(57)【要約】【課題】順送り方向および逆送り方向の両方に搬送される基板のそれぞれを、高い精度で位置調節可能とするフィルム基板の搬送装置を提供する。【解決手段】帯状のフィルム基板２を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、フィルム基板２の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラ６と、第１のグリップローラ６の回転角度が前記第１のグリップローラ６の回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能な第１の角度調節機構１１とを備えているフィルム基板の搬送装置。【選択図】図４
2011122225.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状のフィルム基板を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、
前記フィルム基板の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラと、
前記第１のグリップローラの回転軸角度が前記第１のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第１の角度調節機構と
を備えているフィルム基板の搬送装置。
【請求項２】
前記フィルム基板の下端部を挟むように配設される少なくとも一対の第２のグリップローラと、
前記第２のグリップローラの回転軸角度が前記第２のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して下方側とするように傾け可能となるように、前記第２のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構と
をさらに備えている請求項１に記載のフィルム基板の搬送装置。
【請求項３】
前記フィルム基板の幅方向端部の高さ位置を検知する検知手段をさらに備え、
前記検知手段が前記フィルム基板の位置ズレを検知すると、前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラが、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構によって、前記フィルム基板の搬送方向に対応した傾斜方向に傾けられるように制御される、請求項１または２に記載のフィルム基板の搬送装置。
【請求項４】
前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構が、前記基板の位置ズレを修正するために前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラの傾斜角度を変化させるように制御される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルム基板の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
フィルム基板（以下、「基板」と呼ぶ）が、その幅方向について片端部上側とした縦姿勢で配置されて搬送される、フィルム基板の搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜積層体の製造装置（以下、「製造装置」という）は、基板の表面に薄膜光電変換素子から成る光電変換層などを成膜することに用いられている。この製造装置は、その成膜室内において基板が気密状態で成膜される構成となっており、さらに成膜室内に基板を搬送するため、巻出しコアに巻き取られた基板が、成膜室に向けて送り出されて、成膜室内を通過した後に、巻取りコアによって巻き取られる構成となっている。
【０００３】
このような製造装置に主に設けられるフィルム基板の搬送装置（以下、「搬送装置」という）の基板搬送方式に関して、基板をその幅方向について片端部上側とした縦姿勢で配置して搬送する縦置き搬送方式が採用されることがある。この縦置き搬送方式の搬送装置においては、パーティクルが基板表面に堆積し難いことによって基板の汚染が防止される点、基板を縦置きとしたことによって製造装置のスペースを低減できる点などで優れている。その一方で、基板は、主に巻出しコアと巻取りコアとの間で引っ張られて保持されるので、基板は、自重により下方側に垂れ下がる傾向にあり、幅方向に蛇行するおそれもある。このような場合、基板の幅方向の位置ズレが発生し、基板は幅方向に撓むこととなる。この撓みによって基板に偏った応力集中が発生して、シワが発生し、このシワによって基板に成膜された薄膜光電変換素子などの特性が低下するので、問題である。
【０００４】
そこで、特許文献１のように、基板を順送り方向に搬送する搬送装置において、基板を幅方向に位置調節するためのグリップローラを設けた構造が採用されている。このような製造装置においては、複数の対になったグリップローラが、基板の上端部および下端部をそれぞれ挟むように設けられ、上端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して上方側に向けて傾けて配置され、下端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して下方側に向けて傾けて配置されている。
【０００５】
また、グリップローラの外周表面には、基板の保護などのために弾性体が設けられている。しかしながら、この弾性体が摩耗などにより劣化すると、グリップローラと基板との間で作用するグリップ力が低下し、基板を持ち上げる力が十分に得られなくなる。そこで、特許文献１では、弾性体の劣化に対応して、対になったグリップローラが基板を挟む力（以下、「基板挟持力」と呼ぶ）を増加させて、グリップ力を増加させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−３８２７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１においては、上端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して上方側にのみ向けて傾けて配置され、下端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して下方側にのみに向けて傾けて配置されている。そのため、順送り方向および逆送り方向の両方に基板が搬送される場合、これらのグリップローラは、順送り方向に搬送される基板を高い精度で位置調節できるが、逆送り方向に搬送される基板を高い精度で位置調節することが困難となっている。
【０００８】
また、特許文献１において、外周表面が弾性体となっているグリップローラの基板挟持力を増加させた場合、外周表面の弾性体が潰れ、外周表面の横断面形状が楕円状に変化して、グリップローラの径が変化するおそれがある。このような場合、所望のグリップ力が得られず、基板を持上げる力が十分に得られないので、基板を所望の位置に移動させることが困難となる。よって、基板の位置調節の精度が低下することとなる。
【０００９】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、順送り方向および逆送り方向の両方に搬送される基板のそれぞれを、高い精度で位置調節可能とするフィルム基板の搬送装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
課題を解決するために本発明のフィルム基板の搬送装置は、帯状のフィルム基板を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、前記フィルム基板の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラと、前記第１のグリップローラの回転軸角度が前記第１のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第１の角度調節機構とを備えている。
【００１１】
本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記フィルム基板の下端部を挟むように配設される少なくとも一対の第２のグリップローラと、前記第２のグリップローラの回転軸角度が前記第２のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して下方側とするように傾け可能なるように、前記第２のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構とをさらに備えている。
【００１２】
本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記フィルム基板の幅方向端部の高さ位置を検知する検知手段をさらに備え、前記検知手段が前記フィルム基板の位置ズレを検知すると、前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラが、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構によって、前記フィルム基板の搬送方向に対応した傾斜方向に傾けられるように制御される。
【００１３】
本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構が、前記基板の位置ズレを修正するために前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラの傾斜角度を変化させるように制御される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のフィルム基板の搬送装置によれば、以下の効果を得ることができる。
本発明のフィルム基板の搬送装置は、帯状のフィルム基板を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、前記フィルム基板の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラと、前記第１のグリップローラの回転角度が前記第１のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第１の角度調節機構とを備えている。
また、前記フィルム基板の下端部を挟むように配設される少なくとも一対の第２のグリップローラと、前記第２のグリップローラの回転角度が前記第２のグリップローラの回転方向を下方側とするように傾け可能となるように、前記第２のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構とをさらに備えている。
さらに、前記フィルム基板の幅方向端部の高さ位置を検知する検知手段をさらに備え、前記検知手段が前記フィルム基板の位置ズレを検知すると、前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラが、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構によって、前記フィルム基板の搬送方向に対応した傾斜方向に傾けられるように制御される。
そのため、順送り方向および逆送り方向に搬送される前記フィルム基板の両方に対して、精度の高い位置調節が可能となる。
【００１５】
本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構が、前記基板の位置ズレを修正するために前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラの傾斜角度を変化させるように制御されるので、例えば、前記第１のグリップローラの摩耗などによって前記第１のグリップローラのグリップ力が低下して、前記フィルム基板を持上げる力が十分に得られない場合に、前記第１のグリップローラの傾斜を大きくすれば、前記フィルム基板の幅方向の移動量を大きくして、前記フィルム基板の位置調節を修正できる。そのため、前記第１のグリップローラにより前記フィルム基板を挟む力を増加させずに、前記フィルム基板に余分な負荷がかかることを防止できる。一方で、前記第１のグリップローラのグリップ力がバラツキなどにより高くなりすぎ、前記フィルム基板を持上げる力が大きくなりすぎる場合に、前記第１のグリップローラの傾斜を小さくすれば、前記フィルム基板の幅方向の移動量を小さくして、前記フィルム基板の位置調節を修正できる。よって、前記フィルム基板の位置調節精度が低下することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態における薄膜積層体の製造装置を模式的に示す断面平面図である。
【図２】（ａ）は、図１の成膜室を拡大して模式的に示す断面平面図であり、（ｂ）は、図２（ａ）のＣ−Ｃ断面図である。
【図３】（ａ）は、本発明の第１実施形態において、グリップローラの回転軸がフィルム基板の幅方向に沿って配置される場合の角度調節機構を示す概略正面図であり、（ｂ）は、図３（ａ）の角度調節機構の概略側面図であり、（ｃ）は、図３（ａ）のＤ−Ｄ断面図である。
【図４】（ａ）は、本発明の第１実施形態において、順送り方向に搬送される基板の位置を調節するようにグリップローラを傾けている角度調節機構を示す概略正面図であり、（ｂ）は、図４（ａ）のＤ’−Ｄ’断面図である。
【図５】図４（ａ）のグリップローラを示す概略拡大正面図である。
【図６】（ａ）は、本発明の第１実施形態において、逆送り方向に搬送される基板の位置を調節するようにグリップローラを傾けている角度調節機構を示す概略正面図であり、（ｂ）は、図６（ａ）のＤ’’−Ｄ’’断面図である。
【図７】図６（ａ）のグリップローラを示す概略拡大正面図である。
【図８】本発明の第２実施形態における図２（ａ）のＣ−Ｃ断面図である。
【図９】グリップローラの傾斜角度とグリップローラのフィルム基板を持ち上げる力との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態におけるフィルム基板の搬送装置について以下に説明する。
図１を参照すると、フィルム基板の搬送装置（以下、「搬送装置」と呼ぶ）を含む薄膜積層体の製造装置（以下、「製造装置」と呼ぶ）１においては、帯状のフィルム基板（以下、「基板」と呼ぶ）２が、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置されて搬送されるとともに、基板２の表面に薄膜が成膜される構成となっている。なお、第１実施形態では、基板２の幅方向を鉛直方向に沿わせた状態で図示して説明するが、これに限定されない。
この基板２を搬送するため、製造装置１には、基板２を巻出すための巻出し室３と基板２を巻き取るための巻取り室４とが設けられており、巻出し室３と巻取り室４との間には一例として６つの成膜室５ａ〜５ｆが設けられている。また、基板２は、巻出し室３から巻取り室４に向かう順送り方向（以下、図面において矢印Ａで示す）と、巻取り室４から巻出し室３に向かう逆送り方向（以下、図面において矢印Ｂで示す）とに搬送可能に構成されている。さらに、巻出し室３および成膜室５ａの間の搬送区間と、５つの隣接する成膜室同士間の搬送区間と、巻取り室４および成膜室５ｆの間の搬送区間とには、一例として、第１のグリップローラ６がそれぞれ１対ずつ設けられている。
【００１８】
巻出し室３の内部には、巻き取った基板２を巻出し可能な巻出しコア３ａが、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能に設けられている。また、巻出し室３の内部には、基板２の搬送駆動、張力制御などのために、一例として５つのローラ３ｂ〜３ｆが、巻出しコア３ａより順送り方向下流側に、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能な状態で設けられている。巻出しコア３ａおよびローラ３ｂ〜３ｆは、基板２を順送り方向および逆送り方向に搬送可能に回転する構成となっている。なお、図１に示した基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラの数は、一例であってこれに限定されず、製造装置１の仕様に対応して変更可能である。基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラを設けない構成としてもよい。
【００１９】
巻取り室４の内部には、基板２を巻取り可能に構成した巻取りコア４ａが、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能に設けられている。また、巻取り室４の内部には、基板２の搬送駆動、張力制御などのために、一例として、７つのローラ４ｂ〜４ｈが、巻取りコア４ａより順送り方向上流側に、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能な状態で設けられている。巻取りコア４ａおよびローラ４ｂ〜４ｈは、基板２を順送り方向および逆送り方向に搬送可能に回転する構成となっている。なお、図１に示した基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラの数は、一例であってこれに限定されず、製造装置１の仕様に対応して変更可能である。基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラを設けない構成としてもよい。
【００２０】
図２（ａ）および図２（ｂ）を参照して、成膜室５ａ〜５ｆの構造を説明する。なお、図２（ａ）および図２（ｂ）では、基板２が順送り方向（矢印Ａで示す）に送られている状態を示しており、第１のグリップローラ６は、順送り方向に送られる基板２に対応した状態となっている。成膜室５ａ〜５ｆの内部には、高電圧電極７ａ〜７ｆと接地電極８ａ〜８ｆとがそれぞれ対向して配置されており、基板２は高電圧電極７ａ〜７ｆと接地電極８ａ〜８ｆとの間を通過するように構成されている。高電圧電極７ａ〜７ｆおよび接地電極８ａ〜８ｆの基板２の幅方向に沿った長さは、それぞれ基板２の幅よりも短くなっており、基板２の幅方向の上端部および下端部には、薄膜積層体が成膜されない構成となっている。成膜室５ａ〜５ｆの内部には、成膜用のガスが供給される構成となっている。成膜室５ａ〜５ｆの内部は、気密状態を維持可能に構成されている。このような成膜室５ａ〜５ｆの内部において、基板２が高電圧電極７ａ〜７ｆと接地電極８ａ〜８ｆとの間のそれぞれに位置する際に、薄膜が基板２に成膜されることとなる。基板２の表面を成膜する方法については、例えば、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学蒸着）、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、物理蒸着）などの方法を用いることが考えられる。なお、図１に示した成膜室の数は、一例であってこれに限定されず、製造装置１の仕様に対応して変更可能である。また、成膜室以外にも、基板２を加熱するための加熱室などが設けられていてもよい。
【００２１】
また、製造装置１には、基板２の幅方向の位置を検知する検知手段９が設けられている。この検知手段９は、例えば、基板２における幅方向の縁部分の位置を検出可能に構成されているとよい。さらに、検知手段９は、特に非接触式センサであると好ましく、一例として、透過型のレーザーセンサ、反射型のフォトセンサなどであるとよい。検知手段９は制御手段１０に接続されている。
【００２２】
一対の第１のグリップローラ６は、回転軸６ａを中心に回転可能に構成されており、隣接する成膜室同士の間で基板２の上端部を挟むように配置されている。そのため、一対の第１のグリップローラ６は、基板２の薄膜積層体が成膜されていない部分を挟むこととなる。また、この第１のグリップローラ６の外周表面６ｂは、弾性体によって形成されるとよい。例えば、弾性体として、シリコンゴム、フッ素ゴムなどの耐熱性ゴムが用いられるとよい。他の例としては、第１のグリップローラ６の外周表面６ｂは、ＰＴＦＥ、ポリイミドなどの合成樹脂によって形成されてもよく、ステンレス、鉄、クロムメッキなどを施した素材によって形成されてもよい。さらには、第１のグリップローラ６の外周表面６ｂは、基板２の保護、グリップ力などの所定の性能が得られれば、他の素材によって形成されてもよい。
【００２３】
このような第１のグリップローラ６は、その傾斜を調節可能に構成されている。第１のグリップローラ６の傾斜を調節する第１の角度調節機構１１について、図３（ａ）〜図３（ｃ）を参照して説明する。図３（ａ）〜図３（ｃ）では、第１の角度調節機構１１によって、第１のグリップローラ６の回転軸６ａが基板２の幅方向に沿って配置された中立状態に調節されている。第１のグリップローラ６には、その上端から基板２の幅方向に沿って上方側に延びるように、ローラシャフト６ｃが配設されている。ローラシャフト６ｃの上端は、ローラ取付部１２に回転可能に取り付けられている。また、ローラ取付部１２から基板２の幅方向に沿って上方側に延びるリンク１３が配設されている。リンク１３の上部には、係合ローラ１４が設けられている。リンク１３には、ローラ取付部１２と係合ローラ１４との間における基板２の幅方向中間にリンク取付部１３ａが設けられており、このリンク取付部１３ａは、リンク１３を、基板２の表面に対して幅方向に延びるリンク回転軸１３ｂを中心に回転可能とするように構成されており、かつ支持部１５に取付けられている。そのため、リンク１３は、支持部１５に対して回転可能となっている。また、リンク１３と支持部１５との間には、基板２の搬送方向に沿って付勢手段１６が配設されている。この付勢手段１６は、コイルバネ、板バネ、トーションバネ、ゴム部材などを用いて、リンク１３を中立位置に復帰可能とするように構成されているとよい。
【００２４】
リンク１３の上方にはアクチュエータ１７が配設されている。アクチュエータ１７は、基板２の表面に対して幅方向に沿って配置されるアーム１８を備えている。アーム１８の先端部１８ａは、リンク１３に取付けられた係合ローラ１４と係合している。一方で、アーム１８の基端部１８ｂには、基板２の幅方向に沿って延びる回転シャフト１９が取り付けられている。回転シャフト１９の下端はアーム１８の基端部１８ｂに取付けられ、回転シャフト１９の上端は駆動源２０に取付けられている。そのため、駆動源２０の回転駆動によってアーム１８が回転可能となっている。なお、この駆動源２０は支持部１５によって支持されており、アクチュエータ１７の駆動源２０は、制御手段１０に接続されている。
【００２５】
本発明の第１実施形態における製造装置１の動作を説明する。
製造装置１における基板２の搬送および成膜について、再び図１を参照しながら説明する。巻出し室３内において、巻出しコア３ａに巻き取られた基板２が、ローラ３ｂ〜３ｆによって駆動かつガイドされながら巻き出される。この基板２が、巻出し室３を出て、順送り方向に沿って成膜室５ａ〜５ｆ内に順次搬送されて、成膜室５ａ〜５ｆ内のそれぞれでは、基板２の表面に各種の薄膜が成膜される。成膜された基板２は、巻取り室４内に搬送され、ローラ４ｂ〜４ｈによって駆動かつガイドされながら、巻取りコア４ａに巻き取られる。また、必要に応じて、基板２が逆送り方向に沿って搬送される。
【００２６】
順送り方向に搬送される基板２の位置調節について、図４（ａ）、図４（ｂ）および図５を参照しながら説明する。検知手段９（図２（ｂ）を参照）が、順送り方向に搬送される基板２の下方側への位置ズレを検知した場合、検知手段９は制御手段１０（図２（ｂ）を参照）に信号を送る。次に、制御手段１０がアクチュエータ１７の駆動源２０に信号を送り、この駆動源２０が、アーム１８の先端部１８ａを逆送り方向側に移動させるように、回転制御されることとなる。このとき、アーム１８の先端部１８ａと係合する係合ローラ１４も逆送り方向側に移動し、リンク１３はリンク回転軸１３ｂを中心に回転する。その結果、第１のグリップローラ６が、基板２の表面に沿って、第１のグリップローラ６の下側を順送り方向側に向けるように、基板２の幅方向に対して傾斜角度θ１傾けられることとなる。すなわち、第１のグリップローラ６は、基板２の順送り方向に対して上方側に傾けたられた状態となる。なお、第１のグリップローラ６が傾斜角度θ１傾いた状態では、リンク１３は、付勢手段１６によって第１のグリップローラ６を中立状態に復帰させるように付勢される。
【００２７】
逆送り方向に搬送される基板２の位置調節について、図６（ａ）、図６（ｂ）および図７を参照しながら説明する。検知手段９（図２（ｂ）を参照）が、逆送り方向に搬送される基板２の下方側への位置ズレを検知した場合、検知手段９は制御手段１０（図２（ｂ）を参照）に信号を送る。次に、制御手段１０はアクチュエータ１７の駆動源２０に信号を送り、駆動源２０がアーム１８の先端部１８ａを順送り方向側に移動させるように回転制御される。このとき、アーム１８の先端部１８ａと係合する係合ローラ１４も順送り方向側に移動し、リンク１３はリンク回転軸１３ｂを中心に回転する。その結果、第１のグリップローラ６が、基板２の表面に沿って、第１のグリップローラ６の下側を逆送り方向側に向けるように、基板２の幅方向に対して傾斜角度θ２傾けられることとなる。すなわち、第１のグリップローラ６は、基板２の逆送り方向に対して上方側に傾けたられた状態となる。なお、第１のグリップローラ６が傾斜角度θ２傾いた状態で、リンク１３は、付勢手段１６によって第１のグリップローラ６を中立状態に復帰させるように付勢される。
【００２８】
ここで、第１のグリップローラ６のグリップ力が低下したことによって、十分な持ち上げ力が得られずに、位置修正した後の基板２が依然として下方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を大きくするように、制御手段１０がアクチュエータ１７の駆動源２０を制御し、基板２の位置調節が修正される。一方で、第１のグリップローラ６のグリップ力が高すぎることによって、持ち上げ力が高くなり、位置修正した後の基板２が上方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を小さくするように、制御手段１０がアクチュエータ１７の駆動源２０を制御し、基板２の位置調節が修正される。
【００２９】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態における薄膜積層体の製造装置について以下に説明する。第２実施形態における薄膜積層体の製造装置の基本的な構成は、第１実施形態における薄膜積層体の製造装置と同様になっている。第１実施形態と同様な要素は、第１実施形態と同様の符号および名称を用いて説明する。ここでは、第１実施形態と異なる構成について説明する。
【００３０】
図８に示すように、さらに基板２の下端部を挟むように構成された一対の第２のグリップローラ６’が設けられている。第２のグリップローラ６’は、第１のグリップローラ６と同様に、回転軸６ａ’と外周表面６ｂ’とを有する。また、図示はしないが、第２のグリップローラ６’を、その外周表面６ｂを基板２の表面に沿わせて、かつ第２のグリップローラ６’を、搬送方向に対して下方側に傾け可能とするとともに、搬送方向に対して順送り方向および逆送り方向の両方に向けて傾けるように傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構が設けられている。この第２の角度調節機構の基本的な構成は、第２のグリップローラ６’に対応するとともに、第１の角度調節機構１１と同様になっている。なお、図８では、基板２が順送り方向（矢印Ａで示す）に送られている状態を示しており、第２のグリップローラ６’は、順送り方向に送られる基板２に対応して第２のグリップローラ６’の上側を順送り方向に向けて傾けた状態となっている。
【００３１】
以上のように本発明の第１実施形態および第２実施形態によれば、第１および／または第２のグリップローラ６，６’が、第１の角度調節機構１１および／または第２の角度調節機構によって、基板２の搬送方向における順送り方向および逆送り方向の両方に向けて傾けるように傾斜方向および傾斜角度を調節可能となっているので、順送り方向および逆送り方向に搬送される基板２の両方に対して、高い精度で位置調節できる。
【００３２】
本発明の第１実施形態および第２実施形態によれば、例えば、第１のグリップローラ６の摩耗などによって、第１のグリップローラ６のグリップ力が低下して、基板２を持上げる力が十分に得られない場合に、第１のグリップローラ６の傾斜を大きくすれば、基板２の幅方向の移動量を大きくして、基板２の位置調節を修正できる。そのため、第１のグリップローラ６により基板２を挟む力を増加させず、基板２に余分な負荷がかかることを防止できる。一方で、第１のグリップローラ６のグリップ力がバラツキなどにより高くなりすぎて、基板２を持上げる力が大きすぎる場合に、第１のグリップローラ６の傾斜を小さくすれば、基板２の幅方向の移動量を小さくして、基板２の位置調節を修正できる。よって、基板２の位置調節精度が低下することを防止できる。
【００３３】
ここまで本発明の実施形態について述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形および変更が可能である。
【００３４】
本発明の実施形態の第１変形例として、第１および／または第２のグリップローラ６，６’は、その基板２を挟む力（以下、「基板挟持力」と呼ぶ）を調節可能に構成されてもよい。例えば、第１のグリップローラ６のグリップ力が低下したことによって、基板２を持ち上げる力が十分に得られずに、位置修正した後の基板２が依然として下方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を大きくするように、制御手段１０が一対の第１のグリップローラ６を制御して、基板２の位置調節が修正されてもよい。一方で、第１のグリップローラ６のグリップ力が高すぎることによって、基板２を持ち上げる力が高くなり、位置修正した後の基板２が上方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を小さくするように、制御手段１０が一対の第１のグリップローラ６を制御して、基板２の位置調節が修正されてもよい。本発明の実施形態と同様の効果が得られる。
【００３５】
本発明の実施形態の第２変形例として、巻出し室３および成膜室５ａの間の搬送区間と、５つの隣接する成膜室同士間の搬送区間と、巻取り室４および成膜室５ｆの間の搬送区間との少なくとも１つに、第１および／または第２のグリップローラ６，６’が設けられる構成であってもよく、第１および／または第２のグリップローラ６，６’を設けた搬送区間の数は基板２を最適に位置調節するように変更可能である。加えて、各搬送区間に設けられる第１および／または第２のグリップローラ６，６’の数が２つ以上であってもよい。本発明の実施形態と同様の効果が得られる。
【００３６】
本発明の実施形態の第３変形例として、ローラ取付部１２の代わりに第１および／または第２のグリップローラ６，６’を回転させるための駆動源が設けられて、第１および／または第２のグリップローラ６，６’が駆動源によって自ら回転可能に構成されていてもよい。また、この駆動源が制御手段１０に接続されて、第１および／または第２のグリップローラ６，６’の回転が制御されてもよい。本発明の実施形態と同様の効果が得られる。
【００３７】
［実施例］
本発明の第１実施形態の製造装置１を用いた実施例を説明する。本発明の実施例では、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を４．４Ｎ、８．９Ｎまたは１６．３Ｎとした場合において、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を０°〜８°の間で変化させたとき、一対の第１のグリップローラ６における基板２を持上げる力（以下、「持上げ力」という）Ｆの変化を測定した。
【００３８】
図９では、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２と、第１のグリップローラ６の基板２の持上げ力Ｆとの関係について、基板挟持力が４．４Ｎである場合を実線Ｐで示し、基板挟持力が８．９Ｎである場合を破線Ｑで示し、基板挟持力が１６．３Ｎである場合を一点鎖線Ｒで示す。
【００３９】
図９を参照すると、傾斜角度θ１またはθ２を増加させたときに、持上げ力Ｆも比例して増加していることが確認できる。例えば、基板２を持上げる力Ｆを約２Ｎ得ようとするならば、基板挟持力が４．４Ｎである場合、傾斜角度θ１またはθ２を約３．５°とするとよい。基板挟持力が８．９Ｎである場合には、傾斜角度θ１またはθ２を約２°とするとよい。基板挟持力が１６．３Ｎである場合には、傾斜角度θ１またはθ２を約１°とするとよい。以上より、本発明の実施例においては、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を増加させる代わりに、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を増加させることによって、持上げ力Ｆが増加する関係について確認できた。
【符号の説明】
【００４０】
１  薄膜積層体の製造装置（製造装置）
２  フィルム基板（基板）
６  第１のグリップローラ
６’  第２のグリップローラ
６ａ，６ａ’  回転軸
６ｂ，６ｂ’  外周表面
９  検知手段
１１  角度調節機構
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｄ’，Ｄ’’  矢印
Ｆ  持上げ力
θ１，θ２  傾斜角度
Ｐ  実線
Ｑ  破線
Ｒ  一点鎖線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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