(57)【要約】【課題】良好な視認性及び見栄えを有する可視画像を短い描画時間で描画する。【解決手段】集積回路１０６は、光によって変色する変色層２０１を有する光ディスク１０１にレーザー光１２１を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置１００に設けられる。集積回路１０６は、可視画像の描画時に、レーザー光１２１の照射位置を光ディスク１０１の径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部１３１と、可視画像の描画時に、レーザー光１２１の照射位置の径方向の変位速度が高い時程レーザー光１２１の強度が高くなるように、レーザー光１２１の強度を変化させるレーザー変調回路１２９とを備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、
前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置を前記光ディスクの径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部と、
前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置の径方向の変位速度が高い時程レーザー光の強度が高くなるように、前記レーザー光の強度を変化させるレーザー変調部とを備えていることを特徴とする集積回路。
【請求項２】
請求項１の集積回路において、
前記トラッキング方向変位部による振動制御は、前記レーザー光の照射位置を単振動させるものであり、
前記レーザー変調部は、前記照射位置の折り返し時において、レーザー光の強度を最も弱くすることを特徴とする集積回路。
【請求項３】
請求項１又は請求項２の集積回路を備えた前記光ディスク装置。
【請求項４】
熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を集束部により集束させて照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、
前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置を前記光ディスクの径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部と、
前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置の径方向の変位速度が高い時程変色層におけるスポットが小さくなるように、前記集束部を光ディスクの変色層に垂直な方向に変位させる集束部位置変更部とを備えていることを特徴とする集積回路。
【請求項５】
請求項４の集積回路において、
前記トラッキング方向変位部による振動制御は、前記レーザー光の照射位置を単振動させるものであり、
前記集束部位置変更部は、前記照射位置の折り返し時において変色層におけるスポットが最も大きくなるように、前記集束部を光ディスクの変色層に垂直な方向に変位させることを特徴とする集積回路。
【請求項６】
請求項４又は請求項５の集積回路を備えた前記光ディスク装置。
【請求項７】
熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、
前記光ディスク装置は、
出射レーザー光を出射する光出射部と、
前記光出射部により出射された出射レーザー光を受光して集束させ、照射レーザー光として前記光ディスクの変色層に照射する集束レンズと、
前記集束レンズの球面収差を補正する球面収差補正レンズとを備え、
前記集積回路は、
前記可視画像の描画時に、前記集束レンズの位置を動かすことによって、前記照射レーザー光の照射位置を前記光ディスクの径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部と、
前記可視画像の描画時に、前記球面収差補正レンズを変位させることにより集束レンズの球面収差を発生させる球面収差発生部とを備え、
前記トラッキング方向変位部は、前記照射位置が振動幅の中央に位置するときには、前記出射レーザー光全体が集束レンズの受光面に入る一方、前記照射位置の折り返し時は、前記出射レーザー光の一部が前記集束レンズの受光面からはみ出るように前記集束レンズの位置を制御することを特徴とする集積回路。
【請求項８】
請求項７の集積回路において、
前記光ディスクは、再生対象データが記録される記録面を有し、該記録面には、色素層が形成され、
前記球面収差発生部は、前記可視画像の描画時における前記出射レーザー光の最も径方向外側のビームの前記変色層におけるスポットが、前記光ディスクの記録面に対する再生対象データの記録時及び再生時における前記出射レーザー光の最も径方向外側のビームの色素層におけるスポットよりも小さくなるように前記集束レンズの球面収差を発生させることを特徴とする集積回路。
【請求項９】
請求項７の集積回路において、
前記球面収差発生部が前記出射レーザー光の最も径方向外側のビームの焦点が前記光ディスクの変色層に合うように球面収差を発生させている場合に、前記出射レーザー光の径方向内側のビームの焦点距離は、前記出射レーザー光の最も径方向外側のビームの焦点距離よりも長いことを特徴とする集積回路。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項の集積回路を備えた前記光ディスク装置。
【請求項１１】
熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクに対し、レーザー発光信号により示される記録照射期間に記録用レーザーパワーのレーザー光を照射するとともに前記レーザー発光信号により示される再生照射期間に再生用レーザーパワーのレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、
前記可視画像の描画時に、前記再生照射期間に光ディスクに照射したレーザー光の反射光量に基づいてフォーカスエラー信号を生成し、所定の抽出期間には、生成したフォーカスエラー信号を抽出してそのまま出力する一方、前記所定の抽出期間を除く期間には、前記所定の抽出期間に抽出したフォーカスエラー信号を出力するフォーカスエラー信号生成部と、
前記光ディスク装置による所定の光ディスクへの記録に採用された変調則で規定されたスペース部の最大幅よりも長い検出用スペース部が前記フォーカスエラー信号の必要とされる抽出頻度以上の頻度で形成されるように、前記可視画像を構成する各ドットの明暗を示す画像データに基づいて、前記可視画像の描画時におけるレーザー発光信号を生成するレーザー発光信号生成部とを備え、
前記レーザー発光信号生成部は、前記画像データに基づいて、前記検出用スペース部に対応する前記所定の抽出期間を示すサンプルホールド信号を生成することを特徴とする集積回路。
【請求項１２】
請求項１１の集積回路において、
前記レーザー発光信号生成部は、
前記画像データに基づいて、描画発光パターンデータと、前記変調則に従ったランダムデータとを生成する描画データ生成部と、
前記描画データ生成部によって生成されたランダムデータに基づいて、当該ランダムデータに対応するピットを形成するための記録照射期間及び再生照射期間を示すライトストラテジ信号を生成し、さらに生成したライトストラテジ信号によって示される再生照射期間を延長することにより、前記変調則により規定されたスペース部の最大幅よりも長いスペース部を形成する延長ライトストラテジ信号を生成するライトストラテジ生成部と、
前記描画データ生成部によって生成された描画発光パターンデータに基づいて、前記描画発光パターンデータに対応する記録照射期間及び再生照射期間を示す描画発光パターン信号を生成する描画発光パターン生成部とを備え、
前記レーザー発光信号として、前記ライトストラテジ生成部によって生成された延長ライトストラテジ信号と前記描画発光パターン生成部によって生成された描画発光パターン信号との両方により記録照射期間と示された期間を記録照射期間として示し、それ以外の期間を再生照射期間として示す信号を生成することを特徴とする集積回路。
【請求項１３】
請求項１２の集積回路において、
前記ライトストラテジ生成部によって行われる再生照射期間の延長は、前記ライトストラテジ信号によって示される再生照射期間のうち、特定長の再生照射期間に対してのみ行われることを特徴とする集積回路。
【請求項１４】
請求項１２の集積回路において、
前記ライトストラテジ生成部によって行われる再生照射期間の延長は、前記ライトストラテジ信号によって示される特定長の再生照射期間が所定回数連続した場合に、最後の再生照射期間に対してのみ行われることを特徴とする集積回路。
【請求項１５】
請求項１２の集積回路において、
前記ライトストラテジ生成部によって行われる再生照射期間の延長量は、可変であることを特徴とする集積回路。
【請求項１６】
請求項１１の集積回路において、
前記レーザー発光信号生成部は、
前記画像データに基づいて、前記描画発光パターンデータと、スペース部に対応する値が前記変調則で規定されたスペース部の最大幅に対応するビット数よりも多く連続するランダムデータとを生成する描画データ生成部と、
前記描画データ生成部によって生成されたランダムデータに基づいて、当該ランダムデータに対応するピットを形成するための記録照射期間及び再生照射期間を示すライトストラテジ信号を生成するライトストラテジ生成部と、
前記描画データ生成部によって生成された描画発光パターンデータに基づいて、前記描画発光パターンデータに対応する記録照射期間及び再生照射期間を示す描画発光パターン信号を生成する描画発光パターン生成部とを備え、
前記レーザ発光信号として、前記ライトストラテジ生成部によって生成されたライトストラテジ信号と、前記描画発光パターン生成部によって生成された描画発光パターン信号との両方により記録照射期間と示された期間を記録照射期間として示し、それ以外の期間を再生照射期間として示す信号を生成することを特徴とする集積回路。
【請求項１７】
請求項１２又は請求項１５の集積回路において、
前記レーザー発光信号生成部によって生成されたサンプルホールド信号により示される所定の抽出期間は、前記ライトストラテジ信号により再生照射期間と示された期間であることを特徴とする集積回路。
【請求項１８】
請求項１１〜１７のいずれか１項の集積回路を備えた前記光ディスク装置。  
【請求項１９】
熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクに対し、レーザー発光信号により示される記録照射期間に記録用レーザーパワーのレーザー光を照射するとともに前記レーザー発光信号により示される再生照射期間に再生用レーザーパワーのレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、
前記光ディスク装置は、
前記光ディスクからのレーザー光の反射光を、前記レーザー光が再生用レーザーパワーであるときにフォーカスエラー信号を生成するための再生用感度と、前記レーザー光が記録用レーザーパワーであるときにフォーカスエラー信号を生成するための記録用感度とで検出可能な光検出器を備え、
前記集積回路は、
前記光検出器によって検出されたレーザー光の反射光に基づいて、前記レーザー光が再生用レーザーパワーであるときのフォーカスエラー信号を生成する第１のフォーカスエラー信号生成回路と、
前記光検出器によって検出されたレーザー光の反射光に基づいて、前記レーザー光が記録用レーザーパワーであるときのフォーカスエラー信号を生成する第２のフォーカスエラー信号生成回路と、
前記可視画像を構成する各ドットの明暗を示す画像データに基づいて、描画発光パターンデータと、前記光ディスク装置による所定の光ディスクへの記録に採用された変調則に従ったランダムデータとを生成する描画データ生成部と、
前記描画データ生成部によって生成されたランダムデータに基づいて、当該ランダムデータに対応するピットを形成するための記録照射期間及び再生照射期間を示すライトストラテジ信号を生成するライトストラテジ生成部と、
前記描画データ生成部によって生成された描画発光パターンデータに基づいて、前記描画発光パターンデータに対応する記録照射期間及び再生照射期間を示す描画発光パターン信号を生成する描画発光パターン生成部と、
前記ライトストラテジ生成部によって生成されたライトストラテジ信号と前記描画発光パターン生成部によって生成された描画発光パターン信号との両方により記録照射期間と示された期間を、記録照射期間として示し、それ以外の期間を再生照射期間として示すレーザー発光信号を生成するレーザー発光信号出力部と、
前記描画発光パターン信号によって示される再生照射期間に、前記光検出器に前記再生用感度で反射光を検出させるとともに、前記第１のフォーカスエラー信号生成回路によるフォーカス制御を有効にする第１制御を実行する一方、前記描画発光パターン信号によって示される記録照射期間に、前記光検出器に前記記録用感度で反射光を検出させるとともに、前記第２のフォーカスエラー信号生成回路によるフォーカス制御を有効にする第２制御を実行する切換部とを備えていることを特徴とする集積回路。
【請求項２０】
請求項１９の集積回路において、
前記切換部は、前記描画発光パターン信号によって示される再生照射期間の開始よりもフォーカス制御の安定に要する時間分遅れたタイミングから再生照射期間の最後までの期間に前記第１制御を実行する一方、前記描画発光パターン信号によって示される記録照射期間の開始よりもフォーカス制御の安定に要する時間分遅れたタイミングから記録照射期間の最後までの期間に前記第２制御を実行することを特徴とする集積回路。
【請求項２１】
請求項１９の集積回路において、
前記切換部は、前記描画発光パターン信号から所定周波数以上の成分を除去した低周波数帯域信号によって示される再生照射期間に前記第１制御を実行する一方、前記低周波数帯域信号によって示される記録照射期間に前記第２制御を実行することを特徴とする集積回路。
【請求項２２】
請求項１９〜２１のいずれか１項の集積回路を備えた前記光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置、及び当該光ディスク装置に設けられる集積回路に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ディスクのレーベル面、若しくは記録面に対してレーザー光を照射することにより、文字や図柄等の可視画像（ユーザが視認できる画像）を形成する光ディスク装置が知られている（例えば、特許文献１〜５参照）。
【０００３】
特許文献３に開示された光ディスク装置は、可視画像の描画の際に、レーザー光の照射位置を光ディスクの径方向に振動させるようになっている。
【０００４】
また、特許文献４に開示された光ディスク装置は、可視画像の明暗を示すドットデータに対し、通常のデータ記録に用いるエンコーダ及びストラテジ回路による処理を施して得た信号をレーザードライバに供給する。これにより、ＥＦＭ（Ｅｉｇｈｔ  ｔｏ  Ｆｏｕｒｔｅｅｎ  Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）波形に対応するピットを形成する。
【０００５】
ところで、光ディスクの変色層を変色させる高いパワー（以下、「記録用レーザーパワー」と呼ぶ）のレーザー光を光ディスクに照射する場合、光ディスクの変色層を変色させない低いパワーのレーザー光を照射した場合と反射光量が異なる。したがって、再生時と同じフォーカスエラー信号生成部を用いて記録用レーザーパワーのレーザー光の反射光に基づくフォーカス制御を行おうとすると、フォーカス制御が不安定になる。
【０００６】
そこで、特許文献５に開示された光ディスク装置は、記録用レーザーパワーのレーザー光により可視画像を描画する際に、レーザーパワーを変色層を変色させない程度に低く設定する短い期間を設け、この期間の反射光に基づいてフォーカス制御を行うようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２８３４７０号公報
【特許文献２】特開２００２−２０３３２１号公報
【特許文献３】特開２００４−５８４７号公報
【特許文献４】特開２００４−３５５７６４号公報
【特許文献５】特開２００３−２０３３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、前記特許文献３では、レーザー光の照射位置の振動時、レーザー光の照射位置の光ディスクの径方向の変位速度が変化し、各照射位置における照射時間が互いに異なったものとなり、その結果、レーザー光の照射軌跡に濃淡が発生して可視画像が均一な濃度に描画されず、可視画像の視認性や見栄えが悪化するおそれがある。
【０００９】
また、可視画像が均一な濃度に描画されない場合に、描画ムラを低減する目的で光ディスクの同一半径位置に複数回の描画を行うと、描画時間が長くなるという問題が生じる。
【００１０】
本発明は、上記の点に鑑み、良好な視認性及び見栄えを有する可視画像を短い描画時間で描画することを目的とする。
【００１１】
また、通常、フォーカスエラー信号は、レーザーパワーが低く設定されている間に取得されるので、前記特許文献４のようにＥＦＭ波形に対応するピットを形成する場合には、ＥＦＭ波形のスペース部に対応する反射光に基づいてフォーカスエラー信号を生成することができる。
【００１２】
しかし、フォーカスエラー信号の生成をＥＦＭ波形のスペース部に対応する反射光に基づいて行う場合、スペース部の最大幅がＥＦＭの変調則で規定された１１Ｔに制限されるため、光ディスクの回転速度が高くなったり高解像度で描画しようとすると、フォーカスエラー信号を生成できなくなる。したがって、高速の描画や高解像度での描画を実現できないという問題が生じる。この問題は、応答性の低い光検出器によって光ディスクからの反射光を検出する場合に、特に顕著である。
【００１３】
本発明は、上記の点に鑑み、高速の描画や高解像度での描画を実現することを目的とする。
【００１４】
また、前記特許文献５では、レーザーパワーが記録用レーザーパワーに設定されている間には光ディスク装置がフォーカスエラー信号を取得しないので、レーザーパワーが低く設定されている間に取得したフォーカスエラー信号を保持するサンプルホールド回路が必要となる。したがって、その分、光ディスク装置に設けられる集積回路の実装面積が大きくなるという問題が生じる。
【００１５】
本発明は、上記の点に鑑み、光ディスク装置に設けられる集積回路の実装面積を抑えることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置を前記光ディスクの径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部と、前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置の径方向の変位速度が高い時程レーザー光の強度が高くなるように、前記レーザー光の強度を変化させるレーザー変調部とを備えていることを特徴とする。
【００１７】
この態様によると、レーザー光の照射位置の径方向の変位速度が高い時程レーザー光の強度が高くなるようにレーザー光の強度を変化させるので、照射時間の短い照射位置には照射時間の長い照射位置よりも強い強度でレーザー光が照射され、レーザー光の照射軌跡に濃淡が発生しにくくなる。その結果、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスクの同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【００１８】
また、本発明の一態様は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を集束部により集束させて照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置を前記光ディスクの径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部と、前記可視画像の描画時に、前記レーザー光の照射位置の径方向の変位速度が高い時程変色層におけるスポットが小さくなるように、前記集束部を光ディスクの変色層に垂直な方向に変位させる集束部位置変更部とを備えていることを特徴とする。
【００１９】
この態様によると、レーザー光の照射位置の径方向の変位速度が高い時程スポットが小さくなるので、照射時間の短い照射位置には照射時間の長い照射位置よりも熱又は光が狭い領域に集中し、レーザー光の照射軌跡に濃淡が発生しにくくなる。その結果、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスクの同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【００２０】
また、本発明の一態様は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、前記光ディスク装置は、出射レーザー光を出射する光出射部と、前記光出射部により出射された出射レーザー光を受光して集束させ、照射レーザー光として前記光ディスクの変色層に照射する集束レンズと、前記集束レンズの球面収差を補正する球面収差補正レンズとを備え、前記集積回路は、前記可視画像の描画時に、前記集束レンズの位置を動かすことによって、前記照射レーザー光の照射位置を前記光ディスクの径方向に振動させる振動制御を実行するトラッキング方向変位部と、前記可視画像の描画時に、前記球面収差補正レンズを変位させることにより集束レンズの球面収差を発生させる球面収差発生部とを備え、前記トラッキング方向変位部は、前記照射位置が振動幅の中央に位置するときには、前記出射レーザー光全体が集束レンズの受光面に入る一方、前記照射位置の折り返し時は、前記出射レーザー光の一部が前記集束レンズの受光面からはみ出るように前記集束レンズの位置を制御することを特徴とする。
【００２１】
この態様によると、集束レンズが振動幅の中央に位置して変位速度の高いときには、前記出射レーザー光全体が集束レンズの受光面に収まるので、レーザー光の照射位置には出射レーザー光全体が集束する。一方、最も変位速度が低くなる集束レンズの折り返し時には、出射レーザー光の一部が集束レンズの受光面からはみ出るので、レーザー光の照射位置には、出射レーザー光の全体から一部を省いたレーザー光が集束する。したがって、照射時間の短い照射位置には照射時間の長い照射位置よりも強いレーザー光が照射され、レーザー光の照射軌跡に濃淡が発生しにくくなる。その結果、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスクの同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【００２２】
また、本発明の一態様は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクに対し、レーザー発光信号により示される記録照射期間に記録用レーザーパワーのレーザー光を照射するとともに前記レーザー発光信号により示される再生照射期間に再生用レーザーパワーのレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、前記可視画像の描画時に、前記再生照射期間に光ディスクに照射したレーザー光の反射光量に基づいてフォーカスエラー信号を生成し、所定の抽出期間には、生成したフォーカスエラー信号を抽出してそのまま出力する一方、前記所定の抽出期間を除く期間には、前記所定の抽出期間に抽出したフォーカスエラー信号を出力するフォーカスエラー信号生成部と、前記光ディスク装置による所定の光ディスクへの記録に採用された変調則で規定されたスペース部の最大幅よりも長い検出用スペース部が前記フォーカスエラー信号の必要とされる抽出頻度以上の頻度で形成されるように、前記可視画像を構成する各ドットの明暗を示す画像データに基づいて、前記可視画像の描画時におけるレーザー発光信号を生成するレーザー発光信号生成部とを備え、前記レーザー発光信号生成部は、前記画像データに基づいて、前記検出用スペース部に対応する前記所定の抽出期間を示すサンプルホールド信号を生成することを特徴とする。
【００２３】
この態様によると、フォーカスエラー信号の検出用スペース部が、光ディスク装置による所定の光ディスクへの記録に採用された変調則で規定された最大幅よりも長くなるので、光ディスクの回転速度が高い場合や高解像度で描画する場合にも、フォーカスエラー信号の抽出が可能になる。したがって、高解像度での描画や高速の描画を実現できる。
【００２４】
また、本発明の一態様は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクに対し、レーザー発光信号により示される記録照射期間に記録用レーザーパワーのレーザー光を照射するとともに前記レーザー発光信号により示される再生照射期間に再生用レーザーパワーのレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置に設けられる集積回路であって、前記光ディスク装置は、前記光ディスクからのレーザー光の反射光を、前記レーザー光が再生用レーザーパワーであるときにフォーカスエラー信号を生成するための再生用感度と、前記レーザー光が記録用レーザーパワーであるときにフォーカスエラー信号を生成するための記録用感度とで検出可能な光検出器を備え、前記集積回路は、前記光検出器によって検出されたレーザー光の反射光に基づいて、前記レーザー光が再生用レーザーパワーであるときのフォーカスエラー信号を生成する第１のフォーカスエラー信号生成回路と、前記光検出器によって検出されたレーザー光の反射光に基づいて、前記レーザー光が記録用レーザーパワーであるときのフォーカスエラー信号を生成する第２のフォーカスエラー信号生成回路と、前記可視画像を構成する各ドットの明暗を示す画像データに基づいて、描画発光パターンデータと、前記光ディスク装置による所定の光ディスクへの記録に採用された変調則に従ったランダムデータとを生成する描画データ生成部と、前記描画データ生成部によって生成されたランダムデータに基づいて、当該ランダムデータに対応するピットを形成するための記録照射期間及び再生照射期間を示すライトストラテジ信号を生成するライトストラテジ生成部と、前記描画データ生成部によって生成された描画発光パターンデータに基づいて、前記描画発光パターンデータに対応する記録照射期間及び再生照射期間を示す描画発光パターン信号を生成する描画発光パターン生成部と、前記ライトストラテジ生成部によって生成されたライトストラテジ信号と前記描画発光パターン生成部によって生成された描画発光パターン信号との両方により記録照射期間と示された期間を、記録照射期間として示し、それ以外の期間を再生照射期間として示すレーザー発光信号を生成するレーザー発光信号出力部と、前記描画発光パターン信号によって示される再生照射期間に、前記光検出器に前記再生用感度で反射光を検出させるとともに、前記第１のフォーカスエラー信号生成回路によるフォーカス制御を有効にする第１制御を実行する一方、前記描画発光パターン信号によって示される記録照射期間に、前記光検出器に前記記録用感度で反射光を検出させるとともに、前記第２のフォーカスエラー信号生成回路によるフォーカス制御を有効にする第２制御を実行する切換部とを備えていることを特徴とする。
【００２５】
この態様によると、レーザーパワーが記録用レーザーパワーに設定されている間にもフォーカスエラー信号を生成するので、レーザーパワーが再生用レーザーパワーに設定されている間に取得したフォーカスエラー信号を保持するサンプルホールド回路が不要となる。したがって、その分、光ディスク装置に設けられる集積回路の面積を削減できる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明により、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスクの同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【００２７】
本発明により、高解像度での描画や高速の描画を実現できる。
【００２８】
本発明により、光ディスク装置に設けられる集積回路の実装面積を削減できる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の実施形態１に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る光ディスクの一部断面図である。
【図３】本発明の実施形態１に係るレーザー変調回路の構成を示すブロック図である。
【図４】（ａ）は、本発明の実施形態１に係る可視画像の描画時における対物レンズの動きを示すタイミングチャートである。（ｂ）は、本発明の実施形態１に係る振動信号発生回路により発生される振動信号を示すタイミングチャートである。（ｃ）は、本発明の実施形態１に係る変位速度算出回路により算出される変位速度を示すタイミングチャートである。（ｄ）は、本発明の実施形態１に係るレベル変換回路によって算出されるレーザーパワーを示すタイミングチャートである。
【図５】本発明の実施形態１に係るマイクロコンピュータの動作を示すフローチャートである。
【図６】本発明の実施形態２に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図である。
【図７】本発明の実施形態２に係るＦＣ制御位置変更回路の構成を示すブロック図である。
【図８】（ａ）は、本発明の実施形態２に係る可視画像の描画時における対物レンズの動きを示すタイミングチャートである。（ｂ）は、本発明の実施形態２に係る可視画像の描画時におけるＦＣ制御位置変更回路によって算出される対物レンズの光ディスクの変色層に垂直な方向の変位量を示すタイミングチャートである。（ｃ）は、本発明の実施形態２に係る可視画像の描画時におけるレーザー光の焦点位置を示す説明図である。
【図９】本発明の実施形態３に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図である。
【図１０】（ａ）は、本発明の実施形態３に係る球面収差発生回路がＯＦＦ状態にされているときの光ディスク、対物レンズ、球面収差補正レンズ、内側ビーム、及び外側ビームの位置関係を示す説明図である。（ｂ）は、本発明の実施形態３に係る球面収差発生回路がＯＮ状態にされているときの光ディスク、対物レンズ、球面収差補正レンズ、内側ビーム、及び外側ビームの位置関係を示す説明図である。
【図１１】（ａ）は、本発明の実施形態３に係る可視画像の描画時における対物レンズの動きを示すタイミングチャートである。（ｂ）は、本発明の実施形態３に係る時刻ｔ０における光ディスク、対物レンズ、球面収差補正レンズ、内側ビーム、及び外側ビームの位置関係を示す説明図である。（ｃ）は、本発明の実施形態３に係る時刻ｔ１における光ディスク、対物レンズ、球面収差補正レンズ、内側ビーム、及び外側ビームの位置関係を示す説明図である。
【図１２】本発明の実施形態３に係るマイクロコンピュータの動作を示すフローチャートである。
【図１３】本発明の実施形態４に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図である。
【図１４】本発明の実施形態４に係るライトストラテジ生成回路の構成を示すブロック図である。
【図１５】本発明の実施形態４に係るマイクロコンピュータの動作を示すフローチャートである。
【図１６】本発明の実施形態４に係る光ディスク装置の動作を示すタイミングチャートである。
【図１７】図１６の枠Ａで囲んだ部分に対応する拡大図である。
【図１８】本発明の実施形態５に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図である。
【図１９】本発明の実施形態５に係るライトストラテジ生成回路の構成を示すブロック図である。
【図２０】本発明の実施形態５に係る光ディスク装置の動作を示すタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００３１】
《実施形態１》
図１は、本発明の実施形態１に係る光ディスク装置１００を示す。
【００３２】
光ディスク装置１００は、光ディスク１０１に対して記録再生を行う。光ディスク１０１は、レーベル面に画像の描画が可能になっている。
【００３３】
図２は、光ディスク１０１の断面を示す。光ディスク１０１は、ＤＶＤ−Ｒディスクである。なお、光ディスク１０１として、他の種類の光ディスクを用いてもよい。
【００３４】
光ディスク１０１のレーベル面側は、ポリカーボネート等の第１の基板２００の片面に変色層２０１、反射層２０２を順次成膜した構成となっている。前記変色層２０１は、光によって変色する。なお、変色層２０１として熱によって変色するものを用いてもよい。また、記録面側の構成は、第２の基板２０６の片面に色素層２０５、反射層２０４を順次成膜した構成となっている。反射層２０２と反射層２０４との間は、レーベル面側と記録面側を貼り合わせるための貼り合わせ接着層２０３で構成されている。第１の基板２００及び第２の基板２０６の厚さは、約０．６ｍｍである。また、変色層２０１、反射層２０２、２０４、貼り合わせ接着層２０３、色素層２０５の厚さは、第１の基板２００の厚さに比べ無視できる厚さである。したがって、レーベル面側から変色層２０１に光ビームを照射した場合のＦＥ信号と記録面側から色素層２０５に光ビームを照射した場合のＦＥ信号とは、ほぼ同じ特性を有する。すなわち、レーベル面に描画する際のフォーカス制御は、記録面にデータを記録する際のフォーカス制御と同様に行うことができる。
【００３５】
光ディスク装置１００は、図１に示すように、ディスクモータ１０２、ＦＧ発生回路１０３、光ヘッド１０４、レーザー駆動回路１０５、集積回路１０６、電力増幅回路１０７〜１０９、及び移送モータ１１０を備えている。
【００３６】
ディスクモータ１０２には、光ディスク１０１が取り付けられ、ディスクモータ１０２は、光ディスク１０１を所定の回転数で回転させる。本実施形態では、レーベル面側からレーザー光１２１が照射されるように光ディスク１０１がディスクモータ１０２に取り付けられている。
【００３７】
ＦＧ発生回路１０３は、ディスクモータ１０２が回転する時に生じる逆起電圧に基づいて、ディスクモータ１０２の回転速度に対応した周波数のＦＧ信号を生成する。ＦＧ発生回路１０３は、ディスクモータ１０２の１回転あたり６パルスのＦＧ信号を生成する。なお、ディスクモータ１０２の１回転あたりのＦＧ信号のパルス数は６パルスに限らない。
【００３８】
光ヘッド１０４は、レーザー１１１、カップリングレンズ１１２、偏光ビームスプリッタ１１３、１／４波長板１１４、光検出器１１５、検出レンズ１１６、円筒レンズ１１７、フォーカスアクチュエータ（フォーカス方向変位部）１１８、トラッキングアクチュエータ１１９、及び対物レンズ（集束部）１２０を備えている。
【００３９】
レーザー１１１は、レーザー光１２１を発生し、発生されたレーザー光１２１はカップリングレンズ１１２で平行光にされ、その後、偏光ビームスプリッタ１１３及び１／４波長板１１４を通過する。対物レンズ１２０は、１／４波長板１１４を通過したレーザー光１２１を集束させて光ディスク１０１のレーベル面の変色層２０１上に照射する。
【００４０】
光ディスク１０１のレーベル面により反射された反射光は、対物レンズ１２０、１／４波長板１１４、偏光ビームスプリッタ１１３、検出レンズ１１６、及び円筒レンズ１１７を通過して光検出器１１５に入射する。光検出器１１５は、入射する反射光を検出する。
【００４１】
なお、光ディスク１０１の記録面（レーベル面と反対の面）にデータを記録する際、及び記録面のデータを再生する際は、記録面側からレーザー光１２１が照射されるように光ディスク１０１をディスクモータ１０２に取り付ける。この場合、光ディスク１０１の記録面により反射された反射光は、レーベル面により反射される反射光と同様に、対物レンズ１２０、１／４波長板１１４、偏光ビームスプリッタ１１３、検出レンズ１１６、及び円筒レンズ１１７を通過して光検出器１１５に入射する。
【００４２】
レーザー駆動回路１０５は、レーザー１１１を駆動する。再生時のレーザーパワーや記録時のレーザーパワーが、後述するマイクロコンピュータ１２８及びレーザー変調回路１２９によってレーザー駆動回路１０５に設定される。
【００４３】
フォーカスアクチュエータ１１８は、フォーカス用コイル１１８ａと、永久磁石（図示せず）とにより構成されている。またフォーカスアクチュエータ１１８の可動部には、上記対物レンズ１２０が取り付けられている。フォーカスアクチュエータ１１８のフォーカス用コイル１１８ａには、後述する電力増幅回路１０７により出力された電圧に応じた電流が流れる。また、フォーカス用コイル１１８ａは、永久磁石から磁気力を受け、これにより対物レンズ１２０が、光ディスク１０１のレーベル面及び記録面（レーベル面と反対の面）と垂直な方向（図では上下方向）に移動する。
【００４４】
トラッキングアクチュエータ１１９は、トラッキング用コイル１１９ａと、永久磁石（図示せず）とにより構成されている。トラッキングアクチュエータ１１９のトラッキング用コイル１１９ａには、電力増幅回路１０８により出力された電圧に応じた電流が流れる。また、トラッキング用コイル１１９ａは、永久磁石から磁気力を受け、これにより対物レンズ１２０が、光ディスク１０１の径方向（図では左右方向）に変位する。
【００４５】
集積回路１０６は、フォーカスエラー信号生成回路（以下、ＦＥ生成回路と記す）１２２、位相補償回路１２３、トラッキングエラー信号生成回路（以下、ＴＥ生成回路と記す）１２４、位相補償回路１２５、振動信号発生回路１２６、加算回路１２７、マイクロコンピュータ（以下、マイコンと記す）１２８、レーザー変調回路１２９、及び加算器１３０を備えている。
【００４６】
ＦＥ生成回路１２２は、光検出器１１５によって検出された反射光量に基づいて、レーザー光１２１の焦点と、光ディスク１０１の変色層２０１とのずれを示すフォーカスエラー信号（以下、ＦＥ信号と記す）を生成して出力する。
【００４７】
位相補償回路１２３は、フォーカス制御系を安定させるために、ＦＥ生成回路１２２により出力されたＦＥ信号の位相を進めて出力するフィルタである。位相補償回路１２３は、フォーカス制御の停止中、ゼロを出力する。
【００４８】
ＴＥ生成回路１２４は、レーベル面の内周に予めトラックが形成された領域においては、トラックとレーザー光１２１のビームスポットのずれを示すトラッキングエラー信号（以下、ＴＥ信号と記す）を生成する。ＴＥ信号は、一般にプッシュプル法と呼ばれる検出方式の場合、レーザー光１２１の光ディスク１０１からの反射光を受光する２分割光検出器の出力の差信号に基づいて算出される。前記トラックが形成された領域には、描画のためのコントロールデータが記録されている。
【００４９】
位相補償回路１２５は、トラッキング制御系を安定させるために、ＴＥ生成回路１２４により生成されたＴＥ信号の位相を進めて出力するフィルタである。位相補償回路１２５は、トラッキング制御の停止中、ゼロを出力する。
【００５０】
振動信号発生回路１２６は、レーベル面への画像の描画の際、振動信号を発生する。この振動信号は、レーザー光１２１のビームスポットが光ディスク１０１の変色層２０１上において径方向に所定の周期及び振幅で変位するように発生される。
【００５１】
加算回路１２７は、位相補償回路１２５の出力と振動信号発生回路１２６により発生された振動信号とを加算する。
【００５２】
前記ＴＥ生成回路１２４、位相補償回路１２５、振動信号発生回路１２６、及び加算回路１２７によりトラッキング方向変位部１３１が構成されている。
【００５３】
レーザー変調回路１２９は、可視画像の描画時に、振動信号発生回路１２６によって発生された振動信号に基づいて、レーザー光１２１の照射位置（ビームスポット）の変位速度を算出し、変位速度が高い時程レーザー光１２１の強度が高くなるようにレーザーパワーの値を出力する。
【００５４】
図３は、レーザー変調回路１２９の構成を示す。
【００５５】
レーザー変調回路１２９は、端子４０１〜４０３、変位速度算出回路４０４、レベル変換回路４０５、記録開始スイッチ（ＳＷ）４０６を備えている。
【００５６】
端子４０１は、マイコン１２８に接続され、端子４０２は、振動信号発生回路１２６に接続され、端子４０３は、加算器１３０に接続されている。
【００５７】
変位速度算出回路４０４は、振動信号発生回路１２６によって発生された振動信号を端子４０２から受け、この振動信号に基づいて、レーザー光１２１の照射位置の変位速度を算出する。
【００５８】
レベル変換回路４０５は、変位速度算出回路４０４によって算出された変位速度に基づいて、レーザー駆動回路１０５に設定する記録時のレーザーパワーを算出する。
【００５９】
記録開始スイッチ４０６は、マイコン１２８によってオンオフ制御される。記録開始スイッチ４０６がオン状態にあるとき、レベル変換回路４０５により算出されたレーザーパワーが、当該記録開始スイッチ４０６、及びレーザーパワー端子４０３に接続された加算器１３０を介してレーザー駆動回路１０５に入力され、設定される。一方、記録開始スイッチ４０６がオフ状態にあるとき、レーザー変調回路１２９は、レーザーパワーとしてゼロレベルを端子４０３から出力し、ゼロレベルがレーザー駆動回路１０５のレーザーパワーとして設定される。
【００６０】
ここで、レーザー変調回路１２９の動作の例について、図４を参照して説明する。
【００６１】
可視画像の描画時、振動信号発生回路１２６により発生された振動信号は、図４（ｂ）に示すような波形となり、加算回路１２７を介して電力増幅回路１０８に送られ、振動信号のレベルに応じた電流がトラッキングアクチュエータ１１９のトラッキング用コイル１１９ａに供給され、対物レンズ１２０が、図４（ａ）に示すように光ディスク１０１の径方向に変位する。変位速度算出回路４０４は、振動信号発生回路１２６によって発生された振動信号に基づいて、図４（ｃ）に示すような対物レンズ１２０の変位速度、すなわち光ディスク１０１におけるレーザー光１２１の照射位置の変位速度を算出する。
【００６２】
図４（ａ）において、時刻ｔ０，ｔ１，ｔ２，ｔ３，ｔ４，ｔ５，ｔ６は、対物レンズ１２０を光ディスク１０１の径方向に変位させている期間における変位速度が最も遅い折り返しのタイミングである。
【００６３】
レベル変換回路４０５は、図４（ｄ）に示すように、変位速度算出回路４０４によって算出された変位速度が最も遅くなる折り返しのタイミングで、レーザー光１２１を最小のレーザーパワーｐｗ０，ｐｗ１，ｐｗ２，ｐｗ３，ｐｗ４，ｐｗ５，ｐｗ６に設定する。
【００６４】
電力増幅回路１０７は、位相補償回路１２３により出力された電力を増幅してフォーカスアクチュエータ１１８のフォーカス用コイル１１８ａに電流を供給する。前記位相補償回路１２３及び電力増幅回路１０７により、ＦＥ信号に応じて対物レンズ１２０が駆動され、レーザー光１２１の焦点が常に変色層２０１上に位置するよう制御される。
【００６５】
電力増幅回路１０８は、加算回路１２７により出力された電力を増幅してトラッキングアクチュエータ１１９のトラッキング用コイル１１９ａに電流を供給する。前記位相補償回路１２５及び電力増幅回路１０８により、ＴＥ信号に応じて対物レンズ１２０が駆動され、レーザー光１２１の焦点が常にトラック上に位置するよう制御される。なお、このトラッキング制御系は、光ディスク１０１の記録面にデータを記録する際、及び記録面のデータを再生する際にも用いられる。
【００６６】
電力増幅回路１０９は、マイコン１２８によって出力されたディスクモータ１０２の制御信号を増幅してディスクモータ１０２に出力する。
【００６７】
移送モータ１１０は、例えばステッピングモータであり、光ヘッド１０４を光ディスク１０１の径方向に移動させる。移送モータ１１０は、マイコン１２８によって制御される。
【００６８】
次に、上記のように構成された光ディスク装置１００におけるマイコン１２８の動作を図５を参照して説明する。
【００６９】
コンピュータ等により光ディスク装置１００へ描画を指示されると、マイコン１２８は、ディスクモータ１０２を制御するための信号を出力することにより、所定の回転数で光ディスク１０１を回転させる（Ｓ３００）。次に、マイコン１２８が、レーザー駆動回路１０５を制御することによりレーザー１１１を再生パワーで発光させ（Ｓ３０１）、フォーカス制御を動作状態とする（Ｓ３０２）。そして、マイコン１２８が移送モータ１１０を制御することにより光ヘッド１０４を移送させてレーザー光１２１のビームスポットをコントロールデータ領域へ移動させる（Ｓ３０３）。次に、マイコン１２８がトラッキング制御を動作状態とするとともに（Ｓ３０４）コントロールデータを取得し（Ｓ３０５）、描画時のレーザーパワー等を描画のために設定する。次に、マイコン１２８はトラッキング制御の動作を停止させ（Ｓ３０６）、移送モータ１１０を制御することによりレーザー光１２１の照射位置を描画開始半径位置へ移動させる（Ｓ３０７）。そして、振動信号発生回路１２６を動作させた後（Ｓ３０８）、記録開始スイッチ４０６をオンする（Ｓ３０９）。光ディスク装置１００は、光ディスク１０１がＮ回転する期間同一の描画データを重ね書きする（Ｓ３１０）。光ディスク１０１がＮ回転すると、（Ｓ３１１）において、描画終了半径位置まで描画が完了したかを判断し、完了している場合は（Ｓ３１２）に進み、完了していない場合には（Ｓ３１７）に進む。（Ｓ３１７）では、光ヘッド１０４を外周方向へＬμｍ移送して（Ｓ３０９）に戻る。（Ｓ３１２）では、記録開始スイッチ４０６をオフし、（Ｓ３１３）では、振動信号発生回路１２６の動作を停止し、その後、フォーカス制御を停止（Ｓ３１４）し、レーザー１１１をオフ（Ｓ３１５）し、ディスクモータ１０２をオフ（Ｓ３１６）して描画を完了する。
【００７０】
本実施形態によると、レーザー光１２１の照射位置の径方向の変位速度が高い時程レーザー光１２１の強度が高くなるようにレーザー光１２１の強度を変化させるので、照射時間の短い照射位置には照射時間の長い照射位置よりも強い強度でレーザー光１２１が照射され、レーザー光１２１の照射軌跡に濃淡が発生しにくくなる。その結果、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスク１０１の同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【００７１】
《実施形態２》
図６は、本発明の実施形態２に係る光ディスク装置６００を示す。なお、実施形態１と同じ符号を付した構成要素は、実施形態１と同様の動作を行うので、再度の説明を省略する。
【００７２】
光ディスク装置６００は、実施形態１の集積回路１０６に代えて集積回路６０６を備えている。この集積回路６０６は、実施形態１の集積回路１０６の構成に加えてＦＣ制御位置変更回路６０１及び加算器６０２を備え、レーザー変調回路１２９及び加算器１３０を備えていない。
【００７３】
ＦＣ制御位置変更回路６０１は、振動信号発生回路１２６によって発生された振動信号に基づいて、レーザー光１２１の照射位置（ビームスポット）の径方向への変位速度を算出し、対物レンズ１２０の光ディスク１０１の変色層２０１に垂直な方向の変位量を算出する。この変位量は、変位速度が高いとき程ビームスポットが小さくなるように算出される。
【００７４】
ＦＥ生成回路１２２、ＦＣ制御位置変更回路６０１、加算器６０２、及び位相補償回路１２３により、集束部位置変更部６０３が構成されている。
【００７５】
図７は、ＦＣ制御位置変更回路６０１の構成を示す。
【００７６】
ＦＣ制御位置変更回路６０１は、端子４０１，４０２，７０３、変位速度算出回路４０４、フォーカスオフセット回路７０５、及び記録開始スイッチ４０６を備えている。
【００７７】
端子７０３は、加算器６０２に接続される。
【００７８】
フォーカスオフセット回路７０５は、変位速度算出回路４０４によって算出された変位速度に基づいて、対物レンズ１２０の光ディスク１０１の変色層２０１に垂直な方向の変位量を算出し、算出した変位量を示すフォーカスオフセット信号を出力する。この変位量は、変位速度が高い時程ビームスポットが小さくなるように算出される。
【００７９】
記録開始スイッチ４０６がオン状態にあるとき、フォーカスオフセット回路７０５により出力されたフォーカスオフセット信号が、端子７０３に接続された加算器６０２に出力される。記録開始スイッチ４０６がオフ状態にあるとき、ＦＣ制御位置変更回路６０１は、レーザーパワーとしてゼロレベルを端子７０３から出力する。
【００８０】
ここで、ＦＣ制御位置変更回路６０１の動作の例について、図８を参照して説明する。      
【００８１】
レーベル面への可視画像の描画時、振動信号発生回路１２６により発生された振動信号は、加算回路１２７を介して電力増幅回路１０８に送られ、振動信号のレベルに応じた電流がトラッキングアクチュエータ１１９のトラッキング用コイル１１９ａに供給され、対物レンズ１２０が、図８（ａ）に示すように光ディスク１０１の径方向に変位する。変位速度算出回路４０４は、実施形態１と同様に、振動信号発生回路１２６によって発生された振動信号に基づいて、対物レンズ１２０の変位速度、すなわち光ディスク１０１におけるレーザー光１２１の照射位置の変位速度を算出する。
【００８２】
図８（ａ）の時刻ｔ０，ｔ２，ｔ３，ｔ５，ｔ６、ｔ８は、対物レンズ１２０を光ディスク１０１の径方向に変位させている期間における変位速度が最も遅い折り返しのタイミングである。また、時刻ｔ１，ｔ４，ｔ７は、変位速度が最も速いタイミングである。
【００８３】
フォーカスオフセット回路７０５は、図８（ｂ）に示すように、変位速度算出回路４０４によって算出された変位速度が遅くなる折り返しのタイミングｆｏ０，ｆｏ２，ｆｏ３，ｆｏ５，ｆｏ６，ｆｏ８で、レーザー光１２１の合焦点を変色層２０１から貼り合わせ接着層２０３の方向、すなわち対物レンズ１２０から遠ざかる方向に変位させるフォーカスオフセット信号を出力する。これにより、レーザー光１２１の焦点は、図８（ｃ）のｆｃ０，ｆｃ２，ｆｃ３，ｆｃ５，ｆｃ６，ｆｃ８で示すように、反射層２０２に位置し、変色層２０１に位置しない。したがって、変色層２０１におけるレーザー光１２１のスポットが大きくなり、変色層２０１に照射されるレーザー光１２１の単位面積あたりの強度が低くなる。したがって、変位速度が遅く照射時間が長くても、レーザー光１２１の照射位置に形成される可視画像が濃くならない。
【００８４】
一方、フォーカスオフセット回路７０５は、変位速度が速くなる折り返しのタイミングｆｏ１，ｆｏ４，ｆｏ７では、変色層２０１にレーザー光１２１の合焦点を位置させるフォーカスオフセット信号を出力する。これにより、レーザー光１２１の焦点は、図８（ｃ）にｆｃ１，ｆｃ４，ｆｃ７で示すように、変色層２０１に位置する。したがって、変色層２０１におけるレーザー光１２１のスポットが小さくなり、変色層２０１に照射されるレーザー光１２１の単位面積あたりの強度が高くなる。
【００８５】
本実施形態においても、マイクロコンピュータ１２８は、実施形態１と同様に図５のフローチャートに示す処理を実行する。
【００８６】
本実施形態によると、レーザー光１２１の照射位置の径方向の変位速度が高い時程スポットが小さくなるので、照射時間の短い照射位置の変色層２０１には照射時間の長い照射位置の変色層２０１よりも光が狭い領域に集中し、レーザー光１２１の照射軌跡に濃淡が発生しにくくなる。その結果、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスク１０１の同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【００８７】
なお、本実施形態では、レーザー光１２１の変位速度が遅くなる折り返しのタイミングにおいて、レーザー光１２１の合焦点を対物レンズ１２０から遠ざける方向に対物レンズ１２０を変位させることにより、変色層２０１におけるレーザー光１２１のスポットを大きくした。しかし、レーザー光１２１の合焦点を対物レンズ１２０に近付ける方向に対物レンズ１２０を変位させることにより、変色層２０１におけるレーザー光１２１のスポットを大きくするようにしてもよい。
【００８８】
また、本実施形態では、レーザー光１２１の変位速度に応じたフォーカスオフセット信号をＦＥ生成回路１２２により出力されたＦＥ信号に加算器６０２により加算した。しかし、これに代えて、位相補償回路１２３の出力にレーザー光１２１の変位速度に応じた信号を加算するようにしてもよい。
【００８９】
《実施形態３》
図９は、本発明の実施形態３に係る光ディスク装置９００を示す。なお、実施形態１と同じ符号を付した構成要素は、実施形態１と同様の動作を行うので、再度の説明を省略する。
【００９０】
光ディスク装置９００は、実施形態１の集積回路１０６に代えて集積回路９０６を備え、この集積回路９０６は、実施形態１のトラッキング方向変位部１３１に代えてトラッキング方向変位部９０２を備えている。このトラッキング方向変位部９０２は、振動信号発生回路１２６に代えて、振動信号発生回路９０３を備えている。また、集積回路９０６は、実施形態１のレーザー変調回路１２９及び加算器１３０を備えておらず、球面収差発生回路９０４及び加算器９０５を備えている。また、集積回路９０６は、実施形態１のマイコン１２８に代えてマイコン９２８を備えている。
【００９１】
振動信号発生回路９０３は、レーベル面への画像の描画の際、振動信号を発生する。振動信号は、レーザー光１２１の照射位置が振動幅の中央に位置するときには、カップリングレンズ１１２により平行光にされたレーザー光１２１全体が対物レンズ１２０の受光面に入る一方、前記照射位置の折り返し時は、カップリングレンズ１１２により平行光にされたレーザー光１２１の一部が対物レンズ１２０の受光面からはみ出るように発生される。
【００９２】
球面収差発生回路９０４は、マイコン９２８によって描画開始時にＯＮ状態にされ、ＯＮ状態であるとき、球面収差を発生させる信号を出力する。一方、ＯＦＦ状態であるとき、ゼロレベルの信号を出力する。
【００９３】
マイコン９２８は、光ディスク１０１に情報を記録する際、及び記録面に記録された情報を読み出す際には、球面収差発生回路９０４をＯＦＦ状態に制御する。また、マイコン９２８は、球面収差発生回路９０４をＯＦＦ状態に制御する場合に、球面収差がなくなるように電力増幅回路９０７を介して球面収差補正アクチュエータ９０８を制御する制御信号を加算器９０５に出力する。また、マイコン９２８は、球面収差発生回路９０４をＯＮ状態に制御する場合にも、ＯＦＦ状態に制御する場合と同じ値の制御信号を加算器９０５に出力する。
【００９４】
また、光ディスク装置９００は、前記集積回路９０６の外部に、前記加算器９０５の出力を増幅した電圧を出力する電力増幅回路９０７を備えている。
【００９５】
また、光ディスク装置９００は、実施形態１の光ヘッド１０４に代えて、光ヘッド９０９を備え、この光ヘッド９０９は、光ヘッド１０４の構成に加え、互いに対向するように配置された２枚の球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂと、球面収差補正アクチュエータ９０８とを備えている。なお、レーザー１１１、及びカップリングレンズ１１２により光出射部９１０が構成されている。
【００９６】
前記球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂは、集束レンズとしての対物レンズ１２０の球面収差を補正するものである。
【００９７】
前記球面収差補正アクチュエータ９０８は、ステッピングモータ（図示せず）を備え、球面収差補正アクチュエータ９０８の可動部には、球面収差補正レンズ９０１ａが取り付けられている。この球面収差補正アクチュエータ９０８のステッピングモータは、電力増幅回路９０７によって出力された電圧に応じて稼働し、光ディスク１０１の記録面と垂直な方向（図９における上下方向）に球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂの間隔を変化させることにより球面収差を調節する。
【００９８】
ここで、球面収差発生回路９０４の動作について、図１０を参照して説明する。図１０は、光ディスク１０１の断面におけるレーザー光１２１の焦点位置を示す。また、図１０において、１１３ａは、カップリングレンズ１１２より平行に出射されたレーザー光１２１の最も径方向外側のビーム、１１３ｂは、カップリングレンズ１１２より平行に出射されたレーザー光１２１の最も径方向内側のビームである。
【００９９】
球面収差発生回路９０４がマイコン９２８によってＯＦＦ状態にされているとき、図１０（ａ）に示すように、球面収差補正アクチュエータ９０８は、電力増幅回路９０７を介したマイコン９２８の制御によってステッピングモータを駆動し、光ディスク１０１の情報面と垂直な方向（図１０では上下方向）に球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂの間隔を変化させ、球面収差がない状態に制御している。この状態では、外側ビーム１１３ａの焦点、及び内側ビーム１１３ｂの焦点は、いずれも図１０（ａ）中の焦点Ａであり、互いに変色層２０１で重なっている。この状態では、熱及び光が効率よく変色層２０１に伝達される。
【０１００】
球面収差発生回路９０４がマイコン９２８によってＯＮ状態にされているとき、マイコン９２８の出力と球面収差発生回路９０４の出力とを加算した信号が電力増幅回路９０７へ送られる。この電力増幅回路９０７の出力により、球面収差補正アクチュエータ９０８のステッピングモータが駆動し、図１０（ｂ）に示すように、光ディスク１０１の記録面と垂直な方向（図１０では上下方向）の球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂの間隔を狭くする。これにより、球面収差が発生する。このとき、内側ビーム１１３ｂの焦点距離が外側ビーム１１３ａの焦点距離より長くなる。外側ビーム１１３ａの焦点Ｃは、変色層２０１に位置しており、外側ビーム１１３ａの熱及び光は、変色層２０１の狭い領域に集中する。一方、内側ビーム１１３ｂの焦点Ｂは、変色層２０１に位置していないので、内側ビーム１１３ｂの熱及び光は、変色層２０１の広い領域に分散する。
【０１０１】
次に、レーベル面に可視画像を描画する際の光ディスク装置９００の詳細な動作を図１１を参照して説明する。
【０１０２】
レーベル面に可視画像を描画する際、球面収差発生回路９０４はＯＮ状態にされている。このとき、対物レンズ１２０は、図１１（ａ）に示すように、振動信号発生回路９０３によって発生された振動信号に基づいて径方向に所定の周期及び振幅で単振動している。これにより、レーザー光１２１のビームスポットが光ディスク１０１の変色層２０１上において径方向に所定の周期及び振幅で単振動する。図１１（ａ）において、時刻ｔ０、ｔ１は、レーザー光１２１が折り返すタイミングであり変位速度が最も遅くなる一方、タイミングｔ２は、変位速度が最も速いタイミングである。
【０１０３】
図１１（ｂ）は、時刻ｔ０での光ディスク１０１の断面、対物レンズ１２０、球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂ、外側ビーム１１３ａ、及び内側ビーム１１３ｂの位置関係を示し、図１１（ｃ）は、タイミングｔ１での光ディスク１０１の断面、対物レンズ１２０、球面収差補正レンズ９０１ａ，９０１ｂ、外側ビーム１１３ａ、及び内側ビーム１１３ｂの位置関係を示す。
【０１０４】
図１１（ｂ）及び図１１（ｃ）において、１１３ｃは、対物レンズ１２０の受光面からはみ出て光ディスク１０１に照射されない無効ビームを示す。
【０１０５】
時刻ｔ０では、図１１（ｂ）に示すように、光ディスク１０１の外周側に対物レンズ１２０が変位している。このとき、光ディスク１０１の外周側の外側ビーム１１３ａの焦点Ｃは、変色層２０１に位置しており、この外周側の外側ビーム１１３ａの熱及び光は、効率よく変色層２０１の狭い領域に集中する。しかし、光ディスク１０１の内周側の外側ビーム１１３ａ周りのレーザー光１２１は、対物レンズ１２０の受光面からはみ出て光ディスク１０１に照射されない。したがって、変色層２０１には、カップリングレンズ１１２より出射されたレーザー光１２１の全体から一部を省いたレーザー光１２１が集束し、変色層２０１に照射されるレーザー光１２１の光量が減少する。
【０１０６】
時刻ｔ１では、図１１（ｃ）に示すように、光ディスク１０１の内周側に対物レンズ１２０が変位している。このとき、光ディスク１０１の内周側の外側ビーム１１３ａの焦点Ｃは変色層２０１に位置しており、この内周側の外側ビーム１１３ａの熱及び光は、効率よく変色層２０１の狭い領域に集中する。しかし、光ディスク１０１の外周側の外側ビーム１１３ａ周りのレーザー光１２１は、対物レンズ１２０の受光面からはみ出て光ディスク１０１に照射されない。したがって、変色層２０１には、カップリングレンズ１１２より出射されたレーザー光１２１の全体から一部を省いたレーザー光１２１が集束し、変色層２０１に照射されるレーザー光１２１の光量が減少する。
【０１０７】
なお、時刻ｔ２では、図１０（ｂ）で示すように、レーザー光１２１の照射位置が振動幅の中央に位置してカップリングレンズ１１２より出射されたレーザー光１２１の全体が対物レンズ１２０の受光面に入る。したがって、無効ビームが発生せず、外側ビームは、熱または光を効率よく変色層２０１に伝達できる状態である。
【０１０８】
なお、球面収差発生回路９０４は、可視画像の描画時における外側ビーム１１３ａの変色層２０１におけるスポットが、光ディスク１０１の記録面に対する再生対象データの記録時及び再生時における外側ビーム１１３ａの色素層２０５におけるスポットよりも小さくなるように対物レンズ１２０の球面収差を発生させる。
【０１０９】
図１２は、本実施形態に係るマイコン９２８の動作を示すフローチャートである。実施形態１の図５と同じ符号を付した処理は、実施形態１と同じ処理であるので、再度の説明を省略する。
【０１１０】
マイコン９２８は、実施形態１の（Ｓ３０９），（Ｓ３１２）の処理に代えて、（Ｓ１２０１），（Ｓ１２０２）の処理を実行する。
【０１１１】
（Ｓ１２０１）は、球面収差発生回路９０４をＯＮ状態にする処理であり、（Ｓ１２０２）は、球面収差発生回路９０４をＯＦＦ状態にする処理である。
【０１１２】
本実施形態によると、レーザー光１２１の照射位置が振動幅の中央に位置して変位速度が高くなる時には、前記レーザー光１２１全体が対物レンズ１２０の受光面に収まるので、レーザー光１２１の照射位置にはレーザー光１２１全体が集束する。一方、レーザー光１２１の照射位置が折り返して最も変位速度が低くなる時には、レーザー光１２１の光ディスク１０１の径方向一端部が対物レンズ１２０の受光面からはみ出るので、レーザー光１２１の照射位置には、レーザー光１２１の全体から一部を省いたレーザー光１２１が集束する。したがって、照射時間の短い照射位置には照射時間の長い照射位置よりも強いレーザー光１２１が照射され、レーザー光１２１の照射軌跡に濃淡が発生しにくくなる。その結果、可視画像の濃度をより均一なものにして可視画像の視認性や見栄えを向上させることができるとともに、描画ムラを低減する目的で光ディスク１０１の同一半径位置に複数回の描画を行う必要がないので、描画時間を短く抑えることができる。
【０１１３】
なお、本実施形態では、球面収差発生回路９０４が、ＯＮ状態のときに内側ビーム１１３ｂの焦点距離が外側ビーム１１３ａの焦点距離より長くなるように球面収差を発生させた。しかし、内側ビーム１１３ｂの焦点距離が外側ビーム１１３ａの焦点距離より短くなるように球面収差を発生させるようにしてもよい。
【０１１４】
《実施形態４》  
図１３は、本発明の実施形態４に係る光ディスク装置１３００を示す。なお、実施形態１と同じ符号を付した構成要素は、実施形態１と同様の動作を行うので、再度の説明を省略する。
【０１１５】
光ディスク装置１３００は、実施形態１の集積回路１０６に代えて、集積回路１３０６を備えている。また、光ディスク装置１３００は、ＣＤ（Compact Disc）に対しても再生対象データの記録を行うように構成され、このＣＤに対する再生対象データの記録には、ＥＦＭ変調方式が採用されている。
【０１１６】
集積回路１３０６は、ＦＥ生成回路１２２に代えて、ＦＥ生成部１３２２を備え、マイクロコンピュータ１２８に代えて、マイクロコンピュータ（以下、マイコンと記す）１３２８を備えている。また、レーザー変調回路１２９及び加算器１３０を備えておらず、描画データ受信回路１３０１、レーザー発光信号生成部１３１４、及び切換信号生成回路１３１３を備えている。
【０１１７】
ＦＥ生成部１３２２は、レーベル面への可視画像の描画時以外にＦＥ信号を生成するＦＥ生成回路Ａ１３０７と、レーベル面への可視画像の描画中にＦＥ信号を生成するＦＥ生成回路Ｂ１３０８とを備えている。ＦＥ生成回路Ａ１３０７及びＦＥ生成回路Ｂ１３０８は、ＦＥ信号の検出感度を調整するためのアンプ、及びＦＥ信号のオフセットを調整するためのオフセット補正回路を内蔵している。ＦＥ生成回路Ｂ１３０８は、ＦＥ信号を抽出して抽出した信号をホールド（保持）するサンプルホールド回路１３０９を備えている。ＦＥ生成回路Ａ１３０７とＦＥ生成回路Ｂ１３０８のいずれをフォーカス制御に用いるかは、スイッチ１３１０，１３１１によって切り換えられる。
【０１１８】
描画データ受信回路１３０１は、可視画像を構成する各ドットの明暗を示す画像データをホストＰＣ１３３０から受信する。
【０１１９】
レーザー発光信号生成部１３１４は、ＥＦＭ変調方式で規定されたスペース部の最大幅よりも長い検出用スペース部がＦＥ信号の必要とされる抽出頻度以上の頻度で形成されるように、描画データ受信回路１３０１により受信された画像データに基づいて、可視画像の描画時におけるレーザー発光信号を生成する。また、ＦＥ信号の最低必要とされる抽出頻度は、フォーカス制御帯域を１ｋＨｚとした場合には１秒間に２０００回であるが、１秒間に１０００００回以上抽出することが望ましい。
【０１２０】
より詳しくは、レーザー発光信号生成部１３１４は、描画データ生成回路１３０２、描画発光パターン生成回路１３０３、ライトストラテジ生成回路１３０４、ＡＮＤ回路１３０５、及びサンプルホールド信号生成回路１３１２を備えている。
【０１２１】
描画データ生成回路１３０２は、画像データに基づいて、可視画像の明暗を示す描画発光パターンデータと、ＥＦＭ変調方式に従ったランダムデータとを生成する。
【０１２２】
描画発光パターン生成回路１３０３は、描画データ生成回路１３０２によって生成された描画発光パターンデータに基づいて、当該描画発光パターンデータに対応する記録照射期間及び再生照射期間を示す描画発光パターン信号を生成する。再生照射期間は、再生用レーザーパワーのレーザー光１２１を照射する期間であり、記録照射期間は、記録用レーザーパワーのレーザー光１２１を照射する期間である。描画発光パターン信号は、再生照射期間でローレベル、記録照射期間でハイレベルになる。
【０１２３】
ライトストラテジ生成回路１３０４は、描画データ生成回路１３０２によって生成されたランダムデータと、ホストＰＣ１３３０によって送られる記録倍速とに基づいて、ＥＦＭ変調方式で規定されたスペース部の最大幅よりも長い検出用スペース部が形成されるように、記録照射期間及び再生照射期間を示す延長ライトストラテジ信号を生成する。
【０１２４】
詳しくは、ライトストラテジ生成回路１３０４は、図１４に示すように、ストラテジ生成回路１３０４ａ、ストラテジ補正回路１３０４ｂ、及びスペース部延長回路１３０４ｃを備えている。
【０１２５】
ストラテジ生成回路１３０４ａは、描画データ生成回路１３０２によって生成されたランダムデータと、ホストＰＣ１３３０によって送られる記録倍速とに基づいて、ランダムデータに対応するピットを光ディスク１０１に形成するための記録照射期間及び再生照射期間を示すライトストラテジ信号を生成する。このライトストラテジ信号の周波数は、描画発光パターン生成回路１３０３によって生成された描画発光パターン信号の周波数に比べて十分高くなっている。
【０１２６】
ストラテジ補正回路１３０４ｂは、ストラテジ生成回路１３０４ａによって生成されたライトストラテジ信号を遅延させて出力するものであり、その遅延量は調節可能になっている。
【０１２７】
スペース部延長回路１３０４ｃは、ストラテジ補正回路１３０４ｂによって出力されたライトストラテジ信号によって示される再生照射期間（電圧がローレベルの期間）を延長することにより、ＥＦＭ変調方式により規定されたスペース部の最大幅よりも長い検出用スペース部を形成するための記録照射期間及び再生照射期間を示す延長ライトストラテジ信号を生成する。再生照射期間の延長は、ライトストラテジ信号によって示される再生照射期間のうち、特定長の再生照射期間に対してのみ行う。なお、特定長の再生照射期間が所定回数連続した場合に、所定回数連続する再生照射期間のうちの最後の再生照射期間のみ延長するようにしてもよい。また再生照射期間の延長量を可変にしてユーザーが延長量を選択できるようにしてもよい。
【０１２８】
ＡＮＤ回路１３０５は、描画発光パターン生成回路１３０３によって生成された描画発光パターン信号とスペース部延長回路１３０４ｃによって生成された延長ライトストラテジ信号との論理積をレーザ発光信号として出力する。つまり、描画発光パターン信号と延長ライトストラテジ信号との両方により記録照射期間と示された期間を記録照射期間と示し、それ以外の期間を再生照射期間として示す信号をレーザ発光信号として生成する。
【０１２９】
サンプルホールド信号生成回路１３１２は、描画データ生成回路１３０２によって生成されたランダムデータに基づいてＦＥ信号の抽出期間を示すサンプルホールド信号を生成する。このサンプルホールド信号は、抽出期間でハイレベルになり、それ以外の期間にはローレベルになる信号であり、延長ライトストラテジ信号によって示される検出用スペース部に対応する再生照射期間の途中でハイレベルに立ち上がり、その再生照射期間の終了時にローレベルに立ち下がる。
【０１３０】
切換信号生成回路１３１３は、マイコン１３２８からの指示により、光ディスク１０１のレーベル面への可視画像の描画中には、ＦＥ生成回路Ｂ１３０８がフォーカス制御に使用される一方、レーベル面への可視画像の描画時以外には、ＦＥ生成回路Ａ１３０７がフォーカス制御に使用されるようスイッチ１３１０及びスイッチ１３１１を切り換える。切換信号生成回路１３１３の出力がローレベルのときには、ＦＥ生成回路Ａ１３０７がフォーカス制御に使用される一方、切換信号生成回路１３１３の出力がハイレベルのときには、ＦＥ生成回路Ｂ１３０８がフォーカス制御に使用される。
【０１３１】
マイコン１３２８は、光ディスク１０１のレーベル面への可視画像の描画中であるか否かを示す信号を出力することにより切換信号生成回路１３１３にスイッチ１３１０，１３１１の切り換えを指示する。
【０１３２】
図１５は、本実施形態に係るマイコン１３２８の可視画像の描画時における動作を示すフローチャートである。実施形態１の図５と同じ符号を付した処理は、実施形態１と同じ処理であるので、再度の説明を省略する。
【０１３３】
マイコン１３２８は、実施形態１の（Ｓ３０９）、（Ｓ３１２）の処理を実行しない。
【０１３４】
次に、光ディスク１０１のレーベル面への可視画像の描画中における各信号の波形について、図１６を参照して説明する。
【０１３５】
描画開始時に、マイコン１３２８からの指示により、切換信号生成回路１３１３の出力電圧は、ローレベルからハイレベルに切り換わり、スイッチ１３１０及びスイッチ１３１１はＦＥ生成回路Ｂ１３０８を選択する。
【０１３６】
描画発光パターン生成回路１３０３によって出力される描画発光パターン信号の電圧レベルは、レーベル面に描画する可視画像の濃淡に応じてローレベルとハイレベルのいずれか一方になる。
【０１３７】
ライトストラテジ生成回路１３０４によって出力される延長ライトストラテジ信号のローレベルとハイレベルとの間の切り換えは、光ディスク１０１に再生対象データを記録する時のライトストラテジと同程度の周波数で行われる。しかし、延長ライトストラテジ信号によって示される再生照射期間（ローレベルが続く期間）には、検出用スペース部に対応する再生照射期間（図中に矢印で示した期間）が存在し、この再生照射期間は、ＣＤへのデータ記録時には存在しない長いものである。
【０１３８】
ＡＮＤ回路１３０５の出力電圧は、描画発光パターン生成回路１３０３の出力電圧がローレベルのときにはローレベルとなる一方、描画発光パターン生成回路１３０３の出力電圧がハイレベルのときにはライトストラテジ生成回路１３０４の出力電圧になる。
【０１３９】
レーザー１１１によって出力されるレーザーのパワーは、ＡＮＤ回路１３０５の出力電圧がローレベルのときには、再生用レーザーパワーとなり、ＡＮＤ回路１３０５の出力電圧がハイレベルのときには、記録用レーザーパワーとなる。
【０１４０】
サンプルホールド信号生成回路１３１２の出力電圧は、検出用スペース部に対応する再生照射期間の途中でハイレベルになり、この再生照射期間終了時にローレベルになる。
【０１４１】
ＦＥ生成回路Ｂ１３０８により生成されるＦＥ信号の電圧レベルは、レーザー１１１が記録用レーザーパワーで発光しているときには安定しないが、レーザー１１１が再生用レーザーパワーで発光しているときは安定する。
【０１４２】
ＦＥ生成回路Ｂ１３０８は、サンプルホールド信号生成回路１３１２の出力電圧がハイレベルである期間には、生成したＦＥ信号を抽出して出力する一方、サンプルホールド信号生成回路１３１２の出力電圧がローレベルである期間には、当該出力電圧がハイレベルからローレベルに切り換わる直前に抽出したＦＥ信号を保持して（ホールドして）出力し続ける。
【０１４３】
次に、サンプルホールド信号の生成方法について、図１７を参照して説明する。
【０１４４】
図１７中、期間Ａは、レーザー１１１が記録用レーザーパワーでの発光を開始してからサンプルホールド回路１３０９がサンプリング（抽出）を開始するまでの期間である。サンプルホールド回路１３０９は、ＦＥ生成回路Ｂ１３０８により生成されるＦＥ信号が整定してからしかサンプリングを開始できないので、期間ＡをＦＥ信号の整定時間以上に設定する必要がある。整定時間は光検出器１１５の検出応答性に依存するため、光検出器１１５の検出応答性が悪い場合（応答が遅い場合）には、期間Ａを長く確保する必要がある。
【０１４５】
また、期間Ｂはサンプルホールド回路１３０９がサンプリングを行う期間であり、サンプルホールド回路１３０９のセトリング時間以上の長さに設定する必要がある。
【０１４６】
つまり、光ディスク１０１のレーベル面に可視画像を描画しているときにＦＥ信号を抽出するためには、検出用スペース部に対応する再生照射期間を、（ＦＥ生成回路Ｂ１３０８の入力信号の整定時間＋サンプルホールド回路１３０９のセトリング時間）以上に設定する必要がある。
【０１４７】
従来は、描画中の光ディスク１０１の回転速度、及び描画データのエンコード速度を上げると、再生用レーザーパワーでのレーザー光の連続照射期間が短くなるので、光検出器１１５の応答性が悪い場合には、回転速度、及び描画データのエンコード速度を上げることができなかった。
【０１４８】
本実施形態によると、ＦＥ信号の検出用スペース部が、ＣＤに記録される再生対象データに採用された変調則で定められた長さに制限されない。したがって、光検出器の検出応答性が悪い場合、光ディスクの回転速度や描画データのエンコード速度が高い場合、及び高解像度で描画する場合でも、検出用スペース部をＦＥ信号の生成に必要な長さに設定してＦＥ信号の生成を可能にできる。よって、従来よりも高解像度での描画や高速の描画が可能になる。
【０１４９】
なお、本実施形態では、スペース部延長回路１３０４ｃによってライトストラテジ信号によって示される再生照射期間を延長することにより延長ライトストラテジ信号を生成したが、スペース部延長回路１３０４ｃを設けず、描画データ生成回路１３０２が、スペース部に対応する値がＥＦＭ変調方式により定められたスペース部の最大幅に対応するビット数よりも多く連続するランダムデータを生成するようにしてもよい。
【０１５０】
《実施形態５》  
図１８は、本発明の実施形態５に係る光ディスク装置１８００を示す。なお、実施形態４と同じ符号を付した構成要素は、実施形態４と同様の動作を行うので、再度の説明を省略する。
【０１５１】
光ディスク装置１８００は、実施形態１の集積回路１０６に代えて、集積回路１８０６を備えている。
【０１５２】
集積回路１８０６は、ＦＥ生成部１３２２に代えてＦＥ生成部１８２２を備え、マイコン１３２８に代えて、マイクロコンピュータ（以下、マイコンと記す）１８０１を備えている。また、ライトストラテジ生成回路１３０４に代えてライトストラテジ生成回路１８０２を備え、切換信号生成回路１３１３に代えて切換信号生成回路１８０３を備えている。
【０１５３】
ＦＥ生成部１８２２は、ＦＥ生成回路Ｂ１３０８の代わりにＦＥ生成回路Ｃ１８０４を備えている点で、実施形態１のＦＥ生成部１３２２と異なっている。
【０１５４】
ＦＥ生成回路Ｃ１８０４は、ＦＥ信号の高周波数成分（図１５のＦＥ生成回路Ｂの入力の波形の※印の成分）を除去するローパスフィルタを内蔵しているが、ＦＥ生成回路Ａ１３０７は、ＦＥ信号の高周波数成分を除去するローパスフィルタを備えていない。
【０１５５】
ＦＥ生成回路Ａ１３０７のアンプには、再生用レーザーパワーに基づいて正規化されたＦＥ信号を生成するための倍率が設定され、ＦＥ生成回路Ａ１３０７のオフセット補正回路には、再生用レーザーパワーに基づいて正規化されたＦＥ信号を生成するためのオフセットが設定される。一方、ＦＥ生成回路Ｃ１８０４のアンプには、記録用レーザーパワーに基づいて正規化されたＦＥ信号を生成するための倍率が設定され、ＦＥ生成回路Ｃ１８０４のオフセット補正回路には、記録用レーザーパワーに基づいて正規化されたＦＥ信号を生成するためのオフセットが設定される。
【０１５６】
ライトストラテジ生成回路１８０２は、図１９に示すように、スペース部延長回路１３０４ｃを備えていない点で、実施形態４のライトストラテジ生成回路１３０４と異なっている。
【０１５７】
切換信号生成回路１８０３は、マイコン１８０１による指示に応じて、描画発光パターン生成回路１３０３によって生成された描画発光パターン信号をそのまま出力する。
【０１５８】
スイッチ１３１０及びスイッチ１３１１は、切換信号生成回路１８０３によって出力された描画発光パターン信号がローレベルのときには、ＦＥ生成回路Ａ１３０７を選択する一方、切換信号生成回路１８０３によって出力された描画発光パターン信号がハイレベルのときには、ＦＥ生成回路Ｃ１８０４を選択する。
【０１５９】
また、光ディスク装置１８００は、実施形態４の光ヘッド１０４に代えて光ヘッド１８０７を備え、この光ヘッド１８０７は、光ヘッド１０４の光検出器１１５に代えて、光検出器１８０８を備えている。
【０１６０】
光検出器１８０８は、切換信号生成回路１８０３によって出力された描画発光パターン信号がローレベルのときには、光ディスク１０１に照射されるレーザー光１２１が再生用レーザーパワーであるときにＦＥ信号を検出するための再生用感度でレーザー光１２１の光ディスク１０１からの反射光を検出する。一方、切換信号生成回路１８０３によって出力された描画発光パターン信号がハイレベルのときには、光ディスク１０１に照射されるレーザー光１２１が記録用レーザーパワーであるときにＦＥ信号を検出するための記録用感度でレーザー光１２１の光ディスク１０１からの反射光を検出する。
【０１６１】
マイコン１８０１は、可視画像の描画時において、実施形態４のマイコン１３２８と同様に、図１５のフローチャートに示す動作を実行する。
【０１６２】
光ディスク１０１のレーベル面への可視画像の描画中における各信号の波形は、図２０に示すようになる。
【０１６３】
描画発光パターン生成回路１３０３によって出力された描画発光パターン信号がローレベルのとき、切換信号生成回路１８０３は、光検出器１８０８に再生用感度で反射光を検出させるとともに、ＦＥ生成回路Ａ１３０７によるフォーカス制御を有効にする（第１制御）。一方、描画発光パターン信号がハイレベルであるとき、光検出器１８０８に記録用感度で反射光を検出させるとともに、ＦＥ生成回路Ｃ１８０４によるフォーカス制御を有効にする（第２制御）。
【０１６４】
本実施形態によると、レーザー光１２１が再生用レーザーパワーであるときには再生用レーザーパワーに基づいて正規化されたＦＥ信号を用いてフォーカス制御を行うことができ、レーザー光１２１が記録用レーザーパワーであるときには記録用レーザーパワーに基づいて正規化されたＦＥ信号を用いてフォーカス制御を行うことができる。したがって、描画中に安定したフォーカス制御を行うことができる。また、レーザーパワーが記録用レーザーパワーに設定されている間にもＦＥ信号を生成するので、実施形態４のサンプルホールド回路１３０９、及びサンプルホールド信号生成回路１３１２が不要になる。したがって、光ディスク装置１８００の集積回路１８０６の実装面積を削減できる。
【０１６５】
なお、本実施形態において、切換信号生成回路１８０３は、描画発光パターン信号をそのまま出力したが、描画発光パターン信号を所定期間遅らせた信号を出力するようにしてもよい。例えば、描画発光パターン信号の立ち上がり及び立ち下がりのタイミングをフォーカス制御の安定に要する時間分遅らせた信号を出力するようにしてもよい。これにより、より安定したＦＥ信号を得ることができる。また、切換信号生成回路１８０３が、描画発光パターン信号から所定周波数以上の成分を除去した低周波数帯域信号を出力するようにしてもよい。
【０１６６】
《その他の変形例》
なお、上記実施形態１，２では、変位速度算出回路４０４が、レーザー光１２１の照射位置の変位速度を、振動信号発生回路１２６によって発生された振動信号に基づいて算出したが、電力増幅回路１０８の出力に基づいて算出するようにしてもよい。また、トラックが形成された領域に可視画像を描画するときには、ＴＥ生成回路１２４によって生成されたＴＥ信号に基づいて変位速度を算出するようにしてもよい。
【０１６７】
また、上記実施形態４、５では、描画データ生成回路１３０２が、ＥＦＭ変調方式に従ったランダムデータを生成するようになっていたが、ＥＦＭ変調方式で定められたｄｕｔｙ比（可視画像の暗い部分における黒いドットの割合）よりも高いｄｕｔｙ比のランダムデータを生成するようにしてもよい。また、実施形態４において、スペース部延長回路１３０４ｃを設けないようにした場合にも、描画データ生成回路１３０２が、ＥＦＭ変調方式で定められたｄｕｔｙ比（可視画像の暗い部分における黒いドットの割合）よりも高いｄｕｔｙ比のランダムデータを生成するようにしてもよい。これにより、少ない回転数で濃い可視画像を描画することが可能になる。
【０１６８】
本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【０１６９】
本発明に係る集積回路、及び光ディスク装置は、熱又は光によって変色する変色層を有する光ディスクにレーザー光を照射することにより可視画像を描画する光ディスク装置、及び当該光ディスク装置に設けられる集積回路として有用である。
【符号の説明】
【０１７０】
１００      光ディスク装置 
１０１      光ディスク 
１０６      集積回路 
１２０      対物レンズ（集束レンズ、集束部）
１２１      レーザー光 
１２９      レーザー変調回路（レーザー変調部） 
１３１      トラッキング方向変位部 
２０１      変色層
２０５      色素層 
６００      光ディスク装置
６０３      集束部位置変更部
６０６      集積回路
９００      光ディスク装置
９０２      トラッキング方向変位部 
９０４      球面収差発生回路（球面収差発生部）
９０６      集積回路 
９１０      光出射部 
１３００      光ディスク装置 
１３０２      描画データ生成回路（描画データ生成部） 
１３０３      描画発光パターン生成回路（描画発光パターン生成部） 
１３０４      ライトストラテジ生成回路（ライトストラテジ生成部）
１３０５      ＡＮＤ回路（レーザー発光信号出力部）
１３０６      集積回路 
１３０７      ＦＥ生成回路Ａ（第１のフォーカスエラー信号生成回路） 
１３０９      サンプルホールド回路 
１３１４      レーザー発光信号生成部 
１３２２      ＦＥ生成部（フォーカスエラー信号生成部） 
１８００      光ディスク装置 
１８０２      ライトストラテジ生成回路 
１８０３      切換信号生成回路（切換部） 
１８０４      ＦＥ生成回路Ｃ（第２のフォーカスエラー信号生成回路） 
１８０６      集積回路 
１８０７      光ヘッド 
１８０８      光検出器 
１８２２      ＦＥ生成部  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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