(57)【要約】      （修正有）【課題】高い遠赤外線反射率を有しながら良好な対表面擦過性を備える遠赤外線反射性積層体を提供する。【解決手段】遠赤外線反射性積層体は、基板上５に設けられた３層以上からなる多層構造を示し、Ａｇを主成分とする金属層３とハードコート層１の間にアモルファスカーボン層２を有する積層構造をもつ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にＡｇを含有せしめた金属層を有し、積層体表面に設けたハードコート層１との間にアモルファスカーボン層を設けた遠赤外線反射性積層体。
【請求項２】
前記基板と前記金属層との間にさらにハードコート層２を有する請求項１記載の遠赤外線反射性積層体。
【請求項３】
前記アモルファスカーボン層が、ラマン分光分析において観察される１５００〜１７００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１６００と２８５０〜３０００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ２９００とのラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が１〜１０である請求項１または２に記載の遠赤外線反射性積層体。
【請求項４】
前記アモルファスカーボン層が、ラマン分光分析において観察される１５００〜１７００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１６００と２８５０〜３０００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ２９００とのラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が１未満であり、前記ラマンバンド強度Ｉ１６００と１２５０〜１４５０ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１３９０とのラマンバンド強度比Ｉ１３９０／Ｉ１６００が０．３〜１．３である請求項１または２に記載の遠赤外線反射性積層体。
【請求項５】
前記アモルファスカーボン層の高速分光エリプソメーターより求めた厚さが１〜３０ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の遠赤外線反射性積層体。
【請求項６】
前記ハードコート層１の厚さが０．４〜２．５μｍである請求項１〜５のいずれかに記載の遠赤外線反射性積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遠赤外線反射性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から窓などを通過する赤外線を制御することで温調や保冷に必要なエネルギーを低減する技術として、可視光を透過する基材に金、銀、銅等からなる金属薄膜層を酸化チタンやＩＴＯ、酸化亜鉛などの金属酸化物層で積層した構造の赤外線反射層を設けたフィルム（特許文献１、特許文献２参照）やガラスが知られており、可視光線の透過性を有しながら近赤外線を反射する素材が知られている。このような特性を活かし、建物や乗り物の窓から入ってくる太陽エネルギーを遮断して冷房効果の向上を計ったり、冷凍冷蔵ショーケースにおいて保冷効果の向上を計ったりする用途に利用されている。
【０００３】
また、特許文献１や特許文献２において赤外線反射層を物理的に保護する手段としてポリメタアクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などの硅素樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂などが記載されており、ポリオレフィン系樹脂を保護層として用いることなども知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公昭５８−０１０２２８号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００１−３１０４０７号公報（特許請求項２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
太陽光などの近赤外線領域に大きなエネルギーを有する場合には、近赤外線を反射もしくは吸収することでエネルギーの流出入コントロールに効果があるが、冬期に室内からのエネルギー流出を抑えるなどの効果を得るためには遠赤外線を反射することが重要になる。
【０００６】
しかしながら従来の技術で形成された赤外線反射体は、例えば感光性のアクリル系ハードコート塗料を使用して形成した３μｍ程度以上の厚さを有するハードコート層で金属層を含む赤外線反射層の表面を保護するか、または、３ｍｍ厚程度以上のガラスで金属層を含む赤外線反射層の表面を保護する構成であり、ハードコート層やガラス層が遠赤外線を吸収してしまうため、近赤外線反射性は有するものの遠赤外線の反射性が大幅に低下することを避けることが出来なかった。また、遠赤外線の吸収が少ない保護層として二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂を用いた例もあるが、保護層の表面が柔らかいために耐擦過性が不足して施工や使用中に表面に傷がつき易く窓などに使用する製品として十分な保護性を発揮できないという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点を解決するために、表面に傷がつきにくい表面保護性と良好な遠赤外線反射性を兼ね備える遠赤外線反射性積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、基板上にＡｇを含有せしめた金属層を有し、積層体表面に設けたハードコート層１との間にアモルファスカーボン層を設けた遠赤外線反射性積層体である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高い遠赤外線反射率を有しながら良好な耐表面擦過性を備えた遠赤外線反射性積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施例３の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に本発明の構成を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１２】
ハードコート層１
本発明におけるハードコート層１の種類は、必要とする耐表面擦過性と遠赤外線反射性、可視光透過性などに合わせてハードコート厚みとの組み合わせを適宜選ぶことが出来る。感光性のアクリル系ハードコート剤は、紫外線などの放射線を照射することによって素早く硬化してハードコート層１を形成することから硬化を制御しやすく好ましい。ハードコート層の収縮や表面硬度を改質するために無機粒子を配合することは好ましい。例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウムなど、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物粒子からなる群から、単独の無機粒子や２種以上の無機粒子を組み合わせて用いることができる。無機粒子の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり必要特性に合わせて適宜選択することができる。更に、この無機粒子の表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、硬化性樹脂と無機粒子の架橋反応が進み、よりハードコート特性を向上させることができる。例えば、官能基を導入する表面処理としては、重合性不飽和基を含む有機化合物を無機粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基をとして挙げることができる。
【００１３】
ハードコート層１の厚みは、必要とする耐表面擦過性と遠赤外線反射性、可視光透過性などに合わせてハードコート種類との組み合わせを適宜選ぶことが出来る。例えば、感光性のアクリル系ハードコート剤を用いたハードコート層１においては、遠赤外線反射性を大幅に低下させないためには３μｍ厚以下であることが好ましく、遠赤外線反射性と耐表面擦過性を両立するためには、０．３〜２μｍ厚であることが好ましく、０．５〜１．２μｍであることはより好ましく、０．５〜１μｍ厚であることはさらに好ましい。
【００１４】
金属層
本発明における金属層を構成する金属としては、可視光透過特性や遠赤外線反射特性に優れたＡｇを用いることが好ましい。また、Ａｇが硫黄や酸素などと反応して劣化することを抑えるためや、金属層を形成する際に凝集などの欠点が発生するのを防ぐために、Ａｇ合金として用いることは好ましい。合金として使用する金属は、必要とする遠赤外線反射性や可視光透過率、耐化学物質、耐環境性に応じて適宜選ぶことが出来る。例えば、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｂｉ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｌなどを単独や２種以上用いたＡｇ合金が知られている。
【００１５】
金属層の厚みは、必要とする遠赤外線反射性、可視光透過性などに合わせて選ぶことが出来る。高い可視光透過率と高い遠赤外線反射率を両立しようとする場合、金属層の表面抵抗は、３〜３０Ω／□であることが好ましく、５〜１０Ω／□であることはさらに好ましい。一方、可視光透過性が不要であり遠赤外線反射性だけが必要である場合、赤外線反射性を高めるために３Ω／□未満の表面抵抗とすることが好ましい。
【００１６】
金属層は単層構造や誘電体層と交互に積層してなる複層構造をとることが出来る。金属層は屈折率が低いため界面での反射による影響等で可視光透過性が低減する場合がある。このため、より屈折率の高い誘電体層と組み合わせた多層構造とすることで光学特性を改善することができる。可視光の吸収特性を制御するためには金属層と誘電体層と交互に積層してなる複層構造をとることが好ましい。誘電体層は用途に合わせて適宜選択できるものであり、酸化チタン、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）や酸化錫、窒化ケイ素や酸化ビスマスなどの酸化物や窒化物、およびそれらにアルミや銅などの金属や炭素をドープしたものなどを用途に合わせて適宜選択して用いることができる。
【００１７】
アモルファスカーボン層
本発明の遠赤外線反射性積層体は、Ａｇを主成分とする金属層とハードコート層１の間に、アモルファスカーボン層を有することによって積層構造の耐擦過性が飛躍的に向上するものである。アモルファスカーボン層とは、ダイヤモンドやグラファイトのように規則的な構造をとる炭素素材とは異なり、アモルファス構造を有する炭素層である。硫黄や酸素のようにＡｇを主成分とする金属層を変質させてしまうことがなく、ハードコート層１との親和性に優れるため、上記構成によって遠赤外線反射性積層体は優れた耐表面擦過性を得ることが出来る。アモルファスカーボン層は用途に合わせて膜厚や膜成分を選ぶことが出来る。例えば、アモルファスカーボン層に窒素や水素、酸素などの元素を含有させることでアモルファスカーボン層の特性を調整することが出来る。アモルファスカーボン層の特性を調整する方法としては、カーボン処理雰囲気に窒素や水素、酸素、二酸化炭素などを存在させることが挙げられる。例えば、カーボン処理雰囲気下の水素濃度や二酸化炭素濃度によってカーボン層の特性を調整することにより、表面保護層との親和性を向上することが出来る。
【００１８】
本発明のアモルファスカーボン層においては、高速分光エリプソメーターにより分析した屈折率が１．５〜２．２であることはハードコート層１との親和性に優れるため好ましい。
【００１９】
本発明のアモルファスカーボン層のラマン分光分析によって得たラマンスペクトルにおいて、１５００〜１７００ｃｍ−１にラマンバンドを示し、１２５０〜１４５０ｃｍ−１に前記ラマンバンドのショルダーバンドを示すことはハードコート層１との親和性に優れるため好ましい。また、２８５０〜３０００ｃｍ−１にラマンバンドを示すことは可視光透過性に優れるため好ましい。
【００２０】
ハードコート層１との親和性向上と可視光透過性向上を両立するためには、アモルファスカーボン層の１５００〜１７００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１６００と２８５０〜３０００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ２９００とのラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が１〜１０であることが好ましく、１〜８であることはより好ましく、１．５〜６であることはさらに好ましい。
【００２１】
またハードコート層１との親和性向上と可視光透過性向上を両立するための別の好ましい態様として、アモルファスカーボン層のラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が１未満である場合には、ラマンバンド強度Ｉ１６００と１２５０〜１４５０ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１３９０とのラマンバンド強度比Ｉ１３９０／Ｉ１６００が、０．３〜１．３であることが好ましく、０．３〜１．２であることはより好ましく、０．３〜１．１であることはさらに好ましい。
【００２２】
アモルファスカーボン層の加工時間を短縮してコスト低減をはかる観点からは、アモルファスカーボン層の高速分光エリプソメーターより求めた厚さが１ｎｍ〜３０ｎｍであることは好ましい。カーボン層が薄すぎると表面保護層との親和性向上の効果が不安定となり、厚すぎるとカーボン層構造内の歪みによる構造破壊が起こりやすくなる場合があり、そのような場合には加工に必要な時間が長くなり加工コストも上昇してしまうことがあるためである。かかる観点から、本発明におけるカーボン層は、高速分光エリプソメーターより求めた厚さが、１〜１０ｎｍであることはさらに好ましく、１〜５ｎｍであることはより好ましい。
【００２３】
アモルファスカーボン層の処理速度を向上してコスト低減をはかる観点からは、カーボン処理雰囲気下にカーボン処理レートを向上する効果のある窒素ガスを存在させることは好ましい。
【００２４】
本発明のアモルファスカーボン層は、カーボンターゲットを用いたスパッタリングやメタン、アセチレン、ベンゼンなどの炭化水素を用いた化学気相成長法などにより形成することが出来る。
【００２５】
基板
本発明における遠赤外線反射性積層体は用途に合わせて樹脂、金属、金属酸化物、紙や木材などの天然素材基板上に形成されるものである。外光を取り入れたり内部を観察する窓に使用する用途に適用する遠赤外線反射性積層体の場合、基板が可視光線を透過する透明樹脂や透明ガラスであることが好ましい。取り扱いを容易とするためには、基板が可撓性を有する透明な樹脂フィルムであることが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−２，６−ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン、ポリカーボネート等が例示される。これらの中で、コストや取り扱いの容易さ、積層体を加工する際に受ける熱に対する耐熱性といった面で、芳香族ポリエステル、さらにはポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレート、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また、機械強度を高めた二軸延伸フィルム、さらには耐熱性及び機械的強度に優れる、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムや二軸延伸ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。取り扱いの容易さや、加工単位の長尺化による生産性向上といった点からは、フィルムの厚みは５〜２５０μｍの範囲が好ましく、１５〜１５０μｍであることはさらに好ましい。
【００２６】
ハードコート層２
本発明における遠赤外線反射性積層体において、遠赤外線反射性積層体の内部や基板との界面に応力が集中して破壊されることを防ぐために、基板とＡｇを含有せしめた金属層との間にハードコート層２を設けることが好ましい。
【００２７】
本発明におけるハードコート層２の種類は、必要とする耐表面擦過性と可視光透過性などに合わせてハードコート厚みとの組み合わせを適宜選ぶことが出来る。感光性のアクリル系ハードコート剤は、紫外線などの放射線を照射することによって素早く硬化してハードコート層２を形成することから硬化を制御しやすく好ましい。ハードコート層の収縮や表面硬度を改質するために無機粒子を配合することは好ましい。例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウムなど、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物粒子であり、単独や２種以上の元素や粒子を組み合わせて用いることができる。無機粒子の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などであり必要特性に合わせて適宜選択することができる。更に、この無機粒子の表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、硬化性樹脂と無機粒子の架橋反応が進み、よりハードコート特性を向上させることができる。例えば、官能基を導入する表面処理としては、重合性不飽和基を含む有機化合物を無機粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基を挙げることができる。
【００２８】
ハードコート層２の厚みは、必要とする耐表面擦過性と可視光透過性などに合わせてハードコート種類との組み合わせを適宜選ぶことが出来る。例えば、感光性のアクリル系ハードコート剤を用いたハードコート層２においては、良好な耐表面擦過性を得るためにはハードコート層の膜厚は厚い方が好ましいが、膜厚が厚くなるとハードコート形成時の膜収縮による基板界面への応力や材料代などからくるコスト面で不利となるため、０．５〜１０μｍ厚であることが好ましく、０．５〜５μｍ厚であることはより好ましい。
【００２９】
遠赤外線反射性積層体の遠赤外線反射率
本発明の遠赤外線反射性積層体は、ハードコート層１、アモルファスカーボン層、金属層、の膜厚や抵抗値などの特性を組み合わせることで用途に合わせた遠赤外線反射率を設計することが出来る。遠赤外線反射性積層体の遠赤外線反射率が６０％以上を満足することが好ましく、７０％以上を満足することはより好ましく、８０％以上を満足することがさらに好ましい。
【００３０】
遠赤外線反射性積層体の可視光透過率
本発明の遠赤外線反射性積層体は、ハードコート層１、アモルファスカーボン層、金属層、ハードコート層２の膜厚や屈折率、消衰係数などの光学特性を組み合わせることで用途に合わせた可視光透過率を設計することが出来る。遠赤外線反射性積層体の可視光透過率が４０％以上を満足することが好ましく、可視光透過率が５０％以上を満足することがさらに好ましい。
【００３１】
用途
本発明の遠赤外線反射性積層体は、遠赤外線反射性と耐表面擦過性に優れた特性を生かし、建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギー遮断による冷暖房効果の向上、植物育成用のケースやハウスにおける熱環境保持性の向上、あるいは冷凍冷蔵ショーケースにおける保冷効果向上、高低温作業時に監視窓から流出入する熱輻射の低減などの用途に利用出来る。また、本発明の遠赤外線反射性積層体を壁や天井などの内装材や家具、家電製品などの表面に使用することで、遠赤外線の放射によって空間内から流出する熱エネルギーを低減することに利用することが出来る。本発明の遠赤外線反射性積層体は電磁波遮蔽性を有することから、電磁波シールド材として用いることが出来る。また、樹脂フィルム基板を用いた遠赤外線反射性積層体は、粘着剤などを用いてガラス板などに貼り合わせて使用することでガラス板などが破損した場合の飛散防止やガラス板などを保護して破損を低減することに利用することが出来る。樹脂フィルム基板が紫外線により劣化するのを防ぐためには、樹脂フィルム基板表面や粘着剤などの接着層に紫外線吸収剤を付与しておくことは好ましい。
【００３２】
評価方法
［遠赤外線反射率］
５０ｍｍ角の遠赤外線反射性積層体サンプルを、７．５ｍｍ幅×５０ｍｍ長にカットした両面テープ（(株)ニトムズ製ＰＲＯＳＥＬＦ  Ｎｏ．５３９Ｒ）を用いて、５０ｍｍ角の３ｍｍ厚ガラス板に、遠赤外線反射性積層体サンプル表面にシワや弛みが発生しないように片端部を固定して評価サンプル片を作成した。評価サンプル片の、積層体表面側（ハードコート層１の側）から入光して、波長５〜２５μｍの光線の分光反射率を測定し、JIS R 3106（1998）に準拠して２８３Ｋの熱放射に対する反射率を求めた。（なお、評価サンプル片表面の遠赤外線反射性積層体が部分的にたるんでいたりして正確な面が出ていない位置では測定値が低く出るので、１つの評価サンプルの中でを少しずつ位置を動かして測定し最も大きな値をその評価サンプルの遠赤外線反射率（％）とした）。
分光反射率は以下の装置・測定条件より求めた。
【００３３】
測定装置：（株）島津製作所製  ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ−２１
正反射測定ユニット：ＳＲＭ−８０００Ａ
波数範囲：４００〜４０００ｃｍ−１
測定モード：％Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ
アボダイズ係数：Ｈａｐｐ−Ｇｅｎｚｅｌ
積算回数：１０
分解：４．０
測定ｎ数：評価サンプル５個のうち最大値と最小値のものを除いた３個の平均値を使用。
【００３４】
［可視光透過率］
５０ｍｍ角の遠赤外線反射性積層体サンプルを、７．５ｍｍ幅×５０ｍｍ長にカットした両面テープ（(株)ニトムズ製ＰＲＯＳＥＬＦ  Ｎｏ．５３９Ｒ）を用いて、５０ｍｍ角の３ｍｍ厚ガラス板に、遠赤外線反射性積層体サンプル表面にシワや弛みが発生しないように片端部を固定して評価サンプル片を作成した。評価サンプル片中央部において、積層体表面側（積層体表面側（ハードコート層１の側））から入光して、波長３８０〜７８０ｎｍの分光透過率を測定し、JIS R 3106（1998）に準拠して可視光透過率（％）とした。
分光透過率は以下の装置・測定条件より求めた。
【００３５】
測定装置：（株）島津製作所製  ＵＶ−３１５０
波長範囲：３８０〜７８０ｎｍ
スリット幅：（２０）
スキャンスピード：高速
サンプリング：１ｎｍ
グレーティング：７２０ｎｍ
測定ｎ数：評価サンプル５個のうち最大値と最小値のものを除いた３個の平均値を使用。
【００３６】
［耐表面擦過性］
５０ｍｍ角の遠赤外線反射性積層体サンプルを、７．５ｍｍ幅×５０ｍｍ長にカットした両面テープ（(株)ニトムズ製ＰＲＯＳＥＬＦ  Ｎｏ．５３９Ｒ）を用いて、５０ｍｍ角の３ｍｍ厚ガラス板に、遠赤外線反射性積層体サンプル表面にシワや弛みが発生しないように擦過方向と平行な両端部を固定して表面擦過試験用評価サンプル片とした。以下の装置・条件でスチールウールを固定した摩擦子を用いて積層体表面側（ハードコート層１側）を擦過した後、サンプル中央部２０ｍｍ角部分の表面を目視観察した。
【００３７】
擦過装置：（株）大栄科学精器製作所製  ＲＴ−２００
擦過速度：１０
擦過回数：１０往復、３０往復、５０往復、１００往復
荷重：５００ｇ
摩擦子：３０mm(幅方向)×１０ｍｍ(摩擦方向)
スチールウール：日本スチールウール（株）製  ボンスター  Ｎｏ．００００
測定ｎ数：評価サンプル５個のうち最大値と最小値のものを除いた３個の平均値を使用。
【００３８】
［表面抵抗］
（株）三菱化学アナリテック製  ロレスタＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０型（４端子４探針法定電流印加方式）にて表面抵抗（Ω／□）を測定した。
【００３９】
［ハードコート層１の厚み］
以下の方法でサンプル調整、ＳＥＭ観察、ハードコート層厚み算出を行った。
【００４０】
１．サンプル調整
（i）断面面出し
日本ミクロトーム研究所製「ロータリミクロトーム  ＲＭＳ」で切削
切削刃  スチール製レザー刃（フェザー製片刃）
スチール製レザー刃切削角度  ３度
切削量  ３０μｍ
(ii)スパッタ処理
（株）エイコー・エンジニアリング社製「イオンコーターＩＢ−３型」でスパッタ
スパッタ金属  Ｐｔ  ８５％＋Ｐｄ  １５％
スパッタ条件  ２ｍＡ  ５分間
スパッタ膜厚  約１０ｎｍ
２．ＳＥＭ観察
(株)トプコン社製  走査型電子顕微鏡「ＡＢＴ−３２」
（i）使用観察条件
加速電圧  １５ＫＶ
スポットサイズレベル  ６
ワーキングディスタンス  ２０ｍｍ
観察角度  ０度（対断面９０度）
観察倍率  ２００００倍
［ハードコート層２、金属層、アモルファスカーボン層の厚み、光学定数（屈折率、消衰係数）の分析］
１．測定法
各層の厚み、光学定数は、次に記す分光エリプソメーターを用いて測定した。アモルファスカーボン層は数nmと薄く、光学定数が決定できないため、次に示すように、ガラス基板上にカーボンを３２ｎｍ製膜した試料を測定し算出した光学定数を用いることで厚みを算出した。
※ガラス基板上へのアモルファスカーボン製膜
到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにて搬送速度0.2m/minで１０回通過させてガラス基板上にアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。
【００４１】
２．装置
高速分光エリプソメーター
M-2000（J.A.Woollam 社製）
回転補償子型（RCE： Rotating Compensator Ellipsometer）
300mm R-Theta ステージ
３．測定条件
入射角：65 度、70 度、75 度
測定波長： 195nm〜1680nm
解析ソフト：WVASE32
ビーム径：1 2mm 程度
測定ｎ数：１。
【００４２】
［アモルファスカーボン層のラマン分光分析］
１．装置
ＰＤＰ３２０（Photon Design 製）
２．測定条件
測定モード：顕微ラマン
対物レンズ：×１００
ビーム径：１μｍ
クロススリット：１００μｍ
光源：Ａｒ＋レーザー／５１４．５ｎｍ
レーザーパワー：６ｍＷ（at tube）
回折格子：６００ｇｒ／ｍｍ
スリット：１００μｍ
検出器：CCD/Roper Scientific
測定領域：２００〜３９００ｃｍ−１
３．解析方法
（i） 観察されたラマンスペクトルには下地のＰＥＴからラマンバンドが重畳して観察されているため、差スペクトルを用いた。
(ii)得られた試料の差スペクトルについて、以下の方法でラマンバンド強度Ｉ１３９０，Ｉ１６００，Ｉ２９００を求めた。
・Ｉ１３９０、Ｉ１６００
８００〜２０００ｃｍ−１の領域でベースラインを補正し、１５００〜１７００ｃｍ−１のラマンバンドと１２５０〜１４５０ｃｍ−１のラマンバンドについて、2本のガウス関数でフィッティングを行い、１５００〜１７００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１６００と１２５０〜１４５０ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ１３９０を求めた。ガウス関数でのフィッティングにあたっては、便宜上、１２５０〜１４５０ｃｍ−１のバンドについては位置を１３９０ｃｍ−１で固定して解析を行った。
・Ｉ２９００
２７００〜３１００ｃｍ−１の領域でベースラインを補正し、２８５０〜３０００ｃｍ−１のラマンバンドを1本のローレンツ関数でフィッティングを行い、２８５０〜３０００ｃｍ−１のラマンバンド強度Ｉ２９００を求めた。
測定ｎ数：３。
【実施例】
【００４３】
以下の方法で準備した比較例および実施例のサンプルについて、遠赤外線反射率、耐表面擦過性、可視光透過率の試験を行った。各試験の評価および総合評価１および２の判定基準は以下とした。
【００４４】
［遠赤外線反射率］
Ａ：８０％以上
Ｂ：６０％以上８０％未満
Ｃ：６０％未満
・耐表面擦過性
Ａ：class5b以上（class5b, class5a, class6）
Ｂ：class2〜4
Ｃ：class1
なお、class判断基準は以下の条件を満たすこととした。
【００４５】
class6：擦過回数100往復時に目視キズ0本/10mm
class5a：擦過回数100往復時に目視キズ1本/10mm以上５本/10mm未満
class5b：擦過回数100往復時に目視キズ５本/10mm以上１０本/10mm未満
class4：擦過回数50往復時に目視キズ10本/10mm未満かつ100往復時に目視キズ10本/10mm以上
class3：擦過回数30往復時に目視キズ10本/10mm未満かつ50往復時に目視キズ10本/10mm以上
class2：擦過回数10往復時に目視キズ10本/10mm未満かつ30往復時に目視キズ10本/10mm以上
class1：擦過回数10往復時に目視キズ10本/10mm以上
［総合判定１］
遠赤外線反射率、耐表面擦過性の判定において以下の基準で判定した。
【００４６】
Ａ：すべての判定がＡ
Ｂ：判定にＢを１つ含み、かつＣを含まない
Ｃ：判定にＢを２つ以上含む、もしくはＣを含む
［可視光透過率］
Ａ：５０％以上
Ｂ：３０％以上５０％未満
Ｃ：３０％未満
［総合判定２］
遠赤外線反射率、可視光透過率、耐表面擦過性の判定において以下の基準で判定した。
【００４７】
Ａ：すべての判定がＡ
Ｂ：判定にＢを１つ含み、かつＣを含まない
Ｃ：判定にＢを２つ以上含む、もしくはＣを含む。
【００４８】
（実施例１）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.3m/min、スパッタガス： Ar 、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：直流（以下、ＤＣと略記することもある） 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス：Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５質量％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例１のサンプルを得た。金属層をスパッタ加工した段階で表面抵抗を測定したところ、１Ω／□であった。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＣで、総合評価１はＡ、総合評価２はＣだった。
【００４９】
（実施例２）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度３．７５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例２のサンプルを得た。実施例２のハードコート層１の膜厚は０．３μｍであった。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＢ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＢ、総合評価２もＢだった。
【００５０】
（実施例３）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例３のサンプルを得た。金属層をスパッタ加工した段階で表面抵抗を測定したところ、７Ω／□であった。金属層とアモルファスカーボン層をスパッタした段階で高速分光エリプソメーターを用いて各層の膜厚を分析したところ、東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０に積層されたハードコート層２膜厚が３．３μｍ、金属層膜厚が１２．１ｎｍ、アモルファスカーボン層膜厚が３．７ｎｍであった。
アモルファスカーボン層のラマン分光分析において、ラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００は、０．５であり、ラマンバンド強度比Ｉ１３９０／Ｉ１６００は１．０であった。
実施例３のハードコート層１の膜厚は０．６μｍであった。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＡ、総合評価２もＡだった。
【００５１】
（実施例４）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 55Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例４のサンプルを得た。金属層をスパッタ加工した段階で表面抵抗を測定したところ、３３Ω／□であった。遠赤外線反射率がＢ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＢ、総合評価２もＢだった。
【００５２】
（実施例５）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度１５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例３のサンプルを得た。実施例５のハードコート層１の膜厚は１．３μｍであった。遠赤外線反射率がＢ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＢ、総合評価２もＢだった。
【００５３】
（実施例６）
東レ (株)製ルミラーＴ６０（５０μｍ厚）に、到達圧力：４Ｅ−３Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：４Ｅ−３Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例６のサンプルを得た。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＢ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＢ、総合評価２もＢだった。
【００５４】
（実施例７）
東レ (株)製ルミラーＴ６０（５０μｍ厚）に、到達圧力：４Ｅ−３Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar  、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：４Ｅ−３Ｐａ 、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度１５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例７のサンプルを得た。遠赤外線反射率がＢ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＢ、総合評価２もＢだった。
【００５５】
（実施例８）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）を減圧下で搬送速度0.１m/minで空搬送し、フィルム搬送時の圧力が５Ｅ−３Ｐａ以下になるまで走行させた。その後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例８のサンプルを得た。金属層をスパッタ加工した段階で表面抵抗を測定したところ、６Ω／□であった。金属層とアモルファスカーボン層をスパッタした段階で高速分光エリプソメーターを用いて各層の膜厚を分析したところ、金属層膜厚が１１．１ｎｍ、アモルファスカーボン層膜厚が１．５ｎｍであった。
アモルファスカーボン層のラマン分光分析において、ラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が０．４であり、ラマンバンド強度比Ｉ１３９０／Ｉ１６００が１．３であった。
実施例８のハードコート層１の膜厚は０．８μｍであった。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＢ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＢ、総合評価２もＢだった。
【００５６】
（実施例９）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）を減圧下で搬送速度0.１m/minで空搬送し、フィルム搬送時の圧力が５Ｅ−３Ｐａ以下になるまで走行させた。その後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar/H2=90/10、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例９のサンプルを得た。金属層をスパッタ加工した段階で表面抵抗を測定したところ、６Ω／□であった。金属層とアモルファスカーボン層をスパッタした段階で高速分光エリプソメーターを用いて各層の膜厚を分析したところ、金属層膜厚が１１．７ｎｍ、アモルファスカーボン層膜厚が１．９ｎｍであった。
アモルファスカーボン層のラマン分光分析において、ラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が２．６であり、ラマンバンド強度比Ｉ１３９０／Ｉ１６００が２．６であった。
実施例９のハードコート層１の膜厚は０．８μｍであった。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＡ、総合評価２もＡだった。
【００５７】
（実施例１０）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）を減圧下で搬送速度0.１m/minで空搬送し、フィルム搬送時の圧力が５Ｅ−３Ｐａ以下になるまで走行させた。その後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.05m/min、スパッタガス： Ar/H2=90/10、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例１０のサンプルを得た。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＢ、可視光透過率がBで、総合評価１はＢ、総合評価２はＣだった。
【００５８】
（実施例１１）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）を減圧下で搬送速度0.１m/minで空搬送し、フィルム搬送時の圧力が５Ｅ−３Ｐａ以下になるまで走行させた。その後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.1m/min、スパッタガス： Ar/H2/CO2=81/9/10、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）させて実施例１１のサンプルを得た。金属層とアモルファスカーボン層をスパッタした段階で高速分光エリプソメーターを用いて各層の膜厚を分析したところ、金属層膜厚が１１．８ｎｍ、アモルファスカーボン層膜厚が１．９ｎｍであった。
アモルファスカーボン層のラマン分光分析において、ラマンバンド強度比Ｉ２９００／Ｉ１６００が３．９であり、ラマンバンド強度比Ｉ１３９０／Ｉ１６００が１．８であった。
遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＡ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＡ、総合評価２もＡだった。
【００５９】
（比較例１）
ポリオレフィン系樹脂を表層に有している帝人デュポンフィルム(株)製レフテルＺＣ０５Ｇ（基板（ＰＥＴフィルム）／金属層／誘電体層（酸化チタン）／ＯＰＰフィルム）を比較例１のサンプルとした。遠赤外線反射率がＢ、耐表面擦過性がＣ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＣ、総合評価２もＣだった。
【００６０】
（比較例２）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、ZnOターゲット（56mm×106mm×5tmm：2質量％Al2O3含有)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：ＤＣ 150Wにて金属酸化物層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて比較例２のサンプルを得た。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＣ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＣ、総合評価２もＣだった。
【００６１】
（比較例３）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）に、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−３Ｐａ 、ZnOターゲット（56mm×106mm×5tmm：2質量％Al2O3含有)、搬送速度：0.2m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力：0.5Pa、投入電力：ＤＣ 150Wにて金属酸化物層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度１５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、６７０ｍＪ／ｃｍ２）させて比較例３のサンプルを得た。遠赤外線反射率がＢ、耐表面擦過性がＢ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＣ、総合評価２もＣだった。
【００６２】
（比較例４）
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製タフトップＣ０Ｔ０（１００μｍ厚）を減圧下で搬送速度0.１m/minで空搬送し、フィルム搬送時の圧力が５Ｅ−３Ｐａ以下になるまで走行させた。その後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（56mm×106mm×5tmm：1質量％ Au含有)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 105Wにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：８Ｅ−４Ｐａ、カーボンターゲット（56mm×106mm×5tmm)、搬送速度：0.8m/min、スパッタガス： Ar/H2=90/10、スパッタ圧力： 0.5Pa、投入電力：ＤＣ 100Wにてアモルファスカーボン層をスパッタ加工にて形成した。続いて、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ(株)製オプスターＺ７５３５を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５％に希釈し、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ硬化（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）させて比較例４のサンプルを得た。遠赤外線反射率がＡ、耐表面擦過性がＣ、可視光透過率がＡで、総合評価１はＣ、総合評価２はＣだった。
【００６３】
【表１】
2011207223.tif 000003
【００６４】
【表２】
2011207223.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の遠赤外線反射性積層体は高い遠赤外線反射率を有しながら良好な対表面擦過性を備えるため、可視光透過性を有しながら流出入する熱エネルギーの遮蔽することで熱環境を保持することが容易となるために窓などの用途で好適に用いることが出来るが、その適用範囲がこれらに限定されるものではない。
【符号の説明】
【００６６】
１：ハードコート層１
２：アモルファスカーボン層
３：金属層
４：ハードコート層２
５：基板
【図１】
2011207223.tif 000005