(57)【要約】      （修正有）【課題】より少ない始動準備時間にて利用することのできる処理装置を提供する。【解決手段】貯液槽１１から吐出ヘッドユニット１１０まで処理液Ｗが供給され、吐出ヘッドユニット１１０から吐出される処理液Ｗにて前記被処理物５０の表面を処理する処理装置であって、貯液槽１１からの処理液Ｗが吐出ヘッドユニット１１０から吐出されるまでの間に、当該処理液Ｗ中に微細なバブルを生成するバブル生成機構１３、１５を有するように構成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
貯液槽から吐出ヘッドユニットまで処理液が供給され、該吐出ヘッドユニットから吐出される処理液にて前記被処理物の表面を処理する処理装置であって、
前記貯液槽からの処理液が前記吐出ヘッドユニットから吐出されるまでの間に、当該処理液中に微細なバブルを生成するバブル生成機構を有する処理装置。
【請求項２】
前記バブル生成機構は、前記貯液槽からの処理液中に気体を溶融させて気体溶存処理液を生成する機構と、
気体溶存処理液を加圧して前記吐出ヘッドユニットに向けて供給する機構と、
前記気体溶存処理液の加圧状態を開放して当該処理液中に微細なバブルを生成する圧力開放機構とを有する請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
前記吐出ヘッドユニットは、前記圧力開放機構を有し、
前記吐出ヘッドユニットに加圧供給される気体溶存処理液から微細なバブルを含む処理液を生成し、該処理液を吐出する請求項２記載の処理装置。
【請求項４】
前記吐出ヘッドユニットは、処理液を貯める処理液貯留部と、
処理液貯留部に貯められた処理液を吐出するノズルと、
前記加圧供給される気体溶存処理液を前記処理液貯留部に導くオリフィスの形成された前記圧力開放機構としての処理液導入部とを有し、
加圧供給される前記気体溶存処理液が前記処理液導入部のオリフィスを通過するときにその加圧状態が開放されるようにした請求項３記載の処理装置。
【請求項５】
前記吐出ヘッドユニットは、前記加圧供給される気体溶存処理液をその加圧状態を維持しつつ貯める処理液貯留部と、
前記処理液貯留部の気体溶存処理液を加圧状態を開放しつつ吐出する前記圧力開放機構としてのノズルとを有し、
前記ノズルから前記気体溶存処理液が吐出されつつ該処理液中に微細なバブルが生成されるようにした請求項３記載の処理装置。
【請求項６】
前記気体溶存処理液が前記圧力開放機構に加圧供給される前に当該気体溶存処理液から異物を除去するフィルタを有する請求項２乃至５のいずれかに記載の処理装置。
【請求項７】
前記吐出ヘッドユニットは、前記ノズルから吐出される処理液と高圧気体とを混合して送出する二流体ツールとして構成される請求項１乃至６のいずれかに記載の処理装置。
【請求項８】
前記貯液槽からの処理液に溶融させるべき気体を当該処理液に供給する気体供給機構と、
前記処理液中に溶融する気体の量を検出する溶融気体検出手段と、
該溶融気体検出手段にて検出される前記処理液中に溶融する気体の量を表す情報を出力する手段とを有する請求項２記載の処理装置。
【請求項９】
前記貯液槽からの処理液に溶融させるべき気体を当該処理液に供給する気体供給機構と、
前記処理液中に溶融する気体の量を検出する溶融気体検出手段と、
該溶融気体検出手段にて検出される前記処理液中に溶融する気体の量に基づいて前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体の量を制御する制御手段とを有する請求項２に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体は酸素であり、
前記溶融気体検出手段は前記処理液中に溶融する酸素の濃度を検出する溶存酸素濃度センサである請求項９記載の処理装置。
【請求項１１】
前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体は酸素以外の気体であり、
前記溶融気体検出手段は前記処理液中に溶融する酸素の濃度を検出する溶存酸素濃度センサであり、
前記制御手段は、前記溶存酸素濃度センサにて検出される酸素の濃度に基づいて前記気体供給機構から前記処理液に供給される酸素以外の気体の量を制御する請求項９記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細なバブルを含有する液体を被処理物の表面に与えて当該被処理物の表面を処理する処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、超微細バブルを含む液体を物体表面の洗浄等の処理に利用することが考えられている。超微細バブルと液との界面の電位が洗浄効果や酸化作用を促し、また、物体表面に付着した超微細バブルが破裂するときのエネルギーが物体表面から汚れの剥離に寄与するとされている。なお、この超微細バブルは、そのサイズが小さくなるに従ってマイクロバブル、マイクロナノバブル、ナノバブルと呼ばれる。
【０００３】
従来、このような超微細バブルを利用した洗浄装置が提案されている（特許文献１参照）。この洗浄装置では、洗浄液貯蔵タンク内にマイクロバブル生成装置が設けられ、マイクロバブル発生装置が洗浄液貯蔵タンク内の洗浄液中にマイクロバブルと呼ばれる微細なバブルを生成している。そして、洗浄液貯蔵タンク内の洗浄液中にマイクロバブルが満たされた状態になると、洗浄液貯蔵タンクからポンプによって微細バブル含有の洗浄液がスプレーノズルに供給され、スプレーノズルからその洗浄液が被洗浄物であるシリコンウェハの表面に噴出される。
【０００４】
このような洗浄装置によれば、洗浄液中に含まれる超微細なバブル（マイクロバブル）の洗浄作用や酸化作用によって、シリコンウェハ（被洗浄物）の表面に付着した不純物に対する洗浄力を向上させることができるようになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−５４７９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した従来の洗浄装置では、洗浄液貯蔵タンク内に貯蔵された大量の洗浄液中に微細なバブルが満たされるまで、その洗浄液を洗浄に利用することができないため、その始動準備に多くの時間を要してしまう。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、より少ない始動準備時間にて利用することのできる処理装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る処理装置は、貯液槽から吐出ヘッドユニットまで処理液が供給され、該吐出ヘッドユニットから吐出される処理液にて前記被処理物の表面を処理する処理装置であって、前記貯液槽からの処理液が前記吐出ヘッドユニットから吐出されるまでの間に、当該処理液中に微細なバブルを生成するバブル生成機構を有する構成となる。
【０００９】
このような構成により、貯液槽からの処理液が吐出ヘッドユニットから吐出されるまでの間に、当該処理液中に微細なバブルが生成されるようになるので、微細なバブルを含有する処理液を貯めておかなくても被処理物の表面に微細なバブルを含有する処理液を与えることができるようになる。
【００１０】
本発明に係る処理装置において、前記バブル生成機構は、前記貯液槽からの処理液中に気体を溶融させて気体溶存処理液を生成する機構と、気体溶存処理液を加圧して前記吐出ヘッドユニットに向けて供給する機構と、前記気体溶存処理液の加圧状態を開放して当該処理液中に微細なバブルを生成する圧力開放機構とを有するように構成することができる。
【００１１】
このような構成により、処理液が貯液槽から吐出ヘッドユニットまで供給され、該吐出ヘッドユニットから処理液が吐出されるまでの間に、気体溶存処理液が生成され、その気体溶存液が加圧された状態から開放されることによって微細なバブルを含有する処理液を生成することができる。
【００１２】
また、本発明に係る処理装置において、前記吐出ヘッドユニットは、前記圧力開放機構を有し、前記吐出ヘッドユニットに加圧供給される気体溶存処理液から微細なバブルを含む処理液を生成し、該処理液を吐出するように構成することができる。
【００１３】
このような構成により、加圧状態の気体溶存処理液が供給される吐出ヘッドユニットにおいて、微細なバブルを含有する処理液が生成され、その処理液が当該吐出ヘッドユニットから吐出される。
【００１４】
また、本発明に係る処理装置において、前記吐出ヘッドユニットは、処理液を貯める処理液貯留部と、処理液貯留部に貯められた処理液を吐出するノズルと、前記加圧供給される気体溶存処理液を前記処理液貯留部に導くオリフィスの形成された前記圧力開放機構としての処理液導入部とを有し、加圧供給される前記気体溶存処理液が前記処理液導入部のオリフィスを通過するときにその加圧状態が開放されるように構成することができる。
【００１５】
このような構成により、加圧状態の気体溶存処理液が処理液導入部に形成されたオリフィスを通って処理液貯留部に導入される際に当該処理液中に微細なバブルが生成され、その微細なバブルを含有する処理液が一時的に処理液貯留部に貯められる。そして、その処理液貯留部に貯められた微細なバブルを含有する処理液がノズルから吐出される。
【００１６】
更に、本発明に係る処理装置において、前記吐出ヘッドユニットは、前記加圧供給される気体溶存処理液をその加圧状態を維持しつつ貯める処理液貯留部と、前記処理液貯留部の気体溶存処理液を加圧状態を開放しつつ吐出する前記圧力開放機構としてのノズルとを有し、前記ノズルから前記気体溶存処理液が吐出されつつ該処理液中に微細なバブルが生成されるように構成することができる。
【００１７】
このような構成により、加圧状態の気体溶存処理液が処理液貯留部に一時的に貯められ、該処理液貯留部の気体溶存処理液がその加圧状態が開放されつつノズルから吐出する。このノズルから気体溶存処理液が吐出する際に、前記加圧状態の開放によって微細なバブルが生成され、該微細なバブルを含有する処理液がノズルから吐出されることになる。
【００１８】
また、本発明に係る処理装置において、前記気体溶存処理液が前記圧力開放機構に加圧供給される前に当該気体溶存処理液から異物を除去するフィルタを有するように構成することができる。
【００１９】
このような構成により、気体溶存処理液の加圧状態が開放されて微細なバブルが生成される前にフィルタにて異物が除去されるので、フィルタにて異物とともに生成された微細なバブルが除去されることがない。
【００２０】
更に、本発明に係る処理装置において、前記吐出ヘッドユニットは、前記ノズルから吐出される処理液と高圧気体とを混合して送出する二流体ツールとして構成されることができる。
【００２１】
このような構成により、吐出ヘッドユニットから微細なバブルを含有した処理液を高圧気体と混合して霧状にして被処理物の表面に与えることができるようになる。
【００２２】
また、本発明に係る処理装置において、前記貯液槽からの処理液に溶融させるべき気体を当該処理液に供給する気体供給機構と、前記処理液中に溶融する気体の量を検出する溶融気体検出手段と、該溶融気体検出手段にて検出される前記処理液中に溶融する気体の量を表す情報を出力する手段とを有する構成とすることができる。
【００２３】
このような構成により、処理液中に溶存する気体の量を表す情報が出力されるので、その出力された情報からユーザは、現在処理液中に溶存する気体の量が適量の微細バブルを発生させるために適したものであるか否かを判断することができる。そして、その判断に基づいてユーザが気体の供給量を調整する作業を行うことができるようになる。
【００２４】
前記気体の量を表す情報を出力する手段は、その情報がユーザに提供できるものであれば特に限定されるものではなく、その情報を表示するもの、その情報をプリントアウトするもの、あるいは、その情報を音声出力するものとすることができる。
【００２５】
更に、本発明に係る処理装置において、前記貯液槽からの処理液に溶融させるべき気体を当該処理液に供給する気体供給機構と、前記処理液中に溶融する気体の量を検出する溶融気体検出手段と、該溶融気体検出手段にて検出される前記処理液中に溶融する気体の量に基づいて前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体の量を制御する制御手段とを有する構成とすることができる。
【００２６】
このような構成により、処理液中に溶融される気体の量に基づいて当該処理液に供給される気体の量を制御することができるので、処理液中に溶存する気体の量を考慮した量の気体を供給することができる。
【００２７】
前記溶融気体検出手段にて検出される前記処理液中に溶融する気体の量に基づいた前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体の量の制御は、バブル生成機構にて発生させるべき微細バブルの状況に応じて決めることができる。例えば、処理液中の溶融される気体の量（検出される量）が所定範囲内となるように処理液に供給する気体の量を制御することにより、バブル生成機構に供給される処理液中に溶存する気体の量が安定したものとなる。その結果、バブル生成機構にて処理液中に生成される微細バブルの量がより安定したものとなり得る。また、処理液中の溶存される気体が過飽和の状態になるように処理液に供給する気体の量を制御することもできる。この場合、バブル発生機構にて常に最大の量の微細バブルを処理液中に発生させることができるようになる。
【００２８】
また、本発明に係る処理装置において、前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体は酸素であり、前記溶融気体検出手段は前記処理液中に溶融する酸素の濃度を検出する溶存酸素濃度センサである構成とすることができる。
【００２９】
更に、本発明に係る処理装置において、前記気体供給機構から前記処理液に供給される気体は酸素以外の気体であり、前記溶融気体検出手段は前記処理液中に溶融する酸素の濃度を検出する溶存酸素濃度センサであり、前記制御手段は、前記溶存酸素濃度センサにて検出される酸素の濃度に基づいて前記気体供給機構から前記処理液に供給される酸素以外の気体の量を制御する構成とすることができる。
【００３０】
このような構成により、処理液内に溶存する酸素以外の気体専用の溶存気体濃度センサがなくても、当該気体の処理液中の濃度の大小が当該処理液中の相対的な酸素濃度の大小に影響を与えることから、溶存酸素濃度センサにて前記処理液中に溶存する前記酸素以外の気体の濃度を検出できるので、より広範な種類の気体を利用することができるようになる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係る処理装置によれば、貯液槽からの処理液が吐出ヘッドユニットから吐出されるまでの間に当該処理液中に微細なバブルが生成されて、微細なバブルを含有する処理液を貯めておかなくても被処理物の表面にその処理液を与えることができるので、より少ない始動準備時間にて利用することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る処理装置の構成を示す図である。
【図２】図１に示す処理装置に用いられる吐出ヘッドユニットの内部構造の一例を示す正面断面図である。
【図３】図１に示す処理装置に用いられる吐出ヘッドユニットの内部構造の一例を示す側面断面図である。
【図４】図１に示す処理装置に用いられる吐出ヘッドユニットの内部構造の他の一例を示す正面断面図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係る処理装置の構成を示す図である。
【図６】図５に示す処理装置における制御系の構成例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００３４】
本発明の第１の実施の形態に係る処理装置は、図１に示すように構成される。この処理装置は、被洗浄物であるガラス基板を洗浄する基板洗浄装置である。
【００３５】
図１に示す基板洗浄装置では、洗浄液Ｗ（例えば、純水）が貯留される貯液槽１１の排出口に送通管１２の一方の端部が接続され、送通管１２の他方の端部がポンプ１４の入力口に接続されている。送通管１２のポンプ１４に至るまでの所定部位にガス供給部１３からの気体（例えば、窒素ガス、酸素ガス等）が噴射供給される。ポンプ１４の出力口に接続される送通管は高圧槽１５に接続されている。高圧槽１５は、送通管１２を通して供給されるバブル含有の洗浄液Ｗを高圧に維持して一時的に貯える。バブル含有の洗浄液Ｗが高圧槽１５にて高圧状態に保持される間、バブルを形成する気体が洗浄液Ｗ中に溶融して洗浄液Ｗ中の気体濃度が上昇する。すなわち、高圧槽１５にて気体溶存洗浄液Ｗが生成される。
【００３６】
洗浄室１００内には、洗浄液Ｗを下方に向けて吐出する吐出ヘッドユニット１１０が設置され、被洗浄物であるガラス基板５０が吐出ヘッドユニット１１０に対向するようにその下方に配置されている。ガラス基板５０は、吐出ヘッドユニット１１０に対向して設置されるターンテーブル上に載置されて回転させられるものであっても（スピン処理装置）、搬送機構によって吐出ヘッドユニット１１０の下方を所定の速度で移動するものであってもよい。
【００３７】
前述した高圧槽１５と吐出ヘッドユニット１１０とが送通管１６によって接続されている。送通管１６内には異物を除去するためのフィルタ１７が設けられている。高圧槽１５から気体溶存洗浄液Ｗが送通管１６を通って吐出ヘッドユニット１１０に加圧供給される。吐出ヘッドユニット１１０は、その詳細な構造については後述するが、いわゆる二流体ツールの構造となっており、エア導入管１１１を通して導入される高圧エアによって送通管１６を通して加圧供給される洗浄液Ｗを霧状にして噴出するようにしている。
【００３８】
また、洗浄室１００において、ガラス基板５０の下方に、受け容器１２０が設置されており、ガラス基板５０の洗浄に利用された洗浄液Ｗが受け容器１２０にて回収されるようになっている。そして、受け容器１２０には貯液槽１１に向けて延びる送通管１８が接続されており、受け容器１２０に回収された洗浄液Ｗが、送通管１８を通して貯液槽１１に戻され、再度洗浄に利用できるようになっている。
【００３９】
前述した吐出ヘッドユニット１１０は、図２及び図３に示すように構成されている。なお、図２は、吐出ヘッドユニット１１０の内部構造を示す正面断面図であり、図３は、吐出ヘッドユニット１１０の内部構造を示す側面断面図である。
【００４０】
図２及び図３において、吐出ヘッドユニット１１０は、高圧エアを貯めるエアタンク部１１４と洗浄液Ｗを貯める洗浄液貯留部１１５とを有している。吐出ヘッドユニット１１０には、洗浄液貯留部１１５から下方に向けて延びる複数のノズル１１７が形成され、エアタンク部１１４から洗浄液貯留部１１５の外周を通って複数のノズル１１７の先端から外方に開放するようにエア通路１１６が形成されている（図３参照）。
【００４１】
吐出ヘッドユニット１１０の外壁部にはエアタンク部１１４と外部とを連通させるエア導入口１１２が形成され、エア導入口１１２にエア導入管１１１（図１参照）の端部が接続されている。これにより、エア導入管１１１を通してエアタンク部１１４に高圧エアが供給可能となっている。また、吐出ヘッドユニット１１０は、気体溶存洗浄液Ｗの導入部１１３を有し、導入部１１３には、複数のオリフィス１１３ａが形成されている。そして、送通管１６（図１参照）の端部が導入部１１３に接続され、送通管１６を通って加圧供給される気体溶存洗浄液Ｗが複数のオリフィス１１３ａを通って洗浄液貯留部１１５に導入されるようになっている。
【００４２】
次に、前述した構造の基板洗浄装置の動作について説明する。
【００４３】
ポンプ１４が駆動されると、貯液槽１１からの洗浄液Ｗが送通管１２を通ってポンプ１４の入力口に向かって流れる。その過程で、ガス供給部１３からの気体が送通管１２内の洗浄液Ｗに噴射供給され、送通管１２を流れる洗浄液Ｗは、バブルが混合されたバブル含有洗浄液Ｗとなってポンプ１４に引き込まれていく。そして、ポンプ１４から出たバブル含有洗浄液Ｗが高圧槽１５に供給される。高圧槽１５では、バブル含有洗浄液Ｗが高圧に維持されることから、バブルを形成する気体が洗浄液Ｗ中に溶融して洗浄液Ｗ中の気体濃度が上昇する。そして、気体濃度の高い気体溶存洗浄液Ｗが高圧槽１５からフィルタ１７を通過し、送通管１６を通って洗浄室１００の吐出ヘッドユニット１１０に加圧供給される。
【００４４】
送通管１６を通って加圧状態にて吐出ヘッドユニット１１０に達する気体溶存洗浄液Ｗは、導入部１１３の各オリフィス１１３ａを通して洗浄液貯留部１１５に導入される際にその加圧状態が開放される。この加圧状態の開放によって気体溶存洗浄液Ｗ中に溶融していた気体がバブルとして、特に、微細なバブルとして現れる。これにより、この微細なバブルを含有する洗浄液Ｗが洗浄液貯留部１１５に貯められていく。そして、洗浄液貯留部１１５に一時的に貯められる前記微細なバブルを含有する洗浄液Ｗが複数のノズル１１７のそれぞれから吐出する。なお、前記微細なバブルは、そのサイズの小さい順に、マイクロバブル、マイクロナノバブル、ナノバブルと呼ばれる。
【００４５】
一方、エア導入管１１１を通して吐出ヘッドユニット１１０のエアタンク部１１４には高圧エアが供給される。そしてエアタンク部１１４に供給される高圧エアは、エア通路１１６を通って、前述したように微細なバブルを含有する洗浄液Ｗが吐出する各ノズル１１７の先端から外方に向けて噴出する。この高圧エアがエア通路１１６を通って各ノズル１１７の先端部分から外方に噴出する際に各ノズル１１７から吐出する洗浄液Ｗが粉砕、微粒子化されて霧状になって噴出する。
【００４６】
このようにして吐出ヘッドユニット１１０の複数のノズル１１７の先端部分から霧状となって噴出する洗浄液Ｗがガラス基板５０の表面に吹きかけられ、それによってガラス基板５０の表面が洗浄（処理）される。ガラス基板５０に吹きかけられる霧状の洗浄液Ｗには微細なバブルが含まれており、そのバブルの洗浄効果や酸化作用によってガラス基板５０の表面を良好に洗浄することができる。
【００４７】
前述した基板洗浄装置では、貯液槽１１から吐出ヘッドユニット１１０に洗浄液Ｗを供給する過程で気体溶存洗浄液Ｗが生成され、その気体溶存洗浄液Ｗが吐出ヘッドユニット１１０の洗浄液貯留部１１５に導入される際に、微細なバブルが洗浄液Ｗ中に生成されるようになるので、予め微細なバブルを含有する洗浄液Ｗを貯めおかなくてもガラス基板５０の表面に吐出ヘッドユニット１１０から微細なバブルを含有する洗浄液Ｗを与えることができるようになる。従って、より少ない始動準備時間にて当該基板洗浄装置を利用することができるようになる。
【００４８】
前述した基板洗浄装置では、吐出ヘッドユニット１１０内において気体溶存洗浄液Ｗの加圧状態を開放して微細なバブルを生成しているので、高圧槽１５から吐出ヘッドユニット１１０に向かう送通管１６においてフィルタ１７が異物とともに洗浄液Ｗから微細なバブルを除去してしまうことはない。
【００４９】
吐出ヘッドユニット１１０は、図４に示すように構成することができる。この例では、複数のオリフィス１１３ａの形成された導入部１１３（図２参照）に代えて、高圧槽１５から延びる送通管１６が接続される導入口１１８が形成されている。なお、他の構造は、前述した例と同様である（図３参照）。
【００５０】
この場合、高圧槽１５から送通管１６を通して加圧供給される気体溶存洗浄液Ｗがその加圧状態を維持して吐出ヘッドユニット１１０の洗浄液貯留部１１５に導入される。そして、洗浄液貯留部１１５に一時的に貯められる気体溶存洗浄液Ｗが複数のノズル１１７のそれぞれから外方に向けて吐出する際に加圧状態が開放される。このノズル１１７から吐出する際での加圧状態の開放によって気体溶存洗浄液Ｗ中に溶融していた気体が微細なバブルとして現れる。これにより、各ノズル１１７から微細なバブルを含有する洗浄液Ｗが吐出され、その洗浄液Ｗが更にエア通路１１６を通る高圧エアによって微粒子化されて霧状となってガラス基板５０の表面に与えられる。
【００５１】
この場合も、貯液槽１１から吐出ヘッドユニット１１０に洗浄液Ｗを供給する過程で気体溶存洗浄液Ｗが生成され、その気体溶存洗浄液Ｗが吐出ヘッドユニット１１０の各ノズル１１７から吐出する際に、微細なバブルが洗浄液Ｗ中に生成されるようになるので、予め微細なバブルを含有する洗浄液Ｗを貯めおかなくてもガラス基板５０の表面に吐出ヘッドユニット１１０から微細なバブルを含有する洗浄液Ｗを与えることができるようになる。従って、前述した例と同様に、より少ない始動準備時間にて当該基板洗浄装置を利用することができるようになる。
【００５２】
前述した各例では、吐出ヘッドユニット１１０において気体溶存洗浄液Ｗの加圧状態を開放して微細なバブルを含有する洗浄液Ｗが生成されたが、貯液槽１１からの洗浄液Ｗが吐出ヘッドユニット１１０の各ノズル１１７から吐出されるまでの間であれば、いずれの位置であっても、微細なバブルを含有する洗浄液Ｗを生成することができる。
【００５３】
次に本発明の第２の実施の形態に係る処理装置について説明する。本発明の第２の実施の形態に係る処理装置は、図５に示すように構成されている。この処理装置は、洗浄液Ｗに溶融している気体の濃度をモニタする点で前述した第１の実施の形態に係る処理装置と異なる。なお、図５において、図１に示す部分と同じ部分については同じ参照番号が付されている。
【００５４】
図５において、この処理装置は、図１に示す処理装置と同様に、洗浄液Ｗを貯留する貯液槽１１、ガス供給部１３、ポンプ１４、高圧槽１５、フィルタ１７、送通管１２、１６、１８及び洗浄室１００を有している。フィルタ１７から洗浄室１００に延びる送通管１６には、送通管１６を通る洗浄液Ｗに溶解しているガスの濃度（溶存ガスの量に相当）を検出する溶存ガス濃度センサ１９が設けられるとともに、ガス供給部１３から送通管１２に延びる供給ガスの送通路にはアクチュエータ２１によってその開度が調整される開閉弁２０が設けられている。この第２の実施の形態では、ガス供給部１３から供給されるガスを酸素ガスとするとともに溶存ガス濃度センサ１９を溶存酸素濃度センサ１９とする。
【００５５】
この処理装置における制御系は、図６に示すように構成される。図６において、溶存酸素濃度センサ１９及びアクチュエータ２１が処理ユニット２５に接続されており、処理ユニット２５は、溶存酸素濃度センサ１９からの検出信号に基づいて開閉弁２０の開度を調整するアクチュエータ２１の駆動制御を行うようになっている。なお、開閉弁２０、アクチュエータ２１及び処理ユニット２５にて洗浄液Ｗ（処理液）に供給される酸素（気体）の量を制御する制御手段が構成される。また、処理ユニット２５には表示ユニット２６が接続されており、処理ユニット２５は、溶存酸素濃度センサ１９からの検出信号から洗浄液Ｗ中に溶存している酸素の濃度（酸素の量に相当）を表す表示データを生成し、該表示データに基づいて表示ユニット２６に洗浄液Ｗ中に溶存している酸素の濃度を表示（出力）させる。
【００５６】
このような処理系では、処理ユニット２５は、溶存酸素濃度センサ１９からの検出信号にて表わされる酸素濃度が所定濃度範囲になるように、ガス供給部１３から供給される酸素ガスの量を制御する。具体的には、アクチュエータ２１の駆動制御によって開閉弁２０の開度調整がなされ、開閉弁２０の開度に応じた量の酸素ガスがガス供給部１３から送通管１２を通る洗浄液Ｗに供給されるようになる。
【００５７】
このような処理装置によれば、洗浄室１００に供給される洗浄液Ｗ中に溶存する酸素の量（濃度）が安定するので、洗浄室１００において、洗浄液Ｗ中での安定的な微細バブルの発生が可能となり、吐出ヘッド１１０の各ノズル１１７から吐出される洗浄液Ｗ中に含有される微細バブルの量も安定するようになる。その結果、ガラス基板５０の効果的な洗浄を安定的に行うことができるようになる。
【００５８】
また、表示ユニット２６に洗浄液Ｗ中に溶存する酸素の濃度が表示されるので、ユーザは、その表示される酸素の濃度から、適正な量の微細バブルが発生し得る洗浄液Ｗが洗浄室１００に供給されているか否かを判断することができる。
【００５９】
また、表示ユニット２６に洗浄液Ｗ中に溶存する酸素の濃度が表示（出力）される場合、開閉弁２０は、アクチュエータ２１にてその開度を調整されるものではなく、手動にて調整できるものであってもよい。この場合、ユーザが、表示ユニット２６に表示される酸素濃度に従って、開閉弁２０の開度を手動にて調整することができる。
【００６０】
本発明の第２の実施の形態に係る処理装置では、ガス供給部１３から酸素ガスが供給されていたが、酸素以外のガス、例えば、窒素ガスを供給することもできる。この場合、溶存酸素濃度センサ１９をそのまま使用することができる。ガス供給部１３から供給される窒素ガスの量が多くなって、洗浄液Ｗ中に溶存する窒素ガス濃度が大きくなると、相対的に溶存酸素濃度が低下する。従って、溶存酸素濃度センサ１９からの検出信号にて表わされる酸素濃度が小さくなると、洗浄液Ｗ中に溶存する窒素ガス濃度が大きくなる。この相関関係に基づいて処理ユニット２５は、溶存酸素濃度センサ１９からの検出信号に基づいて洗浄液Ｗ中の窒素ガスの濃度（窒素ガスの量）を検出することができる。処理ユニット２５は、その検出した窒素ガスの濃度に基づいて開閉弁２０の開度を調整するアクチュエータ２１を駆動する。その結果、洗浄液Ｗ中に溶存する窒素ガスの濃度を安定化させることができる。
【００６１】
前述した各実施の形態では、微細なバブルを含有する洗浄液Ｗを用いて被洗浄物の表面を洗浄する洗浄装置であったが、その微細なバブルを含む処理液を洗浄以外の処理（例えば、有機物分解処理）に用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
以上、説明したように、本発明に係る処理装置は、より少ない始動準備時間にて利用することができるという効果を有し、微細なバブルを含有する液体を被処理物の表面に与えて当該被処理物の表面を処理する処理装置として有用である。
【符号の説明】
【００６３】
１１  貯液槽
１２  送通管
１３  ガス供給部
１４  ポンプ
１５  高圧槽
１６  送通管
１７  フィルタ
１８  送通管
１９  溶存ガス濃度センサ（溶存酸素濃度センサ）
２０  開閉弁
２１  アクチュエータ
２５  処理ユニット
２６  表示ユニット
５０  ガラス基板（被処理物）
１００  洗浄室
１１０  吐出ヘッドユニット
１１１  エア導入管
１１２  導入口
１１３  導入部
１１３ａ  オリフィス
１１４  エアタンク部
１１５  洗浄液貯留部
１１６  エア通路
１１７  ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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