(57)【要約】【課題】プロキシミティ露光装置において、基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行う。【解決手段】ステージの温度を検出し、運転開始時又は運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行う。運転開始前又は運転中にステージの温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。【選択図】図５
2011192867.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搭載するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
前記チャックを移動するステージと、
前記ステージを駆動するリニアモータとを備えたプロキシミティ露光装置であって、
前記ステージの温度を検出する検出手段と、
前記リニアモータを制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、運転開始時又は運転中に、前記マスクホルダにマスクが保持され、かつ前記チャックに基板が搭載されていない状態で、前記検出手段により検出した前記ステージの温度が下限値未満であるとき、前記リニアモータにより前記ステージを駆動して、前記リニアモータの熱で前記ステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記制御手段は、運転中に、前記マスクホルダにマスクが保持され、かつ前記チャックに基板が搭載されていない状態で、前記検出手段により検出した前記ステージの温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、前記チャックに搭載する基板が準備されるまで、前記リニアモータにより前記ステージを駆動して、前記リニアモータの熱で前記ステージの温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うことを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記制御手段は、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転における前記ステージの移動回数とを記憶し、
運転開始時に、前記マスクホルダにマスクが保持され、かつ前記チャックに基板が搭載されていない状態で、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転における前記ステージの移動回数が所定回数未満であるとき、前記リニアモータにより前記ステージを駆動して第１の慣らし運転を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
基板を搭載するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
チャックを移動するステージと、
ステージを駆動するリニアモータとを備えたプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法であって、
ステージの温度を検出し、
運転開始時又は運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法。
【請求項５】
運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、チャックに搭載する基板が準備されるまで、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うことを特徴とする請求項４に記載のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法。
【請求項６】
第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転におけるステージの移動回数とを記憶し、
運転開始時に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるステージの移動回数が所定回数未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して第１の慣らし運転を行うことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法を用いてステージの温度を制御して、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に基板を移動するステージをリニアモータにより駆動するプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
近年、表示用パネルの各種基板の製造では、大型化及びサイズの多様化に対応するため、比較的大きな基板を用意し、表示用パネルのサイズに応じて、１枚の基板から１枚又は複数枚の表示用パネル基板を製造している。その場合、プロキシミティ方式では、基板の一面を一括して露光しようとすると、基板と同じ大きさのマスクが必要となり、高価なマスクのコストがさらに増大する。そこで、基板より比較的小さなマスクを用い、ステージにより基板をＸＹ方向へステップ移動して、基板の一面を複数のショットに分けて露光する方式が主流となっている。
【０００４】
従来、プロキシミティ露光装置において、ステージの駆動には、ボールねじ等の送りねじが使用されていた。しかしながら、表示用パネルの大画面化に伴って基板が大型化する程、基板の移動を高速かつ高精度に行いたいという要求が強くなり、従来のステージでは、基板を移動する速度及び精度の向上に限界があった。
【０００５】
送りねじに代わる機構として、磁石又はコイルを内蔵した固定子と、コイル又は磁石を内蔵した可動子とを用いるリニアモータが開発されている。固定子と可動子は、わずかな隙間を介して接触しない様に設置され、コイルに電流を流すと、コイルの電流と磁石の磁界とから、フレミングの左手の法則によって、可動子に推力（ローレンツ力）が働く。固定子と可動子が非接触で摩擦が無いため、高速かつ高精度な移動が可能である。この様なリニアモータを使用したプロキシミティ露光装置として、特許文献１及び特許文献２に記載のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２５８１９５号公報
【特許文献２】特開２００９−２５８１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
プロキシミティ露光装置において、基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する場合、ステージの重量が大きく移動距離も長いため、リニアモータの負荷が大きく、リニアモータから多量の熱が発生する。そのため、通常の運転時と、基板の供給が停止してステージの移動を休止したときとで、ステージの温度が大きく変化する。ステージの温度が大きく変化すると、熱膨張によるステージの変形量が大きく変化するため、ステージにより移動される基板の位置及び水平方向に対する傾きが変動して、パターンの焼付け精度が低下するという問題がある。
【０００８】
本発明の課題は、プロキシミティ露光装置において、基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことである。また、本発明の課題は、パターンの焼付けを精度良く行って、高品質な表示用パネル基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を搭載するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、ステージを駆動するリニアモータとを備えたプロキシミティ露光装置であって、ステージの温度を検出する検出手段と、リニアモータを制御する制御手段とを備え、制御手段が、運転開始時又は運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出手段により検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行うものである。
【００１０】
また、本発明のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法は、基板を搭載するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、ステージを駆動するリニアモータとを備えたプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法であって、ステージの温度を検出し、運転開始時又は運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行うものである。
【００１１】
ステージの温度を検出し、運転開始時又は運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して第１の慣らし運転を行うので、第１の慣らし運転が終了した後、チャックに搭載する基板が準備されると、直ちに露光処理を開始することができる。そして、第１の慣らし運転によりステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げるので、運転開始前又は運転中にステージの温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。
【００１２】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、制御手段が、運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出手段により検出したステージの温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、チャックに搭載する基板が準備されるまで、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うものである。
【００１３】
また、本発明のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法は、運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、チャックに搭載する基板が準備されるまで、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うものである。
【００１４】
運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、チャックに搭載する基板が準備されるまで、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うので、運転中のステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。そして、運転中に、チャックに搭載する基板が準備されると、直ちに露光処理が開始される。
【００１５】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、制御手段が、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転におけるステージの移動回数とを記憶し、運転開始時に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるステージの移動回数が所定回数未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して第１の慣らし運転を行うものである。
【００１６】
また、本発明のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法は、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転におけるステージの移動回数とを記憶し、運転開始時に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるステージの移動回数が所定回数未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して第１の慣らし運転を行うものである。
【００１７】
運転開始前にステージの温度が下限値未満に下がらなくても、運転開始時に、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるステージの移動回数が所定回数未満であるとき、第１の慣らし運転が行われるので、ステージの温度変化がさらに小さくなり、パターンの焼付けがさらに精度良く行われる。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法を用いてステージの温度を制御して、基板の露光を行うものである。ステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法によれば、ステージの温度を検出し、運転開始時又は運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行うことにより、運転開始前又は運転中にステージの温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことができる。
【００２０】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法によれば、運転中に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、チャックに搭載する基板が準備されるまで、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うことにより、運転中のステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことができる。そして、運転中に、チャックに搭載する基板が準備されると、直ちに露光処理を開始することができる。
【００２１】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法によれば、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転におけるステージの移動回数とを記憶し、運転開始時に、マスクホルダにマスクが保持され、かつチャックに基板が搭載されていない状態で、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるステージの移動回数が所定回数未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して第１の慣らし運転を行うことにより、ステージの温度変化をさらに小さくして、パターンの焼付けをさらに精度良く行うことができる。
【００２２】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。
【図３】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の正面図である。
【図４】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置からＹステージより上の部分を取り除いた状態を示す上面図である。
【図５】慣らし運転を行うか否かを判断する処理の一例を示すフローチャートである。
【図６】第１の慣らし運転の動作の一例を示すフローチャートである。
【図７】第１の慣らし運転を終了するか否かを判断する処理の一例を示すフローチャートである。
【図８】第２の慣らし運転の動作の一例を示すフローチャートである。
【図９】第２の慣らし運転を終了するか否かを判断する処理の一例を示すフローチャートである。
【図１０】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１１】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図、図３は本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の正面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、複数のリニアモータ、固定子取り付けベース３３，４３、可動子取り付けベース３４、温度センサー５０、駆動回路６０、及び主制御装置７０を含んで構成されている。なお、図２及び図３では、駆動回路６０、及び主制御装置７０が省略されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２５】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２６】
基板１は、基板１の露光を行う露光位置から離れたロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、チャック１０へ搬入され、またチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。
【００２７】
図１及び図２において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。図１において、マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口２０ａが設けられており、開口２０ａの下方には、マスク２が装着されている。マスクホルダ２０の下面の開口２０ａの周囲には、吸着溝が設けられており、マスクホルダ２０は、吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２８】
図２及び図３において、チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。
【００２９】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１のアライメントが行われる。また、図示しないＺ−チルト機構によりマスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００３０】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００３１】
本実施の形態では、Ｘステージ５を駆動する駆動機構として、２つのリニアモータを使用する。各リニアモータは、磁石を内蔵した板状の固定子３１と、コイルを内蔵した板状の可動子３２とを有する。
【００３２】
図３において、ベース３には、Ｘ方向（図３の図面奥行き方向）へ伸びる溝が設けられている。ベース３の溝の左右の隅には、Ｘ方向へ伸びる固定子取り付けベース３３がそれぞれ取り付けられている。各固定子取り付けベース３３には、各リニアモータの固定子３１が取り付けられている。各リニアモータの固定子３１は、固定子取り付けベース３３により、ベース３に設けた溝内に立てた状態でＸ方向へ伸ばして取り付けられている。一方、Ｘステージ５の下面には、断面がＴ字型の可動子取り付けベース３４が取り付けられている。可動子取り付けベース３４の左右の側面には、各リニアモータの可動子３２が取り付けられている。各リニアモータの可動子３２は、共通の可動子取り付けベース３４により、Ｘステージ５にそのリニアモータの固定子３１と向き合わせて取り付けられている。２つのリニアモータは、固定子３１と可動子３２とを横方向に向き合わせて、左右対称に配置されている。
【００３３】
固定子３１と可動子３２とが横方向に向き合わせて左右対称に配置された２つのリニアモータを用いて、Ｘガイド４に沿ってＸステージ５を移動して、基板１のＸ方向への移動を行う。各リニアモータで発生する磁気吸引力が互いに打ち消し合い、Ｘガイド４に掛かる負荷が軽減される。そして、ベース３にＸ方向へ伸びる溝を設け、各リニアモータの磁石を内蔵した板状の固定子３１を、ベース３の溝内に立てた状態でＸ方向へ伸ばして取り付け、各リニアモータのコイルを内蔵した板状の可動子３２を、Ｘステージ５にそのリニアモータの固定子３１と向き合わせて取り付けるので、ベース３とＸステージ５との間にリニアモータの固定子３１及び可動子３２を配置する空間を確保するための台を設ける必要がなく、装置全体の高さが抑えられる。
【００３４】
図４は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置からＹステージより上の部分を取り除いた状態を示す上面図である。本実施の形態では、Ｙステージ７を駆動する駆動機構として、２つのリニアモータを使用する。各リニアモータは、磁石を内蔵した板状の固定子４１と、コイルを内蔵した板状の可動子４２とを有する。
【００３５】
図２及び図４において、各リニアモータの可動子４２は、Ｙステージ７のＹ方向（図２の図面奥行き方向）へ伸びる側面に取り付けられている。Ｘステージ５の上面の左右の端には、Ｙ方向へ伸びる固定子取り付けベース４３がそれぞれ取り付けられている。各リニアモータの固定子４１は、各固定子取り付けベース４３により、Ｘステージ５に立てた状態でそのリニアモータの可動子４２と向き合わせてＹ方向へ伸ばして取り付けられている。２つのリニアモータは、固定子４１と可動子４２とを横方向に向き合わせて、左右対称に配置されている。
【００３６】
固定子４１と可動子４２とが横方向に向き合わせて左右対称に配置された２つのリニアモータを用いて、Ｙガイド６に沿ってＹステージ７を移動して、基板１のＹ方向への移動を行う。各リニアモータで発生する磁気吸引力が互いに打ち消し合い、Ｙガイド６に掛かる負荷が軽減される。そして、各リニアモータのコイルを内蔵した板状の可動子４２を、Ｙステージ７のＹ方向へ伸びる側面に取り付け、各リニアモータの磁石を内蔵した板状の固定子４１を、Ｘステージ５にそのリニアモータの可動子４２と向き合わせてＹ方向へ伸ばして取り付けるので、Ｘステージ５とＹステージ７との間にリニアモータの固定子４１及び可動子４２を配置する空間を確保するための台を設ける必要がない。そのため、ステージ全体の重心が高くならず、ステージ全体の運動性能が低下しない。また、Ｘステージ５に溝を設ける必要がなく、Ｘステージ５の剛性が低下しない。
【００３７】
図１において、駆動回路６０は、主制御装置７０の制御により、リニアモータの可動子３２，４２のコイルへ電流を供給して、リニアモータを駆動する。このとき、特に、Ｘステージ５は重量が大きく移動距離も長いため、リニアモータの負荷が大きく、リニアモータの可動子３２から多量の熱が発生する。そのため、通常の運転時と、基板１の供給が停止してＸステージ５の移動を休止したときとで、Ｘステージ５の温度が大きく変化する。Ｘステージ５の温度が大きく変化すると、熱膨張によるＸステージ５の変形量が大きく変化するため、Ｘステージ５により移動される基板１の位置及び水平方向に対する傾きが変動して、パターンの焼付け精度が低下する。
【００３８】
そこで、本実施の形態では、ステージの慣らし運転を行って、Ｘステージ５の温度を所定の範囲に制御する。以下、本発明の一実施の形態によるステージ温度制御方法について説明する。図２及び図４において、Ｘステージ５の側面には、温度センサー５０が取り付けられている。温度センサー５０は、Ｘステージ５の温度を検出し、検出結果を図１の主制御装置７０へ出力する。本実施の形態では、プロキシミティ露光装置の運転状態（自動運転開始時又は自動運転中）と、温度センサー５０により検出したＸステージ５の温度とに応じて、第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の二種類の慣らし運転を行う。
【００３９】
図５は、慣らし運転を行うか否かを判断する処理の一例を示すフローチャートである。図１の主制御装置７０は、まず、プロキシミティ露光装置が自動運転開始時であるか否かを判断する（ステップ３０１）。プロキシミティ露光装置が自動運転開始時である場合、主制御装置７０は、マスクホルダ２０にマスク２が保持されているか否かを判断する（ステップ３０２）。マスクホルダ２０にマスク２が保持されていない場合、慣らし運転を行っても露光処理を開始できないので、マスクホルダ２０にマスク２が装着されるまで、慣らし運転は行わない。
【００４０】
マスクホルダ２０にマスク２が保持されている場合、主制御装置７０は、チャック１０に基板１が搭載されているか否かを判断する（ステップ３０３）。自動運転開始時は、チャック１０に基板１が搭載されていないはずであるが、何らかの理由でチャック１０に基板１が搭載されている場合、チャック１０に搭載された基板１を装置外へ搬出した後、ステップ３０３へ戻る。
【００４１】
チャック１０に基板１が搭載されていない場合、主制御装置７０は、温度センサー５０により検出したＸステージ５の温度が予め定めた下限値未満であるか否かを判断する（ステップ３０４）。Ｘステージ５の温度が下限値未満である場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を行う。
【００４２】
Ｘステージ５の温度が下限値未満でない場合、主制御装置７０は、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているか否か判断する（ステップ３０５）。自動運転開始時に、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過している場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を行う。
【００４３】
直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過していない場合、主制御装置７０は、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満であるか否かを判断する（ステップ３０６）。自動運転開始時に、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満である場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を行う。直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満でない場合、ステップ３１１へ行く。
【００４４】
ステップ３０１においてプロキシミティ露光装置が自動運転開始時でない場合、及びステップ３０６において直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満でない場合、主制御装置７０は、プロキシミティ露光装置が自動運転中であるか否かを判断する（ステップ３１１）。プロキシミティ露光装置が自動運転中でない場合、ステップ３０１へ戻る。プロキシミティ露光装置が自動運転中である場合、主制御装置７０は、マスクホルダ２０にマスク２が保持されているか否かを判断する（ステップ３１２）。マスクホルダ２０にマスク２が保持されていない場合、慣らし運転を行っても露光処理を開始できないので、マスクホルダ２０にマスク２が装着されるまで、慣らし運転は行わない。
【００４５】
マスクホルダ２０にマスク２が保持されている場合、主制御装置７０は、チャック１０に基板１が搭載されているか否かを判断する（ステップ３１３）。自動運転中でチャック１０に基板１が搭載されている場合、チャック１０に搭載された基板１の露光処理を行って、基板１を装置外へ搬出した後、ステップ３１３へ戻る。
【００４６】
チャック１０に基板１が搭載されていない場合、主制御装置７０は、温度センサー５０により検出したＸステージ５の温度が予め定めた下限値未満であるか否かを判断する（ステップ３１４）。Ｘステージ５の温度が下限値未満である場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を行う。
【００４７】
Ｘステージ５の温度が下限値未満でない場合、主制御装置７０は、Ｘステージ５の温度が下限値以上かつ予め定めた上限値未満であるか否かを判断する（ステップ３１５）。Ｘステージ５の温度が下限値以上かつ上限値未満である場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を行う。Ｘステージ５の温度が上限値以上である場合、主制御装置７０は、慣らし運転を行わない。
【００４８】
なお、慣らし運転を行うか否かを判断する処理は、図５に示した例に限らず、次の条件を満足するか否かを判断するものであれば、判断の順序を変更してもよい。
第１の慣らし運転を行う条件：
自動運転開始時又は自動運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持されており、チャック１０に基板１が搭載されておらず、Ｘステージ５の温度が下限値未満である事。
または、自動運転開始時に、マスクホルダ２０にマスク２が保持されており、チャック１０に基板１が搭載されておらず、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過している事。
または、自動運転開始時に、マスクホルダ２０にマスク２が保持されており、チャック１０に基板１が搭載されておらず、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満である事。
第２の慣らし運転を行う条件：
自動運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持されており、チャック１０に基板１が搭載されておらず、Ｘステージ５の温度が下限値以上かつ上限値未満である事。
【００４９】
図６は、第１の慣らし運転の動作の一例を示すフローチャートである。主制御装置７０は、まず、基板供給停止フラグをセットする（ステップ４０１）。基板供給停止フラグがセットされている間、基板搬送ロボットへの基板１の供給が停止される。この基板供給停止フラグによる基板の供給停止は、装置のオペレータの操作によりキャンセルすることができる。
【００５０】
次に、主制御装置７０は、慣らし運転中フラグをセットする（ステップ４１０）。慣らし運転中フラグがセットされている間、基板搬送ロボットは、基板１のチャック１０への搬入を行わない。
【００５１】
続いて、主制御装置７０は、慣らし運転を行う準備として、Ｚ−チルト機構を原点位置へ移動して（ステップ４２０）、マスクホルダ２０を上昇させる。また、主制御装置７０は、慣らし運転を行う準備として、チャック１０に設けられた複数の突き上げピンを原点位置へ移動して（ステップ４３０）、突き上げピンをチャック１０の内部に収納する。そして、主制御装置７０は、駆動回路６０を制御してリニアモータを駆動させ、第１の慣らし運転を行う。
【００５２】
第１の慣らし運転では、Ｘステージ５及びＹステージ７が、基板１の露光処理時と同様に移動される。主制御装置７０は、まず、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０をロード／アンロード位置へ移動させる（ステップ４４０）。そして、主制御装置７０は、Ｘステージ５及びＹステージ７を、ロード／アンロード位置において、基板１のチャック１０へのロードに要する時間と同じ時間だけ待機させる（ステップ４４１）。次に、主制御装置７０は、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０を露光位置における１回目のショットを行う位置へ移動させる（ステップ４４２）。そして、主制御装置７０は、Ｘステージ５及びＹステージ７を、その位置において、マスク２と基板１とのギャップ合わせ、基板１のアライメント、及び基板１の露光に要する時間と同じ時間だけ待機させる（ステップ４４３）。
【００５３】
続いて、主制御装置７０は、チャック１０が露光位置における最後のショットを行う位置にあるか否かを判断する（ステップ４４４）。チャック１０が露光位置における最後のショットを行う位置にない場合、主制御装置７０は、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０を露光位置における次のショットを行う位置へ移動させ（ステップ４４５）、ステップ４４３へ戻る。
【００５４】
チャック１０が露光位置における最後のショットを行う位置にある場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転におけるＸステージ５及びＹステージ７の移動回数を更新する（ステップ４４６）。そして、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を終了するか否かを判断する（ステップ４４７）。
【００５５】
図７は、第１の慣らし運転を終了するか否かを判断する処理の一例を示すフローチャートである。主制御装置７０は、まず、基板供給停止フラグによる基板の供給停止が装置のオペレータの操作によりキャンセルされたか否かを判断する（ステップ５０１）。基板の供給停止がキャンセルされた場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を終了する。
【００５６】
基板の供給停止がキャンセルされていない場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が予め定めた所定回数に達したか否かを判断する（ステップ５０２）。Ｘステージ５の移動回数が所定回数に達した場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を終了する。
【００５７】
Ｘステージ５の移動回数が所定回数に達していない場合、主制御装置７０は、温度センサー５０により検出したＸステージ５の温度が予め定めた基準値以上であるか否かを判断する（ステップ５０３）。この基準値は、下限値と上限値の間の値とする。Ｘステージ５の温度が基準値以上である場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を終了する。
【００５８】
Ｘステージ５の温度が基準値以上でない場合、主制御装置７０は、装置に何らかの異常が発生し、又は装置が停止したか否かを判断する（ステップ５０４）。装置に何らかの異常が発生し、又は装置が停止した場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を終了する。そうでない場合、主制御装置７０は、第１の慣らし運転を継続する。
【００５９】
なお、第１の慣らし運転を終了するか否かを判断する処理は、図７に示した例に限らず、次の条件を満足するか否かを判断するものであれば、判断の順序を変更してもよい。
第１の慣らし運転を終了する条件：
基板供給停止フラグによる基板の供給停止がキャンセルされた事。
または、Ｘステージ５の移動回数が所定回数に達した事。
または、Ｘステージ５の温度が基準値以上である事。
または、装置に異常が発生し、又は装置が停止した事。
【００６０】
図６のステップ４４７において、第１の慣らし運転を終了する場合、主制御装置７０は、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０をロード／アンロード位置へ移動させる（ステップ４５０）。続いて、主制御装置７０は、基板供給停止フラグをクリアし（ステップ４５１）、また慣らし運転中フラグをクリアする（ステップ４６０）。そして、主制御装置７０は、第１の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転におけるＸステージ５及びＹステージ７の移動回数とを記憶する。第１の慣らし運転を終了しない場合、ステップ４４０へ戻る。
【００６１】
Ｘステージ５の温度を検出し、自動運転開始時又は自動運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、検出したＸステージ５の温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して第１の慣らし運転を行うので、第１の慣らし運転が終了した後、基板搬送ロボットに基板１が供給されると、直ちに露光処理を開始することができる。そして、第１の慣らし運転によりＸステージ５の温度を下限値より高い基準値以上に上げるので、自動運転開始前又は自動運転中にＸステージ５の温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のＸステージ５の温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。
【００６２】
さらに、自動運転開始前にＸステージ５の温度が下限値未満に下がらなくても、自動運転開始時に、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満であるとき、第１の慣らし運転が行われるので、Ｘステージ５の温度変化がさらに小さくなり、パターンの焼付けがさらに精度良く行われる。
【００６３】
図８は、第２の慣らし運転の動作の一例を示すフローチャートである。主制御装置７０は、まず、慣らし運転中フラグをセットする（ステップ６１０）。慣らし運転中フラグがセットされている間、基板搬送ロボットは、基板１のチャック１０への搬入を行わない。
【００６４】
続いて、主制御装置７０は、慣らし運転を行う準備として、Ｚ−チルト機構を原点位置へ移動して（ステップ６２０）、マスクホルダ２０を上昇させる。また、主制御装置７０は、慣らし運転を行う準備として、チャック１０に設けられた複数の突き上げピンを原点位置へ移動して（ステップ６３０）、突き上げピンをチャック１０の内部に収納する。そして、主制御装置７０は、駆動回路６０を制御してリニアモータを駆動させ、第２の慣らし運転を行う。
【００６５】
第１の慣らし運転と同じく、第２の慣らし運転では、Ｘステージ５及びＹステージ７が、基板１の露光処理時と同様に移動される。主制御装置７０は、まず、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０をロード／アンロード位置へ移動させる（ステップ６４０）。そして、主制御装置７０は、Ｘステージ５及びＹステージ７を、ロード／アンロード位置において、基板１のチャック１０へのロードに要する時間と同じ時間だけ待機させる（ステップ６４１）。次に、主制御装置７０は、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０を露光位置における１回目のショットを行う位置へ移動させる（ステップ６４２）。そして、主制御装置７０は、Ｘステージ５及びＹステージ７を、その位置において、マスク２と基板１とのギャップ合わせ、基板１のアライメント、及び基板１の露光に要する時間と同じ時間だけ待機させる（ステップ６４３）。
【００６６】
続いて、主制御装置７０は、チャック１０が露光位置における最後のショットを行う位置にあるか否かを判断する（ステップ６４４）。チャック１０が露光位置における最後のショットを行う位置にない場合、主制御装置７０は、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０を露光位置における次のショットを行う位置へ移動させ（ステップ６４５）、ステップ６４３へ戻る。
【００６７】
チャック１０が露光位置における最後のショットを行う位置にある場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転におけるＸステージ５及びＹステージ７の移動回数を更新する（ステップ６４６）。そして、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を終了するか否かを判断する（ステップ６４７）。
【００６８】
図９は、第２の慣らし運転を終了するか否かを判断する処理の一例を示すフローチャートである。主制御装置７０は、まず、基板搬送ロボットへ基板１が供給されたか否かを判断する（ステップ７０１）。基板搬送ロボットへ基板１が供給された場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を終了する。
【００６９】
基板搬送ロボットへ基板１が供給されていない場合、主制御装置７０は、温度センサー５０により検出したＸステージ５の温度が下限値未満であるか否かを判断する（ステップ７０２）。Ｘステージ５の温度が下限値未満である場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を終了する。
【００７０】
Ｘステージ５の温度が下限値未満でない場合、主制御装置７０は、Ｘステージ５の温度が上限値以上であるか否かを判断する（ステップ７０３）。Ｘステージ５の温度が上限値以上である場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を終了する。
【００７１】
Ｘステージ５の温度が上限値以上でない場合、主制御装置７０は、装置に何らかの異常が発生し、又は装置が停止したか否かを判断する（ステップ７０４）。装置に何らかの異常が発生し、又は装置が停止した場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を終了する。そうでない場合、主制御装置７０は、第２の慣らし運転を継続する。
【００７２】
なお、第２の慣らし運転を終了するか否かを判断する処理は、図９に示した例に限らず、次の条件を満足するか否かを判断するものであれば、判断の順序を変更してもよい。
第２の慣らし運転を終了する条件：
基板搬送ロボットへ基板１が供給された事。
または、Ｘステージ５の温度が下限値未満である事。
または、Ｘステージ５の温度が上限値以上である事。
または、装置に異常が発生し、又は装置が停止した事。
【００７３】
図８のステップ６４７において、第２の慣らし運転を終了する場合、主制御装置７０は、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して、チャック１０をロード／アンロード位置へ移動させる（ステップ６５０）。続いて、主制御装置７０は、慣らし運転中フラグをクリアする（ステップ６６０）。そして、主制御装置７０は、第２の慣らし運転の終了時刻と、第２の慣らし運転におけるＸステージ５及びＹステージ７の移動回数とを記憶する。第２の慣らし運転を終了しない場合、ステップ６４０へ戻る。
【００７４】
自動運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、検出したＸステージ５の温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、  基板搬送ロボットへ基板１が供給されるまで、リニアモータによりＸステージ５を駆動して、リニアモータの熱でＸステージ５の温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うので、自動運転中のＸステージ５の温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。そして、自動運転中に、基板搬送ロボットへ基板１が供給されると、直ちに露光処理が開始される。
【００７５】
以上説明した実施の形態によれば、Ｘステージ５の温度を検出し、自動運転開始時又は自動運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、検出したＸステージ５の温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりＸステージ５を駆動して、リニアモータの熱でＸステージ５の温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行うことにより、自動運転開始前又は自動運転中にＸステージ５の温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のＸステージ５の温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことができる。
【００７６】
さらに、自動運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、検出したＸステージ５の温度が下限値以上かつ基準値より高い上限値未満であるとき、基板搬送ロボットへ基板１が供給されるまで、リニアモータによりＸステージ５を駆動して、リニアモータの熱でＸステージ５の温度を下限値以上かつ上限値未満に保つ第２の慣らし運転を行うことにより、自動運転中のＸステージ５の温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことができる。そして、自動運転中に、基板搬送ロボットへ基板１が供給されると、直ちに露光処理を開始することができる。
【００７７】
さらに、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転の終了時刻と、第１の慣らし運転及び第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数とを記憶し、自動運転開始時に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転の終了時刻から所定時間が経過しているとき、または直前の第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転におけるＸステージ５の移動回数が所定回数未満であるとき、リニアモータによりＸステージ５及びＹステージ７を駆動して第１の慣らし運転を行うことにより、Ｘステージ５の温度変化をさらに小さくして、パターンの焼付けをさらに精度良く行うことができる。
【００７８】
なお、以上説明した実施の形態では、Ｘステージ５の温度を検出する温度センサー５０を設け、第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転を行って、Ｘステージ５の温度を制御していたが、同様にして、Ｙステージ７の温度を検出する温度センサーを設け、第１の慣らし運転又は第２の慣らし運転を行って、Ｙステージ７の温度を制御してもよい。
【００７９】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法を用いてステージの温度を制御して、基板の露光を行うことにより、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【００８０】
例えば、図１０は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００８１】
また、図１１は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００８２】
図１０に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１１に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００８３】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
２０  マスクホルダ
３１，４１  固定子
３２，４２  可動子
３３，４３  固定子取り付けベース
３４  可動子取り付けベース
５０  温度センサー
６０  駆動回路
７０  主制御装置
【図１】
2011192867.tif 000003
【図２】
2011192867.tif 000004
【図３】
2011192867.tif 000005
【図４】
2011192867.tif 000006
【図５】
2011192867.tif 000007
【図６】
2011192867.tif 000008
【図７】
2011192867.tif 000009
【図８】
2011192867.tif 000010
【図９】
2011192867.tif 000011
【図１０】
2011192867.tif 000012
【図１１】
2011192867.tif 000013