(57)【要約】【課題】良好な透明性を有し近赤外線やＮｅ成分の発光等の遮蔽性に優れ、かつ、コントラスト向上に優れる光学複合フィルタと、これらの機能とともに良好な電磁波遮蔽性を具備する光学複合フィルタを提供する。【解決手段】透明フィルム基材の一方の面に順次積層された透明樹脂層と充填樹脂層及び機能性樹脂層を少なくとも備え、該透明樹脂層は、該充填樹脂層との界面側に暗色顔料と透明樹脂を含む暗色樹脂組成物が充填されてなる遮光部と、該遮光部間に連なる透光性領域とを備え、該充填樹脂層との界面の該遮光部は、該透明樹脂層の遮光部表面において凹陥部を有し、該充填樹脂層が該凹陥部に充填されてなることを特徴とする光学複合フィルタである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
順次積層された透明樹脂層と充填樹脂層及び機能性樹脂層を少なくとも備え、該透明樹脂層は、該充填樹脂層との界面側に暗色顔料と透明樹脂を含む暗色樹脂組成物が充填されてなる遮光部と、該遮光部間に連なる透光性領域とを備え、該充填樹脂層との界面の該遮光部は、該透明樹脂層の遮光部表面において凹陥部を有し、該充填樹脂層が該凹陥部に充填されてなることを特徴とする光学複合フィルタ。
【請求項２】
前記機能性樹脂層に、近赤外線領域及び／又はＮｅ光領域に吸収域をもつ色素を含有してなる請求項１に記載の光学複合フィルタ。
【請求項３】
前記機能性樹脂層に、さらに可視光領域に吸収域をもつ調色色素を含有してなる請求項２に記載の光学複合フィルタ。
【請求項４】
さらに、前記透明樹脂層の画像表示装置側に電磁波遮蔽材を有し、
該電磁波遮蔽材は透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層を有し、
前記プライマー層のうち前記凸状パターン層が形成されている部分の厚さは、前記凸状パターン層が形成されていない部分の厚さよりも厚く、且つ該凸状パターン層形成部におけるプライマー層と凸状パターン層との界面は、（ａ）該プライマー層と該凸状パターン層との界面が非直線状に入り組んでいる断面形態、（ｂ）該プライマー層を構成する成分と該凸状パターン層を構成する成分とが混合している層を有する断面形態、及び、（ｃ）該凸状パターン層を構成する導電性組成物中に該プライマー層に含まれる成分が存在している断面形態、のいずれか１又は２以上の断面形態を有し、さらに、該導電性組成物が導電性粒子とバインダー樹脂を含んで成り、該凸状パターン層中の該導電性粒子の分布は、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、又該凸状パターンの頂部近傍において密である、請求項１〜３のいずれかに記載の光学複合フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくともプラズマディスプレイのコントラストを向上できる効果を有する複合フィルタ、プラズマディスプレイパネルからの近赤外線やＮｅ（ネオン）成分の発光を遮蔽し得る複合フィルタ、さらには、コントラストの向上とプラズマディスプレイパネルからの電磁波を遮蔽するための複合パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像表示媒体の大型化、薄型化に対する要求が高まり、これに対応可能な表示媒体としてプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と称することがある。）が急速に市場を伸ばしつつある。しかし、プラズマディスプレイパネルはキセノンやヘリウムの不活性ガス放電を利用するため、波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線を放出する。このような近赤外線は、コードレス電話、赤外線方式のリモートコントローラー等の誤作動を引き起こす可能性がある。また、不活性ガスに含まれるＮｅ成分のオレンジ色の発光（Ｎｅ光）による色純度の低下が生じるという問題があった。
また、プラズマディスプレイパネルは、外部が明るい条件、すなわち明室条件では、コントラストが不十分となり画像品質が低下するという問題があった。
さらに、プラズマディスプレイパネルは高輝度な表示特性が得られるものの、強度の電磁波を放出し、各種の計器類や人体に対して障害を及ぼすことが示唆されつつある。
【０００３】
このような問題を解消するために、上記のような電磁波や近赤外線、Ｎｅ光の放出を抑え、また、明室でのコントラストを向上させることができる前面フィルタに対する要望が高まっており、例えば、コントラストを向上させるための層として、樹脂層中に台形のブラックマトリックスを有する外光遮蔽層を備えた多層構造のＰＤＰ用前面フィルタが開発されている。特許文献１には、外光遮蔽層としてのミクロルーバと色素フィルタと導電インキを印刷したメッシュからなる電磁波遮蔽フィルタとを積層したＰＤＰ用複合フィルタが提案されている。
【０００４】
また、特許文献２には、コントラストを向上層において、近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素の劣化を防ぐため、光透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に順次積層された透明樹脂層とバリア層と近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層とを備えた構成とし、バリア層を介在させることによって、該透明樹脂層に設けられた遮光部の黒色(暗色)樹脂組成物が近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層へ移行するのを防止する構成が提案されている。
【０００５】
さらに、電磁波遮蔽材は今までに種々検討されているが、例えば、透明基材上に無電解めっき触媒ペーストをメッシュパターンでスクリーン印刷し、その上に金属層を無電解めっきしてなる電磁波遮蔽材、導電性インキ組成物をメッシュパターンで転写体に凹版オフセット印刷し、転写体上のメッシュパターンを透明基材上に転写し、透明基材上のメッシュパターンに金属層を電気めっきしてなる電磁波遮蔽材が提案されている。
特許文献３には、導電性インキ組成物をメッシュパターンで透明基材に直接凹版印刷し、その透明基材上のメッシュパターンに金属層を電気めっきしてなる電磁波遮蔽材が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２７２１６１号公報
【特許文献２】特開２００９−１３９８９３号公報
【特許文献３】特開平１１−１７４１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載のＰＤＰ用前面フィルタは、近赤外線吸収兼ネオン光吸収層を独立の層として構成しているので、前面フィルタの層構成が多く複雑となり、製造コストの低減に限界があった。一方、前面フィルタの層構成を少なくするため、積層のための粘着剤層と近赤外線吸収兼ネオン光吸収層とを兼ねた構成とし、これを外光遮蔽層（ミクロルーバ層）に直接積層することも既に提案されているがこの場合には以下の（ａ）〜(ｃ)の問題があった。
【０００８】
（ａ）外光遮蔽層、すなわちミクロルーバ層の形成において、暗色樹脂組成物として、熱硬化型や電離放射線硬化型の硬化性樹脂組成物を用いた場合、充填時の表面張力による流動による凹みや、硬化収縮によって、透明樹脂層の溝形成面に対して凹んだ凹陥部が発生する。この凹陥部が存在している状態で、近赤外線吸収兼ネオン光吸収層を含む粘着剤層を直接積層すると、当該凹陥部の空気が抜け切らず、気泡として残留して、白化や乱反射を起し、複合フィルタの性能の低下を来たすことが避けられない。
【０００９】
（ｂ）近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素が含有した色素含有層と、硬化性樹脂組成物からなる外光遮蔽層（ミクロルーバ）とが直接接触すると、近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素が劣化し、近赤外線やＮｅ光の吸収率の低下と変色を余儀なくされる。特に外遮蔽層の暗色樹脂が紫外線硬化性樹脂組成物からなる場合、この傾向が著しい。
この原因としては、暗色樹脂材料に残存する光重合開始剤が滲出し、近赤外線やＮｅ光を吸収するために添加されている色素と反応し、ラジカルによって、色素を劣化させていることが推測される。
これを解決するため、特許文献２では、透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に順次積層された透明樹脂層とバリア層と近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層とを備えた構成とし、バリア層を介在させることによって、該透明樹脂層に設けられた遮光部の黒色(暗色)樹脂組成物が近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層へ移行するのを防止する構成を提案している。そして、バリア層として、真空成膜法により形成された無機薄膜、湿式塗布法により形成された有機薄膜、あるいは、ゾルゲル法により形成された無機薄膜が開示されている。
しかしながら、真空成膜法によりバリア層としての無機薄膜を形成するには、真空蒸着法や、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等で無機薄膜を形成するための装置が必要であり、これらの装置は概して高価であり、前面フィルタの製造コストにおいて有利でない。また、離型性基材としての離型フィルムを準備しその一方の面に所定の組成物をダイコーターにより塗布して、加熱処理を施して近赤外・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層を形成した後、これを透明樹脂層上にスパッタリング等により施したバリア層に上に固着するようにしてラミネートするので、前述の気泡の問題がある。また、近赤外・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層とバリア粘着樹脂層との２層構造の粘着樹脂層を形成して、透明樹脂層上に固着するにしても同様に気泡の問題があった。
【００１０】
さらに、特許文献３に記載の凹版から透明基材に直接導電性インキ組成物を転写して電磁波遮蔽材を形成する方法は、オフセット印刷特有のブランケット胴によるパターン歪みの問題は無く、又、シルクスクリーン印刷に比べて微細パターン形成が可能である。しかしながら、電磁波遮蔽材に適用する場合は、導電性インキの如き流動性の悪いインキを高塗布量で転写（転移とも言う）させる必要が有る。それ故に、新たに発生して来る問題として、導電性インキを転写する際に、未転写部が発生したり、密着性に劣る転写不良が発生したりすることがある。
（ｃ）すなわち、電磁波遮蔽材の形成方法として導電インキによりメッシュパターンを形成する方法では、金属箔をエッチングして形成したメッシュと比較して導電率が不足であり、導電率を向上するため無理に導電インキの導電粒子含有量を上げると、印刷適性が低下し、メッシュ形状の再現不良、基材との密着低下、メッシュ強度の低下を来たし、メッシュパターンが脆くなって崩れるなどの問題があった。
本発明は、上記の（ａ）〜（ｃ）の問題を解決するためになされたものであって、良好な透明性を有し近赤外線やＮｅ成分の発光等の遮蔽性に優れ、かつ、コントラスト向上に優れる光学複合フィルタと、これらの機能とともに良好な電磁波遮蔽性を具備する光学複合フィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため鋭意検討した結果、複合フィルタは、順次積層された透明樹脂層と充填樹脂層及び機能性樹脂層を少なくとも備え、該透明樹脂層は、該充填樹脂層との界面側に暗色顔料と透明樹脂を含む暗色樹脂組成物が充填されてなる遮光部と、該遮光部間に連なる透光性領域とを備え、該充填樹脂層との界面の該遮光部の凹陥部に直接して該充填樹脂層を介在させることで、近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素が劣化する問題が解決しうることを見出した。本発明はかかる知見に基づき完成したものである。
すなわち、本発明は、
（１）順次積層された透明樹脂層と充填樹脂層及び機能性樹脂層を少なくとも備え、該透明樹脂層は、該充填樹脂層との界面側に暗色顔料と透明樹脂を含む暗色樹脂組成物が充填されてなる遮光部と、該遮光部間に連なる透光性領域とを備え、該充填樹脂層との界面の該遮光部は、該透明樹脂層の遮光部表面において凹陥部を有し、該充填樹脂層は該凹陥部に直接して充填されてなることを特徴とする複合フィルタ、
（２）前記機能性樹脂層に、近赤外線領域及び／又はＮｅ光領域に吸収域をもつ色素を含有してなる前記（１）に記載の複合フィルタ、
（３）前記機能性樹脂層に、さらに可視光領域に吸収域をもつ調色色素を含有してなる前記（２）に記載の光学複合フィルタ。
（４）さらに、前記透明樹脂層の画像表示装置側に電磁波遮蔽材を有し、
該電磁波遮蔽材は透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層を有し、
前記プライマー層のうち前記凸状パターン層が形成されている部分の厚さは、前記凸状パターン層が形成されていない部分の厚さよりも厚く、且つ該凸状パターン層形成部におけるプライマー層と凸状パターン層との界面は、（ａ）該プライマー層と該凸状パターン層との界面が非直線状に入り組んでいる断面形態、（ｂ）該プライマー層を構成する成分と該凸状パターン層を構成する成分とが混合している層を有する断面形態、及び、（ｃ）該凸状パターン層を構成する導電性組成物中に該プライマー層に含まれる成分が存在している断面形態、のいずれか１又は２以上の断面形態を有し、さらに、該導電性組成物が導電性粒子とバインダー樹脂を含んで成り、該凸状パターン層中の該導電性粒子の分布は、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、又該凸状パターンの頂部近傍において密である、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の複合フィルタ、
を提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
充填樹脂層との界面の該遮光部の凹陥部に直接して該充填樹脂層を充填させることで、例えば機能性樹脂層として近赤外線・Ｎｅ光吸収層とするために添加される色素が劣化するのを防止し、当該近赤外線・Ｎｅ光吸収層はＰＤＰから発生する近赤外線・Ｎｅ光の遮蔽機能を安定して発現することができる。
【００１３】
本発明により得られる光学複合フィルタの電磁波遮蔽材は、その凸状パターン層を構成する導電性組成物が導電性粒子とバインダー樹脂を含み、而かも該導電性粒子の分布が、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎に、又該凸状パターンの頂部近傍において密であるよう構成した。その為、該凸状パターンが細線化し、幾何学的因子（Ｒ＝ρＬ／ＳにおいてＳが小）的には高電気抵抗の環境下でも、限られた添加量の導電性粒子が、該凸状パターンの頂部近傍の密度を高く保たれ、ここで集中的に各導電性粒子同士の電気的接触が確保される。同時に該プライマー層近傍での界面剥離、脱落が抑えられ高い密着性が確保される。其の為、該パターンの線幅を微細化した場合においても、高電磁波遮蔽性と機械的強度、及び高透明性による高解像度とが両立できると言う効果を奏する。
【００１４】
加えて、該凸状パターン層の該プライマー層側の界面において、該導電性粒子の分布が疎である為、ここでの光の鏡面反射率は低減される。その為、該導電性粒子の分布が疎な面側を外光側（画像観察者側）に向けた場合には、外光による画像の白化、コントラスト低下を防止出来る。一方、該導電性粒子の分布が疎な面側をディスプレイ装置側に向けた場合には、画像光の画面への反射による画像の白化、コントラスト低下を防止出来る。
【００１５】
また、プライマー層のうち凸状パターン層が形成されている部分の厚さは、凸状メッシュパターン層が形成されていない部分の厚さよりも大きく、かつ、凸状メッシュパターン層形成部におけるプライマー層と凸状パターン層との界面は、（ａ）プライマー層と凸状パターン層との界面が非直線状に入り組んでいる断面形態、（ｂ）プライマー層を構成する成分と凸状パターン層を構成する成分とが混合している層を有する断面形態、及び、（ｃ）凸状パターン層を構成する導電性組成物中に該プライマー層に含まれる成分が存在している断面形態、としているので、プライマー層と導電組成物層との密着良好、凹版印刷でパターン形成する際に、導電性組成物の転移性が良好で、転移欠陥も無く、パターン再現性が良好で、而かも導電性組成物が凹版から転移する際の該導電性組成物の周囲の飛散を防止し、開口部の外観不良と光透過率低下を防止する。その結果良好な電磁波遮蔽性が得られる、という効果を奏する。
本発明の光学複合フィルタは、導電性ペーストを印刷する工程を経由する電磁波遮蔽材の製造において、効率的に精度良く基材上への印刷をすることができているので、品質の良い電磁波遮蔽材を低コストで提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の光学複合フィルタの層構成の一例を示す模式的な断面図である。
【図２】電磁波遮蔽材を含む光学複合フィルタの層構成の一例を示す模式的な断面図である。
【図３】本発明の光学複合フィルタに用いる電磁波遮蔽材の一例を示す模式的な平面図である。
【図４】図３におけるＡ−Ａ’断面の拡大図である。
【図５】図３の一部をさらに拡大して示す模式的な断面図である。
【図６】本発明の光学複合フィルタに用いる電磁波遮蔽材に於ける、凸状パターン層とプライマー層との界面形態の模式的な断面図であり、（Ａ）界面形態が第１態様、（Ｂ）界面形態が第２態様、（Ｃ）界面形態が第３態様を示す。
【図７】本発明の光学複合フィルタに用いる電磁波遮蔽材の凸状パターン層において、導電性組成物が導電性粒子とバインダー樹脂を含んで成り、導電性粒子の分布が、相対的に、プライマー層近傍において分布が疎であり、又凸状パターンの頂部近傍において密であることを示す凸状パターンの断面ＳＥＭ写真である。
【図８】凹部内の導電性材料組成物の凹みにプライマー層を充填し、その導電性材料組成物が転写する形態を示す模式図である。
【図９】本発明の光学複合フィルタに用いる電磁波遮蔽材の製造方法の一例を示す工程図である。
【図１０】本発明の光学複合フィルタに用いる電磁波遮蔽材の製造方法を実施する装置の概略構成図である。
【図１１】導電性材料組成物をプライマー層上に転写する転写工程において、正常な離版状態を示す場合の装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１８】
次に本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
[透明樹脂層]
図１に示すように本発明の光学複合フィルタ１は、透明樹脂層２、充填樹脂層３、機能性樹脂層４を順次積層してなる。透明樹脂層２は、遮光溝２１を有し、該遮光溝２１は、暗色顔料２２と透明樹脂２３から構成されている。
【００１９】
本発明の光学複合フィルタ１を構成する透明樹脂層２は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明性は波長４００ｎｍでの光線透過率が８０％以上であり、また、耐熱性はガラス転移温度が９０℃以上であることが好ましい。このような透明樹脂層２に使用できる樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等を挙げることができ、後述する透明支持体５との密着性等を考慮して適宜選択することができる。また、透明樹脂層２の厚みは特に制限されないが、遮光溝２１に形成される暗色樹脂によるコントラスト向上機能を有効に発現させる点から５０〜５００μｍ、好ましくは１００〜２００μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００２０】
透明樹脂層２に形成される遮光溝２１は、相互に平行な複数の溝部であってもよく、また、格子形状の溝であってもよい。また、遮光溝２１の断面形状は、図示例では楔形であるが、これに限定されるものではなく、例えば、台形状、角柱状、先端ドーム状のような断面形状とすることができる。このような溝部２１の深さＤ１は７５〜３００μｍ、好ましくは１００〜１５０μｍ、幅Ｗ１は１０〜８０μｍ、好ましくは１５〜４０μｍ、また、ピッチＰ１は５０〜３００μｍ、好ましくは５０〜１００μｍの範囲で適宜設定することができる。溝部２１の寸法が上記のような範囲から外れると、コントラストを向上させる機能が不十分となったり、光学複合フィルタ１の光透過率が低下するので好ましくない。
【００２１】
遮光溝２１内に位置する暗色顔料２２と透明樹脂２３からなる暗色部２４は、コントラストを向上させる機能を発現するものであり、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の樹脂材料にカーボンブラック等の暗色顔料または暗色染料を添加したものを使用することができる。
暗色部２４は、可視光線波長域の大部分を吸収し、入射する可視光線（外光）を高い割合で吸収することが望ましく、その結果、暗色部２４で反射する外光が目立たず、その反射光が画像光に混入しても画像コントラストの低下が目立たないようになる。したがって、暗色部２４には、そうした作用を発揮する色に設定することが望ましい。暗色部２４の色は完全な黒色が理想であるが、実用上は完全な黒色にする必要はなく、上記の作用を発揮するものであれば有彩色であってもよい。具体的には、黒、濃い灰色等の無彩色、褐色、臙脂色、紺色、深緑色、濃紫色等の低明度の有彩色であってもよい。
暗色部２４を構成する暗色顔料（暗色粒子）２２としては、所定の粒径からなる各色の粒子を用いることができる。例えば、黒色粒子としては、カーボンブラック（墨）、黒色酸化鉄等の黒色顔料や、アクリル等の透明粒子をカーボンブラック等の黒色顔料で染色した樹脂粒子等が用いられる。
【００２２】
また、暗色顔料２２は、黒色粒子以外の、青色、紫色、黄色、赤色の各種顔料を混合して無彩色化した顔料粒子であってもよいし、それらの顔料で染色した樹脂粒子であってもよい。青色顔料としては、銅フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、コバルトブルー、群青等が用いられ、紫色顔料としては、ジオキサジンバイオレット等が用いられ、黄色顔料としては、ジスアゾイエロー、イソインドリノンイエロー、黄鉛等が用いられ、赤色顔料としては、クロモフタルレッドタイペル、キナクリドンレッド、弁柄等が用いられ、緑色顔料としては、銅フタロシアニングリーン、緑青等が用いられる。また、低明度の有彩色とした暗色粒子１であってもよく、その例としては、前記の青色、紫色、黄色、赤色、又は緑色の各種顔料を１種類又は２種類以上適宜混合分散し、必要に応じ、更に黒色顔料を混合した着色顔料、あるいは、アクリル等の透明粒子をこれら顔料で着色した樹脂粒子であってもよい。これらの暗色粒子１の中では、黒色粒子がもっとも光吸収性が高く、しかも本発明のフィルタ自体の色相に影響を与えないので好ましい。
【００２３】
暗色顔料２２の粒子径としては、通常は、０．１μｍ〜１００μｍの範囲内から任意に選択される。なお、暗色顔料２２の粒径は、電子顕微鏡観察により測定することができる。
【００２４】
暗色顔料２２とともに暗色部２４を構成する透明樹脂（バインダー樹脂）２３としては、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が各種使用可能である。電離放射線硬化性樹脂とは、電磁波又は荷電粒子線、例えば紫外線又は電子線等を照射することにより、架橋又は重合反応にて硬化する樹脂を意味する。このような電離放射線硬化性樹脂としては、例えば電離放射線重合性プレポリマー及び／又は電離放射線重合性モノマーを挙げることができる。
【００２５】
電離放射線重合性プレポリマー（オリゴマーも包含する）としては、例えばポリエステル（メタ）アクリレート系、エポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリオール（メタ）アクリレート系、シリコン（メタ）アクリレート、不飽和ポリエステル系等の分子中にラジカル重合性官能基を有する重合性オリゴマ一、あるいはノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等のエポキシ系樹脂等の分子中にカチオン重合性官能基を有する重合性オリゴマ一等が挙げられる。これらの電離放射線重合性プレポリマーは、１種単独で、又は２種以上を組み合
わせて用いてもよい。なお、ここで、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
【００２６】
また、電離放射線重合性モノマー（単量体）としては、分子中にラジカル重合性官能基を有する重合性モノマーである多官能性（メタ）アクリレートが好ましく、具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。カチオン重合性官能基を有するモノマーとして、例えば、３，４−エポキシシクロへキセニルメチル−３'，４'−エポキシシクロへキセンカルボキシレート等の脂環式エポキシド類、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等グリシジルエーテル類、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル等ビニルエーテル類、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン等オキセタン類等が挙げられる。これらの電離放射線重合性モノマーは、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前記電離放射線重合性プレポリマーと併用してもよい。
【００２７】
電離放射線硬化性樹脂として紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、光重合用開始剤を電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜５質量部程度添加することが望ましい。光重合用開始剤としては、従来慣用されているものから適宜選択することができ、特に限定されない。
【００２８】
分子中にラジカル重合性官能基を有する重合性モノマーや重合性オリゴマ一に対しては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール等が挙げられる。また、分子中にカチオン重合性官能基を有する重合性モノマーや重合性オリゴマ一等に対しては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等が挙げられる。また、光増感剤としては、例えばp−ジメチル安息香酸エステル、第三級アミン類、チオール系増感剤等を用いることができる。
【００２９】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、フェノール−ホルマリン樹脂、尿素樹脂、尿素−ホルマリン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、メラミン−ホルマリン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリウレタン樹脂、汎用の２液硬化型アクリル樹脂（アクリルポリオール硬化物）等を例示することができる
【００３０】
（透光性領域）
透光性領域（「レンズ部」ということがある。）２５は、図１に示すように、隣接する暗色部２４，２４間に位置し、透明樹脂層２で構成されている。
【００３１】
（透明支持体）
透明支持体５は、図１に点線で示すように、透明樹脂層２の遮光溝非形成側の面に必要に応じて設けることができる。この透明支持体５は、透明樹脂層２を支持し、透明樹脂層２の機械的強度を補強したり、あるいは透明樹脂層２の層形成、透明樹脂層２上への溝状凹部の形成、暗色部形成用組成物の溝状凹部内への充填、光学複合フィルタ１の他部材への積層等の加工工程における加工適性の付与等の目的で好ましく設けられるものである。
この透明支持体５の材料は、上述した透明樹脂層２のところで説明した材料から、透明支持体５を設ける目的に照らして適宜選択して適用できる。また、透明支持体５の厚さも透明支持体５を設ける目的に照らして適宜選択すればよい。
【００３２】
（充填樹脂層）
本発明の光学複合フィルタの充填樹脂層は、透明樹脂層の遮光溝形成側の面と機能性樹脂層面との間に介在し、暗色部の凹陥部への充填による平坦化して、透明樹脂層と機能性樹脂層とを接着する機能と、暗色部の樹脂組成物による機能性樹脂層の色素劣化の作用を遮断する機能を有している。本発明の光学複合フィルタに使用できる充填樹脂層としては、凹陥部への充填性の観点から、充填時に流動して凹陥部を満たし、その後固化する樹脂が好ましく、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、及び熱可塑性樹脂を挙げることができる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができる。
電離放射線硬化性樹脂としては、暗色顔料とともに暗色部を構成する透明樹脂（バインダー樹脂）として前記した物を挙げることができ、これらを１種単独で、或いは２種以上混合して用いることができる。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。しかしながら、光重合開始剤の種類、添加量は、硬化後にその残渣が滲み出して機能性樹脂層に添加されている色素等に悪影響を及ぼさない範囲としなければならい。
【００３３】
充填樹脂層に用いることのできる熱可塑性樹脂としては、透明樹脂層の遮光溝を有する面側の暗色部の凹陥部への充填性及び機能性樹脂層との接着性を考慮して熱可塑性樹脂の接着剤が好ましく用いられる。
熱可塑性樹脂の接着剤は、室温（０〜３０℃乃至その前後）で固体であり、１００℃前後である融点乃至溶融温度以上の温度で溶融状態となり、しかる後、融点乃至溶融温度未満に冷却して固体化せしめることにより画像コントラスト向上層と各種機能層の両方に対して接着性を持つ材料である。斯かる形態で用いる熱可塑性樹脂の接着剤のことを熱溶融（ホットメルト；Ｈｏｔ Ｍｅｌｔ）型接着剤、感熱融着型接着剤、熱封着（ヒートシール；Ｈｅａｔ Ｓｅａｌ）型接着剤等とも呼称する。
そのような熱可塑性樹脂の接着剤の材料としては、例えば、アクリル樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂等が好適に使用できる。
ここで、アクリル樹脂としては、例えば、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート−エチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−ブチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシ３フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体等が挙げられる（なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する）。
熱可塑性ポリエステル樹脂としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、１，４シクロヘキサンジメタノール等の多価アルコールと、テレフタール酸、イソフタール酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸等の多塩基酸とを縮重合させたものが挙げられる。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、例えば、酢酸ビニル含有量が５〜２０質量％程度、平均重合度３５０〜９００程度の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が挙げられる。なお、必要に応じ、更にマレイン酸、フマル酸、（メタ）アクリル酸等のカルボン酸を共重合させたものでもよい。
【００３４】
充填樹脂層３は、凹陥部を埋めるものであることから、その厚みは、凹陥部２６の深さ以上であることを要し、凹陥部の深さ概ね０．５〜５μｍに対応して、概ね１〜５０μｍの範囲とすることが好ましい。
【００３５】
充填樹脂層の形成方法としては、上記の充填樹脂層形成用樹脂と、通常は更に溶剤と、その他必要に応じ添加剤とを含む組成物を、塗液乃至はインキとして用いて、公知の塗工法乃至は印刷法によって、透明樹脂層の遮光部表面上に形成することができる。なお、上記塗工法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、カーテンコート、スクイズコート、ブレードコート等が挙げられる。また、印刷法では、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷等が挙げられる。
【００３６】
本発明の複合光学フィルタの充填樹脂層を形成するために、透明樹脂層の遮光溝表面に熱可塑性樹脂の接着剤層を、次のような所謂ヒートシール方式で積層するのが好ましい。
一方の面に熱可塑性樹脂の接着剤層を成膜してなる剥離材層を、その熱可塑性樹脂の接着剤層側を凹陥部（窪み）がある遮光溝表面に対面する向きで、透明樹脂層上に重ね合わせて、剥離材層の上から熱ローラを当て、一方向に移動させて、熱圧を加える。加熱のみでもよいが、通常は、加熱及び加圧の両方を加える。加熱及び加圧（熱圧の付与）は、通常、鉄等の金属の円筒状芯材の周囲をシリコンゴム等の耐熱性弾性体で表面を被覆した加熱ローラにて押圧する。斯かる加熱ローラによる熱圧条件としては、温度８０〜２２０℃、圧力０．１〜５０ｋｇｆ／ｃｍ2、時間１〜６０秒が好ましい。加熱、或いは加熱及び加圧し、溶融状態の接着剤が遮光溝表面の凹陥部（窪み）を十分に充填し、凹陥部内の空気と十分に置換した後、該熱可塑性樹脂の接着剤層をその溶融温度乃至融点未満、最終的には室温迄に冷却し、該熱可塑性樹脂の接着剤層を固体化せしめる。斯かる冷却は、室温空気中に放置するのみでも足りるが、より効率的に冷却する場合は、冷風吹き付け、冷却ローラとの接触、冷水中への浸漬等の手段を採用する。
【００３７】
（機能性樹脂層）
本発明の光学複合フィルタにおける機能性樹脂層４としては、光学機能層としては、従来公知のものをそのまま用いればよく、例えば近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、調色層（可視域の波長の吸収により色調を補正、調節する機能を有する層）、紫外線吸収層、反射防止層、及び防眩層等を挙げることが出来る。これらの各光学機能層は複数の光学機能を合わせた、例えば近赤外線・ネオン光吸収層のように併合することもできる。また、必要に応じて、本発明の光学複合フィルタには、更に、光学機能以外の機能を発現する層を複合することが出来る。かかる層としては、電磁波遮蔽層、耐衝撃層、帯電防止層、ハードコート層、及び防汚層等を挙げることができる。通常これらの機能性樹脂層は単層のみで構成することもできるが、通常これらの機能性樹脂層の支持体として透明樹脂シートなど透明基材が含まれる。さらに、各機能性樹脂層は、層自体が接着剤層を兼ねる構成とすることもでき、その場合は、当該機能性樹脂層の接着性により他の基材や層と接着積層されて光学複合フィルタを構成できる。接着性を有しない機能性樹脂層では、必要に応じて接着剤層を介して積層される。
【００３８】
本発明の光学複合フィルタは、前記機能性樹脂層を、近赤外線領域及び／又はＮｅ光領域に吸収域をもつ色素を含有させた、近赤外線及び／又はＮｅ光遮蔽粘着剤層とすることができる。
本発明の光学複合フィルタの層構成の単純化、光透過率の低下防止、低コスト化の観点から、近赤外線領域及び／又はＮｅ光領域に吸収域をもつ粘着剤層（以後、「近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着剤層」とも呼称する。）として、一層で近赤外線及びＮｅ光を遮蔽する粘着剤層とすることが望ましい。近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層に使用する粘着剤としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂等公知の粘着剤として慣用されているものの中から、適度な粘着性（接着性）、透明性、塗工適性を有し、本発明における光学複合フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることのないものを適宜選択できる。
好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。
なお、本発明において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸をいう。
【００３９】
ここで使用される（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸n-プロピル、（メタ）アクリル酸sec-プロピル、（メタ）アクリル酸n-ブチル、（メタ）アクリル酸sec-ブチル、（メタ）アクリル酸tert-ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸n-ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸n-オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸2-エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル及び（メタ）アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。また、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、通常はアクリル系粘着剤中に３０〜９９.５重量部の量で共重合されている。
【００４０】
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ-カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。
【００４１】
さらにまた、粘着剤の樹脂として、アクリル酸エステル単位を主体とする重合体ブロック（Ａ１）の１個と（メタ）アクリル酸エステル単位を主体とし重合体ブロック（Ａ１）とは構造の異なる重合体ブロック（Ｂ１）の２個が互いに結合したトリブロック構造、又はアクリル酸エステル単位を主体とする重合体ブロック（Ａ１）の２個と（メタ）アクリル酸エステル単位を主体とし重合体ブロック（Ａ１）とは構造の異なる重合体ブロック（Ｂ１）の１個が互いに結合したトリブロック構造を、分子中に少なくとも有し、重量平均分子量が５０，０００以上で且つ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５未満である多元ブロック共重合体を含有するものを使用することができる。
【００４２】
（近赤外線吸収用色素）
また、近赤外線吸収用の色素は、８００〜１１００ｎｍの波長域の光に対する吸収性を有する材料であり、例えば、酸化タングステン系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、等を挙げることができる。
酸化タングステン系化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表わされる酸化タングステン系化合物微粒子を挙げることができる。
ＭｘＷｙＯｚ  ・・・（Ｉ）
（Ｍ元素はＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ及びＳｎからなる群から選ばれる少なくとも１種、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）
【００４３】
酸化タングステン系化合物微粒子は、好ましくは、透明性と近赤外線吸収性との両立の点から平均粒子径を４０〜２００ｎｍに選定される。但し、かかる粒径を選択した場合に、反射色調が青色であるという問題点が生じる。反射色調が青色であると、コントラストが不十分となる上、不使用時（電源を切った状態）のディスプレイの外観が青味がかる為、意匠上も好ましくない。
透過色調が青色となる原因としては、近赤外線吸収材料として用いられる酸化タングステン系微粒子の粒子径が小さいことに起因するレイリー散乱によるものと考えられる。レイリー散乱領域における散乱光は、粒子径の６乗に反比例して低減するため、近赤外線吸収材料の粒子径を大きくすることで、該散乱光を抑制することができるが、一定以上の大きさになると、ミー散乱が支配的となり、白濁の問題が生じる。
そこで、各種検討した結果、作用機構は不明ではあるが、平均粒子径が該酸化タングステン系化合物微粒子の平均粒子径よりも小さい金属酸化物微粒子を該近赤外線吸収層中に混合、分散することにより、かかる反射色の青味が解消されることを見出した。
該金属酸化物微粒子は、本発明の効果を奏する範囲であれば、材料自体に制限はないが、上記近赤外線吸収剤との間で屈折率差が小さいものが好ましく、特に酸化ジルコニウム及び酸化チタンが好適に挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は、１種を単独で、又は２種以上を併用することもできる。
【００４４】
また、本発明の光学複合フィルタにおいて、近赤外線吸収層に用い得る金属酸化物微粒子は、その平均粒子径が５〜３０ｎｍであることが好ましい。平均粒子径が５ｎｍ以上であると、透過色調の青味を消すことができ、本発明の効果を奏することができる。一方、平均粒子径が３０ｎｍ以内であれば、特に、酸化タングステン系化合物微粒子の平均粒子径を４０〜２００ｎｍとした場合に、透過色調の青味を消すことができ、かつ白濁を生じることもない。
即ち、金属酸化物微粒子が酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンの場合においては、金属酸化物微粒子の平均粒子径ｄ１が、酸化タングステン系化合物の平均粒子径ｄ２よりも小径である、すなわち、ｄ１＜ｄ２であることが、透過色調の青味を消す観点からより好ましい。
なお、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、無機近赤外線吸収剤と同様に透過型電子顕微鏡を用いた方法により測定したものである。
【００４５】
上記金属酸化物微粒子の近赤外線吸収層における含有量は、前記無機近赤外線吸収剤１００質量部に対して５０〜４００質量部であることが好ましい。５０質量部以上であると、透過色調の青味を消すことができ、一方、４００質量部以下であると白濁の問題が生じない。
【００４６】
また、近赤外線吸収色素が次の一般式（１）で表されるジインモニウム系化合物とすることができる。
【００４７】
【化１】
2011039163.tif 000002
【００４８】
（式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基から選ばれたアルキル基、Ｘは１価又は２価の陰イオン、ｎは、Ｘが１価の陰イオンである場合は１であり、２価の陰イオンである場合は１／２である。）
上記一般式（１）におけるＸが、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオンであるジインモニウム系化合物を近赤外線吸収剤とする光学フィルタとすれば、式（１）のジイモニウム系化合物の使用の場合と相俟って、長時間の使用でも経時的に安定な近赤外吸収機能を有する光学複合フィルタとすることができる。
【００４９】
さらに、近赤外線吸収色素としてジインモニウム系化合物を使用する場合は、層状粘土鉱物と併用することが、安定した近赤外線吸収性の観点から好ましい。
本発明で使用できる粘土鉱物は、膨潤性層状ケイ酸塩の層間に第四級アンモニウムイオンなどが導入され親油化処理を施された粘土鉱物であって、膨潤性層状ケイ酸塩としてはスメクタイト系粘土を好適に用いることが出来る。例えば、スメクタイト系粘土としては、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、バイデライト、モンモリロナイト、ノントロナイト又はベントナイト等の天然または化学的に合成したもの、又はこれらの置換体、誘導体、あるいはこれらの混合物をあげることができる。粘着剤層には、前記近赤外線吸収色素と粘土鉱物を重量比で１：０．０１から１：１の割合で含有させることが好ましく、更に好ましくは該重量比が１：０．０１から１：０．５である。本発明では、粘着剤層に粘土鉱物を含有させることによって、前記近赤外線吸収色素の耐久性が著しく向上する。この作用効果は、粘土鉱物層間のイオンと色素分子のイオンがインターカレーションをおこし、色素分子が安定に保持されるためと考えられる。
このような近赤外線吸収用の色素の近赤外線・Ｎｅ光遮蔽（粘着樹脂）層における含有量は、例えば、１〜２０質量％の範囲で適宜設定することができる。
【００５０】
（Ｎｅ光吸収用の色素）
また、Ｎｅ光吸収用の色素は、Ｎｅの発光スペクトル帯域である５７０〜６００ｎｍの波長領域に吸収極大を有する色素を使用することができ、例えば、アザポルフィリン系、シアニン系、アゾ系等を挙げることができる。このようなＮｅ光吸収用の色素の近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層における含有量は、例えば、０．０１〜４質量％の範囲で適宜設定することができる。
このような近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層の厚みは、例えば、５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍの範囲で適宜設定することができる。
【００５１】
また、本発明の光学複合フィルタは、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着樹脂層を形成するに際して、前記の近赤外線吸収色素、Ｎｅ光吸収色素と共に可視域の波長の吸収により色調を、補正、調節する機能を有する調色用色素を透明粘着用樹脂に配合して、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽兼調色粘着層とすることができる。
【００５２】
（調色用色素）
調色（色補正）用色素は、表示画像を好みの色調（天然色、あるいは天然色から多少偏移した色）に補正するための色素である。このよう調色（色補正）色素としては、有機系色素、無機系色素などを１種単独使用、又は２種以上を可視のスペクトル帯域である３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、吸収極大を有する色素を使用することができる。具体的には、可視域の調色機能を付与するための有機系色素として、アントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素が挙げられる。無機系色素として銅フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、コバルトブルー、群青、ジオキサジンバイオレット、ジスアゾイエロー、イソインドリノンイエロー、黄鉛、クロモフタルレッドタイペル、キナクリドンレッド、弁柄、銅フタロシアニングリーン、緑青が用いられる。
【００５３】
本発明の光学複合フィルタにおける機能性層としての近赤外線吸収層やＮｅ光吸収（遮蔽）層には、近赤外線吸収機能、Ｎｅ光吸収機能を付与するために用いられる色素が添加された層の紫外線（ＵＶ）に対する耐久性を向上させるため、紫外線遮蔽能を有することが望ましく、粘着剤層を形成する際に有機系や無機系紫外線吸収剤や紫外線散乱剤、光安定剤（ＨＡＬＳ）を配合することが望ましく、以下に記載のものから選択して使用できる。
【００５４】
（有機系紫外線吸収剤）
有機系紫外線吸収剤は、一般に、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系に大別することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００５５】
置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのモノ（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロピルオキシフェニル）−６−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのビス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどのトリス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物等が挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５６】
（紫外線散乱剤）
紫外線散乱剤とは、紫外線を散乱させることによって、紫外線遮断効果をもたらす材料のことであり、主に金属酸化物粉体などの無機系材料が用いられる。この紫外線散乱剤の例としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどを微粒子化した粉体、あるいは二酸化チタン微粒子を酸化鉄で複合化処理してなるハイブリッド無機粉体、酸化セリウム微粒子の表面を非結晶性シリカでコーティングしてなるハイブリッド無機粉体などが挙げられる。紫外線散乱効果は、粒子径に大きく影響を受けるので、本発明においては、前記紫外線散乱剤の平均粒子径は５μｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が好ましい。
【００５７】
前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を透明基材フィルム中に練り込む場合、紫外線吸収剤では、フィルム中の含有量は、通常０．０１〜３質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％であり、紫外線散乱剤では、フィルム中の含有量は、通常０．００５〜１質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％である。なお、紫外線散乱剤を含有させる場合には、透明基材フィルムが必要な透明度を保持することが肝要である。
一方、前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含むコート層を、透明基材フィルムの表面に設ける場合には、バインダー樹脂として、例えばポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ブチラール系樹脂など、さらには紫外線硬化型樹脂の硬化物などを挙げることができる。
前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤をコート層中に含有させる場合、紫外線吸収剤では、コート層中の含有量は、通常０．０１〜３質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％であり、紫外線散乱剤では、コート層中の含有量は、通常０．００５〜１質量％程度、好ましくは０．０１〜１質量％である。このコート層の厚さは、通常１〜２０μｍ、好ましくは３〜１０μｍである。なお、コート層中に紫外線散乱剤を含有させる場合には、透明基材フィルムと上記コート層との一体化物が、必要な透明度を保持することが肝要である。
【００５８】
無機系紫外線吸収剤としては、例えば微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等が挙げられる。
【００５９】
（光安定剤）
本発明の光学複合フィルタに使用可能な光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤（一般にはＨＡＬＳと称される。）挙げることができる。ヒンダードアミン系光安定剤としては、２、２、６、６−テトラメチルピペリジン誘導体、または１、２、２、６、６−ペンタメチル−４−ピペリジン誘導体などが挙げられ、特に、ビス（２、２、６、６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、または４−ベンゾイルオキシ−２、２、６、６−テトラメチルピペリジン、またはビス（１、２、２、６、６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートを用いることが好ましい。
【００６０】
本発明の光学複合フィルタにおいて、機能性樹脂層として近赤外線吸収層やＮｅ光遮蔽層を設ける場合には、当該近赤外線吸収層やＮｅ光遮蔽層に、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤から選ばれた少なくとも一種の酸化防止剤を使用することができる。
【００６１】
（リン系酸化防止剤）
本発明で用いられるリン系酸化防止剤とは、一般に３価のリン化合物が、イオン的にＲＯＯＨをアルコールに分解して、５価リン化合物に変化するものである。
リン系酸化防止剤としては、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６）、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−４５）、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＨＰ−１０）、（Ｉｒｇａｆｏｓ ３８）、（Ｕｌｔｒａｎｏｘ ６４１）、（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ）、（ＧＹＳ Ｐ−１０１）、（Ｉｒｇａｆｏｓ １２）などが挙げられ、ペンタエリスリトールタイプである（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−８）、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４）、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６）を用いることが好ましい。
【００６２】
（フェノール系酸化防止剤）
本発明で用いられるフェノール系酸化防止剤としては、（２,６−ジーオーブチル−４−メチルフェノール）、（ｎ−オクタデシル−３−(３',５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル)プロピオネート）、（テトラキス［メチレン−３−（３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン）、（トリス（３,４−ジ−ブチル−４−ヒドロキシルベンジルイソシアヌレート）、（４,４'−ブチリデンビス−(３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール)、（トリエチレングリコール−ビス［３−(３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル) プロピオネート］、（３,９−ビス[２−[３−(３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−１,１−ジメチルエチル]−２,４,８,１０−テトラオキサスピロ[５,５]ウンデカン）などが挙げられる。
【００６３】
（イオウ系酸化防止剤）
本発明で用いられるイオウ系酸化防止剤としては、（ＤＬＴＤＰ）、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＡＯ−４１２Ｓ）、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＡＯ−２３）などが挙げられ、（ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＡＯ−４１２Ｓ）を用いることが好ましい。
【００６４】
〔電磁波遮蔽材〕
本発明の光学複合フィルタは、図２の如く、更に電磁波遮蔽材１０を積層することができる。電磁波遮蔽材１０は、導電性を有することで電磁波遮蔽機能を担える層である。電磁波遮蔽材に特に制限はなく、ＩＴＯ（酸化錫インジウム）等の透明導電材料の薄膜、或は金属、導電体粒子と樹脂から成る導電性組成物層等のそれ自体は不透明性な導電体に多数の開口部が存在するメッシュ、ストライプ等の電磁波遮蔽パターン形状を加工することにより、電磁波遮蔽性能と光透過性を両立させた層等の各種の形態のものが使用可能である。但し、これらの中でも可視光線の透明性と画像表示装置から輻射されるＭＨｚ〜ＧＨｚ帯域の電磁波の遮蔽性との両立性の点からは、金属又は導電性組成物から成る導電体パターンが好ましい。以下、導電体パターンを中心に説明する。
【００６５】
（電磁波遮蔽材の材料及び形成方法）
本発明の光学複合フィルタにおいて、導電体パターンから成る電磁波遮蔽材１０は、パターン領域や接地用領域を有する電磁波遮蔽材１０の材料や形成方法は特に限定はなく、従来公知の電磁波遮蔽材におけるものを適宜採用できる。
【００６６】
例えば、次の（１）〜（４）の方法が挙げられる。
（１）透明基材フィルムへ上に、導電体粒子と樹脂とを含む導電性組成物から成る導電インキをメッシュ等の電磁波遮蔽パターン状に印刷し電磁波遮蔽材とする方法（特開平９−３３０６６６号公報）。或は、更に形成された導電インキ層の上へ金属メッキする方法（例えば、特開２０００−１３０８８号公報、特許第３０１７９８７号公報、特許第３０１７９８８号公報）。
（２）透明基材フィルムへ、導電インキ又は化学メッキ触媒含有感光性塗布液を全面に塗布し、形成された塗布層をフォトリソグラフィー法で電磁波遮蔽パターン状とした後に、該パターンの上へ金属メッキする方法（例えば、住友大阪セメント株式会社新材料事業部新規材料研究所新材料研究グループ、“光解像性化学メッキ触媒”、［ｏｎｌｉｎｅ］、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、［平成１５年１月７日検索］、インターネット〈ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｓｏｃｎｂ．ｃｏｍ／ｐｒｏｄｕｃｔ／ｈｐｒｏｄｕｃｔ／ｄｉｓｐｌａｙ．ｈｔｍｌ〉）。
（３）透明基材フィルムと金属箔とを接着剤を介して積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法で電磁波遮蔽パターン状とする方法（例えば、特開平１１−１４５６７８号公報）。
（４）透明基材フィルムの一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属メッキ層として金属層を形成した透明基材フィルムを準備し、該金属メッキした透明基材フィルムの金属メッキ層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法で電磁波遮蔽パターン状とする方法（例えば、特許第３５０２９７９号公報、特開２００４−２４１７６１号公報）。
これらの方法の中でも、（１）、（３）、（４）の方法が好ましい。更に、腐蝕液、メッキ液等の薬液の管理、廃液処理が不要であり、又開口部の金属を除去する無駄が無いことから、（１）の方法が特に好ましい。
【００６７】
（接地用領域と電磁波遮蔽パタ−ン領域）
また、電磁波遮蔽材は、図３の平面図で概念的に例示する電磁波遮蔽材１０のように、その平面方向において、パターン領域１７以外に接地用領域１８を備えた層とするのが、接地をとり易い点でより好ましい。該接地用領域は画像表示を阻害しない為に、画像表示領域周縁部の一部又は全周に形成する。該パターン領域とは複合フィルタを適用するディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが出来る領域である。該接地用領域とは接地をとる為の領域である。
【００６８】
（電磁波遮蔽パターンの形状）
電磁波遮蔽パターンとしては、所望の周波数帯域の電磁波が有効に遮蔽可能であれば特に制限は無い。メッシュ（網、或は格子）、ストライプ（縞、或は平行線群）等が代表的であるが、中でもメッシュが最も好適に用いられる。以下、電磁波遮蔽パターンとしては、専らメッシュを主体に説明する。
メッシュの形状は、任意で特に限定されないが、開口部の形状は正方形が代表的である。開口部の形状は、その他に例えば、正三角形等の三角形、長方形、菱形、台形等の四角形、五角形、六角形、等の多角形、あるいは、円形、楕円形などである。メッシュはこれらの形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部）となり、ライン部は、通常幅が均一でライン状のものであり、また、通常は開口部及び開口部間は、全面で各々同一形状同一サイズである。
具体的なサイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、ライン部の幅（ライン幅、線幅）は１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。但し、電磁波遮蔽機能の確保、破断防止の点で、下限は５μｍ以上とするのが良い。
なお、メッシュ領域のバイアス角度（メッシュのライン部と複合フィルタの外周辺とのなす角度）は、適用するディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
また、開口部の間口幅［ライン周期−ライン幅］は、１５０μｍ以上、より好ましくは２００μｍ以上とする。但し、電磁波遮蔽機能の確保の観点から最大３０００μｍ以下が好ましい。また、ライン幅及び間口幅は、光透過性の観点、及び透明保護層形成時に開口部内に気泡が残留し難い観点から、開口率が６０％以上となるようにするのが好ましく、また開口率は、電磁波遮蔽機能の確保の観点から９７％以下となるようにするのが好ましい。
【００６９】
電磁波遮蔽層の厚みは、メッシュ領域（パターン領域）と接地用領域とは必ずしも同じ厚みでなくても良いが、通常はメッシュ領域も接地用領域も同じ厚さとなる。そして、電磁波遮蔽層の厚みは電磁波遮蔽機能の観点から少なくともメッシュ領域にて１〜２０μｍであるが、更に、より薄膜である点で、（斜めから観察する場合の）画像の視認性が良い点、表面保護層形成時の開口部とライン部との段差による開口部への気泡混入が少ない点、工程が短く歩留りが良い点、などの観点から、より好ましくは２〜１５μｍ、更により好ましくは３〜１０μｍとするのが、望ましい。
また、電磁波遮蔽層のメッシュ領域のライン部の高さは、開口部とライン部との段差の観点から、ライン部が電磁波遮蔽層のみから構成される場合は、ライン部の高さは電磁波遮蔽層の厚さに等しいが、例えば、非導電性黒化層及び非導電性防錆層も形成されている場合は、ライン部の高さは電磁波遮蔽層、非導電性黒化層、及び非導電性防錆層の厚みの合計値として捉える。
【００７０】
（透明基材）
透明基材１１は、電磁波遮蔽部材を支持する基材であり、所望の透明性、機械的強度、導電体層や後述するプライマー層との接着性等の要求適性を勘案の上各種材料の各種厚みのものを選択すればよい。材料としては樹脂、硝子等が、厚み形態としてはフィルム（乃至はシート）、あるいは板の形態で用いられる。通常は、樹脂製の各種透明フィルムが好ましく用いられる。
なかでも、二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムが透明性、耐久性に優れ、しかもその後の工程で電離放射線照射処理を経た場合でも熱変形等しない耐熱性を有する点で好適である。
【００７１】
（プライマー層）
プライマー層１２は、その主目的が凸状パターン層１３の印刷形成時に、版から被印刷物（透明基材）へのインキ（導電性組成物）転移性を向上させ、転移後の導電性組成物と被印刷物との密着性を向上させるための層である。すなわち、透明基材及び凸状パターン層の双方に密着性が良く、また開口部（凸状パターン層非形成部）の光透過性確保のために透明な層でもある。
更に、このプライマー層１２は、流動性を保持できる状態で透明基材１１上に設けられ、凹版印刷時の凹版に接触している間に液状から固化させる層として形成される層であり、最終的な電磁波遮蔽材が形成されたときに固化している層である。
【００７２】
かかるプライマー層を構成する材料としては、本来特に限定はないが、本発明では、未硬化状態において液状（流動性）の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を塗工、硬化（固体化）してなる層が好適に用いられる。以下、この材料を中心に詳述する。
該電離放射線重合性化合物としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー及び／又はプレポリマーが用いられる。
かかるモノマー及びプレポリマーの例としては、先に透明樹脂層における暗色部を構成する透明樹脂（バインダー樹脂）において例示したものを挙げることができる。
【００７３】
電離放射線として、紫外線、又は可視光線を採用する場合には、通常は、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、アセトフェノン系等の化合物が、又カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び／又はプレポリマーからなる組成物１００質量部に対して、０．１〜５質量部程度添加する。
なお、電離放射線としては、紫外線、又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。
【００７４】
プライマー層を版表面で硬化させた後に剥離する際、剥離が重い（版との密着が良い）材料系を用いる場合には、版表面に離型加工をしたり、離型材を塗布したりするなどの方法もとられるが、加工コストや離型能力の寿命などと勘案し、必要に応じてプライマー層に離型剤を添加する。本発明において用いる離型剤とは、電磁波遮蔽材の製造において、プライマー硬化工程を経た透明基材上のプライマー層が、版面からの剥離に要する力（剥離力）を小さくして、円滑に剥がれるように剥離性を向上させるための添加剤をいう。かかる離型剤としては、一価又は多価アルコールの高級脂肪酸エステル、リン酸エステル、シリコーン樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等が挙げられる。
【００７５】
当該電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要となるため、コストを考えれば溶剤を含まないタイプ（ノンソルベントタイプ乃至無溶剤型）であることが好ましい。外観改善や塗工適性改善などのために溶剤を添加する場合には乾燥が必要となるが、溶剤の添加量が数％程度の量であるならば、硬化後に乾燥させてもよい。残留溶剤量はなるべく少ない方が好ましいが、物性、耐久性に影響が無ければ完全にゼロでなくても良い。
【００７６】
プライマー層１２の厚さ（ＴＢ；図５の如く、凸状パターン層１３の非形成部の厚みで評価）は特に限定されないが、通常は硬化後の厚さで１μｍ〜１００μｍ程度となるように形成される。また、プライマー層２の厚さ（ＴＢ）は、通常は、凸状パターン層１３とプライマー層１２との合計値（総厚。図５（Ａ）でいうと凸状パターン層１３の頂部と透明基材１１の表面との高度差）の１〜５０％程度である。
【００７７】
（導電性組成物からなる凸状パターン層）
また、凸状パターン層１３の厚さは、その凸状パターン層１３の抵抗値によっても異なるが、電磁波遮蔽性能と該凸状パターン層上への他部材の接着適性との兼ね合いから、その中央部（突起パターンの頂部）での測定において、通常、２μｍ以上５０μｍ以下であり、好ましくは、５μｍ以上２０μｍ以下である。
この凸状パターン層１３は、導電性粒子とバインダー樹脂を含む導電性組成物（導電性インキ或は導電性ペースト）を、後述する凹版印刷法によりプライマー層１２上に形成することで得ることができる。
また、前記凸状パターン層の表面に安定して電解めっきにより金属層の形成が可能になる為には、該導電性組成物から成る凸状パターン層の表面抵抗率は低い程好ましい。具体的には、表面抵抗率が２Ω／□以下、となるよう構成することが好ましい。更に、前記凸状パターン層の表面に金属層を形成すること無く、且つ電磁波遮蔽メッシュとして多用される線幅が２５μｍ以下、線厚みが２０μｍ以下の領域にて十分な電磁波遮蔽性を発現せしめる為には、該導電性組成物から成る凸状パターン層の表面抵抗率は、更に低い程好ましい。具体的には、表面抵抗率が１．２Ω／□以下、より好ましくは０．８Ω／□以下となるよう構成すると良い。該凸状パターン層の表面抵抗率を０．８Ω／□以下とする為には、後述の様に、該導電性粒子の材料として体積抵抗率の低い銀、金、銅等の金属を選択すること、該導電性粒子の平均粒子径を１μｍ以下とすること、該導電性粒子の粒子径を小粒子径粒子と大粒子径粒子との混合系にすること、該凸状パターン層の頂部に於ける該導電性粒子の密度を密にすること、及び該凸状パターン層をプライマー層上に転写して以降、水分存在化且つ高温下にて処理する、或いは酸で処理することが有効である。これらのうち１乃至２以上の手段を併用すると良い。
【００７８】
導電性組成物自体の導電性を示す体積抵抗率は、印刷する形状により見かけの値が変化する。例えば、市販の導電ペーストをベタ形状（開口部がない形状）で形成した場合の体積抵抗率に比べ、下記の式で計算した、パターンで形成した場合の見かけの体積抵抗率は、形成するパターン形状を微細にするほど大きくなる。
（式）：見かけの体積抵抗率〔Ω・ｃｍ〕＝パターン部の表面抵抗率〔Ω／□〕×
パターン部厚み〔ｃｍ〕×パターン占有率
・パターン部厚み：パターン形成部の厚み−  パターン非形成部（開口部）の全厚み
・パターン占有率：単位面積のうち、パターン形成されている部分の面積の割合
例えば、市販の乾燥硬化型銀ペーストをベタ塗りし乾燥させた場合の体積抵抗率は、通常１０-5〔Ω・ｃｍ〕以下のオーダーであるが、実際にメッシュパターン印刷すると、見かけの体積抵抗率は１桁以上高くなることが多い。これは銀粒子の充填率や粒子同士の接触の機会が低減することによる。例えば、同じパターン占有率であっても、線幅や厚みが導電粒子の粒径に近くなるほど抵抗は増大する。ここで上記の各種手段を用いれば、この体積抵抗率上昇を抑えられる。特に、温度と湿度による処理（電気抵抗低減化処理工程）を行うことで、見掛けの体積抵抗率は該処理を行う前に比べて、８０〜５０％の値に低減する。
また、酸処理によっても、見掛けの体積抵抗率は該処理を行う前に比べて、８０〜５０％の値に低減する。
【００７９】
導電性組成物を構成する導電性粒子としては、金、銀、白金、銅、ニッケル、錫、アルミニウムなどの低抵抗率金属の粒子、或は芯材粒子としての高抵抗率金属粒子、樹脂粒子、無機粒子等の表面が金や銀などの低抵抗率金属で被覆された粒子、黒鉛粒子、導電性高分子粒子、導電性セラミックス粒子等を挙げることができる。
導電性粒子の形状は、正多面体状、截頭多面体状等の各種の多面体状、球状、回転楕円体状、鱗片状、円盤状、樹枝状、繊維状等から選ぶことができる。特に、多面体状、球状、又は回転楕円体状が好ましい。これらの材料や形状は適宜混合して用いてもよい。
導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、好ましくは、平均粒子径が０．０１〜１０μｍ程度のものを用いることができる。得られる凸状パターン層の電気抵抗を低く〔前記の如く、好ましくは、表面抵抗率（単に、表面抵抗とも略称）が０．８Ω／□以下〕して良好な電磁波遮蔽性を得る為には、平均粒子径は小さい方が好ましく、此の観点からは平均粒子径０．１〜１μｍが好ましい。一般に「ナノ粒子」と呼ばれるような平均粒子径が数十ｎｍと小さい粒子はコスト高につながり、また、結着用樹脂を入れると性能が低下し、インキとしての安定性も低下する。又、粒子径の分布については、得られる凸状パターンの電気抵抗を低くする為には、分布幅が狭く単一粒子径に近いよりも、図７の如く、相対的に大粒子径の粒子と相対的に小粒子径の粒子との混合系から成る方が良い。例えば、粒子径が０．０１μｍ〜１μｍの範囲の小粒子径粒子と粒子径５〜１０μｍの範囲の大粒子径粒子との混合系が好ましい。かかる混合系に於ける両粒子の混合比は、小粒子径粒子数：大粒子径粒子数＝１：９〜９：１、特に、小粒子径粒子数：大粒子径粒子数＝５：５〜９：１の範囲が好ましい。当然のことながら、パターンの線幅や厚みよりも大きな粒子が混入すると、印刷時に抜けやスジなどの不良が多発するため、大粒子径粒子の平均サイズ、あるいは最大粒子径はパターン設計により変わってくる。
また、異なる平均粒子径を持つ複数種類の粒子を混合する以外に、ある程度の粒度分布を持った粒子を最初から用いても良い。
【００８０】
該導電性粒子の粒子径を小粒子径粒子と大粒子径粒子との混合系にすると該導電性組成物（から成る凸状パターン層）の表面抵抗率が低下する理由としては、かかる系から成る凸状パターン層の断面を顕微鏡観察すると、大粒子径粒子の分布する間隙に小粒子径粒子が充填されて分布した形態が観察されることから推して、大粒子径粒子同士の接触が無い部分の間隙を、そこに介在する小粒子径粒子の接触によって補強し、導電性組成物内に分散する大小粒子相互の電気的接触面積の総和が増大する為（前記の式Ｒ＝ρＬ／Ｓにおいて断面積Ｓが増加したことに相当）と考えられる。
また、該凸状パターン層内に於ける該導電性粒子の分布は、所望の特性や製造適性に応じて各種形態を選択可能であるが、特に好ましい形態としては、図７の如く、該凸状パターン層の頂部近傍（プライマー層から遠ざかる方向）においては、相対的に、粒子間の間隔が小さく、粒子数密度、即ち単位体積当りの粒子数が高く（密に）なり、一方、該凸状パターン層の底部近傍（プライマー層に近付く方向）においては、相対的に、粒子間の間隔が大きく、粒子数密度が低く（疎或いは粗）になる分布が挙げられる。
【００８１】
かかる分布形態の場合は、本発明の電磁波遮蔽材を画像表示装置の画面に設置する汎用の使用形態、即ち、該凸状パターン層側が画像表示装置側に向かい、該透明基材側が画像の観察者側に向かう向きで使用する場合において、観察者側に対峙する該導電性粒子は、密度が粗の為、外来光（電燈光、日光等）を散乱させて、観察者の目に入る反射光、特に鏡面反射光を低減する。その結果、外来光存在下に於ける画像の白化、周囲の風景の映り込みを防止し、画像コントラストの低下を防止することが出来、好ましい。この効果をより一層有効に発現させる為には、該導電性粒子形状としては、鱗片状よりも、多面体状、球状、又は回転楕円体状の形状を選択する方が、該凸状パターン層のプライマー層側表面に鏡面に近い面が形成され難い為、好ましい。又、該導電性粒子形状としては、鱗片状の物を採用する場合は、該凸状パターン層中の鱗片状導電性粒子の配向方向（例えば、該鱗片の一番広い面の法線方向として定義される）を乱雑（ｒａｎｄｏｍ）に分布するようにすると、鏡面反射が低減し、好ましい。尚、該導電性粒子形状が多面体状、球状、又は回転楕円体状の形状の場合でも、其の配向方向を乱雑化することは、鏡面反射光の低減の点では好ましい。
且つ、同時に、画像表示装置側に対峙する該導電性粒子は、緻密に集合し、各粒子間の電気的接触も良好になり、電気抵抗が下がり、電磁波遮蔽効果も高まる。尚、当然、かかる高密度に分布する導電性粒子は可視光線の反射率も高いが、該導電性粒子は画像観察者の目に触れない側（観察者と反対側）の面に位置する為、画像コントラスト等の低下の心配は無い。また、該導電性粒子層が画像観察者側に位置するように設置して用いる場合は、必要に応じて、該凸状パターン層表面に、黒化処理などを施せばよい。
また、該凸状パターン層の頂部近傍において粒子が緻密に存在するという構造は、本メッシュを電磁波遮蔽部材として用いる場合に、接地部品との接触において接触抵抗を下げるという効果もある。
【００８２】
該凸状パターン層中に於ける該導電性粒子の密度分布を制御し、図７の如く、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、又該凸状パターンの頂部近傍において密である様にしたり、或いは該プライマー層近傍において粒子の配向方向が乱雑になり、且つ該凸状パターン層の頂部において平行乃至略平行に配向せしめる為には、例えば、後述の如くの凹版印刷法を応用した本発明の電磁波遮蔽材の製造方法（図８参照）において、版面凹部内に充填された導電性組成物上面の凹み（図８（Ａ）の符号１６参照）に、透明基材上の流動状態のプライマー層を押圧する圧力を高めに設定すると共に、未硬化状態に於ける該導電性組成物の粘度を低めに設定し、更に該導電性組成物を凹版凹部内で固化させずに、版面から離型後固化せしめることが有効である。其の他、これら導電性粒子の密度分布や配向状態は、導電性組成物のバインンダー樹脂の種類、導電性粒子の材料と粒子径と粒子形状、バインダー樹脂と導電性粒子との配合比、及び該導電性組成物の塗工条件や固化条件等に依存する。現実には、これら導電性粒子の密度分布や配向状態に影響する各種条件から実験的に、求める導電性粒子の密度分布及び配向に合致する条件を決定することになる。
該導電性組成物中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電性組成物の固形分１００質量部のうち、導電性粒子を４０〜９９質量部の範囲で含有させることができる。なお、本明細書において、平均粒子径というときは、粒度分布計、またはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察で測定した値を指している。
【００８３】
導電性組成物を構成するバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として前記した物を挙げることができ、これらを１種単独で、或いは２種以上混合して用いる熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の樹脂を挙げることができ、これらを１種単独で、或いは２種以上混合して用いる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。
また、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。導電性ペーストとして用いる溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤の中から適宜選択して使用できるが、プライマー層２の安定硬化を阻害したり、硬化後のプライマー層を膨潤、白化、溶解させたりしないものが好ましい。溶剤の含有量は通常、１０〜７０質量％程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
【００８４】
また、導電性組成物の流動性や安定性を改善するために、導電性や、プライマー層との密着性に悪影響を与えない限りにおいて適宜充填剤や増粘剤、帯電防止剤、界面活性剤、酸化防止剤、分散剤、沈降防止剤などを添加してもよい。
【００８５】
［電磁波遮蔽材の製造方法］
以下、本発明の光学複合フィルタに用いられる電磁波遮蔽材の製造方法について図により説明する。
図９は、本発明の電磁波遮蔽材の製造方法の一例を示す工程図である。また、図１０は、本発明の製造方法を実施する装置の概略構成図であり、図１１は、導電性材料組成物をプライマー層上に転写する転写工程を実施する装置の概略構成図である。
【００８６】
工程が少し前後するが、図８は、凹部６４内の導電性材料組成物１５の凹み１６にプライマー層１２を充填し、その導電性材料組成物１５が転写する形態を示す模式図である。図８（Ｃ）及び図５に示すように、転写工程後のプライマー層１２の形態と導電性材料層１３’の形態を観察すると、プライマー層１２のうち導電性材料層１３’が転写された部分Ａの厚さＴAは、導電性材料層１３’が転写されていない部分Ｂの厚さＴBよりも大きい。そして、厚さの大きい部分Ａのサイドエッジ５０，５０は、厚さの小さい部分Ｂの側に導電性材料層１３’が回り込んでいる。こうした形態は、流動性を保持したプライマー層１２が形成された透明基材１１のプライマー層１２側と、樹脂充填工程後の版面６３の凹部６４側とを図８（Ａ）（Ｂ）に示すように圧着することにより、凹部６４内の導電性材料組成物上部に生じやすい凹み１６に流動性のあるプライマー層２が充填するので、転写後の形態は、図８（Ｃ）に示すように、透明基材１１上に設けられたプライマー層１２のうち導電性材料層１３が形成されている部分Ａの厚さＴＡは導電性材料層１３が形成されていない部分Ｂの厚さＴＢよりも大きくなり、さらに、厚さの大きい部分Ａのサイドエッジ５０，５０は厚さの小さい部分Ｂの側に導電性材料層１３’が回り込んだ形態になる。通常、凸状パターン層が形成されている部分Ａに於けるプライマー層の厚さＴＡは、図５に示す如く、該部分の中央部に行く程厚みが厚くなる。即ち、電磁波遮蔽用パターン部の横断面（例えば図５）において、該プライマー層１２の断面形状は、透明基材１１から遠ざかる方向に向かって凸になった、半円、半楕円等の所謂釣鐘型形状、３角形、台形、５角形等の所謂山形形状、或いはこれらに類似の形状をなす。
本発明の電磁波遮蔽材は、特に、凸状パターン層形成部におけるプライマー層と凸状パターン層との界面に特徴がある。
【００８７】
〔凸状パターン層とプライマー層の界面の断面形態〕
本発明における導電性組成物からなる凸状パターン層１３とプライマー層１２の界面は、図６（Ａ）〜（Ｃ）に示すような３つの態様の断面形態をとり得るものであり、凸状パターン層１３とプライマー層１２との界面が、（ａ）プライマー層１２と凸状パターン層１３との界面が非直線状に入り組んでいる断面形態（以下、「第１態様」という）、（ｂ）プライマー層１２を構成する成分と凸状パターン層１３を構成する成分とが混合している層を有する断面形態（以下、「第２態様」という）、及び、（ｃ）凸状パターン層１３を構成する導電性組成物中にプライマー層１２に含まれる成分が存在している断面形態（以下、「第３態様」という、また、断面形態を「界面形態」ともいう。）が密着性、導電性組成物の転移性の点で好ましい結果を与えている。
【００８８】
界面形態の第１態様は、図６（Ａ）に示すように、プライマー層１２と凸状パターン層１３との界面１１１が、プライマー層１２側と凸状メッシュパターン層１３側とに交互に非直線状に入り組んだ形態である。
なお、この界面形態の第１態様において、入り組んだ界面は、全体としては中央が高い山型の断面形態となっている。
この形態において、その界面１１１が、プライマー層１２を構成する樹脂と導電層１３を構成するバインダー樹脂又は充填固体粒子との界面であるように構成されていても良い。この場合の「充填固体粒子」とは、任意の粒子乃至粉末であり、前記の導電性粒子であっても、或いは体質顔料等の非導電性粒子であっても構わない。例えば、導電性組成物が導電性粒子末とバインダー樹脂とで構成されている場合には、その界面は、導電層１３中の導電性粒子とプライマー層２を構成する樹脂とが入り組んだ非直線状の態様で形成される。このときの入り組みの程度と形態は、導電性粒子乃至粉末の形状や大きさ、プライマー層１２を凹部内に圧着する際の圧力等によって影響を受ける。或いは、この界面１１１が、プライマー層１２を構成する樹脂と導電層１３を構成するバインダー樹脂との界面で構成されていても良い。
【００８９】
こうした界面形態の第１態様は、そもそも平坦面でない山型のプライマー層１２上に凸状パターン層１３が形成されていることを以ってしても密着性が良いのに加え、上記のように界面１１１が入り組んだ形態になっているので、所謂投錨効果により、プライマー層１２と凸状パターン層１３との密着性が著しく高くなっている。さらに、こういう界面形態をとるゆえに、版凹部内に充填された導電性組成物がプライマー層１２上に極めて高い転移率（ほぼ１００％）で転写されるという格別の効果を備えている。
【００９０】
界面形態の第２態様は、図６（Ｂ）に示すように、プライマー層１２と凸状パターン層１３との界面１１１の近傍に、プライマー層に含まれるプライマー成分と、凸状パターン層を構成する成分とが混合する領域２１１が存在している形態である。図６（Ｂ）では界面が明確に現れているが、実際には、明瞭でない曖昧な界面が現れる。また、図６（Ｂ）では混合領域２１１は、界面１１１を上下に挟むように存在する。この場合は、プライマー層中のプライマー成分と凸状パターン層１３中の任意の成分とが両層内に相互に侵入する場合である。なお、混合領域２１１は界面１１１の上側（透明基材とは反対側）に存在しても下側（透明基材側）に存在してもよい。混合領域２１１が界面１１１の上側に存在する場合としては、プライマー層中のプライマー成分が凸状パターン層内に侵入し、凸状パターン層中の成分がプライマー層内に侵入しない場合であり、一方、混合領域２１１が界面１１１の下側に存在する場合としては、凸状パターン層中の任意の成分がプライマー層内に侵入し、プライマー層中のプライマー成分が凸状パターン層内に侵入しない場合である。
【００９１】
こうした界面形態の第２態様は、そもそも平坦面でない山型のプライマー層１２上に凸状メッシュパターン層１３が形成されていることを以ってしても密着性が良いのに加え、上記のように界面１１１近傍に混合領域２１１を有するので、プライマー層１２と凸状パターン層１３との密着性が著しく高くなっている。さらに、こういう界面形態をとるゆえに、版凹部内に充填された導電性組成物がプライマー層１２上に極めて高い転移率（ほぼ１００％）で転写されるという格別の効果を備えている。
【００９２】
界面形態の第３態様は、図６（Ｃ）示すように、凸状パターン層１３中に広く、プライマー層１２に含まれるプライマー成分３１が存在している形態である。図６（Ｃ）ではプライマー成分３１が界面１１１付近で多く、頂部に向かって少なくなって態様を模式的に表しているが、こうした態様には特に限定されない。プライマー成分３１は、凸状パターン層１３の頂部から検出される程度に凸状パターン層１３内に侵入していてもよいし、主として界面近傍で検出される程度であってもよい。なお、第３態様において、特に、プライマー成分３１が凸状パターン層内に存在している領域が界面１１１の近傍に局在化している場合が、上記第２態様において混合領域が界面１１１の上側にのみ存在する形態に相当するといえる。
【００９３】
こうした界面形態の第３態様も上記第１及び第２形態の場合と同様、そもそも平坦面でない山型のプライマー層１２上に凸状パターン層１３が形成されていることを以ってしても密着性が良いのに加え、上記のようにプライマー成分３１が凸状パターン層１３に侵入しているので、プライマー層１２と凸状パターン層１３との密着性が著しく高くなっている。さらに、こういう界面形態をとるゆえに、版凹部内に充填された導電性組成物がプライマー層１２上に極めて高い転移率（ほぼ１００％）で転写されるという格別の効果を備えている。
【００９４】
本発明における導電性組成物からなる凸状パターン層１３とプライマー層１２の界面１１１は、上記の第１〜第３態様の界面形態の特徴を少なくとも１つ有しているが、それらの特徴を２つ以上有していてもよく、３つの全てを有していてもよい。
【００９５】
凸状パターン層が、特に、メッシュ形状となる形態（この形態を凸状メッシュパターン層とも呼称する）では、互いに方向の異なる２群以上の平行線群がから成る線部が交差して、これら線部に囲繞されて開口部（パターン非形成部）が形成される。尚、３群以上の平行線群（線部）が交叉する場合も、其の基本的な設計要領及び作用効果は共通の為、以下、通常広く用いられている２群の場合を例に絞って説明する。又、各線群の交叉角度、即ち、第一方向線部と第二方向線部との交叉角度θは、０°＜θ＜１８０°の範囲から選択できるが、θ＝９０°が通常広く用いられている。
【００９６】
〔金属層〕
本発明の光学複合フィルタにおける電磁波遮蔽材は、導電性組成物からなる凸状メッシュパターン層１３のみでは所望の導電性に不足する場合に、導電性を更に向上せしめるために、金属層１４を、必要に応じ形成することができ、凸状パターン層１３上にめっきにより形成される。めっきの方法としては電解めっき、無電解めっきなどの方法があるが、電解めっきは無電解めっきに比べて通電量を増やすことでめっき速度を数倍に上げることができ、生産性を著しく向上させることができるため好ましい。
電解めっきの場合、凸状パターン層１３への給電は凸状パターン層１３が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、凸状パターン層１３が電解めっき可能な程度の導電性（例えば、１００Ω／□以下）を有するので、電解めっきを問題なく行うことができる。金属層を構成する材料としては、導電性が高く容易にめっき可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。
金属層１４は凸状パターン層１３に比べると一般的に体積抵抗率が１桁以上小さいため、凸状パターン層単体で電磁波遮蔽性を確保する場合に比べて、必要な導電性材料の量を減らせるという利点がある。
なお、図１０においては印刷後にインラインでめっき工程を行っているが、必ずしもインラインである必要は無い。
【００９７】
なお、金属層１４を形成した後においては、必要に応じて、その金属層１４を黒化処理したり、保護層を設けてもよい。黒化処理は、例えば黒化ニッケルめっき、銅−コバルト合金めっき等の処理を例示できるが必ずしもこれらの処理に限定されない。また、保護層は、平坦化層とは別に凸状パターン層の凹凸を充填、表面平坦化はせずに、単に凸状パターン層表面を被覆し保護する層である。例えばアクリル系の光硬化性樹脂を用いて形成することができる。凸状パターン層や金属層に使用する金属が銅などの錆びやすい金属の場合には防錆処理を行うことが好ましく、クロメート処理剤等の一般的な防錆剤を使用でき、また防錆処理は黒化処理や保護層形成と兼ねてもよい。
【００９８】
本発明の光学複合フィルタをＰＤＰの前面フィルタとして使用するためには、電磁波遮蔽材の裏面に積層する粘着剤の密着強度が、貼合せ後２４時間後に１０Ｎ／２５ｍｍ以下であることが、光学複合フィルタの剥離のし易さの点で好ましい。
【実施例】
【００９９】
以下に、実施例と比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。
【０１００】
〔反射防止層の準備〕
離型性フィルム（東レフィルム加工社製、セラピールＢＸ−９（ＲＸ））上に、高屈折率層と低屈折率層を順次形成した反射防止フィルタ６を形成した。ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物（ＪＳＲ（株）製、商品名「ＫＺ７９７３」）の厚さ３μｍ、屈折率１．６９の硬化物層とし、低屈折率層は、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂（ＪＳＲ（株）製、商品名「ＴＭ０８６」）の厚さ１００ｎｍ、屈折率１．４１の硬化物として、総厚みが３．１μｍの反射防止層を準備した。
【０１０１】
〔電磁波遮蔽材Ｉの製造〕
〔凹版の準備〕
先ず、凹版ロール６２として、線幅が１８μｍで線ピッチが２７０μｍで格子状のメッシュパターンであり、目標の版深１０μｍであるグラビア版胴を準備した。
【０１０２】
〔透明基材の準備〕
次いで、透明基材１１として、片面に易接着処理がされた幅１０００ｍｍで厚さ１００μｍの長尺ロール巻２軸延伸透明ポリエチレンテレフタレー卜（ＰＥＴ）フィルムを用いた。また、離型剤としてステアリン酸エステル１質量％を添加したウレタンアクリレート系の紫外線硬化型樹脂組成物を用意した。供給部にセットしたＰＥＴフィルムを繰り出し、斜線版のグラビアリバース方式で、該紫外線硬化性樹脂組成物を該ＰＥＴフィルムの易接着処理面に厚み１４μｍにコーティングし、透明基材を準備した。
【０１０３】
（電磁波遮蔽材Ｉの製造）
図１１に示す装置により電磁波遮蔽材を製造した。先ず、版パターンが線幅１８μｍ、ピッチ２７０μｍ、版深１０μｍである上記グラビア版ロール６２を用い、充填容器６８に満たされた導電性材料１５である銀ペーストインキ（略球形状から成り、粒子径０．１〜０．５μｍの粒子と粒子径１〜３μｍの粒子との混合系で平均粒子径１μｍの銀粒子９３質量部をアクリル系バインダー樹脂中４質量部に分散）をピックアップロール６１により版部にコーティングし、余剰インキをドクターブレード６５により掻き取った版面６３と、プライマー層が形成された透明基材（ＰＥＴフィルム）のプライマー層側とを、ニップロール６６で圧着し、引続き紫外線照射ゾーン（図示は略すが、図６で「ＵＶゾーン」と示す部位の凹版ロール６２の上方に存在）間を走行する間に、プライマー層の紫外線硬化樹脂を硬化させた後、ニップロール６７を介して、版面６３から離版させて、ＰＥＴフィルム上にプライマー層１２を介して上記版胴表面の版パターンを転写させてメッシュ形状の凸状パターン層３となし、電磁波遮蔽材を製造した。なお、透明基材はエンドレスのロールのものを用い、印刷速度１０ｍ/ｍｉｎでロール・トウ・ロール方式にて印刷した。
次いで、印刷後、該電磁波遮蔽材を、気温８０℃、相対湿度９０％の雰囲気中で４８時間放置して、電気抵抗低減化処理工程を行った後、室温雰囲気（気温２３℃、相対湿度５０％）中に取り出した。
プライマー層１２の紫外線硬化型樹脂に離型剤を添加することにより、プライマー層（紫外線硬化樹脂）の凹版印刷版胴からの離型性が向上し、且つ、凹版からの導電性材料の転移量も向上し、版胴からの剥離張力が低下し、正常点Ｐで安定した離版ができたため、未硬化状の導電性材料の飛散りは軽減し、目視で判別不能な程度であった。また、紫外線硬化後の、進行方向とは垂直方向の縞状ムラは見えなかった。
また、転移した該凸状パターンには断線等の転移欠点も認められなかった。印刷された該凸状パターンの厚み（メッシュ非形成部のプライマー層を基準にして測定）は９μｍであり、版深と印刷厚みの比で計算した転移率は、（メッシュパターン厚み９μｍ／版深１０μｍ）×１００＝９０％であったが、実際には銀ペーストインキの溶剤乾燥による体積収縮があるため、ほぼ１００％に近い転移がなされていると推定される。
更に、該プライマー層１２と該凸状パターン層１３との界面の形態は、図６（Ａ）の如く非直線状に交互に入り組んだ構造を有していた。かかる入り組み構造を電子顕微鏡で拡大撮影して観察した結果、図６（Ａ）に示すように、凸状パターン層中の導電性粒子（銀粒子）がプライマー層１２との界面において上下に不規則に乱雑分布して該界面を構成することが認められた。該導電性粒子の分布は、該凸状パターン層の頂部に行くほど密になり、逆にプライマー層側に行くほど粗になる様な粗密で分布していることが認められた。
更に又、図６（Ｂ）の如く界面近傍に、両層の成分が混合した混合領域も認められた。
次いで、得られた電磁波遮蔽材の該凸状パターン層の表面（電気）抵抗を測定した。
測定は、室温雰囲気（気温２３℃、相対湿度５０％）中で実施した。表面抵抗率は０．４５Ω／□であった。
【０１０４】
〔電磁波遮蔽材IIの製造〕
銅メッシュによる電磁波遮蔽材IIを次の様にして作製した。先ず、導電体層１２とする金属箔として、一方の面に銅−コバルト合金粒子から成る黒化層が形成された厚さ１０μｍの連続帯状の電解銅箔を用意した。
また、透明基材１１として厚さ１００μｍで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、ディッピング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防錆層を形成した。
次いで、この銅箔をその黒化層面側で上記透明基材プライマー層上に、主剤が平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部から、又硬化剤がキシレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部とから成る透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、５０℃３日間養生して、銅箔（防錆層）と透明基材間に厚さ７μｍの透明接着剤層を有する連続帯状の銅貼積層シートを得た。
【０１０５】
次いで、上記銅貼積層シートに対して、その導電体層を、フォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部及びライン部とから成るメッシュ状領域１７、及びメッシュ状領域１７の４周を囲繞する外縁部に額縁状の接地用領域１８を形成した。
エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対してマスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートの導電体層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、導電体層、防錆層、及び黒化層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
メッシュ状領域のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は１０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１０μｍ、バイアス角度は４９度であった。
【０１０６】
〔透明樹脂層（コントラスト向上層）の製造〕
厚さ１８８μｍで連続帯状の透明２軸延伸ＰＥＴフィルムから成る支持体としての透明基材５の一方の表面に、液状のウレタンアクリレート系のプレポリマー及びアクリレート系単量体、及びベンゾフェノン系光開始剤の混合液とから成る液状紫外線硬化樹脂を硬化後の膜厚が１５５μｍとなる様に塗布した。次に、版表面の面方向に沿って円周方向に直線状に連なり、その延長方向と直交する断面が、高さ１５０μｍ、版表面側底辺の長さが３０μｍ、版から遠い側の底辺の長さが６μｍの台形となる溝状凸部を、６０μｍ周期で複数條互いに平行に配列した凸條群（暗色凸條部と同形状）を形成されたロール金型とＰＥＴフィルムとの間に、塗布した紫外線硬化樹脂を挟んだ状態で水銀燈からの紫外線を照射することにより、該紫外線硬化樹脂を架橋硬化せしめて透明樹脂層とし、しかる後ロール金型を離型することにより、該透明樹脂層表面に、該透明樹脂層表面の面方向に沿って一方向に直線状に連なり、その延長方向と直交する断面が、高さ１５０μｍ、透明樹脂層表面側底辺の長さが３０μｍ、ＰＥＴフィルム側の底辺の長さが６μｍの台形となる凹條溝群を表面に有する透明樹脂層２を該透明基材５の一方の面上に形成した。なお、凹條溝は暗色材料が充填されて遮光する機能を有するので、本発明では遮光溝ともいう。
次に、透明アクリル系の紫外線硬化性プレポリマー１００質量部中に、最小粒径が２μｍで最大粒径が３μｍの黒い球状ビーズ状粒子５０質量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロへキシル−フェニル−ケトン（商品名:イルガキュア１８４、チバスペシャリティケミカルズ社製）２質量部を混合して液状の紫外線硬化性樹脂組成物を調製した。この黒色液状組成物を透明樹脂層２の遮光溝２１に塗工し、次いで該塗膜を鉄製ドクターブレードでスキージし該（凹條）遮光溝外の該液状材料のみを掻き取り除去し、該凹條溝内のみに該液状材料を充填して暗色部２４を形成することで、コントラスト向上層（ミクロルーバ層）を完成した。遮光溝の開口側には凹陥部２６が形成されていた。
【０１０７】
（充填樹脂層の形成）
コントラスト向上層である透明樹脂層２の暗色凹陥部２６側の表面に充填樹脂層３の形成樹脂として、昭和インク工業製アクリルポリオール「ＦＷＣクリア」１００質量部に昭和インク工業製イソシアネート「ＦＷ（ＮＴ）硬化剤」５質量部、酢酸エチル２０質量部トルエン２０質量部添加した樹脂組成物Ａを用い、暗色凹陥部２６側の表面にロールコーター法にて厚み４μｍ（ｄｒｙ）塗布し、６０℃にて４８時間熱硬化した（実施例１，２，３，４）。一方、比較例１〜４については、充填樹脂層を形成しなかった。
【０１０８】
コントラスト向上層である透明樹脂層２の暗色凹陥部２６側の表面に、充填樹脂層３の形成樹脂として、ＵＶ硬化型樹脂を用いる実施例として、イソホロンジイソシアネート(ＩＰＤＩ)とペンタエリスリトール多官能アクリレートからなるウレタンアクリレートプレポリマー ８０質量部とペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ２０質量部を混合した組成物に、光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」］３質量部、メチルイソブチルケトン(ＭＩＢＫ)２００質量部を混合し均一化した電離放射線硬化性樹脂から成るコーティング剤（「樹脂組成物Ｂ」という）を用い、暗色凹陥部２６側の表面にロールコーター法により厚み４ｕｍ（ｄｒｙ）塗布し、８０℃で乾燥し、その後照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行うことにより硬化せしめて充填樹脂層３を形成した（実施例５、６、７）。
【０１０９】
（近赤外線吸収層用粘着フィルムの作製）
近赤外線吸収層用粘着フィルム１
平均粒子４４ｎｍの酸化タングステン系微粒子ＹＭＦ−０２Ａ（商品名、住友金属鉱山社製）１５質量部、及び金属酸化物微粒子として平均粒子１５ｎｍの酸化ジルコニウム５５質量部、透明樹脂としてアクリル樹脂系粘着剤ＳＫダイン２０９４（商品名、綜研化学社製）１００質量部、溶剤としてメチルイソブチルケトンからなる組成物を剥離紙上に塗布し乾燥させ、組成物表面を別の剥離紙で貼り合せ、厚み２５μｍの近赤外線吸収層（但し、該剥離紙は最終的に剥離除去する）としての近赤外線吸収粘着フィルム１を得た。
【０１１０】
近赤外線吸収層用粘着フィルム２
透明樹脂としてアクリル樹脂系粘着剤〔東洋インキ（株）製、感圧性粘着剤 ＢＰＳ６２１２(固形分２７％) 〕１００質量部、溶剤としてメチルイソブチルケトンからなる組成物の固形分比が２０％（質量基準）となるよう溶解した樹脂溶液中に、前記工程で合成した対イオン（Ｘ- ）が１価陰イオンとして「ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオン」であるジインモニウム系近赤外線吸収色素０．０３質量部 、およびフタロシアニン系近赤外線吸収色素〔ＩＲ−１４：商品名、（株）日本触媒製〕０．０２質量部、〔ＩＲ−１２：商品名、（株）日本触媒製〕０．０５質量部、 の３種類の近赤外線吸収色素及び粘土鉱物（商品名クニピアＤ３６）；クニミネ工業株式会社製）０．０５質量部を添加して十分分散させて得た塗布用溶液を用い、剥離紙上に塗布し乾燥させ、組成物表面を別の剥離紙で貼り合せ、厚みが１００μｍの近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルム２を得た。
【０１１１】
なお、近赤外線吸収フィルム１及び２の透明樹脂組成物には、紫外線吸収剤（サイテック社製、ＣｙａｓｏｒｂＵＶ２４）４質量部、光安定剤（チバ社製、ＴＩＮＵＢＩＮ  １４４）２質量部、酸化防止剤（東京化成工業社製、１，２，３ベンゾトリアゾール）０．０１５質量部を配合した。
【０１１２】
近赤外線・Ｎｅ光吸収及び調色層用粘着フィルム３
また、前記近赤外線吸収フィルム２の透明樹脂組成物に、さらにＮｅ光吸収化合物「ＴＡＰ−２」（商品名、山田化学（株）製）を０．０１質量部、可視域の調色色素として「カヤセットＢｌｕｅＡ−２Ｒ」（商品名、日本化薬製）を０．０１５質量部配合して、近赤外線・Ｎｅ光吸収及び調色層用粘着フィルム３を得た。
【０１１３】
（メッシュ裏面用粘着剤）
メッシュ裏面の粘着剤として厚み２５μｍの粘着剤（巴川製紙社製、ＴＸ−４８Ａ）を用いた。
【０１１４】
（光学複合フィルタの作製）
上記で得られた透明支持体５を有するコントラスト向上層としての透明樹脂層２に形成された充填樹脂層３上に近赤外線吸収フィルム４、反射防止層５を順次積層接着して、各実施例の光学複合フィルタ部材とした。一方、比較例においては、実施例１、２において
充填樹脂層３を形成しない他は同様にして光学複合フィルタ部材を得た。
一方、上記電磁波遮蔽材I及び電磁波遮蔽材IIのメッシュ開口部側にアクリル系樹脂からなる粘着剤層７を積層して平坦化した。
この粘着７を介して、上記光学複合フィルタ部材と積層して、実施例及び比較例の光学複合フィルタを作製した。
【０１１５】
（光学複合フィルタの耐光性の評価）
作製した複合フィルタの８００〜１１００ｎｍの波長域における光線透過率は１０％以下、可視光透過率は４３％であった。なお、本発明における光線透過率は、ＪＩＳ Ｚ８７０１に準拠して分光光度計（島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）にて測定した。更に、作製した複合フィルタ１の初期状態、および当該複合フィルタの耐光試験として、スガ試験機製オートフェードメーター「Ｕ４８ＡＵ」放電電圧１３５Ｖ、放電電流１６Ａ、ブラックパネル温度６３℃で４８時間照射したものを、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定した。初期状態と、前記耐光試験条件下で１０００時間経過後の透過率Ｔ、及び色度（ｘ、ｙ）の測定値から、透過率変化ΔＴ、及び色度（ｘ、ｙ）の値の差Δｘ、及びΔｙを求めた。
評価は、Δｘ，ｙ≦０．０１を「○」、Δｙ＞０．０１を「×」とした。
【０１１６】
実施例１〜４及び比較例１〜４
準備した反射防止層フィルムと近赤外線吸収フィルムとを剥離フィルムから剥がして相互に積層した反射防止層６と近赤外線吸収層４を貼り合わせた。次に、実施例１〜４については、前記樹脂組成物Ａにより形成された充填樹脂層３の表面に近赤外線吸収層フィルムが接着されるように積層して、凹陥部２６は充填樹脂層３により充填され、気泡のない光学複合フィルタを得た。比較例１〜４は、透明樹脂層（コントラスト向上層）の暗部に充填樹脂層なしに近赤外線吸収層を直接接着して光学複合フィルタを得た。
次に、上記の実施例及び比較例の光学複合フィルタに前記の電磁波遮蔽材I及びIIを、表に示す組み合わせで積層し、電磁波遮蔽材を含む光学複合フィルタを得、前記の方法で耐光性を測定した。実施例１〜４については、結果をまとめて表１−１に、比較例１〜４については、結果をまとめて表１−２に示す。
【０１１７】
実施例５，６
実施例５，６については、ＵＶ硬化型樹脂である前述の樹脂組成物Ｂを用いて充填樹脂層を形成した他は、実施例３又は４と同様にして、電磁波遮蔽材Ｉを含む光学複合フィルタを得、前記の方法で耐光性を測定した。結果をまとめて表１−１に示す。
【０１１８】
実施例７、比較例５
機能性樹脂層として前記近赤外線・Ｎｅ光吸収及び調色層用粘着フィルム３を用いた他は実施例５，６、同様にして、電磁波遮蔽材Ｉを含む光学複合フィルタを得、前記の方法で耐光性を測定した。結果をまとめて表１−１に示す。
また、比較例５は、透明樹脂層（コントラスト向上層）の暗色部に、充填樹脂層なしに前記近赤外線・Ｎｅ光吸収及び調色層用粘着フィルム３を直接接着した他は実施例７と同様にして光学複合フィルタを得、耐光性を測定した。結果をまとめて表１−２に示す。
【０１１９】
【表１】
2011039163.tif 000003
【０１２０】
【表２】
2011039163.tif 000004
【０１２１】
表１−１の結果から明確なように、本発明の実施例による光学複合フィルタは、近赤外線吸収層のオートフェードメーターの試験法による耐光性が良好であり、近赤外線吸収色素の劣化がなく安定した近赤外線吸収能を発現できる。また、Ｎｅ光吸収色素、可視域の調色色素の劣化がなく、安定した近赤外線・Ｎｅ光吸収及び可視域の調色機能を発現できる。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明の光学複合フィルタは、近赤外線・Ｎｅ光吸収層とするために添加される色素が劣化するのを防止できるので、当該近赤外線・Ｎｅ光吸収層、さらに可視域の調色層は、ＰＤＰから発生する近赤外線・Ｎｅ光の遮蔽機能を安定して発現することができ、プラズマデュイスプレイなどの前面フィルタとして有効に利用できる。
【符号の説明】
【０１２３】
１  光学複合フィルタ
２  透明樹脂層（コントラスト向上層）
３  充填樹脂層
４  機能性樹脂層（近赤外線吸収層）
５  透明支持体（透明基材）
６  反射防止層
７  平坦化層兼接着剤層
９  接着剤層
１０  電磁波遮蔽材
１１  透明基材
１２  プライマー層
１３  凸状パターン層（１３’導電性材料組成物層）
１４  金属層
１６  凹み
１７  電磁波遮蔽パターン部
１８  接地部
１９  保護層
１５  導電性材料組成物
２１  遮光溝
２２  暗色顔料（粒子）
２３  透明樹脂
２４  暗色部
２５  透光性領域（レンズ部）
２６  凹陥部
５０  サイドエッジ
５１  グラビアロール
５２  バックアップロール
５３  樹脂組成物充填容器
５４  ドクターブレード
６１  ピックアップロール
６２  凹版ロール
６３  版面
６４  凹部
６５  ドクターブレード
６６  ニップロール
６７  ニップロール
６８  充填容器
１１１  界面
Ａ    導電性材料層が形成されている部分
ＴＡ  Ａの厚さ
Ｂ    導電性材料層が形成されていない部分
ＴＢ  Ｂの厚さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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