(57)【要約】【課題】先行の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続の浮上ユニット３７側へ乗り継ぐ際における基板Ｗの損傷を確実に阻止すること。【解決手段】挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置には、下方向からエアを吸引するエア吸引器４３が設けられ、エア吸引器４３は、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン５３の吸引力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっていること。【選択図】図１
2011162346.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置において、
装置フレームに設けられ、基板を前記搬送方向へ搬送する搬送機構と、
前記装置フレームに前記搬送方向に沿って設けられ、内部が浮上ガスを供給する浮上ガス供給源に接続され、上面に浮上ガスを噴出するノズルが形成され、基板との間に浮上ガス溜まり層を生成可能であって、浮上ガスの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットと、を具備し、
前記搬送方向に隣接関係にあるいずれかの前記浮上ユニット間に、複数の前記浮上ユニットに対して基板の受渡し又は受取りを行う基板受け部材を挿入するための挿入間隙が区画形成され、
前記挿入間隙の上流側の近接した位置に、前記挿入間隙の直上流側の前記浮上ユニットと基板との間に生成された浮上ガス溜まり層の中央部を支点として基板の先端部側に上向きの力を発生させるように、基板に局所的に下向きの力を付与する下向き力付与手段が設けられていることを特徴とする浮上搬送装置。
【請求項２】
複数の前記浮上ユニットが前記装置フレームに前記搬送方向及び前記搬送方向に直交する搬送幅方向に沿って設けられていることを特徴とする請求項１に記載の浮上搬送装置。
【請求項３】
各浮上ユニットの前記ノズルが鉛直方向に対して各浮上ユニットの中心側へ傾斜するように構成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の浮上搬送装置。
【請求項４】
前記下向き力付与手段は、下方向からエアを吸引するエア吸引器であることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の浮上搬送装置。
【請求項５】
前記エア吸引器は、
前記装置フレームに設けられ、上側に開口された吸引口を有した吸引ケースと、
前記吸引ケースの内部に接続され、エアを吸引するエア吸引源と、を備えたことを特徴とする請求項４に記載の浮上搬送装置。
【請求項６】
前記エア吸引器は、
前記吸引ケース及び前記エア吸引源の他に、更に、前記吸引ケース内に前記搬送方向に直交する搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられ、前記吸引ケースの最上部に対して上方向へ突出してあって、基板の裏面を支持する支持ローラを備えたことを特徴とする請求項５に記載の浮上搬送装置。
【請求項７】
前記下向き力付与手段は、上方向からエアを吹付けるエア吹付器であることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の浮上搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板等の基板を搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、クリーン搬送の分野では浮上搬送装置について種々の開発がなされており、浮上搬送装置の先行技術としては特許文献１に示すもの（本願の出願人が既に出願したもの）がある。そして、先行技術に係る浮上搬送装置の構成等は、次のようになる。
【０００３】
即ち、先行技術に係る浮上搬送装置は、装置フレームを具備しており、この装置フレームは、搬送方向へ沿って延びている。また、装置フレームには、基板を搬送方向へ搬送する搬送機構が設けられている。
【０００４】
装置フレームには、浮上ガスとしてのエアの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットが搬送方向及び搬送方向に直交する搬送幅方向に沿って設けられている。また、各浮上ユニットの内部は、浮上ガスとしてのエアを供給するエア供給源に接続されており、各浮上ユニットの上面には、エアを噴出するノズルが形成されてあって、各浮上ユニットは、基板との間にエア溜まり層（圧力溜まり層）を生成可能である。
【０００５】
なお、特許文献１には開示されていないが、通常、搬送方向に隣接関係にあるいずれかの浮上ユニット間には、複数の浮上ユニットに対して基板の受渡し又は受取りを行う基板受け部材を挿入するための挿入間隙が区画形成（形成）されている。
【０００６】
従って、エア供給源によって各浮上ユニットの内部にエアを供給して、各浮上ユニットのノズルからエアを噴出させると共に、搬送機構を適宜に動作させる。これにより、基板と複数の浮上ユニットとの間にエア溜まり層を生成しつつ、基板を搬送方向へ浮上搬送（浮上させた状態で搬送）することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１８２５６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、ガラス基板等の基板はたわみ易く、基板の浮上搬送中に、基板の先端部が先行（上流寄り）の浮上ユニット側から挿入間隙を越えて後続（下流寄り）の浮上ユニット側へ乗り継ぐ際に、基板の先端部が後続の浮上ユニットに干渉することがある。そのため、基板の先端部と後続の浮上ユニットとの干渉によって、基板に傷等の損傷が発生して、基板の品質低下を招くという問題がある。
【０００９】
なお、浮上ユニットによる基板の浮上高さ（浮上量）を大きくしても、現実的な浮上高さ範囲内では、基板の先端部の撓みを相殺できない場合があり、前述の問題の解決策としては十分でない。
【００１０】
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の浮上搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の特徴は、基板を搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置において、装置フレームに設けられ、基板を前記搬送方向へ搬送する搬送機構（搬送ユニット）と、前記装置フレームに前記搬送方向に沿って設けられ、内部が浮上ガスを供給する浮上ガス供給源に接続され、上面に浮上ガスを噴出するノズルが形成され、基板との間に浮上ガス溜まり層（圧力溜まり層）を生成可能であって、浮上ガスの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットと、を具備し、前記搬送方向に隣接関係にあるいずれかの前記浮上ユニット間に、複数の前記浮上ユニットに対して基板の受渡し又は受取りを行う基板受け部材を挿入するための挿入間隙が区画形成（形成）され、前記挿入間隙の上流側の近接した位置（前記挿入間隙の上流側であって前記挿入間隙に近接した位置）に、前記挿入間隙の直上流側の前記浮上ユニットと基板との間に生成された浮上ガス溜まり層の中央部を支点として基板の先端側に上向きの力を発生させるように、基板に対して局所的に下向きの力を付与する下向き力付与手段（下向き力付与機構）が設けられていることを要旨とする。
【００１２】
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、ブラケット等の介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、「浮上ガス」とは、エア、アルゴンガス、窒素ガス等の含む意である。また、「上流側」とは、前記搬送方向から見て上流側のことをいう。
【００１３】
本発明の特徴によると、前記浮上ガス供給源によって各浮上ユニットの内部に浮上ガスを供給して、各浮上ユニットの前記ノズルから浮上ガスを噴出させると共に、前記搬送機構を適宜に動作させる。これにより、基板と複数の前記浮上ユニットとの間に浮上ガス溜まり層を生成しつつ、基板を前記搬送方向へ浮上搬送（浮上させた状態で搬送）することができる。
【００１４】
そして、基板の先端部が先行（上流寄り）の前記浮上ユニットから前記挿入間隙を越えて後続（下流寄り）の前記浮上ユニットに乗り継ぐ前に、前記下向き付与手段によって基板に対して局所的に下向きの力を付与して、前記挿入間隙の直上流側の前記浮上ユニットと基板との間に生成された浮上ガス溜まり層の中央部を支点として基板の先端部側に上向きの力を発生させる。これにより、先行の前記浮上ユニット側から前記挿入間隙を越えて後続の前記浮上ユニット側へ乗り継ぐ際に、基板の先端部と後続の前記浮上ユニットとの干渉を回避することができる。
【００１５】
なお、本願の明細書において、「先行」とは、前記搬送方向から見て先行することをいい、「後続」とは、前記搬送方向から見て後続することをいう。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、先行の前記浮上ユニット側から後続の前記浮上ユニット側へ乗り継ぐ際に、基板の先端部と後続の前記浮上ユニットとの干渉を回避できるため、先行の前記浮上ユニット側から前記挿入間隙を越えて後続の前記浮上ユニット側へ乗り継ぐ際における基板の損傷を確実に阻止して、基板の品質を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図２におけるI-I線に沿った拡大断面図である。
【図２】第１実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。
【図３】第１実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な側面図であって、搬送機構を省略してある。
【図４】図２におけるIV-IV線に沿った図である。
【図５】図２におけるV-V線に沿った拡大断面図である。
【図６】図７におけるVI-VI線に沿った拡大断面図である。
【図７】エア吸引器の配置態様を変更した第１実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。
【図８】図９におけるVIII-VIII線に沿った拡大断面図である。
【図９】エア吸引機の配置態様を変更した第１実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。
【図１０】図１１におけるX-X線に沿った拡大断面図である。
【図１１】第２実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。
【図１２】第３実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な拡大断面図であって、図１に相当する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（第１実施形態）
第１実施形態について図１から図９を参照して説明する。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向を、「ＦＲ」は、後方向を、「Ｌ」は、左方向を、「Ｒ」は、右方向をそれぞれ指してある。
【００１９】
図２〜図４に示すように、第１実施形態に係る浮上搬送装置１は、例えばガラス基板等の基板Ｗを搬送方向（後方向）へ浮上搬送する装置であって、前後方向に沿って並んだ複数の装置フレーム３を具備している。また、各装置フレーム３は、支持台５と、この支持台５の下側に一体的に設けられた複数の支柱７と、複数の支柱７に連結するように設けられた複数の補強部材９とを備えている。なお、浮上搬送装置１が前後方向に沿って並んだ複数の装置フレーム３を具備する代わりに、前後方向へ延びた装置フレーム（図示省略）を具備しても構わない。
【００２０】
複数の装置フレーム３には、基板Ｗを搬送方向へ搬送する搬送機構（搬送ユニット）１１が設けられている。そして、この搬送機構１１の具体的な構成は、次のようになる。
【００２１】
即ち、各支持台５の左端部付近には、１つ又は複数（第１実施形態にあっては、１つ又は２つ）の支持アーム１３が設けられており、各支持アーム１３には、基板Ｗの一端面（左端面）を支持する第１搬送ローラ１５が鉛直な軸心周りに回転可能に設けられている。換言すれば、複数の支持台５の左端部付近には、複数の第１搬送ローラ１５が複数の支持アーム１３を介して前後方向に沿って間隔を置いて設けられている。ここで、各第１搬送ローラ１５は、鉛直な軸心周りに回転自在なフリーローラになっている。
【００２２】
各支持台５の右端部付近には、移動用エアシリンダ１７が設けられており、各移動用エアシリンダ１７は、支持台５に固定されたシリンダ本体１９、及びシリンダ本体１９に搬送方向に対して直交する搬送幅方向（左右方向）へ移動可能に設けられたピストンロッド２１を有している。また、各移動用エアシリンダ１７におけるシリンダ本体１９には、スライダ２３が左右方向へ移動可能に設けられており、各移動用エアシリンダ１７におけるピストンロッド２１は、対応するスライダ２３の適宜位置に連結してある。更に、各スライダ２３の左端部には、基板Ｗの他端面（右端面）を支持する第２搬送ローラ２５が鉛直な軸心周りに回転可能に設けられている。換言すれば、複数の支持台５の右端部付近には、複数の第２搬送ローラ２５が複数の移動用エアシリンダ１７及び複数のスライダ２３を介して前後方向に沿って間隔を置いて設けられてあって、各第２搬送ローラ２５は、移動用エアシリンダ１７の作動によってスライダ２３と一体的に左右方向へ移動するようになっている。そして、各スライダ２３の右端部には、対応する第２搬送ローラ２５を回転させる回転用モータ２７が設けられてあって、各回転用モータ２７のモータ軸（図示省略）は、対応する第２搬送ローラ２５のローラ軸に連動連結してある。
【００２３】
なお、第１搬送ローラ１５をフリーローラとし、第２搬送ローラ２５を回転用モータ２７等のモータの駆動によって回転する駆動ローラとする代わりに、第１搬送ローラ１５を駆動ローラとし、第２搬送ローラ２５をフリーローラとしたり、第１搬送ローラ１５及び第２搬送ローラ２５を駆動ローラとしたりするようにしても構わない。また、複数の第１搬送ローラ１５及び複数の第２搬送ローラ２５等を備えた搬送機構１１の代わりに、基板Ｗの裏面を支持しかつ搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能な搬送ローラ等を備えた別の搬送機構（図示省略）を用いても構わない。
【００２４】
図２〜図５に示すように、各支持台５には、浮上ガスとしてのエアを収容する１つ又は複数（第１実施形態にあっては、１つ又は２つ）のチャンバー２９が設けられており、各チャンバー２９は、左右方向へ延びている。また、各チャンバー２９の下面には、複数の下部貫通穴３１が設けられており、各チャンバー２９の上面には、複数の上部貫通穴３３が左右方向及び／又は前後方向に沿って間隔を置いて設けられている。更に、各チャンバー２９における各下部貫通穴３１の周縁部には、エアをチャンバー２９の内部へ供給するエア供給源としての供給ファン（第１実施形態にあっては、ファンフィルタユニット）３５が設けられている。
【００２５】
各チャンバー２９における各上部貫通穴３３の周縁部には、エアの圧力を利用して基板Ｗを浮上させる中空状の浮上ユニット３７が設けられており、換言すれば、複数の装置フレーム３には、複数の浮上ユニット３７が複数のチャンバー２９等を介して搬送方向及び搬送幅方向に沿って間隔を置いて設けられている。また、各浮上ユニット３７の側面視形状（図３参照）及び正面視形状（図４参照）は、それぞれＴ字形状を呈してあって、各浮上ユニット３７の内部は、チャンバー２９を介して供給ファン３５に接続されている。更に、各浮上ユニット３７の上面には、エアを噴出する枠状のノズル３９が浮上ユニット３７の平面視形状に沿って設けられており、各浮上ユニット３７は、基板Ｗとの間に浮上ガス溜まり層としてのエア溜まり層（圧力溜まり層）Ｓ（図４参照）を生成可能である。ここで、各ノズル３９は、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、鉛直方向（浮上ユニット３７の上面に垂直な方向）に対して浮上ユニット３７の中心側へ傾斜するようになっている。なお、各浮上ユニット３７の上面に枠状のノズル３９が浮上ユニット３７の平面視形状に沿って設けられるの代わりに、スリット状又は小孔状の複数のノズル（図示省略）が浮上ユニット３７の平面視形状に沿って設けられるようにしても構わない。
【００２６】
図２及び図３に示すように、搬送方向に隣接関係にあるいずれかの浮上ユニット３７間には、複数の浮上ユニット３７に対して基板Ｗの受渡し又は受取りを行う基板受け部材４１を挿入するための複数（図１、図２、及び図３においては１つのみ図示）の挿入間隙ＩＧが形成されており、各挿入間隙ＩＧは、左右方向へ延びてあって、浮上ユニット３７間の通常の設置間隙ＰＧに比べて幅広になっている。ここで、基板受け部材４１の例としては、特開平７−３１１３７５号公報等に示すような公知の基板受けフォーク、特開２００５−１５９１４１号公報等に示すような基板カセットにおける基板支持部材（基板カセットの一部分）等が挙げられる。
【００２７】
各挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置（各挿入間隙ＩＧの上流側であって各挿入間隙ＩＧに近接した位置）には、下方向からエアを吸引するエア吸引器４３が各挿入間隙ＩＧ毎に設けられており、各エア吸引器４３は、左右方向へ延びている。そして、各エア吸引器４３の具体的な構成は、次のようになる。
【００２８】
即ち、図１及び図２に示すように、適宜の支持台５における挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置には、吸引ケース４５が設けられており、吸引ケース４５は、左右方向へ延びている。また、吸引ケース４５は、上側に、開口されたスリット状の吸引口４７を有してあって、吸引ケース４５の下面には、複数（図１には１つのみ図示）の貫通穴４９が形成されている。ここで、吸引ケース４５の吸引口４７は、挿入間隙ＩＧから１列分の浮上ユニット３７の長さ（前後方向の長さ）だけ離隔している。
【００２９】
吸引ケース４５内には、基板Ｗの裏面を支持する複数の支持ローラ５１が搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられており、各支持ローラ５１は、搬送幅方向に平行な軸心周りに回転自在なフリーローラになってあって、吸引ケース４５の最上部に対して上方向へ突出している。なお、各支持ローラ５１をフリーローラとする代わりに駆動ローラにしたり、エア吸引器４３から複数の支持ローラ５１を省略したりしても構わない。
【００３０】
吸引ケース４５の各貫通穴４９の周縁部には、吸引ケース４５内からエアを吸引するエア吸引源としての吸引ファン５３が設けられている。そして、図１に示すように、エア吸引器４３は、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン５３の吸引力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっている。換言すれば、エア吸引器４３は、基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与する下向き力付与手段（下向き力付与機構）の１つとして捉えることができる。なお、基板Ｗからの反射光を監視しつつ基板Ｗの先端部が挿入間隙ＩＧに近接したことを検出する反射型光電センサ（図示省略）を用い、この反射型光電センサの出力信号に基づいて吸引ファン５３の駆動を開始するようにしても構わない。
【００３１】
図６及び図７に示すように、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン５３の吸引力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっていれば、吸引ケース４５の吸引口４７が挿入間隙ＩＧから複数列分（図６及び図７においては２列分）の浮上ユニット３７の長さだけ離隔しても構わない。また、図８及び図９に示すように、先行（上流寄り）の挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置に設けられたエア吸引器４３における吸引ファン５３の吸引力によって、後続（下流寄り）の挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっていれば、各挿入間隙ＩＧ毎にエア吸引器４３が設けられなくても構わない。
【００３２】
続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。
【００３３】
各供給ファン３５によって、各浮上ユニット３７の内部へエアをチャンバー２９を介して供給することにより、各浮上ユニット３７のノズル３９からエアを噴出させる。また、各移動用エアシリンダ１７の作動により各第２搬送ローラ２５を左方向へ移動させると共に、各回転用モータ２７の駆動より各第２搬送ローラ２５を回転させる。これにより、基板Ｗと複数の浮上ユニット３７との間に圧力溜まり層Ｓを生成しつつ、複数の第１搬送ローラ１５及び複数の第２搬送ローラ２５の協働により基板Ｗを両側から支持しつつ、搬送方向へ浮上搬送（浮上させた状態で搬送）することができる。
【００３４】
そして、基板Ｗの先端部が先行（上流寄り）の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続（下流寄り）の浮上ユニット３７側に乗り継ぐ前に、エア吸引器４３における吸引ファン５３の吸引力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与して、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させる。これにより、先行の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続の浮上ユニット３７側へ乗り継ぐ際に、基板Ｗの先端部と後続の浮上ユニット３７との干渉を回避することができる。
【００３５】
従って、第１実施形態によれば、先行の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続の浮上ユニット３７側へ乗り継ぐ際における基板Ｗの損傷を確実に阻止して、基板Ｗの品質を維持することができる。
【００３６】
（第２実施形態）
第２実施形態について図１０及び図１１を参照して説明する。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向を、「ＦＲ」は、後方向を、「Ｌ」は、左方向を、「Ｒ」は、右方向をそれぞれ指してある。
【００３７】
図１０及び図１１に示すように、第２実施形態に係る浮上搬送装置５５は、基板Ｗを搬送方向（後方向）へ浮上搬送するものであって、第１実施形態に係る浮上搬送装置１と略同じ構成を有している。そして、第２実施形態に係る浮上搬送装置５５は、第１実施形態に係る浮上搬送装置１におけるエア吸引器４３に代えて、各挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置（各挿入間隙ＩＧの上流側であって各挿入間隙ＩＧに近接した位置）に左右方向に離隔して設けられかつ下方向からエアを吸引する複数のエア吸引器５７を具備しており、各エア吸引器４３の具体的な構成は、次のようになる。なお、第２実施形態に係る浮上搬送装置５５における複数の構成要素のうち、第１実施形態に係る浮上搬送装置１における構成要素と相当するものについては、図中に、同一番号を付している。
【００３８】
即ち、適宜の支持台５における挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置には、吸引ケース５９が設けられており、吸引ケース５９は、前後方向へ延びている。また、吸引ケース５９は、上側に、開口された吸引口６１を有してあって、吸引ケース５９の下面には、貫通穴６３が形成されている。更に、吸引ケース５９内には、基板Ｗの裏面を支持する複数の支持ローラ６５が搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられており、各支持ローラ５１は、搬送幅方向に平行な軸心周りに回転自在なフリーローラになってあって、吸引ケース５９の最上部に対して上方向へ突出している。なお、各支持ローラ５１をフリーローラとする代わりに駆動ローラにしたり、エア吸引器５７から複数の支持ローラ５１を省略したりしても構わない。
【００３９】
吸引ケース５９の貫通穴６３の周縁部には、吸引ケース５９内からエアを吸引するエア吸引源としての吸引ファン６７が設けられている。そして、図１０に示すように、左右方向に離隔した複数のエア吸引器５７は、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン６７の吸引力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっている。
【００４０】
なお、第２実施形態においても、第１実施形態の作用及び効果と同様の作用及び効果を奏するものである。
【００４１】
（第３実施形態）
第３実施形態について図１２を参照して説明する。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向を、「ＦＲ」は、後方向を、「Ｌ」は、左方向を、「Ｒ」は、右方向をそれぞれ指してある。
【００４２】
図１２に示すように、第３実施形態に係る浮上搬送装置６９は、基板Ｗを搬送方向（後方向）へ浮上搬送するものであって、第１実施形態に係る浮上搬送装置１と略同じ構成を有している。そして、第３実施形態に係る浮上搬送装置６９は、第１実施形態に係る浮上搬送装置１におけるエア吸引器４３に代えて、各挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置（各挿入間隙ＩＧの上流側であって各挿入間隙ＩＧに近接した位置）に設けられかつ上方向からエアを吹付けるエア吹付器７１を具備しており、エア吹付器７１の具体的な構成は、次のようになる。なお、第３実施形態に係る浮上搬送装置６９における複数の構成要素のうち、第１実施形態に係る浮上搬送装置１における構成要素と相当するものについては、図中に、同一番号を付している。
【００４３】
即ち、適宜の支持台５における挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置には、上方向からエアを吹付可能な複数（図１２には１つのみ図示）の吹付ノズル７３が支持アーム７５を介して左右方向に間隔を置いて設けられている。また、各吹付ノズル７３は、エアを供給するエア供給源としてのエアポンプ７７にエア配管７９を介して接続されている。そして、エア吹付器７１は、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、複数の吹付ノズル７３の吹付力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっている。換言すれば、エア吹付器７１は、基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与する下向き力付与手段（下向き力付与機構）の１つとして捉えることができる。
【００４４】
続いて、第３実施形態の主要な作用及び効果について説明する。
【００４５】
基板Ｗの先端部が先行の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続の浮上ユニット３７側に乗り継ぐ前に、エア吹付器７１における複数の吹付ノズル７３の吹付力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与して、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させる。これにより、先行の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続の浮上ユニット３７側へ乗り継ぐ際に、基板Ｗの先端部と後続の浮上ユニット３７との干渉を回避することができる。
【００４６】
従って、第３実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏するものである。
【００４７】
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
【符号の説明】
【００４８】
ＩＧ      挿入間隙
Ｓ      エア溜まり層（圧力溜まり層）
Ｗ      基板
１      浮上搬送装置
３      装置フレーム
１１      搬送機構
１５      第１搬送ローラ
１７      移動用エアシリンダ
２３      スライダ
２５      第２搬送ローラ
２７      回転用モータ
２９      チャンバー
３５      供給ファン
３７      浮上ユニット
３９      ノズル
４１      基板受け部材
４３      エア吸引器
４５      吸引ケース
４７      吸引口
５１      支持ローラ
５３      吸引ファン
５５      浮上搬送装置
５７      エア吸引器
５９      吸引ケース
６１      吸引口
６５      支持ローラ
６７      吸引ファン
６９      浮上搬送装置
７１      エア吹付器
７３      吹付ノズル
７７      エアポンプ
【図１】
2011162346.tif 000003
【図２】
2011162346.tif 000004
【図３】
2011162346.tif 000005
【図４】
2011162346.tif 000006
【図５】
2011162346.tif 000007
【図６】
2011162346.tif 000008
【図７】
2011162346.tif 000009
【図８】
2011162346.tif 000010
【図９】
2011162346.tif 000011
【図１０】
2011162346.tif 000012
【図１１】
2011162346.tif 000013
【図１２】
2011162346.tif 000014