(57)【要約】【課題】光学フィルタの干渉縞の発生を低減できる光学フィルタ用電磁波シールド材を提供する。【解決手段】透明基材１１０と、前記透明基材１１０上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層１２０を有する光学フィルタ用電磁波シールド材であって、  前記電磁波シールド層１２０が、凸部１２１及び開口部１２２を有し、且つ  前記電磁波シールド層１２０の凸部１２１の幅方向における端部の高さ（Ｈｅ）と中央部の高さ（Ｈｃ）が、０．９５≦Ｈｅ／Ｈｃ≦１．０５を満足することを特徴とする光学フィルタ用電磁波シールド材。【選択図】図３
2011222640.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、前記透明基材上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層を有する光学フィルタ用電磁波シールド材であって、
前記電磁波シールド層が、メッシュを形成する凸部及びその間の開口部を有し、且つ
前記凸部の幅方向における端部の高さ（Ｈｅ）と中央部の高さ（Ｈｃ）とが、下記式（Ｉ）
【数１】
2011222640.tif 000005
を満足することを特徴とする光学フィルタ用電磁波シールド材。
【請求項２】
前記中央部の高さ（Ｈｃ）が、１〜１０μｍであることを特徴とする光学フィルタ用電磁波シールド材。
【請求項３】
前記電磁波シールド層の凸部の幅が、１０〜３０μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルタ用電磁波シールド材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波シールド材を用いた光学フィルタであって、
前記電磁波シールド層上に、少なくとも１種の機能性層が形成されたことを特徴とする光学フィルタ。
【請求項５】
前記機能性層が、樹脂組成物の塗工層であることを特徴とする請求項４に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
前記機能性層が、ハードコート層であることを特徴とする請求項４又は５に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
前記ハードコート層の厚さが、０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項８】
プラズマディスプレイ用光学フィルタであることを特徴とする請求項４〜７のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
請求項４〜８のいずれか１項に記載の光学フィルタを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイ用パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイは、近年、大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っており、不要な電磁波を輻射する恐れがある。
【０００３】
このため、ＰＤＰなどのディスプレイに用いられる光学フィルタは、図６に示すように、例えば、透明基材６１０上にメッシュ状の電磁波シールド層６２０が形成される。電磁波シールド層６２０は、メッシュを形成する凸部６２１及び開口部６２２により構成される。
【０００４】
電磁波シールド層の凸部には金属が用いられることにより導電性が付与され、これにより電磁波をシールドすることが可能となる。また、凸部間に形成された開口部により、光の透過が確保され、ディスプレイに表示された画像を視認することが可能となる。
【０００５】
このような電磁波シールド層を作製するには、例えば、パラジウム粒子などの無電解めっき触媒粒子及びバインダ樹脂を含む印刷ペーストをメッシュ状に印刷することにより印刷パターン層を形成し、この印刷パターン層上に無電解めっきすることにより金属からなる電磁波シールド層を形成する方法などが用いられる（特許文献１）。
【０００６】
さらに、従来の光学フィルタでは、図６に示すように、電磁波シールド層６２０上に機能性層６３０が形成される。機能性層６３０としては、例えば、耐傷付き性を付与するためのハードコート層、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射を抑制して視認性を向上させるための反射防止層などが用いられる。
【０００７】
このようなディスプレイ用光学フィルタを作製するには、電磁波シールド層が形成された透明基材上に、樹脂組成物を塗工することによって機能性層を形成する方法が用いられている（特許文献２）。このような塗工方法によれば、各機能性層を別途作製して貼り合わせる方法に比べて、生産性の向上及びコストの低減が図れる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−１７０４２０号公報
【特許文献２】特開２００８−１５１８３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、電磁波シールド層上に塗工によって形成された機能性層に蛍光灯などの外部光源により光が射されると、直線状などの干渉縞を生じて、ディスプレイに表示された画像の視認性が低下する場合があった。
【００１０】
したがって、本発明の目的は、光学フィルタの干渉縞の発生を低減できる光学フィルタ用電磁波シールド材を提供することである。
【００１１】
さらに、本発明の他の目的は、干渉縞の発生が低減され、視認性に優れる光学フィルタを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
機能性層への光の照射による干渉縞の発生には、電磁波シールド層の形状が大きく影響していると考えられる。
【００１３】
従来の光学フィルタでは、図６及び７に示すように、電磁波シールド層の凸部の断面形状が凹状である場合、このような電磁波シールド層上に塗工により機能性層が形成されると、電磁波シールド層の凸部の凹状に従って機能性層も部分的に凹状となり、光が乱反射して直線状の干渉縞を生じると考えられる。なお、図７は、図６において破線により囲った部分の拡大図である。このような凸部の断面形状が凹状である電磁波シールド層は無電解めっきにより特に形成され易い。また、干渉縞の発生は、電磁波シールド層の凸部の断面形状が凸状である場合も同様に発生する。本発明者はこのような知見に鑑み種々の検討を行った結果、電磁波シールド層の断面形状が所定の要件を満たすと、干渉縞の発生を抑制できることを見出した。
【００１４】
すなわち、本発明は、透明基材上にメッシュ状の電磁波シールド層を有する光学フィルタ用電磁波シールド材であって、
前記電磁波シールド層が、メッシュを形成する凸部及びその間の開口部を有し、且つ
前記凸部の幅方向における端部の高さ（Ｈｅ）と中央部の高さ（Ｈｃ）とが、下記式（Ｉ）
【００１５】
【数１】
2011222640.tif 000003
を満足することを特徴とする光学フィルタ用電磁波シールド材により上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の電磁波シールド材は、透明基材上に形成された電磁波シールド層が所定のパターン比（Ｈｅ／Ｈｃ）を有する。このような電磁波シールド層上にハードコート層などの機能性層が形成されても、光の反射による干渉縞の形成が高く抑制される。したがって、本発明の電磁波シールド材を用いた光学フィルタは、ディスプレイに表示された画像の視認性を低下させる恐れがなく、視認性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の電磁波シールド材の上面斜視図を示す。
【図２】図１の線ＡＡにおける断面図を示す。
【図３】図２において破線で囲った部分の拡大断面図を示す。
【図４】本発明の光学フィルタの断面図である。
【図５】図４において破線で囲った部分の拡大断面図を示す。
【図６】従来の光学フィルタの断面図を示す。
【図７】図６において破線で囲った部分の拡大断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
まず、本発明の電磁波シールド材を図１〜３を用いて説明する。図１は電磁波シールド材の上面斜視図であり、図２は図１の線ＡＡにおける断面図であり、図３は図２において破線で囲った部分の拡大図を示す。
【００１９】
本発明の電磁波シールド材は、透明基材１１０と、前記透明基材１１０上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層１２０とを有する。電磁波シールド層１２０は、メッシュを形成する凸部１２１及び開口部１２２からなる。電磁波シールド層１２０の凸部１２１は、幅方向における端部の高さ（Ｈｅ）とその中央部の高さ（Ｈｃ）とが、０．９５≦Ｈｅ／Ｈｃ≦１．０５の関係を満足する。このように電磁波シールド層の凸部１２１が所定の高さ比（Ｈｅ／Ｈｃ）を有することにより、電磁波シールド層上に形成された機能性層表面で光が乱反射することなく、干渉縞の発生を高く抑制することができる。
【００２０】
電磁波シールド層１２０の凸部１２１は、幅方向における端部の高さ（Ｈｅ）とその中央部の高さ（Ｈｃ）とが、０．９５≦Ｈｅ／Ｈｃ≦１．０５の関係を満足するが、１．００≦Ｈｅ／Ｈｃ≦１．０５の関係を満足するのがより好ましい。
【００２１】
なお、本発明において、電磁波シールド層の凸部の幅方向の中央部とは、図３に示すように、凸部の幅方向の長さの中心（センターライン）をいう。電磁波シールド層の凸部の端部とは、凸部の幅方向の最端部をいう。また、凸部の中央部の高さ（Ｈｃ）とは透明基材表面から凸部の中央部表面までの高さを意味し、凸部の端部の高さ（Ｈｅ）とは透明基材表面から凸部の端部表面までの高さを意味する。
【００２２】
電磁波シールド層の凸部の中央部及び端部の高さは、電磁波シールド材の断面を、レーザー顕微鏡により倍率１０００倍で撮影し、撮影像から測定することができる。
【００２３】
凸部の中央部の高さ（Ｈｃ）は、１〜１０μｍ、特に１〜５μｍであるのが好ましい。したがって、凸部の端部の高さ（Ｈｅ）は、０．９５〜１０．５μｍ、特に０．９５〜５．２５μｍであるのが好ましい。このような厚さを有する電磁波シールド層上には、干渉縞の発生が高く抑制された機能性層を形成することができる。
【００２４】
電磁波シールド層の凸部の幅（図１におけるＷａ）は、一般的に３０μｍ以下であるが、好ましくは５〜５０μｍ、特に好ましくは１０〜３０μｍである。このような幅を有する電磁波シールド層上には、干渉縞の発生が高く抑制された機能性層を形成することができる。
【００２５】
電磁波シールド層の凸部のピッチ（図１におけるＷｂ）は、一般的に２００μｍ以下であるが、好ましくは１００〜５００μｍ、特に好ましくは１００〜４００μｍである。このようなピッチを有する電磁波シールド層は、優れた視認性を確保することができる。
【００２６】
なお、電磁波シールド層の凸部の幅及びピッチも、上記と同様にレーザー顕微鏡を用いて測定することができる。
【００２７】
電磁波シールド層の開口率は、６０〜９５％であることが好ましく、特に７０〜９５％である。なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００２８】
電磁波シールド層の凸部の平面視形状は、図１に示す通り、メッシュ状であるのが好ましい。メッシュ状の電磁波シールド層は、電磁波シールド性及び視認性に優れる。
【００２９】
メッシュ状の電磁波シールド層の開口部の平面視形状は、円、楕円、角形（４角形、６角形）など任意の形状とすることができるが、一般に角形であり、特に正方形であることが好ましい。また線は網状であるが、格子状とすることが好ましい。
【００３０】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００３１】
電磁波シールド層の凸部は金属からなるのが好ましい。電磁波シールド層の凸部を構成する金属としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、白金、銅、チタン、コバルト、鉛等を用いることができる。特に、高い電磁波シールド性を有する電磁波シールド層が得られることから、好ましくは、銀、銅又はアルミニウムが好ましく用いられる。
【００３２】
透明基材上に電磁波シールド層を作製するには、無電解めっき触媒及びバインダ樹脂を含む触媒ペーストを透明基材上にメッシュ状に印刷することによりメッシュ状のめっき触媒層を形成し、その後、無電解めっきを行うことによってめっき触媒層上に電磁波シールド層を形成する方法が好ましく用いられる。このような方法は、真空蒸着などの気相めっき法を用いないため、電磁波シールド層を簡易且つ低コストで製造することができる。
【００３３】
このように無電解めっきにより電磁波シールド層を形成した場合、透明基材と電磁波シールド層の凸部との間には、メッシュ状のめっき触媒層が配置される。すなわち、透明基材と、前記透明基材上に形成されたメッシュ状のめっき触媒層と、前記めっき触媒層に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層とを有する電磁波シールド材が得られる。めっき触媒層のメッシュ形状は、所望する電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。
【００３４】
無電解めっき触媒としては、銅、金、銀、白金、パラジウム、鉄、コバルト、ニッケルなどを用いることができる。これらは金属単体、塩又は酸化物の形態で使用できる。また、無電解めっき触媒は、担体上に担持されていてもよい。担体としては、アルミナゲル、シリカゲル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、及び二酸化ケイ素などが用いられる。担体は、触媒担持量を向上させるために、多孔質であるのが好ましい。
【００３５】
バインダ樹脂としては、エチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＰＶＡ樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリウレタン樹脂などが用いられる。
【００３６】
無電解めっきは、無電解めっき浴を用いて常法に従って常温または加温下で行うことができる。即ち、めっき金属塩、キレート剤、ｐＨ調整剤、還元剤などを基本組成として含むめっき液を建浴したものにめっき基材を浸漬して行うか、構成めっき液を２液以上と分けて添加方式でめっき処理を施すなど適宜選択すれば良い。得られる電磁波シールド層の高さや幅は、無電解めっき条件により調整すればよい。
【００３７】
無電解めっきとして一例を挙げると、Ｃｕからなる電磁波シールド層を形成する場合、硫酸銅等の水溶性銅塩１〜１００ｇ／Ｌ、特に５〜５０ｇ／Ｌ、ホルムアルデヒド等の還元剤０．５〜１０ｇ／Ｌ、特に１〜５ｇ／Ｌ、ＥＤＴＡ等の錯化剤２０〜１００ｇ／Ｌ、特に３０〜７０ｇ／Ｌを含み、ｐＨ１２〜１３．５、特に１２．５〜１３に調整した溶液に、めっき触媒層などを有する透明基材を５０〜９０℃、３０秒〜６０分浸漬する方法を採用することができる。
【００３８】
本発明の電磁波シールド材は、電磁波シールド層上に少なくとも１種の機能性層が形成されることにより光学フィルタとして用いられる。このような光学フィルタの断面図を図４に示す。また、図４において破線で囲った部分の拡大断面図を図５に示す。
【００３９】
図４に示す光学フィルタは、透明基材４１０と、透明基材４１０上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層４２０と、電磁波シールド層４２０上に形成された機能性層４３０を有する。電磁波シールド層４３０は、メッシュを形成する凸部４２１及び開口部４２２により構成される。
【００４０】
この光学フィルタでは、上述したように、電磁波シールド層４２０の凸部４２１が所定の高さ比（Ｈｅ／Ｈｃ）を有することにより、凸部４２１上に形成された機能性層４３０表面で光が乱反射することなく、干渉縞の発生を高く抑制することができる。したがって、本発明の電磁波シールド材を用いた光学フィルタは、ディスプレイなどに表示された画像の視認性に優れる。
【００４１】
機能性層としては、樹脂を含む何らかの機能を示す層であればどのようなものでも良い。従来の光学フィルタでは機能性層を樹脂組成物を塗工することにより形成した場合に特に干渉縞の発生が見られ、したがって本発明による効果を最も高く発揮できることから、機能性層として樹脂組成物の塗工層を用いるのが好ましい。
【００４２】
機能性層としては、近赤外線吸収層、ハードコート層、又は反射防止層などが挙げられる。機能性層としては、１種の層のみを用いてもよく、２層以上の層を積層して用いてもよい。なかでも、ハードコート層は硬度が高く表面平滑性に優れる層を形成しにくく、特に干渉縞の発生が見られ、したがって本発明による効果を最も高く発揮できることから、機能性層としてハードコート層を用いるのが好ましい。
【００４３】
本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。
【００４４】
ハードコート層は、紫外線硬化性樹脂組成物の塗工層であるのが好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂のモノマー及び／又はオリゴマーと、光重合開始剤を含む。
【００４５】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ベヘニルアクリレート、イソボロニルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールグリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００４６】
上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）のうち、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００４７】
紫外線硬化性樹脂組成物に使用される光重合開始剤としては、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４）が好ましい。
【００４８】
光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００４９】
紫外線硬化性樹脂組成物は、さらにシリコーンオイルを含有するのが好ましい。これにより塗工性を向上させることが可能となる。前記シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、及びメチルハイドロジェンシリコーンオイルなどが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００５０】
機能性層としてハードコート層を形成する場合には、紫外線硬化性樹脂組成物は紫外線硬化型樹脂のみを含むが、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤などの他の成分をさらに含んでいても良い。
【００５１】
紫外線硬化性樹脂組成物は、２５℃において３〜３５ｍＰａ・ｓ、特に１０〜２０ｍＰａ・ｓの粘度を有するのが好ましい。このような粘度を有する組成物を用いることにより、干渉縞の発生が高く抑制された機能性層を得ることができる。また、紫外線硬化性樹脂組成物の固形分濃度は、１〜７０質量％、特に２０〜６０質量％とするのが好ましい。
【００５２】
紫外線硬化性樹脂組成物の粘度は、有機溶剤を用いて調整することができる。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、アルコール系溶剤、セロソルブ系溶剤、石油系溶剤などが挙げられる。これらは、一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
【００５３】
ハードコート層を形成するには、紫外線硬化性樹脂組成物を電磁波シールド層上に塗工した後、紫外線を照射することにより硬化させる方法が用いられる。
【００５４】
電磁波シールド層上に紫外線性硬化性樹脂組成物を塗工するには、グラビアコーター、ロールコーター（サイズプレス、ゲートロールコーター等）、バーコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ディッピング、バーコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スクイズコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーターなどが用いられる。
【００５５】
紫外線の照射は、紫外線ランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、超低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯などの紫外線発生源を用いて行うことができる。
【００５６】
機能性層としてハードコート層を形成する場合、ハードコート層の厚さは、通常は０．１〜５０μｍであるが、好ましくは０．１〜２０μｍ、特に好ましくは０．１〜１５μｍである。このような厚さを有するハードコート層は、干渉縞の発生を高く抑制することができる。
【００５７】
ハードコート層上には、機能性層として反射防止層をさらに有しているのが好ましい。反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。反射防止層として、ハードコート層上に、（１）ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層のみが形成されてもよく、（２）ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層と、前記高屈折率層より屈折率の低い低屈折率層とがこの順で積層されて形成されてもよい。
【００５８】
低屈折率層を形成するには、紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、シリカ、好ましくは中空シリカを含む塗工液が用いられる。
【００５９】
高屈折率層を形成するには、紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｂＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ２等の金属酸化物微粒子を含む塗工液が用いられる。金属酸化物微粒子は、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。ＩＴＯ、特に平均粒径１０〜５０ｎｍのものが好ましい。
【００６０】
低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用される塗工液は、それぞれ有機溶剤を含んでいてもよい。前記塗工液に使用される紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤及び有機溶剤は、上述したものと同じものをそれぞれ使用できる。また、低屈折率層及び高屈折率層は、ハードコート層と同様にして、各塗工液を順次、塗工した後、紫外線照射することにより形成することができる。
【００６１】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４５が好ましい。この屈折率が１．４５超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。
【００６２】
高屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、高屈折率層の屈折率は１．６４以上であるのが好適である。高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６３】
本発明の光学フィルタでは、透明基材上にメッシュ状の電磁波シールド層及び機能性層を有する面とは、反対側の面上に第２の機能性層を有していてもよい。
【００６４】
第２の機能性層は、透明基材の電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に形成され、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。第２の機能性層としては、一般に、近赤外線吸収層又は透明粘着剤層、或いはこれらの組合せである。第２の機能性層として具体的には、（１）近赤外線吸収層のみからなるもの、（２）透明粘着剤層からなるもの、又は（３）近赤外線吸収層及び透明粘着剤層からなるもの（この順で透明基材上に設けられている）からなることが好ましい。
【００６５】
第２の機能性層として用いられる近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基材の表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂を含む塗工液を塗工し、乾燥させることにより得られる。
【００６６】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００６７】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６８】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。したがって、近赤外線吸収層形成用塗工液にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。また、光学特性に大きな影響を与えない限り、近赤外線吸収層形成用塗工液に、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤、色調補正用色素等を加えても良い。
【００６９】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００７０】
透明粘着剤層は、本発明のディスプレイ用光学フィルタをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。
【００７１】
透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。ＥＶＡなどを使用する場合、透明粘着剤層はさらに架橋剤を含んでいてもよい。
【００７２】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することによる装備することができる。
【００７３】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。透明粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【００７４】
透明粘着剤層上には、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどからなる剥離シートをさらに設けるのが好ましい。
【００７５】
本発明の方法により製造されるディスプレイ用光学フィルタは、特に制限されないが、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼合する等の手段を用いて、ディスプレイに適用できる。このようなディスプレイとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。なかでも、高い視認性、光透過性及び電磁波シールド性を有しているので、ＰＤＰのディスプレイ用フィルタとして特に好適に用いられる。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７７】
（実施例１）
１．めっき触媒層の形成
パラジウム粒子が担持した酸化チタン多孔質体３質量％、ポリエステル樹脂（製品名ＡＤ３３５Ａ  東洋モートン株式会社製）１０質量％、及び有機溶剤（メチルエチルケトン及びトルエンを含み、これらの質量比が５０：５０）８７質量％を混合することにより、触媒ペーストを調製した。触媒ペーストをポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ１００μｍ）上に、メッシュ状にグラビア印刷した後、８０℃、１分間乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上にメッシュ状のめっき触媒層（厚さ４μｍ、線幅１５μｍ、ピッチ２００μｍ、開口率８６％）を得た。
【００７８】
２．電磁波シールド層の形成
めっき触媒層を有するＰＥＴフィルムを無電解銅めっき液（メルテックス株式会社製  メルプレートＣＵ−５１００  液温５０℃）に浸漬し、無電解銅めっきを１０分間行い、無電解めっき厚さを１．５μｍとした。その後、下記の電解めっき液、電解めっき条件で電解めっき処理を行った（電解めっき厚さ２．５μｍ）。また、アノードとしては、白金コートチタン板を使用した。これにより、めっき触媒層上にメッシュ状の電磁波シールド層（厚さ４．０μｍ、線幅２０μｍ、ピッチ２００μｍ、開口率８１％）を作製し、光透過性電磁波シールド材を得た。
【００７９】
電解めっき液（Ａ）
Ｈ２Ｏ：８００ｍｌ
ＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏ：８１．１ｇ
Ｈ２ＳＯ４（９６．０ｗｔ％）：１６０ｍｌ
ＨＣｌ（３６．０ｗｔ％）：０．１ｍｌ
ＨＮＯ３（７０．０ｗｔ％）：３００ｍｌ
電解めっき条件
めっき液温度：２５℃
印加電圧：１０Ｖ
カソード電流密度：１０Ａ／ｄｍ２
処理時間：５分間
【００８０】
３．ハードコート層の形成
樹脂成分としてペンタエリスリトールトリアクリレート１００質量部に対して、重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４（チバスペシャリティケミカル社製））４質量部を添加し、固形分Ａを得た。一方、２−プロパノールとシクロヘキサノンとを質量比７：３で混合することにより溶剤Ａを得た。固形分Ａと溶剤Ａとを質量比４：５で混合することにより、ハードコート層用塗料を調製した。ハードコート層用塗料の粘度は、２５℃で５０ｍＰａ・ｓであった。このハードコート層用塗料を、電磁波シールド層上にバーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、電磁波シールド層上にハードコート層（厚さ１０μｍ）を有する光学フィルタを得た。
【００８１】
（実施例２）
めっき触媒層の形成において、無電解銅めっき時間を６分間とし、無電解銅めっき厚さを１μｍとし、電解めっき時間を７分間とし（電解めっき厚さ３．０μｍ）、電磁波シールド層の厚さを４．０μｍとした以外は実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。
【００８２】
（実施例３）
めっき触媒層の形成において、無電解銅めっき時間を３分間とし、無電解銅めっき厚さを０．５μｍとし、電解めっき時間を１０分間とし（電解めっき厚さ３．５μｍ）、電磁波シールド層の厚さを４．０μｍとした以外は実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。
【００８３】
（実施例４）
めっき触媒層の形成において、無電解銅めっき時間を５分間とし、無電解銅めっき厚さを０．８μｍとし、電解めっき時間を４分間とし（電解めっき厚さ２．２μｍ）、電磁波シールド層の厚さを３．０μｍとした以外は実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。
【００８４】
（実施例５）
めっき触媒層の形成において、無電解銅めっき時間を７分間とし、無電解銅めっき厚さを１．３μｍとし、電解めっき時間を１２分間とし（電解めっき厚さ３．７μｍ）、電磁波シールド層の厚さを５．０μｍとした以外は実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。
【００８５】
（比較例１）
めっき触媒層の形成において、無電解銅めっき時間を２０分間とし、無電解銅めっき厚さを２.８μｍとし、電解めっき時間を２分間とし（電解めっき厚さ１．２μｍ）、電磁波シールド層の厚さを４．０μｍとした以外は実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。
【００８６】
（比較例２）
めっき触媒層の形成において、無電解銅めっき時間を１５分間とし、無電解銅厚さを２．３μｍとし、電解めっき時間を４分間とし（電解めっき厚さ１．７μｍ）、電磁波シールド層の厚さを４．０μｍとした以外は実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。
【００８７】
（評価）
１．電磁波シールド層の高さの測定
光学フィルタの断面図を、レーザー顕微鏡で倍率１０００倍で撮影し、その撮影像から電磁波シールド層の凸部の幅方向における端部の高さ（Ｈｅ）及び中央部の高さ（Ｈｃ）を測定した。結果を表１に示す。
【００８８】
２．干渉縞の発生
光学フィルタのハードコート層形成面に対して、距離２ｍ、斜め前４５°に配置した蛍光灯により測定部で６００ｌｘとなる照度で光を照射し、干渉縞の発生の有無を目視により以下の基準で評価した。結果を表１に示す。
【００８９】
○：干渉縞の発生がない
△：直線状の干渉縞がわずかに見える
×：直線状の干渉縞がはっきりとわかる
【００９０】
【表１】
2011222640.tif 000004
【符号の説明】
【００９１】
１１０、４１０、６１０：透明基材
１２０、４２０、６２０：電磁波シールド層
１２１、４２１、６２１：凸部
１２２、４２２、６２２：開口部
４３０、６３０：機能性層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2011222640.tif 000009
【図５】
2011222640.tif 000010
【図６】
2011222640.tif 000011
【図７】
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