(57)【要約】      （修正有）【課題】連結パターンを覆う絶縁膜の形成領域を最小化するタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。【解決手段】表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される透明基板と、前記表示領域上に第１方向に多数配列された連結パターン１４４と、前記それぞれの連結パターン上に前記連結パターンの端部が露出するようにアイランド状で形成される絶縁層１３０と、前記露出した連結パターンの端部と接触して互いに電気的に連結され、前記第１方向に多数配列された第２感知セル１４２と、前記表示領域上で前記第１方向と交差する第２方向に多数配列される第１感知セル１２２と、隣接した前記第１感知セルを互いに連結し、前記アイランド状の絶縁層上に形成される連結部１２４と、前記非表示領域に形成され、前記表示領域の端部に位置する第１感知セル及び第２感知セルとそれぞれ電気的に連結される金属パターン１６０が含まれる。【選択図】図１Ａ
2011192251.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される透明基板と、
前記表示領域上に第１方向に多数配列された連結パターンと、
前記それぞれの連結パターン上に前記連結パターンの端部が露出するようにアイランド状に形成される絶縁層と、
前記露出した連結パターンの端部と接触して互いに電気的に連結され、前記第１方向に多数配列された第２感知セルと、
前記表示領域上で前記第１方向と交差する第２方向に多数配列される第１感知セルと、
隣接した前記第１感知セルを互いに連結し、前記アイランド状の絶縁層上に形成される連結部と、
前記非表示領域に形成され、前記表示領域の端部に位置する第１感知セル及び第２感知セルとそれぞれ電気的に連結される金属パターンと
が含まれることを特徴とするタッチスクリーンパネル。
【請求項２】
前記それぞれの金属パターンの上部には透明導電性物質で実現される導電性保護膜が更に含まれることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項３】
前記各導電性保護膜上に前記導電性保護膜の端部が露出するようにアイランド状に形成される絶縁層が更に含まれることを特徴とする請求項２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項４】
前記露出した導電性保護膜は前記表示領域の端部に位置する第１感知セル又は第２感知セルと接触することを特徴とする請求項３に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項５】
前記絶縁層の下部に位置し、前記連結パターンの両側に所定間隔離間して形成された一対の補助パターンが更に含まれることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項６】
前記一対の補助パターンの各端部は前記アイランド状の絶縁層の外部に露出することを特徴とする請求項５に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項７】
前記露出した補助パターンの各端部はそれぞれ第１感知セルと接触することを特徴とする請求項６に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項８】
前記連結パターン及び金属パターンは同じレイヤ上に形成され、前記感知セルを実現する物質よりも低い抵抗値を有する金属で実現されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項９】
前記第１及び第２感知セルは透明導電性物質で実現されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１０】
表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される透明基板のうち、前記表示領域上に第１方向に多数配列される連結パターンが形成される段階と、
前記それぞれの連結パターン上に前記連結パターンの端部が露出するようにアイランド状の絶縁層が形成される段階と、
前記露出した連結パターンの端部と接触して互いに電気的に連結され、前記第１方向に多数配列される第２感知セルが形成される段階と、
前記表示領域上で前記第１方向と交差する第２方向に多数配列される第１感知セル及び隣接した前記第１感知セルを互いに連結し、前記アイランド状の絶縁層上に連結部が形成される段階と
が含まれることを特徴とするタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記非表示領域に形成され、前記表示領域の端部に位置する第１感知セル及び第２感知セルとそれぞれ電気的に連結される金属パターンが形成される段階が更に含まれることを特徴とする請求項１０に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記連結パターン及び金属パターンは同じレイヤ上に同一工程で形成され、前記感知セルを実現する物質よりも低い抵抗値を有する金属で実現されることを特徴とする請求項１１に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記それぞれの金属パターンの上部に透明導電性物質で実現される導電性保護膜が形成される段階が更に含まれることを特徴とする請求項１０に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記各導電性保護膜上に前記導電性保護膜の端部が露出するようにアイランド状で形成される絶縁層が形成される段階が更に含まれることを特徴とする請求項１３に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記絶縁層の下部に位置し、前記連結パターンの両側に所定間離間する一対の補助パターンが形成される段階が更に含まれることを特徴とする請求項１０に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記一対の補助パターンの各端部は前記アイランド状の絶縁層の外部に露出し、前記露出した補助パターンの各端部はそれぞれ第１感知セルと接触することを特徴とする請求項１５に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はタッチスクリーンパネルに関し、特に、平板表示装置の上部基板に一体型に形成されるタッチスクリーンパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンパネルは映像表示装置などの画面に現れた指示内容を人の手又は物体で選択してユーザの命令を入力できるようにした入力装置である。
【０００３】
そのために、タッチスクリーンパネルは映像表示装置の前面に備えられて人の手又は物体に直接接触した接触位置を電気的信号に変換する。これにより、接触位置で選択された指示内容が入力信号として受け入れられる。このようなタッチスクリーンパネルは、キーボード及びマウスのように映像表示装置に連結されて動作する別途の入力装置に代えることができるため、その利用範囲が次第に広がる傾向にある。
【０００４】
タッチスクリーンパネルを実現する方式としては、抵抗膜方式、光感知方式及び静電容量方式などが知られている。
【０００５】
このうち、静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、人の手又は物体が接触するとき、導電性感知パターンが周辺の他の感知パターン又は接地電極などと形成する静電容量の変化を感知することで、接触位置を電気的信号に変換する。
【０００６】
ここで、接触面での接触位置を明確に判断するために、感知パターンは第１方向に沿って連結されるように形成された第１感知パターン（Ｘパターン）と、第２方向に沿って連結されるように形成された第２感知パターン（Ｙパターン）とを含んで構成される。
【０００７】
従来の場合、前記第１及び第２感知パターンはそれぞれ互いに異なるレイヤに配置される。即ち、一例として、前記第１感知パターンは下部レイヤに位置し、第２感知パターンは上部レイヤに位置し、これらの間に絶縁膜が介在される。
【０００８】
但し、このように互いに異なるレイヤにそれぞれの感知パターンを形成する場合、前記感知パターンに用いられる透明導電性物質（一例として、ＩＴＯ）の面抵抗が大きくなる。そこで、大きくなった面抵抗を低減するために、前記同じレイヤに位置する感知パターンを連結する連結部の幅を広く実現することが考えられる。しかし、この構成では、上、下レイヤに位置する各連結部のオーバーラップ（overlap）面積が大きくなるため、これに対する寄生キャパシタンスの容量が大きくなって各感知パターンによるセンシング感度が低下するという短所がある。
【０００９】
このような短所を克服するために、前記第１及び第２感知パターンを同じレイヤに形成し、前記第１又は第２感知パターン上部の絶縁膜に形成されたコンタクトホールを通じて別途の連結パターンを形成してこれを連結することが考えられる。このとき、前記連結パターンは低い抵抗値を有する金属物質で実現する。
【００１０】
一例として、第１感知パターンは既存の場合のように、連結部が透明導電性物質で実現され、前記第１感知パターンの連結部と交差する第２感知パターンの連結部は低抵抗の金属物質で実現される連結パターンで形成する。
【００１１】
即ち、前記連結パターンが形成された領域で前記第１感知パターン及び第２感知パターンは互いに交差し、前記連結パターンの幅を最小化して前記交差領域で発生する寄生キャパシタンスの影響を低減できる。
【００１２】
しかしながら、この場合にも第２感知パターンを連結する連結部は依然として抵抗値の高い透明導電性物質で形成され、前記交差領域のオーバーラップ面積が減少し、前記連結パターンが絶縁膜の上部に位置するため、外部から印加される静電気に脆弱であるという短所がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、同じレイヤ上に第１、２感知セルを形成し、前記第１又は第２感知セルを連結する連結パターンを前記感知セルの下部に形成し、前記連結パターンを覆う絶縁膜の形成領域を最小化するタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルは、表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される透明基板と、前記表示領域上に第１方向に多数配列された連結パターンと、前記それぞれの連結パターン上に前記連結パターンの端部が露出するようにアイランド状に形成される絶縁層と、前記露出した連結パターンの端部と接触して互いに電気的に連結され、前記第１方向に多数配列された第２感知セルと、前記表示領域上で前記第１方向と交差する第２方向に多数配列される第１感知セルと、隣接した前記第１感知セルを互いに連結し、前記アイランド状の絶縁層上に形成される連結部と、前記非表示領域に形成され、前記表示領域の端部に位置する第１感知セル及び第２感知セルとそれぞれ電気的に連結される金属パターンとが含まれることを特徴とする。
【００１５】
ここで、前記それぞれの金属パターンの上部には透明導電性物質で実現される導電性保護膜が更に含まれ、前記各導電性保護膜上に前記導電性保護膜の端部が露出するようにアイランド状に形成される絶縁層が更に含まれ、前記露出した導電性保護膜は前記表示領域の端部に位置する第１感知セル又は第２感知セルと接触する。
【００１６】
また、前記絶縁層の下部に位置し、前記連結パターンの両側に所定間隔離間して形成された一対の補助パターンが更に含まれ、前記一対の補助パターンの各端部は前記アイランド状の絶縁層の外部に露出し、前記露出した補助パターンの各端部はそれぞれ第１感知セルと接触する。
【００１７】
また、前記連結パターン及び金属パターンは同じレイヤ上に形成され、前記感知セルを実現する物質よりも低い抵抗値を有する金属で実現され、前記第１及び第２感知セルは透明導電性物質で実現される。
【００１８】
また、本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルの製造方法は、表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される透明基板のうち、前記表示領域上に第１方向に多数配列される連結パターンが形成される段階と、前記それぞれの連結パターン上に前記連結パターンの端部が露出するようにアイランド状の絶縁層が形成される段階と、前記露出した連結パターンの端部と接触して互いに電気的に連結され、前記第１方向に多数配列される第２感知セルが形成される段階と、前記表示領域上で前記第１方向と交差する第２方向に多数配列される第１感知セル及び隣接した前記第１感知セルを互いに連結し、前記アイランド状の絶縁層上に連結部が形成される段階とが含まれることを特徴とする。
【００１９】
また、前記非表示領域に形成され、前記表示領域の端部に位置する第１感知セル及び第２感知セルとそれぞれ電気的に連結される金属パターンが形成される段階が更に含まれ、前記連結パターン及び金属パターンは同じレイヤ上に同一工程で形成され、前記感知セルを実現する物質よりも低い抵抗値を有する金属で実現される。
【００２０】
また、前記それぞれの金属パターンの上部に透明導電性物質で実現される導電性保護膜が形成される段階が更に含まれ、前記各導電性保護膜上に前記導電性保護膜の端部が露出するようにアイランド状に形成される絶縁層が形成される段階が更に含まれる。
【００２１】
また、前記絶縁層の下部に位置し、前記連結パターンの両側に所定間離間する一対の補助パターンが形成される段階が更に含まれ、前記一対の補助パターンの各端部は前記アイランド状の絶縁層の外部に露出し、前記露出した補助パターンの各端部はそれぞれ第１感知セルと接触する。
【発明の効果】
【００２２】
このような本発明の実施形態によれば、隣接した第１又は第２感知セルを互いに連結する連結パターンをそれぞれタッチスクリーンパネルの外郭に形成される金属パターンと同じ低抵抗の金属材質で実現して前記連結パターンの静電気に対する脆弱性を改善することで、ＥＳＤ（ElectroStatic Discharge）の問題を克服できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１Ａ】本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルに形成された感知パターンの配置を示す平面図である。
【図１Ｂ】図１Ａの特定部分（Ｉ-Ｉ’）に対する断面図である。
【図２Ａ】図１Ａに示す本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルの製造工程を示す平面図及び断面図である。
【図２Ｂ】図１Ａに示す本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルの製造工程を示す平面図及び断面図である。
【図２Ｃ】図１Ａに示す本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルの製造工程を示す平面図及び断面図である。
【図２Ｄ】図１Ａに示す本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルの製造工程を示す平面図及び断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態を更に詳細に説明する。
【００２５】
図１Ａは、本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルに形成された感知パターンの配置を示す平面図であり、図１Ｂは、図１Ａの特定部分（Ｉ-Ｉ’）に対する断面図である。
【００２６】
但し、これは表示領域上に多数配列された第１及び第２感知パターンのうち、表示領域の一側端部に位置する２×２感知パターンをその例として説明する。
【００２７】
図１Ａ及び図１Ｂを参照すれば、本発明の実施形態に係る感知パターンは、表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される透明基板１０の表示領域に形成されるものであって、互いに交互に配置され、Ｘ座標が同一の１つの列又はＹ座標が同一の１つの行単位で互いに連結するように形成された第１及び第２感知パターン１２０、１４０を含む。
【００２８】
即ち、第１感知パターン１２０はＸ座標が同一の１つの列に配置された第１感知セル１２２と、隣接した前記第１感知セル１２２を互いに連結する連結部１２４とで構成される。また、第２感知パターン１４０はＹ座標が同一の１つの行に配置された第２感知セル１４２と、隣接した前記第２感知セル１４２を互いに連結する連結パターン１４４とで構成される。
【００２９】
このとき、本発明の実施形態の場合、前記第１感知セル１２２及び第２感知セル１４２は同じレイヤに形成され、前記第１及び第２感知セル１２２、１４２はタッチスクリーンパネルの動作実現のために、透明材質で実現されなければならない。これにより、前記第１及び第２感知セル１２２、１４２は透明導電性物質、即ち、一例としてインジウム-ティンオキサイド（以下、ＩＴＯ）で実現されることが好ましい。
【００３０】
また、前記第１感知セル１２２及び第２感知セル１４２が感知電極としての役割を果たすためには、第１方向及び第２方向に配列されたそれぞれの感知セルが電気的に連結されなければならない。
【００３１】
これにより、前記第１感知セル１２２は連結部１２４により互いに電気的に連結され、前記第２感知セル１４２は連結パターン１４４により互いに電気的に連結される。
【００３２】
このとき、前記連結部１２４は前記第１感知セル１２２と一体型に形成されるものであって、隣接した第１感知セル１２２は前記連結部１２４を通じていずれも連結される。
【００３３】
即ち、前記連結部１２４は前記第１感知セル１２２と同じ透明導電性物質で実現される。
【００３４】
これに対し、前記連結パターン１４４は前記隣接した第２感知セル１４２を電気的に連結させる別途の物質からなる。このとき、前記第１感知セル１２２、連結部１２４及び第２感知セル１４２が同じレイヤに形成されるため、前記連結部１２４と交差する前記連結パターン１４４は短絡を避けるために、前記第１、２感知セル１２２、１４２と同じレイヤに形成されることができない。
【００３５】
これにより、本発明の実施形態では前記連結パターン１４４が前記第１、２感知セル１２２、１４２の下部レイヤに形成されることを特徴とする。
【００３６】
そして、本発明の実施形態で前記連結パターン１４４は抵抗の低い金属で形成するものであって、特に、第１、２感知セル１２２、１４２が形成される表示領域の端部に隣接した非表示領域に形成されて前記感知セルにより感知された信号を駆動回路（図示せず）側に供給する金属パターン１６０と同じ材質で形成される。
【００３７】
即ち、前記多数の感知パターン１２０、１４０が形成された領域は、画像が表示されてタッチ位置を検出する表示領域であり、前記感知パターン１２０、１４０と電気的に連結される金属パターン１６０が形成された領域は前記表示領域の外郭に備えられる非表示領域である。
【００３８】
この場合、前記連結パターン１４４が前記金属パターン１６０と同じレイヤに同一工程を通じて形成されるので、前記連結パターン１４４を形成するための追加のマスク工程が不要であり、工程数及び時間を短縮できるという長所がある。
【００３９】
このように、前記第２感知セル１４２を互いに連結する連結パターン１４４を透明導電性物質でない低抵抗の金属で実現することによって、前記第２感知セル１４２の連結部分での電荷の流れを円滑にできるようになり、前記感知セルのセンシング感度を向上させる。
【００４０】
また、前記金属パターン１６０は表示領域の端部に位置する第１及び／又は第２感知セルと電気的に連結され、これは前記感知セル１２２、１４２により感知された信号を駆動回路（図示せず）側に供給する役割を果たす。
【００４１】
但し、本発明の実施形態の場合、前記金属パターン１６０はその上部に透明導電性物質で実現される導電性保護膜１６２が更に形成され、これを通じて工程中に発生し得る前記金属パターン１６０の腐食を防止できるようになる。
【００４２】
また、前記交差して重なる連結パターン１４４と連結部１２４との間の領域には前記連結パターン１４４と連結部１２４の短絡を防止するために、アイランド状の絶縁層１３０が形成される。また、前記アイランド状の絶縁層１３０は前記導電性保護膜１６２上にも形成される。ここで、前記絶縁層１３０は透明材質の無機絶縁膜であって、酸化シリコン膜（ＳｉＯ２）又は窒化シリコン膜（ＳｉＮｘ）で実現されることが好ましい。
【００４３】
これを通じて前記低抵抗金属で実現される連結パターン１４４が絶縁層１３０の下部に位置することで、前記連結パターンの静電気に対する脆弱性を改善できるようになり、これを通じてＥＳＤの問題を克服できる。
【００４４】
このとき、図示のように、前記アイランド状の絶縁層１３０は前記連結パターン１４４の全部を覆うのではなく、前記連結パターン１４４の両端、即ち、第２感知セル１４２と接触する部分を除いた領域に形成され、これを通じて別途のコンタクトホールを備えなくても前記連結パターン１４４と第２感知セル１４２は電気的に連結される。
【００４５】
また、前記導電性保護膜１６２上に形成される絶縁層１３０も第１感知セル１２２及び第２感知セル１４２と接触する部分は露出するように形成される。
【００４６】
但し、前記のようなアイランド状の絶縁層１３０が形成される場合、前記絶縁層１３０の上部に形成される連結部１２４は段差が形成される前記絶縁層１３０の端部で前記第１感知セル１２２と連結される。
【００４７】
即ち、前記第１感知セル１２２の幅が狭くなる部分と前記絶縁層１３０の段差が形成された部分とが会うようになるが、このような境界領域では局部的に抵抗が高くなり、前記第１感知セル１２２を連結する連結部１２４が静電気により損傷しやすいという問題がある。これは外部から静電気が流入する際に前記境界領域にジュール発熱（Joule Heating）が集中して熱損傷が発生してタッチスクリーンパネルの駆動不良を起こし得る。
【００４８】
これにより、本発明の実施形態では前記領域に対応する絶縁層１３０の下部に補助パターン１５０が追加で形成されることを特徴とする。
【００４９】
即ち、前記連結パターン１４４の両側に前記連結パターン１４４と所定間隔離間した一対の補助パターン１５０が追加で形成され、これは前記隣接した第１感知セル１２２とそれぞれ電気的に連結される。このとき、前記補助パターン１５０は前記連結パターン１４４と同じ低抵抗の金属で実現される。
【００５０】
また、図示のように、前記アイランド状の絶縁層１３０は前記補助パターン１５０の全部を覆うのではなく、前記補助パターン１５０のそれぞれの端部、即ち、第１感知セル１２２と接触する部分を除いた領域に形成される。このため、これを通じて別途のコンタクトホールを備えなくても前記一対の補助パターン１５０と隣接した第１感知セル１２２は電気的に連結される。
【００５１】
このような補助パターン１５０により前記連結部１２４が形成される部分での急激な抵抗の増加を防止できるだけでなく、第１感知セル１２２が連結されるライン単位のライン抵抗を減少させることができる。これにより、静電気によるタッチスクリーンパネルの駆動不良を防止すると共に、タッチスクリーンパネルの駆動特性を向上させることができる。
【００５２】
このような実施形態において、前記連結パターン１４４は図示のように、矩形バー（ｂａｒ）の形状からなり、前記補助パターン１５０はコ字状からなり得るが、これは１つの実施形態であって、必ずしもこのような形状に限定されるものではない。
【００５３】
図２Ａ〜図２Ｄは、図１に示す本発明の実施形態に係るタッチスクリーンパネルの製造工程を示す平面図及び断面図である。
【００５４】
但し、ここでは、表示領域上に多数配列された第１及び第２感知パターンのうち、表示領域の一側端部に位置する２×２感知パターンをその例として説明する。
【００５５】
まず、図２Ａを参照すれば、透明基板上に金属パターン１６０、連結パターン１４２及び補助パターン１５０が形成される。
【００５６】
ここで、前記透明基板は表示領域と、前記表示領域の外郭に形成された非表示領域とに区画される。
【００５７】
このとき、前記金属パターン１６０、連結パターン１４２及び補助パターン１５０は低抵抗の金属で実現されるものであって、前記低抵抗の金属はモリブデン（Ｍｏ）、銀（Ａｇ）、チタニウム（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ｔｉ）、モリブデン／アルミニウム／モリブデン（Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）などの金属物質で形成され得る。
【００５８】
前記金属パターン１６０は後で形成される第１、２感知セル（図示せず）が備えられた表示領域の端部に隣接した非表示領域に形成されるものであって、前記感知セルにより感知された信号を駆動回路（図示せず）側に供給する。
【００５９】
図２Ａに示す金属パターン１６０のうち、左側に形成された金属パターン１６０は後で形成される第１感知セルと電気的に連結され、下側に形成された金属パターン１６０は後で形成される第２感知セルと電気的に連結される。
【００６０】
また、前記連結パターン１４４は前記第２感知セルを互いに電気的に連結するものであって、前記表示領域内で前記第２感知セルが配列される方向（一例として、Ｙ方向）に所定間隔離間して配列される。
【００６１】
また、前記補助パターン１５０は前記連結パターン１４４と所定間隔離間した一対で実現され、これは前記隣接した第１感知セル１２２とそれぞれ電気的に連結される。
【００６２】
次に、図２Ｂを参照すれば、前記金属パターン１６０の上部に透明導電性物質で実現される導電性保護膜１６２が形成される。
【００６３】
このとき、前記導電性保護膜１６２は透明導電性物質の一例であって、ＩＴＯで実現され、これは工程中に発生し得る前記金属パターン１６０の腐食を防止する役割を果たす。
【００６４】
また、図２Ｂに示す導電性保護膜１６２のうち、左側に形成された金属パターン１６０上に形成された導電性保護膜１６２は後で形成される第１感知セルと接触し、下側に形成された金属パターン１６０上に形成された導電性保護膜１６２は後で形成される第２感知セルと接触する。
【００６５】
次に、図２Ｃを参照すれば、前記導電性保護膜１６２及び連結パターン１４２、補助パターン１５０と重なるように、アイランド状の絶縁層１３０が形成される。ここで、前記絶縁層１３０は透明材質の無機絶縁膜であって、酸化シリコン膜（ＳｉＯ２）又は窒化シリコン膜（ＳｉＮｘ）で実現されることが好ましい。
【００６６】
このとき、図示のように、前記アイランド状の絶縁層１３０は前記連結パターン１４４及び補助パターン１５０の全部を覆うのではなく、前記連結パターン１４４、補助パターン１５０の両端、即ち、第１、２感知セルと接触する部分を除いた領域に形成される。これを通じて別途のコンタクトホールを備えなくても前記連結パターン１４４と第２感知セルが電気的に連結され、前記補助パターン１５０と第１感知セルが電気的に連結される。
【００６７】
また、前記導電性保護膜１６２上に形成される絶縁層１３０も第１感知セル及び第２感知セルと接触する部分は露出するように形成される。
【００６８】
最後に、図２Ｄに示すように、第１感知セル１２２及び前記第１感知セル１２２を連結する連結部１２４と、第２感知セル１４２が形成される。
【００６９】
前記第１感知セル１２２及び第２感知セル１４２は同一工程を通じて同じレイヤに形成され、前記第１及び第２感知セル１２２、１４２はタッチスクリーンパネルの動作実現のために透明材質で実現される。
【００７０】
即ち、前記第１及び第２感知セル１２２、１４２は透明導電性物質、即ち、一例としてＩＴＯで実現される。
【００７１】
また、前記第１感知セル１２２及び第２感知セル１４２が感知電極としての役割を果たすためには、Ｘ方向及びＹ方向に配列されたそれぞれの感知セルが電気的に連結されなければならない。
【００７２】
これにより、前記第１感知セル１２２は前記連結部１２４により互いに電気的に連結され、前記第２感知セル１４２は既に形成された連結パターン１３４により互いに電気的に連結される。
【００７３】
このとき、前記連結部１２４は前記第１感知セル１２２と一体型に形成されるものであって、隣接した第１感知セル１２２は前記連結部１２４を通じていずれも連結される。
【００７４】
即ち、前記連結部１２４は前記第１感知セル１２２と同じ透明導電性物質で同一工程を通じて同じレイヤに形成される。
【００７５】
ここで、前記連結部１２４の下部には前記アイランド状の絶縁層１３０が形成されており、前記絶縁層１３０の左、右側に露出した一対の補助パターン１５０は前記第１感知セル１２２と接触する。
【００７６】
また、前記第２感知セル１４２は前記絶縁層１３０の上、下に露出した連結パターン１４４と接触し、これを通じて前記隣接した第２感知セル１４２は電気的に連結される。
【００７７】
また、図示のように、表示領域のうち、左側端部に位置する第１感知セル１２２は表示領域の左側外郭部に位置する前記導電性保護膜１６２の端部と接触し、前記導電性保護膜１６２の下部に形成された金属パターン１６０と電気的に連結される。
【００７８】
これと同様に、表示領域のうち、下側端部に位置する第２感知セル１４２は表示領域の下側外郭部に位置する前記導電性保護膜１６２の端部と接触し、前記導電性保護膜１６２の下部に形成された金属パターン１６０と電気的に連結される。
【００７９】
これを通じてＸ座標が同一の１つの列に配置された第１感知セル１２２と、隣接した前記第１感知セル１２２を互いに連結する連結部１２４で構成される第１感知パターン１２０及びＹ座標が同一の１つの行に配置された第２感知セル１４２と、隣接した前記第２感知セル１４２を互いに連結する連結パターン１４４で構成される第２感知パターン１４０が形成される。
【００８０】
以上説明したように、本発明の最も好ましい実施の形態について説明したが、本発明は、上記記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載され、又は明細書に開示された発明の要旨に基づき、当業者において様々な変形や変更が可能なのはもちろんであり、斯かる変形や変更が、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００８１】
１０  透明基板
１２０  第１感知パターン
１２２  第１感知セル
１２４  連結部
１３０  アイランド状の絶縁層
１４０  第２感知パターン
１４２  第２感知セル
１４４  連結パターン
１６０  金属パターン
１６２  導電性保護膜
【図１Ａ】
2011192251.tif 000003
【図１Ｂ】
2011192251.tif 000004
【図２Ａ】
2011192251.tif 000005
【図２Ｂ】
2011192251.tif 000006
【図２Ｃ】
2011192251.tif 000007
【図２Ｄ】
2011192251.tif 000008