(57)【要約】【課題】  検査中に平滑性が悪化する恐れのない収納体を提供する。【解決手段】本発明の収納体は、可視光の透過率が５０％以上であるカバー３３ａ、３３ｂを有しており、カバー３３ａ、３３ｂは、厚さ２ｍｍにおける可視光の透過率が５０％以上、７０％以下であるポリプロピレンで構成されている。【選択図】      図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視光の透過率が５０％以上であるカバーを有し、
前記カバーは、厚さ２ｍｍにおける可視光の透過率が５０％以上、７０％以下であるポリプロピレンで構成されていることを特徴とする収納体。
【請求項２】
磁気ディスク用ガラス基板を収納することを特徴とする請求項１記載の収納体。
【請求項３】
前記ポリプロピレンは、温度８０度で３０分加熱した際のガス放出量が１グラム当たり１２μｇ以下であることを特徴とする請求項１または２のいずれか一項に記載の収納体。
【請求項４】
開口部を有する箱型の本体と、
前記本体の内部に設けられ、前記磁気ディスク用ガラス基板を保持する保持部と、
を有し、
前記カバーは、前記開口部を覆うように設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の収納体。
【請求項５】
前記開口部は、前記本体の対向する面にそれぞれ設けられ、
前記カバーは、一対の前記開口部を覆う一対のカバーであることを特徴とする請求項４記載の収納体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の収納体に磁気ディスク用ガラス基板が収納された状態で、前記カバー越しに前記磁気ディスク用ガラス基板を検査する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の検査方法。
【請求項７】
請求項６記載の検査方法を工程に含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項９】
請求項８に記載の磁気ディスク用ガラス基板と、
前記磁気ディスク用ガラス基板の主表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層と、
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、収納体およびそれを用いた磁気ディスク用ガラス基板の検査方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。
【０００３】
このような磁気記録技術のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）は、ディスク状の基板の表面に磁性体薄膜からなる磁気記録層を有した磁気ディスクと、磁気ディスクを高速で回転させるスピンドルモータと、スイングアームの先端に取り付けられ磁気ディスクの磁気記録層に磁気データを読み書きする磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気ディスク上の半径方向に移動する位置決め装置とを主な構成要素としている（特許文献１）。
【０００４】
磁気ディスクの両主表面に形成された磁気記録層に対してそれぞれ磁気ヘッドが対向配置されるので、１つの磁気ディスクにつき２つの磁気ヘッドを備えているのが、一般的な構成である。ここで、磁気記録媒体用基板としては、かつてはアルミニウム基板が広く用いられてきた。
【０００５】
しかしながら、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、近年は、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板の需要が高まっている。
【０００６】
ガラス基板は、従来、例えば、特許文献２の段落〔０００４〕に示すように、ガラスを円盤状に形成して面取りを行い、端面および主表面を研磨し、その後に耐衝撃性や耐振動性を向上させるための化学強化処理を施すことにより製造されていた（特許文献２）。
【０００７】
このようにして製造されたガラス基板は、両面に磁性層等の記録層を設けることにより、磁気記録媒体として利用されてきた。
【０００８】
ここで、ガラス基板は各製造工程間では、特許文献３に示すように、樹脂性のカセットのような収納体に収納されて搬送され、製造工程の最後に、特許文献４に示すように収納体から取り出された状態で検査を行っていた（特許文献３、４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−２４３７３５号公報
【特許文献２】特開２０００−０７６６５２号公報
【特許文献３】特開２００６−９９９４５号公報
【特許文献４】特開２００８−１１６３４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ここで、検査には欠陥検査のように、表面の微細な平滑性を検査するものもあれば、ディスク出荷前の枚数確認検査や異種確認検査（異なる寸法のディスクが混じっていないかを確認する検査）のように、目視や写真撮影で簡単に検査できるようなものもある。
【００１１】
しかしながら、従来は枚数確認検査や異種確認検査の際には基板を収納体から取り出したり、収納体を分解してから検査を行ったりしているため、検査環境によっては、外部から飛来したパーティクル等が基板表面に付着し、検査中に表面清浄度が悪化してしまう恐れがあった。また、取り出す際に基板を傷つけたり落下させたりすることにより、最悪の場合磁気ディスクとしての使用に耐えない状況になる恐れがあった。
【００１２】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、検査中に表面清浄度などが悪化する恐れのない収納体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討した結果、収納体において、ガラス基板を覆うカバーとして、一定値以内の透過率を有するポリプロピレンを用いることにより、ガラス基板を収納体から取り出すことなく、カバー越しに枚数確認検査や異種確認検査が可能であることを見出した。
【００１４】
さらに、ポリプロピレンはその構造中に不安定な３級水素を有しており、熱、光、水分、金属等の影響を受け、酸素を介して劣化し、ガスを発生させるという特性を持っているが、本発明者は、ガスの放出特性と透過率の間に一定の関係があることを見出し、ガスの放出量を抑えつつ、透過率を保持したカバーを用いることにより、収納体を分解せずに、ガラス基板を収納した状態で、カバー越しに枚数確認検査や異種確認検査が可能であることを見出し、本発明をするに至った。
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。
【００１６】
（構成１）可視光の透過率が５０％以上であるカバーを有し、前記カバーは、厚さ２ｍｍにおける可視光の透過率が５０％以上、７０％以下であるポリプロピレンで構成されていることを特徴とする収納体。
【００１７】
（構成２）磁気ディスク用ガラス基板を収納することを特徴とする構成１記載の収納体。
【００１８】
（構成３）前記ポリプロピレンは、温度８０度で３０分加熱した際のガス放出量が１グラム当たり１２μｇ以下であることを特徴とする構成１または２のいずれかに記載の収納体。
【００１９】
（構成４）開口部を有する箱型の本体と、前記本体の内部に設けられ、前記磁気ディスク用ガラス基板を保持する保持部と、を有し、前記カバーは、前記開口部を覆うように設けられていることを特徴とする構成１〜３のいずれかに記載の収納体。
【００２０】
（構成５）前記開口部は、前記本体の対向する面にそれぞれ設けられ、前記カバーは、一対の前記開口部を覆う一対のカバーであることを特徴とする構成４記載の収納体。
【００２１】
（構成６）構成１〜５のいずれかに記載の収納体に磁気ディスク用ガラス基板が収納された状態で、前記カバー越しに前記磁気ディスク用ガラス基板を検査する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の検査方法。
【００２２】
（構成７）構成６記載の検査方法を工程に含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【００２３】
（構成８）構成７記載の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【００２４】
（構成９）構成８に記載の磁気ディスク用ガラス基板と、前記磁気ディスク用ガラス基板の主表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層と、を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、検査中に平滑性が悪化する恐れのない収納体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】図１（ａ）はガラス基板１の平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図、図１（ｃ）は磁気記録媒体１００を示す断面図である。
【図２】ガラス基板１の製造方法の詳細を示すフローチャートである。
【図３】収納体３１を示す分解斜視図である。
【図４】収納体３１を示す斜視図である。
【図５】透過率とガス放出量の関係を示す表である。
【図６】透過率とガス放出量の関係を示すグラフである
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面に基づき、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２８】
まず、図１を参照して、本実施形態に係るガラス基板１（磁気ディスク用ガラス基板）の製造方法を用いて製造されるガラス基板１の構造について簡単に説明する。
【００２９】
図１（ａ）に示すように、ガラス基板１は、円板形状を有する本体３を有し、本体３の中心には内孔５が形成されている。
【００３０】
図１（ｂ）に示すように、本体３は、実質的に平滑な主表面７ａ、７ｂを有している。
【００３１】
主表面７ａ、７ｂは、情報を記録再生するための層が形成される面であり、例えば図１（ｃ）に示すように、主表面７ａ、７ｂの一方または両方に、下地層１８ａ、磁性層１８ｂ、保護層１８ｃ、潤滑層１８ｄを設けることにより、ガラス基板１は、磁気記録媒体１００となる(少なくとも磁性層１８ｂは記録層として必要)。
【００３２】
また、図１（ｂ）に示すように、本体３は主表面７ａ、７ｂに対して直交している内周端面１１および外周端面９を有している。
【００３３】
内周端面１１および外周端面９は面取されており、それぞれ内周面取面１３ａ、１３ｂおよび外周面取面１５ａ、１５ｂが設けられている。 
さらに、本体３は表面に化学強化層１７が形成されている。
【００３４】
化学強化層１７の詳細については後述するが、例えば、ガラス基板１の原料となるガラスのイオンの一部を、よりイオン半径の大きいイオンに置換し、圧縮応力層とした層である。
【００３５】
次に、図１〜図２を参照して、本実施形態に係るガラス基板１の製造方法について説明する。
【００３６】
なお、以下の説明では、製造工程中におけるガラスを「ガラス基材１ａ」と称し、完成品を「ガラス基板１」と称することにする。
【００３７】
まず、図２に示すように、原料となるガラスを円板状に成形してガラス基材１ａを製造する（ステップ１０１）。
【００３８】
原料となるガラスとしては例えばフロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。
【００３９】
なお、以下の実施形態ではプレス法で製造されたガラスを例に説明する。
【００４０】
次に、ガラス基材１ａの板厚調整のため、研削装置２１を用いて主表面７ａ、７ｂを研削（第１ラッピング）する（ステップ１０２）。 
研削は、例えば両面ラッピング装置とアルミナ等の砥粒を用いて行う。
【００４１】
次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの中心に内孔５（図１参照）を形成する（ステップ１０３）。 
内孔５の形成は、例えばコアドリルを用いて行う。
【００４２】
なお、シートガラスを用いた場合は、ステップ１０１〜１０３は行わず、代わりに、カッターを用いてシート形状から円板形状にガラスを切り出し、さらに内孔５を切り出す工程（カッティング工程）を行う。
【００４３】
次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの端面のクラックを除去するため、内周端面１１および外周端面９の面取を行う（ステップ１０４）。面取は、例えばダイヤモンド砥粒が付着した砥石を用いて行う。
【００４４】
なお、面取後に主表面７ａ、７ｂを研削（第２ラッピング）する工程を追加してもよい。これにより、内孔５の形成や面取によって生じた凹凸を研削でき、研磨の際の負担を軽減できる。
【００４５】
次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの内周端面１１および外周端面９の研磨、即ち端面研磨を行う（ステップ１０５）。 
端面研磨は例えば回転ブラシを用いて行う。
【００４６】
次に、図２に示すように、ガラス基材１ａに化学強化を行い、化学強化層１７を形成する（ステップ１０６）。
【００４７】
具体的には、化学強化液にガラスを浸漬し、化学強化液に含まれているイオンのうち、ガラスに含まれているイオンよりもイオン半径が大きいイオンを、ガラスに含まれている当該イオンとイオン交換して化学強化層１７を形成する。
【００４８】
次に、化学強化が終わると、ガラス基材１ａを洗浄して表面の化学強化液を除去した後、図２に示すように、ガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂの平坦度と表面粗さを調整する（実質的に平滑にする）ため、主表面７ａ、７ｂを研磨する（ステップ１０７）。
【００４９】
研磨は、例えば両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨液は、例えば、酸化セリウムや酸化ランタン等の砥粒を水に分散させてスラリーとしたものが用いられる。
【００５０】
研磨が終了すると、ガラス基材１ａを洗浄し、製造中に表面に付着した研磨剤や不純物を除去する（ステップ１０８）。
【００５１】
具体的にはスクラブ洗浄、超音波洗浄等の物理的な洗浄や、フッ化物、有機酸、過酸化水素、界面活性剤等を用いた薬液洗浄が挙げられる。
【００５２】
次に、製品検査（例えば主表面７ａ、７ｂの表面粗さやパーティクルの量の検査）を行う（ステップ１０９）。以上の工程により、ガラス基板１が完成する。
【００５３】
次に、完成したガラス基板１を収納体３１に収納する（ステップ１１０）。
【００５４】
ここで、ステップ１１０の詳細について説明する。
【００５５】
まず、収納体３１の構造について、図３および図４を参照して説明する。 
図３および図４に示すように、収納体３１はガラス基板１を収納する本体３３と、本体３３に設けられた一対の樹脂製のカバー３３ａ、３３ｂとを有している。
【００５６】
より詳細に説明すると、本体３３は対向する上面３２ａと下面３２ｂが開放された箱型の形状を有しており、内部にはガラス基板１を保持するための溝である保持部３５が設けられている。本体３３は、例えば（１）ポリカーボネート（非導電性タイプ）或いは（２）ポリカーボネートにカーボンブラックなどを加えた材料（導電性タイプ、磁気ディスクの静電気帯電防止のため）で構成される。これは（１）磁気ディスク用収納体用としての加工がし易く、（２）化学的にも安定しており磁気ディスクと化学反応を起こし難いこと、そして（３）価格的にも他の材料に比べ安価であるためである。
【００５７】
なお、本体３３は、上面３２ａよりも下面３２ｂが幅が狭く形成されており、保持部３５が設けられた面である側面３４は、上面３２ａ側から下面３２ｂ側へ向けて幅狭となるテーパ部３６を有している。
【００５８】
ガラス基板１は、上面３２ａより保持部３５に挿入されるが、テーパ部３６で係止され、下面３２ｂ側から落下することはない。
【００５９】
カバー３３ａ、３３ｂは上面３２ａおよび下面３２ｂに対応した形状を有する蓋状の部材であり、ポリプロピレンを含む材料で構成されている。ポリプロピレンを用いる理由としては、（１）加工がし易く、（２）化学的にも安定しており磁気ディスクと化学反応を起こし難いこと、そして（３）価格的にも他の材料に比べ安価であること、（４）適度の弾力性／柔らかさを有することからカバー３３ａ、３３ｂ（上蓋／下蓋）として受ける取り扱い時の変形にも耐えうることが挙げられる。
【００６０】
ここで、後述するステップ１１１においては、カバー３３ａ、３３ｂ越しに製品検査を行うため、カバー３３ａ、３３ｂは透過率が高いのが望ましい。
【００６１】
一方で、カバー３３ａ、３３ｂの構成材料であるポリプロピレンは、その構造中に不安定な３級水素を有しており、熱、光、水分、金属等の影響を受け、酸素を介して劣化し、ガスを発生させるため、ガスの放出量がなるべく少ないものが望ましい。具体的には、ガスの放出量は温度８０度で３０分加熱した際のガス放出量が、１ｇ当たり１５μｇ以下であるのが望ましい。これは１５μｇを超えると磁気ディスクへのガス吸着が著しくなり、ＨＤＩ（Head Disk Interface）における機械的／物理的不具合（ヘッド、ディスク表面が吸着ガスにより汚染され、ヘッドの浮上安定性が損なわれるなど）が発生しやすくなるためである。
【００６２】
このような条件を満たすポリプロピレンは、後述するように可視光の透過率が７０％以下になるため、カバー３３ａ、３３ｂは、厚さ２ｍｍにおける可視光（もしくは検査に用いられる入射光）の透過率が５０％以上７０％以下のポリプロピレンを用いるのが望ましい。
【００６３】
ここで、カバー３３ａ、３３ｂの透過率は、カバー３３ａ、３３ｂの厚さによって異なる（上記した透過率は厚さ２ｍｍの場合である）。
【００６４】
そのため、カバー３３ａ、３３ｂは、上記した厚さにおける上記した透過率およびガス放出量の要件を満たすポリプロピレンを用いて、透過率が５０％以上となるような厚さとする必要がある。 
具体的にはカバー３３ａ、３３ｂの厚さは１ｍｍ〜３ｍｍ程度であるのが望ましい。
【００６５】
なお、カバー３３ａ、３３ｂの可視光の透過率を５０％以上とする理由は、透過率が５０％未満では、カバー３３ａ、３３ｂ越しにガラス基板１を視認するのが困難であるためである。
【００６６】
透過率とガス放出量が上記範囲にあるポリプロピレンを用いることにより、ガスの放出量を抑えつつ、透過率を確保することができる。 
即ち、平滑性が悪化する恐れなく、検査を行うことができる。
【００６７】
次に、ガラス基板１を収納体３１に収納する手順について、簡単に説明する。
【００６８】
まず、図３に示すように、特定の枚数（例えば５０枚）のガラス基板１を本体３３の上面３２ａから保持部３５に挿入する。
【００６９】
次に、図４に示すように、上面３２ａおよび下面３２ｂにそれぞれカバー３３ａ、３３ｂを嵌めこみ、固定する。 
以上がステップ１１０の詳細である。
【００７０】
最後に、収納体３１に収納されたガラス基板１の異種確認検査および枚数確認検査をカバー３３ａ、３３ｂ越しに行う（ステップ１１１）。なお、検査はカメラ等の撮影装置を用いて行われる。
【００７１】
このように、本実施形態によれば、ガラス基板１を収納する収納体３１は、可視光の透過率が５０％以上のカバー３３ａ、３３ｂを有しており、カバー３３ａ、３３ｂを構成する材料は、厚さ２ｍｍにおける可視光の透過率が５０％以上７０％以下であり、ガスの放出量が１ｇ当たり１５μｇ以下であるポリプロピレンである。
【００７２】
そのため、カバー３３ａ、３３ｂは、ガスの放出量を抑えつつ、透過率を確保することができ、収納体３１を分解することなく、カバー３３ａ、３３ｂ越しに異種確認検査および枚数確認検査を行うことができる。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例に基づき、本発明をさらに詳細に説明する。
【００７４】
＜透過率とガス放出量の関係の評価＞
まず、図３および図４に示す収納体３１を製造し、（可視光の）透過率とガス放出量の関係を求めた。
【００７５】
まず、本体３３を、材料としてポリカーボネートを用い、射出成形によって作製した。
本体３３の寸法は、２．５インチのガラス基板１が２５枚入る寸法とした。
【００７６】
次に、カバー３３ａ、３３ｂを作製した。 
具体的には、ポリプロピレンを用い、透過率を変化させたカバー３３ａ、３３ｂを作製した。なお、カバー３３ａ、カバー３３ｂの板厚は２ｍｍとした。
【００７７】
次に、作製したカバー３３ａ、３３ｂの透過率を以下の手順で測定した。 
まず、デジタル照度計testo545（株式会社テストー社製）を用いてカバー３３ａ、３３ｂの透過率を２回測定し、平均値を透過率の測定値とした。次に、作製したカバー３３ａ、３３ｂのガス放出量を加熱脱着装置とガスクロマトグラフ質量分析計を用い、以下の手順で測定した。
【００７８】
まず、作製したカバー３３ａ、３３ｂをメタノールで洗浄した後にアルミホイル上にカバーを載せ、質量が０．０５ｇとなるようにカッターで切断し、試料片を得た。
【００７９】
次に、試料片を加熱脱着装置内の２８０℃に加熱されたチューブにセットし、８０度で３０分加熱し、ガスを放出させた。
【００８０】
発生したガスを−１５０℃のコールドトラップを経由させ、キャリアガスとして１ｍｌ／ｍｉｎで流したＨｅによって、アジレントテクノロジー社製ガスクロマトグラフ質量分析計（モデル：HP7890/HP5975C）のカラム内に導入し、ガス質量を測定した。
【００８１】
なお、カラムとしてはアジレントテクノロジー社製HP-5msセミボラタイルカラム（内径０．２５ｍｍ、長さ３０ｍｍ、膜厚０．５μｍ）を用い、オーブンによって５℃／分の加熱速度で４０℃から３００℃まで加熱されたものを用いた。 
また、検出器の温度は３００℃とした。
【００８２】
透過率とガス放出量の関係を示す表（測定値）を図５に、透過率とガス放出量の関係をグラフ化したものを図６に示す。
【００８３】
図５および図６から明らかなように、透過率が７０％以上になると急激にガス放出量が増加していることが分かった。
【００８４】
一方で、透過率が７０％未満ではガス放出量は大きく変化せず、１５μｇ／ｇ以下であった。
【００８５】
＜目視検査の可否の評価＞
次に、作製した収納体３１のうち、透過率が４５％、５０％、６０％、７０％、７５％のカバー３３ａ、３３ｂを用いたものに対し、以下の工程により作製したガラス基板１をそれぞれ２５枚収納し、目視検査の可否を評価した。
【００８６】
（ガラス基板１の作製）
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラス素材（ブランクス、ガラス基材１ａ）を得た。
【００８７】
なお、このアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８質量％〜７５質量％、Ａｌ２Ｏ３：５質量％〜２３質量％、Ｌｉ２Ｏ：３質量％〜１０質量％、Ｎａ２Ｏ：４質量％〜１３質量％を含有する化学強化用ガラスを使用した。この時点でブランクスの直径は６５ｍｍであった。
【００８８】
次に、このブランクスの両主表面を第１ラッピング加工した後、円筒状のコアドリルを用いて、このブランクスの中心部に穴部を形成して円環状に加工（コアリング）した。そして端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング加工（面取り面形成工程））を施して、直径２．５インチとした。その後、このガラス基材１ａに第２ラッピング加工を行った。
【００８９】
次いで、ガラス基材１ａの外周端部について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。 
このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。 
そして、鏡面研磨工程を終えたガラス基材１ａを水洗浄した。
【００９０】
次いで、主表面研磨工程として、ガラス基材１ａの両主表面に対して第１研磨工程を施した。第１研磨工程においては、研磨装置として、両面研磨機を使用した。この研磨装置における研磨パッドとしては、ウレタンパッドを用いた。また、研磨剤としては、セリウム研磨剤を用いた。これにより、ガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂの表面粗さＲａは約１．０ｎｍとなった。
【００９１】
次いで、ガラス基材１ａの両主表面について、主表面７ａ、７ｂを鏡面状に仕上げる第２研磨工程を施した。第２研磨工程においては、研磨装置として、両面研磨機を使用した。この研磨装置における研磨パッドとしては、軟質スウェードパッド（アスカーＣ硬度：５４）を用いた。また、研磨剤としては、平均粒径２０ｎｍのコロイダルシリカ研磨剤を用いた。
【００９２】
この第２研磨工程を終えたガラス基材１ａを、アルカリ溶液に浸漬して、超音波を印加して洗浄し、アルカリ洗浄液を用いてスクラブ洗浄を行い、極微量に希釈した希硫酸及び前記アルカリ洗浄液で洗浄を行った後に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の蒸気乾燥を行った。
【００９３】
次いで、上述した最終研磨工程を終えたガラス基材１ａに、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を３８０°Ｃに加熱し、その中に洗浄済みのガラス基材１ａを約４時間浸漬することによって行った。そして、この化学強化を終えたガラス基材１ａに対して、アルカリ洗浄を行い、ガラス基板１を作製した。
【００９４】
なお、本実施例では、洗浄工程を便宜的に化学強化工程の後に記載したが、洗浄工程は、ラッピング工程から第１研磨工程および第２研磨工程までの各工程間でも適宜行われる。
【００９５】
次に、作製したガラス基板１を収納体３１に収納し、カバー越しに目視検査を試みた。結果は以下の通りである。
【００９６】
（１）透過率が４５％のカバー３３ａ、３３ｂを用いた収納体３１では、カバー３３ａ、３３ｂ越しに内容物（ガラス基板１）をうまく確認することができなかった。
【００９７】
（２）透過率が５０％、６０％、７０％、７５％のカバー３３ａ、３３ｂを用いた収納体３１では、カバー３３ａ、３３ｂ上から内容物（ガラス基板１）を確認することができた。
【００９８】
＜収納体３１に収納されたガラス基板１の状態確認＞
次に、（２）の収納体３１についてそれぞれ枚数確認検査を行った後、１週間常温で保管した後、ガラス基板１の状態を確認した。
【００９９】
その結果、透過率が５０％、６０％、７０％、７５％のカバー３３ａ、３３ｂを用いた収納体３１に収納されたガラス基板１には変化が見られなかったのに対し、透過率が７５％のカバー３３ａ、３３ｂを用いた収納体３１に収納されたガラス基板１の主表面７ａ、７ｂにパーティクルが付着しているのが確認された。
【０１００】
以上より、透過率が５０〜７０％のポリプロピレンを用いることにより、ガス放出量を抑制しつつ、透過率を確保可能であることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１０１】
上述した実施形態では、本発明を磁気記録媒体用のガラス基板１を収納する収納体３１に適用した場合について説明したが、本発明は何らこれに限定されることなく、ガス放出量と透過率を両立させる必要がある全ての収納体に適用できる。
【符号の説明】
【０１０２】
１……………ガラス基板
１ａ…………ガラス基材
３……………本体
５……………内孔
７ａ…………主表面
１７…………化学強化層
１８ｂ………磁性層
３１…………収納体
３３…………本体
３２ａ………上面
３２ｂ………下面
３３ａ………カバー
３３ｂ………カバー
【図１】
2011123968.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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