(57)【要約】【課題】  成膜レートを低下させずに、膜中に酸素を良好に含有させることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。【解決手段】  Ｃｒ：２〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％、Ｍ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）：０．５〜１５原子％を含有し、Ｍ金属は非磁性酸化物として添加されるものであって、さらに全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｒ：２〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％、Ｍ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）：０．５〜１５原子％を含有し、
Ｍ金属は非磁性酸化物として添加されるものであって、
さらに全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有し、
残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有することを特徴とする磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法であって、
Ｃｏ、Ｃｒ及びＰｔの各元素を単体として又はこれらのうち２種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と、非磁性酸化物とされたＭ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）の原料粉末との各原料粉末が混合された混合粉末を焼結する工程を有し、
Ｃｏ及びＣｒの少なくとも１種を含む前記原料粉末若しくは合金粉末又は前記混合粉末を、前記焼結前に酸素を含んだ雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するためのスパッタリングターゲットの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置は、一般にコンピューターやデジタル家電等の外部記録装置として用いられており、記録密度の一層の向上が求められている。そのため、近年、高密度の記録を実現できる垂直磁気記録方式が採用されている。この垂直磁気記録方式は、以前の面内記録方式と異なり、原理的に高密度化するほど記録磁化が安定すると言われている。
【０００３】
この垂直磁気記録方式のハードディスク媒体の記録層に適用する材料の有力な候補として、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２グラニュラ磁気記録膜が提案されており、このＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２グラニュラ磁気記録膜はＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基焼結合金相と二酸化珪素相の混合相を有するスパッタリングターゲットを用いてマグネトロンスパッタ法により作製することが知られている（非特許文献１参照）。
【０００４】
このスパッタリングターゲットは、通常、二酸化珪素粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末およびＣｏ粉末を、二酸化珪素：０．５〜１５原子％、Ｃｒ：４〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％を含有し、残部：Ｃｏからなる組成となるように配合し混合したのち、真空ホットプレスまたは熱間静水圧プレスすることにより作製されることが知られており、その他に市販のＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基合金粉末または急冷凝固して作製したＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基合金粉末と二酸化珪素粉末を二酸化珪素：０．５〜１５原子％、Ｃｒ：４〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％を含有し、残部：Ｃｏからなる組成となるように配合し混合したのち、真空ホットプレスまたは熱間静水圧プレスすることにより作製されることが知られている（特許文献１、特許文献２などを参照）。
【０００５】
さらに、上記二酸化珪素のほかにＴｉＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、ＢｅＯ２、ＭｇＯ、ＴｈＯ２、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、Ｙ２Ｏ３などの非磁性酸化物が使用できることが知られている（特許文献３、４参照）。
したがって、垂直磁気記録方式のハードディスク媒体の記録層を形成するためのターゲットの成分組成は、酸素（Ｏ）：１〜３０原子％、Ｃｒ:２〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％、Ｍ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか１種）：０．５〜１５原子％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２３６６４３号公報
【特許文献２】特開２００４−３３９５８６号公報
【特許文献３】特開２００３−３６５２５号公報
【特許文献４】特開２００６−２４３４６号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】「富士時報」Ｖｏｌ．７５Ｎｏ．３ ２００２（１６９〜１７２ページ）
【非特許文献２】Zheng、IEEE TRANSACTION ON MAGNETICS VOL. 40, NO. 4, p2498 (2004)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記従来の技術には、以下の課題が残されている。
記録膜用ターゲットの製法としては、市販要素粉末（Ｃｏ，Ｃｒ，Ｐｔ，および非磁性酸化物の粉末）、あるいは合金粉末（ＣｏＣｒなど）を混合し、混合粉末を熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）法または真空ホットプレス（ＨＰ）法などにより加圧焼結後、加工してターゲットとするのが一般的である。このような方法で作製されるターゲットは、配合組成から計算される理論値に近い酸素を含む。このようなターゲットを、Ａｒのみでスパッタした場合、成膜される膜中に含まれる酸素はターゲット組成より少なくなってしまい、所望の磁気特性（保磁力やディスクにしたときのＳＮＲ（Single to Noise ratio：再生信号と媒体ノイズとの比率）が得られない。
このため、例えば非特許文献２に示されているように、膜中に十分な酸素を含有させるため、Ａｒ中に酸素を含有させたガスを用いた反応性スパッタを行って、所望の特性を得ていることが一般的である。
しかしながら、スパッタガス中に酸素を導入する方法では、ターゲット表面に酸化膜が形成され、成膜レートが低下して、生産性が低下する上、成膜レートが不安定になるため、ディスク特性のばらつきを生じやすいという欠点がある。
【０００９】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、成膜レートを低下させずに、膜中に酸素を良好に含有させることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで、本発明者らは、スパッタ中に酸素ガスを導入せずに膜中に酸素を良好に含有可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを製造するべく研究を行った。その結果、焼結前の原料（Ｃｏ，Ｃｒ或いはこれらを含む合金粉末）又はこれら原料の混合後に混合粉末を酸素を含む雰囲気中で熱処理したターゲットでは、配合組成から計算される理論値よりも酸素を過剰に含んでおり、スパッタ中に酸素ガスを導入しなくてもスパッタ膜中の酸素量を十分に確保できることを突き止めた。
【００１１】
したがって、本発明は、上記知見から得られたものであり、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明のスパッタリングターゲットは、Ｃｒ：２〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％、Ｍ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）：０．５〜１５原子％を含有し、Ｍ金属は非磁性酸化物として添加されるものであって、さらに全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有することを特徴とする。
【００１２】
この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットでは、全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有しているので、スパッタ中に酸素ガスを導入しなくてもスパッタ膜中に良好な範囲で酸素を含有させることができ、十分な磁気特性を得ることができる。
なお、Ｃｒを２〜２０原子％とした理由は、Ｃｒが２原子％未満であると、Ｃｒの粒界偏析による磁性粒子間の隔離が充分に起こらないことから、必要なＳＮＲが得られず、Ｃｒが２０原子％を越えると、膜の飽和磁化や保磁力が低下してしまうからである。      
また、Ｐｔを５〜２５原子％とした理由は、Ｐｔが５原子％未満であると、十分な磁気異方性が得られず、必要な保磁力が得られないためであり、Ｐｔが２５原子％を越えると、保磁力が大きくなり過ぎて、記録が困難になるからである。
さらに、Ｍ金属を０．５〜１５原子％とした理由は、Ｍ金属が０．５原子％未満であると、磁性粒子の粒界に偏析するＭの非磁性酸化物が少な過ぎ、磁性粒子の隔離が充分起こらないことから、必要なＳＮＲが得られないためであり、Ｍ金属が１５原子％を越えると、飽和磁化や保磁力が低下するためである。
なお、理論値よりも過剰な酸素を上記含有範囲内とした理由は、０．１原子％未満であると、磁気特性の向上効果が無く、５原子％を越えると、スパッタ膜中の酸素が過剰になり、かえって磁気特性が低下してしまうためである。また、理論値よりも過剰な酸素のより好ましい含有量は、０．５〜３原子％である。
【００１３】
本発明の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法は、上記本発明の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法であって、Ｃｏ、Ｃｒ及びＰｔの各元素を単体として又はこれらのうち２種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と、非磁性酸化物とされたＭ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）の原料粉末との各原料粉末が混合された混合粉末を焼結する工程を有し、Ｃｏ及びＣｒの少なくとも１種を含む前記原料粉末若しくは合金粉末又は前記混合粉末を、前記焼結前に酸素を含んだ雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする。
すなわち、この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法では、Ｃｏ及びＣｒの少なくとも１種を含む原料粉末若しくは合金粉末又は前記混合粉末を、上記焼結前に酸素を含んだ雰囲気中で熱処理するので、配合組成から計算される理論値よりも酸素を過剰に含んだターゲットを容易に得ることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係る磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法によれば、全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有しているので、スパッタ中に酸素ガスを導入しなくてもスパッタ膜中に良好な範囲で酸素を含有させることができ、十分な磁気特性を得ることができる。このように、スパッタ中に酸素ガスを導入しなくてもよいため、成膜レートが低下しないと共に安定し、良好な生産性を維持可能であり、ディスク特性のばらつきを抑制することができる。したがって、本発明の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを用いてスパッタ法により磁気記録媒体膜を成膜することで、保磁力やディスクにしたときのＳＮＲ等の良好な磁気特性を得ることができ、特に高密度の垂直磁気記録方式の媒体を作製可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法の一実施形態を説明する。
【００１６】
本実施形態の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットは、Ｃｒ：２〜２０原子％、Ｐｔ：５〜２５原子％、Ｍ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）：０．５〜１５原子％を含有し、Ｍ金属は非磁性酸化物として添加されるものであって、さらに全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有している。
【００１７】
すなわち、この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットは、強磁性合金であるＣｒ及びＰｔを含むＣｏ基合金を素地とし、この素地中にＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３など非磁性酸化物が均一分散している組織を有しているが、理論値よりも上記含有量だけ酸素を過剰に含んでいる。なお、理論値よりも過剰な酸素のより好ましい含有量は、０．５〜３原子％である。
【００１８】
上記本実施形態の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを作製する方法は、Ｃｏ、Ｃｒ及びＰｔの各元素を単体として又はこれらのうち２種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と、非磁性酸化物とされたＭ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）の原料粉末との各原料粉末が混合された混合粉末を焼結する工程を有し、Ｃｏ及びＣｒの少なくとも１種を含む上記原料粉末若しくは合金粉末又は上記混合粉末を、上記焼結前に酸素を含んだ雰囲気中で熱処理する工程を含んでいる。
【００１９】
すなわち、本実施形態の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを作製するには、例えば、まず所定原子比となるＣｏＣｒ粉末をガスアトマイズにより作製し、所定メッシュの篩いでふるって、篩い下の粉末を回収する。
また、ＣｏＣｒ、Ｐｔ、非磁性酸化物とされたＭ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）の各原料粉末を所定の組成となるように秤量し、これらを容器に粉砕媒体となる酸化ジルコニウム等のボールとともに投入し、この容器をボールミルにより所定時間回転させ、原料を混合する。
【００２０】
なお、非磁性酸化物とされたＭ金属（ただし、Ｍ金属はＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌの内のいずれか一種以上）の原料粉末としては、例えば、ＳｉＯ２粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末、Ａｌ２Ｏ３粉末などが採用可能である。
【００２１】
次に、得られた混合粉末について、酸素を含んだ雰囲気中、例えば大気中で所定の温度及び時間によって熱処理を施す。
そして、酸素雰囲気中の熱処理後の粉末を真空ホットプレス等により焼結し、さらに機械加工により所定サイズの焼結体を得る。
こうして得られた焼結体を、バッキングプレートに接合してターゲットとする。
【００２２】
このように本実施形態の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットでは、全体として配合組成から計算される理論値よりも０．１〜５原子％過剰の酸素を含有しているので、スパッタ中に酸素ガスを導入しなくてもスパッタ膜中に良好な範囲で酸素を含有させることができ、十分な磁気特性を得ることができる。したがって、スパッタ中に酸素ガスを導入しなくてもよいため、成膜レートが低下しないと共に安定し、良好な生産性を維持可能であり、ディスク特性のばらつきを抑制することができる。
【００２３】
さらに、この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法では、Ｃｏ及びＣｒの少なくとも１種を含む上記原料粉末若しくは合金粉末又は上記混合粉末を、上記焼結前に酸素を含んだ雰囲気中で熱処理するので、理論値よりも酸素を過剰に含んだターゲットを容易に得ることができる。
【実施例１】
【００２４】
次に、本発明に係る磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法を、上記実施形態に基づき作製した実施例により、実際に評価した結果を説明する。
【００２５】
＜実施例１＞
まず、Ｃｏ：Ｃｒ＝７１：１２の原子比となるＣｏＣｒ粉末をガスアトマイズにより作製し、４５μｍの篩いでふるって、篩い下の粉末を回収した。
ＣｏＣｒ、Ｐｔ、ＳｉＯ２粉末を（Ｃｏ７１Ｃｒ１２Ｐｔ１７）９０（ＳｉＯ２）１０のモル比で表される組成となるように合計１ｋｇ秤量した。これらを１０リットルの容器に粉砕媒体となる酸化ジルコニウムのボールとともに投入し、この容器をＡｒガスで置換した後、容器を密閉した。この容器を１６時間ボールミルにより回転させ、原料を混合した。得られた混合粉末について、大気中、３５０℃にて１時間の熱処理を施した。
【００２６】
そして、大気処理後の粉末を真空ホットプレスにより焼結し、さらに機械加工により直径６インチ（１５２．４ｍｍ）×厚さ３ｍｍの焼結体を得た。
焼結体の酸素組成を不活性ガス融解赤外線吸収法によるガス分析（以下、単にガス分析と呼ぶ）により測定すると、１７．７原子％であった。これは理論値１６．７原子％より１原子％高い値であった。
【００２７】
こうして得られた焼結体を、銅製のバッキングプレートに接合してターゲットとした。さらに、磁気特性評価用サンプルを作製するため、下地膜用として、同じサイズの市販のＴａとＲｕとのターゲットを準備した。
これらＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２、Ｒｕ、Ｔａのターゲットを市販のスパッタ装置に装着し、５×１０−５Ｐａまで真空引きした後、ＳｉＯ２酸化膜つきのＳｉウェーハ上にＴａ（５ｎｍ）→Ｒｕ（４０ｎｍ）→ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２（２０ｎｍ）→Ｒｕ（５ｎｍ）の順番で、全てＡｒガスのみでスパッタ成膜を行い、Ｔａ層、下部Ｒｕ層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２層及び上部Ｒｕ層の積層構造を作製した。それぞれの成膜条件は表１の通りである。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
成膜したＴａ層は下部Ｒｕ層のシード層として、下部Ｒｕ層はＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２層を結晶配向させるための下地として、上部Ｒｕ層はＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２の酸化を防止するための保護層としての役割を持つ。なお、このスパッタ装置は、１チャンバーに３つのターゲットが装着でき、真空を破らずに上記積層構造を連続成膜することが可能である。
上記成膜後のウェーハを、１０ｍｍ角の寸法に切断して磁気特性の測定試料とした。この測定試料について振動試料型磁力計（ＶＳＭ）にて、磁気ヒステリシスループ（Ｍ−Ｈ）曲線の測定を行い、保磁力を求めた。その結果、保磁力は、２２５０ Ｏｅであった。
【００３０】
＜比較例１＞
上述した実施例１と同じ組成で、粉末を混合後、大気熱処理をすることなく、そのまま真空ホットプレスで焼結し、ターゲットとした。このターゲットの酸素組成をガス分析による測定すると、１６．７原子％であり、これは理論値と同じであった。なお、理論値と測定値とが同じになった場合、ガス分析の精度上、正確な過剰酸素濃度が不明であるが、少なくとも０．１原子％未満と考えられる。また、同様にスパッタ装置に装着して磁気特性測定試料を作製し、保磁力を測定した。その結果、保磁力は、１８４０ Ｏｅであった。
【００３１】
＜実施例２＞
次に、実施例２として、Ｃｏ：Ｃｒ＝６９：１５の原子比となるＣｏＣｒ粉末をガスアトマイズにより作製し、４５μｍの篩いでふるって、篩い下の粉末を回収した。
さらに、ＣｏＣｒ、Ｐｔ、ＴｉＯ２粉末を（Ｃｏ６９Ｃｒ１５Ｐｔ１６）９３（ＴｉＯ２）７のモル比で表される組成となるように合計１ｋｇ秤量した。これらを１０リットルの容器に粉砕媒体となる酸化ジルコニウムのボールとともに投入し、この容器を体積比でＡｒガスで置換した後、容器を密閉した。この容器を１６時間ボールミルにより回転させ、原料を混合した。得られた混合粉末について、大気中、４５０℃にて１時間の熱処理を施した。
【００３２】
そして、大気処理後の粉末を真空ホットプレスにより焼結し、さらに機械加工により直径６インチ（１５２．４ｍｍ）×厚さ３ｍｍの焼結体を得た。
焼結体の酸素組成をガス分析により測定すると、１４．５原子％であった。これは理論値１２．３原子％より２．２原子％高い値であった。
【００３３】
こうして得られた焼結体を、銅製のバッキングプレートに接合してターゲットとした。さらに、磁気特性評価用サンプルを作製するため、上記実施例１と同じ条件で成膜、測定試料作製、保磁力の測定を行った。その結果、保磁力は、２６５０ Ｏｅであった。
【００３４】
＜比較例２＞
上記実施例２と同じ組成で、粉末を混合後、大気熱処理をすることなく、そのまま真空ホットプレスで焼結し、ターゲットとした。このターゲットの酸素組成をガス分析により測定すると、１２．３原子％であり、これは理論値と同じであった。同様にスパッタ装置に装着して磁気特性測定試料を作製し、保磁力を測定した。その結果、保磁力は、２１４０ Ｏｅであった。
【００３５】
＜実施例３＞
次に、実施例３として、Ｃｏ：Ｃｒ＝７６：１１の原子比となるＣｏＣｒ粉末をガスアトマイズにより作製し、４５μｍの篩いでふるって、篩い下の粉末を回収した。
さらに、ＣｏＣｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末を（Ｃｏ７６Ｃｒ１１Ｐｔ１３）９５（Ｔａ２Ｏ５）５のモル比で表される組成となるように合計１ｋｇ秤量した。これらを１０リットルの容器に粉砕媒体となる酸化ジルコニウムのボールとともに投入し、この容器を体積比でＡｒガスで置換した後、容器を密閉した。この容器を１６時間ボールミルにより回転させ、原料を混合した。得られた混合粉末について、大気中、３００℃にて１時間の熱処理を施した。
【００３６】
そして、大気処理後の粉末を真空ホットプレスにより焼結し、さらに機械加工により直径６インチ（１５２．４ｍｍ）×厚さ３ｍｍの焼結体を得た。この焼結体の酸素組成をガス分析により測定すると、１９．８原子％であった。これは理論値１９．２原子％より０．６原子％高い値であった。
【００３７】
こうして得られた焼結体を、銅製のバッキングプレートに接合してターゲットとした。さらに、磁気特性評価用サンプルを作製するため、上記実施例１と同じ条件で成膜、測定試料作製、保磁力の測定を行った。その結果、保磁力は、２１１５ Ｏｅであった。
【００３８】
＜比較例３＞
上記実施例３と同じ組成で、粉末を混合後、大気熱処理をすることなく、そのまま真空ホットプレスで焼結し、ターゲットとした。このターゲットの酸素組成をガス分析により測定すると、１９．２原子％であり、これは理論値と同じであった。同様にスパッタ装置に装着して磁気特性測定試料を作製し、保磁力を測定した。その結果、保磁力は、１７８０ Ｏｅであった。
【００３９】
＜実施例４＞
次に、実施例４として、Ｃｏ：Ｃｒ＝６３：２０の原子比となるＣｏＣｒ粉末をガスアトマイズにより作製し、４５μｍの篩いでふるって、篩い下の粉末を回収した。
さらに、ＣｏＣｒ、Ｐｔ、Ａｌ２Ｏ３粉末を（Ｃｏ６３Ｃｒ２０Ｐｔ１７）９１（Ａｌ２Ｏ３）９のモル比で表される組成となるように合計１ｋｇ秤量した。これらを１０リットルの容器に粉砕媒体となる酸化ジルコニウムのボールとともに投入し、この容器を体積比でＡｒガスで置換した後、容器を密閉した。この容器を１６時間ボールミルにより回転させ、原料を混合した。得られた混合粉末について、大気中、５５０℃にて１時間の熱処理を施した。
【００４０】
そして、大気処理後の粉末を真空ホットプレスにより焼結し、さらに機械加工により直径６インチ（１５２．４ｍｍ）×厚さ３ｍｍの焼結体を得た。
この焼結体の酸素組成をガス分析により測定すると、２２．８原子％であった。これは理論値１９．９原子％より２．９原子％高い値であった。
【００４１】
こうして得られた焼結体を、銅製のバッキングプレートに接合してターゲットとした。さらに、磁気特性評価用サンプルを作製するため、上記実施例１と同じ条件で成膜、測定試料作製、保磁力の測定を行った。その結果、保磁力は、２４３０ Ｏｅであった。
【００４２】
＜比較例４＞
上記実施例４と同じ組成で、粉末を混合後、大気熱処理をすることなく、そのまま真空ホットプレスで焼結し、ターゲットとした。このターゲットの酸素組成をガス分析により測定すると、１９．９原子％であり、これは理論値と同じであった。また、同様にスパッタ装置に装着して磁気特性測定試料を作製し、保磁力を測定した。その結果、保磁力は、１８６０ Ｏｅであった。
【００４３】
＜比較例５＞
上記実施例１と同じ組成で、粉末を混合後、６５０℃で大気熱処理をして、そのまま真空ホットプレスで焼結し、ターゲットとした。このターゲットの酸素組成をガス分析により測定すると、６．５原子％であった。また、同様にスパッタ装置に装着して磁気特性測定試料を作製し、保磁力を測定した。その結果、保磁力は、１２１０ Ｏｅであった。
なお、これら実施例及び比較例の評価結果をまとめた表２を以下に示す。
【００４４】
【表２】
2011081859.tif 000003
【００４５】
このように本発明の実施例１〜４では、大気中での熱処理を行うことにより、理論値よりも高い酸素組成を有している。また、これら実施例１〜４は、いずれも大気中での熱処理を行っていない比較例よりも高い保磁力が得られている。
したがって、本発明の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを用いて磁気記録媒体膜を成膜することで、保磁力やディスクにしたときのＳＮＲ等の良好な磁気特性を得ることができ、特に高密度の垂直磁気記録方式の媒体を作製可能である。
【００４６】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態及び上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。