(57)【要約】【課題】表面形状を規定することによって、優れた防眩性を得ることができるとともに、ぎらつきを確実に抑制できる防眩性フィルムおよび表示装置を提供する。【解決手段】防眩性フィルム１は、基材１１と、この基材１１上に形成されたハードコート層１２とを備える。ハードコート層は、基材の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有し、ハードコート層表面の凹凸形状をフーリエ変換して得られるパワースペクトルが、波数１０（１／ｍｍ）付近にピークを有し、ピークの値が、０．０３以上０．０８未満である。【選択図】図２
2011107297.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸面に有する基材と、
上記基材の凹凸面上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層は、上記基材の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有し、
上記ハードコート層表面の凹凸形状をフーリエ変換して得られるパワースペクトルが、波数１０（１／ｍｍ）付近にピークを有し、
上記ピークの値が、０．０３以上０．０８未満である防眩性フィルム。
【請求項２】
上記最大ピークの値が、０．０３以上０．０６以下である請求項１記載の防眩性フィルム。
【請求項３】
上記ハードコート層表面の凹凸の横方向長さＲＳｍが、５０μｍ以上１５０μｍ以下である請求項１記載の防眩性フィルム。
【請求項４】
上記ハードコート層表面の十点平均粗さＲｚに対する、上記ハードコート層表面の凹凸の横方向長さＲＳｍの比率（Ｒｓｍ／Ｒｚ）が、１００以上４００以下である請求項１記載の防眩性フィルム
【請求項５】
上記ハードコート層表面の凹凸形状が、３次元的に不規則な凹凸形状である請求項１記載の防眩性フィルム。
【請求項６】
上記ハードコート層表面の最大頻度の突起高さが、０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲内であり、
上記ハードコート層表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起が、最大頻度の突起高さの中心値から＋１μｍ以内の高さであり、
上記ハードコート層表面の凹凸の横方向長さＲＳｍが、５０μｍ以上５００μｍ以下である請求項１記載の防眩性フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性フィルムを表示部上に備える表示装置。
【請求項８】
上記表示部が液晶パネルであり、
上記液晶パネルの画素ピッチが、ＲＧＢ各画素５０μｍ以上５００μｍ以下である請求項７記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、防眩性フィルムおよび表示装置に関する。詳しくは、ハードコート層を備える防眩性フィルムおよびこの防眩性フィルムを用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display:LCD）やプラズマディスプレイ（Plasma Display Panel:PDP）などの各種表示装置が広く普及している。これらの表示装置の画面は、太陽光や室内照明などの外光が映り込むことによって、特に明所での視認性が著しく阻害されるので、画面表面で外光を拡散反射させる防眩性フィルムが多用されている。
【０００３】
従来、この防眩性フィルムでは、画面表面で外光を拡散反射させるために、表面に微細な凹凸構造を構成する手法を用いている。具体的には、透明プラスチック基材上に擦傷性を考慮してハードコート塗料に透明微粒子を分散した拡散層を塗布する方法が、現在の液晶表示装置の主流となっている。
【０００４】
しかしながら、最近の薄型テレビに代表される前述の各種表示装置では、画質の向上、高精細化が急速に進み、画素が小型化している。このため、防眩性フィルムを透過する光が防眩層中の微粒子や表面凹凸構造による屈折や拡散によって歪を受け、画像が不鮮明になったり輝度のバラツキ現象としてぎらつきが発生したり、表面が白茶けた画質となり品位が著しく劣化するという問題がある。
【０００５】
したがって、微粒子を用いて表面凹凸構造を形成する現行の防眩性フィルムは、上述したような画質の向上や高精細化に十分に追従できず、微粒子を用いないで表面凹凸構造を形成する防眩性フィルムの実現が望まれている。
【０００６】
微粒子を用いないで表面凹凸構造を形成する防眩性フィルムを実現するために、表面に微細な凹凸構造を形成する手法として、下記の特許文献１〜３に示すように、微細な凹凸構造をエンボス（形状転写）によって形成する手法が検討されている。
【０００７】
特許文献１では、透明プラスチックフィルム上に、電離放射線硬化型樹脂の粗い凹凸層と、その表面に沿って細かい凹凸とを形成する防眩性フィルムの製造方法が提案されている。この製造方法では、その粗い凹凸を、エンボス法、サンドブラスト法、および乾燥時の樹脂対流法のいずれかによって形成し、細かい凹凸を、薄膜状コート層、またはリフティング効果により形成する。
【０００８】
特許文献２では、エンボス加工によりフィルム表面に凹凸を付与する反射防止フィルムの製造方法が提案されている。この製造方法では、エンボス加工に使用する版の凹凸の算術平均粗さを０．０５以上２．００μｍ以下とし、凹凸の平均周期を５０μｍ以下とする。
【０００９】
特許文献３では、熱可塑性樹脂フィルムの製膜工程で、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する前もしくは後にテンターにより延伸し、得られた凹凸面上にハードコート層を形成する防眩性フィルムの製造方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特許第３３７４２９９号公報
【特許文献２】特開２００４−２９２４０号公報
【特許文献３】特開２００５−１５６６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１〜特許文献３の防眩性フィルムでは、防眩性およびぎらつきの低減の両立を制御することが困難であった。すなわち、特許文献１〜特許文献３に記載されている防眩性フィルムでは、ぎらつきを抑制するための表面形状が規定されておらず、ぎらつきは、防眩性を追及した結果の二次的な成果として、偶然に抑制できるものにすぎなかった。
【００１２】
表面に凹凸形状を有する防眩性フィルムでは、ぎらつきは必ず生じるものであるが、ぎらつきの起こる機構は詳細には解明されておらず、ぎらつきは防眩性フィルムの何によって起こる現象なのかも解析されていなかった。
【００１３】
また、ぎらつきの程度は人間の官能的な評価で主観的に定まるものであるため、ぎらつきの程度を定量的に解析することが難しいとされており、このため防眩性フィルムにおいて、ぎらつきを抑制するための有効な表面形状を、適切に設計することは困難であった。
【００１４】
したがって、この発明の目的は、表面形状を規定することによって、優れた防眩性を得ることができるとともに、ぎらつきを抑制できる防眩性フィルムおよび表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上述した課題を解決するために、第１の発明は、凹凸面に有する基材と、基材の凹凸面上に形成されたハードコート層とを備え、ハードコート層は、基材の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有し、ハードコート層表面の凹凸形状をフーリエ変換して得られるパワースペクトルが、波数１０（１／ｍｍ）付近にピークを有し、ピークの値が、０．０３以上０．０８未満である防眩性フィルムである。
【００１６】
第１の発明では、ハードコート層は、基材の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有し、ハードコート層表面の凹凸形状をフーリエ変換して得られるパワースペクトルが、波数１０（１／ｍｍ）付近にピークを有し、ピークの値が、０．０３以上０．０８未満となるように、凹凸形状が形成されている。これにより、第１の発明では、優れた防眩性を得ることができるとともに、ぎらつきを抑制できる。
【発明の効果】
【００１７】
この発明によれば、優れた防眩性を得ることができるとともに、ぎらつきを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、この発明の第１の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す。
【図２】図２は、この発明の第１の実施形態による防眩性フィルムの構成の一例を示す。
【図３】図３Ａ〜図３Ｃは、この発明の第１の実施形態による防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための断面図である。
【図４】図４Ａ〜図４Ｂは、この発明の第１の実施形態による防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための断面図である。
【図５】図５Ａ〜図５Ｃは、この発明の第１の実施形態による防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための断面図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｃは、この発明の第１の実施形態による防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための断面図である。
【図７】図７は、実施例１の表面粗さ測定によって得られる断面曲線のデータを示す。
【図８】図８Ａ〜図８Ｃは、実施例１〜実施例３の断面曲線データをフーリエ変換して得られたパワースペクトルを示す。
【図９】図９Ａ〜図９Ｃは、実施例４〜実施例５および比較例１の断面曲線データをフーリエ変換して得られたパワースペクトルを示す。
【図１０】図１０Ａ〜図１０Ｃは、比較例２〜比較例４の断面曲線データをフーリエ変換して得られたパワースペクトルを示す。
【図１１】図１１は、比較例５の断面曲線データをフーリエ変換して得られたパワースペクトルを示す。
【図１２】図１２は、フィルムの表面粗さ測定の概略を示す模式図である。
【図１３】図１３は、ぎらつき評価の測定基準を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の実施形態について図面を参照しながら、以下の順序で説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
（１）第１の実施形態（防眩性フィルムの第１の例）
（２）第２の実施形態（防眩性フィルムの第２の例）
【００２０】
１．第１の実施形態
［液晶表示装置の構成］
図１は、この発明の第１の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す。この液晶表示装置は、図１に示すように、光を出射するバックライト３と、バックライト３から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル２とを備える。液晶パネル２の両面にはそれぞれ、偏光子２ａ、２ｂが設けられている。液晶パネル２の表示面側に設けられた偏光子２ｂには、光学フィルムとしての防眩性フィルム１が設けられている。ここでは、フィルムには、従来、フィルムと称されるもののみならず、シートと称されるものも含むものと定義する。また、防眩性フィルム１またはハードコート層１２が一主面に形成された偏光子２ｂを防眩性偏光子４と称する。
【００２１】
バックライト３としては、例えば直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。バックライト３は、例えば、光源、反射板、光学フィルムなどを備える。光源としては、例えば、冷陰極蛍光管（Cold Cathode Fluorescent Lamp：ＣＣＦＬ）、熱陰極蛍光管（Hot Cathode Fluorescent Lamp：ＨＣＦＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（Organic ElectroLuminescence：ＯＥＬ）、無機エレクトロルミネッセンス（Inorganic ElectroLuminescence：ＩＥＬ）および発光ダイオード(Light Emitting Diode：ＬＥＤ)などが用いられる。
【００２２】
液晶パネル２としては、例えば、ツイステッドネマチック（Twisted Nematic：ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（Super Twisted Nematic：ＳＴＮ）モード、垂直配向（Vertically Aligned：ＶＡ）モード、水平配列（In-Plane Switching：ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド配向（Optically Compensated Birefringence：ＯＣＢ）モード、強誘電性（Ferroelectric Liquid Crystal：ＦＬＣ）モード、高分子分散型液晶（Polymer Dispersed Liquid Crystal：ＰＤＬＣ）モード、相転移型ゲスト・ホスト（Phase Change Guest Host：ＰＣＧＨ）モードなどの表示モードのものを用いることができる。
【００２３】
液晶パネル２の両面には、例えば偏光子２ａ、２ｂがその透過軸が互いに直交するようにして設けられる。偏光子２ａ、２ｂは、入射する光のうち直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を吸収により遮へいするものである。偏光子２ａ、２ｂとしては、例えば、高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたものを用いることができる。
【００２４】
液晶パネル２の画素ピッチが、ＲＧＢ各画素５０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。５０μｍ未満であると防眩性を抑えた光学フィルムの作製が困難であるからである。５００μｍを超えると液晶分子の動作特性が劣化するからである。
【００２５】
［防眩性フィルムの構成］
図２は、この発明の第１の実施形態による防眩性フィルム１の構成の一例を示す断面図である。防眩性フィルム１は、図２に示すように、凹凸面を有する基材１１と、この基材１１の凹凸面上に形成されたハードコート層１２とを備える。
【００２６】
防眩性フィルム１は、表面に凹凸を有し、この凹凸により反射光を散乱させる防眩性フィルムである。この表面の凹凸形状は、３次元的にある程度不規則（ランダム）な凹凸形状であるため、モアレの発生を抑制することができる。ここで、３次元的に不規則とは、防眩性フィルム１の面内方向に凹凸が不規則に形成されているとともに、防眩性フィルム１の厚さ方向（凹凸の高さ方向）にも凹凸が不規則に形成されていることをいう。
【００２７】
また、防眩性フィルム１の凹凸形状は、ぎらつきを抑制するのに最適な形状となっている。ここで、ぎらつきとは、シンチレーションやスペックルのような、表示装置の投影画面中にランダムに存在する輝点の集まりを表し、その輝点の周辺の像が輝度ばらつきで微小に歪む光学特性を表している。この輝点が面内に分布した場合、頻度が高いとぎらぎら感のある画像が目に見える。このぎらつきは、表面に凹凸形状が形成された防眩性フィルム１では、必ず発生するものである。
【００２８】
このぎらつきを抑制するために、防眩性フィルム１の凹凸形状は、以下の方法によって得られたパワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値を指標にして、規定されている。
【００２９】
すなわち、まず、防眩性フィルム１の表面を、表面粗さ計によって測定し、この測定によって得られる断面曲線のデータを、フーリエ変換し、１ｍｍ当たりの波数（空間周波数）と、空間周波数に対するパワースペクトルを求める。そして、この求められたパワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値を、防眩性フィルム１の凹凸形状を規定する指標とする。
【００３０】
防眩性を発揮する防眩性フィルム１では、経験的に、上記のパワースペクトルにおいて、波数１０（１／ｍｍ）付近にピークが存在することがわかっている。換言すると防眩性を発揮する防眩性フィルム１では、上記のパワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークが特徴的なピークであるといえる。したがって、防眩性フィルム１では、防眩性を発揮する防眩性フィルムの特徴的なピークである、上記のパワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値を、表面の凹凸形状を規定する指標とする。
【００３１】
この指標により、防眩性フィルム１の表面の凹凸形状は、以下のように規定される。すなわち、防眩性フィルム１の凹凸形状は、表面粗さ計によって測定した断面曲線のデータをフーリエ変換して得られるパワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が、０．０３以上０．０８未満となるように規定される。
【００３２】
上記のピークの値が、０．０３未満であると、凹凸形状の平坦度合いが大きいため、光の散乱が弱く、防眩性が低下してしまう。上記のピークの値が、０．０８以上であるとぎらつきが大きくなってしまう。
【００３３】
また、防眩性フィルム１の凹凸形状は、上記のピークの値が０．０３以上０．０６以下となるように規定されるのがより好ましい。これにより、ぎらつきを著しく抑制できる。
【００３４】
また、防眩性フィルム表面の最大頻度の突起高さが、０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲内であることが好ましい。０．１μｍよりも小さい場合、防眩性が不十分となる。一方、５μｍよりも大きい場合、フィルムにざらつき感、粒々感がでてしまう、或いは防眩性が強くなりすぎてしまい、白茶けた高防眩フィルムとなってしまう。
【００３５】
防眩性フィルム表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から＋１μｍ以内であることが好ましい。この範囲外の場合、フィルムにざらつき感、粒々感がでてしまう、或いは防眩性が強くなりすぎてしまい、白茶けた防眩フィルムとなってしまう。防眩の観点から防眩性フィルム表面の凹凸の横方向長さＲＳｍが５０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以上１５０μｍ以下であることがより好ましい。この範囲外の場合、所望の防眩性が基本的に得られない。
【００３６】
さらに、[ＲＳｍ／Ｒｚ]（Ｒｚ：十点平均粗さ）の値が１００以上４００以下であることが好ましい。[ＲＳｍ／Ｒｚ]の値が１００未満であるとフィルムの防眩性が損なわれるからである。[ＲＳｍ／Ｒｚ]の値が４００より大きいとぎらつきが視認されるからである。
【００３７】
（基材）
基材１１は、透明性を有するプラスチック基材である。基材１１の形状としては、例えば、透明性を有するフィルム、基板などを用いることができる。基材１１は、不規則（ランダム）な凹凸面を表面に有する。この凹凸面は、リソグラフィー技術やエッチング加工により作製された原盤の凹凸形状を転写することにより成形されるものである。
【００３８】
基材１１の凹凸面は、凹部または凸部である構造体１１ａを基材１１の表面に繰り返して形成することにより構成されている。なお、図２では、構造体１１ａが凸部である例が示されている。
【００３９】
構造体１１ａは、基材１１の表面に不規則に（ランダム）に形成されている。構造体１１ａは、基材１１の表面に２次元的または３次元的に不規則に形成されていることが好ましい。このような基材１１の凹凸面に倣ったハードコート層表面を形成することで、ハードコート層１２の表面を２次元的または３次元的に不規則な凹凸形状とすることができるからである。また、構造体１１ａの底面の大きさは、不規則に変化することが好ましい。このような基材１１の凹凸面に倣ったハードコート層表面を形成することで、ハードコート層表面の凹凸形状（うねり）の周期を不規則に変化させることができるからである。ここで、２次元的に不規則とは、防眩性フィルム１または基材１１の面内方向に、構造体１１ａまたは凹凸が不規則に形成されていることをいう。また、３次元的に不規則とは、防眩性フィルム１または基材１１の面内方向に、構造体１１ａまたは凹凸が不規則に形成されていると共に、防眩性フィルム１または基材１１の厚さ方向にも、構造体１１ａまたは凹凸が不規則に形成されていることをいう。
【００４０】
構造体１１ａは、この構造体１１ａの上部から底部に向かって広がる側面を有していることが好ましい。このような形状を有する場合、隣り合う構造体１１ａの底面同士が、接するまたはほぼ接することが好ましい。凹部または凸部である構造体１１ａの形状としては、例えば、ドーム状、錐体状または柱状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学特性に応じて任意に選択することができる。ドーム状としては、例えば、半球状、半楕円球状を挙げることができる。錐体状としては、例えば、先端が尖った錐体状、先端に曲率を有する錐体状、先端が切り落とされた錐体状を挙げることができる。具体的には例えば、円錐状、円錐台状、楕円錐、楕円錐台状、多角錐状、多角錐台状などを挙げることができる。多角錐の形状としては、例えば、四角錐、六角錐、八角錐などの形状が挙げられる。柱状としては、例えば、円柱状、多角柱状などを挙げることができる。多角柱の形状としては、例えば、四角柱、六角柱、八角柱などの形状が挙げられる。また、構造体１１ａに形状異方性を付与してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、例えば基材１１の面内方向のうち、直交する２方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には、形状異方性を有する構造体１１ａの形状としては、例えば、楕円柱状、半楕円球状、楕円錐台状、一方向に引き伸ばされた多角柱状または多角錐状などが挙げられる。
【００４１】
構造体１１ａの底面の形状としては、例えば、円形状、楕円形状、多角形状などを挙げることができる。この底面の多角形状としては、例えば、四角形状、六角形状、八角形状などが挙げられる。構造体１１ａの底面を楕円形状や多角形状にする場合には、構造体１１ａの底面形状が、例えば同一方向に揃うように構造体１１ａが基材表面に配置される。具体的には、構造体１１ａの底面を楕円形状にする場合には、その長軸方向または短軸方向が同一方向に揃うように配置される。構造体１１ａの底面を多角形状にする場合には、同一の角度を有する角が同一方向に揃うように配置される。構造体１１ａの底面の形状は、所望とする特性に応じて選択することが好ましい。例えば、構造体１１ａの底面の形状を楕円形状とした場合には、短軸方向に比して長軸方向がより滑らかな凹凸形状となるため、長軸方向からの外光の影響を受けにくくなり、表示画面などが白っぽくなることを抑制できる。また、短軸方向は、長軸方向に比して凹凸形状が荒れるため、良好な防眩性を確保することができる。すなわち、構造体１１ａの底面を楕円形状とした場合には、全体として高防眩性であり、かつ高コントラストな防眩性フィルム１を得ることができる。
【００４２】
構造体１１ａは以下の（１）〜（３）の関係を満たすことが好ましい。モアレの発生を抑制でき、かつ、防眩性およびコントラストに優れた防眩性フィルム１を得ることができるからである。
（１）構造体１１ａの底面の大きさが、最小距離Ｒm以上、最大距離ＲM以下の範囲内でランダムに変化する。
（但し、最小距離Ｒm：構造体１１ａの底面の重心から、底面の周縁までの最短距離の最小値、最大距離ＲM：構造体１１ａの底面の重心から、底面の周縁までの最大距離の最大値）
（２）構造体１１ａの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にある。
（３）構造体１１ａの底面の最小距離Ｒmと最大距離ＲMは、Ｒm／ＲM≦０．９の関係を満たす。
（１）の関係を満たさず、構造体１１ａの底面の大きさがランダムに変化しない場合には、モアレが発生してしまう。（２）の関係を満たさず、構造体１１ａの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にない場合には、充填率が低下し、防眩性が低下する。（３）の関係を満たさず、０．９を超えると配置が規則的になり、モアレが発生しやすくなる。ここで、構造体１１ａの底面同士がほぼ接するとは、構造体１１ａの底面同士が０μｍより大きく８０μｍ以下の範囲内で隣接していることを意味する。
【００４３】
構造体１１ａの最小距離Ｒmおよび最大距離ＲMは、Ｒm／ＲM≦０．９の関係を満たすことが好ましい。また、構造体１１ａの最小距離Ｒmおよび最大距離ＲMは、好ましくはＲm＜ＲM≦７５μｍ、より好ましくは１０μｍ≦Ｒm＜ＲM≦７５μｍの範囲内である。最小距離Ｒmが１０μｍ未満になると、防眩性を得ようとすると白濁感が上昇し、白濁感を抑えようとすると防眩性が低下する。すなわち、防眩性と白濁感の抑制とを両立することが困難になる。最大距離ＲMが７５μｍを超えると、表面がざらついたり、画面を見たときにぎらついて見えたりする。
【００４４】
最小距離Ｒmと最大距離ＲMがＲm／ＲM≦０．９、１０μｍ≦Ｒm＜ＲM≦７５μｍの関係を満たす場合、ハードコート層１２の表面の平均凹凸高さＰＶが、０．１５μｍ≦ＰＶ≦１．６μｍの範囲内であることが好ましい。ＰＶが０．１５μｍ未満になると、防眩性が得られなくなる傾向がある。ＰＶが１．６μｍを超えると、白濁感が上昇し、白濁度が０．６４％を越える傾向がある。白濁度は、０．６４％以下であることが好ましい。０．６４％以下であると、バックライト光の散乱、および表面反射光の散乱を抑制でき、黒を黒として視認できるからである。ＰＶは凸部（構造体１１ａ）の最高点と（隣接する凸部間にできる）谷部の最低点の間の高さを示す。
【００４５】
なお、構造体１１ａの底面が円形状である場合には、上述の各関係において、最小距離Ｒmは最小半径Ｒmであり、最大距離ＲMは最大半径ＲMである。また、構造体１１ａの底面が、楕円形状である場合には、最小距離Ｒmは短軸長さ（短径）の最小値Ｒmであり、最大距離ＲMは長軸長さ（長径）の最大値ＲMである。
【００４６】
構造体１１ａの底面同士の間にできる隙間に、構造体１１ａをさらに配置することが好ましい。このような構造体１１ａをさらに配置することで、構造体１１ａの充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができるからである。隙間に配置される構造体１１ａの底面の重心から底面の周縁までの最短距離は、例えば、上述の構造体１１ａの最小距離Ｒm以下に設定される。構造体１１ａの高さは、底面の大きさと連動して、連続的に変化していることが好ましい。
【００４７】
また、基材１１の凹凸面の最大頻度の突起高さは、１．５μｍ以上１０μｍ以下の範囲内である。１．５μｍ未満であると、ハードコート層１２の硬度を確保しつつ、防眩性を得ることが困難となる。１０μｍを超えると、フィルムにざらつき感、粒々感がでてしまう、或いは防眩性が強くなりすぎてしまい、白茶けた防眩フィルムとなってしまう。
【００４８】
基材１１の凹凸面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から＋３μｍ以内、好ましくは＋２μｍ以内である。中心値＋３μｍ以内であると、フィルムのざらつき感、粒々感が抑制されるとともに、優れた防眩性を得ることができる。防眩の観点から基材表面の凹凸の横方向長さＲＳｍが、５０μｍ以上５００μｍ以下である。この範囲外の場合、所望の防眩性が得られない。
【００４９】
基材１１の材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、具体的には例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィン系樹脂（例えばゼオノア）、スチレン・ブタジエン共重合体（ＳＢＣ）などが挙げられる。基材１１の厚さは、生産性の観点から、３８〜１００μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
【００５０】
（ハードコート層）
ハードコート層１２は、基材１１の表面、すなわち防眩性フィルムや表示装置などの表面に耐擦傷性と防眩性とを併せて付与するためのものであり、基材１１より硬い高分子樹脂層である。例えば、ハードコート層１２の凹部および凸部の位置はそれぞれ、基材１１の凹部および凸部の位置と対応している。
【００５１】
ハードコート層表面には、基材表面の凹凸形状に倣って凹凸形状が形成されていることが好ましい。基材１１の凹凸形状に倣って、ハードコート層表面の凹凸形状が形成されることによって、所望の防眩性を得ることができる。ハードコート層１２の鉛筆硬度は、３Ｈ以上であることが好ましく、例えば３Ｈに選ばれる。
【００５２】
ハードコート層１２の凹凸面は、頂部から底部に向かって広がる側面を有する複数の突起を備える。このような側面を有する複数の突起を備えることで、防眩性フィルム１の凹凸面をなだらかなうねりにより形成することができる。すなわち、防眩性を損なうことなく、外光の散乱範囲を狭くすることができる。複数の突起のうち隣り合う突起の底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にある。このような関係にあると、防眩性フィルム１の凹凸面における突起の充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができる。ここで、突起の底面同士がほぼ接するとは、突起の底面同士の距離が０μｍより大きく８０μｍ以下の範囲内で隣り合っていることを意味する。ハードコート層１２の表面に形成された突出部の高さは、その底面の大きさと連動して連続的に変化していることが好ましい。このように突出部の高さが連続的に変化することで、分光現象をより抑制することができるからである。分光現象がある場合、遠くの蛍光灯を映し込んだとき、蛍光灯の周囲に虹模様が発生する。
【００５３】
突起の底面の形状が、円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも１種であることが好ましく、多角形状であることがより好ましい。突起の底面の形状が円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも１種であると、高角度の表面傾斜を少なく抑えることができる傾向にある。突起の底面の形状が多角形状であると、ハードコート層１２の凹凸面における突起の充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができる。
【００５４】
（１−４）防眩性フィルムの製造方法
次に、図３〜図６を参照して、上述の構成を有する防眩性フィルムの製造方法の一例について説明する。
【００５５】
（原盤作製工程）
まず、図３Ａに示すように、被加工物となる基体２３を準備する。この基体２３の形状としては、例えば、基板状、シート状、フィルム状、ブロック状などが挙げられる。なお、必要に応じて、被加工体である基体２３の表面に予めメッキ処理を施し、銅メッキなどのメッキ層を形成しておくようにしてもよい。
【００５６】
（レジスト層形成工程）
次に、例えば、図３Ｂに示すように、基体２３の表面にレジスト層２５を形成する。レジスト層２５の材料としては、例えば、無機レジストおよび有機レジストのいずれも用いることができる。
【００５７】
（露光工程）
次に、例えば、図３Ｃに示すように、レジスト層２５にレーザー光Ｌを照射することにより、露光パターン２５ａをレジスト層２５に形成する。露光パターン２５ａの形状としては、例えば、円形状、楕円形状、多角形状などを挙げることができる。例えば、最小距離Ｒm以上、最大距離ＲM以下の範囲内で露光パターン２５ａの大きさをランダムに変化させるとともに、露光パターン２５ａ同士を接するまたはほぼ接するようにしながら、レーザー光Ｌをレジスト層２２に照射する。また、露光パターン２５ａの最小距離Ｒmと最大距離ＲMが、Ｒm／ＲM≦０．９の関係を満たすようにする。なお、露光パターン２５ａの底面が円形状である場合には、上述の各関係において、最小距離Ｒmは最小半径Ｒmであり、最大距離ＲMは最大半径ＲMである。また、露光パターン２５ａの底面が楕円形状である場合には、最小距離Ｒmは短軸長さ（短径）の最小値Ｒmであり、最大距離ＲMは長軸長さ（長径）の最大値ＲMである。
【００５８】
（現像工程）
次に、例えば、露光パターン２５ａが形成されたレジスト層２５を現像する。これにより、図４Ａに示すように、露光パターン２５ａに応じた開口部２５ｂがレジスト層２５に形成される。なお、図４Ａでは、レジストとしてポジ型レジストを用い、露光部に開口部２５ｂを形成する例が示されているが、レジストはこの例に限定されるものではない。すなわち、レジストとしてネガ型レジストを用い、露光部を残すようにしてもよい。
【００５９】
隣接する開口部２５ｂの間の最小間隔ｄは、１μｍ以上、（Ｄ２×４）μｍ以下であることが好ましい。ここで、Ｄ２は、再エッチング（第２のエッチング処理）によるエッチング深さ（量）である。最小間隔が１μｍ未満であると、再エッチング時に、円柱形状などを有する凹部間の壁が破れてつながってしまい、平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。最小間隔が（Ｄ２×４）μｍを超えると、基体２３の全面を再エッチングしても、平坦部が多くなってしまい、防眩性が低下する傾向がある。
【００６０】
（エッチング工程）
次に、例えば、開口部２５ｂが形成されたレジスト層２５をマスクとして、基体２３の表面をエッチングする。これにより、図４Ｂに示すように、基体２３の表面には、開口部２５ｂに対応した位置に、凹部２１ａが形成される。エッチングとしては、例えば、ドライエッチングおよびウエットエッチングのいずれも用いることができるが、設備が簡易である点からすと、ウエットエッチングを用いることが好ましい。また、エッチングとしては、例えば、等方性エッチングおよび異方性エッチングのいずれも用いることができる。
【００６１】
エッチング処理の深さＤ１は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。０．５μｍ未満であると、防眩性を維持するにはハードコート層１２の膜厚を薄くする必要があり、鉛筆硬度が低下する傾向がある。または、再エッチング処理により、凹部の深さが浅くなる、もしくは平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。一方、１０μｍを超えると、ハードコート塗料の塗布後にザラツキ感が生じる、または白濁を抑えるためにハードコート層１２の厚みを厚くする必要があり、カールが大きくなる傾向がある。また、転写速度が下がり、生産性が低下する傾向もある。エッチング液としては、例えば、塩化第二銅エッチング液（塩化第二銅、塩酸、水）を使用することができるが、これに限定されるわけではない。
【００６２】
（レジスト剥離工程）
次に、図４Ｃに示すように、例えば、アッシングなどにより、基材表面に形成されたレジスト層２５を剥離する。これにより、基材１１の表面の凹凸形状を反転した凹凸形状を有する原盤１４が得られる。
【００６３】
（再エッチング工程）
図示は省略するが、次に、必要に応じて、凹凸面全体を再エッチングする。これにより、基材２１の表面に形成された複数の凹部２１ａを、例えば円柱状からドーム状に変えることができ、滑らかな凹凸面を有する原盤１４が得られる。
【００６４】
（メッキ工程）
次に、図４Ｄに示すように、必要に応じて、基体２３の表面にメッキ処理を施し、ニッケルメッキやクロムメッキなどのメッキ層２６を形成する。このようにメッキ層を形成することで、長期間使用の摩耗耐久性を向上することができる。
以上により目的とする原盤１４が得られる。
【００６５】
（転写工程）
上述の工程により得た、図５Ａに示す原盤１４の凹凸面を、基材１１に対して転写する。転写工程では、図５Ｂに示すように、原盤１４を基材１１に押し当てるとともに、基材１１を加熱することにより、原盤１４の凹凸形状を基材１１に転写する。
【００６６】
（塗料調製工程）
次に、例えば、二官能以上のアクリルモノマーおよび／またはアクリルオリゴマーなどの樹脂原料、光重合開始剤、無機酸化物フィラー、粘度調整剤および溶剤を混合してハードコート塗料（樹脂）を調製する。ここでは、溶剤と粘度調製剤以外は、すべて固形分と定義する。また、防汚添加剤をさらに添加することが好ましい。これにより、防汚性ハードコートを形成することができるからである。また、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤および酸化防止剤などを添加するようにしてもよい。ハードコート塗料としては、後工程である乾燥工程において、粘度が上昇し、流動性が失われる特性を有するものが好ましい。後工程である乾燥工程において、基材１１の凹凸面に樹脂組成物を追随させることができるからである。
【００６７】
ハードコート塗料としては、製造の容易性の観点からすると、光または電子線などにより硬化する電離放射線硬化型樹脂、および熱により硬化する熱硬化型樹脂の少なくとも１種を主成分とするものが好ましく、紫外線により硬化する感光性樹脂が最も好ましい。このような感光性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。例えば、ウレタンアクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、あるいはプレポリマーを反応させ、得られた生成物に、水酸基を有するアクリレートまたはメタクリレート系のモノマーを反応させることによって得られる。硬化後の特性は適宜選択することが可能であり、例えば、画像透過性の観点からすると透光性に優れるものが好ましく、耐傷性の観点からすると高硬度を有するものが好ましい。なお、感光性樹脂は、上述の例に特に限定されるものではなく、透光性を有するものであれば用いることができるが、着色やヘイズにより透過光の色相や透過光量が顕著に変化しないものが好ましい。特に使用する基材１１との屈折率差が小さい樹脂を使用することが好ましい。屈折率差が大きい樹脂を使用すると基材界面で反射が発生し白濁してしまうからである。
【００６８】
感光性樹脂に、乾燥によって固体となるウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、メラミン樹脂、セルロース系樹脂、更には電離放射線硬化型オリゴマー、熱硬化型オリゴマーを適宜混合して使用することが好ましい。上記樹脂を適宜混合することによって、ハードコート層１２の硬さやカールを調整することが可能である。樹脂は上述の例に限定されるものではなく、例えばポリマーとしては、（メタ）アクリル基のようなラジカル重合性基、アクリル二重結合のような電離放射線官能基、−ＯＨ基などの熱硬化性基を持つものを使用することが可能である。
【００６９】
感光性樹脂に含まれる光重合開始剤としては、公知の材料を適宜選択できる。例えば、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アントラキノン誘導体などを単独で、あるいは併用して用いることができる。この感光性樹脂には、皮膜形成をより良くさせる成分、例えばアクリル系樹脂などをさらに適宜選択配合してもよい。重合開始剤は、固形分中０．１ｗｔ％〜１０ｗｔ％混合して使用することが好ましい。０．１ｗｔ％未満であると、光硬化性が低下し、実質的に工業生産に適さない。一方、１０ｗｔ％を超えると、照射光量が小さい場合に、塗膜に臭気が残る傾向にある。
【００７０】
無機酸化物フィラーとしては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）、酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫（Antimony-doped tin oxide：ＡＴＯ）、三酸化アンチモン（Antimony trioxide：ＡＴＯ）、酸化アルミニウム亜鉛（Alminum Zinc Oxide：ＡＺＯ）などが好ましい。無機酸化物フィラー表面は、末端に（メタ）アクリル基、ビニル基、またはエポキシ基をもつ有機系分散剤で表面処理されていることが好ましい。これにより、塗膜の硬化工程でフィラーは周囲の（メタ）アクリルモノマー／オリゴマーと一体化し、塗膜硬度や可撓性が向上する。
【００７１】
無機酸化物フィラーは、その表面にＯＨ基などを有することが好ましい。これにより、後述する塗膜の乾燥工程において、溶剤が蒸発する過程で、無機酸化物フィラー表面のＯＨ基などと、粘度調整剤の有する官能基とが、水素結合または配位結合し、塗料の粘度が上昇し、好ましくは塗料がゲル化する。このように粘度が上昇することで、塗料が基材１１の凹凸形状に追随し、塗料表面に基材２１の凹凸形状に倣った凹凸形状が形成される。
【００７２】
無機酸化物フィラーの粒径は、例えば１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内である。固形分中の無機酸化物フィラー配合量は、１０ｗｔ％〜７０ｗｔ％の範囲内であることが好ましい。１０ｗｔ％未満であると、溶媒蒸発過程で系はゲル化しない、すなわち、ゲル化に必要な粘度調整剤量が多くなりすぎ、塗料に濁りが生じる傾向にある。一方、７０ｗｔ％を超えると、硬化膜の可撓性が悪くなる傾向がある。ここで、全固形分を１００ｗｔ％としている。また、溶剤および粘度調整剤以外をすべて固形分としている。
【００７３】
粘度調整剤としては、例えば、ヒドロキシ基（ＯＨ基）、カルボキシル基（ＣＯＯＨ基）、ウレア基（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）、アミド基（−ＮＨ−ＣＯ−）、アミノ基（ＮＨ2基）を２個以上含有する分子が好ましい。公知のタレ止め剤および沈降防止剤を適用することも可能である。配合量は材料種により適宜選択することが好ましい。
【００７４】
防汚添加剤としては、１つ以上の（メタ）アクリル基、ビニル基、或いはエポキシ基を含有するシリコーンオリゴマーおよび／またはフッ素含有オリゴマーが好ましい。防眩性フィルムとして耐アルカリ性を必要とする場合には、フッ素含有オリゴマーが好ましい。この際、前記シリコーンオリゴマーおよび／またはフッ素オリゴマーの配合量は、固形分の０．０１質量％〜５質量％の範囲内であることが好ましい。
【００７５】
ハードコートに内部ヘイズを付与する有機または無機フィラーをさらに添加してもよい。マトリクスとの屈折率差が０．０１以上あることが好ましい。このフィラーの粒径は、例えば０．１μｍ〜１μｍの範囲から選択される。
【００７６】
溶剤としては、使用する樹脂原料を溶解すると共に、基材１１との濡れ性が良好で、かつ、基材１１を白化させないものが好ましく、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類よりなる溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソランなどのエーテル類を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成分以上の混合物でもよく、さらに、上記に例示したもの以外の溶剤をハードコート塗料の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
【００７７】
ハードコート塗料は、帯電防止剤をさらに含有することが好ましい。帯電防止剤としては、四級アンモニウム塩、導電性ポリマー、イオン性液体、および導電性微粒子の少なくとも１種を含んでいることが好ましい。
【００７８】
四級アンモニウム塩としては、４級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物を用いることが好ましい。４級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物としては、１個または２個以上の４級アンモニウム塩基と、１個または２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有するモノマーおよび／またはオリゴマーを用いることが好ましい。その分子内の４級アンモニウム塩基により、帯電防止機能をハードコート層１２に付与することができる。また、モノマーおよび／またはオリゴマーが（メタ）アクリロイル基を有することで、紫外線照射によりマトリクス樹脂などと一体化する。これにより、４級アンモニウム塩のブリードアウトが抑止される。
【００７９】
４級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物としては、例えば、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルアミノプロピルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、メタクリロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
【００８０】
導電性ポリマーとしては、例えば、置換または無置換のポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、およびこれらから選ばれる１種または２種からなる（共）重合体が挙げられる。特にポリピロール、ポリチオフェン、ポリＮ−メチルピロール、ポリ３−メチルチオフェン、ポリ３−メトキシチオフェン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、およびこれらから選ばれる１種または２種からなる（共）重合体が好適である。
【００８１】
導電性ポリマーとしては、ハードコート塗料との相溶性が良いものを選択することが好ましい。相溶性が悪い場合、所望の帯電防止性能を得るために必要な導電性ポリマーの配合量が多くなり、機械特性劣化や着色（透明性劣化）などを招くことになる。
【００８２】
導電性ポリマーが、導電性向上の観点から、ドーパントを含有することが好ましい。ドーパントとしては、例えば、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸などが挙げられる。具体的には、有機カルボン酸、有機スルホン酸などの有機酸、有機シアノ化合物、フラーレン、水素化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレンなどが挙げられる。ポリスチレンスルホン酸をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン溶液は、比較的熱安定性が高く、重合度が低いことから、塗膜成形後の透明性が有利となる点で好ましい。
【００８３】
（塗工工程）
次に、図６Ａに示すように、調製したハードコート塗料１５を基材１１上に塗工する。ハードコート塗料１５の塗布厚は、基材１１の表面の最大頻度の突起高さにより、３μｍ以上２５μｍ以下の範囲で適宜選択することが好ましい。塗工されたハードコート塗料１５の液面はレベリングされているが、基材表面の凹凸形状との間の厚みが分布することから、乾燥時の体積変化によって滑らかな凹凸状の気液界面が形成される。これにより、ハードコート層１２の表面凹凸量が基材１１の表面凹凸量より小さい防眩性フィルム１を得ることができる。また、基材１１の表面凹凸量は、塗工するハードコート塗料１５の厚みによって、拡散反射特性を制御できることができる。さらに、塗布から硬化に亘る全てのプロセスにおいて、非接触で表面形成できることから、欠陥のない品質の高い防眩性フィルム１を提供することができる。
【００８４】
塗工方法は、特に限定されるものではなく公知の塗工方法を用いることができる。公知の塗工方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などが挙げられる。
【００８５】
（乾燥工程）
次に、図６Ｂに示すように、基材１１上に塗工されたハードコート塗料１５を乾燥させることにより、溶剤を揮発させる。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などの調整による人工的乾燥であってもよい。但し、乾燥時に塗料表面に風を当てる場合、塗膜表面に風紋が生じないようすることが好ましい。風紋が生じると防眩層表面に所望のなだらかなウネリの微細凹凸形状が形成されにくくなる傾向があり、防眩性とコントラストとを両立することが困難になるからである。また、乾燥温度および乾燥時間は塗料中に含まれる溶剤の沸点によって適宜決定することが可能である。その場合、乾燥温度および乾燥時間は、基材１１の耐熱性を配慮し、熱収縮により基材１１の変形が起きない範囲で選定することが好ましい。
【００８６】
溶剤が蒸発する過程で、塗料の固形分濃度が上昇し、無機酸化物フィラーと粘度調整剤とが系内で水素結合または配位結合などの結合を介したネットワークを形成し、粘度が上昇し、高粘度化する。このように高粘度化することにより、基材１１の凹凸形状が乾燥したハードコート塗料１５の表面に残される。すなわち、乾燥したハードコート塗料１５の表面に適度な滑らかさが形成され、防眩性が発現する。上述のように、ハードコート塗料１５が溶媒蒸発過程で高粘度化すると、乾燥後のハードコート塗料１５が基材１１の凹凸形状に倣い、防眩性が発現する。これに対して、ハードコート塗料１５が高粘度化しない場合、乾燥したハードコート塗料１５により、基材１１の凹凸形状がつぶれてしまい、防眩性が得られなくなる。
【００８７】
（硬化工程）
次に、例えば電離放射線照射または加熱により、基材１１上にて乾燥された樹脂を硬化させる。これにより、図６Ｃに示すように、滑らかな波面をハードコート層１２の表面に形成することができる。電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材１１の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気としては、樹脂硬化の具合に応じて適宜選択することができ、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。
以上により、目的とする防眩性フィルムが得られる。
【００８８】
（効果）
この発明の第１の実施形態によれば、防眩性フィルム１の表面の凹凸形状は、凹凸形状の測定によって得られる断面曲線のデータを、フーリエ変換して得たパワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が、０．０３以上０．０８未満となるように規定される。これにより、ぎらつきを抑制することができる。また、この防眩性フィルム１の表面の凹凸形状は、３次元的にある程度不規則（ランダム）な凹凸形状であるため、モアレの発生を抑制することができる。
【００８９】
また、この発明の第１の実施形態によれば、好ましくは、紫外線硬化性樹脂組成物などのハードコート塗料を、凹凸形状が付与された基材１１上に塗布・乾燥・紫外線硬化後、凹凸形状に倣ったハードコート層１２が形成される。このような表面形状が形成されるのは、溶媒蒸発過程で、組成物中に含まれる無機酸化物フィラーと粘度調整剤との作用により、固形分がゲル化することによる。
【００９０】
ハードコート塗料は、二官能以上の（メタ）アクリルモノマーおよび／またはオリゴマーなどの樹脂原料、光重合開始剤、無機酸化物フィラー、粘度調整剤および溶剤を少なくとも含有する。溶媒が蒸発する過程で、系の固形分濃度が上昇し、高粘度化する。ハードコート塗料が基材１１の凹凸形状に倣うためには、溶媒蒸発過程で系はゲル化することが好ましい。系がゲル化しない場合、基材１１の凹凸形状がつぶれてしまい、防眩性を得ることが困難となる。系がゲル化することにより、基材１１の凹凸形状が残される。このように凹凸形状が残されると、適度な滑らかさがハードコート塗料の表面に形成され、防眩性が発現する。無機酸化物フィラーと粘度調整剤とが系内で水素結合または配位結合を介したネットワークを形成し、ゲル化する。
【００９１】
このように、基材１１の凹凸形状に倣って、ハードコート層１２の凹凸形状が形成されることによって、所望の防眩性を得ることできる。
【００９２】
２．第２の実施形態
第２の実施形態では、原盤作製工程において、基材表面の凹凸形状を、エッチング加工に代えて、ブラスト加工によって形成した点において、第１の実施形態と異なっており、これ以外のことは、第１の実施形態と同様である。したがって、第２の実施の形態の説明では、第１の実施の形態と異なる点（すなわち、基材、原盤作製工程）を詳細に説明し、その他の説明は省略する。
【００９３】
（基材）
基材１１は、透明性を有するプラスチック基材である。基材１１の形状としては、例えば、透明性を有するフィルム、基板などを用いることができる。基材１１は、不規則（ランダム）な凹凸面を表面に有する。この凹凸面は、ブラスト加工により作製された原盤を形状転写することにより成形されるものである。基材１１の凹凸面は、凹部または凸部である構造体１１ａを基材１１の表面に繰り返して形成することにより構成されている。構造体１１ａは、基材１１の表面に不規則に（ランダム）に形成されている。
【００９４】
（原盤作製工程）
ブラスト加工による原盤の作製工程について説明する。原盤には、ブラスト加工により、基材１１とは反対の凹凸形状が形成される。まず、被加工物となる基体を準備する。この基体の形状としては、例えば、基板状、シート状、フィルム状、ブロック状などが挙げられる。また、基体の材料としては、例えば、金属などが挙げられる。次に、ブラスト加工により、基体表面に凹凸形状を形成する。
【００９５】
ブラスト加工は、細かな加工粒子を対象物に衝突させて加工することによって、原盤表面に不規則な凹凸を形成する加工方法である。ブラスト加工によって形成された凹凸形状は、３次元的な不規則性を有する。したがって、この原盤を用いて作製した防眩性フィルム１はモアレの発生を防ぐことができる。
【００９６】
（効果）
この第２の実施形態では、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、この発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００９８】
なお、この実施例および比較例において、ハードコート層の塗布厚は以下のようにして測定したものである。
（ハードコート層の塗布厚の測定）
凹凸形状を転写したＴＡＣフィルムと同量の樹脂を平坦なＴＡＣフィルムに塗布して、接触式厚み測定器（ＴＥＳＡ株式会社製）を用いて塗布厚を測定し、この塗布厚をハードコート層の塗布厚（膜厚）とした。
【００９９】
下記の表１に示す条件で実施例１〜実施例５、および比較例１〜比較例５の防眩性フィルムを作製した。
【０１００】
【表１】
2011107297.tif 000003
【０１０１】
以下、実施例１〜実施例５、および比較例１〜比較例５の防眩性フィルムの作製について具体的に説明する。
【０１０２】
＜実施例１＞
（原盤の形成工程）
まず、鉄芯（φ１００ｍｍ、面長３００ｍｍ）の表面に銅メッキを施したロール状の基体を準備した。次に、銅メッキが施されたロール表面にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト層を形成した。次に、所定の条件でパターンを作成し、この作成したパターンをタイリングしてエッチングで彫刻し、エンボスロールを作製した。
【０１０３】
（基材の形成工程）
次に、エッチング加工で作製したエンボスロールの表面形状を、ＴＡＣフィルム表面に対して形状転写した。これにより、表面に凹凸が形成されたＴＡＣフィルムを得た。
【０１０４】
（ＨＣ層の形成工程）
次に、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調整した。
ウレタンアクリルオリゴマー                                      ３６．６質量部
（共栄社化学社、商品名ＵＡ−５１０Ｈ）
架橋剤：ペンタエリスリトールテトラアクリレート                  １８．３質量部
（日本化成株式会社製、商品名４ＨＢＡ）
重合開始剤                                                            ５質量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
レべリング剤                                                        １．９質量部
（ＤＩＣ株式会社社製、商品名ＲＳ−７５１−Ｋ）
無機フィラー：酸化ケイ素                                              ４０質量部
（日揮触媒化成株式会社製、商品名１０４１ＳＩＶ、平均粒径３μｍ）
粘度調整剤：特殊変性ウレア溶液                                      ０．１質量部
（ビッグケミー・ジャパン株式会社製、商品名Ｇ−７００）
溶媒：イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                            ９３．７質量部
１，３−ジオキソラン                                              ５４．４質量部
【０１０５】
次に、紫外線硬化型樹脂組成物を、凹凸付与後のＴＡＣフィルム上にコイルバーにより、塗布厚６μｍで塗工した後、乾燥温度８０℃の環境下に搬入し、搬送速度３ｍ／ｓで１．５ｍ搬送した。これにより、紫外線硬化型樹脂組成物に含まれる溶媒が蒸発するとともに、無機フィラーと粘度調整剤とが結合を形成し、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が増加して高粘度化し、ＴＡＣフィルムの凹凸形状に倣った。適度に滑らかな凹凸表面が形成された。次に、窒素雰囲気下で３５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂組成物を硬化した。これにより、ハードコート層がＴＡＣフィルムの凹凸面上に形成された。
以上により、目的とする防眩性フィルムが得られた。
【０１０６】
＜実施例２＞
塗布厚を１６μｍに変更した以外は実施例１と同様にして、防眩性フィルムを得た。
【０１０７】
＜実施例３＞
（原盤の形成工程）
まず、エンボス転写装置を準備した。この装置のエンボスロールは、ロール回転させながら、研磨剤を吹き付けるいわゆるサンドブラストで加工で作製した。以下にブラスト加工条件を示す。
ブラスト加工：サンドブラスト
研磨剤：２００番メッシュ相当
繰り返し加工：１回
【０１０８】
（基材の形成工程）
次に、ブラスト加工で作製したエンボスロールの表面形状を、ＴＡＣフィルム表面に対して形状転写した。これにより、表面に凹凸が形成されたＴＡＣフィルムを得た。
【０１０９】
（ＨＣ層の形成工程）
次に、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製した。
ウレタンアクリルオリゴマー                                      ３６．６質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ９０１０）
架橋剤：ペンタエリストールテトラアクリレート                    １８．３質量部
（新中村化学工業株式社製、商品名Ａ−ＴＭＭ−３）
重合開始剤                                                            ５質量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
レべリング剤                                                      １．９質量部
（ＤＩＣ株式会社製、商品名ＲＳ−７５１−Ｋ）
無機フィラー：酸化ケイ素                                            ４０質量部
（日揮触媒化成株式会社製、商品名１０４１ＳＩＶ、平均粒径３μｍ）
粘度調整剤：特殊変性ウレア溶液                                    ０．１質量部
（ビックケミー・ジャパン株式会社製、商品名ＢＹＫ−４１０）
溶媒：イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                          ９３．７質量部
１，３−ジオキソラン                                      ５４．４質量部
【０１１０】
次に、紫外線硬化型樹脂組成物を、凹凸付与後のＴＡＣフィルム上にコイルバーにより塗布厚６μｍで塗工した後、乾燥温度５０℃の環境下に搬入し、搬送速度４ｍ／ｓで１．５ｍ搬送した。これにより、紫外線硬化型樹脂組成物に含まれる溶媒が蒸発するとともに、無機フィラーと粘度調整剤とが結合を形成し、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が増加して高粘度化し、ＴＡＣフィルムの凹凸形状に倣った。適度に滑らかな凹凸表面が形成された。次に、窒素雰囲気下で３５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂組成物を硬化した。これにより、ハードコート層がＴＡＣフィルムの凹凸面上に形成された。
以上により、目的とする防眩性フィルムが得られた。
【０１１１】
＜実施例４＞
塗布厚を９μｍ、搬送距離を３ｍに変更した以外は実施例３と同様にして、防眩性フィルムを得た。
【０１１２】
＜実施例５＞
塗布厚を４．５μｍに変更した以外は実施例３と同様にして、防眩性フィルムを得た。
【０１１３】
＜比較例１＞
下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製した以外は実施例５と同様にして防眩性フィルムを得た。
ウレタンアクリルオリゴマー                                      ３６．６質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ９０１０）
架橋剤：ペンタエリストールテトラアクリレート                    １８．３質量部
（新中村化学工業株式社製、商品名Ａ−ＴＭＭ−３）
重合開始剤                                                            ５質量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
無機フィラー：酸化ケイ素                                            ４０質量部
（日揮触媒化成株式会製、商品名１０４１ＳＩＶ、平均粒径３μｍ）
粘度調整剤：特殊変性ウレア溶液                                    ０．１質量部
（ビックケミー・ジャパン株式会社製、商品名ＢＹＫ−４１０）
溶媒：イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                          ９３．７質量部
１，３−ジオキソラン                                      ５４．４質量部
【０１１４】
＜比較例２＞
塗布厚を９μｍ、搬送距離を２ｍに変更した以外は比較例１と同様にして、防眩性フィルムを得た。
【０１１５】
＜比較例３＞
乾燥温度を８０℃に変更した以外は比較例１と同様にして、防眩性フィルムを得た。
【０１１６】
＜比較例４＞
以下のようにして、防眩性フィルムを得た。
まず、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製した。
４官能ウレタンアクリルオリゴマー                                ４０００質量部
重合開始剤                                                        ２００質量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
フィラー：架橋性ＭＳビーズ                                        ２００質量部
（積水化成品工業株式会社製、商品名：テクポリマー、屈折率１．５１５、平均粒径５．０μｍ、変動係数７）
溶媒：ｔ−ブタノール                                            ６０００質量部
（表面張力２０．０ｍＮ／ｍ）
【０１１７】
次に、調製した塗料を１０μｍのメッシュのフィルターで濾過した後、濾過した塗料を厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、グラビアコーターで塗布速度２０ｍ／分で塗布した。塗布後のフィルムは乾燥温度８０℃に設定した３０ｍ長の乾燥炉で乾燥させた。この際に、溶剤の揮発時に発生する表面張力の不均一分布によるマランゴニー対流を利用し、塗料内の対流により微粒子の衝突および凝集を適度に生じさせ、塗工層表面にベナードセル構造を形成させた。
【０１１８】
そして、ベナードセル内に形成される液状の樹脂のメニスカスによって、塗工膜表面になだらかなうねりの微細凹凸を形成させた。その後フィルムを連続して紫外線硬化炉に搬入し、１６０Ｗ、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件で紫外線を照射して、乾燥後の平均膜厚６μｍの防眩層を形成し、防眩性フィルムを得た。
【０１１９】
＜比較例５＞
塗布厚を１４μｍに変更した以外は実施例１と同様にして、防眩性フィルムを得た。
【０１２０】
（評価）
作製した実施例１〜５および比較例１〜比較例５の各防眩性フィルムを以下に説明するようにして評価した。
【０１２１】
[断面曲線データのフーリエ変換]
以下のようにして、表面粗さを測定し、得られた断面曲線データをフーリエ変換した。
【０１２２】
（表面粗さの測定）
触針式表面粗さ計（小阪研究所製  製品名：サーフコーダーＥＴ−４０００）によって、実施例１の防眩性フィルム（ハードコード層）の表面形状を測定した。
測定条件
触針：先端Ｒ＝０．５μｍＲ
測定長：４ｍｍ
送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
【０１２３】
以上の測定条件で測定した表面形状の実空間凹凸分布（断面曲線）を図７に示す。Ｚ方向は膜厚方向の凹凸形状の高さを表す。さらに水平方向は触針の送り距離を表す。
【０１２４】
（フーリエ変換）
図７に示す触診送り方向と凹凸振幅方向の断面曲線のデータから凹凸形状の波数（１／ｍｍ）成分をフーリエ変換で抽出した。その結果を図８Ａに示す。
【０１２５】
実施例２〜実施例５および比較例１〜比較例５の防眩性フィルムについても同様に、表面形状を測定し、測定結果の断面曲線のデータを、フーリエ変換し、凹凸形状の波数（１／ｍｍ）成分を抽出した。実施例２〜実施例５および比較例１〜比較例５の各断面曲線のデータをフーリエ変換して得た各パワースペクトルを、図８Ｂおよび図８Ｃおよび図９〜図１１に示す。
【０１２６】
[表面粗さの測定（ハードコート層の表面）]
また、防眩性フィルム（ハードコート層）の表面粗さを以下のように測定し、最大頻度突起高さ、凹凸の横方向長さＲＳｍを求めた。
図１２に、フィルムの表面粗さ測定の概略を示す。
ＪＩＳ規格にある測定条件ＪＩＳ  Ｂ０６３３でフィルムの表面形状を測定した。測定機は小坂研究所製サーフコーダーＥＴ−４０００を使用した。測定機から得られる高さデータを元に測定長の中で最も低い谷を基準としてそれぞれの山の頂点の高さ（ｈ１，ｈ２，ｈ３，ｈ４，・・・）を抜き出し、０．３μｍごとにその出現頻度を集計することで突起高さの分布が得られる。また、同時に凹凸の横方向長さＲＳｍも測定される。
以下に測定条件の詳細を示す。
触針：先端Ｒ＝０．５μｍＲ
測定長：４ｍｍ
送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
【０１２７】
[ぎらつきの評価]
１７インチのモニター（SXGA  1280×1024）に、図１３に示す縞模様の画素パターンを表示し、このモニターの画像表示面に対向して配置したＣＣＤカメラによって、画像をキャプチャし、このときの画素パターンを基準画素パターンとした。なお、このモニターの画素ピッチはＲＧＢ各画素で８０μｍである。
【０１２８】
上記と同様のモニターに緑色の画像を出し、このモニターに防眩性フィルムをのせた。この防眩性フィルムに対向して配置したＣＣＤカメラで、画像をキャプチャし、このときの画素パターンを測定画像パターンとし、基準画素パターンからの測定画素パターンの崩れ具合の程度によってぎらつきを以下のように３段階で評価した。
画素パターンのエッジが明瞭に確認できる：ぎらつき度合いが非常に弱い
画素パターンのエッジがぼやけて見える：ぎらつき度合いが弱い
画素パターンのエッジが確認できない程崩れている：ぎらつき度合いが強い
【０１２９】
[防眩性の評価]
実施例１〜実施例５および比較例１〜比較例５の防眩性フィルムについて、防眩性の評価を行った。具体的には、防眩性フィルムにむき出しの蛍光灯を写し、反射像のぼやけ方を下記の基準で評価した。その結果を表１に示す。
○：蛍光灯がある程度認識できるが輪郭がぼやけている、または蛍光灯の輪郭が分からない（２本の蛍光灯が１本に見える）
×：蛍光灯がそのまま写りこむ
【０１３０】
断面曲線データをフーリエ変換した後のパワースペクトルのピークの値、ぎらつきの評価結果および防眩性の評価結果を下記表１にまとめ、これらの相関性を検討した。
【０１３１】
【表２】
2011107297.tif 000004
【０１３２】
表１に示すように、実施例１〜実施例２および比較例５では、ぎらつき度合いが非常に弱いと評価された。また、実施例３〜実施例５では、ぎらつき度合いが弱いと評価された。比較例１〜比較例４では、ぎらつき度合いが強いと評価された。
【０１３３】
また、実施例１〜実施例５および比較例１〜比較例４では、防眩性が良好であった。一方、比較例５では、防眩性が悪かった。
【０１３４】
ぎらつき度合いが非常に弱いと評価された実施例１〜実施例２では、パワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が以下の値であった。
実施例１：０．０５６
実施例２：０．０４３
【０１３５】
ぎらつき度合いが弱いと評価された実施例３〜実施例５では、パワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が以下の値であった。
実施例３：０．０７２
実施例４：０．０７８
実施例５：０．０６５
【０１３６】
ぎらつき度合いが強いと評価された比較例１〜比較例４では、パワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が以下の値であった。
比較例１：０．０９０
比較例２：０．０８１
比較例３：０．０９２
比較例４：０．１０５
【０１３７】
また、ぎらつき度合いは非常に弱かったが、良好な防眩性を得ることができなかった比較例５では、波数１０（１／ｍｍ）付近からピークがずれ、またそのピークの値が以下の値であった。
比較例５：０．０２９９
【０１３８】
以上の検討によれば、パワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が０．０８未満の場合には、ぎらつき度合いが非常に弱くなる、または弱くなることがわかった。また、パワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が０．０６以下の場合には、ぎらつき度合いが弱くなることがわかった。さらに、パワースペクトルの波数１０（１／ｍｍ）付近に存在するピークの値が０．０８以上の場合には、ぎらつき度合いが強くなることがわかった。
【０１３９】
以上、本発明の実施形態および実施例について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１４０】
例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【０１４１】
また、上述の全ての実施形態の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１４２】
また、上述の実施形態では、本発明を表示装置に対して適用する場合を例として説明したが、本発明はタッチパネルなどに対しても適用することも可能である。
【０１４３】
また、上述の実施形態による防眩性フィルムを、アンチニュートンリング（Anti Newton-Ring：ＡＮＲ）フィルムとして表示装置に用いるようにしてもよい。このようにＡＮＲフィルムとして用いることで、ニュートンリングの発生を抑制する、もしくは気にならない程度までニュートンリングの発生を低減することが可能である。
【０１４４】
また、上述の実施形態では、本発明に係る防眩性フィルムを液晶表示装置に適用する場合を例として説明したが、本発明に係る防眩性フィルムは液晶表示装置以外の各種表示装置に対しても適用可能である。例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置に対しても本発明に係る防眩性フィルムは適用可能である。
【符号の説明】
【０１４５】
１・・・防眩性フィルム
２・・・液晶パネル
２ａ、２ｂ・・・偏光子
３・・・バックライト
４・・・防眩性偏光子
１１・・・基材
１２・・・ハードコート層
１３・・・基材
１４、２３・・・原盤
２５・・・レジスト層
２５ｂ・・・開口部
２６・・・めっき層
【図１】
2011107297.tif 000005
【図２】
2011107297.tif 000006
【図３】
2011107297.tif 000007
【図４】
2011107297.tif 000008
【図５】
2011107297.tif 000009
【図６】
2011107297.tif 000010
【図７】
2011107297.tif 000011
【図８】
2011107297.tif 000012
【図９】
2011107297.tif 000013
【図１０】
2011107297.tif 000014
【図１１】
2011107297.tif 000015
【図１２】
2011107297.tif 000016
【図１３】
2011107297.tif 000017