(57)【要約】【課題】キャリングガス（パージガス）を円滑に流通させるとともに、複数の開閉弁が設けられたブロックの幅を縮小することのできるガス供給ユニットを提供する。【解決手段】ガス供給ユニットにおいて、弁室２４は、流路ブロック２０の長手方向に沿って所定間隔で流路ブロック２０の上面２０ａに設けられ、接続流路２６は、弁室２４の略中央に接続されるとともに上面２０ａから離間する方向へ延びている。キャリングガス流路２１は、接続流路２６よりも太く形成されて流路ブロック２０の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、流路ブロック２０を幅方向で二等分する仮想平面Ｆから偏った部分に配置されている。プロセスガス流路２２は、上面２０ａとは反対側の下面２０ｂに開口するとともに、流路ブロック２０において仮想平面Ｆからキャリングガス流路２１とは反対側に偏った部分を通過して弁室２４に接続されている。【選択図】      図３
2011012724.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に流路の設けられた流路ブロックを備え、前記流路は主流路と前記主流路にそれぞれ連通する複数の副流路とを含み、前記副流路毎に開閉弁を備え、前記開閉弁が対応する前記副流路と前記主流路とを遮断および連通するガス供給ユニットであって、
前記流路ブロックは、長尺状に延びる直方体状に形成され、前記開閉弁が搭載された弁搭載面と前記副流路が開口した副流路開口面とを有し、前記弁搭載面および前記副流路開口面は互いに反対側に位置する面であり、
前記開閉弁は、前記弁搭載面の長手方向に沿って直列に配置され、前記開閉弁の各弁室が前記弁搭載面に設けられ、
前記副流路が前記弁室に連通され、
前記流路ブロックの内部には前記主流路と前記弁室とを接続する接続流路が設けられ、前記接続流路は前記弁室の略中央に連通されるとともに前記弁搭載面から離間する方向へ延び、
前記主流路は、前記接続流路よりも太く形成されて前記弁搭載面の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から一方側に偏った部分に配置され、
前記副流路は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分を通過していることを特徴とするガス供給ユニット。
【請求項２】
前記副流路において前記主流路の横を通過する部分が他の部分よりも細く形成されていることを特徴とする請求項１に記載のガス供給ユニット。
【請求項３】
前記接続流路は前記弁搭載面に対して垂直に延びていることを特徴とする請求項１又は２に記載のガス供給ユニット。
【請求項４】
前記副流路は、前記副流路開口面において幅方向の中央に開口していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のガス供給ユニット。
【請求項５】
前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面にヒータが設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のガス供給ユニット。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のガス供給ユニットを複数備え、前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面同士が互いに当接するように前記ガス供給ユニットを並列に配列したことを特徴とするガス供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数種類のガスを切り換えて流通させるガス供給ユニット及びガス供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造工程等に用いられるガス供給ユニットにおいて、キャリングガス流路の断面積が変化することによるガス圧の急激な変化を抑制するために、キャリングガス流路の断面形状や断面積を流路全体でほぼ一定になるようにしたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載のものについて、図６〜８を参照して説明する。図６はガス供給ユニットの平面図であり、図７は図６の７−７線断面図であり、図８は図６の８−８線断面図である。
【０００４】
このガス供給ユニット３１１では、キャリングガス入力ポート３２１ｓからキャリングガス出力ポート３２１ｅまで、１本のキャリングガス流路３２１が形成され、各弁ブロック３２０Ａ〜３２０Ｄには、プロセスガス入力ポート３２２ｓからキャリングガス流路３２１へと連通するプロセスガス流路３２２が形成されている。
【０００５】
各弁ブロック３２０Ａ〜３２０Ｄでは、開閉弁３５０によってボディ３３５内でプロセスガス流路３２２とキャリングガス流路３２１との連通・遮断が操作される。ボディ３３５の内部には逆「Ｖ」字型のブロック流路３３１が形成され、弁室３２４に連通したプロセスガス流路３２２が弁孔３２５を介して流路３３１に連通している。ベースブロック３４０には「Ｖ」字型のブロック流路３３２が間隔をおいて形成され、弁ブロック３２０Ａ〜３２０Ｄの各ブロック流路３３１とベースブロック３４０のブロック流路３３２とが直列に接続されて１本のキャリングガス流路３２１を構成している。
【０００６】
したがって、特許文献１に記載のガス供給ユニット３１１によれば、キャリングガス流路３２１は、断面形状や断面積がほぼ一定に形成されているため、キャリングガス流路３２１を流通するキャリングガスの圧力の急激な変化や、乱流の発生を抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００４／０３６０９９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載のものは、各弁ブロック３２０Ａ〜３２０Ｄのブロック流路３３１とベースブロック３４０のブロック流路３３２とがそれぞれ「Ｖ」字型に形成され、それらのブロック流路３３１，３３２が接続される構成であるため、キャリングガス流路３２１が複数個所で折れ曲がる複雑な形状となる。このため、キャリングガスを円滑に流通させることに支障をきたすおそれがある。
【０００９】
また、開閉弁３５０が配置される側面部３３５ａに対して垂直な側面部３３５ｃに、プロセスガス入力ポート３２２ｓが設けられているため、弁ブロック３２０Ａ〜３２０Ｄの側方にプロセスガス入力ポート３２２ｓを配置する空間を確保する必要がある。ここで、プロセスガス流路３２２を上記側面部３３５ａに平行な側面部３３５ｂまで延ばして開口させることも考えられるが、その場合にはキャリングガス流路３２１とプロセスガス流路３２２Ａ（二点鎖線で表示）との干渉が問題となる。したがって、弁ブロック３２０Ａ〜３２０Ｄの幅（図８における左右方向の長さ）を縮小したり、ガス供給ユニット３１１を並列に配列して高集積化したりすることが困難である。
【００１０】
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、キャリングガス（パージガス）を円滑に流通させるとともに、複数の開閉弁が設けられたブロックの幅を縮小することのできるガス供給ユニットを提供することを主たる目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【００１２】
第１の発明は、内部に流路の設けられた流路ブロックを備え、前記流路は主流路と前記主流路にそれぞれ連通する複数の副流路とを含み、前記副流路毎に開閉弁を備え、前記開閉弁が対応する前記副流路と前記主流路とを遮断および連通するガス供給ユニットであって、前記流路ブロックは、長尺状に延びる直方体状に形成され、前記開閉弁が搭載された弁搭載面と前記副流路が開口した副流路開口面とを有し、前記弁搭載面および前記副流路開口面は互いに反対側に位置する面であり、前記開閉弁は、前記弁搭載面の長手方向に沿って直列に配置され、前記開閉弁の各弁室が前記弁搭載面に設けられ、前記副流路が前記弁室に連通され、前記流路ブロックの内部には前記主流路と前記弁室とを接続する接続流路が設けられ、前記接続流路は前記弁室の略中央に連通されるとともに前記弁搭載面から離間する方向へ延び、前記主流路は、前記接続流路よりも太く形成されて前記弁搭載面の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から一方側に偏った部分に配置され、前記副流路は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分を通過していることを特徴とする。
【００１３】
上記構成によれば、主流路は、前記接続流路よりも太く形成されて前記弁搭載面の長手方向に沿って直線状に延びているため、キャリングガス（パージガス）が主流路を流通する際の抵抗を小さくすることができるとともに、キャリングガスの流れが乱れることを抑制することができる。このため、主流路にキャリングガスを円滑に流通させることができる。その結果、主流路にキャリングガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかに運ぶことができる。また、主流路にパージガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかにパージガスへ置換することができる。
【００１４】
主流路は、前記流路ブロックにおいて開閉弁が搭載された弁搭載面の幅方向に関して、前記弁室の中央から一方側に偏った部分に配置されているため、主流路を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積（空間）を確保することができる。ここで、主流路は接続流路よりも太く形成されているため、弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から一方側に偏った部分に主流路を配置したとしても、主流路と接続流路との接続を確保することが容易となる。
【００１５】
そして、副流路は、前記弁搭載面とは反対側の副流路開口面に開口しているため、弁搭載面を幅方向から挟む両側面にプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。ここで、副流路は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分、すなわち主流路を配置した部分と反対側に流路を配置するために確保された部分を通過しているため、流路ブロックにおいて弁搭載面の幅の範囲内に副流路を配置することが容易となる。したがって、流路ブロックの幅を縮小することができ、ひいては複数のガス供給ユニットを備えるガス供給装置を高集積化することができる。
【００１６】
ガス供給ユニットの幅をできるだけ狭くするために、こうした流路ブロックでは弁搭載面および副流路開口面の幅が必要最低限の幅に制限されることが多い。これに対して、以下の第２〜第４のいずれかの発明の構成を採用することが有効である。
【００１７】
第２の発明では、第１の発明において、前記副流路において前記主流路の横を通過する部分が他の部分よりも細く形成されているため、流路ブロックにおいて主流路に干渉しないように副流路を配置することが容易となる。したがって、流路ブロックの幅を縮小することができる。
【００１８】
第３の発明では、第１又は第２の発明において、前記接続流路は前記弁搭載面に対して垂直に延びているため、流路ブロックの幅を縮小することを可能としつつ、弁室と接続流路との接続部（例えば弁室に設けられる弁座）の加工を容易に行うことができる。
【００１９】
さらに、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して、前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分を副流路が通過することに伴って、副流路開口面において幅方向の一端寄りの位置に副流路が開口すると、副流路を設けるために必要な幅を十分に確保できなくなるおそれがある。
【００２０】
この点、第４の発明は、第１〜第３のいずれかの発明において、前記副流路は、前記副流路開口面において幅方向の中央に開口しているため、流路ブロックの幅が制限される場合であっても、副流路を設けるために必要な幅を十分に確保することができる。
【００２１】
第５の発明では、第１〜第４のいずれかの発明において、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面にヒータが設けられているため、弁搭載面の幅方向に関して弁室の中央から一方側に偏った部分に配置された主流路からヒータまでの距離が短くなるとともに、弁搭載面の幅方向に関して弁室の中央から主流路とは反対側に偏った部分を通過する副流路からヒータまでの距離が短くなる。したがって、主流路および副流路を流通するガスを効率的に加熱することができる。
【００２２】
上述したように、本発明に係るガス供給ユニットでは、弁搭載面を幅方向から挟む両側面にプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。このため、第６の発明のように、第１〜第５のいずれかの発明におけるガス供給ユニットを複数備え、前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面同士が互いに当接するように前記ガス供給ユニットを並列に配列することにより、１つ１つのガス供給ユニットの幅が縮小されるとともに、ガス供給ユニット同士の隙間を省略することができる。その結果、ガス供給装置を大幅に高集積化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明に係るガス供給ユニットの平面図。
【図２】図１の２−２線断面図。
【図３】図１の３−３線断面図。
【図４】キャリングガス流路の変形例を示す断面図。
【図５】ガス供給ユニットの変形例を示す断面図。
【図６】従来のガス供給ユニットの平面図。
【図７】図６の７−７線断面図。
【図８】図６の８−８線断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を具現化した一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２５】
図１に示すように、ガス供給装置１０は、同じ構成のガス供給ユニット１１を複数備えている。これらのガス供給ユニット１１は互いに固定されており、全体として一体化されている。
【００２６】
ガス供給ユニット１１は、長尺状に延びる直方体状に形成された流路ブロック２０と、複数の開閉弁５０（５０Ａ）とを備えている。流路ブロック２０の上面２０ａ（弁搭載面）には、開閉弁５０が搭載されている。開閉弁５０は、上面２０ａの長手方向に沿って直列に配置されている。開閉弁５０は、略円柱状に形成されている。流路ブロック２０の上面２０ａの幅は、開閉弁５０の円形をなす上面の直径と略等しくされている。なお、開閉弁５０は、流路ブロック２０の上面２０ａの幅内に収まっていればよく、略円柱状の形状に限らず、四角柱状の形状等、任意の形状のものを採用することができる。
【００２７】
複数のガス供給ユニット１１は、流路ブロック２０の上面２０ａの幅方向（長手方向に直交する方向）において、互いの側面同士が当接している。すなわち、複数のガス供給ユニット１１は、流路ブロック２０において上面２０ａを幅方向から挟む両側面同士が互いに当接するように並列に配列されている。このため、ガス供給ユニット１１が集積される方向、すなわち流路ブロック２０の上面２０ａの幅方向において、流路ブロック２０同士の間には隙間が形成されていない。
【００２８】
流路ブロック２０の上面２０ａの長手方向の一端部には、キャリングガス（パージガス）の出力ポート２９が設けられている。この出力ポート２９と反対側の端部に設けられた開閉弁５０Ａはキャリングガスの流通状態を変更し、他の開閉弁５０は各プロセスガスの流通状態を変更する。
【００２９】
次に、図２，３を参照して、１つのガス供給ユニット１１の構成について代表して説明する。なお、図２は図１の２−２線断面図であり、図３は図１の３−３線断面図について開閉弁５０を省略して示している。
【００３０】
流路ブロック２０の内部には、その長手方向（上面２０ａの長手方向）に沿って直線状に延びるキャリングガス流路２１（主流路）が設けられている。キャリングガス流路２１は、略円形の流路断面を有しており、その太さ（径）が一定となるように形成されている。詳しくは、キャリングガス流路２１は、流路ブロック２０の長手方向の端面２０ｄからドリル等で加工を行うことにより形成されている。そして、その加工孔が栓３１によって閉じられている。キャリングガス流路２１において栓３１と反対側の端部には、キャリングガスの出力ポート２９が接続されている。
【００３１】
流路ブロック２０の内部には、キャリングガス流路２１にそれぞれ連通する複数のプロセスガス流路２２（副流路）が設けられている。プロセスガス流路２２（２２Ａ）は、流路ブロック２０の下面２０ｂ（副流路開口面）に開口している。プロセスガス流路２２は、下面２０ｂにおいて幅方向（図３の左右方向）の中央に開口している。すなわち、プロセスガス流路２２の開口部は、流路ブロック２０を幅方向で二等分する仮想平面Ｆを中心として均等に配置されている。
【００３２】
流路ブロック２０の上面２０ａには、流路ブロック２０の長手方向（上面２０ａの長手方向）に沿って所定間隔で上記開閉弁５０の弁室２４が設けられている。そして、上記各プロセスガス流路２２は各弁室２４に連通されている。すなわち、開閉弁５０は、プロセスガス流路２２毎に設けられている。
【００３３】
弁室２４は、キャリングガス流路２１の延びる方向に沿って所定間隔で設けられているとともに、流路ブロック２０の幅方向（流路ブロック２０の上面２０ａの幅方向）において中央に設けられている。弁室２４は、略円形の凹部として形成されている。そして、弁室２４は、流路ブロック２０の幅を縮小するために、流路ブロック２０の幅方向の略全長にわたって設けられている。換言すれば、流路ブロック２０の幅は、弁室２４の径と略等しく又はそれよりも若干広く設定されている。
【００３４】
弁室２４の中央には、開閉弁５０の弁体５１が当接および離間する弁座２４ａが設けられている。弁座２４ａは、略円環状の突部として形成されている。弁室２４の中央、すなわち弁座２４ａで囲まれる部分には、接続流路２６が連通されている。接続流路２６は、流路ブロック２０内において、流路ブロック２０の上面２０ａから離間する方向へ延びて上記キャリングガス流路２１に接続されている。すなわち、接続流路２６は、弁室２４とキャリングガス流路２１とを接続している。したがって、上記プロセスガス流路２２は、弁室２４及び接続流路２６を介してキャリングガス流路２１に接続されている。
【００３５】
プロセスガス遮断後のデッドスペースとなる接続流路２６をできるだけ短くするために、キャリングガス流路２１は弁室２４の近傍に配置されている。接続流路２６は、流路ブロック２０の上面２０ａから垂直に延びてキャリングガス流路２１に接続されている。詳しくは、上面２０ａの幅方向に関して、接続流路２６はキャリングガス流路２１の端部付近に接続されている。また、接続流路２６は、流路ブロック２０の幅方向の中央に配置されている。このため、流路ブロック２０において複数の接続流路２６の中心軸線は、流路ブロック２０を幅方向で二等分する仮想平面Ｆ上に位置している。
【００３６】
キャリングガス流路２１は、接続流路２６やプロセスガス流路２２よりも太く形成されている。このため、キャリングガス流路２１が流路ブロック２０の長手方向に直線状に延びる構成であったとしても、比較的容易に加工を行うことができる。
【００３７】
開閉弁５０は、電磁駆動式の弁であり、コイル５２への通電制御を通じて弁体５１を往復駆動する。そして、弁室２４に設けられた弁座２４ａに弁体５１が当接および離間することにより、弁室２４と接続流路２６とが遮断および連通される。なお、開閉弁５０は、電磁駆動式の弁に限らず、エアオペレイト式の弁や圧電素子駆動式の弁等、任意の型式のものを採用することもできる。
【００３８】
ここで、キャリングガス流路２１は、流路ブロック２０の幅方向に関して弁室２４の中央から一方側に偏った部分、すなわち仮想平面Ｆから偏った部分に配置されている。すなわち、キャリングガス流路２１の中心軸線は仮想平面Ｆからずれており、キャリングガス流路２１は流路ブロック２０の幅方向の中央から偏っている。換言すれば、キャリングガス流路２１は、流路ブロック２０において上面２０ａを幅方向から挟む両側面２０ｃの一方寄りに配置されている。このため、流路ブロック２０において、キャリングガス流路２１を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積（空間）を確保することができる。また、キャリングガス流路２１は、弁室２４の中央から上面２０ａに対して垂直に延びる接続流路２６に接続することのできる範囲で、流路ブロック２０の幅方向に関して弁室２４の中央から一方側に偏っている。なお、キャリングガス流路２１の流路断面積（径）は、ガス供給ユニット１１において必要な量のキャリングガスを流通させることができるように設定されている。
【００３９】
そして、キャリングガス流路２１を仮想平面Ｆから偏らせて配置したことにより反対側に確保された部分をプロセスガス流路２２が通過している。プロセスガス流路２２は、流路ブロック２０において仮想平面Ｆからキャリングガス流路２１とは反対側に偏った部分を通過して上記弁室２４に接続されている。このため、開閉弁５０（弁室２４）が設けられる上面２０ａに対して垂直な側面２０ｃにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。
【００４０】
プロセスガス流路２２は、流路ブロック２０の上面２０ａに対して垂直に延びる垂直部分２２ｂを有している。そして、この垂直部分２２ｂがキャリングガス流路２１の横を通過している。このため、流路ブロック２０内において、キャリングガス流路２１と側面２０ｃとの間隔を一定に保つように垂直部分２２ｂを配置することができる。プロセスガス流路２２においてキャリングガス流路２１の横を通過する垂直部分２２ｂが、他の部分である傾斜部分２２ａよりも細く形成されている。これらの構成により、流路ブロック２０の幅が制限される場合であっても、流路ブロック２０内においてキャリングガス流路２１に干渉しないようにプロセスガス流路２２（垂直部分２２ｂ）を配置することが容易となる。また、プロセスガス流路２２は、流路ブロック２０の下面２０ｂにおいて幅方向の中央に開口するとともに、キャリングガス流路２１を避けるように折れ曲がって弁室２４に接続されている。
【００４１】
このように構成されたガス供給ユニット１１において、複数のプロセスガス流路２２のうち、流路ブロック２０の長手方向においてキャリングガス（パージガス）の出力ポート２９と反対側の端部に設けられたプロセスガス流路２２Ａはキャリングガスの流路として用いられる。そして、このプロセスガス流路２２Ａに対応する開閉弁５０Ａによって、キャリングガスが遮断および流通される。その他のプロセスガス流路２２には各プロセスガスが供給され、それぞれに対応する開閉弁５０によって各プロセスガスが遮断および流通される。また、並列に配列されたガス供給ユニット１１によってガス供給装置１０が構成され、全体としてキャリングガス及びプロセスガスの流通状態が制御される。なお、キャリングガス流路２１にキャリングガスを流通させず、プロセスガス及びパージガスの流路として用いてもよい。
【００４２】
以上詳述した本実施形態は以下の利点を有する。
【００４３】
キャリングガス流路２１は、接続流路２６よりも太く形成されて流路ブロック２０の長手方向（上面２０ａの長手方向）に沿って直線状に延びているため、キャリングガスがキャリングガス流路２１を流通する際の抵抗を小さくすることができるとともに、キャリングガスの流れが乱れることを抑制することができる。このため、キャリングガス流路２１にキャリングガスを円滑に流通させることができる。その結果、キャリングガス流路２１にキャリングガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかに運ぶことができる。また、キャリングガス流路２１にパージガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかにパージガスへ置換することができる。
【００４４】
キャリングガス流路２１は、流路ブロック２０において開閉弁５０が搭載された上面２０ａの幅方向に関して弁室２４の中央から一方側に偏った部分、すなわち流路ブロック２０を幅方向で二等分する仮想平面Ｆから偏った部分に配置されている。このため、キャリングガス流路２１を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積（空間）を確保することができる。ここで、キャリングガス流路２１は接続流路２６よりも太く形成されているため、仮想平面Ｆから偏った部分にキャリングガス流路２１を配置したとしても、キャリングガス流路２１と接続流路２６との接続を確保することが容易となる。
【００４５】
そして、プロセスガス流路２２は、開閉弁５０の弁室２４が設けられた上面２０ａとは反対側の下面２０ｂに開口しているため、上面２０ａを幅方向から挟む両側面２０ｃ、すなわち上面２０ａに対して垂直な側面２０ｃにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。ここで、プロセスガス流路２２は、流路ブロック２０において仮想平面Ｆからキャリングガス流路２１とは反対側に偏った部分、すなわちキャリングガス流路２１を配置した部分と反対側に他の流路を配置するために確保された部分を通過して弁室２４に接続されているため、流路ブロック２０の幅の範囲内にプロセスガス流路２２を配置することが容易となる。したがって、流路ブロック２０の幅を縮小することができ、ひいては複数のガス供給ユニット１１を備えるガス供給装置１０を高集積化することができる。
【００４６】
ガス供給ユニット１１の幅をできるだけ狭くするために、流路ブロック２０では上面２０ａおよび下面２０ｂの幅が必要最低限の幅に制限されている。これに対して、以下の構成が有効である。
【００４７】
プロセスガス流路２２においてキャリングガス流路２１の横を通過する垂直部分２２ｂが他の部分である傾斜部分２２ａよりも細く形成されているため、流路ブロック２０においてキャリングガス流路２１に干渉しないようにプロセスガス流路２２を配置することが容易となる。したがって、流路ブロック２０の幅を縮小することができる。
【００４８】
接続流路２６は流路ブロック２０の上面２０ａに対して垂直に延びているため、流路ブロック２０の幅を縮小することを可能としつつ、弁室２４と接続流路２６との接続部、すなわち弁座２４ａの加工を容易に行うことができる。
【００４９】
さらに、流路ブロック２０において上面２０ａの幅方向に関して、弁室２４の中央からキャリングガス流路２１とは反対側に偏った部分をプロセスガス流路２２が通過することに伴って、下面２０ｂにおいて幅方向の一端寄りの位置にプロセスガス流路２２が開口すると、プロセスガス流路２２を設けるために必要な幅を十分に確保できなくなるおそれがある。
【００５０】
この点、プロセスガス流路２２は、流路ブロック２０の下面２０ｂにおいて、流路ブロック２０の幅方向の中央に開口しているため、流路ブロック２０の幅が制限される場合であっても、プロセスガス流路２２を設けるために必要な幅を十分に確保することができる。
【００５１】
ガス供給ユニット１１では、開閉弁５０（弁室２４）が設けられる上面２０ａに対して垂直な側面２０ｃにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。そして、ガス供給装置１０は、複数のガス供給ユニット１１を備え、上面２０ａを幅方向から挟む両側面２０ｃ同士が互いに当接するようにガス供給ユニット１１を並列に配列している。このため、１つ１つのガス供給ユニット１１の幅が縮小されるとともに、ガス供給ユニット１１同士の隙間を省略することができる。その結果、ガス供給装置１０を大幅に高集積化することができる。
【００５２】
上記実施形態に限定されず、例えば次のように実施することもできる。
【００５３】
プロセスガス流路２２は、流路ブロック２０の下面２０ｂにおいて幅方向の中央に開口するとともに、キャリングガス流路２１を避けるように折れ曲がって弁室２４に接続されるようにした。しかしながら、キャリングガス流路２１とプロセスガス流路２２とが干渉しないのであれば、下面２０ｂから弁室２４まで斜め方向に延びる直線状のプロセスガス流路を設けてもよい。また、それに加えて、プロセスガス流路の太さが一定になるようにしてもよい。
【００５４】
図２において、流路ブロック２０の長手方向の端部にキャリングガス流路２１の上流側の端部を塞ぐ栓３１を設けるようにしたが、この栓３１を設ける代わりにこの開口からキャリングガスを流入させるようにしてもよい。この場合には、プロセスガス流路２２Ａからプロセスガスを流入させて、開閉弁５０Ａはプロセスガスを遮断および連通させることとなる。なお、キャリングガスの流通状態を変更する開閉弁は、ガス供給ユニット１１とは別に設けるようにすればよい。また、キャリングガス流路２１の下流側の端部に、流路ブロック２０の上面２０ａに開口する出力ポート２９を設けるようにしたが、キャリングガス流路２１の下流側を流路ブロック２０の端面まで延長して開口させるようにしてもよい。
【００５５】
図４に示すように、流路ブロック１２０の側面１２０ｃに設けられた溝１２２とその溝開口に設けられた蓋１２３とによってキャリングガス流路１２１を形成することもできる。こうした構成によれば、図３に示すように流路ブロック２０の側面２０ｃ近傍にキャリングガス流路２１を形成する内壁の厚みを確保する必要がある場合と異なり、流路ブロック１２０の幅が制限される場合であっても、流路ブロック１２０の幅方向に関してキャリングガス流路１２１の幅（溝１２２の深さ）を確保することが容易となる。
【００５６】
図５に示すように、流路ブロック２０を幅方向で二等分する仮想平面Ｆに対向する側面２０ｃにヒータ７０Ａ，７０Ｂを設けてもよい。この場合には、仮想平面Ｆから偏った部分に配置されたキャリングガス流路２１からヒータ７０Ａまでの距離が短くなるとともに、仮想平面Ｆからキャリングガス流路２１とは反対側に偏った部分を通過するプロセスガス流路２２からヒータ７０Ｂまでの距離が短くなる。したがって、キャリングガス流路２１およびプロセスガス流路２２を流通するガスを効率的に加熱することができる。さらに、図５に示すように、流路ブロック２０の長手方向に延びる薄板状又は薄膜状にヒータ７０Ａ，７０Ｂを形成することにより、ガス供給ユニット１１の幅が拡大することを抑制することができる。また、複数のガス供給ユニット１１を並列に配列してガス供給装置１０を構成する場合に、隣り合う流路ブロック２０の間にヒータ７０Ａが挟み込まれた状態で、隣り合う流路ブロック２０が一体化されている構成を採用することにより、１つのヒータ７０Ａによって隣り合う２つの流路ブロック２０を加熱することができる。なお、この場合にはヒータ７０Ａ又はヒータ７０Ｂの一方のみが設けられる。
【００５７】
流路ブロック２０は横幅よりも縦幅が広い直方体状に形成されていたが、横幅と縦幅とが等しい四角柱状の流路ブロックを採用することもできる。
【００５８】
図１において、複数のガス供給ユニット１１の出力ポート２９を接続して、複数のガス供給ユニット１１の組み合わせによりガスの種類や流量を制御することもできる。
【符号の説明】
【００５９】
２０…流路ブロック、２０ａ…弁搭載面としての上面、２０ｂ…副流路開口面としての下面、２１…主流路としてのキャリングガス流路、２２…副流路としてのプロセスガス流路、２４…弁室、２６…接続流路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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