(57)【要約】【課題】副生ガスに含まれるダスト量を有水式ガスホルダ内で低減させ、それにより電気集塵装置を小型化して副生ガス中のダスト除去に要するコストを低減する。【解決手段】有水式ガスホルダ１は、有水式ガスホルダ１内に副生ガスを導入するガス入口管１６の出口１６ａ近傍に設けられ、ガス入口管１６からのガス流Ｆを囲むように環状に形成された噴霧機構４２を有している。噴霧機構４２は、昇圧機構４１により昇圧された水槽１０内の水３を、有水式ガスホルダ１の内部に噴霧して霧状領域を形成する。副生ガスに含まれるダストＤは、霧状領域Ｍの水滴３ａにより捕捉され、水槽１０内に落下する。【選択図】図２
2011001966.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダストを含むガスを貯留し、その底部に水を蓄える水槽を有する有水式のガスホルダであって、
前記水槽内の水を当該ガスホルダ内部に噴霧する噴霧機構を有することを特徴とする、有水式ガスホルダ。
【請求項２】
前記噴霧機構は、前記ガスホルダ内にガスを導入するガス入口管からのガスの流れを囲むように環状に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の有水式ガスホルダ。
【請求項３】
前記噴霧機構はウォーターカーテンを形成することを特徴とする、請求項１に記載の有水式ガスホルダ。
【請求項４】
前記水槽内の水を昇圧し、前記噴霧機構に前記昇圧された水を供給する昇圧機構を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の有水式ガスホルダ。
【請求項５】
ダストを含むガスを貯留し、その底部に水を蓄える水槽を有する有水式のガスホルダの内部集塵装置であって、前記水槽内の水を当該ガスホルダ内部に噴霧する噴霧機構を有することを特徴とする、有水式ガスホルダの内部集塵装置。
【請求項６】
前記噴霧機構は、前記ガスホルダ内にガスを導入するガス入口管からのガスの流れを囲むように環状に形成されていることを特徴とする、請求項５に記載の有水式ガスホルダの内部集塵装置。
【請求項７】
前記噴霧機構はウォーターカーテンを形成することを特徴とする、請求項５に記載の有水式ガスホルダの内部集塵装置。
【請求項８】
前記水槽内の水を昇圧し、前記噴霧機構に前記昇圧された水を供給する昇圧機構を有することを特徴とする、請求項５〜７のいずれかに記載の有水式ガスホルダの内部集塵装置。
【請求項９】
ダストを含むガスを貯留し、その底部に水を蓄える水槽を有する有水式のガスホルダ内部における集塵方法であって、
前記水槽内の水を当該ガスホルダ内部に噴霧して、前記ガスホルダに流入するガスに含まれるダストを集塵することを特徴とする、有水式ガスホルダ内部における集塵方法。
【請求項１０】
前記水槽内の水を昇圧して噴霧し、
前記噴霧された水を前記水槽に回収することを特徴とする、請求項９に記載の有水式ガスホルダ内部における集塵方法。
【請求項１１】
前記水の噴霧は、前記ガスホルダ内にガスを導入するガス入口管からのガスの流れを囲むように環状に形成された噴霧機構により行われることを特徴とする、請求項９または１０のいずれかに記載の有水式ガスホルダ内部における集塵方法。
【請求項１２】
前記噴霧機構はウォーターカーテンを形成することを特徴とする、請求項９または１０のいずれかに記載の有水式ガスホルダ内部における集塵方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有水式ガスホルダ及びその内部集塵装置並びに有水式ガスホルダ内部における集塵方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば製鉄所においては、高炉や転炉から発生する可燃性の副生ガスをエネルギー源として有効利用するために、当該副生ガスを一旦貯留する有水式ガスホルダが設置されている。有水式ガスホルダは、水を貯留した水槽の内部に、上下に移動自在な、複数のテレスコープ型ガス槽を有し、隣接するガス槽の間にシールカップと封水板による水封部を設けた構造となっている。そして、ガス貯蔵量が増加すると各ガス槽が順次上昇し、ガス貯蔵量が減少すると各ガス槽が順次下降するようになっている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
ところで、上述の副生ガス中にはダストが含まれており、副生ガスの使用先の設備においてこのダストの付着やダストによる閉塞などの障害が発生することを防止するため、有水式ガスホルダと副生ガスの使用先の設備との間に、ダストを捕集する集塵設備として電気集塵装置を設置している。そして、副生ガス中のダストを電気集塵装置により捕集し、ダストの付着や閉塞による障害が発生しない程度までダストの濃度を低減させることが一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−６３３９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、電気集塵装置は設備費が高額であり、また電気集塵装置の規模と能力に応じた運転費用及び維持管理費用も発生するため、経済性の観点から電気集塵装置の規模を小さくすることが望ましい。
【０００６】
一般に、電気集塵装置の規模は、処理ガスの流量及び出口ダスト濃度が同一の条件下で比較した場合、電気集塵装置入口のダスト濃度が低下すれば、ダスト濃度に見合った分だけ小さくなる。したがって、電気集塵装置の上流側に設置されている有水式ガスホルダ内において、副生ガス中のダスト濃度を低減させることができれば、電気集塵装置を小型化し、副生ガス中のダスト除去に要するコストを低減することが可能となる。
【０００７】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、副生ガスに含まれるダスト量を有水式ガスホルダ内で低減させ、それにより電気集塵装置を小型化して副生ガス中のダスト除去に要するコストを低減することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するための本発明は、ダストを含むガスを貯留し、その底部に水を蓄える水槽を有する有水式のガスホルダであって、前記水槽内の水を当該ガスホルダ内部に噴霧する噴霧機構を有することを特徴としている。
【０００９】
本発明によれば、ガスホルダ内に水を噴霧することにより、副生ガスに含まれるダストが噴霧された水に接触する際に付着して捕捉される。そして、ダストを捕捉した水は重力により沈降し水槽内に落下するので、ダストは飛散することなく水槽内に堆積し、有水式ガスホルダから排出される副生ガスのダスト濃度を低減させることができる。これにより、電気集塵装置を小型化し、副生ガス中に含まれるダスト除去に要するコストを低減することができる。
【００１０】
なお、前記噴霧機構は、前記ガスホルダ内にガスを導入するガス入口管からのガスの流れを囲むように環状に形成されていてもよく、前記噴霧機構はウォーターカーテンを形成してもよい。
【００１１】
前記有水式ガスホルダは、前記水槽内の水を昇圧し、前記噴霧機構に前記昇圧された水を供給する昇圧機構を有していてもよい。
【００１２】
別な観点による本発明は、ダストを含むガスを貯留し、その底部に水を蓄える水槽を有する有水式のガスホルダの内部集塵装置であって、前記水槽内の水を当該ガスホルダ内部に噴霧する噴霧機構を有することを特徴としている。
【００１３】
前記噴霧機構は、前記ガスホルダ内にガスを導入するガス入口管からのガスの流れを囲むように環状に形成されていてもよく、前記噴霧機構はウォーターカーテンを形成してもよい。
【００１４】
前記内部集塵装置は、前記水槽内の水を昇圧し、前記噴霧機構に前記昇圧された水を供給する昇圧機構を有していてもよい。
【００１５】
また、別な観点による本発明は、ダストを含むガスを貯留し、その底部に水を蓄える水槽を有する有水式のガスホルダ内部における集塵方法であって、前記水槽内の水を当該ガスホルダ内部に噴霧して、前記ガスホルダに流入するガスに含まれるダストを集塵することを特徴としている。
【００１６】
前記水槽内の水を昇圧して噴霧し、前記噴霧された水を前記水槽に回収してもよい。
【００１７】
前記水の噴霧は、前記ガスホルダ内にガスを導入するガス入口管からのガスの流れを囲むように環状に形成された噴霧機構により行われてもよく、また、前記水の噴霧はウォーターカーテンを形成する噴霧機構により行われてもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、有水式ガスホルダ内において副生ガス中のダスト量を低減させ、それにより電気集塵装置を小型化して副生ガス中のダスト除去に要するコストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施の形態にかかる有水式ガスホルダの構成の概略を示す縦断面図である。
【図２】本実施の形態にかかる有水式ガスホルダの構成の概略を示す縦断面図である。
【図３】本実施の形態にかかる有水式ガスホルダの構成の概略を示す横断面図である。
【図４】噴霧機構近傍の構成を示す説明図である。
【図５】他の実施の形態にかかる噴霧機構近傍の構成を示す説明図である。
【図６】他の形態にかかる有水式ガスホルダの構成の概略を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は本実施の形態にかかる内部集塵装置を有する有水式ガスホルダ１の構成の概略を示す縦断面図である。
【００２１】
有水式ガスホルダ１は、基礎部２上に設けられ水３を貯留する水槽１０と、水槽１０の内部に昇降自在に設けられた複数のガス槽である外槽１１、中槽１２及び内槽１３と、水槽１０の周囲に垂直に配置され外槽１１、中槽１２及び内槽１３の昇降動作を案内する複数の基柱１５と、例えば転炉からの副生ガスをガス槽内に導入するガス入口管１６及びガス槽内の副生ガスを需要先に排出するガス出口管１７と、有水式ガスホルダ１内に水３を噴霧することで副生ガスに含まれるダストＤを有水式ガスホルダ１内で捕集する内部集塵装置１８と、を有している。なお、図１は有水式ガスホルダ１の内部に副生ガスが供給される前の状態を示しており、全てのガス槽が水槽１０の底面に設置されたレストブロック（図示せず）の上面に着座している。
【００２２】
水槽１０は、有水式ガスホルダ１の底部に配置され内部に水３を貯留するための槽であって、この水３がガスシールの役割を担う。水槽１０は、例えば、底面が略円形で、蓋の無い略円筒形に形成されている。
【００２３】
外槽１１は水槽１０の内部に、中槽１２は外槽１１の内部に、内槽１３は中槽１２の内部に、それぞれ昇降自在に設けられている。外槽１１及び中槽１２は、例えば、底面及び蓋の無い略円筒形に形成されている。外槽１１の直径は水槽１０よりも、中槽１２の直径は外槽１１よりも、それぞれ一回り小さくなっている。このため、外槽１１は水槽１０の内部に、中槽１２は外槽１１の内部にそれぞれ挿入可能となっている。内槽１３は、有頂で底の無い略円筒形に形成され、中槽１２よりも一回り小さい直径となっている。このため、内槽１３は中槽１２の内部に挿入可能となっている。
【００２４】
隣接する外槽１１と中槽１２及び中槽１２と内槽１３との間には、それぞれ下カップ封水板３０及び上カップ封水板３１からなる水封部３２が設けられている。下カップ封水板３０は中槽１２と内槽１３の外周面下端部に設けられ、上方が開口した略Ｕ字状の断面形状を有している。上カップ封水板３１は、外槽１１と中槽１２の内周面上端部に設けられ、下カップ封水板３０とは反対に、下方が開口した略Ｕ字状の断面形状を有している。このため、相対する略Ｕ字状の形状を有する下カップ封水板３０と上カップ封水板３１とは互いに係合することができる。したがって、有水式ガスホルダ１内のガス貯蔵量が増加し、有水式ガスホルダ１の内圧が上昇した際に、内槽１３の上昇力は中槽１２に伝達され、中槽１２の上昇力は外槽１１に伝達される。これにより、内槽１３は中槽１２及び外槽１１を上方に牽引し、例えば図２に示すように中槽１２及び外槽１１を上昇、下降させることができる。
【００２５】
各下カップ封水板３０内には、水槽１０内に着座中に水３が貯留された状態となっており、中槽１２及び内槽１３が上昇すると、各上カップ封水板３１が各下カップ封水板３０内の水３の水面より下方に挿入される。これにより、中槽１２及び内槽１３内部のガスが槽外に漏洩しない構造となっている。外槽１１は、その下端部が水槽１０の水３の水面より下方に没することにより、外槽１１内部から槽外に副生ガスが漏洩することを防止できる。
【００２６】
基柱１５は、例えば水槽１０の周囲に垂直に等間隔で複数本配置されている。なお、図１では図示の都合上、水槽１０の中心を対称に配置された２本の基柱１５のみを、模式的に示している。この基柱１５は、外槽１１、中槽１２及び内槽１３の外周上方に設けられた上部ガイドローラ３３と当接し、各ガス槽が昇降する際にガイドする役割を担う。
【００２７】
ガス入口管１６及びガス出口管１７は、図１に示すようにその一部が基礎部２に埋設して設けられるか、あるいは基礎部２に設けられたピット内において、管支持用基礎上に荷重支持されて設置されており、例えば図３に示すように水槽１０の底面の同心円上であって平面視において対角線上の対向する位置を、例えば鉛直上向きに貫通して水槽１０内に延伸している。ガス入口管１６及びガス出口管１７の端部である出口１６ａ及び入口１７ａは、水槽１０の水面より上方に設けられている。ガス入口管１６は、水面より上方の部分が、例えば略Ｌ字状に屈曲し、出口１６ａが水平方向に向くように形成されている。このため、ガス入口管１６から流入する副生ガスは、有水式ガスホルダ１内を水平方向に拡散しながら流れるガス流Ｆを形成する。
【００２８】
内部集塵装置１８は、例えば図１に示すように、水槽１０に連通する取水管４０と、取水管４０を介して供給される水３を昇圧する昇圧機構４１と、ガス入口管１６の出口１６ａの近傍に設けられ、昇圧機構４１により昇圧された水３を噴霧する噴霧機構４２と、昇圧機構４１により昇圧された水３を噴霧機構４２に供給する供給管４３と、を有している。
【００２９】
取水管４０は、水槽１０の外方に設けられ、一方の端部が、水槽１０内の水３の水面より下方において水槽１０の側面と連通している。取水管４０は、例えば基礎部２上に配置された昇圧機構４１に向かって下方に延伸し、他方の端部が昇圧機構４１に接続されている。なお、昇圧機構４１としては、例えば汎用のポンプなどを用いることができる。
【００３０】
噴霧機構４２は、内部が中空で、例えば図４に示すようにその内径ｒがガス入口管１６の出口１６ａの外径より大きく構成されている円環状のヘッダー５０と、ヘッダー５０の内径側の側面に設けられた複数のノズル５１を有している。このヘッダー５０は、出口１６ａから流入する副生ガスのガス流Ｆを囲むように、例えばガス入口管１６の出口１６ａと同心円上に配置されている。
【００３１】
側面視である図２において示すように、ヘッダー５０を含む噴霧機構４２は、出口１６ａの端部と所定の距離Ｌだけ水平方向に離れた位置に配置されている。ヘッダー５０には供給管４３が連通して設けられ、昇圧機構４１により昇圧された水３を供給管４３を介してヘッダー５０に供給することで、ノズル５１からヘッダー５０の中央部に向かって水３を霧状の水滴３ａにして噴霧する。噴霧された水滴３ａは、ヘッダー５０の内周部に、図４に示すように霧状の水滴３ａが充満した霧状領域Ｍを形成する。なお、図４では、等間隔に配置された６つのノズル５１を描図しているが、ノズル５１の数及び配置は本実施の形態に限定されるものではない。また、噴霧機構４２及び供給管４３は、図１に示すように、内槽１３が着座した際に、内槽１３と干渉しないように配置されている。
【００３２】
本実施の形態にかかる内部集塵装置１８を有する有水式ガスホルダ１は以上のように構成されており、次にこの有水式ガスホルダ１における副生ガス中のダストＤの集塵方法について、主に図２を用いて説明する。
【００３３】
先ず、有水式ガスホルダ１に副生ガスを導入する前の準備作業として、予め昇圧機構４１を起動し、噴霧機構４２のノズル５１から水３を噴霧する。これにより、ノズル５１の内側には、噴霧された水滴３ａにより霧状領域Ｍが形成される。
【００３４】
その後、副生ガスがガス入口管１６を介して有水式ガスホルダ１に流入すると、当該副生ガスは、噴霧機構４２により形成された霧状領域Ｍを横切って、有水式ガスホルダ１内をガス槽の内面に沿って水平方向に流れる（ガス流Ｆ）。噴霧機構４２から噴霧された水滴３ａは、副生ガスのガス流Ｆにより攪拌されながらガス流Ｆに随伴して有水式ガスホルダ１内を流れてゆく。
【００３５】
副生ガス中に含まれるダストＤは、水滴３ａに接触すると、水滴３ａに付着して捕捉される。ダストＤを捕捉した水滴３ａは、ガス流Ｆに随伴したまま有水式ガスホルダ１内に滞留するが、重力により徐々に沈降し、あるいは各ガス槽の内面に付着して、水槽１０の水３内に落下する。水滴３ａと共に水３内へと落下したダストＤは、飛散することなく水槽１０内を沈降し、水槽１０の底部にスラリー状のダストＤとして堆積する。なお、水槽１０に堆積するダストＤの量は水槽１０の保有する水３の量と比較して十分少ないため、有水式ガスホルダ１の運転にあたりダストＤの水槽１０への堆積が問題となることはない。
【００３６】
そして、内部集塵装置１８により有水式ガスホルダ１内でダストＤの濃度が低減された副生ガスは、ガス出口管１７から排出され、電気集塵装置（図示せず）へと流入する。電気集塵装置に流入した副生ガスは、電気集塵装置内で所定の濃度までダストが低減された後、需要先の設備へと供給される。
【００３７】
以上実施の形態によれば、ガス入口管１６の出口１６ａの近傍に設けられた噴霧機構４２から、水槽１０内の水３を噴霧して霧状領域Ｍを形成するので、副生ガスがガス入口管１６から流入して霧状領域Ｍを横切る際に、水滴３ａにより副生ガスに含まれるダストＤを捕捉することができる。そして、水滴３ａにより捕捉されたダストＤは、水滴３ａと共に重力により沈降して水槽１０内に落下し、落下したダストＤは再び飛散することがないので、ガス出口管１７から排出される副生ガスに含まれるダストＤの濃度、すなわち有水式ガスホルダ１の下流に設置される電気集塵装置の入口ダスト濃度を低減させることができる。これにより、電気集塵装置を小型化し、ダストＤの除去に要するコストを低減することができる。
【００３８】
また、内部集塵装置１８で用いられる水３は、副生ガスに含まれる水分が凝縮したものであるため、副生ガスが有水式ガスホルダ１内に流入している間は、水槽１０には水３が補給されている状態となっている。それと共に、内部集塵装置１８は、取水管４０により昇圧機構４１に供給される水槽１０内の水３が、噴霧機構４２のノズル５１から水滴３ａとして噴霧され、噴霧された水滴３ａは水槽１０内に落下して再び取水管４０から昇圧機構４１に供給される循環系統を形成している。このため、内部集塵装置１８を用いても水槽１０の水３が減少することはなく、内部集塵装置１８を使用するために水３をわざわざ系外から水槽１０内へ補給する必要がない。したがって、内部集塵装置１８の運転にかかる費用も低廉なものとなる。
【００３９】
なお、水３によるダストＤの捕捉効率は、噴霧される水滴３ａの径が小さいほど向上する。水滴３ａの径が小さくなると、ダストＤを含む副生ガスとの接触面積が大きくなると共に、重力による水滴３ａの沈降速度が遅くなることで、副生ガスの流れに随伴して飛散する時間が長くなり、ダストＤと水滴３ａとの接触機会が増すためである。その一方で、水滴３ａの径を微小化しすぎて水滴３ａの沈降速度が極端に低下すると、副生ガスが有水式ガスホルダ１内に滞留する時間内に水滴３ａが水槽１０に落下せず、ダストＤを捕捉した水滴３ａがガス出口管１７から排出されてしまう可能性がある。また、水滴３ａを微小化する場合、ノズル５１での絞りによりノズル５１での圧力損失が増大するため、昇圧機構４１の所要動力、すなわち内部集塵装置１８の運転費用が増加する。したがって、以上の実施の形態においては、水３を霧状の水滴３ａにして噴霧していたが、噴霧する際の水３の形態は必ずしも水滴状である必要はなく、例えば図５に示すように、その底面に複数の開口が設けられた直線状の管により構成された噴霧機構６０をガス入口管１６の端部１６ａの上方に設け、連続的に水３を降らせることで、いわゆるウォーターカーテンを形成するようにしてもよい。
【００４０】
噴霧機構６０を用いた場合、噴霧機構４２を用いた場合と同量の水３を噴霧するのであるなら、水３と副生ガスとの接触面積は噴霧機構４２を用いた場合と比較して減少するためダストＤの捕捉効率は低下するが、噴霧機構６０から噴霧される水３は噴霧機構４２から噴霧される水滴３ａと比較して質量が大きく沈降速度が速いため、副生ガスと接触した水３はほどなく水槽１０に落下し、ダストＤを捕捉した水３がガス出口管１７からほとんど排出されないという利点がある。したがって、噴霧する水３の形態及び水３を噴霧する噴霧機構の形状は本実施の形態の内容に限定されるものではなく、有水式ガスホルダ１内での副生ガスの滞留時間等を考慮して決定がすることが好ましい。
【００４１】
以上の実施の形態においては、噴霧機構４２をガス入口管１６の出口１６ａと距離Ｌ離間して配置したが、例えば噴霧機構４２のヘッダー５０の内径ｒがガス入口管１６の出口１６ａの外径に比べて十分大きい場合は、距離Ｌを大きくしても拡散しながら流れるガス流Ｆがヘッダー５０内を通過するので、距離Ｌを大きく設定することが可能である。一方、ヘッダー５０の内径ｒを出口１６ａの外径と同程度とした場合、距離Ｌが大きいと、出口１６ａとヘッダー５０との隙間から霧状領域Ｍを横切ることなく有水式ガスホルダ１内に流入する副生ガスの量が増加するため、ダストＤの集塵効率が低下する。したがって、内径ｒを小さくする場合は、それに合わせて距離Ｌを小さく設定する必要がある。また、噴霧機構６０を用いた場合、距離Ｌが小さすぎると副生ガスが出口１６ａから流入する際に抵抗となり得る。したがって、距離Ｌも使用する噴霧機構の形状等を考慮して決定されることが好ましい。なお、距離Ｌをゼロとして、出口１６ａに当接して設けることも可能である。
【００４２】
また、副生ガス中のダストＤを捕捉するための水３の噴霧方法としては、噴霧機構４２、６０に代えて、例えば図６に示すように、内槽１３の下面に噴霧機構としてノズル７１を設け、有水式ガスホルダ１の内部全体に水滴３ａを噴霧する方法も提案できる。この場合、水滴３ａが水槽１０に沈降するまでに時間がかかり、ダストＤを捕捉した水滴３ａが水槽１０に沈降することなくガス出口管１７から排出されることが考えられるので、ガス出口管１７に例えば水滴３ａと副生ガスを分離するための気液分離機構７２を設ければ、ダストＤを捕捉した水滴３ａが水槽１０に落下することなくガス出口管１７から排出されることを防止できる。この場合、気液分離機構７２では圧力損失が発生するため、気液分離機構の設置にあたっては、下流の設備に影響を与えないように許容圧力損失が考慮される。なお、気液分離機構としては、例えば汎用のミストエリミネータ等を用いることができる。
【００４３】
以上の実施の形態においては、ガス入口管１６とガス出口管１７は、水槽１０の底面の同心円上であって平面視において対角線上の対向する位置に設けられていたが、副生ガスの有水式ガスホルダ１内での滞留時間を長くし、より多くの水滴３ａを水槽１０に落下させるために、例えば図３に破線で示すように、水槽１０の底面の同心円上の９０度離れた位置に配置してもよい。また、ガス出口管１７の入口１７ａをガス入口管１６の出口１６ａと同様に水平方向に向け、その向きをガス流Ｆに対向するようにしても、副生ガスの滞留時間を長くすることができる。
【００４４】
また、以上の実施の形態においては、ガス入口管１６の出口１６ａは水平方向に向けられていたが、これはガス流Ｆを水平流とすることでダストＤを捕捉した水滴３ａが有水式ガスホルダ１内を上昇することを防止し、短時間で水槽１０内に沈降させることを考慮したためである。したがって、例えば上述の気液分離機構７２等を設けた場合、水滴３ａの水槽１０への落下を促進することができるため、必ずしも出口１６ａは水平方向に向ける必要はない。
【００４５】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、有水式ガスホルダ内において、副生ガスに含まれるダストの濃度を低減させる際に有用である。
【符号の説明】
【００４７】
１    有水式ガスホルダ
２    基礎部
３    水
３ａ  水滴
１０  水槽
１１  外槽
１２  中槽
１３  内槽
１５  基柱
１６  ガス入口管
１６ａ  出口
１７  ガス出口管
１７ａ  入口
１８  内部集塵装置
３０  下カップ封水板
３１  上カップ封水板
３２  水封部
３３  上部ガイドローラ
４０  取水管
４１  昇圧機構
４２  噴霧機構
４３  供給管
５０  ヘッダー
５１  ノズル
６０  噴霧機構
７１  ノズル
７２  気液分離機構
Ｄ    ダスト
Ｆ    ガス流
Ｌ    ヘッダー５０と出口１６ａとの距離
Ｍ    霧状領域
ｒ    ヘッダー５０の内径
【図１】
2011001966.tif 000003
【図２】
2011001966.tif 000004
【図３】
2011001966.tif 000005
【図４】
2011001966.tif 000006
【図５】
2011001966.tif 000007
【図６】
2011001966.tif 000008