(57)【要約】      （修正有）【課題】コアの表面にクラッドフィルムや保護フィルム等のカバーフィルムが一体に接合された高分子光導波路を高能率に製造可能な高分子光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】キャビティ４４が形成された鋳型４０の表面及びキャビティ４４の内面に、離型フィルム（カバーフィルム）３０を密着する。この鋳型４０の表面及びキャビティ４４の内面に密着された離型フィルム３０の表面に、濡れ性を向上するための改質処理を施す。離型フィルム３０にて表面が覆われたキャビティ４４内にコア形成用の高分子材料Ｐを充填する。離型フィルム３０にて覆われた鋳型４０の表面にクラッドフィルム１０を密着する。キャビティ４４内に充填されたコア形成用の高分子材料Ｐを硬化してコア２０を形成する。鋳型４０と離型フィルム３０の界面を剥離して、離型フィルム３０とコア２０とクラッドフィルムとが一体に形成された高分子光導波路を取り出す。【選択図】図３
2011123285.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア形成用のキャビティが形成された鋳型の表面及び前記キャビティの内面に、前記鋳型に対する離型性の高い材料からなる離型フィルムを密着する工程と、
前記鋳型の表面及びキャビティの内面に密着された前記離型フィルムの表面に、濡れ性を向上するための改質処理を施す工程と、
前記離型フィルムにて表面が覆われた前記キャビティ内にコア形成用の高分子材料を充填する工程と、
前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面にクラッドフィルムを密着する工程と、
前記キャビティ内に充填されたコア形成用の高分子材料を硬化してコアを形成する工程と、
前記鋳型と前記離型フィルムの界面を剥離して、前記離型フィルムと前記コアと前記クラッドフィルムとが一体に形成された高分子光導波路を取り出す工程を含むことを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
【請求項２】
前記キャビティは、一定深さの溝部と、該溝部の両端部に形成された４５度の角度に傾斜する傾斜面とを有することを特徴とする請求項１に記載の高分子光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記離型フィルムの改質処理は、前記離型フィルムに対する紫外線照射又はプラズマ照射であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の高分子光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記離型フィルムにて表面が覆われた前記キャビティ内にコア形成用の高分子材料を充填した後、前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面にクラッドフィルムを重ね合わせ、次いで、当該クラッドフィルムの表面を所要の押圧部材にて押圧し、余剰の高分子材料及び空気を前記離型フィルムと前記クラッドフィルムの間から排出して、前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面に前記クラッドフィルムを密着することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の高分子光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面にクラッドフィルムを密着した後、前記クラッドフィルムの前記傾斜面と対応する部分に２つの貫通孔を開設し、これら２つの貫通孔の一方から前記キャビティ内の空気を吸引しながら、他方の貫通孔から前記キャビティ内及び前記貫通孔内にコア形成用の高分子材料を充填することを特徴とする請求項２に記載の高分子光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記離型フィルムとして、前記コア形成用の高分子材料よりも光の屈折率が低いものを用いたことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の高分子光導波路の製造方法。
【請求項７】
前記離型フィルムとして、前記コア形成用の高分子材料と光の屈折率が同等又はそれよりも光の屈折率が高いものを用いたことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の高分子光導波路の製造方法。
【請求項８】
クラッドフィルムの片面に、高分子材料からなるコアを形成してなる高分子光導波路において、
前記クラッドフィルムの片面及び前記コアの表面を、前記クラッドフィルムよりも薄いカバーフィルムで覆ったことを特徴とする高分子光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブルなクラッドフィルムに高分子材料からなるコアが一体に形成された高分子光導波路の構造と、その製造方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の高分子光導波路の製造方法としては、所要のコアの形状に相当する凹部が形成された鋳型を作製した後、この鋳型の表面にクラッドフィルムを密着し、凹部とクラッドフィルムとによって形成される空間内にコア形成用の樹脂材料を充填し、この樹脂材料の硬化後に、鋳型表面とクラッドフィルムの界面及び鋳型凹部とコアの界面を剥離して、所要の高分子光導波路を得るという方法を採ることが考えられる。
【０００３】
この製造方法によるときは、作業性及び良品の生産性を高めるため、鋳型に対するクラッドフィルム及びコアの離型性を良好な状態に維持することが特に重要となる。一般に、鋳型（金型）を用いて樹脂製の成形品を製造する際の、鋳型に対する成形品の離型性を高める手段としては、鋳型の表面に液状の離型剤を塗布する方法と、鋳型と成形品との間に離型フィルムを介在させる方法とがある（例えば、特許文献１，２参照。）。
【０００４】
これらの各方法のうち、離型剤を塗布する方法は、成形品の表面に離型剤が残留するので、これを除去するための作業が必要となる場合がある。また、鋳型の不要な部分に離型剤が付着した場合には、金型精度が低下するために成形品にバリが生じやすく、バリ取りのための作業が必要になる場合もある。よって、作業性及び良品の生産性を高めるためには、離型フィルムを用いる方法を採る方が有利である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−５５５４６号公報
【特許文献２】特開２００２−１１０７２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１，２に記載の成形方法は、いずれも成形後に成形品と離型フィルムの界面を剥離して、成形品を単独で取り出すものであるが、成形品が高分子光導波路である場合には、コアの成形と同時にその表面全体にクラッドフィルムを密着することができれば、クラッドフィルムの片面にコアを一体成形してなる中間品を作製した後に、クラッドフィルムにて覆われていないコアの露出面を他のクラッドフィルムにて覆うという製造方法を採る場合よりも、高分子光導波路の生産性を大幅に高めることができる。即ち、離型フィルムとして、成形されるコアよりも光の屈折率が低いものを用い、コアの成形時にその表面に離型フィルムをクラッドフィルムとして密着できれば、作業性を維持したままで高分子光導波路の生産性を大幅に高めることができる。
【０００７】
しかしながら、離型フィルムとしては、その性質上、特許文献１に記載されているように、ポリテトラフルオロエチレンで代表されるフッ素系樹脂などの濡れ性が悪い樹脂材料が一般的に用いられるので、このままでは離型フィルムをクラッドフィルムとして用い、クラッドフィルムをコアとが一体に接合された高分子光導波路を成形することが困難である。なお、かかる不都合は、コアの表面にクラッドフィルムを密着させる場合のみならず、コアの表面にコアを保護するための保護フィルムを密着させる場合においても、同様に生じる。
【０００８】
本発明は、かかる技術的課題を解決するためになされたものであり、その目的は、コアの表面にクラッドフィルムや保護フィルム等のカバーフィルムが一体に接合された高分子光導波路を高能率に製造可能な高分子光導波路の製造方法を提供すること、及びこのような製造方法によって製造された高分子光導波路を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記課題を解決するため、高分子光導波路の製造方法に関しては、コア形成用のキャビティが形成された鋳型の表面及び前記キャビティの内面に、前記鋳型に対する離型性の高い材料からなる離型フィルムを密着する工程と、前記鋳型の表面及びキャビティの内面に密着された前記離型フィルムの表面に、濡れ性を向上するための改質処理を施す工程と、前記離型フィルムにて表面が覆われた前記キャビティ内にコア形成用の高分子材料を充填する工程と、前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面にクラッドフィルムを密着する工程と、前記キャビティ内に充填されたコア形成用の高分子材料を硬化してコアを形成する工程と、前記鋳型と前記離型フィルムの界面を剥離して、前記離型フィルムと前記コアと前記クラッドフィルムとが一体に形成された高分子光導波路を取り出す工程を含む構成とした。
【００１０】
かかる構成によると、鋳型と成形品であるコアとの間に離型フィルムを介在させるので、鋳型と離型フィルムとの間の離型性を良好なものにすることができ、鋳型の耐久性を高めることができて、高い作業性を維持することができる。また、かかる構成によると、コアの成形数（ショット数）が増加するに従って成形品の離型性が劣化するということがないので、鋳型に対する離型性を回復するための処理が不要であり、高分子光導波路の生産性を高めることができる。一方、離型フィルムのコア側には濡れ性を向上するための改質処理を施すので、離型フィルムとコアとの密着性を高めることができ、離型フィルムとして所要の材質からなるものを用いることにより、コアの表面にクラッドフィルムや保護フィルムなどの所要のカバーフィルムが密着された高分子光導波路を得ることができる。
【００１１】
また本発明は、前記構成の高分子光導波路の製造方法において、前記キャビティは、一定深さの溝部と、該溝部の両端部に形成された４５度の角度に傾斜する傾斜面とを有するという構成にした。
【００１２】
かかる構成によると、クラッドフィルムの片面に、キャビティの溝部に対応する導光部と、傾斜面に対応する反射ミラー面とを有するコアを形成できる。このコアは、クラッドフィルムの表面の法線方向から入射した光を一方の反射ミラー面にて反射させて導光部の長さ方向に伝播させ、この光を他方の反射ミラー面にて反射させてクラッドフィルムの表面の法線方向に取り出すことができるので、クラッドフィルムの表面に発光側装置及び受光側装置を直接取り付けることができて、高分子光導波路に対する発光側装置及び受光側装置の設定を容易なものにすることができる。
【００１３】
また本発明は、前記構成の高分子光導波路の製造方法において、前記離型フィルムの改質処理は、前記離型フィルムに対する紫外線照射又はプラズマ照射であるという構成にした。
【００１４】
例えば、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂からなる離型フィルムの表面に紫外線又はプラズマなどのエネルギを照射すると、離型フィルムの濡れ性が向上するのでコアとの密着性が高められ、コアと離型フィルムとが一体に成形された高分子光導波路を作製することができる。
【００１５】
また本発明は、前記構成の高分子光導波路の製造方法において、前記離型フィルムにて表面が覆われた前記キャビティ内にコア形成用の高分子材料を充填した後、前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面にクラッドフィルムを重ね合わせ、次いで、当該クラッドフィルムの表面を所要の押圧部材にて押圧し、余剰の高分子材料及び空気を前記離型フィルムと前記クラッドフィルムの間から排出して、前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面に前記クラッドフィルムを密着するという構成にした。
【００１６】
かかる構成によると、コアの片面がクラッドフィルムにて覆われ、かつコアの他の片面及び側面が離型フィルムにて覆われた高分子光導波路を作製することができる。
【００１７】
また本発明は、前記構成の高分子光導波路の製造方法において、前記離型フィルムにて覆われた前記鋳型の表面にクラッドフィルムを密着した後、前記クラッドフィルムの前記傾斜面と対応する部分に２つの貫通孔を開設し、これら２つの貫通孔の一方から前記キャビティ内の空気を吸引しながら、他方の貫通孔から前記キャビティ内及び前記貫通孔内にコア形成用の高分子材料を充填するという構成にした。
【００１８】
かかる構成によると、コアの片面がクラッドフィルムにて覆われ、コアの他の片面及び側面が離型フィルムにて覆われ、かつクラッドフィルムの貫通孔開設部分にコアと同一材質からなる入光部又は出光部が形成された高分子光導波路を作製することができる。
【００１９】
また、本発明は、前記構成の高分子光導波路の製造方法において、前記離型フィルムとして、前記コア形成用の高分子材料よりも光の屈折率が低いものを用いるという構成にした。
【００２０】
かかる構成によると、離型フィルムを第２のクラッドフィルムとして用いることができるので、コアの全面をクラッドフィルムにて覆った高分子光導波路を容易に作成することができる。
【００２１】
また本発明は、前記構成の高分子光導波路の製造方法において、前記離型フィルムとして、前記コア形成用の高分子材料と光の屈折率が同等又はそれよりも光の屈折率が高いものを用いるという構成にした。
【００２２】
かかる構成によると、離型フィルムをコアの保護フィルムとして用いることができるので、コアの全面をクラッドフィルムと保護フィルムにて覆った高分子光導波路を容易に作製することができる。なお、このようにして作製された高分子光導波路は、保護フィルムの外面が空気と接するため、保護フィルムと空気層との界面でエアクラッドが構成され、光の伝播効率が高い高分子光導波路とすることができる。
【００２３】
一方、本発明は、高分子光導波路に関しては、クラッドフィルムの片面に、高分子材料からなるコアを形成してなる高分子光導波路において、前記クラッドフィルムの片面及び前記コアの表面を、前記クラッドフィルムよりも薄いカバーフィルムで覆うという構成にした。
【００２４】
かかる構成によると、コアの全面をクラッドフィルムや保護フィルム等のカバーフィルムで覆った高分子光導波路を容易に作成することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の高分子光導波路の製造方法は、コアの形成時に、鋳型と成形品であるコアとの間に、鋳型側は鋳型に対する離型性が高く、コア側はコアとの密着性が良好なフィルムを介在させるので、コアの表面にクラッドフィルムや保護フィルムなどのカバーフィルムを密着させた高分子光導波路を高能率に製造することができる。
【００２６】
本発明の高分子光導波路は、コアの表面にクラッドフィルムや保護フィルムなどのカバーフィルムを密着したので、カバーフィルムの種類に応じた特有の効果を発揮できるほか、コアの損傷が防止され、その耐久性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】第１実施形態に係る高分子光導波路の断面図である。
【図２】第２実施形態に係る高分子光導波路の断面図である。
【図３】第１実施形態に係る高分子光導波路の製造方法を示す図である。
【図４】第２実施形態に係る高分子光導波路の製造方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
まず、本発明に係る高分子光導波路の実施形態を、図１及び図２に基づいて説明する。図１は第１実施形態に係る高分子光導波路１Ａの断面図、図２は第２実施形態に係る高分子光導波路１Ｂの断面図である。
【００２９】
〈高分子光導波路の第１実施形態〉
図１に示すように、第１実施形態に係る高分子光導波路１Ａは、クラッドフィルム１０と、クラッドフィルム１０の片面にこれと一体に形成された高分子材料からなるコア２０と、コア２０の表面を含むクラッドフィルム１０の裏面全体に密着されたカバーフィルム３０とからなる。
【００３０】
クラッドフィルム１０は、コア２０を安定に保持すると共に、コア２０との界面で光を全反射させて、コア２０中を伝播する光の伝播効率を高めるもので、コア２０よりも光の屈折率が小さな材料を用いて形成される。
【００３１】
コア２０は、片面がクラッドフィルム１０に密着された一定幅かつ一定厚の導光部２１と、導光部２１の両端部に形成された反射ミラー面２２，２３とからなり、クラッドフィルム１０よりも光の屈折率が高い高分子材料をもって一体に形成される。反射ミラー面２２は、クラッドフィルム１０の表面の法線方向から入射された光を全反射して導光部２１内に導くためのものであり、導光部２１の長さ方向に対して４５°の角度で傾斜する傾斜面をもって形成される。一方、反射ミラー面２３は、導光部２１を伝播した光を全反射してクラッドフィルム１０の表面の法線方向に導くためのものであり、導光部２１の長さ方向に対して４５°の角度で傾斜する傾斜面をもって形成される。このように、コア２０の両端部に４５度に傾斜する反射ミラー面２２，２３を形成すると、クラッドフィルム１０の表面側に配置された発光側装置から入射された光Ｌｉｎを、クラッドフィルム１０の同一面側に配置された受光側装置に導く光Ｌｏｕｔとして取り出すことができるので、導光部２１の端面側に発光側装置及び受光側装置を配置する場合に比べて、高分子光導波路１Ａに対する発光側装置及び受光側装置の設定を容易化することができる。なお、上述の説明においては、反射ミラー面２２を入光側、反射ミラー面２３を出光側としたが、いずれの反射ミラー面を入光側にするかは、任意に選択することができる。
【００３２】
カバーフィルム３０としては、光の屈折率がコア２０よりも低い樹脂フィルムを用いることもできるし、光の屈折率がコア２０と同等又はコア２０よりも高い樹脂フィルムを用いることもできる。光の屈折率がコア２０よりも低い樹脂フィルムを用いた場合には、カバーフィルム３０が第２のクラッドフィルムとして機能し、光の屈折率がコア２０と同等又はコア２０よりも高い樹脂フィルムを用いた場合には、カバーフィルム３０がコア２０を保護するための保護フィルムとして機能する。なお、カバーフィルム３０は、コア２０の成形時に離型フィルムとして使用するものであり、例えばポリテトラフルオロエチレンで代表されるフッ素系樹脂など、濡れ性が低く、鋳型に対する離型性が良好な樹脂材料からなるものが用いられる。
【００３３】
本例の高分子光導波路１Ａは、コア２０をクラッドフィルム１０及びカバーフィルム３０にて覆ったので、コア２０を物理的又は化学的な悪影響から保護することができ、コア２０の耐久性を高めることができる。
【００３４】
〈高分子光導波路の第２実施形態〉
図２に示すように、第２実施形態に係る高分子光導波路１Ｂも、クラッドフィルム１０と、クラッドフィルム１０の片面にこれと一体に形成された高分子材料からなるコア２０と、コア２０の表面を含むクラッドフィルム１０の裏面全体に密着されたカバーフィルム３０とからなる。本例の高分子光導波路１Ｂは、クラッドフィルム１０の反射ミラー面２２，２３と対向する部分に、同一材料をもってコア２０と一体に成形された垂直部２４，２５を形成したことを特徴とする。
【００３５】
垂直部２４，２５は、クラッドフィルム１０に開設された貫通孔１１，１２内に形成されており、その断面形状及び断面積は、コア２０の導光部２１と略同等に形成される。このようにすると、各部の断面積の変化に起因するコア内部での光のロスを回避又は抑制することができるので、光の伝播効率が高い高分子光導波路とすることができる。また、垂直部２４，２５の各端面２４ａ，２５ａは、クラッドフィルム１０の表面と面一に形成されており、これらの各端面２４ａ，２５ａが入光部又は出光部となる。その他については、第１実施形態に係る高分子光導波路１Ａと同じであるので、対応する部分に同一の符号を付して、説明を省略する。
【００３６】
本例の高分子光導波路１Ｂは、第１実施形態に係る高分子光導波路１Ａと同等の効果を奏するほか、コア２０と垂直部２４，２５とを同一材料をもって一体に成形し、成形された垂直部２４，２５の端部をクラッドフィルム１０の表面と面一に配置したので、発光側装置からコア２０の間、及びコア２０から受光側装置の間の光のロスを小さくすることができ、より光の伝播効率が高い高分子光導波路とすることができる。
【００３７】
次に、本発明に係る高分子光導波路の製造方法について説明する。
【００３８】
〈高分子光導波路の製造方法の第１実施形態〉
図３は本発明に係る高分子光導波路の製造方法の第１実施形態を示す図であって、第１実施形態に係る高分子光導波路１Ａの製造方法を示している。
【００３９】
まず、図３（ａ）に示すように、導光部２１に相当する溝部４１と反射ミラー面２２，２３に相当する傾斜面４２，４３とを有する溝状のキャビティ４４が形成された鋳型４０を用意する。鋳型４０は、樹脂の剥離性が良好で、所要の導光部２１及び反射ミラー面２２，２３を高精度に形成できることから、例えばニッケル又はニッケル合金などをもって形成される。この鋳型４０に対するキャビティ４４の形成は、レーザ加工等により素材となるニッケル板又はニッケル合金板に直接キャビティ４４をカッティングすることもできるし、フォトリソグラフィ技術を用いて、ガラス基板上に導光部２１に相当するフォトレジスト製の突条が形成された原盤を作製した後、電鋳を利用した転写技術を用いて、原盤に形成された突条をニッケル鋳型又はニッケル合金鋳型に転写するという方法で行うこともできる。
【００４０】
次に、図３（ｂ）に示すように、鋳型４０のキャビティ４４が形成された面の全面に、例えばポリテトラフルオロエチレンで代表されるフッ素系樹脂など、濡れ性が低く、鋳型４０に対する離型性が良好な樹脂材料からなるカバーフィルム３０を密着する。鋳型４０に対するカバーフィルム３０の密着方法としては、表裏に貫通する多数の吸引孔を鋳型４０に開設しておき、鋳型４０のキャビティ４４が形成された側の表面にカバーフィルム３０を密着した後、吸引機を駆動し、鋳型４０とカバーフィルム３０との間に形成される空間内の空気を、吸引孔を通して排出する方法と、表裏に貫通する多数の吸引孔が開設された鋳型４０のキャビティ４４が形成された側の表面にカバーフィルム３０を接合した後、これを真空槽内に収納して真空槽内を所定の真空度まで減圧し、しかる後に、真空槽内にガスを注入して真空槽内の圧力を高めるという方法を挙げることができる。
【００４１】
次に、図３（ｃ）に示すように、鋳型４０のキャビティ４４が形成された面に密着されたカバーフィルム３０の表面に、紫外線やプラズマ等のエネルギ線Ｅを照射し、この面の濡れ性を高める。
【００４２】
次に、図３（ｄ）に示すように、例えばディスペンサなどを用いて、カバーフィルム３０の表面に、適量のコア形成用の高分子材料Ｐを滴下する。コア形成用の高分子材料Ｐとしては、光学的特性に優れ、かつ硬化が容易であることから、紫外線硬化性樹脂が特に適する。
【００４３】
次に、図３（ｅ）に示すように、滴下された高分子材料Ｐの上にクラッドフィルム１０を重ね、このクラッドフィルム１０の上からローラＲを押し付けて、クラッドフィルム１０を鋳型４０上のカバーフィルム３０に密着させる。
【００４４】
次に、図３（ｆ）に示すように、クラッドフィルム１０の表面側から紫外線Ｌを照射し、鋳型４０のキャビティ４４内に充填された紫外線硬化性樹脂を硬化する。これにより、コア２０が形成される。
【００４５】
最後に、鋳型４０とカバーフィルム３０の界面を剥離し、取り出された高分子光導波路に必要な整形を施して、図１に示す高分子光導波路１Ａとする。
【００４６】
なお、カバーフィルム３０は、鋳型４０の表面及びキャビティ４４の内面に密着されるものであるので、なるべく薄いものを用いることが望ましいが、薄すぎると密着時に破断しやすくなるので、これらの要求を考慮して、適宜の厚みを有するものが選択される。これに対して、クラッドフィルム１０は、コア２０を保持するものであるので、ある程度の剛性を有することが要求される。したがって、カバーフィルム３０としては、クラッドフィルム１０よりも薄い樹脂フィルムが用いられる。
【００４７】
本例の製造方法によると、鋳型４０と成形品であるコア２０との間に離型性を有するカバーフィルム３０を介在させるので、鋳型４０とカバーフィルム３０との間の離型性を良好なものにすることができ、鋳型の耐久性を高められる。また、かかる構成によると、コア２０の成形数（ショット数）が増加するに従って鋳型４０に対する成形品の離型性が劣化するということがないので、離型剤の補給など、鋳型４０に対して離型性を回復するための処理を行う必要がなく、作業性が良好で、高分子光導波路の生産性を高めることができる。一方、カバーフィルム３０のコア側には濡れ性を向上するための改質処理を施すので、カバーフィルム３０とコア２０との密着性を高めることができる。
【００４８】
〈高分子光導波路の製造方法の第２実施形態〉
図４は本発明に係る高分子光導波路の製造方法の第２実施形態を示す図であって、第２実施形態に係る高分子光導波路１Ｂの製造方法を示している。
【００４９】
まず、図４（ａ）に示すように、導光部２１に相当する溝部４１と反射ミラー面２２，２３に相当する傾斜面４２，４３とを有する溝状のキャビティ４４が形成された鋳型４０を用意する。次に、図４（ｂ）に示すように、鋳型４０のキャビティ４４が形成された面の全面に、例えばポリテトラフルオロエチレンで代表されるフッ素系樹脂など、濡れ性が低く、鋳型４０に対する離型性が良好な樹脂材料からなるカバーフィルム３０を密着する。次いで、次に、図４（ｃ）に示すように、鋳型４０のキャビティ４４が形成された面に密着されたカバーフィルム３０の表面に、紫外線やプラズマ等のエネルギ線Ｅを照射し、この面の濡れ性を高める。ここまでの工程は、第１実施形態に係る高分子光導波路１Ａの製造方法と同じである。
【００５０】
次に、図４（ｄ）に示すように、鋳型４０のキャビティ４４が形成された側の表面にクラッドフィルム１０を密着し、しかる後に、このクラッドフィルム１０の鋳型４０に形成された傾斜面４２，４３と対応する位置に、レーザ加工等により第１及び第２の貫通孔１１，１２を開設する。
【００５１】
次に、図４（ｅ）に示すように、ガラス板や樹脂板などの透明材料をもって構成され、前記クラッドフィルム１０に開設された貫通孔１１，１２と対応する位置に樹脂注入口５１及び排気口５２が開設され、これら樹脂注入口５１及び排気口５２の壁面に遮光膜５３が形成された押さえ治具５０を置き、貫通孔１１と樹脂注入口５１、及び貫通孔１２と排気口５２とがそれぞれ合致するように押さえ治具５０をアライメントする。しかる後に、樹脂供給装置のヘッド５４及び吸引装置のヘッド５５を、樹脂注入口５１及び排気口５２にそれぞれ連結し、図示しない吸引装置により貫通孔１１，１２内及びキャビティ４４内の空気を吸引してキャビティ４４内を減圧し、キャビティ４４内の圧力が所定値以下に減圧された段階で、図示しない樹脂供給装置から貫通孔１１，１２内及びキャビティ４４内にコア形成用の紫外線硬化性樹脂を注入する。これにより、貫通孔１１，１２内及びキャビティ４４内への紫外線硬化性樹脂の充填が高能率に行われると共に、コア２０内への気泡の混入が防止され、良品の製造を高能率に行うことが可能になる。
【００５２】
貫通孔１１，１２内及びキャビティ４４内に紫外線硬化性樹脂が充填された段階で、樹脂供給装置からの樹脂の供給を停止し、図４（ｆ）に示すように、押さえ治具５０の外面全面から紫外線硬化性樹脂の硬化光Ｌを照射する。上述のように、樹脂注入口５１及び排気口５２の壁面には遮光膜５３が形成されているので、この樹脂硬化光Ｌを全面照射した後においても、樹脂注入口５１内及び排気口５２内に残留した紫外線硬化性樹脂は硬化せず、貫通孔１１，１２内及びキャビティ４４内に注入された紫外線硬化性樹脂のみが選択的に硬化される。
【００５３】
最後に、クラッドフィルム１０の表面から押さえ治具５０を除去して、鋳型４０とカバーフィルム３０の界面を剥離し、取り出された高分子光導波路に必要な整形を施して、図２に示す高分子光導波路１Ｂとする。
【００５４】
本例の高分子光導光路の製造方法は、鋳型４０のキャビティ４４を形成した側の表面にクラッドフィルム１０を密着した後に、クラッドフィルム１０に第１及び第２の貫通孔１１，１２を開設するので、予め第１及び第２の貫通孔１１，１２が開設されたクラッドフィルム１０を鋳型４０に密着する場合とは異なり、キャビティ４４の両端部と第１及び第２の貫通孔１１，１２とのアライメントが不要になるので、所要の高分子光導波路を高能率に製造することができる。また、クラッドフィルム１０上に押さえ治具５０を置いて、鋳型４０及びクラッドフィルム１０に適度の圧力を付与すると、以後の工程において鋳型とクラッドフィルムとの位置ずれを確実に防止することができるので、良品を高能率に製造することができる。さらに、遮光膜５３により、押さえ治具５０に開設された樹脂注入口５１及び排気口５２内における紫外線硬化性樹脂の硬化を防止することができるので、硬化した紫外線硬化性樹脂を除去する等の後処理を行う必要が無く、１つの押さえ治具５０を用いて多数の高分子光導波路の製造を連続的に行うことができる。また、押さえ治具５０の全面に樹脂硬化光Ｌを照射するので、コア２０の硬化を容易かつ高能率に行うことができる。
【００５５】
以下に、本発明に係る高分子光導波路のより具体的な実施例を挙げる。
【００５６】
電鋳を利用した型形成技術を用いて、幅が５０μｍ、深さが５０μｍ、長さが５０ｍｍの溝部が２５０μｍピッチで平行に１２本形成され、各溝部の両端部に傾斜面が４５°の角度で形成されたニッケル鋳型を作製した。また、この鋳型には、カバーフィルム吸引用の吸引孔を開設した。さらに、これとは別に、ガラス板を用いて、所要の部分に樹脂注入口及び排気口が開設され、かつ、これら各口が遮光膜にて覆われた透明な押さえ治具を作製した。
【００５７】
しかる後に、鋳型を６０℃に加熱し、吸引孔を吸引機で吸引しながら、鋳型のキャビティ形成側の面に、カバーフィルム（離型フィルム）として、厚さが１０μｍのメチルペンテンポリマーフィルム（屈折率１．４６）を密着した。次に、このカバーフィルムの表面に波長が１７２ｎｍの紫外線を均一に照射し、カバーフィルムの表面の濡れ性を向上させた。次に、紫外線処理がなされたカバーフィルムの表面に、ＪＳＲ製の厚さが１００μｍで、屈折率が約１．５１の「アートンフィルム」をクラッドフィルムとして密着した。クラッドフィルムの表面には、カバーフィルムへの密着前に、酸素プラズマ洗浄を施した。次に、カバーフィルムに密着されたクラッドフィルムの鋳型に形成された傾斜面と対応する部分に、レーザ加工にて第１及び第２の貫通孔を開設した。
【００５８】
次に、第１及び第２の貫通孔が開設されたクラッドフィルム上に押さえ治具を置き、第１及び第２の貫通孔と押さえ治具に開設された樹脂注入口及び排気口とを合致させた。そして、適度な圧力を鋳型とクラッドフィルムとに付与した状態で、第１及び第２の貫通孔内並びに鋳型のキャビティ内に、硬化後の屈折率が約１．５５で粘度が６００ｍＰａ・ｓのコア形成用の紫外線硬化性樹脂を充填した。しかる後に、高圧水銀灯を利用して、押さえ治具の外側から紫外線硬化樹脂に２Ｊ／ｃｍ２の光量を照射した。
【００５９】
樹脂硬化後、鋳型とメチルペンテンポリマーフィルムの界面を剥離して、コアとクラッドフィルムとメチルペンテンポリマーフィルムとが一体化された成形品を取り出し、不要な部分を切除して、高分子光導波路を完成した。
【符号の説明】
【００６０】
１Ａ，１Ｂ    高分子光導波路
１０    クラッドフィルム
１１，１２    貫通孔
２０    コア
２１    導光部
２２，２３    反射ミラー面
２４，２５    垂直部
３０    カバーフィルム（離型フィルム）
４０    鋳型
４１    溝部
４２，４３    傾斜面
４４    キャビティ
５０    押さえ治具
５１    樹脂注入口
５２    排気口
５３    遮光膜
５４    樹脂供給装置のヘッド
５５    吸引装置のヘッド
Ｅ    エネルギ線
Ｌ    紫外線
Ｐ    コア形成用の高分子材料
Ｒ    ローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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