(57)【要約】【課題】被照射領域に照射されるライン光の長さを増大させつつ、被照射領域上における光量分布を被照射領域の長さ方向に亘って均一化し得るライン光照射装置を得る。【解決手段】所定の光量分布を有する部分ライン光をそれぞれ照射する複数の部分ライン光照射系１０と、これらを横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に沿って並設された状態で保持する保持手段２０と、ライン光照射ユニットＵ３１と横罫被照射領域ＳＨとの間の距離を調整する照射距離調整手段とを備える。複数の部分ライン光照射系１０の各々から出射された複数の部分ライン光が横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に沿ってずれながら互いに重なり合って１つの合成ライン光を構成し、この合成ライン光の横罫被照射領域ＳＨ上における光量分布が均一化されるように照射距離Ｈが調整される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被照射領域が線分状となるライン光照射装置であって、
レーザ光源と該レーザ光源から出射されたレーザ光を所定の光量分布の部分ライン光に変換して前記被照射領域の一部に照射させるレンズ系とを備えた複数の部分ライン光照射系、および該複数の部分ライン光照射系を前記被照射領域の長さ方向に沿って並設された状態で保持する保持手段を有し、該複数の部分ライン光照射系の各々から出射された複数の部分ライン光により構成される１つの合成ライン光を出力するライン光照射ユニットと、
前記ライン光照射ユニットと該被照射領域との間の距離を調整する照射距離調整手段と、を備えてなることを特徴とするライン光照射装置。
【請求項２】
前記複数の部分ライン光照射系は、前記被照射領域の長さ方向に沿って互いに等間隔で並設されていることを特徴とする請求項１記載のライン光照射装置。
【請求項３】
前記ライン光照射ユニットは、前記複数の部分ライン光照射系のうち該ライン光照射ユニットの両端部にそれぞれ位置する所定数の部分ライン光照射系から出射された各々の部分ライン光において前記被照射領域の長さ方向外側に向かう光線を、該被照射領域の長さ方向内側に向けて折り返す反射ミラーを備えていることを特徴とする請求項１または２記載のライン光照射装置。
【請求項４】
前記反射ミラーは、前記ライン光照射ユニットの両端部において、前記被照射領域の長さ方向に対し垂直に配置されていることを特徴とする請求項３記載のライン光照射装置。
【請求項５】
前記ライン光照射ユニットが互いに垂直な２つの方向の各々に沿ってそれぞれ複数列設けられていることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項記載のライン光照射装置。
【請求項６】
前記ライン光照射ユニット同士の間隔を調整するユニット間隔調整手段を備えていることを特徴とする請求項５記載のライン光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、線分状の被照射領域にライン状の光（ライン光）を照射するライン光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶パネルの製造段階において行われる液晶封止という作業のために、一対のパネル基板（ガラス板）間に配された線分状のシール層（紫外光等の照射により硬化する）に対して、細長いライン光を照射する技術が知られている（下記特許文献１参照）。
【０００３】
また、被検物の欠陥検査等に利用される光切断測定において、被検物に対し細長いライン光を照射する技術も知られている（下記特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−３９３６０号公報
【特許文献２】特開平１０−１２２８３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、液晶パネルの製造において、複数のシール層に対してライン光を同時に照射することにより、液晶封止の作業効率を高めたいという要望がある。
【０００６】
上記特許文献１に記載のものは、マザーパネル内に枠状に形成された複数のシール層のうち、特定の１つのシール層の４辺に対してのみライン光を同時に照射することが可能となっているが、できれば、マザーパネル内に形成された全てのシール層に対し同時にライン光を照射できるようにすることが望まれている。
【０００７】
このような要望に応えるために、ライン光の長さを増大させることが考えられるが、上記特許文献１に記載の技術のように１つのレーザ光源から出力されたレーザ光を１つのライン光に変換するものでは、ライン光の長さを増大させるに従ってその光量分布（ライン光の長さ方向における光量分布）を均一に保つこと（フラットな光量分布を得ること）が困難となる。光量分布の不均一性が増大すると、１つのライン光が照射されるシール層の場所によって硬化状態が異なり、液晶パネルの製造精度に悪影響を及ぼす虞がある。
【０００８】
また、光切断測定においても、被検物の大きさや材質等によっては、被検物に照射されるライン光の長さを増大させつつ、光量分布を均一に保つ必要性が生じる可能性がある。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、線分状の被照射領域に照射されるライン状の光の長さを増大させつつ、被照射領域上における光量分布を被照射領域の長さ方向に亘って均一化することが可能なライン光照射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため本発明に係るライン光照射装置は、以下の特徴を備えている。
【００１１】
すなわち、本発明に係るライン光照射装置は、被照射領域が線分状となるライン光照射装置であって、
レーザ光源と該レーザ光源から出射されたレーザ光を所定の光量分布の部分ライン光に変換して前記被照射領域の一部に照射させるレンズ系とを備えた複数の部分ライン光照射系、および該複数の部分ライン光照射系を前記被照射領域の長さ方向に沿って並設された状態で保持する保持手段を有し、該複数の部分ライン光照射系の各々から出射された複数の部分ライン光により構成される１つの合成ライン光を出力するライン光照射ユニットと、
前記ライン光照射ユニットと該被照射領域との間の距離を調整する照射距離調整手段と、を備えてなることを特徴とする。
【００１２】
本発明において、前記複数の部分ライン光照射系は、前記被照射領域の長さ方向に沿って互いに等間隔で並設されているとすることができる。
【００１３】
また、前記ライン光照射ユニットは、前記複数の部分ライン光照射系のうち該ライン光照射ユニットの両端部にそれぞれ位置する所定数の部分ライン光照射系から出射された各々の部分ライン光において前記被照射領域の長さ方向外側に向かう光線を、該被照射領域の長さ方向内側に向けて折り返す反射ミラーを備えているとすることができる。
【００１４】
その場合、前記反射ミラーは、前記ライン光照射ユニットの両端部において、前記被照射領域の長さ方向に対し垂直に配置されているとすることができる。
【００１５】
また、前記ライン光照射ユニットが互いに垂直な２つの方向の各々に沿ってそれぞれ複数列設けられているとすることができる。
【００１６】
その場合、前記ライン光照射ユニット同士の間隔を調整するユニット間隔調整手段を備えていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係るライン光照射装置は、上述の特徴を備えていることにより、以下のような作用効果を奏する。
【００１８】
すなわち、本発明のライン光照射装置は、１つのレーザ光源から出力されたレーザ光を１つのライン光に変換するのではなく、被照射領域の長さ方向に沿って並設された状態で保持手段により保持された複数の部分ライン光照射系の各々から出射された複数の部分ライン光により１つのライン状の光（合成ライン光）を構成する。
【００１９】
個々の部分ライン光の光量分布が均一でなくとも、複数の部分ライン光により１つの合成ライン光を構成することにより、また、距離調整手段によってライン光照射ユニットと被照射領域との間の距離を調整することにより、被照射領域上における合成ライン光の光量分布を被照射領域の長さ方向に亘って均一化することができる。また、合成ライン光の長さは、１つのライン光照射ユニットが備える部分ライン光照射系の数およびライン光照射ユニットと被照射領域との間の距離を調整することにより、任意の長さに調整することが可能である。
【００２０】
したがって、本発明のライン光照射装置によれば、線分状となる被照射領域に照射されるライン状の光（合成ライン光）の長さを増大させつつ、被照射領域上における光量分布を被照射領域の長さ方向に亘って均一化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】第１実施形態に係るライン光照射装置の概略構成図（正面図）である。
【図２】図１に示すライン光照射装置の左側面図である。
【図３】図２に示すライン光照射ユニットの正面図（Ａ）と右側面図（Ｂ）である。
【図４】図３に示す部分ライン光照射ユニットの概略構成図である。
【図５】光量分布均一化の概念を説明する図である。
【図６】液晶封止されるマザーパネルの概略図である。
【図７】ライン光照射ユニットの変形態様を示す図である。
【図８】第２実施形態に係るライン光照射装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について、上述の図面を参照しながら詳細に説明する。なお、実施形態の説明に使用する各図は概略的な説明図であり、詳細な形状や構造を示すものではなく、各部材の大きさや部材間の距離等については適宜変更して示してある。また、各図において各光軸を１点鎖線で示している。
【００２３】
〈第１実施形態〉
第１実施形態に係るライン光照射装置は、液晶パネルの製造段階において行われる液晶封止に利用されるものであり、図６に示すように、載置台８０上に載置されたマザーパネル７０に対し、複数（本実施形態では計２２本）のライン状の光（合成ライン光）を同時に照射し得るように構成されている。
【００２４】
図６に示すようにマザーパネル７０は、互いに対向して配置された２枚のパネル基板（図示略）の間に、光硬化性樹脂からなる矩形状のシール層７１（４隅のシール層のみに付番）が図中横方向に４個、縦方向に７個の計２８個形成され、各シール層７１の内側の領域に液晶が入れられたものである。
【００２５】
各々のシール層７１は、図中縦方向に互いに平行に延びる２本の縦枠部７１Ｖと図中横方向に互いに平行に延びる２本の横枠部７１Ｈとからなる。図６において、縦方向に７個ずつ配置された各シール層７１の２本の縦枠部７１Ｖは、それぞれ縦方向に一直線に並んでおり、同様に、横方向に４個ずつ配置された各シール層７１の２本の横枠部７１Ｈは、それぞれ横縦方向に一直線に並んでいる。本実施形態では、縦方向に一直線に並ぶ各縦枠部７１Ｖを互いに結ぶ各線分状の領域を縦罫被照射領域ＳＶ（図１参照。図１の紙面に対し垂直に延びる）と称し、横方向に一直線に並ぶ各横枠部７１Ｈを互いに結ぶ各線分状の領域を横罫被照射領域ＳＨ（図２参照。図２の紙面に対し垂直に延びる）と称する。これらの縦罫被照射領域および横罫被照射領域が、本実施形態における被照射領域となる。
【００２６】
本実施形態のライン光照射装置は、図１に示す第１照射ユニット群Ｇ１および第２照射ユニット群Ｇ２と、図２に示す第３照射ユニット群Ｇ３および第４照射ユニット群Ｇ４とを備えてなる。
【００２７】
第１照射ユニット群Ｇ１は、図６に示すマザーパネル７０の図中左半分の領域に形成された各シール層７１の縦枠部７１Ｖをそれぞれ結んでできる４本の縦罫被照射領域ＳＶ（図１参照）を照射するものであり、図１に示すように、４個のライン光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４と、これらを保持する保持ラック３０Ａと、各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４と縦罫被照射領域ＳＶとの間の距離を調整する照射距離調整手段４０Ａと、各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４の間の距離を調整するユニット間隔調整手段５０Ａとを備えてなる。
【００２８】
照射距離調整手段４０Ａは、各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４を図中上下方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されており、ユニット間隔調整手段５０Ａは、各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４を図中左右方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されている。なお、保持機構については、従来公知の技術を用いて適宜構成されたものを用いることが可能である（第２乃至第４照射ユニット群Ｇ２〜Ｇ４の保持機構について同じ）。
【００２９】
第２照射ユニット群Ｇ２は、図６に示すマザーパネル７０の図中右半分の領域に形成された各シール層７１の縦枠部７１Ｖをそれぞれ結んでできる４本の縦罫被照射領域ＳＶ（図１参照）を照射するものであり、図１に示すように、４個のライン光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４と、これらを保持する保持ラック３０Ｂと、各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４と縦罫被照射領域ＳＶとの間の距離を調整する照射距離調整手段４０Ｂと、各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４の間の距離を調整するユニット間隔調整手段５０Ｂとを備えてなる。
【００３０】
照射距離調整手段４０Ｂは、各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４を図中上下方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されており、ユニット間隔調整手段５０Ｂは、各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４を図中左右方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されている。
【００３１】
第３照射ユニット群Ｇ３は、図６に示すマザーパネル７０の図中上半分の領域に形成された各シール層７１の横枠部７１Ｈをそれぞれ結んでできる７本の横罫被照射領域ＳＨ（図２参照）を照射するものであり、図２に示すように、７個のライン光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７と、これらを保持する保持ラック３０Ｃと、各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７と縦罫被照射領域ＳＨとの間の距離を調整する照射距離調整手段４０Ｃと、各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７の間の距離を調整するユニット間隔調整手段５０Ｃとを備えてなる。
【００３２】
照射距離調整手段４０Ｃは、各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７を図中上下方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されており、ユニット間隔調整手段５０Ｃは、各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７を図中左右方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されている。
【００３３】
第４照射ユニット群Ｇ４は、図６に示すマザーパネル７０の図中下半分の領域に形成された各シール層７１の横枠部７１Ｈをそれぞれ結んでできる７本の横罫被照射領域ＳＨ（図２参照）を照射するものであり、図２に示すように、７個のライン光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７と、これらを保持する保持ラック３０Ｄと、各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７と縦罫被照射領域ＳＨとの間の距離を調整する照射距離調整手段４０Ｄと、各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７の間の距離を調整するユニット間隔調整手段５０Ｄとを備えてなる。
【００３４】
照射距離調整手段４０Ｄは、各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７を図中上下方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されており、ユニット間隔調整手段５０Ｄは、各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７を図中左右方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されている。
【００３５】
図３（Ａ）に示すように、上記光照射ユニットＵ３１は、複数（本実施形態では３６個）の部分ライン光照射系１０と、これらの部分ライン光照射系１０を横罫被照射領域ＳＨの長さ方向（図中横方向）に沿って互いに等間隔に並設された状態で保持する保持手段２０とを備えてなる（各部分ライン光照射系１０を等間隔で配置しないことも可能）。
【００３６】
各々の部分ライン光照射系１０は、図４に示すように、半導体レーザ等のレーザ素子を保持してなるレーザ光源１１（例えば、370ｎｍ程度の紫外光を出力する）と、レーザ素子から出力されたレーザ光を発散光として出射する光ファイバ１２と、該光ファイバ１２から出射されたレーザ光を、紙面に垂直な方向には発散し、紙面内の上下方向には収束する部分ライン光に変換するレンズ系１３（３枚のシリンドリカルレンズＬ１，Ｌ２，Ｌ３から構成される）とが、ケース（鏡胴）１４内に収納されてなる。
【００３７】
図３に示すように、各々の部分ライン光照射系１０から出射された各部分ライン光（図中破線で示す）は、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向（図中横方向）に沿って所定長（本実施形態では、例えば、90〜100ｍｍ程度の範囲内で適宜設定される）ずつずれながら互いに重なり合って１つの合成ライン光を構成するようになっている。
【００３８】
各部分ライン光照射系１０の互いの間隔および各部分ライン光照射系１０から横罫被照射領域ＳＨまでの距離（照射距離Ｈ）は、各部分ライン光の横罫被照射領域ＳＨの長さ方向の光量分布（以下、単に光量分布と称することがある）および発散角度等により適宜決定される。すなわち、各部分ライン光は、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に対し、フラットではない所定の光量分布（例えばガウス分布状の光量分布）を有しているが、複数の部分ライン光が互いに重なり合って１つの合成ライン光を構成することにより、横罫被照射領域ＳＨ上における該合成ライン光の光量分布が横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に均一化されるように構成されている（図５参照）。なお、本実施形態では、例えば、横罫被照射領域ＳＨの長さＷが290〜320ｃｍ程度、照射距離Ｈが120〜140ｃｍ程度の範囲内で任意の値に設定される。また、横罫被照射領域ＳＨ上での各合成ライン光の線幅は１ｍｍ程度に設定される。縦罫被照射領域ＳＶ上での各合成ライン光の線幅についても同様である。
【００３９】
第３照射ユニット群Ｇ３における他の光照射ユニットＵ３２〜Ｕ３７および第４照射ユニット群Ｇ４における光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７の構成は、上記光照射ユニットＵ３１と同じである。また、第１照射ユニット群Ｇ１および第２照射ユニット群Ｇ２における光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４，Ｕ２１〜Ｕ２４は、並設される部分ライン光照射系１０の数が異なるものの、主要な構成は上記光照射ユニットＵ３１と同じである。
【００４０】
また、第１照射ユニット群Ｇ１の各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４および第２照射ユニット群Ｇ２の各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４と、第３照射ユニット群Ｇ３の各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７および第４照射ユニット群Ｇ４の各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７とは、互いに垂直な２方向の各々に沿って配列されている。すなわち、図１に示す第１照射ユニット群Ｇ１の各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４および第２照射ユニット群Ｇ２の各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４は、図６に示すマザーパネル７０の横方向に沿って配列されており、図２に示す第３照射ユニット群Ｇ３の各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７および第４照射ユニット群Ｇ４の各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７は、図６に示すマザーパネル７０の縦方向に沿って配列されている。
【００４１】
さらに、図１に示すように第１照射ユニット群Ｇ１の各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４は、マザーパネル７０の左端側左斜め上方に配置されており、右斜め下方に位置する各縦罫被照射領域ＳＶに対し各合成ライン光を同時に照射するように構成されている。同様に、第２照射ユニット群Ｇ２の各光照射ユニットＵ２１〜Ｕ２４は、マザーパネル７０の右端側右斜め上方に配置されており、左斜め下方に位置する各縦罫被照射領域ＳＶに対し各合成ライン光を同時に照射するように構成されている。なお、図１において縦方向に延びる２本の破線は、マザーパネル７０の横方向の各端部（左端部および右端部）の位置を示している。
【００４２】
一方、図２に示すように第３照射ユニット群Ｇ３の各光照射ユニットＵ３１〜Ｕ３７は、マザーパネル７０の後端側斜め上方（図中左斜め上方）に配置されており、図中右斜め下方に位置する各横罫被照射領域ＳＨに対し各合成ライン光を同時に照射するように構成されている。同様に、第４照射ユニット群Ｇ４の各光照射ユニットＵ４１〜Ｕ４７は、マザーパネル７０の前端側斜め上方（図中右斜め上方）に配置されており、図中左斜め下方に位置する各横罫被照射領域ＳＨに対し各合成ライン光を同時に照射するように構成されている。なお、図２において縦方向に延びる２本の破線は、マザーパネル７０の縦方向の各端部（前端部および後端部）の位置を示している。
【００４３】
本実施形態のライン光照射装置によれば、第１乃至第４照射ユニット群Ｇ１〜Ｇ４の各光照射ユニットＵ１１〜Ｕ１４，Ｕ２１〜Ｕ２４，Ｕ３１〜Ｕ３７，Ｕ４１〜Ｕ４７から同時に各合成ライン光を照射することによって、図６に示すマザーパネル７０内に形成された２８個のシール層７１を同時に照射することができるので、液晶封止の作業効率を向上させることが可能となる。しかも、各合成ライン光の光量分布が均一化されている（本実施形態では、光量分布のムラが±１５％以内（好ましくは、±１０％以内）に抑制される）ので、シール層７１の部分ごとの硬化時間にばらつきが生じることがなく、液晶封止の作業精度の向上を図ることが可能となる。
【００４４】
〈光照射ユニットの変形態様〉
ここで、光照射ユニットの変形態様について、図７に基づき説明する。図７に示す光照射ユニットＵ６１は、３２個の部分ライン光照射系１０と、これらの部分ライン光照射系１０を横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に沿って並設された状態で保持する保持手段２０と、該保持手段２０に保持された２枚の反射ミラーＭ１，Ｍ２とを備えてなる。
【００４５】
これらの反射ミラーＭ１，Ｍ２は、３２個の部分ライン光照射系１０から出射された各々の部分ライン光のうち該反射ミラーＭ１，Ｍ２に入射した部分ライン光を、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向内側に向けて折り返す角度（本実施形態では、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に対し垂直）に配置されている。
【００４６】
すなわち、反射ミラーＭ１は、３２個の部分ライン光照射系１０のうち、図中左端側の２個の部分ライン光照射系１０（部分ライン光照射系１０Ａ，１０Ｂ）から出射された２つの部分ライン光において横罫被照射領域ＳＨの長さ方向外側（図中左外側）に向かう光線を、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向内側に折り返すものである。同様に、反射ミラーＭ２は、３２個の部分ライン光照射系１０のうち、図中右端側の２個の部分ライン光照射系１０（部分ライン光照射系１０Ｃ，１０Ｄ）から出射された２つの部分ライン光において横罫被照射領域ＳＨの長さ方向外側（図中右外側）に向かう光線を、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向内側に折り返すものである。なお、本実施形態では、反射ミラーＭ１，Ｍ２により反射される部分ライン光の数が各々２つとされているが、反射される部分ライン光の数は、各部分ライン光照射系１０の間隔や各部分ライン光の拡がり角度の大きさ等により適宜設定すればよい。すなわち、各部分ライン光の拡がり角度の大きさ等に応じて、反射ミラーＭ１，Ｍ２により反射される部分ライン光の数を増やして各々３つ以上とすることや、逆に減らして１つずつとすることも可能である。また、横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に対する反射ミラーＭ１，Ｍ２の角度も、該長さ方向に対し垂直（９０度）の態様に限られるものではなく、入射した部分ライン光を横罫被照射領域ＳＨの長さ方向内側に向けて折り返すことができる任意の角度に設定することができる。
【００４７】
この２枚の反射ミラーＭ１，Ｍ２を備えていることにより、上記光照射ユニットＵ３１と比較して部分ライン光照射系１０が４個少ないのにもかかわらず、光照射ユニットＵ３１が照射するのと同じ長さの横罫被照射領域ＳＨに対し、該横罫被照射領域ＳＨの長さ方向に沿って光量分布が均一化された合成ライン光を照射することが可能となる。
【００４８】
〈第２実施形態〉
第２実施形態に係るライン光照射装置は、光切断法を用いた欠陥検査に利用されるものであり、図８に示すように、搬送台９３上に載置されて図中右方に搬送される板状の被検物９５に対し、１本の合成ライン光（紙面に垂直な方向に延びる）を照射するように構成されている。
【００４９】
すなわち、このライン光照射装置は、１個のライン光照射ユニットＵ９１と、これを保持する保持ラック３０Ｅと、光照射ユニットＵ５１と被検物９５との間の距離を調整する照射距離調整手段４０Ｅとを備えてなり、ライン光照射ユニットＵ９１から出射された合成ライン光（光量分布が紙面に垂直な方向に沿って均一化されている）を被検物９５上に照射するようになっている。被検物９５上に照射された合成ライン光は、被検物９５上に線分状の被照射領域（輝線）を形成し、この輝線をカメラ９７により撮像してその形状変化を解析することにより、被検物９５の欠陥の有無が検査されるようになっている。
【００５０】
ライン光照射ユニットＵ９１としては、上述のライン光照射ユニットＵ３１やライン光照射ユニットＵ６１と同様の構成のものを用いることができるが、部分ライン光照射系１０の設置数については、被検物の大きさ等により適宜に設定することが可能である。また、射距離調整手段４０Ｅは、光照射ユニットＵ９１を図中上下方向に移動可能に保持する保持機構と、該保持機構を駆動させるモータ等により構成されている。この保持機構については、従来公知の技術を用いて適宜構成されたものを用いることが可能である。
【００５１】
本実施形態のライン光照射装置によれば、光照射ユニットＵ９１から合成ライン光を照射することによって、被検物９５上に光量分布が均一な輝線を投影することができるので、光切断法を用いた欠陥検査を高精度に行うことが可能となる。
【００５２】
なお、本発明に係るライン光照射装置は、液晶封止や欠陥検査に利用されるものに用途が限定されるものではなく、線分状の被照射領域状に光量分布が均一なライン状の光を照射する必要がある種々の装置において用いることが可能である。
【符号の説明】
【００５３】
１０（１０Ａ〜１０Ｄ）      部分ライン光照射系
１１      レーザ光源
１２      光ファイバ
１３      レンズ系
１４      ケース（鏡胴）
２０      コリメータレンズ
３０Ａ〜３０Ｅ      保持ラック
４０Ａ〜４０Ｅ      照射距離調整手段
５０Ａ〜５０Ｄ      ユニット間隔調整手段
７０      マザーパネル
７１      シール層
７１Ｖ      縦枠部
７１Ｈ      横枠部
８０      載置台
９３      搬送台
９５      被検物
９７      カメラ
Ｇ１      第１照射ユニット群
Ｇ２      第２照射ユニット群
Ｇ３      第３照射ユニット群
Ｇ４      第４照射ユニット群
Ｕ１１〜Ｕ１４，Ｕ２１〜Ｕ２４，Ｕ３１〜Ｕ３７，Ｕ４１〜Ｕ４７，Ｕ６１，Ｕ９１      光照射ユニット
Ｌ１〜Ｌ３      シリンドリカルレンズ
Ｍ１，Ｍ２      反射ミラー
ＳＶ      縦罫被照射領域
ＳＨ      横罫被照射領域
Ｈ      照射距離
Ｗ      横罫被照射領域の長さ
【図１】
2011197284.tif 000003
【図２】
2011197284.tif 000004
【図３】
2011197284.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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