(57)【要約】【課題】導電性粒子の圧接に起因した導通不良や電極の破壊を有利に回避することができる情報表示用パネルを提供する。【解決手段】少なくとも一方の情報表示領域が透明な２枚の基板間の前記情報表示領域に粒子群を表示媒体として封入し、前記２枚の基板それぞれの前記情報表示領域に設けた画素用電極を介して前記粒子群を移動させて情報を表示する情報表示用パネルにおいて、前記情報表示領域の外側で、一方の基板に設けた第１の配線電極と、他方の基板に設けた、画素用電極から延びる第２の配線電極とを、導電性粒子を介して接続する接続用電極部を有し、前記接続用電極部を構成する前記第１の配線電極と前記第２の配線電極のうち少なくとも導電性金属酸化物系化合物で形成された配線電極の、前記導電性粒子と接する面に、可とう性を有する導電膜を設ける。【選択図】図３
2011237548.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の情報表示領域が透明な２枚の基板間の前記情報表示領域に粒子群を表示媒体として封入し、前記２枚の基板それぞれの前記情報表示領域に設けた画素用電極を介して前記粒子群を移動させて情報を表示する情報表示用パネルにおいて、
前記情報表示領域の外側で、一方の基板に設けた第１の配線電極と、他方の基板に設けた、画素用電極から延びる第２の配線電極とを、導電性粒子を介して接続する接続用電極部を有し、
前記接続用電極部を構成する前記第１の配線電極と前記第２の配線電極のうち少なくとも導電性金属酸化物系化合物で形成された配線電極の、前記導電性粒子と接する面に、可とう性を有する導電膜を設けた、
ことを特徴とする情報表示用パネル。
【請求項２】
前記導電性粒子の粒子径が、前記接続用電極部を構成する前記第１の配線電極の隣接電極間の間隔および前記第２の配線電極の隣接電極間の間隔のいずれよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の情報表示用パネル。
【請求項３】
前記可とう性を有する導電膜が、導電性金属膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の情報表示用パネル。
【請求項４】
前記基板の前記接続用電極部が設けられた領域部分の少なくとも一方が可とう性を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の情報表示用パネル。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の情報表示用パネルの製造方法であって、
前記基板の情報表示領域よりも広い領域に導電性金属酸化物系化合物膜を形成した後、
前記導電性金属酸化物系化合物膜と情報表示領域の外側で少なくとも接するように可とう性を有する導電膜を形成し、
前記導電性金属酸化物系化合物膜および前記可とう性を有する導電膜を同時にエッチングして、前記接続用電極部を構成する少なくとも一方の配線電極を形成する、
ことを特徴とする情報表示用パネルの製造方法。
【請求項６】
前記可とう性を有する導電膜を、前記導電性金属酸化物系化合物膜と少なくとも一部分が重なるように形成することを特徴とする請求項５に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項７】
前記可とう性を有する導電膜が、導電性金属膜であることを特徴とする請求項５または６に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項８】
前記導電性金属酸化物系化合物膜を、非晶質の導電性金属酸化物系化合物膜として形成し、エッチングでパターニングした後に加熱処理によって結晶質の導電性金属酸化物系化合物膜とすることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の情報表示用パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報表示用パネルおよびその製造方法に関し、特に情報表示用パネルの製造時における歩留まりの向上を図ろうとするものである。
【背景技術】
【０００２】
情報表示用パネルの作製に際しては、背面基板に設けた画素用電極および前面基板に設けた画素用電極を外部駆動回路と接続する必要がある。ここで、背面基板および前面基板のそれぞれに、外部駆動回路と接続する接続端子を設けてもよいが、基板面積を有効活用するために、どちらか一方の基板だけに接続端子を設けることが多い。例えば、背面基板の情報表示領域外に接続端子を設け、この接続端子と、前面基板の画素用電極から延ばした配線電極とを接続する。図１を用いて、従来の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明する。
まず、図１(ａ)に示すように、背面基板１の情報表示領域５１に、表示媒体とする粒子群を電気的に駆動するための画素用電極Ｂ１〜Ｂ４を設ける。これらの画素用電極Ｂ１〜Ｂ４の一端は、情報表示領域５１の外側に延長して引き出され、外部回路の接続端子となる配線電極Ｂ１’〜Ｂ４’となる。また、背面基板１の情報表示領域５１の外側に、外部回路の接続端子となる配線電極Ａ１〜Ａ４を設ける。
同様に、図１（ｂ）に示すように、透明な前面基板２の情報表示領域５１に、透明な画素用電極Ｆ１〜Ｆ４を設ける。これらの画素用電極Ｆ１〜Ｆ４の一端は、情報表示領域５１の外側に延長して引き出され、配線電極Ｆ１’〜Ｆ４’となる。
次に、図１(ｃ)に示すように、背面基板１の情報表示領域５１の外側に、異方導電性シール材５３を配置する。
次いで、図１（ｄ）に示すように、背面基板１上に前面基板２を、異方導電性シール材５３を介して重ね合わせ、前面基板２の配線電極Ｆ１’〜Ｆ４’と背面基板１の配線電極Ａ１〜Ａ４とをそれぞれ電気的に接続する。なお、図１（ｄ）において、説明のために、前面基板２は図示していない。
また、図１(ｅ)は、図１(ｄ)におけるＡ−Ａ断面図である。異方導電性シール材５３は導電性粒子５４とシール性を有する接着剤５５とを含み、導電性粒子５４が背面基板１に設けた配線電極Ａ４と前面基板２に設けた配線電極Ｆ４’とを接続し、背面基板１に設けた配線電極Ａ４と前面基板２に設けた画素用電極Ｆ４の導通を確保している。
【０００３】
このような構成において、導電性粒子５４の粒子径が、隣り合う電極間の距離Ｄ１に対して大きい場合、導電性粒子５４が隣り合う電極間にまたがって存在し、当該電極をショートさせるという問題が考えられる。そこで、この問題を解決するために、隣接電極間の距離よりも小さい粒子径を有する導電性粒子５４を含む異方導電性シール材５３を用いて、異方導電性シール材５３を設けた部分の基板を圧着して対向電極を接続する情報表示用パネルの製造方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００５／０６２１１２号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
情報表示領域５１に形成する画素用電極のうち前面基板２には透明な電極を形成する必要があり、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などの導電性金属酸化物系化合物を薄膜にした構造の透明導電膜が用いられていた。また、従来の情報表示用パネルでは、情報表示領域５１の外側の配線電極も、画素用電極と同じ材料で形成されていた。この場合、例えば、異方導電性フィルム（ＡＣＦ）や異方導電性シール材（ＡＣＳ）などの異方導電性部材を配して基板間導通接続を行おうとすると、異方導電性部材中の導電性粒子５４が前面基板２上の配線電極と背面基板１上の配線電極と双方に押し込まれるようにして導通接続がなされることになる。しかし、ＩＴＯなどの導電性金属酸化物系化合物の薄膜は脆いため、導電性粒子５４による圧接によって壊れてしまうことがあり、導通不良の問題となることがあった。
【０００６】
本発明は、上述した問題点を解決するもので、導電性粒子の圧接に起因した導通不良や電極の破壊を有利に回避することができる情報表示用パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の情報表示用パネルは、少なくとも一方の情報表示領域が透明な２枚の基板間の前記情報表示領域に粒子群を表示媒体として封入し、前記２枚の基板それぞれの前記情報表示領域に設けた画素用電極を介して前記粒子群を移動させて情報を表示する情報表示用パネルにおいて、前記情報表示領域の外側で、一方の基板に設けた第１の配線電極と、他方の基板に設けた、画素用電極から延びる第２の配線電極とを、導電性粒子を介して接続する接続用電極部を有し、前記接続用電極部を構成する前記第１の配線電極と前記第２の配線電極のうち少なくとも導電性金属酸化物系化合物で形成された配線電極の、前記導電性粒子と接する面に、可とう性を有する導電膜を設けたことを特徴とする。
【０００８】
本発明の情報表示用パネルは、前記導電性粒子の粒子径が、前記接続用電極部を構成する前記第１の配線電極の隣接電極間の間隔および前記第２の配線電極の隣接電極間の間隔のいずれよりも小さいこと、前記可とう性を有する導電膜が、導電性金属膜であること、前記基板の前記接続用電極部が設けられた領域部分の少なくとも一方が可とう性を有することが好適である。
【０００９】
本発明の情報表示用パネルの製造方法は、前記基板の情報表示領域よりも広い領域に導電性金属酸化物系化合物膜を形成した後、前記導電性金属酸化物系化合物膜と情報表示領域の外側で少なくとも接するように可とう性を有する導電膜を形成し、前記導電性金属酸化物系化合物膜および前記可とう性を有する導電膜を同時にエッチングして、前記接続用電極部を構成する少なくとも一方の配線電極を形成することを特徴とする。
【００１０】
本発明の情報表示用パネルの製造方法は、前記可とう性を有する導電膜を、前記導電性金属酸化物系化合物膜と少なくとも一部分が重なるように形成すること、前記可とう性を有する導電膜が、導電性金属膜であること、前記導電性金属酸化物系化合物膜を、非晶質の導電性金属酸化物系化合物膜として形成し、エッチングでパターニングした後に加熱処理によって結晶質の導電性金属酸化物系化合物膜とすることが好適である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、情報表示用パネルの配線電極における導通不良や電極の破壊を防止することができ、その結果、情報表示用パネルの歩留まりの向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】従来の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。
【図２】本発明の情報表示用パネルの一例である帯電粒子気体中駆動型の情報表示用パネルにおける表示原理を説明するための図である。
【図３】本発明に従う情報表示用パネルの一例を示す図である。
【図４】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図５】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図６】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図７】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図８】異方導電性フィルムを用いた情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。
【図９】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図１０】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図１１】本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す図である。
【図１２】本発明に従う情報表示用パネルの製造方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を具体的に説明する。
まず、本発明の情報表示用パネルの一例である帯電粒子駆動型情報表示用パネルの基本的な構成について説明する。この情報表示用パネルでは、対向する基板間の情報表示領域に封入した帯電性粒子を含んだ粒子群として構成した表示媒体に対向対電極から電界が付与される。付与された電界方向にそって、表示媒体が電界による力やクーロン力等によって引き寄せられ、表示媒体が電界方向の変化によって移動方向が切り換わることにより、画像等の情報表示がなされる。従って、表示媒体が、均一に移動し、かつ、表示情報を書き換える時あるいは表示した情報を継続して表示する時の安定性を維持できるように、情報表示用パネルを設計する必要がある。ここで、表示媒体を構成する粒子にかかる力は、粒子同士のクーロン力により引き付けあう力の他に、電極や基板との電気鏡像力、分子間力、液架橋力、重力等が考えられる。
【００１４】
本発明の一例である帯電粒子駆動型の情報表示用パネルの一例を示す、図２（ａ）、（ｂ）を用いて表示原理を説明する。
図２（ａ）、（ｂ）に示す例では、光学的反射率および帯電性を有する粒子を含んだ粒子群として構成した少なくとも２種類の表示媒体（ここでは負帯電性白色粒子３Ｗａを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体３Ｗと正帯電性黒色粒子３Ｂａを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体３Ｂを示す）を、隔壁４で形成された各セル７において、パネル基板１に設けた画素用電極５（ストライプ電極）と観察側の透明なパネル基板２に設けた画素用透明電極６（ストライプ電極）とが対向直交交差して形成する画素電極対の間に電圧を印加することにより発生する電界に応じて、基板１、２と垂直に移動させる。そして、図２（ａ）に示すように白色表示媒体３Ｗを観察者に視認させて白色の表示を、あるいは、図２（ｂ）に示すように黒色表示媒体３Ｂを観察者に視認させて黒色の表示を白黒のドットでマトリックス表示している。なお、図２（ａ）、（ｂ）において、図面手前にある隔壁は省略している。ここではセルと画素（ドット）とが１対１に対応する例を示している。隔壁４と基板１とは接着剤８を介して接着している。
【００１５】
本発明に従う情報表示用パネルの一例を、図３〜図７を用いて説明する。図３〜図７はいずれも、図１(ｄ)におけるＢ−Ｂ断面図に対応するものであり、異方導電性シール材（ＡＣＳ）を用いた例である。
図３において、背面基板１の情報表示領域には、表示媒体としての粒子群に電界を付与するためのＩＴＯ画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、背面基板１の情報表示領域の外側には、外部回路の接続端子となるＩＴＯ配線電極Ａ１（以下、「第１の配線電極」とも称する）が、ＩＴＯ画素用電極Ｂ１〜Ｂ４とは接していない状態で別に設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明な導電性金属酸化物系化合物、例えば、ＩＴＯの画素用電極Ｆ１が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ１は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長され、ＩＴＯ配線電極Ｆ１’（以下、「第２の配線電極」とも称する）となる。そして、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ１の上に導電膜、例えば、銅膜６１が形成され、第２の配線電極Ｆ１’の端部を覆うように導電膜、例えば、銅膜６２が形成されている。さらに、これらの銅膜６１、６２の間に異方導電性シール材５３が配置されている。この異方導電性シール材５３は導電性粒子５４を含み、導電性粒子５４が銅膜６１、６２を介して背面基板１に設けた第１の配線電極Ａ１と前面基板２に設けた第２の配線電極Ｆ１’とを接続し、ＩＴＯ配線電極Ａ１とＩＴＯ画素用電極Ｆ１の導通を確保している。
情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ１と銅膜６１との積層構造および第２の配線電極Ｆ１’と銅膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
ＩＴＯ膜は１０ｎｍ〜１０μｍの厚さの範囲で設けることができ、ここでは１００ｎｍ厚に設けた例を示している。銅膜は１０ｎｍ〜１０μｍの厚さの範囲で設けることができ、ここでは５μｍ厚に設けた例を示している。
【００１６】
このように、可とう性を有する導電膜である銅膜６１、６２がそれぞれＩＴＯ配線電極電極Ａ１、Ｆ１’の保護膜として働くので、ＩＴＯ配線電極電極Ａ１、Ｆ１’とを電気的に接続するために基板１、２を圧着しても、導電性粒子５４が、ＩＴＯなど比較的脆い金属酸化物系材料を用いた配線電極Ａ１、Ｆ１’を破壊して断線するおそれがない。その結果、情報表示用パネルの製造時における歩留まりが向上するのである。
また、可とう性を有する導電膜６１、６２（図３の例では銅膜）を設けると、この導電膜６１、６２の厚さの分だけ、情報表示領域の外側の基板間隔を狭くすることができるので、粒子径の小さい導電性粒子５４を用いることができるという効果もある。
本発明の情報表示用パネルでは、表示媒体を配置した情報表示領域における基板間ギャップは１０μｍ〜２００μｍ、好ましくは１０μｍ〜１００μｍに設定されるので、図３の例で用いられる導電性粒子５４の粒子径はこの基板間ギャップとほぼ同じとなる。
【００１７】
図４には、本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す。背面基板１は可とう性を有し、表示媒体を配置した情報表示領域の外側の基板間隔を、基板間ギャップ確保用部材４０によって規定し、基板部分をたわめることによって、配線電極間の距離を情報表示領域の基板間隔より狭くできる。それゆえ、図３に示した場合より粒子径の小さい導電性粒子５４を用いることができる。このような構成にすれば、隣接電極間距離（図１に示すＤ１）よりも粒子径の小さい導電性粒子を含んだ異方導電性部材を用いて、容易に基板間導通を行えるので、隣接電極間をショートさせるという問題をより容易に解消することができる。また、基板１、２を圧着する際、粒子径の小さい導電性粒子５４は、粒子径の大きな導電性粒子５４に比べて、配線電極Ａ１、Ｆ１’に接触する部分の曲率が大きい。それゆえ、導電性粒子５４は配線電極Ａ１、Ｆ１’に強く押し込まれ、配線電極Ａ１、Ｆ１’が破壊されやすいが、本発明に従い、可とう性を有する導電膜６１、６２を設けることによりこの問題も回避することができる。
その他、粒子径の小さい導電性粒子５４を用いることにより、隣接する配線電極の間隔を狭め、情報表示領域の外側の、いわゆる額縁部分を小さくできるので、情報表示領域の占める部分が大きい情報表示用パネルを製造することが可能となる。
なお、導電性粒子５４の平均粒子径Ｄ２は、電極間のショートを防止するために配線電極の隣接電極間距離（図１に示すＤ１）よりも小さくする必要があり、Ｄ２＜Ｄ１／３とすることが好ましい。
【００１８】
図５には、本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す。背面基板１には、可とう性を有する導電膜、例えば銅膜である配線電極Ａ１（以下、「第１の配線電極」とも称する）および銅膜である画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明なＩＴＯ画素用電極Ｆ１が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ１は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長され、ＩＴＯ配線電極Ｆ１’（以下、「第２の配線電極」とも称する）となる。そして、情報表示領域の外側領域において、ＩＴＯ配線電極Ｆ１’の上に可とう性を有する導電膜６２が設けられている。
このように、背面基板１にはＩＴＯではない、例えば銅膜を第１の配線電極Ａ１として設けることによって、前面基板２のＩＴＯで構成される配線電極の面だけを、可とう性を有する導電膜で覆えば、導電性粒子５４がＩＴＯ配線電極Ａ１を破壊するおそれを低下することができる。
なお、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ１の単層構造および第２の配線電極Ｆ１’と銅膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
【００１９】
図６には、本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す。背面基板１に貼り合わされた可とう性フィルム１’には、導電膜である配線電極Ａ１（以下、「第１の配線電極」とも称する）およびＩＴＯ画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明なＩＴＯ画素用電極Ｆ１が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ１は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長され、ＩＴＯ配線電極Ｆ１’（以下、「第２の配線電極」とも称する）となる。そして、情報表示領域の外側領域において、第２の配線電極Ｆ１’の端部を覆うように可とう性を有する導電膜６２が設けられている。
なお、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ１の単層構造および第２の配線電極Ｆ１’と導電膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
情報表示領域に配置された表示媒体（粒子群）を駆動するためには、背面基板１に設けた画素用電極（Ｂ１〜Ｂ４）と前面基板２に設けた画素用電極（Ｆ１）との間隔が均一であることが好ましい。可とう性フィルム１’をそれだけで背面基板として用いた場合に、その厚さが薄すぎるとフィルムが弛みやすく、基板間距離が一定でなくなるおそれがある。それゆえ、可とう性フィルム１’を弛みにくい背面基板１に貼り合わせた積層構造とすることによって、情報表示領域において基板間距離を一定に保つとともに、情報表示領域の外側では小粒子径の導電性粒子５４に合せた導通接続を行うことができる。
【００２０】
図７には、本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す。背面基板１に貼り合わされた可とう性フィルム１’には、銅膜（５μｍ厚）である配線電極Ａ１（以下、「第１の配線電極」とも称する）および銅膜（５μｍ厚）である画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明なＩＴＯ画素用電極Ｆ１が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ１は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長され、ＩＴＯ配線電極Ｆ１’（以下、「第２の配線電極」とも称する）となる。そして、情報表示領域の外側領域において、配線電極Ａ１の上に導電膜６１が設けられ、ＩＴＯ配線電極Ｆ１’の上に導電膜６２が設けられている。
なお、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ１と導電膜６１との積層構造および第２の配線電極Ｆ１’と導電膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
【００２１】
また、本発明における対向する電極間を導通させる技術は、パネル基板に形成された、外部回路との接続端子と、外部回路側の接続端子との接続にも適用できる。例えば、情報表示用パネルの前面基板の端部に、情報表示領域の画素用電極から引き出されて形成されたＩＴＯ配線電極に、ドライバーＩＣが搭載されたフレキシブルケーブル（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ：ＴＣＰ）を異方導電性フィルムを用いて実装する際に、ＩＴＯ配線電極上に可とう性を有する導電膜を配置した構成にしておく。ＴＣＰ側の接続端子は銅などの導電性金属で構成され、パネル基板側の接続端子である配線電極はＩＴＯなどの透明な導電性金属酸化物系化合物の導電膜の上に銅などの可とう性を有する導電膜が覆った形態で構成され、異方導電性フィルム中の導電性粒子は、双方の銅膜に圧接される構造とすることができる。
【００２２】
上述した例では、異方導電性シール材５３が導電性粒子５４を含み、対向する２枚の基板をシールする機能および対向する電極を導通する機能を併せ持つ場合について説明したが、これらの機能を別々に達成することもできる。すなわち、導電性粒子５４を含む異方導電性フィルム（ＡＣＦ）により対向する電極を導通させ、それとは別に対向する２枚の基板をシールするためのシール材を設けてもよい。
【００２３】
以下に、異方導電性フィルムを用いた情報表示用パネルおよびその製造方法を、図８〜図１１を用いて説明する。
図８は、異方導電性フィルムを用いた情報表示用パネルの製造方法を説明するための図である。
まず、図８（ａ）に示すように、背面基板１には、情報表示領域５１に画素用電極Ｂ１〜Ｂ４を設ける。これらの画素用電極Ｂ１〜Ｂ４の一端は、情報表示領域の外側領域に延長して引き出され、外部回路の接続端子となる配線電極Ｂ１’〜Ｂ４’となる。また、情報表示領域５１の外側に、接続用電極部を構成する配線電極Ａ１〜Ａ４を設ける。
同様に、図８(ｂ)に示すように、透明な前面基板２には、透明な画素用電極Ｆ１〜Ｆ４を設ける。これらの画素用電極Ｆ１〜Ｆ４の一端は、情報表示領域の外側領域に延長して引き出され、接続用電極部を構成する配線電極Ｆ１’〜Ｆ４’となる。
次に、図８(ｃ)に示すように、背面基板１の情報表示領域５１の外側に、シール材５６を配置する。また、配線電極Ａ１〜Ａ４に重ねて、導電性粒子を含んだ異方導電性フィルム（ＡＣＦ）５７を配置する。
次いで、図８（ｄ）に示すように、背面基板１上に前面基板２を、シール材５６および異方導電性フィルム５７を介して重ね合わせ、前面基板２の配線電極Ｆ１’〜Ｆ４’と背面基板１の配線電極Ａ１〜Ａ４とをそれぞれ異方導電性フィルム５７を介して電気的に接続する。なお、図８（ｄ）において、説明のために、前面基板２は図示していない。
また、図８(ｅ)は、図８(ｄ)におけるＣ−Ｃ断面図である。異方導電性フィルム５７は導電性粒子５４を含み、導電性粒子５４が背面基板１に設けた配線電極Ａ１と前面基板２に設けた画素用電極Ｆ１’とを接続し、背面基板１に設けた配線電極Ａ４と前面基板２に設けた画素用電極Ｆ１の導通を確保している。
【００２４】
図９〜図１１は本発明に従う情報表示用パネルの一例であり、いずれも、図８(ｄ)におけるＤ−Ｄ断面図に対応するものである。
図９において、可とう性の背面基板１には、外部回路の接続端子となるＩＴＯ配線電極Ａ３（以下、「第１の配線電極」とも称する）および表示媒体としての粒子群に電界を付与するためのＩＴＯ画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明なＩＴＯ画素用電極Ｆ３が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ３は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長して引き出され、ＩＴＯ配線電極Ｆ３’（以下、「第２の配線電極」とも称する）になる。そして、情報表示領域の外側領域において、ＩＴＯ配線電極Ａ３の上に銅膜６１が、ＩＴＯ配線電極Ｆ３’の上に銅膜６２が設けられている。さらに、これらの銅膜６１、６２の間にシール材５６および異方導電性フィルム５７が配置されている。この異方導電性フィルム５７は導電性粒子５４を含み、この導電性粒子５４が銅膜６１、６２を介して背面基板１に設けたＩＴＯ配線電極Ａ３と前面基板２に設けたＩＴＯ配線電極Ｆ３’とを接続し、ＩＴＯ配線電極Ａ３とＩＴＯ画素用電極Ｆ３の導通を確保している。
なお、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ３と銅膜６１との積層構造および第２の配線電極Ｆ３’と導電膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
【００２５】
図１０には、本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す。可とう性の背面基板１には、銅膜（３μｍ厚）である配線電極Ａ３（以下、「第１の配線電極」とも称する）および銅膜（３μｍ厚）である画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明なＩＴＯ画素用電極Ｆ３が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ３は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長して引き出され、ＩＴＯ配線電極Ｆ３’（以下、「第２の配線電極」とも称する）になる。そして、情報表示領域の外側領域において、ＩＴＯ配線電極Ｆ３’の上に可とう性を有する導電膜６２が設けられている。図示例では、導電膜６２として銅膜（３μｍ厚）を用いた。
このように、背面基板１にはＩＴＯではない、例えば銅などの可とう性を有する導電膜を配線電極Ａ３として設けることによって、ＩＴＯで構成される配線電極の面だけを可とう性を有する導電膜で覆えば、導電性粒子５４がＩＴＯ配線電極Ａ３を破壊するおそれを低下することができる。
なお、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ３の単層構造および第２の配線電極Ｆ３’と導電膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
【００２６】
図１１には、本発明に従う情報表示用パネルの別例を示す。背面基板１に貼り合わされた可とう性フィルム１’には、銅製の配線電極Ａ３（以下、「第１の配線電極」とも称する）および銅製の画素用電極Ｂ１〜Ｂ４が設けられている。また、透明な前面基板２の情報表示領域には、透明なＩＴＯ画素用電極Ｆ３が設けられ、このＩＴＯ画素用電極Ｆ３は前面基板２の情報表示領域の外側領域に延長され、ＩＴＯ配線電極Ｆ３’（以下、「第２の配線電極」とも称する）になる。そして、情報表示領域の外側領域において、ＩＴＯ配線電極Ｆ３’の端部を覆うように可とう性を有する導電膜６２が設けられている。
なお、情報表示領域の外側領域において、第１の配線電極Ａ３の単層構造および第２の配線電極Ｆ３’と導電膜６２との積層構造をそれぞれ接続用電極部と称する。
【００２７】
ここで、ＩＴＯなどの導電性金属酸化物系化合物膜の上に可とう性を有する導電膜を形成する方法について図１２を用いて説明する。
図１２（ａ）に示すように、前面基板２の全面に導電性金属酸化物系化合物膜６３（例えば、ＩＴＯ膜）を形成し、情報表示領域の外に設けられた導電性金属酸化物系化合物膜６３の上に可とう性を有する導電膜６２（例えば、銅膜）を形成して積層構造にする。この状態の平面図を図１２（ｂ）に示す。
次に、図１２（ｃ）に示すように、情報表示領域の導電性金属酸化物系化合物膜６３を画素用電極Ｆ１〜Ｆ３に、情報表示領域の外の導電性金属酸化物系化合物膜６３と導電膜６２との積層構造を接続用電極部に、それぞれエッチングでパターニングする。
このように、複雑な工程を用いることなく導電性金属酸化物系化合物膜の上に可とう性を有する導電膜が積層された接続用電極部を容易に作製することができる。特に、先に作製する導電性金属酸化物系化合物膜を結晶化させずに非晶質導電膜として製膜し、その上に可とう性を有する導電膜を製膜し、エッチングすればエッチング処理もしやすくなるので好ましい。
導電性金属酸化物系化合物膜の導電性は、非晶質では十分に得られないので、パターニングの後に１３０〜２００℃で加熱処理を行って結晶化させる。この製造方法によれば、エッチングしやすい非晶質の状態で導電性金属酸化物系化合物膜をパターニングでき、導電性金属酸化物系化合物膜下にある基板にダメージを与えることなく、パターニングを行なえる。
なお、画素用電極のパターニングと接続用電極部のパターニングとを同時に行うこともできるし、別々に行うこともできる。
【００２８】
以下、本発明の情報表示用パネルを構成する各部材について説明する。
（電極）
透明な情報表示領域を有する前面基板に用いる電極は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛等の導電性金属酸化物系化合物が用いられ、電極は、いずれも金属膜と比較すれば可とう性に乏しく、脆い。
情報表示領域外に形成される接続用電極部を構成する配線電極は、上述した酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛等の導電性金属酸化物系化合物のほかにも、poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-poly-(styrenesulfonate)(PEDOT:PSS)等のポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の導電性高分子類や、導電性ナノワイヤを含んだ構造の導電性高分子類を用いることもできる。このような高分子材料を製膜して得た配線電極が、導電性金属膜と比較して可とう性に乏しい場合には、この配線電極の上に、可とう性に優れた導電膜を積層した積層構造を採用するのが好ましい。
前面基板の情報表示領域に設ける画素用電極は透明である必要があるが、その他の電極は透明である必要がない。いずれの場合も、パターン形成可能かつ導電性の上記材料を好適に用いることができる。なお、電極厚みは、導電性や光透過性を鑑みて決定され、０．０１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜５μｍである。前面基板の情報表示領域以外の電極の材質や厚みについては光透過性を鑑みる必要はない。
前面基板の情報表示領域に設ける画素用電極には、可視光線透過率が高く且つ低抵抗な透明導電膜を用いた透明電極が使用される。具体的には、透明基板上に積層したインジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）および酸素原子（Ｏ）を主成分とするＩＴＯのような金属酸化物系の透明導電膜をパターニングした透明電極を使用することができる。
本発明の情報表示用パネルにおいても、少なくとも前面基板の情報表示領域に配置する画素用電極に、上記ＩＴＯのような金属酸化物系の透明導電膜を採用するので、前面基板に設ける接続用電極も同じ材料とすると、画素用電極と接続用電極の製膜およびパターニングを同時に行うことができるので好ましい。
【００２９】
（導電膜）
可とう性を有する導電膜の材料としては、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム等やこれらを主成分とする合金が挙げられる。
導電膜の形成方法としては、上記例示の材料をスパッタ法や、蒸着法、イオンプレーティング法等の既知の製膜法を用いて基板上に形成することができるが、水分を除去した雰囲気下で非晶質透明導電膜の製膜を行い、透明電極の結晶性を向上するという観点から、真空度６×１０−４Ｐａ以下（絶対圧基準）でスパッタリングすることにより製膜することが好ましい。また、スパッタリングの前処理を１０−５Ｐａ以下の雰囲気下で行うことが好ましい。更に、低い熱処理温度で結晶質導電膜を形成するという観点から、非晶質導電膜中のＳｎ濃度はＳｎＯ２換算で１〜５質量％、好ましくは１〜３質量％とすることが好ましい。なお、非晶質導電膜中のＳｎＯ２濃度は、ターゲットの組成を変更することにより制御することができる。
また、製膜の容易性や膜の強度、膜の導電性の観点から、導電膜として金属製の膜を用いることが有効である。
また、金属膜の厚さには特に制限はないが、製造コストの点から０．１μｍ〜５μｍであることが好ましい。
０．１μｍより薄い金属膜を作製するためにはスパッタリングのような大掛かりな装置を用いる必要がありコスト高になる。一方、５μｍより厚い金属膜は製膜に時間が掛かり過ぎるため、やはりコスト高になる。圧延銅箔のように、圧延加工で金属薄膜を作製する方法を用いれば、厚さが０．１μｍ〜５μｍの金属膜を低コストで得ることができる。その他、後述する電極の形成方法に準じた方法で金属膜を得ることができる。スパッタリングを用いれば、０．１μｍよりも薄い金属膜でも精度よく形成することができるが、コスト高になることもあるので、目的に応じた製膜法を適宜選択して用いる。
【００３０】
（接続用電極部）
情報表示領域の外側における接続用電極部は、導電性金属酸化物系化合物で形成された配線電極と、可とう性を有する、例えば金属導電膜との積層構造、または、可とう性を有する導電性部材からなる配線電極の単層構造を有する。
ここで、接続用電極部を構成する導電性金属酸化物系化合物膜として好ましく用いられるＩＴＯ膜および可とう性を有する導電膜として好ましく用いられる銅膜の形成方法の具体的な一例を説明する。
（１）非晶質ＩＴＯ膜の形成
（株）ヒラノ光音製ＭＩＣ１０５０Ｖを用い、ＤＣ４ｋＷにて非晶質ＩＴＯ膜を形成する。具体的には、（株）ヒラノ光音製ＭＩＣ１０５０ＶにＩＴＯターゲット（ＳｎＯ２含有割合：２質量％）をセットし、ターボ分子ポンプで５×１０−４Ｐａまで排気した後、アルゴン（Ａｒ）ガスと酸素（Ｏ２）ガスの混合ガスを、アルゴンガスの流量と、酸素ガスの流量とを４対１の比率で導入し、０．５Ｐａになるように調整する。その後、ＤＣ４ｋＷの電力を印加し、膜厚３０ｎｍの非晶質ＩＴＯ膜を基板上に製膜する。
（２）銅膜の形成
基板上に製膜した膜厚３０ｎｍの非晶質ＩＴＯ膜面の情報表示領域外にあたる部分の上にだけ圧延銅箔を転写して厚さ０．１μｍの銅膜を製膜する。
（３）画素用電極および接続用電極部の形成
基板上の情報表示領域に膜厚３０ｎｍの非晶質透明導電膜として製膜されたＩＴＯ膜に画素用電極パターンのエッチング処理を行い、基板上の情報表示領域外にあたる部分に膜厚３０ｎｍの非晶質ＩＴＯ膜と膜厚１００ｎｍの銅膜との積層膜に接続用電極部パターンのエッチング処理を行なう。エッチング処理には既知の水溶液エッチャント、例えば王水、ハロゲン化水素、リン酸、硫酸、硝酸、塩素酸、酢酸や蓚酸等の有機酸、ヨウ素、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ３）、或いは、これらの組み合わせ等を用いることができ、本発明においてもエッチャントを適宜選択して実施する。
（４）非晶質ＩＴＯ膜を熱処理して結晶質ＩＴＯにする
基板上に形成し、それぞれの電極にパターニングを施された非晶質ＩＴＯ膜を、１１０℃以上１３０℃未満の温度で熱処理して結晶質ＩＴＯ膜にする。ここで、熱処理は、例えば熱風オーブン、赤外線加熱ヒーターを用いて行うことができ、また、熱処理を行う際の雰囲気は、例えば大気雰囲気下または窒素等の不活性雰囲気下とすることができる。この熱処理によって可とう性を有する導電膜、例えば銅膜の下にある非晶質ＩＴＯ膜も結晶質ＩＴＯ膜とすることができる。
【００３１】
（基板）
基板としては、少なくとも前面基板は、少なくとも情報表示領域が透明になっていて、外側から表示媒体を確認できる基板であり、透明部分の可視光透過率が高くかつ耐熱性の良い材料が好適である。もう一方の背面基板は透明でも不透明でもかまわない。基板材料を例示すると、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルサルフィン（ＰＥＳ）、アクリル等の有機高分子系基板や、ガラスシート、石英シート、絶縁膜で被膜した金属シート等を用い、前面基板にはこのうち情報表示領域が透明なものを用いる。基板の厚みは、２μｍ〜２０００μｍが好ましく、さらに５μｍ〜１０００μｍが好適であり、薄すぎると、強度、基板間の間隔均一性を保ちにくくなり、２０００μｍより厚いと、薄型の情報表示用パネルとする場合に不都合がある。
【００３２】
（可とう性フィルム）
可とう性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、アクリル等の有機高分子系フィルムを用いることができる。
前面基板に貼り合わせて用いる場合には、このうち透明なフィルムを用いる必要があるが、背面基板に貼り合わせて用いる場合には、透明でないフィルムを用いてもよい。
【００３３】
（隔壁）
必要に応じて基板間に設ける隔壁については、その形状は表示にかかわる表示媒体の種類や、配置する電極の形状、配置により適宜最適設定され、一概には限定されないが、隔壁の幅は２μｍ〜１００μｍ、好ましくは３μｍ〜５０μｍに、隔壁の高さは１０μｍ〜５００μｍ、好ましくは１０μｍ〜２００μｍに調整される。基板間ギャップを確保するために配置する隔壁の高さは、確保したい基板間ギャップと合わせる。基板間空間をセルに仕切るために配置する隔壁の高さは、基板間ギャップと同じにしても、低くしてもよい。
また、隔壁を形成するにあたり、対向する両基板１、２の各々にリブを形成した後に接合する両リブ法、片側の基板上にのみリブを形成する片リブ法が考えられる。この発明では、いずれの方法も用いられる。
これらのリブ（隔壁）により形成されるセルは、基板平面方向からみて四角状、三角状、ライン状、円形状、六角状が例示され、配置としては格子状やハニカム状や網目状が例示される。視認側から見える隔壁断面部分に相当する部分（セルの枠部の面積）はできるだけ小さくした方が良く、表示状態の鮮明さが増す。
ここで、隔壁の形成方法を例示すると、金型転写法、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、フォトリソ法、アディティブ法が挙げられる。いずれの方法もこの発明の情報表示用パネルに好適に用いることができるが、これらのうち、レジスト材をフォトリソグラフィー技術で処理して隔壁を形成するフォトリソ法や金型を利用して形成した隔壁を基板に転写して隔壁を形成する金型転写法が好適に用いられる。
【００３４】
（異方導電性部材）
異方導電性シール材または異方導電性フィルムに用いる導電性粒子の粒子径を、パネル基板間ギャップとは関係なく、基板上に形成される、接続用電極部を構成する配線電極の隣接電極間隔よりも小さくし、いずれの隣接電極間においても異方導電性シール材または異方導電性フィルムの導電性粒子による導通不具合が起きないようにする。
基板間導通接続は、導電性粒子を含んだ接着剤を用いて、基板間接着とともに行なったり、導電性粒子を含んだシール材を用いて、基板間シールとともに行なったりすることができる。異方導電性接着材や異方導電性シール材は、製膜されたフィルム状の異方導電性フィルムを用いたり、ペースト状の異方導電性ペースト（ＡＣＰ）を用いたりすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明の情報表示用パネルの製造方法によれば、接続用電極部における導通不良や電極の破壊を防止することができる。そして、本発明の情報表示用パネルは、ノートパソコン、ＰＤＡ、携帯電話、ハンディターミナル等のモバイル機器の表示部、電子書籍、電子新聞、電子マニュアル（取扱説明書）等の電子ペーパー、看板、ポスター、黒板等の掲示板、電卓、家電製品等の表示部、ポイントカード、ＩＣカード等のカード表示部、電子広告、電子ＰＯＰ（Point of presence, Point of Purchase advertising）、電子値札、電子棚札、電子楽譜、ＲＦ−ＩＤ機器の表示部や、外部表示書き換え手段と接続して表示書き換えを行う表示部（いわゆるリライタブルペーパー）として好適な情報表示用パネルである。
【符号の説明】
【００３６】
１      パネル基板（背面基板）
２      パネル基板（前面基板）
３Ｗ    白色表示媒体
３Ｗａ  白色粒子
３Ｂ    黒色表示媒体
３Ｂａ  黒色粒子
４      隔壁
５、６  ストライプ電極
７      セル
８      接着剤
４０    基板間ギャップ確保用部材
５１    情報表示領域
５３    異方導電性シール材
５４    導電性粒子
５５    接着剤
５６    シール材
５７    異方導電性フィルム
６１、６２    可とう性を有する導電膜
６３    導電性金属酸化物系化合物膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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