(57)【要約】【課題】ＬＥＤ光源の隠蔽性と光透過率が高く、製造適性に優れたＬＥＤ照明用光拡散シートを提供する。【解決手段】ポリエステルからなる支持体１１の片面には、第１の樹脂層１２ａ、第２の樹脂層１２ｂがこの順で積層された光拡散部１２が設けられている。第１の樹脂層１２ａと第２の樹脂層１２ｂとは微粒子と水溶性及び／または水分散性のポリマーを含有する。第１の樹脂層１２ａは前記ポリマーに対して１０〜４００質量部の微粒子１５を含有し、第２の樹脂層１２ｂは前記ポリマーに対して８０〜５００質量部の微粒子１５を含有する。光拡散部１２を設けることで、ＬＥＤ光源の隠蔽性と光透過率を高くし、光拡散層塗布製造時の表面の傷つきを防止し、熱収縮率の大きい支持体１１に対して、光拡散部１２とは反対側に水系のハードコート層１４を設けることで、塗布する際のひび割れを防止する。【選択図】図１
2011065139.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルからなる支持体の片面に、第１の樹脂層、第２の樹脂層がこの順で積層された光拡散シートであって、第１の樹脂層および第２の樹脂層は少なくとも１種以上の微粒子と水溶性及び／または水分散性のポリマーとを含有し、前記第１の樹脂層に含有される微粒子の含有量が、１００質量部の前記水分散性ポリマーに対して５質量部以上４００質量部であり、前記第２の樹脂層に含有される微粒子の含有量が、前記ポリマーに対して８０質量部以上５００質量部であることを特徴とする光拡散シート。
【請求項２】
前記第１の樹脂層に含有される微粒子が平均粒径０．００５μｍ以上１μｍ以下の無機微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の光拡散シート。
【請求項３】
前記無機微粒子がシリカからなる微粒子であることを特徴とする請求項２に記載の光拡散シート。
【請求項４】
前記第１の樹脂層に含有される微粒子が平均粒径０．１μｍ以上２０μｍ以下の有機微粒子であることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の光拡散シート。
【請求項５】
前記第２の樹脂層に含有される微粒子が平均粒径３μｍ以上２０μｍ以下の有機微粒子であることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項に記載の光拡散シート。
【請求項６】
前記有機微粒子がポリスチレン、ポリメチルメタクリレートのうち少なくとも１種からなることを特徴とする請求項４又は５に記載の光拡散シート。
【請求項７】
前記水溶性及び／または水分散性ポリマーがポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂のうち少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光拡散シート。
【請求項８】
前記支持体は、１７０℃、１０分間の加熱処理を行なったときの加熱収縮率が０．０５％以上３．０％以下の範囲にあり、前記支持体のもう一方の面には、水系ハードコート層が設けられていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の光拡散シート。
【請求項９】
波長４１０ｎｍの光の透過率が５％以下であることを特徴とする請求項１ないし８いずれか１項に記載の光拡散シート。
【請求項１０】
紫外線吸収剤を含む層が備えられたことを特徴とする請求項９に記載の光拡散シート。
【請求項１１】
前記紫外線吸収剤を含む層は、溶液における最大吸収波長が４００ｎｍ以下である化合物を５ｇ／ｍ２以下含有する層であることを特徴とする請求項１０に記載の光拡散シート。
【請求項１２】
前記紫外線吸収剤を含む層は、前記支持体であることを特徴とする請求項１０または１１記載の光拡散シート。
【請求項１３】
前記紫外線吸収剤は、下記の一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１０ないし１２いずれか１項記載の光拡散シート。
【化４６】
2011065139.tif 000050
ここで、Ｈｅｔ１は、少なくとも１つのヘテロ原子を有する２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表し、縮環しているものを含む。Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈは、互いに独立して、水素原子または１価の置換基Ｒを表す。
【請求項１４】
前記一般式（１）で表される化合物を第１の前記紫外線吸収剤とするときに、第２の前記紫外線吸収剤は、３２０ｎｍにおける吸光度が２７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲での極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下である化合物であることを特徴とする請求項１３記載の光拡散シート。
【請求項１５】
下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）で表される各化合物のうち少なくともいずれか１つを含む層を備えたことを特徴とする請求項１０ないし１４いずれか１項記載の光拡散シート。
【化４７】
2011065139.tif 000051
［ここで、一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ９１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）のいずれかひとつを表す。Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９は互いに独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基のいずれかひとつを表す。−Ｘ９１−は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（−Ｒ１００）−を表す。ここで、Ｒ１００は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）のいずれかひとつを表す。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６は互いに独立して、それぞれ水素原子又は置換基を表す。Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００は互いに結合して５〜７員環を形成したものを含み、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成したものを含む。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ１００のすべてが水素原子である場合を除く。Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ１００の総炭素数は１０以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基を表し、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４が結合し、５〜７員環を形成したものを含む。Ｘ１０１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルもしくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、オキシラジカル基を表す。Ｘ１０２は５〜７員環を形成する非金属原子群を表す。
一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ１０５、Ｒ１０６は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ１０７は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、Ｒ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７が互いに結合し、５〜７員環を形成したものを含む。但し、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。ここで、Ｒ１０５、Ｒ１０６の両方が水素原子であることはなく、Ｒ１０５とＲ１０６との総炭素数は７以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１、Ｒ１１２は脂肪族基を表し、Ｒ１１１とＲ１１２が互いに結合し、５〜７員環を形成したものを含む。ｎは０、１、２を表す。但し、Ｒ１１１とＲ１１２の総炭素数は１０以上である。
一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１、Ｒ１２２は脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２３は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３が互いに結合し、５〜８員環を形成したものが含まれる。但し、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３の総炭素数は１０以上である。］
【請求項１６】
前記微粒子を非含有とする層のヘイズ値が１０％以下であることを特徴とする請求項１ないし１４いずれか１項記載の光拡散シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散シートに関する。詳しくはＬＥＤ光源を有する各種表示装置、各種照明装置に好適な光拡散シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＬＥＤを光源に用いた種々の形態のディスプレイや照明装置が提供されている。ＬＥＤの中でも白色ＬＥＤは照明用光源として注目され、近年、近紫外ＬＥＤを励起源として用いた白色ＬＥＤがその高い演色性から、次世代の照明装置や画像表示装置の光源として期待されている。ＬＥＤは低消費電力で長期信頼性に優れるが、ＬＥＤの光は指向性が強く照射光が広がりにくい特徴がある。従って、ＬＥＤを照明装置の光源として用いた場合には、一定の方向に対しては高い輝度の光を照射するが、それ以外の方向では輝度が弱くなる。このため、特定の方向から直接照明装置を見た場合には目に対する刺激が強すぎることがあり、照明場所によっては照明輝度のムラが生じるという不都合がある。そこで、ＬＥＤから発せられた光を光拡散性の部材に通して、光を様々な方向に拡散させることによって、いずれのＬＥＤから光が発せられたかを分らないようにしている（ＬＥＤ光源の隠蔽性）。これにより、ＬＥＤから発せられる光の全体が均一化されるため、照明輝度にムラが生じなくなる。
【０００３】
従来、照明に使用される光拡散性のある部材は、酸化チタンなどを練りこんだアクリル成型板の光拡散板が主流であり、これでＬＥＤ光源の隠蔽性を高めようとすると、光透過率が低下してしまう問題があった。一方で、ＬＣＤ用バックライトなどに使用されている拡散フィルムを用いると、透過率は高いが、拡散性が低いために隠蔽性が不足する問題があった。また、特許文献１には、プラスティックフィルム上に透明樹脂層とプラスティックビーズと樹脂からなる光拡散層を設けてなる光拡散シートが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３４８５６１３号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１で知られる光拡散シートは、プラスティックビーズによる光拡散性を効果的に利用するものではあるが、特に光源にＬＥＤを利用した照明装置に用いた場合、光透過率を向上させることはできるものの、ＬＥＤ光源の隠蔽性は未だ十分ではない。また、用途によっては光拡散シートの表面を他の機能部品でカバーするなどの後加工が施されることもあるため、その表面に傷がつき易く、この傷が輝度ムラなどの原因となるおそれがある。さらに、水系の透明樹脂層を連続塗布して製造する際には、透明樹脂層に傷が付き易く輝度ムラが生じるおそれがある。これに対して、透明樹脂層の塗布温度を高くすることで塗膜の硬化を促進し耐傷性を改善することはできるが、シート表面の耐傷性を高める目的でハードコート層を光拡散層の反対側に形成する場合には、ハードコート層の形成に水性塗布液を使用すると、塗布温度を高くすることによってハードコート層にひび割れが発生するおそれがある。
【０００６】
ハードコート層の形成に使用される材料としては、複層フィルムの製造の容易さから、紫外線や電子線などを照射して硬化する多官能のアクリルモノマー、オリゴマーを含む素材が多く使用されている。その他に、アルコキシシランの加水分解とこの加水分解で生じるシラノールの脱水縮合とを利用する湿気熱硬化型のシリカ系ハードコート層材料が使用されることが多い。しかしこれらの材料では、十分な硬さのハードコート層を形成することはできるものの、ハードコート層を形成するための塗布液の溶剤として有機溶剤を使用し、しかも多量に使用するので、環境上好ましくない。
【０００７】
これに対して、ハードコート層の形成に水性塗布液を用いた場合には、有機溶剤のように、環境に対して悪影響を及ぼすことは無いが、十分な硬さのハードコート層を形成するために１７０℃以上での高温乾燥処理が必要となる。例えば、水性塗布液を使用したハードコート層を支持体の一方の面に形成した後、もう一方の面に光拡散層を形成する場合には、ハードコート層形成後の支持体が熱収縮によって変形し、光拡散層を形成する際に塗布ムラが発生して光拡散層の均一性が低下する問題があった。これとは反対に、光拡散層を形成した後にハードコート層を形成する場合、光拡散層の乾燥温度が高すぎると、ハードコート塗布時の支持体の熱収縮が低下し、ハードコート層にひび割れが生じる問題があった。
【０００８】
また、以上の問題に加え、近紫外ＬＥＤを励起源として用いるＬＥＤは、前述のような利点があるものの、一方では、有害なUV光が漏れてくるという問題がある。
【０００９】
そこで、本発明は、ＬＥＤ光源の隠蔽性と光透過率が高い、水系ハードコートが積層されたＬＥＤ照明用の光拡散シートの提供を目的とする。さらには、製造過程において表面に傷が付きにくい、すなわち耐傷性に優れ、水系ハードコートを積層する際の製造適性に優れたＬＥＤ照明用の光拡散シートの提供を目的とする。加えて、本発明は、高演色性を保持しながら近紫外光を吸収する光拡散シートの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明は、ポリエステルからなる支持体の片面に、第１の樹脂層、第２の樹脂層がこの順で積層された光拡散シートであって、第１の樹脂層および第２の樹脂層は少なくとも１種以上の微粒子と水溶性及び／または水分散性のポリマーとを含有し、前記第１の樹脂層に含有される微粒子の含有量が、１００質量部の前記ポリマーに対して５質量部以上４００質量部以下であり、前記第２の樹脂層に含有される微粒子の含有量が、前記ポリマーに対して８０質量部以上５００質量部であることを特徴とする。
【００１１】
前記第１の樹脂層に含有される微粒子が平均粒径０．００５μｍ以上１μｍ以下の無機微粒子であることが好ましい。前記無機微粒子がシリカからなる微粒子であることが好ましい。
【００１２】
前記第１の樹脂層に含有される微粒子が平均粒径０．１μｍ以上２０μｍ以下の有機微粒子であることが好ましい。前記第２の樹脂層に含有される微粒子が平均粒径３μｍ以上２０μｍ以下の有機微粒子であることが好ましい。前記有機微粒子がポリスチレン、ポリメチルメタクリレートのうち少なくとも１種からなることが好ましい。
【００１３】
前記水溶性及び／または水分散性ポリマーがポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂のうち少なくとも１種からなることが好ましい。また、前記支持体は、１７０℃、１０分間の加熱処理を行なったときの加熱収縮率が０．０５％以上３．０％以下の範囲にあり、前記支持体のもう一方の面には、水系ハードコート層が設けられていることが好ましい。
【００１４】
波長４１０ｎｍの光の透過率は５％以下であることが好ましい。
【００１５】
紫外線吸収剤を含む層が備えられることが好ましく、紫外線吸収剤を含む層は、溶液における最大吸収波長が４００ｎｍ以下である化合物を５ｇ／ｍ２以下含有する層であることがより好ましい。紫外線吸収剤を含む層は、前記支持体であることが好ましい。
【００１６】
前記紫外線吸収剤は、下記の一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。下記の一般式（１）においては、Ｈｅｔ１は、少なくとも１つのヘテロ原子を有する２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表し、縮環しているものを含む。Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈは、互いに独立して、水素原子または１価の置換基Ｒを表す。
【００１７】
【化１】
2011065139.tif 000003
【００１８】
前記一般式（１）で表される化合物を第１の前記紫外線吸収剤とするときに、第２の前記紫外線吸収剤は、３２０ｎｍにおける吸光度が２７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲での極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下である化合物であることが好ましい。
【００１９】
光拡散シートは、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）で表される各化合物のうち少なくともいずれか１つを含む層を備えることが好ましい。
【００２０】
【化２】
2011065139.tif 000004
【００２１】
一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ９１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）のいずれかひとつを表す。Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９は互いに独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基のいずれかひとつを表す。−Ｘ９１−は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（−Ｒ１００）−を表す。ここで、Ｒ１００は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）のいずれかひとつを表す。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６は互いに独立して、それぞれ水素原子又は置換基を表す。Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００は互いに結合して５〜７員環を形成したものを含み、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成したものを含む。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ１００のすべてが水素原子である場合を除く。Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ１００の総炭素数は１０以上である。
【００２２】
一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基を表し、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４が結合し、５〜７員環を形成したものを含む。Ｘ１０１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルもしくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、オキシラジカル基を表す。Ｘ１０２は５〜７員環を形成する非金属原子群を表す。
【００２３】
一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ１０５、Ｒ１０６は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ１０７は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、Ｒ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７が互いに結合し、５〜７員環を形成したものを含む。但し、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。ここで、Ｒ１０５、Ｒ１０６の両方が水素原子であることはなく、Ｒ１０５とＲ１０６との総炭素数は７以上である。
【００２４】
一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１、Ｒ１１２は脂肪族基を表し、Ｒ１１１とＲ１１２が互いに結合し、５〜７員環を形成したものを含む。ｎは０、１、２を表す。但し、Ｒ１１１とＲ１１２の総炭素数は１０以上である。
【００２５】
一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１、Ｒ１２２は脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２３は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３が互いに結合し、５〜８員環を形成したものが含まれる。但し、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３の総炭素数は１０以上である。
【００２６】
前記微粒子を非含有とする層のヘイズ値が１０％以下であることが好ましい。
【００２７】
上記の態様とすることで、本願の光拡散シートは、全光透過率８０％を超え、かつヘイズが９０％以上の特性を得ることができる。全光透過率は、９０％を超えることがより好ましく、ヘイズ値は９０．３％を超えることがより好ましい。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、支持体の片面に積層される２層構造の第１及び第２の樹脂層を備え、これら第１の樹脂層および第２の樹脂層が少なくとも１種以上の微粒子と水溶性及び/または水分散性ポリマーとを含有し、かつ、第１の樹脂層に含有される微粒子の含有量が、１００質量部の水溶性及び/または水分散性ポリマーに対して５質量部以上４００質量部以下であることから、ＬＥＤ光源の隠蔽性と光透過率が高く、表面に傷が付きにくい光拡散シートを得ることができる。特に、全光透過率８０％を超え、かつヘイズが９０％以上の光拡散シートを得ることが出来る。本発明の光拡散シートは、以上の効果に加えて、高演色性を保持しながら近紫外光を吸収することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】ハードコート層を備えている光拡散シートの概略図である。
【図２】ハードコート層を備えていない光拡散シートの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明に係る光拡散シートについて、実施形態を挙げながら詳細に説明する。ただし、本実施形態は本発明に係る好適な適用例の一つであって、本発明を限定するものではない。なお、本明細書において「樹脂」とは、高分子化合物を意味しており、植物体から分泌される精油類縁物質の総称を意味するものではない。
【００３１】
本発明の第１の実施態様である図１の光拡散シート１０は、支持体１１と、この支持体１１の一方の面に設けられる２層構造の光拡散部１２と、他方の面に設けられる接着層１３及びハードコート層１４とを備えている。光拡散シート１０は、光拡散部１２とハードコート層１４とのいずれが光入射側となるように配されて使用されてもよい。
【００３２】
〔支持体〕
支持体１１の形成に用いられるポリエステルは特に制限されるものではなく、光学用途に用いることができるポリエステルとして公知のものを使用することができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられるが、コストや機械的強度の観点からポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００３３】
支持体１１は、２軸延伸されていることが好ましい。２軸延伸とは、互いに交差する２方向のそれぞれを１軸とみなして両方向に延伸することである。２方向は、互いに直交することが好ましい。長尺に製造された支持体１１を用いる場合には、支持体１１の幅方向及び長手方向をそれぞれ１軸とみなすとよい。２軸延伸により支持体１１の２軸での分子配向が十分に制御されるので、機械強度が向上する。延伸倍率は特に制限されるものではないが、一方向に対する延伸倍率が１．５〜７倍であることが好ましく、より好ましくは２〜５倍である。特に、１軸方向あたりの延伸倍率を２〜５倍として２軸延伸させることが好ましい。ここで、支持体１１の延伸倍率を１．５倍よりも大きくすることで、より充分な機械的強度を得ることができ、その一方、延伸倍率を７倍よりも小さくすることで、より均一な厚みを得ることができる。
【００３４】
支持体１１の厚みは、目的に応じて任意で選べるが、ＬＥＤ照明用途としては１５０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは、２００μｍ以上である。さらには光拡散シート１０の剛性が要求される使用形態においては２５０μｍ以上とすることが好ましい。なお、支持体１１は、他の層１２ａ，１２ｂ，１３，１４のいずれの層よりも厚い。
【００３５】
支持体１１の加熱収縮率は０．０５％以上３．０％以下の範囲であることが好ましく、０．１％以上２．５％以下の範囲であることがより好ましく、０．４％以上２．０％以下の範囲であることがさらに好ましい。この加熱収縮率の値は、１７０℃、１０分間での値である。支持体１１の加熱収縮率を０．０５％以上３．０％以下の範囲とすることで、後述するハードコート層用塗布液などにより形成される塗布膜にひび割れなどは発生せず、また、支持体１１自身の変形の度合いも小さくすることが出来るので、平らで好ましい光拡散シート１０を得ることが出来る。
【００３６】
支持体１１の加熱収縮率は、塗布膜を硬化させるときの塗布膜の温度と同じまたはこれに近い温度で求めることが好ましく、この観点から塗布液として後述のハードコート層用塗布液を用いる場合には１７０℃での加熱収縮率を目安とすることが好ましい。
【００３７】
加熱収縮率の上記値は、以下の方法で求める値である。まず、測定に供するサンプルを支持体１１からサンプリングする。このサンプルにつき予め所定方向での長さを測定する。この長さをＬ１とする。長さＬ１を測定したサンプルを、１７０℃に保持されている恒温装置に、張力をかけずに１０分間放置する。恒温装置としては、熱風が内部に送り込まれて内部を所定温度に保持する加熱オーブン等が挙げられる。加熱処理されたサンプルを冷却してから、加熱処理前に測定した方向と同じ方向で長さを測定する。この長さをＬ２とする。そして、加熱収縮率（単位；％）を、１００×（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１の式により求める。しかし、本発明は、加熱収縮率の上記測定方法に限定されるものではなく、例えば他の測定方法により加熱収縮率を求める場合には、用いる測定方法と上記方法とで得られる値の相関関係を予め求めておき、その関係に基づいて、測定値が上記方法での上記値の範囲に対応すればよい。
【００３８】
加熱収縮率は、支持体１１に用いるポリエステルフィルムにおいて、フィルム面内の直交する２方向で、ともに、１７０℃、１０分間の加熱処理をしたときの加熱収縮率が、０．０５％以上３％以下の範囲であることが好ましく、０．１％以上２．５％以下の範囲であることがより好ましく、０．４％以上２．０％以下の範囲であることが特に好ましい。
【００３９】
〔光拡散層を形成する樹脂層〕
光拡散部１２は、支持体１１側から順に第１の樹脂層１２ａと第２の樹脂層１２ｂとを備えている。第１の樹脂層１２ａと第２の樹脂層１２ｂとは、ともに、照射された光を拡散する光拡散層である。支持体１１が下、光拡散部１２が上となるように光拡散シート１０を側方からみたときに、第１の樹脂層１２ａは下層に、第２の樹脂層１２ｂは上層に位置している。すなわち、第１の樹脂層１２ａは支持体１１に接しており、第２の樹脂層１２ｂは第１の樹脂層１２ａ上に設けられてある。第１の樹脂層１２ａ及び第２の樹脂層１２ｂは、微粒子と水溶性及び／または水分散性ポリマーを含有している。ここで、水溶性もしくは水分散性ポリマーとは、水系溶媒（水、又は水に７０質量％以下の混和性の有機溶媒を混合したもの）に溶解もしくは分散可能なポリマーのことである。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。さらに、第１の樹脂層１２ａ及び第２の樹脂層１２ｂは、光拡散シート取り扱い時の耐傷性、表面についたゴミや汚れを拭き取るための耐溶剤性、及びこの光拡散シートを所定の形態に打ち抜き加工する場合もあるので、支持体１１との高い接着強度を確保することを目的として、架橋剤を含有させることが好ましい。積層した樹脂層は、同一の光学機能を有する層を形成する必要はなく、適宜選択することができる。
【００４０】
第１及び第２樹脂層１２ａ，１２ｂに使用される水溶性及び／または水分散性ポリマーは、特に限定されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができる。好適な例としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ゼラチン、ポリエステル樹脂系、ポリウレタン樹脂系、アクリル樹脂系、アミノ樹脂系、エポキシ樹脂系、スチレンブタジエン共重合体系などの水溶性あるいは水分散性ポリマーが挙げられるが、中でもアクリル樹脂系、ポリエステル樹脂系、ポリウレタン樹脂系の水分散ポリマーが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また架橋剤と反応しうるポリマーを用いることが好ましい。例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基などを有するポリマーを用いることができる。さらには、水分散性ポリマーには、例えば、スルホン酸基、水酸基、カルボン酸基、アミノ基、アミド基、エーテル基などの置換基等を含有させることが好ましい。なお、これらの水分散性ポリマーは単独で用いても良いし、混合して用いても良い。
【００４１】
また、第１の樹脂層１２ａに用いられる樹脂と、第２の樹脂層１２ｂに用いられる樹脂とは、同一でも異なっても良いが、光透過率を向上するためには、屈折率差が０．１５以下となるようにするのが好ましい。
【００４２】
第１の樹脂層１２ａの厚みは０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。厚みを０．１μｍ以上とすることで、ＬＥＤ光源の隠蔽性をより高めることができる一方、厚みを２０μｍ以下とすることで、光線透過率の低下をより確実に防ぐことができる。第２の樹脂層１２ｂの厚みは１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。厚みを１μｍ以上とすることで、光拡散性をより高めることができる一方、厚みを３０μｍ以下とすることで、光線透過率の低下をより確実に防ぐとともに樹脂層の均一性をより向上することができる。
【００４３】
第１及び第２樹脂層１２ａ，１２ｂに用いる微粒子１５，１６は特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができる。第１樹脂層１２ａに用いる微粒子１５としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、ジルコニアなどの無機微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子などの有機微粒子が挙げられる。これらは、１種を単独で使用してもよいし、２種類以上を併用してもよいが、特に、シリカからなる微粒子、すなわち微粒子シリカが好ましい。
【００４４】
第１の樹脂層１２ａに用いる微粒子１５の平均粒径は、無機微粒子については、０．００５μｍ以上１μｍ以下が好ましく、さらには０．０１μｍ以上０．５μｍ以下が好ましい。無機微粒子の平均粒径を０．００５μｍ以上１μｍ以下とすることで、十分な光の透過率と、製造過程における十分な耐傷性とを得ることが出来る。有機微粒子としては０．１μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、さらには０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。有機微粒子の平均粒径を０．１μｍ以上２０μｍ以下とすることで十分な光拡散能を発現するとともに、上層の第２の樹脂層１２ｂをより均一に形成することができる。
【００４５】
第１の樹脂層１２ａの上には、第２の樹脂層１２ｂが後工程たる塗布及び硬化により形成される。第２の樹脂層１２ｂのこのような形成過程では、先に形成した第１の樹脂層１２ａから微粒子が脱落する場合がある。そこで、第１の樹脂層１２ａに用いる有機微粒子の平均粒子径の上記上限値は、第２の樹脂層１２ｂに用いる有機微粒子の平均粒子径の後述の上限値よりも小さくしている。また、無機微粒子は非常に硬いので、万が一脱落した場合の光拡散シート１０の傷付き防止の観点から、第２の樹脂層１２ｂではなく第１の樹脂層１２ａに含有させることが好ましい。
【００４６】
第１の樹脂層１２ａに用いる微粒子１５の添加量は、１００質量部の水溶性及び／または水分散性ポリマー（固形分）に対して、５質量部以上４００質量部以下とすることが好ましく、より好ましくは１０質量部以上３００質量部以下とする。微粒子１５の添加量をこの範囲とすることによって、ＬＥＤ光源の隠蔽性と光透過率との両立が可能となる。添加量を５質量部以上とすることで、ＬＥＤ光源の遮蔽性が十分に得られるとともに、また、耐傷性も得ることができる。一方、４００質量部以下とすることで、ＬＥＤ光源の隠蔽性と光透過率を十分に得ることができるとともに、厚みの均一性を低下させるおそれがない。
【００４７】
第１の樹脂層１２ａに用いられる樹脂の屈折率に対する、第１の樹脂層１２ａに用いる微粒子１５の屈折率の比は０．７〜１．３であることが好ましい。屈折率の比を０．７〜１．３とすることで、ＬＥＤ光源の隠蔽性と光線透過率を向上することができる。
【００４８】
第２の樹脂層１２ｂに用いる微粒子１６は光拡散作用の大きい有機微粒子を用いることが好ましい。この有機微粒子は、架橋構造を有するものが好ましく、特に、架橋構造を有するポリスチレン樹脂粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂粒子が好ましい。
【００４９】
第２の樹脂層１２ｂに用いる有機微粒子の平均粒径は３μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、さらには４μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、特には５μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。第２の樹脂層１２ｂに用いる有機微粒子の平均粒径は０．５μｍ以上５０μｍ以下とすることで、粒子の脱落が起こることなく、十分な光拡散能が得られる。このように、第２の樹脂層１２ｂに用いる有機微粒子について、平均粒径の好ましい範囲の上限値は、第１の樹脂層１２ａに用いる有機微粒子の好ましい平均粒径の上限値よりも大きい。これは、第２の樹脂層１２ｂでは、この微粒子により表面に凹凸を形成し、この凹凸をもった表面での光散乱効果を図る観点と、第１の樹脂層１２ａの場合のように表面に対してさらなる塗布が為されないので粒子の脱落防止を図る必要が無いという観点からである。また塗布工程において、送液に使用する配管やバッファタンク中で微粒子の沈降が生じることなく、安定に製造することが出来る。なお、図１では、第２の樹脂層１２ｂに用いる微粒子１６は、第１の樹脂層１２ａに用いる微粒子１５よりも大きく記載されているが、微粒子１５，１６の平均粒径がほぼ０．５μｍである場合には、微粒子１５と微粒子１６のサイズはほぼ同じとなる。
【００５０】
第２の樹脂層１２ｂに用いる有機微粒子の添加量は、１００質量部の水溶性及び／または水分散性ポリマー（固形分）に対して、８０質量部以上５００質量部以下とすることが好ましく、１００質量部以上５００質量部以下とすることがより好ましく、さらに好ましくは２００質量部以上４００質量部以下とする。微粒子の添加量を１００質量部以上とすることで、光拡散剤としての機能を確実に果たすことができ、光の隠蔽性が確実に高まる。その一方、５００質量部以下とすることで微粒子の分散不良のおそれがなくなる。第２の樹脂層１２ｂに用いる有機微粒子の添加量は、第１の樹脂層１２ａに用いる微粒子１５の添加量よりも多いことが好ましい。
【００５１】
第２の樹脂層１２ｂに用いられる樹脂の屈折率に対する、第２の樹脂層１２ｂに用いる微粒子１６の屈折率の比が０．８以上１．２以下、あるいは差Δηの絶対値｜Δη｜が０．３５以下であることが好ましい。屈折率の比を０．８以上１．２以下、あるいは差Δηの絶対値｜Δη｜を０．３５以下とすることで、光拡散性と光透過率を向上することができる。なお、第２の樹脂層１２ｂは、空気との屈折率の差も考慮することで、第２の樹脂層１２ｂと空気との界面における光拡散能をさらに向上させることができる。この観点からは、微粒子１６の屈折率から空気の屈折率を減じた差が０．２以上０．８以下であるような微粒子１６を用いることがより好ましい。
【００５２】
第１の樹脂層１２ａの厚みに対する第２の樹脂層１２ｂの厚みの比（樹脂層１２ｂの厚み／樹脂層１２ａの厚み）は、１〜５０であることが好ましい。厚みの比を１〜５０とすることで、光拡散性と光透過率を向上することができる。また、第１の樹脂層１２ａに含有する微粒子１５の平均粒径に対する第２の樹脂層１２ｂに含有する微粒子１６の平均粒径の比（樹脂層１２ｂに含有する微粒子１６の平均粒径／樹脂層１２ａに含有する微粒子１５の平均粒径）は、１〜４０００であることが好ましい。平均粒径の比を１〜４０００とすることで、光拡散性と光透過率を向上し、樹脂層の均一性を向上することができる。
【００５３】
第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂには、耐溶剤性や、支持体１１との密着性を付与する目的で架橋剤を含有させることが好ましい。架橋剤は、エポキシ系、メラミン系、オキサゾリン系、カルボジイミド系などを用いることができる。第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂにおける架橋剤の含有量は、１００質量部の水溶性及び／または水分散性ポリマー（固形分）に対して、０．５質量部以上とすることが好ましく、１質量部以上５０質量部以下とすることがより好ましい。架橋剤の含有量を１質量部以上とすることで、樹脂層が傷付くおそれが無くなる。一方、架橋剤の含有量を５０質量部以下とすることで、樹脂層の均一性を低下させるおそれがない。
【００５４】
第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂを形成する塗布液には、界面活性剤を含ませても良い。界面活性剤を用いることにより、塗布液の塗布ムラを抑制して、均一な厚みの樹脂層を形成することができるようになる。界面活性剤は特に限定されないが、脂肪族、芳香族、フッ素系のいずれの界面活性剤でもよく、また、ノニオン系、アニオン系、カチオン系のいずれの界面活性剤でもよい。
【００５５】
第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂを形成する塗布液は、以下の方法で調製することが好ましい。まず、溶媒または分散媒となる水に、界面活性剤を入れて均一な液にする。次に、界面活性剤を入れた水の中に、微粒子１５または微粒子１６を入れて、攪拌し、微粒子１５または微粒子１６が均一に分散した液にする。微粒子１５として無機微粒子と有機微粒子との両方を用いる場合には、いずれの微粒子を先に入れてもよいし、同時に入れてもよい。そして、微粒子が均一に分散した液に対して、第１の樹脂層１２ａまたは第２の樹脂層１２ｂのバインダ成分としての樹脂を入れて均一な液にする。以上の方法で塗布液を調製することにより、水系であっても均一な層を形成する塗布液が得られる。
【００５６】
第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂの形成法としては特に限定しないが、リバースロールコータ、グラビアコータ、バーコータ、ダイコータ、カーテンコータ等のコーティング方法が挙げられるが、特にバーコータが好ましい。
【００５７】
第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂは塗布液を塗布した後に、これを乾燥させることで層を形成する。乾燥方法は特に制限されるものではなく、通常使用される方法を適宜選択することができる。このとき、乾燥温度は９０℃以上１３０℃以下が好ましい。より好ましくは１００℃以上１２０℃以下である。乾燥温度が９０℃以上の場合には、乾燥が十分に行なわれるため、接着故障を起こすおそれがない。その一方、１３０℃以下であることで、水系ハードコートを塗布する際にひび割れが発生するおそれがない。
【００５８】
［接着層］
接着層１３は、支持体１１とハードコート層１４との間に設けられ、ハードコート層１４に対する接着性を向上させるとともに、ハードコート層１４との密着力を高めている。接着層１３は、バインダと硬化剤と界面活性剤とからなる塗布液を塗布して形成される。なお、接着層１３を用いずに、ハードコート層１４をそのまま支持体１１に形成してもよい。
【００５９】
接着層１３に使用するバインダは、特に限定されないが、接着性の観点からポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、スチレンブタジエン共重合体の少なくともひとつであることが好ましい。また、バインダは、水溶性または水分散性をもつものが環境への負荷が少ない点で特に好ましい。
【００６０】
接着層１３の屈折率を調整する目的で、接着層１３には金属酸化物からなる微粒子を含ませてもよい。金属酸化物としては、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブなどの屈折率が高いものが好ましい。
【００６１】
接着層１３の厚みは、接着層１３を形成する溶液の塗布量を調整することにより制御することができる。光拡散シート１０の透明度を高くするとともに、ハードコート層１４に対して優れた接着性を発現するためには、厚みは、０．０１μｍ以上５μｍ以下の範囲で一定であることが好ましく、０．０２μｍ以上３μｍ以下がより好ましい。厚みを０．０１μｍ以上とすることで接着性を十分に確保することができる。一方、５μｍ以下とすることで、均一な厚みを形成することができ、さらには溶液の使用量を増加させず、また乾燥時間を長く要することが無いため、コストを抑えることができる。
【００６２】
［ハードコート層］
ハードコート層１４は水系であり、有機ケイ素化合物と、テトラアルコキシシランと、酸性の水溶液（以下、酸性水と称する）と、水溶性の硬化剤とを含む塗布液から形成される。この塗布液からなる塗布膜を加熱して乾燥することにより硬化させ、ハードコート層１４とする。有機ケイ素化合物と、テトラアルコキシシランとを共に用いることにより、硬化による架橋密度を従来のハードコート層１４原料を用いた場合よりも高くして、高硬度のハードコート層１４を形成することができる。
【００６３】
ハードコート層１４の厚みは、塗布液の塗布量を調整することにより制御することができる。得られるハードコート層１４の硬度の観点からは、厚みは、０．３μｍ以上１２μｍ以下の範囲で一定であることがより好ましい。
【００６４】
＜有機ケイ素化合物＞
ハードコート層１４を形成する塗布液（以下、ハードコート層用塗布液と称する）の第１成分である有機ケイ素化合物は、有機基とアルコキシ基とを有する、２価あるいは３価のアルコキシシランであり、下記の一般式（Ａ）で表す有機ケイ素化合物である。
Ｒ１Ｒ２ｎＳｉ（ＯＲ３）３−ｎ            ・・・（Ａ）
（ここで、Ｒ１はアミノ基を含まない炭素数が１以上１５以下の有機基であり、Ｒ２はメチル基またはエチル基、Ｒ３は炭素数が１以上３以下のアルキル基、ｎは０または１である。なお、アミノ基を含まない有機基とは、この有機基がアミノ基をもたない意である。）
【００６５】
一般式（Ａ）で表す化合物のうち好ましいものとして、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、クロロプロピルメチルジメトキシシラン、プロピルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、クロロプロピルメチルジエトキシシラン、プロピルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピル−２−〔２−（メトキシエトキシ）エトキシ〕エチルウレタン、３−トリエトキシシリルプロピル−２−〔２−（メトキシエトキシ）エトキシ〕エチルウレタン、３−トリメトキシシリルプロピル−２−〔２−（メトキシプロポキシ）プロポキシ〕プロピルウレタン、３−トリエトキシシリルプロピル−２−〔２−（メトキシプロポキシ）プロポキシ〕プロピルウレタンがあげられる。
【００６６】
上記の化合物の中でもｎ＝０のトリアルコキシシランが特に好ましく、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピル−２−〔２−（メトキシエトキシ）エトキシ〕エチルウレタン、３−トリメトキシシリルプロピル−２−〔２−（メトキシプロポキシ）プロポキシ〕プロピルウレタンが挙げられる。
【００６７】
＜テトラアルコキシシラン＞
テトラアルコキシシランをハードコート層用塗布液の第２成分として用いることにより、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）の有機ケイ素化合物との加水分解で生じるシラノールの脱水縮合による架橋密度を高くし、従来よりも硬いハードコート層１４を形成することができる。テトラアルコキシシランは特に限定されないが、炭素数が１〜４のものがより好ましく、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが特に好ましい。炭素数を１〜４にすることで、酸性水と混ぜたときのテトラアルコキシシランの加水分解速度が遅くなることがないため、均一な水溶液にするまでの溶解に要する時間が長くなることはない。
【００６８】
＜酸性水＞
ハードコート層用塗布液の第３成分としての酸性水は、水素イオン指数（ｐＨ）が２以上６以下の範囲のものである。このｐＨの値は、いわゆる「室温」とされる２５℃での値である。ｐＨを２以上６以下と、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）の有機ケイ素化合物とをこの酸性水に混合して水溶液としたときに、この水溶液、すなわちアルコキシシラン水溶液で、アルコキシシランが加水分解されてシラノールが生成した後、シラノールの縮合が遅くなるため、この水溶液の粘度の上昇を抑えることができる。
【００６９】
酸性水は、有機酸または無機酸を水に溶解することにより得る。酸は、特に限定されないが、酢酸、プロピオン酸、蟻酸、フマル酸、マレイン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、クエン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸などの有機酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの無機酸が使用で、中でも、取り扱い性の点からは酢酸が好ましい。ｐＨは、２以上６以下の範囲が好ましく、２．５以上５．５以下の範囲が特に好ましい。
【００７０】
アルコキシシラン水溶液は、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）の有機ケイ素化合物との合計量、すなわち用いたアルコキシシランの量を１００重量部とするときに、酸性水の量が６０重量部以上２０００重量部以下の範囲となるように、調製される。この組成とすることにより、良好な加水分解性と生成したシラノールの安定性とをもつアルコキシシランの加水分解水溶液が得られる。そして、このようなアルコキシシランの加水分解水溶液を用いて得られる塗布液は水性であるにも関わらず安定性にすぐれたものとなる。酸性水の量は、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）の有機ケイ素化合物との合計１００重量部に対して、１００重量部以上１５００重量部以下の範囲がより好ましく、１５０重量部以上１２００重量部以下の範囲が特に好ましい。アルコキシシラン１００重量部に対して酸性水を６０重量部以上とすることで、アルコキシシランの加水分解により生成したシラノールの脱水縮合を抑えることができるため、水溶液はゲル化しにくくなる。一方、酸性水を２０００重量部以下とすることで、塗布液中のアルコキシシランの濃度を低下させることが無いため、ハードコート層１４を十分な厚みに形成するための塗布量は適量である。したがって、塗布膜の厚みムラが発生することが無く、塗布膜の乾燥時間が長引くことが無い。
【００７１】
なお、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）の有機ケイ素化合物とのいずれとも異なるシラン化合物を塗布液に用いてもよい。この場合には、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）の有機ケイ素化合物とその他のシラン化合物との合計量１００重量部に対して、酸性水が６０重量部以上２０００重量部以下の範囲となるように、これらを混合することが好ましい。
【００７２】
＜硬化剤＞
ハードコート層用塗布液の第４成分としての水溶性の硬化剤は、シラノールの脱水縮合を促してシロキサン結合の形成を促進させるものである。水溶性の硬化剤としては、水溶性の無機酸、有機酸、有機酸塩、無機酸塩、金属アルコキシド、金属錯体を用いることができる。
【００７３】
無機酸としては、ホウ酸、リン酸、塩酸、硝酸、硫酸が挙げられ、有機酸としては、酢酸、蟻酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸が挙げられる。有機酸塩としては、酢酸アルミ、シュウ酸アルミ、酢酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、酢酸マグネシウム、シュウ酸マグネシウム、酢酸ジルコニウム、シュウ酸ジルコニウムが挙げられ、無機酸塩としては、塩化アルミ、硫酸アルミ、硝酸アルミ、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛、塩化マグネシウム、硫酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウムが挙げられる。金属アルコキシドとしては、アルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドが挙げられ、金属錯体としては、アルミニウムアセチルアセトナート、アルミニウムエチルアセトアセテート、チタンアセチルアセトナート、チタンエチルアセトアセテートが挙げられる。これらの中でも、特にホウ酸、リン酸、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムアセチルアセトナートなど、ホウ素を含む化合物、リンを含む化合物、アルミニウムを含む化合物が、水溶性、水中での安定性の観点で好ましく、これらのうち少なくともいずれか１種類を硬化剤として用いるとよい。
【００７４】
硬化剤は、塗布液中に均一に混合、溶解することが好ましく、本発明における塗布液の溶剤としての水に溶解することが好ましい。水への溶解性を高くすることで、硬化剤が塗布液中に固体として存在しなくなり、塗布乾燥後に異物として残留することがなくなる。これにより、透明度が高いハードコート層１４とすることができる。
【００７５】
硬化剤の量は、テトラアルコキシシランと一般式（Ａ）で表す有機ケイ素化合物とを含む全てのアルコキシシラン１００重量部に対して０．１重量部以上２０重量部以下の範囲が好ましく、０．５重量部以上１０重量部以下の範囲がさらに好ましく、１重量部以上８重量部以下の範囲が特に好ましい。
【００７６】
＜コロイダルシリカ＞
ハードコート層用塗布液には、上記第１〜第４成分以外の成分としてコロイダルシリカを含ませてもよい。このコロイダルシリカは、二酸化ケイ素またはその水和物が水に分散したコロイドであり、コロイド粒子の平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲であり、４ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲であることがより好ましく、５ｎｍ以上３５ｎｍ以下の範囲であることが最も好ましい。これにより、ハードコート層をより硬く形成することができる。コロイド粒子の平均粒子径を３ｎｍ以上とすることで、ハードコート層用塗布液の粘度が高くなることが無いため、塗布条件に対して特別な制約を行う必要はない。一方、コロイド粒子の平均粒子径が５０ｎｍ以下とすることで、ハードコート層１４に入射した光が散乱しても、透明性は損なわれない。
【００７７】
なお、コロイダルシリカは、塗布液中に添加される時点でのｐＨが２以上７以下の範囲に調整されていることがより好ましい。このｐＨを２以上７以下の範囲とすることで、アルコキシシランの加水分解物であるシラノールの安定性を悪化させることがない。そのため、シラノールの脱水縮合反応の進行を抑えることができるため、塗布液の粘度が上昇するおそれがない。
【００７８】
＜水溶性もしくは水分散性のポリマー＞
ハードコート層用塗布液には、上記成分以外の成分として水溶性もしくは水分散性のポリマーを含ませてもよい。これにより、脆性がより改善されたハードコート層１４を形成することができる。この水溶性もしくは水分散性のポリマーは、塗布液中に添加される時点でのｐＨが２以上７以下の範囲に調製されていることがより好ましい。この分散液のｐＨを２以上７以下の範囲とすることで、シラノールの脱水縮合反応の進行を抑えることができるため、ハードコート層用塗布液の粘度が上昇するおそれがない。
【００７９】
ハードコート層用塗布液に添加する水溶性もしくは水分散性のポリマーとしては、脆性がより改善されたハードコート層１４を形成する目的で、スチレンブタジエン共重合体、アクリロニトリルブタジエンポリマー、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アクリルポリマーが好ましい。
【００８０】
＜帯電防止剤＞
ハードコート層１４に帯電防止機能を付与するために、ハードコート層用塗布液には、カチオン、アニオン、ベタインなどのイオン性の帯電防止剤を添加してもよい。イオン性の帯電防止剤に代えて、または加えて、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモンなどの金属酸化物からなる微粒子を用いてもよい。イオン性の帯電防止剤や金属酸化物の微粒子は、ハードコート層１４ではなく支持体１１または接着層１３との少なくともいずれか一方に含ませてもよい。
【００８１】
＜その他の添加物＞
ハードコート層１４の表面特性、特に摩擦係数を制御するために、ハードコート層用塗布液には、マット剤やワックスを含ませても良い。マット剤としては、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ポリスチレン、ポリスチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリメチルメタクリレート、架橋ポリメチルメタクリレート、メラミン、ベンゾグアナミン等の有機、無機の素材を使用することができる。ワックスとしては、パラフィンワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワックス、ポリエステル系ワックス、カルナバワックス、脂肪酸、脂肪酸アマイド、金属石鹸等を使用することができる。
【００８２】
また、ハードコート層用塗布液には、界面活性剤を含ませても良い。界面活性剤を用いることにより、支持体１１または接着層１３に対する塗布液の塗布ムラを抑制して、均一な厚みのハードコート層を形成することができるようになる。界面活性剤は特に限定されないが、脂肪族、芳香族、フッ素系のいずれの界面活性剤でもよく、また、ノニオン系、アニオン系、カチオン系のいずれの界面活性剤でもよい。
【００８３】
接着層１３及びハードコート層１４の形成方法は特に制限されるものではなく、公知の塗布機を目的に応じて適宜選択して塗布すればよい。例えば、リバースロールコータ、バーコータ、カーテンコータによる塗布が挙げられる。
【００８４】
塗布された塗布液の加熱乾燥では、支持体１１上の塗布液からなる塗布膜の温度が低くとも１６０℃、すなわち１６０℃以上の温度となるように加熱する。塗布膜は、加熱硬化時における塗布膜中のシラノールの脱水縮合に伴い収縮するが、支持体１１が上述したような加熱収縮率を有しているため、ハードコート層１４はひび割れすることなく形成される。
【００８５】
塗布膜をより十分に硬化させるためには、塗布膜の温度を１６０℃以上２２０℃以下の範囲とすることが好ましく、１７０℃以上２２０℃以下の範囲とすることがより好ましく、１８０℃以上２１０℃以下の範囲とすることがさらに好ましい。塗布膜の温度を１６０℃以上とすることで、塗布膜を十分に硬化することができるため、十分な硬度のハードコート層１４を形成することができる。一方、塗布膜の温度を２２０℃以下とすることで、支持体１１を変形させることなく、塗布膜を形成することができる。
【００８６】
本発明の光拡散シートは、支持体１１の他方の面に耐傷性を求めない場合には、ハードコート層１４と、接着層１３とを備えずともよい。本発明の第２の実施態様である図２の光拡散シート２０は、支持体１１と、この支持体１１の一方の面に設けられる２層構造の光拡散部１２とを備える。図１の光拡散シート１０と異なり、この光拡散シート２０においては、支持体１１の他方の面に、ハードコート１４及び接着層１３が備えられておらず、支持体１１の他方の面が露出している。光拡散シート２０も、光拡散シート１０と同じく、光拡散部１２が光入射側と光射出側とのいずれになるように配されて使用されてもよいが、光拡散の効果がより確実に得られるという点では、光拡散部１２が光射出側になるように配されて使用されることが好ましい。
【００８７】
光拡散シート１０，２０の各光拡散部１２は、前述のように微粒子を含む微粒子含有層であるが、支持体１１と接着層１３とハードコート層１４とは微粒子を含まない微粒子非含有層である。微粒子非含有層はヘイズ値が１０％以下であることが好ましい。
【００８８】
光拡散シート１０，２０は、さらに添加剤を含んでもよい。添加剤は、光拡散シート１０，２０を成すいずれの層に含まれていてもよいし、さらに別の層を設けて、設けた層に添加剤を含ませてもよい。また、複数の層に含ませてもよい。中でも、支持体１１に含ませることが好ましい。他の層１２ａ，１２ｂ，１３，１４よりも厚い支持体１１に含有させることにより、添加剤濃度が低くても十分な含有効果が得られるからである。例えば添加剤として後述のように紫外線吸収剤を用いた場合には、支持体１１に含ませることにより、紫外線吸収剤の濃度が低くても十分な紫外線吸収効果が得られる。
だからである。
【００８９】
第１の添加剤としては、紫外線吸収剤があり、第２の添加剤としては、光や熱によって生じる酸化を防止するための酸化防止剤やＨＡＬＳ（ヒンダードアミン光安定剤，Ｈｉｎｄｅｒｄ  Ａｍｉｎｅ  Ｌｉｇｈｔ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒ）がある。第１の添加剤と第２の添加剤とは互いに異なる層に含ませてもよいし、同一の層中に含ませてもよい。
【００９０】
第１の添加剤として紫外線吸収剤を用いることにより、光拡散シート１０，２０は、波長が４１０ｎｍの光の透過率が５％以下とされている。近紫外ＬＥＤには、発光スペクトルのピークを４０５ｎｍ程度の波長にもつものが多いが、波長が４１０ｎｍの光の透過率が５％以下とした光拡散シート１０，２０によると、４０５ｎｍ程度の波長までのみならず、可視光に近い長波紫外線領域までの光をより確実にカットすることができる。これにより、波長が４０５ｎｍに光強度のピークをもつような近紫外線を効果的にカットすることができる。
【００９１】
光拡散シート１０，２０が４１０ｎｍ波長の光の透過率が５％以下となるように、支持体１１は、好ましくは、波長が４１０ｎｍの光の透過率が５％以下、かつ、波長が４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上とされる。支持体１１は、より好ましくは波長４１０ｎｍの光の透過率が４％以下、かつ、波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上であり、さらに好ましくは波長４１０ｎｍの光の透過率が３％以下、かつ、波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上であり、特に好ましくは波長４１０ｎｍの光の透過率が２％以下、かつ波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上である。
【００９２】
さらに、支持体１１は、波長４１０ｎｍの光の透過率が５％以下、波長４３０ｎｍの光の透過率が７０％以上、かつ波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上であることが好ましい。より好ましくは波長４１０ｎｍの光の透過率が４％以下、かつ波長４３０ｎｍの光の透過率が７０％以上、かつ波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上であり、さらに好ましくは波長４１０ｎｍの光の透過率が３％以下、かつ波長４３０ｎｍの光の透過率が７０％以上、かつ波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上であり、特に好ましくは波長４１０ｎｍの光の透過率が２％以下、かつ波長４３０ｎｍの光の透過率が７０％以上、かつ波長４４０ｎｍの光の透過率が８０％以上である。
【００９３】
支持体１１に代えて他の層に第１の添加剤が含まれる場合には、第１の添加剤を含む層が、上記の各光透過率を満たすことが好ましい。
【００９４】
波長４１０ｎｍ、４３０ｎｍ及び４４０ｎｍの光の透過率は、例えば分光光度計ＵＶ−３６００（商品名、島津製作所製）を用いて測定することができる。
【００９５】
第１の紫外線吸収剤は、溶媒に溶かした溶液における最大吸収波長が４００ｎｍ以下である化合物であり、より好ましくは３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の化合物であり、さらに好ましくは３６０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の化合物であり、最も好ましくは３７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の化合物である。
【００９６】
第１の紫外線吸収剤は、支持体１１に、０．５ｇ／ｍ２以上５ｇ／ｍ２以下の範囲の含有量で含まれることが好ましい。この含有量は、光拡散シート１０，２０のフィルム面を法線方向から見た場合の面積１ｍ２あたりに含まれる質量である。第１の紫外線吸収剤のより好ましい含有量は、０．５ｇ／ｍ２以上３ｇ／ｍ２以下の範囲、さらに好ましい含有量は０．５ｇ／ｍ２以上２ｇ／ｍ２以下の範囲、特に好ましい含有量は０．５ｇ／ｍ２以上１ｇ／ｍ２以下の範囲である。支持体１１ではなく他の層に第１の紫外線吸収剤が含まれる場合には、含まれる層における含有量が上記範囲にあればよい。複数の層が第１の紫外線吸収剤を含む場合には、第１の紫外線吸収剤を含む全ての層の和が上記含有量となればよい。
【００９７】
第１の紫外線吸収剤は、光拡散シート１０，２０に紫外線吸収効果を発揮させることと、支持体１１中に均一に分散させることとの両観点から、支持体１１を構成する樹脂と第１の紫外線吸収剤との合計質量に対して０．０５質量％以上３０質量％以下の範囲で支持体１１に含有させることが好ましく、０．１質量％以上２０質量％以下の範囲で含有させることがさらに好ましい。支持体１１に代えて他の層が第１の紫外線吸収剤を含む場合には、第１の紫外線吸収剤を含む層を構成する樹脂と第１の紫外線吸収剤との合計質量に対して上記範囲の含有量とすればよい。複数の層が第１の紫外線吸収剤を含む場合には、第１の紫外線吸収剤を含むすべての層の樹脂と第１の紫外線吸収剤との合計質量に対して上記範囲の含有量とすればよい。
【００９８】
最大吸収波長を測定するための上記溶液の溶媒は、ひとつの化合物からなる純物質と、複数の化合物からなる混合物とのいずれであってもよい。純物質と混合物とに用いる化合物は無機と有機とのいずれであってもよいし、混合物は有機と無機との各化合物を混合したものであってもよい。
【００９９】
溶媒に用いる有機化合物、すなわち有機溶媒としては、例えば、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ−デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン、クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ−ピコリン、２，６−ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、カルボン酸系溶媒（例えば酢酸、プロピオン酸）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）、スルホン酸系溶媒（例えばメタンスルホン酸）、アミン系溶媒（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン）が挙げられる。
【０１００】
溶媒に用いる無機化合物、すなわち無機溶媒としては、例えば、硫酸、リン酸が挙げられる。
【０１０１】
以上の溶媒の中でも、溶解性を考慮すると、好ましくはアミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒である。より好ましくはアミド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒である。さらに好ましくはエーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒、エステル系溶媒である。特に好ましくはエステル系溶媒である。エステル系溶媒の中でも酢酸エチルを溶媒とすることが最も好ましい。
【０１０２】
最大吸収波長を測定する上記溶液における第１の紫外線吸収剤の濃度は、分光吸収の最大吸収波長が確認できる濃度であればよく、好ましくは１×１０−８ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下の範囲である。最大吸収波長の測定における上記溶液の温度は、特に限定しないが、好ましくは０℃以上８０℃以下の範囲である。
【０１０３】
第１の紫外線吸収剤（＝化合物Ａ）は、下記の一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【０１０４】
【化３】
2011065139.tif 000005
【０１０５】
前記一般式（１）において、Ｈｅｔ１は、少なくとも１つのヘテロ原子を有する２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、Ｈｅｔ１は、縮環していても良い。
【０１０６】
ヘテロ原子としては、例えば、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子を挙げることができる。中でも好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子である。より好ましくは、窒素原子、硫黄原子である。特に好ましくは、硫黄原子である。Ｈｅｔ１がヘテロ原子を２つ以上有する場合には、互いに同じヘテロ原子であってもよいし、互いに異なるヘテロ原子であってもよい。
【０１０７】
２価の芳香族ヘテロ環残基に２つの水素原子を付加した芳香族ヘテロ環として例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，３，４−チアジアゾールなどを挙げることができる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピロール、ピリジン、フラン、チオフェンである。より好ましくは、ピリジン、チオフェンである。特に好ましくは、チオフェンである。芳香族ヘテロ環の水素原子を取り除く位置はいずれでも良い。例えばヘテロ５員環化合物ピロールでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、３，４位、３，５位が挙げられる。また、ヘテロ６員環化合物ピリジンでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、２，６位、３，４位、３，５位、３，６位が挙げられる。
【０１０８】
芳香族ヘテロ環残基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、１価の置換基（以下、置換基Ｒと称する）が挙げられる。１価の置換基の例として、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル）、炭素数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えば、アセチル）、アリールカルボニル基（例えば、ベンゾイル）、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（例えば、アミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド）、イミド基（例えば、スクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えば、ベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えば、ベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基（例えば、スルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル）、炭素数６〜２０のヘテロ環基（例えば、ピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なってもよい。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ｒを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基がある。より好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、アルキル基である。
【０１０９】
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈは、互いに独立して、水素原子または１価の置換基Ｒである。Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄ及びＲ１ｅ〜Ｒ１ｈのうち任意の２つの置換基は、互いに結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。Ｒ１ａ〜Ｒ１ｈとして好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルコキシ基である。さらに好ましくは、水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ１ａ〜Ｒ１ｈの全てが水素原子を表す場合である。
【０１１０】
さらに、前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【０１１１】
【化４】
2011065139.tif 000006
【０１１２】
以下、前記一般式（２）で表される化合物について説明する。一般式（２）におけるＲ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、Ｒ２ｄ、Ｒ２ｅ、Ｒ２ｆ、Ｒ２ｇ及びＲ２ｈはそれぞれ前記一般式（１）のＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈと同義である。好ましい場合も同じである。Ｒ２ｉ及びＲ２ｊは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。１価の置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例を挙げることができる。Ｒ２ｉ及びＲ２ｊは互いに結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。Ｒ２ｉ及びＲ２ｊとして好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルコキシ基である。さらに好ましくは、水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ２ｉ及びＲ２ｊが共に水素原子を表す場合である。
【０１１３】
前記一般式（１）及び（２）で表される化合物は、任意の方法で合成することができる。例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば特開２０００−２６４８７９号公報の４ページ左４３行目〜右８行目の実施例、特開２００３−１５５３７５の４ページ右欄５行目〜３０行目の実施例、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ＆  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２０００年，８巻，２０９５−２１０３ページ、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ＆  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ」，２００３年，１３巻，４０７７−４０８０ページなどを参考にして合成できる。例えば、例示化合物（１５）は３，５−ピラゾールジカルボニルジクロリドとアントラニル酸とを反応させることにより合成することができる。また、例示化合物（３２）は２，５−チオフェンジカルボニルジクロリドと４，５−ジメトキアントラニル酸とを反応させることにより合成することができる。
【０１１４】
前記一般式（１）又は（２）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１１５】
【化５】
2011065139.tif 000007
【０１１６】
【化６】
2011065139.tif 000008
【０１１７】
【化７】
2011065139.tif 000009
【０１１８】
【化８】
2011065139.tif 000010
【０１１９】
【化９】
2011065139.tif 000011
【０１２０】
前記一般式（１）又は（２）で表される化合物は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本明細書においては代表的な形の一つで記述しているが、本明細書の記述と異なる互変異性体も本発明で用いる化合物に含まれる。
【０１２１】
前記一般式（１）又は（２）で表される化合物は、同位元素（例えば、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１５Ｎ、１７Ｏ、１８Ｏなど）を含有していてもよい。
【０１２２】
前記一般式（１）又は（２）で表される化合物の構造を繰り返し単位内に含むポリマーも好適に使用することができる。ポリマーは、ホモポリマーであってもよいし、２種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。さらに他の繰り返し単位を含むコポリマーであってもよい。なお、紫外線吸収作用をもつ構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公平１−５３４５５号、特開昭６１−１８９５３０号の各公報および欧州特許第２７２４２号明細書に記載がある。ポリマーを得る方法についてはこれら特許文献の記述を参考にすることができる。
【０１２３】
前記一般式（１）又は（２）で表される化合物よりなる第１の紫外線吸収剤は、紫外線の波長領域の中でも長波長の光を吸収するいわゆる長波長紫外線吸収剤として好ましく使用することができる。長波長紫外線吸収剤としての最大吸収波長は、好ましくは４５０〜３５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは４１０〜３５０ｎｍの範囲であり、特に好ましくは３９０〜３５０ｎｍの範囲である。
【０１２４】
第１の紫外線吸収剤を含む層は、第１の紫外線吸収剤と異なる第２の紫外線吸収剤をさらに含むことがより好ましい。本実施形態では支持体１１が第１の紫外線吸収剤を含むので、支持体１１に第２の紫外線吸収剤を含ませてある。
【０１２５】
第２の紫外線吸収剤は、３２０ｎｍにおける吸光度が２７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲での極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下である化合物である。第２の紫外線吸収剤の３２０ｎｍにおける吸光度は、極大吸収波長における吸光度の３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、５０％以上であることが最も好ましい。３２０ｎｍにおける吸光度が極大吸収波長における吸光度の２０％以上であると、２０％未満である場合に比べて、３１０〜３３０ｎｍの波長帯全域の光を、第１の紫外線吸収剤と相まってより確実に吸収することができる。第２の紫外線吸収剤の極大吸収波長は、２５０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、２５０ｎｍ以上３７０ｎｍ以下の範囲にあることがより好ましく、２５０ｎｍ以上３６５ｎｍ以下の範囲にあることがさらに好ましく、２５０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲にあることが最も好ましい。
【０１２６】
第２の紫外線吸収剤は、極大吸収波長が３２０ｎｍ未満である紫外線吸収剤Ｂ−（１）、及び極大吸収波長が３２０ｎｍ以上３８０ｎｍ以内である紫外線吸収剤Ｂ−（２）に分類することができ、これらを用途に応じて適宜選択して使用することができる。
【０１２７】
紫外線吸収剤Ｂ−（１）は、基材そのものが紫外線を吸収しない場合など、他に短波紫外線を吸収する要素が存在しない場合に、用いることが特に好ましい。例えば樹脂からなるフィルムの場合には、他に３００ｎｍ以下の短波紫外線を吸収する要素が存在しないため、短波紫外領域までの光を効果的に吸収する紫外線吸収剤Ｂ−（１）を用いることにより、新たな短波紫外領域吸収フィルタを用いずに、フィルム自身を紫外線から防ぐことが可能となる。また、紫外線吸収剤Ｂ−（１）を用いることにより、樹脂に対する第１の紫外線吸収剤の相溶性の改善と光堅牢性の改善という予想外の効果が得られる。
【０１２８】
紫外線吸収剤Ｂ−（２）は、光拡散シート１０，２０の３２０ｎｍ付近の光の遮蔽能力を向上させることができ、３００ｎｍ以下の短波紫外領域を効果的に吸収することも可能であるが、困難な場合がある。そこで、紫外線吸収剤Ｂ−（２）は基材そのものが３００nm付近までの短波紫外線を吸収する場合等、他に短波紫外線を吸収する要素が存在する場合に用いることが特に好ましい。
【０１２９】
第２の紫外線吸収剤としては、３２０ｎｍにおける吸光度が極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下であるという条件を満たすものであればいずれの構造であってもよい。例えば、紫外線吸収剤の構造として知られているベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、メロシアニン系、シアニン系、ジベンゾイルメタン系、桂皮酸系、アクリレート系、安息香酸エステル系シュウ酸ジアミド系、ホルムアミジン系、ベンゾオキサジノン系などの化合物が挙げられる。これらのうち、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、ジベンゾイルメタン系、ホルムアミジン系、ベンゾオキサジノン系の化合物が好ましく、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、ホルムアミジン系、ベンゾオキサジノン系の化合物が更に好ましい。最も好ましくはベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾオキサジノン系の化合物である。これらの紫外線吸収剤は、例えばファインケミカル、２００４年５月号、２８〜３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６〜１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４〜６４ページ、（株）技術情報協会発行「高分子の劣化・変色メカニズムとその安定化技術−ノウハウ集−」（技術情報協会、２００６年）などに記載されている。
【０１３０】
前記ベンゾトリアゾール系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（IIａ）又は（IIｂ）のいずれかで表される化合物が好ましい。（IIａ）及び（IIｂ）について詳述する。
【０１３１】
【化１０】
2011065139.tif 000012
【０１３２】
＜一般式（IIａ）＞
前記一般式（IIａ）中において、Ｒ１１は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｒ１２は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｒ１３は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、又は−ＣＯＯＲ１４基（ここで、Ｒ１４は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である）を表す。一般式（IIａ）の詳細は、後述する。
【０１３３】
以下、一般式（IIａ）について、さらに説明を加える。Ｒ１１として好ましくは、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、炭素数５〜１８の置換もしくは無置換シクロアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。Ｒ１１として特に好ましくは、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基である。
【０１３４】
一般式（IIａ）において、置換アルキル基、置換シクロアルキル基、置換アリール基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表し、これらのアルキル基とシクロアルキル基とアリール基とはいずれも任意の位置に１価の置換基を有しているものとする。
【０１３５】
アルキル基とシクロアルキル基とアリール基とがもつ前記１価の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）の直鎖又は分岐のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルカルボニル基（例えばアセチル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）がある。
【０１３６】
アルキル基とシクロアルキル基とアリール基とがもつ前記１価の置換基の例としては、さらに、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）のスルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０）のイミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のイミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルコキシ基（例えばメトキシ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールオキシ基（例えばフェノキシ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシルオキシ基（例えばアセトキシ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルチオ基（例えばメチルチオ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールチオ基（例えばフェニルチオ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、４〜７員環（好ましくは５〜６員環）のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）を挙げることができる。
【０１３７】
Ｒ１２として好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、炭素数５〜１８の置換もしくは無置換シクロアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。Ｒ１２として特に好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。
【０１３８】
Ｒ１３として好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルコキシ基、又は−ＣＯＯＲ１４基（ここで、Ｒ１４は、水素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基である。）である。
【０１３９】
Ｒ１１、Ｒ１２は、ベンゼン環に置換していればいずれの位置でも構わないが、ヒドロキシル基の２位および４位に置換していることが好ましい。
【０１４０】
＜一般式（IIｂ）＞
前記一般式（IIｂ）中において、Ｔは、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。Ｔ１は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｌは２価の連結基または単結合を表し、ｍは０又は１を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｎが１のときＴ２は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。また、ｎが２のときＴ２は２価の置換基を表し、ｎが３のときＴ２は３価の置換基を表し、ｎが４のときＴ２は４価の置換基を表す。一般式（IIｂ）の詳細は後述する。Ｔとして好ましくは、水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基である。
【０１４１】
Ｔとして好ましくは、水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基である。
【０１４２】
Ｔ１として好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基である。
【０１４３】
−Ｌ−は２価の連結基または単結合を表し、ｍは０又は１を表す。ｍが０のときは、Ｔ２がＬを介さずに直接ベンゼン環と結合しているとき、即ち−Ｌ−が単なる結合を表しているときを表す。
【０１４４】
２価の連結基−Ｌ−について説明する。−Ｌ−は下記一般式（ａ）で表わされる２価の置換基である。
一般式（ａ）
−（Ｌ１）ｍ１−（Ｌ２）ｍ２−（Ｌ３）ｍ３−（Ｌ４）ｍ４−（Ｌ５）ｍ５−
【０１４５】
一般式（ａ）中、ｍ１〜ｍ５は０〜２の整数を表す。Ｌ１〜Ｌ５は各々独立して、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＮＲＬ−、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基を表す。ＲＬは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
【０１４６】
ＲＬの具体例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アルキル基上およびアリール基上の任意の位置に１価の置換基を有していてもよい。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。ＲＬとして好ましくは、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基である。より好ましくは炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１４７】
すなわち２価の置換基−Ｌ−としては、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ４Ｈ８−、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｃ８Ｈ１６−、−Ｃ４Ｈ８−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｃ３Ｈ６−等が好ましい。
【０１４８】
一般式（ＩＩｂ）中、ｎは１〜４の整数を表す。ｎが１のときＴ２は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。ｎが１のときＴ２として好ましくは、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１４９】
ｎが２のとき、Ｔ２は、２価の置換基を表す。ｎが２のとき、Ｔ２の具体例としては、上記の２価の置換基−Ｌ−の例が挙げられる。ｎが２のとき、Ｔ２として好ましくは、−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−である。
【０１５０】
ｎが３のときＴ２は３価の置換基を表す。３価の置換基について説明する。３価の置換基は３価のアルキル基、３価のアリール基、又は下記一般式で表される置換基である。
【０１５１】
【化１１】
2011065139.tif 000013
【０１５２】
３価の置換基のうち、好ましくは炭素数１〜８の３価のアルキル基、炭素数６〜１４の３価のアリール基、又は下記一般式で表される化合物である。
【０１５３】
【化１２】
2011065139.tif 000014
【０１５４】
ｎが４のとき、Ｔ２は４価の置換基を表す。４価の置換基について説明する。４価の置換基は４価のアルキル基、４価のアリール基で表される置換基である。４価の置換基のうち好ましくは、炭素数１〜８の４価のアルキル基、炭素数６〜１４の４価のアリールである。
【０１５５】
一般式（IIｂ）において、ｎが１又は２の時が特に好ましい。すなわち、一般式（IIｂ）の好ましい組み合わせは以下である。
【０１５６】
ｎが１のとき、Ｔが水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基であり、Ｔ１が水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基であり、Ｌが−Ｏ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−、−ＣＨ２−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｃ８Ｈ１６−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ４Ｈ８−又は単なる結合であり、Ｔ２が塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基である組合せである。
【０１５７】
また、ｎが２のとき、Ｔが水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基であり、Ｔ１が水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基であり、Ｌが−ＣＨ２−又は単なる結合であり、Ｔ２が、−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−である組合せである。
【０１５８】
また、ｎが２のとき、ｍが０であり、Ｔが水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基であり、Ｔ１が水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基であり、Ｔ２が、−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−である組合せも好ましい。
【０１５９】
前記一般式（IIａ）又は（IIｂ）で表される化合物の代表例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）−５’−メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【化１３】
2011065139.tif 000015
（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール）；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【０１６０】
前記トリアジン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（III）で表される化合物が好ましい。
【０１６１】
【化１４】
2011065139.tif 000016
【０１６２】
一般式（III）中、置換基Ｙ１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基である。Ｌｆは２価の連結基または単結合を表す。ｕは１又は２であり、ｖは０又は１であり、そしてｒは１〜３の整数である。ｕが１のとき、Ｙ２は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である。また、ｕが２のとき，Ｙ２は２価の置換基を表す。
【０１６３】
Ｙ１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｙ１として好ましくは、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基である。
【０１６４】
Ｌｆは２価の連結基または単なる結合を表す。ｕは１又は２を表す。ｒは１〜３の整数を表す。ｖは０又は１であり、ｖが０のときは、Ｌｆは単なる結合を表す。
【０１６５】
２価の連結基−Ｌｆ−について説明する。２価の置換基Ｌｆは、下記一般式（ｂ）で表わされる２価の置換基である。
【０１６６】
一般式（ｂ）
−（Ｌｆ１）ｍｆ１−（Ｌｆ２）ｍｆ２−（Ｌｆ３）ｍｆ３−（Ｌｆ４）ｍｆ４−（Ｌｆ５）ｍｆ５−
【０１６７】
一般式（ｂ）中、ｍｆ１〜ｍｆ５は０〜２の整数を表す。Ｌｆ１〜Ｌｆ５は各々独立して、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＮＲｆＬ−、２価の置換もしくは無置換のアルキル基、２価の置換もしくは無置換のアルケニル基、又は２価の置換もしくは無置換のアリール基を表す。ＲｆＬは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
【０１６８】
ＲｆＬの具体例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アルキル基上およびアリール基上の任意の位置に１価の置換基を有していてもよい。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。ＲｆＬとして好ましくは、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基である。より好ましくは炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１６９】
すなわち２価の置換基−Ｌｆ−としては、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ４Ｈ８−、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｃ８Ｈ１６−、−Ｃ４Ｈ８−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｃ３Ｈ６−等が好ましい。
【０１７０】
ｕが１のときＹ２は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である。ｕが１のときＹ２として好ましくは、水素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。
【０１７１】
ｕが２のときＹ２は２価の置換基を表す。２価の置換基の例としては上記の２価の置換基−Ｌ−の例があげられる。Ｙ２として好ましくは、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、置換もしくは無置換の２価のアリール基、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−Ｙ１１−ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２、−ＣＯ−Ｙ１２−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ１３−ＮＨ−ＣＯ−、又は−（ＣＨ２）ｔ−ＣＯ２−Ｙ１４−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｔである。ただし、ｔは、１、２または３である。
【０１７２】
Ｙ１１は、置換もしくは無置換のアルキレン、フェニレン、又は−フェニレン−Ｍ−フェニレン−（ここで、Ｍは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−または−Ｃ（ＣＨ３）２−である。）である。
【０１７３】
Ｙ１２は、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基である。
【０１７４】
Ｙ１３は、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基である。
【０１７５】
Ｙ１４は、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基である。
【０１７６】
すなわちｕが２のとき、Ｙ２として好ましくは、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換の２価のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換の２価のアリール基、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−ＯＣ８Ｈ１６−、又は−（ＣＨ２）２−ＣＯ２−Ｃ２Ｈ４−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−である。
【０１７７】
前記一般式（III）で表される化合物の代表例としては、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ）フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン等を挙げることができる。
【０１７８】
前記ベンゾフェノン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍである化合物が好ましく、下記一般式（IVａ）又は（IVｂ）で表される化合物が好ましい。
【０１７９】
【化１５】
2011065139.tif 000017
【０１８０】
一般式（IVａ）中、Ｘ１及びＸ２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。ｓ１及びｓ２は、互いに独立して１〜３の整数を表す。
【０１８１】
一般式（IVｂ）中、Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表し、ｓ１は１〜３の整数を表す。
Ｌｇは２価の置換基または単なる結合を表し、ｗは０又は１を表す。
ｔｂは１又は２を表し、ｔｂが１のときＸ３は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。ｔｂが２のときＸ３は２価の置換基を表す。
【０１８２】
＜一般式（IVａ）＞
Ｘ１及びＸ２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。Ｘ１及びＸ２として好ましくは、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。Ｘ１及びＸ２として特に好ましくは水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
【０１８３】
＜一般式（IVｂ）＞
ｔｂは１又は２であり、ｗは０又は１であり、ｓ１は１〜３の整数である。置換基Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。
【０１８４】
Ｘ１として好ましくは、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。Ｘ１として特に好ましくは水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
【０１８５】
−Ｌｇ−は２価の連結基または単なる結合を表し、ｗは０〜１の整数を表す。ｗが０の時はＸ３がＬｇを介さずに直接ベンゼン環と結合しているとき、即ち−Ｌｇ−が単なる結合を表しているときを表す。
【０１８６】
２価の連結基−Ｌｇ−について説明する。２価の置換基Ｌｇは、下記一般式（ｃ）で表わされる２価の置換基である。
【０１８７】
一般式（ｃ）
−（Ｌｇ１）ｍｇ１−（Ｌｇ２）ｍｇ２−（Ｌｇ３）ｍｇ３−（Ｌｇ４）ｍｇ４−（Ｌｇ５）ｍｇ５−
【０１８８】
一般式（ｃ）中、ｍｇ１〜ｍｇ５は０〜２の整数を表す。Ｌｇ１〜Ｌｇ５は各々独立して、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＮＲｇＬ−、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基を表す。ＲｇＬは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
【０１８９】
ＲｇＬの具体例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アルキル基上およびアリール基上の任意の位置に１価の置換基を有していてもよい。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。ＲｇＬとして好ましくは、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基である。より好ましくは炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１９０】
すなわち２価の置換基−Ｌｇ−としては、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ４Ｈ８−、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｃ８Ｈ１６−、−Ｃ４Ｈ８−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｃ３Ｈ６−等が好ましい。
【０１９１】
ｔｂが１のとき、Ｘ３は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基である。
【０１９２】
ｔｂが１のとき、Ｘ３として好ましくは、水素原子、ヒドロキシル基、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。Ｘ３として特に好ましくは水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
【０１９３】
ｔｂが２のときＸ３は、２価の置換基を表す。
【０１９４】
ｔｂが２のとき、Ｘ３の具体例としては、上記の２価の置換基−Ｌ−の例が挙げられる。ｔｂが２のときＸ３として好ましくは、−ＣＨ２−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｏ−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−である。
【０１９５】
一般式（IVｂ）において、ｔｂが１のときが特に好ましい。即ち、一般式（IVｂ）の好ましい組み合わせとしては、以下のとおりである。
【０１９６】
具体的には、ｔｂが１のとき、Ｘ１が水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基であり、Ｌｇが−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ４Ｈ８−、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｃ８Ｈ１６−、−Ｃ４Ｈ８−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−、もしくは−ＮＨ−ＳＯ２−Ｃ３Ｈ６−、又は単なる結合であり、Ｘ３が水素原子、ヒドロキシル基、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である組み合わせが好ましい。
【０１９７】
ｔｂが２のとき、Ｘ１が水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基であり、Ｌｇが−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ４Ｈ８−、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｃ８Ｈ１６−、−Ｃ４Ｈ８−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−、もしくは−ＮＨ−ＳＯ２−Ｃ３Ｈ６−、又は単なる結合であり、Ｘ３が−ＣＨ２−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｏ−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ２Ｈ４−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ３Ｈ６−ＣＯ−ＮＨ−である組み合わせが好ましい。
【０１９８】
前記ベンゾフェノン系化合物の代表例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−デシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ジエチルアミノ−２’−ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン等を挙げることができる。
【０１９９】
前記ベンゾオキサジノン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（Ｖ）で表される化合物が好ましい。
【０２００】
【化１６】
2011065139.tif 000018
【０２０１】
一般式（Ｖ）中、Ｒ１は置換基を表し、ｎ１は０〜４の整数を表す。Ｒ２はｎ２価の置換基または連結基を表し、ｎ２は１〜４の整数を表す。
【０２０２】
前記一般式（Ｖ）においてＲ１は置換基を表し、置換基の例としては前述の置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様のものが挙げられる。Ｒ1として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基であり、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基であり、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であり、更に好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基であり、更に好ましくは塩素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数６〜１０のアリールチオ基であり、更に好ましくは塩素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。
【０２０３】
ｎ１として好ましくは０〜３であり、更に好ましくは０〜２であり、更に好ましくは０または１であり、最も好ましくは０、すなわちベンゼン環が置換基を有さないことである。
【０２０４】
Ｒ２はｎ２価の置換基或いは連結基を表し、置換基の例としては前述の置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様のものが挙げられる。また連結基とは置換基が更に１つ以上の結合手を有するものである。
【０２０５】
Ｒ２として好ましくは脂肪族基、芳香族基、およびこれらが更に結合手を有する連結基であり、更に好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、およびこれらが２〜４価となる連結基であり、更に好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数６〜２０のアリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数６〜１２のアリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくはメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、２−ブチル、ベンジル、フェニル、２−ナフチル、エチレン、トリメチレン、１，２−プロピレン、テトラメチレン、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフチレン、ベンゼン−１，３，５−イルであり、更に好ましくはメチル、エチル、ベンジル、フェニル、エチレン、トリメチレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ベンゼン−１，３，５−イルであり、更に好ましくはエチレン、トリメチレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ベンゼン−１，３，５−イルであり、最も好ましくは１，４−フェニレンである。
【０２０６】
ｎ２として好ましくは１〜３であり、更に好ましくは２〜３であり、最も好ましくは２である。
【０２０７】
前記ベンゾオキサジノン系化合物の代表例としては、２，２’−（ｐ−フェニレン）ジ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オンを挙げることができる。
【０２０８】
前記サリチル酸系化合物としては、その有効吸収波長が約２９０〜３３０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としてはフェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレート、ヘキサデシル  ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレートなどを挙げることができる。
【０２０９】
前記アクリレート系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３５０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としては２−エチルヘキシル  ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル  ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、イソオクチル  ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ヘキサデシル  ２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリレート、メチル  ２−シアノ−３−メチル−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート、ブチル  ２−シアノ−３−メチル−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート、メチル  ２−カルボメトキシ−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリル酸塩、１，３−ビス（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）−２，２−ビス（（（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）メチル）プロパン、Ｎ−（２−カルボメトキシ−２−シアノビニル）−２−メチルインドリン等を挙げることができる。
【０２１０】
前記シュウ酸ジアミド系化合物としては、その有効吸収波長が約２５０〜３５０ｎｍであるものが好ましく、その代表例としては４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド等を挙げることができる。
【０２１１】
第２の紫外線吸収剤としては、以下の化合物群（Ｂ）から選ばれる化合物であることが特に好ましい。化合物群（Ｂ）は次の化合物（ＩＩ−１）〜（Ｖ−１）からなる群である。
【０２１２】
［１］前記一般式（IIａ）で表される化合物
（ＩＩ−１）  ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール
（ＩＩ−２）  ２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
（ＩＩ−３）  ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール（ＩＩ−４）  ２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネート
（ＩＩ−５）  ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール
（ＩＩ−６）  ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−３−ｔ−ブチルフェノール
（ＩＩ−７）  ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１−３，３−テトラメチルブチル）フェノール
（ＩＩ−８）  ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−３−メチルフェノール
（ＩＩ−９）  ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール
【０２１３】
［２］前記一般式（IIｂ）で表される化合物
（ＩＩ−１０）  ２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］
【０２１４】
［３］前記一般式（III）で表される化合物
（ＩＩＩ−１）  ２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン
（ＩＩＩ−２）  ２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン
（ＩＩＩ−３）  ２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン
（ＩＩＩ−４）  ２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシロキシフェノール
（ＩＩＩ−５）  ビスエチルヘキシロキシフェノール  メトキシフェニルトリアジン
【０２１５】
［４］前記一般式（IV）で表される化合物
（ＩＶ−１）  ヘキシル  ２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート
（ＩＶ−２）  ２，２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン
（ＩＶ−３）  ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
（ＩＶ−４）  １，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン
（ＩＶ−５）  ２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン
（ＩＶ−６）  ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルフォニックアシッド
（ＩＶ−７）  ２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
【０２１６】
［５］前記一般式（Ｖ）で表される化合物
（Ｖ−１）  ２，２’−（ｐ−フェニレン）ジ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン
【０２１７】
化合物（ＩＩ−１）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ３２８（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−２）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−３）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ３２９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−４）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  １０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−５）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  １７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−６）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ＰＳ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−７）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ９２８（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−８）は以下に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  Ｐ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−９）は以下に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ２３４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−１０）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ３６０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
【０２１８】
化合物（ＩＩＩ−１）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ４６０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−２）は下記に示す構造であり、商品名Ｃｙａｓｏｒｂ  ＵＶ−１１６（サイテック社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−３）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  ４０５（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−４）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ  １５７７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−５）は下記に示す構造であり、商品名Ｔｉｎｏｓｏｒｂ  Ｓ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
【０２１９】
化合物（ＩＶ−１）は下記に示す構造であり、商品名Ｕｖｉｎｕｌ  Ａ  ｐｌｕｓ（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−２）は下記に示す構造であり、商品名Ｕｖｉｎｕｌ  ３０４９（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−３）は下記に示す構造であり、商品名Ｖｉｓｏｒｂ  １１０（共同薬品社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−４）は下記に示す構造であり、商品名Ｓｅｅｓｏｒｂ  １５１（シプロ化成社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−５）は以下に示す構造であり、商品名Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ  ８１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−６）は以下に示す構造であり、商品名Ｕｖｉｎｕｌ  ＭＳ４０（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−７）は以下に示す構造であり、商品名Ｕｖｉｎｕｌ  ３０５０（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（Ｖ−１）は以下に示す構造であり、商品名サイアソーブＵＶ−３６３８（サイテックインダストリーズ社製）として市販されている。
【０２２０】
【化１７】
2011065139.tif 000019
【０２２１】
【化１８】
2011065139.tif 000020
【０２２２】
【化１９】
2011065139.tif 000021
【０２２３】
【化２０】
2011065139.tif 000022
【０２２４】
第１の紫外線吸収剤及び第２の紫外線吸収剤は、それぞれ単独で使用していてもよいが、あらかじめあるいは組成物中で結合を形成することで、互いに連結して使用してもよい。また、それぞれ重合性基を結合させることでモノマーとし、これを重合させることで１の紫外線吸収剤及び第２の紫外線吸収剤を単位構造に含む共重合体となってもよい。１の紫外線吸収剤及び第２の紫外線吸収剤が結合していない別のモノマーを併用して共重合体となってもよい。好ましくは、それぞれ単量体として組成物になっていたものが、所望の時に重合を行って共重合体を形成する場合である。
【０２２５】
第２の添加剤について、説明する。第２の添加剤は、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される。一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物は、種々の樹脂などと共用することで樹脂の分解を防止する光安定剤として機能する。このような化合物を前記一般式（１）で表される第１の紫外線吸収剤と共に添加することにより、組成物自体の光安定性を向上するだけでなく、第１の紫外線吸収剤も安定化し、第１の紫外線吸収剤が有する長波紫外線吸収能を長期間に亘って維持することができる。
【０２２６】
【化２１】
2011065139.tif 000023
【０２２７】
一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ９１は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基（シクロアルキルスルホニル基、ビシクロアルキルスルホニル基、トリシクロアルキルスルホニル基等の環状アルキルスルホニル基を含む。）、アリールスルホニル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）を表す。ここで、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９は同一でも異なってもいてもよく、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基、アリールオキシ基を表す。−Ｘ９１−は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（−Ｒ１００）−を表す。ここで、Ｒ１００はＲ９１と同義である。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表す。Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。さらに、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ１００のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は１０以上である。
【０２２８】
本明細書中における基が脂肪族部位を含む場合には、その脂肪族部位は直鎖、分岐鎖又は環状で飽和であっても不飽和であってもよく、例えばアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニルを表し、これらは無置換であっても置換基を有していてもよい。また、アリール部位を含む場合には、そのアリール部位は、単環であっても縮合環であってもよく、無置換であっても置換基を有していてもよい。また、複素環部位を含む場合には、その複素環部位は環内にヘテロ原子（例えば、窒素原子、イオウ原子、酸素原子）を持つものであり、飽和環であっても、不飽和環であってもよく、単環であっても縮合環であってもよく、無置換であっても置換基を有していてもよく、環状のヘテロ原子で結合しても、炭素原子で結合してもよい。
【０２２９】
本発明における置換基とは、置換可能な基であればよく、例えば脂肪族基、アリール基、複素環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、複素環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、複素環スルホンアミド基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、複素環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、アリールスルフィニル基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、脂肪族オキシアミノ基、アリールオキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ホスフィニル基、ホスホリル基等を挙げることができる。
【０２３０】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）をさらに詳細に述べる。Ｒ９１は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基等の環状アルキル基を含む、例えば、メチル基、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ドデシル基、メトキシエトキシ基、ベンジル基）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む、例えば、アリル基）、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基）ヘテロ環基（例えば２−テトラヒドフリル基、ピラニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基（例えばメキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニル基）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基）、ホスフィノトリル基（例えばジメトキシホスフィノ基、ジフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（例えばジエチルホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基）、又は−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）を表す。ここで、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９は同一でも異なってもいてもよく、それぞれアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基）、アルケニル基（例えばアリル基）、アリール基（例えばフェニル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、ブトキシ基）、アルケニルオキシ基（例えばアリルオキシ基）、又はアリールオキシ基（例えばフェノキシ基）を表す。
【０２３１】
−Ｘ９１−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（−Ｒ１００）−を表す。ここで、Ｒ１００はＲ９１と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６は各々同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表し、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【０２３２】
その中でも好ましい置換基としてはアルキル基（例えばメチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ヘキシル基、ベンジル基）、アルケニル基（アリール基）、アリール基（例えばフェニル基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、ｐ−ヒドロキシベンゼンスルホニル基）又は−Ｘ９１−Ｒ９１である。
【０２３３】
Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００は互いに結合して５〜７員環（例えばクロマン環、モルホリン環）を形成していてもよい。さらに、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４が互いに結合して、５〜７員環（例えばクロマン環、インダン環）又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ１００のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は１０以上であり、好ましくは総炭素数１６以上である。
【０２３４】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物は、特公昭６３−５０６９１号公報の一般式（Ｉ）、特公平２−３７５７５号公報の一般式（ＩＩＩａ）（ＩＩＩｂ）（ＩＩＩｃ）、同２−５０４５７号公報の一般式、同５−６７２２０号公報の一般式、同５−７０８０９の一般式（ＩＸ）、同６−１９５３４号公報の一般式、特開昭６２−２２７８８９号公報の一般式（Ｉ）、同６２−２４４０４６号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）、特開平２−６６５４１号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）、同２−１３９５４４号公報の一般式（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同２−１９４０６２号公報の一般式（Ｉ）、同２−２１２８３６号公報の一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、同３−２００７５８号公報の一般式（ＩＩＩ）、同３−４８８４５号公報の一般式（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同３−２６６８３６号公報の一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、同３−９６９４４０号公報の一般式（Ｉ）、同４−３３０４４０号公報の一般式（Ｉ）、同５−２９７５４１号公報の一般式（Ｉ）、同６−１３０６０２号公報の一般式、国際公開ＷＯ９１／１１７４９号パンフレットの一般式（１）、（２）、（３）、独国特許出願公開第４００８７８５Ａ１号明細書の一般式（Ｉ）、米国特許第４９３１３８２号明細書の一般式（ＩＩ）、欧州特許第２０３７４６Ｂ１号明細書の一般式（ａ）、欧州特許第２６４７３０Ｂ１号明細書の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
【０２３５】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物としては、下記一般式（ＴＳ−ＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＧ）で表される化合物が挙げられ、本発明においてはこれらの構造の化合物が好ましい。
【０２３６】
【化２２】
2011065139.tif 000024
【０２３７】
前記一般式（ＴＳ−ＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＧ）において、Ｒ９１〜Ｒ９７は一般式（ＴＳ−Ｉ）で定義したものと同じであり、好ましい範囲も同様である。Ｒａ１〜Ｒａ４は水素原子又は脂肪族基を表し、Ｘ９２及びＸ９３は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、アルキレン基、オキシ基、スルホニル基を表す。式中、同一分子中の同記号は同じであっても異なっていてもよい。
【０２３８】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は各々独立に、水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）を表し、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４は結合し、５〜７員環を形成してもよい。
【０２３９】
Ｘ１０１は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルもしくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。
【０２４０】
Ｘ１０２は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【０２４１】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）をさらに詳細に述べる。式中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基）、アルケニル基（例えばアリル基）であるが、好ましくはアルキル基である。
【０２４２】
Ｘ１０１は、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基）、アルケニル基（例えば、アリル基）、アルキルオキシ基（例えばメトキシ基、オクチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、アルケニルオキシ基（例えばアリルオキシ基）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、アルケニルオキシカルボニル基（例えば、アリルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−クロロフェノキシカルボニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、メタクリロイル基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基）、アルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基）、アルケニルオキシカルボニルオキシ基（例えば、アリルオキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アルケニルスルホニル基（例えば、アリルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基）、アルキルスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル基、オクタンスルフィニル基）、アルケニルスルフィニル基（例えば、アリルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（例えばベンゼンスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基）、スルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基）、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基）、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。
【０２４３】
Ｘ１０２は５〜７員環（例えばピペリジン環、ピペラジン環）を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【０２４４】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）においては、更に好ましくは、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５、Ｒ１０６が共に炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｘ１０１がオキシラジカル、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数２〜１４のアシル基、又は炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｘ１０２がシクロヘキサン環を形成するものである。
【０２４５】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）は下記一般式（ＴＳ−ＩＩａ）で表される場合が特に好ましい。
【０２４６】
【化２３】
2011065139.tif 000025
【０２４７】
式中、Ｘ１０１は前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）におけるＸ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ２００は１価の置換基を表す。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。
【０２４８】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物は、特公平２−３２２９８号公報の一般式（Ｉ）、同３−３９２９６号公報の一般式（Ｉ）、同３−４０３７３号公報の一般式、特開平２−４９７６２号公報の一般式（Ｉ）、同２−２０８６５３号公報の一般式（ＩＩ）、同２−２１７８４５号公報の一般式（ＩＩＩ）、米国特許第４９０６５５５号明細書の一般式（Ｂ）、欧州特許出願公開第３０９４００Ａ２号明細書の一般式、同第３０９４０１Ａ１号明細書の一般式、同第３０９４０２Ａ１号明細書の一般式等で表される化合物を包含する。
【０２４９】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ１０５、Ｒ１０６は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ１０７は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよいが、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ１０５、Ｒ１０６の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
【０２５０】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）を更に詳細に述べる。式中、Ｒ１０５、Ｒ１０６は水素原子、脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、オクチル基、メトキシエトキシ基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、メタクリロイル基）、脂肪族オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、芳香族オキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、脂肪族スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、芳香族スルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基）を表し、Ｒ１０７は脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、オクチル基、メトキシエトキシ基）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）、脂肪族チオ基（例えばメチルチオ基、オクチルチオ基）、芳香族チオ基（例えばフェニルチオ基、ｐ−メトキシフェニルチオ基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ピバロイルオキシ基）、脂肪族オキシカルボニルオキシ基（例えばメトキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基）、芳香族オキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基）、置換アミノ基（置換基としては置換可能ならばよく、例えば脂肪族基、芳香族基、アシル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基等の置換したアミノ基）、複素環基（例えばピペリジン環、チオモルホリン環）、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７は互いに結合し、５〜７員環（例えばピペリジン環、ピラゾリジン環）を形成してもよい。但し、Ｒ１０５、Ｒ１０６の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
【０２５１】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で表される化合物は、特公平６−９７３３２号公報の一般式（Ｉ）、特公平６−９７３３４号公報の一般式（Ｉ）、特開平２−１４８０３７号公報の一般式（Ｉ）、同２−１５０８４１号公報の一般式（Ｉ）、同２−１８１１４５号公報の一般式（Ｉ）、同３−２６６８３６号公報の一般式（Ｉ）、同４−３５０８５４号公報の一般式（ＩＶ）、同５−６１１６６号公報の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
【０２５２】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（ＴＳ−ＩＩＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＩＩＤ）で表される化合物が挙げられ、本発明においてはこれらの構造の化合物が好ましい。
【０２５３】
【化２４】
2011065139.tif 000026
【０２５４】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＩＩＤ）において、Ｒ１０５〜Ｒ１０６は前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で定義したものと同じであり、好ましい範囲も同様である。Ｒｂ１〜Ｒｂ３はＲ１０５と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒｂ４、Ｒｂ５、Ｒｂ６は脂肪族基を表す。Ｘ１０３は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【０２５５】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１、Ｒ１１２は脂肪族基を表し、Ｒ１１１とＲ１１２は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、２を表す。但しＲ１１１、Ｒ１１２の総炭素数は１０以上である。
【０２５６】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）を更に詳細に述べる。
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１、Ｒ１１２は脂肪族基（例えばメチル基、メトキシカルボニルエチル基、ドデシルオキシカルボニルエチル基）を表し、Ｒ１１１とＲ１１２は互いに結合し、５〜７員環（例えばテトラヒドロチオフェン環、チオモルホリン環）を形成してもよい。ｎは０、１、２を表す。但し、Ｒ１１１、Ｒ１１２の総炭素数は１０以上である。
【０２５７】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）で表される化合物は、特公平２−４４０５２号の一般式（Ｉ）、特開平３−４８２４２号公報の一般式（Ｔ）、同３−２６６８３６号公報の一般式（Ａ）、同５−３２３５４５号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同６−１４８８３７号公報の一般式（Ｉ）、米国特許第４９３３２７１号明細書の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
【０２５８】
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１、Ｒ１２２は脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２３は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３の総炭素数は１０以上である。
【０２５９】
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）を更に詳細に述べる。前記一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１、Ｒ１２２は脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、ｔ−オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ基）を表し、Ｒ１２３は脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−オクチル基）、芳香族基（例えばフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、ｔ−オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基）を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３の総炭素数は１０以上である。
【０２６０】
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物は、特開平３−２５４３７号公報の一般式（Ｉ）、同３−１４２４４４号公報の一般式（Ｉ）、米国特許第４７４９６４５号明細書の一般式、同第４９８０２７５号明細書の一般式等で表される化合物を包含する。
【０２６１】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物は、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）、（ＴＳ−ＩＩ）、又は（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物から選ばれたものであることが好ましく、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）又は（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物から選ばれたものがより好ましく、前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物であることがさらに好ましい。前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物としては、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格からなるものが特に好ましい。
【０２６２】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物の具体的化合物例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）に該当する化合物には、ＴＩ−１〜５７が、前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）に該当する化合物には、ＴＩＩ−１〜３６が、前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）に該当する化合物には、ＴＩＩＩ−１〜１３が、前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）に該当する化合物には、ＴＩＶ−１〜６が、前記一般式（ＴＳ−Ｖ）に該当する化合物には、ＴＶ−１〜８が、参照番号として付されている。
【０２６３】
【化２５】
2011065139.tif 000027
【０２６４】
【化２６】
2011065139.tif 000028
【０２６５】
【化２７】
2011065139.tif 000029
【０２６６】
【化２８】
2011065139.tif 000030
【０２６７】
【化２９】
2011065139.tif 000031
【０２６８】
【化３０】
2011065139.tif 000032
【０２６９】
【化３１】
2011065139.tif 000033
【０２７０】
【化３２】
2011065139.tif 000034
【０２７１】
【化３３】
2011065139.tif 000035
【０２７２】
【化３４】
2011065139.tif 000036
【０２７３】
【化３５】
2011065139.tif 000037
【０２７４】
【化３６】
2011065139.tif 000038
【０２７５】
【化３７】
2011065139.tif 000039
【０２７６】
【化３８】
2011065139.tif 000040
【０２７７】
【化３９】
2011065139.tif 000041
【０２７８】
【化４０】
2011065139.tif 000042
【０２７９】
【化４１】
2011065139.tif 000043
【０２８０】
【化４２】
2011065139.tif 000044
【０２８１】
【化４３】
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【０２８２】
【化４４】
2011065139.tif 000046
【０２８３】
【化４５】
2011065139.tif 000047
【０２８４】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物として好ましくは、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）、（ＴＳ−ＩＩ）又は（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物である。より好ましくは前記一般式（ＴＳ−Ｉ）又は（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物である。
【０２８５】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物が２種以上含まれる場合には、同一の群から２種以上併用しても良いし（例えば、前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物を２種類使用する場合）、複数の群に亘って２種以上併用しても良い（例えば、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物と前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物をそれぞれ１種類ずつ使用する場合）。好ましくは、複数の群に亘って２種以上併用する場合である。
【実施例】
【０２８６】
以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明はここに示す形態に限定されるものではない。
【０２８７】
［実施例１］
実施例１では、図２に示すように、ポリエステルからなる支持体１１の一方の面に本発明の２層構造の光拡散部１２を形成し、光拡散シート２０を作製した。
【０２８８】
〔支持体〕
Ｇｅを触媒として重縮合した固有粘度０．６６のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記載）樹脂を含水率５０ｐｐｍ以下になるまで乾燥した後、ヒーター温度が２８０〜３００℃の範囲で略一定となるように調整された押出機の内部で溶融させた。次に、この溶融したＰＥＴ樹脂を、静電印加されたチルロール上にダイから吐出させて、非結晶のフィルムとした後、これをフィルムの搬送方向と幅方向に延伸し、熱固定工程、緩和工程、冷却工程を経て、厚さ３００μｍの長尺の支持体１１を得た。以下の説明においては、この支持体１１の長手方向をＭＤ方向、幅方向をＴＤ方向と称する。
【０２８９】
また、１７０℃、１０分間の加熱処理を行なったときの支持体１１の加熱収縮率を、互いに直交するＭＤ方向とＴＤ方向とでそれぞれ測定した。加熱収縮率は、以下の方法で求めた。支持体１１から、ＴＤ方向３０ｍｍ、ＭＤ方向１２０ｍｍの大きさでサンプリングした。このサンプルのＭＤ方向で１００ｍｍの間隔となるように、正確に２本の基準線を入れ、無張力下で１７０℃の加熱オーブン中に１０分間放置した。この放置の後、室温まで冷却して、２本の基準線の間隔を測定しこの値をＬ（単位；ｍｍ）とおき、１００×（１００−Ｌ）／１００の式をもってＭＤ方向での加熱収縮率とした。また、支持体１１からＭＤ方向３０ｍｍ、ＴＤ方向１２０ｍｍの大きさでサンプリングし、同様に測定と計算とを行い、ＴＤ方向での加熱収縮率とした。支持体１１の加熱収縮率は、ＭＤ方向１．２％、ＴＤ方向１．０％であった。
【０２９０】
〔拡散層〕
上記の支持体１１を搬送速度４５ｍ／分条件で搬送する間に、その表面を４６０Ｊ／ｍ２条件下でコロナ放電処理を行った。そして、この処理面に、下記組成からなる樹脂層用塗布液１をバーコート法により塗布して第１の樹脂層１２ａを形成した。ここで、塗布量は９．１ｃｃ／ｍ２とし、１２０℃で１分乾燥した。ついで、この支持体１１を搬送速度４５ｍ／分条件で搬送しながら、第１の樹脂層１２ａが形成された面に、４６０Ｊ／ｍ２条件でコロナ放電処理を行った。そして、バーコート法により、下記組成からなる樹脂層用塗布液２を塗布量が２０．５ｃｃ／ｍ２となるよう塗布した後、これを１２０℃／１分乾燥することで第２の樹脂層１２ｂを形成した。これにより、第１及び第２の樹脂層１２ａ，１２ｂを有する光拡散シート２０を得た。
【０２９１】
〔樹脂層用塗布液１〕
・蒸留水  ４７５質量部
・水分散性ポリマー（ポリウレタン樹脂、ＤＭＳ  ＮｅｏＲｅｓｉｎｓ  Ｉｎｃ．製、ＮｅｏＲｅｚ  Ｒ−６００、固形分３３％）  ２８４質量部
・微粒子（日産化学工業（株）製、スノーテックスＣ、シリカ粒子、平均粒径０．０１〜０．０２μｍ、固形分２０％）  ２３４質量部
・架橋剤（日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２）  ５質量部
・界面活性剤（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）  ２質量部
上記の各種材料を混合して樹脂層用塗布液１とした。
【０２９２】
〔樹脂層用塗布液２〕
・蒸留水  ４４２質量部
・界面活性剤（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）      ５質量部
・微粒子（積水化成品工業（株）製、ＳＢＸ−６、架橋ポリスチレン粒子、平均粒径  ６μｍ）    ２６９質量部
・水分散性ポリマー（ポリウレタン樹脂、ＤＭＳ  ＮｅｏＲｅｓｉｎｓ  Ｉｎｃ．製、ＮｅｏＲｅｚ  Ｒ−６００、固形分３３％）  ２７１質量部
・架橋剤（日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２  固形分４０％）  １３質量部
上記の各種材料を混合して樹脂層用塗布液２とした。
【０２９３】
完成した光拡散シート２０について、ヘイズ、全光線透過率、ＬＥＤ光源の隠蔽性及び樹脂層の耐傷性を測定した。
【０２９４】
〔ヘイズ測定〕
ヘイズメーター（ＮＤＨ−２０００、日本電色工業（株））を用いて、完成した積層シートのヘイズ、全光線透過率を測定した。
【０２９５】
〔ＬＥＤ光源の隠蔽性〕
市販のＬＥＤ光源（６ルーメン／個、計９６個）ライトユニットの、各ＬＥＤ光源上部から１５ｍｍの距離の位置に光拡散シートを設置し、ＬＥＤ光源を真上９０°及び斜め上４５°の位置から見たときのＬＥＤ光源の隠蔽性を目視評価した。
○：ほぼ均一に光が拡散し、ＬＥＤ光源の位置が確認できない。
△：輝度のばらつきにより、ＬＥＤ光源の位置がわずかに確認できるが実用上問題ないレベル。
×：ＬＥＤ光源が輝点として確認され、問題となるレベル。
【０２９６】
〔樹脂層の耐傷性〕
第１の樹脂層１２ａ及び第２樹脂層１２ｂを塗布した後、樹脂層表面（検査面積１ｍ２）を、１５０Ｗタングステンランプを用いて検査した。樹脂層表面のムラ、傷の有無を目視により調べ、ムラ、傷がない場合は「○」とし、ムラもしくは傷が認められた場合を「×」とした。
【０２９７】
［実施例２］
実施例２では、実施例１の〔樹脂層用塗布液１〕を下記〔樹脂層用塗布液３〕にした以外は、実施例１と同様に光拡散シート２０を作製した。
【０２９８】
〔樹脂層用塗布液３〕
・蒸留水  ５９３質量部
・水分散性ポリマー（ポリウレタン樹脂、ＤＭＳ  ＮｅｏＲｅｓｉｎｓ  Ｉｎｃ．製、ＮｅｏＲｅｚ  Ｒ−６００、固形分３３％）  ２８４質量部
・微粒子（日産化学工業（株）製、スノーテックスＺＬ、シリカ粒子、平均粒径０．０７〜０．１μｍ、固形分４０％）  １１７質量部
・架橋剤（日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２）  ５質量部
・界面活性剤（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）  ２質量部
【０２９９】
［実施例３］
実施例３では、実施例１の〔樹脂層用塗布液１〕を下記〔樹脂層用塗布液４〕に、〔樹脂層用塗布液２〕を下記〔樹脂層用塗布液５〕にした以外は、実施例１と同様に光拡散シート２０を作製した。
【０３００】
〔樹脂層用塗布液４〕
・蒸留水  ６７５質量部
・界面活性剤（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）      ２質量部
・微粒子（積水化成品工業（株）製、ＳＢＸ−６、架橋ポリスチレン粒子、平均粒径６μｍ）    ３５質量部
・水分散性ポリマー（ポリウレタン樹脂、ＤＭＳ  ＮｅｏＲｅｓｉｎｓ  Ｉｎｃ．製、ＮｅｏＲｅｚ  Ｒ−６００、固形分３３％）  ２７１質量部
・架橋剤（日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２  固形分４０％）  ５質量部
【０３０１】
〔樹脂層用塗布液５〕
・蒸留水  ４７７質量部
・界面活性剤（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）      ５質量部
・微粒子（積水化成品工業（株）製、ＳＢＸ−６、架橋ポリスチレン粒子、平均粒径６μｍ）  ２３４質量部
・水分散性ポリマー（ポリウレタン樹脂、ＤＭＳ  ＮｅｏＲｅｓｉｎｓ  Ｉｎｃ．製、ＮｅｏＲｅｚ  Ｒ−６００、固形分３３％）  ２７１質量部
・架橋剤（日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２  固形分４０％）  １３質量部
【０３０２】
［実施例４］
実施例４では、実施例１で作成した光拡散シートの光拡散層１３の反対面に、下記のように接着層１３及びハードコート層１４を設けることによって、図１に示すようなハードコート１４付の光拡散シート１０を作製した。
【０３０３】
実施例１の光拡散部１２付の支持体１１を搬送速度４５ｍ／分条件で搬送する間に、光拡散部１２の反対面の表面を４６０Ｊ／ｍ２条件下でコロナ放電処理を行った。そして、この処理面に、下記組成からなる接着層用塗布液をバーコート法により塗布して接着層１３を形成した。ここで、塗布量は８．４ｃｃ／ｍ２とし、１１０℃で１分乾燥した。ついで、この支持体１１を搬送速度４５ｍ／分条件で搬送しながら、接着層１３が形成された面に、４６０Ｊ／ｍ２条件でコロナ放電処理を行った。そして、バーコート法により、下記組成からなるハードコート層用塗布液を塗布量が１５．５ｃｃ／ｍ２となるよう塗布した後、これを１８０℃／２分乾燥することでハードコート層１４を形成し、ハードコート層１４付の光拡散シート１０を得た。
【０３０４】
〔接着層用塗布液〕
・蒸留水  ９４４質量部
・バインダー（三井化学ポリウレタン（株）製、タケラックＷＳ４０００、固形分３３％）５０質量部
・界面活性剤１（三洋化成工業（株）、サンデッドＢＬ）１０％水溶液  ３質量部
・界面活性剤２（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）１０％水溶液  ３質量部
上記の各種材料を混合して接着層用塗布液とした。
【０３０５】
〔ハードコート層用塗布液〕
・１質量％酢酸水  ２９１質量部
・３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学（株）製、ＫＢＥ−４０３）  ７８質量部
・テトラエトキシシラン（日産化学（株）製、ＫＢＥ−０４）  ９１質量部
・コロイダルシリカ（日産化学（株）製、スノーテックスＯ−３３、平均粒径０．０１〜０．０２μｍ、固形分３３％）    ４８４質量部
・アルミニウム化合物（川研ファインケミカル  （株）製、アルミキレートＡ（Ｗ））  ２．７質量部
・界面活性剤１（三洋化成工業（株）、サンデッドＢＬ）１０％水溶液  ２７質量部
・界面活性剤２（三洋化成工業（株）、ナロアクティー    ＣＬ−９５）１０％水溶液  ２７質量部
上記の各種材料を混合してハードコート層用塗布液とした。
【０３０６】
完成した光拡散シート１０について、実施例１と同様に、ヘイズ、全光線透過率、ＬＥＤ光源の隠蔽性及び樹脂層の耐傷性を測定するとともに、ハードコート層のひび割れの有無を目視で確認した。その結果、ひび割れがあるものは、製造適性が劣っていることがわかった。
【０３０７】
［比較例１］
比較例１では、実施例１の〔樹脂層用塗布液１〕の微粒子（日産化学工業（株）製、スノーテックスＣ、シリカ粒子、固形分２０％）２３４質量部を添加せずに、代わりに蒸留水２３４質量部を添加した以外は、実施例１と同様に光拡散シートを作製した。
【０３０８】
［比較例２］
比較例２では、実施例１の〔樹脂層用塗布液１〕を塗布せずに〔樹脂層用塗布液２〕のみを塗布した以外は、実施例１と同様に光拡散シートを作製した。
【０３０９】
［比較例３］
比較例３では、実施例１の〔樹脂層用塗布液１〕の微粒子（日産化学工業（株）製、スノーテックスＣ、シリカ粒子、固形分２０％）２３４質量部を添加せずに、代わりに蒸留水２３４質量部を添加した。この塗布液を実施例１の支持体の代わりに、加熱収縮率がＭＤ方向０．８％、ＴＤ方向０．０２％で、厚みが３００μｍである支持体１１に塗布した後に、１２０℃／１分乾燥した以外は、実施例１と同様に光拡散シートを作製した。次いで実施例４と同様にして、光拡散部１２の反対面の表面に、ハードコート層を設けてハードコート付の光拡散シートを作製した。
【０３１０】
実施例１〜４、及び比較例１〜３の各評価結果を、表１にまとめて示す。
【０３１１】
【表１】
2011065139.tif 000048
【０３１２】
以上の結果から、実施例１〜４により得られる光拡散シートは、ＬＥＤ光源の隠蔽性、全光透過率が高く、ＬＥＤ照明用カバーとして良好な性能を示す。また、樹脂層の傷つきや、水系ハードコートのひび割れもなく、製造適性に優れるものである。
【０３１３】
これに対して、比較例１では、第１の樹脂層が微粒子を有しないため、実施例１〜４と比較して隠蔽性が低下してしまった。比較例２では、光拡散層が第２樹脂層のみの１層構造であるため、実施例１〜４と比較して全光線透過率がかなり低下してしまった。比較例３では、比較例１と同様に、第１の樹脂層が微粒子を有しないため隠蔽性が低下するとともに、支持体の加熱収縮率が小さく、ひび割れが発生してしまった。
【０３１４】
［実施例５］〜［実施例９］、［実施例１９］、［実施例２０］
Ｇｅを触媒として重縮合した固有粘度０．６６のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記載）樹脂を含水率５０ｐｐｍ以下になるまで乾燥した。その後、第１の紫外線吸収剤を乾燥したＰＥＴ樹脂と混合し、二軸押し出し機に投入した。用いた第１の紫外線吸収剤は、表２に一般式の符号で示す。溶融温度２８０℃で溶融混練し、第１の紫外線吸収剤を含むペレットを得た。得られたペレットをさらにＰＥＴ樹脂と混合し、所定の第１の紫外線吸収剤の濃度を所定の濃度に調整した。このようにして第１の紫外線吸収剤の濃度が調整されたＰＥＴ樹脂を用いて、実施例１と同じ方法で厚さ３００μｍの支持体１１を得た。その他の条件は実施例１と同様にして、光拡散シート２０を得た。表２の「単位面積あたりの第１紫外線吸収剤の含有量」の「単位面積」とは、光拡散シート２０を法線方向からみたときの面積１ｍ２である。
【０３１５】
得られた各光拡散シート２０について、光をカットすることができるか否かの光カット性能と、演出性とについて以下の方法で評価した。各評価結果は表２に示す。
【０３１６】
＜光カット性能＞
一方のシート面に対してＵＶ  ＬＥＤ（紫外線の波長：３９５−４１０ｎｍ（ピークの波長は４０５ｎｍ））を照射し、拡散シート越しに発光スペクトルを測定した。測定は、オーシャンフォトニクス社製分光器  ＵＳＢ４１００（商品名）により行った。測定したスペクトルについて、波長４１０ｎｍの光が完全にカットできているものを○，カットできていないものを×と判定した。
【０３１７】
＜演出性＞
得られた各光拡散シート２０について、黄色味が目立つか否かを目視で評価し、これを演出性の評価とした。黄色味が目立たないものほど演出性が良いからである。黄色味が全く目立たないものを◎、目立たないものを○、目立つものを×とした。
【０３１８】
【表２】
2011065139.tif 000049
【０３１９】
［実施例１０］〜［実施例１４］
Ｇｅを触媒として重縮合した固有粘度０．６６のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記載）樹脂を含水率５０ｐｐｍ以下になるまで乾燥した。その後、第１の紫外線吸収剤と第２の紫外線吸収剤と乾燥したＰＥＴ樹脂とを混合し、二軸押し出し機に投入した。用いた第１の紫外線吸収剤と第２の紫外線吸収剤とは、それぞれ表２に一般式の符号で示す。溶融温度２８０℃で溶融混練し、ペレットを得た。なお、表２の「第２の紫外線吸収剤または第２の添加剤の質量比」は、第１の紫外線吸収剤の質量に対する第２の紫外線吸収剤または第２の添加剤の質量比であり、第１の紫外線吸収剤の質量を１とした場合の値である。得られたペレットをさらにＰＥＴ樹脂と混合することで、第１の紫外線吸収剤と第２の紫外線吸収剤との濃度を調整し、これらの紫外線吸収剤を含有したＰＥＴ樹脂を得た。このＰＥＴ樹脂を用いて実施例１と同じ方法で厚さ３００μｍの支持体１１を得た。その他の条件は実施例１と同様にして、光拡散シート２０を得た。
【０３２０】
［実施例１５］〜［実施例１８］
Ｇｅを触媒として重縮合した固有粘度０．６６のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記載）樹脂を含水率５０ｐｐｍ以下になるまで乾燥した。その後、第１の紫外線吸収剤と第２の添加剤と乾燥したＰＥＴ樹脂とを混合し、二軸押し出し機に投入した。用いた第１の紫外線吸収剤と第２の添加剤とは、それぞれ表２に一般式の符号で示す。溶融温度２８０℃で溶融混練し、ペレットを得た。得られたペレットをさらにＰＥＴ樹脂と混合することで、第１の紫外線吸収剤と第２の添加剤との濃度を調整し、これらの紫外線吸収剤を含有したＰＥＴ樹脂を得た。このＰＥＴ樹脂を用いて実施例１と同じ方法で厚さ３００μｍの支持体１１を得た。その他の条件は実施例１と同様にして、光拡散シート２０を得た。
【０３２１】
実施例１０〜１８で得られた各光拡散シート２０についても、光カット性能と演出性とを評価した。各評価結果は表２に示す。
【符号の説明】
【０３２２】
１０，２０  光拡散シート
１１  支持体
１２  光拡散層
１２ａ  第１の樹脂層
１２ｂ  第２の樹脂層
１４  ハードコート層
１５，１６  微粒子
【図１】
2011065139.tif 000052
【図２】
2011065139.tif 000053