(57)【要約】      （修正有）【課題】熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる基板を用い、その両面にハードコート層を形成したハードコートフィルム及びこれを用いてなる画像表示素子を提供する。【解決手段】１５ｎｍ以下の面内及び膜厚方向のリタデーション値を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂から形成されている基材２であり、前記基材の両面にハードコート層１を有する積層体からなり、前記ハードコート層１が少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されているハードコートフィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１５ｎｍ以下の面内及び膜厚方向のリタデーション値を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂から形成されている基材であり、前記基材の両面にハードコート層を有する積層体からなり、前記ハードコート層が少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されているハードコートフィルム。
【請求項２】
１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる延伸フィルムであり、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍの範囲にある１／４波長板機能を有する基材であり、前記基材に両面にハードコート層を有する積層体からなり、ハードコート層が少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されているハードコートフィルム。
【請求項３】
６０°以下の水に対する接触角を有する請求項１又は２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコートフィルムからなるタッチパネル用基材。
【請求項５】
請求項４に記載のタッチパネル用基材を用いてなることを特徴とする画像表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる基板を用い、その両面にハードコート層を形成したハードコートフィルム及びこれを用いてなる画像表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ノートパソコン、OA機器、医療機器、カーナビゲーション、パーソナル・デジタル・アシスタント（PDP）等の電子機器においては、ディスプレイに入力手段を重ね備えるタッチパネルが広く利用されている。透明タッチパネルは２枚の透明電極層の電極面同士を相対するように配置された構造を有する。タッチパネルの方式には、光学式、超音波式、電磁誘導式、抵抗膜式が一般に使われているが、小型の液晶ディスプレイとの組み合わせには、抵抗膜式が最もよく使われている。この抵抗膜式タッチパネルは透明導電膜を導体とした入力スイッチであり、２枚の透明導電膜をスペーサーを介して対向させた構造となっている。タッチペン又は指の押し圧により電極面同士が接触して導通し、位置検出をする構造をとる。
【０００３】
透明タッチパネルの構造は、一般的には上部電極／下部電極の基材として、ガラス基板／ガラス基板の構成がほとんどであった。電極としては、導電膜としては、インジウム錫酸化物、錫アンチモン酸等の金属酸化物または金、パラジウム、アルミニウム、銀等の金属の薄膜が用いられている。近年、破損しやすいガラス基板に替わって、高分子フィルムを基板とした導電性透明シートを用いたタッチパネルの検討が進んでいる。
【０００４】
高分子フィルムとしては、機械的性質、表面平滑性、硬度、耐熱性、耐溶剤性、耐スクラッチ性、非透湿性、厚みが大きくても十分な透明性および光学特性を有することなど、様々な特性を満たさなければならない。そこで、ガラスに代わるポリカーボネート（PC）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のプラスチック基板や、熱硬化性アクリル樹脂や熱硬化エポキシ樹脂などのフィルム基板が用いられるようになってきた。
【０００５】
特許文献２においては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる基材上にシリコーン系ハードコート層を形成し、特許文献３では、（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマーと（メタ）アクリル酸エステル系モノマーと光重合開始剤とからなる紫外線硬化型組成物を硬化させたハードコート層を形成しているが、前記基材とハードコート層の密着性が必ずしも満足いくものではない。上記の特許文献２及び３では、そのハードコート層の上に透明電極を形成することについては開示がないが、土台となるハードコート層の密着性自体の点で必ずしも満足のいく状態にないため、たとえそのようなハードコート層の上から透明電極を形成することを考えたとしても、透明電極との密着性もやはり多くは期待でない。
【０００６】
また、基材上に導電層を積層した透明導電性フィルムは、導電層の耐久性を得るために透明導電性薄膜を製膜した後に１５０℃程度の熱処理を行い、結晶質の透明導電性薄膜としている。そのため、ガラス転移温度が低い基材を用いた場合、形状安定性やリタデーション値に影響を及ぼしてしまう。
【０００７】
また、光学用途の成形材料として広く使用されている、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などは、ＰＣやＰＭＭＡは光弾性係数が大きいため、タッチパネルなどの応力がかかる部材に用いた場合には複屈折が大きくなることがあり、吸水性が高く、耐熱性も不十分である。さらに、ＰＥＴは透明タッチパネルを液晶表示素子に重ね合わせて用いる使い方をすると、視認性、コントラストなどの点で不充分であるという問題点を有している。
【０００８】
タッチパネルにおける前記透明導電膜の材料としては、一般的に使用されてきている酸化スズ・インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物等は屈折率が大きいため、該金属酸化物等で前記透明導電膜を形成したタッチパネルの表面は反射し易く、該透明導電膜による光の乱反射により視認性に劣るという重大な問題がある。例えば、特許文献４等においては、１／４波長板を透明導電膜上に配置させたタッチパネルが提案されている。このタッチパネルでは、ある特定の波長の外光については、まず偏光板を透過して直線偏光となり、次に１／４波長板を透過して円偏光となり、そして透明導電膜で反射され、前記１／４波長板を透過して再び直線偏光となり、前記偏光板より外部に放出されるため、入射光の乱反射が効果的に抑制される。しかし、この場合、広い波長域の入射光について効果的に乱反射を抑制することはできず、即ち、前記特定の波長以外の波長の入射光については乱反射を抑制することができず、その上、構造も複雑で製造も容易ではないという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭６０−１３１７１１号公報
【特許文献２】特開平７−９７４６８号公報
【特許文献３】特開平８−１２７８７号公報
【特許文献４】特開２０００−２５００１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
タッチパネル用基材として利用する場合、透明導電層を形成するベースフィルムは光等方性を有することが要求され、従来使われているＰＥＴフィルムのような光等方性を有しないフィルムは用いることができない。また、ポリカーボネート（ＰＣ）やポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の光学用プラスチックからなるフィルムは、複屈折値が小さいものの、吸水性が大きく、耐熱性も不十分である。そこで、透明性、耐湿性・吸水性に優れている熱可塑性ノルボルネン樹脂は、光学フィルムとして有望視されている。
熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる光学フィルムは、吸水性に優れているだけでなく、面内及び厚み方向のリタデーション値を制御することができる。さらに、１軸又は２軸延伸を行うことにより、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍの範囲にある１／４波長板機能を有する基材を成形することが可能である。
【００１１】
しかし、熱可塑性ノルボルネン樹脂からなる基材を単体で利用した場合、機械的性質、表面平滑性、硬度、耐熱性、耐溶剤性に劣るという問題点がある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このような状況において、本発明者らは、硬械的性質、表面平滑性、硬度、耐熱性、耐溶剤性、耐スクラッチ性、非透湿性、厚みが大きくても十分な透明性および光学特性を発現するために、１５ｎｍ以下の面内及び膜厚方向のリタデーション値を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂又は１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる延伸フィルムであり、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０〜＋１５０ｎｍの範囲にある１／４波長板機能を有する基材の両面にハードコート層を積層することにより、上述した高性能な特性をバランスよく発現しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
かくして本発明によれば、１５ｎｍ以下の面内リタデーション値を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂から形成されている基材の両面にハードコート層を有する基材からなり、前記ハードコート層が少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されているハードコートフィルムが提供される。
【００１４】
また、本発明によれば、１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂であって、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍを示す基材両面にハードコート層を有する基材からなり、前記ハードコート層が少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されている透明なハードコートフィルムが提供される。
【００１５】
本発明のハードコートフィルムは、水に対する接触角が６０°以下であることが好ましい。
【００１６】
更に、本発明のハードコートフィルムをタッチパネル用基材として提供される。
【００１７】
また、本発明によれば、上記記載のタッチパネル用基材を用いた画像表示素子が提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の両面ハードコートフィルムは、熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる１５ｎｍ以下の面内及び膜厚方向のリタデーション値を示す基材という構成を有しているので、着色や可視光領域において干渉縞を発生いないという利点を有する。
また、本発明の１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂であって、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍの両面ハードコートフィルムは、高コントラストであるとともに、視認性が優れているという利点がある。また、上記両面ハードコートフィルムは、機械的性質、硬度等の物理物性に優れていると利点がある。
本発明における上記２種のハードコートフィルムをタッチパネル用基材として用いることにより、ＩＴＯなどの透明導電膜を形成する熱処理工程を行っても、形状及び光学特性及び面内と厚み方向のリタデーション値の変化に影響を及ぼさない画像表示素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の積層体の構造を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の一態様によれば、本発明のハードコートフィルムは、１５ｎｍ以下の面内及び膜厚方向のリタデーション値を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂から形成されている基材の両面に少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されているハードコート層を有する積層体からなる。
本発明の別の態様によれば、本発明のハードコートフィルムは、１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂であって、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍを示す基材の両面に、少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂及び微粒子で形成されているハードコート層を有する積層体からなる。
【００２１】
本発明で用いる熱可塑性ノルボルネン系樹脂は、特開平３−１４８８２号や特開平３−１２２１３７号、特開平４−６３８０７号などで公知の樹脂であり、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、その水素添加物、ノルボルネン系単量体の付加型重合体、ノルボルネン系単量体とオレフィンの付加型重合体、これらの重合体の変性物などが挙げられる。
【００２２】
ノルボルネン系単量体は、例えば、ノルボルネン、そのアルキル、アルキリデン、芳香族置換誘導体およびこれら置換または非置換のオレフィンのハロゲン、水酸基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基等の極性基置換体、例えば、２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５，５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−フェニル−２−ノルボルネン、５−フェニル−５−メチル−２−ノルボルネン、５−ヘキシル−２−ノルボエルネン、５−オクチル−２−ノルボルネン、５−オクタデシル−２−ノルボルネン等；  ノルボルネンに一つ以上のシクロペンタジエンが付加した単量体、その上記と同様の誘導体や置換体、例えば、１，４：５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−２，３−シクロペンタジエノオクタヒドロナフタレン、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、１，４：５，１０：６，９−トリメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ−ドデカヒドロー２，３−シクロペンタジエノアントラセン等；  シクロペンタジエンの多量体である多環構造の単量体、その上記と同様の誘導体や置換体、例えば、ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；  シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物、その上記と同様の誘導体や置換体、例えば、１，４−メタノ−１，４，４ａ，４ｂ，５，８，８ａ，９ａ−オクタヒドロフルオレン、５，８−メタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロ−２，３−シクロペンタジエノナフタレン等；等が挙げられる。
【００２３】
ノルボルネン構造を有する単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。極性基の種類としては、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン基などが挙げられる。飽和吸水率の小さいフィルムを得るためには。極性基の量が少ない方が好ましく、極性基を持たない方がより好ましい。
【００２４】
ノルボルネン系単量体の重合は公知の方法でよく、必要に応じて、他の共重合可能な単量体と共重合したり、水素添加することにより熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂である熱可塑性ノルボルネン系重合体水素添加物とすることができる。また、重合体や重合体水素添加物を、α，β−不飽和カルボン酸および／またはその誘導体、スチレン系炭化水素、オレフィン系不飽和結合および加水分解可能な基を持つ有機ケイ素化合物、不飽和エポキシ単量体を用いて変性させてもよい。
【００２５】
本発明においては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂の数平均分子量は、トルエン溶媒によるＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）法で測定したポリスチレン換算値で、１０，０００〜２００，０００、好ましくは１５，０００〜１００，０００、より好ましくは２０，０００〜５０，０００のものである。また、熱可塑性ノルボルネン系樹脂が分子構造中に不飽和結合を有している場合は、水素添加することにより、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂とすることができる。水素添加する場合、水素添加率は耐熱劣化性、耐光劣化性などの観点から、９０％以上、好ましくは９５％以上、より好ましくは９９％以上である。
【００２６】
本発明で用いる熱可塑性ノルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリン系などの老化防止剤；フェノール系などの熱劣化防止剤；ベンゾフェノン系などの紫外線安定剤；アミン系などの帯電防止剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールの部分エステル及び部分エーテルなどの滑剤；などの各種添加剤を添加してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、他の樹脂などを混合して用いることもできる。
【００２７】
本発明で用いる熱可塑性ノルボルネン系樹脂は、ガラス転移温度が、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃である。
【００２８】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる基材は、１５ｎｍ以下の面内及び膜厚方向のリタデーション値を示す基材を有することが必要である。バックライトから発せられた光および表面から入ってきた光をそのまま通す必要性があるため、リタデーション（複屈折率）値の小さい光学等方性有することが必要となる。
【００２９】
リタデーションとは、結晶その他の非等方性物質に入射した光が互いに垂直な振動方向を持つ２つの光波に分かれる現象である。複屈折を持つ材料に非偏光の光を入射すると、入射光は２つに分かれる。両者は振動方向が互いに直角で、一方を垂直偏光、他方を水平偏光という。垂直の方が異常光線、水平の方が常光線となり、常光線は伝搬速度が伝搬方向によらない光線で、異常光線は伝搬方向によって速度が異なる光線である。複屈折材料ではこの２つの光線の速度が一致する方向がありこれを光学軸という。リタデーション値Δｎｄは、Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄで表される。ここで、ｄは試料の厚さ、ｎｘ、ｎｙは試料の屈折率である。
【００３０】
本発明で用いる基材は熱可塑性ノルボルネン系樹脂をフィルム状に成形したものである。成形方法は、特に限定されない。熱可塑性樹脂の一般的成形法である、射出成形、溶融押し出し、熱プレス、溶剤キャスト、延伸などを用いることができる。
【００３１】
この発明において、面内及び膜厚方向のリタデーション値が１５ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１０ｎｍ以下である。リタデーション値が１５ｎｍを越えるような大きい値であると、バックライトから出射された光および偏光板を通過した光が互いに垂直な振動方向をもつ２つの光波に分けられ、光波の位相ずれが発生して円偏光が楕円偏光になり、バックライトから出射された色と異なる色になったり、色むらが生じたりする。
【００３２】
本発明で用いる基材の面内及び膜厚方向のリタデーション値の制御方法は特に限定されない。その方法の具体例としては、フィルムの膜厚制御やフィルムの成形速度が挙げられる。また、両面にハードコート層を形成したハードコートフィルムを熱処理を行うことにより制御できる。
【００３３】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる基材は、膜厚が２０μｍから２５０μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍから２３０μｍであるフィルムである。さらに好ましくは、１００μｍから２００μｍである。
ハードコートフィルムを構成するハードコート層については、後述する。
【００３４】
本発明の別の一態様で用いる基材は、１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる延伸フィルムであり、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０〜＋１５０ｎｍの範囲にある１／４波長板の特性を有するフィルムである。
【００３５】
前記面内リタデーション（Ｒｅ）とは、面内遅相軸方向の屈折率ｎｘと面内で前記遅相軸に直交する方向の屈折率ｎｙとの差にフィルムの平均厚みｄを乗算した値（Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ）である。
さらに、前記膜厚方向のリタデーション（Ｒｔｈ）は、Ｒｔｈ（＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄで表される。ｎｘは面内遅相軸方向の屈折率；ｎｙは面内で前記遅相軸に直交する方向の屈折率；ｎｚは厚さ方向の屈折率；ｄはフィルムの平均厚さである。
【００３６】
上記基材の面内リタデーション値（Ｒｅ）は、好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、さらに好ましくは１３０ｎｍ〜１５０ｎｍである。膜厚方向のリタデーション値（Ｒｔｈ）は、−２５０ｎｍ 〜＋１５０ｎｍであることが好ましい。上記基材を有することにより、反射光を防止することができ、高コントラストのタッチパネルが得られるという効果を奏する。
【００３７】
本発明において、面内方向のリターデーション（Ｒｅ）のバラツキは、好ましくは１０ｎｍ以内、より好ましくは５ｎｍ以内、特に好ましくは２ｎｍ以内である。前記面内方向のリタデーションＲｅのバラツキを、上記範囲にすることにより、液晶表示装置用の位相差フィルムとして用いた場合に表示品質を良好なものにすることが可能になる。
【００３８】
上記基材の膜厚方向のリタデーション値（Ｒｔｈ）は、−２５０ｎｍ 〜 ＋１５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、−８０ｎｍ 〜 ＋１５０ｎｍである。さらに好ましくは、４０ｎｍ〜１５０ｎｍである。バラツキは、好ましくは１０ｎｍ以内、より好ましくは５ｎｍ以内、特に好ましくは２ｎｍ以内である。上記基材を有することにより、反射光を防止することができ、高コントラストのタッチパネルが得られるという効果を奏する。
【００３９】
本発明の延伸フィルムは、残留揮発性成分の含有量が、好ましくは０．１重量％以下、より好ましくは０．０５重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下である。残留揮発性成分の含有量が多いと経時的に光学特性が変化するおそれがある。揮発性成分の含有量を上記範囲にすることにより、寸法安定性が向上し、面内方向リタデーションＲｅや厚さ方向リタデーションＲｔｈの経時変化を小さくすることができる。
【００４０】
上記延伸フィルムは、熱可塑性ノルボルネン系樹脂から得られる未延伸フィルムを１軸、２軸又は斜め延伸することにより、好適に得られる。延伸方法は特に限定はされないが、ロール方式、フロート方式の縦延伸法、テンター方式の横一軸延伸と同時二軸延伸が挙げられる。さらに、長尺のフィルムを連続的に斜め延伸処理することができるものであれば、特に制約されず、種々のタイプの延伸機を使用することができる。
【００４１】
未延伸フィルムを斜め延伸するときの温度は、前記脂環式構造含有重合体樹脂のガラス転移温度をＴ ｇ とすると、好ましくはＴ ｇ −３０℃ からＴ ｇ ＋６０℃ の間、より好ましくはＴ ｇ −１０℃ からＴ ｇ ＋５０℃の温度範囲である。また、延伸倍率は、通常、１．０１〜３０倍、好ましくは１．０１〜１０倍、より好ましくは１．０１〜５倍である。
【００４２】
延伸された熱可塑性樹脂の平均厚みは、機械的強度などの観点から、好ましくは２０〜８０μｍ、さらに好ましくは３０〜６０μｍである。また、延伸フィルムの幅方向の厚みムラは巻き取りの可否に影響を与えるため、好ましくは３μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下である。
【００４３】
未延伸フィルムを成形する方法としては特に制約されず、公知の成形法を採用することができる。例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも採用することができるが、シート中の揮発性成分を低減させる観点から、加熱溶融成形法を用いるのが好ましい。加熱溶融成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度および表面精度などに優れる延伸フィルムを得るためには、溶融押出し成形法を用いるのが好ましい。熱可塑性ノルボルネン系樹脂を成形したものである。成形方法は、特に限定されない。熱可塑性樹脂の一般的成形法である、射出成形、溶融押し出し、熱プレス、溶剤キャスト、延伸などを用いることができる。
【００４４】
成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、溶融押出成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜６００℃ 、より好ましくは１５０〜３５０℃ の範囲で適宜設定される。
【００４５】
未延伸フィルムの厚みは、得られる延伸フィルムの使用目的などに応じて適宜決定することができる。フィルムの厚みは、安定した延伸処理による均質な延伸フィルムが得られる観点から、好ましくは１０〜３００μｍ 、より好ましくは３０〜２００μｍ である。
【００４６】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる１／４波長機能を有するフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１５０℃以上である。該樹脂のＴｇが低すぎると、成形品の耐熱性が低下する。
【００４７】
さらに、ハードコート層の形成時およびタッチパネル製造工程を考慮すると、Ｔｇ１２０℃以上で光弾性係数が１０×１０−１０・Ｐａ−１以下のものを用いるのが好ましい。Ｔｇが１２０℃に満たないと、ハードコートの乾燥工程及び活性エネルギー線硬化させる際のストレスや導電層を積層する際の温度等により、基材に変形やしわが発生するおそれがある。また、光弾性係数が１０×１０−１０・Ｐａ−１を越えると、貼り合わせなどの引っ張りストレスにより、容易に面内及び膜厚方向のリタデーション値が変化してしまい、部分的に光学等方性でなくなるおそれがある。
【００４８】
また、本発明における熱可塑性ノルボルネン系フィルムは、ハードコート層との接着性を高める目的で表面処理を施したものであってもよい。該表面処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理、コーティング処理等が挙げられる。とりわけコロナ処理を用いることで、上記熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなるフィルムとハードコート層の密着を強固とすることができる。
コロナ処理条件としては、コロナ放電電子の照射量として１〜１０００Ｗ／ｍ2／ｍｉｎであることが好ましい。上記コロナ処理後の熱可塑性ノルボルネン系フィルムの水に対する接触角は、１０〜５０°であることが好ましい。より好ましくは、２０〜４０°である。また、コロナ処理をした直後に塗工しても、除電させてから塗工してもよいが、ハードコート層の外観が良好となることから、除電させてから塗工した方が好ましい。
【００４９】
ハードコート層は、微粒子と少なくとも1種の活性エネルギー線硬化樹脂とから形成されている。ハードコート層は、微粒子と活性エネルギー線硬化性樹脂を分散したコーティング組成物を、各種コーターによって塗工、乾燥させた後、該樹脂を硬化させてなる層である。上記ハードコート層を熱可塑性ノルボルネン樹脂基材の両面に形成した場合、優れた傷付きを保護する作用と、カール防止作用を有する。
【００５０】
本発明でハードコート層の形成に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂は、通常用いられるハードコート用活性エネルギー線硬化型樹脂成分であれば特に制限されない。ＪＩＳＫ５６００−５−４に規定される鉛筆硬度試験で、「ＨＢ」以上の硬度を示す硬化膜を形成できる活性エネルギー線硬化型樹脂成分であれば特に好ましい。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の活性エネルギー線硬化型材料等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、強靭性、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、又は多官能アクリレート系の紫外線硬化型樹脂成分材料が好ましい。
【００５１】
本発明で用いる微粒子は、ハードコート層の導電性、屈折率などを調整することのできる微粒子である。微粒子としては、屈折率が１．４以上、である微粒子が好ましい。
粒子としては、有機微粒子又は無機微粒子の限定はないが、好ましくは、無機酸化物微粒子である。例えば、シリカ、チタニア（酸化チタン）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、二酸化チタン、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、リンをドープした酸化錫（ＰＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）等が挙げられる。これらの中でも特に、シリカ微粒子は、基材との密着性と透明性のバランスに優れるので、屈折率を調節するための成分として適している。これらは、一種単独又は組合せて用いても良い。
【００５２】
微粒子の数平均粒子径は、１〜１０００ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、１〜５００ｎｍであり、さらに好ましいくは、１〜２５０ｎｍである。粒子径が小さいほど、ハードコート層のヘイズが低くなり、基材との密着性も高くなる。
【００５３】
上記微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化樹脂を１００部とした場合、微粒子は１０〜８０部が好ましい。より好ましくは、１０〜５０部、さらに好ましくは２０〜４０部である。微粒子の含有量が上記範囲であると、ヘイズ値や全光線透過率等の光学特性に優れる。
【００５４】
ハードコート層は、上記活性エネルギー線硬化性樹脂と微粒子とを分散したコーティング組成物を、各種コーターによって基材に塗工、乾燥させた後、該樹脂を硬化させることによって得られる。
【００５５】
活性エネルギー線硬化型樹脂を溶解または分散させる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メチルエチルケトオキシム等のオキシム類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
【００５６】
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線等のいずれでもよい。紫外線により硬化させる場合には活性エネルギー線硬化樹脂１００重量部に対し、通常、光重合開始剤１〜１５重量部程度を含有させることができる。光重合開始剤としては、ダロキュアー１１７３ 、イルガキュアー６５１ 、イルガキュアー１８４ 、イルガキュアー９０７ 、イルガキュアー７５４（いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） 、ベンゾフェノン等の各種の公知のものを使用できる。必要に応じて、上記以外の各種添加剤、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、光安定剤、溶剤、消泡剤、レベリング剤などを配合してもよい。
【００５７】
ハードコート層は、通常、活性エネルギー線硬化型樹脂、粒子及び必要に応じて配合し、溶解または分散させた液を、前記基材上に塗工し、７０〜１２０℃で乾燥して塗膜を得て、次いで、活性エネルギー線を照射して、硬化させることにより得ることができる。塗工法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイ塗工等が挙げられる。
【００５８】
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線等のいずれでもよい。活性エネルギー線の照射強度及び照射時間は特に限定されず、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂に応じて適宜、照射強度、照射時間などの照射条件を設定することができる。
【００５９】
ハードコート層の膜厚は、０．５μｍ〜２０μｍであることが好ましい。より好ましくは、０．５μｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは、０．５μｍ〜５μｍである。この場合には、膜厚が５μｍ以下の場合は、硬化収縮による表面の面状悪化を問題ない程度に抑えることができる。一部の粒子は、樹脂の表面からその一部を突出させた状態となっていてもよい。また、粒子の突出した部分は、樹脂によって全面的に被覆されていても、一部のみが被覆されていてもよい。なお、粒子のすべてが、樹脂中に完全に埋没した状態であってもよい。
【００６０】
基材のカールを抑制するために、基材両面に塗布するハードコート層は、硬化収縮率が近いものを用いることが好ましい。さらに好ましくは、同じハードコート液である。また、膜厚は、略同一であることが好ましい。
【００６１】
また、ハードコート層の両面の厚みは、同一でなくてもよい。ハードコート層の厚みを変化することにより、人工的にハードコートフィルムにカールをつけ、偏光板や導電層等と積層体にした場合のカールを抑制することもできる。
【００６２】
ハードコート層表面の十点平均高さ（Ｒｚ）は、１．０μｍ以下が好ましい。より好ましくは、０．５μｍ以下が好ましい。ハードコート層の十点平均高さが上記範囲にある場合、特に導電膜との密着性が優れる。
【００６３】
ハードコート層の水に対する接触角は、ハードコート層の表面処理無しに、２０〜６０°であることが好ましい。より好ましくは、２０〜４０°である。ハードコート層の接触角が高いとＩＴＯ等の導電層を積層する際、密着性が悪く剥がれてしまうためである。
また、接触角が２０°であると、ロールに巻く制御が困難になる。
【００６４】
ハードコート層の鉛筆硬度は、ＪＩＳＫ５６００−５−４により測定する場合、ＨＢ以上であることが好ましい。より好ましくは、Ｈ以上である。
ハードコート層の耐擦傷性は、スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、ハードコートフィルムのハードコート層の表面を１０往復させ観察する際、目視で傷が確認されないことが好ましい。
ハードコート層の鉛筆硬度がＨＢ以下であるか又は、耐擦傷性が悪いと工程内でキズが発生することや、導電層成膜時に透明導電膜に傷が入ることがある。
【００６５】
ヘイズは、曇価ともよばれ、曇り具合、拡散度合いを表すものであって、例えば、市販されているヘイズメーター（日本電色社製、製品名「ＮＤＨ ２０００」） 等を用いて、ＪＩＳＫ-７１３６ に準拠してヘイズ（％） を測定することができる。両面ハードコートフィルムのヘイズは、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、２％以下がさらに好ましい。ヘイズが上記範囲外であると、白ぼけが発生しタッチパネルの視認性が低下する。
【００６６】
全光線透過率は、例えば、市販されているヘイズメーター（日本電色社製、製品名「ＮＤＨ ２０００」） 等を用いて、ＪＩＳＫ-７３６１ に準拠して全光線透過率（％） を測定することができる。両面ハードコートフィルムの全光線透過率は、８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。全光線透過率が以下の範囲より低いと視認性が低下する。
【００６７】
ハードコート層の屈折率は、熱可塑性ノルボルネン系フィルムとの屈折率差が５％以下であることが好ましい、より好ましくは、２％以内である。基材と屈折率差が高くなると、干渉ムラが発生するためである。
【００６８】
熱収縮率（％） は、１５０℃に加熱した強制循環式乾燥機の中に積層フィルムを６０分間静置させ寸法変化を測定し、熱収縮率を算出する場合、１．５％以下が好ましく、より好ましくは１．０％以下である。熱収縮率が１．５％を超えると、タッチパネルの変形が発生する場合がある。
【００６９】
残留溶剤（％）は、１５０℃に加熱した強制循環式乾燥機の中に標記フィルムを３０分間静置させ、残留溶媒は２．０％以下が好ましく、より好ましくは、１．０％以下である。残留溶剤が、２．０％を超えると、導電層成膜時の揮発溶剤量が多くなり導電層の不良が発生することがある。
【００７０】
本発明のハードコートフィルムは、可視光領域の透過度を向上させる目的で、ハードコート層上に反射防止層及びう低屈折率層を有することが好ましい。反射防止層及び低屈折率層に使用する粒子は特に限定はされないが、中空微粒子が好ましい。中空微粒子は、特に制限されないが、無機中空微粒子が好ましい。無機中空微粒子を構成する無機化合物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３、ＴｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３−ＳｎＯ２などを例示することができる。なお、上記「−」は、複合酸化物であることを示す。この中でも、特にシリカ系の中空微粒子が好ましい。この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると、中空粒子の中空部分の容積が増大して屈折率の低い中空粒子が得られるため、当該中空粒子を用いることにより低屈折率層を簡単に得ることができ、反射防止性能に優れたものとすることができる。
【００７１】
中空粒子の粒径は、５ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましい。中空粒子の粒径が上記範囲内にあることにより、反射防止層の透明性を維持することができる。ここで、中空粒子の粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００７２】
中空粒子は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法に基づいて製造できる。また、市販の中空粒子を用いてもよい。また、中空粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中空粒子と界面活性化剤またはカップリング剤とを反応させる方法などによって、中空粒子の表面に水酸基等の親水基やアクリロイル基を導入してもよい。
【００７３】
中空粒子をマトリックス中に分散させた多孔質体としては、特開２００１-２３３６１１号公報および特開２００３-１４９６４２号公報に開示されているような多孔質体が挙げられる。マトリックスに用いる材料は、中空粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度などの条件に適合する材料から選択され、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、アルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物などが挙げられる。この中でも、中空粒子の分散性、多孔質体の強度から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物が好ましい。また、中空粒子としては、前述したものを用いることができる。
【００７４】
本発明のハードコート層上に直接、導電層を積層することが好ましい。導電層は透明で且つ導電性を有していればよく、液晶基板やタッチパネルに用いられている従来公知の材料を用いることができる。
【００７５】
本発明において、導電層は特に限定されなく、導電性材料ならいずれもよい。例えば導電性材料は、導電性ポリマー、銀ペーストやポリマーペースト等の導電性ペースト、さらに金や銅等の金属コロイド、ＩＴＯ等の金属酸化物等が挙げられる。その材料としては、具体的には、錫をドープしたインジウム酸化物（ＩＴＯ） 、アンチモンまたはフッ素をドープした錫酸化物（ＡＴＯまたはＦＴＯ） 、アルミニウムをドープした亜鉛酸化物（ＡＺＯ） 、カドミウム酸化物、カドミウムと錫の酸化物、酸化チタン、酸化亜鉛、ヨウ化銅などの金属酸化物、または金（Ａｕ） 、銀（Ａｇ） 、白金（Ｐｔ） 、パラジウム（Ｐｄ） などの金属が挙げられる。これらの中でも、透明導電層を液晶表示素子用のタッチパネルとして用いる場合には、光線透過性、耐久性等の観点より、ＩＴＯが最も好ましい。
【００７６】
また、本発明において、導電層を積層する際、中間層としてケイ素化合物層を積層しても良い。ケイ素化合物を中間層とすることで、ＩＴＯ等の導電膜との密着性が改善されるためである。
【００７７】
この導電層の成膜は、特に限定されないが、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、ゾル・ゲル法、コーティング法などが例示される。
【００７８】
導電層の厚みは、特に限定されないが、ＩＴＯの場合には、好ましくは１０〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１５〜７０ｎｍ程度である。また、導電層の表面抵抗率は、特に限定されないが、好ましくは１００〜１０００Ω／□程度である。
【００７９】
本発明のハードコートフィルムは、ハードコートフィルムの片面に偏光膜を形成してもよい。また、偏光板と貼り合わせしてもよい。偏光子は、偏光機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系やポリエン系の偏光子が挙げられる。偏光子はその製造方法によって特に限定されない。
また、両面にハードコート層積層されたフィルムの透明導電層と反対側の面に、感圧性接着剤により偏光膜及び偏光板と接着されて、偏光板を構成するのが好ましい
【００８０】
本発明のハードコートフィルムは、１５ｎｍ以下の面内リタデーション値を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる基材又は1軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる延伸フィルムであり、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍの範囲にある１／４波長板機能を有する基材であり、基材の両面にハードコート層を形成することを特徴とするものである。
上記ハードコートフィルムは偏光膜保護フィルム、透明導電膜基板としての機能を兼ね備え、さらに複屈折補償機能を有するために、タッチパネル機能を備えた液晶ディスプレイ装置の構成部材として好適に使用することができる。上記各フィルムを個別に重ね合わせて組み込んだものに比較して、部品点数が減って軽量且つ薄型にでき、ディスプレイの反射防止性、視認性、偏光膜や透明導電膜の耐久性などを大幅に向上させることができる。
また、導電層の一体になったタッチパネルいわゆるインナータッチパネルと言われるものである。具体的には本発明のハードコートフィルムを、抵抗膜方式等のタッチパネルの上部電極および／ または下部電極用基材として好適に用いられる。
【実施例】
【００８１】
試験法、測定法
I．硬度測定（鉛筆硬度）
重を５００ｇにした以外はＪＩＳＫ５６００−５−４に従って、鉛筆で、ハードコートフィルムの表面（ハードコート層表面）の５箇所について、５ｍｍ程度引っかき、傷の付き具合を確認した。
II．耐擦傷性
スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、ハードコートフィルムのハードコート層の表面を１０往復させ、往復させた後の表面状態を目視で観測した。
○：傷が認められない。
△：スジ傷が３本以上ある。
×：スジ傷が８本以上ある。
III．ヘイズ及び全光線透過率
ヘイズメーター（日本電色社製、製品名「ＮＤＨ  ２０００」）を用いて測定した。
IV．干渉ムラ
反射防止フィルムの裏面に黒ビニールテープ（日東電工社製、Ｎｏ．２１）を貼り、暗室内で波長の光源下に置き、反射防止フィルムの法線方向から方位角３０〜６０°の範囲で観察し、干渉ムラの有り無しを目視検査を行った。
○：干渉ムラが認められない。
△：干渉ムラがわずかに認められる。
×：干渉ムラが認められる。
【００８２】
V．密着性
いわゆる碁盤目剥離試験法により評価した。すなわち、防汚層の上からカッターにより１ｍｍ間隔で縦横互いに直角に交わる各１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ四方の碁盤目を１００目作り、セロハン粘着テープ［積水化学社製］を貼り、粘着テープを表面に対して垂直方向に引っ張って剥がす試験により、１００目中の剥離しなかった目の数で表した。
○：１００／１００  （剥れ無しの数）
△：９５〜９９／１００  （剥れ無しの数）
×：０〜９４／１００  （剥れ無しの数）
VI．接触角測定
接触角測定器（協和界面科学社製、製品名「ＤＭ５００」）を用い、蒸留水を滴下の２秒後の接触角を測定した。
VII．耐熱性試験
１５０℃に加熱した乾燥機の中で６０分間静置し、乾燥後のフィルムの形状及び光学特性について測定を行った。
○：形状及び光学特性に変化なし。
△：形状の変化はないが、光学特性にわずかに変化あり。
×：形状及び光学特性に変化あり。
【００８３】
（試薬の作成方法）
調製例１（ハードコート層形成用組成物Ｈ１の調製）
６官能基以上のアクリロイル基を含有するウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、シリカ粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、数平均粒径３０ｎｍ）２０部と光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）６部とを加え、攪拌機を用いて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、ハードコート層形成用組成物Ｈ１を得た。
【００８４】
調製例２（ハードコート層形成用組成物Ｈ２の調製）
６官能基以上のアクリロイル基を含有するウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、五酸化アンチモン粒子（日揮触媒化成株式会社製、数平均粒径３０ｎｍ）２０部と光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）６部とを加え、攪拌機を用いて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、ハードコート層形成用組成物Ｈ２を得た。
【００８５】
調製例３（ハードコート層形成用組成物Ｈ３の調製）
６官能基以上のアクリロイル基を含有するウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、シリカ粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、数平均粒径３０ｎｍ）２０部と五酸化アンチモン粒子（日揮触媒化成株式会社製、数平均粒径３０ｎｍ）２０部の２種の微粒子と光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）６部とを加え、攪拌機を用いて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、ハードコート層形成用組成物Ｈ３を得た。
【００８６】
調製例４（ハードコート層形成用組成物Ｈ４の調製）
６官能基以上のアクリロイル基を含有するウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）６部を加え、攪拌機を用いて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、ハードコート層形成用組成物Ｈ４を得た。
【００８７】
（ハードコート層の形成方法）
ワイヤーバーを用いて、基材上に、前記ハードコート層形成組成物Hを塗布し、乾燥（９０℃×２分）、紫外線照射（積算光量２００ｍＷ／ｃｍ２）を行うことにより、膜厚が５μｍのハードコート層を形成し、両面の膜厚が各５μｍになるように、同様の工程をもう片面に行うことにより、両面ハードコートフィルムを得た。
【００８８】
（実施例１）
１５ｎｍ以下のリタデーションを有する基材として、厚みが１００μmの日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１６」（以下ゼオノアフィルムと省略）を用いた。前記基材上に、ハードコート層形成組成物Ｈ１を５μｍ両面に塗布し、紫外線照射により硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表１に示す。
【００８９】
（実施例２）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム上に、ハードコート層形成組成物Ｈ２を５μｍ両面に塗布し硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表１に示す。
【００９０】
（実施例３）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム上に、ハードコート層形成組成物Ｈ３を５μｍ両面に塗布し硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表１に示す。
【００９１】
（実施例４）
膜厚が４０μｍの１軸又は２軸延伸された熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる延伸フィルムであり、可視光５５０ｎｍの透過光に対する面内のリタデーション値（Ｒｅ）が１２０〜１６０ｎｍを示し、膜厚方向のリタデーション値(Ｒｔｈ)が−２５０ 〜＋１５０ｎｍの範囲にある１／４波長板機能を有する基材（以下ノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板と省略）にハードコート層形成組成物Ｈ１を両面に塗布し、紫外線照射により硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表２に示す。
【００９２】
（実施例５）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ２を両面に塗布し、硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表２に示す。
【００９３】
（実施例６）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ３を両面に塗布し、硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表２に示す。
【００９４】
（実施例７）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム両面にハードコート層形成組成物Ｈ１塗工し硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表３に示す。
【００９５】
（実施例８）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム両面にハードコート層形成組成物Ｈ２塗工し硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表３に示す。
【００９６】
（実施例９）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム両面にハードコート層形成組成物Ｈ３塗工し硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表３に示す。
【００９７】
（実施例１０）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ１を両面に塗工し、硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表４に示す。
【００９８】
（実施例１１）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ２を両面に塗工し、硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表４に示す。
【００９９】
（実施例１１）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ３を両面に塗工し、硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表４に示す。
【０１００】
（比較例１）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム上に、ハードコート層形成組成物Ｈ４を５μｍ両面に塗布し硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表１に示す。
【０１０１】
（比較例２）
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡製  コスモシャイン  Ａ-4300）上に、ハードコート層形成組成物Ｈ１を５μｍ両面に塗布し硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表１に示す。
【０１０２】
（比較例３）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ４を両面に塗布し、硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表２に示す。
【０１０３】
（比較例４）
膜厚が４０μｍのポリカーカーボネート樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ１を両面に塗布し、硬化を行った。
得られたハードコートフィルムの評価を行なった。結果を表２に示す。
【０１０４】
（比較例５）
厚み１００μｍのゼオノアフィルム両面にハードコート層形成組成物Ｈ４塗工し、硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１０５】
（比較例６）
膜厚が４０μｍのノルボルネン系樹脂からなる１／４波長板の両面にハードコート層形成組成物Ｈ４を両面に塗工し、硬化した後、ハードコートフィルム上にＩＴＯを１５０℃でスパッタリングして、さらに１５０℃で１時間熱処理を行うことにより、結晶性に優れた透明電極を形成し、タッチパネル用光学シートを得た。
得られた光学フィルムのＩＴＯとの密着性及び視認性の評価を行った。結果を表４に示す。
【０１０６】
【表１】
2011145593.tif 000003
【０１０７】
【表２】
2011145593.tif 000004
【０１０８】
【表３】
2011145593.tif 000005
【０１０９】
【表４】
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【０１１０】
ハードコート層形成組成物Ｈ１〜４を、１００μｍのゼオノアフィルム又は１／４波長板機能を有するノルボルネン系樹脂からなる基材の両面に塗布を行っても、ヘイズが１％で以下であり、全光線透過率が９０％以上である透明なハードコート積層体が得られる。ハードコート層形成組成物に数平均粒径が３０ｎｍのシリカ微粒子又は五酸化アンチモン微粒子を含有させることにより、鉛筆硬度の向上及び水に対する接触角の低下が確認された。両面にハードコート層を形成した結果、耐擦傷性、密着性、干渉ムラ、耐熱性に優れる両面ハードコートフィルムが得られる。しかし、基材がＰＥＴの場合（比較例２）、基材とハードコート層の屈折率差から干渉ムラが発生することが確認された。また、基材にポリカーボネート（比較例４）を用いた場合、１５０℃の耐熱試験で面状及び光学特性の劣化が確認された。
さらに、上記ハードコートフィルム上に１５０℃でＩＴＯをスパッタリングして、さらに、１５０℃で１時間熱処理を行い、透明電極を形成し、得られた光学フィルムとＩＴＯとの密着性及び視認性を評価した結果、視認性は極めて良いが、シリカ粒子を含有させることにより、ＩＴＯとの密着性に優れることが確認された。
【符号の説明】
【０１１１】
１・・・・・ハードコート層
２・・・・・基材
３・・・・・ハードコートフィルム
【図１】
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