(57)【要約】【課題】再生処理を効率よく行うことを可能とした不良基板のロット構成方法を提供する【解決手段】カラーフィルタ製造工程で発生した不良ガラス基板を再生処理して再利用するために少なくとも、前記不良ガラス基板のガラス材質情報と、前記不良ガラス基板のこれまで行われた再生回数情報と、前記不良ガラス基板の最後の製造処理が行われた最終処理工程情報と、ガラス基板の製造品名情報と、を用いて前記不良基板を再生工程に投入するためのロットに区分することを特徴とする不良基板のロット構成方法。【選択図】図５
2011248102.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ製造工程で発生した不良ガラス基板を再生処理して再利用するために少なくとも、
前記不良ガラス基板のガラス材質情報と、
前記不良ガラス基板のこれまで行われた再生回数情報と、
前記不良ガラス基板の最後の製造処理が行われた最終処理工程情報と、
ガラス基板の製造品名情報と、を用いて前記不良基板を再生工程に投入するためのロットに区分することを特徴とする不良基板のロット構成方法。
【請求項２】
前記再生工程に投入するためのロットは、ガラス材質と再生回数と最終処理工程と製造品名からなるロットマトリックスを用いて作成されることを特徴とする請求項１に記載の不良基板のロット構成方法。
【請求項３】
前記不良ガラス基板は前記ロットマトリックスの中から合致したロットに区分されることを特徴とする請求項１または２に記載の不良基板のロット構成方法。
【請求項４】
前記ロットマトリックスの中から合致したロットに区分された不良基板の内、再生処理が不可能であるガラス不良品を破砕処理基板とすることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の不良基板のロット構成方法。
【請求項５】
請求項１から４に記載の不良基板のロット構成方法を用いて不良基板のロットを構成することを特徴とする不良基板のロット構成システム。
【請求項６】
前記区分されたロット毎に不良基板をカセットに集積することを特徴とする請求項５に記載の不良基板のロット構成システム。
【請求項７】
前記カセットに集積された不良基板の収納状態を監視して、端数収納のカセットを優先して搬送することを特徴とする請求項５または６に記載の不良基板のロット構成システム。
【請求項８】
再生工程へ投入可能な状態となったカセットに対して、ロット単位で順番に番号を割り振り、割り振られた番号順に再生工程にカセットを投入することを特徴とする請求項５から７のいずれかに記載の不良基板のロット構成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタ製造工程で発生する品質基準に満たないカラーフィルタ用ガラス基板を再生する場合に適応されるもので、複数ある再生処理条件の内、該再生される基板を適応する再生条件毎にロット構成する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶表示装置は、カラーフィルタ基板と素子基板との間に液晶を封入して構成され、画素毎にカラーフィルタ基板と素子基板との間に電圧を印加して光の透過または不透過を制御して、透過した光を表示光として画面表示するものである。
【０００３】
図１はカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図である。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００４】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程の一例を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ４）、露光処理する工程（Ｃ５）、現像処理する工程（Ｃ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ９）がこの順に行われ製造される。
【０００５】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に着色画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。なお、ステップ（Ｃ７）と（Ｃ８）の間で研磨処理する工程を経る場合もある。
【０００６】
ガラス基板２上へのＢＭ３の形成は、例えば、ガラス基板２上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜にフォトレジストを塗布した後、フォトリソグラフィー法によってＢＭ形状を有したパターンを露光、現像、エッチングをして形成するといった方法や、または、ガラス基板２上に黒色のフォトレジスト樹脂を塗布し、この樹脂塗膜をフォトリソグラフィー法によってＢＭ形状を有したパターンを露光、現像して、いわゆる樹脂ＢＭと称するパターンを形成する方法がとられている。
【０００７】
カラーフィルタ用ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板上へのＢＭの形成は、ＢＭの材料としては、クロムなどの金属を用いて真空装置によって金属薄膜を形成するよりも、黒色の樹脂フォトレジストを用いてフォトリソグラフィー法によって形成する樹脂ＢＭの方が、価格的、環境的にも有利なため、金属薄膜のＢＭを回避する傾向にある。
【０００８】
製造されるカラーフィルタには高い信頼性が必要であるが、前記のようにカラーフィルタの製造工程には多くの工程があり、その途中でゴミや樹脂カスなどの異物の付着や混入
、ピンホール、パターン欠け等による欠陥が生じ、品質基準に満たない不良基板となって、歩留まりが低下している現状がある。また、近年の大画面液晶テレビの普及に伴うカラーフィルタ用ガラス基板の大型化により、例えば１ｍｍ以下の薄く、かつ一辺が１〜２ｍ以上に達するカラーフィルタ用ガラス基板では、廃棄そのものに危険が伴う。
【０００９】
一般的にカラーフィルタ用ガラス基板の不良検査は、前記製造工程の最終工程であるＰＳ，ＶＡ形成処理する工程（Ｃ９）の後に行われる他に、中間工程であるＢＭを形成処理する工程（Ｃ１）の後、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ４）の後、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ７）の後、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ８）の後においても行われ、品質基準に満たないカラーフィルタ用ガラス基板が検査されている。
【００１０】
そこで、カラーフィルタの製造工程で品質基準を満足しないガラス基板が発生した場合は、明らかな割れ基板、再生回数の制限を越えた基板、検査機で再生ＮＧとなった基板以外は、ガラス基板の再生装置によって再生し、製造工程に再投入し再使用している。
【００１１】
カラーフィルタ用ガラス基板の再生工程のフローと工程内容の一例を図３に示す。
【００１２】
カラーフィルタ用ガラス基板の不良検査で検出されたガラス基板は、その後再生処理が行われる。すなわち、カラーフィルタ用ガラス基板の再生はＢＭを形成した後や、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素のためのレジストを形成した後や、ＢＭ、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素を形成した後や、または透明電極（例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ））膜成膜後や、ＰＳ、ＶＡ形成後のいずれの場合においても行われるが、品質基準を満足しないカラーフィルタ用ガラス基板は次に示す工程を経て再生される。図３に示すカラーフィルタ用ガラス基板の再生工程のフローと工程内容は、ＰＳ／ＶＡ膜形成後の場合を例示したものである。
【００１３】
先ず、アルカリ処理（１）（Ｋ１）、ブラシ洗浄（Ｋ２）及び水洗リンス（Ｋ３）によってガラス基板の最上層にあるＰＳ／ＶＡ膜が剥離、リンスされる（Ｎ１）、（Ｎ２）、（Ｎ３）。次に中間層のＩＴＯ膜が酸処理（Ｋ４）、水洗リンス（Ｋ５）によって剥離（Ｎ４）、リンス（Ｎ５）された後、最下層であるＢＭ、ＲＧＢ樹脂膜がアルカリ処理（２）（Ｋ６）、ブラシ洗浄（Ｋ７）、水洗リンス（Ｋ８）によってＲ／Ｇ／Ｂ、ＢＭ層が剥離、リンス（Ｎ６）、（Ｎ７）、（Ｎ８）され、最後にブラシ洗浄（Ｋ９）でカラーフィルタ用ガラス基板に微少量残っている洗浄残渣が取り除かれ（Ｎ９）、水切り（Ｋ１０）によって乾燥される（Ｎ１０）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００１−１２４９１３号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５０８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
前記図３における再生工程では、不良基板と判定されたガラス基板はガラス基板の状態、即ち、ガラスの材質、どの工程まで処理されたか、使用した製品の種類、新材か再生材か、に応じて、アルカリ処理（１）（ステップＫ１）や酸処理（ステップＫ４）やアルカリ処理（２）（ステップＫ６）における薬液温度や処理時間等の再生の処理条件を変更する必要がある。
【００１６】
本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであり、再生処理を効率よく行うことを可能
とした不良基板のロット構成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の請求項１に係る発明は、カラーフィルタ製造工程で発生した不良ガラス基板を再生処理して再利用するために少なくとも、
前記不良ガラス基板のガラス材質情報と、
前記不良ガラス基板のこれまで行われた再生回数情報と、
前記不良ガラス基板の最後の製造処理が行われた最終処理工程情報と、
ガラス基板の製造品名情報と、を用いて前記不良基板を再生工程に投入するためのロットに区分することを特徴とする不良基板のロット構成方法である。
【００１８】
本発明の請求項２に係る発明は、前記再生工程に投入するためのロットは、ガラス材質と再生回数と最終処理工程と製造品名からなるロットマトリックスを用いて作成されることを特徴とする請求項１に記載の不良基板のロット構成方法である。
【００１９】
本発明の請求項３に係る発明は、前記不良ガラス基板は前記ロットマトリックスの中から合致したロットに区分されることを特徴とする請求項１または２に記載の不良基板のロット構成方法である。
【００２０】
本発明の請求項４に係る発明は、前記ロットマトリックスの中から合致したロットに区分された不良基板の内、再生処理が不可能であるガラス不良品を破砕処理基板とすることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の不良基板のロット構成方法である。
【００２１】
本発明の請求項５に係る発明は、請求項１から４に記載の不良基板のロット構成方法を用いて不良基板のロットを構成することを特徴とする不良基板のロット構成システムである。
【００２２】
本発明の請求項６に係る発明は、前記区分されたロット毎に不良基板をカセットに集積することを特徴とする請求項５に記載の不良基板のロット構成システムである。
【００２３】
本発明の請求項７に係る発明は、前記カセットに集積された不良基板の収納状態を監視して、端数収納のカセットを優先して搬送することを特徴とする請求項５または６に記載の不良基板のロット構成システムである。
【００２４】
本発明の請求項８に係る発明は、再生工程へ投入可能な状態となったカセットに対して、ロット単位で順番に番号を割り振り、割り振られた番号順に再生工程にカセットを投入することを特徴とする請求項５から７のいずれかに記載の不良基板のロット構成システムである。
【発明の効果】
【００２５】
本発明のカラーフィルタ用ガラス基板の不良基板のロット構成方法によれば、同一の条件で再生処理可能な基板を再生工程投入用のロットとして区分された形で投入することが可能となり、再生処理条件の変更の回数を減少させることが出来、その結果、再生処理に伴う段取り時間が短縮され、再生処理装置の稼働率を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程のフロー図。
【図３】カラーフィルタ用ガラス基板の再生工程のフローと工程内容の一例を示す図。
【図４】本発明に係る不良基板のロット構成方法が適用されるカラーフィルタ用ガラス基板製造ラインの概略構成図。
【図５】本発明に係るカラーフィルタ用ガラス基板の不良基板のロット構成方法が適用されるシステム構成例を示す図。
【図６】本発明に係る基板移載計画管理部における移載の判断処理のフロー図。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明に係る不良基板のロット構成方法を実施するための形態を説明する。
【００２８】
図４は本発明に係る不良基板のロット構成方法が適用されるカラーフィルタ用ガラス基板製造ラインの概略構成図である。図４に示されるカラーフィルタ用ガラス基板製造ライン１０は、再生ライン１１と基板集積用の基板移載ライン１２を具備したラインを例示したものである。
【００２９】
カラーフィルタ用ガラス基板製造ライン１０は、工程内ストッカー１３を有し、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（ＢＭライン１４）、Ｒ画素を形成処理する工程（Ｒライン１５）、Ｇ画素を形成処理する工程（Ｇライン１６）、Ｂ画素を形成処理する工程（Ｂライン１７）、透明電極を成膜処理する工程（ＩＴＯライン１８）、ＰＳ／ＶＡを形成処理する工程（ＰＳ／ＶＡライン１９）、最終検査ライン２０、ガラス基板を再生処理する工程（再生ライン１１）、及び基板移載ライン１２、受入ライン２１、出荷ライン２２を有している。
【００３０】
ガラスメーカーから納入されたガラス基板は、先ず入出荷ストッカー２３に搬入された後、受入ライン２１によって工程内ストッカー１３にストックされる。工程内ストッカー１３にストックされたガラス基板は、ＢＭライン１４にＬＤ（ローダ）２４よって搬入された後ＢＭが形成処理され、更にＵＬＤ（アンローダ）２５によって再び工程内ストッカー１３にストックされる。この後同様に、Ｒライン１５、Ｇライン１６、Ｂライン１７、ＩＴＯライン１８、ＰＳ／ＶＡライン１９を経て、最終検査ライン２０で最終検査が行われる。品質条件を満たしたガラス基板はＬＤ２６によって出荷ライン２２に搬出された後、入出荷ストッカーにストックされる。尚、ガラス基板は最終検査ライン２０で検査されるほかに、各処理ラインで処理された後に図示しない検査装置によって適宜検査される。
【００３１】
工程内ストッカー１３にストックされているガラス基板は、収納カセットに収納されているが、他の収納カセットにガラス基板を移載する場合には、基板移載ライン１２に備えられたロボット（ＲＢ）２７によって移載され、一時的にバッファ（ＢＦ）２８に移載される。
【００３２】
また、上記基板移載ライン１２は、品質条件を満たしていないガラス基板（以下、ＮＧ基板と記す）の内、再生処理が不可能な基板を破砕用基板としてＲＢ２７によって破砕機２９に移載する。
【００３３】
上記破砕用基板以外のＮＧ基板は工程内ストッカ１３にストックされた後、再生ライン１１に投入され再生される。
【００３４】
図４に示すカラーフィルタ用ガラス基板製造ラインは、各ライン（ＢＭライン〜ＰＳ／ＶＡ）の処理が終了した後にガラス基板は工程内ストッカにストックされ、その後、次の処理ラインに搬入される形態であって、いわゆる各ラインが独立している場合を例示したものであるが、例えば露光装置や現像装置といった装置をいわゆるＪｏｂ−Ｓｈｏｐと呼ばれる共通で用いたり、インクジェットによる画素形成装置によって構成しても良い。また、最終検査ライン２０や再生ライン１１をカラーフィルタ用ガラス基板製造ライン１０
から分離しても良く、ラインの形態は適宜構成すれば良い。
【００３５】
図５に本発明に係るカラーフィルタ用ガラス基板の不良基板のロット構成方法が適用されるシステム構成例を示す。
【００３６】
不良基板のロット構成方法が適用されるシステムは、各種マスター情報管理部３１、再生用ロット情報管理部３２、基板情報管理部３３、基板回収情報受信部３４、カセット情報管理部３５、基板移載計画管理部３６、基板移載指示送信部３７を備えている。
【００３７】
各種マスター情報管理部３１は、ガラス材質情報マスターと製造品名情報マスターと製造工程情報マスターと再生処理可能時間設定情報の管理を行う。
【００３８】
ガラス材質情報マスターを表１に示す。
【００３９】
【表１】
2011248102.tif 000003
【００４０】
ガラス材質情報マスターでは、ガラス製造メーカー情報とガラス材質情報をリスト管理する。
【００４１】
製造品名マスターを表２に示す。
【００４２】
【表２】
2011248102.tif 000004
【００４３】
製造品名マスターでは、製造品名名称情報と製造品名コード情報をリスト管理する。
【００４４】
製造工程マスターを表３に示す。
【００４５】
【表３】
2011248102.tif 000005
【００４６】
製造工程マスターでは、製造工程名称情報と製造工程コード情報をリスト管理する。
【００４７】
再生用ロット情報管理部３２では、同一の処理条件で再生処理が実施できる基板状態を、各種マスター情報を用いてマトリックス管理する。
【００４８】
再生用ロット情報管理部３２で行われるマトリックス管理の一例を表４に示す。
【００４９】
【表４】
2011248102.tif 000006
【００５０】
再生用ロット情報管理部３２で行われる表４に示されるマトリックス管理では、ガラス材質と再生回数と最終処理工程と製造品名の各情報から、当てはまるロット番号への変換の定義を行う。表４に示されるマトリックス管理では、ロット１からロット３４までの再生工程投入用ロットがあり、例えばガラス材質がＡ１、再生回数が０回、最終処理工程がＰ１、製造品名がＸＸＸに当てはまるガラス基板をロット１とし、更にロット１のガラス基板は破砕対象であることを示している。なお、再生処理が不可能なガラス不良（ガラス基板受入工程、再生工程でのＮＧ品等）は、他の基板と混在しないように、別のロット番号に組み付くよう定義を行う。
【００５１】
基板情報管理部３３では、ガラス製造メーカーよりガラス基板新規受入時にはガラス材質情報を取得し、また製造品名への引当時には製造品名情報を取得して、基板単位で各情報を紐付けて管理する。なお、ガラス基板新規受入時には、再生回数は０回として管理を
行う。
【００５２】
基板回収情報受信部３４では、例えばＥｔｈｅｒｎｅｔ（登録商標）、ＣＣ  Ｌｉｎｋ（Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＆  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ  Ｌｉｎｋ）、光ケーブル等により接続された各処理装置や搬送装置や検査装置等より取得した他システムからの基板回収情報（回収した工程情報、判定情報、回収カセット情報（カセット番号および収納段数）、回収日時）３８を取得する。
【００５３】
基板情報管理部３３では、基板回収情報受信部３４で取得した前記基板回収情報を前記ガラス材質情報と前記製造品名情報とを合わせて管理を行う。尚、基板が回収された工程が再生工程であった場合には、再生回数をインクリメントするものとする。この時点で基板情報管理部３３に、不良基板を再生用ロットへ自動変換するための情報が全て揃う。
【００５４】
基板情報管理部３３では、回収された基板がＮＧ基板であった場合には、再生用ロット情報管理部３２に問合せを行い、自動変換する再生投入用ロット番号の取得を行う。
【００５５】
基板情報管理部３３では、再生投入用ロット番号への自動変換が正常に完了した後に、基板単位で再生処理されるまでの経過時間（ガラス基板がＮＧ基板とされた時点から再生処理に移行するまでの時間）を監視し、マスター設定している再生処理可能時間をオーバーした基板に関しては、自動破砕処理の対象基板とする。
【００５６】
カセット情報管理部３５では、基板情報管理部３３から前記基板回収情報と前記ガラス材質情報と前記製造品名情報を取得し、カセット単位の再生ロットの収納状況、および再生処理可能時間オーバーによる自動破砕対象基板の収納状況を管理する。
【００５７】
基板移載計画管理部３６では、カセット情報管理部３５よりカセット毎に再生ロットの収納状況、および再生処理可能時間オーバーによる自動破砕対象基板の収納状況に関する情報を取得し、同一カセット内に再生工程投入用のロット番号が混在していないか、破砕すべき基板は収納されていないか（ロット番号および再生処理可能時間オーバー基板の有無）をチェックし、上記条件に合致する場合は、基板移載ラインでの処理計画を自動策定する。
【００５８】
上記基板移載計画管理部３６における移載の判断処理のフローを図６に示す。開始（Ｓ１）後、カセット内に再生用ロット番号が混載せず（Ｓ２のＮＯ）、更にカセット内に破砕行き基板を収納していない場合（Ｓ３のＮＯ）は、移載は必要なしと判断されずフローは終了（Ｓ５）する。一方、ステップ（Ｓ３）でカセット内に破砕行き基板を収納している場合（Ｓ３のＹＥＳ）は、破砕行き基板の破砕処理が必要と判断（Ｓ６）される。
【００５９】
ステップ（Ｓ２）において、カセット内に再生用ロット番号が混載しており（Ｓ２のＹＥＳ）、更にカセット内に破砕行き基板を収納していない場合（Ｓ４のＮＯ）は、基板の集積処理移載が必要（Ｓ７）と判断される。一方、ステップ（Ｓ４）でカセット内に破砕行き基板を収納している場合（Ｓ４のＹＥＳ）は、基板の集積と破砕行き基板の破砕処理が必要と判断（Ｓ８）される。
【００６０】
基板移載指示送信部３７では前記移載の判断処理フローに基づき、基板移載および破砕が必要と判断した場合には、他システムへ基板移載指示を発行する。なお、基板移載指示情報には、以下の内容が含まれるものとする。
（１）どのポートへどのカセットを搬送するかの情報。
ＵＬＤポートへは、集積するロットの格納カセットで端数のカセットがあれば、該当カセットを優先的に搬送するロジックを有することで、カセットの有効利用が可能となる。
（２）ＬＤポートへ搬送したカセットの何段目から、ＵＬＤポートへ搬送したカセットの何段目に、もしくはＢＦへ移動をさせるかの情報。
（３）ＢＦへ移動した基板を、ＵＬＤポートへ搬送したカセットの何段目に移動をさせるかの情報。
（４）ＬＤポートへ搬送したカセットの何段目の基板を破砕機へ搬送するかの情報。
【００６１】
上記処理を行うことで、１つのカセットには１つの再生工程投入用ロット番号の基板のみが収納された状態となる。この結果、再生工程へ同一ロット番号（同じ条件で再生処理が可能）の基板をカセット単位でまとめて投入することが可能となる。
【００６２】
カセット情報管理部３５では、再生ラインへ投入可能な状態となった時点で、再生ラインへの投入順番を割り当て、投入順番に従い搬送を行うことによって古い基板より順次再生処理を行うことが可能となる。
【００６３】
以上のように、本発明による不良基板のロット構成方法及びロット構成システムによれば、予め不良基板をロットに区分することによって、ロット毎に再生処理工程に投入することによって再生処理条件の変更の回数を減少させることが出来、その結果、再生処理に伴う段取り時間が短縮され、再生処理装置の稼働率を向上させることが可能となる。
【００６４】
また、再生処理条件の変更回数を減少させることによって、変更時に発生する品質の変動に伴う不良ロスと条件出しに伴う薬液の消費を低減することが可能となる。
【００６５】
更に、再生処理が不可能な基板を破砕処理基板とすることで、再生工程への破砕処理基板の流出防止、および不要な収納カセットの棚の削減が可能となる。
【符号の説明】
【００６６】
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーテイカルアライメント（ＶＡ）
１０・・・カラーフィルタ用ガラス基板製造ライン
１１・・・再生ライン
１２・・・基板集積用の基板移載ライン
１３・・・工程内ストッカー
１４・・・ＢＭライン
１５・・・Ｒライン
１６・・・Ｇライン
１７・・・Ｂライン
１８・・・ＩＴＯライン
１９・・・ＰＳ／ＶＡライン
２０・・・最終検査ライン
２１・・・受入ライン
２２・・・出荷ライン
２３・・・入出荷ストッカー
２４・・・ＬＤ（ローダ）
２５・・・ＵＬＤ（アンローダ）
２６・・・ＬＤ
２７・・・ロボット（ＲＢ）
２８・・・バッファ（ＢＦ）
２９・・・破砕機
３１・・・各種マスター情報管理部
３２・・・再生用ロット情報管理部
３３・・・基板情報管理部
３４・・・基板回収情報受信部
３５・・・カセット情報管理部
３６・・・基板移載計画管理部
３７・・・基板移載指示送信部
３８・・・基板回収情報
【図１】
2011248102.tif 000007
【図２】
2011248102.tif 000008
【図３】
2011248102.tif 000009
【図４】
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【図５】
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【図６】
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