(57)【要約】      （修正有）【課題】塗布対象物に液滴を吐出して塗布パターンを形成する処理を正確に実行することができる技術を提供する。【解決手段】撮像ユニット７０は、塗布対象物である基材シート９０に対して相対移動しながら基材シート９０を撮像して、基材シート９０の撮像データを取得する。塗布ユニット１０が備える塗布ヘッド１１は、基材シート９０に対して薬液を液滴として吐出する。制御部は、撮像ユニット７０が取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御して、基材シート９０上に所定の塗布パターンを形成させる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物を撮像して、前記塗布対象物の撮像データを取得する撮像手段と、
前記塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、
前記撮像データに基づいて前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御して、前記塗布対象物上に所定の塗布パターンを形成させる制御手段と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴塗布装置であって、
前記撮像手段が、
塗布対象物に対して相対移動しながら前記塗布対象物を撮像して、前記塗布対象物の１次元撮像データを時系列で出力し、
前記制御手段が、
前記１次元撮像データに基づいて、当該１次元撮像データの撮像領域に対する前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御することを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液滴塗布装置であって、
前記制御手段が、前記塗布対象物上に、当該塗布対象物の形状に応じた塗布パターンを形成させることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液滴塗布装置であって、
前記制御手段が、前記塗布対象物上に、当該塗布対象物と合同の塗布パターンを形成させることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項５】
請求項３に記載の液滴塗布装置であって、
前記制御手段が、前記塗布対象物上に、当該塗布対象物の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する塗布パターンを形成させることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項６】
請求項１または２に記載の液滴塗布装置であって、
前記塗布ヘッドを複数備え、
前記複数の塗布ヘッドのそれぞれが、互いに異なる複数の塗布液のいずれかを吐出し、
前記制御手段が、
前記撮像データを解析して、前記塗布対象物の領域内に規定され、前記複数の塗布液のいずれかと対応付けられた部分領域を抽出する撮像データ解析手段、
を備え、
前記制御手段が、前記複数の塗布ヘッドのそれぞれに、当該塗布ヘッドが吐出する塗布液と対応付けられた部分領域に前記塗布液を吐出させることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の液滴塗布装置であって、
前記液滴塗布装置が、基材シートの片面に薬剤を担持した貼付剤を製造する貼付剤製造装置であり、
前記塗布対象物が、前記基材シートであり、
前記塗布液が、前記薬剤を含む薬液であることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項８】
ａ）撮像手段に塗布対象物を撮像させて、前記塗布対象物の撮像データを取得する工程と、
ｂ）塗布ヘッドに前記塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出させて、前記塗布対象物上に所定の塗布パターンを形成する工程と、
を備え、
前記ａ）工程で取得された撮像データに基づいて、前記ｂ）工程における前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御することを特徴とする液滴塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出して、当該塗布対象物上に塗布パターンを形成させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
塗布対象物に塗布液を液滴として吐出して塗布対象物上に様々な塗布パターンを形成する技術は、従来から各種提案されている。例えば、インクジェット装置は、塗布対象物（例えばプリント用紙）に対して吐出ヘッドから微小なインクの液滴を吐出して、塗布対象物上に図形や文字等の様々な塗布パターンを形成する。一般に、塗布対象物上に形成すべき塗布パターンのデータは外部装置等から取得され、インクジェット装置の制御部はこのデータに基づいて吐出ヘッドからのインクの吐出を制御する。インクジェット装置の構成は、例えば特許文献１に開示されている。
【０００３】
ところで、塗布対象物上の適切な位置に塗布パターンを形成するためには、塗布処理を行う前に、塗布対象物の形状・サイズ・位置を特定しておかなければならない。塗布対象物がプリント用紙のように規格化された形状・サイズのものである場合には、これらを特定することは比較的容易である。例えば所定の位置にセットされたプリント用紙の幅をセンサで検出すれば、これらを特定することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１３７３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、塗布対象物が規格化された形状・サイズのものでない場合には、単に塗布対象物の幅をセンサで検出するといったやり方では、その形状・サイズ・位置を特定することは難しい。これらが正確に特定できていないと、吐出ヘッドからの液滴が塗布対象物から外れた位置に吐出されてしまうといった事態が生じ、処理の正確性が担保できない。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、塗布対象物に塗布液を液滴として吐出して塗布対象物上に塗布パターンを形成する処理を正確に実行することができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１の発明は、塗布対象物を撮像して、前記塗布対象物の撮像データを取得する撮像手段と、前記塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、前記撮像データに基づいて前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御して、前記塗布対象物上に所定の塗布パターンを形成させる制御手段と、を備える。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１に記載の液滴塗布装置であって、前記撮像手段が、塗布対象物に対して相対移動しながら前記塗布対象物を撮像して、前記塗布対象物の１次元撮像データを時系列で出力し、前記制御手段が、前記１次元撮像データに基づいて、当該１次元撮像データの撮像領域に対する前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御する。
【０００９】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載の液滴塗布装置であって、前記制御手段が、前記塗布対象物上に、当該塗布対象物の形状に応じた塗布パターンを形成させる。
【００１０】
請求項４の発明は、請求項３に記載の液滴塗布装置であって、前記制御手段が、前記塗布対象物上に、当該塗布対象物と合同の塗布パターンを形成させる。
【００１１】
請求項５の発明は、請求項３に記載の液滴塗布装置であって、前記制御手段が、前記塗布対象物上に、当該塗布対象物の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する塗布パターンを形成させる。
【００１２】
請求項６の発明は、請求項１または２に記載の液滴塗布装置であって、前記塗布ヘッドを複数備え、前記複数の塗布ヘッドのそれぞれが、互いに異なる複数の塗布液のいずれかを吐出し、前記制御手段が、前記撮像データを解析して、前記塗布対象物の領域内に規定され、前記複数の塗布液のいずれかと対応付けられた部分領域を抽出する撮像データ解析手段、を備え、前記制御手段が、前記複数の塗布ヘッドのそれぞれに、当該塗布ヘッドが吐出する塗布液と対応付けられた部分領域に前記塗布液を吐出させる。
【００１３】
請求項７の発明は、請求項１から６のいずれかに記載の液滴塗布装置であって、前記液滴塗布装置が、基材シートの片面に薬剤を担持した貼付剤を製造する貼付剤製造装置であり、前記塗布対象物が、前記基材シートであり、前記塗布液が、前記薬剤を含む薬液である。
【００１４】
請求項８の発明は、ａ）撮像手段に塗布対象物を撮像させて、前記塗布対象物の撮像データを取得する工程と、ｂ）塗布ヘッドに前記塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出させて、前記塗布対象物上に所定の塗布パターンを形成する工程と、を備え、前記ａ）工程で取得された撮像データに基づいて、前記ｂ）工程における前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御する。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１〜８の発明によると、塗布対象物を撮像して取得した撮像データに基づいて塗布ヘッドからの塗布液の吐出を制御して塗布対象物上に所定の塗布パターンを形成させる。撮像データを用いれば塗布対象物の形状・サイズ・位置を確実に特定することができるので、塗布対象物上に正確に塗布パターンを形成することができる。
【００１６】
特に、請求項２の発明によると、撮像手段が塗布対象物の１次元撮像データを時系列で出力し、制御手段がこの１次元撮像データに基づいて塗布ヘッドからの塗布液の吐出を制御する。この構成によると、簡易な処理態様で塗布対象物上に正確に塗布パターンを形成することができる。
【００１７】
特に、請求項３〜５の発明によると、形成すべき塗布パターンが塗布対象物の形状に応じたものであるところ、塗布対象物の形状は撮像データから特定することができるので、別の画像データ等を参照しなくとも、塗布パターンを簡単に特定することができる。
【００１８】
特に、請求項６の発明によると、互いに異なる塗布液を吐出する複数の塗布ヘッドのそれぞれに、塗布対象物の領域内に規定された所定の部分領域に塗布液を吐出させる。この構成によると、塗布対象物を複数の塗布液で任意のパターンに塗り分けることができる。
【００１９】
特に、請求項７の発明によると、基材シートの形状・サイズ・位置等がどのようなものであっても、そこに正確に薬液の塗布パターンを形成することができるので、貼付剤の製造品質を担保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１の実施の形態に係る貼付剤製造装置の要部構成の概略を示す図である。
【図２】制御部の構成を示すブロック図である。
【図３】貼付剤製造装置における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。
【図４】基材シートの全領域に薬液を塗布する製造工程を説明するための図である。
【図５】基材シートの一部領域に薬液を塗布する製造工程を説明するための図である。
【図６】撮像データに基づいて塗布ヘッドを制御する処理の一例を示す図である。
【図７】撮像データに基づいて塗布ヘッドを制御する処理の一例を示す図である。
【図８】塗布対象物が不規則に搬送されてくる場合を例示する図である。
【図９】形状やサイズ等が異なる複数種類の塗布対象物が混在して搬送されてくる場合を例示する図である。
【図１０】第２の実施の形態に係る貼付剤製造装置の要部構成の概略を示す図である。
【図１１】基材シートを複数の薬液で塗り分ける製造工程を説明するための図である。
【図１２】レシピの構成例を示す図である。
【図１３】撮像データに基づいて塗布ヘッドを制御する処理の一例を示す図である。
【図１４】撮像データに基づいて塗布ヘッドを制御する処理の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、以下においては、本発明を基材シートに薬剤を塗布して貼付剤を製造する装置（貼付剤製造装置）に適用した場合について説明する。
【００２２】
〈Ａ．第１の実施の形態〉
〈１．装置構成〉
第１の実施の形態に係る貼付剤製造装置１の構成について、図１を参照しながら説明する。図１は、貼付剤製造装置１の要部構成の概略を示す図である。貼付剤製造装置１は、予め粘着剤９１が塗られた帯状の支持体９２上に塗布対象物（ここでは、円形の基材シート）９０を一定間隔で貼設し（図３参照）、その基材シート９０上に薬剤を塗布する装置である。
【００２３】
貼付剤製造装置１は、帯状の支持体９２を水平方向に沿って搬送する搬送機構２０と、搬送される支持体９２上に貼設された基材シート９０を撮像する撮像ユニット７０と、基材シート９０に薬剤を含む薬液を吹き付けて塗布する塗布ユニット１０と、塗布ユニット１０に薬液を送給する薬液送給部３０と、基材シート９０に塗布した薬液を乾燥させる乾燥ユニット５０と、を備える。また、貼付剤製造装置１は、装置に設けられた上記の各要素を制御する制御部４０を備える。
【００２４】
〈搬送機構２０〉
搬送機構２０は、長尺の帯状の支持体９２が巻回された送りローラ２１を備える。搬送機構２０は、図示を省略するテンションローラや補助ローラをも備えており、送りローラ２１から送り出された支持体９２を水平方向に沿って搬送する。支持体９２は、塗布ユニット１０に基材シート９０を順次搬送供給する役割を担うものであり、ネル生地、織布、メリヤス、不織布、樹脂フィルムなどにて形成することができる。支持体９２の幅は例えば６０ｍｍである。この実施の形態においては、送りローラ２１に巻回された支持体９２の片面全面に予め粘着剤９１が積層されている（図３）。すなわち、搬送機構２０は、粘着剤９１の層が既に形成された支持体９２を送りローラ２１から送り出し、粘着剤層が上側を向くように支持体９２を搬送する。
【００２５】
また、貼付剤製造装置１は、送りローラ２１の近傍に図示を省略するシート供給機構を備えており、そのシート供給機構によって送りローラ２１から送り出された支持体９２に塗布対象物となる円板形状の基材シート９０を供給する。薬剤を直接担持する基材シート９０は、薬剤に対する不透過性を有する樹脂材料（例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＥ（ポリエチレン）等）により形成されている。
【００２６】
また、貼付剤製造装置１は、エンコーダ２２を備えている。エンコーダ２２は、支持体９２が搬送機構２０により所定距離だけ搬送される毎にパルス信号を出力する。エンコーダ２２としては、例えば、支持体９２の搬送量に応じて回転し、所定の回転量毎にパルス信号を出力するロータリーエンコーダを用いることができる。
【００２７】
〈塗布ユニット１０〉
塗布ユニット１０は、搬送機構２０によって搬送される基材シート９０に薬剤を含む薬液を塗布する機能部であり、機械的に固定して内包された塗布ヘッド１１を備える（図４参照）。
【００２８】
塗布ヘッド１１は、薬剤を含む薬液を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を搬送機構２０によって搬送される基材シート９０の上面に吹き付ける。具体的には、塗布ヘッド１１は、支持体９２の全幅と同等かそれ以上の幅を有し、搬送方向ＴＤに垂直な方向（支持体９２の幅方向）に沿って、所定のピッチで一列に配列された複数個のノズル（図示省略）が設けられている。制御部４０は、例えば各ノズルに印加する電圧を制御することにより、各ノズルからの薬液の吐出を制御する。塗布ヘッド１１の具体的な内部構造は、例えば特開２００９−２３３３４号公報に開示されるものと同様のものとすることができる。ただし、支持体９２の幅方向におけるノズル配列ピッチは、これが小さいほど薬液塗布の精度を向上させることができるため、なるべく小さくすることが好ましい。なお、塗布ヘッド１１には、上記のような、液滴ジェット方式によって薬液を噴出する液滴ジェットヘッド（例えば、駆動方式が積層ピエゾドロップオンデマンド方式のインクジェットヘッド）を用いることができるが、液滴を吐出する方式はどのようなものであってもよい。
【００２９】
上記の構成により、塗布ヘッド１１は、制御部４０からの制御に応じて、搬送機構２０によって搬送される基材シート９０に対して、１ラインずつ薬液の液滴を吐出する。つまり、塗布ヘッド１１は、搬送方向ＴＤと逆の方向に相対的に移動しながら（すなわち、支持体９２上に貼設された基材シート９０に対して相対移動しながら）、基材シート９０に対して薬液の液滴を吐出して、所定の塗布パターンを形成する。
【００３０】
なお、塗布ユニット１０には、塗布ユニット１０に設けられた塗布ヘッド１１を加熱または冷却して薬液の温調を行う温調部（図示省略）を付設してもよい。温調部としては、所定温度の温調水を導入する温調配管、または、ヒータを用いることができる。薬液の粘度および表面張力は薬液の温度にも依存するところ、温調部により薬液の温調を行うことによって薬液の粘度および表面張力が液滴ジェット方式のノズルから噴出可能な適正範囲内に収まるように調整することができる。また、薬液の粘度および表面張力が変化すると、ノズルの先端付近に形成される薬液のメニスカス量が変化し、ノズルから噴出される液滴の量が変化するという問題も生じるところ、温調部により塗布ヘッド１１内の薬液の温度を一定（例えば３０℃）に保つことによって、ノズルから噴出される液滴の量も一定にすることができる。温調部は、塗布ヘッド１１内に内蔵してもよい。
【００３１】
〈薬液送給部３０〉
薬液送給部３０は、塗布ユニット１０に薬液を送給する。薬液送給部３０は、薬液を貯留する薬液タンク３１を備える。薬液タンク３１は、供給配管３２を介して塗布ユニット１０の塗布ヘッド１１と連通接続されている。供給配管３２の経路途中には異物除去フィルターおよび脱気フィルター（いずれも図示省略）が介挿されている。薬液タンク３１は、常に一定量の薬液を貯留しており、調合タンク（図示省略）から適宜薬液タンク３１に薬液が補充される。
【００３２】
ここで、薬液とは薬剤を含む液体である。貼付剤に用いられる薬剤の具体的な種類は特に限定されるものではないが、皮膚を通して投与し得るもの、すなわち経皮吸収可能な薬剤が好ましい。そのような薬剤として、より具体的には、インドメタシン、ケトプロフェン、フルルビプロフェン、イブプロフェン、ビロキシカム、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、l-メントール、dl-カンフル、ノニル酸ワリニリルアシド、カプサイシンなどの鎮痛消炎剤があげられる。また、ニトログリセリン、ニフェジピン、イソソルバイドナイトレートなどの冠血管拡張剤、または、プロカテロール、ツロブテロールなどの喘息薬を薬剤として使用してもよい。さらに、上記の他にも薬剤としては、全身性麻酔薬、催眠・鎮静薬、抗てんかん薬、鎮暈薬、精神神経用薬、骨格筋弛緩薬、自律神経用薬、鎮痙薬、抗パーキンソン薬、抗ヒスタミン薬、強心薬、不整脈用薬、利尿薬、血圧降下薬、血管収縮薬、末梢血管拡張薬、動脈硬化用薬、循環器用薬、呼吸促進薬、鎮咳去痰薬、ホルモン薬、化膿性疾患用外用薬、鎮痛・鎮痒・収斂・消炎用薬、寄生性皮膚疾患用薬、止血用薬、痛風治療用薬、糖尿病用薬、抗悪性腫瘍用薬、抗生物質、化学療法薬、麻薬、抗うつ用薬、禁煙補助薬（ニコチン）などを使用することができる。
【００３３】
このような薬剤が溶媒中に溶解されて薬液とされている。溶媒としては、薬剤の性質に応じて、水、または、アルコールを用いることができる。薬剤が溶媒中に溶解された所定濃度の薬液が調合タンクにて調合され、その薬液が調合タンクから供給されて薬液タンク３１に貯留される。薬液タンク３１に貯留されている薬液は、塗布ヘッド１１が薬液を噴出したときにノズル内に生じる毛管現象によって各ノズルに送給される。薬液の送給過程において、供給配管３２を流れる薬液から異物および気泡が異物除去フィルターおよび脱気フィルターによってそれぞれ取り除かれる。なお、薬液には、基材シート９０への密着性を高めるバインダー、および／または、添加剤がさらに含まれていてもよい。また、薬液には、薬液の粘度および表面張力を調整するために薬剤の溶媒が添加されてもよい。また、薬液には、薬液の乾燥速度を低下させるために保湿剤が添加されてもよい。
【００３４】
また、薬液送給部３０は、薬液タンク３１から供給配管３２を介して塗布ユニット１０の塗布ヘッド１１に負圧を付与する負圧ポンプ（図示省略）を備えてもよい。ノズルに供給された薬液は、そのままでは自重でノズルの先端付近に液滴ジェット方式に適したメニスカスを形成できないところ、負圧ポンプによって吐出方向とは逆向きの負圧を薬液に与えておけば、薬液を若干ノズル内に引き戻して適正なメニスカスを形成することができる。さらに、薬液タンク３１の下部に、薬液タンク３１内の薬液の温度を所定温度（例えば３０℃）に温調するためのヒータ（図示省略）を付設してもよい。
【００３５】
〈乾燥ユニット５０〉
乾燥ユニット５０は、塗布ユニット１０よりも基材シート９０の搬送方向下流側に設けられている。乾燥ユニット５０は、その内側を通過する基材シート９０に塗布されている薬液を乾燥させる。乾燥ユニット５０としては、基材シート９０の表面に常温のドライエアーまたは加熱したドライエアー（温風）を送風するものなど公知の種々の乾燥装置を用いることができる。また、乾燥ユニット５０としては、単なる熱風（特段の除湿を行っていない）を供給する熱風乾燥炉や遠赤外線ヒータを用いた乾燥炉を用いるようにしてもよい。
【００３６】
〈撮像ユニット７０〉
撮像ユニット７０は、機械的に固定して内包されたラインセンサ７１を備える（図４参照）。ラインセンサ７１は、支持体９２の全幅と同等かそれ以上の幅を有し、入射された光情報を電気信号に変換する半導体素子（例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）、ＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）センサ等）が搬送方向ＴＤに垂直な方向（支持体９２の幅方向）に沿って複数個配列されたものである。この構成によって、ラインセンサ７１は、１次元的な撮像データ（ラインデータ）を時系列で出力する。なお、ラインセンサ７１は、密着型イメージセンサ（ＣＩＳ（Contact Image Sensor））により構成されてもよいし、縮小型イメージセンサにより構成されてもよい。
【００３７】
撮像ユニット７０は、塗布ユニット１０よりも基材シート９０の搬送方向ＴＤの上流側に設けられており、ラインセンサ７１は、搬送機構２０によって搬送される基材シート（薬液塗布前の基材シート）９０の撮像データを１ラインずつ取得する。すなわち、ラインセンサ７１は、搬送方向ＴＤと逆の方向に相対的に移動することによって（すなわち、支持体９２上に貼設された基材シート９０に対して相対移動することによって）基材シート９０上を走査して、基材シート９０の撮像データを取得する。
【００３８】
〈制御部４０〉
制御部４０は、貼付剤製造装置１に設けられた上記の種々の動作機構を制御する。図２は、制御部４０の構成を示すブロック図である。制御部４０のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部４０は、各種演算処理を行うＣＰＵ４１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ４２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ４３および処理プログラム８１やデータなどを記憶しておく固定ディスク４４をバスライン４９に接続して構成されている。
【００３９】
また、バスライン４９には、上述したエンコーダ２２、撮像ユニット７０の撮像ヘッド７１、および、塗布ユニット１０の塗布ヘッド１１がインターフェイス（Ｉ／Ｆ）４５を介して接続されている。これら以外の貼付剤製造装置１の各種動作機構も図示を省略するインターフェイスを介してバスライン４９に接続されている。制御部４０のＣＰＵ４１は、固定ディスク４４に格納されている処理プログラム８１を実行することにより、これら塗布ヘッド１１などの各動作機構を制御して貼付剤製造処理を進行させる。
【００４０】
また、バスライン４９には、表示装置４６および入力装置４７が電気的に接続されている。表示装置４６は、例えば液晶ディスプレイ等を用いて構成されており、処理結果やメッセージ等の種々の情報を表示する。入力装置４７は、例えばキーボードやマウス等を用いて構成されており、コマンドやパラメータ等の入力を受け付ける。装置のオペレータは、表示装置４６に表示された内容を確認しつつ入力装置４７からコマンドやパラメータ等の入力を行うことができる。なお、表示装置４６と入力装置４７とを一体化してタッチパネルとして構成するようにしてもよい。
【００４１】
さらに、バスライン４９には、ＤＶＤやＣＤなどの記録媒体ＲＭから記録内容を読み取る読取装置４８が接続されている。処理プログラム８１は、記録媒体ＲＭから読取装置４８によって読み出されて固定ディスク４４に格納されるようにしてもよい。
【００４２】
以上が、貼付剤製造装置１の主たる構成要素である。なお、上記の構成以外にも貼付剤製造装置１は、詳説を省略する種々の機構を備えている。例えば、乾燥ユニット５０よりもさらに下流側には、薬液が塗布された基材シート９０に剥離ライナーを貼り合わせる機構や支持体９２を裁断する機構が設けられている。
【００４３】
〈２．処理の流れ〉
上記の構成を有する貼付剤製造装置１において行われる貼付剤の製造処理の流れを、図３〜図５を参照しながら説明する。図３〜図５は、貼付剤製造装置１における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。以下の処理は、制御部４０のＣＰＵ４１が処理プログラム８１を実行して貼付剤製造装置１の各動作機構を制御することによって進行する。
【００４４】
制御部４０の制御下にて、搬送機構２０が支持体９２を水平方向に沿って搬送するとともに、図示省略のシート供給機構が支持体９２の上面に一定間隔で円板形状の基材シート９０を供給する。送りローラ２１から送り出されて水平方向に搬送される支持体９２の上面には粘着剤９１の層が予め形成されており、供給された基材シート９０は支持体９２上に貼設される。
【００４５】
支持体９２上に貼設された基材シート９０が搬送されてくると、撮像ユニット７０のラインセンサ７１は、制御部４０による制御に従って基材シート９０を撮像して撮像データを取得する。より具体的には、ラインセンサ７１は、基材シート９０に対して相対移動しながら基材シート９０を撮像して、基材シート９０の１次元撮像データを時系列で出力する。
【００４６】
続いて、塗布ユニット１０の塗布ヘッド１１が、制御部４０による制御に従って、薬剤を含む薬液を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を搬送機構２０によって搬送される基材シート９０の所定領域に吹き付ける。これにより、基材シート９０に薬剤層９５が形成される。ただし、基材シート９０にどのようなパターンの薬剤層を形成するかはレシピにより指定されており、制御部４０は、ラインセンサ７１が取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御して、塗布ヘッド１１にレシピに指定されたパターンを基材シート９０上に形成させる。
【００４７】
例えば、レシピにて、基材シート９０と合同の塗布パターンを形成するように指定されている場合（すなわち、基材シート９０の全面に薬剤層を形成するように指定されている場合）、制御部４０は、次々と搬送されてくる基材シート９０のそれぞれの全面に薬剤層が形成されるように塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御する（図４）。
【００４８】
また例えば、レシピにて、基材シート９０の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する塗布パターンを形成するように指定されている場合（すなわち、基材シート９０の外縁から所定幅だけ内側の部分領域に薬剤層を形成するように指定されている場合）、制御部４０は、次々と搬送されてくる基材シート９０のそれぞれの当該部分領域に薬剤層が形成されるように塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御する（図５）。
【００４９】
制御部４０が撮像データに基づいて塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御する具体的な態様は後に説明する。
【００５０】
薬剤層９５が形成された基材シート９０は乾燥ユニット５０に搬送されて薬液の乾燥処理が行われる。さらにその後、基材シート９０に剥離ライナーが貼り合わされ、支持体９２が所定のサイズに裁断されて貼付剤とされる。
【００５１】
〈３．塗布ヘッドの制御態様〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置１の制御部４０は、上述したとおり、ラインセンサ７１が取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御して、基材シート９０にレシピに指定された塗布パターンを形成させる。この制御態様における具体的な処理の流れについて、図６、図７を参照しながら説明する。図６および図７は、当該処理を説明するための図である。
【００５２】
上述したとおり、撮像ユニット７０のラインセンサ７１は、搬送方向ＴＤと逆の方向に相対移動しながら支持体９２上に貼設された基材シート９０を撮像して、基材シート９０の１次元撮像データを時系列で出力する。すなわち、基材シート９０の１ライン分の撮像データを時系列で出力する。いま、ある時刻に、あるライン（以下「対象ライン」という）ｉの１次元撮像データ（以下「撮像ラインデータＬ（ｉ）」という）が取得されたとする。
【００５３】
ここで、取得された撮像ラインデータＬ（ｉ）の解像度が、塗布ヘッド１１のノズルの解像度（支持体９２の幅方向の単位長さあたりに配列されたノズルの個数）よりも大きい、あるいは小さい場合には、制御部４０は、撮像ラインデータＬ（ｉ）に解像度変換を施して、両者が同じ値となるように前処理しておく。
【００５４】
適切な解像度の撮像ラインデータＬ（ｉ）が取得されると、制御部４０は、撮像ラインデータＬ（ｉ）を、対象ラインｉにおける基材シート９０の領域を抽出した２値データ（以下「基材シート領域抽出データＭ（ｉ）」という）に変換する。
【００５５】
この変換処理は、多値の画像データである撮像ラインデータＬ（ｉ）を、適切な閾値を用いて２値データに変換（２値化）することによって行う。ただし、閾値として、撮像ラインデータＬ（ｉ）において、背景領域（支持体９２の領域）から基材シート９０の領域を抽出できるような値を用いる必要がある。例えば、背景領域と対象領域の色が比較的大きく相違する場合は、撮像ラインデータＬ（ｉ）から、支持体９２の濃度と基材シート９０の濃度との境界の濃度値（濃度値のヒストグラムにおいてヒストグラムの谷となる濃度値）を特定して、これを閾値として用いればよい。また、基材シート９０の領域を抽出可能な閾値を予めレシピにて指定しておいてもよい。この場合、制御部４０はレシピを参照して取得した閾値を用いて２値化処理を行う。基材シート領域抽出データＭ（ｉ）が取得されると、制御部４０は、これを一旦ラインバッファメモリに格納する。
【００５６】
基材シート領域抽出データＭ（ｉ）が取得されると、続いて、制御部４０は、レシピを参照して基材シート９０にどのようなパターンの薬剤層を形成するかを特定し、これに基づいて、基材シート領域抽出データＭ（ｉ）を、対象ラインｉにおける薬液を塗布すべき領域を規定した２値データ（以下「塗布パターンラインデータＰ（ｉ）」という）に変換する。
【００５７】
例えば、レシピにて、基材シート９０と合同の塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部４０は、基材シート領域抽出データＭ（ｉ）をそのまま塗布パターンラインデータＰ（ｉ）として取得する（図６参照）。
【００５８】
また例えば、レシピにて、基材シート９０の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部４０は、基材シート領域抽出データＭ（ｉ）において、基材シート９０の当該外縁幅領域に相当する画素を「１」から「０」に変更したデータを、塗布パターンラインデータＰ（ｉ）として取得する（図７参照）。なお、基材シート９０の外縁から所定幅だけ内側の部分領域を特定するにあたり、必要な場合は、対象ラインｉの前後の必要ライン分の基材シート領域抽出データをバッファメモリから読み出して、これらのデータを参照しながら当該部分領域を特定する。
【００５９】
塗布パターンラインデータＰ（ｉ）が取得されると、制御部４０は、これを一旦ラインバッファメモリに格納する。
【００６０】
撮像ラインデータＬ（ｉ）が取得されてから（すなわち、対象ラインｉがラインセンサ７１の真下を通過してから）、支持体９２が所定距離だけ搬送されて、塗布ヘッド１１の真下に対象ラインｉが到達すると、制御部４０は、バッファメモリに格納された塗布パターンラインデータＰ（ｉ）を読み出して、これに基づいて塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御する。具体的には、塗布パターンラインデータＰ（ｉ）において「１」とされている領域に対応するノズルの圧電素子に電圧を印加して当該ノズルから薬液を噴出させる。これにより、対象ラインｉに薬液が塗布され、所定の塗布パターンが形成される。なお、塗布ヘッド１１からの薬液の吐出タイミングは、エンコーダ２２からのパルス信号に基づいて特定される。
【００６１】
〈４．効果〉
従来の一般的な構成の場合、貼付剤製造装置の制御部は、それぞれ異なる塗布パターンを記述した２値の画像データ（パターン画像データ）を大量に作成して予めＲＡＭ等に保持しておき、処理の際にレシピに指定されたパターンと合致する１のパターン画像データを探してＲＡＭから読み出し、当該パターン画像データに従って塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御していた。例えば、レシピにて、基材シート９０と合同の塗布パターンを形成するように指定されている場合、基材シート９０と同じ形状・同じサイズのパターンが描かれたパターン画像データを探し出し、これを用いて塗布ヘッド１１からの薬液の吐出を制御していた。
【００６２】
このような従来構成においては、搬送されてくる塗布対象物の間隔や位置がずれていると、塗布対象物の位置からずれた位置に塗布パターンが形成されてしまうため、塗布対象物の位置を検出するセンサや検出した位置に応じてパターン画像データを補正する補正処理部等を設けなければならないという問題があった。また、様々なレシピに対応できるように、大量のパターン画像データを制御部に保持させておかなくてはならないという問題もあった。
【００６３】
上記の実施の形態によると、制御部４０が、ラインセンサ７１が塗布対象物である基材シート９０を撮像して取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１からの塗布液の吐出を制御して、当該塗布対象物にレシピに指定された塗布パターンを形成させる。この構成によると、撮像データに基づいて塗布対象物の形状・サイズ・位置を確実に特定できることができるので、例えば、図８に示されるように塗布対象物９０が不規則に搬送されてくる場合であっても、当該塗布対象物上に正確に塗布パターンを形成することができる。
【００６４】
また、上記の実施の形態によると、ラインセンサ７１が塗布対象物である基材シート９０の１次元撮像データ（撮像ラインデータＬ（ｉ））を時系列で出力し、制御部４０がこのデータに基づいて塗布ヘッド１１からの塗布液の吐出を制御する。この構成によると、簡易な処理態様で塗布対象物に正確に塗布パターンを形成することができる。
【００６５】
また、上記の実施の形態によると、ラインセンサ７１が取得した撮像データから塗布対象物の形状を特定することができる。したがって、形成すべき塗布パターンが、塗布対象物の形状に応じたものである場合、別の画像データ等を参照しなくとも、塗布パターンを簡単に特定することができる。すなわち、従来構成のように、塗布パターンを記述した２値の画像データを大量に制御部４０に保持させる必要がなくなる。また、図９に示されるように、互いに形状やサイズ等が異なる複数種類の塗布対象物９０が混在して搬送されてくる場合であっても、各塗布対象物上に、当該塗布対象物の形状に応じた塗布パターンを容易に形成することができる。
【００６６】
特に、基材シートに薬剤を塗布して貼付剤を製造する貼付剤製造装置においては、塗布対象物である基材シート９０上に定められた塗布パターンの薬液層を正確に形成する必要があるところ、上記の実施の形態に係る貼付剤製造装置１においては、これが実現されるため、貼付剤の製造品質を担保することができる。
【００６７】
〈Ｂ．第２の実施の形態〉
〈１．装置構成〉
第２の実施の形態に係る貼付剤製造装置１ａの構成について、図１０を参照しながら説明する。図１０は、貼付剤製造装置１ａの要部構成の概略を示す図である。なお、以下の説明において、第１の実施の形態と同一の要素については同じ符号を付して示すことにする。
【００６８】
貼付剤製造装置１ａは、複数個の塗布ユニット（ここでは、２個の塗布ユニット）１０ａ，１０ｂを備えている点において、第１の実施の形態に係る貼付剤製造装置１と相違する。その他の構成要素は、貼付剤製造装置１と同様である。
【００６９】
２個の塗布ユニット１０ａ，１０ｂのそれぞれの構成は、第１の実施の形態に係る塗布ユニット１０と同じである。塗布ユニット１０ａ，１０ｂに対してはそれぞれ薬液送給部３０ａ，３０ｂから薬液が送給される。２つの薬液送給部３０ａ，３０ｂのそれぞれの構成は第１の実施の形態に係る薬液送給部３０と同じである。ただし、薬液送給部３０ａが送給する薬液と薬液送給部３０ｂが送給する薬液とでは、含有する薬剤の種類、もしくは濃度が異なる。すなわち、２個の塗布ユニット１０ａ，１０ｂのそれぞれが備える塗布ヘッド１１ａ，１１ｂは、互いに異なる薬液を吐出する。
【００７０】
〈２．処理の流れ〉
上記の構成を有する貼付剤製造装置１ａにおいて行われる貼付剤の製造処理の流れを、図１１を参照しながら説明する。図１１は、貼付剤製造装置１ａにおける貼付剤の製造工程の一例を示す図である。以下の処理は、制御部４０ａのＣＰＵ４１が処理プログラム８１を実行して貼付剤製造装置１ａの各動作機構を制御することによって進行する（図２参照）。
【００７１】
制御部４０ａの制御下にて、搬送機構２０が支持体９２を水平方向に沿って搬送するとともに、図示省略のシート供給機構が支持体９２の上面に一定間隔で円板形状の基材シート９０を供給する。送りローラ２１から送り出されて水平方向に搬送される支持体９２の上面には粘着剤９１の層が予め形成されており（図３参照）、供給された基材シート９０は支持体９２上に貼設される。
【００７２】
支持体９２上に貼設された基材シート９０が搬送されてくると、撮像ユニット７０のラインセンサ７１は、制御部４０ａによる制御に従って、基材シート９０を撮像して撮像データを取得する。
【００７３】
続いて、相対的に搬送方向ＴＤについて上流側に配置された塗布ユニット１０ａの塗布ヘッド１１ａが、制御部４０ａによる制御に従って、薬液送給部３０ａが送給する薬液（第１の薬液）を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を搬送機構２０によって搬送される基材シート９０の所定部領域に吹き付ける。これにより、基材シート９０に第１の薬液の薬剤層９５ａが形成される。ただし、基材シート９０に第１の薬液でどのようなパターンの薬剤層を形成するかはレシピにより指定されており、制御部４０ａは、ラインセンサ７１が取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１ａからの薬液の吐出を制御して、塗布ヘッド１１ａにレシピに指定されたパターンを基材シート９０上に形成させる。
【００７４】
例えば、レシピにて、第１の薬液で、円形の基材シート９０の外周に沿った円環領域に相当する塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部４０ａは、次々と搬送されてくる基材シート９０のそれぞれの当該円環領域に薬剤層が形成されるように塗布ヘッド１１ａからの薬液の吐出を制御する。
【００７５】
続いて、相対的に搬送方向ＴＤについて下流側に配置された塗布ユニット１０ｂの塗布ヘッド１１ｂが、制御部４０ａによる制御に従って、薬液送給部３０ｂが送給する薬液（第２の薬液）を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を搬送機構２０によって搬送される基材シート９０の所定部領域に吹き付ける。これにより、基材シート９０に第２の薬液の薬剤層９５ｂが形成される。ただし、基材シート９０に第２の薬液でどのようなパターンの薬剤層を形成するかはレシピにより指定されており、制御部４０ａは、ラインセンサ７１が取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１ｂからの薬液の吐出を制御して、塗布ヘッド１１ｂにレシピに指定されたパターンを基材シート９０上に形成させる。
【００７６】
例えば、レシピにて、第２の薬液で、第１の薬液の薬剤層９５ａが形成された円環領域の内側の円形領域に相当する塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部４０ａは、次々と搬送されてくる基材シート９０のそれぞれの当該円形領域に薬剤層が形成されるように塗布ヘッド１１ｂからの薬液の吐出を制御する。
【００７７】
なお、基材シート９０に形成される薬剤層９５ａ，９５ｂは、互いに重複した領域であってもよい。
【００７８】
制御部４０ａが撮像データに基づいて塗布ヘッド１１ａ，１１ｂからの薬液の吐出を制御する具体的な態様は後に説明する。
【００７９】
薬剤層９５ａ，９５ｂが形成された基材シート９０は乾燥ユニット５０に搬送されて薬液の乾燥処理が行われる。さらにその後、基材シート９０に剥離ライナーが貼り合わされ、支持体９２が所定のサイズに裁断されて貼付剤とされる。
【００８０】
〈３．塗布ヘッドの制御態様〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置１ａの制御部４０ａは、上述したとおり、ラインセンサ７１が取得した撮像データに基づいて塗布ヘッド１１ａ，１１ｂからの薬液の吐出を制御して、基材シート９０にレシピに指定された塗布パターンを形成させる。この制御態様における具体的な処理の流れについて、図１２〜図１４を参照しながら説明する。図１２は、レシピの構成例を示す図である。図１３および図１４は、当該処理を説明するための図である。
【００８１】
上述したとおり、撮像ユニット７０のラインセンサ７１は、搬送方向ＴＤと逆の方向に相対移動しながら支持体９２上に貼設された基材シート９０を撮像して、基材シート９０の１ライン分の撮像データを時系列で出力する。いま、ある時刻に、あるライン（対象ライン）ｉの１次元撮像データ（撮像ラインデータＬ（ｉ））が取得されたとする。
【００８２】
ここで、取得された撮像ラインデータＬ（ｉ）の解像度が、塗布ヘッド１１のノズルの解像度よりも大きい、あるいは小さい場合には、制御部４０は、撮像ラインデータＬ（ｉ）に解像度変換を施して、両者が同じ値となるように前処理しておく。この点は、第１の実施の形態と同様である。
【００８３】
続いて、制御部４０ａは、対象ラインｉにおける第１の薬液を塗布すべき領域を規定した２値データ（以下「第１の塗布パターンラインデータＰａ（ｉ）」という）を生成する。また、対象ラインｉにおける第２の薬液を塗布すべき領域を規定した２値データ（以下、「第２の塗布パターンラインデータＰｂ（ｉ）」という）を生成する。すなわち、塗布パターンラインデータＰａ（ｉ），Ｐｂ（ｉ）のそれぞれは、塗布ヘッド１１ａ，１１ｂのそれぞれでどのようなパターンの薬剤層を形成させるかを規定する２値データである。
【００８４】
塗布パターンラインデータＰａ（ｉ），Ｐｂ（ｉ）を生成する処理は、制御部４０ａにて実現される画像解析部４０１（図１０）が、撮像ラインデータＬ（ｉ）を解析して、基材シート９０の領域内に規定された所定の部分領域（第１の薬液、第２の薬液のそれぞれと対応付けられた部分領域）を抽出することによって行われる。
【００８５】
部分領域の抽出は、例えば、撮像ラインデータＬ（ｉ）を適切な閾値を用いて２値データに変換（２値化）することによって行うことができる。この実施の形態においては、部分領域の抽出に用いる閾値が予めレシピにて指定されており、画像解析部４０１はレシピに指定された閾値を用いて部分領域の抽出を行うものとする。
【００８６】
図１２には、レシピの構成例が示されている。図１２に例示されるように、レシピには、処理に用いる塗布ユニットそれぞれの識別番号と、当該塗布ユニットに供給すべき薬液の種類と、当該薬液を塗布すべき領域を撮像データから抽出可能な閾値とが対応付けて格納されている。
【００８７】
例えば、図１１に例示されるように、円形の基材シート９０の外周に沿った円環領域に薬液Ａで薬剤層９５ａが形成され、この円環領域の内側の円形領域に薬液Ｂで薬剤層９５ｂが形成された貼付剤を製造したい場合、オペレータは、支持体９２に貼設する前に、基材シート９０の円環領域と円形領域とを別々の色で塗り分けしておく。そして、各領域に塗布すべき薬液と、当該領域に塗られた色に係る閾値（撮像ラインデータＬ（ｉ）から当該色の色領域を抽出可能な閾値）とを対応付けてレシピに格納しておく。例えば、上記の例で、円環領域を黄色で、円形領域を白色でそれぞれ塗り分けたとすると、「薬液Ａ」と黄色に係る閾値「Ｗ１」とを対応づけてレシピに格納しておく。また、「薬液Ｂ」と白色に係る閾値「Ｗ２」とを対応づけてレシピに格納しておく。
【００８８】
このようなレシピが与えられた場合、画像解析部４０１は、塗布ユニット１０ａと対応付けられた閾値「Ｗ１」を用いて撮像ラインデータＬ（ｉ）を２値化し、得られたデータを第１の塗布パターンラインデータＰａ（ｉ）として取得する。閾値「Ｗ１」を用いて２値化されたデータは、基材シート９０における黄色に塗られた円環領域を抽出した２値データとなっている（図１３）。また、塗布ユニット１０ｂと対応付けられた閾値「Ｗ２」を用いて撮像ラインデータＬ（ｉ）を２値化し、得られたデータを第２の塗布パターンラインデータＰｂ（ｉ）として取得する。閾値「Ｗ２」を用いて２値化されたデータは、基材シート９０における白色に塗られた円形領域を抽出した２値データとなっている（図１４）。
【００８９】
各塗布ヘッド１１ａ，１１ｂに係る塗布パターンラインデータＰａ（ｉ），Ｐｂ（ｉ）が取得されると、制御部４０ａは、これらを一旦ラインバッファメモリに格納する。
【００９０】
対象ラインｉがラインセンサ７１の真下を通過してから、支持体９２が所定距離だけ搬送されて、塗布ヘッド１１ａの真下に対象ラインｉが到達すると、制御部４０ａは、バッファメモリに格納された第１の塗布パターンラインデータＰａ（ｉ）を読み出して、これに基づいて塗布ヘッド１１ａからの薬液の吐出を制御する（図１３）。支持体９２がさらに所定距離だけ搬送されて、塗布ヘッド１１ｂの真下に対象ラインｉが到達すると、制御部４０ａは、バッファメモリに格納された第２の塗布パターンラインデータＰｂ（ｉ）を読み出して、これに基づいて塗布ヘッド１１ｂからの薬液の吐出を制御する（図１４）。なお、各塗布ヘッド１１ａ，１１ｂからの薬液の吐出タイミングは、エンコーダ２２からのパルス信号に基づいて特定される。
【００９１】
〈４．効果〉
上記の実施の形態によると、互いに異なる薬液を吐出する複数の塗布ヘッド１１ａ，１１ｂのそれぞれに、塗布対象物である基材シート９０の領域内に規定された所定の部分領域に塗布液を吐出させる。この構成によると、塗布対象物を複数の塗布液で任意のパターンに塗り分けることができる。
【００９２】
また、上記の実施の形態においては、複数種類の薬液のそれぞれの塗布パターンを自由に規定することができる。すなわち、自由な塗り分けパターンを基材シート９０に形成することができる。例えば、図１１に例示される塗り分けパターンの他、市松模様の塗り分けパターン、ストライプ状の塗り分けパターン等を自由に形成することができる。
【００９３】
〈Ｃ．変形例〉
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【００９４】
例えば、第１の実施の形態に係る塗布ユニット１０は、塗布ヘッド１１を複数個備えてもよい。１個の塗布ユニット１０に複数個の塗布ヘッド１１を設けることによって、解像度を高めることができる。例えば、例えば３００dpiの塗布ヘッド１１をそのノズルが互い違いになるように配置すれば、６００dpiの解像度を実現することができる。
【００９５】
ただし、例えば、第１の実施の形態に係る塗布ユニット１０が複数個の塗布ヘッド１１を備える場合、制御部４０が、生成された塗布パターンラインデータＰ（ｉ）を各塗布ヘッド１１用のデータに分割する処理を行う。上記の例の場合、制御部４０は、６００dpiの撮像ラインデータＬ（ｉ）に基づいて取得された塗布パターンラインデータＰ（ｉ）を、奇数番目の画素値を抽出したデータと、偶数番目の画素値を抽出したデータとに分割して、各塗布ヘッド１１用の塗布パターンラインデータを生成する。そして生成された各データに基づいて各塗布ヘッド１１を制御することになる。
【００９６】
同様に、第２の実施の形態に係る塗布ユニット１０ａ，１０ｂのそれぞれも、塗布ヘッド１１ａ，１１ｂを複数個備えてもよい。塗布ユニット１０ａが複数個の塗布ヘッド１１を備える場合、制御部４０ａが、第１の塗布パターンラインデータＰａ（ｉ）を各塗布ヘッド１１用のデータに分割する処理を行う。また、塗布ユニット１０ｂが複数個の塗布ヘッド１１を備える場合、制御部４０ａが、第２の塗布パターンラインデータＰｂ（ｉ）を各塗布ヘッド１１用のデータに分割する処理を行う。
【００９７】
また、上記の第１の実施の形態において、場合によっては、生成した塗布パターンラインデータＰ（ｉ）をそのまま用いて塗布ヘッド１１を制御すると問題が生じる場合がある。例えば、撮像ユニット７０から送られるデータの順序が、搬送方向ＴＤに対して左手側から右手側に向かう順序であるのに対し、塗布ヘッド１１の薬液の吐出順序がこれと逆の場合、生成した塗布パターンラインデータＰ（ｉ）をそのまま用いて塗布ヘッド１１を制御すると、搬送方向ＴＤに対して逆向きに塗布パターンが形成されてしまう。このような場合は、制御部４０が、塗布パターンラインデータＰ（ｉ）のデータの並び替えを行った上で、塗布ヘッド１１の制御に供するものとする。この事情は、第２の実施の形態においても同様である。
【００９８】
また、上記の第２の実施の形態に係る貼付剤製造装置１ａは、２個の塗布ユニット１０ａ，１０ｂを備えるものとしたが、３個以上の塗布ユニットを備える構成であってもよい。また、第２の実施の形態に係る貼付剤製造装置１ａは、１個の塗布ユニットしか備えない装置構成においても実現可能である。
【００９９】
また、上記の第２の実施の形態に係る貼付剤製造装置１ａが備える複数個の塗布ユニット１０ａ，１０ｂのうちのいずれかを、薬剤ではなく粘着材を塗布する塗布ユニットとしてもよい。
【０１００】
また、上記の第２の実施の形態おいては、複数の塗布ユニット１０ａ，１０ｂを備えるものとし、それぞれが備える塗布ヘッド１１ａ，１１ｂが互いに異なる薬液を吐出するものとしたが、複数種類の薬液を吐出分け可能な塗布ヘッドを備える塗布ユニットを１個備える構成としてもよい。
【０１０１】
また、上記の各実施の形態に係る貼付剤製造装置１，１ａの構成要素は、上記に説明した態様に限らない。例えば、上記の各実施の形態においては、制御部４０はＣＰＵ４１を備える構成としたが、これを例えばＦＰＧＡに代えてもよい。
【０１０２】
また、撮像ユニット７０は、密着型イメージセンサ等により構成されるものとしたが、塗布対象物の撮像データが取得できるものであれば何で構成してもよい。
【０１０３】
また、塗布ヘッド１１，１１ａ，１１ｂには積層ピエゾドロップオンデマンド方式のインクジェットヘッドを用いていたが、これに限定されるものではなく、いわゆる液滴ジェット方式によって微小液滴を生成して噴出するものであればよい。
【０１０４】
また、上記においては、本発明を、基材シートに薬剤を塗布して貼付剤を製造する装置（貼付剤製造装置）に適用した場合について説明したが、本発明は、塗布対象物に液滴を塗布する各種の装置に適用することができる。例えば、インクの液滴をプリント用紙等に塗布して画像等を形成するインクジェット装置に適用することができる。
【符号の説明】
【０１０５】
１，１ａ  貼付剤製造装置
１０，１０ａ，１０ｂ  塗布ユニット
１１，１１ａ，１１ｂ  塗布ヘッド
１２  ノズル
２０  搬送機構
２１  送りローラ
２２  エンコーダ
３０，３０ａ，３０ｂ  薬液送給部
４０，４０ａ  制御部
５０  乾燥ユニット
７０  撮像ユニット
７１  ラインセンサ
９０  基材シート
９２  支持体
９５，９５ａ，９５ｂ  薬剤層
【図１】
2011067733.tif 000003
【図２】
2011067733.tif 000004
【図３】
2011067733.tif 000005
【図４】
2011067733.tif 000006
【図５】
2011067733.tif 000007
【図６】
2011067733.tif 000008
【図７】
2011067733.tif 000009
【図８】
2011067733.tif 000010
【図９】
2011067733.tif 000011
【図１０】
2011067733.tif 000012
【図１１】
2011067733.tif 000013
【図１２】
2011067733.tif 000014
【図１３】
2011067733.tif 000015
【図１４】
2011067733.tif 000016