(57)【要約】【課題】立体画像を良好に表示できる視差バリアの製造方法を提供する。【解決手段】視差バリア５Ａは、複数の画素４Ｒ，４Ｌを有する表示手段４と組み合わせて用いられ、表示手段４にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する。この視差バリア５Ａは、熱収縮性を有するバリア基板５１に、光を通過させる複数の開口部５３、及び光を遮断する複数の遮光部５２が少なくとも一方向に交互に配列するように開口部５３及び遮光部５２を形成するパターン形成工程と、バリア基板５１を加熱して収縮させる加熱収縮工程とを備える。パターン形成工程では、複数の開口部５３を、表示手段４の画素ピッチに基づいて規定される理想値よりも大きく、かつ均等なピッチで形成する。【選択図】図６
2011059298.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を有する表示手段と組み合わせて用いられ、前記表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造方法であって、
熱収縮性を有するバリア基板に、光を通過させる複数の開口部、及び光を遮断する複数の遮光部が少なくとも一方向に交互に配列するように前記開口部及び前記遮光部を形成するパターン形成工程と、
前記バリア基板を加熱して収縮させる加熱収縮工程とを備え、
前記パターン形成工程では、
前記複数の開口部を、前記表示手段の画素ピッチに基づいて規定される理想値よりも大きく、かつ均等なピッチで形成する
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の視差バリアの製造方法において、
前記バリア基板を撓ませた状態で前記バリア基板の周縁部を他の基板に固定し、前記バリア基板を前記他の基板に保持させる基板保持工程を備え、
前記加熱収縮工程では、
前記基板保持工程にて前記バリア基板が前記他の基板に保持された状態で、前記バリア基板を加熱して収縮させる
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の視差バリアの製造方法において、
前記表示手段は、液晶パネルで構成され、
前記他の基板は、前記液晶パネルである
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、視差バリアの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、観察者に立体画像を観察させるために、複数の画素を有する液晶パネル等の表示手段と組み合わせて用いられ、表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離して、観察者の右目及び左目にそれぞれ入射させるパララックスバリア（視差バリア）が知られている。
このような視差バリアは、表示手段に対向して配置され、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光部及び光を通過する開口部がパターン形成されることで、遮光部及び開口部が表示手段の各画素の配列に対応して少なくとも一方向に交互に配置された構成を有する。
【０００３】
そして、視差バリアの各開口部のピッチは、表示手段の画素ピッチ（各画素の間隔）や観察者の眼間距離（両目間の距離）に基づいて規定される理想値であることが好ましい。
しかしながら、透光性基板上に遮光部及び開口部をパターン形成する際、現状のパターン形成法では、１μｍ程度の単位でしか制御することができず、開口部のピッチを理想値にすることはできない。
そこで、従来では、開口部のピッチを、現状のパターン形成法で形成可能な複数種類のピッチが混在するように形成し、複数種類のピッチの平均値を理想値とする技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３６１４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、開口部毎に観察者が開口部から視認可能な画素の範囲は、異なるものとなる。
すなわち、通常、表示手段を構成する複数の画素は、互いの画素同士を仕切るためにブラックマトリクスと呼ばれる遮光パターンが形成されているため、ブラックマトリクスが一部の開口部を介して観察者の目に観察されてしまう。
そして、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、ブラックマトリクスの占める割合が多い開口部と少ない開口部とで明暗の差が大きく発生するため、スジ状の干渉縞（モアレ）が観察者に視認されることとなる。
以上のように従来の技術では、立体画像にモアレが発生することとなり、立体画像の画質が劣化してしまう、という問題がある。
また、ブラックマトリクスを視認できないように、開口部の面積を小さく形成することも考えられるが、このように形成した場合には、光が通過する領域が小さくなることから、立体画像の明るさが小さくなってしまい、結果として、立体画像を良好に表示できない、という問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、立体画像を良好に表示できる視差バリアの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の視差バリアの製造方法は、複数の画素を有する表示手段と組み合わせて用いられ、前記表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造方法であって、熱収縮性を有するバリア基板に、光を通過させる複数の開口部、及び光を遮断する複数の遮光部が少なくとも一方向に交互に配列するように前記開口部及び前記遮光部を形成するパターン形成工程と、前記バリア基板を加熱して収縮させる加熱収縮工程とを備え、前記パターン形成工程では、前記複数の開口部を、前記表示手段の画素ピッチに基づいて規定される理想値よりも大きく、かつ均等なピッチで形成することを特徴とする。
【０００８】
本発明は、開口部のピッチが表示手段の画素ピッチに基づいて設定される理想値よりも大きく、かつ均等なピッチとなるようにバリア基板を形成しておき、バリア基板を収縮させることで、開口部のピッチを小さくし、理想値に近付けるものである。
すなわち、上述したバリア基板であれば、１μｍ程度の単位でしか制御できない現状のパターン形成法でも開口部のピッチが上述したピッチとなるように十分に形成できる。
また、バリア基板を収縮させることで開口部のピッチが理想値に近付くため、全ての開口部において、表示手段のブラックマトリクスを視認できる割合を略一致させることができる。すなわち、ブラックマトリクスによる各開口部の明暗の差を小さくでき、立体画像にモアレが発生することを抑制できる。
さらに、開口部の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
したがって、本発明の視差バリアを用いれば、立体画像を良好に表示できる。
【０００９】
本発明の視差バリアの製造方法では、前記バリア基板を撓ませた状態で前記バリア基板の周縁部を他の基板に固定し、前記バリア基板を前記他の基板に保持させる基板保持工程を備え、前記加熱収縮工程では、前記基板保持工程にて前記バリア基板が前記他の基板に保持された状態で、前記バリア基板を加熱して収縮させることが好ましい。
本発明では、基板保持工程にて上述したように他の基板にバリア基板が保持された状態で加熱収縮工程を実施する。すなわち、加熱収縮工程において、バリア基板の周縁部が他の基板に固定されているので、バリア基板が必要以上に収縮するのを防止できる。これにより、収縮率を調整することができ、開口部のピッチを容易に理想値に近付けることができる。
例えば、矩形状のバリア基板の場合には、周縁部の矩形状を構成する４辺（角部を除く）を固定することで、バリア基板の中央部を頂点とした均一な撓みを形成することができ、バリア基板の均一な収縮を容易に実現することができる。
【００１０】
本発明の視差バリアの製造方法では、前記表示手段は、液晶パネルで構成され、前記他の基板は、前記液晶パネルであることが好ましい。
本発明では、基板保持工程にてバリア基板が保持される他の基板が液晶パネルであるため、視差バリアの製造過程で液晶パネルへの視差バリアの取り付けも兼ねることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１実施形態における遊技機を示す斜視図。
【図２】第１実施形態における画像表示装置の構成を模式的に示す断面図。
【図３】第１実施形態における液晶パネルの画素の配列状態を平面的に見た模式図。
【図４】第１実施形態におけるステップバリアの開口部の配列状態を平面的に見た模式図。
【図５】第１実施形態におけるステップバリアの製造方法を説明するフローチャート。
【図６】第１実施形態におけるステップバリアの製造工程を示す図。
【図７】第１実施形態におけるステップバリアの製造を説明するための図。
【図８】第１実施形態におけるステップバリアの製造を説明するための図。
【図９】第１実施形態におけるステップバリアの保持状態を説明するための図。
【図１０】第２実施形態における画像表示装置の構成を模式的に示す断面図。
【図１１】第３実施形態における液晶パネルの画素の配列状態を平面的に見た模式図。
【図１２】第３実施形態における縦ストライプバリアの遮光部の配列状態を平面的に見た模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
[第１実施形態]
以下、本発明の第１実施形態を図面に基づいて説明する。
〔遊技機の概略構成〕
図１は、第１実施形態における遊技機１を示す斜視図である。
遊技機１は、図１に示すように、パチンコ機として構成され、ハンドル１Ａの操作に応じて射出装置（図示略）により射出された遊技球が遊技盤１Ｂの盤面上を落下しつつ移動して、所定の入賞口に入賞した場合に所定数の遊技球を払い出すものである。
遊技盤１Ｂの表面には、略円形状の側壁１Ｃによって囲まれた遊技領域１Ｄが形成されている。そして、遊技領域１Ｄの略中央には、略横長長方形状の開口部１Ｅを介して、画像表示装置２が配置されている。
【００１３】
〔画像表示装置の構成〕
図２は、画像表示装置２の構成を模式的に示す断面図である。具体的に、図２は、液晶パネル４やステップバリア５Ａの列方向（垂直方向：図３、図４中、上下方向）から見た断面図である。
画像表示装置２は、遊技球の入賞による抽選結果等に応じたコマンドの入力を受け、該コマンドに応じた画像を表示する。具体的に、画像表示装置２は、観察者の右目により観察される画像（右目用画像）と、左目により観察される画像（左目用画像）とを含む立体画像を生成し、右目用画像及び左目用画像をそれぞれ右目及び左目に入射させて、視差により立体視可能な立体画像を表示する。本実施形態では、画像表示装置２は、視点数が２の２眼式立体表示装置として構成されている。
このような画像表示装置２は、図２に示すように、光源装置としてのバックライト３と、表示手段としての液晶パネル４と、視差バリアとしてのステップバリア５Ａとを備える。
【００１４】
バックライト３は、略Ｗ字状に曲折された冷陰極管と、当該冷陰極管の背面側に設けられるリフレクターとを備え、冷陰極管に電圧印加して生じた放電光を、リフレクターで反射して液晶パネル４側に出射する。なお、バックライト３は、このような構成に限らず、Ｌ字状またはＵ字状のエッジタイプの冷陰極管と導光板との組み合わせや、冷陰極管及びリフレクターに代えて、複数のＬＥＤ(Light Emitting Diode)等の固体光源が複数配設された構成を有していてもよい。
【００１５】
図３は、液晶パネル４の画素４Ｒ，４Ｌの配列状態を平面的に見た模式図である。
なお、図２及び図３では、説明の便宜上、画素４Ｒ内に「Ｒ」の文字を付し、画素４Ｌ内に「Ｌ」の文字を付している。以下の図も同様である。
また、図２及び図３では、説明を簡略化するために、液晶パネル４として、各画素４Ｒ，４Ｌが４行×１０列に配設された構成を示している。
液晶パネル４は、固定画素型の画像形成デバイスであり、図２または図３に示すように、右目用画像を表示する複数の右目用画素４Ｒと、左目用画像を表示する複数の左目用画素４Ｌとを備え、各画素４Ｒ，４ＬがブラックマトリクスＢＬにより仕切られている。
これら右目用画素４Ｒ及び左目用画素４Ｌは、図３に示すように、全ての行方向（図３中、左右方向）及び全ての列方向（図３中、上下方向）において交互に配列されている。
そして、これら各画素４Ｒ，４Ｌは、具体的な図示は省略したが、それぞれＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のカラーフィルターが光束出射側に配設されたサブピクセルにより構成されている。また、各画素４Ｒ，４Ｌは、一対の透明基板間に密閉封入された液晶に電圧を印加するＴＦＴ(Thin Filmed Transistor)をスイッチング素子として備え、ＴＦＴのスイッチングにより、各画素４Ｒ，４Ｌに画像信号として印加される電圧が変化して液晶の配向状態が変化されることで、入射光束が画像信号に応じて変調される。
【００１６】
図４は、ステップバリア５Ａの開口部５３の配列状態を平面的に見た模式図である。
ステップバリア５Ａは、液晶パネル４の光束射出側（観察者側）に配設され（図２）、表示される立体画像のうち、右目用画像と左目用画像とを分離する機能を有し、観察者の両目に、それぞれの画像を個別に入射させる。
このステップバリア５Ａは、図２に示すように、液晶パネル４を介した光を透過するバリア基板としての透光性基板５１と、遮光部５２とを備える。
遮光部５２は、光を遮断する材料から構成され、透光性基板５１上に形成されている。そして、遮光部５２は、図４に示すように、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの配列に対応して、行方向（図４中、左右方向）に１列おきに矩形状の開口部５３が配置され、かつ、列方向（図４中、上下方向）に１行おきに開口部５３が所定の均等なピッチで配置されるように形成されている。すなわち、各開口部５３は、千鳥状に配置されている。
ここで、各開口部５３は、全て同一の形状を有しているものである。
【００１７】
そして、観察者は、上述したステップバリア５Ａにより、以下に示すように、立体画像を認識する。
すなわち、左目用画素４Ｌから出射された光は、図２に示すように、遮光部５２により観察者の右目ＥＲに入射することが規制され、開口部５３を介して観察者の左目ＥＬのみに入射する。
また、右目用画素４Ｒから出射された光は、図２に示すように、遮光部５２により観察者の左目ＥＬに入射することが規制され、開口部５３を介して観察者の右目ＥＲのみに入射する。
そして、観察者は、右目用画像及び左目用画像の視差により、立体画像を認識する。
【００１８】
〔ステップバリアの製造方法〕
上述したステップバリア５Ａは、例えば、以下に示すように透光性基板５１を収縮させて製造する。
なお、以下では、説明の便宜上、以下の液晶パネル（図３を参照）を採用した場合でのステップバリア５Ａの製造について例示する。
液晶パネル４：XGAパネル１２型（対角約31ｃｍ）
行方向（水平方向）の画素ピッチＰｈ：0.08ｍｍ
列方向（垂直方向）の画素ピッチＰｖ：0.24ｍｍ
行方向の画面幅Ｐｘ：
画素ピッチＰｈ×3（RGBサブピクセル）×1024＝245.76ｍｍ
列方向の画面高さＰｙ：
画素ピッチＰｖ×3（RGBサブピクセル）× 768＝184.32ｍｍ
【００１９】
図５は、ステップバリア５Ａの製造方法を説明するフローチャートである。図６は、その主要な製造工程を説明するための図である。
先ず、パターン形成工程Ｓ１において、透光性基板５１に遮光部５２及び開口部５３を形成する。
透光性基板５１としては、可撓性及び熱収縮性を有する材料を採用する。ここでいう可撓性及び収縮性は、後述する撓み及び収縮が生じるような性質であればよい。
例えば、透光性基板５１としては、ポリオレフィン、ポリプロピレン、ビニロン系透明樹脂等の材料、0.1〜0.2ｍｍ程度の厚みの透光性基板を採用できる。加工法としては、例えば、圧延ロール法が挙げられる。
【００２０】
そして、透光性基板５１上に、パターン形成法（レーザーエッチング、ドライエッチング、ウェットエッチング、あるいは、フォトリソグラフィー法等）により遮光部５２及び開口部５３を形成する。
【００２１】
図７及び図８は、ステップバリア５Ａの製造を説明するための図である。具体的に、図７及び図８は、各開口部５３のピッチが理想値となる理論上のステップバリア５Ａ´（図７（Ａ）、図８（Ａ））と本実施形態で製造した透光性基板５１（図７（Ｂ）、図８（Ｂ））とを平面視で比較した模式図である。そして、図７（Ｂ）は収縮させる前の透光性基板５１の状態を示し、図８（Ｂ）は収縮させた後の透光性基板５１（ステップバリア５Ａ）の状態を示している。
【００２２】
具体的に、本実施形態では、開口部５３及び遮光部５２の幅、開口部５３の行方向のピッチＢｈ（以下、バリア開口ピッチＢｈと記載）が以下の数値となるように形成する。
開口部５３の幅Ｍｈ：0.06ｍｍ
遮光部５２の幅Ｎｈ：0.10ｍｍ
バリア開口ピッチＢｈ：0.16ｍｍ
また、開口部５３及び遮光部５２の高さ、開口部５３の列方向のピッチＢｖ（以下、バリア開口ピッチＢｖと記載）が以下の数値となるように形成する。
開口部５３の高さＭｖ：0.18ｍｍ
遮光部５２の高さＮｖ：0.30ｍｍ
バリア開口ピッチＢｖ：0.48ｍｍ
すなわち、本実施形態では、バリア開口ピッチＢｈ（0.16ｍｍ）を画素ピッチＰｈ（0.08ｍｍ）の２倍である２Ｐｈになるように形成するとともに、バリア開口ピッチＢｖ（0.48ｍｍ）を画素ピッチＰｖ（0.24ｍｍ）の２倍である２Ｐｖになるように形成する。
【００２３】
なお、開口部５３の行方向のピッチの理想値Ｂｈ´及び列方向のピッチの理想値Ｂｖ´は、眼間距離をＥとした場合に、それぞれ以下の式（１）、式（２）で表される。
【００２４】
〔数１〕
2011059298.tif 000003
【００２５】
〔数２〕
2011059298.tif 000004
【００２６】
すなわち、本実施形態では、図７に示すように、バリア開口ピッチＢｈ（２Ｐｈ）が式（１）で表される理想値Ｂｈ´よりも大きくなるように形成されている。また、バリア開口ピッチＢｖ（２Ｐｖ）が式（２）で表される理想値Ｂｖ´よりも大きくなるように形成されている。
例えば、眼間距離Ｅが65ｍｍとすると、式（１）により、理想値Ｂｈ´は、0.159803・・・ｍｍとなり、式（２）により、理想値Ｂｖ´は、0.479409・・・ｍｍとなる。
ここで、現状のパターン形成法では、遮光部５２及び開口部５３を形成する際に１μｍ程度の単位でしか制御することはできない。
すなわち、現状のパターン形成法では、0.159ｍｍあるいは0.160ｍｍでバリア開口ピッチＢｈを形成することはできるが、上述した理想値Ｂｈ´でバリア開口ピッチＢｈを形成することはできない。同様に、0.479ｍｍあるいは0.480ｍｍでバリア開口ピッチＢｖを形成することはできるが、上述した理想値Ｂｖ´でバリア開口ピッチＢｖを形成することはできない。
そして、本実施形態では、上述したように、バリア開口ピッチＢｈが２Ｐｈ（0.16ｍｍ）となるように形成し、バリア開口ピッチＢｖが２Ｐｖ（0.48ｍｍ）となるように形成しているため、現状の手法でも十分に形成できるものである。
【００２７】
また、通常、画素４Ｒ，４Ｌのサイズ（行方向の長さ×列方向の長さ）は、画素ピッチＰｈ、Ｐｖよりも小さい。
そして、本実施形態では、上述したように、開口部５３の幅Ｍｈ（0.06ｍｍ）を、画素ピッチＰｈ（0.08ｍｍ）の75％の値とし、開口部５３の高さＭｖ（0.18ｍｍ）を、画素ピッチＰｖ（0.24ｍｍ）の75％の値とすることで、画素４Ｒ，４Ｌの行方向及び列方向の長さよりもそれぞれ小さいものとしている。
【００２８】
ここで、理論上のステップバリア５Ａ´のバリア領域（右目用画像と左目用画像を分離する機能を有する領域）の幅は、開口部５３のピッチ数をｎｈとした場合に、ｎｈ×Ｂｈ´で与えられる。
また、ピッチ数ｎｈは、液晶パネル４の行方向の幅Ｐｘ（245.76ｍｍ）をカバーする必要があるため、245.76／Ｂｈ´≒1538である。
このため、理論上のステップバリア５Ａ´のバリア領域Ｓ´の幅Ｂｘ´は、1538×Ｂｈ´＝245.777504・・・ｍｍである。
【００２９】
また、透光性基板５１のバリア領域の幅（収縮前）は、ｎｈ×Ｂｈで与えられる。
このため、透光性基板５１のバリア領域Ｓの幅Ｂｘは、1538×Ｂｈ＝246.08ｍｍである。
したがって、収縮の行方向のねらい比率は、Ｂｘ´／Ｂｘ＝0.998770・・・となる。
【００３０】
一方、理論上のステップバリア５Ａ´のバリア領域の高さは、開口部５３のピッチ数をｎｖとした場合に、ｎｖ×Ｂｖ´で与えられる。
また、ピッチ数ｎｖは、液晶パネル４の列方向の高さＰｙ（184.32ｍｍ）をカバーする必要があるため、184.32／Ｂｖ´≒385である。
このため、理論上のステップバリア５Ａ´のバリア領域Ｓ´の高さＢｙ´は、385×Ｂｖ´＝184.572833・・・ｍｍである。
【００３１】
また、透光性基板５１のバリア領域の高さ（収縮前）は、ｎｖ×Ｂｖで与えられる。
このため、透光性基板５１のバリア領域Ｓの高さＢｙは、385×Ｂｖ＝184.8ｍｍである。
したがって、収縮の列方向のねらい比率は、Ｂｙ´／Ｂｙ＝0.998770・・・（行方向と同比率）となる。
【００３２】
次に、基板保持工程Ｓ２において、上述したように遮光部５２及び開口部５３を形成した透光性基板５１を、図６（Ａ）に示すように撓ませた状態で、透光性基板５１を保持するために、他の基板としての液晶パネル４に保持させる。
図９は、透光性基板５１の保持状態を説明するための図である。
先ず、透光性基板５１と液晶パネル４とを貼り合わせるために、貼り合わせ面となる透光性基板５１及び液晶パネル４の少なくとも一方にスピンコート法等によって紫外線硬化樹脂を塗布しておく。
次に、透光性基板５１を液晶パネル４に位置決めして、位置決め後に透光性基板５１のバリア領域Ｓよりも外側の周縁部５１Ａ（矩形状の透光性基板５１の４辺）のみに紫外線を照射する。これによって、周縁部５１Ａを液晶パネル４に接着して固定する。この際、図９に示すように、４方の角部５１Ｂを除いて接着するとよい。これにより、４方の角部５１Ｂから基板中央部へ向かって均一な撓みを形成することができる。
【００３３】
本実施形態では、透光性基板５１は、液晶パネル４に、以下のように位置決めする。
すなわち、収縮後の透光性基板５１の中心位置と、液晶パネル４の中心位置とが合致するように位置決めする。
例えば、列方向のバリア位置は、列方向1ピッチで表されるバリアエレメント(開口部５３と、当該開口部５３と列方向で隣接する開口部５３との間の遮光部５２とを合わせた部分)で列方向の２画素をカバーするようにする。すなわちXGAパネルの0〜767行のうち、193ピッチ目のバリアエレメントがXGAパネルの383行と384行をカバーするようになる。言い換えると、193ピッチ目のバリアエレメントの高さ中間が、パネル高さの中間部と一致するようにする。
【００３４】
また、収縮後の透光性基板５１のバリア領域ＳＡが液晶パネル４の画面の幅方向と高さ方向でそれぞれに左右のはみ出し量が同一、かつ、上下のはみ出し量が同一（以下の値）になるように、透光性基板５１を液晶パネル４に位置決めする。
左右へのはみ出し量：
(計算上のバリア領域の水平幅Ｂｘ´−画面幅Ｐｘ)／２＝0.008752・・・ｍｍ
上下へのはみ出し量：
(計算上のバリア領域の高さＢｙ´−画面高さＰｙ)／２＝0.126416・・・ｍｍ
【００３５】
次に、加熱収縮工程Ｓ３において、図６（Ｂ）に示すように、透光性基板５１の全体を赤外線ヒーター等の熱源６１を用いて均一に加熱して、透光性基板５１を収縮させる。例えば、透光性基板５１の表面温度が９０℃〜１００℃になるように加熱する。この場合、例えば、収縮率を微小とするならば、少なくとも１秒程度、当該温度の状態を保っていればよい。
この加熱収縮工程Ｓ３における透光性基板５１の収縮は、前述のように保持した透光性基板５１を、図示しない真空チャンバー内に移動して、真空に近い状態で加熱することが好ましい。これにより、透光性基板５１と液晶パネル４の密着性を高めることができる。
透光性基板５１を収縮後、透光性基板５１の全面に紫外線を照射して、透光性基板５１と液晶パネル４の間の残りの紫外線硬化樹脂を硬化させる。
以上の工程を経て、図６（Ｃ）に示すようなステップバリア５Ａを製造する。
【００３６】
上述した第１実施形態によれば、以下の効果がある。
本実施形態では、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖが理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´よりも大きく、かつ均等なピッチとなるように透光性基板５１を形成しておき、透光性基板５１を収縮させることで、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖを小さくし（図８（Ｂ）：バリア開口ピッチＢｈＡ，ＢｖＡ）、理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´に近付けるものである。
【００３７】
すなわち、上述したステップバリア５Ａであれば、１μｍ程度の単位でしか制御できない現状のパターン形成法でもバリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖが上述したピッチとなるように十分に形成できる。
また、透光性基板５１を収縮させることでバリア開口ピッチＢｈＡ，ＢｖＡが理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´に近付くため、全ての開口部５３において、液晶パネル４のブラックマトリクスＢＬを視認できる割合を略一致させることができる。すなわち、ブラックマトリクスＢＬによる各開口部５３の明暗の差を小さくでき、立体画像にモアレが発生することを抑制できる。
さらに、開口部５３の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
したがって、本発明の視差バリアを用いれば、立体画像を良好に表示できる。
【００３８】
また、基板保持工程Ｓ２において、透光性基板５１の周縁部５１Ａが液晶パネル４に固定されるため、透光性基板５１が必要以上に収縮するのを防止できる。これにより、収縮率を調整することができ、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖを容易に理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´に近付けることができる。
透光性基板５１の周縁部５１Ａの矩形状を構成する４辺（角部を除く）を固定するため、透光性基板５１の中央部を頂点とした均一な撓みを形成することができ、透光性基板５１の均一な収縮を容易に実現することができる。
【００３９】
さらに、基板保持工程Ｓ２において、液晶パネル４に透光性基板５１を固定するため、ステップバリア５Ａの製造過程で液晶パネル４へのステップバリア５Ａの取り付けも兼ねることができる。
【００４０】
[第２実施形態]
次に、本発明の第２実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第１実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図１０は、第２実施形態における画像表示装置２の構成を模式的に示す断面図である。
本実施形態では、前記第１実施形態に対して、ステップバリア５Ａの製造方法が異なるとともに、図１０に示すように、ステップバリア５Ａを液晶パネル４の光入射側に配設している。
その他の構成は、前記第１実施形態と同様のものである。
【００４１】
具体的に、本実施形態において、ステップバリア５Ａは、例えば、以下に示すように製造される。
ここで、ステップバリア５Ａを液晶パネル４の光入射側に配置した場合での各開口部５３の行方向のピッチの理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´は、以下の式（３）、式（４）に示すように、前記第１実施形態と異なる値となる。
【００４２】
〔数３〕
2011059298.tif 000005
【００４３】
〔数４〕
2011059298.tif 000006
【００４４】
例えば、眼間距離Ｅが65ｍｍとすると、式（３）により、理想値Ｂｈ´は、0.160197・・・ｍｍとなり、式（４）により、理想値Ｂｖ´は、0.480591・・・ｍｍとなる。
そして、本実施形態では、透光性基板５１上にパターン形成法により遮光部５２を形成する際、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖが現状のパターン形成法でも十分に形成できる例えば0.161ｍｍ，0.481ｍｍとなるように、すなわち、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖが理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´よりも大きくなるように形成している。
【００４５】
次に、上述したように形成した透光性基板５１を、前記第１実施形態とは逆に、液晶パネル４の光入射側の端面において保持し、加熱して収縮させる。保持方法及び加熱方法については、前記第１実施形態と同様である。
以上のように透光性基板５１を収縮させた状態では、前記第１実施形態と同様に、開口部５３のピッチＢｈＡ，ＢｖＡは、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖよりも小さくなり、理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´に一致することとなる。
上述した第２実施形態によれば、前記第１実施形態と同様の作用及び効果を享受できる。
【００４６】
[第３実施形態]
次に、本発明の第３実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第１実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図１１は、第３実施形態における液晶パネル４の画素４Ｒ，４Ｌの配列状態を平面的に見た模式図である。
図１２は、第３実施形態におけるストライプバリア５Ｂの開口部５３の配列状態を平面的に見た模式図である。なお、図１２では、透光性基板５１を収縮させていない状態を示している。
本実施形態は、前記第１実施形態に対して、図１１または図１２に示すように、液晶パネル４の画素４Ｒ，４Ｌの配列状態、及び視差バリアとしてストライプバリア５Ｂを採用した点が異なるのみである。
その他の構成は、前記第１実施形態と同様のものである。
【００４７】
具体的に、液晶パネル４において、右目用画素４Ｒ及び左目用画素４Ｌは、図１１に示すように、列方向に同一の画素（右目用画素４Ｒあるいは左目用画素４Ｌ）となり、行方向に交互に配列されている。
また、ストライプバリア５Ｂは、前記第１実施形態で説明したステップバリア５Ａに対して、遮光部５２及び開口部５３の形状が異なる。
具体的に、ストライプバリア５Ｂは、図１２に示すように、パターン形成法により遮光部５２及び開口部５３が形成されることで、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの配列に対応して、列方向（図１２中、上下方向）に開口部５３が伸び、行方向に開口部５３が所定の均等なピッチで配置されるように形成されている。
【００４８】
そして、観察者は、前記第１実施形態と同様に、ストライプバリア５Ｂにより、左目用画素４Ｌから出射された光を左目ＥＬにて観察し、右目用画素４Ｒから出射された光を右目ＥＲにて観察し、右目用画像及び左目用画像の視差により、立体画像を認識する。
なお、ストライプバリア５Ｂの製造方法については、上述した遮光部５２及び開口部５３の形状が異なる以外は、前記第１実施形態と同様である。すなわち、前記第１実施形態と同様に、バリア開口ピッチＢｈを、理想値よりも大きく形成して、前記第１実施形態と同様にストライプバリア５Ｂを保持して、加熱収縮する。
上述した第３実施形態によれば、前記第１実施形態と同様の作用及び効果を享受できる。
【００４９】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記各実施形態では、ステップバリア５Ａ及びストライプバリア５Ｂは、透光性基板５１上に遮光部５２及び開口部５３をパターン形成していたが、これに限らず、光を吸収する黒色の樹脂基板に複数の開口部５３を形成した構成としても構わない。
前記各実施形態において、バリア開口ピッチＢｈ，Ｂｖは、前記各実施形態で説明した値（前記第１実施形態では２Ｐｈ，２Ｐｖ）に限らず、理想値Ｂｈ´，Ｂｖ´よりも大きければ、その他の値としても構わない。
【００５０】
前記各実施形態では、透光性基板５１を保持する他の基板として、液晶パネル４を用いたが、これに限らず、液晶パネル４以外の基板に保持してもよい。このようにすれば、表示手段とは別個にステップバリア５Ａを製造することがでる。また、液晶パネル４に保持するために、紫外線硬化樹脂を用いたが、これに限らず、熱硬化型樹脂等で接着して保持してもよいし、保持部材を用いて、例えば透光性基板５１の周縁部５１Ａを液晶パネル４の周縁部とともに挟持する等によって保持してもよい。保持する箇所についても、保持状態で均等に透光性基板５１が撓むのであれば、角部５１Ｂを除く周縁部５１Ａに限ったものではない。
【００５１】
前記第２実施形態では、視差バリアをステップバリア５Ａで構成していたが、これに限らず、前記第３実施形態で説明したストライプバリア５Ｂで構成しても構わない。この際には、液晶パネル４の各画素４Ｒ，４Ｌの配列も前記第３実施形態で説明した配列とする。
【００５２】
前記各実施形態では、液晶パネル４を備える画像表示装置２を挙げたが、本発明はこれに限らない。すなわち、バックライト３及び液晶パネル４に代えて、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）やプラズマ等の自己発光素子を有するパネルを採用してもよく、また、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）を採用することも可能である。
【００５３】
前記各実施形態では、本発明の画像表示装置２をパチンコ機として構成された遊技機１に採用した例を挙げたが、本発明はこれに限らない。すなわち、画像表示装置２は、パチスロ機等の他の遊技機に採用することもできる。また、画像表示装置２は、単体で使用することも可能であるほか、自動車のコンソールパネルや、ビデオゲーム機等に採用することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、複数の画素を有する表示手段と組み合わせて用いられ、表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアに利用できる。
【符号の説明】
【００５５】
４・・・液晶パネル（表示手段）、５Ａ・・・ステップバリア（視差バリア）、５Ｂ・・・ストライプバリア（視差バリア）、５１・・・透光性基板（バリア基板）、５２・・・遮光部、５３・・・開口部、Ｓ１・・・パターン形成工程、Ｓ２・・・基板保持工程、Ｓ３・・・加熱収縮工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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