(57)【要約】【課題】２層以上の記録層を有する光ディスクにおいて、プリピット領域の影響を受けることなく、安定して情報を記録再生する。【解決手段】光ディスク１は、第１記録層１５と第２記録層１３とを有する。第２記録層１３における記録可能領域３ｂの外周側にプリピット領域としての外周プリピット領域６ｂを設ける。この外周プリピット領域６ｂには、予め所定の情報をピットによって記録しておく。記録が完了することによって光透過率が高くなった第１記録層１５の記録可能領域３ｂに光ビーム１７を透過させて外周プリピット領域６ｂに集束させ、プリピット情報を再生する。外周プリピット領域６ｂを第２記録層１３に設けているので、第２記録層１３の記録または再生をプリピット領域の影響を受けることなく行うことができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光記録媒体の片面に光ビームを照射する手段によって、２層またはそれ以上に積層された情報記録層の各層が、他の層とは独立して記録再生できるディスク状の光記録媒体であって、
記録可能領域を有する第１および第２情報記録層が設けられ、前記第２情報記録層は前記光記録媒体の光照射面から最も遠い位置にあり、
前記第１情報記録層は、前記光照射面から前記第２情報記録層の次に近い位置にあり、
前記第１情報記録層は、前記第２情報記録層の記録可能領域に対して半径方向に前記記録可能領域が拡張されており、
前記第２情報記録層には、前記記録可能領域が拡張された領域に対応する半径位置に、再生専用領域が配置され、
前記第２情報記録層以外の層には、再生専用領域が配置されていないことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
請求項１に記載の光記録媒体を使用する記録再生装置であって、
前記各情報記録層に独立して光を照射する光照射手段を有しており、
前記光照射手段の稼動範囲は、前記各情報記録層に情報を記録する際に、前記第１情報記録層の記録可能領域が前記拡張された領域を有することにより、前記第１情報記録層に対して照射される記録光の照射範囲が第前記２情報記録層に対して照射される記録光の照射範囲よりも広くなるように設定されていることを特徴とする光記録再生装置。
【請求項３】
請求項１に記載の光記録媒体を使用する再生装置であって、
前記各情報記録層に独立して光を照射する光照射手段を有しており、
前記光照射手段は、前記第１情報記録層の前記拡張された領域を含む記録可能領域を介して、前記第２情報記録層の再生専用領域へ再生光の照射を行うように設定されていることを特徴とする再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度な情報の記録および／または再生が可能であり、かつ複数の情報記録層を持つ記録再生可能な光ディスクならびにその光ディスクに対し情報の記録および／または再生を行う装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル動画のような大容量の情報を記録し、ランダムアクセスが可能な光記録再生装置の開発が進められている。また、このような光記録再生装置の記録媒体として使用する光ディスクの高密度化が様々な角度から検討されている。
【０００３】
光記録再生装置においては、例えば、対物レンズの開口数を大きくし、光源を短波長化することにより、光ビームスポット径を小さくして記録密度を高くする方向で検討が進められている。これにより、光ディスクの記録容量は年々大きくなりつつある。また、光ディスクとしてのＤＶＤ−ＲＯＭ（Digital Versatile Disc for Read Only Memory ）においては、２層化技術によりディスク容量をほぼ２倍にする技術が確立されている。
【０００４】
さらに、記録再生可能な２層の情報記録層を有する光ディスクの高密度化については、Joint International Symposium on OpticalMemory and OpticalData Storage 1999 において発表されている、文献名「 A 16.8GB Double-Decker Phase Change Disc 」においても検討されている。
【０００５】
上記文献に記載の光ディスクでは、２層の情報記録層がそれぞれ相変化材料にて構成されている。このような光ディスクには、記録マーク部が記録マーク部間のスペース部よりも高い反射率を有するローツウハイ媒体と、逆にスペース部が記録マーク部より高い反射率を有するハイツウロー媒体とがある。これら何れの媒体も、相変化材料が多結晶状態であるか、または、非晶質状態であるかにより、その反射光量および透過光量が変化することを利用して再生が行われる。なお、上記のような相変化材料を使用している光ディスクについては、例えば特開２００１−５２３４２号にも開示されている。
【０００６】
ところで、図３４に示すように、従来の光ディスク１０１は、センター穴１０２、記録可能領域１０３、最内周端部１０４、最外周端部１０５およびプリピット領域１０６を有している。
【０００７】
上記の光ディスク１０１には、例えば、スパイラル状の案内溝（図示せず）が形成されている。この案内溝に沿ってトラッキングが行われ、図３５に示すように、２層の第１および第２記録層１１１、１１２に対して光ビーム１２１を照射することによって記録可能領域１０３に対して情報の記録再生が実行される。また、プリピット領域１０６を構成する内周プリピット領域１０６ａおよび外周プリピット１０６ｂには、第１および第２記録層１１１、１１２に複数のピットからなる例えばスパイラル状のピット列（図示せず）が形成されている。このピット列に沿ってトラッキングが行われ、光ビーム１２１の照射によって、ピット列に予め記録された情報の再生が実行される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−５２３４２号公報
【非特許文献１】「A 16.8GB Double-Decker Phase Change Disc 」Joint International Symposiumon Optical Memory and OpticalData Storage 1999
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図３６は、記録可能領域１０３とプリピット領域１０６との境界部分を拡大して示している。図３７は、その断面模式図を示しており、この図では第１記録層１１１および第２記録層１１２のみを表示している。また、ここでは、第１および第２記録層１１１、１１２として、形成された記録マークの透過率が未記録領域に比べて高くなるハイツーロー型の相変化記録媒体を用いた場合について説明する。
【００１０】
図３６および図３７に示すように、光入射側の第１記録層１１１にプリピット領域１０６が存在する場合、第１記録層１１１の記録可能領域１０３の案内溝Ｇに沿って記録マークＭを記録した後、第２記録層１１２に光ビーム１２１ａ・１２１ｂを集束して照射する。この場合、記録可能領域１０３を通過して集束される光ビーム１２１ａの強度と、プリピット領域１０６を通過して集束される光ビーム１２１ｂの強度とが異なってくる。
【００１１】
記録可能領域１０３には透過率の高くなった記録マークＭが複数個存在しているので、第１記録層１１１の記録可能領域１０３を透過する光ビーム１２１ａの強度は相対的に高くなる。一方、プリピット領域１０６には記録マークＭが存在しないので、第１記録層１１１のプリピット領域１０６を透過する光ビーム１２１ｂの強度は相対的に低くなる。このように、第１記録層１１１にプリピット領域１２１ａを設けると、第２記録層１１２の記録再生を行う際、記録パワーまたは再生パワーが変動し、安定した記録再生を実現できなくなるという問題が発生する。
【００１２】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、２層以上の記録層を有する光ディスクにおいて、プリピット領域の影響を受けることなく、安定して情報を記録再生することが可能な光記録媒体、光記録再生装置および光記録再生方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の光記録媒体は、光記録媒体の片面に光ビームを照射する手段によって、２層またはそれ以上に積層された情報記録層の各層が、他の層とは独立して記録再生できるディスク状の光記録媒体であって、記録可能領域を有する第１および第２情報記録層が設けられ、前記第２情報記録層は前記光記録媒体の光照射面から最も遠い位置にあり、前記第１情報記録層は、前記光照射面から前記第２情報記録層の次に近い位置にあり、前記第１情報記録層は、前記第２情報記録層の記録可能領域に対して半径方向に前記記録可能領域が拡張されており、前記第２情報記録層には、前記記録可能領域が拡張された領域に対応する半径位置に、再生専用領域が配置され、前記第２情報記録層以外の層には、再生専用領域が配置されていないことを特徴としている。
【００１４】
本発明の光記録媒再生装置は、上記の光記録媒体を使用する記録再生装置であって、前記各情報記録層に独立して光を照射する光照射手段を有しており、前記光照射手段の稼動範囲は、前記各情報記録層に情報を記録する際に、前記第１情報記録層の記録可能領域が前記拡張された領域を有することにより、前記第１情報記録層に対して照射される記録光の照射範囲が前記第２情報記録層に対して照射される記録光の照射範囲よりも広くなるように設定されていることを特徴としている。
【００１５】
本発明の再生装置は、上記の光記録媒体を使用する再生装置であって、前記各情報記録層に独立して光を照射する光照射手段を有しており、前記光照射手段は、前記第１情報記録層の前記拡張された領域を含む記録可能領域を介して、前記第２情報記録層の再生専用領域へ再生光の照射を行うように設定されていることを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態に係る光ディスクにおける第１およびプリピット領域を有する第２の記録層の構成の一部を拡大して示した縦断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る各光ディスクに共通する構成を示す平面図である。
【図３】上記光ディスクのうち、表面コート層側から光ビームが入射するタイプの光ディスクの構造を示す縦断面図である。
【図４】図３に示した構造の要部を拡大して示す縦断面図である。
【図５】上記光ディスクにおける案内溝・ピット形成層および案内溝・ピット形成中間層の案内溝が形成される部分の構成を示す斜視図である。
【図６】上記光ディスクにおける案内溝・ピット形成層および案内溝・ピット形成中間層のピットが形成される部分の構成を示す斜視図である。
【図７】上記光ディスクのうち、ディスク基板側から光ビームが入射するタイプの光ディスクの構造を示す縦断面図である。
【図８】上記光ディスクの記録および再生を行う光ディスク記録再生装置の要部の構成を示すブロック図である。
【図９】図３に示した光ディスクの第１記録層の一部に記録が行われた状態を示す平面図である。
【図１０】図９に示した光ディスクにおいて記録完了部と未記録部とに光ビームを透過させて第２記録層に集束させる状態を示す縦断面図である。
【図１１】図９に示した光ディスクにおいて記録が完了した第１記録層に光ビームを透過させて第２記録層に集束させる状態を示す縦断面図である。
【図１２】図９に示した光ディスクにおいて記録が完了した第１記録層の記録可能領域の一部に記録が行われた場合で光ビームを第２記録層のプリピットに集束させる状態を光ディスクの一部を拡大して示す縦断面図である。
【図１３】図１２に示した状態を拡大して示す平面図である。
【図１４】図１２に示した状態で第１記録層の記録可能領域における記録完了部と未記録部とにまたがって光ビームが照射されたときの光ディスクの角度位置に応じたプリピット情報の再生信号強度（エンベロープ）を示すグラフである。
【図１５】図１２に示した状態で第１記録層の記録可能領域における記録完了部と未記録部とにまたがって光ビームが照射されたときの光ディスクの角度位置（０度および１８０度）に応じたプリピット情報の再生信号強度を示す波形図である。
【図１６】図１４に示したエンベロープの中心レベルをスライスレベルにすることを示す光ディスクの角度位置に応じたプリピット情報の再生信号強度を示す波形図である。
【図１７】図１６に示したスライスレベルを用いて再生信号からデジタル信号を得るための再生回路の構成を示すブロック図である。
【図１８】図１２に示した状態で第１記録層の記録可能領域における記録完了部と未記録部とにまたがって光ビームが照射されたときの光ディスクの角度位置に応じたプリピット情報の再生信号強度（エンベロープ）を低周波変動が除去された再生信号について示すグラフである。
【図１９】図１２に示したエンベロープに基づいてデジタル信号を得るための再生回路の構成を示すブロック図である。
【図２０】図１２に示した光ディスクにおいて第１記録層が擬似記録領域を有する構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図２１】上記擬似記録領域の構成を拡大して示す平面図である。
【図２２】上記擬似記録領域を形成するための構成を示すブロック図である。
【図２３】本発明の実施の形態に係る光ディスクにおけるプリピット領域を有する第１および第２の記録層の構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図２４】図２３に示した光ディスクにおいて第２記録層のブランク領域を拡張した構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図２５】図２に示した光ディスクにおいてプリピット領域の代わりに連続記録領域が形成されるプリピット領域を備えた構成を示す平面図である。
【図２６】図２５に示した光ディスクの第１および第２記録層の構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図２７】図２５に示した光ディスクにおいて第１記録層の記録可能領域とプリピット領域との境界部分を拡大して示す平面図である。
【図２８】図２７に示した境界部分において第１記録層の記録可能領域とプリピット領域とに光ビームが透過して第２記録層に集束する状態を拡大して示す縦断面図である。
【図２９】上記連続記録領域を形成するための構成を示すブロック図である。
【図３０】本発明の実施の形態に係る光ディスクにおける第１および第２記録層ならびにプリピット領域を有する第３記録層の構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図３１】図３０に示した光ディスクにおける第１および第２記録層に擬似記録領域を有する構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図３２】本発明の実施の形態に係る光ディスクにおけるプリピット領域を有する第１ならびに第２および第３記録層の構成の一部を拡大して示す縦断面図である。
【図３３】図３２に示した光ディスクにおけるプリピット領域の代わりに連続記録領域が形成されるプリピット領域を有する構成の一部を拡大して示した縦断面図である。
【図３４】従来の光ディスクの構成を示す平面図である。
【図３５】図３４に示した光ディスクにおける第１および第２記録層にそれぞれ光ビームが集束させる状態を拡大して示す縦断面図である。
【図３６】図３４に示した光ディスクにおいて第１記録層の記録可能領域とプリピット領域との境界部分を拡大して示す平面図である。
【図３７】図３５に示した光ディスクにおいて第１記録層を透過した光ビームが第２記録層に集束される状態を拡大して示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施の形態を図１ないし図３３に基づいて以下に説明する。
【００１８】
図２に示すように、本実施の形態の光ディスク（光記録媒体）１は、中心部にセンター穴２を有し、このセンター穴２に対する径方向の外方側に記録可能領域３を有している。この記録可能領域３では、図４および図５に示すように、案内溝・ピット形成層１２および案内溝・ピット形成中間層１４に記録再生のための案内溝Ｇがスパイラル状（同心円状であってもよい）に形成され、この案内溝Ｇに沿って情報の記録再生が可能となっている。また、センター穴２の周囲には最内周端部４が設けられる一方、光ディスク１の外周側には最外周端部５が設けられている。
【００１９】
そして、光ディスク１は、内周プリピット領域６ａおよび外周プリピット領域６ｂからなるプリピット領域６を有している。内周プリピット領域６ａは最内周端部４の周囲に隣接して設けられる一方、外周プリピット領域６ｂは最外周端部５の内側に隣接して設けられている。プリピット領域６では、図６に示すように、案内溝・ピット形成層１２および案内溝・ピット形成中間層１４にピットＰがスパイラル状（同心円状であってもよい）に並んで形成され、このピットＰが並んだピット列に沿ってプリピット情報の再生が可能となっている。ピット列は、一般に、光ディスク１の記録パワー、再生パワー等の情報が、予め、凹状または凸状（図示せず）のピットＰとして記録されている。
【００２０】
上記の光ディスク１は、その縦断面図である図３に示すように、ディスク基板１１上に、案内溝・ピット形成層１２、第２記録層（最終情報記録層）１３、案内溝・ピット形成中間層１４、第１記録層（光入射側記録層）１５および表面コート層１６が順次積層された構造を有している。この光ディスク１の第１記録層１５および第２記録層１３に対する記録再生は、光ビーム１７を同一の側、即ち表面コート層１６側から第１および第２記録層１５、１３のそれぞれに集光させて照射することにより行われる。
【００２１】
上記光ディスク１は、さらに詳細には図４に示すように構成されている。図４において、ディスク基板１１は、例えば、板厚１．２ｍｍの透明なポリカーボネート製の基板からなる。案内溝・ピット形成層１２は、例えば層厚２０μｍの紫外線硬化樹脂層からなり、例えば２Ｐ法と呼ばれるパターン転写技術を用いて形成される。この案内溝・ピット形成層１２における第２記録層１３側の面には、記録可能領域３では前述の案内溝Ｇが形成され、プリピット領域６では前述のピットＰ（図４では示さず）が形成される。
【００２２】
第２記録層１３は、例えば、ＡｌＴｉ合金反射膜１３ａ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２ 干渉膜１３ｂ、ＳｉＮ保護膜１３ｃ、ＧｅＳｂＴｅ相変化記録膜１３ｄ、ＳｉＮ保護膜１３ｅおよびＺｎＳ−ＳｉＯ２ 干渉膜１３ｆを有している。これらの膜は、スパッタリングにより案内溝・ピット形成層１２上に順次積層されることで形成されている。
【００２３】
案内溝・ピット形成中間層１４は、案内溝・ピット形成層１２と同様、例えば層厚２０μｍの紫外線硬化樹脂層からなり、例えば２Ｐ法と呼ばれるパターン転写技術を用いて形成される。この案内溝・ピット形成中間層１４における第１記録層１５側の面には、記録可能領域３では前述の案内溝Ｇが形成され、プリピット領域６では前述のピットＰ（図４では示さず）が形成される。
【００２４】
第１記録層１５は、第２記録層１３と同様、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ２ 干渉膜１５ａ、ＳｉＮ保護膜１５ｂ、ＧｅＳｂＴｅ相変化記録膜１５ｃ、ＳｉＮ保護膜１５ｄおよびＺｎＳ−ＳｉＯ２ 干渉膜１５ｅを有している。この第１記録層１５は、これらの各膜がスパッタリングにより順次案内溝・ピット形成中間層１４上に積層されることにより形成されている。
【００２５】
表面コート層１６は、例えば層厚８０μｍの紫外線硬化樹層からなり、紫外線硬化樹脂をスピンコーティングにより第１記録層１５上に塗布した後、紫外線照射により硬化させることにより形成されている。
【００２６】
なお、光ディスク基板１１としては、上記のように透明なポリカーボネート製の基板を使用している。しかしながら、本実施の形態の光ディスク１のように、表面コート層１１側から光ビーム１７を入射させる構成の場合、ディスク基板１１は、透明である必要は無く、不透明な金属製の基板であってもよい。
【００２７】
また、本実施の形態の光ディスク１は、２Ｐ法により形成され、案内溝ＧおよびピットＰを有する案内溝・ピット形成層１２および案内溝・ピット形成中間層１４を備えている。しかしながら、その表面に直接案内溝ＧおよびピットＰを有するディスク基板１１を例えば射出成形法により形成してもよい。このディスク基板１１を有する構造では、案内溝・ピット形成層１２および案内溝・ピット形成中間層１４が不要になる。
【００２８】
また、表面コート層１６は、スピンコート法により第１記録層１５上に形成されているが、これの代わりに、第１記録層１５上に貼り付けられた均一な厚みを有する透明シートであってもよい。
【００２９】
また、光ディスク１は、光ディスク基板１１上に、案内溝・ピット形成層１２、第２記録層１３、案内溝・ピット形成中間層１４、第１記録層１５および表面コート層１６が順次積層された構造をなしているが、これに限らない。例えば、光ディスク１は、図７に示すように、光ディスク基板１１上に、案内溝・ピット形成層１２、第１記録層１５、案内溝・ピット形成中間層１４、第２記録層１３および表面コート層１６が順次積層され、光ディスク基板１１側から光ビーム１７を照射する構成とすることも可能である。この構造では、第１記録層１５および第２記録層１３を構成する各膜の成膜順序が図４に示した構造と逆になっている。
【００３０】
上記の光ディスク１に対して記録再生を行う光ディスク記録再生装置（光記録再生装置）は、図８に示すように構成されている。この光ディスク記録再生装置３１において、光ディスク１は、センターハブ３２によってモータのスピンドル３３に固定され、回転駆動される。
【００３１】
光ディスク記録再生装置３１は、光学系部（光照射手段）３４および信号処理・制御部（制御手段）３５を備えている。光学系部３４は、半導体レーザ等の光源４１、コリメートレンズ４２、ビームスプリッター４３、対物レンズ４４、２軸アクチュエーター４５、集光レンズ４６および受光素子４７を備えている。対物レンズ４４は、２軸アクチュエーター４５により支持され、かつフォーカシング方向およびトラッキング方向に駆動される。受光素子４７は、再生信号検出素子、フォーカス誤差信号検出素子およびトラック誤差信号検出素子を有し、これら各検出素子の出力は信号処理・制御部３５へ入力される。
【００３２】
また、光学系部３４は、図示しないスライド駆動部に駆動されて、光ディスク１の半径方向へ往復移動するようになっている。
【００３３】
信号処理・制御部３５は、各種信号処理および各種制御を行う。例えば、記録再生時の光源４１のパワー制御を行うとともに、対物レンズ４４のフォーカシングおよびトラッキングを行うため、フォーカス誤差信号検出素子およびトラック誤差信号検出素子からの出力に応じて、２軸アクチュエーター４５の駆動を制御する。さらに、前記スライド駆動部による光ディスク１の半径方向への光学系部３４の移動を制御し、光学系部３４、即ち対物レンズ４４を、所定のトラックについて記録再生可能な位置へ移動させる。その他、後述の各制御等を行う。
【００３４】
光ディスク記録再生装置３１では、上記のようにして光ビーム１７を第１記録層１５または第２記録層１３の何れかに集束させ、案内溝Ｇに沿って第１記録層１５または第２記録層１３の記録再生を行う。
【００３５】
ここで、本実施の形態において、光ディスク記録再生装置３１では、第２記録層１３に対する記録再生を、第１記録層１５の記録可能領域３の全領域についての記録が完了した後に行うようになっている。この場合の動作は、前記光学系部（光照射手段）３４およびスライド駆動部（光照射手段）に対する信号処理・制御部３５の制御により行われる。
【００３６】
上記の構成において、光ディスク記録再生装置３１による光ディスク１に対しての記録再生動作について以下に説明する。
【００３７】
光ディスク記録再生装置３１において、光源４１から出射した光ビーム１７は、コリメートレンズ４２により平行光となり、ビームスプリッター４３を透過し、対物レンズ４４に入射する。その後、光ビーム１７は、対物レンズ４４により、光ディスク１の第１記録層１５上または第２記録層１３上に集束される。光ディスク１からの反射光は、対物レンズ４４を経た後、ビームスプリッター４３により反射され、集光レンズ４６により受光素子４７上に集束される。
【００３８】
その後、受光素子４７からの出力に基づき、信号処理・制御部３５は、２軸アクチュエーター４５を制御して、対物レンズ４４のフォーカシング制御およびトラッキング制御を行う。光ディスク記録再生装置３１では、このようにして光ビーム１７を第１記録層１５または第２記録層１３の何れかに集束させ、案内溝１３に沿って第１記録層１５または第２記録層１３の記録再生を行う。
【００３９】
ここで、光ディスク記録再生装置３１による光ディスク１に対しての記録再生動作において、光ディスク１の第１記録層１５に対して記録可能領域３の内周プリピット領域６ａ側から記録を開始し、記録可能領域３の途中で第１記録層１５の記録を終了した後、第２記録層１３の記録再生に移行した場合について説明する。なお、光ディスク１にはスペース部が記録マーク部より高い反射率を有するハイツウロー媒体が使用され、相変化記録が行われるものとする。
【００４０】
上記の第１記録層１５に対する記録動作では、図９および図１０に示すように、第１記録層１５の記録可能領域３における内周プリピット領域６ａ側から中途位置までの間に、網目模様によって示す記録完了部３ａ１が形成される。
【００４１】
このとき、第１記録層１５では、記録完了部３ａ１ の光透過率が、それ以外の領域の光透過率よりも高くなる。したがって、同一強度の光ビーム１７を第２記録層１３に照射した場合、記録完了部３ａ１を通過して第２記録層１３へ集束される光ビーム１７ｂの強度は、記録完了部３ａ１ 以外の領域（未記録領域）を通過して第２記録層１３へ集束される光ビーム１７ａの強度よりも強くなる。即ち、第２記録層１３に記録を行う際、第１記録層１５を経て第２記録層１３に達する光ビーム１７の強度は、光ビーム１７が記録完了部３ａ１を通過したか否かにより異なる。この場合には、第２記録層１３の記録を行う際には、第１記録層１５の記録の有無に応じて光ビーム１７の強度を変化させる複雑な記録システムが必要となる。
【００４２】
上記の光ビーム１７の強度の差は、第２記録層１３の再生を行う場合も同様に生じ、光ビーム１７が第１記録層１５の記録完了領域３ａ１を通過したか否かにより、第２記録層１３からの反射光量が異なり、同様に、複雑な再生システムが必要となる。
【００４３】
そこで、本実施の形態の光ディスク記録再生装置３１では、図１１に示すように、第１記録層１５の記録可能領域３の全領域を記録完了状態とした後に、第２記録層１３への記録再生を行うようにしている。即ち、光ディスク記録再生装置３１は、光ディスク１に対して記録を行う際に、まず、第１記録層１５から記録を開始し、第１記録層１５の記録可能領域３の全領域について記録が完了した後に、第２記録層１３への記録または再生に移行するように動作する。
【００４４】
このような動作により、第２記録層１３に対して記録再生を行う際、第２記録層１３に照射する光ビーム１７は、常に、記録が完了した第１記録層１５を通過して第２記録層１３へと入射する。したがって、記録および再生の各場合において、第２記録層１３に照射する光ビーム１７の強度を一定にすることができる。この結果、光ビーム１７の強度を制御するための複雑な記録再生システムを用いることなく、安定した記録再生を実現することができる。
【００４５】
図１は、光ディスク１の外周端部における第１記録層１５および第２記録層１３の初期状態を示している。この光ディスク１では、第１記録層１５に、未記録状態の記録可能領域３ａおよび最外周端部５を構成するブランク領域５ａとが存在し、第２記録層１３に、未記録状態の記録可能領域３ｂ、外周プリピット領域６ａおよび最外周端部５を構成するブランク領域５ｂとが存在する。ここで、ブランク領域５ａ、５ｂとは、案内溝ＧやピットＰが形成されていない領域である。図示はしないが、第１および第２記録層１５、１３における最内周端部４にも、同様なブランク領域が存在する。
【００４６】
上記のような状態の光ディスク１では、第１記録層１５の記録可能領域３ａが未記録状態であるので、その透過率が均一である。したがって、第２記録層１３の外周プリピット領域６ｂに光ビーム１７を集束させてプリピット情報を再生した場合、再生信号強度の変動は発生しない。また、プリピット領域６が第２記録層１３に設けられているので、第２記録層１３への記録または再生をプリピット領域６の影響を受けることなく安定して行うことができる。
【００４７】
次に、図１２に示すように、未記録状態の記録可能領域３ａの一部に記録が行われた結果、記録完了部３ａ１が形成され、他の部分が未記録部３ａ２ として残る。この場合、図１３に示すように、記録完了部３ａ１ には、案内溝Ｇに透過率の低くなった記録マークＭが形成されるが、記録完了部３ａ１は、記録マークＭが形成されないので透過率が変化しない。このため、記録完了部３ａ１ を通過した光ビーム１７ｃの強度と、未記録部３ａ２ を透過した光ビーム１７ｄの強度とが異なり、光ビーム１７ｃ・１７ｄによって得られたプリピット情報の再生信号強度が異なる。
【００４８】
また、光ディスク１においては、一般に、第１記録層１５に形成されているスパイラル状の案内溝Ｇの中心と、第２記録層１３に形成されているスパイラル状のピット列の中心とを完全に一致させることができない。このため、図１２に示すように、光ビーム１７ｅが、記録完了部３ａ１と未記録部３ａ２ とをまたいで第２記録層１３の外周プリピット領域６ｂに集束されるような場合、光ディスクの回転に伴い、記録完了部３ａ１と未記録部３ａ２ との境界位置が、光ビーム１７ｅ内で移動することになる。
【００４９】
したがって、図１４に示すように、プリピット情報の再生信号強度は、光ディスク１の回転に伴い変動してしまう。図１４は、再生信号のエンベロープＥのみ示しており、縦軸が再生信号強度を、横軸が回転に伴う光ディスク１の角度位置を示している。図１５は、図１４の角度位置０度におけるプリピット情報の再生信号Ｓ１と、図１４の角度位置１８０度におけるプリピット情報の再生信号Ｓ２ とを角度軸を拡大して示している。これらの再生信号Ｓ１、Ｓ２ をデジタル信号に変換するためには、再生信号Ｓ１ 、Ｓ２ の中心レベルにスライスレベルを設定して検波を行う必要がある。しかしながら、再生信号Ｓ１と再生信号Ｓ２ とを比較すると、それぞれの中心レベルが大きく異なっており、同一のスライスレベルでの検波が不可能となってしまう。
【００５０】
この問題は、図１６に示すように、再生信号のエンベロープＥを構成する上側エンベロープＥ１ および下側エンベロープＥ２ を検出し、その中心レベルを可変のスライスレベルＬv とすることにより解決することが可能である。図１７は、そのスライスレベルＬv を用いてデジタル信号を得るための再生回路の構成を示している。
【００５１】
この再生回路は、エンベロープ検波回路５１と、スライスレベル生成回路５２と、コンパレータ５３とを備えている。
【００５２】
エンベロープ検出手段としてのエンベロープ検波回路５１は、例えば、ピークホールド回路とボトムホールド回路とを有しており、ピークホールド回路を用いて上側エンベロープＥ１を検出し、ボトムホールド回路を用いて下側エンベロープＥ２ を検出する。
【００５３】
中心レベル生成手段としてのスライスレベル生成回路５２は、検出された上側エンベロープＥ１ および下側エンベロープＥ２ の値の平均を出力してスライスレベルＬv を生成する回路である。スライスレベル生成回路５２は、例えば、両エンベロープＥ１、Ｅ２ の値を加算する加算回路と、その加算値を２で除算する除算回路とを含んだ演算回路によって構成されている。
【００５４】
デジタル変換手段としてのコンパレータ５３は、再生信号をスライスレベル生成回路５２で生成されたスライスレベルＬv と比較して、２値のデジタル信号に変換する回路である。例えば、コンパレータ３は、再生信号がスライスレベルＬv を超えるとレベル“１”を出力し、再生信号がスライスレベルＬv 未満であるとレベル“０”を出力する。
【００５５】
上記のように構成される再生回路において、再生信号は、エンベロープ検波回路５１およびコンパレータ５３に入力される。エンベロープ検波回路５１では、再生信号の上側エンベロープ信号Ｅ１と下側エンベロープＥ２ とが検出される。スライスレベル生成回路５２では、両エンベロープＥ１ 、Ｅ２ からスライスレベルＬv が生成される。そして、コンパレータ５３では、再生信号とスライスレベルＬv とを比較することにより、デジタル信号の生成が行われる。
【００５６】
また、図１８は、図１９に示す再生回路によって、再生信号からデジタル信号を得る方法についての、再生信号強度と光ディスク１の角度位置との関係を示している。図１９に示す再生回路は、ハイパスフィルター６１と、スライスレベル生成回路６２と、コンパレータ６３とを備えている。
【００５７】
低周波変動除去手段としてのハイパスフィルター６１は、再生信号の低周波変動を除去して、高域成分を通過させるフィルターである。スライスレベル生成回路６２は、一定電圧のスライスレベルを生成する回路である。デジタル変換手段としてのコンパレータ６３は、ハイパスフィルター６１を経た再生信号を上記のスライスレベルと前述のコンパレータ５３と同様に比較して、２値のデジタル信号に変換する回路である。
【００５８】
上記のように構成される再生回路において、まず、入力された再生信号は、ハイパスフィルター６１で低周波変動が除去される。ハイパスフィルター６１に入力される前の再生信号は、低周波変動を含んでいるために、図１６に示すようにエンベロープＥの中心レベルが変化する。しかしながら、この再生信号は、ハイパスフィルター６１を通過することによって、図１８に示すように、エンベロープＥの中心レベルが角度によらずほぼ一定になる。
【００５９】
そして、コンパレータ６３では、ハイパスフィルター６１を経た再生信号が、スライスレベル生成回路６２から出力される一定値のスライスレベルＬc と比較されることにより、デジタル信号が生成される。
【００６０】
なお、上記の再生回路、スライスレベル生成回路６２によりスライスレベルＬc を生成しているが、通常、再生信号がハイパスフィルター６１を通過することにより、上側エンベロープＥ１と下側エンベロープＥ２ との中心レベルが０Ｖとなるので、０ＶをスライスレベルＬc として用いてもよい。したがって、この場合は、スライスレベル生成回路６２を省くことができる。
【００６１】
以上のように、プリピット領域６を第２記録層１３に設けることにより、記録可能領域３の記録再生感度を変えることなく、第２記録層１３への記録再生を行うことができる光ディスク１を実現することが可能となる。また、図１７または図１９に示す再生回路を用いることにより、光ビーム１７ｅが、記録完了部３ａ１と未記録部３ａ２ とをまたいで第２記録層１３の外周プリピット領域６ｂに集束されたときに、プリピット情報の再生信号強度が、光ディスク１の回転に伴い変動しても、再生信号から安定してデジタル信号を得ることができる。
【００６２】
しかしながら、前述のように、未記録部３ａ２ の透過率が記録完了部３ａ１ の透過率に比べて低いので、第１記録層１５の未記録部３ａ２ を通過する光ビーム１７ｄにより、外周プリピット領域６ｂを含むプリピット領域６の再生を行うとき、図１６および図１８からわかるように、再生信号の信号振幅が小さくなり、プリピット情報を安定して再生できなくなる。すなわち、光ビーム１７ｅが通過する部分の第１記録層１５は、透過率の高い記録完了状態であることが望ましいことになる。
【００６３】
図２０は、第２記録層１３に形成されたプリピット領域６（外周プリピット領域６ｂのみ図示）の再生信号振幅を大きくすることができる光ディスク１の構造を示す。
【００６４】
この光ディスク１では、第１記録層１５のプリピット領域６に対応する第１記録層１５の領域に、予め擬似的な情報が記録された擬似記録領域７が、記録可能領域３ａとブランク領域５ａとの間に設けられている。この擬似記録領域７は、図２１に示すように、記録可能領域３と同様、案内溝Ｇに記録マークＭが形成されることによって、記録マークＭの形成部分における透過率が低下する。これにより、擬似記録領域７の透過率が記録可能領域３と同様に高くなるので、擬似記録領域７を通過する光ビーム１７の強度が高くなる。その結果、第２記録層１３に形成されたプリピット領域６の再生信号振幅を大きくすることができる。
【００６５】
なお、上記の擬似記録領域７に形成される記録マークＭは、記録可能領域３に形成される記録マークＭと異なり、主記録情報を含まず、擬似的な記録情報を含んでいる。擬似的な記録情報としては、特定の情報を記録する必要はなく、全く内容のない情報や無意味な情報を記録してもよい。あるいは、光ディスク１の出荷前に予め擬似記録領域７を形成する場合には、擬似記録領域７に個々の光ディスク１の識別情報や暗号化情報を記録しておくことも可能である。
【００６６】
ここで、図２０に示すように、擬似記録領域７は、第２記録層１３のプリピット領域６ｂにおけるディスク半径方向の両端で再生を行う場合でも、常に、光ビーム１７ｆ、１７ｇが第１記録層１５の擬似記録領域７を通過するように、擬似記録領域７が形成されていることが望ましい。このため、擬似記録領域７は、第２記録層１３の外周プリピット領域６ｂより広い範囲で形成されている。
【００６７】
例えば、第１記録層１５と第２記録層１３との間隔が２０μｍである場合、第２記録層１３に光ビーム１７を集束させた場合の第１記録層１５における光ビームスポットの半径は、１０μｍ程度である。したがって、少なくとも、第２記録層１３のプリピット領域６の両端より、１０μｍ程度広く擬似記録領域７を形成することが必要である。また、第１記録層１５に形成された案内溝Ｇの中心位置と、第２記録層１３に形成されたピット列の中心位置とがずれて偏心が存在する場合、その偏心量に対応する広さだけ擬似記録領域７を広くする必要がある。これを考慮すれば、第２記録層１３のプリピット領域６の両端より、１００μｍ程度広く擬似記録領域７を形成することが望ましい。
【００６８】
なお、図２０では、外周プリピット領域６ｂについて擬似記録領域７が設けられた例について示したが、内周プリピット領域６ａについても同様な擬似記録領域が設けられることは勿論である。
【００６９】
ここで、上記の擬似記録領域７は、光ディスク１の出荷前に予め形成されてもよいし、未使用の光ディスク１を光ディスク記録再生装置３１に再生または記録可能となるようにセットした際に、光ディスク記録再生装置３１により形成されてもよい。光ディスク記録再生装置により上記擬似記録領域７を設けることにより、光ディスク出荷前に上記擬似記録領域７を設ける必要がなくなり、光ディスクの低コスト化を実現することが可能となる。
【００７０】
図２２は、光ディスク記録再生装置３１により擬似記録領域７を形成するための擬似記録回路の構成を示している。この構成では、前述の信号処理・制御部３５に設けられる擬似記録状態判別回路７１を備えている。
【００７１】
記録状態判別手段としての擬似記録状態判別回路７１は、擬似記録領域７からの反射光を受けた受光素子４７から得られた、擬似記録領域７からの再生信号に基づいて、擬似記録領域７にすでに擬似的な記録情報が記録されているか否かを判別する回路である。この擬似記録状態判別回路７１は、擬似記録領域７からの反射光量に応じた再生信号が所定のしきい値を超えたか否かによって、擬似記録領域７への記録の有無を判別するために、コンパレータなどの回路を含んでいる。
【００７２】
上記の構成では、光ディスク１が光ディスク記録再生装置３１にセットされた直後、擬似記録領域７の再生が行われる。擬似記録状態判別回路７１は、その再生信号に基づいて、擬似記録領域７が記録完了状態であるか記録未完了状態であるかを判別する。
【００７３】
擬似記録領域７が記録未完了状態であれば、擬似記録状態判別回路７１は、その光ディスク１が未使用であると判断し、擬似記録指示信号を信号処理・制御部３５に設けられる擬似的記録手段としての光照射部制御回路３６に与える。この結果、光照射部制御回路３６の制御によって、第１記録層１５の擬似記録領域７に擬似的な情報が記録される。一方、擬似記録領域７が記録完了状態であれば、擬似記録状態判別回路７１は、セットされた光ディスク１が既使用であると判断し、通常記録指示信号を光照射部制御回路３６に与える。この結果、光照射部制
御回路３６の制御によって、光ディスク１に対して通常の記録動作が行われる。
【００７４】
続いて、第１記録層１５にプリピット領域６を有する光ディスク１について説明する。まず、比較例として、第２記録層１５の記録再生感度が考慮されていない光ディスク８１について説明する。
【００７５】
この光ディスク８１では、図２３に示すように、第１記録層１５のブランク領域５ａと、第２記録層１３のブランク領域５ｂとが同じ範囲に形成されており、第１記録層１５において、記録可能領域３ａとブランク領域５ａとの間に外周プリピット領域６ｂが設けられている。また、図示はしないが、内周プリピット領域６ａも第１記録層１５に設けられている。
【００７６】
このような構造の光ディスク８１では、プリピット領域６が光入射側に存在するため、プリピット領域６からの再生信号は、常に同一強度となり、図１２に示した状態のように、プリピット領域６からの再生信号強度が変動するといった問題は生じない。しかしながら、第１記録層１５にプリピット領域６を設けた場合、従来の光ディスク（図３６参照）と同様の問題が生じる。つまり、第１記録層１１１の記録可能領域１０３とプリピット領域１０６とで光透過率が異なるため、第２記録層１１２の記録再生感度が変動してしまう。以下に、上記の光ディスク８１における記録感度の変動について詳細に説明する。
【００７７】
光ディスク８１においては、まず、第１記録層１５の記録可能領域３ａが光ディスク記録再生装置３１による記録動作によって、全面記録完了状態となる。ここで、記録完了状態なった記録可能領域３ａが、透過率の高い記録マークＭを有するため、その記録可能領域３ａを透過して第２記録層１３に集束される光ビーム１７ｈは相対的に高強度である。一方、記録マークＭの存在しないプリピット領域６を透過して第２記録層１３へと集束される光ビーム１７ｉは、相対的に低強度である。
【００７８】
次に、第２記録層１３の記録可能領域３ｂに記録を行う際、一定強度であっても、光ビーム１７ｈと光ビーム１７ｉとでは、第２記録層１３へ到達する強度が異なる。このため、記録を行う位置により記録感度が異なり、安定した記録を行うことが極めて困難となる。さらに、光ビームが、記録完了状態なった記録可能領域３ａとプリピット領域６との境界を透過して第２記録層１３へと集束される場合、第１記録層１５の案内溝Ｇの中心と第２記録層１３の案内溝Ｇの中心との位置ずれである偏心が存在することにより、光ディスク８１の回転に伴い記録感度が変化するといった問題も発生する。
【００７９】
これに対し、図２４に示す光ディスク１では、ブランク領域５ｂの範囲を拡張して上記のような問題を解決している。次に、その光ディスク１について説明する。
【００８０】
図２４に示す光ディスク１では、第２記録層１３のブランク領域５ｂの範囲が内周側に広げられているので、光ディスク１に入射した光ビーム１７ｊが、常に第１記録層１５の記録完了状態となった記録可能領域３ａを通過して、第２記録層１３に集束される。このように、上記の光ディスク１では、第１記録層１５の記録可能領域３ａが第２記録層１３の記録可能領域３ｂよりも広く形成され、記録可能領域３ａの外周側にプリピット領域６が形成されている。これにより、第２記録層１３に到達する光ビーム１７ｊの強度が常に一定になるので、第２記録層１３への安定した記録を実現することが可能となるとともに、第１記録層１５から、プリピット情報を安定して再生することが可能になる。
【００８１】
ここで、第１記録層１５の記録可能領域３ａを第２記録層１３の記録可能領域３ｂよりも、どの程度広くすべきかについて説明する。第１記録層１５と第２記録層１３との間隔が２０μｍである場合、第２記録層１３に光ビーム１７ｊを集束させた場合の第１記録層１５における光ビームスポットの半径は、１０μｍ程度である。したがって、少なくとも、記録可能領域３ａの端より、１０μｍ程度広く記録可能領域３ｂを形成することが必要である。さらに、第１記録層１５に形成された案内溝Ｇの中心位置と、第２記録層１３に形成された案内溝Ｇの中心位置とがずれて偏心が存在する場合、その偏心量に対応する広さだけ記録可能領域３ａを広くする必要がある。つまり、この場合、記録可能領域３ｂの端より、１００μｍ程度広く記録可能領域３ａを形成することが望ましい。
【００８２】
上記の光ディスク１においては、第２記録層１３の記録可能領域３ｂが狭くなるので、記録容量が低下してしまう。これに対し、図２５および図２６に示す光ディスク１は、プリピット領域６による記録感度の低下を回避しつつ、記録容量が向上する構造を有している。
【００８３】
この光ディスク１は、図２５に示すように、前述のプリピット領域６の代わりに内周プリピット領域８ａおよび外周プリピット領域８ｂからなるプリピット領域８を備えている。このプリピット領域８の光透過率は、図２６に示す第１記録層１５の記録完了状態となった記録可能領域３ａの光透過率と一致する。
【００８４】
図２７に示すように、プリピット領域８においては、スパイラル状（同心円状であってよい）に並ぶピットＰからなるピット列上に、一本おきに連続記録状態とされた連続記録領域Ｒが形成されている。この連続記録領域Ｒでは、ピットＰとピットＰ間の領域とが連続的に記録可能領域３ａの記録マークＭと同じ状態、すなわち同じ透過率となる。
【００８５】
記録が行われた記録可能領域３ａでは、案内溝Ｇにおいて、記録完了部分（記録マークＭ）と記録未完了部分とが交互に形成されている。実際には、その記録完了部分および記録未完了部分の案内溝Ｇの長手方向の長さは記録情報に応じて変わる。しかしながら、案内溝Ｇにおいては、記録完了部分と記録未完了部分とがほぼ等しい比率で形成されるように記録が行われる。また、隣り合う案内溝Ｇの間の凸状の領域（ランド領域）は、非記録領域であり、案内溝Ｇとほぼ同じ幅に形成されている。したがって、記録マークＭが形成された部分の総面積は、記録可能領域３ａの全面積の１／４となる。
【００８６】
一方、プリピット領域８では、隣り合うピット列の間の非記録領域は、ピットＰの直径とほぼ等しい幅に形成されている。したがって、記録可能領域３ａの記録完了部分とほぼ等しい面積の記録完了部分（プリピット領域８全体の１／４）を形成するには、ピット列の１本おきに連続記録領域Ｒを形成するように記録を行えばよい。
【００８７】
また、上記の案内溝記録方式の他に、案内溝Ｇだけではなく、ランド領域にも記録マークＭを形成するランドグルーブ記録方式を採用する場合には、記録可能領域３ａに形成される記録マークＭの総面積が、記録可能領域３ａの全面積の１／２となる。したがって、記録可能領域３ａの記録完了部分（プリピット領域８全体の１／２）とほぼ等しい面積の記録完了部分を形成するには、ピット列に連続して連続記録領域Ｒを形成するように記録を行えばよい。
【００８８】
連続記録領域Ｒでは、上記のように記録マークＭと同様に光透過率が高くなっている。このため、図２８に示すように、記録完了状態となった記録可能領域３ａを通過して第２記録層１３へと集束される光ビーム１７ｋと、外周プリピット領域８ｂを通過して第２記録層１３へと集束される光ビーム１７ｌとは、第１記録層１５を通過する際に、それぞれの光ビームスポット内に存在する記録完了状態となった部分の面積がほぼ等しくなる。これにより、第２記録層１３に到達する光ビーム１７ｋ、１７ｌの強度がほぼ等しくなるので、プリピット領域８が存在しても第２記録層１３の記録感度が変動しなくなる。したがって、図２４の光ディスク１と比較して、第２記録層１３の記録可能領域３ｂを広げることによって、記録容量を増大させることが可能となる。
【００８９】
ここで、ブランク領域５ａ、５ｂは、未記録状態であり、光透過率が低いため、図２６に示すように、第２記録層１３の記録可能領域３ｂの端は、第２記録層１３に到達する光ビーム１７ｌが、常に外周プリピット領域８ｂを通過するように決定される必要がある。
【００９０】
このように、上記の光ディスク１では、第１記録層１５のプリピット領域８において、１本おきのピット列上に連続記録領域Ｒが形成され、外周プリピット領域８ｂの外周側端が第２記録層１３の記録可能領域３ｂの外周側端よりも外周側に位置している。内周プリピット領域８ａの場合、その内周側端が第２記録層１３の記録可能領域３ｂの内周側端よりも内周側に位置している。これにより、第２記録層１３に到達する光ビーム１７ｋ、１７ｌの強度が常に一定となる。したがって、第２記録層１３への安定した記録を実現することが可能となるとともに、より大容量の光ディスク１を実現することが可能となる。
【００９１】
ここで、外周プリピット領域８ｂの端を記録可能領域３ｂの端よりも、どの程度外周側に位置させるべきかについて説明する。第１記録層１５と第２記録層１３との間隔が２０μｍである場合、第２記録層１３に光ビームを集束させる場合の第１記録層１５における光ビームスポットの半径は、およそ１０μｍ程度である。したがって、少なくとも、その端が、記録可能領域３ｂの端より１０μｍ程度外周側に位置するように外周プリピット領域８ｂを形成することが必要である。同様に、内周プリピット領域８ａについては、その端が、少なくとも記録可能領域３ｂの端より１０μｍ程度内周側に位置するように形成することが必要である。
【００９２】
さらに、第１記録層１５に形成された案内溝Ｇの中心位置と、第２記録層１３に形成された案内溝Ｇの中心位置がずれて偏心が存在する場合、その偏心量に対応する広さだけ外周プリピット領域８ｂを広くする必要がある。この場合、その端が記録可能領域３ｂの端より１００μｍ程度外周側に位置するように、外周プリピット領域８ｂを形成することが望ましい。内周プリピット領域８ａについても同様に形成することが望ましい。
【００９３】
ここで、プリピット領域８のピット列に連続記録領域Ｒを形成することを、光ディスク１の出荷前に行ってもよいし、未使用の光ディスク１を光ディスク記録再生装置３１にセットした際に、光ディスク記録再生装置３１により行ってもよい。光ディスク記録再生装置３１により連続記録領域Ｒを形成することにより、光ディスク１の出荷前に連続記録領域Ｒを形成する必要がなくなり、光ディスク１の低コスト化を実現することが可能となる。
【００９４】
図２９は、光ディスク記録再生装置３１によりプリピット領域８のピット列に上記のようにして連続記録領域Ｒを形成するための構成を示す。この構成においては、前述の信号処理・制御部３５に設けられる連続記録領域有無判定回路９１を備えている。
【００９５】
連続記録領域判定手段としての連続記録領域有無判定回路９１は、プリピット領域８からの反射光を受けた受光素子４７から得られた、プリピット領域８からの再生信号に基づいて、プリピット領域８に連続記録領域Ｒが上記のように形成されているか否かを判定する回路である。この連続記録領域有無判定回路９１は、プリピット領域８からの反射光量に応じた再生信号が所定のしきい値を超えたか否かによって、擬似記録領域７への記録の有無を判別するために、コンパレータなどの回路を含んでいる。
【００９６】
上記の構成では、連続記録領域Ｒの有無を判定する際、まず、光ディスク１が光ディスク記録再生装置３１にセットされた直後、プリピット領域８の再生が行われる。このとき、信号処理・制御部３５に設けられる光照射部制御回路３６の制御によってプリピット領域８に光ビームが照射され、トラッキングが行われる。このとき、ピット列が案内溝Ｇと同等のトラッキングガイドとしての役割を果たす。
【００９７】
連続記録領域Ｒがすでに形成されている場合、プリピット領域８からの反射光量がピット列の１本おきに変化するので、反射光量が反映された再生信号も同様に変化する。連続記録領域有無判定回路９１では、上記のように変化する再生信号が、ローパスフィルターによって一定レベルの信号に変えられ、さらにコンパレータで所定の基準値と比較される。この場合、その信号が基準値より大きいので、連続記録領域有無判定回路９１は、セットされた光ディスク１が既使用のディスクであると判断し、光照射部制御回路３６に通常記録指示信号を与える。この結果、光照射部制御回路３６の制御によって、光ディスク１に対して通常の記録動作が行われる。
【００９８】
一方、連続記録領域Ｒが形成されていない場合、プリピット領域８からの反射光量が変化しないので、再生信号も同様に変化しない。このため、ローパスフィルターからの信号が基準値より小さいので、連続記録領域有無判定回路９１は、セットされた光ディスク１が未使用のディスクであると判断し、連続的記録手段としての光照射部制御回路３６に連続記録指示信号を与える。この結果、光照射部制御回路３６の制御によって、光ディスク１に対して、プリピット領域８に連続記録領域Ｒが形成されるように記録動作が行われる。
【００９９】
ここまでは、情報記録層が２層のみ存在する光ディスク１について説明したが、３層以上の複数の情報記録層を用いることも可能である。以下に、３層の情報記録層を有する光ディスク１について説明する。
【０１００】
この光ディスク１は、図３０に示すように、第１記録層１５および第２記録層１３に加えて、光入射面から最も遠い所に位置する最終情報記録層としての第３記録層１８を有している。プリピット領域６は、第１記録層１５および第２記録層１３ではなく、第３記録層１８にのみ設けられており、記録可能領域３ｃとブランク領域５ｃとの間に形成されている。
【０１０１】
この光ディスク１では、図１に示す光ディスク１と同様に、第３記録層１８の設プリピット領域６を再生する際、光ビーム１７ｍ、１７ｎが通過する第１記録層１５および第２記録層１３が記録完了状態であるか、または記録未完了状態であるかにより、プリピット領域６からの反射光量が異なる。ところが、図１７に示す再生回路を用いることによって、再生信号のエンベロープからスライスレベルを生成し、このスライスレベルを基準としてデジタル信号を得ることで、プリピット情報を安定して再生することが可能である。また、図１９に示す再生回路を用いることによって、ハイパスフィルターでプリピット領域６からの再生信号の低周波成分を除去した再生信号を一定スライスレベルと比較してデジタル信号を得ることで、プリピット情報を安定して再生することが可能である。
【０１０２】
ここで、光ディスク１に対して記録を行う際、第１記録層１５の記録が完了してから、第２記録層１３の記録を開始し、第２記録層１３の記録が完了してから、第３記録層１８に記録を開始する。また、第２記録層１３に光ビームを集束させるときに、光ビームを常に第１記録層１５の記録完了領域３ａを通過させ、一定強度の光ビームを第２記録層１３に到達させる必要がある。このため、記録可能領域３ａが内外周の両側で記録可能領域３ｂよりも広く形成されている。
【０１０３】
次に、図３１に示す光ディスク１は、第３記録層１８にプリピット領域６を有し、第１記録層１５と第２記録層１３とに、それぞれ擬似的な情報が記録された擬似記録領域７ａ、７ｂを有している。この光ディスク１では、第３記録層１８のプリピット領域６に集束される光ビーム１７ｍ、１７ｌが、常に、擬似記録領域７ａ、７ｂを通過してプリピット領域６に到達できるような位置に、擬似記録領域７ａ、７ｂが形成されている。
【０１０４】
このような光ディスク１を用いれば、図２０に示す光ディスク１と同様に、擬似記録領域７ａ、７ｂの光透過率が高いことにより、擬似記録領域７ａ、７ｂを通過する光ビーム７ｍ、１７ｌの強度が高く維持される。それゆえ、第３記録層１８におけるプリピット領域６の再生信号振幅を大きくすることが可能となるとともに、再生信号の周方向に沿った変動をなくすことができる。
【０１０５】
なお、この光ディスク１も、出荷前擬似記録領域７ａ、７ｂを形成してもよいし、光ディスク記録再生装置３１によって、前述のように擬似記録領域７ａ、７ｂを形成してもよい。
【０１０６】
さらに、図３２に示す光ディスク１は、光入射面側の第１記録層１５にのみプリピット領域６を有している。この光ディスク１では、プリピット領域６が光入射面側に存在するため、プリピット領域６からの反射光量の変動がなく、安定してプリピット情報を再生することが可能になる。
【０１０７】
また、記録感度の変動をなくすため、図２４の場合と同様に、第２記録層１３の記録可能領域１３の記録または再生を行う際、常に、光ビーム１７ｏが第１記録層１５の記録完了状態とされた記録可能領域３ａを通過して第２記録層１３に到達するとともに、第３記録層１８の記録または再生を行う際、常に、光ビーム１７ｐが第１記録層１５および第２記録層１３の記録完了状態とされた記録領域３ａ、３ｂを通過して第３記録層１８に到達することが必要である。このため、記録可能領域３ｂは記録可能領域３ｃよりも広く形成され、記録可能領域３ａは記録可能領域３ｂよりも広く形成される。
【０１０８】
そして、図３３に示す光ディスク１は、図３２の光ディスク１の第１記録層１５において、プリピット領域６の代わりにプリピット領域８（図示は外周プリピット領域８ｂのみ）を有している。この光ディスク１では、図２６の光ディスク１と同様、光透過率の高いプリピット領域８を有するとともに、内周プリピット領域８ａの内周側端が記録可能領域３ｂ、３ｃの内周側端よりも内周側に位置し、かつ外周プリピット領域８ｂの外周側端が記録可能領域３ｂ、３ｃの外周側端よりも外周側に位置している。
【０１０９】
これにより、第２記録層１３に到達する光ビーム１７ｒおよび第３記録層１８に到達する光ビーム１７ｓの強度が常に一定となる。したがって、第２記録層１３および第３記録層１８への安定した記録を実現することが可能となるとともに、より大容量の光ディスク１を実現することが可能となる。
【符号の説明】
【０１１０】
１                光ディスク（光記録媒体）
３，３ａ〜３ｃ    記録可能領域
７，７ａ，７ｂ    擬似記録領域
６，８            プリピット領域
１１                光ディスク基板
１２                案内溝・プリピット形成層
１３                第２記録層（最終情報記録層）
１４                案内溝・プリピット形成中間層
１５                第１記録層（光入射側記録層）
１６                表面コート層
１７                光ビーム
１７ａ〜１７ｓ      光ビーム
１８                第３記録層（最終情報記録層）
３１                光ディスク記録再生装置（光記録再生装置）
３４                光学系部（光照射手段）
３５                信号処理・制御部（制御手段）
３６                光照射部制御回路（擬似的記録手段、連続的記録手段）
５１                エンベロープ検波回路（エンベロープ検出手段）
５２                スライスレベル生成回路（中心レベル生成手段）
５３                コンパレータ（デジタル変換手段）
６１                ハイパスフィルター（低周波変動除去手段）
６２                スライスレベル生成回路
６３                コンパレータ（デジタル変換手段）
７１                擬似記録状態判別回路（記録状態判別手段）
９１                連続記録領域有無判定回路（連続記録領域判定手段）
Ｅ                エンベロープ
Ｇ                案内溝
Ｌ                スライスレベル（中心レベル）
Ｐ                ピット
Ｒ                連続記録領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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