(57)【要約】      （修正有）【課題】大量製造時にも安定して高収率、高純度でアゾメチン色素又はインドアニリン色素を製造する方法の提供。【解決手段】式（４）又は（５）で表される化合物の共存下で式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合するアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。式中、Ｑは水素原子又は脱離基を表す。Ａは酸素原子又は−Ｃ（Ｒ１２）（Ｒ１３）−を表す。ｎは２〜６の整数で、複数のＡは同じでも異なってもよい。ＸはＮ原子、又はＮ→Ｏを表す。但しＸがＮ原子の場合は、Ｒ９〜Ｒ１１の少なくとも１つはＯＨ基である。Ｙは−Ｎ（Ｒ１４）−、又は−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−を表す。但し、Ａの少なくとも１つが酸素原子であるか、Ｒ１２〜１４の少なくとも１つとしてのＯＨ基若しくはＯＨ基を有するか、又は、Ｙが−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−である。Ｒ１〜１５、Ｘは各々独立して所定の原子又は基を表す。2011116898.tif 000036【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化剤存在下、下記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合するアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法において、下記一般式（４）又は（５）で表される化合物の共存下で反応することを特徴とするアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。
【化１】
2011116898.tif 000034
式中、
Ｒ１はアルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ２はカルバモイル基、又はシアノ基を表す。
Ｒ３はアルキル基、アリール基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ４はアルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ５〜Ｒ８は各々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロ環スルホニルアミノ基、ヘテロ環残基、又はハロゲン原子を表す。Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８が結合して炭素数５〜８の環を形成してもよい。
Ｑは水素原子又は脱離基を表す。
【化２】
2011116898.tif 000035
式中、
Ｒ９〜Ｒ１１は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、又はアルケニル基を表す。
Ｘは窒素原子、又はＮ→Ｏを表す。但しＸが窒素原子の場合は、Ｒ９〜Ｒ１１の少なくとも１つはヒドロキシアルキル基である。
Ａは酸素原子又は−Ｃ（Ｒ１２）（Ｒ１３）−を表す。
ｎは２〜６の整数を表し、複数のＡは同じでも異なってもよい。
Ｙは−Ｎ（Ｒ１４）−、又は−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−を表す。
Ｒ１２〜Ｒ１４は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヒドロキシ基、オキソ基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ１５はアルキル基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
但し、一般式（５）においては、Ａの少なくとも１つが酸素原子であるか、Ｒ１２〜Ｒ１４の少なくとも１つとしてのヒドロキシアルキル基若しくはヒドロキシ基を有するか、又は、Ｙが−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−である。
【請求項２】
前記一般式（４）又は一般式（５）で表される化合物が、アルカノールアミン化合物、モルホリン化合物、トリアルキルアミンＮ−オキシド化合物、又はモルホリンＮ−オキシド化合物である請求項１に記載のアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。
【請求項３】
前記一般式（３）で表される化合物とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合する請求項１又は２に記載のインドアニリン色素の製造方法。
【請求項４】
前記酸化縮合がアルコール系溶剤、グリコール系溶剤若しくはその誘導体、又はケトン系溶剤から選択される少なくとも１種の有機溶剤、或いはそれらの有機溶剤と水との混合溶媒の存在下で行われる請求項１〜３のいずれかに記載のアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アゾメチン色素又はインドアニリン色素を製造する方法に関する。本発明で製造される色素は、感熱転写記録用素材、光学記録用素材、カラートナー、インクジェット記録用素材、カラーフィルター、写真感光材料、特に感熱転写記録用素材や光学記録用素材として重要である。
【背景技術】
【０００２】
テレビ、ビデオ、スチルビデオカメラ等の一過性の画像からハ−ドコピ−を得る方法の一つに昇華型感熱転写記録方式がある。昇華型感熱転写記録方式は、昇華性色素をベースフィルム上に塗布した転写シートをサーマルヘッドで加熱し、該転写シート中の色素を記録紙に転写する熱転写プリント方式の一つである。この方法は加熱エネルギ−を変化させることにより色素の昇華転写量を制御することができ、階調性の良い画像が得られるので、特にピクトリアルカラ−記録には有効である。昇華型感熱転写記録方式では、従来からアゾメチン系色素やインドアニリン系色素等が広く使われており、更に近年ではそれらの金属キレート色素も優れた性能を有することが報告されている（特許文献１〜２参照）。
【０００３】
一方、直接加熱することなく、光学記録媒体にレーザー光を照射して情報を記録し、再生を行う情報記録方式がある。レーザー光によって一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体として、追記型ＣＤ（ＣＤ−Ｒ）や追記型ＤＶＤ（ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが知られている。ＤＶＤ−Ｒは、円盤状基板上に色素からなる記録層を、次いで通常は該記録層の上に光反射層を、更に必要に応じて保護層を有するディスクを二枚、又は該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板を該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光を照射して行い、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能であるとされている。
最近では、デジタルハイビジョンテレビの普及により、画像情報を安価簡便に記録できる大容量の光学記録媒体の要求が高まっている。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が急速に進められている。
上記の光学記録方式に用いられる色素としては、インドアニリン金属キレート色素が優れた性能を有することが報告されている（特許文献３〜４参照）。
【０００４】
これら昇華型感熱転写記録方式や光学記録方式に用いられるアゾメチン色素やインドアニリン色素の製造では、活性メチレン基又は活性メチン基を有する化合物（以下カプラーと記載する）とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを、赤血塩や過硫酸アルカリ等の酸化剤と塩基との存在下で酸化縮合する方法が最も広く利用されている（非特許文献１参照）。色素製造に使用する塩基は従来、種々の無機塩基が選択されているが、カプラーの種類によって収率や純度が低下する場合がある。また、通常塩基は水溶液に調製して用いるため反応容量が大きくなり、工業的大量生産には不向きである。一方、ピリジン、キノリン、トリエチルアミンといった一般的な有機アミン塩基も色素製造に使用されている（特許文献５参照）。この場合反応容量は比較的小スケールで行うことが出来るが、一方反応中にタール状成分や副生物が多く生成し、収率及び純度が顕著に低下する問題が生じる。これは、有機アミン塩基を用いる場合は通常酸化剤を滴下しながら反応を行うが、発熱を伴うため冷却して内温制御する必要があり、その結果滴下に長時間を要し、この間に原料や生成した色素が劣化してしまうことに起因する。
これらの理由から、大量製造時にも安定して高収率、高純度にアゾメチン色素又はインドアニリン色素が得られる製造方法の確立が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−９８４９２号公報
【特許文献２】特開平９−１４３３８２号公報
【特許文献３】特開平２００２−５２８２５号公報
【特許文献４】特開平２００４−９０５６４号公報
【特許文献５】特開平９−１００４１７号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】ジャーナル  オブ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），１９５７年、７９巻、５８３頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記の欠点を克服し、工業的規模での大量生産が可能な、高純度且つ高収率のアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、カプラーとｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合する際に、一般式（４）又は（５）で表される化合物の少なくとも一種の共存下で行うことにより、従来の一般的な無機塩基や有機塩基を用いた場合に比べ、目的物の色素を高収率且つ高純度で得ることができ、且つ反応容量の縮小が可能となり生産設備に制約されることなく大量生産できる製造方法を完成した。
本発明者らは前記課題を解決するために、種々の官能基が置換した有機アミン化合物やＮ−オキシド化合物を用いて詳細に検討した結果、ある特定の置換基を有する化合物に限り、色素の収率、純度が顕著に向上することを見出した。特に本発明では、ｐ−フェニレンジアミン誘導体や酸化剤を長時間滴下して仕込む大規模スケールでの製造においても、従来の塩基を用いた場合と比較して、原料や生成する色素の劣化、及びそれに伴うタール成分や副生物の生成が高度に抑制でき、粗結晶の段階でも十分満足できる品質の色素を高収率で得ることが可能である。
アゾメチン色素やインドアニリン色素の酸化縮合反応に用いる有機塩基としては、一般的な第１級〜第３級アミン塩基が開示されているが、本発明の化合物を用いてアゾメチン色素又はインドアニリン色素を製造する方法はこれまで報告例がなく、その有用性は本発明者らが初めて見出したものである。
すなわち、本発明は以下の方法によって達成される。
【０００９】
＜１＞
酸化剤存在下、下記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合するアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法において、下記一般式（４）又は（５）で表される化合物の共存下で反応することを特徴とするアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。  
【００１０】
【化１】
2011116898.tif 000002
【００１１】
式中、
Ｒ１はアルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ２はカルバモイル基又はシアノ基を表す。Ｒ３はアルキル基、アリール基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ４はアルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ５〜Ｒ８は各々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロ環スルホニルアミノ基、ヘテロ環残基、又はハロゲン原子を表す。Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８が結合して炭素数５〜８の環を形成してもよい。
Ｑは水素原子又は脱離基を表す。
【００１２】
【化２】
2011116898.tif 000003
【００１３】
式中、
Ｒ９〜Ｒ１１は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、又はアルケニル基を表す。Ｘは窒素原子、又はＮ→Ｏを表す。但しＸが窒素原子の場合は、Ｒ９〜Ｒ１１の少なくとも１つはヒドロキシアルキル基である。
Ａは酸素原子又は−Ｃ（Ｒ１２）（Ｒ１３）−を表す。ｎは２〜６の整数を表し、複数のＡは同じでも異なってもよい。Ｙは−Ｎ（Ｒ１４）−、又は−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−を表す。Ｒ１２〜Ｒ１４は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヒドロキシ基、オキソ基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ１５はアルキル基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
但し、一般式（５）においては、Ａの少なくとも１つが酸素原子であるか、Ｒ１２〜Ｒ１４の少なくとも１つとしてのヒドロキシアルキル基若しくはヒドロキシ基を有するか、又は、Ｙが−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−である。
【００１４】
＜２＞
前記一般式（４）又は一般式（５）の化合物が、アルカノールアミン化合物、モルホリン化合物、トリアルキルアミンＮ−オキシド化合物、又はモルホリンＮ−オキシド化合物である＜１＞に記載のアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。
＜３＞
前記一般式（３）で表される化合物とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合する＜１＞又は＜２＞に記載のインドアニリン色素の製造方法。
＜４＞
前記酸化縮合がアルコール系溶剤、グリコール系溶剤若しくはその誘導体、又はケトン系溶剤から選択される少なくとも１種の有機溶剤、或いはこれらの有機溶剤と水との混合溶媒の存在下で行われる＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載のアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、高純度、高収率、且つ工業的に大量生産可能なアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に本発明について更に詳しく説明する。
本発明は、酸化剤存在下、一般式（１）〜（３）で表される化合物とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合するアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法において、後述する一般式（４）又は（５）で表される化合物から選択される少なくとも一種の共存下で反応することを特徴とする。
【００１７】
【化３】
2011116898.tif 000004
【００１８】
式中、
Ｒ１はアルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ２はカルバモイル基又はシアノ基を表す。
Ｒ３はアルキル基、アリール基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ４はアルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ５〜Ｒ８は各々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロ環スルホニルアミノ基、ヘテロ環残基、又はハロゲン原子を表す。Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８が結合して炭素数５〜８の環を形成してもよい。
Ｑは水素原子又は脱離基を表す。
【００１９】
上記一般式（１）〜（３）で表されるカプラーは、通常、塩基性条件下でｐ−フェニレンジアミン誘導体の酸化体と速やかに酸化縮合し、アゾメチン色素又はインドアニリン色素を形成する。なお、一般式（１）〜（３）の化合物のプロトン互変異性体も本発明の範疇に含まれる。
一般式（１）〜（３）で表されるカプラーのうち、一般式（２）又は一般式（３）で表されるカプラーが好ましく、更に好ましくは一般式（３）で表されるカプラーである。
【００２０】
一般式（１）〜（３）において、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ８が表すアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の何れでもよく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が挙げられ、好ましくは直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ８が表すアリール基としては、例えばフェニル、ナフチル等の単環式又は二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すアルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ等のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０）が挙げられる。
【００２１】
Ｒ５〜Ｒ８が表すアルキルカルボニル基としては、例えばアセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル、デシルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシルカルボニル、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロオクチルカルボニル、シクロノニルカルボニル、シクロデシルカルボニル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したカルボニル基が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すアリールカルボニル基としては、例えばベンゾイル、ナフトイル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したカルボニル基が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すヘテロ環カルボニル基としては、例えばイミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、トリアゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、１，３，４−チアジアゾリルカルボニル、ピリジルカルボニル、ピリミジルカルボニル、ピラジルカルボニル、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ベンゾチアゾリルカルボニル、ベンゾオキサゾリルカルボニル等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が置換したカルボニル基が挙げられる。
【００２２】
Ｒ５〜Ｒ８が表すアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ペンタデシルオキシカルボニル、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル、シクロノニルオキシカルボニル、シクロデシルオキシカルボニル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したオキシカルボニル基が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すアリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したオキシカルボニル基が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すヘテロ環オキシカルボニル基としては、例えばイミダゾリルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル、トリアゾリルオキシカルボニル、チアゾリルオキシカルボニル、１，３，４−チアジアゾリルオキシカルボニル、ピリジルオキシカルボニル、ピリミジルオキシカルボニル、ピラジルオキシカルボニル、フリルオキシカルボニル、チエニルオキシカルボニル、ベンゾチアゾリルオキシカルボニル、ベンゾオキサゾリルオキシカルボニル等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が置換したオキシカルボニル基が挙げられる。
【００２３】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すカルバモイル基としては、例えば無置換カルバモイル基；Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）カルバモイル、Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−オクタデシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、ピリジルカルバモイル、フリルカルバモイル、チエニルカルバモイル、ベンゾチアゾリルカルバモイル、ベンゾオキサゾリルカルバモイル等、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式若しくは二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員）、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）でモノ置換されたカルバモイル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジドデシルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジピリミジルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フリルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−ピリジルカルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−チエニルカルバモイル等、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式若しくは二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）から選択される２つの基でジ置換されたカルバモイル基が挙げられる。
【００２４】
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すスルファモイル基としては、例えば無置換スルファモイル基；Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（ｉｓｏ−プロピル）スルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ−ヘキシルスルファモイル、Ｎ−オクチルスルファモイル、Ｎ−デシルスルファモイル、Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−テトラデシルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−ナフチルスルファモイル、Ｎ−イミダゾリルスルファモイル、Ｎ−オキサゾリルスルファモイル、Ｎ−チアゾリルスルファモイル、Ｎ−ピリジルスルファモイル、Ｎ−チエニルスルファモイル、Ｎ−ベンゾオキサゾリルスルファモイル等、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式若しくは二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）でモノ置換されたスルファモイル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジピリジルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジピラジルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ピリジルスルファモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−フリルスルファモイル等、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式若しくは二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）から選択される２つの基でジ置換されたスルファモイル基が挙げられる。
【００２５】
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すアミノ基としては、例えば無置換アミノ基；Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−デシルアミノ、Ｎ−テトラデシルアミノ、Ｎ−オクタデシルアミノ、Ｎ−シクロプロピルアミノ、Ｎ−シクロヘキシルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ナフチルアミノ、Ｎ−チアゾリルアミノ、Ｎ−ピリミジルアミノ、Ｎ−フリルアミノ、Ｎ−チエニルアミノ等、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式若しくは二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）でモノ置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジドデシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフリルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジピリジルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ピリジルアミノ等、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式若しくは二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）から選択される２つの基でジ置換されたアミノ基が挙げられる。
【００２６】
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すアルキルカルボニルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、ブチルカルボニルアミノ、ペンチルカルボニルアミノ、ヘキシルカルボニルアミノ、ヘプチルカルボニルアミノ、オクチルカルボニルアミノ、ノニルカルボニルアミノ、デシルカルボニルアミノ、ウンデシルカルボニルアミノ、ドデシルカルボニルアミノ、トリデシルカルボニルアミノ、テトラデシルカルボニルアミノ、ペンタデシルカルボニルアミノ、シクロプロピルカルボニルアミノ、シクロブチルカルボニルアミノ、シクロペンチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、シクロヘプチルカルボニルアミノ、シクロオクチルカルボニルアミノ、シクロノニルカルボニルアミノ、シクロデシルカルボニルアミノ等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したカルボニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すアリールカルボニルアミノ基としては、例えばベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ等の単環式又は二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したカルボニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すヘテロ環カルボニルアミノ基としては、例えばイミダゾリルカルボニルアミノ、オキサゾリルカルボニルアミノ、トリアゾリルカルボニルアミノ、チアゾリルカルボニルアミノ、１，３，４−チアジアゾリルカルボニルアミノ、ピリジルカルボニルアミノ、ピリミジルカルボニルアミノ、ピラジルカルボニルアミノ、フリルカルボニルアミノ、チエニルカルボニルアミノ、ベンゾチアゾリルカルボニルアミノ、ベンゾオキサゾリルカルボニルアミノ等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が置換したカルボニルアミノ基が挙げられる。
【００２７】
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すアルコキシカルボニルアミノ基としては、例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ、ヘプチルオキシカルボニルアミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ、ノニルオキシカルボニルアミノ、デシルオキシカルボニルアミノ、ウンデシルオキシカルボニルアミノ、ドデシルオキシカルボニルアミノ等の、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すアリールオキシカルボニルアミノ基としては、例えばフェノキシカルボニルアミノ、ナフチルオキシカルボニルアミノ等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ３、Ｒ５〜Ｒ８が表すヘテロ環オキシカルボニルアミノ基としては、例えばイミダゾリルオキシカルボニルアミノ、オキサゾリルオキシカルボニルアミノ、トリアゾリルオキシカルボニルアミノ、チアゾリルオキシカルボニルアミノ、１，３，４−チアジアゾリルオキシカルボニルアミノ、ピリジルオキシカルボニルアミノ、ピリミジルオキシカルボニルアミノ、ピラジルオキシカルボニルアミノ、フリルオキシカルボニルアミノ、チエニルオキシカルボニルアミノ、ベンゾチアゾリルオキシカルボニルアミノ、ベンゾオキサゾリルオキシカルボニルアミノ等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が置換したオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
【００２８】
Ｒ５〜Ｒ８が表すアルキルスルホニルアミノ基としては、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニルアミノ、ヘプチルスルホニルアミノ、オクチルスルホニルアミノ、ノニルスルホニルアミノ、デシルスルホニルアミノ、ウンデシルスルホニルアミノ、ドデシルスルホニルアミノ、トリデシルスルホニルアミノ、テトラデシルスルホニルアミノ、ペンタデシルスルホニルアミノ、シクロプロピルスルホニルアミノ、シクロブチルスルホニルアミノ、シクロペンチルスルホニルアミノ、シクロヘキシルスルホニルアミノ、シクロヘプチルスルホニルアミノ、シクロオクチルスルホニルアミノ、シクロノニルスルホニルアミノ、シクロデシルスルホニルアミノ等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したスルホニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すアリールスルホニルアミノ基としては、例えばフェニルスルホニルアミノ、ナフチルスルホニルアミノ等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したスルホニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すヘテロ環スルホニルアミノ基としては、例えばイミダゾリルスルホニルアミノ、オキサゾリルスルホニルアミノ、トリアゾリルスルホニルアミノ、チアゾリルスルホニルアミノ、１，３，４−チアジアゾリルスルホニルアミノ、ピリジルスルホニルアミノ、ピリミジルスルホニルアミノ、ピラジルスルホニルアミノ、フリルスルホニルアミノ、チエニルスルホニルアミノ、ベンゾチアゾリルスルホニルアミノ、ベンゾオキサゾリルスルホニルアミノ等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が置換したスルホニルアミノ基が挙げられる。
【００２９】
Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ８が表すヘテロ環残基としては、例えばイミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、フリル、チエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が挙げられる。
Ｒ５〜Ｒ８が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００３０】
これらＲ１〜Ｒ８における各置換基は更に置換基を有してもよい。具体的には、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル又はアリール基で置換されたカルボニル基、アルコキシ又はアリールオキシ基で置換されたカルボニル基、アルキル及び／又はアリール基でモノ又はジ置換されたカルバモイル基、アルキル又はアリール基で置換されたスルホニル基、アルキル及び／又はアリール基でモノ又はジ置換されたアミノ基、アルキル又はアリール基で置換されたカルボニルアミノ基、シアノ基、ハロゲン原子、ヘテロ環残基が挙げられ、これら単独又はこれらを組み合わせて構成される炭素数１５以下の置換基である。こららの基の具体的な例としてはＲ１〜Ｒ８におけるものと同様のものが挙げられる。
Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８とが結合して形成する炭素数５〜８の環は、部分飽和環、芳香環、ヘテロ環のいずれであってもよい。
Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８とが結合して形成する部分飽和環としては、例えばシクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキサジエン環等が挙げられる。
Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８とが結合して形成する芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８とが結合して形成するヘテロ環としては、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環等が挙げられる。
これら形成した部分飽和環、芳香環、及びヘテロ環は更に置換基を有してもよい。更なる置換基としては、具体的にはアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子が挙げられる。こららの基の具体的な例としてはＲ１〜Ｒ８におけるものと同様のものが挙げられる。
【００３１】
Ｑは水素原子又は脱離基である。Ｑが表す脱離基は、酸化縮合反応時に脱離するものなら如何なる置換基でもよい。好ましくは活性部位（Ｑが結合している部位）に窒素原子や酸素原子、イオウ原子等を介して結合している基、又はハロゲン原子が挙げられる。具体的には、メトキシ、プロポキシ、メトキシエトキシ等のアルコキシ基；フェノキシ、フェニルスルホニルフェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、カルバモイルオキシ等のカルボニルオキシ基；メチルスルホニルオキシ、ｎ−プロピルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシ等のスルホニルオキシ基；メチルスルホニル、エチルスルホニル等のアルキルスルホニル基；フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等のアリールスルホニル基；Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ−ノニルスルファモイル、フェニルスルファモイル、ナフチルスルファモイル等のアルキル基又はアリールで基で置換されたスルファモイル基；フェニルアゾ、ナフチルアゾ等のアリールアゾ基；メチルチオ、オクチルチオ等のアルキルチオ基；フェニルチオ、ニトロフェニルチオ等のアリールチオ基；テトラゾリルチオ、ベンゾチアゾリルチオ、ベンゾオキサゾリルチオ等のヘテロ環チオ基；イミダゾリジニル、オキサゾリジニル、トリアゾリル、ベンゾトリアゾリル等のヘテロ環残基；サクシンイミド、フタルイミド、ヒダントイニル等の環状イミド基；ヨウ素、臭素、塩素等のハロゲン原子が挙げられる。
Ｑは好ましくは、一般式（１）で表される化合物の場合は水素原子、アリールオキシ基、ヘテロ環残基、環状イミド基、ハロゲン原子であり、一般式（２）で表される化合物の場合は水素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子であり、一般式（３）で表される化合物の場合は水素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子である。
【００３２】
Ｒ１は、好ましくは直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、アルキル基又はアルコキシ基が置換したフェニル基、ヘテロ環残基である。より好ましくは、直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、アルキル基又はアルコキシ基が置換したフェニル基である。
Ｒ２は、好ましくはアリール基又はヘテロ環残基が置換したカルバモイル基、シアノ基である。
Ｒ３は、好ましくは直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、アリール基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基である。より好ましくは、直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、アリール基、アルキルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４）、アリールアミノ基である。
Ｒ４は、好ましくは直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、アリール基、ヘテロ環残基である。より好ましくは、直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、アリール基である。
【００３３】
Ｒ５は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリールアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、へテロ環残基、ハロゲン原子である。より好ましくは、水素原子、直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、ハロゲン原子である。
Ｒ６は、好ましくは水素原子、直鎖又は分岐アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）である。より好ましくは、水素原子又はメチル基である。
Ｒ７は、好ましくはアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、ヘテロ環カルバモイル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、ヘテロ環スルファモイル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロ環スルホニルアミノ基である。より好ましくは、アルキルカルバモイル基（好ましくは炭素数２〜５）、アリールカルバモイル基、ヘテロ環カルバモイル基、アルキルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜５）、アリールカルボニルアミノ基、ヘテロ環カルボニルアミノ基である。
Ｒ８は、好ましくは水素原子である。
Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８が結合して形成する環として好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環である。
【００３４】
次に、本発明で使用するｐ−フェニレンジアミン誘導体について詳細に説明する。本発明におけるｐ−フェニレンジアミン誘導体は下記一般式（６）で表される化合物である。
【００３５】
【化４】
2011116898.tif 000005
【００３６】
式中、Ｒ１６〜Ｒ１９は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、シアノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、又はハロゲン原子を表す。Ｒ２０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ２１はアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ２０とＲ２１が結合して、窒素原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環（好ましくは５〜７員環）を形成してもよい。Ｒ１７とＲ２０及び／又はＲ１９とＲ２１が結合して、窒素原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環（好ましくは５〜７員環）を形成してもよい。
【００３７】
Ｒ１６〜Ｒ２１が表すアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の何れでもよく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ２１が表すアリール基としては、例えばフェニル、ナフチル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ等のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０）が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ、ナフチルオキシ等の単環式又は二環式のアリールオキシ基（好ましくは５〜１０員環）が挙げられる。
【００３８】
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルキルカルボニル基としては、例えばアセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル、デシルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシルカルボニル、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロオクチルカルボニル、シクロノニルカルボニル、シクロデシルカルボニル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）がカルボニル基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールカルボニル基としては、例えばベンゾイル、ナフトイル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したカルボニル基が挙げられる。
【００３９】
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ペンタデシルオキシカルボニル、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル、シクロノニルオキシカルボニル、シクロデシルオキシカルボニル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したオキシカルボニル基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したオキシカルボニル基が挙げられる。
【００４０】
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルキルカルバモイル基としては、例えばＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−デシルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−テトラデシルカルバモイル、Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバモイル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）がモノ置換又はジ置換したカルバモイル基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールカルバモイル基としては、例えばＮ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジナフチルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−ナフチルカルバモイル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）がモノ置換又はジ置換したカルバモイル基が挙げられる。
【００４１】
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルキルスルホニル基としては、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニル、デシルスルホニル、ウンデシルスルホニル、ドデシルスルホニル、トリデシルスルホニル、テトラデシルスルホニル、ペンタデシルスルホニル、シクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘプチルスルホニル、シクロオクチルスルホニル、シクロノニルスルホニル、シクロデシルスルホニル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したスルホニル基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールスルホニル基としては、例えばフェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したスルホニル基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルキルスルファモイル基としては、例えばＮ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−プロピルスルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ−ヘキシルスルファモイル、Ｎ−オクチルスルファモイル、Ｎ−デシルスルファモイル、Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−テトラデシルスルファモイル、Ｎ−シクロプロピルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘプチルスルファモイル等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）がモノ置換又はジ置換したスルファモイル基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールスルファモイル基としては、例えばＮ−フェニルスルファモイル、Ｎ−ナフチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジナフチルスルファモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−ナフチルスルファモイル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）がモノ置換又はジ置換したスルファモイル基が挙げられる。
【００４２】
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルキルカルボニルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、ブチルカルボニルアミノ、ペンチルカルボニルアミノ、ヘキシルカルボニルアミノ、ヘプチルカルボニルアミノ、オクチルカルボニルアミノ、ノニルカルボニルアミノ、デシルカルボニルアミノ、ウンデシルカルボニルアミノ、ドデシルカルボニルアミノ、トリデシルカルボニルアミノ、テトラデシルカルボニルアミノ、ペンタデシルカルボニルアミノ、シクロプロピルカルボニルアミノ、シクロブチルカルボニルアミノ、シクロペンチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、シクロヘプチルカルボニルアミノ、シクロオクチルカルボニルアミノ、シクロノニルカルボニルアミノ、シクロデシルカルボニルアミノ等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したカルボニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアルコキシカルボニルアミノ基としては、例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ、ヘプチルオキシカルボニルアミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ、ノニルオキシカルボニルアミノ、デシルオキシカルボニルアミノ、ウンデシルオキシカルボニルアミノ、ドデシルオキシカルボニルアミノ、トリデシルオキシカルボニルアミノ、テトラデシルオキシカルボニルアミノ、ペンタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロプロピルオキシカルボニルアミノ、シクロブチルオキシカルボニルアミノ、シクロペンチルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘプチルオキシカルボニルアミノ、シクロオクチルオキシカルボニルアミノ、シクロノニルオキシカルボニルアミノ、シクロデシルオキシカルボニルアミノ等の、直鎖、分岐又は環状アルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）が置換したオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すアリールオキシカルボニルアミノ基としては、例えばフェノキシカルボニルアミノ、ナフチルオキシカルボニルアミノ等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換したオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
【００４３】
Ｒ１６〜Ｒ１９が表すハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ２０とＲ２１が結合して形成する環としては、例えばピロリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、インドリン等の窒素原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環（好ましくは５〜７員環）が挙げられる。
Ｒ１７とＲ２０及び／又はＲ１９とＲ２１が結合して形成する環としては、例えばピロリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、インドリン環等の窒素原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環（好ましくは５〜７員環）が挙げられる。
Ｒ１６〜Ｒ１９における各置換基は更に置換基を有してもよい。具体的には、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）、ハロゲン原子が挙げられる。
Ｒ２０、Ｒ２１における各置換基は更に置換基を有してもよい。具体的には、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜５）、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ハロゲン原子が挙げられる。
【００４４】
Ｒ１６〜Ｒ１９において、好ましくは各々独立して水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）、アルキルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜５）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜５）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜４）、アリールスルホニル基、ハロゲン原子である。より好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４）である。
Ｒ２０、Ｒ２１において、好ましくは各々独立してアルキル基（好ましくは炭素数１〜６）であるか、又はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、若しくはハロゲン原子を置換基に有するアルキル基（好ましくは炭素数２〜１０）である。より好ましくは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜６）であるか、又はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、若しくはハロゲン原子を置換基に有するアルキル基（好ましくは炭素数２〜８）である。
Ｒ２０とＲ２１が互いに結合して形成する環において、好ましくはピロリジン、ピペリジン、モルホリンである。
Ｒ１７とＲ２０及び／又はＲ１９とＲ２１が結合して形成する環において、好ましくはピロリジン、ピペリジン、モルホリンである。
【００４５】
一般式（６）のｐ−フェニレンジアミン誘導体は、目的とする感熱転写記録用色素や光学的記録用色素の構造に応じて適宜選択することができる。ｐ−フェニレンジアミン誘導体（６）は、市販されているものも使用できるし、例えばＮ−アシル−ｐ−フェニレンジアミン誘導体を原料として一般的な方法で合成したものを使用してもよい。合成して使用する場合、ｐ−フェニレンジアミン誘導体は単離して使用してもよいし、単離せずに有機溶剤溶液のまま用いることもできる。また、ｐ−フェニレンジアミン誘導体は塩酸塩や硫酸塩などの付加塩で使用することができる。
ｐ−フェニレンジアミン誘導体の使用量はカプラー１モルに対して通常１〜５モル、好ましくは１〜２モルである。
【００４６】
本発明におけるアゾメチン色素又はインドアニリン色素は、下記一般式（１’）〜（３’）  で表される構造を有する化合物であることが好ましく、具体的には後述する（Ａ−１）〜（Ｃ−６８）の具体例で表される構造を有するものを挙げることができる。なお、式中Ｒ１〜Ｒ８、Ｒ１６〜Ｒ２１は前記と同義である。
【００４７】
【化５】
2011116898.tif 000006
【００４８】
次に本発明の製造方法について述べる。
本発明は、酸化剤存在下、一般式（１）〜（３）で表される化合物より選択される１種とｐ−フェニレンジアミン誘導体とを酸化縮合するアゾメチン色素又はインドアニリン色素の製造方法において、一般式（４）又は（５）で表される化合物の少なくとも一種を共存させて反応する製造方法である。
以下に、本発明の合成法の一例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００４９】
【化６】
2011116898.tif 000007
【００５０】
本発明では、状況に応じ種々の方法で目的物を合成することが出来る。以下にその合成例を示す。
（ａ）反応溶媒に一般式（４）又は（５）で表される化合物の少なくとも一種と、カプラーとｐ−フェニレンジアミン誘導体とを加えて溶解又は懸濁し、次いで酸化剤水溶液を反応系内に滴下しながら所定温度で酸化縮合反応を行う方法。
（ｂ）反応溶媒に一般式（４）又は（５）で表される化合物の少なくとも一種と、カプラーとを溶解又は懸濁し、そこにｐ−フェニレンジアミン誘導体の有機溶剤溶液と酸化剤水溶液とを、各々反応系内に（好ましくは同時に）滴下しながら所定温度で酸化縮合反応を行う方法。
（ｃ）反応溶媒にｐ−フェニレンジアミン誘導体と、一般式（４）又は（５）で表される化合物の少なくとも一種を加えて溶解又は懸濁し、そこにカプラーの有機溶剤溶液と、酸化剤水溶液とを各々反応系内に（好ましくは同時に）滴下しながら所定温度で酸化縮合反応を行う方法。
（ｄ）反応溶媒にカプラーを加えて溶解又は懸濁し、そこにｐ−フェニレンジアミン誘導体と一般式（４）又は（５）で表される化合物との混合有機溶剤溶液と、酸化剤水溶液とを各々反応系内に（好ましくは同時に）滴下しながら所定温度で酸化縮合反応を行う方法。
（ｅ）反応溶媒にｐ−フェニレンジアミン誘導体を加えて溶解又は懸濁し、そこにカプラーと一般式（４）又は（５）で表される化合物の有機溶剤溶液と、酸化剤水溶液とを各々反応系内に（好ましくは同時に）滴下しながら所定温度で酸化縮合反応を行う方法。
いずれの場合も、一般式（４）又は（５）で表される化合物は単独又は２種類以上を混合して使用することができ、これらの共存下で反応することにより、従来法と比較して目的物の収率、純度が顕著に向上する。
【００５１】
次に本発明で使用する塩基について説明する。
本発明の反応で使用する塩基は、一般式（４）又は（５）で表される化合物である。
【００５２】
【化７】
2011116898.tif 000008
式中、Ｒ９〜Ｒ１１は独立して、水素原子、アルキル基、アリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、又はアルケニル基を表す。Ｘは窒素原子又はＮ→Ｏを表す。但し、Ｘが窒素原子である場合、Ｒ９〜Ｒ１１の少なくとも１つはヒドロキシアルキル基である。尚、「→」は配位結合を表す。
Ａは酸素原子又は−Ｃ（Ｒ１２）（Ｒ１３）−を表す。ｎは２〜６の整数を表し、複数のＡは同じでも異なってもよい。Ｙは−Ｎ（Ｒ１４）−、又は−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−を表す。Ｒ１２〜Ｒ１４は独立して、水素原子、アルキル基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヒドロキシ基、オキソ基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｒ１５は、アルキル基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。
但し、Ａの少なくとも１つが酸素原子であるか、Ｒ１２〜Ｒ１４の少なくとも１つがヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ基であるか、又はＹがＮ（Ｒ１５）→Ｏである。
【００５３】
Ｒ９〜Ｒ１５が表すアルキル基としては、直鎖又は分岐の何れでもよく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル等のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基である。
Ｒ９〜Ｒ１５が表すアリールアルキル基としては、例えばベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、フェニルブチル等、単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が置換した直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が挙げられる。好ましくは、ベンジル基、フェネチル基である。
Ｒ９〜Ｒ１５が表すヒドロキシアルキル基としては、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプチル、ヒドロキシオクチル、ヒドロキシノニル、ヒドロキシデシル等のヒドロキシ基が置換した直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が挙げられる。好ましくは、ヒドロキシ基が置換した直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４）である。
【００５４】
Ｒ９〜Ｒ１５が表すアミノアルキル基としては、例えばアミノメチル、アミノエチル、アミノプロピル、アミノブチル等の無置換アミノ基を有するアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）；Ｎ−メチルアミノメチル、Ｎ−エチルアミノメチル、Ｎ−プロピルアミノエチル、Ｎ−ブチルアミノエチル、Ｎ−ヘキシルアミノプロピル、Ｎ−オクチルアミノブチル、Ｎ−シクロヘキシルアミノエチル等の、直鎖、分岐又は環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）がモノ置換したアミノ基を有するアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）；Ｎ−フェニルアミノメチル、Ｎ−ナフチルアミノプロピル等の、単環式又は二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）がモノ置換したアミノ基を有するアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）；Ｎ−フリルアミノエチル、Ｎ−チエニルアミノブチル等、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）でモノ置換されたアミノ基を有するアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノブチル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジフリルアミノブチル、Ｎ，Ｎ−ジピリジルアミノプロピル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノエチル、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミノブチル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノメチル、Ｎ−エチル−Ｎ−ピリジルアミノプロピル等の、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１５）、単環式又は二環式のアリール基（好ましくは５〜１０員環）、及び／又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）から選択される２つの基でジ置換されたアミノ基を有するアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が挙げられる。好ましくは、無置換アミノアルキル基、Ｎ−アルキルアミノアルキル基である。
【００５５】
Ｒ１２〜Ｒ１５が表すシアノアルキル基としては、シアノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、シアノブチル、シアノペンチル、シアノヘキシル、シアノヘプチル、シアノオクチル、シアノノニル、シアノデシル等のシアノ基が置換したアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が挙げられる。好ましくは、シアノ基が置換した直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４）である。
Ｒ９〜Ｒ１５が表すアルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、イコセニル、ヘキサジエニル、ドデカトリエニル等の直鎖、分岐、又は環状のアルケニル基を表わす。好ましくは、直鎖又は分岐のアルケニル基（好ましくは炭素数２〜６）である。
Ｒ１２〜Ｒ１５が表すアリール基としては、例えばフェニル、ナフチル等の単環式又は二環式アリール基（好ましくは５〜１０員環）が挙げられる。
Ｒ１２〜Ｒ１５が表すヘテロ環残基としては、例えばピロリジル、ピペリジル、モルホリル、イミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、フリル、チエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含むヘテロ環残基（好ましくは５〜７員環）が挙げられる。好ましくは、ピロリジル、ピペリジル、モルホリル、ピリジル、フリル、チエニルである。
Ｒ９〜Ｒ１５における各置換基は更に置換基を有してもよい。具体的には、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基が挙げられる。
【００５６】
一般式（４）又は（５）の化合物が第３級アミン化合物である場合、生成した色素の劣化抑制効果が顕著に発現し、また色素化反応も効率よく進行することから、収率が向上するのでより好ましい。
また、一般式（４）におけるＸがＮ→Ｏであるか、又は一般式（５）におけるＹが−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−である、所謂Ｎ−オキシド化合物も同様に好ましい。更には、一般式（４）におけるＸがＮ→Ｏの場合はＲ９〜Ｒ１１が各々炭素数８以下が好ましく、一般式（５）におけるＹが−Ｎ［（Ｒ１５）→Ｏ］−である場合はｎは４又は５が好ましい。これらの場合では色素化反応が非常に効率良く進行する。
【００５７】
以下に本発明で使用する一般式（４）又は（５）で表される化合物の好適な具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されない。  
例えば、２−アミノエタノール、２−メチルアミノエタノール、２−エチルアミノエタノール、２−ブチルアミノエタノール、２−（ヒドロキシメチルアミノ）エタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−［（３−アミノプロピル）アミノ］エタノール、１−フェニル−２−アミノエタノール、１−フェニル−２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、１−フェニル−２−（Ｎ−エチルアミノ）エタノール、１−（３−ヒドロキシフェニル）−２−アミノエタノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−アミノエタノール、１−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−アミノエタノール、１−（３−ヒドロキシフェニル）−２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、１−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、Ｎ−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エチレンジアミン、２−（２−ヒドロキシプロピルアミノ）エチルアミン、２−（３−ヒドロキシプロピルアミノ）エチルアミン、ジエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、２−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−２−フェニルプロパノール、１，３−ジアミノ−２−プロパノール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１―フェニル−１，３−プロパンジオール、２−アミノ−２−（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール、１−デオキシ−１−（メチルアミノ）−Ｄ−グルシトール、ジイソプロパノールアミン、４−アミノブタノール、４−メチルアミノブタノール、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジエチルアミノエタノール、２−ジブチルアミノエタノール、Ｎ−メチル−ジエタノールアミン、Ｎ−エチル−ジエタノールアミン、Ｎ−イソブチル−ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−ジメチルアミノ−２−プロパノール、３−ジメチルアミノ−１−プロパノール、３−ジエチルアミノ−１−プロパノール、３−ジプロピルアミノ−１−プロパノール、３−ジブチルアミノ−１−プロパノール、２−ジメチルアミノ−２−メチルプロパノール、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジプロピルアミノ−１，２−プロパンジオール、トリイソプロパノールアミン、３−ジメチルアミノ−１−ブタノール、４−ジブチルアミノ−１−ブタノール、５−ジエチルアミノ−２−ペンタノール等のアルカノールアミン化合物；  
【００５８】
２−ピペリジンメタノール、３−ピペリジンメタノール、４−ピペリジンメタノール、２−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンエタノール、１−ピロリジノ−２−プロパノール、１−ピロリジンエタノール、２−（１−メチルピロリジン）エタノール、２−（１−メチルピペリジン）メタノール、３−（１−メチルピペリジン）メタノール、４−（１−メチルピペリジン）メタノール、４−（１−ブチルピペリジン）メタノール、２−（１−メチルピペリジン）エタノール、１−ピペリジンエタノール、１−（４−ヒドロキシピペリジン）エタノール、１−ピペリジンプロパノール、１−（２−メチルピペリジン）エタノール、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、３−モルホリノ−１，２−プロパンジオール、１−ピペラジンエタノール、１−ピペラジンプロパノール等のアルカノール環状アミン化合物；  
【００５９】
モルホリン、２．６−ジメチルモルホリン、３−モルホリノン、５，６−ジメチルモルホリン−２，３−ジオン、４−メチルモルホリン、４−エチルモルホリン、４−ｎ−ブチルモルホリン、４−ｉ−ブチルモルホリン、４−シクロヘキシルモルホリン、４−（１−シクロペンテン−１−イル）モルホリン、４−（１−シクロヘキセン−１−イル）モルホリン、４−（２−メチル−１−プロペニル）モルホリン、４−（２−エチル−１−ブテニル）モルホリン、４−ベンジルモルホリン、４−（２−フェニルエチル）モルホリン、４−モルホリンアセトニトリル、４−モルホリンブチロニトリル、２，６−ジメチル−４−モルホリンプロピオニトリル、４−モルホリンバレロニトリル、４−［２−（ジメチルアミノ）エチル］モルホリン、４−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン、４−（２−ヒドロキシプロピル）モルホリン、４−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン、２，６−ジメチル−４−モルホリンエタノール、３−（４−モルホリニル）−１，２−プロパンジオール、４−（２−アミノエチル）モルホリン、３−（４−モルホリニル）−１−プロピルアミン、４−（２−イソシアノエチル）モルホリン、４−フェニル−３，５−モルホリンジオン、４−フェニルモルホリン、４−（４−ピペリジニル）モルホリン、４，４’−メチレンジモルホリン、４−（３−ピリジル）モルホリン、４−（４−ピリジル）モルホリン、４−（２−ピリジル）メチルモルホリン、４−（２−ピリジル）エチルモルホリン、４−（２−チエニルメチル）モルホリン等のモルホリン化合物；
【００６０】
２−ピロリジノール、３−ピロリジノール、２−ピペリジノール、３−ピペリジノール、４−ピペリジノール、１−エチル−３−ピロリジノール、１−メチル−３−ピロリジノール、１−メチル−３−ピペリジノール、１−メチル−４−ピペリジノール、１，２，２．６．６−ペンタメチル−４−ピペリジノール、３−（３−ヒドロキシフェニル）−１−プロピルピペリジン、１−メチル−Ｌ−プロリノール等のヒドロキシ基を有する環状アミン化合物；  （１−ベンジル−４−ピペリジノ）メタノール、２−（ベンジルメチルアミノ）エタノール、２−（ジベンジルアミノ）エタノール、２−（ベンジルメチルアミノ）エタン−１，１−ジオール、等のアリールアルキル基とヒドロキシアルキル基とを有するアミン化合物；、１−ベンジル−３−ピロリジノール、１−ベンジル−３−ピペリジノール、１−ベンジル−４−ピペリジノール等のアリールアルキル基とヒドロキシ基とを有する環状アミン化合物；
【００６１】
トリメチルアミンＮ−オキシド、トリエチルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−プロピルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−ブチルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−オクチルアミンＮ−オキシド、トリ−（２−エチルヘキシル）アミンＮ−オキシド、トリアリルアミンＮ−オキシド、エチル（ジイソプロピル）アミンＮ−オキシド、ジアリル（メチル）アミンＮ−オキシド、ジエチル（メチル）アミンＮ−オキシド、ブチル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、エチル（ジイソプロピル）アミンＮ−オキシド、アリル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、メチルジ（ｎ−オクチル）アミンＮ−オキシド、（ｎ−ヘキシル）ジメチルアミンＮ−オキシド、（２−エチルヘキシル）ジメチルアミンＮ−オキシド、（２−エチルヘキシル）ジイソプロピルアミンＮ−オキシド、ジブチル（２−エチルヘキシル）アミンＮ−オキシド、ｎ−ヘプチル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、ジメチル（オクチル）アミンＮ−オキシド、ジメチル（ノニル）アミンＮ−オキシド、デシル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、ジメチル（ウンデシル）アミンＮ−オキシド、ドデシル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、ジメチル（トリデシル）アミンＮ−オキシド、ジメチル（オクタデシル）アミンＮ−オキシド等のトリアルキルアミンＮ−オキシド化合物；
【００６２】
２−ジメチルアミノエタノールＮ−オキシド、２−ジエチルアミノエタノールＮ−オキシド、２−ジブチルアミノエタノールＮ−オキシド、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンＮ−オキシド、Ｎ−エチル−ジエタノールアミンＮ−オキシド、Ｎ−イソブチル−ジエタノールアミンＮ−オキシド、トリエタノールアミンＮ−オキシド、１−ジメチルアミノ−２−プロパノールＮ−オキシド、３−ジメチルアミノ−１−プロパノールＮ−オキシド、３−ジエチルアミノ−１−プロパノールＮ−オキシド、３−ジプロピルアミノ−１−プロパノールＮ−オキシド、３−ジブチルアミノ−１−プロパノールＮ−オキシド、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−プロパノールＮ−オキシド、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオールＮ−オキシド、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオールＮ−オキシド、３−ジプロピルアミノ−１，２−プロパンジオールＮ−オキシド、トリイソプロパノールアミンＮ−オキシド、３−ジメチルアミノ−１−ブタノールＮ−オキシド、４−ジブチルアミノ−１−ブタノールＮ−オキシド、５−ジエチルアミノ−２−ペンタノールＮ−オキシド等のアルカノールアミンＮ−オキシド化合物；
【００６３】
１−メチルピロリジンＮ−オキシド、１−（１−シクロペンテン−１−イル）ピロリジンＮ−オキシド、１−（３−ブチル）ピロリジンＮ−オキシド、１−（３−ブテニル）ピロリジンＮ−オキシド、１−（２−エチル−１−ブテニル）ピロリジンＮ−オキシド、１−ピロリジンアセトニトリルＮ−オキシド、１−ピロリジンプロピオニトリルＮ−オキシド、１−ピロリジンブチロニトリルＮ−オキシド、１−ピロリジンバレロニトリルＮ−オキシド、３−（２−オキソ−１−ピロリジニル）プロパンニトリルＮ−オキシド、１−ビニルピロリジンＮ−オキシド、１−（１−シクロヘキセニル）ピロリジンＮ−オキシド、４−ピロリジノピリジンＮ−オキシド、１−メチルピペリジンＮ−オキシド、１−エチルピペリジンＮ−オキシド、１−エチル−４−メチルピペリジンＮ−オキシド、１−プロピル−４−メチルピペリジンＮ−オキシド、１−ブチル−４−メチルピペリジンＮ−オキシド、１−（２−メチルプロペニル）ピペリジンＮ−オキシド、１−ピペリジンアセトニトリルＮ−オキシド、１−ピペリジンプロピオニトリルＮ−オキシド、１−ピペリジンブチロニトリルＮ−オキシド、１−ピペリジンバレロニトリルＮ−オキシド、１−ピペリジンペンタンニトリルＮ−オキシド、Ｎ−シクロヘキシルピペリジンＮ−オキシド、１−メチル−４−ピペリジノンＮ−オキシド、１−エチル−３−ピペリジノンＮ−オキシド、１−エチル−４−ピペリジノンＮ−オキシド、１−プロピル−４−ピペリジノンＮ−オキシド、１−イソプロピル−４−ピペリジノンＮ−オキシド、１−イソブチル−４−ピペリジノンＮ−オキシド等の環状アミンＮ−オキシド化合物；
【００６４】
１−ピロリジニル−２−プロパノールＮ−オキシド、２−（１−ピロリジニル）プロパノールＮ−オキシド、（１−メチルピロリジン−２−イル）エタノールＮ−オキシド、（１−メチルピペリジン−２−イル）メタノールＮ−オキシド、（１−メチルピペリジン−３−イル）メタノールＮ−オキシド、（１−メチルピペリジン−４−イル）メタノールＮ−オキシド、（１−ブチルピペリジン−４−イル）メタノールＮ−オキシド、（１−メチルピペリジン−２−イル）エタノールＮ−オキシド、１−ピペリジンエタノールＮ−オキシド、（４−ヒドロキシピペリジン−１−イル）エタノールＮ−オキシド、１−ピペリジンプロパノールＮ−オキシド、（２−メチルピペリジン−１−イル）プロパノールＮ−オキシド、３−ピペリジル−１，２−プロパンジオールＮ−オキシド、３−モルホリニル−１，２−プロパンジオールＮ−オキシド、１−ピペラジンエタノールＮ−オキシド、１−ピペラジンプロパノールＮ−オキシド等のアルカノール環状アミンＮ−オキシド化合物；
【００６５】
４−メチルモルホリンＮ−オキシド、４−エチルモルホリンＮ−オキシド、４−ｎ−ブチルモルホリンＮ−オキシド、４−ｉ−ブチルモルホリンＮ−オキシド、４−シクロヘキシルモルホリンＮ−オキシド、４−（１−シクロペンテン−１−イル）モルホリンＮ−オキシド、４−（１−シクロヘキセン−１−イル）モルホリンＮ−オキシド、４−（２−メチル−１−プロペニル）モルホリンＮ−オキシド、４−（２−エチル−１−ブテニル）モルホリンＮ−オキシド、４−ベンジルモルホリンＮ−オキシド、４−フェニルエチルモルホリンＮ−オキシド、４−モルホリンアセトニトリルＮ−オキシド、４−モルホリンブチロニトリルＮ−オキシド、２，６−ジメチル−４−モルホリンプロピオニトリルＮ−オキシド、４−モルホリンバレロニトリルＮ−オキシド、４−［２−（ジメチルアミノ）エチル］モルホリンＮ−オキシド、２−（モルホリン−４−イル）エタノールＮ−オキシド、１−（モルホリン−４−イル）−２−プロパノールＮ−オキシド、３−（モルホリン−４−イル）プロパノールＮ−オキシド、２，６−ジメチル−４−モルホリンエタノールＮ−オキシド、３−（４−モルホリニル）−１，２−プロパンジオールＮ−オキシド、４−（２−アミノエチル）モルホリンＮ−オキシド、３−（４−モルホリニル）−１−プロパンアミンＮ−オキシド、４−（２−イソシアノエチル）モルホリンＮ−オキシド、４−フェニル−３，５−モルホリンジオンＮ−オキシド、４−フェニルモルホリンＮ−オキシド、４−（４−ピペリジニル）モルホリンＮ−オキシド、４，４’−メチレンジモルホリンＮ−オキシド、４−（３−ピリジル）モルホリンＮ−オキシド、４−（４−ピリジル）モルホリンＮ−オキシド、４−（ピリジン−２−イルメチル）モルホリンＮ−オキシド、４−（ピリジン−２−イルエチル）モルホリンＮ−オキシド、４−（２−チエニルメチル）モルホリンＮ−オキシド等のモルホリンＮ−オキシド化合物；
【００６６】
ベンジル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、ベンジル（ジエチル）アミンＮ−オキシド、トリベンジルアミンＮ−オキシド、３−メトキシベンジル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、２−（ジメチルアミノメチル）フェノールＮ−オキシド、４−（ジメチルアミノメチル）フェノールＮ−オキシド、ジメチル−１−フェニルエチルアミンＮ−オキシド等のアリールアルキルアミンＮ−オキシド化合物；
１−ベンジルピロリジンＮ−オキシド、１−ベンジルピロリジン−３−オールＮ−オキシド、４−ベンジル−１−ブチルピペリジンＮ−オキシド、４−ベンジル−１−ヘキシルピペリジンＮ−オキシド等のアリールアルキル環状アミンＮ−オキシド化合物；
１−エチルピロリジン−３−オールＮ−オキシド、１−メチルピロリジン−３−オールＮ−オキシド、１−メチルピペリジン−３−オールＮ−オキシド、１−メチルピペリジン−４−オールＮ−オキシド、１，２，２．６．６−ペンタメチルピペリジン−４−オールＮ−オキシド、３−（３−ヒドロキシフェニル）−１−プロピルピペリジンＮ−オキシド、１−メチル−Ｌ−プロリノールＮ−オキシド等のヒドロキシ基を有する環状アミンＮ−オキシド化合物；
【００６７】
（１−ベンジルピペリジン−４−イル）メタノールＮ−オキシド、２−（ベンジルメチルアミノ）エタノールＮ−オキシド、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエタノールＮ−オキシド、２−（ベンジルメチルアミノ）エタン−１，１−ジオールＮ−オキシド、等のアリールアルキル基とヒドロキシアルキル基とを有する環状アミンＮ−オキシド化合物；
１−ベンジルピロリジン−３−オールＮ−オキシド、１−ベンジルピペリジン−３−オールＮ−オキシド、１−ベンジルピペリジン−４−オールＮ−オキシド等のアリールアルキル基とヒドロキシ基とを有する環状アミンＮ−オキシド化合物が挙げられる。
【００６８】
好ましくは、アルカノールアミン化合物、アルカノール環状アミン化合物、モルホリン化合物、トリアルキルアミンＮ−オキシド化合物、アリールアルキルアミンＮ−オキシド化合物、環状アミンＮ−オキシド化合物、モルホリンＮ−オキシド化合物であり、より好ましくは、アルカノールアミン化合物、モルホリン化合物、トリアルキルアミンＮ−オキシド化合物、モルホリンＮ−オキシド化合物である。
【００６９】
更に好ましくは、
２−アミノエタノール、２−メチルアミノエタノール、２−エチルアミノエタノール、２−ブチルアミノエタノール、２−（ヒドロキシメチルアミノ）エタノール、１−フェニル−２−アミノエタノール、１−フェニル−２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、１−フェニル−２−（Ｎ−エチルアミノ）エタノール、ジエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、２−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−２−フェニルプロパノール、１，３−ジアミノ−２−プロパノール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１―フェニル−１，３−プロパンジオール、ジイソプロパノールアミン、４−アミノブタノール、４−メチルアミノブタノール、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジエチルアミノエタノール、２−ジブチルアミノエタノール、Ｎ−メチル−ジエタノールアミン、Ｎ−エチル−ジエタノールアミン、Ｎ−イソブチル−ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−ジメチルアミノ−２−プロパノール、３−ジメチルアミノ−１−プロパノール、３−ジエチルアミノ−１−プロパノール、３−ジプロピルアミノ−１−プロパノール、３−ジブチルアミノ−１−プロパノール、２−ジメチルアミノ−２−メチルプロパノール、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジプロピルアミノ−１，２−プロパンジオール、
【００７０】
モルホリン、２，６−ジメチルモルホリン、４−メチルモルホリン、４−エチルモルホリン、４−ｎ−ブチルモルホリン、４−ｉ−ブチルモルホリン、４−シクロヘキシルモルホリン、４−ベンジルモルホリン、４−（２−フェニルエチル）モルホリン、４−［２−（ジメチルアミノ）エチル］モルホリン、４−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン、４−（２−ヒドロキシプロピル）モルホリン、４−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン、２，６−ジメチル−４−モルホリンエタノール、３−（４−モルホリニル）−１，２−プロパンジオール、４−（２−アミノエチル）モルホリン、３−（４−モルホリニル）−１−プロピルアミン、４−フェニルモルホリン、トリメチルアミンＮ−オキシド、トリエチルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−プロピルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−ブチルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−オクチルアミンＮ−オキシド、トリアリルアミンＮ−オキシド、メチルジエチルアミンＮ−オキシド、エチルジイソプロピルアミンＮ−オキシド、ジアリル（メチル）アミンＮ−オキシド、ジエチル（メチル）アミンＮ−オキシド、ｎ−ブチル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、エチル（ジイソプロピル）アミンＮ−オキシド、アリル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、４−メチルモルホリンＮ−オキシド、４−エチルモルホリンＮ−オキシド、４−ｎ−ブチルモルホリンＮ−オキシド、４−ｉ−ブチルモルホリンＮ−オキシド、４−シクロヘキシルモルホリンＮ−オキシド、４−ベンジルモルホリンＮ−オキシド、４−フェニルモルホリンＮ−オキシド、ベンジル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、ベンジル（ジエチル）アミンＮ−オキシド、トリベンジルアミンＮ−オキシド、ジメチル−１−フェニルエチルアミンＮ−オキシド、２−（ベンジルメチルアミノ）エタノールＮ−オキシド、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエタノールＮ−オキシドが挙げられる。
【００７１】
特に好ましくは、２−アミノエタノール、２−メチルアミノエタノール、ジエタノールアミン、１，３−ジアミノ−２−プロパノール、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジエチルアミノエタノール、Ｎ−メチル−ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、４−メチルモルホリン、４−エチルモルホリン、トリメチルアミンＮ−オキシド、トリエチルアミンＮ−オキシド、トリ−ｎ−ブチルアミンＮ−オキシド、エチルジイソプロピルアミンＮ−オキシド、４−メチルモルホリンＮ−オキシド、ベンジル（ジメチル）アミンＮ−オキシド、トリベンジルアミンＮ−オキシド、２−（ベンジルメチルアミノ）エタノールＮ−オキシド、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエタノールＮ−オキシドが挙げられる。
【００７２】
上記で挙げた特に好ましい化合物群は、特に色素の収率及び純度向上に優れた効果を発揮する。これらの化合物は市販されているものをそのまま使用しても良いし、公知の方法（例えば、アルカノールアミン化合物は米国特許第２，１９４，２９４号、薬学雑誌，１９７１，９１（１），１３４等；Ｎ−オキシド化合物は、米国特許第４，７４８，２７５号、Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．Ｊｐｎ．１９９４，２８（１），５７等）で容易に合成することが可能である。また、これらの化合物は単離して使用しても良いし、アミンＮ−オキシド化合物では、調製後取り出さずにそのまま酸化縮合反応に使用することもできる。
これらの中でも、アルカノールアミン化合物は一般的に合成洗剤の中和剤、起泡安定剤、農薬、界面活性剤等の原料や、乳化剤、化粧品、潤滑油、インクジェット記録用インク等の添加剤に広く使用されており、安価な工業原料が入手できるので好ましい。
【００７３】
本発明における一般式（４）又は（５）の化合物は、反応系内でカプラーの活性化や脱酸剤的な作用をすると考えられる。その使用量は用いるカプラーによって異なるが、通常カプラー１モルに対し３〜２０モルである。なお、ｐ−フェニレンジアミン誘導体が硫酸塩や塩酸塩等の付加塩である場合、その付加塩を中和する分も考慮して一般式（４）又は（５）の化合物の使用量を決める必要がある。
また、本発明における一般式（４）又は（５）の化合物は、予め中和分の塩基を共存させておくことにより硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩等の付加塩でも使用することが可能である。  
【００７４】
本発明で使用する反応溶媒は、水、有機溶剤、又は水と有機溶剤との混合溶媒を使用することが出来、更には一般式（４）又は（５）の化合物をそのまま反応溶媒として用いることも可能である。
有機溶剤を使用する場合は１種類でも、複数の有機溶剤を用いて混合溶媒で使用してもよい。また、水溶性、非水溶性のいずれの一般有機溶剤でも用いることができ、混合溶媒の場合は一層系でも多層系でも構わない。
【００７５】
本発明で用いる水溶性有機溶剤は、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系溶剤；アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶剤；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチルウレア、１，３−ジメチルイミダゾリノン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶剤；アセトニトリル等のニトリル系溶剤；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｉｓｏ−ブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のグリコール系溶剤等が挙げられる。
【００７６】
本発明で用いる非水溶性有機溶剤は、例えばメチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族溶剤；エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジステアレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジアクリレート等のグリコール系溶剤が挙げられる。
本発明においては、水、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤若しくはその誘導体、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、又はニトリル系溶剤から選択される単独又は数種の混合溶媒が好ましく、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤若しくはその誘導体、又はケトン系溶剤から選択される少なくとも１種の有機溶剤、或いはこれらの有機溶剤と水との混合溶媒がより好ましい。
【００７７】
有機溶剤と水との混合溶媒を用いる場合、その比率は使用するカプラーにより任意に設定できるが、全反応溶媒中の水の含有率が３０（Ｖ／Ｖ）％以上が好ましく、より好ましくは５０（Ｖ／Ｖ）％〜９０（Ｖ／Ｖ）％の範囲である。水の含有率がこの範囲内の場合、収率及び純度が共に良好であり好ましい。
反応溶媒の使用量は特に制限されないが、通常カプラー１００重量部に対し、２０００重量部以下である。好ましくは１〜１５００重量部、より好ましくは２〜１０００重量部、更に好ましくは５〜８００重量部である。２０００重量部以下でより少ない量を使用することで生産性が向上し、低コストでアゾメチン色素又はインドアニリン色素を製造することができる。
【００７８】
本発明で使用する酸化剤は、ｐ−フェニレンジアミン誘導体を酸化するものであれば特に制限されない。例えば、過硫酸水素カリウム、硫酸水素カリウム、硫酸カリウム等よりなる複塩（ＯＸＯＮＥ）；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩；フェリシアン酸カリウム、フェリシアン酸ナトリウム等のフェリシアン酸塩；次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム等の次亜塩素酸塩；硝酸銀等が挙げられる。これらの中で好ましくは過硫酸塩であり、中でも過硫酸アンモニウムが特に好ましい。なお、酸化剤は通常、水溶液に調製して系内に滴下することにより、反応が効率良く進行する。また、酸化剤水溶液の滴下速度は、冷却下で反応系内の発熱を抑制しながら短時間に行うことが好ましい。
本発明における酸化剤の使用量は用いるｐ−フェニレンジアミン誘導体によって異なるが、通常カプラー１モルに対し通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜４モルである。
【００７９】
本発明の酸化縮合反応の反応温度は６０℃以下であり、好ましくは０〜４０℃である。反応時間は５分〜２時間が好ましい。反応は大気圧下で行うことができ、例えば０．５〜２気圧の圧力下で行うことも出来る。
反応終了後は析出した色素を濾別するか、反応液に水又は貧溶媒を加え、析出した目的物を濾別する。また、状況に応じて抽出工程、濃縮工程、晶析工程などを導入しても良い。
更に、目的物は必要に応じて水やアルコール、アセトン、酢酸エチル、トルエン、ヘキサン等を用いた洗浄や再結晶、シリカゲルやアルミナ、ゼオライト、活性白土、モンモリロナイトなどの粘土鉱物酸性白土、活性炭などの吸着剤を用いた吸着精製、又は減圧蒸留、昇華等により精製することができる。
吸着精製する場合の接触方法は、有機溶剤に溶解した色素と吸着剤とを混合攪拌し接触させることによって吸着精製するコンタクト法（接触ろ過法）や、吸着剤を充填した吸着塔内を有機溶剤に溶解した色素を通過させることで吸着精製するパーコレーション法（流通ろ過法）等が挙げられる。接触後はろ過機によって色素溶液と吸着剤を分離し、晶析や蒸留等従来の方法によって精製物を得る。なお、吸着処理は反復して行ってもかまわないし、種々の吸着剤と交互に吸着処理してもよい。また、精製方法を２つ以上組み合わせて行うことも可能である。
【００８０】
上述の本発明の合成法によって、アゾメチン色素又はインドアニリン色素を合成することができる。以下にアゾメチン色素又はインドアニリン色素の具体例（色素Ａ−１〜Ａ−１０、Ｂ−１〜Ｂ−１２、Ｃ−１〜Ｃ−６８）を示すが、下記の例に限定されるものではない。
具体例中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。また、波線は結合手を表し、例えば化合物Ｃ−６５は以下の構造である。
【００８１】
【化８】
2011116898.tif 000009
【００８２】
【化９】
2011116898.tif 000010
【００８３】
【化１０】
2011116898.tif 000011
【００８４】
【化１１】
2011116898.tif 000012
【００８５】
【化１２】
2011116898.tif 000013
【００８６】
【化１３】
2011116898.tif 000014
【００８７】
【化１４】
2011116898.tif 000015
【実施例】
【００８８】
本発明の方法を実施例によって以下に説明するが、これらによって本発明が限定されるものではない。純度の評価は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣと略記する）により行った。
アゾメチン色素（Ａ）、（Ｂ）のＨＰＬＣ純度は以下の条件で評価した。
カラム：ＣＡＰＣＥＬＬ−ＰＡＣＫ  Ｃ８  ＤＤ、
検出ＵＶ：２５４ｎｍ、流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、
溶離液：メタノール／水＝８５／１５（Ｖ／Ｖ）、
緩衝剤：トリエチルアミン０．１（Ｖ／Ｖ）％及び酢酸０．１（Ｖ／Ｖ）％。
インドアニリン色素（Ｃ）のＨＰＬＣ純度は以下の条件で評価した。
カラム：ＹＭＣ−ＰＡＣＫ  Ａ−３１２、
検出ＵＶ：２５４ｎｍ、流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、
溶離液：メタノール／水＝９０／１０（Ｖ／Ｖ）
緩衝剤：トリエチルアミン０．２（Ｖ／Ｖ）％及び酢酸０．２（Ｖ／Ｖ）％。
【００８９】
実施例１  色素Ａ−１の合成      
アセトン２０ｍｌと水４０ｍｌの混合溶媒に、（２Ｅ）−Ｎ−［５−（アセチルアミノ）−２−クロロフェニル］−２−クロロ−３−ヒドロキシ−４，４−ジメチルペンタ−２−エンアミド１３．８ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルベンゼン−１，４−ジアミン塩酸塩６．９ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を加え、氷浴で冷却しながらＮ−メチル−ジエタノールアミン１４．６ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を滴下した。冷却後、これにフェリシアン酸カリウム２６．３ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水４０ｍｌに溶解した水溶液を３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間攪拌し、反応終了後析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とイソプロピルアルコールで各々洗浄して乾燥し、目的物１８．４ｇ（粗収率９７．５％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．３％であった。
【００９０】
実施例２〜３０    
実施例１において、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンを表１に示す化合物に変更した以外は、実施例１と同様の条件で行った。
【００９１】
比較例１〜２４    
実施例１において、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンを表１に示す化合物に変更した以外は、実施例１と同様の条件で行った。実施例１〜３０、比較例１〜２４の結果を表１に示す。
【００９２】
【表１】
2011116898.tif 000016
【００９３】
【表２】
2011116898.tif 000017
【００９４】
実施例３１    色素Ａ−３の合成    
カプラーとしてＮ，Ｎ−ジブチル−４−｛［（２Ｅ）−２−クロロ−３−ヒドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパ−２−エノイル］アミノ｝ベンズアミド１９．８ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、ｐ−フェニレンジアミン誘導体にＮ，Ｎ−ジブチル−２−メチルベンゼン−１，４−ジアミン塩酸塩１３．０ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を用い、他使用原料と使用量及び操作は実施例１と同様に操作し目的物２７．１ｇ（粗収率９８．２％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．３％であった。
【００９５】
実施例３２〜５９    
実施例３１において、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンを表２に示す化合物に変更した以外は、実施例３１と同様の条件で行った。
【００９６】
比較例２５〜４８
実施例３１において、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンを表２に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例３１と同様の条件で行った。実施例３１〜５９、比較例２５〜４８の結果を表２に示す。
【００９７】
【表３】
2011116898.tif 000018
【００９８】
【表４】
2011116898.tif 000019
【００９９】
実施例６０      色素Ａ−６の合成  
カプラーとして（２Ｅ）−２−クロロ−３−ヒドロキシ−３−（２−チエニル）アクリロニトリル７．４ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、ｐ−フェニレンジアミン誘導体に４−ピペリジン−１−イル−フェニルアミン塩酸塩１０．２ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を用い、他使用原料と使用量及び操作は実施例１と同様に操作し目的物１２．７ｇ（粗収率９８．５％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．２％であった。
【０１００】
実施例６１〜８８    
実施例６０において、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンを表３に示す化合物に変更した以外は、実施例６０と同様の条件で行った。
【０１０１】
比較例４９〜７２    
実施例６０において、Ｎ−メチル−ジエタノールアミンを表３に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例６０と同様の条件で行った。実施例６０〜８８、比較例４９〜７２の結果を表３に示す。
【０１０２】
【表５】
2011116898.tif 000020
【０１０３】
【表６】
2011116898.tif 000021
【０１０４】
実施例８９      色素Ｂ−３の合成    
プロピレングリコールモノメチルエーテル１０ｍｌと水５０ｍｌの混合溶媒に、トリエタノールアミン１７．１ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を加え、更に４−クロロ−５−ヒドロキシ−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボン酸エチル９．３ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加えた。冷却後、そこにＮ，Ｎ−ジエチル−２−メチルベンゼン−１，４−ジアミン１０．１ｇ（５６．８ｍｍｏｌ）をアセトン６０ｍｌに溶解した溶液と、過硫酸カリウム２１．６ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水５０ｍｌに溶解した水溶液を各々３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間攪拌し、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とメタノールで各々洗浄して乾燥し、目的物１４．５ｇ（粗収率９７．６％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．４％であった。
【０１０５】
実施例９０〜１１８
実施例８９のトリエタノールアミンを表４に示す化合物に変更した以外は、実施例８９と同様の条件で行った。
【０１０６】
比較例７３〜９６
実施例８９において、トリエタノールアミンを表４に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例８９と同様の条件で行った。実施例８９〜１１８
、比較例７３〜９６の結果を表４に示す。
【０１０７】
【表７】
2011116898.tif 000022
【０１０８】
【表８】
2011116898.tif 000023
【０１０９】
実施例１１９      色素Ｂ−８の合成    
カプラーとして４−クロロ−５−ヒドロキシ−Ｎ−メチル−１−ピリジン−２−イル−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボキサミド１０．１ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、ｐ−フェニレンジアミン誘導体に２−［（４−アミノフェニル）メチルアミノ］エタノール塩酸塩９．７ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を用い、他使用原料と使用量及び操作は実施例８９と同様に操作し目的物１５．１ｇ（粗収率９９．０％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．０％であった。
【０１１０】
実施例１２０〜１４８    
実施例１１９のトリエタノールアミンを表５に示す化合物に変更した以外は、実施例１１９と同様の条件で行った。
【０１１１】
比較例９７〜１２０    
実施例１１９において、トリエタノールアミンを表５に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例１１９と同様の条件で行った。実施例１１９〜１４８、比較例９７〜１２０の結果を表５に示す。
【０１１２】
【表９】
2011116898.tif 000024
【０１１３】
【表１０】
2011116898.tif 000025
【０１１４】
実施例１４９      色素Ｂ−１２の合成  
カプラーとしてＮ−（４−クロロ−５−ヒドロキシ−１−イソプロピル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル）−２−フルアミド１０．８ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、ｐ−フェニレンジアミン誘導体に２，２’−［（４−アミノ−３−メチルフェニル）イミノ］ジエタノール塩酸塩１１．８ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を用い、他使用原料と使用量及び操作は実施例８９と同様に操作し目的物１７．４ｇ（粗収率９８．４％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．２％であった。
【０１１５】
実施例１５０〜１７８    
実施例１４９のトリエタノールアミンを表６に示す化合物に変更した以外は、実施例１４９と同様の条件で行った。
【０１１６】
比較例１２１〜１４４    
実施例１４９において、トリエタノールアミンを表６に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例１４９と同様の条件で行った。実施例１４９〜１７９、比較例１２１〜１４４の結果を表６に示す。
【０１１７】
【表１１】
2011116898.tif 000026
【０１１８】
【表１２】
2011116898.tif 000027
【０１１９】
実施例１７９      色素Ｃ−６の合成      
メタノール３５ｍｌと水３５ｍｌの混合溶媒に、２−ジメチルアミノエタノール１４．３ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を滴下し、更にＮ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）アセトアミド９．４ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加え溶解させた。冷却後、そこにＮ，Ｎ−ジプロピルベンゼン−１，４−ジアミン９．２ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）をメタノール７０ｍｌに溶解した溶液と、過硫酸アンモニウム１８．３ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水７０ｍｌに溶解した水溶液を各々３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で３０分間攪拌し、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とメタノールで各々洗浄して乾燥し、目的物１４．５ｇ（粗収率９３．４％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．０％であった。
【０１２０】
実施例１８０〜２０７          
実施例１７９の２−ジメチルアミノエタノールを表７に示す化合物に変更した以外は、実施例１７９と同様の条件で行った。
【０１２１】
比較例１４５〜１６７    
実施例１７９において、２−ジメチルアミノエタノールを表７に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例１７９と同様の条件で行った。実施例１７９〜２０７、比較例１４５〜１６７の結果を表７に示す。
【０１２２】
【表１３】
2011116898.tif 000028
【０１２３】
【表１４】
2011116898.tif 000029
【０１２４】
実施例２０８      色素Ｃ−５３の合成    
カプラーとしてＮ−（３，５−ジクロロ−４−エチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド１２．４ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、ｐ−フェニレンジアミン誘導体にＮ，Ｎ−ジプロピルベンゼン−１，４−ジアミン９．２ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を用い、他使用原料と使用量及び操作は実施例１７９と同様に操作し目的物１８．５ｇ（粗収率９９．５％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．２％であった。
【０１２５】
実施例２０９〜２３７
実施例２０８の２−ジメチルアミノエタノールを表８に示す化合物に変更した以外は、実施例２０８と同様の条件で行った。
【０１２６】
比較例１６８〜１９１
実施例２０８において、２−ジメチルアミノエタノールを表８に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例２０８と同様の条件で行った。実施例２０８〜２３７、比較例１６８〜１９１の結果を表８に示す。
【０１２７】
【表１５】
2011116898.tif 000030
【０１２８】
【表１６】
2011116898.tif 000031
【０１２９】
実施例２３８  色素Ｃ−６５の合成        
カプラーとしてＮ−（４−クロロ−１−ヒドロキシ−２−ナフチル）アセトアミド９．４ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、ｐ−フェニレンジアミン誘導体に２−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジプロピルベンゼン−１，４−ジアミン１０．７ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を用い、他使用原料と使用量及び操作は実施例１７９と同様に操作し目的物１５．１ｇ（粗収率９３．６％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．６％であった。
【０１３０】
実施例２３９〜２６６
実施例２３８の２−ジメチルアミノエタノールを表９に示す化合物に変更した以外は、実施例２３８と同様の条件で行った。
【０１３１】
比較例１９２〜２１５  
実施例２３８において、２−ジメチルアミノエタノールを表９に示す無機塩基及びアミン化合物に変更した以外は、実施例２３８と同様の条件で行った。実施例２３８〜２６６、比較例１９２〜２１５の結果を表９に示す。
【０１３２】
【表１７】
2011116898.tif 000032
【０１３３】
【表１８】
2011116898.tif 000033
【０１３４】
実施例２６７  色素Ａ−１の合成      
イソプロピルアルコール３０ｍｌにトリ（ｎ−ブチル）アミン２９．７ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を加え、内温６５℃に昇温した。内温を保ちながら３５％過酸化水素水２１．８ｇ（２２４．０ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、５時間撹拌してトリ（ｎ−ブチル）アミンＮ−オキシドを調製した。この調製液を冷却し、水３０ｍｌ、（２Ｅ）−Ｎ−［５−（アセチルアミノ）−２−クロロフェニル］−２−クロロ−３−ヒドロキシ−４，４−ジメチルペンタ−２−エンアミド１３．８ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルベンゼン−１，４−ジアミン塩酸塩６．９ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を加えた。冷却しながら更にフェリシアン酸カリウム２６．３ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水４０ｍｌに溶解した水溶液を３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間攪拌し、反応終了後析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とイソプロピルアルコールで各々洗浄して乾燥し、目的物１８．２ｇ（粗収率９６．２％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．０％であった。
【０１３５】
実施例２６８  色素Ｂ−３の合成    
エタノール３０ｍｌにエチル（ジイソピロピル）アミン２０．７ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を加え、内温６５℃に昇温した。内温を保ちながら３５％過酸化水素水２１．８ｇ（２２４．０ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、５時間撹拌してエチル（ジイソプロピル）アミンＮ−オキシドを調製した。冷却後に水３０ｍｌと、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−メチルベンゼン−１，４−ジアミン１０．１ｇ（５６．８ｍｍｏｌ）を加え冷却した。そこに、
４−クロロ−５−ヒドロキシ−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボン酸エチル
９．３ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）をアセトン６０ｍｌに溶解した溶液と、過硫酸カリウム２１．６ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水５０ｍｌに溶解した水溶液を同時に各々３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間攪拌し、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とメタノールで各々洗浄して乾燥し、目的物１４．２ｇ（粗収率９５．８％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９８．９％であった。
【０１３６】
実施例２６９  色素Ｃ−６の合成      
メタノール３５ｍｌにトリエチルアミン１６．２ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を加え、内温６５℃に昇温した。内温を保ちながら３５％過酸化水素水２１．８ｇ（２２４．０ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、次いで５時間撹拌してトリエチルアミンＮ−オキシドを調製した。トリエチルアミンＮ−オキシド調製液を冷却し、そこに水３０ｍｌ及びＮ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）アセトアミド９．４ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加え攪拌した。次いでＮ，Ｎ−ジプロピルベンゼン−１，４−ジアミン９．２ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）をメタノール７０ｍｌに溶解した溶液と、過硫酸アンモニウム１８．３ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水７０ｍｌに溶解した水溶液を同時に各々３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で３０分間攪拌し、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とメタノールで各々洗浄して乾燥し、目的物１４．２ｇ（粗収率９１．２％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９８．７％であった。
【０１３７】
実施例２７０  色素Ａ−８の合成      
イソプロピルアルコール３０ｍｌにトリ（ｎ−ブチル）アミン２９．７ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を加え、内温６５℃に昇温した。内温を保ちながら３５％過酸化水素水２１．８ｇ（２２４．０ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、次いで５時間撹拌してトリ（ｎ−ブチル）アミンＮ−オキシドを調製した。調製液を冷却し、そこにＮ，Ｎ−ジイソブチルベンゼン−１，４−ジアミン１０．６ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を加え、ｐ−フェニレンジアミン誘導体溶液とした。
イソプロピルアルコール３０ｍｌに、水３０ｍｌ及び（２Ｅ）−２−クロロ−Ｎ−（２，４−ジクロロフェニル）−３−ヒドロキシ−３−（４−メチルフェニル）アクリルアミド１４．３ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加えて冷却しながら、先のｐ−フェニレンジアミン誘導体溶液と、フェリシアン酸カリウム２６．３ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水４０ｍｌに溶解した水溶液を同時に各々３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間攪拌し、反応終了後析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とイソプロピルアルコールで各々洗浄して乾燥し、目的物２０．７ｇ（粗収率９６．２％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９９．０％であった。
【０１３８】
実施例２７１  色素Ｂ−４の合成    
エタノール３０ｍｌにエチル（ジイソプロピル）アミン２０．７ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）を加え、内温６５℃に昇温した。内温を保ちながら３５％過酸化水素水２１．８ｇ（２２４．０ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、次いで５時間撹拌してエチル（ジイソプロピル）アミンＮ−オキシドを調製した。調製液を冷却し、そこに４−クロロ−３−（ジメチルアミノ）−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール９．５ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加えた。
別の容器にエタノール３０ｍｌ、水３０ｍｌ、及びＮ，Ｎ−ジエチルベンゼン−１，４−ジアミン９．３ｇ（５６．８ｍｍｏｌ）をアセトン６０ｍｌに溶解した溶液を加えて冷却した。そこに先に調製した溶液と、過硫酸カリウム２１．６ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を水５０ｍｌに溶解した水溶液を同時に各々３時間かけて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間攪拌し、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を水とメタノールで各々洗浄して乾燥し、目的物１３．９ｇ（粗収率９５．８質量％）を得た。粗結晶のＨＰＬＣ純度は９８．９％であった。
【０１３９】
実施例１〜２７１及び比較例１〜２１５の結果より、反応時に一般塩基を使用する従来の方法に比べて、本発明の化合物を用いる方法は、目的物のアゾメチン色素又はインドアニリン色素を高収率且つ高純度で合成することができ、工業的製造方法として極めて有用である。