(57)【要約】【課題】修正する面積が大きくても、カラーフィルタの透明導電膜４３や着色画素４２にダメージを与えず欠陥を修正することのできる修正方法を提供する。【解決手段】レーザービームの照射領域Ｒの基板上の面積Ｓ１を照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下とし、修正のための照射面Ｍの面積Ｓ２が、レーザービームの照射領域Ｒの基板上の面積Ｓ１以上の際に、面積Ｓ２を有する照射面Ｍ内を、面積Ｓ１を有するレーザービームの照射領域Ｒで走査しながらレーザービームの照射を行う。照射面Ｍ３の面積Ｍ３−Ｓが変化した際に、レーザービームの照射領域Ｒ３の基板上の面積は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に保たれている。【選択図】図６
2011039078.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、
１）前記カラーフィルタに照射する、レーザービームの照射領域の基板上の面積（Ｓ１）を該照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下とし、
２）基板上の、修正のための照射面の面積（Ｓ２）が、該レーザービームの照射領域の基板上の面積（Ｓ１）以上の際に、面積（Ｓ２）を有する照射面内を、面積（Ｓ１）を有するレーザービームの照射領域で走査しながらレーザービームの照射を行うことを特徴とするカラーフィルタの修正方法。
【請求項２】
前記修正のための照射面の面積が変化した際に、レーザービームの照射領域の基板上の面積は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に保たれていることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの修正方法。
【請求項３】
カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、前記欠陥が複数色の着色画素上に跨がって発生した際に、
１）該欠陥の範囲を設定し、設定した範囲の形状に合わせ、
２）Ａ）該欠陥の範囲を定型の小区分で分割して複数個の定型小区分とし、該定型小区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、
Ｂ）或いは、該欠陥の範囲を定型の中区分で分割して複数個の定型中区分とし、該定型中区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、
Ｃ）或いは、該欠陥の範囲を包含する１個の大区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、
ことを特徴とするカラーフィルタの修正方法。
【請求項４】
カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、前記欠陥の、複数の各欠陥に対応した、レーザービームの各照射条件を予めレピシとして設定しておき、複数の各欠陥に対応した各照射条件で各欠陥の修正を該レピシに準じ連続して行うことを特徴とするカラーフィルタの修正方法。
【請求項５】
前記レーザービームが、ＹＡＧレーザーの第４高調波であることを特徴とする請求項１、請求項２、請求項３、又は請求項４記載のカラーフィルタの修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの修正方法に関するものであり、特に、カラーフィルタ製造の後工程で発生する欠陥をＹＡＧレーザーの第４高調波を用いて修正する際に、修正する面積が大きくなっても、カラーフィルタにダメージを与えず欠陥を修正することのできるカラーフィルタの修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、及び着色画素（４２）が順次に形成されたものである。
【０００３】
ブラックマトリックス（４１）は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板上での着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとしている。また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（４１）の形成は、例えば、ガラス基板（４０）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によってブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００４】
また、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色の色再現フィルタの機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（４０）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００５】
多様な液晶表示装置の実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）に付随して、例えば、１）基板間の間隔を設定するフォトスペーサー、２）液晶の配向を制御する配向制御突起、３）透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相を揃えるための光路差調整層、４）反射表示の領域への光散乱層、などの種々な機能がカラーフィルタの用途、仕様にもとづき付加されるようになった。
【０００６】
上記種々な機能を付加せずに、図１及び図２に示すカラーフィルタを液晶表示装置に用いる際には、このブラックマトリックス及び着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成して用いられる。
【０００７】
種々な機能が付加されたカラーフィルタを製造する製造工程では、上記ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、及び着色画素（４２）を形成する工程を前工程と称している。また、透明導電膜、フォトスペーサー、配向制御突起などを形成する工程を後工程と称している。
【０００８】
ブラックマトリックス（４１）を形成する工程、或いは着色画素（４２）を形成する工程などの前工程で発生する欠陥に対しては、例えば、レーザー修正、テープ研磨などによる欠陥の除去、修正液の被着によるインク修正などの手法によって修正が施され歩留りの
向上が図られている。
一方、後工程で発生する欠陥に対しては、モバイル向けなど小型パネルのカラーフィルタでは、修正用のレーザー光として、ＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ  Ａｌｕｍｉｎｕｍ  Ｇａｒｎｅｔ）レーザーの第４高調波（２６６ｎｍ）を用いた修正が施され、前工程と同様に歩留りの向上が図られている。
【０００９】
しかし、ＴＶ向けなど大型パネルのカラーフィルタでは、パネルの大型化に伴い、その修正する面積も大きくなり、小型パネルでの手法を適用することは困難である。
これは、欠陥の大きさに合わせて、第４高調波のレーザービームの照射領域を大きくした際に、レーザービームの照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りが生じ、カラーフィルタにダメージを与えるからである。
【００１０】
図３は、カラーフィルタを製造する後工程での、カラーフィルタの一例を示す断面図である。図３に示すように、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）が形成されて前工程が終了したカラーフィルタに、透明導電膜（４３）が形成され、続いて、液晶の配向を制御する配向制御突起を形成するための塗布膜（５０）が設けられた状態を表したものである。図３に示すように、塗布膜上に欠陥（Ｄ）が発生している。
【００１１】
図４（ａ）は、欠陥が比較的小さい場合の平面図、（ｂ）は、欠陥が比較的大きな場合の平面図である。図４（ａ）に示すように、欠陥（Ｄ１）は、大きさ（面積）が小さな場合であり、修正用のレーザー光の照射面（Ｍ１０）は、この欠陥（Ｄ１）の大きさに合わせ小さくするので、この欠陥（Ｄ１）の除去は可能である。
【００１２】
一方、図４（ｂ）に示すように、欠陥（Ｄ２）の大きさが比較的大きな場合には、レーザービームの照射領域を、この欠陥（Ｄ２）の大きさに合わせて照射面（Ｍ２０）まで大きくすると、レーザービームの照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りが生じ、欠陥の除去過剰及び除去不足といったことになり、カラーフィルタにダメージを与え、結果としてカラーフィルタを不良品としてしまうことがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特公平６−１００６８３号公報
【特許文献２】特開２００７−２７９４０８号公報
【特許文献３】特開２００５−１３８１３３号公報
【特許文献４】特開２００７−２７９４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、カラーフィルタ製造の後工程で発生する欠陥をＹＡＧレーザーの第４高調波を用いて修正する際に、パネルの大型化に伴い、その修正する面積が大きくなっても、カラーフィルタの透明導電膜や着色画素にダメージを与えず欠陥を修正することのできるカラーフィルタの修正方法を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、
１）前記カラーフィルタに照射する、レーザービームの照射領域の基板上の面積（Ｓ１）を該照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下とし、
２）基板上の、修正のための照射面の面積（Ｓ２）が、該レーザービームの照射領域の基板上の面積（Ｓ１）以上の際に、面積（Ｓ２）を有する照射面内を、面積（Ｓ１）を有するレーザービームの照射領域で走査しながらレーザービームの照射を行うことを特徴とするカラーフィルタの修正方法である。
【００１６】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの修正方法において、前記修正のための照射面の面積が変化した際に、レーザービームの照射領域の基板上の面積は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に保たれていることを特徴とするカラーフィルタの修正方法である。
【００１７】
また、本発明は、カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、前記欠陥が複数色の着色画素上に跨がって発生した際に、
１）該欠陥の範囲を設定し、設定した範囲の形状に合わせ、
２）Ａ）該欠陥の範囲を定型の小区分で分割して複数個の定型小区分とし、該定型小区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、
Ｂ）或いは、該欠陥の範囲を定型の中区分で分割して複数個の定型中区分とし、該定型中区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、
Ｃ）或いは、該欠陥の範囲を包含する１個の大区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、
ことを特徴とするカラーフィルタの修正方法である。
【００１８】
また、本発明は、カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、前記欠陥の、複数の各欠陥に対応した、レーザービームの各照射条件を予めレピシとして設定しておき、複数の各欠陥に対応した各照射条件で各欠陥の修正を該レピシに準じ連続して行うことを特徴とするカラーフィルタの修正方法である。
【００１９】
また、本発明は、前記レーザービームが、ＹＡＧレーザーの第４高調波であることを特徴とするカラーフィルタの修正方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、カラーフィルタに照射する、レーザービームの照射領域の基板上の面積（Ｓ１）を照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下とし、修正のための照射面の面積（Ｓ２）が、レーザービームの照射領域の基板上の面積（Ｓ１）以上の際に、面積（Ｓ２）を有する照射面内を、面積（Ｓ１）を有するレーザービームの照射領域で走査しながらレーザービームの照射を行うので、カラーフィルタ製造の後工程で発生する欠陥をＹＡＧレーザーの第４高調波を用いて修正する際に、パネルの大型化に伴い、その修正する面積が大きくなっても、欠陥の除去過剰及び除去不足といったことなく、カラーフィルタの透明導電膜や着色画素にダメージを与えず欠陥を修正することのできるカラーフィルタの修正方法となる。
【００２１】
また、本発明は、修正のための照射面の面積が変化した際に、レーザービームの照射領域の基板上の面積は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に保たれているので、照射面の面積が更に大きくなっても、カラーフィルタの透明導電膜や着色画素にダメージを与えず欠陥を修正することのできるカラーフィルタの修正方法と
なる。
【００２２】
また、本発明は、欠陥が複数色の着色画素上に跨がって発生した際に、欠陥の範囲を設定し、設定した範囲の形状に合わせ、欠陥の範囲を定型の小区分で分割して複数個の定型小区分とし、定型小区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、或いは、欠陥の範囲を定型の中区分で分割して複数個の定型中区分とし、定型中区分を修正単位としてレーザービームの照射を行う、或いは、欠陥の範囲を包含する１個の大区分を修正単位としてレーザービームの照射を行うので、欠陥の下方の膜面の状態による影響に差異が生じることはない。
【００２３】
また、本発明は、複数の各欠陥に対応した、レーザービームの各照射条件を予めレピシとして設定しておき、複数の各欠陥に対応した各照射条件で各欠陥の修正を該レピシに準じ連続して行うので、効率よく連続したカラーフィルタの修正を可能とする。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】液晶表示装置用カラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図３】後工程での、カラーフィルタの一例を示す断面図である。
【図４】（ａ）は、欠陥が比較的小さい場合の平面図である。（ｂ）は、欠陥が比較的大きな場合の平面図である。
【図５】（ａ）は、修正のためにレーザービームを照射する基板上の部位を表したものである。（ｂ）は、この部位を拡大した平面図である。
【図６】（ａ）は、基板上に照射されるレーザービームの照射領域を示したものである。（ｂ）は、二回の走査で行う修正方法を説明するものである。
【図７】照射面内を、レーザービームの照射領域で走査しながらレーザービームの照射を行う他の走査方法を説明する平面図である。
【図８】請求項２に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。
【図９】請求項２に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。
【図１０】請求項３に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。
【図１１】請求項３に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。
【図１２】請求項３に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。
【図１３】請求項３に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。
【図１４】連続処理を用いたレーザー照射方法の例である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本発明を、その実施の形態に基づいて詳細に説明する。
本発明によるカラーフィルタの修正方法は、カラーフィルタを製造する後工程である、透明導電膜、フォトスペーサー、配向制御突起などを形成する工程で発生した欠陥、例えば、配向制御突起の形成に用いたフォトレジストの残膜の付着など、透明導電膜上の欠陥を修正するレーザー光として、ＹＡＧレーザーの第４高調波（２６６ｎｍ）を用いる。
【００２６】
透明導電膜上の欠陥を修正するレーザー光として、ＹＡＧレーザーの第４高調波を用いることにより、欠陥の下方の透明導電膜、或いは着色画素にダメージを与えず、欠陥のみを瞬時に揮散させて除去することができるのであるが、本発明においては、修正のための照射面の面積が、パネルの大型化に伴い、大きな面積となる場合においても、修正を良好に行えることを特徴としている。
【００２７】
修正に用いる、レーザー発振器から出射したレーザービームは、所定のビーム径を有するので、光学系にて、ビーム径が所定の形状になるように、スリット機構により整形され、また所定の大きさ（面積）になるように、縮小機構によりに調節され、基板上に照射されるレーザービームの照射領域（形状、面積）が設定される。
【００２８】
図５は、本発明によるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。図５（ａ）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）が形成されて前工程が終了したカラーフィルタに、透明導電膜（４３）が形成され、続いて、液晶の配向を制御する配向制御突起のパターン（Ｐ）が形成された状態を表したものである。
【００２９】
図５（ａ）中、符号（Ｍ）は、欠陥が発生し、修正のためにレーザービームを照射する基板上の部位を表したものであり、また、図５（ｂ）は、この部位を拡大した平面図である。この部位が、修正のためのレーザービームの照射面（Ｍ）となる。
この照射面（Ｍ）は、パネルの大型化に伴い、修正する面積が比較的大きくなった場合の例である。
【００３０】
図６は、この照射面（Ｍ）に、レーザービームの照射を行う状態の一例を表した平面図である。図６（ａ）中、符号（Ｒ）は、基板上に照射されるレーザービームの照射領域を示したものである。このレーザービームの照射領域（Ｒ）は、所定の形状、及び面積を有している。レーザービームの照射領域（Ｒ）の基板上の面積（Ｓ１）は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下に設定されている。
【００３１】
照射面（Ｍ）は、横（ａ）×縦（ｂ）の矩形状で比較的大きな面積であり、照射面（Ｍ）の面積（Ｓ２、Ｓ２＝ａ×ｂ）は、レーザービームの照射領域（Ｒ）の面積（Ｓ１）の数倍の大きさになっている例である（Ｓ１＜Ｓ２）。レーザービームの照射領域（Ｒ）の面積と照射面（Ｍ）の面積の比は、Ｓ１：Ｓ２で表される。
レーザービームの照射領域（Ｒ）は、図６中、矢印で示すＹ軸方向に走査するので、その形状は横（ａ）×縦（ｃ）の矩形状としている（ａ×ｃ＝Ｓ１）。
【００３２】
本発明は、レーザービームの照射領域（Ｒ）の基板上の面積（Ｓ１）を照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下とし、修正のための照射面（Ｍ）の面積（Ｓ２）が、レーザービームの照射領域（Ｒ）の基板上の面積（Ｓ１）以上の際に、面積（Ｓ２）を有する照射面（Ｍ）内を、面積（Ｓ１）を有するレーザービームの照射領域（Ｒ）で走査しながらレーザービームの照射を行うカラーフィルタの修正方法である。
【００３３】
図６（ａ）は、図６（ａ）中、照射面（Ｍ）内の上部より、レーザービームの照射を開始し、矢印で示すように、下部に向かってレーザービームの照射領域（Ｒ）が照射面（Ｍ）内を走査しながらレーザービームの照射を行う修正方法を説明するものである。図６（
ａ）に示すように、レーザービームの照射を一回の走査で終了してもよい。
【００３４】
また、図６（ｂ）は、レーザービームの照射を二回の走査で行う修正方法を説明するものである。図６（ａ）に示すように、照射面（Ｍ）内の上部からの往路の走査を行った後に、図６（ｂ）に示すように、照射面（Ｍ）内の下部からの復路の走査を行い往復二回の走査で修正を終了する。レーザービームの照射として一回の走査とするか、二回の走査とするかは適宜に選択する。
【００３５】
また、図７は、面積（Ｓ２）を有する照射面（Ｍ）内を、面積（Ｓ１）を有するレーザービームの照射領域（Ｒ）で走査しながらレーザービームの照射を行う他の走査方法を説明する平面図である。図７に示す照射面（Ｍ）と、図６に示す照射面（Ｍ）は同一である。図７に示すように、照射面（Ｍ）の面積（Ｓ２）は、横（ａ）×縦（ｂ）（ａ×ｂ＝Ｓ２）である。また、レーザービームの照射領域（Ｒ）の面積（Ｓ１）は横（ｄ）×縦（ｂ）、ｄ×ｂ＝Ｓ１）である。図７に示すレーザービームの照射領域（Ｒ）の面積（Ｓ１）と、図６に示すレーザービームの照射領域（Ｒ）の面積（Ｓ１、ａ×ｃ＝Ｓ１）は同一である。                                                        
【００３６】
図７は、照射面（Ｍ）内を図７中、Ｘ軸方向にレーザービームの照射領域（Ｒ）で走査しながらレーザービームの照射を行う修正方法である。走査の方向をＸ軸方向にするか、図６に示すように、Ｙ軸方向にするかは適宜に選択する。
また、上記図６、７においては、レーザービームの照射領域（Ｒ）の形状を矩形状としたが、形状は特に限定されるものではない。
【００３７】
上記のように、本発明によれば、レーザービームの照射領域（Ｒ）の基板上の面積（Ｓ１）を照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下とし、面積（Ｓ２、Ｓ２＞Ｓ１）を有する照射面（Ｍ）内を、面積（Ｓ１）を有するレーザービームの照射領域（Ｒ）で走査しながらレーザービームの照射を行うので、パネルの大型化に伴い、その修正する面積が大きくなっても、欠陥の除去過剰及び除去不足はなく、カラーフィルタにダメージを与えることはない。
【００３８】
図８及び図９は、請求項２に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。図８は、パネルの大型化に伴い、修正するための照射面（Ｍ２）が図６に示す照射面（Ｍ）と同様に比較的大きな面積の場合の例である。
レーザービームの照射領域（Ｒ２）は、図８中、横（ｅ）×縦（ｆ）の正方形状であり、面積（Ｒ２−Ｓ、（Ｒ２−Ｓ）＝ｅ×ｆ）は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に設定されている。
【００３９】
修正するための照射面（Ｍ２）の面積（Ｍ２−Ｓ）は、レーザービームの照射領域（Ｒ２）の面積（Ｒ２−Ｓ）の数倍であるため、照射面（Ｍ２）内をレーザービームの照射領域（Ｒ２）が走査しながらレーザービームの照射を行ってカラーフィルタの修正をする。このレーザービームの照射領域（Ｒ２）の面積（Ｒ２−Ｓ）は、このような修正方法において、好適に設定された面積となっている。
【００４０】
図９は、この修正作業にて、例えば、次に修正を行うカラーフィルタの基板上の、修正するための照射面の面積が、照射面（Ｍ２）の面積（Ｍ２−Ｓ）よりも大幅に大きな場合の例を表した平面図である。
図８に示す照射面（Ｍ２）の面積（Ｍ２−Ｓ、（Ｍ２−Ｓ）＝ｅ×ｆ）は、具体的には、例えば、３０×３０μｍ＝９００μｍ2 であり、また、レーザービームの照射領域（Ｒ２）の面積（Ｒ２−Ｓ）は、その１／５の３０×６μｍ＝１８０μｍ2 である。この際の、レーザービームの照射領域（Ｒ２）の面積と、照射面（Ｍ２）の面積の比は、１８０μｍ
2 ：９００μｍ2 ＝０．２：１となっている。
【００４１】
これに対し、図９に示す照射面（Ｍ３）の面積（Ｍ３−Ｓ、（Ｍ３−Ｓ）＝ｈ×ｉ）は、具体的には、例えば、６０×６０μｍ＝３６００μｍ2 である。すなわち、図９に示す照射面（Ｍ３）は、図８に示す照射面（Ｍ２）に比較しＸ軸、Ｙ軸方向は長さで共に２倍、面積で４倍の大幅に大きな場合である。
【００４２】
本発明によるカラーフィルタの修正方法は、このように、修正するための照射面の面積が、更に大きな面積となった場合において、レーザービームの照射領域の面積として、図８に示すように、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に好適に設定されている、レーザービームの照射領域（Ｒ２）の面積（Ｒ２−Ｓ）を用いることを特徴としている。
【００４３】
すなわち、照射面（Ｍ３）内を走査する、レーザービームの照射領域（Ｒ３）の面積（Ｒ３−Ｓ）として、具体的には、例えば、６０×３μｍ＝１８０μｍ2 、（ｈ×ｊ＝Ｒ３−Ｓ）とし、面積（Ｒ３−Ｓ）＝面積（Ｒ２−Ｓ）に保ったものとしている。この際のレーザービームの照射領域（Ｒ３）の面積と、照射面（Ｍ３）の面積の比は、１８０μｍ2 ：３６００μｍ2 ＝０．０５：１となっている。
【００４４】
これにより、レーザービームの照射領域（Ｒ３）の面積（Ｒ３−Ｓ）と、照射面（Ｍ３）の面積（Ｍ３−Ｓ）の比は、０．０５：１となっているが、面積（Ｒ３−Ｓ）は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値であるので、修正するための照射面の面積が、更に大きな面積となった場合においても、欠陥の除去過剰及び除去不足はなく、カラーフィルタにダメージを与えるこなく修正を行うことを可能とする。
【００４５】
図１０〜図１３は、請求項３に係わるカラーフィルタの修正方法の一例を説明する平面図である。図１０は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）が形成されて前工程が終了したカラーフィルタに、透明導電膜（４３）が形成され、この透明導電膜（４３）上に欠陥が発生した状態を表したものである。
この例示する欠陥は、赤色の着色画素（４２Ｒ）、緑色の着色画素（４２Ｇ）、青色の着色画素（４２Ｂ）で構成される複数色の着色画素上に透明導電膜（４３）を介して跨がって発生したものである。
【００４６】
図１０は、この欠陥について、その範囲を設定したものであり、符号（Ｄ３）で示す実線が欠陥の範囲を表している。この例示する欠陥の範囲（Ｄ３）は、実線で示すように、大きな内角を２ケ所に有する多角形状を呈している。実際は発生する欠陥の形状は、多角形状の他に、矩形状、楕円形状など多様な形状を呈したものとなっている。
【００４７】
フォトレジストを用いて、透明導電膜上に配向制御突起を形成すると、例えば、フォトレジストの残膜の付着など透明導電膜上の欠陥は、修正の用いるＹＡＧレーザーの第４高調波（２６６ｎｍ）を殆ど透過せずに吸収する。従って、第４高調波を欠陥に照射すると、欠陥は瞬時に揮散し、下方の透明導電膜、着色画素などに影響を与えることはない。
しかし、上記第４高調波の透過は、全くの０％ではなく、その一部は透過するので、欠陥の下方の膜面、例えば、着色画素の状態によって影響に差異が生じる。
【００４８】
本発明は、欠陥の下方の膜面の状態に準じ、レーザービームを照射する方法を選択的に変更するカラーフィルタの修正方法である。
図１１は、図１０に示す、欠陥の範囲（Ｄ３）の形状に合わせ、欠陥の範囲（Ｄ３）を定型の小区分で分割して複数個の定型小区分（Ｋ１）とし、この定型小区分（Ｋ１）を修正単位として選択し、レーザービームの照射を行う方法である。
【００４９】
また、図１２は、図１０に示す、欠陥の範囲（Ｄ３）の形状に合わせ、欠陥の範囲（Ｄ３）を定型の中区分で分割して複数個の定型中区分（Ｋ２）とし、この定型中区分（Ｋ２）を修正単位として選択し、レーザービームの照射を行う方法である。
また、図１３は、図１０に示す、欠陥の範囲（Ｄ３）の形状に合わせ、欠陥の範囲（Ｄ３）を包含する１個の大区分（Ｋ３）を修正単位として選択し、レーザービームの照射を行う方法である。
【００５０】
また、本発明は、カラーフィルタの製造工程で発生した透明導電膜上の欠陥をレーザービームの照射により修正するカラーフィルタの修正方法において、複数の各欠陥に対応した、レーザービームの各照射条件を予めレピシとして設定しておき、複数の各欠陥に対応した各照射条件で各欠陥の修正をレピシに準じ連続して行うことを特徴としている。
修正装置には、各欠陥に対応した各照射条件で修正を連続して行うために、ＰＣ上にレピシを保存する機能を持たせておく。
【実施例】
【００５１】
以下に、実施例により本発明を説明する。
実施例に用いた実験機の仕様を表１に示す。また、レピシの一例を表２に示す。
【表１】
2011039078.tif 000003
【００５２】
【表２】
2011039078.tif 000004
【００５３】
レピシの内容を以下に説明する。
１）レーザー照射順番
照射面に対して、表２中のレーザー照射条件１〜５の順番で照射する。
２）レーザー有効／無効
レーザー有効／無効を選択し設定することが可能である。
３）レーザー走査有／無
レーザー走査有／無を選択し設定することが可能である。
４）レーザー波長
２６６ｎｍ、５１２ｎｍの２波長以上の波長を選択することが可能である。
５）ステップ数
レーザー照射のステップ数を１〜１０００の間、１ステップ毎に設定が可能である。
６）繰り返し周波数
１秒当たりのレーザー照射回数の設定が可能である。繰り返し周波数は１〜６０Ｈｚの間、１Ｈｚ毎に設定が可能。
７）Ｌｏｗ  Ｆｉｌｔｅｒ
Ｌｏｗ  ＦｉｌｔｅｒのＯＮ／ＯＦＦの設定が可能である。
８）デフォーカス量
基板に対する垂直軸（Ｚ軸）の移動量の設定が可能。Ｚ軸のフォーカス点座標を原点に、−３０００．０μｍ〜＋３０００．０μｍの間、０．１μｍ毎に設定が可能である。
９）フラッング時間
レーザー出力が安定するまでの間、基板に対してレーザー照射はせず、空打ち運転の設定が可能である。フラッング時間は０．１〜３０秒の間、０．１秒毎に設定が可能。
１０）照射時間
レーザー照射時間の設定が可能である。レーザー照射時間０．１〜９９９秒の間、０．１秒毎に設定が可能である。
１１）走査速度
レーザー走査速度の設定が可能。走査速度は０．１〜１０００μｍ／秒の間、０．１μｍ／秒毎に設定が可能である。
１２）走査回数
レーザー走査回数の設定が可能。走査回数は１〜１００回の間、１回毎に設定可能。
１３）走査方向
レーザー走査方向の設定が可能である。Ｘ軸及びＹ軸方向。走査方向は照射回数が奇数時のレーザー進行方向とす。
１４）面積比
レーザービームの照射領域の面積と、照射面の面積の比を変更して照射を行うことが可能である。
【００５４】
上記により連続処理を行うことによって、例えば、図１４に示すように、１つの照射面に対して、複数のレーザー照射形態を採用することが可能となる。これにより、カラーフィルタの修正方法に拡張性を持たせることが可能となる。
【符号の説明】
【００５５】
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
Ｄ、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３・・・欠陥
Ｋ１・・・定型小区分
Ｋ２・・・定型中区分
Ｋ３・・・大区分
Ｍ、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ１０、Ｍ２０・・・修正のためのレーザービームの照射面
Ｒ、Ｒ２、Ｒ３・・・レーザービームの照射領域
Ｓ１、Ｒ２−Ｓ、Ｒ３−Ｓ・・・レーザービームの照射領域の基板上の面積
Ｓ２、Ｍ２−Ｓ、Ｍ３−Ｓ・・・修正のための照射面の面積
【図１】
2011039078.tif 000005
【図２】
2011039078.tif 000006
【図３】
2011039078.tif 000007
【図４】
2011039078.tif 000008
【図５】
2011039078.tif 000009
【図６】
2011039078.tif 000010
【図７】
2011039078.tif 000011
【図８】
2011039078.tif 000012
【図９】
2011039078.tif 000013
【図１０】
2011039078.tif 000014
【図１１】
2011039078.tif 000015
【図１２】
2011039078.tif 000016
【図１３】
2011039078.tif 000017
【図１４】
2011039078.tif 000018