(57)【要約】【課題】レジストレーションの変動が起こった場合にも、出力画像のムラを少なくする。【解決手段】マスクパターンを構成する各画素の画素値を０に初期化する。マスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、選択画素の画素値をマスクしないことを示す１に変更してマスクパターンを更新する処理を交互に複数回繰り返すことで、マスクパターンを完成させる。この時、一方のマスクパターンについて、画素値０の画素を１画素選択し、選択した選択画素の画素値を１に変更した修正マスクパターンを生成する。修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値１の画素が重なる画素位置の数を求めることで、評価値を求める。それぞれの画素についての評価値を求め、評価値が最小である画素を特定し、特定した画素の画素値を１に変更することのマスクパターンを更新する。【選択図】図１
2011116064.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データを２パスに分けて印刷する印刷装置において、第１パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第１のマスクパターンと、第２パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第２のマスクパターンと、を作成するマスクパターン作成装置であって、
前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、マスクすることを示す０に初期化する初期化手段と、
前記初期化手段による初期化後、前記第１のマスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、当該選択画素の画素値をマスクしないことを示す１に変更して当該第１のマスクパターンを更新する処理と、前記第２のマスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、当該選択画素の画素値を１に変更して当該第２のマスクパターンを更新する処理と、を交互に複数回繰り返すことで、前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを完成させる、生成手段と、
前記完成した第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンをメモリに格納する、格納手段とを備え、
前記生成手段は、
前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンとのうち一方のマスクパターンについて、画素値０の画素を１画素選択する選択手段と、
前記選択手段が選択した選択画素の画素値を１に変更した修正マスクパターンを生成する、修正手段と、
前記修正マスクパターンと、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンとのうち他方のマスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、画素値１の画素が重なる画素位置の数を基準値として求める、第１の計算手段と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値１の画素が重なる画素位置の数と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第２の計算手段と、
前記第２の計算手段が前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第３の計算手段と、
前記選択手段が画素を選択する毎に、前記修正手段、及び前記第１、第２、第３の計算手段を動作させることで、前記選択手段が選択したそれぞれの画素についての前記評価値を求める手段と、
前記選択手段が選択した前記それぞれの画素のうち前記評価値が最小である画素を特定し、当該特定した画素の画素値を１に変更することで前記一方のマスクパターンを更新する手段と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成装置。
【請求項２】
前記評価値は、前記他方のマスクパターンと同一の画素位置が重なるように重ね合わせた状態から前記修正マスクパターンを主走査方向にｉドット、副走査方向にｊドットずらした時に重なる画素値１の画素の数をｄ(i,j)とし、ｍ及びｎを前記修正マスクパターンをずらす範囲を定める１以上の整数とすると、以下の式におけるＦ値であることを特徴とする、請求項１に記載のマスクパターン作成装置。
2011116064.tif 000005
【請求項３】
画像データを２パスに分けて印刷する印刷装置において、第１パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第１のマスクパターンと、第２パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第２のマスクパターンと、を作成するマスクパターン作成装置であって、
前記第１のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、所定値以下のランダムな正の数に初期化する初期化手段と、
前記初期化手段による初期化後、前記第１のマスクパターンから１画素を選択し、当該選択画素の画素値を変更して当該第１のマスクパターンを更新する処理を各画素について行うことで、前記第１のマスクパターンを完成させる、生成手段と、
前記生成手段が完成させた第１のマスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる第２のマスクパターンを生成する手段と、
前記生成手段が完成させた第１のマスクパターンと、前記第２のマスクパターンとをメモリに格納する格納手段とを備え、
前記生成手段は、
前記第１のマスクパターンから１画素を選択する第１の選択手段と、
前記所定値以下の正の値を１つ選択する、第２の選択手段と、
前記選択画素の画素値を、前記第２の選択手段が決定した値に変更した修正マスクパターンを生成する、第１の修正手段と、
前記修正マスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる相補マスクパターンを生成する、第２の修正手段と、
前記修正マスクパターンと、前記相補マスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計を基準値として求める、第１の計算手段と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記相補マスクパターンと重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第２の計算手段と、
前記第２の計算手段が前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第３の計算手段と、
前記第２の選択手段が値を選択するごとに、前記第１、第２の修正手段、及び前記第１、第２、第３の計算手段を動作させることで、前記第２の選択手段が選択したそれぞれの値についての前記評価値を求める手段と、
前記第２の選択手段が選択したそれぞれの値のうち前記評価値が最小である値を特定し、前記第１の選択手段が選択した画素の画素値を前記特定した値に変更することで前記第１のマスクパターンを更新する手段と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成装置。
【請求項４】
前記評価値は、前記相補マスクパターンと同一の画素位置が重なるように重ね合わせた状態から前記修正マスクパターンを主走査方向にｉドット、副走査方向にｊドットずらした時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計をＲ(i,j)とし、ｍ及びｎを前記修正マスクパターンをずらす範囲を定める１以上の整数とすると、以下の式におけるＦ値であることを特徴とする、請求項３に記載のマスクパターン作成装置。
2011116064.tif 000006
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか１項に記載のマスクパターン作成装置が生成した前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを保持する手段と、
画像データを取得する取得手段と、
前記画像データに対して前記第１のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第１パスで印刷する第１の印刷データを生成する手段と、
前記画像データに対して前記第２のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第２パスで印刷する第２の印刷データを生成する手段と、
前記第１の印刷データ及び前記第２の印刷データを用いて、前記取得手段が取得した画像データを２パスに分けて印刷する手段と、
を備えることを特徴とする、印刷装置。
【請求項６】
画像データを２パスに分けて印刷する印刷装置において、第１パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第１のマスクパターンと、第２パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第２のマスクパターンと、を作成するマスクパターン作成装置が行うマスクパターン作成方法であって、
前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、マスクすることを示す０に初期化する初期化工程と、
前記初期化工程での初期化後、前記第１のマスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、当該選択画素の画素値をマスクしないことを示す１に変更して当該第１のマスクパターンを更新する処理と、前記第２のマスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、当該選択画素の画素値を１に変更して当該第２のマスクパターンを更新する処理と、を交互に複数回繰り返すことで、前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを完成させる、生成工程と、
前記完成した第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンをメモリに格納する、格納工程とを備え、
前記生成工程は、
前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンとのうち一方のマスクパターンについて、画素値０の画素を１画素選択する選択工程と、
前記選択工程で選択した選択画素の画素値を１に変更した修正マスクパターンを生成する、修正工程と、
前記修正マスクパターンと、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンとのうち他方のマスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、画素値１の画素が重なる画素位置の数を基準値として求める、第１の計算工程と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値１の画素が重なる画素位置の数と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第２の計算工程と、
前記第２の計算工程で前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第３の計算工程と、
前記選択工程で画素を選択する毎に、前記修正工程、及び前記第１、第２、第３の計算工程を行うことで、前記選択工程で選択したそれぞれの画素についての前記評価値を求める工程と、
前記選択工程で選択した前記それぞれの画素のうち前記評価値が最小である画素を特定し、当該特定した画素の画素値を１に変更することで前記一方のマスクパターンを更新する工程と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成方法。
【請求項７】
画像データを２パスに分けて印刷する印刷装置において、第１パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第１のマスクパターンと、第２パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第２のマスクパターンと、を作成するマスクパターン作成装置が行うマスクパターン作成方法であって、
前記第１のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、所定値以下のランダムな正の数に初期化する初期化工程と、
前記初期化工程での初期化後、前記第１のマスクパターンから１画素を選択し、当該選択画素の画素値を変更して当該第１のマスクパターンを更新する処理を各画素について行うことで、前記第１のマスクパターンを完成させる、生成工程と、
前記生成工程で完成させた第１のマスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる第２のマスクパターンを生成する工程と、
前記生成工程で完成させた第１のマスクパターンと、前記第２のマスクパターンとをメモリに格納する格納工程とを備え、
前記生成工程は、
前記第１のマスクパターンから１画素を選択する第１の選択工程と、
前記所定値以下の正の値を１つ選択する、第２の選択工程と、
前記選択画素の画素値を、前記第２の選択工程で決定した値に変更した修正マスクパターンを生成する、第１の修正工程と、
前記修正マスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる相補マスクパターンを生成する、第２の修正工程と、
前記修正マスクパターンと、前記相補マスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計を基準値として求める、第１の計算工程と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記相補マスクパターンと重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第２の計算工程と、
前記第２の計算工程で前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第３の計算工程と、
前記第２の選択工程で値を選択するごとに、前記第１、第２の修正工程、及び前記第１、第２、第３の計算工程を行うことで、前記第２の選択工程で選択したそれぞれの値についての前記評価値を求める工程と、
前記第２の選択工程で選択したそれぞれの値のうち前記評価値が最小である値を特定し、前記第１の選択工程で選択した画素の画素値を前記特定した値に変更することで前記第１のマスクパターンを更新する工程と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成方法。
【請求項８】
印刷装置が行う印刷方法であって、
請求項６又は７に記載のマスクパターン作成方法で生成した前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを保持する工程と、
画像データを取得する取得工程と、
前記画像データに対して前記第１のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第１パスで印刷する第１の印刷データを生成する工程と、
前記画像データに対して前記第２のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第２パスで印刷する第２の印刷データを生成する工程と、
前記第１の印刷データ及び前記第２の印刷データを用いて、前記取得工程で取得した画像データを２パスに分けて印刷する工程と、
を備えることを特徴とする、印刷方法。
【請求項９】
コンピュータを、請求項１乃至４の何れか１項に記載のマスクパターン作成装置、又は請求項５に記載の印刷装置が有する各手段として機能させるための、コンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチパス印刷のためのパス分割に用いるマスクパターンの作成技術、及びこのマスクパターンを用いた画像処理技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像出力装置のような画像出力装置においては、プリントヘッドのような印字部の出力精度のばらつきに起因する印刷品質の劣化を防ぐために、マルチパス印刷がよく用いられている。マルチパス印刷を行うためには、入力された画像データを複数のパスに分割し、パス毎のデータを生成する。
【０００３】
パス分割には様々な方法があるが、予め用意されたマスクパターンを用いる方法が、処理速度の観点で優れている。特許文献１に記載の方法では、このマスクパターンを斥力ポテンシャルに基づいて生成する。このことにより、ドット配置の分散性を高めることを目指している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３０６５５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、マルチパス印刷においては、プリントヘッド等の印字部、紙等の記録媒体の物理的な位置誤差（レジストレーションの変動）に伴い、印刷にムラができてしまう可能性がある。特許文献３の方法で用いるマスクは、各パスの印刷が正確に同じ領域に行われた場合にムラが最も低減されるように生成されている。すなわち、レジストレーションの変動が起こった場合、濃度ムラが生じる可能性がある。
【０００６】
本発明は、レジストレーションの変動が起こった場合にも、出力画像のムラを少なくすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明のマスクパターン作成装置は以下の構成を備える。すなわち、
画像データを２パスに分けて印刷する印刷装置において、第１パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第１のマスクパターンと、第２パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第２のマスクパターンと、を作成するマスクパターン作成装置であって、
前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、マスクすることを示す０に初期化する初期化手段と、
前記初期化手段による初期化後、前記第１のマスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、当該選択画素の画素値をマスクしないことを示す１に変更して当該第１のマスクパターンを更新する処理と、前記第２のマスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、当該選択画素の画素値を１に変更して当該第２のマスクパターンを更新する処理と、を交互に複数回繰り返すことで、前記第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンを完成させる、生成手段と、
前記完成した第１のマスクパターン及び前記第２のマスクパターンをメモリに格納する、格納手段とを備え、
前記生成手段は、
前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンとのうち一方のマスクパターンについて、画素値０の画素を１画素選択する選択手段と、
前記選択手段が選択した選択画素の画素値を１に変更した修正マスクパターンを生成する、修正手段と、
前記修正マスクパターンと、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンとのうち他方のマスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、画素値１の画素が重なる画素位置の数を基準値として求める、第１の計算手段と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値１の画素が重なる画素位置の数と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第２の計算手段と、
前記第２の計算手段が前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第３の計算手段と、
前記選択手段が画素を選択する毎に、前記修正手段、及び前記第１、第２、第３の計算手段を動作させることで、前記選択手段が選択したそれぞれの画素についての前記評価値を求める手段と、
前記選択手段が選択した前記それぞれの画素のうち前記評価値が最小である画素を特定し、当該特定した画素の画素値を１に変更することで前記一方のマスクパターンを更新する手段と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
レジストレーションの変動が起こった場合にも、出力画像のムラを少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１の実施形態に係るマスクパターンの配置方法を示す図。
【図２】第１の実施形態に係る画像処理装置が行う処理を示すフローチャート。
【図３】第１の実施形態に係るドット配置パターンを示す図。
【図４】第１の実施形態に係る２パス印刷を説明する図。
【図５】第１の実施形態に係るマスクパターン作成処理を示すフローチャート。
【図６】第３の実施形態に係るコンピュータの構成を示すブロック図。
【図７】第１の実施形態に係る画像処理装置の構成を示すブロック図。
【図８】第２の実施形態に係るマスクパターンの作成方法と印刷装置とを示す図。
【図９】第２の実施形態に係るマスクパターン作成処理を示すフローチャート。
【図１０】第１の実施形態に係るマスクパターン作成装置の構成を示すブロック図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明に係るマスクパターンは、このマスクパターンを用いてマルチパス印刷を行った場合、各パスにおける媒体上の印刷領域がずれたとしても、濃度が一定に保たれるように作成される。一例として、白と黒との２値化データを与えるマスクパターンであれば、マスクパターン同士を数ドットずらして重ねた場合でも、正確に重ねた場合と、黒ドットの重なり数がほぼ一定となる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態は特許請求の範囲に関る本発明を限定するものではなく、また、本実施の形態で説明されている特徴の全てが本発明の解決手段に必須のものとは限らない。
【００１１】
［第１の実施形態］
本実施形態では、インクを吐出する記録ヘッドを記録媒体に対して走査し、その間にインクを吐出して記録を行う、いわゆるシリアル方式で印刷を行う。記録ヘッドは、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋそれぞれのインクに対応して用意され、これらがキャリッジに装着されることにより、記録用紙等の記録媒体に対して印刷を行うことができる。それぞれの記録ヘッドは例えば、吐出口の配列密度が１２００ｄｐｉであり、それぞれの吐出口から２ピコリットル（ｐｌ）のインク滴を吐出する。また、それぞれの記録ヘッドの吐出口の数は自由であるが、本実施形態では５１２個とする。
【００１２】
図２は、本実施形態に係る画像処理装置が行う処理を示すブロック図である。本実施形態では説明のために、１つの画像処理装置が印刷画像データの取得から印刷までを行うものとする。すなわち、本実施形態の画像処理装置は印刷装置である。しかしながら、当業者の間で一般に行われているように、例えばステップS201〜S205をコンピュータ等の画像処理装置（プリンタドライバ）が行い、ステップS206〜S209を画像出力装置が行うものとしてもよい。この場合、不図示の印刷指示データ生成部はステップS205で生成したデータに印刷制御情報を加えて印刷指示データとする。そして、画像出力装置のドット配置パターン化処理部706は、この印刷指示データを受け取って続く処理を行えばよい。また、この画像処理装置と画像出力装置との役割分担は、目的によって変えることもできる。
【００１３】
まず、前段処理部702は、コンピュータアプリケーション等で生成した印刷画像データを受け取り(S201)、前段処理、すなわち色域（Ｇａｍｕｔ）のマッピングを行う(S202)。この処理は、ｓＲＧＢ規格の画像データＲ、Ｇ、Ｂによって再現される色域を、画像処理装置によって再現される色域内に写像するためのデータ変換を行う。具体的には、Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれが８ｂｉｔで表現された２５６階調のデータを、３次元のＬＵＴ（ルックアップテーブル）を用いることにより、色域が異なるそれぞれ８ｂｉｔのＲ、Ｇ、Ｂデータに変換する。
【００１４】
後段処理部703は、上記色域のマッピングがなされたＲ、Ｇ、Ｂデータに基づき、このデータが表す色を再現するインクの組み合わせである、色分解データＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋ（それぞれ８ｂｉｔ）を求める(S203)。ここでは前段処理と同様に、３次元ＬＵＴに補間演算を併用して変換を行う。γ補正部704は、後段処理部703が求めた色分解データの色成分ごとに、その濃度値（階調値）変換を行う(S204)。具体的には、１次元ＬＵＴを用い上記色分解データを画像出力の階調特性に線形的に対応づけられるような変換を行う。
【００１５】
ハーフトーニング部705は、８ビットの色分解データＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋのそれぞれについて、量子化処理を行い４ビットのデータに量子化する(S205)。本実施形態では、多値誤差拡散法を用いて、２５６階調の８ビットデータを、５階調を表すインデックスデータに変換する。このインデックスデータは、２値化処理であるドット配置パターン化処理(S206)のインデックスとなる階調値情報である。
【００１６】
次にドット配置パターン化処理部706は、インデックスデータに基づいてドット配置パターンを出力することにより２値化処理を行う(S206)。これにより、画像出力の際に用いる、インクを吐出するか否かの２値情報を得ることができる。図３は、５値のインデックスデータに応じた本実施形態のドット配置パターンを示す図である。Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋそれぞれのインデックスデータが示す階調レベル０〜階調レベル４の５値のそれぞれについてドットの配置パターンが定められている。
【００１７】
同図に示す縦２画素、横２画素で構成される２×２の出力画素は、ハーフトーン処理で出力された１つの入力画素に対応するものであり、この入力画素は縦横ともに６００ｄｐｉ（ドット／インチ）の画素密度に対応する大きさである。１つの入力画素を構成する複数の画素夫々は、ドットの記録・非記録（インクの吐出・非吐出）が定義される領域である。「黒」で塗りつぶした領域がドットの記録が許容される画素（記録許容画素）を示し、「白」の領域がドットの記録が許容されない画素（非録許容画素）を示している。そして、インデックスデータが示すレベル０〜レベル４のいずれかの値に応じて、ドット記録が定義される記録許容画素の数が定まっている。
【００１８】
これらのドット配置パターンの１つの画素は、本実施形態に係る画像出力での、縦が１２００ｄｐｉ、横が１２００ｄｐｉの記録密度の大きさに対応している。すなわち、本実施形態の画像処理装置が行う画像出力は、縦が約２０μｍ、横が約２０μｍの１つの画素に対して、各色の記録ヘッドから２ｐｌのインク滴を１つずつ吐出して１つのドット形成する仕様となっている。ドット配置パターン化処理部706は、以上のドット配置パターンを用いて５値データを２値化する処理を行い、各エリアに対応する吐出口や記録するカラムについての「１」又は「０」の１ビットの吐出データを生成する。本実施形態においては印刷画像データ701の画素の大きさを６００ｄｐｉ（ドット／インチ）の画素密度に対応する大きさとするが、異なる大きさとしてもよい。この場合、画素の大きさに応じて異なるドット配置パターンを用いてもよいし、本実施形態に係る画像処理の途中で適宜拡大縮小を行ってもよい。
【００１９】
次に、マスクデータ変換処理部707は、ドット配置パターン化処理部706が決定した各色のドット配置パターンに対して、「１」又は「０」のデータから構成されるマスクパターンを用いてマスク処理を行う(S207)。マスク処理とは、ドット配置パターンとマスクパターンの論理積を計算する処理である。これにより、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色について各パスで印刷する画像部分の吐出データを生成する。なお、この処理で用いられるマスクパターンは、後述するマスクパターン作成装置によって作成されており、本実施形態に係る画像処理装置の保持手段に保持されている。このマスクパターンは、詳細を後述するように、各走査のレジストレーションが変動しても濃度ムラが目立たないように作成されたものである。以下の説明では、「１」のデータを持つ画素を記録許容画素、「０」のデータを持つ画素を記録禁止画素と呼ぶことにする。第１のマスクパターンと第２のマスクパターンとを用いて２パス分割を行う場合、第１のマスクパターンを用いて第１の吐出データ（第１の印刷データ）を生成し、第２のマスクパターンを用いて第２の吐出データ（印刷データ）を生成する。
【００２０】
ヘッド駆動部708は、マスクデータ変換処理部707が生成した吐出データを、各パスの走査に応じた適切なタイミングで記録ヘッド709に供給する(S208)。ヘッド駆動部708は、が各色の１ｂｉｔデータを記録ヘッド709の駆動パルスに変換し、各色の記録ヘッド709からインクを吐出させる。これにより、吐出データに応じたインク吐出が行われ、記録媒体に画像の記録が行って画像出力710を行う。なお、本実施形態では、複数の記録モードに対応した複数のマスクデータが、マスクデータ変換処理部707等が有するメモリに格納してある。
【００２１】
記録素子としてシアン（Ｃ）インクを吐出するノズル列を備えた１つの記録ヘッドを用いて、２回の走査で画像を完成させる、本実施形態での２パスのマルチパス印刷について、次に説明する。図４(a)は、２パス記録を説明するために、記録ヘッド、マスクパターン及び記録媒体の位置関係を模式的に示す図である。記録ヘッド401はシアンのノズル列を備え、ノズル列は１２００ｄｐｉの間隔で配列された５１２個のノズルを含む。このノズルは、それぞれ２５６個のノズルを含む、第１グループおよび第２グループに分割される。各グループには、マスクパターン402（２つのマスクパターンＣ１、Ｃ２）が対応付けられている。それぞれのマスクＣ１、Ｃ２の副走査方向（搬送方向）の大きさは各グループのノズル個数と同じ２５６画素で、主走査方向の大きさも２５６画素である。図４に示すように、第１走査において、記録媒体403の領域Ａに対してマスクＣ１を用いて記録を行い、記録媒体が２５６画素分送られた後、領域Ａに対してマスクＣ２を用いて記録を行う。この２回のパスによって画像の記録が完成する。
【００２２】
＜マスクパターン作成方法＞
以下では、マスクデータ変換処理部707が用いるマスクパターンの作成方法及びこのマスクパターンの作成装置を説明する。図１０は、本実施形態に係るマスクパターンの作成装置を示すブロック図である。本実施形態では、第１のマスクパターンＣ１及び第２のマスクパターンＣ２に、マスクしないことを示す記録許容画素（画素値１の画素）を１画素ずつ交互に配置していく。そして、記録許容画素数がそれぞれ２５６×２５６÷２画素になるまで配置を複数回繰り返す。この第１マスクパターンＣ１を用いることで、画像データから第１パスのデータ（第１の印刷データ）を生成することができる。また、第２のマスクパターンＣ２を用いることで、画像データから第２パスのデータ（第２の印刷データ）を生成し、こうして画像データを分割することができる。
【００２３】
図５は、本実施形態におけるマスクパターン決定処理を示すフローチャートである。まず、初期化部1002は、ユーザ等の指示に基づくマスクパターン作成パラメータ1001を取得し、初期マスクパターンを生成する(S501)。パラメータ1001には、作成するマスクパターンの枚数、マスクパターンの大きさ、マスクパターンに配置する記録許容画素の数等、作成するマスクパターンの性質を示すパラメータが含まれている。初期化部1002は、マスクパターン作成パラメータ1001に示される大きさの、全てが記録禁止画素（画素値０）であるマスクパターン（Ｃ１及びＣ２）を生成することで、初期化を行う。記録禁止画素は、マスクすることを示す画素である。
【００２４】
ステップS501での初期化後、評価値計算部1003の有する各部が、記録許容画素を配置する画素を決定するために用いる評価値を計算する。まず、画素選択部1010は、記録許容画素を配置するマスクパターンを選択する(S502)。最初はＣ１を、次はＣ２を、その次はＣ１を、と交互に選択していけばよい。続いて評価値計算部1003は、ステップS502で選択したマスクパターンの全ての記録禁止画素について、評価値を計算する。評価値は次の計算によって求める。ここでは説明のために、ステップS502で一方のマスクパターンであるマスクパターンＣ１を選択しているものとする。マスクパターンＣ２は、他方のマスクパターンであるといえる。
【００２５】
まず、修正マスクパターン生成部1011は、マスクパターンＣ１の記録禁止画素を１画素選択する(S503)。そして、修正マスクパターン生成部1011は、ステップS503で選択した記録禁止画素が記録許容画素に変更されているマスクパターンである、修正マスクパターンを生成する(S504)。次に基準値計算部1012は、修正マスクパターンと、修正マスクパターンの基となっているマスクパターン以外との、相互相関関数を計算する(S505)。具体的には、ステップS504で生成した修正マスクパターンと、マスクパターンＣ２とを重ね合わせた時に、重なる記録許容画素の数を、基準値として求める（第１の計算手段）。
【００２６】
ここまでの処理について、図１を用いて説明する。図１では、記録許容画素は黒で、記録禁止画素は白で示されている。ステップS503では、図１(a)に示される３×３画素のマスクパターンＣ１について、記録禁止画素である右下の画素を選択する。ステップS504では選択画素を記録許容画素に変更した、図１(b)の修正マスクパターンＣ１１を生成する。ステップS505では、修正マスクパターンＣ１１とマスクパターンＣ２とで、重なる記録許容画素の数を決定する。具体的には、右中央の画素と下中央との画素がともに記録許容画素であるため、基準値は２となる。
【００２７】
次に相互相関計算部1013は、修正マスクパターンを平行移動させた場合の、修正マスクパターンの基となっているマスクパターン以外との相互相関関数の値を計算する(S506)。そして、求めた値と基準値との差の絶対値を求め、この値をステップS503で選択した記録禁止画素に対する差分値とする（第２の計算手段）。本実施形態では、修正マスクパターンＣ１１を画素単位で平行移動してから、マスクパターンＣ２と重ね合わせ、重なる記録許容画素の数を求める。さらに、平行移動量を変化させながら求めた複数の差分値を合計して、以下の評価値Ｆを求める（第３の計算手段）。この処理は、具体的には式（１）に示される。
【数１】
2011116064.tif 000003
【００２８】
ここで、Ｃ２に対してＣ１１を主走査方向にｉドット、副走査方向にｊドット平行移動させた時の、Ｃ１１とＣ２の記録許容画素の重なり数をｄ(i,j)とする。ｄ(i,j)は、Ｃ１１とＣ２の相互相関値である。ｄ(0,0)は、ステップS505で求めた基準値である。Ｆ値が、評価値計算部1003が求める評価値である。Ｆ値は、Ｃ１１とＣ２とを同一の画素位置が重なるように重ね合わせた状態から、Ｃ１１をＣ２に対して平行移動させた時の、Ｃ１１とＣ２のドット重なり数の変化量を示している。Σは、ｉに関しては−ｍからｍまでの和を示し、ｊに関しては−ｎからｎまでの和を示す。ｍ、ｎはＣ１１を移動させる範囲を定める値であって、１以上の整数である。本実施形態では、ｍ、ｎの値を１とするが、それ以外の値であってもよい。
【００２９】
次に相互相関計算部1013は、ステップS502で選択したマスクパターンについて、全ての記録禁止画素をステップS503で選択しているかを判断する(S507)。全て選択している場合はステップS508に進み、まだ選択していない記録禁止画素がある場合はステップS503に戻ってまだ選択していない記録禁止画素を選択する。
【００３０】
次に比較部1004は、ステップS502で選択したマスクパターンの記録禁止画素のうち、評価値が最小である画素を特定する(S508)。評価値が最も低い画素が複数ある場合は、そのうちの１つをランダムに決めればよい。次に配置部1005は、ステップS508で特定した画素を記録許容画素に変更することで、ステップS502で選択したマスクパターンに対して記録許容画素を１ドット配置する(S509)。こうして、ステップS502で選択したマスクパターンが更新される。
【００３１】
次に配置部1005は、マスクパターンに対して配置したドット数が、パラメータ1001に示される所定のドット数となったか否かを判定する(S510)。例えば２パス分割する際は、マスクパターンの画素数の半分の数の記録許容画素を、各マスクパターンに配置した時に、所定のドット数となったと判断することが考えられる。所定のドット数を配置した場合はステップS511に進み、所定のドット数を配置していない場合はステップS502に戻って別のマスクパターンを選択する。最後に格納部1006は、記録許容画素の配置が終わったマスクパターンＣ１を、マスクパターン1007として、不図示の格納装置の有するメモリに格納する(S511)。
【００３２】
以上説明した処理によってマスクパターンを作成した場合、このマスクパターンを用いて作成した各パスのドット配置パターンに関して評価値Ｆを計算すると、評価値Ｆの値は概ね０となる。その結果、各走査のレジストレーションが変動しても、ドットの重なり数は変動しない。このため、レジストレーションの変動による濃度ムラを低減しつつ、高画質画像を形成することが可能となる。
【００３３】
評価値Ｆを求める式は先に示した式に限られない。Ｃ１１をＣ２に対して平行移動させた時の、Ｃ１１とＣ２との記録許容画素の重なり数の変化量を表現できる値であれば、評価値として用いることができる。また、マスクパターンの記録許容画素の重なり数ではなく、マスクパターンを用いてマスク処理を行った後の画像における黒画素の重なり数を評価してもよい。例えば、図１(b)に示すように、全画素が黒画素である二値画像Ｄ０に対して、修正マスクパターンＣ１１及びマスクパターンＣ２を適用して二値画像Ｄ１１及びＤ２を生成する。そして、Ｄ１１とＤ２とについて評価値を計算してもよい。図１(b)の場合はマスクパターンの記録許容画素の重なり数を評価する場合と同じ結果となるが、図１(c)のように任意の二値画像Ｄ０を用いることも可能である。この場合、マスク処理を行う画像に適したマスクパターンを生成することができる。
【００３４】
［第２の実施形態］
本実施形態では、サーマルヘッドの熱によりインクシートを専用記録媒体に昇華・拡散させる、昇華型画像出力方式で印刷を行う。図８(c)は昇華型画像出力方法の基本原理を説明するための概略図である。昇華型画像出力方法では染料の拡散現象を用いて画像出力を行う。図中801は昇華性染料805が塗布されたプラスチックシート（インクシート）である。このインクシート801は専用記録媒体802と重ね合わせた形で、サーマルヘッド803とプラテンローラー804によって挟支される。このインクシート801を、サーマルヘッド803の熱により専用記録媒体に昇華・熱拡散させることにより、カラープリントを得る。なおサーマルヘッド803は、各色の入力画像データに応じて各色２５５階調のパターンを記録することが可能である。また、インクシートと専用記録媒体をサーマルヘッドに対して前後に複数回搬送することによって、実施形態１で示したようなマルチパス印刷を行うことが可能である。
【００３５】
本実施形態に係る画像処理装置が行う処理は、第１の実施形態に係る図２の処理と同様である。ただし、各色２５５階調のパターンを記録することができるため、ハーフトーニング部705、ドット配置パターン化処理部706は必要なく、代わりに昇華型画像出力方法に適した画像処理部を加えてもよい。また、本実施形態ではマスクパターンが２値ではないので、マスクデータ変換処理部707は、マスクパターンを用いて論理積を取るのではなく、マスクパターンの値を用いて乗算を行い、印字データを生成する。
【００３６】
以下では、本実施形態に係る記録システムにおいて用いられるマスクパターンの作成方法を説明する。本実施形態では第１の実施形態と同様、シアン（Ｃ）のみを用いた２パスのマルチパス印刷に関して説明する。図４(b)は、本実施形態に係る２パスのマルチパス印刷を説明する図である。第１の実施形態に係る図４(a)と構成は同様である。記録ヘッド411はシアンの記録素子列を備え、記録素子列は３００ｄｐｉの間隔で配列された１５００個の記録素子を含んでいる。各パスにはそれぞれマスクパターンＣ１、Ｃ２が対応付けられており、それぞれのマスクＣ１、Ｃ２の記録素子列方向の大きさは１５００画素で、搬送方向の大きさは７５０画素である。図７に示すように、１パス目において記録媒体全域に対してマスクＣ１を用いて記録を行い、記録媒体を１パス目とは逆方向に搬送しつつ、１パス目と同一領域に対してマスクＣ２を用いて記録を行う。この２回のパスによって画像の記録が完成する。
【００３７】
本実施形態においては、マスクパターンＣ１、Ｃ２の各画素は０から１までの実数値であり、各パスで記録する画像は、２５５階調の各色の入力画像データに対してマスクパターンの画素値を乗算することによって生成する。また、本実施形態では記録媒体の同じ位置に対応する、すなわち同一の画素位置のＣ１とＣ２との画素値の和を１とする。すなわち、Ｃ１の画素値が決まれば、Ｃ２の画素値は１からＣ１の画素値を減算することにより決まるため、以降、マスクパターンＣ１を決定する処理について示す。ただし、Ｃ１とＣ２との同一の画素位置にある画素値の和は１に限られず、所定値であればよい。
【００３８】
以下で、マスクパターンＣ１を作成する処理について、図９を参照して説明する。この処理では、マスクパターンＣ１の画素値が全て決定されるまで、Ｃ１の画素値を１画素ごとに順次決定して行く処理である。本実施形態に係るマスクパターンの作成装置は、図１０に示される第１の実施形態に係るマスクパターン作成装置と同様の装置である。本実施形態に係るマスクパターン作成処理も、図５を参照して説明した第１の実施形態に係る処理に近い方法で行う。以下、第１の実施形態とは異なる部分を中心に説明する。
【００３９】
ステップS901で初期化部1002は、ユーザ等の指示に基づくマスクパターン作成パラメータ1001を取得し、マスクパターンＣ１を初期化する。マスクパターンＣ１の初期値は第１の実施形態と異なり、０、０．１、０．２、０．３、０．４、０．５、０．６、０．７、０．８、０．９、１．０の１１個の値の中から画素ごとに乱数で決定する。もっとも、決定する値はこれらの１１個には限られず、０〜１の間の任意の値から乱数によって決定すればよい。Ｃ１とＣ２との同一の画素位置にある画素値の和が１以外の所定値である場合は、所定値以下の任意の正の値から乱数によって決定すればよい。
【００４０】
ステップS901での初期化後、ステップS902で画素選択部1010は、マスクパターンＣ１の画素のうち１つを選択する（第１の選択手段）。第１の実施形態とは異なり、本実施形態では全ての画素を選択するものとする。画素値を決定する順番は任意でよいが、本実施形態では、上のラインから下のラインの順番で画素値を決定し、同一ラインに関しては左の画素から右の画素の順番で画素値を決定する。ステップS903で修正マスクパターン生成部1011は、ステップS902で選択した画素の画素値を変化させて、修正マスクパターンＣ１１を生成する（第１の修正手段）。画素値としては、０、０．１、０．２、０．３、０．４、０．５、０．６、０．７、０．８、０．９、１．０の中から、順番に選択する（第２の選択手段）。最終的には、１つの画素に対して、１１個の画素値全てについて以下のステップS905で評価値を求めることとなる。
【００４１】
修正マスクパターン生成部1011はさらに、修正マスクパターンＣ１１を用いて修正マスクパターンＣ２２（相補マスクパターン）を求める（第２の修正手段）。同じ位置に対応する修正マスクパターンＣ１１と修正マスクパターンＣ２２との画素値の和が１となるようにすればよい。例えば、Ｃ１１のある画素の画素値を０．１とした場合は、Ｃ２２の対応する画素の画素値を０．９とする。この時の位置関係は図８(a)に示す通りである。
【００４２】
ステップS904で基準値計算部1012は、修正マスクパターンＣ１１と修正マスクパターンＣ２２との相互相関を求め、基準値とする。すなわち、修正マスクパターンＣ１１の画素値と、修正マスクパターンＣ２２の対応する画素値とを掛け合わせ、各画素位置について得られる値の総和を求める。図８(a)の例によれば、 0.5 * 0.5 + 0.6 * 0.4 + 0.2 * 0.8 + 1.0 * 0.0 + 0.5 * 0.5 + 0.3 * 0.7 + 0.5 * 0.5 + 0.2 * 0.8 + 0.4 * 0.6 が基準値となる。
【００４３】
次に相互相関計算部1013は、修正マスクパターンＣ１１を平行移動させた場合の、修正マスクパターンＣ２２との相互相関を計算する。そして、求めた値と基準値との差の絶対値を求めてこの値を差分値とし、さらに第１の実施形態と同様に評価値を求める(S905)。平行移動の方法は第１の実施形態と同様であり、評価値は式（２）のように求められる。
【数２】
2011116064.tif 000004
【００４４】
式（２）において、基準値はＲ(0,0)である。また、Ｄ２２に対してＤ１１を主走査方向にｉ画素、副走査方向にｊ画素平行移動させてから求めた相互相関値をＲ(i,j)とする。すなわちＲ(i,j)は、重なる位置におけるＤ１１の画素値とＤ２２の画素値を乗算し、その値を全ての画素について足し合わせたものである。そして、評価値Ｆを上のようにして計算する。本実施形態においてもｍ、ｎの値は１とするが、それ以外の値であってもよい。また、評価値を求める式は先に示した式に限らず、Ｄ１１とＤ２２との相互相関値の変化量を表現できるものであればよい。
【００４５】
ステップS906で相互相関計算部1013は、ステップS903で１１個の画素値の全てについて修正マスクパターンＣ１１を生成したか否かを判断する。全てについて生成している場合にはステップS907に進み、全てについて生成していない場合はステップS903に戻って次の画素値を選択する。ステップS907で比較部1004は、ステップS905で算出した評価値を比較し、ステップS903で選択した１１個の画素値のうち、評価値が最小の画素値を特定する。最も評価値が小さくなる画素値が複数存在する場合は、何れか１つをランダムに選択すればよい。
【００４６】
ステップS908で配置部1005は、ステップS907で特定した画素値で、ステップS902で選択した画素の画素値を置き換える。こうして、ステップS902で選択したマスクパターンが更新される。ステップS909で配置部1005は、ステップS902で全ての画素を選択したか否かを判断する。全ての画素を選択している場合はステップS910に進み、まだ選択していない画素がある場合にはステップS902に戻って次の画素を選択する。ステップS910では、第１の実施形態と同様に、ここまでの処理により得られたマスクパターンＣ１をマスクパターン1007として不図示の格納装置の有するメモリに格納する。さらに、上述のとおりマスクパターンＣ２をマスクパターンＣ１から求め、マスクパターンＣ２もマスクパターン1007として不図示の格納装置の有するメモリに格納する。
【００４７】
以上説明した処理によってマスクパターンを作成した場合、このマスクパターンを用いて作成した各パスのドット配置パターンに関して評価値Ｆを計算すると、第１の実施形態と同様に評価値Ｆの値は概ね０となる。その結果、各走査のレジストレーションが変動しても、ドットの重なり数は変動しない。このため、レジストレーションの変動による濃度ムラを低減しつつ、高画質画像を形成することが可能となる。
【００４８】
評価値Ｆは先に示した式に限られず、Ｃ１１をＣ２に対して平行移動させた時の、Ｃ１１とＣ２との記録許容画素の重なり数の変化量を表現できる値であれば、評価値として用いることができる。第１の実施形態と同様に、マスクパターンの記録許容画素の重なり数ではなく、マスクパターンを用いてマスク処理を行った後の画像について相互相関値の評価を行っても。例えば、図８(a)に示すように、全画素が２５５値である画像Ｄ０に対して、修正マスクパターンＣ１１及びマスクパターンＣ２２を適用して画像Ｄ１１及びＤ２２を生成する。そして、Ｄ１１とＤ２２とについて評価値を計算してもよい。図８(a)の場合はマスクパターンの記録許容画素の重なり数を評価する場合と同じ結果となるが、図８(b)のように任意の画像Ｄ０を用いることも可能である。Ｄ０は各画素が同じ値を持つ必要はなく、マスク処理を行う画像に適したマスクパターンを生成することもできる。
【００４９】
［第３の実施形態］
本実施形態では、上述の各実施形態に係る処理の少なくとも一部をコンピュータ101により行わせる。例として本実施形態では、ステップS201〜S205をコンピュータ101が行い、ステップS206〜S209をプリンタ105が行うものとする。もちろん、このコンピュータ101とプリンタ105との役割分担は、処理の目的に応じて変更してもよい。
【００５０】
図６はコンピュータ101の基本構成を示す図である。例えばこのコンピュータ101において各機能を実行する場合、各機能構成をプログラムにより表現し、このコンピュータに読み込ませる。こうして、このコンピュータ101で上述の実施形態の各機能を実現することができる。この場合、図６をはじめとする構成要素の各々は関数、若しくはＣＰＵ109が実行するサブルーチンで機能させればよい。
【００５１】
また、通常、コンピュータプログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ等のコンピュータが読み取り可能な記憶媒体に格納されている。この記憶媒体を、コンピュータが有する読み取り装置（不図示のＣＤ−ＲＯＭドライブ等）にセットし、システムにコピー若しくはインストールすることで実行可能になる。従って、係るコンピュータが読み取り可能な記憶媒体も本発明の範疇にあることは明らかである。
【００５２】
図６において、ホストコンピュータであるコンピュータ101は、オペレーティングシステム（ＯＳ）103によって、アプリケーションソフトウェア102、プリンタドライバ104、モニタドライバ106の各ソフトウェアを動作させる。アプリケーションソフトウェア102は、ワープロ、表計算、インターネットブラウザ等に関するデータ処理を行う。モニタドライバ106は、モニタ107に表示する画像データを作成する等の処理を実行する。
【００５３】
プリンタドライバ104は、アプリケーションソフトウェア102からＯＳ103へ発行される各種描画命令群（イメージ描画命令、テキスト描画命令グラフィクス描画命令等）を描画処理する。そして、最終的にプリンタ105のような画像出力装置で用いる画像データを生成する。具体的には、上述の実施形態と同様に、プリンタ105が用いるインクのシアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）およびブラック（Ｋ）それぞれの色成分についてのデータを生成する。
【００５４】
コンピュータ101は、以上のソフトウェアを動作させるための各種ハードウェアとして、ＣＰＵ109、ハードディスク（ＨＤ）108、ＲＡＭ110、ＲＯＭ111などを備える。すなわち、ＣＰＵ109は、ハードディスク108やＲＯＭ111に格納されている上記のソフトウェアプログラムに従ってその処理を実行し、ＲＡＭ110はその処理実行の際にワークエリアとして用いられる。
【００５５】
［その他の実施形態］
第１及び第２の実施形態ではシアン（Ｃ）インクだけの形態を示したが、インクが２種類以上の場合も本発明は適用可能である。すなわち、各インクについて各実施形態で説明したマスクを用いればよい。また、例えばシアン（Ｃ）インクとイエロー（Ｙ）インクを用いた場合、シアンインクに関するマスクパターンは実施形態１に示す方法で作成し、イエロー（Ｙ）インクに関するマスクパターンは実施形態１に示した以外の任意の方法で作成してもよい。その場合、イエローインクの各パスのドット配置パターンに関する評価値Ｆの値は、シアンインクに関する評価値Ｆの値よりも大きくなる。しかしながら、シアンインクに比べイエローインクは目立たないため、仮にイエローインクに関するマスクパターンを実施形態１に示した方法で作成した場合と、画質に関して大きな差は見られない。もちろん、３色以上のインクを用いる場合にも、本発明は適用可能である。
【００５６】
第１の実施形態においては、ステップS503で、他のマスクパターンに記録許容画素がある位置の画素を選択しないようにすることにより、各マスクパターンの同一位置に記録許容画素が重ならないようにすることもできる。こうして、特に記録許容画素の数が少ないマスクパターンを生成する場合に、このマスクパターンを用いて記録媒体上に形成した画像の、粒状性を低減することが可能となる。
【００５７】
第２の実施形態では階調が２５５値の場合を示したが、階調は２値以上であれば本発明は適用可能である。さらに、また、第２の実施形態では画素値の候補を１１個としたが、画素値に候補は１１個でなくてもよく、第２の実施形態に示した１１個の組とは異なっていてもかまわない。また、第２の実施形態では各パスのマスクパターンにおける同一の画素位置の画素値の和を１としたが、１以外であっても本発明は適用可能である。さらには、各マスクパターンを第２の実施形態の方法で独立に生成したとしても、ステップS504で選択する画素値の平均を固定することにより、一様なマスクパターンを生成することは可能である。この場合、ステップS504で選択する画素値を、各マスクパターンの同一位置の画素値の和が一定値（例えば１）を超えないようにすることが好ましい。すると、生成したマスクパターンを用て記録媒体上に形成した画像の、粒状性を低減することが可能となる。
【００５８】
また、第１の実施形態及び第２の実施形態では２パス分割するマスクパターンの場合の形態を示したが、３パス以上に分割する場合でも本発明は適用可能である。第１の実施形態においては、修正マスクパターンＣ１１とマスクパターンＣ２との間で評価値を求めた。Ｎパスに分割するマスクパターンを作成する際に、マスクパターンＣ１に記録許容画素を配置する場合を考える。修正マスクパターンＣ１１とマスクパターンＣ２との間で評価値を求め、さらに修正マスクパターンＣ１１とマスクパターンＣ３との間で評価値を求める。Ｎ個目のマスクパターンまで、合計（Ｎ−１）個の評価値を求め、これらの合計をステップS508での判断に用いる評価値とすれば、Ｎ枚のマスクパターンの間での記録許容画素の重なり数を評価することができる。
【００５９】
他の方法として、修正マスクパターンＣ１１と、２〜Ｎ枚目のマスクパターンとを重ねた時に、全てのマスクパターンにおいて記録許容画素が存在するような画素位置の数を、ステップS506で用いるd(i,j)の値とすることもできる。第２の実施形態においても、同様の方法でＮ枚のマスクパターンを作成することができる。すなわち、合計（Ｎ−１）個の評価値を求めて合計するか、修正マスクパターンと他のマスクパターンとを重ねた時に、重なる全ての画素値を積算してＲ(i,j)を求めればよい。
【００６０】
また、作成中のマスクパターンの、又は作成中のマスクパターンを用いて画像にマスク処理をすることで得たマスク画像の、パワースペクトルの直流成分を除く低周波成分（約１０cycle/mm以下）の和を、評価値Ｆに加算してもよい。こうして、ドット分散性の高いドット配置パターンを生成するマスクパターンを作成することが可能となる。また、各走査のレジストレーションが変動した場合の濃度変化量は、明度で換算した場合０．３以下となることが望ましい。そこで、評価値Ｆとして、各走査のレジストレーションが変動した場合の明度変化量を用いる実施形態も考えられる。この場合、明度変化量は、物理モデルを用いて、各パスのドットパターンを元に予測する。
【００６１】
本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）をネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムコードを読み出して実行する。この場合、そのプログラム、及び該プログラムを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。
【図１】
2011116064.tif 000007
【図２】
2011116064.tif 000008
【図３】
2011116064.tif 000009
【図４】
2011116064.tif 000010
【図５】
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【図６】
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【図７】
2011116064.tif 000013
【図８】
2011116064.tif 000014
【図９】
2011116064.tif 000015
【図１０】
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