(57)【要約】【課題】インクジェットの不良吐出ノズルの検査時間を短縮することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。【解決手段】吐出検査領域は各インクジェットノズルに対応した親水性の開口部を持つ撥水膜が形成されており、開口部を目標位置として各々のノズルからインクを塗布して、開口部へのインクの充填の有無により不良吐出ノズルを特定する吐出検査方法であって、開口部にインクが充填されると開口部と撥水膜との反射率が小さくなり、不良吐出ノズルを検査することにより検査時間が短縮できる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルから有機ＥＬ材料を含有するインクをバンクが形成される基板上に塗布する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記基板は有効領域の外側に表示吐出検査領域を有し、かつ、前記吐出検査領域には表面が撥水性のバンクによって形成された複数の開口部を備え、前記開口部を目標位置として各ノズルからインクを塗布し、前記開口部へのインクの充填の有無により複数のノズルから不良吐出ノズルを特定する際、
インクが充填されると開口部と前記バンクの表面の撥水膜との反射率が小さくなることでノズルの吐出／不吐出を判断すること
を特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
インクの塗布はインクジェット法で行われ、前記開口部はインクジェットで吐出した液滴の着弾精度の許容度に相当した大きさである、
請求項１記載の有機ＥＬの製造方法。
【請求項３】
前期開口部の中央部に反射率制御膜が形成され、前記反射率制御膜は周囲の撥水膜との反射率が異なっており、かつ、親水性である、
請求項１又は２に記載の有機ＥＬの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インク化した有機ＥＬ材料を用いてインクジェットなどの液滴吐出手段で塗布する有機ＥＬ素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機半導体材料や電極材料をインク化し、基板上に印刷・硬化させてデバイス形成する際の印刷手段としてインクジェットなどが使用される。インクジェットでは、インクを吐出する信号を与えても、ノズル近傍の状態によってインクが吐出しない、いわゆる「不吐出状態」が発生する場合がある。これは、ノズル内への異物の詰まり、インク化した機能性材料の凝集による詰まり、気泡の噛み込み、インク溶媒が乾燥しやすい場合はノズル穴付近のインクの高粘度化などが不吐出を発生させる原因となる。不吐出ノズルを塗布前に検知せず、何も対策しない状態で塗布すると、塗布欠陥が発生する可能性が高く、その結果、形成したデバイスの特性に重大な悪影響を与えかねない。このような背景から、インクジェットの不吐出ノズルや着弾精度が悪いノズルを検出するための吐出検査方法が提案されている。
【０００３】
例えば、インクジェットヘッドから吐出したインク液滴を、吐出方向と直交する方向から光学的に観察する方法が提案されている。液滴通過位置をはさんで配置した発光部と受光部の間を液滴が通過すると遮光され、受光光量が低下することにより、液滴の吐出が検出できる。
【０００４】
この方法は、インクジェットヘッドの大きさが数十ｍｍ程度と比較的小さく、ノズル数が少ない場合には有効である。しかし、インクジェットヘッドがそれ以上に大きくなると、インクジェットヘッドの大きさに合わせて全てのノズルを網羅するために、複数の光学系を配置したり、光学系またはインクジェットヘッドを動かす必要が生じたり、光学系と液滴の距離が遠くなるため長焦点の光学系が必要になってくるため、吐出検出機構全体が大きく複雑化してくる。また、インクジェットの液滴の直径は数十μｍという微小な大きさであって、微小液滴を検出するためには、高精度で高価な光学系を使用する必要があるといった問題がある。このように光学的吐出検出方法は、光学系が過大になるという問題を有する。
【０００５】
ノズルの吐出状態の検出方法として、例えば、電気的不吐出検出方法が提案されている。各ノズルに対してそれぞれ一対の電極が設けられ、交流電源および電流検出器を備えた静電容量検出回路が接続されている。ノズルからインク液滴が吐出されると、電極間の静電容量が変化し電流検出器で検出される電流が変化する（特許文献１参照）。
【０００６】
しかしながら、電気的吐出検出方法は、インクの誘電率に依存するところが大きく、インク溶媒が水やアルコールなど、比誘電率が高い物質の場合は適用しやすいが、ベンゼンなど比誘電率が低く、空気との差が小さい場合には、電極間を液滴が通過したときの静電容量の変化が小さく、検出が困難になるという問題がある。
【０００７】
吐出検査方法として、実際に液滴を基板上に塗布した後、基板上の液滴の有無を光学的に検査する方法が提案されている。図１０に従来の技術の特許文献２における吐出検出領域の図を示す。基板２００上に有効領域３００と吐出検査領域４００が配置されている。吐出検査領域４００上に、インク４６０を吐出して形成した着色部の光の反射率や透過率を検出することにより、ノズルからの吐出状態を検査することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−３１８１７８号公報
【特許文献２】特開平９−１０１４１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ノズルの吐出検査において、通常、ほとんどのノズルは規定範囲内の吐出状態で、ごくわずかなノズルのみが不吐出あるいは着弾精度が悪いノズルとなる場合が多い。
【００１０】
上記従来の構成のようにインクが吐出したノズルを検査する方法は、ごくわずかな不良吐出ノズルを見つけ出すために、その数十、数百倍の数の吐出ノズルを検査する方法であって、ノズル数が数万個になったときには検査に莫大な時間がかかるという不具合が生じる。
【００１１】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、不吐出ノズルや着弾精度が悪い不良ノズルだけを検査することで、不吐出ノズルの検査時間を短縮する有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の有機ＥＬの製造方法は、インクジェットにより有機ＥＬ材料を含有するインクを基板上に塗布する有機ＥＬの製造方法において、基板は各インクジェットノズルからインクを塗布した後で各ノズルの吐出状態を検査するための吐出検査領域を有し、吐出検査領域は各インクジェットノズルに対応した親水性の開口部を持つ撥水膜が形成されており、開口部を目標位置として各々のノズルからインクを塗布して、開口部へのインクの充填の有無により不良吐出ノズルを特定する吐出検査方法であって、開口部にインクが充填されると開口部と撥水膜との反射率が小さくなることを特徴としている。
【００１３】
本構成によると、不吐出ノズルや液滴の着弾位置ずれが大きいノズルの場合、基板上の開口部にインク液滴が充填されない状態になって、インクが充填されていない開口部だけを検査するだけで、不良吐出ノズルを特定することができる。
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明の有機ＥＬの製造方法は、開口部がインクジェットで吐出した液滴の着弾精度の許容度に相当した大きさであることを特徴としている。
【００１５】
本構成によると、開口部中心の目標位置に対して実際の液滴の着弾位置がずれていても、ずれが許容範囲であれば開口部内にインクが充填され、許容範囲外であれば開口部内にインクが充填されないため、着弾位置ずれが大きいノズルを不良吐出ノズルとして、容易に特定することができる。
【００１６】
また、上記目的を達成するために、本発明の有機ＥＬの製造方法は、開口部中央に反射率制御膜が形成されており、反射率制御膜は周囲の撥水膜との反射率が異なっており、親水性であることを特徴としている。
【００１７】
本構成によると、反射率制御膜を用いることで、インクが充填されていないときの開口部と周辺部との反射率差を大きくすることができ、不良吐出ノズルの検出精度を向上することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によれば、個々のインクジェットノズルに対応した基板上の開口部へのインクの充填の有無による吐出検査方法において、インクが充填されていない開口部のみを検査することで、短時間で不良吐出ノズルを特定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を示す図
【図２】本発明の実施の形態１における吐出検査領域を示す図
【図３】本発明の実施の形態１におけるインク塗布後の吐出検査領域を示す図
【図４】本発明の実施の形態１における吐出検査アルゴリズムを示す図
【図５】本発明の実施の形態２における有機ＥＬの製造方法を示す図
【図６】本発明の実施の形態２における吐出検査領域を示す図
【図７】本発明の実施の形態３における吐出検査領域を示す図
【図８】本発明の実施の形態３における吐出検査領域の断面図
【図９】本発明の実施の形態３における吐出検査領域の断面図
【図１０】従来の技術における吐出検査領域を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２１】
（実施の形態１）
図１は、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を示す図である。
【００２２】
図１において、インクジェットヘッド１は複数のノズルを有し、各ノズルに対する任意の吐出信号によって、インクジェットヘッド１に供給された有機ＥＬインク液滴３０を吐出することができる。インクジェットヘッド１はさまざまな形態が考案されているが、本実施形態では、ノズルと連通しているインク室に有機ＥＬインクを溜めておき、インク室の壁を圧電素子で振動させることにより、有機ＥＬインクを吐出する方式を採用している。インクジェットで吐出するインクの粘度は５０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。特に１０ｍＰａ・ｓ程度のインクが一般的である。
【００２３】
基板ステージ１０は、インクジェットヘッド１のノズルと対向して配置されていて、インクジェットヘッド１に対して相対移動する。基板ステージ１０上には、有機ＥＬ基板２０が真空吸着固定される。例えば、図示したように有機ＥＬ基板２０上に図の横方向には異なる有機ＥＬインクを、奥行方向には同一の有機ＥＬインクを断続的に塗布したい場合には、インクジェットヘッド１の図の横方向のノズルからは異なる有機ＥＬインクを吐出し、ステージを図の矢印の方向に移動することにより、所望のパターンで有機ＥＬインクを塗布することが可能になる。ステージの移動速度は、所望の箇所に塗布するインクの総量と、インクジェットの吐出周期とから決定される。吐出周期は１００ｋＨｚ以下に設定されている場合が多く、特に０．１Ｈｚから１０ｋＨｚくらいの間がインク特性によらず、比較的安定している。インク液滴の吐出速度は５〜１０ｍ／ｓである。インクジェットヘッド１と有機ＥＬ基板２０とのギャップが小さいほど、吐出したインク液滴の飛行曲がりの影響を受けにくいため、着弾精度が良化する。インクジェットヘッド１や有機ＥＬ基板２０の平行度や、ギャップ中に万一異物があった場合のリスクを加味して、ギャップは０．５ｍｍ程度に設定される。
【００２４】
図１にて点線で示すように、インクジェットヘッド１の複数のノズルの中に不良吐出ノズルがあった場合、塗布欠陥Ａが発生し、有機ＥＬ素子の性能が損なわれる。そこで、有機ＥＬ基板２０に塗布するときに、基板内に設けた吐出検査領域４０ａ、４０ｂにて吐出検査を実施し、インクジェットヘッド１のノズルの中の不良吐出ノズルの箇所を特定する。不良吐出ノズル検出後は、不良吐出ノズルの数や箇所に応じて、不良吐出ノズルの吐出回復作業を実施したり、吐出可能な他のノズルで塗布を補完したりして、有機ＥＬ素子の性能を満足するような、有機ＥＬインクの塗布が可能になる。
【００２５】
また、吐出検査領域４０ａ、４０ｂのように有機ＥＬ素子の有効領域を塗布する前後に吐出検査領域を設け、吐出検査領域４０ａと４０ｂとの吐出状態を比較することで、有効領域内での印刷状態の変化の有無を把握することができる。例えば、同一のノズルが吐出検査領域４０ａでは正常吐出で、吐出検査領域４０ｂでは不吐出あるいは着弾位置ずれが大きく不良吐出の場合は、吐出の状態が不安定であると判断して、不良吐出ノズルとして扱う。例えば、基板上のキズやゴミなどにより、吐出検査領域４０ａでは吐出状態が把握できない場合は、吐出検査領域４０ｂでの検査結果を有効とする。このように吐出検査の正確度は吐出検査領域を複数設けることによって向上する。
【００２６】
ここでは吐出検査領域が２箇所の場合について説明したが、吐出状態の安定性によって、使用する吐出検査領域を１箇所にして検査時間を短縮する場合や、吐出検査領域を増やして確度を向上する場合がある。
【００２７】
次に吐出検査領域４０ａ、４０ｂについて詳細に説明する。
【００２８】
図２は、本発明の実施の形態１における有機ＥＬ素子の製造方法における吐出検査領域を示す図である。
【００２９】
同図において有機ＥＬ基板２０上に厚さ１μｍの撥水膜４１が形成されており、インクジェットヘッド１のノズルピッチに相当するピッチＰで開口部４２が設けてある。撥水膜４１とインクとの接触角は５０°、親水性である有機ＥＬ基板２０とインクとの接触角は１０°程度である。吐出検査時に誤認識しないように、各開口部４２は、矢印で示したインクジェットヘッド１の走査方向には一定の距離で離して配置している。開口部４２にはインクジェットヘッド１のノズル番号に相当する番号４３を付している。開口部４２の大きさは、着弾位置ずれの許容度と同じかまたはより小さくする。開口部４２の中心位置を塗布目標位置として、矢印で示したインクジェットヘッド１の走査方向、走査方向と直交する方向ともに±１０μｍの着弾位置ずれを許容する場合、開口部４２は一辺が２０μｍの正方形や直径２０μｍの円形とする。ここでは、直径２０μｍの円形を採用している。
【００３０】
落射照明で観察すると、図２に示すように、撥水膜４１の反射率に比べて開口部４２の反射率が低く、開口部４２は黒く見える。図１で示した実施の形態１の場合、有機ＥＬ基板２０内にこのような吐出検査領域が２箇所ある（４０ａ，４０ｂ）。
【００３１】
図２で示した吐出検査領域に印刷した結果を図３に示す。
【００３２】
図３（ａ）は吐出検査領域を落射照明で上から見た図である。図３（ｂ）〜（ｄ）は、それぞれ正常吐出部、不吐出部、着弾位置ずれ部の開口部付近の断面図であって、反射光強度を矢印の大きさで表している。
【００３３】
図３（ａ）において、不吐出部４４は開口部４２にインクが塗布されていない。図３（ｃ）はその断面図で、有機ＥＬ基板２０上に撥水膜４１が形成されており、撥水膜４１と有機ＥＬ基板２０との反射率の違いにより、開口部４２は黒く見える。
【００３４】
図３（ａ）において、着弾位置ずれ部４５は、インク４６は塗布されているが着弾位置がずれていることによって、開口部４２の中にインク４６が入っていない。図３（ｄ）はその断面図で、開口部４２からずれた位置に着弾したインク液滴４６は、下地が撥水膜４１であることから丸く盛り上がった状態で存在する。このためインク４６からの反射光は矢印で示したように散乱し、落射照明でみたとき撥水膜４１上のインク４６は黒っぽく見える。
【００３５】
また、図３（ａ）において、ゴミ４７は開口部４２上に付着しており、吐出状態の判定はできない。
【００３６】
図３（ａ）において、上記以外の点は開口部４２にインク４６が充填された正常吐出部になる。図３（ｂ）はその断面図で、目標位置の開口部４２中心付近にインク４６が着弾すると、有機ＥＬ基板２０は親水性であるため、インク４６は開口部４２内に薄く広がった状態になる。開口部４２にインク４６が塗布されていると、インク４６がない場合と比較して反射光強度が高くなり、撥水膜４１と同様に白っぽく見える。
【００３７】
画像検査時の輝度は、「インク４６が充填されていない開口部４２  ＜  インク４６が充填された開口部４２  ＜  撥水膜４１」の順で高くなる。そこで、画像検査時の閾値を、インク４６が充填されていない開口部４２と、インク４６が充填された開口部４２との間に設定することにより、正常吐出と不吐出との判別が可能になる。直径２０μｍの開口部４２の場合、各開口部４２に対して１滴の液滴で検出可能であるが、着弾位置ずれの許容度が大きく開口部４２が大きくなる場合やインク４６の濃度が低い場合、１滴のインク４６の充填では、インク充填の有無による輝度差が小さいことがある。このときは、数滴の液滴を開口部４２に塗布することにより、十分な輝度差を確保することができる。
【００３８】
図４は本発明の実施の形態１における吐出検査アルゴリズムを示す図である。
【００３９】
図３（ａ）に示したインク塗布後の吐出検査領域の結果を元画像として用いながら説明する。まず、図４（ａ）に示すように、ある閾値により元画像を２値化処理する。インクが充填されていない開口部や着弾位置ずれしたインク液滴、ゴミなどが検出される。検出された全黒点パターンについて、面積と中心値を導出する。
【００４０】
次に、図４（ｂ）に示すように、塗布目標位置である開口部４２中心の設計値と、黒点パターンの中心値との距離を算出し、その距離が設定範囲内の黒点パターンだけを残す。これにより、基板上のゴミやキズ、着弾位置ずれが大きい液滴などを除去する。図中では、開口部４２中心からの距離を点線の円で示し、点線より外側にある黒点を検査対象から除外する様子を表現している。
【００４１】
続けて、図４（ｃ）に示すように、各黒点パターンの面積が設定範囲内であるかどうかを判定する。面積の閾値設定は、開口部４２面積の製造公差の最大値より小さい範囲に設定する。面積設定範囲外の黒点パターンは、基板上のゴミやキズ等であると想定され、検査不良箇所であると考えられる。従って、使用する吐出検査領域を変更して、再検査することにより、該当ノズルの吐出状態を把握することができる。ただし、クリーンルームなど、整備された環境下では、図示するような大きなゴミが観測されることは稀であるため、再検査せず、不良吐出として処理することもできるようにしている。
【００４２】
更に、図４（ｄ）に示すように、開口部４２中心の塗布目標位置近傍に、複数の黒点パターンが観測された場合には、黒点パターンの面積が開口部４２面積に近い方を選択するようにする。
【００４３】
以上の処理を経て、吐出不良ノズル番号を同定する。この結果を踏まえて、不良吐出補完アルゴリズムへ進む。不良吐出ノズルは使用を停止し、隣接するノズルで補完して印刷するなどの処理を実行する。
【００４４】
印刷対象の大きさに合わせてインクジェットヘッド１を大型化する場合や、印刷の解像度を上げる場合、ノズル数は多くなり、数万ノズルを有するインクジェットヘッドも一般的に使用されている。
【００４５】
本発明は、塗布した液滴に対して検査をするのではなく、塗布されていない箇所、すなわち不良吐出ノズルに対してパターン検査を実施することを特徴としている。通常はほとんどのノズルが正常吐出状態であって、不良吐出ノズルは１％以下であるとすると、不良吐出ノズルのみを検査対象としている本方式は、正常ノズルを検査する方式に対して、検査時間を極めて短くすることができる。
【００４６】
（実施の形態２）
図５は本発明の実施の形態２における有機ＥＬ素子の製造方法である。
【００４７】
基板ステージ１０は、インクジェットヘッド１のノズルと対向して配置されていて、インクジェットヘッド１に対して相対移動する。基板ステージ１０上には、有機ＥＬ基板２０が真空吸着固定される。有機ＥＬ基板２０は、図５の横方向に長い塗布領域が奥行方向に複数配置されている。インクジェットヘッド１の各ノズルからは同一の有機ＥＬインクが吐出される。ステージを図の手前方向に移動することにより、所望のパターンで有機ＥＬインクを塗布することが可能になる。
【００４８】
図５に点線で示したように、インクジェットヘッド１の複数のノズルの中に不良吐出ノズルがあった場合、塗布欠陥Ｂが発生し、有機ＥＬ素子の性能が損なわれる。そこで、有機ＥＬ基板２０に塗布するときに、基板内に設けた吐出検査領域４０ａ，４０ｂにて吐出検査を実施し、インクジェットヘッド１のノズルの中の不良吐出ノズルの箇所を特定する。不良吐出ノズル検出後は、不良吐出ノズルの数や箇所に応じて、不良吐出ノズルの吐出回復作業を実施したり、吐出可能な他のノズルで塗布を補完したりして、有機ＥＬ素子の性能を満足するような、有機ＥＬインクの塗布が可能になる。
【００４９】
図６に本発明の実施の形態２における有機ＥＬの製造方法における吐出検査領域を示す。
【００５０】
有機ＥＬ基板２０上に厚さ１μｍの撥水膜４１が形成されており、インクジェットヘッド１のノズルピッチに相当するピッチＰで開口部４２が設けてある。開口部４２の大きさは、着弾位置ずれの許容度に応じて決定する。図５に示すような横方向に長い塗布領域の場合は、インクジェットヘッド１の走査方向の着弾位置精度±ΔＸｓは高精度が要求され、走査方向と直交する、横長の塗布領域の方向の着弾位置精度±ΔＸｎは高い精度を必要としない。これより開口部４２は図示するような長円形になる。
【００５１】
以上のように、着弾位置ずれの許容度は塗布対象の形状や塗布方法によって決まり、この着弾位置ずれの許容度を、開口部４２の設計に反映することで、不良吐出ノズルの同定が容易になる。
【００５２】
（実施の形態３）
図７は本発明の実施の形態３における吐出検査領域を示す図である。
【００５３】
ガラス基板上に撥水膜４１が１μｍ厚で形成されていて、インクジェットノズルに対応する開口部４２を有している。開口部４２の中央には、反射率制御膜４８が形成されている。反射率制御膜４８は開口部４２より小さい。この反射率制御膜４８を用いて、反射率を制御することにより不良吐出ノズルの検出感度を向上することができる。反射率制御膜４８は、例えば、電極として用いられるアルミ、銀・マグネシウム合金、セシウム系合金、ＩＴＯ、酸化亜鉛などの金属膜や金属酸化膜や、酸化ケイ素、窒化ケイ素などの絶縁膜などを使う。有機ＥＬ素子の積層構造、製造プロセスにおいて、適当な膜を反射率制御膜４８として、利用することができる。
【００５４】
図８に吐出検査領域の一例を示す。
【００５５】
図８（ａ）はインクを塗布する前の吐出検査領域の断面図である。反射率制御膜４８は数百ｎｍ以下の膜厚で形成されていて、直径が膜厚の１００倍以上の場合、膜上面が十分に平滑になる。ここでは矢印の大きさで反射光強度を表していて、図示したように反射率制御膜４８からの反射光強度が高くなる。図８（ｂ）は、図８（ａ）で示したインク塗布前の吐出検査領域の実物を上から撮影した写真である。この例では、撥水膜４１に直径３５μｍの開口部４２を設け、反射率制御膜４８は、膜厚２００ｎｍ、直径２０μｍ以上のアルミ合金を用いた。開口部４２中心に対して反射率制御膜４８が右側にずれているのは、開口部４２と反射率制御膜４８とのアライメントずれが原因している。十分な面積の平滑なアルミ合金の場合は、反射率制御膜４８からの反射光強度が極めて高い。周辺の撥水膜４１より中央の反射率制御膜４８の反射率が高いと、インク液滴が塗布される前は、反射率制御膜４８が白く見える。図８（ｃ）はインク塗布後の吐出検査領域の断面図で、図８（ｄ）は実物を上から撮影した写真である。インク４６が塗布されると、反射率制御膜４８からの反射が低減し、周辺の撥水膜４１と同等の反射率になる。
【００５６】
図９に吐出検査領域の別の例を示す。
【００５７】
図９（ａ）はインク塗布前の吐出検査領域の断面図で、図９（ｂ）はその実物を上から撮影した写真である。この例では、開口部４２は直径２０μｍ、反射率制御膜４８は、膜厚２００ｎｍ、直径１０μｍ以下のアルミ合金とした。反射率制御膜４８は、基板上にアルミ合金を成膜し、アルミ合金薄膜上にフォトリソグラフィで反射率制御膜４８に相当するパターンにレジスト膜を形成し、ウェットエッチングによってレジスト膜で被覆されていないアルミ合金薄膜を除去し、その後、レジスト膜を除去することにより、形成している。このようなプロセスで反射率制御膜４８を形成した場合、フォトリソグラフィの解像度などの要因で、反射率制御膜４８の大きさが１０μｍ以下まで小さくなると、反射率制御膜４８の平坦部が相対的に少なくなり、膜の断面形状は図示したように半円状の凸形状になる。これにより反射光が散乱し、周辺の撥水膜４１より中央の反射率制御膜４８は黒っぽく見える。
【００５８】
図９（ｃ）はインク塗布後の吐出検査領域の断面図で、図９（ｄ）は実物を上から撮影した写真である。インク４６が塗布されると、反射率制御膜４８における反射光の散乱の影響が低減し、周辺の撥水膜４１と同等の反射率になる。
【００５９】
以上のように、開口部４２に反射率制御膜４８を設けることによって、反射率を意図的に制御できるようになり、不良吐出ノズルの検出感度を向上することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、インクジェットを利用して機能性インクを塗布して作製する、機能性素子の製造方法にも適用することができる。例えば、ディスプレイ分野におけるカラーフィルターや蛍光体の塗布に用いることができる。また、電子デバイスの電気配線の形成に用いることができる。
【符号の説明】
【００６１】
２０  有機ＥＬ基板
４１  撥水膜
４２  開口部
４３  番号
４４  不吐出部
４５  着弾位置ずれ部
４６  インク
４７  ゴミ
Ｐ    ピッチ
【図１】
2011065856.tif 000003
【図２】
2011065856.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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