(57)【要約】【課題】固定砥粒を研削パッドとして使用する研削工程において、クーラントを循環させて研削屑をフィルタで除去する場合であっても、フィルタの交換を低減し、低コスト化を図ることを目的の一とする。【解決手段】固定砥粒が貼付された定盤を有する研削装置を用いてガラス基板の表面を研削する際に、クーラントタンク内に貯留されたクーラントを研削装置に対して循環させてガラススラッジを除去する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、クーラントタンクと研削装置の流路間にフィルタを設け、フィルタを介してクーラントタンクから研削装置にクーラントを供給することによりクーラント中に含まれるガラススラッジを濾過し、所定の期間毎にフィルタに対してクーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことにより、フィルタに滞留したガラススラッジを剥離してクーラントタンクに溜める。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定砥粒が貼付された定盤を有する研削装置を用いてガラス基板の表面を研削する際に、クーラントタンク内に貯留されたクーラントを前記研削装置に対して循環させることにより前記ガラス基板の研削により生じるガラススラッジを除去する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記クーラントタンクと前記研削装置の流路間にフィルタを設け、前記フィルタを介して前記クーラントタンクから前記研削装置に前記クーラントを供給することにより前記クーラント中に含まれる前記ガラススラッジを濾過し、
所定の期間毎に前記フィルタに対して前記クーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことにより、前記フィルタに滞留した前記ガラススラッジを剥離して前記クーラントタンクに溜めることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記エアーは、前記フィルタと前記研削装置の間の流路に流すことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記固定砥粒として、ダイヤモンド粒子を研削砥粒として含むダイヤモンドシートを用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体の一つであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等に用いられる磁気ディスクにおいては、急速な小型化、薄板化、及び記録密度の増加とアクセス速度の高速化が続けられている。ＨＤＤでは、円盤状の基板の上に磁性層を備えた磁気ディスクを高速回転し、この磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上飛行させながら記録と再生を行う。
【０００３】
アクセス速度の高速化に伴って磁気ディスクの回転速度も速くなるため、磁気ディスクには、より高い基板強度が求められる。また記録密度の増加に伴い、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、巨大磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移しており、磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量が８ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このため磁気ディスク面上に凹凸形状があると、磁気ヘッドが磁気ディスクと接触／衝突するクラッシュ障害や、接触による発熱で読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。このような磁気ヘッドに生じる障害を抑制するには、磁気ディスクの主表面を極めて平滑な面として仕上げておくことが重要となる。
【０００４】
そこで現在では、磁気ディスク用の基板として、従来のアルミニウム基板に加えて、ガラス基板が用いられるようになってきている。これは軟質材料である金属からなるアルミニウム基板に比べて、硬質材料であるガラスからなるガラス基板は、基板表面の平坦性、基板強度、および剛性に優れているためである。これらの磁気ディスクに用いられるガラス基板は、その主表面に研削（ラッピング）加工及び研磨加工等を施すことにより製造されている。
【０００５】
一般的に、研削加工を行ってガラス基板表面を粗く削った後、研磨加工を行うことにより、ガラス基板の主表面が所定の平坦面、平滑面に仕上げられるが、研削工程において遊離砥粒に比べて粒径の小さい固定砥粒を研削パッドとして使用することにより、研削加工終了時点での表面粗さを小さくすることができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、遊離砥粒に比べて粒径の小さい固定砥粒を研削パッドとして使用する場合には、発生する研磨屑（ガラススラッジ）を除去するために定盤とガラス基板の間にクーラントを供給して研磨屑を除去することが行われる（例えば、特許文献２参照）。クーラントは、クーラントを貯留するタンクから定盤内に供給され、研削装置を流れた後に貯留タンクに回収されるように循環して使用される。また、特許文献２では、クーラントを循環させる際に下定盤内に設けられたフィルタで濾過し、当該フィルタに研削屑を滞留させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−０９９２４９号公報
【特許文献２】特開２００８−２５４１６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
研削工程において、粒径の小さいダイヤモンドシート等を研削パッドとして使用する場合には、研削屑（ガラススラッジ）が微小であることからフィルタの分離精度（フィルタの孔）を小さくする必要があり、これによりフィルタにおいて目詰まりが起こりやすくなる。その結果、フィルタの交換を頻繁に行わなければならず、コストが増加する問題や、フィルタの交換により研削工程の生産性が低下する問題がある。
【０００９】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、固定砥粒を研削パッドとして使用する研削工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研削加工時にクーラントを循環させて研削屑をフィルタで除去する場合であっても、フィルタの交換を低減し、低コスト化を図ることを目的の一とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一態様は、固定砥粒が貼付された定盤を有する研削装置を用いてガラス基板の表面を研削する際に、クーラントタンク内に貯留されたクーラントを研削装置に対して循環させることによりガラス基板の研削により生じるガラススラッジを除去する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、クーラントタンクと研削装置の流路間にフィルタを設け、フィルタを介してクーラントタンクから研削装置にクーラントを供給することによりクーラント中に含まれるガラススラッジを濾過し、所定の期間毎にフィルタに対してクーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことにより、フィルタに滞留したガラススラッジを剥離してクーラントタンクに溜めることを特徴としている。
【００１１】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一態様において、エアーをフィルタと研削装置の間の流路に流すことが好ましい。
【００１２】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一態様において、固定砥粒として、ダイヤモンド粒子を研削砥粒として含むダイヤモンドシートを用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一態様によれば、所定の期間毎にフィルタに対してクーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことにより、フィルタに滞留したガラススラッジを剥離してクーラントタンクに溜めるため、研削加工時にクーラントを循環させて研削屑をフィルタで除去する場合であっても、フィルタの交換を低減し、低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態に係る研削工程において、研削装置に対してクーラントを循環させて供給する方法を説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る研削工程において、研削装置に対してクーラントを循環させて供給する方法を説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る研削工程において、研削装置に対してクーラントを循環させて供給する方法を説明する図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る研削工程に適用する固定砥粒の一例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施の形態を図、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。
【００１６】
まず、図１〜３を参照して、固定砥粒が研削面に貼付された定盤を有する研削装置を用いてガラス基板の表面を研削する研削工程において、研削装置に対してクーラントを循環させて供給する場合について説明する。
【００１７】
ガラス基板の研削工程において、クーラントタンク１０２に貯留されたクーラントは、フィルタ１０４が設けられたフィルタハウジング１０３を介して研削装置１０１（定盤とガラス基板の間）に供給され、ガラス基板の研削により生じた研削屑（ガラススラッジ１０５）を除去する。その後、ガラススラッジ１０５を含んだクーラントは、クーラントタンク１０２に戻った後、再度クーラントタンク１０２からフィルタハウジング１０３を介して研削装置１０１に供給される（図１（Ａ）、図２参照）。より詳細に説明すると、クーラントは、研削装置１０１に供給された後、流路（第１のクーラントパイプ１１１）を通ってクーラントタンク１０２に流れ、その後、第２のクーラントパイプ１１２を通ってフィルタハウジング１０３に流れ、その後、フィルタハウジング１０３から第３のクーラントパイプ１１３を通って再度研削装置１０１に供給される。
【００１８】
また、クーラントタンク１０２は、セパレータにより区切られたダーティクーラントタンクとクリーンクーラントタンクを有しており、研削装置１０１から流れてきたガラススラッジを含むクーラントはダーティクーラントタンクに流れた後、セパレータを介してガラススラッジの粗ろ過をしてクリーンクーラントタンクに貯留される。その後、クリーンクーラントタンクからフィルタハウジング１０３を介して研削装置１０１に供給される。このように、クーラント中に含まれるガラススラッジ１０５はセパレータとフィルタ１０４により濾過され、浄化されたクーラントが研削装置１０１に供給される。
【００１９】
一方で、クーラントを循環させて研削工程で生じるガラススラッジ１０５を除去する場合、研削加工を繰り返し行うにつれてガラススラッジ１０５がフィルタ１０４表面に堆積し目詰まりし、フィルタ１０４を頻繁に交換しなければならなくなる。ガラススラッジ１０５はフィルタ１０４の表面から堆積するため、内部で目詰まりを起こすより先に、最表面で目詰まりをおこす。そこで、本実施の形態では、所定の期間毎（例えば、複数バッチ処理毎）にフィルタ１０４に対してクーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことによりフィルタ１０４に滞留したガラススラッジ１０５を剥離し、剥離されたガラススラッジ１０５を、ダーティクーラントタンクに溜める（図１（Ｂ）、図３参照）。その際に、経路を切り替えてガラススラッジ１０５がダーティクーラントタンクに戻るようにする。例えば、ダーティクーラントパイプとフィルタハウジング１０３を結ぶ第４のクーラントパイプ１１５を用いて、フィルタハウジング１０３のガラススラッジ１０５をからダーティクーラントタンクに移動させる。
【００２０】
このように、フィルタ１０４から剥離されたガラススラッジ１０５を、ダーティクーラントタンクに戻し、ダーティクーラントタンクにガラススラッジ１０５を溜める構成とすることにより、クーラントタンク内の清浄度を確保することができる。
【００２１】
図１（Ｂ）、図３では、第３のクーラントパイプ１１３にエアーパイプ１１４をつないで、当該エアーパイプ１１４にエアーを流すことにより、フィルタ１０４に滞留したガラススラッジ１０５を効果的に剥離することができる。この際、エアーが研削装置１０１に流れこまないように、第３のクーラントパイプ１１３と研削装置１０１との間をバルブ等により閉じた状態とすることが好ましい。また、研削加工を行っている場合（図１（Ａ）参照）には、第３のクーラントパイプ１１３とエアーパイプ１１４との間をバルブ等により閉じた状態とすればよい。
【００２２】
また、フィルタ１０４としては、５μｍや１０μｍの糸巻きフィルタ用いることができる。
【００２３】
このように、所定の期間毎にフィルタ１０４に滞留したガラススラッジ１０５を剥離する工程を設けることにより、研削装置１０１に対してクーラントを循環させて供給する場合であっても、フィルタ１０４の目詰まりを低減し、１枚のフィルタを用いて多くの研削工程を行うことができるため、低コスト化を図ることができる。また、フィルタ１０４から剥離されたガラススラッジ１０５をダーティクーラントタンクに溜めることにより、フィルタ１０４にガラススラッジ１０５が再付着することを低減することができる。また、ガラススラッジ１０５をダーティクーラントタンクに溜めることにより、ガラススラッジ１０５を溜める容器を別途設ける必要がなく、クーラントの交換・セパレータの交換と同時にクーラントタンク１０２に溜まったガラススラッジ１０５を併せて取り除くことができる。
【００２４】
また、本実施の形態では、クーラントタンク１０２と研削装置１０１の流路間にフィルタ１０４を設け、浄化されたクーラントが研削装置１０１に直接供給される構成となっている。これにより、クーラントタンク１０２から研削装置１０１にクーラントを直接供給する場合と比較して、研削装置１０１に供給されるクーラントに含まれる不純物を効果的に低減することができる。
【００２５】
以下に、上述した研削工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造工程について詳しく説明する。なお、各工程の順序は以下の記載に限定されず、適宜入れ替えることが可能である。
【００２６】
（１）素材加工工程
素材加工工程では、ガラス母材を切断してディスク状のガラス基板を形成する。ガラス母材は、板状のガラスの表面をラッピング（研削）加工して得られ、板状ガラスとしては、様々な板状のガラスを用いることができる。ガラスとしては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、アルミニウム−マグネシウム合金などを用いることができる。特に、主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を提供することができるという点では、アルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。板状ガラスは、これらのガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
【００２７】
（２）第１研削（ラッピング）工程
第１ラッピング工程では、ディスク状のガラス基板の主表面をラッピング加工し、ガラス基板の形状を整える。第１のラッピング工程は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、ディスク状のガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
【００２８】
（３）形状加工工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））
コアリング工程では、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ディスク状のガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とすることができる。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、ガラス基板に所定の面取り加工を施す。なお、コアリング工程及び／又はチャファリング工程を第１のラッピング工程の前に行ってもよい。
【００２９】
（４）第２ラッピング工程
第２ラッピング工程では、得られたガラス基板の両主表面について、第２ラッピング加工を行う。第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である形状加工工程においてガラス基板の主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることが可能となる。
【００３０】
第２ラッピング工程は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置により、ダイヤモンドシートからなる固定砥粒研磨パッドを用いて研削することができる。ダイヤモンドシートは、図４に示すように、ダイヤモンド粒子を研削砥粒として備えていればよく、例えば、ＰＥＴからなる基材１２１にダイヤモンド粒子１２２を設けたダイヤモンドシート１２０を用いることができる。また、第２ラッピング工程では、上記図１（Ａ）、図２で示したように、ガラス基板と定盤に貼付された研磨パッドの間にクーラントを供給しながら行えばよい。この際、複数のバッチ処理毎にクーラントに含まれた研磨屑（ガラススラッジ）を濾過するフィルタに対して、クーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことによりフィルタに滞留したガラススラッジを剥離する（図１（Ｂ）、図３参照）。これにより、１枚のフィルタで処理できるバッチ数を増やすことができ、低コスト化を図ることができる。また、フィルタの交換回数を減らすことにより、第２ラッピング工程の生産性を向上することができる。
【００３１】
（５）端面研磨工程
端面研磨工程では、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態になる。
【００３２】
（６）主表面研磨工程（第１研磨工程）
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施す。第１研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。また、第１研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄することが好ましい。
【００３３】
なお、両面研磨装置としては、上下側定盤の主表面部に、一対の研磨布（硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド）を貼付して使用することができる。この両面研磨装置においては、上下側定盤に貼付された研磨布間にガラス基板を設置し、上下側定盤の一方又は双方を移動させて、ガラス基板の両主表面を研磨することができる。
【００３４】
（７）主表面研磨工程（最終研磨工程）
最終研磨工程として、第２研磨工程を施す。第２研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。スラリーとしては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒やコロイダルシリカなどを用いることがきる。この最終研磨工程において、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置を用いて上記第１研磨工程と同様に行うことができる。
【００３５】
（８）化学強化工程
化学強化工程においては、ガラス基板を化学強化液に浸漬して化学強化処理を施す。化学強化処理に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを用いることができる。化学強化処理においては、化学強化液を３００℃〜４００℃に加熱し、洗浄済みのガラス基板を２００℃〜３００℃に予熱し、化学強化溶液中に３時間〜４時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
【００３６】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中の相対的にイオン半径の大きなナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。なお、化学強化処理されたガラス基板は、硫酸で洗浄した後に、純水、ＩＰＡ等で洗浄すればよい。
【００３７】
＜磁気ディスク製造工程（記録層等形成工程）＞
上述した工程を経て得られたガラス基板の一方の主表面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造することができる。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ基合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜することができる。
【００３８】
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
【００３９】
（実施例）
（１）素材加工工程
溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８重量％〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５重量％〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３重量％〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４重量％〜１３重量％を主成分として含有するガラスを使用した。
【００４０】
（２）第１研削（ラッピング）工程
次に、ディスク状のガラス基板の両主表面をラッピング加工した。このラッピング加工は、上記図１で示した遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、ガラス基板の両面に上下から定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得た。
【００４１】
（３）形状加工工程（コアリング、チャンファリング）
次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした（コアリング）。そして内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（チャンファリング）。
【００４２】
（４）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４３】
本実施例では、第２ラッピング加工として、固定砥粒研磨パッドを用いてガラス基板を研削した。固定砥粒研磨パッドとして、図４に示すダイヤモンドシート１２０を用いた。ダイヤモンドシート１２０は、基材としてＰＥＴからなる基材１２１を備え、ダイヤモンド粒子１２２を研削砥粒として備えたものである。また、ダイヤモンド粒子１２２の平均粒径はＢ＝４μｍであった。
【００４４】
また、第２ラッピング加工では、上記図１（Ａ）、図２で示したように、ガラス基板と定盤に貼付された研磨パッドの間にクーラントを供給しながら行った。さらに、５０バッチ数毎にクーラントに含まれたガラススラッジを濾過するフィルタに対して、クーラントの循環方向と逆方向にエアーを流すことによりフィルタに滞留したガラススラッジを剥離した（図１（Ｂ）、図３参照）。磁気ディスク用ガラス基板の製造において第２のラッピング加工を1ヶ月行った結果、第２ラッピング加工におけるフィルタの消費量が３０％であった。
【００４５】
（比較例）
実施例と同様に形状加工工程まで行ったガラス基板に対して、第２ラッピング加工を行った。比較例では、第２ラッピング加工で、フィルタに対してクーラントの循環方向と逆方向にエアーを流す工程を行わない以外は、実施例と同様に行った。磁気ディスク用ガラス基板の製造において第２のラッピング加工を1ヶ月行った結果、フィルタの消費量が６０％であった。
【００４６】
実施例のように、第２ラッピング加工において所定のバッチ処理毎に、クーラントに含まれたガラススラッジを濾過するフィルタに対して、クーラントの循環方向と逆方向にエアーを流す工程を設けることによって、１枚のフィルタあたりの寿命を延ばし、使用するフィルタ枚数を低減することができた。
【００４７】
本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態では、磁気ディスク用基板として、ガラス基板を用いる例を示したが、それには限定されず、例えばアルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属板等でも良い。
【００４８】
なお、上記実施の形態における材料、サイズ、処理手順、検査方法などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１０１  研削装置
１０２  クーラントタンク
１０３  フィルタハウジング
１０４  フィルタ
１０５  ガラススラッジ
１１１  第１のクーラントパイプ
１１２  第２のクーラントパイプ
１１３  第３のクーラントパイプ
１１４  エアーパイプ
１１５  第４のクーラントパイプ
１２０  ダイヤモンドシート
１２１  基材
１２２  ダイヤモンド粒子
【図１】
2011125965.tif 000003
【図２】
2011125965.tif 000004
【図３】
2011125965.tif 000005
【図４】
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