(57)【要約】【課題】光の取り出し効率が高い面発光体およびその製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１０と、透明基材１０の上に設けられた透明電極２２と、透明電極２２と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極２４と、透明電極２２と背面電極２４との間に設けられた、複数の発光部２６とを有する面発光体１であって、複数の発光部２６が、発光部２６の間に空隙２８が形成されるように、面発光体１の面方向に互いに離間して設けられている。【選択図】図１
2011222306.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、
該透明基材の上に設けられた透明電極と、
該透明電極と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極と、
前記透明電極と前記背面電極との間に設けられた、複数の発光部と
を有する面発光体であって、
前記複数の発光部が、該発光部の間に空隙が形成されるように、前記面発光体の面方向に互いに離間して設けられている、面発光体。
【請求項２】
前記透明基材が、表面に複数の突起を有し、
前記透明電極が、前記突起の上に選択的に形成され、
前記発光部が、前記透明電極の上に形成されている、請求項１に記載の面発光体。
【請求項３】
前記複数の発光部の平均間隔が、１０〜１０００ｎｍである、請求項１または２に記載の面発光体。
【請求項４】
下記工程（Ｉ）〜（III）を有する、面発光体の製造方法。
（Ｉ）表面に複数の突起を有する透明基材の、複数の突起を有する表面側に、透明電極の材料を蒸着して、前記突起の上に選択的に透明電極を形成する工程。
（II）前記工程（Ｉ）の後、さらに発光部の材料を蒸着して、前記透明電極の上に発光部を形成する工程。
（III）前記工程（II）の後、さらに金属を蒸着して、前記発光部および該発光部の間の空隙を覆うように金属薄膜からなる背面電極を形成する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと記す。）を利用した実質的に２次元の放射面を有する面発光体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
面発光体としては、有機ＥＬ素子や無機ＥＬ素子を利用したものが知られている。有機ＥＬ素子からなる面発光体としては、透明基材と、透明基材の上に設けられた透明電極と、透明電極と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極と、透明電極と背面電極との間に設けられた、有機化合物の発光材料を含む発光層とを有するものが知られている。
【０００３】
面発光体においては、透明電極からの正孔と背面電極からの電子とが発光層で結合することによって発光層が発光する。発光層で発光した光は、透明電極および透明基板を透過して放射面（透明基板の表面）から取り出される。また、発光層で発光した光の一部は、背面電極の金属薄膜で反射された後、発光層、透明電極、および透明基板を透過して放射面から取り出される。
【０００４】
しかし、この面発光体においては、透明電極、透明基板、外部空気等に入射する光の入射角が、入射元の材料の屈折率と入射先の材料の屈折率によって決まる臨界角以上である光は、発光層と透明電極との界面、透明電極と透明基板との界面、透明基板と外部空気との界面（放射面）等にて全反射し、面発光体の内部に閉じ込められてしまう。そのため、一部の光を外部に取り出すことができず、光の取り出し効率が低いという問題がある。
【０００５】
この問題を解決する面発光体として、下記のものが提案されている。
透明電極または背面電極を格子状にパターニングし、発光層に正孔または電子が注入される部分と注入されない部分とで屈折率に差を生じさせ、発光層自体を回折格子とした面発光素子（特許文献１）。
【０００６】
この面発光体においては、透明電極、透明基板、外部空気への入射角が小さくなるように、発光層で発光した光を回折格子によって回折することによって、前記各界面における全反射を低減し、光の取り出し効率を向上させている。
しかし、この面発光体においては、光層に正孔または電子が注入される部分と注入されない部分との屈折率の差は０．１％に過ぎず（特許文献１の段落［００５５］）、光の回折効率はわずかであり、光の取り出し効率はあまり向上しない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−０８０８９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、光の取り出し効率が高い面発光体およびその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の面発光体は、透明基材と、該透明基材の上に設けられた透明電極と、該透明電極と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極と、前記透明電極と前記背面電極との間に設けられた、複数の発光部とを有する面発光体であって、前記複数の発光部が、該発光部の間に空隙が形成されるように、前記面発光体の面方向に互いに離間して設けられていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の面発光体においては、前記透明基材が、表面に複数の突起を有し、前記透明電極が、前記突起の上に選択的に形成され、前記発光部が、前記透明電極の上に形成されていることが好ましい。
前記複数の発光部の平均間隔は、１０〜１０００ｎｍであることが好ましい。
【００１１】
本発明の面発光体の製造方法は、下記工程（Ｉ）〜（III）を有することを特徴とする。
（Ｉ）表面に複数の突起を有する透明基材の、複数の突起を有する表面側に、透明電極の材料を蒸着して、前記突起の上に選択的に透明電極を形成する工程。
（II）前記工程（Ｉ）の後、さらに発光部の材料を蒸着して、前記透明電極の上に発光部を形成する工程。
（III）前記工程（II）の後、さらに金属を蒸着して、前記発光部および該発光部の間の空隙を覆うように金属薄膜からなる背面電極を形成する工程。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の面発光体は、従来の面発光体に比べ、光の取り出し効率が高い。
本発明の面発光体の製造方法によれば、光の取り出し効率が高い面発光体を簡易に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の面発光体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の面発光体の他の例を示す断面図である。
【図３】本発明の面発光体の他の例を示す断面図である。
【図４】本発明の面発光体の他の例を示す断面図である。
【図５】陽極酸化アルミナを表面に有するモールドの製造工程を示す断面図である。
【図６】複数の突起を表面に有する透明基材の製造装置の一例を示す構成図である。
【図７】面発光体のシミュレーションモデルの構造を示す断面図である。
【図８】実施例２の面発光体についてＴＥ波の発光強度のシミュレーション結果を示す図である。
【図９】実施例２の面発光体についてＴＭ波の発光強度のシミュレーション結果を示す図である。
【図１０】実施例３の面発光体についてＴＥ波の発光強度のシミュレーション結果を示す図である。
【図１１】実施例３の面発光体についてＴＭ波の発光強度のシミュレーション結果を示す図である。
【図１２】比較例１の面発光体についてＴＥ波の発光強度のシミュレーション結果を示す図である。
【図１３】比較例１の面発光体についてＴＭ波の発光強度のシミュレーション結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書において、透明とは、可視光を透過できること（光透過性を有すること）を意味する。また、（メタ）アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。
【００１５】
＜面発光体＞
〔第１の実施形態〕
図１は、本発明の面発光体の一例を示す断面図である。
面発光体１は、透明基材１０と、透明基材１０の上に設けられた複数の透明電極２２と、透明電極２２と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極２４と、透明電極２２と背面電極２４との間に設けられた、複数の発光部２６とを有するものである。
【００１６】
（透明基材）
透明基材１０は、透明支持体１２と、透明支持体１２の表面に形成された透明硬化樹脂層１４とを有する。
【００１７】
透明支持体１２の形態としては、フィルム、シート、板等が挙げられる。
透明支持体１２の材料としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等）、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、スチレン系樹脂（ＡＢＳ樹脂等）、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ガラス等が挙げられる。
【００１８】
透明硬化樹脂層１４は、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜であり、後述の陽極酸化アルミナのモールドの細孔を転写して形成された複数の突起１６を表面に有する。後述の陽極酸化アルミナのモールドの細孔を転写して形成された複数の突起１６は、平面六方格子の配置となる。
【００１９】
後述の陽極酸化アルミナのモールドの細孔を転写して形成された複数の突起１６は、略円錐形状、略角錐形状等の複数の突起１６が可視光の波長以下の間隔で透明基材１０の表面に点在する、いわゆるモスアイ構造を形成する。モスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【００２０】
突起１６の平均間隔は、発光部２６と発光部２６の間の空隙２８とから形成される回折格子によって光の取り出し効率を十分に高くすることができる点から、１０〜１０００ｎｍが好ましく、５０〜８００ｎｍがより好ましい。
【００２１】
突起１６の平均間隔は、透明硬化樹脂層１４の表面における光の反射を抑える点からは、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。陽極酸化アルミナのモールドを用いて突起１６を形成する場合、陽極酸化アルミナのモールドの作製のしやすさの点から、突起１６の平均間隔は、３００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が特に好ましい。
【００２２】
突起１６の平均間隔は、突起１６の形成のしやすさの点からは、２０ｎｍ以上が好ましい。
突起１６の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する突起１６の間隔（突起１６の中心から隣接する突起１６の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００２３】
突起１６のアスペクト比（突起１６の高さ／突起１６の平均間隔）は、０．８〜５が好ましく、１．２〜４がより好ましく、１．５〜３が特に好ましい。突起１６のアスペクト比が０．８以上であれば、反射率が十分に低くなる。突起１６のアスペクト比が５以下であれば、突起１６の耐擦傷性が良好となる。
突起１６の高さは、電子顕微鏡によって突起１６の頭頂部と、突起１６の間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
【００２４】
突起１６の形状は、高さ方向と直交する方向の突起１６の断面積が頭頂部から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、突起１６の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。
【００２５】
透明硬化樹脂層１４の屈折率と透明支持体１２の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、透明硬化樹脂層１４と透明支持体１２との界面における反射が抑えられる。
【００２６】
透明基材１０は、後述の複数の透明電極２２の間の導通を確保する点から、表面に導電性が付与されている必要がある。導電性の付与方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、無電解メッキ等によって透明基材１０の表面（透明硬化樹脂層１４の表面）に光透過性の金属薄膜を形成する方法；透明基材１０（透明硬化樹脂層１４）に導電性物質を配合する方法等が挙げられる。
【００２７】
（透明電極）
複数の透明電極２２は、透明電極２２の間に空隙２８が形成されるように、面発光体１の面方向に互いに離間して設けられている。複数の透明電極２２は、平面六方格子の配置となるように形成された突起１６の上に選択的に形成されるため、突起１６とほぼ同じ平面六方格子の配置となる。
透明電極２２は、陽極であってもよく、陰極であってもよい。通常は、透明電極２２は、陽極とされる。
【００２８】
透明電極２２の材料としては、導電性を有する金属酸化物、光透過性を有する金属薄膜を形成し得る金属、導電性を有する有機高分子等が用いられる。
導電性を有する金属酸化物としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）、インジウム・亜鉛・オキサイド（ＩＺＯ）、インジウム・ガリウム・亜鉛（ＩＧＺＯ）・オキサイド等が挙げられる。
光透過性を有する金属薄膜を形成し得る金属としては、金、白金、銀、銅、アルミニウム等が挙げられる。
導電性を有する有機高分子としては、ポリアニリン、その誘導体、ポリチオフェン、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ（ｐｏｌｙ（３, ４-ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）：ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ））、その誘導体等が挙げられる。
【００２９】
透明電極２２は、１層であってもよく、２層以上であってもよい。
透明電極２２の厚さは、光透過性および導電性の両立の点から、１０〜１０００ｎｍが好ましく、５０〜５００ｎｍがより好ましい。
透明電極２２の厚さは、透明基材上に形成した透明電極２２を段差・表面あらさ・微細形状測定装置により、その厚さを求める。
【００３０】
（背面電極）
背面電極２４は、発光部２６および発光部２６の間の空隙２８を覆うように設けられた連続した金属薄膜からなる。
背面電極２４は、陰極であってもよく、陽極であってもよい。通常は、背面電極２４は、陰極とされる。
【００３１】
背面電極２４の材料としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム等が挙げられ、これらのうち２つ以上を組み合わせた合金、これらフッ化物等の金属塩類、もしくはこれらのうち１つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち１つ以上との合金等が挙げられる。合金の具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金等が挙げられる。
【００３２】
背面電極２４は、１層であってもよく、２層以上であってもよい。
背面電極２４の厚さは、導電性および耐久性の点から、５〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜３００ｎｍがより好ましい。
背面電極２４の厚さは、透明基材上に形成した背面電極２４を段差・表面あらさ・微細形状測定装置により、その厚さを求める。
【００３３】
（発光部）
複数の発光部２６は、発光部２６の間に空隙２８が形成されるように、面発光体１の面方向に互いに離間して設けられている。複数の発光部２６は、平面六方格子の配置となるように形成された透明電極２２の上に形成されるため、平面六方格子の配置となる。
【００３４】
発光部２６は、面発光体１が有機ＥＬ素子である場合、有機化合物の発光材料を含む。
有機化合物の発光材料としては、リン光性化合物のホスト化合物であるカルバゾール誘導体（４，４’−Ｎ，Ｎ’−ジカルバゾール−ジフェニル（以下、ＣＢＰと記す。）等）にイリジウム錯体（トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（以下、Ｉｒ（ｐｐｙ）３と記す。）をドープしたもの（ＣＢＰ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３等）；８−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯体（トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（以下、Ａｌｑ３と記す。）等）；その他、公知の発光材料が挙げられる。
発光部２６は、発光材料の他に、正孔輸送性材料、電子輸送性材料等を含んでいてもよい。
【００３５】
発光部２６の平均間隔は、発光部２６と発光部２６の間の空隙２８とから形成される回折格子によって光の取り出し効率を十分に高くすることができる点から、１０〜１０００ｎｍが好ましく、５０〜８００ｎｍがより好ましい。
発光部２６の平均間隔は、透明硬化樹脂層１４の突起１６の平均間隔と同じとなる。
【００３６】
発光部２６は、１層であってもよく、２層以上であってもよい。例えば、面発光体１を白色の有機ＥＬ照明として用いる場合、発光部２６を、青発光層、緑発光層、および赤発光層を有する積層構造としてもよい。
発光部２６の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
発光部２６の厚さは、透明基材上に形成した発光部２６を段差・表面あらさ・微細形状測定装置により、その厚さを求める。
【００３７】
（空隙）
空隙２８は、発光部２６の間に形成される連続した空間であり、平面的には格子状をなしている。
空隙２８には、通常、空気が存在しているが、空気以外の気体が存在していてもよく、真空であってもよい。
【００３８】
空隙２８の幅は、断面ＳＥＭ観察により求める。
【００３９】
（作用効果）
以上説明した面発光体１にあっては、複数の発光部２６が、発光部２６の間に空隙２８が形成されるように、面発光体１の面方向に互いに離間して設けられているため、発光部２６と空隙２８とで回折格子を形成できる。そのため、発光部２６で発光した光を回折格子によって回折でき、光の取り出し効率を向上できる。また、発光部２６と空隙２８との屈折率の差が大きいため、光を十分に回折でき、従来の面発光体に比べ、光の取り出し効率が高くなる。
【００４０】
また、透明基材１０が、表面に複数の突起１６を有し、透明電極２２が突起１６の上に選択的に形成され、発光部２６が透明電極２２の上に形成されているため、モスアイ構造による反射防止効果によって突起１６と空隙２８との界面における光の反射が抑えられ、光の取り出し効率がさらに高くなる。
【００４１】
〔第２の実施形態〕
図２は、本発明の面発光体の他の例を示す断面図である。
面発光体２は、透明支持体１２からなる透明基材と、透明基材の上に設けられた透明電極２２と、透明電極２２と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極２４と、透明電極２２と背面電極２４との間に設けられた、複数の発光部２６とを有するものである。
第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００４２】
（透明基材）
透明基材は、透明支持体１２のみからなる、表面が平坦な基材である。
透明支持体１２としては、第１の実施形態と同様のものが挙げられる。
【００４３】
（透明電極）
透明電極２２は、透明基材１０の表面に設けられた連続した薄膜からなる。
透明電極２２の材料としては、第１の実施形態と同様のものが挙げられる。
透明電極２２の厚さは、第１の実施形態と同様の範囲が好ましい。
【００４４】
〔第３の実施形態〕
図３は、本発明の面発光体の他の例を示す断面図である。
面発光体３は、透明支持体１２からなる透明基材と、透明基材の上に設けられた複数の透明電極２２と、透明電極２２と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極２４と、透明電極２２と背面電極２４との間に設けられた、複数の発光部２６とを有するものである。
第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００４５】
（透明基材）
透明基材は、透明支持体１２のみからなる、表面が平坦な基材である。
透明支持体１２としては、第１の実施形態と同様のものが挙げられる。
【００４６】
〔第４の実施形態〕
図４は、本発明の面発光体の他の例を示す断面図である。
面発光体４は、複数の突起１６を表面に有する透明基材１０の表面に、複数の透明電極２２と、透明電極２２と離間して設けられた金属薄膜からなる背面電極２４と、透明電極２２と背面電極２４との間に設けられた複数の発光部２６とを有する複数の発光部群５が、発光部群５の間に透明電極２２、発光部２６および背面電極２４が形成されない空隙が形成されるように、面発光体４の面方向に互いに離間して設けられているものである。
【００４７】
面発光体４は、有機ＥＬディスプレイに用いられる有機ＥＬ素子の一例であり、各発光部群５が、それぞれ赤色の画素、緑色の画素、または青色の画素を構成している。
第４の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００４８】
〔他の実施形態〕
本発明の面発光体は、複数の発光部が、発光部の間に空隙が形成されるように、面発光体の面方向に互いに離間して設けられているものであればよく、図示例の第１〜４の実施形態の面発光体１〜４に限定されない。
例えば、第１〜４の実施形態では、発光部に含まれる発光材料として有機化合物の発光材料を例示したが、面発光体が無機ＥＬ素子の場合は、発光材料として無機化合物の発光材料を用いればよい。
【００４９】
また、発光部と透明電極または背面電極との間には、他の機能層を有していてもよい。
面発光体が有機ＥＬ素子の場合、透明電極と発光部（発光層）との間に設けられる他の機能層としては、透明電極側から順に、正孔注入層、正孔輸送層が挙げられる。
面発光体が有機ＥＬ素子の場合、発光部（発光層）と背面電極との間に設けられる他の機能層としては、発光部（発光層）側から順に、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層が挙げられる。
【００５０】
（正孔注入層）
正孔注入層は、正孔注入材料を含む層である。
正孔注入材料としては、銅フタロシアニン（以下、ＣｕＰｃと記す。）；酸化バナジウム；導電性を有する有機高分子；その他、公知の正孔注入材料が挙げられる。
正孔注入層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
【００５１】
（正孔輸送層）
正孔輸送層は、正孔輸送性材料を含む層である。
正孔輸送性材料としては、トリフェニルジアミン類（４，４’−ビス（ｍ−トリルフェニルアミノ）ビフェニル（以下、ＴＰＤと記す。）等）；その他、公知の正孔輸送性材料が挙げられる。
正孔注入層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
【００５２】
（正孔阻止層）
正孔阻止層は、正孔阻止材料を含む層である。
正孔阻止材料としては、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（以下、ＢＣＰと記す。）等）；その他、公知の正孔阻止材料が挙げられる。
正孔注入層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましい。
【００５３】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子輸送性材料を含む層である。
電子輸送性材料としては、８−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯体（Ａｌｑ３等）、オキサジアゾール誘導体；その他、公知の電子輸送性材料が挙げられる。
電子輸送層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
【００５４】
（電子注入層）
電子注入層は、電子注入材料を含む層である。
電子注入材料としては、アルカリ金属化合物（フッ化リチウム等）、アルカリ土類金属化合物（フッ化マグネシウム等）、金属（ストロンチウム等）；その他、公知の電子注入材料が挙げられる。
電子注入層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
【００５５】
上述の他の機能層の厚さは、基板上に形成した機能層を段差・表面あらさ・微細形状測定装置により、その厚さを求め、蒸着装置内の水晶振動子によって制御する。
【００５６】
＜透明基材の製造方法＞
複数の突起を表面に有する透明基材は、モールドの表面の複数の細孔を透明支持体の表面に転写することによって製造できる。具体的には、モールドと透明支持体との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填し、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、モールドの細孔が転写されてなる複数の突起を表面に有する透明硬化樹脂層を透明支持体の表面に形成し、透明硬化樹脂層が表面に形成された透明支持体をモールドから剥離する方法（いわゆる光インプリント法）によって製造できる。
【００５７】
（モールド）
モールドは、モールド基材の表面に複数の細孔を形成したものである。
モールド基材の材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
モールド基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
【００５８】
モールドの作製方法としては、例えば、下記の方法（ｉ−１）または方法（ｉ−２）が挙げられ、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法（ｉ−１）が特に好ましい。
（ｉ−１）アルミニウム基材の表面に、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
（ｉ−２）モールド基材の表面にフォトリソグラフィ法によって複数の細孔を形成する方法。
【００５９】
方法（ｉ−１）としては、下記の工程（ａ）〜（ｆ）を有する方法が好ましい。
（ａ）アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
（ｂ）酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
（ｃ）アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｄ）細孔の径を拡大させる工程。
（ｅ）工程（ｄ）の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
（ｆ）工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウムの表面に形成されたモールドを得る工程。
【００６０】
工程（ａ）：
図５に示すように、アルミニウム基材３０を陽極酸化すると、細孔３２を有する酸化皮膜３４が形成される。
アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑化にするために、機械研磨、羽布研磨、化学的研磨、電解研磨処理（エッチング処理）などで研磨されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、陽極酸化の前にあらかじめ脱脂処理されることが好ましい。
【００６１】
アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
【００６２】
シュウ酸を電解液として用いる場合：
シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００６３】
硫酸を電解液として用いる場合：
硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が２５〜３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００６４】
工程（ｂ）：
図５に示すように、酸化皮膜３４を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点３６にすることで細孔の規則性を向上することができる。
【００６５】
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。
【００６６】
工程（ｃ）：
図５に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材３０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３２を有する酸化皮膜３４が形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００６７】
工程（ｄ）：
図５に示すように、細孔３２の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
【００６８】
工程（ｅ）：
図５に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３２の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔３２がさらに形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００６９】
工程（ｆ）：
図５に示すように、工程（ｄ）の細孔径拡大処理と、工程（ｅ）の陽極酸化を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３２を有する酸化皮膜３４が形成され、アルミニウム基材３０の表面に陽極酸化アルミナ（アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト））を有するモールド４０が得られる。最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
【００７０】
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成されたモスアイ構造の反射率低減効果は不十分である。
【００７１】
細孔３２の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
細孔３２の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。細孔３２間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
細孔３２の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔３２間の間隔（細孔３２の中心から隣接する細孔３２の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００７２】
細孔３２のアスペクト比（細孔の深さ／細孔の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
細孔３２の深さは、電子顕微鏡観察によって細孔３２の最底部と、細孔３２間に存在する凸部の頭頂部との間の距離を測定した値である。
【００７３】
モールドの細孔が形成された側の表面を離型剤で処理してもよい。
離型剤としては、アルミニウム基材の陽極酸化アルミナと化学結合を形成し得る官能基を有するものが好ましい。
【００７４】
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が特に好ましい。加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の市販品としては、フルオロアルキルシラン、ＫＢＭ−７８０３（信越化学工業社製）、ＭＲＡＦ（旭硝子）、オプツールＨＤ１１００、ＨＤ２１００シリーズ（ハーベス社製）、オプツールＡＥＳ４、ＡＥＳ６（ダイキン工業社製）、ノベックＥＧＣ−１７２０（住友３Ｍ社製）、ＦＳ‐２０５０シリーズ（フロロテクノロジー社製）等が挙げられる。
【００７５】
離型剤による処理方法としては、下記の方法（ii−１）または方法（ii−２）が挙げられ、モールドの細孔が形成された側の表面をムラなく離型剤で処理できる点から、方法（ii−１）が特に好ましい。
（ii−１）離型剤の希釈溶液にモールドを浸漬する方法。
（ii−２）離型剤またはその希釈溶液を、モールドの細孔が形成された側の表面に塗布する方法。
【００７６】
方法（ii−１）としては、下記の工程（ｇ）〜（ｌ）を有する方法が好ましい。
（ｇ）モールドを水洗する工程。
（ｈ）工程（ｇ）の後、モールドにエアーを吹き付け、モールドの表面に付着した水滴を除去する工程。
（ｉ）加水分解性シリル基を有するフッ素化合物をフッ素系溶媒で希釈した希釈溶液に、モールドを浸漬する工程。
（ｊ）浸漬したモールドをゆっくりと溶液から引き上げる工程。
（ｋ）必要に応じて、工程（ｊ）よりも後段にてモールドを加熱加湿させる工程。
（ｌ）モールドを乾燥させる工程。
【００７７】
工程（ｇ）：
モールドには、細孔を形成する際に用いた薬剤（細孔径拡大処理に用いたリン酸水溶液等）、不純物（埃等）等が付着しているため、水洗によってこれを除去する。
【００７８】
工程（ｈ）：
モールドの表面に水滴が付着していると、工程（ｉ）の希釈溶液が劣化するため、モールドにエアーを吹き付け、目に見える水滴はほぼ除去する。
【００７９】
工程（ｉ）：
希釈用のフッ素系溶媒としては、ヒドロフルオロポリエーテル、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、ペルフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。
加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の濃度は、希釈溶液（１００質量％）中、０．０１〜０．５質量％が好ましい。
浸漬時間は、１〜３０分が好ましい。
浸漬温度は、０〜５０℃が好ましい。
【００８０】
工程（ｊ）：
浸漬したモールドを溶液から引き上げる際には、電動引き上げ機等を用いて、一定速度で引き上げ、引き上げ時の揺動を抑えることが好ましい。これにより塗布ムラを少なくできる。
引き上げ速度は、１〜１０ｍｍ／ｓｅｃが好ましい。
【００８１】
工程（ｋ）：
工程（ｊ）よりも後段にて、モールドを加熱加湿させてもよい。モールドを加熱加湿下に放置することによって、フッ素化合物（離型剤）の加水分解性シリル基が加水分解されてシラノール基が生成し、該シラノール基とモールドの表面の水酸基との反応が十分に進行し、フッ素化合物の定着性が向上する。加湿方法としては、飽和塩水溶液を用いた飽和塩法、水を加熱して加湿する方法、加熱した水蒸気をモールドに直接吹付ける方法等が考えられる。この工程は恒温恒湿器中で行えばよい。
加熱温度は、３０〜１５０℃が好ましい。
加湿条件は、相対湿度６０％以上が好ましい。
放置時間は、１０分〜７日が好ましい。
【００８２】
工程（ｌ）：
モールドを乾燥させる工程では、モールドを風乾させてもよく、乾燥機等で強制的に加熱乾燥させてもよい。
乾燥温度は、３０〜１５０℃が好ましい。
乾燥時間は、５〜３００分が好ましい。
【００８３】
（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
【００８４】
ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００８５】
多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００８６】
カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
【００８７】
オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
【００８８】
光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８９】
電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９０】
熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。
【００９１】
重合開始剤の量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。重合開始剤の量が０．１質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が１０質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。
【００９２】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、帯電防止剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、少量の溶媒を含んでいてもよい。
【００９３】
非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
【００９４】
アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。
【００９５】
アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。
【００９６】
（製造装置）
複数の突起を表面に有する透明基材は、例えば、図６に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
複数の細孔を表面に有するロール状のモールド４０と、モールド４０の表面に沿って移動する帯状の透明支持体１２との間に、タンク４２から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１８を供給する。
【００９７】
モールド４０と、空気圧シリンダ４４によってニップ圧が調整されたニップロール４６との間で、透明支持体１２および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１８をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１８を、透明支持体１２とモールド４０との間に均一に行き渡らせると同時に、モールド４０の細孔内に充填する。
【００９８】
モールド４０の下方に設置された活性エネルギー線照射装置４８から、透明支持体１２を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１８に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１８を硬化させることによって、モールド４０の表面の細孔が転写されてなる複数の突起１６を表面に有する透明硬化樹脂層１４を形成する。
剥離ロール５０により、透明硬化樹脂層１４が表面に形成された透明支持体１２をモールド４０から剥離することによって、透明基材１０を得る。
【００９９】
活性エネルギー線照射装置４８としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【０１００】
（他の方法）
なお、複数の突起を表面に有する透明基材は、図示例の透明基材１０に限定はされない。例えば、複数の突起は、透明硬化樹脂層を設けることなく、熱インプリント法によって透明支持体の表面に直接形成されていてもよい。また、インプリント法以外の、フォトリソグラフィ法等の公知の方法を用いて形成してもよい。ただし、ロール状のモールド４０を用いて効率よく複数の突起を形成できる点から、光インプリント法によって形成することが好ましい。
【０１０１】
＜面発光体の製造方法＞
第１の実施形態の面発光体１は、下記工程（Ｉ）〜（III）を有する方法によって製造できる。
（Ｉ）表面に複数の突起１６を有する透明基材１０の、複数の突起１６を有する表面側に、透明電極の材料を蒸着して、突起１６の上に選択的に透明電極２２を形成する工程。
（II）工程（Ｉ）の後、さらに発光部の材料を蒸着して、透明電極２２の上に発光部２６を形成する工程。
（III）工程（II）の後、さらに金属を蒸着して、発光部２６および該発光部２６の間の空隙２８を覆うように金属薄膜からなる背面電極２４を形成する工程。
【０１０２】
工程（Ｉ）：
蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的蒸着法が挙げられ、突起１６の上に選択的に透明電極２２を形成しやすい点から、スパッタリング法が好ましい。
【０１０３】
蒸着速度（デポレート）は、突起１６の上に選択的に透明電極２２を形成しやすい点から、１０ｎｍ／ｓｅｃ以下が好ましく、５ｎｍ／ｓｅｃ以下がより好ましい。また、蒸着速度（デポレート）は、生産性の点から、０．００１ｎｍ／ｓｅｃ以上が好ましく、０．０１ｎｍ／ｓｅｃ以上がより好ましい。
【０１０４】
突起１６と透明電極２２との接着性を向上させるために、蒸着の前に、透明基材１０の表面に、ＵＶオゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理等を施してもよい。
透明基材１０に含まれる溶存ガス、未反応モノマーを除去するために、蒸着の前に、透明基材１０に、加熱処理、真空処理、加熱真空処理等を施してもよい。
【０１０５】
工程（II）：
蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的蒸着法が挙げられる。発光部の材料が有機化合物の場合、真空蒸着法が好ましい。
【０１０６】
蒸着速度（デポレート）は、透明電極の上に選択的に発光部２６を形成しやすい点から、１０ｎｍ／ｓｅｃ以下が好ましく、５ｎｍ／ｓｅｃ以下がより好ましい。また、蒸着速度（デポレート）は、生産性の点から、０．１ｎｍ／ｓｅｃ以上が好ましく、０．５ｎｍ／ｓｅｃ以上がより好ましい。
【０１０７】
透明電極２２と発光部２６との接着性を向上させるために、蒸着の前に、透明電極２２が形成された透明基材１０の表面に、ＵＶオゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、エキシマーランプ処理等を施してもよい。
【０１０８】
発光部２６と透明電極２２または背面電極２４との間に他の機能層を設ける場合は、発光部（発光層）を形成する前または後に、他の機能層を発光部（発光層）と同様の方法、条件にて形成すればよい。
【０１０９】
工程（III）：
蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的蒸着法が挙げられ、下層の有機層にダメージを与えないことから、真空蒸着法が好ましい。
【０１１０】
蒸着速度（デポレート）は、下層の有機層にダメージを与えない観点から、１０ｎｍ／ｓｅｃ以下が好ましく、５ｎｍ／ｓｅｃ以下がより好ましい。また、蒸着速度（デポレート）は、連続した金属薄膜を形成しやすい点、生産性の点から、０．５ｎｍ／ｓｅｃ以上が好ましく、１．０ｎｍ／ｓｅｃ以上がより好ましい。
【０１１１】
（作用効果）
以上説明した面発光体１の製造方法にあっては、蒸着によって、突起１６の上に選択的に、透明電極２２、発光部２６を順次形成しているため、光の取り出し効率が高い面発光体を簡易に製造できる。
【０１１２】
（他の方法）
なお、面発光体の製造方法は、工程（Ｉ）〜（III）を有する方法に限定はされない。例えば、第２の実施形態の面発光体における発光部２６は、蒸着用マスクを用いた選択的蒸着法によって形成してもよく、第３の実施形態の面発光体における透明電極２２は、フォトリソグラフィ法または選択的蒸着法によって形成してもよい。
【実施例】
【０１１３】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１４】
（陽極酸化アルミナの細孔）
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを１分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ−７４００Ｆ）を用いて、加速電圧：３．００ｋＶの条件にて、断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ５０点について行い、平均値を求めた。
【０１１５】
（透明硬化樹脂層の突起）
透明硬化樹脂層の破断面にプラチナを２分間蒸着し、陽極酸化アルミナと同様に断面を観察し、突起の間隔、突起の高さを測定した。各測定は、それぞれ５０点について行い、平均値を求めた。
【０１１６】
（面発光体における各部の厚さ）
面発光体における各部（透明電極、発光層、他の機能層、背面電極）の厚さは、面発光体の破断面にプラチナを２分間蒸着し、陽極酸化アルミナと同様に断面を観察し、厚さを測定した。各測定は、それぞれ１０点について行い、平均値を求めた。
【０１１７】
〔調製例１〕
離型剤（ダイキン工業社製、オプツールＤＳＸ）を希釈用有機溶媒（ハーベス社製、デュラサーフＨＤ−ＺＶ）で希釈して、離型剤濃度が０．１質量％である希釈溶液を調製した。
【０１１８】
〔製造例１〕
５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（純度：９９．９９％）を、過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨した。
工程（ａ）：
該アルミニウム板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で０．５時間陽極酸化を行った。
工程（ｂ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去し、細孔発生点を形成した。
工程（ｃ）：
該アルミニウム板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
【０１１９】
工程（ｄ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、３２℃の５質量％リン酸水溶液に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程（ｅ）：
該アルミニウム板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
工程（ｆ）：
前記工程（ｄ）および工程（ｅ）を合計で４回繰り返し、最後に工程（ｄ）を行い、平均間隔：１００ｎｍ、深さ：２００ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたモールドａを得た。
【０１２０】
工程（ｇ）：
シャワーを用いてモールドａの表面のリン酸水溶液を軽く洗い流した後、モールドａを流水中に１０分間浸漬した。
工程（ｈ）：
モールドａにエアーガンからエアーを吹き付け、モールドａの表面に付着した水滴を除去した。
【０１２１】
工程（ｉ）：
モールドａを離型剤の希釈溶液に室温で１０分間浸漬した。
工程（ｊ）：
モールドａを、希釈溶液から３ｍｍ／ｓｅｃでゆっくりと引き上げた。
工程（ｋ）：
恒温恒湿器を用いて、モールドａを温度６０℃、相対湿度：８５％に１時間放置し、加熱加湿処理した。
工程（ｌ）：
モールドａを一晩風乾して、離型剤で処理されたモールドａを得た。
【０１２２】
〔製造例２〕
モールドａの細孔が形成された側に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を流し込み、透明支持体であるアクリルフィルムを被せた後、紫外線照射機（高圧水銀ランプ、積算光量：４００ｍＪ／ｃｍ２）から紫外線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、モールドａの細孔が転写された透明硬化樹脂層とした。ついで、透明支持体ごと透明硬化樹脂層をモールドから剥離することにより、平均間隔：１００ｎｍ、高さ：２００ｎｍの略円錐形状の突起を表面に有する透明基材Ａを得た。
【０１２３】
〔実施例１〕
工程（Ｉ）：
スパッタリング装置のチャンバ内に、ＩＺＯターゲット（酸化インジウム：９５質量％、酸化亜鉛：５質量％）および透明基材Ａをセットした。
チャンバ内にアルゴンガスを３０ｓｃｃｍで流入させながら、スタート時のチャンバ内の圧力：１０−４Ｐａ、蒸着時のチャンバ内の圧力：１０−１Ｐａ、蒸着速度（デポレート）：０．０５９ｎｍ／ｓｅｃの条件下で、透明基材の複数の突起を有する表面側に、ＩＺＯを蒸着して、突起の上に選択的に厚さ１００ｎｍの複数の透明電極を形成した。
【０１２４】
工程（II）：
透明電極付き透明基材をＵＶオゾン処理した後、真空蒸着装置のチャンバ内にセットした。
チャンバ内にアルゴンガスを３０ｓｃｃｍで流入させながら、有機蒸着チャンバ内の圧力：１０−４Ｐａ、蒸着速度（デポレート）：０．５〜２．０ｎｍ／ｓｅｃの条件下で、透明電極付き透明基材の複数の突起を有する表面側に、正孔注入層のＣｕＰｃ（２０ｎｍ）、正孔輸送層のＴＰＤ（４０ｎｍ）、発光部（発光層）のＣＢＰ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（２０ｎｍ）、正孔阻止層のＢＣＰ（１０ｎｍ）、電子輸送層のＡｌｑ３（３０ｎｍ）を順次蒸着し、透明電極の上に選択的に発光部および他の機能層を形成した。
【０１２５】
工程（III）：
さらに、金属蒸着チャンバ内の圧力：１０−４Ｐａ、蒸着速度（デポレート）：０．２５ｎｍ／ｓｅｃの条件下で、電子注入層のフッ化リチウム（０．５ｎｍ）、背面電極のアルミニウム（１００ｎｍ）を蒸着速度（デポレート）：０．５〜４．０ｎｍ／ｓｅｃの条件下で順次蒸着し、発光部および該発光部の間の空隙を覆うように金属薄膜からなる背面電極を形成し、図１に示すような、発光部の平均間隔が１００ｎｍ、空隙の幅が１０ｎｍである面発光体を得た。
【０１２６】
〔実施例２〕
以下、本発明の効果をシミュレーションにより確認した。
面発光体のシミュレーションモデルは、図７に示す構造のものとした。該シミュレーションモデル６は、上から順に、透明支持体１２（厚さ：６９８ｎｍ、誘電率：２）、面方向に互いに離間して設けられた複数の透明電極２２（間隔：１００ｎｍ、厚さ：１００ｎｍ、幅：８０ｎｍ、誘電率：４．１）、面方向に互いに離間して透明電極２２の下に設けられた複数の発光部２６（間隔：１００ｎｍ、厚さ：１００ｎｍ、幅：８０ｎｍ、誘電率：２．６）、面方向に連続して設けられた背面電極２４（厚さ：９８ｎｍ、誘電率：−２２．６＋６．５ｉ）、透明電極２２および発光部２６間に形成される空隙２８（幅：２０ｎｍ、誘電率：１）から構成される。
【０１２７】
シミュレーションソフトウエアとしては、ＫｅｙＦＤＴＤ（科学技術研究所社製）を用い、発振周波数６００ＴＨｚのダイポールを励振源として、透明電極２２から透明指示体層１２へと伝搬する光の強度を表示画面のグレースケールで確認した。ＴＥ波（励振方向が紙面上下方向に対して平行な光）およびＴＭ波（励振方向が紙面上下方向に対して垂直な光）について結果を図８、図９に示す。
【０１２８】
〔実施例３〕
透明電極２２および発光部２６の間隔を４００ｎｍに変更し、透明電極２２および発光部２６の幅を３２０ｎｍに変更し、空隙２８の幅を８０ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様にして、発光強度を確認した。ＴＥ波およびＴＭ波について結果を図１０、図１１に示す。
【０１２９】
〔比較例１〕
透明電極２２および発光部２６を連続した層に変更し、空隙２８をなくした以外は、実施例２と同様にして、発光強度を確認した。ＴＥ波およびＴＭ波について結果を図１２、図１３に示す。
【０１３０】
以上の結果から、実施例２、３、比較例１ともにＴＥ波については大きな差は見られなかったものの、発光部が連続した層をなす比較例１の面発光体に比べ、発光部２６と空隙２８とで回折格子を形成している実施例２、３の面発光体は、ＴＭ波の発光強度が強く、光の取り出し効率が向上していることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１３１】
本発明の面発光体は、有機ＥＬ照明、有機ＥＬディスプレイに用いられる有機ＥＬ素子として有用である。
【符号の説明】
【０１３２】
１  面発光体
２  面発光体
３  面発光体
４  面発光体
１０  透明基材
１２  透明支持体
１４  透明硬化樹脂層
１６  突起
２２  透明電極
２４  背面電極
２６  発光部
２８  空隙
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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