(57)【要約】 【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して、第１面より露光光が進行する第１方向側に配置された第２面と、第２面の周囲の少なくとも一部に、且つ、所定方向に関して第２面より第１方向とは逆向きの第２方向側に配置された第３面と、第３面で規定される空間に存在する液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備える。基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
露光光を射出する射出面を有する光学系と、
前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
前記第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、前記光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して、前記第１面より前記露光光が進行する第１方向側に配置された第２面と、
前記第２面の周囲の少なくとも一部に、且つ、前記所定方向に関して前記第２面より前記第１方向とは逆向きの第２方向側に配置された第３面と、
前記第３面で規定される空間に存在する前記液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備え、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面、前記第１面、前記第２面、及び前記第３面に前記基板の表面が対向し、
前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
【請求項２】
前記第１回収口は、前記第３面の少なくとも一部に配置される請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第３面は、前記第２面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光軸に対する放射方向に関して外側に向かって前記第２方向に傾斜する第１斜面と、前記第１斜面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記放射方向に関して外側に向かって前記第１方向に傾斜する第２斜面とを含む請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第３面は、前記第２面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光軸に対する放射方向に関して外側に向かって、且つ、前記第１方向に傾斜する第２斜面を含み、
前記第１回収口は、前記第２斜面に配置される請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項５】
前記第３面は、前記第２面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光軸に対する放射方向に関して外側に向かって、且つ、前記第２方向に傾斜する第１斜面を含み、
前記第１回収口は、前記第１斜面に配置される請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項６】
前記第３面は、前記第１斜面と前記第２斜面との間に配置され、前記第１面とほぼ平行な面を含む請求項３記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１面は、前記光路が前記液体で満たされるように、前記露光光が照射可能な位置に配置される物体との間で前記液体を保持する請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２面は、前記第１面と前記物体との間の液体が流出することを抑制する請求項７記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１回収口は、前記第１面と前記物体との間から、前記第２面と前記物体との間のギャップを介して流出した液体の少なくとも一部を回収する請求項７又は８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２面は、前記第１面より、前記液体に対して撥液性である請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第２面は、前記第１面とほぼ平行である請求項１〜１０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１２】
前記光路に面し、前記第１面の外縁と前記第２面の内縁とを結ぶように配置される第４面を有する請求項１〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第１面の少なくとも一部に配置され、前記液体を回収可能な第２回収口を有する請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第２回収口に配置される多孔部材を有し、
前記第１面は、前記多孔部材の表面を含む請求項１３記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第２面の少なくとも一部に配置され、前記液体を回収可能な第３回収口を有する請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第３回収口に配置される多孔部材を有し、
前記第２面は、前記多孔部材の表面を含む請求項１５記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１面の少なくとも一部に配置され、前記液体を供給する第１供給口を有する請求項１〜１６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１８】
前記光路に前記液体を供給する第２供給口を備える請求項１〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第３面の周囲の少なくとも一部に、且つ、前記所定方向に関して前記第３面より前記第１方向側に配置された第５面を有する請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第５面に配置され、気体を供給する給気口を備える請求項１９記載の露光装置。
【請求項２１】
前記所定方向に関して、前記第２面と前記第５面との位置が等しい請求項１９又は２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第１面を有し、前記光学系に対して固定された第１部材と、
前記第２面及び前記第３面を有し、前記第１部材に対して可動な第２部材とを有する請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２３】
少なくとも前記所定方向に前記第２部材を移動可能な駆動装置を備える請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記第２部材において、前記第３面の周囲の少なくとも一部に、且つ、前記所定方向に関して前記第３面より前記第１方向側に配置された第５面と、
前記第５面に配置され、気体を供給する給気口とを備える請求項２２又は２３記載の露光装置。
【請求項２５】
前記光学系、前記光学系を支持する支持部材、及び前記第１部材の少なくとも一つに対して前記第２部材を移動可能に支持する支持機構を備える請求項２４記載の露光装置。
【請求項２６】
基板を露光する露光装置であって、
露光光を射出する射出面を有する光学系と、
前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面を有し、前記光学系に対する位置がほぼ固定された第１部材と、
前記第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、前記光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して前記第１面より前記露光光が進行する第１方向側に配置された第２面を有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、
前記第２面の周囲の少なくとも一部に配置された第３面を有し、前記第１部材に対して可動な第３部材と、
前記第２面の少なくとも一部に配置され、気体及び液体の少なくとも一方を回収可能な第１回収口と、
前記第３面の少なくとも一部に配置され、気体を供給する給気口と、を備え、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面、前記第１面、前記第２面、及び前記第３面に前記基板の表面が対向し、
前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
【請求項２７】
前記光学系、前記光学系を支持する支持部材、及び前記第１部材の少なくとも一つに対して前記第２部材及び前記第３部材を移動可能に支持する支持機構を備える請求項２６記載の露光装置。
【請求項２８】
前記第２部材と前記第３部材とは一体である請求項２６又は２７記載の露光装置。
【請求項２９】
前記第２面及び前記第３面は、前記第１面より、前記液体に対して撥液性である請求項２６〜２８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３０】
前記第２面と前記第３面とはほぼ同一平面内に配置される請求項２６〜２９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３１】
前記第１面は、前記光路が前記液体で満たされるように、前記露光光が照射可能な位置に配置される物体との間で前記液体を保持する請求項２６〜３０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３２】
前記第２面は、前記第１面と前記物体との間の液体が流出することを抑制する請求項３１記載の露光装置。
【請求項３３】
前記第１回収口は、前記第１面と前記物体との間から流出した液体の少なくとも一部を回収する請求項３１又は３２記載の露光装置。
【請求項３４】
少なくとも前記所定方向に前記第２部材及び前記第３部材を移動可能な駆動装置を備える請求項２６〜３３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３５】
前記光路に面し、前記第１面の外縁と前記第２面の内縁とを結ぶように配置される第４面を有する請求項２６〜３４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３６】
前記第４面は、前記第１面より、前記液体に対して撥液性である請求項３５記載の露光装置。
【請求項３７】
前記第１面の少なくとも一部に配置され、前記液体を回収可能な第２回収口を有する請求項２６〜３６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３８】
前記第２回収口に配置される多孔部材を有し、
前記第１面は、前記多孔部材の表面を含む請求項３７記載の露光装置。
【請求項３９】
請求項１〜３８のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項４０】
光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、前記第１面と前記基板との間で液体を保持することと、
前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、
前記第１面と前記基板との間から流出した液体の少なくとも一部を回収することと、を含み、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板は、前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と前記第１ギャップより小さい第２ギャップを介して対向するとともに、前記第２面の周囲の少なくとも一部に配置された第３面と前記第２ギャップより大きい第３ギャップを介して対向し、
前記液体の回収は、前記第３面に配置された第１回収口を使って行われる露光方法。
【請求項４１】
光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学系に対する位置がほぼ固定された第１部材の第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、前記第１面と前記基板との間で液体を保持することと、
前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、
前記第１面と前記基板との間から流出した液体の少なくとも一部を回収することと、
前記基板の表面に気体を供給することと、を含み、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板は、前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材の第２面と前記第１ギャップより小さい第２ギャップを介して対向するとともに、前記第２面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材に対して可動な第３部材の第３面と前記第１ギャップより小さい第３ギャップを介して対向し、
前記液体の回収は、前記第２面に配置された第１回収口を使って行われ、
前記気体の供給は、前記第３面に配置された給気口を使って行われる露光方法。
【請求項４２】
請求項４０又は４１記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して投影光学系から射出される露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００５／２５９２３４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、投影光学系と物体（基板）との間に液体が保持されている状態で物体を高速で移動した場合、液体が流出したり、物体上に液体（膜、滴等）が残留したりする可能性がある。その結果、露光不良が発生したり、不良デバイスが発生したりする可能性がある。一方、液体を良好に保持するために、物体を低速で移動した場合、スループットが低下する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、物体上での液体の残留等を抑制して、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、スループットの低下を抑制しつつ、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、基板を露光する露光装置であって、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して、第１面より露光光が進行する第１方向側に配置された第２面と、第２面の周囲の少なくとも一部に、且つ、所定方向に関して第２面より第１方向とは逆向きの第２方向側に配置された第３面と、第３面で規定される空間に存在する液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、基板を露光する露光装置であって、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面を有し、光学系に対する位置がほぼ固定された第１部材と、第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して第１面より露光光が進行する第１方向側に配置された第２面を有し、第１部材に対して可動な第２部材と、第２面の周囲の少なくとも一部に配置された第３面を有し、第１部材に対して可動な第３部材と、第２面の少なくとも一部に配置され、気体及び液体の少なくとも一方を回収可能な第１回収口と、第３面の少なくとも一部に配置され、気体を供給する給気口と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、第１，第２の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、第１面と基板との間で液体を保持することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、第１面と基板との間から流出した液体の少なくとも一部を回収することと、を含み、基板の露光の少なくとも一部において、基板は、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と第１ギャップより小さい第２ギャップを介して対向するとともに、第２面の周囲の少なくとも一部に配置された第３面と第２ギャップより大きい第３ギャップを介して対向し、液体の回収は、第３面に配置された第１回収口を使って行われる露光方法が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学系に対する位置がほぼ固定された第１部材の第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、第１面と基板との間で液体を保持することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、第１面と基板との間から流出した液体の少なくとも一部を回収することと、基板の表面に気体を供給することと、を含み、基板の露光の少なくとも一部において、基板は、第１面の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材に対して可動な第２部材の第２面と第１ギャップより小さい第２ギャップを介して対向するとともに、第２面の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材に対して可動な第３部材の第３面と第１ギャップより小さい第３ギャップを介して対向し、液体の回収は、第２面に配置された第１回収口を使って行われ、気体の供給は、第３面に配置された給気口を使って行われる露光方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、第４，第５の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の態様によれば、物体上での液体の残留等を抑制して、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、スループットの低下を抑制しつつ、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下方から見た図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図５】第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図６】第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下方から見た図である。
【図８】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下方から見た図である。
【図９】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下方から見た図である。
【図１０】第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す図である。
【図１１】第２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１２】第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図１３】第３実施形態に係る液浸部材の一例を下方から見た図である。
【図１４】第３実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１５】第４実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１６】第５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１７】第６実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１８】第７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１９】第８実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２０】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１５】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００１６】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置を光学的に計測する干渉計システム３と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材４と、少なくとも投影光学系ＰＬを収容するチャンバ装置５と、少なくとも投影光学系ＰＬを支持するボディ６と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置７とを備えている。
【００１７】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム、アルミニウム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００１８】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された多層膜とを含む。多層膜は、少なくとも感光膜を含む複数の膜が積層された膜である。感光膜は、感光材で形成された膜である。また、多層膜が、例えば反射防止膜、及び感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００１９】
チャンバ装置５は、実質的に閉ざされた内部空間８を形成するチャンバ部材５Ａと、内部空間８の環境（温度、湿度、クリーン度、及び圧力等）を制御する環境制御装置５Ｂとを有する。ボディ６は、内部空間８に配置される。ボディ６は、支持面ＦＬ上に設けられた第１コラム９と、第１コラム９上に設けられた第２コラム１０とを有する。第１コラム９は、第１支持部材１１と、第１支持部材１１に防振装置１２を介して支持された第１定盤１３とを有する。第２コラム１０は、第１定盤１３上に設けられた第２支持部材１４と、第２支持部材１４に防振装置１５を介して支持された第２定盤１６とを有する。また、本実施形態においては、支持面ＦＬ上に、防振装置１７を介して、第３定盤１８が配置されている。
【００２０】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００２１】
マスクステージ１は、マスクＭをリリース可能に保持するマスク保持部１９を有し、マスクＭを保持した状態で、第２定盤１６のガイド面１６Ｇ上を移動可能である。マスクステージ１は、駆動システム２０の作動により、照明領域ＩＲに対して、マスクＭを保持して移動可能である。駆動システム２０は、マスクステージ１に配置された可動子２０Ａと、第２定盤１６に配置された固定子２０Ｂとを有する平面モータを含む。マスクステージ１を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されている。マスクステージ１は、駆動システム２０の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００２２】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子は、保持部材（鏡筒）２１に保持されている。保持部材２１は、フランジ２１Ｆを有する。投影光学系ＰＬは、フランジ２１Ｆを介して、第１定盤１３に支持される。なお、第１定盤１３と保持部材２１との間に防振装置を設けることができる。
【００２３】
本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸは、Ｚ軸とほぼ平行である。投影光学系ＰＬにおいて、露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの物体面側から像面側に向かって、−Ｚ方向に進行する。
【００２４】
ここで、以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸとほぼ平行なＺ軸方向に関して、投影光学系ＰＬにおいて露光光ＥＬが進行する方向を適宜、第１方向、と称し、Ｚ軸方向に関して、第１方向とは逆向きの方向を適宜、第２方向、と称する。本実施形態において、第１方向は、−Ｚ方向であり、第２方向は、＋Ｚ方向である。
【００２５】
本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００２６】
投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面２３を有する。射出面２３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子２２に配置されている。投影領域ＰＲは、射出面２３から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面２３は、第１方向（−Ｚ方向）を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面２３は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。
【００２７】
本実施形態において、投影光学系ＰＬの像面近傍の光軸ＡＸ、すなわち、終端光学素子２２の光軸ＡＸは、Ｚ軸とほぼ平行である。なお、終端光学素子２２と隣り合う光学素子で規定される光軸を終端光学素子２２の光軸とみなしてもよい。また、本実施形態において、投影光学系ＰＬの像面は、Ｘ軸とＹ軸とを含むＸＹ平面とほぼ平行である。また、本実施形態において、像面は、ほぼ水平である。ただし、像面はＸＹ平面と平行でなくてもよいし、曲面であってもよい。
【００２８】
基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部２４を有し、第３定盤１８のガイド面１８Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、駆動システム２５の作動により、投影領域ＰＲに対して、基板Ｐを保持して移動可能である。駆動システム２５は、基板ステージ２に配置された可動子２５Ａと、第３定盤１８に配置された固定子２５Ｂとを有する平面モータを含む。基板ステージ２を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されている。基板ステージ２は、駆動システム２５の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００２９】
基板ステージ２は、基板保持部２４の周囲に配置され、射出面２３と対向可能な上面２６を有する。本実施形態において、基板ステージ２は、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号明細書等に開示されているような、基板保持部２４の周囲の少なくとも一部に配置され、プレート部材Ｔの下面をリリース可能に保持するプレート部材保持部２７を有する。本実施形態において、基板ステージ２の上面２６は、プレート部材Ｔの上面を含む。上面２６は、平坦である。
【００３０】
なお、プレート部材Ｔはリリース可能でなくてもよい。すなわち、基板ステージ２と一体的に設けられていてもよい。この場合、プレート部材保持部２７を省略できる。
【００３１】
本実施形態において、基板保持部２４は、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。プレート部材保持部２７は、プレート部材Ｔの上面２６とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、プレート部材Ｔを保持する。
【００３２】
干渉計システム３は、ＸＹ平面内におけるマスクステージ１（マスクＭ）の位置を光学的に計測可能な第１干渉計ユニット３Ａと、ＸＹ平面内における基板ステージ２（基板Ｐ）の位置を光学的に計測可能な第２干渉計ユニット３Ｂとを有する。基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置７は、干渉計システム３の計測結果に基づいて、駆動システム２０，２５を作動し、マスクステージ１（マスクＭ）及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。
【００３３】
液浸部材４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材４は、射出面２３と、射出面２３と対向する位置に配置された物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）である。本実施形態において、物体は、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光中、液浸部材４は、終端光学素子２２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。
【００３４】
本実施形態において、液浸部材４は、終端光学素子２２の近傍に配置されている。液浸部材４は、支持機構２８に支持されている。本実施形態において、支持機構２８は、第１定盤１３に支持されている。本実施形態において、液浸部材４は、支持機構２８を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。
【００３５】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。基板Ｐの露光時、制御装置７は、マスクステージ１及び基板ステージ２を制御して、マスクＭ及び基板Ｐを、光軸ＡＸ（露光光ＥＬの光路Ｋ）と交差するＸＹ平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置７は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００３６】
図２は、液浸部材４の近傍を示す側断面図、図３は、液浸部材４を下方から見た図、図４は、図２の一部を拡大した図である。
【００３７】
図２，図３，及び図４に示すように、本実施形態において、液浸部材４は、環状の部材である。液浸部材４の少なくとも一部は、露光光ＥＬの一部の光路及び終端光学素子２２の周囲に配置されている。図３に示すように、本実施形態において、ＸＹ平面内における液浸部材４の外形は、円形である。
【００３８】
液浸部材４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された第１面４１と、第１面４１の周囲の少なくとも一部に、且つ、第１面４１より第１方向側（−Ｚ方向側）に配置された第２面４２と、第２面４２の周囲の少なくとも一部に、且つ、第２面４２より第２方向側（＋Ｚ方向側）に配置された第３面４３と、第３面４３で規定される空間５３に存在する液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口６１とを備えている。
【００３９】
本実施形態において、回収口６１は、第３面４３の少なくとも一部に配置されている。
【００４０】
また、液浸部材４は、光路Ｋに面し、第１面４１の外縁と第２面４２の内縁とを結ぶように配置される第４面４４を有する。
【００４１】
また、液浸部材４は、第３面４３の周囲の少なくとも一部に、且つ、Ｚ軸方向に関して第３面４３より第１方向側（−Ｚ方向側）に配置された第５面４５を有する。
【００４２】
第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５は、液浸部材４の下方に配置された物体の表面（上面）と対向可能である。
【００４３】
図３に示すように、本実施形態において、ＸＹ平面内における第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５の外形は、円形である。また、ＸＹ平面内における第２面４２，第３面４３，及び第５面４５の内側のエッジも、円形である。
【００４４】
基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３、第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５に基板Ｐの表面が対向する。本実施形態において、第１面４１と投影領域ＰＲに配置された物体との間に保持された液体ＬＱによって液浸空間ＬＳの一部が形成される。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１面４１は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、射出面２３から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に配置される基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持する。これにより、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３と基板Ｐの表面との間の空間に液体ＬＱが満たされる。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。
【００４５】
以下、簡単のため、射出面２３、第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５と対向する位置に基板Ｐが配置され、液浸部材４と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されて液浸空間ＬＳが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面２３及び液浸部材４と他の少なくとも一つの部材（基板ステージ２のプレート部材Ｔなど）との間に液浸空間ＬＳを形成することができる。
【００４６】
本実施形態において、第１面４１は、ＸＹ平面とほぼ平行である。図４等に示すように、第１面４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向する。なお、第１面４１は、ＸＹ平面に対して平行でなくてもよいし、曲面を含んでいてもよい。
【００４７】
本実施形態において、第２面４２は、第１面４１とほぼ平行である。すなわち、第２面４２は、ＸＹ平面とほぼ平行である。第２面４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。なお、第２面４２は、ＸＹ平面に対して平行でなくてもよいし、曲面を含んでいてもよい。
【００４８】
本実施形態において、第３面４３は、第２面４２の周囲の少なくとも一部に配置され、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって第２方向（＋Ｚ方向）に傾斜する第１斜面４３１と、第１斜面４３１の周囲の少なくとも一部に配置され、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって第１方向（−Ｚ方向）に傾斜する第２斜面４３２とを含む。また、本実施形態においては、第３面４３は、第１斜面４３１と第２斜面４３２との間に配置され、第１面４１（ＸＹ平面）とほぼ平行な平坦面４３３を含む。本実施形態において、回収口６１は、第２斜面４３２に配置されている。第３面４３は、基板Ｐの表面と第３ギャップＧ３を介して対向する。
【００４９】
なお、第３面４３において、平坦面４３３が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。例えば、第３面４３が、第１傾斜面４３１と異なる角度で、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって第２方向に傾斜していてもよいし、第２傾斜面４３２と異なる角度で、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって第１方向に傾斜していてもよい。また、平坦面４３３が、曲面を含んでもよい。
【００５０】
なお、第３面４３において、平坦面４３３が無くてもよい。すなわち、第３面４３が、第２面４２の周囲の少なくとも一部に配置された第１斜面４３１と、第１斜面４３１の周囲の少なくとも一部に配置された第２斜面４３２とで構成されてもよい。
【００５１】
なお、第３面４３において、第１傾斜面４３１が曲面を含んでもよいし、第２傾斜面４３２が曲面を含んでもよい。
【００５２】
本実施形態において、第５面４５は、第２面４２とほぼ平行である。すなわち、第５面４５は、ＸＹ平面とほぼ平行である。第５面４５は、基板Ｐの表面と第５ギャップＧ５を介して対向する。
【００５３】
本実施形態において、Ｚ軸方向に関して、第２面４２と第５面４５との位置がほぼ等しい。すなわち、本実施形態において、第２面４２と第５面４５とは、同一平面内に配置される。
【００５４】
なお、第５面４５は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。例えば、第５面４５が、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって第２方向に傾斜していてもよいし、曲面を含んでいてもよい。
【００５５】
本実施形態において、第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さい。第３ギャップＧ３は、第２ギャップＧ２より大きい。第２ギャップＧ２と第５ギャップＧ５とは、ほぼ等しい。
【００５６】
第１面４１は、光路Ｋの周囲に配置され、液体ＬＱを回収不可能な平坦面４１１と、平坦面４１１の周囲の少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを回収可能な液体回収面４１２とを含む。
【００５７】
液浸部材４は、第１面４１の少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを回収可能な回収口６２を有する。回収口６２には、多孔部材６３が配置されている。多孔部材６３は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材６３が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。回収口６２は、多孔部材６３の孔を介して、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収可能である。なお、回収口６２に、多孔部材６３を配置しなくてもよい。
【００５８】
本実施形態において、第１面４１の液体回収面４１２は、多孔部材６３の表面を含む。すなわち、本実施形態においては、第１面４１は、平坦面４１１と、平坦面４１１の周囲に配置され、液体ＬＱを回収可能な多孔部材６３の表面（下面）とを含む。
【００５９】
本実施形態において、第２面４２は、液体ＬＱを回収不可能な平坦面である。本実施形態において、第２面４２は、第１面４１より、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態において、液体ＬＱに対する第２面４２の接触角は、例えば９０度以上であり、１００度以上でもよい。本実施形態においては、第２面４２は、液体ＬＱに対して撥液性の膜で形成されている。膜は、例えばフッ素を含む撥液性材料で形成される。撥液性材料としては、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等が挙げられる。
【００６０】
本実施形態においては、第１面４１と、第４面４４と、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐ（物体）との間に保持された液体ＬＱによって液浸空間ＬＳの一部が形成される。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１面４１と、第４面４４と、基板Ｐとで規定される空間５１に液体ＬＱが保持されて、液浸空間ＬＳの一部が形成される。
【００６１】
第２面４２は、第１面４１と基板Ｐとの間の液体ＬＱ（空間５１の液体ＬＱ）が流出することを抑制する。本実施形態において、第２面４２は、液体ＬＱに対して撥液性である。また、第２ギャップＧ２は、１００μｍ以下であり、微小である。本実施形態において、第２ギャップＧ２は、例えば５〜２０μｍ程度である。これにより、空間５１からの液体ＬＱの流出が抑制される。また、本実施形態においては、基板Ｐの表面及びプレート部材Ｔの上面を含む物体の表面も、液体ＬＱに対して撥液性である。これにより、より効果的に、空間５１の液体ＬＱの流出が抑制される。
【００６２】
第５面４５は、液体ＬＱを回収不可能な平坦面である。本実施形態において、第５面４５は、第１面４１より、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態において、液体ＬＱに対する第５面４５の接触角は、例えば９０度以上であり、１００度以上でもよい。本実施形態においては、第２面４２と同様、第５面４５は、液体ＬＱに対して撥液性の膜で形成されている。
【００６３】
第４面４４は、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態において、第４面４４は、第１面４１より、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態においては、第２面４２と同様、第４面４４は、液体ＬＱに対して撥液性の膜で形成されている。
【００６４】
本実施形態において、液浸部材４は、第１面４１と逆方向を向き、射出面２３の少なくとも一部と対向する第６面４６と、第６面４６の周囲に配置され、終端光学素子２２の側面３５と対向する第７面４７と、第７面４７の周囲に配置され、保持部材２１の外面３６と対向する第８面４８とを有する。液浸部材４は、少なくとも一部が射出面２３と対向するように配置されたプレート部３７と、少なくとも一部が終端光学素子２２の周囲に配置される本体部３８とを有する。第１面４１の少なくとも一部及び第６面４６は、プレート部３７に配置されている。第１面４１の少なくとも一部、第２面４２，第３面４３，第４面４４，第５面４５，第７面４７，及び第８面４８は、本体部３８に配置されている。また、プレート部３７は、射出面２３から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３９を有する。基板Ｐの露光中、射出面２３から射出された露光光ＥＬは、開口３９を介して、基板Ｐの表面に照射される。図３に示すように、本実施形態において、開口３９は、基板Ｐの走査方向（Ｙ軸方向）と交差するＸ軸方向に長い。
【００６５】
第６面４６は、射出面２３と第６ギャップＧ６を介して対向する。第７面４７は、側面３５と第７ギャップＧ７を介して対向する。第８面４８は、外面３６と第８ギャップＧ８を介して対向する。
【００６６】
終端光学素子２２の側面３５は、射出面２３と異なる面であり、露光光ＥＬが通過しない面である。側面３５は、射出面２３の周囲に配置されている。側面３５は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びるように配置されている。側面３５は、射出面２３の周縁から光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに対して垂直な方向）に延びるように設けられている。すなわち、側面３５は、光軸ＡＸに対する放射方向に、且つ、第２方向（＋Ｚ方向）に延びるように傾斜している。
【００６７】
本実施形態において、第６面４６と射出面２３とは、ほぼ平行である。また、第７面４７と側面３５とは、ほぼ平行である。また、第８面４８と外面３６とは、ほぼ平行である。
【００６８】
なお、第６面４６と射出面２３とは平行でなくてもよい。また、第７面４７と側面３５とは平行でなくてもよい。また、第８面４８と外面３６とは平行でなくてもよい。
【００６９】
なお、本実施形態においては、第７面４７は終端光学素子２２の側面３５と対向しているが、第７面４７の少なくとも一部が保持部材２１の外面と対向していてもよい。また、本実施形態においては、第８面４８は、保持部材２１の外面３６と対向しているが、終端光学素子２２の側面３５の周囲に終端光学素子２２の下面が露出している場合には、第８面４８の少なくとも一部が、終端光学素子２２の下面と対向していてもよい。
【００７０】
また、本実施形態において、液浸部材４は、露光光ＥＬの光路Ｋに液体ＬＱを供給する供給口６４を備えている。本実施形態において、供給口６４は、第７面４７の少なくとも一部に配置されている。供給口６４は、第６面４６と射出面２３との間の空間５６に面するように配置されている。
【００７１】
本実施形態において、供給口６４は、光軸ＡＸに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに一つずつ配置されている。なお、供給口６４が、光軸ＡＸに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに一つずつ配置されてもよい。また、供給口６４の数は、３つ以上でもよい。
【００７２】
図２に示すように、供給口６４は、供給流路６５を介して、液体供給装置６６と接続されている。本実施形態において、供給流路６５は、液浸部材４の内部流路６５Ａ、及びその内部流路６５Ａと液体供給装置６６とを接続する供給管の流路６５Ｂを含む。液体供給装置６６は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給口６４に供給することができる。
【００７３】
回収口６２は、回収流路６７を介して、液体回収装置６８と接続されている。本実施形態において、回収流路６７は、液浸部材４の内部流路６７Ａ、及びその内部流路６７Ａと液体回収装置６８とを接続する回収管の流路６７Ｂを含む。液体回収装置６８は、真空システム（真空源と回収口６２との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口６２から液体ＬＱを吸引して回収することができる。
【００７４】
回収口６１は、回収流路６９を介して、液体回収装置７０と接続されている。本実施形態において、回収流路６９は、液浸部材４の内部流路６９Ａ、及びその内部流路６９Ａと液体回収装置７０とを接続する回収管の流路６９Ｂを含む。液体回収装置７０は、真空システム（真空源と回収口６１との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口６１から液体ＬＱを吸引して回収することができる。
【００７５】
本実施形態において、供給口６４は、空間５６に液体ＬＱを供給する。空間５６に供給された液体ＬＱは、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋに供給される。また、供給口６４から空間５６に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３９を介して、第１面４１と基板Ｐの表面との間の空間５１に供給される。空間５１に供給された液体ＬＱは、第１面４１と基板Ｐの表面との間に保持され、液浸空間ＬＳの一部を形成する。
【００７６】
また、供給口６４から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、側面３５と第７面４７との間の空間５７に供給される。空間５７に供給された液体ＬＱは、側面３５と第７面４７との間に保持され、液浸空間ＬＳの一部を形成する。
【００７７】
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの気液界面（メニスカス、エッジ）は、液浸部材４と物体（基板Ｐ）の表面との間に配置される第１界面ＬＧ１と、投影光学系ＰＬと液浸部材４との間に配置される第２界面ＬＧ２とを含む。
【００７８】
基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１界面ＬＧ１は、第１面４１と基板Ｐの表面との間、あるいは第２面４２の内側のエッジと基板Ｐの表面との間に配置される。第２界面ＬＧ２は、側面３５と第７面４７との間に配置される。本実施形態においては、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳは、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように形成される。本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。
【００７９】
なお、第７面４７及び第８面４８の少なくとも一方に液体ＬＱを回収する回収口を設けてもよい。
【００８０】
本実施形態においては、制御装置７は、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳを形成するために、供給口６４からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収口６２からの液体ＬＱの回収動作を実行する。これにより、光路Ｋを含む空間５１及び空間５６が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００８１】
なお、本実施形態においては、制御装置７は、液体回収装置６８を制御して、多孔部材６３の下面側空間（空間５１）から上面側空間（回収流路６７）へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材６３の下面側空間と上面側空間との圧力差を制御することができる。本実施形態において、下面側の空間５１の圧力は、液浸部材４が配置されている内部空間８の圧力とほぼ等しく、チャンバ装置５によって制御されている。制御装置７は、多孔部材６３の下面側から上面側へ液体ＬＱのみが通過するように、液体回収装置６８を制御して、下面側の圧力に応じて、上面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置７は、多孔部材６３の孔を介して、空間５１からの液体ＬＱのみを回収し、気体は多孔部材６３の孔を通過しないように調整する。多孔部材の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材の一側から他側へ液体ＬＱのみを通過させる技術は、例えば米国特許第７２９２３１３号明細書などに開示されている。なお、多孔部材６３の孔を介して空間５１の液体ＬＱとともに気体が流入してもよい。
【００８２】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法の一例について説明する。
【００８３】
制御装置７は、第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５と基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面２６）とを対向させる。第１面４１と基板Ｐの表面とは、第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面４２と基板Ｐの表面とは、第２ギャップＧ２を介して対向し、第３面４３と基板Ｐの表面とは、第３ギャップＧ３を介して対向し、第５面４５と基板Ｐの表面とは、第５ギャップＧ５を介して対向する。
【００８４】
制御装置７は、第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５と基板Ｐの表面とを対向させた状態で、液体供給装置６６から液体ＬＱを送出する。また、制御装置７は、液体回収装置６８を作動する。また、制御装置７は、液体回収装置７０を作動する。
【００８５】
液体供給装置６６から送出された液体ＬＱは、供給口６４より空間５６に供給される。空間５６に供給された液体ＬＱは、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋに供給される。また、供給口６４から空間５６に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３９を介して、空間５１に供給され、第１面４１と基板Ｐの表面との間で保持される。また、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、基板Ｐの表面に面するように第１面４１に配置された回収口６２から回収される。これにより、供給口６４から供給された液体ＬＱによって、露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００８６】
本実施形態においては、基板Ｐの表面、第１面４１、及び第４面４４で囲まれた空間５１がほぼ液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。また、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの第１界面ＬＧ１は、第２面４２の内側のエッジ（第４面４４の下端）と基板Ｐの表面との間に形成されている。
【００８７】
制御装置７は、供給口６４からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収口６２からの液体ＬＱの回収動作を実行して、露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。
【００８８】
制御装置７は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される。これにより、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して射出面２３からの露光光ＥＬで基板Ｐが露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【００８９】
本実施形態においては、第２面４２によって、空間５１の液体ＬＱの流出が抑制されている。すなわち、空間５１の液体ＬＱが、第２ギャップＧ２を介して、第３面４３と基板Ｐとの間に形成されている空間５３に流入することが抑制されている。
【００９０】
また、本実施形態においては、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ１が第４面４４より外側へ移動することが抑制されており、液浸空間ＬＳの拡大が抑制されている。
【００９１】
本実施形態において、第１面４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第１面４１の周囲に配置された第２面４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より十分に小さい。したがって、光軸ＡＸに対する放射方向において、界面ＬＧ１が第２ギャップＧ２の外側へ移動することが抑制される。すなわち、第２ギャップＧ２が微小なので、図４等に示すように、液体ＬＱの表面張力により、界面ＬＧ１の位置は、第２面４２の内側のエッジ（第４面４４の下端）と基板Ｐの表面との間に維持される。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが、第２ギャップＧ２を介して空間５３に流入することが抑制される。
【００９２】
また、本実施形態においては、第２面４２が液体ＬＱに対して撥液性なので、より効果的に、空間５１の液体ＬＱの流出が抑制される。また、本実施形態においては、第２面４２の内側のエッジから上方に延びるように、かつ光路Ｋに面するように第４面４４が配置されているので、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。これによっても、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。
【００９３】
また、第４面４４が液体ＬＱに対して撥液性なので、より一層、液体ＬＱの流出を抑制することができる。本実施形態においては、第４面４４は、第１面４１より、液体ＬＱに対して撥液性なので、液体ＬＱの流出を効果的に抑制することができる。
【００９４】
なお、第４面４４は、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。例えば、液体ＬＱに対する第１面４１の撥液性と、液体ＬＱに対する第４面４４の撥液性とがほぼ等しくてもよい。
【００９５】
また、本実施形態においては、第１面４１の外形、及び第２面４２の内側のエッジが円形であり、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの外形もほぼ円形である。これにより、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１の全方位から中心に向かう拘束力がほぼ均等に作用する。これにより、液浸空間ＬＳの拡大が、より効果的に抑制される。
【００９６】
また、本実施形態においては、空間５１の液体ＬＱが流出し、第２ギャップＧ２を介して空間５３に流入した場合でも、第３面４３で規定される空間５３に存在する液体ＬＱを回収可能な回収口６１が設けられているので、液体ＬＱが空間５３の外側に流出したり、基板Ｐ上に残留したりすることが抑制される。
【００９７】
図５は、空間５１の液体ＬＱの一部が、第２ギャップＧ２を介して流出した状態を示す模式図である。
【００９８】
図５に示すように、例えば基板Ｐが−Ｙ方向に高速で移動した場合、その基板Ｐの移動に伴って、第１面４１と基板Ｐとの間の空間５１から、第２面４２と基板Ｐとの間の第２ギャップＧ２を介して、液体ＬＱが流出する可能性がある。空間５１から流出する液体ＬＱは、第２ギャップＧ２を通過する際に、基板Ｐの表面において薄膜化する可能性がある。
【００９９】
本実施形態においては、第２ギャップＧ２を形成する第２面４２の周囲に、Ｚ軸方向に関して第２面４２より第２方向側（＋Ｚ方向側）に配置された第３面４３が設けられている。その第３面４３によって、光軸ＡＸに対して第２ギャップＧ２の外側に、第２ギャップＧ２より大きい第３ギャップＧ３が形成されている。これにより、図５に示すように、第２ギャップＧ２において薄膜状となった液体ＬＱは、第３ギャップＧ３（空間５３）に移動することによって、基板Ｐ上において滴状になる。
【０１００】
換言すれば、空間５１から第２ギャップＧ２を介して第３ギャップＧ３（空間５３）に液体ＬＱが流出する場合において、第３ギャップＧ３（空間５３）におけるＺ軸方向（基板Ｐの表面の法線方向）に関する液体ＬＱ（滴状の液体ＬＱ）のサイズＺ３は、第２ギャップＧ２を通過する際の液体ＬＱ（薄膜状の液体ＬＱ）のサイズＺ２より、大きくなる。
【０１０１】
これにより、回収口６１は、第１面４１と基板Ｐとの間の空間５１から第２面４２と基板Ｐとの間の第２ギャップＧ２を介して流出した液体ＬＱの少なくとも一部を円滑に回収することができる。
【０１０２】
すなわち、本実施形態においては、第２ギャップＧ２において薄膜状になった液体ＬＱが空間５３において例えば表面張力により滴状に変化することを利用して、液体ＬＱが空間５１から流出した場合でも、その流出した液体ＬＱは、空間５３において回収口６１から良好に回収される。これにより、液浸部材４と基板Ｐとの間から基板Ｐが流出することが抑制され、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留することが抑制される。
【０１０３】
以上説明したように、本実施形態によれば、第２面４２が設けられているので、その第２面４２と基板Ｐの表面との間の微小な第２ギャップＧ２によって、空間５１の液体ＬＱの流出が抑制される。また、第２面４２の周囲に、第２ギャップＧ２より大きい第３ギャップＧ３を基板Ｐの表面との間で形成する第３面４３が配置されているので、薄膜化した液体ＬＱを、その第３ギャップＧ３（空間５３）において滴化することができる。そして、回収口６１によって、その空間５３の液体ＬＱが回収されるので、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが液浸部材４と基板Ｐとの間の空間の外側に流出したり、基板Ｐ上に残留したりすることが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。
【０１０４】
また、本実施形態においては、第３面４３の周囲に配置され、基板Ｐの表面との間で微小な第５ギャップＧ５を形成する第５面４５が配置されているので、空間５３の液体ＬＱの流出が抑制される。また、第５面４５が液体ＬＱに対して撥液性なので、空間５３の液体ＬＱの流出が、より効果的に抑制される。
【０１０５】
なお、第５面４５は、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。例えば、液体ＬＱに対する第１面４１の撥液性と、液体ＬＱに対する第５面４５の撥液性とがほぼ等しくてもよい。
【０１０６】
なお、本実施形態において、第５面４５は無くてもよい。
【０１０７】
また、本実施形態においては、第２斜面４３２に回収口６１が配置されているので、空間５３の液体ＬＱ（滴状の液体ＬＱ）を円滑に回収することができる。
【０１０８】
なお、図６に示すように、第１斜面４３１に回収口６１が配置されてもよい。回収口６１が第１斜面４３１に配置されることによって、その回収口６１は、空間５３の液体ＬＱを円滑に回収することができる。
【０１０９】
なお、第１斜面４３１と第２斜面４３２との両方に回収口６１が配置されてもよい。
【０１１０】
なお、本実施形態においては、第２面４２が、第１面４１より、液体ＬＱに対して撥液性であることとしたが、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。例えば、液体ＬＱに対する第１面４１の撥液性と、液体ＬＱに対する第２面４２の撥液性とがほぼ等しくてもよい。
【０１１１】
なお、本実施形態においては、ＸＹ平面内における第１面４１，第２面４２，第３面４３，及び第５面４５の外形が円形であり、ＸＹ平面内における第２面４２，第３面４３，及び第５面４５の内側のエッジも円形であることとしたが、任意の多角形でもよい。例えば、図７に示す液浸部材４Ｂ、及び図８に示す液浸部材４Ｃのように、四角形でもよいし、図９に示す液浸部材４Ｄのように、八角形でもよい。また、楕円形でもよい。
【０１１２】
なお、本実施形態においては、第２面４２がＸＹ平面（第１面４１）とほぼ平行であり、第２面４２と第４面４４とがほぼ垂直に交差することとしたが、例えば図１０（Ａ）に示すように、第２面４２と第４面４４とが曲面で結ばれていてもよいし、図１０（Ｂ）に示すように、平面で結ばれていてもよい。また、図１０（Ｃ）及び図１０（Ｃ）に示すように、第２面４２と第４面４４とが複数の平面で結ばれてもよい。また、図１０（Ｅ）に示すように、第２面４２がＸＹ平面と非平行でもよいし、図１０（Ｆ）に示すように、ＸＹ平面とほぼ平行な第２面４２と第４面４４とのなす角度が、鋭角でもよい。また、第２面４２と第４面４４とのなす角度が、鈍角でもよい。また、図１０（Ｇ）に示すように、第２面４２がＸＹ平面と非平行で、第２面４２と第４面４４とが曲面で結ばれていてもよいし、図１０（Ｈ）に示すように、ＸＹ平面とほぼ平行な第２面４２と第４面４４とのなす角度が鋭角で、第２面４２と第４面４４とが曲面で結ばれていてもよい。また、ＸＹ平面とほぼ平行な第２面４２と第４面４４とのなす角度が鈍角で、第２面４２と第４面４４とが曲面で結ばれていてもよい。
【０１１３】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１４】
図１１は、第２実施形態に係る液浸部材４Ｅの一例を示す図である。上述の第１実施形態と異なる第２実施形態の特徴的な部分は、第５面４５に、気体を供給する給気口７１を設けた点にある。
【０１１５】
図１１において、液浸部材４Ｅは、第５面４５に配置され、気体を供給する給気口７１を備えている。給気口７１は、第５面４５と基板Ｐとの間の空間５５に気体を供給する。給気口７１は、基板Ｐの表面に向けて気体を供給する。給気口７１は、供給流路を介して、気体供給装置（不図示）と接続されている。気体供給装置は、クリーンで温度調整された気体を給気口７１に供給することができる。
【０１１６】
給気口７１から空間５５に気体が供給されることによって、空間５５の圧力は、空間５３の圧力、及びチャンバ装置５によって制御される液浸部材４Ｅの周囲の空間８の圧力より高くなる。図１１に示すように、給気口７１から気体が供給されることによって、空間５５から空間５３へ向かう気体の流れが生成される。本実施形態においては、給気口７１から供給された気体によって、第５面４５と基板Ｐの表面との間にガスシールが形成される。これにより、空間５３の液体ＬＱの流出が、より効果的に抑制される。なお、給気口７１から供給された気体によってガスベアリングを形成して、液浸部材４Ｅと基板Ｐとの接触を防止するようにしてもよい。
【０１１７】
また、上述の実施形態で説明した各種変形例（例えば図６〜図１０の変形例）は、本実施形態にも適用できる。
【０１１８】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１９】
図１２は、第２実施形態に係る液浸部材４Ｆの近傍を示す側断面図、図１３は、液浸部材４Ｆを下方から見た図、図１４は、図１２の一部を拡大した図である。上述の第１実施形態と異なる第３実施形態の特徴的な部分は、第１面４１Ｆの少なくとも一部に、液体ＬＱを供給する供給口７２を設けた点にある。さらに、第３実施形態の特徴的な部分は、第２面４２Ｆの少なくとも一部に、液体ＬＱを回収可能な回収口７３を設けた点にある。
【０１２０】
液浸部材４Ｆは、第１面４１Ｆの少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを供給する供給口７２と、光路Ｋに液体ＬＱを供給する供給口６４とを備えている。供給口７２は、第１方向側（−Ｚ方向側）に液体ＬＱを供給する。供給口７２は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給する。
【０１２１】
供給口７２は、第２面４２Ｆ（第４面４４Ｆ）の近傍に配置されている。換言すれば、供給口７２は、第２ギャップＧ２の近傍に配置されている。図１３に示すように、供給口７２は、光路Ｋの周囲に所定間隔で複数配置されている。
【０１２２】
また、液浸部材４Ｆは、第２面４２Ｆの少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを回収可能な回収口７３を備えている。回収口７３には、多孔部材７４が配置されている。回収口７３は、多孔部材７４の孔を介して、液体ＬＱを回収可能である。本実施形態において、第２面４２Ｆは、多孔部材７３の表面（下面）を含む。
【０１２３】
本実施形態において、第１面４１Ｆは、液体回収面（回収口）を含まない。なお、第１面４１Ｆが、液体回収面（回収口）有してもよい。
【０１２４】
また、液浸部材４Ｆは、投影光学系ＰＬと液浸部材４Ｆとの間の空間の液体ＬＱを回収する回収口７５を備えている。回収口７５は、側面３５と第７面４７との間の空間５７の液体ＬＱを回収する。回収口７５は、第７面４７に配置されている。回収口７５は、供給口６４よりも上方に配置されている。供給口６４から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、側面３５と第７面４７との間の空間５７に供給される。回収口７５は、供給口６４から空間５７に供給された液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【０１２５】
なお、回収口７５は無くてもよい。例えば、回収口７５を無くして、第１面４１Ｆに回収口を配置してもよい。
【０１２６】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法の一例について説明する。
【０１２７】
制御装置７は、第１面４１Ｆ，第２面４２Ｆ，第３面４３Ｆ，及び第５面４５Ｆと基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面２６）とを対向させる。
【０１２８】
制御装置７は、第１面４１Ｆ，第２面４２Ｆ，第３面４３Ｆ，及び第５面４５Ｆと基板Ｐの表面とを対向させた状態で、供給口６４及び供給口７２から液体ＬＱを供給するとともに、その供給口６４及び供給口７２からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収口７５からの液体ＬＱの回収動作を実行する。これにより、光路Ｋを含む空間５１及び空間５６が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【０１２９】
制御装置７は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される。これにより、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して射出面２３からの露光光ＥＬで基板Ｐが露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【０１３０】
本実施形態においても、第２面４２Ｆによって、第１面４１Ｆと第４面４４Ｆと基板Ｐの表面とで規定される空間５１の液体ＬＱの流出が抑制されている。
【０１３１】
また、空間５１の液体ＬＱが流出しても、第２ギャップＧ２を通過する際に、その流出する液体ＬＱは、第２面４２Ｆに設けられた回収口７３から回収される。
【０１３２】
また、空間５１の液体ＬＱが第２ギャップＧ２を介して流出した場合でも、その液体ＬＱは、空間５３において、回収口６１から回収される。
【０１３３】
本実施形態においては、第１面４１に供給口７２が配置されているので、空間５１の液体ＬＱのクリーン度を維持することができる。例えば、基板Ｐの表面と接触することによって、液体ＬＱのクリーン度が低下する可能性がある。例えば、基板Ｐと液体ＬＱとが接触することによって、基板Ｐから発生（溶出）した物質（例えば感光材等の有機物）が、異物（汚染物、パーティクル）として空間５１の液体ＬＱ中に混入する可能性がある。
【０１３４】
本実施形態においては、空間５１に液体ＬＱを供給する供給口７２が第１面４１に配置されているので、その供給口７２から供給された液体ＬＱによって、空間５１の液体ＬＱのクリーン度の低下が抑制される。すなわち、空間５１の液体ＬＱの少なくとも一部が基板Ｐの表面と接触して、基板Ｐから発生した異物が空間５１の液体ＬＱに混入しても、供給口７２から空間５１に供給されるクリーンな液体ＬＱによって、空間５１の液体ＬＱ中の異物の割合（汚染物の濃度）を低下させることができる。
【０１３５】
これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱのクリーン度が低下することが抑制される。また、空間５１の液体ＬＱが流出してしまった場合でも、その流出した液体ＬＱはクリーンなので、例えば第２面４２Ｆ、第３面４３Ｆ等の汚染が抑制される等、被害の拡大を抑制することができる。
【０１３６】
なお、本実施形態において、供給口７２はなくてもよい。また、上述の第１実施形態と同様に、第２面４２Ｆに回収口７３を設けずに、第１面４１Ｆに回収口を設けてもよい。
【０１３７】
また、上述の実施形態で説明した各種変形例（例えば図６〜図１０の変形例）は、本実施形態にも適用できる。
【０１３８】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３９】
図１５は、第４実施形態に係る液浸部材４Ｇの一例を示す図である。第４実施形態は、第３実施形態の変形例である。上述の第３実施形態と異なる第４実施形態の特徴的な部分は、空間５７に気体を供給する給気口７６と、気体を回収する回収口７７とを設けた点にある。
【０１４０】
図１５において、液浸部材４Ｇは、空間５７（第７ギャップＧ７）に気体ＧＷを供給する給気口７６を備えている。給気口７６は、第７ギャップＧ７に面するように配置されている。本実施形態において、給気口７６は、側面３５と対向する液浸部材４Ｇの第７面４７に配置されている。
【０１４１】
本実施形態において、給気口７６は、チャンバ装置５によって調整される内部空間８の湿度より高い湿度の気体ＧＷを第７ギャップＧ７に供給する。給気口７６は、第７ギャップＧ７に流入した液体ＬＱの界面ＬＧ２に気体ＧＷが接触するように、気体ＧＷを供給する。
【０１４２】
給気口７６は、供給流路を介して、気体供給装置（不図示）と接続されている。気体供給装置は、チャンバ装置５から内部空間８に供給される気体より高湿度の気体を給気口７６に供給する。本実施形態において、気体供給装置は、給気口７６に、内部空間８の気体と同じ種類の気体を供給する。また、気体供給装置は、液体ＬＱと同じ種類の液体の蒸気で、給気口７６に供給する気体を加湿する。本実施形態において、チャンバ装置５は、内部空間８をクリーンな空気で満たし、給気口７６は、水蒸気で加湿された空気を第７ギャップＧ７に供給する。
【０１４３】
また、本実施形態においては、液浸部材４Ｇは、第７ギャップＧ７に面するように配置され、給気口７６から供給された気体ＧＷの少なくとも一部を回収する回収口７７を備えている。本実施形態において、回収口７７は、液浸部材４Ｇの第７面４７に配置されている。また、回収口７７は、第７ギャップＧ７の液体ＬＱを回収可能である。
【０１４４】
本実施形態において、回収口７７は、給気口７６よりも上方に配置されている。回収口７７は、給気口７６の上方で、給気口７６に隣接するように配置されている。
【０１４５】
給気口７６から、液体ＬＱの界面ＬＧ２に接触するように気体ＧＷが供給されるので、液体ＬＱが気化することが抑制される。したがって、液体ＬＱの気化熱による、液体ＬＱ、液浸部材４Ｇ、及び液浸部材４Ｇに対向する物体（基板Ｐ）の少なくとも一つの温度変化の発生を抑制することができる。
【０１４６】
また、給気口７６から供給された気体ＧＷの少なくとも一部は、回収口７７から回収される。これにより、給気口７６からの気体ＧＷが、液浸部材４Ｇと投影光学系ＰＬとの間から外部（雰囲気）に流出することが抑制される。
【０１４７】
なお、加湿された気体ＧＷを供給する給気口７６と、気体ＧＷの少なくとも一部を回収する回収口７７とを、上述の第１〜第３実施形態で示した液浸部材（４等）に配置してもよい。
【０１４８】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１４９】
図１６は、第５実施形態に係る液浸部材４Ｈの一例を示す図である。図１６において、液浸部材４Ｈは、第１面４１Ｈを有し、投影光学系ＰＬに対して固定された第１部材８１と、第２面４２Ｈ及び第３面４３Ｈを有し、第１部材８１に対して可動な第２部材８２とを有する。また、第２部材８２は、光路Ｋに面し、第１面４１Ｈの外縁と第２面４２Ｈの内縁とを結ぶように配置される第４面４４Ｈを有する。
【０１５０】
第１部材８１は、第１面４１Ｈに配置された回収口６２Ｈと、光路Ｋに液体ＬＱを供給する供給口６４Ｈとを有する。回収口６２Ｈには、多孔部材６３Ｈが配置される。
【０１５１】
第２部材８２は、第３面４３Ｈに配置された回収口６１Ｈと、第３面４３Ｈの周囲の少なくとも一部に、且つ、Ｚ軸方向に関して第３面４３Ｈより第１方向側（−Ｚ方向側）に配置された第５面４５Ｈと、第５面４５Ｈに配置され、気体を供給する給気口７１Ｈとを備えている。
【０１５２】
本実施形態において、第１部材８１は、支持機構（図１６では不図示）を介して、第１定盤１３（第１コラム９）に支持されている。第２部材８２は、支持機構８３を介して、第１部材８１に支持されている。支持機構８３は、第１部材８１に対して、第２部材８２を移動可能に支持する。
【０１５３】
本実施形態において、支持機構８３は、例えばベローズ部材、バネ部材等の弾性部材を含み、第１部材８１に対して、第２部材８２を揺動可能に支持する。
【０１５４】
なお、第２部材８２が、投影光学系ＰＬ（保持部材２１）に移動可能に支持されてもよいし、投影光学系ＰＬを支持する第１定盤１３（第１コラム９）に移動可能に支持されてもよい。
【０１５５】
また、第１部材８１を第１定盤１３に対して移動可能に支持されていてもよい。
【０１５６】
本実施形態においては、給気口７１Ｈから空間５５に気体が供給されることによって、第５面４５Ｈと基板Ｐの表面との間にガスシールが形成されるとともに、ガスベアリングが形成される。これにより、第５面４５Ｈと基板Ｐの表面との第５ギャップＧ５を維持しつつ、液体ＬＱの流出を効果的に抑制することができる。
【０１５７】
なお、上述の実施形態で説明した各種変形例（例えば図６〜図１０の変形例）は、本実施形態にも適用できる。
【０１５８】
＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１５９】
図１７は、第６実施形態に係る液浸部材４Ｊの一例を示す図である。第６実施形態は、上述の第５実施形態の変形例である。
【０１６０】
上述の第５実施形態においては、揺動可能に支持された第２部材８２と基板Ｐとの間にガスベアリングが形成されることによって、第２部材８２の位置が調整されることとした。第６実施形態の特徴的な部分は、少なくともＺ軸方向に第２部材８２Ｊを移動可能な駆動装置８４を設けた点にある。
【０１６１】
図１７に示すように、液浸部材４Ｊは、投影光学系ＰＬに対して位置が固定された第１部材８１Ｊと、第１部材８１Ｊに対して可動な第２部材８２Ｊとを有する。
【０１６２】
第２部材８２Ｊは、駆動装置８４を含む支持機構８５によって支持されている。駆動装置８４は、第２部材８２Ｊを、少なくともＺ軸方向に移動可能である。本実施形態において、支持機構８５は、第１定盤１３（第１コラム９）と第２部材８２Ｊとを接続するように配置される。すなわち、第２部材８２Ｊは、支持機構８５を介して、第１定盤１３に支持されている。
【０１６３】
なお、第２部材８２Ｊが、駆動装置を含む支持機構を介して、投影光学系ＰＬ（保持部材２１）に支持されてもよいし、第１部材８１Ｊに支持されてもよい。
【０１６４】
第１部材８１Ｊは、支持機構８６を介して、第１定盤１３に支持されている。第１部材８１Ｊは、投影光学系ＰＬに対する位置が固定されている。
【０１６５】
制御装置７は、駆動装置８４を制御して、第２部材８２Ｊの位置を調整することができる。制御装置７は、第５面４５Ｊと基板Ｐの表面との間の第５ギャップＧ５が維持されるように、あるいは第５ギャップＧ５を変更するように、少なくともＺ軸方向に関する第２部材８２Ｊの位置を調整することができる。
【０１６６】
なお、本実施形態においては、第５面４５Ｊに、気体を供給する給気口が設けられていないが、設けてもよい。
【０１６７】
また、第１部材８１Ｊが投影光学系ＰＬに対して移動可能に支持されていてもよい。
【０１６８】
本実施形態においても、液体ＬＱの流出等を抑制することができる。
【０１６９】
なお、上述の実施形態で説明した各種変形例（例えば図６〜図１０の変形例）は、本実施形態にも適用できる。
【０１７０】
＜第７実施形態＞
次に、第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１７１】
図１８は、第７実施形態に係る液浸部材４Ｋの一例を示す図である。図１８において、液浸部材４Ｋは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された第１面４１Ｋを有し、投影光学系ＰＬに対する位置がほぼ固定された第１部材８１Ｋと、第１面４１Ｋの周囲の少なくとも一部に、且つ、第１面４１Ｋより第１方向側（−Ｚ方向側）に配置された第２面４２Ｋ、第２面４２Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された第３面４３Ｋ、及び第３面４３Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された第５面４５Ｋを有し、第１部材８１Ｋに対して可動な第２部材８２Ｋと、第２面４２Ｋの少なくとも一部に配置され、気体及び液体の少なくとも一方を回収可能な回収口７３Ｋと、第５面４５Ｋの少なくとも一部に配置され、気体を供給する給気口７１Ｋとを備えている。回収口７３Ｋには、多孔部材７４Ｋが配置されている。第２面７４Ｋは、多孔部材７４Ｋの表面（下面）を含む。
【０１７２】
また、第２部材８２Ｋは、第３面４３Ｋに配置され、空間５３に存在する液体ＬＱ及び気体の少なくとも一方を回収する回収口６１Ｋを備えている。また、第２部材８２Ｋは、光路Ｋに面し、第１面４１Ｋの外縁と第２面４２Ｋの内縁とを結ぶように配置される第４面４４Ｋを有する。
【０１７３】
本実施形態において、第１部材８１Ｋは、支持機構（図１８では不図示）を介して、第１定盤１３（第１コラム９）に支持されている。第２部材８２Ｋは、支持機構８３Ｋを介して、第１部材８１Ｋに支持されている。支持機構８３Ｋは、第１部材８１Ｋに対して、第２部材８２Ｋを移動可能に支持する。
【０１７４】
本実施形態において、支持機構８３Ｋは、例えばベローズ部材、バネ部材等の弾性部材を含み、第１部材８１Ｋに対して、第２部材８２Ｋを揺動可能に支持する。
【０１７５】
なお、第２部材８２Ｋが、投影光学系ＰＬ（保持部材２１）に移動可能に支持されてもよいし、投影光学系ＰＬを支持する第１定盤１３（第１コラム９）に移動可能に支持されてもよい。
【０１７６】
第１面４１Ｋは、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、投影領域ＰＲに配置される基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持する。
【０１７７】
本実施形態において、第２面４２Ｋ及び第５面４５Ｋは、第１面４１Ｋより、液体ＬＱに対して撥液性である。また、第４面４４Ｋも、第１面４１Ｋより、液体ＬＱに対して撥液性である。なお、第２面４２Ｋ及び第５面４５Ｋの少なくとも一方が、第１面４１Ｋより、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。また、第４面４４Ｋが、第１面４１Ｋより、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。
【０１７８】
本実施形態において、第２面４２Ｋと第５面４５Ｋとはほぼ同一平面内に配置される。なお、Ｚ軸方向に関する第２面４２Ｋの位置と第５面４５Ｋの位置とが異なっていてもよい。
【０１７９】
次に、本実施形態に係る露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法の一例について説明する。
【０１８０】
制御装置７は、第１部材８１Ｋの第１面４１Ｋと基板Ｐとを第１ギャップＧ１を介して対向させて、供給口６４Ｋから液体ＬＱを供給する。供給口６４Ｋから供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１面４１Ｋと基板Ｐとの間で保持される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。
【０１８１】
基板Ｐの露光の少なくとも一部において、基板Ｐは、第２部材８２Ｋの第２面４２Ｋと第１ギャップＧ１より小さい第２ギャップＧ２を介して対向するとともに、第５面４５Ｋと第１ギャップＧ１より小さい第５ギャップＧ５を介して対向する。
【０１８２】
第２面４２Ｋは、第１面４１Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間５１の液体ＬＱが流出することを抑制する。また、空間５１から液体ＬＱが流出しても、その流出した液体ＬＱの回収は、第２面４２Ｋに配置された回収口７３Ｋを使って行われる。また、第１面４１Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間５１から流出した液体ＬＱが、第２面４２Ｋと基板Ｐとの間の第２ギャップＧ２を介して空間５３に流入しても、その空間５３に存在する液体ＬＱの回収は、回収口６１Ｋを使って行われる。
【０１８３】
本実施形態においては、第５面４５Ｋに配置された給気口７１Ｋを使って、基板Ｐの表面に気体が供給される。給気口７１Ｋから第５面４５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間５５に気体が供給されることによって、第５面４５Ｋと基板Ｐの表面との間にガスシールが形成されるとともに、ガスベアリングが形成される。これにより、第５面４５Ｋと基板Ｐの表面との第５ギャップＧ５を維持しつつ、液体ＬＱの流出を効果的に抑制することができる。
【０１８４】
なお、少なくともＺ軸方向に第２部材８２Ｋを移動可能な駆動装置を設けて、その駆動装置の駆動力によって、少なくともＺ軸方向に関する第２部材８２Ｋの位置を調整してもよい。
【０１８５】
なお、本実施形態においては、第２面４２Ｋ，第３面４３Ｋ，及び第５面４５Ｋが、第２部材８２Ｋに配置されていることとしたが、例えば第２面４２Ｋが配置される部材と、第３面４３Ｋ及び第５面４５Ｋが配置される部材とが異なってもよい。また、第２面４２Ｋ及び第３面４３Ｋが配置される部材と、第５面４５Ｋが配置される部材とが異なってもよい。
【０１８６】
また、第１部材８１Ｋが投影光学系ＰＬに対して移動可能に支持されていてもよい。
【０１８７】
なお、上述の実施形態で説明した各種変形例（例えば図６〜図１０の変形例）は、本実施形態にも適用できる。
【０１８８】
なお、上述の第１〜第７実施形態においては、空間５３に存在する液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口（６１等）が、第３面（４３等）に配置されることとしたが、空間５３の液体ＬＱを回収可能であれば、第３面（４３等）以外の部位に回収口（６１等）が配置されてもよい。例えば、液浸部材４と異なる部材を空間５３に配置し、その部材に空間５３の液体ＬＱを回収可能な回収口を設けてもよい。
【０１８９】
＜第８実施形態＞
次に、第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１９０】
図１９は、第８実施形態に係る液浸部材４Ｌの一例を示す図である。図１９において、液浸部材４Ｌは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された第１面４１Ｌを有し、投影光学系ＰＬに対する位置がほぼ固定された第１部材８１Ｌと、第１面４１Ｌの周囲の少なくとも一部に、且つ、第１面４１Ｌより第１方向側（−Ｚ方向側）に配置された第２面４２Ｌを有し、第１部材８１Ｌに対して可動な第２部材８２Ｌと、第２面４２Ｌの少なくとも一部に配置され、気体及び液体の少なくとも一方を回収可能な回収口６１Ｌと、第２面４２Ｌの少なくとも一部に配置され、気体を供給する給気口７１Ｌとを備えている。
【０１９１】
回収口６１Ｌは、第１面４１Ｌの周囲に配置された第２面４２Ｌの第１領域４２１Ｌに配置されている。給気口７１Ｌは、第１領域４２１Ｌの周囲に配置された第２面４２Ｌの第２領域４２２Ｌに配置されている。第１領域４２１Ｌと第２領域４２２Ｌとは、ほぼ同一平面内に配置される。なお、Ｚ軸方向に関する第１領域４２１Ｌの位置と第２領域４２２Ｌの位置とが異なっていてもよい。
【０１９２】
第１部材８１Ｌは、第１面４１Ｌの少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを回収可能な回収口６２Ｌを有する。回収６２Ｌには、多孔部材６３Ｌが配置されている。第１面４１Ｌは、多孔部材６３Ｌの表面（下面）を含む。
【０１９３】
第２部材８２Ｌは、光路Ｋに面し、第１面４１Ｌの外縁と第２面４２Ｌの内縁とを結ぶように配置される第４面４４Ｌを有する。
【０１９４】
本実施形態において、第１部材８１Ｌは、支持機構（図１９では不図示）を介して、第１定盤１３（第１コラム９）に支持されている。第２部材８２Ｌは、支持機構８３Ｌを介して、第１部材８１Ｌに支持されている。支持機構８３Ｌは、第１部材８１Ｌに対して、第２部材８２Ｌを移動可能に支持する。
【０１９５】
本実施形態において、支持機構８３Ｌは、例えばベローズ部材、バネ部材等の弾性部材を含み、第１部材８１Ｌに対して、第２部材８２Ｌを揺動可能に支持する。
【０１９６】
なお、第２部材８２Ｌが、投影光学系ＰＬ（保持部材２１）に移動可能に支持されてもよいし、投影光学系ＰＬを支持する第１定盤１３（第１コラム９）に移動可能に支持されてもよい。
【０１９７】
第１面４１Ｌは、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、投影領域ＰＲに配置される基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持する。
【０１９８】
本実施形態において、第２面４２Ｌは、第１面４１Ｌより、液体ＬＱに対して撥液性である。また、第４面４４Ｌも、第１面４１Ｌより、液体ＬＱに対して撥液性である。なお、第２面４２Ｌが、第１面４１Ｌより、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。また、第４面４４Ｌが、第１面４１Ｌより、液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。
【０１９９】
次に、本実施形態に係る露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法の一例について説明する。
【０２００】
制御装置７は、第１部材８１Ｌの第１面４１Ｌと基板Ｐとを第１ギャップＧ１を介して対向させて、供給口６４Ｌから液体ＬＱを供給する。供給口６４Ｌから供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１面４１Ｌと基板Ｐとの間で保持される。また、供給口６４Ｌから供給され、第１面４１Ｌと基板Ｐの表面との間の空間５１の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口６２Ｌから回収される。供給口６４Ｌからの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収口６２Ｌからの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。
【０２０１】
基板Ｐの露光の少なくとも一部において、基板Ｐは、第２部材８２Ｌの第２面４２Ｌと第１ギャップＧ１より小さい第２ギャップＧ２を介して対向する。
【０２０２】
第２面４２Ｌは、第１面４１Ｌと基板Ｐ（物体）との間の空間５１の液体ＬＱが流出することを抑制する。また、空間５１から液体ＬＱが流出しても、その流出した液体ＬＱの回収は、第２面４２Ｌ（第１領域４２１Ｌ）に配置された回収口６１Ｌを使って行われる。
【０２０３】
本実施形態においては、第２面４２Ｌ（第２領域４２２Ｌ）に配置された給気口７１Ｌを使って、基板Ｐの表面に気体が供給される。給気口７１Ｌから第２面４２Ｌと基板Ｐ（物体）との間の空間に気体が供給されることによって、第２面４２Ｌと基板Ｐの表面との間にガスシールが形成されるとともに、ガスベアリングが形成される。これにより、第２面４２Ｌと基板Ｐの表面との第２ギャップＧ２を維持しつつ、液体ＬＱの流出を効果的に抑制することができる。
【０２０４】
なお、少なくともＺ軸方向に第２部材８２Ｌを移動可能な駆動装置を設けて、その駆動装置の駆動力によって、少なくともＺ軸方向に関する第２部材８２Ｌの位置を調整してもよい。
【０２０５】
なお、本実施形態においては、第２面４２Ｌの第１領域４２１Ｌと第２領域４２２Ｌとが、第２部材８２Ｌに配置されていることとしたが、例えば第１領域４２１Ｌが配置される部材と、第２領域４２２Ｌが配置される部材とが異なってもよい。
【０２０６】
また、第１部材８１Ｌが投影光学系ＰＬに対して移動可能に支持されていてもよい。
【０２０７】
なお、上述の実施形態で説明した各種変形例（例えば図６〜図１０の変形例）は、本実施形態にも適用できる。
【０２０８】
なお、上述の第１〜第８実施形態において、終端光学素子２２の射出面２３と液浸部材（４など）の一部とが対向していなくてもよい。例えば、終端光学素子２２の射出面２３と液浸部材（４など）の第１面（４１など）とが同一平面内に配置されていてもよい。
【０２０９】
なお、上述の第１〜第８実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子２２の射出側（像面側）の光路が液体ＬＱで満たされているが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子２２の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系を採用することもできる。
【０２１０】
なお、上述の各実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【０２１１】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【０２１２】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０２１３】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０２１４】
また、露光装置ＥＸは、例えば対応米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸは、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーでもよい。
【０２１５】
また、露光装置ＥＸは、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。
【０２１６】
更に、露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載し、露光対象の基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置でもよいし、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０２１７】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０２１８】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【０２１９】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。
【０２２０】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置、露光方法を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いなくてもよい。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
【０２２１】
また、露光装置ＥＸは、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０２２２】
以上のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０２２３】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０２２４】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０２２５】
２…基板ステージ、４…液浸部材、７…制御装置、２２…終端光学素子、２３…射出面、４１…第１面、４２…第２面、４３…第３面、４４…第４面、４５…第５面、５１…空間、５３…空間、６１…回収口、６２…回収口、６３…多孔部材、７１…給気口、７２…供給口、７３…回収口、７４…多孔部材、８１…第１部材、８２…第２部材、８３…支持機構、８４…駆動装置、４３１…第１斜面、４３２…第２斜面、４３３…平坦面、ＡＸ…光軸、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＰＬ…投影光学系
【図１】
2011018744.tif 000003
【図２】
2011018744.tif 000004
【図３】
2011018744.tif 000005
【図４】
2011018744.tif 000006
【図５】
2011018744.tif 000007
【図６】
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【図７】
2011018744.tif 000009
【図８】
2011018744.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2011018744.tif 000016
【図１５】
2011018744.tif 000017
【図１６】
2011018744.tif 000018
【図１７】
2011018744.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2011018744.tif 000021
【図２０】
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