(57)【要約】【課題】本発明では、十分な分散性および均一性を有する電子放出源を備えた電子放出素子を提供することを課題とする。【解決手段】本発明では、導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブを起毛させる工程と、を有する素子製造方法を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、
表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブ塗布膜に含まれるナノチューブを起毛させる工程と、を有する素子製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の素子製造方法において、
前記ナノチューブを起毛させる工程は、
前記ローラの前記表面に前記ナノチューブ塗布膜を当接させた状態で前記ローラを回転させながら、前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる工程である素子製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の素子製造方法において、
前記ナノチューブを起毛させる工程は、
前記ローラを帯電させた後、前記ローラの前記表面に対向するように前記ナノチューブ塗布膜を近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる工程である素子製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の素子製造方法において、
前記ナノチューブを起毛させる工程は、
前記ローラを回転させながら、前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる工程である素子製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一に記載の素子製造方法において、
前記凹凸における凸形状の高さおよび長径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下である素子製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一に記載の素子製造方法において、
前記凹凸における隣り合う凸形状どうしの間隔は、１μｍ以上１０μｍ以下である素子製造方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一に記載の素子製造方法において、
前記ナノチューブは、カーボンナノチューブである素子製造方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一に記載の素子製造方法で形成される素子を有するカソード部と、
前記カソード部の対向電極となるアノード部と、
を有し、前記素子の前記起毛させたナノチューブを電子放出源とする電子放出素子。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか一に記載の素子製造方法で形成される素子を有するカソード部と、
ガラス基板に透明電極薄膜を形成し、前記透明電極薄膜の上に蛍光体を塗布した、前記カソード部の対向電極となるアノード部と、
を有し、前記素子の前記起毛させたナノチューブを電子放出源とする発光素子。
【請求項１０】
請求項９に記載の発光素子を有する電子機器。
【請求項１１】
表面に凹凸を有するローラと、
表面にナノチューブ塗布膜を形成した導電性基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された前記導電性基板の前記ナノチューブ塗布膜を、前記ローラの前記表面に当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる駆動手段と、
を有する素子製造装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の素子製造装置において、
前記ローラを帯電させる帯電手段をさらに備え、
前記駆動手段は、
前記保持手段に保持された前記導電性基板の前記ナノチューブ塗布膜を、前記ローラの前記表面と対向するように近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる素子製造装置。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の素子製造装置において、
前記駆動手段は、
前記ローラを回転させながら、前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる素子製造装置。
【請求項１４】
請求項１１から１３のいずれか一に記載の素子製造装置において、
前記凹凸における凸形状の高さおよび長径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下である素子製造装置。
【請求項１５】
請求項１１から１４のいずれか一に記載の素子製造装置において、
前記凹凸における隣り合う凸形状どうしの間隔は、１μｍ以上１０μｍ以下である素子製造装置。
【請求項１６】
請求項１１から１５のいずれか一に記載の素子製造装置において、
前記ナノチューブ塗布膜に含まれるナノチューブは、カーボンナノチューブである素子製造装置。
【請求項１７】
請求項１１から１６のいずれか一に記載の素子製造装置において、
製造される素子は、起毛させた前記ナノチューブを電子放出源とする電子放出素子のカソード部として利用される素子製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、素子製造装置、素子製造方法、電子放出素子、発光素子、および、電子機器に関する。より具体的には、ナノチューブを電子放出源とする電子放出素子および発光素子、この発光素子を有する電子機器、電子放出素子のカソード部の製造方法および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
蛍光表示管や蛍光発光管には、アノード部の発光体を発光させる電子放出源として、ナノチューブ、例えば繊維状のカーボンナノチューブを用いた電界放出型電子放出素子を利用しているものがある。この電子放出素子のカソード部は、例えば、繊維状カーボンを溶剤に分散したペーストをカソード基板に塗布して製造している。しかし、通常の塗布では、繊維状カーボンは、基板面に対して略垂直方向に立っておらず、充分な電子放出が得られない。
【０００３】
そのために、塗布したカーボン膜表面に粘着テープを貼り付け、その後粘着テープを剥がしてカーボン繊維を略垂直に立たせる処理（起毛処理）を行う方法（特許文献１）、また、活性化ガスを導入した減圧雰囲気で、逆バイアスを印加することにより、カーボンナノチューブを塗布した表面を荒らしてカーボンナノチューブを露出させ、電子放出の起点を増やす方法（特許文献２）、レーザー照射（特許文献３）やドライアイスの吹き付け（特許文献４）などによりカーボンナノチューブを塗布した表面を荒らしてカーボンナノチューブを露出させ、電子放出の起点を増やす方法などが提案されている。
【０００４】
しかし、非特許文献１に記載されているように、起毛したカーボンナノチューブの密度が１０１０本／ｃｍ２より大きいと、電界集中が起こりにくくなるため、起毛したカーボンナノチューブは適度に分散していることが望ましい。これを実現するために、カーボンナノチューブを成長させる場所を特定した方法がいくつか提案されている（特許文献５、６、７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３５３６０号公報
【特許文献２】特開２００８−９７８４２号公報
【特許文献３】特開２００６−１２５５１号公報
【特許文献４】特開２００５−５０７９号公報
【特許文献５】特開２００１−２６１３１６号公報
【特許文献６】特開２００１−３１２９５３号公報
【特許文献７】特開２００４−２５９６６７号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】下山  宏他、「配向性垂直成長カーボンナノチューブからの電界放出の計算機シミュレーション（２）」、電子情報通信学会技術研究報告、２０００年１２月７日、Ｖｏｌ.１００,Ｎｏ.５０５,ｐｐ.６１−６８.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に開示された粘着テープを用いる方法では、電子放出の起点の数、密度が制御できない。特許文献２に開示された活性化ガスを導入し、逆バイアスを印加することによる表面エッチングでは、カーボンナノチューブにイオン照射によるダメージの問題がある。特許文献３に開示された方法では、レーザー照射によるカーボンナノチューブへのダメージの問題がある。特許文献４に開示されたドライアイスを吹き付け起毛させる方法では、ドライアイスの微粉末を作製する工程、キャリアガスとともに吹き付ける工程、気化した二酸化炭素の除去の工程とがあり、工程が複雑である。
【０００８】
また、特許文献５に開示された方法では、ナノチューブの生成場所となる突起を作る工程、マスクを作る工程、触媒を付着させる工程、ナノチューブを成長させる工程、マスクを除去する工程とがあり、工程が複雑である。特許文献６および特許文献７に開示された方法では、ナノチューブを所望の位置に付着させるために陽極酸化膜上に電気泳動を使う、磁性体を内包させたナノチューブを、磁場を用いて配向させ、低融点金属で固着するなど、制御性に問題がある。
【０００９】
そこで、本発明では、十分な分散性、均一性を有する電子放出源を備えた電子放出素子を製造するための技術を提供することを課題とする。また、製造段階で余計なダメージを与えることなく電子放出素子を製造できる技術を提供することを課題とする。また、シンプルな工程で容易に電子放出素子を製造することができる技術を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブ塗布膜に含まれるナノチューブを起毛させる工程と、を有する素子製造方法が提供される。
【００１１】
また、本発明によれば、表面に凹凸を有するローラと、表面にナノチューブ塗布膜を形成した導電性基板を保持する保持手段と、前記保持手段に保持された前記導電性基板の前記ナノチューブ塗布膜を、前記ローラの前記表面に当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる駆動手段と、を有する素子製造装置が提供される。
【００１２】
また、前記素子製造方法で形成される素子を有するカソード部と、前記カソード部の対向電極となるアノード部と、を有し、前記素子の前記起毛させたナノチューブを電子放出源とする電子放出素子が提供される。
【００１３】
また、前記素子製造方法で形成される素子を有するカソード部と、ガラス基板に透明電極薄膜を形成し、前記透明電極薄膜の上に蛍光体を塗布した、前記カソード部の対向電極となるアノード部と、を有し、前記素子の前記起毛させたナノチューブを電子放出源とする発光素子が提供される。
【００１４】
また、前記発光素子を有する電子機器が提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、十分な分散性、均一性を有する電子放出源を備えた電子放出素子が実現される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施形態の素子製造方法におけるナノチューブを起毛させる工程の一例を説明するための模式図である。
【図２】本実施形態の素子製造方法におけるナノチューブを起毛させる工程の一例を説明するための模式図である。
【図３】ローラの表面に形成された凸形状を説明するための断面模式図である。
【図４】本実施形態の素子製造装置の保持手段と駆動手段の一例を説明するための模式図である。
【図５】本実施形態の素子製造装置の保持手段と駆動手段の一例を説明するための模式図である。
【図６】本実施形態の素子製造装置の保持手段と駆動手段の一例を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００１８】
最初に、本実施形態の素子製造方法について説明する。この素子は、例えば、電子放出源としてナノチューブを備える電子放出素子のカソード部に利用することができる。
【００１９】
本実施形態の素子製造方法は、（１）導電性基板の導電性を有する面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、（２）表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブ塗布膜に含まれるナノチューブを起毛させる工程と、を有する。
【００２０】
＜（１）導電性基板の導電性を有する面にナノチューブ塗布膜を形成する工程＞
【００２１】
導電性基板は、ナノチューブを塗布される面が導電性であれば特段制限されず、例えば、ナノチューブを塗布される面に導電性の薄膜を形成したガラス基板であってもよい。ナノチューブの材料としては、カーボンナノチューブのほか、カーボンナノホーン、ナノチューブナノホーン、ダイアモンドライクカーボン、フラーレン、Ｓｉ、ＢＮ、ＢＣ２Ｎ、ＭｏＳ２、ＷＳ２、ＮｂＳ２の中のいずれか一つ以上を用いることができる。しかし、電子放出源としてはカーボンナノチューブを利用するのが好ましい。なお、長手方向の長さが０．１μｍ以上５μｍ以下、であるナノチューブを用いるのが望ましい。この理由は、以下で説明する。
【００２２】
導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する手段としては、例えば、スクリーン印刷、スプレー法、手塗り印刷、インクジェット、スピンコーティング法等を用いて、エタノール、アセトンのような揮発性の溶媒にナノチューブを分散させた懸濁液、あるいは、エチルセルローズ（バインダ）をテルピオネールに溶解した溶液にナノチューブを分散させたペースト、を導電性基板の表面に塗布し、乾燥する手段であってもよい。
【００２３】
＜（２）表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で、前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブ塗布膜に含まれるナノチューブを起毛させる工程＞
【００２４】
表面に凹凸を有するローラは、円柱形状に形成され、円柱の側面に凹凸を形成されている。この凹凸は多量に形成される。なお、すべての凸形状は、略同一形状に形成されてもよい。
【００２５】
凸形状の高さおよび長径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下であるのが望ましい。また、隣り合う凸形状どうしの間隔は、１μｍ以上１０μｍ以下であるのが望ましい。この理由については、以下で説明する。
【００２６】
凸形状の高さとは、図３のローラ１０の断面模式図に示すように、ローラ１０の表面に形成された凸形状１０Ａの隆起が開始する箇所（図中、点Ｐ、Ｑなど）を通過するように切断した断面からの凸形状１０Ａの高さＨのことである。そして、凸形状１０Ａの長径とは、この断面の長径Ｌのことである。そして、隣り合う凸形状１０Ａどうしの間隔とは、隣り合う凸形状１０Ａの頂点Ｒどうしの間隔のことである。なお、図３に示したローラ１０と凸形状１０Ａは、凸形状１０Ａの高さ及び長径、凸形状１０Ａどうしの間隔を説明するための図であり、図３に示したローラ１０と凸形状１０Ａとの大きさの比率や凸形状１０Ａの数などは特段意味を有さない。
【００２７】
ここで、ナノチューブを起毛させる工程の例について、図１、２を用いて具体的に説明する。なお、図１、２は、本実施形態のナノチューブを起毛させる工程を説明するために必要な構成要素のみを抽出した模式図となっている。
【００２８】
ナノチューブを起毛させる工程の一例としては、図１の模式図に示すように、表面１１に凹凸（図示せず）を有するローラ１０の表面１１に、導電性基板２０の表面に形成されたナノチューブ塗布膜２１を当接させた状態で、ローラ１０を回転させながらローラ１０と導電性基板２０とを相対移動させる工程であってもよい。相対移動は、ローラ１０、導電性基板２０の内の少なくともいずれか一方をスライド移動させることで、実現することができる。例えば、ローラ１０の回転エネルギーが導電性基板２０に伝わり、このエネルギーにより、導電性基板２０がスライド移動してもよい。
【００２９】
この例によれば、ローラ１０の凸形状（図示せず）によりナノチューブ塗布膜２１中に含まれるナノチューブ（図示せず）が押し込まれることとなる。この時、ローラ１０の表面１１に形成された凸形状（図示せず）の高さおよび長径を上記のように０．１μｍ以上１０μｍ以下と定めた場合、一つのナノチューブ（図示せず）に着眼すると、このナノチューブ（図示せず）の全体が凸形状（図示せず）により押し込まれることはなく、ナノチューブ（図示せず）の一部領域が凸形状（図示せず）により押し込まれることとなる。この凸形状（図示せず）によるナノチューブ（図示せず）の一部領域の押し込みにより、ナノチューブ（図示せず）の端部が導電性基板２０の面より跳ね上がり、起毛される。
【００３０】
なお、ナノチューブ（図示せず）の長手方向の長さを上記のように０．１μｍ以上５μｍ以下と定めることで、上記した現象によるナノチューブ（図示せず）の起毛を効率的に実現することができる。さらに、隣り合う凸形状（図示せず）どうしの間隔を制御することで、凸形状（図示せず）により押し込まれるナノチューブ（図示せず）どうしの間隔を制御することができ、その結果、起毛するナノチューブ（図示せず）の間隔を制御することができる。かかる場合、起毛したナノチューブ（図示せず）の配置が、起毛したナノチューブ（図示せず）に効率的に電界集中させることができる幾何学配置となる。例えば、隣り合う凸形状（図示せず）どうしの間隔を上記のように１μｍ以上１０μｍ以下と定めた場合、起毛したナノチューブ（図示せず）の密度を１０１０本／ｃｍ２より小さい値にすることができ、かつ、十分な均等性を確保することができる。また、電子放出源として十分な量のナノチューブ（図示せず）を起毛させることができる。
【００３１】
ナノチューブを起毛させる工程の他の一例としては、図２の模式図に示すように、ローラ３０を帯電させた後、表面３１に凹凸（図示せず）を有するローラ３０の表面３１に、導電性基板２０の表面に形成されたナノチューブ塗布膜２１を近接させた状態で、ローラ３０と導電性基板２０とを相対移動させる工程であってもよい。なお、ローラ３０を回転させながら、ローラ３０と導電性基板２０とを相対移動させてもよい。相対移動は、ローラ１０、導電性基板２０の内の少なくともいずれか一方をスライド移動させることで、実現することができる。また、ローラ３０を帯電させる手段としては、例えばコロナ放電などを利用することができる。
【００３２】
この例によれば、ローラ３０の表面３１に形成された凸形状（図示せず）の頂点付近に電界が集中し、この凸形状（図示せず）に対向するように近接したナノチューブ塗布膜２１に強電界が印加され、ナノチューブ塗布膜２１中に含まれるナノチューブ（図示せず）が起毛される。なお、隣り合う凸形状（図示せず）どうしの間隔を制御することで、ナノチューブ塗布膜２１に強電界を印加する位置（間隔など）を制御することができる。また、ローラ３０を回転させながらローラ３０と導電性基板２０とを相対移動させることで、ナノチューブ塗布膜２１に強電界を印加する位置（間隔など）をさらに精度良く制御することができる。その結果、起毛するナノチューブ（図示せず）の間隔を精度良く制御することができる。かかる場合、起毛したナノチューブ（図示せず）の配置が、起毛したナノチューブ（図示せず）に効率的に電界集中させることができる幾何学配置となる。例えば、隣り合う凸形状（図示せず）どうしの間隔を上記のように１μｍ以上１０μｍ以下と定めた場合、起毛したナノチューブ（図示せず）の密度を１０１０本／ｃｍ２より小さい値にすることができ、かつ、十分な均等性を確保することができる。また、電子放出源として十分な量のナノチューブ（図示せず）を起毛させることができる。
【００３３】
次に、本実施形態の電子放出素子、発光素子、電子機器について説明する。
【００３４】
本実施形態の電子放出素子は、上記本実施形態の素子製造方法で形成される素子を有するカソード部と、このカソード部の対向電極となるアノード部と、を有し、本実施形態の素子製造方法で形成される素子の起毛させたナノチューブを電子放出源とする。
【００３５】
この電子放出素子は、カソード部に陰の電圧を、アノード部に陽の電圧を印加し、カソード部とアノード部との間に電界を形成することで、カソード部のナノチューブから電子を放出させる。
【００３６】
本実施形態の発光素子は、上記本実施形態の素子製造方法で形成される素子を有するカソード部と、このカソード部の対向電極となるアノード部と、を有し、このアノード部は、ガラス基板に透明電極薄膜を形成し、前記透明電極薄膜の上に蛍光体を塗布、乾燥することで形成される。そして、本実施形態の発光素子は、カソード部の前記素子の前記起毛させたナノチューブを電子放出源とする。
【００３７】
この発光素子は、カソード部に陰の電圧を、アノード部に陽の電圧を印加し、カソード部とアノード部との間に電界を形成することで、カソード部のナノチューブから電子を放出させる。そして、この電子をアノード部の蛍光体に衝突させることで、この発光素子は発光する。
【００３８】
本実施形態の電子機器は、上記本実施形態の発光素子を有する。電子機器としては、蛍光表示管、蛍光発光管、電界放出型ディスプレイ、電界放出を用いたバックライト、電界放出型照明等が該当する。
【００３９】
本実施形態の電子放出素子、発光素子、電子機器は、容易に導電性基板に塗布したナノチューブを起毛させた電子放出源を製造することができるので、電子放出素子、発光素子、電子機器自体の生産効率の向上や、コスト低減を実現することができる。
【００４０】
次に、本実施形態の素子製造装置について説明する。
【００４１】
本実施形態の素子製造装置は、表面に凹凸を有するローラと、表面にナノチューブ塗布膜を形成した導電性基板を保持する保持手段と、前記保持手段に保持された前記導電性基板の前記ナノチューブ塗布膜を、前記ローラの前記表面に当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させる駆動手段と、を有する。
【００４２】
なお、本実施形態の素子製造装置は、前記ローラを帯電させる帯電手段をさらに備えてもよい。そして、前記駆動手段は、前記保持手段に保持された前記導電性基板の前記ナノチューブ塗布膜を、前記ローラの前記表面と対向するように近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させるよう構成してもよい。その他、この場合の駆動手段は、前記ローラを回転させながら、前記ローラと前記導電性基板の少なくとも一方をスライド移動させることで前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させるよう構成してもよい。
【００４３】
表面に凹凸を有するローラ、および、表面にナノチューブ塗布膜を形成した導電性基板の構成については、上記本実施形態の素子製造方法における説明通りである。すなわち、ローラの凹凸における凸形状の高さおよび長径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下であるのが望ましい。また、隣り合う凸形状どうしの間隔は、１μｍ以上１０μｍ以下であるのが望ましい。その他、ナノチューブ塗布膜に含まれるナノチューブとしては、カーボンナノチューブのほか、Ｓｉ、ＢＮ、ＢＣ２Ｎ、ＭｏＳ２、ＷＳ２、ＮｂＳ２の中のいずれか一つまたは二つ以上の材料を用いて形成されたナノチューブなどを利用することができる。そして、長手方向の長さが０．１μｍ以上５μｍ以下であるナノチューブを用いるのが望ましい。その他の説明は省略する。
【００４４】
ローラを帯電させる帯電手段の構成は、コロナ放電装置などのあらゆる放電装置を利用して実現することができる。
【００４５】
次に、保持手段および駆動手段の具体的構成例について、図４乃至６を用いて説明する。なお、図４乃至６は、本実施形態の保持手段および駆動手段の構成例を説明するために必要な構成要素のみを抽出した模式図となっている。
【００４６】
保持手段および駆動手段の一例を図４の模式図に示す。図４に示すように、保持手段は、表面１１に凹凸を有するローラ１０と、ローラ１０と対向する位置に設けられた他のローラ４０とで構成してもよい。具体的には、ローラ１０とローラ４０とで、表面にナノチューブ塗布膜２１を形成した導電性基板２０を挟み込むことで、この導電性基板２０を保持してもよい。
【００４７】
この例の駆動手段は、ローラ１０、ローラ４０、および、ローラ１０とローラ４０を回転させるモータ（図示せず）とで構成してもよい。具体的には、ローラ１０とローラ４０とにより、導電性基板２０のナノチューブ塗布膜２１がローラ１０の凹凸（図示せず）を有する表面１１に当接するように保持した状態で、モータ（図示せず）により、ローラ１０とローラ４０とを互いに反対方向に回転させる。例えば、ローラ１０を図４に示すように反時計回りに回転させる場合、ローラ４０は時計回りに回転させる。このローラ１０とローラ４０の回転力を受け、導電性基板２０はスライド移動する。すなわち、この例の駆動手段は、導電性基板２０をスライド移動させることで、ローラ１０と導電性基板２０とを相対移動させる。
【００４８】
この例の場合、保持手段および駆動手段を、少ない部品で構成することができ、コスト負担を軽減することができる。
【００４９】
保持手段および駆動手段の他の一例を図５の模式図に示す。図５に示すように、保持手段は、表面にナノチューブ塗布膜２１を形成した導電性基板２０を載置する台５０であってもよい。
【００５０】
この例の駆動手段は、導電性基板２０のナノチューブ塗布膜２１がローラ１０の凹凸（図示せず）を有する表面１１に当接した状態で、ローラ１０を回転させながらスライド移動させる駆動機構６０であってもよい。すなわち、この例の駆動手段は、ローラ１０をスライド移動させることで、ローラ１０と導電性基板２０とを相対移動させる。
【００５１】
この例の場合、ローラ１０の表面１１と導電性基板２０のナノチューブ塗布膜２１との当接圧力の設計幅が広くなる。その結果、ローラ１０の表面１１に形成された凹凸（図示せず）によるナノチューブ塗布膜２１に含まれるナノチューブ（図示せず）の起毛を、適切な圧力で効果的に実現することができる。また、導電性基板２０に余計な負荷を掛けずにすむので、導電性基板２０の劣化を抑制できる。
【００５２】
なお、この例の駆動手段は、導電性基板２０のナノチューブ塗布膜２１が帯電したローラ１０の凹凸（図示せず）を有する表面１１と対向するように近接した状態で、ローラ１０をスライド移動させる駆動機構６０であってもよい。または、ローラ１０を回転させながらスライド移動させる駆動機構６０であってもよい。この場合、ローラ１０と当接することによる負荷を導電性基板２０に掛けずにすむので、導電性基板２０の劣化をさらに抑制できる。
【００５３】
保持手段および駆動手段の他の一例を図６の模式図に示す。図６に示すように、保持手段は、表面にナノチューブ塗布膜２１を形成した導電性基板２０を載置するベルトコンベア７０であってもよい。
【００５４】
この例の駆動手段はベルトコンベア７０で構成される。具体的には、この駆動手段は、導電性基板２０のナノチューブ塗布膜２１が、帯電しているローラ１０の凹凸（図示せず）を有する表面１１と対向するように近接した状態で、導電性基板２０をスライド移動させるよう構成してもよい。または、帯電しかつ回転しているローラ１０の凹凸（図示せず）を有する表面１１と対向するように近接した状態で、導電性基板２０をスライド移動させるよう構成してもよい。この例の駆動手段は、導電性基板２０をスライド移動させることで、ローラ１０と導電性基板２０とを相対移動させる。
【００５５】
この例の場合、導電性基板２０に対してローラ１０と当接することによる負荷を掛けずにすむので、導電性基板２０の劣化を十分に抑制することができる。また、複数の導電性基板２０に対して連続的に、ナノチューブの起毛処理を実行することができるので、量産性に優れている。
【００５６】
本実施形態の素子製造装置によれば、上記本実施形態の製造方法を効率的に行うことが可能となる。すなわち、十分な分散性、均一性を有する電子放出源を備えた素子を効率的に製造することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１０    ローラ
１０Ａ  凸形状
１１    表面
２０    導電性基板
２１    ナノチューブ塗布膜
３０    帯電したローラ
３１    表面
４０    ローラ
５０    台
６０    駆動機構
７０    ベルトコンベア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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