(57)【要約】【課題】映像信号線と導電層とが重複することにより生じる画質の劣化を抑えつつ、額縁領域を狭くする表示装置を提供する。【解決手段】画像を表示する表示領域と、表示領域の外側において、表示領域の外周に沿った方向に敷設され、かつ、互いに並んで配置される配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４を有し、表示領域まで延在する複数の映像信号線と、各配線部分を覆う絶縁層ＩＳと、絶縁層ＩＳ上に配置される導電層ＣＤ１と、を有する表示装置であって、導電層ＣＤ１は、配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４に沿う方向に沿って線状に絶縁層ＩＳと接する部分Ｃｐを有し、複数の映像信号線の配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４のうち、互いに隣接し、かつ、導電部分を挟んで配置される２つの配線部分ＤＬ２，ＤＬ３は、接触部分Ｃｐとの重複を避けるように、複数の映像信号線における他の配線部分よりも間隔を置いて配置される、ことを特徴とする表示装置。【選択図】図３
2011186064.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示領域と、
前記表示領域の外側において、前記表示領域の外周に沿った方向に敷設され、かつ、互いに並んで配置される配線部分を有し、前記表示領域まで延在する複数の映像信号線と、
前記各配線部分を覆う絶縁層と、
前記絶縁層上に配置される導電層と、を有する表示装置であって、
前記導電層は、前記方向に沿って線状に前記絶縁層と接する部分を有し、
前記複数の映像信号線の前記配線部分のうち、互いに隣接し、かつ、前記導電層の前記部分を挟んで配置される２つの前記配線部分は、前記導電層の前記部分との重複を避けるように、前記複数の映像信号線における他の前記配線部分よりも間隔を置いて配置される、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置であって、
前記２つの配線部分の間には、少なくとも１つの導電線が、前記絶縁層と接する前記導電層の前記部分と線状に重複して配置されて、
前記導電線は、前記配線部分のそれぞれと並んで配置されて前記絶縁層に覆われる、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載された表示装置であって、
前記導電線には、前記２つの配線部分に入力される信号に応じて、電位が印加される、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載された表示装置であって、
前記２つの配線部分の間には、２つの前記導電線が配置されて、
前記２つの導電線のうちの一方には、前記２つの導電線のうちの他方と隣接する前記配線部分に入力される信号に応じて、電位が印加され、
前記他方には、前記一方と隣接する前記配線部分に入力される信号に応じて、電位が印加される、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項２に記載された表示装置であって、
前記導電線は、フローティングされる、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項２に記載された表示装置であって、
前記導電線には、基準電位が印加される、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１に記載された表示装置であって、
前記複数の映像信号線における配線部分は、前記２つの配線部分の間の間隔以外は、所定の間隔を置いて互いに配置され、
前記２つの配線部分の間の間隔は、前記所定の間隔よりも広い、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載された表示装置であって、
前記導電層は、フローティングされる、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１に記載された表示装置であって、
前記絶縁層に接してポリイミド層が配置され、
前記ポリイミド層の端部は、前記２つの配線部分の間において線状に形成され、
前記導電層は、前記ポリイミド層の端部を覆いつつ前記ポリイミド層と前記絶縁層に跨って配置されて、前記２つの配線部分の間で前記絶縁層に線状に接する、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項９に記載された表示装置であって、
前記絶縁層は、前記ポリイミド層の膜厚よりも薄い厚みで形成される、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１に記載された表示装置であって、
前記表示領域の外側に配置されて、前記複数の映像信号線に信号を出力する映像信号線駆動回路をさらに有し、
前記複数の映像信号線は、前記表示領域において互いに隣接して上下方向に延在するように敷設され、
前記映像信号線駆動回路は、前記表示領域に対して横方向となる側に配置され、
前記複数の映像信号線は、前記映像信号線駆動回路から開始して前記表示領域に対して上方向の側及び下方向の側に分かれて敷設され、前記上方向の側に分かれて敷設された前記映像信号線は、前記表示領域内を前記上方向の側から前記下方向の側へ向かうように延在し、前記下方向の側にわかれて敷設された前記映像信号線は、前記表示領域内を前記下方向の側から前記上方向の側へ向かうように延在する、
ことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示領域の外側から表示領域へと至るように映像信号線が敷設される表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置をはじめとする表示装置では、表示領域に複数の映像信号線が敷設されて、各映像信号線は、表示領域において配列された各画素に映像信号を供給する。また各映像信号線は、表示領域の外側の額縁領域を経て表示領域へと至るようにレイアウトされる。
【０００３】
なお、特許文献１には、高集積化に適する半導体記憶装置を提供する旨が記載されており、信号線間にＧＮＤ線が挿入された半導体記憶装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０７−１８３３９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、表示領域の外側では、映像信号線と絶縁層を介して重複する所定の導電層が配置されることがある。導電層と映像信号線とが重複する場合には、これらの間で大きな寄生容量が発生し、表示領域で表示される画像に影響を及ぼす場合がある。
【０００６】
表示される画像に影響を及ぼすような導電層の一例としては、有機ＥＬ表示装置におけるポリイミド層の端部を覆う導電層がある。このポリイミド層は、表示領域を平坦化するための層であり、有機ＥＬ層が形成される封止領域内を防湿する観点から、シール材との重複を避けて封止領域の内側のみに形成される。またポリイミド層の端部を覆う導電層は、ポリイミド層の剥がれを防止するために形成される。
【０００７】
図９は、従来の有機ＥＬ表示装置において、映像信号線ＤＬがレイアウトされた額縁領域に、導電層ＣＤ１、ＣＤ２が配置される例を示す図である。同図で示すように、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１が形成されて、表示領域ＤＰの外側にレイアウトされた映像信号線ＤＬと重複する。
【０００８】
また、図１０は、図９の有機ＥＬ表示装置において、互いに並んで敷設された複数の映像信号線の１つである映像信号線ＤＬｃと、導電層ＣＤ１とが重複する様子を示す模式断面図である。導電層ＣＤ１と重複することにより、映像信号線ＤＬｃの寄生容量は他の映像信号線ＤＬａ等よりも大きくなる。このため、表示領域ＤＰで表示される画像には、映像信号線ＤＬｃに対応した縦筋が発生しやすくなる。
【０００９】
一方、導電層ＣＤ１と映像信号線ＤＬとが重複しないようにする場合には、例えば、映像信号線ＤＬが配置された領域のさらに外側に、導電層ＣＤ１が配置されるようにすればよい。しかし、この場合には、額縁領域を狭くするのが困難となるため望ましくない。
【００１０】
本発明は、映像信号線と導電層とが重複することにより生じる画質の劣化を抑えつつ、比較的額縁領域の狭い表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る表示装置は、上記目的に鑑みて、画像を表示する表示領域と、前記表示領域の外側において、前記表示領域の外周に沿った方向に敷設され、かつ、互いに並んで配置される配線部分を有し、前記表示領域まで延在する複数の映像信号線と、前記各配線部分を覆う絶縁層と、前記絶縁層上に配置される導電層と、を有する表示装置であって、前記導電層は、前記方向に沿って線状に前記絶縁層と接する部分を有し、前記複数の映像信号線の前記配線部分のうち、互いに隣接し、かつ、前記導電層の前記部分を挟んで配置される２つの前記配線部分は、前記導電層の前記部分との重複を避けるように、前記複数の映像信号線における他の前記配線部分よりも間隔を置いて配置される、ことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係る表示装置の一態様では、前記２つの配線部分の間には、少なくとも１つの導電線が、前記絶縁層と接する前記導電層の前記部分と線状に重複して配置されて、前記導電線は、前記配線部分のそれぞれと並んで配置されて前記絶縁層に覆われる、ことを特徴としてもよい。
【００１３】
また、本発明に係る表示装置の一態様では、前記導電線には、前記２つの配線部分に入力される信号に応じて、電位が印加される、ことを特徴としてもよい。
【００１４】
また、本発明に係る表示装置の一態様では、前記２つの配線部分の間には、２つの前記導電線が配置されて、前記２つの導電線のうちの一方には、前記２つの導電線のうちの他方と隣接する前記配線部分に入力される信号に応じて、電位が印加され、前記他方には、前記一方と隣接する前記配線部分に入力される信号に応じて、電位が印加される、ことを特徴としてもよい。
【００１５】
また、本発明に係る表示装置の一態様では前記導電線は、フローティングされる、ことを特徴としてもよい。
【００１６】
また、本発明に係る表示装置の一態様では前記導電線には、基準電位が印加される、ことを特徴としてもよい。
【００１７】
また、本発明に係る表示装置の一態様では前記複数の映像信号線における配線部分は、前記２つの配線部分の間の間隔以外は、所定の間隔を置いて互いに配置され、前記２つの配線部分の間の間隔は、前記所定の間隔よりも広い、ことを特徴としてもよい。
【００１８】
また、本発明に係る表示装置の一態様では前記導電層は、フローティングされる、ことを特徴としてもよい。
【００１９】
また、本発明に係る表示装置の一態様では前記絶縁層に接してポリイミド層が配置され、前記ポリイミド層の端部は、前記２つの配線部分の間において線状に形成され、前記導電層は、前記ポリイミド層の端部を覆いつつ前記ポリイミド層と前記絶縁層に跨って配置されて、前記２つの配線部分の間で前記絶縁層に線状に接する、ことを特徴としてもよい。
【００２０】
また、本発明に係る表示装置の一態様では前記絶縁層は、前記ポリイミド層の膜厚よりも薄い厚みで形成される、ことを特徴としてもよい。
【００２１】
また、本発明に係る表示装置の一態様では、前記表示領域の外側に配置されて、前記複数の映像信号線に信号を出力する映像信号線駆動回路をさらに有し、前記複数の映像信号線は、前記表示領域において互いに隣接して上下方向に延在するように敷設され、前記映像信号線駆動回路は、前記表示領域に対して横方向となる側に配置され、前記複数の映像信号線は、前記映像信号線駆動回路から開始して前記表示領域に対して上方向の側及び下方向の側に分かれて敷設され、前記上方向の側に分かれて敷設された前記映像信号線は、前記表示領域内を前記上方向の側から前記下方向の側へ向かうように延在し、前記下方向の側にわかれて敷設された前記映像信号線は、前記表示領域内を前記下方向の側から前記上方向の側へ向かうように延在する、ことを特徴としてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、映像信号線と導電層とが重複することにより生じる画質の劣化を防ぎつつ、比較的額縁領域の狭い表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】第１の実施形態に係る表示装置のＴＦＴ基板上の様子を示す図である。
【図２】図１のＴＦＴ基板における一部の領域の拡大平面図を示す図である。
【図３】第１の実施形態に係る表示装置において、表示領域の外周に沿う方向に導電層と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図を示す図である。
【図４】第２の実施形態に係る表示装置において、表示領域の外周に沿う方向に導電層と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図を示す図である。
【図５】第２の実施形態の変形例に係る表示装置において、表示領域の外周に沿う方向に導電層と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図を示す図である。
【図６】第３の実施形態に係る表示装置において、表示領域の外周に沿う方向に導電層と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図を示す図である。
【図７】第４の実施形態に係る表示装置において、表示領域の外周に沿う方向に導電層と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図を示す図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る表示装置において、表示領域の外周に沿う方向に導電層と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図を示す図である。
【図９】従来の表示装置において、映像信号線が敷設された額縁領域に導電層が配置される例を示す図である。
【図１０】図９の表示装置において、互いに並んで敷設された複数の映像信号線の１つと、導電層とが重複する様子を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る各実施形態について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、各実施形態で同一の構成要素には同一符号を付し、同一構成要素の繰り返しの説明については省略する。本発明は、その技術的思想を逸脱しない範囲内において適宜変更が可能であることはいうまでもない。
【００２５】
［第１の実施形態］
本実施形態に係る表示装置は、ガラス基板上に複数の有機ＥＬ素子が配列されたＴＦＴ基板と、当該ＴＦＴ基板にシール材によって貼り合わされる封止基板とを含んで構成される有機ＥＬ表示装置である。この封止基板は、ＴＦＴ基板上に配列された有機ＥＬ素子を水分から保護するために備え付けられる。
【００２６】
図１は、本実施形態に係る表示装置のＴＦＴ基板上の様子を示す図である。同図では、特に、ＴＦＴ基板に貼り合わされる封止基板とのシール領域と端子領域の様子を示している。また、ＴＦＴ基板上には、複数の画素が行列状に配列された表示領域ＤＰが配置され、表示領域ＤＰの外側の領域には、本実施形態に係る表示装置の額縁領域ＦＲが配置されて、額縁領域ＦＲの一部分にはシール材ＳＥが配置されて封止基板と貼り合される。また、額縁領域ＦＲには、映像信号線駆動回路ＤＤＲを含む端子領域ＴＥが配置され、さらに複数の映像信号線ＤＬが映像信号線駆動回路ＤＤＲから表示領域ＤＰへと敷設される。また、図１において不図示となるポリイミド層が、表示領域ＤＰよりも広い領域となるように配置されて、当該ポリイミド層の端部を覆うように導電層ＣＤ１が形成される。同様に、端子領域ＴＥに引き回される配線を保護するためのポリイミド層（図１において不図示）が配置されて、当該ポリイミド層の端部を覆うように導電層ＣＤ２が配置される。
【００２７】
本実施形態における表示領域ＤＰでは、複数の映像信号線ＤＬが互いに等間隔を置いて図中垂直方向に敷設されて、映像信号線ＤＬに対して略垂直となる方向に、複数の走査信号線（図１において不図示）が互いに等間隔を置いて敷設される。複数の映像信号線ＤＬと複数の走査信号線とは、互いに交差して配置され、これらによって画定される領域のそれぞれが、本実施形態に係る表示装置の表示領域ＤＰに配列される画素に対応する。また、ＴＦＴ基板上には、表示領域ＤＰに配列される複数の画素のそれぞれに対して、有機ＥＬ素子と、蓄積容量と、当該画素の表示制御を行うためのＭＩＳ構造（Metal-Insulator-Semiconductor）の薄膜トランジスタと、が配置される。有機ＥＬ素子は、下部電極と、上部電極と、これらの間に積層される有機材料とを含んで構成され、有機材料は、両電極間に生じる電位差により電子及び正孔が供給されることで発光する。
【００２８】
各映像信号線ＤＬには、額縁領域ＦＲに実装された映像信号線駆動回路ＤＤＲから信号が出力されて、各走査信号線には走査線駆動回路から信号が出力される。本実施形態に係る表示装置では、走査線駆動回路及び映像信号線駆動回路ＤＤＲによって、所定タイミングごとに映像信号線ＤＬ及び走査信号線に選択的に信号が入力される。これによって、表示制御の対象となる画素に対応する有機ＥＬ素子の発光が制御される。
【００２９】
また、本実施形態に係る表示装置は、表示領域ＤＰの全体にわたって平坦化をするために形成されるポリイミド層と、端子領域ＴＥを保護するために形成されるポリイミド層とを含み、２つのポリイミド層の端部をそれぞれ覆うように導電層ＣＤ１，ＣＤ２が形成される。このため、図１で示すように、特に導電層ＣＤ１は、表示領域ＤＰの外側において、表示領域ＤＰの外周に沿って枠状に形成される。また、導電層ＣＤ２も、表示領域ＤＰの外周に沿った方向に形成される部分を有している。なお、本実施形態では、表示領域ＤＰを平坦化する平坦化層および、端子領域ＴＥを保護する保護層としてポリイミドを用いているが、ポリイミド以外の他の材料を用いても良い。なお、本実施形態では、導電層ＣＤ１，ＣＤ２は、表示領域ＤＰの電極構造の一部と同時に形成されるため、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物：Indium Tin Oxide）などの透明導電膜が用いられるが、他の有色の金属が用いられてもよい。
【００３０】
本実施形態に係る表示装置の映像信号線駆動回路ＤＤＲは、図１で示すように、表示領域ＤＰの横方向となる側に配置される。そして、複数の映像信号線ＤＬは、映像信号線駆動回路ＤＤＲから開始して表示領域ＤＰの横方向の側から上方向の側および下方向の側へと引き回されて、さらに、表示領域ＤＰの内側へと上下方向に延在するように敷設される。本実施形態では、額縁領域ＦＲを狭くするように複数の映像信号線ＤＬが引き回されるため、複数の映像信号線ＤＬは、表示領域ＤＰからなるべく近い位置で互いに密集して、表示領域ＤＰの外周に沿うように配線される。したがって、複数の映像信号線ＤＬは、互いに並んで配置されて、かつ、表示領域ＤＰの外周に沿った方向に敷設される配線部分をそれぞれ有している。
【００３１】
本実施形態では、図１で示すように、複数の映像信号線ＤＬのうちの映像信号線駆動回路ＤＤＲから遠い側に敷設される半分の映像信号線ＤＬと、近い側に敷設される半分の映像信号線ＤＬは、縦方向で分かれて表示領域ＤＰの外周に沿って引き回される。具体的には、前記遠い側に敷設される半分の映像信号線ＤＬは、映像信号線駆動回路ＤＤＲから開始して、表示領域ＤＰの右辺に沿って上方向に進行し、表示領域ＤＰの上辺に沿って映像信号線駆動回路ＤＤＲから遠ざかる方向に引き回されたのちに、表示領域ＤＰの上辺から下辺へと横断するようにそれぞれ敷設される。また、前記近い側に敷設される半分の映像信号線ＤＬも、映像信号線駆動回路ＤＤＲから開始して、表示領域ＤＰの右辺に沿って下方向に進行し、表示領域ＤＰの下辺に沿ってそれぞれ引き回される。このため、表示領域ＤＰの右方向の側と、上方向の側および下方向の側では、表示領域ＤＰの外周である右辺と、上辺および下辺に沿って、複数の映像信号線ＤＬが互いに並んで敷設される。
【００３２】
本実施形態では、額縁領域ＦＲを狭くするため、複数の映像信号線ＤＬが互いにならんで引き回される領域（図１において、斜めのハッチングが付された部分）と重複するように、導電層ＣＤ１，ＣＤ２が配置される。導電層ＣＤ１，ＣＤ２は、複数の映像信号線ＤＬとの間に絶縁層ＩＳを介在させて積層されている。そして、互いに近い位置に存在する映像信号線ＤＬと導電層ＣＤ１,ＣＤ２との間には寄生容量が発生する。発生する寄生容量は、映像信号線ＤＬと導電層ＣＤ１，ＣＤ２の重複する面積が大きいほど大きくなる。従って、映像信号線ＤＬと導電層ＣＤ１,ＣＤ２とが交差する場合に発生する寄生容量よりも、所定の長さにわたって線状に重複する場合の寄生容量が大きくなる。発生する寄生容量が大きくなると、映像信号線ＤＬに映像信号が入力される際の負荷が大きくなるため、当該映像信号線ＤＬに接続された各画素への映像信号の入力に遅延や減衰が生じる。また、所定の映像信号線ＤＬにおいて、隣接する映像信号線ＤＬと比べて大きな寄生容量が発生する場合には、当該所定の映像信号線ＤＬに接続された各画素への映像信号の入力の減少が顕著となって表示される画像上で筋が視認されやすくなる。
【００３３】
図１における領域ＯＬ１〜ＯＬ５は、複数の映像信号線ＤＬにおける複数の配線部分が配置される領域であって、当該領域には、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１又は導電層ＣＤ２が配置される。図１で示されるように、領域ＯＬ１は、表示領域ＤＰの上辺に沿って導電層ＣＤ１及び複数の配線部分が横方向に延設される領域であり、領域ＯＬ２〜ＯＬ３は、表示領域ＤＰの右辺に沿って導電層ＣＤ１及び複数の配線部分が上下方向に延設される領域であり、領域ＯＬ４〜ＯＬ５は、表示領域ＤＰの右辺に沿って導電層ＣＤ２及び複数の配線部分が上下方向に延設される領域である。また、図２は、領域ＯＬ１の様子を示す拡大平面図であり、複数の配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４が表示領域ＤＰの外周に沿う方向に敷設されて、さらに、導電層ＣＤ１が配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間で当該方向に延設される様子を示している。また、複数の配線部分が表示領域ＤＰの外周に沿う方向に敷設されて、さらに、導電層ＣＤ１が２つの配線部分の間で当該方向に延設されるのは、領域ＯＬ２〜ＯＬ５でも同様であるため、領域ＯＬ２〜ＯＬ５についての説明は省略する。
【００３４】
ここで図３は、本実施形態に係る表示装置において、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１と複数の配線部分とが配置される領域ＯＬ１の模式断面図である。同図で示されるように、まず、複数の映像信号線ＤＬの各配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４が配置される。各映像信号線ＤＬは、アルミニウム等を含む合金あるいはそれらの積層で形成される。また、各配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４を覆うように絶縁層ＩＳが積層される。本実施形態における絶縁層ＩＳは、窒化シリコン（ＳｉＮ）であって０．２〜０．５μｍ程度の厚みで積層される。絶縁層ＩＳの厚みを厚くすることにより導電層ＣＤ１によって発生する寄生容量は小さくなる。しかし、ＴＦＴ基板において反りが発生するのを防止するため、窒化シリコンを用いた絶縁層ＩＳは、上述の厚みで形成される。そして特に図３では、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３との２つの配線部分の間が所定間隔を空けられており、当該２つの配線部分の間に、導電層ＣＤ１の一部分となる接触部分（平板容量部分）Ｃｐが配置されるようにする。この接触部分Ｃｐは、導電層ＣＤ１の表示領域ＤＰの外周に沿う方向であって、当該２つの配線部分が敷設される方向とほぼ同一となる方向に線状となって絶縁層ＩＳと接する導電層ＣＤ１の一部分である。２つの配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間が所定間隔を空けられることにより、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐと、各配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４との平面的な重複が避けられる。
【００３５】
また、ポリイミド層ＰＬの端部は、配線部分ＤＬ２と配線部分ＤＬ３の間に線状に存在する。導電層ＣＤ１は、絶縁層ＩＳからポリイミド層ＰＬの端部に跨って配置されることにより、ポリイミド層ＰＬの剥がれを防止する。ポリイミド層ＰＬは２μｍ程度の厚みを有しており、ポリイミド層ＰＬの端部は、テーパ状に形成される。本実施形態では、各配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４と、導電層ＣＤ１において絶縁層ＩＳと線状に接する接触部分Ｃｐとは、表示領域ＤＰの外周に沿う方向に、ほぼ平行となるようにそれぞれ配置されるため、接触部分Ｃｐと配線部分ＤＬ２，ＤＬ３とが線状に重複するのが避けられて寄生容量の増大が抑えられる。
【００３６】
また、各映像信号線ＤＬ間は、絶縁層ＩＳによって互いに絶縁されて、各映像信号線ＤＬ間においても寄生容量が発生する。本実施形態では、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間隔は、他の２つの配線部分が有する間隔よりも広くなるようにし、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間隔以外は所定の間隔となるように各配線部分が配置される。導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐを間に挟む２つの配線部分以外は、互いに等しい線幅およびピッチで配置することにより、各映像信号線ＤＬ間に発生する寄生容量をなるべく均一に近づけるようにするのが望ましい。また、接触部分Ｃｐとの間で生じる寄生容量に基づいて、接触部分Ｃｐからの配線部分ＤＬ２およびＤＬ３の位置を決定することで、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３を含めた各映像信号線ＤＬ間の寄生容量をさらに均一に近づけるようにしてもよい。
【００３７】
なお、導電層ＣＤ１は、フローティングにしてもよい。導電層ＣＤ１をフローティングにすることで、配線部分ＤＬ２と導電層ＣＤ１の間の寄生容量と、導電層ＣＤ１と配線部分ＤＬ３の間の寄生容量とが合成されて、配線部分ＤＬ２と配線部分ＤＬ３の間に寄生容量が発生し、配線部分ＤＬ２と配線部分ＤＬ３以外の隣接配線間容量に近くなるので、表示領域ＤＰにおいて表示される画像で筋が発生するのを抑えやすくできる。
【００３８】
なお、ポリイミド層ＰＬは、絶縁層ＩＳ上に形成されて、さらに絶縁層ＩＳよりも厚く形成されるため、ポリイミド層ＰＬ上の導電層ＣＤ１と重複することにより生じる寄生容量は、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐと重複することにより生じる寄生容量よりも少なくなりやすい。したがって、ポリイミド層ＰＬの厚みが絶縁層ＩＳの厚みよりも厚い場合には、ポリイミド層ＰＬ上の導電層ＣＤ１と各配線部分との重複を許容しても画質への影響が小さい場合もある。しかし、図２で示す本実施形態のように、各配線部分は、ポリイミド層ＰＬ上の導電層ＣＤ１との重複をも避けるようにするのが望ましい。
【００３９】
［第２の実施形態］
図４は、本発明の第２の実施形態に係る表示装置であって、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図である。第２の実施形態では、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐとの平面的な重複を避けて所定間隔を空けられた２つの配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間に、導電線ＤＭが配置される。当該導電線ＤＭは、表示領域ＤＰ内の画素には接続されない。第２の実施形態に係る表示装置は、このような導電線ＤＭが配置される点で第１の実施形態に係る表示装置とは異なるが、かかる点以外は第１の実施形態と同様である。そして、第1の実施形態と同様となる部分については、説明を省略する。
【００４０】
図４で示すように、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間に導電線ＤＭが介在して、各配線部分と導電線ＤＭとが互いに並んで配置される。そして、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐと導電線ＤＭとが互いに線状に重複して配置される。特に、導電線ＤＭには、配線部分ＤＬ２を含む映像信号線ＤＬ及び配線部分ＤＬ３を含む映像信号線ＤＬに信号が入力されるのに応じて、電位が印加される。具体的には、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３に映像信号に基づく電位が印加されるタイミングに従って、当該映像信号に応じた電位が、導電線ＤＭに印加される。
【００４１】
表示領域ＤＰに画像を表示する際には、所定タイミング毎に各映像信号線ＤＬに映像信号による電位が印加される。配線部分ＤＬ２及びＤＬ３に入力される信号に応じて、導電線ＤＭに電位を印加することにより、映像信号の入力の際に配線部分ＤＬ２及びＤＬ３で生じる負荷を小さくすることができる。これにより、配線部分ＤＬ２及び配線部分ＤＬ３を含む２つの映像信号線ＤＬに接続される画素列で生じる筋の発生を抑えることが出来る。なお、上記のように導電線ＤＭに電位を印加することで、当該２つの映像信号線を含む各映像信号線ＤＬにおいて発生する負荷も均一化されるため、画質の劣化が抑えられる。
【００４２】
第２の実施形態に係る表示装置の導電線ＤＭは、各映像信号線ＤＬと同様に、映像信号線駆動回路ＤＤＲによって電位が印加されるようにしてもよいし、映像信号線駆動回路ＤＤＲ以外から電位が印加されるようにしてもよい。また、導電線ＤＭに印加される電位としては、配線部分ＤＬ２に印加される電位と配線部分ＤＬ３に印加される電位の平均となるようにしてもよい。
【００４３】
図５は、第２の実施形態に係る表示装置の変形例を示す図であり、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図である。同図で示すように、所定の間隔を置いて配置された配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間には、複数の導電線が配置される。本変形例では、導電線ＤＭ１とＤＭ２の２つの導電線が配置されて、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐと線状に重複して、他の配線部分と共に並んで配置される。
【００４４】
本変形例では、導電線ＤＭ１には、導電線ＤＭ２と隣接する配線部分ＤＬ３に入力される信号に応じた電位が印加され、導電線ＤＭ２には、導電線ＤＭ１と隣接する配線部分ＤＬ２に入力される信号に応じた電位が印加されるようにする。このようにすることで、導電層ＣＤ１等が存在することによって配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間で生じる負荷を、各映像信号線ＤＬにおいて発生する負荷と同様にでき、各映像信号線ＤＬで発生する負荷を均一化できる。なお、導電線ＤＭ１及びＤＭ２は、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐと線状に重複するため、大きな寄生容量を発生させる。このため、導電線ＤＭ１、ＤＭ２に印加される電圧振幅は、配線部分ＤＬ２、ＤＬ３を含む映像信号線ＤＬに映像信号として入力される電圧振幅よりも大きくしても良い。
【００４５】
［第３の実施形態］
図６は、本発明の第３の実施形態に係る表示装置であって、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図である。第３の実施形態では、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐとの平面的な重複を避けて所定間隔を空けられた２つの配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間に、フローティング導電線ＦＧが配置される。第３の実施形態に係る表示装置は、このようなフローティング導電線ＦＧが配置される点で第１の実施形態に係る表示装置とは異なるが、この点以外は第１の実施形態と同様である。第1の実施形態と同様となる部分については、説明を省略する。
【００４６】
図６で示すように、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間にフローティング導電線ＦＧが介在し、各配線部分とフローティング導電線ＦＧとが互いに並んで配置されて、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐとフローティング導電線ＦＧとが互いに線状に重複して配置される。配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間にフローティング導電線ＦＧが介在することで、配線部分ＤＬ２とフローティング導電線ＦＧとの間の寄生容量と、配線部分ＤＬ３とフローティング導電線ＦＧとの間の寄生容量とが合成されて、表示領域ＤＰに表示される画像の筋の発生を抑えやすく出来る。
【００４７】
［第４の実施形態］
図７は、本発明の第４の実施形態に係る表示装置であって、表示領域ＤＰの外周に沿って導電層ＣＤ１と複数の配線部分とが配置される領域の模式断面図である。第４の実施形態では、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐとの平面的な重複を避けて所定間隔を空けられた２つの配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間に、１ＭΩ程度の高抵抗を介して基準電位と電気的に接続したグランド導電線ＧＮが配置される。第４の実施形態に係る表示装置は、このようなグランド導電線ＧＮが配置される点で第１の実施形態に係る表示装置とは異なるが、この点以外は第１の実施形態と同様である。第1の実施形態と同様となる部分については、説明を省略する。
【００４８】
図７で示すように、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間にグランド導電線ＧＮが介在し、各配線部分とグランド導電線ＧＮとが互いに並んで配置されて、導電層ＣＤ１の接触部分Ｃｐとグランド導電線ＧＮとが互いに線状に重複して配置される。配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間にグランド導電線ＧＮが介在することで、表示領域ＤＰに表示される画像の筋の発生を抑えやすく出来る。
【００４９】
なお、上記の各実施形態では、図３〜図７で示すように、配線部分ＤＬ１及びＤＬ２を上側から覆うようにポリイミド層ＰＬが存在し、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間にポリイミド層ＰＬの端部が存在して、当該端部を覆う導電層ＣＤ１が存在している。しかし、図８で示すように、ポリイミド層ＰＬが存在しない絶縁層ＩＳ上に導電層ＣＤ１が存在するようにしても良い。また、図８では、導電層ＣＤ１と平面的かつ線状に重複して導電線ＤＭが配置されているが、この導電線ＤＭが配置されなくてもよいし、フローティング導電線ＦＧやグランド導電線ＧＮが配置されるようにしてもよい。また、図３〜図８においては導電層ＣＤ１の場合を説明しているが、導電層ＣＤ１の代わりに導電層ＣＤ２となる場合であっても同様となることについてはいうまでもない。
【００５０】
なお、第３〜４の各実施形態では、配線部分ＤＬ２及びＤＬ３の間に、それぞれ１つの導電線が配置されているが、複数の導電線が配置されてよい。間に配置される複数の導電線は、フローティング導電線ＦＧであってもよいし、グランド導電線ＧＮであってもよく、これらの組み合わせからなる複数の導電線であってもよい。また、当該複数の導電線のうちの１つには、配線部分ＤＬ２又はＤＬ３の一方に入力される信号に応じた電位が印加されても良い。
【００５１】
なお、第２〜第４の各実施形態では、各映像信号線ＤＬの配線部分ＤＬ１〜ＤＬ４と、導電線ＤＭ等とが、互いに等しいピッチ及び線幅で配置されるようにしてもよい。このようにすることで、各映像信号線ＤＬ間で生じる寄生容量を均一にしやすくなる。
【００５２】
なお、上記の各実施形態に係る表示装置では、表示装置を有機ＥＬ表示装置としているが、液晶表示装置等の他の表示装置であってもよい。
【符号の説明】
【００５３】
ＤＬ  映像信号線、ＤＰ  表示領域、ＦＲ  額縁領域、ＳＥ  シール材、ＯＬ１〜ＯＬ５  領域、ＤＤＲ  映像信号線駆動回路、ＴＥ  端子領域、ＣＤ１，ＣＤ２  導電層、ＰＬ  ポリイミド層、ＩＳ  絶縁層、ＤＬ１〜ＤＬ４  配線部分、Ｃｐ  接触部分（平板容量部分）、ＤＭ  導電線、ＦＧ  フローティング導電線、ＧＮ  グランド導電線、ＤＬａ〜ＤＬｅ  映像信号線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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