(57)【要約】【課題】面記録密度が向上するに伴い、記録トラック幅の狭小化による記録磁界の減少を防止し、かつトラック幅の高精度化を図り、記録性能の向上を可能にする。【解決手段】垂直磁気記録ヘッドにおいて、主磁極１３は、べベル角を有する逆台形を有する第１主磁極部１３１と、第１主磁極部の上に積層された、べベルを有せずほぼ矩形の、トラック幅を規定する第２主磁極部１３２により構成する。また、第２主磁極部はフレア部の所定位置から、浮上面に向かってテ―パ形状を有する。【選択図】図５Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主磁極と、補助磁極と、磁界を発生するコイルと、該主磁極のトレーリング側及びクロストラック側に設けられたシールドを有する垂直磁気記録ヘッドであって、
該主磁極は、逆台形形状を有する第１主磁極部と、該第１主磁極部の上に積層された第２主磁極部を有し、該第２主磁極部は一定のトラック幅を規定し、かつ素子高さ方向に向かって幅の広がるフレア部を有することを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項２】
請求項１記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部の浮上面の形状は矩形であり、該第２主磁極部の横幅でトラック幅を規定することを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部は所定のフレア部位置から浮上面のトラック先端までテ―パ形状を有することを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項４】
請求項３記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、テ―パ形状を有するトラック先端部は、該第２主磁極部の膜厚範囲内に形成されることを特徴とする垂直記録磁気ヘッド
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかの項記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部の飽和磁束密度（Ｂｓ）は、該第１主磁極部の飽和磁束密度(Ｂｓ)以上であることを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかの項記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第１主磁極部はべベル角を有し、第２磁極部はべベル角を有しないことを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかの項記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部のトラック幅方向の幅の長さは、該第１主磁極部のトレーリング側と接する幅の長さと等しいことを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかの項記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第１主磁極部または該第２主磁極部の少なくともいずれか一方の飽和磁束密度（Ｂｓ）はフレアハイト(Ｌｙ)ゼロ方向に向かつて飽和磁束密度（Ｂs）が大きくなることを特徴する垂直記録磁気ヘッド。
【請求項９】
請求１乃至８のいずれかの項記載の垂直記録磁気ヘッドにおいて、該主磁極の材料はＣｏ，Ｎi及びＦｅの２種類または３種類の元素を含む磁性メッキ膜であることを特徴とする垂直記録磁気ヘッド。
【請求項１０】
回転する磁気ディスクに垂直記録磁気ヘッドを用いて信号を記録する磁気ディスク装置において、
該垂直記録磁気ヘッドは、主磁極と、補助磁極と、磁界を発生するコイルと、該主磁極のトレーリング側及びクロストラック側に設けられたシールドを有し、かつ該主磁極は、逆台形形状を有する第１主磁極部と、該第１主磁極部の上に積層された、浮上面の形状が矩形の第２主磁極部を有し、該第２主磁極部は一定トラック幅を規定し、かつ素子高さ方向に向かって幅の広がるフレア部を有するように構成したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１１】
主磁極と、補助磁極と、磁界を発生するコイルと、該主磁極のトレーリング側及びクロストラック側に設けられたシールドを有し、該主磁極は、逆台形形状を有する第１主磁極部と、該第１主磁極部の上に積層された第２主磁極部を有し、該第２主磁極部は一定のトラック幅を規定し、かつ素子高さ方向に向かって幅の広がるフレア部を有する垂直記録磁気ヘッドの製造方法であって、
基板上に無機絶縁膜及びを形成する工程と、
該無機絶縁膜の上に、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）のためのハードマスクを形成する工程と、
該ハードマスクをマスクにして、ＲＩＥを用いてＶ溝形状を形成する工程と、
該Ｖ溝の内面にめっきシード膜を形成する工程と、
該シード膜が形成された該Ｖ溝内に、磁性めっきによって、該第１主磁極部と、該第１主磁極部の上に該第２主磁極部を積層して形成する工程と、
を有することを特徴とする垂直記録磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記第１主磁極部と、前記第２主磁極部をセルフアライメントで同時に形成することを特徴とする、請求項１１の垂直記録磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
同じめっき浴を用いて前記磁性めっきを施す場合、前記第２主磁極部を形成するときのめっきの電流密度を、前記第１主磁極を形成するときのめっきの電流密度より大きくすることを特徴とする、請求項１２の垂直記録磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
前記第２主磁極部の浮上面側にあって該第２主磁極部の膜厚範囲内に、テーパー形状をイオンミリングで形成することを特徴とする、請求項１１乃至１３のいずれかの請求項の垂直記録磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直記録磁気ヘッド、その製造方法、及びその垂直記録磁気ヘッドを用いた磁気ディスク装置に係り、特に、垂直記録磁気ヘッドによる記録トラック幅の狭小化、及び狭トラック幅の高精度化に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置の高記録密度化に伴い、垂直記録磁気ヘッドの面記録密度の向上が求められている。そのためには記録トラック幅を縮小することが重要であるが、記録トラック幅の縮小は、主磁極先端から磁気記録媒体に生じる磁界の減少を引き起こす。
磁気ディスク装置では、磁気記録媒体の内周から外周にわたって広範囲に記録再生が行われる。その場合、磁気記録媒体の内周及び外周において、磁気記録媒体の回転方向の接線に対して磁気ヘッドは約０〜１５°程度のスキュー角がついた状態で記録再生される。その際、主磁極の浮上面における形状が矩形形状であると、隣接トラックを消去するという問題が生じる。
【０００３】
この問題を解決するために、主磁極のリーディング側のトラック幅を主磁極のトレーリング側の幅に対して狭い形状にして狭トラック幅に対応する、いわゆる逆台形の形状状を有する主磁極が実用化されている。面記録密度向上のためには、記録トラック幅を規定する主磁極のトラック部をスキュー角に対応した逆台形の形状を保ちながら、トラック幅を狭小化する必要がある。このように、面記録密度向上にはトラック幅の狭小化が必須であり、それに伴って記録磁界の減少が不可避となる。
【０００４】
この対策として、スキュー角の対応を保持しながら主磁極の浮上面の面積を大きくし、磁界強度を向上させる技術(特許文献１,２)、あるいは主磁極の先端部（浮上面）に磁界強度を集中させる技術(特許文献３)が開示されている。しかし、高面記録密度をさらに向上させるためには、より一層の狭トラック化が要求され、またトラック幅の高精度化も大きな課題であり、それに伴って現状では記録磁界の向上も要望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２４３３５０号公報
【特許文献２】特開２００３−２４２６０７号公報
【特許文献３】特開２００９−４０６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
垂直記録磁気ヘッドの面記録密度向上のためには、主磁極トラック部の浮上面形状をスキュー角に対応した逆台形の形状を保ちながら、記録トラック幅を精度よく、狭小化することが重要である。これを可能にするためには、トラック幅に応じて主磁極の膜厚を薄くしなければならない。一方、主磁極の薄膜化は、磁界強度減少及び磁界勾配低下という記録性能劣化を引き起こし、大きな問題となる。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、スキュー角の対応をとりながら、記録トラック幅の狭小化に伴う記録磁界の低下を防止し、かつ狭トラック幅をより高精度化することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るに係る垂直磁気記録ヘッドは、好ましくは、主磁極と、補助磁極と、磁界を発生するコイルと、該主磁極のトレーリング側及びクロストラック側に設けられたシールドを有する垂直磁気記録ヘッドであって、該主磁極は、逆台形形状を有する第１主磁極部と、該第１主磁極部の上に積層された第２主磁極部を有し、該第２主磁極部は一定のトラック幅を規定し、かつ素子高さ方向に向かって幅の広がるフレア部を有することを特徴とする垂直記録磁気ヘッドとして構成される。
【０００９】
好ましい例では、垂直記録磁気ヘッドにおいて、第２主磁極部の浮上面の形状は矩形であり、該第２主磁極部の横幅でトラック幅を規定する。
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部は所定のフレア部位置から浮上面のトラック先端までテ―パ形状を有する。
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、テ―パ形状を有するトラック先端部は、該第２主磁極部の膜厚範囲内に形成される。
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部の飽和磁束密度（Ｂｓ）は、該第１主磁極部の飽和磁束密度(Ｂｓ)以上である。
【００１０】
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第１主磁極部はべベル角を有し、第２磁極部はべベル角を有しない。
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第２主磁極部のトラック幅方向の幅の長さは、該第１主磁極部のトレーリング側と接する幅の長さと等しい。
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、該第１主磁極部または該第２主磁極部の少なくともいずれか一方の飽和磁束密度（Ｂｓ）はフレアハイト(Ｌｙ)ゼロ方向に向かつて飽和磁束密度（Ｂs）が大きくなる。
また、好ましくは、垂直記録磁気ヘッドにおいて、該主磁極の材料はＣｏ，Ｎi及びＦｅの２種類または３種類の元素を含む磁性メッキ膜である。
本発明に係る磁気ディスク装置は、好ましくは、上記のように構成した垂直記録磁気ヘッドを備える磁気ディスク装置として構成される。
【００１１】
また、本発明に係る垂直記録磁気ヘッドの製造方法は、主磁極と、補助磁極と、磁界を発生するコイルと、該主磁極のトレーリング側及びクロストラック側に設けられたシールドを有し、該主磁極は、逆台形形状を有する第１主磁極部と、該第１主磁極部の上に積層された第２主磁極部を有し、該第２主磁極部は一定のトラック幅を規定し、かつ素子高さ方向に向かって幅の広がるフレア部を有する垂直記録磁気ヘッドの製造方法であって、基板上に無機絶縁膜及びを形成する工程と、該無機絶縁膜の上に、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）のためのハードマスクを形成する工程と、該ハードマスクをマスクにして、ＲＩＥを用いてＶ溝形状を形成する工程と、該Ｖ溝の内面にめっきシード膜を形成する工程と、シード膜が形成された該Ｖ溝内に、磁性メッキする工程であって、該磁性めっきによって該第１主磁極部と、該第２主磁極部をセルフアライメント的に形成する工程を有することを特徴とする垂直記録磁気ヘッドの製造方法として構成される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、以下の効果を奏する。
（１）べべル角を有しスキュー角対応の逆台形の第１主磁極部と、べベル角を有せず、一定のトラック幅を規定する第２主磁極部を、第１主磁極部の上に積層して垂直記録磁気ヘッドの主磁極を形成することで、記録磁界を大きくすることができる。
（２）第２主磁極部のトラック部は素子高さ方向にテ―パ形状を有し、かつ浮上面のテ―パ先端部は、第２主磁極の範囲内で制御することにより、テ―パ角がわずかに変動してもトラック幅は一定であり、トラック幅の高精度化が図れる。
(３)垂直記録磁気ヘッドは、主磁極を第１主磁極部と第２主磁極部の積層構造にしており、浮上面の機械加工でフレアポイントが変動しても、浮上面の面積変化分は従来技術のそれに比べて小さく、いわゆる実効トラック幅の変動が小さくことができ、優れた記録性能を得られる。
（４）第２主磁極部のフレア部の所定の位置から、第２主磁極部の先端に向かってテ―パ形状にエッチングすることにより、主磁極の先端に磁束を集中でき、記録磁界を大きくすることができる。
（５）本発明の垂直記録磁気ヘッドの製造方法によれば、基板上の無機絶縁膜をハ―ドマスクを用いてＲＩＥにより、トレンチ形状にエッチングし、その中に第１主磁極部と第２主磁極部を連続的に磁性メッキする。これにより、第二主磁極部を各々形成することなく、セルフアライメントで同時に形成できるので、トラック幅の高精度化が可能になり、トラック幅を高精度化することができ、歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一般的な磁気ディスク装置を示す図。
【図２】垂直記録磁気ヘッド７の構成及び磁気ディスク２との関係を示す図。
【図３】一実施例による垂直記録磁気ヘッドの素子高さ方向の断面図。
【図４Ａ】従来技術における主磁極部の構造を示す図。
【図４Ｂ】従来技術における主磁極部におけるトラック幅の推移を示す図。
【図５Ａ】一実施例による主磁極部の構造を示す図。
【図５Ｂ】一実施例による主磁極部のトラック幅の推移を示す図。
【図６Ａ】従来のＴＭＰ構造と本発明の一実施例による主磁極の比較を示す図。
【図６Ｂ】フレア長さを変えた場合の従来のＴＷＰ構造と本発明の主磁極の面積の増加分の比較を示す図。
【図７】フレア長さを変えた場合、従来のＴＷＰ構造と本発明の主磁極の面積比とトラック幅の関係を示す図。
【図８Ａ】一実施例による垂直記録磁気ヘッドの製造工程を示す図。
【図８Ｂ】一実施例による垂直記録磁気ヘッドの製造工程を示す図。
【図８Ｃ】一実施例による垂直記録磁気ヘッドの製造工程を示す図。
【図８Ｄ】一実施例による垂直記録磁気ヘッドの製造工程を示す図。
【図８Ｅ】一実施例による垂直記録磁気ヘッドの製造工程を示す図。
【図９】他の実施例による垂直記録磁気ヘッドを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。
図１は磁気ディスク装置を示す。（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。磁気ディスク装置は、モータ１によって回転する磁気ディスク（記録媒体）２上の目的とする位置に、サスペンションアーム３の先端に固定されたスライダー４を移動させて、スライダー４に搭載された磁気ヘッド（垂直記録磁気ヘッド及び再生ヘッド）で磁化信号の記録再生を行う。磁気ヘッドの移動及び位置決めは、ロータリーアクチュエータ５を駆動し、磁気ヘッドの磁気ディスク半径方向位置（トラック）を選択制御することで行われる。磁気ヘッドへの記録信号及び磁気ヘッドからの読み出し信号は信号処理回路６ａ，基板に搭載された回路６ｂで処理される。
【００１５】
図２は、垂直記録磁気ヘッド７の構成及び磁気ディスク２との関係を示す。
垂直記録磁気ヘッド７は、ヘッドの走行方向側（リーディング側）から、下部再生シールド８、再生素子９、上部再生シールド１０、補助磁極１１、磁界を発生する薄膜コイル１２、主磁極１３が順に積層して構成される。下部再生シールド８、再生素子９、上部再生シールド１０は再生ヘッド１４を構成し、補助磁極１１、薄膜コイル１２、主磁極１３は記録ヘッド（単磁極ヘッド）１５を構成する。主磁極１３は、記録トラック幅を規定するトラック部と、そのトラック部と一体に形成され素子高さ方向に向かって次第に幅の広がるフレア部とを有する。主磁極１３のトレーリング側とトラック幅方向両側にはラップアラウンドシールド１６が形成されている。主磁極１３のトラック部の浮上面形状は、磁気ヘッドにスキュー角がついた場合を考慮して、リーディング側の幅が狭い逆台形形状になっている。
【００１６】
記録ヘッド１５の主磁極１３から出た磁束Ｆは、磁気ディスク２の磁気記録層１７、軟磁性裏打ち層１８を通り、補助磁極１１に入る磁気回路を形成し、磁気記録層１７に磁化パターン１９を記録する。このとき、ディスク回転方向との関係から、主磁極１３が磁気ディスクのある点から最後に離れる部分、即ち主磁極のトラック部の上面（トレーリング側）及び、側面の形状が磁化パターンの形状に大きな影響を及ぼす。磁気ディスク２の磁気記録層１７と軟磁性裏打ち層１８の間には中間層が形成されている場合もある。なお、再生ヘッド１４の再生素子９には、巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ）やトンネル磁気抵抗効果型素子（ＴＭＲ）などが用いられる。
【００１７】
図３は、一実施例による垂直記録磁気ヘッドの素子高さ方向の断面図を示す。ヨーク２０にはバックギャップ２１を介して補助磁極１１が接続されている。図示の垂直記録磁気ヘッドは、薄膜コイル１２が主磁極１３とヨーク２０の周りを周回するヘリカルコイル構造の例であるが、本発明は、バックギャップ２１を周回するパンケーキ構造の垂直磁気記録ヘッドにも適用可能である。
【００１８】
図４Ａは、従来技術による垂直磁気記録ヘッドの主磁極の構造を示す。
主磁極１３´は、トレーリンング側にテーパー形状を有する主磁極構造（ＴＷＰ(Tapered write pole) 以下：ＴＷＰ構造という)を有する。ＴＷＰ構造は、記録媒体２に対する浮上面（ＡＢＳ：Air bearing surface)面の垂線に対してトレーリング側に２０°〜３０°のテーパー角（θ）を持つ形状である。
ＡＢＳ面は、通常、矢印Ｘ方向に研削して加工される。そのため、ＡＢＳ面の大きさは、加工精度即ち研削位置によっていろいろと変わり、主磁極１３の逆台形形状の大きさもＡ１−Ａ２−Ａ３（Ａ面）、Ｂ１−Ｂ２−Ｂ３（Ｂ面），Ｃ１−Ｃ２−Ｃ３（Ｃ面）のように形成される。図４Ｂの（a）〜(c)に示すように、Ａ面よりもＣ面の方が大きくなる。ＴＷＰ構造のため、ＡＢＳ面の一辺（逆台形の長底辺）Ｔ１も、Ａ面のＴ１よりもＣ面のＴ１の方が長くなる。この一辺Ｔ１はトラック幅ｔを規定する。
【００１９】
このように、従来の主磁極１３´のテ―パ角度ばらつきおよびフレアポイントを決めるためのＡＢＳ面の加工精度が原因で、Ａ面〜Ｃ面の一辺Ｔ１の長さが変動することは、加工精度によってトラック幅ｔ及び主磁極１３´の膜厚が変わることを意味する。このため、記録性能の劣化が生じ、歩留まり低下となる。本発明はこの課題を解決するものである。
【００２０】
図５Ａ〜５Ｂは、本発明の一実施例による垂直記録磁気ヘッドの主磁極の構造を示す。
図５Ａに示すように、主磁極１３は、記録トラック幅を規定するトラック部と、そのトラック部と一体に形成され素子高さ方向に向かって次第に幅の広がるフレア部とを有する。また、主磁極１３は、べベル有する第１主磁極部１３１と、べベルを有しない第２主磁極部１３２からなり、その第２主磁極部のトレーリング側に２０°〜３０°のテーパー角度で先端部までテ―パ形状を成している。この所謂ＴＷＰ構造を持つヘッド構造が、本発明の１つの特徴である。
図５Ｂ（a）、（b）に示すように、トラック幅は第２主磁極部１３２の幅で決定され、ＴＷＰのテ―パ角および浮上面加工のバラッキに影響されないことから、精度は常に一定になるという効果を奏する。
【００２１】
図６は、本発明の特徴を説明するための図である。図６Ａは、（a）従来技術のＴＷＰ構造と、（ｂ）本発明の主磁極を浮上面から見た図である。従来の主磁極は、べベル角（β）１４°で主磁極膜厚（Ｐ３Ｔ）まで伸びている。即ち、ＢＡ（β＝γ）＝１４°である。そのため、主磁極の研削位置によって、トラック幅は、Ｔ１´〜Ｔ１と変動する（Ｔ１´<Ｔ１）。
一方、本発明の主磁極１３は、べベル角（β）１４°を有する第１主磁極部と、べベル角（β）が０度（即ちベベル角を有しない：ＢＡ＝γ＝０）の第２主磁極部を有して成る。そのため、トラック幅は、第２主磁極部で一定である（Ｔ１＝Ｔ２）。
【００２２】
図６Ｂは、上記の対比において、浮上面加工時のフレア長が変化した場合の主磁極の面積の増加分を比較したものである。それぞれの傾きを比較すると、本発明による主磁極の形状の方が、面積の増加分が小さいことがわかる。つまり、主磁極の面積増加分が小さいということは、換言すれば磁界強度の変化が小さいことを意味する。これは、実効トラック幅（ＭＣＷ）の変化が小さいことなり、記録性能が向上する効果を奏する。
【００２３】
図７は、図６Ａの磁気ヘッド構造の対比を前提にして、トラック幅依存性を計算した結果を示す。図７において、横軸はフレア長のずれ量、縦軸は面積増加分の比を示す。トラック幅を３０、４５、７０nmと変化した場合、トラック幅が小さくなるほど面積比が小さくなる傾向を表している。このことからトラック幅が狭くなる程、従来のＴＷＰ構造（図６Ａ（a））と比較して、面積増加分は少なくなる。従って、本発明の主磁極の構造は、実効トラック幅のバラッキが小さくなり、かつ、記録性能が向上する効果があるといえる。
【００２４】
次に、図８Ａ〜８Ｅを参照して、垂直記録磁気ヘッドの製造工程について説明する。
この例は、アルミナのトレンチを形成した後、めっきにより主磁極を充填させるダマシン工程をベースとしている。以下の工程１〜工程１３は、図８Ａ〜８Ｅの工程図（１）〜（１３）に対応している。
【００２５】
工程１：まず、基板上にＲＩＥストッパー２４を形成し、その後アルミナ２３（無機絶縁膜）及びＲＩＥ（Reactive Ion Etching）を形成するためのハードマスク２２を形成する。各層は面内分布の良いスパッタ法を用いて形成する。ここで、ＲＩＥストッパー２４及びハードマスク材としては、NiCrを用いた。ハードマスク２２は、通常は除去するが、本発明では第２主磁極部を形成するために必要となるので、これを積極的に残す。これが本発明の１つの特徴である。
【００２６】
工程２：次に、ハードマスク２２上に主磁極形成用のフォトレジスト２５を形成する。ここではArFスキャナーを用いた。レジスト厚は0.4μmである。スキャナーを適用することで、フレア長の合わせ精度は+/-20nm以下を実現することができる。また面内のレジストのトラック幅精度は＋/-10nm以下である。
【００２７】
工程３：次に、レジスト２５をマスクにしてイオンミリングする。ここで、ハードマスク形状を垂直にするために、入射角を０°とした。イオンミリングを用いることにより、トラック分布精度は２％以内である。ここで、ハードマスク２２の厚さが、第２主磁極部１３２の膜厚となる。
【００２８】
工程４：レジスト２５を除去した後に、ハードマスク２２をマスクに、ＲＩＥを用いてＶ溝８１を形成する。ＲＩＥのガスにはＢＣＬ３を用いた。このガスを用い、かつ所定のエッチング条件により、所望のＶ溝形状を得ることができる。
【００２９】
工程５：次に、工程４で形成したＶ溝８１に、めっきシード（seed）膜２６を形成する。めっきシード膜２６にはCNF/NiCr積層膜を用いた。
【００３０】
工程６：次に、パターンめっき用のレジスト２５を形成する（工程６）。このパターンめっきを用いることにより、後の工程のＣＭＰのマージンを拡大することができる。
【００３１】
工程７：次に、ダマシンめっき２７を施す（工程７）。ダマシンめっき膜２７には、CoNiFeを用いた。CoNiFeメッキのメッキ組成はCoSO4,NiSO4,FeSO4ベースにして、添加剤としてH3BO3,NaClを加え、かつ応力緩和剤としてサッカリンナトリュウムを加えたものを基本浴としている。メッキ膜の飽和磁束密度Ｂｓは逆台形部２７１より、トラック幅を決める部分（矩形部）２７２のＢｓが大きいほうが望ましい。何故ならば、トラック幅を決める部分２７２の方がＢsは大きく、磁界勾配が大きくなる特徴がある。そこで、同じめっき浴を用いる場合、そのメッキ条件としては、矩形部２７２に対するめっき時の電流密度を逆台形部２７１に対する電流密度より大きくする。これにより、メッキ膜中のＦe含有量が大きくなり、Ｂｓが向上する。ちなみに、電流密度としては10ｍＡ/ｃｍ２から25ｍＡ/ｃｍ２に移行するのが望ましいが、液組成により異なるのでその都度電流密度を調整するのがよい。他の方法として、同じ電流密度で形成する場合は、予めメッキ液組成中のＦｅ濃度を大きくした２種類のメッキ液を建浴しておき、メッキする方法もある。
【００３２】
工程８：次に、めっきseed膜２６を施したハードマスク２２上にＣＭＰのストッパー膜２８を形成する。ストッパー材としては、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）やＳｉＯ２が有効である。
【００３３】
工程９：次に、ダマシンめっき２７をＣＭＰストッパー２６の上面まで研磨してストッパー材を除去する。ハードマスク上でＣＭＰ研磨を終了させることにより、この工程のべベル角を有する形状の第１主磁極部と、べベル角を有しない第２主磁極部を備えた主磁極１３がセルフアライメントで形成できる。このように、第２主磁極部をセルフアラインメントで形成したことが、本発明の１つの特徴としてあげられる。
【００３４】
工程１０：次に、主磁極である第２主磁極部の浮上面側にテーパー形状をイオンミリングにて形成する。レジスト２５は、（ｂ）に示すように、浮上面ＡＢＳから所定量だけ奥にシフトさせて形成した。なお、（ｂ）は（a）のＺ−Ｚ´断面図である。ここで、イオンミリングを用いて浮上面まで２０°〜３０°（テーパー角）のテーパーをつけることが可能である。この際、浮上面先端部までテ―パエッチングする際の先端部位置は、第２主磁極部の膜厚範囲内に形成することが重要である。これにより、テ―パ角のズレおよび浮上面加工時のバラッキが生じても、トラック幅が安定に形成されることになる。
【００３５】
工程１１：次に、ハードマスク２２材であるNiCrと主磁極の基材であるアルミナ２３をウェットエッチング液で溶解する。なお、（ｂ）は（a）のＺ−Ｚ´断面図である。
【００３６】
工程１２：その後、トレーリングギャップ２９およびサイドギャップのアルミナを形成する。なお、主磁極がべベル形状のために、アルミナ形成には、ＡＬＤ（atomic layer deposition）を用いた。
【００３７】
工程１３：その後、ラップアラウンドシールドを形成する。ここで、シールド材には46at.%Ni-Feを用いた。このシールドを完成させることにより、主磁極１３の主要部を完成させることができる。なお（ｂ）は（a）のＺ−Ｚ´断面図である。
【００３８】
図９は、他の実施例による垂直記録磁気ヘッドを示す。
高記録密度化に対応してトラック幅を狭小化した場合、磁界強度が確保するために、浮上面からフレアポイントに向かって第１主磁極部１３１と第２主磁極部１３２に磁束密度（Ｂｓ）の高い材料を用いることが必要となる。しかしながら、Ｌｙが短くなると磁界強度が強くなりすぎて磁界強度分布が悪くなる懸念がある。そこで、これを回避するために、図９に示すように、フレアポイント１３１２より素子高さ方向に磁界強度の低い材料（この部分を符号３０で示す）を設置して全体の磁界強度のバランスを確保することできる。低い飽和磁束密度（Bs）の材料としては、例えば、１．０Ｔの８０ＮｉＦｅ、１．６Ｔの４６ＮｉＦｅを用いることができる。
【００３９】
上記のように製造された垂直記録用磁気ヘッドを磁気ディスク装置に搭載することにより、面記録密度の向上に伴う狭トラック化の記録磁界の減少を防止でき、かつトラック幅の高精度化が可能になる。これにより、ヘッドの記録性能が向上し、ヘッド歩留まりが向上する。
【符号の説明】
【００４０】
１：モータ、２：磁気ディスク、３：サスペンションアーム、４：スライダー、５：ロータリーアクチュエータ、６：信号処理回路、７：垂直記録磁気ヘッド、
８：下部再生シールド、９：再生素子、１０：上部再生シールド、１１：補助磁極、１２：薄膜コイル、１３：主磁極、１３１：第１主磁極部、１３２：第２主磁極部
１４：再生ヘッド、１５：記録ヘッド、１６：ラップアラウンドシールド、１７：軟磁性裏打ち層、１８：磁気記録層、１９：磁化パターン、２０：ヨーク、２１：非磁性層、２２：ハードマスク、２３：アルミナ、２４：ＲＩＥストッパー、２５：レジスト、２６：めっきseed膜、２７：主磁極用めっき膜、２８：ＣＭＰストッパー、２９：トップギャップ形成用アルミナ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図８Ｅ】
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【図９】
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