(57)【要約】【課題】好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物、該組成物から形成されるプリントマスク、及び該組成物を使用するパターン形成方法を提供する。【解決手段】少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて約３０秒以内に除去可能である、プリントマスク。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、
アルカリ性溶液を用いて３０秒以内に除去可能である前記プリントマスク。
【請求項２】
少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの染料とを含む組成物に由来するプリントマスクであって
アルカリ性溶液を用いて３０秒以内に除去可能である前記プリントマスク。
【請求項３】
支持体上にパターンを形成する方法であって、
感光性材料を含有するソルダーマスクを支持体に塗布する工程、
少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物を、前記感光性材料に選択的に塗布し、複合構造体を形成する工程、
前記組成物の選択的塗布後、前記組成物を紫外線照射で露光する工程、および
前記露光後、アルカリ性溶液を塗布して、前記組成物および前記感光性材料の前記アルカリ性溶液に可溶性を有する部分を３０秒以内に除去して、前記支持体上にパターンを形成する工程、を含む、前記方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、プリント回路基板用のマスクの印刷に使用される固形インク組成物、プリントマスク、及びパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント回路基板（ＰＣＢ）またはプリント配線板（ＰＷＢ）（以後、ＰＣＢと総称する。）は、コンピュータ、通信デバイス、家庭用電化製品、自動製造検査機器中で電子部品を相互に接続および仲介し且つ電子部と他の要素とを接続および仲介するプラットフォームである。ＰＣＢは、裸銅めっき基板（ｂａｒｅ  ｃｏｐｐｅｒ  ｐｌａｔｅｄ  ｂｏａｒｄ）として知られる、絶縁材料に薄い銅層を積層またはめっきした基板から、化学エッチング工程で銅の領域を選択的に除去して導電性の通路または経路を形成することで作製され得る。このトレースは、ＰＣＢに取り付けられた部品の電気的相互接続を可能にする。
【０００３】
次いで、ソルダーマスクと呼ばれる絶縁材料を銅導電路の上に塗布する。ソルダーマスクは、ＰＣＢ上の導電路がはんだ付け工程中にはんだでコーティングされないように、導電路を保護する。溶融はんだで覆う必要のある導電パッドだけをソルダーマスクで覆わずに残す。単純なＰＣＢ上のソルダーマスク層はスクリーン印刷または回転成形技術を用いて作製することができる。しかし、一般的に複雑な多層導電路を有する、より高密度に部品が搭載されたＰＣＢでは、通常、フォトリソグラフィを利用して銅層上にソルダーマスクをパターン形成する。フォトリソグラフィによりパターン形成されたソルダーマスクがなければ、導電路のその他の領域もはんだで被覆されてしまい、はんだのブリッジによる短絡等の複数の問題が生じ得る。
【０００４】
最終的なリソグラフィ工程において、更なるマスク層、または、米国特許第６，８７２，３２０号および米国特許出願公開第２００５／０１６４１２１号、同第２００８／０２４１７１２号、同第２００９／０１２３８７３号に記載されているもの等の「プリントマスク」をソルダーマスクの上に印刷する。パターンマスクは、紫外光がソルダーマスクに到達するのを阻止（ｂｌｏｃｋ）するように機能する場合、ＵＶマスクと呼ぶこともある。次いで、ＰＣＢをＵＶ照射で露光することで、プリントマスクで保護されていないソルダーマスク部分（露光領域）を架橋または硬化する。
【０００５】
露光されると、プリントマスクは、感光性材料にＵＶ照射が十分に到達しないように阻止して化学的変化を阻止することで、ソルダーマスクの「非露光領域」を形成する。例えば、ＵＶ照射は、組成物中の１つまたは複数のＵＶ照射阻止剤に吸収または反射され得る。露光後、ＰＣＢを塩基性水溶液に曝し、プリントマスクとソルダーマスクの「非露光領域」とを剥離または洗浄除去する。
【０００６】
塩基性水溶液は非露光ソルダーマスクの一部を除去するが、塩基性水溶液は、ソルダーマスクおよびプリントマスクを迅速に剥離除去しないかまたはアンダーカット等によるその後の除去が必要ないほど微細には除去しないため、そのような除去はしばしば不十分または非効率的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第６，８７２，３２０号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第２００５／０１６４１２１号公報
【特許文献３】米国特許出願公開第２００８／０２４１７１２号公報
【特許文献４】米国特許出願公開第２００９／０１２３８７３号公報
【特許文献５】米国特許第４，９０８，０６３号公報
【特許文献６】米国特許第５，４９６，８７９号公報
【特許文献７】米国特許第６，５４７，３８０号公報
【特許文献８】米国特許第４，１４４１１９号公報
【特許文献９】米国特許第４，４３７９３１号公報
【特許文献１０】米国特許第３，６６８，１３１号公報
【特許文献１１】米国特許第４，８４９，１２４号公報
【特許文献１２】米国特許第４，１３０，４５４号公報
【特許文献１３】米国特許第４，８５９，２８１号公報
【特許文献１４】米国特許第３，７７３，５７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本願は、好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物の提供を課題とする。そのようなマスクは、プリントマスクを用いる全てのＰＣＢおよびＰＣＢ製造プロセスに好適であり、より高価なマスクプロセスの使用に伴う製造コストを低減するであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示のある実施態様は、少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて約３０秒以内に除去可能であるプリントマスクである。
【００１０】
本開示のある実施態様は、少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの染料とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて３０秒以内に除去可能であるプリントマスクである。
【００１１】
また、本開示のある実施態様は、支持体上にパターンを形成する方法であって、感光性材料を含有するソルダーマスクを支持体に塗布する工程、少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物を、前記感光性材料に選択的に塗布し、複合構造体を形成する工程、前記組成物の選択的塗布後、前記組成物を紫外線照射で露光する工程、および、前記露光後、アルカリ性溶液を塗布して、前記組成物および前記感光性材料の前記アルカリ性溶液に可溶性を有する部分を３０秒以内に除去して、前記支持体上にパターンを形成する工程、を含む、前記方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本開示によれば、好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能なプリントマスクに使用される固形インク組成物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１（Ａ）〜（Ｄ）は、実施例１および実施例２の組成物を用いて作製したＵＶマスクの除去を示す図である。
【図２】図２（Ａ）〜（Ｄ）は、実施例７および実施例８の組成物を用いて作製したＵＶマスクの除去を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本願発明は、少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つの紫外線照射阻止剤とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて約３０秒以内に除去可能であるプリントマスクに関する。
【００１５】
少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む化合物は、炭素数約１０〜約５０、例えば炭素数約１４〜約２２または約１６〜約２０の、置換または未置換の脂肪族カルボン酸であってよい。好適な脂肪族カルボン酸の例としては、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸（ステアリン酸）、ノナデカン酸、イコサン酸、ドコサン酸（ベヘン酸）、ヘキサコサン酸、テトラコサン酸（リグノセリン酸）等の飽和脂肪族カルボン酸；パルミトオレイン酸、オレイン酸、リノール-酸、リノレン酸、エイコセン酸、エイコサペンタエン酸、セトレイン酸等の不飽和脂肪族カルボン酸が挙げられる。更なる例としては、ＵＮＩＣＩＤ  ３５０、ＵＮＩＣＩＤ  ４２５、ＵＮＩＣＩＤ  ５５０、ＵＮＩＣＩＤ  ７００等のＵＮＩＣＩＤカルボン酸ポリマー（ベーカー・ペトロライト・コーポレーション（Ｂａｋｅｒ−Ｐｅｔｒｏｌｉｔｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製）等の直鎖カルボン酸が挙げられる。熱せられたプリントヘッド中で前記組成物の安定性を維持するためには、飽和脂肪族カルボン酸が望ましい。
【００１６】
前記組成物は、上記アルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と一緒にまたは単独で、２個のアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物を含んでもよい。そのような化合物の好適な例としては、下記式で表される二価酸が挙げられる。
【００１７】
【化１】
2011039515.tif 000002
【００１８】
（式中、ａは約５〜約２４、例えば約１０〜約２４、または約１４〜約２０、または約１６〜約２０の整数であり、ｂはａの値の２倍の整数である。）
【００１９】
前記二価酸の例としては、ピメリン酸、スベリン酸、およびＣＯＲＦＲＥＥ  Ｍ１（デュポン社から入手可能）等の高分子量酸混合物が挙げられる。三価酸等の多官能酸を用いてもよい。二価酸の有益な態様では、アルカリ性塩基が１分子当たり２個以上の荷電基を生じ得、この荷電基により溶解／溶解度が良好となるため、１分子当たり２個以上の酸基によりプリントマスクの溶解がより迅速となる。
【００２０】
前記組成物は更に、下記式で表される少なくとも１つの一価アルコールを含んでもよい。
【００２１】
【化２】
2011039515.tif 000003
【００２２】
（式中、ｘは約８〜約３０、例えば約１２〜約２２、または約１４〜約２０の整数である。）好適な一価アルコールまたは「脂肪族アルコール」の例としては、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、エイコサノール、ヘンエイコサノール、トリコサノール等が挙げられる。
【００２３】
少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む化合物は、前記組成物の少なくとも約２重量％、例えば前記組成物の約２〜約９９重量％、または前記組成物の約２〜約９０重量％、または前記組成物の約３〜約８０重量％、または前記組成物の約５〜約６０重量％、または前記組成物の約１０〜約５０重量％、または前記組成物の約１０〜約３０重量％等の量で前記組成物中に存在し得る。
【００２４】
少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む化合物は、エトキシ化アルコールまたはエトキシ化アルコールのエステルであってよい。エトキシ化アルコール（直鎖）は、脂肪族アルコールの縮合物であり、アルキル部分およびエチレンオキシド（ＥＯ）部分を含む。好適なエトキシ化アルコールは、例えば、その開示全体を参照により本明細書に援用する米国特許第４，９０８，０６３号にも開示されている。エトキシ化アルコールは、下記式で表される。
【００２５】
【化３】
2011039515.tif 000004
【００２６】
（式中、ｘは約１〜約５０、例えば約５〜約４０、または約１０〜約３０、または約１５〜約２５の整数であり、ｙは約１〜約７０、例えば約１〜約５０、または約１０〜約４０、または約１〜約２５の整数である。）この材料は、融点が約６０〜約１５０℃、例えば約７０〜約１２０℃または約８０〜約１１０℃であってよく、数平均分子量（Ｍｎ）が約１００〜約５，０００、例えば約５００〜約３，０００または約５００〜約２，５００であってよい。市販の例としては、ＵＮＩＴＨＯＸ  ４２０（Ｍｎ＝５６０）、ＵＮＩＴＨＯＸ  ４５０（Ｍｎ＝９００）、ＵＮＩＴＨＯＸ  ４８０（Ｍｎ＝２，２５０）、ＵＮＩＴＨＯＸ  ５２０（Ｍｎ＝７００）、ＵＮＩＴＨＯＸ  ５５０（Ｍｎ＝１，１００）、ＵＮＩＴＨＯＸ  ７２０（Ｍｎ＝８７５）、ＵＮＩＴＨＯＸ  ７５０（Ｍｎ＝１，４００）等が挙げられる。
【００２７】
前記組成物がエトキシ化アルコールおよび脂肪族カルボン酸を含む場合、エトキシ化アルコールの添加により前記組成物の結晶性が乱れ、可剥性を促進する更なる極性基が付加される。例えば、エトキシ化アルコールを上記脂肪族カルボン酸と約１００〜約１５０℃、または約１１０〜約１５０℃、または約１２０〜約１３０℃の温度で混合するとすぐに、エトキシ化アルコールのアルコール末端部分が脂肪族カルボン酸のカルボキシル末端部分と反応してエステルを形成する。この反応により前記組成物の結晶性が乱れ、極性アルカリ性溶液による前記組成物の剥離または除去を支援する極性基が付加される。
【００２８】
アルコール１分子当たり約４〜２０モルのＥＯが縮合した直鎖または分岐鎖形態の高分子量アルコール（例えば炭素数が少なくとも８のアルコール）のエトキシ化アルコール縮合物の好適例としては、例えばアルコール１分子当たり約１６モルのＥＯが縮合したラウリルまたはミリスチルアルコール、アルコール１分子当たり約６〜１５モルのＥＯが縮合したトリデカノール、アルコール１分子当たり約１０モルのＥＯが縮合したミリスチルアルコール、アルコール１分子当たり約６〜１１モルのＥＯを含む獣脂（ｔａｌｌｏｗ）アルコールエトキシラート、およびアルコール１分子当たり約６〜約９モルのＥＯを含むココナッツ脂肪族アルコールエトキシラートが挙げられる。
【００２９】
好適なエトキシ化アルコールのその他の例としては、炭素数約９〜１５の高級脂肪族第一級アルコールであるＮＥＯＤＯＬエトキシラート（テキサス州のシェル・カンパニーから入手可能）、例えば、４〜１０モルのＥＯと縮合したＣ９〜Ｃ１１アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ９１−８またはＮＥＯＤＯＬ  ９１−５）、６．５モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１３アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２３−６．５）、１２モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１５アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２５−１２）、１３モルのＥＯと縮合したＣ１４〜Ｃ１５アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ４５−１３）、７モルのＥＯと縮合したＣ１２アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  １−７）、平均２．５モルのＥＯと縮合したＣ９〜Ｃ１１アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ９１−２．５）、６モルのＥＯと縮合したＣ９〜Ｃ１１アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ９１−６）、８モルのＥＯと縮合したＣ９〜Ｃ１１アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ９１−８）、６．５モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１３アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２３−６．５）、７モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１３アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２３−７）、７モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１５アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２５−７）、９モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１５アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２５−９）、１２モルのＥＯと縮合したＣ１２〜Ｃ１５アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ２５−１２）、および１３モルのＥＯと縮合したＣ１４〜Ｃ１５アルカノール（ＮＥＯＤＯＬ  ４５−１３）が挙げられる。
【００３０】
使用に適したエトキシ化アルコールその他の例としては、約４モルのＥＯを有するエトキシ化Ｃ８〜Ｃ１０アルコールがＴＲＹＣＯＬ  ＳＴ−８０４９の商標名でコグニス・コーポレーション（Ｃｏｇｎｉｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）からも入手可能であり、また、４．５モルのＥＯを有するエトキシ化Ｃ８〜Ｃ１０アルコールであるＡＬＦＯＮＩＣ  ８１０−４．５がサソール社（Ｓａｓｏｌ  Ｃｏｒｐ．）から入手可能である。エトキシ化アルコールの更なる例としては、５〜３０モルのエチレンオキシドと縮合した、直鎖または分岐鎖形態の炭素数８〜１８の第二級脂肪族アルコールの縮合物が挙げられる。市販の非イオン性界面活性剤の例としては、ユニオンカーバイド社（Ｕｎｉｏｎ  Ｃａｒｂｉｄｅ）から販売されている、９モルのＥＯと縮合したＣ１１〜Ｃ１５の第二級アルカノール（ＴＥＲＧＩＴＯＬ  １５−Ｓ−９）または１２モルのＥＯと縮合したＣ１１〜Ｃ１５の第二級アルカノール（ＴＥＲＧＩＴＯＬ  １５−Ｓ−１２）が挙げられる。
【００３１】
少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む化合物は、前記組成物の少なくとも約２重量％、例えば前記組成物の約２〜約９９重量％、または前記組成物の約２〜約９０重量％、または前記組成物の約３〜約８０重量％、または前記組成物の約５〜約６０％、または前記組成物の約１０〜約５０重量％、または前記組成物の約１０〜約３０重量％の量で前記組成物中に存在し得る。
【００３２】
米国特許出願公開第２００５／０１６４１２１号に開示されているような任意の好適な紫外線照射阻止剤を用いてソルダーマスクの光化学的変化（例えば架橋）を防止しつつ、一方でＰＣＢのソルダーマスクは紫外線（ＵＶ）照射により光化学的に変化させることができるようにしてもよい。波長が４５０ｎｍ未満の光または４００ｎｍ未満の光が阻止されるように、または３００〜４５０ｎｍの光が阻止されるように、１つまたは複数のＵＶ阻止剤が前記組成物に含まれる。そのようなＵＶ阻止剤の例としては、無機顔料および有機顔料等の顔料、染料、光開始剤、および吸収剤が挙げられる。また合成および天然の染料および顔料ならびにカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；英国染料染色学会社（Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｄｙｅｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｌｏｒｉｓｔｓ  Ｃｏｍｐａｎｙ）発行）で「顔料」に分類される化合物も挙げられる。
【００３３】
無機顔料の例としては、酸化鉄（ＩＩＩ）等の酸化鉄、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化コバルト、カドミウムレッド、硫酸バリウム、ウルトラマリンブルー（アルミノシリケート）；Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン−イエローＰＹ−５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエローＰＹ−５３、およびＣ．Ｉ．ピグメントレッド−イエローＰＢｒ−２４等の混合相チタネート；Ｃ．Ｉ．ピグメントイエローＰＹ−１  １９、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウンＰＢｒ−２９、およびＣ．Ｉ．ピグメントブラウンＰＢｒ−３１等の混合相金属酸化物；ルチルおよびアナターゼ等の二酸化チタン、琥珀、ならびにクロム酸鉛が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】
有機顔料の例としては、カーボンブラック、インジゴ、フタロシアニン、パラレッド、レッド、イエロー、ブルー、オレンジ、アイボリー色等のフラボノイドが挙げられる。
【００３５】
具体的な顔料の例としては、以下のカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号を有する顔料が挙げられる：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、およびＣ．Ｉ．ピグメントブラック７。
【００３６】
有機染料の例としては、モノアゾ基、アントラキノン基、金属錯体塩タイプのモノアゾ基、ジアゾ基、フタロシアニン基、およびトリアリルメタン基からなる群から選択される官能基を含む疎水性染料が含まれる。これらの疎水性染料は、水以外の多くの有機溶媒に溶解される。例えば、それぞれ三菱化学株式会社が製造している「ダイアレジンイエローＣ」［カラーインデックス（ＣＩ）ソルベントイエロー１０３］および「ダイアレジンイエローＡ」；オリヱント化学工業株式会社が製造している「オリエントオイルスカーレット＃３０８」［ＣＩソルベントレッド１８］；それぞれ保土谷化学工業株式会社が製造している「アイゼンスピロンブルー２ＢＮＨ」［ＣＩソルベントブルー１１７］および「アイゼンスピロンブルーＧＮＨ」；ならびにそれぞれオリヱント化学工業株式会社が製造している「バリファストブラック＃３８４０」［ＣＩソルベントブラック２７］、「バリファストブラック＃３８５０」、および「バリファストブラック＃１８０２」が挙げられる。乳化重合における染料のブレンド量は、モノマー全量を基準にして０．２〜５０重量％の範囲内である。
【００３７】
疎水性染料の更なる例としては、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１９、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２９、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３６、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３７、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３８、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３９、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４０、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４４、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４５、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４７、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー６２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー６３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー７１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー７６、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー７９、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８３：１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８５、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８６、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８８、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１５１；Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３６、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド４０、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド４９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド５８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド６０、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド６５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド６９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８３：１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８６、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド９１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド９２、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド９９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１００、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１０９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１１８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１１９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１２７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２１８；Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー１４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー２４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー２５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー２６、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３９、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー４２、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー４３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー４４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー４５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー４８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー５２、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー５３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー５５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー５９、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー６７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー７０；Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック１４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック１７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック１９、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２０、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２２、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２６、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２９、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック４３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック４５が挙げられる。
【００３８】
ＵＶ吸収剤としては、ベンゾフェノンおよび誘導体、例えばヒドロキシベンゾフェノン；ベンゾトリアゾールおよび誘導体、例えばベンゾトリアゾールカルボン酸；ｓ−トリアジン等のトリアジン；オクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾアート等のベンゾアート；桂皮酸オクチルメトキシ等の桂皮酸塩；サリチル酸オクチル等のサリチル酸塩；オクトクリレン等のクリレン；２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート等のシアノアクリラート、マロン酸塩、オキサニリド、２−シアノアクリラート、およびホルムアミジンが挙げられる。
【００３９】
ＵＶ吸収剤の具体例としては、（１）２−ブロモ−２’，４−ジメトキシアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １９，９４８−６）、（２）２−ブロモ−２’，５’−ジメトキシアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １０，４５８−２）、（３）２−ブロモ−３’−ニトロアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３４，４２１−４）、（４）２−ブロモ−４’−ニトロアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２４，５６１−５）、（５）３’，５’−ジアセトキシアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １１，７３８−２）、（６）２−フェニルスルホニルアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３４，１５０−３）、（７）３’−アミノアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １３，９３５−１）、（８）４’−アミノアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ａ３，８００−２）、（９）１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４６，７５２−９）、（１０）２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４２，２７４−６）、（１１）１、１−（１，２−エタン−ジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）（グッドリッチケミカル社（Ｇｏｏｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から市販）、（１２）２，２，４−トリメチル−１，２−ヒドロキノリン（モーベイケミカル社（Ｍｏｂａｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から市販）、（１３）２−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチルアクリラート、（１４）２−ドデシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）スクシンイミド（ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．）から市販）、（１５）２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル／β−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキソスピロ（５，５）−ウンデカン）ジエチル−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシラート（フェアマウント社から市販）、（１６）Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ’−エチル−Ｎ’−フェニルホルマジン（ジボダン社（Ｇｉｖａｕｄａｎ）から市販）、（１７）６−エトキシ−１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリン（モンサントケミカル社（Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から市販）、（１８）２，４，６−トリス−（Ｎ−１，４−ジメチルペンチル−４−フェニレンジアミノ）−１，３，５−トリアジン（ユニロイヤル社（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）から市販）、（１９）２−ドデシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ−チル−４−ピペリジニル）スクシンイミド（アルドリッチケミカル社から市販）、（２０）Ｎ−（１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−２−ドデシルスクシンイミド（アルドリッチ・ケミカル・カンパニーから市販）、（２１）（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル／β−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキソ−スピロ−（５，５）ウンデカン）ジエチル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシラート（フェアマウント社から市販）、（２２）（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，２，３，４−ブタンテトラカル��キシラート（フェアマウント社から市販）、（２３）ニッケルジブチルジチオカルバマート（フェロ社（Ｆｅｒｒｏ）からＵＶ−Ｃｈｅｋ  ＡＭ−１０５として市販）、（２４）２−アミノ−２’，５−ジクロロベンゾフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １０，５１５−５）、（２５）２’−アミノ−４’，５’−ジメトキシアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３２，９２２−３）、（２６）２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４０，５６４−７）、（２７）４’−ベンジルオキシ−２’−ヒドロキシ−３’−メチルアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２９，８８４−０）、（２８）４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １６，０３２−６）、（２９）５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃ４，４７０−２）、（３０）４’−ピペラジノアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １３，６４６−８）、（３１）４’−ピペリジノアセトフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １１，９７２−５）、（３２）２−アミノ−５−クロロベンゾフェノン（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ａ４，５５６−４）、（３３）３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−オクチルカルバゾール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４６，０７３−７）等、およびこれらの混合物が挙げられる。
【００４０】
ＵＶ吸収剤の更なる例としては、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）ＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ３２、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ３４、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−３６、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−３１、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ１４１３、およびＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ５１が挙げられる。チヌビンは、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から市販されている製品の商標である。
【００４１】
１つまたは複数の上記のような紫外線阻止剤が、前記組成物の約０．１〜約５０重量％、例えば１〜約３０重量％、または約２〜約２０重量％、または約２〜約１０重量％、または約４〜約８重量％等の量で、マスクを印刷する前記組成物中に含まれる。
【００４２】
ある実施形態では、前記組成物は、可塑剤、粘着付与剤、ポリアミド樹脂、殺生物剤、酸化防止剤、接着剤等からなる群から選択される少なくとも１つの添加剤を更に含んでもよい。
【００４３】
可塑剤は、ＵＮＩＰＬＥＸ  ２５０（ユニプレックス社（Ｕｎｉｐｌｅｘ）から市販）、モンサント社からＳＡＮＴＩＣＩＺＥＲの商標で市販されているフタル酸エステル系可塑剤、例えばフタル酸ジオクチル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸アルキルベンジル（ＳＡＮＴＩＣＩＺＥＲ  ２７８）、リン酸トリフェニル（モンサント社から市販）、リン酸トリブトキシエチルであるＫＰ−１４０（ＦＭＣコーポレーションから市販）、フタル酸ジシクロヘキシルであるＭＯＲＦＬＥＸ  １５０（モルフレックス・ケミカル・カンパニー・インコーポレイテッド（Ｍｏｒｆｌｅｘ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ  Ｉｎｃ．）から市販）、トリメリット酸トリオクチル（イーストマン・コダック社から市販）等からなる群から選択され得る。可塑剤は、前記組成物の約０．０１〜約９８重量パーセント、または前記組成物の約０．１〜約５０重量パーセント、または前記組成物の約５〜約１０重量パーセントの量で存在し得る。
【００４４】
前記組成物は、水素化アビエチン（ロジン）酸のグリセロールエステルであるＦＯＲＡＬ  ８５（ヘラクレス社（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ）から市販）、ヒドロアビエチン（ロジン）酸のペンタエリスリトールエステルであるＦＯＲＡＬ  １０５（ヘラクレス社から市販）、フタル酸のヒドロアビエチン（ロジン）アルコールエステルであるＣＥＬＬＯＬＹＮ  ２１（ヘラクレス社から市販）；水素化アビエチン（ロジン）酸のトリグリセリドであるＡＲＡＫＡＷＡ  ＫＥ−３１１およびＫＥ−１００樹脂（荒川化学工業株式会社から市販）；ＮＥＶＴＡＣ  ２３００、ＮＥＶＴＡＣ  １００、およびＮＥＶＴＡＣＯ  ８０（ネビル・ケミカル・カンパニー（Ｎｅｖｉｌｌｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から市販）等の合成ポリテルペン樹脂、修飾合成ポリテルペン樹脂であるＷＩＮＧＴＡＣＫ  ８６（グッドイヤー社（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）から市販）等からなる群から選択される粘着付与剤を更に含んでもよい。粘着付与剤は、例えば前記組成物の約０．０１〜約５０重量パーセント、前記組成物の約０．１〜約２０重量パーセント、または前記組成物の約５〜約１０重量パーセント等の任意の有効量で前記組成物中に存在し得る。
【００４５】
ある実施形態では、前記組成物は、組成物に粘着性をもたせるか、粘度を増加させるか、組成物中の他の成分の少なくとも１つの溶解性を高めるための、好適なポリアミド樹脂を更に含んでもよい。好適なポリアミド樹脂の例としては、アリゾナ・ケミカル社（Ａｒｉｚｏｎａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）からＵＮＩＲＥＺの商標で販売されている重量平均分子量が１５，０００ｇ／モル未満のポリエステルアミド樹脂、例えばＵＮＩＲＥＺ  ２９７０、ＵＮＩＲＥＺ  ２９７４、ＵＮＩＲＥＺ  ２９８０等が挙げられる。これらの樹脂は軟化点が約９０〜約１４０℃であり、１３０℃における粘度が約２０〜約１５０ｃＰである。
【００４６】
殺生物剤は、前記組成物の約０．１〜約１．０重量パーセントの量で存在し得る。好適な殺生物剤としては、例えば、ソルビン酸、ＤＯＷＩＣＩＬ  ２００（ザ・ダウ・ケミカル・カンパニー製）として市販されている１−（３−クロロアリル）−３，５，７−トリアザ−１−アゾニアアダマンタンクロリド、ＣＹＴＯＸ  ３７１１（アメリカン・サイアナミド・カンパニー（Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｙａｎａｍｉｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）製）として市販されているビニレン−ビスチオシアネート、ＤＩＴＨＯＮＥ  Ｄ１４（ローム・アンド・ハースカンパニー（Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓ  Ｃｏｍｐａｎｙ）製）として市販されているエチレンビス−ジチオカルバミン酸２ナトリウム、ＢＩＯＣＩＤＥ  Ｎ１３８６（ストーファー・ケミカル・カンパニー（Ｓｔａｕｆｆｅｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）製）として市販されているビス（トリクロロメチル）スルホン、ジンクオマジン（Ｚｉｎｃ  Ｏｍａｄｉｎｅ；オリン・コーポレーション（Ｏｌｉｎ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製）として市販されているジンクピリジンチオン、ＯＮＹＸＩＤＥ  ５００（オニックス・ケミカル・カンパニー（Ｏｎｙｘ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）として市販されている２−ブロモ−ｔ−ニトロプロパン−１，３−ジオール、ＢＯＳＱＵＡＴ  ＭＢ５０（ロウザ・インコーポレイテッド（Ｌｏｕｚａ、Ｉｎｃ．）製）等が挙げられる。
【００４７】
前記組成物は、容器中で組成物成分が加熱溶融物として存在している間、前記組成物が酸化から保護されるように、酸化防止剤を含んでもよい。好適な酸化防止剤の例としては、（１）  Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナムアミド）（ＩＲＧＡＮＯＸ  １０９８、チバ・ガイギー・コーポレーションから入手可能）、（２）２，２−ビス（４−（２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ））エトキシフェニル）プロパン（ＴＯＰＡＮＯＬ−２０５、ＩＣＩアメリカ・コーポレーションから入手可能）、（３）トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌラート（ＣＹＡＮＯＸ  １７９０、４１，３２２−４、ＬＴＤＰ、Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｄ１２，８４０−６）、（４）２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオロホスホニト（ＥＴＨＡＮＯＸ−３９８、エチル・コーポレーション（Ｅｔｈｙｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能）、（５）テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニルジホスホニト（ＡＬＤＲＩＣＨ  ４６，８５２−５；硬度値９０）、（６）テトラステアリン酸ペンタエリトリトール（ＴＣＩ  Ａｍｅｒｉｃａ  ＃ＰＯ７３９）、（７）次亜リン酸トリブチルアンモニウム（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４２，００９−３）、（８）２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２５，１０６−２）、（９）２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（４−メトキシベンジル）フェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２３，００８−１）、（１０）４−ブロモ−２，６−ジメチルフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３４，９５１−８）、（１１）４−ブロモ−３，５−ジジメチルフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｂ６，４２０−２）、（１２）４−ブロモ−２−ニトロフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３０，９８７−７）、（１３）４−（ジエチルアミノメチル）−２，５−ジメチルフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  １４，６６８−４）、（１４）３−ジメチルアミノフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｄ１４，４００−２）、（１５）２−アミノ−４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４１，２５８−９）、（１６）２，６−ビス（ヒドロキシメチル）−ｐ−クレゾール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２２，７５２−８）、（１７）２，２’−メチレンジフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｂ４，６８０−８）、（１８）５−（ジエチルアミノ）−２−ニトロソフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２６，９５１−４）、（１９）２，６−ジクロロ−４−フルオロフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２８，４３５−１）、（２０）２，６−ジブロモフルオロフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２６，００３−７）、（２１）α−トリフルオロ−ｏ−クレゾール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２１，９７９−７）、（２２）２−ブロモ−４−フルオロフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３０，２４６−５）、（２３）４−フルオロフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｆ１，３２０−７）、（２４）４−クロロフェニル−２−クロロ−１、１，２−トリ−フルオロエチルスルホン（Ａｌｄｒｉｃｈ  １３，８２３−１）、（２５）３，４−ジフルオロフェニル酢酸（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２９，０４３−２）、（２６）３−フルオロフェニル酢酸（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２４，８０４−５）、（２７）３，５−ジフルオロフェニル酢酸（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２９，０４４−０）、（２８）２−フルオロフェニル酢酸（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２０，８９４−９）、（２９）２，５−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸（Ａｌｄｒｉｃｈ  ３２，５２７−９）、（３０）エチル−２−（４−（４−（トリフルオロメチル）フェノキシ）フェノキシ）プロピオナート（Ａｌｄｒｉｃｈ  ２５，０７４−０）、（３１）テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニルジホスホニト（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４６，８５２−５）、（３２）４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール（Ａｌｄｒｉｃｈ  １５，３８４−２）、（３３）３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェネチルアルコール（Ａｌｄｒｉｃｈ  ４３，０７１−４）、ＮＡＵＧＡＲＤ  ７６、ＮＡＵＧＡＲＤ  ４４５、ＮＡＵＧＡＲＤ  ５１２、ＮＡＵＧＡＲＤ  ５２４（ユニロイヤル・ケミカル・カンパニー（Ｕｎｉｒｏｙａｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）製）等、およびこれらの混合物が挙げられる。酸化防止剤が存在する場合は、例えば前記組成物の約０．２５〜約１０重量パーセント、または前記組成物の約１〜約５重量パーセント等の、任意の所望の量または有効量で、前記組成物中に存在し得る。
【００４８】
ＶＥＲＳＡＭＩＤ  ７５７、７５９、または７４４（ヘンケル社（Ｈｅｎｋｅｌ）から市販）等の接着剤が、前記組成物の約０．０１〜約９８重量パーセント、または前記組成物の約０．１〜約５０重量パーセント、または前記組成物の約５〜約１０重量パーセントの量で前記組成物中に存在し得る。
【００４９】
接着剤が存在する場合は、接着剤のそれぞれまたは組合せは、前記組成物の約１〜約１０重量パーセント、または前記組成物の約３〜約５重量パーセント等の、任意の所望の量または有効量で、前記組成物中に存在し得る。
【００５０】
本明細書に記載の前記組成物は、相変化インクと同様な様式で機能し得る。相変化インク（「固形インク」および「ホットメルトインク」と呼ぶこともある。）は種々の液体堆積技術に用いられてきた。相変化インクはしばしば、インクが周囲温度では固相で存在し且つインクジェット印刷デバイスの高い作動温度では液相で存在することを可能にする「相変化剤」を含有する。付着作動温度で液体インクの液滴が印刷デバイスから吐出され、インクが、直接または中間加熱転写ベルトまたはドラムを介して、記録支持体の表面へと噴射されるかまたは記録支持体の表面に接触すると、インクは急速に固化し、所定のパターンの固化したインク滴を形成する。相変化インクは、例えば米国特許第５，４９６，８７９号に開示されているようなグラビア印刷等のその他の印刷技術でも用いられてきた。
【００５１】
一般的に、前記組成物は、例えば約２０〜約２７℃等の周囲温度または室温では固相であるが、インクジェット印刷デバイスの高い作動温度では液相で存在する。噴射作動温度では、インクは溶融しており、液体インクの液滴が印刷デバイスから吐出される。
【００５２】
ある実施形態では、前記組成物は、例えば顕微鏡ホットステージ上での観察および測定により決定される融点が、例えば約４０〜約８５℃、または約４０〜約６５℃、または約４０〜約６０℃、または約４５〜約５５℃、または約４５〜約５０℃であってよい。この融点は、前記組成物をスライドガラス上で加熱し、顕微鏡で観察されるか、示差走査熱量測定により特徴解析される。更に、前記組成物は、噴射粘度が約５〜約２５ｃＰであってよい。
【００５３】
ある実施形態では、前記組成物は、支持体上に画像を形成するための方法においてＵＶプリントマスクとして使用され、感光性材料でコーティングされた支持体に選択的に塗布され得る。より具体的には、前記組成物をソルダーマスク上に液体として選択的に堆積させて、ソルダーマスクの表面にプリントマスク組成物を形成することにより、最終物品中の回路トレースを被覆するソルダーマスク上にプリントマスクがパターンを形成し得る。
【００５４】
「選択的に堆積させる」または「選択的堆積」という表現は、例えば、液体コーティングや液体印刷等の液体プロセスによってプリントマスク組成物を堆積することを指し、ここで該液体プロセスに用いられる液体は溶融したプリントマスク組成物である。ソルダーマスク上にパターン状に液状プリントマスク組成物を選択的に堆積させるには、任意の好適な工程またはデバイスを用いてよい。印刷技術を用いる場合、プリントマスク組成物をインクということもある。液体塗布工程の例としては、例えばスピンコーティング、ブレードコーティング、ロッドコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。印刷技術の例としては、例えばリソグラフィまたはオフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、ステンシル印刷、インクジェット印刷、スタンピング（例えばマイクロコンタクトプリンティング）等が挙げられる。米国特許第６，５４７，３８０号に記載されているようなインクジェット印刷デバイスは当該技術分野で公知であるので、本明細書中で詳細な説明は不要であろう。選択的堆積により、厚さが約１ナノメートル〜約５ミリメートル、または約１０ナノメートル〜約１０００マイクロメートル、または約１マイクロメートル〜約１００マイクロメートル、または約２５マイクロメートル〜約５０マイクロメートルのプリントマスク組成物層が堆積される。
【００５５】
プリントマスク組成物を支持体に塗布した後、支持体、ソルダーマスク、およびＵＶマスクを含む複合体にＵＶが照射され得る。ＵＶ照射により露光されると、ソルダーマスクの、ＵＶマスクで被覆されずに残っている部分（感光性材料を含んでいる）、すなわち露光領域が、化学的に変化する。該化学的変化の例としては、ソルダーマスクの非露光領域の架橋および／または硬化が挙げられる。
【００５６】
次いで、プリントマスクおよびソルダーマスクの非露光領域は、アルカリ性溶液（塩基性水溶液）を用いて約３０秒以内に除去または「剥離」され得る。従って、ＵＶマスクは約３０秒以内に除去可能である。好適なアルカリ性溶液は、ｐＨが７．５〜１４、または例えば８〜１３、または例えば９〜１２である。アルカリ性溶液は、水に溶解したアルカリ溶質を含有する。好適なアルカリ溶質の例としては、例えば水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ならびに炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩が挙げられる。溶質は、アルカリ性溶液の約０．０５〜約５重量パーセント、またはアルカリ性溶液の約０．１〜約４重量パーセント、またはアルカリ性溶液の約１〜約２重量パーセントの量でアルカリ性溶液中に存在し得る。
【実施例】
【００５７】
以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【００５８】
実施例１：ＵＶマスク組成物Ａの調製
ＵＶマスク組成物を下記のように調製した。６３．７５重量部のヘキサデカン酸（パルミチン酸）、６３．７５重量部のオクタデカン酸（ステアリン酸）、および６３．７５重量部のドコサン酸（ベヘン酸）を含む混合物を形成した。前記ドコサン酸はステンレス鋼製ビーカー中で１１０℃で一晩予め溶融された後、混合物に添加された。混合後、撹拌羽根の付いたインペラを４４５ｒｐｍで用いて、混合物を１０３〜１２２℃に維持した。次いで、５０．００重量部のＵＮＩＴＨＯＸ４５０（エトキシ化アルコール）を混合物に添加した。２時間後、８．７５重量部のバリファスト３８４０Ｌ染料を、約３０分かけてふるいにかけて混合物に添加した。次いで、混合物の温度を１１９℃で一定に保ち、９０分間連続撹拌した。撹拌後、得られた混合物に、約５グラムの珪藻土を添加して、ワットマン社のＮｏ．３の濾紙を用いて加圧濾過した。
【００５９】
実施例２：ＵＶマスク組成物Ｂの調製
ＵＶマスク組成物を下記のように調製した。６６．５３重量部のＵＮＩＣＩＤ３５０、６６．５３重量部のヘキサデカン酸（パルミチン酸）、およびステンレス鋼製ビーカー中で１１０℃で一晩予め溶融された６６．５３重量部のオクタデカン酸（ステアリン酸）を含む混合物を形成した。混合後、撹拌羽根の付いたインペラを４４５ｒｐｍで用いて、混合物を１０３〜１２２℃に維持した。次いで、４１．６７重量部のＵＮＩＴＨＯＸ４５０（エトキシ化アルコール）を混合物に添加した。２時間後、８．７５重量部のバリファスト３８４０Ｌ染料を、約３０分かけてふるいにかけて混合物に添加した。次いで、混合物の温度を１２０℃で一定に保ち、７０分間連続撹拌した。撹拌後、得られた混合物に、約５グラムの珪藻土を添加して、ワットマン社のＮｏ．３の濾紙を用いて加圧濾過した。
【００６０】
実施例３：ＵＶマスクＡの可剥性
硬化したソルダーマスクでコーティングされたシリコンウェーハを切断して断片化し、溶融したＵＶマスク組成物Ａでディップコーティングして、硬化ソルダーマスク上に厚さが２５μｍ以上のＵＶマスクＡを形成させた。水に溶解した１．２重量パーセントの炭酸カリウムを含むアルカリ性塩基溶液（５０℃）を、ロータスプレー（Ｒｏｔａｓｐｒａｙ）装置を用いて塗布して、ＵＶマスクＡを剥離除去した。図１（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、３０秒でＵＶマスクのかなりの部分が除去された。次いで、脱イオン水を滴下して支持体を１０秒間リンスした（ｄｒｉｐ−ｒｉｎｓｅ）。
【００６１】
実施例４：ＵＶマスクＢの可剥性
硬化したソルダーマスクでコーティングされたシリコンウェーハを切断して断片化し、溶融したＵＶマスク組成物Ｂでディップコーティングして、硬化ソルダーマスク上に厚さが２５μｍ以上のＵＶマスクＢを形成させた。水に溶解した１．２重量パーセントの炭酸カリウムを含むアルカリ性塩基溶液（５０℃）を、ロータスプレー（Ｒｏｔａｓｐｒａｙ）装置を用いて塗布して、ＵＶマスクＢを剥離除去した。図１（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、３０秒でＵＶマスクのかなりの部分が除去された。次いで、脱イオン水を滴下して支持体を１０秒間リンスした（ｄｒｉｐ−ｒｉｎｓｅ）。
【００６２】
実施例５：ＵＶマスク組成物Ｃの調製
ＵＶマスク組成物を下記のように調製した。６３．７５重量部のヘキサデカン酸（パルミチン酸）、６３．７５重量部のオクタデカン酸（ステアリン酸）、およびステンレス鋼製ビーカー中で１１０℃で一晩予め溶融された６３．７５重量部のドコサン酸（ベヘン酸）を含む混合物を形成した。混合後、撹拌羽根の付いたインペラを４４５ｒｐｍで用いて、混合物を１０３〜１２２℃に維持した。次いで、５０．００重量部のＵＮＩＴＨＯＸ４５０（エトキシ化アルコール）を混合物に添加した。半時間後、８．７７重量部のソルベントブラック３染料を、約１０分かけてふるいにかけて混合物に添加した。次いで、混合物の温度を１１５℃で一定に保ち、約６０分間連続撹拌した。撹拌後、得られた混合物に、約８グラムの珪藻土を添加して、ワットマン社のＮｏ．３の濾紙を用いて加圧濾過した。
【００６３】
実施例６：ＵＶマスク組成物Ｄの調製
ＵＶマスク組成物を下記のように調製した。６６．５３重量部のＵＮＩＣＩＤ３５０、６６．５３重量部のヘキサデカン酸（パルミチン酸）、およびステンレス鋼製ビーカー中で１１０℃で一晩予め溶融された６６．５３重量部のオクタデカン酸（ステアリン酸）を含む混合物を形成した。４１．６７重量部のＵＮＩＴＨＯＸ４５０（エトキシ化アルコール）を混合物に添加し、次いで、撹拌羽根の付いたインペラを４４５ｒｐｍで用いて、混合物を１０３〜１２２℃に維持した。２時間後、８．７７重量部のソルベントブラック３染料を、約３分かけてふるいにかけて混合物に添加した。次いで、混合物の温度を１０３〜１２２℃で保ち、約２時間連続撹拌した。撹拌後、得られた混合物に、約８グラムの珪藻土を添加して、ワットマン社のＮｏ．３の濾紙を用いて加圧濾過した。
【００６４】
実施例７：ＵＶマスクＣの可剥性
硬化したソルダーマスクでコーティングされたシリコンウェーハを切断して断片化し、溶融したＵＶマスク組成物Ｃでディップコーティングして、硬化ソルダーマスク上に厚さが２５μｍ以上のＵＶマスクＣを形成させた。水に溶解した１．２重量パーセントの炭酸カリウムを含むアルカリ性塩基溶液（５０℃）を、ロータスプレー（Ｒｏｔａｓｐｒａｙ）装置を用いて塗布して、ＵＶマスクＣを剥離除去した。図２（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、３０秒でＵＶマスクのかなりの部分が除去された。次いで、脱イオン水を滴下して支持体を１０秒間リンスした（ｄｒｉｐ−ｒｉｎｓｅ）。
【００６５】
実施例８：ＵＶマスクＤの可剥性
硬化したソルダーマスクでコーティングされたシリコンウェーハを切断して断片化し、溶融したＵＶマスク組成物Ｄでディップコーティングして、硬化ソルダーマスク上に厚さが２５μｍ以上のＵＶマスクＤを形成させた。水に溶解した１．２重量パーセントの炭酸カリウムを含むアルカリ性塩基溶液（５０℃）を、ロータスプレー（Ｒｏｔａｓｐｒａｙ）装置を用いて塗布して、ＵＶマスクＤを剥離除去した。図２（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、３０秒でＵＶマスクのかなりの部分が除去された。次いで、脱イオン水を滴下して支持体を１０秒間リンスした（ｄｒｉｐ−ｒｉｎｓｅ）。
【図１】
2011039515.tif 000005
【図２】
2011039515.tif 000006