(57)【要約】【課題】リフロー処理などの高温環境にさらされても反射防止膜のクラックの発生を防止する。【解決手段】レンズブロック８では、ガラス基板１６の面上に硬化性樹脂製の凸レンズ部２０ａが形成され、凸レンズ部２０ａ上に反射防止膜１００が形成されている。反射防止膜１００は、高屈折率層１０２と低屈折率層１０４とが交互に積層された複数の層から構成され、反射防止膜１００の最外層は、低屈折率層１０４であり、前記最外層と、前記最外層よりも凸レンズ部２０ａ側に設けられた層の少なくとも１層とは、２種類の異なる無機材料が混合された混合膜である。【選択図】図１
2011237472.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の少なくとも一方の面上に硬化性樹脂製のレンズ部が形成され、前記レンズ部上に反射防止膜が形成された撮像用レンズにおいて、
前記反射防止膜は、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された複数の層から構成され、
前記反射防止膜の最外層は、低屈折率層であり、
前記最外層と、前記最外層よりも前記レンズ部側に設けられた層の少なくとも１層とは、２種類の異なる無機材料が混合された混合膜であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像用レンズにおいて、
前記最外層の前記混合膜を構成する材料が、ＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３であり、
前記混合膜中のＳｉの元素数に対するＡｌの元素数の比率が１〜５％であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の撮像用レンズにおいて、
前記最外層よりも前記レンズ部側に設けられた層のうち、少なくとも１層の高屈折率層が前記混合膜であり、
前記高屈折率層の前記混合膜を構成する材料が、Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２であり、
前記混合膜中のＴａの元素数に対するＴｉの元素数の比率が１〜３０％であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の撮像用レンズにおいて、
前記最外層よりも前記レンズ部側に設けられた層のうち、少なくとも１層の低屈折率層が前記混合膜であり、
前記低屈折率層の前記混合膜を構成する材料が、ＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３であり、
前記混合膜中のＳｉの元素数に対するＡｌの元素数の比率が１〜５％であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の撮像用レンズにおいて、
前記最外層よりも前記レンズ部側に設けられた層のうち、最もレンズ部側に設けられた層が前記混合膜であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項６】
請求項５に記載の撮像用レンズにおいて、
前記最もレンズ部側に設けられた層が低屈折率層であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項７】
請求項５に記載の撮像用レンズにおいて、
前記最もレンズ部側に設けられた層が高屈折率層であることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の撮像用レンズにおいて、
前記反射防止膜を構成する高屈折率層と低屈折率層とのすべての層が前記混合膜から構成されていることを特徴とする撮像用レンズ。
【請求項９】
請求項８に記載の撮像用レンズにおいて、
前記反射防止膜を構成する全ての高屈折率層は、Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２を含有する混合膜であり、前記混合膜中のＴａの元素数に対するＴｉの元素数の比率が１〜３０％であり、
前記反射防止膜を構成する全ての低屈折率層は、ＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３を含有する混合膜であり、前記混合膜中のＳｉの元素数に対するＡｌの元素数の比率が１〜５％であることを特徴とする撮像用レンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は撮像用レンズに関し、特に電子部品実装時のリフロー処理に耐えうる撮像用レンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、回路基板上にＩＣ（Integrated Circuits）チップその他の電子部品を実装する場合において、回路基板の所定位置に予め導電性ペースト（例えば半田）を塗布（ポッティング）しておき、その位置に電子部品を載置した状態で当該回路基板をリフロー処理（２５０℃程度の加熱処理）に供し、導電性ペーストを溶融させ当該回路基板に電子部品を実装する技術により、低コストで安定して、電子機器を製造する技術が開発されている。近年では、電子部品のほかにも光学素子を含む撮像モジュール（撮像ユニット）を回路基板に載置し、上記のようなリフロー処理をおこなうことにより、電子部品と撮像モジュールとを回路基板に同時実装し、撮像モジュールを一体化された携帯電話等の電子機器の生産も行われるようになってきている。リフロー処理により光学素子を含む撮像モジュールが電子機器に実装される場合には、当然光学素子もリフロー処理による高温に晒されることとなる為、高い耐熱性が求められることとなる。
【０００３】
これに対し、撮像レンズ等の光学素子の製造分野では、ガラス基板に対して硬化性樹脂からなるレンズ部を設けることで、耐熱性の高いハイブリッド型の光学素子（レンズ）を得る技術が検討されている。この技術を適用した光学素子の製造方法の一例として、ガラス基板の表面に硬化性樹脂からなるレンズ部を複数設けたいわゆる「ウエハレンズ」を形成し、その後にレンズ部ごとに裁断し（ダイシングともいう）、個別の撮像レンズを形成する方法が提案されている。また、場合によっては、ウエハレンズを複数層積層された状態で各レンズ部ごとに裁断することで、２群構成や３群構成の撮像レンズを形成することも可能である。また、ウエハレンズとＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサ等の撮像素子が複数個配列された基板とを予め貼り合わせてから、各レンズ部、撮像素子ごとに裁断することで、撮像モジュールを製造することも可能である。
【０００４】
上記ハイブリッド型の光学素子を、撮像系の光学素子（撮像レンズ）として使用して電子部品とともにリフロー処理に供することも検討されている。この場合において、撮像レンズとして使用する為には、各光学面における透過率を高めるため、また、反射光によるゴースト等の問題の発生を抑制するためにレンズ部の表面に反射防止膜を形成することが求められる。ところが、撮像モジュールを、電子機器を構成する回路基板に実装する際にリフロー処理を行った場合には、撮像レンズは通常の使用環境を大幅に超える高温に晒されることとなる。反射防止膜は、通常無機材料からなる低屈折率層と高屈折率層が交互に積層された構成とされるため、反射防止膜自体は耐熱性が高く高温化でも劣化することはない。しかしながら、反射防止膜が設けられる撮像レンズにおけるレンズ部が樹脂材料により形成されている場合は、高温に晒されたときに無機材料とレンズ部を構成する樹脂材料との間の熱膨張率（線膨張率）等の物性の違いから、当該反射防止膜のクラック（いわゆる膜割れ）が発生する問題が顕著となるため、これを防止する必要がある。
【０００５】
このような課題に対し、特許文献１の技術では、反射防止膜をリフロー処理が行われる温度に近い温度で成膜（蒸着）することで、リフロー処理による反射防止膜のクラックの発生をある程度防止することに成功している。
特許文献２の技術では、リフロー処理のような通常の使用環境を大幅に超える高温環境下に晒されることは想定してないものの、反射防止膜を構成する層のうち、高屈折率層を２種類の材料からなる混合膜とすることで、膜応力を低下させて高温環境下における反射防止膜のクラックの発生を防止することを検討している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２４４５８３号公報
【特許文献２】特開平１０−７３７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の技術によれば、リフロー処理における反射防止膜のクラックの発生をある程度抑制することは可能である。しかしながら、リフロー処理は一般的に数分の処理時間（滞在時間）で行われるのに対し、反射防止膜を形成する際には１〜２時間と長時間に及ぶ場合がある。そのため、反射防止膜形成時の処理温度をリフロー温度と同程度の温度にした場合には、レンズ部を構成する樹脂材料を長時間高温化に晒す必要があり、樹脂材料の種類によっては着色により透過率が低下したり、樹脂材料が軟化して光学面形状に変形が発生する場合があった。また、着色や軟化が発生しにくいガラス転移点が高い硬化性樹脂を選択することが考えられるが、ガラス転移点の高い樹脂は、脆性が低い傾向にあるため、光学面の成形時に欠けや剥がれが生じやすいという問題や、樹脂材料の選択の範囲が狭まるため、所望の光学性能を達成することが困難となる場合があった。
従って、樹脂の種類や、反射防止膜を形成する条件によらず、高温環境下においてもクラックの発生しない反射防止膜が求められていた。
【０００８】
他方、特許文献２の技術では、熱可塑性樹脂で構成されるレンズ部に設けられる反射防止膜に関するもので、当該レンズが比較的高温環境下で使用された場合にあっても反射防止膜のクラックを抑制可能な構成として、高屈折率層を酸化チタンと酸化タンタルの混合膜とすることを記載している。具体的には、約７０℃程度の環境下での使用を想定しており、当該構成においてクラックの発生が抑制できたことが記載されている。しかしながら、同様の技術をリフロー処理が行われる撮像レンズに適用しても十分に反射防止膜のクラックを抑制することができないことが明らかになった。特許文献２で採用されていた熱可塑性樹脂は、リフロー処理により溶融してしまいレンズ形状を維持できず、加熱により着色して透過率が大幅に低下するため、使用することはできない。そこで、熱可塑性樹脂を硬化性樹脂に変更することが考えられるが、確かに硬化性樹脂とすることでリフロー処理による樹脂の溶融や着色は抑制できるものの、反射防止膜のクラックの問題は十分に抑制することができなかった。
したがって、本発明の主な目的は、リフロー処理などの高温環境にさらされても反射防止膜のクラックの発生を十分に抑制することができる撮像用レンズを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明によれば、
前記ガラス基板の少なくとも一方の面上に硬化性樹脂製のレンズ部が形成され、前記レンズ部上に反射防止膜が形成された撮像用レンズにおいて、
前記反射防止膜は、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された複数の層から構成され、
前記反射防止膜の最外層は、低屈折率層であり、
前記最外層と、前記最外層よりも前記レンズ部側に設けられた層の少なくとも１層とは、２種類の異なる無機材料が混合された混合膜であることを特徴とする撮像用レンズが提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明者らの検討の結果、特許文献２のように高屈折率層として２種類の材料が混合された混合膜を使用することである程度のクラックを抑制することができるものの、リフロー処理のように通常の使用環境を大幅に超えた高温環境下に晒される場合には、十分な効果が得られないことが明らかになった。更なる検討の結果、反射防止膜は一般的に低屈折率層が最外層に設けられ、適切な反射防止特性を得る上では、最外層の低屈折率層の膜厚を比較的厚くせざるを得ないこと、加熱時に最外層に最も大きな応力（引っ張り応力）がかかりやすいことに着目した。そこで、最外層を構成する低屈折率層を混合膜とすることで、応力を圧縮方向に調整することを検討した。しかしながら、それでもリフロー処理に供された場合には十分ではなかったが、更に、最外層と、基材となる樹脂材料の間に設けられた層を混合層として応力を調整することで、リフロー処理に晒された場合であっても、反射防止膜を十分に抑制することが可能となることを見出したのである。
従って、本発明によれば、リフロー処理により撮像レンズが使用環境を大幅に超える高温条件に晒された場合であっても、反射防止膜のクラックを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】撮像モジュールの概略構成を示す断面図である。
【図２】ウエハレンズ積層体の概略構成を示す斜視図である。
【図３】図２のＩ−Ｉ線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１３】
［撮像モジュール］
図１（ａ）に示すとおり、撮像モジュール２は主にはレンズユニット４とセンサユニット６とで構成されており、レンズユニット４がセンサユニット６上に配置されている。レンズユニット４は撮像用レンズの一例である。レンズユニット４は主にレンズブロック８，レンズブロック１０，スペーサ１２，カバーパッケージ１４で構成されており、レンズブロック８，１０とスペーサ１２とが接着・積層された状態でカバーパッケージ１４に覆われている。
【００１４】
レンズブロック８は平板状を呈したガラス基板１６を有している。
ガラス基板１６の上部には絞り１８と樹脂部２０とが形成されており、ガラス基板１２の下部には絞り２２と樹脂部２４とが形成されている。
樹脂部２０の略中央部には凸状を呈した凸レンズ部２０ａが形成されている。
樹脂部２０では凸レンズ部２０ａ以外の部位が非レンズ部２０ｂとなっている。
樹脂部２４の略中央部には凹状を呈した凹レンズ部２４ａが形成されている。
樹脂部２０では凹レンズ部２４ａ以外の部位が非レンズ部２４ｂとなっている。
【００１５】
レンズブロック１０も平板状を呈したガラス基板２６を有している。
ガラス基板２６の上部には樹脂部２８が形成されており、ガラス基板２６の下部には絞り３０と樹脂部３２とが形成されている。
樹脂部２８の略中央部には凹状を呈した凹レンズ部２８ａが形成されている。
樹脂部２８では凹レンズ部２８ａ以外の部位が非レンズ部２８ｂとなっている。
樹脂部３２の略中央部には凸状を呈した凸レンズ部３２ａが形成されている。
樹脂部３２では凸レンズ部３２ａ以外の部位が非レンズ部３２ｂとなっている。
【００１６】
樹脂部２０，２４，２８，３２中の凸レンズ部２０ａ，凹レンズ部２４ａ，凹レンズ部２８ａ，凸レンズ部３２ａはレンズ機能（光学機能）を発揮するレンズ有効部となっている。レンズブロック８，１０を物体側（凸レンズ部２０ａ側）から見た場合には、凸レンズ部２０ａ，凹レンズ部２４ａ，凹レンズ部２８ａ，凸レンズ部３２ａは同心円状に配置されており、これらレンズ部同士で光軸３４（図３参照）が互いに一致するように上下に積層されている。
【００１７】
樹脂部２０，２４，２８，３２は光硬化性樹脂で構成されている。
当該光硬化性樹脂としては、好ましくはアクリル樹脂やアリルエステル樹脂、エポキシ樹脂などが使用可能である。
下記では使用可能な樹脂について説明する。
光硬化性樹脂は樹脂部２０，２４，２８，３２ごとに同じ種類の樹脂であってもよいし、異なる樹脂であってもよい。
【００１８】
（１）アクリル樹脂
重合反応に用いられる(メタ)アクリレートは特に制限はなく、一般的な製造方法により製造された下記(メタ)アクリレートを使用することができる。エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、アルキレン(メタ)アクリレート、芳香環を有する(メタ)アクリレート、脂環式構造を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。これらを１種類又は２種類以上を用いることができる。
【００１９】
特に脂環式構造を持つ(メタ)アクリレートが好ましく、酸素原子や窒素原子を含む脂環構造であってもよい。例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、ビシクロヘプチル(メタ)アクリレート、トリシクロデシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレートや、イソボロニル(メタ)アクリレート、水添ビスフェノール類のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また特にアダマンタン骨格を持つと好ましい。例えば、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート（特開２００２−１９３８８３号公報参照）、アダマンチルジ（メタ）アクリレート（特開昭５７−５００７８５）、アダマンチルジカルボン酸ジアリル（特開昭６０―１００５３７）、パーフルオロアダマンチルアクリル酸エステル（特開２００４−１２３６８７）、新中村化学製  2-メチル-2-アダマンチルメタクリレート、1,3-アダマンタンジオールジアクリレート、1,3,5-アダマンタントリオールトリアクリレート、不飽和カルボン酸アダマンチルエステル（特開２０００−１１９２２０）、３，３’−ジアルコキシカルボニル-1,1’ビアダマンタン（特開２００１−２５３８３５号公報参照）、１，１’−ビアダマンタン化合物（米国特許第３３４２８８０号明細書参照）、テトラアダマンタン（特開２００６−１６９１７７号公報参照）、２−アルキル−２−ヒドロキシアダマンタン、２−アルキレンアダマンタン、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等の芳香環を有しないアダマンタン骨格を有する硬化性樹脂（特開２００１−３２２９５０号公報参照）、ビス(ヒドロキシフェニル)アダマンタン類やビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン（特開平１１−３５５２２号公報、特開平１０−１３０３７１号公報参照）等が挙げられる。
【００２０】
また、その他反応性単量体を含有することも可能である。(メタ)アクリレートであれば、例えば、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、などが挙げられる。
【００２１】
多官能(メタ)アクリレートとして、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールセプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２２】
（２）アリルエステル樹脂
アリル基を持ちラジカル重合による硬化する樹脂で、例えば次のものが挙げられるが、特に以下のものに限定されるわけではない。
芳香環を含まない臭素含有（メタ）アリルエステル（特開２００３−６６２０１号公報参照）、アリル（メタ）アクリレート（特開平５−２８６８９６号公報参照）、アリルエステル樹脂（特開平５−２８６８９６号公報、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アクリル酸エステルとエポキシ基含有不飽和化合物の共重合化合物（特開２００３−１２８７２５号公報参照）、アクリレート化合物（特開２００３−１４７０７２号公報参照）、アクリルエステル化合物（特開２００５−２０６４号公報参照）等が挙げられる。
【００２３】
（３）エポキシ樹脂
エポキシ樹脂としては、エポキシ基を持ち光又は熱により重合硬化するものであれば特に限定されず、硬化開始剤としても酸無水物やカチオン発生剤等を用いることができる。エポキシ樹脂は硬化収縮率が低いため、成形精度の優れたレンズとすることができる点で好ましい。
【００２４】
エポキシの種類としては、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が挙げられる。その一例として、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−５，５−スピロ−（３，４−エポキシシクロヘキサン）−１，３−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル等を挙げることができる。
【００２５】
硬化剤は硬化性樹脂材料を構成する上で使用されるものであり特に限定はない。また、本発明において、硬化性樹脂材料と、添加剤を添加した後の光学材料の透過率を比較する場合、硬化剤は添加剤には含まれないものとする。硬化剤としては、酸無水物硬化剤やフェノール硬化剤等を好ましく使用することができる。酸無水物硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸等を挙げることができる。また、必要に応じて硬化促進剤が含有される。硬化促進剤としては、硬化性が良好で、着色がなく、熱硬化性樹脂の透明性を損なわないものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）等のイミダゾール類、３級アミン、４級アンモニウム塩、ジアザビシクロウンデセン等の双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン、ホスホニウム塩等を用いることができ、これらを１種、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【００２６】
図１（ａ）拡大図に示すとおり、樹脂部２０（特に凸レンズ部２０ａ）には反射防止膜１００が形成されている。
一般に、光は屈折率の異なる境界面に入射した時、その境界面両側の屈折率比に応じて入射した光の一部は反射する。そして、前記境界面の屈折率の比が大きいほどその境界面で反射する光の光量は増大する。例えば、光学素子として使用するプラスチックでは屈折率が約１．５〜１．６の範囲であるので、空気などの媒質より光が入射した場合、その入射光の４〜５％は反射することになる。この表面反射現象は、単に透過する光量が減少するということのみならず、このような光学素子をそのまま撮像用のレンズなどに用いれば、ゴーストやフレアーなどの大きな原因となり問題である。そこで、この表面反射を低減するために、光学素子表面上に光の波長オーダーの薄い誘電体膜を反射防止膜として設けて、膜内での光の干渉効果により反射光を低減させるということがよく行われている。そして、高性能な反射防止膜構造として、２種類以上の誘電体膜を数層積層して広い波長域で低反射率を実現するものが数多く提案されている。
【００２７】
本実施形態では、反射防止膜１００は高屈折率層１０２とそれより屈折率の低い低屈折率層１０４とが交互に積層された構成を有しており、最外層は低屈折率層１０４であり、総層数が４層となっている。高屈折率層１０２と低屈折率層１０４とが交互に積層されていれば、反射防止膜１００の層数は適宜変更可能である。
高屈折率層１０２は、単一の無機材料で構成された単一膜または２種類の異なる無機材料で構成された混合膜から構成され、好ましくはＴａ２Ｏ５の単一膜またはＴａ２Ｏ５，ＴｉＯ２の混合膜から構成されている。高屈折率層１０２がＴａ２Ｏ５，ＴｉＯ２の混合膜で構成される場合、当該混合膜中のＴａの元素数に対するＴｉの元素数の比率は１〜３０％となることが好ましい。当該混合膜においては、ＴｉＯ２に代えてＣｅＯ２，Ｌａ２Ｏ３，ＺｒＯ２，ＨｆＯ２が使用されてもよい。
低屈折率層１０４も単一の無機材料で構成された単一膜または２種類の異なる無機材料で構成された混合膜から構成され、好ましくはＳｉＯ２の単一膜またはＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３の混合膜から構成されている。但し、最外層として設けられる低屈折率層１０４は、混合膜である必要がある。低屈折率層１０４がＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３の混合膜から構成される場合、当該混合膜中のＳｉの元素数に対するＡｌの元素数の比率は１〜５％となることが好ましい。当該混合膜においては、Ａｌ２Ｏ３に代えてＭｇＦ２，Ｙ２Ｏ３，Ｌａ２Ｏ３が使用されてもよい。
なお、高屈折率層１０２，低屈折率層１０４が混合膜で構成される場合、当該混合膜の材料の混合比は、膜表面よりＸＰＳ（Ｘ線光電子分析）などの手法で膜中の元素比率を測定することで確認することができる。
【００２８】
反射防止膜１００では、少なくとも最外層となる低屈折率層１０４が上記混合膜で構成されており、前記最外層となる低屈折率層１０４と樹脂部２０との間に設けられた少なくとも１層が更に上記混合膜で構成されていればよい。前記最外層となる低屈折率層１０４と樹脂部２０との間に設けられた層のうち、最も樹脂部２０側の層、即ち樹脂部２０と隣接する層が混合層とされていることが、反射防止膜１００と樹脂部２０の密着性を高める上で更に好ましく、反射防止膜１００を構成する全ての高屈折率層１０２と低屈折率層１０４とが上記混合膜で構成されることが特に好ましい。
本実施形態では、混合膜で構成された高屈折率層１０２が樹脂部２０に直に形成されている。
反射防止膜１００は樹脂部２０以外の樹脂部２４，２８，３２に形成されてもよく、樹脂部２０，２４，２８，３２のすべてに形成されることが好ましい。
【００２９】
図１（ａ），（ｂ）に示すとおり、センサユニット６は主にはセンサ３６，パッケージ３８，カバーガラス４０から構成されている。
【００３０】
センサ３６はレンズユニット４を透過した光を受光する受光センサであって、受光した光を光電変換して電気信号を外部機器（図示略）に出力可能となっている。
パッケージ３８は有底箱状を呈しており、上方が開放されている。図１（ｂ）に示すとおり、パッケージ３８の略中央部にはセンサ３６が配置されている。
カバーガラス４０はパッケージ３８の上部に蓋体として設けられており、センサ３６はパッケージ３８とカバーガラス４０とに囲まれた空間中に密閉されている。
【００３１】
図１（ａ）に示すとおり、スペーサ１２はレンズブロック８，１０とセンサ３６との間に介在しており、これら部材間に一定の間隔を付与している。スペーサ１２には円形状の開口部１２ｂが形成されている。開口部１２ｂの内側にはＩＲカットフィルタ４２が設けられている。ＩＲカットフィルタ４２はカバーガラス４０の上方に配置され、センサ３６に入射しようとする赤外線を遮光するようになっている。
【００３２】
続いて、撮像モジュール２（特にレンズユニット４）の製造方法について説明する。
【００３３】
はじめに、図２に示すとおり、複数の凸レンズ部２０ａなどが形成されたウエハレンズ５２、ウエハレンズ５４およびスペーサ基板５６を準備（製造）する。
【００３４】
図３に示すとおり、ウエハレンズ５２はウエハ状のガラス基板１６を有している。ガラス基板１６の上部には絞り１８，樹脂部２０が形成され、ガラス基板１６の下部には絞り２２，樹脂部２４が形成されている。
絞り１８，２２を形成する場合は、ガラス基板１６に対し遮光性フォトレジストを塗布し、その後所定パターンを有するマスクを介して光照射して現像し、絞り１８，２２を形成する。遮光性フォトレジストとしてはカーボンブラックを混入したフォトレジストが使用される。
樹脂部２０，２４を形成する場合は、ガラス基板１６に対し光硬化性樹脂を滴下して成形用型（図示略）を押圧し、その後光照射して当該樹脂を硬化させ、ガラス基板１６を成形用型から離型する。
【００３５】
ウエハレンズ５４はウエハ状のガラス基板２６を有している。ガラス基板２６の上部には樹脂部２８が形成され、ガラス基板２６の下部には絞り３０，樹脂部３２が形成されている。
絞り３０，樹脂部２８，３２の形成方法は、ウエハレンズ５２の場合と同様（ガラス基板１６に対し絞り１８，２２，樹脂部２０，２４を形成したのと同様）である。
スペーサ基板５６はガラス基板１６，２６と同様にウエハ状を呈したガラス製平板である。スペーサ基板５６には多数の円形状の開口部５６ａが形成されている。開口部５６ａは、凸レンズ部２０ａ，凹レンズ部２４ａ，凹レンズ部２８ａ，凸レンズ部３２ａと対応する位置に形成されている。
【００３６】
その後、ウエハレンズ５２の樹脂部２０に対し、真空蒸着により反射防止膜１００を形成する。
高屈折率層１０２，低屈折率層１０４を混合膜で構成する場合は、あらかじめ所望の比率で各材料を混合・焼成し、その後成形することで混合膜の蒸着材料を作製することができる。また、各材料を単独で使用し、２源蒸着により所望の混合比が得られるようにそれぞれの成膜速度を調整することで混合膜を形成することもできる。
【００３７】
具体的には、真空蒸着装置内にウエハレンズ５２を装着し、装置内の圧力を所定圧力（例えば１．０×１０−３Ｐａ）まで減圧すると共に、真空蒸着装置上部のヒーターよりウエハレンズ５２を所定温度（例えば２００℃）の温度になるまで加熱する。
その後、高屈折率層１０２を構成する蒸着源（蒸着材料）を用いて高屈折率層１０２を形成する。例えば、高屈折率層１０２として（Ｔａ２Ｏ５＋５％ＴｉＯ２）膜を形成する場合には、蒸発源としてオプトラン社製OA600を用い、電子銃加熱により当該蒸着源を蒸発させればよい。蒸着中は、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａになるまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を５Å／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。
その後、高屈折率層１０２の上に続けて、低屈折率層１０４を構成する蒸着源を用いて低屈折率層１０４を形成する。例えば、低屈折率層１０４としてＳｉＯ２膜を形成する場合には、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａになるまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を５Å／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。
このような操作を繰り返し、ウエハレンズ５２の樹脂部２０に対し反射防止膜１００を形成する。他の樹脂部２４，２８，３２に反射防止膜１００を形成する場合にも、上記と同様の操作をおこなえばよい。
【００３８】
その後、ウエハレンズ５２、ウエハレンズ５４およびスペーサ基板５６を互いに位置合わせしながら接合（接着）し、ウエハレンズ積層体５０（図２参照）を製造する。その後、ウエハレンズ積層体５０を、ダイシングライン６１（図３参照）に沿ってエンドミルにて凸レンズ部２０ａごとに個々に個片化し、複数のレンズユニット４を製造する。その後、各レンズユニット４をカバーパッケージ１４に組み込み、センサユニット６と接合する。これにより撮像モジュール２を製造することができる。
ここでは、ウエハレンズ積層体５０をダイシングにより個片化してレンズユニット４を製造した後に、センサユニット６と接合することで撮像モジュール２を製造しているが、ウエハレンズ積層体５０の状態で、複数のセンサユニット６を有する基板と接合し、ウエハレンズ積層体５０とセンサユニット６を有する基板とを同時にダイシングすることで、撮像モジュール２を製造することも可能である。
【００３９】
撮像モジュール２の製造後において、撮像モジュール２と他の電子部品とを回路基板上に同時実装する場合には、予め半田などの導電性ペーストが塗布（ポッティング）された回路基板の所定の実装位置に撮像モジュール２をその他の電子部品とともに載置する。
その後、撮像モジュール２とその他の電子部品とを載置した回路基板をベルトコンベアなどでリフロー炉（図示略）に移送し、当該回路基板を２３０〜２７０℃程度の温度で５〜１０分程度加熱（リフロー処理）する。
その結果、導電性ペーストが溶融して撮像モジュール２がその他の電子部品と一緒に回路基板に実装される。
【００４０】
以上の本実施形態によれば、反射防止膜１００を構成する層のうち、最も外側に配置される低屈折率層１０４（最外層）と、前記最外層と樹脂部２０との間に設けられた少なくとも１層とが混合膜で構成されている。この構成において、混合膜で構成された層は１つの材料で構成されるよりも圧縮応力（反射防止膜１００が膨張する方向の応力）が増大することが実験的に確かめられている（下記実施例参照）。したがって、撮像モジュール２のリフロー処理時において、レンズブロック８の樹脂部２０（凸レンズ部２０ａ）が熱膨張することで、反射防止膜１００に対して引っ張り応力（反射防止膜１００が外側に引っ張られる方向の応力）が発生したとしても、当該反射防止膜１００には予め混合膜による圧縮応力が付与されているため応力が相殺されることでクラックの発生が抑制されると考えられる。特に、比較的膜厚が厚く、最も大きな引っ張り応力に晒される最外層となる低屈折率層１０４が混合膜とされており、更に、最外層と樹脂部２０との間の層の一層が混合膜とされていることにより、反射防止膜１００全体に十分な圧縮応力を付与することができる。
以上の理由により、撮像モジュール２（レンズユニット４）がリフロー処理などの高温環境にさらされても、反射防止膜１００のクラックの発生を防止することができる。
【実施例】
【００４１】
（１）サンプルの作製
平面状のガラス基板に光硬化性樹脂を滴下し、表面がレンズ面に対応する金型をプレスした。その後、ガラス基板の裏側（樹脂を滴下した面の反対側）から光を照射して硬化させ、金型を離型した。その後、ガラス基板を２００℃で８時間加熱した。このようなガラス基板（樹脂部（樹脂製のレンズ部）が形成されたガラス基板）を複数作製した。
その後、各ガラス基板の樹脂部上に４〜５層構造の反射防止膜を形成した。成膜材料を表１，表２のとおりに種々に変更し、その反射防止膜の構成態様（各層の材料）に応じて「実施例１〜１２」，「比較例１〜６」のサンプルとした。
反射防止膜の成膜は真空蒸着で実施した。各サンプル中、２種類の材料からなる混合膜は予め所望の比率で材料を混合し焼成後成形することで混合膜材料を作製した。真空蒸着処理においては、装置内を真空排気しながら２００℃まで加熱し、装置内圧が１．０×１０−３Ｐａになった時点で成膜を開始した。
表１，表２中、混合膜の混合比は、膜表面よりＸＰＳ（Ｘ線光電子分析）などの手法で膜中の元素比率を測定することで検証した。
【００４２】
【表１】
2011237472.tif 000003
【００４３】
【表２】
2011237472.tif 000004
【００４４】
（２）各層の特性
長さ５０ｍｍ，幅１０ｍｍの薄いガラス基板に対して、各サンプルを構成する材料を成膜し、その材料における応力と屈折率とを測定した。測定結果を表３，表４に示す。応力の測定では、各ガラス基板に外力を加えてガラス基板を反り曲げ、その反り量（反り角度）をオートコリメータにより測定し応力に換算した。
【００４５】
【表３】
2011237472.tif 000005
【００４６】
【表４】
2011237472.tif 000006
【００４７】
表３の結果から、低屈折率層において、Ａｌの含有量が１％未満の場合には膜応力が小さくリフロー処理時に膜割れが発生しやすく、Ａｌの含有量が５％を超える場合には屈折率が高く反射防止効果が発揮しにくい。
表４の結果から、高屈折率層において、Ｔｉの含有量が１％未満の場合または３０％を超える場合には膜応力が小さくリフロー処理時に膜割れが発生しやすい。
【００４８】
（３）サンプルの評価
各サンプルに対しリフロー処理（２６０℃で５〜１０分程度の加熱処理）を３回おこない、その後の反射防止膜の外観や密着性を評価した。
これとは別に、各サンプルを温度６０℃，湿度９０％の環境下に２４０時間放置し、その後の反射防止膜の外観や密着性を評価した。
外観検査，密着性検査は下記のとおりにおこなった。
【００４９】
（３．１）外観検査
各サンプルについて反射防止膜の外観を実態顕微鏡で観察した。観察結果を表５に示す。表５中、◎，○，△，×の基準は下記のとおりである。
「◎」：反射防止膜にクラックの発生が見られず実用上問題がない
「○」：反射防止膜の一部に微細なクラックが数本発生しているが実用上問題がない
「△」：反射防止膜の全面に微細なクラックが見られるものの実用上問題がない
「×」：反射防止膜の全面にクラックが見られ、実使用上の不具合が生じる
【００５０】
（３．２）密着性検査
φ３０ｍｍ平面テストピースサンプル（表１，２のとおりに反射防止膜を形成している。）を準備し、反射防止膜の１００ｍｍ２の範囲にテープを貼り付けて剥離し、テープの剥離に伴う反射防止膜の剥離の有無を目視で確認した。確認結果を表５に示す。表５中、○，△，×の基準は下記のとおりである。
「○」：剥離が認められない
「△」：若干の剥離が認められるが、面積で０．０３ｍｍ２以内である
「×」：面積で０．０３ｍｍ２を超える剥離が認められる
【００５１】
【表５】
2011237472.tif 000007
【００５２】
（３．３）まとめ
表５の結果から、実施例１〜１２と比較例１〜６との各サンプルを比較すると、最外層が低屈折率層でかつ最外層とその内側の層とが混合膜で構成されている実施例１〜１２のサンプルは、外観検査，密着性検査の両方で結果が良好であった。
以上から、反射防止膜において、最外層を低屈折率層としかつ最外層とその内側の層とを混合膜で構成することは、クラックの発生を防止したり、膜自体の樹脂部への密着性を向上させたりする上で、有用であることがわかる。
【符号の説明】
【００５３】
２  撮像モジュール
４  レンズユニット
６  センサユニット
８，１０  レンズブロック
１２  スペーサ
１４  カバーパッケージ
１６  ガラス基板
１８  絞り
２０  樹脂部
２０ａ  凸レンズ部
２０ｂ  非レンズ部
２２  絞り
２４  樹脂部
２４ａ  凹レンズ部
２４ｂ  非レンズ部
２６  ガラス基板
２８  樹脂部
２８ａ  凹レンズ部
２８ｂ  非レンズ部
３０  絞り
３２  樹脂部
３２ａ  凸レンズ部
３２ｂ  非レンズ部
３４  光軸
３６  センサ
３８  パッケージ
４０  カバーガラス
４２  ＩＲカットフィルタ
１００  反射防止膜
１０２  高屈折率層
１０４  低屈折率層
【図１】
2011237472.tif 000008
【図２】
2011237472.tif 000009
【図３】
2011237472.tif 000010