(57)【要約】【課題】立体画像を良好に表示できる視差バリアの製造方法を提供する。【解決手段】製造方法は、透光性基板上に遮光層を形成する遮光層形成工程と、第１及び第２の形成方向Ｘ，Ｙに沿って遮光部５２及び開口部５３が交互に配列するように、遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部５３を形成するパターン形成工程と、第１の形成方向Ｘに対して角度θだけ傾いた第１の切出方向Ｘ´、及び第２の形成方向Ｙに対して角度θだけ傾いた第２の切出方向Ｙ´に沿って透光性基板を切り出す切出工程とを備える。パターン形成工程では、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ複数の開口部５３を表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される視差バリア５の行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチＢｈで形成するとともに、第１の切出方向Ｘ´に倣うように第２の形成方向Ｙにずらして階段状に並ぶように形成する。【選択図】図６
2011075625.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を前記遮光部及び前記開口部にて分離する視差バリアの製造方法であって、
透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、
第１の形成方向、及び前記第１の形成方向に直交する第２の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記開口部を形成するパターン形成工程と、
前記第１の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第１の切出方向、及び前記第２の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第２の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、
前記パターン形成工程では、
前記第１の形成方向に沿って並ぶ複数の前記開口部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアの前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第１の切出方向に倣うように前記第２の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成する
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の視差バリアの製造方法において、
前記パターン形成工程では、
前記第１の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第１の切出方向に倣うように前記第２の形成方向にずらして階段状に形成し、
前記第２の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第２の切出方向に倣うように前記第１の形成方向にずらして階段状に形成する
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。
【請求項３】
マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造に用いられ、光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、フォトリソグラフィーにより前記遮光部及び前記開口部の配列パターンを前記視差バリアに形成するためのフォトマスクの製造方法であって、
透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、
第１の形成方向、及び前記第１の形成方向に直交する第２の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記遮光部を形成するパターン形成工程と、
前記第１の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第１の切出方向、及び前記第２の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第２の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、
前記パターン形成工程では、
前記第１の形成方向に沿って並ぶ複数の前記遮光部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアにおける前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第１の切出方向に倣うように前記第２の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成する
ことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、視差バリアの製造方法、及びフォトマスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、観察者に立体画像を観察させるために、複数の画素を有する液晶パネル等の表示手段と組み合わせて用いられ、表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離して、観察者の右目及び左目にそれぞれ入射させるパララックスバリア（視差バリア）が知られている。
このような視差バリアは、表示手段に対向して配置され、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光部及び光を透過する開口部がパターン形成されることで、遮光部及び開口部が表示手段に各画素の配列に対応して少なくとも一方向に交互に配置された構成を有する。
【０００３】
そして、視差バリアの各開口部のピッチは、表示手段の画素ピッチ（各画素の間隔）や観察者の眼間距離（両目間の距離）に基づいて規定される理想値であることが好ましい。
しかしながら、透光性基板上に遮光部及び開口部をパターン形成する際、現状のパターン形成法では、1μｍ程度の単位でしか制御することができず、開口部のピッチを理想値にすることはできない。
そこで、従来では、開口部のピッチを、現状のパターン形成法で形成可能な複数種類のピッチが混在するように形成し、複数種類のピッチの平均値を理想値とする技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３６１４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、開口部毎に観察者が開口部を介して視認可能な画素の範囲は、異なるものとなる。
すなわち、通常、表示手段を構成する複数の画素は、互いの画素同士を仕切るためにブラックマトリクスと呼ばれる遮光パターンが形成されているため、ブラックマトリクスが一部の開口部を介して観察者の目に観察されてしまう。
そして、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、ブラックマトリクスの占める割合が多い開口部と少ない開口部とで明暗の差が大きく発生するため、スジ状の干渉縞（モアレ）が観察者に視認されることとなる。
以上のように従来の技術では、立体画像にモアレが発生することとなり、立体画像の画質が劣化してしまう、という問題がある。
また、ブラックマトリクスを視認できないように、開口部の面積を小さく形成することも考えられるが、このように形成した場合には、光が通過する領域が小さくなることから、立体画像の明るさが小さくなってしまい、結果として、立体画像を良好に表示できない、という問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、立体画像を良好に表示できる視差バリアの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の視差バリアの製造方法は、光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を前記遮光部及び前記開口部にて分離する視差バリアの製造方法であって、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、第１の形成方向、及び前記第１の形成方向に直交する第２の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記開口部を形成するパターン形成工程と、前記第１の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第１の切出方向、及び前記第２の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第２の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、前記パターン形成工程では、前記第１の形成方向に沿って並ぶ複数の前記開口部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアの前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第１の切出方向に倣うように前記第２の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成することを特徴とする。
【０００８】
本発明は、パターン形成工程において、遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部を形成する際、第１の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、理想開口ピッチよりも小さく、現状のパターン形成法でも形成可能な均等ピッチ（以下、開口ピッチと記載する）で形成する。そして、切出工程において、第１の形成方向に対して所定の角度（以下、切出角度と記載）だけ傾いた第１の切出方向、及び第２の形成方向に対して切出角度だけ傾いた第２の切出方向に沿って切り出すことで、視差バリアが製造される。
このことにより、製造された視差バリアを表示手段に組み合わせて用いる際、表示手段の各画素の行方向を第１の切出方向に合わせるように用いれば、パターン形成工程にて開口ピッチを理想開口ピッチよりも小さく形成した場合であっても、各開口部の第１の切出方向（行方向）に沿うピッチを擬似的に理想開口ピッチに近付けることができる。
より具体的に、各開口部の第１の切出方向に沿うピッチは、開口ピッチをＢとし、切出角度をθとした場合、Ｂ／cosθで与えられる。したがって、例えば、理想開口ピッチをＢ´とした場合、切出角度θをarccos(Ｂ／Ｂ´)に近い値に設定しておけば、各開口部の第１の切出方向に沿うピッチを理想開口ピッチに略合致させることができる。
【０００９】
また、パターン形成工程では、第１の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、第１の切出方向に倣うように第２の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成する。
このことにより、第１の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、擬似的に第１の切出方向に沿って並ぶように形成できる。このため、上述したように透光性基板を切り出した場合であっても、表示手段の各画素に対する所望の位置に各開口部を配置させることができる。
【００１０】
以上のことから、表示手段の各画素に対する所望の位置に各開口部が配置し、かつ、各開口部の第１の切出方向（行方向）に沿うピッチが理想開口ピッチに近付くため、全ての開口部において、表示手段のブラックマトリクスを視認できる割合を略一致させることができる。すなわち、ブラックマトリクスによる各開口部の明暗の差を小さくでき、立体画像にモアレが発生することを抑制できる。
さらに、開口部の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
したがって、本発明の製造方法にて製造された視差バリアを用いれば、立体画像を良好に表示できる。
【００１１】
本発明の視差バリアの製造方法では、前記パターン形成工程では、前記第１の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第１の切出方向に倣うように前記第２の形成方向にずらして階段状に形成し、前記第２の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第２の切出方向に倣うように前記第１の形成方向にずらして階段状に形成することが好ましい。
本発明では、パターン形成工程において、開口部の縁部分を上述したように第１の切出方向及び第２の切出方向に倣うように階段状に形成する。
このことにより、上述したように透光性基板を切り出した場合であっても、各開口部の縁部分を、擬似的に第１の切出方向（表示手段の各画素の行方向）、及び第２の切出方向（表示手段の各画素の列方向）に沿うように形成できる。このため、視差バリアを表示手段に組み合わせた場合に、各画素に対して各開口部が傾いて配置されることがない。したがって、例えば、切出角度が比較的に大きい場合であっても、表示手段の各画素にて表示された右目用画像及び左目用画像を良好に分離でき、すなわち、立体画像を良好に表示できる。
【００１２】
本発明のフォトマスクの製造方法は、マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造に用いられ、光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、フォトリソグラフィーにより前記遮光部及び前記開口部の配列パターンを前記視差バリアに形成するためのフォトマスクの製造方法であって、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、第１の形成方向、及び前記第１の形成方向に直交する第２の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記遮光部を形成するパターン形成工程と、前記第１の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第１の切出方向、及び前記第２の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第２の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、前記パターン形成工程では、前記第１の形成方向に沿って並ぶ複数の前記遮光部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアにおける前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第１の切出方向に倣うように前記第２の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成することを特徴とする。
【００１３】
本発明のフォトマスクの製造方法は、上述した視差バリアの製造方法と略同様の製造方法であり、視差バリアにおける遮光部及び開口部の形成位置を逆にして、フォトマスクに遮光部及び開口部を形成するものである。
そして、このフォトマスクを用いてフォトリソグラフィーにより視差バリアを製造することで、上述した視差バリアの製造方法と同様の視差バリアを製造することができる。したがって、上述した視差バリアの製造方法と同様の作用及び効果を享受できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１実施形態における遊技機を示す斜視図。
【図２】第１実施形態における画像表示装置の構成を模式的に示す断面図。
【図３】第１実施形態における液晶パネルの画素の配列状態を平面的に見た模式図。
【図４】第１実施形態における視差バリアの開口部の配列状態を平面的に見た模式図。
【図５】第１実施形態における視差バリアの製造方法を説明するフローチャート。
【図６】第１実施形態における視差バリアの製造方法を説明するための図。
【図７】第２実施形態における視差バリアの製造方法を説明するための図。
【図８】第３実施形態における視差バリアの製造方法を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
[第１実施形態]
以下、本発明の第１実施形態を図面に基づいて説明する。
〔遊技機の概略構成〕
図１は、第１実施形態における遊技機１を示す斜視図である。
遊技機１は、図１に示すように、パチンコ機として構成され、ハンドル１Ａの操作に応じて射出装置（図示略）により射出された遊技球が遊技盤１Ｂの盤面上を落下しつつ移動して、所定の入賞口に入賞した場合に所定数の遊技球を払い出すものである。
遊技盤１Ｂの表面には、略円形状の側壁１Ｃによって囲まれた遊技領域１Ｄが形成されている。そして、遊技領域１Ｄの略中央には、略横長長方形状の開口部１Ｅを介して、画像表示装置２が配置されている。
【００１６】
〔画像表示装置の構成〕
図２は、画像表示装置２の構成を模式的に示す断面図である。具体的に、図２は、液晶パネル４や視差バリア５の列方向（垂直方向：図３、図４中、上下方向）から見た断面図である。
画像表示装置２は、遊技球の入賞による抽選結果等に応じたコマンドの入力を受けて、該コマンドに応じた画像を表示する。具体的に、画像表示装置２は、観察者の右目により観察される画像（右目用画像）と、左目により観察される画像（左目用画像）とを含む立体画像を生成し、右目用画像及び左目用画像をそれぞれ右目及び左目に入射させて、視差により立体視可能な立体画像を表示する。本実施形態では、画像表示装置２は、視点数が２の２眼式立体表示装置として構成されている。
このような画像表示装置２は、図２に示すように、光源装置としてのバックライト３と、表示手段としての液晶パネル４と、視差バリア５とを備える。
【００１７】
バックライト３は、略Ｗ字状に曲折された冷陰極管と、当該冷陰極管の背面側に設けられるリフレクターとを備え、冷陰極管に電圧印加して生じた放電光を、リフレクターで反射して液晶パネル４側に出射する。なお、バックライト３は、このような構成に限らず、Ｌ字状またはＵ字状のエッジタイプの冷陰極管と導光板との組み合わせや、冷陰極管及びリフレクターに代えて、ＬＥＤ(Light Emitting Diode)等の固体光源が複数配設された構成を有していてもよい。
【００１８】
図３は、液晶パネル４の画素４Ｒ，４Ｌの配列状態を平面的に見た模式図である。
なお、図２及び図３では、説明の便宜上、画素４Ｒ内に「Ｒ」の文字を付し、画素４Ｌ内に「Ｌ」の文字を付している。以下の図も同様である。
また、図２及び図３では、説明を簡略化するために、液晶パネル４として、各画素４Ｒ，４Ｌが４行×１０列に配設された構成を示している。
液晶パネル４は、固定画素型の画像形成デバイスであり、図２または図３に示すように、右目用画像を表示する複数の右目用画素４Ｒと、左目用画像を表示する複数の左目用画素４Ｌとを備え、各画素４Ｒ，４ＬがブラックマトリクスＢＬにより仕切られている。
これら右目用画素４Ｒ及び左目用画素４Ｌは、図３に示すように、全ての行方向（水平方向：図３中、左右方向）及び全ての列方向（垂直方向：図３中、上下方向）において交互に配列されている。
そして、これら各画素４Ｒ，４Ｌは、具体的な図示は省略したが、それぞれＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のカラーフィルターが光束出射側に配設されたサブピクセルにより構成されている。また、各画素４Ｒ，４Ｌは、一対の透明基板間に密閉封入された液晶に電圧を印加するＴＦＴ(Thin Filmed Transistor)をスイッチング素子として備え、ＴＦＴのスイッチングにより、各画素４Ｒ，４Ｌに画像信号として印加される電圧が変化して液晶の配向状態が変化されることで、入射光束が画像信号に応じて変調される。
【００１９】
図４は、視差バリア５の開口部５３の配列状態を平面的に見た模式図である。
視差バリア５は、液晶パネル４の光束出射側（観察者側）に配設され（図２）、表示される立体画像のうち、右目用画像と左目用画像とを分離する機能を有し、観察者の両目に、それぞれの画像を個別に入射させる。
この視差バリア５は、図２に示すように、液晶パネル４を介した光を透過させる透光性基板５１と、遮光部５２とを備える。
遮光部５２は、光を遮断する材料から構成され、透光性基板５１上に形成されている。そして、遮光部５２は、図４に示すように、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの配列に対応して、行方向（水平方向：図４中、左右方向）に１列おきに矩形状の開口部５３が所定の均等なピッチで配置され、かつ、列方向（垂直方向：図４中、左右方向）に１行おきに開口部５３が所定の均等なピッチで配置されるように形成されている。すなわち、各開口部５３は、千鳥状に配置されている。
ここで、各開口部５３は、全て同一の形状を有しているものである。
【００２０】
そして、観察者は、上述した視差バリア５により、以下に示すように、立体画像を認識する。
すなわち、左目用画素４Ｌから出射された光は、図２に示すように、遮光部５２により観察者の右目ＥＲに入射することが規制され、開口部５３を介して観察者の左目ＥＬのみに入射する。
また、右目用画素４Ｒから出射された光は、図２に示すように、遮光部５２により観察者の左目ＥＬに入射することが規制され、開口部５３を介して観察者の右目ＥＲのみに入射する。
そして、観察者は、右目用画像及び左目用画像の視差により、立体画像を認識する。
【００２１】
〔視差バリアの製造方法〕
図５は、視差バリア５の製造方法を説明するフローチャートである。
図６は、視差バリア５の製造方法を説明するための図である。なお、図６では、一部の開口部５３のみが形成された状態を示している。
上述した視差バリア５は、例えば、以下に示すように製造される。
なお、以下では、説明の便宜上、以下の液晶パネルを採用した場合での視差バリア５の製造方法を例示する。
液晶パネル４：XGAパネル12型（対角約31ｃｍ）
行方向（水平方向）の画素ピッチＰｈ（図３）：0.08ｍｍ
行方向の画面幅（図３）：画素ピッチＰｈ×3（RGBサブピクセル）×1024＝245.76ｍｍ
【００２２】
一般的な視差バリアの製造方法としては、第１の形成方向Ｘ（図６）、及び第１の形成方向に直交する第２の形成方向Ｙ（図６）に沿って遮光部及び開口部が交互に配列するように透光性基板上に遮光部及び開口部をパターン形成する。この後、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で視差バリアとして必要とされる大きさ（図６の一点鎖線で示す矩形領域Ａｒ´）となるように第１の形成方向Ｘ及び第２の形成方向Ｙに沿って透光性基板を切り出す。
本願では、後述する切出工程Ｓ４において、第１の形成方向Ｘに対して所定の切出角度θ（図６）だけ傾いた第１の切出方向Ｘ´（図６）、及び第２の形成方向Ｙに対して切出角度θだけ傾いた第２の切出方向Ｙ´（図６）に沿って透光性基板を切り出すものである。
そして、本願の製造方法では、先ず、以下に示すように、上述した切出角度θを算出する（ステップＳ１：角度算出工程）。
【００２３】
具体的には後述するが、後述するパターン形成工程Ｓ３では、開口部５３及び遮光部５２における第１の形成方向Ｘに沿う幅（以下、開口幅、遮光幅と記載）、開口部５３における第１の形成方向Ｘの水平開口ピッチＢｈ（図４，図６）が以下の数値となるように形成される。
開口幅：0.06ｍｍ
遮光幅：0.099ｍｍ
水平開口ピッチＢｈ：0.159ｍｍ
【００２４】
なお、各開口部５３における行方向の理論上の理想開口ピッチＢｈ´は、眼間距離をＥとした場合に、以下の式（１）で表される。
【００２５】
〔数１〕
2011075625.tif 000003
【００２６】
例えば、理想開口ピッチＢｈ´は、眼間距離Ｅが65ｍｍとすると、式（１）により、0.159803・・・ｍｍとなる。
ここで、現状のパターン形成法（レーザーエッチング、ドライエッチング、ウェットエッチング、あるいは、フォトリソグラフィー法等）では、遮光部５２及び開口部５３を形成する際に１μｍ程度の単位でしか制御することはできない。
すなわち、現状のパターン形成法では、0.159ｍｍあるいは0.160ｍｍで水平開口ピッチＢｈを形成することはできるが、上述した理想開口ピッチＢｈ´で形成することはできない。
そして、本実施形態では、上述したように、水平開口ピッチＢｈが理想開口ピッチＢｈ´よりも小さい0.159ｍｍで形成されるため、現状のパターン形成法でも十分に形成できるものである。
【００２７】
ここで、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で視差バリア５に必要とされる行方向の所要総水平幅Ｂｘ´（図６）は、以下の値になる。
すなわち、所要総水平幅Ｂｘ´は、開口部５３のピッチ数をｎとした場合に、ｎ×Ｂｈ´で与えられる。
また、ピッチ数ｎは、液晶パネル４の行方向の画面幅（245.76ｍｍ）をカバーする必要があるため、245.76／Ｂｈ´≒1538である。
このため、所要総水平幅Ｂｘ´は、1538×Ｂｈ´＝245.77504・・・ｍｍである。
【００２８】
一方、現状のパターン形成法でも形成可能で実際に製造する水平開口ピッチＢｈは、上述したように0.159ｍｍであるため、実現可能な行方向（第１の形成方向Ｘ）の総水平幅Ｂｘ（図６）は、1538×Ｂｈ＝245.542ｍｍであり、所要総水平幅Ｂｘ´よりも小さいものとなる。
そこで、図６に示すように、第１の形成方向Ｘに対して以下の式（２）で与えられる切出角度θだけ傾いた第１の切出方向Ｘ´、及び第２の形成方向Ｙに対して切出角度θだけ傾いた第２の切出方向Ｙ´に沿って切り出すことで、水平開口ピッチＢｈで形成した場合であっても、視差バリア５を所要総水平幅Ｂｘ´で切り出すことができる。
【００２９】
〔数２〕
2011075625.tif 000004
【００３０】
なお、切出角度θは、水平開口ピッチＢｈ及び理想開口ピッチＢｈ´に基づいて、以下の式（３）でも同等の角度を算出できるものである。
【００３１】
〔数３〕
2011075625.tif 000005
【００３２】
そして、角度算出工程Ｓ１の後、透光性基板５１全面に、遮光部５２の基となる遮光材を塗布し、遮光層を形成する（ステップＳ２：遮光層形成工程）。
遮光層形成工程Ｓ２の後、第１の形成方向Ｘ及び第２の形成方向Ｙに沿って遮光部５２及び開口部５３が交互に配列するように、レーザーエッチングにより遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部５３を形成する（ステップＳ３：パターン形成工程）。
【００３３】
具体的に、パターン形成工程Ｓ３では、以下の式（４）に示す回転写像関数（Ｘ，Ｙ）を用いて各開口部５３の形成位置を特定する。そして、行方向（第１の形成方向Ｘ）に並ぶ複数の開口部５３（以下、行パターンと記載）を形成するとともに、行パターンを第２の形成方向Ｙに沿って繰り返し形成することで全ての開口部５３を形成する。
【００３４】
〔数４〕
2011075625.tif 000006
【００３５】
なお、式（４）において、Ｘ，Ｙは回転写像後の座標値を示し、ｘ，ｙは回転写像前の座標値を示し、θは角度算出工程Ｓ１にて算出した切出角度を示している。
例えば、以下に示すように、式（４）を用いて、各開口部５３の形成位置を特定する。
すなわち、行パターンの最も左端に位置する開口部５３Ａ（図６）における左下角位置ＰＡ（図６）のＸ座標値については、式（４）において、ｘを０とし、ｙを回転写像していない理論上の行パターンの高さ位置として、左下角位置ＰＡのＸ座標値を算出する。
また、各開口部５３における左下角位置ＰＡ，ＰＢ（図６）のＹ座標値については、式（４）において、ｘ及びｙを回転写像していない理論上の各開口部５３の左下角位置のｘ座標値、ｙ座標値として、左下角位置ＰＡ，ＰＢのＹ座標値を算出する。
そして、上記のように、行パターンの最も左端に位置する開口部５３Ａの左下角位置ＰＡの座標値（Ｘ，Ｙ）を特定した後、左下角位置ＰＡを形成開始位置として、開口幅0.06ｍｍ及び開口部５３における第２の形成方向Ｙに沿う高さ（以下、開口高さと記載）0.18ｍｍで開口部５３Ａを形成する。
【００３６】
また、開口部５３Ａを形成した後、第１の形成方向Ｘに沿って隣接する他の開口部５３Ｂ（図６）を形成する。
具体的に、他の開口部５３Ｂの左下角位置ＰＢのＸ座標値は開口部５３Ａの左下角位置ＰＡのＸ座標値に対して水平開口ピッチＢｈを加えた値であり、左下角位置ＰＢのＹ座標値は上記のように算出した値を用いる。
そして、左下角位置ＰＢを形成開始位置として、上記同様に、開口幅0.06ｍｍ及び開口高さ0.18ｍｍで開口部５３Ｂを形成する。
上記のように第１の形成方向Ｘに沿って、順次、開口部５３を形成していくことで行パターンを形成する。また、行パターンの形成を第２の形成方向Ｙに沿って順次、実施することで、全ての開口部５３を形成する。
そして、上記のような形成法では、図６に示すように、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ各開口部５３は、第１の切出方向Ｘ´に倣うように階段状に並ぶこととなる。また、具体的な図示は省略したが、第２の形成方向Ｙに沿って並ぶ各開口部５３も同様に、第２の切出方向Ｙ´に倣うように階段状に並ぶこととなる。
【００３７】
パターン形成工程Ｓ３の後、第１の切出方向Ｘ´及び第２の切出方向Ｙ´に沿って透光性基板５１を切り出す（ステップＳ４：切出工程）。
切出工程Ｓ４において、透光性基板５１を切り出すことで、視差バリア５は、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で必要とされる大きさ（図６の実線で示す矩形領域Ａｒ（矩形領域Ａｒ´と同等の大きさ））で視差バリア５が製造されることとなる。
【００３８】
上述した第１実施形態によれば、以下の効果がある。
本実施形態では、パターン形成工程Ｓ３において、遮光層の一部を除去して矩形状の複数の開口部５３を形成する際、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ複数の開口部５３を、理想開口ピッチＢｈ´よりも小さく、現状のパターン形成法でも形成可能な水平開口ピッチＢｈで形成する。そして、切出工程Ｓ４において、第１の形成方向Ｘに対して切出角度θだけ傾いた第１の切出方向Ｘ´、及び第２の形成方向Ｙに対して切出角度θだけ傾いた第２の切出方向Ｙ´に沿って矩形領域Ａｒを切り出すことで、視差バリア５が製造される。
このことにより、製造された視差バリア５を液晶パネル４に組み合わせて用いる際、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの行方向を第１の切出方向Ｘ´に合わせるように用いれば、パターン形成工程Ｓ３にて水平開口ピッチＢｈを理想開口ピッチＢｈ´よりも小さく形成した場合であっても、各開口部５３の第１の切出方向Ｘ´（行方向）に沿うピッチＢｈＡ（図４）を擬似的に理想開口ピッチＢｈ´に近付けることができる。
特に、本実施形態では、切出角度θが式（３）に示されているようにarccos（Ｂｈ／Ｂｈ´）で与えられているため、ピッチＢｈＡを理想開口ピッチＢｈ´に略合致させることができる。
【００３９】
また、パターン形成工程Ｓ３では、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ複数の開口部５３を、第１の切出方向Ｘ´に倣うように第２の形成方向Ｙにずらして階段状に並ぶように形成する。
このことにより、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ複数の開口部５３を、擬似的に第１の切出方向Ｘ´に沿って並ぶように形成できる。このため、上述したように透光性基板５１を切り出した場合であっても、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌに対する所望の位置に各開口部５３を配置させることができる。
【００４０】
以上のことから、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌに対する所望の位置に各開口部５３が配置し、かつ、各開口部５３の第１の切出方向Ｘ´（行方向）に沿うピッチＢｈＡが理想開口ピッチＢｈ´に近付くため、全ての開口部５３において、液晶パネル４のブラックマトリクスＢＬを視認できる割合を略一致させることができる。すなわち、ブラックマトリクスＢＬによる各開口部５３の明暗の差を小さくでき、立体画像にモアレが発生することを抑制できる。
さらに、開口部５３の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
【００４１】
[第２実施形態]
次に、本発明の第２実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第１実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図７は、第２実施形態における視差バリア５の製造方法を説明するための図である。
前記第１実施形態では、パターン形成工程Ｓ３において、各開口部５３を形成する際、開口部５３の縁部分が第１の形成方向Ｘ及び第２の形成方向Ｙにそれぞれ平行し、開口部５３が矩形形状となるように形成していた。
これに対して第２実施形態では、図７に示すように、パターン形成工程Ｓ３において、各開口部５３を形成する際、開口部５３の縁部分が第１の切出方向Ｘ´及び第２の切出方向Ｙ´にそれぞれ倣うように階段状に形成している点が異なるのみである。
【００４２】
上述した第２実施形態によれば、前記第１実施形態と同様の効果の他、以下の効果がある。
本実施形態では、パターン形成工程Ｓ３において、開口部５３の縁部分を上述したように第１の切出方向Ｘ´及び第２の切出方向Ｙ´に倣うように階段状に形成する。
このことにより、切出工程Ｓ４において第１の切出方向Ｘ´及び第２の切出方向Ｙ´に沿って透光性基板５１を切り出した場合であっても、各開口部５３の縁部分を、擬似的に第１の切出方向Ｘ´（液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの行方向）、及び第２の切出方向Ｙ´（液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの列方向）に沿うように形成できる。このため、視差バリア５を液晶パネル４に組み合わせた場合に、各画素４Ｒ，４Ｌに対して各開口部５３が傾いて配置されることがない。したがって、例えば、切出角度θが比較的に大きい場合であっても、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌにて表示された右目用画像及び左目用画像を良好に分離でき、すなわち、立体画像を良好に表示できる。
【００４３】
[第３実施形態]
次に、本発明の第３実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第１実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図８は、第３実施形態における視差バリア５の製造方法を説明するための図である。
前記第１実施形態では、視差バリア５を製造する際に、遮光層形成工程Ｓ２において透光性基板５１上に遮光層を塗布した後、パターン形成工程Ｓ３においてレーザーエッチングにより遮光層を直接、除去して複数の開口部５３を形成していた。
これに対して第３実施形態では、視差バリア５を製造する際に、図８に示すように、透光性基板５１上に遮光部５２´及び開口部５３´を有するフォトマスク１００を用いてフォトリソグラフィーにより視差バリア５の遮光部５２及び開口部５３を形成する点が異なるのみである。
【００４４】
すなわち、フォトマスク１００としては、遮光部５２´の形状が視差バリア５の開口部５３と同様の形状で、かつ、開口部５３´の形状が視差バリア５の遮光部５２と同様の形状とすることが必要とされる。
このため、フォトマスク１００の製造方法としては、前記第１実施形態で説明した視差バリア５の製造方法と略同様の方法を採用でき、パターン形成工程Ｓ３において、遮光部５２及び開口部５３の形成位置を逆にし、矩形状の複数の遮光部５２を形成すればよい。すなわち、図４または図６において、遮光部５２の形成位置に開口部５３´を形成し、開口部５３の形成位置に遮光部５２´を形成する。
【００４５】
そして、上述したように製造したフォトマスク１００を用いて、以下に示すように、視差バリア５を製造する。
先ず、図８（Ａ）に示すように、透光性基板５１全面に遮光層Ｓ及びレジストＲが塗布された基板に対して、フォトマスク１００を介して露光し、フォトマスク１００の開口部５３´に相当する領域のレジストＲを感光させる。
次に、図８（Ｂ）に示すように、現像及び洗浄により、感光した領域以外のレジストＲを除去する。
次に、図８（Ｃ）に示すように、エッチングにより、遮光層Ｓにおいて、感光したレジストＲにて覆われていない領域を除去する。
そして、図８（Ｄ）に示すように、感光したレジストＲを除去することで、前記第１実施形態と同様の視差バリア５が製造される。
上述した第３実施形態のようにフォトマスク１００を用いてフォトリソグラフィーにより視差バリア５を製造した場合であっても、前記第１実施形態と同様の作用及び効果を享受できる。
【００４６】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記各実施形態において、水平開口ピッチＢｈ（前記第３実施形態の場合には各遮光部５２´における第１の形成方向Ｘに沿うピッチ）は、前記各実施形態で説明した値に限らず、理想開口ピッチＢｈ´よりも小さければ、その他の値としても構わない。
【００４７】
前記各実施形態では、パターン形成工程Ｓ３において、各開口部５３（前記第３実施形態の場合には各遮光部５２´）の形成位置を特定する際、式（４）に示す回転写像関数を用いていたが、これに限らず、その他の方法で形成位置を特定しても構わない。
前記各実施形態では、視差バリア５を液晶パネル４の光出射側に配設していたが、これに限らず、バックライト３と液晶パネル４との間に配設しても構わない。この場合には、理想開口ピッチＢｈ´が前記各実施形態で説明した値と異なる値となるため、パターン形成工程Ｓ３では、水平開口ピッチＢｈが前記各実施形態で説明した値とは異なる理想開口ピッチＢｈ´よりも小さくなるように形成すればよい。
【００４８】
前記第３実施形態において、前記第２実施形態のように、各遮光部５２´の縁部分を第１の切出方向Ｘ´及び第２の切出方向Ｙ´にそれぞれ倣うように階段状に形成しても構わない。
【００４９】
前記各実施形態では、液晶パネル４を備える画像表示装置２を挙げたが、本発明はこれに限らない。すなわち、バックライト３及び液晶パネル４に代えて、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）やプラズマ等の自己発光素子を有するパネルを採用してもよく、また、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）を採用することも可能である
【００５０】
前記各実施形態では、画像表示装置２をパチンコ機として構成された遊技機１に採用した例を挙げたが、これに限らない。すなわち、画像表示装置２は、パチスロ機等の他の遊技機に採用することもできる。また、画像表示装置２は、単体で使用することも可能であるほか、自動車のコンソールパネルや、ビデオゲーム機等に採用することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明は、複数の画素を有する表示手段と組み合わせて用いられ、表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造方法に利用できる。
【符号の説明】
【００５２】
４・・・液晶パネル（表示手段）、４Ｒ，４Ｌ・・・画素、５・・・視差バリア、５１・・・透光性基板、５２，５２´・・・遮光部、５３，５３´・・・開口部、１００・・・フォトマスク、Ｘ・・・第１の形成方向、Ｙ・・・第２の形成方向、Ｘ´・・・第１の切出方向、Ｙ´・・・第２の切出方向、θ・・・切出角度、Ｓ２・・・遮光層形成工程、Ｓ３・・・パターン形成工程、Ｓ４・・・切出工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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