(57)【要約】【課題】複数の光学要素からの光を用いる場合に、それらの光学要素からの光が後続の光学部材の表面の狭い領域に集光されにくくする。【解決手段】光源７からの光を用いてレチクル面を照明する照明装置２であって、その光の光路に二次元的に配列される複数のミラー要素３と、複数のミラー要素３を駆動し、個別に光の偏向方向を制御する駆動部４と、複数のミラー要素３で偏向された光をフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉに導くリレー光学系１４と、を備え、リレー光学系１４は、複数のミラー要素３における光の偏向方向が同一方向にそろったときに、その同一方向の光が入射面２２Ｉで１点に集光することを阻む。【選択図】図１
2011103465.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光の光路に対して二次元的に配列される複数の光学要素と、
前記複数の光学要素のそれぞれを駆動し、個別に前記光の偏向方向を制御する駆動機構と、
前記複数の光学要素のそれぞれで偏向された前記光を所定面内の領域に導く光学系と、を備え、
前記光学系は、前記複数の光学要素における前記光の偏向方向が同一方向にそろったときに、前記複数の光学素子を介した前記光が前記所定面で１点に集光することを阻むことを特徴とする照明光学装置。
【請求項２】
前記駆動機構は、前記複数の光学要素のそれぞれで偏向された前記光が前記所定面で１点に集光しないように、前記複数の光学要素を駆動することを特徴とする請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項３】
前記光学系と前記被照射面との間に配置される複数のレンズエレメントを有するフライアイレンズを備え、
前記所定面は前記フライアイレンズの入射面であり、
前記所定面における前記１点の領域は、前記各レンズエレメントの断面形状と同じ幅又はこれよりも小さい幅の領域であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明光学装置。
【請求項４】
前記フライアイレンズからの光を前記被照射面に導くコンデンサ光学系を備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項５】
前記複数の光学要素は、前記光源からの光を反射する傾斜角が制御可能なミラー要素を含むことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項６】
前記駆動機構の電源がオフ状態で、前記複数のミラー要素の傾斜角が同じであることを特徴とする請求項５に記載の照明光学装置。
【請求項７】
前記光学系は、前記駆動機構による前記複数の光学要素の駆動が可能な第１状態のときに、前記所定面内の複数の領域に前記複数の光学要素を介した前記光を導くとともに、前記駆動機構による前記複数の光学素子の駆動が不可能な第２状態のときに、前記複数の光学素子を介した前記光が前記所定面で１点に集光することを阻むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項８】
前記光学系は、前記第１状態のときに前記所定面に形成される前記光の強度分布及び前記光の形状の少なくとも一方に基づいて、前記第２状態のときに前記所定面に集光する前記光の強度を減衰することを特徴とする請求項７に記載の照明光学装置。
【請求項９】
被照射面を照明する光の光路に対して二次元的に配列され、個別に前記光の偏向方向を制御するように駆動される複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、
前記複数の光学要素からの前記光を光学系を介して所定面に導き、
前記空間光変調器の前記複数の光学要素を、前記所定面で前記光が１点に集光しないように制御することを特徴とする制御方法。
【請求項１０】
前記所定面は複数のレンズエレメントを有するフライアイレンズの入射面であり、
前記所定面における前記１点の領域は、前記各レンズエレメントの断面形状と同じ幅又はこれよりも小さい幅の領域であることを特徴とする請求項９に記載の制御方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の照明光学装置を備え、前記照明光学装置からの光で所定のパターンを介して基板を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記所定のパターンの像を前記基板に形成する投影光学系を備えることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを介して前記基板を露光する露光工程と、
前記基板を現像し、前記所定のパターンに対応するマスク層を前記基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記基板の表面を加工する加工工程と、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の偏向方向を制御可能な複数の光学要素を用いて被照射面を照明する照明技術、その複数の光学要素の制御技術、その照明技術を用いる露光技術、及びこの露光技術を用いるデバイス製造技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するためのリソグラフィ工程で使用されるステッパー等の一括露光型の投影露光装置、又はスキャニングステッパー等の走査露光型の投影露光装置等の露光装置は、レチクル（マスク）を種々の照明条件で、かつ均一な照度分布で照明する照明光学系を備えている。従来の照明光学系は、照明条件に応じて例えば複数の回折光学素子を切り替えて照明光の光路上に配置して、瞳面上での光量分布を円形領域、輪帯状の領域、又は複数極の領域等で光量が大きくなる分布に設定していた。この構成では、照明条件の数とほぼ同じ数の回折光学素子を備える必要がある。
【０００３】
そこで、アレイ状に配列され、かつ傾斜方向及び傾斜角が可変の多数の微小なミラー要素を有する可動マルチミラー方式の空間光変調器と、複数のミラー要素からの反射光が集光されるフライアイレンズ（フライアイインテグレータ）とを備えた照明光学系が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この照明光学系によれば、空間光変調器の多数のミラー要素の傾斜方向及び傾斜角の制御によって、フライアイレンズの射出面の近傍の瞳面上での光量分布を実質的に任意の分布に設定可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３５３１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の照明光学系が有する空間光変調器は、一般に電源オフの状態で、全部のミラー要素の反射面が平行になる。この状態で、照明光が照射されると、全部のミラー要素からの反射光がフライアイレンズの特定のレンズエレメントに集光され、そのレンズエレメントの光学材料又は反射防止膜等が損傷を受ける恐れがある。
本発明は、このような事情に鑑み、複数の光学要素からの光を用いる場合に、それらの光学要素からの光が後続の光学部材の表面の狭い領域に集光されにくくすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、光源からの光を用いて被照射面を照明する照明光学装置において、その光の光路に対して二次元的に配列される複数の光学要素と、その複数の光学要素のそれぞれを駆動し、個別にその光の偏向方向を制御する駆動機構と、その複数の光学要素のそれぞれで偏向されたその光を所定面内の領域に導く光学系と、を備え、その光学系は、その複数の光学要素におけるその光の偏向方向が同一方向にそろったときに、その複数の光学素子を介したその光がその所定面で１点に集光することを阻む照明光学装置が提供される。
【０００７】
また、本発明の第２の態様によれば、被照射面を照明する光の光路に対して二次元的に配列され、個別にその光の偏向方向を制御するように駆動される複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、その複数の光学要素からのその光を光学系を介して所定面に導き、その空間光変調器のその複数の光学要素を、その所定面でその光が１点に集光しないように制御する制御方法が提供される。
【０００８】
また、本発明の第３の態様によれば、所定のパターンを照明するための本発明による照明光学装置を備え、その所定のパターンを介して基板を露光する露光装置が提供される。  また、本発明の第４の態様によれば、本発明による露光装置を用いて、その所定のパターンを介してその基板を露光する露光工程と、その基板を現像し、その所定のパターンに対応するマスク層をその基板の表面に形成する現像工程と、そのマスク層を介してその基板の表面を加工する加工工程と、を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、複数の光学要素からの光がほぼ平行光束であっても、その光は所定面で例えば光学部材に損傷の恐れがない最小領域より小さい１点の領域には集光しない。従って、その所定面を複数の光学要素の後続の光学部材の表面とすることによって、その複数の光学要素からの光がその光学部材の表面の狭い領域に集光されにくくなり、その光学部材の損傷が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態の一例の露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１中の空間光変調器１３の一部を示す拡大斜視図である。
【図３】（Ａ）は２極照明時の空間光変調器１３のミラー要素の傾斜角を示す図、（Ｂ）は２極照明時の二次光源を示す図、（Ｃ）は電源オフ時の空間光変調器１３からの照明光の光路を示す図、（Ｄ）は図３（Ｃ）のフライアイレンズ１５の入射面の集光領域を示す図である。
【図４】（Ａ）は２極照明時の別の二次光源を示す図、（Ｂ）は通常照明時の二次光源を示す図、（Ｃ）は輪帯照明時の二次光源を示す図、（Ｄ）は４極照明時の二次光源を示す図である。
【図５】（Ａ）は空間光変調器１３からの光を最小領域に集光する状態の一例を示す図、（Ｂ）は図５（Ａ）のフライアイレンズ１５の入射面を示す図、（Ｃ）は空間光変調器１３からの照明光を最小領域に集光する状態の他の例を示す図、（Ｄ）は図５（Ｃ）のフライアイレンズ１５の入射面を示す図である。
【図６】空間光変調器１３を使用する露光動作の一例を示すフローチャートである。
【図７】（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ実施形態の他の例の照明装置の要部を示す図である。
【図８】電子デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施形態の一例につき図１〜図６を参照して説明する。
図１は、本実施形態の露光装置ＥＸの概略構成を示す。露光装置ＥＸは、一例としてスキャニングステッパー（スキャナー）よりなる走査露光型の露光装置（投影露光装置）である。図１において、露光装置ＥＸは、露光用の照明光（露光光）ＩＬでレチクルＲ（マスク）のパターン面であるレチクル面（被照射面）を照明する照明装置２を備えている。照明装置２は、照明光ＩＬをパルス発光する光源７と、光源７からの照明光ＩＬでレチクル面（被照射面）の照明領域３６を照明する照明光学系ＩＬＳとを備えている。さらに、露光装置ＥＸは、レチクルＲの位置決め及び移動を行うレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ（基板）の表面に投影する投影光学系ＰＬと、ウエハＷの位置決め及び移動を行うウエハステージＷＳＴと、装置全体の動作を統括制御するコンピュータよりなる主制御系３０と、各種制御系等とを備えている。以下、投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を設定し、Ｚ軸に垂直な平面（本実施形態ではほぼ水平面）内において図１の紙面に平行な方向にＹ軸を、図１の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定して説明する。本実施形態では、露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ軸に平行な方向（Ｙ方向）であり、照明領域３６はＸ方向（非走査方向）に細長い矩形である。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸に平行な軸の回りの回転方向（傾斜方向）をθｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向として説明する。
【００１２】
光源７としては、波長１９３ｎｍのレーザ光を４〜６ｋＨｚ程度の周波数でパルス発光するＡｒＦエキシマレーザ光源が使用されている。なお、光源７として、波長２４８ｎｍのレーザ光を供給するＫｒＦエキシマレーザ光源、又は固体レーザ光源（ＹＡＧレーザ、半導体レーザ等）から出力されるレーザ光の高調波を発生する高調波発生装置等も使用できる。光源７には電源部３２が連結されている。主制御系３０が、パルス発光のタイミング及び光量（パルスエネルギー）を指示する発光トリガパルスＴＰを電源部３２に供給する。電源部３２は、その発光トリガパルスＴＰに同期して光源７にパルス発光を行わせる。
【００１３】
光源７から射出されたほぼ平行光束で直線偏光のレーザ光よりなる照明光ＩＬは、ビームエキスパンダ８に入射して、その断面形状が所定形状に拡大される。ビームエキスパンダ８から射出された照明光ＩＬは、光軸ＡＸＩを有する照明光学系ＩＬＳにおいて、照明光ＩＬの偏光方向を所定の複数の角度回転するための１／２波長板９（偏光制御部材）と、主制御系３０の制御のもとで１／２波長板９を回転する駆動部３３と、照明光ＩＬをランダム偏光（非偏光）に変換するための２つの楔型プリズム１０ａ，１０ｂからなるデポラライザ１０とを有する偏光光学系を通過する。このような、１／２波長板９及びデポラライザ１０を含む偏光光学系の詳細な構成及びその動作については国際公開第２００４／０５１７１７号パンフレットに開示されている。
【００１４】
デポラライザ１０を通過した照明光ＩＬは、ミラー１１によって＋Ｙ方向に反射された後、光軸ＡＸＩに沿って、光軸ＡＸＩに垂直な入射面１２ｄ及び射出面１２ｅを有するプリズム１２の入射面１２ｄに入射する。プリズム１２は、照明光ＩＬを透過する蛍石（ＣａＦ2)又は石英等の光学材料から形成されている。プリズム１２は、一例として、入射面１２ｄに対してＸ軸に平行な軸を中心として時計周りにほぼ６０°で交差する第１反射面１２ａと、第１反射面１２ａとＸＺ平面に平行な面に対してほぼ対称な第２反射面１２ｂと、ＸＹ平面に平行で入射面１２ｄ（射出面１２ｅ）に対して直交する透過面１２ｃとを有している。
【００１５】
また、プリズム１２の近傍（透過面１２ｃ側）に、二次元のアレイ状に配列されたそれぞれ傾斜角が可変の微小なミラーよりなる多数のミラー要素３と、これらのミラー要素３を駆動する駆動部４とを有する空間光変調器１３が設置されている。空間光変調器１３の多数のミラー要素３は、全体として透過面１２ｃにほぼ平行に、かつ近接して配置されている。また、各ミラー要素３の反射面は、それぞれθｘ方向及びθｙ方向（直交する２軸の回り）の傾斜角が所定の可変範囲内でほぼ連続的に制御可能である。一例として、その可変範囲内の中央においては、各ミラー要素３の反射面は透過面１２ｃにほぼ平行である。さらに、空間光変調器１３の駆動部４を電源オフにした状態、及び電源オン時にリセットした状態では、全部のミラー要素３の反射面は互いに平行に、かつ透過面１２c、ひいてはＸＹ平面にほぼ平行である。
【００１６】
照明装置２は、空間光変調器１３と、空間光変調器１３の駆動部４の動作を制御する変調制御部３１とを備えている。主制御系３０が変調制御部３１に照明条件（後述の照明瞳面２２Ｐ上の光量分布）及び照明光ＩＬの発光タイミングの情報を供給する。変調制御部３１は、通常は照明光ＩＬがパルス発光されている期間内に、多数のミラー要素３の２軸の回りの傾斜角がその照明条件に応じた値に維持されるように駆動部４を制御する。
【００１７】
この場合、照明光ＩＬは光軸ＡＸＩに平行にプリズム１２の入射面１２ｄに入射する。入射した照明光ＩＬは、第１反射面１２ａで全反射された後、透過面１２ｃを透過して空間光変調器１３の多数のミラー要素３に入射する。そして、多数のミラー要素３で反射され、波面分割された照明光ＩＬは、再び透過面１２ｃに入射した後、第２反射面１２ｂで全反射されて射出面１２ｅから射出される。従って、第１反射面１２ａの入射面１２ｄに対する角度は、入射面１２ｄに垂直に入射した光束が第１反射面１２ａで全反射するとともに、第１反射面１２ａで全反射された光束が透過面１２ｃを透過する範囲であればよい。この際には、あるミラー要素３の反射面が透過面１２ｃにほぼ平行であれば、そのミラー要素３で反射された照明光ＩＬは、透過面１２ｃを透過して第２反射面１２ｂで全反射された後、射出面１２ｅを経て光軸ＡＸＩにほぼ平行に射出される。従って、各ミラー要素３の２軸の回りの傾斜角を制御することによって、そのミラー要素３で反射されてプリズム１２から射出される照明光ＩＬの光軸ＡＸＩに対する直交する２方向（θｘ方向及びθｚ方向）の角度を制御できる。このように照明光ＩＬの光軸ＡＸＩに対する角度（光路の方向）を制御することが、本実施形態の各ミラー要素３による空間的な変調である。
【００１８】
なお、プリズム１２の反射面１２ａ，１２ｂは全反射を用いているが、その反射面１２ａ，１２ｂに反射膜を形成し、この反射膜で照明光ＩＬを反射してもよい。
そして、プリズム１２から射出された照明光ＩＬは、所定の焦点距離を持つリレー光学系１４（強度分布形成光学系）を介してフライアイレンズ１５（オプティカルインテグレータ）の入射面２２Ｉに入射する。
【００１９】
図３（Ｄ）はフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉを示す。図３（Ｄ）において、フライアイレンズ１５は、Ｚ方向（レチクル面でＹ方向に対応する方向）の幅ａでＸ方向の長さｂの矩形の断面形状を有する多数の両凸のレンズエレメント１５ａをＺ方向及びＸ方向にほぼ密着するように配置したものである。入射面２２Ｉは、レチクル面と光学的にほぼ共役である。そのため、レンズエレメント１５ａの断面形状はレチクル面の照明領域３６とほぼ相似であり、幅ａと長さｂとの比は例えば１：３程度である。一例として、幅ａは１〜２ｍｍ程度であり、レンズエレメント１５ａのＺ方向の配列数は数１０程度である。
【００２０】
ここで、空間光変調器１３の構成例につき説明する。図２は、空間光変調器１３の一部を示す拡大斜視図である。図２において、空間光変調器１３は、Ｘ方向、Ｙ方向に一定ピッチでほぼ密着するように配列された多数のミラー要素３と、この多数のミラー要素３の反射面の角度を個別に制御する駆動部４とを含んでいる。Ｘ方向、Ｙ方向のミラー要素３の配列数は例えば数１００である。一例として、ミラー要素３の駆動機構（駆動部４）は、ミラー要素３を支持するヒンジ部材（不図示）と、このヒンジ部材を静電力によって揺動及び傾斜させるための複数の電極（不図示）とを含んでいる。空間光変調器１３のより詳細な構成は、例えば特開２００２−３５３１０５号公報に開示されている。
【００２１】
なお、ミラー要素３の駆動機構としては、他の任意の機構を使用できる。さらに、ミラー要素３はほぼ正方形の平面ミラーであるが、その形状は矩形等の任意の形状であってもよい。ただし、光の利用効率の観点からは、隙間無く配列可能な形状が好ましい。また、隣接するミラー要素３の間隔は必要最小限とすることが好ましい。また、現状では、ミラー要素３の形状は例えば１０μｍ角〜数１０μｍ角程度であるが、照明条件の細かな変更を可能とするために、ミラー要素３は可能な限り小さいことが好ましい。さらに、ミラー要素３として、平面ミラーの代わりに、凹面又は凸面のミラー要素（不図示）を使用することも可能である。
【００２２】
なお、上記の空間光変調器１３としては、例えば特表平１０−５０３３００号公報及びこれに対応する欧州特許公開第７７９５３０号明細書、特開２００４−７８１３６号公報及びこれに対応する米国特許第６，９００，９１５号明細書、特表２００６−５２４３４
９号公報及びこれに対応する米国特許第７，０９５，５４６号明細書に開示される空間光変調器を用いることができる。
【００２３】
図３（Ａ）及び図３（Ｃ）は、それぞれ図１のプリズム１２からフライアイレンズ１５までの光学系を示す。図３（Ａ）及び図３（Ｃ）において、空間光変調器１３の多数のミラー要素３を代表的に複数のミラー要素３Ａ〜３Ｇで表している。図３（Ａ）において、本実施形態では、リレー光学系１４のほぼ前側焦点面に空間光変調器１３の各ミラー要素３Ａ〜３Ｇの反射面が配置され、焦点距離ｆのリレー光学系１４の後側焦点面ＦＰから所定間隔だけ＋Ｙ方向にデフォーカスした位置にフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉが配置されている。従って、リレー光学系１４の主点と入射面２２Ｉとの距離ｅは焦点距離ｆよりも大きい。
【００２４】
この場合、光軸ＡＸＩを含みＺＹ平面に平行な面に沿ってリレー光学系１４に入射する光線の光軸ＡＸＩに対するθｘ方向の傾斜角をθ、その光線のリレー光学系１４の主平面での光軸ＡＸＩからの高さをＨとすると、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉにおいてその光線が集光される位置の光軸ＡＸＩからの高さｈ（Ｚ方向の位置）はほぼ次のように計算できる。
【００２５】
ｈ＝ｆ・ｔａｎθ−（ｅ−ｆ）・Ｈ／ｆ  …（１）
式（１）において、傾斜角θは、各ミラー要素３Ａ〜３Ｇの反射面のθｘ方向の傾斜角（変調制御部３１で設定される値）に応じて計算される値であり、高さＨは、各ミラー要素３Ａ〜３Ｇの既知のＹ方向の位置及び傾斜角θより計算される。同様に、各ミラー要素３Ａ〜３Ｇの反射面のθｙ方向の傾斜角及び既知のＸ方向の位置より、リレー光学系１４に入射する光線のθｚ方向の傾斜角及びＸ方向の位置が分かり、この傾斜角及び位置に基づいて、式（１）と同様の計算式から、リレー光学系１４から射出される光線のフライアイレンズ１５の入射面２２ＩにおけるＸ方向の位置が計算できる。
【００２６】
この場合、フライアイレンズ１５の所定のレンズエレメント１５ａに照明光ＩＬが入射すると、このレンズエレメント１５ａの後側焦点面（射出面の近傍の面）がある照明光学系ＩＬＳの瞳面（以下、照明瞳面という）２２Ｐには、このレンズエレメント１５ａによる光源（二次光源）が形成される。言い換えると、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉにおける照明光ＩＬの光量分布は、フライアイレンズ１５の射出面側にある照明瞳面２２Ｐにおける光量分布と実質的に同じである。従って、空間光変調器１３の全部のミラー要素３Ａ〜３Ｇの２軸の回りの傾斜角を個別に制御することによって、照明瞳面２２Ｐにおける照明光ＩＬの光量分布（二次光源の形状）を任意の分布に制御可能である。実際には、主制御系３０から変調制御部３１に対して照明瞳面２２Ｐ（ひいては入射面２２Ｉ）において目標とする光量分布の情報が供給される。変調制御部３１は、入射面２２Ｉでその目標とする光量分布が得られるように、式（１）等から各ミラー要素３Ａ〜３Ｇの反射面のθｘ方向、θｙ方向の傾斜角の目標値を計算し、これらの傾斜角を空間光変調器１３の駆動部４に設定する。
【００２７】
また、本実施形態において、空間光変調器１３（駆動部４）の電源がオフの状態では、図３（Ｃ）に示すように、全部のミラー要素３Ａ〜３Ｇの反射面がＸＹ平面にほぼ平行になり、ミラー要素３Ａ〜３Ｇで反射された照明光ＩＬは、光軸ＡＸＩにほぼ平行にリレー光学系１４に入射する。そして、リレー光学系１４から射出される照明光ＩＬは、後側焦点面ＦＰで一度集光した後、図３（Ｄ）に示すフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉの直径ｄのほぼ円形の領域２５Ｆに入射する。本実施形態では、後述のように、照明光ＩＬは入射面２２Ｉにおいて領域２５Ｆよりも面積が小さい領域には集光されないため、以下では領域２５Ｆを最小領域２５Ｆと呼ぶ。また、最小領域２５Ｆは、通常のパワーの照明光ＩＬが通常の照射時間だけ照射された場合に、例えば実験的にフライアイレンズ１５の各レンズエレメント１５ａにほぼ損傷を与える恐れがないと予測される最小の領域である。なお、最小領域２５Ｆは、一辺の幅ｄのほぼ正方形の領域等でもよい。
【００２８】
また、リレー光学系１４からの照明光ＩＬが入射面２２Ｉで集光される光学的に最小の領域を直径φの領域とすると、この直径φの領域を入射面２２Ｉ上の１点の領域とみなすことができる。照明光ＩＬの波長をλ、リレー光学系１４の開口数をＮＡＲとすると、直径φはほぼ次のようになる。
φ＝λ／ＮＡＲ  …（２）
一例として、開口数ＮＡＲを０．１とすると、波長λは１９３ｎｍであるため、直径φ（１点の領域の直径）はほぼ２μｍ程度である。
【００２９】
本実施形態では、入射面２２Ｉは、リレー光学系１４の後側焦点面ＦＰからデフォーカスしている。従って、入射面２２Ｉ上で照明光ＩＬが集光される上記の最小領域２５Ｆは、リレー光学系１４に平行な光束が入射したときに、その光束がリレー光学系１４によって入射面２２Ｉに集光される領域と同じ大きさの領域である。この場合、最小領域２５Ｆは、リレー光学系１４で光学的に集光可能な最小の領域（直径φの領域）よりも大きくなる。
【００３０】
一例として、最小領域２５Ｆの直径ｄは、フライアイレンズ１５のレンズエレメント１５ａの短辺方向の幅ａ又はこれより大きく設定され、直径ｄの値は変調制御部３１の記憶部に記憶されている。幅ａは例えば１〜２ｍｍであり、式（２）の直径φは例えば２μｍ程度であるため、最小領域２５Ｆの直径ｄは、１点の領域の直径φよりも十分に大きくなっている。これによって、空間光変調器１３（駆動部４）の電源がオフのときに光源７から照明光ＩＬが照射されても、照明光ＩＬはフライアイレンズ１５の少なくとも一つのレンズエレメント１５ａの短辺方向の全面、又は短辺方向で２つのレンズエレメント１５ａに跨って照射されるため、レンズエレメント１５ａの光学材料及び反射防止膜等が損傷を受ける恐れがない。
【００３１】
この場合、入射面２２Ｉ内で光軸ＡＸＩを中心とする最大の円形領域２６（コヒーレンスファクタ（σ値）が１のときの照明領域）の直径をＤとして、リレー光学系１４に入射する照明光ＩＬの断面形状が円形領域２６とほぼ同じであると仮定すると、ほぼ次の関係が成立する。
ｆ：（ｅ−ｆ）＝Ｄ：ｄ  …（３）  よって、ｅ＝（１＋ｄ／Ｄ）ｆ  …（４）
従って、一例として、ｄ＝２ａ、Ｄ＝５０ａとすると、距離ｅは（５２／５０）ｆとなる。この場合、最小領域２５Ｆの直径ｄはレンズエレメント１５ａの幅ａの２倍であり、空間光変調器１３の電源がオフのときに、照明光ＩＬはフライアイレンズ１５の少なくとも２つのレンズエレメント１５ａに照射され、レンズエレメント１５ａの損傷の恐れはさらに低減する。
【００３２】
なお、実際には、最小領域２５Ｆが一つのレンズエレメント１５ａ内にあっても、最小領域２５Ｆの直径ｄが少なくとも円形領域２６の直径Ｄの１／１００倍程度であれば、レンズエレメント１５ａの光学材料及び反射防止膜等が損傷を受ける可能性は低い。従って、直径ｄは直径Ｄのほぼ１／１００以上であってもよい。このとき、式（４）より、リレー光学系１４とフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉとの距離ｅは、ほぼ以下の条件を満たすことが好ましい。また、距離ｅの最大値は、例えば上記の（５２／５０）ｆが好ましい。
【００３３】
ｅ≧（１０１／１００）ｆ  …（５）
図３（Ａ）の例では、フライアイレンズ１５の入射面２２ＩのＺ方向に離れた２箇所の照明領域２５Ａ及び２５Ｂにそれぞれミラー要素３Ｅ〜３Ｇ及び３Ａ〜３Ｄからの反射光が照射されている。照明領域２５Ａ，２５Ｂに入射する光を反射するミラー要素３の個数は互いにほぼ等しい。そして、照明瞳面２２Ｐには、図３（Ｂ）に示すように、照明領域２５Ａ，２５Ｂと同じ位置に照明領域２５Ａ，２５Ｂとほぼ同じ強度分布を有する二次光源（実質的な面光源）２４Ａ，２４Ｂが形成される。
【００３４】
例えば図１のレチクルＲのパターン面（レチクル面）において、Ｙ方向（又はＸ方向）に解像限界に近いピッチで配列されたライン・アンド・スペースパターン（以下、Ｌ＆Ｓパターンという。）を主に露光する場合には、照明瞳面２２Ｐにおける二次光源は図３（Ｂ）のＺ方向に２極の二次光源２４Ａ，２４Ｂ（又は図４（Ａ）のＸ方向に２極の二次光源２４Ｃ，２４Ｄ）に設定される。同様に、空間光変調器１３によって、照明瞳面２２Ｐ上の二次光源を、図４（Ｂ）の通常照明用の円形の二次光源２８Ａ、図４（Ｃ）の輪帯照明用の二次光源２８Ｂ、及び図４（Ｄ）の４極照明用の４極の二次光源２４Ｅ〜２４Ｈ等の任意の形状に設定可能である。さらに、空間光変調器１３によって、例えば図３（Ｂ）において、二次光源２４Ａ，２４Ｂの間隔、及び／又は二次光源２４Ａ，２４Ｂの個々の大きさを任意の値に変更することも可能である。
【００３５】
次に、図１において、照明瞳面２２Ｐに形成された二次光源からの照明光ＩＬは、第１リレーレンズ１６、レチクルブラインド（視野絞り）１７、第２リレーレンズ１８、光路折り曲げ用のミラー１９、及びコンデンサ光学系２０を介して、レチクル面の照明領域３６を均一な照度分布が得られるように重畳して照明する。ビームエキスパンダ８からコンデンサ光学系２０までの光学部材を含んで照明光学系ＩＬＳが構成されている。照明光学系ＩＬＳの空間光変調器１３を含む各光学部材は、不図示のフレームに支持されている。
【００３６】
レチクルＲの照明領域３６内のパターンは、両側（又はウエハ側に片側）テレセントリックの投影光学系ＰＬを介して、レジスト（感光材料）が塗布されたウエハＷの一つのショット領域上の露光領域３７に所定の投影倍率（例えば１／４，１／５等）で投影される。
また、レチクルＲはレチクルステージＲＳＴの上面に吸着保持され、レチクルステージＲＳＴは、不図示のレチクルベースの上面に、Ｙ方向に一定速度で移動可能に、かつ少なくともＸ方向、Ｙ方向、及びθｚ方向に移動可能に載置されている。レチクルステージＲＳＴの２次元的な位置は不図示のレーザ干渉計によって計測され、この計測情報に基づいて主制御系３０が、リニアモータ等の駆動系（不図示）を介してレチクルステージＲＳＴの位置及び速度を制御する。
【００３７】
一方、ウエハＷはウエハホルダ（不図示）を介してウエハステージＷＳＴの上面に吸着保持され、ウエハステージＷＳＴは、不図示のウエハベースの上面でＸ方向、Ｙ方向にステップ移動を行うとともに、Ｙ方向に一定速度で移動可能である。ウエハステージＷＳＴの２次元的な位置は不図示のレーザ干渉計によって計測され、この計測情報に基づいて主制御系３０が、リニアモータ等の駆動系（不図示）を介してウエハステージＷＳＴの位置及び速度を制御する。なお、レチクルＲ及びウエハＷのアライメントを行うために、ウエハステージＷＳＴには、レチクルＲのアライメントマークの像の位置を計測する空間像計測系（不図示）が設置され、投影光学系ＰＬの側面にウエハＷのアライメントマークの位置を検出するウエハアライメント系（不図示）が備えられている。
【００３８】
露光装置ＥＸによるウエハＷの露光時に、主制御系３０は、レチクルＲのパターンに応じて照明条件（照明瞳面２２Ｐ上の二次光源の形状）を選択し、選択した照明条件を変調制御部３１に設定する。これに応じて変調制御部３１は、空間光変調器１３の各ミラー要素３の傾斜角を個別に制御して、照明瞳面２２Ｐ上の二次光源の形状を設定する。続いて、ウエハステージＷＳＴのステップ移動によってウエハＷが走査開始位置に移動する。その後、光源７のパルス発光を開始して、レチクルステージＲＳＴを介してレチクルＲを照明領域３６に対してＹ方向に移動するのに同期して、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷを露光領域３７に対して対応する方向に投影倍率を速度比として移動することで、ウエハＷの一つのショット領域が走査露光される。このようにウエハＷのステップ移動と走査露光とを繰り返すステップ・アンド・スキャン動作によって、ウエハＷ上の全部のショット領域にレチクルＲのパターンの像が露光される。
【００３９】
この露光装置ＥＸによる露光に際して、空間光変調器１３の全部のミラー要素３からの照明光ＩＬが、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉ上で図３（Ｄ）の直径ｄの最小領域２５Ｆよりも面積の小さい狭い領域に集光されると、レンズエレメント１５ａが損傷を受ける恐れがある。以下では、このように空間光変調器１３からの照明光ＩＬが最小領域２５Ｆよりも小さい領域に集光されないようにする露光動作の一例につき、図６のフローチャートを参照して説明する。この動作は主制御系３０によって制御される。
【００４０】
まず、図６のステップ１０２において、露光装置ＥＸの光源７の発光は停止され、空間光変調器１３の電源がオフにされている。この状態で、ステップ１０４において、レチクルステージＲＳＴにレチクルＲがロードされる。そして、ステップ１０６において、主制御系３０から変調制御部３１にレチクルＲの照明条件、即ち照明瞳面２２Ｐの光量分布の情報が供給される。変調制御部３１では、その光量分布を得るための、空間光変調器１３の各ミラー要素３のθｘ方向、θｙ方向の傾斜角を計算する。次のステップ１０８において、変調制御部３１では、空間光変調器１３の各ミラー要素３の傾斜角がステップ１０６で計算された傾斜角であるときに、空間光変調器１３からリレー光学系１４を介してフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉに入射する照明光ＩＬの照明領域の面積が最小領域２５Ｆの面積より小さいかどうかを確かめる。
【００４１】
そして、入射面２２Ｉ上での照明光ＩＬの照明領域の面積が最小領域２５Ｆより小さいとき、動作はステップ１１０に移行し、変調制御部３１は主制御系３０にアラーム情報を送出する。なお、このように入射面２２Ｉ上での照明光ＩＬの照明領域が最小領域２５Ｆよりも小さくなる場合は、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、例えば照明条件がいわゆる小σ照明で、照明瞳面２２Ｐにおける二次光源、ひいてはフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉ上の照明領域２５Ｈが光軸ＡＸＩを中心とする小さい円形領域である場合に発生し得る。
【００４２】
そのアラーム情報に応じて、主制御系３０はオペレータに警報を発生する。これに応じて、オペレータは、一例として照明条件を僅かに変更する等の対策を実行する。これによって、図５（Ａ）に示すように、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉで最小領域２５Ｆよりも狭い照明領域２５Ｈに照明光ＩＬが集光されることが確実に防止され、フライアイレンズ１５の損傷が防止できる。同様に、例えば照明条件の切り替え時等に、図５（Ｃ）及び図５（Ｄ）に示すように、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉにおいて光軸ＡＸＩ以外の位置にある狭い照明領域２５Ｈに照明光ＩＬが集光されることも確実に防止される。
【００４３】
一方、ステップ１０８で、入射面２２Ｉ上での照明光ＩＬの照明領域の面積が最小領域２５Ｆの面積以上であるときには、動作はステップ１１２に移行し、変調制御部３１は、空間光変調器１３の電源をオンにし、駆動部４を介して各ミラー要素３の傾斜角をステップ１０６で計算した値に設定する。次のステップ１１４において、主制御系３０は光源７にパルス発光を行わせ、空間像計測系（不図示）を用いてレチクルＲのアライメントを行う。
【００４４】
その後、ステップ１１６において、ウエハステージＷＳＴにレジストが塗布されたウエハＷがロードされ、ウエハＷのアライメントが行われる。続いてステップ１１８において、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷの各ショット領域にレチクルＲのパターンの像が露光される。その後、ステップ１２０で露光済みのウエハＷのアンロードが行われ、次のステップ１２２で、未露光のウエハがある場合には、動作はステップ１１６に戻り、次のウエハに対する露光が行われる。
【００４５】
本実施形態の効果等は以下の通りである。
（１）本実施形態の図１の露光装置ＥＸに備えられた照明装置２は、光源７からの照明光ＩＬを用いてレチクル面（被照射面）を照明する照明光学系ＩＬＳを有する。そして、照明装置２（照明光学装置）は、照明光ＩＬの光路に対して二次元的に配列される複数のミラー要素３（光学要素）と、複数のミラー要素３のそれぞれを駆動し、個別に照明光ＩＬの偏向方向を制御する駆動部４（駆動機構）と、複数のミラー要素３のそれぞれで偏向された照明光ＩＬをフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉ（所定面）に導くリレー光学系１４（光学系）と、を備え、リレー光学系１４は、複数のミラー要素３における照明光ＩＬの偏向方向が同一方向にそろったときに、複数のミラー要素３を介した照明光ＩＬが入射面２２Ｉで最小領域２５Ｆよりも面積が小さい領域、ひいてはリレー光学系１４で集光可能な最小の領域である１点の領域に集光することを阻んでいる。
【００４６】
また、本実施形態の露光動作は、光源７からの照明光ＩＬを用いてレチクル面を照明する照明光学系ＩＬＳ内に配置され、照明光ＩＬの光路上に対して二次元的に配列され、個別に照明光ＩＬの偏向方向を制御するように駆動される複数のミラー要素３（光学要素）を有する空間光変調器１３の制御方法を含んでいる。この制御方法は、複数のミラー要素３からの照明光ＩＬをリレー光学系１４を介してフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉ（所定面）に導き（ステップ１１２）、複数のミラー要素３を、入射面２２Ｉで照明光ＩＬが最小領域２５Ｆよりも面積が小さい領域、ひいてはリレー光学系１４で集光可能な最小の領域である１点の領域に集光しないように制御している（ステップ１０６，１０８，１１０）。
【００４７】
本実施形態によれば、複数のミラー要素３と駆動部４とを有する空間光変調器１３の例えばリセット動作等で全部のミラー要素３の反射面がほぼ平行のときに照明光ＩＬが照射されても、全部のミラー要素３からのほぼ平行な光は、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉで最小領域２５Ｆ（レンズエレメントがほぼ損傷を受ける恐れのない最小の領域）よりも小さい領域に集光しない。従って、フライアイレンズ１５の各レンズエレメント１５ａの光学材料及び反射防止膜等が損傷を受けることがない。このため、通常の使用時にも、入射面２２Ｉ上で狭い領域に照明光ＩＬが集光されにくくなり、フライアイレンズ１５のメンテナンス間隔を長くでき、照明装置２のメンテナンスコストを低減できる。
【００４８】
なお、複数のミラー要素３からの照明光ＩＬが、入射面２２Ｉで最小領域２５Ｆよりも小さく、その１点よりも面積が広い領域に集光するのを許容してもよい。この場合にも、フライアイレンズ１５が損傷を受ける恐れは低減される。
（２）本実施形態では、複数のミラー要素３の後に配置されるフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉが、照明光ＩＬが１点の領域に集光することが阻まれる所定面である。その１点の領域は、最小領域２５Ｆよりも小さいとともに、最小領域２５Ｆはフライアイレンズ１５の各レンズエレメント１５ａの断面形状の短辺方向の幅ａと同じ幅の円形領域である。従って、その１点の領域は、幅ａよりも小さい直径の円形領域である。この場合、レンズエレメント１５ａの損傷の恐れがより低減される。
【００４９】
なお、その所定面は、フライアイレンズ１５以外の光学部材の表面等でもよい。
（３）また、本実施形態の空間光変調器１３は、光学要素として複数のミラー要素３（反射要素）を備えている。このようにミラー要素３を用いる場合には照明光ＩＬの利用効率が高い。
（４）また、空間光変調器１３（駆動部４）は、電源オフの状態で、全部のミラー要素３の反射面がほぼ同一面に沿って平行である。さらに、フライアイレンズ１５の入射面２２Ｉはリレー光学系１４の後側焦点面ＦＰからデフォーカスしているため、電源オフの空間光変調器１３に照明光ＩＬが照射されても、入射面２２Ｉでは照明光ＩＬが広がっているため（１点に集光されないため）、フライアイレンズ１５が損傷を受ける恐れがない。
【００５０】
（５）また、複数極照明時（例えば２極照明時）に、リレー光学系１４は、駆動部４による複数のミラー要素３の駆動が可能な電源オンの状態（第１状態）のときに、入射面２２Ｉの複数の領域２５Ａ，２５Ｂに複数のミラー要素３を介した照明光ＩＬを導くとともに、駆動部４による複数のミラー要素３の駆動が不可能な電源オフの状態（第２状態）のときに、複数のミラー要素３を介した照明光ＩＬが入射面２Ｉで１点に集光することを阻んでいる。従って、駆動部４の電源オフの状態で、複数のミラー要素３に照明光ＩＬが照射されても、フライアイレンズ１５が損傷を受ける恐れがない。
【００５１】
なお、空間光変調器１３は、駆動部４の電源オフの状態で、必ずしも全部のミラー要素３の反射面が平行でなくともよい。この場合には、リレー光学系１４の後側焦点面ＦＰ又はこの近傍にフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉを配置して、駆動部４は、全部のミラー要素３の傾斜角を、常時、入射面２２Ｉで照明光ＩＬが最小領域２５Ｆより狭い領域（１点の領域）に照射されないように制御してもよい。
【００５２】
（６）また、リレー光学系１４は、その電源オンの状態（第１状態）のときに入射面２２Ｉに形成される照明光ＩＬの強度分布及び照明光ＩＬの形状の少なくとも一方に基づいて、その電源オフの状態（第２状態）のときに入射面２２Ｉに集光する照明光ＩＬの強度を減衰してもよい（照射領域を広くしてもよい）。
これは、リレー光学系１４の配置によって、変形照明時の入射面２２Ｉ（ひいては照明瞳面２２Ｐ）における照明光ＩＬの形状が多少ぼけてもよいことを意味している。
【００５３】
（７）また、本実施形態の露光装置ＥＸは、レチクルＲのパターンをウエハＷ（基板）に露光する露光装置であって、レチクルＲのパターンを照明するための照明光学系ＩＬＳを含む照明装置２と、そのパターンの像をウエハＷの表面に形成する投影光学系ＰＬとを備えている。この露光装置ＥＸによれば、照明装置２、ひいては露光装置ＥＸのメンテナンスコストが低減できる。
【００５４】
次に、上記の実施形態では次のような変形が可能である。
（１）上記の実施形態では、照明装置２（照明光学系ＩＬＳ）において、照明光ＩＬを空間光変調器１３に供給するためにプリズム１２が使用されているため、照明光学系ＩＬＳの配置が容易である。なお、内面反射型のプリズム１２の代わりに、図７（Ａ）の変形例で示すように、互いに傾斜した反射面４２ａ及び４２ｂが形成されたミラー部材４２を用いてもよい。また、上記の実施形態では、図３（Ｃ）に示すように、リレー光学系１４の後側焦点面ＦＰに対してフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉは外側にデフォーカスして配置されている。
【００５５】
これに対して、図７（Ａ）に示すように、リレー光学系１４の後側焦点面ＦＰに対して内側にデフォーカスした位置にフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉを配置してもよい。この構成では、リレー光学系１４の主平面から入射面２２Ｉまでの距離ｅ１は、焦点距離ｆより短くなる。また、例えば空間光変調器１３の駆動部４の電源がオフで全部のミラー要素３Ａ〜３Ｇの反射面が平行であるときに、ミラー要素３Ａ〜３Ｇから平行に反射される照明光ＩＬの入射面２２Ｉ上での照明領域が、図３（Ｃ）の例と同じ大きさの最小領域２５Ｆとなるように距離ｅ１を設定すればよい。
【００５６】
この場合、図７（Ｂ）に示すように、フライアイレンズ１５の最小領域２５Ｆ内の各レンズエレメント１５ａはそれぞれ照明瞳面２２Ｐ上に二次光源４３を形成するため、フライアイレンズ１５の射出面で例えば一つのレンズエレメント１５ａの表面に照明光ＩＬが集光されることはない。従って、フライアイレンズ１５の射出面はリレー光学系１４の後側焦点面ＦＰに近い位置にあっても差し支えない。
【００５７】
（２）上記の実施形態では、オプティカルインテグレータとしてフライアイレンズ１５が使用されているが、オプティカルインテグレータとしてマイクロレンズアレイ（マイクロフライアイレンズ）を使用してもよい。走査型露光装置用のマイクロレンズアレイは、一例として、断面形状がほぼ０．６ｍｍ×０．２ｍｍの両凸の微小レンズを縦横に密着して多数形成したものであり、微小レンズの短辺方向における微小レンズの配列数は数１００程度である。この場合には、空間光変調器１３からマイクロレンズアレイの入射面に照射される照明光の最小領域の幅は、例えば微小レンズの短辺方向の幅の数倍〜２０倍程度でもよい。
【００５８】
（３）図１の波面分割型のインテグレータであるフライアイレンズ１５に代えて、内面反射型のオプティカルインテグレータとしてのロッド型インテグレータを用いることもできる。この場合には、例えばロッド型インテグレータの入射面の所定の狭い面積の領域に照明光ＩＬが集光されないように光学系の配置、及び空間光変調器１３の各ミラー要素３の傾斜角の制御を行えばよい。
【００５９】
また、上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイス等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造する場合、この電子デバイスは、図８に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２２１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２２２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造するステップ２２３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ２２４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２２５、並びに検査ステップ２２６等を経て製造される。
【００６０】
言い換えると、上記のデバイスの製造方法は、露光装置ＥＸを用いて、マスクのパターンを介して基板（ウエハＷ）を露光する露光工程と、その基板を現像し、そのマスクのパターンに対応するマスク層をその基板の表面に形成する現像工程と、そのマスク層を介してその基板の表面を加工（加熱及びエッチング等）する加工工程と、を含んでいる。
このデバイス製造方法によれば、露光装置のメンテナンスコストを低減できるため、電子デバイスを安価に高精度に製造できる。
【００６１】
なお、本発明は、例えば米国特許出願公開第２００７／２４２２４７号明細書、又は欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書等に開示されている液浸型露光装置にも適用できる。さらに、本発明は、投影光学系を用いないプロキシミティ方式等の露光装置、及びこの露光装置の照明装置（照明光学装置）にも適用することができる。
また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、液晶表示素子、プラズマディスプレイ等の製造プロセスや、撮像素子（ＣＭＯＳ型、ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ(Microelectromechanical Systems：微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイス（電子デバイス）の製造プロセスにも広く適用できる。このように本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
【符号の説明】
【００６２】
ＥＸ…露光装置、ＩＬＳ…照明光学系、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、２…照明装置、３…ミラー要素、４…駆動部、１２…プリズム、１３…空間光変調器、１４…リレー光学系、１５…フライアイレンズ、３０…主制御系、３１…変調制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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