(57)【要約】【課題】光の乱反射を減らした液晶ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 複数の基板が相互対向して配され、その間に液晶層が形成された液晶ディスプレイパネルと、液晶ディスプレイパネルの下部に配され、液晶ディスプレイパネルに光を照射するバックライトユニットと、を備えるが、液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面に形成された欠陥ホール内に充填され、基板の表面に対して水平面になるように充填材が形成され、充填材が充填された欠陥ホール上にカバー部材が付着されたことを特徴とする液晶ディスプレイ装置である。これにより、充填材によって欠陥ホールが形成された領域を充填させるので、光の乱反射を未然に防止する。このように、エッチング工程で発生する物理的な限界を克服して超薄型加工を通じて薄型のディスプレイ装置を具現可能である。【選択図】図３
2011232732.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板が相互対向して配され、その間に液晶層が形成された液晶ディスプレイパネルと、
前記液晶ディスプレイパネルの下部に配され、前記液晶ディスプレイパネルに光を照射するバックライトユニットと、を備えるが、
前記液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面に形成された欠陥ホール内に充填され、前記基板の表面に対して水平面になるように充填材が形成され、
前記充填材が充填された欠陥ホール上にカバー部材が付着されたことを特徴とする液晶ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記充填材の屈折率は、前記基板の屈折率に対して±１０％以内の値を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記充填材は、液状のアクリル系充填材であることを特徴とする請求項２に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記充填材は、一種のガス、または二つ以上のガスが混合されたことを特徴とする請求項２に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記ガスは、二酸化炭素ガスを含むことを特徴とする請求項４に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項６】
前記カバー部材は、接着剤を媒介として付着された偏光膜を備えることを特徴とする請求項３または４に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項７】
複数の基板内に液晶層が形成されて画像を形成することに係り、
前記液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面から形成された欠陥ホール内に液状の充填材を充填する工程と、
前記液状の充填材が充填されて前記基板の表面に対して水平面になる工程と、を含む液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項８】
前記液状の充填材を充填する工程では、
液状のアクリル系充填材用原素材がスクイーズによって前記欠陥ホール内に充填される工程と、
前記液状のアクリル系充填材用原素材に紫外線光線を照射して硬化させる工程と、を含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項９】
前記液状の充填材を充填する工程では、
前記液状の充填材用原素材を吐出するノズル部の直径が、前記欠陥ホールのサイズより小さく形成されたディスペンサを利用して、液状のアクリル系充填材用原素材を前記欠陥ホール内に噴射する工程と、
前記液状のアクリル系充填材用原素材が硬化する工程と、を含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１０】
硬化したアクリル系充填材の表面を研磨する工程をさらに含むことを特徴とする請求項８または９に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１１】
前記液状の充填材の屈折率は、前記基板の屈折率に対して±１０％以内の値を有することを特徴とする請求項７に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１２】
前記充填材が充填された基板の表面には、接着剤を媒介として偏光膜が付着されることを特徴とする請求項７に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１３】
複数の基板内に液晶層が形成され、画像を形成することに係り、
前記液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面から形成された欠陥ホール内に気相の充填材を充填する工程と、
前記充填材が充填された欠陥ホール上にカバー部材を付着する工程と、を含む液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１４】
前記複数の基板は、気相の充填材雰囲気の真空チャンバ内に配され、
前記気相の充填材が存在する結合ホール上に前記カバー部材が付着されることを特徴とする請求項１３に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１５】
前記気相の充填材の屈折率は、前記基板の屈折率に対して±１０％以内の値を有することを特徴とする請求項１３に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１６】
前記充填材は、一種のガス、または二つ以上のガスが混合されたことを特徴とする請求項１５に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１７】
前記ガスは、二酸化炭素ガスを含むことを特徴とする請求項１６に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１８】
前記カバー部材は、前記充填材が充填された基板の表面上に接着剤を媒介として偏光膜を備えることを特徴とする請求項１３に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置に係り、さらに詳細には、基板から発生した欠陥ホールをカバーした液晶ディスプレイ装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、液晶ディスプレイパネル(Ｌｉｑｕｉｄ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ)のようなディスプレイ装置は、それ自体が発光して画像を形成できず、外部から光が入射されて画像を表示する受光型ディスプレイ装置である。
【０００３】
液晶ディスプレイパネルは、自発的に発光できないので、液晶ディスプレイパネルの後方には、バックライトユニットが設置されて、パネル側に光を照射する。これにより、暗い所でも画像が観察できる。バックライトユニットは、液晶ディスプレイパネルのような受光型ディスプレイ装置以外にも、照明看板のような面光源装置としても使われている。
【０００４】
液晶ディスプレイパネルは、二枚の基板間に液晶を注入して、電源供給時に液晶分子の配列を変化させることによって、イメージ、数字、文字を表示する。液晶ディスプレイパネルは、駆動方式、表示方式、及び表示形態によって多様に分類できる。このうち、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ)液晶ディスプレイパネルは、基板上の各ピクセルごとにトランジスタを一定に配列したパネルを称す。
【０００５】
最近では、液晶ディスプレイパネルの軽薄短小化のために、複数の基板の厚さをさらに薄くしている。しかし、複数の基板の厚さを薄く製造した後、複数の基板内にそれぞれの機能層を形成させれば、焼成のような高温工程など、各機能層を製造する過程で薄型の基板の破損や変形、各機能層のパターン不良が発生しうる。
【０００６】
これにより、従来には、複数の基板内にそれぞれの機能層を形成した後に、複数の基板に対するエッチングによって基板の薄型化を達成した。しかし、従来のエッチング液によって基板をエッチングする時、基板に形成された欠陥ホールの制御が難しかった。
【０００７】
例えば、通常、基板に発生する欠陥ホールの深さは、約１０ないし５０μｍであるが、研磨機を利用して５ないし１０μｍの厚さに研磨することによって、欠陥ホールのサイズを減らそうとしていた。
【０００８】
しかし、研摩機を利用してエッチングされた基板の表面を研磨する時、研磨される厚さを減らすのに限界がある。これにより、基板には、依然として欠陥ホールが存在する。
【０００９】
特に、量産時、複数の基板全体にわたって欠陥ホールが散在しているので、研磨しようとする基板の選定が難しい。
【００１０】
しかも、研磨によって欠陥ホールのサイズを減らすとしても、基板に対する良品判定を受ける確率は、７０％以下であり、さらに、基板の厚さは、さらに薄くなっている状態で、欠陥ホールのサイズは、相対的にさらに大きくなって、不良の発生確率がさらに上昇する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする課題は、基板に形成された欠陥ホールを充填材で充填することによって、光の乱反射を減らす液晶ディスプレイ装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を達成するために、本発明の一側面による液晶ディスプレイ装置は、複数の基板が相互対向するように配され、その間に液晶層が形成された液晶ディスプレイパネルと、前記液晶ディスプレイパネルの下部に配され、前記液晶ディスプレイパネルに光を照射するバックライトユニットと、を備えるものの、前記液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面に形成された欠陥ホール内に充填され、前記基板の表面に対して水平面になるように充填材が形成され、前記充填材が充填された欠陥ホール上にカバー部材が付着されたことを特徴とする。
【００１３】
また、前記充填材の屈折率は、前記基板の屈折率に対して±１０％以内の値を有する。
【００１４】
さらに、前記充填材は、液状のアクリル系充填材である。
【００１５】
さらに、前記充填材は、少なくとも一つ以上のガスが混合されている。
【００１６】
また、前記ガスは、二酸化炭素ガスを含む。
【００１７】
本発明の他の側面による液晶ディスプレイ装置の製造方法は、複数の基板内に液晶層が形成されて画像を形成することに係り、前記液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面から形成された欠陥ホール内に液状の充填材を充填する工程と、前記液状の充填材が充填され、前記基板の表面に対して水平面になる工程と、を含む。
【００１８】
また、前記液状の充填材を充填する工程では、液状のアクリル系充填材用原素材がスクイーズによって前記欠陥ホール内に充填される工程と、前記液状のアクリル系充填材用原素材に紫外線光線を照射して硬化させる工程と、を含む。
【００１９】
さらに、前記液状の充填材を充填する工程では、前記液状の充填材用原素材を吐き出すノズル部の直径が、前記欠陥ホールのサイズより小さく形成されたディスペンサを利用して、液状のアクリル系充填材用原素材を前記欠陥ホール内に噴射する工程と、前記液状のアクリル系充填材用原素材が硬化する工程と、を含む。
【００２０】
また、前記液状の充填材の屈折率は、前記基板の屈折率に対して±１０％以内の値を有する。
【００２１】
本発明のさらに他の側面による液晶ディスプレイ装置の製造方法は、複数の基板内に液晶層が形成されて画像を形成することに係り、前記液晶層が形成された部分に対して離隔して配された基板の表面から形成された欠陥ホール内に気相の充填材を充填する工程と、前記充填材が充填された欠陥ホール上にカバー部材を付着する工程と、を含む。
【００２２】
さらに、前記複数の基板は、気相の充填材雰囲気の真空チャンバ内に配され、前記気相の充填材が存在する結合ホール上に前記カバー部材が付着される。
【００２３】
また、前記気相の充填材の屈折率は、前記基板の屈折率に対して±１０％以内の値を有する。
【００２４】
さらに、前記カバー部材は、前記充填材が充填された基板の表面上に接着剤を媒介として偏光膜を備える。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の液晶ディスプレイ装置及びその製造方法は、充填材によって欠陥ホールが形成された領域を充填させるので、光の乱反射を未然に防止する。このように、エッチング工程で発生する物理的な限界を克服して、超薄型加工を通じて薄型のディスプレイ装置を具現可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】通常の液晶ディスプレイパネルの一部を拡大して示す断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による液晶ディスプレイ装置を一部切除して示す断面図である。
【図３】図２のＡ部分を拡大して示す断面図である。
【図４Ａ】本発明の一実施形態による液状の充填材を利用する状態を示す断面図であって、図２の基板上に液状の充填材を充填する状態を示す断面図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施形態による液状の充填材を利用する状態を示す断面図であって、図４Ａの欠陥ホールにカバー部材を付着させた後の状態を示す断面図である。
【図５Ａ】本発明の他の実施形態による液状の充填材を利用する状態を示す断面図であって、図２の基板上に液状の充填材を充填する状態を示す断面図である。
【図５Ｂ】本発明の他の実施形態による液状の充填材を利用する状態を示す断面図であって、図５Ａの欠陥ホールにカバー部材を付着させた後の状態を示す断面図である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態による気相の充填材を利用する状態を示す断面図であって、図２の基板上に気相の充填材を充填する状態を示す断面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態による気相の充填材を利用する状態を示す断面図であって、図６Ａの欠陥ホールにカバー部材を付着させた後の状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、添付した図面を参照して、本発明による望ましい実施形態を詳細に説明する。
【００２８】
図１は、通常の液晶ディスプレイパネル１００を示した図面である。
【００２９】
図面を参照すれば、前記液晶ディスプレイパネル１００は、第１基板１０１と、第２基板１０２と、前記第１及び第２基板１０１,１０２間に形成された液晶層１０３と、第１基板１０１の上面に形成された第１機能層１０４と、前記第２基板１０２の下面に形成された第２機能層１０５と、前記第１基板１０１の外面に接着剤１０６を媒介として付着された第１偏光膜１０７と、第２基板１０２の外面に形成された第２偏光膜(図示せず)と、を備える。
【００３０】
前記のような構成を有する液晶ディスプレイパネル１００は、前記第１基板１０１及び第２基板１０２上にそれぞれ第１機能層１０４及び第２機能層１０５をパターニングした後に、第１基板１０１及び第２基板１０２に対するエッチングによって、前記第１基板１０１及び第２基板１０２の薄型化を達成する。
【００３１】
この時、前記第１基板１０１や第２基板１０２には、これらを準備する過程や各機能層１０４,１０５を形成させる過程で、ディンプル（ｄｉｍｐｌｅ）形状の欠陥ホール１０８が多数発生する。
【００３２】
前記欠陥ホール１０８が形成されれば、矢印で示したように、バックライトユニットから照射された光によって、前記欠陥ホール１０８が形成された第１基板１０１や第２基板１０２から乱反射が発生する。乱反射が発生すれば、液晶ディスプレイ装置を視聴する時、欠陥として視認する。
【００３３】
したがって、エッチングされた第１基板１０１や第２基板１０２の表面を研磨して前記欠陥ホール１０８のサイズを減らすことによって、前記欠陥ホール１０８による光の乱反射を減少させる必要がある。
【００３４】
図２は、本発明の一実施形態による液晶ディスプレイ装置２００を示した図面である。
【００３５】
図面を参照すれば、前記液晶ディスプレイ装置２００は、液晶ディスプレイパネル２１０と、前記液晶ディスプレイパネル２１０に光を照射するバックライトユニット２６０とを備える。
【００３６】
前記液晶ディスプレイパネル２１０は、第１基板２０１と、前記第１基板２０１と対向して配された第２基板２０２とを備える。前記第１基板２０１及び第２基板２０２は、透明な基板、例えば、ソーダライムガラスのような透明なガラス基板や透明なプラスチック基板が使用可能である。
【００３７】
前記第１基板２０１上には、第１機能層２０３が形成されている。
【００３８】
すなわち、前記第１基板２０１の上面には、バッファ層２０４が形成されている。前記バッファ層２０４は、第１基板２０１の平滑性を確保し、不純元素の流出を防止するために形成する。前記バッファ層２０４は、ＳｉＯ２及び/またはＳｉＮｘで形成できる。
【００３９】
前記バッファ層２０４上には、半導体活性層２０５が所定のパターンで形成されている。前記半導体活性層２０５上には、ゲート絶縁膜２０６が形成され、前記ゲート絶縁膜２０６上には、ゲート電極２０７が所定のパターンで形成されている。前記ゲート電極２０７上には、これをカバーするように層間絶縁膜２０８が形成されている。
【００４０】
前記層間絶縁膜２０８が形成された後には、ドライエッチングなどの工程によってゲート絶縁膜２０６と層間絶縁膜２０８とをエッチングして、半導体活性層２０５の領域が露出されるようにコンタクトホールを形成する。コンタクトホールを通じて前記半導体活性層２０５と電気的に連結されるように、ソース電極２０９及びドレイン電極２２９が形成されている。
【００４１】
前記ソース電極２０９及びドレイン電極２２９は、パッシベーション膜２１１によってカバーされている。前記パッシベーション膜２１１上には、平坦化膜２１２が形成されている。前記パッシベーション膜２１１及び平坦化膜２１２をエッチングして、前記ソース電極２０９またはドレイン電極２２９と電気的に連結されるように、所定のパターンで第１電極２１３を形成する。
【００４２】
前記第２基板２０２の下部には、第２機能層２１４が形成されている。
【００４３】
すなわち、前記第２基板２０２の下面には、カラーフィルタ層２１５が形成されている。前記カラーフィルタ層２１５の下面には、第２電極２１６が形成されている。
【００４４】
前記第１電極２１３の上部には、第１液晶配向層２１７が形成され、前記第２電極２１６の下部には、第２液晶配向層２１８が形成されている。前記第１液晶配向層２１７と第２液晶配向層２１８との間には、液晶層２１９が形成されている。前記カラーフィルタ層２１５と平坦化膜２１２との間には、液晶層２１９を区画するスペーサ２２０が形成されている。
【００４５】
一方、前記第１基板２０１の外面には、第１偏光膜２２１が形成されている。前記第２基板２０２の外面には、第２偏光膜２２２が形成されている。
【００４６】
前記液晶ディスプレイパネル２１０の後方には、発光部であるバックライトユニット２６０が設置されている。
【００４７】
前記バックライトユニット２６０は、光源素子(図示せず)と、光源素子から供給される光を案内して液晶ディスプレイパネル２１０に提供する導光板２６１とを備える。
【００４８】
前記導光板２６１は、均一な面光源を提供するために、特定のパターンで形成させうる。例えば、前記導光板２６１には、透明なアクリル樹脂の一面に入射される光を散乱及び拡散させるために、ビード状の酸化チタンと、ガラスまたはアクリルとを含むインクを利用して、複数の導光パターン部を印刷しうる。
【００４９】
導光パターン部は、前記した印刷方式以外に、無印刷方式、例えば、金型を利用したスタンピング方式や射出成形方式で形成できる。さらに望ましくは、導光パターン部は、レーザビームによって加工し、アクリル樹脂の気化によって、その端面に鋸歯形状を形成しうる。微細鋸歯形は、マイクロレンズの役割を可能にするので、多様な角度から光の散乱性を拡大させうる。
【００５０】
前記した導光パターン部は、所定深さのグルーブからなるドット型や四角形、格子型、及びこれらの混合型、または所定深さの断続的なグルーブからなる点線型や連続的なグルーブからなる直線型でありうる。また、導光パターン部は、光源素子から遠ざかるほど、光拡散及び散乱率を高めるために、グルーブのサイズが順次に大きくなるか、またはグルーブのピッチが順次に小さくなりうる。
【００５１】
前記液晶ディスプレイパネル２１０と導光板２６１との間には、光学シート２６２が介されている。前記光学シート２６２は、少なくとも１枚以上のシートであって、拡散シートと、プリズムシートとを含み、前記導光板２６１から案内された光を拡散または集光して、前記液晶ディスプレイパネル２１０にさらに均一な面光源として入射可能である。
【００５２】
前記光学シート２６２と反対側の導光板２６１の背面には、反射シート２６３が設置されている。前記反射シート２６３は、前記導光板２６１の背面を透過した光を、前記液晶ディスプレイパネル２１０に反射させて光の利用効率を向上させる。
【００５３】
図示していないが、光源素子は、冷陰極蛍光ランプや外部電極蛍光ランプ、または発光ダイオードを利用でき、白色光を照射する複数の白色発光ダイオードを使用することが望ましい。
【００５４】
ここで、前記液晶層２１９が配された部分に対して離隔して配された第１基板２０１の表面や第２基板２０２の表面には、原素材を準備する過程や第１機能層２０３及び第２機能層２１４を形成させる過程で、欠陥ホール３２１が形成されうるが、前記欠陥ホール３２１には、充填材３３１が充填されている。
【００５５】
これをさらに詳細に説明すれば、次の通りである。
【００５６】
図３は、図２のＡ部分を拡大して示した図面である。
【００５７】
以下、第１基板２０１の表面に形成された欠陥ホール３２１の充填について説明するが、前記第２基板２０２にも、同一に適用可能である。
【００５８】
図面を参照すれば、前記第１基板２０１の第１面２０１ａには、接着剤３１１によって第１偏光膜２２１が付着されている。前記第１面２０１ａは、バックライトユニット２６０（図２)から照射された光が入射される面である。前記第１面２０１ａと反対側の第２面２０１ｂには、第１機能層２０３が形成されている。
【００５９】
前記第１機能層２０３は、図２に示したように、バッファ層２０４、活性層２０５、ゲート絶縁膜２０６、ゲート電極２０７、層間絶縁膜２０８、ソース電極２０９、ドレイン電極２２９、パッシベーション膜２１１、平坦化膜２１２、第１電極２１３、及び第１液晶配向層２１７を備える。
【００６０】
前記第２基板２０２の第１面２０２ａ、すなわち、前記第１機能層２０３と対向する部分には、第２機能層２１４が形成されている。前記第２機能層２１４は、図２に示したように、カラーフィルタ層２１５、第２電極２１６、及び第２液晶配向層２１８を備える。
【００６１】
前記第１基板２０１と第２基板２０２との間には、液晶層２１９が形成されている。
【００６２】
この時、前記第１基板２０１を薄型化させるために適用するエッチング工程で、エッチング液が接触する前記第１基板２０１の第１面２０１ａには、第１基板２０１を準備する過程や第１機能層２０３を形成させる過程で、複数のディンプル形状の欠陥ホール３２１が発生しうる。
【００６３】
前記欠陥ホール３２１が存在した状態で、第１基板２０１と第２基板２０２とを結合することによって製造された液晶ディスプレイ装置２００を視聴すれば、欠陥ホール３２１が形成された領域で、光の乱反射が発生して、視認性が低下する。
【００６４】
これを防止するために、前記欠陥ホール３２１には、充填材３３１が充填されている。すなわち、前記充填材３３１は、液晶層２１９が形成された部分に対して離隔して配された第１基板２０１の第１面２０１ａに形成された欠陥ホール３２１に充填されている。
【００６５】
前記充填材３３１は、前記欠陥ホール３２１に充填する時、前記第１基板２０１の第１面２０１ａに対して水平面になっている。前記充填材３３１は、液状や気相及び固状のうちいずれか一つの素材を利用して形成しうる。
【００６６】
ここで、本明細書中における水平面とは、第１面２０１ａに形成された欠陥ホール３２１に充填された充填材３３１の形成する面が、例えば第１面２０１ａに平行であり、及び／又は第１面２０１ａの面内にあることをいうものとする。他の面に形成された欠陥ホールについても同様である。
【００６７】
液状の素材を利用する場合、前記充填材３３１は、アクリル系素材が望ましい。また、気相の素材を利用する場合、前記充填材３３１は、一種のガス、または二つ以上のガスを混合したものであって、二酸化炭素(ＣＯ２)ガスを含むことが望ましい。
【００６８】
この時、前記充填材３３１は、前記第１基板２０１の屈折率に対して±１０％以内の屈折率を有する。望ましくは、前記充填材３３１の屈折率は、前記第１基板２０１の屈折率と同じであることが望ましい。
【００６９】
例えば、前記第１基板２０１が透明なガラス基板からなる場合、前記第１基板２０１の屈折率は、約１.５である。この時、前記欠陥ホール３２１に充填されたアクリル系素材のような液状の充填材３３１の屈折率も、前記第１基板２０１と実質的に同一に１.５であることが望ましい。
【００７０】
さらに、前記欠陥ホール３２１に充填された二酸化炭素(ＣＯ２)ガスを含む気相の充填材３３１の屈折率も、第１基板２０１の屈折率に対して±１０％以内の近似値を有する約１.６３である。
【００７１】
前記液状や気相の充填材３３１が充填された欠陥ホール３２１を備える前記第１基板２０１の第１面２０１ａには、接着剤３１１を媒介としてカバー部材の役割を行う第１偏光膜２２１が付着されている。前記第１偏光膜２２１によって、液状や気相の充填材３３１が充填された欠陥ホール３２１をカバーしている。
【００７２】
前記のような構成を有する液晶ディスプレイ装置２００は、発光部の役割を行うバックライトユニット２６０から光を照射すれば、直進性を有する光は、第１偏光膜２２１及び接着剤３１１を透過して、第１基板２０１の第１面２０１ａに入射する。
【００７３】
この時、前記欠陥ホール３２１が形成された領域では、光の乱反射が発生するが、本実施形態では、液状や気相の充填材３３１が欠陥ホール３２１を充填し、第１基板２０１の第１面２０１ａに対して充填材３３１が同じ水平面になり、しかも、前記第１基板２０１の屈折率に対して±１０％の屈折率を有する充填材３３１が充填されることによって、図３の矢印で示したように、屈折率の偏差による光の乱反射を除去し、光の直進性を確保しうる。
【００７４】
前記のような構成を有する液晶ディスプレイ装置２００の製造過程を、図２及び図３を参照して説明すれば、次の通りである。
【００７５】
まず、第１基板２０１と第２基板２０２とを準備する。
【００７６】
準備した第１基板２０１の第２面２０１ｂ上には、第１機能層２０３を形成する。この時、第１機能層２０３は、バッファ層２０４、活性層２０５、ゲート絶縁膜２０６、ゲート電極２０７、層間絶縁膜２０８、ソース電極２０９、ドレイン電極２２９、パッシベーション膜２１１、平坦化膜２１２、第２電極２１３、及び第２液晶配向層２１７を備える。
【００７７】
前記第２基板２０２の第１面２０２ａ上には、第２機能層２１４を形成する。この時、第２機能層２１４は、カラーフィルタ層２１５、第２電極２１６、及び第２液晶配向層２１８を備える。
【００７８】
第１機能層２０３及び第２機能層２１４が前記第１基板２０１及び第２基板２０２上にそれぞれ形成された後には、前記第１基板２０１と第２基板２０２との間の空間を外部から密閉させた後、別途に設けられた液晶注入孔を通じて液晶を注入することによって、第１基板２０１と第２基板２０２との間の空間に液晶層２１９を形成する。
【００７９】
このように、前記第１基板２０１及び第２基板２０２上にそれぞれ第１機能層２０３及び第２機能層２１４を形成した後には、第１基板２０１の第１面２０１ａや第２基板２０２の第１面２０２ａと向き合う表面に形成されたディンプル形状の欠陥ホール３２１を、充填材３３１によって充填させる。前記充填材３３１の屈折率は、前記第１基板２０１や第２基板２０２の屈折率に対して±１０％以内の値を有する。
【００８０】
一方、前記第１基板２０１及び第２基板２０２上にそれぞれ第１機能層２０３及び第２機能層２１４を形成する以前に、前記第１基板２０１の第１面２０１ａや、第２基板２０２の第１面２０２ａと向き合う面に形成された欠陥ホール３２１に充填材３３１を充填させることもある。
【００８１】
以下、前記第１基板２０１の第１面２０１ａに形成された欠陥ホール３２１に充填材３３１を充填させる多様な方法について説明するが、前記第２基板２０２も、同一に適用可能である。
【００８２】
まず、図４Ａに示したように、前記充填材３３１が液状の素材、例えば、アクリル系素材用原素材３３２を使用する場合、スクイーズ４０１を利用して前記第１基板２０１の第１面２０１ａに塗布する。前記第１面２０１ａは、バックライトユニット２６０(図２)から光が入射される面であって、前記液晶層２１９(図２）が配された部分に対して離隔して配された面である。
【００８３】
この時、前記アクリル系素材用原素材３３２は、第１基板２０１の第１面２０１ａの全体領域にわたって塗布されうるが、ディンプル形状の欠陥ホール３２１が形成された部分にのみ選択的に形成させることが望ましい。また、前記アクリル系素材用原素材３３２の屈折率は、１.５であって、前記第１基板２０１の屈折率と同一である。
【００８４】
次いで、前記欠陥ホール３２１に充填されたアクリル系素材用原素材３３２は、紫外線光線を照射することによって硬化させる。以後、追加的な工程としては、硬化したアクリル系素材用原素材３３２を第１基板２０１の第１面２０１ａに対して水平面になるように研磨しうる。
【００８５】
次いで、図４Ｂに示したように、前記第１基板２０１の第１面２０１ａには、接着剤３１１を媒介としてカバー部材の役割を行う第１偏光膜２２１を付着させる。このように、前記第１偏光膜２２１によって硬化した充填材３３１が充填された欠陥ホール３２１をカバーしている。
【００８６】
前記した方法以外に、液状の充填材３３１を形成させる他の製造方法を説明すれば、次の通りである。
【００８７】
図５Ａを参照すれば、前記第１基板２０１の第１面２０１ａに形成されたディンプル形状の欠陥ホール３２１に、アクリル系素材用原素材３３２を保存するディスペンサ５０１を利用して、前記欠陥ホール３２１にこれを噴射させることによって充填させる。
【００８８】
この時、前記アクリル系素材用原素材３３２を噴射させる吐出口の役割を行うディスペンサ５０１のノズル部５０２の直径は、前記欠陥ホール３２１のサイズより小さく形成されることが、前記第１基板２０１の第１面２０１ａの所望の領域に選択的に吐出させるのに有利である。
【００８９】
これにより、前記欠陥ホール３２１には、前記アクリル系素材用原素材３３２が充填され、これを硬化させる。次いで、追加的な工程としては、前記充填材３３１が第１基板２０１の第１面２０１ａに対して水平面になるように研磨しうる。
【００９０】
次いで、図５Ｂに示したように、前記第１基板２０１の第１面２０１ａには、接着剤３１１を媒介としてカバー部材の役割を行う第１偏光膜２２１を付着させる。このように、前記第１偏光膜２２１によって液状の充填材３３１が充填された欠陥ホール３２１をカバーしている。
【００９１】
一方、気相の充填材６３１を形成させる方法を説明すれば、次の通りである。
【００９２】
以下、欠陥ホール６２１が形成された第１基板２０１を抜粋して示すが、実質的に第１基板２０１と第２基板２０２とが結合された状態である。
【００９３】
図６Ａに示したように、気相の素材を利用する場合、機能層２０３が形成された第１基板２０１を真空チャンバ６０１に配置する。この時、前記真空チャンバ６０１内の雰囲気は、一種のガス、または二つ以上のガスを混合したものであって、二酸化炭素(ＣＯ２)ガス６０２を含んでいる。前記二酸化炭素ガス６０２は、充填材用原素材として利用される。前記第１基板２０１ａが真空チャンバ６０１内に配されているので、前記欠陥ホール６２１にも二酸化炭素ガス６０２が存在する。
【００９４】
この時、前記真空チャンバ６０１内の二酸化炭素ガス６０２の屈折率は、１.６３であって、約１.５の屈折率である第１基板２０１に対して±１０％ほどの近似値を有する。
【００９５】
次いで、図６Ｂに示したように、前記第１基板２０１の第１面２０１ａには、接着剤３１１を媒介としてカバー部材の役割を行う第１偏光膜２２１を付着させる。このように、前記第１偏光膜２２１によって気相の充填材６３１が充填された欠陥ホール６２１をカバーする。
【００９６】
前記のような構成を有する液晶ディスプレイ装置２００の作用は、次の通りである。
【００９７】
図２を参照すれば、ゲート電極２０７、ソース電極２０９、及びドレイン電極２２９によって制御された外部信号によって、第１電極２１３と第２電極２１６との間に電位値が形成され、電位差によって液晶層２１９の配列が決定され、液晶層２１９の配列によってバックライトユニット２６０から提供される光が遮蔽または透過される。透過された光は、カラーフィルタ層２１５を透過しつつ色を帯びて画像を具現する。
【００９８】
この時、図３に示したように、前記第１基板２０１の第１面２０１ａや第２基板２０２の第１面２０２ａと反対になる表面には、基板を準備する過程や第１機能層２０３及び第２機能層２１４を準備する過程で、ディンプル形状の欠陥ホール３２１が形成されうるが、前記欠陥ホール３２１には、液状や気相の充填材３３１が充填されている。
【００９９】
この時、前記充填材３３１の屈折率は、前記第１基板２０１や第２基板２０２の屈折率に対して±１０％以内の値、望ましくは、同じ値を有するので、前記欠陥ホール３２１が形成された部分で屈折率の偏差による光の乱反射を除去する。
【０１００】
本発明は、図面に示された一実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１０１】
本発明は、ディスプレイ関連の技術分野に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【０１０２】
２００    液晶ディスプレイ装置
２０１    第１基板
２０１ａ    第１基板の第１面
２０１ｂ    第１基板の第２面
２０２    第２基板
２０２ａ    第２基板の第１面
２０３    第１機能層
２０４    バッファ層
２０５    活性層
２０６    ゲート絶縁膜
２０７    ゲート電極
２０８    層間絶縁膜
２０９    ソース電極
２１０    液晶ディスプレイパネル
２１１    パッシベーション膜
２１２    平坦化膜
２１３    第１電極
２１４    第２機能層
２１５    カラーフィルタ層
２１６    第２電極
２１７    第１液晶配向層
２１８    第２液晶配向層
２１９    液晶層
２２０    スペーサ
２２１    第１偏光膜
２２２    第２偏光膜
２２９    ドレイン電極
２６０    バックライトユニット
２６１    導光板
２６２    光学シート
２６３    反射シート
３１１    接着剤
３２１    欠陥ホール
３３１    充填材
４０１    スクイーズ
５０１    ディスペンサ
６０１    真空チャンバ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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