(57)【要約】【課題】表示品質を向上させることができる電気泳動表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】対向して配置された第１基板３１及び第２基板４１と、第１基板３１と第２基板４１との間に設けられた電気泳動層３３と、第１基板３１と電気泳動層３３との間に設けられた画素電極２１と、第２基板４１と電気泳動層３３との間に設けられた共通電極２２と、電気泳動層３３をセル毎に区分けする隔壁３５と、を有し、隔壁３５は、第１絶縁層３２上に設けられており、第１絶縁層３２の材料と主成分が類似している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向して配置された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気泳動層と、
前記第１基板と前記電気泳動層との間に設けられた第１電極と、
前記第２基板と前記電気泳動層との間に設けられた第２電極と、
前記電気泳動層をセル毎に区分けする隔壁と、
を有し、
前記隔壁は、絶縁層上に設けられており、前記絶縁層の材料と主成分が類似していることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気泳動表示装置であって、
前記隔壁は、平面積が前記隔壁より大きい前記絶縁層の上に設けられていることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電気泳動表示装置であって、
前記隔壁は、前記絶縁層と一体に構成されていることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置であって、
前記絶縁層は、前記第１電極と前記電気泳動層との間に、少なくとも前記第１電極を覆うように設けられていることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置であって、
前記絶縁層の厚みは、１００ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは５００ｎｍ〜５μｍであることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置であって、
前記第１電極は画素電極であり、前記セルは平面的に複数の前記第１電極を含むことを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項７】
対向して配置された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気泳動層と、
前記第１基板と前記電気泳動層との間に設けられた第１電極と、
前記第２基板と前記電気泳動層との間に設けられた第２電極と、
前記電気泳動層をセル毎に区分けする隔壁と、
を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記第１基板上又は前記第２基板上に絶縁材料を主成分とする絶縁層と前記絶縁層と主成分が類似している前記隔壁とを形成する隔壁形成工程を有することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記隔壁形成工程は、前記第１基板上又は前記第２基板上に第１感光性材料を用いて前記絶縁層としての第１感光層を形成する第１感光層形成工程と、
前記第１感光層上に前記第１感光性材料と主成分が類似している第２感光層を形成する第２感光層形成工程と、
前記セル毎に前記第１感光層の少なくとも一部が残るように前記第２感光層の一部を除去して前記隔壁を形成する除去工程と、
を有することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記隔壁形成工程は、前記除去工程の後に、前記第１感光層及び前記第２感光層に熱を加えることによって前記第１感光層及び前記第２感光層を樹脂化する樹脂化工程を有することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項７乃至請求項９のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記絶縁材料は、オレフィン系の樹脂材料を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項７に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記隔壁形成工程は、前記第１基板上又は前記第２基板上に絶縁材料からなる隔壁前駆体層を形成する隔壁前駆体層形成工程と、
前記セル毎に前記隔壁前駆体層の少なくとも一部が残るように前記隔壁前駆体層を成形する成形処理を施し、前記絶縁層及び前記隔壁を形成する前駆体層成形処理工程と、
を有することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記前駆体層成形処理工程は、ナノインプリント法を用いることを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記前駆体層成形処理工程は、前記隔壁前駆体層にエッチング処理を施して前記絶縁層及び前記隔壁を形成することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１に記載の電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記絶縁材料は、ネガ型のレジスト材料であり、
前記隔壁形成工程は、前記隔壁前駆体層に対して、前記隔壁となる部分に第１強度の露光を行い、前記セル毎の前記絶縁層となる部分に前記第１強度より強度が弱い第２強度の露光を行うことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記電気泳動表示装置として、一対の基板間を隔壁によって複数の空間に区画し、各空間内に電気泳動粒子および分散液を含む電気泳動分散液を封入した構成のものが知られている。隔壁と基板とは、材料が異なると共に、隔壁の厚みが薄いことから、密着力が弱い。よって、隔壁が基板から剥離したり浮きが発生したりする。
【０００３】
そこで、例えば、特許文献１に記載のように、基板にサンドブラスト処理（粗面化）を行い、基板と隔壁との接触面積を増やすことによって、基板と隔壁との密着性を向上させる技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２７２１３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、基板の表面を粗面化することによって、基板の透光性が低下し電気泳動表示装置の見栄えが悪くなるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る電気泳動表示装置は、対向して配置された第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気泳動層と、前記第１基板と前記電気泳動層との間に設けられた第１電極と、前記第２基板と前記電気泳動層との間に設けられた第２電極と、前記電気泳動層をセル毎に区分けする隔壁と、を有し、前記隔壁は、絶縁層上に設けられており、前記絶縁層の材料と主成分が類似していることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、隔壁と絶縁層との主成分が類似しているので、隔壁と絶縁層との密着性を向上させることができる。よって、密着面積を増やすために、基板の表面を粗面化しなくても、隔壁が剥離したり浮きが発生したりすることを防ぐことができる。加えて、粗面化により基板の透光性が低下することを防ぐことができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例に係る電気泳動表示装置において、前記隔壁は、平面積が前記隔壁より大きい前記絶縁層の上に設けられていることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、平面積が大きい絶縁層の上に隔壁が設けられているので、隔壁の絶縁層への密着性を向上させることができる。よって、隔壁が剥離したり浮きが生じたりすることを抑えることができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例に係る電気泳動表示装置において、前記隔壁は、前記絶縁層と一体に構成されていることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、隔壁と絶縁層とが一体で構成されているので、互いの密着力を向上させることができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例に係る電気泳動表示装置において、前記絶縁層は、前記第１電極と前記電気泳動層との間に、少なくとも前記第１電極を覆うように設けられていることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、第１電極を覆うように絶縁層が設けられているので、第１電極と電気泳動層とが直接接触することを防ぐことができる。よって、電気泳動層に含まれる電気泳動粒子が第１電極に付着することなく、第１電極と第２電極との間に生ずる電界によって電気泳動粒子を容易に移動させることができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例に係る電気泳動表示装置において、前記絶縁層の厚みは、１００ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは５００ｎｍ〜５μｍである。
【００１６】
この構成によれば、上記のように絶縁層の厚みを設定することにより、絶縁膜として機能させることができると共に、電気泳動層に適正な範囲の実効電圧を印加させることができる。
【００１７】
［適用例６］上記適用例に係る電気泳動表示装置において、前記第１電極は画素電極であり、前記セルは平面的に複数の前記第１電極を含むことが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、セルが複数の画素電極を含む構成なので、例えば、画素電極を高精細に設けても隔壁の構成を簡略化できる。
【００１９】
［適用例７］本適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法は、対向して配置された第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気泳動層と、前記第１基板と前記電気泳動層との間に設けられた第１電極と、前記第２基板と前記電気泳動層との間に設けられた第２電極と、前記電気泳動層をセル毎に区分けする隔壁と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、前記第１基板上又は前記第２基板上に絶縁材料を主成分とする絶縁層と前記絶縁層と主成分が類似している前記隔壁とを形成する隔壁形成工程を有することを特徴とする。
【００２０】
この方法によれば、隔壁と絶縁層とを類似している主成分の材料を用いて形成するので、隔壁と絶縁層との密着性を向上させることができる。よって、密着面積を増やすために、基板の表面を粗面化しなくても、隔壁が剥離したり浮きが発生したりすることを防ぐことができる。加えて、粗面化により基板の透光性が低下することを防ぐことができる。
【００２１】
［適用例８］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記隔壁形成工程は、前記第１基板上又は前記第２基板上に第１感光性材料を用いて前記絶縁層としての第１感光層を形成する第１感光層形成工程と、前記第１感光層上に前記第１感光性材料と主成分が類似している第２感光層を形成する第２感光層形成工程と、前記セル毎に前記第１感光層の少なくとも一部が残るように前記第２感光層の一部を除去して前記隔壁を形成する除去工程と、を有することが好ましい。
【００２２】
この方法によれば、感光性材料を用いるので、フォトリソグラフィ法を利用して、絶縁層及び隔壁を形成することができる。
【００２３】
［適用例９］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記隔壁形成工程は、前記除去工程の後に、前記第１感光層及び前記第２感光層に熱を加えることによって前記第１感光層及び前記第２感光層を樹脂化する樹脂化工程を有することが好ましい。
【００２４】
この方法によれば、第１感光層及び第２感光層に熱を加えて（例えば、ポストベーク処理）樹脂化するので、絶縁層と隔壁との密着性を向上させることができる。
【００２５】
［適用例１０］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記絶縁材料は、オレフィン系の樹脂材料を含むことが好ましい。
【００２６】
この方法によれば、オレフィン系の樹脂材料を含む絶縁材料を用いるので、例えば、熱を加えることによって、絶縁層と隔壁とを溶着させることが可能となり、密着性を向上させることができる。
【００２７】
［適用例１１］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記隔壁形成工程は、前記第１基板上又は前記第２基板上に絶縁材料からなる隔壁前駆体層を形成する隔壁前駆体層形成工程と、前記セル毎に前記隔壁前駆体層の少なくとも一部が残るように前記隔壁前駆体層を成形する成形処理を施し、前記絶縁層及び前記隔壁を形成する前駆体層成形処理工程と、を有することが好ましい。
【００２８】
この方法によれば、１層の隔壁前駆体層に成形処理を施して隔壁及び絶縁層を形成するので、隔壁と絶縁層とを別々の工程で形成する方法と比較して、少ない工程数で形成することができる。
【００２９】
［適用例１２］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記前駆体層成形処理工程は、ナノインプリント法を用いることが好ましい。
【００３０】
この方法によれば、ナノインプリント法を用いるので、比較的簡単に隔壁前駆体層から隔壁及び絶縁層を形成することができる。
【００３１】
［適用例１３］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記前駆体層成形処理工程は、前記隔壁前駆体層にエッチング処理を施して前記絶縁層及び前記隔壁を形成することが好ましい。
【００３２】
この方法によれば、エッチング処理によって絶縁層及び隔壁を形成するので、新たな設備を準備することなく、比較的簡単に形成することができる。
【００３３】
［適用例１４］上記適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法において、前記絶縁材料は、ネガ型のレジスト材料であり、前記隔壁形成工程は、前記隔壁前駆体層に対して、前記隔壁となる部分に第１強度の露光を行い、前記セル毎の前記絶縁層となる部分に前記第１強度より強度が弱い第２強度の露光を行うことが好ましい。
【００３４】
この方法によれば、露光の強度を変えることによって絶縁層及び隔壁を形成するので、例えば、ハーフトーンやダブル露光などの方法を利用して形成することができる。
【００３５】
［適用例１５］本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする。
【００３６】
この構成によれば、上記に記載した電気泳動表示装置を備えるので、透光性が低下することが抑えられ、安定した表示品質が得られる電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】電気泳動表示装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図２】電気泳動表示装置の構造を示す模式断面図。
【図３】図２に示す電気泳動表示装置を上方から見た模式平面図。
【図４】電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャート。
【図５】電気泳動表示装置の製造方法のうち一部の工程を説明する模式断面図。
【図６】電気泳動表示装置の製造方法のうち一部の工程を説明する模式断面図。
【図７】電気泳動表示装置の製造方法のうち一部の工程を説明する模式断面図。
【図８】電気泳動表示装置を備えた電子機器の一例として電子ペーパーの構成を模式的に示す斜視図。
【図９】変形例である電気泳動表示装置の製造方法を説明する模式断面図。
【図１０】変形例である電気泳動表示装置を説明する模式断面図。
【図１１】変形例である電気泳動表示装置を説明する模式断面図。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００３９】
なお、以下の形態において、「上」とは、基板から見て電気泳動層が配置された方向を示し、「○○上に」と記載された場合、○○の上に接するように配置される場合または○○の上に他の構成物を介して配置される場合または○○の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００４０】
＜電気泳動表示装置の構成＞
図１は、電気泳動表示装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、電気泳動表示装置の電気的な構成を、図１を参照しながら説明する。
【００４１】
図１に示すように、電気泳動表示装置１１は、複数のデータ線１２と、複数の走査線１３とを有し、データ線１２と走査線１３とが交差する部分に画素１４が配置される。具体的には、電気泳動表示装置１１は、画素１４がマトリクス状に配置されている。各画素１４は、第１電極としての画素電極２１と第２電極としての共通電極２２との間に配置された電気泳動粒子の分散液１５を有する。
【００４２】
画素電極２１は、トランジスター１６を介してデータ線１２に接続されている。また、トランジスター１６のゲート電極は、走査線１３に接続されている。なお、図１は、例示であり、必要に応じて保持容量などの他の素子が組み込まれてもよい。
【００４３】
図２は、電気泳動表示装置の構造を示す模式断面図である。図３は、図２に示す電気泳動表示装置を上方から見た模式平面図である。以下、電気泳動表示装置の構造を、図２及び図３を参照しながら説明する。
【００４４】
図２に示すように、電気泳動表示装置１１は、素子基板５１と、対向基板５２と、電気泳動層３３とを有する。素子基板５１を構成する第１基板３１上には、各画素１４毎に画素電極２１が配置されている。詳述すると、図３に示すように、画素１４（画素電極２１）は、平面的にマトリクス状に形成されている。画素電極２１の材料としては、例えば、ＩＴＯ（錫を添加した酸化インジウム：Indium Tin Oxide）などの光透過性材料が用いられる。
【００４５】
第１基板３１と画素電極２１との間には、図示しない回路部が設けられており、回路部の中にトランジスター１６などが形成されている。トランジスター１６は、図示しないコンタクト部を介して、各画素電極２１と電気的に接続されている。なお、図示しないが、回路部の中には、トランジスター１６の他、各種配線（例えば、データ線１２や走査線１３など）や素子（例えば、容量素子）などが配置されている。画素電極２１上を含む第１基板３１上の全面には、絶縁層としての第１絶縁層３２が形成されている。
【００４６】
対向基板５２を構成する第２基板４１上には、複数の画素１４に対して共通した（全面ベタ状の）共通電極２２が形成されている。共通電極２２としては、例えば、ＩＴＯなどの光透過性材料が用いられる。なお、第１基板３１側に全面ベタ状の共通電極２２を形成し、第２基板４１側に画素１４毎に配置される画素電極２１を形成するようにしてもよい。
【００４７】
第１絶縁層３２と共通電極２２との間には、電気泳動層３３が設けられている。電気泳動層３３を構成する電気泳動粒子３４の分散液１５は、第１絶縁層３２、共通電極２２、隔壁３５で形成された空間に充填されている。隔壁３５は、例えば、図３に示すように、碁盤目状に配置されており、各画素１４を区画している。そして、画素１４を区画する最外周の隔壁３５により封止が行われている。なお、隔壁３５は、透光性材料であることが好ましい。
【００４８】
図２及び図３においては、電気泳動粒子３４として白色粒子と黒色粒子とを示してある。例えば、画素電極２１と共通電極２２との間に電圧を印加すると、これらの間に生じる電界にしたがって、電気泳動粒子３４はいずれかの電極（画素電極２１、共通電極２２）に向かって電気泳動する。例えば、白色粒子が正荷電を有する場合、画素電極２１を負電位とすると、白色粒子は、画素電極２１側（下側）に移動して集まり、黒表示となる。
【００４９】
逆に、画素電極２１を正電位とすると、白色粒子は、共通電極２２側（上側）に移動して集まり、白表示となる。このように、表示側の電極に集合する白色粒子の有無や数等に応じて、所望の情報（画像）が表示される。なお、ここでは、電気泳動粒子３４として白色粒子や黒色粒子を用いたが、他の有色粒子を用いてもよい。
【００５０】
また、電気泳動粒子３４としては無機顔料系の粒子、有機顔料系の粒子または高分子微粒子等を用いることができ、各種粒子を２種以上混合して用いてもよい。電気泳動粒子３４の径は、例えば、０．０５μｍ〜１０μｍ程度のものを用い、好ましくは、０．２μｍ〜２μｍ程度のものを用いる。
【００５１】
また、分散液１５に対する割合は、例えば、５％〜９０％程度で調整し、好ましくは、１０〜８０％程度に調整する。分散液１５を構成する分散媒に制限はないが、例えば、芳香族系炭化水素、ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン、アイソパー、パラフィン系炭化水素等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、リン酸エステル類、フタル酸エステル類、カルボン酸エステル類、塩素化パラフィン、シリコーン類等を用いることができる。
【００５２】
分散液１５に対する分散媒の割合は、例えば、２０ｗｔ％〜９０ｗｔ％程度に調整し、好ましくは４０ｗｔ％〜６０ｗｔ％程度に調整する。分散液１５には、分散媒の他、必要に応じて、例えば、電解質、界面活性剤等からなる荷電制御剤、潤滑剤、安定化剤等の各種添加剤を添加してもよい。また、各種染料を溶解するようにしてもよい。
【００５３】
なお、以降においては、分散液１５中の電気泳動粒子３４以外の液体の部分を「分散媒」と呼ぶものとする。また、平面的に隔壁３５で囲まれた領域の画素電極２１、共通電極２２、電気泳動層３３を、セル３６と呼ぶものとする。
【００５４】
以上のように、隔壁３５と第１絶縁層３２とが同じ主成分の材料で構成されているので、隔壁３５と第１絶縁層３２との密着性を向上させることができる。以下、電気泳動表示装置１１の製造方法を説明する。
【００５５】
＜電気泳動表示装置の製造方法＞
図４は、電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図５〜図７は、電気泳動表示装置の製造方法のうち一部の工程を説明する模式断面図である。以下、電気泳動表示装置の製造方法を、図４〜図７を参照しながら説明する。
【００５６】
最初に、図４を参照しながら、素子基板５１側の製造方法を説明する。ステップＳ１１では、ガラス等の透光性材料からなる第１基板３１上に、ＩＴＯなどの光透過性材料からなる画素電極２１などを形成する。具体的には、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、第１基板３１上に画素電極２１や配線などを形成する。なお、以降の断面図を用いた説明においては、画素電極２１などの説明及び図示を省略する。
【００５７】
ステップＳ１２では、第１基板３１上に、絶縁材料を主成分とする第１絶縁層３２となる第１レジスト膜３２ａ（第１感光性材料、第１感光層）を塗布する。具体的には、図５（ａ）〜図７（ｊ）を参照しながら、第１基板３１上に隔壁３５を形成する隔壁形成工程までの製造方法を説明する。
【００５８】
まず、図５（ａ）に示す工程（第１感光層形成工程）では、第１基板３１上に第１レジスト膜３２ａを塗布する。塗布する方法は、例えば、スピンコート法である。また、第１レジスト膜３２ａは、ネガ型のレジスト膜である。塗布する第１レジスト膜３２ａの厚みは、例えば、６００ｎｍである。第１レジスト膜３２ａの粘度は、例えば、１００ｃｐである。
【００５９】
第１レジスト膜３２ａの材料としては、オレフィン系の樹脂材料を含む。これに限らず、その他の樹脂材料としては、例えば、アクリレート、メタクリレート、シアノアクリレート、エポキシ系、パラフィン系、酢酸ビニル系、ウレタン系、アイオノマー系、エラストマー系、シリコーン系、フッ素系等のモノマー、オリゴマーやポリマーなどが挙げられる。
【００６０】
次に、図５（ｂ）に示す工程（ステップＳ１３）では、塗布した第１レジスト膜３２ａにプリベーク処理を行う。具体的な処理条件は、１回目として、加熱温度が６０℃であり、加熱時間が５分である。更に、２回目として、加熱温度が９０℃であり、加熱時間が３０分である。加熱する方法としては、例えば、ホットプレート４３が用いられる。
【００６１】
このように、第１レジスト膜３２ａに対し２段階に分けて熱処理（プリベーク処理）を行うことにより、第１レジスト膜３２ａの表面だけでなく、膜の全体をむらなく硬化させて、プリベーク処理後に硬化した第１レジスト膜３２ｂを得ることができる。
【００６２】
次に、図５（ｃ）に示す工程（ステップＳ１４）では、プリベーク処理を施した第１レジスト膜３２ｂの全面を露光する。ネガ型の第１レジスト膜３２ｂに露光処理することにより、第１レジスト膜３２ｃが硬化する。
【００６３】
次に、図５（ｄ）に示す工程（ステップＳ１５）では、第１レジスト膜３２ｃにベーク処理を施して第１絶縁層（の手前の段階である絶縁層前駆体膜３２ｄ）を形成する。ベーク処理の条件としては、加熱温度が９０℃であり、加熱時間が５分である。
【００６４】
第１絶縁層３２が厚くなると、電気泳動層に印加される実効電圧が低くなるため、画素電極２１と共通電極２２との間に印加すべき駆動電圧を高くしなければならない。たとえば、電気泳動層の厚さが４５μｍであり、第１絶縁層３２の厚さが１０μｍの場合、およそ６０Ｖ以上の駆動電圧が必要であり、第１絶縁層３２の厚さが５μｍの場合はおよそ４５Ｖの駆動電圧が必要であり、第１絶縁層３２の厚さが５００ｎｍの場合はおよそ４０Ｖの駆動電圧が必要である。
【００６５】
一方、第１絶縁層３２が薄すぎると、隔壁３５と第１絶縁層３２との間の密着性が低下し、第１絶縁層３２の厚さが１００ｎｍ未満では、十分な密着性が得られない。第１絶縁層３２の厚さが５００ｎｍ以上であれば、十分な密着性が得られる。従って、ベーク処理によって形成された第１絶縁層（絶縁層前駆体膜３２ｄ）の厚みとしては、例えば、１００ｎｍ〜１０μｍの範囲が好ましく、さらには５００ｎｍ〜５μｍであることが好ましい。
【００６６】
次に、図６（ｅ）に示す工程（ステップＳ２１、第２感光層形成工程）では、第１絶縁層（絶縁層前駆体膜３２ｄ）上に隔壁３５となる第２レジスト膜３５ａ（第２感光層）を塗布する。第２レジスト膜３５ａの材料は、例えば、上記した第１レジスト膜３２ａと（主成分が）同じである。塗布する第２レジスト膜３５ａの厚みは、例えば、４５μｍ〜５０μｍである。第２レジスト膜３５ａの粘度は、例えば、２０００ｃｐである。
【００６７】
次に、図６（ｆ）に示す工程（ステップＳ２２）では、第２レジスト膜３５ａにプリベーク処理を施す。具体的な処理条件としては、１回目として、加熱温度が６０℃であり、加熱時間が５分である。更に、２回目として、加熱温度が９０℃であり、加熱時間が３０分である。加熱する方法としては、ホットプレート４３が用いられる。これにより、第２レジスト膜３５ｂの全体が硬化する。
【００６８】
次に、図６（ｇ）に示す工程（ステップＳ２３）では、第２レジスト膜３５ｂを露光する。具体的には、マスクを用いて、隔壁３５の形状に沿って露光することにより、第２レジスト膜３５ｃがパターニングされる。
【００６９】
次に、図６（ｈ）に示す工程（ステップＳ２４）では、第２レジスト膜３５ｃにベーク処理を施す。ベーク処理の条件としては、加熱温度が９０℃であり、加熱時間が５分である。これにより、現像する前の段階である第２レジスト膜３５ｄが形成される。
【００７０】
次に、図７（ｉ）に示す工程（ステップＳ２５、除去工程、隔壁前駆体層形成工程）では、第２レジスト膜３５ｄを現像する。これにより、第２レジスト膜３５ｄから隔壁３５の形状となった隔壁前駆体膜３５ｅが形成される。現像後の隔壁前駆体膜３５ｅの高さとしては、例えば、５μｍ〜１００μｍである。なお、電気泳動粒子３４の移動性や表示特性の点で、２０μｍ〜６０μｍであることが好ましい。なお、絶縁層前駆体膜３２ｄは、図５（ｃ）に示す工程において露光されているので、膜が硬化している。よって、現像を行っても、絶縁層前駆体膜３２ｄはその状態のまま残る。
【００７１】
次に、図７（ｊ）に示す工程（ステップＳ２６、樹脂化工程）では、絶縁層前駆体膜３２ｄ及び隔壁前駆体膜３５ｅにポストベーク処理を施して、絶縁層前駆体膜３２ｄ及び隔壁前駆体膜３５ｅを樹脂化する。ポストベーク処理の条件としては、例えば、加熱温度が２１０℃であり、加熱時間が６０分である。これにより、樹脂化された第１絶縁層３２及び隔壁３５が完成する。なお、ポストベーク処理を行うことにより、第１絶縁層３２と隔壁３５との密着性を向上させることができる。以上により、素子基板５１側が完成する。
【００７２】
続いて、図４を参照しながら、対向基板５２側の製造方法を説明する。ステップＳ３１では、第２基板４１上に共通電極２２を形成する。具体的には、ガラス基板などの透光性材料からなる第２基板４１上の全面に、周知の成膜技術を用いて共通電極２２を形成する。以上により、対向基板５２側が完成する。引き続き、図４を参照しながら、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合わせる方法を説明する。
【００７３】
まず、ステップＳ４１では、素子基板５１における隔壁３５で囲まれた中に、電気泳動粒子３４を有する分散液１５を注入する。分散液１５の注入方法としては、基板全面に対し一度に注入してもよいし、画素１４（セル３６）ごとに液滴吐出法などを用いて所定量ずつ吐出するようにしてもよい。
【００７４】
分散液１５を構成する電気泳動粒子３４としては、有色または無色（白）の無機顔料粒子、有機顔料粒子、高分子微粒子等が挙げられる。これらを１種又は２種以上の混合で用いる。電気泳動粒子３４の径は、０．０５μｍから１０μｍの物が用いられ、更に、０．２μｍから２μｍが好ましい。分散液１５に対する割合は、５％〜９０％で用いるのが好ましく、更に、１０％から８０％で用いるのが望ましい。
【００７５】
分散液１５を構成する分散媒としては芳香族系炭化水素、ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン、アイソパー、パラフィン系炭化水素等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、リン酸エステル類、フタル酸エステル類、カルボン酸エステル類、塩素化パラフィン、シリコーン類等が挙げられるが、これに限定されるものではない。分散液１５に対する分散媒の割合は２０％から９０％となるようにするのが好ましく、更に、４０％から６０％が望ましい。
【００７６】
ステップＳ４２では、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合わせる。具体的には、素子基板５１に対向基板５２を貼り合わせるようにする。貼り合わせ方法は、例えば、素子基板５１と対向基板５２との間にフィルムやガラス基板を介し、加圧ローラーを用いて対向基板５２の一端部側から他端部側に転動させて、素子基板５１と対向基板５２とを密着させる。
【００７７】
ステップＳ４３では、素子基板５１と対向基板５２とを圧着し、電気泳動表示装置１１を完成させる。具体的には、素子基板５１及び対向基板５２を押圧し、隔壁３５と対向基板５２の表面とを圧着する。加えて、図示しない非相溶性の接着剤などを用いることにより、素子基板５１及び対向基板５２によって挟持された空間が封止される。
【００７８】
このように、第１レジスト膜３２ａから形成された第１絶縁層３２と共通電極２２との間に電気泳動層３３が挟持されているので、直接、電気泳動粒子３４と画素電極２１とが接触しない。よって、電極に電気泳動粒子３４が付着することによって泳動しなくなることが抑えられ、良好な電気泳動を得ることができる。以上により、電気泳動表示装置１１が完成する。
【００７９】
＜電子機器の構成＞
図８は、上記した電気泳動表示装置を備えた電子機器の一例として電子ペーパー（ＥＰＤ：Electronic Paper Display）の構成を模式的に示す斜視図である。以下、電気泳動表示装置を備えた電子ペーパーの構成を、図８を参照しながら説明する。
【００８０】
図８に示すように、電子ペーパー６１は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシートで構成される本体６２と、表示ユニット６３とを備えている。このような電子ペーパー６１では、表示ユニット６３が、前述したような電気泳動表示装置１１で構成されている。
【００８１】
以上詳述したように、本実施形態の電気泳動表示装置１１、電気泳動表示装置１１の製造方法、及び電子機器によれば、以下に示す効果が得られる。
【００８２】
（１）本実施形態によれば、隔壁３５と第１絶縁層３２とが同じ主成分の材料で構成されるので、隔壁３５と第１絶縁層３２との密着性を向上させることができる。よって、密着面積を増やすために、基板（第１絶縁層３２）の表面を粗面化しなくても、隔壁３５が剥離したり浮きが発生したりすることを防ぐことができる。加えて、粗面化により基板（第１絶縁層３２）の透光性が低下することを防ぐことができる。また、絶縁層前駆体膜３２ｄ及び隔壁前駆体膜３５ｅにポストベーク処理を施して、絶縁層前駆体膜３２ｄ及び隔壁前駆体膜３５ｅを樹脂化するので、隔壁３５と第１絶縁層３２との密着性を向上させることができる。
【００８３】
（２）本実施形態によれば、第１絶縁層３２によって画素電極２１上の全面が覆われるので、画素電極２１と電気泳動層３３とが直接接触することを防ぐことができる。よって、電気泳動層３３に含まれる電気泳動粒子３４が画素電極２１に付着することなく、画素電極２１と共通電極２２との間に生ずる電界によって電気泳動粒子３４を容易に移動させることができる。
【００８４】
（３）本実施形態によれば、上記に記載した電気泳動表示装置１１を電子ペーパー６１に備えるので、透光性が低下することが抑えられ、安定した表示品質を得ることができる。
【００８５】
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
【００８６】
（変形例１）
上記したように、フォトリソグラフィ法を用いると共に第１絶縁層３２と隔壁３５とを別々に形成することに限定されず、以下のように形成するようにしてもよい。例えば、図９に示すように、ナノインプリント法（転写法）を用いて隔壁１３５（第１絶縁層を含む）を形成するようにしてもよい。図９（ａ）〜（ｃ）は、素子基板の製造方法の一部を工程順に示す模式断面図である。
【００８７】
具体的には、まず、図９（ａ）に示すように、例えば、第１基板３１上に紫外線硬化型の樹脂１３５ａを塗布する。次に、図９（ｂ）に示すように、隔壁１３５及び第１絶縁層１３２の形状に倣って凹んだ型１３１を押し当てる（成形処理、前駆体層成形処理工程）。その状態で紫外線を照射して樹脂１３２ａ，１３５ｂを硬化させる。その後、図９（ｃ）に示すように、第１基板３１から型１３１を外すことにより、第１基板３１上に第１絶縁層１３２（残渣）及び隔壁１３５が形成される。なお、紫外線硬化型の樹脂１３５ａを用いることに限定されず、加熱して硬化させる熱硬化型の樹脂を用いるようにしてもよい。
【００８８】
このように形成すれば、隔壁１３５と第１絶縁層１３２とが一体で形成されるので、互いの密着力を向上させることができる。また、１層の樹脂１３５ａに成形処理を施して隔壁１３５及び第１絶縁層１３２を形成するので、隔壁と第１絶縁層とを別々の工程で形成する方法と比較して、少ない工程数で形成することができる。
【００８９】
（変形例２）
上記したように、第１基板３１（画素電極２１）上の全面を覆うように第１絶縁層３２を設けることに限定されず、例えば、図１０及び図１１に示すような形態でもよい。図１０及び図１１は、素子基板の構造を示す模式断面図である。
【００９０】
図１０に示す素子基板２５１は、第１絶縁層２３２が第１基板３１上の全面に形成されているのではなく、第１絶縁層２３２の間に形成されている部分が、上記した実施形態と異なっている。つまり、複数に分割された第１絶縁層２３２の上に隔壁２３５が形成されている。
【００９１】
これによれば、第１基板３１上に設けられた画素電極２１と、電気泳動層とが接触する構成になるものの、互いが同じ主成分の材料で構成されているので、第１絶縁層２３２と隔壁２３５との密着性を向上させることができる。よって、第１基板３１から隔壁２３５が剥離したり浮きが発生することを防ぐことができると共に、透光性が低下することを抑えることができる。また、平面積が大きい第１絶縁層２３２の上に隔壁２３５が設けられているので、隔壁２３５の第１絶縁層２３２への密着性を向上させることができる。
【００９２】
図１１に示す素子基板３５１は、第１絶縁層３３２が第１基板３１上の全面に形成されているのではなく、隔壁３３５が設けられる領域に形成されている部分、更に、第１絶縁層３３２と隔壁３３５とが一体構造となっている部分が、上記した実施形態と異なっている。
【００９３】
これによれば、図１０に示す素子基板２５１の場合と比較して、第１絶縁層３３２と隔壁３３５とが一体となっているので、隔壁３３５の部分のみが第１基板３１から剥離したり浮いたりすることをより抑えることができる。
【００９４】
（変形例３）
上記した実施形態のようなフォトリソグラフィ法を用いることに限定されず、例えば、ハーフトーンマスクやダブルパターニング法などを利用して、隔壁３５及び第１絶縁層３２を形成するようにしてもよい。具体的には、レジスト膜において隔壁３５となる部分に第１強度の露光を行い、レジスト膜において第１絶縁層３２となる一部の部分に第１強度より強度が弱い第２強度の露光を行うようにする。また、フォトリソグラフィ法やナノインプリント法に限定されず、スクリーン印刷法、凸版印刷法、グラビア印刷法などの印刷プロセスで形成するようにしてもよい。
【００９５】
（変形例４）
上記したように、第１基板３１及び第２基板４１は、表示側に光透過性を有する材料を用いればよく、ガラス基板の他、プラスチックや金属よりなるフレキシブル基板を用いるようにしてもよい。プラスチックを用いる場合、例えば、上記したポストベーク処理の温度を１５０℃程度に低下させ、加熱時間を２〜３時間行うようにする。この場合、電気泳動表示装置１１に、薄膜トランジスターとしてフレキシブル性を有する有機薄膜トランジスター（有機ＴＦＴ）を備えることが好ましい。
【００９６】
（変形例５）
上記したように、隔壁３５と第１絶縁層３２とが同じ主成分の材料同士で構成されることに限定されず、以下のように材料を組み合わせて構成するようにしてもよい。例えば、アクリレートに対しては、ポリプロピレンやポリエチレンに代表されるポリオレフィン系の材料を組み合わせるようにしてもよい。なお、組成の中にベンゼン環を持たないものが良い。また、エポキシ系に対しても同様に、ポリプロピレンやポリエチレンに代表されるポリオレフィン系の材料を組み合わせるようにしてもよい。なお、組成の中にベンゼン環を持たないものが良い。このように、第１絶縁層３２の主成分と類似している主成分を有する材料にて隔壁３５を形成してもよい。
【００９７】
（変形例６）
上記したように、隔壁３５の形状は、平面的に格子状（図３参照）であることに限定されず、例えば、ハニカム形状、多角形状、丸形状、三角形状などの形状であってもよい。
【００９８】
（変形例７）
上記したように、電気泳動表示装置１１は白黒表示の構造であることに限定されず、カラー表示が可能な構造にしてもよい。例えば、１つのセル３６の中に複数の画素電極２１を含む構成にし、３つの色をもったそれぞれの電気泳動粒子を入れて各色を表示するようにしてもよい。また、１つのセル３６の中に複数の画素電極２１を備えることにより、隔壁３５の構成を簡略化して高精細表示させることができる。
【００９９】
（変形例８）
上記したように、ネガ型のレジスト膜を用いることに限定されず、ポジ型のレジスト膜を用いて、隔壁３５や第１絶縁層３２を形成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【０１００】
１１…電気泳動表示装置、１２…データ線、１３…走査線、１４…画素、１５…分散液、１６…トランジスター、２１…第１電極としての画素電極、２２…第２電極としての共通電極、３１…第１基板、３２，１３２，２３２，３３２…絶縁層としての第１絶縁層、３２ａ，３２ｂ，３２ｃ…第１感光性材料としての第１レジスト膜（第１感光層）、３２ｄ…絶縁層前駆体膜、３３…電気泳動層、３４…電気泳動粒子、３５，２３５，３３５…隔壁、３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ…第２レジスト膜（第２感光層）、３５ｅ…隔壁前駆体膜、３６…セル、４１…第２基板、４３…ホットプレート、５１，２５１，３５１…素子基板、５２…対向基板、６１…電子ペーパー、６２…本体、６３…表示ユニット、１３１…型、１３２ａ，１３５ａ，１３５ｂ…樹脂。
【図１】
2011237706.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2011237706.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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