(57)【要約】【課題】同時に駆動するノズル数不均一に起因するヘッドドライバーの負荷不均一によるインクの吐出量変動の影響を小さくする液滴の吐出方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。【解決手段】液滴の吐出方法は、吐出工程では、走査において、複数のノズルのうち膜形成領域に掛かるノズルの駆動手段に、駆動手段に対して基準駆動波形を印加してノズルごとに吐出された液滴の吐出量と基準吐出量との差から算出した補正量に基づいて、基準駆動波形を補正した複数の補正駆動波形を設定し、複数の補正駆動波形間において、印加される駆動手段の数の差が、小さくなるように、補正駆動波形の組合せを設定する。【選択図】図１８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルと膜形成領域を有する被吐出物とを対向配置して相対移動させる走査に同期して、前記複数のノズルごとに設けられた駆動手段に、時分割で発生させた複数の駆動波形のいずれかを印加して、前記複数のノズルから機能性材料を含む液状体を液滴として前記膜形成領域に吐出する吐出工程を有する液滴の吐出方法であって、
前記吐出工程では、前記走査において、前記複数のノズルのうち前記膜形成領域に掛かるノズルの前記駆動手段に、該駆動手段に対して基準駆動波形を印加して前記ノズルごとに吐出された前記液滴の吐出量と基準吐出量との差から算出した補正量に基づいて、前記基準駆動波形を補正した複数の補正駆動波形を設定し、前記複数の補正駆動波形間において、印加される前記駆動手段の数の差が、小さくなるように、該補正駆動波形の組合せを設定することを特徴とする液滴の吐出方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴の吐出方法において、
前記補正駆動波形は、前記基準駆動波形の前記基準吐出量に対して吐出量が増加する正の補正における吐出量の変化幅と吐出量が減少する負の補正における吐出量の変化幅とが略均等であることを特徴とする液滴の吐出方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液滴の吐出方法において、
前記基準駆動波形及び前記複数の補正駆動波形間において、前記印加される前記駆動手段の数の差が小さくなるように、前記基準駆動波形及び前記複数の補正駆動波形の組合せを設定することを特徴とする液滴の吐出方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液滴の吐出方法において、
前記補正量は、前記複数のノズルにおける前記液滴の吐出量の度数分布に基づいて、
前記度数分布の中央値を前記基準吐出量として、前記中央値に対して定められることを特徴とする液滴の吐出方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の液滴の吐出方法において、
前記複数の補正駆動波形間において、印加される前記駆動手段の数が同数であることを特徴とする液滴の吐出方法。
【請求項６】
請求項３に記載の液滴の吐出方法において、
前記基準駆動波形及び前記複数の補正駆動波形間において、印加される前記駆動手段の数が同数であることを特徴とする液滴の吐出方法。
【請求項７】
基板上に区画形成された複数の膜形成領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の液滴の吐出方法を用い、発光層形成材料を含む液状体を前記複数の膜形成領域に吐出する吐出工程と、
吐出された前記液状体を固化して、前記発光層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記吐出工程は、異なる発光色が得られる複数種の前記液状体を所望の前記膜形成領域に吐出し、
前記固化工程は、吐出された複数種の前記液状体を固化して、少なくとも赤、緑、青、３色の前記発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記吐出工程は、複数種の前記液状体をそれぞれ異なる吐出ヘッドに充填し、前記液状体ごとに前記基準駆動波形の設定と、前記補正駆動波形の設定とを行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴の吐出方法及び有機ＥＬ素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
機能性材料を含む液状体の吐出方法として、カラーフィルター材料を含む液状体を基板上に吐出してカラーフィルターを製造する方法が知られている。
【０００３】
上記カラーフィルターの製造方法では、液状体を液滴として吐出可能な複数のノズルを有する複数の液滴吐出ヘッドをノズル列が所定の方向に配列するように基板に対して対向させる。そして、ノズル列の両端部の所定領域に位置するノズル（未使用ノズル）からは液状体を吐出させない状態で、基板と液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ、ノズル（使用ノズル）から液状体を基板上の所定の位置に適宜吐出してカラーフィルターを形成する方法を採用している。これにより、ノズル列の両端部の所定領域に位置する吐出量が比較的多いノズルを使用せずに液状体の吐出を行うので、より均一に液状体が吐出されるとしている。また、このようなインクジェット方式の記録ヘッドによるカラーフィルターの製造方法では、複数のノズルの形状の誤差等によって吐出するインク滴の液滴量に誤差を生じている場合がある。したがって、このようなインクジェット方式の記録ヘッドにより基板にインク滴を吐出してカラーフィルターを製造する際には、大、中、小のように段階的に吐出量を変えながらインクを充填する方式を採用している（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２１７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本来であればインク補正の収束位置としては元の吐出量ばらつきの中央値が望ましいが、インク吐出量ばらつきはヘッドによって様々であり、必ずしも大、中、小波形の同時に駆動するノズル数は均等とならず、負荷変動による吐出量変化の影響を受けて、計算通りの補正を行うことができないおそれがあった。この吐出量変化が大きいと、吐出後に形成された薄膜にムラが生じ、例えばカラーフィルターであれば色ムラとなるという課題があった。
【０００６】
この吐出量変化の原因として、ノズルから液状体を液滴として吐出させるためのエネルギー発生手段（例えば、圧電素子や加熱素子など）に駆動電圧を印加したときに、駆動電圧がばらつく所謂電気的クロストークが挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］複数のノズルと膜形成領域を有する被吐出物とを対向配置して相対移動させる走査に同期して、前記複数のノズルごとに設けられた駆動手段に、時分割で発生させた複数の駆動波形のいずれかを印加して、前記複数のノズルから機能性材料を含む液状体を液滴として前記膜形成領域に吐出する吐出工程を有する液滴の吐出方法であって、前記吐出工程では、前記走査において、前記複数のノズルのうち前記膜形成領域に掛かるノズルの前記駆動手段に、該駆動手段に対して基準駆動波形を印加して前記ノズルごとに吐出された前記液滴の吐出量と基準吐出量との差から算出した補正量に基づいて、前記基準駆動波形を補正した複数の補正駆動波形を設定し、前記複数の補正駆動波形間において、印加される前記駆動手段の数の差が、小さくなるように、該補正駆動波形の組合せを設定することを特徴とする液滴の吐出方法。
【０００９】
これによれば、補正駆動波形ごと（例えば、負の補正と正の補正）の同時に駆動するノズル数の差が小さくなることにより、同時に駆動するノズル数の不均一に起因した吐出量変動の影響を小さくすることができ、より高精度な補正ができる。これにより、同時に駆動するノズル数不均一に起因するヘッドドライバーの負荷不均一によるインクの吐出量変動の影響を小さくする液滴の吐出方法を提供できる。
【００１０】
［適用例２］上記液滴の吐出方法であって、前記補正駆動波形は、前記基準駆動波形の前記基準吐出量に対して吐出量が増加する正の補正における吐出量の変化幅と吐出量が減少する負の補正における吐出量の変化幅とが略均等であることを特徴とする液滴の吐出方法。
【００１１】
これによれば、負の補正と正の補正との変化幅が略均等であることにより、負の補正と正の補正の数が基準吐出の数と相違がある場合に、各波形を適用するノズル数を調整することができ、全ての波形において同時に駆動するノズル数を略均一にできる。
【００１２】
［適用例３］上記液滴の吐出方法であって、前記基準駆動波形及び前記複数の補正駆動波形間において、前記印加される前記駆動手段の数の差が小さくなるように、前記基準駆動波形及び前記複数の補正駆動波形の組合せを設定することを特徴とする液滴の吐出方法。
【００１３】
これによれば、印加される駆動手段の数の差が小さくなるようにすることにより、同時に駆動するノズル数の不均一に起因した吐出量変動の影響を小さくすることができ、さらに、より高精度な補正ができる。
【００１４】
［適用例４］上記液滴の吐出方法であって、前記補正量は、前記複数のノズルにおける前記液滴の吐出量の度数分布に基づいて、前記度数分布の中央値を前記基準吐出量として、前記中央値に対して定められることを特徴とする液滴の吐出方法。
【００１５】
これによれば、基準吐出量が度数分布の中央値であるため、中央値に対して吐出量が増加する正の補正と、減少する負の補正とを均等に施すことができる。すなわち、正負対称的な吐出量の補正が可能である。
【００１６】
［適用例５］上記液滴の吐出方法であって、前記複数の補正駆動波形間において、印加される前記駆動手段の数が同数であることを特徴とする液滴の吐出方法。
【００１７】
これによれば、負の補正と正の補正の補正幅同一により、負の補正と正の補正の数が基準吐出の数と相違がある場合に、各波形を適用するノズル数を調整することができ、全ての波形において同時に駆動するノズル数を均一にできる。
【００１８】
［適用例６］上記液滴の吐出方法であって、前記基準駆動波形及び前記複数の補正駆動波形間において、印加される前記駆動手段の数が同数であることを特徴とする液滴の吐出方法。
【００１９】
これによれば、基準駆動波形及び補正駆動波形ごとの同時に駆動するノズル数が同一により、同時に駆動するノズル数の不均一に起因した吐出量変動の影響を無視することができ、さらに、より高精度な補正ができる。
【００２０】
［適用例７］基板上に区画形成された複数の膜形成領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、上記のいずれか一項に記載の液滴の吐出方法を用い、発光層形成材料を含む液状体を前記複数の膜形成領域に吐出する吐出工程と、吐出された前記液状体を固化して、前記発光層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２１】
これによれば、塗布領域としての膜形成領域に必要量の液状体が安定的に付与されるので、固化工程で付与された液状体を固化すれば、膜形成領域ごとにほぼ一定の膜厚を有する発光層が形成される。したがって、発光層の膜厚ムラに起因する輝度ムラや発光ムラが低減され、有機ＥＬ素子を歩留りよく製造することができる。
【００２２】
［適用例８］上記有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記吐出工程は、異なる発光色が得られる複数種の前記液状体を所望の前記膜形成領域に吐出し、前記固化工程は、吐出された複数種の前記液状体を固化して、少なくとも赤、緑、青、３色の前記発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２３】
これによれば、フルカラーの発光が得られる有機ＥＬ素子を歩留まりよく製造することができる。
【００２４】
［適用例９］上記有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記吐出工程は、複数種の前記液状体をそれぞれ異なる吐出ヘッドに充填し、前記液状体ごとに前記基準駆動波形の設定と、前記補正駆動波形の設定とを行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２５】
これによれば、膜形成領域に付与される液状体ごとに必要量が異なっていても、適正に吐出量の補正がなされ、所望の膜厚を有する発光層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１の実施形態に係る吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図２】第１の実施形態に係る吐出ヘッドの構造を示す概略図。
【図３】第１の実施形態に係るヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。
【図４】第１の実施形態に係る吐出装置の制御系を示すブロック図。
【図５】第１の実施形態に係る駆動波形を示すタイミングチャート。
【図６】第１の実施形態に係る駆動波形を示す図。
【図７】実施例１の液状体の量のばらつきと発光パワーとの関係（電流制御）を示すグラフ。
【図８】実施例１の同時に駆動するノズル数とあるノズルの吐出量変化率とを示すグラフ。
【図９】実施例１の補正ランクを示す表。
【図１０】実施例１の画素ごとの吐出量率を示すグラフ。
【図１１】実施例１の画素ごとの補正ランクを示すグラフ。
【図１２】実施例１の補正ランクの分布（画素ｎ＝５３）を示すグラフ。
【図１３】実施例１の波形選択の分布を示すグラフ。
【図１４】実施例１の画素ごとの吐出量率を示すグラフ。
【図１５】実施例１の画素ごとの補正ランクを示すグラフ。
【図１６】実施例１の補正ランクの分布（画素ｎ＝５３）を示すグラフ。
【図１７】実施例１の波形選択の分布を示すグラフ。
【図１８】実施例２の波形選択の分布を示すグラフ。
【図１９】実施例２の複数のノズルにおける吐出量の補正前のばらつきと補正後のばらつきを示すグラフ。
【図２０】第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置を示す概略正面図。
【図２１】第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の要部概略断面図。
【図２２】第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート。
【図２３】第２の実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図２４】第２の実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図２５】第３の実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す概略分解斜視図。
【図２６】第３の実施形態に係るカラーフィルターの製造方法を示す概略断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。
【００２８】
（第１の実施形態）
＜液滴の吐出装置＞
まず、機能性材料を含む液状体を液滴として被吐出物に吐出可能な吐出装置について、図１〜図５を参照して説明する。
【００２９】
図１は、本実施形態に係る吐出装置の構成を示す概略斜視図である。
本実施形態の吐出装置２は、図１に示すように、被吐出物である平板状のワークＷを第１の方向としての主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるワーク移動機構１０と、ヘッドユニット１２を主走査方向に直交する第２の方向としての副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるヘッド移動機構１４とを備えている。
【００３０】
ワーク移動機構１０は、一対のガイドレール１６と、一対のガイドレール１６に沿って移動する移動台１８と、移動台１８上に回転機構２０を介して配設されたワークＷを載置するステージ２２とを備えている。
【００３１】
移動台１８は、ガイドレール１６の内部に設けられたエアスライダーとリニアモーター（図示省略）により主走査方向（Ｙ軸方向）に移動する。移動台１８には、タイミング信号生成部としてのエンコーダー２４（図４参照）が設けられている。
【００３２】
エンコーダー２４は、移動台１８の主走査方向（Ｙ軸方向）への相対移動に伴って、ガイドレール１６に並設されたリニアスケール（図示省略）の目盛を読み取って、タイミング信号としてのエンコーダーパルスを生成する。なお、エンコーダー２４の配設は、これに限らず、例えば、移動台１８を回転軸に沿って主走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するよう構成し、回転軸を回転させる駆動部を設けた場合には、エンコーダー２４を駆動部に設けてもよい。駆動部としては、サーボモーターなどが挙げられる。
【００３３】
ステージ２２は、ワークＷを吸着固定可能であると共に、回転機構２０によってワークＷ内の基準軸を正確に主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）に合わせることが可能となっている。
【００３４】
また、ワークＷ上において液状体が吐出される膜形成領域の配置に応じて、ワークＷを例えば９０度旋回させることも可能である。
【００３５】
ヘッド移動機構１４は、一対のガイドレール２６と、一対のガイドレール２６に沿って移動する移動台２８とを備えている。移動台２８には、回転機構３０を介して吊設されたキャリッジ３２が設けられている。
【００３６】
キャリッジ３２には、複数の吐出ヘッド３４（図２参照）が搭載されたヘッドユニット１２が取り付けられている。
【００３７】
また、吐出ヘッド３４に液状体を供給するための液状体供給機構（図示省略）と、複数の吐出ヘッド３４の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバー３６（図４参照）とが設けられている。
【００３８】
移動台２８がキャリッジ３２を副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させてヘッドユニット１２をワークＷに対して対向配置する。
【００３９】
吐出装置２は、上記構成の他にも、ヘッドユニット１２に搭載された複数の吐出ヘッド３４のノズル目詰まり解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構が、複数の吐出ヘッド３４を臨む位置に配設されている。
【００４０】
また、吐出ヘッド３４ごとに吐出された液状体を受けて、その重量を計測する電子天秤などの計測器を有する重量計測機構３８（図４参照）を備えている。そして、これらの構成を統括的に制御する制御部４０を備えている。なお、図１では、メンテナンス機構及び重量計測機構３８は、図示省略した。
【００４１】
図２は、本実施形態に係る吐出ヘッドの構造を示す概略図である。図２（Ａ）は、斜視図、図２（Ｂ）は、ノズルの配置状態を示す平面図である。
【００４２】
本実施形態の吐出ヘッド３４は、図２（Ａ）に示すように、所謂２連のものであり、２連の接続針４２を有する液状体の導入部４４と、導入部４４に積層されたヘッド基板４６と、ヘッド基板４６上に配置され内部に液状体のヘッド内流路が形成されたヘッド本体４８とを備えている。接続針４２は、前述した液状体供給機構（図示省略）に配管を経由して接続され、液状体をヘッド内流路に供給する。ヘッド基板４６には、フレキシブルフラットケーブル（図示省略）を介してヘッドドライバー３６（図４参照）に接続される２連のコネクター５０が設けられている。
【００４３】
ヘッド本体４８は、駆動手段としての圧電素子で構成されたキャビティを有する加圧部５２と、ノズル面５４ａに２つのノズル列５６ａ，５６ｂが相互に平行に形成されたノズルプレート５４とを有している。
【００４４】
２つのノズル列５６ａ，５６ｂは、図２（Ｂ）に示すように、それぞれ複数（１８０個）のノズル５６がピッチＰ１で略等間隔に並べられており、互いにピッチＰ１の半分のピッチＰ２ずれた状態でノズル面５４ａに配設されている。この場合、ピッチＰ１は、およそ１４１μｍである。よって、ノズル列５６ｃに直交する方向から見ると３６０個のノズル５６がおよそ７０．５μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズル５６の径は、およそ２７μｍである。
【００４５】
吐出ヘッド３４は、ヘッドドライバー３６から電気信号としての駆動信号が圧電素子に印加されると加圧部５２のキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用でキャビティに充填された液状体が加圧され、ノズル５６から液状体を液滴として吐出することができる。
【００４６】
吐出ヘッド３４における駆動手段は、圧電素子に限らない。アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、液状体を加熱してノズル５６から液滴として吐出させる電気熱変換素子（サーマル方式）でもよい。
【００４７】
図３は、本実施形態に係るヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、ワークＷに対向する側から見た図である。
本実施形態のヘッドユニット１２は、図３に示すように、複数の吐出ヘッド３４が配設されるヘッドプレート１２ａを備えている。ヘッドプレート１２ａには、３つの吐出ヘッド３４からなるヘッド群３４Ａと、同じく３つの吐出ヘッド３４からなるヘッド群３４Ｂの合計６個の吐出ヘッド３４が搭載されている。この場合、ヘッド群３４ＡのヘッドＲ１（吐出ヘッド３４）とヘッド群３４ＢのヘッドＲ２（吐出ヘッド３４）とは、同種の液状体を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。すなわち、３種の異なる液状体を吐出可能な構成となっている。
【００４８】
１つの吐出ヘッド３４によって描画可能な描画幅をＬ0とし、これをノズル列５６ｃの有効長とする。以降、ノズル列５６ｃとは、３６０個のノズル５６から構成されるものを指す。
【００４９】
この場合、ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｙ軸方向）から見て隣り合うノズル列５６ｃが主走査方向と直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、同種の液状体を吐出するヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅Ｌ1は、描画幅Ｌ0の２倍となっている。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向（Ｙ軸方向）に並列して配置されている。
【００５０】
なお、吐出ヘッド３４に設けられるノズル列５６ｃは、２連に限らず、１連でもよい。また、ヘッドユニット１２における吐出ヘッド３４の配置は、これに限定されるものではない。
【００５１】
次に吐出装置２の制御系について説明する。
図４は、本実施形態に係る吐出装置の制御系を示すブロック図である。
本実施形態の吐出装置２の制御系は、図４に示すように、吐出ヘッド３４、ワーク移動機構１０、ヘッド移動機構１４、重量計測機構３８などを駆動する各種ドライバーを有する駆動部５８と、駆動部５８を含め吐出装置２を統括的に制御する制御部４０とを備えている。
【００５２】
駆動部５８は、ワーク移動機構１０及びヘッド移動機構１４の各リニアモーターをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバー６０と、吐出ヘッド３４を駆動制御するヘッドドライバー３６と、重量計測機構３８を駆動制御する重量計測用ドライバー６２とを備えている。この他にもメンテナンス機構を駆動制御するメンテナンス用ドライバーなどを備えているが図示省略した。
【００５３】
制御部４０は、ＣＰＵ６４と、ＲＯＭ６６と、ＲＡＭ６８と、Ｐ−ＣＯＮ７０とを備え、これらは互いにバス７２を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ７０には、上位コンピューター７４が接続されている。ＲＯＭ６６は、ＣＰＵ６４で処理する制御プログラムなどを記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理などを行うための制御データなどを記憶する制御データ領域とを有している。
【００５４】
ＲＡＭ６８は、ワークＷに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、ワークＷ及び吐出ヘッド３４（実際には、ノズル列５６ｃ）の位置データを記憶する位置データ記憶部などの各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ７０には、駆動部５８の各種ドライバーなどが接続されており、ＣＰＵ６４の機能を補うと共に、周辺回路とのインターフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ７０は、上位コンピューター７４からの各種指令などをそのままあるいは加工してバス７２に取り込むと共に、ＣＰＵ６４と連動して、ＣＰＵ６４などからバス７２に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部５８に出力する。
【００５５】
そして、ＣＰＵ６４は、ＲＯＭ６６内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ７０を介して各種検出信号、各種指令、各種データなどを入力し、ＲＡＭ６８内の各種データなどを処理した後、Ｐ−ＣＯＮ７０を介して駆動部５８などに各種の制御信号を出力することにより、吐出装置２全体を制御している。例えば、ＣＰＵ６４は、吐出ヘッド３４、ワーク移動機構１０、及びヘッド移動機構１４を制御して、ヘッドユニット１２とワークＷとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット１２とワークＷとの相対移動に同期して、ヘッドユニット１２に搭載された各吐出ヘッド３４の複数のノズル５６からワークＷに液状体を液滴として吐出するようにヘッドドライバー３６に制御信号を送出する。この場合、Ｙ軸方向へのワークＷの移動に同期して液状体を吐出することを主走査と呼び、Ｘ軸方向にヘッドユニット１２を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の吐出装置２は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液状体を吐出描画することができる。主走査は、吐出ヘッド３４に対して一方向へのワークＷの移動に限らず、ワークＷを往復させて行うこともできる。
【００５６】
エンコーダー２４は、ヘッドドライバー３６に電気的に接続され、主走査に伴ってエンコーダーパルスを生成する。主走査では、所定の移動速度で移動台１８を移動させるので、エンコーダーパルスが周期的に発生する。
【００５７】
例えば、主走査における移動台１８の移動速度を２００ｍｍ／ｓｅｃ、吐出ヘッド３４を駆動する駆動周波数（言い換えれば、連続して液滴を吐出する場合の吐出タイミング）を２０ｋＨｚとすると、主走査方向における液滴の吐出分解能は、移動速度を駆動周波数で除することにより得られるので、１０μｍとなる。すなわち、１０μｍのピッチで液滴をワークＷ上に配置することが可能である。実際の液滴の吐出タイミングは、周期的に発生するエンコーダーパルスをカウントして生成されるラッチ信号に基づいている。
【００５８】
上位コンピューター７４は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を吐出装置２に送出する。また、ワークＷ上の膜形成領域ごとに所定量の液状体を液滴として配置する吐出制御データとしての配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している。配置情報は、膜形成領域における液滴の吐出位置（言い換えれば、ワークＷとノズル５６との相対位置）、液滴の配置数（言い換えれば、ノズル５６ごとの吐出数）、主走査における複数のノズル５６のＯＮ／ＯＦＦ、吐出タイミングなどの情報を、例えば、ビットマップとして表したものである。上位コンピューター７４は、上記配置情報を生成するだけでなく、ＲＡＭ６８に一旦、格納された上記配置情報を修正することも可能である。
【００５９】
図５は、本実施形態に係る駆動波形を示すタイミングチャートである。
複数のノズル５６に対応して配設された駆動手段としての圧電素子には、図５に示すように、ラッチ信号ＬＡＴのタイミングでラッチされたノズル５６ごとのＯＮ／ＯＦＦデータ（吐出データ）に従い、３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３のうちから１つが選択されて供給される。そして、駆動波形が供給されるタイミングで、ノズル５６から液滴が吐出される。なお、各駆動波形は、圧電素子に供給されることで規定量の液滴が吐出されるように設計されている。
【００６０】
駆動波形の選択は、駆動波形の供給タイミングを規定する制御信号ＣＨ１〜ＣＨ３により行われる。すなわち、制御信号ＣＨ１によって第１系統のタイミングの駆動波形ＰＬ１が、制御信号ＣＨ２によって第２系統のタイミングの駆動波形ＰＬ２が、制御信号ＣＨ３によって第３系統のタイミングの駆動波形ＰＬ３がそれぞれ選択される。
【００６１】
本実施形態では、膜形成領域に掛かる隣り合うノズル５６に対応する圧電素子に、駆動波形の供給タイミングの系統（ラッチ信号ＬＡＴを基準とした相対的な序列）を個々に対応づけることにより、吐出タイミングの重複が起こりえないように駆動波形を印加することが可能である。このような駆動波形の駆動手段（圧電素子）に対する印加の方法を時分割駆動という。時分割駆動により、少なくとも電気的なクロストークが好適に低減され、クロストークに起因するノズル５６間の吐出特性（液滴の吐出量や吐出速度など）のバラツキが相対的に緩和される。
【００６２】
また、各系統のタイミングは、周期的となっているため、吐出条件が各吐出タイミング間で一様となり、液滴の吐出量を主走査方向に対して安定化させることができる。
【００６３】
また、ラッチ信号ＬＡＴの１周期内（１ラッチ内）において、３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３が発生するので、同一の圧電素子に１ラッチ内で３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３を印加すれば、同一ノズル５６から吐出タイミングを変えて３滴の液滴を吐出することができる。
【００６４】
さらに、１ラッチ内の３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３をそれぞれ別の圧電素子に印加すれば、３つのノズル５６から液滴を異なる吐出タイミングで吐出することができる。すなわち、３つのノズル５６が時分割駆動される。
【００６５】
また、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３において、振幅の幅（実質的には、中間電位との間の電位差すなわち駆動電圧）や波形の勾配などをそれぞれ変えることによって、ノズル５６から吐出される液滴の吐出量を異ならせることが可能である。言い換えれば、同一ノズル５６の圧電素子に異なる形状の駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３のうち１つを選択して印加すれば液滴の吐出量の補正が可能である。
【００６６】
以降、ノズル５６の圧電素子に駆動波形を印加することを、ノズル５６に駆動波形を印加すると表現する。
【００６７】
前述したように吐出装置２において、吐出分解能をおよそ１０μｍとすると、３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３を連続的に使用するノズル５６に印加したときには、吐出タイミングを変えて主走査方向におよそ３．３μｍの最小ピッチで液滴を吐出することが可能である。すなわち、時分割駆動における実質的な吐出分解能は、３．３μｍとなる。
【００６８】
＜液滴の吐出方法＞
次に、本実施形態の液滴の吐出方法について、実施例を挙げて説明する。本実施形態の液滴の吐出方法は、Ｘ軸方向（副走査方向）及びＹ軸方向（主走査方向）にマトリクス状に配置された略矩形状の膜形成領域に必要量の液状体を液滴として吐出（配置）するものである。なお、膜形成領域は、ワークＷ上において隔壁部により区画されている。また、隔壁部又は隔壁部の表面が液状体に対して撥液性を有している。膜形成領域内は、塗布される液状体の濡れ性を考慮して親液性を付与する表面処理を施してもよい。
【００６９】
液滴の吐出方法では、走査において、複数のノズル５６のうち膜形成領域に掛かるノズルの加圧部５２に、加圧部５２に対して駆動波形ＰＬ２を印加してノズル５６ごとに吐出された液滴の吐出量と基準吐出量との差から算出した補正量を取得する。取得された補正量に基づいて、駆動波形ＰＬ２を補正した駆動波形ＰＬ１，ＰＬ３を印加する。その際、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ３間において、印加される加圧部５２の数の差が、小さくなるように、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ３の組合せを設定する。
【００７０】
駆動波形ＰＬ２は、図６に示すように、あるノズルに対して基準吐出量を吐出させる基準駆動波形である。また、駆動波形ＰＬ１は、基準駆動波形の基準吐出量に対して吐出量が増加する正の補正を行った吐出量を吐出させる補正駆動波形である。さらに、駆動波形ＰＬ３は、基準駆動波形の基準吐出量に対して吐出量が減少する負の補正を行った吐出量を吐出させる補正駆動波形である。
【００７１】
駆動波形ＰＬ１，ＰＬ３は、駆動波形ＰＬ２の基準吐出量に対して吐出量が増加する正の補正における吐出量の変化幅と吐出量が減少する負の補正における吐出量の変化幅とが略均等である。なお、複数の駆動波形ＰＬ１，ＰＬ３間において、印加される加圧部５２の数が同数であってもよい。
【００７２】
（実施例１）
図７は、本実施例の液状体の量のばらつきと発光パワーとの関係（電流制御）を示すグラフである。図７に示すように、ある発光材料についての充填される液状体の量のばらつきと発光パワーとは、ある一定の比例関係にあり、充填される液状体のばらつきの量が増加すると、発光パワーも増加する。また、充填される液状体のばらつきの量が減少すると、発光パワーも減少する傾向にある。言い換えると、充填される液状体の量が多いと、発光パワーも大きいし、充填される液状体の量が少ないと、発光パワーも少ない傾向にある。ここで、発光ばらつきを１％以下に抑えたい場合は、充填される液状体のばらつきの量を０．８％以下に抑えなる必要がある。
【００７３】
図８は、本実施例の同時に駆動するノズル数とあるノズルの吐出量変化率とを示すグラフである。図８に示すように、同時に駆動するノズル数と、あるノズルの吐出量変化率とは、同時に駆動するノズル数が３４〜５３個の間であれば変化量が０．５％以内の関係にある。これは、補正後の液状体の量のばらつきを０．３％、上記より充填される液状体のばらつきの量の許容値を０．８％とした場合、これらの差分から同時に駆動するノズル数の差の許容値を定義すると、吐出量変化率を０．５％以内に収める必要がある。そのときの同時に駆動できるノズル数の範囲は、３４〜５３個である。
【００７４】
図９は、本実施例の補正ランクを示す表である。図９に示すように、補正ランクは、３つの波形の組合せで構成されている。データ内の番号１は、図６に示す駆動波形ＰＬ１、番号２は駆動波形ＰＬ２、及び番号３は駆動波形ＰＬ３をそれぞれ示している。補正ランクを用いることにより、ノズル５６ごとの吐出量のばらつきを、最終的に各バンクに収まる液状体の量を同じにしている。具体的には、１膜形成領域に２０発の液滴を打ち込む時、２０発の駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の組合せを代えていくことで細かい補正が可能になる。例えば、一番たくさんの液滴が出てしまうノズルに対しては２０発全部を駆動波形ＰＬ３で、一番少ないところには、２０発全部を駆動波形ＰＬ１で打ち込むことにより最終的に各バンクに収まる液状体の量を同じにしている。補正ランクの数は、３つの波形を使って、１膜形成領域に収まる液滴が２０発の時、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の組合せで４１通りできる。補正ランクを用いることにより、吐出ばらつきを元の１／４１まで抑えることができる。補正ランクを４１通り使用することで割り当てが木目細かく対応することができる。
【００７５】
図１０は、本実施例の膜形成領域ごとの吐出量率を示すグラフである。図１０に示すように、膜形成領域１〜５３で示された各膜形成領域の吐出量率は、基準吐出量より吐出量率の多い膜形成領域の数は少なく、基準吐出量より吐出量率の少ない膜形成領域が殆どである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域が少なく、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域が殆どである。
【００７６】
基準吐出量を０．００％として膜形成領域ごとの吐出量率を規格化すると、およそ±３．５２％程度のばらつきを有している。なお、基準吐出量は、元のばらつきの（最大値−最小値）／２に設定されている。つまり、最大値と最小値との真ん中に合わせるように設定されている。ここで、補正量を求めるにあたって、例えば、インクジェットのノズルの数は１８０個で、その両端のノズルの１０個を省いた１６０個を使用して、６０ｐｐｉ程度のパターンに液滴を打ち込む場合、１ノズルで５３個の膜形成領域に描画をすることになるので、５３個の膜形成領域に納まる液状体の量のばらつきを測定したものである。
【００７７】
図１１は、本実施例の膜形成領域ごとの補正ランクを示すグラフである。図１１に示すように、膜形成領域１〜５３で示された各膜形成領域の補正ランクは、図１０に示す膜形成領域ごとの吐出量率に対して、図９に示す補正ランクが割り当てられている。基準吐出量を元のばらつきの（最大値−最小値）／２に設定して、単純にグループ分けをした場合には、基準吐出量（補正ランク２１）より補正量の少ない（補正ランク２２〜４５）膜形成領域の数は少なく、基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜２０）膜形成領域が殆どである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の数が少なく、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域が殆どである。このときの補正ランクの分布を示すグラフを図１２に示す。
【００７８】
図１２は、本実施例の補正ランクの分布（膜形成領域ｎ＝５３）を示すグラフである。図１２に示すように、補正ランクの分布は、基準吐出量を元のばらつきの（最大値−最小値）／２に設定して、単純にグループ分けをした場合には、基準吐出量（補正ランク２１）より補正量の少ない（補正ランク２２〜４５）膜形成領域の数は少なく、基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜２０）膜形成領域が殆どである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の数が少なく、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域が殆どである。このときの波形選択の分布を示すグラフを図１３に示す。
【００７９】
図１３は、本実施例の波形選択の分布を示すグラフである。図１３に示すように、波形選択の分布は、基準吐出量を元のばらつきの（最大値−最小値）／２に設定して、単純にグループ分けをした場合には、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数のバランスが必ずしも均一にならない。基準吐出量（補正ランク２１）より補正量の少ない（補正ランク２２〜４５）膜形成領域の数は少ないので、そこで使用される駆動波形ＰＬ３の数は少なくなっている。基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜２０）膜形成領域が殆どなので、そこで使用されている駆動波形ＰＬ１の数は多くなっている。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の数が少ないので、駆動波形ＰＬ３の数は少なく、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域が殆どなので、駆動波形ＰＬ１の数は多くなる。これは、駆動波形ＰＬ３で負の補正を行うノズルと駆動波形ＰＬ１で正の補正を行うノズルの数が均等とはならず、結果として駆動ノズル数不均一による負荷変動の影響を受け、精度良く補正を行うことができないおそれがある。
【００８０】
そこで、実施例１の液滴の吐出方法は、元のばらつきの度数分布の中央値（ＭＥＤＩＡＮ）に基準吐出量を設定し、最大値−中央値の間の領域を−補正領域となるよう補正幅を拡大させる。例えば、図１０に示すように、元のばらつきの中央値（−１．４１％）に基準吐出量を設定し、最大値（３．５２％）と中央値（−１．４１％）との間の領域を−補正領域となるように補正幅を拡大させている。これにより、基準吐出量を駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数の中央値にすることで、負の補正を行うノズルと正の補正を行うノズルの数を均等とすることができる。この補正条件であれば駆動ノズル数不均一による負荷変動の影響を受けることなく狙った通りの高精度な補正が可能となる。さらに、プラス補正幅とマイナス補正幅とを同じにする。このときの膜形成領域ごとの吐出量率を示すグラフを図１４に示す。
【００８１】
図１４は、本実施例の膜形成領域ごとの吐出量率を示すグラフである。図１４に示すように、膜形成領域１〜５３で示された各膜形成領域の吐出量率は、基準吐出量より吐出量率の多い膜形成領域の負の補正の数と、基準吐出量より吐出量率の少ない膜形成領域の正の補正の数とが同じである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の負の補正の数と、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域の正の補正の数とが同じである。なお、基準吐出量を０．００％として膜形成領域ごとの吐出量率は、規格化されている。基準吐出量は、元の吐出量ばらつきの中央値近傍に設定されている。つまり、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数の中央値に合わせるように設定されている。
【００８２】
図１５は、本実施例の膜形成領域ごとの補正ランクを示すグラフである。図１５に示すように、膜形成領域１〜５３で示された各膜形成領域の補正ランクは、図１４に示す膜形成領域ごとの吐出量率に対して、図９に示す補正ランクが割り当てられている。基準吐出量を元の吐出量ばらつきの中央値近傍に設定して、単純にグループ分けをした場合には、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数が同じになる。基準吐出量（補正ランク１３）より補正量の少ない（補正ランク１４〜４５）膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜１２）膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。このときの補正ランクの分布を示すグラフを図１６に示す。
【００８３】
図１６は、本実施例の補正ランクの分布（膜形成領域ｎ＝５３）を示すグラフである。図１６に示すように、補正ランクの分布は、基準吐出量を元の吐出量ばらつきの中央値近傍に設定して、単純にグループ分けをした場合には、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数が同じになる。基準吐出量（補正ランク１３）より補正量の少ない（補正ランク１４〜４５）膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜１２）膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。このときの波形選択の分布を示すグラフを図１７に示す。
【００８４】
図１７は、本実施例の波形選択の分布を示すグラフである。図１７に示すように、波形選択の分布は、基準吐出量を元の吐出量ばらつきの中央値近傍に設定して、単純にグループ分けをした場合には、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数が同じになる。基準吐出量（補正ランク１３）より補正量の少ない（補正ランク１４〜４５）膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜１２）膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。
【００８５】
このような本実施例の液滴の吐出方法によれば、駆動波形ＰＬ３で負の補正を行うノズルの数と駆動波形ＰＬ１で正の補正を行うノズルの数とが均等になり、結果として同時に駆動するノズル数が均一になり負荷変動の影響を受けにくくなるので、精度良く補正を行うことができる。
【００８６】
（実施例２）
図１８は、本実施例の波形選択の分布を示すグラフである。本実施例の液滴の吐出方法は、図１８に示すように、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の駆動ノズル数は、常に一定である。
【００８７】
実施例１より、波形選択の分布は、基準吐出量を元の吐出量ばらつきの中央値近傍に設定して、単純にグループ分けをした場合には、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の数が同じになる。基準吐出量（補正ランク１３）より補正量の少ない（補正ランク１４〜４５）膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より補正量の多い（補正ランク１〜１２）膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。言い換えると、基準吐出量より吐出量の多い膜形成領域の駆動波形ＰＬ３の数と、基準吐出量より吐出量の少ない膜形成領域の駆動波形ＰＬ１の数とが同じである。
【００８８】
ここで、本実施例では負の補正幅と正の補正幅が均等であることから、負の補正の吐出量＋正の補正の吐出量＝基準吐出量×２の式が成立する。そして、基準吐出量を負の補正の吐出量と正の補正の吐出量とに振り分けることにより、負の補正の吐出、正の補正の吐出、及び基準吐出の同時に駆動するノズル数を同一にすることができる。これによれば、高精度な補正を実現することができるようになった。例えば、５３個のバンクの中に補正ランク１５と言うものが２膜形成領域に有ったとして、同じ補正ランク１５でも異なった波形選択が可能になる。
【００８９】
このような本実施例の液滴の吐出方法によれば、駆動波形ＰＬ３で負の補正を行うノズルの数と、駆動波形ＰＬ２のノズルの数と、駆動波形ＰＬ１で正の補正を行うノズルの数と、が均等になり、結果として同時に駆動するノズル数が均一になり負荷変動の影響を受けにくくなるので、さらに精度良く補正を行うことができる。
【００９０】
図１９は、本実施例の複数のノズルにおける吐出量の補正前のばらつきと補正後のばらつきを示すグラフである。図１９に示すように、本実施例の液滴の吐出方法によれば、膜形成領域１〜５３において、補正前のばらつきはおよそ±４％あったが、補正後のばらつきは、±２％以内に収まっている。すなわち、膜形成領域間の液状体のばらつきの量が改善される。
【００９１】
本実施形態によれば、補正駆動波形ごとの同時に駆動するノズル数が同一により、同時に駆動するノズル数の不均一に起因した吐出量変動の影響を無視することができ、より高精度な補正ができる。これにより、同時に駆動するノズル数不均一に起因するヘッドドライバーの負荷不均一によるインクの吐出量変動の影響を受けない液滴の吐出方法を提供できる。
【００９２】
（第２の実施形態）
＜有機ＥＬ装置＞
次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法を適用して製造された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ装置について図２０及び図２１を参照して説明する。図２０は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置を示す概略正面図、図２１は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の要部概略断面図である。
【００９３】
本実施形態の有機ＥＬ装置４は、図２０に示すように、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色の発光画素７６を備えた素子基板７８と、素子基板７８に所定の間隔を置いて対向配置された封止基板８０とを備えている。封止基板８０は、複数の発光画素７６が設けられた発光領域８２を封着するように、高い気密性を有する封着剤を用いて素子基板７８に接合されている。
【００９４】
発光画素７６は、後述する発光素子としての有機ＥＬ素子８４（図２１参照）を備えるものであって、同色の発光が得られる発光画素７６が、図面上の縦方向に配列した所謂ストライプ方式となっている。なお、実際には、発光画素７６は微細なものであり、図示の都合上拡大して現している。
【００９５】
素子基板７８は、封止基板８０よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、発光画素７６を駆動する２つの走査線駆動回路部８６と１つのデータ線駆動回路部８８が設けられている。走査線駆動回路部８６、データ線駆動回路部８８は、例えば、電気回路が集積されたＩＣとして素子基板７８に実装してもよいし、当該駆動回路部８６，８８を素子基板７８の表面に直接形成してもよい。
【００９６】
素子基板７８の端子部７８ａには、これらの駆動回路部８６，８８と外部駆動回路とを接続するための中継基板９０が実装されている。中継基板９０は、例えば、フレキシブル回路基板などを用いることができる。
【００９７】
有機ＥＬ装置４において、有機ＥＬ素子８４は、図２１に示すように、画素電極としての陽極９２と、陽極９２を区画する隔壁部９４と、陽極９２上に形成された有機膜からなる発光層を含む機能層９６とを有している。また、機能層９６を介して陽極９２と対向するように形成された共通電極としての陰極９８を有している。
【００９８】
隔壁部９４は、フェノール又はポリイミドなどの絶縁性を有する感光性樹脂からなり、発光画素７６を構成する陽極９２の周囲を一部覆って、複数の陽極９２をそれぞれ区画するように設けられている。
【００９９】
陽極９２は、素子基板７８上に形成されたＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子１００の３端子のうちの１つに接続しており、例えば、透明電極材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を厚さ１００ｎｍ程度に成膜した電極である。なお、図示省略したが、陽極９２の下層（平坦化層１０２側）に、絶縁層を介してＡｌからなる反射層が設けられている。当該反射層は、機能層９６における発光を封止基板８０側に反射するものである。また、当該反射層はＡｌに限定されず、発光を反射する機能（反射面）を有していればよい。例えば、絶縁性の有機材料あるいは無機材料を用いて凹凸を有する反射面を形成する方法、陽極９２自体を反射機能を有する導電材料で構成し、表面層にＩＴＯ膜を形成する方法などが挙げられる。
【０１００】
陰極９８は、同じく、ＩＴＯなどの透明電極材料により形成されている。
【０１０１】
本実施形態の有機ＥＬ装置４は、いわゆるトップエミッション型の構造となっており、陽極９２と陰極９８との間に駆動電流を流して機能層９６で発光した光を上記反射層で反射させて封止基板８０側から取り出す。したがって、封止基板８０は、透明なガラス等からなる基板を用いる。また、素子基板７８は、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【０１０２】
素子基板７８には、有機ＥＬ素子８４を駆動する回路部１０４が設けられている。すなわち、素子基板７８の表面には、ＳｉＯ2を主体とする下地保護層１０６が下地として形成され、その上にはシリコン層１０８が形成されている。このシリコン層１０８の表面には、ＳｉＯ2及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層１１０が形成されている。
【０１０３】
また、シリコン層１０８のうち、ゲート絶縁層１１０を挟んでゲート電極１１２と重なる領域がチャネル領域１０８ａとされている。なお、このゲート電極１１２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層１０８を覆い、ゲート電極１１２を形成したゲート絶縁層１１０の表面には、ＳｉＯ2を主体とする第１層間絶縁層１１４が形成されている。
【０１０４】
また、シリコン層１０８のうち、チャネル領域１０８ａのソース側には、低濃度ソース領域及び高濃度ソース領域１０８ｃが設けられる一方、チャネル領域１０８ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域及び高濃度ドレイン領域１０８ｂが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域１０８ｃは、ゲート絶縁層１１０と第１層間絶縁層１１４とにわたって開孔するコンタクトホール１１６ａを介して、ソース電極１１６に接続されている。このソース電極１１６は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域１０８ｂは、ゲート絶縁層１１０と第１層間絶縁層１１４とにわたって開孔するコンタクトホール１１８ａを介して、ソース電極１１６と同一層からなるドレイン電極１１８に接続されている。
【０１０５】
ソース電極１１６及びドレイン電極１１８が形成された第１層間絶縁層１１４の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化層１０２が形成されている。この平坦化層１０２は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、ＴＦＴ素子１００やソース電極１１６、ドレイン電極１１８などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【０１０６】
そして、陽極９２が、この平坦化層１０２の表面上に形成されると共に、該平坦化層１０２に設けられたコンタクトホール１０２ａを介してドレイン電極１１８に接続されている。すなわち、陽極９２は、ドレイン電極１１８を介して、シリコン層１０８の高濃度ドレイン領域１０８ｂに接続されている。陰極９８は、ＧＮＤに接続されている。したがって、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子１００により、上記電源線から陽極９２に供給され陰極９８との間で流れる駆動電流を制御する。これにより、回路部１０４は、所望の有機ＥＬ素子８４を発光させカラー表示を可能としている。
【０１０７】
なお、有機ＥＬ素子８４を駆動する回路部１０４の構成は、これに限定されるものではない。
【０１０８】
機能層９６は、有機膜からなる正孔注入層、中間層、発光層を含む複数の薄膜層からなり、陽極９２側からこの順で積層されている。本実施形態において、これらの薄膜層は、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて成膜されている。
【０１０９】
正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
【０１１０】
中間層は、正孔注入層と発光層との間に設けられ、発光層に対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。
【０１１１】
発光層の材料としては、例えば、赤色、緑色、青色の発光が得られるポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ＰＥＤＯＴ等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
【０１１２】
このような有機ＥＬ素子８４を有する素子基板７８は、透明な熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封着層１２０を介して透明な封止基板８０と隙間なくベタ封止されている。
【０１１３】
本実施形態の有機ＥＬ装置４は、後述する有機ＥＬ素子８４の製造方法を用いて製造されており、発光層が略一定の膜厚を有しているため、異なる発光色が得られる機能層９６Ｒ，９６Ｇ，９６Ｂにおいてそれぞれ所望の発光特性が得られる。
【０１１４】
なお、本実施形態の有機ＥＬ装置４は、トップエミッション型に限定されず、共通電極としての陰極９８を反射機能を有する不透明なＡｌ等の導電材料を用いて成膜し、有機ＥＬ素子８４の発光を陰極９８で反射させて、素子基板７８側から取り出すボトムエミッション型の構造としてもよい。
【０１１５】
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法について図２２〜図２４を参照して説明する。図２２は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート、図２３及び図２４は、本実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。
【０１１６】
本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法は、図２２に示すように、隔壁部形成工程（ステップＳ１０）と、隔壁部が形成された基板に表面処理を施す表面処理工程（ステップＳ２０）と、正孔注入層形成工程（ステップＳ３０）と、中間層形成工程（ステップＳ４０）と、発光層形成工程（ステップＳ５０）と、陰極形成工程（ステップＳ６０）と、有機ＥＬ素子が形成された素子基板７８と封止基板８０とを接合する封止基板接合工程（ステップＳ７０）とを少なくとも備えている。なお、素子基板７８上に回路部１０４（図２１参照）を形成する工程や回路部１０４に電気的に接続した陽極９２を形成する工程は、公知の製造方法を用いればよく、本実施形態では詳細の説明は省略する。したがって、図２３（Ａ）〜（Ｄ）及び図２４（Ａ）〜（Ｄ）では、回路部１０４の図示を省略している。
【０１１７】
図２２のステップＳ１０は、隔壁部形成工程である。ステップＳ１０では、図２３（Ａ）に示すように、陽極９２の周囲の一部を覆って陽極９２ごとを区画するように隔壁部９４を形成する。形成方法としては、例えば、陽極９２が形成された素子基板７８の表面に、感光性のフェノール樹脂又はポリイミド樹脂をおよそ１〜３μｍ程度の厚みで塗布する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。そして、発光画素７６の形状に対応したマスクを用いて露光し、現像することにより複数の隔壁部９４を形成することができる。以降、隔壁部９４により区画された発光画素７６の領域を膜形成領域Ａと呼ぶ。そして、ステップＳ２０へ進む。
【０１１８】
図２２のステップＳ２０は、表面処理工程である。ステップＳ２０では、隔壁部９４が形成された素子基板７８の表面に親液処理と撥液処理とを施す。まず、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を行い、主に無機材料からなる陽極９２の表面に親液処理を施す。次に、ＣＦ4などのフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理を行い、有機材料からなる隔壁部９４の表面にフッ素を導入して撥液処理を施す。そして、ステップＳ３０へ進む。
【０１１９】
図２２のステップＳ３０は、正孔注入層形成工程である。ステップＳ３０では、まず、図２３（Ｂ）に示すように、正孔注入輸送層形成材料を含む液状体１２２を膜形成領域Ａに塗布する。液状体１２２は、例えば、溶媒としてジエチレングリコールと水（純水）とを含んでおり、正孔注入層形成材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを重量比で０．５％程度含んだものを用いた。粘度がおよそ２０ｍＰａ・ｓ以下となるように溶媒の割合が調整されている。
【０１２０】
液状体１２２を塗布する方法としては、第１の実施形態において説明した液状体（インク）を吐出ヘッド３４のノズル５６から吐出可能な吐出装置２を用いる。吐出ヘッド３４とワークＷである素子基板７８とを対向させ、吐出ヘッド３４から液状体１２２を吐出する。吐出された液状体１２２は、液滴として親液処理された陽極９２に着弾して濡れ拡がる。また、乾燥後の正孔注入層の膜厚がおよそ５０〜７０ｎｍとなるように、膜形成領域Ａの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
【０１２１】
乾燥工程では、素子基板７８を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体１２２の溶媒成分を乾燥させて除去し、図２３（Ｃ）に示すように膜形成領域Ａの陽極９２上に正孔注入層９６ａを形成する。なお、本実施形態では、各膜形成領域Ａに同一材料からなる正孔注入層９６ａを形成したが、後に形成される発光層に対応して正孔注入層９６ａの材料を発光色ごとに変えてもよい。そしてステップＳ４０へ進む。
【０１２２】
図２２のステップＳ４０は、中間層形成工程である。ステップＳ４０では、図２３（Ｄ）に示すように、中間層形成材料を含む液状体１２４を膜形成領域Ａに付与する。
【０１２３】
液状体１２４は、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含み、中間層形成材料として、前述したトリフェニルアミン系ポリマーを重量比で０．１％程度含んだものを用いた。粘度はおよそ６ｍＰａ・ｓである。
【０１２４】
液状体１２４を塗布する方法としては、液状体１２２を塗布する場合と同様に、第１の実施形態の吐出装置２を用いる。乾燥後の中間層の膜厚がおよそ１０〜２０ｎｍとなるように、膜形成領域Ａの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
【０１２５】
乾燥工程では、素子基板７８を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体１２４の溶媒成分を乾燥させて除去し、図２４（Ａ）に示すように膜形成領域Ａの正孔注入層９６ａ上に中間層９６ｃを形成する。そしてステップＳ５０へ進む。
【０１２６】
図２２のステップＳ５０は、発光層形成工程である。ステップＳ５０では、図２４（Ｂ）に示すように、発光層形成材料を含む液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂをそれぞれ対応する膜形成領域Ａに塗布する。
【０１２７】
液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含んでおり、発光層形成材料としてＰＦを重量比で０．７％含んだものを用いた。粘度はおよそ１４ｍＰａ・ｓである。
【０１２８】
液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂを塗布する方法は、やはり第１の実施形態の吐出装置２を用い、それぞれ異なる吐出ヘッド３４に充填されて吐出される。
【０１２９】
発光層の成膜にあたり、液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂを膜形成領域Ａに吐出むらなく、且つ必要量を安定的に吐出することができる第１の実施形態の液滴の吐出方法を用いた。すなわち、第１吐出工程では、液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂが濡れ拡がり難い隔壁部９４の近傍に液滴を吐出し、第２吐出工程では、時分割駆動により必要量に対して残りの液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂを液滴として吐出した。第２吐出工程では、吐出量及び／又は吐出数が補正された液滴を吐出している。乾燥後の発光層の膜厚がおよそ５０〜１００ｎｍとなるように、膜形成領域Ａの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして固化工程としての乾燥工程へ進む。
【０１３０】
本実施形態における吐出された液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂの乾燥工程は、一般的な加熱乾燥に比べて溶媒成分を比較的均一に乾燥可能な減圧乾燥法を用いている。第１吐出工程及び第２吐出工程により、膜形成領域Ａに満遍なく必要量の液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂが塗布されている。したがって、図２４（Ｃ）に示すように、乾燥後に形成された発光層９６ｒ，９６ｇ，９６ｂは、膜形成領域Ａごとに略一定の膜厚を有する。そして、ステップＳ６０へ進む。
【０１３１】
図２２のステップＳ６０は、陰極形成工程である。ステップＳ６０では、図２４（Ｄ）に示すように、隔壁部９４と各機能層９６Ｒ，９６Ｇ，９６Ｂとを覆うように陰極９８を形成する。これにより有機ＥＬ素子８４が構成される。
【０１３２】
陰極９８の材料としては、ＩＴＯとＣａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物とを組み合わせて用いるのが好ましい。特に機能層９６Ｒ，９６Ｇ，９６Ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＩＴＯを形成するのが好ましい。また、陰極９８の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極９８の酸化を防止することができる。陰極９８の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に機能層９６Ｒ，９６Ｇ，９６Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。そして、ステップＳ７０へ進む。
【０１３３】
図２２のステップＳ７０は、封止基板接合工程である。ステップＳ７０では、有機ＥＬ素子８４が形成された素子基板７８に透明な封着層１２０を塗布して、透明な封止基板８０と隙間なくベタ封止する（図２１参照）。さらに封止基板８０の外周領域において水分や酸素等の進入を防ぐ接着層を設けて接合することが望ましい。
【０１３４】
以上のような有機ＥＬ素子８４の製造方法によれば、液滴吐出法により成膜された機能層９６Ｒ，９６Ｇ，９６Ｂは、成膜むらが低減され、それぞれ略一定の膜厚の発光層９６ｒ，９６ｇ，９６ｂを有している。したがって、成膜むらに起因する輝度むらが低減された有機ＥＬ素子８４を製造することができる。
【０１３５】
本実施形態によれば、塗布領域としての膜形成領域に必要量の液状体が安定的に付与されるので、固化工程で付与された液状体を固化すれば、膜形成領域ごとにほぼ一定の膜厚を有する発光層が形成される。したがって、発光層の膜厚ムラに起因する輝度ムラや発光ムラが低減され、有機ＥＬ素子を歩留りよく製造することができる。また、フルカラーの発光が得られる有機ＥＬ素子を歩留まりよく製造することができる。更に、膜形成領域に付与される液状体ごとに必要量が異なっていても、適正に吐出量の補正がなされ、所望の膜厚を有する発光層を形成することができる。
【０１３６】
（第３の実施形態）
＜液晶表示装置＞
次に、本実施形態のカラーフィルターを備えた液晶表示装置について図２５を参照して説明する。図２５は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す概略分解斜視図である。
【０１３７】
本実施形態の液晶表示装置６は、図２５に示すように、ＴＦＴ透過型の液晶表示パネル１２８と、液晶表示パネル１２８を照明する照明装置１３０とを備えている。液晶表示パネル１２８は、３色の着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂを有するカラーフィルター１３２を備えた対向基板１３４と、画素電極１３６に３端子のうちの１つが接続されたスイッチング素子としてのＴＦＴ素子１３８を有する素子基板１４０と、一対の基板１３４，１４０によって挟持された液晶（図示省略）とを備えている。また、液晶表示パネル１２８の外面側となる一対の基板１３４，１４０の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板１４２と下偏光板１４４とが配設される。
【０１３８】
対向基板１３４は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に隔壁部１４６によってマトリクス状に区画された複数の膜形成領域に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、３色の着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂが形成されている。隔壁部１４６は、Ｃｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる下層バンク１４８と、下層バンク１４８の上（図面では下向き）に形成された有機化合物からなる上層バンク１５０とにより構成されている。また、隔壁部１４６と着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）１５２と、ＯＣ層１５２を覆うように形成されたＩＴＯなどの透明導電膜からなる対向電極１５４とを備えている。対向基板１３４は、上記第１の実施形態の液滴の吐出方法を適用したカラーフィルター１３２の製造方法を用いて製造されている（実施例１〜実施例４の液滴の吐出方法うち、例えば実施例３を適用）。
【０１３９】
素子基板１４０は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜１５６を介してマトリクス状に形成された画素電極１３６と、画素電極１３６に対応して形成された複数のＴＦＴ素子１３８とを有している。ＴＦＴ素子１３８の３端子のうち、画素電極１３６に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極１３６を囲むように格子状に配設された走査線１５８とデータ線１６０とに接続されている。
【０１４０】
照明装置１３０は、例えば光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源からの光を液晶表示パネル１２８に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。
【０１４１】
本実施形態の液晶表示装置６は、上記第１の実施形態の液滴の吐出方法を適用したカラーフィルター１３２の製造方法を用いて製造された着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂを有する対向基板１３４を備えているので、色むら等の表示不具合の少ない高い表示品質を有する。
【０１４２】
なお、液晶表示パネル１２８は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子１３８を有したものに限らず、少なくとも一方の基板にカラーフィルターを備えるものであれば、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。また、上下偏光板１４２，１４４は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。
【０１４３】
＜カラーフィルターの製造方法＞
次に、本実施形態のカラーフィルター１３２の製造方法について図２６を参照して説明する。図２６は、本実施形態に係るカラーフィルターの製造方法を示す概略断面図である。
【０１４４】
まず、図２６（Ａ）に示すように、対向基板１３４の表面に、膜形成領域Ａを区画するように隔壁部１４６を形成する（隔壁部形成工程）。形成方法としては、真空蒸着法やスパッタ法により、ＣｒやＡｌなどの金属膜又は金属化合物の膜を対向基板１３４の表面に遮光性を有するように成膜する。そしてフォトリソグラフィ法により、感光性樹脂（フォトレジスト）を塗布して膜形成領域Ａが開口するように露光・現像・エッチングして下層バンク１４８を形成する。続いてフォトリソグラフィ法により、感光性の隔壁部形成材料をおよそ２μｍの厚みで塗布して露光・現像し、下層バンク１４８上に上層バンク１５０を形成する。隔壁部１４６は、下層バンク１４８と上層バンク１５０とからなる所謂二層バンク構造となっている。なお、隔壁部１４６は、これに限らず、遮光性を有する感光性の隔壁部形成材料を用いて形成した上層バンク１５０のみの一層構造としてもよい。
【０１４５】
次に、後の液滴の吐出工程において、吐出された液状体が膜形成領域Ａに着弾して濡れ拡がるように、対向基板１３４の表面を親液処理する。また、吐出された液状体の一部が上層バンク１５０に着弾したとしても膜形成領域Ａ内に収まるように、上層バンク１５０の少なくとも頭頂部を撥液処理する。
【０１４６】
表面処理方法としては、隔壁部１４６が形成された対向基板１３４に対して、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、膜形成領域Ａが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク１５０の表面（壁面を含む）が撥液処理される。なお、上層バンク１５０を形成する材料自体が撥液性を有していれば後者の処理を省くこともできる。
【０１４７】
続いて、吐出装置２のステージ２２に表面処理されたワークＷである対向基板１３４を載置する。そして、図２６（Ｂ）に示すように、対向基板１３４が載置されたステージ２２と吐出ヘッド３４との主走査方向への相対移動に同期して、吐出ヘッド３４の複数のノズル５６から例えばＲ（赤）の着色層形成材料が含まれた液状体１６２Ｒを液滴として膜形成領域Ａに吐出する（液状体の第１吐出工程及び第２吐出工程）。他の液状体１６２Ｇ，１６２Ｂにおいても同様である。これにより、図２６（Ｃ）に示すように、吐出むらが低減され、必要量の液状体が膜形成領域Ａごとに塗布される。
【０１４８】
次に、図２６（Ｄ）に示すように、対向基板１３４に吐出された液状体１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂから溶媒成分を蒸発させて、着色層形成材料からなる着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂを成膜する（成膜工程）。本実施形態では、液状体１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂに含まれる溶媒を略一定速度で乾燥することが可能な減圧乾燥装置に対向基板１３４をセットして減圧乾燥し、Ｒ、Ｇ、Ｂ、３色の着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂを形成した。なお、１色の液状体を吐出して乾燥する工程を３回繰り返してもよい。
【０１４９】
先の液滴の吐出工程において、吐出むらが低減され、必要量の液状体１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂが膜形成領域Ａごとに安定的に塗布されているので、略一定の膜厚を有する着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂを形成することができる。なお、着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂの膜厚は、色ごとに設定すればよく、必ずしも３色が同一でなくてもよい。必要な膜厚の設定に基づいて、必要量の液状体１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂを対応する膜形成領域Ａに吐出すればよい。
【０１５０】
次に、図２６（Ｅ）に示すように、着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂと上層バンク１５０とを覆うように平坦化層としてのＯＣ層１５２を形成する（平坦化層形成工程）。形成方法としては、スピンコート法、ロールコート法などによりアクリル系樹脂をコーティングして乾燥させる方法が挙げられる。また、感光性アクリル樹脂をコーティングしてから紫外光を照射して硬化させる方法も採用することができる。膜厚は、およそ１００ｎｍである。なお、着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂが形成された対向基板１３４の表面が比較的に平坦ならば、平坦化層形成工程を省いてもよい。
【０１５１】
次に、図２６（Ｆ）に示すように、ＯＣ層１５２の上にＩＴＯなどからなる対向電極１５４を成膜する（対向電極成膜工程）。成膜方法としては、ＩＴＯなどの導電材料をターゲットとして真空中で蒸着あるいはスパッタする方法が挙げられる。膜厚は、およそ１０ｎｍである。形成された対向電極１５４は、適宜必要な形状（パターン）に加工される。なお、液晶表示装置６の構成によっては、対向電極１５４を必要としない場合もある。
【０１５２】
このようなカラーフィルター１３２の製造方法によれば、上記第１の実施形態の液滴の吐出方法を適用して３色の着色層形成材料を含む液状体１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂを対応する膜形成領域Ａに吐出しているため、乾燥後に色むらが低減され、略一定の膜厚を有する着色層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂを形成することができる。すなわち、所望の光学特性を有するカラーフィルター１３２を製造することができる。
【０１５３】
液晶表示装置６は、このようなカラーフィルター１３２を備えた対向基板１３４を用いて構成されているため、見映えのよいカラー表示が可能である。
【０１５４】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【０１５５】
（変形例１）上記第１の実施形態における吐出装置２の構成は、これに限定されない。例えば、ヘッドプレート１２ａに搭載される吐出ヘッド３４の配置は、吐出される液状体の種類によってその配置を変えてもよい。
【０１５６】
（変形例２）上記第１の実施形態の液滴の吐出方法において、膜形成領域Ａの形状及び配置は、これに限定されない。例えば、ストライプ方式の配置だけでなく、モザイク方式やデルタ方式の配置においても適用できる。
【０１５７】
（変形例３）上記第１の実施形態の液滴の吐出方法において、時分割駆動を実現する駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の構成は、これに限定されない。例えば、２種類の波形構成としても時分割駆動は可能である。
【０１５８】
（変形例４）上記第２の実施形態の有機ＥＬ素子８４の製造方法において、上記第１の実施形態の液滴の吐出方法を適用するのは、着色層形成材料を含む液状体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂの吐出工程に限定されない。例えば、正孔注入層形成材料を含む液状体１２２や中間層形成材料を含む液状体１２４の吐出工程においても適用可能である。
【０１５９】
（変形例５）上記第２の実施形態の有機ＥＬ装置４において、発光画素７６の構成は、これに限定されない。例えば、発光画素７６に備えた有機ＥＬ素子８４を白色発光可能な構成とする。そして、封止基板８０側に３色のカラーフィルターを備える構成とする。これによれば、同様に輝度むらが低減された見映えのよいカラー表示が可能となる。
【０１６０】
（変形例６）上記第３の実施形態のカラーフィルター１３２の製造方法において、吐出される液状体は、３色に限定されない。例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に他の色を加えた多色の液状体を吐出してもよい。
【符号の説明】
【０１６１】
２…吐出装置  ４…有機ＥＬ装置  ６…液晶表示装置  １０…ワーク移動機構  １２…ヘッドユニット  １２ａ…ヘッドプレート  １４…ヘッド移動機構  １６…ガイドレール  １８…移動台  ２０…回転機構  ２２…ステージ  ２４…エンコーダー  ２６…ガイドレール  ２８…移動台  ３０…回転機構  ３２…キャリッジ  ３４…吐出ヘッド  ３４Ａ，３４Ｂ…ヘッド群  ３６…ヘッドドライバー  ３８…重量計測機構  ４０…制御部  ４２…接続針  ４４…導入部  ４６…ヘッド基板  ４８…ヘッド本体  ５０…コネクター  ５２…加圧部（駆動手段）  ５４…ノズルプレート  ５４ａ…ノズル面  ５６…ノズル  ５６ａ，５６ｂ，５６ｃ…ノズル列  ５８…駆動部  ６０…移動用ドライバー  ６２…重量計測用ドライバー  ６４…ＣＰＵ  ６６…ＲＯＭ  ６８…ＲＡＭ  ７０…Ｐ−ＣＯＮ  ７２…バス  ７４…上位コンピューター  ７６…発光画素  ７８…基板としての素子基板  ７８ａ…端子部  ８０…封止基板  ８２…発光領域  ８４…有機ＥＬ素子  ８６…走査線駆動回路部  ８８…データ線駆動回路部  ９０…中継基板  ９２…陽極  ９４…隔壁部  ９６…機能層  ９６ａ…正孔注入層  ９６ｃ…中間層  ９６ｒ，９６ｇ，９６ｂ…発光層  ９６Ｒ，９６Ｇ，９６Ｂ…機能層  ９８…陰極  １００…ＴＦＴ素子  １０２…平坦化層  １０２ａ…コンタクトホール  １０４…回路部  １０６…下地保護層  １０８…シリコン層  １０８ａ…チャネル領域  １０８ｂ…高濃度ドレイン領域  １０８ｃ…高濃度ソース領域  １１０…ゲート絶縁層  １１２…ゲート電極  １１４…第１層間絶縁層  １１６…ソース電極  １１６ａ…コンタクトホール  １１８…ドレイン電極  １１８ａ…コンタクトホール  １２０…封着層  １２２，１２４…液状体  １２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂ…発光層形成材料を含む液状体  １２８…液晶表示パネル  １３０…照明装置  １３２…カラーフィルター  １３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂ…着色層  １３４…基板としての対向基板  １３６…画素電極  １３８…ＴＦＴ素子  １４０…素子基板  １４２…上偏光板  １４４…下偏光板  １４６…隔壁部  １４８…下層バンク  １５０…上層バンク  １５２…オーバーコート層（ＯＣ層）  １５４…対向電極  １５６…絶縁膜  １５８…走査線  １６０…データ線  １６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂ…液状体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図９】
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