(57)【要約】【課題】  露光現像システムの故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることを両立する。【解決手段】  基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する塗布装置と、前記基板の上に形成された前記膜を露光する露光装置と、露光した前記膜を現像する現像装置とを、それぞれ複数台有する露光現像システムであって、前記露光装置は、あらかじめ用意された描画データに基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する装置であり、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、前記基板を前記塗布装置から前記露光装置へ搬送するときの前記塗布装置と前記露光装置との組み合わせ、および前記基板を前記露光装置から前記現像装置へ搬送するときの前記露光装置と前記現像装置との組み合わせを制御する露光現像システム。【選択図】  図１
2011186114.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する塗布装置と、
前記基板の上に形成された前記膜を露光する露光装置と、
露光した前記膜を現像する現像装置と、
前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置に前記基板を搬送する搬送装置と、
前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置、ならびに前記搬送装置の動作を管理する管理装置と、を有する露光現像システムであって、
前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置を、それぞれ複数台有し、
前記露光装置は、あらかじめ用意された描画データに基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する装置であり、
前記管理装置は、複数種類の前記描画データを保持する手段を有し、複数台の前記露光装置のそれぞれで使用する前記描画データを指定してそれぞれの前記露光装置に取得させるとともに、
前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、前記搬送装置により前記基板を前記塗布装置から前記露光装置へ搬送するときの前記塗布装置と前記露光装置との組み合わせ、および前記基板を前記露光装置から前記現像装置へ搬送するときの前記露光装置と前記現像装置との組み合わせを制御することを特徴とする露光現像システム。
【請求項２】
前記管理装置は、前記搬送装置に２台以上の前記塗布装置から１台の前記露光装置に前記基板を搬送させるときに、
当該１台の前記露光装置に２通り以上の前記描画データを取得させ、露光するときに前記基板上の前記膜の形成に使用された前記塗布装置毎に前記描画データを切り替えさせることを特徴とする請求項１に記載の露光現像システム。
【請求項３】
前記管理装置は、前記現像装置で現像された後で前記基板に残る前記膜のパターンと当該パターンの形成に使用された前記描画データとのずれ量を保持する手段を有し、前記パターンの形成に使用した露光装置に、前記ずれ量を取得させ、
前記露光装置は、前記描画データおよび前記ずれ量に基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成することを特徴とする請求項１に記載の露光現像システム。
【請求項４】
前記現像装置で現像された後で前記基板に残る前記膜のパターンを検査する検査装置を有し、
前記搬送装置は、前記現像装置から受け取った前記基板のうちのあらかじめ定められた基板を前記検査装置に搬送することを特徴する請求項１に記載の露光現像システム。
【請求項５】
前記搬送装置は、環状のコンベヤーを複数段有し、
複数の前記コンベヤーは、移動方向および移動距離の制御が独立しており、
前記管理装置は、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、それぞれの前記コンベヤーの移動方向および移動距離を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光現像システム。
【請求項６】
前記塗布装置および前記現像装置は、前記環状のコンベヤーで囲まれた領域に設置されており、
前記露光装置は、前記環状のコンベヤーで囲まれた領域の外側に設置されていることを特徴とする請求項５に記載の露光現像システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光現像システムに関し、特に、液晶表示パネルの製造に用いる露光現像システムに適用して有効な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示パネルや半導体装置などを製造するときには、基板上に形成した感光性の膜を露光し、現像する工程（以下、露光現像工程と呼ぶ。）が複数回行われる。この露光現像工程は、たとえば、導電膜をエッチングする際にマスクとして使用するエッチングレジストを形成する工程としてよく知られている。また、近年の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、感光性の絶縁体材料を用いた露光現像工程により得られる絶縁膜を、層間絶縁膜として用いることもある。
【０００３】
露光現像工程は、一般に、基板上に感光性の膜を成膜する工程、成膜した感光性の膜を露光する工程、および露光した膜を現像する工程の３工程に大別される。そのため、露光現像工程を行うときには、基板上に感光性の材料を塗布して感光性の膜を形成する塗布装置（成膜装置）、感光性の膜を露光する露光装置、および露光した膜を現像する現像装置、ならびに基板を搬送する搬送装置を使用する。また、露光現像工程を行う際の塗布装置、露光装置、および現像装置、ならびに搬送装置の動作は、管理装置によって管理される。すなわち、露光現像工程は、塗布装置、露光装置、現像装置、搬送装置、および管理装置を有する装置群（以下、露光現像システムと呼ぶ。）を用いて行われる。
【０００４】
従来の露光現像システムは、通常、一組につき、塗布装置、露光装置、および現像装置がそれぞれ１台ずつである。そのため、たとえば、塗布装置または露光装置、もしくは現像装置のいずれかが故障した場合、露光現像システムは停止する。このとき、故障したのが露光装置であるとすると、正常に稼働（動作）している塗布装置および現像装置も停止するので、露光現像工程における処理量（スループット）が著しく低下する。そのため、液晶表示パネルや半導体装置の製造効率が低下するなどの問題が生じていた。
【０００５】
また、液晶表示パネルや半導体装置などの製造方法では、たとえば、露光現像工程の処理量の向上や多品種への対応を目的として、複数組の露光現像システムを並列に設置することも多い。しかしながら、この場合も、それぞれの露光現像システムの管理は独立しており、ある一組の露光現像システムにおいて装置が故障すると、その露光現像システムの正常に稼働している装置は停止する。そのため、複数組の露光現像システムを並列に設置した場合でも、露光現像システムの停止により処理量が低下し、液晶表示パネルや半導体装置の製造効率が低下するという問題は生じる。
【０００６】
露光現像システムの停止による処理量の低下を防ぐ方法としては、たとえば、露光現像システムに予備の装置を設ける方法が提案されている（たとえば、特許文献１を参照。）。
【０００７】
特許文献１および以下の説明で参照する特許文献２は、それぞれ、下記の通りである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平10-335214号公報
【特許文献２】特開2000-098920号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１などに記載された予備の装置は、故障した装置の代替装置である。すなわち、一組の露光現像システムに、たとえば、塗布装置、露光装置、および現像装置がそれぞれ２台ずつ設けられている場合でも、稼働する塗布装置、露光装置、および現像装置はそれぞれ１台ずつである。したがって、装置の故障による処理量の著しい低下を防ぐことはできるものの、たとえば、露光現像システムが高価になり投資効率が低下するなどの別の問題が生じる。
【００１０】
すなわち、従来の露光現像システムには、故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることの両立が難しいという問題があった。
【００１１】
また、従来の露光現像システムにおける露光装置は、通常、フォトマスクを用いて感光性の膜を露光する装置である。そのため、従来の露光現像システムにおいて露光パターンを変更するには、通常、露光現像システム（露光装置）を停止してフォトマスクを交換する必要がある。したがって、従来の露光現像システムには、多品種への柔軟な対応が難しいという問題があった。
【００１２】
本発明の目的は、露光現像システムの故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることの両立が可能な技術を提供することにある。
【００１３】
本発明の他の目的は、露光現像システムの多品種への柔軟な対応を容易にすることが可能な技術を提供することにある。
【００１４】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。
【００１６】
（１）基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する塗布装置と、前記基板の上に形成された前記膜を露光する露光装置と、露光した前記膜を現像する現像装置と、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置に前記基板を搬送する搬送装置と、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置、ならびに前記搬送装置の動作を管理する管理装置と、を有する露光現像システムであって、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置を、それぞれ複数台有し、前記露光装置は、あらかじめ用意された描画データに基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する装置であり、前記管理装置は、複数種類の前記描画データを保持する手段を有し、複数台の前記露光装置のそれぞれで使用する前記描画データを指定してそれぞれの前記露光装置に取得させるとともに、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、前記搬送装置により前記基板を前記塗布装置から前記露光装置へ搬送するときの前記塗布装置と前記露光装置との組み合わせ、および前記基板を前記露光装置から前記現像装置へ搬送するときの前記露光装置と前記現像装置との組み合わせを制御する露光現像システム。
【００１７】
（２）前記（１）の露光現像システムにおいて、前記管理装置は、前記搬送装置に２台以上の前記塗布装置から１台の前記露光装置に前記基板を搬送させるときに、当該１台の前記露光装置に２通り以上の前記描画データを取得させ、露光するときに前記基板上の前記膜の形成に使用された前記塗布装置毎に前記描画データを切り替えさせる露光現像システム。
【００１８】
（３）前記（１）の露光現像システムにおいて、前記管理装置は、前記現像装置で現像された後で前記基板に残る前記膜のパターンと当該パターンの形成に使用された前記描画データとのずれ量を保持する手段を有し、前記パターンの形成に使用した露光装置に、前記ずれ量を取得させ、前記露光装置は、前記描画データおよび前記ずれ量に基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する露光現像システム。
【００１９】
（４）前記（１）の露光現像システムにおいて、前記現像装置で現像された後で前記基板に残る前記膜のパターンを検査する検査装置を有し、前記搬送装置は、前記現像装置から受け取った前記基板のうちのあらかじめ定められた基板を前記検査装置に搬送する露光現像システム。
【００２０】
（５）前記（１）の露光現像システムにおいて、前記搬送装置は、環状のコンベヤーを複数段有し、複数の前記コンベヤーは、移動方向および移動距離の制御が独立しており、前記管理装置は、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、それぞれの前記コンベヤーの移動方向および移動距離を制御する露光現像システム。
【００２１】
（６）前記（５）の露光現像システムにおいて、前記塗布装置および前記現像装置は、前記環状のコンベヤーで囲まれた領域に設置されており、前記露光装置は、前記環状のコンベヤーで囲まれた領域の外側に設置されている露光現像システム。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の露光現像システムによれば、構成装置の故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることの両立が可能になる。
【００２３】
また、本発明の露光現像システムによれば、多品種への柔軟な対応が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施例１の露光現像システムの概略構成の一例を示す模式ブロック図である。
【図２】搬送装置の概略構成の一例を示す模式図である。
【図３】搬送装置を介した基板の受け渡し方法の一例を示す模式図である。
【図４】管理装置の概略構成と露光装置との関係の一例を示す模式ブロック図である。
【図５】実施例１の露光現像システムにおける第１の処理状況を示す模式ブロック図である。
【図６】第１の処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の一例を示す模式ブロック図である。
【図７（ａ）】比較例１の露光現像システムにおける処理状況の一例を示す模式ブロック図である。
【図７（ｂ）】図７（ａ）に示した処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の一例を示す模式ブロック図である。
【図８】実施例１の露光現像システムにおける第２の処理状況を示す模式ブロック図である。
【図９（ａ）】第２の処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の第１段階を示す模式ブロック図である。
【図９（ｂ）】第２の処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の第２段階を示す模式ブロック図である。
【図１０】液晶表示パネルを製造するときに行う第１の検査を説明するための模式平面図である。
【図１１（ａ）】液晶表示パネルを製造するときに行う第２の検査を説明するための模式平面図である。
【図１１（ｂ）】第２の検査の検査結果の一例を示す模式平面図である。
【図１２】実施例２の露光現像システムの概略構成の一例を示す模式ブロック図である。
【図１３】管理装置の概略構成と露光装置および検査装置との関係の一例を示す模式ブロック図である。
【図１４】描画データライブラリの構成の一例を示す模式ブロック図である。
【図１５】実施例２の露光現像システムにおける処理状況の一例を示す模式ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明について、図面を参照して実施の形態（実施例）とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【実施例１】
【００２６】
図１乃至図４は、本発明による実施例１の露光現像システムの概略構成を説明するための模式図である。
図１は、実施例１の露光現像システムの概略構成の一例を示す模式ブロック図である。図２は、搬送装置の概略構成の一例を示す模式図である。図３は、搬送装置を介した基板の受け渡し方法の一例を示す模式図である。図４は、管理装置の概略構成と露光装置との関係の一例を示す模式ブロック図である。
【００２７】
実施例１の露光現像システムは、たとえば、図１に示すように、複数台の塗布装置１、複数台の露光装置ＥＸ（ＥＸ１，ＥＸ２，・・・）、複数台の現像装置２、搬送装置３、および管理装置４、ならびにロットバッファ５を有する。なお、図１には、塗布装置１、露光装置ＥＸ、現像装置２をそれぞれ２台ずつしか示していないが、これに限らず、それぞれ３台以上であってもよいことはもちろんである。また、露光装置ＥＸは、区別する必要がない場合は露光装置ＥＸとし、区別する必要がある場合は、第１の露光装置ＥＸ１、第２の露光装置ＥＸ２とする。
【００２８】
塗布装置１は、基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する装置であり、たとえば、従来の露光現像システムで用いられている装置のいずれかであればよい。
【００２９】
露光装置ＥＸは、塗布装置１により基板の上に形成した感光性の膜を露光する装置である。実施例１の露光現像システムにおける露光装置ＥＸは、たとえば、CAD（Computer Aided Design）で作製された数値データ、あるいはその数値データを変換して得られる描画データに基づく数値制御により露光パターン、すなわち感光性の膜に照射する光のパターンを生成する装置である。露光装置ＥＸの構成や動作については、後述する。
【００３０】
現像装置２は、露光装置ＥＸで露光した膜を現像する装置であり、たとえば、従来の露光現像システムで用いられている装置のいずれかであればよい。
【００３１】
なお、塗布装置１と現像装置２との間には、一般に、１対１の関係があり、対応関係のある塗布装置１と現像装置２の組を１つの装置（塗布現像装置ＡＤ）として扱うことが多い。すなわち、図１に示した第１の塗布現像装置ＡＤ１の塗布装置１により形成された膜は、第１の塗布現像装置ＡＤ１の現像装置２で現像するように通常決められている。同様に、第２の塗布現像装置ＡＤ２の塗布装置１により形成された膜は、第２の塗布現像装置ＡＤ２の現像装置２で現像するように通常決められている。なお、塗布現像装置ＡＤは、区別する必要がない場合は塗布現像装置ＡＤとし、区別する必要がある場合は、第１の塗布現像装置ＡＤ１、第２の塗布現像装置ＡＤ２とする。
【００３２】
搬送装置３は、たとえば、複数組の塗布現像装置ＡＤ（塗布装置１および現像装置２）を囲むように敷設された環状のコンベヤー３０１を有する。また、コンベヤー３０１は、たとえば、図２に示すように、多段構成になっており、それぞれのコンベヤー３０１は、移動方向および移動量の制御が独立している。
【００３３】
また、コンベヤー３０１と塗布装置１（または現像装置２）との間での基板６の受け渡しは、たとえば、図３に示すように、コンベヤー３０１と塗布装置１（または現像装置２）との間に設置された第１の基板受渡装置７ａで行う。同様に、また、コンベヤー３０１と露光装置ＥＸとの間での基板６の受け渡しは、たとえば、コンベヤー３０１と露光装置ＥＸとの間に設置された第２の基板受渡装置７ｂで行う。
【００３４】
管理装置４は、塗布装置１、露光装置ＥＸ、現像装置２、および搬送装置３や、ロットバッファ５の動作を管理する装置である。管理装置４の構成および動作については、後述する。
【００３５】
ロットバッファ５は、複数枚の基板６を１つの組（１ロット）として保持するカセット８を一時的に設置する場所（装置）であり、たとえば、従来の露光現像システムで用いられている構成のいずれかであればよい。
【００３６】
実施例１の露光現像システムにおける露光現像処理の手順を簡単に説明すると、以下の通りである。まず、カセット８で保持している基板６を搬送装置３（コンベヤー３０１）に渡し、所定の塗布装置１の前まで搬送した後、塗布装置１に渡す。塗布装置１は、受け取った基板６の上に感光性の材料でなる膜（以下、感光性材料膜と呼ぶ。）を形成する。
【００３７】
感光性材料膜を形成した基板６は再びコンベヤー３０１に渡し、所定の露光装置ＥＸの前まで搬送した後、露光装置ＥＸに渡す。露光装置ＥＸは、基板６の上に形成された感光性材料膜を露光する。
【００３８】
感光性材料膜を露光した基板６は再びコンベヤー３０１に渡し、所定の現像装置２の前まで搬送した後、現像装置２に渡す。現像装置２は、露光した感光性材料膜から不要な部分を除去する。
【００３９】
感光性材料膜の不要な部分を除去した基板６は再びコンベヤー３０１に渡し、所定のカセット８の前まで搬送した後、カセット８に渡す。
【００４０】
さて、実施例１の露光現像システムにおける搬送装置３は、前述のように、環状のコンベヤー３０１が塗布現像装置ＡＤ（塗布装置１および現像装置２）を囲むように敷設されている。そのため、たとえば、ある１台の塗布装置１により感光性材料膜が形成された基板６は、複数台の露光装置ＥＸのうちの、どの露光装置ＥＸの前にも搬送することができる。これは、他の塗布装置１についても同様で、感光性材料膜が形成された基板６は、塗布装置１の番号（号機）によらず、どの露光装置ＥＸの前にも搬送することができる。またこのとき、環状のコンベヤー３０１が多段構成になっており、かつ、それぞれのコンベヤー３０１における移動方向および移動量の制御が独立していれば、感光性材料膜が形成された基板６を効率よく所定の露光装置ＥＸの前まで搬送できる。
【００４１】
また、上記のことは、露光装置ＥＸにより感光性材料膜を露光した基板６の搬送に関しても言える。すなわち、露光装置ＥＸにより感光性材料膜を露光した基板６は、露光装置ＥＸの番号（号機）によらず、どの現像装置２の前にも搬送することができる。
【００４２】
なお、コンベヤー３０１の上の基板６をどの装置の前まで搬送するかは、たとえば、基板６が収容されていたカセット８の番号に基づいて管理装置４で制御する。
【００４３】
またさらに、実施例１の露光現像システムでは、前述のように、描画データ（数値データ）に基づいた数値制御により露光パターンを生成する露光装置ＥＸを用いて感光性材料膜を露光する。このとき、露光装置ＥＸで使用する描画データは、たとえば、図４に示すように、管理装置４に設けられた描画データライブラリ４０１に保持されている。またこのとき、描画データライブラリ４０１には、第１の描画データＬＤ１、第２の描画データＬＤ２などの描画データが多数保持されている。そして、露光装置ＥＸは、管理装置４の露光管理部４０２から指示された描画データを描画データライブラリ４０１から取得する。また、露光管理部４０２は、露光装置ＥＸに描画データを取得させるだけでなく、たとえば、露光装置ＥＸの稼働状況、言い換えると正常に稼働しているか否かの監視なども行っている。
【００４４】
なお、描画データライブラリ４０１は、管理装置４に設ける代わりに、たとえば、インターネット上のサーバなどに設けてもよい。
【００４５】
描画データに基づいた数値制御により露光パターンを生成する露光装置ＥＸでは、DMD（Digital Micromirror Device）などのMEMS（Micro Electro Mechanical System）を数値制御することで露光パターンを生成するので、フォトマスクが不要である。また、露光パターンの生成に用いる描画データは、たとえば、フォトマスクの製造にも使用されるCADデータなどのレイアウトデータ（数値データ）に基づいてコンピュータ上で作製される。また、描画データは、描画データライブラリ４０１で保持され、複数の露光装置ＥＸで共有される。したがって、実施例１の露光現像システムは、従来の露光現像システムに比べて、多品種に対応させるとき、言い換えると対応可能な露光パターンの数を増やすときのコストの上昇が非常に少ない。
【００４６】
また、実施例１の露光現像システムは、前述のように、塗布現像装置ＡＤ（塗布装置１および現像装置２）と露光装置ＥＸとの組み合わせに制限が無く、適宜変更可能である。そのため、実施例１の露光現像システムでは、たとえば、以下に説明するような露光現像処理が可能になる。
【００４７】
図５および図６は、実施例１の露光現像システムにおける露光現像処理の第１の例を説明するための模式図である。
図５は、実施例１の露光現像システムにおける第１の処理状況を示す模式ブロック図である。図６は、第１の処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の一例を示す模式ブロック図である。
【００４８】
実施例１の露光現像システムにおける露光現像処理の第１の例として、図５に示すように、第１の塗布現像装置ＡＤ１と第１の露光装置ＥＸ１とを組み合わせ、第２の塗布現像装置ＡＤ２と第２の露光装置ＥＸ２とを組み合わせて、露光現像処理を行っている場合を挙げる。また、第１の例における第１の露光装置ＥＸ１および第２の露光装置ＥＸ２は、ともに、第１の描画データＬＤ１に基づいて露光をしているとする。
【００４９】
このとき、管理装置４は、たとえば、図５に付した表のような制御データに基づいて、搬送装置３や露光装置ＥＸを制御している。なお、図５に付した表において、「ＡＤ No.」は塗布現像装置ＡＤの番号（号機）、「ＥＸ No.」は露光装置ＥＸの番号（号機）、「ＬＤ No.」は使用する描画データの番号を示している。また、図５に付した表は、横方向に並んだ塗布現像装置ＡＤの番号（号機）、露光装置ＥＸの番号（号機）、および使用する描画データの番号を１つの組として示している。たとえば、第１の塗布現像装置ＡＤ１は、第１の露光装置ＥＸ１と組み合わせて使用され、第１の露光装置ＥＸ１は第１の描画データＬＤ１を用いて露光することを示している。
【００５０】
このような処理状況のときに、たとえば、第１の露光装置ＥＸ１が故障により停止したとする。そうすると、管理装置４の露光管理部４０２は、それを検知し、たとえば、図６に示すように、第１の塗布現像装置ＡＤ１と組み合わせる露光装置ＥＸを、第１の露光装置ＥＸ１から第２の露光装置ＥＸ２に変更する。この変更は、たとえば、図６に付した表のように、制御データにおいて第１の塗布現像装置ＡＤ１と組み合わせる露光装置ＥＸの番号を、第２の露光装置ＥＸ２に変更すればよい。そうすると、管理装置４により制御される搬送装置３は、第１の塗布現像装置ＡＤ１の塗布装置１から受け取った基板６および第２の塗布現像装置ＡＤ２の塗布装置１から受け取った基板６を第２の露光装置ＥＸ２の前まで搬送するようになる。そして、第２の露光装置ＥＸ２は、これらの基板６を順次露光し、搬送装置３に戻す。
【００５１】
またこのとき、搬送装置３は、第２の露光装置ＥＸ２から受け取った基板６を、あらかじめ定められた条件（制御データ）にしたがい、第１の塗布現像装置ＡＤ１の前または第２の塗布現像装置ＡＤ２の前に搬送する。露光現像処理を行う基板６は、上記のようにカセット８（ロット）毎に管理されている。そのため、基板６には、通常、どのロットで製造されたかを示す識別用のパターンなどが設けられている。したがって、第２の露光装置ＥＸ２から受け取った基板６を、第１の塗布現像装置ＡＤ１の前に搬送するか、第２の塗布現像装置ＡＤ２の前に搬送するかは、たとえば、基板６に設けられた識別用のパターンに基づいて定めればよい。
【００５２】
このように、実施例１の露光現像システムでは、露光装置ＥＸが故障したときでも、故障した露光装置ＥＸと組み合わせて使用されていた塗布現像装置ＡＤを停止させることなく、露光現像処理を続けることができる。
【００５３】
なお、実施例１の露光現像システムでは、露光装置ＥＸではなく、塗布現像装置ＡＤが停止することもある。実施例１の露光現像システムでは、図５に示した状況のときに第１の塗布現像装置ＡＤ１が停止したとすると、たとえば、第２の塗布現像装置ＡＤ２で感光性材料膜を形成した基板６を第１の露光装置ＥＸ１および第２の露光装置ＥＸ２に交互に搬送することができる。
【００５４】
図７（ａ）および図７（ｂ）は、本発明に関わる比較例１の露光現像システムにおける露光現像処理の一例を説明するための模式図である。
図７（ａ）は、比較例１の露光現像システムにおける処理状況の一例を示す模式ブロック図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）に示した処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の一例を示す模式ブロック図である。
【００５５】
従来の露光現像システムには、実施例１の露光現像システムと同様に、塗布装置１、露光装置ＥＸ、および現像装置２をそれぞれ複数台有するシステムがある。しかしながら、従来の露光現像システムでは、たとえば、図７（ａ）に示すように、塗布現像装置ＡＤと露光装置ＥＸとの組み合わせが固定されたユニットＵ（Ｕ１，Ｕ２，・・・）が並列に設置されているだけである。したがって、第１の露光装置ＥＸ１が故障した場合は、たとえば、図７（ｂ）に示すように、第１の塗布現像装置ＡＤ１を停止することになり、露光現像処理の処理量が著しく低減する。
【００５６】
また、実施例１の露光現像システムのような環状のコンベヤー３０１を有する搬送装置３を利用した製造ライン（製造システム）は、たとえば、特許文献２に開示されている。しかしながら、特許文献２に開示された製造ラインは、フローショップ方式と呼ばれる処理方式であり、構成装置が１台でも故障するとフロー処理がストップする。
【００５７】
これに対し、実施例１の露光現像システムでは、前述のように、故障した露光装置ＥＸと組み合わせて使用されていた塗布現像装置ＡＤを停止させることなく、露光現像処理を続けることができる。そのため、従来の露光現像システムに比べて、露光装置ＥＸの故障（停止）による処理量の低下の度合いを小さくすることができる。
【００５８】
また、実施例１の露光現像システムでは、構成装置が故障したときに、故障した構成装置で行う処理を、他の正常に稼働している装置に行わせる。そのため、基本的には予備の装置が不要であり、投資効率の低下を抑えることができる。
【００５９】
図８ならびに図９（ａ）および図９（ｂ）は、実施例１の露光現像システムにおける露光現像処理の第２の例を説明するための模式図である。
図８は、実施例１の露光現像システムにおける第２の処理状況を示す模式ブロック図である。図９（ａ）は、第２の処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の第１段階を示す模式ブロック図である。図９（ｂ）は、第２の処理状況において１台の露光装置が故障した場合の対処方法の第２段階を示す模式ブロック図である。
【００６０】
実施例１の露光現像システムにおける露光現像処理の第２の例として、図８に示すように、第１の塗布現像装置ＡＤ１と第１の露光装置ＥＸ１とを組み合わせ、第２の塗布現像装置ＡＤ２と第２の露光装置ＥＸ２とを組み合わせて、露光現像処理を行っている場合を挙げる。また、第２の例では、第１の露光装置ＥＸ１は第１の描画データＬＤ１に基づいて露光をし、第２の露光装置ＥＸ２は第２の描画データＬＤ２に基づいて露光をしているとする。
【００６１】
このとき、管理装置４は、たとえば、図８に付した表のような制御データに基づいて、搬送装置３や露光装置ＥＸを制御している。
【００６２】
このような処理状況のときに、たとえば、第１の露光装置ＥＸ１が故障により停止したとする。そうすると、管理装置４の露光管理部４０２は、それを検知し、第１の塗布現像装置ＡＤ１と組み合わせる露光装置を、第１の露光装置ＥＸ１から他の露光装置に変更する。このとき、他の露光装置の中に、第１の描画データＬＤ１に基づいて露光をしている露光装置があれば、第１の塗布現像装置ＡＤ１と組み合わせる露光装置をその露光装置に指定する。
【００６３】
一方、他の露光装置の中に、第１の描画データＬＤ１に基づいて露光をしている露光装置が無い場合は、たとえば、図９（ａ）に示すように、第１の塗布現像装置ＡＤ１と組み合わせる露光装置を、第１の露光装置ＥＸ１から第２の露光装置ＥＸ２に変更する。
【００６４】
しかしながら、この段階での第２の露光装置ＥＸ２は、第２の描画データＬＤ２に基づいて感光性材料膜を露光しているので、そのままでは第１の塗布現像装置ＡＤ１で形成した感光性材料膜を露光することができない。そのため、管理装置４の露光管理部４０２は、たとえば、第２の露光装置ＥＸ２に、第１の塗布現像装置ＡＤ１で形成した感光性材料膜を露光するための第１の描画データＬＤ１を取得させる。そして、第２の露光装置ＥＸ２において第１の塗布現像装置ＡＤ１から搬送された基板６を露光するときには、たとえば、図９（ｂ）に示すように、取得した第１の描画データＬＤ１に基づいて露光する。また、第２の露光装置ＥＸ２において第２の塗布現像装置ＡＤ２から搬送された基板６を露光するときには、たとえば、図９（ａ）に示したように、使用する描画データを第２の描画データＬＤ２に変更して露光する。
【００６５】
このように、搬送元の塗布現像装置ＡＤの番号（号機）にあわせて露光パターンを変えることは、たとえば、フォトマスクを用いても可能である。しかしながら、フォトマスクを使用する場合は、たとえば、露光パターンを変えるたびに露光装置を停止してフォトマスクを交換する必要があり、非常に効率が悪い。
【００６６】
これに対し、実施例１の露光現像システムで用いる露光装置ＥＸは、描画データに基づいた数値制御により露光パターンを生成するので、描画データ（数値データ）を変更するだけで露光パターンを変えることができる。そのため、露光パターンを変更する際に露光装置ＥＸを停止させる必要が無い。
【００６７】
また、実施例１の露光現像システムでは、上記のように露光装置ＥＸが故障した場合に限らず、たとえば、正常に稼働している露光装置ＥＸの露光パターンを、他の露光パターンに変更することも容易である。したがって、実施例１の露光現像システムでは、液晶表示パネルや半導体装置などの製品の品種を変えたり、品種毎の処理量を変えたりすることも容易である。また、新たな品種を追加するときにも、描画データを追加するだけでよいので、コストの上昇を抑えられる。
【００６８】
以上説明したように、実施例１の露光現像システムによれば、構成装置の故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることを両立できる。
【００６９】
また、実施例１の露光現像システムによれば、露光装置ＥＸにおける露光パターンの変更が容易であり、かつ、低コストで実現できる。そのため、実施例１の露光現像システムは、従来の露光現像システムに比べて、多品種への柔軟な対応が容易になる。
【実施例２】
【００７０】
図１０ならびに図１１（ａ）および図１１（ｂ）は、液晶表示パネルを製造するときに生じる問題点を説明するための模式図である。
図１０は、液晶表示パネルを製造するときに行う第１の検査を説明するための模式平面図である。図１１（ａ）は、液晶表示パネルを製造するときに行う第２の検査を説明するための模式平面図である。図１１（ｂ）は、第２の検査の検査結果の一例を示す模式平面図である。
【００７１】
実施例１の露光現像システムを含む一般的な露光現像システムは、たとえば、基板６に形成した導電膜をエッチングする際にマスクとして使用するエッチングレジストを形成する工程で用いられる。露光現像システムにより形成されたエッチングレジストの平面パターンは、露光パターンと概ね一致する。露光装置ＥＸにおける露光パターンは、たとえば、基板６の上に形成する導体パターンに関するレイアウトデータ（数値データ）に基づいて生成されるので、エッチングレジストの平面パターンはレイアウトデータと一致する。そのため、導電膜をエッチングすることにより、基板６の上には、レイアウトデータと一致する導体パターンが形成される。
【００７２】
液晶表示パネルは、一対の基板の間に液晶層を封入した表示パネルであり、一対の基板のうちの一方の基板（以下、ＴＦＴ基板と呼ぶ。）には、たとえば、複数の走査信号線、複数の映像信号線およびＴＦＴ素子のソース-ドレイン電極、ならびに画素電極などの導体パターンが形成される。
【００７３】
ＴＦＴ基板の製造は、通常、マザーガラスと呼ばれる大面積のガラス基板を用いて複数枚のＴＦＴ基板を一括製造する多面取りと呼ばれる方法で行われる。１枚のマザーガラスを用いて４枚のＴＦＴ基板を一括製造する４面取りの場合、たとえば、図１０に示したように、マザーガラス９の４箇所の領域９０１，９０２，９０３，９０４（以下、９０１〜９０４と記す。）のそれぞれに、ＴＦＴ基板に必要な走査信号線、複数の映像信号線およびＴＦＴ素子のソース-ドレイン電極、ならびに画素電極などが形成される。そして、最後にこの４箇所の領域９０１〜９０４を切り出すことで、４枚のＴＦＴ基板を得る。
【００７４】
さて、このように多面取りでＴＦＴ基板を製造するときには、通常、ＴＦＴ基板として切り出す領域９０１〜９０４の外側に、検査パターン１０が設けられている。図１０に示した検査パターン１０は、配線のショート異常の有無を検査するパターンであり、所定の領域１０ａに、２つの導体パターン１０ｂ，１０ｃが形成されるような構成になっている。しかしながら、検査パターン１０の導体パターン１０ｂ，１０ｃを含む導体パターンを形成したときには、たとえば、右上角部の検査パターン１０のように、導体パターンが２つに分離していないことがある。このように、検査パターン１０の導体パターンに形状不良がある場合、その周辺に形成されている他の導体パターンにも同様の不良がある可能性が高い。すなわち、図１０に示した４つの領域９０１〜９０４のうちの、右上の領域９０３から切り出されたＴＦＴ基板の配線には、ショート異常がある可能性が高い。そのため、露光現像工程の後で行われる検査においてこのようなショート異常が検出された場合、たとえば、該当する露光装置を停止して異常を解消するための作業を行う必要がある。
【００７５】
しかしながら、従来の露光現像システムでは、たとえば、１カセット（１ロット）分の基板６に対する露光現像処理を行った後、上記のような検査を行っている。そのため、異常（不良）の発見が遅れ、たとえば、製造歩留まりの低下などの問題が生じる。
【００７６】
またさらに、従来の露光装置のように、フォトマスクを用いて露光パターンを生成する場合、ショート異常を解消するにはフォトマスクを修正する必要があり、時間と手間がかかる。
【００７７】
また、多面取りでＴＦＴ基板を製造する場合、ＴＦＴ基板として切り出す４箇所の領域９０１〜９０４の外側には、たとえば、図１１（ａ）に示すように、ディストーション（歪み）の検査を行うための歪み検査パターン１１も設けられている。ディストーションというのは、たとえば、感光性材料膜を露光するときの露光パターンの歪みに起因する導体パターンの歪みや形成位置のずれのことである。
【００７８】
ＴＦＴ基板の製造に用いられるレイアウトデータ（数値データ）は、通常、図１１（ａ）に示すように、歪み検査パターン１１を結んでできる平面図形が長方形になることを前提として作製されている。しかしながら、そのレイアウトデータに基づいて導体パターンを形成したときには、たとえば、図１１（ｂ）に示すように、歪み検査パターン１１を結んでできる平面図形が長方形にならないこともある。この場合、マザーガラス９の４つの領域９０１〜９０４に形成された導体パターン（配線）には、歪みや形成位置のずれが生じるが、その度合いは領域毎に異なる。
【００７９】
また、同じ露光パターンで露光する場合でも、たとえば、使用する露光装置ＥＸが異なると、ディストーションの度合いが異なる。
【００８０】
また、液晶表示パネルの場合、ＴＦＴ基板と対向基板（ＣＦ基板と呼ぶこともある）の２枚の基板の間に液晶層（液晶材料）を封入する。対向基板は、たとえば、光透過領域（開口領域）を画素毎に分離する遮光膜（ブラックマトリクス）やカラーフィルタなどを有する。また、対向基板は、ＴＦＴ基板と同様の手順で製造されるので、上記のディストーションが生じる。このとき、ＴＦＴ基板と対向基板とでディストーションの度合いに違いがあると、ＴＦＴ基板における開口領域と対向基板における開口領域との位置関係にずれが生じ、たとえば、実効的な開口領域が狭くなったり、画素間における開口領域のばらつきが大きくなったりすることがある。また、ＴＦＴ基板にディストーションが生じると、たとえば、各画素に設けられるＴＦＴ素子の特性にばらつきが生じ、画素電極および共通電極に所定の電圧を印加したときの輝度にばらつきが生じる。
【００８１】
すなわち、ＴＦＴ基板や対向基板を製造する際の露光現像工程でディストーションが生じると、同じレイアウトデータに基づいて製造された複数枚の液晶表示パネルにおける画質の差が大きくなり、商品価値を損なうおそれがある。そのため、液晶表示パネルを製造するときの露光現像工程では、ディストーションの度合いをできるだけ小さくすることが望ましい。しかしながら、従来の露光装置のように、フォトマスクを用いて露光パターンを生成する場合、ディストーションの度合いを小さくするにはフォトマスクを修正する必要があり、時間と手間がかかる。
【００８２】
ところで、実施例１の露光現像システムのように、描画データに基づいた数値制御により露光パターンを生成する露光装置ＥＸを用いた場合、検査により検知された導体パターンの形状不良や形成位置のずれを数値化し、それを描画データに反映させれば、導体パターンの形状不良や形成位置のずれを容易に解消することができる。
【００８３】
また、露光現像システムを用いて形成したエッチングレジストをマスクにしたエッチングで導体パターンを形成する場合、導体パターンに生じる形状不良や形成位置のずれは、エッチングレジストのパターンから容易に予測できる。
【００８４】
すなわち、実施例１の露光現像システムにおいて、現像装置２から搬送装置３に渡された基板６をカセット８に戻す前に、基板６の上に形成された膜のパターンを検査し、検査結果に基づいて露光装置ＥＸで使用する描画データを修正することができれば、露光現像工程に起因する製造歩留まりの低下や製品の特性のばらつきを抑制することが容易になると考えられる。
【００８５】
図１２乃至図１４は、本発明による実施例２の露光現像システムの概略構成を説明するための模式図である。
図１２は、実施例２の露光現像システムの概略構成の一例を示す模式ブロック図である。図１３は、管理装置の概略構成と露光装置および検査装置との関係の一例を示す模式ブロック図である。図１４は、描画データライブラリの構成の一例を示す模式ブロック図である。
【００８６】
実施例２の露光現像システムは、たとえば、図１２に示すように、複数台の塗布装置１、複数台の露光装置ＥＸ（ＥＸ１，ＥＸ２，・・・）、複数台の現像装置２、搬送装置３、および管理装置４、ならびにロットバッファ５に加え、検査装置１２を有する。
【００８７】
塗布装置１、露光装置ＥＸ、現像装置２、搬送装置３、およびロットバッファ５は、実施例１のものと同じでよいので、説明は省略する。
【００８８】
検査装置１２は、たとえば、図１０に示したようなショート異常の有無の検査や、図１１（ｂ）に示したようなディストーションの度合いの検査を行う装置である。なお、検査装置１２は、全ての検査が可能な１台の装置であってもよいし、検査項目毎に分けられた複数台の装置からなる装置群であってもよい。
【００８９】
管理装置４は、たとえば、図１３に示すように、描画データライブラリ４０１と露光管理部４０２を有する。露光管理部４０２は、実施例１で説明した機能に加え、たとえば、検査装置１２からの検査結果に基づいて露光装置ＥＸを停止させたり、補正データを作製したりする機能を有する。
【００９０】
検査装置１２からの検査結果に、たとえば、図１０に示したようなショート異常があることが示されていた場合、基板６の上のどの位置に異常があるかはわかっても、描画データをどのように補正すればよいかまではわからないことが多い。また、ショート異常が生じる要因は、露光パターンの問題だけとは限らない。そのため、このような場合は、該当する塗布現像装置ＡＤおよび露光装置ＥＸを一旦停止して、異常の発生要因を調べることが望ましい。
【００９１】
この場合、塗布現像装置ＡＤおよび露光装置ＥＸを停止することにより、露光現像システムの処理量は低下するが、基板６の上の異常を検知した時点で停止するので、異常のある基板６の数を最小限にとどめることができ、製造歩留まりの低下を抑えることができる。
【００９２】
また、検査装置１２からの検査結果に、たとえば、図１１（ｂ）に示したようなディストーションがあることが示されていた場合、その要因は、露光装置ＥＸにおける露光パターンの歪みである。そのため、このような場合は、ディストーションの度合いと露光に使用した描画データとを比較し、その差に基づいて露光装置ＥＸの号機と補正量とを有する補正データを作製する。作製した補正データ（第１の補正データＣＤ１、第２の補正データＣＤ２など）は、たとえば、図１４に示すように、描画データライブラリ４０１で保持する。
【００９３】
図１５は、実施例２の露光現像システムにおける処理状況の一例を示す模式ブロック図である。
【００９４】
実施例２の露光現像システムでは、前述のように、ディストーションの度合いと露光に使用した描画データとを比較し、その差に基づいて補正データを作製する。ディストーションの度合いは、前述のように、露光装置ＥＸ毎に異なることが多い。そのため、たとえば、実施例１で挙げた露光現像処理の第１の例（図５）のように、第１の露光装置ＥＸ１および第２の露光装置ＥＸ２が、ともに、第１の描画データＬＤ１に基づいて露光をしている場合でも、第１の露光装置ＥＸ１で露光して得られる膜のパターンと、第２の露光装置ＥＸ２で露光して得られる膜のパターンには違いが生じる。
【００９５】
実施例２の露光現像システムでは、検査装置１２において検出されたディストーションの度合いに応じて、たとえば、第１の露光装置ＥＸ１に対する補正データ（第１の補正データＣＤ１）や、第２の露光装置ＥＸ２に対する補正データ（第２の補正データＣＤ２）が作製される。そして、これらの補正データが作製された後、露光管理部４０２は、それぞれの露光装置ＥＸに補正データを取得させて露光パターンの生成に反映させる。
【００９６】
このようにすると、基板６の上に形成される導体パターンの歪みや形成位置のずれが低減する。そのため、たとえば、同じレイアウトデータに基づいて製造された複数枚の液晶表示パネルにおける画質の差が小さくなる。
【００９７】
以上説明したように、実施例２の露光現像システムによれば、露光現像工程に起因する製造歩留まりの低下や製品の特性のばらつきを抑制することが容易になる。特に、液晶表示パネルを製造する際の露光現像工程に実施例２の露光現像システムを用いると、製品（液晶表示装置）毎の画質の差を小さくすることができる。
【００９８】
また、実施例２の露光現像システムに実施例１の露光現像システムと同じ効果、たとえば、構成装置の故障時の処理量の低下を抑えることと投資効率の低下を抑えることを両立できるという効果や、従来の露光現像システムに比べて多品種への柔軟な対応が容易になるという効果があることは、もちろんである。
【００９９】
以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。
【０１００】
たとえば、実施例１の露光現像システムでは、たとえば、露光装置ＥＸが故障などで停止したときに、他の正常に稼働している露光装置ＥＸを利用して処理量の低下を抑えている。しかしながら、本発明の露光現像システムは、これに限らず、たとえば、複数台の露光装置ＥＸで共有される予備の露光装置を１台設置してもよいことはもちろんである。たとえば、５台の露光装置ＥＸを用いて露光現像処理を行う露光現像システムに予備の露光装置を１台設置するときの投資効率は、１台の露光装置に対して予備の露光装置を１台設置する場合の投資効率よりも高い。また、５台の露光装置ＥＸのうちの１台が故障したときに、その露光装置ＥＸで行っていた露光を予備の露光装置で行うようにすれば、他の正常に稼働している４台の露光装置ＥＸの処理量は変わらない。したがって、故障時の処理量の低下を抑える効果が高くなり、液晶表示パネルや半導体装置などの安定した製造（供給）が可能になると考えられる。
【０１０１】
また、実施例２の露光現像システムで用いる補正データの形式は適宜変更可能であり、露光現像処理の後に基板上に残る膜の寸法や形成位置と、もともとの描画データ（レイアウトデータ）との差が小さくなるようにできればよいことはもちろんである。
【０１０２】
また、実施例１および実施例２の露光現像システムでは、環状のコンベヤー３０１が多段構成になっている搬送装置３を用いている。しかしながら、搬送装置３は、これに限らず、基板６を露光現像システム内の装置間で自在に搬送できる構成であればよいことはもちろんである。
【符号の説明】
【０１０３】
１  塗布装置
２  現像装置
３  搬送装置
３０１  コンベヤー
４  管理装置
４０１  描画データライブラリ
４０２  露光管理部
５  ロットバッファ
６  基板
７ａ  第１の基板受渡装置
７ｂ  第２の基板受渡装置
８  カセット
９  マザーガラス
１０  検査パターン
１１  歪み検査パターン
１２  検査装置
ＥＸ１  第１の露光装置
ＥＸ２  第２の露光装置
ＡＤ１  第１の塗布現像装置
ＡＤ２  第２の塗布現像装置
【図１】
2011186114.tif 000003
【図２】
2011186114.tif 000004
【図３】
2011186114.tif 000005
【図４】
2011186114.tif 000006
【図５】
2011186114.tif 000007
【図６】
2011186114.tif 000008
【図７（ａ）】
2011186114.tif 000009
【図７（ｂ）】
2011186114.tif 000010
【図８】
2011186114.tif 000011
【図９（ａ）】
2011186114.tif 000012
【図９（ｂ）】
2011186114.tif 000013
【図１０】
2011186114.tif 000014
【図１１（ａ）】
2011186114.tif 000015
【図１１（ｂ）】
2011186114.tif 000016
【図１２】
2011186114.tif 000017
【図１３】
2011186114.tif 000018
【図１４】
2011186114.tif 000019
【図１５】
2011186114.tif 000020