(57)【要約】【課題】複数の液晶セル間における液晶層と視差分割部との距離を均一化する。【解決手段】液晶セルと、前記液晶セルに接着された視差分割部とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、第１基板に対向して第２基板を配置し、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶部材を封入して複数の前記液晶セルで構成される液晶セル群を形成する液晶セル群形成工程と、前記液晶セル群の形態で、前記第１基板の厚みを低減化する薄板化処理工程と、低減化された前記第１基板の厚みを測定する板厚測定工程と、測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶セル毎に、前記第１基板と前記視差分割部との間隔を補正する間隔補正工程と、前記第１基板と前記視差分割部とを接着する接着工程と、前記液晶セル群を複数の前記液晶セルに分割する分割工程と、を含む。【選択図】図６
2011081230.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルと、前記液晶セルに接着された視差分割部とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、
第１基板に対向して第２基板を配置し、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を設けて複数の前記液晶セルで構成される液晶セル群を形成する液晶セル群形成工程と、
前記液晶セル群の形態で、前記第１基板の厚みを低減化する薄板化処理工程と、
低減化された前記第１基板の厚みを測定する板厚測定工程と、
測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶セル毎に、前記第１基板と前記視差分割部との間隔を補正する間隔補正工程と、
前記第１基板と前記視差分割部とを接着する接着工程と、
前記液晶セル群を複数の前記液晶セルに分割する分割工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記間隔補正工程では、
測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶セル毎に、前記第１基板と前記視差分割部とを接着する接着剤の量を調整する接着剤量調整工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記間隔補正工程では、
前記第１基板と前記視差分割部との間にスペーサーを配置するスペーサー配置工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記スペーサー配置工程では、
測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記スペーサーの材料を含む液状材料を前記第１基板上に塗布する塗布工程と、
塗布された前記液状材料を固化して、前記スペーサーを形成する固化工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３または４に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記スペーサー配置工程では、
前記液晶セル毎に、高さが均一な前記スペーサーを配置することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項３または４に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記スペーサー配置工程では、
測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶層に接する前記第１基板の面から前記スペーサーの頂部までの距離が均一となる前記スペーサーを配置することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記スペーサー配置工程では、
平面視において、前記視差分割部の形成領域内に対応する位置に前記スペーサーを配置することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置としては、素子基板と対向基板との間に液晶層が設けられた液晶セルと、液晶セルに貼り付けられたバリアマスク基板とを備えたものが知られている。当該液晶表示装置では、液晶セルの表面に、開口部を有するバリア層（視差バリア）が形成されたバリアマスク基板を一定の間隔（距離）をおいて重ねることで、２つの画像を異なる方向に同時に表示することができる。これは、視角を変えると、視差バリアによって異なる画素が遮光されることを利用したものである。特許文献１には、異なる方向に表示される２つの画像を用いて立体的な表示を行うことができる３次元画像表示装置が記載されている。また、表示画素と視差バリアとの距離を短くすることで、上記２つの画像の表示方向をより大きく異ならせることができる。これにより、例えば異なる観察者が当該２つの画像を斜め左右方向から別々に視認できるように（すなわち２画面表示ができるように）構成することもできる。この場合、液晶表示画素と視差バリアとの距離を短くするためには、液晶表示装置の視差バリア側のガラス基板（対向基板）を、例えば、１００μｍ程度の厚さに薄板化する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第２８５７４２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、対向基板を化学的手法や機械的手法等によって薄板化した際に、対向基板の厚みにばらつきが生じる場合がある。特に、大判の基板中に、複数の液晶セル（液晶セル群）を形成した形態で、大判の基板を薄板化した場合には、さらに、大判の基板において基板の厚みにばらつきが生じ、各液晶セル間において対向基板と視差バリアとの間隔（距離）がばらついてしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる液晶表示装置の製造方法は、液晶セルと、前記液晶セルに接着された視差分割部とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、第１基板に対向して第２基板を配置し、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を設けて複数の前記液晶セルで構成される液晶セル群を形成する液晶セル群形成工程と、前記液晶セル群の形態で、前記第１基板の厚みを低減化する薄板化処理工程と、低減化された前記第１基板の厚みを測定する板厚測定工程と、測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶セル毎に、前記第１基板と前記視差分割部との間隔を補正する間隔補正工程と、前記第１基板と前記視差分割部とを接着する接着工程と、前記液晶セル群を複数の前記液晶セルに分割する分割工程と、を含むことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、厚みが低減化された液晶セル群の第１基板の厚みが測定される。そして、測定された第１基板の厚みに基づいて、液晶セル毎に第１基板と視差分割部との間隔が補正される。これにより、例えば、第１基板の厚みを低減化した際に、各液晶セルに対応する第１基板の厚みがばらついたとしても、液晶セル毎に上記間隔が補正されるので、各液晶セル間における第１基板と視差分割部との距離のばらつきを低減させることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法の前記間隔補正工程では、測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶セル毎に、前記第１基板と前記視差分割部とを接着する接着剤の量を調整する接着剤量調整工程を含むことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、接着剤の量に応じて、第１基板と視差分割部との間隔が調整される。例えば、第１基板の厚みを低減化した際に、相対的に第１基板の厚みが薄い液晶セルに対しては、接着剤の量を多くすることにより、第１基板と視差分割部との間隔が広く（距離が長く）なるように調整することができる。一方、相対的に第１基板の厚みが厚い液晶セルに対しては、接着剤の量を少なくすることにより、第１基板と視差分割部との間隔が狭く（距離が短く）なるように調整することができる。このようにして、容易に各液晶セル間における第１基板と視差分割部との間隔（距離）のばらつきを低減させることができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法の前記接着層厚調整工程では、前記第１基板と前記視差分割部との間にスペーサーを配置するスペーサー配置工程を含むことを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、スペーサーによって第１基板と視差分割部との間隔が規制される。従って、各液晶セル間における第１基板と視差分割部との距離を確実に確保することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法の前記スペーサー配置工程では、測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記スペーサーの材料を含む液状材料を前記第１基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状材料を固化して、前記スペーサーを形成する固化工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、各液晶セルに対応する第１基板上に、必要な箇所に必要な厚みのスペーサーを容易に形成することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法の前記スペーサー配置工程では、前記液晶セル毎に、高さが均一な前記スペーサーを配置することを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、第１基板に基づいて、液晶セル毎に高さが均等なスペーサーが配置されるので、液晶セル間における第１基板と視差分割部との間隔のばらつきを低減させることができる。
【００１６】
［適用例６］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法の前記スペーサー配置工程では、測定された前記第１基板の厚みに基づいて、前記液晶層に接する前記第１基板の面から前記スペーサーの頂部までの距離が均一となる前記スペーサーを配置することを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、第１基板の厚みに応じて、液晶層に接する第１基板の面からスペーサーの頂部まで間隔（距離）が均一となるスペーサーが配置される。すなわち、第１基板の厚みに応じて、液晶セル毎に高さ（厚み）が異なるスペーサーが配置される。従って、視差分割部を接着した際、液晶層に接する第１基板の面から視差分割部までの距離が、液晶セル群において均一化される。従って、各液晶セル間における第１基板と視差分割部との間隔（距離）のばらつきを低減させることができるとともに、液晶層と視差分割部との距離のばらつきを低減させることができる。
【００１８】
［適用例７］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法の前記スペーサー配置工程では、平面視において、前記視差分割部の形成領域内に対応する位置に前記スペーサーを配置することを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、平面視において、スペーサーが視差分割部の形成領域内に隠れる（重なる）ため、視認性を確保することができる。
【００２０】
［適用例８］本適用例にかかる液晶表示装置は、上記液晶表示装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、高品位な液晶表示装置を提供することができる。
【００２２】
［適用例９］本適用例にかかる電子機器は、上記液晶表示装置を搭載したことを特徴とする。
【００２３】
この構成によれば、高品位な電子機器を提供することができる。この場合の電子機器としては、例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、モバイルコンピューター、携帯電話機、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種の電子機器が該当する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】第１実施形態における液晶表示装置の構成を示す一部断面図。
【図２】第１実施形態における液晶表示装置の構成を示す平面図。
【図３】第１実施形態における液晶表示装置の構成を示す平面図。
【図４】液晶表示装置の視認表示を示す模式図。
【図５】第１実施形態における液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。
【図６】第１実施形態における液晶表示装置の製造方法を示す工程図。
【図７】第２実施形態における液晶表示装置の構成を示す一部断面図。
【図８】第２実施形態における液晶表示装置の構成を示す平面図。
【図９】第２実施形態における液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。
【図１０】第２実施形態における液晶表示装置の製造方法を示す工程図。
【図１１】液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図１２】ピエゾ方式による液状材料の吐出原理を示す模式図。
【図１３】第３実施形態における液晶表示装置の構成を示す一部断面図。
【図１４】第３実施形態における液晶表示装置の製造方法を示す工程図。
【図１５】電子機器としてのカーナビゲーションシステム用の表示装置の構成を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を具体化した第１〜第３実施形態について図面に従って説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮小を異ならせて図示している。
【００２６】
［第１実施形態］
（液晶表示装置の構成）
まず、本実施形態にかかる液晶表示装置の構成について説明する。図１は、第１実施形態にかかる液晶表示装置の構成を示す一部断面図である。図２及び図３は、液晶表示装置の構成を示す平面図である。図１に示すように、液晶表示装置１Ａは、液晶セル２と、視差分割部３０と、液晶セル２と視差分割部３０との間に設けられた接着層３５とを備えている。
【００２７】
液晶セル２は、対向基板１０と、対向基板１０に枠状のシール材４５を介して対向して貼り合わされた素子基板２０と、対向基板１０と素子基板２０との間に設けられた液晶層４０を有している。
【００２８】
対向基板１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の液晶層４０側の表面に設けられたカラーフィルター層１２と、カラーフィルター層１２の液晶層４０側の表面に設けられた透光性を有するＩＴＯ等からなる共通電極層１３と、共通電極層１３の液晶層４０側の表面に設けられたポリイミド等からなる配向膜１４とを備えている。
【００２９】
カラーフィルター層１２は、図２（ａ）に示すように、遮光性を有する黒系色の樹脂からなる遮光部１４と、遮光層１４によって区画された領域に形成されたカラーフィルター部とを備えている。カラーフィルター部は、例えば、赤色のカラーフィルター部１２ｒ、緑色のカラーフィルター部１２ｇ、青色のカラーフィルター部１２ｂで構成されている。カラーフィルター部１２は、入射した光のうち特定の波長の光を吸収する層であり、カラーフィルター部１２によって透過光を所定の色（例えば、上記の例では、赤、緑、又は青）とすることができる。なお、各カラーフィルター部１２ｒ，１２ｇ，１２ｂ及び遮光部１４の上に、透光性を有する樹脂からなるオーバーコートを積層し、その上に共通電極層１３を形成してもよい。
【００３０】
素子基板２０は、ガラス基板２１と、ガラス基板２１の液晶層４０側に設けられたＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子、ＴＦＴ素子に接続されたゲート線、データ線、及び画素電極等を含む回路素子層２２と、回路素子層２２の液晶層４０側の表面に設けられたポリイミド等からなる配向膜２３とを備えている。また、ガラス基板２１の液晶層４０側とは反対側の面には、偏光板４６ｂが配置されている。なお、ガラス基板２１と偏光板４６ｂとの間には、適宜位相差板等を配置してもよい。そして、偏光板４６ｂに対向する位置には、液晶表示装置１Ａに向けて光を照射するバックライト等の照明部（図示省略）が配置されている。
【００３１】
視差分割部３０は、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の液晶セル２側の表面に設けられた遮光性を有する複数の視差バリア３２とを備えている。そして、隣接する視差バリア３２との間には、開口部３３が設けられている。ガラス基板３１の液晶層４０側とは反対側の面には、偏光板４６ａが配置されている。なお、視差分割部３０と偏光板４６ａとの間には、適宜位相差板等を配置してもよい。
【００３２】
液晶層４０は、例えばＴＮモードとすることができる。共通電極層１３と画素電極との間に駆動電圧が印加されると、液晶層４０に電界が生じる。液晶層４０内の液晶分子は、この電界に従って画素ごとに駆動され、配向状態が変化する。液晶表示装置１Ａは、この液晶分子の配向状態に応じた偏光変換機能と、偏光板４６ａ，４６ｂの偏光選択機能とを利用して表示を行う。
【００３３】
図２（ａ）は、液晶セル２の一部を拡大した平面図であり、同図（ｂ）は、視差分割部３０の一部を拡大した平面図である。図２は、液晶セル２と視差分割部３０を張り合わせる前の状態を示している。これらを重ね合わせて貼り合せたものが図３（図１）に示す液晶表示装置１Ａである。図２（ｂ）中の網掛け部は、視差分割部３０に形成された視差バリア３２が存在する領域を表している。
【００３４】
図２（ａ）に示すように、液晶セル２は、各カラーフィルター部１２ｒ，１２ｇ，１２ｂに対応して、マトリクス状に配置された矩形の画素４ｒ，４ｇ，４ｂ（以下ではまとめて「画素４」とも呼ぶ）を有しており、これらはそれぞれ赤、緑、青の表示を行う。画素４ｒ，４ｇ，４ｂは、図中のＸ軸方向にこの順に繰り返し配置されており、Ｙ軸方向については、同一の色に対応する画素４が一列にストライプ状に並ぶように配置されている。また、以下では画素４のＸ軸方向についての列を画素列５と呼ぶ。
【００３５】
各画素４は、第１画像又は第２画像のいずれかの表示に寄与する。第１画像を表示する画素４を画素４Ｌ、第２画像を表示する画素４を画素４Ｒとも呼ぶ。本実施形態では、画素４Ｌ，４Ｒは、画素列５の方向、すなわちＸ軸方向について交互に繰り返し配置されており、Ｙ軸方向については各々が一列にストライプ状に並ぶように配置されている。
【００３６】
視差分割部３０に形成された視差バリア３２は、図２（ｂ）または図３に示すように、液晶セル２の法線方向から見て画素４Ｌと画素４Ｒとの間の遮光層１４と略重なる領域に開口部３３を有している。ここで、「画素４Ｌと画素４Ｒとの間」とは、図の右から左に向かう方向（すなわちＸ軸の負方向）に沿って画素４Ｌ、画素４Ｒがこの順に隣接している部位を言い、当該方向に沿って画素４Ｒ、画素４Ｌがこの順に隣接している部位は除かれる。したがって、開口部３３は、Ｘ軸方向について、一つおきの遮光部１４に対応する部位に設けられることとなる。また、開口部３３の幅は、遮光部１４の幅より若干広くなるように形成されている。
【００３７】
ところで、液晶セル２のガラス基板１１は、ケミカルエッチング又はＣＭＰ（Chemical  Mechanical  Polishing）等により約１００μｍの厚さに薄板化処理される。この処理によって、実質的に表示光が射出されるカラーフィルター層１２と、視差バリア３２の開口部３３との距離が調節され、その結果、カラーフィルター層１２から開口部３３に至る光路の角度が調節される。これにより、例えば、第１画像及び第２画像を好適な角度に表示することができる。以下、２画像の表示方法について説明する。
【００３８】
（液晶表示装置の２画像表示）
図４は、液晶表示装置１Ａの２画像の表示方法を示す模式図である。なお、同図は、画素４ｂ（画素４Ｒ）と画素４ｒ（画素４Ｌ）との間に配置された開口部３３を通る光に着目して描かれている。他の開口部３３を通る光の振る舞いもこの図と同様である。また、この図においては、光路の説明の便宜上、ガラス基板１１が厚く描かれており、また素子基板２０に含まれる構成要素の描写は省略されている。
【００３９】
画素４ｒからの表示光は、開口部３３を通り、空気層に入射する際に屈折した後に、符号９ｒを付した角度範囲で視認される。同様にして、画素４ｇ、画素４ｂからの表示光は、それぞれ符号９ｇ，９ｂを付した角度範囲で視認される。角度範囲９ｒと角度範囲９ｂ、角度範囲９ｒと角度範囲９ｇ、及び角度範囲９ｂと角度範囲９ｇは、一部重複する。
【００４０】
この結果、正面から左に分布する角度範囲ＶＬでは、画素４ｂからの表示光は視差バリア３２で遮蔽されて視認されず、画素４ｒからの表示光のみが視認される。一方、正面から右に分布する角度範囲ＶＲでは、画素４ｒからの表示光は視差バリア３２で遮蔽されて視認されず、画素４ｂからの表示光のみが視認される。換言すれば、角度範囲ＶＬでは、画素４Ｌによる第１画像のみが視認され、角度範囲ＶＲでは、画素４Ｒによる第２画像のみが視認される。このように、液晶表示装置１Ａは、視差バリア３２によって、視角に応じて異なる画素４を遮光することにより、角度範囲ＶＬ，ＶＲにおいて２つの異なる画像を表示することができる。すなわち、視差バリア３２によって、画素４Ｌ、画素４Ｒからの第１画像及び第２画像の表示を空間的に分離することができる。
【００４１】
角度範囲ＶＬ，ＶＲは、ガラス基板１１の厚さによって調節することができ、その他、画素４のＸ軸方向についての配置ピッチや開口部３３の幅、及び遮光層１４の幅等にも依存する。本実施形態では、ガラス基板１１の厚さは約１００μｍ、画素４のＸ軸方向の配置ピッチは約７０μｍである。こうした構成によれば、例えば、ガラス基板１１の法線方向から１５度以上５０度以下の範囲とすることができる。特に、ガラス基板１１の法線方向から３０度の角度において好適に第１画像又は第２画像を観察することができる。
【００４２】
なお、角度範囲ＶＬ，ＶＲに挟まれた正面方向の角度範囲ＶＣにおいては、画素４ｂ及び画素４ｒからの表示光がともに視認される。すなわち、角度範囲ＶＣは、第１画像及び第２画像がともに表示される混在領域となっている。これは、開口部３３のＸ軸方向の幅が、遮光層１４のＸ軸方向の幅より広くなるように形成されているためである。
【００４３】
このように、液晶表示装置１Ａは、２つの異なる画像を異なる方向に同時に表示可能な、いわゆる２画面表示ディスプレイであり、そのためには、ガラス基板１１を薄板化して、例えば５０〜１００μｍ程度に薄くすることが必要となる。
【００４４】
ところで、ガラス基板１１を薄板化した際、ガラス基板１１の厚みにばらつきが生じる場合がある。特に、大判のガラス基板中に、複数の液晶セル２を形成した形態で、ガラス基板１１を含む大判のガラス基板を薄板化した場合には、さらに、大判のガラス基板の厚みがばらついてしまう傾向にある。そうすると、液晶セル２間でガラス基板１１の厚みが異なってしまい、ガラス基板１１と視差バリア３２との間隔が均一化されない。そこで、以下に、ガラス基板を薄板化して、当該ガラス基板の厚みにばらつきが生じた場合における液晶表示装置の製造方法について説明する。
【００４５】
（液晶表示装置の製造方法）
本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法について説明する。図５は、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートであり、図６は、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。なお、本実施形態では、説明を容易にするため、大判のガラス基板中に、２つの液晶セル２ａ，２ｂを形成した場合を例に説明する。
【００４６】
本実施形態にかかる液晶表示装置１Ａ（１Ａａ，１Ａｂ）の製造方法は、ガラス基板１１（１１ａ，１１ｂ）を含む第１基板１１Ａに対向してガラス基板２１（２１ａ，２１ｂ）を含む第２基板２１Ａを配置し、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとの間に液晶層４０（４０ａ，４０ｂ）を配置して複数の液晶セル２（２ａ，２ｂ）で構成される液晶セル群２Ａを形成する液晶セル群形成工程Ｓ１０と、液晶セル群２Ａの形態で、第１基板１１Ａの厚みを低減化する薄板化処理工程Ｓ１１と、低減化された第１基板１１Ａの厚みを測定する板厚測定工程Ｓ１２と、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、液晶セル２毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔を補正する間隔補正工程Ｓ３０と、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着する接着工程Ｓ３１と、液晶セル群２Ａを複数の液晶セル２に分割する分割工程Ｓ１３と、を含むものである。
【００４７】
図５に示すように、各工程Ｓ１０〜Ｓ１３は、複数の液晶セル２を形成する工程であり、工程Ｓ２０が視差分割部３０を形成する工程である。工程Ｓ３０及びＳ３１は、液晶セル２と視差分割部３０とを接着させて液晶表示装置１Ａ（１Ａｂ，１Ａｂ）を完成させるための工程である。ここで、工程Ｓ１０〜Ｓ１３と、工程Ｓ２０は、それぞれ独立して行われる。
【００４８】
まず、液晶セル群形成工程Ｓ１０では、図６（ａ）に示すように、ガラス基板１１ａ，１１ｂを含む第１基板１１Ａに対向してガラス基板２１ａ，２１ｂを含む第２基板２１Ａを配置し、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとの間に液晶層４０ａ，４０ｂを配置して複数の液晶セル２ａ，２ｂで構成される液晶セル群２Ａを形成する。
【００４９】
液晶セル群形成工程Ｓ１０における第１基板１１Ａには、予め、各液晶セル２ａ，２ｂに対応するガラス基板１１ａ，１１ｂのそれぞれに、カラーフィルター層１２、共通電極層１３及び配向膜１４を形成する。例えば、常圧又は減圧ＣＶＤ法、スピンコート法、フォトリソグラフィー法等の各種の成膜手法を用いて、上記部材を形成することができる。なお、図６中では、カラーフィルター層１２、共通電極層１３及び配向膜１４を省略して示している。
【００５０】
また、液晶セル群形成工程Ｓ１０における第２基板２１Ａには、予め、各液晶セル２ａ，２ｂに対応するガラス基板２１ａ，２１ｂのそれぞれに、回路素子層２２及び配向膜２３を形成する。例えば、常圧又は減圧ＣＶＤ法、スピンコート法、フォトリソグラフィー法等の各種の成膜手法を用いて、上記部材を形成することができる。なお、図６中では、回路素子層２２及び配向膜２３を省略して示している。
【００５１】
そして、液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとを枠状のシール材４５を介して貼り合わせる。より詳しくは、まず、第１基板１１Ａ又は第２基板２１Ａの少なくとも一方の、液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａ又は第２基板２１Ａの所定の部位に、スクリーン印刷法又はディスペンサー塗布法等によって枠状のシール材を塗布する。続いて、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとを位置合わせし、圧着する。その後、シール材４５を乾燥させて第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとを貼り合わせる。シール材４５には、後に液晶層４０となる液晶材料を注入するための注入口を設けておく。
【００５２】
次に、シール材４５によって囲まれた空間に液晶材料を注入し、封止剤によって封止する。液晶材料の注入は、真空下において注入口に液晶材料を滴下し、毛細管現象によって空間に液晶材料を導入する。また、封止は、注入口に紫外線硬化性樹脂を塗布し、その後当該紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化させることによって行う。こうして、複数の液晶セル２ａ，２ｂで構成された液晶セル群２Ａが形成される。なお、本実施形態では、液晶セルの形成方法として真空注入方式の方法を示したが、これに限定されるものではなく、たとえば真空貼り合わせ方式でもかまわない。
【００５３】
薄板化処理工程Ｓ１１では、図６（ｂ）に示すように、第１基板１１Ａを薄板化して、第１基板１１Ａの厚みを低減化する。例えば、ケミカルエッチング又はＣＭＰ等により第１基板１１Ａを約１００μｍの厚さに薄板化処理する。この際、第１基板１１Ａの厚みにばらつきが発生する場合がある。すなわち、各液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａの厚みが異なる場合がある。以下において、第１基板１１Ａの厚みが各液晶セル２ａ，２ｂ間で異なる場合について説明する。なお、本実施形態では、図６（ｂ）に示すように、液晶セル２ｂに対応する第１基板１１Ａの一端部から液晶セル２ａに対応する第１基板１１Ａの一端部に向けて、第１基板１１Ａの厚みが徐々に薄くなって薄板化された場合について説明する。
【００５４】
板厚測定工程Ｓ１２では、薄板化処理された第１基板１１Ａの厚みを測定する。測定方法としては、レーザー光、超音波等を用いた非接触測定のほか、ダイヤルゲージ等を用いた接触測定等で行うことができる。
【００５５】
分割工程Ｓ１３では、液晶セル群２Ａを複数の液晶セル２ａ，２ｂに分割する。これにより、図６（ｃ）に示すように、単体の液晶セル２ａ，２ｂが形成される。分割方法としては、例えば、液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａ及び第２基板２１Ａの表面にスクライブ溝を形成する。そして、両基板１１Ａ，２１Ａに外力を印加することにより、スクライブ溝に倣って切断することができる。なお、他の分割方法としては、例えば、ダイサーやレーザー光を利用して、両基板１１Ａ，２１Ａを切断してもよい。
【００５６】
視差分割部形成工程Ｓ２０では、ガラス基板３１の表面に視差バリア３２を形成して、視差分割部を形成する。具体的には、例えば、ガラス基板３１上に遮光性の樹脂をスピンコート法によって塗布して樹脂層を形成し、当該樹脂層をフォトリソグラフィー法によってパターニングすることによって行うことができる。なお、ガラス基板３１は、単体として、破損しにくくかつ取扱いが容易である厚さを有していることが好ましい。具体的には、０．４ｍｍ以上の厚さを有していることが好ましい。なお、本実施形態では、視差バリア３２を樹脂層で形成する例を示したが、これに限定されるものではなく、たとえば金属膜で形成することもできる。
【００５７】
次に、間隔補正工程Ｓ３０では、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、液晶セル２ａ，２ｂ毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔を補正する。本実施形態では、液晶セル２ａ，２ｂ毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着する接着剤の量を調整する接着剤量調整工程を含む。具体的には、複数の液晶セル２ａ，２ｂ間におけるガラス基板１１ａ，１１ｂと視差分割部３０の視差バリア３２との間隔が均一となるように、各液晶セル２ａ，２ｂ毎に、接着剤の量を調整する。本実施形態の例では、液晶セル２ａのガラス基板１１ａが、液晶セル２ｂのガラス基板１１ｂよりも、相対的に板厚が薄いので、液晶セル２ａのガラス基板１１ａに塗布する接着剤の量を、液晶セル２ｂのガラス基板１１ｂに塗布する接着剤の量よりも多くする。
【００５８】
接着工程Ｓ３１では、液晶セル２ａ，２ｂと視差分割部３０とを接着する。具体的には、図６（ｄ）に示すように、液晶セル２ａ，２ｂ毎に塗布された接着剤を介して、液晶セル２ａ，２ｂと視差分割部３０とを接着する。そして、接着剤を乾燥等により固化する。
【００５９】
その後、図６（ｄ）に示すように、視差分割部３０のガラス基板３１及び素子基板２０の外側に、それぞれ偏光板４６ａ、偏光板４６ｂを貼り付ける。
【００６０】
以上の工程を経ることにより、液晶表示装置１Ａａ，１Ａｂが完成する。
【００６１】
従って、第１実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００６２】
（１）液晶セル群２Ａの状態で第１基板１１Ａを薄板化した際に、複数の液晶セル２ａ，２ｂ間において、液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａの厚みにばらつきが発生した場合であっても、液晶セル２ａ，２ｂ毎に接着剤の量を調整することにより、ガラス基板１１ａ，１１ｂと視差バリア３２との間隔が調整でき、液晶セル２ａ，２ｂ間におけるガラス基板１１ａ，１１ｂと視差バリア３２との間隔を均一化することができる。
【００６３】
（２）液晶セル２ａ，２ｂ間における品質ばらつきが低減され、液晶表示装置１Ａを高い歩留りで製造することができる。これにより、不良等により発生する廃棄物の量を削減することができる。
【００６４】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。なお、図面において、第１実施形態と同様な部材については、第１実施形態と同様の符号を付している。
【００６５】
（液晶表示装置の構成）
まず、本実施形態にかかる液晶表示装置の構成について説明する。図７は、第２実施形態にかかる液晶表示装置の構成を示す断面図である。図８は、液晶表示装置の構成を示す平面図である。図７に示すように、液晶表示装置１Ｂは、液晶セル２と、視差分割部３０と、液晶セル２と視差分割部３０との間に設けられた接着層３５とを備えている。さらに、液晶セル２と視差分割部３０との間にスペーサー５０が配置されている。
【００６６】
液晶セル２は、対向基板１０と、対向基板１０に枠状のシール材４５を介して対向して貼り合わされた素子基板２０と、対向基板１０と素子基板２０との間に設けられた液晶層４０を有している。
【００６７】
対向基板１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の液晶層４０側の表面に設けられたカラーフィルター層１２と、カラーフィルター層１２の液晶層４０側の表面に設けられた透光性を有するＩＴＯ等からなる共通電極層１３と、共通電極層１３の液晶層４０側の表面に設けられたポリイミド等からなる配向膜１４とを備えている。
【００６８】
カラーフィルター層１２及び視差分割部３０の構成等については、第１実施形態と同様なので説明を省略する（図２，３参照）。
【００６９】
素子基板２０は、ガラス基板２１と、ガラス基板２１の液晶層４０側に設けられたＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子、ＴＦＴ素子に接続されたゲート線、データ線、及び画素電極等を含む回路素子層２２と、回路素子層２２の液晶層４０側の表面に設けられたポリイミド等からなる配向膜２３とを備えている。また、ガラス基板２１の液晶層４０側とは反対側の面には、偏光板４６ｂが配置されている。なお、ガラス基板２１と偏光板４６ｂとの間には、適宜位相差板等を配置してもよい。そして、偏光板４６ｂに対向する位置には、液晶表示装置１Ｂに向けて光を照射するバックライト等の照明部（図示省略）が配置されている。液晶層４０は、第１実施形態と同様なので説明を省略する。
【００７０】
液晶セル２と視差分割部３０との間には、複数のスペーサー５０が配置されている。これにより、液晶セル２と視差分割部３０との間の間隔が規制される。本実施形態では、スペーサー５０は、ガラス基板１１と視差バリア３２との間に配置されている。そして、スペーサー５０は、断面視において、略半球形状であり、液晶セル２内において高さが均一である。当該スペーサー５０は、例えば、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂によって形成されている。
【００７１】
スペーサー５０は、図８に示すように、平面視において、視差バリア３２の形成領域内に対応する位置に配置されている。すなわち、平面視において、スペーサー５０が、視差バリア３２によって隠れる（重なる）位置に配置されている。これにより、画像の視認性の低下を防止することができる。具体的なスペーサー５０の平面形状や配置状態としては、例えば、図８（ａ）に示すように、ドット形状を有し、略等間隔で配置されている。他の例としては、例えば、図８（ｂ）に示すように、ライン形状を有し、略等間隔で配置されている。
【００７２】
なお、本実施形態の液晶表示装置１Ｂの２画像表示方法については、第１実施形態と同様なので、説明を省略する。
【００７３】
（液晶表示装置の製造方法）
次に、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法について説明する。図９は、本実実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートであり、図１０は、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【００７４】
本実施形態にかかる液晶表示装置１Ｂの製造方法は、図９に示すように、ガラス基板１１（１１ａ，１１ｂ）を含む第１基板１１Ａに対向してガラス基板２１（２１ａ、２１ｂ）を含む第２基板２１Ａを配置し、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとの間に液晶層４０（４０ａ，４０ｂ）を配置して複数の液晶セル２（２ａ，２ｂ）で構成される液晶セル群２Ｂを形成する液晶セル群形成工程Ｓ４０と、液晶セル群２Ｂの形態で、第１基板１１Ａの厚みを低減化する薄板化処理工程Ｓ４１と、低減化された第１基板１１Ａの厚みを測定する板厚測定工程Ｓ４２と、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、液晶セル２毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔を補正する間隔補正工程Ｓ４３と、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着する接着工程Ｓ６０と、液晶セル群２Ｂを複数の液晶セル２に分割する分割工程Ｓ６１と、を含むものである。さらに、本実施形態の間隔補正工程Ｓ４３は、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間にスペーサー５０を配置するスペーサー配置工程を含み、当該スペーサー配置工程は、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、スペーサー５０の材料を含む液状材料を第１基板１１Ａ上に塗布する塗布工程と、塗布された液状材料を固化して、スペーサー５０を形成する固化工程と、を有している。
【００７５】
なお、図９に示すように、各工程Ｓ４０〜Ｓ４３は、主に、複数の液晶セル２を形成する工程であり、工程Ｓ５０が視差分割部３０を形成する工程である。工程Ｓ６０は、液晶セル２と視差分割部３０とを接着させて液晶表示装置１Ｂ（１Ｂｂ，１Ｂｂ）を完成させるための工程である。ここで、工程Ｓ４０〜Ｓ４３と、工程Ｓ５０は、それぞれ独立して行われる。なお、本実施形態のスペーサー配置工程では、スペーサー５０の材料を含む液状材料を液滴として吐出して、第１基板１１Ａ上に液状材料を塗布する液滴吐出装置を用いる。そこで、液晶表示装置１Ｂの製造方法の説明に先立ち、まず、液滴吐出装置について説明する。
【００７６】
図１１は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１００１と、Ｘ軸方向駆動軸１００４と、Ｙ軸方向ガイド軸１００５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ１００７と、クリーニング機構１００８と、基台１００９と、ヒーター１０１５等を備えている。
【００７７】
ステージ１００７は、液状材料が塗布されるワークＷを支持するものであって、ワークＷを基準位置に固定する図示は省略の固定機構を備えている。
【００７８】
液滴吐出ヘッド１００１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＸ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１００１の下面に一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド１００１の吐出ノズルからは、ステージ１００７に支持されているワークＷに対して、液状材料を液滴として吐出して、ワークＷ上に液状材料を塗布すうように構成されている。
【００７９】
Ｘ軸方向駆動軸１００４には、Ｘ軸方向駆動モーター１００２が接続されている。このＸ軸方向駆動モーター１００２は、ステッピングモーター等からなるもので、制御装置ＣＯＮＴからＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ軸方向駆動軸１００４を回転させる。Ｘ軸方向駆動軸１００４が回転すると、液滴吐出ヘッド１００１はＸ軸方向に移動する。
【００８０】
Ｙ軸方向ガイド軸１００５は、基台１００９に対して動かないように固定されている。ステージ１００７は、Ｙ軸方向駆動モーター１００３を備えている。Ｙ軸方向駆動モーター１００３はステッピングモーター等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ１００７をＹ軸方向に移動する。
【００８１】
制御装置ＣＯＮＴは、液滴吐出ヘッド１００１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ軸方向駆動モーター１００２に液滴吐出ヘッド１００１のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ軸方向駆動モーター１００３にステージ１００７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
【００８２】
クリーニング機構１００８は、液滴吐出ヘッド１００１をクリーニングするものである。クリーニング機構１００８には、図示は省略のＹ軸方向の駆動モーターが備えられている。このＹ軸方向の駆動モーターの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸１００５に沿って移動する。クリーニング機構１００８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００８３】
ヒーター１０１５は、ここではランプアニールによりワークＷを熱処理する手段であり、ワークＷ上に配置された液状材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒーター１０１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００８４】
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１００１とワークＷを支持するステージ１００７とを相対的に走査しつつ、ワークＷに対して、液滴吐出ヘッド１００１の下面にＸ軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出するようになっている。
【００８５】
図１２は、ピエゾ方式による液状材料の吐出原理を示す模式図である。図１２において、液状材料を収容する液体室１０２１に隣接してピエゾ素子１０２２が設置されている。液体室１０２１には、液状材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系１０２３を介して液状材料が供給される。ピエゾ素子１０２２は駆動回路１０２４に接続されており、この駆動回路１０２４を介してピエゾ素子１０２２に電圧を印加し、ピエゾ素子１０２２を変形させることにより、液体室１０２１が変形し、吐出ノズル１０２５から液状材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子１０２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子１０２２の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【００８６】
ここで、液晶表示装置１Ｂの製造方法の説明に戻る。なお、本実施形態では、説明を容易にするため、２つの液晶セル２ａ，２ｂを形成した場合を例に説明する。まず、液晶セル群形成工程Ｓ４０では、図１０（ａ）に示すように、ガラス基板１１ａ，１１ｂを含む第１基板１１Ａに対向してガラス基板２１ａ，２１ｂを含む第２基板２１Ａを配置し、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとの間に液晶層４０ａ，４０ｂを配置して複数の液晶セル２ａ，２ｂで構成される液晶セル群２Ａを形成する。なお、液晶セル群形成工程Ｓ４０の具体的な方法等については、第１実施形態と同様なので、説明を省略する。
【００８７】
薄板化処理工程Ｓ４１では、図１０（ｂ）に示すように、第１基板１１Ａを薄板化して、第１基板１１Ａの厚みを低減化する。例えば、ケミカルエッチング又はＣＭＰ等により第１基板１１Ａを約１００μｍの厚さに薄板化処理する。この際、第１基板１１Ａの厚みにばらつきが発生する場合がある。すなわち、各液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａの厚みが異なる場合がある。以下において、第１基板１１Ａの厚みが各液晶セル２ａ，２ｂ間で異なる場合について説明する。なお、本実施形態では、第１実施形態と同様に、液晶セル２ｂに対応する第１基板１１Ａの端部から液晶セル２ａに対応する第１基板１１Ａの端部に向けて、第１基板１１Ａの厚みが徐々に薄くなって薄板化処理された場合について説明する。
【００８８】
板厚測定工程Ｓ４２では、薄板化処理された第１基板１１Ａの厚みを測定する。測定方法としては、レーザー光、超音波等を用いた非接触測定のほか、ダイヤルゲージ等を用いた接触測定等で行うことができる。
【００８９】
次に、間隔補正工程Ｓ４３では、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、液晶セル２ａ，２ｂ毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔を補正する。本実施形態では、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間にスペーサー５０を配置する。具体的には、液滴吐出装置ＩＪを用いて、スペーサー５０を形成する。以下に、スペーサー５０の形成方法にかかる塗布工程と固化工程について説明する。
【００９０】
まず、塗布工程では、図１０（ｃ）に示すように、液滴吐出装置ＩＪを用いて、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、スペーサー５０の材料を含む液状材料を液滴Ｄとして吐出し、第１基板１１Ａ上に液状材料５０ａ’，５０ｂ’を塗布する。この際、複数の液晶セル２ａ，２ｂ間におけるガラス基板１１ａ，１１ｂと視差分割部３０の視差バリア３２との間隔が均一となるように、各液晶セル２ａ，２ｂ毎に、液状材料５０ａ’，５０ｂ’の塗布量を調整する（吐出量を調整する）。本実施形態の例では、液晶セル２ａに対応する第１基板１１Ａが、液晶セル２ｂに対応する第１基板１１Ａよりも、相対的に板厚が薄いので、液晶セル２ａに対応する第１基板１１Ａに塗布する液状材料５０ａ’の量を、液晶セル２ｂに対応する第１基板１１Ａに塗布する液状材料５０ｂ’の量よりも多くする。換言すれば、液状材料５０ａ’高さを液状材料５０ｂ’の高さよりも高くする。また、液晶セル２ａ、２ｂと視差バリア３２の接着位置を考慮して、平面視において、視差バリア３２の形成領域内に対応する第１基板１１Ａ上の位置に液状材料５０ａ’，５０ｂ’を塗布する。
【００９１】
次に、固化工程では、塗布された液状材料５０ａ’，５０ｂ’を固化する。固化することにより、スペーサー５０ａ，５０ｂが形成される。ここで、図１０（ｄ）に示すように、スペーサー５０ａ，５０ｂは、各液晶セル２ａ，２ｂ内において高さが均一であるが、第１基板１１Ａの厚みに応じて液状材料５０ａ’，５０ｂ’を塗布したため、液晶セル２ａ，２ｂ間においては、それぞれ高さが異なる。本実施形態では、液晶セル２ａに対応するスペーサー５０ａの方が、液晶セル２ｂに対応するスペーサー５０ｂよりも高さが高く形成される。
【００９２】
一方、視差分割部形成工程Ｓ５０では、第１実施形態と同様にして、ガラス基板３１の表面に視差バリア３２を形成することにより、視差分割部３０を形成する。
【００９３】
接着工程Ｓ６０では、液晶セル２ａ，２ｂと視差分割部３０とを接着する。具体的には、図１０（ｅ）に示すように、接着剤を介して、液晶セル２ａ，２ｂと視差分割部３０とを接着する。この際、スペーサー５０ａ，５０ｂによって、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔が規制される。
【００９４】
分割工程Ｓ６１では、液晶セル群２Ｂを複数の液晶セル２ａ，２ｂに分割する。分割方法としては第１実施形態と同様なので説明を省略する。その後、図１０（ｆ）に示すように、視差分割部３０のガラス基板３１及び素子基板２０の外側に、それぞれ偏光板４６ａ、偏光板４６ｂを貼り付ける。
【００９５】
以上の工程を経ることにより、液晶表示装置１Ｂａ，１Ｂｂが完成する。
【００９６】
従って、第２実施形態によれば、第１実施形態の効果に加え、以下に示す効果がある。
【００９７】
（１）液晶セル群２Ｂの状態で第１基板１１Ａを薄板化した際に、複数の液晶セル２ａ，２ｂ間において、液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａの厚みにばらつきが発生した場合であっても、液晶セル２ａ，２ｂ毎に、第１基板１１Ａと視差バリア３２との間に、第１基板１１の厚みに応じた高さを有するスペーサー５０ａ，５０ｂを設けることにより、ガラス基板１１ａ，１１ｂと視差バリア３２との間隔が調整でき、液晶セル２ａ，２ｂ間におけるガラス基板１１ａ，１１ｂと視差バリア３２との間隔を均一化させることができる。  
【００９８】
（２）液滴吐出装置ＩＪを用いて、スペーサー５０ａ，５０ｂの材料を含む液状材料５０ａ’，５０ｂ’を第１基板１１Ａに塗布した。これにより、必要な箇所に必要な厚みのスペーサー５０ａ，５０ｂを容易に形成することができる。
【００９９】
（３）平面視において、視差バリア３２の形成領域内に対応する位置にスペーサー５０を形成した。これにより、カラーフィルター層１２を透過した光は、スペーサー５０ａ，５０ｂを介することなく開口部３３を透過するため、視認性を確保することができる。
【０１００】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態について説明する。図面において、第１又は第２実施形態と同様な部材については、第１又は第２実施形態と同様の符号を付している。
【０１０１】
（液晶表示装置の構成）
まず、本実施形態にかかる液晶表示装置の構成について説明する。図１３は、本実施形態にかかる液晶表示装置の構成を示す断面図である。図１３に示すように、液晶表示装置１Ｃは、液晶セル２と、視差分割部３０と、液晶セル２と視差分割部３０との間にもうけられた接着層３５とを備えている。さらに、液晶セル２と視差分割部３０との間にスペーサー５１が配置されている。
【０１０２】
液晶セル２は、対向基板１０と、対向基板１０に枠状のシール材４５を介して対向して貼り合わされた素子基板２０と、対向基板１０と素子基板２０との間に設けられた液晶層４０を有している。
【０１０３】
対向基板１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の液晶層４０側の表面に設けられたカラーフィルター層１２と、カラーフィルター層１２の液晶層４０側の表面に設けられた透光性を有するＩＴＯ等からなる共通電極層１３と、共通電極層１３の液晶層４０側の表面に設けられたポリイミド等からなる配向膜１４とを備えている。
【０１０４】
カラーフィルター層１２及び視差分割部３０の構成等については、第１実施形態と同様なので説明を省略する（図２，３参照）。
【０１０５】
素子基板２０は、ガラス基板２１と、ガラス基板２１の液晶層４０側に設けられたＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子、ＴＦＴ素子に接続されたゲート線、データ線、及び画素電極等を含む回路素子層２２と、回路素子層２２の液晶層４０側の表面に設けられたポリイミド等からなる配向膜２３とを備えている。また、ガラス基板２１の液晶層４０側とは反対側の面には、偏光板４６ｂが配置されている。なお、ガラス基板２１と偏光板４６ｂとの間には、適宜位相差板等を配置してもよい。そして、偏光板４６ｂに対向する位置には、液晶表示装置１Ｃに向けて光を照射するバックライト等の照明部（図示省略）が配置されている。液晶層４０は、第１実施形態と同様なので説明を省略する。
【０１０６】
液晶セル２と視差分割部３０との間には、複数のスペーサー５１が配置されている。これにより、液晶セル２と視差分割部３０との間の間隔が規制される。本実施形態では、スペーサー５１は、ガラス基板１１と視差バリア３２との間に配置されている。そして、スペーサー５１は、断面視において、略半球形状であり、液晶層４０に接する対向基板１０の面から各スペーサー５１の頂部までの距離が均一となるように形成されている。なお、スペーサー５１の配置位置等については、第２実施形態と同様なので説明を省略する（図８参照）。また、本実施形態の液晶表示装置１Ｃの２画像表示方法については、第１実施形態と同様なので、説明を省略する。
【０１０７】
（液晶表示装置の製造方法）
次に、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法について説明する。図１４は、本実実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。なお、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートは、第２実施形態と同様である（図９参照）。なお、本実施形態では、説明を容易にするため、２つの液晶セル２ａ，２ｂを形成した場合を例に説明する。
【０１０８】
本実施形態にかかる液晶表示装置１Ｃの製造方法は、ガラス基板１１ａ，１１ｂを含む第１基板１１Ａに対向してガラス基板２１ａ，２１ｂを含む第２基板２１Ａを配置し、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとの間に液晶層４０ａ，４０ｂを配置して複数の液晶セル２ａ，２ｂで構成される液晶セル群２Ｃを形成する液晶セル群形成工程Ｓ４０と、液晶セル群２Ｃの形態で、第１基板１１Ａの厚みを低減化する薄板化処理工程Ｓ４１と、低減化された第１基板１１Ａの厚みを測定する板厚測定工程Ｓ４２と、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、液晶セル２毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔を補正する間隔補正工程Ｓ４３と、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着する接着工程Ｓ６０と、液晶セル群２Ａを複数の液晶セル２に分割する分割工程Ｓ６１と、を含むものである。さらに、本実施形態の間隔補正工程Ｓ４３は、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間にスペーサー５１を配置するスペーサー配置工程を含み、当該スペーサー配置工程は、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、スペーサー５１の材料を含む液状材料を第１基板１１Ａ上に塗布する塗布工程と、塗布された液状材料を固化して、スペーサー５１を形成する固化工程と、を有している。
【０１０９】
まず、液晶セル群形成工程Ｓ４０では、図１４（ａ）に示すように、ガラス基板１１ａ，１１ｂを含む第１基板１１Ａに対向してガラス基板２１ａ，２１ｂを含む第２基板２１Ａを配置し、第１基板１１Ａと第２基板２１Ａとの間に液晶層４０ａ，４０ｂを配置して複数の液晶セル２ａ，２ｂで構成される液晶セル群２Ｃを形成する。なお、液晶セル群形成工程Ｓ４０の具体的な方法等については、第１実施形態と同様なので、説明を省略する。
【０１１０】
薄板化処理工程Ｓ４１では、図１４（ｂ）に示すように、第１基板１１Ａの厚みを低減化する。例えば、ケミカルエッチング又はＣＭＰ等により第１基板１１Ａを約１００μｍの厚さに薄板化処理する。この際、第１基板１１Ａの厚みにばらつきが発生する場合がある。すなわち、各液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａの厚みが異なる場合がある。以下において、第１基板１１Ａの厚みが各液晶セル２ａ，２ｂ間で異なる場合について説明する。なお、本実施形態では、第１及び第２実施形態と同様に、液晶セル２ｂに対応する第１基板１１Ａの端部から液晶セル２ａに対応する第１基板１１Ａの端部に向けて、第１基板１１Ａの厚みが徐々に薄くなって薄板化処理された場合について説明する。
【０１１１】
板厚測定工程Ｓ４２では、薄板化処理された第１基板１１Ａの厚みを測定する。測定方法としては、レーザー光、超音波等を用いた非接触測定のほか、ダイヤルゲージ等を用いた接触測定等、種々の方法で行うことができる。
【０１１２】
次に、間隔補正工程Ｓ４３では、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、液晶セル２ａ，２ｂ毎に、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間隔を補正する。本実施形態では、第１基板１１Ａと視差分割部３０との間にスペーサー５１を配置する。具体的には、液滴吐出装置ＩＪを用いて、スペーサー５１を形成する。以下に、スペーサー５１の形成方法として、塗布工程と固化工程について説明する。
【０１１３】
まず、塗布工程では、図１４（ｃ）に示すように、液滴吐出装置ＩＪを用いて、測定された第１基板１１Ａの厚みに基づいて、スペーサー５１の材料を含む液状材料を液滴Ｄとして吐出し、第１基板１１Ａ上に液状材料５１’を塗布する。この際、液晶層４０に接する第１基板１１Ａの面から液状材料５１’の頂部までの距離が均一となるように、第１基板１１Ａ上の塗布位置に応じて液状材料５１’の塗布量を調整する（吐出量を調整する）。本実施形態の例では、第１基板１１Ａの板厚が、液晶セル２ｂから液晶セル２ａに向けて徐々に薄くなっているので、液晶セル２ｂから液晶セル２ａに向けて、第１基板１１Ａに塗布する液状材料５１’の量を多くしていく。換言すれば、液状材料５１’の高さを第１基板１１Ａに厚みに応じて徐々に高くする。なお、塗布方向は、上記の方向に限定されず、液晶セル２ａから液晶セル２ｂの方向に液晶材料５１’を塗布してもよい。そして、液晶セル２ａ、２ｂと視差バリア３２との接着位置を考慮して、平面視において、視差バリア３２の形成領域内に対応する第１基板１１Ａ上の位置に液状材料５１’を塗布する。
【０１１４】
次に、固化工程では、塗布された液状材料５１’を固化する。固化することにより、図１４（ｄ）に示すように、第１基板１１Ａ上には、液晶層４０ａ，４０ｂに接する第１基板１１Ａの面から各スペーサー５１の頂部までの距離が均一となるスペーサー５１が形成される。すなわち、第１基板１１Ａの厚みに応じて、高さが異なるスペーサー５１が形成される。
【０１１５】
一方、視差分割部形成工程Ｓ５０では、第１実施形態と同様にして、ガラス基板３１の表面に視差バリア３２を形成することにより、視差分割部３０を形成する。
【０１１６】
接着工程Ｓ６０では、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着する。具体的には、図１４（ｅ）に示すように、接着剤を介して、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着する。この際、スペーサー５１によって、第１基板１１Ａと視差バリア３２との間隔が規制される。そして、スペーサー５１は、液晶層４０に接する第１基板１１Ａの面から各スペーサー５１の頂部までの距離が均一であるため、液晶層４０に接する第１基板１１Ａの面から視差バリア３２との距離が均一化される。すなわち、液晶層４０に接する第１基板１１Ａの面と視差分割部３０の視差バリア３２の頂部面とが平行となる。
【０１１７】
分割工程Ｓ６１では、液晶セル群２Ｃを複数の液晶セル２ａ，２ｂに分割する。分割方法としては、ダイサーやレーザー光を利用して、両基板１１Ａ，２１Ａ、３１Ａを切断することができる。その後、図１４（ｆ）に示すように、視差分割部３０のガラス基板３１及び素子基板２０の外側に、それぞれ偏光板４６ａ、偏光板４６ｂを貼り付ける。
【０１１８】
以上の工程を経ることにより、液晶表示装置１Ｃａ，１Ｃｂが完成する。
【０１１９】
従って、第３実施形態によれば、第１及び第２実施形態の効果に加え、以下に示す効果がある。
【０１２０】
（１）液晶セル群２Ｃの状態で第１基板１１Ａを薄板化した際に、複数の液晶セル２ａ，２ｂ間において、液晶セル２ａ，２ｂに対応する第１基板１１Ａの厚みにばらつきが発生した場合であっても、第１基板１１Ａの厚みに応じて、液晶層４０に接する第１基板１１Ａの面と視差バリア３２の頂部面とが平行となるように高さ調整されたスペーサー５１を設けることにより、液晶セル２ａ，２ｂ間におけるガラス基板１１ａ，１１ｂと視差バリア３２との間隔を均一化させることができる。
【０１２１】
（２）液晶セルを分割する前の状態で基板３１の貼り合わせを行うことができる。個々の液晶セルに分割した基板３１を貼り合わせる場合は、個々の液晶セルごとに位置あわせが必要となる。また、分割した後の液晶セルの大きさは製品の種類により異なるため、製品の種類ごとに治工具を用意する必要がある。一方、分割する前に貼りあわせを行う第三の実施例の場合、位置合わせは１回で良く、治工具も分割前の基板の大きさに合わせた１種類を用意すれば良い。したがって、より低コストで製品を作ることが出来る。
【０１２２】
（電子機器の構成）
次に、第１〜第３実施形態の液晶表示装置を搭載した電子機器の構成について説明する。図１５は、電子機器としてのカーナビゲーションシステム用の表示装置の構成を示す斜視図である。図１５に示すように、カーナビゲーションシステム用の表示装置１００は、画像等を表示する表示領域１１０を有する。そして、表示領域１１０には、液晶表示装置１Ａ（１Ｂ，１Ｃ）が搭載されている。当該カーナビゲーションシステム用の表示装置１００の構成によれば、搭載された液晶表示装置１によって、２つの画像を異なる方向に同時に表示することができる。例えば、運転席側に地図の画像を表示するとともに、助手席側に映画の画像を表示することができる。
【０１２３】
なお、液晶表示装置１を搭載した電子機器としては、カーナビゲーションシステム用の表示装置１００の他、モバイルコンピューター、携帯電話機、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に適用することができる。
【０１２４】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【０１２５】
（変形例１）第１〜第３実施形態では、視差バリア３２を有する液晶表示装置１Ａ（１Ｂ，１Ｃ）について説明したが、視差バリア３２に代えて、レンチキュラーレンズを有する視差分割部３０を構成してもよい。レンチキュラーレンズを備えた液晶表示装置を製造するためには、上記実施形態の製造方法において、第１の基板としてのガラス基板３１上にレンチキュラーレンズを配置、固定したものを、視差分割部３０と置き換えればよい。そして、レンチキュラーレンズと第１基板１１Ａとの間の接着剤の量を調整、或いは、レンチキュラーレンズと第１基板１１Ａとの間にスペーサー５０（５１）を形成すればよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【０１２６】
（変形例２）第１〜第３実施形態における液晶セル２に含まれる液晶層４０のモードは、ＴＮモードに限られず、ＶＡ（VerticalAlignment：垂直配向）、ＩＰＳ（In Plain Switching）、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）等、種々のモードを採用することができる。これらのモードの中では、広視野角の得られるＶＡ、ＩＰＳ、ＦＦＳが好適である。液晶層４０を広視野角の得られるモードとすれば、正面から左右に傾いた視角において視認される第１画像及び第２画像を高輝度かつ高品位に表示することができる。
【０１２７】
（変形例３）第１〜第３実施形態における液晶表示装置１Ａ（１Ｂ，１Ｃ）は、２つの画像を同時に表示するものについて説明したが、これに限定されず、３つ以上の画像を同時に表示するものであってもよい。３つの画像を同時に表示させる場合は、第１画像を表示する画素４Ｌ、第２画像を表示する画素４Ｒに加えて、第３の画像を表示する画素４Ｃを設け、これらを透過した表示光を、視差分割部３０の視差バリア３２によって異なる方向に射出するように構成すればよい。また、表示の方向を制御するためには、第１基板１１Ａの板厚を調整するなどしてカラーフィルター層１２と視差バリア３２との間の距離を調整すればよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【０１２８】
（変形例４）第１実施形態では、液晶セル２ａ，２ｂを分割した後に、ガラス基板１１ａ，１０ｂと視差分割部３０とを接着したが、第１基板１１Ａ（ガラス基板１１ａ，１１ｂを含む）状態で、第１基板１１Ａと視差分割部３０とを接着した後に、液晶セル２ａ，２ｂに分割してもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【０１２９】
（変形例５）第１実施形態では、接着剤の塗布量を調整することにより、ガラス基板１１ａ，１１ｂと視差分割部３０との距離を調整したが、接着剤にスペーサーを含ませ、スペーサーを含む接着剤の塗布量を調整してもよい。このようにすれば、ガラス基板１１ａ，１１ｂと視差分割部３０との距離を容易に調整することができる。
【０１３０】
（変形例６）第２及び第３実施形態では、全ての視差バリア３２の形成領域に対応してスペーサー５０（５１）を設けたが、これに限定されず、任意に設けてもよい。すなわち、第１基板１１Ａと視差バリア３２との距離が確保できる程度に、間引きして、スペーサー５０（５１）を設けてもよい。このようにしても、第１基板１１Ａと視差バリア３２との距離を規制することができる。
【０１３１】
（変形例７）第２及び第３実施形態では、第１基板１１Ａ上にスペーサー５０（５１）を形成したが、これに限定されず、視差バリア３２上にスペーサー５０（５１）を形成ししてもよい。このようにすれば、確実に、視差バリア３２の形成領域内にスペーサー５０（５１）を形成することができるので、視認性を向上させることができる。
【符号の説明】
【０１３２】
１，１Ａ，１Ａａ，１Ａｂ，１Ｂ，１Ｂａ，１Ｂｂ，１Ｃ，１Ｃａ，１Ｃｂ…液晶表示装置、２，２ａ，２ｂ…液晶セル、２Ａ，２Ｂ，２Ｃ…液晶セル群、１０…対向基板、１１，１１ａ，１１ｂ…第１基板１１Ａ…第１基板、２１Ａ…第２基板、３０…視差分割部、３２…視差バリア、３３…開口部、３５…接着層、４０，４０ａ，４０ｂ…液晶層、５０，５０ａ，５０ｂ，５１…スペーサー、５０ａ’，５０ｂ’，５１’…液状材料、１００…電子機器としてのカーナビゲーションシステム用の表示装置、ＩＪ…液滴吐出装置、Ｄ…液滴。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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