(57)【要約】【課題】テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜する。【解決手段】成膜ユニットは、テンプレートＴの転写パターンＣの凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓを成膜する離型剤供給部１１２を有している。離型剤供給部１１２は、支持部材１２０を有している。支持部材１２０には、凸部Ｃ１上面に当接して、当該凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓを塗布する第１のローラ１２１と、第１のローラ１２１と同軸方向に延伸し、当該第１のローラ１２１と当接する第２のローラ１２２と、第２のローラ１２２の表面に液体状の離型剤Ｓを供給する離型剤ノズル１２３と、凸部Ｃ１上面に塗布された離型剤Ｓに気体を供給し、当該離型剤Ｓを乾燥させる乾燥ノズル１２４と、が支持されている。【選択図】図７
2011192868.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸形状の転写パターンが形成されたテンプレートであって、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するために用いられるテンプレート上に、離型剤を成膜するテンプレート処理方法において、
前記転写パターンの凸部の上面のみに離型剤を成膜することを特徴とする、テンプレート処理方法。
【請求項２】
前記凸部上面に離型剤を成膜する際、前記凸部上面に液体状の離型剤を供給し、その後前記離型剤に気体を供給し、当該離型剤を乾燥させることを特徴とする。請求項１に記載のテンプレート処理方法。
【請求項３】
前記凸部上面に離型剤を成膜する際、前記凸部上面に液体状の離型剤を供給し、その後前記離型剤周囲の雰囲気を吸引し、当該離型剤を乾燥させることを特徴とする。請求項１に記載のテンプレート処理方法。
【請求項４】
前記凸部上面に離型剤を成膜する際、前記凸部上面に、乾燥して固化した離型剤を付着させることを特徴とする、請求項１に記載のテンプレート処理方法。
【請求項５】
前記凸部上面に離型剤を成膜した後、当該離型剤を加熱して焼成し、
その後、前記焼成された離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のテンプレート処理方法。
【請求項６】
前記凸部上面に離型剤を成膜した後、当該離型剤にアルコールを供給して、前記凸部上面と前記離型剤との密着性を向上させ、
その後、前記アルコールが供給された離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のテンプレート処理方法。
【請求項７】
前記凸部上面に離型剤を成膜する前に、前記テンプレートの表面を洗浄することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のテンプレート処理方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のテンプレート処理方法をテンプレート処理装置によって実行させるために、当該テンプレート処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
【請求項９】
請求項８に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
【請求項１０】
表面に凹凸形状の転写パターンが形成されたテンプレートであって、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するために用いられるテンプレート上に、離型剤を成膜するテンプレート処理装置において、
前記転写パターンの凸部の上面のみに離型剤を成膜する成膜ユニットを有することを特徴とする、テンプレート処理装置。
【請求項１１】
前記成膜ユニットは、
前記凸部上面に当接して、当該凸部上面に離型剤を塗布するローラと、前記ローラの表面に液体状の離型剤を供給する離型剤ノズルと、前記ローラと前記離型剤ノズルを支持する支持部材とを備えた離型剤供給部と、
前記離型剤供給部を支持し、水平方向に移動させる移動機構と、を有することを特徴とする、請求項１０に記載のテンプレート処理装置。
【請求項１２】
前記離型剤供給部は、前記支持部材に支持され、且つ前記ローラと同軸方向に延伸して当該ローラと当接する他のローラを有し、
前記離型剤ノズルは、前記他のローラに離型剤を供給することを特徴とする、請求項１１に記載のテンプレート処理装置。
【請求項１３】
前記離型剤供給部は、前記支持部材に支持され、前記凸部上面に塗布された離型剤を乾燥させる乾燥ノズルを有し、
前記乾燥ノズルは、前記凸部上面の離型剤に気体を供給することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載のテンプレート処理装置。
【請求項１４】
前記離型剤供給部は、前記支持部材に支持され、前記凸部上面に塗布された離型剤を乾燥させる乾燥ノズルを有し、
前記乾燥ノズルは、前記凸部上面の離型剤周囲の雰囲気を吸引することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載のテンプレート処理装置。
【請求項１５】
前記成膜ユニットは、表面に乾燥して固化した離型剤が周着し、前記凸部上面に当接して、当該凸部上面に離型剤を付着させるローラと、前記ローラを支持し、水平方向に移動させる移動機構と、を有することを特徴とする、請求項１０に記載のテンプレート処理装置。
【請求項１６】
前記成膜ユニットは、表面に離型剤が付着し、前記凸部上面に当接して、当該凸部上面に離型剤を塗布する塗布プレートを有することを特徴とする、請求項１０に記載のテンプレート処理装置。
【請求項１７】
前記成膜ユニットで成膜された離型剤を焼成する加熱ユニットと、
前記加熱ユニットで焼成された離型剤をリンスするリンスユニットと、を有することを特徴とする、請求項１０〜１６のいずれかに記載のテンプレート処理装置。
【請求項１８】
前記テンプレートを保持して回転させる回転保持部材と、
前記成膜ユニットで成膜された離型剤にアルコールを供給するアルコールノズルと、
前記アルコールが供給された離型剤にリンス液を供給するリンス液ノズルとを備えた後処理ユニットを有することを特徴とする、請求項１０〜１６のいずれかに記載のテンプレート処理装置。
【請求項１９】
前記成膜ユニットは、
前記テンプレートを保持して回転させる回転保持部材と、
前記凸部上面に成膜された離型剤にアルコールを供給するアルコールノズルと、
前記アルコールが供給された離型剤にリンス液を供給するリンス液ノズルと、を有することを特徴とする、請求項１０〜１６のいずれかに記載のテンプレート処理装置。
【請求項２０】
前記成膜ユニットで前記離型剤が成膜される前のテンプレートの表面を洗浄する洗浄ユニットを有することを特徴とする、請求項１０〜１９のいずれかに記載のテンプレート処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に凹凸形状の転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体デバイスの製造工程では、例えば半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）にフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成することが行われている。
【０００３】
上述したレジストパターンを形成する際には、半導体デバイスのさらなる高集積化を図るため、当該レジストパターンの微細化が求められている。一般にフォトリソグラフィー処理における微細化の限界は、露光処理に用いる光の波長程度である。このため、従来より露光処理の光を短波長化することが進められている。しかしながら、露光光源の短波長化には技術的、コスト的な限界があり、光の短波長化を進める方法のみでは、例えば数ナノメートルオーダーの微細なレジストパターンを形成するのが困難な状況にある。
【０００４】
そこで、近年、ウェハにフォトリソグラフィー処理を行う代わりに、いわゆるインプリントと呼ばれる方法を用いてウェハ上に微細なレジストパターンを形成することが提案されている。この方法は、表面に凹凸形状の微細なパターンを有するテンプレート（モールドや型と呼ばれることもある。）をウェハ上に形成したレジスト表面に圧着させ、その後剥離し、当該レジスト表面に直接パターンの転写を行うものである（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−４３９９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のインプリント方法で用いられるテンプレートの表面全面には、テンプレートをレジストから剥離し易くするため、通常、レジストに対して撥液性を有する離型剤が成膜されている。
【０００７】
しかしながら、上述したようにテンプレート上のパターンは非常に微細であり、しかも離型剤がレジストに対して撥液性を有するため、テンプレート上にレジスト液を塗布しても、転写パターンの凹部にレジスト液が入り込み難い。この場合、レジスト液が凹部の内部において液滴上の状態で留まってしまい、凹部に気泡が発生する。すなわち、転写パターンの凹部にレジスト液が隙間無く充填されない。そうすると、液滴の形状がウェハ上のレジストパターンにそのまま転写されてしまうため、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成できない場合があった。
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の目的を達成するため、本発明は、表面に凹凸形状の転写パターンが形成されたテンプレートであって、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するために用いられるテンプレート上に、離型剤を成膜するテンプレート処理方法において、前記転写パターンの凸部の上面のみに離型剤を成膜することを特徴としている。
【００１０】
本発明によれば、転写パターンの凸部上面のみに離型剤を成膜するので、この凸部上面は、転写パターンの凹部の内面に比して、その後テンプレート上に塗布される塗布液に対する接触角が大きくなる。このため、テンプレート上に塗布された塗布液は、転写パターンの凹部に流入し易くなる。すなわち、転写パターンの凹部に塗布液が隙間なく充填される。したがって、かかるテンプレートを用いて基板上の塗布膜に所定のパターンを形成することができる。
【００１１】
前記凸部上面に離型剤を成膜する際、前記凸部上面に液体状の離型剤を供給し、その後前記離型剤に気体を供給し、当該離型剤を乾燥させてもよい。
【００１２】
前記凸部上面に離型剤を成膜する際、前記凸部上面に液体状の離型剤を供給し、その後前記離型剤周囲の雰囲気を吸引し、当該離型剤を乾燥させてもよい。
【００１３】
前記凸部上面に離型剤を成膜する際、前記凸部上面に、乾燥して固化した離型剤を付着させてもよい。
【００１４】
前記凸部上面に離型剤を成膜した後、当該離型剤を加熱して焼成し、その後、前記焼成された離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去してもよい。なお、離型剤の未反応部とは、離型剤がテンプレートの表面と化学反応して密着する部分以外をいう。
【００１５】
前記凸部上面に離型剤を成膜した後、当該離型剤にアルコールを供給して、前記凸部上面と前記離型剤との密着性を向上させ、その後、前記アルコールが供給された離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去してもよい。
【００１６】
前記凸部上面に離型剤を成膜する前に、前記テンプレートの表面を洗浄してもよい。
【００１７】
別な観点による本発明によれば、前記テンプレート処理方法をテンプレート処理装置によって実行させるために、当該テンプレート処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。
【００１８】
また別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。
【００１９】
さらに別な観点による本発明は、表面に凹凸形状の転写パターンが形成されたテンプレートであって、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するために用いられるテンプレート上に、離型剤を成膜するテンプレート処理装置において、前記転写パターンの凸部の上面のみに離型剤を成膜する成膜ユニットを有することを特徴としている。
【００２０】
前記成膜ユニットは、前記凸部上面に当接して、当該凸部上面に離型剤を塗布するローラと、前記ローラの表面に液体状の離型剤を供給する離型剤ノズルと、前記ローラと前記離型剤ノズルを支持する支持部材とを備えた離型剤供給部と、前記離型剤供給部を支持し、水平方向に移動させる移動機構と、を有していてもよい。
【００２１】
前記離型剤供給部は、前記支持部材に支持され、且つ前記ローラと同軸方向に延伸して当該ローラと当接する他のローラを有し、前記離型剤ノズルは、前記他のローラに離型剤を供給してもよい。
【００２２】
前記離型剤供給部は、前記支持部材に支持され、前記凸部上面に塗布された離型剤を乾燥させる乾燥ノズルを有し、前記乾燥ノズルは、前記凸部上面の離型剤に気体を供給してもよい。
【００２３】
前記離型剤供給部は、前記支持部材に支持され、前記凸部上面に塗布された離型剤を乾燥させる乾燥ノズルを有し、前記乾燥ノズルは、前記凸部上面の離型剤周囲の雰囲気を吸引してもよい。
【００２４】
前記成膜ユニットは、表面に乾燥して固化した離型剤が周着し、前記凸部上面に当接して、当該凸部上面に離型剤を付着させるローラと、前記ローラを支持し、水平方向に移動させる移動機構と、を有していてもよい。
【００２５】
前記成膜ユニットは、表面に離型剤が付着し、前記凸部上面に当接して、当該凸部上面に離型剤を塗布する塗布プレートを有していてもよい。
【００２６】
前記テンプレート処理装置は、前記成膜ユニットで成膜された離型剤を焼成する加熱ユニットと、前記加熱ユニットで焼成された離型剤をリンスするリンスユニットと、を有していてもよい。
【００２７】
前記テンプレート処理装置は、前記テンプレートを保持して回転させる回転保持部材と、前記成膜ユニットで成膜された離型剤にアルコールを供給するアルコールノズルと、前記アルコールが供給された離型剤にリンス液を供給するリンス液ノズルとを備えた後処理ユニットを有していてもよい。
【００２８】
前記成膜ユニットは、前記テンプレートを保持して回転させる回転保持部材と、前記凸部上面に成膜された離型剤にアルコールを供給するアルコールノズルと、前記アルコールが供給された離型剤にリンス液を供給するリンス液ノズルと、を有していてもよい。
【００２９】
前記テンプレート処理装置は、前記成膜ユニットで前記離型剤が成膜される前のテンプレートの表面を洗浄する洗浄ユニットを有していてもよい。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜し、当該テンプレートを用いて基板上に所定のパターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す平面図である。
【図２】本実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す側面図である。
【図３】本実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す側面図である。
【図４】テンプレートの斜視図である。
【図５】成膜ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。
【図６】成膜ユニットの構成の概略を示す横断面図である。
【図７】離型剤供給部の構成の概略を示す側面図である。
【図８】リンスユニットの構成の概略を示す縦断面図である。
【図９】回転保持部材の構成の概略を示す平面図である。
【図１０】リンスユニットの構成の概略を示す横断面図である。
【図１１】洗浄ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。
【図１２】洗浄ユニットの構成の概略を示す横断面図である。
【図１３】加熱ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。
【図１４】テンプレート処理の各工程を示したフローチャートである。
【図１５】インプリントユニットの構成の概略を示す縦断面図である。
【図１６】インプリントユニットの構成の概略を示す横断面図である。
【図１７】インプリント処理の各工程におけるテンプレートとウェハの状態を模式的に示した説明図であり、（ａ）は離型剤が成膜されたテンプレート上にレジスト液が塗布された様子を示し、（ｂ）はテンプレート上のレジスト膜を光重合させた様子を示し、（ｃ）はウェハ上にレジストパターンが形成された様子を示し、（ｄ）はウェハ上の残存膜が除去された様子を示す。
【図１８】他の実施の形態にかかる離型剤供給部の構成の概略を示す側面図である。
【図１９】他の実施の形態にかかる離型剤供給部の構成の概略を示す側面図である。
【図２０】他の実施の形態にかかる離型剤供給部の構成の概略を示す側面図である。
【図２１】他の実施の形態にかかる離型剤供給部の構成の概略を示す側面図である。
【図２２】他の実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す側面図である。
【図２３】他の実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す側面図である。
【図２４】他の実施の形態にかかる後処理ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。
【図２５】他の実施の形態にかかる後処理ユニットの構成の概略を示す横断面図である。
【図２６】テンプレート処理の各工程を示したフローチャートである。
【図２７】他の実施の形態にかかる成膜ユニットの構成の概略を示す横断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかるテンプレート処理装置１の構成の概略を示す平面図である。図２及び図３は、テンプレート処理装置１の構成の概略を示す側面図である。
【００３３】
本実施の形態のテンプレート処理装置１では、図４に示すように直方体形状を有し、表面に凹凸形状の転写パターンＣが形成されたテンプレートＴが用いられる。転写パターンＣは、凸部Ｃ１と凹部Ｃ２とで構成されている。以下、転写パターンＣが形成されているテンプレートＴの面を表面Ｔ１といい、当該表面Ｔ１と反対側の面を裏面Ｔ２という。なお、テンプレートＴには、可視光、近紫外光、紫外線などの光を透過可能な透明材料、例えばガラスが用いられる。また、転写パターンＣの凸部Ｃ１の高さは、例えば４０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００３４】
テンプレート処理装置１は、図１に示すように複数、例えば５枚のテンプレートＴをカセット単位で外部とテンプレート処理装置１との間で搬入出したり、カセットＣに対してテンプレートＴを搬入出したりする搬入出ステーション２と、テンプレートＴに所定の処理を施す複数の処理ユニットを備えた処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。
【００３５】
搬入出ステーション２には、カセット載置台１０が設けられている。カセット載置台１０は、複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。すなわち、搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能に構成されている。
【００３６】
搬入出ステーション２には、Ｘ方向に延伸する搬送路１１上を移動可能なテンプレート搬送体１２が設けられている。テンプレート搬送体１２は、鉛直方向及び鉛直周り（θ方向）にも移動自在であり、カセットＣと処理ステーション３との間でテンプレートＴを搬送できる。
【００３７】
処理ステーション３には、その中心部に搬送ユニット２０が設けられている。この搬送ユニット２０の周辺には、各種処理ユニットが多段に配置された、例えば４つの処理ブロックＧ１〜Ｇ４が配置されている。処理ステーション３の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、搬入出ステーション２側から第１の処理ブロックＧ１、第２の処理ブロックＧ２が順に配置されている。処理ステーション３の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、搬入出ステーション２側から第３の処理ブロックＧ３、第４の処理ブロックＧ４が順に配置されている。処理ステーション３の搬入出ステーション２側には、テンプレートＴの受け渡しを行うためのトランジションユニット２１が配置されている。搬送ユニット２０は、これらの処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置された後述する各種処理ユニット、及びトランジションユニット２１に対してテンプレートＴを搬送できる。
【００３８】
第１の処理ブロックＧ１には、図２に示すように複数の液処理ユニット、例えばテンプレートＴに転写パターンＣの凸部Ｃ１の上面のみに液体状の離型剤を塗布して成膜する成膜ユニット３０、テンプレートＴ上の離型剤をリンスするリンスユニット３１が下から順に２段に重ねられている。第２の処理ブロックＧ２も同様に、成膜ユニット３２、リンスユニット３３が下から順に２段に重ねられている。また、第１の処理ブロックＧ１及び第２の処理ブロックＧ２の最下段には、前記液処理ユニットに各種処理液を供給するためのケミカル室３４、３５がそれぞれ設けられている。
【００３９】
第３の処理ブロックＧ３には、図３に示すようにテンプレートＴに対して紫外線を照射し、テンプレートＴ上に離型剤が成膜される前の表面Ｔ１を洗浄する洗浄ユニット４０、テンプレートＴの温度を調節する温度調節ユニット４１、４２、テンプレートＴを加熱処理する加熱ユニット４３、４４が下から順に５段に重ねられている。
【００４０】
第４の処理ブロックＧ４にも、第３の処理ブロックＧ３と同様に、洗浄ユニット５０、温度調節ユニット５１、５２、加熱ユニット５３、５４が下から順に５段に重ねられている。
【００４１】
次に、上述した成膜ユニット３０、３２の構成について説明する。成膜ユニット３０は、図５に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング１００を有している。
【００４２】
ケーシング１００内の底面には、テンプレートＴが載置される載置台１０１が設けられている。テンプレートＴは、その表面Ｔ１が上方を向くように載置台１０１の上面に載置される。載置台１０１内には、テンプレートＴを下方から支持し昇降させるための昇降ピン１０２が設けられている。昇降ピン１０２は、昇降駆動部１０３により上下動できる。載置台１０１の上面には、当該上面を厚み方向に貫通する貫通孔１０４が形成されおり、昇降ピン１０２は、貫通孔１０４を挿通するようになっている。
【００４３】
図６に示すように載置台１０１のＸ方向負方向（図６の下方向）側には、Ｙ方向（図６の左右方向）に沿って延伸するレール１１０が設けられている。レール１１０は、例えば載置台１０１のＹ方向負方向（図６の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図６の右方向）側の外方まで形成されている。レール１１０には、アーム１１１が取り付けられている。
【００４４】
アーム１１１には、テンプレートＴ上に離型剤を供給する離型剤供給部１１２が支持されている。離型剤供給部１１２は、例えばテンプレートＴの一辺寸法と同じかそれよりも長く、Ｘ方向に沿って延伸している。なお、離型剤の材料には、後述するウェハ上のレジスト膜に対して撥液性を有する材料、例えばフッ素樹脂等が用いられる。
【００４５】
アーム１１１は、駆動部１１３により、レール１１０上を移動自在である。これにより、離型剤供給部１１２は、載置台１０１のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部１１４から載置台１０１上のテンプレートＴの上方まで移動でき、さらに当該テンプレートＴの表面Ｔ１上をテンプレートＴの辺方向に移動できる。また、アーム１１１は、駆動部１１３によって昇降自在であり、離型剤供給部１１２の高さを調整できる。なお、本実施の形態においては、レール１１０、アーム１１１、駆動部１１３で移動機構を構成している。
【００４６】
離型剤供給部１１２は、図７に示すようにアーム１１１に支持される支持部材１２０を有している。支持部材１２０には、凸部Ｃ１の上面に当接して、当該凸部Ｃ１の上面に液体状の離型剤Ｓを塗布する第１のローラ１２１と、第１のローラ１２１と同軸方向に延伸し、当該第１のローラ１２１と当接する第２のローラ１２２とが支持されている。第１のローラ１２１と第２のローラ１２２は、それぞれテンプレートＴの一辺寸法と同じかそれよりも長く、Ｘ方向に沿って延伸している。そして、支持部材１２０が水平方向に移動することで、第１のローラ１２１と第２のローラ１２２はそれぞれ逆方向に回転する。
【００４７】
第２のローラ１２２の上方には、当該第２のローラ１２２に離型剤Ｓを供給する離型剤ノズル１２３が設けられている。離型剤ノズル１２３は、支持部材１２０に支持されている。また、離型剤ノズル１２３は、テンプレートＴの一辺寸法と同じかそれよりも長く、Ｘ方向に沿って延伸している。離型剤ノズル１２３の離型剤Ｓの供給口も同様にＸ方向に沿って延伸している。離型剤ノズル１２３から第２のローラ１２２に供給された離型剤Ｓは、当該第２のローラ１２２から第１のローラ１２１に供給される。このとき、第１のローラ１２１と第２のローラ１２２が当接しているため、離型剤Ｓは薄く引き伸ばされる。そうすると、当該第１のローラ１２１の表面に所定の膜厚、例えば５ｎｍで付着する。そして、第１のローラ１２１から転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に、離型剤Ｓが所定の膜厚、例えば５ｎｍで塗布される。
【００４８】
第１のローラ１２０の後方（Ｙ方向負方向側）には、凸部Ｃ１上面に塗布された離型剤Ｓに気体を供給し、当該離型剤Ｓを乾燥させる乾燥ノズル１２４が設けられている。乾燥ノズル１２４は、支持部材１２０に支持されている。また、乾燥ノズル１２４は、テンプレートＴの一辺寸法と同じかそれよりも長く、Ｘ方向に沿って延伸している。また、乾燥ノズル１２４の気体の供給口も同様にＸ方向に沿って延伸している。なお、乾燥ノズル１２４から供給される気体は、例えば常温の空気である。
【００４９】
なお、成膜ユニット３２の構成は、上述した成膜ユニット３０の構成と同様であるので説明を省略する。
【００５０】
次に、上述したリンスユニット３１、３３の構成について説明する。リンスユニット３１は、図８に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング１３０を有している。
【００５１】
ケーシング１３０内の中央部には、テンプレートＴを保持して回転させる回転保持部材１３１が設けられている。回転保持部材１３１の中央部分は下方に窪み、テンプレートＴを収容する収容部１３２が形成されている。収容部１３２の下部には、テンプレートＴの外形より小さい溝部１３２ａが形成されている。したがって、収容部１３２内では、溝部１３２ａによってテンプレートＴの下面内周部は回転保持部材１３１と接しておらず、テンプレートＴの下面外周部のみが回転保持部材１３１に支持されている。収容部１３２は、図９に示すようにテンプレートＴの外形に適合した略四角形の平面形状を有している。収容部１３２には、側面から内側に突出した突出部１３３が複数形成され、この突出部１３３により、収容部１３２に収容されるテンプレートＴの位置決めがされる。また、搬送ユニット２０の搬送アーム２０ａから収容部１３２にテンプレートＴを受け渡す際に、搬送アーム２０ａが収容部１３２と干渉するのを避けるため、収容部１３２の外周には、切欠き部１３４が４箇所に形成されている。
【００５２】
回転保持部材１３１は、図８に示すようにカバー体１３５に取り付けられ、回転保持部材１３１の下方には、シャフト１３６を介して回転駆動部１３７が設けられている。この回転駆動部１３７により、回転保持部材１３１は鉛直周りに所定の速度で回転でき、且つ昇降できる。
【００５３】
回転保持部材１３１の周囲には、テンプレートＴから飛散又は落下する離型剤を受け止め、回収するカップ１４０が設けられている。カップ１４０の下面には、回収した離型剤を排出する排出管１４１と、カップ１４０内の雰囲気を排気する排気管１４２が接続されている。
【００５４】
図１０に示すようにカップ１４０のＸ方向負方向（図１０の下方向）側には、Ｙ方向（図１０の左右方向）に沿って延伸するレール１５０が形成されている。レール１５０は、例えばカップ１４０のＹ方向負方向（図１０の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図１０の右方向）側の外方まで形成されている。レール１５０には、アーム１５１が取り付けられている。
【００５５】
アーム１５１には、テンプレートＴ上にリンス液、例えば離型剤Ｓの有機溶剤を供給するリンス液ノズル１５２が支持されている。アーム１５１は、ノズル駆動部１５３により、レール１５０上を移動自在である。これにより、リンス液ノズル１５２は、カップ１４０のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部１５４からカップ１４０内のテンプレートＴの中心部上方まで移動できる。また、アーム１５１は、ノズル駆動部１５３によって昇降自在であり、リンス液ノズル１５２の高さを調整できる。
【００５６】
なお、例えば回転保持部材１３１の溝部１３２ａ内に、洗浄液、例えば有機溶剤を噴射する洗浄液ノズルを設けてもよい。この洗浄液ノズルからテンプレートＴの裏面Ｔ２に洗浄液を噴射することによって、当該裏面Ｔ２を洗浄することができる。
【００５７】
なお、リンスユニット３３の構成は、上述したリンスユニット３１の構成と同様であるので説明を省略する。
【００５８】
次に、上述した洗浄ユニット４０、５０の構成について説明する。洗浄ユニット４０は、図１１に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング１６０を有している。
【００５９】
ケーシング１６０内には、テンプレートＴを吸着保持するチャック１６１が設けられている。チャック１６１は、テンプレートＴの表面Ｔ１が上方を向くように、その裏面Ｔ２を吸着保持する。チャック１６１の下方には、チャック駆動部１６２が設けられている。このチャック駆動部１６２は、ケーシング１５０内の底面に設けられ、Ｙ方向に沿って延伸するレール１６３上に取付けられている。このチャック駆動部１６２により、チャック１６１はレール１６３に沿って移動できる。
【００６０】
ケーシング１５０内の天井面であって、レール１６３の上方には、チャック１６１に保持されたテンプレートＴに紫外線を照射する紫外線照射部１６４が設けられている。紫外線照射部１６４は、図１２に示すようにＸ方向に延伸している。そして、テンプレートＴがレール１６３に沿って移動中に、紫外線照射部１６４から当該テンプレートＴの表面Ｔ１に紫外線を照射することで、テンプレートＴの表面Ｔ１全面に紫外線が照射される。
【００６１】
なお、洗浄ユニット５０の構成は、上述した洗浄ユニット４０の構成と同様であるので説明を省略する。
【００６２】
次に、上述した加熱ユニット４３、４４、５３、５４の構成について説明する。加熱ユニット４３は、図１３に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング１７０を有している。
【００６３】
ケーシング１７０内の底面には、テンプレートＴが載置される載置台１７１が設けられている。テンプレートＴは、その表面Ｔ１が上方を向くように載置台１７１の上面に載置される。載置台１７１内には、テンプレートＴを下方から支持し昇降させるための昇降ピン１７２が設けられている。昇降ピン１７２は、昇降駆動部１７３により上下動できる。載置台１７１の上面には、当該上面を厚み方向に貫通する貫通孔１７４が形成されおり、昇降ピン１７２は、貫通孔１７４を挿通するようになっている。また、載置台１７１の上面には、テンプレートＴを加熱する熱板１７５が設けられている。熱板１７５の内部には、例えば給電により発熱するヒータが設けられており、熱板１７５を所定の設定温度に調節できる。なお、この熱板１７５は、テンプレートＴの上方、例えば後述する蓋体１８０の天井面に設けてもよい。また、テンプレートＴの上方と下方に熱板１７５を設けてもよい。
【００６４】
載置台１７１の上方には、上下動自在の蓋体１８０が設けられている。蓋体１８０は、下面が開口し、載置台１７１と一体となって処理室Ｋを形成する。蓋体１８０の上面中央部には、排気部１８１が設けられている。処理室Ｋ内の雰囲気は、排気部１８１から均一に排気される。
【００６５】
なお、加熱ユニット４４、５３、５４の構成は、上述した加熱ユニット４３の構成と同様であるので説明を省略する。
【００６６】
また、温度調節ユニット４１、４２、５１、５２の構成についても、上述した加熱ユニット４３と同様の構成を有し、熱板１７５に代えて、温度調節板が用いられる。温度調節板の内部には、例えばペルチェ素子などの冷却部材が設けられており、温度調節板を設定温度に調節できる。また、この場合、加熱ユニット４３における蓋体１８０を省略してもよい。
【００６７】
以上のテンプレート処理装置１には、図１に示すように制御部２００が設けられている。制御部２００は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、搬入出ステーション２と処理ステーション３との間のテンプレートＴの搬送や、処理ステーション３における駆動系の動作などを制御して、テンプレート処理装置１における後述するテンプレート処理を実行するプログラムが格納されている。なお、このプログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部２００にインストールされたものであってもよい。
【００６８】
本実施の形態にかかるテンプレート処理装置１は以上のように構成されている。次に、そのテンプレート処理装置１で行われる離型剤を成膜する処理について説明する。図１４は、このテンプレート処理の主な処理フローを示している。
【００６９】
先ず、テンプレート搬送体１２によって、カセット載置台１０上のカセットＣからテンプレートＴが取り出され、処理ステーション３のトランジションユニット２１に搬送される（図１４の工程Ａ１）。このとき、カセットＣ内には、テンプレートＴは、転写パターンＣが形成された表面Ｔ１が上方を向くように収容されており、この状態でテンプレートＴはトランジションユニット２１に搬送される。
【００７０】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴは、洗浄ユニット４０に搬送され、チャック１６１に吸着保持される。続いて、チャック駆動部１６２によってテンプレートＴをレール１６３に沿って移動させながら、紫外線照射部１６４から当該テンプレートＴに紫外線が照射される。こうして、テンプレートＴの表面Ｔ１全面に紫外線が照射され、テンプレートＴの表面Ｔ１が洗浄される（図１４の工程Ａ２）。
【００７１】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴは成膜ユニット３０に搬送される。成膜ユニット３０に搬送されたテンプレートＴは、昇降ピン１０２に受け渡され、載置台１０１に載置される。続いて、離型剤供給部１１２をテンプレートＴの辺方向に移動させながら、離型剤ノズル１２３から第２のローラ１２２に離型剤Ｓを供給する。離型剤ノズル１２３から第２のローラ１２２に供給された離型剤Ｓは、当該第２のローラ１２２から第１のローラ１２１に供給される。このとき、第１のローラ１２１と第２のローラ１２２が当接しているため、離型剤Ｓは薄く引き伸ばされる。そうすると、当該第１のローラ１２１の表面に所定の膜厚、例えば５ｎｍで付着する。そして、離型剤供給部１１２の移動に伴い、第１のローラ１２１が回転しながらテンプレートＴの転写パターンＣにおける凸部Ｃ１の上面に当接する。こうして、第１のローラ１２１から転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に、離型剤Ｓが所定の膜厚、例えば５ｎｍで塗布される。このとき、第１のローラ１２１は凸部Ｃ１上面のみに当接し、当該第１のローラ１２１の表面上の離型剤Ｓが微小な膜厚に調整されているため、離型剤Ｓが凸部Ｃ１上面以外の部分に塗布されることはない。
【００７２】
また、離型剤供給部１１２を移動させながら、乾燥ノズル１２４から凸部Ｃ１上面に気体を供給して、当該凸部Ｃ１上面の離型剤Ｓを乾燥させる。こうして、凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓが成膜される（図１４の工程Ａ３）。
【００７３】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴは加熱ユニット４３に搬送される。加熱ユニット４３に搬入されたテンプレートＴは、昇降ピン１７２に受け渡され、載置台１７１に載置される。続いて、蓋体１８０が閉じられ、テンプレートＴは熱板１７５によって例えば２００℃に加熱される。所定時間経過後、テンプレートＴ上の離型剤Ｓが焼成される（図１４の工程Ａ４）。
【００７４】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴは温度調節ユニット４１に搬送され、テンプレートＴが所定の温度に調節される。
【００７５】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴはリンスユニット３１に搬送され、回転保持部材１３１に受け渡される。続いて、リンス液ノズル１５２をテンプレートＴの中心部上方まで移動させると共に、テンプレートＴを回転させる。そして、回転中のテンプレートＴ上にリンス液を供給し、遠心力によりリンス液をテンプレートＴ上で拡散させる。そうすると、離型剤Ｓの未反応部分のみが剥離する（図１４の工程Ａ５）。その後、リンス液の供給を停止した後、さらにテンプレートＴを回転させ続け、その表面Ｔ１を振り切り乾燥させる。
【００７６】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴはトランジションユニット２１に搬送され、テンプレート搬送体１２によってカセットＣに戻される（図１４の工程Ａ６）。こうしてテンプレート処理装置１における一連のテンプレート処理が終了し、テンプレートＴの転写パターンＣにおける凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓが成膜される。
【００７７】
以上のように離型剤Ｓが成膜されたテンプレートＴは、例えば図１５及び図１６に示すインプリントユニット２１０に搬送され、当該インプリントユニット２１０において、テンプレートＴを用いてウェハＷ上にレジストパターンが形成される。
【００７８】
次に、かかるインプリントユニット２１０の構成について説明する。インプリントユニット２１０は、図１５に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）とウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング２１１を有している。
【００７９】
ケーシング２１１内の底面には、テンプレートＴを保持するテンプレート保持部２２０が設けられている。テンプレート保持部２２０は、テンプレートＴの裏面Ｔ２の外周部を吸着保持するチャック２２１を有している。チャック２２１は、当該チャック２２１の下方に設けられた移動機構２２２により、鉛直方向に移動自在で、且つ鉛直周りに回転自在になっている。これにより、テンプレートＴは、後述するウェハ保持部２４０上のウェハＷに対して所定の向きに回転し昇降できる。
【００８０】
テンプレート保持部２２０は、チャック２２１に保持されたテンプレートＴの上方に設けられた光源２２３を有している。光源２２３からは、例えば可視光、近紫外光、紫外線などの光が発せられ、この光源２２３からの光は、テンプレートＴを透過して上方に照射される。
【００８１】
図１６に示すようにテンプレート保持部２２０のＸ方向負方向（図１６の下方向）側には、Ｙ方向（図１６の左右方向）に沿って延伸するレール２３０が設けられている。レール２３０は、例えばテンプレート保持部２２０のＹ方向負方向（図１６の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図１６の右方向）側の外方まで形成されている。レール２３０には、アーム２３１が取り付けられている。
【００８２】
アーム２３１には、テンプレートＴ上にレジスト液を供給するレジスト液ノズル２３２が支持されている。レジスト液ノズル２３２は、例えばウェハＷの直径寸法と同じかそれよりも長い、Ｘ方向に沿った細長形状を有している。レジスト液ノズル２３２には、例えばインクジェット方式のノズルが用いられ、レジスト液ノズル２３２の下部には、長手方向に沿って一列に形成された複数の供給口（図示せず）が形成されている。そして、レジスト液ノズル２３２は、レジスト液の供給タイミング、レジスト液の供給量等を厳密に制御できる。
【００８３】
アーム２３１は、ノズル駆動部２３３により、レール２３０上を移動自在である。これにより、レジスト液ノズル２３２は、テンプレート保持部２２０のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部２３４からテンプレート保持部２２０上のテンプレートＴの上方まで移動でき、さらに当該テンプレートＴの表面上をテンプレートＴの辺方向に移動できる。また、アーム２３１は、ノズル駆動部２３３によって昇降自在であり、レジスト液ノズル２３２の高さを調整できる。
【００８４】
ケーシング３０内の天井面であって、テンプレート保持部２２０の上方には、図１５に示すようにウェハＷを保持するウェハ保持部２４０が設けられている。すなわち、テンプレート保持部２２０とウェハ保持部２４０は、テンプレート保持部２２０に保持されたテンプレートＴと、ウェハ保持部２４０に載置されたウェハＷとが対向するように配置されている。ウェハ保持部２４０は、ウェハＷの被処理面が下方を向くように、当該ウェハＷの裏面を吸着保持する。ウェハ保持部２４０は、当該ウェハ保持部２４０の上方に設けられた移動機構２４１によって水平方向に移動できるようになっている。
【００８５】
次に、以上のように構成されたインプリントユニット２１０で行われるインプリント処理について説明する。図１７は、主な工程におけるテンプレートＴとウェハＷの状態を示している。
【００８６】
先ず、テンプレートＴとウェハＷがインプリントユニット２１０に搬入され、テンプレート保持部２２０とウェハ保持部２４０にそれぞれ吸着保持される。このとき、テンプレートＴ上には、その転写パターンＣの凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓが成膜されている。
【００８７】
その後、レジスト液ノズル２３２をテンプレートＴの辺方向に移動させ、図１７（ａ）に示すようにテンプレートＴ上にレジスト液を塗布し、塗布膜としてのレジスト膜Ｒを形成する。このとき、テンプレートＴの転写パターンＣの凹部Ｃ２に対応する部分（ウェハＷ上に形成されるレジストパターンＰにおける凸部に対応する部分）に塗布されるレジスト液の量は多く、凸部Ｃ１に対応する部分（レジストパターンＰにおける凹部に対応する部分）に塗布されるレジスト液の量は少なくなるように、テンプレートＴ上にレジスト液が塗布される。このように転写パターンＣの開口率に応じてテンプレートＴ上にレジスト液が塗布される。
【００８８】
また、テンプレートＴの転写パターンＣには、その凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓが成膜されているため、凸部Ｃ１上面は、凹部Ｃ２の内面に比して、レジスト液に対する接触角が大きくなる。このため、テンプレートＴ上に塗布されたレジスト液は、凹部Ｃ２に流入し易くなる。すなわち、凹部Ｃ２にレジスト液が隙間なく充填される。
【００８９】
このようにテンプレートＴ上にレジスト膜Ｒが塗布されると、ウェハ保持部２４０に保持されたウェハＷを水平方向の所定の位置に移動させて位置合わせを行うと共に、テンプレート保持部２２０に保持されたテンプレートＴを所定の向きに回転させる。そして、図１７（ａ）の矢印に示すようにテンプレートＴをウェハＷ側に上昇させる。テンプレートＴは所定の位置まで上昇し、テンプレートＴの表面Ｔ１がウェハＷ上のレジスト膜Ｒに押し付けられる。続いて、光源２２３から光が照射される。光源２２３からの光は、図１７（ｂ）に示すようにテンプレートＴを透過してウェハＷ上のレジスト膜Ｒに照射され、これによりレジスト膜Ｒは光重合する。このようにしてウェハＷ上のレジスト膜ＲにテンプレートＴの転写パターンＣが転写され、レジストパターンＰが形成される。
【００９０】
その後、図１７（ｃ）に示すようにテンプレートＴを下降させて、ウェハＷ上にレジストパターンＰを形成する。このとき、テンプレートＴの転写パターンＣにおける凸部Ｃ１上面には離型剤Ｓが成膜されているので、ウェハＷ上のレジストがテンプレートＴの表面Ｔ１に付着することはない。すなわち、発明者らによれば、凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓが成膜されていれば、テンプレートＴは十分に離型効果を発揮することが確認されている。なお、ウェハＷをインプリントユニット２１０から搬出した後、図１７（ｄ）に示すようにウェハＷ上の残存膜Ｌを除去してもよい。こうしてインプリントユニット２１０におけるインプリント処理が終了し、ウェハＷ上に所定のレジストパターンＰが形成される。
【００９１】
以上の実施の形態によれば、工程Ａ３において転写パターンＣの凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓを成膜するので、この凸部Ｃ１上面は、転写パターンＣの凹部Ｃ２の内面に比して、レジスト液に対する接触角が大きくなる。このため、テンプレートＴ上に塗布されたレジスト液は、転写パターンＣの凹部Ｃ２に流入し易くなる。すなわち、凹部Ｃ２にレジスト液が隙間なく充填される。したがって、かかるテンプレートＴを用いてウェハＷ上に所定のレジストパターンＰを形成することができる。
【００９２】
また、成膜ユニット３０の離型剤供給部１１２には、第１のローラ１２１と第２のローラ１２２が当接して設けられているので、離型剤ノズル１２３から第２のローラ１２２に供給された離型剤Ｓは、当該第２のローラ１２２と第１のローラ１２１との間で薄く引き伸ばされる。そうすると、離型剤Ｓは、第１のローラ１２１の表面に所定の膜厚で付着する。これにより、第１のローラ１２１から転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に、離型剤Ｓを所定の膜厚で塗布することができる。
【００９３】
また、第１のローラ１２１と乾燥ノズル１２４は同一の支持部材１２０に支持されているので、転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に塗布された離型剤Ｓを直ちに効率よく乾燥させることができる。
【００９４】
さらに、一の支持部材１２０に、第１のローラ１２１、第２のローラ１２２、離型剤ノズル１２３、乾燥ノズル１２４が全て支持されているので、これらで構成される離型剤供給部１１２を効率よく移動させることができる。しかも、離型剤供給部１１２を移動させる移動機構は１つでよく、テンプレート処理装置１の製造コストを低廉化することができる。
【００９５】
また、工程Ａ２においてテンプレートＴの表面Ｔ１を洗浄しているので、その後工程Ｓ３においてテンプレートＴの表面Ｔ１に離型剤Ｓを所定の膜厚で成膜することができる。なお、この工程Ａ２は、テンプレートＴの表面Ｔ１が予め十分に洗浄されている場合には省略してもよい。
【００９６】
以上の実施の形態では、成膜ユニット３０、３２において、テンプレートＴは載置台１０１上に載置されていたが、テンプレートＴを保持できる構成であればこれに限定されない。例えば載置台１０１に代えて、リンスユニット３１、３３の回転保持部材１３１と同様の構成の回転保持部材を設けてもよい。かかる場合、昇降ピン１０２及び昇降駆動部１０３を省略できる。
【００９７】
以上の実施の形態では、成膜ユニット３０、３２において、載置台１０１の上方に離型剤供給部１１２が配置されていたが、載置台１０１と離型剤供給部１１２の配置を上下方向に反転させてもよい。かかる場合、載置台１０１は、テンプレートＴの裏面Ｔ２を吸着保持する。そして、テンプレートＴの下方から離型剤供給部１１２の第１のローラ１２１を転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に当接させ、当該凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓを成膜する。
【００９８】
以上の実施の形態では、リンスユニット３１、３３において、回転中のテンプレートＴ上にリンス液を供給して離型剤Ｓをリンスしていたが、例えばリンス液が貯留された浸漬層にテンプレートＴを浸漬させて離型剤Ｓをリンスしてもよい。
【００９９】
以上の実施の形態では、洗浄ユニット４０、５０において、テンプレートＴを移動させながら、当該移動中のテンプレートＴに紫外線を照射していたが、例えばテンプレートＴの表面Ｔ１全面を覆う紫外線照射部を用いて、テンプレートＴに紫外線を照射してもよい。この紫外線照射部は、テンプレートＴに対向するように、当該テンプレートＴの上方に配置される。かかる場合、一度の照射でテンプレートＴの表面Ｔ１全面に紫外線を照射することができるので、テンプレートＴの表面Ｔ１の洗浄を迅速に行うことができる。また、この場合、リンスユニット３１、３３と同様に、テンプレートＴを回転させ、当該回転中のテンプレートＴの表面Ｔ１全面に紫外線を照射してもよい。
【０１００】
以上の実施の形態では、テンプレートＴ上への離型剤Ｓの成膜とテンプレートＴの加熱は、それぞれ別の処理ユニット（成膜ユニット３０、３２と加熱ユニット４３、４４、５３、５４）で行われていたが、一の処理ユニットで行われてもよい。例えば成膜ユニット３０、３２の載置台１０１内に、熱板を設けられる。かかる場合、一の処理ユニットで離型剤Ｓの塗布とテンプレートＴの加熱を連続して行うことができるので、テンプレート処理のスループットを向上させることができる。また、テンプレート処理装置１の構成を簡略化することもできる。
【０１０１】
以上の実施の形態では、インプリントユニット２１０において、テンプレート保持部２２０はウェハ保持部２４０の下方に設けられていたが、テンプレート保持部２２０とウェハ保持部２４０の配置を上下方向に反転させてもよい。すなわち、テンプレート保持部２２０をケーシング２１１内の天井面に配置し、ウェハ保持部２４０をケーシング２１１内の底面に配置してもよい。かかる場合、ウェハ保持部２４０に載置されたウェハＷ上にレジスト液が供給されレジスト膜Ｒが形成された後、テンプレートＴを保持したテンプレート保持部２２０を下降させる。そして、ウェハＷ上のレジスト膜ＲにテンプレートＴの転写パターンＣが転写され、レジストパターンＰが形成される。
【０１０２】
以上の実施の形態では、インプリントユニット２１０においてテンプレートＴ上にレジスト液を塗布していたが、上述した成膜ユニット３０、３２においてレジスト液を塗布してもよい。かかる場合、離型剤供給部１１２にレジスト液を供給するレジスト液ノズルが設けられる。そして、離型剤Ｓとレジスト膜Ｒが形成されたテンプレートＴをインプリント２１０に搬送し、当該インプリントユニット２１０においてウェハＷ上のレジスト膜ＲにテンプレートＴの転写パターンＣが転写され、レジストパターンＰが形成される。
【０１０３】
以上の実施の形態では、インプリントユニット２１０とテンプレート処理装置１は別々に設けられていたが、これらを一のシステム内に配置してもよい。かかる場合、テンプレート処理装置１におけるテンプレート処理とインプリントユニット２１０におけるインプリント処理を連続して行うことができるので、これら処理のスループットを向上させることができる。
【０１０４】
以上の実施の形態の成膜ユニット３０、３２において、離型剤供給部１１２の構成は上記実施の形態に限定されず、種々の構成を取り得る。
【０１０５】
例えば図１８に示すように、離型剤供給部１１２の乾燥ノズル１２４は、転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に塗布された離型剤Ｓの周囲の雰囲気を吸引してもよい。かかる場合、凸部Ｃ１上面の離型剤Ｓに上向きの力が作用するため、当該離型剤Ｓが凹部Ｃ２に流入するのを確実に抑制できる。したがって、より確実に凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓを成膜することができる。
【０１０６】
また、例えば離型剤供給部１１２において、第２のローラ１２２を省略し、図１９に示すように第１のローラ１２１のみを設けてもよい。かかる場合、離型剤ノズル１２３から第１のローラ１２１に離型剤Ｓが供給される。そして、離型剤ノズル１２３からの離型剤Ｓの供給量を制御することによって、第１のローラ１２１の表面に離型剤Ｓが所定の膜厚で付着する。本実施の形態によれば、成膜ユニット３０、３２の装置構成を簡略化できると共に、その製造コストを低廉化することができる。
【０１０７】
また、上記実施の形態の離型剤供給部１１２では第１のローラ１２１表面に液体状の離型剤Ｓを付着させていたが、図２０に示すようにローラ３００の表面に乾燥して固化した離型剤Ｓを周着させてもよい。ローラ３００は、支持部材１２０に支持されている。かかる場合、例えば図６に示した待機部１１４においてローラ３００に液体状の離型剤Ｓを付着させ、その後離型剤Ｓを乾燥させる。そして、図２０に示すようにローラ３００が転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に当接した状態で、ローラ３００をテンプレートＴの辺方向に移動させる。そうすると、ローラ３００が凸部Ｃ１上で回転し、ローラ３００の表面の離型剤Ｓが凸部Ｃ１上面に転写される。このとき、離型剤Ｓは乾燥しているので、所定の膜厚で凸部Ｃ１上面に転写される。本実施の形態によれば、凸部Ｃ１上面上の離型剤Ｓを乾燥させる必要がないので、上記実施の形態の離型剤供給部１１２において乾燥ノズル１２４を省略できる。したがって、成膜ユニット３０、３２の装置構成を簡略化できると共に、その製造コストを低廉化することができる。
【０１０８】
また、以上の実施の形態では、ローラ１２１、１２２、３００を用いて転写パターンＣの凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓを塗布していたが、図２１に示すように表面に離型剤Ｓが付着した塗布プレート３１０を用いてもよい。塗布プレート３１０は、テンプレートＴの少なくとも転写パターンＣを覆う形状を有している。そして、昇降機構（図示せず）によって塗布プレート３１０をテンプレートＴ側に下降させ、当該塗布プレート３１０の表面を凸部Ｃ１上面に当接させる。そうすると、凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓが塗布される。なお、塗布プレート３１０の表面に付着される離型剤Ｓは、液体状であってもよいし、あるいは乾燥して固化していてもよい。離型剤Ｓが液体状である場合、塗布プレート３１０を用いて凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓを塗布した後、当該離型剤Ｓを例えば気体によって乾燥させる。
【０１０９】
以上の実施の形態では、工程Ａ３において凸部Ｃ１上面に離型剤Ｓを成膜した後、工程Ａ４において離型剤Ｓを加熱して焼成していたが、当該離型剤Ｓを焼成する代わりにアルコール処理してもよい。
【０１１０】
かかる場合、図２２に示すようにテンプレート処理装置１の第１の処理ブロックＧ１及び第２の処理ブロックＧ２には、例えばリンスユニット３１、３３に代えて、後処理ユニット４００、４０１が配置される。この後処理ユニット４００、４０１では、成膜ユニット３０、３２で凸部Ｃ１上面に成膜された離型剤Ｓにアルコールを供給して、凸部Ｃ１上面と離型剤Ｓとの密着性を向上させ、その後、アルコールが供給された離型剤Ｓをリンスして、当該離型剤Ｓの未反応部を除去する。また、図２３に示すように第３の処理ブロックＧ３及び第４の処理ブロックＧ４では、加熱ユニット４３、４４、５３、５４と温度調節ユニット４１、４２、５１、５２を省略し、洗浄ユニット４０、５０をそれぞれ２段に重ねて配置する。
【０１１１】
次に、後処理ユニット４００、４０１の構成について説明する。後処理ユニット４００は、図２４に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング４１０を有している。
【０１１２】
ケーシング４１０内の中央部には、テンプレートＴを保持して回転させる回転保持部材４１１が設けられている。回転保持部材４１１の構成は、上記実施の形態の図８及び図９に示した回転保持部材１３１の構成と同様であるので説明を省略する。
【０１１３】
回転保持部材４１１は、図２４に示すようにカバー体４１２に取り付けられ、回転保持部材４１１の下方には、シャフト４１３を介して回転駆動部４１４が設けられている。この回転駆動部４１４により、回転保持部材４１１は鉛直周りに所定の速度で回転でき、且つ昇降できる。
【０１１４】
回転保持部材４１１の周囲には、テンプレートＴから飛散又は落下するアルコール又はリンス液を受け止め、回収するカップ４２０が設けられている。カップ４２０の下面には、回収したアルコール又はリンス液を排出する排出管４２１と、カップ４２０内の雰囲気を排気する排気管４２２が接続されている。
【０１１５】
図２５に示すようにカップ４２０のＸ方向負方向（図２５の下方向）側には、Ｙ方向（図２５の左右方向）に沿って延伸するレール４３０が形成されている。レール４３０は、例えばカップ４２０のＹ方向負方向（図２５の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図２５の右方向）側の外方まで形成されている。レール４３０には、例えば２本のアーム４３１、４３２が取り付けられている。
【０１１６】
第１のアーム４３１には、テンプレートＴ上の離型剤Ｓに常温のアルコール、例えばエタノールを供給するアルコールノズル４３３が支持されている。第１のアーム４３１は、ノズル駆動部４３４により、レール４３０上を移動自在である。これにより、アルコールノズル４３３は、カップ４２０のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部４３５からカップ４２０内のテンプレートＴの中心部上方まで移動できる。また、第１のアーム４３１は、ノズル駆動部４３４によって昇降自在であり、アルコールノズル４３３の高さを調整できる。なお、アルコールはアルコール類であればよく、エタノール以外の他のアルコールを用いてもよい。例えばメタノール、プローパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノールを用いてもよく、あるいはこれらのアルコールの混合物を用いてもよい。また、アルコールの濃度は特に限定されないが、１００％であることが好ましい。また、本実施の形態では常温のアルコールを用いているが、アルコールが結露するのを抑制するため、例えば７０℃以下に加熱したアルコールを用いてもよい。さらに、本実施の形態では液体状のアルコールを用いているが、気体状のアルコールを用いてもよい。
【０１１７】
第２のアーム４３２には、テンプレートＴ上にリンス液、例えば離型剤Ｓの有機溶剤を供給するリンス液ノズル４４０が支持されている。第２のアーム４３２は、ノズル駆動部４４１によってレール４３０上を移動自在である。これにより、リンス液ノズル４４０は、カップ４２０のＹ方向負方向側の外方に設けられた待機部４４２からカップ４２０内のテンプレートＴの中心部上方まで移動できる。また、第２のアーム４３２は、ノズル駆動部４４１によって昇降自在であり、リンス液ノズル４４０の高さを調節できる。
【０１１８】
なお、以上の構成では、アルコールノズル４３３とリンス液ノズル４４０が別々のアーム４３１、４３２に支持されていたが、同じアームに支持され、そのアームの移動の制御により、アルコールノズル４３３とリンス液ノズル４４０の移動と供給タイミングを制御してもよい。
【０１１９】
なお、後処理ユニット４０１の構成は、上述した後処理ユニット４００の構成と同様であるので説明を省略する。
【０１２０】
本実施の形態にかかるテンプレート処理装置１は以上のように構成されている。次に、そのテンプレート処理装置１で行われる離型剤を成膜する処理について説明する。図２６は、このテンプレート処理の主な処理フローを示している。
【０１２１】
先ず、テンプレート搬送体１２によって、搬入出ステーション２から処理ステーション３にテンプレートＴが搬送される（図２６の工程Ｂ１）。その後、洗浄ユニット４０において、テンプレートＴの表面Ｔ１の洗浄（図２６の工程Ｂ２）が行われた後、成膜ユニット３０において。テンプレートＴの成膜（図２６の工程Ｂ３）行われる。なお、これら工程Ｂ１〜Ｂ３は、上記実施の形態における工程Ａ１〜Ａ３と同様であるので詳細な説明を省略する。
【０１２２】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴは後処理ユニット４００に搬送され、回転保持部材４１１に受け渡される。続いて、第１のアーム４３１によりアルコールノズル４３３をテンプレートＴの中心部上方まで移動させると共に、テンプレートＴを回転させる。そして、回転中のテンプレートＴ上にアルコールを供給し、遠心力によりアルコールをテンプレートＴ上で拡散させる（図２６の工程Ｂ４）。そうすると、テンプレートＴ上のアルコールによって、離型剤ＳがテンプレートＴの表面Ｔ１と強固且つ密に化学反応し、当該テンプレートＴの表面Ｔ１に離型剤Ｓが密着する。
【０１２３】
その後、アルコールノズル４３３からのアルコールの供給を停止すると共に、テンプレートＴをさらに回転させる。このテンプレートＴの回転により、当該テンプレートＴ上のアルコールを乾燥させて除去する（図２６の工程Ｂ５）。このようにアルコールを乾燥させている間に、アルコールノズル４３３がテンプレートＴの中心部上方から移動すると共に、第２のアーム４３２により待機部４４２のリンス液ノズル４４０がテンプレートＴの中心部上方まで移動する。
【０１２４】
テンプレートＴ上のアルコールが乾燥すると、引き続きテンプレートＴを回転させると共に、回転中のテンプレートＴ上にリンス液ノズル４４０からリンス液を供給する。リンス液は、遠心力によりテンプレートＴ上を拡散する。このリンス液によって、離型剤Ｓの未反応部分のみが剥離する（図２６の工程Ｂ６）。その後、リンス液の供給を停止した後、さらにテンプレートＴを回転させ続け、その表面Ｔ１を振り切り乾燥させる。
【０１２５】
その後、搬送ユニット２０によって、テンプレートＴはトランジションユニット２１に搬送され、テンプレート搬送体１２によってカセットＣに戻される（図２６の工程Ｂ７）。こうしてテンプレート処理装置１における一連のテンプレート処理が終了し、テンプレートＴの転写パターンＣにおける凸部Ｃ１上面のみに離型剤Ｓが成膜される。
【０１２６】
以上の実施の形態によれば、工程Ｂ４においてテンプレートＴ上の離型剤Ｓにアルコールを塗布しているので、テンプレートＴの表面Ｔ１と離型剤Ｓとの化学反応が促進され、当該テンプレートＴの表面Ｔ１と離型剤Ｓの密着性が向上する。すなわち、テンプレートＴの表面Ｔ１に離型剤Ｓを短時間で密着させることができる。これによって、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。
【０１２７】
また、工程Ｂ４においてテンプレートＴの表面Ｔ１に離型剤Ｓが密着するので、当該テンプレートＴ上の離型剤Ｓの接触角を所定の角度、例えば１１０度程度にすることができる。これによって、離型剤Ｓはレジスト膜に対して十分な撥液性を有し、その離型機能を発揮することができる。
【０１２８】
また、工程Ｂ４と工程Ｂ５、すなわちアルコールの塗布及び乾燥とリンス液の塗布及び乾燥を一の後処理ユニット４００で行っているので、効率よくアルコール処理とリンス処理を行えると共に、テンプレート処理装置１を小型化でき、その製造コストを低廉化することができる。
【０１２９】
以上の実施の形態では、テンプレートＴ上への離型剤Ｓの成膜と、離型剤Ｓのアルコール処理及びリンス処理は、それぞれ別の処理ユニット（成膜ユニット３０、３２と後処理ユニット４００、４０１）で行われていたが、一の処理ユニットで行われてもよい。
【０１３０】
例えば図２７に示すように、上述の処理ユニットである成膜ユニット５００は、図２４及び図２５で示した後処理ユニット４００のケーシング４１０内に、図４及び図６に示した離型剤供給部１１２を配置した構成を有している。離型剤供給部１１２は、図２７に示すように、第３のアーム５０１に支持されている。第３のアーム５０１は、駆動部５０２により、レール４３０上を移動自在である。これにより、離型剤供給部１１２は、待機部４４２のＹ方向負方向（図２７の左方向）側の外方に設置された待機部５０３から、カップ４２０内のテンプレートＴの中心部上方まで移動できる。また、第３のアーム５０１は、駆動部５０２によって昇降自在であり、離型剤供給部１１２の高さを調整できる。さらに、待機部４３５とカップ４２０との間に待機部５０４が設置され、リンス液ノズル４４０は待機部４４２から、カップ４２０内のテンプレートＴの中心部上方を通り、待機部５０４まで移動できる。なお、成膜ユニット５００のその他の構成については、後処理ユニット４００の構成と同様であるので説明を省略する。また、以上の構成では、離型剤供給部１１２は第３のアーム５０１に支持されていたが、アルコールノズル４３３とリンス液ノズル４４０と共に同じアームに支持されてもよい。
【０１３１】
なお、成膜ユニット５００で行われるテンプレートＴ上への離型剤Ｓの成膜と、テンプレートＴ上の離型剤Ｓのアルコール処理及びリンス処理は、上記実施の形態の工程Ｂ３〜Ｂ６と同様であるので説明を省略する。
【０１３２】
かかる場合、工程Ｂ３〜工程Ｂ６を一の成膜ユニット５００で行っているので、効率よく離型剤Ｓの成膜処理、アルコール処理及びリンス処理を行うことができる。しかも、テンプレート処理装置１を小型化でき、その製造コストを低廉化することができる。
【０１３３】
なお、以上の実施の形態において、テンプレートＴの転写パターンＣにおける凸部Ｃ１上面に成膜された離型剤Ｓに対して、光を照射してもよい。離型剤Ｓに照射する光の波長は、例えば３５０ｎｍ〜２５００ｎｍが好ましい。発明者が調べたところ、かかる波長の光を離型剤Ｓに照射すると、テンプレートＴの表面Ｔ１と離型剤Ｓの化学結合を促進させることができ、テンプレートＴの表面Ｔ１と離型剤Ｓとの密着性が向上することが分かった。すなわち、上述したアルコールによるテンプレートＴの表面Ｔ１と離型剤Ｓの化学結合をさらに促進させることができ、より短時間でテンプレートＴの表面Ｔ１に離型剤Ｓを密着させることができる。
【０１３４】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。
【符号の説明】
【０１３５】
１    テンプレート処理装置
３０、３２  成膜ユニット
３１、３３  リンスユニット
４０、５０  洗浄ユニット
４３、４４、５３、５４  加熱ユニット
１１０  レール
１１１  アーム
１１２  離型剤供給部
１１３  駆動部
１２０  支持部材
１２１  第１のローラ
１２２  第２のローラ
１２３  離型剤ノズル
１２４  乾燥ノズル
２００  制御部
２１０  インプリントユニット
３００  ローラ
３１０  塗布プレート
４００、４０１  後処理ユニット
４１１  回転保持部材
４３３  アルコールノズル
４４０  リンス液ノズル
５００  成膜ユニット
Ｃ    転写パターン
Ｃ１    凸部
Ｃ２    凹部
Ｐ    レジストパターン
Ｒ    レジスト膜
Ｓ    離型剤
Ｔ    テンプレート
Ｗ    ウェハ
【図１】
2011192868.tif 000003
【図２】
2011192868.tif 000004
【図３】
2011192868.tif 000005
【図４】
2011192868.tif 000006
【図５】
2011192868.tif 000007
【図６】
2011192868.tif 000008
【図７】
2011192868.tif 000009
【図８】
2011192868.tif 000010
【図９】
2011192868.tif 000011
【図１０】
2011192868.tif 000012
【図１１】
2011192868.tif 000013
【図１２】
2011192868.tif 000014
【図１３】
2011192868.tif 000015
【図１４】
2011192868.tif 000016
【図１５】
2011192868.tif 000017
【図１６】
2011192868.tif 000018
【図１７】
2011192868.tif 000019
【図１８】
2011192868.tif 000020
【図１９】
2011192868.tif 000021
【図２０】
2011192868.tif 000022
【図２１】
2011192868.tif 000023
【図２２】
2011192868.tif 000024
【図２３】
2011192868.tif 000025
【図２４】
2011192868.tif 000026
【図２５】
2011192868.tif 000027
【図２６】
2011192868.tif 000028
【図２７】
2011192868.tif 000029