(57)【要約】      （修正有）【課題】光学活性なプロリン類縁体の提供。【解決手段】α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法。前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる。一般式［Ｉ］2011184394.tif 000020［一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基である。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して繋がって環を形成する場合が有る。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基である。］一般式［ＩＩ］ＭＸ［一般式［ＩＩ］中、ＭはＣｕ又はＡｇであり、Ｘは陰イオンである。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリン類縁体の製造方法。
一般式［Ｉ］
2011184394.tif 000012
［一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、ヘテロ原子を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。）である。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して繋がって環を形成する場合が有る。Ｒ１とＲ２とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。全てのＲ１，Ｒ２，Ｒ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。］
一般式［ＩＩ］
ＭＸ
［一般式［ＩＩ］中、Ｍは、Ｃｕ又はＡｇである。Ｘは陰イオンである。］
【請求項２】
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリン類縁体の製造方法。
一般式［Ｉ］
2011184394.tif 000013
［一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、ヘテロ原子を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。）である。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して繋がって環を形成する場合が有る。Ｒ１とＲ２とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。全てのＲ１，Ｒ２，Ｒ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。］
一般式［ＩＩ］
ＭＸ
［一般式［ＩＩ］中、Ｍは、Ｃｕ又はＡｇである。Ｘは陰イオンである。］
一般式［ＩＩＩ］
ＮＹ
［一般式［ＩＩＩ］中、Ｎは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｓ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ又はＢａである。ＹはＨ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２（Ｒ＝炭化水素基）である。］
【請求項３】
一般式［ＩＩ］のＸがＣｌＯ４，ＢＦ４，ＰＦ６，ＮＯ３，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，ＳＯ４Ｒ，ＯＣＯＲ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２（Ｒ＝炭化水素基）である
ことを特徴とする請求項１又は請求項２の光学活性プロリン類縁体の製造方法。
【請求項４】
α−アミノ酸類縁体が下記の一般式［ＩＶ］で表される化合物である
ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの光学活性プロリン類縁体の製造方法。
一般式［ＩＶ］
2011184394.tif 000014
［一般式［ＩＶ］中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ２は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ４は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。］
【請求項５】
α，β−不飽和カルボニル化合物が下記の一般式［Ｖ］で表される化合物である
ことを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかの光学活性プロリン類縁体の製造方法。
一般式［Ｖ］
2011184394.tif 000015
［一般式［Ｖ］中、Ｒ５，Ｒ６,Ｒ７は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳである。Ｒ８は、炭化水素基（置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳである。Ｒ５またはＲ６がＲ８ＣＯの構造を有していてもよい。Ｒ８ＣＯの代わりにシアノ基やスルホニル基でもよい。］
【請求項６】
一般式で表される化合物により構成される錯体の存在下で反応が行われる
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの光学活性プロリン類縁体の製造方法。
【請求項７】
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式［Ｉ］
2011184394.tif 000016
［一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、ヘテロ原子を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。）である。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して繋がって環を形成する場合が有る。Ｒ１とＲ２とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。全てのＲ１，Ｒ２，Ｒ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。］
一般式［ＩＩ］
ＭＸ
［一般式［ＩＩ］中、Ｍは、Ｃｕ又はＡｇである。Ｘは陰イオンである。］
【請求項８】
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式［Ｉ］
2011184394.tif 000017
［一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、ヘテロ原子を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。）である。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して繋がって環を形成する場合が有る。Ｒ１とＲ２とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。全てのＲ１，Ｒ２，Ｒ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。］
一般式［ＩＩ］
ＭＸ
［一般式［ＩＩ］中、Ｍは、Ｃｕ又はＡｇである。Ｘは陰イオンである。］
一般式［ＩＩＩ］
ＮＹ
［一般式［ＩＩＩ］中、Ｎは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｓ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ又はＢａである。ＹはＨ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２（Ｒ＝炭化水素基）である。］
【請求項９】
一般式［ＩＩ］のＸがＣｌＯ４，ＢＦ４，ＰＦ６，ＮＯ３，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，ＳＯ４Ｒ，ＯＣＯＲ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２（Ｒ＝炭化水素基）である
ことを特徴とする請求項７又は請求項８の触媒。
【請求項１０】
錯体である
ことを特徴とする請求項７〜請求項９いずれかの触媒。
【請求項１１】
α−アミノ酸類縁体が下記の一般式［ＩＶ］で表される化合物である
ことを特徴とする請求項７又は請求項８の触媒。
一般式［ＩＶ］
2011184394.tif 000018
［一般式［ＩＶ］中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ２は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ４は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。］
【請求項１２】
α，β−不飽和カルボニル化合物が下記の一般式［Ｖ］で表される化合物である
ことを特徴とする請求項７又は請求項８の触媒。
一般式［Ｖ］
2011184394.tif 000019
［一般式［Ｖ］中、Ｒ５，Ｒ６,Ｒ７は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳである。Ｒ８は、炭化水素基（置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳである。Ｒ５またはＲ６がＲ８ＣＯとの構造を有していてもよい。Ｒ８ＣＯの代わりにシアノ基やスルホニル基でもよい。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば光学活性なプロリン類縁体に関する。
【背景技術】
【０００２】
α−アミノ酸エステルから誘導されるSchiff塩基と、α,β−不飽和カルボニル化合物との不斉［３＋２］付加環化反応は、光学活性なプロリン類縁体の合成に、有益である。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Organic Letters 2005,7,4569-4572
【非特許文献２】Organic Letters 2005,7,5055-5058
【非特許文献３】J.Am.Chem.Soc.2002,124,13400-13401
【非特許文献４】J.Am.Chem.Soc.2008, 30,17250-17251
【非特許文献５】Organic Letters 2008,10,1747-1750
【非特許文献６】Organic Letters 2009,11,393-396
【非特許文献７】Organic Letters 2003,5,5043-5046
【非特許文献８】Organic Letters 2005,7,4241-4244
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
光学活性なα−アミノ酸誘導体が様々な生理活性を示すことを鑑みると、不斉［３＋２］付加環化反応は、創薬の観点から、興味深い。
しかしながら、これまで、汎用性が有るexo（エキソ：ジアステレオ：エナンチオ）選択的不斉反応の報告例は無かった。
【０００５】
従って、本発明が解決しようとする課題は、光学活性なプロリン類縁体を提供することである。特に、α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決する為の検討が、本発明者によって、鋭意、推し進められて行った。その結果、リン原子上の置換基が嵩高い（Ｒ）−ＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳと一価の銀塩とからなる錯体が不斉触媒として有効に機能することが判った。すなわち、下記に示される如く、高収率・高ジアステレオ選択的・高エナンチオ選択的に［３＋２］付加環化反応が進行し、プロリンの触媒的不斉合成が効率良く行われることを見出すに至った。
2011184394.tif 000002
【０００７】
上記知見に基づいて本発明が達成されたものである。
【０００８】
すなわち、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリン類縁体の製造方法によって解決される。
【０００９】
特に、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される錯体の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリン類縁体の製造方法によって解決される。
【００１０】
又、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリン類縁体の製造方法によって解決される。
【００１１】
特に、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とで構成される錯体の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリン類縁体の製造方法によって解決される。
【００１２】
又、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒によって解決される。
【００１３】
特に、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物とで構成される錯体である
ことを特徴とする触媒によって解決される。
【００１４】
又、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒によって解決される。
【００１５】
特に、前記の課題は、
α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とで構成される錯体である
ことを特徴とする触媒によって解決される。
【００１６】
上記発明において、前記α−アミノ酸類縁体は、好ましくは、下記の一般式［ＩＶ］で表される化合物である。前記α，β−不飽和カルボニル化合物は、好ましくは、下記の一般式［Ｖ］で表される化合物である。
【００１７】
一般式［Ｉ］
2011184394.tif 000003
［一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、ヘテロ原子を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。）である。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して繋がって環を形成する場合が有る。Ｒ１とＲ２とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。全てのＲ１，Ｒ２，Ｒ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。］
【００１８】
一般式［ＩＩ］
ＭＸ
［一般式［ＩＩ］中、Ｍは、Ｃｕ又はＡｇである。Ｘは陰イオンである。］
【００１９】
一般式［ＩＩＩ］
ＮＹ
［一般式［ＩＩＩ］中、Ｎは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｓ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ又はＢａである。ＹはＨ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２（Ｒ＝炭化水素基）である。］
【００２０】
一般式［ＩＶ］
2011184394.tif 000004
［一般式［ＩＶ］中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ２は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。Ｒ４は、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。］
【００２１】
一般式［Ｖ］
2011184394.tif 000005
［一般式［Ｖ］中、Ｒ５，Ｒ６,Ｒ７は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基（アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳである。Ｒ８は、炭化水素基（置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳである。Ｒ５またはＲ６がＲ８ＣＯの構造を有していてもよい。Ｒ８ＣＯの代わりにシアノ基やスルホニル基でもよい。］
【発明の効果】
【００２２】
光学活性なプロリン類縁体が効率良く得られる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明は光学活性なプロリン類縁体の製造方法である。特に、α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造する方法である。前記反応は、光学活性な下記一般式［Ｉ］で表される化合物と下記一般式［ＩＩ］で表される化合物とが用いられて構成される物質（例えば、錯体）の存在下で行われる。或いは、下記一般式［Ｉ］で表される化合物と下記一般式［ＩＩ］で表される化合物と下記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物とが用いられて構成される物質（例えば、錯体）の存在下で行われる。前記反応は、好ましくは、溶媒中で行なわれる。溶媒としては各種のものが用いられる。好ましい溶媒としては、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、トルエン、メチルtertブチルエーテル等が挙げられる。光学活性なプロリン類縁体の製造に用いられるα−アミノ酸類縁体（基質）は、好ましくは、下記一般式［ＩＶ］で表される化合物である。光学活性なプロリン類縁体の製造に用いられるα，β−不飽和カルボニル化合物（基質）は、好ましくは、下記一般式［Ｖ］で表される化合物である。
【００２４】
一般式［Ｉ］
2011184394.tif 000006
一般式［Ｉ］中、Ｒ１，Ｒ２は、ハロゲン（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等）、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基である。好ましいハロゲンはＣｌである。好ましいアルキル基は、炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は、炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。前記アルキル基やアラルキル基は、ヘテロ原子（例えば、Ｏ，Ｎ，Ｓ）を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。Ｒ１とＲ２とは、Ｏ，Ｎ又はＳを介して、繋がる場合が有る。この場合、Ｒ１とＲ２とによって環が構成される。Ｒ１とＲ２とが繋がっている場合（環を構成する場合）は、好ましい。例えば、Ｒ１とＲ２とによって、−Ｗ−（ＣＨｍ）ｎ−Ｗ−（但し、ＷはＣＨｍ，Ｏ，Ｓ、又は置換基を有するＮ。ｍ，ｎは１又は２。）が構成された場合は好ましい。Ｒ１とＲ２とによって、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ｎ＝１，２）が構成された場合は特に好ましい。尚、Ｒ１とＲ２とは繋がらない場合も有る。Ｒ１とＲ２とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。全てのＲ１，Ｒ２は、同一の場合と、異なる場合とが有る。
一般式［Ｉ］中、Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基である。前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。特に好ましいＲ３は、パラ位と２箇所のメタ位に置換基を有するフェニル基である。中でも、パラ位にメトキシ基、２箇所のメタ位にtert−ブチル基を有するフェニル基は好ましい。全てのＲ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。
一般式［Ｉ］中、全てのＲ１，Ｒ２，Ｒ３は、同一の場合と、異なる場合とが有る。
【００２５】
一般式［ＩＩ］
ＭＸ
一般式［ＩＩ］中、Ｍは、Ｃｕ又はＡｇである。特に好ましくはＡｇである。
一般式［ＩＩ］中、Ｘは陰イオンである。好ましくは、例えばＣｌＯ４，ＢＦ４，ＰＦ６，ＮＯ３，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，ＳＯ４Ｒ，ＯＣＯＲ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２である。前記Ｒは炭化水素基である。好ましい炭化水素基はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。前記アルキル基、アリール基またはアラルキル基は、Ｆ原子を有する場合と、Ｆ原子を有さない場合とが有る。特に好ましいＸはＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２である。中でもＮ（ＳｉＭｅ３）２は好ましい。
【００２６】
一般式［ＩＩＩ］
ＮＹ
一般式［ＩＩＩ］中、Ｎは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｓ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ又はＢａである。好ましくはＫである。
一般式［ＩＩＩ］中、Ｙは、Ｈ，ＯＲ，ＮＲ２又はＮ（ＳｉＲ３）２である。好ましくはＮ（ＳｉＲ３）２である。前記Ｒは炭化水素基である。好ましい炭化水素基はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。尚、特に好ましいＹはＮ（ＳｉＭｅ３）２である。尚、Ｎがアルカリ金属の場合、Ｙの個数は一つであるが、Ｎがアルカリ土類金属の場合、Ｙの個数は二つである。
【００２７】
一般式［ＩＶ］
2011184394.tif 000007
一般式［ＩＶ］中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。好ましいアルキル基は、炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は、炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。特に好ましいＲ１はアルキル基である。
一般式［ＩＶ］中、Ｒ２は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。特に好ましいＲ２はＨ又はアルキル基である。中でもＨが最も好ましい。
一般式［ＩＶ］中、Ｒ３は、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基（アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。特に好ましいＲ３はアルキル基である。
一般式［ＩＶ］中、Ｒ４は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアラルキル基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）である。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。特に好ましいＲ４はアルキル基である。
【００２８】
一般式［Ｖ］
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一般式［Ｖ］中、Ｒ５，Ｒ６,Ｒ７は、Ｈ、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。前記アルキル基、アリール基、アラルキル基は、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は炭素数が１〜１０のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が１〜５のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が２〜１０のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が２〜５のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が４〜１４のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基（アリールアルキル基）は、好ましくは、アリール基の部分の炭素数が４〜１４（例えば、フェニル基やナフチル基）であって、アルキル基の部分の炭素数が１〜１０（特に、１〜５）のものである。Ｒ５，Ｒ６,Ｒ７は、置換基を有するＯ，置換基を有するＮ、又は置換基を有するＳであっても良い。Ｒ５とＲ６とＲ７とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。特に好ましいＲ５はＨ、アルキル基、エステル基、又はアミド基である。中でもＨは特に好ましい。特に好ましいＲ６はＨ又はアルキル基である。中でもＨは特に好ましい。特に好ましいＲ７はＨ又はアルキル基である。中でもＨは特に好ましい。
一般式［Ｖ］中、Ｒ８は、炭化水素基（置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。）、置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有するＯ，置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有するＮ、又は置換基（好ましい置換基は、炭素数が１〜１０のアルキル基などの炭化水素基）を有するＳである。好ましいＲ８は、炭素数が１〜１０のアルキル基を有するＯ、又は炭素数が１〜１０のアルキル基を有するＮである。中でも炭素数が１〜１０のアルコキシ基は好ましい。特に、炭素数が１〜５のアルコキシ基は好ましい。例えば、tert−ブトキシ基は好ましい。
一般式［Ｖ］中、Ｒ５またはＲ６がＲ８ＣＯの構造を有していてもよい。Ｒ８ＣＯの代わりにシアノ基やスルホニル基（炭化水素基を有するスルホニル基）でもよい。
【００２９】
本発明は触媒である。特に、光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒（不斉触媒）である。中でも、α−アミノ酸類縁体とα，β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリン類縁体を製造するに際して用いられる触媒（不斉触媒）である。この触媒は、上記一般式［Ｉ］と上記一般式［ＩＩ］とが用いられて構成される。特に、上記一般式［Ｉ］と上記一般式［ＩＩ］とによる錯体である。好ましくは上記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物が更に用いられて構成される。
【００３０】
以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説明する。但し、本発明は上記した技術思想を逸脱しない範囲において如何なるものであっても良い。すなわち、以下の実施例によって何ら制約を受けるものでは無い。
【００３１】
［（2R,4S,5S）−２，４−ジメチル−５−フェニルピロリジン−２，４−ジカルボキシレートの合成］
メチルアクリレート  銀トリフラート；東京化成社製
カリウムヘキサメチルジシラザン；Aldrich社製
（Ｒ）−ＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ；特開２０００−１６９９７号公報に準拠して合成
Ｎ−ベンジリデングリシンメチルエステル；Chun-Jiang Wang,Zhi-Yong Xue,Gang Liang and Zhou Lu.Chem Comm,2009,2905に準拠して合成
銀トリフラート(ＡｇＯＴｆ：0.015 mmol, 3.9 mg)、カリウムヘキサメチルジシラザン（ＫＨＭＤＳ：0.015mmol,3.0mg）、（Ｒ）−ＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ(0.015 mmol, 18 mg)を、アルゴングローブボックス内において、アルミ箔により遮光した良く乾燥した試験管に取り、セプタムで栓をした。０．３ｍＬの無水ジエチルエーテルがシリンジを用いて反応容器に加えられた。得られた混合物は３０分間室温で撹拌された。その後、Ｎ−ベンジリデングリシンメチルエステル(0.30 mmol, 53.2 mg)を０．２ｍＬの無水ジエチルエーテルに溶かしてシリンジで加えられた。そして、３０分間室温で撹拌された。更に、メチルアクリレート(0.036 mmol, 32.4μL)がシリンジで加えられ、氷浴中で２４時間撹拌された。撹拌後、１ｍＬの含水テトラヒドロフラン溶液（テトラヒドロフラン：水＝２０：１）が加えられて反応は終了した。この後、反応混合物は中性シリカゲル・硫酸ナトリウム・セライトの混合物が載せられたグラスフィルタにより濾過が行われた。そして、残渣は、クロロホルム−メタノール混合液（メタノール：クロロホルム＝１：１）により、洗浄・抽出された。得られた溶液は集められて減圧留去された。残渣がシリカゲル薄層クロマトグラフィ（溶出液ヘキサン：酢酸エチル＝３：１混合溶液）にて精製された。そして、目的化合物（71.8mg，収率91％）が得られた。ジアステレオ比は粗生成物の１ＨＮＭＲ分析で、光学純度はキラルカラムを装備した高速液体クロマトグラフィを用いて決定された。
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【００３２】
上記実施例に準じて行われた。その結果が下記に示される。
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【００３３】
上記実施例に準じて行われた。その結果が下記に示される。
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