(57)【要約】【課題】植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）2011001291.tif 000031〔式中、Ｒ1はＣ１−Ｃ２アルキル基を表し、Ｒ2は水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を表す。〕で示されるアミド化合物は、植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2011001291.tif 000030
〔式中、Ｒ1はＣ１−Ｃ２アルキル基を表し、
Ｒ2は水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
Ｒ2がフッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項３】
Ｒ2の結合位置が、３位又は４位である請求項２記載のアミド化合物。
【請求項４】
Ｒ2の結合位置が、３位である請求項２記載のアミド化合物。
【請求項５】
Ｒ2の結合位置が、４位である請求項２記載のアミド化合物。
【請求項６】
請求項１〜５いずれか一項記載のアミド化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤。
【請求項７】
請求項１〜５いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に施用する工程を有してなる植物病害の防除方法。
【請求項８】
植物又は土壌に処理することにより、植物病害を防除するための請求項１〜５いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミド化合物並びにその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
植物病害を防除するための薬剤の開発が行われ、植物病害防除効果を有する化合物が数多く見出されているが、その効果は十分でない場合があり、新たな化合物群の探索が鋭意行われている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式（Ｉ）で示されるアミド化合物が植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に到った。
すなわち、本発明は以下の〔１〕〜〔８〕の通りである。
〔１〕  式（Ｉ）
2011001291.tif 000002
〔式中、Ｒ1はＣ１−Ｃ２アルキル基を表し、
Ｒ2は水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を表す。〕
で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）。
〔２〕  Ｒ2がフッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔３〕  Ｒ2の結合位置が、３位又は４位である〔２〕記載のアミド化合物。
〔４〕  Ｒ2の結合位置が、３位である〔２〕記載のアミド化合物。
〔５〕  Ｒ2の結合位置が、４位である〔２〕記載のアミド化合物。
〔６〕  〔１〕〜〔５〕いずれか一項記載のアミド化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤（以下、本発明防除剤と記す。）。
〔７〕  〔１〕〜〔５〕いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に施用する工程を有してなる植物病害の防除方法（以下、本発明防除方法と記す。）。
〔８〕  植物又は土壌に処理することにより、植物病害を防除するための〔１〕〜〔５〕いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【発明の効果】
【０００５】
本発明により、植物病害を防除することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
本発明の式（Ｉ）において、Ｒ1で示されるＣ１−Ｃ２アルキル基としては、メチル基及びエチル基が挙げられる。
【０００７】
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（Ｉ）において、Ｒ1がメチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がエチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がフッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2の結合位置が３位又は４位であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2の結合位置が３位であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2の結合位置が４位であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2の結合位置が３位又は４位であり、Ｒ2がフッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2の結合位置が３位であり、Ｒ2がフッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2の結合位置が４位であり、Ｒ2がフッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2が水素原子であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がフッ素原子であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がトリフルオロメチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がフッ素原子であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がトリフルオロメチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がエチル基であり、Ｒ2がフッ素原子であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がエチル基であり、Ｒ2がトリフルオロメチル基であるアミド化合物；及び
式（Ｉ）において、Ｒ1がエチル基であり、Ｒ2がトリフルオロメトキシ基であるアミド化合物。
【０００８】
本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）または（製造法２）により製造することができる。
【０００９】
（製造法１）
本発明化合物は、化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、脱水縮合剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
2011001291.tif 000003
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す場合がある。）、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（以下、ＭＴＢＥと記す場合がある。）等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと記す場合がある。）等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド（以下、ＤＭＳＯと記す場合がある。）等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す。）及び１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（以下、ＢＯＰ試薬と記す場合がある。）等が挙げられる。
化合物（ＩＩ）１モルに対して、化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができ、また、固体が析出しない場合は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１０】
（製造法２）
本発明化合物は、化合物（ＩＶ）又はその塩（例えば、塩酸塩が挙げられる。）と化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することもできる。
2011001291.tif 000004
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
化合物（ＩＶ）１モルに対して、化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができ、また、固体が析出しない場合は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１１】
本発明化合物としては、具体的には、
Ｎ−（３−フェノキシフェニル）メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（２−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（３−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（４−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（２−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−（３−フェノキシフェニル）メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（２−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（３−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（４−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（２−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルルピラゾール−５−カルボン酸アミド、
Ｎ−［３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルルピラゾール−５−カルボン酸アミド及び
Ｎ−［３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド
が挙げられる。
【００１２】
本発明防除剤は、本発明化合物を、固体担体、液体担体、ガス担体、界面活性剤等と混合し、必要により固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤を添加して、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化して用いる。これらの製剤には本発明化合物が重量比で通常０．１〜９９％、好ましくは０．２〜９０％含有される。
【００１３】
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。
【００１４】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
【００１５】
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【００１６】
本発明防除剤を施用する方法としては、実質的に本発明防除剤が施用され得る形態であればその方法は特に限定されないが、例えば茎葉散布等の植物体への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理、種子消毒等の種子への処理等が挙げられる。
【００１７】
また、本発明防除剤を他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混合して、または混合せずに同時に用いることもできる。
かかる他の殺菌剤としては、例えば、
（１）  アゾール系殺菌剤
プロピコナゾール（ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロチオコナゾール（ｐｒｏｔｈｉｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリアジメノール（ｔｒｉａｄｉｍｅｎｏｌ）、プロクロラズ（ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、ペンコナゾール（ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、テブコナゾール（ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルシラゾール（ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、ジニコナゾール（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ブロムコナゾール（ｂｒｏｍｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、エポキシコナゾール（ｅｐｏｘｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジフェノコナゾール（ｄｉｆｅｎｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、シプロコナゾール（ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、メトコナゾール（ｍｅｔｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリフルミゾール（ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、テトラコナゾール（ｔｅｔｒａｃｏｎａｚｏｌｅ）、マイクロブタニル（ｍｙｃｌｏｂｕｔａｎｉｌ）、フェンブコナゾール（ｆｅｎｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、ヘキサコナゾール（ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルキンコナゾール（ｆｌｕｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリティコナゾール（ｔｒｉｔｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ビテルタノール（ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、イマザリル（ｉｍａｚａｌｉｌ）、フルトリアホール（ｆｌｕｔｒｉａｆｏｌ）、シメコナゾール（ｓｉｍｅｃｏｎａｚｏｌｅ）、イプコナゾール（ｉｐｃｏｎａｚｏｌｅ）等；
（２）  アミン系殺菌剤
フェンプロピモルフ（ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）、トリデモルフ（ｔｒｉｄｅｍｏｒｐｈ）、フェンプロピジン（ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、スピロキサミン（ｓｐｉｒｏｘａｍｉｎｅ）等；
（３）  ベンズイミダゾール系殺菌剤
カルベンダジム（ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ）、ベノミル（ｂｅｎｏｍｙｌ）、チアベンダゾール（ｔｈｉａｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、チオファネートメチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ―Ｍｅｔｈｙｌ）等；
（４）  ジカルボキシイミド系殺菌剤
プロシミドン（ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、イプロジオン（ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、ビンクロゾリン（ｖｉｎｃｌｏｚｏｌｉｎ）等；
（５）  アニリノピリミジン系殺菌剤
シプロディニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）、ピリメタニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）、メパニピリム（ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）等；
（６）  フェニルピロール系殺菌剤
フェンピクロニル（ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）、フルジオキソニル（ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）等；
（７）  ストロビルリン系殺菌剤
クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、オリザストロビン（ｏｒｙｚａｓｔｒｏｂｉｎ）、エネストロビン（ｅｎｅｓｔｒｏｂｉｎ）等；
（８）  フェニルアマイド系殺菌剤
メタラキシル（ｍｅｔａｌａｘｙｌ）、メタラキシルＭまたはメフェノキサム（ｍｅｔａｌａｘｙｌ−Ｍ  ｏｒ  ｍｅｆｅｎｏｘａｍ）、ベナラキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ）、ベナラキシルＭまたはキララキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ−Ｍ  ｏｒ  ｋｉｒａｌａｘｙｌ）等；
（９）  カルボン酸アミド系殺菌剤
ジメトモルフ（ｄｉｍｅｔｈｏｍｏｒｐｈ）、イプロバリカルブ（ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、ベンチアバリカルブイソプロピル（ｂｅｎｔｈｉｖａｌｉｃａｒｂ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、マンジプロパミド（ｍａｎｄｉｐｒｏｐａｍｉｄ）、バリフェナル（ｖａｌｉｐｈｅｎａｌ）
（１０）  カルボキサミド系殺菌剤
カルボキシン（ｃａｒｂｏｘｉｎ）、メプロニル（ｍｅｐｒｏｎｉｌ）、フルトラニル（ｆｌｕｔｏｌａｎｉｌ）、チフルザミド（ｔｈｉｆｌｕｚａｍｉｄｅ）、フラメトピル（ｆｕｒａｍｅｔｐｙｒ）、ボスカリド（ｂｏｓｃａｌｉｄ）、ペンチオピラド（ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）、フルオピラン（ｆｌｕｏｐｙｒａｍ）、ビキサフェン（ｂｉｘａｆｅｎ）、
（１１）  その他の殺菌剤
ジエトフェンカルブ；チウラム；フルアジナム；マンコゼブ；クロロタロニル；キャプタン；ジクロフルアニド；フォルペット；キノキシフェン；フェンヘキサミド；ファモキサドン；フェナミドン；ゾキサミド；エタボキサム；アミスルブロム；シアゾファミド；メトラフェノン；シフルフェナミド；プロキナジド；フルスルファミド；フルオピコリド；フォセチル；シモキサニル；ペンシクロン；トルクロホスメチル；カルプロパミド；ジクロシメット；フェノキサニル；トリシクラゾール；ピロキロン；プロベナゾール；イソチアニル；チアジニル；テブフロキン；ジクロメジン；カスガマイシン；フェリムゾン；フサライド；バリダマイシン；ヒドロキシイソキサゾール；イミノクタジン酢酸塩；イソプロチオラン；オキソリニック酸；オキシテトラサイクリン；ストレプトマイシン；塩基性塩化銅；水酸化第二銅；塩基性硫酸銅；有機銅；硫黄など；
式（１１）
2011001291.tif 000005
〔式中、Ｘ1は水素原子、またはハロゲン原子を表し、Ｘ2はメチル基、ジフルオロメチル基、又はトリフルオロメチル基を表し、Ｑは下記のいずれかの基
2011001291.tif 000006
を表す。〕
で示されるピラゾールカルボキサミド化合物；
式（１２）
2011001291.tif 000007
〔式中、Ｘ3はメチル基、ジフルオロメチル基、またはエチル基を表し、Ｘ4はメトキシ基、またはメチルアミノ基を表し、Ｘ5はフェニル基、２−メチルフェニル基、または２，５−ジメチルフェニル基を表す。〕
で示されるα−アルコキシフェニル酢酸化合物；
式（１３）
2011001291.tif 000008
〔式中、Ｘ6はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、２−プロペニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、または２−プロペニルチオ基を表し、Ｘ7は１−メチルエチル基、または１−メチルプロピル基を表し、Ｘ8は２−メチルフェニル基、または２，６−ジクロロフェニル基を表す。〕
で示されるピラゾリノン化合物、
等があげられる。
【００１８】
かかる他の殺虫剤としては、例えば
（１）  有機リン系化合物
アセフェート（acephate）、りん化アルミニウム（Aluminium phosphide）、ブタチオホス（butathiofos）、キャドサホス（cadusafos）、クロルエトキシホス（chlorethoxyfos）、クロルフェンビンホス（ch1orfenvinphos）、クロルピリホス（chlorpyrifos）、クロルピリホスメチル（chlorpyrifos-methyl）、シアノホス（cyanophos：CYAP）、ダイアジノン（diazinon）、ＤＣＩＰ（dichlorodiisopropyl ether）、ジクロフェンチオン（dichlofenthion：ECP）、ジクロルボス（dichlorvos：DDVP）、ジメトエート（dimethoate）、ジメチルビンホス（dimethylvinphos）、ジスルホトン（disulfoton）、EPN、エチオン（ethion）、エトプロホス（ethoprophos）、エトリムホス（etrimfos）、フェンチオン（fenthion：MPP）、フエニトロチオン（fenitrothion：MEP）、ホスチアゼート（fosthiazate）、ホルモチオン（formothion）、りん化水素（Hydrogen phosphide）、イソフェンホス（isofenphos）、イソキサチオン（isoxathion）、マラチオン（malathion）、メスルフェンホス（mesulfenfos）、メチダチオン（methidathion：DMTP）、モノクロトホス（monocrotophos）、ナレッド（naled：BRP）、オキシデプロホス（oxydeprofos：ESP）、パラチオン（parathion）、ホサロン（phosalone）、ホスメット（phosmet：PMP）、ピリミホスメチル（pirimiphos-methy1）、ピリダフェンチオン（pyridafenthion）、キナルホス（quinalphos）、フェントエート（phenthoate：PAP）、プロフェノホス（profenofos）、プロパホス（propaphos）、プロチオホス（prothiofos）、ピラクロホス（pyraclorfos）、サリチオン（salithion）、スルプロホス（sulprofos）、テブピリムホス（tebupirimfos）、テメホス（temephos）、テトラクロルビンホス（tetrach1orvinphos）、テルブホス（terbufos）、チオメトン（thiometon）、トリクロルホン（trichlorphon：DEP）、バミドチオン（vamidothion）、フォレート（phorate）、カズサホス（cadusafos）等；
（２）  カーバメート系化合物
アラニカルブ（alanycarb）、ベンダイオカルブ（bendiocarb）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、BPMC、カルバリル（carbary1）、カルボフラン（carbofuran）、カルボスルファン（carbosulfan）、クロエトカルブ（cloethocarb）、エチオフェンカルブ（ethiofencarb）、フェノブカルブ（fenobucarb）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、フェノキシカルブ（fenoxycarb）、フラチオカルブ（furathiocarb）、イソプロカルブ（isoprocarb：MIPC）、メトルカルブ（metolcarb）、 メソミル（methomyl）、メチオカルブ（methiocarb）、NAC、オキサミル（oxamyl）、ピリミカーブ（pirimicarb）、プロポキスル（propoxur：PHC）、XMC、チオジカルブ（thiodicarb）、 キシリルカルブ（xylylcarb）、アルジカルブ（aldicarb）等；
（３）  合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン（acrinathrin）、アレスリン（allethrin）、ベンフルスリン（benfluthrin）、ベータ−シフルトリン（beta-cyfluthrin）、ビフェントリン（bifenthrin）、シクロプロトリン（cycloprothrin）、シフルトリン（cyfluthrin）、シハロトリン（cyhalothrin）、シペルメトリン（cypermethrin）、デルタメトリン（deltamethrin）、エスフェンバレレート（esfenvalerate）、エトフェンプロックス（ethofenprox） 、フェンプロパトリン（fenpropathrin）、フェンバレレート（fenvalerate）、フルシトリネート（flucythrinate）、フルフェンプロックス（flufenoprox）、フルメスリン（flumethrin）、フルバリネート（fluvalinate）、ハルフェンプロックス（halfenprox）、イミプロトリン（imiprothrin）、ペルメトリン（permethrin）、プラレトリン（prallethrin）、ピレトリン（pyrethrins）、レスメトリン（resmethrin）、シグマ−サイパーメスリン（sigma-cypermethrin）、シラフルオフェン（silafluofen）、テフルトリン（tefluthrin）、トラロメトリン（tralomethrin）、トランスフルトリン（transfluthrin）、テトラメトリン（tetramethrin）、フェノトリン（phenothrin）、シフェノトリン（cyphenothrin）、アルファシペルメトリン（alpha-cypermethrin）、ゼータシペルメトリン（zeta-cypermethrin）、ラムダシハロトリン（lambda-cyhalothrin）、フラメトリン（furamethrin）、タウフルバリネート（tau-fluvalinate）、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−（メトキシメチル）ベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−メチルベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−（メトキシメチル）ベンジル （１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート等；
（４）  ネライストキシン系化合物
カルタップ（cartap）、ベンスルタップ（bensu1tap）、チオシクラム（thiocyclam）、モノスルタップ（monosultap）、ビスルタップ（bisultap）等；
（５）  ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド（imidac1oprid）、ニテンピラム（nitenpyram）、アセタミプリド（acetamiprid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、チアクロプリド（thiacloprid）、ジノテフラン（dinotefuran）、クロチアニジン（clothianidin）等；
（６）  ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン（chlorfluazuron）、ビストリフルロン（bistrifluron）、ジアフェンチウロン（diafenthiuron）、ジフルベンズロン（diflubenzuron）、フルアズロン（fluazuron）、フルシクロクスロン（flucycloxuron）、フルフェノクスロン（flufenoxuron）、ヘキサフルムロン（hexaflumuron）、ルフェヌロン（lufenuron）、ノバルロン（novaluron）、ノビフルムロン（noviflumuron）、テフルベンズロン（teflubenzuron）、トリフルムロン（triflumuron）、トリアズロン等；
（７）  フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール（acetoprole）、エチプロール（ethiprole）、フィプロニル（fiproni1）、バニリプロール（vaniliprole）、ピリプロール（pyriprole）、ピラフルプロール（pyrafluprole）等；
（８）  Ｂｔトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物；
（９）  ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド（chromafenozide）、ハロフェノジド（halofenozide）、メトキシフェノジド（methoxyfenozide）、テブフェノジド（tebufenozide）等；
（１０）  有機塩素系化合物
アルドリン（aldrin）、ディルドリン（dieldrin）、ジエノクロル（dienochlor）、エンドスルファン（endosulfan）、メトキシクロル（methoxychlor）等；
（１１）  天然系殺虫剤
マシン油（machine oil）、硫酸ニコチン（nicotine-sulfate）；
（１２）  その他の殺虫剤
アベルメクチン（avermectin-B）、ブロモプロピレート（bromopropylate）、ブプロフェジン（buprofezin）、クロルフェナピル（chlorphenapyr）、シロマジン（cyromazine）、Ｄ−Ｄ（1，3-Dichloropropene）、エマメクチンベンゾエート（emamectin-benzoate）、フェナザキン（fenazaquin）、フルピラゾホス（flupyrazofos）、ハイドロプレン（hydroprene）、メトプレン（methoprene）、インドキサカルブ（indoxacarb）、メトキサジアゾン（metoxadiazone）、ミルベマイシンＡ（milbemycin-A）、ピメトロジン（pymetrozine）、ピリダリル（pyridalyl）、ピリプロキシフェン（pyriproxyfen）、スピノサッド（spinosad）、スルフラミド（sulfluramid）、トルフェンピラド（tolfenpyrad）、トリアゼメイト（triazamate）、フルベンジアミド（flubendiamide）、レピメクチン（lepimectin）、亜ひ酸（Arsenic acid）、ベンクロチアズ（benclothiaz）、石灰窒素（Calcium cyanamide）、石灰硫黄合剤（Calcium polysulfide）、クロルデン（chlordane）、ＤＤＴ、ＤＳＰ、フルフェネリウム（flufenerim）、フロニカミド（flonicamid）、フルリムフェン（flurimfen）、ホルメタネート（formetanate）、メタム・アンモニウム（metam-ammonium）、メタム・ナトリウム（metam-sodium）、臭化メチル（Methyl bromide）、ニディノテフラン（nidinotefuran）、オレイン酸カリウム（Potassium oleate）、プロトリフェンビュート（protrifenbute）、スピロメシフェン（spiromesifen）、硫黄（Sulfur）、メタフルミゾン（metaflumizone）、スピロテトラマット（spirotetramat）、ピリフルキナゾン（pyrifluquinazone）、スピネトラム（spinetoram）、クロラントラニリプロール（chlorantraniliprole）、シアントラニリプロール（cyantraniliprole）、
等が挙げられる。
かかる他の殺ダニ剤（殺ダニ活性成分）としては、例えばアセキノシル（acequinocyl）、アミトラズ（amitraz）、ベンゾキシメート（benzoximate）、ビフェナゼート（bifenaate）、フェニソブロモレート（bromopropylate）、キノメチオネート（chinomethionat）、クロルベンジレート（chlorobenzilate）、ＣＰＣＢＳ（chlorfenson）、クロフェンテジン（clofentezine）、シフルメトフェン（cyflumetofen）、ケルセン（ジコホル：dicofol）、エトキサゾール（etoxazole）、酸化フェンブタスズ（fenbutatin oxide）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、フェンピロキシメート（fenpyroximate）、フルアクリピリム（fluacrypyrim）、フルプロキシフェン（fluproxyfen）、ヘキシチアゾクス（hexythiazox）、プロパルギット（propargite：BPPS）、ポリナクチン複合体（polynactins）、ピリダベン（pyridaben）、ピリミジフェン（Pyrimidifen）、テブフェンピラド（tebufenpyrad）、テトラジホン（tetradifon）、スピロディクロフェン（spirodiclofen）、スピロメシフェン（spiromesifen）、スピロテトラマット（spirotetramat）、アミドフルメット（amidoflumet）、シエノピラフェン（cyenopyrafen）等が挙げられる。
かかる他の殺線虫剤（殺線虫活性成分）としては、例えば、ＤＣＩＰ、フォスチアゼート（fosthiazate）、塩酸レバミゾール（levamisol）、メチルイソチオシアネート（methyisothiocyanate）、酒石酸モランテル（morantel tartarate）、イミシアホス（imicyafos）等が挙げられる。
【００１９】
本発明防除剤の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、本発明防除剤中の本発明化合物量で１０アールあたり、通常１〜５００ｇ、好ましくは２〜２００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明化合物濃度は、通常０．０００５〜２重量％、好ましくは０．００５〜１重量％であり、粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、種子１Ｋｇに対して本発明防除剤中の本発明化合物量で、通常０.００１〜１００g、好ましくは０．０１〜５０gの範囲で施用される。
【００２０】
本発明防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明防除剤は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。
【００２１】
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。
【００２２】
上記「作物」とは、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、EPSP合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。
【００２３】
古典的な育種法により耐性が付与された「作物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のClearfield（登録商標）カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された「作物」の例として、グリホサートやグルホシネート耐性のトウモロコシ品種があり、RoundupReady（登録商標）、RoundupReady2（登録商標）、及びLibertyLink（登録商標）等の商品名ですでに販売されている。
【００２４】
上記「作物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウスやバチルス・ポピリエ由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（RIP）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；HMG-COAリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
【００２５】
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。
これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP-A-0 374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、EP-A-0 427 529、EP-A-451 878、WO 03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００２６】
また、1つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、YieldGard（登録商標）（Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Rootworm（登録商標）（Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Plus（登録商標）（Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、Herculex I（登録商標）（Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン Ｎ−アサチルトランスフェラーゼ（PAT）を発現するトウモロコシ品種）、NuCOTN33B（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard I（登録商標）（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard II（登録商標）（Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種）、VIPCOT（登録商標）（VIP毒素を発現するワタ品種）、NewLeaf（登録商標）（Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種）、NatureGard（登録商標）Agrisure（登録商標）GT Advantage（GA21 グリホサート耐性形質）、Agrisure（登録商標） CB Advantage（Bt11コーンボーラー（CB）形質）、Protecta（登録商標）等が挙げられる。
【００２７】
上記「作物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている（PRPs、EP-A-0 392 225）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0 392 225、WO 95/33818、EP-A-0 353 191等に記載されている。
こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；PRタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO 03/000906に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
【００２８】
また、上記「作物」には、古典的育種技術または遺伝子組換え技術を用い、先に述べたような除草剤耐性、害虫抵抗性、病害耐性等に関わる形質を２種以上付与された系統、および同類または異なる性質を有する遺伝子組換え植物同士を掛け合わせることにより親系統が有する２種以上の性質が付与された系統も含まれる。
【００２９】
本発明により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌等が挙げられ、より詳しくは以下の病害を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
通常、本発明防除方法は、本発明防除剤を前記した本発明防除剤を施用する方法で用いることにより行われる。
【００３０】
イネのいもち病（Magnaporthe grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）、黄化萎縮病（Sclerophthora macrospora）；コムギのうどんこ病（Erysiphe graminis）、赤かび病（Fusarium graminearum、F. avenacerum、F. culmorum、Microdochium nivale）、さび病（Puccinia striiformis、P. graminis、P. recondita）、紅色雪腐病（Micronectriella nivale）、雪腐小粒菌核病（Typhula sp.）、裸黒穂病（Ustilago tritici）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、葉枯病（Mycosphaerella graminicola）、ふ枯病（Stagonospora nodorum）、黄斑病（Pyrenophora tritici-repentis）、；オオムギのうどんこ病（Erysiphe graminis）、赤かび病（Fusarium graminearum、F. avenacerum、F. culmorum、Microdochium nivale）、さび病（Puccinia striiformis、P.graminis、P.hordei）、裸黒穂病（Ustilago nuda）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、網斑病（Pyrenophora teres）、斑点病（Cochliobolus sativus）、斑葉病（Pyrenophora graminea）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Rhizoctonia solani）；カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、そうか病（Elsinoe fawcetti）、果実腐敗病（Penicillium digitatum, P. italicum）；リンゴのモニリア病（Monilinia mali）、腐らん病（Valsa ceratosperma）、うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、斑点落葉病（Alternaria alternata apple pathotype）、黒星病（Venturia inaequalis）、炭そ病（Glomerella cingulata）；ナシの黒星病（Venturia nashicola, V. pirina）、黒斑病（Alternaria alternata Japanese pear pathotype）、赤星病（Gymnosporangium haraeanum）；モモの灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、フォモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）；ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina）、晩腐病（Glomerella cingulata）、うどんこ病（Uncinula necator）、さび病（Phakopsora ampelopsidis）、ブラックロット病（Guignardia bidwellii）、べと病（Plasmopara viticola）；カキの炭そ病（Gloeosporium kaki）、落葉病（Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae）；ウリ類の炭そ病（Colletotrichum lagenarium）、うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、疫病（Phytophthora sp.）、苗立枯病（Pythium sp.）；トマトの輪紋病（Alternaria solani）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）；ナスの褐紋病（Phomopsis vexans）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）；アブラナ科野菜の黒斑病（Alternaria japonica）、白斑病（Cercosporella brassicae）、根こぶ病（Plasmodiophora parasitica）、べと病（Peronospora parasitica）；ネギのさび病（Puccinia allii）、ダイズの紫斑病（Cercospora kikuchii）、黒とう病（Elsinoe glycines）、黒点病（Diaporthe phaseolorum var. sojae）、さび病( Phakopsora pachyrhizi)、インゲンの炭そ病（Colletotrichum lindemthianum）ラッカセイの黒渋病（Cercospora personata）、褐斑病（Cercospora arachidicola）、白絹病（Sclerotium rolfsii）；エンドウのうどんこ病（Erysiphe pisi）；ジャガイモの夏疫病（Alternaria solani）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens）；イチゴのうどんこ病（Sphaerotheca humuli）；チャの網もち病（Exobasidium reticulatum）；白星病（Elsinoe leucospila）、輪斑病（Pestalotiopsis sp.）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）タバコの赤星病（Alternaria longipes）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、炭そ病（Colletotrichum tabacum）、べと病（Peronospora tabacina）、疫病（Phytophthora nicotianae）；テンサイの褐���病（Cercospora beticola）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）、黒根病（Aphanomyces sochlioides）；バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、うどんこ病（Sphaerotheca pannosa）；キクの褐斑病（Septoria chrysanthemi−indici）、白さび病（Puccinia horiana）；タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病（Botrytis alli）；小菌核性腐敗病（Botrytis squamosa）種々の作物の灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）；ダイコン黒斑病（（Alternaria brassicicola）；シバのダラースポット病（Sclerotinia homeocarpa）、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病（Rhizoctonia solani）；並びにバナナのシガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola）。
【実施例】
【００３１】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明する。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
【００３２】
製造例１
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸１．１ｇ、３−フェノキシフェニルメチルアミン１．５ｇ、ＷＳＣ１．７ｇ、ピリジン３ｍｌ及びＤＭＦ２０ｍｌを混合し、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−フェノキシフェニル）メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１）と記す。）２．０ｇを得た。
本発明化合物（１）
2011001291.tif 000009
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.25 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.55 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.21 (1H, s), 6.25 (1H, s), 6.91-7.14 (6H, m), 7.29-7.36 (3H, m).
【００３３】
製造例２
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．１４ｇ、３−（２−フルオロフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩０．２６ｇ、ＢＯＰ試薬０．５４ｇ、トリエチルアミン０．５２ｍｌ及びＤＭＦ５ｍｌを混合し、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾集し、水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、乾燥して、Ｎ−［３−（２−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（２）と記す。）０．２２ｇを得た。
本発明化合物（２）
2011001291.tif 000010
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.25 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.54 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.21 (1H, s), 6.25 (1H, s), 6.87 (1H, dd, J = 8.3, 2.3 Hz), 6.94 (1H, s), 7.03-7.21 (5H, m), 7.29 (1H, t, J = 7.8 Hz).
【００３４】
製造例３
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．１７ｇ、３−（３−フルオロフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩０．３０ｇ、ＢＯＰ試薬０．６３ｇ、トリエチルアミン０．６０ｍｌ及びＤＭＦ５ｍｌを混合し、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（３−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（３）と記す。）０．３８ｇを得た。
本発明化合物（３）
2011001291.tif 000011
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.25 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.56 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.25 (1H, s), 6.27 (1H, s), 6.67-6.71 (1H, m), 6.77-6.83 (2H, m), 6.94-6.99 (2H, m), 7.10 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.24-7.36 (2H, m).
【００３５】
製造例４
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．１７ｇ、３−（４−フルオロフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩０．３０ｇ、ＢＯＰ試薬０．６３ｇ、トリエチルアミン０．６０ｍｌ及びＤＭＦ５ｍｌを混合し、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾集し、水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、乾燥して、Ｎ−［３−（４−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（４）と記す。）０．３６ｇを得た。
本発明化合物（４）
2011001291.tif 000012
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.25 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.54 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.20 (1H, s), 6.25 (1H, s), 6.86-6.88 (1H, m), 6.93 (1H, s), 6.96-7.06 (5H, m), 7.30 (1H, t, J = 7.8 Hz).
【００３６】
製造例５
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．１６ｇ、３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニルメチルアミン０．３０ｇ、ＢＯＰ試薬０．６０ｇ、トリエチルアミン０．３９ｍｌ及びＤＭＦ５ｍｌを混合し、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（５）と記す。）０．４２ｇを得た。
本発明化合物（５）
2011001291.tif 000013
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.25 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.57 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.23 (1H, s), 6.26 (1H, s), 6.93-6.96 (1H, m), 7.00 (1H, s), 7.12-7.18 (2H, m), 7.23 (1H, s), 7.34-7.37 (2H, m), 7.44 (1H, t, J = 8.0 Hz).
【００３７】
製造例６
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．１６ｇ、３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニルメチルアミン０．３０ｇ、ＢＯＰ試薬０．６０ｇ、トリエチルアミン０．３９ｍｌ及びＤＭＦ５ｍｌを混合し、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（６）と記す。）０．３９ｇを得た。
本発明化合物（６）
2011001291.tif 000014
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.25 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.58 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.24 (1H, s), 6.27 (1H, s), 6.96-6.98 (1H, m), 7.01-7.02 (1H, m), 7.05 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.13-7.16 (1H, m), 7.37 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.58 (2H, d, J = 8.5 Hz).
【００３８】
製造例７
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−フェノキシフェニルメチルアミン塩酸塩０．３０ｇ、ＢＯＰ試薬０．６７ｇ、トリエチルアミン０．４５ｇ及びＤＭＦ５ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−フェノキシフェニル）メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（７）と記す。）０．３３ｇを得た。
本発明化合物（７）
2011001291.tif 000015
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.51-2.56 (2H, m), 3.96 (3H, s), 4.40 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.66 (1H, s), 6.87-7.16 (6H, m), 7.32-7.41 (3H, m), 8.94 (1H, t, J = 6.0 Hz).
【００３９】
製造例８
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン０．４１ｇ、ＢＯＰ試薬０．７６ｇ、トリエチルアミン０．３６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（８）と記す。）０．４５ｇを得た。
本発明化合物（８）
2011001291.tif 000016
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 2.15 (3H, s), 3.95 (3H, s), 4.42 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.62 (1H, s), 6.96-7.03 (4H, m), 7.10-7.16 (2H, m), 7.37-7.41 (1H, m), 7.47-7.53 (1H, m), 8.93 (1H, t, J = 6.1 Hz).
【００４０】
製造例９
１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン０．４１ｇ、ＢＯＰ試薬０．７６ｇ、トリエチルアミン０．３６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−１，３−ジメチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（９）と記す。）０．３７ｇを得た。
本発明化合物（９）
2011001291.tif 000017
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 2.15 (3H, s), 3.95 (3H, s), 4.41 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.62 (1H, s), 6.92-6.95 (1H, m), 6.98-7.00 (1H, m), 7.08-7.13 (3H, m), 7.35-7.41 (3H, m), 8.93 (1H, t, J = 6.0 Hz).
【００４１】
製造例１０
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニルメチルアミン０．３５ｇ、ＢＯＰ試薬０．６９ｇ、トリエチルアミン０．３３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１０）と記す。）０．４０ｇを得た。
本発明化合物（１０）
2011001291.tif 000018
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.7 Hz), 2.53 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.95 (3H, s), 4.42 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.66 (1H, s), 6.96-7.00 (1H, m), 7.03 (1H, s), 7.16 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.28-7.31 (2H, m), 7.38-7.42 (1H, m), 7.49 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.59-7.64 (1H, m), 8.95 (1H, t, J = 6.0 Hz).
【００４２】
製造例１１
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．０８ｇ、３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニルメチルアミン０．１３ｇ、ＢＯＰ試薬０．２７ｇ、トリエチルアミン０．１３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１１）と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物（１１）
2011001291.tif 000019
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.13-1.18 (3H, m), 2.51-2.55 (2H, m), 3.96 (3H, s), 4.43 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.67 (1H, s), 7.02 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.05 (1H, s), 7.14 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.18 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.40-7.44 (1H, m), 7.73 (2H, d, J = 9.0 Hz), 8.95 (1H, t, J = 6.1 Hz).
【００４３】
製造例１２
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン０．３７ｇ、ＢＯＰ試薬０．６９ｇ、トリエチルアミン０．３３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１２）と記す。）０．３７ｇを得た。
本発明化合物（１２）
2011001291.tif 000020
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.6 Hz), 2.50-2.56 (2H, m), 3.96 (3H, s), 4.42 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.67 (1H, s), 6.96-7.04 (4H, m), 7.11-7.17 (2H, m), 7.37-7.42 (1H, m), 7.48-7.52 (1H, m), 8.95 (1H, t, J = 5.9 Hz).
【００４４】
製造例１３
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン０．３７ｇ、ＢＯＰ試薬０．６９ｇ、トリエチルアミン０．３３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１３）と記す。）０．３３ｇを得た。
本発明化合物（１３）
2011001291.tif 000021
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.6 Hz), 2.50-2.56 (2H, m), 3.96 (3H, s), 4.41 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.67 (1H, s), 6.92-6.95 (1H, m), 7.00 (1H, s), 7.08-7.14 (3H, m), 7.35-7.41 (3H, m), 8.94 (1H, t, J = 6.0 Hz).
【００４５】
製造例１４
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（３−フルオロフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩０．３３ｇ、ＢＯＰ試薬０．６９ｇ、トリエチルアミン０．４６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（３−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１４）と記す。）０．３７ｇを得た。
本発明化合物（１４）
2011001291.tif 000022
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.18 (3H, t, J = 6.7 Hz), 2.53 (2H, q, J = 7.3 Hz), 3.96 (3H, s), 4.42 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.67 (1H, s), 6.81-6.87 (2H, m), 6.93-7.02 (3H, m), 7.13 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.35-7.44 (2H, m), 8.94 (1H, t, J = 6.1 Hz).
【００４６】
製造例１５
３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸０．２０ｇ、３−（４−フルオロフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩０．３３ｇ、ＢＯＰ試薬０．６９ｇ、トリエチルアミン０．４６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−［３−（４−フルオロフェノキシ）フェニル］メチル−３−エチル−１−メチルピラゾール−５−カルボン酸アミド（以下、本発明化合物（１５）と記す。）０．３４ｇを得た。
本発明化合物（１５）
2011001291.tif 000023
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.6 Hz), 2.53 (2H, q, J = 7.4 Hz), 3.96 (3H, s), 4.39 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.66 (1H, s), 6.84-6.87 (1H, m), 6.92 (1H, s), 7.04-7.08 (3H, m), 7.20-7.25 (2H, m), 7.31-7.35 (1H, m), 8.93 (1H, t, J = 6.1 Hz).
【００４７】
次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
【００４８】
参考製造例１
４−クロロベンゾトリフロリド２７ｇ、３−ヒドロキシベンズアルデヒド１２ｇ、カリウム１，１−ジメチルエトキシド１２．３ｇ、臭化銅（Ｉ）４．３ｇ及びＤＭＦ１５０ｍｌの混合物を、２時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物に水及び酢酸エチルを加え、セライト（登録商標）濾過し、ろ液を分液した。有機層を塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド６．５ｇを得た。
３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド
2011001291.tif 000024
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.09 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.33 (1H, ddd, J = 8.1, 2.5, 1.0 Hz), 7.53-7.71 (5H, m), 9.99 (1H, s).
３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド６．５ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩２．５ｇ、エタノール５０ｍｌ及び水２．４ｇを混合し、室温で２時間攪拌した後、１晩放置した。反応混合物に１０Ｎ塩酸２．５ｍｌ及び１０％パラジウム炭素３．０ｇを加え、常圧水素雰囲気下で１０時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）でろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣を水、ＭＴＢＥで洗浄し、３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩４．９ｇを得た。
３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニルメチルアミン塩酸塩
2011001291.tif 000025
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.52 (2H, br s), 3.88 (2H, s), 6.93 (1H, dd, J = 8.0, 2.0 Hz), 7.02-7.06 (3H, m), 7.14 (1H, dd, J = 7.6, 0.5 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 8.0, 7.6 Hz), 7.57 (2H, d, J = 8.5 Hz).
【００４９】
参考製造例２
３−フルオロベンゾニトリル６０５ｍｇ、３−トリフルオロメトキシフェノール９７９ｍｇ及び炭酸セシウム１．９５ｇをＤＭＦ５ｍｌに加え、２０時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物に希塩酸を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を水酸化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下遠心濃縮して３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）ベンゾニトリル１１００ｍｇを得た。
３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）ベンゾニトリル
2011001291.tif 000026
３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）ベンゾニトリル４１９ｍｇをＴＨＦ１ｍｌに加え、０℃で水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（２．０Ｍ）１ｍｌを滴下し、室温で３時間攪拌した。反応混合物に０℃でエタノール１ｍｌ、水１ｍｌ及び１５％水酸化ナトリウム水溶液１ｍｌを順次滴下した。反応混合物をセライト（登録商標）でろ過し、ろ液を減圧下遠心濃縮して３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン４０１ｍｇを得た。
３−（３−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン
2011001291.tif 000027
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.43 (2H, br s), 3.88 (2H, s), 6.84-6.87 (1H, m), 6.89-6.97 (3H, m), 7.00-7.03 (1H, m), 7.10-7.14 (1H, m), 7.30-7.36 (2H, m).
【００５０】
参考製造例３
３−フルオロベンゾニトリル６０５ｍｇ、４−トリフルオロメトキシフェノール９７９ｍｇ及び炭酸セシウム１．９５ｇをＤＭＦ５ｍｌに加え、８時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物に希塩酸を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を水酸化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下遠心濃縮して３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）ベンゾニトリル１１３０ｍｇを得た。
３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）ベンゾニトリル
2011001291.tif 000028
３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）ベンゾニトリル４１９ｍｇをＴＨＦ１ｍｌに加え、０℃で水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（２．０Ｍ）１ｍｌを滴下し、室温で３時間攪拌した。反応混合物に０℃でエタノール１ｍｌ、水１ｍｌ、１５％水酸化ナトリウム水溶液１ｍｌを順次滴下した。反応混合物をセライト（登録商標）でろ過し、ろ液を減圧下遠心濃縮して３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン３４９ｍｇを得た。
３−（４−トリフルオロメトキシフェノキシ）フェニルメチルアミン
2011001291.tif 000029
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.50 (2H, br s), 3.87 (2H, s), 6.89 (1H, dd, J = 8.1, 1.8 Hz), 6.98-7.02 (3H, m), 7.08-7.11 (1H, m), 7.16-7.20 (2H, m), 7.30-7.34 (1H, m).
【００５１】
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
【００５２】
製剤例１
本発明化合物（１）〜（１５）のいずれか１化合物５０部、リグニンスルホン酸カルシウム ３部、ラウリル硫酸マグネシウム ２部及び合成含水酸化珪素 ４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００５３】
製剤例２
本発明化合物（１）〜（１５）のいずれか１化合物２０部とソルビタントリオレエ−ト １．５部とを、ポリビニルアルコ−ル ２部を含む水溶液 ２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム ０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト ０．１部を含む水溶液 ４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル １０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
【００５４】
製剤例３
本発明化合物（１）〜（１５）のいずれか１化合物２部、カオリンクレー ８８部及びタルク １０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００５５】
製剤例４
本発明化合物（１）〜（１５）のいずれか１化合物５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル １４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ６部及びキシレン ７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
【００５６】
製剤例５
本発明化合物（１）〜（１５）のいずれか１化合物２部、合成含水酸化珪素 １部、リグニンスルホン酸カルシウム ２部、ベントナイト ３０部及びカオリンクレー ６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００５７】
製剤例６
本発明化合物（１）〜（１５）のいずれか１化合物１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 ５０部を含むホワイトカーボン ３５部及び水 ５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。
【００５８】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理
した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
【００５９】
試験例１
ダイコン黒斑病予防効果試験（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｂｒａｓｓｉｃｉｃｏｌａ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ダイコン（品種；早生４０日）を播種し、温室内で５日間生育させた。本発明化合物（１）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記ダイコン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、ダイコン黒斑病菌胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは２４℃、多湿下に１日間置き、さらに温室内で３日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６０】
試験例２
キュウリ灰色かび病予防効果試験（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ  ｃｉｎｅｒｅａ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。本発明化合物（１）、（３）、（７）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌の胞子含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１２℃、多湿下に５日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（３）、（７）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６１】
試験例３
イネいもち病予防効果試験（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ  ｇｒｉｓｅａ）
プラスチックポットに土壌を詰め、イネ（品種；日本晴）を播種し、温室内で１２日間育成させた。本発明化合物（１）〜（５）、（７）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、散布した植物の周囲にイネいもち病罹病葉を有するポットを静置した。全てのイネは夜間のみ多湿下におき、接種５日後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）〜（５）、（７）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６２】
試験例４
キュウリべと病治療効果試験（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｃｕｂｅｎｓｉｓ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。上記ポットにキュウリべと病菌遊走子嚢の水懸濁液を噴霧接種し、２３℃、多湿下に１日間置いた後、風乾し、キュウリべと病感染苗とした。本発明化合物（２）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記キュウリ苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、２３℃の温室内で５日間置き、さらに２３℃多湿下に１日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（２）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６３】
試験例５
トマト疫病予防効果試験（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種：パティオ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（１）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記トマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾した後、トマト疫病菌胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは２３℃、多湿下に1日間置き、さらに温室内で４日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６４】
試験例６
コムギ赤さび病予防効果試験（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｔｒｉｔｉｃｉｎａ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（品種；シロガネ）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本発明化合物（１）、（３）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。５日後、コムギ赤さび病菌の胞子をふりかけ接種した。接種後１８℃、暗黒多湿下に１日間置き、さらに照明下に９日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（３）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６５】
試験例７
キュウリ菌核病予防効果試験（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で
１２日間生育させた。本発明化合物（１）及び（３）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、菌核病菌の菌糸含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１８℃、多湿下に４日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）及び（３）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６６】
試験例８
インゲン菌核病予防効果試験（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、インゲン（品種；長鶉菜豆）を播種し、温室内で８日間生育させた。本発明化合物（７）、（１１）、（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記インゲン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、インゲン菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）の菌糸含有ＰＤＡ培地をインゲン葉面上に置いた。接種後全てのインゲンは夜間のみ多湿下におき、接種５日後に病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（７）、（１１）、（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６７】
試験例９
コムギ葉枯病予防効果試験（Ｓｅｐｔｏｒｉａ  ｔｒｉｔｉｃｉ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（品種；アポジー）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本発明化合物（１）、（３）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ｐｐｍ)にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、２日後にコムギ葉枯病菌胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは１８℃多湿下に３日間置き、さらに照明下に１４日から１８日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（３）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。
【００６８】
試験例１０
キュウリうどんこ病予防効果試験（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ  ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。その後、本発明化合物（１）〜（６）、（８）〜（１４）及び（１５）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記キュウリの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、病原菌の胞子をふりかけ接種した。接種後、２３℃の温室に１０日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）〜（６）、（８）〜（１４）及び（１５）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の３０％以下であった。