(57)【要約】      （修正有）【課題】レーザ加工装置に堆積した粉塵が舞い上がって被加工基板に付着することを防止すること。【解決手段】レーザ加工装置は、基板と、基板に設けられた薄膜とを有する被加工基板６０をレーザ加工するために用いられる。レーザ加工装置は、被加工基板６０を保持する保持部１０と、薄膜にレーザ光Ｌを照射するレーザ発振器２０と、保持部１０で保持された被加工基板６０の薄膜側に設けられ、薄膜から発生する粉塵を回収する粉塵回収部材１５と、を備えている。【選択図】図１
2011104636.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と該基板に設けられた薄膜とを有する被加工基板をレーザ加工するレーザ加工装置において、
前記被加工基板を保持する保持部と、
前記薄膜にレーザ光を照射するレーザ発振器と、
前記保持部で保持された前記被加工基板の薄膜側に設けられ、前記薄膜から発生する粉塵を回収する粉塵回収部材と、
を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項２】
前記保持部は中空構造からなり、
前記保持部に、該保持部の中空内の気体を吸引する吸引部が連結され、
前記粉塵回収部材が、前記保持部に設けられたフィルタ部材を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項３】
前記フィルタ部材は、前記保持部に脱着自在に取り付けられたフィルタパネルからなることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工装置。
【請求項４】
前記フィルタ部材が可塑性を有するフィルタ膜からなり、
前記フィルタ膜に、該フィルタ膜を巻き出す巻出部が連結されるとともに、該フィルタ膜を巻き取る巻取部が連結されることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工装置。
【請求項５】
前記フィルタ部材が可塑性を有するフィルタ膜からなり、
前記フィルタ膜に、保持部の中空内で該フィルタ膜を循環させるフィルタ搬送部が設けられ、
前記保持部に、前記フィルタ膜に付着した粉塵を回収する集塵部が連結されていることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
前記粉塵回収部材は、前記粉塵を粘着力によって付着させて回収する粘着部材を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項７】
前記粘着部材は、前記保持部に脱着自在に取り付けられた粘着パネルからなることを特徴とする請求項６に記載のレーザ加工装置。
【請求項８】
前記粘着部材が可塑性を有する粘着膜からなり、
前記粘着膜に、該粘着膜を巻き出す巻出部が連結されるとともに、該粘着膜を巻き取る巻取部が連結されることを特徴とする請求項６に記載のレーザ加工装置。
【請求項９】
前記保持部は中空構造からなり、
前記保持部の中空内に粘着部材が設けられたことを特徴とする請求項６に記載のレーザ加工装置。
【請求項１０】
前記粘着部材は、前記保持部の中空内の内壁に設けられた粘着シート、または、前記保持部の中空内の内壁に塗布された粘着剤からなることを特徴とする請求項９に記載のレーザ加工装置。
【請求項１１】
前記保持部は中空構造からなり、
前記保持部に、該保持部の中空内の気体を吸引する吸引部が連結され、
前記粉塵回収部材が、前記保持部に設けられ、粘着剤が塗布されたネット部材からなることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板と当該基板に設けられた薄膜とを有する被加工基板を、レーザ加工するレーザ加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１１に示すように、従来から、レーザ光Ｌを透過する透明な基板と基板に形成された薄膜とを有する被加工基板６０を保持する保持機構（保持部）１０と、保持機構１０により保持された被加工基板６０のうち薄膜が形成されていない基板側から薄膜へ向けてレーザ光Ｌを照射するレーザ照射機構（レーザ発振器）２０と、レーザ光Ｌによる薄膜に対するレーザ加工によって発生した粉塵を吸い込む吸塵機構９０と、を備えたレーザ加工装置が知られている（特許文献１参照）。このように、薄膜を下方側に位置させ、かつ、薄膜から発生する粉塵を吸塵機構９０で吸引することによって、粉塵が空気中へ飛散することを、ある程度防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−９８４０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に示されるようなレーザ加工装置では、被加工基板６０が加工される箇所から離れた位置に吸塵機構９０が設けられている。このため、被加工基板６０の加工箇所から吸塵機構９０に至るまでの間に粉塵が残留して堆積してしまう。そして、このように堆積した粉塵は、被加工基板６０を加工している間に舞い上がり、当該被加工基板６０に付着してしまうことがある。
【０００５】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、レーザ加工装置に堆積した粉塵が舞い上がって被加工基板に付着することを防止するとともに、集塵効率を向上させることができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によるレーザ加工装置は、
基板と該基板に設けられた薄膜とを有する被加工基板をレーザ加工するレーザ加工装置において、
前記被加工基板を保持する保持部と、
前記薄膜にレーザ光を照射するレーザ発振器と、
前記保持部で保持された前記被加工基板の薄膜側に設けられ、前記薄膜から発生する粉塵を回収する粉塵回収部材と、
を備えている。
【０００７】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記保持部は中空構造からなり、
前記保持部に、該保持部の中空内の気体を吸引する吸引部が連結され、
前記粉塵回収部材が、前記保持部に設けられたフィルタ部材を有してもよい。
【０００８】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記フィルタ部材は、前記保持部に脱着自在に取り付けられたフィルタパネルからなってもよい。
【０００９】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記フィルタ部材が可塑性を有するフィルタ膜からなり、
前記フィルタ膜に、該フィルタ膜を巻き出す巻出部が連結されるとともに、該フィルタ膜を巻き取る巻取部が連結されてもよい。
【００１０】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記フィルタ部材が可塑性を有するフィルタ膜からなり、
前記フィルタ膜に、保持部の中空内で該フィルタ膜を循環させるフィルタ搬送部が設けられ、
前記保持部に、前記フィルタ膜に付着した粉塵を回収する集塵部が連結されてもよい。
【００１１】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記粉塵回収部材は、記粉塵を粘着力によって付着させて回収する粘着部材を有してもよい。
【００１２】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記粘着部材は、前記保持部に脱着自在に取り付けられた粘着パネルからなってもよい。
【００１３】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記粘着部材が可塑性を有する粘着膜からなり、
前記粘着膜に、該粘着膜を巻き出す巻出部が連結されるとともに、該粘着膜を巻き取る巻取部が連結されてもよい。
【００１４】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記保持部は中空構造からなり、
前記保持部の中空内に粘着部材が設けられてもよい。
【００１５】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記粘着部材は、前記保持部の中空内の内壁に設けられた粘着シート、または、前記保持部の中空内の内壁に塗布された粘着剤からなってもよい。
【００１６】
本発明によるレーザ加工装置において、
前記保持部は中空構造からなり、
前記保持部に、該保持部の中空内の気体を吸引する吸引部が連結され、
前記粉塵回収部材が、前記保持部に設けられ、粘着剤が塗布されたネット部材からなってもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、保持部で保持された被加工基板の薄膜側に、薄膜から発生する粉塵を回収する粉塵回収部材が設けられている。このため、レーザ加工装置に粉塵が堆積することがなく、粉塵が舞い上がって被加工基板に付着することを防止することができる。また、このように被加工基板の薄膜側に粉塵回収部材が設けられていることから、集塵効率を向上させることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施の形態によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図２】本発明の第１の実施の形態による加工態様を示す側方断面図。
【図３】本発明の第２の実施の形態によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図４】本発明の第３の実施の形態によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図５】本発明の第４の実施の形態によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図６】本発明の第５の実施の形態によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図７】本発明の第６の実施の形態の一例によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図８】本発明の第６の実施の形態の別の例によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図９】本発明の第７の実施の形態によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【図１０】本発明の第８の実施の形態によるレーザ加工装置を示す側方断面図。
【図１１】従来技術によるレーザ加工装置を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
第１の実施の形態
以下、本発明に係るレーザ加工装置の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１および図２は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００２０】
本実施の形態のレーザ加工装置は、レーザ光Ｌを透過するガラス基板などの透明基板（基板）６１と、透明基板６１に設けられた薄膜６２とを有する被加工基板６０（図２参照）をレーザ加工するものである（図１参照）。なお、この被加工基板６０は、太陽電池や液晶・ＰＤＰなどの表示パネルに用いられる。
【００２１】
図１に示すように、レーザ加工装置は、被加工基板６０を薄膜６２側から保持する保持部１０と、薄膜６２に透明基板６１側からレーザ光Ｌを照射するレーザ発振器２０と、を備えている。なお、保持部１０は、透明基板６１が上方に位置し、薄膜６２が下方に位置するようにして、被加工基板６０を保持している（図２参照）。
【００２２】
また、保持部１０は、上面が開口した中空構造からなっている。そして、図１に示すように、保持部１０には、保持部１０の中空内の気体を吸引する吸引部３０が、吸引管３１を介して連結されている。
【００２３】
また、保持部１０の開口１０ａには、当該保持部１０に脱着自在となり、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐ（図２参照）を回収するフィルタパネル１５（粉塵回収部材、フィルタ部材）が取り付けられている。このため、本実施の形態では、保持部１０で保持された被加工基板６０の鉛直下方（薄膜側）の近傍に、フィルタパネル１５が位置づけられることとなる。
【００２４】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００２５】
まず、保持部１０によって被加工基板６０が保持される（図１参照）。このとき、被加工基板６０は、透明基板６１が上方に位置し薄膜６２が下方に位置するようにして、保持される。
【００２６】
次に、保持された被加工基板６０にレーザ光Ｌが照射されて、被加工基板６０の薄膜６２が加工される（図１参照）。このとき、被加工基板６０の薄膜６２がバーストしたりして粉塵６２ｐが発生する（図２参照）。
【００２７】
このように被加工基板６０にレーザ加工が行われている間に、保持部１０の中空内の気体が吸引部３０によって吸引される（図１参照）。このため、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐは、単にフィルタパネル１５上に飛び散るだけでなく、気体の吸引力によってフィルタパネル１５に引きつけられることとなる。
【００２８】
このように、本実施の形態によれば、被加工基板６０の鉛直下方に設けられたフィルタパネル１５によって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。このため、堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができる。
【００２９】
すなわち、従来のレーザ加工装置では、図１１に示すように、被加工基板６０が加工される箇所から離れた位置に吸塵機構９０が設けられている。このため、被加工基板６０の加工箇所から吸塵機構９０に至るまでの間に粉塵が残留して堆積してしまう。そして、このように堆積した粉塵は、被加工基板６０を加工している間に舞い上がり、当該被加工基板６０に付着してしまうことがある。これに対して、本実施の形態によれば、被加工基板６０の鉛直下方に設けられたフィルタパネル１５によって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収されるので、レーザ加工装置に粉塵６２ｐが堆積すること自体を防止することができる。この結果、堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができる。
【００３０】
また、このように被加工基板６０の鉛直下方にフィルタパネル１５が設けられているので、集塵効率を向上させることもできる。
【００３１】
また、本実施の形態では、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐが、吸引部３０からの吸引力によってフィルタパネル１５に引きつけられる。このため、フィルタパネル１５に付着した粉塵６２ｐが舞い上がることも防止することができる。
【００３２】
さらに、本実施の形態では、フィルタパネル１５が保持部１０に脱着自在となっている。このため、粉塵６２ｐがある程度付着したフィルタパネル１５を、すぐに交換することができる。この結果、フィルタパネル１５に付着した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを、容易かつ確実に防止することができる。
【００３３】
なお、上記では、保持部１０、フィルタパネル１５、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、フィルタパネル１５、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。
【００３４】
第２の実施の形態
次に、図３により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図１および図２に示す第１の実施の形態は、粉塵回収部材（フィルタ部材）として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられるフィルタパネル１５を用いる態様を用いて説明した。この点、図３に示す第２の実施の形態では、粉塵回収部材（フィルタ部材）として可塑性を有するフィルタ膜１５ａを用いたものである。そして、当該フィルタ膜１５ａには、フィルタ膜１５ａを巻き出す巻出部１６が連結されるとともに、フィルタ膜１５ａを巻き取る巻取部１７が連結されている。その他の構成は、図１および図２に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００３５】
図３に示す第２の実施の形態において、図１および図２に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００３６】
図３に示すように、本実施の形態によれば、未使用のフィルタ膜１５ａが巻出部１６から供給され、供給されたフィルタ膜１５ａと同じ量の使用済みのフィルタ膜１５ａが巻取部１７によって回収されることとなる。このため、使用済みのフィルタ膜１５ａを容易に未使用のフィルタ膜１５ａに交換することができ、フィルタ膜１５ａに付着した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを、容易かつ確実に防止することができる。
【００３７】
なお、本実施の形態でも第１の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【００３８】
すなわち、本実施の形態によれば、被加工基板６０の鉛直下方に設けられたフィルタ膜１５ａによって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。このため、レーザ加工装置に粉塵６２ｐが堆積すること自体を防止することができ、ひいては、堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができる。
【００３９】
また、このように被加工基板６０の鉛直下方にフィルタ膜１５ａが設けられているので、集塵効率を向上させることもできる。
【００４０】
さらに、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐが、吸引部３０からの吸引力によってフィルタ膜１５ａに引きつけられる。このため、フィルタ膜１５ａに付着した粉塵６２ｐが舞い上がることも防止することができる。
【００４１】
なお、上記では、保持部１０、フィルタ膜１５ａ、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、フィルタ膜１５ａ、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。
【００４２】
第３の実施の形態
次に、図４により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図１および図２に示す第１の実施の形態は、粉塵回収部材（フィルタ部材）として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられるフィルタパネル１５を用いる態様を用いて説明した。この点、図４に示す第３の実施の形態では、粉塵回収部材（フィルタ部材）として可塑性を有するフィルタ膜１５ａを用いたものである。そして、当該フィルタ膜１５ａには、フィルタ膜１５ａを保持部１０の中空内で循環させるフィルタ搬送部１９が設けられている。また、保持部１０には、集塵ヘッド３７が設けられ、当該集塵ヘッド３７には集塵管３６を介してフィルタ膜１５ａに付着した粉塵６２ｐを回収する集塵部３５が連結されている。その他の構成は、図１および図２に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００４３】
図４に示す第３の実施の形態において、図１および図２に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４４】
図４に示すように、本実施の形態によれば、フィルタ膜１５ａが、保持部１０の中空内で、四つのフィルタ搬送部１９によって循環される。そして、このようにフィルタ膜１５ａが循環されている間に、フィルタ膜１５ａに付着した粉塵６２ｐが、集塵部３５からの吸引力によって集塵ヘッド３７と集塵管３６を介して回収される。このため、使用されたフィルタ膜１５ａであっても、付着した粉塵６２ｐをすぐに取り除くことができる。この結果、フィルタ膜１５ａに付着した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを、容易かつ確実に防止することができる。
【００４５】
また、本実施の形態によれば、フィルタ膜１５ａを再利用することができるので、ランニングコストを低く抑えることもできる。
【００４６】
なお、本実施の形態でも第１の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【００４７】
すなわち、本実施の形態によれば、被加工基板６０の鉛直下方に設けられたフィルタ膜１５ａによって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。このため、レーザ加工装置に粉塵６２ｐが堆積すること自体を防止することができ、ひいては、堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができる。
【００４８】
また、このように被加工基板６０の鉛直下方にフィルタ膜１５ａが設けられているので、集塵効率を向上させることもできる。
【００４９】
さらに、本実施の形態では、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐが、吸引部３０からの吸引力によってフィルタ膜１５ａに引きつけられる。このため、フィルタ膜１５ａに付着した粉塵６２ｐが舞い上がることも防止することができる。
【００５０】
なお、上記では、保持部１０、フィルタ膜１５ａ、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、フィルタ膜１５ａ、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。
【００５１】
第４の実施の形態
次に、図５により、本発明の第４の実施の形態について説明する。図１および図２に示す第１の実施の形態は、粉塵回収部材（フィルタ部材）として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられるフィルタパネル１５を用いる態様を用いて説明した。この点、図５に示す第４の実施の形態では、粉塵回収部材として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられ、粉塵６２ｐを粘着力によって付着させて回収する粘着パネル（粘着部材）５５を用いたものである。その他の構成は、図１および図２に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、被加工基板６０は、粘着パネル５５と離間された状態で保持部１０によって保持されている。
【００５２】
図５に示す第４の実施の形態において、図１および図２に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５３】
図５に示すように、本実施の形態によれば、被加工基板６０の鉛直下方に設けられた粘着パネル５５によって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。このため、レーザ加工装置に粉塵６２ｐが堆積すること自体を防止することができ、ひいては、堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができる。
【００５４】
また、このように被加工基板６０の鉛直下方に粘着パネル５５が設けられているので、集塵効率を向上させることもできる。
【００５５】
さらに、本実施の形態では、粘着パネル５５が保持部１０に脱着自在となっている。このため、粉塵６２ｐがある程度付着した粘着パネル５５を、すぐに交換することができ、粉塵６２ｐが粘着パネル５５に付着しきれない状態が発生することを未然に防止することができる。この結果、粘着パネル５５から粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを、容易かつ確実に防止することができる。
【００５６】
なお、上記では、保持部１０、粘着パネル５５、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、粘着パネル５５、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。
【００５７】
第５の実施の形態
次に、図６により、本発明の第５の実施の形態について説明する。図５に示す第４の実施の形態は、粉塵回収部材（粘着部材）として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられる粘着パネル５５を用いる態様を用いて説明した。この点、図６に示す第５の実施の形態では、粉塵回収部材（粘着部材）として可塑性を有する粘着膜５５ａを用いたものである。そして、当該粘着膜５５ａには、粘着膜５５ａを巻き出す巻出部５６が連結されるとともに、粘着膜５５ａを巻き取る巻取部５７が連結されている。その他の構成は、図５に示す第４の実施の形態と略同一である。
【００５８】
図６に示す第５の実施の形態において、図５に示す第４の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５９】
図６に示すように、本実施の形態によれば、未使用の粘着膜５５ａが巻出部５６から供給され、供給された粘着膜５５ａと同じ量の使用済みの粘着膜５５ａが巻取部５７によって回収されることとなる。このため、使用済みの粘着膜５５ａを容易に未使用の粘着膜５５ａに交換することができ、粉塵６２ｐが粘着膜５５ａに付着しきれない状態が発生することを未然に防止することができる。この結果、粘着膜５５ａから粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを、容易かつ確実に防止することができる。
【００６０】
また、本実施の形態によれば、第４の実施の形態と同様、被加工基板６０の鉛直下方に設けられた粘着膜５５ａによって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。このため、レーザ加工装置に粉塵６２ｐが堆積すること自体を防止することができ、ひいては、堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することも防止することができる。
【００６１】
また、このように被加工基板６０の鉛直下方に粘着膜５５ａが設けられているので、集塵効率を向上させることもできる。
【００６２】
なお、上記では、保持部１０、粘着膜５５ａ、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、粘着膜５５ａ、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。
【００６３】
第６の実施の形態
次に、図７および図８により、本発明の第６の実施の形態について説明する。図５に示す第４の実施の形態は、粉塵回収部材（粘着部材）として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられる粘着パネル５５を用いる態様を用いて説明した。この点、第６の実施の形態の図７に示す態様では、保持部１０の中空内の内壁に貼り付けられた粘着シート５５ｂが粘着部材を構成し、第６の実施の形態の図８に示す態様では、保持部１０の中空内の内壁に塗布された粘着剤５５ｃが粘着部材を構成するものである。その他の構成は、図５に示す第４の実施の形態と略同一である。
【００６４】
図７および図８に示す第６の実施の形態において、図５に示す第４の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００６５】
本実施の形態の図７に示す態様によれば、保持部１０の中空内の内壁に貼り付けられ、被加工基板６０の下方に位置する粘着シート５５ｂによって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。また、本実施の形態の図８に示す態様によっても、保持部１０の中空内の内壁に塗布され、被加工基板６０の下方に位置する粘着剤５５ｃによって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。そして、粘着シート５５ｂや粘着剤５５ｃに付着した粉塵６２ｐは舞い上がることがない。このため、本実施の形態によっても、従来技術と異なり堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができる。また、従来技術と比較して集塵効率を向上させることもできる。
【００６６】
なお、上記では、レーザ発振器２０から発振されたレーザ光Ｌが透明基板６１側から薄膜６２に照射される態様を用いて説明したが、これに限られることはなくレーザ発振器２０から発振されたレーザ光Ｌが薄膜６２に直接照射されてもよい。この場合には、例えば、保持部１０の中空内にレーザ発振器２０が配置されることとなる。
【００６７】
また、上記では、保持部１０、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。このとき、レーザ発振器２０から発振されたレーザ光Ｌは、透明基板６１側から薄膜６２に照射されてもよいし、薄膜６２に直接照射されてもよい。
第７の実施の形態
次に、図９により、本発明の第７の実施の形態について説明する。図５に示す第４の実施の形態は、粉塵回収部材（粘着部材）として、保持部１０の開口１０ａに脱着自在に取り付けられる粘着パネル５５を用いる態様を用いて説明した。この点、図９に示す第７の実施の形態では、粉塵回収部材が、保持部１０の中空内に設けられ、粘着剤が塗布されたネット部材５５ｄからなるものである。なお、保持部１０には、保持部１０の中空内の気体を吸引する吸引部３０が吸引管３１を介して連結されている。また、吸引管３１は保持部１０の側壁に設けられた側壁開口３２に連結され、当該側壁開口３２に上述のネット部材５５ｄが設けられている。その他の構成は、図５に示す第４の実施の形態と略同一である。
【００６８】
図９に示す第７の実施の形態において、図５に示す第４の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００６９】
本実施の形態によれば、被加工基板６０の下方に設けられた、保持部１０の中空内のネット部材５５ｄによって、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐがすぐに回収される。そして、ネット部材５５ｄに付着した粉塵６２ｐは舞い上がることがない。このため、従来技術と異なり堆積した粉塵６２ｐが舞い上がって被加工基板６０に付着することを防止することができ、また、従来技術と比較して集塵効率を向上させることもできる。
【００７０】
さらに、本実施の形態によれば、薄膜６２から発生する粉塵６２ｐが、吸引部３０からの吸引力によって粘着剤が塗布されたネット部材５５ｄに引きつけられる。このため、粘着剤の粘着力によって粉塵６２ｐをネット部材５５ｄに付着させるだけでなく、吸引部３０からの吸引力によって粉塵６２ｐをネット部材５５ｄに引きつけることができる。このため、ネット部材５５ｄに付着した粉塵６２ｐが舞い上がることをより確実に防止することができる。
【００７１】
なお、上記では、レーザ発振器２０から発振されたレーザ光Ｌが透明基板６１側から薄膜６２に照射される態様を用いて説明したが、これに限られることはなくレーザ発振器２０から発振されたレーザ光Ｌが薄膜６２に直接照射されてもよい。この場合には、例えば、保持部１０の中空内にレーザ発振器２０が配置されることとなる。
【００７２】
また、上記では、保持部１０、薄膜６２および透明基板６１が下方から順に位置づけられているが、これに限られることはなく、上下方向が逆転した態様であってもよい。この場合には、保持部１０、薄膜６２および透明基板６１が上方から順に位置づけられることとなる。このとき、レーザ発振器２０から発振されたレーザ光Ｌは、透明基板６１側から薄膜６２に照射されてもよいし、薄膜６２に直接照射されてもよい。
【００７３】
第８の実施の形態
次に、図１０（ａ）（ｂ）により、本発明の第８の実施の形態について説明する。図１０（ａ）（ｂ）に示す第８の実施の形態は、被加工基板６０の上方に、レーザ光Ｌが通過する開口７１を形成するように、一対のトラップ部７０が設けられたものである。この一対のトラップ部７０は、その横断面において、被加工基板６０に向かうにつれて徐々に広くなるよう構造（本実施の形態では台形形状）からなっており、粉塵６２ｐを広い表面積で吸着または接着することができる。なお、トラップ部７０の横断面は、台形形状の他に
三角形状など様々なものが考えられる。
【００７４】
図１０に示す第８の実施の形態において、他の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００７５】
図１０（ａ）に示すトラップ部７０は、中空構造からなり、吸引部３０が吸引管３１を介して連結されている。そして、トラップ部７０は、被加工基板６０側の面に設けられた側部開口７４と、当該側部開口７４に設けられたネット部材７５とを有している。なお、このネット部材７５には、粘着剤が塗布されてもよいし、塗布されなくてもよい。
【００７６】
また、図１０（ｂ）に示すトラップ部７０は、その被加工基板６０側の面に粘着膜７９が設けられている。この点、トラップ部７０の被加工基板６０側の面には、粘着膜７９が設けられる代わりに、粘着剤が塗布されてもよい。なお、図１０（ｂ）に示すような態様の場合には、トラップ部７０は中空構造からなる必要がない。
【００７７】
図１０（ａ）（ｂ）に示すような態様によれば、薄膜６２を上方に位置づけた場合であっても、薄膜６２の近傍にトラップ部７０を位置づけることができ、効率よく粉塵を回収することができるので、好ましい。
【符号の説明】
【００７８】
１０      保持部
１０ａ    開口
１５      フィルタパネル（粉塵回収部材、フィルタ部材）
１５ａ    フィルタ膜（粉塵回収部材、フィルタ部材）
１６      巻出部
１７      巻取部
１９      フィルタ搬送部
２０      レーザ発振器
３０      吸引部
３５      集塵部
５５      粘着パネル（粉塵回収部材、粘着部材）
５５ａ    粘着膜（粉塵回収部材、粘着部材）
５５ｂ    粘着シート（粉塵回収部材、粘着部材）
５５ｃ    粘着剤（粉塵回収部材、粘着部材）
５５ｄ    ネット部材（粉塵回収部材、粘着部材）
５６      巻出部
５７      巻取部
６０      被加工基板
６１      透明基板（基板）
６２      薄膜
７０      トラップ部
７４      側部開口
７５      ネット部材
７９      粘着膜
Ｌ        レーザ光
【図１】
2011104636.tif 000003
【図２】
2011104636.tif 000004
【図３】
2011104636.tif 000005
【図４】
2011104636.tif 000006
【図５】
2011104636.tif 000007
【図６】
2011104636.tif 000008
【図７】
2011104636.tif 000009
【図８】
2011104636.tif 000010
【図９】
2011104636.tif 000011
【図１０】
2011104636.tif 000012
【図１１】
2011104636.tif 000013