(57)【要約】【課題】液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１基板と、第１基板に対向する第２基板と、第１基板と第２基板との間に形成された液晶層と、を備える液晶表示装置において、第１基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、第２基板に形成された共通電極と、共通電圧ラインを覆うように形成されて、第１基板と第２基板とを合着し、共通電圧ラインに印加される共通電圧を伝達する導電ボールを備え、共通電圧の印加時に形成される電界によって、液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備える液晶表示装置である。これにより、液晶表示装置の外郭領域に電界を形成し、イオン不純物を液晶表示装置の外郭領域にホールディングさせることによって、枠のスポットを防止できる。【選択図】図２
2011164596.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と、を備える液晶表示装置において、
前記第１基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、
前記第２基板に形成された共通電極と、
前記共通電圧ラインを覆うように形成されて、前記第１基板と前記第２基板とを合着し、前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を伝達する導電ボールを備え、前記共通電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、
を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記共通電圧は、極性電圧であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記共通電圧ラインは、
外部から前記共通電圧を印加される第１共通電圧ラインと、
前記第１共通電圧ライン及び前記導電ボールに接触する第２共通電圧ラインと、
を備えることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２共通電圧ラインは、透明な導電性物質で形成されることを特徴とする、請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第２共通電圧ラインは、ＩＴＯまたはＩＺＯで形成されることを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を前記共通電極に伝達するショートポイントを、さらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と、を備える液晶表示装置において、
前記第１基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、
前記共通電圧ラインから内側に所定間隔離隔された位置で前記共通電圧ラインに沿って前記第１基板に形成された透明電極ラインと、
前記第２基板に形成された共通電極と、
前記透明電極ラインの一部領域を覆うように形成され、前記第１基板と前記第２基板とを合着し、前記透明電極ラインに印加される電圧を伝達する導電ボールを備え、前記電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、
を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記透明電極ラインは、前記シールラインの外側に延びた部分が前記第１基板に形成された配向膜によって覆われ、前記第２基板に形成された外郭ブラックマトリックス領域内に位置することを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記透明電極ラインは、透明な導電性物質で形成されることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記透明電極ラインは、ＩＴＯまたはＩＺＯで形成されることを特徴とする、請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記共通電圧は、極性電圧であることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記透明電極ラインに印加される電圧は、極性電圧であることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記透明電極ラインに印加される電圧は、交流電圧であることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を前記共通電極に伝達するショートポイントをさらに備えることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記共通電圧ラインは、
外部から前記共通電圧を印加される第１共通電圧ラインと、
前記第１共通電圧ラインが位置する前記第１基板の少なくとも一つのコーナーに形成され、前記第１共通電圧ラインと接触する第２共通電圧ラインと、
を備えることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第２共通電圧ラインは、透明な導電性物質で形成されることを特徴とする、請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第２共通電圧ラインは、ＩＴＯまたはＩＺＯで形成されることを特徴とする、請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記シールラインは、前記共通電圧ラインの少なくとも一部を覆うことを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、さらに詳細には、枠のスポットを防止できる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ：ＬＣＤ）は、軽量、薄型、低消費電力駆動の特徴によって、ノート型パソコンまたは携帯用ＴＶのような表示装置として広く使われている。
【０００３】
ＬＣＤは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）アレイが形成されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタアレイが形成されたカラーフィルタ基板とが、液晶層を介して合着されて形成される。ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とは、ＴＦＴ基板の外郭に沿ってシーラントで形成されたシールラインによって合着される。ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との対向する表面には、配向膜が形成され、ラビングが実施されて、前記液晶層の液晶を一定方向に配列させる。
【０００４】
このようなＬＣＤは、液晶に印加する電界の強度を調節して透光量を調節することによって、画面に所望の画像を表示する。
【０００５】
この時、配向膜にシーラントや液晶のイオン不純物が付いて液晶の駆動に影響を与えることによって、ＬＣＤに残像及び枠のスポットが発生する。
【０００６】
特に、枠のスポットは、現在電界が印加されていないＬＣＤの枠領域で発生するので、配向膜、シーラント、液晶の材料的な側面でのみ改善案が提示されている。しかし、材料によって、それぞれの素子は、個別性を有し、量産時に多量の材料を採択せねばならないという問題点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国出願公開第２００９−０００９６９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、シーラントと配向膜のイオン不純物との反応によって発生する枠のスポットを改善できるＬＣＤを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を達成するために、本発明の望ましい一実施形態によるＬＣＤは、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と、前記第１基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、前記第２基板に形成された共通電極と、前記共通電圧ラインを覆うように形成されて、前記第１基板と前記第２基板とを合着し、前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を伝達する導電ボールを備え、前記共通電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備えうる。
【００１０】
さらに望ましくは、前記共通電圧は、極性電圧であってもよい。
【００１１】
さらに望ましくは、前記共通電圧ラインは、外部から前記共通電圧を印加される第１共通電圧ラインと、前記第１共通電圧ライン及び前記導電ボールに接触する第２共通電圧ラインと、を備えてもよい。
【００１２】
本発明の望ましい一実施形態によるＬＣＤは、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と、前記第１基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、前記共通電圧ラインから内側に所定間隔離隔された位置から前記共通電圧ラインに沿って前記第１基板に形成された透明電極ラインと、前記第２基板に形成された共通電極と、前記透明電極ラインの一部領域を覆うように形成されて、前記第１基板と前記第２基板とを合着し、前記透明電極ラインに印加される電圧を伝達する導電ボールを備え、前記電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備えうる。
さらに望ましくは、前記透明電極ラインは、前記シールラインの外側に延びた部分が前記第１基板に形成された配向膜によって覆われ、前記第２基板に形成された外郭ブラックマトリックス領域内に位置しうる。
【００１３】
さらに望ましくは、前記透明電極ラインに印加される電圧は、極性電圧または交流電圧であってもよい。
【００１４】
さらに望ましくは、前記共通電圧ラインは、外部から前記共通電圧を印加される第１共通電圧ラインと、前記第１共通電圧ラインが位置する前記第１基板の少なくとも一つのコーナーに形成され、前記第１共通電圧ラインと接触する第２共通電圧ラインと、であってもよい。
【００１５】
さらに望ましくは、前記シールラインは、前記共通電圧ラインの少なくとも一部を覆ってもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、共通電圧ラインまたは別途の透明電極ラインに共通電圧または変化可能な異なった電圧を印加して、シーラントから起因したイオン不純物をＬＣＤの外郭領域にホールディングさせうる。したがって、イオン不純物が表示領域に分散することが防止されるため、枠のスポットを除去できる。
【００１７】
また、シーラントに導電ボールを含んでシールラインを形成することによってシールラインに電界を形成させうるため、前記イオン不純物が表示領域に分散することをさらに効果的に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の望ましい一実施形態によるＬＣＤを概略的に示す平面図である。
【図２】図１のＬＣＤのＡ−Ａ’線による断面図である。
【図３】本発明の他の実施形態によるＬＣＤを概略的に示す平面図である。
【図４】図３のＬＣＤのＣ−Ｃ’線による外郭領域の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の望ましい実施形態を、添付した図面を参照して説明する。図面上の同じ符号は、同じ要素を表す。下記の本発明の説明において、関連した公知機能または構成についての具体的な説明が、本発明の要旨を不明確にする恐れがあると判断される場合には、その詳細な説明を省略する。また、本発明の実施形態を説明する図面において、ある層や領域は、明細書の明確性のために、厚さを拡大して示した。
【００２０】
図１は、本発明の望ましい一実施形態による液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）を概略的に示した平面図である。
【００２１】
図１を参照すれば、本発明のＬＣＤ  １００は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板１１０とカラーフィルタ基板１５０とが合着された構造であって、前記ＴＦＴ基板１１０とカラーフィルタ基板１５０との間には、液晶が注入される。
【００２２】
前記ＴＦＴ基板１１０には、スキャン信号を伝達するゲートライン、データ信号を伝達するデータライン、ゲートラインとデータラインとに連結されたＴＦＴ、ＴＦＴに連結された画素電極からなる画素（ピクセル）がマトリックス状に形成される。したがって、ＴＦＴは、ゲートラインを通じて印加されるスキャン信号によって駆動されて、データ信号を画素電極に印加する。
【００２３】
前記ＴＦＴ基板１１０の外郭領域には、共通電圧ライン１４０が備えられる。前記共通電圧ライン１４０は、外部電圧源から共通電圧を受信し、前記カラーフィルタ基板１５０に形成された共通電極に前記共通電圧を印加する。図１では、前記共通電圧ライン１４０がＴＦＴ基板１１０の四つの辺に沿って形成されているが、二つの辺または三つの辺に沿って形成されることもある。前記共通電圧は、極性電圧でありうる。
【００２４】
前記カラーフィルタ基板１５０には、前記画素電極に対向する共通電極及び光によって所定の色に発現されるカラーフィルタが形成される。
【００２５】
前記ＴＦＴ基板１１０とカラーフィルタ基板１５０との外郭領域には、前記共通電圧ライン１４０に沿ってシーラント（封止剤）がプリンティングされたシールライン１８０が形成され、前記ＴＦＴ基板１１０とカラーフィルタ基板１５０とを合着する。前記シールライン１８０には、導電ボールが含まれ、共通電圧ライン１４０と共通電極とに接触して、前記共通電圧ライン１４０に印加される共通電圧を共通電極に伝達する。
【００２６】
図面には示されていないが、四つのコーナーのうち少なくとも一つのコーナーに、前記共通電圧ライン１４０と前記カラーフィルタ基板１５０の共通電極とを連結するショートポイントがさらに形成されうる。この時、前記ショートポイントには、シールラインが形成されないこともある。前記ショートポイントは、共通電圧ライン１４０から共通電圧を受信し、前記共通電極に前記共通電圧を伝達できる。
【００２７】
前記シールライン１８０によってＴＦＴ基板１１０とカラーフィルタ基板１５０とは、物理的、電気的に合着されうる。
【００２８】
図２は、図１のＬＣＤのＡ−Ａ’線による断面図である。
【００２９】
図２を参照すれば、本発明のＬＣＤ  １００は、ＴＦＴ基板１１０、カラーフィルタ基板１５０及び液晶層１３０を備える。
【００３０】
前記ＴＦＴ基板１１０は、表示領域に形成されたＴＦＴ  １２０と非表示領域の外郭領域に形成された共通電圧ライン１４０とを備える。
【００３１】
前記ＴＦＴ  １２０は、活性層１２１、前記活性層１２１に対応するゲート電極１２３、前記活性層１２１と重畳されたソース電極１２５、及びドレイン電極１２７を備える。
前記ＴＦＴ基板１１０上に半導体材料によって活性層１２１が所定のパターンに形成される。活性層１２１が形成される前に、ＴＦＴ基板１１０の上面には、不純物イオンが広がることを防止し、水分や外気の浸透を防止し、表面を平坦化するためのバリヤ層及び／またはバッファ層のような絶縁層（図示せず）がさらに備えられうる。
【００３２】
前記活性層１２１上には、ゲート絶縁膜１１１が形成され、ゲート絶縁膜１１１上には、ゲート電極１２３が所定のパターンに形成される。ゲート電極１２３上には、ゲート電極１２３を覆うように層間絶縁膜１１３が形成される。層間絶縁膜１１３が形成された後には、ドライエッチングのような工程によって、ゲート絶縁膜１１１と層間絶縁膜１１３とをエッチングして、活性層１２１の領域が露出されるようにコンタクトホールを形成する。コンタクトホールを通じて活性層１２１と電気的に連結されるように、ソース電極１２５とドレイン電極１２７とが形成される。ソース電極１２５及びドレイン電極１２７を覆うようにパッシベーション膜１１５が形成される。パッシベーション膜１１５をエッチングしてソース電極１２５またはドレイン電極１２７と電気的に連結されるように、所定のパターンに画素電極１１７を形成する。前記画素電極１１７は、透明性導電物質であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムスズ）またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウム−酸化亜鉛）で形成されうる。
【００３３】
本実施形態では、ＴＦＴ  １２０の一例として、トップゲート方式のＴＦＴを示している。しかし、これと異なり、ボトムゲート等、または他の構造のＴＦＴが備えられることもある。
【００３４】
前記共通電圧ライン１４０は、前記ＴＦＴ基板１１０の外郭領域に四つの辺に沿って形成され、前記層間絶縁膜１１３上に形成された第１共通電圧ライン１４１及び前記第１共通電圧ライン１４１と接触して前記パッシベーション膜１１５の上部に形成される第２共通電圧ライン１４５の二層で形成されうる。
【００３５】
前記第１共通電圧ライン１４１は、前記層間絶縁膜１１３上に前記ソース電極１２５またはドレイン電極１２７の形成時、同一工程によって、または別個の工程によって形成されうる。前記第１共通電圧ライン１４１は、多様な導電性物質で形成されうる。例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、ＭｏＷまたはＡｕなどの物質で形成されうる。
【００３６】
前記第１共通電圧ライン１４１を覆うようにパッシベーション膜１１５が形成される。前記パッシベーション膜１１５をエッチングして前記第１共通電圧ライン１４１と電気的に連結されるように、所定のパターンに第２共通電圧ライン１４５を形成する。前記第２共通電圧ライン１４５は、透明性導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯで形成されうる。前記第２共通電圧ライン１４５は、前記画素電極１１７と別個の工程によって、または同一工程によって形成されうる。
【００３７】
前記共通電圧ライン１４０は、入力される共通電圧を共通電極１５５に印加でき、前記共通電圧は、極性を帯びる直流電圧（ＤＣ：Ｄｉｒｅｃｔ  Ｃｕｒｒｅｎｔ）でありうる。
【００３８】
前記画素電極１１７を覆うように、前記ＴＦＴ基板１１０に液晶層１３０を配向する第１配向膜１１９が形成されうる。図２では、前記第２共通電圧ライン１４５の上部には、第１配向膜１１９を形成していないが、前記画素電極１１７と共に前記第２共通電圧ライン１４５を覆うように、前記ＴＦＴ基板１１０の前面に前記第１配向膜１１９が形成されうる。
【００３９】
前記カラーフィルタ基板１５０は、前記ＴＦＴ基板１１０と対向する面にカラーフィルタ１５３とブラックマトリックス（ＢＭ：Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ）１５１を備える。
【００４０】
前記カラーフィルタ１５３は、光によって赤色、緑色、青色に発現されるＲＧＢカラーフィルタを備え、カラーフォトレジスト層を写真エッチング工程を通じてパターニングして形成するか、またはカラーインクを噴射して形成できる。
【００４１】
前記ブラックマトリックス１５１は、所望しない液晶配列による透過光を遮断してＬＣＤのコントラストを向上させ、ＴＦＴ  １２０への直接的な光照射を遮断してＴＦＴ  １２０の光漏れ電流を防止する。前記ブラックマトリックス１５１は、有機インクを噴射して形成するか、または金属層を写真エッチング工程を通じてパターニングして形成できる。また、前記ブラックマトリックス１５１は、前記共通電圧ライン１４０がＬＣＤの画面上に投影されることを防止するために、シールライン１８０が形成される周辺部に形成されうる。前記ブラックマトリックス１５１は、クロム（Ｃｒ）、クロム酸化膜（ＣｒＯｘ）または有機ＢＭで形成されうる。
【００４２】
前記ブラックマトリックス１５１及び前記カラーフィルタ１５３を備える前記カラーフィルタ基板１５０上に、共通電極１５５を形成する。前記共通電極１５５は、透明電極層をパターニングする工程なしに、前記カラーフィルタ基板１５０の全面をカバーするように形成されうる。前記共通電極１５５を形成する物質の例としては、ＩＴＯ、ＩＺＯを挙げられる。前記共通電極１５５が形成される前に、前記ブラックマトリックス１５１及び前記カラーフィルタ１５３を備える前記カラーフィルタ基板１５０上に、アクリル樹脂でオーバーコーティング層（図示せず）を形成できる。
【００４３】
前記共通電極１５５が形成された前記カラーフィルタ基板１５０上に、第２配向膜１５７を形成する。図２では、シールライン１８０の周辺部には、第２配向膜１５７を形成していないが、前記第２配向膜１５７は、前記共通電極１５５が形成された前記カラーフィルタ基板１５０の全面をカバーできる。
【００４４】
前記ＴＦＴ基板１１０と前記カラーフィルタ基板１５０とを合着するために、前記共通電圧ライン１４０の上部にシーラントをプリンティングしてシールライン１８０を形成する。
【００４５】
前記シールライン１８０は、共通電圧ライン１４０に沿って連続的に形成され、ＴＦＴ基板１１０とカラーフィルタ基板１５０とを合着させることによって、液晶材料を封じ込めると同時に、外部の空気や水分が液晶層１３０に浸透することを防止する。前記シールライン１８０は、約５００ないし２０００μｍの幅に形成され、前記第１配向膜１１９及び前記第２配向膜１５７と約０ないし２０００μｍの幅にオーバーラップされるように形成されうる。
【００４６】
前記シーラントは、導電性シーラントであり、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）などの導電性物質で形成された導電ボール１８５を備え、前記共通電圧ライン１４０をカラーフィルタ基板１５０に形成された共通電極１５５と電気的に連結させる。したがって、前記第１共通電圧ライン１４１に印加された電圧は、第２共通電圧ライン１４５と導電ボール１８５とを通じて共通電極１５５に伝えられる。
【００４７】
ＬＣＤの枠のスポットは、外郭領域に存在するシールラインを形成するシーラントのイオン不純物が表示領域に広がって配向膜と反応することによって発生する。
【００４８】
前記実施形態は、導電ボール１８５を備えるシーラントでシールライン１８０を形成し、共通電圧ライン１４０に極性電圧を印加して、前記極性電圧と反対極性を帯びるイオン不純物１９０をシールライン１８０に吸着させる。
【００４９】
共通電圧ライン１４０に極性を帯びる共通電圧を印加することによって、シールライン１８０に電界が形成され、印加された電圧の極性と反対極性のイオン不純物１９０がシールライン１８０に吸着されうる。例えば、前記共通電圧ライン１４０に正極性（＋）の電圧、例えば、＋１０Ｖの電圧を印加すれば、正極性（＋）の電圧が導電ボール１８５に印加され、負極性（−）のイオン不純物１９０がシールライン１８０に吸着されうる。
【００５０】
また、ＬＣＤのＶＩ（Ｖｉｓｕａｌ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ）検査時、共通電圧ライン１４０に高い極性電圧を印加して、短時間にシールライン１８０に電界を形成させ、シールライン１８０にイオン不純物１９０を吸着させうる。
【００５１】
前記実施形態は、既存のレイアウト変更なしに導電ボール１８５を備えるシールライン１８０を電界形成経路として利用して、イオン不純物１９０をシールライン１８０に吸着させうる。したがって、イオン不純物１９０を外郭領域にホールディングさせる（あるいは拘束する）ことによって、イオン不純物１９０が表示領域に広がって第１配向膜１１９及び／または第２配向膜１５７と反応することを防止できるため、枠のスポットを防止できる。
【００５２】
図３は、本発明の他の実施形態によるＬＣＤを概略的に示した平面図である。以下、図１のＬＣＤと同じ構成についての詳細な説明は、省略する。
【００５３】
図３を参照すれば、本発明のＬＣＤ  ３００は、ＴＦＴ基板３１０とカラーフィルタ基板３５０とが合着された構造であって、前記ＴＦＴ基板３１０とカラーフィルタ基板３５０との間には、液晶が注入される。
【００５４】
前記ＴＦＴ基板３１０は、表示領域にＴＦＴ及び画素電極を備え、外郭領域には、共通電圧ライン３４０、ショートポイント３７０、及び前記共通電圧ライン３４０と所定間隔離隔された透明電極ライン３６０を備える。前記カラーフィルタ基板３５０は、カラーフィルタ、ブラックマトリックス及び共通電極を備える。
【００５５】
前記共通電圧ライン３４０は、外部電圧源から共通電圧を受信し、前記カラーフィルタ基板３５０に形成された共通電極に前記共通電圧を印加する。前記透明電極ライン３６０は、外部電圧源から印加される別途の電圧を受信して、前記共通電極に伝達できる。
【００５６】
前記ショートポイント３７０は、ＴＦＴ基板１１０の四つのコーナーのうち少なくとも一つのコーナーに形成され、前記共通電圧ライン３４０と前記カラーフィルタ基板３５０の共通電極とを連結する。前記ショートポイント３７０は、前記共通電圧ライン３４０上に導電ペーストを塗布した後、ホットプレスすることによって形成されうる。前記ショートポイント３７０は、共通電圧ライン３４０から共通電圧を受信し、前記共通電極に前記共通電圧を伝達する。
【００５７】
前記ＴＦＴ基板３１０とカラーフィルタ基板３５０との外郭領域には、シーラントがプリンティングされたシールライン３８０が形成され、前記ＴＦＴ基板３１０とカラーフィルタ基板３５０とを合着する。前記シールライン３８０は、透明電極ライン３６０の一部を覆い、共通電圧ライン３４０の少なくとも一部までさらに覆うように形成されうる。他の実施形態で、前記シールライン３８０は、前記透明電極ライン３６０のみを覆うように形成されうる。前記シールライン３８０には、導電ボールが含まれ、透明電極ライン３６０に印加される極性電圧または交流電圧を共通電極に伝達できる。
【００５８】
図４は、図３のＬＣＤのＣ−Ｃ’線による外郭領域の断面図である。
【００５９】
図４を参照すれば、本発明のＬＣＤ  ３００は、ＴＦＴ基板３１０、カラーフィルタ基板３５０及び液晶層３３０を備える。
【００６０】
前記ＴＦＴ基板３１０は、表示領域に形成されたＴＦＴ、外郭領域に形成された共通電圧ライン３４０、ショートポイント３７０及び透明電極ライン３６０を備える。前記カラーフィルタ基板３５０は、前記ＴＦＴ基板３１０に対向する面に、カラーフィルタとブラックマトリックス（ＢＭ）３５１とを備える。
【００６１】
前記ＴＦＴの構造は、図１に示されたＴＦＴと同一であるので、これについての詳細な説明は、省略する。
【００６２】
前記共通電圧ライン３４０は、前記ＴＦＴ基板３１０の外郭領域に四つの辺に沿って形成される。前記共通電圧ライン３４０は、層間絶縁膜３１３上に形成された第１共通電圧ライン３４１、及び前記第１共通電圧ライン３４１が位置する前記ＴＦＴ基板３１０の少なくとも一つのコーナーに、前記第１共通電圧ライン３４１と接触し、パッシベーション膜３１５の上部に形成される第２共通電圧ライン３４５の二層に形成されうる。
【００６３】
前記第１共通電圧ライン３４１は、層間絶縁膜３１３上にＴＦＴのソース電極またはドレイン電極の形成時、同一工程によって、または別個の工程によって形成されうる。前記第１共通電圧ライン３４１は、多様な導電性物質で形成できる。例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、ＭｏＷまたはＡｕなどの物質で形成できる。
【００６４】
前記第１共通電圧ライン３４１を覆うパッシベーション膜３１５をエッチングして、第１共通電圧ライン３４１を露出させた後、所定のパターンに第２共通電圧ライン３４５を形成する。前記第２共通電圧ライン３４５は、ショートポイント３７０が形成されたコーナーに形成される。前記第２共通電圧ライン３４５は、透明性導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯで形成され、前記第１共通電圧ライン３４１と接触して、前記第１共通電圧ライン３４１と電気的に連結される。前記第２共通電圧ライン３４５は、画素電極と別個の工程によって、または同一工程によって形成されうる。
【００６５】
前記共通電圧ライン３４０は、共通電圧を受信して、ショートポイント３７０を通じて共通電極３５５に印加できる。前記共通電圧は、極性を帯びる直流電圧（ＤＣ）でありうる。
【００６６】
前記ショートポイント３７０は、前記第２共通電圧ライン３４５と前記共通電極３５５とを電気的に連結し、前記第１共通電圧ライン３４１に印加される共通電圧を前記共通電極３５５に印加する。
【００６７】
前記透明電極ライン３６０は、前記共通電圧ライン３４０と所定間隔離隔されて、前記パッシベーション膜３１５の上部に形成される。前記透明電極ライン３６０は、シールライン３８０の外側に表示領域方向に延びた部分が、第１配向膜３１９によって覆われて第１配向膜３１９とオーバーラップされ、前記第２基板３５０に形成された外郭ブラックマトリックス３５１の領域内に対応して位置する。前記透明電極ライン３６０は、透明性導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯで形成されうる。前記透明電極ライン３６０は、約１００ないし２０００μｍの厚さに形成されうる。
【００６８】
前記シールライン３８０は、透明電極ライン３６０に沿って連続して形成され、透明電極ライン３６０の一部を覆う。前記シールライン３８０は、共通電圧ライン３４０の少なくとも一部までさらに覆うように形成されうる。前記シールライン３８０は、約５００ないし２０００μｍの幅に形成され、第１配向膜３１９及び第２配向膜３５７と約０ないし２０００μｍの幅にオーバーラップされるように形成されうる。
【００６９】
前記シーラントは、導電性シーラントであり、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）などの導電性物質で形成された導電ボール３８５を備える。前記導電ボール３８５は、透明電極ライン３６０と共通電極３５５とに接触して前記透明電極ライン３６０に印加される電圧を共通電極３５５に伝達する。
【００７０】
前記共通電圧ライン３４０に印加される共通電圧は、前記ショートポイント３７０を通じて共通電極３５５に伝えられ、前記透明電極ライン３６０に印加される電圧は、前記導電ボール３８５を通じて共通電極３５５に伝えられうる。
【００７１】
前記透明電極ライン３６０は、外郭ブラックマトリックス３５１の領域内に位置し、極性電圧または交流電圧が印加されうる。前記透明電極ライン３６０に極性電圧を印加すれば、反対極性のイオン不純物３９０がシールライン３８０と外郭ブラックマトリックス３５１の領域内の第１配向膜３１９とに吸着されて、イオン不純物３９０が表示領域に広がることを防止する。前記透明電極ライン３６０に交流電圧を印加すれば、第１配向膜３１９にイオン不純物３９０が吸着されることを防止できる。
【００７２】
したがって、イオン不純物３９０をシールライン３８０及び／または透明電極ライン３６０の付近にホールディングさせることによって、イオン不純物３９０が表示領域に広がって、第１配向膜３１９及び／または第２配向膜３５７と反応することを防止できるため、枠のスポットを防止できる。
【００７３】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明は、ＬＣＤ関連の技術分野に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【００７５】
１００，３００        ＬＣＤ
１１０，３１０        ＴＦＴ基板
１１９，３１９        第１配向膜
１３０，３３０        液晶層
１４０，３４０        共通電圧ライン
１４１，３４１        第１共通電圧ライン
１４５，３４５        第２共通電圧ライン
１５０，３５０        カラーフィルタ基板
１５１，３５１        ブラックマトリックス
１５５，３５５        共通電極
１５７，３５７        第２配向膜
１８０，３８０        シールライン
１８５，３８５        導電ボール
１９０，３９０        イオン不純物
３６０                透明電極ライン
３７０                ショートポイント
【図１】
2011164596.tif 000003
【図２】
2011164596.tif 000004
【図３】
2011164596.tif 000005
【図４】
2011164596.tif 000006