(57)【要約】【課題】現像液を温度制御するために使用される冷却水の量を低減する現像装置を提供する。【解決手段】露光処理されたガラス基板を搬入する受取部と、現像処理する現像槽と、ガラス基板に残った現像液を除去するための水置換槽と、ガラス基板を洗浄処理する洗浄槽と、洗浄処理されたガラス基板を搬出する払出部と、を備え、かつ、現像槽に供給する現像液を貯蔵する現像液貯蔵タンクと、洗浄用水を貯蔵する純水貯蔵タンクと、洗浄用水を純水貯蔵タンクから洗浄槽に供給する供給系統と、洗浄用水を洗浄槽から排水する洗浄用水の排水系統と、現像液貯蔵タンク内の現像液を加温する加温手段と、冷却用水を循環して、現像液貯蔵タンク内の現像液を冷却する循環冷却系統と、を備えており、しかも、洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の両方またはいずれかに、現像液貯蔵タンクを経由して、その中の現像液を冷却する経路を有することを特徴とする現像装置。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板をフォトリソグラフィー処理する工程で用いられる現像装置であって、
露光処理された前記ガラス基板を搬入する受取部と、
搬入された前記ガラス基板を現像処理する現像槽と、
現像処理された前記ガラス基板に残った現像液を除去するための水置換槽と、
水置換槽で処理された前記ガラス基板を洗浄処理する洗浄槽と、
洗浄処理された前記ガラス基板を搬出する払出部と、を備え、かつ、
前記現像槽に供給する現像液を貯蔵する現像液貯蔵タンクと、
前記洗浄槽に供給する洗浄用水を貯蔵する純水貯蔵タンクと、
前記洗浄用水を純水貯蔵タンクから洗浄槽に供給する供給系統と、
洗浄後の前記洗浄用水を洗浄槽から排水する洗浄用水の排水系統と、
前記現像液貯蔵タンク内の現像液を加温する加温手段と、
冷却用水を循環して、前記現像液貯蔵タンク内の現像液を冷却する循環冷却系統と、を備えており、
しかも、前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の両方またはいずれかに、現像液貯蔵タンクを経由して、その中の現像液を冷却する経路を有することを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の水の流量を測定し、測定した結果に基づいて循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の水の水温を測定し、測定した結果に基づいて循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項４】
前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の水の流量および水温を測定し、測定した結果に基づいて循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の処理工程で用いられる現像装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は現像装置で現像されるガラス基板の一例としてカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の断面を示した図である。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーティカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００３】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｋ１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｋ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｋ４）、露光処理する工程（Ｋ５）、現像処理する工程（Ｋ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｋ７）、透明電極（例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ））を成膜処理する工程（Ｋ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｋ９）がこの順に行われ製造される。
【０００４】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｋ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色フォトレジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００５】
カラーフィルターの上記製造工程における現像処理する工程（Ｋ６）に用いられる現像装置は、ガラス基板上に塗布した感光性樹脂である着色フォトレジストを現像するものである。
【０００６】
図３は、従来使用されている現像装置の一例を示す概略図である。感光性樹脂を塗膜されたガラス基板１１は、露光された後に現像装置１０の受取部１２に搬入される。次に現像槽１３にて現像され、その後現像液を除去するために水置換槽１４を経て、洗浄槽１５にて洗浄を行った後に払出部１６より、ポストベークを行うために着色フォトレジストを硬化処理する工程へと搬出される。
【０００７】
現像液は新液が装置外部より供給され（現像液供給）、現像液貯蔵タンク１７に貯蔵された後に、現像液ポンプ８により現像槽１３に供給される。現像槽１３で使用された現像液の一部は現像液貯蔵タンク１７に戻り、再利用される。また、現像液の一部は排液され（現像液排水）、代わりに新液が供給されることで、現像液の汚染の進行が抑止される。現像液の温度は製品の品質に大きく影響を及ぼすため、現像液貯蔵タンク１７に貯蔵される現像液は、冷却水１８および、図示されていないヒーターにより温度制御される。
【０００８】
一般的に現像液の温度制御は、冷却水によって絶えず冷却された現像液の液温を温度計によって測定し、冷却がオーバーになった場合にヒーターによって加温して行われている。
【０００９】
洗浄用の純水は装置外部より供給され（純水供給）、純水貯蔵タンク１９に貯蔵された後に、洗浄液ポンプ９により洗浄槽１５へと供給される。洗浄槽１５で使用された純水の一部は純水貯蔵タンク１９に戻り再利用される。また、純水の一部を排水し（洗浄液排水）、代わりに新しい純水を供給することにより、純水の汚染の進行を抑止する。なお、純水温度は製品品質に与える影響は少ないため、一般的に純水貯蔵タンク１９内では温度制御は行わない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−１３７３３５号公報
【特許文献２】特開２００９−１４６９７０号公報
【特許文献３】特開平５−４５７１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上記現像装置において、現像液の温度制御のために非常に多量の冷却水が使用されており、冷却水の使用量の低減が望まれていた。
【００１２】
そこで本発明は係る問題点に鑑みて、ガラス基板をフォトリソグラフィー処理する工程で用いられる現像装置において、現像液を温度制御するために使用される冷却水の量を低減する現像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の請求項１に係る発明は、ガラス基板をフォトリソグラフィー処理する工程で用いられる現像装置であって、
露光処理された前記ガラス基板を搬入する受取部と、
搬入された前記ガラス基板を現像処理する現像槽と、
現像処理された前記ガラス基板に残った現像液を除去するための水置換槽と、
水置換槽で処理された前記ガラス基板を洗浄処理する洗浄槽と、
洗浄処理された前記ガラス基板を搬出する払出部と、を備え、かつ、
前記現像槽に供給する現像液を貯蔵する現像液貯蔵タンクと、
前記洗浄槽に供給する洗浄用水を貯蔵する純水貯蔵タンクと、
前記洗浄用水を純水貯蔵タンクから洗浄槽に供給する供給系統と、
洗浄後の前記洗浄用水を洗浄槽から排水する洗浄用水の排水系統と、
前記現像液貯蔵タンク内の現像液を加温する加温手段と、
冷却用水を循環して、前記現像液貯蔵タンク内の現像液を冷却する循環冷却系統と、を備えており、
しかも、前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の両方またはいずれかに、現像液貯蔵タンクを経由して、その中の現像液を冷却する経路を有することを特徴とする現像装置である。
【００１４】
本発明の請求項２に係る発明は、前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の水の流量を測定し、測定した結果に基づいて循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の現像装置である。
【００１５】
本発明の請求項３に係る発明は、前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の水の水温を測定し、測定した結果に基づいて循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の現像装置である。
【００１６】
本発明の請求項４に係る発明は、前記洗浄用水の供給系統と洗浄用水の排水系統の水の流量および水温を測定し、測定した結果に基づいて循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の現像装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の現像装置によれば一度冷却に使用した水を循環して再び循環冷却用水として使用したり、洗浄に使う前の洗浄水や洗浄に使われた後の水を冷却用水として使用し、しかも前記洗浄に使う前の洗浄水や洗浄に使われた後の水の水温や流量を測定して、その結果に基づいて循環冷却水の流量を制御するため、冷却水の使用量を低減することが可能となる。また、冷却水を冷却するために消費される電力を削減することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程フロー図。
【図３】従来使用されている現像装置の一例を示す概略図。
【図４】本発明に係る現像装置の一例を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の現像装置を実施するための形態をカラーフィルタ製造工程で用いられる現像装置を例として説明する。
【００２０】
図４は、本発明に係る現像装置の一例を示す概略図である。現像装置２０は、ガラス基板２１が露光された後に現像装置２０の受取部２２に搬入される。次に現像槽２３にて現像され、その後水置換槽２４で現像液が除去され、洗浄槽２５にて洗浄を行った後に払出部２６より、ポストベークを行うために着色フォトレジストを硬化処理する工程へと搬出される。
【００２１】
現像液貯蔵タンク２７に貯蔵される現像液は、水による冷却と、図示されていない加温手段であるヒーターによって加温され温度制御される。ここで、現像液貯蔵タンク２７から戻った冷却水３２は、その一部はチラーユニット２８により冷却されて循環冷却水３６として再び現像液貯蔵タンク２７に供給される。残りの一部は排水される。上記循環冷却水３７の冷却用水の系統を循環冷却系統と呼ぶ。また、洗浄に使用される純水３３は純水貯蔵タンク２９に貯蔵される前に現像液の冷却に使用される。この純水３３の供給系統を洗浄用水の供給系統と呼ぶ。更に、洗浄槽２５で洗浄に使用された洗浄水３４は直接排水されずに現像液の冷却に使用される。この洗浄液排水系統を洗浄用水の排水系統と呼ぶ。上記３系統の水が現像液貯蔵タンクに接続されている。
【００２２】
洗浄用水の供給系統の水３３および洗浄用水の排水系統の水３４は、現像液貯蔵タンク２７に貯蔵されている現像液の液温よりも一般的には低温であるため、現像液を冷却することが出来る。
【００２３】
循環冷却系統の冷却用水の量を制御する制御手段について説明する。洗浄用水の供給系統の水３３および洗浄用水の排水系統の水３４のそれぞれの流量を測定するための流量計３５および３６が設置されており、それぞれ測定された流量データをフィードバック制御機構３０に送信する。フィードバック制御機構３０は、受け取ったデータをもとに、レギュレータ３１を制御し、一定の冷却能力を保持するよう冷却水３７の流量を調整する。更には、洗浄用水の供給系統の水３３および洗浄用水の排水系統の水３４の水温を水温計３８及び３９によって測定し、循環冷却系統の水３７の流量制御に反映することにより、循環冷却系統の水３７の使用流量を低減することが出来る。
【００２４】
上記の実施の形態では、洗浄用水の供給系統の水３３と洗浄用水の排水系統の水３４の両方を冷却水として利用しているが、何れか一方のみを利用しても良い。
【００２５】
また、洗浄用水の供給系統の水３３と洗浄排水系統の水３４の流量と水温の両方を測定し、測定した流量及び水温に基づいてレギュレータ３１を制御することによって、使用する循環冷却系統の水３７を更に減らすことが出来、同時にチラーユニット２８による水の冷却に要する電力量を減らすことが出来る。
【００２６】
尚、本発明の現像装置を実施するための形態をカラーフィルタ基板を製造する工程に用いられる場合を例示したが、カラーフィルタ基板に限定されず、本発明は広くカラーフィルタ製造工程や半導体製造工程においてガラス基板を現像する工程に用いることが出来る。
【００２７】
以上のように本発明の現像装置によれば、一度冷却に使用した水を循環して再び循環冷却水として使用したり、洗浄水や、洗浄に使われた後の水を冷却水として利用し、前記冷却水として利用する洗浄水や、洗浄に使われた後の水の水温や流量を測定して、その測定結果に基づいて循環冷却水の流量を制御するため、冷却水の使用量を低減することが可能となる。また冷却水を冷却するために消費される電力を削減することが出来る。
【符号の説明】
【００２８】
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーティカルアライメント（ＶＡ）
８・・・現像液ポンプ
９・・・洗浄液ポンプ
１０・・・従来の現像装置
１１・・・感光性樹脂が塗膜されたガラス基板
１２・・・受取部
１３・・・現像槽
１４・・・水置換槽
１５・・・洗浄槽
１６・・・払出部
１７・・・現像液貯蔵タンク
１８・・・冷却水
１９・・・純水貯蔵タンク
２０・・・本発明による現像装置
２１・・・ガラス基板
２２・・・受取部
２３・・・現像槽
２４・・・水置換槽
２５・・・洗浄槽
２６・・・払出部
２７・・・現像液貯蔵タンク
２８・・・チラーユニット
２９・・・純水貯蔵タンク
３０・・・フィードバック制御機構
３１・・・レギュレータ
３２・・・現像液貯蔵タンクから戻った冷却水
３３・・・洗浄に使用される純水（洗浄用水の供給系統の水）
３４・・・洗浄に使用された洗浄水（洗浄用水の排水系統の水）
３５，３６・・・流量計
３７・・・循環冷却系統の水
３８、３９・・・水温計
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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