(57)【要約】【課題】比較的安価に、かつクリーンルームの機能を活かしつつ、確実にクリーンルーム内における金属汚染を抑制することのできるクリーンルーム内金属汚染防止システムを提供する。【解決手段】作業空間１２から床下空間２４へ排気された気体をＦＦＵ１８を介して作業空間１２へ循環させる垂直層流型のクリーンルーム１０における金属汚染防止システムであって、熔解ガス発生源が配置される作業空間１２の一部を隔離して熔解ガス発生領域１４を確保する隔壁１６と、床下空間２４において隔壁１６ａに接続し、熔解ガス流入領域２８を確保する開閉床３０と、開閉床３０の開閉を行うモータ３２と、熔解ガス流入領域２８からクリーンルーム系外へ接続された排気経路４４を有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業空間から床下空間へ排気された気体を前記作業空間の天井に備えたフィルタを介して前記作業空間へ循環させる垂直層流型のクリーンルーム内における金属汚染防止システムであって、
熔解ガス発生源が配置される前記作業空間の一部を隔離して熔解ガス発生領域を確保する隔壁と、
前記床下空間において前記隔壁の延設部に接続し、熔解ガス流入領域を確保する開閉床と、
前記開閉床の開閉を行う開閉手段と、
前記熔解ガス流入領域からクリーンルーム系外へ接続された第１の排気経路を有することを特徴とするクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【請求項２】
作業空間から側壁側循環路へ排気された気体を前記作業空間の天井に備えたフィルタを介して前記作業空間へ循環させる幅木吸込み型のクリーンルームにおける金属汚染防止システムであって、
熔解ガス発生源が配置される前記作業空間の一部を隔離して熔解ガス発生領域を確保する隔壁と、
前記熔解ガス発生領域における前記側壁側循環路の一部を遮蔽して前記熔解ガスを流入させる熔解ガス流入領域を確保する開閉壁と、
前記開閉壁の開閉を行う開閉手段と、
前記熔解ガス流入領域からクリーンルーム系外へ接続された第１の排気経路を有することを特徴とするクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【請求項３】
前記熔解ガス発生領域および前記熔解ガス流入領域の少なくとも一方に備えられた熔解ガス検知センサと、
前記熔解ガス検知センサによる熔解ガス検知信号を受けて前記開閉手段に対して前記開閉床または前記開閉壁を閉じる旨の信号を出力する制御手段を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【請求項４】
前記第１の排気経路には、前記制御手段が前記熔解ガス検知信号を受けた際に駆動信号が出力される第１の強制排気ポンプを備えたことを特徴とする請求項３に記載のクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【請求項５】
前記熔解ガス発生領域には、当該熔解ガス発生領域内の気体をクリーンルーム系外へ排気するための第２の排気経路を設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１に記載のクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【請求項６】
前記第２の排気経路には、前記制御手段が前記熔解ガス検知信号を受けた際に駆動信号が出力されて前記熔解ガス発生領域内の気体を強制排気する、第２の強制排気ポンプを備えたことを特徴とする請求項５に記載のクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【請求項７】
前記熔解ガス発生領域には、前記制御手段に対して熔解ガス検知信号を送信するための非常用スイッチを備えたことを特徴とする請求項３乃至請求項６のいずれか１に記載のクリーンルーム内金属汚染防止システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はクリーンルームに係り、特にクリーンルーム内に設置されたエッチング装置や、当該装置で使用されるエッチング液などから漏洩するガスに起因する飛散金属粒子による金属汚染を防止するシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造には、図６に示すようなクリーンルーム内での工程が存在する。このようなクリーンルーム１０内で成される工程には、Ｓｉウエハ上に金属を蒸着して金属膜を形成する工程や、成膜した膜を所定のパターンに形成するエッチング工程が存在する。このような工程を経た後、Ｓｉウエハを所定の大きさにカットするダイシング工程等を経て製品化される。
【０００３】
このような半導体デバイスの製造工程において特に、金属膜のパターン形成を行うエッチング装置３４からは、加工時に生ずるエッチングガスの漏れ、あるいは加工に用いるエッチング液の漏洩が生ずる場合がある。エッチングガスの漏れや、漏洩エッチング液からの蒸発ガスの発生が起こると、天井に備えられたファンフィルタユニット１８を構成するフィルタ２２に捕捉されていた金属粒子などが大量に、クリーンルーム１０内に散布されることとなる。
【０００４】
これは、図８に示すように、エッチングガスやエッチング液からの蒸発ガスが、クリーンルーム内を循環する気流に乗ってファンフィルタユニット１８を通過することに起因する。具体的には、エッチングガスやエッチング液の蒸発ガスがファンフィルタユニット１８を通過することにより、フィルタ２２を構成するガラス繊維や捕捉金属粒子の表面を熔解させる。これにより、捕捉されていた金属粒子や、金属粒子の熔解によって生じた微粒子がクリーンルーム１０内に散布されることとなる（図８（Ｂ）参照）。
【０００５】
金属膜のエッチングにはフッ化水素（フッ酸：ＨＦ）が用いられることより、図７に示すようにフッ酸の濃度を変化させてファンフィルタユニット１８からの飛散金属粒子の量を計測したところ、僅か３．１ｎｇ／ｌの濃度でも、エッチングガスの発生が無い場合に比べて約１０倍もの金属粒子が飛散することを読み取ることができる。そして、このような飛散金属粒子が製造途中のデバイスに付着すると、絶縁不良や動作不良など様々な障害を生じさせる原因となり、歩留りが低下するといった問題がある。
【０００６】
このようなクリーンルーム内の金属汚染問題に関しては、特許文献１や特許文献２に開示されている技術が知られている。まず、特許文献１に開示されている技術は、エッチング装置などの加工装置の排気面の下部に、他の床下空間とは隔離された空間を確保し、この中に流れ込んだ空気をクリーンルームの系外に排出するというものである。エッチング装置の排気面から直接床下空間に流れ込む気体には、エッチングガスやエッチング液からの蒸発ガスが含まれている可能性が高く、これを排気することによりファンフィルタユニットへの影響を回避することができるからである。
【０００７】
次に特許文献２に開示されている技術は、クリーンルーム内にエッチング装置などの加工装置を配置する小部屋を設け、この小部屋とクリーンルーム、および小部屋に出入りする通路のそれぞれについて、個別にエアの循環手段を設けるというものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−２２１６３５号公報
【特許文献２】特開２００５−３０６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献１、特許文献２に開示されている技術によれば確かに、金属汚染を抑制する効果はあると考えられる。しかし、特許文献１に開示されている技術では、金属汚染が無い状態であってもエアを系外に排出し続けることとなり、循環手段の効果が薄らいでしまう可能性がある。また、必ずしも汚染空気が隔離空間に流れ込むとも限らないという問題がある。
【００１０】
特許文献２に開示されている技術は、汚染の可能性がある部分を完全に独立化して循環させることとなるため、金属汚染の抑制効果としては非常に高いものであると言うことができる。しかし、小部屋、通路、およびクリーンルームと、それぞれに個別に循環手段とフィルタを備える構成とするため、設備コスト、ランニングコストの高騰が課題となる。
【００１１】
そこで本発明では上記問題点を解決し、比較的安価に、かつクリーンルームの機能を活かしつつ、確実にクリーンルーム内における金属汚染を抑制することのできるクリーンルーム内金属汚染防止システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するための本発明に係るクリーンルーム内金属汚染防止システムは、作業空間から床下空間へ排気された気体を前記作業空間の天井に備えたフィルタを介して前記作業空間へ循環させる垂直層流型のクリーンルーム内における金属汚染防止システムであって、熔解ガス発生源が配置される前記作業空間の一部を隔離して熔解ガス発生領域を確保する隔壁と、前記床下空間において前記隔壁の延設部に接続し、熔解ガス流入領域を確保する開閉床と、前記開閉床の開閉を行う開閉手段と、前記熔解ガス流入領域からクリーンルーム系外へ接続された第１の排気経路を有することを特徴とする。
【００１３】
また、上記目的を達成するための本発明に係るクリーンルーム内金属汚染防止システムとしては、作業空間から側壁側循環路へ排気された気体を前記作業空間の天井に備えたフィルタを介して前記作業空間へ循環させる幅木吸込み型のクリーンルームにおける金属汚染防止システムであって、熔解ガス発生源が配置される前記作業空間の一部を隔離して熔解ガス発生領域を確保する隔壁と、前記熔解ガス発生領域における前記側壁側循環路の一部を遮蔽して前記熔解ガスを流入させる熔解ガス流入領域を確保する開閉壁と、前記開閉壁の開閉を行う開閉手段と、前記熔解ガス流入領域からクリーンルーム系外へ接続された第１の排気経路を有することを特徴とするものであっても良い。
【００１４】
また、上記のような特徴を有するクリーンルーム内金属汚染防止システムは、前記熔解ガス発生領域および前記熔解ガス流入領域の少なくとも一方に備えられた熔解ガス検知センサと、前記熔解ガス検知センサによる熔解ガス検知信号を受けて前記開閉手段に対して前記開閉床を閉じる旨の信号を出力する制御手段を有するようにすると良い。
【００１５】
このような構成とすることによれば、熔解ガスが発生したことを検知すると同時に、熔解ガスが天井に備えたフィルタに流れることを防止することができる。
また、上記のような特徴を有するクリーンルーム内金属汚染防止システムにおいて前記第１の排気経路には、前記制御手段が前記熔解ガス検知信号を受けた際に駆動信号が出力される第１の強制排気ポンプを備えるようにすると良い。
【００１６】
このような構成とすることにより、クリーンルーム内の清浄化を迅速に行うことが可能となる。
また、上記のような特徴を有するクリーンルーム内金属汚染防止システムにおいて前記熔解ガス発生領域には、当該熔解ガス発生領域内の気体をクリーンルーム系外へ排気するための第２の排気経路を設けるようにすると良い。
【００１７】
このような構成とすることにより、熔解ガス発生領域から直接、熔解ガスをクリーンルーム系外へ排気することが可能となる。
また、上記のような特徴を有するクリーンルーム内金属汚染防止システムにおいて前記第２の排気経路には、前記制御手段が前記熔解ガス検知信号を受けた際に駆動信号が出力されて前記熔解ガス発生領域内の気体を強制排気する、第２の強制排気ポンプを備えるようにすると良い。
【００１８】
このような構成とすることにより、クリーンルーム内の清浄化をさらに迅速に行うことが可能となる。
さらに、上記のような特徴を有するクリーンルーム内金属汚染防止システムにおいて前記熔解ガス発生領域には、前記制御手段に対して熔解ガス検知信号を送信するための非常用スイッチを備えるようにすることもできる。
このような構成とすることにより、人為的なミスにより熔解ガスを発生させるような事態が生じた場合に即時対応が可能となる。
【発明の効果】
【００１９】
上記のような特徴を有するクリーンルーム内金属汚染防止システムによれば、比較的安価に、かつクリーンルームの機能を活かしつつ、確実にクリーンルーム内における金属汚染を抑制することができる。また、エッチング装置が置かれた部屋が汚染されても、ファンフィルタユニットには汚染ガスが到達しないため、金属汚染がクリーンルーム全体に広がることが無い。さらに、金属汚染が防止できるため、製品の歩留り向上を図ることができ、製造コストを低減することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１の実施形態に係るクリーンルーム内金属汚染防止システムの構成を示すブロック図である。
【図２】熔解ガス流入領域の構成を示す図である。
【図３】第２の実施形態に係るクリーンルーム内金属汚染防止システムの構成を示すブロック図である。
【図４】第３の実施形態に係るクリーンルーム内金属汚染防止システムの構成を示すブロック図である。
【図５】幅木吸込み型のクリーンルームへ発明を適用した場合の一例を示す図である。
【図６】従来のクリーンルームの構成を示すブロック図である。
【図７】エッチングガス濃度とフィルタからの金属発生量の関係を示す図である。
【図８】金属粒子の発生メカニズムを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明のクリーンルーム内金属汚染防止システムに係る実施の形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、図１を参照してクリーンルーム内金属汚染防止システム（以下、単に金属汚染防止システム１００と称す）に係る第１の実施形態について説明する。本実施形態に係る金属汚染防止システム１００を備えるクリーンルーム１０は、作業空間１２、床下空間２４、及び循環路２６を有し、作業空間１２の天井部にファンフィルタユニット（以下、ＦＦＵと称す）１８を備えることを基本として構成される垂直層流型のクリーンルームである。
【００２２】
作業空間１２は、Ｓｉウエハの製造等を行うための空間である。天井部には詳細を後述するＦＦＵ１８が備えられ、床面はグレーチング１５により構成されており、詳細を後述する床下空間２４と連通している。作業空間１２内にはＦＦＵ１８から床下空間２４へと向かう垂直層流（ダウンフロー）が形成されており内部発塵や外部からの塵埃の侵入を防ぐことが可能とされており、高い清浄度を保つことが可能な構成とされている。
【００２３】
このような基本構成を有する作業空間１２にはＳｉウエハに成膜された金属膜等の加工等を行うためのエッチング装置３４や、このエッチング装置３４に用いられるエッチング液３５が配置されている。エッチング装置３４やエッチング液３５からは、エッチング加工時に生ずるエッチングガスや、エッチング液３５からの揮発ガスなどが発生する。このようなガスは通常、排気ポンプ４６を備えた排気経路３６を介してクリーンルーム系外に設けられた除去装置４８へ排気されるが、排気されなかったガスが漏れ出したり、偶発的にエッチング装置３４外で発生することがある。このようなガスがエッチング装置３４から漏れ出したり偶発的に発生すると図８に示すように、天井部に備えたＦＦＵ１８を構成するフィルタ２２のガラス繊維を熔解したり、フィルタ２２に捕集された金属粒子の表面を熔解したりすることがあり、クリーンルーム１０の清浄度を悪化させる要因となる。以下本実施形態においては、エッチングガスやエッチング液からの揮発ガスを総称して熔解ガスと称することとする。
【００２４】
実施形態に係るクリーンルーム１０では、エッチング装置３４やエッチング液３５を配置した領域（以下、熔解ガス発生領域１４と称す）を囲う、あるいは熔解ガス発生領域１４と作業空間１２における他の領域を隔てる隔壁１６を備えている。このような隔壁１６を備えることにより、熔解ガス発生領域１４において熔解ガスが発生した場合であっても、作業空間１２内における他の領域に熔解ガスが直接流れ出る虞が無くなるからである。
【００２５】
床下空間２４は、ＦＦＵ１８から作業空間１２へ送られた気体（気流）が、流れ込むための空間である。作業空間１２と床下空間２４は上述したように、床面を構成するグレーチング１５により区切られている。
【００２６】
循環路２６は、作業空間１２から床下空間２４に流れ込んだ気体を作業空間１２の天井に設けられたＦＦＵ１８へと返送するための通路である。
ＦＦＵ１８は、作業空間１２にダウンフローを生じさせつつ循環気体に含まれる塵埃等を除去する役割を担う。ＦＦＵ１８は、循環路２６を介して返送された気体を作業空間へ送り込むためのファン２０と、気体に含まれる塵埃等を除去するためのフィルタ２２とから成る。フィルタ２２はＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ等のガラス繊維から成る高性能フィルタを採用する。
【００２７】
このような構成のクリーンルーム１０に対して本実施形態に係る金属汚染防止システム１００は、開閉床３０と制御手段５０を備えることを基本として構成される。開閉床３０は、床下空間２４に設けられる。本実施形態における床下空間２４には、熔解ガス発生領域１４を構成する隔壁１６がグレーチング１５を介して延設されており、隔壁１６ａは作業空間１２の床面を構成するグレーチング１５から床下空間２４へ突出するような形態とされている。実施形態に係る開閉床３０は、グレーチング１５から床下空間２４へ突出した隔壁１６ａの下端側に設けられ、隔壁１６ａの突出部によって囲まれた床下空間（以下、熔解ガス流入領域２８と称す）と、床下空間２４の他の領域とを隔てる役割を担う。開閉床３０は床の開閉により熔解ガス流入領域２８と床下空間２４の他の領域との連通、閉塞を行う。具体的な構成としては図２に示すように、例えば２枚のパンチングメタルやグレーチングなどの孔開き板３０ａ、３０ｂにより構成され、この孔空き板３０ａまたは孔空き板３０ｂのどちらか一方をスライドさせることによって床の開閉を成すものであれば良い。すなわち、２枚の孔開き板３０ａ、３０ｂの孔が重ね合わさる状態の時を開（図２（Ａ）参照）、２枚の孔開き板３０ａ、３０ｂの孔がずれている状態の時を閉（図２（Ｂ）参照）とするのである。
【００２８】
開閉床３０には開閉手段が接続されており、床の開閉を制御可能な構成とされている。開閉手段の具体例としては例えばモータ３２などのアクチュエータを挙げることができる。モータは詳細を後述する制御手段５０に電気的に接続されており、開、または閉を示す旨の駆動信号を受けることにより、開閉床３０を構成する孔開き板３０ａまたは孔開き板３０ｂをスライド制御するように構成すれば良い。ここで、開閉床３０の開閉は前述したように、前記孔空き板３０ａ、３０ｂのどちらか一方をスライドさせることにより可能となるが、孔空き板３０ａ、３０ｂの双方を相反する方向へスライドさせることにより、開閉床３０の開閉を、より迅速な動作とすることが可能となる。その結果、ＦＦＵ１８に流れる熔解ガスの量を減らすことができる。
【００２９】
熔解ガス流入領域２８には、熔解ガス検知センサ５４と、排気ポンプ（第１の強制排気ポンプ）４２を備えた排気経路（第１の排気経路）４４が備えられている。熔解ガス検知センサ５４は、熔解ガスの成分を検知するためのセンサであり、熔解ガスの成分を検知した場合には、詳細を後述する制御手段５０に対して検知信号を出力する構成とされている。排気経路４４は、クリーンルーム系外に設けられた除去装置４８に接続されており、熔解ガス流入領域２８に流れ込んだ熔解ガスをクリーンルーム系外へ排出する役割を担う。排気経路４４に設けられた排気ポンプ４２は、詳細を後述する制御手段５０に接続されており、制御手段５０からの駆動信号を受けることにより駆動し、熔解ガス流入領域２８内の気体（熔解ガスを含む気体）をクリーンルーム系外へ強制排気する。
【００３０】
また、本実施形態に係る熔解ガス発生領域１４にも、熔解ガス検知センサ５２と、排気ポンプ（第２の強制排気ポンプ）３８を備えた排気経路（第２の排気経路）４０が備えられている。熔解ガス検知センサ５２と排気経路４０の役割は上述した熔解ガス検知センサ５４と排気経路４４と同様である。また、熔解ガス検知センサ５２も制御手段５０に接続されており熔解ガスの成分を検知した場合には、制御手段５０に対して検知信号を出力する構成とされ、排気ポンプ３８は制御手段５０からの駆動信号を受けることにより駆動して、熔解ガス発生領域１４内の気体（熔解ガスを含む気体）をクリーンルーム系外へ強制排気する。
制御手段５０は、クリーンルーム１０に設けられたモータ３２、排気ポンプ３８、４２、熔解ガス検知センサ５２、５４の制御を行う役割を担う。具体的には、熔解ガス検知センサ５２、熔解ガス検知センサ５４の少なくとも一方により熔解ガスが検知された場合、熔解ガス検知センサ５２、５４から制御手段５０に対し、熔解ガスの成分を検知した旨の信号（検知信号）が出力される。検知信号を受けた制御手段５０は、開閉床３０の開閉手段として設けたモータ３２を駆動させる駆動信号を出力し、開閉床３０を閉状態にすると共に、排気ポンプ３８および排気ポンプ４２に対して駆動信号を出力し、熔解ガス発生領域１４および熔解ガス流入領域２８内の気体を強制排気する。
【００３１】
このような作用により漏洩、あるいは発生した熔解ガスは作業空間（熔解ガス発生領域１４）の天井に設けられたＦＦＵ１８に至る事無くクリーンルーム１０の系外へと排気される。これにより、ＦＦＵ１８を構成するフィルタ２２のガラス繊維が熔解され、あるいはガラス繊維に捕集された金属粒子の表面が熔解されることによる作業空間１２内への金属粒子の飛散を抑制することができ、クリーンルーム１０内の金属汚染を防止することができる。
【００３２】
熔解ガス検知センサ５２および熔解ガス検知センサ５４からの検知信号が受信されなくなった制御手段は、排気ポンプ３８、４２に対して停止信号を出力すると共にモータ３２に対して駆動信号を出力して開閉床を開状態にする。
このような制御を行うことにより、正常時には作業領域１２を通過した気体が循環路２６を通ってＦＦＵ１８へ至り、再び作業領域１２へ吹き込まれることとなり、作業領域１２内の清浄度が保たれることとなる。
【００３３】
一方、熔解ガス検知センサ５２、５４により熔解ガスが検知された異常時には、作業空間１２における熔解ガス発生領域１４以外の領域では床下空間２４とＦＦＵ１８を介した循環が行われ、熔解ガス発生領域１４から床下空間へ抜けた気体は熔解ガス流入領域２８からクリーンルーム系外へと排出されることとなる。
【００３４】
このような構成の金属汚染防止システム１００によれば、比較的安価に、かつクリーンルームの機能を活かしつつ、確実にクリーンルーム内における金属汚染を抑制することができる。また、作業空間１２における熔解ガス発生領域１４が熔解ガスにより汚染された場合であっても、作業空間１２の天井に設けられたＦＦＵ１８に熔解ガスが到達する虞が無い。このため、作業空間１２における熔解ガス発生領域１４以外の領域に金属汚染が広がる虞が無い。さらに、効果的に金属汚染が防止できるため、製品としての歩留りの向上を図ることができ、結果として製造コストの低減につながる。
【００３５】
次に、本発明のクリーンルーム内金属汚染防止システムに係る第２の実施形態について、図３を参照して説明する。本実施形態に係る金属汚染防止システム１１０の基本的構成は、上述した金属汚染防止システム１００と同様であり、開閉床３０により構成された熔解ガス流入領域２８と、制御手段５０とを有する。よって、その構成を同一とする箇所には、図面に同一符号を付して詳細な説明は省略することとする。
【００３６】
本実施形態に係る金属汚染防止システム１１０と上記実施形態に係る金属汚染防止システム１００との相違点は、熔解ガス検知センサ５２、５４の有無にある。本実施形態では、熔解ガス発生領域１４および熔解ガス流入領域２８に設けられる熔解ガス検知センサ５２、５４の代わりに、熔解ガス発生領域１４に非常用スイッチ５６を設ける構成とした。
【００３７】
非常用スイッチ５６は、制御手段５０に接続されており、非常用スイッチ５６が押される、すなわち非常用スイッチ５６が作動させられることにより、制御手段５０に対して熔解ガス検知信号（検知信号）が出力される。検知信号を受信した制御手段５０は、開閉床３０のモータ３２、排気ポンプ３８、４２に対して駆動信号を出力する。これにより、熔解ガス発生領域１４、熔解ガス流入領域２８に発生した熔解ガスは、クリーンルーム系外へ排出されることとなる。
【００３８】
このような構成の金属汚染防止システム１１０であっても、上記第１の実施形態に係る金属汚染防止システム１００と同様な効果を得ることができる。なお非常用スイッチ５６は作業員により操作されるため、人為的ミスなどによりエッチング液をこぼしたといった場合には、熔解ガス検知センサ５２、５４よりも早く、制御手段５０に対して検知信号を出力することが可能となる。逆に、エッチング装置３４などからの熔解ガスの漏洩に関しては、作業員が気づかない場合が考えられるため、本実施形態に挙げた非常用スイッチ５６に加え、熔解ガス検知センサ５２、５４を備えたシステムを構成しても良い。
【００３９】
次に、本発明のクリーンルーム内金属汚染防止システムに係る第３の実施形態について、図４を参照して説明する。本実施形態に係る金属汚染防止システムの基本的構成も、上述した２つの金属汚染防止システム１００、１１０と同様であり、開閉床３０により構成された熔解ガス流入領域２８と、制御手段５０とを有する。よって、その構成を同一とする箇所には、図面に同一符号を付して詳細な説明は省略することとする。
【００４０】
図４で示す金属汚染防止システム１２０は、図１に示す第１の実施形態に係る金属汚染防止システム１００をベースとしているが、熔解ガス流入領域２８を構成する開閉床３０の構成を異ならせている。具体的には、本実施形態に係る金属汚染防止システム１２０では、熔解ガス流入領域２８を構成する床にシャットバルブ５８を備えることで開閉床３０を構成している。
【００４１】
シャットバルブ５８は電磁式、あるいはモータ駆動式の開閉バルブであり、図示のタイプは、駆動モータ（不図示）等により、開閉弁６０を回転させることにより開閉床３０の開と閉を成す。このため、制御手段５０からの駆動信号は、排気ポンプ３８、４２の他、シャットバルブ５８を構成する駆動モータにも送信されることとなる。
【００４２】
このような構成の金属汚染防止システム１２０であっても、上記実施形態に係る金属汚染防止システム１００、１１０と同様な効果を得ることができる。また、開閉床３０の開閉機構をシャットバルブ５８としたことにより、パンチングメタルやグレーチング等の孔開き板３０ａ、３０ｂをスライドさせる機構よりも、閉塞時の気密性を高くすることができるようになり、より高精度な金属汚染防止システムとすることができる。なお、図４においては、シャットバルブ５８を１つのみ示したが、シャットバルブ５８は複数設けるようにしても良い。また、図４では第１の実施形態に係る金属汚染防止システム１００をベースとしているが、第２の実施形態に係る金属汚染防止システム１１０をベースとして開閉床３０の構成を変化させるようにしても良い。
【００４３】
以上は、床下空間のあるクリーンルームについての実施例を示したが、本発明は幅木吸込み型のクリーンルームにも適用することができる。図５に、幅木吸込み型のクリーンルームに対して本発明を適用した一例を示す。
【００４４】
図５に示す形態のクリーンルーム１０では、天井部のＦＦＵ１８から流入したエアが、壁面に設けられた幅木吸込み口２５を介して循環路２６へと流れ込む。このため、熔解ガス発生領域１４に設けられた幅木吸込み口２５の周囲に、循環路２６の一部を遮蔽する熔解ガス流入領域２８を形成している。熔解ガス流入領域２８は側壁部に、開閉床３０と同じ働きを担う開閉壁３１を備え、開閉壁３１は、モータ３２により駆動される構成としている。
【００４５】
また熔解ガス流入領域２８には、排気ポンプ４２を備えた排気経路４４が備えられ、流入した熔解ガスを、除去装置４８を介してクリーンルーム１０の系外へ排出可能な構成としている。なお、その他の構成、作用、効果については、上述した垂直層流型のクリーンルームと同様である。
【符号の説明】
【００４６】
１０………クリーンルーム、１２………作業空間、１４………熔解ガス発生領域、１６………隔壁、１６ａ………隔壁、１８………ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）、２０………ファン、２２………フィルタ、２４………床下空間、２６………循環路、２８………熔解ガス流入領域、３０………開閉床、３１………開閉壁、３２………モータ、３４………エッチング装置、３５………エッチング液、３６………排気経路、３８………排気ポンプ、４０………排気経路、４２………排気ポンプ、４４………排気経路、４６………排気ポンプ、４８………除去装置、５０………制御手段、５２………熔解ガス検知センサ、５４………熔解ガス検知センサ。
【図１】
2011075219.tif 000003
【図２】
2011075219.tif 000004
【図３】
2011075219.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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