(57)【要約】【課題】制御光線を用いて制御対象装置を遠隔操作する遠隔制御システムおよび受光装置での外乱光による影響を低減することを目的とする。【解決手段】制御対象装置１と、該制御対象装置１を遠隔操作するための制御情報ＣＩを含んだ制御光線ＣＢを出力可能な制御光線出力装置５と、制御光線ＣＢを受光したときに該制御光線ＣＢを電気信号ＥＳに変換する受光部２０および電気信号から制御情報を取り出して制御対象装置１に送る信号処理部３０を有する受光装置４０とを備えた遠隔制御システムを構成するにあたり、複数の光電変換部１５を受光部に配置し、少なくとも１つの光電変換部が制御光線を受光したときに信号処理部３０が制御情報を取り出して制御対象装置に送るようにする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御対象装置と、該制御対象装置を遠隔操作するための制御情報を含んだ制御光線を出力可能な制御光線出力装置と、前記制御光線を受光したときに該制御光線を電気信号に変換する受光部および前記電気信号から前記制御情報を取り出して前記制御対象装置に送る信号処理部を有する受光装置とを備えた遠隔制御システムであって、
前記受光部は、受光面側に光透過性電極層が配置され、該光透過性電極層の背面側に光電変換層を介して背面電極層が配置された複数の光電変換部を有し、
前記信号処理部は、前記複数の光電変換部の少なくとも１つが前記制御光線を受光したときに前記制御情報を取り出して前記制御対象装置に送る遠隔制御システム。
【請求項２】
前記受光部は、片面側が受光面となる透明基板と、該透明基板での受光面と反対側の面上に形成された複数の光透過性電極層と、該複数の光透過性電極層の各々と交差するようにして前記透明基板上に前記光電変換層を介して配置された複数の背面電極層とを有し、前記光透過性電極層と前記背面電極層との交差部が前記光電変換部として機能する請求項１に記載の遠隔制御システム。
【請求項３】
前記光電変換部に前記制御光線が照射されたときの該光電変換部での電気信号レベルは、前記光電変換部に外乱光が照射されたときの該光電変換部での電気信号レベルよりも高いことを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御システム。
【請求項４】
前記光電変換部の平面視上の面積は０．７８５ｍｍ2以上、２１００ｍｍ2以下であることを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御システム。
【請求項５】
前記受光部での前記光電変換部間の間隔は前記制御光線の照射範囲の径よりも小さい請求項１に記載の遠隔制御システム。
【請求項６】
前記光電変換部間の間隔は６６ｍｍ以下である請求項１に記載の遠隔制御システム。
【請求項７】
制御対象装置を遠隔操作するための制御情報を含んだ制御光線を受光したときに該制御光線を電気信号に変換する受光部と、前記電気信号から前記制御情報を取り出して前記制御対象装置に送る信号処理部とを有する受光装置であって、
前記受光部は、受光面側に光透過性電極層が配置され、該光透過性電極層の背面側に光電変換層を介して背面電極層が配置された複数の光電変換部を有し、
前記信号処理部は、前記複数の光電変換部の少なくとも１つが前記制御光線を受光したときに前記制御情報を取り出して前記制御対象装置に送る受光装置。
【請求項８】
前記受光部は、片面側が受光面となる透明基板と、該透明基板での受光面と反対側の面上に形成された複数の光透過性電極層と、該複数の光透過性電極層の各々と交差するようにして前記透明基板上に前記光電変換層を介して配置された複数の背面電極層とを有し、前記光透過性電極層と前記背面電極層との交差部が前記光電変換部として機能する請求項７に記載の受光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、制御光線により制御対象装置を遠隔操作する遠隔制御システムおよび制御光線を受信するための受光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
制御光線により制御対象装置を遠隔操作する遠隔制御システムとしては、赤外線を制御光線として用いたものが従来から広く知られている。この遠隔制御システムでは、人間の目には赤外線が見えないことから、例えば天井に複数個設置されている同型の照明器具を制御する場合に、制御したい特定の照明器具以外の照明器具にも赤外線が照射されて不所望の照明装置が誤作動することがある。
【０００３】
そこで、例えば（特許文献１〜３）では、人間の目に見える可視光域のレーザー光を制御光線として用いて制御対象装置を遠隔操作する遠隔制御システムが提案されている。これらの文献のうち、（特許文献２）にはレーザー光を制御光線として用いてテレビジョンを遠隔制御することが具体的に記載されており、（特許文献３）にはレーザー光を制御光線として用いて照明器具を遠隔制御することが具体的に記載されている。
【０００４】
レーザー光の照射範囲（ビーム径）は小さいので、該レーザー光を制御光線として用いると目的の装置以外の装置に制御光線が照射され難くなり、制御したい装置以外の装置の誤作動を抑えることができる。また、レーザー光は指向性が高いので、制御光線に用いると長距離の遠隔操作をし易くなる。蛍光灯の照明光などの外乱光と制御光線とを分離するために、例えば（非特許文献３）には、上記の外乱光を周波数フィルターにより入射光から除去して得た電気信号からハイパスフィルター、ローパスフィルターなどを使用して必要な入力信号成分だけを取り出すことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−２２８１３８号公報
【特許文献２】特開平４−７２９９６号公報
【特許文献３】登録実用新案第３０２５６１３号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】ＯＭＲＯＮ  ＴＥＣＨＮＩＣＳ  Ｖｏｌ．４３  Ｎｏ．３  通巻１４７号  ２００３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、制御対象装置の設置環境中に室内照明光や太陽光などの外乱光が存在する場合には、遠隔操作のための制御光線に加えて当該外乱光が制御光線受光用の受光部に入射して、制御対象装置が誤作動あるいは制御できなくなるという課題がある。
【０００８】
上記（特許文献１）では、レーザー光の受光面側にレーザー光の波長に対応した狭い波長帯域の透過カラーフィルターを設けることで外乱光の除去が試みられているが、狭い波長帯域のカラーフィルターは高価であると共に、受光部の薄型化、軽量化の妨げになる。また、受光デバイスの製造プロセスが複雑になるという課題もある。さらには、透過率１００％のカラーフィルターは非現実的であり、遠隔操作のためのレーザー光も当該カラーフィルターによりある程度カットされるので、受光部の感度が下がることにもなる。
【０００９】
また、蛍光灯の照明光などの一部の外乱光は、（非特許文献１）にあるように周波数フィルターを用いて入射光から除去することができ、当該外乱光を除去して得た入射光の電気信号からハイパスフィルター、ローパスフィルターなどを使用することで必要な入力信号成分だけを取り出すことができるが、グロースタート蛍光灯やインバータ蛍光灯など、外乱光の元となる照明器具の種類毎に当該外乱光を除去するための回路設計が必要になるという課題がある。さらには、太陽光や近年照明灯として普及しつつある白色発光ダイオードからの出射光が外乱光である場合には、該外乱光が周波数特性を持たないことから、周波数フィルターでは対応できないという課題もある。
【００１０】
一般に、光を感知する光センサでは、レーザー光のように照射範囲が狭い光が照射されたとき照度が外乱光受光時の照度よりも大きくなる。よって、遠隔制御システムでの受光部の受光面積をレーザー光の照射範囲程度、例えば５ｍｍ2程度とすれば、制御光線であるレーザー光を受光したときの信号レベルと外乱光を受光したときの信号レベルとの間に閾値を設けることができ、外乱光の影響を低減することが可能である。
【００１１】
しかし、人間がレーザー光源を持って該レーザー光源からのレーザー光を制御対象装置の受光部に照射する場合には、制御対象装置の受光部の面積をある程度以上広くすることが必要である。特に、長い距離、例えば数十メートルの距離から制御対象装置を遠隔操作する場合に受光部の面積が小さいと、受光部にレーザー光を照射することが困難となる。
【００１２】
例えば、携帯用のレーザー光出力装置（レーザーポインター）を人間が手に持って制御対象装置を遠隔操作する場合などでは、受光部の面積を遠隔操作距離に応じて大きくしなければ受光部にレーザー光をピンポイントで照射できない。
【００１３】
逆に、受光部の面積をあまりに大きくしてしまうと、前述した外乱光による信号レベルとレーザー光による信号レベルとの間に閾値が設けられなくなって、制御対象機器の操作に支障をきたす。
【００１４】
本発明の目的は、制御光線を用いて制御対象装置を遠隔操作する際に外乱光による影響を低減して制御光線を検出し易くすることが容易な遠隔制御システムおよび受光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の遠隔制御システムは、制御対象装置と、該制御対象装置を遠隔操作するための制御情報を含んだ制御光線を出力可能な制御光線出力装置と、制御光線を受光したときに該制御光線を電気信号に変換する受光部および電気信号から制御情報を取り出して制御対象装置に送る信号処理部を有する受光装置とを備えた遠隔制御システムであって、受光部は、受光面側に光透過性電極層が配置され、該光透過性電極層の背面側に光電変換層を介して背面電極層が配置された複数の光電変換部を有し、信号処理部は、複数の光電変換部の少なくとも１つが制御光線を受光したときに制御情報を取り出して制御対象装置に送るシステムである。
【００１６】
また、本発明の受光装置は、制御対象装置を遠隔操作するための制御情報を含んだ制御光線を受光したときに該制御光線を電気信号に変換する受光部と、電気信号から制御情報を取り出して制御対象装置に送る信号処理部とを有する受光装置であって、受光部は、受光面側に光透過性電極層が配置され、該光透過性電極層の背面側に光電変換層を介して背面電極層が配置された複数の光電変換部を有し、信号処理部は、複数の光電変換部の少なくとも１つが制御光線を受光したときに制御情報を取り出して制御対象装置に送る装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の遠隔制御システムおよび受光装置では、受光部に複数の光電変換部が形成されるので、個々の光電変換部の大きさや配置を適宜選定することにより、受光部での受光領域を広くしても外乱光による電気信号レベルと制御光線による電気信号レベルとの間に閾値を設けることができる。このため、制御光線を用いて制御対象装置を遠隔操作する際に、外乱光による影響を低減して制御光線を検出し易くすることが容易である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の遠隔制御システムの一例を示す概略図
【図２】図１に示した受光装置を示す概略図
【図３】図２に示したＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面の概略図
【図４】図２に示した受光領域を拡大して示す概略図
【図５】図２に示した信号処理部の具体的構成例を示す概略図
【図６】外乱光および制御光線それぞれの照射により光電変換部に生じる電気信号の強さと光電変換部の面積との対応関係の一例を示すグラフ
【図７】電気信号の強さと光電変換部の面積とが図６に示した対応関係中の特定の関係にあるときの制御光線照射範囲の面積と光電変換部の面積との大小関係を示す相関図
【図８】外乱光および制御光線それぞれの照射により光電変換部に生じる電気信号の強さと光電変換部の面積との対応関係の一具体例を示すグラフ
【図９】光電変換部間の間隔の広さと光電変換部での制御光線の受光の可否との関係を示す概略図
【図１０】光電変換部間の間隔を説明するための概略図
【図１１】受光装置における受光部の作製工程の一例を示す工程図
【図１２】本発明の遠隔制御システムの他の例を示す概略図
【図１３】本発明の遠隔制御システムのさらに他の例を示す概略図
【図１４】各光電変換部が封止部で覆われた受光部の一例を概略的に示す断面図
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の遠隔制御システムおよび受光装置それぞれの基本的な考え方と、その構成について、実施の形態を挙げて詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する形態に限定されるものではない。
【００２０】
図１は、本発明の遠隔制御システムの一例を示す概略図である。図示の遠隔制御システム５０は、室内照明器具を制御対象装置１とするシステムであり、当該遠隔制御システム５０は、制御対象装置１に加えて、該制御対象装置１を遠隔操作するための制御情報ＣＩを含んだ制御光線ＣＢを出力可能な制御光線出力装置５と、制御光線ＣＢから制御情報ＣＩを取り出して制御対象装置１に出力する受光装置４０とを備えている。この遠隔制御システム５０では、人間Ｈｕが制御光線出力装置５を操作して受光装置４０に制御光線ＣＢを照射することで、制御対象装置１を遠隔操作する。
【００２１】
制御光線ＣＢが制御光線出力装置５から受光装置４０に照射されると、受光装置４０は当該制御光線ＣＢを電気信号に変換し、この電気信号から制御情報ＣＩを取り出して制御対象装置１に送る。制御対象装置１が室内照明器具の場合、制御情報ＣＩには点灯、消灯、あるいは調光などの制御に係る情報が含まれる。
【００２２】
受光装置４０を複数個設置し、制御光線ＣＢを照射すべき受光装置４０を制御内容に応じて人間Ｈｕが適宜選択するように構成すること可能である。受光装置４０を１台のみ設置する場合には、互いに異なる制御情報ＣＩを含んだ複数種の制御光線ＣＢを出射することができるように制御光線出力装置５を構成してもよい。
【００２３】
図１の遠隔制御システム５０では、制御対象装置１に受光装置４０が設けられているが、受光装置４０は制御対象装置１の近傍または離れた場所に設置していてもよい。この遠隔制御システム５０は、受光装置４０の構成に特徴を有しているので、以下、図２〜図５を参照して受光装置４０の構成を詳述する。
【００２４】
図２は、図１に示した受光装置を示す概略図であり、図３は、図２に示したＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面の概略図である。また、図４は、図２に示した受光領域を拡大して示す概略図であり、図５は、図２に示した信号処理部の具体的構成例を示す概略図である。
【００２５】
図２に示すように、受光装置４０は、制御光線出力装置５からの制御光線ＣＢを受光したときに該制御光線ＣＢを電気信号ＥＳに変換する受光部２０と、電気信号ＥＳから制御情報ＣＩを取り出して制御対象装置１に送る信号処理部３０とを有している。
【００２６】
図２および図３に示すように、受光部２０は、片面側が受光面となる基板１０（以下、「透明基板１０」という）と、透明基板１０での受光面と反対側の面上に形成された複数の光透過性電極層１１と、これら複数の光透過性電極層１１の各々と交差するようにして透明基板１０上に光電変換層１２を介して配置された複数の背面電極層１３とを有している。この受光部２０では、光透過性電極層１１と背面電極層１３との交差部がこれらの電極層１１，１３の間の光電変換層１２と共に光電変換部１５になる。
【００２７】
図示の例では、５つの光透過性電極層１１が互いに平行に形成されて行電極群ＲＥ（図２参照）を構成し、これらの光透過性電極層１１と直交するように５つの背面電極層１３が互いに平行に形成されて列電極群ＣＥ（図２参照）を構成して、計２５個の光電変換部１５がマトリックス状に配置されている。
【００２８】
個々の光透過性電極層１１は配線３２によって信号処理部３０に接続されており、個々の背面電極層１３は配線３４によって信号処理部３０に接続されている。光透過性電極層１１、光電変換層１２、および背面電極層１３の厚みは、実際には数百ナノメートルから数ナノメートル程度であり、光透過性電極層１１および背面電極層１３の幅は数百マイクロメートルから数百ミリメートル程度である。受光部２０中で光電変換部１５が形成されている領域を、以下、受光領域ＬＲ（図２参照）という。
【００２９】
図４に示すように、受光領域ＬＲでは、制御光線出力装置５から制御光線ＣＢが照射されたときに、少なくとも１つの光電変換部１５が制御光線ＣＢを受光する一方で複数の光電変換部１５が当該制御光線ＣＢを受光しないように、行方向に隣り合う光電変換部１５同士の間隔、列方向に隣り合う光電変換部１５同士の間隔、および個々の光電変換部１５の大きさが選定されている。図４においては、制御光線ＣＢが照射される範囲ＩＲ（以下、「制御光線照射範囲ＩＲ」という）を実線の円で示している。
【００３０】
制御光線ＣＢが受光領域ＬＲに照射されると、制御光線照射範囲ＩＲ内の光電変換部１５で当該制御光線ＣＢが光電変換層１２により電気信号に変換される。図２に示すように、この電気信号ＥＳは、光透過性電極層１１から配線３２を介して信号処理部３０に伝えられると共に背面電極層１３から配線３４を介して信号処理部３０に伝えられる。信号処理部３０は、これらの電気信号ＥＳから制御情報ＣＩを取り出して該制御情報ＣＩを制御対象装置１に送る。遠隔制御システム５０（図１参照）では、当該制御情報ＣＩにより制御対象装置１が遠隔操作される。なお、図２では受光部２０が透明基板１０側から透視されており、図４では受光領域ＬＲが透明基板１０（図２参照）側から透視されている。
【００３１】
図５に示すように、信号処理部３０は、増幅部およびＩＶ（電流−電圧）変換部２１と、極性変換部２２と、ＡＤ（アナログ−デジタル）変換回路２３と、ＯＲ回路２４と、論理回路２５と、出力回路２６とを用いて構成することができる。なお、図５では各種コンデンサ、抵抗器、電力供給源などの図示を省略している。
【００３２】
制御光線ＣＢが照射された光電変換部１５に生じた電気信号は、当該光電変換部１５を構成している光透過性電極層１１と背面電極層１３とを介して信号処理部３０に送られ、信号処理部３０中の「増幅部およびＩＶ変換部２１」により信号増幅され、電流電圧変換されて、それぞれアナログ電圧信号となる。
【００３３】
これらのアナログ電圧信号は、極性変換部２２により一方の電極層からのアナログ電圧信号（図示の例では光透過性電極層１１からのアナログ電圧信号）の極性が変換された後にＡＤ変換回路２３へ送られ、該ＡＤ変換回路２３によりデジタル信号へと変換されてＯＲ回路２４へ送られる。したがって、１つ以上の光電変換部１５に制御光線ＣＢが照射されれば、ＯＲ回路２４により出力信号が得られる。
【００３４】
論理回路２５は、例えば、制御対象装置１（図１参照）である室内照明器具の点灯時には該室内照明器具を消灯させ、消灯時には点灯させるための制御情報を含んだ電気信号をＯＲ回路２４の出力信号から得るように構成される。勿論、当該論理回路２５の構成は、制御対象装置１の種類や制御内容に応じて適宜適正化される。
【００３５】
論理回路２５で得られた電気信号は出力回路２６へ送られ、該出力回路２６から制御対象装置１に送られる。そして、制御対象装置１は、信号処理部３０から送られてきた電気信号中の制御情報ＣＩにより動作制御される。結果として、制御光線ＣＢにより制御対象装置１が遠隔操作される。
【００３６】
上述した受光部２０および信号処理部３０を有する受光装置４０（図２参照）では、受光部２０中に複数の光電変換部１５（図２参照）が形成されているので、個々の光電変換部１５の面積（平面視の面積）を適宜選定することにより、外乱光による影響を低減して制御光線ＣＢを検出し易くすることが容易である。以下、光電変換部１５の面積と外乱光による影響との関係を図６〜図８を参照して詳述する。
【００３７】
図６は、外乱光および制御光線それぞれの照射により光電変換部に生じる電気信号の強さと光電変換部の面積との対応関係の一例を示すグラフである。外乱光は、通常、受光装置４０での受光領域ＬＲ（図２参照）の全面に照射されるので、個々の光電変換部１５（図２参照）の面積が広くなればなるほど当該光電変換部１５に入射する外乱光の光量が増加する。その結果として、図６に示すように、外乱光の照射により光電変換部１５に生じる電気信号（光電流）は、光電変換部１５の面積に比例して強くなる。
【００３８】
これに対し、制御光線ＣＢ（図２参照）の照射により光電変換部１５に生じる電気信号（光電流）の強さは、光電変換部１５の面積と制御光線照射範囲ＩＲ（図３参照）の面積ＡIRとの大小関係に応じて変化する。すなわち、上記の電気信号は、光電変換部１５の面積が制御光線照射範囲ＩＲの面積ＡIR以下のときには光電変換部１５の面積に比例して強くなる。このときの比例定数は、制御光線ＣＢの照度が外乱光の照度より高ければ、外乱光を受光したときの比例定数よりも大きくなる。一方、光電変換部１５の面積が制御光線照射範囲ＩＲの面積ＡIR以上になると、受光する制御光線ＣＢの光量が一定になるので当該電気信号の強さも一定になる。
【００３９】
したがって、制御光線ＣＢの照度が外乱光の照度より高い場合には、光電変換部１５の面積がある値ＡThを超えたときに、外乱光の照射により生じる電気信号レベルの方が制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号レベルよりも高くなる。
【００４０】
図７（ａ）〜図７（ｄ）は、それぞれ、電気信号（光電流）の強さと光電変換部の面積とが図６に示した対応関係中の特定の関係にあるときの制御光線照射範囲の面積と光電変換部の面積との大小関係を示す相関図である。これら図７（ａ）〜図７（ｄ）の各々においては、右側のグラフが図６に示した電気信号（光電流）の強さと光電変換部の面積との対応関係を示しており、左側の概略図は、電気信号（光電流）の強さと光電変換部１５の面積とが右側のグラフ中に黒丸で示す特定の関係にあるときの制御光線照射範囲ＩＲと光電変換部１５との大小関係を示している。
【００４１】
図７（ａ）に示すように、光電変換部１５の面積が制御光線照射範囲ＩＲの面積よりも小さい場合には、制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号の方が外乱光の照射により生じる電気信号よりも強くなる。また、図７（ｂ）に示すように、光電変換部１５の面積が制御光線照射範囲ＩＲの面積と同等の場合も、制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号の方が外乱光の照射により生じる電気信号よりも強くなる。そして、図７（ｃ）に示すように、光電変換部１５の面積が制御光線照射範囲ＩＲの面積より広く所定の値ＡTh未満である場合も、制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号の方が外乱光の照射により生じる電気信号よりも強くなる。
【００４２】
しかし、図７（ｄ）に示すように、光電変換部１５の面積が所定の値ＡThより広くなると、外乱光の照射により生じる電気信号の方が制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号よりも強くなる。
【００４３】
外乱光の影響を実質的に受けることなく制御光線ＣＢ中の制御情報ＣＩ（図２参照）を受光装置４０（図２参照）が取り出せるようにするためには、制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号レベルの方が外乱光の照射により生じる電気信号レベルよりも高いことが望まれる。図７（ｄ）に示すように外乱光の照射により生じる電気信号の方が制御光線ＣＢの照射により生じる電気信号よりも強くなると、外乱光による誤作動が懸念されるようになる。
【００４４】
よって、遠隔制御システム５０（図１参照）においては、制御光線ＣＢの照度を外乱光の照度よりも高くし、かつ個々の光電変換部１５の面積を図６中に矢印Ａで示すように値ＡTh未満とすることが求められる。
【００４５】
図８は、外乱光および制御光線それぞれの照射により光電変換部に生じる電気信号の強さと光電変換部の面積との対応関係の一具体例を示すグラフである。図示の例では、ＪＩＳ照度基準における工場での粗な視作業において必要とされる２００ｌｕｘ（ルクス）の明るさの外乱光を想定しており、制御光線出力装置５（図２参照）としては携帯用のレーザーポインターを想定している。消費生活用製品安全法において１ｍＷ以上（クラス２以上）の出力を持つレーザーポインター（電池駆動の携帯用レーザー応用装置）の製造販売、および輸入販売が禁止されているので、図示の例では上記レーザーポインターの最大出力を１ｍＷとし、該レーザーポインターによる制御光線照射範囲ＩＲ（図２参照）をある程度離れた場所からでも人間の目で感知できる直径１ｍｍの円としている。
【００４６】
制御光線出力装置５としての上記レーザーポインターが出力する制御光線ＣＢ（レーザー光）の波長を５５５ｎｍ（分光視感効果度＝１）とすると、出力１ｍＷのときの制御光線ＣＢの光束量は６８３×１０-3［ｌｍ；ルーメン］、制御光線照射範囲ＩＲの面積は０．７８５ｍｍ2（０．５［ｍｍ］×０．５［ｍｍ］×３．１４）となるので、制御光線ＣＢの照度は、下式（ｉ）
（制御光線ＣＢの照度）＝６８３×１０-3［ｌｍ］／０．７８５［ｍｍ2］    ・・・（ｉ）
より、５３６１５５ｌｕｘと求まる。
【００４７】
これに対して、外乱光の照度は２００ｌｕｘに過ぎないが、光電変換部１５（図２参照）全体に照射される。外乱光の中から制御光線ＣＢを検出できるようにするためには、光電変換部１５での制御光線ＣＢの光量が外乱光の光量よりも大きくなければならない。光電変換部１５での光量は、下式（ｉｉ）
（光量）＝（照射範囲の面積）×（照度）    ・・・（ｉｉ）
により表されるので、外乱光の中から制御光線ＣＢを検出できるようにするためには、下式（ｉｉｉ）
（制御光線照射範囲の面積）×（制御光線の照度）
≧（外乱光の照射面積）×（外乱光の照度）
＝（光電変換部の面積）×（外乱光の照度）    ・・・（ｉｉｉ）
が成り立たなければならない。
【００４８】
上記の式（ｉｉｉ）より、外乱光による電気信号の強さ（電気信号レベル）と制御光線ＣＢによる電気信号の強さ（電気信号レベル）とが同等となる光電変換部１５の面積ＡThは、
（光電変換部の面積）
≦（制御光線照射範囲の面積）×（制御光線の照度）／（外乱光の照度）
＝（０．７８５［ｍｍ2］）×（５３６１５５［ｌｕｘ］）／（２００［ｌｕｘ］）
＝２１００［ｍｍ2］
と求まる。
【００４９】
したがって、外乱光および制御光線ＣＢそれぞれの照射により光電変換部１５に生じる電気信号の強さと光電変換部１５の面積との対応関係が図８に示される関係にある遠隔制御システムにおいては、個々の光電変換部１５の面積を図８中の値ＡTh未満、すなわち２１００ｍｍ2未満とすることが望まれる。
【００５０】
このとき、光電変換部１５の面積を０．７８５ｍｍ2以下にしても受光装置４０（図２参照）の機能に問題はないが、光電変換部１５の面積を小さくすればするほど、より多くの光電変換部１５を形成しなければならなくなることから、図２に示す配線３２，３４の本数が多くなると共に信号処理部３０の構造が複雑になる。このため、図８中に矢印Ｂで示すように、光電変換部１５の面積は制御光線照射範囲ＩＲの面積（０．７８５ｍｍ2）と同等の面積ＡIR以上、２１００ｍｍ2未満とすることが実用上好ましい。
【００５１】
ただし、受光領域ＬＲ（図２参照）中で互いに隣り合う光電変換部１５間の間隔があまりに広いと、受光領域ＬＲに制御光線ＣＢを照射しても該制御光線ＣＢが光電変換部１５に入射しないという事態をまねき易くなる。受光装置４０により制御光線ＣＢを検出し易くするために、制御光線ＣＢにより照射可能な制御光線照射範囲ＩＲの面積に応じて、光電変換部１５間の間隔を適宜選定することが好ましい。
【００５２】
図９（ａ）〜図９（ｃ）は、それぞれ、光電変換部間の間隔の広さと光電変換部での制御光線の受光の可否との関係を示す概略図である。図９（ａ）および図９（ｂ）に示すように、受光領域ＬＲ中で互いに隣り合う光電変換部１５間の間隔が制御光線ＣＢの制御光線照射範囲ＩＲの径よりも小さい場合には、制御光線出力装置５から受光領域ＬＲに向けて制御光線ＣＢを出射したときに、該制御光線ＣＢが少なくとも１つの光電変換部１５に必ず入射する。制御光線ＣＢの照射位置がぶれても、信号処理部３０は電気信号ＥＳ（図２参照）を必ず検出する。
【００５３】
一方、図９（ｃ）に示すように、互いに隣り合う光電変換部１５間の間隔が制御光線ＣＢの制御光線照射範囲ＩＲよりも広い場合には、制御光線出力装置５から受光領域ＬＲに向けて制御光線ＣＢを出射したときに、該制御光線ＣＢがいずれの光電変換部１５にも入射しないことがある。制御光線ＣＢの照射位置のぶれに応じて、信号処理部３０が電気信号ＥＳ（図２参照）を検出したり、検出しなかったりする事態になりやすい。
【００５４】
遠隔制御システム５０を構成する制御対象装置１（図１参照）の遠隔操作を安定に行うためには、あらかじめ設定された時間以上連続して信号処理部３０が電気信号ＥＳを検出したときに該電気信号ＥＳから制御情報ＣＩを取り出すように当該信号処理部３０を構成することが望ましく、そのためには、受光領域ＬＲでの制御光線ＣＢの照射位置が多少ぶれても少なくとも１つの光電変換部１５に当該制御光線ＣＢが必ず入射するように受光装置４０を構成することが好ましい。
【００５５】
したがって、受光領域ＬＲ中で互いに隣り合う光電変換部１５間の間隔は、制御光線ＣＢの制御光線照射範囲ＩＲの広さに応じて、該制御光線照射範囲ＩＲの径よりも小さくなるように選定することが好ましい。このように光電変換部１５間の間隔を選定すると、受光装置４０により制御光線ＣＢを検出し易くなるので、制御対象装置１の遠隔操作を安定に行い易くなる。
【００５６】
図１０は、光電変換部間の間隔を説明するための概略図である。同図に示すように、複数の光電変換部１５がマトリックス状に配置されている場合の「光電変換部間の間隔」には、行方向に互いに隣り合う光電変換部１５間の間隔ＳRと、列方向に互いに隣り合う光電変換部１５間の間隔ＳCの計２つの間隔がある。制御光線出力装置５からの制御光線ＣＢの照射位置が多少ぶれても少なくとも１つの光電変換部１５に当該制御光線ＣＢが必ず入射するようにするためには、上記の２つの間隔ＳR，ＳCをそれぞれ制御光線照射範囲ＩＲの径よりも小さくすることが好ましい。
【００５７】
例えば、制御光線出力装置５として最大出力１ｍＷ（最大光束量は６８３×１０-3ｌｍ）の携帯用レーザーポインターを用い、外乱光の照度が２００ｌｕｘの環境下で制御対象装置１（図１参照）を遠隔操作する場合には、下式（ｉｖ）
（制御光線照射範囲の面積）≦６８３×１０-3［ｌｍ］／２００［ｌｕｘ］  ・・・（ｉｖ）
が成り立つように制御光線照射範囲ＩＲの面積を３４１５×１０-6ｍ2以下にして、制御光線ＣＢの照度を外乱光の照度２００ｌｕｘよりも高くすることが好ましい。
【００５８】
このとき、制御光線照射領域ＩＲは通常、円形とみなすことができるので、制御光線ＣＢの直径（ビーム径）は、
２×（３４１５×１０-6／３．１４）-1/2＝６６［ｍｍ］
と求まる。
【００５９】
したがって、上記の携帯用レーザーポインターを制御光線出力装置５として用いる場合には、図１０に示した各間隔ＳR，ＳCをそれぞれ６６ｍｍ以下にすることが好ましい。
【００６０】
図１に示した遠隔制御システム５０では、該遠隔制御システム５０を構成する受光装置４０に複数の光電変換部１５（図２参照）が形成されており、これら光電変換部１５の面積（平面視上の面積）および光電変換部１５間の間隔は、制御光線出力装置５から出射される制御光線ＣＢ（図１および図２参照）の照度および制御光線照射範囲ＩＲ（図３参照）の面積を考慮して上述のように選定可能である。そのため、受光部２０での受光領域ＬＲを広くしても、外乱光による電気信号レベルと制御光線ＣＢによる電気信号レベルとの間に閾値を設けることができる。
【００６１】
したがって、当該遠隔制御システム５０および受光装置４０では、外乱光による影響を低減して制御光線ＣＢを検出し易くすることが容易である。
【００６２】
なお、受光装置４０における受光部２０は、種々の方法により作製することが可能である。以下、図１１を参照して、受光部２０の作製方法の一具体例を説明する。
【００６３】
図１１（ａ）〜図１１（ｄ）は、受光装置における受光部の作製工程の一例を示す工程図である。図示の例では、まず、図１１（ａ）に示すように、透明基板１０上に透明導電膜ＴＣを成膜する。透明導電膜ＴＣは、物理的気相蒸着法、化学的気相蒸着法、塗布法、印刷法などの方法により成膜可能である。
【００６４】
次に、上記の透明導電膜ＴＣをパターニングして、図１１（ｂ）に示すように透明基板１０上に複数の光透過性電極層１１を形成する。透明導電膜ＴＣのパターニングは、例えば、透明導電膜ＴＣ上へのレジスト材の塗布、該レジスト材のプリベーク、レジスト材の露光、レジスト材を現像することによるエッチングマスクの形成、該エッチングマスクを用いた透明導電膜ＴＣのエッチング、エッチングマスクの剥離、およびリンス処理をこの順番で順次実施することで行われる。
【００６５】
次いで、図１１（ｃ）に示すように、各光透過性電極層１１を覆うようにして透明基板１０上に光電変換層１２を形成する。光電変換層１２は、例えば有機光電変換材料により形成される。有機光電変換材料による光電変換層１２の形成は、例えば、所望の有機光電変換材料の有機溶媒溶液を調製し、該有機溶媒溶液をスピンコート法、スプレー法などの方法で塗工した後に乾燥させることで行われる。
【００６６】
この後、各光透過性電極層１１と平面視上交差するようにして、光電変換層１２上に複数の背面電極層１３を形成する。背面電極層１３は、例えば、所望形状の蒸着マスクを用いた物理的ないし化学的気相蒸着法により形成される。透明基板１０上に背面電極層１３まで形成することにより、当該透明基板１０上に複数の光電変換部１５が形成されて、受光部２０が得られる。
【００６７】
以上、本発明の遠隔制御システムおよび受光装置について実施の形態を挙げて説明したが、前述のように、本発明の遠隔制御システムおよび受光装置は上記の形態に限定されるものではない。例えば、遠隔制御システムを構成する制御対象装置は、室内照明器具の他に、空気調和装置、自動開閉式の窓、自動開閉式のブラインド、自動開閉式のシャッター、表示ボード、玩具、光線銃を使用する遊具など、遠隔操作可能な装置であればよく、遠隔操作による制御内容は制御対象装置の種類に応じて適宜選定される。
【００６８】
図１２は、遠隔制御システムの他の例を示す概略図である。図示の遠隔制御システム５０Ａは、表示ボードを制御対象装置２とするシステムであり、該制御対象装置（表示ボード）２は、表示部２ａ、印刷部２ｂ、およびプロジェクタ２ｃを有している。また、複数数の受光部２０を備えた受光装置４０Ａが表示部２ａの側部に配置されている。
【００６９】
この遠隔制御システム５０Ａでは、変調信号を含んだ制御光線ＣＢを人間Ｈｕが制御光線出力装置５から所定の受光部２０に照射すると、受光装置４０Ａが当該制御光線ＣＢを電気信号に変換し、復調して所定の制御情報をプロジェクタ２ｃに送り、当該制御情報を受け取ったプロジェクタ２ｃが所定の画像情報を表示部２ａに投写する。別の受光部２０に制御光線ＣＢを照射すると、表示画像の消去、次画像への送り、前画像への戻しなどの遠隔操作ができる。
【００７０】
また、表示部２ａに表示させた画像を印刷部２ｂに印刷させることも可能である。制御対象装置２自体の移動を制御光線ＣＢにより遠隔操作することも考えられる。表示部２ａにディスプレイ機能を付与し、制御光線ＣＢからの制御情報に応じて表示部２ａ自体が画像情報を表示するように構成することも可能である。
【００７１】
図１３は、遠隔制御システムのさらに他の例を示す概略図である。図示の遠隔制御システム５０Ｂは、玩具（遊具モデル自動車）を制御対象装置３とするシステムであり、制御対象装置３に受光装置（図示せず）が搭載されている。この遠隔制御システム５０Ｂでは、変調信号を含んだ制御光線ＣＢを人間Ｈｕが制御光線出力装置５から受光装置に照射することで、制御対象装置３に発進、停止、方向転換などを行わせることができる。
【００７２】
本発明の遠隔制御システムを構成する制御光線出力装置は、照射範囲がある程度狭い可視領域（波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ程度）の制御光線を出力するものであればよい。制御光線としてレーザー光を用いれば、数百メートルから数キロメートルレベルの遠距離制御が可能になるため、建設機器の操作など野外での遠隔操作や、人間の手が届かない環境にある制御対象装置の遠隔操作、人の入出禁止区域内にある制御対象装置の区域外からの遠隔操作などが可能となる。
【００７３】
制御光線の光源として発光ダイオードを用いる場合は、レンズなどを用いた光学系で光源からの出射光を絞り込むことも適時可能である。また、変調された信号を制御光線に含ませることで制御対象装置との通信も可能であり、制御対象装置の種類によっては音声やテキスト、画像などの送信も可能である。制御光線出力装置を操作するのは人間でも機械でも構わない。
【００７４】
受光装置における光電変換部の数は、実施の形態で説明した２５個に限定されるものではなく、２以上の所望数とすることができる。また、光電変換部を構成する光透過性電極層と背面電極層とは、平面視したときに互いに直交しなければならないというものではなく、斜めに交差していてもよいし、基板面上で光電変換層を介して互いに対峙していてもよい。
【００７５】
光電変換部は、透明基板上に形成する他に、非透明基板上に形成することもできる。非透明基板上に光電変換部を形成する場合には、光電変換部を構成する２つの電極層のうちの非透明基板側の電極層を背面電極とし、残りの電極層を光透過性電極層として、光透過性電極層側を受光面にする。勿論、透明基板上に光電変換部を形成するにあたって、光電変換部を構成する２つの電極層のうちの透明基板側の電極層を背面電極とし、残りの電極層を光透過性電極層として該光透過性電極層側を受光面にすることも可能である。
【００７６】
光電変換層を有機光電変換材料により形成する場合、該有機光電変換材料が酸素や水分により劣化するものであるときには、各光電変換部を封止部で覆って光電変換層への酸素や水分の侵入を抑えることが好ましい。光電変換層への酸素や水分の侵入を抑えることにより、光電変換部の素子寿命を延ばすことができる。
【００７７】
図１４は、各光電変換部が封止部で覆われた受光部の一例を概略的に示す断面図である。同図に示す受光部２０Ａは、図３に示した受光部２０に封止部１７が追加された構成を有している。図１４に示す構成要素のうちで図３に示した構成要素と共通するものについては、図３で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
【００７８】
図示の封止部１７は、天面部内側に乾燥剤１７ａが貼付されたキャップ状の封止材１７ｂをその凹部に各光電変換部１５が収容されるようにして透明基板１０上に配置して、封止接着樹脂１７ｃにより光電変換層１２上および各背面電極層１３上に固着させたものである。この封止部１７が設けられた受光部２０Ａでは、封止材１７ｂと封止接着樹脂１７ｃとにより各光電変換部１５が外気から分離され、封止材１７ｂの内部空間に侵入した酸素や水分は乾燥剤１７ａに吸着されるので、光電変換部１５を構成する光電変換層１２への酸素や水分の侵入が抑えられる。
【００７９】
有機光電変換材料を用いた光電変換層は、塗布法などの簡単なプロセスにより形成することができるという利点や、ある程度の面積が必要な場合でも一括形成することが可能であるという利点を有している。このような光電変換層は、例えば、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料との混合物が含まれた構成となる。
【００８０】
ここでいう「混合物」とは、液体または固体状の材料を容器に入れ、必要であれば溶剤を加えた上で攪拌などを行うことにより混ざり合った状態にしたものをいう。混合物の混合状態は均一である必要はなく、不均一に混合されていてもよいし、一部のみが混合物を形成していてもよい。また、複数種の電子供与性有機材料および電子受容性有機材料が含まれていてもよい。さらには、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料とが層状に別々に形成されていてもよい。その場合は、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料とをそれぞれ別の方法で成膜することもできる。また、電子供与性有機材料の層と電子受容性有機材料の層とは、完全に混合あるいは完全に分離していなくてもよく、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料との層間の一部のみが混合状態を形成していてもよい。
【００８１】
電子供与性有機材料の具体例としては、例えば、フェニレンビニレンおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体（特に、骨格にキノリン基またはピリジン基を有するフルオレン系コポリマー（Ｐ０Ｆ６６、Ｐ１Ｆ６６、ＰＦＰＶ））、フルオレン含有アリールアミンポリマー、カルバゾールおよびその誘導体、インドールおよびその誘導体、ピレンおよびその誘導体、ピロールおよびその誘導体、ピコリンおよびその誘導体、チオフェンおよびその誘導体、アセチレンおよびその誘導体、ジアセチレンおよびその誘導体、などの重合体やその誘導体、ならびにデンドリマーとして総称される一群の高分子材料などが挙げられる。
【００８２】
さらには、高分子に限定されるものではなく、例えば、ポルフィン、テトラフェニルポルフィン銅、フタロシアニン、銅フタロシアニン、チタニウムフタロシアニンオキサイドなどのポリフィリン化合物や、１，１−ビス（４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）フェニル）シクロヘキサン、４，４’，４’’−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ
’−テトラキス（ｐ−トリル）−ｐ−フェニレンジアミン、１−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ナフタレン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−２−２’−ジメチルトリフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾールなどの芳香族第三級アミンや、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−（４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル）スチルベンなどのスチルベン化合物や、トリアゾールおよびその誘導体、オキサジザゾールおよびその誘導体、イミダゾールおよびその誘導体、ポリアリールアルカンおよびその誘導体、ピラゾリンおよびその誘導体、ピラゾロンおよびその誘導体、フェニレンジアミンおよびその誘導体、アニールアミンおよびその誘導体、アミノ置換カルコンおよびその誘導体、オキサゾールおよびその誘導体、スチリルアントラセンおよびその誘導体、フルオレノンおよびその誘導体、ヒドラゾンおよびその誘導体体、シラザンおよびその誘導体、ポリシラン系アニリン系共重合体、高分子オリゴマー、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポリ３−メチルチオフェンなども電子供与性有機材料として用いることができる。なお、有機材料であれば、化学的に修飾して光の吸収波長特性を調整することも可能である。
【００８３】
電子受容性有機材料としては、前述した電子供与性有機材料と同様の低分子および高分子材料の他に、例えば、１，３−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−１，３，４−オキサジアゾリル）フェニレン（ＯＸＤ−７）などのオキサジアゾールおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ジフェニルキノンおよびその誘導体、フラーレンおよびその誘導体（特に、ＰＣＢＭ（［６，６］−フェニル  Ｃ６１  ブチリックアシッドメチルエステル））、カーボンナノチューブおよびその誘導体、などを繰り返し単位として有する重合体および他のモノマーとの共重合体、ならびにデンドリマーとして総称される一群の高分子材料などを用いることができる。なお、有機材料であれば、化学的に修飾して光の吸収波長特性を調整することも可能である。
【００８４】
光電変換層の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などの各種真空プロセスや、スピンコート法などのウェットプロセスなど、どのようなものであってもよく、使用する材料、層構成などに合ったものを任意に選択することが可能である。また、インクジェット法などの各種印刷法も好適に用いられる。
【００８５】
以下、光電変換層の材料として上記の有機材料を用いて受光部を作製する場合に各部に使用される具体的な材料、工法などを詳しく説明する。
【００８６】
受光部を構成する基板としては、機械的、熱的強度を有し、各光電変換部を保持できるものであればよい。基板は電気絶縁性であることが好ましいが、特に限定されるものではなく、光電変換の動作を妨げない範囲で、あるいは用途によっては、導電性を有していてもよい。
【００８７】
この基板の材料としては、例えば、ソーダ石英ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、および石英ガラスなどの無機酸化ガラス、無機フッ化物ガラス、Ａｓ2Ｓ3、Ａｓ40Ｓ10、およびＳ40Ｇ10などのカルコゲナイドガラス、ＺｎＯ、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ、Ｓｉ3Ｎ4、ＨｆＯ2、およびＴｉＯ2などの金属酸化物ないし窒化物、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリフッ化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリレート、非晶質ポリオレフィン、およびフッ素系樹脂などの高分子材料、顔料などを含んだ材料、ならびに表面に絶縁処理が施された金属材料などを用いることができる。また、上記の基板材料から複数種を選択してこれらを積層した積層基板でもよい。ただし、基板の片面側を受光面として利用して反対側の面に光電変換部を形成する場合には、制御光線が透過可能な光透過性が基板に付与されるように、その材料を選択することが必要になる。
【００８８】
光電変換部を構成する光透過性電極層および背面電極層としては、光電変換層に生じた電気信号を外部に効率良く取り出すことができるものであることが好ましい。また、制御光線を透過させる機能が必要な場合は、十分な透明性を持たせるために５００ｎｍ以下の厚さにすることが望ましい。電極材料としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、塗布型ＩＴＯ、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ＳｎＯ：Ｓｂ（アンチモン）、ＺｎＯ：Ａｌ（アルミニウム）、およびＩＺＯ（Ｉｎ2Ｏ3：ＺｎＯ）などの金属酸化物、透明度を損なわない程度の厚さのＡｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、およびＡｇ（銀）といった金属薄膜やこれらの金属の混合薄膜ないし積層薄膜、ならびにポリピロール、ポリチオフェン（ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）など）、ポリフェニレンビニレン、およびポリフルオレンなどの導電性高分子化合物などが挙げられる。さらには、上記の材料を複数種類積層したものを電極材料として用いることもできる。
【００８９】
例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｔｉ（チタン）、Ａｇ（銀）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）、Ｌｉ（リチウム）などの金属や、これらの金属の酸化物やフッ化物、あるいはその合金、積層体などが電極材料として一般に用いられる。
【００９０】
光透過性電極層および背面電極層の作製方法としては、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、電界重合などの各種の重合法、およびスピンコート法やインクジェット法などの塗布法などが電極材料に応じて適用される。各電極層は、十分な導電性を持たせるために、また基板表面の凹凸による不均一な光透過や反射を防ぐために、１ｎｍ以上の厚さにすることが望ましい。
【００９１】
各光電変換部を封止部により覆う場合、該封止部を構成する封止材としては、例えば、蒸着法やスパッタリング法、あるいは塗布法などにより形成されるＳｉＯＮ、ＳｉＯ、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＬｉＦなどの無機酸化物、無機窒化物、または無機フッ化物からなる薄膜や、無機酸化物、無機窒化物、無機フッ化物、あるいはそれらの混合物などからなるガラス膜またはガラス板を用いることができる。
【００９２】
封止材を基板上に固定する封止接着樹脂は、封止材を基板に固定することができる接着機能と、外気（特に水と酸素）を遮断して光電変換層を長時間に亘って安定に保つことがきるものであればよい。封止接着樹脂の具体例としては、例えば、紫外線硬化樹脂などの光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、および封止効果のあるシラン系高分子材料などが挙げられる。これらは、ノズルコート法などの塗布法により塗工可能である。
【００９３】
受光部は、例えば次のようにして作製することができる。まず、透明ガラス基板上に膜厚１６０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、該ＩＴＯ膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングして複数の光透過性電極層を形成する。
【００９４】
ＩＴＯ膜上にスピンコート法によりレジスト材を塗布し、プリベークして、厚さ１０μｍのレジスト膜を形成し、所定形状のフォトマスクを用いて当該レジスト膜を露光した後に現像して、上記のレジスト膜を所定形状のエッチングマスクに成形する。このエッチングマスクが形成されたＩＴＯ膜を液温６０℃の５０％塩酸中に浸漬し、エッチングマスクが形成されていない部分のＩＴＯ膜をエッチングした後、エッチングマスクを剥離させ、リンス処理を行って、ＩＴＯ膜からなる複数の光透過性電極層を得る。
【００９５】
次に、ポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレンビニレン）と［５，６］−ＰＣＢＭ（［５，６］−フェニル  Ｃ６１  ブチリックアシッドメチルエステル）とを１：４の重量比で溶解させたクロロベンゼン溶液をスピンコート法により塗布して、６０ｎｍの膜厚の光電変換層を成膜する。
【００９６】
最後に、０．２７ｍＰａ（＝２×１０-6Ｔｏｒｒ）以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内において、所定の蒸着マスクで規定した蒸着範囲にＬｉＦ（フッ化リチウム）を約２ｎｍの膜厚で成膜し、続けてアルミニウム金属を約１００ｎｍの膜厚で成膜して、複数の背面電極層を形成する。以上のプロセスにより、受光部を作製することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明は、可視光を含む制御光線により制御対象装置を遠隔制御するための遠隔制御システムおよび制御光線を受光して制御情報を取り出す受光装置に利用することができる。制御光線として可視光を用いることにより、制御対象装置の遠隔操作性が向上する。また、外乱光による影響を低減できることから、例えば室内照明光や太陽光などの外乱光が存在する状況下においても、制御対象装置を遠隔操作可能である。
【符号の説明】
【００９８】
１    制御対象装置（室内照明器具）
２    制御対象装置（表示ボード）
２ａ    表示部
２ｂ    印刷部
２ｃ    プロジェクタ
３    制御対象装置（遊具モデル自動車）
５    制御光線出力装置
１０    基板（透明基板）
１１    光透過性電極層
１２    光電変換層
１３    背面電極層
１５    光電変換部
１７    封止部
１７ａ    乾燥剤
１７ｂ    封止材
１７ｃ    封止接着樹脂
２０，２０Ａ    受光部
２１    増幅部およびＩＶ変換部
２２    極性変換部
２３    ＡＤ変換回路
２４    ＯＲ回路
２５    論理回路
２６    出力回路
３０    信号処理部
４０，４０Ａ    受光装置
５０，５０Ａ，５０Ｂ    遠隔制御システム
ＣＢ    制御光線
ＣＥ    列電極群
ＣＩ    制御情報
ＥＳ    電気信号
Ｈｕ    人間
ＩＲ    制御光線照射領域
ＬＲ    受光領域
ＲＥ    行電極群
ＴＣ    透明導電膜
【図１】
2011103621.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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