(57)【要約】【課題】メンテナンス性を向上させるクーラント浄化装置を提供する。【解決手段】磁性分離装置２０、渦流槽４０及びクリーン槽５０を有するクーラント浄化装置において、加工母機２と磁性分離装置２０との間に、混入物を沈殿させる第１の沈殿槽１０を設け、磁性分離装置２０と渦流槽４０との間に、混入物を沈殿させる第２の沈殿槽３０を設けた。【選択図】図２
2011177809.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工母機で使用したクーラントに混入した混入物から磁性材料を除去する磁性分離手段と、
前記磁性分離手段を通過し、貯留されたクーラントに渦流を形成する渦流形成手段を中央部に有し、前記混入物を中央部に集積する渦流槽と、
浄化されたクーラントを再度前記加工母機へ送り出すため、前記渦流槽の渦流の外周側のクーラントを貯留するクリーン槽とを有するクーラント浄化装置において、
前記加工母機と前記磁性分離手段との間に、前記加工母機から流出されたクーラントを受けて流通させる樋部と、前記樋部の底部より低い位置に底部が配置され、前記樋部から流入したクーラント中の前記混入物を沈殿させる沈殿部とを有する第１の沈殿槽を設け、該第１の沈殿槽を介して、前記磁性分離手段へクーラントを流入させたことを特徴とするクーラント浄化装置。
【請求項２】
請求項１に記載のクーラント浄化装置において、
前記沈殿部におけるクーラントが流れる方向の側方となる側壁のうち、少なくとも片側の側壁の一部又は全部を、下方から上方にかけて、中心側から外側に向かうように--傾斜させたことを特徴とするクーラント浄化装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のクーラント浄化装置において、
前記磁性分離手段と前記渦流槽との間に、前記混入物を沈殿させる第２の沈殿槽を設け、該第２の沈殿槽を介して、前記渦流槽へクーラントを流入させたことを特徴とするクーラント浄化装置。
【請求項４】
請求項３に記載のクーラント浄化装置において、
前記第２の沈殿槽の側壁の一部又は全部を傾斜させたことを特徴とするクーラント浄化装置。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載のクーラント浄化装置において、
前記第２の沈殿槽と前記渦流槽とを側壁を介して隣接して設け、前記側壁に前記第２の沈殿槽と前記渦流槽との間を連通する連通孔を設けると共に、前記連通孔の上端を前記第２の沈殿槽中のクーラントの液面の下限より低い位置とし、前記連通孔の下端を前記第２の沈殿槽に沈殿した前記混入物が前記渦流槽に流出しない位置としたことを特徴とするクーラント浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研削盤等の工作機械に用いられるクーラントに混入した混入物を除去するクーラント浄化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
工作機械等（以下、加工母機という）に用いられるクーラントに混入したワークの切りくず（以下、スラッジという）や砥粒等の混入物を取り除き、クーラントの浄化を行うクーラント浄化装置が既に知られている。
【０００３】
このようなクーラント浄化装置としては、例えば、特許文献１に示すものがある。特許文献１に示すクーラント浄化装置では、加工母機から流入されるクーラントを磁性分離装置、渦流槽、クリーン槽の順に通過させ、クーラントに混入した混入物を分離・除去するようにしている。磁性分離装置は、クーラントが通過する流路に円筒状の磁石を配設したものであり、渦流槽は、タンク内に渦流を発生させ、磁性分離装置で除去しきれなかったスラッジ、砥粒等を中央部底面近傍に集積するようにしたものであり、クリーン槽は、渦流槽において混入物を除去されたクーラントが流入されるタンクである。クリーン槽のクーラントは、ポンプで再び加工母機に送り出されるようになっている。
【０００４】
従って、加工母機から流入されるクーラントは、磁性分離装置を通過する際に円筒状の磁石によりクーラントに混入したスラッジの大半を除去され、渦流槽へ流出する。渦流槽では、液中に混入した気泡と共に浮上した微細スラッジ（等）が液面近傍で浮遊する一方、磁性分離装置で除去しきれなかった微細スラッジや砥粒等が中央部底面近傍に集積される。そして、渦流槽とクリーン槽との間には、クーラントの液面に浮遊する微細スラッジ（等）のクリーン槽への流入を防止する仕切り板が設けられており、これらの構成により、浮遊物やスラッジ等が除去されたクーラントがクリーン槽に流入し、このクーラントが再び加工母機に送り出されるように構成されている。
【０００５】
更に、特許文献１に示すクーラント浄化装置には、砥粒沈降槽が設けられており、渦流層の中央部底面近傍に集積したスラッジ、砥粒等と共にクーラントを吸引し、吸引したクーラント中の砥粒を砥粒沈降槽において沈降させるようにしている。砥粒を沈降させたクーラントは、再び、磁性分離装置へ送られ、クーラントを循環させることで、クーラントをより浄化するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−０３６１１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したクーラント浄化装置では、クーラントを循環しているとは言え、渦流槽の下流側に砥粒沈降槽が設けられているため、渦流槽内にある微細スラッジや砥粒等が、渦流槽に隣接するクリーン槽に流入するおそれがあった。
【０００８】
又、渦流槽のメンテナンスを行う際には、渦流層の中央部底面近傍に集積している微細スラッジや砥粒等が対象となるが、渦流槽の上流側にある磁性分離装置では、磁性材料の混入物しか除去できないので、渦流槽のメンテナンス頻度が高くなるという問題もあった。
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、メンテナンス性、浄化効率を向上させるクーラント浄化装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決する第１の発明に係るクーラント浄化装置は、
加工母機で使用したクーラントに混入した混入物から磁性材料を除去する磁性分離手段と、
前記磁性分離手段を通過し、貯留されたクーラントに渦流を形成する渦流形成手段を中央部に有し、前記混入物を中央部に集積する渦流槽と、
浄化されたクーラントを再度前記加工母機へ送り出すため、前記渦流槽の渦流の外周側のクーラントを貯留するクリーン槽とを有するクーラント浄化装置において、
前記加工母機と前記磁性分離手段との間に、前記加工母機から流出されたクーラントを受けて流通させる樋部と、前記樋部の底部より低い位置に底部が配置され、前記樋部から流入したクーラント中の前記混入物を沈殿させる沈殿部とを有する第１の沈殿槽を設け、該第１の沈殿槽を介して、前記磁性分離手段へクーラントを流入させたことを特徴とする。
【００１１】
上記課題を解決する第２の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第１の発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記沈殿部におけるクーラントが流れる方向の側方となる側壁のうち、少なくとも片側の側壁の一部又は全部を、下方から上方にかけて、中心側から外側に向かうように傾斜させたことを特徴とする。
【００１２】
上記課題を解決する第３の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第１又は第２の発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記磁性分離手段と前記渦流槽との間に、前記混入物を沈殿させる第２の沈殿槽を設け、該第２の沈殿槽を介して、前記渦流槽へクーラントを流入させたことを特徴とする。
【００１３】
上記課題を解決する第４の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第３の発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記第２の沈殿槽の側壁の一部又は全部を傾斜させたことを特徴とする。
【００１４】
上記課題を解決する第５の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第３又は第４の発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記第２の沈殿槽と前記渦流槽とを側壁を介して隣接して設け、前記側壁に前記第２の沈殿槽と前記渦流槽との間を連通する連通孔を設けると共に、前記連通孔の上端を前記第２の沈殿槽中のクーラントの液面の下限より低い位置とし、前記連通孔の下端を前記第２の沈殿槽に沈殿した前記混入物が前記渦流槽に流出しない位置としたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
第１の発明によれば、磁性分離手段の上流側に、混入物を沈殿させる第１の沈殿槽を設け、磁性分離手段の消耗部品（例えば、ゴムローラ）の性能、寿命に影響が大きい砥粒を沈殿させるようにしたので、磁性分離手段の性能の低下を防止し、その寿命を向上させることができ、メンテナンス性が向上する。
【００１６】
第２の発明によれば、第１の沈殿槽の側壁を傾斜させたので、沈殿させた混入物の掻き出しが容易となる。
【００１７】
第３の発明によれば、渦流槽の上流側に、混入物を沈殿させる第２の沈殿槽を設け、磁性分離手段で除去できなかった混入物を沈殿させるようにしたので、渦流槽に流入する混入物の量を減少させ、その清掃頻度を低減させて、メンテナンス性を向上させることができる。
【００１８】
第４の発明によれば、第２の沈殿槽の側壁を傾斜させたので、沈殿させた混入物の掻き出しが容易となる。
【００１９】
第５の発明によれば、第２の沈殿槽と渦流槽とを隣接して設け、それらの間の側壁の略中央の高さ位置に第２の沈殿槽と渦流槽との間を連通する連通孔を設けたので、第２の沈殿槽のクーラント中の浮遊する混入物も沈殿する混入物も、連通孔を通って渦流槽へ流入できないので、渦流槽に流入する混入物の量を減少させ、その清掃頻度を低減させて、メンテナンス性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施形態の一例となるクーラント浄化装置を説明する系統図である。
【図２】図１に示したクーラント浄化装置の構成を示す図であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は側面図である。
【図３】図１、図２に示したクーラント浄化装置の第１の沈殿槽を示す図であり、（ａ）は側面図、（ｂ）は断面図である。
【図４】図１、図２に示したクーラント浄化装置の第２の沈殿槽を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図１〜図４を参照して、本発明に係るクーラント浄化装置の実施形態例を説明する。
【００２２】
（実施例１）
図１は、本実施例のクーラント浄化装置を説明する系統図であり、図２（ａ）は、本実施例のクーラント浄化装置の構成を示す上面図であり、図２（ｂ）は、その側面図である。又、図３（ａ）は、図１、図２に示したクーラント浄化装置の第１の沈殿槽を示す側面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＢ−Ｂ線矢視断面図である。又、図４は、図１、図２に示したクーラント浄化装置の第２の沈殿槽を示すものであり、図２（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図である。なお、図中の矢印はクーラントの移動方向を示している。又、図中の“Ｐ”、“Ｍ”は、ポンプ、モータを各々表している。
【００２３】
本実施例のクーラント浄化装置１は、工作機械等の加工母機２の切削加工等に使用されたクーラントに混入したワークのスラッジや砥粒等の混入物を取り除き、クーラントの浄化を行うものである。
【００２４】
クーラント浄化装置１は、主に、磁性分離装置２０（磁性分離手段）と、矩形状の渦流槽４０と、クリーン槽５０とから構成されている。
【００２５】
本実施例において、加工母機２と磁性分離装置２０との間には第１の沈殿槽１０が設けられており、加工母機２から流出されたクーラントは、第１の沈殿槽１０を経由し、配管１５を通って、磁性分離装置２０へ流入される。
【００２６】
第１の沈殿槽１０は、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、加工母機２から流出されたクーラントを受けて流通させる樋部１４と、クーラントに混入されたスラッジ、砥粒等を沈殿するための沈殿部１１とを有している。沈殿部１１の底部は、樋部１４の底部より低い位置に配置されており、沈殿部１１と樋部１４には段差が設けられている。そして、沈殿部１１の下流側であり、沈殿部１１の底部より高い位置に配管１５が設けられており、沈殿されたスラッジ、砥粒等を除いたクーラントが磁性分離装置２０へ流入するようになっている。
【００２７】
又、沈殿部１１において、クーラントが流れる方向の側方となる側壁は、その下方から上方にかけて、中心側から外側に向かうような傾斜を有する傾斜部１２となっている。なお、沈殿部１１の側壁のうち、少なくとも片側の側壁に傾斜部１２を設ければよく、又、側壁の一部又は全部を傾斜させてもよい。そして、メンテナンスを行う際には、第１の沈殿槽１０の上部の蓋１３に設けた掻き出し口（図示省略）から、掻き出し棒等を用いて、沈殿部１１の底部に沈殿したスラッジ、砥粒等を、傾斜部１２の傾斜を利用して、外部に掻き出すようにしている。第１の沈殿槽１０の近傍には、後述するスラッジ箱２２と同様のスラッジ箱（図示省略）が設置されており、掻き出したスラッジ等を収納するようにしている。
【００２８】
磁性分離装置２０は、加工母機２から流入されたクーラント中に混入した混入物から磁性材料（例えば、スラッジ等）を吸着処理するものである。具体的には、磁力によってスラッジを吸着する円筒状の磁石２１が、磁性分離装置２０の内部に回転可能に軸支されており、磁石２１に吸着したスラッジをゴムローラ２３によって脱水した後、磁性分離装置２０の近傍に設置したスラッジ箱２２に収納するようにしている。第１の沈殿槽１０が無い場合、クーラントには多くの砥粒が含まれるため、この砥粒によりゴムローラ２３が偏摩耗し、磁性分離装置２０の性能、寿命に悪影響を与えていたが、本実施例では、第１の沈殿槽１０で混入物を沈殿させ、クーラントに含まれる砥粒を低減させた後、磁性分離装置２０でスラッジ等の吸着処理を行うので、磁性分離装置２０の性能の低下を防止し、その寿命を向上させることができる。
【００２９】
磁性分離装置２０により、スラッジ等が除去されたクーラントは、配管２５を通って、磁性分離装置２０から第２の沈殿槽３０へ流入される。
【００３０】
第２の沈殿槽３０は、側壁３４を介して、渦流槽４０に隣接して設けられており、側壁３４の高さの中央の高さ位置には、クーラントを第２の沈殿槽３０から渦流槽４０へ流出させるための連通孔３１が設けられている。この連通孔３１は、上端が第２の沈殿槽３０中のクーラントの液面の下限より低くなるように設定される一方、下端が第２の沈殿槽３０に沈殿したスラッジ等が渦流槽４０へ流出しない位置に設定されている。これは、クーラントより比重が重い混入物は、第２の沈殿槽３０の底部に沈殿し、クーラントより比重が軽い混入物は、第２の沈殿槽３０の上部に浮遊することになるからである。その結果、それらを除去するように、クーラントは第２の沈殿槽３０から渦流槽４０へ流入することになる。
【００３１】
又、配管２５を通って第２の沈殿槽３０へ流入してくるクーラントに残っている混入物が、できるだけ渦流槽４０側へ流入しないように、連通孔３１は、図４に示すように、配管２５から離れた位置（後述する傾斜部３２寄りの位置）に設けられている。
【００３２】
又、第２の沈殿槽３０の内部には、下方から上方にかけて、中心側から外側に向かうような傾斜を有する傾斜部３２が設けられており、ここでは、配管２５から一番遠い側壁に設けられている。なお、傾斜部３２は、側壁の一部に設けても良いし、全部に設けてもよい。メンテナンスを行う際には、第２の沈殿槽３０上部の蓋３３に設けた掻き出し口（図示省略）から、掻き出し棒等を用いて、第２の沈殿槽３０の底部に沈殿したスラッジ、砥粒等を、傾斜部３２の傾斜を利用して、外部に掻き出すようにしている。第２の沈殿槽３０の近傍には、前述したスラッジ箱２２と同様のスラッジ箱（図示省略）が設置されており、掻き出したスラッジ等を収納するようにしている。
【００３３】
渦流槽４０は、その中央部に汲み上げ用ポンプ４３を備えている。汲み上げ用ポンプ４３には、配管４４、４５、４６の三つの配管が接続されている。この汲み上げ用ポンプ４３によって、渦流層４０の中央部底面近傍からクーラントを汲み上げ、汲み上げたクーラントを配管４４、４５、４６の三方向に分配することになる。配管４４は前述の第１の沈殿槽１０と接続しており、渦流槽４０で汲み上げたクーラントを第１の沈殿槽１０へ戻すことにより、クーラントを系全体で循環するようにしている。
【００３４】
一方、配管４５、４６は、渦流槽４０の中央部から互いに相反する方向に延設された後、再び、渦流槽４０自体と接続されており、各々の排出口が渦流槽４０の底面側かつ側壁側に配置されている。そして、配管４５、４６の排出口は、汲み上げ用ポンプ４３を中心として、同一の回転方向（ここでは上面から見て反時計回り）に向かってクーラントを吐出するように、それらの向きが各々設定されている。従って、配管４５、４６の排出口から渦流槽４０に戻すクーラントを利用して、渦流槽４０内のクーラントに渦流を形成している（渦流形成手段）。
【００３５】
又、矩形状の渦流槽４０内部の４つの隅部には、この隅部を上面から見て円弧状に覆うように、湾曲板４７、４８が配設されている。湾曲板４７、４８は、配管４５、４６によって、渦流槽４０内に渦流を発生させた際に、クーラントが渦流槽４０内で円滑に流動するように設けたものである。但し、湾曲板４８は、渦流槽４０の側壁から離間するように配置されている。クーラント中の混入物は渦流により中央部に集積されるため、この湾曲板４８の外側（渦流槽４０の中央部から遠い方）は、混入物が除外されたきれいなクーラントが流入する領域となる。そして、この湾曲板４８の外側に、汲み上げポンプ４１（汲上用ポンプ）が設けられており、汲み上げポンプ４１に汲み上げられたきれいなクーラントが、配管４２を通って、クリーン槽５０に流入されることになる。
【００３６】
又、本実施例では、第２の沈殿槽３０の連通孔３１に向かってクーラントを吐出するように、配管４６の排出口の向きを設定しており、湾曲板４８、汲み上げポンプ４１の配置位置は、渦流の流れに沿う方向においては、連通孔３１から遠い位置になっている。このことも、湾曲板４８の外側にきれいなクーラントが流入することに寄与している。
【００３７】
渦流槽４０のきれいなクーラントが流入されるクリーン槽５０は、渦流槽４０の上部に配置されている。渦流槽４０の上部には、その中央部に汲み上げポンプ４３が配置され、その隅部の１つに汲み上げポンプ４１が配置されているので、中央部の汲み上げポンプ４３を挟んで、隅部の汲み上げポンプ４１とは反対側にクリーン槽５０は設けられている。このクリーン槽５０の上面の高さは、汲み上げポンプ４１、４３の最上部と同じ高さか、これらより低いものであり、そのため、渦流槽４０の上部にクリーン槽５０を配置しても、従来のクーラント浄化装置と高さは何ら変わらない。むしろ、従来、渦流槽とクリーン槽とを同じ高さ位置に並べて配置していたため、それらのために広い設置面積が必要だったが、本実施例では、渦流槽４０の上部にクリーン槽５０を配置しているので、クリーン槽５０の設置面積が不要となり、その分、装置の設置面積を小さくすることができる。
【００３８】
又、クリーン槽５０には、加工母機の砥石のドレッシング用のクーラントを吐出するために設けられたドレス用ポンプ５３、加工母機のベッドにクーラントを吐出するために設けられたフラッシング用ポンプ５５、加工母機による加工箇所へクーラントを吐出するために設けられた加工部用ポンプ５７との三つのポンプと共に、液面計５２を備えている。
【００３９】
又、クリーン槽５０には、ドレイン部５１も設けられており、その底面には渦流層４０と連通して、クリーン槽５０をオーバーフローしたクーラントを流出する開口部が設けられている。このドレイン部５１を利用することにより、オーバーフローしたクーラントを循環するようにしている。
【００４０】
なお、液面計５２は、クリーン槽５０におけるクーラントの液面の位置を検出し、液面の位置が予め設定した下限に達した場合はこれを報知するように構成されている。又、クリーン槽５０の外部には、クーラント浄化装置１の各種制御を行う制御装置が設置されているが、ここでは、図示を省略している。
【００４１】
第２沈殿槽３０と渦流槽４０とは同じ高さ位置に配置されているが、クリーン槽５０は、それらの上面の高さ以上の位置に設けられている。第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０の配置位置は、クーラントが循環できれば、その高さ位置を限定する必要は無い。なお、図示を省略しているが、第１沈殿槽１０、第２沈殿槽３０だけでなく、渦流槽４０、クリーン槽５０も、各々、蓋によって上面がほぼ覆われるように構成されている。
【００４２】
又、本実施例のクーラント浄化装置１においては、清掃頻度（メンテナンス頻度）が高くなる第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０及び第２の沈殿槽３０を、装置外周側に配置している。この第１の沈殿槽１０及び第２の沈殿槽３０を設けることにより、渦流槽４０の上流側で積極的に混入物を除去するようにして、渦流槽４０に流入する混入物を減少させているので、渦流槽４０自体の清掃頻度（メンテナンス頻度）を低くすることができる。その結果、渦流槽４０自体は、装置外周側に必ずしも配置する必要は無く、装置内側に配置することも可能となり、レイアウト上の自由度が高くなる。
【００４３】
クリーン槽５０は、渦流槽４０とは独立して、渦流槽４０の上部に設け、２階建て構造としている。このことは、装置全体としての設置面積の省スペース化を図る目的もあるが、省スペースを図りながらも、渦流槽４０の大きさ（浄化する必要があるクーラント量を収納する大きさ）を確保するのにも有利となる。渦流槽とクリーン槽を同じ高さ位置に設ける場合には、互いに大きさを制約してしまうことになるが、本実施例のように、２階建て構造とする場合には、渦流槽４０は、クリーン槽５０の大きさに制約されることはなく、大きな面積を確保することができる。渦流槽４０が大きな面積を確保できれば、浄化可能なクーラント量を多くすることができ、又、渦流の中心と外周との距離も離れるので、外周側に流れるクーラント中の混入物もより少なくして、浄化効率の向上を図ることができる。
【００４４】
以上、本実施例のクーラント浄化装置１について、各部の構成、配置を説明してきたが、ここで、本実施例のクーラント浄化装置１における一連の動作について説明する。
【００４５】
本実施例のクーラント浄化装置１において、加工母機２から流出されるクーラントは、最初に、第１の沈殿槽１０に流入する。この第１の沈殿槽１０でクーラント中の混入物が沈殿されることになる。その後、沈殿により混入物が除去されたクーラントが、配管１５を介して、磁性分離装置２０に流入する。磁性分離装置２０に流入したクーラントは、磁石２１、ゴムローラ２３によって大半のスラッジを吸着・分離され、配管２５を介して、第２の沈殿槽３０側へ流出される。
【００４６】
磁性分離装置２０から第２の沈殿槽３０に流入するクーラントには、磁性分離装置２０で除去しきれなかった微細なスラッジや砥粒等（以下、残留混入物という）が含まれており、このような残留混入物は第２の沈殿槽３０内で沈殿させている。
【００４７】
第２の沈殿槽３０において残留混入物の大部分を除去されたクーラントは、更に、側壁３４に設けられた連通孔３１を通って渦流槽４０側へと流出される。
【００４８】
上述したように、側壁３４に設けられた連通孔３１は、その上端がクーラントの液面の下限より低い位置となるように設定されると共に、下端が第２の沈殿槽３０に沈殿したスラッジ等が第２の沈殿槽３０から渦流槽４０へ流出しないような位置に設定されている。そのため、第２の沈殿槽３０中でクーラントが泡立ち、この泡に残留混入物が含まれるような状況が生じた場合、残留混入物が連通孔３１を通って渦流槽４０に流出することは無く、又、第２の沈殿槽３０の底面に沈殿した残留混入物が連通孔３１を通って渦流槽４０に流出することも無く、クーラントを渦流槽４０へと流出させることができる。
【００４９】
そして、渦流槽４０では、汲み上げ用ポンプ４３によって汲み上げられたクーラントが配管４５、配管４６から渦流槽４０の底面且つ側壁近傍で吐出されることにより、渦流が形成されている。渦流槽４０に流入したクーラントには、第２の沈殿槽３０で除去しきれなかった微細なスラッジや砥粒等の残留混入物が含まれているため、渦流槽４０内で渦流が生じると、槽内の渦流によって、残留混入物は渦流槽４０の中央部の底面近傍に集まり、常時、クーラントと共に汲み上げ用ポンプ４３によって汲み上げられることとなる。
【００５０】
汲み上げ用ポンプ４３によって汲み上げられた残留混入物を含むクーラントは、上述したように、配管４５、４６から渦流槽４０の底面且つ側壁近傍に吐出される一方、配管４４から第１の沈殿槽１０へと送り出される。これにより、加工母機２から送り出されたクーラントと共に、渦流槽４０内のクーラントを、再度、第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０及び第２の沈殿槽３０に通過させており、第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０、第２の沈殿槽３０及び渦流槽４０を循環させながら、繰り返し混入物の除去処理を行うようにしている。
【００５１】
渦流槽４０では、槽内の渦流の中央部に残留混入物が集積される一方、渦流外周側の湾曲板４８の外側にはきれいなクーラントが流入することになる。そして、この流入領域に汲み上げポンプ４１を設け、きれいなクーラントを汲み上げて、クリーン槽５０に送出するようにしている。
【００５２】
クリーン槽５０には、ドレイン部５１が設けられており、クリーン槽５０に貯留したクーラントは、ドレイン部５１底部に設けた開口部を通って、再び、渦流槽４０内に流入するようにしている。渦流槽４０に戻ったクーラントは、上述したように、第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０、第２の沈殿槽３０及び渦流槽４０を循環されながら、繰り返し混入物の除去処理が行われるようにしている。これにより、クリーン槽５０内のクーラントをより混入物の少ない状態とすることができる。
【００５３】
そして、クリーン槽５０内に貯留したクーラントが、ドレス用ポンプ５３、フラッシング用ポンプ５５及び加工用ポンプ５７に汲み上げられて、各々砥石のドレス用、ベッドフラッシング用及び加工部冷却用として加工母機２へ送り出されることになる。
【００５４】
以上説明してきたように、本実施例のクーラント浄化装置１によれば、磁性分離装置２０の上流側に第１の沈殿槽１０を設け、渦流槽４０の上流側に第２の沈殿槽３０を設けているので、渦流槽４０に流入する混入物を減少させることができる。その結果、渦流槽４０におけるクーラント内の混入物が少ないので、より浄化されたクーラントをクリーン槽５０へ送出でき、浄化効率を向上させることができる。
【００５５】
又、クーラント内の大半の混入物は、磁性分離装置２０で除去されるか、又は、第１の沈殿槽１０及び第２の沈殿槽３０の底面に沈殿するので、メンテナンス時には、クーラント浄化装置１の外周側に配置した第１の沈殿槽１０及び第２の沈殿槽３０の底面に沈殿した混入物を外部に掻き出すことで、容易に清掃を実施することができ、メンテナンス性を向上させることができる。加えて、渦流槽４０に流入する混入物が少ないので、渦流槽４０の中央部に集積される混入物も少なくなり、タンク全体を引き出して全てのクーラントを交換するような清掃を行う頻度を低減して、メンテナンス性を向上させることができる。
【００５６】
又、渦流槽４０では、クーラントに渦流を発生させることにより、第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０及び第２の沈殿槽３０で除去しきれなかった残留混入物を中央部底面近傍に集める一方、渦流外周側の湾曲板４８の外側にはきれいなクーラントが流入する流入領域を形成している。そして、クリーン槽５０を渦流槽４０から独立して設け、この流入領域からきれいなクーラントを汲み上げて、クリーン槽５０へ送出するので、浄化効率を向上させることができる
【００５７】
又、加工母機２から送り出されたクーラントは、第１の沈殿槽１０、磁性分離装置２０、第２の沈殿槽３０及び渦流槽４０を循環させながら、混入物を除去する用にしているので、更に浄化効率を向上させることができる。
【００５８】
このように、本実施例のクーラント浄化装置１によれば、メンテナンス性を向上させることができると共に、浄化効率を向上させ、加工母機から送り出されたクーラント中に混入したスラッジ等をより確実に除去することができる。又、装置の設置面積の省スペース化を図ることもでき、例えば、加工母機２の装置下部内に収納することも可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明は、クーラント浄化装置に好適なものである。
【符号の説明】
【００６０】
１    クーラント浄化装置
２    加工母機
１０  第１の沈殿槽
１１  沈殿部
１２  傾斜部
２０  磁性分離装置
３０  第２の沈殿槽
３１  連通孔
３２  傾斜部
４０  渦流槽
４１、４３  汲み上げ用ポンプ
４２、４４、４５、４６  配管
４７、４８  湾曲板
５０  クリーン槽
５１  ドレイン部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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