(57)【要約】【課題】レーザ熱転写装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】アクセプタ基板１３０が置かれるステージ１０１と、アクセプタ基板１３０上に配置されるドナーフィルム１４０を支持し、アクセプタ基板１３０とドナーフィルム１４０との間隔を調節できるように、ステージ上で昇降自在な支持部１１０、１２０と、ステージ１０１に備えられ、アクセプタ基板１３０とドナーフィルム１４０との間の空間に存在するガスを外部に排出させる排出口１０１ａとを有するレーザ熱転写装置である。これにより、基板とドナーフィルムとの密着特性を向上させ、ラミネーション工程やデラミネーション工程中、基板に形成された有機膜がはがれることを最小化できる。【選択図】図１
2011154994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクセプタ基板が置かれるステージと、
前記アクセプタ基板上に配置されるドナーフィルムを支持し、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間隔を調節できるように、前記ステージ上で昇降する支持部と、
前記ステージに備えられていて、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間の空間に存在するガスを外部に排出させる排出口と、
を有することを特徴とするレーザ熱転写装置。
【請求項２】
前記支持部は、前記ドナーフィルムの一端部を支持する第１部材と、前記ドナーフィルムの一端部に対向する他端部を支持する第２部材とを備え、
前記第１部材と前記第２部材とは、相互個別的に前記ステージ上で昇降自在であることを特徴とする請求項１に記載のレーザ熱転写装置。
【請求項３】
前記第１部材は、前記ドナーフィルムの一端部を固定する第１固定部と、前記第１固定部を前記ステージ上で上下に移動させる第１連結部とを備えることを特徴とする請求項２に記載のレーザ熱転写装置。
【請求項４】
前記第２部材は、前記ドナーフィルムの他端部を固定する第２固定部と、前記第２固定部を前記ステージ上で上下に移動させる第２連結部とを備えることを特徴とする請求項２または３に記載のレーザ熱転写装置。
【請求項５】
前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とのデラミネーション工程時、前記第２部材は、停止した状態で前記第１部材が上昇しつつ、前記ドナーフィルムの一端部から前記アクセプタ基板と分離され、前記第１部材の上昇高が増加するほど、前記ドナーフィルムの一端部から前記ドナーフィルムの他端部に向かって前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とが分離されることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一つに記載のレーザ熱転写装置。
【請求項６】
前記支持部は、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとのラミネーション工程前に、前記アクセプタ基板と離隔されるように前記ドナーフィルムを移動させ、前記排出口は、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとによって作られる空間に存在するガスを外部に排出させることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載のレーザ熱転写装置。
【請求項７】
前記支持部は、前記ガスを外部に排出する間に、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載のレーザ熱転写装置。
【請求項８】
前記支持部は、前記ドナーフィルムの一端部と他端部とから外部に延びる方向に向かってチルトされて、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止することを特徴とする請求項７に記載のレーザ熱転写装置。
【請求項９】
前記ドナーフィルム上に配され、前記アクセプタ基板に向かって前記ドナーフィルムに圧力を加える加圧部材をさらに備えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一つに記載のレーザ熱転写装置。
【請求項１０】
前記加圧部材は、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とのラミネーション工程時、前記ドナーフィルムに前記アクセプタ基板に向かって圧力を加えて、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とを密着させることを特徴とする請求項９に記載のレーザ熱転写装置。
【請求項１１】
前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とのデラミネーション工程時、前記支持部は、前記ドナーフィルムの一端部を持ち上げ、前記支持部が前記ドナーフィルムの一端部を持ち上げることによって、前記加圧部材は、前記ドナーフィルムの一端部から前記一端部に対向する他端部に沿って移動しつつ、前記ドナーフィルムに圧力を加えることによって、前記アクセプタ基板に転写された薄膜が前記デラミネーション工程中にはがれることを防止することを特徴とする請求項９に記載のレーザ熱転写装置。
【請求項１２】
前記加圧部材は、ローラ形状を有することを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一つに記載のレーザ熱転写装置。
【請求項１３】
レーザ熱転写法を利用した有機発光表示装置の製造方法において、
ステージ上にアクセプタ基板を配置する工程と、
前記アクセプタ基板と離隔されるようにドナーフィルムを配置する工程と、
前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間に存在するガスを除去する工程と、
前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とをラミネーションする工程と、
前記ドナーフィルムの転写層を前記アクセプタ基板に転写する工程と、
前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とをデラミネーションする工程と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記ガスを除去する間に、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間隔を一定に維持することを特徴とする請求項１３に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記間隔を維持する間に、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止することを特徴とする請求項１４に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記ドナーフィルムの一端部と前記一端部に対向する他端部とをそれぞれ前記一端部と前記他端部とから外部に向かう方向に引っ張って、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止することを特徴とする請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記ラミネーション工程は、前記ドナーフィルムに前記アクセプタ基板に向かって圧力を加える工程をさらに含むことを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか一つに記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記ラミネーション工程は、前記ドナーフィルムの一端部を前記アクセプタ基板に密着させ、前記一端部に対向する他端部を前記アクセプタ基板に密着させることを特徴とする請求項１３〜１７のいずれか一つに記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記転写工程は、前記ドナーフィルム上にレーザを照射して、前記転写層をアクセプタ基板に転写させることを特徴とする請求項１３〜１８のいずれか一つに記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記デラミネーション工程は、前記ドナーフィルムの一端部を持ち上げつつ、加圧部材を前記一端部から前記一端部に対向する他端部に向かって前記ドナーフィルム上で移動させつつ、前記ドナーフィルムに圧力を加えることを特徴とする請求項１３〜１９のいずれか一つに記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ熱転写装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に係り、さらに詳細には、ラミネーション時に基板とドナーフィルムとの間の密着特性を向上させ、デラミネーション時に基板に形成された有機膜がはがれることを最小化できるレーザ熱転写装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板表示素子である有機発光素子は、アノード電極とカソード電極、及びアノード電極とカソード電極との間に介在された少なくとも有機発光層を備えた中間層を備える素子であって、視野角が広く、コントラストが優秀であるだけでなく、応答速度が速いという長所を有して、次世代表示素子として注目されている。このような有機発光素子は、発光層が高分子有機材料で形成されるか、または低分子有機材料で形成されるかによって、有機発光層以外に、正孔注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）、正孔輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、及び電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）のうち少なくとも一つ以上の有機膜層をさらに備えうる。
【０００３】
このような有機発光素子において、フルカラーを具現するためには、有機膜層をパターニングせねばならない。パターニング方法としては、低分子有機発光素子の場合、シャドーマスクを使用する方法があり、高分子有機発光素子の場合、インクジェットプリンティングまたはレーザによる熱転写法（ＬＩＴＩ：Ｌａｓｅｒ  Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｉｍａｇｉｎｇ）が使われうる。ＬＩＴＩは、有機膜層を微細にパターニングでき、大面積に使用でき、高解像度の実現に有利であるという長所がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１４９８２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、ラミネーション工程時に基板とドナーフィルムとの密着特性を向上させ、デラミネーション工程時に有機膜がドナーフィルムと共にはがれることを防止できるレーザ熱転写装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を達成するために、本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置は、アクセプタ基板が置かれるステージと、前記アクセプタ基板上に配置されるドナーフィルムを支持し、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間隔を調節できるように、前記ステージ上で昇降する支持部と、前記ステージに備えられていて、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間の空間に存在するガスを外部に排出させる排出口とを有する。
【０００７】
本発明において、前記支持部は、前記ドナーフィルムの一端部を支持する第１部材と、前記ドナーフィルムの一端部に対向する他端部を支持する第２部材とを備え、前記第１部材と前記第２部材とは、相互個別的に前記ステージ上で昇降自在である。
【０００８】
本発明において、第１部材は、前記ドナーフィルムの一端部を固定する第１固定部と、前記第１固定部を前記ステージ上で上下に移動させる第１連結部とを備えうる。
【０００９】
本発明において、第２部材は、前記ドナーフィルムの他端部を固定する第２固定部と、前記第２固定部を前記ステージ上で上下に移動させる第２連結部とを備えうる。
【００１０】
本発明において、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とのデラミネーション工程時、前記第２部材は、停止した状態で前記第１部材が上昇しつつ、前記ドナーフィルムの一端部から前記アクセプタ基板と分離され、前記第１部材の上昇高が増加するほど、前記ドナーフィルムの一端部から前記ドナーフィルムの他端部に向かって、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とが分離されうる。
【００１１】
本発明において、前記支持部は、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとのラミネーション工程前に、前記アクセプタ基板と離隔されるように前記ドナーフィルムを移動させ、前記排出口は、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとによって設けられる空間に存在するガスを外部に排出させうる。
【００１２】
本発明において、前記支持部は、前記ガスを外部に排出する間に、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止する。
【００１３】
本発明において、前記支持部は、前記ドナーフィルムの一端部及び他端部から外部に延びる方向にチルトされて、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止する。
【００１４】
本発明において、前記ドナーフィルム上に配され、前記アクセプタ基板に向かって前記ドナーフィルムに圧力を加える加圧部材をさらに備えうる。
【００１５】
本発明において、前記加圧部材は、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とのラミネーション工程時、前記ドナーフィルムに前記アクセプタ基板に向かって圧力を加えて前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とを密着させうる。
【００１６】
本発明において、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とのデラミネーション工程時、前記支持部は、前記ドナーフィルムの一端部を持ち上げ、前記支持部が前記ドナーフィルムの一端部を持ち上げることによって、前記加圧部材は、前記ドナーフィルムの一端部から前記一端部に対向する他端部に沿って移動しつつ前記ドナーフィルムに圧力を加えることによって、前記アクセプタ基板に転写された薄膜が前記デラミネーション工程中にはがれることを防止できる。
【００１７】
本発明において、前記加圧部材は、ローラ形状を有しうる。
【００１８】
本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法は、レーザ熱転写法を利用した有機発光表示装置の製造方法において、ステージ上にアクセプタ基板を配置する工程と、前記アクセプタ基板と離隔されるようにドナーフィルムを配置する工程と、前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間に存在するガスを除去する工程と、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とをラミネーションする工程と、前記ドナーフィルムの転写層を前記アクセプタ基板に転写する工程と、前記ドナーフィルムと前記アクセプタ基板とをデラミネーションする工程と、を備えうる。
【００１９】
本発明において、前記ガスを除去する間に前記アクセプタ基板と前記ドナーフィルムとの間隔を一定に維持できる。
【００２０】
本発明において、前記間隔を維持する間に前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止する。
【００２１】
本発明において、前記ドナーフィルムの一端部と前記一端部に対向する他端部とをそれぞれ前記一端部及び前記他端部から外部に向かう方向に引っ張って、前記ドナーフィルムが前記アクセプタ基板に向かって下垂することを防止する。
【００２２】
本発明において、前記ラミネーション工程は、前記ドナーフィルムに前記アクセプタ基板に向かって圧力を加える工程をさらに含みうる。
【００２３】
本発明において、前記ラミネーション工程は、前記ドナーフィルムの一端部を前記アクセプタ基板に密着させ、前記一端部に対向する他端部を前記アクセプタ基板に密着させうる。
【００２４】
本発明において、前記転写工程は、前記ドナーフィルム上にレーザを照射して前記転写層をアクセプタ基板に転写させうる。
【００２５】
本発明において、前記デラミネーション工程は、前記ドナーフィルムの一端部を持ち上げつつ、加圧部材を前記一端部から前記一端部に対向する他端部に向かって前記ドナーフィルム上で移動させつつ、前記ドナーフィルムに圧力を加えうる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、ラミネーション工程時には基板とドナーフィルムとの密着特性が向上し、デラミネーション工程時には有機膜がドナーフィルムと共にはがれることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置を概略的に示す断面図である。
【図２】アクセプタ基板である有機電界発光素子の構造を示す断面図である。
【図３】ドナーフィルムの構造を概略的に示す断面図である。
【図４】図１に示されたレーザ熱転写装置を利用したラミネーション工程を概略的に示す工程断面図である。
【図５】図１に示されたレーザ熱転写装置を利用したラミネーション工程を概略的に示す工程断面図である。
【図６】図１に示されたレーザ熱転写装置を利用したラミネーション工程を概略的に示す工程断面図である。
【図７】変形例によるラミネーション工程を示す図面である。
【図８】レーザ照射工程を示す工程断面図である。
【図９】本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置を利用したデラミネーション工程を示す工程断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明は、多様な変換が可能であり、色々な実施形態を有しうるので、特定の実施形態を図面に例示し、詳細に説明するものである。しかし、これは、本発明を特定の実施形態に対して限定しようとするものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変換、均等物ないし代替物を含むものと理解されねばならない。本発明の説明において、関連した公知技術についての具体的な説明が本発明の要旨を不明確にする恐れがあると判断される場合、その詳細な説明を省略する。
【００２９】
第１、第２のような用語は、多様な構成要素の説明に使われうるが、構成要素は、用語によって限定されてはならない。用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的としてのみ使われる。
【００３０】
本出願で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使われたものであって、本発明を限定しようとする意図ではない。単数の表現は、文脈上明白に相断りがない限り、複数の表現を含む。本出願で“含む”または“有する”の用語は、明細書上に記載された特徴、数字、工程、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを表すものであり、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、工程、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加の可能性を予め排除しないと理解されねばならない。
【００３１】
以下、本発明による有機発光表示装置の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明し、その説明において、同一かまたは対応する構成要素は、同じ図面番号を付与し、これについての重複説明は、省略する。
【００３２】
図１は、本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置を概略的に示す断面図である。
【００３３】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置１００は、ステージ１０１、支持部１１０，１２０、加圧部材１６０、レーザ発振装置１７０、及びチャンバ１８０を備えうる。
【００３４】
ステージ１０１は、チャンバ１８０内に設けられており、その上面には、アクセプタ基板１３０が配置される。ステージ１０１は、排出口１０１ａをさらに備える。排出口１０１ａは、チャンバ１８０の内部と外部とを連結する通路を意味する。すなわち、排出口１０１ａを通じてステージ１０１上に置かれるアクセプタ基板１３０と、アクセプタ基板１３０上に配されるドナーフィルム１４０との間の空間に存在するガスがチャンバ１８０の外部に排出される。これについては後述する。ステージ１０１は、移動するための駆動手段（図示せず）をさらに備えうる。例えば、レーザが縦方向に照射される場合、横方向にステージ１０１を移動させる駆動手段をさらに備えうる。
【００３５】
支持部１１０，１２０は、ドナーフィルム１４０がアクセプタ基板１３０上に配されるようにドナーフィルム１４０を支持できる。支持部１１０，１２０は、ドナーフィルム１４０の相互対向する両端部１４０ａ，１４０ｂを支持してドナーフィルム１４０をアクセプタ基板１３０に対して上下に移動させうる。一例として、支持部１１０，１２０は、第１部材１１０と第２部材１２０とでありうる。第１部材１１０は、ドナーフィルム１４０の一端部１４０ａを固定させ、第２部材１２０は、一端部１４０ａの他端部１４０ｂを固定させうる。また、支持部１１０，１２０のそれぞれは、相互個別的（互いに独立して）に昇降自在となっている。詳細には、支持部１１０，１２０のそれぞれは、基板１３０の上面の法線方向に同じ速度でまたは相異なる速度で、互いに独立して上昇または下降できる。つまり、第１部材１１０はドナーフィルム１４０の一端部１４０ａを支持して上昇するが、第２部材１２０は上昇しないか、または第１部材１１０より遅く上昇させることができる。もちろん、その逆の場合も可能である。また、第１部材１１０，１２０は、同時にアクセプタ基板１３０の上面の法線方向に同じ速度で上昇または下降させることもできる。
【００３６】
このように、支持部１１０，１２０が互いに相対的に独立して動けるので、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との間隔を調節でき、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とのラミネーション工程時、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性を高められ、デラミネーション工程時には、アクセプタ基板１３０に転写された薄膜層がはがれることを防止できる。これについては、後述する。
【００３７】
第１部材１１０は、ドナーフィルム１４０の一端部１４０ａを固定させる第１固定部１１１と、第１固定部１１１をステージ１０１上で上下に移動させる第１連結部１１２とを備える。第２部材１２０は、ドナーフィルム１４０の他端部１４０ｂを固定させる第２固定部１２１と、第２固定部１２１をステージ１０１上で上下に移動させる第２連結部１２２とを備える。
【００３８】
加圧部材１６０は、ドナーフィルム１４０上に配され、アクセプタ基板１３０に向かってドナーフィルム１４０上に圧力を加えることができるようになっている。加圧部材１６０は、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とのラミネーション工程時、ドナーフィルム１４０にアクセプタ基板１３０に向かって圧力を加えて、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とを密着させうる。すなわち、ライネーション工程時、支持部１１０，１２０は、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とが密着されるように下降する。以後、加圧部材１６０は、ドナーフィルム１４０上にアクセプタ基板１３０に向かって圧力を加えて、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性をさらに向上させる。加圧部材１６０は、例えば図１に示したように、ローラ形状を有しうる。この場合、ローラ形状を有する加圧部材１６０をドナーフィルム１４０上に転がすことによって、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性を向上させることができる。
【００３９】
また、加圧部材１６０は、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とのデラミネーション工程時、アクセプタ基板１３０に転写された薄膜がはがれることを防止できる。さらに詳細には、デラミネーション工程時には、まず支持部１１０がドナーフィルム１４０の一端部１４０ａを持ち上げ、支持部１１０がドナーフィルム１４０の一端部１４０ａを持ち上げることによって、加圧部材１６０は、ドナーフィルム１４０の一端部１４０ａから一端部１４０ａに対向する他端部１４０ｂに沿って移動しつつ、ドナーフィルム１４０に圧力を加えることによって、アクセプタ基板１３０に転写された薄膜がデラミネーション工程中にはがれることを防止できる。
【００４０】
図２は、アクセプタ基板１３０の有機電界発光素子の構造を示す断面図である。
【００４１】
有機電界発光素子基板は、図２に示したように、基板１３１上の所定領域に半導体層１３２が位置する。前記半導体層１３２は、非晶質シリコン膜、または非晶質シリコン膜を結晶化した多結晶シリコン膜でありうる。前記半導体層１３２上に第１絶縁膜であるゲート絶縁膜１３３が位置する。前記ゲート絶縁膜１３３上に、前記半導体層１３２と重畳するゲート電極１３４が位置する。前記ゲート電極１３４上に、前記半導体層１３２及び前記ゲート電極１３４を覆う第２絶縁膜１３５が位置する。前記第２絶縁膜１３５上に、前記第２絶縁膜１３５及び前記第１絶縁膜１３３を貫通して前記半導体層１３２の両端部とそれぞれ接続するソース電極１３６及びドレイン電極１３７が位置する。前記半導体層１３２、前記ゲート電極１３４及び前記ソース／ドレイン電極１３６，１３７は、薄膜トランジスタＴを構成する。前記ソース／ドレイン電極１３６，１３７上に、前記ソース／ドレイン電極１３６，１３７を覆う第３絶縁膜１３８が位置する。前記第３絶縁膜１３８は、前記薄膜トランジスタＴを保護するためのパッシベーション膜及び／または前記薄膜トランジスタによる段差を緩和するための平坦化膜となりうる。前記第３絶縁膜１３８上に、前記第３絶縁膜１３８を貫通して前記ドレイン電極１３７と接続する画素電極１３９が位置する。前記画素電極１３９は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜である。前記画素電極１３９上に、前記画素電極の一部を露出させる開口部１３９ａを有する画素定義膜１３９ｂが位置できる。
【００４２】
図３は、ドナーフィルム１４０の構造を概略的に示す断面図である。
【００４３】
ドナーフィルム１４０は、図３に示したように、基材フィルム１４１及び前記基材フィルム１４１の一面上に順次に積層された光熱変換層１４２と転写層１４３とを備え、所定の弾性を有する。前記基材フィルム１４１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）のような透明性高分子有機材料で形成されうる。前記光熱変換層１４２は、入射される光を熱に変換させる膜であって、光吸収性物質であるアルミニウム酸化物、アルミニウム硫化物、カーボンブラック、黒鉛または赤外線染料を含みうる。前記転写層１４３は、前記下部基板Ａが有機電界発光素子基板である場合、有機転写層でありうる。前記有機転写層１４３は、ＨＩＬ、ＨＴＬ、電界発光層、正孔抑制層、ＥＴＬ及びＥＩＬからなる群から選択される少なくとも一つの膜でありうる。
【００４４】
図４ないし図６は、図１に示されたレーザ熱転写装置を利用したラミネーション工程を概略的に示す工程断面図である。
【００４５】
図４を参照すれば、支持部を形成する第１部材１１０と第２部材１２０とは、それぞれドナーフィルム１４０の一端部１４０ａとドナーフィルム１４０の他端部１４０ｂとを固定させる。第１部材１１０と第２部材１２０とは、上下に移動可能であるので、ドナーフィルム１４０を下降させてアクセプタ基板１３０との間隔ｔを維持させうる。また、第１部材１１０と第２部材１２０とは、ドナーフィルム１４０がアクセプタ基板１３０に向かって下垂することを防止するために、一端部１４０ａと他端部１４０ｂとを相互逆方向に引っ張る。なお、このときの間隔ｔは、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とが接触しない程度の間隔であれば特に限定されない。  次いで、図５を参照すれば、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とが一定間隔を維持している間に、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との間に存在するガスを除去する。前記ガスは、ステージ１０１に形成された排出口１０１ａを通じて外部に排出されうる。排出口１０１ａを通じて前記ガスを外部へ排出させることによって、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との間を真空（減圧状態）にする。このように、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との間を真空にすることによって、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性を向上させうる。
【００４６】
次いで、図６を参照すれば、第１部材１１０と第２部材１２０とは、ドナーフィルム１４０をアクセプタ基板１３０に向かって下降させて、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とをラミネーションさせる。また、加圧部材１６０を利用してドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性を高める。すなわち、加圧部材１６０は、図６に示したように、ローラ形状を有し、ドナーフィルム１４０上にアクセプタ基板１３０に向かって圧力を加えることによって、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性を高める。
【００４７】
図７は、変形例によるラミネーション工程を示す図面である。
【００４８】
第１部材１１０と第２部材１２０とが下降してドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とを密着させるにおいて、第１部材１１０と第２部材１２０とは、同一に動く必要はなく、相異なる速度で動いて、ドナーフィルム１４０の一部分が先にアクセプタ基板１３０に密着し、他の部分が後にアクセプタ基板１３０に密着できる。詳細には、図７に示したように、第２部材１２０が第１部材１１０より先に下降して、この場合、第２部材１２０が固定しているドナーフィルム１４０の他端部１４０ｂがドナーフィルム１４０の一端部１４０ａより先にアクセプタ基板１３０に密着され、次いで、第１部材１１０が下降することによって、ドナーフィルム１４０の中央部分がアクセプタ基板１３０と密着され、最後に、ドナーフィルム１４０の一端部１４０ａがアクセプタ基板１３０に密着される。このように、ドナーフィルム１４０の一部分がアクセプタ基板１３０に先に密着され、他の部分が後で密着されることによって、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０との密着性を高めうる。なお、この動作は、逆に、第１部材１１０を第２部材１２０より先に下降させるようにしてもよい。  図８は、レーザ照射工程を示す工程断面図である。
【００４９】
前記レーザ照射装置１７０は、図８に示したように、レーザソース１７１、ビーム形状変形装置１７２、マスク１７３及び投影レンズ１７４を備える。前記レーザソース１７１から発生したビームは、前記ビーム形状変形装置１７２を通過することによって、均質化したフラット−トッププロファイルを有するビームに変形され、前記均質化したビームは、前記マスク１７３を通過できる。前記マスク１７３は、少なくとも一つの透光パターンまたは少なくとも一つの光反射パターンを備え、前記マスク１７３を透過したビームは、前記投影レンズ１７４を通過して、前記アクセプタ基板１３０上に照射される。
【００５０】
これにより、ドナーフィルム１４０の有機転写層１４３が前記マスク１７３の透光パターンと相似形のパターンとなってアクセプタ基板１３０上にレーザ熱転写される。
【００５１】
図９は、本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置を利用したデラミネーション工程を示す工程断面図である。
【００５２】
ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とのラミネーション工程及びレーザ熱転写後には、ドナーフィルム１４０をアクセプタ基板１３０からはがすデラミネーション工程を行う。
【００５３】
デラミネーション工程において、本発明の一実施形態によるレーザ熱転写装置は、図９に示したように、加圧部材１６０を利用できる。さらに詳細には、デラミネーション工程時には、まず第１部材１１０が上昇しつつ、ドナーフィルム１４０の一端部１４０ａ側からアクセプタ基板１３０から分離される。この時、加圧部材１６０は、ドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とが分離される部分で、アクセプタ基板１３０に向かってドナーフィルム１４０に圧力を加えることによって、アクセプタ基板１３０に転写された有機転写層がドナーフィルム１４０と共にはがれることを防止する。加圧部材１６０は、第１部材１１０がドナーフィルム１４０の一端部１４０ａを持ち上げることによって、ドナーフィルム１４０の一端部１４０ａ側から他端部１４０ｂ側へ移動する。
【００５４】
図１０ないし図１４は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【００５５】
図１０に示したように、発光層を形成する時には、まず、アクセプタ基板１３０を準備する。アクセプタ基板１３０は、前述したように、基板１３１上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）１３２，ＴＦＴ１３３，ＴＦＴ１３４，ＴＦＴ１３５，ＴＦＴ１３６，ＴＦＴ１３７が形成されている。そして、前記ＴＦＴ上に、第１電極層１３９、及び前記第１電極層１３９の少なくとも一領域が露出された開口部１３９ａを備える画素定義膜１３９ｂが形成されている。
【００５６】
次いで、図１１に示したように、アクセプタ基板１３０上にドナーフィルム１４０をラミネーションさせる。ドナーフィルム１４０と基板との間に密着特性が良いほど、後続転写工程での転写効率が向上するので、加圧部材１６０でドナーフィルム１４０に圧力を加える。
【００５７】
以後、図１２に示したように、アクセプタ基板１３０とドナーフィルム１４０とが前述のラミネーション工程によりラミネーションされた状態で、前述のレーザ熱転写工程によってドナーフィルム１４０上で発光層１４３が転写される領域にのみ局部的にレーザを照射する。レーザが照射されれば、前記光−熱変換層１４２がアクセプタ基板１３０方向に膨脹することによって、転写層１４３も膨脹され、レーザが照射された領域の転写層１４３がドナーフィルム１４０から分離されつつ、アクセプタ基板１３０に転写される。
【００５８】
そして、図１３に示したように、アクセプタ基板１３０上に転写層１４３ａが転写されれば、前述のデラミネーション工程によりドナーフィルム１４０とアクセプタ基板１３０とを分離させる。分離されたアクセプタ基板１３０上には、画素定義膜１３９ａの少なくとも一領域及び開口部に転写層１４３ａが形成されており、ドナーフィルム１４０上には、レーザが照射された領域の転写層１４３ａのみが転写され、残りの部分１４３ｂは、そのままドナーフィルム１４０上に残っている。
【００５９】
最後に、図１４に示したように、アクセプタ基板１３０上に転写層１４３ａが転写された後、前記転写層の発光層１４３ａ上に第２電極層２１０を形成し、有機発光素子を保護できるように封止膜２２０を形成する。
【００６０】
以上、本発明の望ましい実施形態を参照して説明したが、当業者ならば、特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正及び変更させうるということが分かるであろう。
【００６１】
前述した実施形態以外の多くの実施形態が本発明の特許請求の範囲内に存在する。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、表示装置関連の技術分野に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【００６３】
１００  レーザ熱転写装置、
１０１  ステージ、
１０１ａ  排出口、
１１０，１２０  支持部、
１１１，１２１  第１固定部、
１１２，１２２  第２固定部、
１３０  アクセプタ基板、
１４０  ドナーフィルム、
１４０ａ，１４０ｂ  両端部、
１６０  加圧部材、
１７０  レーザ発振装置、
１８０  チャンバ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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