(57)【要約】【課題】スループットの低下を低減しつつ、レシピに登録された座標と実際の座標とのずれを自動的に補正する。【解決手段】基板Ｗにおけるモデルの検査・測定座標を記憶したレシピに基づいて搬送ステージ１３上に載置された基板Ｗにおけるモデルを検査・測定する基板検査・測定装置１０は、搬送ステージ１３上に載置された基板Ｗにおけるモデルの実座標を特定し、特定した実座標をレシピに登録する（ステップＳ１１４、Ｓ４１５）。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板における処理対象の座標を記憶したレシピに基づいてステージ上に載置された前記基板における前記処理対象に所定の処理を実行する処理装置であって、
前記ステージ上に載置された前記基板における前記処理対象の実際の座標を特定する実座標特定手段と、
前記実座標特定手段で特定された前記実際の座標を前記レシピに登録する実座標登録手段と、
を備えたことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記レシピは、前記処理対象の前記基板における設計上の座標を登録し、
前記実座標登録手段は、前記設計上の座標に対する前記実際の座標の差分を前記レシピに登録することで該レシピに前記実際の座標を登録することを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記実座標登録手段によって前記実際の座標が登録された前記レシピをネットワークへ送出する通信部をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載された処理装置と、
複数の前記処理装置が接続されたネットワークと、
よりなることを特徴とする処理システム。
【請求項５】
ステージ上に載置された基板における処理対象に所定の処理を実行する際に使用するレシピに登録された前記処理対象の前記基板上の座標を補正する座標補正方法であって、
前記ステージ上に載置された前記基板における前記処理対象の実際の座標を特定する実座標特定ステップと、
前記実座標特定ステップで特定された前記実際の座標を前記レシピに登録する実座標登録ステップと、
を備えたことを特徴とする座標更新方法。
【請求項６】
ステージ上に載置された基板における処理対象に所定の処理を実行する際に使用するレシピに登録された前記処理対象の前記基板上の座標を補正する処理をコンピュータに実行させるための座標補正プログラムであって、
前記ステージ上に載置された前記基板における前記処理対象の実際の座標を特定する実座標特定処理と、
前記実座標特定処理で特定された前記実際の座標を前記レシピに登録する実座標登録処理と、
を前記コンピュータに実行させるための座標補正プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置、処理システム、座標補正方法および座標補正プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、たとえばガラス基板などの広い処理対象面を持つ基板に対して検査や測定などの処理を行う処理装置では、処理対象面の特定位置を検査／測定する際、レシピに登録された座標に基づいて、基板が載置されるステージや検査／測定ユニットを移動する。ただし、レシピに登録された対象パターンの座標と、ステージ上の実際の対象パターンの座標とは、必ずしも一致するものではない。そこで、例えば以下に示す特許文献１では、基板が載置された検査ステージのステージ原点からの移動量に応じた移動補正量を基板移動の際のレシピに記憶しておき、同一品種の基板については、指定された座標データに対して移動補正量を加えた座標データに従って基板を移動していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１０７１３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の技術では、レシピに登録された対象パターンの座標が実際の対象パターンの座標からずれていた場合、手動により実際の座標を特定して移動補正量を求める必要があった。このため、従来の技術では、処理工程の増大と煩雑化とが生じ易く、処理装置でのスループットが低下し易いという問題があった。
【０００５】
そこで本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、スループットの低下を低減しつつ、レシピに登録された座標と実際の座標とのずれを自動的に補正することが可能な処理装置、処理システム、座標補正方法および座標補正プログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
かかる目的を達成するために、本発明による処理装置は、基板における処理対象の座標を記憶したレシピに基づいてステージ上に載置された前記基板における前記処理対象に所定の処理を実行する処理装置であって、前記ステージ上に載置された前記基板における前記処理対象の実際の座標を特定する実座標特定手段と、前記実座標特定手段で特定された前記実際の座標を前記レシピに登録する実座標登録手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明による処理システムは、上記した本発明による処理装置と、複数の前記処理装置が接続されたネットワークと、よりなることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明による座標補正方法は、ステージ上に載置された基板における処理対象に所定の処理を実行する際に使用するレシピに登録された前記処理対象の前記基板上の座標を補正する座標補正方法であって、前記ステージ上に載置された前記基板における前記処理対象の実際の座標を特定する実座標特定ステップと、前記実座標特定ステップで特定された前記実際の座標を前記レシピに登録する実座標登録ステップと、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明による座標更新プログラムは、ステージ上に載置された基板における処理対象に所定の処理を実行する際に使用するレシピに登録された前記処理対象の前記基板上の座標を補正する処理をコンピュータに実行させるための座標補正プログラムであって、前記ステージ上に載置された前記基板における前記処理対象の実際の座標を特定する実座標特定処理と、前記実座標特定処理で特定された前記実際の座標を前記レシピに登録する実座標登録処理と、を前記コンピュータに実行させる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ステージ上に載置された基板における処理対象の実際の座標を特定してこの実際の座標をレシピに登録するため、スループットの低下を低減しつつ、レシピに登録された座標と実際の座標とのずれを自動的に補正することが可能な処理装置、処理システム、座標補正方法および座標補正プログラムを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の実施の形態による基板検査・測定システムの概略構成を示す模式図である。
【図２】図２は、本実施の形態による基板検査・測定装置の概略構成を示す外観図である。
【図３】図３は、本実施の形態における搬送ステージ上の基板と検査・測定ユニットとの関係を示す概略模式図である。
【図４】図４は、本実施の形態による基板検査・測定装置のレシピ作成動作の概略を示すフローチャートである。
【図５】図５は、本実施の形態によるアライメント補正を説明するための概略図である。
【図６】図６は、本実施の形態におけるモデル検索処理の具体例を示すフローチャートである。
【図７】図７は、本実施の形態における周辺サーチ処理の具体例を示すフローチャートである。
【図８】図８は、本実施の形態におけるモデル引き込み処理を説明するための図である。
【図９】図９は、本実施の形態による基板検査・測定システムの概略構成を示す模式図である。
【図１０】図１０は、本実施の形態による検査・測定動作の概略を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の説明において、各図は本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。また、後述において例示する数値は、本発明の好適な例に過ぎず、従って、本発明は例示された数値に限定されるものではない。
【００１３】
（一実施の形態）
まず、本発明の一実施の形態による処理装置、処理システム、座標補正方法および座標補正プログラムを、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、処理装置として、ガラス基板などの基板を検査・測定する基板検査・測定装置を例に挙げる。ただし、これに限定されず、たとえば基板における欠陥箇所をレーザ照射等によって修復する、いわゆるリペア装置など、基板に対する処理を実行する各種処理装置を適用することができる。
【００１４】
図１は、本実施の形態による基板検査・測定システムの概略構成を示す模式図である。図１に示すように、基板検査・測定システムは、１つ以上の基板検査・測定装置１０Ａ、１０Ｂ、…（以下、区別する必要が無い際の基板検査・測定装置の符号を１０とする）と、基板検査・測定装置１０Ａ、１０Ｂ、…へ基板を搬入出する基板搬入出部１５Ａ、１５Ｂ、…（以下、区別する必要が無い際の基板検査・測定装置の符号を１５とする）と、１つ以上の基板検査・測定装置１０および１つ以上の基板搬入出部１５が接続されたネットワーク１１０と、ネットワーク１１０に接続されたホストコンピュータ（ＰＣ）１００と、を備える。なお、ネットワーク１１０には、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）やインターネットや専用回線など、種々のネットワークを適用することができる。
【００１５】
個々の基板検査・測定装置１０は、検査・測定対象の基板を搬送する搬送ステージ１３と、搬送ステージ１３を制御するステージコントローラ１２と、搬送ステージ１３上の基板を特定位置で検査・測定する検査・測定ユニット１４と、ステージコントローラ１２および検査・測定ユニット１４を制御する制御コンピュータ（ＰＣ）１１と、を備える。制御ＰＣ１１は、検査・測定ユニット１４で取得された検査・測定結果（たとえば画像）を処理する処理部１１ｂと、画像データやレシピや各種プログラムおよびパラメータ等を記憶する記憶部１１ｃと、他の基板検査・測定装置１０や基板搬入出部１５やホストＰＣ１００との通信を担う通信部１１ｄと、制御ＰＣ１１内の各部の動作や各種処理を実行する制御部１１ａと、を備える。
【００１６】
レシピには、基板に対する検査・測定対象（モデル）の位置を示す座標（以下、検査・測定座標という）や、レシピ登録時の撮像における光量および倍率などの情報が、検査・測定時のパラメータとして登録される。このレシピは、たとえばホストＰＣ１００または他の基板検査・測定装置１０からネットワーク１１０を介して各基板検査・測定装置１０に送信される。すなわち、レシピは、複数の基板検査・測定装置１０において共有される。各基板検査・測定装置１０は、受信した、または、取得したレシピを記憶部１１ｃ内に保持しておき、必要に応じて読み出す。
【００１７】
ここで、基板検査・測定装置１０の概略構成を、図面を用いて詳細に説明する。図２は、本実施の形態による基板検査・測定装置の概略構成を示す外観図である。図２に示すように、基板検査・測定装置１０では、搬送ステージ１３が架台１６に固定されている。架台１６は、たとえばスチール材を組み合わせたフレームなどで構成することができる。ただし、ブロック状の大理石などを用いてもよい。また、架台１６には、たとえば顕微鏡などの検査・測定ユニット１４を検査・測定ラインＬ１３に沿って移動可能に保持するガントリーステージ１４ａが固定される。架台１６と設置面（たとえば床）との間には、たとえばスプリングや油圧ダンパなどで構成された振動吸収機構１７が設けられてもよい。この構成により、搬送ステージ１３および検査・測定ユニット１４の振動を抑制することが可能になる。このような基板検査・測定装置１０は、たとえば外装１８およびファンフィルタユニット（ＦＦＵ）１９によって形成されるクリーンルーム内に収容される。
【００１８】
つづいて、搬送ステージ１３上の基板Ｗと検査・測定ユニット１４との関係を、図面を用いて詳細に説明する。図３は、本実施の形態における搬送ステージ上の基板と検査・測定ユニットとの関係を示す概略模式図である。ただし、図３では、搬送ステージ１３を簡素化して示す。
【００１９】
図３に示すように、搬送ステージ１３上の基板Ｗは、搬入出方向Ｄ１に沿って搬送ステージ１３上を移動する。搬送ステージ１３の上面には、たとえば無数の穴が設けられている。この穴から空気を吹き出すことで、搬送ステージ１３上の基板Ｗを搬送ステージ１３に直接接触させることなく移動させることが可能となる（浮上搬送）。搬送ステージ１３上での基板Ｗの移動は、制御ＰＣ１１からの制御の下で動作するステージコントローラ１２によって制御される。たとえば、ステージコントローラ１２は、搬送ステージ１３の脇に隣接して配置され、制御ＰＣ１１からの制御の下で搬入出方向Ｄ１へ移動する移送ユニット（不図示）を含む。基板Ｗは、たとえば端部もしくは中央部（重心位置）などの少なくとも１箇所が移送ユニットに担持されることで、制御ＰＣ１１からの制御に従って搬送ステージ１３上を搬入出方向Ｄ１に沿って移動する。また、この他にも、搬送ステージ１３の上面に複数の駆動ローラまたはフリーローラを設け、このローラによって搬送ステージ１３上の基板Ｗを搬送ステージ１３に直接接触させることなく移動するように構成することもできる。
【００２０】
一方、検査・測定ユニット１４は、長手方向Ｄ２が搬入出方向Ｄ１に対して垂直となるように配置されたガントリーステージ１４ａの長手方向Ｄ２に沿って移動しつつ、搬送ステージ１３上の基板Ｗを検査・測定する。したがって、検査・測定ユニット１４は、検査・測定ラインＬ１３上のある位置において基板Ｗを検査・測定する。検査・測定ユニット１４の移動は、ガントリーステージ１４ａに実装されたリニアモータ駆動機構、または、検査・測定ユニット１４に実装された自走機構によって実現される。リニアモータ駆動機構または自走機構の駆動は、制御ＰＣ１１によって制御される。なお、ガントリーステージ１４ａ自体が、基板Ｗに対して搬入出方向Ｄ１および／または長手方向Ｄ２に移動するように構成しても良い。この場合、ガントリーステージ１４ａを移動させるリニアモータ駆動機構または自走機構などの移動機構は、制御ＰＣ１１によって制御される。
【００２１】
ここで、レシピに登録され得る検査・測定座標には、基板設計情報に基づいた座標（以下、設計座標という）と、基板Ｗ上の実際の座標（以下、実座標という）と、の少なくとも２種類が存在する。設計座標は、基板Ｗにおける設計上のある位置（たとえばアライメントマーク位置）を原点とした設計段階での座標である。一方、実座標は、実際の基板Ｗのある位置（たとえばアライメントマーク位置）を原点として測定された座標である。ただし、実座標を直接含める代わりに、設計座標に対する実座標のずれ量（たとえば後述するモデル引き込み処理や周辺サーチ処理における基板および検査・測定ユニット１４の移動量、または、設計座標と実座標との差等）を補正量としてレシピに登録しておくことで、実質上、実座標を登録した場合と同様の構成を得ることもできる。
【００２２】
つぎに、本実施の形態による基板検査・測定装置１０の動作について、図面を用いて詳細に説明する。本実施の形態による動作には、レシピを作成する動作（レシピ作成動作）と、レシピを用いて基板を検査・測定する動作（検査・測定動作）と、が含まれる。
【００２３】
図４は、本実施の形態による基板検査・測定装置のレシピ作成動作の概略を示すフローチャートである。なお、レシピ作成動作において作成されるレシピには、検査・測定対象（モデル）の基板上の位置を示す座標（設計座標）が検査・測定座標としてあらかじめ登録されているものとする。以下の説明では、基板検査・測定装置１０の制御ＰＣ１１における制御部１１ａの動作に着目する。
【００２４】
図４に示すように、本実施の形態によるレシピ作成動作では、制御部１１ａは、まず、たとえば外部のコンピュータ等から入力された基板設計情報に基づいて、検査・測定対象とするモデルの設計上の座標を検査・測定座標（設計座標）としてレシピに登録する（ステップＳ１０１）。なお、この検査・測定座標（設計座標）の登録は、自動登録であっても、ユーザの作業による手動登録であってもよい。また、レシピは、あらかじめ作成しておいたファイル（空ファイルを含む）であっても、このステップで新たに作成されたファイルであってもよい。
【００２５】
つぎに、制御部１１ａは、ホストＰＣ１００からの指示に従って基板搬入出部１５から基板Ｗを搬送ステージ１３上に搬入し（ステップＳ１０２）、この搬入された基板Ｗを機械的に位置決め（基板アライメント）する（ステップＳ１０３）。これにより、ステージコントローラ１２の移送ユニットに対する基板Ｗの位置が粗調整される。つぎに、制御部１１ａは、検査・測定ユニット１４の光量および倍率を、基板Ｗの搬送ステージ１３に対する位置ずれを補正するアライメント補正をする際の光量および倍率に切り換え（ステップＳ１０４）、つづいて、ステージコントローラ１２を駆動することで基板Ｗを搬送ステージ１３上の所定位置（アライメントマーク位置）に移動する（ステップＳ１０５）。つづいて、制御部１１ａは、ステージコントローラ１２および検査・測定ユニット１４を適宜駆動することで、基板Ｗに形成されたアライメントマークを測定し、この測定により得られたアライメントマークの位置から、移動後に基板Ｗがあるべき位置に対する基板Ｗの実際の位置のずれ量を算出し、このずれ量に基づいて、基板Ｗに対する座標系を補正（アライメント補正）する（ステップＳ１０６）。
【００２６】
基板Ｗの座標系のずれは、基板Ｗを載置する際の位置決め精度や、ステージコントローラ１２による移動の精度や、製造過程において基板Ｗ自体に生じた設計寸法に対するずれや、基板検査・測定装置１０自体が持つ歪み（Ｘ−Ｙ軸の直交性、回転度、各軸の伸縮、ピッチング、ヨーイングなど）等によって生じる。したがって、ステップＳ１０６のアライメント補正では、制御ＰＣ１１による制御における座標系に対する、搬送ステージ１３上に載置された基板Ｗ自体の座標系のずれが補正される。具体的な例を、図５に示す例を用いて説明する。図５は、本実施の形態によるアライメント補正を説明するための概略図である。図５に示す例では、基板Ｗの対角に位置する隅付近の所定位置に２つのアライメントマーク（Ｍ１、Ｍ２）が形成されている。たとえば移動後に基板Ｗがあるべき位置に存在する場合の基板を基板Ｗｉとし、移動後の実際の基板Ｗを基板Ｗｒとすると、制御部１１ａは、基板ＷｉのアライメントマークＭ１ｉに対する基板ＷｒのアライメントマークＭ１ｒのずれ量（Δｘ１，Δｙ１）を算出するとともに、基板ＷｉのアライメントマークＭ２ｉに対する基板ＷｒのアライメントマークＭ２ｒのずれ量（Δｘ２，Δｙ２）を算出する。つづいて、制御部１１ａは、各アライメントマーク（Ｍ１、Ｍ２）のずれ量（Δｘ１，Δｙ１）および（Δｘ２，Δｙ２）から、実際の基板Ｗｒの理想的な位置（基板Ｗｉの位置）に対するｘ方向のずれ量（Δｘ）とｙ方向のずれ量（Δｙ）と回転量（θ）とを算出し、この値（Δｘ，Δｙ，θ）に基づいて、実際の基板Ｗｒの座標系を補正する。これにより、アライメントエラーによってオフセットとして生じる基板Ｗ自体の位置ずれを補正することが可能となる。なお、ステップＳ１０５の移動によっても検査・測定ユニット１４によってアライメントマークを撮像できなかった場合、後述する周辺サーチ処理（図７参照）を行うことによって、アライメントマークを検索するようにしてもよい。
【００２７】
図４に戻り説明する。以上のように基板Ｗの座標系を補正すると、つぎに制御部１１ａは、ユーザがレシピに登録された検査・測定座標を自動で補正する指示を不図示の入力部を介して入力したか否かを判定し（ステップＳ１０７）、入力されていない場合（ステップＳ１０７のＮｏ）、そのまま本動作を終了する。一方、自動補正の指示が入力されていた場合（ステップＳ１０７のＹｅｓ）、制御部１１ａは、検査・測定ユニット１４の光量および倍率を検査・測定時の光量および倍率に切り換える（ステップＳ１０８）。つづいて、制御部１１ａは、レシピに登録された検査・測定座標（設計座標）のうち１つを選択し（ステップＳ１０９）、つづいて、ステージコントローラ１２および検査・測定ユニット１４を駆動することで、検査・測定領域のたとえば中央に選択した検査・測定座標（設計座標）を位置させる（ステップＳ１１０）。
【００２８】
つぎに、制御部１１ａは、検査・測定対象のパターン（モデル）を検索するモデル検索処理を実行する（ステップＳ１１１）。図６に、このモデル検索処理の具体例を示す。図６に示すように、モデル検索処理では、制御部１１ａは、まず、検査・測定ユニット１４を駆動して基板Ｗを撮像する（ステップＳ２０１）。この際、検査・測定ユニット１４は、たとえば検査・測定時の光量および倍率と同じ光量および倍率で基板Ｗを測定する。つづいて、制御部１１ａは、ステップＳ２０１で得られた画像を処理部１１ｂによって解析することで、この画像にモデルのパターンが含まれているか否かを検索する（ステップＳ２０２）。ステップＳ２０２のパターン検索の結果、画像に対象モデルのパターンが含まれている場合（ステップＳ２０３のＹｅｓ）、制御部１１ａは、図４に示す動作へリターンする。一方、画像に対象モデルのパターンが含まれていない場合（ステップＳ２０３のＮｏ）、制御部１１ａは、選択中の検査・測定座標を含む検査・測定領域に隣接する周辺領域をモデル検索する周辺サーチ処理を実行する（ステップＳ２０４）。
【００２９】
ここで、図７に、この周辺サーチ処理の具体例を示す。図７に示すように、周辺サーチ処理では、制御部１１ａは、まず、選択中の検査・測定座標を含む検査・測定領域を取り囲むように隣接するたとえば８つの周辺領域のうち、あらかじめ定められた順序に従っていずれか１つを選択し、この選択した領域が映されるように、ステージコントローラ１２および検査・測定ユニット１４を駆動する（ステップＳ３０１）。つぎに、制御部１１ａは、検査・測定ユニット１４を駆動して基板Ｗを撮像する（ステップＳ３０２）。この際、検査・測定ユニット１４は、たとえば検査・測定時の光量および倍率と同じ光量および倍率で基板Ｗを測定する。つづいて、制御部１１ａは、ステップＳ３０２で得られた画像を処理部１１ｂによって解析することで、この画像にモデルのパターンが含まれているか否かを検索する（ステップＳ３０３）。ステップＳ３０３のパターン検索の結果、画像に対象モデルのパターンが含まれている場合（ステップＳ３０４のＹｅｓ）、制御部１１ａは、図６に示す動作へリターンする。一方、画像に対象モデルのパターンが含まれていない場合（ステップＳ３０４のＮｏ）、制御部１１ａは、全ての周辺領域を選択済みであるか否かを判定し（ステップＳ３０５）、選択済みでない場合（ステップＳ３０５のＮｏ）、ステップＳ３０１へ帰還して、あらかじめ定められた順序に従って次の周辺領域を選択する。一方、全ての周辺領域を選択済みである場合（ステップＳ３０５のＹｅｓ）、制御部１１ａは、図６に示す動作へリターンする。
【００３０】
図６に戻り説明する。以上のようにして、選択中の検査・測定座標に対応するモデルを特定すると、制御部１１ａは、図４に示す動作へリターンする。つづいて、図４に戻り説明する。ステップＳ１１１においてモデル検索処理を完了すると、つぎに制御部１１ａは、検査・測定領域内に映し出されたモデルを、この検査・測定領域の中央に引き込むモデル引き込み処理を実行する（ステップＳ１１２）。具体的には、たとえば図８に示す例のように、制御部１１ａは、画像に含まれる特定のモデルＭＤが（図８（ａ）参照）、検査・測定領域ＩＧの中央に位置するように（図８（ｂ）参照）、ステージコントローラ１２および検査・測定ユニット１４を駆動する。なお、図８は、本実施の形態におけるモデル引き込み処理を説明するための図である。図８において、ＢＬは、たとえば基板Ｗに形成されたビットラインであり、ＷＬは、たとえば基板Ｗに形成されたワードラインである。したがって、この例では、ビットラインＢＬとワードラインＷＬとを接続するノード部分のパターンを検査・測定対象のモデルとしている。
【００３１】
図４に戻り説明する。図８を用いて説明したように、対象モデルを検査・測定領域ＩＧの中央に引き込むと、つぎに制御部１１ａは、引き込み後に検査・測定ユニット１４によって撮像された画像を処理部１１ｂで解析することで、画像におけるパターンの線幅やオーバレイを測定する（ステップＳ１１３）とともに、引き込み後のモデルの実座標を特定し、この実座標を検査・測定座標としてレシピに登録する（ステップＳ１１４：実座標特定手段／ステップ／処理、実座標登録手段／ステップ／処理）。すなわち、図１における制御部１１ａは、引き込み後のモデルの実座標を特定し、この実座標を検査・測定座標としてレシピに登録する実座標特定手段、ならびに実座標登録手段として機能する。この際、解析により得られた線幅やオーバレイも併せてレシピに登録してもよい。つづいて、制御部１１ａは、レシピに登録されている全ての検査・測定座標についての補正が完了したか否かを判定し（ステップＳ１１５）、完了している場合（ステップＳ１１５のＹｅｓ）、本動作を終了する。一方、完了していない場合（ステップＳ１１５のＮｏ）、制御部１１ａは、ステップＳ１０９へ帰還し、以降、同様の動作を実行する。
【００３２】
以上のようにして作成されたレシピＲｃｐは、図９に示すように、ネットワーク１１０を介して他の基板検査・測定装置１０に送られ、共有される。この際、図９において破線で示すように、ネットワーク１１０に接続されたホストＰＣ１００を介してレシピＲｃｐが他の基板検査・測定装置１０に配信されるようにしてもよい。なお、図９は、本実施の形態による基板検査・測定システムの概略構成を示す模式図である。
【００３３】
つづいて、他の基板検査・測定装置１０で作成されたレシピを用いて基板Ｗを検査・測定する際の基板検査・測定装置１０の動作について、図面を用いて詳細に説明する。図１０は、本実施の形態による検査・測定動作の概略を示すフローチャートである。なお、各基板検査・測定装置１０は、いずれかの基板検査・測定装置１０において作成されたレシピを保持しているものとする。
【００３４】
図１０に示すように、本実施の形態による検査・測定動作では、制御部１１ａは、図４のステップＳ１０２〜Ｓ１０６と同様の動作を実行することで、基板搬入出部１５から搬入した基板Ｗのアライメント補正を行う（ステップＳ４０１〜Ｓ４０５）。つぎに、制御部１１ａは、図４のステップＳ１０８〜Ｓ１１５と同様の動作を実行することで、レシピに登録されている全ての検査・測定座標についての補正を完了する（ステップＳ４０６〜Ｓ４１３）。ただし、ステップＳ４０７に示す動作において、レシピに２種類の検査・測定座標（設計座標および実座標）が登録されている場合、制御部１１ａは、実座標を選択する。また、ステップＳ４１１に示す動作は、省略してもよい。さらに、ステップＳ４１２では、引き込み後のモデルの検査・測定座標（実座標）をレシピに登録するのではなく、記憶部１１ｃ（図１参照）等のメモリに一時的に記憶する。
【００３５】
以上のように、レシピに登録された全ての検査・測定座標について補正が完了すると、つぎに、制御部１１ａは、レシピに登録された全ての検査・測定座標に対する処理において、たとえばモデルが検索できなかったなどのエラーが発生しなかったか否かを判定し（ステップＳ４１４）、エラーが存在しなかった場合（ステップＳ４１４のＹｅｓ）、ステップＳ４１２で一時的に記憶した検査・測定座標（実座標）をレシピに登録し（ステップＳ４１５）、その後、本動作を終了する。一方、いずれかの検査・測定座標に対する処理においてエラーが発生していた場合（ステップＳ４１４のＮｏ）、制御部１１ａは、ステップＳ４１２においてメモリ等に一時的に記憶しておいた検査・測定座標（実座標）を破棄し（ステップＳ４１６）、その後、本動作を終了する。このように、全ての検査・測定座標に対する処理においてエラーが発生しなかったことを条件として、新たに実測された検査・測定座標（実座標）をレシピに登録することで、誤りを含む検査・測定座標がレシピに登録されることを防止できる。なお、ステップＳ４１６の動作は、省略してもよい。
【００３６】
以上のように、本実施の形態では、搬送ステージ１３上に載置された基板Ｗにおけるモデルの実座標を自動的に特定してこの実座標をレシピに登録するため、スループットの低下を低減しつつ、レシピに登録された座標と実座標とのずれを自動的に補正することが可能となる。
【００３７】
また、以上のように作成／補正したレシピを複数の基板検査・処理装置１０において共有することは、各基板検査・測定装置１０におけるレシピの更新処理（検査・測定座標の補正／更新）を省略することを可能にするため、スループットの低下を更に低減しつつ、レシピに登録された座標と実座標とのずれを自動的に補正することが可能となる。
【００３８】
なお、上記実施の形態は本発明を実施するための例にすぎず、本発明はこれらに限定されるものではなく、仕様等に応じて種々変形することは本発明の範囲内であり、更に本発明の範囲内において、他の様々な実施の形態が可能であることは上記記載から自明である。
【符号の説明】
【００３９】
１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ、…  基板検査・測定装置
１１  制御ＰＣ
１１ａ  制御部
１１ｂ  処理部
１１ｃ  記憶部
１１ｄ  通信部
１２  ステージコントローラ
１３  搬送ステージ
Ｌ１３  検査・測定ライン
１４  検査・測定ユニット
１４ａ  ガントリーステージ
１５Ａ、１５Ｂ、…  基板搬入出部
１８  外装
１９  ＦＦＵ
１００  ホストＰＣ
１１０  ネットワーク
ＢＬ  ビットライン
ＷＬ  ワードライン
ＩＧ  検査・測定領域
ＭＤ  モデル
Ｄ１  搬入出方向
Ｄ２  長手方向
Ｍ１ｉ、Ｍ１ｒ、Ｍ２ｉ、Ｍ２ｒ  アライメントマーク
Ｒｃｐ  レシピ
Ｗ、Ｗｉ、Ｗｒ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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