(57)【要約】【課題】画素電極と隔壁との位置ずれの問題を解決することができ、かつ工程数の減少による製造コスト削減を行うことが出来る情報表示用パネルの製造方法を提供する。【解決手段】薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いてアクティブ駆動する情報表示用パネルの製造方法を、ＴＦＴを形成した背面基板に、ＴＦＴの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、表示媒体をセル内に充填した後、共通電極を設けた前面基板と隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、から構成する。【選択図】図３
2011186240.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な視認側の前面基板と背面側の画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成した背面基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも１種類以上の表示媒体を封入し、前面基板に設けた共通電極と背面基板のＴＦＴに対応して設けた画素電極との間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルの製造方法であって、
前記ＴＦＴを形成した背面基板に、ＴＦＴの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、
前記隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、
前記表示媒体をセル内に充填した後、前記共通電極を設けた前面基板と前記隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
からなることを特徴とする情報表示用パネルの製造方法。
【請求項２】
前記保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光硬化型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁を形成する部分のみ露光する一次露光と、保護膜にスルーホールを形成する部分のみ露光する二次露光を行った後、現像を行って未硬化のレジストを除去することで、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成することを特徴とする請求項１に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項３】
前記露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以上のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以下のエネルギーを与えることを特徴とする請求項２に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項４】
前記保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光可塑型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁部分のみをマスクして一次露光を行い、次にマスクを用いてスルーホールの部分のみ二次露光した後、現像を行ってスルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成することを特徴とする請求項１に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項５】
前記露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以下のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以上のエネルギーを与えることを特徴とする請求項４に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項６】
前記画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【請求項７】
前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化することを特徴とする請求項６に記載の情報表示用パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明な視認側の前面基板と背面側の画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成した背面基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも１種類以上の表示媒体を封入し、前面基板に設けた共通電極と背面基板のＴＦＴに対応して設けた画素電極との間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明な表示面側のパネル基板と背面側のパネル基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも１種類以上の表示媒体を封入し、パネル基板に設けた電極間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルが知られている。そして、隔壁はフォトリソグラフィーにより形成すること、および、通常はライン電極によるパッシブ駆動で情報を表示することが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上述した構成の従来の情報表示用パネルにおいて、ライン電極を用いたパッシブ駆動で情報を表示する代わりに、下部基板上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と画素電極とを形成し、薄膜トランジスタにより画素のＯＮ／ＯＦＦを制御するアクティブ駆動方式により、高応答速度や高コントラストが実現できるため、ＴＦＴ基板を使用したアクティブ駆動で情報を表示する情報表示用パネルの要望が高くなってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２０２６０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図６はＴＦＴ基板を利用したアクティブ駆動方式の情報表示用パネルの一例を説明するための図である。図６において、５１は背面側の背面基板、５２は視認側の前面基板、５３Ｗは帯電性白色粒子５３Ｗａを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体、５３Ｂは帯電性黒色粒子５３Ｂａを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体、５４は背面基板５１と前面基板５２との間に例えば格子状に設けてセルを形成するための隔壁、５５はＴＦＴ層５７を介して背面基板５１上に形成された画素電極、５６は前面基板５２に設けた共通電極である。また、ＴＦＴ層５７は、背面基板５２上にゲート電極６１およびゲート絶縁膜６２を設け、ゲート絶縁膜６２上にドレイン電極６３、ソース電極６４およびチャネル層６５を設け、さらにその上に、スルーホール６６を有する保護膜６７を形成して構成されている。画素電極５５は、保護膜６７の表面およびスルーホール６６内に設けられ、ドレイン電極６３と接続している。
【０００６】
図７（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ図６に示す反射型の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。図７（ａ）〜（ｈ）に示す例において、図６に示す部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。本例では、図７（ａ）〜（ｄ）に示す保護膜形成工程、図７（ｅ）〜（ｆ）に示す画素電極形成工程、図７（ｇ）〜（ｈ）に示す貼り合わせ工程により、情報表示用パネルを製造する。
【０００７】
図７（ａ）〜（ｈ）に従って製造方法を説明すると、まず、図７（ａ）に示すように、保護膜６７以外のＴＦＴ層５７を設けた背面基板５１を準備する。次に、図７（ｂ）に示すように、ＴＦＴ層５７を設けた背面基板５１上に、保護膜６７を形成するためのレジスト７１を塗布する。次に、図７（ｃ）に示すように、レジスト７１のスルーホール形成位置の上にマスク７２を設け、マスク７２を介して上方からレジスト７１を露光する。次に、図７（ｄ）に示すように、現像して未硬化のレジスト７１を除去することで、スルーホール６６を有する保護膜６７を形成する。以上で保護膜形成工程を終了する。次に、図７（ｆ）に示すように、バンプ７３を利用して保護膜６７の表面およびスルーホール６６内に電極材料を印刷して設けることで、画素電極５５を形成する。以上で画素電極形成工程を終了する。次に、図７（ｇ）に示すように、隔壁５４を設けるとともに隔壁５４により形成されたセル内に表示媒体５３Ｗ、５３Ｂを充填した前面基板５２を準備し、隔壁５４の頂上部と画素電極５５の端部の保護膜６７とを接着剤で貼り合わせることで貼り合わせ工程を終了することにより、図７（ｈ）に示すように、情報表示用パネルを得ている。
【０００８】
上述した製造方法で製造した情報表示用パネルでは、図７（ｇ）に示す隔壁５４と保護膜６７との貼り合わせ時の位置決めが難しく、図８に示すように、画素電極５５と隔壁５４との位置ずれが発生する問題があった。この問題は図７（ｇ）の貼り合わせ工程におけるアライメント精度の不足や熱・応力による基板伸縮によって生じ、結果として得られた情報表示用パネルにおけるコントラスト低下や駆動不良といった不具合を引き起こす。また、上述した製造方法では、保護層形成、画素電極形成、隔壁形成と３回のフォトリソ工程を経るために、プロセスコストが高く、より安価に製造できるプロセスの開発が必要であった。さらに、上述した製造方法とは異なるが、画素電極を真空成膜法を用いて形成した場合、スルーホール部分が凹部として残るため、粒子移動に不具合を生じることがあった。
【０００９】
本発明の目的は上述した問題点を解消して、画素電極と隔壁との位置ずれの問題を解決することができ、かつ工程数の減少による製造コスト削減を行うことが出来る情報表示用パネルの製造方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の情報表示用パネルの製造方法は、透明な視認側の前面基板と背面側の画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成した背面基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも１種類以上の表示媒体を封入し、前面基板に設けた共通電極と背面基板のＴＦＴに対応して設けた画素電極との間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルの製造方法であって、
前記ＴＦＴを形成した背面基板に、ＴＦＴの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、
前記隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、
前記表示媒体をセル内に充填した後、前記共通電極を設けた前面基板と前記隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
からなることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の情報表示用パネルの製造方法の好適例としては、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光硬化型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁を形成する部分のみ露光する一次露光と、保護膜にスルーホールを形成する部分のみ露光する二次露光を行った後、現像を行って未硬化のレジストを除去することで、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以上のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以下のエネルギーを与えること、がある。
【００１２】
また、本発明の情報表示用パネルの製造方法の他の好適例としては、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光可塑型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁部分のみをマスクして一次露光を行い、次にマスクを用いてスルーホールの部分のみ二次露光した後、現像を行ってスルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以下のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以上のエネルギーを与えること、がある。
【００１３】
さらに、本発明の情報表示用パネルの製造方法のさらに他の好適例としては、前記画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化すること、がある。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、隔壁と保護膜とを同一の材料で連続的に形成することで、隔壁を前面基板ではなく背面基板に形成するとともに、作製した隔壁を、画素電極を印刷形成する際のバンク（堤防）として利用することができる。そのため、必要な工程数を減少させることができ、より低コストかつ高スループットでの製造が可能となる。また、隔壁の位置に合わせて画素電極が形成されるため、画素電極と隔壁の位置ずれは本質的に発生せず、精密なアライメントも不要になる。これにより、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。
【００１５】
本発明の好適例として、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光硬化型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁を形成する部分のみ露光する一次露光と、保護膜にスルーホールを形成する部分のみ露光する二次露光を行った後、現像を行って未硬化のレジストを除去することで、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以上のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以下のエネルギーを与える場合は、製造方法および露光条件をより最適化することができ、より好適に、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。
【００１６】
また、本発明の他の好適例として、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光可塑型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁部分のみをマスクして一次露光を行い、次にマスクを用いてスルーホールの部分のみ二次露光した後、現像を行ってスルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以下のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以上のエネルギーを与える場合も、製造方法および露光条件をより最適化することができ、より好適に、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。
【００１７】
さらに、本発明のさらに他の好適例として、前記画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用する場合は、画素形成をより最適化することができ、より好適に、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】（ａ）、（ｂ）は本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの基本的な構成の一例を示す図である。
【図２】本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの一例の構成を示す図である。
【図３】（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ図２に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。
【図４】（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ図２に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の他の例を説明するための図である。
【図５】本発明の製造方法に従って製造した情報表示用パネルの画素電極と隔壁との関係を説明するための図である。
【図６】ＴＦＴ基板を利用したアクティブ駆動方式の情報表示用パネルの一例を説明するための図である。
【図７】（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ図６に示す反射型の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。
【図８】従来の製造方法に従って製造した情報表示用パネルの画素電極と隔壁との関係を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
＜本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの基本的な構成について＞
まず、本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの一例である帯電粒子電界駆動方式情報表示用パネルの基本的な構成について説明する。前記情報表示用パネルでは、対向する２枚の基板間に封入した帯電性粒子を含んだ粒子群として構成した表示媒体に対向対電極から電界が付与される。付与された電界方向にそって、表示媒体が電界による力やクーロン力などによって引き寄せられ、表示媒体が電界方向の変化によって移動方向が切り換わることにより、画像等の情報表示がなされる。従って、表示媒体が、均一に移動し、かつ、表示情報を書き換える時あるいは表示した情報を継続して表示する時の安定性を維持できるように、情報表示用パネルを設計する必要がある。ここで、表示媒体を構成する粒子にかかる力は、粒子同士のクーロン力により引き付けあう力の他に、電極や基板との電気鏡像力、分子間力、液架橋力、重力などが考えられる。
【００２０】
本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルに適用している情報表示の原理を、図１（ａ）、（ｂ）に基づき説明する。図１（ａ）、（ｂ）に示す例では、少なくとも光学的反射率および帯電性を有する粒子を含んだ粒子群として構成した少なくとも２種類の表示媒体（ここでは負帯電性白色粒子３Ｗａを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体３Ｗと正帯電性黒色粒子３Ｂａを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体３Ｂを示す）を、隔壁４で形成された各セルにおいて、基板１に設けた電極５（ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）付き画素電極）と基板２に設けた電極６（共通電極）との間に電圧を印加することにより発生する電界に応じて、基板１、２と垂直に移動させる。そして、図１（ａ）に示すように白色表示媒体３Ｗを観察者に視認させて白色の表示を、あるいは、図１（ｂ）に示すように黒色表示媒体３Ｂを観察者に視認させて黒色の表示を白黒のドットでマトリックス表示している。なお、図１（ａ）、（ｂ）において、手前にある隔壁は省略している。また、ここではセルと画素（ドット）とが１対１に対応する例を示している。ここでは、セル空間が気体で満たされている帯電粒子気体中移動方式の表示パネルの例を説明したが、気体の代わりに、絶縁液体を用いた帯電粒子液体中移動方式（電気泳動方式）の表示パネルとすることもできる。
【００２１】
＜本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの具体的な構成について＞
図２は本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの一例の構成を示す図である。図２に示す例において、図１（ａ）、（ｂ）に示した部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。図２に示す例において、１は背面側の背面基板、２は視認側の前面基板、３Ｗは帯電性白色粒子３Ｗａを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体、３Ｂは帯電性黒色粒子３Ｂａを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体、４は背面基板１と前面基板２との間に例えば格子状に設けてセルを形成するための隔壁、５はＴＦＴ層７を介して背面基板１上に形成された画素電極、６は前面基板２に設けた共通電極である。また、ＴＦＴ層７は、背面基板２上にゲート電極１１およびゲート絶縁膜１２を設け、ゲート絶縁膜１２上にドレイン電極１３、ソース電極１４およびチャネル層１５を設け、さらにその上に、スルーホール１６を有する保護膜１７を形成して構成されている。画素電極１５は、保護膜１７の表面およびスルーホール１６内に設けられ、ドレイン電極１３と接続している。
【００２２】
＜本発明の情報表示用パネルの製造方法について＞
本発明の情報表示用パネルの製造方法の特徴は、図２に示す構造の情報表示用パネルを製造するにあたり、（１）ＴＦＴを形成した背面基板に、ＴＦＴの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、（２）隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、（３）表示媒体をセル内に充填した後、前記共通電極を設けた前面基板と前記隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、を実施する点にある。
【００２３】
＜第１実施例の説明＞
図３（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ図２に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。図３（ａ）〜（ｈ）に示す例において、図２に示す部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。本例では、図３（ａ）〜（ｅ）に示す保護膜および隔壁形成工程、図３（ｆ）に示す画素電極形成工程、図３（ｇ）〜（ｈ）に示す貼り合わせ工程により、情報表示用パネルを製造する。
【００２４】
図３（ａ）〜（ｈ）に従って本発明の情報表示用パネルの製造方法を説明すると、まず、図３（ａ）に示すように、保護膜１７以外のＴＦＴ層を設けた背面基板１を準備する。次に、図３（ｂ）に示すように、ＴＦＴ層７を設けた背面基板１上に、保護膜１７および隔壁４を形成するための光硬化型のレジスト２１を塗布する。レジスト２１の塗布厚は、保護膜１７の厚さに隔壁４の厚さを加味した厚さとする。次に、図３（ｃ）に示すように、レジスト２１の隔壁形成位置以外の部分にマスク２２を設け、マスク２２を介して上方からレジスト２１を強露光する一次露光を実施する。次に、図３（ｄ）に示すように、マスク２２を除去し、レジスト２１のスルーホール形成位置の上にマスク２３を設け、マスク２３を介して上方からレジスト２１を弱露光する二次露光を実施する。次に、図３（ｅ）に示すように、現像して未硬化のレジスト２１を除去することで、スルーホール１６を有する保護膜１７と隔壁４とを一体に形成する。また、ここでは説明しなかったが、必要に応じて、さらに保護膜全面を露光して保護膜１７を完全に硬化させることもできる。以上で保護膜および隔壁形成工程を終了する。次に、図３（ｆ）に示すように、隔壁４をバンプとして利用することで、保護膜１７の表面およびスルーホール１６内に電極材料を印刷して設けることで、画素電極５を形成する。以上で画素電極形成工程を終了する。次に、図３（ｇ）に示すように、背面基板１の隔壁４により形成されたセル内に表示媒体３Ｗ、３Ｂを充填した後、共通電極６を有する前面基板２を準備し、隔壁４の頂上部と前面基板２の共通電極６とを接着剤で貼り合わせることで貼り合わせ工程を終了することにより、図３（ｈ）に示すように、本発明の製造対象となる情報表示用パネルを得ている。
【００２５】
上述した本発明の情報表示用パネルの製造方法において、露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以上のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以下のエネルギーを与えることが好ましい。ここで、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以上のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以下のエネルギーを与えることが好ましいのは、二次露光量がＥ×（ｔ１／Ｔ）を超えると保護層部分の硬化が進んでエッチングが困難となる場合があるためである。その結果、保護層厚みｔ１が設計よりも厚くなる、エッチング形状がすり鉢状になるなどの不具合を生じることがある。また、隔壁部分は２回の露光により完全に硬化される必要があるため、一次露光と二次露光の総和が必要露光量Ｅを超えるように二次露光量に合わせて一次露光量を調節することが好ましい。
【００２６】
また、画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化することが好ましい。画素電極の形成方法としては、インクジェット法の他、グラビア法、グラビアオフセット法、平版オフセット法、スクリーン印刷法などの印刷法を用いることもできる。中でも、画素電極の平坦性や加工の容易性からインクジェット法が最も良い。インクの粘度はスルーホールへの充填がスムーズに行われる範囲で自由に選択が可能で、０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃの範囲が好ましく、必要な電極厚みに応じた量のインクを隔壁内の任意の位置に滴下する。インクが隔壁内を流動することが必要なため、溶剤及び濃度によって乾燥速度を遅らせると良い。
【００２７】
＜第２実施例の説明＞
図４（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ図２に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の他の例を説明するための図である。図４（ａ）〜（ｈ）に示す例において、図２に示す部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。本例では、図４（ａ）〜（ｅ）に示す保護膜および隔壁形成工程、図４（ｆ）に示す画素電極形成工程、図４（ｇ）〜（ｆ）に示す貼り合わせ工程により、情報表示用パネルを製造する。
【００２８】
図４（ａ）〜（ｈ）に従って本発明の情報表示用パネルの製造方法を説明すると、まず、図４（ａ）に示すように、保護膜１７以外のＴＦＴ層を設けた背面基板１を準備する。次に、図４（ｂ）に示すように、ＴＦＴ層７を設けた背面基板１上に、保護膜１７および隔壁４を形成するための光可塑型のレジスト２４を塗布する。レジスト２１の塗布厚は、保護膜１７の厚さに隔壁４の厚さを加味した厚さとする。次に、図４（ｃ）に示すように、レジスト２４の隔壁形成位置の部分に隔壁用のマスク２５を設け、隔壁用マスク２５を介して上方から弱露光を行う。次に、図４（ｄ）に示すように、隔壁用マスク２５を除去し、保護膜となるレジスト２４のスルーホール形成位置以外の部分にスルーホール加工用のマスク２６を設け、スルーホール加工用マスク２６を介して上方からレジスト２４を強露光する。次に、図４（ｅ）に示すように、現像して未硬化のレジスト２４を除去することで、スルーホール１６を有する保護膜１７と隔壁４とを一体に形成する。また、ここでは説明しなかったが、必要に応じて、さらに保護膜全面を加熱して保護膜１７を完全に硬化させることもできる。以上で保護膜および隔壁形成工程を終了する。次に、図４（ｆ）に示すように、隔壁４をバンプとして利用することで、保護膜１７の表面およびスルーホール１６内に電極材料を印刷して設けることで、画素電極５を形成する。以上で画素電極形成工程を終了する。次に、図４（ｇ）に示すように、背面基板１の隔壁４により形成されたセル内に表示媒体３Ｗ、３Ｂを充填した後、共通電極６を有する前面基板２を準備し、隔壁４の頂上部と前面基板２の共通電極６とを接着剤で貼り合わせることで貼り合わせ工程を終了することにより、図４（ｈ）に示すように、本発明の製造対象となる情報表示用パネルを得ている。
【００２９】
上述した本発明の情報表示用パネルの製造方法において、露光条件として、レジストの塗布厚みＴを保護層の厚みｔ１と隔壁厚みｔ２の和（Ｔ＝ｔ１＋ｔ２）とし、厚みＴのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをＥとすると、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以下のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以上のエネルギーを与えることが好ましい。ここで、一次露光でＥ×（ｔ２／Ｔ）以下のエネルギーを与え、二次露光でＥ×（ｔ１／Ｔ）以上のエネルギーを与えることが好ましいのは、一次露光量がＥ×（ｔ２／Ｔ）を超えると保護層部分まで可塑化が進み、保護層厚みｔ１が薄くなりすぎる場合があるためである。また、スルーホール部分は２回の露光により十分に可塑化される必要があるため、一次露光と二次露光の総和が必要露光量Ｅを超えるように、一次露光量に合わせて二次露光量を調節することが好ましい。
【００３０】
また、画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化することが好ましい。画素電極の形成方法としては、インクジェット法の他、グラビア法、グラビアオフセット法、平版オフセット法、スクリーン印刷法などの印刷法を用いることもできる。中でも、画素電極の平坦性や加工の容易性からインクジェット法が最も良い。インクの粘度はスルーホールへの充填がスムーズに行われる範囲で自由に選択が可能で、０．１ｍＰ・ｓｅｃ〜１０ｍＰ・ｓｅｃの範囲が好ましく、必要な電極厚みに応じた量のインクを隔壁内の任意の位置に滴下する。インクが隔壁内を流動することが必要なため、溶剤及び濃度によって乾燥速度を遅らせると良い。
【００３１】
上述した本発明の第１実施例および第２実施例に係る情報表示用パネルの製造方法によれば、隔壁と保護膜とを同一の材料で連続的に形成することで、隔壁を前面基板ではなく背面基板に形成するとともに、作製した隔壁を、画素電極を印刷形成する際のバンク（堤防）として利用することができる。そのため、必要な工程数を減少させることができ、より低コストかつ高スループットでの製造が可能となる。また、隔壁の位置に合わせて画素電極が形成されるため、画素電極と隔壁の位置ずれは本質的に発生せず、精密なアライメントも不要になる。これにより、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。具体的には、上述した本発明の製造方法で製造した情報表示用パネルでは、画素電極と隔壁とを一体に形成しているので、図５に示すように、画素電極５と隔壁４との位置合わせは良好となる。
【実施例】
【００３２】
＜実施例１＞
基板には、ガラス基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、チャネル層、ソール・ドレイン電極を順次積層したボトムゲート・トップコンタクト型の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を作製したＴＦＴ基板を用いた。ゲート電極には酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、ゲート絶縁膜にはフッ素樹脂、チャネル層にはペンタセン、ソース・ドレイン電極には金を用いたが、これらの材料及び成膜・パターニング手法は本発明とは関連しないため、自由に選択することができる。
【００３３】
上記ＴＦＴ基板上にドライフィルムレジストをラミネートした。ドライフィルムレジストは日立化成の光硬化型ドライフィルムレジスト（商品名：レイテック）、厚みは５０μｍのものを使用した。次に、隔壁用マスクをセットして一次露光を行い、４５０ｍＪのエネルギーを照射した。次に、スルーホール加工用マスクを用いて５０ｍＪのエネルギーを照射した。次に、炭酸ナトリウム水溶液での現像、純水での洗浄を実施後、全面を１０００ｍＪで露光して完全に硬化させた。形成した隔壁の高さは４５μｍ、保護層の厚みは５μｍであった。
【００３４】
画素電極はインクジェット法で成膜した。使用したインクは、フィラー径が数十ｎｍの銀粒子を含有したインクを用いた。インクの粘度は０．１ｍＰ・ｓｅｃに調節した。ピエゾ型ノズルを持つインクジェット装置で１０ｐｌ程度の液滴を連続で滴下してスルーホールへのインク充填及び画素電極の形成を行った。その後前面基板を貼り合わせて、本発明に係る情報表示用パネルを得た。得られた情報表示用パネルにおいて、画素電極と隔壁とは一体であるため、画素電極と隔壁との位置ずれは一切発生しなかった。
【００３５】
＜実施例２＞
実施例１と同様にして、ＴＦＴ基板を準備した。そして、本例では、準備したＴＦＴ基板上に光可塑型ドライフィルムレジストをラミネートした。その後、レジストに対し隔壁部分のみをマスクして一次露光を行った。次に、保護膜上のスルーホール形成箇所以外の部分をマスクして、スルーホール部のみに光を照射し、現像・洗浄によってスルーホールを形成した。次に、実施例１と同様の条件で、画素電極をインクジェット印刷で形成した。最後に、実施例１と同様に、前面基板を貼り合わせて、本発明に係る情報表示用パネルを得た。得られた情報表示用パネルにおいて、画素電極と隔壁とは一体であるため、画素電極と隔壁との位置ずれは一切発生しなかった。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明の情報表示用パネルの製造方法は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いてアクティブ駆動する情報表示用パネルにおいて、画素電極と隔壁との位置ずれの問題を解消し、かつ、工程数の減少による製造コスト削減を行うことができ、コントラストの向上やスループットの向上が必要な種々の用途に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００３７】
１、２  基板
３Ｗ  白色表示媒体
３Ｗａ  負帯電性白色粒子
３Ｂ  黒色表示媒体
３Ｂａ  正帯電性黒色粒子
４  隔壁
５、６  電極
７  ＴＦＴ層
１１  ゲート電極
１２  ゲート絶縁膜
１３  ドレイン電極
１４  ソース電極
１５  チャネル層
１６  スルーホール
１７  保護層
２１  光硬化型のレジスト
２２、２３  マスク
２４  光可塑型のレジスト
２５、２６  マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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