(57)【要約】【課題】絶縁層の内部絶縁劣化を適切に判断するとともに、絶縁層にワニスを確実に再含浸させることができる技術を提供する。【解決手段】絶縁層表面に、アルコール濃度７５〜９０質量％の水で希釈したアルコールを噴霧した場合に、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、絶縁層が内部絶縁劣化を起こしていると判断し、電気機巻線を含浸タンク内でワニスに浸漬させ、含浸タンクを真空にしてボイドを脱気し、含浸タンクを加圧して絶縁層にワニスを再含浸させ、電気機器巻線を加熱して乾燥させる。  （１）Ｌｏｇ（Ｒｄ／Ｒｗ）≧２  Ｒｄ：乾燥状態の絶縁層の抵抗値  Ｒｗ：アルコール噴霧後の絶縁層の抵抗値  （２）前記絶縁層の絶縁抵抗が５０％回復する時間≧６０秒【選択図】図７
2011120397.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体の周囲を絶縁テープで覆い、前記絶縁テープにワニスを含浸させて絶縁層を形成した直流電動機の巻線の絶縁性回復方法において、
前記絶縁層表面に、水で希釈したアルコール濃度７５〜９０質量％のアルコールを噴霧し、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、前記絶縁層が内部絶縁劣化を起こしていると判断し、
前記電気機巻線を含浸タンク内でワニスに浸漬させ、前記含浸タンクを真空にして前記絶縁層に生成したボイドを脱気する真空脱泡処理と、
前記真空脱泡処理を行った後に、前記含浸タンクを加圧して前記絶縁層にワニスを再含浸させる加圧含浸処理と、
前記加圧含浸処理を行った後に、前記含浸タンクを放圧し、前記電気機器巻線を加熱して乾燥させる加熱乾燥処理とからなるワニス再含浸処理を行うことを特徴とする直流電動機の巻線の絶縁性回復方法。
（１）Ｌｏｇ（Ｒｄ／Ｒｗ）≧２
Ｒｄ：乾燥状態の前記絶縁層の抵抗値
Ｒｗ：アルコール噴霧後の前記絶縁層の抵抗値
（２）前記絶縁層の絶縁抵抗が５０％回復する時間≧６０秒
【請求項２】
泡発生間隔が２０秒以上となるまで真空脱泡処理を行うことを特徴とする請求項１に記載の直流電動機の巻線の絶縁性回復方法。
【請求項３】
絶縁層の静電容量を測定し、
下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、ワニス再含浸処理が良好であると判定することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の直流電動機の巻線の絶縁性回復方法。
（１）Ｃｐ’／Ｃｐ×１００≧９７％
Ｃｐ：放圧前の絶縁層の静電容量
Ｃｐ’： 放圧後の絶縁層の静電容量
（２）Ｃｄ／Ｃｗ≧１．１
Ｃｗ：ワニス再含浸処理前の絶縁層の静電容量
Ｃｄ：加熱乾燥処理後の絶縁層の静電容量
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直流電動機の巻線の絶縁性を回復させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１１に示されるような中型や大型の直流電動機の巻線９０は、図１２に示されるように、隣接する導体９１間や導体９１と鉄心（図示せず）間の絶縁性を確保するために、導体９１の周囲に絶縁層９５を形成している。絶縁層９５は、導体９１の周囲覆う布状のガラスマイカクロステープ等の絶縁テープ９２と、絶縁テープ９２に含浸させるアルキド樹脂やポリエステル樹脂等のワニス９３とから構成されている。このワニス９３には、絶縁テープ９２のズレを防止する役割と、絶縁層９５の絶縁性を向上させる役割がある。
【０００３】
ところで、中型や大型の直流電動機の使用に伴い、図１２の（Ｂ）や（Ｃ）に示されるように、ワニス９３が熱により劣化（酸化・分解反応による収縮）し、空隙であるボイド９９が発生してしまう。ボイド９９が発生すると、図１３に示されるように、絶縁層９５の絶縁抵抗が低下してしまう。これを、絶縁層９５の内部絶縁劣化という。特に、湿度が高くなるにつれて、絶縁層９５の絶縁抵抗が著しく低下してしまう。絶縁層９５の絶縁抵抗が低下すると、導体９１と鉄心との間でショートし、磁界を発生させることができなくなったり、最悪の場合には隣接する導体９１間でショートし、導体９１が溶損したりしてしまう。
【０００４】
そこで、所定期間、中型や大型の直流電動機を運用した場合には、中型や大型の直流電動機から回転子１０を取り外し、当該回転子１０をワニスに浸漬させ、絶縁層９５にワニスを再含浸させることにより、中型や大型の直流電動機を延命させていた。前述したように絶縁層９５の絶縁抵抗が著しく低下している状態で、中型や大型の直流電動機を運用すると、導体が溶損してしまう。一方で、絶縁層９５の絶縁抵抗が十分な状態で、ワニスの再含浸を行うと、無駄な費用が発生してしまう。このため、絶縁層９５の劣化を適切に判断する方法が要望されていた。
特許文献１に示される電気機器巻線の絶縁劣化診断法は、電気機器巻線の絶縁組織の一部を微少採取してその熱重量を測定し、その熱重量減少割合より、巻線の絶縁劣化を判定している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公昭６０−４７９９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に示される電気機器巻線の絶縁劣化診断法では、絶縁が相当にダメージを受けている場合にしか適用できず、絶縁層の内部絶縁劣化を適切に判断することは困難であった。
本発明は、上記問題を解決し、絶縁層の内部絶縁劣化を適切に判断するとともに、絶縁層にワニスを確実に再含浸させることができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためになされた請求項１に記載の発明は、
導体の周囲を絶縁テープで覆い、前記絶縁テープにワニスを含浸させて絶縁層を形成した直流電動機の巻線の絶縁性回復方法において、
前記絶縁層表面に、水で希釈したアルコール濃度７５〜９０質量％のアルコールを噴霧し、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、前記絶縁層が内部絶縁劣化を起こしていると判断し、
前記電気機巻線を含浸タンク内でワニスに浸漬させ、前記含浸タンクを真空にして前記絶縁層に生成したボイドを脱気する真空脱泡処理と、
前記真空脱泡処理を行った後に、前記含浸タンクを加圧して前記絶縁層にワニスを再含浸させる加圧含浸処理と、
前記加圧含浸処理を行った後に、前記含浸タンクを放圧し、前記電気機器巻線を加熱して乾燥させる加熱乾燥処理とからなるワニス再含浸処理を行うことを特徴とする。
（１）Ｌｏｇ（Ｒｄ／Ｒｗ）≧２
Ｒｄ：乾燥状態の前記絶縁層の抵抗値
Ｒｗ：アルコール噴霧後の前記絶縁層の抵抗値
（２）アルコール噴霧後から、前記絶縁層の絶縁抵抗が５０％回復する時間≧６０秒
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、
泡発生間隔が２０秒以上となるまで真空脱泡処理を行うことを特徴とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、
絶縁層の静電容量を測定し、
下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、ワニス再含浸処理が良好であると判定することを特徴とする。
（１）Ｃｐ’／Ｃｐ×１００≧９７％
Ｃｐ：放圧前の絶縁層の静電容量
Ｃｐ’： 放圧後の絶縁層の静電容量
（２）Ｃｄ／Ｃｗ≧１．１
Ｃｗ：ワニス再含浸処理前の絶縁層の静電容量
Ｃｄ：加熱乾燥処理後の絶縁層の静電容量
【発明の効果】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、絶縁層表面に、水で希釈したアルコール濃度７５〜９０質量％のアルコールを噴霧して、絶縁層が内部絶縁劣化を起こしているか否かを判断する。
これにより、絶縁層の内部絶縁劣化の検出感度が不足することがなく、絶縁層の表面に付着した導体性を有するダストが長時間吸湿した状態となることがなく、内部絶縁劣化を起こしているか否かの判断が容易となる。
また、絶縁層表面に、アルコール濃度７５〜９０質量％の水で希釈したアルコールを噴霧し、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、絶縁層が内部絶縁劣化を起こしていると判断する。
（１）Ｌｏｇ（Ｒｄ／Ｒｗ）≧２
Ｒｄ：乾燥状態の前記絶縁層の抵抗値
Ｒｗ：アルコール噴霧後の前記絶縁層の抵抗値
（２）前記絶縁層の絶縁抵抗が５０％回復する時間≧６０秒
これにより、絶縁層の内部絶縁劣化を確実に判断することが可能となる。
更に、前記方法により、絶縁層が内部絶縁劣化を起こしていると判断した場合には、電気機巻線を含浸タンク内でワニスに浸漬させ、前記含浸タンクを真空にして前記絶縁層に生成したボイドを脱気する真空脱泡処理と、前記真空脱泡処理を行った後に、前記含浸タンクを加圧して前記絶縁層にワニスを再含浸させる加圧含浸処理と、前記加圧含浸処理を行った後に、前記含浸タンクを放圧し、前記電気機器巻線を加熱して乾燥させる加熱乾燥処理とからなるワニス再含浸処理を行う。
これにより、絶縁層にワニスを確実に再含浸させることが可能となり、絶縁層の絶縁抵抗を回復させることが可能となる。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、泡発生間隔が２０秒以上となるまで真空脱泡処理を行うことを特徴とする。
これにより、脱気不良となることなく、より確実に、絶縁層にワニスを含浸させることが可能となる。このため、絶縁層の絶縁抵抗をより確実に回復させることが可能となる。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、絶縁層の静電容量を測定し、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、ワニス再含浸処理が良好であると判定することを特徴とする。
（１）Ｃｐ’／Ｃｐ×１００≧９７％
Ｃｐ：放圧前の絶縁層の静電容量
Ｃｐ’： 放圧後の絶縁層の静電容量
（２）Ｃｄ／Ｃｗ≧１．１
Ｃｗ：ワニス再含浸処理前の絶縁層の静電容量
Ｃｄ：加熱乾燥処理後の絶縁層の静電容量
このため、真空脱泡処理における脱気不良を発見することができ、更に、確実に絶縁層へのワニスが含浸しているか否かを確認することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】中型又は大型の直流電動機の巻線の断面図である。
【図２】巻線の表面にアルコールを噴霧した際の巻線の絶縁抵抗と時間との関係を表したグラフである。
【図３】アルコールに含まれる水と親水基がイオン結合している状態の説明図である。
【図４】アルコール濃度と絶縁層の絶縁抵抗及び絶縁層の５０％絶縁回復時間との関係を表したグラフである。
【図５】絶縁層の絶縁抵抗倍数と絶縁回復時間との関係を表したグラフである。
【図６】ワニス再含浸処理装置の説明図である。
【図７】ワニス再含浸処理のフローの説明図である。
【図８】ワニス再含浸処理の説明図である
【図９】脱泡時間と気泡発生数との関係を表したグラフである。
【図１０】ワニス再含浸処理における絶縁層の静電容量の変化を表したグラフである。
【図１１】中型又は大型の直流電動機の回転子の斜視図である。
【図１２】中型又は大型の直流電動機の巻線の断面図である。
【図１３】湿度と絶縁層の絶縁抵抗との関係を表したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（絶縁層の劣化判断方法の説明）
以下に図面を参照しつつ、本発明の好ましい実施の形態を示す。なお、本明細書において、中型又は大型の直流電動機とは、回転子１０の軸長１ｍ以上、回転子１０の直径０．３ｍ以上の直流電動機のことをいう。なお、本実施形態では、回転子１０の軸長は１〜４ｍであり、回転子１０の直径は０．３ｍ〜１．５ｍである。
図１に示されるように、中型や大型の直流電動機の運用に伴い、絶縁層９５の外表面には、ダスト９８が付着する。このダスト９８は、吸湿性があり、且つ、導電性がある。このため、湿度が高くなるにつれて、絶縁層９５表面の絶縁性が悪化する。これを、絶縁層９５の表面絶縁劣化という。
【００１５】
一方で、絶縁層９５が長期間熱に曝されると、絶縁層９５の内部にボイド９９が発生するとともに、絶縁テープ９２やワニス９３の高分子結合の連鎖が切断され、ケトン基やアルデヒド基等の親水基を有する劣化生成物が絶縁層９５の内部に生成される。なお、ボイド９９の発生が増大するにつれて、前記劣化生成物の生成量も増大する。
前述したように、絶縁層９５の内部にボイド９９が発生すると、湿度が高くなるにつれて、絶縁層９５の絶縁性が悪化する。これを、絶縁層９５の内部絶縁劣化という。
【００１６】
表面絶縁劣化の場合には、絶縁層９５の外表面に付着したダスト９８を除去すれば、絶縁層９５外表面の絶縁性が回復する。一方で、内部絶縁劣化の場合には、直流電動機から回転子１０を取り外し、当該回転子１０をワニスに浸漬させ、消失したワニスを再含浸させる必要がある。
【００１７】
本発明では、絶縁層９５の表面に、水で希釈したアルコール（アルコール濃度７５〜９０質量％）を噴霧することにより、絶縁層９５が表面絶縁劣化のみを起こしているか、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしているかを判別することにしている。以下詳細に説明する。
絶縁層９５が表面絶縁劣化のみを起こしている場合には、図２の（Ａ）に示されるように、短時間で絶縁層９５の絶縁抵抗が回復する。
一方で、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしている場合には、図２の（Ｂ）に示されるように、長時間経過しないと、絶縁層９５の絶縁抵抗が回復しない。
【００１８】
絶縁層９５が表面絶縁劣化のみを起こしている場合には、絶縁層９５表面に付着したアルコールが短時間で揮発し、アルコールが揮発した後の微少の水分が絶縁層９５外表面に付着し、導体性を有するダスト９８が吸湿することにより、絶縁層９５の絶縁抵抗は低下するが、前記水分が蒸発すると、絶縁層９５の絶縁抵抗は回復する。
一方で、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしている場合には、絶縁層９５内に浸透したアルコールに含まれる水分が、絶縁層９５内にある劣化生成物の親水基とイオン結合して（図３に示す）、絶縁層９５の導電性が増大し、絶縁抵抗が低下する。絶縁層９５に浸透したアルコールに含まれる水分は、短時間では蒸発しないので、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしている場合には、長時間経過しないと、絶縁層９５の絶縁抵抗が回復しない。
このように、水で希釈したアルコールを絶縁層９５の表面に噴霧することにより、擬似的に高湿度状態を再現している。
【００１９】
図４にアルコール濃度と絶縁層９５の絶縁抵抗及び絶縁層９５の５０％絶縁回復時間との関係を表したグラフを示す。なお、図４における絶縁層９５の絶縁抵抗は、水で希釈したエチルアルコールを、絶縁層９５の表面に噴霧し、絶縁抵抗が最も低下した値である（図２の（Ｂ）のＲｗ）。
図４に示されるように、エチルアルコールのアルコール濃度が９０質量％超の場合には、エチルアルコール中に含まれる水分量が不足するため、絶縁層９５の内部絶縁劣化の検出感度が不足してしまう。一方で、エチルアルコールのアルコール濃度が７５質量％未満の場合には、エチルアルコールに含まれる水分量が多く、大量の水分が絶縁層９５の表面に付着してしまう。つまり、エチルアルコール自体は早急に揮発するが、エチルアルコールに含まれる水分は蒸発することなく、絶縁層９５の表面に水分が付着した状態が長時間続く。すると、絶縁層９５の表面に付着した導体性を有するダスト９８が長時間吸湿した状態となり、長時間、絶縁層９５の絶縁抵抗が回復することがなく、絶縁層９５が表面絶縁劣化だけの状態か、内部絶縁劣化まで進行しているかの判断が困難になる。本発明では、上記知見に基づいて、絶縁層９５の表面に噴霧するアルコールのアルコール濃度を、７５〜９０質量％に設定している。なお、図４に示される例では、水で希釈したエチルアルコールを絶縁層９５の表面に噴霧した結果であるが、水で希釈したメチルアルコールを絶縁層９５に噴霧しても、同様の結果が得られた。
【００２０】
図５に絶縁抵抗倍数と絶縁回復時間との関係を表したグラフを示す。図５に示される例では、水で希釈したアルコール濃度が８０質量％のエチルアルコールを、絶縁層９５の表面に噴霧している。なお、絶縁抵抗倍数とは、乾燥状態の絶縁層９５の抵抗値（Ｒｄ）を、前記エチルアルコール噴霧後の絶縁層９５の抵抗値（Ｒｗ）で除した値である。なお、図５の絶縁抵抗倍数は対数目盛りとなっている。
絶縁抵抗倍数がＬｏｇ（Ｒｄ／Ｒｗ）<２の場合には（つまり、Ｒｄ／Ｒｗ<１００の場合）、巻線９０が内部絶縁劣化を起こしていないことが判明した。また、アルコール噴霧後から、絶縁層９５の絶縁抵抗が５０％回復する時間が６０秒よりも短い場合にも、巻線９０が内部絶縁劣化を起こしていないことが判明した。
本発明では、上記知見に基づき、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしていると判定することにした。
（１）絶縁抵抗倍数がＬｏｇ（Ｒｄ／Ｒｗ）≧２
Ｒｄ：乾燥状態の絶縁層９５の抵抗値
Ｒｗ：アルコール噴霧後の絶縁層９５の抵抗値
（２）アルコール噴霧後から絶縁層９５の絶縁抵抗が５０％回復する時間≧６０秒
なお、図５に示される例では、水で希釈したアルコール濃度８０質量％のエチルアルコールを絶縁層９５の表面に噴霧しているが、水で希釈したアルコール濃度７５〜９０質量％のエチルアルコール又はメチルアルコールを絶縁層９５の外表面に噴霧したとしても、上記（１）及び（２）の条件を満たす場合には、巻線９０が内部絶縁劣化を起こしており、上記（１）及び（２）の少なくともいずれか一方の条件を満たさない場合には、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしていないことが判明している。
【００２１】
（ワニス再含浸処理）
以下に、「ワニス再含浸処理」について説明する。前述した、絶縁層の劣化判断方法により、絶縁層９５が内部絶縁劣化を起こしていると判断された場合には、直流電動機から回転子１０を取り外し、当該回転子１０（絶縁層９５）のワニス再含浸処理を行う。
図６を用いて、ワニス再含浸処理装置１００について説明する。ワニス再含浸処理装置１００は、含浸タンク１１０、ワニスタンク１２０、チラー１３０、真空ポンプ１４０、コンプレッサー１５０とから構成されている。含浸タンク１１０は、上部が開放したタンク本体１１２に、蓋体１１１が開平可能に取り付けられた構造であり、気密性が保たれるようになっている。蓋体１１１内には、回転子１０が収納される。ワニスタンク１２０は密閉構造であり、その内部にワニスが注入される。ワニスタンク１２０は、含浸タンク１１０に接続している。チラー１３０は、ワニスタンク１２０内に収納されたワニスを約０℃まで冷却し、ワニスの劣化を防止する装置である。本実施形態では、ワニスタンク１２０内に、冷却媒体流通管（図示せず）が配設されていて、チラー１３０は、前記冷却媒体流通管内を流通する冷却媒体を冷却する冷却装置を有している。真空ポンプ１４０は、含浸タンク１１０と接続していて、含浸タンク１１０内の気体を外部に引き抜き、含浸タンク１１０内を真空にする装置である。コンプレッサー１５０は、含浸タンク１１０と接続していて、含浸タンク１１０内に気体を圧送し、含浸タンク１１０内を加圧する装置である。
【００２２】
次に、図７を用いて、「ワニス再含浸処理」について説明する。直流電動機から取り外した回転子１０を、含浸タンク１１０内に収納して密閉し、真空ポンプ１１０を稼働させて、含浸タンク１１０内を真空にする「真空引き処理」を行う。
次に、ワニスタンク１２０内のワニスを含浸タンク１１０内に注入し、回転子１０をワニスに浸漬させる「ワニス注入処理」を行う。
次に、真空ポンプ１１０を稼働させて、含浸タンク１１０内を真空にする「真空脱泡処理」を行う。すると、図８の（Ａ）に示されるように、絶縁層９５内のボイド９９が脱気され絶縁層９５外に排出される。この際に、含浸タンク１１０内の気泡発生間隔が２０秒を上回った場合に（言い換えると、１分間の気泡発生個数が３個以下になった場合に）、真空ポンプ１４０を停止し、「真空脱泡処理」を完了させる。なお、本明細書において「真空」とは、０．１Ｐａ〜１ｋＰａのことをいう。含浸タンク１１０内を０．１Ｐａよりも低い圧力にするには多大な時間を要するため好ましくない。また、含浸タンク１１０内が、１ｋＰａより高い場合には、「真空脱泡処理」が不十分となってしまうため好ましくない。図９に示されるように、新品製造時の場合には、ワニス９３が絶縁層９５に存在しないので、６０分以内で「真空脱泡処理」が完了するが、再含浸の場合には、絶縁層９５にあるワニス９３がボイド９９を外部に排出する際の障害となるので、更に長時間（本実施形態では２４０分）の「真空脱泡処理」が必要となる。
【００２３】
次に、コンプレッサー１５０を稼働させて、含浸タンク１１０内を加圧する「加圧処理」を行う。すると、ワニス９３が絶縁層９５内に浸透し、更に、絶縁層９５内に残留したボイド９９の体積が約１０００分の１に圧縮される（図８の（Ｂ）の状態）。なお、「加圧処理」において、含浸タンク１１０内を、０．３ＭＰａ〜１．０ＭＰａにすることが好ましい。これは、含浸タンク１１０内が０．３ＭＰａよりも低い圧力の場合には、加圧力不足で、絶縁層９５のボイド９９内へのワニスの浸透が不十分となってしまい、一方で、含浸タンク１１０内を１．０ＭＰａよりも高い圧力に加圧したとしても、ワニスの浸透効果は殆ど飽和して一定となるからである。
本実施形態では、「加圧処理」を１２時間行うことにより、ワニス９３の絶縁層９５内への浸透を確実にしている。
次に、コンプレッサー１５０を停止するとともに含浸タンク１１０内を放圧し、回転子１０を加熱して乾燥させる「加熱乾燥処理」を所定時間行い、「ワニス再含浸処理」が終了する。
【００２４】
（ワニス再含浸処理の良否判定方法）
以下に、「ワニス再含浸処理」の良否判定方法について説明する。ボイド９９（空気）の誘電率は１であり、ワニス９３の誘電率は５である。絶縁層９５にボイド９９が多数存在する場合には、絶縁層９５がワニス９３で充填されている場合と比較して、絶縁層９５の静電容量が低くなる。従って、絶縁層９５の静電容量を測定することにより、「ワニス再含浸処理」の良否判定を行うことができる。図１０に、絶縁層９５の静電容量の測定結果を示す。図１０に示される例では、絶縁層９５と接触する鉄心（図示せず）と導体９１間の絶縁層９５の静電容量を測定した。なお、導体９１は回転子１０の整流子（図示せず）と電気的に接続しているので、前記整流子と鉄心間の静電容量を測定することにより、絶縁層９５と接触する鉄心と導体９１間の絶縁層９５の静電容量を測定することができる。
【００２５】
図１０の（Ａ）に示されるように、「真空脱泡処理」を行うと、絶縁層９５にあるボイド９９が徐々に脱気されて絶縁層９５外に排出されるので（図８の（Ａ）の状態）、徐々に絶縁層９５の静電容量が上昇する。更に、「加圧処理」を行うと、絶縁層９５内にワニス９３が充填されるので（図８の（Ｂ）の状態）、急激に絶縁層９５の静電容量が上昇する。前記「真空脱泡処理」が不十分な場合には、図８の（Ｃ）に示されるように、含浸タンク１１０内を放圧した際に、絶縁層９５内に残存するボイド９９が膨張して、ワニス９３が押し出される。すると、図１０の（Ｂ）の黒丸の例に示されるように、絶縁層９５の静電容量が、低下してしまう。本発明では、放圧後の絶縁層９５の静電容量Ｃｐ’が、放圧前の絶縁層９５の静電容量Ｃｐに対し、９７％よりも下回る場合には、絶縁層９５の脱気不良となり、絶縁層９５の絶縁抵抗の回復が十分でないことが判明している。なお、前述したように、含浸タンク１１０内の気泡発生間隔が２０秒を上回るまで、「真空脱泡処理」を行うと、放圧後の絶縁層９５の静電容量Ｃｐ’が、放圧前の絶縁層９５の静電容量Ｃｐに対し、９７％よりも下回ることが無い。
【００２６】
次に、「加熱乾燥処理」後の絶縁層９５の静電容量Ｃｄを測定する。そして、「加熱乾燥処理」後の絶縁層９５の静電容量Ｃｄを、「ワニス再含浸処理」前の絶縁層９５の静電容量Ｃｗで除した値が、１．１を下回る場合には、「ワニス再含浸処理」による絶縁層９５へのワニスの再含浸が十分で無く、絶縁層９５の絶縁抵抗の回復が十分でないことが判明している。
【００２７】
本発明では、上記知見に基づき、下記（１）及び（２）の条件を満たす場合に、「ワニス再含浸処理」が良好であると判定することにした。
（１）Ｃｐ’／Ｃｐ×１００≧９７％
Ｃｐ：放圧前の絶縁層９５の静電容量
Ｃｐ’： 放圧後の絶縁層９５の静電容量
（２）Ｃｄ／Ｃｗ≧１．１
Ｃｗ：「ワニス再含浸処理」前の絶縁層９５の静電容量Ｃｗ
Ｃｄ：「加熱乾燥処理」後の絶縁層９５の静電容量Ｃｄ
上記（１）及び（２）の条件を満たす場合には、「ワニス再含浸処理」による絶縁像９５の絶縁抵抗の回復が十分であることを確認した。
【００２８】
（総括）
以上説明した実施形態では、中型又は大型の直流電動機について説明したが、本発明の技術的思想は、小型の直流電動機にも適用することができることは言うまでもない。
【００２９】
以上、現時点において、もっとも、実践的であり、かつ好ましいと思われる実施形態に関連して本発明を説明したが、本発明は、本願明細書中に開示された実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う直流電動機の巻線の絶縁性回復方法もまた技術的範囲に包含されるものとして理解されなければならない。  
【符号の説明】
【００３０】
１０    回転子
９０    巻線
９１    導体
９２    絶縁テープ
９３    ワニス
９５    絶縁層
９８    ダスト
９９    ボイド
１００  ワニス再含浸処理装置
１１０  含浸タンク
１１１  蓋体
１１２  タンク本体
１２０  ワニスタンク
１３０  チラー
１４０  真空ポンプ
１５０  コンプレッサー
【図１】
2011120397.tif 000003
【図２】
2011120397.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2011120397.tif 000009
【図８】
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【図９】
2011120397.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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