(57)【要約】【課題】反射防止フィルムにあっては、製造コストが低く、反射防止性能や表面強度が強く、光学特性に優れた反射防止フィルムが求められていることより、製造コストが低く、光学特性に優れた反射防止フィルムおよびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、ハードコート層を、熱硬化基と電離放射線硬化基とを一分子中に有した分子（Ａ）と前記分子（Ａ）の熱硬化基と反応する反応基と電離放射線硬化基とを一分子中に含有したモノマー（Ｂ）とアクリル基を有する分子を含有するハードコート層形成用塗液から形成されることを特徴とする反射防止フィルムである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、
前記ハードコート層を、熱硬化基と電離放射線硬化基とを一分子中に有した分子（Ａ）と前記分子（Ａ）の熱硬化基と反応する反応基と電離放射線硬化基とを一分子中に含有したモノマー（Ｂ）とアクリル基を有する分子を含有するハードコート層形成用塗液から形成されることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記分子（Ａ）の熱硬化基がイソシアネート基であり、電離放射線硬化基がアクリル基であり、前記分子（Ｂ）の熱硬化基と反応する反応基がヒドロキシル基であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
前記透明基材の屈折率が１．４０以上１．８０であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に第１の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板。
【請求項５】
観察者側から順に、請求項２に記載の反射防止性偏光板と、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【請求項６】
透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、
透明基材の少なくとも一方の面に、前記請求項１に記載のハードコート層形成用塗液を塗布し、ハードコート層の塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記ハードコート層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記ハードコート層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射しハードコート層を硬膜する硬膜工程と、
前記ハードコート層上に低屈折率塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記低屈折率層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射し低屈折率層を硬膜する硬膜工程と、
前記硬膜工程後に、エージング処理を施すエージング工程を順に形成されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、
透明基材の少なくとも一方の面に、前記請求項１に記載のハードコート層形成用塗液を塗布し、ハードコート層の塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記ハードコート層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記ハードコート層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射しハードコート層を硬膜する硬膜工程と、
前記硬膜工程後に、エージング処理を施すエージング工程と、
前記ハードコート層上に低屈折率塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記低屈折率層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射し低屈折率層を硬膜する硬膜工程と、
前記硬膜工程後に、エージング処理を施すエージング工程を順に形成されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記ハードコート層形成用塗液の塗膜を乾燥する乾燥工程において、乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内で行なわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内で行われる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を施すことを特徴とする請求項６乃至請求項７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記ハードコート層形成用塗液の塗膜形成後のエージング工程において、エージング温度１５℃以上１００℃以下の範囲内で行われるエージング処理を施すこと特徴とする請求項６乃至請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。
【０００４】
乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
【０００５】
また、これらの反射防止層が透明基材上に設けられている反射防止フィルムにあっては、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル系材料を硬化して得られるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル系材料により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。
【０００６】
湿式成膜法によって反射防止層を形成する場合、これらの電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層の上に少なくとも低屈折率層を塗布して製造されるものであり、乾式成膜法に比べ安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２０２３８９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【特許文献３】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献４】特開２００７−１２１９９３号公報
【特許文献５】特開２００５−１４４８４９号公報
【特許文献６】特開２００６−１５９４１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって、外光の反射を抑制することができ、明所でのコントラストを向上させることができる。
また、同時に透過率を向上させることができることから画像をより明るく表示可能にすることができる。また、バックライトの出力などを抑える省エネ効果も期待できる。
【０００９】
反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められている。
また、反射防止フィルムにあっては、反射防止性能や表面強度が強く、光学特性に優れた反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、光学特性に優れた反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層を、熱硬化基と電離放射線硬化基とを一分子中に有した分子（Ａ）と前記分子（Ａ）の熱硬化基と反応する反応基と電離放射線硬化基とを一分子中に含有したモノマー（Ｂ）とアクリル基を有する分子を含有するハードコート層形成用塗液から形成されることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１１】
また、請求項２に係る発明としては、前記分子（Ａ）の熱硬化基がイソシアネート基であり、電離放射線硬化基がアクリル基であり、前記分子（Ｂ）の熱硬化基と反応する反応基がヒドロキシル基であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１２】
また、請求項３に係る発明としては、前記透明基材の屈折率が１．４０以上１．８０であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１３】
また、請求項４に係る発明としては、請求項１に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に第１の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板である。
【００１４】
また、請求項５に係る発明としては、観察者側から順に、請求項２に記載の反射防止性偏光板と、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイである。
【００１５】
また、請求項６に係る発明としては、透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、透明基材の少なくとも一方の面に、前記請求項１に記載のハードコート層形成用塗液を塗布し、ハードコート層の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記ハードコート層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、前記ハードコート層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射しハードコート層を硬膜する硬膜工程と、前記ハードコート層上に低屈折率塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、前記低屈折率層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射し低屈折率層を硬膜する硬膜工程と、前記硬膜工程後に、エージング処理を施すエージング工程を順に形成されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
【００１６】
また、請求項７に係る発明としては、透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、透明基材の少なくとも一方の面に、前記請求項１に記載のハードコート層形成用塗液を塗布し、ハードコート層の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記ハードコート層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、前記ハードコート層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射しハードコート層を硬膜する硬膜工程と、前記硬膜工程後に、エージング処理を施すエージング工程と、前記ハードコート層上に低屈折率塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、前記低屈折率層の塗膜乾燥後に電離放射線を照射し低屈折率層を硬膜する硬膜工程と、前記硬膜工程後に、エージング処理を施すエージング工程を順に形成されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
【００１７】
また、請求項８に係る発明としては、前記ハードコート層形成用塗液の塗膜を乾燥する乾燥工程において、乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内で行なわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内で行われる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を施すことを特徴とする請求項６乃至請求項７に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１８】
また、請求項９に係る発明としては、前記ハードコート層形成用塗液の塗膜形成後のエージング工程において、エージング温度１５℃以上１００℃以下の範囲内で行われるエージング処理を施すこと特徴とする請求項６乃至請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１９】
よって、本発明による反射防止フィルムにあっては、透明基材上に熱硬化とＵＶ硬化の両方により硬化可能なハードコート機能を有するハードコート層と、その上層に屈折率層を有することにより、耐擦傷性が優れ、全光線透過率値が高く、干渉縞の発生が無い反射防止フィルムを得ることができ、前記反射防止フィルムを用いれば、前記発明の効果を有する、透過型液晶ディスプレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施例の反射防止フィルムの断面模式図である。
【図２】本発明の一実施例の反射防止フィルムの製造工程の概略図である。
【図３】本発明の一実施例の反射防止フィルムを用いた反射防止性偏光板の断面模式図である。
【図４】本発明の一実施例の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイを示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１に本発明の反射防止フィルム（１）の断面模式図を示した。
【００２２】
本発明の反射防止フィルム（１）にあっては、透明基材（１１）の少なくとも一方の面にハードコート層（１２）、低屈折率層（１３）となる順に備えられており、ハードコート層（１２）は、熱硬化性基とＵＶ硬化性基を一分子中に有するバインダマトリックス形成材料（１２１）を含んでいることを特徴とする。ハードコート層（１２）は電離放射線硬化型材料を硬化して形成されるバインダマトリックスと熱硬化型材料を硬化して形成されるバインダマトリックスを含有していることから、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００２３】
まず、透明基材（１１）について述べる。
【００２４】
本発明の透明基材フィルムにおける透明基材は、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。また、透明基材フィルムの厚みとしては、３５μｍ以上１２０μｍ以下を用いることが好ましい。また、トリアセチルセルロースを用いる場合は、３５μｍ以上８０μｍ以下の厚みを用いることが好ましい。また、ポリエチレンテレフタレートを用いる場合は、２０μｍ以上８０μｍ以下の厚みを用いることが好ましい。
【００２５】
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。また、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
【００２６】
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた反射防止フィルムにあっては、透明基材の屈折率が低いことからハードコート層との屈折率差による干渉ムラが発生しやすい。本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層の屈折率の上昇を抑えることができるため、透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合に好適に使用できる。また、低屈折率層に帯電防止機能を持たせることにより、ハードコート層にトリアセチルセルロースフィルムに近い屈折率を持つ樹脂を任意に選択することができる。
【００２７】
次に、ハードコート層（１２）について述べる。
【００２８】
本発明のハードコート層形成用塗液にあたっては、熱硬化性基とＵＶ硬化性基を一分子中に有する分子（Ａ）と、前記分子（Ａ）の熱硬化基と反応し結合を作る反応基とＵＶ硬化性基を一分子中に有するモノマー（Ｂ）とアクリル基を有する分子を用いることができる。
【００２９】
熱硬化性基とＵＶ硬化性基を一分子中に有する分子（Ａ）の熱硬化性基としては、イソシアネート基を含むことが好ましい。また、前記分子（Ａ）の熱硬化基と反応し結合を作る反応基とＵＶ硬化性基を一分子中に有するモノマー（Ｂ）の前記分子（Ａ）の熱硬化基と反応し結合を作る反応基としては、ヒドロキシル基が好ましい。
【００３０】
前記分子（Ａ）と前記モノマー（Ｂ）が熱硬化反応の際には、ウレタン結合と形成する。また、電離放射線硬化反応の際には前記分子（Ａ）と前記モノマー（Ｂ）のＵＶ硬化性基が反応することで大きな分子を作ることが出来る。
【００３１】
なお、熱硬化基を有する材料のみと電離放射線硬化基のみを有する材料を混合して利用した場合、一分子中に熱硬化基と電離放射線硬化基を両方有している材料に比べ、塗膜に強度を持たせることができない。これは、熱硬化の際に結合した分子と電離放射線硬化の際に結合した分子が各々独立して存在するため大きな分子をつくることができないためである。
【００３２】
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいてもよい。多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００３３】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３４】
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３５】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３６】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００３７】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００３８】
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、光重合開始剤を含んでいてもよい。透明基材上にハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し塗膜を形成後、電離放射線として紫外線を用い、紫外線照射により塗膜を硬化するにあっては、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００３９】
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、帯電防止剤を含んでいてもよい。四級アンモニウム塩または金属酸化物微粒子または導電性高分子を使用することができる。
【００４０】
また、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【００４１】
ハードコート層形成用塗液にあっては、ハードコート層形成用塗液を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜（防眩層）の表面張力を低下させる働きを備える。
【００４２】
また、ハードコート層形成用塗液においては、塗液中に先に述べた表面調整剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。
【００４３】
以上の材料を調整して得られるハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、必要に応じて塗膜の乾燥をおこなったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層が形成される。
【００４４】
このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００４５】
ハードコート層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、ハードコート層が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。
【００４６】
なお、硬化によりハードコート層を形成する工程の前後に乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、塗液が溶媒を含む場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などが例示される。
【００４７】
なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、形成されるハードコート層の膜厚は３μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、鉛筆硬度は、物理的な耐擦傷性を備えるために、Ｈ以上であることが好ましい。
【００４８】
次に、低屈折率層（１３）について述べる。
【００４９】
具体的には、低屈折率層は、内部に空隙を有するシリカ粒子を含む、低屈折率層形成塗液をハードコート層表面に塗布し、湿式成膜法により形成される。このとき反射防止フィルムに十分な反射防止機能を発揮させるために、低屈折率層膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。低屈折率層としてはバインダマトリックス中に、内部に２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の空隙を有するシリカ粒子を分散させたものを用いることができる。
なお、低屈折率層の膜厚としては、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５０】
内部に空隙を有するシリカ粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００５１】
本発明の低屈折率層に用いられる内部に空隙を有するシリカ粒子としては、平均粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１０ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００５２】
また、内部に空隙を有するシリカ粒子の空隙としては、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。空隙が５０ｎｍを超える場合、十分な耐擦傷性が得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまうためである。一方、空隙が２０ｎｍ未満の場合、屈折率が１．４５以上となってしまい平均視感反射率が１．５％以上となるためである。
【００５３】
なお、内部に空隙を有するシリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３５であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、(ρ１／ρ２)の値が０．５、０．１、０．０を示し、シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造モデルである。
【００５４】
本発明の低屈折率層は、低屈折率層の屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲であることが好ましい。低屈折率層の屈折率を１．３０以上１．４５未満の範囲内とすることにより、反射防止フィルムに反射防止機能を付与することができる。低屈折率層の屈折率が１．４５を超える場合にあっては得られる反射防止フィルムが十分な反射防止機能を得られなくなってしまうことがある。一方、低屈折率層の屈折率は低い方が好ましいが、１．３０を下回るようにするには、内部の空隙を有するシリカ粒子を大量に添加する必要があり、低屈折率層の形成は困難となってしまう。
【００５５】
また、低屈折率層表面の平均視感反射率が０．３％以上２．０％未満の範囲内であり、且つ、低屈折率層表面での表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２以上１×１０１０Ω／ｃｍ２未満の範囲内であることが好ましい。
【００５６】
低屈折率層表面の平均視感反射率が２．０％を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。また、低屈折率層表面の平均視感反射率は低いほど高い反射防止機能を備えることから、低いほど好ましい。
しかし、平均視感反射率が０．２％を下回るように低屈折率層を形成しようとすると、内部に空隙を有するシリカ粒子を大量に添加する必要があり、硬化に困難を来す。
【００５７】
平均視感反射率は、低屈折率層表面の分光反射率曲線から求められる。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、反射防止フィルムの低屈折率層と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。視感平均反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００５８】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、内部に空隙を有するシリカ粒子の含有量は低屈折率層中の重量比２０％以上７０％未満の範囲内であることが望ましい。より好ましくは重量比４０％以上６５％未満の範囲内であることが望ましい。これは、内部に空隙を有するシリカ粒子の含有量が重量比２０％未満の場合、平均視感反射率が２．０％以上となるためである。また内部に空隙を有するシリカ粒子含有量が重量比７０％以上の場合、十分な耐擦傷性を得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまう。
【００５９】
また、本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率が９２．０％以上であることが好ましい。全光線透過率が９２．０％に満たない反射防止フィルムにあって透過率が低下しすぎるために、ディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまう。
【００６０】
バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００６１】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６２】
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６３】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００６４】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００６５】
また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に、さらに光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましく、さらには１ｗｔ％以上８．５ｗｔ％以下であることが好ましい。
【００６６】
また、バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００６７】
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００６８】
さらには、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料としては、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、一般式（２）Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４−ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。
【００６９】
一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００７０】
なお、低屈折率層形成溶塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【００７１】
また、低屈折率層形成用塗液には防汚性の付与等を考慮してフッ素化合物、シリコーン化合物が加えられる。
【００７２】
以上の材料を調整して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、低屈折率層を形成することができる。バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合にあっては、必要に応じて塗膜の乾燥をおこなったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、低屈折率層が形成することができる。
【００７３】
以下にハードコート層の形成方法を示す。（図２参照）
【００７４】
ハードコート層形成用塗液は、透明基材（１１）上に塗布され、ハードコート層の塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液を、透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００７５】
次に、透明基材（１１）上に形成されたハードコート層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【００７６】
なお、乾燥工程が塗布直後に乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を１５℃以上３０℃以下の範囲内とすることにより、ハードコート層の塗膜中の材料同士が馴染むまでの時間を十分とすることができる。
【００７７】
なお、乾燥温度が３０℃を超える場合にあっては、ハードコート層の塗膜が急激に乾燥してしまいハードコート層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が１５℃を下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。
【００７８】
また、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を４０℃以上１５０℃以下の範囲内とすることにより、ハードコート層を形成することができる。
【００７９】
なお、乾燥温度が１５０℃を超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるためにハードコート層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が４０℃を下回る場合にあっては、溶剤がハードコート層に残留してしまい、硬膜性を持たないハードコート層となってしまう。
【００８０】
また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。
【００８１】
次に、電離放射線を照射することにより、低屈折率層（１３）を硬膜される。
【００８２】
電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００８３】
次に、硬膜工程後にエージング温度１５℃以上１００℃以下の範囲でエージング処理を施すことにより、ハードコート層と低屈折率層の密着性を上げることができる。
【００８４】
本発明の反射防止フィルムはロール・ツー・ロール方式により連続形成される。巻き取られているウェブ状の透明基材を巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで連続走行させ、このとき、透明基材（１１）を塗布ユニット（塗布工程（２１））、乾燥ユニット（乾燥工程（２２））、電離放射線照射ユニット（硬膜工程（２３））を通過させることにより、透明基材（１１）上にハードコート層（１２）が連続形成される。その後、低屈折率層（１３）を同様にして工程を通過させることにより、ハードコート層（１２）上に低屈折率層（１３）が形成され、反射防止フィルム（１）を製造することができる。
【００８５】
以上により、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層が熱硬化性基と電離放射線硬化性基を分子内に両方含む材料を用いることにより低屈折率層が熱硬化性基または電離放射線硬化性基のみの材料を用いる場合に比べて、反射防止フィルム表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００８６】
次に、本発明の反射防止フィルム（１）を用いた反射防止性偏光板（５１０）について説明する。
【００８７】
図３の反射防止性偏光板（５０）は、第１の透明基材（１１）の一方の面にハードコート層（１２）と、低屈折率層（１３）が順に備えている反射防止フィルム（１）であり、低屈折率層非形成面側に、第１の偏光層（５３）と、第２の透明基材（５２）を順に備えた反射防止性偏光板（５１０）となる。
【００８８】
本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム（１）は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として用いることができる。
【００８９】
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイの構成について説明する。
【００９０】
図４に本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイを示した。図４（ａ）の透過型液晶ディスプレイにおいては、本発明の反射防止フィルム（１）を、一方の面に貼り合わせた第１の偏光板（５０）を低屈折率層非形成面に備えた反射防止性偏光板（５００）、液晶セル（６０）、第２の偏光板（７０）、バックライトユニット（８０）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム（１）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００９１】
図４（ａ）にあっては、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）と第１の偏光板（５０）の透明基材を別々に備える透過型液晶ディスプレイとなっている。
【００９２】
バックライトユニット（８０）は、光源と光拡散板を備える。液晶セル（６０）は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（６０）を挟むように設けられる第１、第２の偏光板にあっては、透明基材（５１、５２、７１、７２）間に偏光層（５３、７３）を挟持した構造となっている。
【００９３】
また、図４（ｂ）にあっては、透明基材（１１）の一方の面に低屈折率層（１３）を備えた反射防止フィルム（１）と、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に、偏光層（５３）、透明基材（５２）を順に備えて、反射防止性偏光板（５１０）を形成し、反射防止性偏光板（５１０）、液晶セル（６０）、第２の偏光板（７０）、バックライトユニット（８０）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム（１）の低屈折率層（１３）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００９４】
図４（ｂ）にあっては、反射防止フィルムの反射防止層非形成面に、第１の偏光板として、偏光層（５３）と透明基材（５２）を、この順に備えた反射防止性偏光板（５１０）を備えた透過型液晶ディスプレイとなっている。
【００９５】
図４（ｂ）においても、図４（ａ）と同様に、バックライトユニット（８０）は、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（６０）を挟むように設けられる第１、第２の偏光板にあっては、透明基材（１１、５２、７１、７２）間に偏光層（５３、７３）を挟持した構造となっている。
【００９６】
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。
【００９７】
以上により、本発明の反射防止フィルムを用いた、透過型液晶ディスプレイが製造される。
【実施例】
【００９８】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
【００９９】
透明基材として、ＰＥＴフィルム（厚さ８０μｍ、屈折率１．６７）を用意した。
【０１００】
＜調整例１＞
（ハードコート層形成用塗液１）
・アクリル基とイソシアネート基を官能基として分子内に含むアクリル系材料
（２−イソシアナ−トエチルメタクリレート）                    １００重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート−３Ａ                    １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液１を調整した。
【０１０１】
＜調整例２＞
（ハードコート層形成用塗液２）
・アクリル基とイソシアネート基を官能基として分子内に含むアクリル系材料  
（1，1−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート）  １００重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート−３Ａ                    １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液２を調整した。
【０１０２】
＜調整例３＞
（ハードコート層形成用塗液３）
・アクリル基とイソシアネート基を官能基として分子内に含むアクリル系材料
（２−イソシアナ−トエチルメタクリレート）                      １００重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート−４Ａ                    １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液３を調整した。
【０１０３】
＜調整例４＞
（ハードコート層形成用塗液４）
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート−３Ａ                    １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液４を調整した。
【０１０４】
前記ハードコート層形成用塗液（調整例１）〜（調整例４）を用いて、ハードコート層を以下の方法にて形成する。
【０１０５】
（ハードコート層の形成）
ＰＥＴフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に前記調整例１及び調整例２のハードコート層形成用塗液を塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。
【０１０６】
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製する。その際に用いる低屈折率層形成用塗液の調整例を以下に示す。
【０１０７】
＜調整例５＞
（低屈折率層形成用塗液）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート−３Ａ                    １００重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径３０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メリルエチルケトン分散）  ５００重量部
光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）          １０重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調整した。
【０１０８】
また、低屈折率層形成用塗液（調整例５）を用いて、前記調整例１〜調整例４にて形成したハードコート層上に低屈折率層を形成し反射防止フィルムを形成する。その低屈折率層の形成方法を以下に示す。
【０１０９】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層の具体的な形成方法としては、前記（実施例１）〜（実施例４）及び（比較例１）〜（比較例４）の低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、エージング処理を施したのち、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
【０１１０】
前記（実施例１）〜（実施例２）及び（比較例１）〜（比較例２）の組み合わせについて（表１）に示す。
【０１１１】
また、調整例１にて形成したハードコート層上に調整例５の低屈折率層形成用塗液を塗布し、第一乾燥温度及び第二乾燥温度の条件ならびにエージング処理の有無を変更して、（比較例３）〜（比較例６）の反射防止フィルムを作製した。それら（比較例３）〜（比較例６）の組み合わせについては（表１）に示す。
【０１１２】
【表１】
2011186290.tif 000003
【０１１３】
前記にて作製された反射防止フィルムについて、以下の測定・評価をおこなった。
【０１１４】
「分光反射率の測定」
作製された反射防止フィルムの低屈折率層非形成面側の面を、黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、乾燥させた後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、Ｃ光源、２度視野の条件下で、低屈折率層形成面について入射角５°における分光反射率を測定した。
【０１１５】
「視感平均反射率」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
【０１１６】
「ヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率の測定」
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用してヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率を測定した。
【０１１７】
「表面抵抗値の測定」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面についてＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して高抵抗抵抗率計（ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定をおこなった。
【０１１８】
「耐擦傷性（スチールウール（ＳＷ））の確認」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に５００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
【０１１９】
目視にて確認した評価は、
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。
【０１２０】
（表２）に得られた反射防止フィルムの視感平均反射率、平行光線透過率、ヘイズ、表面抵抗値、耐擦傷性（ＳＷ）の確認結果を示す。
【０１２１】
【表２】
2011186290.tif 000004
【０１２２】
（実施例１）〜（実施例４）で得られた反射防止フィルムにあっては、製造コストが低く、また、光学特性に優れた反射防止フィルムを提供することができた。また、（実施例２）及び（実施例４）で得られた反射防止フィルムにあっては、帯電防止機能を付与したハードコート層を用いて帯電防止機能を得ることも可能であり、さらに光学特性を向上させることができ、具体的には反射防止性能に優れ、干渉縞、色ムラがなく、反射色相の小さい反射防止フィルムとすることができた。
【０１２３】
また、平行光線透過率が高く、ヘイズが低く、ディスプレイのコントラストを低下することなく反射防止性能を発揮することができ、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１２４】
１        反射防止フィルム
１１      透明基材または第１の透明基材
１２      ハードコート層
１３      低屈折率層
１４      混合帯
２１      塗布工程
２２      乾燥工程
２２ａ    一次乾燥
２２ｂ    二次乾燥
２３      硬膜工程
３１      巻き出し部
３２      巻き取り部
５０      第１の偏光板
５２      第２の透明基材
５３      第１の偏光層
５００    反射防止性偏光板
５１０    反射防止性偏光板
６０      液晶セル
７０      第２の偏光板
７１      第３の透明基材
７２      第４の透明基材
７３      第２の偏光層
８０      バックライトユニット
【図１】
2011186290.tif 000005
【図２】
2011186290.tif 000006
【図３】
2011186290.tif 000007
【図４】
2011186290.tif 000008