(57)【要約】【課題】開口率を向上させつつ表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置およびタッチセンサ内蔵表示装置、並びに電子機器を提供する。【解決手段】液晶表示装置１は、対向配置された画素基板１０と対向基板２０間に液晶層３０が挟み込まれたものである。基板面内には、基板間のギャップを制御するスペーサ３１が間引かれて配置されている。画素基板１０は、ガラス基板１１上に形成された平坦化膜１３の膜厚が、スペーサ間領域Ｒ２において小さく、スペーサ近傍領域Ｒ１において大きくなっている。対向基板２０に撓みが生じた場合にも、スペーサ近傍領域Ｒ１とスペーサ間領域Ｒ２との間でギャップが変化しにくい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された第１および第２の基板からなる一対の基板と、
前記一対の基板間に狭持された液晶層と、
基板面内に離散配置されて前記一対の基板間の間隙を制御する複数のスペーサとを備え、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みは、前記スペーサから離れた領域においてより小さく、前記スペーサに近い領域においてより大きくなっている
液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の基板は、表示駆動回路と前記表示駆動回路を覆う第１の平坦化膜とを有し、
前記第１の平坦化膜の膜厚が前記スペーサから離れるに従って連続的に小さくなっている
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１の基板は、表示駆動回路と前記表示駆動回路を覆う第１の平坦化膜とを有し、
前記第１の平坦化膜の膜厚が前記スペーサから離れるに従って段階的に小さくなっている
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２の基板は、カラーフィルタ層と前記カラーフィルタ層を覆う第２の平坦化膜とを有し、
前記第２の平坦化膜の膜厚が前記スペーサから離れるに従って連続的に小さくなっている
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第２の基板は、カラーフィルタ層と前記カラーフィルタ層を覆う第２の平坦化膜とを有し、
前記第２の平坦化膜の膜厚が前記スペーサから離れるに従って段階的に小さくなっている
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記複数のスペーサはそれぞれ、
柱部と、
前記柱部の下地層として前記第２の基板上に設けられた間隙制御層とを有し、
前記間隙制御層の厚みは、前記柱部から離れた領域においてより小さく、前記柱部に近い領域においてより大きくなっている
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２の基板は、カラーフィルタ層と前記カラーフィルタ層を覆う第２の平坦化膜とを有し、
前記複数のスペーサの間隙制御層が前記第２の平坦化膜を兼ねている
請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に狭持された液晶層と、
基板面内に離散配置されて前記一対の基板間の間隙を制御する複数のスペーサと、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の前記液晶層側の面に設けられたセンサ用突起と、
前記一対の基板の液晶層側の表面に設けられた一対の電極とを備え、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みは、前記スペーサから離れた領域においてより小さく、前記スペーサに近い領域においてより大きくなっている
タッチセンサ内蔵表示装置。
【請求項９】
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に狭持された液晶層と、
基板面内に離散配置されて前記一対の基板間の間隙を制御する複数のスペーサとを備え、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みは、前記スペーサから離れた領域においてより小さく、前記スペーサに近い領域においてより大きくなっている
液晶表示装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板間のギャップ制御部材として柱状スペーサを利用した液晶表示装置およびこのような液晶表示装置を用いたタッチセンサ内蔵表示装置、並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話、デジタルカメラ等のモバイル用途の電子機器では、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有することから、液晶表示装置（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）が多く使用されている。一般に、液晶表示装置は、表示側の基板と背面側の基板との間にスペーサを設け、それらの基板間に液晶層を挟持する構造となっている。このような構造において、これまではガラスビーズ等の散布型のスペーサを使用することが多かったが、最近では、基板間のギャップ（以下、単にギャップという）の均一性や制御性等の観点から、柱状のスペーサを使用することが多くなっている。
【０００３】
このような液晶表示装置では、一般に、画素毎に１つのスペーサを配置することが多い。この場合、表示画面全体におけるスペーサの配置数が多くなるため、開口率が低下してしまうという問題がある。そこで、開口率を向上させるための具体策として、スペーサを間引いて配置する（スペーサのピッチを拡大する）こと等が考えられる。
【０００４】
他方、液晶表示装置では、タッチセンサ機能を付加したものが開発されている。例えば、表示画面上にアイコン等を表示し、表示されたアイコンをユーザが指やスタイラス等でタッチすることにより、ユーザの指令を直接入力したり、あるいはタッチ位置の検出を行ったりする機能である。これにより、例えばコンピュータ、携帯電話等に使用される場合、キーボードやマウス、キーパッドのような入力装置が不要となる。尚、検出方式としては、抵抗膜式、静電容量式および光学式等の様々な方式が用いられている。
【０００５】
タッチセンサ機能を有する液晶表示装置は、その表示画面上に、タッチセンサ用の電極や配線等を有するタッチパネルを貼り合わせた、いわゆる外付けタイプと、液晶表示装置にタッチセンサを内蔵した、いわゆるインセルタイプとに大別される。ところが、外付けタイプでは、装置の薄型化に不利となると共に、屈折率差の生じる界面数が増え、各界面での反射等の影響により、画像の視認性が低下してしまう。そのため、最近では、インセルタイプの液晶表示装置が注目を集めている。タッチセンサ内蔵型の表示装置では、センサ用の電極（導電膜）を液晶セルの内部に配置するため、屈折率差を生じる界面の数を減らすことができ、これにより反射光による影響を抑制することができる。例えば、特許文献１には、検出方式として抵抗膜式を利用したインセルタイプの液晶表示装置が提案されている。この液晶表示装置では、液晶層を挟む一対の基板の各対向面にセンサ用電極を形成し、指等が表示画面に触れたときに生じる圧力を利用して、各センサ用電極同士を接触させ、位置等の検出を行うようになっている。
【０００６】
このような抵抗膜式のタッチセンサ内蔵型の表示装置では、スペーサの配置数が多いと、タッチ検出のために大きな圧力（指等でタッチ面を押す力）が必要となり、軽いタッチ感を実現しにくい。できるだけ軽いタッチ感を実現するためには、表示側（タッチする側）の基板が変形し易いことが望ましく、そのための具体策としては、基板の薄型化や、スペーサのピッチ拡大等が挙げられる。例えば、特許文献２には、スペーサを数画素毎に配置する手法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−７５０７４号公報
【特許文献２】特開２００５−１７４９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述のように、液晶表示装置における開口率向上のためには、スペーサを間引いて配置する（スペーサのピッチを拡大する）必要がある。ところが、スペーサを間引いた場合、特に表示側の基板を薄型化した場合には、スペーサから離れた箇所では基板が撓み、ギャップが変化してしまう。即ち、スペーサの配置箇所に応じてギャップむらが生じ、表示品位が低下してしまうという問題がある。また、タッチセンサ内蔵表示装置においても、スペーサのピッチ拡大により、開口率が向上すると共に、軽いタッチ感を実現することができるが、ギャップむらが生じ、表示品位が低下するという同様の問題が生じる。
【０００９】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、開口率を向上させつつ表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置およびタッチセンサ内蔵表示装置、並びに電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の液晶表示装置は、対向配置された一対の基板と、一対の基板間に狭持された液晶層と、基板面内に離散配置されて一対の基板間の間隙を制御する複数のスペーサとを備え、一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みが、スペーサから離れた領域においてより小さく、スペーサに近い領域においてより大きくなっているものである。
【００１１】
本発明のタッチセンサ内蔵表示装置は、対向配置された一対の基板と、一対の基板間に狭持された液晶層と、基板面内に離散配置されて一対の基板間の間隙を制御する複数のスペーサと、一対の基板の少なくとも一方の基板の液晶層側の面に設けられたセンサ用突起と、一対の基板の液晶層側の表面に設けられた一対の電極とを備えたものである。ここで、一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みは、スペーサから離れた領域においてより小さく、スペーサに近い領域においてより大きくなっている。
【００１２】
本発明の電子機器は、上記本発明の液晶表示装置を備えたものである。
【００１３】
本発明の液晶表示装置では、液晶層を挟む一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みが、スペーサから離れた領域においてより小さく、スペーサに近い領域においてより大きいことにより、一方の基板に撓みが生じた場合にも、スペーサ近傍とスペーサから離れた箇所との間でギャップが変化しにくい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の液晶表示装置およびタッチセンサ内蔵表示装置並びに電子機器によれば、複数のスペーサが離散配置されていることにより、画素毎にスペーサが配置されている場合に比べ、開口率を向上させることができる。このとき、液晶層を挟む一対の基板の少なくとも一方の基板の厚みを、スペーサから離れた領域においてより小さく、スペーサに近い領域においてより大きくなるようにしたので、スペーサの配置箇所に応じて一方の基板に撓みが生じた場合であっても、ギャップのむらの発生を抑制することができる。よって、開口率を向上させつつ表示品位の低下を抑制することが可能となる。また、本発明のタッチセンサ内蔵表示装置によれば、複数のスペーサを離散配置させるようにしたので、画素毎に配置する場合に比べ、例えば情報入力に際して軽いタッチ感を実現することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。尚、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（平坦化膜に凹部（連続的に深さ変化）を設けた液晶表示装置の例）
２．変形例１（層間絶縁膜を用いて平坦化膜に凹部を設けた液晶表示装置の例）
３．変形例２（平坦化膜に凹部（段階的に深さ変化）を設けた液晶表示装置の例）
４．変形例３（他の凹部の例）
５．第２の実施の形態（オーバーコート層に凹部を設けた液晶表示装置の例）
６．第３の実施の形態（ギャップ制御層を設けた液晶表示装置の例）
７．変形例４（ギャップ制御層とオーバーコート層を一体化した例）
８．第４の実施の形態（タッチセンサ内蔵表示装置の例）
９．適用例（液晶表示装置を備えた電子機器の例）
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図２】図１に示したスペーサの画素配置構成を説明するための平面模式図である。
【図３】図１に示した平坦化膜の形成プロセスを説明するための断面図である。
【図４】図１に示した平坦化膜の他の形成プロセスを説明するための断面図である。
【図５】比較例１に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図６】図５に示したスペーサの画素配置構成を説明するための平面模式図である。
【図７】比較例２に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図８】図７に示したスペーサの画素配置構成を説明するための平面模式図である。
【図９】実施例および比較例１，２のギャップむらを表す図である。
【図１０】変形例１に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１１】変形例２に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１２】変形例３に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１４】図１３に示した画素基板および対向基板の貼り合わせ前の断面図である。
【図１５】本発明の第３の実施の形態に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１６】変形例４に係る液晶表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１７】本発明の第４の実施の形態に係るタッチセンサ内蔵表示装置の概略構成を表す断面図である。
【図１８】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１９】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２０】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２１】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図２２】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【００１７】
＜第１の実施の形態＞
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置（液晶表示装置１）の断面構成を表したものである。
【００１８】
［液晶表示装置１の構成］
液晶表示装置１は、例えば、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示装置であり、液晶層を一対の基板で挟み込んだ構造となっている。具体的には、画素基板１０と対向基板２０との間に、液晶層３０が挿設されたものである。画素基板１０と対向基板２０との間には更に、これらの基板間のギャップ（間隙）を制御するスペーサ３１が配設されている。
【００１９】
画素基板１０は、ガラス基板１１上にＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）や信号線等を含む表示駆動回路（いずれも図示せず）が配設されたものである。このガラス基板１１上には更に、それらの表示駆動回路を覆うように平坦化膜１３（第１の平坦化膜）が設けられ、この平坦化膜１３上には、画素電極１４が配設されている。ガラス基板１１の厚みは、例えば０．１ｍｍ〜０．７ｍｍである。対向基板２０は、ガラス基板２１上に、カラーフィルタ層２２、オーバーコート層２３（第２の平坦化膜）および対向電極２４がこの順に配設されたものである。画素基板１０の画素電極１４と対向基板２０の対向電極２４とが、液晶層３０を介して向かい合うように、対向して配置されている。本実施の形態では、この対向基板２０は画素基板１０の側に撓んでいる。換言すると、対向基板２０は、画素基板１０の側に凸となるように湾曲した状態で、画素基板１０と離間して配置されている。
【００２０】
画素電極１４および対向電極２４は、液晶層３０に駆動電圧を印加するためのものであり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＺｎＯ等の透明導電膜よりなる。画素電極１４は、画素毎の電極としてガラス基板１１上に全体としてマトリクス状に配設され、対向電極２４は、各画素に共通の電極としてガラス基板２１上のほぼ全面にわたって配設されている。これらの画素電極１４および対向電極２４の液晶層３０側の面には、液晶の配向制御を行う配向膜（図示せず）が形成されている。
【００２１】
平坦化膜１３は、ＴＦＴや信号線等によって形成される表面の凹凸を緩和して平坦化するためのものである。平坦化膜１３には、図示しないコンタクトホールが設けられ、このコンタクトホールを通じて、画素電極１４はＴＦＴに電気的に接続されている。この平坦化膜１３の詳細な構成は後述する。
【００２２】
カラーフィルタ層２２は、液晶層３０を透過してきた光を、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の３原色の光に分離したり、またはＲ、Ｇ、Ｂおよび白（Ｗ）等の４色の光に分離するカラーフィルタを、画素電極１４の配列と対応させて配列したものである。フィルタ配列（画素配列）としては、一般的に、ストライプ配列や、ダイアゴナル配列、デルタ配列、レクタングル配列のようなものがある。オーバーコート層２３は、カラーフィルタ層２２の表面の凹凸を緩和して平坦化するためのものであり、樹脂により構成されている。
【００２３】
液晶層３０は、例えばＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＴＮ（Twisted Nematic）モードまたはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード等の液晶からなる。あるいは、ＦＦＳ(Fringe Field Switching)モードやＩＰＳモード等のいわゆる横電界モードの液晶であってもよい。但し、横電界モードの液晶を用いる場合には、対向基板２０側には電極（対向電極２４）を設けずに、画素基板１０側に各画素に共通の電極（共通電極）を配設する。具体的には、図示はしないが、平坦化層１３上のほぼ全面に共通電極を設け、この共通電極上に絶縁膜を介して画素電極１４を配設すればよい。このとき、画素電極１４の平面形状は、複数のスリットを有する櫛歯状とする。
【００２４】
（スペーサ３１の構成）
図２は、スペーサ３１の画素配置構成を模式的に表したものである。尚、図１は、図２のＩ−Ｉ線における矢視断面図に対応している。スペーサ３１は、図１に示したように、例えば柱状の構造物である。このスペーサ３１は、例えば感光性樹脂よりなり、画素基板１０および対向基板２０間のギャップを例えば１μｍ〜１０μｍ程度に保持するようになっている。
【００２５】
このスペーサ３１は、パネル面内に複数個設けられており、これら複数のスペーサ３１が、例えば数画素〜数十画素おきに、間引かれて配置（離散配置）されている。具体的には、図２に示したように、各スペーサ３１は、各スペーサ３１同士のピッチが十分に確保されるように、例えば縦方向に５画素おき、横方向に９画素おきに配設されている。尚、図２において、画素Ｐは、Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかに対応するサブピクセルであり、例えば１方向に連続して配置された３つの画素Ｐが１つの表示画素として機能するようになっている。
【００２６】
このような柱状のスペーサ３１が間引かれて配置されてなるスペーサ構造は、例えばフォトリソグラフィを用いた感光性樹脂のパターニングによって形成することができる。スペーサ３１は、画素基板１０上に形成してもよいし、対向基板２０上に形成してもよい。
【００２７】
（平坦化膜１３の詳細構成）
本実施の形態では、図１に示したように、画素基板１０における平坦化膜１３が凹凸形状を有しており、平坦化膜１３の膜厚が、上記のようなスペーサ３１の配置箇所に応じて変化している。具体的には、平坦化膜１３の膜厚が、スペーサ３１の近傍の領域（スペーサ近傍領域）Ｒ１ではより大きく（凸）、各スペーサ３１同士の間のスペーサ３１から離れた領域（スペーサ間領域）Ｒ２ではより小さく（凹）なるように設定されている。換言すると、平坦化膜１３は、スペーサ間領域Ｒ２に “窪み（凹部）”を有している。具体的にここでは、平坦化膜１３の膜厚が、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近に向かって（スペーサ３１から離れるに従って）連続的に（なだらかに）小さくなっている。
【００２８】
このような平坦化膜１３の凹凸形状は、対向基板２０の撓み具合（対向基板２０表面の湾曲形状）に応じて設計されていることが望ましい。対向基板２０の撓み具合は、対向基板２０の厚み（特にガラス基板２１の厚み）、スペーサ３１同士のピッチや、スペーサ３１の高さや断面積、材質等により異なるため、これらを考慮して、凹凸形状における膜厚変化を最適化すればよい。
【００２９】
平坦化膜１３に凹凸形状を形成する手法としては、例えばフォトリソグラフィ法や、型を用いたインプリント法等が挙げられる。フォトリソグラフィ法を用いる場合、例えば図３（Ａ）に示したように、ガラス基板１１の全面にわたって、感光性樹脂よりなる平坦化膜１３を成膜した後、図３（Ｂ）に示したように、平坦化膜１３を露光する。この際、領域毎に所望の膜厚となるように、露光量を調節する。具体的には、露光用のフォトマスクとして、光透過率が徐々に変化するようなグラデーションマスクやリング状のマスク等を用いればよい。最後に、図３（Ｃ）に示したように、現像工程、焼成工程、洗浄工程等を経ることにより、上述したような凹凸形状を形成することができる。
【００３０】
あるいは、インプリント法を用いる場合、例えば図４（Ａ），（Ｂ）に示したように、ガラス基板１１の全面にわたって成膜した平坦化膜１３の表面に、上述の凹凸形状の反転形状を有する型１３Ａを押し当てる。この後、図４（Ｃ）に示したように、型１３Ａを平坦化膜１３から離すことにより、上述したような凹凸形状を形成することができる。
【００３１】
上記のような液晶表示装置１では、画素基板１０の側に、図示しないバックライトが設置され、対向基板２０の表面が表示画面（観察者側の面）となる。バックライトとしては、例えばＬＥＤやＣＣＦＬ（Cold Cathode Fluorescent Lamp：冷陰極管）等の各種光源を利用した面発光源が用いられる。バックライトと液晶表示装置１０との間には、例えば拡散板、拡散シート、レンズフィルム、偏光分離シート等の各種光学フィルムが挿設されていてもよい。液晶表示装置１０の光入射側表面および光出射側表面、即ち画素基板１０のガラス基板１１のバックライト側の面、および対向基板２０のガラス基板２１の観察者側の面には、それぞれ図示しない偏光板が貼り合わせられている。
【００３２】
[液晶表示装置１の作用，効果]
【００３３】
液晶表示装置１では、画素基板１０の側から入射した光は、液晶層３０を通過する際に、液晶層３０に印加された駆動電圧に応じて変調される。この変調光は、カラーフィルタ層２２によって色分離されたのち、観察者側に射出される。このようにして、画像表示がなされる。
【００３４】
ここで、液晶表示装置１には、画素基板１０および対向基板２０間のギャップを制御する部材として、スペーサ３１が配設されている。通常、このようなギャップ制御のためのスペーサは、１画素〜数画素毎に配設されることが多い。その一例を、本実施の形態の比較例（比較例１）として、図５，６に示す。図５は、比較例１に係る液晶表示装置の断面構成を表したものであり、図６は、スペーサの画素配置構成を模式的に表したものである。尚、図６は、図５のII−II線における矢視断面図に相当する。
【００３５】
（比較例１）
比較例１の液晶表示装置は、画素基板１０９と対向基板１０５との間に液晶層１１０が挟み込まれたものである。画素基板１０９は、ＴＦＴ等の表示駆動回路が配設されてなるガラス基板１０６上に、平坦化膜１０７および画素電極１０８が設けられたものである。対向基板１０５は、ガラス基板１０１上にカラーフィルタ層１０２、オーバーコート層１０３および対向電極１０４が設けられたものである。画素基板１０９および対向基板１０５間にはスペーサ１１１が、マトリクス状に設けられた複数の画素Ｐに対して、例えば図６に示したようなピッチで配設されている。
【００３６】
この比較例１の構造では、パネル面内に複数のスペーサ１１１が狭いピッチで配設されているため、１つのスペーサ１１１が担う対向基板２０の面積が比較的小さい。そのため、対向基板１０５が撓みにくく、面内において均一なギャップ（ｄ１）が保持される。
【００３７】
ところが、このような比較例１の構造では、上記のように複数のスペーサを狭いピッチで配設しているため、開口率が低下してしまう。そこで、次の比較例２のように、スペーサを間引いて配置する（スペーサのピッチを拡大する）ことにより、開口率の向上が図られている。
【００３８】
（比較例２）
図７は、比較例２に係る液晶表示装置の断面構成を表したものであり、図８は、スペーサ１１１の画素配置構成を模式的に表したものである。尚、図８は、図７のIII−III線における矢視断面図に相当する。比較例２では、上記比較例１と同様の画素構成の液晶表示装置において、スペーサ１１１を比較例１よりも間引いて配設（数画素おきに１つ配設）している。これにより、開口率が向上する。
【００３９】
しかしながら、この比較例２の構造では、複数のスペーサ１１１が広いピッチで配設されているため、特に対向基板１０５（ガラス基板１１２）の厚みが小さい場合、対向基板１０５を十分に支えきれず、その結果、対向基板１０５が撓んでしまう（Ｃ１００）。この対向基板２０の撓み具合は、スペーサ１１１の近傍領域に比べ、スペーサ１１１から離れた領域において大きくなるため、基板間のギャップは、スペーサ１１１の近傍よりもスペーサ１１１同士の間の領域において小さくなる（ｄ１＞ｄ２）。即ち、ギャップむらが発生し、表示品位を低下させる要因となる。
【００４０】
（平坦化膜１３の凹凸形状による作用）
これに対し、本実施の形態では、図１に示したように、複数のスペーサ３１が間引かれて配置され、画素基板１０における平坦化膜１３が凹凸形状を有している。具体的には、平坦化膜１３では、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近にかけて膜厚が連続的に小さくなっている。各スペーサ３１が間引かれて配置されていることにより、開口率が向上する。また、平坦化膜１３が上記のような凹凸形状を有することにより、対向基板２０に撓みが生じたとしても、スペーサ近傍領域Ｒ１におけるギャップとスペーサ間領域Ｒ２におけるギャップに差が生じにくくなる。また、対向基板２０の撓み具合に応じて、平坦化膜１３の膜厚を設定することにより、パネル面内におけるギャップが均一に保持され易くなる。
【００４１】
ここで、図９（Ｃ）に、本実施の形態の実施例として、複数のスペーサ３１が間引かれて配置され、平坦化膜１３が上記のような凹凸形状を有する場合のギャップむらの見え方について、模式的に示す。また、図９（Ａ）には、上記比較例１の構造（各スペーサ１１１を狭いピッチで配置）のギャップむら、図９（Ｂ）には、上記比較例２の構造（各スペーサ１１１を間引いて配置）のギャップむらについて示す。尚、図９（Ａ）〜（Ｃ）では、ギャップの大小を色の濃淡で表しており、白に近い程ギャップが大きく、黒に近い程ギャップが小さくなっている。
【００４２】
図９（Ａ）に示したように、スペーサ１１１を狭いピッチで配設した比較例１では、スペーサ１１１の高さに対応するギャップ（例えば、図６に示したｄ１）がパネル全面において保持され、ギャップむらは全く視認することができない。ところが、図９（Ｂ）に示したように、スペーサ１１１を間引いて配設すると、スペーサ１１１の近傍では比較例１と同等のギャップ（ｄ１）が保持されるが、スペーサ１１１の周辺領域では、ギャップが小さくなる（例えば、図７に示したｄ２）。即ち、スペーサ１１１の近傍領域とその周辺領域におけるギャップに差が生じ、このギャップの差がギャップむらとして視認されてしまう。これに対し、スペーサ３１を間引いて配置すると共に平坦化膜１３に所定の凹凸形状を設けた実施例では、スペーサ３１の近傍領域（スペーサ近傍領域Ｒ１）におけるギャップ（ｄ１）と、その周辺領域（スペーサ間領域Ｒ２）におけるギャップに差が生じにくい。そのため、図９（Ｃ）に示したように、比較例２に比べ、ギャップむらがほとんど視認できなくなる。
【００４３】
以上のように、本実施の形態では、液晶層３０を挟む画素基板１０および対向基板２０間に複数のスペーサ３１を所定のピッチで間引いて配置したので、スペーサを画素毎に配置する場合に比べ開口率を向上させることができる。また、平坦化膜１３がスペーサ３１の配置箇所に応じた凹凸形状を有するようにしたので、ギャップむらの発生を緩和できる。よって、開口率を向上させつつ表示品位の低下を抑制することが可能となる。
【００４４】
次に、上記第１の実施の形態の変形例（変形例１〜３）に係る液晶表示装置について説明する。以下では、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００４５】
＜変形例１＞
図１０は、変形例１に係る液晶表示装置（液晶表示装置２）の断面構成を表したものである。液晶表示装置２は、上記第１の実施の形態の液晶表示装置１と同様、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示装置であり、液晶層３０を画素基板１０Ａおよび対向基板２０で挟み込んだ構造を有するものである。また、画素基板１０Ａと対向基板２０との間には、ギャップ制御のための複数のスペーサ３１が、所定のピッチで間引かれて配設されている。そして、画素基板１０Ａでは、平坦化膜１３が凹凸形状を有しており、平坦化膜１３の膜厚が、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近に向かって連続的に小さくなっている。
【００４６】
ここで、画素基板１０Ａでは、上述したように、ガラス基板１１上にＴＦＴ等を含む表示駆動回路（図示せず）が配設されている。表示駆動回路において、ＴＦＴは、例えばゲート線、ゲート絶縁膜および半導体膜等を積層してなる。ガラス基板１１上には、そのＴＦＴを覆うように、ＳｉＮまたはＳｉＯ等よりなる層間絶縁膜が設けられ、この層間絶縁膜上にデータ線（信号線）等が配設される。このような層間絶縁膜は、通常、ガラス基板１１上の全面にわたって成膜されており、ＴＦＴと画素電極１４およびデータ線等の電気的接続のためのコンタクトホールが一部に設けられている。
【００４７】
本変形例では、このような層間絶縁膜が、スペーサ近傍領域Ｒ１において厚く形成され、スペーサ間領域Ｒ２においては、スペーサ近傍領域Ｒ１に比べ薄く（無視できる程度の厚さで）形成されている。このような層間絶縁膜の膜厚の調整は、上記コンタクトホール形成のためのパターニング工程において行えばよい。
【００４８】
具体的には、ガラス基板１１の全面に、ＴＦＴを覆うように層間絶縁膜を成膜した後、成膜した層間絶縁膜のうち、スペーサ近傍領域Ｒ１を除いた領域（スペーサ間領域Ｒ２）を、エッチング等により除去する。実際には、ＴＦＴの直上にも、層間絶縁膜を形成し、所定のコンタクトホールを形成するため、スペーサ間領域Ｒ２にも層間絶縁膜が残るが、このＴＦＴ上に形成された層間絶縁膜は、スペーサ近傍領域Ｒ１に形成された層間絶縁膜に比べて非常に小さいため、無視できる程度である。
【００４９】
このような層間絶縁膜の膜厚調整によって、平坦化膜１３成膜前の画素基板１０の表面には、スペーサ近傍領域Ｒ１において凸、スペーサ間領域Ｒ２において凹となる凹凸が形成される。このような画素基板１０の凹凸面に、平坦化膜１３の材料となる樹脂材料を塗布することにより、凹凸面の表面形状に応じて、平坦化膜１３が成膜される。これにより、上記第１の実施の形態と同様の凹凸形状を形成することができる。
【００５０】
本変形例のように、平坦化膜１３の凹凸形状を、平坦化膜１３の下地層である層間絶縁膜の膜厚調整によって形成するようにしてもよい。このような場合であっても、上記第１の実施の形態と同等の効果を得ることができる。また、そのような層間絶縁膜の膜厚調整は、画素基板１０の製造工程における層間絶縁膜のパターニング工程の中で行えばよいため、平坦化膜１３のパターニング工程が不要となる。よって、プロセスが簡易化する。尚、平坦化膜１３に凹凸形状を形成するための下地層としては、上記層間絶縁膜に限らず、配線用金属等であっても構わない。
【００５１】
＜変形例２＞
図１１は、変形例２に係る液晶表示装置（液晶表示装置３）の断面構成を表したものである。液晶表示装置３は、上記第１の実施の形態の液晶表示装置１と同様、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示装置であり、液晶層３０を画素基板１０Ｂおよび対向基板２０で挟み込んだ構造を有するものである。また、画素基板１０Ｂと対向基板２０との間には、ギャップ制御のための複数のスペーサ３１が、所定のピッチで間引かれて配設されている。そして、画素基板１０Ｂでは、平坦化膜１５が凹凸形状を有しており、平坦化膜１５の膜厚が、スペーサ近傍領域Ｒ１において大きく、スペーサ間領域Ｒ２において小さくなっている。
【００５２】
但し、本変形例では、平坦化膜１５の膜厚が、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２にかけて、段階的（ここでは、１段階）に小さくなっている。具体的には、平坦化膜１５は、スペーサ間領域Ｒ２に断面矩形状の凹部が設けられた構造となっている。このような平坦化膜１５の凹凸形状は、上記第１の実施の形態と同様、フォトリソグラフィ法やインプリント法等を用いて形成することができる。
【００５３】
このように、平坦化膜１５の凹凸形状は、段階的に膜厚が変化するような形状であってもよい。このような形状であっても、対向基板２０の撓み具合が比較的大きくなるスペーサ間領域Ｒ２の中央付近におけるギャップと、撓み具合の比較的小さなスペーサ近傍領域Ｒ１におけるギャップと差が生じにくくなる。よって、上記第１の実施の形態とほぼ同等の効果を得ることができる。
【００５４】
尚、平坦化膜１５の凹凸形状は、上記第１の実施の形態や上記変形例１，２で説明した形状に限らす、様々な形状とすることができる。他の凹凸形状の一例を図１２（Ａ）〜（Ｃ）に示す。
【００５５】
＜変形例３＞
図１２（Ａ）〜（Ｃ）は、変形例３に係る平坦化膜（平坦化膜１５Ｂ〜１５Ｄ）の断面構成を表したものである。図１２（Ａ）に示した平坦化膜１５Ｂのように、多段階的に膜厚を変化させた凹凸形状としてもよい。あるいは、図１２（Ｂ）に示した平坦化膜１５Ｃのように、断面逆台形状の凹凸形状（上記変形例１における凹部の側面にテーパを設けた形状）としてもよい。あるいは、図１２（Ｃ）に示した平坦化膜１５Ｄのように、上記変形例１における凹部の底面をＲ面としてもよい。いずれの凹凸形状によっても、上記第１の実施の形態とほぼ同等の効果を得ることができる。
【００５６】
＜第２の実施の形態＞
図１３は、本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置（液晶表示装置４）の断面構成を表したものである。液晶表示装置４は、上記第１の実施の形態の液晶表示装置１と同様、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示装置であり、液晶層３０を画素基板１０Ｃおよび対向基板２０Ｂで挟み込んだ構造を有するものである。また、画素基板１０Ｃと対向基板２０Ｂとの間には、ギャップ制御のための複数のスペーサ３１が、所定のピッチで間引かれて配設されている。
【００５７】
［液晶表示装置４の特徴的な構成］
但し、本実施の形態では、平坦化膜が凹凸形状を有する上記第１の実施の形態の液晶表示装置１と異なり、対向基板２０Ｂにおけるオーバーコート層２５（第２の平坦化膜）が凹凸形状を有している。また、画素基板１０Ｃでは、ガラス基板１１上に、平坦化膜１６および画素電極１４が設けられているが、この平坦化膜１６はガラス基板１１上において略平坦となっている。更に、画素電極１４と対向電極２４とは、互いに平行となるように正対している。
【００５８】
オーバーコート層２５の凹凸形状における膜厚変化は、上記第１の実施の形態の平坦化膜１３と同様であり、即ちスペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近に向かって連続的に小さくなっている。オーバーコート層２５は、上記第１の実施の形態と同様、対向基板２０Ｂにおいて、カラーフィルタ層２２と対向電極２４との間に設けられ、カラーフィルタ層２２を平坦化するためのものである。カラーフィルタ層２２およびガラス基板２１は、オーバーコート層２５の凹凸形状に沿うように変形した状態で保持されている。即ち、ガラス基板２１の観察者側の面が湾曲しており、対向電極２４の画素基板１０Ｃ側の面は略平坦となっている。
【００５９】
このようなオーバーコート層２５の凹凸形状は、上記第１の実施の形態の平坦化膜１３と同様、例えばフォトリソグラフィ法やインプリント法を用いて形成することができる。但し、製造過程においては、例えば図１４に示した対向基板２０Ｂ１のように、カラーフィルタ層２２が形成された平板状のガラス基板２１に対して、凹凸形状を有するオーバーコート層２５を成膜すると共に、このオーバーコート層２５の表面に、その凹凸形状に沿って対向電極２４を成膜する。即ち、製造段階では、ガラス基板２１の観察者側の面は平面となっており、オーバーコート層２５は画素基板１０Ｃ側に凹凸面を向けた凹凸形状を有している。そして、このオーバーコート層２５の凹凸面に沿って、対向電極２４が形成されている。この対向基板２０Ｂ１を、スペーサ３１を配設した画素基板１０Ｃ上に重ね合わせ、これらの基板間に液晶層３０を封止することにより、図１３に示した液晶表示装置４を作製することができる。
【００６０】
また、オーバーコート層２５の凹凸形状は、上記第１の実施の形態の平坦化膜１３と同様、対向基板２０Ｂの撓み具合に応じて設計されていることが望ましい。対向基板２０Ｂの撓み具合は、対向基板２０Ｂの厚み（特にガラス基板２１の厚み）、スペーサ３１同士のピッチや、スペーサ３１の高さや断面積、材質等により異なるため、これらを考慮して、凹凸形状における膜厚変化を最適化すればよい。
【００６１】
[液晶表示装置４の作用，効果]
液晶表示装置４では、上記第１の実施の形態と同様、画素基板１０Ｃの側から入射した光は、液晶層３０を通過する際に、液晶層３０に印加された駆動電圧に応じて変調される。この変調光は、カラーフィルタ層２２によって色分離されたのち、観察者側に射出される。このようにして、画像表示がなされる。また、本実施の形態においても、複数のスペーサ３１が間引かれて配置されていることにより、開口率が向上する。
【００６２】
ここで、本実施の形態では、図１４に示したように、製造過程において、対向基板２０Ｂ１におけるオーバーコート層２５が画素基板１０Ｃ側に凹凸面を向けた凹凸形状を有している。具体的には、オーバーコート層２５では、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近にかけて膜厚が連続的に小さくなっている。スペーサ３１を間引いて配置することにより、対向基板が撓み易くなることは既に述べた。本実施の形態では、製造過程において、対向基板２０Ｂ１が上記のような凹凸形状を有することにより、この対向基板２０Ｂ１を画素基板１０Ｃに貼り合わせた後、対向基板２０に撓みが生じた場合に、その撓みによって対向基板２０Ｂ１が変形し、図１３に示した対向基板２０Ｂとなる。即ち、撓みによって、オーバーコート層２５の対向電極２４側の面が略平坦となる。これにより、スペーサ近傍領域Ｒ１におけるギャップとスペーサ間領域Ｒ２におけるギャップに差が生じにくくなる。また、対向基板２０Ｂの撓み具合に応じて、オーバーコート層２５の膜厚を設定することにより、パネル面内におけるギャップが均一に保持され易くなる。
【００６３】
以上のように、本実施の形態では、液晶層３０を挟む画素基板１０Ｃおよび対向基板２０Ｂ間に複数のスペーサ３１を所定のピッチで間引いて配置したので、スペーサを画素毎に配置する場合に比べ開口率を向上させることができる。また、オーバーコート層２５がスペーサ３１の配置箇所に応じた凹凸形状を有するようにしたので、ギャップむらの発生を緩和できる。よって、開口率を向上させつつ表示品位の低下を抑制することが可能となる。
【００６４】
＜第３の実施の形態＞
図１５は、本発明の第３実施の形態に係る液晶表示装置（液晶表示装置５）の断面構成を表したものである。液晶表示装置５は、上記第１の実施の形態の液晶表示装置１と同様、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示装置であり、液晶層３２を画素基板１０Ｄおよび対向基板２０で挟み込んだ構造を有するものである。また、画素基板１０Ｄと対向基板２０との間には、ギャップ制御のための複数のスペーサ３３（具体的には、後述の柱３３ａ）が、所定のピッチで間引かれて配設されている。
【００６５】
但し、本実施の形態では、スペーサ３３が、柱３１ａと、この柱３１ａの下地層としてのギャップ制御層３３ｂとからなり、柱３１ａおよびギャップ制御層３３ｂは、互いに同一の材料により一体的に形成されている。ギャップ制御層３３ｂの膜厚は、スペーサ近傍領域Ｒ１において大きく、スペーサ間領域Ｒ２において小さくなっている。ここでは、ギャップ制御層３３ｂの膜厚は、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近にかけて連続的に小さくなっている。
【００６６】
このようなスペーサ３３の形成方法としては、平板状のガラス基板２１上にカラーフィルタ層２２およびオーバーコート層２５をそれぞれ略均一な膜厚で成膜した後、スペーサ３３の材料となる感光性樹脂（例えばアクリル樹脂）を塗布した後、フォトマスクを用いたパターニングにより、柱３３ａとギャップ制御層３３ｂとを一括形成しつつ、ギャップ制御層３３ｂの膜厚を調整する。具体的には、柱３３ａの近傍領域に樹脂を厚く残し、柱３３ａから離れるに従って残す樹脂を少なくすればよい。また、このようなギャップ制御層３３ｂの膜厚変化は、上記第１の実施の形態の平坦化膜１３と同様、対向基板２０の撓み具合に応じて設計されていることが望ましい。尚、スペーサ３３の形成方法としては、このフォトリソグラフィ法の他に、型を用いたインプリント法等を用いるようにしてもよい。
【００６７】
また、本実施の形態では、液晶層３２が、ＩＰＳモードやＦＦＳモード等の横電界モードの液晶によりなる。上記第１の実施の形態においても述べたが、この場合、対向基板２０側には電極を設けずに、画素基板１０Ｄに、液晶層３２へ横電界を印加するための画素電極１４および共通電極１８を配設する。画素電極１４と共通電極１８との間には絶縁膜１７が形成される。
【００６８】
[液晶表示装置５の作用，効果]
液晶表示装置５では、上記第１の実施の形態と同様、画素基板１０Ｄの側から入射した光は、液晶層３２を通過する際に、液晶層３２に印加された駆動電圧に応じて変調される。この変調光は、カラーフィルタ層２２によって色分離されたのち、観察者側に射出される。このようにして、画像表示がなされる。また、本実施の形態においても、複数のスペーサ３３が間引かれて配置されていることにより、開口率が向上する。
【００６９】
ここで、スペーサ３３を間引いて配置することにより、対向基板が撓み易くなることは既に述べた。本実施の形態では、柱３３ａとその下地層としてのギャップ制御層３３ｂとからなるスペーサ３３を設け、そのギャップ制御層３３ｂの膜厚が上記のように調整されていることにより、対向基板２０に撓みが生じた場合にも、スペーサ近傍領域Ｒ１におけるギャップとスペーサ間領域Ｒ２におけるギャップに差が生じにくくなる。また、対向基板２０の撓み具合に応じて、ギャップ制御層３３ｂの膜厚を設定することにより、パネル面内におけるギャップが均一に保持され易くなる。
【００７０】
以上のように、本実施の形態では、液晶層３２を挟む画素基板１０Ｄおよび対向基板２０間に複数のスペーサ３３所定のピッチで間引いて配置したので、スペーサを画素毎に配置する場合に比べ開口率を向上させることができる。また、ギャップ制御層３３ｂの膜厚を柱３３ａの配置箇所に応じて変化させるようにしたので、ギャップむらの発生を緩和できる。よって、開口率を向上させつつ表示品位の低下を抑制することが可能となる。
【００７１】
＜変形例４＞
図１６は、上記第３の実施の形態の変形例（変形例４）に係る液晶表示装置（液晶表示装置６）の断面構成を表したものである。液晶表示装置６は、上記第３の実施の形態の液晶表示装置５と同様、横電界モードの液晶層３２を画素基板１０Ｄおよび対向基板２０で挟み込んだ構造を有するものである。また、画素基板１０Ｄと対向基板２０との間には、ギャップ制御のための複数のスペーサ３４（具体的には、後述の柱３４ａ）が、所定のピッチで間引かれて配設されている。また、上記第３の実施の形態と同様、スペーサ３４が、柱３４ａと、この柱３４ａの下地層としてのギャップ制御層３４ｂとからなり、柱３４ａおよびギャップ制御層３４ｂは、互いに同一の材料により一体的に形成されている。また、ギャップ制御層３４ｂの膜厚は、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近にかけて連続的に小さくなっている。スペーサ３４は、例えばアクリル樹脂等の感光性樹脂材料よりなる。
【００７２】
但し、本変形例では、ギャップ制御層３４ｂが、対向基板２０におけるオーバーコート層を兼ねており、カラーフィルタ層２２上に直に形成されている。このようなスペーサ３４の形成方法としては、上記第３の実施の形態と同様、平板状のガラス基板２１上にカラーフィルタ層２２を略均一な膜厚で成膜した後、スペーサ３４の材料となる感光性樹脂を塗布する。この後、上記第３の実施の形態と同様、フォトマスクを用いて樹脂をパターニングすることにより、柱３４ａとギャップ制御層３４ｂとを一括形成しつつ、ギャップ制御層３４ｂの膜厚を調整する。また、このようなギャップ制御層３３ｂの膜厚変化は、上記第１の実施の形態の平坦化膜１３と同様、対向基板２０の撓み具合に応じて設計されていることが望ましい。但し、本変形例では、スペーサ３４がオーバーコート層を兼ねるため、感光性を有すると共に平坦性の高い樹脂を選定することが望ましい。
【００７３】
このように、スペーサ３４において、柱３４ａの下地層となるギャップ制御層２４ｂがオーバーコート層を兼ねるようにしてもよく、このようにした場合であっても、上記第３の実施の形態と同等の効果を得ることができる。
【００７４】
＜第４の実施の形態＞
図１７は、本発明の第４の実施の形態に係る液晶表示装置（液晶表示装置７）の断面構成を表したものである。液晶表示装置７は、上記第１の実施の形態の液晶表示装置１と同様、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示装置であり、液晶層を一対の基板間に挟み込んでなるものである。但し、この液晶表示装置７は、指やスタイラス等の物体の位置検出を行うセンサ機能（抵抗膜式）が搭載された、いわゆるタッチセンサ内蔵型（インセルタイプ）の表示装置である。尚、以下では、上記第１の実施の形態と同一の構成要素については同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００７５】
［液晶表示装置７の構成］
液晶表示装置７は、上記第１の実施の形態と同様、液晶層３０を画素基板１０および対向基板２０で挟み込んでなるものである。また、所定の画素には、画素基板１０および対向基板２０間のギャップｄ１を制御するスペーサ３１が配設されている。そして、本実施の形態においても、パネル面内において、複数のスペーサ３１が所定のピッチで間引かれて配設されている。そして、画素基板１０では、平坦化膜１３が対向基板２０のたわみに対応した凹凸形状を有している。ここでは、凹凸形状の一例として、平坦化膜１３の膜厚が、スペーサ近傍領域Ｒ１からスペーサ間領域Ｒ２の中央付近に向かって段階的に小さくなっている場合について示す。
【００７６】
本実施の形態では、上記第１の実施の形態と異なり、画素基板１０における表示用の画素電極１４Ａが、検出用のセンサ電極（センサ第１電極）を兼ねている。同様に、対向基板２０における表示用の対向電極２４Ａが、検出用のセンサ電極（センサ第２電極）を兼ねている。
【００７７】
対向電極２４Ａとオーバーコート層２３との間には、パネル面内において所定のピッチで、突起状のセンサ用構造物２５が設けられている。このセンサ用構造物２５は、パネル全体として規則的な配列（例えばマトリクス配列）あるいはランダムな配列となるように、１画素〜数画素毎に配設されている。対向電極２４Ａは、そのセンサ用構造部２５を覆うように形成されており、センサ用構造物２５が配置された箇所では、画素基板１０および対向基板２０間のギャップが他の箇所よりも狭くなっている。これにより、指等が画面上にタッチした際の圧力によって対向基板２０が画素基板１０側に撓むと、対向電極２４Ａおよび画素電極１４Ａのうちセンサ用構造物２５の先端部分に対応する部分同士が接触可能となる。即ち、この画素電極１４Ａおよび対向電極２４Ａのうちのセンサ用構造物２５に対応する部分（２５Ａ）が、抵抗膜式におけるセンサとして機能するようになっている。尚、画素電極１４Ａおよび対向電極２４Ａにおけるセンサ対応部分２５Ａでは、液晶配向制御のための配向膜は、設けられていないか、あるいは他の部分よりも薄く設けられている。即ち、画素電極１４Ａと対向電極２４Ａとの接触により、それらの電気的接続が確保されるようになっている。
【００７８】
このような画素電極１４Ａおよび対向電極２４Ａは、各画素に映像信号の書き込みを行う表示駆動回路と、検出信号に基づいて物体の位置検出を行う検出回路（いずれも図示せず）に接続されている。これにより、所定のタイミングで、映像信号の書き込みあるいは検出信号の読み出しが行われるようになっている。これらの表示駆動回路および検出回路は、例えば画素基板１０におけるガラス基板１１上に配設されるか、あるいはガラス基板１１に接続されたフレキシブル配線基板（Flexible Printed Circuit）等に配設されている。
【００７９】
また、本実施の形態では、対向基板２０におけるガラス基板２１の厚みは、例えば０．１ｍｍ〜０．７ｍｍである。このガラス基板２１は、ユーザの指やスタイラスのタッチ面として機能するため、抵抗膜式のタッチセンサでは、その厚みができるだけ薄くなっていることが望ましい。より軽いタッチ感を実現できるからである。
【００８０】
[液晶表示装置７の作用，効果]
（画像表示）
液晶表示装置７では、画素基板１０の側から入射した光は、液晶層３０を通過する際に、液晶層３０に印加された駆動電圧に応じて変調される。この変調光は、カラーフィルタ層２２によって色分離されたのち、観察者側に射出される。このようにして、画像表示がなされる。
【００８１】
このとき、上記第１の実施の形態と同様、パネル面内に、複数のスペーサ３１が間引かれて配置されていることにより、画素毎にスペーサを設けた場合に比べ、開口率が向上する。また、平坦化膜１３が所定の凹凸形状を有するようにしたので、ギャップむらの発生が緩和される。
【００８２】
（位置検出）
一方、対向基板２０の表面に、例えば指やスタイラス等の物体がタッチすると、そのタッチに起因する圧力（対向基板２０を押す力。以下、単に外圧という）に応じて、対向基板２０が画素基板１０側へ撓む。このとき、外圧の大きさが一定値以上のものである場合、対向基板１０側に配設されたセンサ用構造物２５に対応する部分、即ちセンサ対応部分２５Ａにおいて、画素電極１４Ａと対向電極２４Ａとが接触し、これらが導通する。図示しない検出回路により、電極同士が接触している画素位置が特定され、物体の位置検出がなされる。
【００８３】
このとき、複数のスペーサ３１が間引かれて配置されていることにより、画素毎にスペーサを設けた場合に比べ、外圧によって対向基板２０が撓み易くなり、これにより、より小さな外圧でもセンサ対応部分２５Ａが導通し易くなる。即ち、センサとしての接触反応が良くなる。
【００８４】
また、対向基板２０のガラス基板２１の厚みを薄くすることによっても、センサ対応部分２５Ａを導通させるために必要な外圧を小さくして、接触反応を良くすることができる。
【００８５】
以上のように、本実施の形態では、液晶層３０を挟む画素基板１０および対向基板２０間に複数のスペーサ３１を間引いて配置したので、スペーサを画素毎に配置する場合に比べ開口率を向上させることができる。また、平坦化膜１３がスペーサ３１の配置箇所に応じた凹凸形状を有するようにしたので、ギャップむらの発生を緩和できる。よって、上記第１の実施の形態と同等の効果を得ることができる。
【００８６】
また、各スペーサ３１同士のピッチを拡大（具体的には、ｍｍ（ミリ）オーダーとすることが望ましい）することは、抵抗膜式のタッチセンサ機能を利用する場合に、接触反応を良くして軽いタッチ感を実現することにもつながる。そして、このようなタッチ感は、ガラス基板２１を薄型にすることによっても実現できる。ここで、ガラス基板２１を薄型化すると、対向基板２０が撓み易くなり、ギャップむらが発生し易くなる。このようなギャップむらは、ギャップが作動開始圧やセンサ歩留まりに重要な影響を及ぼすため、排除されることが望まれる。よって、平坦化膜１３の凹凸形状による上記効果は、本実施の形態のような抵抗膜式を利用したタッチセンサ内蔵型の液晶表示装置７に、特に有効となる。
【００８７】
即ち、本実施の形態では、タッチセンサ内蔵型の液晶表示装置７に、複数のスペーサを間引いて配置したので、軽いタッチ感を実現しつつ、開口率を向上させると共に表示品位の低下を抑制することが可能となる。
【００８８】
＜適用例＞
以下、上述した各実施の形態で説明した液晶表示装置の適用例である電子機器について説明する。上記各実施の形態の液晶表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００８９】
（適用例１）
図１８は、テレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００が、上記各実施の形態に係る液晶表示装置に相当する。
【００９０】
（適用例２）
図１９は、デジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０が、上記各実施の形態に係る液晶表示装置に相当する。
【００９１】
（適用例３）
図２０は、ノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０が、上記各実施の形態に係る液晶表示装置に相当する。
【００９２】
（適用例４）
図２１は、ビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０が、上記各実施の形態に係る液晶表示装置に相当する。
【００９３】
（適用例５）
図２２は、携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０が、上記各実施の形態に係る液晶表示装置に相当する。
【００９４】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本発明を説明したが、本発明はこれらの実施の形態および変形例に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、撓み具合に応じて形成する凹凸形状を、画素基板では平坦化膜に形成し、対向基板ではオーバーコート層に形成するようにしたが、凹凸形状を形成する膜や層はこれに限定されない。画素基板および対向基板に設けられる他の膜や層に凹凸形状を形成してもよく、この場合であっても本発明と同等の効果を得ることができる。また、画素基板と対向基板との双方に凹凸形状を設けるようにしてもよい。
【００９５】
また、上記実施の形態等では、透過型の液晶表示装置を例に挙げて説明したが、反射型の液晶表示装置、または反射／透過併用型の液晶表示装置にも適用可能である。
【符号の説明】
【００９６】
１〜７…液晶表示装置、１０，１０Ａ〜１０Ｄ…画素基板、１１，２１…ガラス基板、１３…平坦化膜、１４，１４Ａ…画素電極、２０，２０Ｂ…対向基板、２２…カラーフィルタ層、２３，２５…オーバーコート層、２４，２４Ａ…対向電極、２５…センサ用構造物、３０，３２…液晶層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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