(57)【要約】      （修正有）【課題】複数の板状被めっき体を一括してめっきする場合でも、めっき槽内のエアレーションによる液流を整流し、板状被めっき体周辺の液流の速度ばらつきを抑制することにより、板状被めっき体表面のめっき厚みのばらつきを抑制可能なめっきラック及びめっき方法を提供する。【解決手段】板状被めっき体を収納するめっきラック９であって、前記板状被めっき体を下側から保持する保持部４と、この保持部の幅方向外側の両側に対向にして配置される遮蔽板５とを備え、前記遮蔽板の下端が、前記板状被めっき体を下側から保持する保持部の下端より下方に位置するめっきラック及びこのめっきラックを備えるめっき装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の板状被めっき体を収納するめっきラックであって、
前記板状被めっき体を下側から保持する保持部と、この保持部の幅方向外側の両側に対向して配置される遮蔽板とを備え、
前記遮蔽板の下端が、前記板状被めっき体を下側から保持する保持部の下端より下方に位置するめっきラック。
【請求項２】
請求項１において、
板状被めっき体を下側から保持する保持部の下端と遮蔽板の下端との間に高低差を有し、
この高低差によって形成される前記保持部の下方空間に、エアレーション用のエア配管を収納するエア配管収納部を有するめっきラック。
【請求項３】
請求項１または２において、
遮蔽板の上端が板状被めっき体の上端以上の位置に配置されるめっきラック。
【請求項４】
めっき槽と、このめっき槽の下部に配置されたエアレーション用のエア配管と、請求項１から３の何れかのめっきラックとを備え、
エア配管からのエアレーションによって形成されるめっき液流が、前記めっきラックの遮蔽板の内側では上方に向かい、次に前記遮蔽板の上端を通って遮蔽板の外側へ向かい、次に前記遮蔽板の外側では下方に向かい、次に前記遮蔽板の下端を通って遮蔽板の内側へ向かい、前記エア配管上に戻る循環流路を形成するめっき装置。
【請求項５】
請求項４において、
めっきラックの対向する遮蔽板間の距離Ａが、前記遮蔽板からめっき槽左壁の距離Ｂと前記遮蔽板からめっき槽右壁の距離Ｃとの和と同等以上であるめっき装置。
【請求項６】
請求項４または５において、
エア配管が、めっきラックのエア配管収納部に収納されるめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっきラック及びめっき装置に関し、特には大型で配線密度の高い多層配線板用の無電解めっきに用いるめっきラック及びめっき装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の高機能化に伴い電子機器で使用される多層配線板は、高多層化や配線の高密度化が進んでおり、さらに、例えばシステムを統合するバックブレーン用基板等では、大型化（縦横寸法が、５００ｍｍ×３００ｍｍ以上）が進む傾向にある。配線の高密度のためには、配線板表面のめっき厚みの均一性が不可欠となっており、これらに伴い、大型の多層配線板の表面全体について、厚みの均一なめっき皮膜の形成が必要となっている。
【０００３】
一般的に、多層配線板のような板状被めっき体の表面に厚みの均一性の高いめっきを形成するためには、めっき槽内に液流を発生させる手段が使われる。液流を発生させるための手段としては、エアレーション（空気による撹拌）、ポンプ、プロペラ、噴流などが用いられる。エアレーションを用いた手段としては、空気ポンプにより空気をめっき槽内に送り込み、板状被めっき体にめっき液を噴き付ける無電解めっき方法（特許文献１）、エアレーションを行いながら、揺動と振動を行なう無電解めっき方法（特許文献２）、板状被めっき体の下方に整流板を設置することで、板状被めっき体に沿って上昇するエアレーションの空気やそれに伴うめっき液の液流の速度を均一にする電解めっき方法（特許文献３）、等が知られている。また、噴流を用いるものとしては、めっき液の流れを形成する吹き出しユニットにより、板状被めっき体の表面での流速ばらつきをなくすとともに、所望の流速に制御する電解めっき装置が提案されている（特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公平２−３９５９５号公報
【特許文献２】特開平１１−１８９８８０号公報
【特許文献３】特開平０６−２９９３９８号公報
【特許文献４】特開２００６−２５７４５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１及び２は、層間接続用の貫通孔内に確実に無電解めっきを行うため、貫通孔内へのめっき液の流れをよくすることに主眼をおいたものであり、板状被めっき体表面のめっき液の流速や板状被めっき体表面全体のめっき厚みを均一にする点については特に考慮されていない。また、特許文献３及び４は、電解めっきなどで採用されるスライド方式によるめっきについてのものであり、板状被めっき体をその表面と平行方向に複数並べてめっきラックに収納するバッチ方式の無電解めっき方法に適用するのは構造上困難である。
【０００６】
このため、従来技術においては、複数の板状被めっき体を一括してバッチ方式で無電解めっきする場合に、板状被めっき体表面のめっき液の流速のばらつきを抑制し、厚みの均一なめっき皮膜を形成するのは困難であった。このため、特に、バッチ方式で無電解めっきを行なう大型（縦横寸法が、５００ｍｍ×３００ｍｍ以上）の板状被めっき体においては、同一のバッチ内でも、基板内や基板毎のばらつきが大きくなる問題が生じている。
【０００７】
本発明は、複数の大型の板状被めっき体を一括してめっきする場合でも、めっき槽内のエアレーションによる液流を整流し、板状被めっき体周辺の液流の速度のばらつきを抑制することにより、大型の板状被めっき体表面のめっき厚みのばらつきを抑制可能なめっきラック及びこのめっきラックを用いためっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、鋭意検討の結果、板状被めっき体の側面（板状被めっき体の面と垂直方向）に遮蔽板を設置しためっきラックを用いること等により、板状被めっき体をその表面と平行方向に複数並べてめっきラックに収納するバッチ方式のめっき方法においても、板状被めっき体周辺の液流の速度のばらつきを抑制することができ、大型の板状被めっき体の表面全体について、めっき厚みの均一化を図ることができることを見出し、本発明をなすに至った。
【０００９】
本発明は、以下のものに関する。
（１）  板状被めっき体を収納するめっきラックであって、前記板状被めっき体を下側から保持する保持部と、この保持部の幅方向外側の両側に対向して配置される遮蔽板とを備え、この遮蔽板が、前記板状被めっき体を下側から保持する保持部の下端より下方に位置するめっきラック。
（２）  上記（１）において、板状被めっき体を下側から保持する保持部の下端と遮蔽板の下端との間に高低差を有し、この高低差によって形成される前記保持部の下方空間に、エアレーション用のエア配管を収納するエア配管収納部を有するめっきラック。
（３）  上記（１）または（２）において、遮蔽板の上端が板状被めっき体の上端以上の位置に配置されるめっきラック。
（４）  めっき槽と、このめっき槽の下部に配置されたエアレーション用のエア配管と、請求項１から３の何れかのめっきラックとを備え、エア配管からのエアレーションによって形成されるめっき液流が、前記めっきラックの遮蔽板の内側では上方に向かい、次に前記遮蔽板の上端を通って遮蔽板の外側へ向かい、次に前記遮蔽板の外側では下方に向かい、次に前記遮蔽板の下端を通って遮蔽板の内側へ向かい、前記エア配管上に戻る循環流路を形成するめっき装置。
（５）  上記（４）において、めっきラックの対向する遮蔽板間の距離Ａが、前記遮蔽板からめっき槽左壁の距離Ｂと前記遮蔽板からめっき槽右壁の距離Ｃとの和と同等以上であるめっき装置。
（６）  上記（４）または（５）において、エア配管が、めっきラックのエア配管収納部に収納されるめっき装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、大型の複数の板状被めっき体を一括してめっきする場合でも、めっき槽内のエアレーションによる液流を整流し、板状被めっき体周辺の液流を均一にすることにより、大型の板状被めっき体表面のめっき厚みのばらつきを抑制可能なめっきラック及びこのめっきラックを用いためっき装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のめっきラックとめっき装置の幅方向断面図を表す。
【図２】本発明のめっきラックの斜視図を表す。
【図３】本発明のめっきラック及びめっき装置を用いた場合のめっき液の液流を、幅方向断面図で表す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は、本発明のめっきラック９とこのめっきラック９をめっき槽２に設置しためっき装置１０を、幅方向の断面図で表したものである。図２は、本発明のめっきラック９を、斜視図で表したものである。なお、図２では、めっきラック９の保持部４を省略して示している。図３は、本発明のめっきラック９及びめっき装置１０を用いた場合のめっき液１の液流８を、めっき槽２の幅方向断面図で表したものである。
【００１３】
本発明のめっきラック９としては、図１及び図２に示すように、板状被めっき体３を収納するめっきラック９であって、前記板状被めっき体３を下側から保持する保持部４と、この保持部４の幅方向外側の両側に、対向して配置される遮蔽板５とを備えるものが挙げられる。この遮蔽板５は、前記板状被めっき体３の幅方向と直角方法に配置され、前記遮蔽板５の下端が前記板状被めっき体３を下側から保持する保持部４の下端より下方に位置している。このように遮蔽板５を位置させることにより、板状被めっき体３の下方に空間（保持部４の下方空間６）が形成されるので、この下方空間６に、例えばエアレーション用のエア配管７等を収納することが可能になる。また、図３に示すように、遮蔽板５の内側では上方に向かい、遮蔽板５の上端を通って遮蔽板５の外側へ向かい、遮蔽板５の外側では下方に向かい、遮蔽板５の下端を通って遮蔽板５の内側へ向かい、めっきラック９の下方に戻るめっき液１の循環流路を確保することができる。さらに、遮蔽板５を境にした上方と下方へのめっき液１の液流８が平行になることで、遮蔽板５の内側（板状被めっき体３が保持されている領域）の液流８が均一に整流される。したがって、大型の板状被めっき体３であっても、表面のめっき厚みのばらつきが抑制可能となる。なお、対向する遮蔽板５は、上側が開いた状態や下側が開いた状態でも同様の作用を有するが、平行になる状態に配置すると、遮蔽板５を境にした上方と下方へのめっき液１の液流８がより円滑になる点で望ましい。
【００１４】
また、板状被めっき体を下側から保持する保持部の下端と遮蔽板の下端との間に高低差を有し、この高低差によって形成される保持部の下方空間に、エアレーション用のエア配管収納部を有するのが望ましい。これにより、板状被めっき体の下方からエアレーションが行なわれるので、板状被めっき体の下方から上方に向かうめっき液の液流が形成される。また、エアレーション用のエア配管は、遮蔽板に両側を囲まれた内側に収納されているため、エア配管からのエアは、遮蔽板の外側には漏れ難く、遮蔽板の内側を通って、板状被めっき体の下方から上方に向かうめっき液の液流を形成する。このため、遮蔽板の外側を通って、下方に向かうめっき液の液流を妨げ難く、板状被めっき体が保持されている領域の液流を、より均一に整流することができる。また、板状被めっき体の下部でのめっき液の液流を安定させるため、高低差の大きさはエアレーション用のエア配管の直径に対し２倍以上とし、高低差の中央部にエア配管が配置されることが望ましい。
【００１５】
遮蔽板としては、エアレーションにより発生する液流で変形し難い程度の剛性を有するものが、板状被めっき体表面への均一な液流を与える点、及び板状被めっき体へのめっき液やエアの供給を円滑にできる点で望ましい。遮蔽板の材質は、一般にめっき用として用いられるものが使用できるが、用いるめっき液が無電解銅めっき液である場合は、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６のような耐めっき液性を有する材質のものであるのが、めっき液の安定化を図るうえで望ましい。
【００１６】
本発明を用いて無電解めっきを行なう対象の板状被めっき体としては、外形寸法が５００ｍｍ×３００ｍｍ以上の大型配線板が挙げられる。外形寸法の上限は特にないが、一般的な配線板の製造プロセスで用いられる６００ｍｍ×６００ｍｍ程度から１，０００ｍｍ×１，０００ｍｍ程度となるのが通常である。このような大型配線板であれば、本発明のめっきラック及びめっき方法を用いることで、従来技術と比べて、面内のめっき厚みの均一性に優れる効果が発揮できる点で望ましい。板状被めっき体は、一般的な配線板と同様の材料を用い、同様のプロセスで作製されたものを用いることができる。
【００１７】
めっきラックは、被めっき体を収納するためのものであり、このめっきラック内に板状被めっき体を垂直にするための保持部が設けられる。この保持部を含むめっきラックの構造としては、板状被めっき体にめっき液やエア配管からのエアが当たるのを妨げ難いフレーム状の構造のものが、板状被めっき体へのめっき液やエアの供給を円滑にできる点で望ましい。めっきラック内の保持部に板状被めっき体を垂直に保持する方法としては、例えば、板状被めっき体の全体を収納できる保持部のフレームの内側に、垂直方向の溝を形成しておき、この溝に板状被めっき体の端部を挟んで保持する方法等が挙げられる。また、保持部を含むめっきラックの材質は、一般にめっき用として用いられるものが使用できるが、用いるめっき液が無電解銅めっき液である場合は、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６のような耐めっき液性を有する材質のものであるのが、めっき液の安定化を図るうえで望ましい。
【００１８】
めっき槽は、めっき液を溜め、この溜められためっき液にめっきラックを浸漬するためのものであり、めっきラックに収納した板状被めっき体の全体が浸漬できる高さまで、めっき液を溜めることが可能な形状と容積を備えている。また、めっき槽の材質は、一般にめっき用として用いられるものが使用できるが、本発明で用いるめっき液が、無電解銅めっき液である場合は、耐めっき液性を有し、かつ、めっき槽自体にめっきが析出し難い材質のものであるのが、めっき液の安定化を図るうえで望ましい。
【００１９】
めっきラック内の保持部の下端と遮蔽板の下端との高低差によって、保持部の下方空間に設けられたエア配管収納部には、エア配管が配置される。エア配管は、エアポンプから送られたエアをめっき槽内にバブリングしてエアレーションするためのものであり、例えば、管状のものに多数の穴を開けたものや、多孔質樹脂チューブ、吹き出し側をセラミック多孔質体にした筒状のものなどが使用できる。管状のものに多数の穴を開けたものの場合、各穴径は、０．１ｍｍから２．０ｍｍ程度で、全て同じ穴径でも周期的に穴径を変えてもよい。エアポンプにより導入するエアの量はめっき液１ｍ３あたり７０Ｌ／分〜１５０Ｌ／分程度が望ましい。エア配管から噴出したエアは、浮力によって浮上するため、上方に向かって移動するので、板状被めっき体の下方に配置することにより、板状被めっき体が保持された領域をエアが通過するようにできる。また、めっきラックの幅方向の遮蔽板に囲まれた領域内にのみエア配管を配置するのが望ましい。これにより、エア配管からのエアは、遮蔽板の外側には漏れ難く、遮蔽板の内側（板状被めっき体が保持された領域）を通って、板状被めっき体の下方から上方に向かうめっき液の液流を形成する。このため、遮蔽板の外側を通って、下方に向かうめっき液の液流を妨げ難く、板状被めっき体が保持されている領域の液流を、より均一に整流することができる。また、板状被めっき体の全体にエアが当たるようにエア配管を配置するのが望ましい。無電解めっき液の場合、めっき液中の溶存酸素がめっき液を安定化する作用があるが、このめっき液中の溶存酸素濃度は、無電解めっき反応によって発生する水素ガスにより低下する傾向がある。しかしながら、エアに含まれる酸素が、めっき液中の溶存酸素濃度を増加させるので、このエアレーションによってめっき液の安定性を向上させることができる。
【００２０】
本発明のめっきラックに備えられる遮蔽板は、その上端が板状被めっき体の上端以上に配置されるのが望ましい。遮蔽板の上端を板状被めっき体の上端以上に配置することで、板状被めっき体の上端部まで、エアレーションによるめっき液の液流を整流できる。
【００２１】
図１に示すように、板状被めっき体３を収納した本発明のめっきラック９は、めっき槽２内に浸漬され、めっきラック９下部（保持部４の下方空間６）のエア配管収納部６にはエア配管７が設置される。このとき、図３に示すように、エア配管７から放出されたエア１１は液流８を形成し、その液流８は、遮蔽板５の内側では上方に向かい、次に遮蔽板５の上端を通って遮蔽板５の外側へ向かい、次に遮蔽板５の外側では下方に向かい、次に遮蔽板５の下端を通って遮蔽板の内側へ向かい、エア配管７の上方に戻る循環流路が形成される。遮蔽板５を境に上方、下方への液流８が平行になることで、これら上方及び下方への液流８が互いに干渉し難くなり、遮蔽板５の内側の液流８は均一に整流される。
【００２２】
図１に示すように、本発明のめっきラック９に備えられた向かい合う２枚の遮蔽板５間隔（遮蔽板５間の距離）をＡ、めっき槽２内に浸漬されためっきラック９の遮蔽板５左端からめっき槽２左側内壁までの距離（遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離）をＢ、さらにめっき槽２内に浸漬されためっきラック９の遮蔽板５右端からめっき槽２右側内壁までの距離（遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離）をＣとする。このとき、対向する遮蔽板５間の距離Ａは、遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離Ｂと、遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離Ｃとの和に対し、等しいかまたは大きいことが望ましい。遮蔽板５間の距離Ａが、遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離Ｂと、遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離Ｃとの和と等しい場合（Ａ＝Ｂ＋Ｃの場合）、遮蔽板５の内側の上方に向かうめっき液１の液流８の流量と、遮蔽板５の外側の下方に向かうめっき液１の液流８の流量とが等しくなり、それに伴い上方及び下方それぞれのめっき液１の液流８の圧力差、流速差が小さくなる。その結果、遮蔽板５の内側の液流８は均一な流速に整流され易い。また、遮蔽板５間の距離Ａが、遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離Ｂと、遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離Ｃとの和よりも大きい場合（Ａ＞Ｂ＋Ｃの場合）、エアレーションによって生じた上方への強制対流による液流８は、下方への液流８に変化するときに大きな圧力損失を受ける。この圧力損失は、遮蔽板５間の距離Ａが、遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離Ｂと、遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離Ｃとの和と等しいとき（Ａ＝Ｂ＋Ｃのとき）に比べ大きくなるため、めっき槽２内を循環する液流８の平均速度は遅くなる。そのため、遮蔽板５の内側の液流８は、エアレーションでのバブリング速度よりも遅くなることによって、より均一に整流され易くなる。したがって、めっきラック９の対向する遮蔽板５間の距離Ａが、遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離Ｂと遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離Ｃとの和と同等以上（Ａ≧Ｂ＋Ｃ）であるのが望ましい。なお、遮蔽板５の上端からめっき液１の液面の距離Ｄ及び遮蔽板５の下端からめっき層２の底部の距離Ｅは、遮蔽板５からめっき槽２左壁の距離Ｂ又は遮蔽板５からめっき槽２右壁の距離Ｃと同等以上であるのが望ましい。これにより、遮蔽板５の上端を通過するめっき液１の液流８の循環を円滑にすることができる。
【００２３】
めっき槽内の液流を整流するために、本発明のめっきラックは、めっき槽の幅方向及び深さ方向（めっき液の液面からめっき槽の底まで）の何れについても、それぞれ中央部に配置されるのが望ましい。これにより、遮蔽板の上下及び左右について、それぞれ、ほぼ同等の大きさの流路を確保することができ、均一に整流され易くなる。
【００２４】
図２に示すように、めっきラック９の保持部４には、板状被めっき体３の前後方向の両端に、ダミー板１４を配置するのが望ましい。また、ダミー板１４及び板状被めっき体３は、全て同じ間隔で配置するのが望ましい。これにより、ダミー板１４に挟まれた板状被めっき体３は、前後方向に同じ間隔を有するので、めっき液１の液流８の速度のばらつきを抑制するのに有利となる。
【実施例】
【００２５】
（実施例１）
図１及び図２に示すように、板状被めっき体３として、縦横のサイズが１，０００ｍｍ×１，０００ｍｍで、板厚が２．０ｍｍの銅張積層板を数枚準備した。また、ダミー板１４として、可視化を目的とし、板状被めっき体３と同サイズで板厚１ｍｍの透明なアクリル板を２枚準備した。数枚の銅張積層板とアクリル板を面方向（図２の前後方向）に並べて保持部４に保持した。アクリル板は、数枚の銅張積層板の前後を挟むように、前後方向の両端に配置した。また、保持部４よりも幅方向外側の両側に、対向するように遮蔽板５を配置した。遮蔽板５の下端は、保持部４の下端より下方に位置するようにした。保持部４に保持した銅張積層板及びアクリル板の間隔は全て５０ｍｍ、２枚の遮蔽板間の距離Ａは１，４００ｍｍ、遮蔽板からめっき槽左壁の距離Ｂと遮蔽板からめっき槽右壁の距離Ｃとの和は６００ｍｍとした。
【００２６】
直径１ｍｍのＰＰ（ポリプロピレン）ボールを、純水を張っためっき槽に投入した。なお、本実施例では、可視化を図るため、無電解銅めっき液の代わりに純水を使用している。また、ＰＰボール内には純水との比重調整のため、適当な量の純水を注入した。次に、エアレーションにより、めっき槽内に純水の液流を発生させ、その際に、アクリル板と銅張積層板との間に入り込んだＰＰボールの動きをデジタルカメラで録画した。録画した画像から０．６６秒ごとに写真をぬきとり、ＰＰボールの移動量と方向を観察した。
【００２７】
めっき槽は、幅２ｍ×長さ４ｍ×深さ２ｍ（液面の高さ１．８ｍ）程度の大きさであり、純水の液量は、約１４，４００Ｌである。めっき槽内に設けられるエア配管は、管状のものに多数の穴を開けたものを用い、各穴径は、１．０ｍｍで、エアポンプにより導入するエアの量は純水１ｍ３あたり６０Ｌ／分とした。
【００２８】
次に、めっき槽内に無電解めっき液を建浴した。用いた無電解銅めっき液は、配線板のスルーホールめっきに用いられる一般的なものであり、硫酸銅、錯化剤、ホルマリン、水酸化ナトリウムを主成分とする、厚付け用の無電解銅めっき液である。この無電解銅めっき液を用いて、１２μｍ銅箔を有する銅張積層板に対して、約２０μｍの厚みを目標として銅めっきを行った。
【００２９】
（実施例２）
２枚の遮蔽板間の距離Ａを、上端側で１，０００ｍｍ、下端側で１，４００ｍｍに設置した以外は、実施例１と同様である。
【００３０】
（実施例３）
２枚の遮蔽板間の距離Ａを、上端側で１，４００ｍｍ、下端側で１，０００ｍｍに設置した以外は、実施例１と同様である。
【００３１】
（比較例１）
遮蔽板を用いないこと以外は実施例１と同様である。即ち、本比較例は、遮蔽板を有しないめっきラックでのめっき液の液流を示す。
【００３２】
上記の実施例及び比較例に対して、流速分布及び平均流速は、デジタルカメラで撮影した０．６６秒ごとの画像を用い、一定時間（２．６２秒）でのＰＰボールの移動量から求めた。
【００３３】
また、めっき厚の測定は、板状被めっき体を縦横約１００ｍｍの領域に区切り、それぞれの領域について、断面を計測顕微鏡を用いて観察することにより行なった。
【００３４】
表１に、実施例１〜３及び比較例１の結果をまとめて示す。表１のめっき液の液流の状態の欄は、めっき槽の幅方向の断面図によって、めっき液の液流の移動量と方向を示したものである。また、表１の液流の速度異常の分布の欄は、めっき液の液流の状態の欄から板状被めっき体が配置されている領域のみを取り出して示したものであり、平均流速に対して、±０．１ｍ／秒を超える流速の部分をハッチングで示した。即ち、ハッチングが少なく、かつハッチングの位置の偏りの少ないものが、めっき液の液流が均一に整流されていることを示している。
【００３５】
表１のめっき液の液流の状態の欄を見ると、実施例１〜３では、何れも、エア配管からのエアレーションによって形成されるめっき液流が、遮蔽板の内側では上方に向かい、次に遮蔽板の上端を通って遮蔽板の外側へ向かい、次に遮蔽板の外側では下方に向かい、次に遮蔽板の下端を通って遮蔽板の内側へ向かい、エア配管上に戻る循環流路を形成しており、遮蔽板の内側の上方に向かう液流と、遮蔽板の外側の下方に向かう液流とが、ほとんど干渉していないことがわかる。一方、比較例では、遮蔽板がないため、上方に向かう液流と下方に向かう液流とが衝突して干渉し合い、液流が乱れている様子がわかる。
【００３６】
表１の液流の速度異常の分布の欄を見ると、実施例１は、板状被めっき体が配置される領域では、ハッチングが均一かつまばらに見られる程度であり、良好な結果といえる。また、遮蔽板の配置を変えた実施例２及び実施例３は、実施例１に比べて流速が遅くなり、ハッチングがやや偏るものの、まばらであり、概ね良好な結果といえる。一方、遮蔽板を用いない比較例１は、実施例１〜３に比べて、ハッチングされた領域が大きく、また両側に偏る傾向が大きいことから、液流の乱れが大きいといえる。
【００３７】
表１の項目の欄を見ると、実施例１〜３は、めっき厚のσが０．３μｍ程度であり、良好であった。比較例は、めっき厚のσが１．０μｍ程度であり、めっき厚のばらつきが大きい結果であった。したがって、実際にめっきを行なった場合についても、本発明の実施例の効果が確認できた。
【００３８】
【表１】
2011208231.tif 000003
【符号の説明】
【００３９】
１…めっき液、２…めっき槽、３…板状被めっき体、４…保持部、５…遮蔽板、６…エア配管収納部または下方空間、７…エア配管、８…液流、９…めっきラック、１０…めっき装置、１１…エア、１２…フレーム、１３…支持バー、１４…ダミー板、Ａ…遮蔽板間の距離、Ｂ…遮蔽板からめっき槽左壁の距離、Ｃ…遮蔽板からめっき槽右壁の距離、Ｄ…遮蔽板の上端からめっき液の液面の距離、遮蔽板の下端からめっき層の底部の距離Ｅ
【図１】
2011208231.tif 000004
【図２】
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【図３】
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