(57)【要約】【課題】１つの画素セルサイズの１辺が０．１ｍｍを下回るリブ隔壁を備えるフラットパネルディスプレイ用の背面ガラス基板を精度良く製造する方法を提供する。【解決手段】フリットガラスをリブ付背面ガラス基板のリブ隔壁パターン形状を転写した形状を備える金属型枠を用いて成形し、成型フリットガラスを常圧焼成／減圧焼成／常圧焼成の順番で少なくとも１回の減圧焼成を実施してリブ付背面ガラス基板形状物とし、リブ付背面ガラス基板形状物を常圧下で調質処理してリブ付背面ガラス基板を製造する方法を採用する。焼成と調質処理とは、非酸化性ガス置換雰囲気であれば、金属型枠にフリットガラスを充填したまま実施することもできる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
リブ隔壁を備えるフラットパネルディスプレイ用の背面ガラス基板（以下、「リブ付背面ガラス基板」と称する。）を製造する方法であって、以下の工程を含むことを特徴とするリブ付背面ガラス基板の製造方法。
フリットガラス成形工程：  前記リブ付背面ガラス基板が備えるリブ隔壁のパターン形状を転写した形状を備える金属型枠を用いてフリットガラスを成形し、成型フリットガラスを得る工程。
焼成工程：  常圧下の焼成炉内で前記成型フリットガラスを焼成温度まで昇温し、当該焼成温度と圧力とを維持して当該成型フリットガラスを焼成する常圧焼成を施し、その後、当該焼成温度を維持したまま減圧した当該焼成炉内で、当該成型フリットガラスを焼成する減圧焼成を施した後に当該常圧焼成を施す組み合わせの複合焼成を少なくとも１回実施してリブ付背面ガラス基板形状物を得る工程。
調質処理工程：  常圧下の前記焼成炉内で前記リブ付背面ガラス基板形状物に調質処理を施してリブ付背面ガラス基板を得る工程。
【請求項２】
前記焼成工程では、前記焼成温度を前記フリットガラスの軟化温度＋２０℃以上の温度とする請求項１に記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記焼成工程では、前記焼成温度に達するまでの成型フリットガラスの昇温速度を１℃／分〜３０℃／分として焼成を施す請求項１又は請求項２のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記焼成工程では、前記常圧焼成時の圧力を大気圧以上とし、前記減圧焼成時の圧力を７６Ｔｏｒｒ以下として焼成を施す請求項１〜請求項３のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記焼成工程では、前記常圧焼成と前記減圧焼成との合計焼成時間を１０分間〜１２０分間とし、１回あたり５分間〜３０分間の当該減圧焼成を１回〜１０回実施する請求項１〜請求項４のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記調質処理工程では、前記調質処理温度を、前記フリットガラスの転位温度＋（１℃〜５０℃）として１０分間〜３００分間維持する請求項１〜請求項５のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記調質処理工程では、前記リブ付背面ガラス基板形状物の温度を、前記焼成温度から前記調質処理温度までの冷却速度を１℃／分以下として冷却し、その後は前記調質処理温度で所定時間維持し、更に、当該調質処理温度から３０℃までの冷却速度を１℃／分以下として冷却する請求項１〜請求項６のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記焼成工程と前記調質処理工程では前記焼成炉内を非酸化性ガス置換雰囲気とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記焼成工程と前記調質処理工程では、前記フリットガラスを前記金属型枠に充填したまま焼成と調質処理とを施す請求項１〜請求項８のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
前記フリットガラス成形工程では、前記金属型枠が備える線膨張係数の８０％以下の線膨張係数を備えるフリットガラスを用いて成型フリットガラスを成形する請求項９に記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
前記金属型枠には、以下の工程を含むニッケル型枠の作成方法を用いて作成したニッケル型枠を用いる請求項１〜請求項１０のいずれかに記載のリブ付背面ガラス基板の製造方法。
マスター金型準備工程：  前記リブ隔壁パターン形状を転写した形状を備えるマスター金型を準備する工程。
ニッケル鋳型作成工程：  前記マスター金型を用い、前記リブ隔壁のパターン形状を備えるニッケル鋳型を作成する工程。
ニッケル型枠作成工程：  前記ニッケル鋳型を用い、前記リブ隔壁のパターン形状を転写した形状を備えるニッケル型枠を作成する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件発明は、リブ隔壁を備えるフラットパネルディスプレイ用の背面ガラス基板を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近の画像表示装置は、省スペースで配置の自由度が大きいフラットパネルディスプレイが主流になっている。そして同時に、高精細度テレビ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ：以下、「ＨＤＴＶ」と称する。）規格で画像を観賞する機会も増加し、高精細化に対応した機種に対する需要が大きくなっている。そこで、家庭用テレビの分野では、ＨＤＴＶ規格の画像をフルスペックで表示可能な大画面を備える、液晶ディスプレイパネル（以下、「ＬＣＤＰ」と称する。）や、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と称する。）が主流となってきている。
【０００３】
一方、家庭へのパーソナルコンピューター（以下、「ＰＣ」と称する。）の普及により、ＰＣでテレビ画像やＤＶＤ画像を鑑賞可能とするため、ＰＣモニターにも高精細画像の表示機能が求められている。ところが、ＨＤＴＶ規格の画像をフルスペックで表示するためには、ＲＧＢ３色の画素セルで構成される１画素を、縦１０８０ピクセル×横１９２０ピクセル構成で、１つのディスプレイパネル上に作り込む必要がある。即ち、画面サイズが小さくなるほど、小さな画素の作り込みが必要となる。したがって、現状では、画素の小型化が比較的容易なＬＣＤＰが、ＨＤＴＶ規格のフルスペック表示が可能な比較的小型のフラットパネルディスプレイの主流となっている。しかし、ＰＤＰ等についても、小型化と高精細化に対応すべく、コストアップを招かずに精度良くリブ隔壁を形成できる、背面ガラス基板の製造方法が提案されている。
【０００４】
特許文献１には、バリアリブ（リブ隔壁と同義）製造用型の製作方法において、バリアリブの製造コストの低減及び加工性の向上を図る技術が開示されている。具体的には、基材上にバリアリブを形成するための間隔で型材を設け、この基材及び型材の上方からニッケルめっき処理を施し、その後型材を基材から分離することで、この基材上に製造するバリアリブに対応した位置に、ニッケルめっきによって複数の溝部が形成されたバリアリブ用の型を製作している。そして、特許文献１で製造しようとするバリアリブは、背景技術に記載のバリアリブの同等品であり、リブの断面形状におけるトップ幅が０．０４ｍｍ、ボトム幅が０．０８ｍｍ、そして、ピッチが０．１５ｍｍ程度である。即ち、バリアリブに囲まれた１つの画素セルは、約０．１ｍｍ×０．１ｍｍサイズの略正方形である。この時、バリアリブ材料にはガラスとセラミックス粒子に紫外線硬化樹脂を混合したものを用い、バリアリブ用の型に充填したバリアリブ材料に紫外線を照射して硬化・収縮させ、型抜きを容易にしている。そして、型抜き後にバリアリブ材料を焼成して有機材料を燃焼除去し、バリアリブ付ガラス基板としている。
【０００５】
また、特許文献２には、表面積の大きい、複雑なリブ形状を有する格子状リブなどの微細構造体の製造に有用であり、母型として使用するマスター金型からの剥離が容易であり、かつ母型の高い寸法精度を維持しつつ、欠損、破壊、変形などの欠陥のない突起パターン、特に格子状突起パターンを形成することができる転写成形用の型を提供する技術が開示されている。具体的には、高い弾性率を有する硬質材料からなるベースと、ベースによって裏面を支持された、微細構造体の微細構造パターンに対応する形状及び寸法を有するポジ型突起パターンを表面に備えた転写パターン層とを有する転写成形用の型であり、転写パターン層を２液型室温硬化性シリコンゴムで構成している。そして、実施例によれば、上述のバリアリブ転写成形用の型の成形用金型として、縦４００ｍｍ×横７００ｍｍ×厚さ５ｍｍの真鍮板を用い、約３００μｍのピッチで、約２１０μｍの深さ（リブの高さに相当）、約１１０μｍの溝底部幅（リブの頂部幅に相当）及び約２００μｍの溝頂部幅（リブの底部幅に相当）の１８４５本の縦溝（縦リブに対応）と、約５１０μｍのピッチで、約２１０μｍの深さ（リブの高さに相当）、約４０μｍの溝底部幅（リブの頂部幅に相当）及び約２００μｍの溝頂部幅（リブの底部幅に相当）の６０８本の横溝（横リブに対応）を製作している。即ち、バリアリブに囲まれた１つの画素セルは、約０．１ｍｍ×０．３ｍｍサイズの略長方形である。この時、バリアリブ材料にはガラスとセラミックス粒子に光硬化性樹脂を混合したペーストを用い、ガラス基板上に塗布したペーストにバリアリブ用の型を押し当てて型にペーストを充填し、バリアリブ材料に青色光を照射して硬化させて、バリアリブの形状を形成している。そして、型抜き後に焼成して有機材料を燃焼除去し、バリアリブ付ガラス基板としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−６１９４９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９３４７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述した特許文献に開示の技術で形成する１つの画素セルのサイズは、１辺の長さの下限が０．１ｍｍ程度である。そして、この下限長さは、ＰＤＰでプラズマを発生させるためには最低０．１ｍｍ×０．１ｍｍの面積が必要であるという、現状技術の制約でもある。
【０００８】
そして、特許文献１に開示の技術では、リブ隔壁製造用型であるニッケルめっきを形成するための型材（めっきマスク）として、感光性樹脂を使用している。すると、所望のリブ隔壁の高さ（現状では約０．２ｍｍ）を形成するための型材を作成するためには、少なくともリブ隔壁の高さと同等の厚さを備える感光性樹脂を使用することになる。しかし、感光性樹脂にリブ隔壁のパターンを焼き付けるために照射した紫外線等は、例え平行光線を用いても感光性樹脂中で散乱する。そのため、特許文献１の技術を用い、厚さ約０．２ｍｍの感光性樹脂に矩形に近い断面形状を備える溝を形成することは困難である。そして、断面形状におけるトップ幅０．０４ｍｍ及びボトム幅０．０８ｍｍを小さくすれば、形成される型の寸法や形状のバラツキが大きくなる。したがって、微細なリブ隔壁パターンの形状を精度良く作り込むことは困難な技術である。
【０００９】
また、特許文献２に開示の技術は、金型から転写してリブ隔壁転写成形用の型を作成しているため、リブ隔壁転写成形用の型の形状精度には優れている。そして、特許文献２のリブ隔壁転写成形用の型は、リブ隔壁となるガラスペーストの型離れを良くするため、軟質材（実施例ではシリコンゴム）を用いているが、形成するリブ隔壁のピッチを狭くすると、リブ隔壁を形成する部分に相当する、成形用の型が備える溝も狭くなる。すると、光硬化させたガラスペーストの型離れが悪くなり、成形用の型を分離する際にガラスペーストに加わる横向きの応力が大きくなり、硬化したガラスペーストには変形が生じてしまう。即ち、特許文献２に開示の技術も、微細なリブ隔壁パターンの形状を精度良く作り込むことは困難な技術である。
【００１０】
また、上述した２つの技術ではバリアリブ成型材料に、ガラスとセラミックス粒子に光硬化性樹脂を混合したペーストなどを用いている。そして、このバリアリブ成型材料を成形用の型と組み合わせてガラス基板上でリブ隔壁の形状を整え、その後樹脂に光を照射して硬化させ、成形用の型から取り外してから焼成して有機物を除去している。即ち、最終的に得られるリブ隔壁の寸法は、成形用の型の寸法よりも小さくなることが避けられない方法である。更に、有機物除去工程の焼成温度が高くなると、リブ隔壁先端部のガラスが流動化して変形するおそれもある。したがって、光硬化性樹脂等の有機物をバインダーとして用いる方法では、バリアリブが小さくなるほど寸法精度の管理が困難になる。
【００１１】
しかし、より小さな面積のＰＤＰでプラズマを発生させることを目的として、マイクロプラズマ技術の開発への取り組みがなされている。一方、ＰＤＰよりも小さな面積での発光が可能な技術として、電界放射型ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ：以下、「ＦＥＤ」と称する。）も開発途上にある。即ち、ＰＤＰやＦＥＤを小型化するために、現状では最小の画素セルサイズであるとしている０．１ｍｍ×０．１ｍｍよりも小さなサイズでリブ隔壁を精度良く形成できるリブ隔壁の製造方法に対する要求が存在する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
そこで、鋭意研究の結果、本件発明者等は、以下に示すリブ付背面ガラス基板を製造する方法を採用すれば、高精度を維持しながらリブ隔壁の微細化を達成できることに想到したのである。
【００１３】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法：  本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法は、以下の工程を含むことを特徴としている。
【００１４】
フリットガラス成形工程：  リブ付背面ガラス基板が備えるリブ隔壁のパターン形状を転写した形状を備える金属型枠を用いてフリットガラスを成形し、成型フリットガラスを得る工程。
焼成工程：  常圧下の焼成炉内で成型フリットガラスを焼成温度まで昇温し、焼成温度と圧力とを維持して成型フリットガラスを焼成する常圧焼成を施し、その後、焼成温度を維持したまま減圧した焼成炉内で、成型フリットガラスを焼成する減圧焼成を施した後に常圧焼成を施す組み合わせの複合焼成を少なくとも１回実施してリブ付背面ガラス基板形状物を得る工程。
調質処理工程：  常圧下の焼成炉内でリブ付背面ガラス基板形状物に調質処理を施してリブ付背面ガラス基板を得る工程。
【００１５】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程では、焼成温度をフリットガラスの軟化温度＋２０℃以上の温度とすることも好ましい。
【００１６】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程では、焼成温度に達するまでの成型フリットガラスの昇温速度を１℃／分〜３０℃／分として焼成することも好ましい。
【００１７】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程では、常圧焼成時の圧力を大気圧以上とし、減圧焼成時の圧力を７６Ｔｏｒｒ以下として焼成することも好ましい。
【００１８】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程では、常圧焼成と減圧焼成との合計焼成時間を１０分間〜１２０分間とし、１回あたり５分間〜３０分間の減圧焼成を１回〜１０回実施することも好ましい。
【００１９】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、調質処理工程では、調質処理温度を、フリットガラスの転位温度＋（１℃〜５０℃）として１０分間〜３００分間粘性を維持することも好ましい。
【００２０】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、調質処理工程では、リブ付背面ガラス基板形状物の温度を、焼成温度から調質処理温度までの冷却速度を１℃／分以下として冷却し、その後は調質処理温度で所定時間粘性を維持し、更に、調質処理温度から３０℃までの冷却速度を１℃／分以下として冷却することも好ましい。
【００２１】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程と調質処理工程では焼成炉内を非酸化性ガス置換雰囲気とすることも好ましい。
【００２２】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程と調質処理工程では、フリットガラスを金属型枠に充填したまま焼成と調質処理とを施すことも好ましい。
【００２３】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、フリットガラス成形工程では、前記金属型枠が備える線膨張係数の８０％以下の線膨張係数を備えるフリットガラスを用いて成型フリットガラスを成形することも好ましい。
【００２４】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、金属型枠には、以下の工程を含む金属型枠作成方法を用いて作成したニッケル型枠を用いることも好ましい。
【００２５】
マスター金型準備工程：  リブ隔壁パターン形状を転写した形状を備えるマスター金型を準備する工程。
ニッケル鋳型作成工程：  マスター金型を用い、リブ隔壁のパターン形状を備えるニッケル鋳型を作成する工程。
ニッケル型枠作成工程：  ニッケル鋳型を用い、リブ隔壁のパターン形状を転写した形状を備えるニッケル型枠を作成する工程。
【発明の効果】
【００２６】
金属型枠を用いて成形した成型フリットガラスを、常圧焼成後に減圧焼成と常圧焼成とを組み合わせた複合焼成を少なくとも１回実施してから調質処理してリブ付背面ガラス基板を製造する方法を採用すれば、同じ金属型枠を繰り返し用い、１つの画素セルサイズの１辺が０．１ｍｍを大きく下回る、微細なピッチのリブ付背面ガラス基板を、精度良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】実施例１の焼成工程と調質処理工程で設定した温度プロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造形態：  本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法は、フリットガラス成形工程と焼成工程と調質処理工程とを含む製造方法である。以下、工程毎に説明する。
【００２９】
フリットガラス成形工程は、リブ付背面ガラス基板が備えるリブ隔壁のパターン形状を転写した形状を備える金属型枠を用いてフリットガラスを成形し、成型フリットガラスを得る工程である。型枠が金属製であれば、金属型枠の作成には各種の精密加工技術を用いることができるため、同じ形状を繰り返し精度良く作り込むことが可能になる。そして、この工程で用いるフリットガラスは、成型フリットガラスの形状を維持するために、少量のバインダー成分を含むものとしても良い。しかし、バインダー成分量は、少ないほど焼成後の寸法収縮は小さくなるため好ましい。また、成型フリットガラスは、ガラス基板上に形成することもできるが、ガラス基板相当分等を同時に成形しても構わない。この様に、金属型枠を用いてフリットガラスを成形すれば、縦１０８０ピクセル×横１９２０ピクセル構成の画素を１つのディスプレイパネル上に作り込んでも、パネル内及びパネル間でのリブ形状のバラツキが小さいものとなる。そして、金属型枠にフリットガラスを充填する方法については特に制約はなく、均一な充填状態が得られるように定法を用いて実施すれば良い。
【００３０】
焼成工程は、常圧下の焼成炉内で成型フリットガラスを焼成温度まで昇温し、焼成温度と圧力とを維持して成型フリットガラスを焼成する常圧焼成を施し、その後、焼成温度を維持したまま減圧した焼成炉内で、成型フリットガラスを焼成する減圧焼成を施した後に常圧焼成を施す組み合わせの複合焼成を少なくとも１回実施して、リブ付背面ガラス基板形状物を得る工程である。この焼成工程では、常圧下で成型フリットガラスを焼成温度まで昇温し、軟化・流動化したフリットガラスを、減圧下で焼成することによって焼成中のフリットガラスから脱気し、ボイドを減少させる。ところが、焼成炉内を充満しているガスの質量が少ない減圧下で焼成を行うと、焼成炉内の熱容量が小さくなるため、フリットガラスに十分な熱量を与えることが困難になる。そこで、本件発明では、常圧焼成と減圧焼成とを交互に実施する。常圧焼成の間に必要な熱量をフリットガラスに熱伝達して流動性を維持し、減圧焼成で脱気すれば、最終的には良好な焼成状態を得ることができる。その結果、ボイドが少なく、透明性が良好なリブ付背面ガラス基板形状物を得ることができる。この焼成工程では、焼成温度を一定に保ち、微量のガスを焼成炉内に連続注入しながら常圧焼成を実施し、減圧焼成では、その間だけ炉内ガスを吸引して減圧する方法を採用することもできる。
【００３１】
そして、焼成工程では、焼成温度をフリットガラスの軟化温度＋２０℃以上の温度とする。焼成温度は、少なくとも軟化温度以上とすれば、成型フリットガラスを焼成してリブ付背面ガラス基板形状物とすることは可能である。ところが、軟化温度付近ではフリットガラスの流動化が不十分で、ボイドが残留したり、良好な融着状態が得られない場合がある。しかし、焼成温度をフリットガラスの軟化温度＋２０℃以上の温度とすれば、フリットガラスの流動が良好になるため、フリットガラスから脱気してボイドを減少させると同時に良好な融着状態を得ることができる。その結果、実用上十分な機械強度を備え、透明性が良好なリブ付背面ガラス基板を得ることができる。ここで、焼成温度の上限に制約はないが、あまりにも高温にすると、金属型枠から外して焼成する場合には、鋭角になるように設計したコーナー部等がフリットガラスの流動化により丸みを帯びてしまう現象が見られる。また、エネルギーの無駄遣いでもあるため、フリットガラスの軟化温度＋１００℃程度を上限温度に設定することが好ましい。尚、本件出願では、上述した焼成温度・調質処理温度等は焼成炉内の雰囲気温度としていることを断っておく。
【００３２】
また、焼成工程では、焼成温度に達するまでの成型フリットガラスの昇温速度を１℃／分〜３０℃／分とする。焼成温度に達するまでの成型フリットガラスの昇温速度が１℃／分を下回っても、その後の工程で異常は発生しないが、工業的な生産性が劣るため好ましくない。一方、焼成温度に達するまでの成型フリットガラスの昇温速度を３０℃／分を超えて加熱すると、成型フリットガラス内の温度分布が大きくなり、成型フリットガラスを型枠から外した状態で焼成すると、部分的に過熱が発生して形状の維持が困難になったり、得られるリブ隔壁の形状バラツキが大きくなったりする場合があるため好ましくない。上記から、安定的した生産性と品質とを両立させるためには、焼成温度に達するまでの成型フリットガラスの昇温速度を５℃／分〜２０℃／分とすることがより好ましい。
【００３３】
また、焼成工程では、常圧焼成時の圧力を大気圧以上とし、減圧焼成時の圧力を７６Ｔｏｒｒ以下として焼成する。ところで、上述したフリットガラス成形工程で得られる成型フリットガラスは、通常は大気圧下で成形することが多く、内部に空気を含んでいるものである。そして、焼成炉に投入する際に成型フリットガラスの内部と外部との気圧差が大きいと、空気の流れにより成型フリットガラスが変形する場合があるため好ましくない。したがって、常圧焼成では、少なくとも軟化温度に達するまでの昇温時の圧力は大気圧とする。一方、焼成温度に達すればフリットガラスの融着状態が得られているため、加圧状態として焼成炉内の熱容量を大きくすることもできる。そして、減圧焼成は、軟化したフリットガラスから脱気してボイドを減少させることを目的としているため、圧力は７６Ｔｏｒｒ以下で低いほど脱気の効果は得られる。しかし、圧力が低すぎる場合には、前述のように、焼成炉内の熱容量が小さくなる。したがって、フリットガラスの流動化を良好な状態で維持し、１０Ｔｏｒｒ程度の減圧下で所定時間脱気することが好ましい。
【００３４】
更に、焼成工程では、常圧焼成と減圧焼成との合計焼成時間を１０分間〜１２０分間とし、１回あたり５分間〜３０分間の減圧焼成を１回〜１０回実施する。常圧焼成と減圧焼成とのバランスと合計焼成時間とを最適に設定すれば、十分な脱気によってボイドの除去ができるため、実用上十分な機械強度を備え、透明性が良好なリブ付背面ガラス基板を得ることができる。しかし、常圧焼成と減圧焼成との合計焼成時間が１０分間を下回ると、得られるリブ付背面ガラス基板形状物に供給熱量が不足した部分が存在し、フリットガラスの流動化が不十分な部位が存在してしまう場合がある。すると、流動化が不十分な部分には残留するボイドも多くなって脆弱となり、リブ付背面ガラス基板に必要な機械強度が保てなくなるため好ましくない。一方、常圧焼成と減圧焼成との合計焼成時間を１２０分間以上としても得られるリブ付背面ガラス基板形状物の温度均一性はそれ以上改善されず、エネルギーの無駄使いとなる。更に、鋭角形状部などが丸みを帯びる傾向が見られるようになるため好ましくない。
【００３５】
そして、１回あたりの減圧焼成時間が５分間を下回ると、フリットガラスから十分に脱気できずにボイドが残存する場合があるため好ましくない。一方、１回あたりの減圧焼成時間を３０分間を超えて実施すると、リブ付背面ガラス基板形状物の温度が低下する傾向が見られるようになり、フリットガラスから脱気してボイドを減少させる効果にも影響が出るため好ましくない。そして、減圧焼成は、焼成温度、減圧焼成圧力と時間などのバランスがフリットガラスとマッチングしていれば、合計焼成時間内に１回施せば良い場合もある。但し、リブ隔壁の厚さ、フリットガラスの軟化温度、そして軟化したフリットガラスの粘度等を考えると、合計時間内に５回程度の減圧焼成を施せば、脱気によるボイドの削減効果は飽和に達してしまう。したがって、ボイドを有効的に削減するためには、具体的に使用するフリットガラスの種類別に予め実験し、焼成温度、減圧焼成圧力、合計焼成時間と減圧焼成の時間と回数とを最適化しておけば、加工コストをミニマイズできるため好ましい。
【００３６】
そして、焼成工程では焼成炉内を非酸化性ガス置換雰囲気として成型フリットガラスを焼成する。フリットガラスは、大気雰囲気中で焼成しても透明なガラスを得ることができるものである。しかし、フリットガラスを金属型枠に充填したまま焼成する場合があることを考えると、金属型枠の酸化を防止するためには、非酸化性ガス置換雰囲気で実施することが好ましい。また、非酸化性ガス置換雰囲気とする場合には、熱容量の大きな非酸化性ガスを用いると、熱伝達が良好になるためより好ましい。尚、本件出願では、「非酸化性ガス」の表示を、不活性元素ガスや窒素ガスなど、高温においても金属型枠を酸化することのないガスを総称する言葉として用いている。
【００３７】
調質処理工程は、常圧下の焼成炉内でリブ付背面ガラス基板形状物に調質処理を施してリブ付背面ガラス基板を得る工程である。上述のように、焼成工程を経たリブ付背面ガラス基板形状物は、一旦流動状態となっているため、冷却過程で生じる温度ムラにより内部歪みが存在している。内部歪みが存在するリブ付背面ガラス基板形状物は、そのまま室温まで冷却するとクラックが入ったり変形したりすることになり、そこまでに至らなくても脆いものとなる。したがって、リブ付背面ガラス基板形状物には調質処理を施す。そして、常圧下で調質処理を施すと、対流伝熱により温度分布が小さな状態を維持しやすく、内部歪みが解放されやすいため好ましい。
【００３８】
そして、調質処理工程では、調質処理温度を、前記フリットガラスの転位温度＋（１℃〜５０℃）として１０分間〜３００分間粘性を維持する。転位温度よりも低い温度での調質処理は、リブ付背面ガラス基板形状物を数日間単位で維持しても内部歪みを解放することは困難であるため好ましくない。一方、転位温度よりも５０℃以上高い温度で調質処理を施すと、調質処理後の冷却過程で内部歪みが再度生じてしまうため好ましくない。したがって、調質処理温度は、粘性を維持するように、転位温度よりも高温側で、冷却時に内部歪みを生じにくい、（転位温度＋２℃）〜（転位温度＋１０℃）程度の範囲とすれば処理時間を短くできるのでより好ましい。しかし、この好ましい温度で調質処理を施しても、維持時間が１０分間を下回ると、リブ付背面ガラス基板形状物の全体の温度が均一になってからの維持時間が短すぎ、内部歪みの解放が十分にできない場合があるため好ましくない。一方、維持時間３００分間を超えて調質処理を施しても品質面での不都合は発生しないが、生産性が低下し、温度を維持するために必要なエネルギーの無駄使いとなるため好ましくない。
【００３９】
また、調質処理工程では、リブ付背面ガラス基板形状物の温度を、焼成温度から調質処理温度までの冷却速度を１℃／分以下として冷却し、その後は調質処理温度で所定時間粘性を維持し、更に、調質処理温度から３０℃までの冷却速度を１℃／分以下として冷却する。ところで、長時間同一温度に維持しているリブ付背面ガラス基板形状物は、ほぼ均一な温度に加熱されているが、温度が変化している過程のリブ付背面ガラス基板形状物には温度分布が存在する。そして、３０℃を超える温度から急激に室温まで冷却すると、最高温度部位と最低温度部位との温度差が大きくなり、クラックが発生する場合があるため好ましくない。
【００４０】
しかし、冷却速度を１℃／分以下とすれば、温度差が小さな温度分布となり、クラックが発生しにくいため好ましい。また、リブ付背面ガラス基板形状物の温度が３０℃以下になっていれば、室温との温度差は小さく、冷却が緩やかとなってクラックが発生することはない。更に、クラックの発生防止の観点からは、リブ付背面ガラス基板のサイズが大きくなるほど冷却速度を遅くすることが好ましい。例えば、４０インチを超える画面サイズでは０．５℃／分程度とする等である。一方、冷却速度の下限については特に制限はなく、工業的な生産性と品質とを勘案して決定すれば良い。
【００４１】
そして、調質処理工程では、焼成炉内を非酸化性ガス置換雰囲気としてリブ付背面ガラス基板形状物を調質処理する。調質処理を非酸化性ガス置換雰囲気で実施するのは、フリットガラスを金属型枠に充填したまま焼成した場合には、そのまま調質処理することを考慮している。したがって、焼成工程の説明と重複するので、ここでの説明は省略する。
【００４２】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、焼成工程と調質処理工程では、フリットガラスを金属型枠に充填したまま焼成と調質処理とを施す。フリットガラスを金属型枠に充填したまま焼成と調質処理とを施すのであれば、バインダーとして有機物を用いる必要がない。そして、フリットガラスの焼成温度を高めに設定したり、焼成時間を長く設定すると、フリットガラスの流動量は大きくなる。この時、フリットガラスと金属型枠とが接触した状態を維持していると、得られるリブ付背面ガラス基板のリブ形状は金属型枠に沿った形状、即ち設計通りの形状となる。したがって、型離れの良好なフリットガラスと金属型枠との組み合わせを選択すれば、従来の製造方法では達成できなかった形状精度を備えるリブ隔壁を形成することができる。
【００４３】
そして、フリットガラス成形工程では、前記金属型枠が備える線膨張係数の８０％以下の線膨張係数を備えるフリットガラスを用いて成型フリットガラスを成形する。本来、このフリットガラス成形工程に投入するフリットガラスには特段の制限はなく、軟化温度、転移温度、焼成後の透明性や線膨張係数などを指標にして選定することができる。なお、ここではフリットガラスに限定して記載しているが、フリットガラスと同等の熱的特性を備えるガラス粉であれば同様の加工が可能であることを断っておく。しかし、フリットガラスを金属型枠に充填したまま焼成する場合には、調質処理後にリブ付背面ガラス基板を金属型枠から分離する操作が必要になる。この時の型離れの善し悪しは、リブ付背面ガラス基板と金属型枠との間の寸法差の大小、表面粗さや離型剤を使用するか否かで大きく変わってくる。これら型離れを良好なものとする要因として、型離れに必要な最小限の寸法差を確保するのであれば、焼成したフリットガラスの線膨張係数が型枠の作成に選定した金属の線膨張係数の８０％以下とすることが好ましい。尚、上述の内容は、金属型枠が備える線膨張係数の８０％を超える線膨張係数を備えるフリットガラスでは、金属型枠に充填したまま焼成することができないことを示すものではない。調質処理が終了した後にフリットガラスと金属型枠との間に離型剤を浸透させる方法等を用いれば、型離れが改善されることは上述の通りであり、目的に応じて最適な工法を選択することができる。
【００４４】
本件発明に係るリブ付背面ガラス基板の製造方法においては、金属型枠には、以下の工程を含む金属型枠作成方法を用いて作成したニッケル型枠を用いる。ニッケルは表面に不働態膜を形成するために酸化の進行が緩やかであり、常温であれば大気中に保管しておいても繰り返し使用できる。また、ニッケル皮膜は、電解めっきと無電解めっきのいずれの手法を用いて形成してもつき廻り性が良好であり、狙いの表面形状を得やすいという特徴を備える。更に、ニッケルの表面にバリア層を形成して更にニッケルめっきを施し、ニッケルめっき層を剥離する技術も開発されており、モールド転写法等に活用されている。そのため、後述するマスター金型形状を精確に反映した金属型枠を得るのが容易であるため、ニッケルは精度の良い金属型枠を繰り返し低コストで作成する目的には最適な素材である。
【００４５】
マスター金型準備工程では、リブ隔壁パターン形状を転写した形状を備えるマスター金型を準備する。マスター金型の製作には、精密金型の製造に用いる放電加工やマイクロマシンを用いる方法、微細加工に用いられるＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）やＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ）を用いる方法など、各種手法を用いることができる。例えば、ＲＩＥを用いて加工すれば、その加工精度は数十Åオーダーにすることも容易であるため、最終的に得られるリブ付背面ガラス基板の形状精度は従来比、飛躍的に向上したものとなる。また、マスター金型はニッケル鋳型の作成に用いるが、リブ付背面ガラス基板はニッケル鋳型を用いて作成するニッケル型枠を繰り返し使用するため、マスター金型を繰り返し頻繁に使用することはない。したがって、マスター金型は、実用上の支障が現れるまでの耐用年数が長く、製作費用面での制約は小さいものである。一方、マスター金型は必ずしも金属製である必要はなく、シリコンやガラスブロックを用いて製作することもでき、耐用期間次第では、エンジニアリングプラスチックスを用いて製作することもできる。
【００４６】
ニッケル鋳型作成工程では、マスター金型を用い、リブ隔壁のパターン形状を備えるニッケル鋳型を作成する。このニッケル鋳型作成工程では、特開２００５−１２０３９２号公報に開示されているメルテックス株式会社の技術を用いることができる。特開２００５−１２０３９２号公報に開示の方法は、マスター金型の表面に離型剤膜を成膜するステップと、離型剤膜に無電解めっき用触媒を付与するステップと、無電解ニッケルめっきステップとニッケル電鋳ステップとで構成されている。
【００４７】
具体的には、離型剤膜の成膜にはアミノ系シランカップリング剤を用い、以降のステップでは公知のニッケルめっき技術を適用できる。例えば、離型剤膜の成膜には、アミノ系シランカップリング剤として日本ユニカー（株）製Ａ−１１００（γ−プロピルトリエトキシシラン）を用い、１０ｇ／Ｌの水溶液に約２分間浸漬する。そして、無電解ニッケルめっき用の触媒付与ステップではメルテックス株式会社製メルプレートアクチベータ４４０を用い、２分間程度浸漬して水洗する。その後、無電解ニッケルめっきステップではメルテックス株式会社製メルプレートＮＩ−８６７を７０℃程度として約５分間浸漬してニッケルを析出させる。そして、ニッケル電鋳ステップでは、メルテックス株式会社製メルプレートＥＦ−２２０１を用い、電流密度１０Ａ／ｄｍ２程度で必要なニッケル皮膜厚さが得られるまで所定時間電解し、マスター金型から分離すればニッケル鋳型を得ることができる。
【００４８】
ニッケル型枠作成工程では、上記ニッケル鋳型を用い、リブ隔壁のパターン形状を転写した形状を備えるニッケル型枠を作成する。このニッケル型枠作成工程は、上述したニッケル鋳型作成工程で用いたマスター金型に代えて、上記で作成したニッケル鋳型を使用する以外はニッケル鋳型作成工程と同様であり、説明が重複するため省略する。
【００４９】
上述の工程で作成したニッケル型枠は、マスター金型の形状をほぼ忠実に再現しており、寸法の違いはあっても数ｎｍレベルとなる。したがって、ニッケル型枠は、リブ付背面ガラス基板をほぼ理想形状に作り込むのに好適な金属型枠である。
【００５０】
ところで、金属ニッケルは６００℃付近で加熱すると機械強度の低下が見られるため、上記実施形態は、フラットパネルディスプレイ用背面ガラス基板の製造で一般的に用いられている、軟化温度が４００℃前後の低融点フリットガラスを用いる場合を意識して説明している。しかし、ニッケル型枠をニッケル合金で作成すると、型枠の耐熱性が良好となる。例えば、リンの含有量を６％前後に調整したＮｉ−Ｐ合金のニッケル型枠を作成し、一旦７５０℃付近で加熱すれば、機械強度が大きく、耐熱性に優れたニッケル型枠が得られる。したがって、ニッケル合金で作成したニッケル型枠を用いれば、低融点フリットガラスに限らず、軟化温度が６５０℃前後の、低温焼成ガラス基板用途やセラミックスパッケージ用途などで用いられるガラス粉（フリットガラス）を用いることもできることを断っておく。そして、高温焼成が可能になれば、フリットガラスの選択肢が増えることにより、ガラス基板の無鉛化の達成も容易になる。
【００５１】
以下に実施例と比較例とを示し、本願発明をより具体的に説明する。尚、実施例及び比較例では、軟化温度、転移温度及び線膨張係数が異なる４種類のフリットガラスを選択してリブ付背面ガラス基板を作成した。
【実施例１】
【００５２】
［ニッケル型枠の作成］
実施例１では、正方形のピッチが４００μｍ（Ｌ／Ｓ＝２００μｍ／２００μｍ）、高さが１００μｍ、低面厚さが１００μｍのリブ隔壁を２ｍｍ×２ｍｍの面積内に隣接配置したリブ付背面ガラス基板を作成した。ニッケル型枠のベースとなるマスター金型は、単結晶シリコンを素材に用い、ＲＩＥで加工して製作した。このマスター金型を用いてニッケル鋳型を作成する工程と、ニッケル鋳型を用いてニッケル型枠を作成する工程とでは、上述した特開２００５−１２０３９２号公報に開示の実施例１の方法をそのまま適用し、型枠の底部厚さが５０μｍのニッケル型枠を作成した。そして、後に示す実施例２以降と比較例でもここで作成したニッケル型枠を繰り返し使用した。したがって、以降の実施例と比較例の説明では、ニッケル型枠に関する説明は重複するため省略する。
【００５３】
［リブ付背面ガラス基板の作成］
実施例１では、フリットガラスに軟化温度が４１８℃、転移温度が３４８℃、線膨張係数（３０℃−２８０℃）が９７×１０−７／℃の旭テクノガラス（株）製ＡＦ１０３を用い、フリットガラスをニッケル型枠に充填してそのまま室温で卓上真空・ガス置換炉（ＫＤＦ−７５：株式会社デンケン製）に投入した。その後、焼成炉の内部を窒素ガス置換雰囲気として１ｍｌ／秒の流量で窒素ガスを流入させながら大気圧を維持し、昇温速度１０℃／分で焼成温度４７０℃まで昇温した。焼成温度に到達した後、［常圧焼成：１０分間］／［減圧焼成：１０分間］／［常圧焼成：１０分間］／［減圧焼成：１０分間］／［常圧焼成：１０分間］の焼成を合計６０分間施した。尚、上述した減圧焼成の時間は、窒素ガスを流入させたまま真空ポンプで排気し、焼成炉内の圧力が１０Ｔｏｒｒ以下になってから維持した時間である。
【００５４】
焼成が終わると、大気圧を維持したまま冷却速度１℃／分で調質処理温度３５０℃まで冷却した。調質処理温度に達した後は、調質処理温度を１２０分間維持して調質処理を施し、その後、冷却速度１℃／分で３０℃以下まで冷却し、リブ付背面ガラス基板を作成した。得られたリブ付背面ガラス基板にはボイドは観察されず透明性は良好であり、クラックの発生もなく、金属型枠からの型離れも良好であった。使用したフリットガラスの特性を後の表１に、焼成後冷却までの試験条件を後の表２に、調質処理後の試験条件と作成したリブ付背面ガラス基板の評価結果とを後の表３に示す。
【実施例２】
【００５５】
［リブ付背面ガラス基板の作成］
実施例２では、フリットガラスに軟化温度が３４０℃、転移温度が２９５℃、線膨張係数（３０℃−３００℃）が１１８×１０−７／℃の旭テクノガラス（株）製Ｔ４３６を用い、実施例１と同様にしてフリットガラスをニッケル型枠に充填し、そのまま室温の焼成炉に投入した。その後の焼成工程と調質処理工程では、焼成温度を３９０℃、調質処理温度を３００℃に設定した以外は実施例１と同様にしてリブ付背面ガラス基板を作成した。得られたリブ付背面ガラス基板は、実施例１で得られたリブ付背面ガラス基板同様ボイドは観察されず透明性は良好であり、クラックの発生もなく、金属型枠からの型離れも良好であった。使用したフリットガラスの特性を後の表１に、焼成後冷却までの試験条件を後の表２に、調質処理後の試験条件と作成したリブ付背面ガラス基板の評価結果とを後の表３に示す。
【実施例３】
【００５６】
［リブ付背面ガラス基板の作成］
実施例３では、フリットガラスに軟化温度が３６５℃、転移温度が３１８℃、線膨張係数（３０℃−３００℃）が１１０×１０−７／℃の旭テクノガラス（株）製Ｔ０１５を用い、実施例１と同様にしてフリットガラスをニッケル型枠に充填し、そのまま室温の焼成炉に投入した。その後の焼成工程と調質処理工程では、焼成温度を４２０℃、調質処理温度を３２０℃に設定した以外は実施例１と同様にしてリブ付背面ガラス基板を作成した。得られたリブ付背面ガラス基板は、実施例１で得られたリブ付背面ガラス基板同様ボイドは観察されず透明性は良好であり、クラックの発生もなく、金属型枠からの型離れも良好であった。使用したフリットガラスの特性を後の表１に、焼成〜焼成後冷却までの試験条件を後の表２に、調質処理後の試験条件と作成したリブ付背面ガラス基板の評価結果を後の表３に示す。
【比較例】
【００５７】
〔比較例１〕
［リブ付背面ガラス基板の作成］
比較例１では、リブ付背面ガラス基板形状物を焼成温度から調質処理温度まで冷却する速度を１０℃／分とした以外は、実施例１と同様にしてリブ付背面ガラス基板を作成した。得られたリブ付背面ガラス基板にはボイドは観察されず透明性は良好であった。しかし、クラックの発生があり、良好な仕上がり状態は得られなかった。使用したフリットガラスの特性を後の表１に、焼成〜焼成後冷却までの試験条件を後の表２に、調質処理後の試験条件と作成したリブ付背面ガラス基板の評価結果とを後の表３に示す。
【００５８】
〔比較例２〕
［リブ付背面ガラス基板の作成］
比較例２では、フリットガラスに軟化温度が４３５℃、転移温度が３５６℃、線膨張係数（３０℃−３３０℃）が１２５×１０−７／℃の旭テクノガラス（株）製Ｔ２１４を用い、実施例１と同様にしてフリットガラスをニッケル型枠に充填し、そのまま室温の焼成炉に投入した。その後の焼成工程と調質処理工程では、焼成温度を４９０℃、減圧焼成圧力を１００Ｔｏｒｒとし、調質処理温度を３６０℃に設定した以外は実施例１と同様にしてリブ付背面ガラス基板を作成した。得られたリブ付背面ガラス基板の外観は、実施例１で得られたリブ付背面ガラス基板同様ボイドは観察されず透明性は良好であり、クラックの発生も見られなかった。しかし、得られたリブ付背面ガラス基板を金属型枠から分離することができなかった。使用したフリットガラスの特性を以下の表１に、焼成〜焼成後冷却までの試験条件を以下の表２に、調質処理後の試験条件と作成したリブ付背面ガラス基板の評価結果とを以下の表３に示す。
【００５９】
【表１】
2011057487.tif 000002
【００６０】
【表２】
2011057487.tif 000003
【００６１】
【表３】
2011057487.tif 000004
【００６２】
〔実施例１と比較例１との対比〕
実施例１では、軟化温度が４１８℃、転移温度が３４８℃、線膨張係数が９７×１０−７／℃のフリットガラスＡＦ１０３を用い、良好なリブ付背面ガラス基板が得られている。これに対し、比較例１では、実施例１の条件の中で、焼成後の冷却速度を１℃／分から１０℃／分に変更しただけでリブ付背面ガラス基板にクラックが発生している。この現象は、焼成温度から調質処理温度までの冷却速度１０℃／分が速すぎたたために、実施例１と同じ条件で施した、転位温度＋２℃での調質処理では内部歪みが開放されず、比較例１のリブ付背面ガラス基板に残留した内部歪みに起因してクラックが発生してしまったと考えられる。
【００６３】
〔実施例１〜実施例３と比較例２との対比〕
表１に明らかなように、比較例２で用いたフリットガラスＴ２１４の軟化温度と転位温度は実施例と比較例を通じての最高温度である。しかし、試験条件を比較すると、焼成温度と軟化温度との温度差は実施例１〜実施例３では５０℃〜５５℃であるのに対して比較例２では５５℃、調質処理温度と転移温度との温度差は実施例１〜実施例３では２℃〜５℃に対して比較例２では４℃であり、焼成温度と調質処理温度の条件設定はほぼ同等である。ところが、焼成温度を最も高く設定している比較例２では室温との温度差が大きく、室温まで冷却した後には得られたリブ付背面ガラス基板と金属型枠との寸法差も大きくなるはずの傾向を備えていても型離れの問題が発生している。
【００６４】
そこで、用いたフリットガラスの線膨張係数に着目すると、実施例１〜実施例３の中で最大の線膨張係数を備えているフリットガラスは、Ｔ４３６であり線膨張係数は１１８×１０−７／℃である。ところが、Ｔ２１４の線膨張係数は１２５×１０−７／℃であり、Ｔ４３６よりも大きい値を備えている。そして、リブ付背面ガラス基板形状物を転移温度から室温（２５℃）まで冷却すると、金属型枠とリブ付背面ガラス基板との間には、（転移温度−２５）×（線膨張係数の差）の寸法差が生じることになる。そこで、それぞれの転移温度と線膨張係数と、ニッケルの線膨張係数１４８×１０−７／℃とを用いて寸法差を計算すると、Ｔ２１４を用いた場合には０．０００７６１３、Ｔ４３６を用いた場合には０．０００８１００であり、Ｔ２１４を用いて高温で調質処理しても、ニッケル型枠との寸法差は、Ｔ４３６を用いた場合よりも小さい。更に、冷却過程でニッケル型枠との寸法差が拡大してゆく速度は、上記線膨張係数の差に比例するため、Ｔ２１４を用いた場合にはＴ４３６を用いた場合の約３／４である。
【００６５】
上述から、Ｔ２１４を用いた比較例２では、リブ付背面ガラス基板と金属型枠との間に寸法差が発生しにくいため、型離れが悪くなったと考えられる。そして、Ｔ２１４とＴ４３６の線膨張係数をニッケルの線膨張係数と比較すると、Ｔ２１４は約８５％であり、Ｔ４３６は８０％弱である。したがって、金属型枠にフリットガラスを充填したまま焼成・調質処理する場合のフリットガラスの選定にあたっては、金属型枠を構成する素材の線膨張係数の８０％以下となるフリットガラスを選定するのが好ましいことが確認できた。また、減圧焼成圧力を１００Ｔｏｒｒに設定しても脱気不足に起因する外観不良が観察されていないため、焼成工程では、減圧焼成を７６Ｔｏｒｒ以下に設定すれば、外観が良好なリブ付背面ガラス基板が得られることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本件発明に係る、金属型枠にフリットガラスを充填して成形し、成型フリットガラスを焼成後調質処理してリブ付背面ガラス基板を製造する方法を採用すれば、画素セルサイズが小さなリブ隔壁を備えるフラットパネルディスプレイ用のリブ付背面ガラス基板を繰り返し精度良く製造できる。更に、金属型枠としてモールド転写法を用いて作成したニッケル型枠を用い、フリットガラスをニッケル型枠に充填したままで焼成と調質処理とを施せば、リブ隔壁が微細であっても形状精度が良好なリブ付背面ガラス基板を得ることができる。
【図１】
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