(57)【要約】      （修正有）【課題】塗布故障が少なく、生産性に優れ、且つ、透明性の高いセルロースエステルフィルムの提供。【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。2011122170.tif 000026（式中、Ｊ１：−Ｏ−、−ＮＲ１−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＮＲ３ＣＯＯ−、−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ６−、−ＣＯＮＲ７−、−ＮＲ８ＳＯ−、−ＮＲ９ＳＯ２−等、Ｒ１〜Ｒ１１：水素原子、アルキル基、アリール基、Ｓｐ１：２価の連結基。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【化１】
2011122170.tif 000024
（式中、Ｊ１は、−Ｏ−、−ＮＲ１−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＮＲ３ＣＯＯ−、−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ６−、−ＣＯＮＲ７−、−ＮＲ８ＳＯ−、−ＮＲ９ＳＯ２−、−ＳＯＮＲ１０−、−ＳＯ２ＮＲ１１−を表し、Ｒ１〜Ｒ１１は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｓｐ１は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、置換基を有してもよい。但し、Ｓｐ１に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
【請求項２】
下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【化２】
2011122170.tif 000025
（式中、Ｊ２、Ｊ３は、一般式（１）中のＪ１と同義であり、Ｊ２、Ｊ３は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ２、Ｓｐ３は一般式（１）中のＳｐ１と同義であり、Ｓｐ２、Ｓｐ３は互いに同じであっても異なってもよいが、Ｓｐ２、Ｓｐ３の少くとも一方に、紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Ｓｐ２、Ｓｐ３の少なくとも一方において、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
【請求項３】
請求項１に記載の前記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。
【請求項４】
請求項２に記載の前記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースエステルフィルム、光学用途に利用される光学フィルム、偏光板、光学補償フィルム及び液晶表示装置に関するものであり、特に液晶表示装置等に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルムなどの各種機能フィルム、又、有機ＥＬディスプレイ等で使用される各種機能フィルム等にも利用することができる光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ノートパソコンの高精細化、薄型軽量化の開発が進んでいる。それに伴って、液晶用偏光板用の保護フィルムもますます高性能化、薄膜化の要求が強くなってきている。偏光板用保護フィルムには、一般的に透明性、屈折率などの理由から、セルロースエステルフィルムが広く使用されている。しかしながら、セルロースエステルフィルムを単純に薄膜にすると、いろいろ問題が発生する。
【０００３】
即ち、従来偏光板用保護フィルムに使用されるセルロースエステルフィルムには、偏光子や液晶を紫外線から守る目的で、紫外線吸収剤が使用されている。このセルロースエステルフィルムを単純に薄膜化してしまうと、十分に紫外線をカットすることができず、薄膜化された分だけ、紫外線吸収剤を増量しなければならない。
【０００４】
紫外線吸収剤に関しては、特開平６−１３０２２６号、同７−１１０５６号などが提案されている。
【０００５】
しかしながら、これらに提案されている紫外線吸収剤を単純に増量すると、セルロースエステルフィルム製膜工程で剥離ロールや搬送ロールに紫外線吸収剤が付着し、故障の原因となり、生産性を大きく低下させてしまうという、新たな問題を引き起こすことが判明した。
【０００６】
また、特許文献１には紫外線吸収性ポリマーを含有する偏光板用保護フィルムが提案されている。
【０００７】
しかしながら、ここで提案されている紫外線吸収性ポリマーはセルロースエステルとの相溶性が不十分であるため、増量したときにヘイズが高くなり、近年の高精細化された液晶表示装置に使用するには不十分であることがわかった。
【０００８】
一方、光学補償フィルムは、近年、ＣＲＴに代わって注目を集めている液晶表示装置に用いることのできる光学的に異方性を有するフィルムのことである。
【０００９】
液晶表示装置は異方性をもつ液晶材料を使用するために斜めから見ると表示性能が低下するという視野角の問題があり、更なる性能向上が望まれていた。
【００１０】
光学補償フィルムとしては、液晶性化合物の配向形態を固定化して得られる異方性材料が最近の主流であるが、その製造方法は従来よりセルロースエステルフィルムを支持体とし、その上に液晶性化合物を溶剤塗布している為、セルロースエステルフィルム中の紫外線吸収剤がブリード現象によって液晶性化合物中に混入してしまい、液晶性化合物の配向を乱してしまったり、白濁させてしまうなどの問題点を有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平６−１４８４３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
従って、本発明の目的は、塗布故障が少なく、生産性に優れ、且つ、透明性に優れたセルロースエステルフィルム、それを用いて作られる光学フィルム、偏光板、光学補償フィルム及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
【００１４】
（１）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００１５】
【化１】
2011122170.tif 000002
【００１６】
（式中、Ｊ１は、−Ｏ−、−ＮＲ１−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＮＲ３ＣＯＯ−、−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ６−、−ＣＯＮＲ７−、−ＮＲ８ＳＯ−、−ＮＲ９ＳＯ２−、−ＳＯＮＲ１０−、−ＳＯ２ＮＲ１１−を表し、Ｒ１〜Ｒ１１は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｓｐ１は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、置換基を有してもよい。但し、Ｓｐ１に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
（２）下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００１７】
【化２】
2011122170.tif 000003
【００１８】
（式中、Ｊ２、Ｊ３は、一般式（１）中のＪ１と同義であり、Ｊ２、Ｊ３は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ２、Ｓｐ３は一般式（１）中のＳｐ１と同義であり、Ｓｐ２、Ｓｐ３は互いに同じであっても異なってもよいが、Ｓｐ２、Ｓｐ３の少くとも一方に、紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Ｓｐ２、Ｓｐ３の少なくとも一方において、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
（３）前記（１）に記載の前記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。
【００１９】
（４）前記（２）に記載の前記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体。
【００２０】
即ち、本発明者等は、従来、低分子の紫外線吸収剤しか使えなかったことによる前記問題点の解決に対し種々検討を重ねた結果、セルロースエステルに対して相溶性の優れた紫外線吸収性重合体を選択することにより、前記ブリードアウトによる性能低下や工程汚染、更には光学補償フィルムの配向乱れや光学性能低下、コストに対し著しい効果を発揮する紫外線吸収性重合体を開発するに至った。
【００２１】
又、この重合体はブリードアウトばかりでなく、高温・高湿下に於ける耐湿熱特性に対しても著しい効果を有することが判明し本発明に至った。
【００２２】
本発明に係る上記以外の構成を下記に列記する。
【００２３】
（ａ）下記一般式（３）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００２４】
【化３】
2011122170.tif 000004
【００２５】
（式中、Ｒ１２〜Ｒ２５は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。また、Ｒ１２〜Ｒ２５において、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。一般式（３）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
（ｂ）下記一般式（４）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００２６】
【化４】
2011122170.tif 000005
【００２７】
（式中、Ｒ２６、Ｒ２７は各々炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０は各々アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を表し、Ｘ、Ｙは各々電子吸引性基を表す。但し、Ｒ２６〜Ｒ３０及びＸ、Ｙはハロゲン原子、置換基を有してもよく、また、これらは互いに連結して５または６員環を形成していても良い。但し、一般式（４）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
（ｃ）下記一般式（５）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００２８】
【化５】
2011122170.tif 000006
【００２９】
（式中、Ｒ６６〜Ｒ７１は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。Ｘ、Ｙは一般式（４）中のＸ、Ｙと同義である。但し、一般式（５）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
（ｄ）下記一般式（６）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００３０】
【化６】
2011122170.tif 000007
【００３１】
（式中、Ｒ３１、Ｒ３２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、ｌは０、１、２、３を、ｍは０、１、２、３、４を表す。ｌが２又は３のとき、Ｒ３１同士は互いに同じでも異なっていてもよく、ｍが２、３又は４のとき、Ｒ３２同士は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｊ４は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ１−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ２−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ２ＣＯ−、＊−ＮＲ３ＣＯＯ−、＊−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ６−、＊−ＣＯＮＲ７−、＊−ＮＲ８ＳＯ−、＊−ＮＲ９ＳＯ２−、＊−ＳＯＮＲ１０−、＊−ＳＯ２ＮＲ１１−を表す。但し＊印は、＊で紫外線吸収性基に連結していることを示す。Ｒ１〜Ｒ１１は一般式（１）中のＲ１〜Ｒ１１と同義である。Ｓｐ４は一般式（１）のＳｐ１と同義である。）
（ｅ）下記一般式（７）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００３２】
【化７】
2011122170.tif 000008
【００３３】
（式中、Ｒ３３、Ｒ３４は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、ｓは０、１、２、３、４を、ｏは０、１、２、３を表す。ｓが２、３又は４のとき、Ｒ３３同士は互いに同じでも異なっていてもよく、ｏが２又は３のとき、Ｒ３４同士は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｊ５は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ１−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ２−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ２ＣＯ−、＊−ＮＲ３ＣＯＯ−、＊−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ６−、＊−ＣＯＮＲ７−、＊−ＮＲ８ＳＯ−、＊−ＮＲ９ＳＯ２−、＊−ＳＯＮＲ１０−、＊−ＳＯ２ＮＲ１１−を表す。但し＊印は、＊で紫外線吸収性基に連結していることを示す。Ｒ１〜Ｒ１１は一般式（１）中のＲ１〜Ｒ１１と同義である。Ｓｐ５は一般式（１）のＳｐ１と同義である。）
（ｆ）下記一般式（８）及び（９）で表される化合物から誘導される共重合体である紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００３４】
【化８】
2011122170.tif 000009
【００３５】
（式中、Ｒ３５〜Ｒ３９は、各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｓｐ６は一般式（１）のＳｐ１と同義である。ｑは０、１、２、３、４を、ｒは０、１、２、３を表す。ｑが２、３又は４のとき、Ｒ３５同士は互いに同じでも異なっていてもよく、ｒが２又は３のとき、Ｒ３６同士は互いに同じでも異なっていてもよい。）
（ｇ）セルロースもしくはセルロース誘導体のヒドロキシル基のいずれかに紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースを含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００３６】
（ｈ）ヘイズが０〜０．５であることを特徴とする前記（１）、（２）、（ａ）〜（ｇ）の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【００３７】
（ｉ）３８０ｎｍにおける透過率が０〜１０％であることを特徴とする前記（１）、（２）、（ａ）〜（ｈ）の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【００３８】
（ｊ）紫外線吸収性重合体又は紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースが、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることを特徴とする前記（１）、（２）、（ａ）〜（ｉ）の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【００３９】
（ｋ）光学フィルムが前記（１）、（２）、（ａ）〜（ｊ）の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルムであることを特徴とする光学フィルム。
【００４０】
（ｌ）セルロースエステルがセルロースの低級脂肪酸エステルであることを特徴とする前記（ｋ）に記載の光学フィルム。
【００４１】
（ｍ）第１の光学フィルム、偏光子、第２の光学フィルムを有する偏光板において、該第１の光学フィルム又は第２の光学フィルムが前記（ｋ）または（ｌ）に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
【００４２】
（ｎ）前記（ｍ）に記載の偏光板を用いることを特徴とする液晶表示装置。
【００４３】
（ｏ）前記（１）、（２）、（ａ）〜（ｊ）の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルムを支持体として用いることを特徴とする光学補償フィルム。
【００４４】
（ｐ）光学異方性層にディスコティック化合物を含有することを特徴とする前記（ｏ）に記載の光学補償フィルム。
【００４５】
（ｑ）光学異方性層に２軸性液晶化合物を含有することを特徴とする前記（ｏ）に記載の光学補償フィルム。
【００４６】
（ｒ）光学異方性層に棒状液晶化合物を含有することを特徴とする前記（ｏ）に記載の光学補償フィルム。
【発明の効果】
【００４７】
本発明によるセルロースエステルフィルム、それを用いて作られる光学フィルム、偏光板、光学補償フィルム及び液晶表示装置は塗布故障が少なく、生産性に優れ、且つ、透明性に優れた効果を有する。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
【００４９】
本発明の前記（１）〜（４）の発明の紫外線吸収性重合体は、前記一般式（１）、（２）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体であれば如何なるものでもよい。
【００５０】
一般式（１）において、Ｊ１は−Ｏ−、−ＮＲ１−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＮＲ３ＣＯＯ−、−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ６−、−ＣＯＮＲ７−、−ＮＲ８ＳＯ−、−ＮＲ９ＳＯ２−、−ＳＯＮＲ１０−、−ＳＯ２ＮＲ１１−を表すが、好ましくは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＣＯＮＲ７−が挙げられる。Ｒ１〜Ｒ１１は各々水素原子、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）を表す。なお、アルキル基、アリール基は置換されていても、未置換であってもよい。
【００５１】
Ｓｐ１は２価の連結基を示し、特に限定はされないが、好ましくはアルキレン基、アリーレン基を含む２価の連結基が挙げられ、更に好ましくは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数４〜１０のアリーレン基である。これら２価の連結基はハロゲン原子、置換基を有していてもよい。前記置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、アリールアミノ基（例えばフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、ニトロ基、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）が挙げられるが、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基である。
【００５２】
但し、Ｓｐ１に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。
【００５３】
ここで言うスペーサーとは、２価の連結基であれば如何なるものでもよいが、好ましくは置換または未置換のアルキレン基、置換または未置換のアリーレン基を含む２価の連結基、または、−Ｏ−、−ＮＲ４Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ４１ＣＯ−、−ＮＲ４２ＣＯＯ−、−ＮＲ４３ＣＯＮＲ４４−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ４５−、−ＣＯＮＲ４６−の何れかと置換または未置換のアルキレン基、または置換または未置換のアリーレン基の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。
【００５４】
ここで、Ｒ４１〜Ｒ４６は各々水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基を表す。アルキル基、アリール基は各々複数の置換基を有してもよく、置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ１が取り得る置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。
【００５５】
本発明における紫外線吸収性基は、３８０ｎｍにおける分光吸収が極めて大きく、更に４２０ｎｍ以上の可視光を殆ど吸収しない基を示し、この様な性質を有する基であれば如何なるものでもよいが、具体的には、下記一般式（１０）〜（１８）で表される化合物から水素原子を一つ以上取り除いた紫外線吸収性基を挙げることができる。
【００５６】
【化９】
2011122170.tif 000010
【００５７】
本発明の紫外線吸収性基は各々１または複数のハロゲン原子、置換基で置換されていてもよい。置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ１の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。もちろん、一般式（１）、（２）で表される繰り返し単位、一般式（３）〜（５）で表される紫外線吸収性基や一般式（６）、（７）で表される繰り返し単位中の紫外線吸収性基を有しても良い。
【００５８】
一般式（１０）〜（１８）において、Ｒ５５〜Ｒ６５は水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、置換基の例としては、一般式（１）におけるＳｐ１の置換基の例として挙げたもの等が挙げられるが、好ましくは、一般式（１２）において、Ｒ５５、Ｒ５６は水素原子、アルキル基、一般式（１５）において、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９は水素原子、アルキル基、アリール基、一般式（１７）において、Ｒ６０、Ｒ６１はアルキル基を挙げることができる。
【００５９】
また、一般式（１７）及び（１８）のＲ６２〜Ｒ６５は好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を挙げることができる。一般式（１５）において、Ｘはメチレン、カルコゲン原子を表し、好ましくは硫黄原子である。
【００６０】
一般式（１７）、（１８）において、ＥＷＧ１〜ＥＷＧ４は電子吸引性基を表し、電子吸引性基の例としては、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、スルファモイルアミノ基（例えばジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、ニトロ基、シアノ基等の置換基、及び、ハロゲン原子が挙げられ、好ましくはシアノ基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が挙げられる。
【００６１】
但し、一般式（１７）のＥＷＧ１、ＥＷＧ２及び一般式（１８）のＥＷＧ３、ＥＷＧ４は両者が共に電子吸引性基である必要はなく、どちらか一方が電子吸引性基であれば良い。さらに一般式（１７）において、Ｒ６０〜Ｒ６４、ＥＷＧ１、ＥＷＧ２、一般式（１８）においてＥＷＧ３、ＥＷＧ４、Ｒ６５は互いに連結し５または６員環を形成していてもよい。
【００６２】
一般式（２）において、Ｊ２、Ｊ３は、一般式（１）におけるＪ１と同義であり、Ｊ２、Ｊ３は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ２、Ｓｐ３は一般式（１）中のＳｐ１と同義であり、Ｓｐ２、Ｓｐ３は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ２、Ｓｐ３の少なくとも一方に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Ｓｐ２、Ｓｐの少なくとも一方が紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。Ｓｐ２、Ｓｐ３の連結基及び置換基の具体例は、一般式（１）のＳｐ１に準ずる。
【００６３】
紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。
【００６４】
また、本発明の前記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の発明の紫外線吸収性重合体は、一般式（３）、（４）、（５）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体であれば如何なるものでもよい。
【００６５】
一般式（３）において、Ｒ１２〜Ｒ２５は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有し、置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ１の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。Ｒ１２〜Ｒ２５はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、Ｒ１２〜Ｒ２５において、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。一般式（３）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。スペーサーは一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。
【００６６】
一般式（４）において、Ｒ２６、Ｒ２７は各々炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０は各々アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を表し、Ｘ、Ｙは各々電子吸引性基を表す。電子吸引性基の例としては一般式（１７）、（１８）における、ＥＷＧ１〜ＥＷＧ４の例として挙げたもの等が挙げられる。但し、Ｒ２６〜Ｒ３０及びＸ、Ｙはハロゲン原子、置換基を有してもよく、置換基の例としては、一般式（１）における、Ｓｐ１が取り得る置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。なお、Ｒ２６〜Ｒ３０は、それぞれ同じでも異なっていてもよい。また、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基は、それぞれ置換基を有していても、未置換であってもよい。
【００６７】
但し、Ｒ２６〜Ｒ３０、Ｘ、Ｙは、互いに連結して５または６員環を形成していても良い。但し、一般式（４）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。
【００６８】
一般式（５）において、Ｒ６６〜Ｒ７１は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、好ましくは、Ｒ６６〜Ｒ７０は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基が挙げられ、Ｒ７１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基が挙げられる。但し、Ｒ６６〜Ｒ７０は互いに連結して５または６員環を形成していても良い。Ｘ、Ｙは一般式（４）中のＸ、Ｙと同義である。なお、Ｒ６６〜Ｒ７０においては、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また一般式（５）で表される紫外線吸収性基において、Ｘ，Ｙとは互いに結合して環を形成することはない。但し、一般式（５）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。
【００６９】
また、前記（ｄ）、（ｅ）の発明の紫外線吸収性重合体は、前記一般式（６）、（７）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体であれば如何なるものでもよい。なお、一般式（６）で表される繰り返し単位か、一般式（７）で表される繰り返し単位の何れかを有する紫外線吸収性重合体は、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることが好ましい。
【００７０】
一般式（６）、（７）において、Ｒ３１〜Ｒ３４は、ハロゲン原子、置換基を表し、置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ１の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。ｌは０、１、２、３を、ｍは０、１、２、３、４、ｓは０、１、２、３、４を、ｏは０、１、２、３を表す。Ｊ４は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ１−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ２−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ２ＣＯ−、＊−ＮＲ３ＣＯＯ−、＊−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ６−、＊−ＣＯＮＲ７−、＊−ＮＲ８ＳＯ−、＊−ＮＲ９ＳＯ２−、＊−ＳＯＮＲ１０−、＊−ＳＯ２ＮＲ１１−を表すが（但し＊印は、＊で紫外線吸収性基に連結していることを示す）、好ましくは＊−Ｏ−、＊−ＮＲ１−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ２−、＊−ＮＲ３ＣＯＯ−、＊−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−である。Ｊ５は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ１−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ２−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ２ＣＯ−、＊−ＮＲ３ＣＯＯ−、＊−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ６−、＊−ＣＯＮＲ７−、＊−ＮＲ８ＳＯ−、＊−ＮＲ９ＳＯ２−、＊−ＳＯＮＲ１０−、＊−ＳＯ２ＮＲ１１−を表すが（但し＊印は、＊で紫外線吸収性基（Ｓｐ４と逆側）に連結していることを示す）、好ましくは、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ１−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ２−、＊−ＮＲ３ＣＯＯ−、＊−ＮＲ４ＣＯＮＲ５−である。Ｒ１〜Ｒ１１は前記一般式（１）のＲ１〜Ｒ１１と同義である。Ｓｐ４、Ｓｐ５は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい。連結基や置換基の具体例は一般式（１）のＳｐ１に準ずる。ｌが２または３のとき、Ｒ３１は互いに同じでも異なってもよい。ｍが２，３，４の何れかのとき、Ｒ３２は互いに同じでも異なってもよい。ｏが２または３のとき、Ｒ３４は互いに同じでも異なってもよい。ｓが２，３，４の何れかのとき、Ｒ３３は互いに同じでも異なってもよい。
【００７１】
また、一般式（６）、（７）において、ｓとｏとが、またはｌとｍとが、共に０とはならないことが好ましい。
【００７２】
また、前記（ｆ）の発明の紫外線吸収性重合体は、一般式（８）及び（９）で表される化合物から誘導される共重合体を含有するものであれば如何なるものでもよい。
【００７３】
一般式（８）、（９）において、Ｒ３５、Ｒ３６は、各々ハロゲン原子、置換基を表す。置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ１が取り得る置換基の例として挙げたものが挙げられる。Ｒ３５、Ｒ３６は互いに同じでも異なっていてもよい。ｑは０、１、２、３、４を、ｒは０、１、２、３を表す。ｒが２，３のとき、Ｒ３６同士は互いに同じでも異なってもよい。ｑが２，３，４の何れかのとき、Ｒ３５同士は互いに同じでも異なってもよい。Ｒ３７〜Ｒ３９は、各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基の何れかを表す。Ｓｐ６は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい。Ｓｐ６において、連結基と置換基の具体例は、一般式（１）のＳｐ１に準ずる。
【００７４】
また、前記（ｇ）の発明の紫外線吸収性重合体は、セルロースもしくはセルロース誘導体のヒドロキシル基のいずれかに紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースであれば如何なるものでもよい。セルロースもしくはセルロース誘導体のヒドロキシル基に紫外線吸収性基がスペーサーを介して結合したとは、セルロースの繰り返し単位が有する３箇所のヒドロキシル基のいずれかに、少なくとも一つの紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合していればよく、紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。この紫外線吸収性重合体は、繰り返し単位がセルロース誘導体であるため、セルロースとの相溶性が非常に良好であり、セルロースフィルムの製造工程中やアルカリ処理液で鹸化する際に問題となっていた、ブリード現象、結晶の析出等が起こらず安定である。
【００７５】
本発明の紫外線吸収性重合体は、前記一般式（１）、（２）、（６）、（７）で表される繰り返し単位を含む重合体、前記一般式（３）、（４）、（５）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む重合体、前記一般式（８）及び（９）で表される化合物から誘導される共重合体又はセルロースのヒドロキシル基のいずれかに紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合した変性セルロースから選ばれる少なくとも一種含有することを特徴としており、本発明の繰り返し単位、もしくは、本発明の化合物から誘導される共重合体を含有していれば、ホモポリマーであっても、複数の他の連続単位との共重合体であっても良い。
【００７６】
他の連続単位としては、例えば、アクリルアミド誘導体含有モノマー、アクリル酸エステル誘導体含有モノマー、メタクリル酸エステル誘導体含有モノマー、ビニルエーテル誘導体含有モノマー、エチレンオキシド誘導体含有モノマー、ビニルエステル誘導体含有モノマー、ジカルボン酸誘導体含有モノマー、ジオール誘導体含有モノマー、ジアミン誘導体含有モノマー等から得られる連続単位などがあげられる。
【００７７】
本発明の紫外線吸収性重合体、または変性セルロースを共重合体とする場合、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることが好ましい。より好ましくは、エチレン性不飽和モノマーが、ヒドロキシル基またはエーテル結合を有するメタクリル酸エステルか、ヒドロキシル基を有するアクリル酸エステルである。
【００７８】
好ましい例を以下に挙げる。メタクリル酸及びそのエステル誘導体（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル等）、或いはアクリル酸及びそのエステル誘導体（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル等）、アルキルビニルエーテル（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等）、アルキルビニルエステル（ギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等）、アクリロニトリル、塩化ビニル、スチレン等が好ましい例として挙げることができる。
【００７９】
これらのエチレン性不飽和モノマーの内、ヒドロキシル基またはエーテル結合を有するアクリル酸エステル、またはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレンクリコールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチル）が好ましい。これらは１種単独でも２種以上混合して、紫外線吸収性モノマーと共重合させることができる。
【００８０】
また、紫外線吸収性重合体における、紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは、２０〜７０質量％、更には３０〜６０質量％であることが好ましい。特に紫外線吸収性重合体が、一般式（６）で表される繰り返し単位と、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体である場合、紫外線吸収性重合体における、一般式（６）で表される繰り返し単位の含有量が、１〜４５質量％であることが好ましく、より好ましくは、１０〜４５質量％であり、更に好ましくは２０〜４０質量％である。また、特に紫外線吸収性重合体が、一般式（７）で表される繰り返し単位の含有量が、１〜５５質量％であることが好ましい。より好ましくは、１０〜５５質量％であり、更に好ましくは、２０〜５０質量％である。
【００８１】
本発明に用いられる重合体は、セルロースエステルに対し、０．０１〜４０質量％の割合で混ぜることが好ましく、更に好ましくは、０．０１〜３０質量％の割合で混ぜることが好ましい。なお、セルロースエステルフィルムの膜厚が６５μｍ以下のときは、１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは、１〜５質量％である。また、セルロースエステルの膜厚７０μｍ以上のときは、０．５〜５質量％が好ましく、より好ましくは、０．５〜２．５質量％である。この時の、セルロースエステルフィルムを形成した時のヘイズが０〜０．５であれば特に制限はされないが、好ましくは、ヘイズが０．２以下である。更に好ましくは、セルロースエステルフィルムを形成した時のヘイズが０〜０．２、かつ３８０ｎｍにおける透過率が０〜１０％であることである。
【００８２】
また、本発明の紫外線吸収性重合体はセルロースエステルに混合する際に、他の低分子化合物、高分子化合物、もしくは無機化合物などと一緒に用いることもできる。例えば、本発明の紫外線吸収性重合体と他の低分子紫外線吸収剤を同時にセルロースエステルフィルムに混合することも好ましい様態の一種である。
【００８３】
本発明の重合体はモノマー以外であれば、特に制限なく用いることができるが、好ましい重合体の重量平均分子量は５００〜１００００００であり、特に好ましくは１０００〜１０００００である。更に好ましくは、２０００〜２００００であり、更には７０００〜１５０００である。
【００８４】
本発明の重合体の重合方法は特に問わないが、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイルなどが挙げられる。
【００８５】
重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合を行うこともできる。
【００８６】
本発明の紫外線吸収性重合体は、従来知られている低分子紫外線吸収剤等と比較してセルロースとの相溶性が良好であり且つ高分子量である為、セルロースフィルムの製造工程中およびアルカリ処理液で鹸化する際に問題となっていた、ブリード現象や結晶析出等が起こらない。更に、ヘイズの発生が極端に少なく、重合体自身、紫外線、熱、湿度に対して充分に安定であり、高温、高湿下に曝されても紫外線吸収特性の低下が殆どなく、耐湿熱特性の優れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。
【００８７】
本発明の偏光板は、第１の偏光板保護フィルムと、偏光子と、第２の偏光板保護フィルムとを有する。そして、第１の偏光板保護フィルム、もしくは、第２の偏光板保護フィルムの少くとも一方が、本発明のセルロースエステルフィルムである。
【００８８】
（偏光板の作製方法）
偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明のセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理のことをいう。
【００８９】
本発明のセルロースエステルフィルムについて説明する。
【００９０】
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースエステルが低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
【００９１】
セルロースエステルの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましい例として挙げられる。
【００９２】
また、上記以外にも、特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。
【００９３】
上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテートである。
【００９４】
更に、ベース強度の観点から、特に重合度２５０〜４００、総置換度２．３〜３．０が好ましく、特に２．６〜２．８が好ましい。あるいは、総置換度が２．３〜２．８、かつアセチル置換度が１．５〜２．５、プロピオニル置換度が０．１〜１．０のセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。
【００９５】
セルローストリアセテートは綿花リンターから合成されたセルローストリアセテートと木材パルプから合成されたセルローストリアセテートのどちらかを単独あるいは混合して用いることができる。ベルトやドラムからの剥離性がもし問題になれば、ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルローストリアセテートを多く使用すれば生産性が高く好ましい。木材パルプから合成されたセルローストリアセテートを混合し用いた場合、綿花リンターから合成されたセルローストリアセテートの比率が４０質量％以上で、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、６０質量％以上がさらに好ましく、単独で使用することが最も好ましい。
【００９６】
本発明の偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に本発明の偏光板用保護フィルムである透明なセルロースエステルフィルムが張り合わされて偏光板を形成する。
【００９７】
本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
【００９８】
本発明において、セルロースエステルが溶解しているドープ液とは、セルロースエステルが溶剤（溶媒）に溶解している状態であり、前記ドープ液には、可塑剤を加え、必要によりこの他の添加剤を加えることも出来る。ドープ液中のセルロースエステルの濃度としては、１０〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは、１８〜２０質量％である。
【００９９】
本発明で用いられる溶剤は、単独でも併用でもよいが、良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶剤が７０〜９５質量％であり、貧溶剤が３０〜５質量％である。
【０１００】
本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの結合酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの結合酢酸量５５％では良溶剤になり、結合酢酸量６０％では貧溶剤となってしまう。
【０１０１】
本発明に用いられる良溶剤としては、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類が挙げられる。
【０１０２】
セルロースエステルの結合酢酸量によっては、良溶剤にも、貧溶剤にもなる溶剤としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチルなどが挙げられる。
【０１０３】
本発明に用いられる貧溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン等が好ましく用いられる。
【０１０４】
上記記載のドープ液を調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができるが、好ましい方法としては、セルロースエステルを貧溶剤と混合し、湿潤あるいは膨潤させ、さらに良溶剤と混合する方法が好ましく用いられる。このとき加圧下で、溶剤の常温での沸点以上で、かつ溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱し、攪拌しながら溶解する方法が、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため、より好ましい。
【０１０５】
加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０１０６】
溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の融点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく例えば６０℃以上、７０〜１１０℃の範囲に設定するのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が沸騰しないように調整される。
【０１０７】
溶解後は冷却しながら容器から取り出すか、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器などで冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は常温まで冷却してもよいが、沸点より５〜１０℃低い温度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほうが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。
【０１０８】
キャスト工程における支持体はベルト状もしくはドラム状のステンレスを鏡面仕上げした支持体が好ましく用いられる。キャスト工程の支持体の温度は一般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、流延することができるが、０〜３０℃の支持体上に流延するほうが、ドープをゲル化させ剥離限界時間をあげられるため好ましく、５〜１５℃の支持体上に流延することがさらに好ましい。剥離限界時間とは透明で平面性の良好なフィルムを連続的に得られる流延速度の限界において、流延されたドープが支持体上にある時間をいう。剥離限界時間は短い方が生産性に優れていて好ましい。
【０１０９】
流延（キャスト）される側の支持体の表面温度は、１０〜５５℃、溶液の温度は、２５〜６０℃、更に溶液の温度を支持体の温度より０℃以上高くするのが好ましく、５℃以上に設定するのが更に好ましい。
【０１１０】
溶液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎると発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１１１】
支持体の温度の更に好ましい範囲は、２０〜４０℃、溶液温度の更に好ましい範囲は、３５〜４５℃である。
【０１１２】
また、剥離する際の支持体温度を１０〜４０℃、更に好ましくは、１５〜３０℃にすることでフィルムと支持体との密着力を低減できるので、好ましい。
【０１１３】
製造時のセルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、支持体から剥離する際の残留溶媒量は、１０〜８０％が好ましく、更に好ましくは、２０〜４０％であり、特に好ましくは、２０〜３０％である。
【０１１４】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１１５】
残留溶媒量＝（加熱処理前質量−加熱処理後の質量）／（加熱処理後質量）×１００％
尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理とは、フィルムを１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０１１６】
支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常１９６〜２４５Ｎ（２０〜２５ｋｇｆ）／ｍで剥離が行われるが、セルロースエステルの単位質量あたりの紫外線吸収剤の含有量が多く、且つ、従来よりも薄膜化されている本発明のセルロースエステルフィルムは、剥離の際にシワが入りやすいため、剥離できる最低張力から１６７Ｎ（１７ｋｇｆ）／ｍ以内の力で剥離することが好ましく、更に好ましくは、最低張力から１３７Ｎ（１４ｋｇｆ）／ｍ以内の力で剥離することである。
【０１１７】
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を３質量％以下にすることが好ましい、更に好ましくは、０．５質量％以下である。
【０１１８】
フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方式か、ピンテンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテンター方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法安定性を向上させるために好ましい。特に支持体より剥離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保持を行うことが、寸法安定性向上効果をより発揮するため特に好ましい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲で３〜５段階の温度に分けて、段々高くしていくことが好ましく、８０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするためさらに好ましい。
【０１１９】
本発明のセルロースエステルフィルムには可塑剤が含有されるのが好ましい。用いることのできる可塑剤としては特に限定はないが、リン酸エステル系では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等、グリコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を単独あるいは併用するのが好ましい。
【０１２０】
これらの可塑剤を含有することにより、寸法安定性、耐水性に優れたフィルムが得られるため特に好ましい。
【０１２１】
本発明においては前述の紫外線吸収剤とこれらの可塑剤のうち融点２０℃以下の可塑剤を併用することが加工性に優れ、前記異物故障や面品質の上で好ましい。融点２０℃以下の可塑剤としては、融点が２０℃以下であれば特に限定されず、上記可塑剤の中から選ぶことができる。例えば、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート等をあげることができる。これらの可塑剤を単独あるいは併用するのも好ましい。
【０１２２】
本発明中の融点は、共立出版株式会社出版の化学大辞典に記載されている真の融点を融点としている。
【０１２３】
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜１５質量％が好ましい。液晶表示部材用としては、寸法安定性の観点から５〜１５質量％が更に好ましく、特に好ましくは、７〜１２質量％である。
【０１２４】
またセルロースエステルに対して融点が２０℃以下の可塑剤の含有量は１質量％〜１０質量％が好ましく、更に好ましくは、３質量％〜７質量％である。
【０１２５】
加工性とはベースフィルムや液晶表示部材をスリット加工や打ち抜き加工する際の加工のしやすさのことで、加工性が悪いと切断面がノコギリ状になり切り屑が発生し、製品に付着して異物故障となるため好ましくない。
【０１２６】
本発明のセルロースエステルフィルムは、高い寸法安定性、良好な紫外線カット性能から液晶表示用部材に用いられるのが好ましい。液晶表示用部材とは液晶表示装置に使用される部材のことで、例えば、偏光板、偏光板用保護フィルム、位相差板、反射板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム等があげられる。上記記載の中でも、寸法安定性に対しても厳しい要求のある偏光板、偏光板用保護フィルムにおいて、本発明のセルロースエステルフィルムは更に好ましく用いられる。
【０１２７】
本発明のセルロースエステルフィルムは、用途にもよるが、厚さが５〜２００μｍであることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１００μｍであり、最も好ましくは、２０〜６５μｍである。
【０１２８】
本発明の光学フィルムには、他に必要ならマット剤として微粒子を加えてもよい。本発明に使用される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１２９】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１３０】
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１３１】
次に、本発明の光学補償フィルムについて説明する。
【０１３２】
光学補償フィルムとは、主に液晶表示装置に用いることのできる光学異方性を有するフィルムのことであり、一般に支持体フィルム上に光学異方性層を設けることで製造される。
【０１３３】
本発明の光学補償フィルムは、本発明の前記（１）または（２）に記載のセルロースエステルフィルムを支持体として用い、その上に光学異方性層を有する。光学異方性層に好ましく用いられる化合物としては、ディスコティック化合物、二軸性液晶性化合物、棒状液晶性化合物であり、更に好ましくは、ネマティック相を有するディスコティック液晶化合物、ネマティック相を有する２軸性液晶化合物、ネマティック相を有する棒状液晶性化合物である。
【０１３４】
ディスコティック化合物は、例えば、ベンゼン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系マクロサイクル、フェニルアセチレン系マクロサイクル、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体、アントラキノン誘導体、フルバレン誘導体、ビピラニリデン誘導体、β−ジケトン錯体などが挙げられる。更に好ましくは、これらディスコティック化合物を分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された構造を有するディスコティック液晶性化合物があげられる。但し、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。
【０１３５】
二軸性液晶性化合物とは、液晶状態での光学軸が２つ存在する液晶性化合物のことである。言い換えると、液晶相の３軸方向の屈折率を小さい順にｎｘ、ｎｙ、ｎｚとしたとき、ｎｘ＜ｎｙ＜ｎｚの関係を満たす液晶性化合物であり、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ  Ｃｈａｐｔｅｒ  ＸＶ  Ｂｉａｘｉａｌ  Ｎｅｍａｔｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓに記載されている様な液晶性化合物を挙げることができる。但し、ある方向とそれとは別の方向の屈折率が全て異なり、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。
【０１３６】
棒状液晶性化合物とは、最も一般的な液晶性化合物であり、分子形状が棒状とみなせる化合物の総称である。分子形状が棒状とみなせるとは、分子の長軸をａ、分子の短軸をｂとした時、ａ／ｂが十分大きければ棒状で有るといい、好ましくは、ａ／ｂ≧２さらに好ましくはａ／ｂ≧３である。但し、分子自身が正の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。
【０１３７】
これらの化合物は、化合物単独、または、少なくとも１種の該化合物を含有する組成物からなり、また、これらの化合物は低分子でも高分子でもよいが、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化するために、これらの化合物をポリマー中に混入させたり、または、液晶相形成温度からその配向状態を維持したまま冷却したり、または、液晶性化合物に重合性基を導入し、重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合反応によって配向状態を安定に固定化してもよい。
【０１３８】
保護膜の素材としては、ポリメチルメタアクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン−無水マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン−ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質、およびシランカップリング剤等を挙げることができる。ω−トリコサン酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリドおよびステアリン酸メチルなどのラングミュア・ブロジェット（ＬＢ法）により形成される累積膜を使用することもできる。
【０１３９】
重合用の光線としては、電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）が好ましく、より好ましくは紫外線である。紫外線による光重合開始剤を用いるラジカル重合やカチオン重合は、一般に極めて重合速度が大きく、製造工程における生産性の点で好ましい。ラジカル光源としては、低圧水銀ランプ、高圧放電ランプ、およびショートアーク放電ランプが好ましく用いられ、高圧放電ランプがより好ましく用いられる。
【０１４０】
本発明の光学補償フィルムは、液晶表示素子の視野角補償を行うためのフィルムであり、好ましくはダイレクターがフィルムの上面と下面とで異なるフィルムであり、更に好ましくはフィルム厚み方向で徐々に変化したハイブリッド配向を形成しているフィルムである。
【０１４１】
本発明のハイブリッド配向を得るためには、液晶性材料の上下を異なる界面で挟んだり、電場、磁場などを用いることが望ましく、具体的な態様としては、１枚の基板と空気界面とを利用し、液晶層の下界面を基板に、また上の界面を空気に接するようにする。片方の界面が気相と接した状態で支持体上に塗布することが好ましい。
【０１４２】
本発明に好ましく用いることのできる配向基板は、光学異方性層の化合物の配向方向を規定する機能を有する。配向基板は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向基板も用いることができる。
【０１４３】
本発明の光学補償フィルムは、これらの配向基板上に前記液晶性化合物を塗布し、次いで均一配向過程、固定化過程を経て得られる。基板上への塗布は、各種溶媒に該材料を溶解した溶液、または、該材料を溶融した状態のものを用いて行うことができるが、プロセス上、溶媒に液晶性化合物を溶解した溶液を用いて塗布する溶液塗布が好ましい。
【０１４４】
これらの溶液を、次に上記の配向基板上に塗布する。塗布方法は、蒸着法、スピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどが挙げられる。塗布後、溶媒を除去し、基板上に膜厚の均一な層をまず形成させる。通常、室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用して溶媒を除去する。
【０１４５】
その後配向させるために、熱処理を行うことが好ましく、熱処理は、液晶性化合物の液晶転移点以上で行う。すなわち該液晶性化合物の液晶状態で配向させるか、または、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にした後、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げることにより行う。通常、熱処理の温度は０℃〜２００℃の範囲で行われ、特に２０℃〜１５０℃の範囲が好適である。
【０１４６】
尚、本発明では、上記の熱処理工程において、液晶性化合物を配向させるために磁場や電場を用いても特に構わない。こうして得られた配向状態を次に冷却する、もしくは光や熱等によって重合させることによって該配向状態を損なうことなく固定化し、本発明の光学補償フィルムを得る。
【０１４７】
このようにして得られた本発明の光学補償フィルムは、液晶ディスプレイに対して該光学補償フィルムが通常１枚または複数枚で使用されることにより、好適な光学補償効果を発現することができる。
【０１４８】
以下に紫外線吸収性重合体の重合例を述べるが、本発明はこれら（重合例１〜９）に限定されるものではない。
【０１４９】
〈重合例１〉
重合体Ａの合成（一般式（２））
【０１５０】
【化１０】
2011122170.tif 000011
【０１５１】
ジヒドロキシベンゾトリアゾール（ａ）１１．８３ｇ（２０ｍｍｏｌ）とアジピン酸（ｂ）２．９２ｇ（２０ｍｍｏｌ）に酸化アンチモン０．０２ｇを加え、真空かき混ぜ機をつけた重合管に入れる。重合管には窒素ガス導入管をつなぎ、この重合管を油浴に入れ１８０℃に加熱しながら、ゆっくりと窒素ガスを通した。かき混ぜながら、徐々に２７０℃まで昇温し、同時に真空度を１０２Ｐａまで高めた。このまま３時間加熱した後、放冷し、定量的に重合体Ａを得た。重合体Ａの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は１２５００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより確認した。
【０１５２】
〈重合例２〉
重合体Ｂの合成（一般式（２）及び（３））
【０１５３】
【化１１】
2011122170.tif 000012
【０１５４】
ペンタヒドロキシトリアジン（ｃ）１０．３５ｇ（２０ｍｍｏｌ）とグルタル酸（ｄ）２．６４ｇ（２０ｍｍｏｌ）に酸化アンチモン０．０２ｇを加え、真空かき混ぜ機をつけた重合管に入れる。重合管には窒素ガス導入管をつなぎ、この重合管を油浴に入れ１８０℃に加熱しながら、ゆっくりと窒素ガスを通した。かき混ぜながら、徐々に２７０℃まで昇温し、同時に真空度を１０２Ｐａまで高めた。このまま３時間加熱した後、放冷し、定量的に重合体Ｂを得た。重合体Ｂの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は２３０００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより確認した。
【０１５５】
〈重合例３〉
重合体Ｃの合成（一般式（７））
【０１５６】
【化１２】
2011122170.tif 000013
【０１５７】
アクリルモノマー（ｅ）７．１８ｇ（２０ｍｍｏｌ）とアクリルモノマー（ｆ）１０．７５ｇ（１２５ｍｍｏｌ）を１００ｍｌ三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水テトラヒドロフラン６０ｍｌに溶解し、加熱還流した。この溶液にＡＩＢＮ、１．１６ｇ（７．２５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を添加し、３時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｃを得た。重合体Ｃの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は１６８００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより、アクリルモノマー（ｅ）とアクリルモノマー（ｆ）のユニット比はそれぞれ４０質量％、及び６０質量％であることを確認した。
【０１５８】
〈重合例４〉
重合体Ｄの合成（一般式（８）及び（９））
【０１５９】
【化１３】
2011122170.tif 000014
【０１６０】
メタクリルモノマー（ｇ）６．４６ｇ（２０ｍｍｏｌ）と酢酸ビニルモノマー（ｈ）４．３１ｇ（５０ｍｍｏｌ）を１００ｍｌ三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、加熱還流した。この溶液にＡＩＢＮ、０．５７ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を添加し、３時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｄを得た。重合体Ｄの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は１９５００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより、メタクリルモノマー（ｇ）と酢酸ビニルモノマー（ｈ）のユニット比はそれぞれ５０質量％及び５０質量％であることを確認した。
【０１６１】
〈重合例５〉
重合体Ｅの合成
【０１６２】
【化１４】
2011122170.tif 000015
【０１６３】
ジアセチルセルロース１０．０ｇを１００ｍｌ三頭コルベンに入れ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ、炭酸カリウム１１．０ｇ（８０ｍｍｏｌ）、アルキルハライドモノマー（ｉ）１６．０ｇ（５０ｍｍｏｌ）を加え３時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のＤＭＦに溶解し、ヘキサンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｅを得た。重合体Ｅの構造は１Ｈ−ＮＭＲにより確認した。
【０１６４】
〈重合例６〉
重合体Ｆの合成（一般式（６））
【０１６５】
【化１５】
2011122170.tif 000016
【０１６６】
ビニルモノマー（ｊ）４．０９ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ビニルモノマー（ｋ）２．５３ｇ（９ｍｍｏｌ）、ビニルモノマー（ｌ）９．５０ｇ（９５ｍｍｏｌ）を１００ｍｌ三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水テトラヒドロフラン６０ｍｌに溶解し、加熱還流した。この溶液にＡＩＢＮ、０．９３ｇ（５．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を添加し、３時間加熱還流した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最少のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｆを得た。重合体Ｆの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は２１０００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより、ビニルモノマー（ｊ）とビニルモノマー（ｋ）とビニルモノマー（ｌ）のユニット比はそれぞれ２５質量％、１５質量％及び６０質量％であることを確認した。
【０１６７】
〈重合例７〉
重合体Ｇの合成（一般式（４））
【０１６８】
【化１６】
2011122170.tif 000017
【０１６９】
１００ｍｌの三頭コルベンに、カルボン酸モノマー（ｍ）１．９４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１０ｍｌを加えたところへ、塩化オキザリル１．５０ｇ（１２ｍｍｏｌ）とジメチルホルムアミド数滴を加え約一時間撹拌した後、溶媒を減圧除去し、カルボン酸モノマー（ｍ）の酸クロライド体を得た。次に、ポリビニルアルコール（ｎ≒２０００）１．３２ｇをカルボン酸モノマー（ｍ）の酸クロライド体の入った１００ｍｌ三頭コルベンに入れ、テトラヒドロフラン３０ｍｌとピリジン０．９５ｇ（１２ｍｍｏｌ）に溶解し、３時間撹拌した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、酢酸エチルで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｇを得た。重合体Ｇの構造は１Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲにより、置換度が２７％のポリビニルアルコールであることを確認した。
【０１７０】
〈重合例８〉
重合体Ｈの合成（一般式（５））
【０１７１】
【化１７】
2011122170.tif 000018
【０１７２】
１００ｍｌの三頭コルベンに、カルボン酸モノマー（ｎ）２．１７ｇ（１０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１０ｍｌを加えたところへ、塩化オキザリル１．５０ｇ（１２ｍｍｏｌ）とジメチルホルムアミド数滴を加え約一時間撹拌した後、溶媒を減圧除去し、カルボン酸モノマー（ｎ）の酸クロライド体を得た。次に、ポリビニルアルコール（ｎ≒２０００）１．３２ｇをカルボン酸モノマー（ｎ）の酸クロライド体の入った１００ｍｌ三頭コルベンに入れ、テトラヒドロフラン３０ｍｌとピリジン０．９５ｇ（１２ｍｍｏｌ）に溶解し、３時間撹拌した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、少量のテトラヒドロフランに溶解し、酢酸エチルで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｈを得た。重合体Ｈの構造は１Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲにより、置換度が２５％のポリビニルアルコールであることを確認した。
【０１７３】
〈重合例９〉
重合体Ｉの合成（一般式（１））
【０１７４】
【化１８】
2011122170.tif 000019
【０１７５】
１００ｍｌ三頭コルベンを真空ポンプにより減圧にした後窒素置換を三回行なった。窒素下脱水ジエチルエーテル６０ｍｌとエチレンオキシドモノマー（ｏ）１３．３４ｇ（４０ｍｍｏｌ）を三頭コルベンに入れ、この溶液にＢＦ３・ＯＥｔ２０．０６ｇ（０．４ｍｍｏｌ）を添加し、０℃で３時間撹拌した。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最少のテトラヒドロフランに溶解し、アセトンで再沈した。析出物を濾取し、重合体Ｉを得た。重合体Ｉの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は６２００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより確認した。
【０１７６】
〈重合例１０〉（比較）
重合体Ｊの合成
【０１７７】
【化１９】
2011122170.tif 000020
【０１７８】
アクリルモノマー（ｐ）５０ｇとアクリルモノマー（ｑ）１０ｇを３００ｍｌ三頭コルベン中、ジオキサン１５０ｍｌに溶解し、窒素気流下に７０℃で加熱撹拌しながらジオキサン５ｍｌに溶かした２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２７０ｍｇを加えた後、４時間反応させた。室温まで冷却し、反応液を氷水２リットルに注ぎ析出した固体を濾取し、重合体Ｊを得た。重合体Ｊの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量３５０００であった。この重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲによりアクリルモノマー（ｐ）を５８モル％含有する重合体であることを確認した。
【実施例】
【０１７９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０１８０】
実施例１
〈試料１〜１２〉
（酸化珪素分散液）
アエロジル２００Ｖ（日本アエロジル（株）製）
（一次粒子の平均径１２ｎｍ、見掛け比重１００ｇ／リットル）
１０質量部
エタノール                                              ９０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は９３ｐｐｍであった。
【０１８１】
（添加液Ａの作製）
前記重合体Ａ                                            １０質量部
メチレンクロライド                                    １００質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過した。
【０１８２】
これに酸化珪素分散液１０質量部を撹拌しながら加えて、さらに３０分間撹拌した後、濾過し、添加液Ａを調製した。
【０１８３】
（ドープ液Ａの調製）
リンター綿から合成されたトリアセチルセルロース          ８５質量部
木材パルプから合成されたトリアセチルセルロース          １５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                      ２．５質量部
トリフェニルホスフェート                                  ９質量部
メチレンクロライド                                    ４７５質量部
エタノール                                              ５０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過し、ドープ液Ａを調製した。
【０１８４】
ドープ液１００質量部に対して添加液を表１に示す質量部を加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過した。次いで、ベルト流延装置を用い、温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が２５％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１２７Ｎ（１３ｋｇｆ）／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルローストリアセテートフィルムを１３００ｍｍ幅にスリットし、その後、ピンテンターで幅手方向に１．０３倍延伸しながら乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１１００ｍｍ幅にスリットし、セルローストリアセテートフィルム試料１を得た。このときのセルローストリアセテートフィルムの膜厚は４０μｍであった。
【０１８５】
試料１の添加液Ａにかえて、表１に示すような下記の添加液と添加量にかえた以外は同様にして試料２〜１２を作製した。
【０１８６】
（添加液Ｂ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｂ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｂを作製した。
【０１８７】
（添加液Ｃ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｃ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｃを作製した。
【０１８８】
（添加液Ｄ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｄ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｄを作製した。
【０１８９】
（添加液Ｅ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｅ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｅを作製した。
【０１９０】
（添加液Ｆ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｆ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｆを作製した。
【０１９１】
（添加液Ｇ）
添加液Ａの前記重合体Ａを下記紫外線吸収剤にかえた以外は同様にして添加液Ｇを作製した。
【０１９２】
ＴＩＮＵＶＩＮ  １０９
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）            ８質量部
前記重合体Ｇ                                              ２質量部
（添加液Ｈ）
添加液Ａの前記重合体Ａを下記紫外線吸収剤にかえた以外は同様にして添加液Ｈを作製した。
【０１９３】
ＴＩＮＵＶＩＮ  １０９
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）            ５質量部
前記重合体Ｈ                                              ５質量部
（添加液Ｉ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｉ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｉを作製した。
【０１９４】
（添加液Ｊ）
添加液Ａの前記重合体Ａを下記紫外線吸収剤にかえた以外は同様にして添加液Ｊを作製した。
【０１９５】
ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）            ５質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２８
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）            ５質量部
（添加液Ｋ）
添加液Ａの前記重合体Ａを前記重合体Ｊ、１０質量部にかえた以外は同様にして添加液Ｋを作製した。
【０１９６】
（添加液Ｌ）
添加液Ａの前記重合体Ａを除いた以外は同様にして添加液Ｌを作製した。
【０１９７】
《測定方法》
（ロール汚れ）
１００００ｍのセルロースエステルフィルムを作製した後、ステンレスバンド支持体から剥離したフィルムが接する一本目のロールの汚れ具合を目視で観察し、以下のランクに分けて評価した。
【０１９８】
Ａ：ロールが汚れているのが全くわからない
Ｂ：ロールが部分的に汚れているのがかすかにわかる
Ｃ：ロールが全面的に汚れているのがかすかにわかる
Ｄ：ロールが全面的に汚れているのがはっきりわかる
Ａ〜Ｃは生産が続けられるレベル。Ｄは生産を中断してロールを清掃するレベル。
【０１９９】
（透過率）
Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ  Ｕ−３２００（日立製作所製）を用い、フィルムの分光吸収スペクトルを測定し、５００ｎｍと３８０ｎｍにおける透過率を求め、以下のようにランク分けを行った。５００ｎｍの透過率は高い程優れており、３８０ｎｍの透過率は低い程優れている。
【０２００】
（５００ｎｍ透過率）
Ａ：透過率９２％以上
Ｂ：透過率９０％以上９２％未満
Ｃ：透過率８５％以上９０％未満
Ｄ：透過率８５％未満
（３８０ｎｍ透過率）
Ａ：透過率６％未満
Ｂ：透過率６％以上１０％未満
Ｃ：透過率１０％以上２５％未満
Ｄ：透過率２５％以上
（ヘイズ）
フィルム試料１枚をＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定し、以下のようにランクわけを行った。
【０２０１】
Ａ：ヘイズ０．２％未満
Ｂ：ヘイズ０．２％以上１％未満
Ｃ：ヘイズ１％以上５％未満
Ｄ：ヘイズ５％以上
（引き裂き強度）
ＪＩＳ−Ｋ７１２８−２に規定されるプラスチック−フィルム及びシートの引裂強さ試験方法−エルメンドルフ引裂法に従って測定した。
【０２０２】
（押され故障）
１００００ｍセルロースエステルフィルムを作製した所で、フィルムをサンプリングし、得られたフィルム１ｍ２上に存在する３０μｍ以上の押され故障の数を数えて求めた。
【０２０３】
（偏光板の作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で６倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面にアルカリケン化処理を行ったセルロースエステルフィルム試料を完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作製した。
【０２０４】
（液晶パネルの作製）
１５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイＬＡ−１５２９ＨＭ（ＮＥＣ製）の偏光板を剥がし、液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸がもとと変わらないように互いに直交するように貼り付け、１５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイを作製した。
【０２０５】
試料１２のセルロースアセテートフィルムから作製された偏光板を張り付けた液晶ディスプレイと他のセロースアセテートフィルムから作製された液晶ディスプレイを２台並べて置き、この液晶ディスプレイ上にＪＩＳ−Ｘ−９２０１高精細カラーデジタル標準画像に基づいて作製されたＳＣＩＤ画像（ＣＤ−ＲＯＭ日本規格協会製）の自転車画像を表示し、解像度、鮮鋭度を以下の通り評価した。
【０２０６】
（画像）
Ａ：試料１２に比して、解像度、鮮鋭度の差がかわらない
Ｂ：試料１２に比して、解像度、鮮鋭度がやや劣化しているのが分かる
Ｃ：試料１２に比して、解像度、鮮鋭度が明らかに劣化しているのが分かる
【０２０７】
【表１】
2011122170.tif 000021
【０２０８】
上記表１から明らかな様に、本発明の紫外線吸収性重合体は、セルロースエステルとの相溶性に優れる為、ヘイズの発生が極端に低く、引き裂き強度や透過率にも優れ、また、これまで問題になっていたブリード現象による、ロール汚れや、押され故障も著しく改善されていることが分かる。
【０２０９】
実施例２
上記実施例１で作製したセルロースエステルフィルム（試料１〜試料１０）を支持体として光学補償フィルムを作製した。
【０２１０】
（光学補償フィルム（試料２−１）の作製）
セルロースエステルフィルム（試料１）の一方の側に配向膜としてメチルエチルケトンに溶解させた２％ポリビニルシンナメートを塗布し、この膜に偏光紫外線を照射した。その上にディスコティック液晶性化合物（α）の１０質量％メチルエチルケトン溶液に光重合開始剤（チバガイギー製イルガキュアー９０７）、増感剤（日本化薬製カヤキュアーＤＥＴＸ）を極小量溶解した塗布液をスピンコーターにより１０００ｒｐｍで塗布し、液晶性化合物の塗布層を形成した。表面温度９５℃に加熱した金属ローラに支持体側から４０秒間接触させ、液晶を配向させた後、９５℃のまま１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２で２秒間塗布面上にＵＶ照射した後室温にもどして、液晶性化合物含有層を塗設した光学補償フィルムを作製した。
【０２１１】
【化２０】
2011122170.tif 000022
【０２１２】
（試料２−２）
試料２−１の前記セルロースエステルフィルムを試料２に変えた以外は、同様にして試料２−２を作製した。
【０２１３】
（試料２−３）
試料２−１の前記セルロースエステルフィルムを試料３に変えた以外は、同様にして試料２−３を作製した。
【０２１４】
（試料２−４）
試料２−１の前記セルロースエステルフィルムを試料４に変え、ディスコティック液晶性化合物（α）を二軸性液晶性化合物（β）に変えた以外は、同様にして試料２−４を作製した。
【０２１５】
（試料２−５）
試料２−４の前記セルロースエステルフィルムを試料５に変えた以外は、同様にして試料２−５を作製した。
【０２１６】
（試料２−６）
試料２−４の前記セルロースエステルフィルムを試料６に変えた以外は、同様にして試料２−６を作製した。
【０２１７】
（試料２−７）
試料２−１の前記セルロースエステルフィルムを試料７に変え、ディスコティック液晶性化合物（α）を棒状液晶性化合物（γ）に変えた以外は、同様にして試料２−７を作製した。
【０２１８】
（試料２−８）
試料２−７の前記セルロースエステルフィルムを試料８に変えた以外は、同様にして試料２−８を作製した。
【０２１９】
（試料２−９）
試料２−７の前記セルロースエステルフィルムを試料９に変えた以外は、同様にして試料２−９を作製した。
【０２２０】
（試料２−１０）
試料２−１の前記セルロースエステルフィルムを試料１０に変えた以外は、同様にして試料２−１０を作製した。
【０２２１】
（試料２−１１）
試料２−４の前記セルロースエステルフィルムを試料１１に変えた以外は、同様にして試料２−１１を作製した。
【０２２２】
これらのフィルムについて、偏光板を用いてクロスニコル下で、液晶化合物の配向乱れを目視で観察し、以下のランクに分けて評価した。
【０２２３】
Ａ：液晶性化合物の配向乱れは観察されない
Ｂ：液晶性化合物の配向乱れがかすかにわかる
Ｃ：液晶性化合物の配向乱れがはっきりわかる
Ｄ：液晶性化合物が全く配向していない
【０２２４】
【表２】
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【０２２５】
表２の結果より、本発明のセルロースエステルフィルムを用いた光学補償フィルムは、従来問題となっていた、配向乱れが全く生じず、液晶性化合物をディスコティック液晶性化合物、二軸性液晶性化合物、棒状液晶性化合物に変えた時でも、変わりなく液晶性化合物の配向が保たれることが分かる。