(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶装置におけるバックライト等に使用される光学シートにおいて、表示輝度の低下をせずに、欠陥隠蔽性を向上された光学シート、該光学シートの製造に用いられる金型、および該金型を用いた光学シートの製造方法を提供する。【解決手段】射面に入射された光を内部で伝搬させ、出射面から出射する光学シートであって、前記入射面に形成された複数のプリズム列からなるプリズムパターンと、ナノオーダーの凸部であって、前記プリズムパターンを形成する面の全面または一部に設けられた複数の凸部とを備える光学シート。光学シートに入射された光は、微小なナノオーダーの凸部で散乱されるが、凸部のサイズがナノオーダーと非常に微小であるため、ほとんど輝度の低下を伴わず、隠蔽性を向上させることができる。【選択図】図１
2011039292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状の基材の少なくとも一方の面に配列された複数のプリズム列を有し、前記プリズム列の少なくとも一部の表面には、高さが２０ｎｍ〜４００ｎｍの複数の凸部が形成されていることを特徴とする光学シート。
【請求項２】
光学シート製造用の金型であって、前記金型の表面に形成されたプリズムパターンと、前記プリズムパターンの表面の少なくとも一部に設けられ、深さが２０ｎｍ〜４００ｎｍの複数の凹部を有することを特徴とする金型。
【請求項３】
光学シート製造用の金型の製造方法であって、
金型基材の表面に断面が略三角柱状のプリズムが並行して配列されたプリズムパターンを形成する工程と、
粒径が０．０２〜０．１μｍの微粒子を１〜３５体積％含有するめっき液を用いて、前記金型基材の表面に前記微粒子を含有するめっきを施す工程と、
前記めっきが施された前記金型基材から、前記微粒子の少なくとも一部を除去する工程とを含むことを特徴とする金型の製造方法。
【請求項４】
前記微粒子は、樹脂からなる微粒子であり、前記微粒子を除去する工程において、前記めっきが施された前記金型基材を焼成し、前記めっきから前記微粒子の少なくとも一部を焼失させることを特徴とする、請求項３に記載の金型の製造方法。
【請求項５】
請求項３乃至４記載の方法により得られた前記金型を用いて光学シートを製造する光学シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学機器や情報機器に用いる事ができる光学シート、その製造用金型、及びその製造用金型の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置において、画像を表示する際の照明方法の代表的なものとして、液晶パネルの背後に配置した光源を利用して画像表示を行う背面光源型、エッジライト型面光源の表示装置などがあげられる。
【０００３】
このような表示装置では、表示輝度を高くすることが表示装置の商品価値を高める上で特に重要である。そこで、光源の光を高効率で利用できる屈折率型ではない全反射型の特公平７−２７１３６号公報（特許文献１）や特公平７−２７１３７号公報（特許文献２）に開示されるような下向きプリズムシートが考案された。しかし、全反射型のプリズムシートは欠陥の隠蔽性が低く、製造の上でも歩留が低いという問題があった。
【０００４】
一般的に背面光源型の表示装置においては、欠陥隠蔽性の高い拡散シートなどが光学シートと液晶パネルとの間に設けられたり、また、光学シートのプリズムパターンが具備されていない裏面や内部に凹凸形状などの、欠陥を隠蔽させる効果を持った機能が付与されている。しかし、表示装置のコストや厚みが増大してしまうという問題点があった。
【０００５】
このような問題を解決するために、特開２００７−３０４５６４号公報（特許文献３）で示されるような、プリズムパターン上にさらに凹凸形状が具備された光学シートが提案されている。しかし、凹凸形状のサイズが大きいために凹凸自体が欠陥として視認されやすいという問題点がある。また、国際公開２００７−０４６３３７号公報（特許文献４）では、金型をブラストで変形させる事により、金型のプリズムパターンの凸部にのみ、さらに微細な凹凸が付与されたものが提案されている。しかし、ブラストによりプリズムパターンの凸部の頂部が変形してしまい、離型性が著しく悪くなり、歩留の低下を引き起こすという問題を抱えている。さらにモバイル機器に用いられるプリズムシートでは、プリズムのピッチが細かくなるのが一般的だが、ピッチの細かい微小プリズム列では、サイズの大きな凹凸は欠陥として視認されやすい傾向がある。しかしながら、従来はピッチの細かい微小プリズム列にさらに小さな凹凸を形成することが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特公平７−２７１３６号公報
【特許文献２】特公平７−２７１３７号公報（特許文献２）
【特許文献３】特開２００７−３０４５６４号公報
【特許文献４】国際公開２００７−０４６３３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように上記いずれの方法においても、隠蔽性を向上させようとすると、好ましくない厚みやコストの増加、生産性、輝度の著しい低下を起こしてしまう問題がある。そこで本発明では、上述のような問題を解決し、表示輝度の低下を抑えつつ、欠陥隠蔽性を向上された光学シート、該光学シートの製造に用いられる金型、および該金型の製造方法を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る光学シートは、シート状の基材の少なくとも一方の面に配列された複数のプリズム列を有し、前記プリズム列の少なくとも一部の表面には、高さが２０ｎｍ〜４００ｎｍの複数の凸部が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
このように構成された本発明によれば、凸部の大きさがナノオーダーと非常に微小であるため、輝度の低下を抑制しつつ光学シートに生じる欠陥を隠蔽することができる。
【００１０】
本発明に係る光学シート製造用の金型は、光学シート製造用の金型であって、前記金型の表面に形成されたプリズムパターンと、前記プリズムパターンの少なくとも一部に設けられ、深さが２０ｎｍ〜４００ｎｍの複数の凹部を有することを特徴とする。
【００１１】
このように構成された本発明によれば、凸部の大きさがナノオーダーと非常に微小であるため、光学シートの離型を容易に行うことができる。
【００１２】
本発明に係る光学シート製造用の金型の製造方法は、金型基材の表面に断面が略三角柱状のプリズムが並行して配列されたプリズムパターンを形成する工程と、粒径が０．０２〜０．１μmの微粒子を１〜３５体積％含有するめっき液を用いて、前記金型基材の表面に前記微粒子を含有するめっきを施す工程と、前記めっきが施された前記金型基材から、前記微粒子の少なくとも一部を除去する工程とを含む事を特徴とする。
【００１３】
本発明に係る金型の製造方法の一能様においては、前記微粒子は、樹脂からなる微粒子であり、前記微粒子を除去する工程において、前記めっきが施された前記金型基材を焼成し、前記めっきから前記微粒子の少なくとも一部を焼失させることを特徴とする。
【００１４】
このような金型の製造方法によれば、めっきから微粒子を焼失されることで微小な凹部を形成するために、金型に機械的な加工を行う必要がないため、微小な凹部が形成された金型を容易に製造することができる。さらに、機械加工等により金型に生じるバリやスジにより光学シートに欠陥が発生することが抑制され、さらに微小な凹部をナノオーダーの凹部とすることによって光学シートの離型を容易にすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、欠陥隠蔽性を保ちながら、離型が容易であり、歩留まりを向上させることができる。さらに、モバイル用途などに用いられる前記複数の凸状部からなるプリズムパターンのピッチの非常に小さい、光学シートにおいて大きな効果を発揮する。本発明ではプリズムピッチ１０μｍ程度以下の難易度の高い加工も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に係る光学シートを示す斜視図である。
【図２】本発明に係る光学シートの製造装置の側面図である。
【図３】本発明に係るロール金型の外周面近傍を示す断面図である。
【図４】本発明に係るロール金型を用いて形成された光学シートを示す断面図である。
【図５】ロール金型にめっき処理を施すためのめっき処理装置を示すブロック図である。
【図６】めっき処理装置に備えられためっき処理槽の断面図である。
【図７】このめっき処理装置を側面から見た断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、液晶表示装置のバックライトなどによるプリズムシートを参考に、本発明の実施形態に係る光学シートについて説明する。図１は、光学シート（プリズムシート）を示す斜視図である。
【００１８】
まず、図１に示すようにプリズムシート１は、外部の光源から出射された光が入射されるシート入射面３と、シート入射面３に入射してプリズムシート１内部に入った光を出射させるためのシート出射面５を備える。そしてプリズムシート１のシート入射面３には、活性化エネルギー線硬化型樹脂を硬化させて形成した、複数の三角形柱状のプリズム列７が並列配置されている。プリズム列７間のピッチは、１０〜５００μmとされる。
【００１９】
このようなプリズムシート１は、透光性を有するシート基材９の一方の面にプリズム列７を配置することで形成されている。また、シート基材９の他方の面には、拡散層１１が設けられていてもよく、シート基材９内の光を拡散させて出射させるようにしても良い。
【００２０】
シート基材９の一方面に設けられるプリズム列７は、その表面に微小な凸部が複数形成されている。微小な凸部はその高さが２０ｎｍ〜４００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは３０ｎｍ〜３００ｎｍの高さとされる。凸部の高さが４００ｎｍを超えると輝度の低下が目立ち始める傾向にあり、２０ｎｍ以下だと隠蔽性の向上がほとんど見られない傾向にある。
【００２１】
プリズム列７は、その屈折率が１．５２以上、好ましくは１．５５以上、さらに好ましくは１．６以上となるように形成されている。このようなプリズム列７を形成する活性化エネルギー線硬化型樹脂は、紫外線、電子線等の活性化エネルギー線で硬化するものであればどのようなものであってもよいが、光学特性等の観点から、ポリエステル類、エポキシ樹脂系、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることが好ましい。このような硬化樹脂に使用される活性化エネルギー線硬化性組成物としては、取扱性や硬化性等の点で、多官能アクリレート及び/または多宮能メタクリレート、モノアクリレート及び／またはモノメタクリレート、及び活性化エネルギー線による光重合開始剤を主成分とすることが好ましい。代表的な多官能アクリレート及び/または多官能メタクリレートとしては、ポリオールポリ(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)アクリレート、エポキシボリ(メタ)アクリレート、ウレタンポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独あるいは２種以上の混合物として使用される。また、モノアクリレート及び／またはモノメタクリレートとしては、モノアルコールのモノ(メタ)アクリル酸エステル、ポリオールのモノ(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。
【００２２】
またシート基材９は、厚さ１０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍの硝子板、又はポリエチレンテレフタラート若しくはポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ジアセチルセルロース若しくはトリアセチルセルロース等のセルロース計樹脂、ポリエチレン、ポリプロビレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン及びエチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系樹脂、ナイロン及び芳香族ポリアミド系のポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル系樹脂、若しくはポリメタクリルイミド系樹脂等の透明樹脂シート、又はフィルムによって形成される。そして、シート基材９の表面には、活性化エネルギー線硬化型樹脂の密着性を高めるために、アンカーコート処理が施されていても良い。
【００２３】
また、このようなプリズム列７を形成するモノマーと、シート基材９を同一の材料から形成することも可能である。この場合、シート基材９としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ホリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂のような光透過率の高い合成樹脂を用いることができる。これらの樹脂の中でも、光透過率の高さ、耐熱性、力学的特性、成形加工性等の観点から、アクリル樹脂を用いることができる。そしてこの場合、アクリル樹脂としては、メタクリル酸メチルを主成分とする樹脂を用い、その含有量は、８０重量％以上とするのがよい。
【００２４】
拡散層１１は、透光性樹脂中に光拡散剤を分散させて形成しても良い。この場合、シート基材９上に配置された透光性樹脂の表面からは、光拡散剤が突出しており、光透過性樹脂の表面は、凹凸に形成されている。また、シート基材９の他方の面に直接凹凸を設けるなどの手法を用いても構わない。
【００２５】
（光学シートの製造方法）
図２は、このようなプリズムシートの製造装置を示す側面図である。プリズムシート製造装置は、ロール金型２１と、ロール金型２１に近接して配置されたニップロール２３、及び剥離ローラ（図示されず）を備える。また、プリズムシート製造装置は、これらロール金型２１、ニップロール２３、及び剥離ローラによって搬送されるシート基材９上に配置される活性化エネルギー線硬化性組成物を貯留するタンク２７と、タンク２７内の活性化エネルギー線硬化型組成物をシート基材９上に塗布する塗布装置２９と、活性化エネルギー線としての紫外線を出射するＵＶランプ３１を備える。そしてプリズムシート製造装置は、シート基材９が、矢印Ａ方向に回転駆動される円筒柱状のロール金型２１の外周面に巻回されながら矢印Ｂ方向に搬送されるように構成されている。
【００２６】
タンク２７に貯留された活性化エネルギー線硬化型組成物は、各プリズム列７の厚さを一定にするために、所定の粘度に保持する事が好ましい。この粘度の範囲は、２０〜３０００ｍＰａ・Ｓであることが好ましく、１００〜１０００ｍＰａ・Ｓであることがより好ましい。活性化エネルギー線硬化性組成物の粘度を２０ｍＰａ・Ｓ以上とすることによって、形成されるプリズム列７の厚さを一定にするためにニップ圧を比較的低く設定したり、ロール金型２１の回転速度を極端に速くしたりする必要がなくなる。さらにニップ圧を比較的低くすると、ニップロール２３の動作が安定しないので、プリズム列７の厚さが不均一になる。また、ロール金型２１の回転速度を極端に速くすると、活性化エネルギー線の照射量が不足し活性化エネルギー線硬化性組成物の硬化が不十分となる傾向にある。また、活性化エネルギー線硬化性組成物の粘度を３０００ｍＰａ・Ｓ以下とすることにより、ロール金型２１の形状転写面構造の細部まで十分に活性化エネルギー線硬化型組成物を行き渡らせることができ、プリズム列７や後述する微小な凹凸の正確な転写が困難となったり、気泡の混入による欠陥が発生しやすくなったり成形速度の極端な低下による生産性の悪化をもたらしたりすることがなくなる。このため、活性化エネルギー線硬化性組成物の粘度を一定に保持させるためには、活性化エネルギー線硬化型組成物の温度制御が十分に行えるように、タンク２７の外部や内部にシーズヒーター、温水ジャケット等の熱源設備を設置しておくことが好ましい。
【００２７】
（金型の製造方法）
図３は、ロール金型の外周面近傍を示す断面図である。図３に示すように、ロール金型２１の外周面には、複数の加工用凸状部４１からなるプリズムパターンが形成されている。この加工用凸状部４１は、ロール金型２１の周方向に延びる、三角柱状体によって形成されている。そしてロール金型２１の外周には、複数の三角柱状体が並列配置されており、プリズムパターンを構成している。そして各々の加工用凸状部４１には、ナノオーダーの凹部４３を含有するめっき層４５が設けられている。そして、各々の加工用凸状部４１の全面もしくは一部には、この凹部４３によって、微小加工パターン４７が形成されている。このような加工用凸状部４１は、高さ５〜５００μｍの三角形断面を有する柱状体からなり、ロール金型２１の軸線方向の配列ピッチは、５〜５００μｍとされる。
【００２８】
複数のナノオーダーの凹状部４３は、加工用凸状部４１の全面もしくは一部に設けられている。位置に関しては加工によって自由に選択できる。このナノオーダーの凹状部４３の大きさ高さは、３０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましい。この微小加工パターン４７を形成するナノオーダーの凸状部４３の数を多くすることによって、加工用凸状部４１が形成するプリズム列７に生じる欠陥の隠蔽性は向上する。また、微小加工パターン４７を構成するナノオーダーの凹状部４３は、不均一に存在しているのがよい。詳細は後述するが、めっき層４５は、加工用凸状部４１が形成されたロール金型２１の基材を、テフロン（登録商標）の微小粒子が混在するめっき液に浸漬させ、焼成することで形成される。
【００２９】
図４は、このようなロール金型を用いて形成されたプリズムを示す断面図である。図４に示すように、プリズム列７は、ロール金型２１の加工用凸状部４１と相補的な形状及び大きさのプリズム５１と、ナノオーダーの凸部５３を備える。プリズム５１は、加工用凸状部４１と相補的な、ほぼ三角形断面を有する。そしてプリズム列７を形成する三角形断面のプリズム５１の頂部の角度は、４０〜１５０°の範囲として設定される。また、このプリズム５１の頂部の角度は、光学シート１の用途に応じて変更可能であり、光学シートを液晶装置のバックライトのプリズムシートに用いる場合には、その頂部の角度は、４５〜７０°とされるのがよい。また、光学シートを液晶装置の導光板と併用する場合には、プリズム５１の頂部の角度は、８０〜１００°の範囲であるのが好ましく、８５〜９５°の範囲であることがより好ましい。プリズム列７間のピッチは、加工用凸状部４１の谷部のピッチと相補的なものであり、１０〜５００μｍとされる。そして、矢印Ｃによって示す様にプリズム５１の臨界角よりも小さい角度でその表面に入射される光を、プリズムシート１内に導くようになっている。
【００３０】
またナノオーダーの凸部５３は、ロール金型２１の外周に設けられたナノオーダーの微小凹状部４３と相補的な形状及び大きさを有する。これら複数のナノオーダーの凸部５３は、加工用凸状部４１の表面から凹んで微小加工パターン４７によって形成されたものである。そして凸部５３は、矢印Ｄによって示すように、入射された光を散乱させて、プリズムシート１内部に導くようになっている。そして凸部５３の高さは、２０ｎｍ〜４００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。高さが４００ｎｍを超えると輝度の低下が目立ち始め、２０ｎｍ以下だと隠蔽性の向上がほとんど見られない。
【００３１】
図５は、ロール金型にめっき処理を施すためのめっき処理装置を示すブロック図であり、図６は、このめっき処理装置に備えられためっき処理槽を正面から見た断面図であり、図７は、このめっき処理装置を側面から見た断面図である。
【００３２】
図５に示すように、めっき処理装置６１は、ロール金型基材６３を浸漬させるためのめっき処理槽６５と、このめっき処理槽６５よりも加工ライン上流側に設けられた、水洗処理、脱脂処理、酸活性処理等を行うための前処理槽６７と、めっき処理槽６５よりも加工ライン下流側に設けられた水洗処理、乾燥処理等を行うための後処理槽６９を備える。これら各処理槽６５，６７，６９は、並列に配置されており、ロール金型基材６３が、各処理層の上部に設けられたアーム７１によって加工ラインの上流側から下流側に向けて搬送される。そして、アーム７１によってロール金型基材６３を上下に昇降させることで、ロール金型基材６３は、各処理槽６５，６７，６９に導入され、又は各処理槽６５，６７，６９から取り出されるようになっている。
【００３３】
図６及び図７に示すように、めっき処理槽６５は、テフロン（登録商標）などの微粒子を含むニッケルめっき液を貯留する内槽８１と、この内槽８１から溢れたニッケルめっき液を受ける外槽８３と、めっき液を内槽８１へ流入させる流入口８５を備える。
【００３４】
内槽８１は、ロール金型基材６３の長手方向の長さよりも長尺な長辺を有する長方形の箱型に形成されている。また、内槽８１の長手方向端部の壁８７には、アーム７１によって支持されているロール金型基材６３が降りてきたときに、ロール金型基材６３のシャフト８９が嵌まるようになった切欠き（図示せず）を有する。そしてアーム７１に支持されて内槽８１に浸漬させられたロール金型基材６３は、めっき処理が施されるときに、アーム７１によってシャフト８９回りを矢印Ｅ方向に回転させられるようになっている。テフロン（登録商標）は、粒径が０．０２〜０．１μｍのものを用い、めっき液内の微粒子の濃度は、１〜３５体積％が好ましい。
【００３５】
内槽８１の底には、めっき液を内槽８１に流入させるための流入口８５を覆うように配置された整流板９１が設けられている。また、ロール金型基材６３が浸漬されたときのロール金型基材６３と整流板９１の間には、遮蔽板９３が設けられている。さらに内槽８１には、電気ヒータ等の加熱手段（図示せず）が設けられており、めっき液の温度を調整できるようになっている。また、内槽８１内には、電極（図示せず）が設けられており、この電極を用いてロール金型基材６３の表面にめっき処理を施すようになっている。さらに内槽８１の上部には、シャワー（図示せず）が設けられており、アーム７１によって内槽８１から引き上げられたロール金型基材６３の表面に付着しためっき液を洗浄するようになっている。
【００３６】
外槽８３は、内槽８１よりも一回り大きく形成された箱型の槽であり、内槽８１を取り囲むように配置されている。そして外槽８３と内槽８１の各々の壁の間には、間隙が設けられており、この間隙によって、内槽８１から溢れためっき液が、外槽８３によって受け止められるようになっており、さらにアーム７１を所定位置まで降下させることができるようになっている。また、外槽８３の底には、めっき液を内槽８１に還流させるための還流口９５が設けられており、この還流口９５から延びる管９７は、内槽８１にめっき液を流入させるための管９９と合流している。そして還流口９５から還流されためっき液は、流入口８５に供給される。また、還流口９５から延びる管９７には、ポンプ１０１が接続されており、還流口９５に入っためっき液を流入口８５まで圧送するようになっている。また、内槽８１と同様に外槽８３にも、めっき液の温度を調整することができる加熱手段（図示せず）が設けられている。また、内槽８１及び外槽８３から延びる管９７，９９は、内槽８１と外槽８３の間で分岐しており、必要に応じて内槽８１及び外槽８３内のめっき液を排液できるようになっている。
【００３７】
流入口８５は、内槽８１の底の中心部に設けられている。そして流入口８５を覆う整流板９１は、ロール金型基材６３が内槽８１に浸漬させられて回転させられたときの回転方向下流側が開口し、上流側を閉じるように流入口８５を覆うようになっている。これにより、流入口８５から内槽８１内に流入させられためっき液は、整流板９１に当たってロール金型基材６３の回転方向下流側、すなわち矢印Ｆ方向に向かって流れる。また、遮蔽板９３は、内槽８１の長手方向に沿って延びる、ほぼＶ字断面を有する板状部材であり、整流板９１によってロール金型基材６３の回転方向下流側に向かって流れるめっき液が、ロール金型基材６３に直接当たるのを防止するようになっている。また、遮蔽板９３をほぼＶ字断面とすることによって、遮蔽板９３が内槽８１内のめっき液の流れを妨げるのを防止することができる。
【００３８】
次に、ロール金型２１の製造方法について詳述する。
【００３９】
先ず、ロール金型基材６３を準備する。ロール金型基材６３としては、円筒形の鋼製ロールを用い、その外周面に厚さ１００〜１０００μｍ、ビッカース硬度が１８０〜２５０Ｈｖの硬質銅めっきによる銅めっき層を形成する。そしてこの銅めっき層を超硬バイト、ＣＢＮバイト、ダイヤモンドバイト等の切削工具が取り付けられた旋盤を用いて切削して、複数の加工用凸状部４１からなるプリズムパターンを形成する。
【００４０】
そしてこのようなロール金型基材６３を、めっき処理装置６１のアーム７１に取り付ける。次いで、アーム７１を移動させて、ロール金型基材６３の前処理槽６７に順次搬送しながら、ロール金型基材６３を加工ライン下流側に向けて移動させる。次いで、ロール金型基材６３をめっき処理槽６５の内槽８１のめっき液に浸漬させる。
【００４１】
ロール金型基材６３を浸漬させる前に、内槽８１には、流入口８５からテフロン（登録商標）を含むめっき液が供給される。また、これと同時に、加熱手段によりめっき液が加熱される。このとき内槽８１には、内槽８１から溢れ出る程度の量のめっき液が供給され、溢れためっき液は、外槽８３によって受けられ、外槽８３から内槽８１へ還流される。そして、外槽８３から還流されためっき液は、整流板９１により一定方向に流れるようになり、内槽８１内において、ロール金型基材６３が浸漬されたときに回転する方向と同一方向へのめっき液の流れが作り出される。そしてこのとき、一部のめっき液が、外槽８３に溢れ出て、再び内槽８１に還流されるようになるが、このようにめっき液を還流させることによって、内槽８１内のめっき液の温度を一定の温度に保つことができ、これにより一定の膜厚のめっき層４５を形成することができる。このとき、めっき液の還流量、又はめっき液が内槽から溢れ出す量は、約２５０リットルの容積を有する内槽８１に対して、８０〜１１０リットル／分程度とされる。また、内槽８１内のめっき液の温度は、８０〜９５℃、好ましくは８４〜９０℃に保たれる。また、整流板９１とロール金型基材６３の間に遮蔽板９３を設けることによって、ロール金型基材６３には、ロール金型基材６３の回転方向に流れるめっき液だけが当たるようになる。
【００４２】
次いで、ロール金型基材６３を内槽８１に浸漬させ、シャフト８９回りに回転させながら、電極に電圧を印加して、内槽８１内に電流を流し、ロール金型基材６３の外周に電解めっき処理を施す。
【００４３】
ここで、ロール金型基材６３を回転させるときには、ロール金型の外周に対して、毎分７．５倍〜２５倍の速度で回転させることが好ましい。即ち、周速が１．５〜５ｍ／分、好ましくは１．７〜５ｍ／分となるように回転させることが好ましく、より好ましくは１．８〜５ｍ／分となる。周速が７．５倍未満（すなわち、外周２００ｍｍの金型の場合は１．５ｍ／分未満）とした場合には、ロール金型基材６３の外周面に発生する水素ガスが外周面から離脱しにくくなり、外周面に水素ガスの流れによる欠陥が発生しやすくなる。一方で、ロール金型基材６３の周速が２５倍（即ち、外周２００ｍｍの金型の場合は５ｍ／分）を超えると、めっき層４５の厚さが不均一になり、めっき斑が発生しやすくなる。尚、ロール金型基材６３の周速は、その外径に応じて調節することができる。
【００４４】
そしてロール金型基材６３をめっき液内で回転させて、所定時間経過後、電流を停止させる。そしてこのような電解めっき処理により、ロール金型基材６３の外周面にニッケルのめっき層４５が形成される。そして電流を停止させてから、所定の時間、ロール金型基材６３を回転させながら無電解めっき処理を行う。これにより、テフロン（登録商標）を含んだニッケルめっき層が形成される。その後、ロール金型２１は、後処理槽６９において、水洗処理、湯洗処理、乾燥処理等の後処理を経ながらアーム７１によって加工ライン下流側に向けて搬送される。
【００４５】
ここでロール金型基材６３をめっき液に浸漬させた状態で、電極に電圧を印加する時間を、１０〜６０秒、より好ましくは１５〜４０秒とする。そしてこの時間の経過後に、電極への通電を停止させ、その後は自己触媒によってめっき処理をすることによって、非常に薄い膜厚のめっき層を形成することができる。
【００４６】
さらに、このロール金型基材６３をクリーンオーブン等で、４５０℃〜６５０℃の間で１時間以上熱処理すると、ニッケル層に含有されたテフロン（登録商標）を焼失させることができるため、テフロン（登録商標）が焼失した部分が微小凹部となりナノオーダーの微小凹形状を得る事ができる。
【００４７】
また、ロール金型基材６３としては、円筒形の鋼製ロールを用い、その外周面に厚さ５０〜６００μｍのテフロン（登録商標）粉を含んだニッケルめっきを施した後に、このニッケルめっき層を超硬バイト、ＣＢＮバイト、ダイヤモンドバイト等の切削工具が取り付けられた旋盤を用いて切削して、複数の加工用凸状部４１からなるプリズムパターンを形成しても良い。
【００４８】
さらに、このロール金型基材６３をクリーンオーブン等で、４５０℃〜６５０℃の間で１時間以上熱処理すると、ニッケル層に含有されたテフロン（登録商標）を焼失させることができるため、テフロン（登録商標）が焼失した部分が微小凹部となりナノオーダーの微小凹形状を得る事ができる。
【００４９】
このように本発明の実施形態によれば、プリズムパターン及びそこに形成された微小加工パターン４７を備えるロール金型によって、表示輝度の低下をせずに、欠陥隠蔽性を向上させる光学シートを提供することができる。
【００５０】
尚、上述の実施形態では、ロール金型を製造するときに、ロール金型の軸線を水平方向に保持して、ロール金型を回転させながらめっき液に浸漬させることとしたが、ロール金型の軸線を垂直にして、めっき液に浸漬させてもよい。
【００５１】
ロール金型をクリーンオーブンでの熱処理温度４００℃、５００℃、６００℃、７００℃の４条件で行い、各々の表面をＳＥＭで観察したところ、４００℃では微小凹形状を確認できなかった。５００℃では、３０ｎｍ〜１００ｎｍの微小凹形状が確認された。６００℃では、８０ｎｍ〜３００ｎｍの微小凹形状が確認された。７００℃になると再び微小凹形状は確認できなくなった。また、６５０℃で熱処理行った場合、１００ｎｍ〜５００ｎｍの微小凹形状を確認する事ができた。
【００５２】
ここまで用いる微粒子としてテフロン（登録商標）を例に説明してきたが、めっき液に分散できて焼失が可能なものであれば微粒子はテフロン（登録商標）に限定されるものではない。また、使用する微粒子に応じて、焼成温度を変えたり、焼成以外の方法により微粒子を抜き取っても良く、例えば酸等を用いて微粒子を抜き取っても良い。めっき液についても同様にニッケルを例に説明したが、クロム、銅、スズなどニッケルに限定されるものではない。
【実施例】
【００５３】
以下、本発明の実施例について詳述する。
【００５４】
（実施例１）
先ず、ロール金型基材として外径２００ｍｍ、画長１５０ｍｍの鋼製ロールを準備した。そしてロール金型基材の外周面を研磨した後、その外周面に銅めっきを施して厚さ５００μｍ、ビッカース硬度２３０Ｈｖの硬質銅めっき層を設けた。次いで、ダイヤモンドバイトを用いて、銅めっき層を旋削して、ピッチ３０μｍピッチでプリズムパターンを形成した。そしてこのロール金型基材の中心のシャフトにめっき処理装置のアームを取り付けて、ロール金型基材を周速６．５ｍ／分で回転させながら前処理槽において水洗処理、脱脂処理、及び酸活性処理を行った。
【００５５】
次いで、前処理が施されたロール金型基材を、内槽および外槽から構成されるめっき処理槽上に移動させて、ロール金型基材の周速を１．９ｍ／分に変速してから、ロール金型基材をほぼ平行に保ちながら、アームによってロール金型基材を内槽内に降下させた。そしてロール金型基材を、粒径０．０３μｍのテフロン（登録商標）を２５体積％含み、ニッケル濃度５ｇ／リットルの８５℃に加熱されためっき液に浸漬させた。そしてロール金型基材を内槽に浸漬させたまま、内槽内の電極に５Ｖの電圧を印加して、１００Ａの電流を３０秒間流した。そして、電極への電力供給を停止した後も、ロール金型基材を周速１．９ｍ／分で回転させながら、８５℃のめっき液に浸漬させ続けた。無電解ニッケルめっき処理の間、内槽には、内槽の流入口からポンプを用いてニッケルめっき液を１０５リットル／分で流入させ、さらに内槽から溢れ出しためっき液を、外槽から内槽に還流させた。これにより、ロール金型基材の回転方向と同一方向における、めっき液の流れを作り出した。
【００５６】
そして、浸漬開始から２３０秒後にポンプを停止し、浸漬開始から２３５秒後にめっき処理槽の上に設けられたシャワーから水(室温)を３０リットル／分で噴出させながら、内槽のニッケルめっき液の排出を開始した。また、ニッケルめっき液の排出開始直後、アームを上昇させ、ロール金型を引き上げた。そして、シャワーから、ロール金型下部に向けて斜め上方から水(室温)を３０リットル／分で噴出させ、ロール金型を１２０秒水洗した。
【００５７】
その後、ロール金型を後処理槽に移動させ、水洗処理および乾燥処理を施し、アームからロール金型を取り外した。
【００５８】
取り外した金型をクリーンオーブンで５００℃、３時間熱処理を行って、含有テフロン（登録商標）を消失させた。
【００５９】
次いで、このロール金型と、アクリル系紫外線硬化性組成物(三菱レイヨン社製、ＲＰ４０００Ｓ)とを用い、光学シートの製造装置を用いて光学シートを製造した。ロール金型とニップルロールの間に、シート基材として、片面に密着性向上処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム(東洋紡社製、Ａ４１００、厚さ１８８μｍ、幅４７０ｍｍ)を、処理面がロール金型の外周面に巻き付くように製造装置に導入した。
【００６０】
次いで、樹脂タンクから供給された４０℃のアクリル系紫外線硬化性組成物を、シート基材とロール金型との間に供給しながら、ロール金型を周速７ｍ／分で回転させた。供給されたアクリル系紫外線硬化性組成物が、シート基材とロール金型との間に保持された状態で、９．６ｋＷ（１２０Ｗ／ｃｍ）の放射線照射装置から、照射量(照射エネルギー)が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射し、アクリル系紫外線硬化性組成物を硬化させ、賦型した後、ロール金型からシート基材を剥離して光学シートを得た。
【００６１】
得られた光学シートの断面と表面をＳＥＭで観察したところ、光学シートの全面に、不均一な無数のナノオーダーの凸部が形成されていることが確認された。
【００６２】
そして得られた光学シートを１４．１（ワイド）サイズに切り出し、これを側面に冷陰極管が配置された１４．１Ｗ（ワイド）サイズのアクリル樹脂製導光体の光出射面上に配置した。このとき、プリズムが形成されている面が下向きとなるように、すなわち導光板の出射面と対向するように光学シートを配置した。なお、導光板の出射面には、予め所定数の傷などの欠陥が形成されているものを用いた。そして、導光板における、冷陰極管が配置されていない側面、及び出射面とは反対側の面を反射シートで覆い、面光源装置を形成した。そして、この面光源装置において、冷陰極管を点灯させ、輝度計(トプコン社製、商品名ＢＭ−７)を用いて法線輝度及び半値幅を測定した。その結果、法線輝度は１９９５Ｃｄ／ｍ２であった。また、導光板の表面に形成された傷のうち、プリズムシートを配置しても確認された傷の数をカウントした。
【００６３】
（実施例２）
実施例２では、ロール金型基材をめっき液に浸漬させるときに、ロール金型基材を縦方向に保持して浸漬させた。このとき、めっき処理中は、ロール金型を回転させず、停止させた。その後、実施例１と同様の処理を行ったところ、実施例１と同様の光学シートを得ることができた。
（比較例１）
実施例１にて製造した光学シートと、従来技術である特開２００７−７０６５８号公報に記載された方法で製造した光学シートとの隠蔽性と輝度及び半値幅を比較した。その結果、実施例１の光学シートでは１９９８Ｃｄ／ｍ２であった。従来品が２００４Ｃｄ／ｍ２であり、実施例１の光学シートでは、輝度の低下はほとんど見られなかった。またプリズムの間に形成される欠陥の隠蔽性が７５％上昇した。なお、隠蔽性の評価は、従来技術で製造した光学シートにおいて確認できた欠陥を実施例１で製造した光学シートに変更した場合における、視認が出来なくなった数に基づいて算出した。実施例および比較例について、輝度、隠蔽性を表１に示す。なお、表中の相対輝度は、比較例の輝度を１００とした場合の相対値である。
【００６４】
【表１】
2011039292.tif 000003
【符号の説明】
【００６５】
プリズムシート      １
シート入射面        ３
シート出射面        ５
プリズム列          ７
シート基材          ９
拡散層              １１
ロール金型          ２１
ニップロール        ２３
タンク              ２７
塗布装置            ２９
加工用凸状部        ４１
凹部                ４３
めっき層            ４５
微小加工パターン    ４７
プリズム            ５１
凸部                ５３
めっき処理装置      ６１
ロール金型基材      ６３
めっき処理槽        ６５
前処理槽            ６７
後処理槽            ６９
アーム              ７１
内槽                ８１
外槽                ８３
流入口              ８５
壁                  ８７
シャフト            ８９
整流板              ９１
遮蔽板              ９３
還流口              ９５
管                  ９７、９９
ポンプ              １０１
【図３】
2011039292.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図１】
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【図２】
2011039292.tif 000010