(57)【要約】【課題】  電子デバイス等に用いる、パターニングされた強固な撥水層を、容易に製造するための組成物、製造方法を提供することである。【解決手段】  常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物からなる基材上に形成された第１の塗膜と、カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物によって前記第１の塗膜上に形成された第２の塗膜とを一括露光、又は一括露光と現像して形成した樹脂層を有することを特徴とする樹脂構造体。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物からなる基材上に形成された第１の塗膜と、
カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物によって前記第１の塗膜上に形成された第２の塗膜とを一括露光して形成した樹脂層を有することを特徴とする樹脂構造体。
【請求項２】
常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物からなる基材上に形成された第１の塗膜と、
カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物によって前記第１の塗膜上に形成された第２の塗膜とを一括露光・現像して形成した樹脂層を有することを特徴とする樹脂構造体。
【請求項３】
常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物を基材上に塗布・乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物を前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成する工程、
前記第１の塗膜と第２の塗膜を一括露光して、前記第１の塗膜中の光酸発生剤から発生した酸により前記第１の塗膜と前記第２の塗膜を同時に硬化させる工程とを含むことを特徴とする樹脂構造体の製造方法。
【請求項４】
常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物を基材上に塗布・乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物を前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成する工程、
前記第１の塗膜と第２の塗膜を一括露光して、前記第１の塗膜中の光酸発生剤から発生した酸により前記第１の塗膜と前記第２の塗膜を同時に硬化させる工程、
露光後、現像によってパターニングする工程とを含むことを特徴とする樹脂構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種電子デバイスなどに用いられる、撥水層を有する樹脂構造体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ、液晶、トランジスター製造など、各種電子デバイス分野において部材の一部に撥水性を付与することが求められている。例えば、インクジェット記録ヘッドは、インクの吐出方向や吐出量などの安定した吐出性を得るため、インク吐出穴の周辺に撥水層を設けている。この際、クリーニング時や印刷物への耐擦傷性が要求され、強固な撥水層の形成が必要とされている。
こうした撥水性を付与する際、一般的にシリコーン系やフッ素系の撥水塗料を用いて、電子デバイスの部材上に撥水塗料を塗布して撥水層を作製している。
さらに、作製した撥水層を含めた部材に加工を要することもある。例えば、前述のインクジェット記録ヘッドは、インクの吐出穴の周辺ではなく壁面に撥水性を付与した場合、逆に不安定な吐出性になることもあるため、撥水塗料の塗布には工夫が必要である。
【０００３】
特許文献１では簡便に撥水層を作製できる感光性の撥水組成物が開示されているが、撥水層の密着性の問題がある。また、特許文献２では基材上に撥水層を形成した後、その基材にレーザー照射によるインクの吐出穴の加工を行うことが開示されている。
しかし、インクジェット記録ヘッドのインク吐出穴の作製には、基板上に撥水層を作製する工程とインク吐出穴を開ける工程とを必要とする。後からインク吐出穴を開けるため、穴部周辺の処理も必要であることから、非常に時間とコストがかかるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１９１０３６
【特許文献２】特開平４−２７９３５６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、各種電子デバイスに用いる、パターニングされた強固な撥水層を有する樹脂構造体と、その構造体を簡便に製造するための製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は鋭意研究した結果、第１の塗膜としてカチオン硬化型フォトリソグラフィーにてパターニング可能な組成物を塗布、乾燥させて、その上に第２の塗膜としてカチオン開始剤である酸発生剤を含まないカチオン重合可能な変性シリコーンを塗布し、この２層を一括露光、または一括露光と現像処理を行い、２層を同時に硬化させるという簡便な方法によって、パターニングされた強固な撥水層を有する樹脂構造体を得られることを見出した。
【０００７】
一般にカチオン重合させるには、エポキシやオキセタンなどのカチオン重合可能な物質と光や熱により酸を発生する酸発生剤が組成物中に含まれていることが必須である。
しかしながら、強い撥水特性を持ったシリコーンなどは酸発生剤との相溶が悪いため、そのままでは混合できず、他の樹脂にシリコーンと酸発生剤を分散させる必要があった。この状態ではシリコーンの濃度が薄まるため、期待通りの撥水性が得られず、他の密着性等の特性については、分散した樹脂に依存してしまっていた。
【０００８】
そこで、本発明ではカチオン硬化型フォトリソグラフィーにてパターニング可能な組成物を塗布、乾燥させ、その上にカチオン重合可能な変性シリコーンを塗布することとした。この状態で本来の工程である露光、現像を行うと、驚くことに、２層が一括で露光・硬化し、密着性と撥水性に優れたパターニングされた強固な撥水層を有する樹脂構造体が得られることがわかった。
【０００９】
これは第１の塗膜用組成物に含有される光酸発生剤が露光時に発した酸が、表層のカチオン重合可能な変性シリコーンに達し、拡散されたと考えられる。つまり、酸発生剤そのものはシリコーンに相溶しないが、発生した酸は充分に拡散されると考えられる。
さらに、本発明により得られた硬化物は、撥水性だけでなく汚れやキズ防止の効果も持ち、硬化物としての密着性及び耐久性にも優れている。また、撥水層を形成した後、レーザー照射等で加工する必要がなく、電子デバイス部材としての構造を製造すると同時に撥水層も作製するという効率的な製造が可能である。
【００１０】
すなわち、本発明は常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物からなる基材上に形成された第１の塗膜と、
カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物によって前記第１の塗膜上に形成された第２の塗膜とを一括露光又は、一括露光と現像して形成した樹脂層を有することを特徴とする樹脂構造体が提供できる。
【００１１】
さらに、常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物を基材上に塗布・乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物を前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成する工程、
前記第１の塗膜と第２の塗膜を一括露光して、前記第１の塗膜中の光酸発生剤から発生した酸により前記第１の塗膜と前記第２の塗膜を同時に硬化させる工程、
露光、又は露光後、現像によってパターニングする工程とを含むことを特徴とする樹脂構造体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、電子デバイス等に用いるパターニングされた強固な撥水層を有する樹脂構造体、及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の硬化性組成物は、第１の塗膜と第２の塗膜からなる２層コートによって表面に撥水層が形成され、カチオン硬化型フォトリソグラフィーにてパターニング可能な組成物であって、該組成物の第１の塗膜用組成物が常温で固体のエポキシ樹脂及び／またはオキセタン樹脂、光酸発生剤、有機溶剤を含み、第２の塗膜用組成物が酸発生剤を含まず、カチオン重合可能な変性シリコーンを含む。
【００１４】
第１の塗膜用組成物に含有される、常温で固体のエポキシ樹脂及び／またはオキセタン樹脂は、従来公知の化合物を用いることができるが、これらに限られるものではない。これらの化合物は単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１５】
前記常温で固体のエポキシ樹脂には、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ樹脂が主に使用可能である。多官能エポキシ樹脂の具体例としては、ジャパンエポキシレジン（株）製のｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００４、大日本インキ化学工業（株）製のエピクロン１０５０、エピクロン１０５５、エピクロン２０５０、エピクロン３０５０、エピクロン４０５０、東都化成（株）製のエポトートＹＤ−０１１、ＹＤ−０１３、ＹＤ−０１７、ＹＤ−９０１、等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；ジャパンエポキシレジン製ｊＥＲ４００４Ｐ、ｊＥＲ４００５Ｐ、ｊＥＲ４００７Ｐ、ｊＥＲ４０１０Ｐ、東都化成（株）製のエポトートＹＤＦ−２００１、エポトートＹＤＦ−２００４、エポトートＹＤＦ−２００５ＲＬ等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；大日本インキ化学工業（株）製のＥＸＡ−１５１４等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；ジャパンエポキシレジン（株）製のｊＥＲ１５７Ｓ（商品名）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；ジャパンエポキシレジン（株）製のｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ダウケミカル（株）製のＤＥＮ４３８、大日本インキ化学工業（株）製のエピクロンＮ−７７０、エピクロンＮ−７７５、エピクロンＮ−８６５、東都化成（株）製のエポトートＹＤＣＮ−７００−２、ＹＤＣＮ−７００−３、ＹＤＣＮ−７００−５、ＹＤＣＮ−７００−７、ＹＤＣＮ−７０４、日本化薬（株）製のＥＰＰＮ−５０１Ｈ、ＥＰＰＮ−５０２Ｈ、ＥＯＣＮ−１０２５、ＲＥ−３０６等のノボラック型エポキシ樹脂；東都化成（株）製のエポトートＳＴ−４０００Ｄ等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；ダイセル化学工業（株）製のＥＨＰＥ３１５０等の脂環式エポキシ樹脂；ジャパンエポキシレジン（株）製のＹＬ−９３３、日本化薬（株）製のＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２等のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂；ジャパンエポキシレジン（株）製のＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１Ｈ、ＹＬ−６６４０、ＹＬ−６６７７等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂；日産化学（株）製のＴＥＰＩＣ等の複素環式エポキシ樹脂；大日本インキ化学工業（株）製のＨＰ−４７００、ＨＰ−４７７０等のナフタレン基含有エポキシ樹脂；大日本インキ化学工業（株）製のＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂；さらに、ブロム化エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、テトラフェノールエタン型エポキシ樹脂、ジグリシジルフタレート樹脂、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートの共重合エポキシ樹脂等が挙げられる。これら常温で固体のエポキシ樹脂の中でも、硬化物の物性の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂が好ましい。
【００１６】
前記常温で固体のオキセタン樹脂には、ノボラック型オキセタン樹脂が主に使用可能であり、例えば東亜合成（株）製のＰＮＯＸ−１００９が好適に使用される。また、常温で固体のオキセタン樹脂であれば、これに限定されるものではない。
【００１７】
また、オキセタン樹脂は、最終的にカチオン硬化度が高い硬化物が得られるが、エポキシ樹脂やビニルエーテル樹脂などを適切な量で添加することにより、反応初期の硬化速度を向上させることができる。この場合の添加量は、オキセタン樹脂に対して５質量％から９５質量％とすることが望ましい。
【００１８】
また、オキセタン樹脂を用いて硬化物を形成する場合には、上述したオキセタン樹脂の他に光酸発生剤が用いられる。紫外線等の活性エネルギー線を照射してパターニングする場合には、光酸発生剤が用いられ、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００１９】
第１の塗膜用組成物が含有する光酸発生剤として市販されているものは、例えばユニオン・カーバイト社製のＣＹＲＡＣＵＲＥ ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、旭電化工業社製のオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、日本曹達社製のＣＩ−２８５５、デグサ社製のＤｅｇａｃｅｒｅ ＫＩ８５Ｂ等のトリアリールスルホニウム塩や非置換又は置換されたアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩が挙げられる。また、スルホン酸誘導体としては、みどり化学社製のＰＡＩ−１０１等が挙げられる。
【００２０】
これらの光酸発生剤の配合割合は、上述したオキセタン樹脂１００質量部当たり、２〜４０質量部が適当である。２質量部よりも少ない場合には、活性エネルギー線の照射により生成する酸が少なく、パターン形成が困難になるとともに、撥水性材料の硬化性が著しく悪化する。一方、４０質量部よりも多い場合には、光酸発生剤自身の光吸収により感度が低下し易くなるので好ましくない。また、より硬化度を向上させたい場合には、熱重合カチオン開始剤や光カチオン増感剤を併用してもよい。
【００２１】
有機溶剤は、オキセタン樹脂やその他の添加物を溶解させることができるものであればよい。例えば、メチルエチルケトンやシクロヘキサノン等のケトン類、トルエンやキシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブやメチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトー ル、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチルや酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、エタノールやプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、オクタンやデカン等の脂肪族炭化水素類、石油エーテルや石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤類、リモネン等のテルペン類などが挙げられる。特にソルベントナフサ等の石油系溶剤類が好適に使用でき、これを用いることにより、オキセタン樹脂に対しての良好な溶解性が得られる。これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上の混合物として使用することができる。また、有機溶剤の配合量は、用途等に応じた任意の量とすることができる。
【００２２】
カチオン重合可能な変性シリコーンとしては、特に以下のものが好適に使用でき、メタクリル変性シリコーン、脂環式エポキシ変性シリコーン、エポキシ系シリコーン等がある。特に脂環式エポキシ変性シリコーン、エポキシ系シリコーンが好適に使用でき、例えば、信越化学工業社製のＸ−２２−２０４６、ＫＦ−１０２、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、Ｘ−２２−１６９Ｂ、Ｘ−２２−３４３、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１００１、Ｘ−２２−１６３、ＫＦ−１０５、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６３Ｂ、Ｘ−２２−１６３Ｃ、Ｘ−２２−１７３ＤＸ、Ｘ−２２−９００２、Ｘ−４１−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６；東レ・ダウコーニング社製のＢＹ１６−８３９、ＢＹ−１６−８５５、ＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３；チッソ社製のＥＭＳ−２３２、ＥＭＳ−２３４、ＤＭＳ−Ｅ０１、ＤＭＳ−Ｅ１２、ＤＭＳ−Ｅ２１、ＭＣＲ−Ｅ１１、ＭＣＲ−Ｅ２１；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＸＳ６９−Ａ５１９９などが挙げられる。これらを用いることにより、第１の塗膜用組成物中に含まれる光酸発生剤の露光時に発した酸が、第２の塗膜用組成物中に含まれるカチオン重合可能な変性シリコーンに達し、拡散された後、硬化する効果が得られる。
【００２３】
また、上述したオキセタン樹脂及び光酸発生剤などから構成される組成物の他に、必要に応じて各種添加剤等を適宜添加することが可能であり、例えば、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の公知慣用の着色剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジン等の公知慣用の熱重合禁止剤、微粉シリカ、有機ベントナイト、モンモリロナイト等の公知慣用の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系などの消泡剤及び／又はレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系等のシランカップリング剤などの密着性付与剤、酸化防止剤、防錆剤などの公知慣用の添加剤類を配合することができる。
【００２４】
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて希釈して塗布方法に適した粘度に調整し、これを例えば、基板上にカーテンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、スピンコート法等の方法により塗布することができる。
【００２５】
本発明の硬化性組成物を２層コートによって表面に撥水層が形成され、カチオン硬化型フォトリソグラフィーにてパターン形成する例としては、まず、シリコンウエハ等の基板上に第１の塗膜用組成物を前記の方法にて塗布し、約７０〜９０℃の温度で組成物中に含まれる有機溶剤を揮発乾燥させ、第１の塗膜を形成する。
【００２６】
その後、第１の塗膜の上から第２の塗膜用組成物を塗布し、レーザー光等の活性エネルギー線をパターン通りに直接照射するか、又はパターンを形成したフォトマスクを通して選択的に活性エネルギー線により露光する。
【００２７】
露光後の塗膜を、約７０〜９０℃の温度で加熱する。これは、第１の塗膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）及び、第１の塗膜用組成物中に含まれる光酸発生剤の露光時に発した酸が、第２の塗膜に達し、拡散され硬化を促進する効果及び、第２の塗膜用組成物中の有機溶剤を揮発乾燥させる効果がある。
【００２８】
露光後の塗膜の加熱後、未露光部は有機溶剤系の現像液により現像され、レジストパターンを形成することができる。
【００２９】
その後さらに、加熱硬化のみ、又は活性エネルギー線の照射後加熱硬化もしくは加熱硬化後活性エネルギー線の照射で硬化させることにより、密着性、パターニング性、撥水性などの諸特性に優れた２層の硬化物が形成される。また、パターンが必要なく、全面に撥水層を形成する場合は、露光はマスクレスで全面に行い、現像は省略できる。
【００３０】
前記にある活性エネルギー線硬化させるための照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが適当である。その他、レーザー光線なども活性エネルギー線として利用できる。
【００３１】
前記使用の基板としては、シリコンウエハやガラス等の基板があるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００３２】
以下の実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３３】
本発明を適用した樹脂構造体及び樹脂構造体の製造方法について、以下の通り材料物性の検討を行った。また、この材料を硬化させた硬化物のパターニング性、撥水性、及び撥水性の耐久性の評価を行った。
【００３４】
＜実施例１〜４及び、比較例１〜５＞
以下の表１に示す、第１の塗膜用組成物である硬化性材料を６インチシリコンウエハにスピンコート法により約２０μｍになるよう塗布し、系中の溶剤を除去するためにホットプレートで９０℃、５分間乾燥させた。この乾燥塗膜に対し、表２及び表３に示す第２の塗膜用組成物である撥水性硬化性材料をスピンコート法により約５μｍになるよう塗布し、２層の状態とした。この後、パターンとして残存させたい部分をプリント配線板用露光機にて６００ｍＪ／ｃｍ２の露光を行った。２層の塗膜の露光された部分は硬化し、現像液に不溶となり、露光されなかった部分は、現像液に可溶となる。次に、ホットプレートで９０℃、１０分間加熱させて硬化を促進させた。加熱後、露光されていない部分をジプロピレングリコールモノメチルエーテルによりパドル現像することにより、露光されていない部分の層を除去した。ついで、１５０℃、１時間の加熱硬化を行い、パターンが形成された撥水性硬化物を得た。
【００３５】
【表１】
2011020287.tif 000002
【００３６】
＊１：東亞合成（株）製  ＰＮＯＸ−１００９のイプゾール１５０
（テトラメチルベンゼン主体の石油系溶剤）カットワニス（ＮＶ＝８０％）
＊２：ジャパンエポキシレジン（株）製  ｊＥＲ８３４
＊３：ＡＤＥＫＡ（株）製  ＳＰ−１５２
＊４：ビックケミー・ジャパン（株）製  ＢＹＫ−３６１Ｎ
【００３７】
【表２】
2011020287.tif 000003
【００３８】
【表３】
2011020287.tif 000004
【００３９】
＜比較例６〜１１＞
以下の表４に示す組成物は、硬化性材料と撥水性硬化性材料を混合したものであり、
単独の塗膜を形成するものである。硬化物の作製は、前記＜実施例１〜４及び、比較例１〜５＞では塗布工程が２回あったが、本比較例においては単独の組成物であるため塗布工程は１回のみであった。また、硬化物作製における工程は、前記と同様であった。
【００４０】
【表４】
2011020287.tif 000005
【００４１】
＊５：信越化学工業（株）製  Ｘ−２２−１６３
＊６：信越化学工業（株）製  Ｘ−２２−１６９Ｂ
＊７：東レ・ダウコーニング（株）製  ＢＹ１６−８３９
＊８：信越化学工業（株）製  ＫＦ−９６
＊９：信越化学工業（株）製  ＫＢＥ−４０２
＊１０：共栄社化学（株）製  Ｍ−３Ｆ
＊１１：ｎ−ドデカン
【００４２】
＜塗工性＞
実施例１〜４、比較例１〜１１について、塗工性を確認するため、露光前の塗膜について、目視にて評価を行った。
○：外観が良好である
×：はじきによる外観不良が顕著である
【００４３】
＜パターニング性＞
塗工性が良好であった実施例１〜４、比較例１〜５、７、９、１１について、現像工程後の状態を観察することで評価を行った。
○：現像残渣がなく、パターニング可能なもの
×：現像残渣のあるもの
××：現像できず、塗膜が流されているもの
【００４４】
＜接触角と撥水性＞
パターニング性が良好であった実施例１〜４、比較例１、３、９、１１について、超純水での接触角を自動接触角計（協和界面科学社製ＤＭ３００）にて測定した。塗膜表面の水滴の接触角θが撥水性の指標になっており、一般にはθが９０°以上の場合を撥水性（疎水性）を有するとしている。
撥水性  ○：θ≧９０°
×：θ＜９０°
【００４５】
＜撥水性の耐久性＞
パターニング性が良好であった実施例１〜４、比較例１、３、９について、有機溶剤であるトルエンを含んだ布で３０回こすった後、前記と同様に撥水性を評価した。
○：θ≧９０°
×：θ＜９０°
【００４６】
前記各試験の結果を表５〜表７に示す。
【００４７】
【表５】
2011020287.tif 000006
【００４８】
【表６】
2011020287.tif 000007
【００４９】
【表７】
2011020287.tif 000008
【００５０】
上記表５〜表７に示される結果から明らかなように、本発明に従って、２層コートによって形成された組成物を用いて得られた塗膜は、実施例１〜４にあるように、カチオン硬化型フォトリソグラフィーにて現像残渣がなく、パターニング性に優れており、また、組成物表面に撥水層が形成されているため、接触角が大きく撥水性に優れ、さらに、撥水性の耐久性にも優れていることがわかる。
【００５１】
これに対して単独組成物の場合では、強く撥水特性を持ったシリコーンやフッ素系化合物などは光酸発生剤との相溶が悪いために、塗膜の外観不良等の問題が起こることがわかる。また、塗工性が良かったとしても、第２の塗膜用の組成物によって第１の塗膜を溶解させてしまうため、現像によるパターニング性が劣ることや、現像液により撥水性を有する組成物が流されてしまうために、撥水性が劣ることがわかる。
【００５２】
以上の通り、本発明によれば、カチオン硬化型フォトリソグラフィーにてパターニング可能な組成物を塗布、乾燥させて、その上にカチオン開始剤である酸発生剤を含まない、カチオン重合可能な変性シリコーンを塗布し、一括露光、又は一括露光と現像処理を行うことにより、パターニングされた強固な撥水層を有する樹脂組成物を得ることができ、インクジェット記録ヘッドや電子デバイスに用いる強固にパターニングされた撥水層を容易に製造することが可能である。