(57)【要約】      （修正有）【課題】光学活性エポキシ化合物及び光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法の提供。【解決手段】下記式（２１ａ）、式（２１ｂ）、式（２２）等2011231017.tif 000113で表される構造を有する光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体及び光学活性チタンサラン錯体と、当該錯体を触媒として用いるオレフィン化合物又はスルフィド化合物の不斉酸化反応による、光学活性エポキシ化合物又は光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【化１】
2011231017.tif 000085
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【化２】
2011231017.tif 000086
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）及び式（１０）
【化３】
2011231017.tif 000087
（式（５）及び式（６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、Ｃ１−４アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１２アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ６−７アリールスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、Ｃ６−１２アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノＣ１−３アルキルアミノスルホニル基、又はジＣ１−３アルキルアミノスルホニル基であり、
式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ９は、水素原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ１０は、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）である。但し、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ９とＲ１０とが、互いに一緒になり下記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）
【化４】
2011231017.tif 000088
（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ１−４アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよい。式（６）中のＲ１１は、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。
式（７）及び式（８）中のＲａ及びＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）である。
式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａは、ベンゼン環と縮合する５員環、６員環又は７員環（該５員環、該６員環又は該７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個の置換基Ｒ１３（該Ｒ１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノ基（該ジアルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基（該アルキルスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホンアミド基（該アリールスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基（該アルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基（該ジアルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３個であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）
【化５】
2011231017.tif 000089
（式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒａ、Ｒｂ及び環部分構造Ａは、前記と同じである。）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項２】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項１に記載の式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）及び式（２’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用する請求項１に記載の式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項３】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項１に記載の式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用する請求項１に記載の式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項４】
下記式（５）及び式（６）
【化６】
2011231017.tif 000090
（前記式（５）及び式（６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、メシルアミノ基、ジメシルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基、ジトリフルオロメチルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基ベンジルメチルアミノ基、ベンジルエチルアミノ基、ベンジル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンジル−ｎ−ブチルアミノ基、アセチルメチルアミノ基、アセチルエチルアミノ基、アセチル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイルメチルアミノ基、ベンゾイルエチルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルメチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルエチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイル基、ｍ−トルオイル基、ｐ−トルオイル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｉ−プロピルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、又は、ジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基であり、前記式（５）及び式（６）中のＲ９は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、若しくは、ｔ−ブトキシ基であり、前記式（５）及び式（６）中のＲ１０は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、ドコシル基、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、若しくは、ｐ−メトキシフェニル基であり、又は、前記式（５）及び式（６）中のＲ９とＲ１０とが互いに一緒になり二価の基を形成してもよい。前記式（５）の化合物は、二価の基である前記式（１１）、式（１２）、式（１３）又は式（１４）
【化７】
2011231017.tif 000091
（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、メチル基である。）から一つ選ばれる組み合わせで記載できる化合物であり、式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ９側は炭素原子に位置である。前記式（６）の化合物は、前記式（１２）及び式（１３）から一つ選ばれる組み合わせで記載できる化合物であり、前記式（６）中のＲ１１は、メチル基である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）及び式（１６）
【化８】
2011231017.tif 000092
（式（１５）及び式（１６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、前記と同じである。）の何れかで表される請求項１から請求項３の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項５】
下記式（７）及び式（８）
【化９】
2011231017.tif 000093
（前記式（７）及び式（８）中のＲａは、メチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェニルメチル基、エチル基、２−ベンゾイルオキシエチル基、２−ベンジルオキシエチル基、フェニルエチル基、ｎ−プロピル基、３−ベンゾイルオキシ−ｎ−プロピル基、３−ベンジルオキシ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、４−ベンゾイルオキシ−ｎ−ブチル基、４−ベンジルオキシ−ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、５−ベンゾイルオキシ−ｎ−ペンチル基、５−ベンジルオキシ−ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基、６−ベンゾイルオキシ−ｎ−へキシル基、６−ベンジルオキシ−ｎ−へキシル基、ｎ−へプチル基、７−ベンゾイルオキシ−ｎ−へプチル基、７−ベンジルオキシ−ｎ−へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、ｃ−ペンチル基、３−ベンゾイル−ｃ−ペンチル基、３−ベンジルオキシ−ｃ−ペンチル基、ｃ−ヘキシル基、３−ベンゾイル−ｃ−ヘキシル基、３−ベンジルオキシ−ｃ−ヘキシル基、４−ベンゾイル−ｃ−ヘキシル基、４−ベンジルオキシ−ｃ−ヘキシル基、フェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ナフチル基、６−ブロモ−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、２−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、又は４−ビフェニリル基であり、前記式（７）及び式（８）中のＲｂは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、ｃ−ペンチル基、ｃ−ヘキシル基である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１７）及び式（１８）
【化１０】
2011231017.tif 000094
（式（１７）及び式（１８）中のＲａ及びＲｂは、前記と同じである。）の何れかで表される請求項１から請求項３の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項６】
下記式（９）及び式（１０）
【化１１】
2011231017.tif 000095
（前記式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａは、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）
【化１２】
2011231017.tif 000096
（前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基（該シクロアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基（該ヘテロアリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。又はＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基（該ヘテロアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）であり、前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ１６，Ｒ１７，Ｒ１８及びＲ１９が、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該へテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基（該シクロアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６チオアルコキシ基（該チオアルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、若しくはＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、スルホ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、Ｃ６−１４アリールアミノ基（該アリールアミノ基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールアミノ基（該ヘテロアリールアミノ基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールカルボニル基（該ヘテロアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基（該ヘテロアリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、カルボ
キシル基、若しくはＣ２−９非芳香族性ヘテロシクリル基（該非芳香族性ヘテロシクリル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、カルボキシル基、若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、カルボキシル基、若しくはＣ６−１４アリールカルボニル基で置換されている。）であり、前記式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）及び式（ａｄ）中のＱは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、ＳＯ（スルフィル基）又はＳＯ2（スルホニル基）を意味する。）の何れかであって、式（９）及び式（１０）中のＲ９とＲ１０とは、互いに一緒になり下記式（１１）
【化１３】
2011231017.tif 000097
（二価の基である式（１１）中のＲ１２は、メチル基であり、式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ１０側は炭素原子に位置する。）で表される二価の基である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１９）及び式（２０）
【化１４】
2011231017.tif 000098
（式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａ、Ｒ９及びＲ１０は、前記と同じである。）の何れかで表される請求項１から請求項３の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項７】
式（９）又は式（１０）中の環部分構造Ａが、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）、式（ａｅ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）
【化１５】
2011231017.tif 000099
（前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）、式（ａｅ）、式（ａｇ）又は式（ａｈ）であり、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｐ）、式（ｖ）、式（ａｅ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５が水素原子、メチル基であり、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）及び式（ａｅ）中のＲ１６、Ｒ１７及びＲ１８が、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、又はＣ１−６アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基はハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アミノ基、水酸基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基又はＣ１−６アルコキシカルボニル基で任意に置換されていてもよい。）であり、ＱはＯ（酸素原子）である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする式（１９）及び式（２０）（式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａ、Ｒ９及びＲ１０は、前記と同じである。）の何れかで表される請求項１から請求項３の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項８】
前記の酸化剤が過酸化水素水であることを特徴とする請求項１から請求項７の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【請求項９】
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）
【化１６】
2011231017.tif 000100
（式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【化１７】
2011231017.tif 000101
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＭは、ＴｉＪ１Ｊ２（該ＴｉＪ１Ｊ２において、Ｔｉはチタン原子であり、Ｊ１及びＪ２は、それぞれ独立して、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルコキシ基を示すか、Ｊ１とＪ２が一緒になって酸素原子を示すか、又は、Ｊ１とＪ２が一緒になって環を形成することにより、光学活性チタン錯体である式（２５）
【化１８】
2011231017.tif 000102
（式（２５）中の部分構造式Ｏ−Ｅ−Ｏは、下記式（２６ａ）、下記式（２６ａ’）、下記式（２６ｂ）、下記式（２６ｂ’）、下記式（２７）、下記式（２７’）、下記式（２８ａ）、下記式（２８ａ’）、下記式（２８ｂ）、下記式（２８ｂ’）、下記式（２９）及び下記式（２９’）
【化１９】
2011231017.tif 000103
（式（２６ａ）、式（２６ａ’）、式（２６ｂ）、式（２６ｂ’）、式（２７）、式（２７’）、式（２８ａ）、式（２８ａ’）、式（２８ｂ）、式（２８ｂ’）、式（２９）及び式（２９’）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じであり、このとき、式（２５）中の２つの部分構造式Ｏ−Ｅ−Ｏは互いに同じである。）の何れかで表される。）で表されるチタン二核錯体を形成する場合を示す。）である。）の何れかで表される光学活性チタン錯体。
【請求項１０】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項９に記載の式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）及び式（２２’）の何れかで表される光学活性チタン錯体。
【請求項１１】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項９に記載の式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）の何れかで表される光学活性チタン錯体。
【請求項１２】
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【化２０】
2011231017.tif 000104
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【化２１】
2011231017.tif 000105
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子。
【請求項１３】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項１２に記載の式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）及び式（２’）の何れかで表される光学活性配位子。
【請求項１４】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項１２に記載の式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）の何れかで表される光学活性配位子。
【請求項１５】
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【化２２】
2011231017.tif 000106
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【化２３】
2011231017.tif 000107
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（３０）
【化２４】
2011231017.tif 000108
（式（３０）中のＲ２２及びＲ２３は、異なる置換基であり、それぞれ独立して、Ｃ６−１２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、Ｃ６−１２アリールメチル基（該アリールメチル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、又はＣ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、若しくはシアノ基によって置換されている。）である。但し、Ｒ２２がＣ６−１２アリール基であり、そのＣ６−１２アリール基のオルト位にＣ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基が置換している場合、Ｒ２３は該Ｃ１−４アルキル基、若しくは該Ｃ１−４アルコキシ基と一緒になって環を形成するＣ２−４の二価の基であってもよい。）で表されるスルフィド化合物を酸化剤で不斉酸化することを特徴とする下記式（３１）
【化２５】
2011231017.tif 000109
（式（３１）中のＲ２２及びＲ２３は、前記と同じであり、＊で示された硫黄原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）で表される光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【請求項１６】
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、請求項１５と同じである。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（３２）
【化２６】
2011231017.tif 000110
（式（３２）中のＲ２２及びＲ２３は、請求項１５と同じである。）で表されるラセミ、若しくは光学純度の低いスルホキシド化合物の一方の光学異性体を酸化剤で選択的に酸化することによって下記式（３３）
【化２７】
2011231017.tif 000111
（式（３３）中のＲ２２及びＲ２３は、請求項１５と同じである。）で表されるスルホン化合物へ誘導し、速度論的分割により式（３１）
【化２８】
2011231017.tif 000112
（式（３１）中のＲ２２及びＲ２３は、請求項１５と同じである。）で表される光学活性スルホキシド化合物を得ることを特徴とする光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【請求項１７】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項１５に記載の式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）及び式（２’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体又は光学活性チタンサラン錯体）を触媒として使用する請求項１５又は請求項１６に記載の光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【請求項１８】
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である請求項１５に記載の式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体又は光学活性チタンサラン錯体）を触媒として使用する請求項１５又は請求項１６に記載の光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【請求項１９】
前記の酸化剤が過酸化水素水、又は尿素―過酸化水素付加体であることを特徴とする請求項１５から請求項１８の何れか１項に記載の光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学活性エポキシ化合物及び光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性チタンサラレン錯体を用いて過酸化水素水を酸化剤として、種々のオレフィン化合物の不斉エポキシ化反応が高いエナンチオ選択性で反応が進行することが報告されている。しかしながら、この技術に用いる光学活性チタン錯体は、複数箇所の光学活性点を有するため、該配位子の合成に複数の光学活性化合物が必要であり、官能基の保護及び脱保護などの多段階合成が必要となるため、該チタンサラレン錯体の合成や調達にコストと時間がかかっていた。更に、該チタンサラレン錯体を合成するのに分子内Ｍｅｅｒｗｅｉｎ−Ｐｏｎｎｄｏｒｆ−Ｖｅｒｌｅｙ還元反応を経由するため、応用性の面においても不十分である問題があった（特許文献１及び非特許文献１参照）。非特許文献１における触媒量については、最良で０．０２ｍｏｌ％から１ｍｏｌ％で軽減が可能であるが、触媒量を軽減することで、反応時間が延長したり酸化剤の添加制御が必要になったりなどの製造操作上の煩雑な面が生じた。
【０００３】
２００７年にジ−μ−オキソチタンサラレン錯体は、反応制御と選択性制御が困難とされる脂肪族オレフィン類に関しても、高い収率と高い選択性で反応することが報告された（非特許文献４参照）。この非特許文献４で使用されているチタンサラレン錯体も、非特許文献１と同じ錯体であるため、上記内容と同じ問題を持つ。特許文献３は、非特許文献１と非特許文献４で用いられている光学活性チタンサラレン錯体の製造方法に関するものである。
【０００４】
更に、２００７年にＢｅｒｋｅｓｓｅｌらにより、サラレン配位子を段階的に合成し、それを利用した光学活性チタンサラレン錯体が報告されている。分子量は１０００程度まで簡略化されたが、触媒量の軽減については不充分で、反応選択性についても特許文献１及び非特許文献１の実施例と比較する劣る面があった（非特許文献５参照）。２００８年にＢｅｒｋｅｓｓｅｌらによる光学活性チタンサラレン錯体の報告は、反応機構に関するものである（非特許文献７参照）。
【０００５】
光学活性チタンサラン錯体を用いて、過酸化水素水を酸化剤として、種々のオレフィン化合物の不斉エポキシ化反応において、高いエナンチオ選択性で反応が進行することが報告されている（特許文献１及び非特許文献２参照）。この技術で用いられる光学活性チタンサラン錯体の分子量は、１０００程度まで簡略化され、光学活性チタンサラレン錯体と比較して合成や調達にかかっていたコストや時間を軽減できた。しかしながら、このチタンサラン錯体を用いたときに、光学活性エポキシ化合物のエナンチオ選択性と化学収率が低下することと、使用する触媒量が５ｍｏｌ％必要となり軽減できない問題があった。
【０００６】
次に、光学活性チタンサラン錯体において、光学活性サラン配位子の置換基を検討することで、触媒性能の向上に成功したことが報告されている（非特許文献３）。しかしながら、このチタンサラン錯体を用いたときに、生成したエポキシ化合物の一部が、反応条件下で副生成物となり、化学収率が低下する問題があり、副生成物の精製に時間とコストがかかる点で、課題が残った（非特許文献３参照）。そこで光学活性チタンサラン錯体において、反応溶液中のｐＨを制御するため緩衝剤を添加することにより、目的化合物である生成したエポキシ化合物の一部が、反応条件下で副生成物になることを抑制し、触媒量についても１ｍｏｌ％から２ｍｏｌ％まで軽減を達成したことが報告されている（非特許文献６参照）。これらの報告で反応に使用されている主な溶媒は、ジクロロメタンであった。
【０００７】
２００７年に光学活性チタン錯体である光学活性チタンサラレン錯体と光学活性チタンサラン錯体を用いて、ヘテロ原子を有するオレフィン化合物及びクロメン化合物に関しても、高い収率と選択性で反応することが報告されている。その際の触媒量は１ｍｏｌ％から１０ｍｏｌ％であった（特許文献２参照）。
【０００８】
光学活性チタンサレン錯体を用いて過酸化水素水又は尿素・過酸化水素付加体を酸化剤として、種々のスルフィド化合物の不斉酸化反応が高いエナンチオ選択性で反応が進行することが報告されている（特許文献４及び非特許文献９）。高いエナンチオ選択性を与えるのは、メタノール溶液中での尿素・過酸化水素付加体の使用が必要であった。
【０００９】
光学活性チタンサラン錯体を用いて過酸化水素水を酸化剤として、種々のスルフィド化合物の不斉酸化反応が高いエナンチオ選択性で反応が進行することが報告された（非特許文献８）。
【００１０】
光学活性チタン錯体に関して、実製造に耐えうる再現性を確保した上での触媒量軽減、その触媒量軽減による反応時間の延長を回避、反応で使用する溶媒の適用範囲拡大などが望まれている。
【００１１】
（光学活性チタンサラレン触媒、光学活性チタンサラン触媒）
【００１２】
【特許文献１】ＷＯ２００６／０８７８７４Ａ１
【特許文献２】ＷＯ２００７／１０５６５８Ａ１
【特許文献３】ＪＰ２００７−２８４４３８Ａ
【００１３】
【非特許文献１】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００５年），４４，４９３５−４９３９．
【非特許文献２】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００６年），４５，３４７８−３４８０．
【非特許文献３】Ｓｙｎｌｅｔｔ（２００６年），２０，３５４５−３５４７．
【非特許文献４】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００７年），４６，４５５９−４５６１．
【非特許文献５】Ａｄｖ．  Ｓｙｎｔｈ．  Ｃａｔａｌ．（２００７年），３４９，２３８５−２３９１．
【非特許文献６】Ｓｙｎｌｅｔｔ（２００７年），２５，２４４５−２４４７．
【非特許文献７】Ａｄｖ．  Ｓｙｎｔｈ．  Ｃａｔａｌ．（２００８年），３５０，１２８７−１２９４．
【非特許文献８】Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（２００８年），３３６９−３３７６．
【００１４】
（光学活性チタンサレン触媒）
【００１５】
【特許文献４】ＪＰ２００２−３０８８４５Ａ
【００１６】
【非特許文献９】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  （２００１年），４２，３８７３−３８７６．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、前記従来技術の問題を解決し、光学活性エポキシ化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者らは、光学活性エポキシ化合物及び光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法について鋭意研究した結果、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体及び光学活性チタンサラン錯体の高い触媒活性発現に必要な骨格並びに有用な置換基及び該置換基の位置を見極め、従来の光学活性チタン錯体と同様に高いエナンチオ選択性と高い化学収率を維持しつつ、実製造に耐えうる再現性を確保した上での触媒量軽減、その触媒量軽減による反応時間の延長を回避、反応溶媒にトルエンを適用できる光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体及び光学活性チタンサラン錯体を見い出し、これらの錯体により、高いエナンチオ選択性と高い化学収率で光学活性エポキシ化合物及び光学活性スルホキシド化合物を製造できることを見い出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、
【００１９】
［１］
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【００２０】
【化１】
2011231017.tif 000002
【００２１】
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【００２２】
【化２】
2011231017.tif 000003
【００２３】
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）及び式（１０）
【００２４】
【化３】
2011231017.tif 000004
【００２５】
（式（５）及び式（６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、Ｃ１−４アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１２アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ６−７アリールスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、Ｃ６−１２アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノＣ１−３アルキルアミノスルホニル基、又はジＣ１−３アルキルアミノスルホニル基であり、
式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ９は、水素原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ１０は、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）である。但し、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ９とＲ１０とが、互いに一緒になり下記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）
【００２６】
【化４】
2011231017.tif 000005
【００２７】
（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ１−４アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよい。式（６）中のＲ１１は、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。
式（７）及び式（８）中のＲａ及びＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）である。
式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａは、ベンゼン環と縮合する５員環、６員環又は７員環（該５員環、該６員環又は該７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個の置換基Ｒ１３（該Ｒ１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノ基（該ジアルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基（該アルキルスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホンアミド基（該アリールスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基（該アルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基（該ジアルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３個であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）
【００２８】
【化５】
2011231017.tif 000006
【００２９】
（式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒａ、Ｒｂ及び環部分構造Ａは、前記と同じである。）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００３０】
［２］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［１］に記載の式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）及び式（２’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用する［１］に記載の式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００３１】
［３］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［１］に記載の式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用する［１］に記載の式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００３２】
［４］
下記式（５）及び式（６）
【００３３】
【化６】
2011231017.tif 000007
【００３４】
（前記式（５）及び式（６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、メシルアミノ基、ジメシルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基、ジトリフルオロメチルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基ベンジルメチルアミノ基、ベンジルエチルアミノ基、ベンジル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンジル−ｎ−ブチルアミノ基、アセチルメチルアミノ基、アセチルエチルアミノ基、アセチル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイルメチルアミノ基、ベンゾイルエチルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルメチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルエチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイル基、ｍ−トルオイル基、ｐ−トルオイル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｉ−プロピルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、又は、ジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基であり、前記式（５）及び式（６）中のＲ９は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、若しくは、ｔ−ブトキシ基であり、前記式（５）及び式（６）中のＲ１０は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、ドコシル基、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、若しくは、ｐ−メトキシフェニル基であり、又は、前記式（５）及び式（６）中のＲ９とＲ１０とが互いに一緒になり二価の基を形成してもよい。前記式（５）の化合物は、二価の基である前記式（１１）、式（１２）、式（１３）又は式（１４）
【００３５】
【化７】
2011231017.tif 000008
【００３６】
（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、メチル基である。）から一つ選ばれる組み合わせで記載できる化合物であり、式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ９側は炭素原子に位置である。前記式（６）の化合物は、前記式（１２）及び式（１３）から一つ選ばれる組み合わせで記載できる化合物であり、前記式（６）中のＲ１１は、メチル基である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）及び式（１６）
【００３７】
【化８】
2011231017.tif 000009
【００３８】
（式（１５）及び式（１６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、前記と同じである。）の何れかで表される［１］から［３］の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００３９】
［５］
下記式（７）及び式（８）
【００４０】
【化９】
2011231017.tif 000010
【００４１】
（前記式（７）及び式（８）中のＲａは、メチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェニルメチル基、エチル基、２−ベンゾイルオキシエチル基、２−ベンジルオキシエチル基、フェニルエチル基、ｎ−プロピル基、３−ベンゾイルオキシ−ｎ−プロピル基、３−ベンジルオキシ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、４−ベンゾイルオキシ−ｎ−ブチル基、４−ベンジルオキシ−ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、５−ベンゾイルオキシ−ｎ−ペンチル基、５−ベンジルオキシ−ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基、６−ベンゾイルオキシ−ｎ−へキシル基、６−ベンジルオキシ−ｎ−へキシル基、ｎ−へプチル基、７−ベンゾイルオキシ−ｎ−へプチル基、７−ベンジルオキシ−ｎ−へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、ｃ−ペンチル基、３−ベンゾイル−ｃ−ペンチル基、３−ベンジルオキシ−ｃ−ペンチル基、ｃ−ヘキシル基、３−ベンゾイル−ｃ−ヘキシル基、３−ベンジルオキシ−ｃ−ヘキシル基、４−ベンゾイル−ｃ−ヘキシル基、４−ベンジルオキシ−ｃ−ヘキシル基、フェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ナフチル基、６−ブロモ−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、２−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、又は４−ビフェニリル基であり、前記式（７）及び式（８）中のＲｂは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、ｃ−ペンチル基、ｃ−ヘキシル基である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１７）及び式（１８）
【００４２】
【化１０】
2011231017.tif 000011
【００４３】
（式（１７）及び式（１８）中のＲａ及びＲｂは、前記と同じである。）の何れかで表される［１］から［３］の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００４４】
［６］
下記式（９）及び式（１０）
【００４５】
【化１１】
2011231017.tif 000012
【００４６】
（前記式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａは、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）
【００４７】
【化１２】
2011231017.tif 000013
【００４８】
（前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基（該シクロアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基（該ヘテロアリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。又はＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基（該ヘテロアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）であり、前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ１６，Ｒ１７，Ｒ１８及びＲ１９が、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該へテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基（該シクロアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６チオアルコキシ基（該チオアルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、若しくはＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、スルホ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、Ｃ６−１４アリールアミノ基（該アリールアミノ基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールアミノ基（該ヘテロアリールアミノ基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールカルボニル基（該ヘテロアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基（該ヘテロアリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、カルボ
キシル基、若しくはＣ２−９非芳香族性ヘテロシクリル基（該非芳香族性ヘテロシクリル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、カルボキシル基、若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、カルボキシル基、若しくはＣ６−１４アリールカルボニル基で置換されている。）であり、前記式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）及び式（ａｄ）中のＱは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、ＳＯ（スルフィル基）又はＳＯ2（スルホニル基）を意味する。）の何れかであって、式（９）及び式（１０）中のＲ９とＲ１０とは、互いに一緒になり下記式（１１）
【００４９】
【化１３】
2011231017.tif 000014
【００５０】
（二価の基である式（１１）中のＲ１２は、メチル基であり、式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ１０側は炭素原子に位置する。）で表される二価の基である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１９）及び式（２０）
【００５１】
【化１４】
2011231017.tif 000015
【００５２】
（式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａ、Ｒ９及びＲ１０は、前記と同じである。）の何れかで表される［１］から［３］の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００５３】
［７］
式（９）又は式（１０）中の環部分構造Ａが、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）、式（ａｅ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）
【００５４】
【化１５】
2011231017.tif 000016
【００５５】
（前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）、式（ａｅ）、式（ａｇ）又は式（ａｈ）であり、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｐ）、式（ｖ）、式（ａｅ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５が水素原子、メチル基であり、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）及び式（ａｅ）中のＲ１６、Ｒ１７及びＲ１８が、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、又はＣ１−６アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基はハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アミノ基、水酸基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基又はＣ１−６アルコキシカルボニル基で任意に置換されていてもよい。）であり、ＱはＯ（酸素原子）である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする式（１９）及び式（２０）（式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａ、Ｒ９及びＲ１０は、前記と同じである。）の何れかで表される［１］から［３］の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００５６】
［８］
前記の酸化剤が過酸化水素水であることを特徴とする［１］から［７］の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
【００５７】
［９］
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）
【００５８】
【化１６】
2011231017.tif 000017
【００５９】
（式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【００６０】
【化１７】
2011231017.tif 000018
【００６１】
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）、式（２２’）、式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）中のＭは、ＴｉＪ１Ｊ２（該ＴｉＪ１Ｊ２において、Ｔｉはチタン原子であり、Ｊ１及びＪ２は、それぞれ独立して、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルコキシ基を示すか、Ｊ１とＪ２が一緒になって酸素原子を示すか、又は、Ｊ１とＪ２が一緒になって環を形成することにより、光学活性チタン錯体である式（２５）
【００６２】
【化１８】
2011231017.tif 000019
【００６３】
（式（２５）中の部分構造式Ｏ−Ｅ−Ｏは、下記式（２６ａ）、下記式（２６ａ’）、下記式（２６ｂ）、下記式（２６ｂ’）、下記式（２７）、下記式（２７’）、下記式（２８ａ）、下記式（２８ａ’）、下記式（２８ｂ）、下記式（２８ｂ’）、下記式（２９）及び下記式（２９’）
【００６４】
【化１９】
2011231017.tif 000020
【００６５】
（式（２６ａ）、式（２６ａ’）、式（２６ｂ）、式（２６ｂ’）、式（２７）、式（２７’）、式（２８ａ）、式（２８ａ’）、式（２８ｂ）、式（２８ｂ’）、式（２９）及び式（２９’）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じであり、このとき、式（２５）中の２つの部分構造式Ｏ−Ｅ−Ｏは互いに同じである。）の何れかで表される。）で表されるチタン二核錯体を形成する場合を示す。）である。）の何れかで表される光学活性チタン錯体。
【００６６】
［１０］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［９］に記載の式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２２）及び式（２２’）の何れかで表される光学活性チタン錯体。
【００６７】
［１１］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［９］に記載の式（２３ａ）、式（２３ａ’）、式（２３ｂ）、式（２３ｂ’）、式（２４）及び式（２４’）の何れかで表される光学活性チタン錯体。
【００６８】
［１２］
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【００６９】
【化２０】
2011231017.tif 000021
【００７０】
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【００７１】
【化２１】
2011231017.tif 000022
【００７２】
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子。
【００７３】
［１３］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［１２］に記載の式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）及び式（２’）の何れかで表される光学活性配位子。
【００７４】
［１４］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［１２］に記載の式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）の何れかで表される光学活性配位子。
【００７５】
［１５］
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【００７６】
【化２２】
2011231017.tif 000023
【００７７】
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【００７８】
【化２３】
2011231017.tif 000024
【００７９】
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（３０）
【００８０】
【化２４】
2011231017.tif 000025
【００８１】
（式（３０）中のＲ２２及びＲ２３は、異なる置換基であり、それぞれ独立して、Ｃ６−１２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、Ｃ６−１２アリールメチル基（該アリールメチル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、又はＣ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、若しくはシアノ基によって置換されている。）である。但し、Ｒ２２がＣ６−１２アリール基であり、そのＣ６−１２アリール基のオルト位にＣ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基が置換している場合、Ｒ２３は該Ｃ１−４アルキル基、若しくは該Ｃ１−４アルコキシ基と一緒になって環を形成するＣ２−4の二価の基であってもよい。）で表されるスルフィド化合物を酸化剤で不斉酸化することを特徴とする下記式（３１）
【００８２】
【化２５】
2011231017.tif 000026
【００８３】
（式（３１）中のＲ２２及びＲ２３は、前記と同じであり、＊で示された硫黄原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）で表される光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【００８４】
［１６］
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、［１５］と同じである。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（３２）
【００８５】
【化２６】
2011231017.tif 000027
【００８６】
（式（３２）中のＲ２２及びＲ２３は、［１５］と同じである。）で表されるラセミ、若しくは光学純度の低いスルホキシド化合物の一方の光学異性体を酸化剤で選択的に酸化することによって下記式（３３）
【００８７】
【化２７】
2011231017.tif 000028
【００８８】
（式（３３）中のＲ２２及びＲ２３は、［１５］と同じである。）で表されるスルホン化合物へ誘導し、速度論的分割により式（３１）
【００８９】
【化２８】
2011231017.tif 000029
【００９０】
（式（３１）中のＲ２２及びＲ２３は、［１５］と同じである。）で表される光学活性スルホキシド化合物を得ることを特徴とする光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【００９１】
［１７］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＡ）（部分構造式（ＡＡ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＡ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ２は、水素原子、又はメトキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）中のＲ４は、水素原子、又はメトキシ基である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［１５］に記載の式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）及び式（２’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体又は光学活性チタンサラン錯体）を触媒として使用する［１５］又は［１６］に記載の光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【００９２】
［１８］
Ｒ１は、部分構造式（ＡＢ）（部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子であり、部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子である。）であり、Ｒ２は、水素原子であり、Ｒ３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ４は、水素原子である［１５］に記載の式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体又は光学活性チタンサラン錯体）を触媒として使用する［１５］又は［１６］に記載の光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【００９３】
［１９］
前記の酸化剤が過酸化水素水、又は尿素―過酸化水素付加体であることを特徴とする［１５］から［１８］の何れか１項に記載の光学活性スルホキシド化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００９４】
本発明によれば、分子中にプロキラルな炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物を高いエナンチオ選択性でエポキシ化し、光学活性エポキシ化合物を従来技術よりも、高品質かつ高収率で経済的に製造することができる。更に、本発明の製造方法で得られる光学活性エポキシ化合物は、高血圧症、喘息等の治療に有効な化合物の光学活性医薬中間体として有用である。本発明によれば、医薬品等の生理活性物質の合成中間体又は原体として有用な光学活性スルホキシド化合物を高品質かつ高収率で経済的に製造することができる。更に本発明によれば、触媒の使用量を軽減できるとともに、溶媒としてトルエン等の工業的に有用な溶媒を用いることが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００９５】
本明細書中「ｎ」はノルマルを、「ｉ」はイソを、「ｓ」はセカンダリーを、「ｔ」はターシャリーを、「ｃ」はシクロを、「ｏ」はオルトを、「ｍ」はメタを、「ｐ」はパラを、「ＴＭＥＤＡ」はＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンを意味する。化学構造式中に表記したＲ並びにＳは、絶対配置の表記を示す。
【００９６】
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明の光学活性エポキシ化合物の製造方法は、式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【００９７】
【化２９】
2011231017.tif 000030
【００９８】
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【００９９】
【化３０】
2011231017.tif 000031
【０１００】
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）及び式（１０）
【０１０１】
【化３１】
2011231017.tif 000032
【０１０２】
（式（５）及び式（６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、Ｃ１−４アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１２アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ６−７アリールスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、Ｃ６−１２アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノＣ１−３アルキルアミノスルホニル基、又はジＣ１−３アルキルアミノスルホニル基であり、
式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ９は、水素原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ１０は、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）である。但し、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ９とＲ１０とが、互いに一緒になり下記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）
【０１０３】
【化３２】
2011231017.tif 000033
【０１０４】
（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ１−４アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよい。式（６）中のＲ１１は、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。
式（７）及び式（８）中のＲａ及びＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）である。
式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａは、ベンゼン環と縮合する５員環、６員環又は７員環（該５員環、該６員環又は該７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個の置換基Ｒ１３（該Ｒ１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノ基（該ジアルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基（該アルキルスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホンアミド基（該アリールスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基（該アルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基（該ジアルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３個であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）の何れかで表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）
【０１０５】
【化３３】
2011231017.tif 000034
【０１０６】
（式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒａ、Ｒｂ及び環部分構造Ａは、前記と同じである。Ｒ１０が水素原子である場合を除いて、＊で示された炭素原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物を製造できることを特徴とする。
【０１０７】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中の各置換基について説明する。
【０１０８】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）である。
【０１０９】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子である。部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子が好ましい。
【０１１０】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。
【０１１１】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹを具体的に説明する。該メチレン基は、メチレン基、ジフルオロメチレン基等が挙げれらる。該エチレン基は、エチレン基、テトラフルオロエチレン基等が挙げれらる。該―ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）―は、―ＣＨ（メチル基）―、―ＣＨ（エチル基）―、―ＣＨ（ｎ−プロピル基）―、―ＣＨ（ｉ−プロピル基）―、―ＣＨ（ｎ−ブチル基）―、―ＣＨ（ｉ−ブチル基）―、―ＣＨ（ｓ−ブチル基）―、―ＣＨ（ｔ−ブチル基）―、―ＣＨ（トリフルオロメチル基）―、―ＣＨ（ペンタフルオロエチル基）―等の二価の置換基が挙げられる。該―ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）―は、―ＣＨ（フェニル基）―、―ＣＨ（ｏ−ビフェニリル基）―、―ＣＨ（ｍ−ビフェニリル基）―、―ＣＨ（ｐ−ビフェニリル基）―、―ＣＨ（１−ナフチル基）―、―ＣＨ（２−ナフチル基）―、―ＣＨ（１−アントリル基）―、―ＣＨ（２−アントリル基）―、―ＣＨ（９−アントリル基）―、―ＣＨ（１−フェナントリル基）―、―ＣＨ（２−フェナントリル基）―、―ＣＨ（３−フェナントリル基）―、―ＣＨ（４−フェナントリル基）―、―ＣＨ（９−フェナントリル基）―等の二価の置換基が挙げられる。
【０１１２】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、メチレン基、ジフルオロメチレン基、―ＣＨ（メチル基）―、―ＣＨ（トリフルオロメチル基）―が好ましく、メチレン基、ジフルオロメチレン基が特に好ましい。
【０１１３】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。
【０１１４】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺを具体的に説明する。該Ｃ３−１２アルキル基は、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−パーフルオロプロピル基、ｉ−パーフルオロプロピル基、ｎ−パーフルオロブチル基、ｔ−パーフルオロブチル基、ｎ−パーフルオロペンチル基、ｎ−パーフルオロヘキシル基、ｎ−パーフルオロへプチル基、ｎ−パーフルオロオクチル基、ｎ−パーフルオロノニル基、ｎ−パーフルオロデシル基、ｎ−パーフルオロウンデシル基、及びｎ−パーフルオロドデシル基等が挙げられる。該Ｃ３−８シクロアルキル基は、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、１−メチル−ｃ−プロピル基、２−メチル−ｃ−プロピル基、ｃ−ペンチル基、１−メチル−ｃ−ブチル基、２−メチル−ｃ−ブチル基、３−メチル−ｃ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｃ−プロピル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−ｃ−プロピル基、ｃ−ヘキシル基、ｃ−ヘプチル基、ｃ−オクチル基、１−メチル−ｃ−ヘキシル基、２−メチル−ｃ−ヘキシル基、３−メチル−ｃ−ヘキシル基、１，２−ジメチル−ｃ−ヘキシル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−ｃ−プロピル基、１−メチル−ｃ−ペンチル基、２−メチル−ｃ−ペンチル基、３−メチル−ｃ−ペンチル基、１−エチル−ｃ−ブチル基、２−エチル−ｃ−ブチル基、３−エチル−ｃ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｃ−ブチル基、１，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，２−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，４−ジメチル−ｃ−ブチル基、３，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、１−ｎ−プロピル−ｃ−プロピル基、２−ｎ−プロピル−ｃ−プロピル基、１−ｉ−プロピル−ｃ−プロピル基、２−ｉ−プロピル−ｃ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｃ−プロピル基、１，２，３−トリメチル−ｃ−プロピル基、２，２，３−トリメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−１−メチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−２−メチル−ｃ−プロピル基、及び２−エチル−３−メチル−ｃ−プロピル基等が挙げられる。
【０１１５】
該Ｃ６−２２アリール基は、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２，６−ジブロモフェニル基、３，５−ジブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル基、２−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、３，５−ジエチルフェニル基、２，４，６−トリエチルフェニル基、２−ペンタフルオロエチルフェニル基、３−ペンタフルオロエチルフェニル基、４−ペンタフルオロエチルフェニル基、２，６−ジ（ペンタフルオロエチル）フェニル基、３，５−ジ（ペンタフルオロエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（ペンタフルオロエチル）フェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、３−ｎ−プロピルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，４，６−トリ−ｎ−プロピルフェニル基、２−ｉ−プロピルフェニル基、３−ｉ−プロピルフェニル基、４−ｉ−プロピルフェニル基、２，６−ジ−ｉ−プロピルフェニル基、３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロピルフェニル基、２−ｎ−ブチルフェニル基、３−ｎ−ブチルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル基、３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリ−ｎ−ブチルフェニル基、２−ｔ−ブチルフェニル基、３−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、２，６−ジエトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、２，４，６−トリエトキシフェニル基、２−ｎ−プロポキシフェニル基、３−ｎ−プロポキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロポキシフェニル基、３，５−ジ−ｎ−プロポキシフェニル基、２，４，６−トリ−ｎ−プロポキシフェニル基、２−ｉ−プロポキシフェニル基、３−ｉ−プロポキシフェニル基、４−ｉ−プロポキシフェニル基、２，６−ジ−ｉ−プロポキシフェニル基、３，５−ジ−ｉ−プロポキシフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロポキシフェニル基、２−ｎ−ブトキシフェニル基、３−ｎ−ブトキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、２，６−ジ−ｎ−ブトキシフェニル基、３，５−ジ−ｎ−ブトキシフェニル基、２，４，６−トリ−ｎ−ブトキシフェニル基、２−ｔ−ブトキシフェニル基、３−ｔ−ブトキシフェニル基、４−ｔ−ブトキシフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブトキシフェニル基、３，５−ジ−ｔ−ブトキシフェニル基、２，４，６−トリ−ｔ−ブトキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基、２，６−ジ−ベンジルオキシフェニル基、３，５−ジ−ベンジルオキシフェニル基、３，４−ジ−ベンジルオキシフェニル基、２，４，６−トリ−ベンジルオキシフェニル基、１−ナフチル基、２−メチル−１−ナフチル基、２−トリフルオロメチル−１−ナフチル基、２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、２−［３，５−ジメチルフェニル］−１−ナフチル基、２−［４−メチルフェニル］−１−ナフチル基、２−（ｏ−ビフェニリル）−１−ナフチル基、２−（ｍ−ビフェニリル）−１−ナフチル基、２−（ｐ−ビフェニリル）−１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、４−ビフェニリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、２，６−ジフェニルフェニル基、及び３，５−ジフェニルフェニル基等が挙げられる。
【０１１６】
該Ｃ２−９ヘテロアリール基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環基としては、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリル基、２−１，３，４−チアジアゾリル基、３−１，２，４−オキサジアゾリル基、５−１，２，４−オキサジアゾリル基、３−１，２，４−チアジアゾリル基、５−１，２，４−チアジアゾリル基、３−１，２，５−オキサジアゾリル基及び３−１，２，５−チアジアゾリル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環基としては、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、１−２，７−ナフチリジニル基、３−２，７−ナフチリジニル基、４−２，７−ナフチリジニル基、１−２，６−ナフチリジニル基、３−２，６−ナフチリジニル基、４−２，６−ナフチリジニル基、２−１，８−ナフチリジニル基、３−１，８−ナフチリジニル基、４−１，８−ナフチリジニル基、２−１，７−ナフチリジニル基、３−１，７−ナフチリジニル基、４−１，７−ナフチリジニル基、５−１，７−ナフチリジニル基、６−１，７−ナフチリジニル基、８−１，７−ナフチリジニル基、２−１，６−ナフチリジニル基、３−１，６−ナフチリジニル基、４−１，６−ナフチリジニル基、５−１，６−ナフチリジニル基、７−１，６−ナフチリジニル基、８−１，６−ナフチリジニル基、２−１，５−ナフチリジニル基、３−１，５−ナフチリジニル基、４−１，５−ナフチリジニル基、６−１，５−ナフチリジニル基、７−１，５−ナフチリジニル基、８−１，５−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテリジニル基、４−プテリジニル基、６−プテリジニル基、及び７−プテリジニル基等が挙げられる。
【０１１７】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、ｔ−ブチル基、ｎ−パーフルオロノニル基、ｎ−パーフルオロデシル基、ｎ−パーフルオロウンデシル基、ｎ−パーフルオロドデシル基、ｃ−プロピル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２，６−ジブロモフェニル基、３，５−ジブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル基、４−ｉ−プロピルフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロピルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ｉ−プロポキシフェニル基、３−ｉ−プロポキシフェニル基、４−ｉ−プロポキシフェニル基、２，６−ジ−ｉ−プロポキシフェニル基、３，５−ジ−ｉ−プロポキシフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロポキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基、２，６−ジ−ベンジルオキシフェニル基、３，５−ジ−ベンジルオキシフェニル基、３，４−ジ−ベンジルオキシフェニル基、１−ナフチル基、２−メチル−１−ナフチル基、２−トリフルオロメチル−１−ナフチル基、２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、４−ビフェニリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、２，６−ジフェニルフェニル基、３，５−ジフェニルフェニル基が好ましい。
【０１１８】
部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、２−フルオロフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル基、４−ｉ−プロピルフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロピルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ｉ−プロポキシフェニル基、３−ｉ−プロポキシフェニル基、４−ｉ−プロポキシフェニル基、２，６−ジ−ｉ−プロポキシフェニル基、３，５−ジ−ｉ−プロポキシフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロポキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基、２，６−ジ−ベンジルオキシフェニル基、３，５−ジ−ベンジルオキシフェニル基、３，４−ジ−ベンジルオキシフェニル基、１−ナフチル基、２−メチル−１−ナフチル基、２−トリフルオロメチル−１−ナフチル基、２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、４−ビフェニリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、２，６−ジフェニルフェニル基、３，５−ジフェニルフェニル基がより好ましい。
【０１１９】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中、並びに部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基である。
【０１２０】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中、並びに部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２を具体的に説明する。該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。該Ｃ１−４アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、及びｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロメチル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【０１２１】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中、並びに部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基が好ましく、水素原子、メトキシ基がより好ましい。
【０１２２】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基である。
【０１２３】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３を具体的に説明する。該Ｃ６−１８アリール基としては、フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、及び４−メチルフェニル基等が挙げられる。２つのＲ３が一緒になって環を形成する場合のＣ３−５の二価の基は、トリメチレン基、及びテトラメチレン基等が挙げられる。
【０１２４】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２つのＲ３が一緒になって環を形成した場合の二価の基であるテトラメチレン基が好ましく、テトラメチレン基がより好ましい。
【０１２５】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中、並びに部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。
【０１２６】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中、並びに部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４を具体的に説明する。該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。該Ｃ１−４アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、及びペンタフルオロメチル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【０１２７】
前記式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中、並びに部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基が好ましく、水素原子、メトキシ基がより好ましい。
【０１２８】
前記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）、式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中の各置換基について説明する。
【０１２９】
前記式（５）、式（６）、式（１５）及び式（１６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、Ｃ１−４アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、Ｃ１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１２アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ６−７アリールスルフィニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、Ｃ６−１２アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノＣ１−３アルキルアミノスルホニル基、又はジＣ１−３アルキルアミノスルホニル基である。
【０１３０】
前記式（５）、式（６）、式（１５）及び式（１６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８を具体的に説明する。該アミノ基は、アミノ基、メシルアミノ基、ジメシルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基、ジトリフルオロメチルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、Ｃ２−７アシルアミノ基、及びＣ２−５アルコキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。前記の該Ｃ２−７アシルアミノ基は、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、及びベンゾイルアミノ基等が挙げられ、前記の該Ｃ２−５アルコキシカルボニルアミノ基は、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｉ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｓ−ブトキシカルボニルアミノ基、及びｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルキルアミノ基は、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、トシルメチルアミノ基、トシルエチルアミノ基、トシル−ｎ−プロピルアミノ基、トシル−ｎ−ブチルアミノ基、ベンジルメチルアミノ基、ベンジルエチルアミノ基、ベンジル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンジル−ｎ−ブチルアミノ基、Ｃ２−７アシルＣ１−４アルキルアミノ基、及びＣ２−５アルコキシカルボニルＣ１−４アルキルアミノ基等が挙げられる。前記の該Ｃ２−７アシルＣ１−４アルキルアミノ基は、アセチルメチルアミノ基、アセチルエチルアミノ基、アセチル−ｎ−プロピルアミノ基、アセチル−ｎ−ブチルアミノ基、プロピオニルメチルアミノ基、プロピオニルエチルアミノ基、プロピオニル−ｎ−プロピルアミノ基、プロピオニル−ｎ−ブチルアミノ基、ベンゾイルメチルアミノ基、ベンゾイルエチルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−プロピルアミノ基、及びベンゾイル−ｎ−ブチルアミノ基等が挙げられ、前記の該Ｃ２−５アルコキシカルボニルＣ１−４アルキルアミノ基は、メトキシカルボニルメチルアミノ基、メトキシカルボニルエチルアミノ基、メトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、メトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、エトキシカルボニルメチルアミノ基、エトキシカルボニルエチルアミノ基、エトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、エトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルメチルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルエチルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルメチルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルエチルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルメチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルエチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、及びｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基等が挙げられる。該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。該Ｃ１−４アルキル基は、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、及びｔ−ブチル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルキルカルボニル基は、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、及びｔ−ブチルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ６−１２アリールカルボニル基は、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイルカルボニル基、ｍ−トルオイルカルボニル基、ｐ−トルオイルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、及び２−ナフチルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルキルスルフィニル基は、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基、ｉ−プロピルスルフィニル基、ｎ−ブチルスルフィニル基、ｉ−ブチルスルフィニル基、ｓ−ブチルスルフィニル基、及びｔ−ブチルスルフィニル基等が挙げられる。該Ｃ６−７アリールスルフィニル基は、ベンゼンスルフィニル基、ｏ−トルエンスルフィニル基、ｍ−トルエンスルフィニル基、及びｐ−トルエンスルフィニル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルキルスルホニル基は、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−プロパンスルホニル基、ｉ−プロパンスルホニル基、ｎ−ブタンスルホニル基、ｉ−ブタンスルホニル基、ｓ−ブタンスルホニル基、及びｔ−ブタンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ６−１２アリールスルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、及び２−ナフタレンスルホニル基等が挙げられる。該モノＣ１−３アルキルアミノスルホニル基は、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、及びｉ−プロピルアミノスルホニル基等が挙げられる。該ジＣ１−３アルキルアミノスルホニル基は、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、及びジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基等が挙げられる。
【０１３１】
前記式（５）、式（６）、式（１５）及び式（１６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、メシルアミノ基、ジメシルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基、ジトリフルオロメチルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、トシルメチルアミノ基、トシルエチルアミノ基、トシル−ｎ−プロピルアミノ基、トシル−ｎ−ブチルアミノ基、ベンジルメチルアミノ基、ベンジルエチルアミノ基、ベンジル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンジル−ｎ−ブチルアミノ基、アセチルメチルアミノ基、アセチルエチルアミノ基、アセチル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイルメチルアミノ基、ベンゾイルエチルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−ブチルアミノ基、エトキシカルボニルメチルアミノ基、エトキシカルボニルエチルアミノ基、エトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、エトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルメチルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルエチルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルメチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルエチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイル基、ｍ−トルオイル基、ｐ−トルオイル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基、ｉ−プロピルスルフィニル基、ｎ−ブチルスルフィニル基、ｉ−ブチルスルフィニル基、ｓ−ブチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基、ｏ−トルエンスルフィニル基、ｍ−トルエンスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｉ−プロピルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基が好ましい。
【０１３２】
前記式（５）、式（６）、式（１５）及び式（１６）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、メシルアミノ基、ジメシルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基、ジトリフルオロメチルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基ベンジルメチルアミノ基、ベンジルエチルアミノ基、ベンジル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンジル−ｎ−ブチルアミノ基、アセチルメチルアミノ基、アセチルエチルアミノ基、アセチル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイルメチルアミノ基、ベンゾイルエチルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−プロピルアミノ基、ベンゾイル−ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルメチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルエチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−プロピルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ブチルアミノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイル基、ｍ−トルオイル基、ｐ−トルオイル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｉ−プロピルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基がより好ましい。
【０１３３】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ９は、水素原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基である。
【０１３４】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ９を具体的に説明する。該Ｃ１−４アルキル基は、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、及びｔ−ブチル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【０１３５】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ９は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基が好ましい。
【０１３６】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ１０は、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）である。
【０１３７】
但し、前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ９とＲ１０とが、互いに一緒になり前記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ１−４アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよい。
【０１３８】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ１０を具体的に説明する。該Ｃ１−２２アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、及び、ドコシル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。該Ｃ６−１０アリール基は、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、及びｐ−メトキシフェニル基等が挙げられる。
【０１３９】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ１０は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、ドコシル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基が好ましい。
【０１４０】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ１０は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、ドコシル基、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基がより好ましい。
【０１４１】
前記式（６）及び式（１６）中のＲ１１は、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。
【０１４２】
前記式（６）及び式（１６）中のＲ１１を具体的に説明する。該Ｃ１−４アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、及びｔ−ブチル基等が挙げられる。
【０１４３】
前記式（６）及び式（１６）中のＲ１１は、メチル基が好ましい。
【０１４４】
前記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１−４アルキル基である。
【０１４５】
前記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２を具体的に説明する。該Ｃ１−４アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、及びｔ−ブチル基等が挙げられる。
【０１４６】
前記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基が好ましい。
【０１４７】
前記式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ１２は、メチル基がより好ましい。
【０１４８】
前記式（５）、式（６）、式（９）、式（１０）、式（１５）、式（１６）、式（１９）及び式（２０）中のＲ９とＲ１０とが互いに一緒になり二価の基を形成してもよい。Ｒ９とＲ１０とが互いに一緒になり前記式（１１）で表される基を形成した場合、６員環が形成されるため、該化合物としては、ベンゾピラン及びその誘導体等が挙げられる。又、Ｒ８とＲ９とが互いに一緒になり前記式（１２）で表される基を形成した場合、５員環が形成されるため、該化合物としては、インデン及びその誘導体等が挙げられる。更に、Ｒ８とＲ９とが互いに一緒になり前記式（１３）で表される基を形成した場合、６員環が形成されるため、該化合物としては、１，２−ジヒドロナフタレン及びその誘導体等が挙げられる。又、更に、Ｒ８とＲ９とが互いに一緒になり前記式（１４）で表される基を形成した場合、７員環が形成されるため、該化合物としては、１，２−ベンゾ−１，３−シクロへプタジエン及びその誘導体等が挙げられる。
【０１４９】
前記式（５）及び式（１５）の化合物は、二価の基である式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）から一つ選ばれる組み合わせで記載できる化合物が好ましい。式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ９側は炭素原子に位置する場合が好ましい。
【０１５０】
前記式（６）及び式（１６）の化合物は、式（１２）及び式（１３）から一つ選ばれる組み合わせで記載できる化合物が好ましい。
【０１５１】
前記式（９）、式（１０）、式（１９）及び式（２０）の化合物は、二価の基である式（１１）の組み合わせで記載できる化合物が好ましい。式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ９側は炭素原子に位置する場合が好ましい。
【０１５２】
前記式（７）、式（８）、式（１７）及び式（１８）中のＲ１０は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−２２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、ベンゾイルオキシ基、ベンジルオキシ基、若しくは、ピバロイルオキシ基で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基で置換されている。）である。
【０１５３】
前記式（７）、式（８）、式（１７）及び式（１８）中のＲ１０を具体的に説明する。該Ｃ１−２２アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、及びドコシル基等が挙げられる。該Ｃ３−８シクロアルキル基は、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、１−メチル−ｃ−プロピル基、２−メチル−ｃ−プロピル基、ｃ−ペンチル基、１−メチル−ｃ−ブチル基、２−メチル−ｃ−ブチル基、３−メチル−ｃ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｃ−プロピル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−ｃ−プロピル基、ｃ−ヘキシル基、ｃ−ヘプチル基、ｃ−オクチル基、１−メチル−ｃ−ヘキシル基、２−メチル−ｃ−ヘキシル基、３−メチル−ｃ−ヘキシル基、１，２−ジメチル−ｃ−ヘキシル基、２，３−ジメチル−ｃ−ヘキシル基、１−エチル−ｃ−プロピル基、１−メチル−ｃ−ペンチル基、２−メチル−ｃ−ペンチル基、３−メチル−ｃ−ペンチル基、１−エチル−ｃ−ブチル基、２−エチル−ｃ−ブチル基、３−エチル−ｃ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｃ−ブチル基、１，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，２−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，４−ジメチル−ｃ−ブチル基、３，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、１−ｎ−プロピル−ｃ−プロピル基、２−ｎ−プロピル−ｃ−プロピル基、１−ｉ−プロピル−ｃ−プロピル基、２−ｉ−プロピル−ｃ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｃ−プロピル基、１，２，３−トリメチル−ｃ−プロピル基、２，２，３−トリメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−１−メチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−２−メチル−ｃ−プロピル基、及び２−エチル−３−メチル−ｃ−プロピル基等が挙げらる。該Ｃ１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。該Ｃ６−１０アリール基は、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、及びｐ−メトキシフェニル基等が挙げられる。
【０１５４】
式（９）、式（１０）、式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａについて説明する。環部分構造Ａは、ベンゼン環と縮合する５員環、６員環又は７員環（該５員環、該６員環又は該７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個の置換基Ｒ１３（該Ｒ１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１−４アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキルアミノ基（該アルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノ基（該ジアルキルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基（該アルキルカルボニルアミノ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基（該アルキルスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホンアミド基（該アリールスルホンアミド基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基（該アルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基（該ジアルキルアミノカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３個であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。
【０１５５】
前記のＲ１３について具体的に説明する。該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。該Ｃ１−６アルキル基は、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、１−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、及びエトキシカルボニルエチル基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルコキシ基は、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、１−ペンチルオキシ基、２−ペンチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ｉ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ、２，２−ジメチルプロポキシ基、１−ヘキシルオキシ基、２−ヘキシルオキシ基、３−ヘキシルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、メチルカルボニルオキシメトキシ基、エチルカルボニルオキシメトキシ基、メチルカルボニルオキシエトキシ基、エチルカルボニルオキシエトキシ基、メチルカルボニルアミノメトキシ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメトキシ基、エチルカルボニルアミノメトキシ基、メチルカルボニルアミノエトキシ基、エチルカルボニルアミノエトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、トリフルオロメトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルエトキシ基、及びエトキシカルボニルエトキシ基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルアミノ基は、メチルアミノ基、トリフルオロメチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｃ−ブチルアミノ基、１−ペンチルアミノ基、２−ペンチルアミノ基、３−ペンチルアミノ基、ｉ−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、ｔ−ペンチルアミノ基、ｃ−ペンチルアミノ基、１−ヘキシルアミノ基、２−ヘキシルアミノ基、３−ヘキシルアミノ基、ｃ−ヘキシルアミノ基、１−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基等が挙げられる。該ジＣ１−６アルキルアミノ基は、ジメチルアミノ基、ビス（トリフルオロメチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｃ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉ−ブチルアミノ基、ジ−ｓ−ブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｃ−ブチルアミノ基、ジ−１−ペンチルアミノ基、ジ−２−ペンチルアミノ基、ジ−３−ペンチルアミノ基、ジ−ｉ−ペンチルアミノ基、ジ−ネオペンチルアミノ基、ジ−ｔ−ペンチルアミノ基、ジ−ｃ−ペンチルアミノ基、ジ−１−ヘキシルアミノ基、ジ−２−ヘキシルアミノ基、ジ−３−ヘキシルアミノ基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノ基、ビス（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノ基、ビス（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ビス（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ビス（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノ基、（メチルエチル）アミノ基、（エチル）トリフルオロメチルアミノ基、メチル−ｎ−プロピルアミノ基、メチル−ｉ−プロピルアミノ基、メチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルメチルアミノ基、ｉ−ブチルメチルアミノ基、ｓ−ブチルメチルアミノ基、ｔ−ブチルメチルアミノ基、ｃ−ブチルメチルアミノ基、エチル−ｎ−プロピルアミノ基、エチル−ｉ−プロピルアミノ基、エチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルエチルアミノ基、ｉ−ブチルエチルアミノ基、ｓ−ブチルエチルアミノ基、ｔ−ブチルエチルアミノ基、ｃ−ブチルエチルアミノ基、ｎ−プロピル−ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−プロピル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｓ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、t−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｃ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｉ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｓ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｔ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｃ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｉ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｓ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｔ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｃ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｉ−ブチルアミノ基、ｎ−ブチル−ｓ−ブチルアミノ基、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチル−ｓ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチル−ｔ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチル−ｔ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基、及びｔ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基は、メチルカルボニルアミノ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、ｉ−ブチルカルボニルアミノ基、ｓ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔ−ブチルカルボニルアミノ基、１−ペンチルカルボニルアミノ基、２−ペンチルカルボニルアミノ基、３−ペンチルカルボニルアミノ基、ｉ−ペンチルカルボニルアミノ基、ネオペンチルカルボニルアミノ、��−ペンチルカルボニルアミノ基、１−ヘキシルカルボニルアミノ基、２−ヘキシルカルボニルアミノ基、及び３−ヘキシルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【０１５６】
該Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基は、メタンスルホンアミド基、トリフルオロメタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、ｉ−ブタンスルホンアミド基、ｓ−ブタンスルホンアミド基、ｔ−ブタンスルホンアミド基、ｎ−ペンタンスルンアミド基、２−ペンタンスルホンアミド基、３−ペンタンスルホンアミド基、ｉ−ペンタンスルホンアミド基、ネオペンタンスルホンアミド基、ｔ−ペンタンスルホンアミド基、ｎ−ヘキサンスルホンアミド基、２−ヘキサンスルホンアミド基、及び３−ヘキサンスルホンアミド基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリールスルホンアミド基は、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、ｏ−ビフェニルスルホンアミド基、ｍ−ビフェニルスルホンアミド基、ｐ−ビフェニルスルホンアミド基、１−ナフタレンスルホンアミド基、２−ナフタレンスルホンアミド基、１−アントラセンスルホンアミド基、２−アントラセンスルホンアミド基、９−アントラセンスルホンアミド基、１−フェナントレンスルホンアミド基、２−フェナントレンスルホンアミド基、３−フェナントレンスルホンアミド基、４−フェナントレンスルホンアミド基、及び９−フェナントレンスルホンアミド基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基は、メチルアミノカルボニル基、トリフルオロメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルアミノカルボニル基、１−ペンチルアミノカルボニル基、２−ペンチルアミノカルボニル基、３−ペンチルアミノカルボニル基、ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ネオペンチルアミノカルボニル基、ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、１−ヘキシルアミノカルボニル基、２−ヘキシルアミノカルボニル基、及び３−ヘキシルアミノカルボニル基等が挙げられる。該ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基は、ジメチルアミノカルボニル基、ビス（トリフルオロメチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−１−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−２−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−３−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ネオペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−１−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−２−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−３−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノカルボニル基、ビス（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノカルボニル基、ビス（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ビス（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ビス（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、（メチルエチル）アミノカルボニル基、（エチル）トリフルオロメチルアミノカルボニル基、メチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、メチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、メチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｃ−ブチルメチルアミノカルボニル基、エチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、エチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、エチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｃ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−プロピル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、及びｔ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルカルボニル基は、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、１−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基、ｉ−ペンチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、ｔ−ペンチルカルボニル基、１−ヘキシルカルボニル基、２−ヘキシルカルボニル基、及び３−ヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
【０１５７】
該Ｃ１−６アルコキシカルボニル基は、メトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−ペンチルオキシカルボニル基、２−ペンチルオキシカルボニル基、３−ペンチルオキシカルボニル基、ｉ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、１−ヘキシルオキシカルボニル基、２−ヘキシルオキシカルボニル基、及び３−ヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルキルスルホニル基は、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−プロパンスルホニル基、ｉ−プロパンスルホニル基、ｎ−ブタンスルホニル基、ｉ−ブタンスルホニル基、ｓ−ブタンスルホニル基、及びｔ−ブタンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリールスルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｐ−フルオロベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−アントラセンスルホニル基、２−アントラセンスルホニル基、９−アントラセンスルホニル基、１−フェナントレンスルホニル基、２−フェナントレンスルホニル基、３−フェナントレンスルホニル基、４−フェナントレンスルホニル基、及び９−フェナントレンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリールカルボニル基は、フェニルカルボニル基、ｐ−フルオロフェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、１−アントリルカルボニル基、２−アントリルカルボニル基、９−アントリルカルボニル基、１−フェナントリルカルボニル基、２−フェナントリルカルボニル基、３−フェナントリルカルボニル基、４−フェナントリルカルボニル基、及び９−フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。
【０１５８】
前記のＲ１３について、好ましい原子及び置換基を具体的に説明する。Ｒ１３は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、メチルカルボニルオキシメトキシ基、エチルカルボニルオキシメトキシ基、メチルカルボニルオキシエトキシ基、エチルカルボニルオキシエトキシ基、メチルカルボニルアミノメトキシ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメトキシ基、エチルカルボニルアミノメトキシ基、メチルカルボニルアミノエトキシ基、エチルカルボニルアミノエトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、トリフルオロメトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルエトキシ基、エトキシカルボニルエトキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホアミノ基、スルファモイル基、アミノ基、カルボキシル基、メチルアミノ基、トリフルオロメチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ビス（トリフルオロメチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、メチルカルボニルアミノ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、メタンスルホンアミド基、トリフルオロメタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、メチルアミノカルボニル基、トリフルオロメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ビス（トリフルオロメチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、（エチル）トリフルオロメチルアミノカルボニル基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、メトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基が好ましい。
【０１５９】
前記式（９）、式（１０）、式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａは、下記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）
【０１６０】
【化３４】
2011231017.tif 000035
【０１６１】
の何れかで表される。
【０１６２】
前記式（９）、式（１０）、式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａは、下記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｉ）、式（ｋ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｓ）、式（ｖ）、式（ｙ）、式（ａｅ）、式（ａｇ）、式（ａｈ）
【０１６３】
【化３５】
2011231017.tif 000036
【０１６４】
が好ましい。
【０１６５】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）中のＲ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９の各置換基を説明する。
【０１６６】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基（該シクロアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基（該ヘテロアリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。又はＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基（該ヘテロアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｑ個の置換基Ｒ２０（該Ｒ２０はＲ１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）である。
【０１６７】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５の各置換基を具体的に説明する。該Ｃ１−６アルキル基は、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、及びエトキシカルボニルエチル基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリール基は、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、及び９−フェナントリル基等が挙げられる。
【０１６８】
該Ｃ２−９ヘテロアリール基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環基としては、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリル基、２−１，３，４−チアジアゾリル基、３−１，２，４−オキサジアゾリル基、５−１，２，４−オキサジアゾリル基、３−１，２，４−チアジアゾリル基、５−１，２，４−チアジアゾリル基、３−１，２，５−オキサジアゾリル基及び３−１，２，５−チアジアゾリル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環基としては、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、１−２，７−ナフチリジニル基、３−２，７−ナフチリジニル基、４−２，７−ナフチリジニル基、１−２，６−ナフチリジニル基、３−２，６−ナフチリジニル基、４−２，６−ナフチリジニル基、２−１，８−ナフチリジニル基、３−１，８−ナフチリジニル基、４−１，８−ナフチリジニル基、２−１，７−ナフチリジニル基、３−１，７−ナフチリジニル基、４−１，７−ナフチリジニル基、５−１，７−ナフチリジニル基、６−１，７−ナフチリジニル基、８−１，７−ナフチリジニル基、２−１，６−ナフチリジニル基、３−１，６−ナフチリジニル基、４−１，６−ナフチリジニル基、５−１，６−ナフチリジニル基、７−１，６−ナフチリジニル基、８−１，６−ナフチリジニル基、２−１，５−ナフチリジニル基、３−１，５−ナフチリジニル基、４−１，５−ナフチリジニル基、６−１，５−ナフチリジニル基、７−１，５−ナフチリジニル基、８−１，５−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテリジニル基、４−プテリジニル基、６−プテリジニル基、及び７−プテリジニル基等が挙げられる。
【０１６９】
該Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基は、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルアミノカルボニル基、１−ペンチルアミノカルボニル基、２−ペンチルアミノカルボニル基、３−ペンチルアミノカルボニル基、ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ネオペンチルアミノカルボニル基、ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、１−ヘキシルアミノカルボニル基、２−ヘキシルアミノカルボニル基、及び３−ヘキシルアミノカルボニル基等が挙げられる。該ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基は、ジメチルアミノカルボニル基、ビス（トリフルオロメチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−１−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−２−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−３−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ネオペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−１−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−２−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−３−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノカルボニル基、ビス（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノカルボニル基、ビス（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ビス（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ビス（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、（メチルエチル）アミノカルボニル基、（エチル）トリフルオロメチルアミノカルボニル基、メチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、メチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、メチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｃ−ブチルメチルアミノカルボニル基、エチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、エチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、エチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｃ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−プロピル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、及びｔ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルカルボニル基は、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、１−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基、ｉ−ペンチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、ｔ−ペンチルカルボニル基、１−ヘキシルカルボニル基、２−ヘキシルカルボニル基、及び３−ヘキシルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基は、ｃ−プロピルカルボニル基、ｃ−ブチルカルボニル基、１−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、ｃ−ペンチルカルボニル基、１−メチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２−メチル−ｃ−ブチルカルボニル基、３−メチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１，２−ジメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−エチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−エチル−ｃ−プロピルカルボニル基、ｃ−ヘキシルカルボニル基、ｃ−ヘプチルカルボニル基、ｃ−オクチルカルボニル基、１−メチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、２−メチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、３−メチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、１，２−ジメチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−エチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−メチル−ｃ−ペンチルカルボニル基、２−メチル−ｃ−ペンチルカルボニル基、３−メチル−ｃ−ペンチルカルボニル基、１−エチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２−エチル−ｃ−ブチルカルボニル基、３−エチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１，２−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１，３−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２，２−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２，３−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２，４−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、３，３−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１−ｎ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−ｎ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−ｉ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−ｉ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、１，２，２−トリメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１，２，３−トリメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２，２，３−トリメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−エチル−２−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−エチル−１−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−エチル−２−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、及び２−エチル−３−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルコキシカルボニル基は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−ペンチルオキシカルボニル基、２−ペンチルオキシカルボニル基、３−ペンチルオキシカルボニル基、ｉ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、１−ヘキシルオキシカルボニル基、２−ヘキシルオキシカルボニル基、及び３−ヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７０】
該Ｃ１−４アルキルスルホニル基は、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−プロパンスルホニル基、ｉ−プロパンスルホニル基、ｎ−ブタンスルホニル基、ｉ−ブタンスルホニル基、ｓ−ブタンスルホニル基、及びｔ−ブタンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−アントラセンスルホニル基、２−アントラセンスルホニル基、９−アントラセンスルホニル基、１−フェナントレンスルホニル基、２−フェナントレンスルホニル基、３−フェナントレンスルホニル基、４−フェナントレンスルホニル基、及び９−フェナントレンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環スルホニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環スルホニル基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環スルホニル基としては、２−チエニルスルホニル基、３−チエニルスルホニル基、２−フリルスルホニル基、３−フリルスルホニル基、２−ピラニルスルホニル基、３−ピラニルスルホニル基、４−ピラニルスルホニル基、１−ピロリルスルホニル基、２−ピロリルスルホニル基、３−ピロリルスルホニル基、１−イミダゾリルスルホニル基、２−イミダゾリルスルホニル基、４−イミダゾリルスルホニル基、１−ピラゾリルスルホニル基、３−ピラゾリルスルホニル基、４−ピラゾリルスルホニル基、２−チアゾリルスルホニル基、４−チアゾリルスルホニル基、５−チアゾリルスルホニル基、３−イソチアゾリルスルホニル基、４−イソチアゾリルスルホニル基、５−イソチアゾリルスルホニル基、２−オキサゾリルスルホニル基、４−オキサゾリルスルホニル基、５−オキサゾリルスルホニル基、３−イソオキサゾリルスルホニル基、４−イソオキサゾリルスルホニル基、５−イソオキサゾリルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、２−ピラジニルスルホニル基、２−ピリミジニルスルホニル基、４−ピリミジニルスルホニル基、５−ピリミジニルスルホニル基、３−ピリダジニルスルホニル基、４−ピリダジニルスルホニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルスルホニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルスルホニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルスルホニル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環スルホニル基としては、２−ベンゾフラニルスルホニル基、３−ベンゾフラニルスルホニル基、４−ベンゾフラニルスルホニル基、５−ベンゾフラニルスルホニル基、６−ベンゾフラニルスルホニル基、７−ベンゾフラニルスルホニル基、１−イソベンゾフラニルスルホニル基、４−イソベンゾフラニルスルホニル基、５−イソベンゾフラニルスルホニル基、２−ベンゾチエニルスルホニル基、３−ベンゾチエニルスルホニル基、４−ベンゾチエニルスルホニル基、５−ベンゾチエニルスルホニル基、６−ベンゾチエニルスルホニル基、７−ベンゾチエニルスルホニル基、１−イソベンゾチエニルスルホニル基、４−イソベンゾチエニルスルホニル基、５−イソベンゾチエニルスルホニル基、２−クロメニルスルホニル基、３−クロメニルスルホニル基、４−クロメニルスルホニル基、５−クロメニルスルホニル基、６−クロメニルスルホニル基、７−クロメニルスルホニル基、８−クロメニルスルホニル基、１−インドリジニルスルホニル基、２−インドリジニルスルホニル基、３−インドリジニルスルホニル基、５−インドリジニルスルホニル基、６−インドリジニルスルホニル基、７−インドリジニルスルホニル基、８−インドリジニルスルホニル基、１−イソインドリルスルホニル基、２−イソインドリルスルホニル基、４−イソインドリルスルホニル基、５−イソインドリルスルホニル基、１−インドリルスルホニル基、２−インドリルスルホニル基、３−インドリルスルホニル基、４−インドリルスルホニル基、５−インドリルスルホニル基、６−インドリルスルホニル基、７−インドリルスルホニル基、１−インダゾリルスルホニル基、２−インダゾリルスルホニル基、３−インダゾリルスルホニル基、４−インダゾリルスルホニル基、５−インダゾリルスルホニル基、６−インダゾリルスルホニル基、７−インダゾリルスルホニル基、１−プリニルスルホニル基、２−プリニルスルホニル基、３−プリニルスルホニル基、６−プリニルスルホニル基、７−プリニルスルホニル基、８−プリニルスルホニル基、２−キノリルスルホニル基、３−キノリルスルホニル基、４−キノリルスルホニル基、５−キノリルスルホニル基、６−キノリルスルホニル基、７−キノリルスルホニル基、８−キノリルスルホニル基、１−イソキノリルスルホニル基、３−イソキノリルスルホニル基、４−イソキノリルスルホニル基、５−イソキノリルスルホニル基、６−イソキノリルスルホニル基、７−イソキノリルスルホニル基、８−イソキノリルスルホニル基、１−フタラジニルスルホニル基、５−フタラジニルスルホニル基、６−フタラジニルスルホニル基、１−２、７−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、１−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、２−キノキサリニルスルホニル基、５−キノキサリニルスルホニル基、６−キノキサリニルスルホニル基、２−キナゾリニルスルホニル基、４−キナゾリニルスルホニル基、５−キナゾリニルスルホニル基、６−キナゾリニルスルホニル基、７−キナゾリニルスルホニル基、８−キナゾリニルスルホニル基、３−シンノリニルスルホニル基、４−シンノリニルスルホニル基、５−シンノリニルスルホニル基、６−シンノリニルスルホニル基、７−シンノリニルスルホニル基、８−シンノリニルスルホニル基、２−プテリジニルスルホニル基、４−プテリジニルスルホニル基、６−プテリジニルスルホニル基、及び７−プテリジニルスルホニル基等が挙げられる。
【０１７１】
該Ｃ６−１４アリールカルボニル基は、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、１−アントリルカルボニル基、２−アントリルカルボニル基、９−アントリルカルボニル基、１−フェナントリルカルボニル基、２−フェナントリルカルボニル基、３−フェナントリルカルボニル基、４−フェナントリルカルボニル基、及び９−フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ２−９ヘテロアリールカルボニル基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環カルボニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環カルボニル基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環カルボニル基としては、２−チエニルカルボニル基、３−チエニルカルボニル基、２−フリルカルボニル基、３−フリルカルボニル基、２−ピラニルカルボニル基、３−ピラニルカルボニル基、４−ピラニルカルボニル基、１−ピロリルカルボニル基、２−ピロリルカルボニル基、３−ピロリルカルボニル基、１−イミダゾリルカルボニル基、２−イミダゾリルカルボニル基、４−イミダゾリルカルボニル基、１−ピラゾリルカルボニル基、３−ピラゾリルカルボニル基、４−ピラゾリルカルボニル基、２−チアゾリルカルボニル基、４−チアゾリルカルボニル基、５−チアゾリルカルボニル基、３−イソチアゾリルカルボニル基、４−イソチアゾリルカルボニル基、５−イソチアゾリルカルボニル基、２−オキサゾリルカルボニル基、４−オキサゾリルカルボニル基、５−オキサゾリルカルボニル基、３−イソオキサゾリルカルボニル基、４−イソオキサゾリルカルボニル基、５−イソオキサゾリルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基、２−ピラジニルカルボニル基、２−ピリミジニルカルボニル基、４−ピリミジニルカルボニル基、５−ピリミジニルカルボニル基、３−ピリダジニルカルボニル基、４−ピリダジニルカルボニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルカルボニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルカルボニル基、及び３−１，２，５−チアジアゾリルカルボニル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環カルボニル基としては、２−ベンゾフラニルカルボニル基、３−ベンゾフラニルカルボニル基、４−ベンゾフラニルカルボニル基、５−ベンゾフラニルカルボニル基、６−ベンゾフラニルカルボニル基、７−ベンゾフラニルカルボニル基、１−イソベンゾフラニルカルボニル基、４−イソベンゾフラニルカルボニル基、５−イソベンゾフラニルカルボニル基、２−ベンゾチエニルカルボニル基、３−ベンゾチエニルカルボニル基、４−ベンゾチエニルカルボニル基、５−ベンゾチエニルカルボニル基、６−ベンゾチエニルカルボニル基、７−ベンゾチエニルカルボニル基、１−イソベンゾチエニルカルボニル基、４−イソベンゾチエニルカルボニル基、５−イソベンゾチエニルカルボニル基、２−クロメニルカルボニル基、３−クロメニルカルボニル基、４−クロメニルカルボニル基、５−クロメニルカルボニル基、６−クロメニルカルボニル基、７−クロメニルカルボニル基、８−クロメニルカルボニル基、１−インドリジニルカルボニル基、２−インドリジニルカルボニル基、３−インドリジニルカルボニル基、５−インドリジニルカルボニル基、６−インドリジニルカルボニル基、７−インドリジニルカルボニル基、８−インドリジニルカルボニル基、１−イソインドリルカルボニル基、２−イソインドリルカルボニル基、４−イソインドリルカルボニル基、５−イソインドリルカルボニル基、１−インドリルカルボニル基、２−インドリルカルボニル基、３−インドリルカルボニル基、４−インドリルカルボニル基、５−インドリルカルボニル基、６−インドリルカルボニル基、７−インドリルカルボニル基、１−インダゾリルカルボニル基、２−インダゾリルカルボニル基、３−インダゾリルカルボニル基、４−インダゾリルカルボニル基、５−インダゾリルカルボニル基、６−インダゾリルカルボニル基、７−インダゾリルカルボニル基、１−プリニルカルボニル基、２−プリニルカルボニル基、３−プリニルカルボニル基、６−プリニルカルボニル基、７−プリニルカルボニル基、８−プリニルカルボニル基、２−キノリルカルボニル基、３−キノリルカルボニル基、４−キノリルカルボニル基、５−キノリルカルボニル基、６−キノリルカルボニル基、７−キノリルカルボニル基、８−キノリルカルボニル基、１−イソキノリルカルボニル基、３−イソキノリルカルボニル基、４−イソキノリルカルボニル基、５−イソキノリルカルボニル基、６−イソキノリルカルボニル基、７−イソキノリルカルボニル基、８−イソキノリルカルボニル基、１−フタラジニルカルボニル基、５−フタラジニルカルボニル基、６−フタラジニルカルボニル基、１−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、１−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、２−キノキサリニルカルボニル基、５−キノキサリニルカルボニル基、６−キノキサリニルカルボニル基、２−キナゾリニルカルボニル基、４−キナゾリニルカルボニル基、５−キナゾリニルカルボニル基、６−キナゾリニルカルボニル基、７−キナゾリニルカルボニル基、８−キナゾリニルカルボニル基、３−シンノリニルカルボニル基、４−シンノリニルカルボニル基、５−シンノリニルカルボニル基、６−シンノリニルカルボニル基、７−シンノリニルカルボニル基、８−シンノリニルカルボニル基、２−プテリジニルカルボニル基、４−プテリジニルカルボニル基、６−プテリジニルカルボニル基、及び７−プテリジニルカルボニル基等が挙げられる。
【０１７２】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｃ−ペンチルカルボニル基、ｃ−ヘキシルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基が好ましい。
【０１７３】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、アミノ基、水酸基がより好ましい。
【０１７４】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ１６，Ｒ１７，Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該へテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ３−８シクロアルキルカルボニル基（該シクロアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基（該アルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）若しくはＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ１−６チオアルコキシ基（該チオアルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、若しくはＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、水酸基、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、スルホ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、Ｃ６−１４アリールアミノ基（該アリールアミノ基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールアミノ基（該ヘテロアリールアミノ基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールカルボニル基（該ヘテロアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基（該アルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリールスルホニル基（該アリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基（該ヘテロアリールスルホニル基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、カルボキシル基、若しくはＣ２−９非芳香族性ヘテロシクリル基（該非芳香族性ヘテロシクリル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、カルボキシル基、若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ６−１４アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はｒ個の置換基Ｒ２１（該Ｒ２１はＲ１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、Ｃ１−６アルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１−６アルキルカルボニル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ１−４アルキルスルホニル基、カルボキシル基、若しくはＣ６−１４アリールカルボニル基で置換されている。）である
【０１７５】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ１６，Ｒ１７，Ｒ１８及びＲ１９の各原子及び各置換基を具体的に説明する。該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。該Ｃ１−６アルキル基は、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、及びエトキシカルボニルエチル基等が挙げられる。該Ｃ３−８シクロアルキル基は、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、１−メチル−ｃ−プロピル基、２−メチル−ｃ−プロピル基、ｃ−ペンチル基、１−メチル−ｃ−ブチル基、２−メチル−ｃ−ブチル基、３−メチル−ｃ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｃ−プロピル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−ｃ−プロピル基、ｃ−ヘキシル基、ｃ−ヘプチル基、ｃ−オクチル基、１−メチル−ｃ−ヘキシル基、２−メチル−ｃ−ヘキシル基、３−メチル−ｃ−ヘキシル基、１，２−ジメチル−ｃ−ヘキシル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−ｃ−プロピル基、１−メチル−ｃ−ペンチル基、２−メチル−ｃ−ペンチル基、３−メチル−ｃ−ペンチル基、１−エチル−ｃ−ブチル基、２−エチル−ｃ−ブチル基、３−エチル−ｃ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｃ−ブチル基、１，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，２−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、２，４−ジメチル−ｃ−ブチル基、３，３−ジメチル−ｃ−ブチル基、１−ｎ−プロピル−ｃ−プロピル基、２−ｎ−プロピル−ｃ−プロピル基、１−ｉ−プロピル−ｃ−プロピル基、２−ｉ−プロピル−ｃ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｃ−プロピル基、１，２，３−トリメチル−ｃ−プロピル基、２，２，３−トリメチル−ｃ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−１−メチル−ｃ−プロピル基、２−エチル−２−メチル−ｃ−プロピル基、及び２−エチル−３−メチル−ｃ−プロピル基等が挙げらる。該Ｃ１−６アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、１−ペンチルオキシ基、２−ペンチルオキシ基、３−ペンチルオキシ、ｉ−ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、２，２−ジメチルプロポキシ、１−ヘキシルオキシ、２−ヘキシルオキシ基、３−ヘキシルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、及び３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基等が挙げられる。該Ｃ１−６チオアルコキシ基は、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、ｉ−プロピルチオ、ｃ−プロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、ｉ−ブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオ、ｉ−ペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ｔ−ペンチルチオ、ｎ−ヘキシルチオ、及びｃ−ヘキシルチオ等が挙げられる。
【０１７６】
該Ｃ６−１４アリール基は、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、及び９−フェナントリル基等が挙げられる。該Ｃ２−９ヘテロアリール基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環基としては、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリル基、２−１，３，４−チアジアゾリル基、３−１，２，４−オキサジアゾリル基、５−１，２，４−オキサジアゾリル基、３−１，２，４−チアジアゾリル基、５−１，２，４−チアジアゾリル基、３−１，２，５−オキサジアゾリル基及び３−１，２，５−チアジアゾリル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環基としては、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、１−２，７−ナフチリジニル基、３−２，７−ナフチリジニル基、４−２，７−ナフチリジニル基、１−２，６−ナフチリジニル基、３−２，６−ナフチリジニル基、４−２，６−ナフチリジニル基、２−１，８−ナフチリジニル基、３−１，８−ナフチリジニル基、４−１，８−ナフチリジニル基、２−１，７−ナフチリジニル基、３−１，７−ナフチリジニル基、４−１，７−ナフチリジニル基、５−１，７−ナフチリジニル基、６−１，７−ナフチリジニル基、８−１，７−ナフチリジニル基、２−１，６−ナフチリジニル基、３−１，６−ナフチリジニル基、４−１，６−ナフチリジニル基、５−１，６−ナフチリジニル基、７−１，６−ナフチリジニル基、８−１，６−ナフチリジニル基、２−１，５−ナフチリジニル基、３−１，５−ナフチリジニル基、４−１，５−ナフチリジニル基、６−１，５−ナフチリジニル基、７−１，５−ナフチリジニル基、８−１，５−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテリジニル基、４−プテリジニル基、６−プテリジニル基、及び７−プテリジニル基等が挙げられる。
【０１７７】
該Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基は、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、１−ペンチルカルボニルオキシ基、２−ペンチルカルボニルオキシ基、３−ペンチルカルボニルオキシ基、ｉ−ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチルカルボニルオキシ基、ｔ−ペンチルカルボニルオキシ基、１−ヘキシルカルボニルオキシ基、２−ヘキシルカルボニルオキシ基、３−ヘキシルカルボニルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルアミノ基は、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｃ−ブチルアミノ基、１−ペンチルアミノ基、２−ペンチルアミノ基、３−ペンチルアミノ基、ｉ−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、ｔ−ペンチルアミノ基、ｃ−ペンチルアミノ基、１−ヘキシルアミノ基、２−ヘキシルアミノ基、３−ヘキシルアミノ基、ｃ−ヘキシルアミノ基、１−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基等が挙げられる。該ジＣ１−６アルキルアミノ基は、ジメチルアミノ基、ビス（トリフルオロメチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｃ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉ−ブチルアミノ基、ジ−ｓ−ブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｃ−ブチルアミノ基、ジ−１−ペンチルアミノ基、ジ−２−ペンチルアミノ基、ジ−３−ペンチルアミノ基、ジ−ｉ−ペンチルアミノ基、ジ−ネオペンチルアミノ基、ジ−ｔ−ペンチルアミノ基、ジ−ｃ−ペンチルアミノ基、ジ−１−ヘキシルアミノ基、ジ−２−ヘキシルアミノ基、ジ−３−ヘキシルアミノ基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノ基、ビス（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノ基、ビス（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ビス（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ビス（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノ基、（メチルエチル）アミノ基、（エチル）トリフルオロメチルアミノ基、メチル−ｎ−プロピルアミノ基、メチル−ｉ−プロピルアミノ基、メチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルメチルアミノ基、ｉ−ブチルメチルアミノ基、ｓ−ブチルメチルアミノ基、ｔ−ブチルメチルアミノ基、ｃ−ブチルメチルアミノ基、エチル−ｎ−プロピルアミノ基、エチル−ｉ−プロピルアミノ基、エチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルエチルアミノ基、ｉ−ブチルエチルアミノ基、ｓ−ブチルエチルアミノ基、ｔ−ブチルエチルアミノ基、ｃ−ブチルエチルアミノ基、ｎ−プロピル−ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−プロピル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｓ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、t−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｃ−ブチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｉ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｓ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｔ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｃ−ブチル−ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｉ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｓ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｔ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｃ−ブチル−ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチル−ｉ−ブチルアミノ基、ｎ−ブチル−ｓ−ブチルアミノ基、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチル−ｓ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチル−ｔ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチル−ｔ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基、及びｔ−ブチル−ｃ−ブチルアミノ基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリールアミノ基は、フェニルアミノ基、ｏ−ビフェニリルアミノ基、ｍ−ビフェニリルアミノ基、ｐ−ビフェニリルアミノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、１−アントリルアミノ基、２−アントリルアミノ基、９−アントリルアミノ基、１−フェナントリルアミノ基、２−フェナントリルアミノ基、３−フェナントリルアミノ基、４−フェナントリルアミノ基及び９−フェナントリルアミノ基等が挙げられる。
【０１７８】
該Ｃ２−９ヘテロアリールアミノ基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環アミノ基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環アミノ基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環アミノ基としては、２−チエニルアミノ基、３−チエニルアミノ基、２−フリルアミノ基、３−フリルアミノ基、２−ピラニルアミノ基、３−ピラニルアミノ基、４−ピラニルアミノ基、１−ピロリルアミノ基、２−ピロリルアミノ基、３−ピロリルアミノ基、１−イミダゾリルアミノ基、２−イミダゾリルアミノ基、４−イミダゾリルアミノ基、１−ピラゾリルアミノ基、３−ピラゾリルアミノ基、４−ピラゾリルアミノ基、２−チアゾリルアミノ基、４−チアゾリルアミノ基、５−チアゾリルアミノ基、３−イソチアゾリルアミノ基、４−イソチアゾリルアミノ基、５−イソチアゾリルアミノ基、２−オキサゾリルアミノ基、４−オキサゾリルアミノ基、５−オキサゾリルアミノ基、３−イソオキサゾリルアミノ基、４−イソオキサゾリルアミノ基、５−イソオキサゾリルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、４−ピリジルアミノ基、２−ピラジニルアミノ基、２−ピリミジニルアミノ基、４−ピリミジニルアミノ基、５−ピリミジニルアミノ基、３−ピリダジニルアミノ基、４−ピリダジニルアミノ基、２−１，３，４−オキサジアゾリルアミノ基、２−１，３，４−チアジアゾリルアミノ基、３−１，２，４−オキサジアゾリルアミノ基、５−１，２，４−オキサジアゾリルアミノ基、３−１，２，４−チアジアゾリルアミノ基、５−１，２，４−チアジアゾリルアミノ基、３−１，２，５−オキサジアゾリルアミノ基及び３−１，２，５−チアジアゾリルアミノ基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環アミノ基としては、２−ベンゾフラニルアミノ基、３−ベンゾフラニルアミノ基、４−ベンゾフラニルアミノ基、５−ベンゾフラニルアミノ基、６−ベンゾフラニルアミノ基、７−ベンゾフラニルアミノ基、１−イソベンゾフラニルアミノ基、４−イソベンゾフラニルアミノ基、５−イソベンゾフラニルアミノ基、２−ベンゾチエニルアミノ基、３−ベンゾチエニルアミノ基、４−ベンゾチエニルアミノ基、５−ベンゾチエニルアミノ基、６−ベンゾチエニルアミノ基、７−ベンゾチエニルアミノ基、１−イソベンゾチエニルアミノ基、４−イソベンゾチエニルアミノ基、５−イソベンゾチエニルアミノ基、２−クロメニルアミノ基、３−クロメニルアミノ基、４−クロメニルアミノ基、５−クロメニルアミノ基、６−クロメニルアミノ基、７−クロメニルアミノ基、８−クロメニルアミノ基、１−インドリジニルアミノ基、２−インドリジニルアミノ基、３−インドリジニルアミノ基、５−インドリジニルアミノ基、６−インドリジニルアミノ基、７−インドリジニルアミノ基、８−インドリジニルアミノ基、１−イソインドリルアミノ基、２−イソインドリルアミノ基、４−イソインドリルアミノ基、５−イソインドリルアミノ基、１−インドリルアミノ基、２−インドリルアミノ基、３−インドリルアミノ基、４−インドリルアミノ基、５−インドリルアミノ基、６−インドリルアミノ基、７−インドリルアミノ基、１−インダゾリルアミノ基、２−インダゾリルアミノ基、３−インダゾリルアミノ基、４−インダゾリルアミノ基、５−インダゾリルアミノ基、６−インダゾリルアミノ基、７−インダゾリルアミノ基、１−プリニルアミノ基、２−プリニルアミノ基、３−プリニルアミノ基、６−プリニルアミノ基、７−プリニルアミノ基、８−プリニルアミノ基、２−キノリルアミノ基、３−キノリルアミノ基、４−キノリルアミノ基、５−キノリルアミノ基、６−キノリルアミノ基、７−キノリルアミノ基、８−キノリルアミノ基、１−イソキノリルアミノ基、３−イソキノリルアミノ基、４−イソキノリルアミノ基、５−イソキノリルアミノ基、６−イソキノリルアミノ基、７−イソキノリルアミノ基、８−イソキノリルアミノ基、１−フタラジニルアミノ基、５−フタラジニルアミノ基、６−フタラジニルアミノ基、１−２、７−ナフチリジニルアミノ基、３−２，７−ナフチリジニルアミノ基、４−２，７−ナフチリジニルアミノ基、１−２，６−ナフチリジニルアミノ基、３−２，６−ナフチリジニルアミノ基、４−２，６−ナフチリジニルアミノ基、２−１，８−ナフチリジニルアミノ基、３−１，８−ナフチリジニルアミノ基、４−１，８−ナフチリジニルアミノ基、２−１，７−ナフチリジニルアミノ基、３−１，７−ナフチリジニルアミノ基、４−１，７−ナフチリジニルアミノ基、５−１，７−ナフチリジニルアミノ基、６−１，７−ナフチリジニルアミノ基、８−１，７−ナフチリジニルアミノ基、２−１，６−ナフチリジニルアミノ基、３−１，６−ナフチリジニルアミノ基、４−１，６−ナフチリジニルアミノ基、５−１，６−ナフチリジニルアミノ基、７−１，６−ナフチリジニルアミノ基、８−１，６−ナフチリジニルアミノ基、２−１，５−ナフチリジニルアミノ基、３−１，５−ナフチリジニルアミノ基、４−１，５−ナフチリジニルアミノ基、６−１，５−ナフチリジニルアミノ基、７−１，５−ナフチリジニルアミノ基、８−１，５−ナフチリジニルアミノ基、２−キノキサリニルアミノ基、５−キノキサリニルアミノ基、６−キノキサリニルアミノ基、２−キナゾリニルアミノ基、４−キナゾリニルアミノ基、５−キナゾリニルアミノ基、６−キナゾリニルアミノ基、７−キナゾリニルアミノ基、８−キナゾリニルアミノ基、３−シンノリニルアミノ基、４−シンノリニルアミノ基、５−シンノリニルアミノ基、６−シンノリニルアミノ基、７−シンノリニルアミノ基、８−シンノリニルアミノ基、２−プテリジニルアミノ基、４−プテリジニルアミノ基、６−プテリジニルアミノ基、及び７−プテリジニルアミノ基等が挙げられる。
【０１７９】
該Ｃ１−６アルキルカルボニルアミノ基は、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、ｉ−ブチルカルボニルアミノ基、ｓ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔ−ブチルカルボニルアミノ基、１−ペンチルカルボニルアミノ基、２−ペンチルカルボニルアミノ基、３−ペンチルカルボニルアミノ基、ｉ−ペンチルカルボニルアミノ基、ネオペンチルカルボニルアミノ基、ｔ−ペンチルカルボニルアミノ基、１−ヘキシルカルボニルアミノ基、２−ヘキシルカルボニルアミノ基、及び３−ヘキシルカルボニルアミノ基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルスルホンアミド基は、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、ｉ−ブタンスルホンアミド基、ｓ−ブタンスルホンアミド基、ｔ−ブタンスルホンアミド基、１−ペンタンスルンアミド基、２−ペンタンスルホンアミド基、３−ペンタンスルホンアミド基、ｉ−ペンタンスルホンアミド基、ネオペンタンスルホンアミド基、ｔ−ペンタンスルホンアミド基、１−ヘキサンスルホンアミド基、２−ヘキサンスルホンアミド基及び３−ヘキサンスルホンアミド基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルアミノカルボニル基は、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルアミノカルボニル基、１−ペンチルアミノカルボニル基、２−ペンチルアミノカルボニル基、３−ペンチルアミノカルボニル基、ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ネオペンチルアミノカルボニル基、ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、１−ヘキシルアミノカルボニル基、２−ヘキシルアミノカルボニル基及び３−ヘキシルアミノカルボニル基等が挙げられる。該ジＣ１−６アルキルアミノカルボニル基は、ジメチルアミノカルボニル基、ビス（トリフルオロメチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−１−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−２−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−３−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ネオペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−１−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−２−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−３−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノカルボニル基、ビス（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノカルボニル基、ビス（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ビス（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ビス（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、（メチルエチル）アミノカルボニル基、（エチル）トリフルオロメチルアミノカルボニル基、メチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、メチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、メチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルメチルアミノカルボニル基、ｃ−ブチルメチルアミノカルボニル基、エチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、エチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、エチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｃ−ブチルエチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−プロピル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｔ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｃ−ブチル−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、及びｔ−ブチル−ｃ−ブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキルカルボニル基は、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、１−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基、ｉ−ペンチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、ｔ−ペンチルカルボニル基、１−ヘキシルカルボニル基、２−ヘキシルカルボニル基、及び３−ヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
【０１８０】
該Ｃ６−１４アリールカルボニル基は、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、１−アントリルカルボニル基、２−アントリルカルボニル基、９−アントリルカルボニル基、１−フェナントリルカルボニル基、２−フェナントリルカルボニル基、３−フェナントリルカルボニル基、４−フェナントリルカルボニル基、及び９−フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ２−９ヘテロアリールカルボニル基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環カルボニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環カルボニル基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環カルボニル基としては、２−チエニルカルボニル基、３−チエニルカルボニル基、２−フリルカルボニル基、３−フリルカルボニル基、２−ピラニルカルボニル基、３−ピラニルカルボニル基、４−ピラニルカルボニル基、１−ピロリルカルボニル基、２−ピロリルカルボニル基、３−ピロリルカルボニル基、１−イミダゾリルカルボニル基、２−イミダゾリルカルボニル基、４−イミダゾリルカルボニル基、１−ピラゾリルカルボニル基、３−ピラゾリルカルボニル基、４−ピラゾリルカルボニル基、２−チアゾリルカルボニル基、４−チアゾリルカルボニル基、５−チアゾリルカルボニル基、３−イソチアゾリルカルボニル基、４−イソチアゾリルカルボニル基、５−イソチアゾリルカルボニル基、２−オキサゾリルカルボニル基、４−オキサゾリルカルボニル基、５−オキサゾリルカルボニル基、３−イソオキサゾリルカルボニル基、４−イソオキサゾリルカルボニル基、５−イソオキサゾリルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基、２−ピラジニルカルボニル基、２−ピリミジニルカルボニル基、４−ピリミジニルカルボニル基、５−ピリミジニルカルボニル基、３−ピリダジニルカルボニル基、４−ピリダジニルカルボニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルカルボニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルカルボニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルカルボニル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環カルボニル基としては、２−ベンゾフラニルカルボニル基、３−ベンゾフラニルカルボニル基、４−ベンゾフラニルカルボニル基、５−ベンゾフラニルカルボニル基、６−ベンゾフラニルカルボニル基、７−ベンゾフラニルカルボニル基、１−イソベンゾフラニルカルボニル基、４−イソベンゾフラニルカルボニル基、５−イソベンゾフラニルカルボニル基、２−ベンゾチエニルカルボニル基、３−ベンゾチエニルカルボニル基、４−ベンゾチエニルカルボニル基、５−ベンゾチエニルカルボニル基、６−ベンゾチエニルカルボニル基、７−ベンゾチエニルカルボニル基、１−イソベンゾチエニルカルボニル基、４−イソベンゾチエニルカルボニル基、５−イソベンゾチエニルカルボニル基、２−クロメニルカルボニル基、３−クロメニルカルボニル基、４−クロメニルカルボニル基、５−クロメニルカルボニル基、６−クロメニルカルボニル基、７−クロメニルカルボニル基、８−クロメニルカルボニル基、１−インドリジニルカルボニル基、２−インドリジニルカルボニル基、３−インドリジニルカルボニル基、５−インドリジニルカルボニル基、６−インドリジニルカルボニル基、７−インドリジニルカルボニル基、８−インドリジニルカルボニル基、１−イソインドリルカルボニル基、２−イソインドリルカルボニル基、４−イソインドリルカルボニル基、５−イソインドリルカルボニル基、１−インドリルカルボニル基、２−インドリルカルボニル基、３−インドリルカルボニル基、４−インドリルカルボニル基、５−インドリルカルボニル基、６−インドリルカルボニル基、７−インドリルカルボニル基、１−インダゾリルカルボニル基、２−インダゾリルカルボニル基、３−インダゾリルカルボニル基、４−インダゾリルカルボニル基、５−インダゾリルカルボニル基、６−インダゾリルカルボニル基、７−インダゾリルカルボニル基、１−プリニルカルボニル基、２−プリニルカルボニル基、３−プリニルカルボニル基、６−プリニルカルボニル基、７−プリニルカルボニル基、８−プリニルカルボニル基、２−キノリルカルボニル基、３−キノリルカルボニル基、４−キノリルカルボニル基、５−キノリルカルボニル基、６−キノリルカルボニル基、７−キノリルカルボニル基、８−キノリルカルボニル基、１−イソキノリルカルボニル基、３−イソキノリルカルボニル基、４−イソキノリルカルボニル基、５−イソキノリルカルボニル基、６−イソキノリルカルボニル基、７−イソキノリルカルボニル基、８−イソキノリルカルボニル基、１−フタラジニルカルボニル基、５−フタラジニルカルボニル基、６−フタラジニルカルボニル基、１−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、１−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、２−キノキサリニルカルボニル基、５−キノキサリニルカルボニル基、６−キノキサリニルカルボニル基、２−キナゾリニルカルボニル基、４−キナゾリニルカルボニル基、５−キナゾリニルカルボニル基、６−キナゾリニルカルボニル基、７−キナゾリニルカルボニル基、８−キナゾリニルカルボニル基、３−シンノリニルカルボニル基、４−シンノリニルカルボニル基、５−シンノリニルカルボニル基、６−シンノリニルカルボニル基、７−シンノリニルカルボニル基、８−シンノリニルカルボニル基、２−プテリジニルカルボニル基、４−プテリジニルカルボニル基、６−プテリジニルカルボニル基、及び７−プテリジニルカルボニル基等が挙げられる。
【０１８１】
該Ｃ１−６アルコキシカルボニル基は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−ペンチルオキシカルボニル基、２−ペンチルオキシカルボニル基、３−ペンチルオキシカルボニル基、ｉ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、１−ヘキシルオキシカルボニル基、２−ヘキシルオキシカルボニル基、及び３−ヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ１−４アルキルスルホニル基は、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−プロパンスルホニル基、ｉ−プロパンスルホニル基、ｎ−ブタンスルホニル基、ｉ−ブタンスルホニル基、ｓ−ブタンスルホニル基、及びｔ−ブタンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ６−１４アリールスルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−アントラセンスルホニル基、２−アントラセンスルホニル基、９−アントラセンスルホニル基、１−フェナントレンスルホニル基、２−フェナントレンスルホニル基、３−フェナントレンスルホニル基、４−フェナントレンスルホニル基、及び９−フェナントレンスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ２−９ヘテロアリールスルホニル基は、１個から３個の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を単独、若しくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ２−６単環式複素環スルホニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ５−９縮合二環式複素環スルホニル基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ２−６単環式複素環スルホニル基としては、２−チエニルスルホニル基、３−チエニルスルホニル基、２−フリルスルホニル基、３−フリルスルホニル基、２−ピラニルスルホニル基、３−ピラニルスルホニル基、４−ピラニルスルホニル基、１−ピロリルスルホニル基、２−ピロリルスルホニル基、３−ピロリルスルホニル基、１−イミダゾリルスルホニル基、２−イミダゾリルスルホニル基、４−イミダゾリルスルホニル基、１−ピラゾリルスルホニル基、３−ピラゾリルスルホニル基、４−ピラゾリルスルホニル基、２−チアゾリルスルホニル基、４−チアゾリルスルホニル基、５−チアゾリルスルホニル基、３−イソチアゾリルスルホニル基、４−イソチアゾリルスルホニル基、５−イソチアゾリルスルホニル基、２−オキサゾリルスルホニル基、４−オキサゾリルスルホニル基、５−オキサゾリルスルホニル基、３−イソオキサゾリルスルホニル基、４−イソオキサゾリルスルホニル基、５−イソオキサゾリルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、２−ピラジニルスルホニル基、２−ピリミジニルスルホニル基、４−ピリミジニルスルホニル基、５−ピリミジニルスルホニル基、３−ピリダジニルスルホニル基、４−ピリダジニルスルホニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルスルホニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルスルホニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルスルホニル基等が挙げられ、構成原子数が８〜１０までの該Ｃ５−９縮合二環式複素環スルホニル基としては、２−ベンゾフラニルスルホニル基、３−ベンゾフラニルスルホニル基、４−ベンゾフラニルスルホニル基、５−ベンゾフラニルスルホニル基、６−ベンゾフラニルスルホニル基、７−ベンゾフラニルスルホニル基、１−イソベンゾフラニルスルホニル基、４−イソベンゾフラニルスルホニル基、５−イソベンゾフラニルスルホニル基、２−ベンゾチエニルスルホニル基、３−ベンゾチエニルスルホニル基、４−ベンゾチエニルスルホニル基、５−ベンゾチエニルスルホニル基、６−ベンゾチエニルスルホニル基、７−ベンゾチエニルスルホニル基、１−イソベンゾチエニルスルホニル基、４−イソベンゾチエニルスルホニル基、５−イソベンゾチエニルスルホニル基、２−クロメニルスルホニル基、３−クロメニルスルホニル基、４−クロメニルスルホニル基、５−クロメニルスルホニル基、６−クロメニルスルホニル基、７−クロメニルスルホニル基、８−クロメニルスルホニル基、１−インドリジニルスルホニル基、２−インドリジニルスルホニル基、３−インドリジニルスルホニル基、５−インドリジニルスルホニル基、６−インドリジニルスルホニル基、７−インドリジニルスルホニル基、８−インドリジニルスルホニル基、１−イソインドリルスルホニル基、２−イソインドリルスルホニル基、４−イソインドリルスルホニル基、５−イソインドリルスルホニル基、１−インドリルスルホニル基、２−インドリルスルホニル基、３−インドリルスルホニル基、４−インドリルスルホニル基、５−インドリルスルホニル基、６−インドリルスルホニル基、７−インドリルスルホニル基、１−インダゾリルスルホニル基、２−インダゾリルスルホニル基、３−インダゾリルスルホニル基、４−インダゾリルスルホニル基、５−インダゾリルスルホニル基、６−インダゾリルスルホニル基、７−インダゾリルスルホニル基、１−プリニルスルホニル基、２−プリニルスルホニル基、３−プリニルスルホニル基、６−プリニルスルホニル基、７−プリニルスルホニル基、８−プリニルスルホニル基、２−キノリルスルホニル基、３−キノリルスルホニル基、４−キノリルスルホニル基、５−キノリルスルホニル基、６−キノリルスルホニル基、７−キノリルスルホニル基、８−キノリルスルホニル基、１−イソキノリルスルホニル基、３−イソキノリルスルホニル基、４−イソキノリルスルホニル基、５−イソキノリルスルホニル基、６−イソキノリルスルホニル基、７−イソキノリルスルホニル基、８−イソキノリルスルホニル基、１−フタラジニルスルホニル基、５−フタラジニルスルホニル基、６−フタラジニルスルホニル基、１−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、１−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、２−キノキサリニルスルホニル基、５−キノキサリニルスルホニル基、６−キノキサリニルスルホニル基、２−キナゾリニルスルホニル基、４−キナゾリニルスルホニル基、５−キナゾリニルスルホニル基、６−キナゾリニルスルホニル基、７−キナゾリニルスルホニル基、８−キナゾリニルスルホニル基、３−シンノリニルスルホニル基、４−シンノリニルスルホニル基、５−シンノリニルスルホニル基、６−シンノリニルスルホニル基、７−シンノリニルスルホニル基、８−シンノリニルスルホニル基、２−プテリジニルスルホニル基、４−プテリジニルスルホニル基、６−プテリジニルスルホニル基、及び７−プテリジニルスルホニル基等が挙げられる。
【０１８２】
該Ｃ２−９非芳香族ヘテロシクリル基は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子の中から自由に選ばれる１つ以上の原子と２つから９つまでの炭素原子からなる単環及び縮環二環性の複素環基が挙げられ、具体的には、
【０１８３】
【化３６】
2011231017.tif 000037
【０１８４】
等が挙げられる。上記式において、それぞれの環構造中に記した−（結合を意味する。）は化学構造上置換可能である任意の位置がとれることを示したものであり、置換部位を特定する意味でない。
【０１８５】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ１６，Ｒ１７，Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、水酸基、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、フェニルアミノ基、ｏ−ビフェニリルアミノ基、ｍ−ビフェニリルアミノ基、ｐ−ビフェニリルアミノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、４−ピリジルアミノ基、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、カルバモイル基、カルボキシル基、
【０１８６】
【化３７】
2011231017.tif 000038
【０１８７】
が好ましい。上記式において、それぞれの環構造中に記した−（結合を意味する。）は化学構造上置換可能である任意の位置がとれることを示したものであり、置換部位を特定する意味でない。
【０１８８】
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ１６，Ｒ１７，Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基メトキシ基、エトキシ基、水酸基、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、カルバモイル基、カルボキシル基がより好ましい。
【０１８９】
前記式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）及び式（ａｄ）中のＱは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、ＳＯ（スルフィル基）又はＳＯ2（スルホニル基）を意味する。Ｑは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）が好ましい。
【０１９０】
本発明の光学活性スルホキシド化合物の製造方法は、式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【０１９１】
【化３８】
2011231017.tif 000039
【０１９２】
（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１は、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）
【０１９３】
【化３９】
2011231017.tif 000040
【０１９４】
（部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＸは、酸素原子又は硫黄原子であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＹは、単結合、メチレン基（該メチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、エチレン基（該エチレン基は、無置換であるか、又はフッ素原子で置換されている。）、−ＳＯ２−、カルボニル基、−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−（該−ＣＨ（Ｃ１−４アルキル基）−中の該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又は−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−（該−ＣＨ（Ｃ６−１４アリール基）−中の該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＺは、Ｃ３−１２アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、若しくはＣ６−１６アリール基で置換されている。）、Ｃ６−１６アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、若しくはＣ１−４アルコキシ基で任意に置換されている。）又はＣ２−９ヘテロアリール基（該ヘテロアリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、部分構造式（ＡＡ）及び部分構造式（ＡＢ）中のＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表され、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、又はＣ１−４アルコキシ基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ３は、Ｃ６−１８アリール基又は、２つのＲ３が一緒になり環を形成する場合は、Ｃ３−５の二価の基であり、
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（３０）
【０１９５】
【化４０】
2011231017.tif 000041
【０１９６】
（式（３０）中のＲ２２及びＲ２３は、異なる置換基であり、それぞれ独立して、Ｃ６−１２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、Ｃ６−１２アリールメチル基（該アリールメチル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、又はＣ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、若しくはシアノ基によって置換されている。）である。但し、Ｒ２２がＣ６−１２アリール基であり、そのＣ６−１２アリール基のオルト位にＣ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基が置換している場合、Ｒ２３は該Ｃ１−４アルキル基、若しくは該Ｃ１−４アルコキシ基と一緒になって環を形成するＣ２−４の二価の基であってもよい。）で表されるスルフィド化合物を酸化剤で不斉酸化することを特徴とする下記式（３１）
【０１９７】
【化４１】
2011231017.tif 000042
【０１９８】
（式（３１）中のＲ２２及びＲ２３は、前記と同じであり、＊で示された硫黄原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）で表される光学活性スルホキシド化合物を製造できることを特徴とする。
【０１９９】
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）（式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同じである。）の何れかで表される光学活性配位子とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタン錯体（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）を触媒として使用し、下記式（３２）
【０２００】
【化４２】
2011231017.tif 000043
【０２０１】
（式（３２）中のＲ２２及びＲ２３は、前記と同じである。）で表されるラセミ、若しくは光学純度の低いスルホキシド化合物の一方の光学異性体を酸化剤で選択的に酸化することによって下記式（３３）
【０２０２】
【化４３】
2011231017.tif 000044
【０２０３】
（式（３３）中のＲ２２及びＲ２３は、前記と同じである。）で表されるスルホン化合物へ誘導し、速度論的分割により式（３１）で表される光学活性スルホキシド化合物を得ることを特徴とする光学活性スルホキシド化合物を製造できることを特徴とする。
【０２０４】
前記式（３０）、式（３１）、式（３２）及び式（３３）中の各置換基について説明する。
【０２０５】
前記式（３０）、式（３１）、式（３２）及び式（３３）中のＲ２２及びＲ２３は、異なる置換基であり、それぞれ独立して、Ｃ６−１２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、Ｃ６−１２アリールメチル基（該アリールメチル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ２−５アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２−５アルコキシカルボニル基、ニトロ基、若しくはシアノ基によって置換されている。）、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、又はＣ１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、若しくはシアノ基によって置換されている。）である。但し、Ｒ２２がＣ６−１２アリール基であり、そのＣ６−１２アリール基のオルト位にＣ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基が置換している場合、Ｒ２３は該Ｃ１−４アルキル基、若しくは該Ｃ１−４アルコキシ基と一緒になって環を形成するＣ２−4の二価の基であってもよい。
【０２０６】
前記式（３０）、式（３１）、式（３２）及び式（３３）中のＲ２２及びＲ２３を具体的に説明する。該Ｃ６−１２アリール基は、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、ｏ−ニトロフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｏ−クロルフェニル、ｍ−クロルフェニル、ｐ−クロルフェニル、ｏ−ブロモフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｍ−ブロモフェニル、ｏ−メトキシフェニル、ｍ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシフェニル、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ビフェニリル基等が挙げられる。該Ｃ６−１２アリールメチル基とは、ベンジル基、１'−メチルフェニルメチル基、１'−ナフチルメチル基、２'−ナフチルメチル基、２'−ビフェニルメチル基等が挙げられる。該Ｃ１−６アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｃ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｃ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｃ−ヘキシル基等が挙げられる。Ｒ２２がＣ６−１２アリール基でありそのオルト位にＣ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基が置換している場合に、Ｒ２３は該Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基と一緒になって環を形成するＣ２−４の二価の基としては、ジメチレン基、ジメチレンオキシ基、トリメチレン基、トリメチレンオキシ基、テトラメチレン基、テトラメチレンオキシ基等が挙げられる。
【０２０７】
前記式（３０）、式（３１）、式（３２）及び式（３３）中のＲ２２及びＲ２３は、異なる置換基であり、それぞれ独立して、フェニル基、２−ナフチル基、ベンジル基、１'−ナフチルメチル基、メチル基、エチル基が好ましい。Ｒ２３は該Ｃ１−４アルキル基、若しくはＣ１−４アルコキシ基と一緒になって環を形成するＣ２−４の二価の基としては、ジメチレン基、ジメチレンオキシ基、トリメチレン基が好ましい。
【０２０８】
式（３０）で表されるスルフィド化合物のうち、置換基Ｒ２２とＲ２３の組み合わせによる特に好ましいスルフィド化合物としては、メチル  フェニル  スルフィド、
エチル  フェニル  スルフィド、メチル  ２−メチルフェニル  スルフィド、
メチル  ４−メチルフェニル  スルフィド、メチル  ｏ−ニトロフェニル  スルフィド、
メチル  ｐ−ニトロフェニル  スルフィド、メチル  ｏ−クロルフェニル  スルフィド、メチル  ｐ−クロルフェニル  スルフィド、メチル  ｏ−ブロモフェニル  スルフィド、メチル  ｐ−ブロモフェニル  スルフィド、メチル  ｏ−メトキシフェニル  スルフィド、メチル  ｐ−メトキシフェニル  スルフィド、エチル  ｏ−ニトロフェニル  スルフィド、メチル  １−ナフチル  スルフィド、メチル  ２−ナフチル  スルフィド、
メチル  ２−ピリジル  スルフィド、メチル  ベンジル  スルフィド、
エチル  ベンジル  スルフィド等が挙げられる。
【０２０９】
次に、式（１ａ）、式（１ａ’）、式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（２）、式（２’）、式（３ａ）、式（３ａ’）、式（３ｂ）、式（３ｂ’）、式（４）及び式（４’）
【０２１０】
【化４４】
2011231017.tif 000045
【０２１１】
にて記載される光学活性配位子の製造法を説明する。
【０２１２】
式（１ａ）、式（１ａ’）、式（３ａ）及び式（３ａ’）は、光学活性サレン配位子であり、例を挙げれば、下記の反応式で表される方法によって製造できる。
【０２１３】
【化４５】
2011231017.tif 000046
【０２１４】
前記の反応式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同じである。上記式（４０）又は式（４１）であるアルデヒド化合物と上記式（４２）又は式（４３）であるジアミン化合物（化合物（４０）又は化合物（４１）１モルに対して、ジアミン化合物を０．５〜０．６モルを使用する。）とを有機溶媒中で混合させ、サレン配位子であるイミン化合物（１ａ）、（１ａ’）、（３ａ）又は（３ａ’）を製造できる。使用する有機溶媒は、アルコール系溶媒、ニトリル系溶媒、ハロゲン系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、アミド系溶媒又は上記を混合した溶媒が挙げられ、具体的には、ｉ−プロパノール、エタノール、メタノール、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ヘキサン、ヘプタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。この中で好ましい溶媒としては、ｉ−プロパノール、エタノール、メタノール、アセトニトリル、ジクロロメタン、トルエン、ジメチルホルムアミド、上記の溶媒を混合した溶媒である。
【０２１５】
使用するジアミン化合物の式（４２）及び式（４３）は、フリー体のジアミン化合物と塩を形成しているジアミン化合物の使用できる。具体的には、ジアミン硫酸塩、ジアミン塩酸塩、ジアミン酒石酸塩等が挙げられる。サレン配位子であるイミン化合物を製造する際に使用するジアミン化合物としては、フリー体のジアミン化合物、ジアミン硫酸塩、ジアミン酒石酸塩が好ましい。
【０２１６】
これらのサレン配位子を製造する時に、２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物の式（４０）又は式（４１）１モルに対して、脱水剤を共存させて製造することができる。脱水剤としては、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水ホウ酸、又はモレキュラシーブスが挙げられる。２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物の式（４０）又は式（４１）１モルに対して、１〜１０モルの脱水剤を共存させて製造することができ、モレキュラシーブスの場合は、２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物の式（４０）又は式（４１）の重量に対して、１〜１０倍の重量の脱水剤を共存させて製造することができる。脱水剤としては、無水硫酸マグネシウム、無水ホウ酸、モレキュラシーブスが好ましい。又、脱水操作としてはディーンシュターク型脱水反応器、又はソックスレー型脱水反応器を用いて、溶媒との共沸脱水により生成する水を除去しながらも製造できる。
【０２１７】
サレン配位子の製造する時の反応温度については、−７８℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは０℃から５０℃の範囲である。
【０２１８】
２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物の式（４０）又は式（４１）は、非特許文献のＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ  １．（１９８０），１８６２−１８６５．に記載された方法等に従い、対応するフェノール化合物（Ｐ４０）又は化合物（Ｐ４１）とパラホルムアルデヒドを、塩化スズと塩基の共存下、トルエン中で加熱撹拌することで、製造できる。製造方法を下記の反応式に示す。
【０２１９】
【化４６】
2011231017.tif 000047
【０２２０】
２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物製造について具体例を記載する。例えば２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物（４４）及び（４４’）については、特許文献の特開平７−２８５９８３号明細書と非特許文献のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ（１９９４），５０，１１８２７−１１８３８．に記載された方法等により合成することができる。製造方法の一例を下記の反応式に示す。
【０２２１】
【化４７】
2011231017.tif 000048
【０２２２】
上記と同じ製造方法で、化合物（４５’）から化合物（４４’）を製造できる。
【０２２３】
【化４８】
2011231017.tif 000049
【０２２４】
上記の反応式中のＰｈはフェニル基を、Ｔｆ２ＮＰｈはＮ−フェニルトリフルオロメタンスルホンイミドを、ＰｈＭｇＢｒはグリニャール試薬を、ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）は塩化［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニッケル（ＩＩ）クロリドを、ＭＯＭＣｌはクロロメチルメチルエーテルを、（ｉ−Ｐｒ）２ＮＥｔはエチルジイソプロピルアミンを、ｔ−ＢｕＬｉはターシャリーブチルリチウムを、ＤＭＦはジメチルホルムアミドを、ＴＭＳＢｒは臭化トリメチルシリルを意味する。反応式４において、出発物質（４５）からは、２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物（４４）を得られ、出発物質（４５’）からは、上記と同じ方法を用いて２−ヒドロキシアリールアルデヒド化合物（４４’）を得ることができる。
【０２２５】
ジアミン化合物については、例えば、（１Ｓ，２Ｓ）−（＋）−１，２−ジアミノシク
ロヘキサン及び（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１，２−ジアミノシクロヘキサンは、Ａｌｄｒ
ｉｃｈ社、東京化成工業株式会社等から入手可能であり、（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，
２−ジフェニルエチレンジアミン及び（１Ｒ，２Ｒ）−（＋）−１，２−ジフェニルエチ
レンジアミンは、Ａｌｄｒｉｃｈ社等から入手可能である。
【０２２６】
式（１ｂ）、式（１ｂ’）、式（３ｂ）及び式（３ｂ’）は、光学活性サラレン配位子であり、非特許文献のＡｄｖ．  Ｓｙｎｔｈ．  Ｃａｔａｌ．（２００７年），３４９，２３８５−２３９１．に記載された方法等により合成することができる。
【０２２７】
式（２）、式（２’）、式（４）及び式（４’）は、光学活性サラン配位子であり、特許文献のＷＯ２００６／０８７８７４Ａ１、及び非特許文献のＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００６年），４５，３４７８−３４８０．に記載された方法等により合成することができる。
【０２２８】
式（２１ａ）、式（２１ａ’）、式（２３ａ）及び式（２３ａ’）は、光学活性チタンサレン錯体であり、特許文献のＪＰ２００２−３０８８４５Ａ、及び非特許文献のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  （２００１年），４２，３８７３−３８７６．に記載された方法等により合成することができる。
【０２２９】
式（２１ｂ）、式（２１ｂ’）、式（２３ｂ）及び式（２３ｂ’）は、光学活性チタンサラレン錯体であり、非特許文献のＡｄｖ．  Ｓｙｎｔｈ．  Ｃａｔａｌ．（２００７年），３４９，２３８５−２３９１．に記載された段階的に合成する方法と、光学活性サレン配位子より、Ｍｅｅｒｗｅｉｎ−Ｐｏｎｎｄｒｏｆ−Ｖｅｒｌｅｙ（ＭＰＶ）還元反応によりサレン配位子の２つのイミノ結合の一方を還元させつつチタン錯体を形成する特許文献のＪＰ２００７−２８４４３８Ａ、及び非特許文献のＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００５年），４４，４９３５−４９３９．に記載された合成する方法が知られている。
【０２３０】
式（２２）、式（２２’）、式（２４）及び式（２４’）は、光学活性チタンサラン錯体であり、特許文献のＷＯ２００６／０８７８７４Ａ１、非特許文献のＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００６年），４５，３４７８−３４８０．非特許文献のＥｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（２００８年），３３６９−３３７６．に記載された方法等により合成することができる。
【０２３１】
光学活性チタン化合物（該光学活性チタン錯体は、光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体、又は光学活性チタンサラン錯体である。）の製造において、使用するチタン化合物としては、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラｎ−プロポキシド、チタンテトラｉ−プロポキシド、チタンテトラｎ−ブトキシド、チタンテトラｔ−ブトキシド、四塩化チタン等が挙げられ、これらの中でも、チタンテトラｉ−プロポキシドとチタンテトラｔ−ブトキシドが好ましく、チタンテトラｉ−プロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］がより好ましい。
【０２３２】
出発原料である前記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）又は式（１０）で示されるオレフィン化合物の調達について記載する。
【０２３３】
例えば、１，２−ジヒドロナフタレン、インデン、スチレン、２−ビニルナフタレンは、Ａｌｄｒｉｃｈ社、東京化成工業株式会社等から入手可能であり、１，２−ジヒドロ−４−メチルナフタレンは、非特許文献のＳｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ  （２００３年），３３（２１），３６５３−３６６０．に記載された方法等により合成することができる。
【０２３４】
前記式（９）及び式（１０）中のＲ９とＲ１０とは、互いに一緒になり前記式（１１）（二価の基である式（１１）中のＲ１２は、メチル基であり、式（１１）の置換位置については、Ｒ９側は酸素原子、Ｒ１０側は炭素原子に位置する。）で表される二価の基であるベンゾピラン環を持つ化合物については、下記に示す一般合成法を用いて合成することができる。更に、式（９）、式（１０）における縮合環の合成については、下記に示す各種複素環の合成方法をベンゾピラン環合成法に適宜組み合わせ利用することにより達成される。
【０２３５】
ベンゾピラン環一般合成法
既知方法
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．（１９８４年），２７，１１２７．、
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．（１９８６年），２９，２１９４．、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９９５年），６０，３３９７．、
特開昭５６−５７７８５号公報、特開昭５６−５７７８６号公報、
特開昭５８−１８８８８０号公報、特開平２−１４１号公報、
特開平１０−８７６５０号公報、特開平１１−２０９３６６号公報
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２３６】
インドール及びオキシインドールの合成法
既知方法
Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，（１９８６年），２４，３１．、
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  （２００１年），２２２．、
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９６１年），２７１４．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２３７】
イミダゾリノンの合成法
既知方法
Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｃｏｍｍｕｎ．（２０００年），３０，１９３７．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２３８】
キノリンの合成法
既知方法
Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｃｏｍｍｕｎ．（１９９６年），２６，２１９７．、
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  （１９９７年），５３，６００１．、
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．（１９９３年），１，１８１．、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９９０年），５５，７３８．、
Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．（１９８１年），２９，２４８５．、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９８７年），５２，１６７３．、
Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍ．（１９９３年），３０，１７．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２３９】
キノリノンの合成法
既知方法
Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｃｏｍｍｕｎ．，（２０００年），３０，４２７．、
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９９９年），４０，４５０５．、
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１９９７年），１２４９．、
Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍ．，（１９８９年），２６，９１７．、
Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，（１９８６年），２４，２１６９．、
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１９９５年），１３６２．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２４０】
ベンゾチアゾール及びトリアゾールの合成法
既知方法
Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｃｏｍｍｕｎ．，（１９９７年），２７，１４８７．、
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  （Ｃ）．，（１９６８年），１２６８．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２４１】
キノキサリン及びキノキサリノンの合成法
既知方法
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，（２０００年），６５，３３９５．、
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，（１９９９年），４０，４５０７．、
Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，（１９８７年），６０，１１４５．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２４２】
ベンズオキサジノンの合成法
既知方法
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，（１９８７年），３０，２９５．、
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，（２０００年），４３，３４０８．、
Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍ．，（１９９５年），３２，３９５．
等に記載の方法
に従って合成することができる。
【０２４３】
下記式（５２），（５３）で表される化合物は化合物（５０）と化合物（５１）を反応させることにより得られる。
（参考文献  Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，（１９８７年），５２，１６７３．）
【０２４４】
【化４９】
2011231017.tif 000050
【０２４５】
下記式（５２），（５３）で表される化合物は化合物（５０）と化合物（５４）を酸触媒存在下で反応させることによっても得ることができる。
（参考文献  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  （１９９７年），５３，６００１．、
Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍ．，（１９９３年），３０，１７．）
【０２４６】
【化５０】
2011231017.tif 000051
【０２４７】
下記式（５７）で表されるクロメン化合物は化合物（５５）より合成でき、白金炭素触媒にてニトロ基をアミンに還元した化合物（５６）を経由し、次にメシル化を行うことで得ることができる。下記式中のＰｔ／Ｃは、白金炭素触媒であり、ＭｓＣｌは、メシルクロライドを意味する。
【０２４８】
【化５１】
2011231017.tif 000052
【０２４９】
光学活性チタン錯体を触媒として使用し、オレフィン化合物の不斉エポキシ化反応、及びスルフィド化合物の不斉酸化反応で使用する溶媒について記載する。非プロトン性の有機溶媒としては、ハロゲン系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒又はニトリル系溶媒であり、プロトン性の有機溶媒としては、アルコール系溶媒である。ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としては、ベンゼン、トルエン等が挙げられ、エステル系溶媒としては、酢酸エチル等が挙げられ、エーテル系溶媒としては、テトラヒドロフランやジエチルエーテル等が挙げられ、ニトリル系溶媒としては、ブチロニトリル、プロピオニトリル、アセトニトリル等が挙げられる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール等が挙げられ、更に、上記の溶媒を任意に選び混合した混合溶媒も挙げられる。また、本反応で過酸化水素の水溶液（過酸化水素水）を使用する際に、水に溶解しない有機溶媒と混合されることより有機層と水層が分離することもあるが、このような２相系の溶媒も本発明の反応溶媒として用いることができる。好ましい溶媒は、非プロトン性の有機溶媒であるジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、トルエン、酢酸エチル、又はこれらの溶媒の混合物である。ジクロロメタン、トルエン、酢酸エチルがより好ましい。
【０２５０】
反応で使用する酸化剤の具体例としては、ヨードソベンゼン、次亜塩素酸ナトリウム、ｍ−クロロ過安息香酸、オキソン（デュポン社登録商標）、過酸化水素水、尿素−過酸化水素付加体（ＵＨＰ）、オキサジリジン、Ｎ−メチルモルホリンオキシド（ＮＭＯ）、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）、クメンヒドロペルオキシド（ＣＨＰ）及び上記の酸化剤を任意に選び混合した混合物が挙げられる。この中でも過酸化水素水、尿素−過酸化水素付加体（ＵＨＰ）が好ましい。酸化剤が、過酸化水素水である場合の濃度は１〜１００％（重量％）の範囲が挙げられるが、５〜６０％（重量％）の範囲が好ましい。
【０２５１】
反応で使用する酸化剤の使用量としては、出発原料であるオレフィン化合物又はスルフィド化合物に対して、１〜１０当量の範囲が挙げられるが、１〜３当量の範囲が好ましい。
【０２５２】
酸化剤の添加方法としては、一括添加の他に分割添加と連続添加が挙げられる。連続添加の場合、添加速度は反応溶媒系中の内温が急激に上昇しない範囲が好ましく、具体的には毎時０．０１〜１０００当量の範囲が好ましく、より好ましくは毎時０．０５〜０．３当量の範囲である。また、分割添加とは、用いる酸化剤を、ｐ回（ｐは、任意の整数）に分けて添加する方法である。分割は等分でも非等分でも良く、ｐは、２〜１００の範囲が好ましい。
【０２５３】
反応温度は、−７８℃〜溶媒還流温度又は、使用する溶媒融点温度〜溶媒還流温度の範囲が挙げられるが、−２０〜５０℃の範囲が好ましく、０〜３５℃の範囲がより好ましい。
【０２５４】
反応性向上のために、反応系中のｐＨ調整を実施するための試剤を添加することができる。詳細については非特許文献のＳｙｎｌｅｔｔ（２００７年），２５，２４４５−２４４７．に記載がある。
【０２５５】
使用する緩衝剤又は緩衝液を反応系へ添加する際は、そのまま反応溶液に添加する方法、使用する酸化剤、例えば３０％過酸化水素水等に溶かしてから添加する方法があり、使用する出発原料や反応条件により、適宜選択できる。
【０２５６】
該緩衝剤に用いる成分としては、ホウ酸、リン酸、アルカリリン酸、アルカリリン酸水素、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、ピロリン酸二水素二ナトリウム、二リン酸四ナトリウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウム、硝酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム、ニトリロトリ酢酸（ＮＴＡ）とそのアルカリ塩、エチレンジニトリロ酢酸（ＥＤＴＡ）又はそのアルカリ塩、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸（ＴＴＨＡ）、（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ酢酸三ナトリウム、エチレングリコール−ビス（β−アミノエチルエーテル）−Ｎ，Ｎ−四酢酸（ＥＧＴＡ）、３−アザ−３−（カルボキシメチル）−ペンタメチレンジニトリロ四酢酸（ＤＴＰＡ）、１，２−シクロヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ’−四酢酸、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）等が挙げられ、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）が、好ましい。
【０２５７】
緩衝液は、非特許文献のＤ．Ｄ．Ｐｅｒｒｉｎ．；Ｂ．Ｄｅｍｐｓｅｙ．らの「Ｂｕｆｆｅｒｓ  ｆｏｒ  ｐＨ  ａｎｄ  Ｍｅｔａｌ  Ｉｏｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ」Ｅｄ．ｂｙ  ＣＨＡＰＭＡＮ  ＡＮＤ  ＨＡＬＬ，Ｌｏｎｄｏｎ，（１９７４年）又は、非特許文献の日本化学会編  改訂３版；化学便覧；基礎編ＩＩ（１９８４年）、３５４−３５７ページ記載の方法で調製できる。該緩衝液としては、クエン酸／ＮａＯＨ緩衝液、クエン酸／クエン酸ナトリウム緩衝液、リン酸緩衝液、ＫＨ２ＰＯ４／ＮａＯＨ緩衝液、Ｔｒｉｓ／ＨＣｌ緩衝液、ホウ酸／ＮａＯＨ緩衝液、ホウ酸Ｎａ／ＨＣｌ緩衝液等が挙げられ、クエン酸／ＮａＯＨ緩衝液、クエン酸／クエン酸ナトリウム緩衝液、ホウ酸／ＮａＯＨ緩衝液、リン酸緩衝液、ＫＨ２ＰＯ４／ＮａＯＨ緩衝液が、好ましい。
【０２５８】
反応性向上のために、反応系中のｐＨ調整を実施するための試剤を添加することができる。調整するｐＨの範囲はｐＨ４〜１１、好ましくはｐＨ６〜９、より好ましくはｐＨ７〜８である。ｐＨ調整のための試剤としては、無機塩や緩衝液を用いることができる。塩の種類としては、炭酸塩、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、酢酸塩、フタル酸塩などが挙げられ、好ましくはリン酸塩が挙げられる。緩衝液の濃度は０．１ｍＭから１０００ｍＭ、好ましくは１０ｍＭから１００ｍＭの範囲がよい。
【０２５９】
以下、実施例により更に詳しく説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０２６０】
（実施例１）
光学活性チタンサラン錯体（６５）の合成について、下記に記載する。
【０２６１】
【化５２】
2011231017.tif 000053
【０２６２】
（モノエーテル合成）
２’−（９−アントリルメトキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（６２）の合成：
２，２−ビフェノール（４．１０ｇ、２２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３．０４ｇ、２２ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（３．６６ｇ、２２ｍｍｏｌ）及びアセトン２６ｍＬを、反応容器に投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱した。この混合溶液に９−クロロメチルアントラセン（６１）（５．０１ｇ、２２ｍｍｏｌ）を投入し、６０℃で２０時間撹拌した。ＨＰＬＣで反応転化率を確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。分液後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせて濃縮することで、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、モノエーテル（６２）（３．０１ｇ）を白色結晶として、収率３６．３％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９６．３％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．９２（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．４６（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．８０（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｄｔ，Ｊ＝７．３，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１４〜７．２８（ｍ，３Ｈ），７．３４〜７．４９（ｍ，７Ｈ），７．９３〜８．０３（ｍ，２Ｈ），８．０３〜８．１３（ｍ，２Ｈ），８．４５（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ、
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．４分
分析波長  ２５４ｎｍ
【０２６３】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（９−アントリルメトキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（６３）の合成：
パラホルムアルデヒド（０．７２ｇ、３１ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（１．５ｇ、３１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（２．４ｍＬ、１６ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（２７ｍＬ）を反応容器に投入し、温度を８５℃に保った。この混合溶液にモノエーテル（６２）（３．０ｇ、８ｍｍｏｌ）を投入し、アセトニトリル（３．０ｇ）で洗いこんだ。８５℃で１７時間撹拌した後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止させた。中和後、アセトニトリルを留去した水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水（１００ｍＬ）で３回、洗浄した後、酢酸エチルを留去することで、淡褐色の結晶を得た。この粗生成物の結晶をイソプロピルアルコールで懸濁洗浄することで、淡黄色粉末としてヒドロキシアリールアルデヒド（６３）（１．８６ｇ）を、収率５７．５％、ＨＰＬＣ相対面積百分率８９．２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．９０（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．６５（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０８〜７．２０（ｍ，２Ｈ），７．２５〜７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３５〜７．５０（ｍ，６Ｈ），７．８７〜７．９７（ｍ，２Ｈ），８．１２〜８．２３（ｍ，２Ｈ），８．３５（ｓ，１Ｈ），９．６４（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．１５（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．５分
分析波長  ２８０ｎｍ
【０２６４】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（６４）の合成：
（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．２２８ｇ、２．００ｍｍｏｌ）、アルデヒド（６３）（１．６２ｇ、４．００ｍｍｏｌ）及びトルエン（９ｍＬ）を反応容器に投入し、５０℃に加熱して、１時間撹拌した。この反応溶液にメタノール（４ｍＬ）を添加して、更に２時間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．１８９ｇ、４．００ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。この反応溶液を５０℃で３時間、室温で１２時間撹拌した後、水を加えて反応を停止した。トルエン（９ｍＬ）を添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、淡黄色固体として粗生成物を得た。イソプロピルアルコールで再結晶することで、淡黄色結晶（１．３７ｇ）として、収率７６．３％、ＨＰＬＣ相対面積百分率８０．６％でサラン配位子（６４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．５５〜０．７８（ｂｒ，２Ｈ），０．７８〜１．００（ｂｒ，２Ｈ），１．１８〜１．４７（ｂｒ，２Ｈ），１．６１〜１．８４（ｂｒ，２Ｈ），１．８８〜２．０９（ｂｒ，２Ｈ），３．５１（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），３．６７（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），５．７４（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．６４（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．７５（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．２Ｈｚ，２Ｈ），７．０５〜７．２０（ｍ，４Ｈ）７．２９〜７．４７（ｍ，１６Ｈ），７．８３〜７．９２（ｍ，４Ｈ）８．００〜８．０９（ｍ，４Ｈ）８．３１（ｓ，２Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ７．８分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２６５】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（６５）の合成：
光学活性サラン配位子（６４）（０．４４６ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．７ｍＬ）とトルエン（１．０ｍＬ）との混合溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１４８ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（２７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で３時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして、１５時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、アセトニトリル（１０ｍＬ）を加えて、固体を析出させた。固体をろ取した後に、アセトニトリルで２回（３ｍＬ、２ｍＬ）ケークを洗浄した。４０℃に加熱しながら減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（６５）（０．４２９ｇ）を黄色粉末として、収率９０．０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−３．００〜−２．７５（ｍ，２Ｈ），−１．４６〜−１．２５（ｍ，２Ｈ），−０．６０〜−０．４０（ｍ，２Ｈ），−０．３７〜−０．０６（ｍ，４Ｈ），０．７２〜１．１３（ｍ，４Ｈ），１．４８〜１．９３（ｍ，２Ｈ），２．２４（ｔ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），２．５４（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），２．９３（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），３．１７（ｔ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，２Ｈ），３．５８〜３．７３（ｍ，２Ｈ），３．８２（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２Ｈ），５．１５（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２Ｈ），５．５３（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２Ｈ），５．６０（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．６Ｈｚ，２Ｈ），６．５１（ｄｄ，Ｊ＝７．７，１．２Ｈｚ，２Ｈ），６．６８〜７．５３（ｍ，４０Ｈ），７．６３〜７．７６（ｍ，４Ｈ），７．７６〜７．８３（ｍ，４Ｈ），７．９７（ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，８Ｈ），８．２３（ｓ，２Ｈ），８．４０（ｓ，２Ｈ）．
ＥＳＩ−ＨＲＭＳ；Ｃ１２４Ｈ１０５Ｎ４Ｏ１０Ｔｉ２＋:
ｍ／ｚ  測定値＝１９０６．６８２５，理論値＝１９０６．６８２３
【０２６６】
（実施例２）
光学活性チタンサラン錯体（７５）の合成について、下記に記載する。
【０２６７】
【化５３】
2011231017.tif 000054
【０２６８】
（モノエーテル合成）
２’−（４−メチルベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（７２）の合成：
２，２−ビフェノール（３．７２ｇ、２０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．３８ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（３．７２ｇ、２０ｍｍｏｌ）及びアセトン２３．５ｍＬを、反応容器に投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱した。この混合溶液にｐ−メチルベンジルクロリド（７１）（２．８１ｇ、２０ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃で１７時間撹拌した。ＨＰＬＣで反応転化率を確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。分液後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせて濃縮することで、粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝９０／１０、Ｒｆ値＝０．２５）で精製し、モノエーテル（７２）（４．３０ｇ）を白色結晶として、収率７４．０％、ＨＰＬＣ相対面積百分率＞９９．９％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；２．３２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３），５．０７（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．４１（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．９７〜７．０５（ｍ，２Ｈ），７．０７〜７．１９（ｍ，６Ｈ），７．２３〜７．３８（ｍ，４Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．０分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２６９】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（４−メチルベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（７３）の合成：
パラホルムアルデヒド（０．９３ｇ、３１ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（２．０ｇ、３１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（３．１ｍＬ、２１ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を反応容器に投入し、温度を６５℃に保った。この混合溶液にモノエーテル（７２）（３．０ｇ、１０ｍｍｏｌ）を投入し、テトラヒドロフラン（３．０ｇ）で洗いこんだ。６５℃で１７時間撹拌した後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止させた。分液後、テトラヒドロフランで水層を抽出し、有機層を合わせて濃縮した。濃縮物を酢酸エチル（２００ｍＬ）に溶解させ、水（１００ｍＬ）で３回、洗浄した後、酢酸エチルを留去することで、淡褐色の結晶を得た。この結晶をイソプロピルアルコールで懸濁洗浄することで、白色粉末としてヒドロキシアリールアルデヒド（７３）（２．２１ｇ）を、収率６７．４％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；２．３１（ｓ，３Ｈ，―ＣＨ３），５．０４（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），７．０１〜７．１２（ｍ，５Ｈ），７．１３〜７．１８（ｍ，２Ｈ），７．２９〜７．３７（ｍ，２Ｈ），７．５３〜７．５９（ｍ，４Ｈ），９．９５（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．３４（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
【０２７０】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子合成（７４）：
（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．２８５ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ヒドロキシアリールアルデヒド（７３）（１．５９ｇ、５．００ｍｍｏｌ）及びトルエン（９ｍＬ）を反応容器に投入し、この反応溶液を５０℃に加熱して、１時間撹拌した。この反応溶液にメタノール（２ｍＬ）を添加して、更に２時間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．１８９ｇ、５．００ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。５０℃で３時間、室温で１２時間撹拌した後、水を加えて反応を停止した。トルエン（９ｍＬ）を添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、粗生成物を得た。カラムクロマトグラフィーで精製することによって、白色固体（１．７３ｇ）として、収率９６．３％でサラン配位子（７４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．９８〜１．２８（ｂｒ，４Ｈ），１．５０〜１．７０（ｂｒ，２Ｈ），１．９４〜２．１５（ｂｒ，２Ｈ），２．２５〜２．４１（ｂｒ，２Ｈ），２．２９（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），３．８６（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），３．９９（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），４．９８（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．８１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．９２〜７．４５（ｍ，２２Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃
保持時間  サラン化合物；４．６分、（サレン化合物；５．２分）
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２７１】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（７５）の合成：
光学活性サラン配位子（７４）（０．３５９ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（４．６ｍＬ）溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１４８ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（２７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で３時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして、１５時間撹拌した後、析出した固体をろ過し、アセトニトリルで２回（３ｍＬ、２ｍＬ）、ケークを洗浄した。４０℃に加熱しながら、減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（７５）（０．２８６ｇ）を淡黄色粉末として、収率７３．３％、ＨＰＬＣの相対面積百分率＞９９％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−１．２０〜−０．９９（ｂｒ，２Ｈ），０．２７〜０．４６（ｂｒ，２Ｈ），０．４６〜０．８２（ｂｒ，４Ｈ），１．１６（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，４Ｈ），１．４８〜１．８７（ｂｒ，６Ｈ），２．２０（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．２３〜２．３１（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．３７〜２．５８（ｍ，２Ｈ），２．９１（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ），３．３４（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６７（ｔ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，４Ｈ），４．０６（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，４Ｈ），４．４０（ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），４．５２（ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），４．８６（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），４．９６（ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，Ｊ＝７．７，１．２Ｈｚ，２Ｈ），６．３１（ｄｄ，Ｊ＝７．６，１．６Ｈｚ，２Ｈ），６．５９〜７．１９（ｍ，３８Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．８Ｈｚ，２Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ７３．５分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２７２】
（実施例３）
光学活性チタンサラン錯体（１０５）の合成について、下記に記載する。
【０２７３】
【化５４】
2011231017.tif 000055
【０２７４】
（モノエーテル合成）
２’−（メシチルメトキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１０２）の合成：
２，２−ビフェノール（３．７２ｇ、２０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．７６ｇ、２０ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（３．３２ｇ、２０ｍｍｏｌ）及びアセトン２４ｍＬを、反応容器に投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱した。この混合溶液に２，４，６，−トリメチルベンジルクロリド（１０１）（３．３７ｇ、２０ｍｍｏｌ）を投入し、６０℃で１７時間撹拌した。ＨＰＬＣで反応転化率を確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。分液後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせて濃縮することで、粗生成物を得た。この粗生成物を２−プロパノールで再結晶することで、モノエーテル（１０２）（５．９３ｇ）を白色結晶として、収率９３．１％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；２．１７（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．２４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３），５．０１（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．７０（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．８０（ｓ，２Ｈ）， ６．８９〜７．０２（ｍ，２Ｈ），７．１６〜７．２８（ｍ，４Ｈ），７．３２〜７．４３（ｍ，２Ｈ）．
【０２７５】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（２−メシチルメトキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１０３）の合成：
パラホルムアルデヒド（４．７６ｇ、１５９ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（１０．０６ｇ、１０６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（１２．３ｍＬ、１０６ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（１５３ｍＬ）を反応容器に投入し、温度を７０℃に保った。この混合溶液にモノエーテル（１０２）（１７.０ｇ、５３ｍｍｏｌ）を投入した。７０℃で９１時間撹拌した後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止させた。中和後、テトラヒドロフランを留去した水層をクロロホルムで抽出し、有機層を水（１００ｍＬ）で３回、洗浄した後、クロロホルムを留去することで、粗生成物を得た。この粗生成物をヘキサンで晶析し、２−プロパノールで懸濁洗浄することで、白色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１０３）（１３．１ｇ）を、収率７１．５％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９９．２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；２．１９（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．２１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３），４．９７（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．７６（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｔｄ，Ｊ＝７．３，１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１８〜７．３３（ｍ，２Ｈ），７．３５〜７．４９（ｍ，３Ｈ），９．８４（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．２１（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．５分
分析波長  ２５４ｎｍ
【０２７６】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１０４）の合成：
（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．２２９ｇ、２．０１ｍｍｏｌ）、ヒドロキシアリールアルデヒド（１０３）（１．３９ｇ、４．０１ｍｍｏｌ）及びトルエン（８ｍＬ）を反応容器に投入し、この反応溶液を５０℃に加熱して、１時間撹拌した。この反応溶液にメタノール（４ｍＬ）を添加して、更に１時間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．１５２ｇ、４．０１ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。５０℃で４時間撹拌した後、室温まで放冷し、水を加えて反応を停止した。トルエン（８ｍＬ）を添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、粗生成物を得た。この粗生成物をイソプロピルアルコールで再結晶することによって、白色結晶（１．２４ｇ）として、収率７９．６％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９８．１％でサラン配位子（１０４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．８７〜１．３９（ｍ，４Ｈ），１．４８〜１．７２（ｍ，２Ｈ），１．８９〜２．０８（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｓ，１２Ｈ，−ＣＨ３），２．２１（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．１６〜２．３７（ｍ，４Ｈ）， ３．７９（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），３．９２（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），４．９１（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．７３（ｔｄ，Ｊ＝４．５，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．７５（ｓ，４Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０２〜７．１５（ｍ，４Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２７〜７．３８（ｍ，４Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ６．５分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２７７】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１０５）の合成：
光学活性サラン配位子（１０４）（０．３８８ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．０ｍＬ）の溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１４８ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（２７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で３時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして、１５時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、アセトニトリル（５．０ｍＬ）を加えて、固体を析出させた。固体をろ取した後に、アセトニトリルで２回（３ｍＬ、３ｍＬ）ケークを洗浄した。４０℃に加熱しながら、減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（１０５）（０．３３２ｇ）を淡黄色固体として、収率７９．４％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−１．２１〜−０．９３（ｍ，２Ｈ），０．１７〜０．８９（ｍ，６Ｈ），０．９８〜１．３０（ｍ，４Ｈ），１．４９〜１．８０（ｍ，６Ｈ），１．９３（ｓ，１２Ｈ，−ＣＨ３），２．１５（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．２２（ｓ，１２Ｈ，−ＣＨ３），２．２４（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３），２．３３〜２．４８（ｍ，２Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ，２Ｈ），２．９５（ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ，２Ｈ），３．３１（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，２Ｈ），３．６３（ｔ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，２Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ，２Ｈ），４．０２（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，２Ｈ），４．２７（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２Ｈ），４．３０（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，２Ｈ），４．７８（ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，２Ｈ），４．８２（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２Ｈ），６．２１（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），６．２８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．５９（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），６．６３〜６．８５（ｍ，８Ｈ），６．６７（ｓ，４Ｈ），６．８０（ｓ，４Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），７．００〜７．２２（ｍ，１０Ｈ）．
ＥＳＩ−ＨＲＭＳ；Ｃ１０４Ｈ１１３Ｎ４Ｏ１０Ｔｉ２＋:
ｍ／ｚ  測定値＝１６７４．７４４９，理論値＝１６７４．７４４９
【０２７８】
（実施例４）
光学活性チタンサラン錯体（１１５）の合成について、下記に記載する。
【０２７９】
【化５５】
2011231017.tif 000056
【０２８０】
（モノエーテル合成）
２’−（２−ナフチルメトキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１１２）の合成：
２，２−ビフェノール（３．７２ｇ、２０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．８ｇ、２０ｍｍｏｌ）及びアセトン２４ｍＬを、反応容器に投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱した。この混合溶液に２−（ブロモメチル）ナフタレン（１１１）（４．４２ｇ、２０ｍｍｏｌ）を投入し、６０℃で１７時間撹拌した。ＨＰＬＣで反応転化率を確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。分液後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせて濃縮することで、粗生成物を得た。この粗生成物を２−プロパノールで再結晶することで、モノエーテル（１１２）（４．７５ｇ）を白色結晶として、収率７２．８％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．２７（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．３１（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．９７〜７．０８（ｍ，２Ｈ），７．０８〜７．１８（ｍ，２Ｈ），７．２５〜７．４１（ｍ，５Ｈ），７．４１〜７．５０（ｍ，２Ｈ），７．６７〜７．８４（ｍ，４Ｈ）．
【０２８１】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（２−ナフチルメトキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１１３）の合成：
パラホルムアルデヒド（０．９０ｇ、３０ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（１．９ｇ、２０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（３．０ｍＬ、２０ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（３３ｍＬ）を反応容器に投入し、温度を６５℃に保った。この混合溶液にモノエーテル（１１２）（３．２６ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）を投入し、テトラヒドロフラン（３．３ｇ）で洗いこんだ。７０℃で１５時間撹拌した後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止させた。中和後、アセトニトリルを留去した水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水（１００ｍＬ）で３回、洗浄した後、酢酸エチルを留去することで、粗生成物を得た。この粗生成物をイソプロピルアルコールで懸濁洗浄することで、白色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１１３）（２．６３ｇ）を、収率７４．１％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９９．０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．１７（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．９３〜７．０８（ｍ，３Ｈ），７．２５〜７．４９（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６１〜７．７８（ｍ，４Ｈ），９．８４（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．４２（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．５分
分析波長  ２５４ｎｍ
【０２８２】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１１４）の合成：
（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．２８５ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ヒドロキシアリールアルデヒド（１１３）（１．７７ｇ、５．００ｍｍｏｌ）及びトルエン（１０ｍＬ）を反応容器に投入し、この反応溶液を５０℃に加熱して、１時間撹拌した。この反応溶液にメタノール（４ｍＬ）を添加して、更に１時間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．１８９ｇ、５．００ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。５０℃で４時間撹拌した後、室温まで放冷し、水を加えて反応を停止した。トルエン（１０ｍＬ）を添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、粗生成物を得た。イソプロピルアルコールで再結晶することによって、白色結晶（１．７５ｇ）として、収率８８．２％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９５．９％でサラン配位子（１１４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．６１〜１．００（ｍ，６Ｈ），１．１２〜１．４９（ｍ，４Ｈ），１．６６〜１．９０（ｍ，２Ｈ），１．９０〜２．１０（ｍ，２Ｈ），３．７０（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），３．８１（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），５．０６（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），５．１１（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．８２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．８６〜７．１０（ｍ，６Ｈ），７．１５〜７．４８（ｍ，１２Ｈ），７．５３〜７．８２（ｍ，８Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ５．０分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２８３】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１１５）の合成：
光学活性サラン配位子（１１４）（０．３９５ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．０ｍＬ）の溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１４８ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（２７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で３時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして、１５時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、アセトニトリル（５．０ｍＬ）を加えて、固体を析出させた。固体をろ取した後に、アセトニトリルで２回（３ｍＬ、３ｍＬ）ケークを洗浄した。４０℃に加熱しながら、減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（１１５）（０．３５４ｇ）を淡黄色固体として、収率８３．０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−１．７９〜−１．５７（ｍ，２Ｈ），−０．５４〜０．３０（ｍ，２Ｈ），０．００〜０．４１（ｍ，４Ｈ），０．４１〜０．６２（ｍ，２Ｈ），１．１０〜１．３３（ｍ，２Ｈ），１．４０〜１．８２（ｍ，６Ｈ），２．１５〜２．３５（ｍ，４Ｈ），２．９２（ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ，２Ｈ），３．２８（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６０（ｔ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６２（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，２Ｈ），４．０３（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），４．６０（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．７４（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），５．０３（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），５．１６（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），６．１８（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．３Ｈｚ，２Ｈ），６．６８〜７．９０（ｍ，５２Ｈ）．
【０２８４】
（実施例５）
光学活性チタンサラン錯体（１２５）の合成について、下記に記載する。
【０２８５】
【化５６】
2011231017.tif 000057
【０２８６】
（モノエーテル合成）
２’−（４−ブロモベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１２２）の合成：
２，２−ビフェノール（３．７２ｇ、２０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．７６ｇ、２０ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（３．３２ｇ、２０ｍｍｏｌ）及びアセトン２４ｍＬを、反応容器に投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱した。この混合溶液に４−ブロモベンジルブロミド（１２１）（４．９９ｇ、２０ｍｍｏｌ）を投入し、６０℃で１７時間撹拌した。ＨＰＬＣで反応転化率を確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。分液後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせて濃縮することで、粗生成物を得た。この粗生成物を２−プロパノールで再結晶することで、モノエーテル（１２２）（４．７８ｇ）を白色結晶として、収率６７．３％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．０５（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．１１（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．９７〜７．１９（ｍ，６Ｈ），７．２０〜７．４７（ｍ，６Ｈ）．
【０２８７】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（４−ブロモベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１２３）の合成：
パラホルムアルデヒド（０．９８ｇ、３３ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（２．１ｇ、２２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（３．３ｍＬ、２２ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（３６ｍＬ）を反応容器に投入し、温度を６５℃に保った。この混合溶液にモノエーテル（１２２）（３．６ｇ、１１ｍｍｏｌ）を投入し、テトラヒドロフラン（３．６ｇ）で洗いこんだ。７０℃で１５時間撹拌した後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止させた。中和後、アセトニトリルを留去した水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水（１００ｍＬ）で３回、洗浄した後、酢酸エチルを留去することで、粗生成物の結晶を得た。この粗生成物をイソプロピルアルコールで懸濁洗浄することで、白色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１２３）（２．６４ｇ）を、収率６２．６％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９８．９％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．０１（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．９２〜７．１８（ｍ，５Ｈ），７．２７〜７．４５（ｍ，３Ｈ），７．５１〜７．６１（ｍ，３Ｈ），９．９５（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．３７（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．５分
分析波長  ２５４ｎｍ
【０２８８】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１２４）の合成：
（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．２８５ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ヒドロキシアリールアルデヒド（１２３）（１．９２ｇ、５．００ｍｍｏｌ）及びトルエン（１１ｍＬ）を反応容器に投入し、この反応溶液を５０℃に加熱して、１時間撹拌した。この反応溶液にメタノール（５ｍＬ）を添加して、更に１時間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．１８９ｇ、５．００ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。５０℃で４時間撹拌した後、室温まで放冷し、水を加えて反応を停止した。トルエン（１１ｍＬ）を添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、粗生成物を得た。イソプロピルアルコールで再結晶することによって、淡黄色結晶（１．８５ｇ）として、収率８６．９％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９５．２％でサラン配位子（１２４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．７４〜１．３７（ｍ，６Ｈ），１．４１〜１．７２（ｍ，２Ｈ），１．８５〜２．１０（ｍ，２Ｈ），２．１７〜２．３７（ｍ，２Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），３．９２（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），４．８８（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．７７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．８２〜７．１０（ｍ，１０Ｈ），７．１０〜７．３９（ｍ，１０Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ４．８分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２８９】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１２５）の合成：
光学活性サラン配位子（１２４）（０．４２４ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．０ｍＬ）の溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１４８ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（２７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で３時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして、１５時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、アセトニトリル（５．０ｍＬ）を加えて、固体を析出させた。固体をろ取した後に、アセトニトリルで２回（３ｍＬ、３ｍＬ）、ケークを洗浄した。４０℃に加熱しながら、減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（１２５）（０．３９６ｇ）を淡黄色固体として、収率８７．０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−１．１４〜−０．８８（ｍ，２Ｈ），０．１８〜０．９０（ｍ，６Ｈ），１．０４〜１．９５（ｍ，１０Ｈ），２．１９（ｔ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），１．３７〜１．６２（ｍ，２Ｈ），２．８９（ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ，２Ｈ），３．３６（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），３．５６〜３．８０（ｍ，４Ｈ）．４．０９（ｔ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．３８（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．５２（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），４．８４（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．９４（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），６．１１（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．３２（ｄ，Ｊ＝７．４，１．３Ｈｚ，２Ｈ），６．６４（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．６８〜７．１５（ｍ，３０Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，４Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，４Ｈ）．
【０２９０】
（実施例６）
光学活性チタンサラン錯体（１３５）の合成について、下記に記載する。
【０２９１】
【化５７】
2011231017.tif 000058
【０２９２】
（モノエーテル合成）
２’−（２−メトキシベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１３２）の合成：
２，２−ビフェノール（３．７２ｇ、２０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．８ｇ、２０ｍｍｏｌ）及びアセトン２４ｍＬを、反応容器に投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱した。この混合溶液に２−メトキシベンジルクロリド（１３１）（３．１３ｇ、２０ｍｍｏｌ）を投入し、６０℃で１７時間撹拌した。ＨＰＬＣで反応転化率を確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。分液後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせて濃縮することで、粗生成物を得た。この粗生成物を２−プロパノールで再結晶することで、モノエーテル（１３２）（５．５８ｇ）を白色結晶として、収率９１．０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；３．８１（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ３），５．１５（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．６０（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．８２〜６．９３（ｍ，２Ｈ），６．９５〜７．０３（ｍ，２Ｈ），７．０５〜７．１８（ｍ，２Ｈ），７．１８〜７．３１（ｍ，４Ｈ），７．３１〜７．４０（ｎｍ，２Ｈ）．
【０２９３】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（２−メトキシベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１３３）の合成：
パラホルムアルデヒド（０．９０ｇ、３０ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（１．９ｇ、２０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（３．０ｍＬ、２０ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（３１ｍＬ）を反応容器に投入し、温度を６５℃に保った。この混合溶液にモノエーテル（１３２）（３．０６ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）を投入し、テトラヒドロフラン（３．１ｇ）で洗いこんだ。７０℃で１５時間撹拌した後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止させた。中和後、アセトニトリルを留去した水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水（１００ｍＬ）で３回、洗浄した後、酢酸エチルを留去することで、粗生成物の結晶を得た。この粗生成物をイソプロピルアルコールで懸濁洗浄することで、白色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１３３）（２．０８ｇ）を、収率６２．２％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９９．２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；３．８１（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ３），５．１２（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．７４〜６．８９（ｍ，２Ｈ），６．９７〜７．１３（ｍ，３Ｈ），７．１３〜７．２６（ｍ，２Ｈ），７．２６〜７．３９（ｍ，２Ｈ），７．４９〜７．６７（ｍ，２Ｈ），９．９４（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．２９（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ２．５分
分析波長  ２５４ｎｍ
【０２９４】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１３４）の合成：
（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．２８５ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ヒドロキシアリールアルデヒド（１３３）（１．６７ｇ、５．００ｍｍｏｌ）及びトルエン（１０ｍＬ）を反応容器に投入し、この反応溶液を５０℃に加熱して、１時間撹拌した。この反応溶液にメタノール（４ｍＬ）を添加して、更に１時間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．１８９ｇ、５．００ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。５０℃で４時間撹拌した後、室温まで放冷し、水を加えて反応を停止した。トルエン（１０ｍＬ）を添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、淡黄色固体として粗生成物を得た。イソプロピルアルコールで再結晶することによって、白色結晶（１．５６ｇ）として、収率８３．１％、ＨＰＬＣ相対面積百分率９７．１％でサラン配位子（１３４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．７８〜１．３８（ｍ，８Ｈ），１．４２〜１．６５（ｍ，２Ｈ），１．８５〜２．０８（ｍ，２Ｈ），２．１７〜２．３６（ｍ，４Ｈ）， ３．７５（ｓ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ３）３．７９（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），３．９２（ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−），５．０９（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−），６．７２〜６．８７（ｍ，６Ｈ），６．８９〜７．１７（ｍ，６Ｈ），７．２１〜７．４７（ｍ，１０Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（ｖ／ｖ）＝９６／４
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃、保持時間  ３．６分
測定波長  ２５４ｎｍ
【０２９５】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１３５）の合成：
光学活性サラン配位子（１３４）（０．３７５ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．０ｍＬ）の溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１４８ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（２７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で３時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして、１５時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、アセトニトリル（５．０ｍＬ）を加えて、固体を析出させた。この固体をろ取した後に、アセトニトリルで２回（３ｍＬ、３ｍＬ）ケークを洗浄した。４０℃に加熱しながら、減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（１３５）（０．３２８ｇ）を淡黄色固体として、収率８０．７％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−０．８１〜−０．５５（ｍ，２Ｈ），０．３０〜０．８２（ｍ，６Ｈ），０．９７〜１．３７（ｍ，６Ｈ），１．５５〜１．９７（ｍ，６Ｈ），２．２７〜２．６１（ｍ，４Ｈ），２．９２（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４０（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６４〜３．７８（ｍ，２Ｈ），３．８１（ｓ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ３），３．８７（ｓ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ３），４．１１（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），４．４２（ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，２Ｈ），４．８３（ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９７（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ），５．１１（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ），６．１４（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．５Ｈｚ，２Ｈ），６．５４〜６．９２（ｍ，２０Ｈ），６．９４〜７．１５（ｍ，１２Ｈ），７．１５〜７．２７（ｍ，６Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．２Ｈｚ，２Ｈ）．
【０２９６】
（実施例７）
光学活性チタンサラン錯体（１４５）の合成について、下記に記載する。
【０２９７】
【化５８】
2011231017.tif 000059
【０２９８】
（モノエーテル合成）
２’−（２−フルオロベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１４２）の合成：
２，２−ビフェノール（２４．２１ｇ、１３０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（８．９８ｇ、６５ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（４．３２ｇ、２６ｍｍｏｌ）及びアセトン１２０ｇを、反応容器に加え、２０〜２５℃にて撹拌した。この反応溶液に２−フルオロベンジルブロミド（１４１）（２４．５７ｇ、１３０ｍｍｏｌ）を加えた後、反応温度６０℃にて２３時間撹拌した。２０〜２５℃に冷却して、飽和塩化アンモニウム水溶液を反応溶液に添加して反応を停止し、分液した後、水層をクロロホルムで抽出して、有機層を合わせて濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝８０／２０）で精製することで、モノエーテル（１４２）（２６．５５ｇ）を淡茶色結晶として、収率６９．４％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．１７（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．１７（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．９７〜７．２０（ｍ，７Ｈ），７．２２〜７．４３（ｍ，５Ｈ）．
【０２９９】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（２−フルオロベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１４３）の合成：
撹拌機器と還流管を備えたフラスコを窒素置換した後、パラホルムアルデヒド（４．６２ｇ、１５４ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（１０．２ｇ、１０７ｍｍｏｌ）、モノエーテル（１４２）（１５．１ｇ、５１．２ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（１００ｍＬ）を加え、２０〜２５℃にて撹拌した。この反応溶液にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（１１．８４ｇ、１０２ｍｍｏｌ）を滴下した。この反応溶液を反応温度７５〜８０℃にて、１６時間撹拌した後、１５〜２０℃に冷却して２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止した。反応溶液を中和した後、アセトニトリルを留去した水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせた後、溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をクロロホルム−ヘキサン−酢酸エチルの系にて再結晶化することで、淡白黄色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１４３）（１０．３ｇ）を、収率６２．７％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；５．１５（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．９５〜７．１２（ｍ，５Ｈ），７．１７〜７．４１（ｍ，４Ｈ），７．５３〜７．６１（ｍ，２Ｈ），９．９４（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．３２（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
【０３００】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１４４）の合成：
ヒドロキシアリールアルデヒド（１４３）（３．５９ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）及びトルエン（２１ｇ）を反応容器に加え、次にメタノール（９ｇ）に溶解させた（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．６３７ｇ、５．５７ｍｍｏｌ）を加えた後、反応温度を４０℃にして７時間撹拌した。次に、この反応溶液に水素化ホウ素ナトリウム（０．６３２ｇ、１６．７ｍｍｏｌ）を添加し、反応温度を５０℃にして６時間撹拌した後、２０〜２５℃に冷却し、水を加えて反応を停止した。トルエンを添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝７０／３０→４０／６０）で精製することで、淡黄色結晶（３．０４ｇ）として、サラン配位子（１４４）を収率７５．０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．０５〜１．２４（ｍ，２Ｈ），１．４０〜１．９０（ｂｒ，４Ｈ），１．９９〜２．１３（ｍ，２Ｈ），２．３３〜２．４５（ｍ，２Ｈ），３．８７（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ），４．００（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，２Ｈ），５．１１（ｓ，４Ｈ），６．７８〜６．８８（ｍ，２Ｈ），６．９４〜７．０９（ｍ，１０Ｈ），７．１３〜７．２４（ｍ，４Ｈ），７．２５〜７．３８（ｍ，６Ｈ）．
【０３０１】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１４５）の合成：
光学活性サラン配位子（１４４）（０．７２９ｇ、１．００ｍｍｏｌ）のトルエン（４．４ｍＬ）溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．２８１ｇ、０．９８８ｍｍｏｌ）を２５〜３０℃で滴下した。この反応溶液を４０℃で１時間撹拌した後、水（５４ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４０℃で１時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして１３時間撹拌した後、この反応溶液に、ヘキサン（５ｍＬ）を加えて、固体を析出させた。その固体をろ取した後に、ヘキサン（３ｍＬ）で、ケークを洗浄した。得られた湿品を４０℃にて減圧乾燥することで、光学活性チタンサラン錯体（１４５）（０．４６１ｇ）を淡黄色固体として、収率５９．２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；−０．７７〜−０．５７（ｍ，２Ｈ），０．３２〜０．６５（ｍ，４Ｈ），０．６６〜０．８４（ｍ，２Ｈ），１．０８〜１．３３（ｍ，４Ｈ），１．７０〜１．９３（ｍ，６Ｈ），２．３２〜２．４５（ｍ，２Ｈ），２．４６〜２．６２（ｍ，２Ｈ），２．８７〜２．９８（ｍ，２Ｈ），３．４６（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，２Ｈ），３．６６〜３．８１（ｍ，４Ｈ），４．１２（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，２Ｈ），４．４３（ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，２Ｈ），４．８３（ｄ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ），４．９７（ｄ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ），５．０７（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．５Ｈｚ，２Ｈ），６．３５（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．８Ｈｚ，２Ｈ），６．５７〜７．３７（ｍ，４０Ｈ）．
【０３０２】
（実施例８）
光学活性チタンサラン錯体（１５５）の合成について、下記に記載する。
【０３０３】
【化５９】
2011231017.tif 000060
【０３０４】
（モノエーテル合成）
２’−（２−フェニルベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１５２）の合成：
２，２−ビフェノール（１８．６２ｇ、１００ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．９１ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（３．３２ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）及びアセトン９０ｇを、反応容器に加え、２０〜２５℃にて撹拌した。この反応溶液に２−フェニルベンジルブロミド（１５１）（２４．７１ｇ、１００ｍｍｏｌ）を加えた後、反応温度５５℃にて２７時間撹拌した。２０〜２５℃に冷却して、飽和塩化アンモニウム水溶液を反応溶液に添加して反応を停止し、分液した後、水層をクロロホルムで抽出し、有機層を合わせて濃縮後、酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル−ヘキサンの系で、再結晶化を行って精製することで、モノエーテル（１５２）（３４．３８ｇ）を黄色オイル状にて、収率９７．６％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；４．９７（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．３０（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．８４〜６．９０（ｍ，１Ｈ），６．９６〜７．０５（ｍ，２Ｈ），７．０６〜７．１４（ｍ，１Ｈ），７．１９〜７．４３（ｍ，１３Ｈ）．
【０３０５】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（２−フェニルベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１５３）の合成：
撹拌機器と還流管を備えたフラスコを窒素置換した後、パラホルムアルデヒド（４．６１ｇ、１５４ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（９．７３ｇ、１０２ｍｍｏｌ）、モノエーテル（１５２）（１８ｇ、５１ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（１４４ｇ）を加え、２０〜２５℃にて撹拌した。この反応溶液に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（１１．８６ｇ、１０２ｍｍｏｌ）を滴下した。この反応溶液を反応温度８０℃にて、２４時間撹拌した後、２０〜２５℃に冷却して２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止した。反応溶液を中和した後、クロロホルムで抽出し、有機溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をクロロホルム−ヘキサン−酢酸エチルの系にて再結晶化することで、白色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１５３）（１０ｇ）を、収率５４％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；４．９６（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２−），６．８１〜６．８６（ｍ，１Ｈ），６．９８〜７．０８（ｍ，２Ｈ），７．２０〜７．４３（ｍ，１１Ｈ），７．５０〜７．５７（ｍ，２Ｈ），９．９５（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），１１．３３（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）．
【０３０６】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１５４）の合成：
ヒドロキシアリールアルデヒド（１５３）（４．２７ｇ、１１．２ｍｍｏｌ）及びトルエン（２１ｇ）を反応容器に加え、次にメタノール（９ｇ）に溶解させた（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．６４０ｇ、５．６１ｍｍｏｌ）を加えた後、４０℃に加熱して、２時間撹拌した。次に、この反応溶液に水素化ホウ素ナトリウム（０．９１３ｇ、２４．１ｍｍｏｌ）を添加し、反応温度を４０℃にして６時間撹拌した後、２０〜２５℃に冷却し、水を加えて反応を停止した。トルエンを添加して分液した後、有機層を水洗し溶媒を留去することで、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝８０／２０→６５／３５）で精製することで、淡黄白色結晶（２．１６ｇ）として、サラン配位子（１５４）を収率４５．７％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．００〜１．３０（ｍ，４Ｈ），１．４６〜１．６９（ｍ，２Ｈ），１．９５〜２．１０（ｍ，２Ｈ），２．３０〜２．４３（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），３．９７（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），４．９２（ｓ，４Ｈ），６．７５〜６．８５（ｍ，４Ｈ），６．８９〜７．０４（ｍ，４Ｈ），７．１２〜７．４８（ｍ，１６Ｈ）．
【０３０７】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１５５）の合成：
光学活性サラン配位子（１５４）（０．６００ｇ、０．７１２ｍｍｏｌ）のトルエン（１．６ｍＬ）の溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．２１８ｇ、０．７６７ｍｍｏｌ）を２５〜３０℃で滴下し、続いてトルエン（１ｍＬ）を加えた。この反応溶液を４５℃で１時間撹拌した後、水（３８μＬ、２．１１ｍｍｏｌ）を滴下し、更に４５℃で２時間撹拌した。反応温度を２０〜２５℃にして１０時間撹拌した後、この反応溶液の有機溶媒を留去することで、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝８０／２０→７０／３０）で精製することで、黄色結晶（０．２２１ｇ）として、サラン錯体（１５５）を収率３４．３％で得た。
ＥＳＩ−ＨＲＭＳ；Ｃ１１６Ｈ１０５Ｎ４Ｏ１０Ｔｉ２＋:
ｍ／ｚ  測定値＝１８１０．６８２４，理論値＝１８１０．６８２３
【０３０８】
（実施例９）
光学活性チタンサラン錯体（１６５）の合成について、下記に記載する。
【０３０９】
【化６０】
2011231017.tif 000061
【０３１０】
（モノエーテル合成）
２’−（２，４，６−トリイソプロピルベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−２−オール（１６２）の合成：
２，２−ビフェノール（７．３６ｇ、３９．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．８４ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（１．３２ｇ、７．９５ｍｍｏｌ）及びアセトン３５ｇを、反応容器に加え、２０〜２５℃にて撹拌した。この反応溶液に２，４，６−トリイソプロピルベンジルクロリド（１６１）（９．９９ｇ、３９．５ｍｍｏｌ）を加えた後、反応温度５５℃にて３９時間撹拌した。２０〜２５℃に冷却して、飽和塩化アンモニウム水溶液を反応溶液に添加して反応を停止し、分液した後、水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し濃縮することで、モノエーテル（１６２）（１３．９ｇ）を淡橙白色結晶として、収率８７．２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．１０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ），１．２４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），２．８６（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．０４（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），５．０６（ｓ，２Ｈ），６．４５（ｓ，１Ｈ），６．８７〜７．０１（ｍ，４Ｈ），７．１４〜７．２９（ｍ，４Ｈ），７．３４〜７．４６（ｍ，２Ｈ）．
【０３１１】
（ヒドロキシアリールアルデヒド合成）
２−ヒドロキシ−２’−（２，４，６−トリイソプロピルベンジルオキシ）−１，１’−ビフェニル−３−カルバルデヒド（１６３）の合成：
撹拌機器と還流管を備えたフラスコを窒素置換した後、パラホルムアルデヒド（３．１３ｇ、１０４ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム（６．６２ｇ、６９．６ｍｍｏｌ）、モノエーテル（１６２）（１４．０ｇ、３４．８ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（１００ｍＬ）を加え、２０〜２５℃にて撹拌した。この反応溶液に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）（８．０８ｇ、６９．６ｍｍｏｌ）を滴下した。この反応溶液を反応温度８０℃にて、３７時間撹拌した後、２０〜２５℃に冷却して２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を添加して、反応を停止した。反応溶液を中和した後、ジクロロメタンで抽出し、有機溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をクロロホルム−ヘキサン−酢酸エチルの系にて再結晶化することで、白色結晶としてヒドロキシアリールアルデヒド（１６３）（１１．８ｇ）を、収率７８．５％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．１０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ），１．２２（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），２．８４（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．１３（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），６．９０〜６．９９（ｍ，３Ｈ），７．０４〜７．１２（ｍ，１Ｈ），７．２０〜７．３１（ｍ，２Ｈ），７．３９〜７．４９（ｍ，３Ｈ），９．８５（ｓ，１Ｈ），１１．２０（ｓ，１Ｈ）．
【０３１２】
（光学活性サラン配位子合成）
光学活性サラン配位子（１６４）の合成：
ヒドロキシアリールアルデヒド（１６３）（３．００ｇ、６．９０ｍｍｏｌ）及びトルエン（３６ｍＬ）を反応容器に加え、次にメタノール（１８ｍＬ）に溶解させた（Ｓ，Ｓ）−シクロヘキサンジアミン（５８）（０．３９ｇ、３．４５ｍｍｏｌ）を加えた後、反応温度を６０℃にして４時間撹拌した。次に、この反応溶液に水素化ホウ素ナトリウム（６．９１ｇ、１８３ｍｍｏｌ）およびトルエン（８０ｍＬ）を添加し、反応温度を６５℃にして１７時間撹拌した後、２０〜２５℃に冷却し、水を加えて反応を停止した。トルエンおよびメタノールを留去した後、クロロホルムで抽出し、有機溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝８０／２０）で精製することで、淡黄白色結晶（１．９２ｇ）として、サラン配位子（１６４）を収率５９％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；０．９４〜１．３４（ｂｒ，４Ｈ），１．１０（ｄｄ，Ｊ＝６．９，２．０Ｈｚ，２４Ｈ），１．２２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１２Ｈ），１．４５〜１．６５（ｍ，２Ｈ），１．９０〜２．０４（ｍ，２Ｈ），２．２４〜２．３６（ｍ，２Ｈ），２．８４（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．０９（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，４Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，２Ｈ），３．９１（ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，２Ｈ），４．８６〜５．０１（ｍ，４Ｈ），６．７１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），６．８５〜６．９９（ｍ，６Ｈ），７．０１〜７．１５（ｍ，４Ｈ），７．１６〜７．４１（ｍ，６Ｈ）．
【０３１３】
（光学活性チタンサラン錯体合成）
光学活性チタンサラン錯体（１６５）の合成：
光学活性サラン配位子（１６４）（０．５０ｇ、０．５３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（２．３ｍＬ）の溶液に、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．１５ｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を４０℃で滴下し、４０℃で２時間３０分撹拌した後、水（２９μＬ、１．６ｍｍｏｌ）を滴下した後、アセトニトリルを加えて沈澱物を濾取して粗生成物として黄色固体を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝９０／１０→８０／２０）で精製することで、淡黄色結晶（０．３５ｇ）として、サラン錯体（１６５）を収率６６％で得た。
ＥＳＩ−ＨＲＭＳ；Ｃ１２８Ｈ１６１Ｎ４Ｏ１０Ｔｉ２＋:
ｍ／ｚ  測定値＝２０１１．１２０５，理論値＝２０１１．１２０５
【０３１４】
（実施例１０）
光学活性チタンサレン錯体（１６８’）の合成について、下記に記載する。
【０３１５】
【化６１】
2011231017.tif 000062
【０３１６】
（光学活性サレン配位子合成）
光学活性サレン配位子（１６８’）の合成：
（Ｒ，Ｒ）−シクロヘキサンジアミン硫酸塩（６９）（１．２３ｇ、５．８０ｍｍｏｌ）、アルデヒド（１６３）（５．００ｇ、１１．６１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．８ｇ、５．８０ｍｍｏｌ）及びエタノール（６０ｍＬ）を反応容器に投入し、５０℃に加熱して、１７時間撹拌した。反応混合物を２０〜２５℃にした後、生成した淡黄色固体をろ過し、得られたケークをエタノールと水の混合溶媒、及びエタノールで洗浄することで淡黄色固体（５．５３ｇ）として収率９９％でサレン配位子を黄色個体で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．０６（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２４Ｈ），１．１７（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ），１．３３〜１．４２（ｍ，２Ｈ），１．５０〜１．６９（ｍ，２Ｈ），１．７４〜１．９３（ｂｒ，２Ｈ），２．８０（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．１０（ｑｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，４Ｈ），３．０８〜３．１９（ｓ，２Ｈ），４．９２（ｓ，４Ｈ），６．５９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｓ，４Ｈ）７．０３〜７．３１（ｍ，８Ｈ），７．３４〜７．４３（ｍ，２Ｈ），８．３５（ｓ，２Ｈ）．
【０３１７】
（実施例１１）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（３Ｒ，４Ｒ）−３，４−エポキシ−３，４−ジヒドロ−２，２−ジメチル−６−ニトロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン（３０１）の合成について記載する。
【０３１８】
【化６２】
2011231017.tif 000063
【０３１９】
光学活性チタンサラン錯体（１４５）
【０３２０】
【化６３】
2011231017.tif 000064
【０３２１】
（１４ｍｇ、０．００８７ｍｍｏｌ、基質に対して０．５４モル％）のトルエン溶液（４ｍＬ）に、２，２−ジメチル−６−ニトロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン（０．３３ｇ、１．６ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で、反応溶液を撹拌しながら、３０％過酸化水素水（０．２７ｇ、２．４ｍｍｏｌ）を添加し、反応温度４０℃で６時間撹拌した。反応溶液を２０〜２５℃にまで冷却した後、トルエン（３ｍＬ）と蒸留水（３ｍＬ）を反応溶液に添加し有機層を分液して、更に水層からトルエン（３ｍＬ）にて抽出した有機層を合わせ濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製して、エポキシ化合物（３０１）（０．３５ｇ、収率９８％、光学純度９９％ｅｅ以上）を淡黄色結晶で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．３３（ｓ，３Ｈ），１．６２（ｓ，３Ｈ），３．５８（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），４．００（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．６，３．０Ｈｚ，１Ｈ），８．３０（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−ＲＨ
４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×５μｍを３連装
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ（ｐＨ８）リン酸緩衝液（ｖ／ｖ）＝６０／４０
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃
保持時間  本反応の目的生成物：１２．６分（３Ｒ，４Ｒ）、
鏡像異性体：１５．８分（３Ｓ，４Ｓ）
測定波長  ３３０ｎｍ
【０３２２】
（実施例１２）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（３Ｒ，４Ｒ）−３，４−エポキシ−３，４−ジヒドロ−２，２−ジメチル−６−ニトロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン（３０１）の合成について記載する。
光学活性チタンサラン錯体（７５）
【０３２３】
【化６４】
2011231017.tif 000065
【０３２４】
（１０ｍｇ、０．００６５ｍｍｏｌ、基質に対して０．１０モル％）のトルエン溶液（８ｍＬ）に２５℃で、２，２−ジメチル−６−ニトロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン（１．３ｇ、６．５ｍｍｏｌ）を加えた。４０℃で、反応溶液を撹拌しながら、３０％過酸化水素水（１．１ｇ、９．８ｍｍｏｌ）を添加し、反応温度４０℃で２４時間撹拌した。反応溶液を２０〜２５℃にまで冷却した後、トルエン（５ｍＬ）と蒸留水（５ｍＬ）を反応溶液に添加し有機層を分液し、更に水層からトルエン（５ｍＬにて２回）にて抽出した有機層を合わせ濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製して、エポキシ化合物（３０１）（１．２ｇ，収率８４％，光学純度９９％ｅｅ以上）を淡黄色結晶で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ；１．３３（ｓ，３Ｈ），１．６２（ｓ，３Ｈ），３．５８（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），４．００（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．６，３．０Ｈｚ，１Ｈ），８．３０（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−ＲＨ
４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×５μｍを３連装
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ（ｐＨ８）リン酸緩衝液（ｖ／ｖ）＝６０／４０
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃
保持時間  本反応の目的生成物：１２．６分（３Ｒ，４Ｒ）、
鏡像異性体：１５．８分（３Ｓ，４Ｓ）
測定波長  ３３０ｎｍ
【０３２５】
（実施例１３）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（３Ｒ＊，４Ｒ＊）−３，４−エポキシ−３，４−ジヒドロ−２，２−ジメチル−７−ニトロ−６−メトキシ−２Ｈ−１−ベンゾピラン（３０２）（＊は、相対配置を示す。）の合成について記載する。
【０３２６】
【化６５】
2011231017.tif 000066
【０３２７】
光学活性チタンサラン錯体（７５）（１６ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ、基質に対して０．５０モル％）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２５℃で、２，２−ジメチル−７−ニトロ−６−メトキシ−２Ｈ−１−ベンゾピラン（０．４７ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加えた。４０℃で、反応溶液を撹拌しながら、３０％過酸化水素水（０．３４ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を添加し、反応温度４０℃で６時間撹拌した。反応溶液を２０〜２５℃にまで冷却した後、トルエン（３ｍＬ）と蒸留水（３ｍＬ）を反応溶液に添加し有機相を分液し、更に水相からトルエン（３ｍＬ、３ｍＬ）にて２度抽出した有機相を合わせ濃縮した粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製して、エポキシ化合物（３０２）又は（３０２’）（０．４６ｇ、収率９２％、光学純度９９％ｅｅ以上）を黄色油状で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ；１．２６（ｓ，３Ｈ），１．５９（ｓ，３Ｈ），３．５３（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），３．９０（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），７．０８（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｓ，１Ｈ）
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−ＲＨ
４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×５μｍを３連装
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ（ｐＨ８）リン酸緩衝液（ｖ／ｖ）＝６０／４０
流速  ０．８ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度  ４０℃
保持時間  本反応の目的生成物：１２．１分、鏡像異性体：１１．３分
測定波長  ２２５ｎｍ
【０３２８】
（実施例１４）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｒ）−（＋）−スチレンオキシド（３０３）の合成について記載する。
【０３２９】
【化６６】
2011231017.tif 000067
【０３３０】
光学活性チタンサラン錯体（６５）
【０３３１】
【化６７】
2011231017.tif 000068
【０３３２】
（１９．１ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ、触媒量０．５ｍｏｌ％、配位子量１．０ｍｏｌ％）、トルエン（１．０ｍＬ）及び出発原料のスチレン（０．２１ｇ，２．０ｍｍｏｌ）を２０〜２５℃にて、反応容器へ加え、撹拌を行った。この反応溶液に、反応温度２５℃にて３０％過酸化水素水（０．２３ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２２時間撹拌した後、反応溶液の一部（５μＬ）をサンプリングし、ＨＰＬＣで転化率と光学純度を確認したところ、転化率７０％（ＨＰＬＣ相対面積比）、光学純度９３％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ  ４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９９／１
流量  １．０ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度  ４０℃
保持時間  本反応の目的生成物；１３．１分（Ｒ）、鏡像異性体；１２．４分（Ｓ）
測定波長  ２２０ｎｍ
【０３３３】
（比較例１）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
非特許文献のＳｙｎｌｅｔｔ（２００６年），２０，３５４５−３５４７．に記載されているサラン配位子（該非特許文献の中では、サラン配位子（２ｊ）に相当する。）より、光学活性チタンサラン錯体を合成して単離した。この錯体を用いてスチレンのエポキシ化反応を行った比較実験について記載する。不斉エポキシ化反応の反応条件については、使用する触媒がチタンサラン錯体（６５）からチタンサラン錯体（８５）に変更したのみで、他の反応条件は（実施例１３）と同じである。触媒として光学活性チタンサラン錯体（８５）
【０３３４】
【化６８】
2011231017.tif 000069
【０３３５】
（１５．１ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ、触媒量０．５ｍｏｌ％、配位子量１．０ｍｏｌ％）、トルエン（１．０ｍＬ）及び出発原料のスチレン（０．２１ｇ，２．０ｍｍｏｌ）を２０〜２５℃にて、反応容器へ加え、撹拌を行った。この反応溶液に、反応温度２５℃にて３０％過酸化水素水（０．２３ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２２時間撹拌した後、反応溶液の一部（５μＬ）をサンプリングし、ＨＰＬＣで転化率と光学純度を確認したところ、転化率３４％（ＨＰＬＣ相対面積比）であり、光学純度８５％ｅｅであった。
【０３３６】
（光学活性チタンサラン錯体（８５）の合成）
光学活性サラン配位子（８４）
【０３３７】
【化６９】
2011231017.tif 000070
【０３３８】
０．３５ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を反応容器に仕込み、２．２ｍＬのアセトニトリルに溶かし、窒素雰囲気下４０℃で撹拌し、０．１４ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）のチタンテトラｉ−プロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］を４０℃で滴下した。窒素雰囲気下４０℃で１時間撹拌して、次に２７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）の水（Ｈ２Ｏ）を４０℃で添加した。水の添加後、２５℃で１４時間攪拌した。生じた沈殿物を濾紙で濾取し、アセトニトリル１０ｍＬでケークを洗浄した。ケークをナス型フラスコに入れて、エバポレーターと真空乾燥機を用いて、恒量になるまで乾燥した。０．２９ｇ（収率７７％）淡黄色粉末状で、光学活性チタンサラン化合物（８５）を得た。ＨＰＬＣによる該錯体の相対面積百分率（％）は、９９％であった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−３  ４．６ｍｍφ×１５０ｍｍ×３μｍ
溶離液  アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液＝９６／４（ｖ／ｖ）
流速  １．０ｍＬ／分、カラム温度  ４０℃
保持時間  ４５．２分、  測定波長  ２５４ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ７．４１‐６．５８（ｍ，４４Ｈ），６．３４（ｄｄ，Ｊ＝７．４，１．５Ｈｚ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．０１（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），４．９１（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），４．５６（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．４６（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），４．０８（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，２Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，２Ｈ），３．６８（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），３．３６（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），２．９１（ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，２Ｈ），２．５８‐２．３６（ｍ，２Ｈ），２．２８（ｔ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ，２Ｈ），１．９１‐１．４７（ｍ，６Ｈ），１．２３（ｔ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ，４Ｈ），０．８２‐０．２４（ｍ，６Ｈ），−０．８９‐−１．１３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）．
【０３３９】
（実施例１５）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｒ）−（＋）−スチレンオキシド（３０３）の合成について記載する。
光学活性チタンサラン錯体（１０５）
【０３４０】
【化７０】
2011231017.tif 000071
【０３４１】
（１３ｍｇ、０．００８ｍｍｏｌ、触媒量０．２５ｍｏｌ％、配位子量０．５０ｍｏｌ％）を、ジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解させた後、この反応溶液を２０℃の恒温装置に設置し、出発原料としてスチレン（０．３１ｇ，３．０ｍｍｏｌ）と内部標準物質としてビフェニル（１００ｍｇ）を加え攪拌した。一旦、反応溶液の一部（５μＬ）をサンプリングして、ＨＰＬＣを用いて出発原料（スチレン）と内部標準物質（ビフェニル）の比を測定した。次に該反応溶液に温度２０℃で、３０％過酸化水素水（０．４６ｍＬ、４．５ｍｍｏｌ）を反応溶液へ加え、反応温度２０℃で４０時間撹拌した。反応溶液の一部（５μＬ）をサンプリングし、ＨＰＬＣで出発原料（スチレン）、内部標準物質（ビフェニル）及び目的生成物（スチレンオキシド）の比を測定し、収率と光学純度を算出したところ、収率９２％、光学純度９４％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ  ４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ  ２連結
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９９／１
流量  １．２ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度  ４０℃、
保持時間  本反応の目的生成物；１３．１分（Ｒ），鏡像異性体；１２．４分（Ｓ）
測定波長  ２２０ｎｍ
【０３４２】
（実施例１６）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｒ）−（＋）−スチレンオキシド（３０３）の合成について記載する。
光学活性チタンサラン錯体（１６５）
【０３４３】
【化７１】
2011231017.tif 000072
【０３４４】
（１０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、触媒量０．２５ｍｏｌ％、配位子量０．５０ｍｏｌ％）を、ジクロロメタン（１．６ｍＬ）に溶解させた後、この反応溶液を２０℃の恒温装置に設置し、出発原料としてスチレン（０．２１ｇ，２．０ｍｍｏｌ）と内部標準物質としてビフェニル（５０ｍｇ）を加え攪拌した。一旦、反応溶液の一部（５μＬ）をサンプリングして、ＨＰＬＣを用いて出発原料（スチレン）と内部標準物質（ビフェニル）の比を測定した。次に該反応溶液に温度２０℃で、３０％過酸化水素水（０．３１ｍＬ、３．０ｍｍｏｌ）を反応溶液へ加え、反応温度２０℃で２７時間撹拌した。反応溶液の一部（５μＬ）をサンプリングし、ＨＰＬＣで出発原料（スチレン）、内部標準物質（ビフェニル）及び目的生成物（スチレンオキシド）の比を測定し、収率と光学純度を算出したところ、収率６２％、光学純度９７％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ  ４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ  ２連結
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９９／１
流量  １．２ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度  ４０℃、
保持時間  本反応の目的生成物；１３．１分（Ｒ），鏡像異性体；１２．４分（Ｓ）
測定波長  ２２０ｎｍ
【０３４５】
（実施例１７）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｓ）−（−）−スチレンオキシド（３０３’）の合成について記載する。
【０３４６】
【化７２】
2011231017.tif 000073
【０３４７】
サラン配位子（９０’）
【０３４８】
【化７３】
2011231017.tif 000074
【０３４９】
（３．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、配位子量０．５ｍｏｌ％）と２−ブロモナフタレン（２１．３ｍｇ）をジクロロメタン（０．８０ｍＬ）に溶解させ、濃度０．０２０ｍｏｌ／Ｌジクロロメタン溶液のチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（０．２０ｍＬ、０．００４ｍｍｏｌ、チタン化合物量０．４ｍｏｌ％）を加えて、室温で４０分間、撹拌した。この反応溶液に出発原料のスチレン（１１．５μＬ、０．１０ｍｍｏｌ）を添加し攪拌したところで、一旦、反応溶液の一部（２０μＬ程度）を抜き取り、１Ｈ−ＮＭＲにて、出発原料（スチレン）と標準物質（２−ブロモナフタレン）の比を測定した。その後、３０％過酸化水素水（１２．５μＬ、０．１１ｍｍｏｌ）を反応溶液へ加え、室温で撹拌し反応を行った。９時間後、反応溶液の一部（２０μＬ程度）を抜き取り、１Ｈ−ＮＭＲを測定することで、転化率と収率と算出したところ、スチレンオキシドの転化率は６０％で収率は６０％であった。得られたスチレンオキシドの一部をシリカゲルクロマトグラフィー（ペンタン／ジエチルエーテル（ｖ／ｖ）＝２０／１）で精製して、ＨＰＬＣ分析を行い、（Ｓ）−（−）−スチレンオキシド（３０３’）の光学純度を決定したところ、９３％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９９／１
【０３５０】
上記の実施例のサラン配位子（９０’）をサラン配位子（９１’）
【０３５１】
【化７４】
2011231017.tif 000075
【０３５２】
に替えて、（Ｓ）−（−）−スチレンオキシド（３０３’）についての同様の合成検討を行った。スチレンオキシドの転化率は５０％で収率は４７％であり、（Ｓ）−（−）−スチレンオキシド（３０３’）の光学純度は９２％ｅｅであった。
【０３５３】
非特許文献のＳｙｎｌｅｔｔ（２００６年），２０，３５４５−３５４７．に記載されているサラン配位子（９２’）
【０３５４】
【化７５】
2011231017.tif 000076
【０３５５】
を用いた場合の（Ｓ）−（−）−スチレンオキシド（３０３’）の光学純度は８９％ｅｅの記載があった。よって、スチレンの不斉エポキシ化反応にサラン配位子（９０’）及びサラン配位子（９１’）を用いた場合は、非特許文献のＳｙｎｌｅｔｔ（２００６年），２０，３５４５−３５４７．に記載されているサラン配位子（９２’）を用いるよりも高い光学純度であった。
【０３５６】
（実施例１８）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｒ）−２−ナフチルオキシラン（３０４）の合成について記載する。
【０３５７】
【化７６】
2011231017.tif 000077
【０３５８】
光学活性チタンサラン錯体（６５）
【０３５９】
【化７７】
2011231017.tif 000078
【０３６０】
（３８ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、触媒量０．５０ｍｏｌ％、配位子量１．０ｍｏｌ％）を、ジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させた後、この反応溶液を２０℃の恒温装置に設置し、出発原料として２−ビニルナフタレン（０．６２ｇ，４．０ｍｍｏｌ）を加えた。次に３０％過酸化水素水（０．６１ｍＬ、６．０ｍｍｏｌ）を、反応溶液を撹拌しながら、２０℃で添加した。反応温度２０℃で２４時間撹拌した後、炭酸水素ナトリウム水溶液を添加して、反応を停止した。反応溶液を分液し、有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝９５／５→０／１００）で精製することで、白色結晶として、目的のエポキシ化合物（３０４）を０．５０ｇ、単離収率７４％、光学純度９４％で得た。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＢ−Ｈ（４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ）と
ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＢ（４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ）とを連結
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９／１
流量  １．５ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度  ４０℃
保持時間  本反応の目的生成物；１６．２分（Ｒ），鏡像異性体；１８．６分（Ｓ）
測定波長  ２３０ｎｍ
【０３６１】
（実施例１９）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｒ）−２−ナフチルオキシラン（３０４）の合成について記載する。
【０３６２】
光学活性チタンサラン錯体（１０５）
【０３６３】
【化７８】
2011231017.tif 000079
【０３６４】
（３４ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、触媒量０．５０ｍｏｌ％、配位子量１．０ｍｏｌ％）を、ジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させた後、この反応溶液を２０℃の恒温装置に設置し、出発原料として２−ビニルナフタレン（０．６２ｇ，４．０ｍｍｏｌ）を加えた。次に３０％過酸化水素水（０．６１ｍＬ、６．０ｍｍｏｌ）を、反応溶液を撹拌しながら、２０℃で添加した。２０℃で２４時間撹拌した後、炭酸水素ナトリウム水溶液を添加して、反応を停止した。反応溶液を分液し、有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（ｖ／ｖ）＝９７／３→０／１００）で精製することで、白色結晶として、目的のエポキシ化合物（３０４）を０．６１ｇ、単離収率８９％、光学純度９４％で得た。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＢ−Ｈ（４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ）と
ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＢ（４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ×５μｍ）とを連結
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９／１
流量  １．５ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度  ４０℃
保持時間  本反応の目的生成物；１６．２分（Ｒ），鏡像異性体；１８．６分（Ｓ）
測定波長  ２３０ｎｍ
【０３６５】
（実施例２０）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
（Ｒ）−２−ナフチルオキシラン（３０４）の合成について記載する。
サラン配位子（１０４）
【０３６６】
【化７９】
2011231017.tif 000080
【０３６７】
（４．７ｍｇ、０．００６ｍｍｏｌ、配位子量０．６ｍｏｌ％）をジクロロメタンに溶解させた後、濃度０．１０ｍｏｌ／Ｌジクロロメタン溶液のチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４］（溶液５０μＬ、０．００５ｍｍｏｌ、チタン化合物量０．５ｍｏｌ％）を加えて、室温で１０分間、撹拌した。この反応溶液に出発原料である２−ビニルナフタレン（１５４．２ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、２−ブロモナフタレン（２０７．１ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）及びリン酸緩衝液（１００μＬ、濃度０．０６７ｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ７．４）を順次、添加し攪拌した。一旦、反応溶液の一部（４０μＬ程度）を抜き取り、１Ｈ−ＮＭＲにて、出発原料（２−ブロモナフタレン）と標準物質（２−ブロモナフタレン）の比を測定した。その後、反応溶液を、反応温度４０℃の恒温装置に設置し、３０％過酸化水素水（１３６．１μＬ、１．２ｍｍｏｌ）を反応溶液へ加え、反応温度４０℃で撹拌し反応を行った。１０時間後、反応溶液の一部（４０μＬ程度）を抜き取り、１Ｈ−ＮＭＲを測定することで、転化率と収率と算出したところ、２−ナフチルオキシランの転化率は８６％で収率は８４％であった。得られた２−ナフチルオキシランの一部を塩基性シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル（ｖ／ｖ）＝２０／１）で精製して、ＨＰＬＣ分析を行い、（Ｒ）−２−ナフチルオキシラン（３０４）の光学純度を決定したところ、９２％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム名  ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＪ−Ｈ
溶離液  ヘキサン／イソプロピルアルコール（ｖ／ｖ）＝９９９／１
【０３６８】
（実施例２１−実施例２９）
（光学活性エポキシ化合物の合成）
上記の実施例のサラン配位子（１０４）をサラン配位子（１６４）
【０３６９】
【化８０】
2011231017.tif 000081
【０３７０】
及びサラン配位子（６４）
【０３７１】
【化８１】
2011231017.tif 000082
【０３７２】
に替えて、（Ｒ）−２−ナフチルオキシラン（３０４）についての合成検討を行った。更に、サラン配位子（１０４）、サラン配位子（１６４）及びサラン配位子（６４）をそれぞれ用いて、反応温度及び反応時間についても、検討を行った。配位子の種類、反応温度、反応時間以外の実施操作については、（実施例２０）に従った。サラン配位子（１６４）は５．７ｍｇ（０．００６ｍｍｏｌ、配位子量０．６ｍｏｌ％）にて、サラン配位子（６４）は５．３ｍｇ（０．００６ｍｍｏｌ、配位子量０．６ｍｏｌ％）を用いて、それぞれの合成検討を行った。それぞれの条件と結果について、下記の表１に結果を記載する。
【０３７３】
【表１】
2011231017.tif 000083
【０３７４】
（実施例３０）
光学活性サラレン配位子（１６６）の合成について、下記に記載する。
【０３７５】
【化８２】
2011231017.tif 000084
【０３７６】
（アミン化合物合成）
アミン化合物（１７０）の合成：
ｔ−ブチル（(１Ｓ，２Ｓ）−２−アミノシクロヘキシル)カーバメート（７０）（２．１３ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）、アルデヒド（１６３）（４．３０ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）及びメタノール（７０ｍＬ）とテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を反応容器に投入し、室温で１２時間撹拌した。この反応溶液を０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム（０．９１２ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）を、発泡に気をつけながら、少しずつ投入した。この反応溶液を室温で２時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した。酢酸エチルを添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜４／１）で精製し、アミン化合物（１７０）（５．１６ｇ）を、収率８２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．０４〜１．１４（ｍ，３Ｈ），１．１１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．２２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．３６（ｓ，９Ｈ），１．５４〜１．７１（ｍ，２Ｈ），１．８０〜１．９８（ｍ，１Ｈ），２．０５〜２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１５〜２．２８（ｍ，１Ｈ），２．８４（ｓｅｐ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），３．１１（ｓｅｐ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，４Ｈ），３．２３〜３．３９（ｍ，１Ｈ），３．８９（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．０３（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３０〜４．４６（ｍ，１Ｈ），４．８７（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８８〜６．９３（ｍ，１Ｈ），６．８３（ｓ，１Ｈ）７．０４〜７．２３（ｍ，３Ｈ），７．３０〜７．３８（ｍ，２Ｈ）．
【０３７７】
（光学活性サラレン配位子合成）
光学活性サラレン配位子（１６６）の合成：
アミン化合物（１７０）（１ｇ、１．５９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．７６ｍＬ、１２．７ｍｍｏｌ）、トリメチルシリルトリフラート（１．７６ｍＬ、９．５４ｍｍｏｌ）、及びジクロロメタン（５ｍＬ）を反応容器に投入し、室温で２０時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した。酢酸エチルを添加して分液した後、有機層を水洗し、溶媒を留去することで粗生成物を化合物（２６１）として得た。この粗生成物については精製せずに次の反応を行った。
反応容器に粗生成物（２６１）、アルデヒド（１６３）（０．５８２ｍｇ、１．３５ｍｍｏｌ）、及びエタノール（１０ｍＬ）を投入し、室温で１時間３０分攪拌した。溶媒を留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜５／１）で精製することで、サラレン配位子（１６６）（１．１９ｇ）を黄色結晶として、収率８０％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ；１．０７（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ），１．０９（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．１９（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．２０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．２４〜１．３２（ｍ，１Ｈ），１．４２〜１．７９（ｍ，６Ｈ），１．９９〜２．１４（ｍ，１Ｈ），２．５８〜２．７１（ｍ，１Ｈ），２．８２（ｓｅｐ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），２．９７〜３．０２（ｍ，１Ｈ），３．０９（ｓｅｐ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，４Ｈ），３．８１（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），４．８３〜４．９６（ｍ，４Ｈ），６．６５（ｄｄ，Ｊ＝７．２，７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．５６〜６．７５（ｍ，２Ｈ），６．９１（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｓ，２Ｈ）７．０２〜７．４４（ｍ，１１Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）．
【産業上の利用可能性】
【０３７８】
本発明の製造方法により、分子中に炭素−炭素二重結合を有するプロキラルな不飽和化合物を高いエナンチオ選択性でエポキシ化し、光学活性エポキシ化合物を製造することができる。更に、本発明の製造方法で得られる光学活性エポキシ化合物は、高血圧症、喘息等の治療に有効な化合物の光学活性医薬中間体として有用である。
更に本発明によれば、医薬品等の生理活性物質の合成中間体又は原体として有用な光学活性スルホキシド化合物を高品質かつ高収率で経済的に製造することができる。
更に本発明によれば、触媒の使用量を軽減できるとともに、溶媒としてトルエン等の工業的に有用な溶媒を用いることが可能となる。