(57)【要約】【課題】加熱や加湿を伴うことなく加熱室あるいはその中に入れられた物品の脱臭と除菌を行うことができる加熱調理器を提供する。【解決手段】加熱調理器１は加熱室２０を有し、その中に入れられる食品Ｆは、高周波、蒸気、熱風、あるいはそれらの組み合わせにより加熱される。加熱室２０は、内部の気体を循環させる循環ファン５１と、外部からの給気と外部に対しての排気を行う給排気ファン３１を備える。給排気ファン３１と排気口３２を結ぶ送風ダクト３３には、加熱室２０に対する空気流入路となる給気管３６と、加熱室２０からの空気流出路となる排気管３７が設けられる。給気管３６にはイオン発生器４４が配置される。給気管３６と排気管３７には、イオン発生器４４が発生した正負イオンを加熱室２０の内部に導入するのか、加熱調理器１の外部に放出するのかを選択する流路切替装置４０が設けられる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室と、
前記加熱室に空気を流入させる空気流入路と、
前記空気流入路を流れる空気中に正負イオンを放出するイオン発生器と、
を備えることを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記空気流入路を流れる正負イオンを含む空気を外部に排出する流路切替装置を備えることを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記空気流入路内の空気流はファンによって生成されるものであり、前記ファン及び前記イオン発生器は非調理時にも駆動可能であることを特徴とする請求項２に記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記加熱室の外に、当該加熱室内の空気を循環させる循環ダクトが設けられ、当該循環ダクトが前記空気流入路の一環となることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記循環ダクトの外に前記イオン発生器が配置されることを特徴とする請求項４に記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記循環ダクトの中に前記イオン発生器が配置されることを特徴とする請求項４に記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記加熱室に流入する気体を加熱するヒータを備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項８】
前記加熱室に蒸気を供給する蒸気発生装置を備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項９】
前記加熱室に高周波を供給する高周波発生装置を備えることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
オーブン形式の加熱調理器で使用者を悩ますものの一つに、加熱室内部にこもる臭気がある。臭気は加熱対象である食品から発生することもあるし、加熱室内面に付着した汚れが臭気発生源となることもある。汚れは雑菌の温床ともなり得る。
【０００３】
上記のような臭気や汚れに対処する手段を備えた加熱調理器も提案されている。その例を特許文献１に見ることができる。特許文献１記載の加熱調理器では、ラジカル化した蒸気を加熱室内に吹き出して被加熱物から発生する臭いや加熱室の汚れ、菌に作用させ、被加熱物の品質を保持している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３０２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１記載の加熱調理器は、加熱室内の脱臭や除菌にラジカル化した蒸気を使用している。蒸気が当たればその箇所は加熱され、加湿される。このような加熱と加湿が全ての脱臭対象物あるいは除菌対象物にとり望ましい訳ではなく、中にはそれを避けた方が良いものもある。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みなされたものであり、加熱や加湿を伴うことなく加熱室あるいはその中に入れられた物品の脱臭と除菌を行うことができる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の好ましい実施形態によれば、加熱調理器は、加熱室と、前記加熱室に空気を流入させる空気流入路と、前記空気流入路を流れる空気中に正負イオンを放出するイオン発生器と、を備える。
【０００８】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記空気流入路を流れる正負イオンを含む空気を外部に排出する流路切替装置を備える。
【０００９】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記空気流入路内の空気流はファンによって生成されるものであり、前記ファン及び前記イオン発生器は非調理時にも駆動可能である。
【００１０】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記加熱室の外に、当該加熱室内の空気を循環させる循環ダクトが設けられ、当該循環ダクトが前記空気流入路の一環となる。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記循環ダクトの外に前記イオン発生器が配置される。
【００１２】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記循環ダクトの中に前記イオン発生器が配置される。
【００１３】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記加熱室に流入する気体を加熱するヒータを備える。
【００１４】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記加熱室に蒸気を供給する蒸気発生装置を備える。
【００１５】
本発明の好ましい実施形態によれば、上記構成の加熱調理器において、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生装置を備える。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によると、加熱室に流入する空気に正負イオンを放出し、正負イオンの作用で脱臭と除菌を行うものであるから、加熱室あるいはその中に入れられた物品の脱臭と除菌を、必ずしも加熱や加湿を伴うことなく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る加熱調理器の第１実施形態を示す正面図である。
【図２】前記加熱調理器を正面から見た概略垂直断面図である。
【図３】前記加熱調理器を正面から見た概略垂直断面図で、図２と異なる状態を示すものである。
【図４】前記加熱調理器の操作部の正面図である。
【図５】前記加熱調理器のブロック構成図である。
【図６】前記加熱調理器の動作を説明する第１のフローチャートである。
【図７】前記加熱調理器の動作を説明する第２のフローチャートである。
【図８】本発明に係る加熱調理器の第２実施形態を示す、図３と同様の概略垂直断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図に基づき本発明の実施形態である加熱調理器１の構造を説明する。図１において、紙面の上下は加熱調理器１の上下に一致する。また紙面左側が加熱調理器１の左側、紙面右側が加熱調理器１の右側であるものとする。
【００１９】
加熱調理器１は直方体形状の板金製構造体からなる筐体１０を備える。筐体１０の内部には一回り小さな直方体形状の板金製構造体からなる加熱室２０が設けられる。加熱室２０は筐体１０の正面側が開口部となっている。筐体１０の正面には加熱室２０の開口部を開閉する金属製の扉１１が設けられる。扉１１は下部を支点として垂直面内で回動するものであり、上部のハンドル１２を握って手前に引くことにより、垂直な全閉位置から水平な全開位置へと９０°姿勢変換させることができる。
【００２０】
扉１１には加熱室２０の内部を見通す窓１３が形成される。窓１３にはパンチングメタルを２枚のガラス板で挟んだドアスクリーン１４がはめ込まれ、透視性を保ちつつ電波漏洩が防がれるようになっている。扉１１にはドアスクリーン１４以外にも電波漏洩防止対策が施され、加熱室との間には気体漏洩を防ぐガスケットが配置され、また閉鎖状態を保つ附勢装置またはロック装置が設けられるが、それらはいずれも周知技術なので、詳細説明は省略する。
【００２１】
調理中の食材から発生した蒸気や、調理に用いる蒸気が扉１１の内面に結露することがある。結露水が滴り落ちて加熱調理器１の設置場所を濡らさないように、扉１１の下には露受け１５が配置されている。
【００２２】
筐体１０には、扉１１の右側の部分に操作部１６が形成される。筐体１０の一部を構成する操作部カバー１６ａには、操作インターフェースとして、一群の操作キー１６ｂやエンコーダダイヤル１６ｃが配置されている。操作キー１６ｂの上方には表示装置１６ｄが配置されている。
【００２３】
操作部１６の詳細を図４に示す。操作キー１６ｂは次の４種類のキーを含む。すなわちキッチン除菌キー１６ｂ１、とりけしキー１６ｂ２、戻るキー１６ｂ３、及びスタートキー１６ｂ４である。エンコーダダイヤル１６ｃの中心には決定キー１６ｅが設けられる。なお、キッチン除菌キー１６ｂ１、スタートキー１６ｂ４、及び決定キー１６ｅの中に見られる小円は、それぞれのキーを押すことにより開始された動作が継続中であることを表示するＬＥＤランプである。
【００２４】
筐体１０は脚部１７によってテーブルや台の上に支持される。脚部１７は正面側と背面側の左右２箇所ずつに設けられ、４点支持を形成する。
【００２５】
続いて加熱調理器１の内部構造を説明する。加熱室２０の右側の側壁（以下「右側壁」と称する）の外側には２種類のファンが設けられている。一つは給排気ファン３１、他の一つは循環ファン５１である。給排気ファン３１は筐体１０の外部の空気を吸い込み、その空気を筐体１０の天面に設けられた排気口３２から排出するものであって、空気は加熱室２０を経由してから排出されることもあれば、加熱室２０を経由しないで排出されることもある。循環ファン５１は加熱室２０の内部の気体を循環させるものである。
【００２６】
続いて給排気ファン３１及び排気口３２を構成要素に含む給排気経路３０につき説明する。給排気経路３０の中心となるのは送風ダクト３３である。送風ダクト３３は、給排気ファン３１を収納したファンケーシング３４と排気口３２を結ぶ形で上下方向に延び、排気口３２よりも少し下の箇所にエジェクタ部３５を有している。
【００２７】
エジェクタ部３５の少し下からは、加熱室２０に対する空気流入路となる給気管３６が水平に延び出し、エジェクタ部３５からは、加熱室２０からの空気流出路となる排気管３７が水平に延び出す。給気管３６は加熱室２０の右側壁に設けられた吹出口２１に接続し、排気管３７は同じく加熱室２０の右側壁に設けられた吸込口２２に接続される。吹出口２１と吸込口２２はいずれも複数の小孔の集合からなる。
【００２８】
給気管３６の途中には給気ダンパ３８が設けられ、排気管３７の途中には排気ダンパ３９が設けられる。給気ダンパ３８と排気ダンパ３９はいずれも電動式であり、両者が合わさって流路切替装置４０を構成する。給気ダンパ３８にはエジェクタ部３５に接続する戻り管４１が接続され、排気ダンパ３９には筐体１０の外部から空気を吸い込む吸気管４２が接続される。
【００２９】
給気ダンパ３８は、送風ダクト３３から吹出口２１までの流路を開き、戻り管４１への流路を閉ざす第１態勢と、送風ダクト３３から吹出口２１までの流路を閉ざし、戻り管４１への流路を開く第２態勢とに切り替えられる。第１態勢を給気ダンパ３８の「開」状態と定義し、第２態勢を給気ダンパ３８の「閉」状態と定義する。
【００３０】
排気ダンパ３９は、吸込口２２から送風ダクト３３までの流路を開き、吸気管４２からの流路を閉ざす第１態勢と、吸込口２２から送風ダクト３３までの流路を閉ざし、吸気管４２からの流路を開く第２態勢とに切り替えられる。第１態勢を排気ダンパ３９の「開」状態と定義し、第２態勢を排気ダンパ３９の「閉」状態と定義する。
【００３１】
エジェクタ部３５には、加熱室２０の底部近くに設けられた排気口２３から延びる排気管４３も接続される。
【００３２】
給気管３６には、送風ダクト３３と給気ダンパ３８の間の位置にイオン発生器４４が配置される。イオン発生器４４は、給気管３６を流れる空気中に正負イオンを放出する。
【００３３】
排気管３７には、排気ダンパ３９とエジェクタ部３５との間の位置に絶対湿度センサ４５が配置される。絶対湿度センサ４５は、排気管３７を流れる空気中の湿度を測定する。
【００３４】
続いて循環ファン５１を構成要素に含む循環経路５０につき説明する。循環経路５０の中心となるのは加熱室２０の外に設けられた循環ダクト５２である。循環ダクト５２は、加熱室２０の右側壁に設けられた吸込口２４を始端とし、加熱室２０の左側壁に設けられた吹出口２５Ｕ、２５Ｄを終端とするものであり、その途中では、加熱室２０の天面の上を通る。吸込口２４と吹出口２５Ｕ、２５Ｄはいずれも複数の小孔の集合からなる。
【００３５】
循環ダクト５２には、吸込口２４に向かい合う位置に、循環ファン５１を収納するファンケーシング５３が形成されている。吸込口２４とファンケーシング５３の間には温度センサ５４が配置されている。
【００３６】
加熱調理器１は、高周波による加熱、熱風による加熱、蒸気による加熱、及びそれらを組み合わせた加熱が可能となっている。続いて、各加熱手段の構成を説明する。
【００３７】
加熱室２０の底部と筐体１０の底部の間の空間には、マグネトロン６０と、マグネトロン６０から発生した高周波を加熱室２０に供給する導波管６１が配置される。導波管６１は加熱室２０の底部の下に広がるアンテナ室６２に接続する。加熱室２０の底部にはガラスやセラミックなどの誘電体からなる底トレイ６３がはめ込まれる。底トレイ６３はアンテナ室６２を加熱室２０から隔てるものであって、加熱室２０にとっては底板となり、アンテナ室６２にとっては天井板となる。
【００３８】
アンテナ室６２には回転アンテナ６４が配置される。回転アンテナ６４はアンテナモータ６５の軸６５ａの上端に取り付けられており、アンテナモータ６５の回転により水平面内で連続回転しつつ加熱室２０内の高周波の分布をコントロールする。
【００３９】
熱風による加熱は、循環ダクト５２の中に配置された気体加熱ヒータ５６により実現される。循環ダクト５２は、加熱室２０の天面の上の箇所が気体加熱ヒータ室５７として構成されており、その中に気体加熱ヒータ５６が配置される。気体加熱ヒータ室５７の底部と加熱室２０の天井部を兼ねる板材には、多数の吹出口５８が分散配置されている。
【００４０】
蒸気による加熱を実現するのは、加熱室２０の右側壁の外側に設置された蒸気発生装置７０である。蒸気発生装置７０は内部の水を蒸気発生ヒータ７１で沸騰させて飽和蒸気を発生させる。蒸気発生装置７０から延び出す蒸気供給管７２は循環ダクト５２に接続される。接続箇所はファンケーシング５３の上流側である。
【００４１】
加熱調理器１の制御システムは図５に示す構成となっている。加熱調理器１全体の制御を行う制御装置８０はマイクロコンピュータを中核として構成され、様々な構成要素から出力信号を受け取り、また様々な構成要素に対し制御信号を出力する。
【００４２】
制御装置８０に信号を出力する構成要素には、既出の表示部１６（表示部１６ｄを除く）、絶対湿度センサ４５、及び温度センサ５４の他、次のものが含まれる。すなわち扉１１が開いた状態にあるか閉じた状態にあるかを検知する扉開閉センサ１１ａ、蒸気発生装置７０の中の水位を測定する水位センサ７０ａ、及び図示しない給水タンクの中の水位を測定するタンク水位センサ７３である。
【００４３】
制御装置８０から制御信号を受けて動作を行う構成要素には、既出の表示部１６ｄ、給排気ファン３１、給気ダンパ３８、排気ダンパ３９、イオン発生器４４、循環ファン５１、アンテナモータ６５、気体加熱ヒータ５６、及び蒸気発生ヒータ７１の他、次のものが含まれる。すなわち、マグネトロン６０を励振する高周波駆動電源６６と、図示しない給水タンクから蒸気発生装置７０に給水する給水ポンプ７４である。
【００４４】
続いて加熱調理器１の動作を説明する。まず扉１１を開け、加熱室２０の中に被加熱物である食品Ｆを入れる。そして扉１５を閉じ、操作部１６を通じて調理条件を入力し、スタートキー１６ｂ４を押して調理を開始する。
【００４５】
図２は高周波で調理を行う状況を示している。食品Ｆは皿２６に載せられて底トレイ６３の上に置かれている。ここでは高周波駆動電源６６、給排気ファン３１、及びアンテナモータ６５がＯＮにされる。給気ダンパ３８と排気ダンパ３９は開状態にされる。
【００４６】
高周波駆動電源６６がＯＮとなることによりマグネトロン６０が発振して高周波が発生し、発生した高周波は導波管６１を通じてアンテナ室６２に入る。アンテナ室６２に入った高周波はアンテナ６４に受信された後、底トレイ６３を通じて加熱室２０に放射され、加熱室２０内の食品Ｆを加熱する。
【００４７】
給排気ファン３１がＯＮになると、筐体１０の外部の空気がファンケーシング５３に吸い込まれる。その空気はファンケーシング５３から排気口３２に向けて送り出されるが、一部は給気管３６に入り、吹出口２１から加熱室２０に吹き出す。給気管３６は加熱室２０に空気を流入させる空気流入路ということになる。
【００４８】
また、排気口３２に向かう空気流がエジェクタ部３５に負圧をもたらし、その負圧により、加熱室２０の内部の空気が吸い出される。吸い出されるルートは、吸込口２２から排気管３７を通るルートと、吸込口２３から排気管４３を通るルートの二通りである。吸い出された空気は送風ダクト３３を流れる空気流の本流に合流し、排気口３２から筐体１０の外部に排出される。
【００４９】
このようにして、筐体１０の外部の新鮮な空気が加熱室２０に供給され、食品Ｆから発生する蒸気や臭気を含んだ加熱室２０内の空気は、エジェクタ部３５に吸い出された上で、送風ダクト３３を吹き上げる外部からの空気により希釈されて筐体１０の外部に排出される。
【００５０】
図３は過熱蒸気で調理を行う状況を示している。食品Ｆは金属製トレイ２７の上の金属線材製ラック２８に支持されている。トレイ２７は加熱室２０の右側壁と左側壁にそれぞれ形成された図示しないトレイ受けに両側縁を支持されている。トレイ受けは吹出口２５Ｕと吹出口２５Ｄの間の高さに設けられている。
【００５１】
ここでは蒸気発生ヒータ７１、気体加熱ヒータ５６、及び循環ファン５１がＯＮにされる。給気ダンパ３８と排気ダンパ３９は閉状態にされる。
【００５２】
循環ファン５１がＯＮになることにより、加熱室２０の中から吸込口２４に吸い込まれ、循環ダクト５２の中を通って吹出口２５Ｕ、２５Ｄより加熱室２０に戻る循環気流が形成される。すなわち循環経路５０は加熱室２０に空気を流入させる空気流入路の一環ということになる。蒸気発生装置７０の中で水が沸騰して生じた飽和蒸気は蒸気供給管７２を通じて循環ダクト５２に送り込まれ、循環気流に合流して気体加熱ヒータ５６に向かう。
【００５３】
発熱状態の気体加熱ヒータ５６に当たることにより、飽和蒸気は過熱蒸気になる。過熱蒸気の一部は吹出口５８から下向きに吹き出し、食品Ｆを包む。過熱蒸気の残部は吹出口
２５Ｕ、２５Ｄから吹き出し、食品Ｆを包む。食品Ｆを包む過熱蒸気は、過熱蒸気としての温度と、食品Ｆの表面に接触して凝結するときに顕熱化する潜熱の両方で食品Ｆを加熱する。加熱室２０の中の蒸気は、吸込口２４に吸い込まれては吹出口５８、２５Ｕ、２５Ｄより加熱室２０に戻るという循環を繰り返す。
【００５４】
加熱室２０の中の余剰の空気または蒸気は排気管４３を通じて排気口３２から排出される。加熱室２０の中の空気が蒸気に置き換わって行くことにより、加熱室２０の内部は低酸素状態になる。このため、食味を劣化させることなく食品Ｆを加熱することができる。また、食品Ｆの表面で凝結する過熱蒸気は、水滴となってトレイ２７に滴下する過程で食品Ｆに含まれる油脂分や塩分を溶解するので、減脂減塩調理が可能となる。
【００５５】
蒸気発生ヒータ７１と循環ファン５１のみＯＮにし、気体加熱ヒータ５６をＯＦＦにすれば、飽和蒸気による蒸し調理を行うことができる。気体加熱ヒータ５６と循環ファン５１のみＯＮにし、蒸気発生ヒータ７１をＯＦＦにすれば、熱風調理を行うことができる。
【００５６】
過熱蒸気による調理、飽和蒸気による蒸し調理、熱風調理のいずれにおいても、高周波による調理を併用することができる。
【００５７】
過熱蒸気または飽和蒸気を用いて調理を行う場合、給排気ファン３１をＯＮにしておけば、排気管４３からエジェクタ部３５に入った蒸気は送風ダクト３３を流れる空気で希釈され、低温化して安全となる。また空気による希釈で相対湿度が下がる形になり、周囲の壁に結露が生じにくい。
【００５８】
高周波による調理、過熱蒸気による調理、飽和蒸気による蒸し調理、熱風調理、あるいはそれらを組み合わせた調理シーケンスが終了したら、扉１１を開け、加熱室２０の中から食品Ｆを取り出す。
【００５９】
給気ダンパ３８と排気ダンパ３９が開状態で給排気ファン３１がＯＮ状態であるとき、すなわち高周波で調理を行うときにイオン発生器４４をＯＮにすれば、加熱室２０に正負イオンを導入することができる。図２の中の黒く塗りつぶした矢印は、正負イオンを含む空気流であることを示す。
【００６０】
イオン発生器４４の中の図示しない電極に交流波形またはインパルス波形の電圧を印加すると、印加電圧が正電圧のときは主としてＨ+（Ｈ2Ｏ）nから成る正イオンが発生し、印加電圧が負電圧のときは主としてＯ2-（Ｈ2Ｏ）mから成る負イオンが発生する。ｎ、ｍは整数である。Ｈ+（Ｈ2Ｏ）nとＯ2-（Ｈ2Ｏ）mは加熱室２０内に存在する微生物を取り囲み、微生物の表面で凝集する。
【００６１】
Ｈ+（Ｈ2Ｏ）nとＯ2-（Ｈ2Ｏ）mが出会うと、下記の式（１）〜（３）の化学反応により、活性種である［・ＯＨ］（水酸基ラジカル）やＨ2Ｏ2（過酸化水素）が生成される。
【００６２】
Ｈ+（Ｈ2Ｏ）n＋Ｏ2-（Ｈ2Ｏ）m
→  ・ＯＨ＋１/２Ｏ2＋（ｎ＋ｍ）Ｈ2０      ・・・（１）
Ｈ+（Ｈ2Ｏ）n＋Ｈ+（Ｈ2Ｏ）n´＋Ｏ2-（Ｈ2Ｏ）m＋Ｏ2-（Ｈ2Ｏ）m´
→  ２・ＯＨ＋Ｏ2＋（ｎ＋ｎ´＋ｍ＋ｍ´）Ｈ2Ｏ      ・・・（２）
Ｈ+（Ｈ2Ｏ）n＋Ｈ+（Ｈ2Ｏ）n´＋Ｏ2-（Ｈ2Ｏ）m＋Ｏ2-（Ｈ2Ｏ）m´
→  Ｈ2Ｏ2＋Ｏ2＋（ｎ＋ｎ´＋ｍ＋ｍ´）Ｈ2Ｏ      ・・・（３）
【００６３】
［・ＯＨ］やＨ2Ｏ2は極めて強力な活性を有するので、その活性を利用して除菌を行うことができる。
【００６４】
［・ＯＨ］は、臭いの元となる有機化合物のＣ−Ｃ結合、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合等に作用して結合を分解する。これにより、脱臭効果が生じる。臭いの元となる代表的な物質に対する分解作用を下記の式（４）〜（６）に示す。
【００６５】
酢酸との反応：
ＣＨ3ＣＯＯＨ＋８・ＯＨ  →  ２ＣＯ2＋６Ｈ2Ｏ      ・・・（４）
アセトアルデヒドとの反応：
ＣＨ3ＣＨＯ＋１０・ＯＨ  →  ２ＣＯ2＋７Ｈ2Ｏ      ・・・（５）
ベンゼンとの反応：
Ｃ6Ｈ6＋３０・ＯＨ  →  ６ＣＯ2＋１８Ｈ2Ｏ         ・・・（６）
【００６６】
このように、給気ダンパ３８と排気ダンパ３９により構成される流路切替装置４０により、加熱室２０に対してのみ、高濃度の正負イオンを導入することにより、加熱室２０の内部空間を浮遊していたり、加熱室２０の内面や食品Ｆの表面に付着していたりする微生物を除去することができる。また、加熱室２０の内部空間を浮遊していたり、加熱室２０の内面や食品Ｆの表面に付着していたりする臭い物質を分解し、脱臭を行うことができる。このときの加熱室２０内の空間中心部におけるイオンカウンタによる正負イオン濃度の測定値はそれぞれ約４００，０００個／ccであり、除菌及び脱臭を行うのに十分な濃度であった。
【００６７】
脱臭効果を確認する試験の結果を表１に示す。この試験では、にんにく１片を出力６００Ｗで２分間、レンジ加熱（高周波による加熱）を行い、加熱終了後も加熱室内への送風を１０分間継続し、このときの送風への正負イオン放出がある場合とない場合について、送風終了後の加熱室内の臭気を官能試験で判定した。その結果、正負イオンを放出した場合は臭気の残存はなかったが、正負イオン放出がない場合は臭気が残存していた。
【００６８】
【表１】
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【００６９】
加熱室２０に導入された正負イオンの一部はエジェクタ部３５に吸い出され、送風ダクト３３を流れる空気流の本流に合流して排気口３２から筐体１０の外部に放出される。残りの正負イオンにより、排気経路に付着した臭いの脱臭も行われる。ただし、加熱室２０から排気経路を通って外部の空間へ排出される正負イオン濃度は、途中で消滅するために排気口３２からの吹き出し直後にそれぞれ約８，０００個／ccへと低減し、排気自体には十分な濃度であるが、キッチン全体を除菌するには十分な濃度とはならないものであった。
【００７０】
正イオンと負イオンが出会うことにより生じるラジカルは、オゾン、スーパーオキサイドアニオン、次亜塩素酸等のラジカルに比べて安全であり、寿命が長い。そのため、加熱室２０内の隅々までラジカルを供給できる。
【００７１】
加熱調理を行うと、食品Ｆから蒸発する水分により、加熱室２０の内外の湿度が上昇する。湿度のもととなる水分がラジカルを運ぶキャリアとして作用し、隅々までラジカルが浸透しやすくなる。
【００７２】
加熱室２０への正負イオンの導入は、高周波による加熱に伴って自動的に遂行されるようにしてもよく、操作部１６のキー操作で選択できるようにしてもよい。例えば、キッチン除菌キー１６ｂ１をそれに割り当てることができる。
【００７３】
高周波で調理を行いつつ加熱室２０に正負イオンを導入する動作フローが図６に示されている。この動作フローにつき説明する。
【００７４】
ステップ＃１０１では給気ダンパ３８と排気ダンパ３９が開状態にされる。
【００７５】
ステップ＃１０２では給排気ファン３１、イオン発生器４４、及び高周波駆動電源６６がＯＮにされ、食品Ｆの加熱と、加熱室３０への正負イオンの導入が開始される。
【００７６】
ステップ＃１０３では、高周波による加熱時間として設定された所定時間（ｔ１）が経過したかどうかをチェックする。所定時間（ｔ１）が経過したらステップ＃１０４に進む。
【００７７】
ステップ＃１０４では調理の終了が報知される。また高周波駆動電源６６がＯＦＦにされる。給排気ファン３１とイオン発生器４４はＯＮのままであり、食品Ｆから発生する蒸気や臭気を含んだ加熱室２０内の空気の排出と、加熱室２０の内部空間を浮遊していたり、加熱室２０の内面や食品Ｆの表面に付着していたりする微生物の除去、及び加熱室２０の内部空間を浮遊していたり、加熱室２０の内面や食品Ｆの表面に付着していたりする臭い物質の分解は継続して行われる。
【００７８】
ステップ＃１０５では、給排気ファン３１とイオン発生器４４のＯＮ状態継続時間として設定された所定時間（ｔ２）が経過したかどうかをチェックする。所定時間（ｔ２）が経過したらステップ＃１０６に進む。
【００７９】
ステップ＃１０６では給排気ファン３１とイオン発生器４４がＯＦＦにされる。これにより、高周波による調理は完全に終了する。
【００８０】
給気ダンパ３８と排気ダンパ３９を閉状態にしておいて行う調理、すなわち過熱蒸気による調理、飽和蒸気による蒸し調理、及び熱風調理の間に、イオン発生器４４と給排気ファン３１をＯＮにすることができる。図３に示す通り、このモードでは、正負イオンは加熱室２０ではなくエジェクタ部３５に導入され、送風ダクト３３を流れる空気流に合流して排気口３２から放出される。すなわち加熱調理器１の外部の空間に正負イオンが放出され、その空間の除菌と脱臭が行われることになる。なお図３の中の黒く塗りつぶした矢印は正負イオンを含む空気流であることを示し、網掛けを施した矢印は循環気流であることを示す。
【００８１】
図３のモードでは、給気ダンパ３８と排気ダンパ３９により構成される流路切替装置４０により、加熱調理器１の外部の空間に対してのみ正負イオンが供給される。このため、高濃度の正負イオンを外部空間に放出できる。このときの排気口３２から吹き出された直後の正負イオン濃度の測定値はそれぞれ約２００，０００個／ccであり、図２のモードよりも高濃度となり、排気自体の除菌、脱臭を行う場合においても、さらにキッチン全体を除菌、脱臭する場合においても、十分な濃度となるものであった。
【００８２】
正イオンと負イオンが出会うことにより生じるラジカルは、オゾン、スーパーオキサイドアニオン、次亜塩素酸等のラジカルに比べて安全であり、寿命が長い。そのため、加熱調理器１が例えばキッチンに置かれているものとすれば、キッチンの隅々までラジカルを供給できる。
【００８３】
流路切替装置４０を備えることにより、加熱室２０内に対してのみ、または、加熱調理器１の外部の空間に対してのみ、正負イオンを供給することができる。これにより、流路切替装置４０を備えることなく加熱室２０内及び加熱調理器１の外部空間に同時に正負イオンを振り分けて供給する場合よりも、正負イオン濃度を高濃度とすることができるから、加熱室２０内または加熱調理器１の外部空間のそれぞれに対する除菌及び脱臭の効果を高めることができる。
【００８４】
加熱調理器１の外部の空間への正負イオンの放出は、過熱蒸気による調理、飽和蒸気による蒸し調理、及び熱風調理の遂行に伴って自動的に遂行されるようにしてもよく、操作部１６のキー操作で選択できるようにしてもよい。例えば、キッチン除菌キー１６ｂ１をそれに割り当てることができる。
【００８５】
実施形態では、キッチン除菌キー１６ｂ１を押せば、調理をしていないときでもイオン発生器４４と給排気ファン３１をＯＮにできるように構成されている。すなわち、調理とは無関係に、望みのタイミングで加熱調理器１の外部の空間に正負イオンを放出し、除菌と脱臭を行うことができる。
【００８６】
調理をしていないときに加熱調理器１の外部の空間の除菌と脱臭を行う動作フローが図７に示されている。この動作フローにつき説明する。
【００８７】
ステップ＃１１１では給気ダンパ３８と排気ダンパ３９が閉状態にされる。
【００８８】
ステップ＃１１２では給排気ファン３１とイオン発生器４４がＯＮにされる。これにより、加熱調理器１の外部の空間への正負イオンの放出が開始される。
【００８９】
ステップ＃１１３では、扉１１が開いたかどうかをチェックする。扉１１が開いた場合はステップ＃１１７に進む。
【００９０】
扉１１が開いたということは、使用者に調理を行う意思が生じたということである。従ってステップ＃１１７では給排気ファン３１とイオン発生器４４をＯＦＦにし、ステップ＃１１８に進む。
【００９１】
ステップ＃１１８では所定時間が経過したかどうか、あるいはキッチン除菌キー１６ｂ１以外のキーが操作されたかどうかをチェックする。「ＹＥＳ」であれば、加熱調理器１の外部の空間への正負イオンの放出は終了となる。
【００９２】
ステップ＃１１３で扉１１が開かれなければステップ＃１１４に進む。ステップ＃１１４ではとりけしキー１６ｂ２が押されたかどうかをチェックする。とりけしキー１６ｂ２が押されたのであればステップ＃１１６に進み、押されなければステップ＃１１５に進む。
【００９３】
ステップ＃１１５では正負イオン放出時間として設定された所定時間が経過したかどうかをチェックする。経過したらステップ＃１１６に進む。
【００９４】
ステップ＃１１６では給排気ファン３１とイオン発生器４４がＯＦＦになり、加熱調理器１の外部の空間への正負イオンの放出は終了する。
【００９５】
調理をしていないとき、加熱室２０に正負イオンを導入するように構成することもできる。これは、給気ダンパ３８と排気ダンパ３９を開状態にしておいてイオン発生器４４と給排気ファン３１をＯＮにすることにより実現される。このモードを設定すれば、調理をしていないときに加熱室２０の除菌と脱臭を行うことができる。また、加熱室２０に入れた食品Ｆその他の物品を、全く加熱することなく除菌及び脱臭することができる。
【００９６】
図１から図６に示す第１実施形態では、イオン発生器４４は循環経路５０の外に配置されていた。これによりイオン発生器４４は、循環経路４４を流れる気流の熱や、そこに含まれる油煙や水分から保護される。しかしながら、熱、油煙、水分等に対する防護対策が十分であれば、イオン発生器４４を循環経路５０の中に配置することも可能である。その構成例を第２実施形態として図８に示す。
【００９７】
第２実施形態においてイオン発生器４４は、循環ダクト５２の中の、気体加熱ヒータ室５７の少し上流側に配置されている。循環ファン５１の運転中、すなわち過熱蒸気による調理、飽和蒸気による蒸し調理、及び熱風調理の間に、加熱室２０に正負イオンを導入することができる。
【００９８】
過熱蒸気による調理、飽和蒸気による蒸し調理、及び熱風調理のように、給気ダンパ３８と排気ダンパ３９を閉状態にしておいて循環ファン５１を運転するモードで循環ダクト５２の中のイオン発生器４４を稼働させると、加熱室２０に対してのみ正負イオンが供給される。このため、高濃度の正負イオンを加熱室２０に導入できる。
【００９９】
過熱蒸気による調理や飽和蒸気による蒸し調理を行うと、加熱室２０の内部に水分が残り、また加熱調理器１の周囲の湿度が上昇する。このような状況においても、正負イオンを放出してラジカルを生成させれば、加熱室２０内外にカビが発生することを抑制できる。
【０１００】
高周波による調理のときも、イオン発生器４４と循環ファン５１をＯＮにすれば、加熱室２０に正負イオンを導入することができる。加熱室２０に導入された正負イオンの一部はエジェクタ部３５に吸い出され、送風ダクト３３を流れる空気流の本流に合流して排気口３２から筐体１０の外部に放出される。放出された正負イオンにより、加熱調理器１の外部の空間の除菌と脱臭も行われることになる。
【０１０１】
第２実施形態では、キッチン除菌キー１６ｂ１を押せば、調理をしていないときでも給気ダンパ３８と排気ダンパ３９を開状態にし、イオン発生器４４、循環ファン５１、及び給排気ファン３１をＯＮにできるように構成されている。すなわち、調理とは無関係に、望みのタイミングで加熱調理器１の外部の空間に正負イオンを放出し、除菌と脱臭を行うことができる。
【０１０２】
第２実施形態でも、調理をしていないとき、加熱室２０に正負イオンを導入するように構成することができる。これは例えば、給気ダンパ３８と排気ダンパ３９を閉状態にしておいてイオン発生器４４と循環ファン５１をＯＮにすることにより実現される。このモードを設定すれば、調理をしていないときに加熱室２０の除菌と脱臭を行うことができる。また、加熱室２０に入れた食品Ｆその他の物品を、全く加熱することなく除菌及び脱臭することができる。
【０１０３】
以上、本発明の実施形態につき説明したが、本発明の範囲はこれに限定されるものではなく、発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えて実施することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
本発明は加熱調理器に広く利用可能である。
【符号の説明】
【０１０５】
１    加熱調理器
１０  筐体
１１  扉
２０  加熱室
３０  給排気経路
３１  給排気ファン
３２  排気口
３３  送風ダクト
３５  エジェクタ部
３６  給気管（空気流入路）
３７  排気管
３８  給気ダンパ
３９  排気ダンパ
４０  流路切替装置
４４  イオン発生器
５０  循環経路（空気流入路）
５１  循環ファン
５２  循環ダクト
５６  気体加熱ヒータ
６０  マグネトロン
７０  蒸気発生装置
【図１】
2011237122.tif 000004
【図２】
2011237122.tif 000005
【図３】
2011237122.tif 000006
【図４】
2011237122.tif 000007
【図５】
2011237122.tif 000008
【図６】
2011237122.tif 000009
【図７】
2011237122.tif 000010
【図８】
2011237122.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月5日(2011.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室と、
前記加熱室を内部に有する筐体内に空気を流入させる給気口と、
前記給気口から流入した空気中にイオンを放出するイオン発生器と、
前記給気口から流入した空気が流通する空気流入路を、前記加熱室に連通する加熱室流入路と前記筐体外部に連通する外部排出路との一方に連通するように切り替える流路切替装置と、
を備え、
前記イオン発生器は前記空気流入路に配置され、
前記流路切替装置によって前記加熱室を介さずに前記空気流入路と前記外部排出路が連通するようにし、前記給気ファン及び前記イオン発生器を駆動することで、前記空気流入路を流れるイオンを含む空気を前記筐体外部に排出することを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記筐体外部にイオンを含む空気を排出する排気口は、前記筐体の前方に向かって開口していることを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記給気ファン及び前記イオン発生器は非調理時にも駆動可能であることを特徴とする請求項１または２に記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記加熱室の外に、当該加熱室内の空気を循環させる循環ダクトが設けられ、当該循環ダクトが前記空気流入路の一環となることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記循環ダクトの外に前記イオン発生器が配置されることを特徴とする請求項４に記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記循環ダクトの中に前記イオン発生器が配置されることを特徴とする請求項４に記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記加熱室に流入する気体を加熱するヒータを備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項８】
前記加熱室に蒸気を供給する蒸気発生装置を備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項９】
前記加熱室に高周波を供給する高周波発生装置を備えることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の加熱調理器。