(57)【要約】【課題】基板上に形成される所定の吐出パターンを特定するデータのサイズを小さくできる液滴ジェット装置を提供する。【解決手段】基板Ｗ上でスペーサ液滴の吐出を開始する吐出開始位置Ｓk-nと、吐出されるスペーサ液滴の繰り返し規則を、基板搬送方向におけるスペーサ液滴間の吐出液滴間隔Ｌn、吐出されるスペーサ液滴数である吐出数Ｐnを用いて規定する。吐出開始位置Ｓk-nと、対応するノズル５０との距離に基づく比較値ｍと、基板Ｗの搬送に伴って所定の移動距離ごとに出力されるタイミング信号のカウント値との比較を行い、一致すればノズル５０よりスペーサ液滴の吐出が開始され、吐出数がＰn個になるまで、吐出液滴間隔Ｌnでスペーサ液滴が吐出される。吐出パターンを特定するために吐出開始位置Ｓk-n、吐出液滴間隔Ｌn、吐出数Ｐnのパラメータ群を保持すればよいため、吐出パターンを特定するデータのサイズを小さくすることができる。【選択図】図５
2011072857.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の基板上に液滴を吐出して、単位パターンの周期的な繰返しから構成される吐出パターンを前記基板上に形成する液滴ジェット装置であって、
液滴を吐出する複数のノズルが配列されたヘッドと、
前記複数のノズルから選択的に液滴を吐出させる吐出駆動部と、
前記ヘッドと前記基板とを所定の移動方向に相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段による前記ヘッドと前記基板との相対的移動量を検出し、前記相対的移動量を表現するタイミング信号を発生するタイミング信号発生手段と、
前記移動方向に関して、前記基板上における前記吐出パターンの開始位置と前記単位パターンの繰返し規則とを特定するパラメータ群を設定する制御部と、を備え、
前記吐出駆動部が、前記パラメータ群から得られる吐出タイミング指示値と前記タイミング信号との比較結果に基づいて、前記複数のノズルから前記基板上に選択的に液滴を吐出させることを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴ジェット装置であって、
前記パラメータ群が、
1)  前記移動方向に関して前記吐出パターンの開始位置を表現する第１設定値と、
2)  前記移動方向に関して前記単位パターンの繰返し周期を表現する第２設定値と、
3)  前記移動方向に関して前記単位パターンの繰返し回数を表現する第３設定値と、
を含んで構成されることを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の液滴ジェット装置であって、
前記第１設定値として、前記移動方向について複数の値を設定可能であり、
前記移動方向について、前記基板上に前記吐出パターンが繰り返して形成されることを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液滴ジェット装置であって、
複数の前記第１設定値のそれぞれに対して前記第３設定値が設定されることを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項５】
請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の液滴ジェット装置であって、
前記ヘッドにおける前記複数のノズルの配列方向が、前記ヘッドの前記移動方向に対して所定の角度をなして傾いており、
前記複数のノズルのうち所定の基準ノズルについての前記第１設定値に対して、前記角度に応じた補正を行うことによって、残余のノズルについての前記吐出タイミング指示値が決定されることを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の液滴ジェット装置であって、
前記パラメータ群は、前記複数のノズルのそれぞれについて個別に設定可能であることを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項７】
請求項２に記載の液滴ジェット装置であって、
前記パラメータ群は、
4)  同じ位置に各ノズルより液滴を連続して吐出する連続吐出回数を表現する第４設定値、
をさらに含むことを特徴とする液滴ジェット装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の液滴ジェット装置であって、
前記吐出タイミング指示値として、前記基板の後端に相当する前記タイミング信号のカウント値よりも大きい値が設定されたノズルについては、前記基板上への液滴の吐出が禁止されることを特徴とする液滴ジェット装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に液滴を吐出することで、所定の吐出パターンを形成する液滴ジェット装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置用のガラス基板などの表面上に液体の幾何学的な吐出パターンを形成して描画する液滴ジェット装置が知られている。液滴ジェット装置は、ステージ上に載置される基板と、例えばインク液を液滴にして吐出する液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させながら、液滴吐出ヘッドから吐出される液滴を基板上の任意の箇所に付与することにより吐出パターンを形成する。
【０００３】
このような従来の液滴ジェット装置では、描画イメージデータに基づいてビットマップデータが作成されている。このビットマップデータに従って、吐出パターンが特定され、吐出駆動部が液滴吐出ヘッドからの液滴の吐出動作、すなわち選択的に液滴吐出ヘッドに備えられた各ノズルのＯＮ/ＯＦＦ制御を行うことによって基板上に液滴が形成される。
【０００４】
例えば、特許文献１には、このような原理によって液晶表示装置用のカラーフィルタを製造する装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２２４６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、基板上に所望の吐出パターンを形成するためにビットマップデータを用いる場合、吐出位置精度を高めるために吐出タイミングを細かく設定すると、画素密度が増大するために、ビットマップデータのデータサイズが非常に大きくなるという問題がある。このように、吐出パターンを特定するためのデータサイズが大きくなることによって、機器間におけるデータ転送が難しくなったり、装置コストが増大するなどの問題が生じる。
【０００７】
本発明は上記の問題に鑑み、用紙上への写真画像の描画などとは異なり、基板上へのパターン形成処理においては、単位パターンの周期的な繰返しを形成することが多いという特質を利用することにより、液滴の吐出制御に使用される吐出パターンデータのデータサイズを小さくすることができる液滴ジェット装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、所定の基板上に液滴を吐出して、単位パターンの周期的な繰返しから構成される吐出パターンを前記基板上に形成する液滴ジェット装置であって、液滴を吐出する複数のノズルが配列されたヘッドと、前記複数のノズルから選択的に液滴を吐出させる吐出駆動部と、前記ヘッドと前記基板とを所定の移動方向に相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段による前記ヘッドと前記基板との相対的移動量を検出し、前記相対的移動量を表現するタイミング信号を発生するタイミング信号発生手段と、前記移動方向に関して、前記基板上における前記吐出パターンの開始位置と前記単位パターンの繰返し規則とを特定するパラメータ群を設定する制御部と、を備え、前記吐出駆動部が、前記パラメータ群から得られる吐出タイミング指示値と前記タイミング信号との比較結果に基づいて、前記複数のノズルから前記基板上に選択的に液滴を吐出させることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液滴ジェット装置であって、前記パラメータ群が、1)  前記移動方向に関して前記吐出パターンの開始位置を表現する第１設定値と、2)  前記移動方向に関して前記単位パターンの繰返し周期を表現する第２設定値と、3)  前記移動方向に関して前記単位パターンの繰返し回数を表現する第３設定値と、を含んで構成されることを特徴とする。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の液滴ジェット装置であって、前記第１設定値として、前記移動方向について複数の値を設定可能であり、前記移動方向について、前記基板上に前記吐出パターンが繰り返して形成されることを特徴とする。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の液滴ジェット装置であって、複数の前記第１設定値のそれぞれに対して前記第３設定値が設定されることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の液滴ジェット装置であって、前記ヘッドにおける前記複数のノズルの配列方向が、前記ヘッドの前記移動方向に対して所定の角度をなして傾いており、前記複数のノズルのうち所定の基準ノズルについての前記第１設定値に対して、前記角度に応じた補正を行うことによって、残余のノズルについての前記吐出タイミング指示値が決定されることを特徴とする。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の液滴ジェット装置であって、前記パラメータ群は、前記複数のノズルのそれぞれについて個別に設定可能であることを特徴とする。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項２に記載の液滴ジェット装置であって、前記パラメータ群は、4)  同じ位置に各ノズルより液滴を連続して吐出する連続吐出回数を表現する第４設定値、をさらに含むことを特徴とする。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の液滴ジェット装置であって、前記吐出タイミング指示値として、前記基板の後端に相当する前記タイミング信号のカウント値よりも大きい値が設定されたノズルについては、前記基板上への液滴の吐出が禁止されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１から請求項８に記載の発明によれば、基板上における吐出パターンの開始位置と単位パターンの繰返し規則とを特定するパラメータ群を保持すればよいため、吐出パターンを特定するデータサイズを小さくすることができる。
【００１７】
また、特に請求項３に記載の発明によれば、基板の移動方向について吐出パターンを繰り返して複数形成する場合にも、２つ目以後の吐出パターンについては、それぞれの吐出パターンの開始位置を追加するだけで済ませることができる。
【００１８】
また、特に請求項４に記載の発明によれば、複数の第１設定値のそれぞれに対して第３設定値が設定されるため、複数の第１設定値ごとに異なる吐出規則を設定しつつ、吐出パターンを特定するデータサイズを小さくすることができる。
【００１９】
また、特に請求項５に記載の発明によれば、基準ノズルに設定された第１設定値とノズルの配列方向とヘッドの相対的な移動方向との傾斜角度に応じた補正を行うことで、残余のノズルについての吐出タイミング指示値が決定されるため、吐出パターンを特定するデータサイズを小さくすることができる。
【００２０】
また、特に請求項６に記載の発明によれば、パラメータ群は、各ノズルに対応して設定することができるため、ノズルごとに異なる吐出規則を設定しつつ、吐出パターンを特定するデータサイズを小さくすることができる。
【００２１】
また、特に請求項７に記載の発明によれば、同じ位置に液滴を連続して吐出することが可能であるため、液滴の吐出量を調節することができる。
【００２２】
また、特に請求項８に記載の発明によれば、基板上に液滴の吐出を禁止する設定にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本願発明の実施の形態に係る液滴ジェット装置の上面図である。
【図２】本願発明の実施の形態に係る液滴ジェット装置のＹＺ断面図である。
【図３】ヘッドに備えられたノズルの部分断面図である。
【図４】制御部の構成を表すブロック図である。
【図５】本願発明の実施の形態に係る液滴ジェット装置における処理の流れを表すフローチャートである。
【図６】パラメータ群がそれぞれ共通の値である場合の吐出パターンの一例である。
【図７】吐出開始位置を２通りの値で設定した場合の吐出パターンの一例である。
【図８】１枚の基板から異なるサイズの分割基板を取り出す場合の吐出パターンの一例である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明においては、方向及び向きを示す際に、適宜図中に示すＸＹＺ直交座標を用いる。ここで、Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向（＋Ｚ側が上側、−Ｚ側が下側）を示す。また、便宜上、Ｘ軸方向を基板の搬送方向（＋Ｘ側が下流側、−Ｘ側が上流側）とし、Ｙ軸方向を奥行き方向（＋Ｙ側、−Ｙ側）とする。
【００２５】
＜１．  装置構成について  ＞
図１は、本願発明の実施の形態に係る液滴ジェット装置１の上面図であり、図２は液滴ジェット装置１のＹＺ断面図である。
【００２６】
この実施の形態の液滴ジェット装置１は、液晶表示装置用のガラス基板を対象とし、微細な透明粒子（樹脂ビーズなど）を所定の溶媒中に多数混入した液体（以下、「スペーサ液」と称する）の液滴を基板Ｗ上に吐出させることによって、周期的な吐出パターンを基板上に形成するために使用される装置として構成されている。そこでの吐出パターンは、液晶表示装置の表示画素を単位とする単位パターンを周期的に繰り返したものであり、基板Ｗ上に吐出された液滴の成分のうち溶媒だけを気化させることにより、それぞれが透明粒子からなる２次元的なスポットの配列が基板Ｗ上に残る。このスポットの配列は、当該基板Ｗと、それと対をなす別のガラス基板とを対向させてそれらの間の隙間に液晶材料を封入する際のスペーサとして機能する。
【００２７】
具体的構成において、この液滴ジェット装置１は、液滴が吐出される基板Ｗを搬送するための搬送部１Ａと、基板Ｗの表面に液滴を吐出するための吐出部１Ｂと、制御手段である制御部１０（図１および図２では概念的に図示されている）と、を備えている。
【００２８】
搬送部１Ａは、エア浮上ステージ３により浮上した水平姿勢の平板状の基板Ｗの両端を保持して基板ＷをＸ軸方向に移動させる搬送チャック４を備える。吐出部１Ｂは、搬送される基板Ｗの上方に設置され、スペーサ液の吐出が行われる複数のノズル５０を備えたヘッド５と、各ノズル５０に設けられた吐出駆動部５００（図３）と、を備える。液滴ジェット装置１は、制御部１０が搬送部１Ａによる基板Ｗの搬送動作および吐出部１Ｂによるスペーサ液の吐出動作の制御を行うことによって、基板Ｗをヘッド５で相対的に走査しつつ、基板Ｗ上へのスペーサ液の液滴（スペーサ液滴）の選択的吐出を調節し、スペーサ液滴についての所望の吐出パターンを基板Ｗ上に形成する。
【００２９】
ヘッド５は、基板Ｗの搬送路上方に設置されるように、支持枠７により支持されており、支持枠７は装置本体に固設されている。ヘッド５には、複数のノズル５０が直線的にかつ等間隔で周期的に配列されており（図１中においては、複数のノズル５０の記載を省略している。）、ノズル５０の各吐出口５０３（図３）は基板Ｗと対向している。ただし、この複数のノズル５０のなす配列方向は、基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に直交するＹ軸方向に対して水平方向に所定の角度θをなして斜めに傾いて配置されている。このため、複数のノズル５０のノズルピッチＤnに対して、隣接するノズル５０間のＹ軸方向の距離ＤyはＤy＝（Ｄn×cosθ）となる。この距離Ｄyは、基板Ｗに吐出パターンを形成する際のＹ軸方向の描画分解能を与える。
【００３０】
このため、ヘッド５の傾き角θについては、互いに隣接するノズル５０間におけるＹ軸方向距離Ｄyが、吐出パターンを形成する際のＹ軸方向のスペーサ液滴の吐出間隔を与える。したがって、複数のノズル５０のなす配列方向と、基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に直交する方向（Ｙ軸方向）とがなす角度θを調節することで、Ｙ軸方向におけるスペーサ液滴のＹ軸方向の吐出間隔Ｄyを調整できる。
【００３１】
図３は、各ノズル５０の部分断面図である。ヘッド５にて列設された各ノズル５０には、タンク（図示せず）から供給されるスペーサ液を一時的に貯留する貯留部５０２と、スペーサ液Ｌの吐出口５０３と、吐出駆動部５００として貯留部５０２にて貯留されたスペーサ液Ｌを加圧するピエゾ素子５０１と、を備える。制御部１０からの信号に基づいて、ピエゾ素子５０１に電圧が印加されると、ピエゾ素子５０１はその下面が凹形状をなす撓み状態となる。この状態からピエゾ素子５０１への電圧の印加が解除されると、撓んだ状態のピエゾ素子５０１は、その下面が凸形状をなす状態に復帰する。このとき、貯留部５０２内の容積が変化することでスペーサ液Ｌは加圧され、吐出口５０３からスペーサ液滴が吐出される。このように、ピエゾ素子５０１に吐出制御電圧が印加されることによって、ノズル５０より基板Ｗ上にスペーサ液滴が吐出されて付着する。なお、吐出駆動部５００としては、ピエゾ素子５０１のような圧電素子を用いたもの以外でもよく、例えば、エネルギ発生素子として電気熱変換体を用いた方式や、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式さらには、レーザなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液滴を吐出させる方式についても採用可能である。
【００３２】
エア浮上ステージ３は、長尺状であって、その上面は多孔質構造となっている。このエア浮上ステージ３は、長手方向が基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に沿う向きで載置されている。このエア浮上ステージ３の上面部分によって、基板Ｗの搬送路は構成され、多孔質構造となっている上面部分から上方に向けてエアが噴出されることで、基板Ｗは水平姿勢で浮上状態になる。
【００３３】
搬送チャック４は、エア浮上ステージ３により浮上状態にある基板Ｗの搬送を行う。搬送チャック４は、ＹＺ断面図において、左右対称（＋Ｙ側と−Ｙ側とで対称）構造となっており、左右それぞれにＸ軸方向に沿って基板Ｗの両端（＋Ｙ側、−Ｙ側）を吸着保持するチャック４１と、Ｘ軸方向に基板Ｗを搬送するリニアガイド４２と、基板Ｗが移動するための駆動力を生じさせるリニアモータ４３と、リニアモータ４３による駆動力でリニアガイド４２を移動する基板Ｗの位置を検出するリニアエンコーダ４４と、を備えている。
【００３４】
チャック４１は、図示しないチャック昇降シリンダの動作により昇降させることが可能であり、上昇時にはエア浮上ステージ３により浮上状態にある基板Ｗの下面を支持し、下降時には、基板Ｗと接触しない位置に下降する。チャック４１は上面が多孔質構造となっており、上昇時においては、（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側のＸ軸方向に沿った基板Ｗの両端部の下面が支持され、チャック上面の孔より真空吸着が行われることによって基板Ｗは吸着保持される。
【００３５】
リニアガイド４２およびリニアモータ４３については、それぞれ装置本体の（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側に設けられている。リニアガイド４２は、Ｘ軸方向に沿って設置されており、チャック４１はリニアガイド４２に沿って移動する。リニアモータ４３は、固定子および移動子（いずれも図示せず）を備え、固定子と移動子との電磁的相互作用によって、チャック４１をＸ軸方向に沿って移動させるための駆動力を生成するモータである。リニアモータ４３の駆動によるチャック４１の移動量については、制御部１０からの制御信号によって制御することができる。
【００３６】
リニアエンコーダ４４はスケール部および検出子（いずれも図示せず）を備え、スケール部と検出子との相対的な位置関係を検出して出力信号を制御部１０に伝達する。各検出子はチャック４１の下方両端（＋Ｙ側、−Ｙ側）に固設され、スケール部は、装置本体の両側にＸ軸方向に沿ってそれぞれ固設されている。このリニアエンコーダ４４からの出力信号を分周することで、基板Ｗが所定の微小距離だけ移動するごとにタイミング信号を生成させる。リニアエンコーダ４４からの出力信号の分周比を変更することにより、どの程度の距離ごとにタイミング信号を発生させるかを調節することができる。
【００３７】
リニアモータ４３の駆動によりリニアガイド４２に沿って移動するチャック４１が、所定微小距離だけ新たに移動するごとにリニアエンコーダ４４より制御部１０にタイミング信号が入力されるが、このタイミング信号は、どの時点で基板Ｗが所定微小距離だけ新たに移動したかを示すタイミング信号として機能する。このタイミング信号は、チャック４１が所定の微小距離を移動する都度出力されるため、このタイミング信号をカウントすることにより、制御部１０においてヘッド５に対する相対的な基板Ｗの移動量がリアルタイムで検出される。
【００３８】
図４は、液滴ジェット装置１の主要な電気的構成を示すブロック図である。この液滴ジェット装置１は、制御に必要な動作プログラムが格納されたＲＯＭやＲＡＭなどの記憶部１０１と、論理演算を実行するＣＰＵ１００と、データの入出力を行うキーボードやマウス、ディスプレイなどの入出力部１０２とが、バスラインに接続されて制御部１０を構成している。制御部１０は、通信部１０３を介して吐出部１Ｂの制御、すなわち吐出制御信号を出力して各ノズル５０が備える吐出駆動部のピエゾ素子５０１に電圧を印加することで、選択的にノズル５０からスペーサ液滴の吐出を行わせるとともに、搬送部１Ａの制御、すなわち搬送による基板Ｗの移動距離を、リニアエンコーダ４４を用いて検出し、その検出結果に基づいて、制御部１０はリニアモータ４３への出力をフィードバック制御することにより、一定速度で基板Ｗを移動させる。
【００３９】
制御部１０においては、様々なパラメータの設定が行われる。例えば、それらのパラメータの集合としてパラメータ群は、各ノズル５０について、以下のパラメータ(1)および(2)の値から構成されている（図６中の例示を参照）。ただし、ここでは、１枚の基板Ｗ上に同じ内容を持つ吐出パターンを複数形成し、後工程で基板Ｗをカットすることにより、それぞれがひとつの吐出パターンを有する複数枚の分割基板Ｗ１、Ｗ２、…に分離する場合を想定している。以下における指数ｎは、このような分割基板Ｗ１、Ｗ２、…を識別する指数に対応する。
【００４０】
(1)  各吐出パターン形成のために最初に吐出されるスペーサ液滴の吐出開始位置Ｓk-n（Ｘ軸方向位置）の値：ただし、
指数ｋは、ヘッド５において最も（−Ｙ）方向に設置されたノズル５０をｋ＝1として、（＋Ｙ）方向に向かって何番目のノズル５０に関するものであるかを表す値であり、
指数ｎは、基板Ｗ上において何回目に出現する吐出パターンか（何枚目の個別パネルに相当する吐出パターンか）を表す値である。
【００４１】
(2)  基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って、吐出開始位置Ｓk-nより吐出が開始されるスペーサ液滴の繰り返し規則を表現するパラメータ、具体的には、
(2-1)  スペーサ液滴の吐出液滴間隔Ｌn（吐出開始位置Ｓk-nに吐出されたスペーサ液滴を基準として、Ｘ軸方向に繰り返し出現するスペーサ液滴の周期（距離）、および
(2-2)  各個別パネルに相当する各吐出パターンについてのスペーサ液滴の吐出数Ｐn（１回の吐出パターンでは、いくつの位置でスペーサ液滴を吐出するかを示す吐出回数）、
がこれに含まれる。
【００４２】
このほかにも、１回あたりに吐出されるスペーサ液滴量、基板Ｗ上に所望の吐出パターンを形成するために必要な基板Ｗの往復搬送動作数、使用するノズル５０の個数およびヘッド５の配置について設定を行うことができる。
【００４３】
また、制御部１０は、これらのパラメータ群によって特定される吐出パターンにおいて、スペーサ液滴の吐出の繰返しの単位となる微小区間のパターン（単位パターン）について、ビットマップデータに変換する機能も備えている。すなわち、図示例では、Ｘ軸方向について周期Ｌnを持つ、スペーサ液滴の吐出ＯＮ／ＯＦＦの繰返し単位が単位パターンであるが、その単位パターンに相当する微小区間については、吐出パターンがビットマップデータとして展開される。ただし、それぞれの繰返し区間では既に展開した単位パターンビットマップデータを繰返し利用できるため、この装置１では、吐出パターン全体にわたるビットマップデータは不要である。
【００４４】
設定された各パラメータに基づいて得られた単位パターンのビットマップデータと、単位パターンの繰返し規則とに基づいてスペーサ液滴の吐出データが作成される。このスペーサ液滴の吐出データに則って、制御部１０が吐出部１Ｂおよび搬送部１Ａの制御を行うことで、基板Ｗ上には、設定された吐出開始位置Ｓk-nから、基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って吐出数Ｐn個のスペーサ液滴が、スペーサ液滴間の吐出液滴間隔Ｌnで出現し、所望の吐出パターンが形成される。
【００４５】
＜２．  処理の流れについて  ＞
図５は、この実施の形態に係る液滴ジェット装置１による処理の流れを表したフローチャートである。初めに、基板Ｗは液滴ジェット装置１に搬入されて、入口側エア浮上ステージ３上に載置されており、すべての機器類は原点位置にある。この状態から下降していたチャック４１が上昇し、搬送チャック４が基板Ｗの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側におけるＸ軸方向に沿った両端の下面を吸着保持する。エア浮上ステージ３よりエアの噴射が行われているため、基板Ｗはチャック４１により吸着保持された箇所を除いて非接触状態となる。リニアモータ４３の駆動によって搬送チャック４は（＋Ｘ）方向に搬送が始まり、チャック４１に保持された基板Ｗはヘッド５に向かって移動を開始する。
【００４６】
このとき、基板Ｗの移動量、すなわち搬送チャック４の移動量は、リニアエンコーダ４４によって検出される。リニアエンコーダ４４は、スケール部を、搬送チャック４に固設された検出子が移動することで、所定の移動距離を移動するたびに、制御部１０にタイミング信号を出力する。制御部１０においては、基板Ｗの所定の移動距離に基づいて出力されるタイミング信号を積算してカウント値として認識することで、所定の移動距離を基準にして、基板Ｗの移動距離を検出する。
【００４７】
基板Ｗが原点位置にある段階で、制御部１０において設定された吐出開始位置Ｓk-1のデータを基に、ノズル５０毎に比較値ｍが設定される(ステップＳ１１)。この比較値ｍは、原点位置にあるヘッド５に備えられたノズル５０の吐出口５０３と、原点位置にある基板Ｗ上で、当該ノズル５０に設定された吐出開始位置Ｓk-1との距離Ｒを、リニアエンコーダ４４からのタイミング信号の出力間隔（パルス発生周期に相当する基板Ｗの単位移動距離ΔＲ）の値で除した値（Ｒ／ΔＲ）である。つまり、このステップＳ１１での比較値ｍは、スペーサ液滴が最初に吐出されるときのタイミング信号のカウント値ＣＴと同値であって、ノズル５０と、原点位置における基板Ｗ上の当該ノズル５０による吐出開始位置Ｓk-1との距離Ｒは、基板Ｗの単位移動距離ΔＲに比較値ｍを乗じた値（ｍ×ΔＲ）と一致する。基板Ｗ上における吐出開始位置Ｓk-1は、Ｙ軸方向に沿って揃って設定されているが、ヘッド５が備えるノズル５０の配列方向は基板Ｗの搬送方向と直交する方向に対してゼロでない所定の角度θをなして斜め方向になっているため、各ノズル５０によって吐出開始位置Ｓk-1に到達するまでの移動距離は異なる。従って、比較値ｍも各ノズル５０によって異なる。
【００４８】
ステップＳ１２では、このようにして設定された比較値ｍと、タイミング信号のカウント値ＣＴとの比較を、タイミング信号が出力される都度行い、それらが一致した場合に、そのノズル５０に備えられたピエゾ素子５０１に電圧が印加されることで、複数のノズル５０のうち、該当するノズル５０から基板Ｗ上にスペーサ液滴の吐出が行われる（ステップＳ１３）。
【００４９】
このように、基板Ｗ上の吐出開始位置Ｓk-1にノズル５０よりスペーサ液滴が吐出されると、制御部１０において吐出回数がカウントされる（ステップＳ１３）。吐出回数がカウントされると、パラメータとして設定された吐出数Ｐnと吐出回数のカウント値との比較が行われ（ステップＳ１４）、実際の吐出回数と吐出数Ｐnとが一致しなければ、吐出液滴間隔Ｌnをリニアエンコーダ４４からのパルス発生数に換算した吐出間隔基準値Ｉp＝（Ｌn／ΔＲ）が比較値ｍに加算されて、比較値ｍが更新される（ステップＳ１５）。そして、更新後の比較値ｍと、タイミング信号のカウント値とが、リニアエンコーダ４４よりタイミング信号が出力される都度比較され、それらが一致すれば、ノズル５０より新たにスペーサ液滴が吐出される。このとき、吐出回数はカウントされ、カウント後の吐出回数と、設定された吐出数Ｐnとが一致しなければ、さきほど更新した比較値ｍにさらに吐出間隔基準値Ｉpが加算されて、タイミング信号のカウント値との比較が行われる。
【００５０】
このように、実際の吐出回数と、パラメータとして設定された吐出数Ｐnとが一致するまで、比較値ｍに吐出間隔基準値Ｉpを順次加算していきながら、その都度タイミング信号のカウント値との比較が行われる。比較値ｍとタイミング信号のカウント値とが一致したら、スペーサ液滴が吐出されて実際の吐出回数が加算され、実際の吐出回数（吐出完了回数）と吐出数（吐出設定回数）Ｐnとが一致するまで、これを繰り返す。
【００５１】
実際の吐出回数とパラメータとして設定された吐出数Ｐnとが一致すれば、吐出開始位置Ｓk-1で始まる吐出パターンの形成は終了する。基板Ｗ上には吐出開始位置Ｓk-1を開始位置として、液滴間における吐出液滴間隔Ｌn、基板Ｗの移動方向に合計Ｐn個の液滴が吐出された吐出パターンが形成される。
【００５２】
既述したように、基板Ｗの搬送方向に沿って標準の吐出パターンを形成するように、複数の吐出開始位置Ｓk-nを設定することが可能である。従って、吐出開始位置Ｓk-1に続いて吐出開始位置Ｓk-2が設定されている場合（ステップＳ１６）は、吐出開始位置Ｓk-1を開始位置とする吐出パターンの形成が終了した後で、吐出開始位置Ｓk-2を開始位置とする吐出パターンの形成が始まる。吐出開始位置Ｓk-2を開始位置とする吐出パターンの形成については、上述の吐出開始位置Ｓk-1を開始位置とする吐出パターンの形成と同様であり、比較値ｍの設定から行われる（ステップＳ１７）。このように、吐出開始位置Ｓk-nはノズル５０に対して複数設定することが可能であり、基板Ｗ上の搬送方向に沿って吐出パターンを繰り返して形成することが可能である。
【００５３】
図６は基板Ｗ上に吐出パターンが形成された様子を示している。配置関係をわかりやすくするために、予め形成される吐出パターンが表示された基板Ｗがヘッド５に向かう図となっている。また、ヘッド５が備えるノズル５０の数は、本来の数よりも少なく記載されており、Ｙ軸方向に吐出されるスペーサ液滴の数は省略されている。
【００５４】
図６の例では、基板Ｗ上には、異なる吐出開始位置Ｓk-1およびＳk-2から開始される２種類の吐出パターンが形成されており、吐出液滴間隔Ｌnおよび吐出数Ｐn（図６においては図示の都合上、吐出数Ｐnは８とされているが、実際にはもっと大きな値とされる）は双方に共通の値である。上述のように、基板Ｗ上における吐出開始位置Ｓk-nは、Ｙ軸方向に揃って配置されているが、ヘッド５が備えるノズル５０の配列方向は基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に直交する方向（Ｙ軸方向）に対して角度θで斜めに傾いており、各ノズル５０と、対応する吐出開始位置Ｓk-nとの距離（例えば、図６中の矢印が示すように、吐出開始位置Ｓ1-1，Ｓ4-1，Ｓ7-1と対応する各ノズル５０との距離）は、それぞれ異なる。このため、ノズル５０と基板Ｗとの角度関係による位相ずれが生じる。これらについては各ノズル５０に吐出開始位置Ｓk-nを設定することで対応してもよいが、初期位相のズレに規則性があるときには、既述したパラメータ群に、その規則性に関する情報を加えれば、すべてのノズル５０に個別にパラメータを設定する必要はなくなる。これについては後述する。
【００５５】
この実施形態を適用した具体的な数値例として、例えばヘッド５に備えられたノズル５０が1000本、基板Ｗにおける移動距離が１メートル、吐出タイミングが１マイクロメートル（基板Ｗが１マイクロメートル搬送されるたびにタイミング信号が出力される。）である場合に、従来のビットマップデータでは、そのデータサイズはおよそ１ギガビットもの容量になった。一方で、この発明の実施形態の液滴ジェット装置１に本願発明を用いた場合（吐出開始位置Ｓk-nは各ノズル５０に設定されており、吐出液滴間隔Ｌnが各ノズル５０に共通の値、吐出数Ｐnが各ノズル５０に共通の値とする。）は、１本あたりのノズル５０に必要なデータサイズは２０ビットであり、このデータが各ノズル５０に設定されるため、ヘッド５における吐出開始位置Ｓk-nに関するデータサイズは２０キロビットとなる。また、共通の値である吐出液滴間隔Ｌnについては０．５ミリメートルとした場合、吐出タイミングが１マイクロメートルであるため、データサイズは９ビットとなる。また、共通の値である吐出数Ｐnについては2000であるため、データサイズは１１ビットとなる。比較値ｍについては、１本あたりのノズル５０に必要な２０ビットのデータが1000本のノズル５０に設定されるため、全体で２０キロビットとなる。
【００５６】
以上より、従来技術では、１ギガビットものデータサイズを有する吐出パターンを特定するためのデータが、本願発明を用いることによって、データサイズは40020ビット（およそ４０キロビット）と、小さくすることができる。
【００５７】
基板Ｗの表面上にはブラックマトリクスと呼ばれる黒い格子状のパターンが形成されている。このブラックマトリクス上にスペーサ液は塗布されるのであるが、塗布に先立つプロセスや熱によって、基板ＷのＸＹ平面において基板Ｗの膨張または収縮が生じ、基板Ｗは主面に沿った方向に伸縮する。このような伸縮が基板Ｗ上で部分的に生じる場合、基板ＷのＸＹ平面内における部分的なひずみとなり、このような部分的なひずみが生じることによって、ブラックマトリクスは基板Ｗ毎に異なる位置に形成されることとなる。これを考慮して、各ノズル５０において２種類の吐出開始位置Ｓk-nのデータが設定された場合（２種類の吐出開始位置Ｓk-nのデータを保持することで実際に吐出動作が行われる際の基板Ｗの状態に応じて最適なデータを選択する。）であっても、データサイズは60020ビット（およそ６０キロビット）となり、従来のビットマップデータと比較してデータサイズは大幅に削減できる。
【００５８】
このように、この発明の実施形態の液滴ジェット装置１は、基板Ｗ上における吐出パターンの開始位置である吐出開始位置Ｓk-nと、繰り返し規則である吐出液滴間隔Ｌnと吐出数Ｐnとのパラメータ群を保持すればよいため、吐出パターンを特定するためのデータサイズを小さくすることが可能である。
【００５９】
＜３．  パラメータの設定について  ＞
吐出開始位置Ｓk-nについては、基板Ｗ上において、Ｙ軸方向に揃って配置される場合に限らない。図７は、最も（−Ｙ）方向に設置され、吐出開始位置Ｓ1-1に吐出を行うノズル５０（５０ａ）を基準として、奇数番目に設置されたノズル５０と、偶数番目に設置されたノズル５０とで、基板Ｗ上に配置される吐出開始位置Ｓk-nのＹ軸方向に沿った配列方向を２種類設定した場合である。つまり、各吐出開始位置Ｓk-nからＸ軸方向に沿った基板Ｗの前端部までの距離が、吐出開始位置Ｓ1-n，Ｓ3-n，Ｓ5-n，Ｓ7-nのような吐出開始位置Ｓk-n（k：奇数）の場合と、吐出開始位置Ｓ2-n，Ｓ4-n，Ｓ6-nのような吐出開始位置Ｓk-n（k：偶数）の場合とで、異なっており、吐出開始位置Ｓk-n（k：偶数）の場合のほうが距離は長く設定されている。従って、ｋが奇数の場合と偶数の場合とで吐出開始位置Ｓk-nは、交互に基板Ｗ上に出現する。このとき、吐出液滴間隔Ｌnおよび吐出数Ｐn（図７においては図示の都合上、吐出数Ｐnは８とされているが、実際にはもっと大きな値とされる）は双方に共通の値である。このように、所望される吐出パターンの形によっては、基板Ｗ上において、吐出開始位置Ｓk-nはＹ軸方向に揃って配置されなくても構わない。上述のように、ヘッド５が備えるノズル５０の配列方向は基板Ｗの搬送方向（Ｘ軸方向）に直交する方向（Ｙ軸方向）に対して角度θで斜めに傾いており、図７中の矢印が示すように、例えば吐出開始位置Ｓ1-1，Ｓ4-1，Ｓ7-1と、対応する各ノズル５０と、の距離は、それぞれ異なる。このため、ノズル５０と基板Ｗとの角度関係による位相ずれのほか、図７の例ではｋが奇数の場合と偶数の場合とで吐出開始位置Ｓk-nが、交互に基板Ｗ上に出現するため、それによる初期位相のズレも生じる。これらについてはノズル５０ごとに吐出開始位置Ｓk-nを設定することで対応してもよいが、初期位相のズレに規則性があるときには、既述したパラメータ群に、その規則性に関する情報を加えれば、すべてのノズル５０に個別にパラメータを設定する必要はなくなる。
【００６０】
既述したように、Ｙ軸方向における吐出開始位置Ｓk-nやヘッド５に配列された各ノズル５０の配置が、図６や図７のように所定の規則性を有しているならば、それを利用してパラメータの数を減少させることも可能である。つまり、各ノズル５０に対して吐出開始位置Ｓk-nの値を個別に設定するのではなく、例えば図６においては、最も（−Ｙ）方向に設置されたノズル５０（基準ノズル）の吐出開始位置Ｓ1-nに基づく比較値ｍを最初に設定し、それから、ヘッド５に配列されたノズル５０間のＸ軸方向における距離Ｄx（＝（Ｄn×sinθ））をリニアエンコーダ４４からのパルス発生数に換算した補正値を、基準ノズルの比較値ｍに加算することで、隣接するノズル５０の比較値ｍを決定することができる。これを繰り返すことで、つまり、Ｘ軸方向におけるノズル５０間の距離Ｄx(＝（Ｄn×sinθ））をリニアエンコーダ４４からのパルス発生数に換算した補正値を、（＋Ｙ）方向に順にノズル５０に設定された比較値ｍに、加算することによって、残余のノズル５０に用いられる比較値ｍの値が規定されても構わない。この場合、吐出開始位置Ｓk-nは、最も（−Ｙ）方向に設置されたノズル５０にのみ設定されていればよい。なお、補正の基礎となる基準ノズルをいずれのノズルとするかは任意である。
【００６１】
また、図７の場合においても、例えば、最も（−Ｙ）方向に設置された吐出開始位置Ｓ1-nに対応するノズル５０ａにのみ吐出開始位置Ｓ1-nが設定され、吐出開始位置Ｓk-nとノズル５０との配置の規則性を利用して、ノズル５０ａに設定された比較値ｍを基準に、残余のノズル５０の比較値ｍが決定される。つまり、（＋Ｙ）方向に向かって奇数番目のノズル５０ｂ，５０ｄ，５０ｅに設定される吐出開始位置Ｓ2-1，Ｓ4-1，Ｓ6-1に基づく比較値ｍは、その他の吐出開始位置Ｓ3-1，Ｓ5-1，Ｓ7-1と、吐出開始位置Ｓ2-1，Ｓ4-1，Ｓ6-1と、のＸ軸方向における距離Ｋnの値を、リニアエンコーダ４４からのパルス発生数に換算した補正値と、ノズル５０ａから各ノズル５０までのＸ軸方向における距離、つまりノズル５０間のＸ軸方向における距離Ｄx(＝（Ｄn×sinθ））を、ノズル位置に応じて所定数倍（例えば、ノズル５０ｄであれば３倍、ノズル５０ｆであれば５倍、ノズル５０ａから（＋Ｙ）方向に何番目のノズルかを示す値と同値）した値を、リニアエンコーダ４４からのパルス発生数に換算した補正値と、をノズル５０ａに設定された比較値ｍに加算することで規定できる。また、基準となるノズル５０ａから（＋Ｙ）方向に向かって偶数番目に設定されたノズル５０ｃ，５０ｅ，５０ｇの吐出開始位置Ｓ3-1，Ｓ5-1，Ｓ7-1に基づく比較値ｍは、基準となるノズル５０ａの吐出開始位置Ｓ1-1と、吐出開始位置Ｓ3-1，Ｓ5-1，Ｓ7-1とは、Ｙ軸方向に同行に位置するため、吐出開始位置Ｓk-nのＸ軸方向における距離の違いについては考慮する必要がない。ノズル５０ａから各ノズル５０までのＸ軸方向における距離、つまりノズル５０間のＸ軸方向における距離Ｄx（＝（Ｄn×sinθ））を、ノズル位置に応じて所定数倍（例えば、ノズル５０ｃであれば２倍、ノズル５０ｅであれば４倍、ノズル５０ａから（＋Ｙ）方向に何番目のノズルかを示す値と同値）した値に基づいて、リニアエンコーダ４４からのパルス発生数に換算した補正値を、ノズル５０ａに設定された比較値ｍに加算することで規定できる。
【００６２】
このように、Ｙ軸方向における吐出開始位置Ｓk-nの配置やノズル間の距離が規則性を有している場合は、所定のノズル５０の吐出開始位置Ｓk-nに基づく比較値ｍを基準として、残余のノズル５０の吐出開始位置Ｓk-nに基づく比較値ｍについては、規則性に基づく所定の変位量を基にして求められた補正値を、基準となる比較値ｍに加算することで規定できるため、よりデータサイズを小さくすることができる。上述の場合では、最も（−Ｙ）方向に設置されたノズル５０ａに吐出開始位置Ｓk-1を設定する形態であったが、これに限らず、ヘッド５を構成するノズル５０であれば、どの位置のノズル５０を基準として吐出開始位置Ｓk-nが設定されても構わない。
【００６３】
一般に、各ノズル５０のＹ軸方向の位置や傾き角度θなどの因子に応じて生じるズレ補正は、単位パターンの繰返しという観点から見れば、ノズル５０ごとの吐出パターンにおける周期的な繰返し単位パターンの初期位相を、上記の因子に応じて変化させていることに相当する。つまり、吐出パターンにおける周期的な繰返し規則の情報は各ノズル５０に共通に設定し、初期位相のズレに関する情報をパラメータ群に追加すれば、各ノズル５０について個別に吐出パターンに関するパラメータ群を設定する必要はなくなるのであるが、特に初期位相のズレが規則的であるときには、その規則を表現するパラメータ値の設定で足りるのであって、ノズルごとに初期位相のズレ量を数値で記憶させておく必要もなくなる。
【００６４】
また、吐出液滴間隔Ｌnおよび吐出数Ｐnについて各ノズル５０に対して個別に設定することも可能である。このように、各ノズル５０に対して吐出液滴間隔Ｌnおよび吐出数Ｐnが、個別に設定可能であることによって、例えば基板Ｗに、既述の部分的なひずみが生じている場合であっても、予めそのひずみを検出しておくことで、基板Ｗの状態に応じた吐出液滴間隔Ｌnおよび吐出数Ｐnの設定が可能となる。
【００６５】
また、吐出パターンを、さらにＹ軸方向に沿って分割するために、ヘッド５に備えられたノズル５０のうち、所定のノズル５０からのスペーサ液滴の吐出を禁止する設定（以下、「スペーサ液滴吐出禁止設定」と称する）も可能である。この場合、該当するノズル５０に設定される吐出開始位置Ｓk-nの値を、吐出開始位置Ｓk-nの値に基づく比較値ｍが、基板Ｗの後端に相当するタイミング信号のカウント値よりも大きい値になるように設定する。これによって、吐出開始位置Ｓk-nの値に基づく比較値ｍと、タイミング信号のカウント値とは、基板Ｗ上において一致することはないため、当該ノズル５０からスペーサ液滴が吐出されることを禁止することが可能となる。
【００６６】
また、１枚の基板Ｗから異なるサイズの分割基板（以下、「パネル」と称する。）を多面取りすることも可能である。図８は、１枚の基板Ｗから５枚のパネルを取り出す様子を示しており、理解を容易にするためパネルを点線で示した。５枚のパネルはさらにサイズによって３種類に分かれており、最も大きいサイズであるパネルＡ、最も小さいサイズであるパネルＢ、そしてパネルＡとパネルＢとの中間のサイズであるパネルＣが形成されている。パネルＡについては、吐出開始位置Ｓk-1より吐出が開始され、Ｙ軸方向に沿って１枚が形成されている。パネルＢは吐出開始位置Ｓk-2より、パネルＣは吐出開始位置Ｓk-3よりスペーサ液の吐出が開始され、それぞれＹ軸方向に沿って２枚が形成されている。このように、予め異なるサイズのパネルを多面取りするためには、取り出したいパネルの枚数および形状に応じた、ノズル５０ごとに複数設定された吐出開始位置Ｓk-nの値のそれぞれに対して吐出数Ｐnを設定することで実現可能である。パネルＡの吐出開始位置Ｓ4-1の吐出を行うノズル５０については、パネルＡの吐出後は、既述したスペーサ液滴吐出禁止設定（パネルＡの形成後、設定される吐出開始位置Ｓ4-2の値に基づく比較値ｍについて、基板Ｗの後端に相当するタイミング信号のカウント値よりも大きい値に設定）にすることで、当該ノズル５０からのスペーサ液滴の吐出が禁止される。このため、Ｙ軸方向に沿って予め複数のパネル形成が可能となり、異なるサイズの分割基板について、当該パネル領域内にのみスペーサ液滴を吐出すればよいため、スペーサ液の使用量を削減できる。
【００６７】
また、吐出液滴間隔Ｌnについては、それぞれのパネルに対応するノズル５０毎に異なる値に変更して設定することも可能である。吐出液滴間隔ＬnはＸ軸方向におけるパネルの解像度に影響する。このため、例えば、あるパネルについては、ノズル５０を１つ飛ばしで吐出させるとともに、吐出液滴間隔Ｌnの値については、１つ飛ばしで吐出が行われるノズル５０間のＹ軸方向における距離（２×Ｄy）と同等の値に設定することによって、パネルの解像度を下げることができるため、所定のパネルについて解像度の設定を変更することが可能である。
【００６８】
また、スペーサ液をヘッド５より吐出する場合、初めのうちはノズル５０の吐出口に付着して乾燥したスペーサ液の影響等により、適切にスペーサ液の吐出が行われない場合がある。このため、事前にノズル５０より吐出動作を行い（以下、「スピッティング」と称する。）、ノズル５０からスペーサ液が最適に吐出される状態になってから、吐出パターンを形成するためのスペーサ液滴の吐出を行うことが望ましい。吐出液滴間隔Ｌn、吐出数Ｐnを個別に設定することが可能であれば、これらのパラメータを非常に小さい値に設定することで、吐出開始位置Ｓk-0、吐出液滴間隔Ｌn-0、吐出数Ｐn-0を規定し、基板Ｗの進行方向前側の使用領域外において、スピッティングを吐出数Ｐn-0回行うことが可能となる。このように、個別に吐出液滴間隔Ｌn、吐出数Ｐnを設定することによって、スピッティングの実施が可能となり、安定した状態でノズル５０よりスペーサ液滴の吐出を行うことができる。
【００６９】
また、上述の場合においては、比較値ｍとタイミング信号のカウント値とが一致する場合に行われる吐出動作は１回のみであったが、これに限られるものではない。制御部１０において、吐出開始位置Ｓk-n、吐出液滴間隔Ｌn、吐出数Ｐnのみならず、連続吐出回数Ｒnを新たにパラメータとして設定し、吐出動作を連続して行わせることも可能である。連続吐出回数Ｒnを設定することによって、比較値ｍ（比較値に吐出間隔基準値Ｉpを加算した値も含む）とタイミング信号のカウント値とが一致した場合に、基板Ｗ上の同位置にＲn回連続して吐出動作が行われる。一回の吐出動作でノズル５０より吐出されるスペーサ液量には制限があるため、同位置に複数回連続して吐出動作を行うことにより、基板Ｗ上に吐出されるスペーサ液量を状況に応じて調節することが可能である。
【００７０】
このように、吐出液滴間隔Ｌnおよび吐出数Ｐnの個別設定、連続吐出回数Ｒnの設定等を行うことによって、吐出パターンを特定するためのデータサイズは、これらの値を設定しない場合と比較して大容量になるが、従来のビットマップデータと比較すると格段に小さいデータサイズに抑えることができる。
【００７１】
＜４．  変形例 ＞
上述の処理の流れにおいて、吐出パターンの開始位置である吐出開始位置Ｓk-n、を設定し、吐出開始位置Ｓk-nから出現するスペーサ液滴の繰り返し規則を、吐出液滴間隔Ｌnと吐出数Ｐnとを予め設定することで規定していたが、これに限られるものではない。例えば、吐出パターンの開始位置である吐出開始位置Ｓk-nを設定し、吐出開始位置Ｓk-nから出現するスペーサ液滴の繰り返し規則を、吐出終了位置Ｓk-neの値と単位距離あたりの液滴数ｆとを設定することによって規定する形態であっても構わない。この場合、基板Ｗ上における吐出開始位置Ｓk-nと吐出終了位置Ｓk-neとの位置が決定すると、その間の距離と、単位距離ごとに出現する液滴数ｆの値とを踏まえて、均等にノズル５０よりスペーサ液滴の吐出が行われる。このように、基板Ｗ上でスペーサ液滴が出現する開始位置と、開始位置から出現するスペーサ液滴の繰り返し規則を表すパラメータを用いる形態であれば、パラメータをどのように設定しても構わない。
【００７２】
ヘッド５ごとの液滴の吐出パターンが異なるような場合にも対応可能とする場合には、既述したパラメータ群を、複数のノズルのそれぞれについて個別に設定可能とされていてもかまわない。
【００７３】
また、上述の装置構成においては、ヘッド５に配列されたノズル５０の配列方向と、基板Ｗの搬送方向とは、所定の角度θをもって斜めになっていたが、このような形態に限られない。ヘッド５に配列されたノズル５０の配列方向と、基板Ｗの搬送方向とが、直交して配置される形態であっても構わない。この場合、吐出開始位置Ｓk-nをＹ軸方向に沿って揃えるのであれば、比較値ｍは各ノズル５０で同じ値になるため、各ノズル５０に対して吐出開始位置および比較値ｍを設定する必要がなく、データサイズをより小さくすることが可能となる。
【００７４】
また、上述の装置構成においては、ヘッド５はＸ軸方向に沿って移動する機構を有してはいないが、Ｘ軸方向に沿って移動することが可能であっても構わない。この場合、ヘッド５を備えて移動する機構においても、リニアガイド４２、リニアモータ４３、リニアエンコーダ４４などのヘッド５の移動距離を検出可能な装置を備える必要があり、基板Ｗおよびヘッド５の移動距離に応じて、ノズル５０と吐出開始位置Ｓk-nとの距離を検出する。
【００７５】
また、上述の装置構成においては、タイミング信号を発生するためにリニアエンコーダ４４が用いられ、所定の距離を移動するたびにタイミング信号が出力されていたが、このような形態に限られない。例えば、レーザ測長器やロータリーエンコーダなどを利用して、基板の移動距離を検出してタイミング信号を出力する形態であっても構わない。
【符号の説明】
【００７６】
１  液滴ジェット装置
３  エア浮上ステージ
４  搬送チャック
５  ヘッド
１０  制御部
４４  リニアエンコーダ
５０  ノズル
５００  吐出駆動部
Ｓk-n  吐出開始位置
Ｌn  吐出液滴間隔
Ｐn  吐出数
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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