(57)【要約】【課題】より単純な構造で基板を保持できる基板保持装置と、その基板保持装置を適用した欠陥修正装置とを提供する。【解決手段】欠陥修正装置１では、ガラス基板９９が載置される１対の基板端支持台３が配設されている。１対の基板端支持台３によって挟まれた領域には、ガラス基板９９を下方から支持する複数の基板支持用コロ機構４が配設されている。基板支持用コロ機構４には、載置されたガラス基板９９の下面を吸着して保持する基板吸着台２６が取り付けられている。【選択図】図１
2011174862.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の基板に形成されるパターンの欠陥修正に適用される基板保持装置であって、
互いに間隔を隔てて第１方向に延在し、所定の基板の互いに対向する端部を下方から支持する１対の基板端支持台と、
前記１対の基板端支持台によって挟まれた領域に配置されて、前記１対の基板端支持台に載置される前記基板を下方から支持し、前記第１方向および前記第１方向と反対方向にそれぞれ可動自在な基板支持用コロ機構と、
前記基板支持用コロ機構に取り付けられて前記基板支持用コロ機構とともに可動自在とされ、前記１対の基板端支持台に載置される前記基板の下面を吸着する基板吸着台と
を有し、
前記基板支持用コロ機構は、
複数のコロ部材、複数の前記コロ部材のそれぞれを回動可能に支持する複数のコロ支持軸、および、複数の前記コロ支持軸をエンドレス態様で連結するコロ支持軸連結板を含むコロ本体と、
前記１対の基板端支持台に載置される前記基板を前記コロ部材によって下方から支持する所定高さの第１位置に前記コロ本体を配置するとともに、前記第１位置よりも低い第２位置に前記コロ本体を配置させ、前記コロ本体を前記第１位置と前記第２位置との間をエンドレスに回動可能に案内するコロ本体ガイド部と
を備えた、基板保持装置。
【請求項２】
前記コロ本体ガイド部は、
前記コロ部材のコロ支持軸方向の一方側と他方側とから前記コロ部材を挟み込むように配置され、前記コロ部材が前記基板を下方から支持する所定の高さに設定された１対の転送板と、
前記コロ支持軸に装着され、１対の前記転送板のそれぞれの上端において前記コロ支持軸を可動自在に支持する１対のコロ支持軸転送用軸受と、
１対の前記転送板および１対の前記コロ支持軸転送用軸受を、前記コロ支持軸方向の一方側と他方側とから挟み込むように配置された１対の転送補助板と、
を含む、請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記基板吸着台は、
１対の前記基板支持台の一方の基板支持台から他方の基板支持台に向かって延在するように配設されたライン状の照明光源と、
前記照明光源から出射される光を集光するライン状の集光レンズと
を備えた、請求項１または２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記基板吸着台は、前記基板吸着台が可動する際に、載置された前記基板との間に隙間を形成して前記基板に接触するのを阻止するためのエアー噴射部を備えた、請求項１〜３のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項５】
１対の前記基板端支持台に載置された前記基板において、１対の前記基板端支持台によって支持されない、前記第１方向と交差する第２方向に沿って位置して互いに対向する第１端部および第２端部のそれぞれを下方から支持する基板端補助支持部を備えた、請求項１〜４のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記基板端補助支持部は、
前記基板の前記第１端部または前記第２端部の直下の位置以外の位置に前記基板吸着台が位置する際に、前記第１端部または前記第２端部を下方から支持する支持状態とされ、
前記基板の前記第１端部または前記第２端部の直下に前記基板吸着台が位置する際には待避状態とされる、請求項５記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記待避状態から、前記基板端補助支持部を水平方向に移動させて前記基板に近づけることにより前記支持状態となり、
前記支持状態から、前記基板端補助支持部を水平方向に移動させて前記基板から遠ざけることにより前記待避状態となる、請求項６記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記待避状態から、前記基板端補助支持部を鉛直方向に移動させて前記基板に近づけることにより前記支持状態とされ、
前記支持状態から、前記基板端補助支持部を鉛直方向に移動させて前記基板から遠ざけることにより前記待避状態とされる、請求項６記載の基板保持装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の基板保持装置を備えた欠陥修正装置であって、
前記基板に発生した欠陥を観察する観察光学部と、
前記基板に発生した欠陥をレーザ光線を照射することにより除去するためのレーザ光源と、
前記基板に発生した欠陥の部分に所定のインクを塗布することにより欠陥を修正するためのインク塗布部と、
前記観察光学部、前記レーザ光源部および前記インク塗布部を、１対の前記基板支持台に載置される前記基板の表面に対して垂直方向に移動させる第１駆動機構と、
前記観察光学部、前記レーザ光源部および前記インク塗布部を、前記基板の表面に対して平行に前記第２方向に沿って移動させる第２駆動機構と、
前記観察光学部、前記レーザ光源部および前記インク塗布部を、前記基板の表面に対して平行に前記第１方向に沿って移動させる第３駆動機構と
前記第１駆動機構、前記第２駆動機構および前記第３駆動機構の制御を含む制御部と
を備えた、欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板保持装置およびそれを用いた欠陥修正装置に関し、特に、基板を吸着して保持する基板保持装置と、そのような基板保持装置を用いた、パターンの欠陥を修正する欠陥修正装置とに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの製造工程においては、基板に形成される微細なパターンに欠陥が生じることがある。特に、カラーフィルターの工程において発生する欠陥としては、画素の色が抜けた白欠陥と称される欠陥や、画素の色が混ざった黒欠陥と称される欠陥がある。また、画素の表面に異物等が付着した異物欠陥がある。
【０００３】
欠陥修正装置では、あらかじめ検査装置によって得られた検査結果のデータに基づいて、基板の位置合わせが行われる。次に、オペレータにより、観察光学系によって欠陥の大きさや形状が確認されて修正条件が決められる。このとき、欠陥に所定の光を照射して基板を透過した透過光を観察することによって、欠陥の状態を把握することが不可欠とされる。また、欠陥を修正した後の修正状態を確認するためにも透過光による観察が不可欠とされる。
【０００４】
ここで、このような透過光による観察光学系を備えた一般的な欠陥修正装置について説明する。図２７に示すように、欠陥修正装置１０１では、基板を搭載する透明のステージ１０２の下方に、基板に向けて所定の光を出射する照明光源１０３が配設されている。ステージ１０２の上方には、基板を透過した透過光を観察する観察光学系１０４が配設されている。
【０００５】
近年、液晶ディスプレイの大画面化に対応するため、使用されるガラス板（マザーガラス）のサイズが大型化し、たとえば２８５０×３０５０ｍｍのガラス板が使用されるようになってきている。このようなサイズのガラス板に発生した欠陥を修正するために、欠陥修正装置のステージのサイズとして、このガラス板のサイズよりも大きなサイズが必要とされる。このステージとしては、通常、透明なガラス板が採用される。しかしながら、ガラス板の厚みやサイズにも制限があり、１枚のガラス板によってステージを形成することが困難な状況になりつつある。
【０００６】
最近では、複数枚のガラス板を繋ぎ合わせたステージも提案されている。ところが、このようなステージでは、透過光による観察を行う際に、ガラス板とガラス板とを繋ぎ合わせた部分が影になるなどして正確な観察を行うことができないことがある。また、基板をステージに固定するために、ステージとなるガラス板に真空吸着用の溝を形成する必要がある。ところが、この溝も透過光による観察を行う際に影になるなどして観察を阻害することがある。
【０００７】
また、欠陥修正装置に対して基板を搬入したり搬出する際には、ロボットハンドによる基板の受け渡しが行われる場合が多い。図２８に示すように、ステージとして透明なガラス板を用いたステージ１０２では、ステージ（ガラス板）１０２には貫通穴が設けられ、その貫通穴に挿通可能にリフターピン１１１が配設されている。基板を搬入する際には次のような動作が行われる。
【０００８】
まず、ステージ１０２の貫通穴からリフターピン１１１を突出させる。次に、リフタピンの上方に基板１９９を配置させる。次に、ロボットハンド１１０を下降させて基板１９９をリフターピン１１１の上に載置する。次に、ロボットハンド１１０をさらに下降させてロボットハンド１１０を待避させる。そして、リフターピンを下降させて基板をステージ上に載置する。一方、基板を搬出する際には、上述した動作と逆の動作が行われることになる。
【０００９】
このような基板保持装置を適用した欠陥修正装置では、基板の受け渡しのためにリフターピンを稼動させる機構を基板保持装置に組み込む必要があり構造的に複雑になってしまう。また、リフターピンの動作とロボットハンドの動作とを同期させる必要があり、基板の受け渡しの時間を短縮させるには限界がある。
【００１０】
以上のような問題点を解消する欠陥修正装置として、特許文献１には、透明なステージを用いない基板保持装置を適用した欠陥修正装置が提案されている。この欠陥修正装置の基板保持装置では、透明ステージが用いられていないため、基板の全面において透過光による観察が可能とされる。また、透明ステージが用いられていないために、基板保持装置に対して基板を搬入したり搬出する際に、基板を受け渡しするための機構が必要なく、基板の受け渡しの動作も比較的簡単に行われ、基板の受け渡しに要する時間も短縮することができるとされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００９−２９２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上述した従来の欠陥修正装置の基板保持装置では、次のような問題点があった。その基板保持装置では、透明なステージを用いない代わりに、多数の支持部材で基板を支持する方式が採用されている。すなわち、基板の下方に吸着台を設置し、その吸着台に設置した当接部と支持部材側のカムローラを接触させることで支持部材を基板から離間させ、その隙間を通して吸着台を基板の下方において移動させる方式が採用されている。
【００１３】
このため、吸着台の当接部と支持部材側のカムローラが接触する時の衝撃を緩和するために、当接部の形状を複雑な曲面で形成する必要がある。また、支持部材の戻り速度を支持部材の位置に応じて調整するために、バネやショックアブソーバを用いて、それぞれの位置に応じて強度調整する必要がある。これらの結果、機構的にも調整作業的にも非常に複雑になってしまうという問題がある。
【００１４】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、一つの目的はより単純な構造で基板を保持できる基板保持装置を提供することであり、他の目的は、そのような基板保持装置を適用した欠陥修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係る基板保持装置は、所定の基板に形成されるパターンの欠陥修正に適用される基板保持装置であって、１対の基板端支持台と基板支持用コロ機構と基板吸着台とを有している。１対の基板端支持台は、互いに間隔を隔てて第１方向に延在し、所定の基板の互いに対向する端部を下方から支持する。基板支持用コロ機構は、１対の基板端支持台によって挟まれた領域に配置されて、１対の基板端支持台に載置される基板を下方から支持し、第１方向および第１方向と反対方向にそれぞれ可動自在とされる。基板吸着台は、基板支持用コロ機構に取り付けられて基板支持用コロ機構とともに可動自在とされ、１対の基板端支持台に載置される基板の下面を吸着する。基板支持用コロ機構は、コロ本体とコロ本体ガイド部とを備えている。コロ本体は、複数のコロ部材、複数のコロ部材のそれぞれを回動可能に支持する複数のコロ支持軸、および、複数のコロ支持軸をエンドレス態様で連結するコロ支持軸連結板を含んでいる。コロ本体ガイド部は、１対の基板端支持台に載置される基板をコロ部材によって下方から支持する所定高さの第１位置にコロ本体を配置するとともに、第１位置よりも低い第２位置にコロ本体を配置させ、コロ本体を第１位置と第２位置との間をエンドレスに回動可能に案内する。
【００１６】
本発明に係る欠陥修正装置は、請求項１〜８のいずれかに記載の基板保持装置を備えた欠陥修正装置であって、観察光学部とレーザ光源とインク塗布部と第１駆動機構と第２駆動機構と第３駆動機構と制御部とを備えている。観察光学部により、基板に発生した欠陥が観察される。レーザ光源は、基板に発生した欠陥をレーザ光線を照射することにより除去する。インク塗布部は、基板に発生した欠陥の部分に所定のインクを塗布することにより欠陥を修正する。第１駆動機構は、観察光学部、レーザ光源部およびインク塗布部を、１対の基板支持台に載置される基板の表面に対して垂直方向に移動させる。第２駆動機構は、観察光学部、レーザ光源部およびインク塗布部を、基板の表面に対して平行に第２方向に沿って移動させる。第３駆動機構は、観察光学部、レーザ光源部およびインク塗布部を、基板の表面に対して平行に第１方向に沿って移動させる。制御部は、第１駆動機構、第２駆動機構および第３駆動機構の制御を含む。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る基板保持装置では、基板を吸着する基板吸着台が、コロ本体ガイド部によってエンドレスに回動可能に案内されるコロ本体を備えた基板支持用コロ機構に取り付けられている。これにより、基板を保持する構造がシンプルとなり、従来の基板保持装置と比較して、基板吸着台の位置や速度に応じて、カム、バネ、ショックアブソーバ等の部材を調整する煩雑な作業を行う必要がなくなる。また、構造的にシンプルであるため、組立作業も比較的短時間で行うこともできる。
【００１８】
また、本発明に係る基板保持装置を適用した欠陥修正装置では、透過光による欠陥の観察を行う際に、従来の欠陥修正装置のように影となる部分が全くない。これにより、基板のどの部分においても透過光による観察を確実に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態１に係る欠陥修正装置を示す斜視図である。
【図２】同実施の形態において、図１に示す欠陥修正装置に適用されている基板保持部を示す上面図である。
【図３】同実施の形態において、図１に示す欠陥修正装置に適用されている基板保持部を示す正面図である。
【図４】同実施の形態において、基板保持部に適用されている基板支持コロ機構を示す部分斜視図である。
【図５】同実施の形態において、基板保持部に適用されている基板支持コロ機構を示す部分側面図である。
【図６】同実施の形態において、図５に示す断面線ＶＩ−ＶＩにおける断面図である。
【図７】同実施の形態において、図６に示す点線枠内を拡大して示す部分拡大断面図である。
【図８】同実施の形態において、基板支持コロ機構に取り付けられた基板吸着台を示す部分拡大側面図である。
【図９】同実施の形態において、欠陥修正装置の動作を説明するための基板保持部を示す第１の斜視図である。
【図１０】同実施の形態において、欠陥修正装置の動作を説明するための基板保持部を示す第２の斜視図である。
【図１１】同実施の形態において、欠陥修正装置による修正の対象となる欠陥の第１例を示す部分平面図である。
【図１２】同実施の形態において、欠陥修正装置による修正の対象となる欠陥の第２例を示す部分平面図である。
【図１３】同実施の形態において、欠陥修正装置による修正の対象となる欠陥の第３例を示す部分平面図である。
【図１４】同実施の形態において、欠陥修正装置による欠陥の修正後の様子を示す部分平面図である。
【図１５】同実施の形態において、欠陥修正装置の動作を説明するための基板保持部を示す第３の斜視図である。
【図１６】同実施の形態において、欠陥修正装置の動作を説明するための基板保持部を示す第４の斜視図である。
【図１７】本発明の実施の形態２に係る欠陥修正装置に適用されている基板保持部を示す上面図である。
【図１８】同実施の形態において、欠陥修正装置に適用されている基板保持部を示す正面図である。
【図１９】同実施の形態において、基板保持部に適用されている基板端支持部を示す部分拡大側面図である。
【図２０】同実施の形態において、基板端支持部が端部を支持する状態を示す部分側面図である。
【図２１】同実施の形態において、基板端支持部が待避している状態を示す部分側面図である。
【図２２】本発明の実施の形態３に係る欠陥修正装置に適用されている基板保持部を示す上面図である。
【図２３】同実施の形態において、欠陥修正装置に適用されている基板保持部を示す正面図である。
【図２４】同実施の形態において、基板保持部に適用されている基板端支持ヘッドを示す部分拡大側面図である。
【図２５】同実施の形態において、基板端支持ヘッドが端部を支持する状態を示す部分側面図である。
【図２６】同実施の形態において、基板端支持ヘッドが待避している状態を示す部分側面図である。
【図２７】従来の欠陥修正装置を示す斜視図である。
【図２８】従来の欠陥修正装置における基板の一連の搬送作業を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
実施の形態１
本発明の実施の形態に係る基板保持装置と、これを適用した欠陥修正装置について説明する。図１、図２および図３に示すように、欠陥修正装置１では、所定の高さのステージ２の上面に、ガラス基板を保持する基板保持部（装置）１５が設けられている。ガラス基板は、この基板保持部１５に設けられた基板吸着台２６によって保持されることになる。この基板保持部１５の詳細については後述する。その基板保持部１５に保持されたガラス基板９９を跨ぐように、ステージ２の上面には、Ｙ軸方向に沿って移動可能なＹ軸テーブル１０が設けられている。Ｙ軸テーブル１０の上には、Ｘ軸方向に沿って移動可能なＸ軸テーブル９が設けられ、そのＸ軸テーブル９の上には、Ｚ軸方向に沿って移動可能なＺ軸テーブル１１が設けられている。
【００２１】
Ｚ軸テーブルには、欠陥を観察して修正する修正ヘッド部１６が搭載されている。修正ヘッド部１６は、欠陥を観察する観察光学系５、観察した画像を電気信号に変換するＣＣＤカメラ１２、レーザ光線を照射することにより欠陥部分を除去するためのレーザ光源６、欠陥部分にインクを塗布するインク塗布機構８を備えている。観察光学系５には、対物レンズ７が装着され、また、レーザ光源から出射されたレーザ光線のパワーを制御するアッテネータ（図示せず）と、レーザ光線を任意の形状をもって欠陥部分に照射するためのスリット機構（図示せず）が組み込まれている。この他、修正ヘッド部１６は、塗布されたインクを乾燥または硬化させるための赤外線照明あるいは紫外線照明（図示せず）を備えている。また、ステージ２の側方には、欠陥修正装置の一連の動作を制御する制御用コンピュータ１３等が配設されている。
【００２２】
次に、この欠陥修正装置１に適用されている基板保持部（基板保持装置）１５について、詳しく説明する。図２および図３に示すように、ステージ２の上面には、ガラス基板９９が載置される１対の基板端支持台３が配設されている。１対の基板端支持台３は、ガラス基板９９の互いに対向する端部を下方から支持する態様でＹ軸方向に延在し、互いにＸ軸方向に間隔を隔てられている。１対の基板端支持台３によって挟まれたステージ２の領域には、基板端支持台３に載置されたガラス基板９９を下方から支持する複数の基板支持用コロ機構４が配設されている。複数の基板支持用コロ機構４のそれぞれは、Ｙ軸方向に沿って配置され、互いにＸ軸方向に間隔を隔てられている。基板支持用コロ機構４には、載置されたガラス基板９９の下面を吸着して保持する基板吸着台２６が取り付けられている。
【００２３】
次に、基板支持用コロ機構４について、さらに詳しく説明する。図４、図５、図６および図７に示すように、基板支持用コロ機構４では、ガラス基板を支持する複数の基板支持コロ２０のそれぞれが、コロ支持軸に装着されたコロ支持軸受２２により回転可能に支持されている。また、複数の基板支持コロ２０のそれぞれは、それぞれのコロ支持軸の両端部分に滑り軸受を介して装着されたコロ支持軸連結板２１によってリング状にエンドレスに連結されている。
【００２４】
基板支持用コロ機構４には、このエンドレスに連結された複数の基板支持用コロの動きを案内するガイド部３５が設けられている。図６および図７に示すように、基板支持コロ２０のコロ支持軸方向の一方側と他方側とから基板支持コロ２０を挟み込むように、１対の転送板２４が配設されている。また、コロ支持軸には、１対の転送板２４のそれぞれの上端においてコロ支持軸を可動自在に支持する１対のコロ支持軸転送用軸受２３が装着されている。さらに、コロ支持軸転送用軸受２３が転送板２４から脱落するのを防止するために、その１対のコロ支持軸転送用軸受２３と１対の転送板２４を、コロ支持軸方向の一方側と他方側とから挟み込むように、１対の転送補助板２５が配設されている。
【００２５】
１対の転送板２４および１対の転送補助板２５は、載置されたガラス基板を基板支持コロ２０が下方から支持できる所定の位置Ａ（高さ）とステージ２の上面（位置Ｂ）とに配設されている。エンドレスに連結された複数の基板支持用コロ２０は、この位置Ａと位置Ｂとの間をエンドレスに回動することになる。
【００２６】
次に、ガラス基板を保持する基板吸着台について、さらに詳しく説明する。図４および図８に示すように、基板吸着台２６は、基板支持用コロ機構４に取り付けられて、Ｙ軸テーブルの動きに合わせて移動する。基板支持用コロ機構４は、この基板吸着台２６のＹ軸方向の動きに応じて可動することになる。基板吸着台２６には、ガラス基板を吸着固定するための基板吸着溝２７が形成されている。この基板吸着溝２７を負圧にすることによってガラス基板が基板吸着台２６に固定されることになる。
【００２７】
また、基板吸着台２６には、Ｙ軸方向に基板吸着台２６を移動させる際に、ガラス基板との接触を防ぐため、圧縮エアーを噴射してガラス基板との間に、たとえば約５００μｍ程度の隙間を形成するための基板浮上用溝２８が形成されている。さらに、基板吸着台２６には、欠陥部分を観察するための光を出射する照明光源２９と、その照明光源２９から出射された光を集光するシリンドリカレンズ３０が、それぞれＸ軸方向に沿ってライン状に配設されている。修正作業時には、観察光学系５の直下の位置に基板吸着台２６が配置されてガラス基板が吸着固定され、その状態で照明光源２９から所定の光が出射される。そして、ガラス基板を透過した透過光が観察光学系５によって観察される。
【００２８】
次に、基板保持部を備えた欠陥修正装置の動作について説明する。まず、ガラス基板に発生した欠陥は、あらかじめ検査装置によって検出される。検出された欠陥のガラス基板における位置に関する情報は、欠陥修正装置に入力される。
【００２９】
図９に示すように、検査装置による検査が完了したガラス基板９９は、所定のロボットハンド６１によって欠陥修正装置に搬入される。このとき、基板吸着台２６は所定の待避位置に配置される。ロボットハンド６１のアームは、隣り合う基板支持用コロ機構４の間をＹ軸方向に沿って所定の載置位置まで移動する。アームが載置位置に到達すると、ロボットハンド６１が下降し、ガラス基板９９は、その端部が基板端支持台３に支持される態様で１対の基板端支持台３に載置される。その後、ロボットハンド６１が欠陥修正装置から離れる。
【００３０】
次に、図１０に示すように、事前に入力された欠陥に位置に関する情報に基づいて、修正ヘッド１６が修正すべき欠陥が位置する直上に到達するように、Ｙ軸テーブル１０、Ｘ軸テーブル９およびＺ軸テーブル１１が駆動する。また、基板吸着台２６も、修正ヘッド１６の動きに同期して欠陥が位置するＹ軸方向の所定の位置にまで移動する。基板吸着台２６が移動する際には、基板吸着台２６の基板浮上用溝２８（図８参照）から圧縮エアーを噴射させることによってガラス基板９９との間に隙間を形成し、基板吸着台２６がガラス基板に接触することによって、ガラス基板９９に傷がつくのを防止している。また、基板吸着台２６が移動する間では、基板支持用コロ機構４の基板支持コロ２０は、回転しながらガラス基板９９を下方から支持することになる。
【００３１】
基板吸着台２６がＹ軸方向の所定の位置に到達すると、圧縮エアーが止められる。次に、基板吸着溝２７に負圧エアーが供給されて、ガラス基板９９が基板吸着台２６に吸着固定される。次に、基板吸着台２６に設けられた照明光源２９から所定の光を出射させ、シリンドリカルレンズ３０により集光させてガラス基板９９に照射する。オペレータが、ガラス基板９９に照射されてガラス基板９９を透過した透過光を観察光学系５によって観察することで、ガラス基板９９に発生した欠陥の大きさや形状が確認される。そして、その観察結果に基づいて、その欠陥を修正するための修正条件が決められる。
【００３２】
次に、決定された修正条件に基づいて欠陥の修正が行われる。図１１に示すように、欠陥として、Ｒ画素５１、Ｇ画素５２およびＢ画素５３のうち、たとえば、Ｇ画素５２の色が抜けた白欠陥を修正する場合の手法として、色が抜けた部分にインク塗布機構８から同じ色の緑インクを塗布することによって修正する手法がある。また、他の手法としては、色が抜けた部分にレーザ光源６からレーザ光線を照射して、色が抜けた部分の形状を整えてから同じ色のインクを塗布することによって修正する手法がある。図１４に示すように、インクを塗布した後、インクが塗布された部分５７を熱硬化させる場合には、インクに赤外線が照射される。また、インクが塗布された部分５７を紫外線により硬化させる場合には、紫外線が照射され、必要に応じて、その後さらに、赤外線が照射される。こうして、白欠陥が修正される。
【００３３】
また、図１２に示すように、欠陥として画素の色が混ざった黒欠陥５５を修正する場合や、さらに、図１３に示すように、画素の表面に異物等が付着した異物欠陥５６を修正する場合には、それぞれレーザ光線を照射することによって、黒欠陥５５や異物欠陥５６が除去される。黒欠陥５５あるいは異物欠陥５６が除去された後、白欠陥の場合と同様に、対応する色のインクが塗布されて、インクが塗布された部分を硬化させることによって欠陥が修正される。
【００３４】
一つの欠陥の修正が完了すると、図１５に示すように、別の欠陥が位置するＹ軸方向の所定の位置まで、基板支持用コロ機構４とともに基板吸着台２６が移動する。次に、上述した方法と同様に、別の欠陥が観察光学系により観察され、その観察結果に基づいて他の欠陥の修正が行われることになる。
【００３５】
このようにして、ガラス基板９９に発生したすべての欠陥が修正された後、ガラス基板９９が欠陥修正装置１から搬出される。このとき、まず、基板吸着台２６は所定の待避位置に配置される。次に、図１６に示すように、ロボットハンド６１のアームが、隣り合う基板支持用コロ機構４の間をＹ軸方向に沿って所定の位置（載置位置）まで移動する。アームがその位置に到達すると、ロボットハンド６１が上昇し、ガラス基板９９は持ち上げられるようにしてアームに載置される。その後、ロボットハンド６１が欠陥修正装置から離れて、ガラス基板９９が搬出される。欠陥修正装置から搬出されたガラス基板９９は、次の工程へ送られる。以上のようにして、ガラス基板９９に発生した欠陥が本欠陥修正装置１によって修正される。
【００３６】
上述した基板保持部１５を備えた欠陥修正装置１では、回転可能な基板支持コロ２０をコロ支持軸連結板２１によってエンドレスに連結した基板支持用コロ機構４に基板吸着台２６が取り付けられている。これにより、基板吸着台２６の移動とともに、基板支持用コロ機構４の基板支持コロ２０がガラス基板９９の下を移動しながら回転してガラス基板９９を支持することになる。
【００３７】
このため、本欠陥修正装置１の基板保持部（基板保持装置）１５では、従来の欠陥修正装置のように、基板吸着台２６を移動させるための隙間（空間）を確保する必要がなく、また、基板吸着台２６に当接して可動する部材もない。その結果、基板吸着台２６の位置や速度に応じて調整が必要とされる箇所もなく、より単純な構造をもってガラス基板９９を保持することが可能になる。
【００３８】
また、この基板保持部１５では、ガラス基板９９を搬送するロボットハンド６１を所定の載置位置にまで移動させた後に、下降させることでガラス基板９９が基板保持部１５に載置されて搬入が完了する。反対に、ロボットハンド６１を上昇させてガラス基板９９をアームに載置した後に、ロボットハンド６１を待避させることで、ガラス基板９９の搬出が完了する。
【００３９】
これにより、ガラス基板９９の搬入および搬出に際して、リフターピン機構を必要とせず、リフターピンとの動作の同期をとる必要もない。その結果、よりシンプルな機構にてガラス基板９９の搬入と搬出を行うことができ、また、その搬入と搬出に要する時間の短縮も容易に図ることができる。
【００４０】
さらに、ガラス基板９９が基板吸着台２６に吸着固定されることで、欠陥を修正する際にガラス基板９９の位置がずれてしまったり、ガラス基板９９が撓んでしまうようなことがなくなり、欠陥の修正を確実に行うことができる。また、基板吸着台２６に照明光源２９と集光用のシリンドリカルレンズ３０が組み込まれていることで、欠陥の修正の前後において、欠陥の状態や修正の状態を透過光を観察することによって確認することできる。さらに、従来の欠陥修正装置のように、ガラス基板が載置されるステージの継ぎ目も、また、ガラス基板を固定する吸着溝もないため、透過光による観察を行う際に影等ができてしまうことがなくなり、観察をより確実に行うことができる。
【００４１】
実施の形態２
本発明の実施の形態２に係る欠陥修正装置について説明する。図１７および図１８に示すように、本欠陥修正装置の基板保持部（基板保持装置）では、基板保持部１５（図３参照）に保持されるガラス基板９９の端部のうち、１対の基板端支持台３によって支持されていない端部を支持する基板端支持部４１が配設されている。なお、これ以外の構成については、実施の形態１において説明した欠陥修正装置（図１等）と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を繰り返さないこととする。
【００４２】
図１９に示すように、基板端支持部４１は基板支持用コロ機構４に取り付けられ、基板端支持部４１には、ガラス基板９９の端部を下方から支持する基板端支持コロ４２が設けられている。この基板端支持コロ４２は、図２０に示される、ガラス基板９９の端部を下方から支持する位置と、図２１に示される、ガラス基板９９の端部から略水平方向に所定の距離を隔てられた待避位置との間を、駆動モータ４４と駆動ネジ４３によって移動可能とされる。
【００４３】
上述した欠陥修正装置では、実施の形態１において説明した欠陥修正装置による効果に加えて、次のような効果が得られる。まず、１対の基板端支持台３によって支持されたガラス基板９９は、その自重によって撓んでしまう。ガラス基板９９が撓むと、基板端支持台３によって支持されていない側のガラス基板９９の端部の位置が下がり、基板支持用コロ機構４の基板支持コロ２０が循環移動してガラス基板９９の端部の直下に入り込む際に、基板支持コロ２０がその端部に衝突してしまうことが想定される。
【００４４】
上述した欠陥修正装置では、基板吸着台２６がガラス基板９９の端部に位置しない場合に、基板端支持部４１により、ガラス基板９９の端部の位置が、１対の基板端支持台３によって支持されている位置にまで持ち上げられる。これにより、基板支持コロ２０がガラス基板９９の端部に接触する際の衝撃を緩和させることができる。この基板端支持部４１は、特に、ガラス基板９９の板厚が薄くなって、その撓み量が大きくなる場合に威力を発揮することができる。
【００４５】
なお、この基板端支持部４１では、基板端支持コロ４２を駆動モータ４４と駆動ネジ４３によって移動させる場合について説明したが、この２つの位置の間を動かすことができれば、駆動モータと駆動ネジに限られない。
【００４６】
実施の形態３
実施の形態３では、基板保持部１５（図３参照）に保持されるガラス基板９９の端部のうち、１対の基板端支持台３によって支持されていない端部を支持する機構の他の例について説明する。図２２および図２３に示すように、本欠陥修正装置の基板保持部（基板保持装置）では、１対の基板端支持台３によって支持されていないガラス基板９９の端部を支持する機構として基板端支持ヘッド４５が配設されている。なお、これ以外の構成については、実施の形態１において説明した欠陥修正装置（図１等）と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を繰り返さないこととする。
【００４７】
図２４に示すように、基板端支持ヘッド４５は、ガラス基板９９の端部を下方から支持する態様で基板支持用コロ機構４に取り付けられている。この基板端支持ヘッド４５は、図２５に示される、ガラス基板９９の端部を下方から支持する位置と、図２６に示される、ガラス基板９９の端部から略垂直（鉛直）方向に所定の距離を隔てられた待避位置との間を、エアシリンダ４６にとって移動可能とされる。
【００４８】
上述した欠陥修正装置では、実施の形態１において説明した欠陥修正装置による効果に加えて、次のような効果が得られる。すなわち、実施の形態２において説明した欠陥修正装置と同様に、基板吸着台２６がガラス基板９９の端部に位置しない場合に、基板端支持ヘッド４５により、ガラス基板９９の端部の位置が、１対の基板端支持台３によって支持されている位置にまで持ち上げられる。これにより、基板支持コロ２０がガラス基板９９の端部に接触する際の衝撃を緩和させることができる。また、この基板端支持ヘッド４５は、基板端支持部４１と同様に、ガラス基板９９の板厚が薄くなって、その撓み量が大きくなる場合に威力を発揮することができる。
【００４９】
なお、この基板端支持ヘッド４５では、基板端支持ヘッド４５をエアシリンダ４６によって上下に移動させる場合について説明したが、この２つの位置の間を動かすことができれば、エアシリンダに限られない。
【００５０】
また、基板保持装置（基板保持部）としては、欠陥修正装置に適用する場合を例に挙げて説明したが、基板保持装置は、欠陥修正装置の他に、たとえば、検査装置やレビュー装置にも適用することが可能である。
【００５１】
今回開示された実施の形態は例示であってこれに制限されるものではない。本発明は上記で説明した範囲ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００５２】
１  欠陥修正装置、２  ステージ、３  基板端支持台、４  基板支持用コロ機構、５  観察光学系、６  レーザ光源、７  対物レンズ、８  インク塗布機構、９  Ｘ軸テーブル、１０  Ｙ軸テーブル、１１  Ｚ軸テーブル、１２  ＣＣＤカメラ、１３  制御用コンピュータ、１５  基板保持部、１６  修正ヘッド部、２０  基板支持コロ、２１  コロ支持軸連結板、２２  コロ支持軸受、２３  コロ支持軸転送用軸受、２４  転走板、２５  転走補助板、２６  基板吸着台、２７  基板吸着溝、２８  基板浮上用溝、２９  ライン状照明光源、３０  シリンドリカルレンズ、３１  基板吸着台支持用リニアガイド、３２  基板吸着台駆動モータ、３５  ガイド部、４１  基板端支持部、４２  基板端支持コロ、４３  駆動ネジ、４４  駆動モータ、４５  基板端支持ヘッド、４６  エアシリンダ、５１  Ｒ画素、５２  Ｇ画素、５３  Ｂ画素、５４  白欠陥、５５  黒欠陥、５６  異物欠陥、５７  インク塗布部分、９９  基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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