(57)【要約】【課題】残留側のドットと消去側のドットとの周波数差を低減して見栄えを良くすることが可能な画像形成装置等を提供する。【解決手段】多数のドットで構成された背景部Ｗと隠し文字部Ｘの一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙Ｍに印刷可能な印刷手段５を備える。前記印刷手段により用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙Ｍへの地紋形成が制御手段１により制御される。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数のドットで構成された背景部と隠し文字部の一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙に印刷可能な印刷手段と、
前記印刷手段により用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙への地紋形成を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記高濃度領域は、該高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより形成される請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記高濃度領域は、該高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより形成される請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
多数のドットで構成された背景部と隠し文字部の一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙に印刷する印刷ステップと、
前記印刷ステップにおいて用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙への地紋形成を制御する制御ステップと、
を備えたことを特徴とする画像形成装置における地紋印刷方法。
【請求項５】
前記高濃度領域は、該高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより形成される請求項４に記載の地紋印刷方法。
【請求項６】
前記高濃度領域は、該高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより形成される請求項４または５に記載の地紋印刷方法。
【請求項７】
多数のドットで構成された背景部と隠し文字部の一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙に印刷する印刷ステップと、
前記印刷ステップにおいて用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙への地紋形成を制御する制御ステップと、
を画像形成装置のコンピュータに実行させるための地紋印刷プログラム。
【請求項８】
前記制御ステップでは、前記高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより、前記高濃度領域を形成する処理をコンピュータに実行させる請求項７に記載の地紋印刷プログラム。
【請求項９】
前記制御ステップでは、前記高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより、前記高濃度領域を形成する処理をコンピュータに実行させる請求項７または８に記載の地紋印刷プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、地紋印刷機能を有する多機能デジタル画像形成装置であるＭＦＰ（Multi Function Peripherals）等の画像形成装置、同装置における地紋印刷方法及び地紋印刷プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コピー機能、プリンタ機能、ファクシミリ機能などの複数の機能を備えた前述したＭＦＰ等の画像形成装置では、地紋における残留画像と消去画像とを印刷可能な地紋印刷機能を備えたものが普及している。
【０００３】
この地紋印刷機能、例えば、カモフラージュ技術を採用したものでは、用紙に対して丸形や線状等の各種形状のドットで構成された地紋となる背景部と、この背景部に予めドットで構成される文字や画像（潜像）等の隠し文字を埋め込んで印刷しておき、この用紙を再度印刷（複写）した際に、前記背景部と隠し文字部の一方である例えば隠し文字部を飛ばして消去側とし、他方である背景部を残留側とすることにより、その飛ばされた隠し文字が浮き上がるようにするものである。
【０００４】
これは、ＭＦＰのスキャナ部で読み取った場合、ＭＦＴ特性からドット再現能力の限界を越えた孤立微小ドットを完全に再現できず、そのドット部分が飛ばされて抜け落ちた状態に表現されるためである。
【０００５】
このような地紋印刷機能を使うことにより、複写物を入手したユーザに対して違法コピーを心理的に抑止する効果が発揮される。
【０００６】
また、地紋画像に情報を埋め込み、装置がその情報を解析することにより、複写を禁止する機能も搭載されているものもあり、閉鎖された環境での違法コピーを抑止する効果がある。
【０００７】
このような地紋印刷において、従来では、残留側のドットと消去側のドットとの双方を、それぞれ均一的なドットサイズ、あるいは階調、周波数で印刷しているが、この場合、残留側と消去側とも境界が目について見栄えが良くない。つまり、残留側と消去側とが識別されやすく、秘匿性が低いという問題があった。
【０００８】
このため、従来、地紋印刷された用紙における残留側のドットと消去側のドットとの境界の見栄えを改善するために、両者の濃度差を少なくする方策が開発されている。
【０００９】
また、残留側のドット間の空白長を検出し、その検出結果に基づいて該残留側のドットの周囲に該残留側のドットよりも小さい第２のドットを配置することにより、残留側のドットと消去側のドットの間の周波数差を低減して見栄えを良くするようにした技術が開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−３１０９８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、従来のように、残留側と消去側との濃度差を低減させたものであっても、残留側と消去側とでは周波数差があり、この周波数差を人間が感じ取るため、やはり、両者の違いから隠し文字を認識してしまうという問題があった。
【００１２】
なお、前述した特許文献１に記載された技術は、上記問題に対し十分な解決策を提供しうるものではなかった。
【００１３】
この発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、地紋印刷された用紙における残留側のドットと消去側のドットの周波数差をさらに低減して見栄えを良くすることが可能な画像形成装置及び該装置における地紋印刷方法を提供し、さらに前記印刷方法を画像形成装置のコンピュータに実行させるための地紋印刷プログラムの提供を課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題は、以下の手段によって解決される。
（１）多数のドットで構成された背景部と隠し文字部の一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙に印刷可能な印刷手段と、前記印刷手段により用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙への地紋形成を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
（２）前記高濃度領域は、該高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより形成される前項１に記載の画像形成装置。
（３）前記高濃度領域は、該高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより形成される前項１または２に記載の画像形成装置。
（４）多数のドットで構成された背景部と隠し文字部の一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙に印刷する印刷ステップと、前記印刷ステップにおいて用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙への地紋形成を制御する制御ステップと、を備えたことを特徴とする画像形成装置における地紋印刷方法。
（５）前記高濃度領域は、該高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより形成される前項４に記載の地紋印刷方法。
（６）前記高濃度領域は、該高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより形成される前項４または５に記載の地紋印刷方法。
（７）多数のドットで構成された背景部と隠し文字部の一方をコピー時に消去側として飛ばし、他方を残留側とすることにより前記隠し文字部を浮かび上がらせるための地紋を、用紙に印刷する印刷ステップと、前記印刷ステップにおいて用紙に印刷される地紋の前記消去側のドット群に、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、濃度の高い高濃度領域が分散状態で形成されるように、用紙への地紋形成を制御する制御ステップと、を画像形成装置のコンピュータに実行させるための地紋印刷プログラム。
（８）前記制御ステップでは、前記高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより、前記高濃度領域を形成する処理をコンピュータに実行させる前項７に記載の地紋印刷プログラム。
（９）前記制御ステップでは、前記高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより、前記高濃度領域を形成する処理をコンピュータに実行させる前項７または８に記載の地紋印刷プログラム。
【発明の効果】
【００１５】
前項（１）に記載の発明によれば、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、前記消去側ドット群に濃度の高い高濃度領域が分散した状態で地紋が印刷されるから、消去側と残留側との周波数差が低減されて印刷状態での両者間の境界が認識されにくくなり、秘匿性の向上を図ることができる。
【００１６】
前項（２）に記載の発明によれば、高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより、前記高濃度領域を容易に形成できる。
【００１７】
前項（３）に記載の発明によれば、高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより、前記高濃度領域を容易に形成できる。
【００１８】
前項（４）に記載の発明によれば、消去側と残留側との周波数差を低減できるから印刷状態での両者間の境界が認識されにくくなり、秘匿性の向上を図ることができる。
【００１９】
前項（５）に記載の発明によれば、高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより、前記高濃度領域を容易に形成できる。
【００２０】
前項（６）に記載の発明によれば、高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより、前記高濃度領域を容易に形成できる。
【００２１】
前項（７）に記載の発明によれば、残留側のドットの配列周期と同じ周期で、前記消去側のドット群に濃度の高い高濃度領域が分散した状態で形成される処理を、画像形成装置のコンピュータに実行させることができる。
【００２２】
前項（８）に記載の発明によれば、高濃度領域におけるドット密度を高濃度領域の周辺部よりも高くすることにより前記高濃度領域を形成する処理を、コンピュータに実行させることができる。
【００２３】
前項（９）に記載の発明によれば、高濃度領域に含まれるドットの階調を高濃度領域の周辺部のドットよりも濃くすることにより前記高濃度領域を形成する処理を、コンピュータに実行させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】この発明の一実施形態に係る画像形成装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図２】（ａ）は地紋を印刷したプリントサンプル画像を示す平面図、（ｂ）はプリントサンプルを再度コピーした画像を示す平面図である。
【図３】（ａ）は従来技術により地紋が印刷されたプリントサンプル画像を拡大して示す平面図、（ｂ）はこの発明の一実施形態に係る画像形成装置により印刷されたプリントサンプル画像を拡大して示す平面図である。
【図４】（ａ）は従来技術において消去側である隠し文字部に用いられる濃い消去ドットのパターンを示す図、（ｂ）は同じく薄い消去ドットのパターンを示す図である。
【図５】残留側である背景部に印字されるドットの例を示し、（ａ）は濃度の薄い領域に配置され情報“０”を表すドットの図、（ｂ）は濃度の濃い領域に配置され情報“０”を表すドットの図、（ｃ）は同じく濃度の薄い領域に配置され情報“１”を表すドットの図、（ｄ）は濃度の濃い領域に配置され情報“１”を表すドットの図である。
【図６】消去側の隠し文字部に用いられるドットのパターンを示すもので、（ａ）はマトリクス内の中心部付近でドット密度を高くすることにより濃度の高い高濃度領域を形成する例を示す図、（ｂ）はマトリクス内の中心部付近でのドット密度は高いがドットの配置を（ａ）よりも粗にすることにより、（ａ）よりも濃度の低い高濃度領域を形成する例を示す図、（ｃ）はマトリクス内の中心部付近でドットの階調を濃くすることにより濃度の高い高濃度領域を形成する例を示す図、（ｄ）はマトリクス内の中心部付近でドットの階調が濃いがドットの配置を（ｃ）よりも粗にすることにより、（ｃ）よりも濃度の低い高濃度領域を形成する例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、この発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２６】
図１は、この発明の一実施形態に係る画像形成装置である前述のＭＦＰの主要部の構成を示すブロック図である。
【００２７】
図１において、このＭＦＰはＣＰＵ１と、記憶部２と、画像合成部３と、印刷部４とを備えている。
【００２８】
前記ＣＰＵ１は、ＭＦＰの全体の動作を統括的に制御するものであり、ＣＰＵの動作プログラムが格納されたＲＯＭや、ＣＰＵの作業領域となるＲＡＭ（いずれも図示せず）とともに、ＭＦＰの制御部を構成する。
【００２９】
前記記憶部２は、例えば文字メモリ２１と、模様メモリ２２と、地紋セキュリティのドット形状メモリ２３と、地紋セキュリティの埋め込み情報メモリ２４と、消去ドット形状メモリ２５とを備えている。
【００３０】
前記文字メモリ２１には、用紙Ｍ（図２）に埋め込む隠し文字部Ｘの形状が記憶されている。この隠し文字部Ｘは、例えば図２（ｂ）に示すような「ＤＲＡＦＴ」の文字からなり、用紙Mがスキャナにより読み取られ印刷工程を経ることにより、隠し文字部「ＤＲＡＦＴ」が飛ばされて（抜かれて）、消去側画像（単に消去側ともいう）となるように設定されている。
【００３１】
前記模様メモリ２２には、隠し文字部Ｘが認識されないように多数のドットで背景部Ｗに形成されるカモフラージュ用模様のデータが記憶されている。カモフラージュ用模様データとしては、この例では、図２（ａ）に示すような波模様が採用されているが、これに限らず、各種の模様の採用が可能である。なお、この背景部Ｗが残留側画像（単に残留側ともいう）となる。
【００３２】
前記地紋セキュリティのドット形状メモリ２３には、背景部Ｗに印字されるドット（残留側構成ドットともいう）Ｄｗの形状データが記憶されている。この実施形態では、セキュリティ等に関する情報も背景部Ｗに埋め込み可能となされており、円形のドットの他、例えば図５（ａ）〜（ｄ）に示すような形状データが記憶されている。図５（ａ）は、濃度の薄い領域に配置され情報“０”を表すドットの図、（ｂ）は濃度の濃い領域に配置され情報“０”を表すドットの図、（ｃ）は濃度の薄い領域に配置され情報“１”を表すドットの図、（ｄ）は濃度の濃い領域に配置され情報“１”を表すドットの図である。
【００３３】
前記地紋セキュリティの埋め込み情報メモリ２４には、対象原稿の背景部Ｗに埋め込む地紋セキュリティ情報等に応じた、図５（ａ）〜（ｄ）に示したような形状のドットＤｗの配列データが記憶されている。
【００３４】
前記消去ドット形状メモリ２５には、消去側である隠し文字部Ｘに打ち込むドット（消
去側構成ドットともいう）Ｄｘの配置データが記憶されている。隠し文字部Ｘは、前記スキャナ部で読み取った時に、ＭＦＴ特性によってぼけて白く飛ぶように、残留側構成ドットＤｗよりも小サイズの多数のドットＤｘにより構成されており、よって、ドット形のスクリーンマトリクスやディザマトリクスで形成されている。そして、前記消去ドット形状メモリ２５には、これらの消去側構成ドットＤｘのドットパターンが記憶されている。
【００３５】
具体的には、図６（ａ）〜（ｄ）のドットパターンが記憶されている。これらのパターンは、後述するように、消去側である隠し文字部Ｘのドット群に、残留側である背景部Ｗのドットの配列周期と同じ（ほぼ同じ場合を含む）周期で、濃度の高い高濃度領域３１、３２を分散状態で形成するためのものである。具体的には、図６（ａ）はマトリクス内の中心部付近でドット密度を高くすることにより濃度の高い高濃度領域３１を形成するためのパターンを、（ｂ）はマトリクス内の中心部付近でのドット密度は高いがドットの配置を（ａ）よりも粗にすることにより、（ａ）よりも濃度の低い高濃度領域３２を形成するためのパターンを示す。（ｃ）はマトリクス内の中心部付近でドットの階調を濃くすることにより濃度の高い高濃度領域３１を形成するためのパターンを示し、（ｄ）はマトリクス内の中心部付近でドットの階調が濃いがドットの配置を（ｃ）よりも粗にすることにより、（ｃ）よりも濃度の低い高濃度領域３２を形成するためのパターンを示す。
【００３６】
前記パターンにおけるスクリーンマトリクスまたはディザマトリクスＳのサイズは、図５の残留側構成ドットＤｗのドットサイズと同じにする。図５では、サイズの略中心にドットが配置されているので、図６のパターンの重心も中心部に置いている。
【００３７】
前記画像合成部３は、これらの各メモリ２１〜２５の情報と入力される画像とを合成し、合成画像を前記印刷部４に送出し、印刷部４は受信した合成画像を用紙Ｍに印字する。
【００３８】
次に、前記画像合成部３による画像合成処理の流れを説明する。この処理は前記ＣＰＵ１の制御に基づいて行われる。
（１）画像処理の位置情報に基づいて、地紋セキュリティの埋め込み情報メモリ２４に記憶されている地紋セキュリティの埋め込み情報内容に応じて、前記地紋セキュリティのドット形状メモリ２３から図５（ａ）（ｂ）または（ｃ）（ｄ）を選択する。例えば、埋め込む情報が“０”であれば、図５（ａ）（ｂ）を選択し、“１”であれば、図５（ｃ）（ｄ）を選択する。
（２）つぎに、模様メモリ２２の記憶内容に応じて、前項（１）で選択した２つのデータから一つを選択する。模様の濃い領域は、図５（ｂ）または（ｄ）を選択し、薄い領域は、図５（ａ）または（ｃ）を選択する。
（３）同じく模様メモリ２２の記憶内容に応じて、消去ドット形状メモリ２５に記憶されているデータを選択する。模様の濃い領域は図６の（ａ）または（ｃ）を選択し、薄い領域は、図６の（ｂ）または（ｄ）を選択する。
（４）文字メモリ２１の記憶内容に応じて、前項（２）及び（３）の結果を選択する。隠し文字部Ｘに対しては、前項（３）の結果を選択し、背景部Ｗのカモフラージュ用模様の領域は、前項（２）の結果を選択する。
（５）入力画像と前項（４）の結果を加算処理する。
【００３９】
つぎに、図２及び図３を用いて、用紙Mに印刷された地紋について説明する。
【００４０】
図２（ａ）は、用紙Mに地紋を印刷したプリントサンプル例を示す。
【００４１】
この例では、波状になっているのが残留側である背景部Ｗとしてのカモフラージュ用模様であり、そのカモフラージュ用模様内に、例えば「ＤＲＡＦＴ」という隠し文字部Ｘが
埋め込まれている。
【００４２】
図２（ｂ）は、図２（ａ）のプリントサンプルを再度コピーした画像を示す。
【００４３】
この例では、隠し文字部Ｘである「ＤＲＡＦＴ」の構成ドットＤｘがスキャナ部4のＭ
ＦＴ特性によって白く飛ばされてしまい、カモフラージュ用模様内に「ＤＲＡＦＴ」の文字を容易に認識することができる。背景部Ｗの波模様を構成する残留側構成ドットＤｗは薄い領域も飛ばされずに印刷されている。
【００４４】
図３（ａ）は、図２（ａ）に示したプリントサンプル例における背景部Ｗと隠し文字部Ｘとの境界部を拡大した場合の従来の構成例を示す。
【００４５】
図３（ａ）の画像における左側領域は、残留側である背景部Ｗのドットパターンを示し、左から２列目の最上段の縦棒状ドットＤｗ１と左から３列目の上から２個の縦棒状ドットＤｗ２は、それぞれ短くなっており、これは、カモフラージュ用模様に対応して淡い（薄い）部分を表現している。
【００４６】
それ以外の長寸の縦棒状ドットと大きい丸形ドットは、カモフラージュ用模様に対応して濃い部分を表現している。これも、カモフラージュ模様に対応して濃淡を表現している。
【００４７】
なお、図３（ａ）の隠し文字部Ｘには、ドットＤｘのパターンとして図４に示すものが用いられている。図４（ａ）は濃度の濃い領域に用いられるパターンであり、（ｂ）は濃度の薄い領域に用いられるパターンである。いずれの場合も、同一形状、同一階調のドットが等間隔で均一に配列されている。
【００４８】
図３（ｂ）は、図２（ａ）に示したプリントサンプル例における背景部Ｗと隠し文字部Ｘとの境界を拡大した場合のこの実施形態の構成例を示す。
【００４９】
右半分の領域の隠し文字部Ｘがこの実施形態の対象部分であり、均一な面積濃度で表現
している図３（ａ）の従来例とは異なっている。
【００５０】
つまり、この実施形態では、残留側である背景部Ｗに配置された残留側構成ドットＤｗと同じ配列周期で、隠し文字部Ｘのドット群に濃度の高い高濃度領域３１、３２が分散状態で形成されている。
【００５１】
このように、残留側構成ドットＤｗの配列周期と同じ周期で、消去側のドット群に濃度の高い高濃度領域３１、３２が分散した状態で地紋が印刷されるから、背景部Ｗと隠し文字部Ｘとの周波数差が低減されて印刷状態での両者間の境界が認識されにくくなり、つまり隠し文字部Ｘが認織されにくくなり、秘匿性の向上を図ることができる。
【００５２】
また、前記残留側構成ドットＤｗには形状及び／またはサイズの異なるものが含まれており、背景部Ｗに濃度の濃い領域と薄い領域があるから、これに応じて前記隠し文字部Ｘの高濃度領域にも濃度差が形成されており、濃度の高い高濃度領域３１と該高濃度領域３１よりも濃度の低い高濃度領域３２が形成されている。
【００５３】
このように、隠し文字部Ｘの高濃度領域３１、３２に濃度差を形成することで、隠し文字部Ｘと背景部Ｗとの周波数差をますます低減することができる
なお、前述したように、濃度の相対的に高い高濃度領域３１は、図６（ａ）または（ｃ）のパターンを用いて形成され、濃度の相対的に低い高濃度領域３２は、図６（ｂ）または（ｄ）のパターンを用いて形成されている。
【００５４】
ところで、この実施形態では、背景部Wであるカモフラージュ用模様に埋め込まれた隠し文字部Ｘがコピーによって飛ばされるように構成した例で説明したが、逆に背景部Ｗで
あるカモフラージュ用模様がコピーによって飛ばされ、埋め込まれた文字が残留側画像となるように構成することも可能である。
【００５５】
また、地紋については、地紋セキュリティに限られるものではなく、ユーザがコピーした際に複写禁止となる地紋についても適用可能ある。
【００５６】
また、残留側構成ロッドＤｗの配列が斜めである場合、図６のスクリーンサイズは、複数の残留側構成ドットＤｗを含むサイズに拡張して設定すことも可能である。
【符号の説明】
【００５７】
２      記憶部
３      画像合成部
４      印刷部
Ｄｗ    残留側構成ドット
Ｄｘ    消去側構成ドット
Ｍ    用紙
Ｓ    ディザマトリクス／スクーリーンマトリクス
Ｗ    背景部（残留側）
Ｘ    隠し文字部（消去側）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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