(57)【要約】【課題】塗布対象物の塗布領域に液体を均一に塗布する。【解決手段】ヘッドシリンダ１２の軸線に対して、ノズル１０の吐出路１４０は斜めに形成されている。また、吐出方向変更部４０は、モータ６４とプーリ６２とベルト６０と制御部６６ａとから構成される。吐出方向変更部４０によって、ノズル１０の吐出路１４０は、ノズル１０の送り方向の逆側に所定角度だけ鉛直線に対し傾斜した方向に向けられる。ノズル１０の送り動作をしながら溶液を吐出した場合に、ノズル１０の相対速度の送り方向成分は、送り方向と逆方向に鉛直線から傾斜した向きにノズル１０から溶液が吐出されることによって相殺され、基板の塗布領域に対して鉛直方向から溶液が塗布される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物の塗布領域に対して相対的に移動しながら、前記塗布領域に液体を吐出する吐出部であって、
前記吐出部は、
前記液体が充填される本体と、
前記本体の一端側に設けられ、前記液体を吐出する吐出路を有するノズルプレートと、
を備え、
前記吐出路の軸線は、鉛直線に対して、前記吐出部の前記塗布領域に対して相対的に進行する進行方向の逆側に向けて傾斜している、
ことを特徴とする吐出部。
【請求項２】
前記吐出路の軸線は、前記進行方向への前記吐出部の進行速度に合わせて、前記吐出路から吐出した前記液体が前記塗布領域に入射する方向を鉛直方向に近づけるように傾斜されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の吐出部。
【請求項３】
前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して傾斜している、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の吐出部。
【請求項４】
前記吐出路の前記液体を吐出する吐出面は、前記吐出路の軸線に垂直に形成されている、
ことを特徴とする請求項３に記載の吐出部。
【請求項５】
前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して平行であり、
前記本体の軸線が鉛直線に対して傾斜している、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の吐出部。
【請求項６】
塗布対象物の塗布領域に液体を塗布する塗布装置であって、
前記液体が充填される本体と、前記本体の一端側に設けられ、前記液体を吐出する吐出路を有するノズルプレートと、を有する吐出部と、
前記吐出部を前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に進行するように、前記吐出部あるいは前記塗布対象物の少なくとも一方を移動させる移動部と、
前記吐出路の軸線を、鉛直線に対して、前記吐出部が前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に進行する進行方向の逆側に向けて傾斜させる吐出方向変更部と、を備える、
ことを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
前記吐出路の軸線は、前記進行方向への前記吐出部の進行速度に合わせて、前記吐出路から吐出した前記液体が前記塗布領域に入射する方向を鉛直方向に近づけるように傾斜されている、
ことを特徴とする請求項６に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して傾斜しており、
前記吐出方向変更部は、前記移動部により設定される前記吐出部あるいは前記塗布対象物の相対的な進行方向の変更に応じて、前記本体の軸線を中心として所定の角度に前記吐出部を回動させて、前記吐出路の軸線の鉛直線に対する傾斜方向を変更する第１の吐出方向変更部を備える、
ことを特徴とする請求項６又は７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して平行であり、
前記吐出方向変更部は、前記移動部により設定される前記吐出部あるいは前記塗布領域の相対的な進行方向の変更に応じて、前記本体に前記移動方向に直交して水平方向に設定された支持軸を中心として前記吐出部を回動させて、前記本体の軸線の鉛直線に対する傾斜方向を変更する第２の吐出方向変更部を備える、
ことを特徴とする請求項６又は７に記載の塗布装置。
【請求項１０】
塗布対象物の塗布領域に液体を塗布する塗布方法であって、
前記液体を吐出する吐出路を有する吐出部が前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に進行する進行方向に応じて、前記吐出路の軸線を、鉛直線に対して、前記吐出部の前記塗布領域に対する相対的な進行方向の逆側に向けて傾斜させ、
前記吐出部が前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に前記進行方向に進行するように、前記吐出部或いは前記塗布対象物の少なくとも１つを移動しながら、前記吐出路から前記塗布領域に前記液体を吐出させる、
ことを特徴とする塗布方法。
【請求項１１】
前記吐出路の軸線を傾斜させる動作は、前記吐出部の前記塗布領域に対する移動速度に合わせて、前記吐出路から吐出した前記液体の前記塗布領域に入射する方向を鉛直方向に近づけるように傾斜させる動作を含む、
ことを特徴とする請求項１０に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体を吐出する吐出部、塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の有機ＥＬ表示装置を製造する際、発光層を含む有機ＥＬ層を形成する工程においては、液体を吐出するノズル孔を有するノズルを基板に相対的に移動させると同時に、ノズル孔から有機ＥＬ材料（溶液）を連続的に吐出させて、基板上に塗布することによって有機ＥＬ層を形成する方式がある。
【０００３】
例えば、特許文献１には、有機ＥＬ材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じた溝を基板上に形成しておき、この溝にノズルを沿わせるように基板とノズルとを相対的に移動させて、前記ノズルからの有機ＥＬ材料を前記溝内に流し込んで塗布する過程を備えたことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に開示されているノズルは、塗布対象物の表面に対して垂直方向に液体を吐出しながら移動する。このため、ノズルから吐出され、塗布対象物に付着する液体は、塗布対象物への付着点を中心にして略均一に広がるのではなく、液体の付着点から主にノズルの進行方向に向かって広がってしまう。特に、塗布対象物に凹凸がある場合には、液体を均一に塗布することが困難であった。
このため、特に大型の有機ＥＬ基板を製造するのが困難であり、製品仕様が限定されることとなっていた。
【０００６】
なお、このような問題点は、所定の条件のもと、発光層の材料を含む液体以外の液体を塗布するときにも生じ得ると考えられる。
【０００７】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、塗布対象物の塗布領域に液体を均一に塗布することができる吐出部、それを用いた塗布装置、及びその塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の観点に係る吐出部は、
塗布対象物の塗布領域に対して相対的に移動しながら、前記塗布領域に液体を吐出する吐出部であって、
前記吐出部は、
前記液体が充填される本体と、
前記本体の一端側に設けられ、前記液体を吐出する吐出路を有するノズルプレートと、を備え、
前記吐出路の軸線は、鉛直線に対して、前記吐出部の前記塗布領域に対して相対的に進行する進行方向の逆側に向けて傾斜している、
ことを特徴とする。
【０００９】
また、前記吐出路の軸線は、前記進行方向への前記吐出部の進行速度に合わせて、前記吐出路から吐出した前記液体が前記塗布領域に入射する方向を鉛直方向に近づけるように傾斜されていることが好ましい。
【００１０】
例えば、前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して傾斜してもよい。
【００１１】
更に、前記吐出路の前記液体を吐出する吐出面は、前記吐出路の軸線に垂直に形成されているようにしてもよい。
【００１２】
また、前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して平行であり、
前記本体の軸線が鉛直線に対して傾斜しているようにしてもよい。
【００１３】
本発明の第２の観点に係る塗布装置は、
塗布対象物の塗布領域に液体を塗布する塗布装置であって、
前記液体が充填される本体と、前記本体の一端側に設けられ、前記液体を吐出する吐出路を有するノズルプレートと、を有する吐出部と、
前記吐出部を前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に進行するように、前記吐出部あるいは前記塗布対象物の少なくとも一方を移動させる移動部と、
前記吐出路の軸線を、鉛直線に対して、前記吐出部が前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に進行する進行方向の逆側に向けて傾斜させる吐出方向変更部と、を備える、
ことを特徴とする。
【００１４】
例えば、前記吐出路の軸線は、前記進行方向への前記吐出部の進行速度に合わせて、前記吐出路から吐出した前記液体が前記塗布領域に入射する方向を鉛直方向に近づけるように傾斜されていてもよい。
【００１５】
また、前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して傾斜しており、
前記吐出方向変更部は、前記移動部により設定される前記吐出部あるいは前記塗布対象物の相対的な進行方向の変更に応じて、前記本体の軸線を中心として所定の角度に前記吐出部を回動させて、前記吐出路の軸線の鉛直線に対する傾斜方向を変更する第１の吐出方向変更部を備えることが好ましい。
【００１６】
または、前記吐出路の軸線は前記本体の軸線に対して平行であり、
前記吐出方向変更部は、前記移動部により設定される前記吐出部あるいは前記塗布領域の相対的な進行方向の変更に応じて、前記本体に前記移動方向に直交して水平方向に設定された支持軸を中心として前記吐出部を回動させて、前記本体の軸線の鉛直線に対する傾斜方向を変更する第２の吐出方向変更部を備えるようにしてもよい。
【００１７】
本発明の第３の観点に係る塗布方法は、
塗布対象物の塗布領域に液体を塗布する塗布方法であって、
前記液体を吐出する吐出路を有する吐出部が前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に進行する進行方向に応じて、前記吐出路の軸線を、鉛直線に対して、前記吐出部の前記塗布領域に対する相対的な進行方向の逆側に向けて傾斜させ、
前記吐出部が前記塗布対象物の前記塗布領域に対して相対的に前記進行方向に進行するように、前記吐出部或いは前記塗布対象物の少なくとも１つを移動しながら、前記吐出路から前記塗布領域に前記液体を吐出させる、
ことを特徴とする。
【００１８】
前記吐出路の軸線を傾斜させる動作は、前記吐出部の前記塗布領域に対する移動速度に合わせて、前記吐出路から吐出した前記液体の前記塗布領域に入射する方向を鉛直方向に近づけるように傾斜させる動作を含むと好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の吐出部、塗布装置及び塗布方法によれば、液体を均一に塗布する吐出部、塗布装置、及び、液体を均一に塗布する塗布方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】塗布装置の全体構成を示す模式図である。
【図２】溶液を吐出するノズルが基板に対して相対移動する様子を示す模式的な斜視図である。
【図３】発光装置として機能する状態となった、基板、隔壁、画素電極、発光層及び対向電極を示す、図２中のＹ方向の断面図である。
【図４】液体の吐出状態時における本実施形態に係るノズルを模式的に示す断面図である。
【図５】（ａ）は、第１実施形態に係るノズルに備えられた吐出方向変更部を示す正面図（一部に断面図を含む）であり、（ｂ）は下面図である。
【図６】図５の状態からノズルを軸線中心に１８０度回転させた状態における（ａ）は、ノズルの吐出方向変更部を示す正面図（一部に断面図を含む）であり、（ｂ）は下面図である。
【図７】（ａ）は、従来のノズルにおける、基板に対する相対的な溶液の吐出速度を示すベクトル図であり、（ｂ）は、本発明の実施形態に係るノズルにおける、基板に対する相対的な溶液の吐出速度を示すベクトル図である。
【図８】（ａ）は、従来のノズルから吐出した溶液が基板に付着する２つの瞬間を示す図であり、（ｂ）は、本実施形態に係るノズルから吐出した溶液が基板に付着する２つの瞬間を示す図である。
【図９】（ａ）は、図８（ａ）に示されたＡ部を拡大して示す図であり、（ｂ）は、図８（ｂ）に示されたＡ部を拡大して示す図である。
【図１０】（ａ）は、従来のノズルが溶液を吐出しながら隔壁を乗り越えている２つの瞬間の状態を示す図である。（ｂ）は、本実施形態に係るノズルが溶液を吐出しながら隔壁を乗り越えている２つの瞬間の状態を示す図である。
【図１１】第１の変形例に係る吐出方向変更部を示す正面図（一部に断面図を含む）である。
【図１２】（ａ）は、ノズルプレートに形成された吐出路及び吐出面を示す図である。（ｂ）は、第２の変形例に係る、ノズルプレートに形成された吐出路及び吐出面を示す図である。（ｃ）は、第３の変形例に係る、ノズルプレートに形成された吐出路及び吐出面を示す図である。
【図１３】（ａ）は、第２の実施形態に係るノズルに備えられた吐出方向変更部を示す側面図である。（ｂ）は、（ａ）の状態に対して吐出方向を変更した状態における吐出方向変更部を示す正面図である。
【図１４】（ａ）は、第２の実施形態の変形例に係るノズルに備えられた吐出方向変更部を示す正面図である。（ｂ）は、他の例の吐出方向変更部を示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態に係る吐出部、塗布装置、及びその塗布方法について、図面を参照して説明する。なお、本発明は下記で説明する実施形態（図面に記載された内容も含む。）によって限定されるものではない。下記で説明する実施形態に変更を加えることができる。特に、下記で説明する実施形態の構成要素を適宜削除してもよい。また、以下においては、本発明をノズルプリンティング方式の塗布装置に適用した場合について説明するが、これに限るものではなく、インクジェット方式の塗布装置に対しても好適に適用可能なものである。
【００２２】
下記では、吐出部が吐出する液体を、有機ＥＬ材料（以下では溶液という。）とした場合を説明するが、吐出部が吐出する液体は、他の液体であってもよい。溶液は、例えば、高分子発光材料が溶媒に溶解又は分散した液体である。高分子発光材料は、発光することが可能な公知の材料である。このような材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン系又はポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料等がある。溶媒は、例えば、水系溶媒又は有機溶媒である。有機溶媒としては、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン又はキシレン等がある。このような溶液が塗布され、塗布された溶液が乾燥することによって、有機ＥＬ素子における発光層、正孔注入層、インターレイヤ等を有してなる有機ＥＬ層が形成される。
【００２３】
＜第１の実施形態＞
塗布装置９００は、ノズルプリンティング方式によって塗布するものであり、図１に示すように、溶液タンク９０３と、供給管９０９と、加圧部９０７と、第１駆動部９０５と、流量計９１１と、ノズル（吐出部）１０と、吐出部支持部材９１５と、第２駆動部９１３（移動部）と、ステージ９１９と、第３駆動部９１７（移動部）と、第４駆動部（第１の吐出方向変更部、以下、吐出方向変更部と称呼する）４０と、制御部６６ａと、を主に備える。なお、塗布装置９００のノズル１０以外の各構成要素は、適宜、公知のものによって構成できる。また、ノズル１０から溶液が塗布される基板３０は、ステージ９１９に設置される。ここで、基板３０の構成の概要について説明する。基板３０には、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の発光色を有する有機ＥＬ素子を有する複数の画素がマトリクス状に配置されている。この基板３０には、複数の走査線が行方向に配列され、複数の信号線が走査線と直交するよう列方向に配列され、走査線と信号線との各交点近傍に画素が配列されている。そして、同じ発光色の有機ＥＬ素子を有する画素が信号線の配列方向に沿って列方向に配列され、走査線の配列方向に沿った行方向にＲ，Ｇ，Ｂの発光色の有機ＥＬ素子を有する画素が一定の順序で繰り返し配列されている。基板３０には、列方向に配列された画素における有機ＥＬ素子の形成領域を区画する隔壁３６が形成されており、隔壁３６で囲まれた領域が溶液を塗布する塗布領域となる。
【００２４】
溶液タンク９０３は、溶液を溜めるためのものである。供給管９０９の一端が溶液タンク９０３に連通して接続されている。
【００２５】
供給管９０９は、溶液をノズル１０へと導くものである。供給管９０９は、フレキシブルな材料で形成される。
【００２６】
加圧部９０７は、例えば、溶液タンク９０３内を摺動し、（所謂ピストン運動によって）溶液タンク９０３に溜められた溶液を押圧して溶液タンク９０３内の圧力を上げて、供給管９０９に向けて溶液を流すもので、第１駆動部９０５によって駆動される。
【００２７】
第１駆動部９０５は、例えば、コンプレッサ（図示せず）とバルブ（図示せず）とから構成される。第１駆動部９０５は、制御部６６ａによる制御信号に応じてバルブを開き、コンプレッサによって蓄積した圧縮空気を加圧部９０７に導入して、加圧部９０７を移動させる。
【００２８】
流量計９１１は、供給管９０９内を流れる溶液の流量を測定し、制御部６６ａに電気信号を出力するものである。流量計９１１は、例えば熱電対式や超音波式流量計が用いられる。流量計９１１は、これらの方式によって溶液の流量を計測し、その流量に応じた電気信号をデジタル信号で制御部６６ａに出力する。
【００２９】
ノズル１０は、基板３０に向けて溶液を吐出する吐出口を有し、供給管９０９の他端に接続されている。なお、詳細な構成については後述する。
【００３０】
吐出部支持部材９１５は、ノズル１０を支持する。詳細な構成については後述する。
【００３１】
第２駆動部９１３は、制御部６６ａの制御に応じて、吐出部支持部材９１５を、図１、図２中の左右方向（Ｘ方向：これを主走査方向とする）に移動させる。即ち、第２駆動部９１３は、吐出部支持部材９１５及びノズル１０を、基板３０に対して相対的に左右方向に移動させる。この主走査方向は基板３０の列方向に対応する。
【００３２】
ステージ９１９は、基板３０を固定するものである。
【００３３】
第３駆動部９１７は、制御部６６ａによって制御され、図２中のＹ方向に対応する方向（これを副走査方向とする）にステージ９１９を動かす。即ち、ステージ９１９の移動に伴って、図２中のＹ方向に基板３０が移動する。この副走査方向は基板３０の行方向に対応する。
【００３４】
吐出方向変更部４０は、ノズル１０の溶液の吐出方向を変更するために、ノズル１０を垂直軸周りに回動させるものである。詳細な構成については後述する。
【００３５】
制御部６６ａは、基板３０に溶液を塗布するために、塗布装置９００全体を制御するものである。詳細には、制御部６６ａは、加圧部９０７によって一定の割合で供給管９０９に溶液を供給するように、流量計９１１から送信される電気信号に応じて、第１駆動部９０５を制御する。また、制御部６６ａは、吐出部支持部材９１５を基板３０に対して主走査方向に移動させるように、第２駆動部９１３を制御する。また、制御部６６ａは、溶液を基板３０の溶液塗布領域の１ラインを塗布した後、ステージ９１９を副走査方向にステップ移動させるように、第３駆動部９１７を制御する。更に、ノズル１０の基板３０に対する相対的な進行方向Ｄに応じて、溶液の吐出方向を変更するように、第４駆動部４０を制御する。（詳細な構成については後述する。）制御部６６ａは、溶液を塗布する全てのラインに対して上記の制御を順次行う。
【００３６】
上記構成によって、図２に示すように、ノズル１０は、基板３０に対してジグザグに移動しながら、基板３０の塗布領域に連続的に溶液を吐出することとなる。
【００３７】
なお、第３駆動部９１７が、ステージ９１９を介して基板３０を副走査方向に移動させるのではなく、ステージ９１９を設けることなく、第３駆動部９１７上に直接、基板３０を載置させて、基板３０を副走査方向に直接移動させるようにしてもよい。
また、図２においてはノズル１０を１個備える構成としたが、これに限るものではない。ノズル１０を２個以上備えて、基板３０の複数のラインを併行して塗布するものであってもよい。この場合、第３駆動部９１７による副走査方向の移動量がノズル１０を１個備える場合と異なる他は、同等の動作となる。
【００３８】
次に、ノズル１０によって溶液が塗布されて、有機ＥＬ層が形成され、発光装置２１として機能する状態となった、基板３０、隔壁３６、画素電極（アノード電極）４３、発光層４５及び対向電極（カソード電極）４６の図２中のＹ方向の断面構造について、図３を参照して説明する。
【００３９】
基板３０上には、ゲート導電層をパターニングしてなるトランジスタＴ１、トランジスタＴ１のゲート電極Ｔ１ｇが形成されている。各発光画素に隣接した基板３０上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインＬｄが形成されている。 
【００４０】
トランジスタＴ１のゲート電極Ｔ１ｇ、及びデータラインＬｄ上に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等により絶縁膜３２が形成されている。 
【００４１】
ＣＶＤ法等により、絶縁膜３２上に、アモルファスシリコン等からなる半導体層１１４が形成されている。更に、半導体層１１４上に、ＣＶＤ法等により、例えばＳｉＮ等からなる絶縁膜が形成されている。 
【００４２】
更に、ストッパ膜１１５は、フォトリソグラフィ等により絶縁膜がパターニングされて半導体層１１４上に形成されている。更に、半導体層１１４及びストッパ膜１１５上に、半導体層１１４とオーミックコンタクト層１１６，１１７とは、ｎ型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜がＣＶＤ法等により形成され、この膜と半導体層１１４とをフォトリソグラフィ等によりパターニングされることで形成されている。
【００４３】
ドレイン電極Ｔ１ｄ及びソース電極Ｔ１ｓは、絶縁膜３２に貫通孔であるコンタクトホールが形成され、例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜がスパッタ法、真空蒸着法等により被膜され、フォトリソグラフィによってパターニングされることで形成されている。
【００４４】
画素電極４３は、透光性を備える導電材料で形成され、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ等から構成される。各画素電極４３は、隣接する他の発光画素の画素電極４３と層間絶縁膜４７によって絶縁されている。 
【００４５】
層間絶縁膜４７は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成され、画素電極４３間に形成され、各トランジスタＴ１やセレクトライン（図示せず）、アノードライン（図示せず）を絶縁保護する。層間絶縁膜４７には略方形の開口部４７ａが形成されており、この開口部４７ａによって発光画素の発光領域が画される。更に層間絶縁膜４７上の隔壁３６に沿って列方向に延びる溝状の開口部３６ａが複数の発光画素にわたって形成されている。
【００４６】
隔壁３６は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜４７上に形成される。隔壁３６は、列方向に沿った複数の発光画素の画素電極４３をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁３６の平面形状は、これに限られず、画素電極４３毎に開口部をもった格子状であってもよい。
【００４７】
発光層４５は、画素電極４３上に形成されている。発光層４５は、アノード電極４３と対向電極４６との間に電圧が印加されることにより、光を発生する機能を有する。
【００４８】
発光層４５は、本実施形態の塗布装置９００によって溶液が塗布され、溶液中の溶媒を揮発させることによって形成されるものである。
【００４９】
また、対向電極４６は、ボトムエミッション型の場合、発光層４５側に設けられ、導電材料、例えばＬｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Ａｌ等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。
【００５０】
尚、本実施形態では、便宜上、発光に寄与する有機ＥＬ層（有機層）として発光層４５のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、有機ＥＬ層は、正孔注入層と発光層とを備えてもよく、正孔注入層とインターレイヤと発光層とを備えてもよい。
【００５１】
次に、図４を参照して、溶液（有機ＥＬ材料）を吐出するノズル１０を説明する。ノズル１０は、ヘッドシリンダ１２と、シリンダフランジ１３と、ノズルプレート１４と、ノズルキャップ１６と、から主に構成される。
【００５２】
ヘッドシリンダ１２は、ノズル１０の本体であり、筒状に形成されている。供給管９０９によって、ヘッドシリンダ１２の内部に溶液が供給される。また、ヘッドシリンダ１２の上端部の外周面には、円板状のシリンダフランジ１３が大径方向に突出して形成されている。また、ヘッドシリンダ１２の下端部の外周面に、後述するノズルキャップ１６の雌ねじに適合する雄ねじが形成されている。
【００５３】
シリンダフランジ１３は、図５に示して後述する吐出部支持部材９１５とヘッドシリンダ１２との間に嵌装された軸受６７の内輪に下面を支持され、ノズル１０の姿勢を一定に保つ。
【００５４】
ノズルプレート１４は、円板状に形成され、中心部に吐出口をなす貫通孔（溶液を吐出する吐出路）１４０を有する。吐出路１４０は、ノズルプレート１４の上下面に対して所定の角度で斜めに貫通して形成されている。換言すると、吐出路１４０は、ヘッドシリンダ１２の軸線に対して所定の角度で斜め向きに形成されている。
【００５５】
ノズルキャップ１６は、キャップ状に形成され、その中央部に貫通孔１６０を有する。また、ノズルキャップ１６の内面には、上記のヘッドシリンダ１２の外周面に形成された雄ねじに適合する雌ねじが形成されている。ノズルキャップ１６は、ヘッドシリンダ１２の下面との間にノズルプレート１４を挟みこむようにして、ヘッドシリンダ１２にねじ込まれる。このようにして、ノズルプレート１４がノズル１０に組み込まれる。
【００５６】
上記のように構成されたノズル１０は、ノズルプレート１４の吐出路１４０を介して所定の角度で溶液を吐出する。
【００５７】
次に、ノズル１０を支持する吐出部支持部材９１５の構成について、図５を参照して説明する。
【００５８】
吐出部支持部材９１５は、板状に形成されており、吐出方向変更部４０を収めるための凹状の窪み９２０が一部に形成されている。吐出部支持部材９１５は、窪み９２０の所定の位置に貫通孔９１８を有する。この貫通孔９１８に軸受６８が嵌装されている。貫通孔９１８に挿入されたノズル１０は、軸受６８によって、回転可能に支持される。
【００５９】
また、板状に形成された蓋部材９１６が、吐出部支持部材９１５の上面と略面一となるように窪み９２０を覆っている。蓋部材９１６は、吐出部支持部材９１５の貫通孔９１８の鉛直線を同心とする貫通孔９２５を有する。この貫通孔９２５に軸受６７が嵌装されている。貫通孔９２５に挿入されたノズル１０は、軸受６７によって、回転可能に支持される。蓋部材９１６と吐出部支持部材９１５とによって、吐出方向変更部４０を収納する収納空間９２２は区画される。
【００６０】
次に、ノズル１０の吐出方向２２，２３を変更する吐出方向変更部４０について、図５及び図６を参照して説明する。吐出方向変更部４０は、吐出部支持部材９１５の内部に配設され、ベルト６０と、プーリ６２と、モータ６４と、制御部６６ａと、から主に構成される。
【００６１】
ベルト６０は、ヘッドシリンダ１２と円柱状のプーリ６２とに架け渡された無端ベルトである。
【００６２】
モータ６４は、プーリ６２を所定の角度に回転駆動するステッピングモータであり、制御部６６ａによって、回転角度を制御される。モータ６４は、吐出部支持部材９１５の窪み９２０に固定されている。
【００６３】
ノズル１０の基板３０に対する相対的な進行方向Ｄが図５に示す右側から、図６に示す左側に変わったとき、又はその逆に変わったときに、制御部６６ａはモータ６４を所定の角度だけ回転させる。モータ６４の軸の回転に伴って、プーリ６２が回転するとともに、ベルト６０が回動する。ベルト６０の回動によって、吐出路１４０から吐出される溶液の吐出方向２３が、ノズル１０の基板３０に対する相対的な進行方向Ｄと逆側となる位置にヘッドシリンダ１２は回動する。
このようにして、吐出方向変更部４０は、ノズル１０の回転角度を調整する。
【００６４】
次に、基板３０に垂直に溶液を吐出する従来の場合と、所定の角度で溶液を吐出する本発明の場合との、基板３０に対する相対的な溶液の吐出方向２２，２３の違いについて、図７を参照して説明する。
【００６５】
まず、従来のノズルは、基板３０に垂直に溶液を吐出する。この場合、図７（ａ）に示すように、ノズル送り速度ベクトル５０と溶液吐出速度ベクトル５２ａとの合成からなる、溶液の合成速度ベクトル５４ａは、ノズル１０の送り方向側に斜めに向くこととなる。
【００６６】
対して、本発明の実施形態に係るノズル１０は、ノズル送り速度ベクトル５０の向きに対して逆側の向きの吐出方向２２に所定の角度で溶液を吐出する。この場合、図７（ｂ）に示すように、ノズル送り速度ベクトル５０と溶液吐出速度ベクトル５２ｂとの合成からなる、溶液の合成速度ベクトル５４ｂは、ノズル１０の送り方向の速度成分が打ち消され、基板３０に略垂直（略鉛直方向）に向くこととなり、ノズル１０から吐出された溶液は、基板３０に対して略鉛直方向から入射することになる。ここで、吐出方向２２の方向は、合成速度ベクトル５４ｂが基板３０に対して略垂直方向となる向きに設定される。
【００６７】
本実施形態に係るノズル１０と従来のノズルとの基板３０への溶液の塗布状態の違いを図８乃至図１０を参照して説明する。
【００６８】
まず、溶液が塗布される基板３０上には、トランジスタ等の回路素子や配線部材からなる回路構造物３４、各画像表示領域に区分けする隔壁３６が設けられている。
【００６９】
従来のノズルを用いると、図８（ａ）に示すように、合成速度ベクトル５４ａの方向成分にあたる溶液入射方向７４ａに入射する吐出液２８によって、塗布領域３３上にある回路構造物３４に溶液が塗布される。溶液入射方向７４ａが基板３０に対して傾斜しているため、ノズルの基板３０に対する相対的な進行方向Ｄに沿って吐出された吐出液２８の背後に面する隔壁３６近傍の領域Ｂには、隔壁３６が障害となって吐出液２８が着地しにくくなる。そのため、隔壁３６近傍の領域Ｂに配置された回路構造物３４には、溶液が十分には塗布されない。
【００７０】
対して、本実施形態に係るノズル１０では、ノズルプレート１４の吐出路１４０における溶液の導出する向きが、進行方向Ｄに対して逆方向に向くよう、ヘッドシリンダ１２の軸線に対して所定の角度で斜め向きに設定されている。したがって、吐出路１４０から吐出された吐出液２８は、図８（ｂ）に示すように、合成速度ベクトル５４ｂの方向成分にあたる溶液入射方向７４ｂに吐出される。溶液入射方向７４ｂは、基板３０に対して略垂直な方向であるため、略鉛直方向から入射する吐出液２８によって、塗布領域３３上にある回路構造物３４に溶液が塗布される。したがって、進行方向Ｄに沿って吐出された吐出液２８の背後に面する隔壁３６近傍の領域Ｂに配置された回路構造物３４にも、溶液を塗布することができる。
なお、隔壁３６近傍の領域Ｂに、回路構造物３４の代わりに、ダミー回路構造物を設けてもよい。ダミー回路構造物は、回路構造物３４と同一製造プロセスで製造され、且つ回路構造物３４と同等の構造であるが、回路構造物３４と同様の回路としての機能は有していない。図８（ａ）に示す方法では、ダミー回路構造物のある領域Ｂ上に塗布される溶液は、上述の通り隔壁３６で囲まれた中央領域Ａ上に塗布される溶液よりも薄くなってしまう。ダミー回路構造物は画素として機能しないため、塗布される溶液が薄くてもよいが、ノズルの基板３０に対する相対的な移動速度が速いほど、画素全体における領域Ｂの面積比率が高くなってしまう。したがって、ダミー回路構造物の配置面積を増やさなければならないといった問題が生じる。これに対して、図８（ｂ）に示す方法では、ダミー回路構造物のある領域Ｂ上に塗布される溶液の量は、隔壁３６で囲まれた中央領域Ａ上に塗布される溶液の量と略同等とすることができる。そのため、ダミー回路構造物の配置面積を減らす、あるいは、ダミー回路構造物を設けないようにすることができる。
【００７１】
また、図８に示された回路構造物３４（例えばトランジスタ）の近傍を拡大して図９に示す。従来のノズルを用いると、図９（ａ）に示すように、合成速度ベクトル５４ａの方向成分にあたる溶液入射方向７４ａに入射する吐出液２８によって、基板３０に溶液が塗布される。このとき、吐出液２８が溶液入射方向７４ａに傾いている。このため、溶液には、ノズルから吐出されて基板３０に着地する際に、着地点において進行方向Ｄに沿って勢いがついている。その結果、着地した溶液は進行方向Ｄの反対方向側に移動する量よりも進行方向Ｄ側に移動する量が多く、隔壁３６内の領域において場所によって塗布量に偏りが生じてしまっていた。また、領域Ｂにダミー回路構造物を設けた場合においても、領域Ｂの面積を大きくする必要があった。
【００７２】
対して、本実施形態に係るノズル１０では、吐出路１４０の向きが、進行方向Ｄと逆方向に向くよう、ヘッドシリンダ１２の軸線に対して所定の角度で斜め向きに設定されている。したがって、図９（ｂ）に示すように、合成速度ベクトル５４ｂの方向成分にあたる溶液入射方向７４ｂに入射する吐出液２８によって、基板３０に溶液が塗布される。このとき、溶液入射方向７４ｂは基板３０に略垂直な方向であるため、吐出液２８が略鉛直方向から入射し、溶液２８が着地点から放射状に均等に広がる。このため、基板３０は、厚みが略均一な塗布面を得ることができる。更には、吐出液２８が基板３０に略垂直に入射するため、着地した溶液は進行方向Ｄの反対方向側に移動する量と、進行方向Ｄ側に移動する量とをほぼ均等にすることができる。このため、隔壁３６内において、溶液を均一な厚さに塗布することができる。
【００７３】
また、基板３０がノズル１０に相対的に副走査方向に移動する状況においても、溶液の塗布性は良好となる。図１０に、隔壁３６を乗り越える前後において、ノズル１０が溶液を塗布する状態を示す。
【００７４】
従来のノズルを用いると、図１０（ａ）に示すように、隔壁３６への溶液の入射角度が隔壁３６の乗り越え前後において非対称となる。つまり、ノズルの副走査方向への一連の移動において、溶液の偏りが生じてしまう。
【００７５】
対して、本実施形態に係るノズル１０を用いると、図１０（ｂ）に示すように、隔壁３６への溶液の入射角度が隔壁３６の乗り越え前後において略対称となる。つまり、ノズル１０の副走査方向への一連の移動において、溶液の偏りは生じない。
【００７６】
次に、塗布装置９００の動作について説明する。制御部６６ａは、図１に記載の第２駆動部９１３を作動させる。第２駆動部９１３は、吐出部支持部材９１５を所定の速度で主走査方向に移動させる。制御部６６ａは、第２駆動部９１３を駆動するために発信している電気信号に応じて、吐出部支持部材９１５の送り方向に逆方向にノズル１０が向くように電気信号をモータ６４に発信する。モータ６４は、制御部６６ａから受信した電気信号に応じて所定の角度だけ回転する。モータ６４の回転によって、プーリ６２が回転し、ヘッドシリンダ１２が、ベルト６０を介して回転することで、ノズル１０が所定の角度だけ回転する。
【００７７】
上記の動作によれば、ノズル１０の溶液の吐出方向は、常にノズル１０の進行方向Ｄ（例えば吐出部支持部材９１５の移動方向）と常に逆向きに制御される。したがって、基板３０への溶液の入射方向は、基板３０に対し略垂直に維持され、結果として、基板３０への塗布ムラが抑制される。
【００７８】
（第１の変形例）
上記実施形態においては、吐出方向を変更する吐出方向変更部４０として、プーリ６２とベルト６０とを含む構成を例示したが、これに限定しない。例えば、図１１に示すように、ギヤ８０とピニオン８２とを噛合させることで回転トルクを伝達するようにして、溶液の吐出方向を変更するようにしても良い。
【００７９】
この構成について説明する。ギヤ８０は、ヘッドシリンダ１２の外周に固定されている。ピニオン８２は、ギヤ８０に噛合する配置及び形状であり、モータ６４によって回転駆動される。このように構成であっても、プーリ６２とベルト６０とを含む構成と同様に吐出方向変更部４０として機能させることができる。
【００８０】
（第２の変形例）
次に、ノズルプレート１４の中心部に形成された吐出路１４０の形状の第２の変形例について図１２を参照して説明する。
【００８１】
図１２（ａ）に示された吐出路１４０は、吐出面１４２に対して斜め方向にレーザー等で開孔された貫通孔である。溶液は、吐出路１４０内を通るうちは、軸対称に流れる。しかし、吐出面１４２が吐出路１４０の軸線に垂直ではないために、吐出面１４２から軸対称に溶液を吐出することができず、結果的に塗布ムラが生じる要因にもなる。
【００８２】
このような塗布ムラの発生を防ぐ構造として、図１２（ｂ）に示すように、吐出路１４０と同一軸線に形成された円柱状の溝１４３をノズルプレート１５ａは有する。溝１４３は、吐出路１４０における上部及び下部の２箇所に形成されている。
【００８３】
（第３の変形例）
また、図１２（ｃ）に示すように、テーパ状であり、大径側がノズルプレート１５ｂの表面側であり、吐出路１４０と同一軸線に形成された溝１４４をノズルプレート１５ｂは有する。溝１４４は、吐出路１４０における上部及び下部の２箇所に形成されている。
【００８４】
上記、第２の変形例及び第３の変形例のように、円柱状の溝１４３又はテーパ状の溝１４４を吐出路１４０の上部及び下部に同軸に形成することで、吐出路１４０の溶液の入口面、出口面（吐出面１４２）は、吐出路１４０の軸線に垂直になる。このため、吐出面１４２から軸対称に溶液を吐出することができ、溶液の塗布ムラの発生を抑制することができる。
【００８５】
＜第２の実施形態＞
第２の実施形態に係るノズル１１ａは、第１の実施形態に係るノズル１０と異なり、図１３に示すように、吐出路１４１がヘッドシリンダ１２の軸線に平行に形成されたノズルプレート１５ｃを備えるものである。このようなノズルプレート１５ｃを備えるものであっても、ノズル１１ａの進行方向Ｄに対し逆方向に溶液の吐出方向を変更させる機能を備えさせることができる。その構造について以下に説明する。なお、以下において、第１の実施形態において説明したものと同一構造のものについては同一符号を付し、理解を容易にするために説明の重複を避ける。
【００８６】
ノズル１１ａの進行方向Ｄに対し逆方向に溶液の吐出方向を変更する機能を有するものとして、吐出方向変更部４１（第２の吐出方向変更部）を有する。吐出方向変更部４１は、サポート７０，７１と、２個の軸受６９と、モータ（第２のモータ）４６４と、制御部６６ｂとから構成される。
【００８７】
図１３（ａ）に示すように、２本のサポート（支持軸）７０，７１は、ヘッドシリンダ１２の軸線に直交する延長線上にあり、ヘッドシリンダ１２の外周面から突出し、丸棒状に形成されている。
【００８８】
２個の軸受６９は、吐出部支持部材９１５の貫通孔９２４に嵌装され、サポート７０，７１を回転可能に支持する。
【００８９】
ノズル１１ａは、上記のサポート７０，７１及び２個の軸受６９によって、吐出部支持部材９１５に回転可能に支持されている。
【００９０】
また、モータ４６４は、吐出部支持部材９１５の外面に固定され、サポート７０の端部に連結されたステッピングモータである。
【００９１】
制御部６６ｂは、モータ４６４のモータ軸の回転角度を制御することにより、ノズル１１ａの回転角度を、サポート７０を介して制御する。即ち、溶液の吐出角度を制御する。
【００９２】
次に、ノズル１１ａ及び吐出方向変更部４１を備える塗布装置９０１の動作について説明する。制御部６６ｂは、図１に記載の第２駆動部９１３を作動する。第２駆動部９１３は、吐出部支持部材９１５を所定の速度で主走査方向に移動させる。制御部６６ｂは、第２駆動部９１３を駆動するために発信している電気信号に応じて、吐出部支持部材９１５の送り速度と、溶液の吐出速度とからノズル１１ａに設定すべき傾き角度を割り出す。制御部６６ｂは、割り出された傾きに応じた電気信号をモータ４６４に発信する。モータ４６４は、制御部６６ｂから受信した電気信号に応じて、モータ軸、サポート７０を介してノズル１１ａを所定の角度に回転させる。このようにして、溶液の吐出速度、及びノズル１１ａの送り速度に応じて、ノズル１１ａの傾きは調整される。
【００９３】
このように動作することで、ノズル１１ａの送り方向、送り速度、溶液の吐出速度の変更に応じて、吐出角度を変更することができる。このため、基板３０に対して常に略垂直に溶液を塗布することができ、結果として、塗布ムラを抑制することができる。
【００９４】
また、所定の吐出角度で溶液を吐出する第１の実施形態に係るノズル１０と異なり、本実施形態に係るノズル１１ａは、吐出角度を細かく調整することが可能である。
【００９５】
（変形例）
次に、吐出方向を変更する機能を有する吐出方向変更部４１の変形例に係る吐出方向変更部４２（４２ａ，４２ｂ）（吐出方向変更部）について、図１４を参照して説明する。
【００９６】
吐出方向変更部４２ａは、固定部４２２ａと、固定支持部４２０ａと、ソレノイド４２６ａと、可動支持部４２４ａと、から主に構成される。
【００９７】
固定部４２２ａは、板状に形成された蓋部材９１６の下面に固定され、ノズル１１ｂに対向する側面に後述する固定支持部４２０ａが固定されている。
【００９８】
固定支持部４２０ａは、上面から見て、図１４（ａ）中の右側が、コの字状に枝別れして形成され、ノズル１１ｂの図中，上側を挟むようにして配置されている。固定支持部４２０ａは、ノズル１１ｂの中心軸を通る平面上にあたる位置で、対向する２つのピン４２８ａ（表示する角度の関係上、１つのみ図示）によって、ノズル１１ｂを回動可能に支持している。
【００９９】
ソレノイド４２６ａは、吐出部支持部材９１５に形成された凹状の窪み９２０の上面に固定されている。ソレノイド４２６ａは、制御部６６ｃから供給制御される電流に応じて、後述する可動支持部４２４ａを図中、右方、左方へ移動させる。
【０１００】
可動支持部４２４ａは、上面から見て、図１４（ａ）中の右側が、コの字状に枝別れして形成され、ノズル１１ｂの図中，下側を挟むようにして配置されている。可動支持部４２４ａは、ノズル１１ｂの中心軸を通る平面上にあたる位置で、対向する２つのピン４２９ａ（表示する角度の関係上、１つのみ図示）によって、ノズル１１ｂを回動可能に支持している。また、ノズル１１ｂのピン４２９ａに係合する部位には、長手方向をノズル１１ｂの軸線と平行に形成された長円状の溝４３０ａが形成されている。溝４３０ａがノズル１１ｂに形成されていることによって、可動支持部４２４ａの左右方向への移動時に、ピン４２８ａとピン４２９ａとの距離が変わることによって、ノズル１１ｂからピン４２８ａ及びピン４２９ａを介して、固定支持部４２０ａ及び可動支持部４２４ａに負荷が生じることを防ぐ。
【０１０１】
次に、ノズル１１ｂ及び吐出方向変更部４２ａを備える塗布装置９０１の動作について説明する。制御部６６ｃは、図１に記載の第２駆動部９１３を作動する。第２駆動部９１３は、吐出部支持部材９１５を所定の速度で主走査方向に移動させる。制御部６６ｃは、第２駆動部９１３を駆動するために発信している電気信号に応じて、吐出部支持部材９１５の送り速度と、溶液の吐出速度とからノズル１１ｂに設定すべき傾き角度を割り出す。制御部６６ｃは、割り出された傾きに応じた電流をソレノイド４２６ａに供給する。ソレノイド４２６ａは、制御部６６ｃから供給された電流に応じて、可動支持部４２４ａを移動させ、ピン４２９ａを介して、ピン４２８ａを中心に所定の角度で、ノズル１１ｂを回動させる。このようにして、溶液の吐出速度、及びノズル１１ｂの送り速度に応じて、ノズル１１ｂの傾きは調整される。
【０１０２】
また、上記第２の実施形態の変形例に係る吐出方向変更部４２ａは、ノズル１１ｂの上側を固定し、ノズル１１ｂの下側を移動させることで、ノズル１１ｂを回動させるものとして説明したが、例えば図１４（ｂ）に示すように、ノズル１１ｂの固定・移動部位を逆に配置して、回動させる構成にしてもよい。
【０１０３】
このように吐出方向変更部４２ｂを構成すると、吐出路１４１の近傍であるノズル１１ｂの下側が固定され、その固定部位（ピン４２８ｂ）を中心に、ソレノイド４２６ｂによって、ノズル１１ｂが回動することとなる。このため、ノズル１１ｂの進行方向Ｄの変更に合わせて、ノズル１１ｂの角度を変更する際に、吐出路１４１からの吐出液２８の吐出領域が広がることを抑えることができるため、ノズル１１ｂの制御が容易となる。
このことについては、ノズル１１ｂの回動中心を吐出路１４１の近傍に配置するようにすることで、第２の実施形態に係る吐出方向変更部４１についても同様の効果を得ることができる。
【０１０４】
また、上記のように、ノズル１１ｂの上側を固定し、下側を移動させる構成を有する吐出方向変更部４２ａ、及び、ノズル１１ｂの下側を固定し、上側を移動させる構成を有する吐出方向変更部４２ｂに限らず、例えば、上側及び下側の双方を相対的に移動させてノズル１１ｂを傾斜させる構成にしてもよい。
【０１０５】
以上、上記実施形態に係るノズルは、ノズルの進行方向Ｄと逆方向に溶液を吐出するため、基板に対して略垂直方向に溶液が塗布され、均等な塗布面を得ることができる。
【０１０６】
更には、上記実施形態に係るノズルを用いることで、ダミー回路構造物を短く形成できるようになる。
【０１０７】
また、吐出路の上部及び下部に同軸に円柱状又はテーパ状の溝を形成し、吐出面を吐出路に対し垂直にすることで、吐出路から軸対称に溶液を吐出することができ、溶液の塗布ムラを抑制することができる。
【０１０８】
また、ヘッドシリンダの軸線に対して斜めに吐出路が形成されていないノズルプレートを備えるノズルであっても、基板の塗布面に対してノズル自体を傾斜させることで、ノズルの進行方向Ｄに対し吐出路を逆向きにすることができる。特にこのような構成によれば、ノズルの送り速度、吐出速度に応じて、ノズルの角度を微調整可能である。
なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、上記各実施形態においては、ノズルが基板に対して相対的に移動する方法として、溶液の吐出時に、ノズルを主走査方向に移動し、ステージを固定していたが、これに限らず、ノズルを固定し、ステージを主走査方向に移動してもよい。この場合、ステージの移動する主走査方向の向きは、上述で説明したノズルの移動する主走査方向の向きと反対になればよい。また、ノズルを主走査方向の一方の向きに移動し、ステージを主走査方向の当該一方の向きと反対になる他方の向きに移動してもよい。また、ステージを常時固定し、ノズルを主走査方向及び副走査方向に移動してもよく、或いはノズルを常時固定し、ステージを主走査方向及び副走査方向に移動してもよい。また上記各実施形態では、吐出液２８は、ノズルの吐出路から着地点まで一繋がりの液体であることが好ましいが、ノズルをインクジェットとして、吐出液２８を個々に分離した液滴としてもよい。
【符号の説明】
【０１０９】
１０，１１ａ，１１ｂ・・・ノズル（吐出部）、１２・・・ヘッドシリンダ（本体）、１４，１５ａ，１５ｂ，１５ｃ・・・ノズルプレート、１４０，１４１・・・吐出路、１４２・・・吐出面、２２，２３・・・吐出方向、３０・・・基板（塗布対象物）、３３・・・塗布領域、４０・・・第４駆動部（吐出方向変更部、第１の吐出方向変更部）、４１・・・第４駆動部（吐出方向変更部、第２の吐出方向変更部）、４２，４２ａ，４２ｂ・・・第４駆動部（吐出方向変更部）、４２０ａ，４２０ｂ・・・固定支持部、４２４ａ，４２４ｂ・・・可動支持部、４２６ａ，４２６ｂ・・・ソレノイド、４６４・・・モータ、５０・・・ノズル送り速度ベクトル、５２ａ，５２ｂ・・・溶液吐出速度ベクトル、５４ａ，５４ｂ・・・合成速度ベクトル、６０・・・ベルト、６２・・・プーリ、６４・・・モータ、６６，６６ａ，６６ｂ，６６ｃ・・・制御部、７０，７１・・・サポート（支持軸）、７４ａ，７４ｂ・・・溶液入射方向、８０・・・ギヤ、８２・・・ピニオン、９００，９０１・・・塗布装置、９１３・・・第２駆動部（移動部）、９１５・・・吐出部支持部材、９１７・・・第３駆動部（移動部）、９１９・・・ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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