(57)【要約】【課題】光導波路用形成材料およびそれを用いた光導波路を提供する。【解決手段】エポキシ樹脂を主成分とし、ホウ素系光酸発生剤を上記エポキシ樹脂１００重量部に対して５重量部以上含有する光導波路用形成材料である。そして、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路において、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記光導波路用形成材料によって形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路の形成に用いられる光導波路用形成材料であって、エポキシ樹脂を主成分とし、ホウ素系光酸発生剤を上記エポキシ樹脂１００重量部に対して５重量部以上含有することを特徴とする光導波路用形成材料。
【請求項２】
上記ホウ素系光酸発生剤の含有割合が、エポキシ樹脂１００重量部に対して５〜２０重量部である請求項１記載の光導波路用形成材料。
【請求項３】
上記ホウ素系光酸発生剤が、下記の構造式（１）で表されるホウ素系芳香族ヨードニウム塩である請求項１または２記載の光導波路用形成材料。
【化１】
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【請求項４】
基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層およびコア部の少なくとも一方が、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光導波路用形成材料によって形成されていることを特徴とする光導波路。
【請求項５】
クラッド層が、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光導波路用形成材料によって形成されている請求項４記載の光導波路。
【請求項６】
上記基板が、金属製基板である請求項４または５記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学にて広く用いられる光導波路装置における光導波路を構成するクラッド層、詳しくはアンダークラッド層の形成材料として用いられる光導波路用形成材料およびそれを用いた光導波路に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路は、光導波路デバイス，光集積回路，光配線基板等の光導波路装置に組み込まれており、光通信，光情報処理，その他一般光学の分野で広く用いられている。上記光導波路は、通常、基材上に、アンダークラッド層が形成され、そのアンダークラッド層表面に、光信号の伝搬部分であるコア部が所定パターンに形成され、そのコア部を被覆した状態で、オーバークラッド層が形成され構成されている。
【０００３】
これら所定パターンのコア部，アンダークラッド層およびオーバークラッド層を形成する場合、通常、各種形成材料が用いられている。上記形成材料としては、光カチオン重合または硬化が可能な形成材料が用いられ、例えば、硬化後の着色を回避するために、アンチモンやリンをアニオン種とした光酸発生剤を含有した形成材料が用いられている。上記形成材料は光信号を伝搬するコア部の形成材料に限らず、アンダークラッド層の形成材料にも用いられている。
【０００４】
近年、光導波路の量産性向上を目的に、ロール・トゥ・ロール（roll-to-roll）プロセスによる製造が行なわれており、このような製造においては、形成材料に用いられる樹脂の硬化に伴う応力（硬化収縮）に耐えうる基材として、ステンレス製基材等のような金属製基板を用いる傾向がある。上記ステンレス製基材は、上記形成材料の塗膜の収縮応力による反りの発生を抑制することのできる安価な基材である一方、金属であることからアンダークラッド層上にコア部を形成する際の露光プロセスにおいて使用される照射光（紫外線等）の散乱反射を生起し、コア部の壁面荒れを引き起こすという問題があった。
【０００５】
そこで、本出願人は、アンダークラッド層形成材料に、紫外線（ＵＶ）吸収剤を含有させて、露光時におけるステンレス製基材からの背面反射を抑制させる方法を提案した（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２７６７２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１記載の方法では、新たに紫外線吸収剤を含有させることから若干のコストが嵩むことに加え、樹脂の硬化に露光プロセスを伴う光硬化性樹脂組成物を形成材料として用いる場合、その露光プロセスでの照射光（例えば、波長３６５ｎｍ程度の紫外線）を吸収するため、紫外線吸収剤を含有しない形成材料に比べて、アンダークラッド層自体の硬化が遅くなる傾向がみられる。その結果、コア部形成時にはコア部の解像性が低下することにも繋がる恐れがある。
【０００８】
このような解決手段として、アンダークラッド層製造時における紫外線の照射量を多くすることにより上記課題を回避することが可能となるが、タクトタイム（工程作業時間）がかかり、その分さらにコストが嵩むという問題が生じる。
【０００９】
このようなことから、アンダークラッド層形成材料として、露光プロセスの際には着色しておらず、硬化後の工程にて他の材料を配合することなく、紫外線（ＵＶ）吸収性の着色を呈する特性が求められている。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、アンダークラッド層の硬化不良を改善し、コア部形成時の壁面荒れの発生を抑制することのできる光導波路用形成材料およびそれを用いた光導波路の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、本発明は、光導波路の形成に用いられる光導波路用形成材料であって、エポキシ樹脂を主成分とし、ホウ素系光酸発生剤を上記エポキシ樹脂１００重量部に対して５重量部以上含有する光導波路用形成材料を第１の要旨とする。
【００１２】
そして、本発明は、基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層およびコア部の少なくとも一方が、上記光導波路用形成材料によって形成されている光導波路を第２の要旨とする。
【００１３】
すなわち、本発明者は、アンダークラッド層の硬化不良を招くことなく、照射された紫外線の基板からの乱反射によるコア部壁面の荒れの発生を抑制することのできる光導波路の構成部分、特にアンダークラッド層の形成材料を求め、鋭意検討を重ねた。その結果、形成材料として、ホウ素系光酸発生剤を用いるとともに、さらにその含有量を特定の割合とすることにより、所期の目的が達成されることを見出し本発明に到達した。
【００１４】
これは、紫外線照射による酸発生後の熱処理により、顕著に着色する特性を備えたホウ素系アニオン種を有するホウ素系光酸発生剤を用いることにより、つぎのような作用が奏することに基づくものと推測される。
【００１５】
一般に、透明性を必須の特性とする光導波路用形成材料では、紫外線照射により酸が発生した後の光酸発生剤の残存成分に由来する着色を懸念し、アンチモンやリンといった着色し難いアニオン種を有する光酸発生剤が使用される。そのため、紫外線吸収剤を導入しなければ紫外線光を吸収することができない。しかし、この紫外線吸収剤が紫外線照射による光硬化時に光酸発生剤が吸収すべき波長３６５ｎｍの光（紫外線光）まで吸収するため、アンダークラッド層深部にまで紫外線が届き難く硬化不良を引き起こすこととなる。
【００１６】
したがって、酸が発生した後の光酸発生剤において残存アニオン種が着色し易いホウ素系アニオン種を有する光酸発生剤を用いることにより、紫外線照射による露光時には着色しないことから高い透明性を有し、その後のアンダークラッド層の形成において露光後の加熱やコア部形成の際の塗工後の乾燥工程における加熱により、アンダークラッド層中に存在する光酸発生剤の残存アニオン種を着色させることによってコア部の露光時には、例えば、波長３６５ｎｍの紫外線に対して吸収能を持たせ、結果、金属製基板からの背面反射を抑制することが可能となると推測される。
【発明の効果】
【００１７】
このように、本発明は、エポキシ樹脂を主成分とし、これに特定量のホウ素系光酸発生剤を含有してなる光導波路用形成材料である。このため、この光導波路用形成材料を用いて、例えば、光導波路のアンダークラッド層を形成した際には、形成時に照射される紫外線等の光照射の光導波路の基材からの背面反射が抑止され、結果、アンダークラッド層上に形成されるコア部壁面の肌荒れの発生を抑制することができ、かつ形成材料の硬化性の向上をも図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の光導波路の一例を示す横断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は本発明の光導波路の製造工程を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
つぎに、本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、本発明は、この実施の形態に限定されるものではない。
【００２０】
《光導波路用形成材料》
本発明の光導波路用形成材料は、エポキシ樹脂を主成分とし、ホウ素系光酸発生剤を含有する組成物である。なお、本発明において、上記「主成分」とは、光導波路用形成材料を実質的に構成する主たる成分のことをいい、その使用量のみが関係するものではなく、形成材料全体の物性・特性に大きな影響を与えることを意味する。具体的には、光導波路用形成材料中のエポキシ樹脂の占める重量割合が全体の５０重量％以上である。
【００２１】
上記エポキシ樹脂としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールＡグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレングリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレンテトラグリシジルエーテル、脂環式多官能エポキシ樹脂である３′，４′−エポキシシクロヘキシメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサンの付加物等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。なかでも、脂環式多官能エポキシ樹脂およびアクリル系多官能エポキシ樹脂を併用してなる組み合わせが好ましい。
【００２２】
また、上記エポキシ樹脂としては、例えば、エポキシ当量が１９０〜５００ｇ／ｅｑであることが好ましい。
【００２３】
上記ホウ素系光酸発生剤は、光導波路用形成材料に対して紫外線硬化性を付与するために用いられるものである。
【００２４】
上記ホウ素系光酸発生剤としては、例えば、硬化性に優れるという点から、ホウ素系芳香族ヨードニウム塩等があげられる。
【００２５】
上記ホウ素系芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、下記の一般式（１）で表されるホウ素系芳香族ヨードニウム塩があげられる。
【００２６】
【化１】
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【００２７】
上記一般式（１）で表されるホウ素系芳香族ヨードニウム塩の中でも、下記の式（１ａ）で表されるホウ素系芳香族ヨードニウム塩〔Ｒ1が−ＣＨ（ＣＨ3）2、Ｒ2が−ＣＨ2〕を用いることが好ましい。具体的には入手し易さ等の観点から、ローディア社製のＰＩ２０７４が好適に用いられる。
【００２８】
【化２】
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【００２９】
上記ホウ素系光酸発生剤の含有量は、上記エポキシ樹脂１００重量部に対して５重量部以上である。より好ましくは５〜２０重量部であり、特に好ましくは５〜１０重量部である。すなわち、ホウ素系光酸発生剤が少なすぎると、充分満足のいく紫外線照射による光硬化性が得られず、また、光導波路形成の際には、アンダークラッド層の着色によるコア部壁面の肌荒れの発生抑制効果が得られない。また、ホウ素系光酸発生剤が多すぎると、光感度が上がるため、ワニスのポットライフの短寿命化という傾向がみられるからである。
【００３０】
本発明の光導波路用形成材料には、上記エポキシ樹脂およびホウ素系光酸発生剤以外に、必要に応じて、例えば、接着性を高めるためにシラン系あるいはチタン系のカップリング剤、オレフィン系オリゴマーやノルボルネン系ポリマー等のシクロオレフィン系オリゴマーやポリマー、合成ゴム、シリコーン化合物等の可撓性付与剤等の化合物、あるいは酸化防止剤、消泡剤等があげられる。これら添加剤は、本発明における効果を阻害しない範囲内にて適宜に配合される。
【００３１】
そして、上記光導波路用形成材料では、本発明の優れた効果を阻害しない範囲において、上記各配合成分に加えて溶媒を配合し、溶解混合することにより、ワニスとして調製し塗布することが行われる。上記溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、エチルラクテート、２−ブタノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジグライム、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラメチルフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル等があげられる。これら溶媒は、単独でまたは２種類以上併用して、塗布に好適な粘度が得られるように、適量用いられる。
【００３２】
《光導波路》
つぎに、本発明の光導波路用形成材料を用いた光導波路について説明する。
【００３３】
本発明の光導波路は、例えば、図１に示すように、基板１と、その基板１上に形成された、アンダークラッド層２ａとオーバークラッド層２ｂからなるクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に、所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる。そして、本発明の光導波路では、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方を、前述の光導波路用形成材料によって形成される。特に、本発明の光導波路用形成材料は、コア部３壁面の肌荒れの発生抑制等の観点から、アンダークラッド層２ａ形成材料として用いることが好ましい。なお、本発明の光導波路において、上記クラッド層２は、コア部３よりも屈折率が小さくなるよう形成する必要がある。
【００３４】
本発明において、光導波路は、例えば、図２（ａ）〜（ｆ）に示すような工程を経由することにより製造することができる。すなわち、図２（ａ）に示すように、まず基板１を準備する。そして、図２（ｂ）に示すように、その基板１面に、上記光導波路用形成材料を塗布した後、紫外線照射等の光照射を行ない、さらに加熱処理を行なうことにより、アンダークラッド層２ａ（クラッド層２の下方部分）を形成する。ついで、図２（ｃ）に示すように、上記アンダークラッド層２ａ上にコア部３形成材料を塗布することによりコア部形成層３’を形成する。そして、図２（ｄ）に示すように、このコア部形成層３’面上に、所定パターン（光導波路パターン）を露光させるためのフォトマスク９を配設し、このフォトマスク９を介して紫外線等の光照射を行ない、さらに加熱処理を行う。その後、上記コア部形成層３’の未露光部分を、現像液を用いて溶解除去することにより、図２（ｅ）に示すように所定パターンのコア部３を形成する。つぎに、図２（ｆ）に示すように、上記コア部３上に、上記オーバークラッド層形成材料を塗布した後、紫外線照射等の光照射を行ない、さらに加熱処理を行なうことにより、オーバークラッド層２ｂ（クラッド層２の上方部分）を形成する。このような工程を経由することにより、目的とする光導波路を製造することができる。
【００３５】
上記基板１材料としては、例えば、金属製基板、高分子フィルム、ガラス基板等があげられる。そして、上記金属製基板としては、ＳＵＳ等のステンレス板等があげられる。また、上記高分子フィルムとしては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリイミドフィルム等があげられる。そして、その厚みは、通常、１０μｍ〜３ｍｍの範囲内に設定される。本発明においては、好適には金属製基板が用いられる。
【００３６】
上記光照射では、具体的には紫外線照射が行なわれる。上記紫外線照射での紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯，高圧水銀灯，超高圧水銀灯等があげられる。また、紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2 、好ましくは５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 、より好ましくは５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2 程度があげられる。
【００３７】
上記紫外線照射による露光後、光反応を完結させるために行なわれる加熱処理条件としては、通常、８０〜２５０℃、好ましくは、１００〜１５０℃にて、１０秒〜２時間、好ましくは、５分〜１時間の範囲内で行なわれる。
【００３８】
また、上記クラッド層２形成材料として、本発明の光導波路用形成材料を用いた場合は、コア部３形成材料としては、例えば、前述のエポキシ樹脂を主成分とし、これに前述のホウ素系芳香族ヨードニウム塩や、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルフォニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホキソニウム塩、メタロセン化合物、鉄アレーン系化合物等の各種光酸発生剤を適宜含有する樹脂組成物があげられる。さらに、ワニスとして調製し塗布するために、前記と同様、溶媒を混合し、塗布に好適な粘度が得られるように、適量用いられる。
【００３９】
なお、上記基板１上における、各層の形成材料を用いての塗布方法としては、例えば、スピンコーター、コーター、円コーター、バーコーター等の塗工による方法や、スクリーン印刷、スペーサを用いてギャップを形成し、そのなかに毛細管現象により注入する方法、マルチコーター等の塗工機によりロール・トゥ・ロール（roll-to-roll）で連続的に塗工する方法等を用いることができる。また、上記光導波路は、上記基板１を剥離除去することにより、フィルム状光導波路とすることも可能である。
【００４０】
このようにして得られた光導波路は、例えば、携帯電話等のモバイル機器のヒンジ部の配線回路用の光導波路として用いることができる。
【実施例】
【００４１】
つぎに、本発明を実施例に基づいて説明する。ただし、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。なお、例中、「部」、「％」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
【００４２】
〔実施例１〕
まず、実施例となる光導波路の作製に先立ち、光導波路用形成材料である感光性ワニスを調製した。
【００４３】
＜感光性ワニスの調製＞
脂環式多官能エポキシポリマー（ＪＥＲ社製、ＥＨＰＥ−３１５０）７５部およびアクリル系多官能エポキシポリマー（マープルーフ社製、Ｇ−０１５０Ｍ）２５部を、シクロヘキサノン７０部に混合し、８５℃加熱下にて完全に溶解させた。その後、室温（２５℃）まで冷却した後、これに光酸発生剤としてホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）５部を添加することにより感光性ワニスを調製した。
【００４４】
＜未硬化アンダークラッド層の作製＞
スピンコーターを用いて、上記感光性ワニスをＳＵＳ製基材上に、乾燥後の厚みが１５μｍとなるように塗工（条件：５０００ｒｐｍ×１０秒）した後、乾燥炉内にて１５０℃×３分間の乾燥を行ない未硬化状態のアンダークラッド層を形成した。形成された未硬化のアンダークラッド層をＵＶ照射機〔Ｂ線、１０００ｍＪ／ｃｍ2（波長３６５ｎｍ）〕にて露光した。露光後に加熱は行なわず、露光時に生じる熱により上記感光性ワニス中のエポキシ樹脂の開環重合反応を進行させた。
【００４５】
＜所定パターンのコア部の作製＞
形成された未硬化アンダークラッド層上にアプリケーターを用いて下記に示すコア部形成材料を塗工し（アプリケーターギャップ約１００μｍ）、乾燥炉内にて１５０℃×３分間の乾燥を行ない、厚み５０μｍのコア部形成層を形成した。コア部形成層を形成した後、フォトマスクを介して露光（Ｉ線、２０００ｍＪ／ｃｍ2）を行ない、続いて１００℃×１０分間の加熱を行なった後、スプレー現像機を用いてγ−ブチルラクトンにて現像処理を行なった。ついで、水洗し、乾燥することにより、所定パターンのコア部を作製した〔パターン幅／パターン間隔（Ｌ／Ｓ）＝１５μｍ／１５μｍ、アスペクト比≒３〕。
【００４６】
〔コア部形成材料〕
１５７Ｓ７０（ジャパンエポキシレジン社製）              ８５部
マープルーフＧ−０２５０ＳＰ（日油社製）                １０部
８２８（ジャパンエポキシレジン社製）                      ５部
ＣＰＩ−２００Ｋ（サンアプロ社製）                        ４部
乳酸エチル（和光純薬社製）                              ５５部
【００４７】
このようにしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００４８】
〔実施例２〕
感光性ワニスの調製において、ホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）の添加量を７部に変えた。それ以外は実施例１と同様にしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００４９】
〔実施例３〕
感光性ワニスの調製において、ホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）の添加量を１０部に変えた。それ以外は実施例１と同様にしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００５０】
〔比較例１〕
感光性ワニスの調製において、ホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）の添加量を３部に変えた。それ以外は実施例１と同様にしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００５１】
〔比較例２〕
感光性ワニスの調製において、ホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）の添加量を１部に変えた。それ以外は実施例１と同様にしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００５２】
〔比較例３〕
感光性ワニスの調製において、ホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）に代えてリン系光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ−２００Ｋ）を１部用いた。それ以外は実施例１と同様にしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００５３】
〔比較例４〕
感光性ワニスの調製において、ホウ素系光酸発生剤（ローディア社製、ＰＩ２０７４）に代えて、リン系光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ−２００Ｋ）を１部用いるとともに、紫外線（ＵＶ）吸収剤（チバジャパン社製，ＴＩＮＵＶＩＮ４７９）を５部用いた。それ以外は実施例１と同様にしてＳＵＳ製基材上にアンダークラッド層が形成され、さらにこのアンダークラッド層上に所定パターンのコア部が形成された光導波路を作製した。
【００５４】
このようにして得られた各光導波路について、アンダークラッド層の硬化性およびコア部壁面の肌荒れ度合いについて下記に示す方法に従って測定・評価した。これらの結果を後記の表１に併せて示す。
【００５５】
〔アンダークラッド層の硬化性〕
得られた光導波路のアンダークラッド層上に形成されたコア部のパターン形状を目視により確認し、下記の基準に従って評価した。
○：コア部のパターン形成において、Ｌ／Ｓ＝１５／１５μｍの解像性でアスペクト比３の形状をたおれやゆらぎなく作製できたことが確認された。
△：コア部のパターン形成において、達成部分と未達成部分にバラツキがあることが確認された。
×：コア部のパターン形成において、形状を保てず、たおれやゆらぎが生じていることが確認された。
【００５６】
〔コア部壁面の肌荒れ度合い〕
得られた光導波路のアンダークラッド層上に形成されたコア部の壁面を目視により観察し、下記の基準に従って評価した。
○：コア部壁面に肌荒れが全く確認されなかった。
△：コア部壁面に若干の肌荒れが確認された。
×：コア部壁面の肌荒れが明確に確認された。
【００５７】
【表１】
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【００５８】
上記結果から、ホウ素系光酸発生剤を５部以上含有した形成材料を用いてアンダークラッド層を形成してなる実施例品は、アンダークラッド層の硬化性が良好であり、コア部壁面の肌荒れも全く確認されなかった。
【００５９】
これに対して、ホウ素系光酸発生剤が５部未満である比較例１〜３は、コア部壁面の肌荒れが生じたことを確認した。さらに、ホウ素系光酸発生剤が５部未満であることに加え、紫外線（ＵＶ）吸収剤を含有してなる比較例４は、このＵＶ吸収剤を含有することから、照射された紫外線は吸収され基板からの背面反射が抑制されたことからコア部壁面の肌荒れは確認されなかったが、紫外線の吸収により充分な硬化作用が得られずアンダークラッド層の硬化性に劣ることとなった。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明の光導波路用形成材料は、光導波路の構成部分の形成材料として、特にアンダークラッド層形成材料として有用である。そして、上記光導波路用形成材料を用いて作製された光導波路としては、例えば、開閉型携帯電話等のモバイル機器のヒンジ部やスライド部の信号伝達回路に用いられる。
【符号の説明】
【００６１】
１  基板
２  クラッド層
２ａ  アンダークラッド層
２ｂ  オーバークラッド層
３  コア部
【図１】
2011237518.tif 000007
【図２】
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