(57)【要約】【課題】本発明は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用層間絶縁膜を形成することができ、さらに高速塗布が可能な吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に下記式（１）で表される基を含む構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、［Ｂ］オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、並びに［Ｃ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１２ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物である。2011248331.tif 000010 【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に下記式（１）で表される基を含む構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、
［Ｂ］オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、並びに
［Ｃ］有機溶媒
を含有し、
固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１２ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ
［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【化１】
2011248331.tif 000009
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ３ｍ）３で表される基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ３ｍは、アルキル基である。但し、Ｒ１とＲ３とが連結して、これらが結合している炭素原子と共に環状エーテルを形成してもよい。）
【請求項２】
［Ｃ］有機溶媒として、（Ｃ２）２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下の有機溶媒をさらに含有し、
（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上９０質量％以下である請求項１に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項３】
［Ｃ］有機溶媒として、（Ｃ２）２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下の有機溶媒をさらに含有し、
（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上５０質量％以下である請求項１に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項４】
［Ｄ］フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種の界面活性剤をさらに含有し、
［Ｄ］界面活性剤の含有量が、［Ａ］重合体１００質量部に対して０．０１質量部以上２質量部以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項５】
［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物をさらに含有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項６】
［Ｆ］酸化防止剤をさらに含有する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項７】
［Ｇ］１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項８】
（Ｃ１）有機溶媒が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒である請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項９】
（Ｃ２）有機溶媒が、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸ｎ−ブチル、メチルイソブチルケトン、３−メトキシプロピオン酸メチルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒である請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜。
【請求項１１】
（１）請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
（２）上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する表示素子用層間絶縁膜の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子の表示素子用層間絶縁膜の形成材料として好適な吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示素子には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁する目的で表示素子用層間絶縁膜が設けられている。表示素子用層間絶縁膜の形成材料としては、必要なパターン形状を得るための工程数が少なく、また得られる表示素子用層間絶縁膜に高度な平坦性が求められることからポジ型感放射線性組成物が幅広く使用されている。
【０００３】
かかるポジ型感放射線性組成物に関し、特開２００４−２６４６２３号公報には、アセタール構造及び／又はケタール構造並びにエポキシ基を含有する樹脂及び酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物が提案されている。しかし、このポジ型感放射線性樹脂組成物は放射線感度が十分ではなく、表示素子用層間絶縁膜を形成するための材料としては満足できるものではない。
【０００４】
一方、特開２００２−１３１８９６号公報には、小型基板に感放射線性組成物を塗布する方法として、スピンコート法が開示されている。このスピンコート法によると基板の中央に感放射線性組成物を滴下後、基板をスピンさせる塗布方法であって良好な塗布均一性が得られる。しかし、このスピンコート法により大型基板に塗布する場合には、スピンにより振り切られて廃棄される感放射線性組成物が多くなること、高速回転による基板の割れが発生し得ること、タクトタイムを確保する必要があること等の不都合がある。また、より大型の基板に適用する場合には、スピンに必要な加速度を得るために特注のモーターを要し、製造コスト面で不利である。
【０００５】
そこでスピンコート法に代わる塗布方法として、感放射線性組成物をノズルから吐出して基板上に塗布する吐出ノズル式塗布法が採用されるようになっている。吐出ノズル式塗布法は、塗布ノズルを一定方向に掃引して基板上に塗膜を形成する塗布方法であって、スピンコート法と比較して塗布に必要な感放射線性組成物の量が低減でき、かつ塗布時間の短縮も図れ、製造コスト面で有利である。しかしながら、従来の感放射線性組成物を用いて吐出ノズル式塗布法により塗布した場合、塗布ムラが生じる場合があり、表示素子用層間絶縁膜の特性として要求される高度な平坦性を実現することへの支障となっている。また、例えば特開２００９−９８６７３号公報には、この公報に記載の感放射線性組成物がスピンコート法以外の方法でも塗布可能である旨の記載はあるものの、好適な粘度、固形分濃度、溶剤等は具体的に開示されておらず、実施例においても吐出ノズル式塗布法等による塗布はなされていない。
【０００６】
このような状況に鑑み、高い放射線感度を有し、また、塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用層間絶縁膜を形成することができ、これに加え高速塗布が可能な吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２６４６２３号公報
【特許文献２】特開２００２−１３１８９６号公報
【特許文献３】特開２００９−９８６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、高い放射線感度を有し、また、塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用層間絶縁膜を形成することができ、さらに高速塗布が可能な吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するためになされた発明は、
［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に下記式（１）で表される基を含む構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体（以下、「［Ａ］重合体」とも称する）、
［Ｂ］オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、「［Ｂ］化合物」とも称する）、並びに
［Ｃ］有機溶媒
を含有し、
固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１２ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ
［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が、０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物である。
【化１】
2011248331.tif 000002
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ３ｍ）３で表される基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ３ｍは、アルキル基である。但し、Ｒ１とＲ３とが連結して、これらが結合している炭素原子と共に環状エーテルを形成してもよい。）
【００１０】
当該組成物は、上記［Ａ］重合体、［Ｂ］化合物及び［Ｃ］有機溶媒を含有することから、露光時において高い放射線感度を有する。また、当該組成物の固形分濃度を上記特定範囲とすることで、塗布ムラの発生を効果的に抑制でき、さらに当該組成物の粘度を上記特定範囲とすることで、膜厚均一性を維持しつつ、塗布ムラが生じても自発的に均し得る程度の粘度をバランスよく達成でき、かつ高速塗布性を実現できる。また、上記特定範囲の蒸気圧を有する［Ｃ］有機溶媒を用いることで、吐出ノズル式塗布法を採用しても、塗布ムラを防止しつつ高速塗布が可能となる。
【００１１】
当該組成物において、［Ｃ］有機溶媒として、（Ｃ２）２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下の有機溶媒をさらに含有し、（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。蒸気圧が低い（Ｃ１）有機溶媒と蒸気圧が高い（Ｃ２）有機溶媒との質量比を上記特定範囲とすることで、特にプレベーク後の塗膜中における残存溶媒量は最適化され、塗膜の流動性がバランスされたものとなり、結果として、塗布ムラ（筋ムラ、ピン跡ムラ、モヤムラ等）の発生を抑制し、膜厚均一性をより向上できる。また、残存溶媒量が最適化されることで酸発生量と酸解離性基とが高度にバランスされ放射線感度がより良好となる傾向にある。
【００１２】
当該組成物において、［Ｄ］フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種の界面活性剤（以下、「［Ｄ］界面活性剤」とも称する）をさらに含有し、［Ｄ］界面活性剤の含有量が［Ａ］重合体１００質量部に対して０．０１質量部以上２質量部以下であることが好ましい。当該組成物が、［Ｄ］界面活性剤をさらに含有することで、塗膜の表面平滑性を向上することができ、その結果、形成される表示素子用層間絶縁膜の膜厚均一性をより向上できる。さらに、［Ｄ］界面活性剤の含有量を上記特定範囲とすることで、塗膜の表面平滑性をより向上することができる。
【００１３】
当該組成物において、［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物をさらに含有することが好ましい。当該組成物が、［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物をさらに含有することで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。
【００１４】
当該組成物において、［Ｆ］酸化防止剤をさらに含有することが好ましい。当該組成物が、［Ｆ］酸化防止剤をさらに含有することで表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。
【００１５】
当該組成物において、［Ｇ］エポキシ化合物をさらに含有することが好ましい。当該組成物が、［Ｇ］エポキシ化合物をさらに含有することで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。
【００１６】
（Ｃ１）有機溶媒は、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましく、（Ｃ２）有機溶媒は、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸ｎ−ブチル、メチルイソブチルケトン、３−メトキシプロピオン酸メチルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒を上記特定化合物から選択することで塗布ムラの発生をより抑制し、膜厚均一性をより向上できる。
【００１７】
本発明には、当該組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。
【００１８】
本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
（１）当該組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
（２）上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
【００１９】
当該形成方法によると、高速での塗布が可能であると共に優れた放射線感度を有し、膜厚均一性に優れた表示素子用層間絶縁膜を形成可能な当該組成物を用い、感放射線性を利用した露光・現像・加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。さらに、こうして形成された表示素子用層間絶縁膜は、塗布ムラがなく高度な平坦性を有し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【００２０】
なお、本明細書にいう「吐出ノズル式塗布法」とは、ノズルを通じて当該組成物を被塗物に対して吐出し塗布する方法を意味し、例えば複数のノズル孔が列状に配列された吐出口を有するノズルを用いて当該組成物を塗布する方法、スリット状の吐出口を有するノズルを用いて当該組成物を塗布する方法等が挙げられ、基板上に当該組成物を塗布した後、基板をスピンさせて膜厚を調整する操作まで含めた概念である。本明細書にいう［Ａ］重合体は、一の重合体分子中に構造単位（Ｉ）を有し、かつその一の重合体分子とは異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有する場合も含む概念である。本明細書にいう「感放射線性樹脂組成物」の「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等を含む概念である。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように、本発明の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物は、高い放射線感度を有し、また、塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用層間絶縁膜を形成することができ、さらに高速塗布が可能となる。従って、当該組成物は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子用層間絶縁膜を形成するための材料として好適である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物は、［Ａ］重合体、［Ｂ］化合物及び［Ｃ］有機溶媒を含有する。また、当該組成物は好適成分として、［Ｄ］界面活性剤、［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物、［Ｆ］酸化防止剤、［Ｇ］エポキシ化合物を含有してもよい。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。
【００２３】
＜［Ａ］重合体＞
［Ａ］重合体は、同一又は異なる重合体分子中に構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを有しており、必要に応じてその他の構造単位を有していてもよい。構造単位（Ｉ）及びエポキシ基含有構造単位を有する［Ａ］重合体の態様としては特に限定されず、
（ｉ）同一の重合体分子中に構造単位（Ｉ）及びエポキシ基含有構造単位の両方を有しており、重合体中［Ａ］に１種の重合体分子が存在する場合；
（ｉｉ）一の重合体分子中に構造単位（Ｉ）を有し、それとは異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有しており重合体中［Ａ］に２種の重合体分子が存在する場合；
（ｉｉｉ）一の重合体分子中に構造単位（Ｉ）及びエポキシ基含有構造単位の両方を有し、それとは異なる重合体分子中に構造単位（Ｉ）を有し、これらとはさらに異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有しており、重合体中［Ａ］に３種の重合体分子が存在する場合；
（ｉｖ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）に規定の重合体分子に加え、重合体中［Ａ］にさらに別の１種又は２種以上の重合体分子を含む場合等が挙げられる。
【００２４】
［構造単位（Ｉ）］
構造単位（Ｉ）は、上記式（１）で表される基を含み、この基が酸の存在下で解離して極性基を生じる基（酸解離性基）として存在しているので、放射線の照射により［Ｂ］化合物から生じた酸により解離し、その結果アルカリ不溶性であった［Ａ］重合体はアルカリ可溶性となる。上記酸解離性基は、アルカリに対しては比較的安定なアセタール構造又はケタール構造を有しており、これらが酸の作用によって解離することとなる。
【００２５】
上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ３ｍ）３で表される基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ３ｍは、アルキル基である。但し、Ｒ１とＲ３とが連結して、これらが結合している炭素原子と共に環状エーテルを形成してもよい。
【００２６】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基としては、炭素数１〜３０の直鎖状及び分岐状のアルキル基が好ましい。また、このアルキル基は、アルキル鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有していてもよい。上記炭素数１〜３０の直鎖状及び分岐状のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基等の分岐状のアルキル基等が挙げられる。
【００２７】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるシクロアルキル基としては、炭素数３〜２０のシクロアルキル基が好ましい。また、この炭素数３〜２０のシクロアルキル基は、多環でもよく、環内に酸素原子を有していてもよい。上記炭素数３〜２０のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
【００２８】
上記Ｒ１及びＲ２で表されるアリール基としては、炭素数６〜１４のアリール基が好ましい。この炭素数６〜１４のアリール基は、単環でもよく、単環が連結した構造であってもよく、縮合環であってもよい。上記炭素数６〜１４のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２９】
上記Ｒ１及びＲ２で表される置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ｉ−ブチリル基等の炭素数２〜２０のアシル基等）、アシロキシ基（例えば、アセトキシ基、エチリルオキシ基、ブチリルオキシ基、ｔ−ブチリルオキシ基、ｔ−アミリルオキシ基等の炭素数２〜１０のアシロキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等の炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基）、ハロアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基等の分岐状のアルキル基等のアルキル基；パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、フルオロシクロプロピル基、フルオロシクロブチル基等のシクロアルキル基の水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置換された基等）等が挙げられる。
【００３０】
上記Ｒ３で表されるアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の例としては、例えば上記Ｒ１及びＲ２で例示した基が適用できる。上記Ｒ３で表されるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基等が挙げられる。上記Ｒ３で表される−Ｍ（Ｒ３ｍ）３としては、例えばトリメチルシラニル基、トリメチルゲルミル基等が挙げられる。上記Ｒ３で表されるアラルキル基又は−Ｍ（Ｒ３ｍ）３の置換基としては、上記Ｒ１及びＲ２で例示した置換基が適用できる。
【００３１】
Ｒ１とＲ３とが連結してこれらが結合している炭素原子と共に形成してもよい環状エーテルとしては、例えば２−オキセタニル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基、２−ジオキサニル基等が挙げられる。
【００３２】
構造単位（Ｉ）は、他の炭素原子に結合することによりアセタール構造又はケタール構造を有することとなるべき官能基を有することにより、そのアセタール構造又はケタール構造を持つことができる。
【００３３】
上記他の炭素原子に結合することによりアセタール構造を有することとなるべき官能基としては、例えば１−メトキシエトキシ基、１−エトキシエトキシ基、１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−ｎ−ブトキシエトキシ基、１−ｉ−ブトキシエトキシ基、１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシ基、１−ｔ−ブトキシエトキシ基、１−シクロペンチルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−ノルボルニルオキシエトキシ基、１−ボルニルオキシエトキシ基、１−フェニルオキシエトキシ基、１−（１−ナフチルオキシ）エトキシ基、１−ベンジルオキシエトキシ基、１−フェネチルオキシエトキシ基、（シクロヘキシル）（メトキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（エトキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（ｎ−プロポキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（ｉ−プロポキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（フェノキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（ベンジルオキシ）メトキシ基、（フェニル）（メトキシ）メトキシ基、（フェニル）（エトキシ）メトキシ基、（フェニル）（ｎ−プロポキシ）メトキシ基、（フェニル）（ｉ−プロポキシ）メトキシ基、（フェニル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシ基、（フェニル）（フェノキシ）メトキシ基、（フェニル）（ベンジルオキシ）メトキシ基、（ベンジル）（メトキシ）メトキシ基、（ベンジル）（エトキシ）メトキシ基、（ベンジル）（ｎ−プロポキシ）メトキシ基、（ベンジル）（ｉ−プロポキシ）メトキシ基、（ベンジル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシ基、（ベンジル）（フェノキシ）メトキシ基、（ベンジル）（ベンジルオキシ）メトキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基、１−トリメチルシラニルオキシエトキシ基、１−トリメチルゲルミルオキシエトキシ基等が挙げられる。これらのうち、１−エトキシエトキシ基、１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基、１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−ｎ−ブトキシエトキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基が好ましい。
【００３４】
上記他の炭素原子に結合することにより、ケタール構造を有することとなるべき官能基としては、例えば１−メチル−１−メトキシエトキシ基、１−メチル−１−エトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−メチル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−メチル−１−ｎ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｉ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｔ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−シクロペンチルオキシエトキシ基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−メチル−１−ノルボルニルオキシエトキシ基、１−メチル−１−ボルニルオキシエトキシ基、１−メチル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−メチル−１−（１−ナフチルオキシ）エトキシ基、１−メチル−１−ベンジルオオキシエトキシ基、１−メチル−１−フェネチルオキシエトキシ基、１−エチル−１−メトキシエトキシ基、１−エチル−１−エトキシエトキシ基、１−エチル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−エチル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−エチル−１−ｎ−ブトキシエトキシ基、１−エチル−１−ｉ−ブトキシエトキシ基、１−エチル−１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシ基、１−エチル−１−ｔ−ブトキシエトキシ基、１−エチル−１−シクロペンチルオキシエトキシ基、１−エチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−エチル−１−ノルボルニルオキシエトキシ基、１−エチル−１−ボルニルオキシエトキシ基、１−エチル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−エチル−１−（１−ナフチルオキシ）エトキシ基、１−エチル−１−ベンジルオオキシエトキシ基、１−エチル−１−フェネチルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−メトキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−エトキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−フェノキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−ベンジルオキシエトキシ基、１−フェニル−１−メトキシエトキシ基、１−フェニル−１−エトキシエトキシ基、１−フェニル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−フェニル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−フェニル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−フェニル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−フェニル−１−ベンジルオキシエトキシ基、１−ベンジル−１−メトキシエトキシ基、１−ベンジル−１−エトキシエトキシ基、１−ベンジル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−ベンジル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−ベンジル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−ベンジル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−ベンジル−１−ベンジルオキシエトキシ基、２−（２−メチル−テトラヒドロフラニル）オキシ基、２−（２−メチル−テトラヒドロピラニル）オキシ基、１−メトキシ−シクロペンチルオキシ基、１−メトキシ−シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、１−メチル−１−メトキシエトキシ基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基が好ましい。
【００３５】
上記アセタール構造又はケタール構造を有する構造単位（Ｉ）としては、例えば下記式（１−１）〜（１−３）で表される構造単位等が挙げられる。
【００３６】
【化２】
2011248331.tif 000003
【００３７】
上記式（１−１）〜（１−３）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記式（１）と同義である。上記式（１−１）及び（１−３）中、Ｒ’は、水素原子又はメチル基である。
【００３８】
上記式（１−１）〜（１−３）で表される構造単位を与える単量体（以下、「アセタール構造含有単量体」とも称する）としては、例えば
（メタ）アクリル酸１−アルコキシアルキル、（メタ）アクリル酸１−（シクロアルキルオキシ）アルキル、（メタ）アクリル酸１−（ハロアルコキシ）アルキル、（メタ）アクリル酸１−（アラルキルオキシ）アルキル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロピラニル等の（メタ）アクリレート系アセタール構造含有単量体；
２，３−ジ（１−（トリアルキルシラニルオキシ）アルコキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（トリアルキルゲルミルオキシ）アルコキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−アルコキシアルコキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（シクロアルキルオキシ）アルコキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（アラルキルオキシ）アルコキシカルボニル）−５−ノルボルネン等のノルボルネン系アセタール構造含有単量体；
１−アルコキシアルコキシスチレン、１−（ハロアルコキシ）アルコキシスチレン、１−（アラルキルオキシ）アルコキシスチレン、テトラヒドロピラニルオキシスチレン等のスチレン系アセタール構造含有単量体等が挙げられる。
【００３９】
上記（メタ）アクリレート系アセタール構造含有単量体のより具体的な例としては、例えばメタクリル酸１−エトキシエチル、メタクリル酸１−メトキシエチル、メタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、メタクリル酸１−イソブトキシエチル、メタクリル酸１−ｔ−ブトキシエチル、メタクリル酸１−（２−クロルエトキシ）エチル、メタクリル酸１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル、メタクリル酸１−ｎ−プロポキシエチル、メタクリル酸１−シクロヘキシルオキシエチル、メタクリル酸１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチル、メタクリル酸１−ベンジルオキシエチル、メタクリル酸２−テトラヒドロピラニル、アクリル酸１−エトキシエチル、アクリル酸１−メトキシエチル、アクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、アクリル酸１−イソブトキシエチル、アクリル酸１−ｔ−ブトキシエチル、アクリル酸１−（２−クロルエトキシ）エチル、アクリル酸１−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル、アクリル酸１−ｎ−プロポキシエチル、アクリル酸１−シクロヘキシルオキシエチル、アクリル酸１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エチル、アクリル酸１−ベンジルオキシエチル、アクリル酸２−テトラヒドロピラニル等が挙げられる。
【００４０】
上記ノルボルネン系アセタール構造含有単量体のより具体的な例としては、例えば２，３−ジ（１−（トリメチルシラニルオキシ）エトキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（トリメチルゲルミルオキシ）エトキシ）カルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−メトキシエトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−５−ノルボルネン、２，３−ジ（１−（ベンジルオキシ）エトキシカルボニル）−５−ノルボルネン等が挙げられる。
【００４１】
上記スチレン系アセタール構造含有単量体のより具体的な例としては、例えばｐ又はｍ−１−エトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−メトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ｎ−ブトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−イソブトキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（１，１−ジメチルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−クロルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−エチルヘキシルオキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ｎ−プロポキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−シクロヘキシルオキシエトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−（２−シクロヘキシルエトキシ）エトキシスチレン、ｐ又はｍ−１−ベンジルオキシエトキシスチレン等が挙げられる。
【００４２】
構造単位（Ｉ）としては、上記記式（１−１）で表される構造単位が好ましい。アセタール構造含有単量体としては、（メタ）アクリル酸１−アルコキシアルキル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロピラニル、（メタ）アクリル酸１−アルコキシアルコキシスチレン、テトラヒドロピラニルオキシスチレンが好ましく、（メタ）アクリル酸１−アルコキシアルキルがより好ましく、メタクリル酸１−エトキシエチル、メタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル、メタクリル酸２−テトラヒドロピラニル、メタクリル酸１−ベンジルオキシエチルが特に好ましい。
【００４３】
アセタール構造含有単量体は、市販品を用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、上記式（１−１）で表される構造単位を与えるアセタール構造含有単量体は、例えば下記に示すように（メタ）アクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテルと反応させる方法等により合成できる。
【００４４】
【化３】
2011248331.tif 000004
【００４５】
上記式中、Ｒ’、Ｒ１及びＲ３は、上記式（１−１）と同義である。Ｒ２１及びＲ２２は、−ＣＨ（Ｒ２１）（Ｒ２２）として、上記式（１−１）におけるＲ２と同義である。
【００４６】
［Ａ］重合体は、構造単位（Ｉ）を１種又は２種以上を有していてもよい。［Ａ］重合体における構造単位（Ｉ）の含有量としては、［Ａ］重合体が酸によりアルカリ可溶性を示し、表示素子用層間絶縁膜の所望の耐熱性が発揮される限り特に限定されず、一の重合体分子に構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを両方含む場合、単量体仕込み比で、５質量％〜７０質量％が好ましく、１０質量％〜６０質量％がより好ましく、２０質量％〜５０質量％が特に好ましい。
【００４７】
一方、一の重合体分子に構造単位（Ｉ）を有し、かつ別の一の重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する場合、構造単位（Ｉ）を有する一の重合体分子における構造単位（Ｉ）の含有量としては、単量体仕込み比で、４０質量％〜９９質量％が好ましく、５０質量％〜９８質量％がより好ましく、５５質量％〜９５質量％が特に好ましい。
【００４８】
［エポキシ基含有構造単位］
［Ａ］重合体は、構造単位（Ｉ）と共に、エポキシ基含有構造単位を有する。エポキシ基含有構造単位は、エポキシ基含有単量体に由来する構造単位である。なお、エポキシ基とは、オキシラニル基（１，２−エポキシ構造）及びオキセタニル基（１，３−エポキシ構造）を含む概念である。［Ａ］重合体が分子中に、エポキシ基含有構造単位を有することで、当該組成物から得られる表示素子用層間絶縁膜の硬度を向上させて耐熱性をより高めることができる。
【００４９】
エポキシ基含有構造単位を与えるエポキシ基含有単量体としては、例えば
（メタ）クリル酸グリシジル、（メタ）クリル酸３，４−エポキシブチル、アクリル酸３−メチル−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸３−エチル−３，４−エポキシブチル、（メタ）クリル酸５，６−エポキシヘキシル、メタクリル酸５−メチル−５，６−エポキシヘキシル、メタクリル酸５−エチル−５，６−エポキシヘキシル、（メタ）クリル酸６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルメチル、（メタ）クリル酸３，４−エポキシシクロへキシルエチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルプロピル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルブチル、（メタ）クリル酸３，４−エポキシシクロへキシルヘキシル、アクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルメチル、アクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルエチル、アクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルプロピル、アクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルブチル、アクリル酸３，４−エポキシシクロへキシルヘキシル等のオキシラニル基含有（メタ）アクリル系化合物；
ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のビニルベンジルグリシジルエーテル類；
ｏ−ビニルフェニルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルフェニルグリシジルエーテル等のビニルフェニルグリシジルエーテル類；
３−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−メチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−フェニルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−フェニルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−メチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−フェニルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−フェニルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−エチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）オキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−エチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−エチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−エチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−エチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−エチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン等のオキセタニル基含有（メタ）アクリル系化合物等が挙げられる。
【００５０】
上記エポキシ基含有単量体のうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２−メチルグリシジル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−メチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタンが他のラジカル重合性単量体との共重合反応性及び当該組成物の現像性の観点から好ましい。
【００５１】
［Ａ］重合体は、エポキシ基含有構造単位を１種又は２種以上を有していてもよい。［Ａ］重合体におけるエポキシ基含有構造単位の含有量としては、表示素子用層間絶縁膜の所望の耐熱性が発揮される限り特に限定されず、一の重合体分子に構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを含む場合、［Ａ］重合体に含まれる構造単位（Ｉ）に対して、単量体仕込み比で１質量％〜６０質量％が好ましく、１５質量％〜５５質量％がより好ましく、２０質量％〜５０質量％が特に好ましい。
【００５２】
一方、一の重合体分子に構造単位（Ｉ）を有し、かつ別の一の重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する場合、エポキシ基含有構造単位を有する一の重合体分子に含まれるエポキシ基含有構造単位の含有量としては、単量体仕込み比で１質量％〜８０質量％が好ましく、３０質量％〜７０質量％がより好ましく、３５質量％〜６５質量％が特に好ましい。
【００５３】
［その他の構造単位］
［Ａ］重合体は構造単位（Ｉ）及びエポキシ基含有構造単位以外のその他の構造単位を含んでいてもよい。その他の構造単位を与える単量体としては、例えばカルボキシル基又はその誘導体を有する単量体、水酸基を有する単量体、その他の単量体等が挙げられる。
【００５４】
上記カルボキシル基又はその誘導体を有する単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；上記ジカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。これらのカルボキシル基又はその誘導体を有する単量体のうち、メタクリル酸が好ましい。
【００５５】
上記水酸基を有する単量体としては、例えばアクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチル等のアクリル酸ヒドロキシアルキル；メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチル、メタクリル酸５−ヒドロキシペンチル、メタクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、メタクリル酸４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチル等のメタクリル酸ヒドロキシアルキル等が挙げられる。これらの水酸基を有する単量体のうち、得られる表示素子用層間絶縁膜の耐熱性の観点から、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチル、メタクリル酸４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチルが好ましい。
【００５６】
その他の単量体としては、例えば
アクリル酸メチル、アクリル酸ｉ−プロピル等のアクリル酸アルキル；
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等のメタクリル酸アルキル；
アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、アクリル酸イソボルニル等のアクリル酸脂環式アルキル；
メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、メタクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、メタクリル酸イソボルニル等のメタクリル酸脂環式アルキル；
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステル又はアクリル酸のアラルキル；
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステル又はメタクリル酸のアラルキル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジアルキル；
メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸テトラヒドロフリル、メタクリル酸テトラヒドロピラン−２−メチル等の酸素１原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸エステル又は不飽和複素六員環メタクリル酸；
４−メタクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン、４−メタクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−イソブチル−１，３−ジオキソラン、４−メタクリロイルオキシメチル−２−シクロヘキシル−１，３−ジオキソラン、４−メタクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン、４−メタクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−イソブチル−１，３−ジオキソラン等の酸素２原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸；
４−アクリロイルオキシメチル−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシメチル−２、２−ジエチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−イソブチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシメチル−２−シクロペンチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシメチル−２−シクロヘキシル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシエチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシプロピル−２−メチル
−２−エチル−１，３−ジオキソラン、４−アクリロイルオキシブチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン等の酸素２原子を含む不飽和複素五員環アクリル酸；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、４−イソプロペニルフェノール等のビニル芳香族化合物；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のＮ位置換マレイミド；
１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン系化合物；
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等の不飽和化合物等が挙げられる。
【００５７】
これらのその他の単量体のうち、スチレン、４−イソプロペニルフェノール、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、１，３−ブタジエン、４−アクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル酸ベンジルが、上記のカルボキシル基又はその誘導体を有する単量体、水酸基を有する単量体との共重合反応性及び当該組成物の現像性の観点から好ましい。
【００５８】
［Ａ］重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）としては、好ましくは２．０×１０３〜１．０×１０５、より好ましくは５．０×１０３〜５．０×１０４である。［Ａ］重合体のＭｗを上記特定範囲とすることで、当該組成物の放射線感度及びアルカリ現像性を高めることができる。
【００５９】
［Ａ］重合体のＧＰＣによるポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）としては、好ましくは２．０×１０３〜１．０×１０５、より好ましくは５．０×１０３〜５．０×１０４である。［Ａ］重合体のＭｎを上記特定範囲とすることで、当該組成物の塗膜の硬化時の硬化反応性を向上させることができる。
【００６０】
［Ａ］重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）としては、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．６以下である。［Ａ］重合体のＭｗ／Ｍｎを３．０以下とすることで、得られる表示素子用層間絶縁膜の現像性を高めることができる。
【００６１】
なお、Ｍｗ及びＭｎは、下記の条件によるＧＰＣにより測定した。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４を結合
移動相：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
試料濃度：１．０質量％
試料注入量：１００μＬ
検出器：示差屈折計
標準物質：単分散ポリスチレン
【００６２】
＜［Ａ］重合体の合成方法＞
［Ａ］重合体は、上記各構造単位を与える単量体のラジカル共重合により合成できる。同一の重合体分子に構造単位（Ｉ）及びエポキシ基含有構造単位の両方を含む［Ａ］重合体を合成する場合は、少なくともアセタール構造含有単量体とエポキシ基含有単量体とを含む混合物を用いて共重合させればよい。一方、一の重合体分子に構造単位（Ｉ）を有し、かつそれとは異なる重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する［Ａ］重合体を合成する場合は、少なくともアセタール構造含有単量体を含む重合性溶液をラジカル重合させて構造単位（Ｉ）を有する重合体分子を得ておき、別途少なくともエポキシ基含有単量体を含む重合性溶液をラジカル重合させてエポキシ基含有構造単位を有する重合体分子を得て、最後に両者を混合して［Ａ］重合体とすればよい。
【００６３】
［Ａ］重合体の重合反応に用いられる溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類等が挙げられる。
【００６４】
アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール等が挙げられる。
【００６５】
エーテル類としては、例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００６６】
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。
【００６７】
エチレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００６８】
ジエチレングリコールアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられる。
【００６９】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【００７０】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００７１】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレンモノグリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等が挙げられる。
【００７２】
芳香族炭化水素類としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。
【００７３】
ケトン類としては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等が挙げられる。
【００７４】
他のエステル類としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル等が挙げられる。
【００７５】
これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、メトキシ酢酸ブチルが好ましく、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メトキシ酢酸ブチルがより好ましい。
【００７６】
重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できるが、例えば
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）（ＡＤＶＮ）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）等のアゾ化合物；
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；及び
過酸化水素等が挙げられる。
【００７７】
［Ａ］重合体を製造するための重合反応においては、分子量を調整するために分子量調整剤を使用することもできる。分子量調整剤としては、例えば、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類；ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。
【００７８】
＜［Ｂ］化合物＞
［Ｂ］化合物は、オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、放射線の照射によって酸を発生する化合物である。ここで、放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用できる。当該組成物が［Ｂ］化合物と酸解離性基を有する［Ａ］重合体を含むことで、ポジ型の感放射線特性を発揮できる。
【００７９】
［オキシムスルホネート化合物］
オキシムスルホネート化合物としては、例えば下記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物等が挙げられる。
【００８０】
【化４】
2011248331.tif 000005
【００８１】
上記式（２）中、ＲＢ１は、置換されていてもよい直鎖状、分岐状、環状アルキル基、又は置換されていてもよいアリール基である。
【００８２】
上記ＲＢ１で表されるアルキル基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましい。上記炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基等の有橋式脂環基を含む脂環式基等が挙げられる。なお、好ましい脂環式基としては、ビシクロアルキル基である。上記ＲＢ１で表されるアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。上記アリール基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００８３】
上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物としては、例えば下記式（３）で表されるオキシムスルホネート化合物等が挙げられる。
【００８４】
【化５】
2011248331.tif 000006
【００８５】
上記式（３）中、ＲＢ１は、上記式（２）と同義である。Ｘは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子である。ｍは、０〜３の整数である。但し、Ｘが複数の場合、複数のＸは同一であっても異なっていてもよい。
【００８６】
上記Ｘで表され得るアルキル基としては、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基が好ましい。上記Ｘで表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が好ましい。上記Ｘで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子が好ましい。ｍとしては、０又は１が好ましい。上記式（３）においては、ｍが１であり、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルトである化合物が好ましい。
【００８７】
上記（３）で表されるオキシムスルホネート化合物としては、例えば、下記式（ｉ）〜（ｖ）でそれぞれ表される化合物等が挙げられる。
【００８８】
【化６】
2011248331.tif 000007
【００８９】
なお、上記化合物（ｉ）（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、化合物（ｉｉ）（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、化合物（ｉｉｉ）（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、化合物（ｉｖ）（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル及び化合物（ｖ）（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリルは、市販品として入手できる。
【００９０】
［オニウム塩］
オニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。
【００９１】
ジフェニルヨードニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホン酸等が挙げられる。
【００９２】
トリフェニルスルホニウム塩としては、例えばトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス（２、６−ジフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００９３】
スルホニウム塩としては、例えばアルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。
【００９４】
アルキルスルホニウム塩としては、例えば４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
【００９５】
ベンジルスルホニウム塩としては、例えばベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
【００９６】
ジベンジルスルホニウム塩としては、例えばジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
【００９７】
置換ベンジルスルホニウム塩としては、例えばｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
【００９８】
ベンゾチアゾニウム塩としては、例えば３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
【００９９】
テトラヒドロチオフェニウム塩としては、例えば４，７−ジ−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−１，１，２，２−テトラフルオロ−２−（ノルボルナン−２−イル）エタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（６−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート等が挙げられる。
【０１００】
なお、［Ｂ］化合物としてスルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物等を含んでいてもよい。
【０１０１】
スルホンイミド化合物としては、例えばＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（エチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（プロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘキシルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（オクチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド等が挙げられる
【０１０２】
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
【０１０３】
ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタン等が挙げられる。
【０１０４】
スルホン化合物としては、例えばβ−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。
【０１０５】
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等が挙げられる。
【０１０６】
カルボン酸エステル化合物としては、例えばカルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステル等が挙げられる。
【０１０７】
オキシムスルホネート化合物としては、上記式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物が好ましく、上記式（３）で表されるオキシムスルホネート化合物がより好ましく、市販品として入手可能な、（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル、（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリルが特に好ましい。オニウム塩としては、テトラヒドロチオフェニウム塩、ベンジルスルホニウム塩が好ましく、４，７−ジ−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートがより好ましい。
【０１０８】
［Ｂ］化合物は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。当該組成物における［Ｂ］化合物の含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部〜１０質量部、より好ましくは１質量部〜５質量部である。［Ｂ］化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、当該組成物の放射線感度を最適化し、透明性を維持しつつ表面硬度が高い表示素子用層間絶縁膜を形成できる。
【０１０９】
＜［Ｃ］有機溶媒＞
当該組成物は、［Ｃ］有機溶媒に［Ａ］重合体、［Ｂ］化合物及び必要に応じて［Ｄ］界面活性剤等の好適成分、その他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。［Ｃ］有機溶媒としては、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含有する。また、（Ｃ２）有機溶媒として、２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下の有機溶媒を含有することが好ましい。上記特定範囲の蒸気圧を有する［Ｃ］有機溶媒を用いることで、吐出ノズル式塗布法を採用しても、塗布ムラを防止しつつ高速塗布が可能となる。なお、蒸気圧の測定は、公知の方法を使用できるが、本明細書ではトランスピレーション法（気体流通法）により測定した値をいう。
【０１１０】
［Ｃ］有機溶媒としては、各成分を均一に溶解又は分散し、各構成要素と反応しないものが好適に用いられる。［Ｃ］有機溶媒としては、例えばベンジルアルコール、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸エステル類、脂肪族カルボン酸エステル類、アミド類、ケトン類等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。
【０１１１】
（Ｃ１）有機溶媒としては、例えば
ベンジルアルコール；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸ｎ−アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類；
ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；
Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；
Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等のケトン類等が挙げられる。
【０１１２】
（Ｃ１）有機溶媒は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。（Ｃ１）有機溶媒としては、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。
【０１１３】
（Ｃ２）有機溶媒としては、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、３−メトキシプロピオン酸メチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
【０１１４】
（Ｃ２）有機溶媒は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。（Ｃ２）有機溶媒としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸ｎ−ブチル、メチルイソブチルケトン、３−メトキシプロピオン酸メチルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。
【０１１５】
（Ｃ１）有機溶媒と（Ｃ２）有機溶媒を混合して使用する場合、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル／ジエチエレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル／シクロヘキサノン、ジエチレングリコールジエチルエーテル／ジエチエレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル／シクロヘキサノン、ジエチレングリコールジエチルエーテル／３−メトキシプロピオン酸メチル、ジエチレングリコールジエチルエーテル／メチルイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル／酢酸ｎ−ブチルの組み合わせが好ましい。
【０１１６】
（Ｃ２）有機溶媒の含有量としては、（Ｃ１）有機溶媒と（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上９０質量％以下が好ましく、１０質量％以上５０質量％以下がより好ましい。蒸気圧が低い（Ｃ１）有機溶媒と蒸気圧が高い（Ｃ２）有機溶媒との質量比を上記特定範囲とすることで、特にプレベーク後の塗膜中における残存溶媒量は最適化され、塗膜の流動性がバランスされたものとなり、結果として、塗布ムラ（筋ムラ、ピン跡ムラ、モヤムラ等）の発生を抑制し、膜厚均一性をさらに向上できる。また、残存溶媒量が最適化されることで酸発生量と酸解離性基とが高度にバランスされ、放射線感度が良好となる傾向にある。
【０１１７】
当該組成物の固形分濃度は、１０質量％以上３０質量％以下である。好ましくは、２０質量％以上２５質量％以下である。当該組成物の固形分濃度を上記特定範囲とすることで、塗布ムラの発生を効果的に抑制できる。
【０１１８】
当該組成物の２５℃における粘度は、２．０ｍＰａ・ｓ以上１２ｍＰａ・ｓ以下である。好ましくは、２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下である。当該組成物の粘度を上記特定範囲とすることで、膜厚均一性を維持しつつ、塗布ムラが生じても自発的に均し得る程度の粘度をバランスよく達成でき、かつ高速塗布性を実現できる。
【０１１９】
＜［Ｄ］界面活性剤＞
当該組成物は、当該組成物の被膜形成性をより向上させるために好適成分として［Ｄ］界面活性剤をさらに含有できる。界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。当該組成物が、［Ｄ］界面活性剤を含有することで、塗膜の表面平滑性を向上でき、その結果形成される表示素子用層間絶縁膜の膜厚均一性をより向上できる。
【０１２０】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び／又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、例えば１，１，２，２−テトラフルオロｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−ペンチル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロｎ−ブチル）エーテル、パーフルオロｎ−ドデカンスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロｎ−デカン、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフルオロｎ−ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等が挙げられる。
【０１２１】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、大日本インキ化学工業製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−２５１（以上、ネオス製）等が挙げられる。
【０１２２】
シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０、ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業製）等が挙げられる。
【０１２３】
［Ｄ］界面活性剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。当該組成物における［Ｄ］界面活性剤の含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上２質量部以下であり、より好ましくは０．０５質量部以上１質量部以下である。［Ｄ］界面活性剤の含有量を上記特定範囲とすることで塗膜の表面平滑性をより向上することができる。
【０１２４】
＜［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート＞
当該組成物は、好適成分として［Ｅ］多官能（メタ）アクリレートをさらに含有できる。当該組成物が、［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物をさらに含有することで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。［Ｅ］多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１２５】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１２６】
２官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業製）、ライトアクリレート１，９−ＮＤＡ（共栄社化学製）等が挙げられる。
【０１２７】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（２−アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、トリ（２−メタクリロイルオキシエチル）フォスフェート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、直鎖アルキレン基及び脂環式構造を有し、かつ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上の水酸基を有し、かつ３個〜５個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物とを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート系化合物等が挙げられる。
【０１２８】
３官能以上の（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同ＴＯ−１４５０（以上、東亞合成製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、同ＤＰＥＡ−１２（以上、日本化薬製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業製）等が挙げられる。多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品としては、例えばニューフロンティア  Ｒ−１１５０（第一工業製薬製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬製）等が挙げられる。
【０１２９】
これらの［Ｅ］多官能（メタ）アクリレートのうち、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ω―カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品が好ましい。
【０１３０】
［Ｅ］多官能（メタ）アクリレートは単独又は２種以上を混合して使用することができる。当該組成物における［Ｅ］多官能（メタ）アクリレートの含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、好ましくは１質量部〜３０質量部、より好ましくは５質量部〜１５質量部である。［Ｅ］多官能（メタ）アクリレートの含有量を上記特定範囲とすることで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性をより向上することできる。
【０１３１】
＜［Ｆ］酸化防止剤＞
当該組成物は、好適成分として［Ｆ］酸化防止剤をさらに含有できる。当該組成物が、［Ｆ］酸化防止剤をさらに含有することで表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。本明細書における［Ｆ］酸化防止剤とは、フェノール化合物、ヒンダードフェノール構造を有する化合物、ヒンダードアミン構造を有する化合物、アルキルホスフェート構造を有する化合物及びチオエーテル構造を有する化合物をいう。
【０１３２】
フェノール化合物としては、例えば４-メトキシフェノール、４−エトキシフェノール等が挙げられる。
【０１３３】
ヒンダードフェノール構造を有する化合物としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）、３，３’，３’’，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリン）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミン）フェノール、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が挙げられる。
【０１３４】
ヒンダードフェノール構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−７０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ、同ＧＳ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ、同ＧＡ−８０（以上、住友化学製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、同１０３５、同１０７６、同１０９８、同１１３５、同１３３０、同１７２６、同１４２５ＷＬ、同１５２０Ｌ、同２４５、同２５９、同３１１４、同５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ２９５（以上、チバジャパン製）、ヨシノックスＢＨＴ、同ＢＢ、同２２４６Ｇ、同４２５、同２５０、同９３０、同ＳＳ、同ＴＴ、同９１７、同３１４（以上、エーピーアイコーポレーション製）等が挙げられる。
【０１３５】
ヒンダードアミン構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＬＡ−５２、同ＬＡ５７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６３Ｐ、同ＬＡ−６８ＬＤ、同ＬＡ−７７、同ＬＡ−８２、同ＬＡ−８７（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ９Ａ（住友化学製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ、同２０２０ＦＤＬ、同９４４ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２ＬＤ、同１４４、同７６５、同７７０ＤＦ（以上、チバジャパン製）が挙げられる。
【０１３６】
アルキルホスフェート構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−８Ｗ、同ＰＥＰ−２４Ｇ、同ＰＥＰ−３６、同ＨＰ−１０、同２１１２、同２６０、同５２２Ａ、同１１７８、同１５００、同Ｃ、同１３５Ａ、同３０１０、同ＴＰＰ（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（チバジャパン製）等が挙げられる。
【０１３７】
チオエーテル構造を有する化合物の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−４１２Ｓ、同ＡＯ−５０３（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰＬ−Ｒ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＰ−Ｄ、同ＭＢ（以上、住友化学製）、ＩＲＧＡＮＯＸＰＳ８００ＦＤ、同ＰＳ８０２ＦＤ（以上、チバジャパン製）、ＤＬＴＰ、ＤＳＴＰ、ＤＭＴＰ、ＤＴＴＰ（以上、エーピーアイコーポレーション製）等が挙げられる。
【０１３８】
これらの［Ｆ］酸化防止剤のうち、フェノール化合物、ヒンダードフェノール構造を有する化合物が好ましく、４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］がより好ましい。
【０１３９】
［Ｆ］酸化防止剤は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。当該組成物における［Ｆ］酸化防止剤の含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部〜１０質量部、より好ましくは０．２質量部〜５質量部である。［Ｆ］酸化防止剤の含有量を上記特定範囲とすることで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性をより向上することできる。
【０１４０】
＜［Ｇ］エポキシ化合物＞
当該組成物は、好適成分として［Ｇ］１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する化合物をさらに含有できる。当該組成物が、［Ｇ］エポキシ化合物をさらに含有することで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。
【０１４１】
［Ｇ］エポキシ化合物としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されないが、［Ａ］重合体は除かれる。エポキシ基としては、オキシラニル基（１，２−エポキシ構造）、オキセタニル基（１，３−エポキシ構造）、３，４−エポキシシクロヘキシル基が挙げられる。
【０１４２】
１分子中に２個以上のオキシラニル基を有する化合物としては、例えば
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンとの重縮合物）、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
ポリフェノール型エポキシ樹脂；
環状脂肪族エポキシ樹脂；
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル；
高級脂肪酸のグリシジルエステル；
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。
【０１４３】
１分子中に２個以上のオキセタニル基（１，３−エポキシ構造）を有する化合物としては、例えば１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル等が挙げられる。
【０１４４】
１分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。
【０１４５】
［Ｇ］エポキシ化合物の市販品としては、例えば
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン製）等；
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン製）等；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬製）等；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン製）等；
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以上、ジャパンエポキシレジン製）等；
環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ製）、ショーダイン５０９（昭和電工製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ製）、エピコート８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（以上、セラニーズコーティング製）等；
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００ＭＦ（共栄社化学製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂製）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル等が挙げられる。
【０１４６】
これらのうち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンの重縮合物）、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。
【０１４７】
［Ｇ］エポキシ化合物は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。当該組成物における、［Ｇ］エポキシ化合物の含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、好ましくは１質量部〜３０質量部であり、より好ましくは３質量部〜１５質量部である。［Ｇ］エポキシ化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性をより向上することできる。
【０１４８】
＜その他の任意成分＞
当該組成物は、上記［Ａ］〜［Ｇ］成分に加え、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて［Ｈ］密着助剤、［Ｉ］塩基性化合物、［Ｊ］キノンジアジド化合物等のその他の任意成分を含有してもよい。これらのその他の任意成分は、単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。
【０１４９】
［［Ｈ］密着助剤］
密着助剤は、基板となる無機物、例えばシリコーン、酸化シリコーン、窒化シリコーン等のシリコーン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との接着性を向上させるために使用できる。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましい。官能性シランカップリング剤としては、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基（好ましくはオキシラニル基）、チオール基等の反応性置換基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。
【０１５０】
官能性シランカップリング剤としては、例えばトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【０１５１】
当該組成物における［Ｈ］密着助剤の含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、０．５質量部以上２０質量部以下が好ましく、１質量部以上１０質量部以下がより好ましい。［Ｈ］密着助剤の含有量を上記特定範囲とすることで、形成される表示素子用層間絶縁膜と基板との密着性がより改善される。
【０１５２】
［［Ｉ］塩基性化合物］
［Ｉ］塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものから任意に選択して使用でき。例えば脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、４級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸４級アンモニウム塩等が挙げられる。当該組成物に［Ｉ］塩基性化合物を含有させることで、露光により［Ｂ］化合物から発生した酸の拡散長を適度に制御することができパターン現像性を良好にできる。
【０１５３】
脂肪族アミンとしては、例えばトリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン等が挙げられる。
【０１５４】
芳香族アミンとしては、例えばアニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン等が挙げられる。
【０１５５】
複素環式アミンとしては、例えばピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５，３，０］−７ウンデセン等が挙げられる。
【０１５６】
４級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
【０１５７】
カルボン酸４級アンモニウム塩としては、例えばテトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエート等が挙げられる。
【０１５８】
これらの［Ｉ］塩基性化合物のうち、複素環式アミンが好ましく、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネンがより好ましい。
【０１５９】
当該組成物における［Ｉ］塩基性化合物の含有量としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して０．００１質量部〜１質量部が好ましく、０．００５質量部〜０．２質量部がより好ましい。［Ｉ］塩基性化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、パターン現像性がより向上する。
【０１６０】
［［Ｊ］キノンジアジド化合物］
［Ｊ］キノンジアジド化合物は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物である。［Ｊ］キノンジアジド化合物として、フェノール性化合物又はアルコール性化合物（以下、「母核」とも称する）と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
【０１６１】
上記母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン、その他の母核等が挙げられる。
【０１６２】
トリヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１６３】
テトラヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１６４】
ペンタヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１６５】
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１６６】
（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとしては、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン等が挙げられる。
【０１６７】
その他の母核としては、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼン等が挙げられる。
【０１６８】
これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。
【０１６９】
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、例えば１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド等が挙げられる。これらのうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドが好ましい。
【０１７０】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物としては、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの縮合物、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの縮合物が好ましい。
【０１７１】
フェノール性化合物又は母核と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応では、フェノール性化合物又はアルコール性化合物中のＯＨ基数に対して、好ましくは３０モル％〜８５モル％、より好ましくは５０モル％〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。縮合反応は、公知の方法によって実施できる。
【０１７２】
［Ｊ］キノンジアジド化合物としては、上記例示した母核のエステル結合をアミド結合に変更した１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類、例えば２，３，４−トリアミノベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸アミド等も好適に使用される。
【０１７３】
＜吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物の調製方法＞
当該組成物は、［Ｃ］有機溶媒に［Ａ］重合体、［Ｂ］化合物、必要に応じて好適成分、その他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。例えば［Ｃ］有機溶媒中で、各成分を所定の割合で混合することにより、当該組成物を調製できる。
【０１７４】
＜表示素子用層間絶縁膜の形成方法＞
本発明には、当該組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
（１）当該組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
（２）上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
【０１７５】
当該形成方法によると、高速での塗布が可能であると共に優れた放射線感度を有し、膜厚均一性に優れた表示素子用層間絶縁膜を形成可能な当該組成物を用い、感放射線性を利用した露光・現像・加熱によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用層間絶縁膜を形成できる。さらに、こうして形成された表示素子用層間絶縁膜は、塗布ムラがなく高度な平坦性を有し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子に好適に使用できる。
【０１７６】
［工程（１）］
本工程では、当該組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、吐出ノズル式塗布法によって基板上に塗布して塗膜を形成する。好ましくは塗布面をプレベークすることによって［Ｃ］有機溶媒を除去する。
【０１７７】
基板としては、例えばガラス、石英、シリコーン、樹脂等が挙げられる。樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、環状オレフィンの開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、７０℃〜１２０℃、１分〜１０分間程度とすることができる。
【０１７８】
［工程（２）］
本工程では、上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射し露光する。露光する際には、通常所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、波長が１９０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、３６５ｎｍの紫外線を含む放射線がより好ましい。露光量としては、放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を、照度計（ＯＡＩ  ｍｏｄｅｌ３５６、ＯＡＩ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ製）により測定した値で、５００Ｊ／ｍ２〜６，０００Ｊ／ｍ２が好ましく、１，５００Ｊ／ｍ２〜１，８００Ｊ／ｍ２がより好ましい。
【０１７９】
［工程（３）］
本工程では、上記放射線が照射された塗膜を現像する。露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分（放射線の照射部分）を除去して所定のパターンを形成する。現像工程に使用される現像液としては、アルカリ性の水溶液が好ましい。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１８０】
アルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度しては、適当な現像性を得る観点から、０．１質量％以上５質量％以下が好ましい。現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等が挙げられる。現像時間としては、当該組成物の組成によって異なるが、１０秒〜１８０秒間程度である。このような現像処理に続いて、例えば流水洗浄を３０秒〜９０秒間行った後、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンを形成できる。
【０１８１】
［工程（４）］
本工程では、上記現像された塗膜を加熱する。加熱には、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することで、［Ａ］重合体の硬化反応を促進して、硬化物を得ることができる。加熱温度としては、例えば１２０℃〜２５０℃程度である。加熱時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレートでは５分〜３０分間程度、オーブンでは３０分〜９０分間程度である。また、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする表示素子用層間絶縁膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成できる。
【０１８２】
形成された表示素子用層間絶縁膜の膜厚としては、好ましくは０．１μｍ〜８μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜６μｍ、特に好ましくは０．１μｍ〜４μｍである。
【実施例】
【０１８３】
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
【０１８４】
＜［Ａ］重合体の合成＞
［合成例１］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてＡＤＶＮ７質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸１−エトキシエチル４０質量部、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル４０質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸５質量部、スチレン５質量部及びメタクリル酸２−ヒドロキシエチル１０質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し重合体（Ａ−１）を含む重合体溶液を得た。重合体（Ａ−１）のＭｗは９，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３２．１質量％であった。
【０１８５】
［合成例２］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてＡＤＶＮ７質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、
構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル４０質量部、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル４０質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸５質量部、スチレン５質量部及びメタクリル酸２−ヒドロキシエチル１０質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し重合体（Ａ−２）を含む重合体溶液を得た。重合体（Ａ−２）のＭｗは９，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３１．３質量％であった。
【０１８６】
［合成例３］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）８質量部及び溶媒としてメチルイソブチルケトン３００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル４０質量部、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン４０質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸５質量部及びメタクリル酸２−ヒドロキシエチル１５質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体溶液を得た。次いで、得られた重合体溶液を、過剰のヘプタン中に注いで、重合体を再沈殿させた。デカンテーションにより上澄みのヘプタンを取り除いた。その後、ろ過し、得られた重合体を２４時間真空乾燥させ重合体（Ａ−３）を得た。重合体（Ａ−３）のＭｗは８，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、２９．８質量％であった。
【０１８７】
［合成例４］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてＡＤＶＮ７質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、
構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル３５質量部、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル３０質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸ベンジル３５質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体（Ａ−４）を含む重合体溶液を得た。重合体（Ａ−４）のＭｗは１０，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３２．３質量％であった。
【０１８８】
［合成例５］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）７質量部及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸１−ｎ−ブトキシエチル６７質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸１０質量部及びメタクリル酸ベンジル２３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体（ａ−１）を含む重合体溶液を得た。重合体（ａ−１）のＭｗは９，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３０．３質量％であった。
【０１８９】
［合成例６］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）７質量部及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸１−ベンジルオキシエチル９０質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸２−ヒドロキシエチル６質量部及びメタクリル酸４質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体（ａ−２）を含む重合体溶液を得た。重合体（ａ−２）Ｍｗは９，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３１．２質量％であった。
【０１９０】
［合成例７］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）７質量部及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位（Ｉ）を与えるメタクリル酸２−テトラヒドロピラニル８５質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸２−ヒドロキシエチル７質量部及びメタクリル酸８質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体（ａ−３）を含む重合体溶液を得た。重合体（ａ−３）のＭｗは１０，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、２９．２質量％であった。
【０１９１】
［合成例８］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてＡＤＶＮ７質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル５２質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸ベンジル４８質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体（ａ−４）を含む重合体溶液を得た。重合体（ａ−４）のＭｗは１０，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３２．３質量％であった。
【０１９２】
［合成例９］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてＡＤＶＮ７質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続き、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル４５質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸ベンジル４５質量部及びメタクリル酸１０質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持し重合体（ａ−５）を含む重合体溶液を得た。重合体（ａ−５）のＭｗは１０，０００であった。重合体溶液の固形分濃度は、３３．２質量％であった。
【０１９３】
＜吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物の調製＞
以下、実施例及び比較例の感放射線性組成物の調製に用いた成分を詳述する。
【０１９４】
＜［Ｂ］化合物＞
Ｂ−１〜Ｂ−５はオキシムスルホネート化合物である。Ｂ−６及びＢ−７は、オニウム塩（Ｂ−６はテトラヒドロチオフェニウム塩、Ｂ−７はスルホニウム塩）である。
【０１９５】
Ｂ−１：上記化合物（ｉ）で表わされる（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバスペシャリティーケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＰＡＧ  １０３）
Ｂ−２：上記化合物（ｉｉ）で表わされる（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバスペシャリティーケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＰＡＧ  １０８）
Ｂ−３：上記化合物（ｉｖ）で表わされる（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバスペシャリティーケミカルズ製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＰＡＧ  １２１）
Ｂ−４：上記化合物（ｉｉｉ）で表わされる（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル（チバスペシャルティーケミカルズ製、ＣＧＩ  １３８０）
Ｂ−５：上記化合物（ｖ）で表わされる（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリル（チバスペシャリティーケミカルズ製、ＣＧＩ  ７２５）
Ｂ−６：４，７−ジ−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート
Ｂ−７：ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート
【０１９６】
＜［Ｃ］有機溶媒＞
（Ｃ１）有機溶媒（２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満）
Ｃ−１−１：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（２０℃、０．７５ｍｍＨｇ）
Ｃ−１−２：ジプロピレングリコールジメチルエーテル（２０℃、０．３８ｍｍＨｇ）
【０１９７】
（Ｃ２）有機溶媒（２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下）
Ｃ−２−１：ジエチエレングリコールジメチルエーテル（２０℃、１．３ｍｍＨｇ）
Ｃ−２−２：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（２０℃、３．７５ｍｍＨｇ）
Ｃ−２−３：シクロヘキサノン（２０℃、３．４ｍｍＨｇ）
【０１９８】
比較例に使用した溶媒
１，４−ジオキサン（２０℃、２９ｍｍＨｇ）
エチレングリコール（２０℃、０．０８ｍｍＨｇ）
【０１９９】
＜［Ｄ］界面活性剤＞
Ｄ−１：シリコーン系界面活性剤（東レ・ダウコーニング・シリコーン製、ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ）
Ｄ−２：フッ素系界面活性剤（ネオス製、フタージェントＦＴＸ−２１８）
【０２００】
＜［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物＞
Ｅ−１：エチレングリコールジメタクリレート
Ｅ−２：トリメチロールプロパントリメタクリレート
Ｅ−３：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
【０２０１】
＜［Ｆ］酸化防止剤＞
Ｆ−１：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール
Ｆ−２：４-メトキシフェノール
【０２０２】
＜［Ｇ］エポキシ化合物＞
Ｇ−１：２ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（４，４’−イソプロピリデンジフェノールと１−クロロ−２，３−エポキシプロパンとの重縮合物）
Ｇ−２：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
【０２０３】
＜［Ｈ］密着助剤＞
Ｈ−１：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
Ｈ−２：β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
Ｈ−３：γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
【０２０４】
＜［Ｉ］塩基性化合物＞
Ｉ−１：４−ジメチルアミノピリジン
Ｉ−２：１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン
【０２０５】
［実施例１］
重合体（Ａ−１）を含む溶液（重合体（Ａ−１）１００質量部（固形分）に相当する量）に、［Ｂ］化合物として（Ｂ−１）３質量部、（Ｃ１）有機溶媒として（Ｃ−１−１）を所望の固形分濃度となるように添加し、［Ｄ］界面活性剤として（Ｄ−１）０．２質量部を混合し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過することにより、吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を調製した。
【０２０６】
［実施例２〜１６及び比較例１〜４］
各成分の種類及び配合量を表１に記載の通りとした以外は、実施例１と同様に操作して各組成物を調製した。なお、表１中の［Ｃ］有機溶媒の数値は（Ｃ１）有機溶媒と（Ｃ２）有機溶媒の質量％比である。また、表１中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを意味する。
【０２０７】
＜評価＞
調製した各組成物を用いて、下記の評価を実施した。結果を表１にあわせて示す。
【０２０８】
［粘度（ｍＰａ・ｓ）］
Ｅ型粘度計（東機産業製、ＶＩＳＣＯＮＩＣ  ＥＬＤ．Ｒ）を用いて、２５℃における当該組成物の粘度（ｍＰａ・ｓ）を測定した。
【０２０９】
［固形分濃度（質量％）］
各組成物０．３ｇをアルミ皿に精坪し、ジエチレングリコールジメチルエーテル約１ｇを加えたのち、１７５℃で６０分間ホットプレート上にて乾固させて、乾燥前後の質量から各組成物中の固形分濃度（質量％）を求めた。
【０２１０】
［塗膜の外観］
５５０×６５０ｍｍのクロム成膜ガラス上に、調製した各組成物をスリットダイコーター（東京応化工業製、ＴＲ６３２１０５−ＣＬ）を用いて塗布し０．５Ｔｏｒｒまで減圧乾燥した後、ホットプレート上で１００℃にて２分間プレベークして塗膜を形成し、さらに２，０００Ｊ／ｍ２の露光量で露光することにより、クロム成膜ガラスの上面からの膜厚が４μｍの膜を形成した。ナトリウムランプ下において、肉眼によりこの塗膜の外観の観察を行った。このとき、塗膜の全体における筋ムラ（塗布方向又はそれに交差する方向にできる一本または複数本の直線のムラ）、モヤムラ（雲状のムラ）、ピン跡ムラ（基板支持ピン上にできる点状のムラ）の出現状況を調べた。これらのムラのいずれもほとんど見えない場合を「Ａ」（良好と判断）、いずれかが少し見える場合を「Ｂ」（やや不良と判断）、はっきりと見える場合を「Ｃ」（不良と判断）とした。
【０２１１】
［膜厚均一性（％）］
上述のようにして作製したクロム成膜ガラス上の塗膜の膜厚を、膜厚測定装置（大日本スクリーン製、ラムダエース）を用いて測定した。膜厚均一性は、９つの測定点における膜厚を測定し、下記式から計算した。９つの測定点は基板の短軸方向をＸ、長軸方向をＹとすると、（Ｘ［ｍｍ］、Ｙ［ｍｍ］）が、（２７５、２０）、（２７５、３０）、（２７５、６０）、（２７５、１００）、（２７５、３２５）、（２７５、５５０）、（２７５、５９０）、（２７５、６２０）、（２７５、６３０）である。膜厚均一性が１．８０％を超えて２％以下の場合をやや良好、膜厚均一性が１．８０％以下の場合を良好と判断した。
【０２１２】
膜厚均一性（％）＝｛ＦＴ（Ｘ、Ｙ）ｍａｘ−ＦＴ（Ｘ、Ｙ）ｍｉｎ｝×１００／｛２×ＦＴ（Ｘ、Ｙ）ａｖｇ．｝
【０２１３】
上記式中ＦＴ（Ｘ、Ｙ）ｍａｘは、９つの測定点における膜厚中の最大値、ＦＴ（Ｘ、Ｙ）ｍｉｎは、９つの測定点における膜厚中の最小値、ＦＴ（Ｘ、Ｙ）ａｖｇ．は９つの測定点における膜厚中の平均値である。
【０２１４】
［高速塗布性（ｍｍ／ｓｅｃ．）］
５５０ｍｍ×６５０ｍｍの無アルカリガラス基板上にスリットダイコーターを用いて塗布し、塗布条件として下地とノズルの距離１５０μｍ、露光後の膜厚が２．５μｍとなるように、ノズルから塗布液を吐出し、ノズルの移動速度を１２０ｍｍ／ｓｅｃ．〜２２０ｍｍ／ｓｅｃ．の範囲で変量し、液切れによる筋状のムラが発生しない最大速度を求めた。この時、１８０ｍｍ／ｓｅｃ．以上の速度でも筋状のムラが発生しない場合は、高速塗布性が良好と判断した。
【０２１５】
［放射線感度（Ｊ／ｍ２）］
５５０×６５０ｍｍのクロム成膜ガラス上に、ヘキサメチルジシラザンを塗布し、６０℃にて１分間加熱した。このヘキサメチルジシラザン処理後のクロム成膜ガラス上に、各組成物をスリットダイコーター（東京応化工業製、ＴＲ６３２１０５−ＣＬ）を用いて塗布し、到達圧力を１００Ｐａに設定して真空下で溶媒を除去した後、さらに９０℃において２分間プレベークすることによって、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。続いて、露光機（キヤノン製、ＭＰＡ−６００ＦＡ）を用い、６０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のパターンを有するマスクを介して、塗膜に対し露光量を変量として放射線を照射した後、表１に表される濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃において液盛り法で現像した。現像時間は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド濃度が０．４０質量％の現像液を用いた場合は８０秒、２．３８質量％の現像液を用いた場合は５０秒間とした。次いで、超純水で１分間流水洗浄を行い、その後乾燥することにより、ＨＭＤＳ処理後のクロム成膜ガラス基板上にパターンを形成した。このとき６μｍのスペース・パターンが完全に溶解するために必要な露光量を調べた。この値が５００Ｊ／ｍ２以下の場合に感度が良好と判断した。
【０２１６】
［透過率（％）］
スピンナーを用いて、調製した各組成物をガラス基板上に塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。塗膜に対し露光量７００Ｊ／ｍ２で露光した後、クリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。次いで、波長４００ｎｍにおける透過率を、分光光度計（日立製作所製、１５０−２０型ダブルビーム）を用いて測定した。測定値（％）を透過率とし、値が１００％に近いほど透過率は良好であり、９０％未満であった場合を透明性が不良と判断した。
【０２１７】
［耐熱透明性（％）］
上記透過率の評価で測定した基板について、さらにクリーンオーブン中にて２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の光線透過率を上記透過率の評価と同様に測定した後、下記式より耐熱透明性（％）を算出した。この値が０％に近いほど耐熱透明性は良好であり、４％を超える場合、耐熱透明性が不良と判断した。
耐熱透明性（％）＝加熱前透過率−加熱後透過率
【０２１８】
【表１】
2011248331.tif 000008
【０２１９】
表１の結果から当該組成物を使用した実施例１〜１６は、比較例１〜４の組成物と比べ、高い放射線感度及び優れた膜厚均一性を有する塗膜を形成することができ、また高速塗布が可能であって、塗膜の外観も良好であることが明らかとなった。
さらに、［Ｃ］有機溶媒として（Ｃ１）有機溶媒と（Ｃ２）有機溶媒とを組み合わせた実施例３〜１６は、（Ｃ１）有機溶媒のみを使用する実施例１及び２と比べ、膜厚均一性により優れることが明らかとなった。また、（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して５０質量％以下である実施例３〜１１は、（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して７０質量％である実施例１２と比べ、塗膜の外観、膜厚均一性に特に優れることが明らかとなった。
一方、当該組成物の好適成分である［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物、［Ｆ］酸化防止剤及び［Ｇ］エポキシ化合物を含有する実施例１３〜１６は、これらの成分を含有しない実施例１〜１２と比べ、透過率及び耐熱透明性により優れることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０２２０】
本発明の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用層間絶縁膜を形成することができ、さらに高速塗布が可能である。従って、当該組成物は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の表示素子用層間絶縁膜を形成するための材料として好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月6日(2011.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に下記式（１）で表される基を含む構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、
［Ｂ］オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、
［Ｃ］有機溶媒、並びに
［Ｅ］多官能（メタ）アクリレート化合物
を含有し、
固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１２ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ
［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含み、（Ｃ１）有機溶媒が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒である吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【化１】
2011248331.tif 000011
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、Ｒ１及びＲ２が共に水素原子である場合はない。Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−Ｍ（Ｒ３ｍ）３で表される基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ又はＳｎである。Ｒ３ｍは、アルキル基である。但し、Ｒ１とＲ３とが連結して、これらが結合している炭素原子と共に環状エーテルを形成してもよい。）
【請求項２】
［Ｃ］有機溶媒として、（Ｃ２）２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下の有機溶媒をさらに含有し、
（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上９０質量％以下である請求項１に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項３】
［Ｃ］有機溶媒として、（Ｃ２）２０℃における蒸気圧が１ｍｍＨｇ以上２０ｍｍＨｇ以下の有機溶媒をさらに含有し、
（Ｃ２）有機溶媒の含有量が、（Ｃ１）有機溶媒及び（Ｃ２）有機溶媒の合計量に対して１０質量％以上５０質量％以下である請求項１に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項４】
［Ｄ］フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種の界面活性剤をさらに含有し、
［Ｄ］界面活性剤の含有量が、［Ａ］重合体１００質量部に対して０．０１質量部以上２質量部以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項５】
［Ｆ］酸化防止剤をさらに含有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項６】
［Ｇ］１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項７】
（Ｃ２）有機溶媒が、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸ｎ−ブチル、メチルイソブチルケトン、３−メトキシプロピオン酸メチルからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒である請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜。
【請求項９】
（１）請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
（２）上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する表示素子用層間絶縁膜の形成方法。