(57)【要約】【課題】ガラスなどの基板表面に金属膜を形成したもので、熱線の遮蔽率が高い反射型のＮＤフィルタを、高い生産性をもって製造できる方法を提供する。【解決手段】透光性を有する基板２を用意するとともに、金属膜３となる金属前駆体溶液を用意する。次に、基板２に金属前駆体溶液を塗布する工程、および、塗布された金属前駆体溶液を乾燥する工程を実施することによって、基板２上に金属前駆体膜を形成する。次に、金属前駆体膜を還元性雰囲気下で焼成する。これによって、金属前駆体膜が焼結して多孔質の金属膜３となり、目的とするＮＤフィルタ１が得られる。多孔質の金属膜３は、そこに形成される孔４によって可視光２１の透過を確保しながら、その膜厚を厚くすることにより、より長波長の熱線（赤外線）の遮蔽率を高めることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有する基板上に金属膜が形成された、ＮＤフィルタの製造方法であって、
前記基板を用意する工程と、
前記金属膜となる金属前駆体溶液を用意する工程と、
前記基板に前記金属前駆体溶液を塗布する工程、および、塗布された前記金属前駆体溶液を乾燥する工程を実施することによって、前記基板上に金属前駆体膜を形成する工程と、
前記金属前駆体膜を多孔質の金属膜とするため、前記金属前駆体膜を還元性雰囲気下で焼成する工程と
を備える、ＮＤフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記金属前駆体溶液は、金属のカルボン酸塩溶液である、請求項１に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記金属膜は、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀および銅から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１または２に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記金属前駆体溶液を乾燥する工程は、９０〜１８０℃の温度で乾燥する前段乾燥工程と、次いで、３５０〜４００℃の温度で乾燥する後段乾燥工程とを備える、請求項１ないし３のいずれかに記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記金属前駆体膜を形成する工程において、前記金属前駆体溶液を塗布する工程と前記金属前駆体溶液を乾燥する工程とが複数回繰り返される、請求項１ないし４のいずれかに記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記金属前駆体膜を焼成する工程は、４００〜９００℃の焼成温度で実施される、請求項１ないし５のいずれかに記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の製造方法によって製造されたものであって、透光性を有する基板と、前記基板上に形成された多孔質の金属膜とを備える、ＮＤフィルタ。
【請求項８】
前記金属膜の開口率は、１０％を超えかつ２６％未満である、請求項７に記載のＮＤフィルタ。
【請求項９】
前記金属膜に形成される孔の外接円径は１μｍ以下である、請求項７または８に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１０】
前記金属膜の厚みは１００ｎｍ以上である、請求項７ないし９のいずれかに記載のＮＤフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＮＤフィルタの製造方法およびこの製造方法によって製造されたＮＤフィルタに関するもので、特に、反射型のＮＤフィルタおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＮＤフィルタは、照明光路に挿入されることによって、光源から発した光線の光量を一定量減衰させるために用いられる。たとえば、熱の付与を嫌う試料（光被照射物）を光学顕微鏡において扱う場合、通常、光学顕微鏡の光源はその出力を調整することが不可能であるので、試料に付与される熱を低減するため、光路にＮＤフィルタを挿入することが行なわれている。そのため、ＮＤフィルタの光透過率は、赤外領域の光に対しては低い方が好ましい一方、可視領域の光に対しては波長に依存しない方が好ましい。
【０００３】
一般的なＮＤフィルタには吸収型と反射型との２種類が存在する。吸収型のＮＤフィルタは、ガラス中などに光を吸収する物質が含まれたものであり、可視光を任意の割合で一様に吸収し、残りを透過する機能を持つ。他方、反射型のＮＤフィルタは、ガラスなどの基板表面に金属薄膜を形成したフィルタであり、可視光を任意の割合で一様に反射し、残りを透過する機能を持つ。この発明は、後者の反射型のＮＤフィルタに関するものである。
【０００４】
この発明にとって興味あるＮＤフィルタとして、たとえば特開昭５２−８２２５２号公報（特許文献１）に記載されたものがある。特許文献１には、ガラス平板の平滑な表面に、真空蒸着法によりニッケルクロム合金膜を形成することによって得られた、ＮＤフィルタが開示されている。
【０００５】
しかし、特許文献１に記載のように、蒸着法によって任意の厚みの金属膜を工場規模で形成しようとする場合、大掛かりな蒸着装置を必要とするため、導入コストが比較的高いという問題に遭遇する。また、蒸着法による成膜には、真空中でのバッチ処理が必要なため、生産性があまり高くないという欠点もある。
【０００６】
また、金属膜を形成したＮＤフィルタについて、可視光域で所望の光透過特性を得るためには、金属膜の膜厚をかなり薄くする必要がある。この結果、光源からの光成分のうち、可視光のみならず、熱線（赤外線）をも比較的高い割合で透過してしまうことになる。そのため、光源として白色光を用いた場合には、ＮＤフィルタ以降の光学系や光被照射物が意図せず加温されるという問題を招くことがある。
【０００７】
他方、ＮＤフィルタあるいはフィルタが属する技術分野のものではないが、この発明にとって興味あるニッケル金属薄膜を形成する方法を開示するものとして、たとえば特開２００１−１９２８４３号公報（特許文献２）がある。特許文献２には、ゾルゲル法で基板上にゲル膜を形成し、次いで不活性ガス雰囲気中で焼成することによって、ニッケル金属薄膜を形成する方法が記載されている。
【０００８】
特許文献２に記載の技術は、連続的な、すなわち多孔質ではないニッケル金属薄膜を形成することを目指しており、また、形成されたニッケル金属薄膜は、フィルタとしての用途を意図したものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭５２−８２２５２号公報
【特許文献２】特開２００１−１９２８４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで、この発明の目的は、上述したような問題を解決し得る、ＮＤフィルタの製造方法、およびこの製造方法によって得られたＮＤフィルタを提供しようとすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この発明は、透光性を有する基板上に金属膜が形成された、ＮＤフィルタの製造方法にまず向けられるものであって、上述した技術的課題を解決するため、次のような工程を備えることを特徴としている。
【００１２】
まず、上記基板が用意されるとともに、上記金属膜となる金属前駆体溶液が用意される。次に、基板に金属前駆体溶液を塗布する工程、および、塗布された金属前駆体溶液を乾燥する工程を実施することによって、基板上に金属前駆体膜が形成される。次に、金属前駆体膜が還元性雰囲気下で焼成される。これによって、金属前駆体膜が焼結して多孔質の金属膜となる。
【００１３】
この発明に係るＮＤフィルタの製造方法において、金属前駆体溶液は、金属アルコキシドよりも、金属のカルボン酸塩溶液であることが好ましい。
【００１４】
金属膜は、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀および銅から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
【００１５】
金属前駆体溶液を乾燥する工程は、９０〜１８０℃の温度で乾燥する前段乾燥工程と、次いで、３５０〜４００℃の温度で乾燥する後段乾燥工程とを備えることが好ましい。
【００１６】
金属前駆体膜を形成する工程において、金属前駆体溶液を塗布する工程と金属前駆体溶液を乾燥する工程とが必要に応じて複数回繰り返されてもよい。
【００１７】
金属前駆体膜を焼成する工程は、４００〜９００℃の焼成温度で実施されることが好ましい。
【００１８】
この発明は、また、この発明に係る製造方法によって製造されたものであって、透光性を有する基板と、基板上に形成された多孔質の金属膜とを備える、ＮＤフィルタにも向けられる。
【００１９】
この発明に係るＮＤフィルタにおいて、金属膜の開口率は、１０％を超えかつ２６％未満であることが好ましい。
【００２０】
金属膜に形成される孔の外接円径は１μｍ以下であることが好ましい。
【００２１】
金属膜の厚みは１００ｎｍ以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
この発明に係るＮＤフィルタの製造方法によれば、基本的に、金属前駆体溶液を塗布する工程とこれを焼成する工程とを実施すれば足りるので、工場規模での生産にあたって大掛かりな装置を必要としない。また、焼成工程において、ベルト炉などの加熱装置を用いるようにすれば、ＮＤフィルタを連続的に生産することが可能となる。したがって、真空蒸着法を用いる場合に比べて、ＮＤフィルタのコストダウンおよび生産性の向上を図ることができる。
【００２３】
また、この発明に係るＮＤフィルタによれば、多孔質の金属膜は、そこに形成される孔によって可視光の透過を確保しながら、その膜厚を厚くすることにより、より長波長の熱線（赤外線）の遮蔽率を高め得る点で好都合である。よって、所定以上の可視光透過率を確保しながら、熱線遮蔽率の高いフィルタ特性を発現することができる。この効果により、フィルタ以降の光学系および光被照射物における不所望な温度上昇を抑制することができ、その結果、光被照射物についての測定精度または観察精度を高めることができる。
【００２４】
この発明に係るＮＤフィルタの製造方法において、金属前駆体溶液として、金属のカルボン酸塩溶液が用いられると、金属アルコキシドが用いられる場合に比べて、還元性雰囲気下での焼成によって金属膜に孔がより形成されやすく、よって、多孔質の金属膜をより容易に得ることができる。
【００２５】
ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀および銅は、いずれも、ＮＤフィルタに備える金属膜の材料として実績があるので、これらの材料を金属膜の材料として用いるようにすれば、一定の信頼性が保証されたＮＤフィルタを提供することができる。
【００２６】
金属前駆体溶液を乾燥する工程が、９０〜１８０℃の温度で乾燥する前段乾燥工程と、次いで、３５０〜４００℃の温度で乾燥する後段乾燥工程とを備えていると、金属前駆体膜の表面平滑性および緻密性を確保しながら、乾燥工程を能率的に進めることができる。
【００２７】
金属前駆体膜を形成する工程において、金属前駆体溶液を塗布する工程と金属前駆体溶液を乾燥する工程とを複数回繰り返すようにすれば、金属前駆体膜において所望の膜厚を容易に得ることができる。
【００２８】
金属前駆体膜を焼成する工程において、４００〜９００℃の焼成温度が適用されると、緻密な金属膜を確実に得ることができるとともに、多孔質の金属膜の開口率を容易に制御することができる。なお、本明細書において、開口率とは、金属膜の平面方向に見たとき、金属膜全体の面積に対する、孔の部分の総面積の比率を百分率で表わしたものとする。
【００２９】
この発明に係るＮＤフィルタにおいて、金属膜の開口率が１０％を超えるようにされることによって、可視光に対する透過率を十分に確保することができる。他方、金属膜の開口率が２６％未満とされることによって、可視光域での透過率が波長にあまり依存しないようにすることができ、ＮＤフィルタにより適した特性を与えることができる。
【００３０】
金属膜に形成される孔の外接円径が１μｍ以下であると、孔を通しての熱線（赤外線）の透過を禁止しながら、可視光（波長：４００〜８００ｎｍ）については孔を通しての透過を許容するようにすることができる。よって、ＮＤフィルタとして、より適した形態とすることができる。
【００３１】
金属膜の厚みが１００ｎｍ以上とされると、熱線に対するより確実な遮蔽性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】この発明に係るＮＤフィルタの原理を、従来の蒸着による金属膜を備えるＮＤフィルタと比較して模式的に示す図である。
【図２】この発明に基づいて実施した実験例において作製した種々の試料について、可視光域での光透過特性を比較して示す図である。
【図３】図２に示した種々の試料について、可視光域から赤外域に至るまでの光透過特性を比較して示す図である。
【図４】この発明に基づいて実施した実験例において作製した、開口率の異なる３種類の金属膜について、波長２５００ｎｍの光透過率を比較して示す図である。
【図５】図４に示した開口率の異なる３種類の金属膜についてのＳＥＭ像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
図１を参照して、同図（１）に示したこの発明に係るＮＤフィルタ１の原理を、同図（２）に示した従来のＮＤフィルタ１１と比較して説明する。
【００３４】
まず、図１（１）に示すように、この発明に係るＮＤフィルタ１は、透光性を有する基板２と、基板２上に形成された金属膜３とを備えている。金属膜３は多孔質とされ、そこに形成された多数の孔４が模式的に図示されている。他方、図１（２）に示すように、従来のＮＤフィルタ１１は、透光性を有する基板１２と、基板１２上に形成された真空蒸着による金属膜１３とを備えている。
【００３５】
図１では、可視光２１と赤外光２２とが分離されて示されている。また、図１（１）に示した多孔質の金属膜３は、図１（２）に示した真空蒸着による金属膜１３に比べて、より厚く形成されている。
【００３６】
可視光２１については、図１（１）と図１（２）とで実質的に同じ透過特性および反射特性を示している。より詳細には、図１（１）に示した多孔質の金属膜３の方が厚いにも関わらず、多孔質の金属膜３を通過する可視光２１の透過率は、図１（２）に示した蒸着による金属膜１３を通過する可視光２１の透過率と実質的に同じである。これは、多孔質の金属膜３に形成される孔４によって可視光２１の透過が所定以上に確保されるからである。
【００３７】
他方、赤外光２２については、図１（１）では、図１（２）に比べて、透過率が低く、その結果、反射率が高くなっている。これは、図１（１）に示した多孔質の金属膜３は、図１（２）に示した蒸着による金属膜１３に比べて、その膜厚が厚くされているからである。
【００３８】
このように、この発明に係るＮＤフィルタ１によれば、可視光２１について所定以上の透過率を確保しながら、熱線である長波長の赤外光２２の遮蔽率を高めることができ、よって熱線遮蔽率の高いフィルタ特性を発現することができる。
【００３９】
ＮＤフィルタ１において、基板２は、透光性を有していればよく、典型的にはガラスから構成されるが、その他、透光性セラミックから構成されてもよい。また、基板２には、ＮＤフィルタ１の製造のために実施される焼成工程において耐え得る耐熱性も要求される。
【００４０】
金属膜３は、たとえば、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀もしくは銅、またはこれらの金属を主成分とする合金から構成される。
【００４１】
金属膜３の開口率は、好ましくは、１０％を超えるようにされる。これによって、可視光２１に対する透過率を十分に確保することができる。他方、金属膜３の開口率は、好ましくは、２６％未満とされる。これによって、可視光域での透過率が波長にあまり依存しないようにすることができる。
【００４２】
また、金属膜３に形成される孔４の外接円径は、好ましくは、１μｍ以下とされる。これによって、孔４を通しての赤外光２２の透過を禁止しながら、波長が４００〜８００ｎｍの可視光２１については孔４を通しての透過を許容するようにすることができる。
【００４３】
また、金属膜３の厚みは、好ましくは、１００ｎｍ以上とされる。これによって、赤外光２２に対する遮蔽性を向上させることができる。
【００４４】
次に、ＮＤフィルタ１の製造方法について説明する。
【００４５】
まず、たとえばガラスからなる基板２が用意される。
【００４６】
他方、金属膜３となる金属前駆体溶液が用意される。金属前駆体溶液としては、たとえば、金属の酢酸塩またはギ酸塩のようなカルボン酸塩が有利に用いられる。金属前駆体溶液として、たとえば金属のカルボン酸塩溶液や金属アルコキシドを用いることができるが、金属のカルボン酸塩溶液が用いられると、金属アルコキシドが用いられる場合に比べて、後述する還元性雰囲気下での焼成によって金属膜３に孔４がより形成されやすく、よって、多孔質の金属膜３をより容易に得ることができる。
【００４７】
金属前駆体溶液に含まれる金属としては、前述したように、たとえば、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀もしくは銅、またはこれらの金属を主成分とする合金を用いることができる。
【００４８】
金属前駆体溶液として、一例として、ニッケルの酢酸塩溶液が用いられる場合、酢酸に炭酸ニッケルを加え、所定時間還流することにより、ニッケルの酢酸塩溶液を得、これに酢酸を加えて溶液中のニッケル原子濃度が調整される。ここで、ニッケル原子濃度は０．１〜２．０Ｍ程度であることが好ましい。ニッケル原子濃度が０．１Ｍよりも低いと、後述する塗布工程において、１回の塗布によって得られる膜厚が極端に薄くなるため、所望の膜厚を得るには多数回の塗布が必要になり、他方、ニッケル原子濃度が２．０Ｍよりも高いと、溶液の粘度が高くなりすぎ、塗布膜の厚みが不均一になりやすいからである。
【００４９】
次に、基板２に上記金属前駆体溶液を塗布する工程が実施される。この塗布工程では、たとえば、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法などが適用される。たとえばスピンコート法が適用される場合、均一な塗布膜を得るためには、スピンコーターの回転数は３０００ｒｐｍ以上とすることが好ましい。なお、回転数の上限は特にないが、必要以上に回転数を高くすると、１回の塗布あたりに得られる厚みが過度に薄くなってしまうことがある。
【００５０】
次に、上記のように塗布された金属前駆体溶液を乾燥する工程が実施される。金属前駆体膜の表面平滑性および緻密性を確保しながら、乾燥工程を能率的に進めることができる点で、この乾燥工程では、９０〜１８０℃の温度で乾燥する前段乾燥工程と、次いで、３５０〜４００℃の温度で乾燥する後段乾燥工程との２段階の乾燥工程が実施されることが好ましい。
【００５１】
前段乾燥工程において、温度が９０℃未満であると、乾燥時間が長くなりすぎ、他方、１８０℃を超えると、塗布膜の表面が粗くなりやすく、好ましくない。後段乾燥工程において、温度が３５０℃未満であると、塗布膜中の有機物の分解が不十分になりやすく、緻密な金属前駆体膜を得ることが困難になり、好ましくない。なお、後段乾燥工程において、温度が４００℃を超えると、後述する焼成工程で達成されるべき金属前駆体膜の焼結がこの段階で生じてしまうため、好ましくない。
【００５２】
上述のように金属前駆体膜を形成するために実施される、金属前駆体溶液を塗布する工程と金属前駆体溶液を乾燥する工程とは、これらを複数回繰り返してもよい。このように塗布工程と乾燥工程とを複数回繰り返すようにすれば、金属前駆体膜において所望の膜厚を容易に得ることができる。
【００５３】
次に、上記金属前駆体膜を多孔質の金属膜３とするため、金属前駆体膜を還元性雰囲気下で焼成する工程が実施される。この焼成工程では、４００〜９００℃の焼成温度が適用されることが好ましい。焼成温度が４００℃未満では焼結が不十分となり、緻密な金属膜３が得られないことがあり、他方、焼成温度が９００℃を超えると、急速に焼結収縮が進行しすぎるため、多孔質の金属膜３の開口率を制御することが困難になることがあるからである。
【００５４】
このようにして、図１（１）に示すようなＮＤフィルタ１が得られる。
【００５５】
以下、この発明による効果を確認するために実施した実験例について説明する。
【００５６】
１．実験例１
まず、基板として、１インチ（約２．５ｃｍ）四方の角型ガラス基板を用意した。以下のような試料１〜４の各々に係るＮＤフィルタを得るため、このガラス基板上に、次のような操作を経て金属膜を形成した。
【００５７】
［試料１］（比較例）
ガラス基板上に、膜厚３０ｎｍのニッケルスパッタ膜を形成し、試料１に係るＮＤフィルタとした。
【００５８】
［試料２］（実施例）
（１）金属前駆体溶液の作製
酢酸２００重量部に対し、炭酸ニッケルを４５重量部加え、５時間還流することによって、ニッケル前駆体溶液を得た。これに酢酸を加えて、溶液中のニッケル原子濃度を１Ｍに調整した。
【００５９】
（２）金属前駆体溶液の塗布
上記ニッケル前駆体溶液をガラス基板上に滴下し、スピンコーターを用いて、４０００ｒｐｍの回転数にてスピンコートを３０秒間実施し、ガラス基板上にニッケル前駆体溶液を塗布した。
【００６０】
（３）金属前駆体溶液の乾燥
上記のようにガラス基板上に塗布されたニッケル前駆体溶液を、オーブンにおいて、１５０℃の温度で５分間熱処理して乾燥させた後、さらに４００℃の温度で５分間熱処理して乾燥させた。
【００６１】
そして、上記（２）塗布工程および（３）乾燥工程を３回繰り返して、ガラス基板上にニッケル前駆体膜を形成した。
【００６２】
（４）金属前駆体膜の焼成
次に、上記ニッケル前駆体膜を、水素５％混合窒素雰囲気中において、５００℃の焼成温度で１０分間焼成した。これによって、ガラス基板上に、膜厚１５０ｎｍ、開口率１４％の多孔質のニッケル膜を形成した、試料２に係るＮＤフィルタを得た。
【００６３】
［試料３］（比較例）
ガラス基板上に、膜厚４０ｎｍのニッケルスパッタ膜を形成し、試料３に係るＮＤフィルタとした。
【００６４】
［試料４］（実施例）
上記（４）金属前駆体膜の焼成工程において、４００℃の焼成温度を採用したことを除いて、試料２の場合と同様の条件で、ガラス基板上に、膜厚１００ｎｍ、開口率１２％の多孔質のニッケル膜を形成した、試料４に係るＮＤフィルタを得た。
【００６５】
以上のようにして得られた試料１〜４の各々に係るＮＤフィルタについて、光透過特性を求めた。図２には、試料１〜４の各々についての可視光域での光透過特性が示され、図３には、試料１〜４の各々についての可視光域から赤外域に至るまでの光透過特性が示されている。また。表１には、試料１〜４の各々について、金属膜状態の概要と代表的な波長の光透過率とが示されている。
【００６６】
【表１】
2011164440.tif 000003
【００６７】
図２および表１からわかるように、可視光域での光透過率について比較すると、試料１と試料２とが互いに近似しており、また、試料３と試料４とが互いに近似している。
【００６８】
しかし、試料１と試料２とは、可視光域での光透過率が互いに近似しているにも関わらず、赤外域での光透過率に着目すると、試料２は試料１より大幅に小さくなっている。同様に、試料３と試料４とは、可視光域での光透過率が互いに近似しているにも関わらず、赤外域での光透過率に着目すると、試料４は試料２より大幅に小さくなっている。
【００６９】
このことから、試料２および４に係るＮＤフィルタによれば、多孔質の金属膜に形成される孔によって可視光の透過を確保しながら、金属膜の膜厚を厚くすることによって、赤外線の遮蔽率を高め得ることがわかる。
【００７０】
２．実験例２
上記実験例１において作製した試料２および４の各々に係るＮＤフィルタに加えて、上記（４）金属前駆体膜の焼成工程において、７００℃の焼成温度を採用したことを除いて、試料２の場合と同様の条件で、ガラス基板上に、膜厚１７０ｎｍ、開口率２６％の多孔質のニッケル膜を形成した、試料５に係るＮＤフィルタを得た。
【００７１】
そして、開口率が２６％である試料５に係るＮＤフィルタについて、波長２５００ｎｍの光透過率を求めたところ、１０．１％であった。一方、開口率が１４％である試料２については、波長２５００ｎｍの光透過率は、表１に示されていたとおり、２．０％であり、開口率が１２％である試料４については、光透過率は０．３％であった。
【００７２】
図４には、上述した試料４、２および５のように、開口率を１２％、１４％、２６％と変えたときの波長２５００ｎｍの光透過率の変化が示されている。図４から、開口率が高くなるに伴い、光透過率が上昇することがわかる。
【００７３】
図５には、上述したように開口率の異なる３種類のニッケル膜についてのＳＥＭ像が示されている。すなわち、図５（１）は、開口率１２％のニッケル膜を示し、図５（２）は、開口率１４％のニッケル膜を示し、図５（３）は、開口率２６％のニッケル膜を示している。
【００７４】
特に図５（３）に示した開口率２６％のニッケル膜では、外接円径がたとえば１０００ｎｍ（１μｍ）を超える孔を多数見ることができる。このことから、ニッケル膜の開口率が２６％以上とされると、可視光域での透過率が波長によって異なる傾向が強くなり、ＮＤフィルタとしての用途に適さなくなることがあり得る。よって、開口率は１０％を超えかつ２６％未満であることが好ましい。
【００７５】
以上、実験例では、金属膜としてニッケル膜を形成したが、この発明に係るＮＤフィルタの特性に影響を及ぼし得る、金属膜の開口率、孔の外接円径、金属膜の厚み等のファクタについては、金属膜の材料によってあまり左右されるものではない。したがって、ニッケルに限らず、その他クロム、アルミニウム、金、銀または銅を金属膜の材料としても、上記実験例と実質的に同様の結果が得られることが理解され得る。
【符号の説明】
【００７６】
１  ＮＤフィルタ
２  基板
３  多孔質の金属膜
４  孔
【図１】
2011164440.tif 000004
【図２】
2011164440.tif 000005
【図３】
2011164440.tif 000006
【図４】
2011164440.tif 000007
【図５】
2011164440.tif 000008