができるプリント性を向上させる液体組成物の好ましい一例として、多価金属塩あるいはポリアリルアミンを添加した処理液を挙げることができる。液体組成物の成分として、多価金属塩として周期表の２Ａ属のアルカリ土類金属（例えば、マグネシウムとカルシウム）；周期表の３Ｂ属の遷移金属（例えば、ランタン）；周期表の３Ａ属からのカチオン（例えば、アルミニウム）；ランタニド類（例えば、ネオジム）；及びポリアリルアミン、ポリアリルアミン誘導体、を挙げることができる。好ましい例として、カルシウムとマグネシウムを挙げることができる。カルシウム又はマグネシウムの対塩として好ましく採用されるアニオンは、カルボン酸塩（蟻酸、酢酸、安息香酸塩など）、硝酸塩、塩化物、及びチオシアン酸塩を挙げることができる。処理液への添加量として、当該塩は約１〜約１０重量％、好ましくは約１．５〜約７重量％、より好ましくは約２〜約６重量％の範囲の量で処理液中に存在させることができる。
【０３５６】
〔インク物性〕
本発明のインクの表面張力は、２０ｍＮ／ｍ以上６０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、２０ｍＮ以上４５ｍＮ／ｍ以下であり、更に好ましくは、２５ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下である。
本発明のインクの２０℃での粘度は、１．２ｍＰａ・ｓ以上１５．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは２ｍＰａ・ｓ以上１３ｍＰａ・ｓ未満、更に好ましくは２．５ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ未満である。
【０３５７】
〔インクジェット記録方法〕
本発明に好ましいインクジェット記録方法として、インクジェット記録用インクにエネルギーを供与して、公知の受像材料、即ち普通紙、樹脂コート紙、例えば特開平８−１６９１７２号公報、同８−２７６９３号公報、同２−２７６６７０号公報、同７−２７６７８９号公報、同９−３２３４７５号公報、特開昭６２−２３８７８３号公報、特開平１０−１５３９８９号公報、同１０−２１７４７３号公報、同１０−２３５９９５号公報、同１０−３３７９４７号公報、同１０−２１７５９７号公報、同１０−３３７９４７号公報等に記載されているインクジェット専用紙、フィルム、電子写真共用紙、布帛、ガラス、金属、陶磁器等に画像を形成する。なお、本発明に好ましいインクジェット記録方法として特開２００３−３０６６２３号公報の段落番号００９３〜０１０５の記載が適用できる。
【０３５８】
画像を形成する際に、光沢性や耐水性を与えたり耐候性を改善する目的からポリマーラテックス化合物を併用してもよい。ラテックス化合物を受像材料に付与する時期については、着色剤を付与する前であっても、後であっても、また同時であってもよく、したがって添加する場所も受像紙中であっても、インク中であってもよく、あるいはポリマーラテックス単独の液状物として使用しても良い。具体的には、特開２００２−１６６６３８（特願２０００−３６３０９０）、特開２００２−１２１４４０（特願２０００−３１５２３１）、特開２００２−１５４２０１（特願２０００−３５４３８０）、特開２００２−１４４６９６（特願２０００−３４３９４４）、特開２００２−０８０７５９（特願２０００−２６８９５２）に記載された方法を好ましく用いることができる。
【０３５９】
本発明に好ましい画像形成方式の一例として、
第一の工程：プリント性を向上させる液体組成物を記録媒体に付与する工程。
第二の工程：前記液体組成物が付与された記録媒体にインク組成物を付与する工程。
その他の工程：その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、乾燥除去工程、加熱定着工程等が挙げられる。前記乾燥除去工程としては、記録媒体に付与されたインク組成物におけるインク溶媒を乾燥除去する以外は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記加熱定着工程としては、前記インクジェット記録方法で用いられるインク中に含まれるラテックス粒子を溶融定着する以外は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０３６０】
本発明に好ましい画像形成方式のもう一つの例として、
第一の工程：プリント性を向上させる液体組成物を中間転写体に付与する工程。
第二の工程：前記液体組成物が付与された中間転写体にインク組成物を付与する工程。
第三の工程：前記中間転写体に形成されたインク画像を記録媒体に転写する工程。
その他の工程：その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、乾燥除去工程、加熱定着工程等が挙げられる。
【実施例】
【０３６１】
顔料及び顔料誘導体の前駆体の合成については、ＷＯ２００９００５１３７に開示の方法を使って合成することができ、顔料として化合物５０６、化合物５４２を、顔料誘導体の前駆体として、化合物５０３を合成した。以下にスキームを示す。
【０３６２】
【化３５】
2011057731.tif 000060
【０３６３】
化合物７３の合成
４−アミノフタルイミド  ８．７９ｇを水２０ｍＬに加え、そこへ、９０％のパラホルムアルデヒドを１．７９ｇ室温で加えた。続いて、８０℃で１時間攪拌し、４℃まで冷却後、塩化シアヌル  １０ｇを添加した。続いて、炭酸水素ナトリウム  ４．５６ｇの水溶液５０ｍＬを滴下し、４℃で１時間攪拌した。そこへ、スルファニル酸  １８．７８ｇを添加し、５０℃に加温後、炭酸水素ナトリウム  ９．１１ｇの水溶液５０ｍＬを１５分で滴下した。内温  ９０℃で５時間攪拌後、冷却し、析出した固体を濾別した。次に乾燥した析出物と化合物５０３  １４．９６ｇをテトラヒドロフラン  ５０ｍＬに加え、更に硫酸  １滴を加えて還流温度で３時間攪拌した。冷却後水にあけ、結晶を単離し乾燥した。収量  ３０．６ｇの黄色結晶を得た。ＭＳ：ｍ／ｚ  １８７８（Ｍ−）の結果から、顔料に導入されたフタルイミドメチル誘導体の個数は２個であった。
【０３６４】
化合物２７３の合成
塩化シアヌル  １０ｇを０℃に冷却したアセトン１００ｍＬに混合した。そこへ４−アミノブロモベンジル  １０．０９ｇを添加し、炭酸水素ナトリウム  ４．５６ｇの水溶液５０ｍＬを滴下した。続いて、タウリン  １３．５７ｇ及び炭酸水素ナトリウム  ９．１１ｇを添加後、還流温度で５時間反応させた。冷却後、析出した固体を濾別した。次に乾燥した析出物と化合物５０３  １４．９６ｇ、更に、をテトラヒドロフラン  ５０ｍＬに加え、更に炭酸カリウム  ７．４９ｇを加えて還流温度で２時間攪拌した。冷却後水にあけ、結晶を単離し乾燥した。収量  ２６．９１ｇの黄色結晶を得た。ＭＳ：ｍ／ｚ  １５４８（Ｍ−）の結果から、顔料に導入されたベンジル誘導体の個数は２個であった。
【０３６５】
（実施例１）
顔料分散体の調整
化合物５０６  ２００ｍｇ、化合物７３  ５０ｍｇ、グリセリン  ５００ｍｇ、オレイン酸ナトリウム  ５０ｍｇ及び超純水  ４２００ｍｇとジルコニアビーズ（φ０．１ｍｍ）の１０ｇをジルコニアポットに入れ、遊星ボールミル（フリッチュ社  Ｐ−７型）により、回転数３００ｒｐｍ、２時間で分散した。
【０３６６】
化合物５０６及び顔料誘導体である化合物７３を表２５〜２８に示した化合物に変更した以外は実施例１と同様に顔料分散体を作成した。なお、比較として、特許第４１６８１１８号に記載の方法で顔料誘導体である比較化合物１〜比較化合物３を合成した。
【０３６７】
【化３６】
2011057731.tif 000061
【０３６８】
（加熱時分散体安定性の評価）
表２５〜２８に示す顔料インク組成物をＰＥＴ製容器に密栓し５８℃環境下に４週間経時した。加熱前後の体積平均粒子径（ｎｍ）（表２５〜２８中、ＭＶで示す）をナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用いて測定した。評価の基準を以下に示す。
Ａ・・・加熱前の体積平均粒子径ＭＶが２００未満で、かつ加熱前後のＭＶの差（ΔＭＶ）が２５未満のサンプル
Ｂ・・・加熱前の体積平均粒子径：ＭＶが２００未満で、かつ加熱前後のＭＶの差（ΔＭＶ）が２５以上５０未満のサンプル
Ｃ・・・Ａ及びＢの範囲外に該当するサンプル
上記の基準に従い評価後、Ａ，Ｂ，Ｃの順でインク組成物としての品質が悪化したと判断した。
【０３６９】
（インク組成物の作成）
実施例１の顔料分散体                                  ２５質量部
グリセリン                                              ５質量部
ジエチレングリコール                                    ５質量部
トリエチレングリコールモノブチルエーテル                ５質量部
ポリオキシプロピレングリセリルエーテル                １０質量部
ジプロピレングリコール                                  ５質量部
トリエタノールアミン                                    １質量部
オルフィンＥ１０１０（日信化学工業（株）製）            １質量部
イオン交換水                                          ４３質量部
上記を混合しインク組成物を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、インク組成物のｐＨを測定したところ、ｐＨは８．５であった。
【０３７０】
実施例１で作成した顔料分散体を表２５〜２８に示す実施例２〜実施例１００、参考例１〜４、及び、比較例１〜２１の顔料分散体に変更した以外は実施例１と同様にインク組成物を作成した。なお、表中、ＰＹ７４は、Ｃ.Ｉ.ピグメントイエロー７４を表す。
【０３７１】
（印字画像評価実験）
上記で作成したインク組成物を富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製ＤＭＰ−２８３１プリンターを用い、受像シートには、紙ａとしてＥＰＳＯＮ 写真用紙＜光沢＞と、紙ｂとして写真用紙クリスピア＜高光沢＞、紙ｃとしてＣａｎｏｎ社製ＰＲ１０１を、紙ｄとしてＨｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ社製アドバンストフォトペーパーを、紙ｅとして富士フイルム株式会社製画彩を使用し、階段状に濃度が変化した単色画像パターンをＰＭ−Ｇ８００にて印字させ、画像堅牢性の評価を行った。
【０３７２】
画像堅牢性について色濃度を測定することで以下の評価を行った。
光堅牢性は印字直後の画像濃度ＣｉをＸ−ｒｉｔｅ ３１０にて測定した後、アトラス社製ウェザーメーターを用い画像にキセノン光（１０万ルックス）を７日照射した後、再び画像濃度Ｃｆを測定し色素の残存率（Ｃｆ／Ｃｉ）×１００を求め評価を行った。色素の残像率について反射濃度が０．７，１．２，２．０の３点にて評価し、いずれの濃度でも色素の残存率が８５％以上の場合をＡ、１点が８５％未満の場合をＢ、２点が８５％の場合をＣ、３点全ての濃度で８５％未満の場合をＤとした。
【０３７３】
表２５〜２８の結果から、本発明の顔料分散物は強制加熱試験においても体積平均粒径に影響を与えることがないため、長期保存安定性に優れる。また、顔料分散物を用いて作成したインク組成物を使った印字画像は顔料及び顔料誘導体自身の光堅牢性が向上したために、従来の顔料及び従来の顔料誘導体では実現できなかった高堅牢性が達成できた。
【０３７４】
【表２５】
2011057731.tif 000062
【０３７５】
【表２６】
2011057731.tif 000063
【０３７６】
【表２７】
2011057731.tif 000064
【０３７７】
【表２８】
2011057731.tif 000065