(57)【要約】【課題】中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の両面に均一な欠陥のないレジスト層を効率的に形成できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の表面にスピンコーティング法によりレジストを塗布する塗布工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、前記塗布工程が、前記磁気記録媒体基板の内孔部を、前記基板の中心軸とする２つの円盤状の保持具で両面から挟み込み保持しつつレジストを塗布することで、前記基板の内孔部周辺に未塗布部を形成しつつ、前記基板の両主面に同時にレジスト層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の表面にスピンコーティング法によりレジスト液を塗布する塗布工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、
前記塗布工程が、前記磁気記録媒体基板の内孔部を、前記基板の中心軸とする２つの円盤状の保持具で両面から挟み込み保持しつつレジスト液を塗布することで、前記基板の内孔部周辺に未塗布部を形成しつつ、前記基板の両主面に同時にレジスト層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記２つの円盤状の保持具が、少なくともそれらの表面が撥水性であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記２つの円盤状の保持具の円周部が、いずれもテーパ形状を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記２つの円盤状の保持具による前記磁気記録媒体基板の保持の際、前記磁気記録媒体基板の内孔部が前記保持具により塞がれていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記２つの円盤状の保持具が、前記回転軸部で、取り外し可能に互いにかん合されることで前記磁気記録媒体基板を挟み込み保持していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記レジスト塗布が、前記２つの円盤状の保持具部に向けてそれぞれレジスト液を供給することであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記塗布工程に供せられる磁気記録媒体基板が磁性層または磁性層とその上に形成された保護層を有していることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記レジスト塗布が、前記磁気記録媒体基板の主面が鉛直になるようにして回転させながら、概ね水平方向から前記磁気記録媒体基板にレジスト液を供給することであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。より詳しくは、磁気記録媒体基板の表面にパターン形成するために、スピンコーティング法によりレジスト層を形成する塗布工程を含む磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスクドライブは大容量化の傾向にあり、磁気記録媒体の高記録密度化が進んでいる。記録密度の増加に伴うトラック密度の上昇に伴い、データ書き込み時、ヘッドギャップの側面から生じる漏れ磁界により、隣接するトラック間の領域にサイドフリンジと呼称される余計な記録がなされることがある。このサイドフリンジが、雑音の原因となって再生信号のＳ／Ｎを低下させる。
【０００３】
このような不具合を回避するため、隣接する記録トラックの間に溝を設けたディスクリートトラック方式の磁気記録媒体に関する提案がある（例えば特許文献１参照。）。このディスクリートトラック方式の磁気記録媒体は、隣接するトラック間に溝を設けることにより隣接するトラックを分離したものであり、上述したサイドフリンジの問題を回避することができる。
【０００４】
一方、さらなる高記録密度を企図してディスク上にそれぞれが１ビットとなるようなドットを形成するようなパターンドメディアも提案されている。
【０００５】
ディスクリートトラック媒体およびパターンドメディアは、どちらもディスク上に微細パターンを形成するものであり、これらのパターニングはインプリント法によって行われることが多い。
【０００６】
このインプリント法は、微細パターンが成形面に形成されたモールドを原型とし、レジスト液を塗布した基板の表面に微細パターンの転写を行うものであり、しかる後、レジスト面に転写された微細パターン（レジストパターン）により適当なエッチングを施し媒体表面を加工する。
【０００７】
レジスト液を塗布する方法として、スピンコーティング法が知られており、半導体の製造には広く用いられている。
【０００８】
スピンコーティング法は、基板を高速回転させながら、基板上に光硬化性レジスト、熱可塑性レジストなどの液状のレジスト材料(以下、レジスト液という)を滴下することで、レジスト液を基板の全面に均一に広げて塗布する方法である。
【０００９】
大容量のハードディスクドライブ用磁気記録媒体としては、円盤状の磁気記録媒体の両面に磁気記録を行い、使用するのが、通常である。
【００１０】
従って、表面にパターンを有する磁気記録媒体の製造においては、両面の加工が必要となる。しかしながら、磁気記録媒体で要求されるパターンは、数十ナノメートルレベルの精度であり、このような高精度な加工に適したレジスト層の形成方法としては、前出のスピンコーティング法が広く検討されている。
【００１１】
スピンコーティング法で基板に樹脂（レジスト液）を均一に塗布するには、基板の中心に滴下する必要があるが、磁気記録媒体の基板には通常中心に内孔が形成されており、この孔部が樹脂の延伸を妨げ、膜厚を均一にすることが難しくなる。そこで、基板中心の孔部を避けて樹脂を供給し、回転延伸する方法が行われている。また、中心の孔部を基板中心の孔部を避けず、基板片面に樹脂を供給する方法として、中心部に蓋をする方法が開示されている（例えば、特許文献２、３参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００５−１０８３５１号公報
【特許文献２】特開平１０−３２０８５０号公報
【特許文献３】特開平１１−２１３４５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来のスピンコーティング法では、基板の裏面を保持し、表面にレジスト液を塗布してレジスト層を形成する。磁気記録媒体では両面を加工するため、片面ずつパターンを形成する場合には、上述のように中心に内孔を持つ円盤状の基板の片面にレジスト液を塗布、インプリント、エッチングすることになり、両面にパターン形成するには２倍以上の製造時間が必要となり、効率が大幅に低下するといった問題がある。
【００１４】
また、片面ずつ加工する場合には、スピンコーティング、インプリント、エッチングの各工程で裏面への影響が発生する。そのために、両面を同じ品質で製造することは困難である。
【００１５】
すなわち、スピンコーティングによるレジスト層の形成では、基板表面にレジスト液を塗布するとき、基板裏面にレジスト液がまわり込むために、そのままでは裏面塗布時に影響し、均一な塗布ができないという課題がある。
【００１６】
更に、基板裏面にまわり込んだレジストは、基板から剥がれ易く、パーティクルとなって基板に付着するため、欠陥や不均一の原因になる。
【００１７】
また、片面ずつレジスト層を形成して、インプリント、エッチングを両面同時に加工する場合には、レジスト液塗布から加工までの時間が両面で異なるため、基板表面に塗布されたレジスト液に含まれる溶媒の残存量と基板裏面に塗布されたレジスト液に含まれる溶媒の残存量が異なる。このため塗布されたレジスト液の粘性が基板表面と裏面で異なり、この基板に両面同時インプリントを行うと表面と裏面に転写したパターン形状に違いが生じ、転写不良になる。
【００１８】
また、従来の基板内孔部に蓋をする方法では、レジスト液塗布後に蓋にレジスト液が付着しやすいため、基板から蓋を取り外すときに、内周の未塗布部にレジスト液が再付着しやすく、また塗布により形成されたレジスト層にばり（意図しないところにできた余計な部分）が発生しやすい。
【００１９】
内孔周辺の未塗布部に付着したレジストは、基板を内周で固定するときに剥がれ、パーティクルとなって、欠陥の原因となる。
【００２０】
一方、レジスト層にばりが発生したままインプリントを行うと、均一なインプリントができないだけでなく、接触した部分に圧力が集中し、インプリント用モールドが変形するため、モールドが劣化する。
【００２１】
また、従来、磁気記録媒体の製造工程で用いられている内周チャックによる基板保持する方法では、レジスト液を塗布するときにレジスト液がチャック部にまわり込んで付着し、基板搬送持にパーティクルが発生する問題がある。
【００２２】
本発明は、上記従来の実情を鑑みて、提案されたものであり、中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の両面に均一な欠陥のないレジスト層を効率的に形成できる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上述の目的を達成するために本発明の磁気記録媒体の製造方法は、中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の表面にスピンコーティング法によりレジスト液を塗布する塗布工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、前記塗布工程が、前記磁気記録媒体基板の内孔部を、前記基板の中心軸とする２つの円盤状の保持具で両面から挟み込み保持しつつレジスト液を塗布することで、前記基板の内孔部周辺に未塗布部を形成しつつ、前記基板の両主面に同時にレジスト層を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、磁気記録媒体の製造の各工程における加工装置への取り込み、保持、取り出しの際、内孔部周辺のレジスト未塗布部分を保持することによって、レジストの剥離等によるパーティクルの発生を防止することができ、よって、欠陥や不均一の発生を防止でき、磁気記録媒体基板の両面に均一な欠陥のないレジスト層を有する磁気記録媒体を効率的に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法における塗布工程で用いるスピンコーティング装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体の製造方法において磁気記録媒体を保持する保持具の蓋の一例を示す断面図である。
【図３】図１のスピンコーティング装置の一部を示す拡大断面図である。
【図４】保持具２，３のかん合部の一例を示す図である。
【図５】保持具２，３のかん合部の他の一例を示す図である。
【図６】保持具２，３のかん合部の他の一例を示す図である。
【図７】本発明の磁気記録媒体の製造方法における塗布工程で形成されたレジスト層の断面形状を示す図である。
【図８】比較例１で用いた従来から用いられているチャックで基板を保持した状態を示す概略図である。
【図９】比較例３で形成されたレジスト層の断面形状を示す図である。
【図１０】磁気記録媒体の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
本発明が適用される磁気記録媒体は、図１０に示すように、情報信号に対応した微細な凹凸パターンを有する磁性層が形成される磁気記録媒体であり、その中心に内孔を有するものである。
【００２７】
本発明において、塗布工程に供せられる磁気記録媒体基板は非磁性基板表面に少なくとも磁性層が形成されてなり、磁性層の上に保護層が形成されていてもよい。
【００２８】
この磁気記録媒体基板としては、例えば、非磁性基板の上に軟磁性層、シード層、中間層、磁性層、及び保護層をこの順に有するものを例示できる。
【００２９】
この非磁性基板としては、磁気記録媒体の製造に従来から用いられている任意の非磁性材料を用いることができる。たとえば、ガラス、Ｎｉ−Ｐめっきを施されたアルミ合金、あるいはシリコンなどの材料を用いて作製された基板を用いることができる。
【００３０】
軟磁性層としては、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅの少なくとも１つを含む軟磁性材料からなり、例えば、ＦｅＴａＣ、センダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金などの結晶性材料；ＦｅＴａＣ、ＣｏＦｅＮｉ、ＣｏＮｉＰなどの微結晶性材料；またはＣｏＺｒＮｄ、ＣｏＺｒＮｂ、ＣｏＴａＺｒなどのＣｏ合金を含む非晶質材料を用いて形成することができる。軟磁性層は、垂直磁気記録媒体において、磁気ヘッドの発生する垂直方向磁界を磁気記録層に集中させる機能を有する。軟磁性層の膜厚は、記録に使用する磁気ヘッドの構造や特性によって最適値が変化するが、おおむね５〜１００ｎｍであることが、生産性との兼ね合いから望ましい。
【００３１】
シード層は中間層となるＲｕなどの結晶配向を制御する結晶性の層であり、ＮｉＦｅＡｌ、ＮｉＦｅＳｉ、ＮｉＦｅＮｂ、ＮｉＦｅＢ、ＮｉＦｅＮｂＢ、ＮｉＦｅＭｏ、ＮｉＦｅＣｒなどのようなパーマロイ系材料；ＣｏＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅＳｉ、ＣｏＮｉＦｅＢ、ＣｏＮｉＦｅＮｂなどのようなパーマロイ系材料にＣｏをさらに添加した材料；Ｃｏ；あるいはＣｏＢ、ＣｏＳｉ、ＣｏＮｉ、ＣｏＦｅなどのＣｏ基合金を用いて形成することができる。シード層は、磁気記録層の結晶構造を制御するのに充分な膜厚を有することが望ましく、通常の場合、１０ｎｍ以下の厚みでスパッタリング法により成膜されることが望ましい。
【００３２】
中間層は磁気記録層の磁区配向を制御する層であり、このためにシード層により結晶配向される。この中間層はＲｕ、もしくはＲｕを主成分とする合金を用いて形成することができる。中間層は、１〜１０ｎｍの厚みを有する層であり、スパッタリング法などにより成膜される。このような膜厚とすることによって、磁気記録層の磁気特性や電磁変換特性を劣化させることなしに、高密度記録に必要な特性を磁気記録層に付与することが可能となる。
【００３３】
磁性層は磁区配向されて磁気記録層となる層であり、好適には、少なくともＣｏとＰｔを含む合金の強磁性材料を用いて形成することができる。強磁性材料の磁化容易軸は、磁気記録を行う方向に向かって配向していることが必要である。たとえば、垂直磁気記録を行うためには、磁気記録層の材料の磁化容易軸（六方最密充填（ｈｃｐ）構造のｃ軸）が、記録媒体表面（すなわち基体の主平面）に垂直方向に配向していることが必要である。磁性層は、たとえばＣｏＰｔ、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＴａなどの合金材料を用いて形成することができる。磁性層の膜厚は、特に限定されるものではない。しかしながら、生産性および記録密度向上の観点から、磁性層は、５〜５０ｎｍの膜厚を有し、スパッタリング法などにより成膜される。以下、表面に少なくとも磁性層を形成された磁気記録媒体を磁気記録媒体基板と称す。
【００３４】
図１に本発明で用いたスピンコーティング装置の概略図を示す。
図中、磁気記録媒体基板１は、円盤状の保持具２、３で挟み込み、保持される。保持具は、撥水性を有する材質で形成され、保持具２，３はいずれもその磁気記録媒体に接する面と反対側の面は中央部が厚く、外側に向けて徐々に薄くなるテーパ形状を有している。保持具３は、軸を同じくする回転軸４を通じて駆動部５に接続されている。
【００３５】
ここで、撥水性を有する材質とは、材質の表面に水を滴下したときに、水の接触角が８０°以上である材質をいう。撥水性の材質としては、水の接触角が９０°以上であることが好ましい。水の接触角が８０°未満であると、レジスト液が内周チャックにしみ込みやすくなり、その結果、未塗布部を維持することが困難になりやすい。
【００３６】
また、保持具のテーパ形状は、例えば図２に示すように、保持具の蓋のテーパ角αが１０°以上、９０°未満の形状であることが好ましい。テーパ角が１０°未満であると、保持具の上に乗ったレジスト液の延伸が不十分となり、磁気記録媒体表面のレジスト層が不均一になりやすい。
【００３７】
保持具２，３は、前記回転軸部で、取り外し可能に互いにかん合されることで前記磁気記録媒体基板を挟み込み保持する。すなわち、保持具２，３の磁気記録媒体基板に面する側において、保持具２，３の一方は外周が前記磁気記録媒体基板の内孔を塞ぐことができる外周を有する突起を有し、かつその突起中央部に他方の保持具の突起をかん合可能な凹部を有する。
【００３８】
かん合部の形状の例を図４〜６に示すが、これらの断面形状に限定されることは無く、断面が真円形状でなく、保持具２，３の一方が回転したときに、他方の保持具が前記一方の保持具に対して摺動することなく、かん合部を介して他方の保持具がこの回転に同期して回転する形状であればよい。
【００３９】
磁気記録媒体基板１は、鉛直方向で保持されており、駆動部５により回転する。レジスト液は、図示していない供給装置より送付され、磁気記録媒体基板１にほぼ垂直方向に位置する２つのノズル６より吐出し、同時に磁気記録媒体基板１表面に塗布される。図１に於いては、ノズル６先端は保持具２，３の表面に向けて設置されており、磁気記録媒体基板１の回転によりレジスト液は円周方向に広がり、磁気記録媒体基板１全面に均一に塗布できる。ノズル６は図示していない駆動装置により、水平方向に移動可能である。全体はケース７で覆われ、排気口８から排気されている。
【００４０】
このレジストとしては、アクリル系樹脂を主成分とする紫外線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂、あるいは熱硬化型樹脂などの樹脂材料、あるいはＳＯＧ(Spin On Glass)を用いることができる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例により更に具体的に本発明の磁気記録媒体の製造方法を説明する。
【００４２】
＜実施例１＞
２．５インチの磁気記録媒体基板１（内径φ２０ｍｍ、外径φ６５ｍｍ、表面に磁性層としてＣｏＣｒＰｔＢからなる層を有するガラス基板）をセットし、テーパ角６０°を有するφ２２ｍｍの円盤状の保持具２、３を磁気記録媒体基板１の内孔を介して互いにかん合させることで、磁気記録媒体基板１を保持し、図１に示すようなケース７内に収納した。保持具２、３は、テフロン（登録商標）製のものを用い、保持具の表面の水の接触角を測定したところ、１０２゜と高い撥水性があることを確認した。保持具３は回転軸４を介して駆動部５に接続している。
【００４３】
磁気記録媒体基板１は、図３に示すように、基板１と保持具２の蓋との接触面２ａ、基板１と保持具３の蓋との接触面３ａで固定、保持されている。また、保持具２，３はかん合しており、高速回転時にも、基板１と保持具２、３の間で摺動することを防止している。
この磁気記録媒体基板１を以下の手順で回転させながら、ケース７内にセットされたノズル６から、レジスト液を回転軸の蓋上、半径６ｍｍの位置に吐出させた。レジスト液は、保持具２，３の端から磁気記録媒体基板１上に移動することで、磁気記録媒体基板１の両面に同時に塗布した。レジストは東京応化工業（株）製ＳＯＧレジストを使用した。なお、本実施例では、図４に示す形状のかん合を用いた。
【００４４】
ステップ１：１秒間、回転数５００ｒｐｍで磁気記録媒体基板１を回転させた。
ステップ２：５秒間、回転数５００ｒｐｍで磁気記録媒体基板１を回転させながら、レジスト液を吐出した。
ステップ３：レジスト液吐出を停止した後、１秒間で回転数５００ｒｐｍから３０００ｒｐｍに上昇させた。
ステップ４：２０秒間回転数を３０００ｒｐｍ維持した後、回転を停止させた。
【００４５】
塗布されたレジスト膜厚を、片面毎に、周方向に８点、径方向に３点、計２４点を測定し、均一性を評価した。なお、膜厚測定はエリプソメータ（大塚電子社製）で行った。
【００４６】
Ａ面（保持具２側）のレジスト層の平均膜厚は９０ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚が２．２％以内の範囲にあり、均一性に優れていた。
【００４７】
Ｂ面（Ａ面に対して反対側）のレジスト層の平均膜厚は８９ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚が２．２％以内の範囲にあり、均一性に優れていた。
【００４８】
また、反射式の外観検査装置(Optical Surface Analyzer：KLA-Tencor社製)で表面観察したところ、Ａ，Ｂ両面ともにムラやスジは見られなかった。
【００４９】
未塗布部は、半径位置１０ｍｍから１１ｍｍに形成されており、レジスト液のしみ込みはなく、境界領域の幅は０．１ｍｍ以内であった。
【００５０】
＜実施例２＞
磁気記録媒体基板１として、内径φ２０ｍｍ、外径φ６５ｍｍ、表面にＣｏＣｒＰｔＢからなる磁性層とカーボンからなる保護層を有するガラス基板を用いたこと以外は実施例１と同様にしてレジスト層の形成を行なった。得られたレジスト層の膜厚、均一性、表面観察の結果はいずれも実施例１と同様であり、未塗布部の形成状況も実施例１と同様であった。
【００５１】
＜比較例１＞
図９のように従来チャック１１で磁気記録媒体基板１を挟み込み保持したことと、レジストの吐出を半径１１ｍｍの位置で行ったこと以外は実施例１と同様にして、磁気記録媒体基板１の両面に同時にレジスト液を塗布した。
【００５２】
実施例１と同様にして、膜厚の評価、レジスト層の表面観察を実施した。
Ａ面（回転軸を有する側の反対側）のレジスト層の平均膜厚は８６ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚が１０．４％以内の範囲にあった。また、Ｂ面（回転軸を有する側）のレジスト層の平均膜厚は８７ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚が９．２％以内の範囲にあった。
【００５３】
また、形成されたレジスト層の表面を観察したところ、Ａ，Ｂ両面ともに、内周チャックから外周へ延びたスジが見られた。
【００５４】
未塗布部はレジスト液が内周チャックにしみ込んだこと、またレジスト液の跳ね返りにより再付着したことにより、精度よく形成できなかった。境界領域の幅は１．８ｍｍ程度であった。また、チャック部にレジストが再付着したものから、パーティクルが発生していた。
【００５５】
＜参考例１＞
保持具の材質がアルミであること以外は実施例１で用いた保持具と同一寸法の保持具を用い、実施例１と同様にして表面に磁性層を有する磁気記録媒体基板１の両面に同時にレジスト液を塗布した。アルミからなる保持具の表面に水を滴下し、水の接触角を測定したところ、６７°であり、撥水性を示さなかった。
【００５６】
形成されたレジスト層につき、実施例１と同様にして、膜厚を評価し、表面観察を実施した。Ａ面（保持具２側）のレジスト層の平均膜厚は９３ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚は９．９％以内の範囲にあった。また、Ｂ面（Ａ面に対して反対側）のレジスト層の平均膜厚は９０ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚は８．２％以内の範囲にあった。
【００５７】
得られたレジスト層の表面を観察したところ、Ａ，Ｂ両面ともに、内周チャックから外周へ延びたスジが見られた。未塗布部はレジスト液が内周チャックにしみ込んだこと、また付着したことにより、精度よく形成できなかった。境界領域の幅は１．２ｍｍ程度であった。また、基板から保持具を外したとき、保持具に付着していたレジストが伸び、内周のレジスト層にばりが発生した。また、チャック部にレジスト液が再付着したものから、パーティクルが発生していた。
【００５８】
＜参考例２＞
テーパ角が０°の保持具に変更したこと以外は第１の実施例と同様にして、基板両面に同時にレジスト液を塗布した。
得られたレジスト層につき、実施例１と同様にして、膜厚を評価し、表面観察を実施した。Ａ面（保持具２側）のレジスト層の平均膜厚は９１ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚は３．３％以内の範囲にあった。また、Ｂ面（Ａ面に対して反対側）のレジスト層の平均膜厚は８８ｎｍであり、平均膜厚に対して膜厚は４．５％以内の範囲にあった。
【００５９】
保持具からレジスト液がスムースに延伸できなかったために、Ａ，Ｂ両面ともに内周部にムラが見られた。未塗布部は、半径位置１０ｍｍから１１ｍｍに形成されており、レジスト液のしみ込みはなく、境界領域の幅は０．８ｍｍ以内であった。
【００６０】
実施例１で得られた磁気記録媒体基板１の内周部のレジスト層断面形状（図７）と比較すると、本比較例ではレジスト層は図８のようにレジスト層の内周部分が薄くなっている。このため、内周のレジスト層の均一性が実施例１，２に比べると劣り、インプリントを行った後の内周部のパターンも実施例１，２ほどには精度良く転写できていなかった。
【００６１】
以上より、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、未塗布部を精度良く形成するため、レジスト層内周部のムラ、ばりの発生、さらにレジスト液の再付着によるパーティクルの発生を防止できることを確認した。また、内周部のレジスト層も精度良く形成できるため、基板の内周部におけるインプリントの転写精度を向上できることがわかった。
【符号の説明】
【００６２】
１  磁気記録媒体基板
２  保持具
２a 基板と保持具２との接触面
３  保持具
３a 基板と保持具３との接触面
４  回転軸
５  駆動部
６  ノズル
７  ケース
８  排気口
10  レジスト層
11  従来の方式によるチャック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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