(57)【要約】      （修正有）【課題】電荷輸送性材料に、水酸基が置換された異性体が下記範囲含まれない場合に比べ、電荷輸送性を向上させると共に表面凹凸を抑制された感光層を持つ電子写真感光体を提供する。【解決手段】前記感光層（例えば電荷輸送層又は単層型感光層）が、電荷輸送材料として、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及びベンジジン系化合物の少なくとも１種を含むと共に、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及びで示される化合物の少なくとも１種に水酸基が置換された異性体を前記電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下含む電子写真感光体。2011197315.tif 000016【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた感光層と、
を備え、
前記感光層が、電荷輸送材料として、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種を含むと共に、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種に水酸基が置換された異性体を前記電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下含む電子写真感光体。
【化１】
2011197315.tif 000014
（前記一般式（Ｐ１）中、
Ｒ１０１は、水素原子又はメチル基を示す。
ｌは１又は２を示す。
Ａｒ１０１及びＡｒ１０２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０２）＝Ｃ（Ｒ１０３）（Ｒ１０４）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１０５）（Ｒ１０６）を示し、Ｒ１０２乃至Ｒ１０６は、各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。）
【化２】
2011197315.tif 000015
（前記一般式（Ｐ２）中、
Ｒ１１０及びＲ１１０’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１１３）＝Ｃ（Ｒ１１４）（Ｒ１１５）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１１６）（Ｒ１１７）を示し、Ｒ１１３乃至Ｒ１１７は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。ｍ、ｍ’ｎ及びｎ’は各々独立に０以上２以下の整数を示す。）
【請求項２】
前記感光層の厚みが、４０μｍ以上である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真感光体では、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とを積層させた機能分離型の有機電子写真感光体が、種々の提案が成され、実用化されている。
【０００３】
例えば、機能分離型の有機電子写真感光体として、電荷輸送層の膜厚を増加させる方法が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭６３−２２１３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、電荷輸送性材料に、水酸基が置換された異性体が下記範囲含まれない場合に比べ、表面凹凸を抑制された感光層を持つ電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、本発明は、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた感光層と、
を備え、
前記感光層が、電荷輸送材料として、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種を含むと共に、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種に水酸基が置換された異性体を前記電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下含む電子写真感光体。
【０００７】
【化１】
2011197315.tif 000002
【０００８】
（前記一般式（Ｐ１）中、
Ｒ１０１は、水素原子又はメチル基を示す。
ｌは１又は２を示す。
Ａｒ１０１及びＡｒ１０２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０２）＝Ｃ（Ｒ１０３）（Ｒ１０４）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１０５）（Ｒ１０６）を示し、Ｒ１０２乃至Ｒ１０６は、各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。）
【０００９】
【化２】
2011197315.tif 000003
【００１０】
（前記一般式（Ｐ２）中、
Ｒ１１０及びＲ１１０’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１１３）＝Ｃ（Ｒ１１４）（Ｒ１１５）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１１６）（Ｒ１１７）を示し、Ｒ１１３乃至Ｒ１１７は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。ｍ、ｍ’ｎ及びｎ’は各々独立に０以上２以下の整数を示す。）
【００１１】
請求項２に係る発明は、
前記感光層の厚みが、４０μｍ以上である請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１２】
請求項３に係る発明は、
請求項１又は２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【００１３】
請求項４に係る発明は、
請求項１又は２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る発明によれば、電荷輸送性材料に、水酸基が置換された異性体が下記範囲含まれない場合に比べ、表面凹凸を抑制した感光層を持つ電子写真感光体が提供される。
請求項２に係る発明によれば、電荷輸送性材料に、水酸基が置換された異性体が下記範囲含まれない場合に比べ、感光層を４０μｍ以上と厚膜化しても、表面凹凸を抑制した感光層を持つ電子写真感光体が提供される。
請求項３、４に係る発明によれば、電荷輸送性材料に、水酸基が置換された異性体が下記範囲含まれない電子写真感光体を適用した場合に比べ、感光層の表面凹凸に起因する画像欠陥が抑制された画像を繰り返し形成するプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図４】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００１７】
（電子写真感光体）
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられ、電荷発生層及び電荷輸送層を有する感光層と、を備える。
そして、電荷輸送層は、電荷輸送材料として、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種を含むと共に、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種に水酸基が置換された異性体を全電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下含んで構成される。
【００１８】
ここで、電荷輸送材料には、一般的には、水酸基で置換された異性体が不純物として含まれている。この異性体が含まれると、電荷輸送材料は結晶化が進み、これを用いて形成する層（つまり電荷輸送層や単層型の感光層）には表面凹凸が現れてしまうことがある。これは、電荷輸送性材料を用いて形成する層を厚膜化（例えば厚み４０μｍ以上の厚膜化）すると顕著に現れる傾向にある。これは、電荷輸送材料の結晶化の進行により、当該電荷輸送層において電荷輸送材料が析出してしまうためと考えられる。
【００１９】
そこで、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、つまり、電荷輸送材料の異性体の含有量を調整することで、表面凹凸を抑制された電荷輸送層を持つ電子写真感光体となる。
そして、本実施形態に係る電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジや、画像形成装置ｄｅは、感光層の表面凹凸に起因する画像欠陥が抑制された画像を繰り返し形成するプロセスカートリッジや、画像形成装置となる。
なお、この異性体を電荷輸送材料から完全に除去してしまうと、電荷輸送性が低下してしまうことがあるが、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、電荷輸送性も向上することがある。
【００２０】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体についてさらに詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真用感光体を示す概略断面図である。図２は他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。
【００２１】
図１に示す電子写真感光体１０Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、及び電荷輸送層３が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体１０Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
そして、図１に示す電子写真感光体１０Ａにおいては、電荷輸送層３が導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっている。
【００２２】
図２に示す電子写真感光体１０Ｂは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層））に含有するものである。
具体的には、図２に示す電子写真感光体１０Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６が形成された構造を有するものである。
そして、図２に示す電子写真感光体１０Ｂにおいては、単層型感光層６が導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっている。
【００２３】
なお、図１乃至図２に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
また、図１乃至図２に示す電子写真感光体においては、電荷輸送層３や単層型感光層６上に、例えば、硬化膜（例えば電荷輸送材料を用いた硬化膜）からなる保護層が設けられていてもよい。
【００２４】
以下、電子写真感光体における各要素について説明する。以下、符号を省略して説明する。
【００２５】
まず、導電性基体について説明する。なお、「導電性」とは、例えば体積抵抗率が１０１３Ω・ｃｍ以下を意味する。
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。導電性基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
【００２６】
導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
【００２７】
次に、下引き層について説明する。
下引き層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
【００２８】
下引き層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引き層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
【００２９】
下引き層には、シリコン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。
金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定されることがよい。
【００３０】
下引き層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引き層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。
【００３１】
ここで、下引き層の構成として特に好適には、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成である。なお、導電性とは、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満を意味する。
導電性粒子としては、例えば、金属粒子（アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子）、導電性金属酸化物粒子（酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子）、導電性物質粒子（カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子）等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、２種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが望ましく、より望ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００３２】
下引き層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引き層形成用塗布液が使用される。また、下引き層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【００３３】
下引き層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【００３４】
下引き層の膜厚は、１５μｍ以上が望ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下がより望ましい。
【００３５】
ここで、図示は省略するが、下引き層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物がよい。
【００３６】
中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。    中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００３７】
中間層の厚みは、例えば、０．１μｍ以上３μｍ以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この中間層を下引き層として使用してもよい。
【００３８】
次に、電荷発生層について説明する。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００３９】
電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。
【００４０】
電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電化発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【００４１】
電荷発生層形成用塗布液を下引き層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【００４２】
電荷発生層の膜厚は、望ましくは０．０１μｍ以上５μｍ以下、より望ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲に設定される。
【００４３】
次に、電荷輸送層について説明する。
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と、結着樹脂と、を含んで構成されている。そして、電荷輸送材料として、下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種が適用される。
加えて、電荷輸送材料（下記一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種）には、水酸基が置換された異性体を前記電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下含んでいる。
【００４４】
一般式（Ｐ１）で示される化合物及び一般式（Ｐ２）で示される化合物について説明する。
【００４５】
【化３】
2011197315.tif 000004
【００４６】
一般式（Ｐ１）中、
Ｒ１０１は、水素原子又はメチル基を示す。
ｌは１又は２を示す。
Ａｒ１０１及びＡｒ１０２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、
−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０２）＝Ｃ（Ｒ１０３）（Ｒ１０４）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１０５）（Ｒ１０６）を示し、Ｒ１０２乃至Ｒ１０６は、各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【００４７】
一般式（Ｐ１）中、Ａｒ１０１及びＡｒ１０２が示すアリール基としては、例えば、下記式（１）〜（７）で示されるアリール基が挙げられる。
【００４８】
【化４】
2011197315.tif 000005
【００４９】
上記式（１）〜（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、又は炭素数７以上１０以下のアラルキル基を示す。
Ｒ２〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子を示す。
Ａｒ１は置換又は未置換のアリーレン基を示す。
Ａｒ２は置換又は未置換のアリール基を示す。
ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を示す。
【００５０】
ここで、式（７）中、Ａｒ１としては、例えば、下記構造式（８−１）又は（９−１）で表される基が挙げられ、Ａｒ２としては、例えば、下記構造式（８−２）又は（９−２）で表される基が挙げられる。
【００５１】
【化５】
2011197315.tif 000006
【００５２】
上記式（８−１）、（８−２）、（９−１）及び（９−２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を示す。
ｔ’は０以上３以下の整数を示す。
【００５３】
また、式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を示すが、２価の有機連結基としては、例えば、下記式（１０）乃至（１７）で表される基が挙げられる。また、ｓはそれぞれ０又は１を示す。
【００５４】
【化６】
2011197315.tif 000007
【００５５】
式（１０）〜（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を示す。
Ｗは２価の基を示す。
ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”はそれぞれ０以上３以下の整数を示す。
【００５６】
式（１６）乃至（１７）中、Ｗとしては、例えば、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基が挙げられる。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を示す。
【００５７】
【化７】
2011197315.tif 000008
【００５８】
一般式（Ｐ１）中、Ｒ１０２乃至Ｒ１０６が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上５以下のアルキル基（望ましくは炭素数１以上３以下のアルキル基）が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基等が挙げられる。
一般式（Ｐ１）中、Ｒ１０２乃至Ｒ１０６が示すアリール基としては、例えば、上記式（１）〜（７）で示されるアリール基が挙げられる。
【００５９】
ここで、一般式（Ｐ１）において、各基に置換し得る置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００６０】
【化８】
2011197315.tif 000009
【００６１】
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１０及びＲ１１０’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。
Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１１３）＝Ｃ（Ｒ１１４）（Ｒ１１５）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１１６）（Ｒ１１７）を示し、Ｒ１１３乃至Ｒ１１７は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。ｍ、ｍ’ｎ及びｎ’は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【００６２】
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１０及びＲ１１０’が示すアルキル基としては、炭素数１以上５以下のアルキル基（望ましくは炭素数１以上３以下のアルキル基）が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などが挙げられる。
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１０及びＲ１１０’が示すアルコキシ基としては、炭素数１以上５以下のアルコキシ基（望ましくは炭素数１以上３以下のアルコキシ基）が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基等が挙げられる。
【００６３】
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’が示すアルキル基としては、炭素数１以上５以下のアルキル基（望ましくは炭素数１以上３以下のアルキル基）が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などが挙げられる。
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’が示すアルコキシ基としては、炭素数１以上５以下のアルコキシ基（望ましくは炭素数１以上３以下のアルコキシ基）が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基等が挙げられる。
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’が示すアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１１、Ｒ１１１’、Ｒ１１２、及びＲ１１２’が示すアリール基としては、例えば、上記式（１）〜（７）で示されるアリール基が挙げられる。
【００６４】
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１３乃至Ｒ１１７が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上５以下のアルキル基（望ましくは炭素数１以上３以下のアルキル基）が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基等が挙げられる。
一般式（Ｐ２）中、Ｒ１１３乃至Ｒ１１７が示すアリール基としては、例えば、上記式（１）〜（７）で示されるアリール基が挙げられる。
【００６５】
ここで、一般式（Ｐ１）において、各基に置換し得る置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００６６】
次に、異性体について説明する。
異性体は、一般式（Ｐ１）で示される化合物及び一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種に、水酸基が置換された異性体である。
つまり、一般式（Ｐ１）で示される化合物を含むとき、この異性体として、当該一般式（Ｐ１）で示される化合物に水酸基が置換された異性体も感光層（又は電荷輸送層）に含まれる。一方、一般式（Ｐ２）で示される化合物を含むとき、この異性体として、当該一般式（Ｐ２）で示される化合物に水酸基が置換された異性体も感光層（又は電荷輸送層）に含まれる。
【００６７】
一般式（Ｐ１）で示される化合物に水酸基が置換された異性体として具体的には、例えば、一般式（Ｐ１）で示される化合物を構成するベンゼン環に水素基が置換された異性体が挙げられ、より具体的には、例えば、一般式（Ｐ１）において、Ａｒ１０１が示す基を構成するベンゼン環、Ａｒ１０２が示す基のベンゼン環、及びＲ１０１としてベンゼン環の少なくとも一つに水酸基が置換した異性体が挙げられる。
【００６８】
一般式（Ｐ２）で示される化合物に水酸基が置換された異性体として具体的には、例えば、一般式（Ｐ２）で示される化合物を構成するベンゼン環に水素基が置換された異性体が挙げられ、より具体的には、例えば、一般式（Ｐ２）において、Ｒ１１２、Ｒ１１２’、Ｒ１１１、Ｒ１１１’として、ベンゼン環の少なくも一つに水酸基が置換した異性体が挙げられる。
【００６９】
異性体の含有量は、電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下であるが、望ましくは０．０７質量％以上０．１１質量％以下、より望ましくは０．０９質量％以上０．１０質量％である。
つまり、一般式（Ｐ１）で示される化合物を含むとき、当該一般式（Ｐ１）で示される化合物に水酸基が置換された異性体の含有量は、当該一般式（Ｐ１）で示される化合物に対して上記範囲であり、一般式（Ｐ２）で示される化合物を含むとき、当該一般式（Ｐ２）で示される化合物に水酸基が置換された異性体の含有量は、当該一般式（Ｐ２）で示される化合物に対して上記範囲であることを意味する。
【００７０】
なお、この一般式（Ｐ１）及び（Ｐ２）で示される化合物と、これらの異性体と、の含有量は、逆相ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー法）を用いて、一般式（Ｐ１）及び（Ｐ２）で示される化合物とこれらの異性体との質量比を出すことで求められる。
また、異性体の含有量は、一般式（Ｐ１）及び（Ｐ２）で示される化合物の精製を行う際に、用いるフィルタや、晶析温度等を選択することで、調整される。
【００７１】
以下、一般式（Ｐ１）及び（Ｐ２）で示される化合物と、これらの異性体と、の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。
【００７２】
【化９】
2011197315.tif 000010
【００７３】
結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００７４】
電荷輸送層には、その他、フッ素樹脂粒子、その分散剤や、フッ素変性シリコーンオイル等の添加剤を含んでいてもよい。
【００７５】
電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。  電荷輸送層形成用塗布液中に粒子（例えば無機粒子やフッ素樹脂粒子）を分散させる場合、その方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【００７６】
電荷輸送層層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上、より望ましくは４０μｍ以上、さらに望ましくは４５μｍ以上であり、その上限は例えば５０μｍ以下である。電荷輸送層の膜厚を厚膜化させても（特に、厚み４０μｍ以上としても）、表面凹凸が生じ難い。
【００７７】
次に、単層型感光層について説明する。
単層型感光層は、例えば、結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、を含んで構成されている。そして、電荷輸送材料として、一般式（Ｐ１）で示される化合物及び下記一般式（Ｐ２）で示される化合物の少なくとも１種と、その異性体とを電荷輸送材料に対して０．０５質量％以上０．１２質量％以下含んでいる。
【００７８】
単層型感光層中の電荷発生材料の含有量は、１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。
単層型感光層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上、より望ましくは４０μｍ以上、さらに望ましくは４５μｍ以上であり、その上限は例えば５０μｍ以下である。電荷輸送層の膜厚を厚膜化させても（特に、厚み４０μｍ以上としても）、表面凹凸が生じ難い。
【００７９】
なお、上記感光層を構成する各層中には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を含んでもよい。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【００８０】
また、感光層を構成する各層には、少なくとも１種の電子受容性物質を含んでもよい。電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に望ましい。
【００８１】
（画像形成装置／プロセスカートリッジ）
図３は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１０１は、図３に示すように、例えば、矢印Ａで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体１０と、電子写真感光体１０の上方に、電子写真感光体１０に相対して設けられ、電子写真感光体１０の表面を帯電させる帯電装置２０（帯電手段の一例）と、帯電装置２０により帯電した電子写真感光体１０の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置３０（静電潜像形成手段の一例）と、露光装置３０により形成された静電潜像に現像剤に含まれるトナーを付着させて電子写真感光体１０の表面にトナー像を形成する現像装置４０（現像手段の一例）と、記録紙Ｐ（被転写媒体）をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて記録紙Ｐに電子写真感光体１０上のトナー像を転写させる転写装置５０と、電子写真感光体１０の表面をクリーニングするクリーニング装置７０（トナー除去手段の一例）とを備える。そして、トナー像が形成された記録紙Ｐを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置６０が設けられている。
【００８２】
以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１における主な構成部材の詳細について説明する。
【００８３】
−帯電装置−
帯電装置２０としては、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置２０としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置２０としては、接触型帯電器がよい。
【００８４】
−露光装置−
露光装置３０としては、例えば、電子写真感光体１０表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体１０の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザーの波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、露光装置３０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【００８５】
−現像装置−
現像装置４０は、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する容器内に、現像領域で電子写真感光体１０に対向して配置された現像ロール４１が備えられた構成が挙げられる。現像装置４０としては、２成分現像剤により現像する装置であれば、特に制限はなく、周知の構成が採用される。
【００８６】
ここで、現像装置４０に使用される現像剤について説明する。
現像剤は、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤が採用される。
【００８７】
まず、トナーについて説明する。
トナーは、例えば、結着樹脂、着色剤、及び必要に応じて離型剤等の他の添加剤を含むトナー粒子と、必要に応じて外添剤と、を含んで構成される。
【００８８】
トナー粒子は、平均形状係数（形状係数＝（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００で表される形状係数の個数平均、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を示す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上１０μｍ以下であることがより望ましく、４μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。
【００８９】
トナー粒子は、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナー粒子が使用される。
【００９０】
また上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【００９１】
そして、トナーは、上記トナー粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
また、トナーは、２成分現像剤として用いられる場合、キャリアとの混合割合は、周知の割合で設定する。なお、キャリアとしては、特に制限はないが、例えば、キャリアとしては、磁性粒子の表面に樹脂コーティングを施したものが好適に挙げられる。
【００９２】
−転写装置−
転写装置５０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【００９３】
−クリーング装置−
クリーニング装置７０は、例えば、筐体７１と、クリーニングブレード７２と、クリーニングブレード７２の電子写真感光体１０回転方向下流側に配置されるクリーニングブラシ７３と、を含んで構成されている。また、クリーニングブラシ７３には、例えば、固形状の潤滑剤７４が接触して配置されている。
【００９４】
以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１の動作について説明する。まず、電子写真感光体１０が矢印Ａで示される方向に沿って回転すると同時に、帯電装置２０により負に帯電する。
【００９５】
帯電装置２０によって表面が負に帯電した電子写真感光体１０は、露光装置３０により露光され、表面に静電潜像が形成される。
【００９６】
電子写真感光体１０における静電潜像の形成された部分が現像装置４０に近づくと、現像装置４０（現像ロール４１）により、静電潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。
【００９７】
トナー像が形成された電子写真感光体１０が矢印Ａに方向にさらに回転すると、転写装置５０によりトナー像は記録紙Ｐに転写される。これにより、記録紙Ｐにトナー像が形成される。
【００９８】
画像が形成された記録紙Ｐは、定着装置６０でトナー像が定着される。
【００９９】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、例えば、図４に示すように、筐体１１内に、電子写真感光体１０、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、及びクリーニング装置７０を一体に収容させたプロセスカートリッジ１０１Ａを備えた形態であってもよい。このプロセスカートリッジ１０１Ａは、複数の部材を一体的に収容し、画像形成装置１０１に脱着させるものである。
プロセスカートリッジ１０１Ａの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体１０を備えてえればよく、その他、例えば、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、転写装置５０、及びクリーニング装置７０から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。
【０１００】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体１０の周囲であって、転写装置５０よりも電子写真感光体１０の回転方向下流側でクリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置２０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体１０の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０１０１】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体１０に形成したトナー像を中間転写体に転写した後、記録紙Ｐに転写する中間転写方式の画像形成装置を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０１０３】
［実施例Ａ］
（電荷輸送材料の準備）
−精製前の電荷輸送材料（Ｐ２−１）の準備−
下記電荷輸送材料（Ｐ２−１）「（マクロロン社製）」を準備した。この電荷輸送材料（Ｐ２−１）は、その異性体（Ｐ２−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ２−１）に対して０．１６質量％含まれるものであった。
【化１０】
2011197315.tif 000011
【０１０４】
−電荷輸送材料Ａ１−
上記準備した精製前の電荷輸送材料（Ｐ２−１）を酢酸エチルに溶解させ、その溶液を、目開き０．２μｍのフィルタ（商品名「ＰＴＦＥメンブレン（日本ポール社製）」）を通した後、晶析温度−１５℃で、晶析させることで精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ２−１）は、その異性体（Ｐ２−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ２−１）に対して０．０８質量％含まれるものであった。
【０１０５】
−電荷輸送材料Ａ２−
晶析温度−１２℃にした以外は、電荷輸送材料Ａ１と同様にして、電荷輸送材料（Ｐ２−１）を精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ２−１）は、その異性体（Ｐ２−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ２−１）に対して０．１２質量％含まれるものであった。
【０１０６】
（比較電荷輸送材料の準備）
−比較電荷輸送材料Ａ１−
目開き０．１μｍのフィルタ（商品名「ＦＬカートリッジ（富士フイルム社製）」）を用いた以外は、以外は、電荷輸送材料Ａ１と同様にして、電荷輸送材料（Ｐ２−１）を精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ２−１）は、その異性体（Ｐ２−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ２−１）に対して０．１７質量％含まれるものであった。
【０１０７】
−比較電荷輸送材料Ａ２−
晶析出温度を０℃とした以外は、電荷輸送材料Ａ１と同様にして、電荷輸送材料（Ｐ２−１）を精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ２−１）は、その異性体（Ｐ２−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ２−１）に対して０．０４質量％含まれるものであった。
【０１０８】
（実施例Ａ１〜Ａ６、比較例Ａ１〜Ａ６）
以下のようにして、各例の電子写真感光体を作製した。
まず、酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をメタノール５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、メタノールを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０１０９】
次に、表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と、アリザリン０．６質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部とを添加し、下引き層形成用塗布液を得た。この下引き層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて直径２４ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２３．５μｍの下引き層を得た。
【０１１０】
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９°、１２．５°、１６．３゜、１８．６°、２５．１°、及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部、及びｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を得た。
【０１１１】
次に、表１に従った電荷輸送材料２２．５６質量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＴＳ２０３０：粘度平均分子量３０，０００：帝人化成社製）２５．４４質量部とを、トルエン４５．６質量部とテトラヒドロフラン１０６．４質量部との混合液に溶解して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、１３５℃、２５分間、加熱乾燥して、表１に従った厚みの電荷輸送層を形成した。
【０１１２】
このようにして、各例の電子写真感光体を作製した。
【０１１３】
［実施例Ｂ］
（電荷輸送材料の準備）
−精製前の電荷輸送材料（Ｐ１−１）の準備−
下記電荷輸送材料（Ｐ１−１）を、特開２００７−１３７８０１実施例１に開示され合成手順に従って、準備した。この電荷輸送材料（Ｐ１−１）は、その異性体（Ｐ１−１Ａ）が含まれるものであった。
【０１１４】
【化１１】
2011197315.tif 000012
【０１１５】
−電荷輸送材料Ｂ１−
上記準備した精製前の電荷輸送材料（Ｐ１−１）を酢酸エチルに溶解させ、その溶液を、目開き０．２μｍのフィルタ（商品名「ＰＴＦＥメンブレン（日本ポール社製）」）を通した後、晶析温度−１５℃で、晶析させることで精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ１−１）は、その異性体（Ｐ１−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ１−１）に対して０．０８質量％含まれるものであった。
【０１１６】
−電荷輸送材料Ｂ２−
晶析温度−１２℃にした以外は、電荷輸送材料Ｂ１と同様にして、電荷輸送材料（Ｐ１−１）を精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ１−１）は、その異性体（Ｐ１−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ１−１）に対して０．１２質量％含まれるものであった。
【０１１７】
（比較電荷輸送材料の準備）
−比較電荷輸送材料Ｂ１−
目開き０．１μｍのフィルタ（商品名「ＦＬカートリッジ（富士フイルム社製）」）を用いた以外は、以外は、電荷輸送材料Ｂ１と同様にして、電荷輸送材料（Ｐ１−１）を精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ１−１）は、その異性体（Ｐ１−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ１−１）に対して０．１７質量％含まれるものであった。
【０１１８】
−比較電荷輸送材料Ａ２−
晶析出温度を０℃とした以外は、電荷輸送材料Ａ１と同様にして、電荷輸送材料（Ｐ１−１）を精製した。
精製後の電荷輸送材料（Ｐ１−１）は、その異性体（Ｐ１−１Ａ）が電荷輸送材料（Ｐ１−１）に対して０．０４質量％含まれるものであった。
【０１１９】
（実施例Ｂ１〜Ｂ６、比較例Ｂ１〜Ｂ６）
以下のようにして、各例の電子写真感光体を作製した。
まず、酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をメタノール５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、メタノールを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０１２０】
次に、表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と、アリザリン０．６質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部とを添加し、下引き層形成用塗布液を得た。この下引き層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて直径２４ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２３．５μｍの下引き層を得た。
【０１２１】
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９°、１２．５°、１６．３゜、１８．６°、２５．１°、及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部、及びｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を得た。
【０１２２】
次に、表１に従った電荷輸送材料２２．５６質量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＴＳ２０３０：粘度平均分子量３０，０００：帝人化成社製）２５．４４質量部とを、トルエン４５．６質量部とテトラヒドロフラン１０６．４質量部との混合液に溶解して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、１３５℃、２５分間、加熱乾燥して、表１に従った厚みの電荷輸送層を形成した。
【０１２３】
このようにして、各例の電子写真感光体を作製した。
【０１２４】
［評価］
各例で得られた電子写真感光体について、表面凹凸の発生状況について調べた。
また、得られた電子写真感光体を、ＤｏｃｕＰｒｉｎｔ  Ｃ１１００（富士ゼロックス製）に搭載し、プリント画像を得て、この画像の画質評価を行った。
これら結果を表１に示す。
【０１２５】
−電荷輸送層の表面凹凸の発生状況−
電荷輸送層の表面凹凸の発生状況については、目視にて観察し、以下の評価基準により評価した。
◎：凹凸  ０個
○：凹凸  １〜１５個
△：凹凸  １６〜４０個
×：凹凸  ４１個以上
【０１２６】
−画質−
画質については次のようにして評価を行った。
ＤｏｃｕＰｒｉｎｔ  Ｃ１１００でマゼンダのベタ塗りをし、色抜けした箇所の数の評価基準により評価した。
評価基準は以下の通りである。
◎：０個        
○：１〜１５個
△：１６〜４０個
×：４１個以上
【０１２７】
【表１】
2011197315.tif 000013
【０１２８】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、表面凹凸の発生状況、画質の評価につき、良好な結果が得られたことがわかる。
【符号の説明】
【０１２９】
１ 下引層、２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４ 導電性支持体、５ 保護層、６ 単層型感光層、１０ 電子写真感光体、１１ 筐体、２０ 帯電装置、３０ 露光装置、４０ 現像装置、４１ 現像ロール、５０ 転写装置、６０ 定着装置、７０ クリーニング装置、７１ 筐体、７２ クリーニングブレード、７２Ａ 支持部材、７３ クリーニングブラシ、７４ 潤滑剤、１０１Ａ プロセスカートリッジ、１０１ 画像形成装置
【図１】
2011197315.tif 000017
【図２】
2011197315.tif 000018
【図３】
2011197315.tif 000019
【図４】
2011197315.tif 000020