(57)【要約】【課題】可動接点や固定接点に可動部の揺動に伴って生じる磨耗粉が付着するのを防止することのできる接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーを提供する。【解決手段】固定接点１と、可動接点２１ａと、可動接点２１ａを有するとともに可動接点２１ａが固定接点１と接触する位置と開離する位置との間で揺動自在な可動部２と、固定接点１及び可動接点２１ａ及び可動部２を収容する収容部とを備え、可動部２は、揺動自在に支持される本体部２０と、本体部２０と離間して設けられるとともに固定接点１と対向する一面に可動接点２１ａが設けられた接点部２１と、弾性を有し本体部２０と接点部２１とを互いに連結する支持部２２とから成り、本体部２０と接点部２１との間に収容部内部において本体部２０側の空間と接点部２１側の空間とを支持部２２を通る隙間を除いて隔てる防護壁Ｃ１を設けた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定接点と、固定接点に接離自在な可動接点と、可動接点を有するとともに可動接点が固定接点と接触する位置と開離する位置との間で揺動自在な可動部と、固定接点及び可動接点及び可動部を収容する収容部とを備えた接点装置であって、可動部は、揺動自在に支持される本体部と、本体部と離間して設けられるとともに固定接点と対向する一面に可動接点が設けられた接点部と、弾性を有し本体部と接点部とを互いに連結する支持部とから成り、可動部の揺動に伴って生じる磨耗粉が収容部内部における可動接点及び固定接点の在る空間に侵入するのを遮断する遮断手段を設けたことを特徴とする接点装置。
【請求項２】
前記遮断手段は、本体部と接点部との間に設けられて収容部内部において本体部側の空間と接点部側の空間とを支持部が通る隙間を除いて隔てる防護壁であることを特徴とする請求項１記載の接点装置。
【請求項３】
前記防護壁は、接点部における本体部と対向する一面を覆うように接点部に対向して設けられたことを特徴とする請求項２記載の接点装置。
【請求項４】
前記支持部は１つのみであって、防護壁の隙間は、接点部と対向する部位以外の部位に設けられたことを特徴とする請求項３記載の接点装置。
【請求項５】
前記固定接点は、接点部において防護壁の隙間から最も遠い部位と対向するように設けられたことを特徴とする請求項２記載の接点装置。
【請求項６】
前記収容部は、厚み方向の一面側に固定接点が設けられる土台部と、土台部の前記一面側に設けられて固定接点及び可動接点及び可動部の周囲を覆う枠部と、枠部における土台部の反対側に設けられて土台部及び枠部に囲まれる空間を閉塞する蓋部とから成り、防護壁は、その一端部が土台部との間に所定の隙間を有するように設けられたことを特徴とする請求項２乃至５の何れか１項に記載の接点装置。
【請求項７】
前記防護壁は可動部と一体に設けられ、その一端部が土台部に設けられた凹部に嵌り込むことを特徴とする請求項６記載の接点装置。
【請求項８】
前記遮断手段は、本体部と接点部との間に設けられて磨耗粉を吸着させる材料から成る吸着部材であることを特徴とする請求項１記載の接点装置。
【請求項９】
前記遮断手段として、本体部と接点部との間に設けられて磨耗粉を吸着させる材料から成る吸着部材を有し、吸着部材は、防護壁における本体部と対向する一面に設けられたことを特徴とする請求項２乃至７の何れか１項に記載の接点装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか１項に記載の接点装置と、可動接点が固定接点に対して接離するように可動部を駆動する駆動装置とを備えたことを特徴とするリレー。
【請求項１１】
請求項１０記載のリレーにおいて、駆動装置が、磁性材料より成り可動部に設けられるアーマチュアを吸引する磁場を発生させることで可動部を揺動させる電磁石装置から成るマイクロリレーであって、基板より成り電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一面側に固定接点が設けられたベースと、ベースの前記一面側に固着される枠状のフレーム、及びフレームに揺動自在に支持される可動部とアーマチュアとを有するメインブロックと、メインブロックにおけるベースの反対側で周部がフレームに固着されるカバーとを備えたことを特徴とするマイクロリレー。
【請求項１２】
請求項１０記載のリレーにおいて、駆動装置が、磁性材料より成り可動部に設けられるアーマチュアを吸引する磁場を発生させることで可動部を揺動させる電磁石装置から成るマイクロリレーであって、基板より成り厚み方向の一面側に固定接点が設けられたベースと、ベースの前記一面側に固着される枠状のフレーム、及びフレームに揺動自在に支持される可動部とアーマチュアとを有するメインブロックと、メインブロックにおけるベースの反対側で周部がフレームに固着され且つ電磁石装置を収納する収納部が形成されたカバーとを備えたことを特徴とするマイクロリレー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、高周波用小型リレーとして、半導体微細加工技術を利用して形成されたＭＥＭＳリレーなどのマイクロリレーが提供されており、例えば特許文献１に開示されているようなものがある。特許文献１に記載のマイクロリレーは、ヨークに巻回されたコイルへの励磁電流に応じて磁束を発生する電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板を備える。また、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部、及びフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュア、及びアーマチュアが固定される可動部に接圧ばね部を介して支持され可動接点が設けられた可動接点基台部を有するメインブロックを備える。更に、メインブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーを備える。電磁石装置には、ベース基板の厚み寸法内でアーマチュアとヨークとにより形成される磁路中に永久磁石が設けられている。尚、本発明に係る接点装置とは、固定接点と、可動接点と、可動接点を接離自在に変位させる手段とを有するものであって、上記従来例のように前記手段として電磁石装置を用いた電磁リレーなどに利用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２１６５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来例では、可動部が揺動する際に可動部から生じる磨耗粉が飛散し、可動接点や固定接点の表面に付着する虞がある。可動接点や固定接点の表面に磨耗粉が付着すると、接点間を閉成する際に磨耗粉が介在するために接点同士の接触面積が減少し、接点間の開閉性能を損なうという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記の点に鑑みて為されたもので、可動接点や固定接点に可動部の揺動に伴って生じる磨耗粉が付着するのを防止することのできる接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明は、上記目的を達成するために、固定接点と、固定接点に接離自在な可動接点と、可動接点を有するとともに可動接点が固定接点と接触する位置と開離する位置との間で揺動自在な可動部と、固定接点及び可動接点及び可動部を収容する収容部とを備えた接点装置であって、可動部は、揺動自在に支持される本体部と、本体部と離間して設けられるとともに固定接点と対向する一面に可動接点が設けられた接点部と、弾性を有し本体部と接点部とを互いに連結する支持部とから成り、可動部の揺動に伴って生じる磨耗粉が収容部内部における可動接点及び固定接点の在る空間に侵入するのを遮断する遮断手段を設けたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、遮断手段は、本体部と接点部との間に設けられて収容部内部において本体部側の空間と接点部側の空間とを支持部が通る隙間を除いて隔てる防護壁であることを特徴とする。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項２の発明において、防護壁は、接点部における本体部と対向する一面を覆うように接点部に対向して設けられたことを特徴とする。
【０００９】
請求項４の発明は、請求項３の発明において、支持部は１つのみであって、防護壁の隙間は、接点部と対向する部位以外の部位に設けられたことを特徴とする。
【００１０】
請求項５の発明は、請求項２の発明において、固定接点は、接点部において防護壁の隙間から最も遠い部位と対向するように設けられたことを特徴とする。
【００１１】
請求項６の発明は、請求項２乃至５の何れか１項の発明において、収容部は、厚み方向の一面側に固定接点が設けられる土台部と、土台部の前記一面側に設けられて固定接点及び可動接点及び可動部の周囲を覆う枠部と、枠部における土台部の反対側に設けられて土台部及び枠部に囲まれる空間を閉塞する蓋部とから成り、防護壁は、その一端部が土台部との間に所定の隙間を有するように設けられたことを特徴とする。
【００１２】
請求項７の発明は、請求項６の発明において、防護壁は可動部と一体に設けられ、その一端部が土台部に設けられた凹部に嵌り込むことを特徴とする。
【００１３】
請求項８の発明は、請求項１の発明において、遮断手段は、本体部と接点部との間に設けられて磨耗粉を吸着させる材料から成る吸着部材であることを特徴とする。
【００１４】
請求項９の発明は、請求項２乃至７の何れか１項の発明において、遮断手段として、本体部と接点部との間に設けられて磨耗粉を吸着させる材料から成る吸着部材を有し、吸着部材は、防護壁における本体部と対向する一面に設けられたことを特徴とする。
【００１５】
請求項１０の発明は、請求項１乃至９の何れか１項に記載の接点装置と、可動接点が固定接点に対して接離するように可動部を駆動する駆動装置とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項１１の発明は、請求項１０記載のリレーにおいて、駆動装置が、磁性材料より成り可動部に設けられるアーマチュアを吸引する磁場を発生させることで可動部を揺動させる電磁石装置から成るマイクロリレーであって、基板より成り電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一面側に固定接点が設けられたベースと、ベースの前記一面側に固着される枠状のフレーム、及びフレームに揺動自在に支持される可動部とアーマチュアとを有するメインブロックと、メインブロックにおけるベースの反対側で周部がフレームに固着されるカバーとを備えたことを特徴とする。
【００１７】
請求項１２の発明は、請求項１０記載のリレーにおいて、駆動装置が、磁性材料より成り可動部に設けられるアーマチュアを吸引する磁場を発生させることで可動部を揺動させる電磁石装置から成るマイクロリレーであって、基板より成り厚み方向の一面側に固定接点が設けられたベースと、ベースの前記一面側に固着される枠状のフレーム、及びフレームに揺動自在に支持される可動部とアーマチュアとを有するメインブロックと、メインブロックにおけるベースの反対側で周部がフレームに固着され且つ電磁石装置を収納する収納部が形成されたカバーとを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１の発明によれば、可動部の揺動に伴って生じる磨耗粉が収容部内部における可動接点及び固定接点の在る空間に侵入するのを遮断する遮断手段を設けることで、可動接点や固定接点に磨耗粉が付着するのを防止することができる。したがって、接点間を閉成する際に磨耗粉が介在しないために接点同士の接触面積が減少することがなく、接点間の開閉性能が損なわれるのを防止することができる。
【００１９】
請求項２の発明によれば、可動部の揺動に伴って生じる磨耗粉が接点部側の空間に向かって飛散しても、防護壁によって磨耗粉の接点部側の空間への飛散を防止することができる。したがって、可動接点や固定接点に磨耗粉が付着するのを防止することができる。
【００２０】
請求項３の発明によれば、接点部の正面に防護壁を設けることで、磨耗粉が可動接点や固定接点に付着するのを防止することができる。
【００２１】
請求項４の発明によれば、支持部が１つであることから本体部側の空間から接点部側の空間に通じる経路が１つであるため、磨耗粉が接点部側の空間に到達し難い。また、当該経路が防護壁を避けて接点部に回り込む経路であることから、仮に磨耗粉が接点部側の空間に達しても接点部には到達し難く、したがって磨耗粉が可動接点や固定接点に付着するのをより確実に防止することができる。
【００２２】
請求項５の発明によれば、仮に磨耗粉が接点部側の空間に達しても各接点の接触部位までは到達し難く、したがって磨耗粉が可動接点や固定接点に付着するのをより確実に防止することができる。
【００２３】
請求項６の発明によれば、防護壁と土台部との間に隙間を設けることで、土台部に枠部を接合する際に防護壁が接合を阻害するのを防止することができる。したがって、土台部と枠部との接合の安定性を向上させることができる。
【００２４】
請求項７の発明によれば、防護壁の一端部が凹部に嵌り込むことで本体部側の空間と接点部側の空間との間が入り組んだ経路で結ばれるため、磨耗粉が可動接点や固定接点に付着するのをより確実に防止することができる。
【００２５】
請求項８の発明によれば、吸着部材によって接点部側の空間に向かって飛散する磨耗粉を吸着することができるので、磨耗粉が可動接点や固定接点に付着するのを防止することができる。
【００２６】
請求項９の発明によれば、吸着部材と防護壁とを組み合わせることで磨耗粉が可動接点や固定接点に付着するのをより確実に防止することができる。
【００２７】
請求項１０の発明によれば、請求項１乃至９の何れか１項に記載の効果を奏するリレーを実現することができる。
【００２８】
請求項１１，１２の発明によれば、請求項１乃至９の何れか１項に記載の効果を奏するマイクロリレーを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係る接点装置の実施形態１を示す図で、（ａ）は要部の平面図で、（ｂ）はａ−ａ’線断面矢視図である。
【図２】同上の他の構成を示す要部の平面図である。
【図３】同上の更に他の構成を示す要部の平面図である。
【図４】同上の防護壁とベースとの間に隙間を設けた場合を示す断面図である。
【図５】同上のベースに凹部を設けた場合を示す断面図である。
【図６】本発明に係る接点装置の実施形態２を示す断面図である。
【図７】本発明に係る接点装置の実施形態３を示す図で、（ａ）は断面図で、（ｂ）は防護壁を設けた場合の断面図である。
【図８】本発明に係るマイクロリレーの基本形態１を示す図で、（ａ）は分解斜視図で、（ｂ）は下側から見た斜視図である。
【図９】本発明に係るマイクロリレーの基本形態２を示す分解斜視図である。
【図１０】同上の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明に係る接点装置の実施形態を説明するにあたって、本発明の接点装置を備えたマイクロリレーの基本形態１，２について図面を用いて説明する。尚、以下の説明では、図８（ａ）における上下を上下方向と定めるものとする。
【００３１】
（基本形態１）
本基本形態は、図８（ａ），（ｂ）に示すように、ヨーク６０に巻回されたコイル６２への励磁電流に応じて磁束を発生する電磁石装置６と、矩形板状のガラス基板から成り厚み方向の一面（上面）側において長手方向の両端部それぞれに各１対の固定接点５０が設けられたベース５と、ベース５の上面側に固着される矩形枠状のフレーム３１、及びフレーム３１の内側に配置されて４本の支持ばね部３２を介してフレーム３１に揺動自在に支持される可動部３０、及び可動部３０にそれぞれ２本の接圧ばね部３５を介して支持されるとともに各々可動接点（図示せず）が設けられた２つの可動接点基台部３４、及び磁性材料より成り可動部３０に設けられて電磁石装置６により駆動されるアーマチュア（図示せず）を有するメインブロック３と、メインブロック３におけるベース５の反対側で周部がフレーム３に固着される矩形板状のガラス基板から成るカバー４とを備えている。
【００３２】
電磁石装置６におけるヨーク６０は、図８（ａ）に示すように、２つのコイル６２が直接巻回される細長の矩形板状のコイル巻回部６０ａと、コイル巻回部６０ａの長手方向の両端部それぞれから可動部３０に近づく向きに延設されてコイル６２への励磁電流に応じて互いの先端面が異極に励磁される１対の脚片６０ｂと、両脚片６０ｂの間でコイル巻回部６０ａの長手方向の中央部に重ねて配置された矩形板状の永久磁石６１と、細長の矩形板状であってコイル巻回部６０ａにおける永久磁石６１との対向面の反対側でコイル巻回部６０ａと直交するように固着される樹脂成型体６３とを備えている。尚、ヨーク６０は電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工あるいは鋳造加工することにより形成されており、両脚片６０ｂの断面が矩形状に形成されている。
【００３３】
永久磁石６１は、厚み方向の両磁極面が互いに異極に着磁されており、一方の磁極面がコイル巻回部６０ａに当接し、他方の磁極面が両脚片６０ｂの先端面と同一平面上に位置するように厚み寸法を設定してある。また、各コイル６２は、それぞれ永久磁石６１と両脚片６０ｂとによってコイル巻回部６０ａの長手方向への移動が規制される。樹脂成型体６３は絶縁性を有する樹脂材料から成り、その一面における長手方向の両端部にコイル端子６３ａが一部を露出する形で設けられている。この各コイル端子６３ａにおいて円形状に形成された部位が外部接続用電極を構成し、矩形状に形成された部位がコイル接続部を構成している。尚、各コイル端子６３ａにおける外部接続用電極には、導電性材料（例えば、Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，半田など）から成るバンプ６４が適宜固着されるが、バンプ６４を固着する代わりにボンディングワイヤをボンディングしても構わない。
【００３４】
ベース５は、パイレックス（登録商標）のような耐熱ガラスにより矩形状に形成されており、図８（ｂ）に示すように、その中央部には厚み方向に貫通して電磁石装置６を収納する収納孔５６が貫設され、四隅の各近傍には厚み方向に貫通するスルーホール（図示せず）が貫設されている。また、ベース５の厚み方向の両面であって各スルーホールの周縁にはランド５２が形成されている。ここで、ベース５の厚み方向において重なるランド５２同士は、スルーホールの内周面に被着された導電性材料（例えば、Ｃｕ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｐｔ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ａｕ，或いはこれらの合金など）から成る導体層（図示せず）によって電気的に接続されている。また、ベース５の厚み方向の他面（下面）側の各ランド５２にはバンプ５３が適宜固着されており、バンプ５３をランド５２に固着することによって、ベース５の下面側ではスルーホールの開口面がバンプ５３により覆われる。各スルーホールの開口面は円形状であって、ベース５の上面には、各スルーホールの開口面及びランド５２を覆うシリコン薄膜から成る４枚の蓋体５４が固着されている。
【００３５】
各１対の固定接点５０は、図８（ａ）に示すように、ベース５の長手方向の両端部においてベース５の短手方向に離間して形成された２つのスルーホールの間で並設されており、前記短手方向において隣り合うスルーホールの周縁に形成されたランド５２と導電パターン５１を介して電気的に接続されている。ここで、固定接点５０及び導電パターン５１及びランド５２の材料としては、例えば、Ｃｒ，Ｔｉ，Ｐｔ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ａｕ，或いはこれらの合金などの導電性材料を採用すればよく、バンプ５３の材料としては、例えば、Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，半田などの導電性材料を採用すればよい。尚、スルーホール及び収納孔５６は、例えば、サンドブラスト法やエッチング法などによって形成すればよく、導体層は、例えば、電気めっき法や真空蒸着法、スパッタ法などによって形成すればよい。
【００３６】
収納孔５６の開口面は、図８（ｂ）に示すように十字状であって、ベースの上面側には、収納孔５６を閉塞するシリコン薄膜からなる蓋体５７が固着されている。ここで、電磁石装置６は、ヨーク６０の両脚片６０ｂの各先端面が蓋体５７と対向する形で収納孔５６に挿入される。電磁石装置６は、永久磁石６１がベース５の厚み寸法内でアーマチュアとヨーク６０とで形成される磁路中に設けられ、樹脂成型体６３の表面がベース５の下面と略面一となっている。尚、蓋体５４，５７は、シリコン基板をエッチングや研磨などで薄膜化することにより形成したシリコン薄膜により構成されており、厚み寸法を２０μｍに設定してある。ここで、蓋体５７の厚み寸法は２０μｍに限定するものではなく、例えば５〜５０μｍ程度の範囲内で適宜設定すればよい。また、蓋体５４，５７は、シリコン薄膜に限らず、ガラス基板をエッチングや研磨などで薄膜化することにより形成したガラス薄膜により構成してもよい。
【００３７】
メインブロック３は、図８（ａ）に示すように、シリコン基板から成る半導体基板を半導体微細加工プロセスにより加工することによって形成された、上述の矩形枠状のフレーム３１と、４本の支持ばね部３２と、フレーム３１の内側に配置される矩形板状の可動部３０と、４本の接圧ばね部３５と、２つの可動接点基台部３４とから構成される。可動部３０におけるベース５との対向面には、例えば、軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなどの磁性材料から成る矩形板状のアーマチュアが固着されている。
【００３８】
支持ばね部３２は、可動部３０の短手方向の両側面側で可動部３０の長手方向に離間して２箇所に形成されている。各支持ばね部３２は、一端部がフレーム３１に一体に連結され、他端部が可動部３０に一体に連結されている。尚、各支持ばね部３２は、平面形状において一端部と他端部との間の部位を同一面内で蛇行した形状に形成することにより長さ寸法を長くしてある。このため、可動部３０が揺動する際に各支持ばね部３２にかかる応力を分散させることができ、各支持ばね部３２が破損するのを防止することができる。
【００３９】
可動部３０は、短手方向の両側縁の中央部から矩形状の突片３６が一体に延設され、フレーム３１の内周面において突片３６に対応する部位からも矩形状の突片３７が一体に延設されている。これら突片３６，３７は互いの先端面同士が対向しており、突片３６の先端面に設けられた凸部が突片３７の先端面に設けられた凹部の内周面に当接することで、フレーム３１の厚み方向に直交する面内における可動部３０の移動が規制される。
【００４０】
可動接点基台部３４は、可動部３０の長手方向において可動部３０の両端部とフレーム３１との間にそれぞれ配置され、そのベース５との対向面（下面）に導電性材料から成る可動接点が固着されている。ここで、可動接点基台部３４は、２本の接圧ばね部３５を介して可動部３０に支持されている。尚、可動部３０の四隅には、磁性体の変位量を制限するストッパ部３３がそれぞれ一体に延設されているため、接圧ばね部３５の平面形状は、ストッパ部３３の外周縁の３辺に沿ったコ字状に形成されている。
【００４１】
カバー４は、パイレックス（登録商標）のような耐熱ガラスにより構成されており、メインブロック３との対向面に可動部３０の揺動空間を確保する凹所（図示せず）が形成されている。
【００４２】
ここで、フレーム３１におけるベース５との対向面（下面）の周部には、全周に亘って接合用金属薄膜（図示せず）が形成され、カバー４との対向面（上面）の周部にも全周に亘って接合用金属薄膜３８ａが形成されている。また、ベース５におけるメインブロック３との対向面（上面）の周部にも全周に亘って接合用金属薄膜５５が形成され、カバー４におけるメインブロック３との対向面（下面）の周部にも全周に亘って接合用金属薄膜（図示せず）が形成されている。したがって、メインブロック３とカバー４とベース５とを圧接又は陽極接合により気密的に接合することができ、ベース５とカバー４とフレーム３１とで囲まれる空間の気密性を向上させることができる。
【００４３】
以下、本基本形態の動作について説明する。コイル６２へ通電が行われると、磁化の向きに応じてアーマチュアの長手方向の一端部がヨーク６０の一方の脚片６０ｂに吸引されて可動部３０が揺動し、可動部３０の他端側の可動接点基台部３４に保持された可動接点が対向する１対の固定接点５０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石６１の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。
【００４４】
また、コイル６２への通電方向を逆向きにすると、アーマチュアの長手方向の他端部がヨーク６０の他方の脚片６０ｂに吸引されて可動部３０が揺動し、可動部３０の他端側の可動接点基台部３４に保持された可動接点が対向する１対の固定接点５０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石６１の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。
【００４５】
（基本形態２）
本基本形態は、図９，１０に示すように、主として、ベース１００と、ベース１００の厚み方向の一面（上面）側に設けられるメインブロック２００と、メインブロック２００におけるベース１００側とは反対側（上側）に設けられるカバー３００と、電磁石装置４００とを備えている。
【００４６】
ベース１００は、例えば直方体状のガラス基板により形成されており、図９に示すように、ベース１００の上面側における長手方向両端側それぞれには、１対の伝送線路１１０が形成されている。伝送線路１１０は何れも直線状に形成されており、その長手方向がベース１００の短手方向と一致している。また、１対の伝送線路１１０は、ベース１００の短手方向に沿って一直線上に並設されている。ここで、ベース１００の厚み方向の他面（下面）側の長手方向両端側それぞれには、１対の外部接続電極（図示せず）が形成されている。当該１対の外部接続電極は、それぞれ１対の伝送線路１１０各々とベース１００を厚み方向に貫通する貫通孔配線（図示せず）を介して電気的に接続されている。
【００４７】
また、ベース１００の上面側には、伝送線路１１０に電気的に接続される複数の固定接点１２０が形成されている。各固定接点１２０は、各伝送線路１１０においてベース１００の内側となる端部に接続されている。よって、ベース１００の左右両端側それぞれには、固定接点１２０が１対ずつ形成されている。尚、各伝送線路１１０においてベース１００の外側となる端部は、上述の貫通孔配線を介して外部接続電極に電気的に接続されている。また、固定接点１２０は、例えばＣｕやＡｕなどの導電性が良好な金属材料から成る金属薄膜であって、スパッタ法や電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成されている。更に、固定接点１２０は、単層構造に限らず、例えばＡｕ層と、Ａｕ層とベース１００との間に介在されるＴｉ層とから成る多層構造であってもよい。
【００４８】
メインブロック２００は、主として、可動部２１０と、フレーム２２０とを有する。フレーム２２０は、矩形枠状に形成されており、このフレーム２２０の開口内に可動部２１０が配置される。ここで、フレーム２２０の開口は、フレーム２２０の中央部に設けられた矩形状の第１の開口部２３０と、フレーム２２０の長手方向の両端側それぞれに設けられた第２の開口部２３１とを含む。第２の開口部２３１は、それぞれ上下方向の中央部において第１の開口部２３０と連通している。尚、フレーム２２０の外形寸法はベース１００の外形寸法と等しくしてある。
【００４９】
可動部２１０は、フレーム２２０の第１の開口部２３０内に配置される本体部２１１を有している。本体部２１１は矩形板状に形成され、その長手方向をフレーム２２０の長手方向に沿わせた形で第１の開口部２３０内に配置される。本体部２１１の短手方向両端部の各中央部には、接点用突片２１２が突設されており、その先端部は第２の開口部２３１内に配置されている。接点用突片２１２におけるベース１００との対向面（下面）には、可動接点２１３が設けられている（図１０参照）。可動接点２１３は、１対の固定接点１２０と接触した際に当該１対の固定接点１２０間を短絡するように構成されている。尚、可動接点２１３は、固定接点１２０と同様にＣｕやＡｕなどの金属材料から成る金属薄膜であり、スパッタ法や電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成されている。また、可動接点２１３も、単層構造に限らず、上述の固定接点１２０と同様に多層構造であってもよい。
【００５０】
一方、本体部２１１におけるカバー３００との対向面（上面）の中央部には、支点突起２１４が突設されている。この支点突起２１４は、可動部２１０の揺動動作（シーソー動作）の支点として用いられる。
【００５１】
このような可動部２１０は、複数（図示では４つ）の支持片２４０によりフレーム２２０と一体に連結されている。支持片２４０は、それぞれフレーム２２０の第１の開口部２３０の長手方向における内側面と、本体部２１１の短手方向の外側面とを一体に連結するように構成されている。４つの支持片２４０は、本体部２１１の中心を中心として点対称となるように配置されている。また、支持片２４０は、厚み方向に直交する面内で本体部２１１の長手方向に沿った方向に進退するように蛇行した形状に形成されている。これによって、可動部２１０がフレーム２２０に揺動自在に支持されるようになっている。また、各支持片２４０を蛇行した形状に形成することで長さ寸法を長くし、可動部２１０が揺動動作する際に支持片２４０に加えられる応力を分散している。
【００５２】
上述したメインブロック２００において、可動部２１０とフレーム２２０と支持片２４０とは、例えば５０μｍ〜３００μｍ程度、好ましくは２００μｍ程度の厚みの半導体基板２５をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などの半導体微細加工技術を利用してパターニングすることにより一体に形成されている。尚、半導体基板２５は、シリコンから成る半導体層と、酸化シリコン（ＳｉＯ２）より成る絶縁層とを交互に積層したＳＯＩ（２層ＳＯＩ）基板である。
【００５３】
可動部２１０の本体部２１１におけるカバー３００との対向面（上面）には、アーマチュア５００が設けられている。アーマチュア５００は、電磁石装置４００が発生する磁場により可動部２１０を揺動させるために用いられている。アーマチュア５００は、例えば電磁軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなどの磁性材料を機械加工して矩形板状に形成され、接着、溶接、熱着、ロウ付けなどの方法によって本体部２１１に接合されている。また、可動部２１０におけるベース１００との対向面（下面）側には、アーマチュア５００を可動部２１０に保持するとともに可動部２１０を補強する補強部材６００が設けられている。尚、補強部材６００によってマイクロリレーの厚み寸法が大きくなるのを避けるために、ベース１００には補強部材６００を避ける凹部１３０が凹設されている（図９参照）。
【００５４】
上述したメインブロック２００は、可動接点２１３と１対の固定接点１２０とがそれぞれ対向する形で、フレーム２２０をベース１００に接合することによって、ベース１００の上面側に取付けられる。
【００５５】
カバー３００は、例えば絶縁性材料であるガラス基板により形成されており、その外形寸法はベース１００の外形寸法と等しくしてある。このようにカバー３００は、フレーム２２０の開口を閉塞できる大きさに形成されている。カバー３００におけるフレーム２２０側とは反対側の面（上面）の中央部には、厚み方向に貫通する開孔部３１０が形成されている。開孔部３１０は、電磁石装置４００を収納できる大きさに形成され、そのフレーム２２０側の面（下面）には、開孔部３１０全体を閉塞する閉塞板３２０が密着接合されている。閉塞板３２０は、例えば厚みが５〜５０μｍ程度（好ましくは２０μｍ程度）に形成されたシリコン板やガラス板などから成る。この開孔部３１０の内周面と閉塞板３２０とで囲まれる空間部が電磁石装置４００の収納室を構成している。上述のカバー３００は、フレーム２２０におけるベース１００側とは反対側の面（上面）に接合される。
【００５６】
電磁石装置４００は、アーマチュア５００を吸引する磁場を発生させるもので、可動部２１０をラッチするための永久磁石４１０を備えている。電磁石装置４００は、主として、ヨーク４２０と、１対のコイル４３０とを備えている。ヨーク４２０は、長尺矩形板状の主片４２１と、主片４２１の表面側（下面側）の長手方向両端部それぞれに突設された矩形板状の脚片４２２とを一体に備えている。このようなヨーク４２０は、電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工或いは鍛造加工することにより形成されている。永久磁石４１０は、直方体状に形成され、厚み方向の一面側と他面側とが互いに異極となるように着磁されている。この永久磁石４１０は、上記他面をヨーク４２０の主片４２１の下面における長手方向中央部に当接させるようにして、ヨーク４２０に取り付けられる。１対のコイル４３０は、主片４２１における各脚片４２２と永久磁石４１０との間の部位それぞれに配置される。
【００５７】
また、電磁石装置４００には、１対のコイル端子（図示せず）が設けられている。この１対のコイル端子間に電圧を印加することで、両コイル４３０に電流が流れる。このような電磁石装置４００は、カバー３００の上記収納室に収納される。ここで、カバー３００におけるメインブロック２００側とは反対側の面（上面）には、直線状の配線パターン（図示せず）が形成されており、この配線パターンの一端部にコイル端子が半田付けなどによって電気的に接続される。
【００５８】
ベース１００の下面側には、両コイル４３０に通電するための駆動電極（図示せず）が設けられており、この駆動電極と配線パターンの他端部とが厚み方向で重なる位置に、ベース１００、メインブロック２００、カバー３００を厚み方向に貫通する貫通孔（図示せず）が貫設されている。この貫通孔内には貫通孔配線（図示せず）が形成されており、この貫通孔配線と配線パターンとを介して駆動電極とコイル端子とが電気的に接続される。
【００５９】
以下、本基本形態の動作について説明する。両コイル４３０への通電が行われると、磁化の向きに応じてアーマチュア５００の長手方向の一端部がヨーク４２０の一方の脚片４２２に吸引されて可動部２１０の本体部２１１が揺動し、本体部２１１の長手方向一端側の接点用突片２１２に設けられた可動接点２１３が対向する１対の固定接点１２０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石４１０の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。
【００６０】
また、両コイル４３０への通電方向を逆向きにすると、アーマチュア５００の長手方向の他端部がヨーク４２０の他方の脚片４２２に吸引されて可動部２１０の本体部２１１が揺動し、本体部２１１の長手方向他端側の接点用突片２１２に設けられた可動接点２１３が対向する１対の固定接点１２０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石４１０の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。
【００６１】
上述のように、本基本形態では電磁石装置４００をカバー３００の開孔部３１０に収納しているので、電磁石装置４００をベース１００に収納する場合と比較してベース１００の厚みを薄くすることができる。このため、固定接点１２０を外部接続電極に接続するための貫通孔配線を短くすることができ、高周波特性を向上させることができる。また、電磁石装置４００と固定接点１２０との間の距離を長くすることができるので、電磁石装置４００が発生する磁場による影響を低減することができる。
【００６２】
（実施形態１）
以下、本発明に係る接点装置の実施形態１について図面を用いて説明する。尚、以下の説明では、図１（ｂ）における上下左右を上下左右方向と定めるものとする。本実施形態は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、１対（図示では１つ）の固定接点１と、各固定接点１に接離自在な１対（図示では１つ）の可動接点２１ａと、可動接点２１ａを有するとともに可動接点２１ａが固定接点１と接触する位置と開離する位置との間で揺動自在な可動部２とを備える。尚、本実施形態では、ベースＡ（土台部）及びカバーＢ（蓋部）及びフレームＣ（枠部）を接合することで固定接点１及び可動接点２１ａ及び可動部２を収容する収容部を構成している。また、ベースＡにおける可動部２の長手方向両端部と対向する部位にそれぞれ固定接点１が設けられている。尚、本実施形態の可動部２は、ベースＡと対向する一面（下面）に設けられた矩形板状のアーマチュア２ａが電磁石装置（図示せず）によって吸引されることで揺動するようになっている。
【００６３】
可動部２は、揺動自在に支持される矩形板状の本体部２０と、本体部２０と離間して設けられるとともに固定接点１と対向する一面（下面）に可動接点２１ａが設けられた矩形板状の１対（図示では１つ）の接点部２１と、弾性を有し可動部２の長手方向の両端部において本体部２０と接点部２１とを各々互いに連結する２対（図示では１対）の支持部２２とから成る。
【００６４】
ベースＡにおける本体部２０の長手方向の中央部と対向する部位には、上方に向かって突出する支点突起２０ａが一体に形成されており、この支点突起２０ａが可動部２の揺動する際の支点となる。また、本体部２０の長手方向の両端部（図示では一端部のみ）における下面には、下方に突出するストッパ２０ｂがそれぞれ一体に形成されている。可動部２が揺動する際に当該ストッパ２０ｂの下端部がベースＡと当接することで、可動部２の上下方向の移動を規制している。
【００６５】
接点部２１は、本体部２０の長手方向両端部とそれぞれ離間して設けられ、各々のベースＡと対向する一面（下面）に可動接点２１ａが固着されている。また、接点部２１の本体部２０に近い側の端部（図示では左端部）が固定接点１との接触部位となっている。支持部２２は何れも略コ字状に形成され、その一端部が本体部２０と一体に連結するとともに他端部が接点部２１と一体に連結している。尚、可動部２の長手方向の両端部それぞれにおいて、支持部２２が可動部２の短手方向の両端側にそれぞれ設けられている。各支持部２２の他端部側には、同一面内で蛇行した形状に形成された蛇行部２２ａが設けられており、当該蛇行部２２ａにより支持部２２の長さ寸法を長くしてある。このため、可動部２が揺動する際に各支持部２２にかかる応力を分散させ、各支持部２２が破損するのを防止している。この各蛇行部２２ａの端部を連結した部位と接点部２１とを後述する防護壁Ｃ１間の隙間を介して連結することで、接点部２１が支持部２２に支持されている。
【００６６】
ところで、接点間を開閉するために可動部２の揺動を繰り返すと、支点突起２０ａと本体部２０との接触、及びストッパ２０ｂとベースＡとの接触によって可動部２や各部位が磨耗し、磨耗粉が発生する。そこで、本実施形態では、この磨耗粉が固定接点１及び可動接点２１ａに付着するのを防止する手段として防護壁Ｃ１を設けている。防護壁Ｃ１はフレームＣと一体に形成され、本体部２０と接点部２１との間において接点部２１の長手方向（図１（ａ）における上下方向）に沿って互いに向き合うように１対ずつ設けられている。これら防護壁Ｃ１によって、収容部内部において本体部２０側の空間と接点部２１側の空間とを支持部２２が通る隙間を除いて隔てている。即ち、防護壁Ｃ１が可動部２の揺動に伴って生じる磨耗粉が収容部内部における可動接点２１ａ及び固定接点１の在る空間に侵入するのを遮断する遮断手段となっている。
【００６７】
上述のように、収容部内部において本体部２０側の空間と接点部２１側の空間とを隔てる防護壁Ｃ１を設けることで、可動部２の揺動に伴って生じる磨耗粉が接点部２１側の空間に向かって飛散しても、防護壁Ｃ１によって磨耗粉の接点部２１側の空間への飛散を防止することができる。したがって、可動接点２１ａや固定接点１に磨耗粉が付着するのを防止することができるので、接点間を閉成する際に磨耗粉が介在しないために接点同士の接触面積が減少することがなく、接点間の開閉性能が損なわれるのを防止することができる。
【００６８】
ところで、仮に磨耗粉が各防護壁Ｃ１の間の隙間を通って接点部２１側の空間に飛散した場合、磨耗粉が可動接点２１ａや固定接点１に付着する虞がある。そこで、図２に示すように、接点部２１を細長形状とし、その長手方向両端部において接点間が開閉されるように固定接点１を設けることで各防護壁Ｃ１の間の隙間と各接点の接触部位との間の距離を長くしてもよい（即ち、接点部２１において各防護壁Ｃ１の隙間から最も遠い部位と対向するように固定接点１を設ける）。この場合、各防護壁Ｃ１の間の隙間を通った磨耗粉が可動接点２１ａや固定接点１に到達し難くなるので、磨耗粉が可動接点２１ａや固定接点１に付着するのをより確実に防止することができる。
【００６９】
尚、防護壁の構成としては、上述のように本体部２０側の空間と接点部２１側の空間とをほぼ全面的に隔てる構成に限定されるものではなく、例えば図３に示すように、接点部２１における本体部２０と対向する一面（左面）を覆うように接点部２０に対向して防護壁２３を設けても構わない。この場合でも、上記と同様の効果を奏することができる。
【００７０】
ところで、本実施形態では、ベースＡの上面にフレームＣの下端縁を突き合わせて接合することでフレームＣをベースＡに取り付けるようになっているが、防護壁（例えば、防護壁Ｃ１）の下端部が接合時にベースＡと接触し、接合を阻害してベースＡとフレームＣとの接合の安定性が損なわれる虞がある。そこで、図４に示すように、防護壁Ｃ１の下端部とベースＡとの間に所定の隙間を有するように防護壁Ｃ１を設けてもよい。この場合、ベースＡとフレームＣとを接合する際に、防護壁Ｃ１の下端部がベースＡと接触することがないことから接合を阻害せず、したがってベースＡとフレームＣとの接合の安定性を向上させることができる。
【００７１】
更に、図５に示すように、可動部２の支持部２２に防護壁２４を一体に設け、防護壁２４の下端部が嵌り込む凹部Ａ１をベースＡに凹設しても構わない。この場合、本体部２０側の空間と接点部２１側の空間とが、凹部Ａ１における防護壁２４を避けた入り組んだ経路を介して結ばれる。このため、磨耗粉は当該経路を介さなければ接点部２１側の空間に到達できないために飛散し難く、可動接点２１ａや固定接点１に付着するのをより確実に防止することができる。勿論、可動部２の揺動を問わず防護壁２４の下端部と凹部Ａ１の底面との間に所定の隙間を有するように構成することで、上記と同様にベースＡとフレームＣとの接合の安定性を向上させることができる。
【００７２】
（実施形態２）
以下、本発明に係る接点装置の実施形態２について図面を用いて説明する。尚、本実施形態の基本的な構成は実施形態１と共通であるので、共通する部位には同一の番号を付して説明を省略する。本実施形態は、図６に示すように、可動部２の長手方向両端部のそれぞれにおいて支持部２２が１つずつ設けられ、防護壁Ｃ１の隙間が接点部２１と対向する部位以外の部位に設けられたことに特徴がある。防護壁Ｃ１は、その長手方向における一端部（同図における上端部）がフレームＣと一体に形成されるとともに、他端部（同図における下端部）がフレームＣとの間に所定の隙間を有するように設けられている。支持部２２は一対の蛇行部２２ａを有し、一端部が本体部２０と連結されるとともに、他端部が上記防護壁Ｃ１とフレームＣとの間の隙間を通って接点部２１と連結されている。また、接点部２１は防護壁Ｃ１と対向するように設けられている。
【００７３】
上述のように、支持部２２が１つであることから本体部２０側の空間から接点部２１側の空間に通じる経路が１つであるので、磨耗粉が接点部２１側の空間に到達し難い。また、当該経路が防護壁Ｃ１を避けて接点部２１に回り込む経路であることから、仮に磨耗粉が接点部２１側の空間に達しても接点部２１には到達し難く、したがって磨耗粉が可動接点２１ａや固定接点１に付着するのをより確実に防止することができる。
【００７４】
（実施形態３）
以下、本発明に係る接点装置の実施形態３について図面を用いて説明する。尚、本実施形態の基本的な構成は実施形態１と共通であるので、共通する部位には同一の番号を付して説明を省略する。本実施形態は、図７（ａ）に示すように、遮断手段として本体部２０と接点部２１との間に磨耗粉を吸着させる材料から成る吸着部材２５を設けたことに特徴がある。吸着部材２５は、例えばポリイミド等の吸着性を有する材料から成る薄膜や、レジスト膜等から成り、ベースＡ上面における固定接点１の近傍に配設される。
【００７５】
上述のように吸着部材２５を設けることで、吸着部材２５によって接点部２１側の空間に向かって飛散する磨耗粉を吸着することができるので、磨耗粉が可動接点２１ａや固定接点１に付着するのを防止することができる。
【００７６】
尚、図７（ｂ）に示すように、上記実施形態１，２に記載の防護壁（同図では防護壁Ｃ１）における本体部２０と対向する一面（左面）に吸着部材２５を配設しても構わない。この場合、吸着部材２５によって接点部２１側の空間に向かって飛散する磨耗粉を吸着するとともに、吸着しきれない磨耗粉の飛散を防護壁によって防止することができる。即ち、吸着部材２５と防護壁とを組み合わせることで磨耗粉が可動接点２１ａや固定接点１に付着するのをより確実に防止することができる。
【００７７】
尚、上記各実施形態の接点装置は基本形態１，２の何れにも採用することができる。基本形態１に上記各実施形態の接点装置を採用する場合は、固定接点５０を固定接点１、可動接点基台部３４に設けられた可動接点を可動接点２１ａ、可動部３０を可動部２に各々置き換えればよい。また、基本形態２に本実施形態の接点装置を採用する場合は、固定接点１２０を固定接点１、可動接点２１３を可動接点２１ａ、可動部２１０を可動部２に各々置き換え、本体部２１１と接点用突片２１２とを別体に形成するとともに、各々を支持部で連結すればよい。勿論、本発明の接点装置を備えたリレーとしては、上記基本形態のマイクロリレーに限定されるものではなく、他の構造を有するリレー及びマイクロリレーに本発明の接点装置を採用しても構わない。また、可動部を揺動させるための駆動装置は上記の電磁駆動式に限定される必要はなく、例えば静電駆動式の駆動装置を採用しても構わない。
【符号の説明】
【００７８】
１  固定接点
２  可動部
２０  本体部
２１  接点部
２１ａ  可動接点
２２  支持部
Ｃ１  防護壁（遮断手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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