(57)【要約】【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第１方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、基板と蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定程度離隔するように形成され、基板は、薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、遮断部材は、基板の少なくとも一部を遮蔽するように基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。【選択図】図１
2011052318.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、
前記基板と前記蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定程度離隔するように形成され、
前記基板は、前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、
前記遮断部材は、前記基板の少なくとも一部を遮蔽するように、前記基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記遮断部材は、前記基板の非成膜領域を遮蔽するように備えられることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記遮断部材は、前記基板の枠領域を遮蔽するように備えられることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記遮断部材は、前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間の空間で移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項５】
前記遮断部材は、前記基板の一端部の第１非成膜領域を遮蔽するように配された第１遮断部材と、前記基板の他端部の第２非成膜領域を遮蔽するように配された第２遮断部材と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材は、それぞれ平板プレート状に備えられることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域の直下に位置し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域の直下に位置するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動することを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは、前記基板と同じ速度で移動することを特徴とする請求項７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記基板に対する前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持されることを特徴とする請求項７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の断面は、“∪”形状に形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材のうちいずれか一つの断面は“∪”形状に形成され、他の一つの断面は“Ｌ”形状に形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記基板に蒸着が行われていない間に、前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは互いに重畳して位置するように配されることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１非成膜領域を遮蔽し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に前記第２非成膜領域を遮蔽するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動することを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１遮断部材は、前記基板と同じ速度で移動し、
前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２遮断部材は、前記基板と同じ速度で移動することを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第１遮断部材の相対的な位置が一定に維持され、
前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持されることを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延設されたことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
前記遮断板アセンブリは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリとを備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１９】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動しつつ、前記基板上に前記各薄膜蒸着装置の各蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２０】
前記薄膜蒸着装置と前記基板とは、前記基板で前記蒸着物質が蒸着される面と平行な面に沿って、いずれか一側が他側に対して相対的に移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２１】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、
前記基板と前記蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成され、
前記遮断部材は、前記基板の少なくとも一部を遮蔽するように、前記基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２２】
前記遮断部材は、前記基板の非成膜領域を遮蔽するように備えられることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２３】
前記遮断部材は、前記基板の枠領域を遮蔽するように備えられることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２４】
前記遮断部材は、前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間の空間で移動することを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２５】
前記遮断部材は、前記基板の一端部の第１非成膜領域を遮蔽するように配された第１遮断部材と、前記基板の他端部の第２非成膜領域を遮蔽するように配された第２遮断部材とを備えることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２６】
前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材は、それぞれ平板プレート状に備えられることを特徴とする請求項２５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２７】
前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域の直下に位置し、前記第２遮断部材は、  前記第２非成膜領域の直下に位置するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動することを特徴とする請求項２５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２８】
前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは、前記基板と同じ速度で移動することを特徴とする請求項２７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２９】
前記基板に対する前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持されることを特徴とする請求項２７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３０】
前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の断面は“∪”形状に形成されることを特徴とする請求項２５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３１】
前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材のうちいずれか一つの断面は“∪”形状に形成され、他の一つの断面は“Ｌ”形状に形成されることを特徴とする請求項２５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３２】
前記基板に蒸着が行われていない間、前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは互いに重畳して位置するように配されることを特徴とする請求項３１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３３】
前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１非成膜領域を遮蔽し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２非成膜領域を遮蔽するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動することを特徴とする請求項２５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３４】
前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１遮断部材は前記基板と同じ速度で移動し、
前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２遮断部材は前記基板と同じ速度で移動することを特徴とする請求項３３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３５】
前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第１遮断部材の相対的な位置が一定に維持され、
前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持されることを特徴とする請求項３３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３６】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートは、連結部材により結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３７】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項３６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３８】
前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項３９】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定程度離隔するように形成されることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４０】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４１】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４２】
前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４３】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項４２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４４】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向くように配され、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向くように配されることを特徴とする請求項４２に記載の薄膜蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は薄膜蒸着装置に係り、詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光ディスプレイ装置は、視野角が広くてコントラストが優秀なだけではなく、応答速度が速いという長所を持っていて、次世代ディスプレイ装置として注目されている。
【０００３】
一般的に、有機発光ディスプレイ装置は、アノード及びカソードから注入される正孔及び電子が発光層で再結合して発光する原理で色相を具現できるように、アノードとカソードとの間に発光層を挿入した積層型構造を持っている。しかし、このような構造では高効率発光を得難いため、それぞれの電極と発光層との間に電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層及び正孔注入層などの中間層を選択的に追加挿入して使用している。
【０００４】
しかし、発光層及び中間層などの有機薄膜の微細パターンを形成することが実質的に非常に難しく、前記層によって赤色、緑色及び青色の発光効率が変わるため、従来の薄膜蒸着装置では、大面積（５Ｇ以上のマザーガラスに対するパターニングが不可能であって、満足すべきレベルの駆動電圧、電流密度、輝度、色純度、発光効率及び寿命などを持つ大型有機発光ディスプレイ装置を製造できないところ、その改善が至急である。
【０００５】
一方、有機発光ディスプレイ装置は、互いに対向した第１電極と第２電極との間に発光層及びそれを含む中間層を備える。この時、前記電極及び中間層はいろいろな方法で形成されうるが、そのうち一つの方法が蒸着である。蒸着方法を利用して有機発光ディスプレイ装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを持つファインメタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率及び蒸着効率が向上し、物質のリサイクルが容易な薄膜蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、前記基板と前記蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定程度離隔するように形成され、前記基板は、前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、前記遮断部材は、前記基板の少なくとも一部を遮蔽するように、前記基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【０００８】
本発明において、前記遮断部材は、前記基板の非成膜領域を遮蔽するように備えられる。
本発明において、前記遮断部材は、前記基板の枠領域を遮蔽するように備えられる。
本発明において、前記遮断部材は、前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間の空間で移動する。
【０００９】
本発明において、前記遮断部材は、前記基板の一端部の第１非成膜領域を遮蔽するように配された第１遮断部材と、前記基板の他端部の第２非成膜領域を遮蔽するように配された第２遮断部材と、を備える。
ここで、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材は、それぞれ平板プレート状に備えられる。
【００１０】
ここで、前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域の直下に位置し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域の直下に位置するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動する。
ここで、前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは、前記基板と同じ速度で移動する。
ここで、前記基板に対する前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持される。
【００１１】
ここで、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の断面は“∪”形状に形成される。
ここで、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材のうちいずれか一つの断面は“∪”形状に形成され、他の一つの断面は“Ｌ”形状に形成される。
ここで、前記基板に蒸着が行われていない間に、前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは互いに重畳して位置するように配される。
【００１２】
ここで、前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１非成膜領域を遮蔽し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２非成膜領域を遮蔽するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動する。
【００１３】
ここで、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１遮断部材は、前記基板と同じ速度で移動し、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２遮断部材は、前記基板と同じ速度で移動する。
ここで、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第１遮断部材の相対的な位置が一定に維持され、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持される。
【００１４】
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
本発明において、前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延設される。
【００１５】
本発明において、前記遮断板アセンブリは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリとを備える。
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動しつつ、前記基板上に前記各薄膜蒸着装置の各蒸着物質が連続的に蒸着される。
【００１６】
本発明において、前記薄膜蒸着装置と前記基板とは、前記基板で前記蒸着物質が蒸着される面と平行な面に沿って、いずれか一側が他側に対して相対的に移動する。
他の側面による本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、前記基板と前記蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成され、前記遮断部材は、前記基板の少なくとも一部を遮蔽するように前記基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【００１７】
本発明において、前記遮断部材は、前記基板の非成膜領域を遮蔽するように備えられる。
本発明において、前記遮断部材は、前記基板の枠領域を遮蔽するように備えられる。
本発明において、前記遮断部材は、前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間の空間で移動する。
【００１８】
本発明において、前記遮断部材は、前記基板の一端部の第１非成膜領域を遮蔽するように配された第１遮断部材と、前記基板の他端部の第２非成膜領域を遮蔽するように配された第２遮断部材とを備える。
本発明において、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材は、それぞれ平板プレート状に備えられる。
【００１９】
ここで、前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域の直下に位置し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域の直下に位置するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動する。
ここで、前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは、前記基板と同じ速度で移動する。
ここで、前記基板に対する前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持される。
【００２０】
ここで、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材の断面は、“∪”形状に形成される。
ここで、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材のうちいずれか一つの断面は、“∪”形状に形成され、他の一つの断面は、“Ｌ”形状に形成される。
ここで、前記基板に蒸着が行われていない間、前記第１遮断部材と前記第２遮断部材とは互いに重畳して位置するように配される。
【００２１】
ここで、前記第１遮断部材は、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１非成膜領域を遮蔽し、前記第２遮断部材は、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２非成膜領域を遮蔽するように、前記第１遮断部材及び前記第２遮断部材が前記基板と共に移動する。
【００２２】
ここで、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第１遮断部材は、前記基板と同じ速度で移動し、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記第２遮断部材は、前記基板と同じ速度で移動する。
【００２３】
ここで、前記第１非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第１遮断部材の相対的な位置が一定に維持され、前記第２非成膜領域が前記遮断板アセンブリと前記パターニングスリットシートとの間を過ぎる間に、前記基板に対する前記第２遮断部材の相対的な位置が一定に維持される。
【００２４】
本発明において、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートは、連結部材により結合されて一体に形成される。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドする。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成される。
【００２５】
ここで、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定程度離隔するように形成される。
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着される。
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
【００２６】
本発明において、前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成される。
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルは互いに対向する方向にチルトされる。
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向くように配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向くように配される。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の薄膜蒸着装置によれば、製造が容易で、大型基板の量産工程に容易に適用できて、製造収率及び蒸着効率が向上して、蒸着物質のリサイクルが容易になる効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図である。
【図２】図１の薄膜蒸着装置の概略的な側面図である。
【図３】図１の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
【図４Ａ】本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置で、蒸着物質が蒸着されている状態を概略的に示す図面である。
【図４Ｂ】図４Ａのように、遮断板により蒸着空間が分離された状態で発生する陰影を示す図面である。
【図４Ｃ】蒸着空間が分離されていない状態で発生する陰影を示す図面である。
【図５Ａ】本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図５Ｂ】本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図５Ｃ】本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図５Ｄ】本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図６Ａ】本発明の第１実施形態の一変形例による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図６Ｂ】本発明の第１実施形態の一変形例による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図６Ｃ】本発明の第１実施形態の一変形例による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図６Ｄ】本発明の第１実施形態の一変形例による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
【図７】本発明の第２実施形態による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図である。
【図８】本発明による薄膜蒸着装置で製造できる有機発光ディスプレイ装置の断面図である。
【図９】本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図である。
【図１０】図９の薄膜蒸着装置の概略的な側面図である。
【図１１】図９の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
【図１２】本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。
【図１３】本発明による薄膜蒸着装置で蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図１４】本発明による薄膜蒸着装置で蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、添付した図面を参照して、本発明による望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
図１は、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図であり、  図２は、図１の薄膜蒸着装置の概略的な側面図であり、図３は、図１の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
【００３０】
図１、図２及び図３を参照すれば、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリ１３０、パターニングスリットシート１５０及び遮断部材１６１、１６２を備える。
【００３１】
ここで、図１、図２及び図３には、説明の便宜のためにチャンバーを図示していないが、図１ないし図３のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバー内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００３２】
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過して基板４００に所望のパターンに蒸着させるためには、基本的に、チャンバー（図示せず）の内部はＦＭＭ（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ）蒸着方法と同じ高真空状態を維持せねばならない。また、遮断板１３１及びパターニングスリットシート１５０の温度が、蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない（約１００゜Ｃ以下）。なぜなら、遮断板１３１の温度が十分に低くて初めて遮断板１３１に衝突した蒸着物質１１５が再び蒸発する現象を防止でき、パターニングスリットシート１５０の温度が十分に低くて初めて、温度によるパターニングスリットシート１５０の熱膨張問題を最小化できるからである。この時、遮断板アセンブリ１３０は高温の蒸着源１１０に向かっており、蒸着源１１０と近いところは最大１６７℃ほどに温度が上昇するため、必要な場合に部分冷却装置がさらに備えられうる。このために、遮断板アセンブリ１３０には冷却部材が形成されうる。
【００３３】
これらのチャンバー（図示せず）内には、被蒸着体である基板４００が配される。前記基板４００は平板表示装置用基板になりうるが、多くの平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の第１実施形態では、基板４００が薄膜蒸着装置１００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進められることを一特徴とする。
【００３４】
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同一に形成されねばならない。したがって、基板サイズが増大するほどＦＭＭも大型化しなければならず、したがって、ＦＭＭ製作が容易でなく、ＦＭＭを引張って精密なパターンに整列（ａｌｉｇｎ）するにも容易でないという問題点があった。
【００３５】
これらの問題点を解決するために、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００は、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置１００と対向するように配された基板４００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板４００が図１の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われるのである。ここで、図面には、基板４００がチャンバー（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではなく、基板４００は固定されていて、薄膜蒸着装置１００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【００３６】
したがって、本発明の薄膜蒸着装置１００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置１００の場合、基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板４００の長さより非常に小さく形成されうるのである。このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート１５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小さなサイズのパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【００３７】
このように、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが一定程度離隔することが望ましい。これについては、後で詳細に記述する。
【００３８】
一方、チャンバー内で前記基板４００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化することによって、基板４００に蒸着が行われる。
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填される坩堝１１１と、坩堝１１１を加熱させて坩堝１１１の内部に満たされた蒸着物質１１５を坩堝１１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒーター１１２とを備える。
【００３９】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０から基板４００に向かう側には蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１は等間隔で形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、これらの蒸着源ノズル部１２０を通過して、被蒸着体である基板４００側に向かう。
【００４０】
蒸着源ノズル部１２０の一側には、遮断板アセンブリ１３０が備えられる。前記遮断板アセンブリ１３０は、複数の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備えられる遮断板フレーム１３２とを備える。前記複数の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備えられうる。ここで、前記複数の遮断板１３１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は図面から見た時、ＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。このように配された複数の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切る役割を行う。すなわち、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００は、前記遮断板１３１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に、蒸着空間Ｓが分離されることを一特徴とする。
【００４１】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１の間に配されうる。これは、言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１の間に一つの蒸着源ノズル１２１が配されるともいえる。望ましくは、蒸着源ノズル１２１は、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置しうる。このように、遮断板１３１が蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切ることによって、一つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過して基板４００に蒸着されるのである。言い換えれば、遮断板１３１は、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されずに直進性を維持するように、蒸着物質のＸ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００４２】
このように、遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮めることができ、したがって、薄膜蒸着装置１００と基板４００とを一定程度離隔させることが可能になる。これについては、後で詳細に記述する。
【００４３】
一方、前記複数の遮断板１３１の外側には、遮断板フレーム１３２がさらに備えられうる。遮断板フレーム１３２は、複数の遮断板１３１の上下面にそれぞれ備えられて、複数の遮断板１３１の位置を支持すると同時に、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００４４】
一方、図面には、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０とが一定程度離隔されていると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、蒸着源１１０から発散する熱が遮断板アセンブリ１３０に伝導されることを防止するために、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０とを一定程度離隔させて形成してもよく、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０との間に適切な断熱手段が備えられる場合、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０とが結合して接触してもよい。
【００４５】
一方、前記遮断板アセンブリ１３０は、薄膜蒸着装置１００から分離自在に形成されうる。詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法は、蒸着効率が低いという問題点が存在した。ここで蒸着効率とは、蒸着源で気化した材料のうち、実際に基板に蒸着された材料の比率を意味するものであって、従来のＦＭＭ蒸着方法での蒸着効率は約３２％ほどである。しかも、従来のＦＭＭ蒸着方法では、蒸着に使われていない約６８％ほどの有機物が蒸着器内部のところどころに蒸着されるため、そのリサイクルが容易でないという問題点があった。
【００４６】
これらの問題点を解決するために、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００では、遮断板アセンブリ１３０を利用して蒸着空間を外部空間と分離したため、基板４００に蒸着されていない蒸着物質は、ほとんど遮断板アセンブリ１３０内に蒸着される。したがって、遮断板アセンブリ１３０を薄膜蒸着装置１００から分離自在に形成して、長時間の蒸着後に遮断板アセンブリ１３０に蒸着物質が多く溜まれば、遮断板アセンブリ１３０を分離して別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。このような構成を通じて、蒸着物質リサイクル率を高めることによって蒸着効率が向上し、コストダウン効果を得ることができる。
【００４７】
一方、蒸着源１１０と基板４００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。フレーム１５５は、窓枠の形態に形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０にはＸ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過して被蒸着体である基板４００側に向かう。この時、前記パターニングスリットシート１５０は、従来のＦＭＭ、特に、ストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作されうる。
【００４８】
ここで、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００は、蒸着源ノズル１２１の総数よりパターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２枚の遮断板１３１の間に配された蒸着源ノズル１２１の数よりパターニングスリット１５１の数がさらに多く形成される。
【００４９】
すなわち、互いに隣接している２枚の遮断板１３１の間には、一つの蒸着源ノズル１２１が配されうる。同時に、互いに隣接している２枚の遮断板１３１の間には、複数のパターニングスリット１５１が配されうる。そして、互いに隣接している２枚の遮断板１３１によって蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間が区切られて、それぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間Ｓが分離される。したがって、一つの蒸着源ノズル１２１から放射された蒸着物質は、ほぼ同じ蒸着空間Ｓにあるパターニングスリット１５１を通過して基板４００に蒸着されるようになる。
【００５０】
一方、遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０との間には遮断部材１６１、１６２が配される。ここで、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００は、基板４００と共に移動し、基板４００の非成膜領域４０１、４０２を遮蔽するように配される遮断部材１６１、１６２をさらに備え、基板４００の非成膜領域４０１、４０２に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。これについては、図５以下で詳細に説明する。
【００５１】
一方、前述した遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定程度離隔するように形成され、遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０とは、連結部材１３５によって互いに連結されうる。詳細には、高温状態の蒸着源１１０により、遮断板アセンブリ１３０の温度は約１００℃以上上昇するため、上昇した遮断板アセンブリ１３０の温度がパターニングスリットシート１５０に伝導されないように、遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０とを一定程度離隔させるのである。
【００５２】
前述したように、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００は、基板４００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着装置１００が基板４００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は、基板４００から一定程度離隔するように形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板４００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮める。
【００５３】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を生じさせないように、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させることができないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化するにつれてマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成することが容易でないという問題点が存在した。
【００５４】
これらの問題点を解決するために、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００では、パターニングスリットシート１５０が被蒸着体である基板４００と所定間隔をおいて離隔するように配する。これは、遮断板１３１を備えて、基板４００に生成される陰影が小さくなることによって実現可能になる。
このような本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対し移動させつつ蒸着を行えることで、マスク製作が容易になる効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。
【００５５】
以下では、遮断板を備えた場合と、そうでない場合とに形成される陰影のサイズを詳細に比較する。
図４Ａは、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置で蒸着物質が蒸着されている状態を概略的に示す図面であり、図４Ｂは、図４Ａのように遮断板により蒸着空間が分離された状態で発生する陰影を示す図面であり、図４Ｃは、蒸着空間が分離されていない状態で発生する陰影を示す図面である。
【００５６】
図４Ａを参照すれば、蒸着源１１０で気化した蒸着物質は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過して基板４００に蒸着される。この時、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間は、遮断板１３１によって複数の蒸着空間Ｓに区切られているので、遮断板１３１によって蒸着源ノズル部１２０のそれぞれの蒸着源ノズル１２１から出た蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から出た蒸着物質と混合されない。
【００５７】
蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間が遮断板アセンブリ１３０によって区切られている場合、図４Ａ及び図４Ｂに示したように、基板４００に生成される陰影領域の幅ＳＨ１は、次の数式１によって決定される。
【００５８】
［数１］
ＳＨ１＝ｓ＊ｄｓ／ｈ
（ｓ＝パターニングスリットシートと基板との距離、ｄｓ＝蒸着源ノズルの幅、ｈ＝蒸着源とパターニングスリットシートとの距離）
【００５９】
一方、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間が遮断板によって区切られていない場合、図４Ｃに示したように、蒸着物質は、図４Ｂより広い範囲の多様な角度でパターニングスリットシートを通過する。すなわち、この場合、パターニングスリットの直向かいにある蒸着源ノズルから放射された蒸着物質だけではなく、他の蒸着源ノズルから放射された蒸着物質までパターニングスリットを通じて基板４００に蒸着されるので、基板４００に形成された陰影領域ＳＨ２の幅は、遮断板を備えた場合に比べて非常に大きくなる。この時、基板４００に生成される陰影領域の幅ＳＨ２は次の数式２によって決定される。
【００６０】
［数２］
ＳＨ２＝ｓ＊２ｄｎ／ｈ
（ｓ＝パターニングスリットシートと基板との距離、ｄｎ＝隣接する蒸着源ノズルとの間隔、ｈ＝蒸着源とパターニングスリットシートとの距離）
【００６１】
前記数式１と数式２とを比較してみた時、ｄｓ（蒸着源ノズルの幅）よりｄｎ（隣接する蒸着源ノズルとの間隔）が数〜数十倍以上非常に大きく形成されるので、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間が遮断板１３１によって区切られている場合、陰影がはるかに小さく形成されることが分かる。ここで、基板４００に生成される陰影領域の幅ＳＨ２を狭めるためには、（１）蒸着源ノズル１２１が設けられる間隔を狭めるか（ｄｎ減少）、（２）パターニングスリットシート１５０と基板４００との間隔を狭めるか（ｓ減少）、（３）蒸着源１１０とパターニングスリットシート１５０との距離を増大させねばならない（ｈ増加）。
【００６２】
これにより、遮断板１３１を備えることによって、基板４００に生成される陰影が小さくなり、したがって、パターニングスリットシート１５０を基板４００から離隔させることができることが分かる。
【００６３】
以下では、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置１００の遮断部材１６１、１６２を利用した薄膜蒸着方法についてさらに詳細に説明する。
図５Ａないし図５Ｄは、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
図５Ａないし図５Ｄを参照すれば、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置は、基板４００のエッジ部と対応するように遮断部材１６１、１６２をさらに備えて、基板４００の非成膜領域に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。
【００６４】
詳細には、基板４００の枠部分にはアノード電極またはカソード電極パターンが形成されて、今後製品検査用または製品製作時に、端子として活用するための領域が存在する。もし、この領域に有機物が成膜される場合、アノード電極またはカソード電極が自体の役割を行い難くなり、したがって、これらの基板４００の枠部分は、有機物などが成膜されてはならない非成膜領域にならねばならない。しかし、前述したように、本発明の薄膜蒸着装置では、基板４００が薄膜蒸着装置に対して移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われるので、基板４００の非成膜領域への有機物蒸着を防止することが容易でなかった。
【００６５】
このように基板４００の非成膜領域に有機物が蒸着されることを防止するために、本発明の第１実施形態による薄膜蒸着装置では、基板４００の枠部分に別途の遮断部材を配する。
【００６６】
図５Ａを参照すれば、基板４００の下方、詳細には蒸着源１１０と対向する基板４００下部面の下方には遮断部材１６１、１６２が配される。ここで、第１遮断部材１６１は、基板４００の第１非成膜領域４０１に対応するように第１非成膜領域４０１の直下に配され、第２遮断部材１６２は、基板４００の第２非成膜領域４０２に対応するように、第２非成膜領域４０２の直下に配される。この時、第１遮断部材１６１及び第２遮断部材１６２は、平らな平板プレート状に備えられうる。
【００６７】
前述したように、薄膜蒸着装置１００と対向するように配された基板４００は、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板４００が図５Ｂの矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われるのである。ここで、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２とは基板４００と同じ速度で矢印Ａ方向に移動する。すなわち、基板４００に対する遮断部材１６１、１６２の相対的な位置は固定されており、基板４００の第１非成膜領域４０１の下方には、常に第１遮断部材１６１が位置し、基板４００の第２非成膜領域４０２の下方には、常に第２遮断部材１６２が位置するのである。
【００６８】
図５Ａ及び図５Ｂに示したように、基板４００が矢印Ａ方向に一定程度移動して、基板４００の第１非成膜領域４０１が蒸着源１１０と対向するように位置した状態で、第１遮断部材１６１が遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源１１０から蒸発された蒸着物質が第１非成膜領域４０１に蒸着されることを防ぐ。
【００６９】
そして、図５Ｃに示したように、基板４００が矢印Ａ方向にさらに移動して、基板４００の第２非成膜領域４０２が蒸着源１１０と対向するように位置した状態では、第２遮断部材１６２が遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源１１０から蒸発された蒸着物質が第２非成膜領域４０２に蒸着されることを防ぐ。
【００７０】
このような遮断部材１６１、１６２によって基板４００の非成膜領域４０１、４０２が遮蔽されることによって、別途の構造物なしにも簡便に基板４００の非成膜領域４０１、４０２への有機物の蒸着が防止される効果を得ることができる。
以下では、本発明の第１実施形態の一変形例による薄膜蒸着装置１００の遮断部材１６１、１６２を利用した薄膜蒸着方法について詳細に説明する。
【００７１】
図６Ａないし図６Ｄは、本発明の第１実施形態の一変形例に関する薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を示す図面である。
図６Ａないし図６Ｄを参照すれば、本発明の第１実施形態の一変形例に関する薄膜蒸着装置は、基板４００のエッジ部と対応するように遮断部材１６１、１６２をさらに備えて、基板４００の非成膜領域に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。この時、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２とが互いに独立して移動できるように備えられると同時に、遮断部材１６１、１６２は、基板４００に対して互いに独立して移動できるように備えられる。これをさらに詳細に説明すれば、次の通りである。
【００７２】
チャンバー（図示せず）内の空間は限定されているため、チャンバー内で遮断部材が占める空間が小さければ小さくなるほど、チャンバー内の空間活用度側面で有利である。この場合、基板４００の第１非成膜領域４０１を遮蔽する第１遮断部材１６１と、基板４００の第２非成膜領域４０２を遮蔽する第２遮断部材１６２との基板４００に対する相対的な位置が固定されているならば、それだけ遮断部材がチャンバー内の空間を多く占めるようになる。
【００７３】
したがって、チャンバー内で遮断部材が占める空間を最小化させるために、図６Ａ及び図６Ｄに示したように、基板４００に薄膜が蒸着されていない時には、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２とが互いに重畳されて位置する。すなわち、基板４００の下方、詳細には、蒸着源１１０と対向する基板４００の下部面の下方には、遮断部材１６１、１６２が互いに重畳された形態に配される。
【００７４】
一方、図６Ｂに示したように、基板４００の第１非成膜領域４０１が蒸着源１１０の上部を通過している間には、第１遮断部材１６１が基板４００の第１非成膜領域４０１に沿って基板４００と同じ速度で移動しつつ、蒸着源１１０から蒸発された蒸着物質が第１非成膜領域４０１に蒸着されることを防ぐ。また、図６Ｃに示したように、基板４００の第２非成膜領域４０２が蒸着源１１０の上部を通過している間には、第２遮断部材１６２が基板４００の第２非成膜領域４０２に沿って基板４００と同じ速度で移動しつつ、蒸着源１１０から蒸発された蒸着物質が第２非成膜領域４０２に蒸着されることを防ぐ。すなわち、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２との互いに相対的な位置が連続的に変化し、同時に、第１遮断部材１６１及び第２遮断部材１６２と基板４００との間の相対的な位置も連続的に変化するようになる。
【００７５】
この時、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２との断面は、ほぼ“∪”形状に形成されることが望ましい。なぜなら、蒸着源１１０から放出された蒸着物質が遮断部材１６１、１６２の正面から入射して遮断部材１６１、１６２に衝突することもあるが、遮断部材１６１、１６２の側面から入射することもあるからである。したがって、非成膜領域に蒸着されないようにするためには、遮断部材１６１、１６２の側面から入射する蒸着物質まで防げるように、遮断部材１６１、１６２の断面がほぼ“∪”形状に形成されることが望ましい。
【００７６】
ただし、前述したように、チャンバー内で遮断部材が占める空間を最小化するために、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２のうちいずれか一つは、一側面が開放されるように形成されうる。すなわち、図６Ａないし図６Ｄに示したように、第１遮断部材１６１はほぼ“∪”形状に形成され、第２遮断部材１６２は一側面が開放されるようにほぼ“Ｌ”形状に形成されうる。このような第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２との構成によって、基板４００に薄膜が蒸着されていない時には、第１遮断部材１６１と第２遮断部材１６２とが互いに重畳されて位置するようになる。
【００７７】
このような遮断部材１６１、１６２によって、基板４００の非成膜領域４０１、４０２が遮蔽されることによって、別途の構造物なしにも簡便に、基板４００の非成膜領域４０１、４０２への有機物の蒸着が防止される効果を得ることができる。また、遮断部材１６１、１６２の移動経路が短くなり、チャンバー内の空間活用度が高くなるという効果を得ることができる。
【００７８】
図７は、本発明の第２実施形態による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図である。
図７に示した実施形態に関する薄膜蒸着装置５００は、蒸着源５１０、蒸着源ノズル部５２０、第１遮断板アセンブリ５３０、第２遮断板アセンブリ５４０、パターニングスリットシート５５０及び遮断部材５６１、５６２を備える。
ここで、図７には説明の便宜のためにチャンバーを図示していないが、図７のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバー内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００７９】
これらのチャンバー（図示せず）内には、被蒸着体である基板４００が配される。そして、チャンバー（図示せず）内で基板４００と対向する側には、蒸着物質５１５が収納及び加熱される蒸着源５１０が配される。
【００８０】
蒸着源５１０及びパターニングスリットシート５５０の詳細な構成は、前述した図１による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第１遮断板アセンブリ５３０は、図１による実施形態の遮断板アセンブリと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
【００８１】
本実施形態では、第１遮断板アセンブリ５３０の一側に第２遮断板アセンブリ５４０が備えられる。前記第２遮断板アセンブリ５４０は、複数の第２遮断板５４１と、第２遮断板５４１の外側に備えられる第２遮断板フレーム５４２とを備える。
前記複数の第２遮断板５４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備えられうる。そして、前記複数の第２遮断板５４１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの第２遮断板５４１は、図面から見た時、ＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。
【００８２】
このように配された複数の第１遮断板５３１及び第２遮断板５４１は、蒸着源ノズル部５２０とパターニングスリットシート５５０との間の空間を区切る役割を行う。すなわち、前記第１遮断板５３１及び第２遮断板５４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル５２１別に蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【００８３】
ここで、それぞれの第２遮断板５４１は、それぞれの第１遮断板５３１と一対一対応するように配されうる。言い換えれば、それぞれの第２遮断板５４１は、それぞれの第１遮断板５３１と整列されて互いに平行に配されうる。すなわち、互いに対応する第１遮断板５３１と第２遮断板５４１とは互いに同じ平面上に位置するのである。図面には、第１遮断板５３１と第２遮断板５４１とのＸ軸方向の幅が同一であると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、パターニングスリット５５１との精密な整列が要求される第２遮断板５４１は相対的に薄く形成される一方、精密な整列が要求されない第１遮断板５３１は相対的に厚く形成されて、その製造を容易にすることもできるといえる。
【００８４】
以上説明したような薄膜蒸着装置５００は基板４００と共に移動し、基板４００の非成膜領域４０１、４０２を遮蔽するように配される遮断部材５６１、５６２をさらに備えて、基板４００の非成膜領域４０１、４０２に有機物が蒸着される現象を防止する役割を行う。これらの遮断部材５６１、５６２は、図１による第１実施形態及び図６Ａないし図６Ｄによる実施形態の変形例の遮断部材と同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
【００８５】
図８は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面を示したものである。
図８に示したように、ガラス材またはプラスチック材の基板５０上にバッファ層５１が形成されており、この上に薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＴＦＴ）と、有機電界発光素子（Ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）とが形成される。
【００８６】
基板５０のバッファ層５１上に所定パターンの活性層５２が備えられる。活性層５２の上部にはゲート絶縁膜５３が備えられ、ゲート絶縁膜５３の上部の所定領域にはゲート電極５４が形成される。ゲート電極５４は、薄膜トランジスタのオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。ゲート電極５４の上部には層間絶縁膜５５が形成され、コンタクトホールを通じてソース／ドレイン電極５６、５７が、それぞれ活性層５２のソース／ドレイン領域５２ｂ、５２ｃに接するように形成される。ソース／ドレイン電極５６、５７の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどからなるパッシベーション膜５８が形成され、パッシベーション膜５８の上部には、アクリル、ポリイミド、ＢＣＢ（Ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）などの有機物質で平坦化膜５９が形成されている。平坦化膜５９の上部に、ＯＬＥＤのアノード電極になる画素電極６１が形成され、これを覆うように有機物で画素定義膜６０が形成される。画素定義膜６０に所定の開口を形成した後、画素定義膜６０の上部及び開口が形成されて外部に露出された画素電極６１の上部に有機膜６２を形成する。有機膜６２は発光層を備えたものになる。本発明は必ずしもこれらの構造に限定されるものではなく、多様な有機発光ディスプレイ装置の構造がそのまま適用されうるということはいうまでもない。
【００８７】
ＯＬＥＤは、電流のフローによって赤色、緑色、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するものであって、薄膜トランジスタのドレイン電極５７に連結されて、これよりプラス電源を供給される画素電極６１、全体画素を覆うように備えられてマイナス電源を供給する対向電極６３、及びこれら画素電極６１と対向電極６３との間に配されて発光する有機膜６２とで構成される。
【００８８】
画素電極６１と対向電極６３との間には、有機膜６２が介在しており、有機膜６２に相異なる極性の電圧を加えて有機膜６２で発光が行われるようにする。
有機膜６２は、低分子または高分子有機膜が使われうるが、低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造に積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機膜は真空蒸着の方法で形成される。
【００８９】
高分子有機膜の場合には、大体ホール輸送層（ＨＴＬ）及び発光層（ＥＭＬ）で備えられた構造を持つことができ、この時、ホール輸送層としてＰＥＤＯＴを使用し、発光層としてＰＰＶ（Ｐｏｌｙ−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｖｉｎｙｌｅｎｅ）系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用し、これをスクリーン印刷やインクジェット印刷方法などで形成できる。
これらの有機膜は必ずしもこれに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用されうるということはいうまでもない。
【００９０】
画素電極６１はアノード電極の機能を行い、対向電極６３はカソード電極の機能を行うが、もちろん、これら画素電極６１と対向電極６３との極性は逆になってもよい。
画素電極６１は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で備えられ、反射型電極として使われる時にはＡｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物などで反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
【００９１】
一方、対向電極６３も透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、対向電極６３がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物が有機膜６２の方向に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。
【００９２】
これらの有機発光ディスプレイ装置で、発光層を備える有機膜６２は、前述した薄膜蒸着装置１００、５００によって形成されうる。本発明はこれ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無機膜などの蒸着にも使用でき、その他の多様な素材の成膜工程に適用できる。
【００９３】
図９は、本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置９００を概略的に示した斜視図であり、図１０は、図９の薄膜蒸着装置９００の概略的な側面図であり、図１１は、図９の薄膜蒸着装置９００の概略的な平面図である。
図９、図１０及び図１１を参照すれば、本発明の第３実施形態に関する薄膜蒸着装置９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０、パターニングスリットシート９５０及び遮断部材９６１、９６２を備える。
【００９４】
ここで、図９、図１０及び図１１には、説明の便宜のためにチャンバーを示していないが、図９ないし図１１のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバー内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００９５】
詳細には、蒸着源９１０から放出された蒸着物質９１５が蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して基板４００に所望のパターンで蒸着されるようにするためには、基本的にチャンバー（図示せず）内部はＦＭＭ蒸着方法と同じ高真空状態を維持せねばならない。また、パターニングスリットシート９５０の温度が蒸着源９１０の温度より十分に低くなければならない（約１００℃以下）。なぜなら、パターニングスリットシート９５０の温度が十分に低くて初めて、温度によるパターニングスリットシート９５０の熱膨張問題を最小化できるからである。
これらのチャンバー（図示せず）内には被蒸着体である基板４００が配される。前記基板４００は平板表示装置用基板になりうるが、多くの平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【００９６】
ここで、本発明の一実施形態では、基板４００が薄膜蒸着装置９００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進められることを一特徴とする。
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同一に形成されねばならない。したがって、基板サイズが増大するほどＦＭＭも大型化せねばならず、これによってＦＭＭ製作が容易でなく、ＦＭＭを引張って精密なパターンに整列することも容易でないという問題点があった。
【００９７】
これらの問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置９００は、薄膜蒸着装置９００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置９００と対向するように配された基板４００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板４００が図９の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われるのである。ここで、図面には、基板４００がチャンバー（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではなく、基板４００は固定されており、薄膜蒸着装置９００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【００９８】
したがって、本発明の薄膜蒸着装置９００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を作ることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置９００の場合、基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート９５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板４００の長さより非常に小さく形成されうるのである。このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート９５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート９５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小さなサイズのパターニングスリットシート９５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これはディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【００９９】
このように、薄膜蒸着装置９００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着装置９００と基板４００とが一定程度離隔することが望ましい。これについては、後で詳細に記述する。
一方、チャンバー内で前記基板４００と対向する側には、蒸着物質９１５が収納及び加熱される蒸着源９１０が配される。前記蒸着源９１０内に収納されている蒸着物質９１５が気化することによって基板４００に蒸着が行われる。
【０１００】
詳細には、蒸着源９１０はその内部に蒸着物質９１５が充填される坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を坩堝９１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒーター９１２とを備える。
【０１０１】
蒸着源９１０の一側、詳細には、蒸着源９１０から基板４００に向かう側には、蒸着源ノズル部９２０が配される。そして、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板４００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル９２１は等間隔に形成されうる。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、これらの蒸着源ノズル部９２０を通過して被蒸着体である基板４００側に向かう。このように、蒸着源ノズル部９２０上に、Ｙ軸方向、すなわち、基板４００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１を形成する場合、パターニングスリットシート９５０のそれぞれのパターニングスリット９５１を通過する蒸着物質により形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル９２１一つのサイズのみにより影響されるので（すなわち、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル９２１が一つのみ存在するので）、陰影が発生しなくなる。また、多くの蒸着源ノズル９２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス（ｆｌｕｘ）差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に維持される効果を得ることができる。
【０１０２】
一方、蒸着源９１０と基板４００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられる。フレーム９５５は窓枠のような形態で形成され、その内側にパターニングスリットシート９５０が結合される。そして、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して、被蒸着体である基板４００方向に向かう。この時、前記パターニングスリットシート９５０は、従来のＦＭＭ、特にストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作されうる。この時、蒸着源ノズル９２１の総数よりパターニングスリット９５１の総数がさらに多く形成されうる。
【０１０３】
一方、前述した蒸着源９１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０）とパターニングスリットシート９５０とは、互いに一定程度離隔するように形成され、蒸着源９１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０）とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０が連結部材９３５により連結されて、互いに一体に形成されうる。ここで、連結部材９３５は、蒸着源ノズル９２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材９３５が蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０の左右方向のみに形成されて、蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは図示の便宜のためのものであって、本発明の思想はこれに制限されず、連結部材９３５がボックス形態の密閉型に形成されて、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向移動を同時にガイドすることもできる。
【０１０４】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置９００は、基板４００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着装置９００が基板４００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート９５０は、基板４００から一定程度離隔するように形成される。
【０１０５】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化するにつれてマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成することが容易でないという問題点があった。
【０１０６】
これらの問題点を解決するために、本発明のさらに他の実施形態に関する薄膜蒸着装置９００では、パターニングスリットシート９５０が被蒸着体である基板４００と所定間隔をおいて離隔するように配されるようにする。
このような本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行えることによって、マスク製作が容易になる効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。
【０１０７】
ここで、本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置９００は、基板４００と共に移動し、基板４００の非成膜領域４０１、４０２を遮蔽するように配される遮断部材９６１、９６２をさらに備えて、基板４００の非成膜領域４０１、４０２に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。これについては、第１実施形態で詳細に説明したので、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
【０１０８】
図１２は、本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置９１００を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置９１００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。ここで、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が充填される坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒーター９１２とを備える。一方、蒸着源９１０の一側には蒸着源ノズル部９２０が配され、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。一方、蒸着源９１０と基板４００との間にはパターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられ、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。そして、蒸着源９１０及び蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって結合される。
【０１０９】
本実施形態では、蒸着源ノズル部９２０に形成された複数の蒸着源ノズル９２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述した第３実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル９２１は２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂで形成され、前記２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは互いに交互に配される。この時、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは、ＸＺ平面上で所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【０１１０】
すなわち、本実施形態では、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂが所定角度チルトされて配されるようにする。ここで、第１列の蒸着源ノズル９２１ａは、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂに向くようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル９２１ａに向くようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル９２１ａは、パターニングスリットシート９５０の右側端部に向くように配され、右側列に配された蒸着源ノズル９２１ｂは、パターニングスリットシート９５０の左側端部に向くように配されうるのである。
【０１１１】
図１３は、本発明による薄膜蒸着装置で蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面であり、図１４は、本発明による薄膜蒸着装置で蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。図１３と図１４とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚さが相対的に増大して蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。
【０１１２】
このような構成によって、基板の中央部と端部とでの成膜厚さの差が低減して全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには材料利用効率が向上する効果を得ることができる。
【０１１３】
ここで、本発明の第４実施形態による薄膜蒸着装置９１００は、基板４００と共に移動し、基板４００の非成膜領域４０１、４０２を遮蔽するように配される遮断部材９６１、９６２をさらに備え、基板４００の非成膜領域４０１、４０２に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。これについては、第１実施形態で詳細に説明したので、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
本発明は図面に示した実施形態を参考に説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明は、薄膜蒸着装置関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１１５】
１００  薄膜蒸着装置
１１０  蒸着源
１１１  坩堝
１１５  蒸着物質
１２０  蒸着源ノズル部
１２１  蒸着源ノズル
１３０  遮断板アセンブリ
１３１  遮断板
１３２  遮断板フレーム
１５０  パターニングスリットシート
１５５  フレーム
１６１  第１遮断部材
１６２  第２遮断部材
４００  基板
４０１、４０２  非成膜領域
【図１】
2011052318.tif 000003
【図２】
2011052318.tif 000004
【図３】
2011052318.tif 000005
【図４Ａ】
2011052318.tif 000006
【図４Ｂ】
2011052318.tif 000007
【図４Ｃ】
2011052318.tif 000008
【図５Ａ】
2011052318.tif 000009
【図５Ｂ】
2011052318.tif 000010
【図５Ｃ】
2011052318.tif 000011
【図５Ｄ】
2011052318.tif 000012
【図６Ａ】
2011052318.tif 000013
【図６Ｂ】
2011052318.tif 000014
【図６Ｃ】
2011052318.tif 000015
【図６Ｄ】
2011052318.tif 000016
【図７】
2011052318.tif 000017
【図８】
2011052318.tif 000018
【図９】
2011052318.tif 000019
【図１０】
2011052318.tif 000020
【図１１】
2011052318.tif 000021
【図１２】
2011052318.tif 000022
【図１３】
2011052318.tif 000023
【図１４】
2011052318.tif 000024