(57)【要約】      （修正有）【課題】ワーク表面の全域において、確実に異物を検出することができる異物検出装置およびこれを備えた液滴吐出装置を提供することである。【解決手段】検出光の光軸Ａが送り方向に直交すると共にワークＷを跨いで配設され、検出光によりワークＷの表面に付着した異物を検出する異物検出ユニット５４，５５と、それぞれが、ワークＷに臨んでワークの先端および尾端の光軸Ａ位置への到達を検出すると共に、光軸Ａに平行な仮想線上において相互に離間して配設した一対のワーク検出センサー５６と、一対のワーク検出センサー５６による、ワークＷの先端の光軸Ａ位置への到達検出のうち、先の到達検出をトリガーとして異物検出ユニット５４，５５の検出動作を開始させ、ワークＷの尾端の光軸位置への到達検出のうち、後の到達検出をトリガーとして異物検出ユニット５４，５５の検出動作を終了させる制御装置１９と、を備えたものである。【選択図】図３
2011145153.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドに対し方形のワークを任意の１の送り方向に送りながら、前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して前記ワーク上に描画を行なう液滴吐出装置に設けられ、前記ワークの表面に付着した異物を検出する異物検出装置であって、
検出光の光軸が前記送り方向に直交すると共に前記ワークを跨いで配設した発光部と受光部とを有し、前記検出光により前記ワークの表面に付着した異物を検出する異物検出手段と、
それぞれが、前記ワークに臨んで前記ワークの先端および尾端の前記光軸位置への到達を検出すると共に、前記光軸に平行な仮想線上において相互に離間して配設した一対のワーク検出手段と、
前記一対のワーク検出手段による、前記ワークの先端の前記光軸位置への到達検出のうち、先の前記到達検出をトリガーとして前記異物検出手段の検出動作を開始させ、前記ワークの尾端の前記光軸位置への到達検出のうち、後の前記到達検出をトリガーとして前記異物検出手段の検出動作を終了させる検出制御手段と、を備えたことを特徴とする異物検出装置。
【請求項２】
前記一対のワーク検出手段は、前記ワークの幅方向両端部に対応させて配設されていることを特徴とする請求項１に記載の異物検出装置。
【請求項３】
前記一対のワーク検出手段は、
前記ワークの先端および尾端を検出すると共に、
少なくとも各ワーク検出手段による前記検出から前記異物検出手段の検出動作開始までに前記ワークが送られる距離分、前記光軸に対し、前記送り方向の上流側に配設されていることを特徴とする請求項１または２に記載の異物検出装置。
【請求項４】
前記光軸は、前記発光部からの前記検出光が前記ワークに浅い角度で反射して前記受光部に達するように、角度設定されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の異物検出装置。
【請求項５】
前記異物検出手段は、
前記受光部の受光量が、増加して、増加した状態を維持し、減少するまでを前記ワークとして検出し、
前記受光部の受光量が、増加した状態で一時的に所定の閾値より下降したとき、受光量の増加割合が所定の閾値を越えたとき、および受光量の減少割合が所定の閾値を越えたとき、前記異物として検出することを特徴とする請求項４に記載の異物検出装置。
【請求項６】
前記閾値が、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面と前記ワークの表面との間のワークギャップに相当することを特徴とする請求項５に記載の異物検出装置。
【請求項７】
インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドに対し方形のワークを任意の１の送り方向に送りながら、前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動し前記ワーク上に描画を行なう液滴吐出装置であって、
請求項１ないし６のいずれかに記載の異物検出装置を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークの表面に付着した異物を検出する異物検出装置およびこれを備えた液滴吐出装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、異物検出装置として、異物検出センサによりＣＦ基板（ワーク）表面の異物を検出するものが知られている（特許文献１参照）。
この異物検出装置は、ＣＦ基板表面の異物を検出する第１異物検出センサと、ＣＦ基板の移動方向に並んで配設され、ＣＦ基板表面の異物を検出する第２異物検出センサと、ＣＦ基板中央部における第１異物検出センサの光軸上に配設され、ＣＦ基板を検出する第１基板検出センサと、ＣＦ基板中央部における第２異物検出センサの光軸上に配設され、ＣＦ基板を検出する第２基板検出センサと、これら構成装置を制御する制御装置と、を備えている。また、第１異物検出センサおよび第２異物検出センサは、ＣＦ基板の幅方から検出光を照射して、ＣＦ基板の半部ずつ異物を検出する。
この場合、制御装置は、第１基板検出センサ（第２基板検出センサ）がＣＦ基板を検出したら第１異物検出センサ（第２異物検出センサ）を駆動して、ＣＦ基板表面の異物を検出するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１５４０８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような異物検出装置では、第１異物検出センサおよび第２異物検出センサがＣＦ基板中央部に配設されているため、ＣＦ基板がθ方向に傾いて送られた場合（送り軸のうねり等）、ＣＦ基板の先端部が第１基板検出センサ（あるいは第２基板検出センサ）より先行して送られてしまう。これにより、ワークの先行部分は、第１異物検出センサ（あるいは第２異物検出センサ）の検出領域から外れてしまい、この部分に異物が存在しても検出されない問題があった。
【０００５】
本発明は、ワーク表面の全域において、確実に異物を検出することができる異物検出装置およびこれを備えた液滴吐出装置を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の異物検出装置は、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドに対し方形のワークを任意の１の送り方向に送りながら、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動してワーク上に描画を行なう液滴吐出装置に設けられ、ワークの表面に付着した異物を検出する異物検出装置であって、検出光の光軸が送り方向に直交すると共にワークを跨いで配設した発光部と受光部とを有し、検出光によりワークの表面に付着した異物を検出する異物検出手段と、それぞれが、ワークに臨んでワークの先端および尾端の光軸位置への到達を検出すると共に、光軸に平行な仮想線上において相互に離間して配設した一対のワーク検出手段と、一対のワーク検出手段による、ワークの先端の光軸位置への到達検出のうち、先の到達検出をトリガーとして異物検出手段の検出動作を開始させ、ワークの尾端の光軸位置への到達検出のうち、後の到達検出をトリガーとして異物検出手段の検出動作を終了させる検出制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、一対のワーク検出手段による検出において、ワークの先端の光軸位置への到達検出のうち、先の到達検出をトリガーとして異物検出手段の検出動作を開始させ、ワークの尾端の光軸位置への到達検出のうち、後の到達検出をトリガーとして異物検出手段の検出動作を終了させるようにしているため、ワークがθ方向に傾いて送られることがあっても、ワークの先行先端部分から確実に異物検出を開始することができると共に、後行尾端部分まで確実に異物検出を実行することができる。すなわち、ワーク表面の全域において、異物を確実に検出することができる。なお、異物を検出したら、ワークの送りを直ちに停止させ、その旨、報知することが好ましい。
【０００８】
この場合、一対のワーク検出手段は、ワークの幅方向両端部に対応させて配設されていることが、好ましい。
【０００９】
この構成によれば、ワークの幅方向両端部を確実に検出することができ、異物が検出されない領域をなくし、異物検査の検出精度を向上させることができる。なお、幅の異なる複数種のワークに描画を行なう装置では、一対のワーク検出手段を、送り方向に直交する方向に移動可能に構成しておくことが好ましい。
【００１０】
この場合、一対のワーク検出手段は、ワークの先端および尾端を検出すると共に、少なくとも各ワーク検出手段による検出から異物検出手段の検出動作開始までにワークが送られる距離分、光軸に対し、送り方向の上流側に配設されていることが、好ましい。
【００１１】
この構成によれば、ワーク検出手段によるワークの検出から、異物検出手段による検出動作開始までに生ずるタイムラグを解消することができる。すなわち、ワークの移動速度を考慮しつつ、ワーク表面の異物を確実に検出することができる。
【００１２】
この場合、光軸は、発光部からの検出光がワークに浅い角度で反射して受光部に達するように、角度設定されていることが、好ましい。
【００１３】
この構成によれば、異物の検出に併せてワークの存在をも検出することができる。したがって、ワークの表面に付着した異物のみを確実に検出することができ、誤検出を有効に防止することができる。
【００１４】
この場合、異物検出手段は、受光部の受光量が、増加して、増加した状態を維持し、減少するまでをワークとして検出し、受光部の受光量が、増加した状態で一時的に所定の閾値より下降したとき、受光量の増加割合が所定の閾値を越えたとき、および受光量の減少割合が所定の閾値を越えたとき、異物として検出することが、好ましい。
【００１５】
上記の検出光をワークに反射させる構成では、送り軸の機械的うねり等によりワークがθ方向に傾いて送られてくると、検出光の反射光量がワークの送りに対し比例的に増加するため、受光部における受光量も比例的に増加する。すなわち、受光部の受光量は、ワーク「無」の所定光量から比例的に増加しワーク「有」の所定の光量に達する。このため、ワーク「有」の受光量に対する閾値を定めても、比例的に増加している状態では、異物の検出を良好に行うことができない。
上記の構成によれば、受光部における受光量の変化（ワークに対する検出光の反射量）によりワークを検出するため、傾いて送られてくるワークの先行先端部分および後行尾端部分に存在する異物を、確実に検出することができる。
【００１６】
この場合、閾値が、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの表面との間のワークギャップに相当することが、好ましい。
【００１７】
この構成によれば、ワークギャップ以上の大きさの異物を検出することができるため、機能液滴吐出ヘッドおよびワークの破損を確実に防止することができる。同時に、異物の引き摺りによる機能液の混色を防止することができる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置は、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドに対し方形のワークを任意の１の送り方向に送りながら、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動しワーク上に描画を行なう液滴吐出装置であって、上記の異物検出装置を備えたことを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドおよびワークの破損を確実に防止することができるため、描画動作を安定して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】液滴吐出装置の斜視図である。
【図２】液滴吐出装置の側面図である。
【図３】異物検出装置廻りの平面図である。
【図４】ワークの移動を示す遷移図である。
【図５】ワークの異物検出を説明するための図である。
【図６】ワークの異物検出を説明するための拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、添付の図面を参照して、本発明の一実施形態に係る異物検出装置およびこれを備えた液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれ、例えば、特殊なインクや発光性の樹脂液である機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成（描画）するものである。また、異物検出装置は、複数種のものが搭載され、描画の直前にワーク表面の小さな異物を検出する他、メンテナンス時に置き忘れた工具等の大きな異物を検出する。
【００２２】
図１ないし図３に示すように、液滴吐出装置１は、石定盤に支持されたＸ軸支持ベース７上に配設され、主走査方向となるＸ軸方向に延在してワークＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル２と、Ｘ軸テーブル２を跨ぐように架け渡されたＹ軸支持ベース３４上に配設され、副走査方向となるＹ軸方向に延在するＹ軸テーブル３と、Ｙ軸テーブル３に移動自在に吊設され、複数の機能液滴吐出ヘッド６が搭載された１３個のキャリッジユニット４と、機能液滴吐出ヘッド６に機能液を供給する機能液供給ユニット５と、を備えている。この液滴吐出装置１では、Ｘ軸テーブル２およびＹ軸テーブル３の駆動と同期して機能液滴吐出ヘッド６を吐出駆動させることにより、機能液供給ユニット５から供給された機能液を吐出させ、機能液滴吐出ヘッド６の吐出性能を検査すると共に、ワークＷに所定の描画パターンを描画する。
【００２３】
また、液滴吐出装置１は、撮像カメラ１３およびロール紙ユニット１４から成る吐出検査ユニット１１と、フラッシングユニット１５と、吸引ユニット１６およびワイピングユニット１７から成るメンテナンス装置１２と、を備えている。吸引ユニット１６およびワイピングユニット１７は、後述するメンテナンスエリアに配設され、これらユニットを機能液滴吐出ヘッド６の保守に供して、機能液滴吐出ヘッド６の機能維持・機能回復を図るようになっている。一方、吐出検査ユニット１１（ロール紙ユニット１４）およびフラッシングユニット１５は、Ｘ軸テーブル２に搭載され、ワークＷの除給材時において、機能液滴吐出ヘッド６の吐出検査および機能維持を図るようになっている。なお、撮像カメラ１３は、Ｙ軸支持ベース３４を隔てて、メンテナンスエリアとは逆側の位置に、Ｘ軸テーブル２を跨ぐように固定的に配置されている。
【００２４】
さらに、液滴吐出装置１は、これらの装置を、温度および湿度が管理された雰囲気内に収容するチャンバー１８と、これらの装置を統括制御する制御装置１９（図３参照）と、上記のロール紙ユニット１４およびフラッシングユニット１５廻りの大きな異物を検出すると共に、ワークＷ表面の大きな異物および小さな異物を検出する異物検出装置２０と、を備えている。なお、詳細は後述するが、本願発明の異物検出装置２０は、ワークＷ表面の小さな異物を検出するものである。
【００２５】
本実施形態の液滴吐出装置１では、除給材エリアにおいてワークＷの交換（搬入搬出）が行われ、このワークＷの交換作業に平行して、吐出検査ユニット１１による機能液滴吐出ヘッド６の吐出検査が実施される。また、給材したワークＷを、Ｘ軸テーブル２とＹ軸テーブル３とが交わる描画エリアに移動し、これにキャリッジユニット４を臨ませて、ワークＷへの描画を実施する。さらに、Ｙ軸テーブル３とメンテナンス装置１２（吸引ユニット１６、ワイピングユニット１７）が交わるメンテナンスエリアに、キャリッジユニット４を移動させ、機能液滴吐出ヘッド６の機能維持・機能回復を行う。一方、除給材や吐出検査に伴うロール紙ユニット１４およびフラッシングユニット１５の移動（詳細は、後述する。）を利用して、異物検出装置２０により、ロール紙ユニット１４およびフラッシングユニット１５廻りの大きな異物の検出が実施されると共に、描画に伴うワークＷの移動を利用して、異物検出装置２０により、セットテーブル３１上の大きな異物およびワークＷ表面の小さな異物の検出が実施される。なお、異物検出装置２０によるワークＷ表面の小さな異物検出は、描画における第１の主走査時に行われる。すなわち、ワークＷの検出済み部分に描画が行われる。
【００２６】
図２に示すように、Ｘ軸テーブル２は、ワークＷを吸着セットすると共にθ軸方向に補正可能な機構を有するセットテーブル３１と、セットテーブル３１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸第１スライダー３２と、上記のロール紙ユニット１４およびフラッシングユニット１５をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸第２スライダー３３と、Ｘ軸方向に延在し、Ｘ軸第１スライダー３２およびＸ軸第２スライダー３３をＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモーター（図示省略）と、を備えている。Ｘ軸第１スライダー３２とＸ軸第２スライダー３３とは、別個独立に移動可能であり、Ｘ軸テーブル２は、ワークＷの除給材時には、セットテーブル３１を除給材エリアに移動させると共に、ロール紙ユニット１４およびフラッシングユニット１５を描画エリアのキャリッジユニット４に臨ませる、また、ワークＷの描画時には、セットテーブル３１を描画エリアのキャリッジユニット４に臨ませると共に、ロール紙ユニット１４を上記の撮像カメラ１３に臨ませる。
【００２７】
図１に示すように、Ｙ軸支持ベース３４は、除給材エリア側の第１Ｙ軸支持ベース３５と、第１Ｙ軸支持ベース３５に平行して配設された第２Ｙ軸支持ベース３６と、から構成されている。第１および第２Ｙ軸支持ベース３５，３６は、それぞれＸ軸テーブル２をＹ軸方向から挟むように配設された第１支柱３７および第２支柱３８と、メンテナンスエリアに配設された第３支柱３９と、を介してＸ軸テーブル２を跨ぐようにＹ軸方向に延在している。また、第１支柱３７および第２支柱３８には、異物検出装置２０が支持されている。
【００２８】
Ｙ軸テーブル３は、１３個のキャリッジユニット４をそれぞれ吊設した１３個のブリッジプレート４１と、各ブリッジプレート４１を両持ちで支持する１３組のＹ軸スライダー（図示省略）と、一対のＹ軸支持ベース３４上に設置され、ブリッジプレート４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモーター（図示省略）と、を備えている。Ｙ軸テーブル３は、各キャリッジユニット４を介して描画時に機能液滴吐出ヘッド６を副走査するほか、機能液滴吐出ヘッド６を吸引ユニット１６およびワイピングユニット１７に臨ませる。この場合、各キャリッジユニット４を独立させて個別に移動させることも可能であるし、１３個のキャリッジユニット４を一体として移動させることも可能である。
【００２９】
図２に示すように、各キャリッジユニット４は、Ｙ軸テーブル３のブリッジプレート４１に垂設したキャリッジ本体４２と、キャリッジ本体４２に垂設され、１２個の機能液滴吐出ヘッド６を有するヘッドユニット４３と、を備えている。キャリッジ本体４２は、ブリッジプレート４１に支持された吊設部材４４と、吊設部材４４に支持されたヘッドユニット４３をθ補正（θ回転）可能に支持するθ回転機構２７と、を有している。また、ヘッドユニット４３は、１２個の機能液滴吐出ヘッド６を、ヘッドプレート（図示省略）に搭載して構成されている。さらに、各機能液滴吐出ヘッド６は、圧電素子により駆動するインクジェットヘッドで構成されている。
【００３０】
図３に示すように、異物検出装置２０は、ロール紙ユニット１４およびフラッシングユニット１５上に置き忘れた工具等の大きな異物を検出する第１異物検出ユニット５１と、セットテーブル３１上（セットテーブル３１のワークＷ上）に置き忘れた工具等の大きな異物を検出する第２異物検出ユニット５２と、セットテーブル３１にセットされたワークＷ表面の小さな異物を検出する第３異物検出ユニット５３と、備えている。また、第３異物検出ユニット５３は、図３において、右から左に検出光を放射する左異物検出ユニット５４と、左から右に検出光を放射する右異物検出ユニット５５と、一対のワーク検出センサー５６と、を有している。
【００３１】
第１異物検出ユニット５１は、Ｙ軸支持ベース３４における第２Ｙ軸支持ベース３６側に配設され、検査吐出のために移動するロール紙ユニット１４やフラッシングユニット１５上の異物を検出する。例えば、ロール紙ユニット１４の交換やメンテナンス等で置き忘れた工具等の存在を検出する。同様に、第２異物検出ユニット５２は、第１Ｙ軸支持ベース３５における除給材エリア側に配設され、セットテーブル３１上あるいはセットテーブル３１に搭載したワークＷ上の異物を検出する。例えば、前工程やメンテナンス等で置き忘れた工具等の存在を検出する。第３異物検出ユニット５３は、描画動作に移行（主走査）したセットテーブル３１上のワークＷ表面の異物を検出する。例えば、メンテナンス等でオペレータが持ち込んだ微小な塵埃のうちのワークＷ表面に付着したもの、あるいは交換したワークＷに付着している塵埃等の異物を検出する。
【００３２】
次に、第３異物検出ユニット５３について詳細に説明するが、左異物検出ユニット５４および右異物検出ユニット５５は、同一のものであり、以下、主に左異物検出ユニット５４を例に説明を進める。
図３に示すように、左異物検出ユニット５４は、検出光を照射（発光）する左発光部６１と、左発光部６１から照射された検出光を受光する左受光部６２と、から構成されている。左発光部６１および左受光部６２は、ワークＷを跨ぐように、且つ検出光の光軸６３がワークＷの送り方向に直交するように配設されている。左発光部６１は、上記第１支柱３７の描画エリア側の側面において、ワークＷ上に検出光を照射できる高さに配設されている。一方、左受光部６２は、上記第２支柱３８の描画エリア側の側面において、検出光を受光できる高さに配設されている。すなわち、左異物検出ユニット５４は、検出光を図３における左から右へ向かって照射して、ワークＷの幅方向左半部における表面の異物を主に検出する。
【００３３】
左発光部６１は、発光光源となる半導体レーザ等から成る左発光素子６３を有し、制御装置１９から発光信号に基づいて、検出光であるレーザ光を放射する。また、左受光部６２は、受光した検出光を光電変換する左受光素子６４を有し、検出結果の電気信号を制御装置１９に出力する。そして、制御装置１９は、この電気信号に基づいて、検出光の受光量を時系列的に算出する。
【００３４】
左発光部６１は、検出光を主にワークＷの左半部に浅い角度で反射させて左受光部６２に受光させるように、光軸６３がワークＷに向かって僅かに斜め下向きに角度調整されている。これにより、ワークＷが左異物検出ユニット５４の光軸６３位置に到達していない場合には、左受光部６２は少量の検出光を受光し、ワークＷが左異物検出ユニット５４の光軸６３位置に到達している場合には、左受光部６２はワークＷへの反射量に対応した検出光を受光する。これにより、光軸６３上におけるワークＷの有無が検出される。
【００３５】
同様に、右異物検出ユニット５５は、右発光部６５と右受光部６６とから構成されている。右発光部６５および右受光部６６は、ワークＷを跨ぐように、且つ検出光の光軸６３がワークＷの送り方向に直交するように配設されている。右発光部６５は、上記第２支柱３８において、ワークＷ上に検出光を照射できる高さに配設され、右受光部６６は、上記第１支柱３７において、検出光を受光できる高さに配設されている。すなわち、右異物検出ユニット５５は、ワークＷの幅方向右半部における表面の異物を主に検出する。この場合も、右発光部６５は、半導体レーザ等から成る右発光素子６７を有している。そして、右発光部６５は、検出光を主にワークＷの右半部に浅い角度で反射させて右受光部６６に受光させるように、光軸６３がワークＷに向かって僅かに斜め下向きに角度調整されている。
このように、本実施形態における第３異物検出ユニット５３において、左異物検出ユニット５４および右異物検出ユニット５５は、それぞれの検出光が相互に向かい合わせとなるように照射され、且つそれぞれの光軸６３が同一線上（送り方向に直交する面内）に位置するように配設されている。
【００３６】
一方、一対のワーク検出センサー５６は、第１Ｙ軸支持ベース３５の下面にそれぞれ下向きに配設されている。各ワーク検出センサー５６は、例えば反射型の光センサーで構成され、結果的にワークＷが光軸６３位置に達したか否かを検出する。すなわち、一対のワーク検出センサー５６は、両異物検出ユニット５４，５５の光軸６３に平行な仮想線上において相互に離間して、且つワークＷの幅方向両端部に対応させて配設されている。具体的には、左側のワーク検出センサー５６は、ワークＷの幅方向左側端部の移動軌跡上に配設され、右側のワーク検出センサー５６は、ワークＷの幅方向右側端部の移動軌跡上に配設されている。そして、一対のワーク検出センサー５６（仮想線の位置）は、各ワーク検出センサー５６による検出から各異物検出ユニット５４，５５の検出動作開始までにワークＷが送られる距離分、光軸６３に対し、ワークＷの送り方向上流側に配設されている。なお、本実施形態における両ワーク検出センサー５６は、光軸６３に対し、上記の距離分以上、ワークＷの送り方向上流側に配設されている（詳細は、後述する。）。
【００３７】
詳細は後述するが、このように構成された右異物検出ユニット５５、左異物検出ユニット５４および一対のワーク検出センサー５６に対し、制御装置１９は、一対のワーク検出センサー５６のうちの一方のワーク検出センサー５６が検出する、最初（先の）のワークＷの先端検出をトリガーとして、左・右両異物検出ユニット５４，５５を駆動（有効化）する。また、制御装置１９は、一対のワーク検出センサー５６のうちの一方のワーク検出センサー５６が検出する、最後（後の）のワークＷの尾端検出をトリガーとして、左・右両異物検出ユニット５４，５５を駆動停止（無効化）する。
【００３８】
なお、両ワーク検出センサー５６，５６は、幅の異なる複数種のワークＷの幅大きさに合わせてＹ軸方向に移動可能に構成されていてもよい（共に図示省略。）。
【００３９】
図４および図５を参照して、一対のワーク検出センサー５６の検出結果に基づく各異物検出ユニット５４，５５によるワークＷの検出方法について説明する。ここで、制御装置１９は、両ワーク検出センサー５６，５６から両異物検出ユニット５４，５５の光軸６３までの離間距離（Ｌｄ）と、ワークＷの移動速度（Ｖ）と、から、ワークＷがＬｄを移動するのに必要な時間（ｔｄ）を記憶しているものとし、左異物検出ユニット５４および右異物検出ユニット５５の各受光量を取得し、これを合成して異物等の有無を判定するものとする。また、この検出は、描画動作と並行して行われる。実施形態の液滴吐出装置１では、複数パスで１のワークＷに描画が実施されるが、その第１パス目において、描画と並行してこの検査が実施される。
【００４０】
ワークＷが平面内において左側端部を先行端部として傾いた姿勢で送られた場合、まず、左側のワーク検出センサー５６がワークＷの左先端を検出する（図４（ａ）参照）。続いて、右側のワーク検出センサー５６がワークＷの右先端を検出する（図４（ｂ）参照）。これとほぼ平行して、制御装置１９は、左側のワーク検出センサー５６による、左先端の検出時間（ｔ１ｓ）からｔｄ経過後に左異物検出ユニット５４を駆動し、右先端の検出時間（ｔ２ｓ）からｔｄ経過後に右異物検出ユニット５５を駆動する。この際、両受光部６２，６６の合成受光量は、左先端が光軸６３を通過（ｔ１ｓ＋ｔｄ）してから右先端が光軸６３を通過するまで（ｔ２ｓ＋ｔｄ）一定割合で増加する（図５参照）。すなわち、異物検出ユニット５４，５５は、ワークＷの先端検出のうち、先の先端検出をトリガーとして検出動作を開始させると共に、ワークＷの「有り」を検出する。
【００４１】
そして、右先端が光軸６３を通過した後、左・右両受光部６２，６６は、所定時間、一定光量を受光する。ここで、所定時間とは、右先端が光軸６３を通過（ｔ２ｓ＋ｔｄ）してから、左側のワーク検出センサー５６による左尾端を検出（ｔ１ｅ）して（図４（ｃ）参照）、ｔｄ経過後までの時間（ｔ１ｅ＋ｔｄ）である。
【００４２】
さらに、一定時間経過後、左側のワーク検出センサー５６が左尾端を検出（ｔ２ｅ）する（図４（ｄ）参照）。これとほぼ平行して、合成受光量は、左側のワーク検出センサー５６による、左尾端を検出してｔｄ経過後から、右尾端が光軸６３を通過するまで（ｔ２ｅ＋ｔｄ）一定割合で減少する（図５参照）。すなわち、第３異物検出装置５３は、ワークＷの尾端検出のうち、後の尾端検出をトリガーとして検出動作を終了させると共に、ワークＷを「無し」と検出する。したがって、第３異物検出装置５３は、両受光部６２，６６の受光量が、増加してから減少までをワークＷとして検出する。
【００４３】
次に、図５および図６を参照して、両異物検出ユニット５４，５５によるワークＷ表面の異物検出について説明する。ここで、受光量増加時における合成受光量の増加割合および受光量減少時における合成受光量の減少割合は、ワークＷの傾き角度により異なる。したがって、制御装置１９は、ワークＷの後の先端が異物検出ユニット５４（５５）の光軸６３を通過するまでに、ワークＷの傾き角度を数１により算出し、予め記憶されワークＷの傾き角度に対応した増加割合標準線Ｌ１（増加標準受光量）、減少割合標準線Ｌ３（減少標準受光量）を決定する。なお、増加割合標準線Ｌ１および減少割合標準線Ｌ３は、傾きの符号が正逆となる関係であるため、増加割合標準線Ｌ１および減少割合標準線Ｌ３のいずれかを備えていればよい。なお、数１におけるＬｓは、左側のワーク検出センサー５６および右側のワーク検出センサー５６の離間距離である。
【００４４】
【数１】
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【００４５】
異物検出は、合成受光量が増加する増加領域と、合成受光量が一定の一定領域と、合成受光量が減少する減少領域と、との３つに分けて行われる。
図６（ａ）に示すように、増加領域における異物検出は、上記した増加標準受光量（二点鎖線）と、受光部６２（６６）が実際に受光した受光量（実線）と、の受光量の差異が、増加割合標準線Ｌ１におけるワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６間のワークギャップ以上に相当する場合（Δ２）には、「異物アリ」と判定する。一方、増加標準受光量と、受光量線と、の距離が、ワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６間のワークギャップ以下に相当する場合（Δ１）には、「異物ナシ」と判定する。すなわち、異物検出ユニット５４（５５）は、合成受光量の増加割合が所定の閾値を越えたとき、「異物アリ」と判定する。
【００４６】
図６（ｂ）に示すように、一定領域での異物検出は、標準受光量Ｌ２（二点鎖線）９と、一定領域における受光量線（実線）と、の距離が、標準受光量Ｌ２におけるワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６間のワークギャップ以上に相当する場合（Δ４）には、「異物アリ」と判定する。一方、標準受光量Ｌ２および受光量線の距離が、ワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６間のワークギャップ以下に相当する場合（Δ３およびΔ５）には、「異物ナシ」と判定する。すなわち、異物検出ユニット５４（５５）は、受光量が一時的に所定の閾値を越えたとき、「異物アリ」と判定する。
【００４７】
図６（ｃ）に示すように、減少領域における異物検出は、上記した減少標準受光量（二点鎖線）と、受光量線（実線）と、の受光量の差異が、減少割合標準線Ｌ３におけるワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６間のワークギャップ以上に相当する場合（Δ６）には、「異物アリ」と判定する。一方、減少標準受光量および受光量線の距離が、ワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６間のワークギャップ以下に相当する場合（Δ７）には、「異物ナシ」と判定する。すなわち、異物検出ユニット５４（５５）は、受光量の減少割合が所定の閾値を越えたとき、「異物アリ」と判定する。
【００４８】
以上の構成によれば、制御装置１９は、ワーク検出センサー５６によるワークＷの先端検出をトリガーとして異物検出ユニット５４（５５）を検出駆動制御する。よって、異物検出ユニット５４（５５）は、ワークＷの先端から尾端まで確実に異物検出を実行することができる。すなわち、ワークＷが異物検出ユニット５４（５５）の光軸６３上にある間、異物検出ユニット５４（５５）を検出動作させることができるため、ワークＷ表面の全域において、確実に異物を検出することができる。また、液滴吐出装置１においては、機能液滴吐出ヘッド６およびワークＷの破損を確実に防止することができるため、製品の質を向上させることができると共に、描画効率を高めることができる。
【００４９】
なお、本実施形態では、ワーク検出センサー５６により、先の先端を検出してｔｄ経過後、異物検出ユニット５４（５５）を駆動するようにしているが、信号の検知により調節しても良い。すなわち、異物検出ユニット５４（５５）を常に駆動しておき、ワークＷが光軸６３上に存在しないときには、信号をキャンセルしておく。そして、ワーク検出センサー５６により先の先端を検出してｔｄ経過後、信号を検知してワークＷを検出するようにしても良い。これにより、検出光を安定に照射することができ、検出精度を向上させることができる。
【００５０】
また、特に図示しないが、増加領域および減少領域における異物の判断方法を、面積により行ってもよい。この場合、制御装置１９は、予めワークＷの傾き角度に対応する標準面積を記憶しておき、この標準面積と、検出した結果より算出した検出面積と、を比較する。この結果、両面積の差異が、ワークギャップのもの以上に相当する場合には、「異物アリ」と判定し、逆にワークギャップのもの以下であれば、「異物ナシ」と判定する。
【符号の説明】
【００５１】
１…液滴吐出装置  ６…機能液滴吐出ヘッド  １９…制御装置  ５３…第３異物検出装置  ５４…左異物検出ユニット  ５５…右異物検出ユニット  ５６…ワーク検出センサー  ６１…左発光部  ６２…左受光部  ６５…右発光部  ６６…左受光部  Ｗ…ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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