(57)【要約】【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。【選択図】図３
2011123263.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置であって、
前記各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、
該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、
前記各光通過部は、前記複数枚の遮光部材が重ね合わせられた際に、前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように形成されることを特徴とする近接露光装置。
【請求項２】
前記複数枚の遮光部材は、前記所定の方向と直交する方向に所定の間隔で配置される複数の光通過部をそれぞれ有する第１及び第２の遮光部材と、を備え、
前記第１の遮光部材の複数の光通過部と、前記第２の遮光部材の複数の光通過部は、前記直交方向にそれぞれオフセットして配置されていることを特徴とする請求項１に記載の近接露光装置。
【請求項３】
前記各遮光ユニットは、前記複数枚の遮光部材を前記所定の方向及び上下方向にそれぞれ駆動可能な複数の駆動機構を有することを特徴とする請求項１または２に記載の近接露光装置。
【請求項４】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を、前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
【請求項５】
前記上流側に戻す前の前記マスクに対して下流側に移動した前記複数枚の遮光部材を上昇させる工程を、さらに備えることを特徴とする請求項４に記載の近接露光方法。
【請求項６】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を前記各光通過部の前記直交方向の位置が一致するように前記直交方向に相対的に移動させる工程と、
前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
【請求項７】
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材は、前記直交方向に相対的に移動させると共に、上昇させることを特徴とする請求項６に記載の近接露光方法。
【請求項８】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一枚の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記遮光部材を前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した前記遮光部材を上昇させる工程と、
前記上昇後の前記遮光部材を、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接露光装置および近接露光方法に関し、より詳細には、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等の液晶ディスプレイやプラズマディスプレイのような大型のフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ基板やアレイ基板等に所望のパターンを露光転写するのに好適な近接露光装置および近接露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行う近接走査露光方式が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。  
【０００３】
また、特許文献１に記載の露光装置では、複数の遮光部材を用いて、基板の移動速度に合わせて遮光部材を移動させると共に、露光中に、移動した遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻すようにして、遮光部材の移動に伴う露光への影響を抑えることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３１０００７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記近接露光装置では、さらなる露光精度の向上が求められており、露光中に、遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻したとしても遮光部材の下方の基板の露光領域では露光量が低下してしまうため、該露光領域に遮光部材による露光不足箇所が発生し、製品に露光むらが生じる可能性があった。
【０００６】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置であって、
前記各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、
該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、
前記各光通過部は、前記複数枚の遮光部材が重ね合わせられた際に、前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように形成されることを特徴とする近接露光装置。
（２）  前記複数枚の遮光部材は、前記所定の方向と直交する方向に所定の間隔で配置される複数の光通過部をそれぞれ有する第１及び第２の遮光部材と、を備え、
前記第１の遮光部材の複数の光通過部と、前記第２の遮光部材の複数の光通過部は、前記直交方向にそれぞれオフセットして配置されていることを特徴とする（１）に記載の近接露光装置。
（３）  前記各遮光ユニットは、前記複数枚の遮光部材を前記所定の方向及び上下方向にそれぞれ駆動可能な複数の駆動機構を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の近接露光装置。
【０００８】
（４）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を、前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
（５）  前記上流側に戻す前の前記マスクに対して下流側に移動した前記複数枚の遮光部材を上昇させる工程を、さらに備えることを特徴とする（４）に記載の近接露光方法。
（６）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を前記各光通過部の前記直交方向の位置が一致するように前記直交方向に相対的に移動させる工程と、
前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
（７）  前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材は、前記直交方向に相対的に移動させると共に、上昇させることを特徴とする（６）に記載の近接露光方法。
（８）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一枚の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記遮光部材を前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した前記遮光部材を上昇させる工程と、
前記上昇後の前記遮光部材を、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の近接露光装置によれば、各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、複数枚の遮光部材は、露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、各光通過部は、複数枚の遮光部材が重ね合わせられた際に、露光用光が各光通過部と対向する複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように形成される。これにより、複数枚の遮光部材を用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光用光が光通過部を通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
【００１０】
また、近接露光方法によれば、上記複数枚の遮光部材を使用し、マスクの下方で基板を搬送する工程と、露光用光が各光通過部と対向する複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、複数枚の遮光部材を重ね合わせながら所定の方向へ移動させ、マスクのパターンを遮光して基板に遮光領域を形成する工程と、マスクに対して下流側に移動した後の複数枚の遮光部材を、露光用光が各光通過部を通過するように所定の方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する。これにより、複数枚の遮光部材を用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光用光が光通過部を通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
【００１１】
また、他の近接露光方法によれば、上記複数枚の遮光部材を用いて、基板がマスクの下方で搬送されている状態で、露光用光が各光通過部と対向する複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、複数枚の遮光部材を重ね合わせながらマスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、基板がマスクの下方で搬送されている状態で、マスクに対して下流側に移動した後の複数枚の遮光部材を各光通過部の直交方向の位置が一致するように直交方向に相対的に移動させる工程と、基板がマスクの下方で搬送されている状態で、露光用光が各光通過部を通過するように複数枚の遮光部材を重ね合わせながら所定の方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する。これにより、複数枚の遮光部材を用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。また、複数枚の遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻すことができるので、タクトタイムを短縮することができる。
【００１２】
さらに他の近接露光方法によれば、少なくとも一枚の遮光部材を用いて、マスクの下方で基板を搬送する工程と、遮光部材を所定の方向へ移動させ、マスクのパターンを遮光して基板に遮光領域を形成する工程と、マスクに対して下流側に移動した遮光部材を上昇させる工程と、上昇後の遮光部材を、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する。これによっても、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態である近接露光装置の平面図である。
【図２】図１における近接露光装置の正面図である。
【図３】本実施形態の遮光部材とマスクのパターンとを示す斜視図である。
【図４】本実施形態の遮光部材の駆動機構を示す側面図である。
【図５】（ａ）は、一対の遮光部材を示す正面図であり、（ｂ）は、遮光工程において一対の遮光部材が重ねあわされた状態を示す正面図である。
【図６】非露光領域を有する基板を示す図である。
【図７】（ａ）は、遮光工程における各遮光部材の位置関係を示す側面図であり、（ｂ）は、露光工程において、遮光部材がマスクに対して下流側に移動した状態を示す側面図であり、（ｃ）は、戻し工程における各遮光部材の位置関係を示す側面図である。
【図８】図７（ｃ）の戻し工程における遮光部材を通過する露光用光を示す側面図である。
【図９】（ａ）は、本実施形態の変形例における一対の遮光部材を示す正面図であり、（ｂ）は、遮光工程において一対の遮光部材が重ねあわされた状態を示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明では、下地パターン層であるブラックマトリクス層が形成された露光領域と、下地パターン層が形成されていない非露光領域を有した、複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層のいずれかを形成する近接露光装置及び近接露光方法について説明する。
【００１５】
先ず、本実施形態の近接露光装置１の構成について概略説明する。図１及び図２に示すように、本実施形態の近接露光装置１は、基板（カラーフィルタ基板）Ｗを浮上させて支持すると共に、所定の方向（図１のＸ方向）に搬送する基板搬送機構１０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定の方向と直交する方向（図１のＹ方向）に沿って千鳥状に二列配置された複数（図１に示す実施形態において、左右それぞれ６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１を駆動するマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光ＥＬを照射する複数の照射部１３と、各照射部１３と各マスク保持部１１との間にそれぞれ配置され、照射部１３から出射された露光用光ＥＬを遮光するための複数の遮光ユニット１４と、近接露光装置１の各作動部分の動きを制御する制御部１５と、を主に備える。  
【００１６】
基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送する基板駆動ユニット１７とを備える。浮上ユニット１６は、複数のフレーム１９上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介して排気エアパッド２０や吸排気エアパッド２１からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット１７は、図１に示すように、浮上ユニット１６によって浮上、支持された基板Ｗの一端を保持する吸着パッド２２を備え、モータ２３、ボールねじ２４、及びナット（図示せず）からなるボールねじ機構２５によって、ガイドレール２６に沿って基板ＷをＸ方向に搬送する。なお、図２に示すように、複数のフレーム１９は、地面にレベルブロック１８を介して設置された装置ベース２７上に他のレベルブロック２８を介して配置されている。また、基板Ｗは、ボールねじ機構２５の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
【００１７】
マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回
転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ
方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。    
【００１８】
また、図１に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部１１ａ，１１ｂ間には、各マスク保持部１１ａ，１１ｂのマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ２が配設されている。マスクチェンジャ２により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ３，４との間でローダー５により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ３，４とマスクチェンジャ２とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行われる。
【００１９】
図２に示すように、マスク保持部１１の上部に配置される照射部１３は、ＹＡＧレーザーや、エキシマレーザー等の光源４１と、この光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。なお、光源４１としては、紫外線を含んだ連続光に放射する、超高圧水銀ランプであってもよく、フラッシュ光を放射するＹＡＧレーザーやエキシマレーザーであってもよい。  
【００２０】
図３及び図４に示すように、各遮光ユニット１４は、それぞれ異なる高さでＸ方向及びＺ方向に移動可能に配置される少なくとも一組（本実施形態では、４組）の複数枚（本実施形態では、２枚）の遮光部材６０，６１，６２，６３（６０ａ,６０ｂ，６１ａ，６１ｂ，６２ａ，６２ｂ，６３ａ，６３ｂ）を有する。各遮光部材６０，６１，６２，６３は、Ｙ方向に延在して略長方形形状を有しており、その一端部はリニアモータ７０ａ，７０ｂ，７１ａ，７１ｂ，７２ａ，７２ｂ，７３ａ，７３ｂ（遮光部材Ｘ方向駆動機構）に連結されている。リニアモータ７０ａ〜７３ｂは、不図示のドライバにより、ガイドレール７５ａ，７５ｂ，７６ａ，７６ｂ，７７ａ，７７ｂ，７８ａ，７８ｂに沿ってＸ軸方向に移動自在となっている。
また、ガイドレール７５ａ〜７８ｂの両端部は、一対の遮光部材Ｚ方向駆動機構８０の各ナット部材８１にそれぞれ取り付けられている。一対の遮光部材Ｚ方向駆動機構８０は、ボールねじ機構を備え、モータ８２によってねじ軸８３を回転駆動することで、ナット部材８１をガイドレール８４に沿って上下方向に移動させる。
【００２１】
これら遮光部材６０，６１，６２，６３のうち、第１及び第２組の遮光部材６０ａ〜６１ｂは、それぞれ等しい幅ｗ１，ｗ２を有しており、第１及び第２組の遮光部材６０ａ，６１ｂの上方に配置された第３及び第４組の遮光部材６２ａ〜６３ｂは、幅ｗ１，ｗ２より広い、それぞれ等しい幅ｗ３，ｗ４を有している。なお、各組の遮光部材６０ａ〜６３ｂの幅ｗ１〜ｗ４は、任意に設定することができ、ｗ１、ｗ２、ｗ３、ｗ４はそれぞれ異なる寸法であってもよい。
【００２２】
図５（ａ）に示すように、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂは、互いに等しい幅ｗ１を有しており、各遮光部材６０ａ，６０ｂは、Ｘ方向に２つずつ、Ｙ方向に所定の間隔で配置され、露光用光ＥＬを通過させる複数の貫通孔（光通過部）９０ａ，９０ｂをそれぞれ備える。各遮光部材６０ａ，６０ｂの貫通孔９０ａ，９０ｂは、Ｘ方向中間部を通過してＹ方向に延びる線Ｌに対して対称に形成されており、また、一方の遮光部材６０ａの貫通孔９０ａと、他方の遮光部材９０ｂの貫通孔９０ｂは、Ｙ方向にそれぞれオフセットして配置されている。具体的に、他方の遮光部材６０ｂの貫通孔９０ｂのＹ方向中心が、一方の遮光部材６０ａの隣り合う貫通孔９０ａ間のＹ方向中間位置に配置されている。これにより、図５（ｂ）に示すように、遮光部材６０ａ，６０ｂがＸ方向に移動して重ね合わせられた際に、貫通孔９０ａは、他方の遮光部材６０ｂの遮光する部分と対向し、貫通孔９０ｂは、一方の遮光部材６０ａの遮光する部分と対向するので、各遮光部材６０ａ，６０ｂは、露光用光ＥＬを遮光することができる。また、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂが遮光する際のＸ方向における最大幅は、各遮光部材６０ａ，６０ｂのＸ方向長辺から貫通孔９０ａ，９０ｂまでのＸ方向距離をｄとすると、ｗ１＋ｄに設定される。
【００２３】
貫通孔９０ａ，９０ｂの内径は、遮光部材６０ａ，６０ｂを上昇させてマスク上方を移動させた際、遮光部材６０ａ，６０ｂの周囲、及び貫通孔９０ａ，９０ｂを通過した露光用光ＥＬの回折光が、マスクＭの遮光部材６０ａ，６０ｂ下の領域全体を照射するように設定されることが好ましい。
【００２４】
また、一方の遮光部材６０ａのＹ方向固定端寄り側面と該側面寄りの貫通孔９０ａまでのＹ方向距離ｄ１が他方の遮光部材６０ｂのＹ方向自由端寄り側面と該側面寄りの貫通孔９０ｂまでのＹ方向距離ｄ１と等しく、加えて、一方の遮光部材６０ａのＹ方向自由端寄り側面と該側面寄りの貫通孔９０ａまでのＹ方向距離ｄ２が他方の遮光部材６０ｂのＹ方向固定端寄り側面と該側面寄りの貫通孔９０ｂまでのＹ方向距離ｄ２と等しい。従って、一対の遮光部材６０ａ，６０ｂは、Ｙ方向に入れ替えて利用することで、同一部材によって構成することができる。
なお、第２〜第４組の遮光部材６１ａ〜６３ｂにも、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂの複数の貫通孔９０ａ，９０ｂと同様に構成された複数の貫通孔９１ａ，９１ｂ，９２ａ，９２ｂ，９３ａ，９３ｂを有する。なお、各貫通孔９０ａ〜９３ｂの内径や数は、遮光部材６０ａ〜６３ｂの寸法に応じて適宜設定される。
【００２５】
次に、このように構成された近接露光装置１の動作について説明する。ここで、使用される基板としては、例えば、図６に示すように、パネル間の非露光領域ＮＲを有する基板Ｗを用い、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層のいずれかのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する場合について説明する。
【００２６】
近接露光装置１は、浮上ユニット１６の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１の空気流によって基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に一定の速度で搬送する。そして、マスク保持部１１の下方に位置する基板Ｗに対して、照射部１３からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板ＷとマスクＭとの位置誤差は、図示しない撮像手段が検出する基板Ｗ及びマスクＭの位置データに基づいて制御部１５から出力される指令信号によって、θ方向駆動部３３、及びＹ方向
駆動部３２が作動してマスクＭの位置を微調整することで補正（位置合わせ）される。
【００２７】
ここで、図７（ａ）に示すように、基板ＷがマスクＭの下方で搬送され、基板Ｗにパターンの露光転写が行なわれている状態で、基板Ｗの非露光領域ＮＲがマスクＭのパターン領域の下方に入る。すると、マスクＭに対して上流側に待機していた各組の遮光部材６０ａ〜６３ｂは、搬送方向に必要重ね代を持って並べられ、非露光領域ＮＲを遮光するように配置される。また、各組の遮光部材６０ａ〜６３ｂは、露光用光ＥＬが貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する各遮光部材６０ａ〜６３ｂによって遮光されるように、各遮光部材６０ａ〜６３ｂを重ね合わせながらマスクＭのパターンを遮光する。例えば、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂでは、一方の遮光部材６０ａの貫通孔９０ａが、他方の遮光部材６０ｂの遮光する部分と対向し、他方の遮光部材６０ｂの貫通孔９０ｂが、一方の遮光部材６０ａの遮光する部分と対向する。なお、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂは、Ｘ方向における幅をｗ１からｗ１＋ｄの範囲で変更しながら露光用光ＥＬを遮光することができる。そして、遮光部材６０，６１，６２，６３を基板Ｗの搬送と同速度でＸ方向に移動させ、マスクＭのパターンを遮光して、非露光領域ＮＲ上に遮光領域を形成する。
【００２８】
このとき、下方に位置する第１組及び第２組の遮光部材６０，６１が、最も上流側と最も下流側に配置されることが好ましい。例えば、第２の遮光部材６１がマスクＭに対して下流側へ移動して、露光が開始された際、露光光が回折して遮光部材６１の内側へ回り込む光の幅が小さくなり、露光領域ＥＲと非露光領域ＮＲ（遮光領域）との境界をくっきりと露光転写することができる。  
【００２９】
一方、図７（ｂ）に示すように、上記被露光領域ＮＲを遮光して露光を開始した後は、すべての遮光部材６０ａ〜６３ｂがマスクＭの下流側に移動している。その後、次の遮光領域を遮光するまでの露光動作中、マスクＭに対して下流側に移動した後の遮光部材６０，６１，６２，６３をＸ方向と反対方向に高速で移動させ、露光中のマスクＭのパターンを横切って、マスクＭに対して上流側に戻す必要がある。
【００３０】
この戻し工程時には、まず、これら遮光部材６０，６１，６２，６３を遮光部材Ｚ方向駆動機構８０によって所定の戻し高さまで上昇させる。そして、図７（ｃ）に示すように、各遮光部材６０ａ〜６３ｂをＸ方向においてそれぞれ離れた状態で、搬送方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクＭのパターンを横切らせる。これにより、図８に示すように、露光用光ＥＬはＸ方向両側面を通過した光と貫通孔９０ａ，９０ｂを通過した光がそれぞれ回折することで、マスクＭにおいて遮光部材６０ａ，６０ｂに近い面積で照射され、急激な露光量の変化をなくし、露光むらを低減することができる。
【００３１】
そして、すべての遮光部材６０ａ〜６３ｂがマスクＭに対して上流側へ戻された後、遮光部材Ｚ方向駆動機構８０によって所定の遮光高さまで下降させ、基板Ｗの次の非露光領域ＮＲがマスクＭのパターン領域の下方を通過する際に備えて待機する。
【００３２】
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置１によれば、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。この装置１により、各組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材６０ａ〜６３ｂを上流側に戻す際に、露光用光ＥＬを貫通孔９０ａ〜９３ｂを通過させ、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
【００３３】
また、近接露光方法によれば、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを使用し、基板ＷをマスクＭの下方で搬送する工程と、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを重ね合わせながらＸ方向に移動させ、マスクＭのパターンを遮光して基板Ｗに遮光領域を形成する工程と、マスクＭに対して下流側に移動した後の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂを通過するように搬送方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクＭのパターンを横切って、マスクＭに対して上流側に戻す工程と、を有する。この方法により、複数枚の遮光部材６０ａ〜６３ｂを用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材６０ａ〜６３ｂを上流側に戻す際に、露光用光ＥＬが貫通孔９０ａ〜９３ｂを通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
【００３４】
さらに、上流側に戻す前のマスクＭに対して下流側に移動した各組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを上昇させる工程を、さらに備えることで貫通孔９０ａ〜９３ｂを通過する露光用光ＥＬの回折光がマスクＭを照射する領域を広げることができ、貫通孔９０ａ〜９３ｂの内径を大きくしなくてもよい。これにより、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂによる遮光時のＸ方向幅を広く設定することができる。
【００３５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態では、遮光ユニットの遮光部材の構成において第１実施形態と異なる。そのため、第１実施形態と同一または同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。本実施形態においても、各組の遮光部材６０ａ〜６３ｂは、それぞれＸ方向の幅が異なるのみであるため、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂについてのみ説明する。
【００３６】
本実施形態では、図９（ａ）に示すように、各遮光部材６０ａ，６０ｂは、それぞれ櫛歯形状に形成されており、Ｙ方向に長方形形状に延びる基部１００ａ，１００ｂと、各基部１００ａ，１００ｂからそれぞれＸ方向に延びて、Ｙ方向に所定の間隔で配置される複数の突出片１０１ａ，１０１ｂと、を備え、それぞれ隣り合う突出片１０１ａ，１０１ｂと基部１０２によって露光用光ＥＬが通過する開口凹部１０２ａ，１０２ｂ（光通過部）が形成される。
【００３７】
各遮光部材６０ａ，６０ｂの各突出片１０１ａ，１０１ｂは、Ｘ方向において互いに反対方向、即ち、一方が搬送方向、他方が搬送方向と反対方向に延出しており、Ｙ方向にそれぞれオフセットして配置されている。従って、一方の遮光部材６０ａの開口凹部１０２ａと、他方の遮光部材６０ｂの開口凹部１０２ｂは、Ｙ方向にそれぞれオフセットして配置されている。また、各突出片１０１ａ，１０１ｂのＹ方向幅と各開口凹部１０２ａ，１０２ｂのＹ方向幅とは、略同一寸法に設定されており、遮光部材６０ａ，６０ｂが重ね合わせられた際に、開口凹部１０２ａは、他方の遮光部材６０ｂの突出片１０１ｂと対向し、開口凹部１０２ｂは、一方の遮光部材６０ａの突出片１０１ａと対向するので、各遮光部材６０ａ，６０ｂは、露光用光ＥＬを遮光することができる。なお、突出片１０１ａ，１０１ｂのＹ方向幅は、露光用光ＥＬの回折を考慮して、開口凹部１０２ａ，１０２ｂのＹ方向幅よりも若干大きく設定されてもよい。
【００３８】
また、第１組の遮光部材６０ａ，６０ｂが遮光する際のＸ方向における最大幅は、各遮光部材６０ａ，６０ｂの基部１００ａ，１００ｂのＸ方向幅をｄ、突出片１０１ａ，１０１ｂのＸ方向長さをｄとすると、ｗ１＋ｄに設定される。
さらに、本実施形態においても、一対の遮光部材６０ａ，６０ｂは、Ｙ方向に入れ替えて利用することで、同一部材によって構成されている。
従って、本実施形態のように、櫛歯形状の一対の遮光部材６０ａ，６０ｂを用いた場合であっても、第１実施形態と同様に、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材６０ａ，６０ｂを上流側に戻す際に、露光用光ＥＬが開口凹部１０２ａ，１０２ｂを通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
なお、本実施形態においては、戻し工程において、一対の遮光部材６０ａ，６０ｂの基部１００ａ，１００ｂを重ね合わせた状態で、上流側へ一緒に戻すようにしても露光量の急激な変化を抑制することができる。
【００３９】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
【００４０】
（変形例１）
例えば、上記実施形態においては、各遮光部材を少なくとも光通過部において重ね合わせずに上流側に戻すことで、露光用光が光通過部を通過しているが、一対の遮光部材のうち少なくとも一方が遮光部材をＹ方向に駆動する遮光部材Ｙ方向駆動機構を有することで、一対の遮光部材の光通過部を重ね合わせながら上流側に戻すことができる。
【００４１】
即ち、マスクに対して下流側に移動した後の一対の遮光部材を各光通過部のＹ方向の位置が一致するようにＹ方向に相対的に移動させ、露光用光が一対の遮光部材の各光通過部を通過するように一対の遮光部材を重ね合わせながら搬送方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻すようにしてもよい。これにより、一対の遮光部材を一緒に上流側に戻すことができ、戻し工程に必要な時間を短縮することができる。例えば、上記実施形態において、同一寸法の第１及び第２組の遮光部材６０ａ〜６１ｂを一緒に上流側に戻し、他の同一寸法の第３及び第４組の遮光部材６２ａ〜６３ｂを一緒に上流側に戻しても良い。
なお、一対の遮光部材は、上流側に戻す前、相対移動させた後に上昇しても良いし、上昇した後に相対移動させてもよい。
【００４２】
（変形例２）
また、上記実施形態においては、光通過部を有する遮光部材が使用されているが、光通過部を有しない長方形状の少なくとも一枚の遮光部材を使用し、該遮光部材を上昇させてから上流側に戻すことでも、長手方向側面を通過して回折した露光用光によってマスクでの急激な露光量の変化を防止することができる。即ち、本発明は、前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、前記遮光部材を前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、前記マスクに対して下流側に移動した前記遮光部材を上昇させる工程と、前記上昇後の前記遮光部材を、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する構成であってもよい。
【００４３】
さらに、上記実施形態では、遮光部材Ｚ方向駆動機構は、すべての遮光部材を一緒に駆動するように構成されているが、各遮光部材にＺ方向駆動機構をそれぞれ設けるようにしてもよい。
【００４４】
また、各組の遮光部材は、２枚に限定されず、３枚以上の遮光部材によって構成されてもよい。
【００４５】
加えて、遮光部材は、所望の形状に加工することで形成された貫通孔や開口部によって光通過部を構成してもよいし、透明部材の表面に光を遮光する材料を所望の形状に付着させることで光通過部を構成してもよい。
【００４６】
また、上記実施形態においては、基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と基板駆動ユニット１７によって基板Ｗを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Ｗを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
【００４７】
さらに、上記実施形態では、基板を連続的に搬送しながら露光する走査露光方式について説明したが、露光時に一時的に基板を停止させ、搬送と露光を繰り返す露光方式に適用されてもよい。
【符号の説明】
【００４８】
１    近接露光装置
１０    基板搬送機構
１１    マスク保持部
１３    照射部
１４    遮光ユニット
６０，６１ａ，６１ｂ    第１組の遮光部材
６１，６１ａ，６１ｂ    第２組の遮光部材
６２，６２ａ，６２ｂ    第３組の遮光部材
６３，６３ａ，６３ｂ    第４組の遮光部材
９０ａ，９０ｂ，９１ａ，９１ｂ，９２ａ，９２ｂ，９３ａ，９３ｂ  貫通孔（光通過部）
１０２ａ，１０２ｂ  開口凹部（光通過部）
ＥＬ    露光用光
Ｍ    マスク
Ｗ    ガラス基板
【図１】
2011123263.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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