(57)【要約】【課題】ペリクルをマスクに貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因するマスクの変形を極力低減することができるリソグラフィ用ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスクを提供すること。【解決手段】ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームをマスクにシールするための粘着層とを有し、前記粘着層が、表面にマスク画像を有するマスクの側面と粘着可能に前記ペリクルフレームの内周面に設けられたことを特徴とするペリクル。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームをマスクに粘着させるための粘着層とを有し、前記粘着層が、表面にマスク画像を有するマスクの側面と粘着可能に前記ペリクルフレームの内周面に設けられたことを特徴とするペリクル。
【請求項２】
前記粘着層の厚さが前記ペリクルフレームの開放端面側により薄く、前記マスクの側面が、前記マスクの裏面から前記マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜しており、前記粘着層と前記マスクの側面が合致可能な形状である、請求項１に記載のペリクル。
【請求項３】
ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームとを有するペリクルの前記ペリクルフレームの内周面をマスクの側面に固定することを特徴とする、ペリクルの取り付け方法。
【請求項４】
請求項２に記載のペリクルと、前記マスクの裏面から前記マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜しているマスクの側面とを粘着させることにより、前記マスクの側面と前記ペリクルフレーム内周面とを粘着することを特徴とする、ペリクルの取り付け方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載のペリクルとマスクとを粘着した、ペリクル付マスク。
【請求項６】
マスクの側面が、マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜していることを特徴とするマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置又は液晶表示板を製造する際のリソグラフィ用マスクのゴミよけとして使用される、リソグラフィ用のペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体製造又は液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハ又は液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。なお、本発明において、「露光原版」とは、リソグラフィ用マスク（単に「マスク」ともいう。）及びレチクルの総称である。以下、マスクを例にして説明する。
【０００３】
これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミよけのための露光用の光を良く通過させるペリクルを貼り付ける方法が採られている。
【０００４】
ペリクルの基本的な構成は、ペリクルフレーム及びこれに張設したペリクル膜からなる。ペリクル膜は、露光に用いる光（ｇ線、ｉ線、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ等）を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、フッ素系ポリマーなどからなる。ペリクルフレームの上辺部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、ペリクル膜を風乾して接着するか、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やフッ素樹脂などの接着剤で接着する。さらに、ペリクルフレームの下辺部には露光原版を装着するために、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂又はシリコーン樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的としたレチクル粘着剤保護用ライナーを設ける。
ペリクルは、露光原版の表面に形成されたパターン領域を囲むように設置される。ペリクルは、露光原版上にゴミが付着することを防止するために設けられるものであるから、このパターン領域とペリクル外部とはペリクル外部の塵埃がパターン面に付着しないように隔離されている。
【０００５】
近年、ＬＳＩのデザインルールはサブクオーターミクロンへと微細化が進んでおり、それに伴い、露光光源の短波長化が進んでいる、すなわち、これまで主流であった、水銀ランプによるｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）から、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）などに移行しつつある。微細化が進むとマスク及びシリコンウエハに要求される平坦性もますます厳しくなってきている。
【０００６】
ペリクルは、マスクが完成した後でパターンのゴミよけのためにマスクに貼り付けられる。ペリクルをマスクに貼り付けるとマスクの平坦度が変化することがある。マスクの平坦度が悪くなると、上記で述べたように、焦点ズレ等の問題が発生する可能性がある。また、平坦度が変化すると、マスク上に描かれたパターンの形状が変化し、マスクの重ね合わせ精度に問題がでるという支障もきたす。
ペリクル貼り付けによるマスク平坦度の変化の要因は、幾つかあるが、一番大きな要因は、ペリクルフレームの平坦度であることが分かってきた。
【０００７】
ペリクルは、ペリクルフレームの片側にあるマスク粘着剤を介してマスクに貼り付けられるが、ペリクルをマスクに貼り付ける場合は、通常ペリクルを２０〜３０ｋｇ程度の力でマスクに圧着する。一般にマスクの平坦性は、ＴＩＲ値で数μｍ以下、最先端のマスクでは１μｍ以下であるが、ペリクルフレームの平坦性は、一般的に数１０μｍ程度と、マスクのそれと比較して大きい。そのため、ペリクルがマスクに貼り付けられると、フレームの凹凸でマスクの平坦度が変化することがある。ここでペリクルフレームの平坦度をマスクの平坦度並に高くすれば、マスクの平坦性変化を減少させることが可能になると考えられる。
【０００８】
ペリクルフレームは、一般に、アルミ合金で出来ている。半導体リソグラフィ用のペリクルフレームでは、幅が１５０ｍｍ程度、長さが１１０〜１３０ｍｍ程度であり、一般に断面が矩形の形状を有するペリクルフレームバーにより構成されている。一般にはアルミ合金の板からペリクルフレーム形状に切り出したり、フレーム形状にアルミ材を押し出し成型することでフレームを製作しているが、幅が２ｍｍ程度と細いため変形し易く、平坦なフレームを作るのは容易ではない。そのためペリクルフレームにおいてマスク並の平坦度を達成するのは非常に困難である。
【０００９】
このペリクルフレームの変形に起因するマスクの変形を防止するために、特許文献１は、ペリクルをマスクに貼り付けるためのマスク粘着剤の厚みが０．４ｍｍ以上であるペリクル、また、マスク粘着剤の２３℃における弾性率が０．５ＭＰａ以下であるペリクルを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００８−６５２５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
近年、マスクに要求される平坦性も、パターン面で平坦度２μｍの要求から徐々に厳しくなっており、６５ｎｍノード以降では好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．２５μｍという要求が出てきている。
【００１２】
一般に、ペリクルフレームの平坦度は１０〜３０μｍ程度であるが、マスクと比較して平坦度が劣るペリクルフレームを用いたペリクルをマスクに貼り付けると、フレームの形状がマスクに転写されマスクの変形を生じてしまう。ペリクルは、貼り付けの時、約２００〜４００Ｎ（２０〜４０ｋｇ重）の大きな力でマスクに押し付けられる。マスク表面の平坦度は、ペリクルフレームに比べて平坦が良いから、ペリクルのマスクへの押し付けが終わると、ペリクルフレームは元の形状に戻ろうとするために、ペリクルフレームがマスクを変形させてしまう。
マスクが変形した場合、マスクの平坦度が悪くなる場合があり、その場合露光装置内でデフォーカスの問題が発生する。一方でマスクが変形して平坦度が良くなる場合もあるが、この場合でもマスク表面に形成されたパターンが歪み、その結果露光したときにウエハに転写されたパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。このパターンの歪みはマスクの平坦度が悪くなる場合も発生するので、結局ペリクルを貼り付けることによりマスクが変形する場合は、必ずパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。
【００１３】
本発明が解決しようとする課題は、ペリクルをマスクに貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因するマスクの変形を極力低減することができるリソグラフィ用ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスクを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記課題は、以下の手段（１）、（３）、（４）、（５）又は（６）により解決された。好ましい実施態様（２）と共に列記する。
（１）ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームをマスクに粘着させるための粘着層とを有し、前記粘着層が、表面にマスク画像を有するマスクの側面と粘着可能に前記ペリクルフレームの内周面に設けられたことを特徴とするペリクル、
（２）前記粘着層の厚さが前記ペリクルフレームの開放端面側により薄く、前記マスクの側面が、前記マスクの裏面から前記マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜しており、前記粘着層と前記マスクの側面が合致可能な形状である、上記（１）に記載のペリクル、
（３）ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームとを有するペリクルの前記ペリクルフレームの内周面をマスクの側面に固定することを特徴とする、ペリクルの取り付け方法、
（４）上記（２）に記載のペリクルと、前記マスクの裏面から前記マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜しているマスクの側面とを粘着させることにより、前記マスクの側面と前記ペリクルフレーム内周面とを粘着することを特徴とする、ペリクルの取り付け方法、
（５）上記（１）又は（２）に記載のペリクルとマスクとを粘着した、ペリクル付マスク、
（６）マスクの側面が、マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜していることを特徴とするマスク。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ペリクルをマスクの側面に取り付けることにより、ペリクルをマスクに取り付けた際のマスクの変形を極力低減することができる。したがって、本発明によれば、マスクのパターン面の変形を極力低減することができ、よって、マスク上に描かれたパターンをより忠実に再現し、マスクの重ね合わせ精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のペリクルの基本的構成を示す概念図である。
【図２】本発明のペリクルが取り付けられたマスクが透過型露光装置において保持された状態を示す概略断面図である。
【図３】本発明のペリクルが取り付けられたマスクがＥＵＶ露光装置において保持された状態を示す概略断面図である。
【図４】一般的なペリクルの基本的構成を示す概念図である。
【図５】一般的なペリクルが取り付けられたマスクが透過型露光装置において保持された状態を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のペリクルを説明するに先立ち、一般的なペリクルの基本的構成について図４を参照しながら説明する。図４（ａ）は、一般的なペリクルの基本的構成を示す概略斜視図である。図４（ｂ）は、一般的なペリクルが取り付けられたペリクル付マスクの断面構成の例を示す概略断面図である。
図４に示すように、一般的なペリクル１１は、ペリクルフレーム１２の上端面に接着層（図示せず）を介してペリクル膜１３を張設したもので、この場合、ペリクル１１をマスク１４に粘着させるための粘着層１５がペリクルフレーム１２の下端面に形成されてなるものである。また、ペリクルフレーム１２に気圧調整用穴（通気口）１６が設置されていて、さらにパーティクル除去の目的で除塵用フィルター１７が設けられていてもよい。
このような一般的なペリクルの場合、前述したように、マスクに取り付けた際に、ペリクルフレームの変形に起因してマスクが変形してしまうという問題がある。
【００１８】
上記図４に示す一般的なペリクルに対して、本発明のペリクルは、ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームをマスクにシールするための粘着層とを有し、前記粘着層が、表面にマスク画像を有するマスクの側面と粘着可能に前記ペリクルフレームの内周面に設けられたことを特徴とする。本発明のペリクルは、かかる構成により、マスクに取り付けた際のマスクの変形を極力低減することを可能とするものである。また、本発明のペリクルの取り付け方法は、ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームとを有するペリクルの前記ペリクルフレームの内周面をマスクの側面に固定することを特徴とする。さらに、本発明のペリクルが取り付けられる本発明のマスクは、マスクの側面が、マスク画像が設けられた表面に向かうに従い内側に傾斜していることを特徴とする。
以下、本発明のペリクルについて詳述する。
【００１９】
まず、本発明のペリクルの基本的構成について図１を参照しながら説明する。図１（ａ）は、本発明のペリクルの基本的構成を示す概略斜視図である。図１（ｂ）及び図１（ｃ）は、本発明のペリクルが取り付けられたペリクル付マスクの断面構成の例を示す概略断面図である。
図１（ａ）に示すように、本発明のペリクル１は、ペリクルフレーム２の上端面に、粘着層（図示せず）を介してペリクル膜３を張設したもので、この場合、ペリクル１をマスク４に粘着させるための粘着層５がペリクルフレーム２の内周面に形成されてなるものである。また、ペリクルフレーム２に気圧調整用穴（通気口）６が設置されていて、さらにパーティクル除去の目的で除塵用フィルター７が設けられていてもよい。
【００２０】
これらペリクル構成部材の大きさは通常のペリクル、例えば半導体リソグラフィ用ペリクル、大型液晶表示板製造リソグラフィ工程用ペリクル等と同様であり、また、その材質も公知の材質を使用することができる。
ペリクル膜の種類については特に制限はなく、例えば従来エキシマレーザー用に使用されている、非晶質フッ素ポリマー等が用いられる。非晶質フッ素ポリマーの例としては、サイトップ（旭硝子（株）製商品名）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン社製商品名）等が挙げられる。これらのポリマーは、そのペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使用してもよく、例えばフッ素系溶媒などで適宜溶解することができる。
一方、ＥＵＶ露光用のペリクルの場合は、シリコン薄膜がペリクル膜として使用される可能性が高い。
【００２１】
ペリクルフレームの母材に関しては、従来使用されているアルミニウム合金材、好ましくは、ＪＩＳ  Ａ７０７５、ＪＩＳ  Ａ６０６１、ＪＩＳ  Ａ５０５２材等が用いられるが、アルミニウム合金材を使用する場合は、ペリクルフレームとしての強度が確保される限り特に制限はない。ペリクルフレーム表面は、ポリマー被膜を設ける前に、サンドブラストや化学研磨によって粗化することが好ましい。本発明において、このフレーム表面の粗化の方法は従来公知の方法を採用できる。アルミニウム合金材に対して、ステンレス、カーボランダム、ガラスビーズ等によって表面をブラスト処理し、さらにＮａＯＨ等によって化学研磨を行って表面を粗化する方法が好ましい。
なお、ペリクルフレーム２の形状は、図１（ａ）に示す矩形状に限定されるものではなく、ペリクルを取り付けるべきマスクの形状などに応じて種々の形状とすることができる。
【００２２】
粘着層５に使用する接着剤は、各種の接着剤を適宜選択でき、アクリル接着剤や、ＳＥＢＳ（ポリ（スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレン））系接着剤及びシリコーン系接着剤が好ましく使用でき、アクリル接着剤又はシリコーン系接着剤がより好ましく使用できる。
【００２３】
本発明のペリクルが取り付けられるマスク４は、透過型のマスクであっても、反射型のマスクであってもよいが、後述する露光装置における保持方法の観点から、反射型のマスクであることが好ましい。
透過型のマスクは、例えば露光光として、ｇ線、ｉ線、ｈ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光などが用いられる透過型露光装置に使用されるものである。
また、反射型のマスクは、例えば露光光として波長１３．５ｎｍの極端紫外（Ｅｘｔｒｅｍｅ  ＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ、ＥＵＶ）光が用いられるＥＵＶ露光装置に使用されるものである。
【００２４】
図１（ｂ）は、本発明のペリクル１をマスク４に取り付けた状態のペリクル付マスクの断面構成の一例を示している。
図１（ｂ）に示すように、ペリクルフレーム２の内周面には、ほぼ均一の厚さで粘着層５が形成されている。この粘着層５が、マスク４のマスク画像が形成された表面（パターン面）にほぼ垂直なマスク４の側面に粘着している。こうして、パターン面をペリクル１側に向け、ペリクルフレーム２内に収まった状態で、マスク４がペリクル１に取り付けられている。
このように、ペリクル１をマスク４の側面に取り付けることにより、ペリクルフレーム２の歪みによりマスク４のパターン面に垂直な方向に加わる応力を低減することができる。このため、ペリクルフレーム２の歪みによるマスク４の変形を極力低減することができる。こうして、ペリクル１の取り付けによるマスク４の平坦度の変化を極力低減することができ、マスク４のパターン面の変形も極力低減することができる。したがって、マスク４上に描かれたパターンをより忠実に再現することができ、マスク４の重ね合わせ精度の向上を図ることができる。
【００２５】
また、図１（ｃ）は、本発明のペリクル１をマスク４に取り付けた状態のペリクル付マスクの断面構成の他の例を示している。図１（ｃ）に示す例は、図１（ｂ）に示す例と比較して、ペリクル１のマスク４への取り付けが容易になるようにしたものである。
図１（ｃ）に示すように、ペリクルフレーム２の内周面には、厚さがペリクルフレーム２の開放端面側により薄い粘着層５が形成されている。他方、マスク４の側面は、マスク４の裏面からパターン面に向かうに従い内側に傾斜している。これら粘着層５とマスク４の側面は合致可能な形状となっており、傾斜したマスク４の側面に、厚さがペリクルフレーム２の開放端面側により薄い粘着層５が合致して粘着している。こうして、パターン面をペリクル１側に向け、ペリクルフレーム２内に収まった状態で、マスク４がペリクル１に取り付けられている。
【００２６】
本発明のペリクル１のマスク４への取り付け方法においては、図１（ｂ）及び図１（ｃ）に示すように、パターン面をペリクル１側に向けたマスク４をペリクルフレーム２内に収める。これとともに、マスク４の側面とペリクルフレーム２の内周面とを粘着層５により粘着固定する。
ここで、図１（ｃ）に示す例では、上述のように、粘着層５の厚さをペリクルフレーム２の開放端面側により薄くするとともに、ペリクル１を取り付けるべきマスク４の側面をマスク４の裏面からパターン面に向かうに従い内側に傾斜させ、粘着層５とマスク４の側面を合致可能な形状としている。このため、粘着層５を容易にマスク４の側面に接触させることができる。こうして、図１（ｃ）に示す例では、粘着層５の厚さがほぼ均一で、マスク４の側面がマスク４のパターン面にほぼ垂直な図１（ｂ）に示す例と比較して、ペリクル１をマスク４に容易に取り付けることができる。
【００２７】
次に、本発明のペリクルを取り付けたペリクル付マスクの露光装置における保持方法について図２、図３及び図５を参照しながら説明する。図２、図３及び図５は、それぞれ露光装置においてマスクが保持された状態を示す概略断面図である。
【００２８】
まず、透過型露光装置におけるマスクの保持方法について説明する。
現状において、半導体プロセス等の露光工程では、一般的に透過型のマスクが用いられている。かかる透過型のマスクが使用される透過型露光装置において、ペリクルが取り付けられた透過型のマスクは、ペリクルにより隔離されたパターン面を下に向けて保持される。露光光としてのレーザー光は、上方からマスクのパターン面とは反対の裏面に入射され、マスク及びペリクル膜を透過して下方に出射する。こうして下方に出射したレーザー光により、マスクパターンが露光対象のウエハなどの基板に投影され、マスクパターンが基板に転写される。
【００２９】
図５は、図４に示す一般的なペリクル１１が取り付けられた透過型のマスク１４が透過型露光装置において保持された状態を示す概略断面図である。
図４に示す一般的なペリクル１１が取り付けられた透過型のマスク１４の場合、マスク１４のパターン面には、ペリクル１１により隔離された隔離領域と、その外側のペリクル１１により隔離されていない非隔離領域とが存在している。このため、図５に示すように、透過型露光装置のマスク保持部８により、パターン面を下方に向けたマスク１４の非隔離領域における両端部が下方から支持される。こうして、透過型露光装置において、図４に示す一般的なペリクル１１が取り付けられた透過型のマスク１４は、ペリクル１１が取り付けられたパターン面を下方に向けた状態で保持される。
かかる保持状態の透過型のマスク１４に対して、露光光としてのレーザー光は、図５に示すように、上方からマスク１４のパターン面とは反対の裏面に入射され（入射レーザー光ＬI）、マスク１４及びペリクル膜１３を透過して下方に出射する（透過レーザー光ＬT）。
【００３０】
これに対して、図１に示す本発明のペリクル１が取り付けられた透過型のマスク４の場合、ペリクル１がマスク４の側面に取り付けられ、マスク４全体がペリクルフレーム２内に収まっている。このため、上記図５に示すように透過型露光装置のマスク保持部８により下方から支持することは困難である。そこで、この場合には、他の方法によりマスク４を保持することが好ましい。
図２は、本発明のペリクル１が取り付けられた透過型のマスク４が透過型露光装置において保持された状態を示す概略断面図である。
図２に示すように、本発明のペリクル１が取り付けられた透過型のマスク４の場合、ペリクル１が取り付けられたパターン面を下方に向けた状態で、その両端部が透過型露光装置のマスク保持部８により吊持される。こうして、透過型露光装置において、本発明のペリクル１が取り付けられた透過型のマスク４は、ペリクル１が取り付けられたパターン面を下方に向けた状態で保持される。
かかる保持状態の透過型のマスク４に対して、露光光としてのレーザー光は、図２に示すように、上方からマスク４のパターン面とは反対の裏面に入射され（入射レーザー光ＬI）、マスク４及びペリクル膜３を透過して下方に出射する（透過レーザー光ＬT）。
【００３１】
上記透過型露光装置に対して、ＥＵＶ露光装置では反射型のマスクが使用される。以下、ＥＵＶ露光装置におけるマスクの保持方法について説明する。
ＥＵＶ露光装置において、露光光としてのＥＵＶ光は、反射型のマスクのパターン面に入射され、マスクにより反射される。こうして反射されたＥＵＶ光により、マスクパターンが露光対象のウエハなどの基板に投影され、マスクパターンが基板に転写される。このように、ＥＵＶ露光装置においては、露光光として照射されたＥＵＶ光がマスクの裏面から出射することがない。したがって、本発明のペリクルが取り付けられたマスクも、マスクの裏面を支持して容易に保持することができる。
図３は、図１に示す本発明のペリクル１が取り付けられた反射型のマスク４がＥＵＶ露光装置において保持された状態を示す概略断面図である。
図３に示すように、本発明のペリクル１が取り付けられた反射型のマスク４の場合、ＥＵＶ露光装置のマスク保持部９により、その裏面が下方から支持される。こうして、ＥＵＶ露光装置において、本発明のペリクル１が取り付けられた反射型のマスク４は、ペリクル１が取り付けられたパターン面を上方に向けた状態で保持される。
かかる保持状態の反射型のマスク４に対して、露光光としてのＥＵＶ光は、図３に示すように、反射型のマスクのパターン面に入射され（入射ＥＵＶ光ＥＵＶI）、マスクにより反射される（反射ＥＵＶ光ＥＵＶR）。
このように、本発明のペリクルが取り付けられた反射型のマスクは、ＥＵＶ露光装置において、その裏面を下方から支持することで容易に保持することができる。
【００３２】
さらに、本発明のペリクルが取り付けられたマスクの場合、図３に示すように、ペリクル１をマスク４に固定する粘着層５が、ペリクルフレーム２の内周面とマスク４の側面との間に存在している。このため、ＥＵＶ露光装置において、マスクのパターン面で散乱したＥＵＶ光が粘着層に照射される可能性が非常に低い。ＥＵＶ光が粘着層に照射されると粘着層が劣化し、分解ガス等が発生し、ペリクル閉空間が汚染される可能性がある。しかし粘着層がマスクの側面にあると、ＥＵＶ光は粘着層には照射されず、したがって、粘着層にＥＵＶ光が当たり劣化することを防ぐという効果もある。
【実施例】
【００３３】
（実施例１）
アルミニウム合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１５８ｍｍ角、高さ１０ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、その内周面に信越化学工業（株）製のシリコーン粘着剤（製品名：Ｘ−４０−３１２２Ａ）を塗布し、１８０℃に加熱して粘着剤を硬化させ粘着層を形成した。粘着層の厚みは１ｍｍであった。
その後フレームの片端面に旭硝子（株）製のフッ素樹脂（商品名：サイトップＣＴＸ−Ｓ）を住友３Ｍ（株）製のフッ素溶液（商品名：ＮＯＶＥＣ７３００）に溶解させたフッ素樹脂溶液（濃度６％）を塗布し、その後１３０℃でペリクルフレームの加熱を行い溶媒を蒸発させフッ素樹脂を硬化させ接着剤層を形成した。
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤層側を貼り付け、接着剤層を加熱することにより、ペリクル膜を接着剤層に固定し、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去し、ペリクルを完成させた。
このペリクルを、平坦度が０．２５μｍのマスクの側面に貼り付けたところ、マスクの平坦度は０．２５μｍのままであり、平坦度は変化しなかった。
【００３４】
（実施例２）
アルミニウム合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１５８ｍｍ角、高さ１０ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、その内周面に信越化学工業（株）製のシリコーン粘着剤（製品名：Ｘ−４０−３１２２Ａ）を塗布し、１時間放置した。その後外形サイズの底辺が１５４ｍｍ角、上面が１５２ｍｍ角で、側面が上方に向かって徐々に狭くなっており、厚みが７ｍｍで側面に離型剤が塗布された石英板を上記ペリクルフレームの内側に接触させ、その後１８０℃に加熱して粘着剤を硬化させた。石英板をペリクルフレームから外して、フレーム内面の上方に行くほど徐々に厚みが厚くなる粘着層を形成した。
その後フレームの片端面に旭硝子（株）製のフッ素樹脂（商品名：サイトップＣＴＸ−Ｓ）を住友３Ｍ（株）製のフッ素溶液（商品名：ＮＯＶＥＣ７３００）に溶解させたフッ素樹脂溶液（濃度６％）を塗布し、その後１３０℃でペリクルフレームの加熱を行い溶媒を蒸発させフッ素樹脂を硬化させ接着剤層を形成した。
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤層側を貼り付け、接着剤層を加熱することにより、ペリクル膜を接着剤層に固定し、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去し、ペリクルを完成させた。
このペリクルを、マスク画像が設けられた表面に向かうに従い側面が内側に傾斜している平坦度が０．２５μｍのマスクの側面に貼り付けたところ、マスクの平坦度は０．２５μｍのままであり、平坦度は変化しなかった。
【００３５】
（比較例）
アルミニウム合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１２２ｍｍ、高さ５．８ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、その片端面に信越化学工業（株）製のシリコーン粘着剤（製品名：Ｘ−４０−３１２２Ａ）を塗布し、１８０℃に加熱して粘着剤を硬化させ粘着層を形成した。
その後、フレームの反対面に旭硝子（株）製のフッ素樹脂（商品名：サイトップＣＴＸ−Ｓ）を住友３Ｍ（株）製のフッ素溶液（商品名：ＮＯＶＥＣ７３００）に溶解させたフッ素樹脂溶液（濃度６％）を塗布し、その後１３０℃でペリクルフレームの加熱を行い溶媒を蒸発させフッ素樹脂を硬化させ接着剤層を形成した。
その後、上記ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に取ったペリクル膜に上記ペリクルフレームの接着剤層側を貼り付け、接着剤層を加熱することにより、ペリクル膜を接着剤層に固定し、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去し、ペリクルを完成させた。
このペリクルを、平坦度が０．２５μｍのマスクのマスク画像が設けられた表面に貼り付けたところ、マスクの平坦度は０．３０μｍに変化した。
【符号の説明】
【００３６】
１、１１：ペリクル
２、１２：ペリクルフレーム
３、１３：ペリクル膜
４、１４：マスク
５、１５：粘着層
６、１６：気圧調整用穴（通気口）
７、１７：除塵用フィルター
８：透過型露光装置のマスク保持部
９：ＥＵＶ露光装置のマスク保持部
ＬI：入射レーザー光
ＬT：透過レーザー光
ＥＵＶI：入射ＥＵＶ光
ＥＵＶR：反射ＥＵＶ光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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