(57)【要約】【課題】短時間でワークのパターン許容範囲内にパターンを描画する。【解決手段】ワーク上にパターンを描画する液滴吐出装置であって、複数のノズルが配列された液滴吐出ヘッドと、前記ワークが載置される描画ステージと、前記液滴吐出ヘッドと前記描画ステージとを相対的に移動させる移動部と、前記描画ステージに載置された前記ワークを画像認識する画像認識部と、画像認識された前記ワークの中心点を基点として、前記ワークの傾きを補正した仮想レイアウトを作成するとともに、前記複数のノズルのうちから、前記仮想レイアウトにおける前記パターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させる制御部と、を備えた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワーク上にパターンを描画する液滴吐出装置であって、
複数のノズルが配列された液滴吐出ヘッドと、
前記ワークが載置される描画ステージと、
前記液滴吐出ヘッドと前記描画ステージとを相対的に移動させる移動部と、
前記描画ステージに載置された前記ワークを画像認識する画像認識部と、
画像認識された前記ワークの中心点を基点として、前記ワークの傾きを補正した仮想レイアウトを作成するとともに、前記複数のノズルのうちから、前記仮想レイアウトにおける前記パターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させる制御部と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記ワークの前記描画ステージ上における載置位置をプリアライメントするプリアライメント部を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液滴吐出装置において、
前記制御部では、
前記仮想レイアウトにおける所定領域毎に、前記対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
複数のノズルが配列された液滴吐出ヘッドと、ワークが載置される描画ステージと、前記液滴吐出ヘッドと前記描画ステージとを相対的に移動させる移動部と、を備え、前記ワーク上にパターンを描画する液滴吐出装置の制御方法であって、
前記描画ステージに載置された前記ワークを画像認識し、画像認識された前記ワークの中心点を基点として、前記ワークの傾きを補正した仮想レイアウトを作成するとともに、前記複数のノズルのうちから、前記仮想レイアウトにおける前記パターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させることを特徴とする液滴吐出装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出装置の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークに所望のパターンを描画する液滴吐出装置は、ワークに向けてパターンの材料を含む機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドと、ワークを載置するステージと、液滴吐出ヘッドとステージとを相対的に移動させる移動部等を備えている。このような液滴吐出装置では、ワークをステージに載置した際に生じたワークのθずれを補正するθ補正機構が備えられている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２２７３０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の液滴吐出装置では、ステージに設けられた補正機構（ハード機構）でワークのθ補正を行うと、補正に要する時間がかかってしまう、また、上記の液滴吐出装置では、ワークの位置を補正する補正機構（ハード機構）を有するため、液滴吐出装置のコストが上昇してしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる液滴吐出装置は、ワーク上にパターンを描画する液滴吐出装置であって、複数のノズルが配列された液滴吐出ヘッドと、前記ワークが載置される描画ステージと、前記液滴吐出ヘッドと前記描画ステージとを相対的に移動させる移動部と、前記描画ステージに載置された前記ワークを画像認識する画像認識部と、画像認識された前記ワークの中心点を基点として、前記ワークの傾きを補正した仮想レイアウトを作成するとともに、前記複数のノズルのうちから、前記仮想レイアウトにおける前記パターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させる制御部と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、描画ステージに載置されたワークが画像認識され、画像認識されたワークの中心点を基点にして仮想レイアウトが作成される。そして、仮想レイアウトにおけるパターンの位置に対応するノズル（対応ノズル）が選択され、選択されたノズルが駆動され、ワーク上にパターンが描画される。すなわち、ワークが、基準位置に対して傾いて描画ステージに載置された場合に、液滴吐出ヘッドや描画ステージ等のハードウェアによってθ補正を行うのではなく、制御部（ソフトウェア）によってθ補正が行われる。従って、短時間でパターンの描画を実行できるため、サイクルタイムを短縮させることができる。また、液滴吐出ヘッドや描画ステージに位置ずれを補正する補正機構（ハードウェア）等を設ける必要がないため、液滴吐出装置のコストを削減することができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる液滴吐出装置では、前記ワークの前記描画ステージ上における載置位置をプリアライメントするプリアライメント部を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、ワークの傾き量は、所定の範囲内で規制される。これにより、ワークに描画されるパターンの傾き量も規制される。ところで、例えば、ワークとしてのＩＣパッケージの表面にパターンとしての文字や記号等を描画する（マーキング）する場合では、ＩＣパッケージ上の文字や記号の位置精度や傾き精度は比較的緩やかである。すなわち、比較的パターン位置精度が緩やかな場合にあっては、厳密なθ補正を要しない。従って、描画ステージに対するワークの載置位置に関し、ある程度のアライメント（プリアライメント）が実施されることにより、描画品質を確保しつつ、描画効率を向上させることができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる液滴吐出装置の前記制御部では、前記仮想レイアウトにおける所定領域毎に、前記対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させることを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、所定領域毎に対応ノズルが選択されて、所定領域では同一の対応ノズルが使用されため、所定領域内では、例えば、文字や記号の中に段差等が生じず、滑らかな描画形状を形成することができる。
【００１２】
［適用例４］本適用例にかかる液滴吐出装置の制御方法は、複数のノズルが配列された液滴吐出ヘッドと、ワークが載置される描画ステージと、前記液滴吐出ヘッドと前記描画ステージとを相対的に移動させる移動部と、を備え、前記ワーク上にパターンを描画する液滴吐出装置の制御方法であって、前記描画ステージに載置された前記ワークを画像認識し、画像認識された前記ワークの中心点を基点として、前記ワークの傾きを補正した仮想レイアウトを作成するとともに、前記複数のノズルのうちから、前記仮想レイアウトにおける前記パターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、前記対応ノズルを駆動させることを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、描画ステージに載置されたワークが画像認識され、画像認識されたワークの中心点を基点にして仮想レイアウトが作成される。そして、仮想レイアウトにおけるパターンの位置に対応するノズル（対応ノズル）が選択され、選択されたノズルが駆動され、ワーク上にパターンが描画される。すなわち、ワークが、基準位置に対して傾いて描画ステージに載置された場合に、液滴吐出ヘッドや描画ステージ等のハードウェアによってθ補正を行うのではなく、制御部（ソフトウェア）によってθ補正が行われる。従って、短時間でパターンの描画を実行できるため、サイクルタイムを短縮させることができる。また、液滴吐出ヘッドや描画ステージに位置ずれを補正する補正機構（ハードウェア）等を設ける必要がないため、液滴吐出装置のコストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】液滴吐出装置の構成を示す平面図。
【図２】吐出ヘッドの構成を示す断面図。
【図３】液滴吐出装置の電気制御ブロック図。
【図４】液滴吐出装置の制御方法を示すフローチャート。
【図５】液滴吐出装置の制御方法示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮小を異ならせて図示している。
【００１６】
（液滴吐出装置の構成）
まず、液滴吐出装置の構成について説明する。図１は、液滴吐出装置の構成を示す平面図である。図１に示すように、液滴吐出装置１は、液滴吐出ヘッド２４や描画ステージ２９等を含む描画部１０と、ワークＷの描画ステージ２９上における載置位置をプリアライメントするプリアライメント部４０と、描画ステージ２９に載置されたワークＷを画像認識する画像認識部５０と、これらの部材を制御する制御部等を備えている。
【００１７】
描画部１０には、直方体形状に形成される基台１２が備えられている。本実施形態では、この基台１２の長手方向をＸ方向とし、同Ｘ方向と直交する方向をＹ方向とする。基台１２の上面１２ａには、Ｘ方向に延びる一対の案内レール１３ａ，１３ｂが同Ｘ方向全幅にわたり凸設されている。
【００１８】
基台１２の上側には、一対の案内レール１３ａ，１３ｂに対応する図示しない移動部としての直動機構を備えた描画ステージ２９が取り付けられている。描画ステージ２９の直動機構は、例えば案内レール１３ａ，１３ｂに沿ってＸ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＸ軸モーター（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＸ軸モーターに入力されると、Ｘ軸モーターが正転又は逆転して、描画ステージ２９が同ステップ数に相当する分だけ、Ｘ軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動する（Ｘ方向に走査する）して、描画ステージ２９と液滴吐出ヘッド２４とが相対的に移動するようになっている。なお、本実施形態では、液滴吐出ヘッド２４に対して描画ステージ２９を移動させたが、描画ステージ２９に対して液滴吐出ヘッド２４を移動させる構成であってもよい。
【００１９】
また、基台１２の上面１２ａには、案内レール１３ａ，１３ｂと平行に主走査位置検出装置１５が配置され、描画ステージ２９の位置が計測できるようになっている。
【００２０】
基台１２の上方であって、Ｙ方向に延びる案内部材１９が架設されている。案内部材１９は、その長手方向の幅が描画ステージ２９のＹ方向よりも長く形成されている。案内部材１９の上側には、吐出する液体を供給可能に収容する収容タンク２０が配設されている。一方、その案内部材１９の下側には、Ｙ方向に延びる案内レール２１がＹ方向全幅にわたり凸設されている。そして、案内レール２１に沿って移動可能にキャリッジ２２が配置されている。キャリッジ２２には直動機構が接続され、例えば、案内レール２１に沿ってＹ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＹ軸モーター（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＹ軸モーターに入力すると、Ｙ軸モーターが正転又は逆転して、キャリッジ２２が同ステップ数に相当する分だけＹ方向に沿って往動又は復動する（Ｙ方向に走査する）。案内部材１９には、副走査位置検出装置２３が配置され、キャリッジ２２の位置が計測できるようになっている。そして、キャリッジ２２の下面（描画ステージ２９側の面）には、液滴吐出ヘッド２４が設置されている。
【００２１】
基台１２の片側の一方には、ヘッド保守部２５が配置されている。ヘッド保守部２５は、液滴吐出ヘッド２４のメンテナンス等を行う部材であり、フラッシングユニット、キャッピングユニット、ワイピングユニット等で構成されている。そして、液滴吐出ヘッド２４がヘッド保守部２５に移動され、適宜必要なメンテナンスが行われる。
【００２２】
プリアライメント部４０は、ワークＷの描画ステージ２９上における載置位置のプリアライメントを行うものである。プリアライメント部４０は、中間ステージ４１と、中間ステージ４１に載置されたワークＷを描画ステージ２９に搬送する搬送部４２とを有している。中間ステージ４１は、例えば、描画部１０の描画ステージ２９に隣接して設けられ、図示しない給材装置によって、搬入されたワークＷを載置するとともに、ワークＷのプリアライメントが行われる。プリアライメントは、例えば、ワークＷに設けられた認識マークと、中間ステージ４１の載置面４１ａに設けられた基準マークとを合致させることにより行われる。搬送部４２は、Ｙ方向に延びる案内レール４４と、案内レール４４に沿って移動可能に配置された移動部４５を有し、移動部４５には、ワークＷを保持する保持部４６ａ，４６ｂが設けられている。移動部４５には直動機構が接続されており、Ｙ方向に沿って、中間ステージ４１と描画ステージ２９の間を移動することができる。これにより、保持したワークＷを中間ステージ４１から描画ステージ２９に搬送することができる。
【００２３】
画像認識部５０は、描画ステージ２９に載置されたワークＷの画像認識するものであり、例えば、カメラ等である。
【００２４】
図２は、液滴吐出ヘッドの構成を示す断面図である。図２に示すように、液滴吐出ヘッド２４は、ノズルプレート３０を備え、ノズルプレート３０には、ノズル３１が形成されている。ノズルプレート３０の上側であってノズル３１と相対する位置には、ノズル３１と連通するキャビティ３２が形成されている。そして、液滴吐出ヘッド２４のキャビティ３２には、収容タンク２０に貯留されている機能液３３が供給される。
【００２５】
キャビティ３２の上側には、上下方向（Ｚ方向：縦振動）に振動して、キャビティ３２内の容積を拡大縮小する振動板３４と、上下方向に伸縮して振動板３４を振動させる加圧手段としての圧電素子３５が配設されている。圧電素子３５が上下方向に伸縮して振動板３４を振動し、振動板３４がキャビティ３２内の容積を拡大縮小してキャビティ３２を加圧する。それにより、キャビティ３２内の圧力が変動し、キャビティ３２内に供給された機能液３３は、ノズル３１を通って吐出されるようになっている。
【００２６】
そして、液滴吐出ヘッド２４が圧電素子３５を制御駆動するための駆動信号を受けると、圧電素子３５が伸張して、振動板３４がキャビティ３２内の容積を縮小する。その結果、ノズル３１から縮小した容積分の機能液３３が液滴３６として吐出される。なお、本実施形態では、加圧手段として、縦振動型の圧電素子３５を用いたが、特に、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子を用いてもよい。また、圧力発生手段として、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用してもよい。さらには、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液を液滴として吐出させる構成を有する吐出ヘッドであってもよい。
【００２７】
（電気制御の構成）
図３は、液滴吐出装置の電気制御の構成を示すブロック図である。図３において、液滴吐出装置１は、制御部を構成するＣＰＵ（演算処理装置）８０及び各種情報を記憶するメモリー８１を備えている。
【００２８】
描画部１０のＸ軸モーター、描画部１０及びプリアライメント部４０のＹ軸モーター、主走査位置検出装置１５、副走査位置検出装置２３、液滴吐出ヘッド２４を駆動するヘッド駆動回路、ヘッド保守部２５及び画像認識部５０は、入出力インターフェース８５およびバス８６を介してＣＰＵ８０に接続されている。
【００２９】
メモリー８１は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリーや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、ワークＷ内における吐出位置の座標データである吐出位置データを記憶するための記憶領域が設定される。さらに、ワークＷを主走査方向（Ｘ方向）へ移動する主走査移動量と、キャリッジ２２を副走査方向（Ｙ方向）へ移動する副走査移動量とを記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ８０のためのワークエリアやテンポラリーファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。本実施形態では、ＣＰＵ８０が、メモリー８１内に記憶されたプログラムソフトに従って、画像認識部５０によって画像認識したワークＷのθ補正を行うとともに、θ補正された描画データに基づいて、ワークＷにおける表面の所定位置に機能液を液滴吐出させる。
【００３０】
（液滴吐出装置の制御方法）
次に、液滴吐出装置の制御方法について説明する。図４は、液滴吐出装置の制御方法を示すフローチャートであり、図５は、液滴吐出装置の制御方法を示す説明図である。本実施形態における液滴吐出装置の制御方法は、複数のノズルが配列された液滴吐出ヘッドと、ワークが載置される描画ステージと、液滴吐出ヘッドと描画ステージとを相対的に移動させる移動部と、を備え、ワーク上にパターンを描画する液滴吐出装置の制御方法であって、描画ステージに載置されたワークを画像認識し、画像認識されたワークの中心点を基点として、ワークの傾きを補正した仮想レイアウトを作成するとともに、複数のノズルのうちから、仮想レイアウトにおけるパターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、対応ノズルを駆動させるものである。以下、具体的に説明する。
【００３１】
図４におけるステップＳ１では、描画に関する事前情報を取得する。具体的には、描画ステージ２９上におけるワークＷの位置情報やワークＷ上に描画する文字や記号等のパターン情報等を含む描画データ情報を有した情報ファイルを作成し、例えば、メモリー８１に格納する。図５（ａ）は、事前情報取得の状況を示している。本実施形態では、複数のＩＣパッケージを含むワークＷを例に挙げて説明する。ワークＷは、図５（ａ）に示すように、例えば、基板Ｗ０上に４つのＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄを含んでいる。そして、本ステップＳ１では、描画ステージ２９上における各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの中心座標（Ｘａ１，Ｙａ１）〜（Ｘａ４，Ｙａ４）を含むワークＷの基準位置情報、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄに描画されるパターン情報（例えば図中のパターン「ＡＢＣＤ」）の他、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの中心座標に対するパターンのずれ量の許容値、液滴吐出ヘッド２４のノズル３１情報を含む描画データ情報（事前情報）を取得する。取得した事前情報は、メモリー８１等に格納される。
【００３２】
ステップＳ２では、ワークＷを描画ステージ２９に載置する（図５（ｂ））。なお、本実施形態では、ワークＷをプリアライメント状態で描画ステージ２９に載置する。具体的には、中間ステージ４１において、ワークＷのずれ量が、パターンのずれ量の許容値内に収まる程度のプリアライメントを行い、ワークＷが当該プリアライメントされた状態で描画ステージ２９に載置される。ワークＷのずれ量が許容される範囲、すなわち、パターンのずれ量の許容値としては、ワークＷの形状や形態等、また、品質要求値等により適宜設定されるが、一般的に、ＩＣパッケージ上に文字や記号等を描画（マーキング）する場合であれば、文字等の傾きは、±１°程度が許容範囲である。そこで、この場合には、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄにおけるパターンの傾きが±１°以内に収まるようにプリアライメントが実行される。なお、図５（ｂ）では、説明を容易にするため、図５（ａ）に示したワークＷの基準位置に対して比較的大きくθずれした状態を示している。
【００３３】
ステップＳ３では、載置されたワークＷを画像認識させる。具体的には、画像認識部５０を駆動させ、ワークＷの画像を認識させる。そして、画像データに基づいて、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの中心座標（Ｘｉ１，Ｙｉ１）〜（Ｘｉ４，Ｙｉ４）が算出される。
【００３４】
ステップＳ４では、仮想レイアウトを作成する。本実施形態では、所定領域となるＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄ毎に仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄを作成する。具体的には、図５（ｃ）に示すように、画像認識された各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの中心座標（Ｘｉ１，Ｙｉ１）〜（Ｘｉ４，Ｙｉ４）を基点として、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの傾きを補正する。本実施形態では、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの各辺がＸ及びＹ方向に沿うようにして仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄを作成する。すなわち、Ｙ方向にあっては、液滴吐出ヘッド２４のノズル３１の配列方向に沿うように仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄを作成する。そうすると、図５（ｃ）に示すように、各仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄがＸ及びＹ方向に相対的に段差を有するレイアウトが形成される。
【００３５】
ステップＳ５では、θ補正した描画データを生成する。具体的には、液滴吐出ヘッド２４の複数のノズル３１のうちから、各仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄにおけるパターンの位置に対応する対応ノズルを選択し、選択された対応ノズルを含む描画データを新たに生成する。例えば、仮想レイアウトＩＷａの場合には、仮想レイアウトＩＷａにおけるパターンの位置に対応する対応ノズル（対応ノズル群）が選択され、仮想レイアウトＩＷｂの場合には、仮想レイアウトＩＷｂにおけるパターンの位置に対応する他の対応ノズル（他の対応ノズル群）が選択される。ここで、本実施形態では、仮想レイアウトＩＷａにおけるパターンの位置に対応する対応ノズル（対応ノズル群）と仮想レイアウトＩＷｂにおけるパターンの位置に対応する対応ノズル（他の対応ノズル群）とは異なっている。これは、仮想レイアウトＩＷａ，ＩＷｂのそれぞれに対応するパターンの位置が、Ｙ方向において互いにずれているためである。
【００３６】
ステップＳ６では、θ補正した描画データに基づいて、描画を実行する。液滴吐出ヘッド２４と描画ステージ２９とをＸ方向に相対的に移動させるとともに、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄのパターン位置に対応する対応ノズルから機能液を液滴として吐出させ、図５（ｄ）のように、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄ上に機能液を付着させながらパターンを描画する。その後、付着した機能液を固化して、マーキングは終了する。なお、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄに描画されたパターンは、基準のパターン位置（図５（ａ））と比較して斜めに（傾いて）描画される。しかしながら、本実施形態では、描画前に、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄにおけるパターン傾きが±１°以内に収まるようにプリアライメントされているため、パターンの傾きは許容範囲内となる。
【００３７】
従って、上記実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００３８】
（１）制御部によって、ワークＷのθ補正を行った。これにより、短時間でパターンの描画を実行できるため、サイクルタイムを短縮させることができる。また、液滴吐出ヘッド２４や描画部１０の描画ステージ２９にθずれを補正するθ補正機構（ハードウェア）等を設ける必要がないため、装置を簡略化させ、装置コストを削減することができる。
【００３９】
（２）仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄを所定領域として描画データを生成した。これにより、所定領域では、同一の対応ノズルが使用されるため、各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄにおいて描画における段差等が無く、外観品質を向上させることができる。
【００４０】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００４１】
（変形例１）上記実施形態では、プリアライメント部４０を備えたが、これを省略してもよい。この場合において、例えば、事前情報の各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの中心座標（Ｘａ１，Ｙａ１）〜（Ｘａ４，Ｙａ４）と画像認識された各ＩＣパッケージＷａ〜Ｗｄの中心座標（Ｘｉ１，Ｙｉ１）〜（Ｘｉ４，Ｙｉ４）とを比較して、所定範囲内のずれ量を超える場合には、当該載置されたワークＷを描画ステージ２９から排除すればよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【００４２】
（変形例２）上記実施形態では、各仮想レイアウトＩＷａ〜ＩＷｄを所定領域としたが、これに限定されず、例えば、文字毎、一単語毎等を適宜所定領域としてもよい。このようにしても、所定領域内では、描画における段差等が無く、外観品質を向上させることができる。
【００４３】
（変形例３）上記実施形態では、ワークＷとしてＩＣパッケージを例に挙げ、パターンとしての文字や記号等を描画する方法について説明したが、これに限定されない。例えば、カラーフィルターや有機ＥＬ装置、配向膜、金属配線等にも適用してもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００４４】
１…液滴吐出装置、１０…描画部、２４…液滴吐出ヘッド、２９…描画ステージ、３１…ノズル、４０…プリアライメント部、４１…中間ステージ、４２…搬送部、８０…ＣＰＵ、８１…メモリー、Ｗ…ワーク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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