(57)【要約】【課題】シートの凸部の厚さが厚く、欠陥がなく高品質で、かつ、生産性よく製造することができる凸状シートの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】凸部の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍである凸状シートの製造方法において、シートＷの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層１０を形成する塗布工程と、フォトマスク２０を用いて、塗布層１０に照射する紫外線の強度を変化することにより、厚みを調整して塗布層１０を硬化する露光工程と、塗布層を現像処理し、未硬化域１２を選択的に溶解する現像工程と、を有することを特徴とする凸状シートの製造方法および製造装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸部の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍである凸状シートの製造方法において、
シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層を形成する塗布工程と、
フォトマスクを用いて、前記塗布層に照射する紫外線の強度を変化することにより、厚みを調整して塗布層を硬化する露光工程と、
前記塗布層を現像処理し、未硬化域を選択的に溶解する現像工程と、を有することを特徴とする凸状シートの製造方法。
【請求項２】
前記フォトマスクは、前記凸状シートに形成される前記凸部のパターンに対応するパターンが形成されており、前記フォトマスクから前記塗布層までの距離により、紫外線の強度が変化することを特徴とする請求項１に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項３】
前記フォトマスクに部分的に濃淡をつけることにより、紫外線の強度が変化することを特徴とする請求項１に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項４】
前記現像工程の後、前記塗布層を完全に硬化させる工程を有することを特徴とする請求項１から３いずれか１項に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項５】
前記現像工程の後、前記塗布層と前記シート表面の密着性を向上させる工程を有することを特徴とする請求項１から４いずれか１項に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項６】
前記シートを連続走行させる搬送工程を有し、前記塗布工程および前記露光工程は、前記シートを連続走行させながら行うことを特徴とする請求項１から５いずれか１項に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項７】
前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して平行方向にスリットをパターニングされていることを特徴とする請求項６に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項８】
前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して直行方向にスリットをパターニングされており、前記シートと等速で走行することを特徴とする請求項６に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項９】
前記凸状シートが、レンチキュラーシートまたはマイクロレンズであることを特徴とする請求項１から８いずれか１項に記載の凸状シートの製造方法。
【請求項１０】
シートを連続走行させる搬送手段と、
走行する前記シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層を形成する塗布手段と、
フォトマスクと紫外線照射装置を備え、前記紫外線照射装置から照射される紫外線の強度を前記フォトマスクにより変化させ、前記塗布層の硬化部分を調整する露光手段と、
前記塗布層を現像処理し、未硬化域を選択的に溶解する現像手段と、を備えることを特徴とする凸状シートの製造装置。
【請求項１１】
前記フォトマスクは固定されていることを特徴とする請求項１０に記載の凸状シートの製造装置。
【請求項１２】
前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して、平行方向にスリットがパターニングされていることを特徴とする請求項１１に記載の凸状シートの製造装置。
【請求項１３】
前記フォトマスクを前記シートと等速で走行させるマスク搬送手段を備えることを特徴とする請求項１０に記載の凸状シートの製造装置。
【請求項１４】
前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して、垂直方向にスリットがパターニングされていることを特徴とする請求項１３に記載の凸状シートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は凸状シートの製造方法および凸状シートの製造装置に係り、特に紫外線照射により、凸状のパターンを形成するレンチキュラーシートおよびマイクロレンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶などの電子ディスプレイ、投写スクリーンにおいては、良好な画像を得るために、微細凹凸パターンが形成されたレンチキュラーシートおよびマイクロレンズフィルムが使用されている。このようなレンチキュラーシートおよびマイクロレンズフィルムの製造方法としては、各種の製造方法が知られている（特許文献１〜３参照）。
【０００３】
例えば、下記の特許文献１には、フィルム表面に設けられたレンズを、感光性樹脂を含有するコーティング材料を塗布し、露光、熱処理により形成されたレンズフィルムが記載されている。特許文献２には、透明基板表面に、インクジェット法により液状透明材料を付与し、付着・硬化させて凸形状の微小レンズを形成する方法が記載されている。特許文献３には、成形用ロール対を用いた転写により、凸シリンドリカルレンズのストライプ状の遮光パターンを形成し、紫外線を照射することにより紫外線硬化性物質を硬化させ、形成する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２６７８０５号公報
【特許文献２】特開平１１−１４２６０８号公報
【特許文献３】特許３３０９８４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、引用文献２に記載されている方法では、インクジェットを用いて凸形状を形成しているため、充分な厚みをとることができない。したがって、凸部を厚くしたい場合は複数回にわたり、乾燥、打滴を繰り返さなければならず、生産性が悪かった。また、引用文献３に記載されている方法では、凸部の形状は成形用ロール対（型）を用いて行っているため、レンチキュラーシートを製造するにつれ型の形状が劣化し、高品質なシートを製造することが困難であった。また、特許文献１に記載されている方法では、凸部の段差が０．０５〜１０μｍであり、厚みのある凸部形状を形成することが困難であった。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、シートの凸部の厚さが厚く、欠陥がなく高品質で、かつ、生産性よく製造することができる凸状シートの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、凸部の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍである凸状シートの製造方法において、シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層を形成する塗布工程と、フォトマスクを用いて、前記塗布層に照射する紫外線の強度を変化することにより、厚みを調整して塗布層を硬化する露光工程と、前記塗布層を現像処理し、未硬化域を選択的に溶解する現像工程と、を有することを特徴とする凸状シートの製造方法を提供する。
【０００８】
請求項１によれば、従来のように型による転写ではなく、紫外線照射によるリソグラフィー法により、シート上の凸部を形成しているため、型の劣化による品質不良を防止することができ、高品質な凸状シートを製造することができる。また、型を交換する必要がなく、紫外線硬化樹脂液の塗布層の厚みを調節することで、凸状シートの厚みを調節することができるので、厚みの厚いシートに対しても生産性よく製造することができる。また、未硬化の紫外線硬化樹脂を除去することにより、凸部を形成しているので、凸部が厚いシートに対しても、生産性が落ちることなく製造することができる。
【０００９】
請求項２は請求項１において、前記フォトマスクは、前記凸状シートに形成される前記凸部のパターンに対応するパターンが形成されており、前記フォトマスクから前記塗布層までの距離により、紫外線の強度が変化することを特徴とする。
【００１０】
請求項２は、塗布層に照射する紫外線の強度の調整方法を規定したものであり、請求項２によれば、フォトマスクから塗布層の距離により紫外線の強度を変更することができる。例えば、塗布層に対して垂直に紫外線が照射される部分が最も強度が高く、フォトマスクにパターンが形成されている部分は、斜めに紫外線が入射してくるため、強度が弱くなっている。したがって、この強度の差を利用して塗布層が硬化する厚みを調整することができる。
【００１１】
請求項３は請求項１において、前記フォトマスクに部分的に濃淡をつけることにより、紫外線の強度が変化することを特徴とする。
【００１２】
請求項３は、塗布層に照射する紫外線の強度を調整する別の方法を限定したものであり、請求項３によれば、フォトマスクに濃淡をつけることにより、照射した光源がフォトマスクの濃い部分を通過した後と淡い部分を通過した後の、紫外線の強度の差を利用して、塗布層が硬化する厚みを調整することができる。
【００１３】
請求項４は請求項１から３いずれか１項において、前記現像工程の後、前記塗布層を完全に硬化させる工程を有することを特徴とする。
【００１４】
請求項４によれば、露光工程で不十分であった塗布層の硬化を完全に行うことができる。
【００１５】
請求項５は請求項１から４いずれか１項において、前記現像工程の後、前記塗布層と前記シート表面の密着性を向上させる工程を有することを特徴とする。
【００１６】
請求項５によれば、現像工程の後に密着性を向上させる工程を設けることで、製造される凸状シートの強度を向上させることができる。
【００１７】
請求項６は請求項１から５いずれか１項において、前記シートを連続走行させる搬送工程を有し、前記塗布工程および前記露光工程は、前記シートを連続走行させながら行うことを特徴とする。
【００１８】
請求項６によれば、シートを連続走行させながら、連続的に凸状シートを製造することで、生産性を向上させることができる。
【００１９】
請求項７は請求項６において、前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して平行方向にスリットをパターニングされていることを特徴とする。
【００２０】
請求項７は、シートを連続走行させ製造させる際の、フォトマスクの形状の一態様を示したものであり、シートの走行方向に対して平行方向にスリットを設けたフォトマスクを用いることで、シートの走行方向に延びる凸部を有するシートを連続的に製造することができる。
【００２１】
請求項８は請求項９において、前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して直行方向にスリットをパターニングされており、前記シートと等速で走行することを特徴とする。
【００２２】
請求項８は、フォトマスクの形状の別の態様を示したものであり、シートの走行方向に対して直行方向にスリットを設けたフォトマスクを用いることで、シートの幅方向に延びる凸部を有するシートを連続的に製造することができる。
【００２３】
請求項９は請求項１から８いずれか１項において、前記凸状シートが、レンチキュラーシートまたはマイクロレンズであることを特徴とする。
【００２４】
本発明の凸状シートの製造方法は、レンチキュラーシートまたはマイクロレンズに対して特に効果的に行うことができる。
【００２５】
本発明の請求項１０は前記目的を達成するために、シートを連続走行させる搬送手段と、走行する前記シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層を形成する塗布手段と、フォトマスクと紫外線照射装置を備え、前記紫外線照射装置から照射される紫外線の強度を前記フォトマスクにより変化させ、前記塗布層の硬化部分を調整する露光手段と、前記塗布層を現像処理し、未硬化域を選択的に溶解する現像手段と、を備えることを特徴とする凸状シートの製造装置を提供する。
【００２６】
請求項１１は請求項１０において、前記フォトマスクは固定されていることを特徴とする。
【００２７】
請求項１２は請求項１１において、前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して、平行方向にスリットがパターニングされていることを特徴とする。
【００２８】
請求項１３は請求項１０において、前記フォトマスクを前記シートと等速で走行させるマスク搬送手段を備えることを特徴とする。
【００２９】
請求項１４は請求項１３において、前記フォトマスクは、前記シートの走行方向に対して、垂直方向にスリットがパターニングされていることを特徴とする。
【００３０】
請求項１０から１４は、上記記載のシートを連続走行させる凸状シートの製造方法を凸状シートの製造装置として展開したものであり、請求項１０から１４によれば、上記記載の凸状シートの製造装置と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明の凸状シートの製造方法および製造装置によれば、型を用いず、リソグラフィー法によりシートの凸部を形成しているため、型の劣化による品質不良、型から剥離する際の品質不良を防止することができる。また、型を交換する必要もないので、生産性を向上させることができる。また、紫外線硬化樹脂層の厚みを調整することにより、凸部の厚みを調整することができ、露光後の未硬化の樹脂は現像工程で除去することができるので、凸部の厚みのあるシートに対しても生産性を落とすことなく凸状シートを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の凸部シートの製造方法を説明する図である。
【図２】露光工程を説明する図である。
【図３】別のフォトマスクを用いて行った露光工程を説明する図である。
【図４】本発明に係る凸状シートの製造装置の概略図である。
【図５】図４と異なる構成の凸状シートの製造装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、添付図面に従って、本発明の凸状シートの製造方法の好ましい実施の形態について、レンチキュラーシートを例に説明する。なお、マイクロレンズについては、フォトマスクのパターンを変更することにより、同様の方法で製造することができる。
【００３４】
本発明の凸状シートの製造方法は、シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層を形成する塗布工程と、フォトマスクを用いて、前記塗布層に照射する紫外線の強度を変化することにより、厚みを調整して塗布層を硬化する露光工程と、前記塗布層を現像処理し、未硬化域を選択的に溶解する現像工程と、を有することを特徴とする。
【００３５】
≪塗布工程≫
まず、塗布工程について説明する。塗布工程は、図１（ａ）に示すように、シートＷの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層１０を形成する工程である。
【００３６】
本発明に用いられるシートＷとしては、その形態が平坦であることが好ましい。基板が平坦（平滑）性を有しないと、良好な塗布層を形成することができず、微細な表面凸部形状を形成することが困難となる。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。これらのシートの厚みは、２０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１５０μｍであることがより好ましい。
【００３７】
これらのシートは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。また、あらかじめ接着層などの下地層を設け、乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、などを用いてもよい。同様に、シートとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００３８】
シートに紫外線硬化樹脂液を塗布する方法としては、均一な厚さに塗布できれば、特に限定されるものではないが、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーターなどを用いて、通常の方法により行うことができる。
【００３９】
塗布工程により塗布され、シート上に形成された塗布層１０の厚みは、形成される凸部シートの凸部の厚みに応じて、適宜設定することができるが、１０〜２００μｍが好ましく、さらに２０〜１５０μｍとすることが好ましい。本発明においては、リソグラフィー法により、塗布層を露光、現像することにより凸部を形成することができるので、凸部に厚みがある場合においても、形成することができる。
【００４０】
塗布層１０の形成に用いられる紫外線硬化樹脂液に含まれる紫外線硬化樹脂としては、（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００４１】
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００４２】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００４３】
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４４】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００４５】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００４６】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４７】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００４８】
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００４９】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００５０】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００５１】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００５２】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００５３】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００５４】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００５５】
光ラジカル重合開始剤は紫外線硬化樹脂液中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００５６】
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂液中には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００５７】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００５８】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上  ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上、大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５９】
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００６０】
≪乾燥工程≫
塗布工程の後、シート上に形成された塗布層の乾燥を行う。乾燥は、４０〜１５０℃の温度条件下、３０〜１２０秒間行い、塗布層中の有機溶媒を蒸発させることにより行う。乾燥方法としては、ヒーター、ホットプレート、熱風を供給することなどにより行うことができる。乾燥工程により、塗布層の面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により、組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったりするため、紫外線硬化樹脂液中に含まれる有機溶剤は、含有量、沸点等に留意して選択する必要がある。
【００６１】
≪露光工程≫
次に、塗布層１０に紫外線を照射して塗布層の硬化を行う（図１（ｂ））。塗布層上に形成すべきパターンに応じたフォトマスク２０を使用して、露光を行う。図２（ａ）にフォトマスク２１の平面図、図２（ｂ）に露光工程を説明する図を示す。レンチキュラーシートを製造する場合は、塗布層１０にストライプ状の凸部を形成するため、図２に示すように、塗布層の凸部（硬化域）１２の頂点に対応する部分のフォトマスクの濃度を薄くし、図２（ａ）に示す矢印の方向に、徐々に濃くする濃淡のついたフォトマスク２１を用いることが好ましい。このようなフォトマスク２１を用いることにより、フォトマスクの濃度の濃い部分については、紫外線の照射強度が小さくなるので、塗布層の硬化が充分に進まず、図２（ｂ）に示すように、塗布層の硬化が制限される。したがって、次工程の現像工程において、硬化されなかった紫外線硬化樹脂（未硬化域）１１を除去することができるので、凸部を形成することができる。
【００６２】
濃淡の設けられたフォトマスク２１を用いる場合は、紫外線を照射する光源に平行光学系を具備する光源を用いることが好ましい。平行光学系を用いることにより、フォトマスクに垂直に紫外線を照射することができ、他方向から光が照射されることを防止することができるので、精度良く所望の厚みに紫外線硬化樹脂を硬化させることができる。平行光学系を具備する光源としては、特に限定されるものではなく、アライナーやステッパー露光機を用いることができる。
【００６３】
このようなフォトマスクの製造方法としては、特開２００２−１９６４７４号公報のようにクロム、モリブデンシリサイド、タンタル、アルミニウム、ケイ素、ニッケルなどの金属薄膜をリソグラフィー法などにより露光機の解像度以下の微細なスリットを配置するものや、特開２００７−１７８６４９号公報のように物理蒸着により上記金属の半透過膜を形成するものや、特開２００５−８４３６６号公報のように、酸化クロム膜、窒化クロム膜、酸化窒化クロム膜、フッ化クロム膜、酸化インジウム錫膜、ＴｉおよびＷを含む酸化膜、ＴｉおよびＭｏを含む酸化膜など、金属の酸化物や窒化物などの半透過膜を形成するといった公知の方法により製造することができる。
【００６４】
なお、マイクロレンズを製造する場合は、フォトマスクのパターンを円形パターンまたは楕円形パターンとし、個々の円形パターンの中心部から周辺部に向って濃度を濃くすることにより、紫外線硬化樹脂の硬化を行うことができる。
【００６５】
また、塗布層に形成するパターンに対応したパターンを有するフォトマスクを用いて、露光工程を行うこともできる。この場合、紫外線を照射する光源として、光軸に平行でない照明光源を用いる。このような紫外線照射装置としては、高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどを用いたライン光源やスポット光源、紫外ＬＥＤ光源を用いることができる。
【００６６】
照明光源を用いて露光工程を行った場合の紫外線硬化樹脂の硬化の状態を図３に示す。図３（ｂ）に示すように、紫外線が平行でないため、フォトマスク２２の紫外線通過部２３から様々な角度で紫外線が塗布層に入射される。したがって、光源から塗布層までの距離が異なるため、塗布層１０に照射される紫外線の強度を異ならせることができる。図３（ｂ）に示すように、紫外線が塗布層１０に対して垂直に照射される部分が最も強度が高いため、塗布層の硬化が最も進む。逆に、フォトマスク２２にパターンが形成された箇所は、紫外線通過部２３から斜めに入射してくる紫外線のみが照射され、さらに、この紫外線は斜めに入ってくるので、光源からの距離も長くなるため、強度が弱くなり、塗布層１０の硬化が制限される。したがって、塗布層の硬化する膜厚を調整することができる。
【００６７】
また、マイクロレンズを製造する場合は、上記記載の場合と同様に、円形または楕円形のフォトマスクを用いることにより、製造することができる。
【００６８】
図３で示す露光工程では、フォトマスク２２とシートＷ（塗布層１０）の距離を長くすることで、光源からの距離に差をつけることができるので、紫外線の照射強度の差をつけることができる。フォトマスク２２と塗布層の距離は、適宜、設定することが可能であるが、例えば２００μｍとすることができる。
【００６９】
逆に、図２で示す露光工程では、濃淡のついたフォトマスク２１を用いているため、フォトマスク２１で紫外線の照射強度に差をつけることができるので、フォトマスク２１とシートＷ（塗布層１０）の距離を短くすることができ、例えば、２０μｍとすることができる。
【００７０】
≪現像工程≫
現像工程は、露光工程により塗布層１０を所定のパターンに硬化させた後、硬化しなかった未硬化域１１を選択的に溶解し、除去する工程である（図１（ｃ））。未硬化域１１の除去方法としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することが可能であり、例えば、現像液を用いて除去する方法を挙げることができる。
【００７１】
現像液としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、有機溶剤などを挙げることができる。
【００７２】
該アルカリ性の水溶液は、特に制約はなく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３のアルカリ性物質０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、特開平５-７２７２４号公報に記載のものなど、公知のアルカリ性物質の希薄水溶液を使用するか、さらに、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものを用いてもよい。前記アルカリ性物質としては、例えば、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド）、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノナン又は燐酸三ナトリウムを挙げることができる。
【００７３】
また、上記の水と混和性のある適当な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０質量％が一般的である。
【００７４】
現像液には、更に公知のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００７５】
また、現像液として用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソフチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、２−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類等のエステル類などが挙げられる。さらに、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。これらは１種を単独使用してもよく、２種類以上を併用しても構わない。
【００７６】
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５〜４０℃が好ましい。
【００７７】
現像方法は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することが可能である。例えば、シャワー現像を挙げることができ、露光後の塗布層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化域を除去することができる。その他の方法としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像などを挙げることができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
【００７８】
≪後処理工程≫
現像工程の後に、シート上に形成された凸部を完全に硬化を行う、硬化処理工程を備えることが好ましい。また、凸部とシートの密着性を向上させるため、密着性向上工程を備えることが好ましい。
【００７９】
硬化処理工程、および密着性向上工程としては、同様の方法により行うことができ、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、全面露光処理、全面加熱処理などを好適に用いることができる。
【００８０】
全面露光処理の方法としては、現像工程の後に、凸パターンが形成された塗布層の全面を露光する方法が挙げられる。全面露光により、凸パターンを形成する紫外線硬化樹脂の硬化が促進され、凸パターンの表面が硬化される。また、凸パターンとシートの密着性が向上する。全面露光を行う装置としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機を用いることができる。
【００８１】
また、全面加熱処理の方法としては、現像工程の後に、凸パターンが形成された塗布層の全面を加熱する方法が挙げられる。全面加熱により、凸パターンの表面の膜強度を高め、シートとの密着性を向上させることができる。
【００８２】
全面加熱による加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。また、加熱時間としては、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
【００８３】
全面加熱を行う装置としては、特に限定されず、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどを挙げることができる。
【００８４】
本発明の製造方法により製造された凸部シートは型を用いずに、リソグラフィー法により製造しているため、凸部の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍのサイズの凸部シートを型の劣化よる品質の低下、型からの剥離不良による品質不良を生じることなく製造することができる。
【００８５】
≪凸状シートの製造装置≫
図４（ａ）は、本発明の凸状シートの製造装置１００の概略図である。図４（ｂ）は、露光手段１４０の概略斜視図である。図４（ａ）に示すように、シート１０１を送り出す送り出し機１１０、走行するシート１０１に紫外線硬化樹脂液を塗布し塗布層を形成する塗布手段１２０、シート１０１上に形成された塗布層を乾燥し塗布層中の有機溶媒を蒸発させる塗布層乾燥手段１３０、塗布層に紫外線を照射して塗布層の硬化を行う露光手段１４０、現像液に浸漬し塗布層の未硬化領域を溶解し除去する現像手段１５０、凸パターンが形成された凸状シートを乾燥し、水、有機溶媒を蒸発させる現像液乾燥手段１６０、凸部を完全に硬化、および、シート１０１との密着性を向上させる後処理手段１７０、凸部が形成されたシート１０２を巻き取る巻き取り機１８０とで構成される。
【００８６】
塗布手段１２０、塗布層乾燥手段１３０、現像手段１５０、後処理手段１７０については、上述した条件、材料を用いて行うことができるので、説明を省略する。また、現像液乾燥手段１４０についても、塗布層乾燥手段と同様の装置、方法により行うことができる。なお、図４（ａ）においては、塗布手段１２０としてディップコータ、現像手段１５０としてディップ現像の例を示しているが、これに限定されず、上記記載の方法で紫外線硬化樹脂の塗布、現像を行うことができる。
【００８７】
図４（ｂ）に露光手段１４０の概略斜視図を示す。フォトマスク１４２はシート１０２の走行方向に対して、平行方向にスリットがパターニングされている。このようなフォトマスク１４２を用いることで、ＵＶランプ１４１及びフォトマスク１４２を固定し、シートを走行させることで、シートの走行方向に平行な凸部を有する凸状シート１０２を形成することができる。なお、図４（ｂ）においては、シート１０２に凸部が形成されているが、凸部の形状をわかりやすくするために示したものであり、実際には、塗布層がシート上に形成されている状態である。
【００８８】
図５（ａ）は、凸状シートの製造装置の他の形態を示す概略図である。図５（ａ）に示す凸状シートの製造装置２００は、露光手段２４０が図４（ａ）に示す凸状シートの製造装置１００と異なっている。
【００８９】
図５（ｂ）に露光手段２４０の概略斜視図を示す。フォトマスク２４２は、シート２０２の走行方向に対して、垂直方向にスリットがパターニングされている。そして、ＵＶランプ１４２を固定し、フォトマスク２４２およびシート２０２を同期して走行させることで、フォトマスク２４２のスリットからシート２０２に一定の強度で紫外線を照射することができるので、図５（ｂ）に示すように、走行方向に垂直な凸部を有する凸状シート２０２を形成することができる。
【００９０】
フォトマスク２４２をシート２０２と同期して走行させる方法としては、図５（ａ）に示すように、フォトマスク２４２を無端状のベルトのように構成することで、走行させることができる。また、通常のフォトマスクの端部をコンベアベルトで保持し、走行させることもできる。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９２】
［実施例１］
（感光性樹脂層用塗布液の調整）
ジシクロペンタジエンジアクリレート  Ｒ６８４（日本化薬（株）製）  ：５０質量％
メチルエチルケトン                                          ：４８．９５質量％
メガファックＦ１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）              ：０．０５質量％
イルガキュア  １８４  （チバ  スペシャリティーケミカルズ社製）      ：１質量％
上記処方により、感光性樹脂層用塗布液の調整を行った。感光性樹脂層用塗布液は、まず、アクリル酸エステルであるジシクロペンタジエンアクリレート  Ｒ６８４をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で、メチルエチルケトンと混合して１５０ｒｐｍ、３０分間攪拌した。次いで、温度２５℃（±２℃）で、メガファックＦ−１７６ＰＦ、イルガキュア  １８４の順で添加し、温度４０℃（±２℃）で１５０ｐｒｍ、６０分間攪拌することにより、感光性樹脂層用塗布液を得た。
【００９３】
（感光性樹脂層の作製）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、感光性樹脂用塗布液を塗布し、乾燥させて、乾燥膜厚が１２０μｍの感光性樹脂層を作製した。その後、照明型紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）で、Ｌ／Ｓ＝５０／１５０μｍパターンを有するマスクを光源の下１５０ｍｍに設置し、さらに露光マスク面と感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。なお、マスクのパターンは、Ｌが遮光部、Ｓが開口部の長さである。
【００９４】
（未硬化部の除去）
露光後のサンプルを有機溶媒：エタノール／アセトン混合液（８０：２０）にて洗浄し、サンプルを製造した。
【００９５】
［実施例２］
（感光性樹脂層用塗布液の調整）
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）    ：３５質量％
メチルエチルケトン                                                ：５０質量％
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
：５質量％
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                        ：９質量％
メガファックＦ１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）              ：０．０５質量％
イルガキュア  １８４  （チバ  スペシャリティーケミカルズ社製）：０．９５質量％
上記処方により、感光性樹脂層用塗布液の調整を行った。感光性樹脂層用塗布液は、まず、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ、３０分間攪拌した。次いで、温度２５℃（±２℃）で、メガファックＦ−１７６ＰＦ、イルガキュア  １８４の順で添加し、温度４０℃（±２℃）で１５０ｐｒｍ、６０分間攪拌することにより、感光性樹脂層用塗布液を得た。
【００９６】
（感光性樹脂層の作製）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、感光性樹脂用塗布液を塗布し、乾燥させて、乾燥膜厚が１２０μｍの感光性樹脂層を作製した。その後、照明型紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）で、Ｌ／Ｓ＝５０／１５０μｍパターンを有するマスクを光源の下１５０ｍｍに設置し、さらに露光マスク面と感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【００９７】
（未硬化部の除去）
露光後のサンプルを有機溶媒：エタノール／アセトン混合液（８０：２０）にて洗浄し、サンプルを製造した。
【００９８】
作製したサンプルの断面を切断し、マイクロスコープ（（株）ＫＥＹＥＮＣＥ製）で観察したところ、厚み１００μｍ、ピッチ２００μｍであった。
【００９９】
［実施例３］
（感光性樹脂層用塗布液の調整）
感光性樹脂層用塗布液は実施例１と同様の方法により調製を行った。
【０１００】
（感光性樹脂層の作製）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、感光性樹脂用塗布液を塗布し、乾燥させて、乾燥膜厚が１２０μｍの感光性樹脂層を作製した。その後、照明型紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）で、マスクを光源の下１５０ｍｍに設置し、さらに露光マスク面と感光性樹脂層の間の距離を２０μｍに設定し、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。マスクは、Ｌ／Ｓ＝１００／１００μｍパターンを有するマスクであり、図＃に示すように、開口部において中央から端部にかけて濃度勾配を有するマスクを用いた。
【０１０１】
（未硬化部の除去）
露光後のサンプルを有機溶媒：エタノール／アセトン混合液（８０：２０）にて洗浄し、サンプルを製造した。
【０１０２】
［実施例４］
（感光性樹脂層用塗布液の調整）
感光性樹脂層用塗布液は実施例１と同様の方法により調製を行った。
【０１０３】
（感光性樹脂層の作製）
図４に示す連続的にシートを製造することができる装置を用いてサンプルの作製を行った。ＰＥＴウエブを５ｍ／分の速度で走行させながら、感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて、乾燥膜厚１２０μｍの感光性樹脂層を作製した後、連続的に露光、洗浄してサンプルを得た。ＰＥＴウエブは、厚み１００μｍ、幅１５０ｍｍのものを用いた。また、フォトマスクには、Ｌ／Ｓ＝５０／１５０μｍのパターンが設けられており、紫外線照射光源の下１５０ｍｍにマスクを置き、さらに、マスクの下をウエブが２００μｍの隙間を維持して走行するようにした。マスクは、図＃に示すように、ウエブの走行方向に対して、平行方向にスリットが入る状態で配置した。なお、露光量は６００ｍＪ／ｃｍ２となるように照度を調整した。
【０１０４】
未硬化部の除去は、エタノール／アセトン混合液（８０：２０）にディップして行い、洗浄、乾燥を行った後、巻き取り、サンプルを製造した。
【０１０５】
［実施例５］
（感光性樹脂層用塗布液の調整）
感光性樹脂層用塗布液は実施例１と同様の方法により調製を行った。
【０１０６】
（感光性樹脂層の作製）
図５に示す連続的にシートを製造することができる装置を用いてサンプルの作製を行った。ＰＥＴウエブを５ｍ／分の速度で走行させながら、感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて、乾燥膜厚１２０μｍの感光性樹脂層を作製した後、連続的に露光、洗浄してサンプルを得た。ＰＥＴウエブは、厚み１００μｍ、幅１５０ｍｍのものを用いた。また、フォトマスクには、Ｌ／Ｓ＝５０／１５０μｍのパターンが設けられており、紫外線照射光源の下１５０ｍｍの位置にマスク、さらにマスクとＰＥＴウエブの隙間を２００μｍに維持し、マスクとＰＥＴウエブとを等速度で走行するようにした。マスクは、図＃に示すように、ウエブの走行方向に対して垂直方向にスリットが入っている状態で走行させた。なお、露光量は４００ｍＪ／ｃｍ２となるように照度を調整した。
【０１０７】
未硬化部の除去は、エタノール／アセトン混合液（８０：２０）にディップして行い、洗浄、乾燥を行った後、巻き取り、サンプルを製造した。
【符号の説明】
【０１０８】
１０…塗布層、１１…未硬化域、１２…硬化域（凸部）、２０、２１、２２、１４２、２４２…フォトマスク、２３…紫外線通過部、１００、２００…凸状シートの製造装置、１１０…送り出し機、１２０…塗布手段、１３０…塗布層乾燥手段、１４０、２４０…露光手段、１４１…ＵＶランプ、１５０…現像手段、１６０…現像液乾燥手段、１７０…後処理手段、１８０…巻き取り機、Ｗ…シート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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