(57)【要約】【課題】  光沢感と透明感が良好で更に干渉縞が低減され、かつ低価格化が図られたディスプレイ用フィルターを提供する。【解決手段】  基材フィルム、易接着層、メッシュ状導電層、及び１以上の層からなる表面層が順次積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記基材フィルムの屈折率が１．６０以上１．７０未満、前記易接着層の屈折率が１．５４以上１．６０未満、前記表面層の中の前記メッシュ状導電層に隣接する層の屈折率が１．４５以上１．５４未満であり、かつ前記表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム、易接着層、メッシュ状導電層、及び１以上の層からなる表面層が順次積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記基材フィルムの屈折率が１．６０以上１．７０未満、前記易接着層の屈折率が１．５４以上１．６０未満、前記表面層の中の前記メッシュ状導電層に隣接する層の屈折率が１．４５以上１．５４未満であり、かつ前記表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であるディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記表面層の中の前記メッシュ状導電層に隣接する層がハードコート層である、請求項１のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記表面層の表面の視感反射率が１．０％以上である、請求項１または２のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記メッシュ状導電層の厚みが０．３μｍ以上８μｍ未満である、請求項１〜３のいずれかのディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記ハードコート層が、数平均粒子径が１〜２００ｎｍの無機系微粒子を含有する、請求項２〜４のいずれかのディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
前記ハードコート層が界面活性剤を含有する、請求項２〜５のいずれかのディスプレイ用フィルター。
【請求項７】
前記表面層側の表面抵抗率が１×１０１３Ω／□未満である、請求項１〜６のいずれかのディスプレイ用フィルター。
【請求項８】
前記基材フィルムの前記メッシュ状導電層が積層された側の面とは反対面に近赤外線遮蔽機能を有する層を有する、請求項１〜７のいずれかのディスプレイ用フィルター。
【請求項９】
前記近赤外線遮蔽機能を有する層が粘着剤層である、請求項８のディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイの前面に装着されるディスプレイ用フィルターに関する。詳しくは、電磁波遮蔽性を有し、かつ表面の光沢感と透明感が良好で更に干渉縞が低減された低価格のディスプレイ用フィルターに関し、特にプラズマディスプレイに好適なディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイは、通常、その前面に、反射防止性、電磁波遮蔽性、あるいは近赤外線遮蔽性等の機能を有するディスプレイ用フィルターが装着されている。特にプラズマディスプレイは強度な電磁波が発生するため、電磁波遮蔽機能を有するディスプレイ用フィルターが通常用いられている。
【０００３】
また、ディスプレイ用フィルターには、蛍光灯等の外光の反射を防止するための反射防止機能やディスプレイ用フィルターに傷等が発生することを防止するためのハードコート機能も一般的に付与されている。
【０００４】
従来、ディスプレイ用フィルターとしては、電磁波遮蔽機能を有する電磁波遮蔽フィルム（基材フィルムに電磁波遮蔽層を積層したフィルム）と、反射防止性やハードコート性を有する光学フィルム（基材フィルムに反射防止層やハードコート層が積層されたフィルム）とが粘着剤層で積層されたディスプレイ用フィルターが一般に用いられている。
【０００５】
近年、ディスプレイの低価格化に伴ってディスプレイ用フィルターも低価格化が余儀なくされている。上記のような複数枚のフィルムからなるディスプレイ用フィルターに対して、電磁波遮蔽フィルムの電磁波遮蔽層（メッシュ状導電層）上に、直接に反射防止層やハードコート層等の表面層を積層することによって、基材フィルム数が低減されて低価格化が図られる。
上記のメッシュ状導電層上に直接に反射防止層やハードコート層等の表面層を積層することが提案されている（例えば、特許文献１〜４）。
【０００６】
一方、反射防止フィルムの分野では、基材フィルム、中間層（易接着層）、及びハードコート層の屈折率を調整することによって干渉縞を抑制することが知られている（特許文献５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−８０２５３号公報
【特許文献２】特開２００９−２２３２９２号公報
【特許文献３】特開２００８−２１６７３４号公報
【特許文献４】国際公開第２００９／００４９５７号パンフレット
【特許文献５】特開２００６−１６３１５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、高い光沢感と高い透明感を有するディスプレイ用フィルターの要求がある。上記特許文献１、２に開示されているように、メッシュ状導電層上に直接に積層された反射防止層やハードコート層等の表面層の中心線平均粗さＲａを小さくすることによって（平坦化することによって）、光沢感や透明感を高くすることは可能であるが、一方では表面層の干渉縞が発生しやすくなるという問題がある。上記特許文献１、２に記載されているディスプレイ用フィルターは、干渉縞を十分に抑制するまでには至っていなかった。
【０００９】
上記特許文献３、４には、メッシュ状導電層上に直接に積層された反射防止層やハードコート層等の表面層の中心線平均粗さＲａを比較的大きくして、表面層に防眩性を付与することが開示されているが、特許文献３、４では、良好な光沢感や良好な透明感を得ることは難しい。
【００１０】
また、特許文献５には、基材、中間層、及びハードコート層の屈折率を調整することによって、反射防止フィルムの干渉縞を抑制することが記載されているが、本発明の構成のディスプレイ用フィルターでは、単に、基材、中間層（易接着層）、及びハードコート層の屈折率を調整するだけでは、干渉縞は十分に抑制することができなかった。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、光沢感と透明感が良好で更に干渉縞が低減され、かつ低価格化が図られたディスプレイ用フィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
１）基材フィルム、易接着層、メッシュ状導電層、及び１以上の層からなる表面層が順次積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記基材フィルムの屈折率が１．６０以上１．７０未満、前記易接着層の屈折率が１．５４以上１．６０未満、前記表面層の中の前記メッシュ状導電層に隣接する層の屈折率が１．４５以上１．５４未満であり、かつ前記表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【００１３】
また、本発明の好ましい態様は以下のとおりである。
２）前記表面層の中の前記メッシュ状導電層に隣接する層がハードコート層である、前記１）のディスプレイ用フィルター。
３）前記表面層表面の視感反射率が１．０％以上である、前記１）または２）のディスプレイ用フィルター。
４）前記メッシュ状導電層の厚みが０．３μｍ以上８μｍ未満である、前記１）〜３）のいずれかのディスプレイ用フィルター。
５）前記ハードコート層が、数平均粒子径が１〜２００ｎｍの無機系微粒子を含有する、前記２）〜４）のいずれかのディスプレイ用フィルター。
６）前記ハードコート層が界面活性剤を含有する、前記２）〜５）のいずれかのディスプレイ用フィルター。
７）前記表面層側の表面抵抗率が１×１０１３Ω／□未満である、前記１）〜６）のいずれかのディスプレイ用フィルター。
８）前記基材フィルムの前記メッシュ状導電層が積層された側の面とは反対面に近赤外線遮蔽機能を有する層を有する、前記１）〜７）のいずれかのディスプレイ用フィルター。
９）前記近赤外線遮蔽機能を有する層が粘着剤層である、前記８）のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、光沢感と透明感が良好で更に干渉縞が低減されたディスプレイ用フィルターを低価格で提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材フィルム、易接着層、メッシュ状導電層、及び１以上の層からなる表面層が順次積層されたものである。基材フィルムと易接着層、易接着層とメッシュ状導電層、メッシュ状導電層と表面層は、それぞれ直接に積層されていることが好ましい。
【００１６】
メッシュ状導電層は、細線部と開口部とで構成されており、メッシュ状導電層上に直接に積層された表面層は、メッシュ状導電層の細線部と開口部を被覆する。そして、易接着層上に直接に積層されたメッシュ状導電層の開口部には易接着層が露出しており、メッシュ状導電層の開口部において表面層は易接着層上に直接に積層されている。
【００１７】
本発明において、基材フィルムの屈折率は１．６０以上１．７０未満の範囲、易接着層の屈折率は１．５４以上１．６０未満の範囲、表面層のメッシュ状導電層に隣接する層（以下、表面層最下層と言う）の屈折率は１．４５以上１．５４未満の範囲であることが好ましい。
【００１８】
従来から、反射防止フィルムの分野では、基材フィルム、中間層（易接着層）、及びハードコート層の屈折率を調整することによって干渉縞が低減されることが知られている。しかしながら、本発明の構成、即ち、基材フィルム、易接着層、メッシュ状導電層、及び表面層が順次積層された構成のディスプレイ用フィルターの場合、単に基材フィルム、易接着層、及び表面層最下層の屈折率を調整するだけでは、干渉縞の抑制効果は不十分であった。
【００１９】
一方、近年、高い光沢感と高い透明感を有するディスプレイ用フィルターの要求があり、高い光沢感と高い透明感は表面層を平坦化することによって得ることができる。しかしながら、単に表面層を平坦化すると干渉縞が発生しやすくなると言う問題があった。
【００２０】
そこで、鋭意検討した結果、上記した屈折率の調整に加えて、表面層表面の中心線平均粗さＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲に調整することによって、良好な光沢感と良好な透明感を有し、かつ干渉縞の発生が抑制されたディスプレイ用フィルターが得られることが分かった。
【００２１】
（表面層）
本発明にかかる表面層は、本発明のディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときにディスプレイ側とは反対側の最表面となる層である。即ち、観察者側の最表面となる層である。
【００２２】
本発明の表面層は１以上の層からなる。表面層は、単一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。そして、上記ハードコート層は、メッシュ状導電層に隣接する位置に配置されていることが好ましい。
【００２３】
従って、表面層が単一層で構成される場合は、表面層はハードコート層であることが好ましい。表面層が複数層で構成される態様としては、ハードコート層と反射防止層の積層構成が挙げられる。上記複数層構成において、ハードコート層がメッシュ状導電層に隣接するように配置される。
【００２４】
本発明において、表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層（表面層最下層）は、屈折率が１．４５以上１．５４未満の範囲であることが好ましい。表面層最下層の屈折率は、１．４６以上１．５４未満の範囲がより好ましく、１．４７以上１．５３未満の範囲がより好ましく、１．４８以上１．５３未満の範囲が特に好ましい。
【００２５】
表面層表面の中心線平均粗さＲａは、２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲であり、好ましくは２５ｎｍ以上４９ｎｍ未満の範囲であり、より好ましくは２８ｎｍ以上４５ｎｍ未満の範囲である。表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ未満であると、干渉縞の抑制効果が不十分となり、一方中心線平均粗さＲａが５０ｎｍ以上となると良好な光沢感と良好な透明感が得られない。
【００２６】
上記の中心線平均粗さＲａ（２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲）を有する表面層は、メッシュ状導電層の細線部上に適度な盛り上がりを形成することによって実現することができる。上記の表面層の盛り上がりは、表面層をメッシュ状導電層上に直接に塗工する際に、塗工量、粘度、組成等を調整することによって形成することができる。例えば、表面層の塗工量は、塗工によって最終的に形成された表面層の厚みが、メッシュ状導電層の厚み１００％に対して１５０〜７００％の範囲となるように調整することによって、あるいは表面層塗工液の粘度を２〜５０ｍＰａ・ｓの範囲に調整することによって、メッシュ状導電層の細線部上に適度な盛り上がりを形成することができる。また、表面層の組成としては、数平均粒子径が１〜２００ｎｍの無機系微粒子を含有させることによって、盛り上がりが形成されやすくなる。
【００２７】
表面層の具体的厚みは、１〜２０μｍの範囲が好ましく、２〜１８μｍの範囲がより好ましく、特に３〜１６μｍの範囲が好ましい。
【００２８】
本発明の表面層は、メッシュ状導電層の細線部上にのみ盛り上がりを形成することが好ましい。メッシュ状導電層の細線部上以外に表面層の盛り上がりが存在すると、即ちメッシュ状導電層の開口部に表面層の盛り上がりが存在すると、光沢感や透明感が低下することがあるので好ましくない。従って、表面層を構成するいずれの層も、メッシュ状導電層の開口部に表面層の盛り上がりを形成するような比較的大きな粒子は含有しないことが好ましい。
【００２９】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、表面層側の表面抵抗率は１×１０１３Ω／□未満であることが好ましく、１×１０１２Ω／□未満であることがより好ましく、特に１×１０１１Ω／□未満であることが好ましい。表面抵抗率の下限は、１×１０３Ω／□程度である。
【００３０】
表面層側の表面抵抗率が１×１０１３Ω／□未満であること、及び表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であることを組み合わせることによって、ディスプレイ用フィルターの製造工程及びディスプレイ用フィルターのディスプレイへの装着工程において、ロールの巻き出し時や重畳シート（シートが複数枚積み重ねられたもの）の剥離時の帯電を有効に抑制することができ、その結果、ディスプレイ用フィルターに塵埃や切断カスの付着を抑制することができる。
【００３１】
本発明のディスプレイ用フィルターは長尺ロールで供給することが好ましい。この長尺ロールを所定サイズのシートに加工する際、長尺ロールは巻き出されて切断されるが、巻き出し時に静電気が発生し、空気中の塵埃や切断時の切断カスが付着するという不都合が生じることがある。また、所定サイズのシート状に切断加工された複数枚のシートが積み重ねられた重畳シートを１枚ずつ分離するときにも静電気が発生することがあり、空気中の塵埃等が付着するという不都合が生じることがある。
【００３２】
上記の問題は、表面層側の表面抵抗率が１×１０１３Ω／□未満であること、及び表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であることを組み合わせることによって効果的に抑制することができる。
【００３３】
表面層側の表面抵抗率を１×１０１３Ω／□未満とするために、表面層として好ましく用いられるハードコート層に帯電防止剤を含有させることが好ましい。ハードコート層に帯電防止剤を含有させる具体的な態様については後述する。
【００３４】
（ハードコート層）
表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましく、表面層最下層がハードコート層であることが好ましい。表面層最下層がハードコート層である場合、該ハードコート層の屈折率は１．４５以上１．５４未満の範囲が好ましく、、１．４６以上１．５４未満の範囲がより好ましく、１．４７以上１．５３未満の範囲が更に好ましく、１．４８以上１．５３未満の範囲が特に好ましい。
【００３５】
ハードコート層の屈折率を１．５４以上と高くするには、後述するハードコート層の樹脂成分に加えて、金属酸化物、硫黄原子や芳香族環を含む樹脂等の高屈折率化合物を含有させる必要があり、上記の高屈折率化合物の添加は、塗工液の生産性、塗工液の安定性、塗工性、ハードコート層の硬度、ハードコート層の塗工面等において不都合が生じる場合がある。従って、本発明の表面層として好ましく用いられるハードコート層は、屈折率を１．５４未満とすることが好ましい。
【００３６】
ハードコート層は、樹脂として熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられ、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
上記熱硬化性樹脂としては、熱によって重合又は架橋する、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。
【００３７】
上記活性エネルギー線硬化性樹脂としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることができる。
【００３８】
モノマーの例としては、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００３９】
オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４０】
上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
【００４１】
上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００４２】
ハードコート層は、更に数平均粒子径が１〜２００ｎｍの無機系微粒子を含有することが好ましい。ハードコート層が上記無機系微粒子を含有することによって、メッシュ状導電層の細線部上に適度な盛り上がりを形成して、表面層のＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲に調整することが容易になる。
【００４３】
ハードコート層に含有させる上記無機系微粒子の数平均粒子径は、１〜１４０ｎｍの範囲が好ましく、２〜１００ｎｍの範囲がより好ましく、特に３〜５０ｎｍの範囲が好ましい。上記無機微粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた数平均粒子径である。
【００４４】
ハードコート層における上記無機系微粒子の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜５０質量％の範囲が好ましく、１〜４０質量％の範囲がより好ましく、特に３〜３５質量％の範囲が好ましい。
【００４５】
上記無機系微粒子としては、例えば、シリカ系微粒子、アルミナ系微粒子、金属酸化物微粒子等が挙げられるが、特にシリカ系微粒子が好ましく用いられる。シリカ系粒子としては、コロイダルシリカ（シリカゾル）や気相法シリカが挙げられる。
【００４６】
ハードコート層の厚みは、表面層表面の中心線平均粗さＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満とするために、メッシュ状導電層の厚み１００％に対して１５０〜７００％の範囲が好ましい。また、ハードコート層の具体的厚みとしては、１〜２０μｍの範囲が好ましく、２〜１８μｍの範囲がより好ましく、特に３〜１６μｍの範囲が好ましい。ハードコート層の厚みが１μｍ未満の場合は、十分な硬度が得られず耐擦傷性が低下することがある。一方、ハードコート層の厚みが２０μｍを越えると、ディスプレイ用フィルターにカールを発生させることがある。
メッシュ状導電層の細線部上にハードコート層の適度な盛り上がりを形成して、表面層のＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲に調整するために、ハードコート層の塗工液の粘度（２３℃）は２〜５０ｍＰａ・ｓの範囲に調整することが好ましく、３〜４０ｍＰａ・ｓに調整することがより好ましく、更に４〜３０ｍＰａ・ｓに調整することが好ましく、特に５〜２０ｍＰａ・ｓに調整することが好ましい。
【００４７】
また、ハードコート層は、更に界面活性剤を含有することが好ましい。これによって、メッシュ状導電層の細線部上に適度な盛り上がりが形成されやすくなる。かかる界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が好ましく用いられる。ハードコート層における界面活性剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、０．０５〜３質量％の範囲が好ましく、０．１〜２質量％の範囲がより好ましく、特に０．２〜１質量％の範囲が好ましい。
【００４８】
前述したように、ハードコート層は帯電防止剤を含有することが好ましい。かかる帯電防止剤としては、公知の有機系あるいは無機系の帯電防止剤を用いることができる。特に有機系帯電防止剤が好ましく用いられる。
【００４９】
有機系帯電防止剤として、カチオン系の帯電防止剤が挙げられ、その中でも４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤が好ましく用いられる。かかる４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤として、以下のものを挙げることができる。
【００５０】
イ）４級アンモニウム塩基を有するポリマー；例えば、４級アンモニウム塩含有（メタ）アクリル系ポリマー、４級アンモニウム塩含有スチレン系ポリマー、４級アンモニウム塩含有ブタジエン系ポリマー等が挙げられる。
【００５１】
ロ）４級アンモニウム塩基を有するモノマー；例えば、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、（メタ）アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、（メタ）アクリロイルオキシヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、（メタ）アクリロイルオキシヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムアセテート、（メタ）アクリルアミドプロピルジメチルヒドロキシブチルアンモニウムアセテート、［ジメチル（メタ）アクリロイルアミドプロピルグリシン］ベタイン、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルスルファイト、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムーｐ−トルエンスルファイト、（メタ）アクリロイルオキシエチルジメチルアンモニウムエチルスルファイト、（メタ）アクリロイルオキシエチルジメチルエチルスルファイト、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリブチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルエチルブチルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルジメチルフェニルアンモニウムクロライドまたはブロマイド、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルジメチルシクロヘキシルアンモニウムクロライドまたはブロマイド等が挙げられる。
【００５２】
ハ）含窒素モノマーの４級化物と（メタ）アクリル系モノマーとを共重合して得られる４級アンモニウム塩基含有（メタ）アクリル系ポリマーあるいはコポリマー；上記含窒素モノマーの４級化物としては、例えば、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、３−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のアミノアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステル類、２−（ジメチルアミノエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ジエチルアミノエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−（ジメチルアミノエトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等のアミノアルコキシアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステル類、Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ジエチルアミノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド等のＮ−アミノアルキル基含有（メタ）アクリルアミド類等の含窒素モノマーを、塩化メチレン、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等で４級化したものが挙げられ、上記（メタ）アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸プロピル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸ヒドロキシエチル、メタアクリル酸ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ヒドロキシブチル等のアクリル酸エステル系単量体、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸等が挙げられる。
【００５３】
上記帯電防止剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜３０質量％の範囲が好ましく、１〜２０質量％の範囲がより好ましく、特に１〜１５質量％の範囲が好ましい。
【００５４】
干渉縞の発生を抑制するという観点から、表面層表面の視感反射率は、１．０％以上であることが好ましく、１．３％以上であることがより好ましく、更に１．５％以上であることが好ましく、特に２．０％以上であることが好ましい。上限の視感反射率は６．０％程度である。上記の観点から、表面層は、ハードコート層のみであることが好ましい。表面層がハードコート層のみの場合、表面層表面の視感反射率は４〜５％程度である。
【００５５】
以下に述べるように、表面層がハードコート層と反射防止層との積層構成の場合は、視感反射率が低下する方向にあるので、視感反射率が上記の範囲となるように調整することが好ましい。
【００５６】
（反射防止層）
表面層が複数層の積層構成の場合、ハードコート層と反射防止層の積層構成が挙げられる。上記積層構成において、ハードコート層が表面層最下層となる。反射防止層としては、低屈折率層のみの単一層、高屈折率層（ハードコート層側）と低屈折率層の積層構成が挙げられる。
【００５７】
上記低屈折率層の屈折率は１．３〜１．４４の範囲が好ましく、１．３５〜１．４３の範囲がより好ましく、特に１．３８〜１．４３の範囲が好ましい。上記高屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０の範囲が好ましく、１．５８〜１．７５の範囲がより好ましく、特に１．６０〜１．７０の範囲が好ましい。
【００５８】
前述したように、表面層がハードコート層と反射防止層との積層構成の場合は、表面層表面の視感反射率は低下する方向にあるが、干渉縞抑制の観点から、表面層表面の視感反射率が１．０％以上となるように調整することが好ましく、１．３％以上となるように調整することがより好ましく、特に１．５％以上となるように調整することが好ましい。この観点から、ハードコート層上に反射防止層を積層する場合は低屈折率層のみの単一層であることが好ましく、更に低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４３の範囲がより好ましく、特に１．３８〜１．４３の範囲が好ましい。
【００５９】
（低屈折率層）
低屈折率層は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、低屈折率材料として低屈折率無機粒子及び／または含フッ素化合物とを含む層であることが好ましい。
【００６０】
上記の活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。
【００６１】
上記の低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が好ましく用いられる。更にこれらの無機微粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。上記無機粒子の屈折率は１．２〜１．４の範囲が好ましく、１．２〜１．３５の範囲がより好ましい。
【００６２】
上記の含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。
【００６３】
含フッ素モノマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類が挙げられる。
【００６４】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００６５】
低屈折率層の厚みは、０．０５〜０．１５μｍの範囲が適当であり、０．０８〜０．１２μｍの範囲が好ましい。
【００６６】
（高屈折率層）
高屈折率層は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、高屈折率材料として金属酸化物微粒子とを含む層であることが好ましい。
【００６７】
上記の活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。
【００６８】
上記金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．６以上のものが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８のものが好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用してもよい。
【００６９】
金属酸化物微粒子の数平均粒子径は１〜２００ｎｍの範囲が好ましい。金属酸化物微粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた数平均粒子径である。
【００７０】
金属酸化物微粒子の含有量は、高屈折率層の固形分総量１００質量％に対して２０〜９０質量％の範囲が好ましく、３０〜８５質量％の範囲がより好ましく、特に４０〜８０質量％の範囲が好ましい。
【００７１】
高屈折率層の厚みは、０．０５〜０．５μｍの範囲が好ましく、０．０８〜０．２μｍの範囲がより好ましい。
【００７２】
（メッシュ状導電層）
メッシュ状導電層は、ディスプレイから発生される電磁波を遮蔽する役目を有する。その意味において、メッシュ状導電層の表面抵抗率は低い方が好ましい。具体的には、メッシュ状導電層の表面抵抗率は３Ω／□以下が好ましく、１Ω／□以下がより好ましく、特に０．５Ω／□以下が好ましい。メッシュ状導電層の表面抵抗率の現実的な下限は０．０１Ω／□程度である。
【００７３】
メッシュ状導電層の厚みは、メッシュ状導電層上に積層される表面層の表面の中心線平均粗さＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満として表面層の光沢感と透明感を高めるという観点から、小さい方が好ましい。具体的には、メッシュ状導電層の厚みは、８μｍ未満が好ましく、７μｍ未満がより好ましく、更に６μｍ未満が好ましい。
【００７４】
一方、良好な電磁波遮蔽性を確保するという観点からは、メッシュ状導電層の厚みは０．３μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、更に０．８μｍ以上が好ましく、特に１μｍ以上が好ましい。
【００７５】
メッシュ状導電層の線幅は、３〜５０μｍ程度が適当であり、５〜４０μｍの範囲が好ましく、６〜３０μｍの範囲がより好ましく、特に８〜２５μｍの範囲が好ましい。メッシュ状導電層のピッチ（隣接する細線部と細線部との距離）は、５０〜５００μｍの範囲が適当であり、７５〜４５０ｎｍの範囲が好ましく、１００〜３５０μｍの範囲が更に好ましい。
【００７６】
メッシュ状導電層のメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
【００７７】
メッシュ状導電層の製造方法としては、公知の方法を用いることができるが、基材フィルムの易接着層上に接着剤を介在させずにメッシュ状導電層を形成して積層する製造方法が好ましい。かかる製造方法として、１）基材フィルムの易接着層上に気相製膜法及び／またはメッキ法により金属薄膜を形成した後にエッチング処理してメッシュパターン化する方法、２）基材フィルムの易接着層上に形成されたメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層に無電解メッキを施す方法が好ましく用いられる。
【００７８】
上記１）、２）のメッシュ状導電層の製造方法について詳細に説明する。以下のメッシュ状導電層の製造方法の説明において、易接着層が積層された基材フィルムを単に基材フィルムという。
【００７９】
上記１）の製造方法は、基材フィルム上に気相製膜法及び／またはメッキ法により金属薄膜を形成した後にエッチング処理してメッシュパターン化する方法であり、具体的には、基材フィルム上に金属薄膜を気相製膜法及び／またはメッキ法によって形成し、更にこの金属薄膜上にレジストパターンを形成した後、金属薄膜をエッチングする方法である。
【００８０】
基材フィルム上に金属薄膜を形成する方法として、気相製膜法、メッキ法のどちらか一方、あるいは気相製膜法とメッキ法とを併用する方法を用いることができるが、気相製膜法のみで金属薄膜を形成することが好ましい。気相法製膜法で金属薄膜を形成することによって、表面抵抗率が小さいメッシュ状導電層を薄膜で形成することができる。
【００８１】
気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられ、これらの１つの方法あるいは２以上の方法を組み合わせて用いることができる。本発明では、スパッタリング、イオンプレーティング、及び真空蒸着が好ましく、特にスパッタリング及び真空蒸着が好ましい。
【００８２】
金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。
【００８３】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材フィルムと銅薄膜との間に、０．００５〜０．１μｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。つまり、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、ニッケル薄膜と銅薄膜の積層構成とすることが好ましい。これによって、基材フィルムと銅薄膜の接着性が向上する。
【００８４】
また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、金属薄膜の反射色を調整することができる。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。
【００８５】
上記の金属化合物の厚みは、０．００５〜０．１μｍの範囲が好ましく、０．０１〜０．１μｍの範囲がより好ましい。この金属化合物層は、金属薄膜の一部を構成し、更にメッシュ状導電層の一部を構成する。メッシュ状導電層の表面に金属化合物層を設けることは、干渉縞低減の観点から好ましい。
【００８６】
金属薄膜上にはレジストパターンが形成される。かかるレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフ法や印刷法がある。
【００８７】
上記フォトリソグラフ法は、金属薄膜上にフォトレジスト層を積層し、所望のパターンのフォトマスクを介して露光、あるいはレーザーで直接に走査露光し、現像してレジストパターンを形成する方法である。金属薄膜上にフォトレジスト層を積層する方法としては、例えば、金属薄膜上にレジストフィルムを貼り付ける方法、あるいは液状レジストを塗布する方法が用いられる。
【００８８】
フォトレジスト層としては、露光部分が硬化し未露光部分が現像によって溶解するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。フォトレジスト層の現像処理における環境問題を考慮すると、アルカリ現像型フォトレジストが好ましい。
【００８９】
フォトレジスト層の現像に用いられる現像液としては、アルカリ現像液が好ましい。かかるアルカリ現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることができ、具体的には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物を、０．５〜５質量％含有するアルカリ性水溶液を用いることができる。一般的には、上記炭酸塩を０．１〜３質量％程度含有する弱アルカリ性水溶液が用いられている。現像温度は、１０〜５０℃程度が適当であり、一般的には２０〜４０℃の範囲である。
【００９０】
金属薄膜上にレジストパターンを印刷法で形成する方法は、紫外線や電子線等で硬化する樹脂とアルカリ可溶性樹脂を含むインキをグラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法等の印刷法により所望のレジストパターンを金属薄膜上に形成する方法である。上記の印刷法の中でも、生産性よく高精細で連続的にメッシュパターンが形成できることからグラビア印刷が好ましく用いられる。
【００９１】
上記のようにして、金属薄膜上にレジストパターンを形成した後、金属薄膜をエッチング処理することによってメッシュ状導電層が形成される。最後に、メッシュ状導電層上に残るレジストパターンが剥離除去される。エッチング処理方法としては、ケミカルエッチング法がある。ケミカルエッチング法とは、レジストパターンのレジストが被覆されていない部分の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。メッシュ状導電層上に残ったレジストパターンの剥離除去には、通常、１〜４質量％程度の水酸化ナトリウムを含有するアルカリ水溶液が用いられる。
【００９２】
また、上記したレジストパターンを形成するためのレジストに、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を含有させて、黒色化することができる。この黒色化されたレジストパターンは、除去せずに、メッシュ状導電層上にそのまま残すことによって、後述する黒化処理を省略することができる。本発明においては、上記メッシュ状導電層上に存在する黒色レジストパターンは、メッシュ状導電層の一部を構成する。
【００９３】
次に、メッシュ状導電層の好ましい製造方法の１つである、上記２）の製造方法について説明する。この製造方法は、基材フィルム上に形成されたメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層に無電解メッキを施す方法である。この方法は、先ず、基材フィルム上にメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層が形成される。
【００９４】
基材フィルム上にメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層を形成する方法としては、ａ）基材フィルム上に無電解メッキ触媒インキでパターン印刷する方法、ｂ）基材フィルム上に還元剤を含有するインキによりパターン印刷を行って還元剤含有パターン層を形成し、次いで還元剤含有パターン層上に、還元により無電解めっき触媒になり得る金属イオンを含む金属イオン溶液を塗布し、前記還元剤と金属イオンとの接触により該金属イオンを還元して無電解めっき触媒層を形成させる方法である。
【００９５】
上記ａ）の方法に用いられる無電解めっき触媒インキとしては、無電解めっき触媒、バインダー樹脂、及び有機溶剤を含むインキが挙げられる。無電解めっき触媒としては、高い触媒活性が得られることから、パラジウム、銀、白金、および金などの金属原子の塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン錯体などが用いられる。特に、パラジウム化合物が好ましく、更に塩化パラジウムが好ましい。この他、無電解めっき触媒としては、複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物を用いることもできる。前記複合金属酸化物としては、ＰｄＳｉＯ3、Ａｇ2ＳｉＯ3、ＰｄＴｉＯ3、Ａｇ2ＴｉＯ3、ＰｄＺｒＯ3及びＡｇ2ＴｉＯ3などが挙げられる。バインダー樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、及び塩化ビニル樹脂などが挙げられる。
【００９６】
上記無電解メッキ触媒インキを印刷するのに用いられる印刷方法としては、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等の公知の印刷方法が挙げられる。これらの中でも、生産性よく高精細で連続的にメッシュパターンが形成できることからグラビア印刷が好ましく用いられる。
【００９７】
上記ｂ）の方法に用いられる還元剤を含有するインキとしては、還元剤、バインダー樹脂及び溶剤が含むインキが挙げられる。還元剤としては、無電解めっき触媒になり得る金属のイオンと接触することで、該金属イオンを金属に還元し自らは酸化反応を起こすことのできる物質であれば特に限定されない。例えば、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ等の触媒金属より電気化学的に卑な金属の粒子や、Ｓｎ（II）、Ｆｅ（II）の塩等が挙げられる。これらの中でも、Ｓｎ（II）及びＦｅ（II）からなる群から選ばれる金属の塩が好ましく、更にＳｎ（II）の塩が好ましく用いられる。上記金属の塩としては、塩化物、硫酸塩、蓚酸塩、酢酸塩等が挙げられ、より好ましくは塩化物又は硫酸塩が挙げられる。特に好ましい金属塩としては、ＳｎＣｌ2及びＳｎＳＯ4からなる群から選ばれる金属塩が用いられる。バインダー樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂物、酢酸ビニル、塩化ビニル、ＰＶＡ、ＰＶＢ等のビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、アルキッド樹脂等が挙げられる。
【００９８】
上記の還元剤を含有するインキを印刷するのに用いられる印刷方法としては、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等の公知の印刷方法が挙げられる。これらの中でも、生産性よく高精細で連続的にメッシュパターンが形成できることからグラビア印刷が好ましく用いられる。
【００９９】
上記のようにして基材フィルム上に形成された還元剤含有パターン層上に、還元により無電解めっき触媒になり得る金属イオンを含む金属イオン溶液を塗布し、前記還元剤と金属イオンとの接触により該金属イオンを還元して無電解めっき触媒層を形成させる。かかる金属イオン溶液に含まれる金属イオンとしては、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈなどの金属のイオンが挙げられる。これらの中でも、Ｐｄ（II）イオン、Ａｇ（Ｉ）イオンが好ましく用いられる。上記金属イオンを含む溶液は、金属塩を溶液に溶解することにより得られる。用いられる金属塩としては、塩化物、臭化物、酢酸塩、硝酸塩、クエン酸塩等が挙げられる。具体的には、ＰｄＣｌ2、ＰｄＢｒ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＯ）2等のＰｄ（II）塩、ＣＨ3ＣＯＯＡｇ、ＡｇＮＯ3、クエン酸銀（Ｉ）等のＡｇ（Ｉ）塩、等が挙げられる。金属イオン溶液で使用する溶媒としては、水が好ましい。また、上記金属イオン溶液中における金属塩の濃度は、用いる金属塩の種類により異なるが、ＰｄＣｌ2を用いる場合は、ＰｄＣｌ2を０．０１〜３ｇ／ｌの濃度となるように配合するのが好ましい。また、同時に金属塩を溶解する目的で塩酸を配合するのが好ましい。塩酸の配合割合としては、例えば３５％塩酸を１〜３０ｍｌ／ｌ程度配合するのが好ましい。
【０１００】
上記金属イオン溶液は、還元剤含有パターン層上に塗布し、該金属イオン溶液中に含まれる金属イオンを還元剤と接触させることにより該金属イオンが還元されて触媒金属となり、メッシュパターン状の無電解めっき触媒層が形成される。
【０１０１】
上記ｂ）の方法については、例えば特開２００９−１２３４０８号公報に記載されており、本発明に用いることが可能である。
【０１０２】
上述のａ）あるいはｂ）の方法で、基材フィルム上にメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層が形成された後、無電解メッキが施される。無電解メッキに用いられる金属としては、銅、ニッケル、金、銀、錫、亜鉛、もしくはそれらの合金が挙げられる。これらの中でも銅が好ましく用いられる。この無電解メッキによって、基材フィルム上にメッシュ状導電層が形成される。更に、上記で形成されたメッシュ状導電層上に電解銅メッキを施すことができ、更に、メッシュ状導電層表面を黒化するために、黒色合金（亜鉛−ニッケル合金、ニッケル−錫合金等）をメッキすることができる。この黒色合金メッキを施すことにより、以下の黒化処理を省略することができる。
【０１０３】
メッシュ状導電層に上記の黒色合金メッキあるいは以下の黒化処理を施すことは、干渉縞低減の観点から好ましい。
【０１０４】
本発明にかかるメッシュ状導電層は、黒化処理されたものであってもよい。ここで、黒化処理とは、メッシュ状導電層を構成する金属表面を化学的に処理して黒化するものである。黒化処理としては例えば、酸化処理、硫化処理等が挙げられる。上記酸化処理としては、次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を用いることができるが、経済性の点から、次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を用いることが好ましい。上記硫化処理としては、硫酸カリウム、硫酸バリウム、硫酸アンモニウム等の水溶液を使用することができるが、好ましくは、硫酸カリウム及び硫酸アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫酸アンモニウムを用いることが好ましい。
【０１０５】
本発明にかかるメッシュ状導電層は、ディスプレイに設置したときに透光部となる部分以外、つまり画像表示領域以外の部分や額縁印刷に隠れた部分は、必ずしもメッシュパターンを有している必要がなく、これらの部分はパターニングされていない、例えば金属ベタであっても良い。しかし、メッシュ状導電層上に表面層を生産性よく均一に連続塗工するというという観点から、メッシュ状導電層は連続的にメッシュパターンが形成されていることが好ましい。
【０１０６】
上記の連続的にメッシュパターンが形成されているとは、例えば、長尺の基材フィルムの長手方向にメッシュ状導電層のメッシュパターンが途切れることなく連続的に形成されていることを言う。
【０１０７】
（メッシュ状導電層と表面層との関係（１））
前述したメッシュ状導電層の好ましい製造方法の１つである、１）の方法で製造されたメッシュ状導電層は、厚みが比較的小さくとも高い電磁波シールド性が得られる。具体的には、メッシュ状導電層の厚みが３μｍ未満、更には２．５μｍ未満であっても十分な電磁波遮蔽性能を確保することができる。
【０１０８】
従って、上記メッシュ状導電層を用いる場合、メッシュ状導電層の厚みは、０．３μｍ以上３μｍ未満が好ましく、０．５μｍ以上２．５μｍ未満がより好ましく、特に１μｍ以上２μｍ未満が好ましい。
【０１０９】
このような比較的厚みの小さいメッシュ状導電層に表面層を積層して、表面層表面の中心線平均粗さＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満とするには、表面層の厚みは、１〜１２μｍの範囲が好ましく、２〜１０μｍの範囲がより好ましく、特に３〜９μｍの範囲が好ましい。
【０１１０】
上記したように、比較的厚みの小さいメッシュ状導電層を用いることによって、表面層の厚みも比較的小さくすることができるので、特にハードコート層を含む表面層を用いるときに、ディスプレイ用フィルターのカールの発生を抑制することができる。
【０１１１】
（メッシュ状導電層と表面層との関係（２））
前述したメッシュ状導電層の好ましい製造方法の１つである、２）の方法で製造されたメッシュ状導電層は、基材フィルム上に形成されたメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層の厚みを考慮する必要があり、従って上記２）の方法で製造されたメッシュ状導電層は十分な電磁波シールド性を確保するために、その厚みは３μｍ以上とすることが好ましく、更に４μｍ以上とすることが好ましい。但し、メッシュ状導電層の厚みの上限は８μｍ未満とすることが好ましく、７μｍ未満とすることがより好ましく、更に６μｍ未満とすることが好ましい。
【０１１２】
このような比較的厚みの大きいメッシュ状導電層に表面層を積層して、表面層表面の中心線平均粗さＲａを２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満とするには、表面層の厚みは、３〜２０μｍの範囲が好ましく、４〜１８μｍの範囲がより好ましく、特に５〜１６μｍの範囲が好ましい。
【０１１３】
（表面層の機能）
前述したように、本発明にかかる表面層はハードコート層を含むことが好ましい。ここでハードコート層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
また、前述したように、本発明にかかる表面層は、反射防止層を含むことができる。
【０１１４】
また、本発明にかかる表面層には、無機系近赤外線吸収剤を含有させて近赤外線遮蔽機能を付与することができる。特に、表面層を構成するハードコート層に無機系近赤外線吸収剤を含有させることができる。
【０１１５】
また、本発明の表面層には、帯電防止性が付与されていることが好ましい。
【０１１６】
（基材フィルム）
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる基材フィルムは、屈折率が１．６０以上１．７０未満の範囲であることが好ましい。基材フィルムの屈折率は、より好ましくは１．６２〜１．６６の範囲である。
【０１１７】
かかる基材フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂フィルムが好ましく用いられ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく用いられる。
【０１１８】
基材フィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コスト及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から９０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１１９】
本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、基材として１枚のみのプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。
【０１２０】
（易接着層）
上記の基材フィルムに積層される易接着層は、屈折率が１．５４以上１．６０未満であることが好ましい。易接着層の屈折率は、より好ましくは１．５５以上１．６０未満であり、特に好ましくは１．５６以上１．５９未満である。
【０１２１】
易接着層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂で形成することができる。
【０１２２】
易接着層の屈折率の調整は、例えば、金属酸化物、硫黄原子や芳香族環を含む樹脂等の高屈折率化合物を含有させることによって行うことができる。上記金属酸化物としては、前述の高屈折率層に用いられる金属酸化物微粒子と同様のものを用いることができる。
本発明においては、易接着層に、芳香族環（ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等）を有する樹脂（例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等）を含有させることが好ましく、特に上記芳香族環を有するポリエステル樹脂を含有させることが好ましい。
【０１２３】
易接着層は、更に架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【０１２４】
易接着層は、更に易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、無機微粒子を含有することが好ましい。かかる無機微粒子としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
【０１２５】
易接着層の厚みは、５〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜１５０ｎｍの範囲がより好ましい。
【０１２６】
（近赤外線遮蔽層）
基材フィルムのメッシュ状導電層が積層された側の面とは反対面に、近赤外線遮蔽層を有することが好ましい。かかる近赤外線遮蔽層は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における平均透過率が２０％以下となるように調整するのが好ましい。基材フィルムの近赤外線遮蔽層が積層される面にも易接着層を設けることができ、この場合の易接着層は、基材フィルムのメッシュ状導電層が積層される側の面の易接着層と同じ易接着層であっても、異なる易接着層であってもよい。
【０１２７】
近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含む樹脂層であってもよいし、近赤外線吸収剤を含む粘着剤層であってもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１２８】
樹脂バインダーとしては、ポリエステル系樹脂、（ メタ） アクリル系樹脂、（ メタ） アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも（ メタ） アクリル系樹脂が好適である。
【０１２９】
粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリビニルブチラール系、エチレン−酢酸ビニル系等の粘着剤層を用いることができる。特にアクリル系粘着剤が好ましい。
【０１３０】
近赤外線遮蔽層には、更に、５７０〜６１０ｎｍに極大吸収を有する色素、例えばテトラアザポルフィリン系色素を含有させることが好ましい。前記吸収極大波長における透過率は３０％以下となるように調整することが好ましい。
【０１３１】
また、近赤外線遮蔽層には、５００ｎｍ付近、５５０ｎｍ付近に吸収を有する色素を含有させて色補正機能を付与することができる。
【０１３２】
（粘着剤層）
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材フィルムに対してメッシュ状導電層とは反対側の最表面に粘着剤層を有することが好ましい。かかる粘着剤層は、本発明のディスプレイ用フィルターを、ディスプレイに直接にあるいはガラス板やアクリル板等の高剛性の透明基板を介して間接的に貼り付ける役目を有する。本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用フィルターに直接に貼り付けられることが好ましい。
【０１３３】
また、近赤外線遮蔽層が粘着剤層である場合は、この粘着剤層が上記の貼着用粘着剤層の役目を兼ねることができる。
【０１３４】
（ディスプレイ用フィルターの構成）
本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、１枚のみの基材フィルムからなる１枚基材フィルターであることが好ましい。かかる１枚基材フィルターの好ましい構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されない。
１）粘着剤層／近赤外線遮蔽層／基材フィルム／易接着層／メッシュ状導電層／表面層
２）近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層／基材フィルム／易接着層／メッシュ状導電層／表面層
３）粘着剤層／基材フィルム／易接着層／メッシュ状導電層／近赤外線遮蔽機能を有する表面層。
【０１３５】
尚、本発明のディスプレイ用フィルターは、その製造過程や物流過程で、離型フィルムあるいは保護フィルムを粘着剤層及び表面層の表面に積層することができるが、これらの離型フィルムや保護フィルムは最終的には剥離除去されるので、上記構成例から除外している。
【０１３６】
なお、ディスプレイ用フィルターの製造工程及びディスプレイ用フィルターのディスプレイへの装着工程における、ロールの巻き出し時や重畳シート（シートが複数枚積み重ねられたもの）の剥離時の帯電を抑制するという効果に着目すれば、基材フィルムの屈折率、易接着層の屈折率、および表面層の中のメッシュ状導電膜に隣接する層の屈折率は特に限定される必要はなく、また、易接着層も必ずしも必要という訳ではない。つまり、これまで説明してきた発明を本願の第１の発明とすると、ロールの巻き出し時や重畳シートの剥離時の帯電抑制という効果は、次の本願の第２の発明によっても達成される。
【０１３７】
つまり、基材フィルム、メッシュ状導電層、及び１以上の層からなる表面層がこの順に積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であり、前記表面層側の表面抵抗率が１×１０１３Ω／□未満であることを特徴とするスプレイ用フィルターである。
【０１３８】
本願の第２の発明は、さらに光沢感と透明感を良好にし、干渉縞を低減するために、基材フィルムとメッシュ状導電層の間に易接着層を有し、基材フィルムの屈折率を１．６０以上１．７０未満、易接着層の屈折率を１．５４以上１．６０未満、表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層の屈折率を１．４５以上１．５４未満とすることが好ましい。
【０１３９】
これら、本願の第２の発明における基材フィルム、メッシュ状導電層、表面層、易接着層の詳細は、本願の第１の発明と同じであり、前述のとおりである。
【０１４０】
さらに、本願の第２の発明は、ハードコート層、反射防止層、低屈折率層、高屈折率層、近赤外遮蔽層、粘着剤層を有していてもよく、これらの各層の詳細も本願の第１の発明と同じであり、前述のとおりである。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【０１４２】
（評価方法）
（１）表面層表面の中心線平均粗さＲaの測定
ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２）に基づき、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。サンプルの５箇所について計測し、その平均値を求め、表面層表面の中心線平均粗さＲａとした。なお測定の際は、サンプルの粘着剤層側を厚み２．５ｍｍのガラス板に貼り付けたものを用いた。また、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、メッシュ状導電層の細線部に平行で、かつメッシュ状導電層の開口部のほぼ中心を通るようにセットし、測定した。
＜測定条件＞
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；０．２５ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ。
【０１４３】
（２）基材フィルム及び易接着層の屈折率の測定
＜基材フィルムの屈折率の測定＞
ＪＩＳ  Ｋ７１０５（１９９９年）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
＜易接着層の屈折率の測定＞
屈折率が既知の基材フィルムに易接着層が積層された状態で反射率を測定し、その反射率と基材フィルムの屈折率と易接着層の厚みとから易接着層の屈折率を算出した。
上記反射率は、易接着層とは反対側の基材フィルム面に＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、易接着層とは反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて５５０ｎｍの反射率を測定した。
【０１４４】
（３）表面層の屈折率の測定
シリコンウエハー上に乾燥膜厚が１．５μｍとなるように、測定対象となる層の塗料をスピンコーターを用いて塗布する。次いでイナートオーブンＩＮＨ−２１ＣＤ（光洋サーモシステム（株）社製）を用いて、１３０℃で１分間、加熱硬化することにより被膜を形成する。この被膜について、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
【０１４５】
（４）表面層を構成する各層の厚みの測定
サンプルのメッシュ状導電層の開口部の重心を通るようにミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、表面層を構成する各層の厚みを計測した。各実施例及び比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し平均した。
【０１４６】
（５）メッシュ状導電層の厚みの測定
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。各実施例及び比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し平均した。
【０１４７】
（６）メッシュ状導電層の線幅、ピッチの測定
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状メッシュ状導電層の線幅とピッチを測長した。各実施例及び比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の１０箇所について計測し平均した。
【０１４８】
（７）表面層表面の視感反射率の測定
＜評価用サンプルの作成＞
各サンプルの粘着剤層側をガラス板に貼り付け、該ガラス板の反対面（ディスプレイ用フィルターサンプルが貼り付けられた面とは反対側の面）に黒テープ（日東電工製  Ｎｏ．２１トク（ＢＣ））を貼り付けて評価用サンプルを作製した。
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ  （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
【０１４９】
（８）光沢感の評価
上記（７）と同様にして、評価用サンプルを作製する。暗室中で、評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面から直上５０ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面を正面３０ｃｍの距離から目視観察し、ディスプレイ用フィルター側最表面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を以下の基準で評価する。
・映り込み像の輪郭がかなり鮮明に見える  ：  ○
・映り込み像の輪郭が鮮明さに欠ける      ：  ×。
【０１５０】
（９）透明感の評価
ディスプレイ用フィルターの表面層側の透明感が低下すると、ディスプレイ用フィルターを介して視認される黒画像が白っぽく見えるようになるので、黒画像が白っぽく見える程度を下記の方法で評価した。
上記（７）と同様にして評価用サンプルを作製する。この評価用サンプルを一般的な事務作業部屋（照度は蛍光灯下約５００ルックス）の机上に評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側が上になるように置いて、評価用サンプルを斜め４５°の角度から目視で観察し、評価用サンプルの裏面の黒テープの黒がどの程度白っぽく見えるかを以下の基準で評価した。
・黒が白っぽさを感じない      ：  ○
・黒が白っぽさを感じる        ：  ×。
【０１５１】
（１０）干渉縞の評価
上記（７）と同様にして評価用サンプルを作製する。暗室中で、評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面から直上５０ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面を正面３０ｃｍの距離から目視観察し、干渉縞の発生程度を以下の基準で評価する。
・干渉縞の発生がほとんど認められない  ：  ○
・干渉縞の発生が認められる            ：  ×。
【０１５２】
（１１）表面層側の表面抵抗率の測定
表面層側の表面抵抗率をＪＩＳ Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して、高抵抗率計（三菱化学株式会社製「Ｈｉｒｅｓｔａ（登録商標）−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０」）を用いて測定した。ただし、導電性ゴムまたは導電性ペイントで裏面電極を形成する代わりに、金属板の上にサンプルを設置し、測定雰囲気は温度２０℃、湿度３０％ＲＨとした。サンプルは、表面層とは反対側に粘着剤層を形成する前、または粘着剤層を剥がしたものとし、基材フィルム面に裏面電極代わりの金属板を密着させて測定した。印加電圧は５００Ｖとし、表面抵抗率が１×１０１３Ω／□以上となる場合は１０００Ｖにした。測定した結果を以下の基準で評価した。
Ａ；表面抵抗率が１×１０１１Ω／□未満
Ｂ；表面抵抗率が１×１０１１Ω／□以上１×１０１２Ω／□未満
Ｃ；表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以上１×１０１３Ω／□未満
Ｄ；表面抵抗率が１×１０１３Ω／□以上。
【０１５３】
（１２）無機系微粒子の数平均粒子径の測定
無機系微粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製のＨ−７１００ＦＡ型）を用いて、無機系微粒子分散物を倍率１０万〜５０万倍で撮影して得られた写真投影図において、任意の５０個の粒子についてそれぞれの最大径を測定し、平均したものである。撮影倍率は、無機系微粒子の数平均粒子径に応じて適宜選択する。
【０１５４】
＜易接着層付き基材フィルム＞
基材フィルムとして、厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を用意した。このＰＥＴフィルムの屈折率は１．６４であった。
次に、上記基材フィルムに屈折率の異なる易接着層をそれぞれ厚みが１００ｎｍとなるように積層して、下記の３種類の易接着層付き基材フィルムを用意した。
易接着層付き基材フィルム（ａ）；易接着層の屈折率１．５８
易接着層付き基材フィルム（ｂ）；易接着層の屈折率１．５０
易接着層付き基材フィルム（ｃ）；易接着層の屈折率１．６４。
【０１５５】
（実施例１）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜メッシュ状導電層の作製＞
易接着層付き基材フィルム（ａ）の易接着層の面に、スパッタリング法によるニッケル層（厚み０．０１μｍ）、真空蒸着法による銅層（厚み１．５μｍ）、スパッタリング法による窒化銅層（厚み０．０３μｍ）をこの順に製膜した。続いて、上記の窒化銅層の表面にレジスト層（アルカリ現像型ネガレジストフィルム）を積層し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後にレジスト層を剥離除去して、メッシュ状導電層を作製した。このメッシュ状導電層は、開口部が正方形の格子状パターンであり、厚みが１．５μｍ、線幅が２０μｍ、ピッチが３００μｍであった。
【０１５６】
＜表面層の形成＞
上記のメッシュ状導電層上に、表面層として下記のハードコート層を積層した。
＜ハードコート層＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、ウレタンアクリレートを３５質量部、数平均粒子径１２ｎｍのシリカ系微粒子（日産化学製「オルガノシリカゾル（登録商標）ＭＥＫ−ＳＴ」）を３０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)を３質量部、フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ（株）「ディフェンサ（登録商標）ＭＣＦ−３５０−ＳＦ」０．５質量部を有機溶媒（メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンの混合溶媒）で溶解希釈して塗料を調製した。この塗料の粘度（２３℃）は７ｍＰａ・ｓ、屈折率は１．５０であった。
上記のようにして調製した塗料をグラビアコーターで塗工し、１００℃で乾燥後、紫外線を照射して硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層の厚み（乾燥硬化後の厚み）は５μｍであった。
【０１５７】
＜ディスプレイ用フィルターの作製＞
上記基材フィルムのメッシュ状導電層及び表面層が形成されている面とは反対面に、下記の近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層を積層してディスプレイ用フィルターを作製した。
＜近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層の積層＞
アクリル系粘着剤２００質量部（粘着剤成分に換算した量として）に、ジイモニウム系近赤外線吸収色素を３質量部、フタロシアニン系近赤外線吸収色素を１質量部、５７０〜６１０ｎｍに極大吸収波長を有するネオン光カット色素としてテトラアザポルフィリン（三井化学（株）製、商品名「ＰＤ−３２０」）０．３質量部を混合したものを乾燥厚みが２５μｍとなるように、離型ＰＥＴフィルム（厚み３８μｍ）上にスロットダイコーターで塗工し、乾燥して粘着剤層を形成した。次に、この離型ＰＥＴフィルムに塗工された粘着剤層を、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのメッシュ状導電層及び表面層が形成されている面とは反対面に積層した。
【０１５８】
（実施例２）
表面層を実施例１のハードコート層と下記の反射防止層（低屈折率層のみ）の積層タイプに変更したこと以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜反射防止層（低屈折率層）＞
市販の低屈折率塗料（ＪＳＲ（株）製ＴＵ２１８０：屈折率１．３７）に、メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノブチルエーテルを１：１の比率で加えて、固形分濃度が３質量％の塗布液を調製した。この塗布液をハードコート層上にマイクログラビアコーターで塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成した。この低屈折率層の厚みは０．１μｍであった。
【０１５９】
（比較例１）
実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。但し、ハードコート層の厚みを３μｍに変更した。
【０１６０】
（比較例２）
実施例１のハードコート層を下記のハードコート層に変更した以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜ハードコート層＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５０質量部、ウレタンアクリレートを５０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶媒（メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンの混合溶媒）で溶解希釈して、粘度（２３℃）は７ｍＰａ・ｓの塗料を得た。この塗料の屈折率は１．５１であった。
【０１６１】
（比較例３）
実施例１の易接着層付き基材フィルム（ａ）を易接着層付き基材フィルム（ｂ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１６２】
（比較例４）
実施例１の易接着層付き基材フィルム（ａ）を易接着層付き基材フィルム（ｃ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１６３】
（実施例３）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜メッシュ状導電層の作製＞
＜メッシュパターン状の無電解メッキ触媒層の形成＞
易接着層付き基材フィルム（ａ）の易接着層の面に、ポリエステル樹脂と該ポリエステル樹脂に対して無電解メッキ触媒（塩化パラジウム）を１０質量％含む無電解めっき触媒インキをメッシュパターン状にグラビア印刷し、加熱乾燥してメッシュパターン状の無電解めっき触媒層を形成した。このメッシュパターン状の無電解めっき触媒層は、開口部が正方形の格子状パターンであり、線幅が２０μｍ、ピッチが３００μｍであった。
＜銅メッキ＞
上記無電解めっき触媒層を５％の硫酸により脱脂処理した後、無電解銅メッキを施して無電解メッキ触媒層上に無電解銅メッキ層を形成した。続いて、上記無電解銅メッキ層上に電解銅メッキを施して電解銅メッキを形成した。上記無電解銅メッキ層と電解銅メッキ層の合計の厚みは２μｍであった。
＜黒化層の形成＞
上記の電解銅メッキ層上に、更にニッケル−亜鉛合金メッキを施して、黒化層を有するメッシュ状導電層を作製した。このメッシュ状導電層は、厚みが４．５μｍ、線幅は２３μｍ、ピッチが２９７μｍであった。
＜表面層の形成＞
上記のメッシュ状導電層上に、実施例１と同様のハードコート層を厚みが１６μｍとなるように積層したこと以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１６４】
（実施例４）
実施例３と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。但し、ハードコート層上に実施例２と同様の低屈折率層を積層した。
【０１６５】
（比較例５）
実施例３と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。但し、ハードコート層の厚みを１２μｍに変更した。
【０１６６】
（比較例６）
実施例３のハードコート層を比較例２のハードコート層に変更した以外は、実施例３と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１６７】
（比較例７）
実施例３の易接着層付き基材フィルム（ａ）を易接着層付き基材フィルム（ｂ）に変更した以外は、実施例３と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１６８】
（比較例８）
実施例３の易接着層付き基材フィルム（ａ）を易接着層付き基材フィルム（ｃ）に変更した以外は、実施例３と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１６９】
（実施例５）
実施例１のハードコート層を下記のハードコート層に変更した以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜ハードコート層＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、ウレタンアクリレートを３１質量部、数平均粒子径１２ｎｍのシリカ系微粒子（日産化学製「オルガノシリカゾル（登録商標）ＭＥＫ−ＳＴ」）を３０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)を３質量部、帯電防止剤としてメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド（共栄社化学（株）製「ライトエステルＤＱ−１００」）４質量部を有機溶媒（メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンの混合溶媒）で溶解希釈して塗料を調製した。この塗料の粘度（２３℃）は７ｍＰａ・ｓ、屈折率は１．５０であった。
【０１７０】
（実施例６）
実施例３のハードコート層を実施例５のハードコート層に変更した以外は、実施例３と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１７１】
（実施例７）
実施例１のハードコート層を下記のハードコート層に変更した以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜ハードコート層＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、ウレタンアクリレートを２５質量部、数平均粒子径１２ｎｍのシリカ系微粒子（日産化学製「オルガノシリカゾル（登録商標）ＭＥＫ−ＳＴ」）を３０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)を３質量部、下記の帯電防止剤を固形分換算で１０質量部を有機溶媒（メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンの混合溶媒）で溶解希釈して塗料を調製した。この塗料の粘度（２３℃）は７ｍＰａ・ｓ、屈折率は１．５０であった。
＜帯電防止剤＞
温度計、撹拌機、水冷コンデンサーおよび窒素ガス吹込み口を備えた４つ口フラスコに、ブチルメタクリレート４５ｇ（０．３２ｍｏｌ）、ジメチルアミノエチルメタクリレート３６ｇ（０．２３ｍｏｌ）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５ｇ（０．０４ｍｏｌ）及びメタノール８５ｇを仕込み、６５℃で６時間反応させた。次いでこの反応物に、４級塩化剤であるジメチル硫酸２９ｇ（０．２３ｍｏｌ）を約１時間半かけて滴下し、滴下終了後そのまま反応を継続し、４時間かけて冷却して、固形分濃度５０質量％の４級アンモニウム塩基含有（メタ）アクリル系コポリマーを得た。
【０１７２】
（評価）
上記で作製した実施例及び比較例のそれぞれのサンプルについて、表面層表面の中心線平均粗さＲａ、表面層表面の視感反射率、表面抵抗率、光沢感、透明感、及び干渉縞について、測定及び評価をおこなった。その結果を表１に示す。
【０１７３】
【表１】
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【０１７４】
表１の結果から、本発明の実施例はいずれも、光沢感と透明感が良好で、干渉縞の発生も十分に抑制されていることが分かる。また、実施例５〜７は、表面抵抗率が１×１０１３Ω／□未満であり、帯電防止性が良好であった。
【０１７５】
一方、比較例１、５は、表面層表面の中心線平均粗さＲａが５０ｎｍ以上であり、光沢感と透明感が劣っている。比較例２、６は、表面層表面の中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ未満であり、干渉縞の発生が抑制されていない。比較例３、７は、易接着層の屈折率が１．５４未満であり、渉縞の発生が抑制されていない。比較例４、８は、易接着層の屈折率が１．６０以上であり、渉縞の発生が抑制されていない。