(57)【要約】【課題】被調理物と被加熱物の接触面状態を判断可能な誘導加熱調理器を実現すること。【解決手段】使用者から指示された設定電力を維持するために高周波電力供給手段１０４の制御設定値を制御設定値変更手段１０９が変更し、自ら行った制御設定値の変化を制御設定値変化検出手段１１０が検出することで、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行うことを可能とし、沸騰による過剰な気泡発生を制御する機能を備えた誘導加熱調理器となる。【選択図】図１
2011171206.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被調理物を入れるための被加熱物と、被加熱物を加熱するための加熱コイルと、スイッチング素子を含み加熱コイルを通して被加熱物に高周波電力を注入するための高周波電力供給手段と、前記高周波電力供給手段が供給する高周波電力を観測する電力検出手段と、使用者が設定した電力を維持するように前記高周波電力供給手段の制御設定値を変更する制御設定値変更手段と、前記制御設定値変更手段の制御設定値変化状態を監視することで前記被調理物と前記被加熱物の接触面における加熱状態を判断し前記前記高周波電力供給手段から供給する電力を制御する制御設定値変化検出手段とを備えた誘導加熱調理器。
【請求項２】
前記制御設定値として前記高周波電力供給手段の動作周波数を用い、加熱状態判断を行う請求項１に記載の誘導加熱調理器。
【請求項３】
前記制御設定値として前記高周波電力供給手段の通電時間を用い、加熱状態判断を行う請求項１に記載の誘導加熱調理器。
【請求項４】
昇圧手段を備え、前記制御設定値として前記昇圧手段から前記高周波電力供給手段に供給する電圧を用いて加熱状態判断を行う請求項１に記載の誘導加熱調理器。
【請求項５】
温度検出手段を備え、前記制御設定値変化検出手段が電力制御を行った後に温度検出手段の平衡状態を検出することで前記被調理物全体の沸騰状態を検出する請求項１〜４のいずれか１項に記載の誘導加熱調理器。
【請求項６】
温度検出手段を備え、前記制御設定値変化検出手段が電力制御を行った際の温度検出手段の検出値を用いて電力制御を行うことで、前記被調理物の沸騰発生境界温度で被加熱物の温度制御を行う請求項１に記載の誘導加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁誘導を利用して被加熱物を加熱する際に、被加熱物の加熱状態を検出する機能を備えた誘導加熱調理器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、誘導加熱調理器で加熱状態を検出する際は、加熱エネルギーを加えていない部分で温度を検出して加熱状態を検出している。このことにより、被加熱物と被調理物の温度は熱伝導によりほぼ同一になるため、トッププレート下に配置した温度検出手段を用いても水のような対流している被加熱物全体の状態推定が可能となっている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−００７４４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記従来の構成では、熱伝達が行われている被調理物と被加熱物の加熱部接触面における状態を検出することができない。
【０００５】
すなわち、被調理物として水の加熱を行っている状態で、温度検出手段の検出値変化を監視し、温度平衡状態の継続を観測した場合、被加熱物としての水が沸点（水の場合は１００℃）に到達し、それ以上温度が上がらない状態を示していることになるが、この時、被調理物と被加熱物の加熱部接触面の被加熱物側における温度は沸点を超えていることになる。
【０００６】
この状態で加熱を継続すると、沸騰により気泡が激しく発生して成長することで、天然の界面活性剤物質を含んだ麺類を茹でたり、蓋を閉じたやかんで湯を沸かしたりしている時などに、気泡成長による体積膨脹でふきこぼれを発生させやすくなるという課題がある。
【０００７】
ここで温度検出手段を、熱伝達が行われている加熱部の下に配置しても、被加熱物が被調理物より高くなっている温度は検出できるものの、周辺温度に影響され加熱部そのものの状態を検出することはできない。
【０００８】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行うことを可能とし、沸騰による過剰な気泡発生を制御する機能を備えた誘導加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記従来の課題を解決するために、本発明の誘導加熱調理器は、被調理物を入れるための被加熱物と、被加熱物を加熱するための加熱コイルと、スイッチング素子を含み加熱コイルを通して被加熱物に高周波電力を注入するための高周波電力供給手段と、前記高周波電力供給手段が供給する高周波電力を観測する電力検出手段と、使用者が設定した電力を維持するように高周波電力供給手段の制御設定値を変更する制御設定値変更手段と、制御設定値変更手段の制御設定値変化状態を監視するものである。
【００１０】
本発明によれば、被調理物と被加熱物の接触面における加熱状態を判断し、高周波電力供給手段から供給する電力を制御する制御設定値変化検出手段とを備えたことにより、使用者から指示された設定電力を維持するために高周波電力供給手段の制御設定値を制御設定値変更手段が変更し、自ら行った制御設定値の変化を制御設定値変化検出手段が検出することで、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行うことを可能とし、沸騰による過剰な気泡発生を制御することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の誘導加熱調理器は、使用者から指示された設定電力を維持するために高周波電力供給手段の制御設定値を制御設定値変更手段が変更し、自ら行った制御設定値の変化を制御設定値変化検出手段が検出することで、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行うことを可能とし、沸騰による過剰な気泡発生を制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の構成を示すブロック図
【図２】（ａ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の高周波電力供給手段１０４を構成するスイッチング素子１０６の動作周波数と入力電力の相関を示す図（ｂ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の入力電力に関係する等価直列抵抗（Ｒｓ）と等価インダクタンス（Ｌｓ）を示す図
【図３】（ａ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の被加熱物の温度と等価直列抵抗の関係図（ｂ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の被加熱物の温度と等価直列インダクタンスの関係図
【図４】本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の制御設定値に動作周波数を用いた場合の設定電力維持動作を示す図
【図５】本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の制御設定値に通電時間または昇圧電圧を用いた場合の設定電力維持動作を示す図
【図６】（ａ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の被加熱物全体が沸点に到達している状態図（ｂ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の被調理物と被加熱物の加熱面が丁度沸点に到達した状態図
【図７】（ａ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の制御設定値が通電時間または供給電圧の場合の各温度変化との関係図，（ｂ）本発明の実施の形態１における誘導加熱調理器の制御設定値が動作周波数の場合の各温度変化との関係図
【図８】本発明の実施の形態２における誘導加熱調理器の構成を示すブロック図
【図９】本発明の実施の形態２における誘導加熱調理器の動作を示すフローチャート
【図１０】本発明の実施の形態２における誘導加熱調理器の動作を示すフローチャート
【発明を実施するための形態】
【００１３】
第１の発明は、被調理物を入れるための被加熱物と、被加熱物を加熱するための加熱コイルと、スイッチング素子を含み加熱コイルを通して被加熱物に高周波電力を注入するための高周波電力供給手段と、前記高周波電力供給手段が供給する高周波電力を観測する電力検出手段と、使用者が設定した電力を維持するように前記高周波電力供給手段の制御設定値を変更する制御設定値変更手段と、前記制御設定値変更手段の制御設定値変化状態を監視することで前記被調理物と前記被加熱物の接触面における加熱状態を判断し前記前記高周波電力供給手段から供給する電力を制御する制御設定値変化検出手段とを備えた誘導加熱調理器とするものである。
【００１４】
本発明によれば、使用者から指示された設定電力を維持するために高周波電力供給手段の制御設定値を制御設定値変更手段が変更し、自ら行った制御設定値の変化を制御設定値
変化検出手段が検出することで、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御する機能を備えた誘導加熱調理器を提供することができる。
【００１５】
第２の発明は、特に、第１の発明において、前記制御設定値として前記高周波電力供給手段の動作周波数を用い、加熱状態判断を行う誘導加熱調理器とするものである。
【００１６】
本発明によれば、制御設定値として高周波電力供給手段の動作周波数を用いて被加熱物固有の共振周波数に近づけることが可能な制御を行うことで高周波電力を供給しにくい被加熱物に設定電力を投入する場合でも、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における加熱状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御する機能を備えた誘導加熱調理器を提供することができる。
【００１７】
第３の発明は、特に、第１の発明において、前記制御設定値として前記高周波電力供給手段の通電時間を用い、加熱状態判断を行う誘導加熱調理器とするものである。
【００１８】
本発明によれば、制御設定値として高周波電力供給手段の通電時間を用い、干渉音が発生しにくい固定周波数で制御を行う場合でも、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における加熱状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御する機能を備えた誘導加熱調理器を提供することができる。
【００１９】
第４の発明は、特に、第１の発明において、昇圧手段を備え、前記制御設定値として前記昇圧手段から前記高周波電力供給手段に供給する電圧を用いて加熱状態判断を行う誘導加熱調理器とするものである。
【００２０】
本発明によれば、高周波電力供給手段が電力供給に使用する電圧を高く設定することで、高周波電力を供給しにくい被加熱物に対応した加熱を行う場合でも、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における加熱状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御する機能を備えた誘導加熱調理器を提供することができる。
【００２１】
第５の発明は、特に、第１〜４のいずれか１つの発明において、温度検出手段を備え、前記制御設定値変化検出手段が電力制御を行った後に温度検出手段の平衡状態を検出することで前記被調理物全体の沸騰状態を検出する誘導加熱調理器とするものである。
【００２２】
本発明によれば、不要なふきこぼれを抑え、前記被調理物全体の沸騰状態を正確に検出する機能を備えた誘導加熱調理器を提供することができる。
【００２３】
第６の発明は、特に、第１の発明において、温度検出手段を備え、前記制御設定値変化検出手段が電力制御を行った際の温度検出手段の検出値を用いて電力制御を行うものである。
【００２４】
本発明によれば、前記被調理物の沸騰発生境界温度で被加熱物の温度制御を行う誘導加熱調理器とすることにより、前記被調理物の沸騰発生境界温度で被加熱物の温度制御を行う機能を備えた誘導加熱調理器を提供することができる。
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００２６】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の構成を示すブロック図で
ある。
【００２７】
図１において、被調理物１０１、被加熱物１０２、加熱コイル１０３、高周波電力供給手段１０４、電力検出手段１０５、スイッチング素子１０６、共振コンデンサ１０７、制御手段１０８、制御設定値変更手段１０９、制御設定値変化検出手段１１０、電源１１１、昇圧手段１１２で構成している。
【００２８】
なお、被加熱物１０２には鍋、制御手段１０８、制御設定値変更手段１０９、制御設定値変化検出手段１１０にはマイクロコンピュータ、昇圧手段１１２には昇圧コンバータを用いることでこの構成を容易に実現できる。
【００２９】
以上のように構成された誘導加熱調理器について、以下その動作、作用を説明する。
【００３０】
まず、誘導加熱調理器の誘導加熱動作について説明する。電源１１１は、商用の単相１００Ｖまたは２００Ｖの交流電源をダイオードブリッジで直流化した直流電源を高周波電力供給手段１０４の入力電力として供給する。
【００３１】
通常、高周波電力供給手段１０４の電源は電源１１１を昇圧コンバータなどの昇圧手段１１２で昇圧されたものを用いる場合が多いが、それに限定するものではない。電源１１１の電圧を昇圧しておくことによって、高周波電力供給手段１０４に同じ電力を供給する際に電流を減らすことができ、高周波電力供給手段１０４を構成する各部品の部品定格を下げることが可能となる。
【００３２】
これによって、部品の小型化と低コスト化が可能となり、より安価で小型の製品とすることで使用者に便益をもたらすことができるため、電源の電圧は高くする方が望ましい。
【００３３】
高周波電力供給手段１０４は、構成要素であるスイッチング素子１０６、共振コンデンサ１０７が、被加熱物１０２と磁気的に結合した加熱コイル１０３に接続されることで共振回路を構成する。
【００３４】
ここで構成された共振回路は、電源１１１および昇圧手段１１２によって供給される電力を、スイッチング素子１０６によって電流経路を切り替えることで加熱コイル１０３に高周波電流を供給するよう動作する。
【００３５】
この時、加熱コイル１０３からは高周波磁界が発生し、磁気的に結合した被加熱物１０２を構成する金属に磁束が通ることで、電磁誘導による渦電流が被加熱物１０２に流れ、そのジュール熱のために被加熱物１０２が加熱されるものである。
【００３６】
次に、制御設定値変更手段１０９が高周波電力供給手段１０４により使用者から指示された設定電力を維持するために行っている制御設定値変更動作について説明する。
【００３７】
誘導加熱調理器の加熱制御は、電力検出手段１０５によって得られる入力電力が、誘導加熱調理器の使用者から指示された設定電力と概同一になるように、制御手段１０８が制御設定値変更手段１０９に指示を出し、スイッチング素子１０６の通電時間や動作周波数や昇圧手段１１２の昇圧比や共振コンデンサ１０７の入力電圧を調整することで行われる。
【００３８】
図２を用いて、被加熱物１０２の加熱を行うことで、制御設定値変更が必要となる理由を説明する。図２（ａ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の高周波電力供給手段１０４を構成するスイッチング素子１０６の動作周波数と入力電力の相関を示
す図で、実線は被加熱物１０２が低温の時の相関、破線は被加熱物１０２が高温の時の相関を示している。
【００３９】
図２（ｂ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の入力電力に関係する等価直列抵抗（Ｒｓ）と等価インダクタンス（Ｌｓ）を示す図である。図３（ａ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の被加熱物の温度と等価直列抵抗の関係図、図３（ｂ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の被加熱物の温度と等価直列インダクタンスの関係図である。
【００４０】
ここで、誘導加熱においては、被加熱物１０２と加熱コイル１０３が磁気的に結合することで高周波電力供給手段１０４における等価直列抵抗（Ｒｓと記す）と等価直列インダクタンス（Ｌｓと記す）として機能する（図２（ａ）、（ｂ））が、このＬｓとＲｓが被加熱物１０２の温度上昇により大きくなる物理現象（図３（ａ）、（ｂ））が生じる（ただし、変化の度合は被加熱物１０２を構成する材質により異なる）ことにより、図２（ａ）の入力電力特性変化が発生する。
【００４１】
すなわち、温度が高くなりＬｓが大きくなると入力電力特性は図２（ａ）のグラフ上で左方向へスライドし、Ｒｓが大きくなると入力電力特性は図２（ａ）のグラフ上で下方向へスライドする。
【００４２】
これらの入力電力特性変化の要因が２つあり、一つは共振周波数ｆｃと共振コンデンサＣと等価直列インダクタンスＬｓの関係がｆｃ＝１／（２π√（Ｌｓ×Ｃ）で決まることから、被加熱物１０２の温度上昇によりＬｓが大きくなると入力電力のピークとなる共振周波数が小さくなるためであり、もう一つは、被加熱物１０２の温度上昇によりＲｓが大きくなると電流が流れにくくなり電力が入りにくくなるためである。
【００４３】
この変化により、高周波電力供給手段１０４により、加熱コイル１０３を通して被加熱物１０２の加熱が行われ、被加熱物１０２の温度が上昇することにより、スイッチング素子１０６の動作周波数と入力電力との相関が、図２（ａ）の（低温時）から（高温時）へと徐々に変化することになる。
【００４４】
したがって、使用者から指示された設定電力を維持するためには、制御手段１０８が制御設定値変更手段１０９を用いて、高周波電力供給手段１０４により投入されている電力を示す電力検出手段１０５の検出電力が使用者の設定した入力電力と概同一なるように、この入力電力特性に合わせて制御設定値を変更する動作が必要となる。
【００４５】
図４は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の制御設定値に動作周波数を用いた場合の設定電力維持動作を示す図である。
【００４６】
ここで、設定電力維持のために変化させる制御設定値として、高周波電力供給手段１０４を構成するスイッチング素子１０６の動作周波数を用いる場合は、図４に示すように、温度上昇で変化した入力電力特性はそのままにして、動作周波数を変化させるによって電力維持を行う。
【００４７】
このように変化させる制御設定値を動作周波数とする場合は、入力電力特性自体を変化させる必要がないので幅広い範囲で設定電力維持を行うことができる。一方で、周波数が変化することで可聴域の干渉音が発生する可能性がある。
【００４８】
また、設定電力維持のために変化させる制御設定値として高周波電力供給手段１０４を構成するスイッチング素子１０６の通電時間や昇圧手段１１２から高周波電力供給手段１
０４に供給する電圧を用いる場合について説明する。図５は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の制御設定値に通電時間または昇圧電圧を用いた場合の設定電力維持動作を示す図である。
【００４９】
図５において、温度上昇で変化した入力電力特性により減少してしまった入力電力を補完することができるように、同一スイッチング周期内の通電時間を増加させたり、昇圧手段１１２が同一通電時間で印加する電圧を上げて電源１１１から注入する電力を増加させることで、入力電力特性自体を変化させて電力維持を行う。
【００５０】
次に、本発明の主願となる制御設定値変化検出手段１１０が被調理物１０１と被加熱物１０２の接触面における状態を判断する方法について説明する。図６（ａ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の被調理物全体が沸点に到達している状態図、図６（ｂ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の被調理物と被加熱物の加熱面が丁度沸点に到達した状態図である。
【００５１】
図６に示すように対流している被調理物１０１への熱伝達は、加熱コイル１０３を通して供給される高周波電力を被加熱物１０２の加熱部を通して受け取ることで行われている。
【００５２】
この時、被調理物１０１全体の温度と非加熱部の被加熱物１０２の接触面温度は対流熱伝達により概同一温度となる。
【００５３】
ここで図６（ａ）に示すように、被加熱物１０１全体が沸点に到達している状態の場合、加熱部の接触面においては、被調理物１０１の温度が沸点で規定されるため、加熱部における被調理物１０１と被加熱物１０２の接触面の被調理物１０１側の温度は１００℃で規定されるが、加熱部の被加熱物１０２の加熱面側は、沸点より高い温度になる。
【００５４】
この時の温度を（１００＋α）℃（α＞０）と表すと、αは加熱部に与えられる高周波電力に応じて大きくなる。したがって、加熱コイル１０３を通して供給される高周波電力が大きい場合、被調理物１０１全体が沸騰している状態では温度が沸点よりα℃高い状態で加熱を継続することになり、加熱部分で激しく気化が起こる。
【００５５】
この状態で、天然の界面活性剤物質を含んだ麺類を茹でたり、蓋を閉じたやかんで湯を沸かしたりすると、気泡成長による体積膨脹でふきこぼれが発生しやすくなってしまう。この時の被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面温度と、加熱部加熱面温度と、被加熱物全体と、制御設定値変化の関係を図７に示す。
【００５６】
なお、図７（ａ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の制御設定値が通電時間または供給電圧の場合の各温度変化との関係図であり、制御設定値として高周波電力供給手段１０４を構成するスイッチング素子１０６の通電時間や昇圧手段１１２から高周波電力供給手段１０４に供給する電圧を用いた場合を示している。
【００５７】
図７（ｂ）は本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の制御設定値が動作周波数の場合の各温度変化との関係図であり、制御設定値として高周波電力供給手段１０４を構成するスイッチング素子１０６の動作周波数を用いた場合を示している。
【００５８】
前記のように、制御設定値変更手段１０９は加熱面の温度に応じて制御設定値を変化させる。よって、制御設定値変化検出手段１１０が検出する制御設定値変化は、熱伝達が平衡に達する変化を検出することになるため、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部加熱面の温度変化と相関のある変化となる。
【００５９】
したがって、図７に示すように制御設定値変化検出手段１１０が検出する制御設定値変化がなくなり平衡状態を示した場合は、図６（ｂ）に示すように、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部加熱面が、被加熱物１０１全体より先に沸騰に到達した状態となったことを示している。
【００６０】
このように、制御設定値変化検出手段１１０が平衡状態を検出した時に、加熱コイル１０３を通して投入する高周波電力を低下させる加熱制御を行うことで、過剰温度＋α℃を低減して沸騰による過剰な気泡発生を抑制することが可能となる。
【００６１】
以上のように、本実施の形態においては、使用者から指示された設定電力を維持するために高周波電力供給手段１０４の制御設定値を制御設定値変更手段１０９が変更し、自ら行った制御設定値の変化を制御設定値変化検出手段１１０が検出することで、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行うことを可能とし、沸騰による過剰な気泡発生を制御することができる。
【００６２】
また、制御設定値として高周波電力供給手段１０４の動作周波数を用いて被加熱物固有の共振周波数に近づけることが可能な制御を行うことで高周波電力を供給しにくい被加熱物１０２に設定電力を投入する場合でも、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面における加熱状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御することができる。
【００６３】
また、制御設定値として高周波電力供給手段１０４の通電時間を用い、干渉音が発生しにくい固定周波数で制御を行う場合でも、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面における加熱状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御することができる。
【００６４】
また、昇圧手段１１２を備え、制御設定値として昇圧手段１１２から高周波電力供給手段１０４に供給する電圧を用い、高周波電力供給手段１０４が電力供給に使用する電圧を高く設定することで、高周波電力を供給しにくい被加熱物１０２に対応した加熱を行う場合でも、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面における加熱状態を判断し、沸騰による過剰な気泡発生を制御することができる。
【００６５】
なお、本実施の形態においては、高周波電力供給手段１０４としてＳＥＰＰインバータの回路形態を用いて説明を行ったが、高周波電力供給手段１０４のインバータ回路形態には依存しないことは言うまでもない。
【００６６】
（実施の形態２）
図８は本発明の第２の実施の形態における誘導加熱調理器のブロック図である。図８において、８０１は温度検出手段であり、被調理物１０１からの対流熱伝達により被調理物１０１の温度変化を反映する非加熱部に設置したサーミスタを用いることでこの構成を容易に実現することができる。
【００６７】
以上のように構成された誘導加熱調理器について、以下その動作、作用を説明する。
【００６８】
図８において、実施の形態１と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。
【００６９】
実施の形態２における誘導加熱調理器の基本的な動作は実施の形態１と同様である。実施の形態２では、被調理物１０１と被加熱物１０２の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行った後に、更に加熱制御を行う点が実施の形態１と異なっている。
【００７０】
まず、被調理物１０１全体の沸騰状態を正確に検出する方法について説明する。
【００７１】
図９は、本発明の第１の実施の形態における誘導加熱調理器の動作を示すフローチャートである。
【００７２】
使用者の指示で加熱が開始されると制御手段１０８は高周波電力供給手段１０４から加熱コイル１０３を通して被加熱物１０２に高周波電力を供給しすることで被調理物１０１の加熱を開始し、制御設定値変更手段１０９により使用者の設定電力を維持して加熱を行う（ステップ９０１）。
【００７３】
加熱開始後、実施の形態１で述べたような動作により制御設定値変化検出手段１１０が平衡状態となり加熱部接触面が沸点に到達したかどうかを確認し（ステップ９０２）、到達した場合には電力制御（例えば電力を５０％低下させる）を行い加熱部接触面の温度を低下させる（ステップ９０３）。
【００７４】
電力制御を行った後、被調理物１０１全体の温度を示す温度検出手段８０１の検出値が平衡状態に達したかどうかを確認し（ステップ９０４）、平衡に到達したら加熱を停止する（ステップ９０５）。
【００７５】
このような加熱シーケンスを行うことで、加熱部接触面が沸騰に到達した時点まで最高電力を投入し、加熱部接触面が沸点に達した時点で加熱電力を低下させることで、ふきこぼれの可能性を抑えた上で沸騰検出を正確に行うことができる。
【００７６】
次に、被調理物１０１が沸騰発生境界温度（被加熱物１０２の表面がちょうど沸点となる温度）で被加熱物１０２の温度制御を行う方法について説明する。
【００７７】
図１０は、本発明の第２の実施の形態における誘導加熱調理器の動作を示すフローチャートである。
【００７８】
使用者の指示で加熱が開始されると制御手段１０８は高周波電力供給手段１０４から加熱コイル１０３を通して被加熱物１０２に高周波電力を供給しすることで被調理物１０１の加熱を開始し、制御設定値変更手段１０９により使用者の設定電力を維持して加熱を行う（ステップ１００１）。
【００７９】
加熱開始後、実施の形態１で述べたような動作により制御設定値変化検出手段１１０が平衡状態となり加熱部接触面が沸点に到達したかどうかを確認し（ステップ１００２）、到達した場合には電力制御（例えば電力を５０％低下させる）を行い加熱部接触面の温度を低下させる（ステップ１００３）。
【００８０】
この時、温度検出手段８０１の検出値を目標値として取得し（ステップ１００４）、以降、使用者による加熱終了を確認しながら（ステップ１００５）、ステップ１００４で取得した目標値を基に温度制御を行い（ステップ１００６）、温度検出手段８０１の検出値が目標値より高い間は加熱電力を減少させ（ステップ１００７）、温度検出手段８０１の検出値が目標値以下になると加熱電力を増加させる（ステップ１００８）ことにより、沸騰発生境界温度で被加熱物１０１の温度制御を行うことができる。
【００８１】
以上のように、本実施の形態においては、温度検出手段８０１を備え、制御設定値変化検出手段１１０が電力制御を行った後に温度検出手段８０１の平衡状態を検出することで、不要なふきこぼれを抑え、被調理物１０１全体の沸騰状態を正確に検出することができる。
【００８２】
また、温度検出手段８０１を備え、制御設定値変化検出手段１１０が電力制御を行った際の温度検出手段８０１の検出値を用いて電力制御を行うことで、被調理物１０１の沸騰発生境界温度で被加熱物１０２の温度制御を行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
以上のように、本発明にかかる誘導加熱調理器は、被調理物と被加熱物の加熱部接触面における状態を判断して加熱制御を行い、沸騰による過剰な気泡発生を制御することが可能となるので、誘導加熱調理器だけでなく、被加熱対象物と容器兼被加熱物との接触面における状態を判断して沸騰による気泡発生を抑えながら加熱する加熱機器の用途にも適用することができる。
【符号の説明】
【００８４】
１０１  被調理物
１０２  被加熱物
１０３  加熱コイル
１０４  高周波電力供給手段
１０５  電力検出手段
１０６  スイッチング素子
１０９  制御設定値変更手段
１１０  制御設定値変化検出手段
１１２  昇圧手段
８０１  温度検出手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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