(57)【要約】【課題】基板の表面に光導波路を形成する場合において、その基板の種類に関係なく、光導波路のコアにおける光の伝播損失を小さくすることができる光導波路装置の製造方法を提供する。【解決手段】金属製基板１１等を用いた場合、その金属製基板１１等に起因して、コア形成用の照射線Ｌが乱反射し、コア３の側面３ａが粗面に形成される。しかし、その後、オーバークラッド層形成用の（第２の）感光性樹脂層４Ａを、非溶剤系の感光性樹脂組成物で形成し、露光に先立って加熱することにより、コア３と感光性樹脂層４Ａとの界面部分を、混合層５に形成する。その混合層５の形成により、粗面に形成されていたコア３の側面３ａ部分に光が僅かしか伝播しなくなるため、伝播した光が、コア３の側面３ａの粗面の影響を僅かしか受けなくなり、光の伝播損失は小さくなる。【選択図】図２
2011039489.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に，アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面に，コア形成用の第１の感光性樹脂層を形成する工程と、この第１の感光性樹脂層に対してフォトマスクの開口を通して照射線を照射し所定パターンに露光し，その露光部分をコアに形成する工程と、このコアの少なくとも側面を被覆するようオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂層を形成する工程と、この第２の感光性樹脂層に対して照射線を照射して露光し，その露光部分をオーバークラッド層に形成する工程とを備えた光導波路装置の製造方法であって、上記オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物として、非溶剤系の組成物を選択し、上記第２の感光性樹脂層に対する照射線の照射に先立って、その第２の感光性樹脂層を加熱することにより、上記コアと第２の感光性樹脂層との界面部分を、コア形成用の樹脂材料とオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物とが混合した混合層に形成することを特徴とする光導波路装置の製造方法。
【請求項２】
上記コア形成用の第１の感光性樹脂層に対して照射する照射線と上記基板との組み合わせが、下記（Ａ）および（Ｂ）のいずれかである請求項１記載の光導波路装置の製造方法。
（Ａ）上記照射線が、上記コア形成用の第１の感光性樹脂層を透過して上記基板の表面に達しそこで反射する照射線であり、上記基板が、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０９５μｍ以上の金属製基板である。
（Ｂ）上記照射線が、上記コア形成用の第１の感光性樹脂層を透過して上記基板の表面を経て底面に達しそこで反射する照射線であり、上記基板が、滑材を含有する合成樹脂製基板である。
【請求項３】
上記照射線が、上記フォトマスクの開口周縁部に付着した不要な付着物により、その進路が乱される請求項１記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項４】
上記オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂層に対する加熱温度が、コア形成用の樹脂材料のガラス転移温度よりも２０℃低い温度以上であり、その加熱時間が、３０分以下である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項５】
上記（Ａ）における金属製基板が、ステンレス製基板である請求項２または４記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項６】
上記（Ｂ）における合成樹脂製基板が、ポリエチレンテレフタレートを主成分とする合成樹脂製基板である請求項２または４記載の光導波路装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学で広く用いられる光導波路装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路装置の光導波路は、通常、アンダークラッド層の表面に、光の通路であるコアを所定パターンに形成し、そのコアを被覆した状態で、オーバークラッド層を形成して構成されている。このような光導波路は、通常、金属製基板等の基板の表面に形成され、その基板とともに光導波路装置として製造される。
【０００３】
このような光導波路装置の従来の製造方法は、つぎのとおりである。まず、図６（ａ）に示すように、基板１０の表面に、アンダークラッド層２０を形成する。ついで、図６（ｂ）に示すように、そのアンダークラッド層２０の表面に、コア形成用の感光性樹脂を塗布し、感光性樹脂層３０Ａを形成する。つぎに、コア３０〔図６（ｃ）参照〕のパターンに対応する開口パターンが形成されているフォトマスクＭを介して、上記感光性樹脂層３０Ａに対して照射線Ｌを照射し、その照射線Ｌを上記開口パターンの開口を通じて上記感光性樹脂層３０Ａに到達させ、その感光性樹脂層３０Ａの部分を露光する。上記照射線Ｌは、上記感光性樹脂層３０Ａに対して直角に照射され、その照射による露光部分では光反応が進み、硬化する。そして、現像液を用いて現像を行うことにより、図６（ｃ）に示すように、未露光部分を溶解させて除去し、残存した露光部分が所定パターンのコア３０となる。このコア３０は、通常、断面形状が四角形に形成される。その後、図６（ｄ）に示すように、そのコア３０を被覆するよう、上記アンダークラッド層２０の表面に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を塗布し、感光性樹脂層４０Ａを形成する。つぎに、その感光性樹脂層４０Ａに対して照射線を照射して露光し、その感光性樹脂層４０Ａをオーバークラッド層４０に形成する。このようにして、上記基板１０の表面に光導波路Ｗ0 を形成する（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３４１４５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような従来の方法では、場合によって、図７（ａ），（ｂ）に示すように、コア３０の側面３０ａが粗面に形成されることがあった。このようなコア３０では、粗面に形成された側面３０ａから光が漏れる等するため、コア３０内を伝播する光の伝播損失が大きくなり、上記光導波路が光配線として機能しなくなるおそれがある。また、コア３０の側面３０ａの表面粗さが僅かであっても、コア３０内を伝播する光の波長よりも大きいと、散乱損失の原因となり、この場合も、上記と同様、伝播損失が大きくなり、上記光導波路が光配線として機能しなくなるおそれがある。なお、図７（ｂ）は、図７（ａ）の丸部Ｃで囲ったコア３０を電子顕微鏡で７００倍に拡大して斜視した写真に基づいて描いた図である。このように、電子顕微鏡で７００倍に拡大することにより、コア３０の側面３０ａが粗面に形成されていることが確認できる。
【０００６】
そこで、本発明者らは、コア３０の側面３０ａが粗面に形成される原因を究明すべく、研究を重ねた。その過程で、上記コア３０の側面３０ａの粗面化は、上記基板１０〔図６（ａ）〜（ｄ）参照〕として、（１）ステンレス（ＳＵＳ）箔等からなる、通常使用されている金属製基板１１（図８参照）を用いた場合、または（２）ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を主成分とする材料からなる基板（ＰＥＴ製基板）１２（図９参照）を用いた場合に起こることを突き止めた。
【０００７】
そして、上記（１）、ステンレス箔等の金属製基板１１を用いた場合について、本発明者らがさらに研究を重ねた結果、上記ステンレス箔等からなる金属製基板１１は、表面が算術平均粗さ（Ｒａ）０．０９５μｍ以上の粗面になっていることがわかった。このため、上記コア形成工程では、図８に示すように、フォトマスクＭの開口を通った露光用の照射線Ｌが、コア形成用の感光性樹脂層３０Ａおよびアンダークラッド層２０を透過した後、上記金属製基板１１の粗面状の表面で、その粗面のため、図示の矢印のように乱反射する。そして、その乱反射した照射線Ｌが、上記アンダークラッド層２０を下から斜め上方向に透過して、コア形成用の感光性樹脂層３０Ａ内のコア形成領域Ｓにおいて、コア３０のパターニングの境界面（側面３０ａとなる面）を、図示の矢印のように斜め下から露光する。この斜め下からの露光は上記乱反射によるものであり、不均一である。このため、その斜め下からの露光が原因で、コア３０の側面３０ａとなる面では不要な光反応が不均一に進み、コア３０の幅が広がるとともに、コア３０の側面３０ａが粗面に形成されることが判明した。すなわち、コア３０の側面３０ａとなる面では、上記照射線Ｌの乱反射により、露光度の小さい部分と露光度の大きい部分との混在が生じる。そして、後の現像工程で、上記コア３０の側面３０ａとなる面の、露光度の小さい部分が溶解除去され、露光度の大きい部分が残存するようになる。このため、コア３０の側面３０ａが粗面に形成されるのである。
【０００８】
また、上記（２）、ＰＥＴ製基板１２を用いた場合についても、本発明者らは、さらに研究を重ねた。その結果、上記ＰＥＴ製基板１２には、図９に示すように、滑材１２ａ等の添加成分が含有されており、その滑材１２ａ等の添加成分に、上記コア形成工程において露光に用いられる照射線Ｌが当たって反射し、その照射線Ｌの進路が乱れることがわかった。また、その照射線Ｌの殆どが上記ＰＥＴ製基板１２の底面（裏面）まで達することもわかった。すなわち、上記コア形成工程では、図９に示すように、フォトマスクＭの開口を通った露光用の照射線Ｌが、コア形成用の感光性樹脂層３０Ａおよびアンダークラッド層２０を透過した後、上記ＰＥＴ製基板１２内に入射し、そのＰＥＴ製基板１２内において上記滑材１２ａ等に当たって進路を乱し、上記ＰＥＴ製基板１２の底面に斜めに達する。ここで、上記ＰＥＴ製基板１２の裏面は、通常、ＰＥＴ製基板１２を載置する載置台等（図示せず）の、照射線Ｌを透過しない載置面に接触していることから、上記ＰＥＴ製基板１２の底面に達した照射線Ｌは、上記ＰＥＴ製基板１２の裏面から出射することなくＰＥＴ製基板１２の底面で、図示の矢印のように斜め上方向に反射する。その後、その反射した照射線Ｌは、上記ＰＥＴ製基板１２内において上記滑材１２ａ等に当たってさらに進路を乱し、そのＰＥＴ製基板１２の表面から斜め上方向に出射する。そして、その斜め上方向に出射した照射線Ｌが、上記アンダークラッド層２０を下から斜め上方向に透過して、コア形成用の感光性樹脂層３０Ａ内のコア形成領域Ｓにおいて、コア３０のパターニングの境界面（側面３０ａとなる面）を斜め下から露光する。この斜め下からの露光は、先に述べたように、上記ＰＥＴ製基板１２に含有されている滑材１２ａ等に起因する乱反射によるものであり、不均一である。このため、上記（１）ステンレス箔等の金属製基板１１を用いた場合と同様に、上記斜め下からの露光が原因で、コア３０の側面３０ａとなる面では不要な光反応が不均一に進み、コア３０の側面３０ａが粗面に形成されるのである。
【０００９】
そこで、本出願人は、基板の表面に光導波路を形成する際に、その光導波路のコア側面の粗面化を抑制することができる光導波路装置の製造方法を提案し既に出願している〔（ａ）特願２００８−１３０７２７，（ｂ）特願２００８−２３４７３５，（ｃ）特願２００８−２３９３４６，（ｄ）特願２００８−２６９６８８〕。
【００１０】
上記（ａ）特願２００８−１３０７２７は、粗面状になっている金属製基板の表面に、照射線吸収剤を含有させたアンダークラッド層を形成するか、または、アンダークラッド層の形成に先立って、上記粗面状になっている金属製基板の表面に、照射線吸収層を形成する方法である。この方法では、コア形成用の照射線が、上記アンダークラッド層内の照射線吸収剤または照射線吸収層により、金属製基板の表面で乱反射する前または乱反射した後に吸収ないし弱められ、コアの側面となる面を斜め下から露光して粗面とする照射線を大幅に減少させることができる。その結果、コア側面の粗面化を抑制することができる。
【００１１】
上記（ｂ）特願２００８−２３４７３５は、表面が粗面状になっている基板として、コア形成用の照射線を吸収する材料からなっているものを用いる方法である。この方法では、コア形成用の照射線が、上記基板の表面に達した際に、その基板に吸収され、コアの側面となる面を斜め下から露光して粗面とする照射線を大幅に減少させることができる。その結果、コア側面の粗面化を抑制することができる。
【００１２】
上記（ｃ）特願２００８−２３９３４６は、ＰＥＴ製基板として、裏面に、照射線を吸収する色の着色層が形成された着色層付き基板を用いるか、または、全体が、上記照射線を吸収する色で着色された着色基板を用いる方法である。この方法では、コア形成用の照射線が、上記着色層または着色基板に吸収され、コアの側面となる面を斜め下から露光して粗面とする照射線を大幅に減少させることができる。その結果、コア側面の粗面化を抑制することができる。
【００１３】
上記（ｄ）特願２００８−２６９６８８は、基板として、表面または表裏両面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１〜２ｎｍの範囲内になっているもの（シリコンウエハ，ガラス製基板等）を用いる方法である。この方法では、コア形成用の照射線の反射面が平滑であるため、その反射面での乱反射を抑制することができ、コアの側面となる面を斜め下から露光して粗面とする照射線を大幅に減少させることができる。その結果、コア側面の粗面化を抑制することができる。
【００１４】
このように、本出願人が既に出願している上記（ａ）〜（ｄ）の方法では、コア側面の粗面化を抑制し、光の伝播損失を低下させることができる。しかしながら、そのようにコア側面の粗面化を抑制したとしても、場合によって、コアの側面が粗面に形成されることがあった。そこで、本発明者らが、その原因を究明すべく、研究を重ねた結果、コア形成の際に用いるフォトマスクの汚れに原因があることを突き止めた。すなわち、フォトマスクの使用により、フォトマスクの開口周縁に、コアの形成材料等が付着する場合があり、その場合、その開口周縁の付着物により、その開口を通る照射線の進路が乱され、コアの側面に達する照射線が不均一になり、コアの側面が粗面に形成されるのである。
【００１５】
そこで、基板の表面に光導波路を形成する場合において、その基板の種類に関係なく、コア側面の粗面化を抑制し、光の伝播損失を低下させることが求められている。
【００１６】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、基板の表面に光導波路を形成する場合において、その基板の種類に関係なく、光導波路のコアにおける光の伝播損失を小さくすることができる光導波路装置の製造方法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記の目的を達成するため、本発明の光導波路装置の製造方法は、基板の表面に，アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面に，コア形成用の第１の感光性樹脂層を形成する工程と、この第１の感光性樹脂層に対してフォトマスクの開口を通して照射線を照射し所定パターンに露光し，その露光部分をコアに形成する工程と、このコアの少なくとも側面を被覆するようオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂層を形成する工程と、この第２の感光性樹脂層に対して照射線を照射して露光し，その露光部分をオーバークラッド層に形成する工程とを備えた光導波路装置の製造方法であって、上記オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物として、非溶剤系の組成物を選択し、上記第２の感光性樹脂層に対する照射線の照射に先立って、その第２の感光性樹脂層を加熱することにより、上記コアと第２の感光性樹脂層との界面部分を、コア形成用の樹脂材料とオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物とが混合した混合層に形成するという構成をとる。
【００１８】
本発明者らは、コアでの光の伝播損失を小さくするようにすべく、光導波路装置の製造方法について研究を重ねた。その過程で、本出願人が今まで出願してきた、コア側面の粗面化を抑制する方法ではなく、コア側面が粗面化されても、その後のオーバークラッド層の形成工程において、その粗面による影響を無くすようにすることに着想した。そこで、その着想に基づき、さらに研究を重ねた。その結果、コアの形成に際し、基板の種類やフォトマスクの汚れ等に起因するコア形成用照射線の進路の乱れにより、コアの側面が粗面に形成された後、そのコアを被覆するオーバークラッド層の形成材料として、非溶剤系の（第２の）感光性樹脂組成物を選択し、その（第２の）感光性樹脂組成物でコアの少なくとも側面を被覆するよう形成した（第２の）感光性樹脂層に対し、照射線の照射に先立って加熱を施した。すると、上記コアと第２の感光性樹脂層との界面部分が、コア形成用の樹脂材料とオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物とが混合した混合層に形成されることを突き止めた。そして、光は、上記混合層よりも内側の部分、すなわち、コアの断面の中央部分に強く伝播するようになり、上記粗面に形成されていたコアの側面部分に光が僅かしか伝播しなくなることを突き止めた。それにより、伝播した光が、コア側面の粗面による影響を僅かしか受けなくなり、光の伝播損失が小さくなることを見出し、本発明に到達した。
【００１９】
すなわち、本発明では、オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物として、溶剤系の組成物を用いず、非溶剤系の組成物を選択している。したがって、溶剤系の組成物を用いたときのような、溶剤を揮発させるための加熱は不要であるが、本発明では、その技術常識を打破し、上記第２の感光性樹脂組成物からなる第２の感光性樹脂層に対して加熱を施すのである。すると、その加熱により、コア表面部分の樹脂材料に、オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物が染み込み、その両者が混合する。この混合部分が、前記混合層となる。その後、上記第２の感光性樹脂層に対して照射線を照射して露光することにより、上記混合層が硬化するとともに、その混合層に形成された部分を除く上記第２の感光性樹脂層の部分が硬化してオーバークラッド層に形成される。
【００２０】
このとき、上記混合層は、コア形成用の樹脂材料とオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物とが混合したものであるため、その混合層の屈折率は、コアの屈折率とオーバークラッド層の屈折率との間の値となり、コアの屈折率よりも小さくなる。このため、コア内の光は、コアと混合層との界面で反射するようになる。その結果、粗面に形成されていたコアの側面部分に光が僅かしか伝播しなくなるため、伝播した光が、コア側面の粗面による影響を僅かしか受けなくなり、光の伝播損失は小さくなる。しかも、オーバークラッド層の形成工程において、オーバークラッド層形成用の照射線が上記基板で乱反射しても、上記混合層の外側の側面が粗面に形成されるようになるため、その粗面がコア内の光の伝播に悪影響を及ぼすことはない。
【００２１】
なお、本発明において、「非溶剤系の第２の感光性樹脂組成物」とは、主成分である樹脂を溶解するための溶剤が用いられていない組成物を意味する。その組成物を調製するにあたって添加される添加成分には、溶剤が含有されていてもよい。ここで、上記主成分とは、全体の過半を占める成分のことをいい、全体が主成分のみからなる場合も含める趣旨である。
【００２２】
ところで、従来の光導波路装置の製造方法でも、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂組成物として、溶剤が含有されていないものが用いられていた。溶剤が含有されていないため、その感光性樹脂組成物で形成した感光性樹脂層に対しては、溶剤を揮発させるための加熱は行われなかった。そのため、コア側面の粗面は、緩和も消失もすることなく、オーバークラッド層形成後も、残ったままとなっていた。すなわち、光導波路は、ステップインデックス型となっていた。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の光導波路装置の製造方法では、コア形成用の照射線による露光に際して、基板の種類やフォトマスクの汚れ等に起因する照射線の進路の乱れにより、コアの側面が、一旦、粗面に形成される場合がある。しかし、その後のオーバークラッド層の形成において、そのオーバークラッド層の形成材料として、非溶剤系の第２の感光性樹脂組成物を選択し、コアの少なくとも側面を被覆するよう第２の感光性樹脂層を形成し、その第２の感光性樹脂層を、照射線の照射に先立って加熱している。そのため、上記コアと第２の感光性樹脂層との界面部分（粗面となったコアの側面を含む）が、上記加熱により、コア形成用の樹脂材料とオーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂組成物とが混合した混合層に形成される。それとともに、新たに形成された混合層は、その屈折率がコアの屈折率とオーバークラッド層の屈折率との間の値となり、コア自体の屈折率よりも小さくなる。そのため、コア内の光は、コアと混合層との界面で反射し、光の漏れは減少ないし無くなる。このように、本発明によれば、コアにおける光の伝播損失を、上記混合層の形成により、小さくすることができる。また、照射線の進路の乱さない基板やフォトマスクを用いることにより、コアの側面が粗面に形成されない場合でも、上記のように、混合層を形成すると、コアにおける光の伝播損失を、より小さくすることができる。さらに、本発明の光導波路装置の製造方法では、これまでのようにコア側面の粗面化を抑制するのではなく、コア側面が粗面化されても、オーバークラッド層形成工程において、コアとオーバークラッド層との界面部分に上記混合層を形成することにより、コアにおける光の伝播損失を小さくしているため、照射線吸収層等の新たな層を形成する必要がなく、光導波路装置全体の厚みが厚くならないという利点を有する。
【００２４】
特に、上記オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂層に対する加熱温度が、コア形成用の樹脂材料のガラス転移温度よりも２０℃低い温度以上であり、その加熱時間が、３０分以下である場合には、上記混合層がより適正に形成され、コアにおける光の伝播損失をより一層小さくすることができる。ここで、上記加熱温度は、上記のように、コア形成用の樹脂材料のガラス転移温度よりも２０℃低い温度以上であるが、その上限は、当然、樹脂分解温度以下であり、通常２００℃以下である。また、上記加熱時間は、上記のように、３０分以下であるが、その下限は、０を超える時間である。
【００２５】
また、上記基板が、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０９５μｍ以上のステンレス製基板である場合には、ステンレス製基板が熱に対する伸縮耐性に優れるため、光導波路装置の製造過程において、様々な寸法を設計値に略維持することができる。なお、上記ステンレス製基板を用いる場合、上記コア形成用の第１の感光性樹脂層に対して照射する照射線は、そのコア形成用の第１の感光性樹脂層を透過して上記ステンレス製基板の表面に達しそこで反射する。
【００２６】
また、上記基板が、滑材を含有するポリエチレンテレフタレートを主成分とする合成樹脂製基板（ＰＥＴ製基板）である場合には、ＰＥＴ製基板が安価であるため、コストダウンを図ることができる。なお、上記ＰＥＴ製基板を用いる場合、上記コア形成用の第１の感光性樹脂層に対して照射する照射線は、そのコア形成用の第１の感光性樹脂層を透過して上記ＰＥＴ製基板の表面を経て底面に達しそこで反射する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の光導波路装置の製造方法の第１の実施の形態によって得られた光導波路装置を模式的に示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の光導波路装置の製造方法の第１の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図３】本発明の光導波路装置の製造方法の第２の実施の形態によって得られた光導波路装置を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の光導波路装置の製造方法の第３の実施の形態によって得られた光導波路装置を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の光導波路装置の製造方法の第５の実施の形態におけるオーバークラッド層形成工程を模式的に示す説明図である。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は、従来の光導波路装置の製造方法を模式的に示す説明図である。
【図７】（ａ）は、上記従来の光導波路装置の製造方法におけるコア形成を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、（ａ）の丸部Ｃで囲ったコアの電子顕微鏡写真に基づいて描いた図である。
【図８】上記従来のコア形成工程での状況を模式的に示す説明図である。
【図９】他の従来のコア形成工程での状況を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００２９】
図１は、本発明の光導波路装置の製造方法の第１の実施の形態によって得られた光導波路装置を示している。この光導波路装置は、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０９５μｍ以上である金属製基板１１と、この金属製基板１１の表面に形成された光導波路Ｗ1 とを備えている。この光導波路Ｗ1 は、上記金属製基板１１の表面に形成されたアンダークラッド層２を有しており、つぎのようにして製造される。すなわち、上記アンダークラッド層２の表面に第１の感光性樹脂層３Ａ〔図２（ｂ）参照〕を形成した後、この第１の感光性樹脂層３Ａに対して照射線Ｌを照射し所定パターンに露光してコア３を形成し、さらに、そのコア３を被覆する第２の感光性樹脂層４Ａ〔図２（ｄ）参照〕を形成した後、加熱することにより、コア３と第２の感光性樹脂層４Ａとの界面部分を混合層５に形成し、その後、照射線を照射して露光し、オーバークラッド層４を形成して製造される。ここで、上記露光用の照射線Ｌは、上記金属製基板１１の表面に達し、そこで反射する照射線である。また、上記混合層５は、光導波路装置の断面を電子顕微鏡で７００倍程度に拡大して見ることにより、確認することができる。
【００３０】
つぎに、この実施の形態の光導波路装置の製造方法について詳しく説明する。
【００３１】
まず、上記金属製基板１１〔図２（ａ）参照〕を準備する。この金属製基板１１としては、ステンレス（ＳＵＳ）製，銅製，アルミニウム製，ニッケル製等のものがあげられる。なかでも、ステンレス製基板が好ましい。ステンレス製基板は、熱に対する伸縮耐性に優れ、上記光導波路装置の製造過程において、様々な寸法が設計値に略維持されるからである。この種のステンレス製基板としては、通常、市販品が用いられる。市販されているステンレス製基板は、その製造過程で、両面が粗面になる。その表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０９５μｍ以上である。また、上記金属製基板１１としては、例えば、厚みが２０μｍ〜１ｍｍの範囲内のものが用いられる。なお、本発明における算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４年）に規定される表面粗さである。
【００３２】
ついで、図２（ａ）に示すように、上記金属製基板１１の表面の所定領域に、アンダークラッド層形成用の感光性樹脂組成物を塗布し、その後、必要に応じて、５０〜１５０℃×１〜３０分間の加熱処理を施して乾燥させることにより、アンダークラッド層形成用の感光性樹脂層２Ａを形成する。上記感光性樹脂組成物としては、感光性エポキシ系樹脂組成物，感光性アクリル系樹脂組成物等の感光性樹脂組成物があげられる。上記ワニスの塗布は、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。
【００３３】
つぎに、この感光性樹脂層２Ａを照射線により露光する。上記露光用の照射線としては、例えば、可視光，紫外線，赤外線，Ｘ線，α線，β線，γ線等が用いられる。好適には、紫外線（波長２５０〜４００ｎｍ）が用いられる。紫外線を用いると、大きなエネルギーを照射して、大きな硬化速度を得ることができ、しかも、照射装置も小型かつ安価であり、生産コストの低減化を図ることができるからである。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯，高圧水銀灯，超高圧水銀灯等があげられ、紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2 、好ましくは、５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2 である。
【００３４】
上記露光後、光反応を完結させるために、加熱処理を行う。この加熱処理は、８０〜２５０℃、好ましくは、１００〜１５０℃にて、１０秒〜２時間、好ましくは、５分〜１時間の範囲内で行う。これにより、図２（ａ）に示すように、上記感光性樹脂層２Ａをアンダークラッド層２に形成する。アンダークラッド層２の厚みは、通常、１〜５０μｍの範囲内に設定され、好ましくは、５〜３０μｍの範囲内に設定される。
【００３５】
ついで、図２（ｂ）に示すように、上記アンダークラッド層２の表面に、コア形成用の感光性樹脂層（第１の感光性樹脂層）３Ａを形成する。この感光性樹脂層３Ａの形成は、図２（ａ）で説明した、アンダークラッド層２形成用の感光性樹脂層２Ａの形成方法と同様に、感光性エポキシ系樹脂組成物等を材料として、スピンコート法等により行われる。なお、このコア３は、上記アンダークラッド層２およびオーバークラッド層４〔図２（ｄ）参照〕よりも屈折率を大きくする必要があり、その屈折率の調整は、例えば、上記アンダークラッド層２，コア３，オーバークラッド層４の各形成材料の種類の選択や組成比率を調整して行うことができる。
【００３６】
その後、上記コア形成用の感光性樹脂層３Ａの上に、コア３に対応する開口パターンが形成されているフォトマスクＭを配置し、このフォトマスクＭを介して、上記感光性樹脂層３Ａの上記開口パターンに対応する部分を照射線Ｌにより露光する。この露光は、先に述べたアンダークラッド層２の形成工程と同様にして行われる。上記露光において、上記照射線Ｌは、上記感光性樹脂層３Ａに対して直角に照射され、その照射による露光部分で光反応を進めて硬化させる。この照射線Ｌは、上記感光性樹脂層３Ａおよび上記アンダークラッド層２を透過し、上記金属製基板１１の表面に達する。
【００３７】
ここで、上記金属製基板１１は、表面が算術平均粗さ（Ｒａ）０．０９５μｍ以上の粗面に形成されているため、上記金属製基板１１の表面に達した照射線Ｌは、金属製基板１１の表面で乱反射し、アンダークラッド層２を下から斜め上方向に透過する。そして、コア形成用の感光性樹脂層３Ａ内のコア形成領域Ｓにおいて、コア３のパターニングの境界面（側面３ａとなる面）を斜め下から露光する。この斜め下からの露光は上記乱反射によるものであり、不均一である。このため、コア３の側面３ａとなる面では不要な光反応が不均一に進み、露光度の小さい部分と露光度の大きい部分との混在が生じ、後の現像工程（未露光部分の溶解除去）において粗面となる。なお、図２（ｂ）に示す、照射線Ｌの乱反射による、コア３の側面３ａとなる面の不均一な露光は、図８に示す従来の不均一な露光と同様である。
【００３８】
上記露光後、先に述べたアンダークラッド層２の形成工程と同様にして、光反応を完結させるために、加熱処理を行う。ついで、現像液を用いて現像を行うことにより、図２（ｃ）に示すように、上記感光性樹脂層３Ａにおける未露光部分を溶解させて除去し、アンダークラッド層２上に残存した感光性樹脂層３Ａをコア３のパターンに形成する。このとき、上記コア３の側面３ａとなる面の、露光度の小さい部分が溶解除去され、露光度の大きい部分が残存するようになるため、コア３の側面３ａとなる面が粗面となって現れる。なお、上記現像は、例えば、浸漬法，スプレー法，パドル法等が用いられる。また、現像液としては、例えば、有機系の溶媒，アルカリ系水溶液を含有する有機系の溶媒等が用いられる。このような現像液および現像条件は、感光性樹脂組成物の組成によって、適宜選択される。
【００３９】
上記現像後、コア３のパターンに形成された感光性樹脂層３Ａの表面等に残存する現像液を加熱処理により除去する。この加熱処理は、通常、８０〜１５０℃×１〜３０分間の範囲内で行われる。これにより、上記コア３のパターンに形成された感光性樹脂層３Ａをコア３に形成する。このコア３の側面３ａは、先に述べたように、粗面化されている。また、上記コア３の厚みは、通常、１０〜１５０μｍの範囲内に設定され、好ましくは、２０〜１００μｍの範囲内に設定される。また、コア３の幅は、通常、８〜７０μｍの範囲内に設定され、好ましくは、１０〜６０μｍの範囲内に設定される。
【００４０】
つぎに、図２（ｄ）に示すように、オーバークラッド層形成用の材料（第２の感光性樹脂組成物）として、非溶剤系（溶剤濃度が０重量％）の感光性エポキシ系樹脂組成物，感光性アクリル系樹脂組成物等の感光性樹脂組成物を用い、コア３を被覆するよう、上記アンダークラッド層２の表面に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂層（第２の感光性樹脂層）４Ａを形成する。上記感光性樹脂組成物としては、感光性樹脂が液体モノマーに溶解しているワニス、または感光性樹脂自体が液体モノマーであるワニスが用いられる。上記感光性樹脂層４Ａの形成は、図２（ａ）で説明した、アンダークラッド層形成用の感光性樹脂層２Ａと同様、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。
【００４１】
そして、図２（ｅ）に示すように、本発明では、その感光性樹脂層４Ａが非溶剤系であるにもかかわらず、その感光性樹脂層４Ａを加熱する。これにより、上記コア３と第２の感光性樹脂層４Ａとの界面部分において、コア形成用の樹脂材料に、オーバークラッド層形成用の、塗工されたままであって未硬化状態の第２の感光性樹脂組成物が染み込み、その両者が混合する。この混合部分が混合層５に形成される。この工程が、本発明の大きな特徴である。
【００４２】
上記オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂層４Ａに対する加熱処理は、通常、６０〜１５０℃×１〜３０分間の範囲内で行われる。特に、加熱温度は、コア形成用の樹脂材料のガラス転移温度よりも２０℃低い温度以上、樹脂分解温度以下（通常２００℃以下）とし、その加熱時間は、０を超え、３０分以下とすることが好ましい。そのようにすると、上記混合層５の形成がより適正化され、コア３における光の伝播損失をより一層小さくすることができる。
【００４３】
その後、上記第２の感光性樹脂層４Ａに対して照射線を照射して露光することにより、上記混合層５を硬化させるとともに、その混合層５に形成された部分を除く第２の感光性樹脂層４Ａの部分を硬化させてオーバークラッド層４に形成する。オーバークラッド層４の厚み（コア３の表面からの厚み）は、通常、５〜１００μｍの範囲内に設定され、好ましくは、１０〜８０μｍの範囲内に設定される。
【００４４】
このようにして、金属製基板１１の表面に、上記アンダークラッド層２，コア３，混合層５およびオーバークラッド層４からなる光導波路Ｗ1 が形成された光導波路装置（図１参照）が得られる。この光導波路装置の光導波路Ｗ1 では、上記混合層５の形成により、コア側面の粗面の影響を殆ど受けることなく、光の伝播が可能となるため、光の伝播損失が小さく、良好な光伝播を行うことができる。
【００４５】
図３は、本発明の光導波路装置の製造方法の第２の実施の形態によって得られた光導波路装置を示している。この光導波路装置は、滑材１２ａを含有する合成樹脂製基板１２と、この合成樹脂製基板１２の表面に形成された光導波路Ｗ1 とを備えている。この光導波路装置では、上記合成樹脂製基板１２が、上記第１の実施の形態と異なり、光導波路Ｗ1 は、上記第１の実施の形態と同様である。
【００４６】
すなわち、上記合成樹脂製基板１２の形成材料としては、照射線を透過するものが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等を主成分とする樹脂組成物に、滑材１２ａを含有させたものが用いられる。なかでも、ＰＥＴを主成分とする合成樹脂製基板（ＰＥＴ製基板）１２が、安価である観点から、好ましい。このＰＥＴ製基板は、無色透明であり、通常、市販品が用いられる。市販されているＰＥＴ製基板は、その製造過程で、どうしても滑材１２ａが含有される。なお、上記合成樹脂製基板１２としては、例えば、厚みが２０μｍ〜１ｍｍの範囲内のものが用いられる。また、本発明において、主成分とは、全体の過半を占める成分のことをいい、全体が主成分のみからなる場合も含める趣旨である。
【００４７】
そして、この第２の実施の形態の光導波路装置の製造方法でも、コア３の形成工程において、合成樹脂製基板１２での照射線の乱反射により、コア３の側面３ａが粗面に形成されるが、上記のように、上記第１の実施の形態とは、光導波路Ｗ1 を形成するための基板が異なるため、その基板に起因する上記照射線の乱反射の状況が、上記第１の実施の形態と異なる。それ以外の部分は、上記第１の実施の形態と同様である。なお、上記照射線の乱反射による、コア３の側面３ａの粗面化の原理は、図９に示す従来の粗面化の原理と同様である。
【００４８】
すなわち、上記合成樹脂製基板１２を用いると、それに含有される滑材１２ａに、コア形成工程において露光に用いられる照射線が当たって反射し、その照射線の進路が乱れ、その照射線の殆どが上記合成樹脂製基板１２の底面に斜めに達する（図９参照）。上記合成樹脂製基板１２の裏面（底面）は、通常、合成樹脂製基板１２を載置する載置台等の、照射線を透過しない載置面に接触していることから、上記合成樹脂製基板１２の底面に斜めに達した照射線は、上記合成樹脂製基板１２の裏面から出射することなく合成樹脂製基板１２の底面で斜め上方向に反射する。その後、その反射した照射線は、上記合成樹脂製基板１２内において上記滑材１２ａに当たってさらに進路を乱し、その合成樹脂製基板１２の表面から斜め上方向に出射する。そして、その斜め上方向に出射した照射線が、上記アンダークラッド層２を下から斜め上方向に透過して、コア形成用の感光性樹脂層３Ａ内のコア形成領域Ｓにおいて、コア３のパターニングの境界面（側面３ａとなる面）を斜め下から露光する。この斜め下からの露光が原因で、コア３の側面３ａが粗面となる。
【００４９】
そして、上記第１の実施の形態と同様にして、オーバークラッド層４を形成することにより、コア３とオーバークラッド層４との間に混合層５が形成された光導波路装置（図３参照）を得ることができる。このようにして得られた光導波路装置も、上記第１の実施の形態と同様、上記混合層５が形成されているため、光の伝播効率が優れている。
【００５０】
図４は、本発明の光導波路装置の製造方法の第３の実施の形態によって得られた光導波路装置を示している。この光導波路装置は、シリコンウエハ，ガラス製基板等の、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下である平滑基板１３と、この平滑基板１３の表面に形成された光導波路Ｗ1 とを備えている。この光導波路装置では、上記平滑基板１３が、上記第１の実施の形態と異なり、光導波路Ｗ1 は、上記第１の実施の形態と同様である。
【００５１】
この第３の実施の形態では、コア形成用のフォトマスクとして、その開口周縁に、コア３の形成材料である樹脂等が汚れとして付着しているものを用いている（図示せず）。そのため、コア３を形成する際に、上記フォトマスクの開口を通る照射線が、上記樹脂等の付着物により、その進路が乱され、コア３の側面に達する照射線が不均一になり、コア３の側面が粗面に形成される。なお、上記シリコンウエハ等の平滑基板１３は、表面が算術平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下と平滑であるため、その表面で上記照射線は乱反射せず、コア３の側面の粗面化の原因とはならない。
【００５２】
そして、この第３の実施の形態でも、上記第１の実施の形態と同様にして、オーバークラッド層４を形成することにより、コア３とオーバークラッド層４との間に混合層５が形成され、光の伝播効率が優れた光導波路装置（図４参照）を得ることができる。
【００５３】
本発明の光導波路装置の製造方法の第４の実施の形態（図示せず）を説明する。この第４の実施の形態では、上記第３の実施の形態において、コア形成用のフォトマスクとして、その開口周縁に不要な付着物が付着していないもの（例えば、未使用のフォトマスク，不要な付着物を除去したフォトマスク等）を用い、コア３として、その側面が平滑になっているものを形成する。その後、上記第１の実施の形態と同様にして、オーバークラッド層４を形成することにより、コア３とオーバークラッド層４との間に混合層５が形成する。
【００５４】
すなわち、この第４の実施の形態では、コア３の側面が粗面に形成されていないが、上記のように、混合層５を形成している。このようにすると、光の伝播効率がさらに向上した光導波路装置を得ることができる。
【００５５】
なお、上記各実施の形態では、オーバークラッド層４形成用の感光性樹脂層（第２の感光性樹脂層）４Ａを、コア３の側面３ａだけでなく頂面をも被覆するように形成したが、図５に示すように、コア３の側面３ａだけを被覆するように形成し、コア３の頂面を露出した状態にしてもよい。
【００５６】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるわけではない。
【実施例１】
【００５７】
〔金属製基板〕
ＳＵＳ３０４箔〔東洋製箔社製、厚み２０μｍ、算術平均粗さ（Ｒａ）０．０９５μｍ〕からなるステンレス製基板を準備した。なお、上記算術平均粗さ（Ｒａ）の測定は、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（キーエンス社製、ＶＫ−９７００）を用い、測定範囲は、２００μｍ×２００μｍとした。
【００５８】
〔アンダークラッド層，オーバークラッド層の形成材料：非溶剤系〕
ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（大阪ガスケミカル社製、オグソールＥＧ）（成分Ａ）３５重量部、脂環式エポキシ樹脂である３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ダイセル化学工業社製、セロキサイド２０２１Ｐ）（成分Ｂ）４０重量部、（３’，４’−エポキシシクロヘキサン）メチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシル−カルボキシレート（ダイセル化学工業社製、セロキサイド２０８１）（成分Ｃ）２５重量部、４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフィニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネートの５０重量％プロピオンカーボネート溶液（旭電化社製、ＳＰ−１７０）（成分Ｄ）２重量部とを撹拌溶解（温度９０℃、撹拌３００ｒｐｍ×１時間）させ、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。
【００５９】
〔コアの形成材料〕
上記成分Ａ：７０重量部、１，３，３−トリス｛４−〔２−（３−オキセタニル）〕ブトキシフェニル｝ブタン（日東電工社製、ＴｒｉｓＰ−ＲＫ−ＯＸ）：３０重量部、上記成分Ｄ：１重量部を乳酸エチル（武蔵野化学社製）３９重量部に撹拌溶解（温度８０℃、撹拌２５０ｒｐｍ×３時間）させ、コアの形成材料を調製した。このコア形成材料のガラス転移温度は、１３４℃であった。このガラス転移温度は、引張りモードによる粘弾性スペクトル測定（ＤＭＳ）の損失正接（ｔａｎδ）ピークから読み取ることができる。その測定装置として、ＳＥＩＫＯ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．製のＳＤＭ／５６００を用いた。
【００６０】
〔光導波路装置の製造〕
〔アンダークラッド層の形成〕
載置台上に上記ステンレス製基板を載置し、そのステンレス製基板の表面に、上記アンダークラッド層の形成材料をスピンコーター（ミカサ社製、１Ｘ−ＤＸ２）を用いて塗布し、膜厚２０μｍの塗布層を形成した。その後、露光機（ミカサ社製、ＭＡ−６０Ｆ）および超高圧水銀灯（ウシオ電機社製、ＵＳＨ−２５０Ｄ）を用いて、上記塗布層の全面に、紫外線を照射（混線照射）し、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2 の露光を行った。つづいて、１００℃のホットプレート上に１０分間放置し、反応を完了させた。このようにしてアンダークラッド層を形成した。
【００６１】
〔コアの形成〕
ついで、上記アンダークラッド層の表面に、上記コアの形成材料を上記スピンコーターを用いて塗布した後、７０℃のホットプレート上に１０分間放置することにより、溶剤を揮発させ、コア形成用の第１の感光性樹脂層を形成した。つぎに、１２条のストレート形状の開口パターン（長さ１２０ｍｍ、Ｌ／Ｓ＝５０μｍ／２００μｍ）が形成された未使用の石英製フォトマスクを介して、上記露光機および上記超高圧水銀灯を用いて、紫外線（波長３６５ｎｍ）を照射し、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ2 の露光を行った。その後、７０℃のホットプレート上に１０分間放置し、反応を完了させた。つぎに、γ−ブチロラクトン（三菱化学社製）の現像液に２分間浸して現像（ディップ現像）することにより、未露光部分を溶解除去した後、蒸留水でリンスを行った。そして、１２０℃のホットプレート上に１０分間放置して乾燥した。このようにしてコア（高さ５０μｍ）を形成した。
【００６２】
〔混合層およびオーバークラッド層の形成〕
そして、上記コアを被覆するよう、上記アンダークラッド層の表面に、上記オーバークラッド層の形成材料を上記スピンコーターを用いて塗布し、オーバークラッド層形成用の第２の感光性樹脂層を形成した。そして、８０℃のホットプレート上に１０分間放置する加熱処理を行った。この加熱処理により、上記コアと第２の感光性樹脂層との界面部分を混合層に形成した。つぎに、上記露光機および上記超高圧水銀灯を用いて、紫外線を照射（混線照射）し、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ2 の露光を行った。つづいて、１２０℃のホットプレート上に１０分間放置し、反応を完了させ、オーバークラッド層を形成した。このようにして、上記ステンレス製基板の表面に、光導波路（総厚１００μｍ）を形成し、光導波路装置を得た。
【実施例２】
【００６３】
上記実施例１において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１００℃のホットプレート上に１０分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例１と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例３】
【００６４】
上記実施例１において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１２０℃のホットプレート上に１０分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例１と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例４】
【００６５】
上記実施例１において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１４０℃のホットプレート上に１分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例１と同様にして光導波路装置を製造した。
【００６６】
〔比較例１〕
上記実施例１において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を行わなかった。それ以外は上記実施例１と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例５】
【００６７】
〔滑材含有合成樹脂製基板〕
無色透明のＰＥＴ製基板（ＴＯＲＡＹ社製、タイプＴ６０、品番１８８、厚み１８８μｍ）を準備した。
【００６８】
そして、上記ＰＥＴ製基板の表面に、上記実施例１と同様にして、アンダークラッド層，コア，混合層およびオーバークラッド層を形成することにより、光導波路装置を製造した。
【実施例６】
【００６９】
上記実施例５において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１００℃のホットプレート上に１０分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例５と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例７】
【００７０】
上記実施例５において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１２０℃のホットプレート上に１０分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例５と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例８】
【００７１】
上記実施例５において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１４０℃のホットプレート上に１分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例５と同様にして光導波路装置を製造した。
【００７２】
〔比較例２〕
上記実施例５において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を行わなかった。それ以外は上記実施例５と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例９】
【００７３】
〔平滑基板〕
ガラス製基板〔セントラルガラス社製、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×１．１ｍｍ（厚み）、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）２ｎｍ〕を準備した。
【００７４】
そして、上記ガラス製基板の表面に、上記実施例１と同様にして、アンダークラッド層，コア，混合層およびオーバークラッド層を形成することにより、光導波路装置を製造した。ただし、コア形成工程で用いた石英製フォトマスクは、その開口周縁部にコア形成用の材料が付着していた。また、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１２５℃のホットプレート上に５分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例１と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例１０】
【００７５】
上記実施例９において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１５０℃のホットプレート上に５分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例９と同様にして光導波路装置を製造した。
【００７６】
〔比較例３〕
上記実施例９において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を行わなかった。それ以外は上記実施例９と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例１１】
【００７７】
上記実施例９において、コア形成工程で用いる石英製フォトマスクを、未使用のもの（開口周縁部に不要な付着物が付着していないもの）とした。それ以外は上記実施例９と同様にして光導波路装置を製造した。
【実施例１２】
【００７８】
上記実施例１１において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を、１５０℃のホットプレート上に５分間放置することにより行った。それ以外は上記実施例１１と同様にして光導波路装置を製造した。
【００７９】
〔比較例４〕
上記実施例１１において、オーバークラッド層形成工程での、紫外線照射に先立つ加熱処理（混合層の形成）を行わなかった。それ以外は上記実施例１１と同様にして光導波路装置を製造した。
【００８０】
〔光伝搬損失の測定〕
上記実施例１〜１２および比較例１〜４の光導波路装置において、光導波路をステンレス製基板等の基板から剥離し、そのフィルム化した光導波路をダイシングテープ（日東電工社製、ＵＥ−１１１ＡＪ）に貼り付けた。そして、その光導波路を、ダイシング装置（ディスコ社製、ＤＡＤ５２２）およびダイシングブレード（ディスコ社製、ＮＢＣ−Ｚ２０５０、５０．６×０．０２５×４０ｍｍ）を用いて、カット速度０．３ｍｍ／秒にて、１０ｃｍの長さに切断し、コアの長手方向の端面を露出させた。そして、オプティカルマルチパワーメータ（アドバンテスト社製、Ｑ８２２）を用いて、光伝播損失（全損失）を測定した。なお、光源として８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（三喜社製、ＯＰ２５０）を用い、その光源からの光を集光するために、上記光導波路の入射側端面と上記光源との間に、入射ファイバ〔三喜社製、ＦＦＰ−Ｇ１２０−０５００（５０μｍφＭＭＦ、ＮＡ＝０．２）〕を用い、出射側端面と上記オプティカルマルチパワーメータとの間にレンズ〔ＣＯＲＲＥＣＴ  ＴＯＹＯ社製、ＦＨ１４−１１（倍率２０、ＮＡ＝０．４）〕を用いた。
【００８１】
【表１】
2011039489.tif 000003
【００８２】
【表２】
2011039489.tif 000004
【００８３】
【表３】
2011039489.tif 000005
【００８４】
【表４】
2011039489.tif 000006
【００８５】
上記表１〜表３の結果から、実施例１〜４では、比較例１と比較して、光伝搬損失が小さくなっており、実施例５〜８では、比較例２と比較して、光伝搬損失が小さくなっており、実施例９，１０では、比較例３と比較して、光伝搬損失が小さくなっている。このことから、実施例１〜１０では、オーバークラッド層形成工程での紫外線照射に先立つ加熱処理により、混合層が形成され、光の伝播は、コア側面の粗面の影響を殆ど受けないことがわかる。特に、上記紫外線照射に先立つ加熱処理の温度がコア形成材料のガラス転移温度（１３５℃）近傍である実施例３，４，７，８，９，１０では、光伝播損失がより一層小さくなっていることがわかる。
【００８６】
また、比較例４では、基板として、表面が平滑〔表面の算術平均粗さ（Ｒａ）２ｎｍ〕なガラス製基板を用い、さらに、コア形成用の石英製フォトマスクとして、未使用のものを用いていることから、コアの側面は粗面に形成されておらず、実際、上記表４に示すように、光伝搬損失は小さかった。このような場合でも、実施例１１，１２のように、オーバークラッド層形成工程での紫外線照射に先立つ加熱処理を行い、混合層を形成すると、上記表４に示すように、光伝搬損失がさらに小さくなることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
本発明の光導波路装置の製造方法は、光通信，光情報処理，タッチパネルにおける指等の触れ位置の検知手段等の光導波路装置の製造に利用可能である。
【符号の説明】
【００８８】
３  コア
３ａ  側面
４Ａ  （第２の）感光性樹脂層
５  混合層
１１  金属製基板
Ｌ  照射線
【図１】
2011039489.tif 000007
【図２】
2011039489.tif 000008
【図３】
2011039489.tif 000009
【図４】
2011039489.tif 000010
【図５】
2011039489.tif 000011
【図６】
2011039489.tif 000012
【図７】
2011039489.tif 000013
【図８】
2011039489.tif 000014
【図９】
2011039489.tif 000015