(57)【要約】【課題】磁性粒子の配向と磁性塗布層の乾燥とを効率良く行うことができる磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造方法であって、支持体に磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布工程と、磁性塗布層が湿潤状態である支持体を、配向乾燥部内に搬送して、磁性粒子を配向するとともに、磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥工程と、を有し、配向乾燥工程では、支持体の搬送方向に間隔をおいて配置された複数のソレノイドコイルによって支持体表面に配向のための磁界を形成するとともに、支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に設けられた、磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風給気部によって、配向乾燥部内を搬送される支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける。【選択図】図３
2011210289.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造方法であって、
前記支持体に前記磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布工程と、
前記磁性塗布層が湿潤状態である前記支持体を、配向乾燥部内に搬送して、前記磁性粒子を配向するとともに、前記磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥工程と、を有し、
前記配向乾燥工程では、前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置された複数のソレノイドコイルによって前記支持体表面に配向のための磁界を形成するとともに、前記支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に設けられた、前記磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風給気部によって、前記配向乾燥部内を搬送される前記支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける製造方法。
【請求項２】
帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造装置であって、
前記支持体に前記磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布部と、
前記磁性塗布層が湿潤状態である前記支持体が搬入され、前記磁性粒子を配向するとともに、前記磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥部と、を有し、
前記配向乾燥部には、前記支持体表面に配向のための磁界を形成する複数のソレノイドコイルが前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置され、前記支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に、前記磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風を吹き付ける乾燥風給気部が設けられ、前記乾燥風給気部が、前記配向乾燥部内を搬送される前記支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける製造装置。
【請求項３】
請求項２に記載の製造装置であって、
前記配向乾燥部には、前記複数のソレノイドコイルそれぞれ分けて収容する複数の収容部を含む収容体と、前記収容部の内部に連通する複数の給気孔が設けられた前記面を有する板部と、を備える製造装置。
【請求項４】
請求項３に記載の製造装置であって、
前記複数の収容部のそれぞれに、前記配向乾燥部の外部から乾燥風を給気する機構が設けられている製造装置。
【請求項５】
請求項２から４のいずれか１項に記載の製造装置であって、
前記配向乾燥部内に、前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置され、前記支持体の前記磁性塗布層とは反対側の面を支持する支持体保持部が設けられている製造装置。
【請求項６】
請求項５に記載の製造装置であって、
前記支持体保持部がセラミックロール又はエアノズルである製造装置。
【請求項７】
請求項２から６のいずれか１項に記載の製造装置であって、
前記複数の給気孔それぞれから前記支持体に吹き付けられる乾燥風の風速が５〜１５ｍ／ｓである製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、電子データの記録や保存のための磁気記録媒体として磁気テープが普及している。磁気テープとしては、可撓性の支持体上に、非磁性層と、磁性粒子を含む磁性層とが積層された構成のものが知られている。磁気テープ等の磁気記録媒体の磁性層は、支持体の非磁性層上に磁性粒子を含む塗布液を塗布して磁性塗布層を形成し、この磁性塗布層が湿潤状態であるうちに配向を行い、乾燥させて固化させることで形成される。配向は、磁性塗布層を磁界に曝すことで、磁性塗布層に含まれる磁性粒子の向きを一定にする処理である。
【０００３】
高い角型比を得るため、磁性塗布層の流動性が保たれている湿潤状態のまま、配向しつつ乾燥を行う配向が提案されている。このような配向としては、湿潤状態の磁性塗布層が設けられた支持体を配向部へ搬送し、配向部でソレノイドコイルによって形成された磁界中を通過させつつ、配向部で乾燥風を吹き付けることで、磁性粒子の配向と磁性塗布層の乾燥とを同時に行う方法がある（下記特許文献１及び２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１３４９３４号公報
【特許文献２】特許第４１７７３９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載された配向装置は、搬送される支持体の両面側に温風を給気するノズルが配置された構成であるが、配向装置内においてノズルから吹き付ける乾燥風を給気するための給気ダクトのスペースが増大するため、作業員がメンテナンスを行うためのスペースを確保し難い。
【０００６】
特許文献２に記載された配向装置は、支持体の搬送方向に間隔をおいて複数のソレノイドコイルが配置され、並べられたソレノイドコイルの間から支持体の磁性塗布層に熱風を給気する構成である。このため、配向装置内を搬送される支持体は、熱風とソレノイドコイルによる磁界とに交互に曝され、磁界による配向と、熱風による乾燥とを完全に同時に行うことができず、効率が良くなかった。
【０００７】
本発明は、磁性粒子の配向と磁性塗布層の乾燥とを効率良く行うことができる磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造方法であって、
前記支持体に前記磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布工程と、
前記磁性塗布層が湿潤状態である前記支持体を、配向乾燥部内に搬送して、前記磁性粒子を配向するとともに、前記磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥工程と、を有し、
前記配向乾燥工程では、前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置された複数のソレノイドコイルによって前記支持体表面に配向のための磁界を形成するとともに、前記支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に設けられた、前記磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風給気部によって、前記配向乾燥部内を搬送される前記支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける製造方法。
【０００９】
帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造装置であって、
前記支持体に前記磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布部と、
前記磁性塗布層が湿潤状態である前記支持体が搬入され、前記磁性粒子を配向するとともに、前記磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥部と、を有し、
前記配向乾燥部には、前記支持体表面に配向のための磁界を形成する複数のソレノイドコイルが前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置され、前記支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に、前記磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風を吹き付ける乾燥風給気部が設けられ、前記乾燥風給気部が、前記配向乾燥部内を搬送される前記支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける製造装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、磁性粒子の配向と磁性塗布層の乾燥とを効率良く行うことができる磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】製造される磁気テープの断面を概略的に示す図である。
【図２】磁気テープの製造装置を示す図である。
【図３】配向乾燥部を示す図である。
【図４】乾燥風給気部の構成例を示す図である。
【図５】乾燥風給気部の変形例である。
【図６】比較例で用いた配向乾燥部の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下では、磁気記録媒体の一例として磁気テープの製造手順とそれに用いる製造装置の構成を説明する。
【００１３】
図１は、製造される磁気テープの断面を概略的に示す図である。
製造される磁気テープＭＴは、支持体Ｂ上に、非磁性層１と、磁性層２とが積層されている。磁性層２は膜厚が１００ｎｍ以下である。
【００１４】
図２は、磁気テープの製造装置を示す図である。
製造装置１０は、長尺帯状の支持体Ｂが巻回された送り出しロール１１と、非磁性層と磁性層とが順に形成された支持体Ｂを巻き取る巻き取りロール１９を有し、送り出しロール１１から送り出された支持体Ｂを搬送経路に沿って搬送しながら、磁気テープを製造するものである。
【００１５】
製造装置１０は、搬送される支持体Ｂの搬送方向の上流側から順に、非磁性塗布液塗布部１２と、第１乾燥部１３と、磁性塗布液塗布部１４と、磁性層の配向及び乾燥を行なう配向乾燥部２０とを備えている。また、支持体Ｂの搬送経路には、搬送される支持体Ｂの記録面（磁性層及び非磁性層が設けられる側の面）の反対側を支持するガイドローラ６が適宜設けられている。
【００１６】
非磁性塗布液塗布部１２は、非磁性粒子を含む塗布液を支持体Ｂの上面に塗布し、非磁性塗布層を形成する。
【００１７】
第１乾燥部１３は、非磁性塗布液塗布部１２で形成された非磁性塗布層を乾燥させる。非磁性塗布層は、乾燥によって固化し、非磁性層になる。
【００１８】
磁性塗布液塗布部１４は、非磁性層上に、磁性粒子を含む塗布液を塗布し、磁性塗布層を形成する。磁性塗布層は、湿潤状態のまま下流側へ搬送される。
【００１９】
配向乾燥部２０は、湿潤状態の磁性塗布層に含まれる磁性粒子を配向するとともに、磁性塗布層を乾燥させる。
【００２０】
配向乾燥部２０は、磁性塗布層に含まれる磁性流粒子の配向を行うとともに、磁性塗布層の乾燥を行う。磁性塗布層は乾燥して固化することで磁性層となる。
【００２１】
磁性層及び非磁性層が形成された支持体Ｂは、巻き取りロール１９に巻き取られて、図示しないカレンダ工程等の次工程に送られた後、所望のテープ幅に裁断され、磁気テープが完成する。
【００２２】
なお、磁性塗布液塗布部１４の下流側で、配向乾燥部２０の上流側に、図示しない外側排気部が設けられていてもよい。外側排気部は、配向乾燥部２０から上流側に漏れ出た乾燥風を外部へ排気する。外側排気部を設けることによって、漏れ出た乾燥風が磁性塗布層を配向器乾燥部に入る前に乾燥させてしまうことを抑えることができる。
【００２３】
また、配向乾燥部２０の下流側に、乾燥部を設けてもよい。乾燥部は、配向乾燥部２０から搬送されてくる磁性塗布層を更に乾燥させる。このように、磁性塗布層は、配向乾燥部２０では、完全には乾燥しないで、乾燥部で完全に乾燥して固化させることで磁性層となってもよい。
【００２４】
図３は、配向乾燥部を示す図である。
配向乾燥部２０は、内部が中空の収容体２１を備えている。搬送される支持体Ｂは、記録面側を給気部側に向けた状態で、収容体２１の搬入口２１ａから収容体２１の内部に搬入され、搬出口２１ｂから収容体２１の外側へ搬出される。
【００２５】
収容体２１には、支持体Ｂの搬送方向に間隔をおいて複数（この例では３個）のソレノイドコイル２２が配置されている。複数のソレノイドコイル２２は、支持体Ｂの表面に配向のための磁界を形成する。複数のソレノイドコイル２２はそれぞれ、断面が矩形で、かつ、支持体Ｂの搬送方向に交差する断面において該支持体の周りを囲う環状部材である。複数のソレノイドコイルは一般的には、似たような形状及び寸法で形成されているが、必ずしもその限りではない。
【００２６】
ソレノイドコイル２２は、長手配向（支持体の搬送方向に磁界を発生させる）用のものを用いてもよいし、垂直配向（支持体に対して垂直方向に磁界を発生させる）用のものを用いても良い。長手配向用のコイルの１例としては、環状構造に沿って銅線が巻かれた中空ソレノイドコイルなどがある。また、垂直配向用のコイルの１例としては、環状構造内に鉄芯が入っており、更に、支持体の走行位置の上下に、１対のソレノイドコイルを配置することで、支持体通過部に垂直方向の磁界を発生させ、かつ、支持体通過部と反対側に発生した磁界を環状構造の鉄芯に通したルーフ゜構造を形成することで、磁界の発生効率を高めたコイルなどがある。
【００２７】
収容体２１は、複数のソレノイドコイル２２をそれぞれ分けて収容する複数（この例では３個）の収容部２３を含む。複数の収容部２３は、支持体Ｂの搬送方向に並んで設けられ、隣り合う収容部２３同士の間は仕切り２１ｃが設けられている。また、各収容部２３には１つのソレノイドコイル２２の上側の一部が収容されている。
【００２８】
複数の収容部２３のそれぞれに給気部２８が設けられている。給気部２８は、配向乾燥部２０の収容体２１の外部から各収容部２３の内部に乾燥風を給気する。
【００２９】
収容体２１には、搬送される支持体Ｂ上の磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風を吹き付ける乾燥風給気部２４が設けられている。乾燥風給気部２４は、支持体Ｂ表面から間隔をおいて平行に配された面を有する板部２５と、この板部２５に設けられた複数の給気孔２５ａとを備える。
【００３０】
配向乾燥部２０は、ソレノイドコイル２２の磁界で磁性塗布層に含まれる磁性粒子の配向を行うとともに、搬送される支持体Ｂ上の磁性塗布層に複数の給気孔２５ａのそれぞれから乾燥風を吹き付け、磁性塗布層を乾燥させる。複数の給気孔２５ａはそれぞれ、風速５〜１５ｍ／ｓで乾燥風を吹き付ける。
【００３１】
配向乾燥部２０内には、支持体Ｂの搬送方向に間隔をおいて配置され、支持体Ｂの磁性塗布層とは反対側の面を支持する支持体保持部２６が設けられている。支持体保持部２６は、支持体Ｂの磁性塗布層が形成された面とは反対側の面に当接するセラミックローラである。支持体保持部２６は、支持体Ｂの搬送方向に１ｍ間隔で配置される。なお、支持体保持部２６は、支持体Ｂの磁性塗布層が形成された面とは反対側の面にエアを吹き付けることで、支持体Ｂに直接接触することなく、保持するエアノズルであってもよい。
【００３２】
配向乾燥部２０において、支持体Ｂの磁性塗布層側の面と、複数のソレノイドコイル２２における支持体Ｂ側の面との距離を１００ｍｍ以上とする。
【００３３】
また、支持体Ｂは、複数のソレノイドコイル２２における支持体Ｂの搬送方向に見た状態での中心から、該支持体Ｂの中心位置（幅方向の中心でかつ厚さ方向の中心となる位置）が３０ｍｍ以内となるように搬送される。
【００３４】
図４は、乾燥風給気部の板部を斜視した図である。図４に示すように、板部２５の下面が支持体Ｂの磁性塗布層側の表面に間隔をおいて平行であり、上面が収容部の内部側に位置する。複数の給気孔２５ａは、板部２５の下面から上面に連通する。複数の給気孔２５ａは、配向乾燥部内を搬送される支持体Ｂの搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付けることができるように、板部２５の平面視において全面にわたって、支持体Ｂの搬送方向及び搬送方向に交差する方向に所定のピッチで配列されている。
【００３５】
図５は、乾燥風給気部の変形例である。この例では、板部１２５に設けられた複数の給気孔１２５ａがそれぞれスリットノズル状である。複数の給気孔１２５ａは、支持体Ｂのは幅方向に沿って長手となる開口寸法を有している。このように、複数の給気孔の形状は、支持体Ｂの搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付けることができる範囲において、適宜変更可能である。
【００３６】
製造装置１０は、配向乾燥部２０において、ソレノイドコイル２２の磁界による配向とともに、搬送される支持体Ｂの搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付けて、磁性塗布層の乾燥を行う。従来の、複数のソレノイドコイルを備えた配向と同時に乾燥を行う方式では、搬送方向に隣り合うソレノイドコイル同士の隙間から乾燥風を吹き付け、支持体Ｂを挟んで対抗するソレノイドコイル間では、乾燥風を吹き付ける構成ではなかった。この場合、配向乾燥部２０内では、配向と乾燥とが搬送方向の位置に応じて交互に行われるため、配向や乾燥が均一に行われないことがあった。このとき、乾燥風の風速を高めることで乾燥風を、支持体を挟んで対向するソレノイドコイル同士の間の磁界に送り込むことができるが、乾燥風の風圧によって磁性層の表面にスジ状の厚みムラが発生しやすくなる。この製造装置１０によれば、配向乾燥部２０内では、支持体Ｂに、常に、乾燥風が吹き付けられ、磁性塗布層の乾燥をより高速にかつ安定して行うことができる。磁性塗布層の乾燥が安定し、磁性層の表面に厚みムラが生じることがなくなり、配向度の低下を抑えることができる。
【００３７】
乾燥風を吹き付ける給気孔２５ａは、支持体Ｂの磁性塗布層側にのみ設けられているため、支持体Ｂの反対側にはメンテナンススペースを確保することができる。
【００３８】
また、高記録密度化に伴い薄い磁性層の磁気テープの製造においては、磁性粒子の配向の速度と磁性塗布層の乾燥の速度とのバランスを取ることが難しいが、この製造装置１０によれば、薄い磁性層を備えた磁気テープを効率良く生産することができる。
【００３９】
次に、支持体、非磁性塗布層の非磁性塗布液、磁性塗布層の磁性塗布液のそれぞれについて説明する。
【００４０】
非磁性塗布層の非磁性塗布液に含まれる非磁性材料の構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、この層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を使用してもよい。
【００４１】
非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては、例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。
【００４２】
非磁性粉末の表面には表面処理が施され、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２であるが、更に好ましくはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２である。これらは組み合わせてしようしてもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般的には好ましい。
【００４３】
非磁性粉末は結合剤に対して重量比率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．２の範囲で用いられる。又、特開昭５９−１４２７４１号、同６１−２１４１２７号、同６３−１４０４２０号には非磁性塗布層にＳｎＯ２を含むことを規定している。これらは磁性塗布層に酸化鉄、若しくはＢａＦｅを用いており、ＳｎＯ２より比重は小さいものであるが、いずれも磁性塗布層の下塗処方であり、その厚みは磁性塗布層に比べてはるかに薄いものであり、本発明とは別の発明である。
【００４４】
磁性層に使用する磁性粒子としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅ又はＮｉ又はＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金微粉末、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライトなどの六方晶フェライト粉末、窒化鉄など公知の強磁性粉末が使用できる。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これらの強磁性微粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、同４５−１８３７２号、同４７−２２０６２号、同４７−２２５１３号、同４６−２８４６６号、同４６−３８７５５号、同４７−４２８６号、同４７−１２４２２号、同４７−１７２８４号、同４７−１８５０９号、同４７−１８５７３号、同３９−１０３０７号、同４８−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００４５】
上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、又は酸化物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法をあげることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００４６】
磁性塗布層の強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ２／ｇであり、好ましくは３５〜６０ｍ２／ｇである。２５以下ではノイズが高くなり、８０以上では表面性が得にくく好ましくない。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末の結晶子サイズは４５０〜１００オングストロームであり、好ましくは３５０〜１５０オングストロームである。酸化鉄磁性粉末の飽和磁化量σｓは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上であり、強磁性金属微粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましい。
【００４７】
強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末のｒ１５００は１．５以下であることが好ましい。更に好ましくはｒ１５００が１．０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化したのち反対の向きに１５００Ｏｅの磁場をかけたとき反転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末の含水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上が更に好ましい。
【００４８】
γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、更に好ましくは５〜１０％である。鉄原子に対するコバルト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末のｐＨの範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又はこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ２以下になり好ましい。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。
【００４９】
また、強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、更に好ましくは５容量％以下である。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末の形状は、先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性金属粉末及び強磁性合金粉末の抗磁力（保持力）Ｈｃの分布を小さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘマタイトの焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコバルトの被着速度を遅くするなどの方法がある。
【００５０】
六方晶フェライト粉末には、例えば、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、それらのＣ ｏ 等の置換体等がある。より具体的には、マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部にスピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられる。その他、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には、Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用できる。また原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。好ましいその他の原子及びその含有率は、前記の強磁性金属粉末の場合と同様である。
【００５１】
六方晶フェライト粉末の平均板径は、１０ｎｍ〜４０ｎｍであり、１０ｎｍ〜３０ｎｍが好ましく、１５ｎｍ〜２５ｎｍが更に好ましい。
平均板状比［（板径／板厚）の算術平均］は１〜１５であり、更に１〜７であることが好ましい。
平均板状比が１〜１５であれば、磁性層で高充填性を保持しながら充分な配向性が得られ、かつ、粒子間のスタッキングによるノイズ増大を抑えることができる。また、上記粒子サイズの範囲内におけるＢＥＴ法による比表面積（ＳＢＥＴ）は、４０ｍ２／ｇ以上が好ましく、４０〜２００ｍ２／ｇであることが更に好ましく、６０〜１００ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【００５２】
六方晶フェライト粉末の粒子板径・板厚の分布は、通常狭いほど好ましい。粒子板径・板厚を数値化することは、粒子Ｔ Ｅ Ｍ 写真より５ ０ ０ 粒子を無作為に測定することで比較できる。粒子板径・板厚の分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すと、σ ／ 平均サイズ＝ ０ ． １ 〜 １ ． ０ である。粒子サイズ分布をシャープにするには、粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。例えば、酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００５３】
六方晶フェライト粉末の抗磁力（Ｈｃ） は、１４３．３〜３１８．５ｋＡ／ｍ（１８００〜４０００Ｏｅ）の範囲とすることができるが、好ましくは１５９．２〜２３８．９ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００Ｏｅ）である。更に好ましくは１９１．０〜２１４．９ｋＡ／ｍ（２２００〜２８００Ｏｅ）である。抗磁力（Ｈｃ）は、粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。
【００５４】
六方晶フェライト粉末の飽和磁化（σｓ）は３０〜８０Ａ・ｍ２／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）である。飽和磁化（σｓ） は高い方が好ましいが、微粒子になるほど小さくなる傾向がある。飽和磁化（ σ ｓ ） の改良のため、マグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合することや、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理剤としては、無機化合物及び有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。添加量は磁性体の質量に対して０．１〜１０質量％ である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。
【００５５】
六方晶フェライト粉末の製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃ 以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃ 以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。六方晶フェライト粉末は、必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又はこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ２以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
【００５６】
非磁性塗布層及び磁性塗布層に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテルなどを構成単位として含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としてはフエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。
【００５７】
これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性塗布層、又は磁性塗布層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独又は組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、又はこれらにポリイソシアネートを組合せたものがあげられる。
【００５８】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯＭ、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、（以上につきＭは水素原子、又はアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ２、Ｎ＋Ｒ３、Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０−１〜１０−８モル／ｇであり、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【００５９】
結合剤の具体的な例としては、ユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製：ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。
【００６０】
結合剤は強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好ましい。
【００６１】
ポリウレタン樹脂を用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ２、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ２が好ましい。磁気記録媒体は二層からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性塗布層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性塗布層と磁性塗布層とで変えることはもちろん可能である。
【００６２】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４’−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単独又は硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組合せで非磁性塗布層、磁性塗布層ともに用いることができる。
【００６３】
磁性塗布層に使用されるカーボンブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμｍ〜３００ｍμｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。カーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４００Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４０、♯１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０，４０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理してもよく、又は、樹脂でグラフト化して使用してもよく、又は、表面の一部をグラフアイト化したものを使用してもよい。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、又は組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性塗布層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って、カーボンブラックは非磁性塗布層、磁性塗布層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることは当然可能である。例えば、非磁性層に導電性の高いカーボンブラックを用いることにより帯電を防止し、磁性塗布層に粒子径の大きいカーボンブラックを用い摩擦係数を下げるなどがあげられる。磁性塗布層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００６４】
磁性塗布層に用いられる研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独又は組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物又は元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せてもよいし、単独の研磨剤で粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ２／ｇ、が好ましい。研磨剤の形状は針状、球状、又はサイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものは研磨性が高く、好ましい。
【００６５】
研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：１００ＥＤ，１４０ＥＤなどがあげられる。研磨剤は非磁性塗布層、磁性塗布層で種類、量及び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。磁気記録媒体の磁性塗布層の表面及びその端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ２以上が好ましい。
【００６６】
添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などを有するものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル及びそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、及び、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）又は、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステル又はジ脂肪酸エステル又はトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。
【００６７】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、更に好ましくは１０％以下である。
【００６８】
潤滑剤、界面活性剤は非磁性塗布層、磁性塗布層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、非磁性塗布層、磁性塗布層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、ここに示した例のみに限られるものではない。
【００６９】
添加剤のすべて又はその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エルカ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジエルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などがあげられる。
【００７０】
有機溶媒は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、更に好ましくは１０％以下である。有機溶媒は必要ならば磁性塗布層と非磁性塗布層でその種類、量を変えてもかまわない。非磁性塗布層に揮発性の高い溶媒を用い表面性を向上させる、磁性塗布層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、磁性塗布層の溶解性パラメータの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例としてあげられるが、これらの例に限られない。
【００７１】
磁気記録媒体の厚み構成は支持体が１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、非磁性層の厚みが０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、磁性層の厚みは０．０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以上０．６μｍ以下、更に好ましくは０．０５μｍ以上、０．３μｍ以下である。磁性層と非磁性層を合わせた厚みは支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。
【００７２】
また、支持体と非磁性層との間に密着性向上のための非磁性塗布層を設けてもかまわない。非磁性塗布層の厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。
【００７３】
支持体の磁性層が形成される側とは反対側にバックコート層を設けてもかまわない。バックコート層の厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの非磁性塗布層、バックコート層は公知のものが使用できる。
【００７４】
支持体は、ポリエチレンテレフタレート、２軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などをおこなってもよい。支持体は、中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好ましくは０．０２μｍ以下、更に好ましくは０．０１μｍ以下のものを使用する必要がある。また、これらの支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体のテープ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ２、テープ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ２であり、テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。
【００７５】
支持体の熱収縮率は、テープ走行方向及び幅方向に１００℃３０分で、好ましくは３％以下、更に好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ２、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ２が好ましい。
【００７６】
磁気記録媒体の磁性塗料（磁性材料を含む塗布液）を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。
【００７７】
従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することにより、磁気記録媒体の高い残留磁化密度（Ｂｒ）を得ることができる。連続ニーダ又は加圧ニーダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）及び強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号、特開平１−７９２７４号に記載されている。
【００７８】
逐次重層構成の磁気記録媒体の製造装置に用いる塗布装置には、従来の公知の製造技術を用いることができる。例えば、磁性塗料の塗布で一般的に用いられる、グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等が挙げられる。
【００７９】
なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。更に、磁性塗料の粘度については、特開平３−８４７１号に開示されている数値範囲を満足することが好ましい。
【００８０】
配向の磁界を発生させるソレノイドコイルとしては、支持体通過部で測定した磁場強度が１０００Ｇ以上であることが好ましく、更には乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。
【００８１】
磁気記録媒体の表面平滑化処理を行うカレンダ処理ロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ましくは７０℃以上、更に好ましくは８０℃以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、更に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上であり、その速度は２０ｍ／分以上７００ｍ／分以下の範囲である。
【００８２】
製造された磁気記録媒体の磁性層及びその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０．５以下、更に０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは１０−５〜１０−１２オーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ２、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ２、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、長手方向とも好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ２、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％以下、最も好ましくは０．１％以下である。
【００８３】
製造された磁気記録媒体の磁性層に含まれる残留溶媒は、好ましくは１００ｍｇ／ｍ２以下、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２以下であり、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層及び非磁性層が有する空隙率は、ともに好ましくは３０容量％以下、更に好ましくは１０容量％以下である。磁性層の空隙率が非磁性層の空隙率より大きいほうが好ましいが、逆の場合でも非磁性層の空隙率が２０％以下であれば支障はない。
【００８４】
（実施例）
本発明者は、配向及び乾燥を行う配向乾燥部の構成と、配向度との関係を調べるため、次のような測定を行った。
【００８５】
本測定で使用する装置Ａとしては、図２に示す製造装置１０、及び、図３に示す配向乾燥部２０を使用し、装置Ｂとしては、図２に示す製造装置１０において、配向乾燥部２０の代わりに図６に示す配向乾燥部１２０を使用した。装置Ａの配向乾燥部２０は、図５に示すようにスリットノズル型の給気孔を複数配置した構造とした。配向乾燥部２０の構成を装置Ａ又は装置Ｂと変えて、また、吹き付ける乾燥風の給気孔出口における風速を変えた場合の磁気テープの角型比を測定し、また、磁性層厚みのバラツキを評価した。
【００８６】
図６の配向乾燥部１２０は、収容体１２１に、搬送方向に並んだ複数のソレノイドコイル１２２を備え、隣り合うソレノイドコイル１２２同士の間にのみ乾燥風給気部１２４を設け、この乾燥風給気部１２４から、搬送される支持体Ｂの磁性塗布層に乾燥風を吹き付けた。他の部材や構成については、配向乾燥部２０と同じとした。
【００８７】
角型比の測定は、東英工業株式会社製、振動試料型磁力計ＶＳＭを用いて、磁界強度１５ｋＯｅ（１２００ｋＡ／ｍ）で測定した。
【００８８】
磁性層厚みのバラツキの評価は、東英工業株式会社製、振動試料型磁力計ＶＳＭ（Ｐ１０−１５）を用い、磁界強度１５ｋＯｅ（１２００ｋＡ／ｍ）にて、磁気テープの飽和磁化量を測定した。サンプル幅方向に１３点測定した平均値に対し、測定値が±５％の範囲を越えないものを○、測定値が±５％の範囲を越えるものを△、±１０％を越えるものを×とした。
【００８９】
非磁性塗布液は、以下のものを用いた。以下の説明中の「部」は質量部を示す。
【００９０】
酸化鉄粉末（平均長軸長：８０ｎｍ）        ８０部
カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ）    ２０部
電子線硬化型塩化ビニル共重合樹脂          １０部
電子線硬化型ポリウレタン樹脂                ５部
フェニルホスホン酸                          ２部
メチルエチルケトン                      １３０部
シクロヘキサノン                        １００部
ステアリン酸                                １部
ステアリン酸ブチル                      １．５部
【００９１】
磁性塗布液は、以下のものを用いた。
【００９２】
六方晶バリウムフェライト粉末            １００部
Ｈｃ：２０００Ｏｅ（１６０ｋＡ／ｍ）
平均板径：２０ｎｍ 
平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：８０ｍ２／ｇ
σｓ：５０ｅｍｕ／ｇ（５０Ａ・ｍ２／ｋｇ）
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂          １８部
ダイヤモンド粉末（平均粒径：５０ｎｍ）      １部
炭化ケイ素粉末（平均粒径：３０ｎｍ）        １部
シクロヘキサノン                        １５０部
メチルエチルケトン                      １５０部
ブチルステアレート                          ２部
ステアリン酸                                １部
【００９３】
上記磁性塗布液及び非磁性塗布液のそれぞれについて、各成分をオープンニーダーで６０分間混練した後、サンドミルで６００分間分散した。得られた分散液の各々に３官能性低分子量ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン製  コロネート３０４１）を６部加え、上記磁性塗布液については、更に、メチルエチルケトン３００部、シクロヘキサノン１５０部を加えた。更に、２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料及び非磁性塗料を調製した。得られた磁性層用塗料の固形分濃度は１４．７質量％であった。更に、上記非磁性層用塗料を乾燥後の厚さが１．５μｍになるように、厚さ５μｍで、磁性層塗布側の表面粗さＲａが１．４ｎｍ、バック層塗布側の表面粗さＲａが２．０ｎｍのＰＥＮ支持体上に塗布し１００℃で乾燥させたのち、加速電圧１００ｋＶ、照射線量５Ｍｒａｄの電子線を照射した。このようにして得られた非磁性層上に、磁性塗布液を乾燥後の厚さが１００ｎｍになるようにウェットオンドライで塗布し、１００℃で乾燥した。電子線照射を行う電子線照射部は、図１の第１乾燥部１３と磁性塗布液塗布部１４との間に設けることとする。
【００９４】
実施例１では、装置Ａの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部２０の乾燥風の風速を５ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【００９５】
実施例２では、装置Ａの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部２０の乾燥風の風速を１０ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【００９６】
実施例３では、装置Ａの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部２０の乾燥風の風速を１５ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【００９７】
比較例１では、装置Ａの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部２０の乾燥風の風速を２０ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【００９８】
比較例２では、装置Ｂの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部１２０の乾燥風の風速を５ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【００９９】
比較例３では、装置Ｂの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部１２０の乾燥風の風速を１０ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【０１００】
比較例４では、装置Ｂの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部１２０の乾燥風の風速を１５ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【０１０１】
比較例５では、装置Ｂの配向乾燥部を使用し、配向乾燥部１２０の乾燥風の風速を２０ｍ／ｓとし、乾燥風の温度を６０℃とし、角型比を測定した。
【０１０２】
測定の結果を下記表１に示す。
【０１０３】
【表１】
2011210289.tif 000003
【０１０４】
実施例１から３は、角型比が０．７０〜０．７１であり、良好であった。また、磁性層厚みのバラツキも小さく、良好であった。
比較例１及び比較例５は、角型比が０．６９と許容できるレベルだったが、乾燥風の風速が高すぎたため、乾燥が早くなり、磁性層の表面にはスジ状の厚みムラが発生した。
比較例２〜４は、角型比が０．６０〜０．６７と低くなり、配向度が実施例１〜３に比べて劣化していることがわかった。
【０１０５】
本明細書は、以下の内容を開示するものである。
（１）帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造方法であって、
前記支持体に前記磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布工程と、
前記磁性塗布層が湿潤状態である前記支持体を、配向乾燥部内に搬送して、前記磁性粒子を配向するとともに、前記磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥工程と、を有し、
前記配向乾燥工程では、前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置された複数のソレノイドコイルによって前記支持体表面に配向のための磁界を形成するとともに、前記支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に設けられた、前記磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風給気部によって、前記配向乾燥部内を搬送される前記支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける製造方法。
（２）帯状の支持体と、該支持体に形成された磁性粒子を含む磁性層と、を備える磁気記録媒体の製造装置であって、
前記支持体に前記磁性粒子を含む磁性塗布液を塗布して磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布部と、
前記磁性塗布層が湿潤状態である前記支持体が搬入され、前記磁性粒子を配向するとともに、前記磁性塗布層を乾燥させる配向乾燥部と、を有し、
前記配向乾燥部には、前記支持体表面に配向のための磁界を形成する複数のソレノイドコイルが前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置され、前記支持体表面から間隔をおいて平行に配された面に、前記磁性塗布層を乾燥させるための乾燥風を吹き付ける乾燥風給気部が設けられ、前記乾燥風給気部が、前記配向乾燥部内を搬送される前記支持体の搬送方向全長にわたって乾燥風を吹き付ける製造装置。
（３）（２）に記載の製造装置であって、
前記配向乾燥部には、前記複数のソレノイドコイルをそれぞれ分けて収容する複数の収容部を含む収容体と、前記収容部の内部に連通する複数の給気孔が設けられた前記面を有する板部と、を備える製造装置。
（４）（３）に記載の製造装置であって、
前記複数の収容部のそれぞれに、前記配向乾燥部の外部から乾燥風を給気する機構が設けられている製造装置。
（５）（２）から（４）のいずれか１つに記載の製造装置であって、
前記配向乾燥部内に、前記支持体の搬送方向に間隔をおいて配置され、前記支持体の前記磁性塗布層とは反対側の面を支持する支持体保持部が設けられている製造装置。
（６）（５）に記載の製造装置であって、
前記支持体保持部がセラミックロール又はエアノズルである製造装置。
（７）（２）から（６）のいずれか１つに記載の製造装置であって、
前記複数の給気孔それぞれから前記支持体に吹き付けられる乾燥風の風速が５〜１５ｍ／ｓである製造装置。
【符号の説明】
【０１０６】
１２  非磁性塗布液塗布部
１４  磁性塗布液塗布部
２０  配向乾燥部
２４  乾燥風給気部
２５ａ  給気孔
【図１】
2011210289.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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