(57)【要約】【課題】インクジェット装置のノズルに不吐出ノズルが発生しても、生産性を落とすことなく、均一な塗布膜を形成することができる機能膜製造方法を提供すること。【解決手段】機能膜製造方法においては、撥液性を有する区画領域（３）により囲まれた機能膜を形成する吐出領域に対して、１回の走査により複数のノズル（６）から機能液（９）の液滴を吐出して塗布するステップにおいて、１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて、不吐出ノズルが存在する場合、当該吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する機能液の液滴量を不吐出ノズルが存在しない場合に比べて増加させている。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能膜を形成する領域に機能膜材料を含む機能液を塗布する機能膜製造方法であって、
撥液性を有する区画領域により囲まれた機能膜を形成する吐出領域に対して、１回の走査により複数のノズルから前記機能液の液滴を吐出して塗布するステップにおいて、
１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて、不吐出ノズルが存在する場合、当該吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液の液滴量を、不吐出ノズルが存在しない場合に比べて増加させる機能膜製造方法。
【請求項２】
機能液をノズルから吐出して吐出領域に塗布するとき、１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて不吐出ノズルが存在する場合、当該１つの吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液を、不吐出ノズルの数に応じて液滴量を増加させる請求項１に記載の機能膜製造方法。
【請求項３】
前記吐出領域が、互いに平行な２以上のライン状バンクにより挟まれて規定される列領域で構成され、
前記インクジェット装置は、所定のピッチで列状に配列されたノズルを持つインクジェットヘッドを有し、
前記インクジェットヘッドを前記ライン状バンクの長手方向に対して直交する走査方向に相対移動して、前記ライン状バンクで規定された列領域に対して前記機能液を前記ノズルから吐出して前記吐出領域に塗布するとき、前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合には、１回の走査において、不吐出ノズルの数に応じた液滴量の前記機能液を当該不吐出ノズルに近接する吐出ノズルから塗布する請求項１に記載の機能膜製造方法。
【請求項４】
前記ノズルが３連続以上の不吐出ノズルの場合には、当該不吐出ノズルの両端の不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルから連続する不吐出ノズルの数に応じた液滴量の前記機能液を塗布する請求項３に記載の機能膜製造方法。
【請求項５】
前記ライン状バンクにより規定された列領域内には一定間隔に配置された複数の画素領域を有し、
前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合には、不吐出ノズルの数に応じた液適量の前記機能液を前記画素領域間の領域が着滴位置となる吐出ノズルから塗布する請求項３に記載の機能膜製造方法。
【請求項６】
前記ライン状バンクにおいて、前記画素領域間の領域に対向する壁部分が、前記画素領域に対向する壁部分より高く形成されている請求項５に記載の機能膜製造方法。
【請求項７】
前記ライン状バンクにより規定された列領域内には一定間隔に配置された複数の画素領域を有し、
前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合において、当該不吐出ノズルの着滴位置が前記画素領域のとき、不吐出ノズルの数に応じた液適量の前記機能液を画素領域間の領域が着滴位置となる吐出ノズルから塗布し、
当該不吐出ノズルが前記画素領域間の領域のとき、不吐出ノズルの数に応じた液適量の前記機能液を当該不吐出ノズルに近接した吐出ノズルから塗布する請求項３に記載の機能膜製造方法。
【請求項８】
前記ライン状バンクにおいて、前記画素領域間の領域に対向する壁部分が、前記画素領域に対向する壁部分より高く形成されている請求項７に記載の機能膜製造方法。
【請求項９】
前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合において、吐出ノズルからの前記機能液の塗布により不吐出ノズルを補完するときの吐出周波数は、補完前の吐出周波数の２倍以上に設定される請求項１に記載の機能膜製造方法。
【請求項１０】
前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合において、不吐出ノズルの数と同じ数の液滴数を吐出ノズルから増量して塗布する請求項１に記載の機能膜製造方法。
【請求項１１】
前記機能膜は、有機電界発光ディスプレイにおける有機発光層である請求項１に記載の機能膜製造方法。
【請求項１２】
前記区画領域が、少なくとも１つの画素領域を取り囲む格子状バンクにより構成され、
前記インクジェット装置は、所定のピッチで列状に配列されたノズルを持つインクジェットヘッドを有し、
前記インクジェットヘッドを前記格子状バンクに対して１回の走査により前記機能液を前記ノズルから吐出して前記吐出領域に塗布するとき、１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて不吐出ノズルが存在する場合、当該１つの吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液を、不吐出ノズルの数に応じた液滴量とする請求項１に記載の機能膜製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能膜の製造方法に関し、例えば有機電界発光ディスプレイ（以下、有機ＥＬディスプレイと略称）の製造方法に関するものであり、より具体的には、有機発光層等をインクジェット装置により形成する機能膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイは、有機発光層の形成方法によって、以下の２つに大別されうる。一つは、有機発光層を蒸着により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料からなる場合に用いられる。他の一つは、有機発光層を溶媒塗布法により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料の場合はもちろん、高分子有機材料からなる場合にも用いられることが多い。
【０００３】
溶媒塗布法により有機発光層を形成する代表的な手段の一つに、インクジェット装置を用いて、有機発光材料を含むインクの液滴を、ディスプレイ基板の画素領域に吐出して、有機発光層を形成する方法がある（例えば、特許文献１参照。）。このとき吐出されるインクの液滴には、有機発光材料と溶媒が含まれる。
【０００４】
一般的なインクジェット装置としては、複数のノズルを有するインクジェットヘッドを有し、インクジェットヘッドのノズルと基板との位置関係を制御しながら、ノズルからインクを吐出させるものである（例えば、特許文献２参照。）。特許文献２には、基板に着滴した液滴が等方向に広がって所定の線幅を有する画素を形成することが開示されている。
【０００５】
インクジェット装置においては、インクジェットヘッドが液滴を吐出する時間が少しでも停止（例えば、６０秒間の吐出停止）するだけで不吐出ノズルが発生し、また連続吐出状態であっても、不吐出ノズルが発生する場合がある。そのため、一般的には、不吐出ノズルからインクを吸引する回復作業等が行われている（例えば、特許文献３参照。）。また、不吐出ノズルが発生した場合、不吐出ノズルをそのままの状態にしておき、不吐出ノズルによって本来記録すべき領域に対して補完する方法が提案されている（例えば、特許文献４及び特許文献５参照。）。特許文献４には、不吐出ノズルが本来塗布すべき領域を他のノズルの位置をずらして補完する方法が開示されている。また、特許文献５には、同じ領域を塗布するノズルが走査方向に対して２個並設されたインクジェットヘッドが開示されており、並設された一方のノズルが不吐出ノズルとなった場合には、他方の吐出ノズルで補完する方法や、２個とも不吐出ノズルの場合には、不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルにより、塗布すべき領域に隣接する領域にのみ塗布して補完する方法が提案されている。但し、特許文献５に開示されたインクジェットヘッドは、紙やプラスチック薄板などの記録媒体上にドットパターンからなる画像を記録する装置であり、有機発光層を形成するような機能膜製造方法で用いるインクジェット装置とは塗布すべき対象が異なるものである。
【０００６】
図１３は特許文献５に開示されているインクジェットヘッドとそのインクジェットヘッドにより塗布すべき対象である記録用紙に記録された記録結果を示す一例である。図１３において（ａ）で示す部分は、インクジェットヘッドにおける吐出ノズルと不吐出ノズルの配置を示している。図１３において（ｂ）で示す部分は、図１３の（ａ）で示すインクジェットヘッドにより記録用紙２４に記録した記録結果を示している。図１３の（ａ）において、符号２１はインクジェットヘッドを示し、符号２２はインクを吐出している吐出ノズル（斜線丸）を示し、符号２３はインクを吐出していない不吐出ノズル（白丸）を示す。上記のように２つのノズルが並設されたインクジェットヘッド２１によりインクを記録用紙２４上に塗布するとき、通常の液滴量のインクを塗布する領域２５（斜線丸）と、並設されたノズルの両方が不吐出ノズルとなり、それらの不吐出ノズルにより生じた白線領域２７（白丸）に隣接する吐出ノズルが交互に倍の液適量を塗布する領域２６（黒丸）が形成されている。特許文献５に開示されたインクジェットヘッド２１においては、上記のようにインクを記録用紙２４に対して吐出することにより、記録用紙２４においてインクが塗布できない領域である不吐出領域（白線領域２７）を視覚的に目立たないようにしている。に対する補完を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３６２８１８号公報
【特許文献２】特開２００３−２６６６６９号公報
【特許文献３】特開２００４−１４２４２２号公報
【特許文献４】特開２０００−２８４１１３号公報
【特許文献５】特開２００５−６７０４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献３に開示された回復作業は、不吐出ノズルに対してキャップを被せて、当該不吐出ノズルからインクを吸引するものである。このような回復作業を行うためには、ノズルに対してキャップを被せて回復作業を行い、その回復作業終了後にキャップを外して元の液滴吐出状態に戻す動作を行うため、時間的ロスが発生し、生産性向上の観点で好ましいものではなかった。また、このような回復作業を行っても不吐出ノズルを完全に回復させることができない場合があった。そこで、不吐出ノズルに対する回復作業を行わずに補完する方法としては、インクを塗布する対象が異なるが、前述のように特許文献４と特許文献５に開示された記録方法がある。
【０００９】
特許文献４に開示された記録方法は、不吐出ノズルが本来塗布すべき領域を他の吐出ノズルの位置をずらして再度走査して補完するという方法である。このため、不吐出ノズルの発生数に応じて、走査回数が増えるため、生産性向上の観点で好ましいものではなかった。
【００１０】
また、特許文献５に開示された、走査方向に２個のノズルが配列されたインクジェットヘッドにおいては、並設されたノズルの一方が不吐出ノズルの場合には、他方の吐出ノズルで補完し、並設されたノズルの両方が不吐出ノズルの場合には、隣設する吐出ノズルで補完する方法が提案されている。並設された２個のノズルの両方が不吐出ノズルであり、隣設する吐出ノズルにより補完する場合、その隣設する吐出ノズルの位置を変えずに同じ位置において液滴の打ち込み量を増加させている。このような記録方法を機能膜の製造方法に用いた場合には、インクの液適量が同じ位置で増加してしまい、液滴が着弾する際の振動や着弾位置の誤差によって、例えば、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の各塗布領域が並んでいる場合、隣の領域にインクが入って混色する可能性が高くなる。また、走査方向に対して直交する方向に並設されたノズルに２連続以上の不吐出ノズルが発生した場合には、同一位置において液滴数を増加させるため、膜の均一性が悪くなり所望の補完を行うことが困難であるという問題が発生する。
【００１１】
本発明は、従来のインクジェット装置により機能膜を形成するときに生じる問題点を考慮してなされたものであり、インクジェット装置のノズルに２連続以上の不吐出ノズルが発生しても、生産性を低下させることなく、均一な機能膜を確実に形成することができる機能膜製造方法を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る第１の観点の機能膜製造方法は、
機能膜を形成する領域に機能膜材料を含む機能液を塗布する機能膜製造方法であって、
撥液性を有する区画領域により囲まれた機能膜を形成する吐出領域に対して、１回の走査により複数のノズルから前記機能液の液滴を吐出して塗布するステップにおいて、
１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて、不吐出ノズルが存在する場合、当該吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液の液滴量を、不吐出ノズルが存在しない場合に比べて増加させている。このように構成された第１の観点の機能膜製造方法によれば、インクジェット装置のノズルに不吐出ノズルが発生しても、生産性を低下させることなく、均一な機能膜を形成することができる。
【００１３】
本発明に係る第２の観点の機能膜製造方法は、前記の第１の観点において、機能液をノズルから吐出して吐出領域に塗布するとき、１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて不吐出ノズルが存在する場合、当該１つの吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液を、不吐出ノズルの数に応じて液滴量を増加させている。このように構成された第２の観点の機能膜製造方法によれば、インクジェット装置のノズルに不吐出ノズルが発生しても、均一な機能膜を確実に形成することができる。
【００１４】
本発明に係る第３の観点の機能膜製造方法は、前記の第１の観点における前記吐出領域が、互いに平行な２以上のライン状バンクにより挟まれて規定される列領域で構成され、
前記インクジェット装置が、所定のピッチで列状に配列されたノズルを持つインクジェットヘッドを有し、
前記インクジェットヘッドを前記ライン状バンクの長手方向に対して直交する走査方向に相対移動して、前記ライン状バンクで規定された列領域に対して前記機能液を前記ノズルから吐出して前記吐出領域に塗布するとき、前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合には、１回の走査において、不吐出ノズルの数に応じた液滴量の前記機能液を当該不吐出ノズルに近接する吐出ノズルから塗布する。このように構成された第３の観点の機能膜製造方法によれば、インクジェット装置のノズルに２連続以上の不吐出ノズルが発生しても、生産性を低下させることなく、均一な機能膜を確実に形成することができる。
【００１５】
本発明に係る第４の観点の機能膜製造方法において、前記の第１の観点における前記ノズルが３連続以上の不吐出ノズルの場合には、当該不吐出ノズルの両端の不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルから連続する不吐出ノズルの数に応じた液滴量の前記機能液を塗布するよう構成してもよい。
【００１６】
本発明に係る第５の観点の機能膜製造方法において、前記の第３の観点における前記ライン状バンクにより規定された列領域内には一定間隔に配置された複数の画素領域を有し、
前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合には、不吐出ノズルの数に応じた液適量の前記機能液を前記画素領域間の領域が着滴位置となる吐出ノズルから塗布する構成としてもよい。
【００１７】
本発明に係る第６の観点の機能膜製造方法において、前記の第５の観点における前記ライン状バンクにおいて、前記画素領域間の領域に対向する壁部分が、前記画素領域に対向する壁部分より高く形成してもよい。
【００１８】
本発明に係る第７の観点の機能膜製造方法において、前記の第３の観点における前記ライン状バンクにより規定された列領域内には一定間隔に配置された複数の画素領域を有し、
前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合において、当該不吐出ノズルの着滴位置が前記画素領域のとき、不吐出ノズルの数に応じた液適量の前記機能液を画素領域間の領域が着滴位置となる吐出ノズルから塗布し、
当該不吐出ノズルが前記画素領域間の領域のとき、不吐出ノズルの数に応じた液適量の前記機能液を当該不吐出ノズルに近接した吐出ノズルから塗布する構成としてもよい。
【００１９】
本発明に係る第８の観点の機能膜製造方法において、前記の第７の観点における前記ライン状バンクにおいて、前記画素領域間の領域に対向する壁部分が、前記画素領域に対向する壁部分より高く形成してもよい。
【００２０】
本発明に係る第９の観点の機能膜製造方法は、前記の第１の観点における前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合において、吐出ノズルからの前記機能液の塗布により不吐出ノズルを補完するときの吐出周波数が、補完前の吐出周波数の２倍以上に設定してもよい。
【００２１】
本発明に係る第１０の観点の機能膜製造方法は、前記の第１の観点における前記ノズルの一部が不吐出ノズルの場合において、不吐出ノズルの数と同じ数の液滴数を吐出ノズルから増量して塗布してもよい。
【００２２】
本発明に係る第１１の観点の機能膜製造方法において、前記の第１の観点における前記機能膜は、有機電界発光ディスプレイにおける有機発光層であってもよい。
【００２３】
本発明に係る第１２の観点の機能膜製造方法において、前記の第１の観点における前記区画領域が、少なくとも１つの画素領域を取り囲む格子状バンクにより構成され、
前記インクジェット装置が、所定のピッチで列状に配列されたノズルを持つインクジェットヘッドを有し、
前記インクジェットヘッドを前記格子状バンクに対して１回の走査により前記機能液を前記ノズルから吐出して前記吐出領域に塗布するとき、１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて不吐出ノズルが存在する場合、当該１つの吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液を、不吐出ノズルの数に応じた液滴量としてもよい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、機能膜の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質のディスプレイを有する電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるインクを塗布すべき基板の平面図
【図２】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法における基板の拡大断面図であり、（ａ）が図１に示した基板のＡ−Ａ線による断面であり、ＲＧＢのインクを塗布した直後の状態を示す断面図、（ｂ）が図１に示した基板のＢ−Ｂ線による断面図
【図３】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置のインクジェットヘッドと基板の位置関係を示す図
【図４】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置におけるノズルの配置を示す図
【図５】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられる確認用パターンを示す図
【図６】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法においてインクジェットヘッドによる補完方法を示す図
【図７】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において、実際に塗布処理を行って有機発光層を形成し、その有機発光層の膜厚を測定した測定結果を示すグラフ
【図８】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において、インクジェット装置を用いて形成された有機発光層を有する有機ＥＬディスプレイの概略層構成を示す断面図
【図９】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるプロセスを示すフローチャート
【図１０】本発明に係る実施の形態２の有機電界発光ディスプレイの製造方法における、バンクの形状を示す側面断面図
【図１１】本発明に係る実施の形態３の有機電界発光ディスプレイの製造方法における、有機発光材料を含むインクを塗布すべき基板の一部を拡大して示した平面図
【図１２】実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法におけるインクジェット装置のインクジェットヘッドと基板との位置関係、及びインクの基板に対する塗布方法を示す図
【図１３】従来の有機電界発光ディスプレイの製造方法における補完処理を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明に係る好適な実施の形態の機能膜製造方法について説明する。なお、以下の説明においては機能膜としての有機発光層を有する有機電界発光ディスプレイ（以下、有機ＥＬディスプレイと略称）の製造方法について例示として添付の図面を参照しつつ説明する。なお、本発明の機能膜製造方法は、有機ＥＬディスプレイの製造方法に限定されるものではなく、各種電子機器のディスプレイ、例えば液晶表示デバイスのカラーフィルタ等にも応用可能である。
【００２７】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法における、有機発光材料を含むインク９を塗布すべき基板１を上方から見た平面図である。図２は図１に示した基板１の拡大断面図であり、図２の（ａ）は図１に示した基板１のＡ−Ａ線による断面であり、ＲＧＢのインクを塗布した直後の状態を示す断面図、図２の（ｂ）は図１に示した基板１のＢ−Ｂ線による断面図である。
【００２８】
図１及び図２に示すように、基板１はベース基板２上に画素領域４を規定するためのバンク３が形成されている。バンク３が形成されているベース基板２には、図２において図示省略するが反射陽極、正孔注入層等の有機ＥＬディスプレイとして必要な要素が形成されている。バンク３の断面形状は、図２に示すように順テーパ型であってもよく、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。実施の形態１におけるバンク３の材料としては電気絶縁性を有する材料であれば任意に用いることが可能であり、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ電気絶縁性樹脂（例えば、ポリイミド樹脂等）であることが好ましい。バンク３の形成方法としては、フォトリソグラフィ技術等が用いられており、パターニングにより形成される。例えば、バンク材料を塗布した後、ベーク処理→マスク露光処理→現像処理等により所望の形状がベース基板２上に形成される。
【００２９】
図２の（ｂ）に示すように、基板１においてはベース基板２上に画素規制層１０が形成されており、その画素規制層１０上にバンク３が形成される。画素規制層１０は無機材料で形成されており、例えばＳｉＯＮが用いられる。画素規制層１０はライン状のバンク３と直交する方向にライン状に延設形成されており、平行な複数のライン状のバンク３と平行な複数のライン状の画素規制層１０とにより、基板１の上から見たとき格子状となるよう形成されている。
【００３０】
バンク３により規制され区画される領域にはインク９が吐出され塗布される。塗布されたインク９と接触するバンク３の表面は、フッ素系ガスプラズマ等によりフッ素化処理されているため、撥液性を有している。このようにバンク３に対して撥液処理が行われているため、後述するようにインク９が画素領域４に塗布されてバンク３間で盛り上がった状態であってもバンク３により確実に保持され、バンク３間に確実に収納される。なお、画素領域４となるベース基板２に対向する面は、前記バンクよりも親液性が高い層が形成されており、インク９が画素領域４に確実に保持される構成である。
【００３１】
図１の平面図に示すように、ベース基板２上に形成されたバンク３は直線的に延設（図１の左右方向に延設）された複数のライン状バンク３Ａを有しており、これらのライン状バンク３Ａは、互いに平行に形成されている。各ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域が、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）用のそれぞれの複数の画素領域４を含むよう構成されている。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域において、各画素領域４を区画するように前述の画素規制層１０が形成されている。この画素規制層１０の厚みはバンク３の厚みより、薄く形成されている。即ち、画素規制層１０のベース基板２からの高さは、バンク３のベース基板２からの高さより低く形成されている。実施の形態１における基板１においては、バンク３のベース基板２からの高さが、例えば約１μｍである。画素規制層１０の層厚は、例えば約１００ｎｍ（約０．１μｍ）である。したがって、バンク３により囲まれた列領域内に吐出された液状のインク９は、画素規制層１０で規制されている画素領域４を越えて列領域内を自由に移動できる構成である。即ち、各列領域内に吐出されるインク９の量は画素規制層１０の層厚を超える量であるため、インク吐出時において、同じ列領域では互いの画素領域４を液状のインクが行き来できる状態である。なお、実施の形態１における複数の隣り合うライン状バンク３Ａ間の幅は、６０μｍで形成されている。上記のように形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用のバンク３が基板１において繰り返して形成されている。
【００３２】
図３は、実施の形態１のインクジェット装置におけるＲ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂと図１に示した基板１との位置関係を示す図である。各インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂには、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれのインク９を塗布するための複数のノズル６（図４参照）が設けられており、後述する走査動作において、バンク３により囲まれた列領域内がインク９の着滴位置（いわゆる、着弾地点）となるよう配置されている。Ｒ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂはそれぞれ同じ構成であるため以下の説明においてはインクジェットヘッド５として説明する。図３において、符号Ｘで示す矢印がインクジェットヘッド５の走査方向である。
【００３３】
なお、実施の形態１においては、インクジェットヘッド５をＲ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂとして説明したが、１つのインクジェットヘッドにＲ，Ｇ，Ｂ用のノズルを設けた構成でも対応可能である。
【００３４】
図４は、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）における複数のノズル６を有する基板対向面の一例を示す概念的に示す図である。図４に示すように、インクジェットヘッド５において、複数のノズル６が基板１に対向する面に形成されている。インクジェットヘッド５においては、基板１への走査方向（図４における矢印Ｘ方向）に対して、複数のノズル６がライン状に配置された列が斜めに配置されており、複数のノズル６を有する列が複数列で互いに平行に配置されている。インクジェットヘッド５において、複数のノズル６がライン状に配置された列が、走査方向に対して斜めに配置しているのは、バンク３により囲まれた列領域内にインク９を塗布するとき、ノズル６から吐出されたインク９が着滴位置で互いに連結するように、ノズル６間のピッチを短く、例えば、約２０μｍとするためである。このように、複数のノズル６の列を走査方向に対して斜めとなる、所望の角度に配置することにより、ノズルピッチの間隔を所望の距離に短く設定することが可能となる。この結果、１つの画素領域４に対して複数のノズル６からインク９を塗布できる構成となる。図４においては、ノズル６の個数、間隔、およびノズル列の角度等は説明容易のため概念的に示している。
【００３５】
図５は、ノズル６の吐出／不吐出状態を確認するための確認用パターン７が形成された基板１（例えば、ガラス基板）を示す図である。インクジェットヘッド５によるインク吐出動作を行う前に、ノズル６の吐出／不吐出状態が確認される。基板１に設けられた液滴確認領域に対して、図５に示す確認用パターン７を形成するように各ノズル６からのインク液滴８が結合しないピッチで吐出される。その後、吐出されたインク液滴８の確認用パターンが認識カメラにより撮像されて画像処理され、インク液滴８が所定の位置に吐出されているか否かが確認される。
なお、確認用パターン７が形成される液滴確認領域は、ＲＧＢのインクを塗布するディスプレイ用の基板の一部に形成することが好ましいが、液滴確認専用の基板に形成する構成としてもよい。
上記のようにノズル６の吐出／不吐出状態が確認されて、この吐出／不吐出状態に基づき当該インクジェットヘッド５のための補完された塗布データが作成される。
【００３６】
図６は、インクジェットヘッド５における１つのノズル列にある複数のノズル６から吐出されるインク９の各種吐出状態を示す図であり、図６における上から下への方向がインクジェットヘッド５の走査方向である。図６において、（ａ）は全ノズルが吐出している場合を示しており、（ｂ）〜（ｄ）はノズルの一部が不吐出ノズルである場合を示している。図６の（ｂ）〜（ｄ）は、不吐出ノズルが存在する場合の補完方法を示している。図６において、白丸は、不吐出ノズルが塗布すべき領域を示しており、黒丸は、吐出ノズルが塗布した領域を示す。
【００３７】
図６の（ｂ）における（１）及び（２）は１つのノズルが不吐出の場合の補完方法を示している。図６の（ｃ）における（１）及び（２）は連続する２つのノズルが不吐出の場合の補完方法を示している。そして、図６の（ｄ）における（１）及び（２）は連続する３つのノズルが不吐出の場合の補完方法を示している。
【００３８】
以下、実施の形態１における有機ＥＬディスプレイの製造方法において実施される具体的な補完方法について説明する。
インクジェットヘッド５における各ノズル６の吐出／不吐出状態を確認するために、図５に示した確認用パターン７が基板１（例えば、ガラス基板）に対して当該インクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９を塗布して形成される。
【００３９】
インクジェットヘッド５による基板１に対する塗布方法は、インクジェットヘッド５を基板１に対して走査しつつ、各ノズル６からインクを吐出する。このときの走査方向は、図３に示したように、基板１におけるライン状バンク３Ａに直交する方向と同じ方向である。吐出／不吐出確認動作においては、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域にノズル６から所定のインク９が吐出されるように想定されて、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）が基板１に対して仮の塗布動作を行う。
【００４０】
基板１に対してインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９が塗布され確認用パターン７が形成された後、基板１における確認用パターン７から各ノズル６の吐出状況が確認される。不吐出ノズルが発生していた場合には、その不吐出ノズルに近接する吐出ノズルにより補完動作が行われるように塗布データが作成される。その補完方法は、図６に示したように、連続した不吐出ノズルの数によって異なる。
【００４１】
図６の（ｂ）における（１）及び（２）に示すように、不吐出ノズルが単独で発生した場合には、１回の走査において、不吐出ノズルの左右いずれかに隣接する１つの吐出ノズルから２倍の液適量、即ち２回の液滴によりインク９を塗布する補完された塗布データが作成される。
【００４２】
図６の（ｃ）に示すように、不吐出ノズルが２つ連続して発生した場合には、例えば図６の（ｃ）における（１）に示すように、１回の走査において、連続する不吐出ノズルにおける左右のいずれかに隣接する吐出ノズルから３倍の液適量、即ち３回の液滴によりインク９を塗布する補完された塗布データが作成される。若しくは、図６の（ｃ）における（２）に示すように、１回の走査において、連続する不吐出ノズルにおける左右両方に隣接する吐出ノズルからそれぞれ２倍の液適量、即ち２回の液滴によりインク９を塗布する補完された塗布データが作成される。
【００４３】
また、図６の（ｄ）に示すように、不吐出ノズルが３つ連続して発生した場合には、例えば、図６の（ｄ）における（１）に示すように、１回の走査において、連続する３つの不吐出ノズルにおける左右端となる不吐出ノズルの一方に隣接する吐出ノズルから２倍の液適量、即ち２回の液滴によりインク９が塗布され、他方の吐出ノズルから３倍の液適量、即ち３回の液滴によりインク９を塗布する補完された塗布データが作成される。若しくは、図６の（ｄ）における（２）に示すように、１回の走査において、連続する３つの不吐出ノズルにおける左右端となる不吐出ノズルのいずれか一方の吐出ノズルから４倍の液適量、即ち４回の液滴によりインク９を塗布する補完された塗布データが形成される。
【００４４】
上記のように、複数のノズル６からインク９がバンク３により規定された複数の列領域を有する基板１に対して吐出される。不吐出ノズルが存在しない場合又は補完処理する前の通常動作においては、ノズル６からインク９が吐出される吐出周波数が、実施の形態１では１０ｋＨｚに設定されている。一方、不吐出ノズルが確認されて補完処理する場合には、通常の２倍の２０ｋＨｚの吐出周波数によりインク９が基板１の該当する列領域に対して吐出されるよう構成されている。
【００４５】
なお、実施の形態１において、吐出ノズルから塗布されるインク９の液適量は同じであり、その液滴量は液滴数として換算することが可能である。なお、実施の形態１においては、各ノズル６から吐出するインク９の液適量は、５ｐｌ（ピコリットル）である。
【００４６】
以上のように、本発明に係る実施の形態１のインクジェット装置においては、基板１上に形成された平行な複数のライン状バンク３Ａで構成されたバンク３により、実質的にライン状に区画され規定された列領域に対して、複数のノズル６からインク９を吐出するものである。このため、発生した不吐出ノズルの数に応じた液滴量のインク９が、その不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルから当該列領域に対して１回の走査動作において吐出されるよう構成されている。上記のように、実施の形態１のインクジェット装置は、１回の走査動作において補完処理が完了し、インク９が乾燥しない間に補完処理を行うことができる。このため、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、列領域内に塗布されたインク９が流動してレベリングが進むことでＲ，Ｇ，Ｂの各画素領域の有機発光膜である有機発光層の均一化を確実に達成することができる。なお、実施の形態１においては、不吐出ノズルが発生した場合、その不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルから当該列領域にインク９が吐出されるよう構成されているが、本発明においては、当該列領域にインク９を吐出するノズル６であれば、不吐出ノズルに隣接するノズルでなくてもよい。これは、インク９が列領域内で流動してレベリングするためである。ただし、不吐出ノズルに近い吐出ノズルにより補完処理することは好ましい塗布動作である。
【００４７】
実施の形態１のインクジェット装置において、ノズル６からの塗布速度は、走査方向のＤＰＩ（ドットパーインチ）が４８００ｄｐｉであるため、補完した場合の補完塗布位置間は、走査方向に５．２９１６６７μｍの距離となる。インクジェット装置による基板１に対する塗布処理は、補完動作を含めて、１回の走査動作において行うことができる構成である。Ｒ，Ｇ，Ｂのインク９の塗布順序は、特に限定されないが、実施の形態１においてはＲ，Ｇ，Ｂの順番で塗布した。なお、塗布後に形成されるＲ，Ｇ，Ｂの有機発光膜である有機発光層の厚みは、約５０〜１００ｎｍ（例えば、７０ｎｍ）であることが好ましい。
【００４８】
実施の形態１のインクジェット装置において、インク９に含まれる有機発光材料は高分子系発光材料であることが好ましく、高分子系発光材料の例としては、ポリフェニレンビニレン（Ｐｏｌｙ  ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ  ｖｉｎｙｌｅｎｅ（ＰＰＶ））及びその誘導体、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙ  ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリフェニレン（Ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Ｐｏｌｙ  ｐａｒａ  ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｅｔｈｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐｏｌｙ  ３−ｈｅｘｙｌ  ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ  （Ｐ３ＨＴ））及びその誘導体、ポリフルオレン（Ｐｏｌｙ  ｆｌｕｏｒｅｎｅ  （ＰＦ））及びその誘導体等が含まれる。なお、インクの粘度は、約１０ｍＰａ・ｓを採用した。
【００４９】
図７は、実際に塗布処理を行って有機発光膜である有機発光層を形成し、その有機発光層の膜厚を測定した測定結果を示すグラフである。塗布処理後において、真空乾燥して有機発光層を形成してその膜厚を測定している。乾燥条件は、塗布後１分間放置した後、乾燥炉に入れ、５分間で１Ｐａまで真空に引いた後、温度を４０℃、真空度を１Ｐａに保持した状態で２０分間乾燥させたものである。
【００５０】
図７において、（ａ）は、不吐出ノズルが存在しない場合において、有機発光層を形成し、その有機発光層の膜厚を測定した測定結果である。図７の（ｂ）は、不吐出ノズルが連続して３つ存在する場合において、補完処理することなく有機発光層を形成し、その有機発光層の膜厚を測定した測定結果である。図７の（ｃ）は、連続する３つの不吐出ノズルが存在する場合において、前述の補完動作を行って塗布処理を行い、有機発光膜である有機発光層を形成した場合の膜厚測定結果を示す図である。
【００５１】
図７に示す膜厚測定結果によれば、有機発光層の平均膜厚及び均一性は、図７の（ａ）に示したように、不吐出ノズルが存在せず、全てのノズルから吐出した場合には、平均膜厚が７３．８ｎｍであり、ばらつきが５．４％であった。図７の（ｂ）に示したように、不吐出ノズルが３つ連続して存在した場合には、平均膜厚が７１．４ｎｍであり、ばらつきが１４０％であった。そして、図７の（ｃ）に示したように、不吐出ノズルが３つ連続して存在したときにおいて補完処理して塗布動作を行った場合には、平均膜厚７３．４ｎｍであり、ばらつきが７．５％であった。図７の（ｃ）に示したように、補完処理することによりバラツキが大幅に改善されたのは、インク９が塗布される基板１にバンク３によりＲ，Ｇ，Ｂのそれぞれの列領域が形成されており、その列領域にインク９が塗布されるよう構成されているためである。列領域に塗布された直後のインクには流動性があるため、列領域内においてインク９が移動して均一（レベリング）になったと考えられる。なお、図７の（ｂ）に示したように、不吐出ノズルが３つ連続して存在した場合のバラツキは非常に大きくなっているが、これは不吐出ノズルの存在により全体の液滴量が少なく、一部液が分離して、液（インク９）が存在しない領域が発生したためである。なお、上記の膜厚の均一性を示すばらつきは、「（最大膜厚値−最小膜厚値）／平均膜厚値×１００［％］」を用いて算出したものである。
【００５２】
図８は、実施の形態１のインクジェット装置を用いて形成された有機発光膜である有機発光層等を有する有機ＥＬディスプレイの具体的な一例を示すものであり、有機ＥＬディスプレイにおける層構成の概略を示す断面図である。図８に示す各層の相対的な膜厚及び形状は、実際の膜厚及び形状を示すものではなく、説明上わかりやすく記載したものである。図８に示す有機ＥＬディスプレイは、ベース基板にある平坦化膜１２上に反射陽極１３、正孔注入層１４が形成されており、その正孔注入層１４上に前述の画素規制層１０（図８においては図示無し）及びバンク３が形成されている。前述のように形成された、バンク３により区画される列領域には、電子の反射陽極への流れ込みをブロックする機能を有するインターレイヤー層（ＩＬ層）１５及び前述のように形成される有機発光層１６が形成されている。
【００５３】
反射陽極１３は図１に示した複数の画素領域４のそれぞれに対応して分離して作成されており、ディスプレイの発光部となる。なお、画素規制層１０を成膜後に、正孔注入層１４を全面成膜し、その後にバンク３を形成してもよい。画素規制層１０は、通常のフォトリソグラフィ技術により形成される。即ち、画素規制層１０は、レジスト塗布処理→マスク露光処理→現像処理→ドライエッチング処理→レジスト除去処理の形成工程により形成される。
なお、実施の形態１のインクジェット装置は、有機発光層１６の形成における塗布処理において用いると共に、インターレイヤー層（ＩＬ層）１５の形成における塗布処理においても同様の構成のインクジェット装置が用いられる。
【００５４】
図８に示すように、有機ＥＬディスプレイにおいては有機発光層１６及びバンク３を覆うように電子輸送層１７、陰極１８、封止層１９及び樹脂層２０が形成されている。そして、樹脂層２０の上部にはガラス基板３１及び偏光板３２等が設けられて有機ＥＬディスプレイが構成されている。
【００５５】
上記のように構成された有機ＥＬディスプレイは、図９のプロセスフローチャートに示すように製造されている。即ち、平坦化膜形成→反射陽極形成→正孔注入層形成→バンク形成→ＩＬ層形成→有機発光層形成→電子輸送層形成→陰極形成→封止層形成→樹脂層形成の順に製造される。この製造プロセスにおいて、有機発光層およびＩＬ層が実施の形態１において説明したインクジェット装置を用いて所定の材料が塗布されて形成される。
【００５６】
以上のように、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層、ＩＬ層等の形成プロセスにおいて用いられ、不吐出ノズルが発生した場合、互いに平行な複数のライン状バンク３Ａを有するバンク３によりライン状に規定されたＲ，Ｇ，Ｂの列領域を有する基板１に対して、１回の走査において、不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルから不吐出ノズルのノズル数と同じ数だけ液適数を増やして、同じライン状バンク３Ａにより区画された列領域に塗布している。このため、実施の形態１におけるインクジェット装置は、生産性を低下させることなく、基板上の所定の列領域の内部に均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００５７】
（実施の形態２）
以下、本発明に係る実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００５８】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、基板上に形成されたバンクにおけるライン状バンクの形状である。したがって、実施の形態２の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態２においては省略する。
【００５９】
図１０は、ベース基板２上に形成されたライン状バンク３０Ａの側面図である。図１０に示すライン状バンク３０Ａは、インクジェットヘッドの走査方向から見た側面図である。図１０は、前述の実施の形態１において図１に示したライン状バンク３Ａの断面に直交する断面の側面図である。
【００６０】
図１０に示すように、ライン状バンク３０Ａにおいて、隣り合う画素領域４の間の領域（以下、画素領域間領域と称す）で対向する壁部分である第２のバンク部分３０ｂの高さが、画素領域４で対向する壁部分である第１のバンク部分３０ａの高さより高く形成されている。ここで、画素領域間領域とは、例えば、Ｒ（レッド）の画素領域４と、その隣のＲ（レッド）の画素領域４との間の領域を示す。
実施の形態２においては、画素領域４における第１のバンク部分３０ａの高さが１００ｎｍに対して、画素領域間領域における第２のバンク部分３０ｂの高さはその１．５倍の１５０ｎｍに形成されている。
【００６１】
ライン状バンク３０Ａの形成方法としては、フォトリソグラフィ技術が用いられており、パターニングにより形成されている。例えば、最初に、第１のバンク部分３０ａとなる基礎バンク部分が形成され、その基礎バンク部分の上に第２のバンク部分３０ｂの上部となる部分が形成される。具体的には、バンク材料を塗布した後、ベーク処理→マスク露光処理→現像処理等により、第１のバンク部分３０ａとなる基礎バンク部分が形成される。次に、第２のバンク部分３０ｂを形成するために、同様の形成工程により第２のバンク部分３０ｂの上側部分が第１のバンク部分３０ａ上に形成される。
【００６２】
実施の形態２における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同じである。したがって、以下の実施の形態２においては、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３、図４及び図５を参照して説明する。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向においても、前述の実施の形態１と同様である。
【００６３】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、ノズル６の不吐出状態を確認するために、基板１（例えば、ガラス基板）に対してインク９を塗布して確認用パターン７（図５参照）が形成される。塗布方法は、前述の実施の形態１において説明した塗布方法と同じであり、図３に示したように、インクジェットヘッド５を基板１に対して走査方向（図３のＸ方向）に移動させながら、ノズル６からインク９を所定周波数で順次吐出する。インクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９が塗布されて基板１上に確認用パターン７が形成されると、その確認用パターンがカメラで撮像されて画像処理され、各ノズル６の吐出状態が確認される。
【００６４】
基板１上の確認用パターン７に対する確認動作において、不吐出ノズルが確認された場合には、不吐出ノズルの発生状況、不吐出ノズルの数、及び連続する不吐出ノズルの数が検出される。この検出結果に基づき、補完された塗布処理を行うための塗布データが形成される。塗布データにおいては、不吐出ノズルに近い吐出ノズルの液適量が増量されている。その増量の度合いは、不吐出ノズルの発生状況に応じて決定されるものであり、不吐出ノズル等の数に応じて決定される。
【００６５】
実施の形態２のインクジェット装置における補完動作において、不吐出ノズルから塗布すべきインク９の着滴位置が画素領域４である場合には、画素領域間領域がインク９の着滴位置である吐出ノズルにより補完が行われる。例えば、不吐出ノズルにより塗布すべき領域に最も近い位置にある画素領域間領域が着滴位置となる吐出ノズルにより補完が行われる。
また、不吐出ノズルから塗布すべきインク９の着滴位置が画素領域間領域である場合には、前述の実施の形態１において説明した塗布方法により補完を行う。即ち、図６の（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）に示したように不吐出ノズルに隣接する吐出ノズルから、連続する不吐出ノズルの数に応じて所定の液適量が増量される。
【００６６】
実施の形態２のインクジェット装置においては、上記のように不吐出ノズルが画素領域４に存在する場合には、画素領域間領域に存在する吐出ノズルにより補完が行われる。このような塗布処理により連続する３つの不吐出ノズルを補完した場合と、実施の形態１における塗布処理により３つの不吐出ノズルを補完した場合とを比較実験したところ、実施の形態２における補完では膜厚の均一性を示すばらつきが１２％であり、実施の形態１における補完ではばらつきが７．５％であった。
【００６７】
上記のように、実施の形態２における補完方法では実施の形態１の補完方法に較べて、不吐出ノズルが３つ連続した場合では、均一性に関して若干劣るが、画素領域間領域の補完位置において吐出ノズルからの液適量を増加しても、ライン状バンク３０Ａにおける画素領域間領域に対向する第２のバンク部分３０ｂの高さが画素領域４に対向する第１のバンク部分３０ａに較べて高さが高いため、Ｒ，Ｇ，Ｂ間の混色が確実に防止されている。
【００６８】
以上のように、実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、不吐出ノズルが発生した場合、互いに平行なライン状バンク３０Ａにより区画されたＲ，Ｇ，Ｂの列領域を有する基板１に対して、１回の走査において、不吐出ノズルに近い吐出ノズルから不吐出ノズルの数と同じ数の液適数を当該列領域に対して増量して塗布することにより、生産性を低下させることなく、混色することがない塗布膜を確実に形成することができる。このように、実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、膜厚の均一性を確保するとともに、混色することがない有機発光層等を形成することができるため、輝度ムラのない高品質の有機電界発光ディスプレイを提供することができる。
【００６９】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、画素領域間領域の第２のバンク部分３０ｂの高さが、画素領域４の第１のバンク部分３０ａの高さより高い構成について説明したが、画素領域間領域のバンク部分の高さが高くなく、ライン状バンク３０Ａが同じ高さであっても、画素領域間領域にある吐出ノズル６により補完を行うことにより、ディスプレイの発光部での混色を低減でき、高画質のディスプレイを提供することが可能である。
【００７０】
（実施の形態３）
以下、本発明に係る実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００７１】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、複数のノズルにより塗布する領域を少なくとも一つの画素領域に特定する点である。実施の形態３の説明においては、前述の実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態３においては省略する。
【００７２】
図１１は、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において用いられる、有機発光材料を含む機能液であるインク９を塗布すべき基板４０の一部を拡大して示した平面図である。図１１に示すように、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において用いられる基板４０は、バンク３が格子状バンク３Ｂで構成されている。この格子状バンク３Ｂは、少なくとも１つの画素領域４の四方を取り囲むよう構成されている。格子状バンク３Ｂはベース基板上の画素規制層１０の上に形成されており、格子状バンク３Ｂにより区画された画素領域４においては、画素規制層１０の一部が表出している。実施の形態３においては、画素規制層１０がベース基板上に画素領域４の発光部の境界を規定するようにライン状であり、且つ平行に配設されている。なお、画素規制層１０はベース基板上において、発光部の四方の境界を規定し、各電極を確実に分離するために格子状に配設してもよい。実施の形態３においては、画素規制層１０が同色の発光部の間を規定するために同色間に設けているため、図１１において、上下方向のライン状に平行に形成されている。
【００７３】
格子状バンク３Ｂにより規制され区画される画素領域４に対して、インクジェット装置の１回の走査により、複数のノズル６からインク９が吐出され塗布される。実施の形態３においては、１回の走査により、１つの画素領域４に対して８個のノズル６からインク９が吐出され、基板４０が塗布されている。塗布されたインク９と接触する格子状バンク３Ｂの表面は、酸素系ガスプラズマやフッ素系ガスプラズマ等によりフッ素化処理されている。このため、格子状バンク３Ｂの表面は、撥液性を有している。このように格子状バンク３Ｂに対して撥液処理が行われているため、インク９が画素領域４に塗布されて格子状バンク３Ｂの中で盛り上がった状態であっても、格子状バンク３Ｂ内に確実に保持され、格子状バンク３Ｂの中に確実に収納される。なお、画素領域４となるベース基板２に対向する面には、前記バンクよりも親液性が高い層が形成されており、インク９が画素領域４の発光部となる領域に確実に塗布される。
【００７４】
以下、実施の形態３における有機ＥＬディスプレイの製造方法において実施される具体的な補完方法について、前述の実施の形態１において用いた図を参照して説明する。
図５に示したように、インクジェットヘッド５における各ノズル６の吐出／不吐出状態を確認するために、確認用パターン７が基板４０（例えば、ガラス基板）に対して当該インクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９を吐出して形成される。
【００７５】
インクジェットヘッド５による基板４０に対する塗布方法は、実施の形態１において説明したように、インクジェットヘッド５を基板４０に対して走査しつつ、各ノズル６から順次所定の領域に対してインク９を吐出している。このときの走査方向は、図３に示したように、基板４０における同色のラインに直交する方向と同じ方向である。この吐出／不吐出確認動作においては、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域にノズル６から所定のインク９が吐出されるように想定されて、インクジェットヘッド５が基板４０に対して仮の塗布動作を行う。
【００７６】
基板４０に対してインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９が塗布され確認用パターン７が形成された後、基板４０における確認用パターン７から各ノズル６の吐出状況が確認される。不吐出ノズルが発生していた場合には、その不吐出ノズルと同じ吐出領域にある吐出ノズルにより補完動作が行われるように塗布データが作成される。その補完方法について、以下に説明する。なお、実施の形態３においては、１つの吐出領域が１つの画素領域を有するように格子状バンク３Ｂが形成されている。
【００７７】
図１２は、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置のインクジェットヘッド５の基板４０に対する走査方向と、基板４０に対する塗布方法を示す図である。インクジェットヘッド５には、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれのインク９を基板４０に塗布するために、複数のノズル６が設けられている。複数のノズル６は、走査動作において、格子状バンク３Ｂにより囲まれた各吐出領域５０内がインク９の着滴位置（いわゆる、着弾地点）となるよう配置されている。
【００７８】
図１２において、符号Ｘで示す矢印がインクジェットヘッド５の走査方向である。図１２に示す吐出領域５０において、全てが正常な吐出ノズルにより塗布する場合の吐出状態を吐出領域５０Ａに示す。吐出領域５０Ａに示すように、全てのノズル６からインク９が正常に吐出されている。
【００７９】
図１２において、吐出領域５０Ｂは、同じ吐出領域内に不吐出ノズルが単独で発生した場合の吐出状態を示している。吐出領域５０Ｂに示すように、不吐出ノズルが単独で発生した場合には、１回の走査において、不吐出ノズルが塗布すべき吐出領域内における吐出ノズルから２倍の液適量、即ち２回の液滴によりインク９を塗布して補完する塗布データが作成される。このとき、吐出周波数を通常の２倍としている（例えば、２０ｋＨｚ）。
【００８０】
図１２において、吐出領域５０Ｃは、同じ吐出領域内に不吐出ノズルが２つ連続で発生した場合の吐出状態を示している。吐出領域５０Ｃに示すように、同じ吐出領域内に不吐出ノズルが２つ発生した場合には、１回の走査において、２つの不吐出ノズルが塗布すべき吐出領域内における他の２つの吐出ノズルのそれぞれから２回の液滴によりインク９を塗布して補完する塗布データが作成される。若しくは、１回の走査において、２つの不吐出ノズルが塗布すべき吐出領域内における１つの不吐出ノズルにより３倍の液適量、即ち３回の液滴によりインク９を塗布して補完する塗布データが作成される。
【００８１】
上記のように、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、複数のノズル６からインク９が格子状バンク３Ｂにより規定された複数の吐出領域を有する基板４０に対して吐出されるが、不吐出ノズルが存在しない場合又は補完処理する前の通常動作においては、各ノズル６からインク９が吐出される吐出周波数が、実施の形態３では１０ｋＨｚに設定されている。一方、不吐出ノズルが確認されて補完処理する場合には、通常の２倍の２０ｋＨｚ以上の吐出周波数によりインク９が基板４０に対して吐出されるよう構成されている。この吐出周波数は不吐出ノズルの存在状態において適宜設定される。
なお、実施の形態３において、吐出ノズルから塗布されるインクの液適量は同じであり、その液滴量は液滴数として換算することが可能である。なお、実施の形態３においては、各ノズル６から吐出するインクの液適量は、５ｐｌ（ピコリットル）である。
【００８２】
以上のように、本発明に係る実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法におけるインクジェット装置においては、基板４０上に形成された格子状バンク３Ｂで構成されたバンク３により区画され規定された各吐出領域５０に対して、複数のノズル６からインク９を吐出するものである。このため、発生した不吐出ノズルの数に応じた液滴量のインク９が、その不吐出ノズルにより塗布すべき吐出領域５０と同じ領域を塗布すべき吐出ノズルから当該吐出領域５０に対して１回の走査動作において吐出されるよう構成されている。上記のように、実施の形態３におけるインクジェット装置は、１回の走査動作において補完処理が完了し、インク９が乾燥しない間に補完処理を行うことができる。このため、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、吐出領域内に塗布されたインクが流動してレベリングが進み、吐出領域５０であるＲＧＢの各画素領域の有機発光層の均一化を確実に達成することができる。
【００８３】
本明細書において、本発明に係る好適な実施の形態として実施の形態１から実施の形態３を用いて説明したが、本発明は上記の実施の形態１から実施の形態３の構成や製造工程を示す内容に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく様々な変更が可能である。
【００８４】
例えば、実施の形態１及び実施の形態２においては、不吐出ノズルが３つ連続して存在する場合についてまで説明したが、不吐出ノズルが４つ以上連続して存在する場合においても、インクを塗布すべき領域がライン状バンク３Ａにより区画された列領域であるため、４つ以上連続して不吐出ノズルが存在する場合でも、１走査において不吐出ノズルの数と同じ液滴数を塗布することにより、インク９の塗布直後の流動作用により、均一化を図ることが可能であり、前述の実施の形態の内容と同様の効果を奏する。
【００８５】
同様に、実施の形態３においては、不吐出ノズルが２つ連続して存在する場合についてまで説明したが、不吐出ノズルが３つ以上連続して存在する場合においても、インクを塗布すべき領域が格子状バンク３Ｂにより区画された吐出領域５０であるため、４つ以上連続して不吐出ノズルが存在する場合でも、１走査において不吐出ノズルの数と同じ液滴数を該当する吐出領域５０に塗布することにより、インク９の塗布直後の流動作用により、均一化を図ることが可能である。
【００８６】
また、実施の形態３においては、格子状バンク３Ｂにより区画される吐出領域５０が１つの画素領域、即ちＲ，Ｇ，Ｂの３つのサブピクセルで構成された１つのピクセルにおける１つのサブピクセルの場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、同色の複数のサブピクセルを１つの吐出領域５０として格子状バンク３０Ｂにより取り囲むよう構成してもよい。
【００８７】
なお、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、吐出領域５０が格子状バンク３０Ｂにより区画されているため、同色の画素領域の間にバンク３が形成されている。このため、バンク３が存在する位置に対してノズル６からインク９の吐出が行われないように、塗布データにおいては、バンク３が存在する位置に対応するノズル６に対して塗布動作を行わないよう設定されている。
【００８８】
実施の形態１から実施の形態３においては、ノズルから吐出するインクの通常の吐出周波数を１０ｋＨｚとして説明したが、特にこの周波数に限定されるものではなく、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。
また、実施の形態１から実施の形態３において、不吐出ノズルを補完する場合には、吐出周波数を通常吐出する場合の２倍の周波数として説明したが、本発明においては通常の２倍以上の吐出周波数であればよく、吐出周波数を高めることにより短い間隔で補完処理が可能となる。
【００８９】
実施の形態１から実施の形態３においては、インクジェットヘッドにおいて複数のノズルがライン状に配置された列を走査方向に対して斜めに配置して、走査方向に直交する方向のノズル間のピッチを約２０μｍ（例えば、２１．１６６６６μｍ）として設計した。これは、ノズルから吐出されたインクが着滴位置において互いに連結するようにするためである。したがって、走査方向に直交する方向のノズル間のピッチは、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましいが、特に限定する必要はない。
また、実施の形態１から実施の形態３において、ノズルから吐出されるインクの一滴当たりの量は、５ｐｌとしたが、１ｐｌ〜１５ｐｌの範囲内であることが好ましく、本発明においては特に限定されるものではない。
【００９０】
実施の形態１から実施の形態３においては、インクの粘度が１０ｍＰａ・ｓ  のものを用いたが、本発明においてはインクの粘度をこの数値に限定するものではなく、約５〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内が好ましく、特に限定されるものではい。
【００９１】
また、実施の形態１から実施の形態３においては、ノズルの不吐出状態を確認するために、Ｒ，Ｇ，Ｂのインクを塗布する基板上の一部に確認用パターンを形成し、その確認用パターンにおける吐出／不吐出状態を認識カメラにより確認して、その確認結果を示すデータに基づいて、連続して当該基板に対するＲ，Ｇ，Ｂのインクを塗布するように構成するのが望ましい。このように基板に対するインクの塗布処理を行うことにより、確実な補完処理を少ない工程で速く処理し、所望の高品質の有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明は、インクジェット装置において不吐出ノズルが発生しても生産性を低下させることなく、均一な塗布膜を基板上に形成することができ、例えば不吐出ノズルに起因するスジムラが発生することのない高画質の有機ＥＬディスプレイを提供することができるため、各種電子機器のディスプレイの分野等において汎用性が高く、有用である。
【符号の説明】
【００９３】
１  基板
２  ベース基板
３  バンク
３Ａ  ライン状バンク
３Ｂ  格子状バンク
３ａ  第１のバンク部分
３ｂ  第２のバンク部分
４  画素領域
５  インクジェットヘッド
６  ノズル
７  確認用パターン
８  インク液滴
９  インク
１０  画素規制層
４０  基板
５０  吐出領域
【図１】
2011018632.tif 000003
【図２】
2011018632.tif 000004
【図３】
2011018632.tif 000005
【図４】
2011018632.tif 000006
【図５】
2011018632.tif 000007
【図６】
2011018632.tif 000008
【図７】
2011018632.tif 000009
【図８】
2011018632.tif 000010
【図９】
2011018632.tif 000011
【図１０】
2011018632.tif 000012
【図１１】
2011018632.tif 000013
【図１２】
2011018632.tif 000014
【図１３】
2011018632.tif 000015
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月5日(2010.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
機能膜を形成する領域に機能膜材料を含む機能液をインクジェット装置により塗布する機能膜製造方法であって、
撥液性を有する区画領域により囲まれた機能膜を形成する吐出領域に対して、１回の走査により複数のノズルから前記機能液の液滴を吐出して塗布するステップにおいて、
１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて、不吐出ノズルが存在する場合、当該吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液の液滴量を、不吐出ノズルが存在しない場合に比べて増加させる機能膜製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
図１３は特許文献５に開示されているインクジェットヘッドとそのインクジェットヘッドにより塗布すべき対象である記録用紙に記録された記録結果を示す一例である。図１３において（ａ）で示す部分は、インクジェットヘッドにおける吐出ノズルと不吐出ノズルの配置を示している。図１３において（ｂ）で示す部分は、図１３の（ａ）で示すインクジェットヘッドにより記録用紙２４に記録した記録結果を示している。図１３の（ａ）において、符号２１はインクジェットヘッドを示し、符号２２はインクを吐出している吐出ノズル（斜線丸）を示し、符号２３はインクを吐出していない不吐出ノズル（白丸）を示す。上記のように２つのノズルが並設されたインクジェットヘッド２１によりインクを記録用紙２４上に塗布するとき、通常の液滴量のインクを塗布する領域２５（斜線丸）と、並設されたノズルの両方が不吐出ノズルとなり、それらの不吐出ノズルにより生じた白線領域２７（白丸）に隣接する吐出ノズルが交互に倍の液適量を塗布する領域２６（黒丸）が形成されている。特許文献５に開示されたインクジェットヘッド２１においては、上記のようにインクを記録用紙２４に対して吐出することにより、記録用紙２４においてインクが塗布できない領域である不吐出領域（白線領域２７）を視覚的に目立たないようにしている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る第１の観点の機能膜製造方法は、
機能膜を形成する領域に機能膜材料を含む機能液をインクジェット装置により塗布する機能膜製造方法であって、
撥液性を有する区画領域により囲まれた機能膜を形成する吐出領域に対して、１回の走査により複数のノズルから前記機能液の液滴を吐出して塗布するステップにおいて、
１つの吐出領域に対して塗布する複数のノズルにおいて、不吐出ノズルが存在する場合、当該吐出領域に対して塗布する他の吐出ノズルから吐出する前記機能液の液滴量を、不吐出ノズルが存在しない場合に比べて増加させている。このように構成された第１の観点の機能膜製造方法によれば、インクジェット装置のノズルに不吐出ノズルが発生しても、生産性を低下させることなく、均一な機能膜を形成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
バンク３により規制され区画される領域にはインク９が吐出され塗布される。塗布されたインク９と接触するバンク３の表面は、フッ素系ガスプラズマ等によりフッ素化処理されているため、撥液性を有している。このようにバンク３に対して撥液処理が行われているため、後述するようにインク９が画素領域４に塗布されてバンク３間で盛り上がった状態であってもバンク３により確実に保持され、バンク３間に確実に収納される。なお、画素領域４となるベース基板２に対向する面は、前記バンク３よりも親液性が高い層が形成されており、インク９が画素領域４に確実に保持される構成である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
図１０に示すように、ライン状バンク３０Ａにおいて、隣り合う画素領域４の間の領域（以下、画素領域間領域と称す）で対向する壁部分である第２のバンク部分３０ｂの高さが、画素領域４に対向する壁部分である第１のバンク部分３０ａの高さより高く形成されている。ここで、画素領域間領域とは、例えば、Ｒ（レッド）の画素領域４と、その隣のＲ（レッド）の画素領域４との間の領域を示す。
実施の形態２においては、画素領域４における第１のバンク部分３０ａの高さが１μｍ（１０００ｎｍ）に対して、画素領域間領域における第２のバンク部分３０ｂの高さはその１．５倍の１．５μｍ（１５００ｎｍ）に形成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
図１２において、吐出領域５０Ｃは、同じ吐出領域内に不吐出ノズルが２つ連続で発生した場合の吐出状態を示している。吐出領域５０Ｃに示すように、同じ吐出領域内に不吐出ノズルが２つ発生した場合には、１回の走査において、２つの不吐出ノズルが塗布すべき吐出領域内における他の２つの吐出ノズルのそれぞれから２回の液滴によりインク９を塗布して補完する塗布データが作成される。若しくは、１回の走査において、２つの不吐出ノズルが塗布すべき吐出領域内における１つの吐出ノズルにより３倍の液適量、即ち３回の液滴によりインク９を塗布して補完する塗布データが作成される。