(57)【要約】【課題】基板の支持方式を転換する転換部において、基板を浮上支持する部分の搬送方向の長さを抑制し、かつ、昇降ローラと他の部材との接触を容易に回避できる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１の転換部２０は、複数の昇降ローラ２１と、複数のフリーローラ２４と、入口浮上ステージ２５と、を有する。基板９の支持方式を転換するときには、基板９の搬送方向上流側の一部分が、複数の昇降ローラ２１から複数のフリーローラ２４へ移載される。このため、入口浮上ステージ２５の搬送方向の長さを抑制しつつ、基板９の支持方式を転換できる。フリーローラ２４は、簡易な構造で確実に基板９を支持できるとともに、狭小な領域に配置できる。したがって、複数のフリーローラ２４を、複数の昇降ローラ２１と接触しない位置に、容易に配置できる。【選択図】図８
2011207539.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する機構を備えた基板処理装置であって、
搬送経路上の所定の位置まで基板を搬送する第１搬送部と、
前記所定の位置より搬送方向下流側において、ステージ上に基板を浮上させつつ搬送する第２搬送部と、
前記第１搬送部と前記第２搬送部との間において、基板の支持方式を転換する転換部と、
前記転換部を制御する制御手段と、
を備え、
前記転換部は、
基板を接触支持しつつ、能動的に回転し、標準位置と下降位置との間で昇降移動可能である昇降ローラと、
標準位置の前記昇降ローラの上端部と、下降位置の前記昇降ローラの上端部との間の高さ位置に基板を接触支持しつつ、基板の移動に応じて従動的に回転するフリーローラと、
前記フリーローラの搬送方向下流側に配置され、標準位置の前記昇降ローラによる基板の支持高さより低い高さに、基板を浮上させつつ支持する入口浮上ステージと、
を有し、
前記制御手段は、基板が、標準位置の前記昇降ローラと前記入口浮上ステージとにまたがって配置された後、前記昇降ローラを前記下降位置へ下降させて、基板の搬送方向上流側の一部分を、前記フリーローラへ移載させるように、前記転換部を制御する基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記入口浮上ステージの搬送方向の長さは、基板の搬送方向の長さより、短い基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記昇降ローラおよび前記フリーローラが配置された領域の搬送方向の長さは、基板の搬送方向の長さより、短い基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記フリーローラは、
前記入口浮上ステージの搬送方向上流側の側縁部に沿って配列された、複数の下流側フリーローラと、
前記複数の下流側フリーローラより搬送方向上流側の位置に配列された、複数の上流側フリーローラと、
を含み、
前記複数の上流側フリーローラは、前記複数の下流側フリーローラより、低い密度で配置されている基板処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記転換部は、基板が、標準位置の前記昇降ローラと、前記入口浮上ステージとにまたがって配置された状態において、基板の水平方向の位置を定める位置決め手段をさらに有する基板処理装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記昇降ローラおよび前記フリーローラと、前記入口浮上ステージとは、異なる支持台に支持され、互いに非連結である基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記フリーローラは、前記昇降ローラより小径のローラである基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を搬送する機構を備えた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置用ガラス基板、半導体ウエハ、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルタ用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの精密電子装置用基板の製造工程では、基板を搬送する機構を備えた種々の基板処理装置が、使用されている。このような基板処理装置において処理対象となる基板のサイズは、時代とともに大型化する傾向がある。近年では、大型の基板を水平に安定して搬送するため、ステージ上に基板を浮上させつつ搬送する搬送機構が、提案されている。
【０００３】
ステージ上に基板を浮上させつつ搬送する基板処理装置では、他の支持方式から浮上支持方式へ、基板の支持方式を転換する機構が必要となる。基板の支持方式を転換する技術として、特許文献１には、浮上搬送と異なる搬送機構から浮上搬送に移行させる機構を有する基板搬送装置が、記載されている。特許文献１では、基板を支持するローラを下降させることにより、ローラ上の基板を、スノコ状に配置された浮上用プレート上に、浮上保持させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１６６３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の基板搬送装置では、基板の支持方式を転換する部位において、基板の搬送方向の寸法と同等以上の長さの浮上用プレートが必要となる。また、特許文献１の基板搬送装置では、スノコ状に配置された浮上用プレートの隙間に、昇降可能なローラが配置されている。このように、浮上用プレートと、ローラおよびローラを昇降させる機構とを、互いに接触しないように交互に配置することは、設計上の困難を伴う。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、基板の支持方式を転換する転換部において、基板を浮上支持する部分の搬送方向の長さを抑制し、かつ、昇降ローラと他の部材との接触を容易に回避できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本願の第１発明は、基板を搬送する機構を備えた基板処理装置であって、搬送経路上の所定の位置まで基板を搬送する第１搬送部と、前記所定の位置より搬送方向下流側において、ステージ上に基板を浮上させつつ搬送する第２搬送部と、前記第１搬送部と前記第２搬送部との間において、基板の支持方式を転換する転換部と、前記転換部を制御する制御手段と、を備え、前記転換部は、基板を接触支持しつつ、能動的に回転し、標準位置と下降位置との間で昇降移動可能である昇降ローラと、標準位置の前記昇降ローラの上端部と、下降位置の前記昇降ローラの上端部との間の高さ位置に基板を接触支持しつつ、基板の移動に応じて従動的に回転するフリーローラと、前記フリーローラの搬送方向下流側に配置され、標準位置の前記昇降ローラによる基板の支持高さより低い高さに、基板を浮上させつつ支持する入口浮上ステージと、を有し、前記制御手段は、基板が、標準位置の前記昇降ローラと前記入口浮上ステージとにまたがって配置された後、前記昇降ローラを前記下降位置へ下降させて、基板の搬送方向上流側の一部分を、前記フリーローラへ移載させるように、前記転換部を制御する。
【０００８】
本願の第２発明は、第１発明の基板処理装置であって、前記入口浮上ステージの搬送方向の長さは、基板の搬送方向の長さより、短い。
【０００９】
本願の第３発明は、第１発明または第２発明の基板処理装置であって、前記昇降ローラおよび前記フリーローラが配置された領域の搬送方向の長さは、基板の搬送方向の長さより、短い。
【００１０】
本願の第４発明は、第１発明から第３発明までのいずれかの基板処理装置であって、前記フリーローラは、前記入口浮上ステージの搬送方向上流側の側縁部に沿って配列された、複数の下流側フリーローラと、前記複数の下流側フリーローラより搬送方向上流側の位置に配列された、複数の上流側フリーローラと、を含み、前記複数の上流側フリーローラは、前記複数の下流側フリーローラより、低い密度で配置されている。
【００１１】
本願の第５発明は、第１発明から第４発明までのいずれかの基板処理装置であって、前記転換部は、基板が、標準位置の前記昇降ローラと、前記入口浮上ステージとにまたがって配置された状態において、基板の水平方向の位置を定める位置決め手段をさらに有する。
【００１２】
本願の第６発明は、第１発明から第５発明までのいずれかの基板処理装置であって、前記昇降ローラおよび前記フリーローラと、前記入口浮上ステージとは、異なる支持台に支持され、互いに非連結である。
【００１３】
本願の第７発明は、第１発明から第６発明までのいずれかの基板処理装置であって、前記フリーローラは、前記昇降ローラより小径のローラである。
【発明の効果】
【００１４】
本願の第１発明〜第７発明によれば、転換部において、基板の搬送方向上流側の一部分が、昇降ローラからフリーローラへ移載される。これにより、入口浮上ステージの搬送方向の長さを抑制しつつ、基板の支持方式を転換できる。フリーローラは、簡易な構造で確実に基板を支持できるとともに、狭小な領域に配置できる。したがって、フリーローラを、昇降ローラと接触しない位置に、容易に配置できる。
【００１５】
特に、本願の第３発明によれば、昇降ローラおよびフリーローラが配置された領域の搬送方向の長さが、抑制される。
【００１６】
特に、本願の第４発明によれば、入口浮上ステージの搬送方向上流側の端縁部と基板との接触を抑制しつつ、フリーローラの数を、全体として抑制できる。
【００１７】
特に、本願の第５発明によれば、基板は、昇降ローラに接触支持された状態で、位置決めされる。このため、昇降ローラと基板との摩擦により、位置決め後の基板の水平方向の移動が、抑制される。
【００１８】
特に、本願の第６発明によれば、昇降ローラおよびフリーローラの機械的振動が、入口浮上ステージへ伝播することが、抑制される。
【００１９】
特に、本願の第７発明によれば、フリーローラを、昇降ローラと接触しない位置に、より容易に配置できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基板処理装置の上面図である。
【図２】第１搬送部および転換部付近の上面図である。
【図３】第１搬送部および転換部付近の側面図である。
【図４】昇降ローラ、昇降駆動機構、フリーローラ、およびチャック機構を、図１中のＡ−Ａ位置から見た図である。
【図５】昇降ローラ、昇降駆動機構、フリーローラ、およびチャック機構を、図１中のＡ−Ａ位置から見た図である。
【図６】制御部と基板処理装置の各部との電気的接続構成を示したブロック図である。
【図７】基板処理装置の動作の流れを示したフローチャートである。
【図８】昇降ローラと入口浮上ステージとにまたがって基板が配置されたときの、転換部付近の側面図である。
【図９】複数のリフトピンを上昇させたときの、転換部付近の側面図である。
【図１０】昇降ローラを下降させたときの、転換部付近の側面図である。
【図１１】基板の幅方向の両端部の下側にチャック機構を配置したときの、転換部付近の側面図である。
【図１２】基板の幅方向の両端部をチャック機構に吸着させたときの、転換部付近の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２２】
＜１．基板処理装置の構成＞
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の上面図である。この基板処理装置１は、液晶表示装置用の矩形のガラス基板９（以下、単に「基板９」という）をエッチングするフォトリソグラフィ工程において、基板９の上面にレジスト液（フォトレジスト）を塗布するための装置である。基板処理装置１は、基板９を水平姿勢に支持しつつ搬送する機構を有する。以下では、基板９が搬送される方向を「搬送方向」と称し、搬送方向に直交する水平方向を「幅方向」と称する。本願の各図には、搬送方向および幅方向が、矢印で示されている。
【００２３】
図１に示すように、基板処理装置１は、第１搬送部１０、転換部２０、第２搬送部３０、レジスト塗布機構４０、搬出部５０、および制御部６０を備えている。図２は、第１搬送部１０および転換部２０付近の上面図である。図３は、第１搬送部１０および転換部２０付近の側面図である。また、図４および図５は、昇降ローラ２１、昇降駆動機構２３、フリーローラ２４、およびチャック機構３２を、図１中のＡ−Ａ位置から見た図である。以下では、図１とともに、図２〜図５も参照する。
【００２４】
第１搬送部１０は、前工程の装置２から搬出された基板９を、搬送経路に沿って、転換部２０まで搬送する部位である。第１搬送部１０は、幅方向に延びる回転軸１１ａを中心として回転する複数のコンベアローラ１１を、有している。本実施形態では、長手方向に等間隔に配列された複数本の回転軸１１ａに、それぞれ、４つのコンベアローラ１１が、幅方向に等間隔に取り付けられている。複数のコンベアローラ１１は、単一の固定された高さ位置に、配置されている。
【００２５】
コンベアローラ１１の回転軸１１ａには、図２において概念的に示した回転駆動機構１２が、接続されている。回転駆動機構１２は、例えば、駆動源となるモータと、駆動力を伝達するタイミングベルトとを組み合わせた機構として、実現される。回転駆動機構１２を動作させると、複数のコンベアローラ１１は、同じ方向に能動的に回転する。これにより、コンベアローラ１１上に接触支持された基板９は、搬送方向下流側へ搬送される。
【００２６】
転換部２０は、第１搬送部１０と第２搬送部３０との間において、基板９の支持方式を転換するための部位である。図１〜図５に示すように、転換部２０は、複数の昇降ローラ２１、回転駆動機構２２、昇降駆動機構２３、複数のフリーローラ２４、入口浮上ステージ２５、４本のガイドローラ２６、位置決め機構２７、および複数のリフトピン２８を有している。
【００２７】
複数の昇降ローラ２１は、幅方向に延びる回転軸２１ａを中心として回転し、かつ、上下に昇降移動可能に設けられたローラである。本実施形態では、長手方向に配列された２本の回転軸２１ａに、それぞれ、４つの昇降ローラ２１が、幅方向に等間隔に取り付けられている。
【００２８】
回転軸２１ａには、図２において概念的に示した回転駆動機構２２が、接続されている。回転駆動機構２２は、例えば、駆動源となるモータと、駆動力を伝達するタイミングベルトとを組み合わせた機構として、実現される。回転駆動機構２２を動作させると、複数の昇降ローラ２１は、同じ方向に能動的に回転する。これにより、昇降ローラ２１上に接触支持された基板９は、搬送方向下流側へ搬送される。
【００２９】
図４および図５に示すように、昇降ローラ２１の回転軸２１ａには、昇降駆動機構２３が、接続されている。昇降駆動機構２３は、ベアリングを介して回転軸２１ａを支持するアーム２３ａと、アーム２３ａを昇降移動させるエアシリンダ２３ｂとを有している。エアシリンダ２３ｂを動作させると、複数の昇降ローラ２１は、図４に示した標準位置と、図５に示した下降位置との間で、昇降移動する。なお、昇降駆動機構２３は、エアシリンダ以外の駆動機構（例えば、モータ）を利用したものであってもよい。
【００３０】
標準位置に配置された昇降ローラ２１の上端部（基板９の下面と接触する部位）の高さ位置は、コンベアローラ１１の上端部の高さ位置と、ほぼ一致する。また、下降位置に配置された昇降ローラ２１の上端部の高さ位置は、フリーローラ２４の上端部の高さ位置より、下方となる。
【００３１】
複数のフリーローラ２４は、昇降ローラ２１が下降したときに、昇降ローラ２１に代わって、基板９の搬送方向上流側の一部分を支持するためのローラである。複数のフリーローラ２４は、ローラごとに設けられた固有の回転軸に対して、回転自在となっている。フリーローラ２４上に基板９の一部が支持された状態で、基板９が下流側へ移動すると、複数のフリーローラ２４は、基板９の移動に応じて従動的に回転する。
【００３２】
複数のフリーローラ２４は、単一の固定された高さ位置に、配置されている。フリーローラ２４の上端部の高さ位置は、標準位置に配置された昇降ローラ２１の上端部の高さ位置より下方であり、かつ、下降位置に配置された昇降ローラ２１の上端部の高さ位置より、上方となっている。また、フリーローラ２４の上端部の高さ位置は、入口浮上ステージ２５上に支持される基板９の下面や、後述するチャック機構３２の上端部と、ほぼ同等の高さ位置となっている。
【００３３】
また、図１および図２に示すように、各フリーローラ２４は、平面視において、複数の昇降ローラ２１および昇降ローラ２１の回転軸２１ａと、重ならない位置に配置されている。このため、複数の昇降ローラ２１および昇降ローラ２１の回転軸２１ａは、複数のフリーローラ２４と接触することなく、昇降移動できる。
【００３４】
図２に示すように、複数のフリーローラ２４は、複数の下流側フリーローラ２４ａと、複数の上流側フリーローラ２４ｂと、を含んでいる。複数の下流側フリーローラ２４ａは、最も搬送方向下流側に配置された昇降ローラ２１と入口浮上ステージ２５との間に、幅方向に配列されている。すなわち、複数の下流側フリーローラ２４ａは、入口浮上ステージ２５の搬送方向上流側の端縁部に沿って、配列されている。一方、複数の上流側フリーローラ２４ｂは、下流側フリーローラ２４ａより搬送方向上流側の位置に、配列されている。
【００３５】
隣り合う下流側フリーローラ２４ａ同士の幅方向の間隔は、隣り合う上流側フリーローラ２４ｂ同士の幅方向の間隔より、狭い。このため、下流側フリーローラ２４ａの間における基板９の下方への撓みは、上流側フリーローラ２４ｂの間における基板９の下方への撓みより、小さくなる。これにより、入口浮上ステージ２５の搬送方向上流側の端縁部と基板９との接触が、抑制される。また、上流側フリーローラ２４ｂを下流側フリーローラ２４ａより低い密度で配置したことにより、全体としてのフリーローラ２４の数が、低減されている。
【００３６】
また、本実施形態では、昇降ローラ２１より小径のフリーローラ２４が、使用されている。このため、昇降ローラ２１が昇降移動する空間を確保しつつ、複数のフリーローラ２４を、昇降ローラ２１と接触しない位置に、容易に配置できる。フリーローラ２４は、駆動機構から完全に切り離されたものでもよいが、駆動機構からの動力伝達を解除できるものであれば、何らかの駆動機構に接続されていてもよい。ただし、フリーローラ２４に駆動機構が接続されていない方が、昇降ローラ２１が昇降する空間をより容易に確保できる点で、好ましい。
【００３７】
図３に示すように、複数のコンベアローラ１１、複数の昇降ローラ２１、および複数のフリーローラ２４は、共通のローラ支持台７１に、支持されている。一方、入口浮上ステージ２５、後述する塗布ステージ３１、および後述する出口浮上ステージ５１は、ローラ支持台７１とは別個に設けられたステージ支持台７２に、支持されている。
【００３８】
つまり、本実施形態では、基板９をローラにより接触支持する部位と、基板９をステージ上に浮上支持する部位とが、異なる支持台に支持され、互いに非連結となっている。これにより、コンベアローラ１１、昇降ローラ２１、およびフリーローラ２４からの機械的振動が、入口浮上ステージ２５、塗布ステージ３１、および出口浮上ステージ５１へ伝播することが、抑制されている。
【００３９】
入口浮上ステージ２５は、複数のフリーローラ２４の搬送方向下流側に、配置されている。入口浮上ステージ２５は、昇降ローラ２１、フリーローラ２４、または後述する塗布ステージ３１とともに、基板９を支持する。入口浮上ステージ２５の上面には、圧縮空気を吐出するための複数の吐出孔２５ａが、設けられている。
【００４０】
基板９の搬送時には、図示しない供給源から供給される圧縮空気が、複数の吐出孔２５ａから上方へ向けて、吐出される。基板９は、複数の吐出孔２５ａから吐出される圧縮空気により、入口浮上ステージ２５の上面から浮上した状態で、支持される。すなわち、入口浮上ステージ２５は、基板９の下面に対して非接触で、基板９を支持する。
【００４１】
４本のガイドローラ２６は、転換部２０において、基板９を搬送方向に案内するための機構である。４本のガイドローラ２６は、基板９の搬送経路の両側部に、配置されている。各ガイドローラ２６は、上下に延びる回転軸を中心として、回転可能となっている。基板９が搬送経路から外れかけると、ガイドローラ２６は、基板９の端縁部に接触しつつ回転する。これにより、基板９の向きが補正され、基板９は、正しく搬送方向に搬送される。
【００４２】
４本のガイドローラ２６は、図示しない駆動機構により、昇降移動可能となっている。転換部２０において基板９が搬送されるときには、４本のガイドローラ２６は、基板９の搬送経路の両側部へ上昇した状態となっている。一方、後述するチャック機構３２が、基板９の下方へ進入するときには、４本のガイドローラ２６は、チャック機構３２と接触しない高さ位置へ下降した状態となっている。
【００４３】
位置決め機構２７は、転換部２０において、基板９を位置決めするための機構である。位置決め機構２７は、上下に延びる複数の位置決めピン２７ａを有する。複数の位置決めピン２７ａは、転換部２０に配置された基板９を取り囲む位置に、配置されている。各位置決めピン２７ａは、図示しない駆動機構により、基板９の端縁部に当接する位置と、基板９の端縁部から離間した位置との間で、移動可能となっている。
【００４４】
標準位置の昇降ローラ２１と入口浮上ステージ２５とにまたがって基板９が配置されると、複数の位置決めピン２７ａは、基板９の端縁部に当接する。これにより、基板９の水平方向の位置および姿勢が、定められる。一方、基板９が搬送されるときや、チャック機構３２が基板９の下方へ進入するときには、複数の位置決めピン２７ａは、基板９やチャック機構３２と接触しない位置に、退避する。
【００４５】
複数のリフトピン２８は、転換部２０において基板９の支持方式を転換するときに、基板９の幅方向の両端部を、一時的に持ち上げるための機構である。複数のリフトピン２８は、基板９が位置決め機構２７により位置決めされた状態において、基板９の幅方向の両端部から幾分幅方向内側へ寄った位置に、配置されている。また、複数のリフトピン２８は、図示しない駆動機構により、一体的に昇降移動可能となっている。複数のリフトピン２８を上昇させると、基板９の下面にリフトピン２８が当接し、基板９の幅方向の両端部が、リフトピン２８により持ち上げられる。
【００４６】
本実施形態では、複数のリフトピン２８は、入口浮上ステージ２５の幅方向の両端部より、幅方向内側に配置されている。このため、後述するチャック機構３２は、複数のリフトピン２８と接触することなく、入口浮上ステージ２５の幅方向外側の位置へ、進入できる。また、基板９のうち、少なくともチャック機構３２に吸着される部分が、入口浮上ステージ２５の幅方向外側に、はみ出していればよい。このため、入口浮上ステージ２５からの基板９のはみ出し量を、抑制できる。
【００４７】
図２に示すように、転換部２０の搬送方向の長さＬ１は、１枚の基板９を配置することができる程度の長さ（すなわち、基板９の搬送方向の長さより若干長い程度）に、設定されている。転換部２０のうち、昇降ローラ２１およびフリーローラ２４が配置された領域の搬送方向の長さＬ２と、入口浮上ステージ２５の搬送方向の長さＬ３とは、いずれも、基板９の搬送方向の長さより、短く設定されている。これにより、転換部２０の搬送方向の長さが、抑制されている。
【００４８】
入口浮上ステージ２５のように基板９を浮上支持するステージは、吐出孔２５ａの形成等に高度の加工技術を必要とし、製造コストも高い。本実施形態では、そのような入口浮上ステージ２５の搬送方向の長さが、抑制されている。これにより、基板処理装置１の製造が容易となり、製造コストも抑制される。また、入口浮上ステージ２５へ供給する圧縮空気の量も、抑制される。
【００４９】
第２搬送部３０は、基板９の上面にレジスト液を塗布するときに、基板９を搬送方向下流側へ搬送する部位である。図１に示すように、第２搬送部３０は、塗布ステージ３１と、一対のチャック機構３２と、を有している。
【００５０】
塗布ステージ３１は、入口浮上ステージ２５の搬送方向下流側に、配置されている。塗布ステージ３１の上面には、圧縮空気を吐出するための複数の吐出孔と、塗布ステージ３１上の空気を吸引するための複数の吸引孔とが、設けられている。塗布ステージ３１上にて基板９を搬送するときには、複数の吐出孔からの圧縮空気の吐出による上方への圧力と、複数の吸引孔への吸気による下方への圧力とが、基板９に作用する。これにより、基板９は、塗布ステージ３１の上面からわずかに浮上した状態で、安定的に支持される。
【００５１】
チャック機構３２は、塗布ステージ３１の幅方向外側に、左右一対に配置されている。各チャック機構３２には、基板９の幅方向の端部の下面に吸着する吸着部３２ａが、搬送方向に一対に設けられている。また、各チャック機構３２は、ステージ支持台７２の上面に形成されたガイドレール３２ｂに沿って、リニアモータ等の駆動機構により、搬送方向に移動可能となっている。図１に示すように、ガイドレール３２ｂは、フリーローラ２４の幅方向外側の位置から、後述する出口浮上ステージ５１の幅方向外側の位置まで、搬送方向に延びている。一対のチャック機構３２は、基板９を吸着保持しつつ、転換部２０から搬出部５０まで、基板９を搬送できる。
【００５２】
レジスト塗布機構４０は、塗布ステージ３１に支持されつつ搬送される基板９の上面に、レジスト液を塗布するための機構である。図１では、塗布ステージ３１やチャック機構３２を明示するため、レジスト塗布機構４０が、破線で示されている。レジスト塗布機構４０は、塗布ステージ３１の上方に幅方向に架け渡された架橋部４１と、架橋部４１に取り付けられたスリットノズル４２と、を有している。スリットノズル４２は、図示しないレジスト液供給源から供給されるレジスト液を、幅方向に延びるスリット状の吐出口を介して、基板９の上面に吐出する。
【００５３】
搬出部５０は、レジスト液が塗布された基板９を、基板処理装置１から搬出するための部位である。図１に示すように、搬出部５０は、出口浮上ステージ５１と、複数の搬出用ピン５２と、を有している。
【００５４】
出口浮上ステージ５１は、塗布ステージ３１の搬送方向下流側に、配置されている。出口浮上ステージ５１の上面には、圧縮空気を吐出するための複数の吐出孔が、設けられている。出口浮上ステージ５１上で基板９を支持するときには、図示しない供給源から供給される圧縮空気が、複数の吐出孔から上方へ向けて、吐出される。基板９は、複数の吐出孔から吐出される圧縮空気により、出口浮上ステージ５１の上面から浮上した状態で、支持される。すなわち、出口浮上ステージ５１は、基板９の下面に対して非接触で、基板９を支持する。
【００５５】
複数の搬出用ピン５２は、出口浮上ステージ５１の面内において、搬送方向および幅方向に、等間隔に配列されている。複数の搬出用ピン５２は、それらの上端部で基板９を接触支持する。また、複数の搬出用ピン５２は、図示しない駆動機構により、一体的に昇降移動可能となっている。このため、複数の搬出用ピン５２は、基板９を支持しつつ、基板９を上下に移動させることができる。
【００５６】
塗布ステージ３１から出口浮上ステージ５１へ基板９が搬送されるときには、複数の搬出用ピン５２は、基板９との接触を避けるため、出口浮上ステージ５１の上面より下方へ、退避した状態となっている。また、出口浮上ステージ５１から基板９を搬出するときには、複数の搬出用ピン５２が、出口浮上ステージ５１の上面より上方へ、突出する。これにより、出口浮上ステージ５１の上方へ、基板９が持ち上げられる。複数の搬出用ピン５２上に支持された基板９は、出口浮上ステージ５１の搬送方向下流側に配置された移載ロボット３により、後工程の装置４へ、搬送される。
【００５７】
制御部６０は、ＣＰＵやメモリを有するコンピュータにより、構成されている。図６は、制御部６０と、基板処理装置１の各部との、電気的接続構成を示したブロック図である。図６に示すように、制御部６０は、回転駆動機構１２，２２およびエアシリンダ２３ｂと、接続されている。また、制御部６０は、図１〜図５において図示を省略した他の駆動機構、圧縮空気の供給機構、排気機構、センサ等とも、接続されている。制御部６０は、あらかじめ設定されたプログラムやデータに従って、これらの各部の動作を電気的に制御する。これにより、基板処理装置１における基板９の処理が進行する。
【００５８】
＜２．基板処理装置の動作＞
続いて、基板処理装置１の動作について、説明する。図７は、基板処理装置１の動作の流れを示したフローチャートである。
【００５９】
基板処理装置１において基板９を処理するときには、まず、前工程の装置２から搬出された基板９を、第１搬送部１０により搬送する（ステップＳ１）。基板９は、コンベアローラ１１上に接触支持され、コンベアローラ１１の回転により、搬送方向下流側へ搬送される。このとき、昇降ローラ２１は、標準位置に配置され、コンベアローラ１１と同方向に回転している。このため、基板９は、コンベアローラ１１と昇降ローラ２１とで、連続的に転換部２０まで搬送される。
【００６０】
また、このとき、４本のガイドローラ２６は、基板９の搬送経路の両側部へ上昇した状態となっている。これらのガイドローラ２６に案内され、基板９は、正しく搬送方向下流側へ搬送される。
【００６１】
基板９が転換部２０に到達すると、昇降ローラ２１は、回転を停止する。これにより、基板９は、昇降ローラ２１と入口浮上ステージ２５とにまたがった状態で、停止する（ステップＳ２）。
【００６２】
図８は、昇降ローラ２１と入口浮上ステージ２５とにまたがって基板９が配置されたときの、転換部２０付近の側面図である。基板９の搬送方向上流側の一部分は、標準位置の昇降ローラ２１上に、接触支持されている。一方、基板９の搬送方向下流側の一部分は、入口浮上ステージ２５上に、浮上支持されている。基板９のうち、入口浮上ステージ２５上に支持された部分の高さ位置は、昇降ローラ２１上に支持された部分の高さ位置より、低くなっている。
【００６３】
次に、複数の位置決めピン２７ａが、基板９の搬送方向上流側、搬送方向下流側、および幅方向両側の、各端縁部に当接する。これにより、基板９の水平方向の位置および姿勢が、定められる（ステップＳ３）。
【００６４】
基板９の位置決めが完了すると、４本のガイドローラ２６は、下降して、所定の退避位置へ退避する。また、複数の位置決めピン２７ａのうち、基板９の幅方向の両端縁部に当接していた位置決めピン２７ａも、基板９から離間して、所定の退避位置へ退避する。位置決めピン２７ａの退避後も、基板９の搬送方向上流側の一部分は、昇降ローラ２１に接触支持されている。このため、基板９と昇降ローラ２１との静止摩擦により、基板９の幅方向の位置ずれは、防止される。
【００６５】
続いて、複数のリフトピン２８を上昇させる（ステップＳ４）。リフトピン２８は、基板９の下面に当接し、基板９の幅方向の両端部を持ち上げる。図９は、複数のリフトピン２８を上昇させたときの、転換部２０付近の側面図である。図９のように、複数のリフトピン２８の上端部は、標準位置の昇降ローラ２１の上端部より上方の位置まで、上昇する。
【００６６】
なお、本実施形態の基板９は、大型で可撓性を有する。このため、ステップＳ４では、基板９のうち、幅方向の両端部付近のみが、持ち上げられる。基板９の幅方向の中央部分は、昇降ローラ２１および入口浮上ステージ２５に、支持された状態を維持している。したがって、基板９と昇降ローラ２１との静止摩擦により、基板９の幅方向の位置ずれは、防止されている。
【００６７】
また、本実施形態では、基板９の幅方向の両端縁部に当接していた位置決めピン２７ａを退避させた後に、複数のリフトピン２８を上昇させている。このため、リフトピン２８を上昇させるときに、基板９の幅方向の端縁部と位置決めピン２７ａとが、摺接することはない。これにより、基板９と位置決めピン２７ａとの摺接によるパーティクルの発生が、防止されている。
【００６８】
その後、昇降ローラ２１を、標準位置から下降位置へ、下降させる（ステップＳ５）。図１０は、昇降ローラ２１を下降させたときの、転換部２０付近の側面図である。昇降ローラ２１の上端部の高さ位置は、フリーローラ２４の上端部の高さ位置より、下方となる。このとき、基板９の幅方向の両端部付近は、リフトピン２８に支持されたままであるが、幅方向の中央付近では、複数の昇降ローラ２１に代わって、複数のフリーローラ２４が、基板９の一部分を支持する。
【００６９】
続いて、図１１のように、チャック機構３２を、搬送方向上流側へ、移動させる。これにより、基板９の幅方向の両端部の下側に、チャック機構３２を配置する。そして、吸着部３２ａの吸引動作を開始した後、図１２のように、複数のリフトピン２８を下降させる。これにより、基板９の幅方向の両端部を、チャック機構３２の吸着部３２ａに吸着させる（ステップＳ６）。基板９は、搬送方向上流側の一部分がフリーローラ２４上に接触支持されるとともに、搬送方向下流側の一部分が入口浮上ステージ２５上に浮上支持され、さらに、幅方向の両端部がチャック機構３２に吸着保持された状態となる。
【００７０】
転換部２０におけるステップＳ３〜Ｓ６の動作の間、基板９の搬送方向上流側および搬送方向下流側の端縁部には、位置決めピン２７ａが当接している。このため、基板９の搬送方向の位置ずれは、防止されている。また、ステップＳ３〜Ｓ６の間、基板９は、昇降ローラ２１またはフリーローラ２４により、継続的に接触支持されている。このため、昇降ローラ２１またはフリーローラ２４と基板９との静止摩擦により、基板９の幅方向への位置ずれが、防止されている。
【００７１】
また、本実施形態では、複数のリフトピン２８で、基板９の幅方向の両端部付近を一旦持ち上げ、当該リフトピン２８を下降させることにより、基板９の下面をチャック機構３２に接近させている。このため、チャック機構３２の吸着部３２ａを上下に移動させる必要はない。したがって、チャック機構３２の構造を簡素化できる。
【００７２】
基板９が一対のチャック機構３２に保持されると、基板９の搬送方向上流側および搬送方向下流側の端縁部に当接していた位置決めピン２７ａは、所定の退避位置へ退避する。そして、チャック機構３２がガイドレール３２ｂに沿って搬送方向下流側へ移動することにより、基板９は、搬送方向下流側へ搬送される。
【００７３】
基板９は、入口浮上ステージ２５から、塗布ステージ３１を経て、出口浮上ステージ５１まで、各ステージ上に浮上支持されつつ、搬送される。スリットノズル４２は、塗布ステージ３１上で搬送される基板９の上面に向けて、レジスト液を吐出する。これにより、基板９の上面に、レジスト液が塗布される（ステップＳ７）。
【００７４】
なお、本実施形態では、基板９の搬送方向下流側の端部がスリットノズル４２の下方位置へ差し掛かる前に、基板９の搬送方向上流側の端部が、入口浮上ステージ２５上に支持される。すなわち、基板９の上面にレジスト液を塗布する時点では、基板９の全体が、入口浮上ステージ２５および塗布ステージ３１上に、浮上支持されている。このため、フリーローラ２４の機械的振動が、レジスト液の塗布中の基板９に伝播することが、抑制される。これにより、基板９の上面におけるレジスト液の塗布不良が、抑制される。
【００７５】
レジスト液が塗布された基板９は、出口浮上ステージ５１上まで搬送されて、停止する。その後、出口浮上ステージ５１の上面から複数の搬出用ピン５２が突出する。これにより、出口浮上ステージ５１の上方へ、基板９が持ち上げられる。その後、複数の搬出用ピン５２に支持された基板９を、移載ロボット３が受け取り、移載ロボット３から後工程の装置４へ、基板９が移載される。
【００７６】
以上のように、本実施形態の基板処理装置１では、転換部２０において、基板９の搬送方向上流側の一部分が、複数の昇降ローラ２１から複数のフリーローラ２４へ移載される。このため、入口浮上ステージ２５の搬送方向の長さを抑制しつつ、基板９の支持方式を転換できる。また、フリーローラ２４は、簡易な構造で確実に基板９を支持できるとともに、狭小な領域に配置できる。したがって、複数のフリーローラ２４を、複数の昇降ローラ２１と接触しない位置に、容易に配置できる。
【００７７】
＜３．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。
【００７８】
上記の実施形態では、チャック機構３２の吸着部３２ａは一定の高さ位置に固定されていたが、吸着部３２ａを上下に昇降移動できるようにしてもよい。吸着部３２ａを昇降移動可能とすれば、基板９の下面へ吸着部３２ａを接近させることができる。したがって、リフトピン２８による基板９の支持を、省略できる。
【００７９】
また、上記の実施形態では、チャック機構３２は、基板９の下面側に配置されていたが、チャック機構は、基板９の上面側に配置されていてもよい。また、チャック機構３２は、基板９を上下から挟んで保持するものであってもよい。また、上記の実施形態のチャック機構３２は、搬送方向に２つの吸着部３２ａを有していたが、吸着部３２ａの数は、１つでもよく、３つ以上でもよい。
【００８０】
また、上記の実施形態では、コンベアローラ１１、昇降ローラ２１、およびフリーローラ２４の一例を示したが、これらのローラの大きさ、数、および配列は、処理対象となる基板の種類や周囲の構造との関係で、適宜に変更されてもよい。
【００８１】
また、上記の実施形態の第１搬送部１０は、複数のコンベアローラ１１で基板９を搬送するものであったが、本発明の第１搬送部は、他の機構で基板９を搬送するものであってもよい。例えば、複数のフリーローラ上に基板９を支持しつつ、基板９の幅方向の両端部を保持して、搬送方向下流側へ搬送するものであってもよい。また、何らかの移動部材上に基板９を載置して、当該移動部材とともに、基板９を搬送方向下流側へ搬送するものであってもよい。
【００８２】
また、本発明の「転換部」は、空間的または時間的意味において、第１搬送部と第２搬送部との間で、基板の支持方式を転換するものであればよい。例えば、第１搬送部による搬送と、第２搬送部による搬送との間の時間において、基板の支持方式を転換するのであれば、第１搬送部、転換部、および第２搬送部が、空間的配置として互いに重複する部分を有していてもよい。また、転換部が、第１搬送部または第２搬送部から空間的に離間していてもよい。
【００８３】
また、上記の基板処理装置１は、基板９の上面にレジスト液を塗布する装置であったが、本発明の基板処理装置は、レジスト液以外の処理液を基板に塗布する装置であってもよい。また、本発明の基板処理装置は、塗布処理以外の処理（例えば、熱処理や露光処理）を行う装置であってもよい。
【００８４】
また、上記の基板処理装置１は、液晶表示装置用のガラス基板９を処理対象としていたが、本発明の基板処理装置は、半導体ウエハ、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルタ用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの他の基板を処理対象とするものであってもよい。
【符号の説明】
【００８５】
１  基板処理装置
９  基板
１０  第１搬送部
１１  コンベアローラ
１２  回転駆動機構
２０  転換部
２１  昇降ローラ
２２  回転駆動機構
２３  昇降駆動機構
２４  フリーローラ
２４ａ  下流側フリーローラ
２４ｂ  上流側フリーローラ
２５  入口浮上ステージ
２５ａ  吐出孔
２６  ガイドローラ
２７  位置決め機構
２８  リフトピン
３０  第２搬送部
３１  塗布ステージ
３２  チャック機構
４０  レジスト塗布機構
４１  架橋部
４２  スリットノズル
５０  搬出部
５１  出口浮上ステージ
５２  搬出用ピン
６０  制御部
７１  ローラ支持台
７２  ステージ支持台
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2011207539.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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