(57)【要約】【課題】スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供する。【解決手段】リファレンスサーボ信号に対応した強磁性材料のパターンが、対向する二辺が同心円の円周方向に沿って延び、他の二辺が半径方向に沿って延びた略平行四辺形の複数のドット１を含み、前記複数のドット１は、同一半径の円周方向に所定ピッチで連続する２つ以上のドットを１群とした複数のドット群１０からなり、前記複数のドット群１０が、それぞれ所定ピッチで半径方向位置を異にして螺旋状に配置されている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写すべきプリフォーマット信号に対応した強磁性材料のパターンを持つ磁気転写用マスターディスクにおいて、
前記プリフォーマット信号がトラックの半径方向位置を規定するためのスパイラル方式のリファレンスサーボ信号であり、
前記リファレンスサーボ信号に対応した前記強磁性材料のパターンは、対向する二辺が同心円の円周方向に沿って延び、他の二辺が半径方向に沿って延びた略平行四辺形の複数のドットを含み、
前記複数のドットは、同一半径の円周方向に所定ピッチで連続する２つ以上のドットを１群とした複数のドット群からなり、
前記複数のドット群が、それぞれ所定ピッチで半径方向位置を異にして螺旋状に配置されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスク。
【請求項２】
１トラックに対応する前記ドット群の数が１０以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写用マスターディスク。
【請求項３】
請求項１に記載の磁気転写用マスターディスクに用いるパターンを電子ビームで描画する方法であって、描画すべき基板を回転することで電子ビームを円周方向に走査し、前記ドット群に対応した電子ビームのブランキング動作で描画し、１トラックを１０回以上走査することを特徴とする磁気転写用パターンの描画方法。
【請求項４】
請求項１に記載の磁気転写用マスターディスクを用いて前記リファレンスサーボ信号が磁気転写されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写すべきプリフォーマット信号に対応した強磁性材料のパターンを持つ磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写用パターンが転写された磁気記録媒体に関し、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）装置に搭載する磁気記録媒体として好適である。
【背景技術】
【０００２】
一般的なＨＤＤ装置は、磁気記録媒体（ハードディスク）上にヘッドを１０ｎｍ程度浮上させて、データの記録再生を行うものである。磁気記録媒体上のビット情報は、同心円状に配置されているデータトラックに格納されている。データの記録・再生時は、磁気ヘッドは、そのデータトラック上に位置決めされる。磁気記録媒体上には、磁気ヘッドの位置決めのためのサーボ情報が記録されている。サーボ情報は、データトラックと同心円上で一定の角度間隔で記録されている。
【０００３】
このサーボ情報は、一般的には、プッシュピンでアクチュエータアームを制御して磁気ヘッドの位置決めを行いながらサーボ信号を記録していくサーボライタと呼ばれる装置で書込まれる。
【０００４】
このようなサーボライタでサーボ情報を書き込む方法では、サーボ信号の位置精度が良くない問題や、サーボライタの陳腐化が早く、コストを増大させる問題がある。
この問題を解決するため、オフラインサーボ記録方式とセルフサーボ記録方式が開発された。
【０００５】
オフラインサーボ記録方式は、磁気記録媒体をＨＤＤに組み込む前にオフラインサーボ記録装置を用いてサーボ信号を記録する技術であり、プッシュピンを用いるようなサーボ書込み方式より精度が向上する。
【０００６】
セルフサーボ記録方式は、あらかじめリファレンスサーボ信号を書込んだ磁気記録媒体をＨＤＤに組み込み、組み込んだ後にＨＤＤ内でリファレンスサーボ信号を参照して磁気ヘッドの位置決めを行い、複数の磁気記録媒体に最終サーボ信号を書込んでいく方式で、リファレンスサーボ信号で記録品質が決まる。この方式は装置コストの面で効果がある。
【０００７】
セルフサーボ記録方式で用いるリファレンスサーボ信号には、例えば特許文献１〜３に記載されるようなスパイラル方式のリファレンスサーボ信号がある。
このスパイラル方式のリファレンスサーボ信号の記録方法について図９を用いて説明する。図９は、スピンドルモータ（不図示）に装着された磁気記録媒体（ハードディスク）２００と、ピボット回転するアクチュエータアーム１３と磁気ヘッド１２、２つのクラッシュストップ１７，１８とボイスコイルモータ１４が図示されている。
【０００８】
ボイスコイルモータ１４を励磁することでアクチュエータアーム１３を駆動することができ、結果として磁気ヘッド１２を半径方向に移動することができる。磁気記録媒体２００を回転させながら、磁気ヘッド１２を磁気記録媒体２００の外周から内周へ一定速度で移動させながら信号を磁気記録媒体２００に記録していけば、図９のように、スパイラル状（スパイラルトラック１００）にリファレンスサーボ信号が記録される。このリファレンスサーボ信号が記録されたスパイラルトラック１００には、埋め込みタイミング情報（欠落ビットなど）を含む。このようにして、規定の本数のスパイラルトラック１００を磁気記録媒体２００に記録していく。
【０００９】
上記スパイラル方式リファレンス信号を用いての位置決めは次のような原理によるものである。スパイラルトラック１００を書いた磁気記録媒体２００を、磁気ヘッド１２を浮上させて、同一円周上にて信号を再生した場合の、１つのスパイラルトラック１００を磁気ヘッド１２が横切った際の再生波形を図１０に示す。
【００１０】
図１０のように、再生波形はそろばん珠のようになり、周期的にタイミング信号１０１がはいる。磁気ヘッド１２の半径方向の移動に対して、タイミング信号１０１はシフトせず、再生信号のピーク位置１０２がシフトする。タイミング信号１０１で磁気記録媒体２００の角度位置を検出し、再生波形のピーク位置１０２のシフトで磁気ヘッド１２の半径方向の移動量を知ることができる。これら位置情報をもとに磁気ヘッド１２の位置決めが行われる。
【００１１】
以上のような方法で、例えばオフラインサーボ書込み方式でリファレンスサーボ信号を記録し、それをＨＤＤに組み込んでセルフサーボ書込みを実施すれば、装置コストを抑え、精度のよいサーボ信号を得ることができる。
【００１２】
しかしながら、上記方法において、リファレンスサーボ信号の書込みは非常に長い時間が必要となり、生産効率が悪いためコストが高くなってしまうという問題がある。このような問題を鑑み、磁気ヘッドによってサーボ情報の書込みをする代わりに、サーボ情報を担持するマスターディスクを用い、磁気転写技術によって磁気記録媒体にサーボ情報を一括で記録する方法が提案されている。例えば強磁性材料でサーボパターンが形成されているようなマスターディスクを用い、垂直磁気記録媒体に対してマスターディスクのサーボ情報を転写する方法が特許文献４に開示されている。
【００１３】
図１１は、エッジ(Edge)転写方式と呼ばれる垂直磁気記録媒体への磁気転写の原理を説明するための原理説明図である。
図において、磁気転写用マスターディスク３００には強磁性（好ましくは軟磁性）材料による凹凸パターン３０５が設けられており、被転写媒体２００を密着させて磁石４００により外部磁界４０６を印加した際の漏れ磁束４０７が媒体２００側に進入することで、媒体２００の磁気記録層２０８が磁化２０９され、マスターディスク３００のパターン３０５に沿った磁気信号が転写される。
【００１４】
磁石４００はマスターディスク３００および被転写媒体２００の上下に配置され、上下同時に回転して全体を一度に転写する様子を示している。
また、磁気転写には、ビット(Bit)転写と呼ばれる方式もあり、図１２は、そのBit転写方式による磁気転写方法を示したものである。詳しく述べると、まず図１２（ａ）で示すように、被転写媒体２００の表面に対し略垂直方向の第１の磁界を磁石４００により印加し、被転写媒体２００を一方向に磁化する（初期化工程）。
【００１５】
その後、図１２（ｂ）のように、マスターディスク３００と前記被転写媒体２００を密着させ、第１の磁界と逆向きの磁界４０６を磁石４００により印加する。この際、マスターディスク３００上に形成された強磁性パターン３０５の凹部では磁束が少ししか通らず、第１の磁界で磁化した向きが残る。強磁性パターン３０５の凸部では多量の磁束が通ることで第２の磁界の向きに磁化２０９され、結果として、マスターディスク３００の表面に形成された凹凸（強磁性パターン３０５）に対応した磁化パターンが転写される（転写工程）。
【００１６】
マスターディスク３００の製造方法に関しては、例えば特許文献５や特許文献６に開示されている。
特許文献５では、フォトレジストが塗布された円板を回転させながら電子ビームを照射して、転写する情報に応じたパターンをフォトレジストに描画し、現像して凹凸パターンを形成し、原盤を得る。その後、前記原盤にＮｉ電鋳を行って金属の方をとった後剥離してＮｉの金属原盤を作製し、その金属原盤上の凹凸パターン上に軟磁性膜を形成して磁気転写のマスターを作製する方法が記載されている。
【００１７】
また、特許文献６では、非磁性基板にフォトレジストを塗布し、転写する情報に対応したパターンを電子ビームなどを用いたリソグラフィで露光・現像してパターニングを行った後、ドライエッチングなどで転写する情報に対応した凹凸形状を非磁性基板上に形成し、その後、強磁性薄膜をスパッタリング法などによって成膜した後、リフトオフ法によってレジスト膜とその上に形成された不要な強磁性薄膜を除去することで、凹部に強磁性薄膜が埋め込まれた構造のマスターディスクを作製する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１８】
【特許文献１】米国特許第５６６８６７９号明細書
【特許文献２】特開２００６−１４７１３９号公報
【特許文献３】特開２００１−２４３７３３号公報
【特許文献４】特開２００２−８３４２１号公報
【特許文献５】特許第３９９９４３６号公報
【特許文献６】特許第３３４３３４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
磁気転写に用いるマスターディスクを作製する際、前述したように、パターンの形成には基板を回転させながら描画する電子ビーム描画装置を用いる。この電子ビームによる描画は、基板を回転させることで、同心円上を走査しながら描画する方式が一般的である。
【００２０】
ところで、前述したスパイラル方式のリファレンスサーボ信号は、アクチュエータアームを動かしながら信号を記録しているため、図１３で示すような図形になる。磁気ヘッドによりスパイラルトラック１００に書かれたパターンの各ドット２は、略平行四辺形形状で、その辺Ａは同心円の円周方向に対して傾斜した角度を持つ。
【００２１】
このような図形の描画は、電子ビームを円周方向に走査する描画方式では困難であり、また、それに近い図形を描画する場合でも、走査ピッチを非常に細かくする必要があり、描画時間が増大する問題がある。
【００２２】
そこで、本発明は、上述の点に鑑み、スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上述の目的を達成するため、本発明の磁気転写用マスターディスクは、転写すべきプリフォーマット信号に対応した強磁性材料のパターンを持つ磁気転写用マスターディスクにおいて、前記プリフォーマット信号がトラックの半径方向位置を規定するためのスパイラル方式のリファレンスサーボ信号であり、前記リファレンスサーボ信号に対応した前記強磁性材料のパターンは、対向する二辺が同心円の円周方向に沿って延び、他の二辺が半径方向に沿って延びた略平行四辺形の複数のドットを含み、前記複数のドットは、同一半径の円周方向に所定ピッチで連続する２つ以上のドットを１群とした複数のドット群からなり、前記複数のドット群が、それぞれ所定ピッチで半径方向位置を異にして螺旋状に配置されていることを特徴とする。
【００２４】
ここで、１トラックに対応する前記ドット群の数が１０以上であることが位置精度を確保するうえで好ましい。
また、本発明の磁気転写用パターンの描画方法は、本発明の磁気転写用マスターディスクに用いるパターンを電子ビームで描画する方法であって、描画すべき基板を回転することで電子ビームを円周方向に走査し、前記ドット群に対応した電子ビームのブランキング動作で描画し、１トラックを１０回以上走査することを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の磁気記録媒体は、本発明の磁気転写用マスターディスクを用いて前記リファレンスサーボ信号が磁気転写されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを構成する複数のドットが、同一半径の円周方向に所定ピッチで連続する２つ以上のドットを１群とした複数のドット群からなるので、要求精度を満足するパターンを電子ビームを円周方向に走査して描画する方法により容易かつ短時間で描画することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明に用いるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを構成するドットの形状の一例を同心円状トラックの半径方向と円周方向との関係で示す形状説明図である。
【図２】図１に示すドットの形状を磁気ヘッドで記録したものと対比して示す形状説明図である。
【図３】図１に示すドットを用いる比較例のスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを示す配置図である。
【図４】本発明の実施形態に用いるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンの配置図である。
【図５】図４のリファレンスサーボ信号の再生波形図である。
【図６】本発明の実施例に用いたスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンの配置図である。
【図７】比較例に用いたスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンの配置図である。
【図８】参考例に用いたスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンの配置図である。
【図９】スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを磁気ヘッドで記録する従来装置の構成図である。
【図１０】従来のスパイラル方式のリファレンスサーボ信号の再生波形図である。
【図１１】垂直磁気記録媒体を被転写媒体とする磁気転写方法（エッジ転写）の原理を、要部を切り欠いて拡大した斜視図を用いて説明する原理説明図である。
【図１２】垂直磁気記録媒体を被転写媒体とする他の磁気転写方法（ビット転写）の原理を、要部を切り欠いて拡大した斜視図を用いて説明する原理説明図である。
【図１３】従来のスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンの配置図である。
【図１４】本発明の実施形態の描画方法で走査ラインＳ１を操作するときの状態を示すタイムチャートである。
【図１５】本発明の実施形態の描画方法で走査ラインＳ２を操作するときの状態を示すタイムチャートである。
【図１６】本発明の実施形態の描画方法で走査ラインＳ３を操作するときの状態を示すタイムチャートである。
【図１７】本発明の実施形態の描画方法で走査ラインＳ４を操作するときの状態を示すタイムチャートである。
【図１８】本発明の実施例に用いる電子ビーム描画装置の概略構成を示す図で、（ａ）は側面図、（ｂ）は上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図において、同一ないし同等部分には同一の符号を付して説明を省略する。
図１に、本発明に用いるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを構成するドットの形状の一例を同心円状トラックの半径方向と円周方向との関係で示す。
【００２９】
このリファレンスサーボ信号に対応したパターンは、図１に示すように、対向する二辺が同心円の円周方向に沿って延び、他の二辺が半径方向に沿って延びた略平行四辺形の強磁性材料からなる複数のドット１を含む。
【００３０】
この形状と磁気ヘッドで記録された場合のドット２の形状を比較すると、図２のようになり、ビット幅に対して異なる領域が十分小さいため、再生波形のピーク位置が磁気ヘッドで記録した場合と比べて変化するようなことはなく（すなわち、磁気ヘッドで記録したものと同等のものとして使用することができ）、一方で電子ビームを同心円上に走査するような描画方法で容易に描画できるパターンとなる。
【００３１】
次に、前記ドットパターンの螺旋状の配置について説明する。まず、螺旋の角度であるが、以下に例を挙げて説明する。
例えば、スパイラルトラック１００に記録されるタイミングビットが"1100"で、次のタイミングビットまで"10"を２２回繰り返すようなバースト信号であり、全部で４８ビット(bit)がひとまとまりで、スパイラルトラック１００上にはタイミングビット、バーストが繰り返し記録されるような、リファレンスサーボ信号を考える。
【００３２】
この時、ディスク１周でのビット数は103680であるとする。今、スパイラルの角度が、タイミングビットから次のタイミングビットまでで１／２トラック（１トラック９６ｎｍとする。）となる角度であるとすると、４８bitで４８ｎｍ半径方向にずれるような配置となり、均等に描画ドットを半径方向にずらしていくとすると、図３に示すように、２ｎｍずつ半径方向にずれるように配置する必要がある。
【００３３】
このような配置で描画する場合、描画時の走査ピッチを２ｎｍ以下で行わなければならず、１トラック（９６ｎｍ）を描画するために４８回走査する必要があり、描画時間が増大してしまい現実的ではない。
【００３４】
そこで、連続する複数ドットを同一円周上に配置し、結果として、階段状にずれていくような配置とすることで走査ピッチを大きくとるようにする。具体的には、上記の例で、図４に示すように、８bit分を１つのドット群１０として同一円周上に配置し、その後、走査ピッチで１ピッチ分半径方向にずらして、再び８bit分の１ドット群１０を配置する。
【００３５】
この場合、半径方向の走査ピッチは８ｎｍであり、１トラック(track)の描画を１２回の走査で行うことになる。
このようなパターンの場合、再生信号は図５で示すように階段状になり、１trackを１２段階で表現しているので、位置精度はトラックピッチに対して１／１２＝８．３％と考えることができる。
【００３６】
一方、磁気ヘッドの位置決めを正確に行うためには１０％の位置精度が必要であるが、上記はそれを満たす。
本手法での位置精度は、上記のように1トラックを何回の走査で描画するかで決まり、位置精度をトラックピッチの１０％以下で考えると、描画時の走査ピッチは、１トラックを１０回以上の走査で描画する必要がある。
【００３７】
以上のようにすることで、電子ビームを円周方向に走査するような描画方法に適するリファレンスサーボパターンを得ることができ、このようなリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスクは、図４に示すように、リファレンスサーボ信号に対応した強磁性材料のパターンが、対向する二辺が同心円の円周方向に沿って延び、他の二辺が半径方向に沿って延びた略平行四辺形の複数のドット１を含み、複数のドット１は、同一半径の円周方向に所定ピッチで連続する２つ以上のドットを１群とした複数のドット群１０からなり、複数のドット群１０が、それぞれ所定ピッチで半径方向位置を異にして螺旋状に配置されている。
【００３８】
次に、このリファレンスサーボパターンの描画方法を図１４〜図１８を用いて説明する。
図１４〜図１７は、上段に描画するスパイラルパターンと走査ピッチを、下段に電子ビーム照射をオン／オフするブランキング動作を制御する信号を示したもので、ＯＮで電子ビームが照射される。
【００３９】
図１４は図中Ｓ１の走査トラックを描画するときの状態を示すものである。図のように、描画箇所でブランキング信号ＢＬＫをＯＮにして、電子ビームを照射する。図１４で示すように、Ｓ１の走査では、走査ライン上にある、図中左から４ドット分が描画される（図中黒塗りの箇所）。
【００４０】
図１５、図１６はそれぞれＳ２、Ｓ３の走査ラインを描画するときの状態を示すものである。ブランキング動作が図１４と比べて変化し、結果として図示した黒塗り箇所が描画される（灰色部はそれより前の走査で描画された箇所）。
【００４１】
図１７はＳ４の走査ラインを描画するときの状態を示すものである。ブランキング動作が図１５、図１６と比べて変化し、結果として図示した黒塗り箇所が描画される（灰色部はそれより前の走査で描画された箇所）。
【００４２】
このように、走査ラインと描画する箇所が一致する箇所でブランキングをオンにして電子ビームを照射して描画を行っていく。
図１８は、電子ビーム描画装置の概要を示したものである。描画は、Ｘステージ５０８で半径方向の位置を決め、θステージ５０７を回転させることで、電子ビーム５０６を円周方向に走査する。電子ビームの偏向は、偏向手段５０４のＸ方向偏向手段５０４ＸとＹ方向偏向手段５０４Ｙにそれぞれ偏向信号を与えることで行われる。ブランキング動作は、ブランキング手段５０３にブランキング信号を入力することで行われる。
【００４３】
前述の描画方法の場合、走査ライン上を１周描画した後に、次の走査ラインに移動する。走査ラインの移動は、例えばＸステージ５０８の移動により移動するか、あるいは、細
かい移動をＸ方向の偏向で行い、粗い移動をＸステージ５０８で行うような方法がある。
この描画方法は、原盤に描画してその原盤から複製することにより磁気転写用のマスターディスクを作製する場合にも、直接描画して磁気転写用のマスターディスクを作製する場合にも適用することができる。
【００４４】
また、このマスターディスクを用いる被転写媒体への磁気転写は従来と同様に行うことができ、これによりリファレンスサーボ信号が磁気転写された媒体をＨＤＤに組み込んで従来と同様にセルフサーボ書込みを実施することができる。
【実施例】
【００４５】
以下に、上述の実施形態をより具体的にした本発明の実施例を説明する。
〔実施例１〕
この実施例は、１トラックに対応するドット群の数が１２の場合のものであり、図６に、この実施例に用いるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号の磁気転写用マスターディスク上でのパターン配置図を示す。
【００４６】
この実施例のパターンは、タイミングビット１１が"1100"、バーストビットが"10"×２２サイクルであり、ディスク１周が103680bitである。スパイラルの角度は、タイミングビットから次のタイミングビットまでで１／２トラックずれる量である。１トラックは９６ｎｍである。
【００４７】
このパターンを電子ビーム描画装置で描画する。描画は基板を回転させ円周方向に電子ビームを走査して行われる。半径方向の走査ピッチを８ｎｍで行って１トラックを１２回走査する。
【００４８】
そのパターンは、図６に示すように、１ドット群の８bit分は同一円周上に配置し、その後、半径方向の走査ピッチで１ピッチ分ずらして、再び１ドット群の８bit分配置することを繰り返す。
【００４９】
この時、1トラックを１２段階で表現しているので、位置精度はトラックピッチに対して１／１２＝８．３％となり、目標となる１０％以下となる。
パターン範囲はディスクにおける半径位置１４ｍｍから３０ｍｍまでであり、描画の際の基板回転の線速度は４００ｍｍ／ｓであった。この条件で上記パターンを描画したところ、描画時間が１９２時間であった。
〔比較例〕
この比較例は、スパイラル方式のリファレンスサーボパターンをドット群に分けない場合のものであり、図７に示すように、描画ドットがひとつずつスパイラルの軌跡に沿って半径方向にずれていくような配置となるように描画をした。この場合、４８bitで４８ｎｍずれていくパターンとなる。
【００５０】
図７のように、"1"のビットに当たる箇所を描画するためには、隣り合う描画ドットの半径方向のズレ量は２ｎｍとなるので、半径方向の走査ピッチを２ｎｍに設定した。
この場合、１トラックを４８段階で表しているので、位置精度はトラックピッチに対して１／４８＝２．１％となり、目標となる１０％以下となる。
【００５１】
描画範囲は実施例と同様に半径位置１４ｍｍから３０ｍｍまでであり、描画の際の基板の線速度は４００ｍｍ／ｓであった。この条件で上記パターンを描画したところ、描画時間が７６８時間であり、位置精度は良いが、描画時間が実施例より大幅に長い時間となってしまうので好ましくない。
〔参考例〕
この参考例は、１トラックに対応するドット群の数が６の場合のものであり、スパイラル方式のリファレンスサーボパターンは、図８に示すように、１トラックを６回の走査で描画する条件で描画をした。
【００５２】
すなわち、１ドット群の１６bit分は同一円周上に配置し、その後、半径方向の走査ピッチで１ピッチ分（１６nm）ずらして、再び１ドット群の１６bit分配置することを繰り返す。
【００５３】
この場合、１トラックを６段階で表しているので、位置精度はトラックピッチに対して１／６＝１６．７％となり、目標となる１０％を超えてしまうので、ドット群の数は要求される位置精度に応じて決定すればよい。
【符号の説明】
【００５４】
１  ドット
１０  ドット群
１００  スパイラルトラック
２００  被転写媒体（磁気記録媒体）
３００  磁気転写用マスターディスク
４００  外部磁界印加用磁石
５０１  基板
５０２  電子銃
５０３  ブランキング手段
５０４  偏向手段
５０６  電子ビーム
５０７  θステージ
５０８  Ｘステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2011090737.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１３】
2011090737.tif 000013
【図１４】
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【図１８】
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【図１１】
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【図１２】
2011090737.tif 000017
【図１５】
2011090737.tif 000018
【図１６】
2011090737.tif 000019
【図１７】
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