(57)【要約】      （修正有）【課題】カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を良好かつ効率的に修正するための修正方法を提供する。【解決手段】カラーフィルタ５の着色層３上に形成されたオーバーコート層４に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥６に欠陥修正用インキ７を塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、
予め実施された欠陥検出検査において検出された、前記オーバーコート層に存在する前記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布し、前記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法。
【請求項２】
前記欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上である溶剤が用いられることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの修正方法。
【請求項３】
前記欠陥修正用インキの粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの修正方法。
【請求項４】
前記欠陥修正用インキには、界面活性剤が含まれていないことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかに記載のカラーフィルタの修正方法。
【請求項５】
前記カラーフィルタが、前記オーバーコート層上に直に配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置に用いられるものであることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載のカラーフィルタの修正方法。
【請求項６】
着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、
前記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する検査工程と、
前記検査工程において検出された前記凹部欠陥を請求項１から請求項５までのいずれかに記載のカラーフィルタの修正方法を用いて修正する凹部欠陥修正工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、
前記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する検査工程と、
前記検査工程において検出された前記凹部欠陥を請求項１から請求項５までのいずれかに記載のカラーフィルタの修正方法を用いて修正する凹部欠陥修正工程と、
前記カラーフィルタと所定の間隙を有するように対向基板を配置し、前記対向基板を貼り合わせる対向基板貼り合わせ工程と、
前記カラーフィルタと前記対向基板との間に液晶を注入し、封止材により封止する液晶封入工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥の修正に用いられる欠陥修正用インキであって、
前記欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上である溶剤が用いられており、
前記欠陥修正用インキの粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内であり、
前記欠陥修正用インキには界面活性剤が含まれていないことを特徴とする欠陥修正用インキ。
【請求項９】
前記欠陥修正用インキが、請求項１から請求項５までのいずれかに記載のカラーフィルタの修正方法に用いられるものであることを特徴とする請求項８に記載の欠陥修正用インキ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶テレビ等に用いられるカラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を修正する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶素子に色分解用カラーフィルタを組み合わせたカラー液晶表示素子が多々提案されている。ここで、カラーフィルタとは、光透過性基板上に形成された赤、緑、青の３原色の画素を一絵素とした多数の絵素から構成されており、表示コントラストを高めるために、各画素間には一定の幅をもつ遮光領域（ブラックマトリクス）、および表示部となる画素とブラックマトリクスの格子状パターンを取り囲むブラックマトリクスからなる額縁が設けられており、さらに保護膜層であるオーバーコートやＩＴＯ透明電極を配しているものもある。このオーバーコート層には、下層を構成する画素、ガラス、および遮光層等との接着性、上層を構成するＩＴＯや配向層との接着性、液晶セルを構成するための封止剤との接着性、画素不純物成分の遮断性、平滑性、耐光性、耐湿熱性、耐溶剤性、耐薬品性、耐熱性、および液晶セルを製造する際の基板貼り合わせ工程における耐圧性、強靱性等の幅広い特性が要求される。
【０００３】
特に、カラーフィルタ上にＩＴＯの蒸着膜等の透明電極が形成されているＴＦＴ液晶表示装置とは異なり、カラーフィルタ上に透明電極を備えないＩＰＳ（In Plane Switching）方式の液晶表示装置においては、カラーフィルタの厳しい表面平滑性、および、カラーフィルタ層に含まれる不純物が液晶中へ溶出することを防止するためのバリアー性が要求されることから、通常、着色層上にオーバーコート層が設けられる。
【０００４】
このようなオーバーコート層は、オーバーコート層形成用の塗工液を印刷法等によりカラーフィルタの着色層上に塗布することにより行われるのが一般的であるが、この際に上記塗工液がはじかれ、膜厚が局部的に薄くなる凹部欠陥がオーバーコート層に生じる場合がある。カラーフィルタの歩留りを向上させるため、オーバーコート層にこのような凹部欠陥が生じた場合、当該凹部欠陥の修正が行われる。
【０００５】
例えば、図４（ａ）に例示するような、基板上１に形成されたブラックマトリックス２の開口部に着色層３が形成され、さらにその上にオーバーコート層４が形成されたカラーフィルタ５の修正を行う場合、オーバーコート層４に生じた凹部欠陥の修正は、着色層の欠陥の修正（例えば引用文献１）と同様に行われる。すなわち、当該凹部欠陥６部分およびその周辺部分のオーバーコート層４をレーザー等によって除去して下層の表面を露出させた後に（図４（ｂ））、オーバーコート層４用の欠陥修正用インキ７を塗布して、除去された欠陥部分を埋めることにより行われる（図４（ｃ））。
【０００６】
凹部欠陥の除去によって生じた、オーバーコート層の膜厚と同じ深さを有する白欠陥内に上記欠陥修正用インキを適切に濡れ広がらせるため、界面活性剤が添加されたオーバーコート層用の欠陥修正用インキが用いられる。しかしながら界面活性剤を含有する欠陥修正用インキを用いた場合、オーバーコート層全体のうち、修正を行った部分にのみ界面活性剤成分が局所的に存在することとなる。そのため、そのようなオーバーコート層上に配向膜等を形成すると、上記界面活性剤成分を含む修正部分が配向膜形成用の塗工液をはじき、配向膜の白欠陥が生じるという不具合が生じる可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１７０４７２公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を良好かつ効率的に修正するための修正方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、適切な欠陥修正用インキを用いることにより、凹部欠陥およびその周辺部分を除去することなく、そのまま上記欠陥修正用インキを塗布した場合でも、上記凹部欠陥を良好に修正することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法を提供する。
【００１０】
本発明のカラーフィルタの修正方法においては、凹部欠陥をレーザー等によって除去することなく、欠陥修正用インキをそのまま塗布するものであるため、欠陥修正を容易かつ良好に行うことができる。
【００１１】
上記発明においては、上記欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上である溶剤が用いられることが好ましい。このような溶剤を用いて欠陥修正用インキを調製することにより、上記欠陥修正用インキを上記凹部欠陥内に良好に濡れ広がらせることができる。
【００１２】
また、上記発明においては、上記欠陥修正用インキの粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。上記欠陥修正用インキの粘度が上記範囲に満たないと、粘度が低すぎ、塗布された凹部欠陥の周辺にまで上記欠陥修正用インキが濡れ広がってしまう可能性がある。一方、上記欠陥修正用インキの粘度が上記範囲を越えると、粘度が高すぎ、上記凹部欠陥内に上記欠陥修正用インキが十分に濡れ広がらない可能性がある。
【００１３】
さらに、上記発明においては、上記欠陥修正用インキには、界面活性剤が含まれていないことが好ましい。界面活性剤が含まれていない欠陥修正用インキを用いることにより、オーバーコート層の修正された部分にのみ界面活性剤成分が局所的に存在し、上記オーバーコート層上に形成される層の塗工液をはじく等の不具合を防止することができる。
【００１４】
上記発明においては上記カラーフィルタが、上記オーバーコート層上に直に配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置に用いられるものであることが好ましい。本発明のカラーフィルタの修正方法によって修正されたカラーフィルタのオーバーコート層は極めて平滑性が高いものであるため、このようなオーバーコート層上に配向膜を形成することにより、配向膜を良好に形成することができるからである。
【００１５】
また、本発明は着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、上記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する検査工程と、上記検査工程において検出された上記凹部欠陥を上記カラーフィルタの修正方法を用いて修正する凹部欠陥修正工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。上記凹部欠陥修正工程において、上記カラーフィルタの修正方法によって上記凹部欠陥を修正することにより、歩留りが高く、高品質なカラーフィルタを製造することができる。
【００１６】
さらに、本発明は着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、上記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する検査工程と、上記検査工程において検出された上記凹部欠陥を上記カラーフィルタの修正方法を用いて修正する凹部欠陥修正工程と上記カラーフィルタと所定の間隙を有するように対向基板を配置し、上記対向基板を貼り合わせる対向基板貼り合わせ工程と、上記カラーフィルタと前記対向基板との間に液晶を注入し、封止材により封止する液晶封入工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供する。上記カラーフィルタの修正方法を用いてカラーフィルタの凹部欠陥を修正することにより、歩留りが高く、高品質な液晶表示装置を製造することができる。
【００１７】
加えて、本発明はカラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥の修正に用いられる欠陥修正用インキであって、上記欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上である溶剤が用いられており、上記欠陥修正用インキの粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内であり、上記欠陥修正用インキには界面活性剤が含まれていないことを特徴とする欠陥修正用インキを提供する。上記物性を有し、界面活性剤を含まない欠陥修正用インキを用いることにより、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を良好に修正することができる。
【００１８】
上記発明においては、上記欠陥修正用インキが、上記カラーフィルタの修正方法に用いられるものであることが好ましい。上記欠陥修正用インキを用いることにより、上記カラーフィルタの欠陥修正方法を容易かつ良好に実施することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のカラーフィルタの修正方法によれば、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を良好かつ効率的に修正することが可能であるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明のカラーフィルタの修正方法の一例を示す概略工程図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの修正方法において好適に用いられる塗布針の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の製造方法の一例を示す概略工程図である。
【図４】従来のカラーフィルタの修正方法の一例を示す概略工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明のカラーフィルタの修正方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、および、欠陥修正用インキについて、それぞれ説明する。
なお、本明細書において（メタ）アクリルはアクリル及びメタクリルを表し、（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタクリレートを表す。また、本明細書において光とは、光反応性官能基に光反応を引き起こさせることが可能な可視および非可視領域の波長が全て含まれ、例えばマイクロ波、可視光、紫外線等の電磁波が全て含まれるが、主に紫外線等が用いられる。
【００２２】
Ａ．カラーフィルタの修正方法
本発明のカラーフィルタの修正方法は、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするものである。
【００２３】
本発明のカラーフィルタの修正方法においては、凹部欠陥をレーザー等によって除去することなく、欠陥修正用インキをそのまま塗布するものであるため、欠陥修正を容易かつ良好に行うことができる。
【００２４】
例えば、図１（ａ）に例示するように、基板上１に形成されたブラックマトリックス２の開口部に着色層３が形成され、さらにその上にオーバーコート層４が形成されたカラーフィルタ５のオーバーコート層４に凹部欠陥６が存在する場合、従来の修正方法においては、上記凹部欠陥６およびその周辺部分のオーバーコート層４を除去した後に修正が行われる。しかしながら本発明においては、図１（ｂ）に例示するように、凹部欠陥６およびその周辺部分を除去することなく（図１（ａ）に例示される状態のまま）、上記凹部欠陥６に欠陥修正用インキ７を塗布し、当該凹部欠陥６を修正する。
【００２５】
本発明の欠陥修正用インキ塗布工程においては、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布し、上記凹部欠陥を修正する。予め実施される欠陥検出検査は、上記凹部欠陥を検出することが可能なものであれば特に限定されるものではないが、例えば、触針式膜厚計（例えばケーエルエー・テンコール株式会社製、商品名：触針式膜厚計Ｐ−１５）を用いてオーバーコート層のプロファイルを測定することにより、凹部欠陥を検出することができる。その他、レーザー顕微鏡などの３次元検出が可能な測定器を用いて測定することもできる。
【００２６】
上記欠陥検出検査において、凹部欠陥の存在が確認された場合は、その凹部欠陥のカラーフィルタ内での位置を測定し、その位置情報に基づき、後述する欠陥修正用インキ塗布工程において欠陥修正用インキの塗布をしてもよい。
【００２７】
本発明においてオーバーコート層の「凹部欠陥」とは、白欠陥等、オーバーコート層の膜厚が部分的に薄い、窪みが形成された領域を意味する。本発明のカラーフィルタの修正方法においては、上述したような凹部欠陥であれば、大きさにかかわらず修正することができる。
【００２８】
上記凹部欠陥の中でも、本発明において修正される凹部欠陥の深さ、すなわち、膜厚方法（ｚ方向）の寸法は０μｍ〜２μｍの範囲内、中でも０．３μｍ〜１．５μｍの範囲内であることが好ましい。また、本発明において修正される凹部欠陥の、オーバーコート層の表面におけるｘ、ｙ方向の寸法は、２０μｍ×２０μｍ〜１００μｍ×１００μｍの範囲内、中でも２０μｍ×２０μｍ〜８０μｍ×８０μｍの範囲内であることが好ましい。現在作製が容易であり、一般的に用いられている塗布針の直径は２０μｍ〜１００μｍ程度であり、修正される凹部欠陥の寸法は上記塗布針の直径と同程度の寸法であることが好ましいからである。また、凹部欠陥の寸法が上記範囲外であると、仕上がりの平滑性を出すことが困難であり、修正後の最終的な検査で不合格となる可能性がある。
【００２９】
また、本発明において、「予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布する」とは、検出された上記凹部欠陥またはその周辺部分をレーザー等によって打ち抜く欠陥除去作業を行わずに、上記欠陥検出検査において検出されたままの状態の凹部欠陥に上記欠陥修正用インキを塗布することを意味する。
以下、本発明における欠陥修正用インキ塗布工程について詳細に説明する。
【００３０】
１．欠陥修正用インキの物性
本発明において用いられる欠陥修正用インキの物性は、上記凹部欠陥内に適切に塗布することができるものであれば特に限定されるものではなく、オーバーコート層の凹部欠陥の修正に一般的に用いられているものを用いることができる。
【００３１】
例えば、本発明においては、上記欠陥修正用インキの粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内、中でも１０ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓの範囲内、特には１５ｍＰａ・ｓ〜３５ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。上記欠陥修正用インキの粘度が上記範囲に満たないと、粘度が低すぎ、塗布された凹部欠陥の周辺にまで上記欠陥修正用インキが濡れ広がってしまう可能性がある。一方、上記欠陥修正用インキの粘度が上記範囲を越えると、粘度が高すぎ、上記凹部欠陥内に上記欠陥修正用インキが十分に濡れ広がらない可能性がある。
【００３２】
上記欠陥修正用インキの粘度は、２５℃において、Ｂ型粘度計（例えばＴＯＫＩＭＥＣ製、商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ  ＴＶ−２０）を用いて、ＢＬアダプター、Ｍ１ローター、又はＭ２ローターを使用して１分間測定することにより求めることができる。
【００３３】
上記範囲の粘度を有する欠陥修正用インキは、欠陥修正用インキに用いられる溶剤の種類を選択すること等により調製することができる。
【００３４】
２．欠陥修正用インキの組成
本発明に用いられる欠陥修正用インキの組成は、上記凹部欠陥内に適切に塗布するための所望の物性が得られるものであれば特に限定されるものではなく、オーバーコート層の凹部欠陥の修正に一般的に用いられるものと同様の組成を有することができる。
【００３５】
中でも、本発明においては、上記欠陥修正用インキには、界面活性剤が含まれていないことが好ましい。界面活性剤が含まれていない欠陥修正用インキを用いることにより、オーバーコート層の修正された部分にのみ界面活性剤成分が局所的に存在し、上記オーバーコート層上に形成される層の塗工液をはじく等の不具合を防止することができる。また、オーバーコート層が界面活性剤成分を含んでいると、オーバーコート層と隣接する層へ上記界面活性剤成分が染み出て、液晶層等の不具合の一因となる場合がある。特に、ＩＰＳ（In Plane Switching）等のように、上記オーバーコート層上に直接配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置においては、上記不具合が発生しやすいため、オーバーコート層が界面活性剤成分を含んでいないことが好ましい。
【００３６】
本発明において、上記欠陥修正用インキに「界面活性剤が含まれない」とは、メガファックＦ１７１、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３（大日本インキ化学工業（株）製）；フロラードＦＣ−４３０、フロラードＦＣ−４３１（住友スリーエム（株）製）；アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、サーフロンＳＣ−１０１、サーフロンＳＣ−１０２、サーフロンＳＣ−１０３、サーフロンＳＣ−１０４、サーフロンＳＣ−１０５、サーフロンＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）等の商品名で市販されているフッ素系界面活性剤、または、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）のようなシリコン系界面活性剤等を上記欠陥修正用インキが含んでいないことを意味する。具体的には例えば、上記欠陥修正用インキが、溶剤成分、反応性官能基を有するモノマー成分、ポリマー成分、開始剤成分のみから成るものとすることができる。
以下、本発明に用いられる欠陥修正用インキに含有され得る各成分について説明する。
【００３７】
（ａ）溶剤
本発明において用いられる欠陥修正用インキに使用できる溶剤としては、特に限定されないが、反応性官能基を有するモノマーやポリマーに対する溶解性又は分散性の良好な溶剤を用いることが好ましく、２種以上の溶剤を用いた混合溶剤であっても良い。
【００３８】
溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、Ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコールなどのアルコール系溶剤；メトキシアルコール、エトキシアルコールなどのセロソルブ系溶剤；メトキシエトキシエタノール、エトキシエトキシエタノールなどのカルビトール系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤；メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート系溶剤；メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテートなどのカルビトールアセテート系溶剤；ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの非プロトン性アミド溶剤；γ−ブチロラクトンなどのラクトン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレンなどの不飽和炭化水素系溶剤；Ｎ−ヘプタン、Ｎ−ヘキサン、Ｎ−オクタンなどの飽和炭化水素系溶剤などの非水系有機溶剤を例示することができる。これらの溶剤の中では、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート系溶剤；メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテートなどのカルビトールアセテート系溶剤；エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系溶剤；メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルなどのエステル系溶剤が特に好適に用いられる。特に好ましくは、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＯＣＯＣＨ３）（商品名：メトキシプロピルアセテート（ダイセル化学工業製））、ＭＢＡ（酢酸−３−メトキシブチル、ＣＨ３ＣＨ（ＯＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ３）、ＤＭＤＧ（ジエチレングリコールジメチルエーテル、ＣＨ３ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３）又はこれらを混合したものを使用することができる。
【００３９】
上記の中でも、本発明においては、上記欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上、中でも４００Ｐａ〜６００Ｐａの範囲内、特には４００Ｐａ〜５００Ｐａの範囲内である溶剤が用いられることが好ましい。上記欠陥修正用インキに用いられる溶剤の蒸気圧が上記範囲に満たないと、蒸気圧が低すぎ、塗布後に時間が経過しても溶剤があまり蒸発しない。そのため、凹部欠陥内に塗布された欠陥修正用インキが流動性を失うまでに時間がかかり過ぎ、生産性が低下する、塗布された欠陥修正用インキが上記凹部欠陥の周辺まで濡れ広がってしまう等の不具合が生じる可能性がある。一方、上記欠陥修正用インキに用いられる溶剤の蒸気圧が上記範囲を越えると、蒸気圧が高すぎ、欠陥修正用インキの塗布後に溶剤が即座に蒸発してしまうため、上記凹部欠陥内に十分に濡れ広がる前に欠陥修正用インキが流動性を失ってしまう可能性がある。
【００４０】
２０℃における蒸気圧が上記範囲内の溶剤としては、３−メトキシブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノン等を挙げることができ、中でも３−メトキシブチルアセテート、メトキシブチルアセテート等が好適に用いられる。
【００４１】
本発明において、２０℃における蒸気圧は、ｕ型圧力計、示唆隔膜圧力計、気体流動法、沸点測定法等を用いることにより測定することができる。また、使用溶剤の化学物質等安全データシート（Material Safety Data Sheet（ＭＳＤＳ））に記載されている沸点のｍｍＨｇをＰａへ算出変換して用いることもできる。
【００４２】
溶剤は、本発明において用いられる欠陥修正用インキ中に２５重量％〜７０重量％の範囲内、中でも２５重量％〜５５重量％の範囲内、さらには３０重量％〜４５重量％の範囲内において配合されることが好ましい。
【００４３】
（ｂ）反応性官能基を有するモノマー
本発明において用いられる欠陥修正用インキは反応性官能基を有するモノマーを有することができる。
本発明において用いられる欠陥修正用インキは、バインダ成分として後述するポリマーと反応性官能基を有するモノマーとの両方を含有していることが好ましい。ポリマーと共に反応性官能基を有するモノマーを含有することにより、従来ポリマーに求められていた粘度調整や塗布後の成膜性や硬化性、被塗工面に対する密着性等の機能を、反応性官能基を有するモノマーとポリマーとの両方で分けることができ、その結果、例えば必ずしもポリマーに硬化性を必要としない等、ポリマーの選択の自由度が高まり、欠陥修正用インキとしての設計の自由度が高まる。従って、反応性官能基を有するモノマーおよびポリマーの種類と量とを調節することによって、粘度等の塗布適性に関係する物性を適切な範囲に調整しながら、バインダ成分の量比も適切な範囲に調整して、基材に対する充分な密着性が得られる。
【００４４】
また、反応性官能基を有するモノマーを含有させることにより、ポリマーのみを含有する場合に比べて、修正部の耐溶剤性や耐熱性、被塗工面に対する密着性を向上させることができる。
【００４５】
さらに、反応性官能基を有するモノマーが一部溶剤の代替となり得るため、上記反応性官能基を有するモノマーを含有させることにより、欠陥修正用インキ中の溶剤含有量を減らすことができ、粘度等の物性を調整するための成分としても用いることができる。このため、溶剤の揮発量が減少し、保存時や使用時にはインキの粘度等の物性安定性が良くなり、インキの塗布後においては溶剤の揮発による体積減少率が小さくなる。体積減少率が小さいため、欠陥部分に少量の欠陥修正用インキを塗布することにより、欠陥部分に形成されるオーバーコート層の膜厚を充分に厚くすることが可能であり、繰り返し塗布する手間がなくなる。また、付着させた欠陥修正用インキの液滴は乾燥前でも体積が小さいので周囲にはみ出し難くなり、新たな突起の形成を回避することができる。
【００４６】
欠陥修正用インキが反応性官能基を有するモノマーを含有する場合、反応性官能基を有するモノマーは、後述するポリマーと共に成膜性や被塗工面に対する密着性を付与するためのバインダ成分を構成し、特に硬化反応性を付与する作用をする。
【００４７】
反応性官能基を有するモノマーは、本発明において用いられる欠陥修正用インキにおいて重合反応の構成単位となり得る化合物であり、例えば、２以上のモノマーが重合したオリゴマーであっても反応性官能基を有し、常温で流動性があるものであれば、本発明において上記モノマーとして用いることができる。
【００４８】
このような反応性官能基を有するモノマーは、単独で又は２種以上混合して用いることができる。
【００４９】
反応性官能基を有するモノマーとして、反応性官能基を１分子内に２以上有する多官能の反応性モノマーを用いる場合には、高い架橋密度が得られ、十分な硬化性を示すので好ましい。
【００５０】
反応性官能基の反応形式は硬化反応であれば特に限定されず、例えば、反応エネルギーの点では光反応又は熱反応のいずれに属するものであってもよいし、活性種の点ではラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、光二量化反応等のいずれに属するものであってもよい。具体的には、例えば、モノマーが反応性官能基としてエチレン性不飽和結合を有する場合には光ラジカル重合及び熱ラジカル重合が可能であり、モノマーが反応性官能基としてエポキシ基を有する場合には熱硬化及び光カチオン重合が可能である。
【００５１】
光反応性のモノマーとしては、エチレン性不飽和結合を有するモノマーが好ましく用いられる。光ラジカル重合性基としてのエチレン性不飽和結合を有するモノマーは、光照射により直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じるものであり、カラーフィルタの欠陥部分に欠陥修正用インキを塗布した後、光照射により短時間にインキを定着させるのに好ましく用いられる。
【００５２】
エチレン性不飽和結合を有するモノマーとして具体的には、次のような多官能アクリレート系のモノマー、すなわち、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ジアリルフタレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートプロピレンオキサイド付加物、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、グリセリンテトラ（メタ）アクリレート、テトラトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、などを例示することができるが、中でも、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが、高い架橋密度が得られ、充分な硬化性を示すので好ましい。
【００５３】
光カチオン重合反応性モノマーとしては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基、チオエーテル基、ビニルエーテル基等を有するモノマーが挙げられる。また、光アニオン重合性モノマーとしては、例えば、電子吸引性基をもつビニル基、環状ウレタン基、環状尿素類、環状シロキサン基等を有するモノマーが挙げられる。
【００５４】
熱反応性の系としては、例えば、エポキシ基と活性水素、環状尿素基と水酸基等の開環付加反応系等を用いることができる。特に好ましくは、経時安定性の点からグリシジル基、脂環式エポキシ基、オキセタニル基を有するモノマー（オリゴマーも含む）と多価カルボン酸無水物又は多価カルボン酸の組み合わせを例示することができる。また、硬化性の点からは、グリシジル基、脂環式エポキシ基、オキセタニル基を有するモノマーと、特許第２６８２２５６号、特許第２８５０８９７号、特許第２８９４３１７号、特開２００１−３５００１０号公報に開示されているようなブロックカルボン酸の組み合わせを使用するのが特に好ましい。
【００５５】
また、グリシジル基、脂環式エポキシ基、オキセタニル基を有するモノマーとしては、常温で液状のノボラック系エポキシ、脂環式エポキシ、カルドエポキシ等を例示でき、例えば、商品名ＢＰＥＦＧ（ナガセケムテックス製）、セロキサイド２０２１Ｐ、３０００、２０００、スチレンオキサイド、エポリードＧＴ３００、ＧＴ４００（以上、ダイセル化学工業製）、エピコート９０１、８０１Ｐ、８０２、８０２ＸＡ、８０６、８０６Ｌ、８０７、８１５、８１９、８２５、８２７、８２８、８１５ＸＡ、８２８ＥＬ、８２８ＸＡ、１５２、６０４、６３０（以上、油化シェルエポキシ製）等を例示することができる。中でも、脂環式エポキシであるエポリードＧＴ４００が、粘度、反応性の点から、好ましい。
【００５６】
エポキシ基を有するモノマーと組み合わせて用いる多価カルボン酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバリル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ジメチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、無水ナジン酸などの脂肪族または脂環族ジカルボン酸無水物；１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族多価カルボン酸二無水物；無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの芳香族多価カルボン酸無水物；エチレングリコールビストリメリテイト、グリセリントリストリメリテイトなどのエステル基含有酸無水物を挙げることができ、特に好ましくは、芳香族多価カルボン酸無水物を挙げることができる。また、市販のカルボン酸無水物からなるエポキシ樹脂硬化剤も好適に用いることができる。
【００５７】
また、エポキシ基を有するモノマーと組み合わせて用いる多価カルボン酸の具体例としては、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテトラカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸などの脂肪族多価カルボン酸；ヘキサヒドロフタル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などの脂肪族多価カルボン酸、およびフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの芳香族多価カルボン酸を挙げることができ、好ましくは芳香族多価カルボン酸を挙げることができる。
【００５８】
これら多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸は、１種単独でも２種以上の混合でも用いることができる。硬化剤の配合量は、エポキシ基を有するモノマー１００重量部当たり、通常は５０重量部〜２００重量部の範囲とする。
【００５９】
また、光反応及び熱反応性モノマーとしては、エチレン性不飽和結合とエポキシ基を有するモノマーが挙げられ、具体的には、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−４，５−エポキシペンチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチルなどの（メタ）アクリレート類；ｏ−ビニルフェニルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルフェニルグリシジルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどのビニルグリシジルエーテル類；２，３−ジグリシジルオキシスチレン、３，４−ジグリシジルオキシスチレン、２，４−ジグリシジルオキシスチレン、３，５−ジグリシジルオキシスチレン、２，６−ジグリシジルオキシスチレン、５−ビニルピロガロールトリグリシジルエーテル、４−ビニルピロガロールトリグリシジルエーテル、ビニルフロログリシノールトリグリシジルエーテル、２，３−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、３，４−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、２，４−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、３，５−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、２，６−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、２，３，４−トリヒドロキシメチルスチレントリグリシジルエーテル、及び、１，３，５−トリヒドロキシメチルスチレントリグリシジルエーテル、脂環式エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６０】
反応性官能基を有するモノマーは、欠陥修正用インキ中に１５重量％〜６５重量％含まれることが好ましく、２０重量％〜５５重量％含まれることが更に好ましく、２５重量％〜４５重量％含まれることが特に好ましい。
【００６１】
（ｃ）ポリマー
本発明において用いられる欠陥修正用インキにおいては、成膜性や被塗工面に対する密着性を付与するためのバインダ成分として、また、インキの状態のときにモノマーと比べて高粘度であることから、インキの粘度等物性を調整するための成分としてポリマーを配合してもよい。本発明において用いられる欠陥修正用インキが上述した反応性官能基を有するモノマーを含有する場合、特にバインダ成分としての機能を上記反応性官能基を有するモノマーと分け合うため、使用できるポリマーの選択肢が広がり、設計の自由度が増す。
【００６２】
本発明において用いられる欠陥修正用インキに使用できるポリマーは、特に限定されるものではなく、使用する溶剤に溶解するものであるか、使用するモノマーに相溶するものであればよい。本発明において用いられる欠陥修正用インキにおいて、溶剤の配合量を少なくし、反応性官能基を有するモノマーに一部溶剤の代替機能を持たせる場合は、使用するモノマーに相溶性が高いものがより好ましい。
【００６３】
ポリマーは、インキの状態のときにモノマーと比べて高粘度であり、粘度を高く調整するのに用いることができ、重量平均分子量は３０，０００以上（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算重量平均分子量）であることが好ましく、５０，０００以上であることがより好ましい。このような場合には、少量で充分な粘度上昇効果を得られる場合が多い。
【００６４】
このようなポリマーは、単独で又は２種以上混合して用いることができる。
【００６５】
また、特に修正しようとするカラーフィルタの欠陥個所に用いられているポリマーと同じ種類のポリマーである方が欠陥修正用インキの修正部位へのなじみ、密着性などの面で好ましい。例えば、カラーフィルタのオーバーコート層に一般的に用いられているポリマーはアクリル樹脂、エポキシ樹脂等であり、これらのポリマーを好ましく用いることができる。
【００６６】
ポリマーは反応性のものでも非反応性のものでも使用できるが、反応性ポリマーを用いる場合には、塗膜を反応硬化させて膜強度を上げることができるので、好ましい。反応性官能基の反応形式は、上記反応性官能基を有するモノマーに例示したものと同様の反応形式が使用可能であり、特に限定されない。
【００６７】
ここで、非反応性ポリマーとしては、例えば、次のモノマーからなる重合体、又は２種以上のモノマーを用いた共重合体：（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、ポリスチレンマクロモノマー、及びポリメチルメタクリレートマクロモノマー、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、α−ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、α−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデニカル（メタ）アクリレート；等を用いることができる。
【００６８】
また、反応性ポリマーとしては、反応性官能基を有するポリマーであればよく、例えば、エチレン性不飽和結合を有するポリマー、エポキシ基を有するポリマー、オキサゾリン基を有するポリマー、環状尿素基を有するポリマー、環状エステル基を有するポリマー、ポリイミド前駆体（ポリアミック酸）、メラミン樹脂等を用いることができるが、安定性と反応性の点から、エチレン性不飽和結合を有するポリマー、エポキシ基を有するポリマーが好ましく用いられる。
【００６９】
エチレン性不飽和結合を有するポリマーとしては、上記エチレン性不飽和結合を含有する多官能アクリレート系のモノマーの１種又は２種以上用いた重合体及び共重合体を用いることができる。その中でも特に、ジアリルフタレートプレポリマー、特開２０００−２３９４９７号公報で示されるポリマーは、熱硬化性の点から、好ましく用いられる。
【００７０】
ポリマーは、欠陥修正用インキ中に１重量％〜２５重量％の範囲内、中でも２重量％〜２０重量％の範囲内、さらには２重量％〜１２重量％の範囲内で配合されることが好ましい。
【００７１】
（ｄ）重合開始剤
【００７２】
反応性官能基を有するモノマーや、反応性ポリマーの反応性を向上させる目的で、本発明に用いられる欠陥修正用インキの製造時に重合開始剤が配合されることが好ましい。
【００７３】
例えば、エチレン性不飽和結合のようなラジカル重合性基を有するモノマー及び／又はポリマーを用いる場合には、通常、ラジカル重合開始剤を添加する。ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。より具体的には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。これらのうちでも、アセトフェノン類、チオキサントン類化合物の開始剤が好ましく用いられ、具体的には、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）２−モルフォリノ−プロパンー１−オン、ジエチルチオキサントンが、感度、酸素低阻害性の点から、本発明において好ましく用いられる。これらは、いずれか一方を単独で、又は、両方を組み合わせて用いることができる。
【００７４】
光カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−４−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−ｐ−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、（η６-ベンゼン）（η５-シクロペンタジエニル）鉄(II)等が例示され、さらに具体的には、ベンゾイントシレート、２，５−ジニトロベンジルトシレート、Ｎ−トシフタル酸イミド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７５】
光ラジカル重合開始剤としても、光カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示され、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス（４−メチルフェニル）スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等の２，４，６−置換−１，３，５トリアジン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７６】
光アニオン重合開始剤としては、例えば紫外線照射によりアミンを発生する化合物、より具体的には、１，１０−ジアミノデカンや４，４’−トリメチレンジピペリジン、カルバメート類及びその誘導体、コバルト−アミン錯体類、アミノオキシイミノ類、アンモニウムボレート類等を例示することができ、市販品としては、みどり化学（株）ＮＢＣ−１０１がある。
【００７７】
重合開始剤は、欠陥修正用インキ中に２重量％〜２０重量％配合することが好ましく、２重量％〜１５重量％配合することが更に好ましく、５重量％〜９重量％配合することが特に好ましい。
【００７８】
（ｅ）その他の添加剤
本発明において用いられる欠陥修正用インキにおいて、反応性官能基を有するモノマーを比較的多量に配合する場合は、得られる欠陥修正用インキのゲル化を防止して保存時の安定性を向上させるために、インキ製造時に重合禁止剤を配合することが好ましい。重合禁止剤としては、特に限定されず、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、中でも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
【００７９】
重合禁止剤は、欠陥修正用インキ中に０．０１重量％〜１重量％の範囲内、中でも０．０１重量％〜０．５重量％の範囲内、さらには０．０１重量％〜０．０５重量％の範囲において配合することが好ましい。
【００８０】
さらに、本発明において用いられる欠陥修正用インキには、他にも、架橋剤等を配合しても良い。架橋剤を使用すると、修正部の耐溶剤性、耐熱性が向上したり、特にシラン系の架橋剤の場合には修正部の密着性を向上させたりすることができる。
【００８１】
架橋剤としては、使用するモノマーやポリマーの硬化に効果があるものなら特に制限はないが、例えばアミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物ないしこれらの縮合物などを好ましく用いることができる。また、アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシラン、あるいはこれらの加水分解物ないし縮合物と、多価カルボン酸あるいは多価カルボン酸二無水物の反応体などの他、金属キレート等も好ましく用いることができる。
【００８２】
架橋剤は、欠陥修正用インキ中に０．１重量％〜５重量％配合することが好ましく、０．１重量％〜３重量％配合することが更に好ましく、０．１重量％〜１．５重量％配合することが特に好ましい。
【００８３】
本発明において用いられる欠陥修正用インキにおける固形分濃度としては、４０重量％〜５５重量％であることが好ましく、４５重量％〜５２重量％がより好ましく、４５重量％〜５０重量％であることが更に好ましい。
【００８４】
固形分中のバインダ成分は、３０重量％〜６０重量％であることが好ましく、３５重量％〜６０重量％がより好ましく、４０重量％〜５５重量％であることが更に好ましい。
【００８５】
なお、ここで固形分濃度とは、溶剤以外のインキ含有物、すなわち反応性官能基を有するモノマー、ポリマー、その他の任意成分の正味の重量のインキ重量に対する重量％のことである。また、固形分中のバインダ成分の濃度は、インキ中に含まれる固形分の重量に対するバインダ成分（例えば反応性官能基を有するモノマーとポリマーの合計量）の重量％で表す。
【００８６】
３．欠陥修正用インキの調製方法
本発明に用いられる欠陥修正用インキの調製方法としては、所望の物性を有する欠陥修正用インキを調製できる方法であれば特に限定されず、各成分をあらかじめ別々に混合してから全体を合わせて混合する方法等を用いることができる。
【００８７】
４．欠陥修正用インキの塗布方法
上記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布する方法としては、ディスペンサによって必要量の欠陥修正用インキを垂らす方法、インクジェットによる方法、または、図２に例示するような先端が平面を形成している針状物（塗布針８）の先端に欠陥修正用インキ７を付着させ、それを凹部欠陥に押しつける方法等がある。より微小な凹部欠陥に対応することができるため、本発明においては上記の方法の中でも、塗布針により凹部欠陥に塗布されることが好ましい。図２に例示するような塗布針８によって欠陥修正用インキ７を塗布する場合、欠陥修正用インキを塗布針に付着させ、欠陥部分に塗布し、適切に濡れ広がらせる必要があるが、上述したような物性および組成を有する欠陥修正用インキを調製することにより、これらの各工程を容易かつ良好に行うことができる。
【００８８】
５．欠陥修正用インキの硬化方法
本発明においては、上記の方法等によって塗布された欠陥修正用インキが欠陥内に濡れ広がった後に紫外線等を照射することにより、欠陥修正用インキを硬化させることができる。例えば、欠陥修正用インキが紫外線硬化樹脂である場合には紫外線光源を用い、欠陥修正用インキが熱硬化樹脂である場合には可視、赤外線光源を用いることができる。
【００８９】
６．用途
上述した本発明のカラーフィルタの修正方法によって修正されたカラーフィルタは、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセント（ＥＬ）ディスプレイ等に用いることができる。中でも、例えばＩＰＳタイプ等、上記オーバーコート層上に直に配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置に用いられるものであることが好ましい。カラーフィルタ上にＩＴＯの蒸着膜等の透明電極が形成されているＴＦＴ液晶表示装置とは異なり、カラーフィルタ上に透明電極を備えないＩＰＳ方式の液晶表示装置においては、カラーフィルタの厳しい表面平滑性が要求される。本発明のカラーフィルタの修正方法によって修正されたカラーフィルタのオーバーコート層は、極めて平滑性が高いものであるため、このようなオーバーコート層の上に配向膜を形成することにより、上記配向膜を良好に形成することができる。
【００９０】
また、上述したように、本発明に用いられる欠陥修正用インキを、界面活性剤を含まないものとすることにより、上記オーバーコート層上に形成される層へ界面活性剤成分が染み出る等の不具合を防止することができる。この点においても、本発明のカラーフィルタの修正方法によって修正されたカラーフィルタは、カラーフィルタ上に透明電極等を有していない、ＩＰＳタイプ等、上記オーバーコート層上に直に配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置に用いられるものであることが好ましい。
【００９１】
Ｂ．カラーフィルタの製造方法
本発明のカラーフィルタの製造方法は、着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、上記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する検査工程と、上記検査工程において検出された上記凹部欠陥を上記カラーフィルタの修正方法を用いて修正する凹部欠陥修正工程とを有することを特徴とするものである。上記凹部欠陥修正工程において、上記カラーフィルタの修正方法によって上記凹部欠陥を修正することにより、歩留りが高く、高品質なカラーフィルタを製造することができる。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。
【００９２】
１．カラーフィルタ形成工程
本発明におけるカラーフィルタ形成工程において形成されるカラーフィルタは、着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタであれば特に限定されるものではなく、基板上にカラーパターンやブラックマトリックス等が形成され、さらにその上にオーバーコート層が形成された一般的なカラーフィルタを公知の方法によって形成することができる。
【００９３】
上記カラーフィルタ形成工程において用いられる透明基板としては、一般的に透明基板として用いられるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば石英ガラス、パイレックス（登録商標）、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を挙げることができる。
【００９４】
また、上記カラーフィルタ形成工程において形成されるカラーフィルタの着色層は、単色からなる場合や、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３色といった複数色のカラーパターンであってもよく、これらが種々のパターン、例えばモザイク状、トライアングル状、ストライプ状等のパターンで形成されるものである。上記カラーフィルタ形成工程におけるカラーパターンの形成方法としては、従来行われている顔料分散法やインクジェット法による印刷法等を用いることが可能であり、本発明においては特に限定されるものではない。
【００９５】
さらに、上記着色層は、画素部を形成する上記カラーパターンの間に配置され、光を遮るために形成されるブラックマトリックスを有していてもよい。上記透明基材上にブラックマトリックスを製造する方法は、特に限定されるものではなく、例えばスパッタリング法、真空蒸着法等により、厚み１０００Å〜２０００Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより形成する方法等を挙げることができる。
【００９６】
また、上記ブラックマトリックスとしては、樹脂バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた層であってもよく、用いられる樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を１種または２種以上混合したものや、感光性樹脂、さらにはＯ／Ｗエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用いることができる。このような樹脂性ブラックマトリックスのパターニングの方法は、フォトリソ法、印刷法等一般的に用いられている方法を用いることができる。
【００９７】
上記着色層上に形成されるオーバーコート層としては、不純物の遮断性、耐光性、平滑性、耐熱性、耐湿熱性、耐薬品性、耐溶剤性、透明性、強靭性等を有するものであることが好ましい。また、本発明においては、特に比抵抗値が１０６Ω・ｃｍ以上であることが好ましい。このようなオーバーコート層を用いることにより、ＩＰＳ用カラーフィルタを液晶表示装置に用いた際、オーバーコート層によっても、遮光部の電界への影響を小さいものとすることができるからである。
【００９８】
このようなオーバーコート層として、具体的にはアクリル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル・エポキシ樹脂、シロキサン樹脂前駆体、シリコーンポリイミド樹脂前駆体等を使用することができる。またさらに、本発明において、上記オーバーコート層は、膨潤率が低いことが好ましい。これは、ＩＰＳ用カラーフィルタが液晶表示装置に用いられる際、オーバーコート層がシール材と直接接する場合があるからである。オーバーコート層の膨潤率を低くする方法としては、オーバーコート層の架橋密度や極性をコントロールする方法が挙げられる。上記架橋密度を向上させる方法としては、構造的に架橋点を多くする方法が挙げられ、例えば多官能アクリル、多官能エポキシ、トリアルコキシシラン等を用いる方法が挙げられる。また、架橋反応を十分に進めるような条件で塗膜形成反応を行う方法を用いてもよく、例えばオーバーコート層が分解や着色等の変質を生じない範囲で、高温で長時間反応させる方法等が挙げられる。また、構造的には芳香族より脂肪族の化合物を用いることが好ましい。
【００９９】
２．検査工程
本工程においては、上記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する。上記凹部欠陥を検出する方法は、上記凹部欠陥を検出することが可能なものであれば特に限定されるものではないが、例えば、触針式膜厚計（例えばケーエルエー・テンコール株式会社製、商品名：触針式膜厚計Ｐ−１５）を用いてオーバーコート層のプロファイルを測定することにより、凹部欠陥を検出することができる。その他、レーザー顕微鏡などの３次元検出が可能な測定器を用いて測定することもできる。
【０１００】
本工程において、凹部欠陥の存在が確認された場合は、その凹部欠陥のカラーフィルタ内での位置を測定し、その位置情報に基づき、後述する欠陥修正用インキ塗布工程において欠陥修正用インキの塗布をしてもよい。
【０１０１】
３．凹部欠陥修正工程
本工程においては、上記検査工程において検出された上記凹部欠陥を、上述したカラーフィルタの修正方法を用いて修正する。本工程において上記凹部欠陥を修正する方法については、上記「Ａ．カラーフィルタの修正方法」の項と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１０２】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した各工程の他に、透明電極を形成する透明電極形成工程、配向層を形成する配向層形成工程等を有していてもよい。これらの工程は、着色層上にオーバーコート層を形成し、オーバーコート層の検査および欠陥の修正を行った後に行われることが好ましい。配向層等は、一般的にこのような機能を有する層を形成する際に使用されている材料を用い、公知の方法により形成することができる。
【０１０３】
Ｃ．液晶表示装置の製造方法
本発明の液晶表示装置の製造方法は、着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、上記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する検査工程と、上記検査工程において検出された上記凹部欠陥を上記カラーフィルタの修正方法を用いて修正する凹部欠陥修正工程と上記カラーフィルタと所定の間隙を有するように対向基板を配置し、上記対向基板を貼り合わせる対向基板貼り合わせ工程と、上記カラーフィルタと前記対向基板との間に液晶を注入し、封止材により封止する液晶封入工程と、を有することを特徴とするものである。上記カラーフィルタの修正方法を用いてカラーフィルタの凹部欠陥を修正することにより、歩留りが高く、高品質な液晶表示装置を製造することができる。
【０１０４】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、まず図３（ａ）に例示するように、基板上１に形成されたブラックマトリックス２の開口部に着色層３が形成され、さらにその上にオーバーコート層４が形成されたカラーフィルタ５の外周部分に、シール材３１を形成し、上記シール材３１上に対向基板３２を配置し、シール材３１を硬化させる（対向基板貼り合わせ工程）。その後、図３（ｂ）に例示するようにシール材３１によって貼り合わせられたカラーフィルタ５と対向基板３２との間に、液晶３３を注入し、封止材（図示せず）によって封止する（液晶封入工程）。
以下、各工程について説明する。
【０１０５】
１．カラーフィルタ形成工程
本発明におけるカラーフィルタ形成工程において形成されるカラーフィルタは、着色層上にオーバーコート層を有するカラーフィルタであれば特に限定されるものではなく、基板上にカラーパターンやブラックマトリックス等が形成され、さらにその上にオーバーコート層が形成された一般的なカラーフィルタを公知の方法によって形成することができる。
【０１０６】
カラーフィルタの構成や、当該カラーフィルタに用いられる材料等については、上記「Ｂ．カラーフィルタの製造方法」の「１．カラーフィルタ形成工程」と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１０７】
２．検査工程
本工程においては、上記オーバーコート層に存在する凹部欠陥を検出する。本工程において上記凹部欠陥を検出する方法等は、上記「Ｂ．カラーフィルタの製造方法」「２．検査工程」と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１０８】
３．凹部欠陥修正工程
本工程においては、上記検査工程において検出された上記凹部欠陥を、上述したカラーフィルタの修正方法を用いて修正する。本工程において上記凹部欠陥を修正する方法については、上記「Ａ．カラーフィルタの修正方法」の項と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１０９】
４．対向基板貼り合わせ工程
本工程においては、上記カラーフィルタと所定の間隙を有するように対向基板を配置し、上記対向基板を貼り合わせる。本発明においてカラーフィルタと、対向基板とを貼り合わせる方法は、両者を所定の間隙を有するように貼り合わせることができるものであれば特に限定されるものではなく、液晶表示装置の製造において一般的な方法によって行うことができる。
【０１１０】
例えば、上記カラーフィルタと、対向基板との貼り合わせは、上記カラーフィルタの外周にシール材を形成し、上記シール材上に対向基板を配置し、上記シール材を硬化させて上記対向基板を貼り合わせることができる。上記シール材の形成方法等は特に限定されるものではなく、例えば一般的な液晶表示装置の製造方法において、シール材を形成する際に用いられるロールコート法、スクリーン印刷法、ディスペンサ吐出法、インクジェット法等を用いることができる。ここで、上記シール材は通常、後述する液晶封入工程で液晶を注入するための液晶注入口をあけて、非有効表示領域の外周に沿って形成される。
【０１１１】
ここで、本工程に用いられるシール材としては、一般的な液晶表示装置に用いられる熱硬化型樹脂や、紫外線硬化型樹脂を用いることができるが、特に紫外線硬化と熱硬化とを併用するシール材とすることが好ましい。
【０１１２】
上記カラーフィルタと貼りあわせる対向基板は特に限定されるものではなく、一般的に液晶表示装置に用いられるものを用いることができる。例えば、上記カラーフィルタ上に配向膜を形成し、当該カラーフィルタと、液晶駆動用電極が設けられた対向基板とを貼り合わせることにより、ＩＰＳ等の横電界型の液晶表示装置とすることができる。また、上記カラーフィルタ上にＩＴＯ等の透明電極を形成し、当該カラーフィルタと、対向電極を有する対向基板とを貼り合わせることにより、ＴＮ等の縦電界型の液晶表示装置とすることができる。
【０１１３】
上記の中でも、本発明において製造される液晶表示装置は、例えばＩＰＳタイプ等、上記オーバーコート層上に直に配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置であることが好ましい。上記凹部欠陥修正工程において修正されたカラーフィルタのオーバーコート層は、極めて平滑性が高いものであるため、上記タイプの液晶表示装置に好適に用いることができるからである。また、修正に用いられる欠陥修正用インキを、界面活性剤を含まないものとすることにより、上記オーバーコート層上に直に形成される配向膜へ界面活性剤成分が染み出る等の不具合を防止することができる。
【０１１４】
５．液晶封入工程
本工程においては、上記カラーフィルタと上記対向基板との間に液晶を注入し、封止材により封止する。本工程における上記カラーフィルタと対向基板との間に液晶を注入する方法としては、一般的なカラーフィルタの液晶表示装置の製造方法に用いられる方法を用いることができ、上記カラーフィルタと対向基板との間で、一部シール材が形成されていない液晶注入口から、液晶を注入することにより行うことができる。
【０１１５】
本工程において、上記カラーフィルタと上記対向基板との間に封入される液晶や、封止材については、一般的な液晶表示装置に用いられるものを用いることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１１６】
Ｄ．欠陥修正用インキ
本発明の欠陥修正用インキは、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥の修正に用いられる欠陥修正用インキであって、上記欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上である溶剤が用いられており、上記欠陥修正用インキの粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内であり、上記欠陥修正用インキには界面活性剤が含まれていないことを特徴とするものである。上記物性を有し、界面活性剤を含まない欠陥修正用インキを用いることにより、カラーフィルタの着色層上に形成されたオーバーコート層に存在する凹部欠陥を良好に修正することができる。
【０１１７】
本発明の欠陥修正用インキには、２０℃における蒸気圧が４００Ｐａ以上、より好ましくは４００Ｐａ〜６００Ｐａ、さらに好ましくは４００Ｐａ〜５００Ｐａの範囲内である溶剤が用いられる。上記欠陥修正用インキに用いられる溶剤の蒸気圧が上記範囲に満たないと、蒸気圧が低すぎ、塗布後に時間が経過しても溶剤があまり蒸発しない。そのため、凹部欠陥内に塗布された欠陥修正用インキが流動性を失うまでに時間がかかり過ぎ、生産性が低下する、塗布された欠陥修正用インキが上記凹部欠陥の周辺まで濡れ広がってしまう等の不具合が生じる可能性がある。一方、上記欠陥修正用インキに用いられる溶剤の蒸気圧が上記範囲を越えると、蒸気圧が高すぎ、欠陥修正用インキの塗布後に溶剤が即座に蒸発してしまうため、上記凹部欠陥内に十分に濡れ広がる前に欠陥修正用インキが流動性を失ってしまう可能性がある。
【０１１８】
上記溶剤の蒸気圧の測定方法や好ましい溶剤の種類等、上記欠陥修正用インキに用いられる溶剤については、上記「Ａ．カラーフィルタの修正方法」の「２．欠陥修正用インキ塗布工程」における「（２）欠陥修正用インキの組成」の「（ａ）溶剤」の項と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１１９】
また、本発明の欠陥修正用インキの粘度は、１０ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓ、中でも１０ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓの範囲内、特には１５ｍＰａ・ｓ〜３５ｍＰａ・ｓの範囲内である。上記欠陥修正用インキの粘度が上記範囲に満たないと、粘度が低すぎ、塗布された凹部欠陥の周辺にまで上記欠陥修正用インキが濡れ広がってしまう可能性がある。一方、上記欠陥修正用インキの粘度が上記範囲を越えると、粘度が高すぎ、上記凹部欠陥内に上記欠陥修正用インキが十分に濡れ広がらない可能性がある。
【０１２０】
上記欠陥修正用インキの粘度の測定方法等、上記欠陥修正用インキの物性については、上記「Ａ．カラーフィルタの修正方法」の「２．欠陥修正用インキ塗布工程」における「（１）欠陥修正用インキの物性」の項と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１２１】
さらに、本発明の欠陥修正用インキには、界面活性剤が含まれていない。界面活性剤が含まれていない欠陥修正用インキを用いることにより、オーバーコート層の修正された部分にのみ界面活性剤成分が局所的に存在し、上記オーバーコート層上に形成される層の塗工液をはじく等の不具合を防止することができる。また、オーバーコート層が界面活性剤成分を含んでいると、オーバーコート層と隣接する層へ上記界面活性剤成分が染み出て、液晶層等の不具合の一因となる場合がある。特に、ＩＰＳ（In Plane Switching）等のように、上記オーバーコート層上に直接配向膜が形成されるタイプの液晶表示装置においては、上記不具合が発生しやすいため、オーバーコート層が界面活性剤成分を含んでいないことが好ましい。
【０１２２】
「界面活性剤が含まれない」欠陥修正用インキの具体例等、上記欠陥修正用インキの組成については、上記「Ａ．カラーフィルタの修正方法」の「２．欠陥修正用インキ塗布工程」における「（２）欠陥修正用インキの組成」の項と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１２３】
上記発明においては、上記欠陥修正用インキが、上記カラーフィルタの修正方法に用いられるものであることが好ましい。すなわち、図１に例示するように、凹部欠陥６およびその周辺部分のオーバーコート層４を除去することなく、検出された凹部欠陥６にそのまま欠陥修正用インキ７を塗布することにより行う修正方法において用いられることが好ましい。上記カラーフィルタの修正方法において、本発明の欠陥修正用インキを用いることにより、上記カラーフィルタの欠陥修正方法を容易かつ良好に実施することができるからである。
【０１２４】
その他、本発明の欠陥修正用インキの詳細や、本発明の欠陥修正用インキの調製方法等については、上記「Ａ．カラーフィルタの修正方法」の項と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１２５】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１２６】
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
下記表１に示す組成を有する欠陥修正用インキを用い、オーバーコート層の凹部欠陥の修正を行った。修正は、塗布針の先端に上記欠陥修正用インキを付着させ、上記塗布針に付着した欠陥修正用インキの液滴を上記オーバーコート層の凹部欠陥と接触させて、上記凹部欠陥に欠陥修正用インキを塗布し、当該領域に紫外線を照射して上記欠陥修正用インキを硬化させることにより行った。
【０１２７】
なお、下記表１には、参考例として、オーバーコート層の形成に用いられる一般的なオーバーコート層形成用塗工液の組成を示す。また、表２に各実施例等に用いられた溶剤の２０℃における蒸気圧、および、欠陥修正用インキの粘度を示す。
【０１２８】
【表１】
2011002692.tif 000003
【０１２９】
【表２】
2011002692.tif 000004
【０１３０】
修正後の上記凹部欠陥領域の電圧保持率、修正後の平滑性、および判定を下記表３に示す。上記電圧保持率は、オーバーコート層の修正された領域と、修正されていない領域とが近い値であることが好ましい。すなわち、参考例として示したオーバーコート層形成用塗工液を用いて形成されたオーバーコート層の電圧保持率は９３％であり、この値に近い値、すなわち８７％以上、中でも９０％以上であることが好ましい。下記表３に各実施例において修正された領域の電圧保持率を示す。
【０１３１】
各実施例において修正された領域の修正後の平滑性を、触針式膜厚計（ケーエルエー・テンコール株式会社製、商品名：触針式膜厚計Ｐ−１５）を用いて確認した。修正個所の凹凸が０．３μｍ未満である場合は「極めて良好」、０．３μｍ〜０．７μｍの場合は「良好」とした際の、各実施例における結果を表３に示す。
【０１３２】
また、上記実施例１〜４において修正されたオーバーコート層上に配向膜形成用塗工液を塗布して配向膜を形成する際に、修正された領域における配向膜形成用塗工液の「ハジキ」の発生の有無を調べた。上記配向膜は、オーバーコート層上に配向膜形成用塗工液（配向膜材料：ＳＥ−７４９２（日産化学工業（株）社製））を、スピンコーターで２０００ｒｐｍにて塗布後プリベーク(８０℃×３分)加熱し、オーブンにて焼成を行なう（２３０℃×３０分）ことにより形成した。その後修正箇所での配向膜のハジキ発生の有無を目視により確認した結果を表３に示す。
【０１３３】
【表３】
2011002692.tif 000005
【符号の説明】
【０１３４】
１  …  基板
２  …  ブラックマトリックス
３  …  着色層
４  …  オーバーコート層
５  …  カラーフィルタ
６  …  凹部欠陥
７  …  欠陥修正用インキ
【図１】
2011002692.tif 000006
【図２】
2011002692.tif 000007
【図３】
2011002692.tif 000008
【図４】
2011002692.tif 000009