(57)【要約】【課題】浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止する。【解決手段】露光光照射装置３０の光学部品（３２，３３，３４，３６，３７）の表面近くに、光学部品の表面全体に渡って、エアの流れの層を形成する。露光光照射装置の光学部品の表面近くに光学部品の表面全体に渡って形成されたエアの流れの層により、露光光照射装置の光学部品が浮遊物から遮蔽されて、浮遊物の光学部品への付着が防止される。特に、露光光照射装置の光学部品が基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物から遮蔽されて、昇華物の光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れが防止される。【選択図】図２
2011107572.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、
パターンが形成されたマスクを前記チャックの上方で保持するマスクホルダと、
露光光を照射する光学部品を有し、前記マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、
前記マスクホルダに保持されたマスクと前記チャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、前記露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
前記露光光照射装置の光学部品の表面近くに、光学部品の表面全体に渡ってエアの流れの層を形成する手段を備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、
パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、
露光光を照射する光学部品を有し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、
マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法であって、
露光光照射装置の光学部品の表面近くに、光学部品の表面全体に渡ってエアの流れの層を形成することを特徴とするプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法。
【請求項３】
感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、
パターンが形成されたマスクを前記チャックの上方で保持するマスクホルダと、
露光光を照射する光学部品を有し、前記マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、
前記マスクホルダに保持されたマスクと前記チャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、前記露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
露光光が通る開口を有し、前記露光光照射装置の光学部品を収容するカバーと、
前記カバー内へエアを供給して、前記カバー内を陽圧に保つエア供給手段とを備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、
パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、
露光光を照射する光学部品を有し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、
マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法であって、
露光光が通る開口を有するカバー内に、露光光照射装置の光学部品を収容し、
カバー内へエアを供給して、カバー内を陽圧に保つことを特徴とするプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法。
【請求項５】
請求項１に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項６】
請求項２に記載のプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を用いて露光光照射装置の光学部品を保護しながら、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項７】
請求項３に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を用いて露光光照射装置の光学部品を保護しながら、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の光学部品保護方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、露光光照射装置の光学部品の汚れを防止するのに好適なプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の光学部品保護方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、感光樹脂材料（フォトレジスト）が塗布された基板を支持するチャックと、パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを、数百μｍ程度の距離まで近接させて、露光を行う。マスクホルダは、露光光が通過する開口と、開口の周囲に設けられた吸着溝とを有し、吸着溝によりマスクの周辺部を真空吸着して、マスクをチャックに支持された基板に向かい合わせて保持する。露光光照射装置は、露光光を発生する光源と、集光鏡、平面鏡、レンズ群等の露光光を照射する光学部品とを有し、マスクホルダの上方に設けられて、マスクホルダの上方からマスク及び基板へ露光光を照射する。
【０００４】
基板に塗布された感光樹脂材料には、染料や顔料、有機溶剤等が含まれており、露光光を照射すると、これらの染料や顔料、有機溶剤等から昇華物が発生する。プロキシミティ露光装置では、この昇華物が、マスクと基板との間に浮遊して、マスクに付着する。そのため、マスクをマスクホルダから取り外して定期的に洗浄する必要があり、マスクの洗浄を行っている間は露光処理が中断されて、生産性が低下する。特許文献１には、マスクのパターン面に光触媒からなる被膜又は光触媒を含む被膜を成膜して、マスクに付着した昇華物を光触媒作用で分解する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１９７２３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
感光樹脂材料から発生した昇華物は、マスクホルダの周辺部からマスクホルダの上方へ上昇し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置の集光鏡、平面鏡、レンズ群等の光学部品にも付着する。そのため、露光光照射装置の光学部品を定期的に洗浄する必要があり、光学部品の洗浄を行っている間は露光処理が中断されて、生産性が低下する。特許文献１に記載の技術は、光触媒からなる被膜又は光触媒を含む被膜を成膜する新たな処理を施す必要があり、これを露光光照射装置の光学部品に適用すると、既存の光学部品をそのまま使用することができない。また、プロキシミティ露光装置では、感光樹脂材料からの昇華物の他に、塵埃等の異物が露光光照射装置の光学部品の周囲に浮遊することがあり、これらの浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止する必要がある。
【０００７】
本発明の課題は、浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することである。また、本発明の課題は、露光光照射装置の光学部品を洗浄する頻度を低下させて、表示用パネル基板の生産性を向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のプロキシミティ露光装置は、感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、露光光を照射する光学部品を有し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、露光光照射装置の光学部品の表面近くに、光学部品の表面全体に渡ってエアの流れの層を形成する手段を備えたものである。
【０００９】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法は、感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、露光光を照射する光学部品を有し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法であって、露光光照射装置の光学部品の表面近くに、光学部品の表面全体に渡ってエアの流れの層を形成するものである。
【００１０】
露光光照射装置の光学部品の表面近くに光学部品の表面全体に渡って形成されたエアの流れの層により、露光光照射装置の光学部品が浮遊物から遮蔽されて、浮遊物の光学部品への付着が防止される。特に、露光光照射装置の光学部品が基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物から遮蔽されて、昇華物の光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れが防止される。
【００１１】
あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置は、感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、露光光を照射する光学部品を有し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、露光光が通る開口を有し、露光光照射装置の光学部品を収容するカバーと、カバー内へエアを供給して、カバー内を陽圧に保つエア供給手段とを備えたものである。
【００１２】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法は、感光樹脂材料が塗布された基板を支持するチャックと、パターンが形成されたマスクをチャックの上方で保持するマスクホルダと、露光光を照射する光学部品を有し、マスクホルダの上方に設けられた露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板との間に微小なギャップを設けて、露光光照射装置からの露光光によりマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法であって、露光光が通る開口を有するカバー内に、露光光照射装置の光学部品を収容し、カバー内へエアを供給して、カバー内を陽圧に保つものである。
【００１３】
露光光が通る開口を有するカバー内に、露光光照射装置の光学部品を収容し、カバー内へエアを供給して、カバー内を陽圧に保つことにより、浮遊物のカバー内への侵入が阻止され、浮遊物の光学部品への付着が防止される。特に、基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物のカバー内への侵入が阻止され、昇華物の光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れが防止される。
【００１４】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を用いて露光光照射装置の光学部品を保護しながら、基板の露光を行うものである。浮遊物の光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置の光学部品を洗浄する頻度が低下し、表示用パネル基板の生産性が向上する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法によれば、露光光照射装置の光学部品の表面近くに、光学部品の表面全体に渡ってエアの流れの層を形成することにより、露光光照射装置の光学部品を浮遊物から遮蔽することができるので、浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することができる。特に、基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することができるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れを防止することができる。
【００１６】
あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法によれば、露光光が通る開口を有するカバー内に、露光光照射装置の光学部品を収容し、カバー内へエアを供給して、カバー内を陽圧に保つことにより、浮遊物のカバー内への侵入を阻止することができるので、浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することができる。特に、基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することができるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れを防止することができる。
【００１７】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することができるので、露光光照射装置の光学部品を洗浄する頻度を低下させて、表示用パネル基板の生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を説明する図である。
【図３】図３（ａ）はエアカーテン吹き出し装置及びエアカーテン吸い込み装置の正面図、図３（ｂ）はエアカーテン吹き出し装置の下面図、図３（ｃ）はエアカーテン吸い込み装置の上面図である。
【図４】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を説明する図である。
【図５】本発明のさらに他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を説明する図である。
【図６】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図７】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、露光光照射装置３０、電源３９、及び光源制御装置４０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２０】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２１】
図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０は、マスク２の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、露光光照射装置３０が配置されている。露光時、露光光照射装置３０からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２２】
露光位置から離れたロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。
【００２３】
チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。
【００２４】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１のアライメントが行われる。また、図示しないＺ−チルト機構により、マスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００２５】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２６】
露光光照射装置３０は、ランプ３１、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、シャッター３５、コリメーションレンズ群３６、第２平面鏡３７、及び照度センサー３８を含んで構成されている。ランプ３１には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入したランプが使用されている。ランプ３１は、電源３９から電力が供給されると点灯して、露光光を発生する。
【００２７】
ランプ３１の周囲には、ランプ３１から発生した光を集光する集光鏡３２が設けられている。ランプ３１から発生した光は、集光鏡３２により集光され、第１平面鏡３３へ照射される。第１平面鏡３３で反射した光は、フライアイレンズ又はロットレンズ等から成るレンズ群３４へ入射し、レンズ群３４を透過して照度分布が均一化される。シャッター３５は、基板１の露光を行う時に開き、基板１の露光を行わない時に閉じる。シャッター３５が開いているとき、レンズ群３４を透過した光は、コリメーションレンズ群３６を透過して平行光線束となり、第２平面鏡３７で反射して、マスク２へ照射される。マスク２へ照射された露光光により、マスク２のパターンが基板１へ転写され、基板１の露光が行われる。シャッター３５が閉じているとき、レンズ群３４を透過した光は、シャッター３５に遮断され、基板１の露光は行われない。
【００２８】
第２平面鏡３７の裏側近傍には、照度センサー３８が配置されている。第２平面鏡３７には、露光光の一部を通過させる小さな開口が設けられている。照度センサー３８は、第２平面鏡３７の開口を通過した光を受光して、露光光の照度を測定し、測定結果を光源制御装置４０へ出力する。光源制御装置４０は、照度センサー３８の測定結果に基づき、電源３９からランプ３１へ供給される電力を制御して、ランプ３１から発生する露光光の照度を所望の値に保つ。
【００２９】
なお、本実施の形態では、露光光を発生する光源に１つのランプ３１が用いられているが、ランプの数はこれに限らず、２つ以上のランプを用いてもよい。また、ランプの代わりに、発光ダイオードやレーザーダイオード等の半導体発光素子を用いてもよい。
【００３０】
図２は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を説明する図である。本実施の形態では、図２に示す様に、露光光照射装置３０の光学部品である集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、コリメーションレンズ群３６、及び第２平面鏡３７の表面近くに、エアカーテン吹き出し装置５１及びエアカーテン吸い込み装置５２がそれぞれ設けられている。
【００３１】
図３（ａ）はエアカーテン吹き出し装置及びエアカーテン吸い込み装置の正面図、図３（ｂ）はエアカーテン吹き出し装置の下面図、図３（ｃ）はエアカーテン吸い込み装置の上面図である。なお、図３（ａ），（ｂ），（ｃ）では、第２平面鏡３７の表面近くに設けられたエアカーテン吹き出し装置５１及びエアカーテン吸い込み装置５２が示されているが、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、及びコリメーションレンズ群３６の表面近くに設けられたエアカーテン吹き出し装置５１及びエアカーテン吸い込み装置５２も同様の構成である。
【００３２】
図３（ｂ）に示す様に、エアカーテン吹き出し装置５１の下面には、長手方向に渡って、スリット状のエア吹き出し口５１ａが設けられている。エアカーテン吹き出し装置５１は、図示しないエア供給設備に接続され、エア吹き出し口５１ａから清浄なエアを均一に吹き出す。一方、図３（ｃ）に示す様に、エアカーテン吸い込み装置５２の上面には、長手方向に渡って、スリット状のエア吸い込み口５２ａが設けられている。エアカーテン吸い込み装置５２は、図示しないエア吸引設備に接続され、エア吸い込み口５２ａにより、エアカーテン吹き出し装置５１から吹き出されたエアを吸い込む。これにより、エアカーテン吹き出し装置５１及びエアカーテン吸い込み装置５２は、第２平面鏡３７の表面近くに、第２平面鏡３７の表面全体に渡って、図３（ａ）に破線の矢印で示すエアの流れの層（エアカーテン）を形成する。
【００３３】
なお、エアカーテン吹き出し装置５１のエア吹き出し口はスリット状に限らず、エアカーテン吹き出し装置５１の長手方向に渡って、複数のエア吹き出し口を設けてもよい。また、エアカーテン吸い込み装置５２のエア吸い込み口はスリット状に限らず、エアカーテン吸い込み装置５２の長手方向に渡って、複数のエア吸い込み口を設けてもよい。
【００３４】
図２において、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、及びコリメーションレンズ群３６の表面近くに設けられたエアカーテン吹き出し装置５１及びエアカーテン吸い込み装置５２も同様に、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、及びコリメーションレンズ群３６の表面近くに、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、及びコリメーションレンズ群３６の表面全体に渡って、破線の矢印で示すエアの流れの層（エアカーテン）をそれぞれ形成する。
【００３５】
露光光照射装置３０の集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、コリメーションレンズ群３６、及び第２平面鏡３７の表面近くに、各光学部品の表面全体に渡って形成されたエアの流れの層により、各光学部品が浮遊物から遮蔽されて、浮遊物の各光学部品への付着が防止される。特に、露光光照射装置３０の各光学部品が基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物から遮蔽されて、昇華物の各光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置３０の各光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による各光学部品の汚れが防止される。
【００３６】
図４は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を説明する図である。本実施の形態では、露光光照射装置３０の集光鏡３２の周囲に、カバー６１が設けられている。カバー６１は、露光光が通る開口６１ａを有し、集光鏡３２を収容して、露光光が通る方向以外を取り囲む。カバー６１には、エア供給装置６０が接続されており、エア供給装置６０は、カバー６１内へ清浄なエアを供給して、カバー６１内を陽圧に保つ。
【００３７】
露光光が通る開口６１ａを有するカバー６１内に、露光光照射装置３０の集光鏡３２を収容し、カバー６１内へエアを供給して、カバー６１内を陽圧に保つことにより、浮遊物のカバー６１内への侵入が阻止され、浮遊物の集光鏡３２への付着が防止される。特に、基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物のカバー６１内への侵入が阻止され、昇華物の集光鏡３２への付着が防止されるので、露光光照射装置３０の集光鏡３２に新たな処理を施すことなく、昇華物による集光鏡３２の汚れが防止される。
【００３８】
なお、図４に示した実施の形態では、集光鏡３２がカバー６１内に収容されているが、第１平面鏡３３、レンズ群３４、コリメーションレンズ群３６、または第２平面鏡３７を、露光光が通る開口を有するカバー内に収容し、カバー内へエアを供給して、カバー内を陽圧に保つ様にしてもよい。
【００３９】
図５は、本発明のさらに他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を説明する図である。本実施の形態では、露光光照射装置３０の光学部品である集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、コリメーションレンズ群３６、及び第２平面鏡３７の周囲全体に、カバー６２が設けられている。カバー６２は、露光光が通る開口６２ａを有し、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、コリメーションレンズ群３６、及び第２平面鏡３７を収容して、露光光がマスクへ照射される方向以外を取り囲む。カバー６２には、エア供給装置６０が接続されており、エア供給装置６０は、カバー６２内へ清浄なエアを供給して、カバー６２内を陽圧に保つ。
【００４０】
露光光が通る開口６２ａを有するカバー６２内に、露光光照射装置３０の集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ群３４、コリメーションレンズ群３６、及び第２平面鏡３７を収容し、カバー６２内へエアを供給して、カバー６２内を陽圧に保つことにより、浮遊物のカバー６２内への侵入が阻止され、浮遊物の各光学部品への付着が防止される。特に、基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物のカバー６２内への侵入が阻止され、昇華物の各光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置３０の各光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による各光学部品の汚れが防止される。
【００４１】
図２及び図４に示した実施の形態によれば、露光光照射装置３０の光学部品の表面近くに、光学部品の表面全体に渡ってエアの流れの層を形成することにより、露光光照射装置３０の光学部品を浮遊物から遮蔽することができるので、浮遊物が露光光照射装置３０の光学部品に付着するのを防止することができる。特に、基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物が露光光照射装置３０の光学部品に付着するのを防止することができるので、露光光照射装置３０の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れを防止することができる。
【００４２】
また、図４及び図５に示した実施の形態によれば、露光光が通る開口６１ａ，６２ａを有するカバー６１，６２内に、露光光照射装置３０の光学部品を収容し、カバー６１，６２内へエアを供給して、カバー６１，６２内を陽圧に保つことにより、浮遊物のカバー６１，６２内への侵入を阻止することができるので、浮遊物が露光光照射装置３０の光学部品に付着するのを防止することができる。特に、基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物が露光光照射装置３０の光学部品に付着するのを防止することができるので、露光光照射装置３０の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れを防止することができる。
【００４３】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を用いて露光光照射装置の光学部品を保護しながら、基板の露光を行うことにより、浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止することができるので、露光光照射装置の光学部品を洗浄する頻度を低下させて、表示用パネル基板の生産性を向上させることができる。
【００４４】
例えば、図６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４５】
また、図７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４６】
図６に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図７に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置の光学部品保護方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００４７】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
２０  マスクホルダ
３０  露光光照射装置
３１  ランプ
３２  集光鏡
３３  第１平面鏡
３４  レンズ群
３５  シャッター
３６  コリメーションレンズ群
３７  第２平面鏡
３８  照度センサー
３９  電源
４０  光源制御装置
５１  エアカーテン吹き出し装置
５１ａ  エア吹き出し口
５２  エアカーテン吸い込み装置
５２ａ  エア吸い込み口
６０  エア供給装置
６１，６２  カバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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