(57)【要約】【課題】  マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減する。【解決手段】  描画データを用いた数値制御により露光パターンを生成する空間光変調素子を備える露光装置で前記感光性レジストを露光する工程を有する液晶表示パネルの製造方法であって、当該工程は、一度に露光可能な領域を露光対象領域の第１の方向に移動させながら露光する第１の動作と、前記一度に露光可能な領域を前記第１の方向と直交する方向に移動させる第２の動作とを繰り返して前記露光対象領域全体を露光し、前記描画データは、前記露光対象領域のうちの光を照射する領域の位置と露光量とが指定された数値データであり、前記描画データのうちの前記露光量は、前記感光性レジストを感光させるのに必要十分な標準露光量、または当該標準露光量よりも多い露光量のいずれかが指定される。【選択図】  図５（ｃ）
2011081204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性レジストを露光し、現像する工程を複数回行い、かつ、当該複数回の前記工程のうちの１回以上の工程は、前記感光性レジストの露光は、あらかじめ用意されたレイアウトデータに基づいて作成された描画データを用いた数値制御により当該感光性レジストに照射する光のパターンを生成する空間光変調素子を有する露光装置で行う液晶表示パネルの製造方法であって、
前記空間光変調素子を有する前記露光装置で行う前記感光性レジストの露光は、一度に露光可能な領域の寸法が、前記感光性レジストの露光対象領域よりも小さく、
前記一度に露光可能な領域を前記露光対象領域の第１の方向に移動させながら露光する第１の動作と、前記一度に露光可能な領域を前記第１の方向と直交する方向に移動させる第２の動作とを繰り返して前記露光対象領域全体を露光し、
前記描画データは、前記露光対象領域のうちの光を照射する領域の位置と露光量とが指定された数値データであり、
前記描画データのうちの前記光を照射する領域の位置は、前記第１の方向の寸法として指定可能な最小値が、前記第２の方向の寸法として指定可能な最小値よりも大きく、
前記描画データのうちの前記露光量は、前記感光性レジストを感光させるのに必要十分な標準露光量、または当該標準露光量よりも多い露光量のいずれかが指定され、
前記描画データにおいて前記光を照射するよう指定された前記領域のうちの、光を照射しない領域との境界周辺には、前記標準露光量で露光する部分と、前記標準露光量よりも多い露光量で露光する部分とがあることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記標準露光量よりも多い露光量は、２通り以上あることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記空間光変調素子を有する前記露光装置で行う前記感光性レジストの露光は、複数回の前記感光性レジストを露光し、現像する工程のうちの、露光に使用する前記レイアウトデータが鋭角状のパターンを有し、かつ、当該鋭角状のパターンを構成する二辺のうちの一辺が前記第２の方向と概ね平行である工程で行うことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記空間光変調素子を有する前記露光装置で行う前記感光性レジストの露光は、透明導電膜をエッチングして櫛歯形状の画素電極を形成する工程において感光性レジストを露光するときに行われ、
当該露光に使用するレイアウトデータは、前記画素電極の歯に相当する部分の端に、鋭角状の突起パターンを有し、かつ、当該鋭角状の突起パターンを構成する二辺のうちの一辺が前記第２の方向と概ね平行であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
櫛歯形状の画素電極を有する画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記画素電極は、歯に相当する部分の端に、段階的に寸法が変化する概略鋭角状の突起形状を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記突起形状は、前記鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、前記画素電極の前記歯に相当する部分が並んでいる方向と概略平行であるとことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
櫛歯形状の画素電極を有する画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記画素電極は、歯に相当する部分の端に、段階的に寸法が変化する概略鋭角状の切り欠き形状を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記切り欠き形状は、前記鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、前記画素電極の前記歯に相当する部分が並んでいる方向と概略平行であることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置およびその製造方法に関し、特に、櫛歯形状の電極を有する液晶表示パネルの製造方法に適用して有効な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置には、液晶層を挟持する一対の基板のうちの一方の基板に画素電極および共通電極が配置されている液晶表示パネルを有するものがある。このとき、画素電極および共通電極の配置方法は、これらの電極を絶縁層を介して積層配置する方法と、絶縁層の同一面に配置する方法とに大別される。
【０００３】
画素電極と共通電極とを積層配置する方法では、液晶層に近いほうの電極の平面形状を櫛歯形状にし、遠いほうの電極の平面形状を平板状にするのが一般的である。また、画素電極と共通電極とを絶縁層の同一面に配置する方法では、これらの電極の平面形状を、それぞれの画素が画素電極と共通電極とが所定の間隙で交互に並んでいる領域を有するような形状にする。このような液晶表示パネルでは、画素電極と共通電極との間に電位差が生じると、液晶層にフリンジ電界と呼ばれる電界が印加され、当該フリンジ電界により液晶層の配向が変化する。
【０００４】
ところで、従来のこのような液晶表示パネルでは、たとえば、櫛歯形状の電極の歯に相当する部分の端で液晶層の配向に乱れが生じ、たとえば、透過率が低下するなどの表示品質に関わる問題が生じる。そのため、このような液晶表示パネルでは、近年、櫛歯形状の電極の歯に相当する部分の端の形状を工夫することで、液晶層の配向に乱れが生じにくくすることが提案されている（たとえば、特許文献１や特許文献２を参照。）。具体的には、たとえば、櫛歯形状の電極の歯に相当する部分の端を、当該歯の部分の延びる方向とは異なる方向に突出した突起を有する形状にしたり、当該歯の延びる方向とは異なる方向に曲げた形状にしたりしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１０７５３５号公報
【特許文献２】特開２００９−１２２５９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
液晶表示パネルの製造方法において、櫛歯形状の電極を形成するときには、ＩＴＯなどの透明導電膜をエッチングして形成する。透明導電膜をエッチングするときには、当該導電膜の上に感光性レジストを形成し、当該感光性レジストを露光、現像してエッチングレジスト（マスク）を形成する。
【０００７】
櫛歯形状の電極は、たとえば、歯に相当する部分の間隙の寸法にばらつきがあると、フリンジ電界の強さがばらつき、光の透過率や反射率にばらつきが生じる。そのため、櫛歯形状の電極の形成には、高い寸法精度が要求される。
【０００８】
ところで、液晶表示パネルの製造方法は、多面取りと呼ばれる、一組のマザーガラスを用いて複数枚の液晶表示パネルを一括して製造する方法が一般的である。
【０００９】
また、従来の液晶表示パネルの製造方法では、感光性レジストの露光を、フォトマスクを用いる露光装置で行うのが一般的である。
【００１０】
しかしながら、ある一組のレイアウトデータに基づいて液晶表示パネルを製造するときには、たとえば、複数の製造ラインで並行して製造することも多い。そのため、フォトマスクを用いて感光性レジストを露光する場合は、少なくとも、製造ラインと同数のフォトマスクが必要になる。
【００１１】
また、フォトマスクを用いて感光性レジストを露光する場合は、たとえば、レイアウトデータに変更があると、変更されたレイアウトデータに基づいてフォトマスクを作製し直す必要がある。
【００１２】
以上のようなことから、近年の液晶表示パネルの製造方法では、感光性レジストの露光を、フォトマスクを用いないで行う方法（以下、マスクレス露光という。）が検討されている。マスクレス露光としては、たとえば、レイアウトデータに基づく数値制御により感光性レジストに照射する光のパターンを生成する空間光変調素子を用いて露光する方法が知られている。
【００１３】
マスクレス露光では、レイアウトデータに基づいて作成された描画データ（数値データ）により空間光変調素子を制御しながら露光する。そのため、マスクレス露光の場合、レイアウトデータが変更されても、変更後のレイアウトデータに基づいて描画データ（数値データ）を変更するだけで、感光性レジストに照射する光のパターンを変えることができる。
【００１４】
しかしながら、マスクレス露光は、たとえば、露光解像度、言い換えると、描画データにおいて光を照射する領域または照射しない領域として設定可能な最小寸法が、フォトマスクを用いて露光する場合に比べて大きい。そのため、感光性レジストの露光をマスクレス露光にした場合は、たとえば、現像後に得られるレジストパターンのうちの、レイアウトデータ上における鋭角状のパターンと対応する部分の形状が、鋭角状にならないことがある。
【００１５】
たとえば、櫛歯形状の画素電極に関するレイアウトデータにおいて、歯に相当する部分の端に鋭角状の突起が設けられている場合、当該レイアウトデータに基づいて露光した後、現像して得られるエッチングレジストは、歯に相当する部分の端と対応する部分に、鋭角状の突起を有する平面形状でなくてはならない。しかしながら、マスクレス露光を適用した場合は、現像して得られるエッチングレジストに鋭角状の突起が形成されないことがある。このとき形成される画素電極は、歯に相当する部分の端に鋭角状の突起が無いので、外的圧力を加えたときに当該端の部分において液晶層の配向に乱れが生じると、たとえば、透過率の低下するなどの問題が生じ、表示品質が低下する。
【００１６】
本発明の目的は、たとえば、マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減することが可能な技術を提供することにある。
【００１７】
本発明の他の目的は、たとえば、マスクレス露光を利用して形成された櫛歯形状の画素電極を有する液晶表示装置において、液晶層の配向の乱れによる表示品質の低下を防ぐことが可能な技術を提供することにある。
【００１８】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。
【００２０】
（１）感光性レジストを露光し、現像する工程を複数回行い、かつ、当該複数回の前記工程のうちの１回以上の工程は、前記感光性レジストの露光は、あらかじめ用意されたレイアウトデータに基づいて作成された描画データを用いた数値制御により当該感光性レジストに照射する光のパターンを生成する空間光変調素子を有する露光装置で行う液晶表示パネルの製造方法であって、前記空間光変調素子を有する前記露光装置で行う前記感光性レジストの露光は、一度に露光可能な領域の寸法が、前記感光性レジストの露光対象領域よりも小さく、前記一度に露光可能な領域を前記露光対象領域の第１の方向に移動させながら露光する第１の動作と、前記一度に露光可能な領域を前記第１の方向と直交する方向に移動させる第２の動作とを繰り返して前記露光対象領域全体を露光し、前記描画データは、前記露光対象領域のうちの光を照射する領域の位置と露光量とが指定された数値データであり、前記描画データのうちの前記光を照射する領域の位置は、前記第１の方向の寸法として指定可能な最小値が、前記第２の方向の寸法として指定可能な最小値よりも大きく、前記描画データのうちの前記露光量は、前記感光性レジストを感光させるのに必要十分な標準露光量、または当該標準露光量よりも多い露光量のいずれかが指定され、前記描画データにおいて前記光を照射するよう指定された前記領域のうちの、光を照射しない領域との境界周辺には、前記標準露光量で露光する部分と、前記標準露光量よりも多い露光量で露光する部分とがある液晶表示パネルの製造方法。
【００２１】
（２）前記（１）の液晶表示パネルの製造方法において、前記標準露光量よりも多い露光量は、２通り以上ある液晶表示パネルの製造方法。
【００２２】
（３）前記（１）の液晶表示パネルの製造方法において、前記空間光変調素子を有する前記露光装置で行う前記感光性レジストの露光は、複数回の前記感光性レジストを露光し、現像する工程のうちの、露光に使用する前記レイアウトデータが鋭角状のパターンを有し、かつ、当該鋭角状のパターンを構成する二辺のうちの一辺が前記第２の方向と概ね平行である工程で行う液晶表示パネルの製造方法。
【００２３】
（４）前記（１）の液晶表示パネルの製造方法において、前記空間光変調素子を有する前記露光装置で行う前記感光性レジストの露光は、透明導電膜をエッチングして櫛歯形状の画素電極を形成する工程において感光性レジストを露光するときに行われ、当該露光に使用するレイアウトデータは、前記画素電極の歯に相当する部分の端に、鋭角状の突起パターンを有し、かつ、当該鋭角状の突起パターンを構成する二辺のうちの一辺が前記第２の方向と概ね平行である液晶表示パネルの製造方法。
【００２４】
（５）櫛歯形状の画素電極を有する画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する液晶表示装置であって、前記画素電極は、歯に相当する部分の端に、段階的に寸法が変化する概略鋭角状の突起形状を有する液晶表示装置。
【００２５】
（６）前記（５）の液晶表示装置において、前記突起形状は、前記鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、前記画素電極の前記歯に相当する部分が並んでいる方向と概略平行である液晶表示装置。
【００２６】
（７）櫛歯形状の画素電極を有する画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する液晶表示装置であって、前記画素電極は、歯に相当する部分の端に、段階的に寸法が変化する概略鋭角状の切り欠き形状を有する液晶表示装置。
【００２７】
（８）前記（７）の液晶表示装置において、前記切り欠き形状は、前記鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、前記画素電極の前記歯に相当する部分が並んでいる方向と概略平行である液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、たとえば、マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成したときの、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減することができる。
【００２９】
また、本発明の液晶表示装置によれば、たとえば、外的圧力により生じる液晶層の配向の乱れによる表示品質の低下を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１（ａ）】本発明による一実施例の液晶表示パネルにおける画素の平面構成の一例を示す模式平面図である。
【図１（ｂ）】図１（ａ）のＡ−Ａ’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図２（ａ）】液晶表示パネルの外形の一例を示す模式平面図である。
【図２（ｂ）】多面取りの液晶表示パネルの製造方法における面付け方法の一例を示す模式平面図である。
【図２（ｃ）】多面取りの液晶表示パネルの製造方法における面付け方法の別の一例を示す模式平面図である。
【図３（ａ）】マスクレス露光の露光手順の一例を示す模式平面図である。
【図３（ｂ）】図３（ａ）の領域ＡＲ１を拡大して示した模式平面図である。
【図３（ｃ）】感光性材料膜に照射する光のパターンの制御方法の一例を示す模式断面図である。
【図３（ｄ）】露光装置で使用する描画データの一例を可視化した模式図である。
【図４（ａ）】良好な鋭角状のパターンが得られる露光条件の一例を示す模式平面図である。
【図４（ｂ）】鋭角状のパターンに形状不良が生じる露光条件の一例を示す模式平面図である。
【図５（ａ）】本実施例の液晶表示パネルの製造方法におけるマスクレス露光の原理を説明するための模式断面図である。
【図５（ｂ）】露光量と現像後に残るパターンの線幅との関係の一例を示す模式図である。
【図５（ｃ）】本実施例の液晶表示パネルの製造方法における描画データの第１の例を示す模式平面図である。
【図６（ａ）】本実施例の液晶表示パネルの製造方法における描画データの第２の例を示す模式平面図である。
【図６（ｂ）】図６（ａ）に示した描画データを用いることにより得られるレジストパターンを説明するための模式図である。
【図６（ｃ）】描画データの第２の例の変形例を示す模式平面図である。
【図７】描画データの第３の例を示す模式平面図である。
【図８（ａ）】本発明に関わるマスクレス露光の適用が望まれる液晶表示パネルの製造方法の一例を示す模式平面図である。
【図８（ｂ）】図８（ａ）の領域ＡＲ２のレイアウトデータおよび描画データの一従来例を示す模式図である。
【図８（ｃ）】本発明に関わるマスクレス露光を適用した場合の領域ＡＲ２のレイアウトデータおよび描画データの一例を示す模式図である。
【図８（ｄ）】図８（ｃ）に示した描画データを用いて露光したときに感光する領域および露光後に現像して得られるレジストパターンの一例を示す模式図である。
【図８（ｅ）】図８（ｄ）に示したレジストパターンを用いたエッチングで形成される画素電極の形状の一例とレイアウトデータとの関係を示す模式図である。
【図８（ｆ）】図８（ａ）の領域ＡＲ３のレイアウトデータおよび描画データの一例を示す模式図である。
【図８（ｇ）】図８（ｆ）に示した描画データを用いて露光したときに感光する領域および露光後に現像して得られるレジストパターンの一例を示す模式図である。
【図８（ｈ）】図８（ｇ）に示したレジストパターンを用いたエッチングで形成される画素電極の形状の一例とレイアウトデータとの関係を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明について、図面を参照して実施の形態（実施例）とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【実施例】
【００３２】
図１（ａ）および図１（ｂ）は、本発明による一実施例の液晶表示パネルの主要部の概略構成を示す模式図である。
図１（ａ）は、本発明による一実施例の液晶表示パネルにおける画素の平面構成の一例を示す模式平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。
【００３３】
本実施例では、本発明の適用が望まれる液晶表示パネルの一例として、それぞれの画素が櫛歯形状の画素電極を有する、ＩＰＳ方式のアクティブマトリクス型ＴＦＴ液晶表示パネル（以下、単にＩＰＳ方式の液晶表示パネルという。）を挙げる。
【００３４】
ＩＰＳ方式の液晶表示パネルは、たとえば、図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板１、対向基板２、液晶層３、第１の偏光板４、および第２の偏光板５を有する。なお、第１の偏光板４は、たとえば、透過型のようにバックライトからの光を変調して映像や画像を表示する場合に必要な偏光板であり、反射型のように外光を変調して映像や画像を表示する場合には不要である。
【００３５】
ＴＦＴ基板１は、ガラス基板などの第１の絶縁基板６と、当該第１の絶縁基板６の表面に形成された第１の薄膜積層体（図示しない）とからなる。第１の薄膜積層体は、たとえば、走査信号線７、第１の絶縁層８、ＴＦＴ素子の半導体層９、映像信号線１０、第１のソース-ドレイン電極１１、第２の絶縁層１２、共通電極１３、第３の絶縁層１４、画素電極１５、および第１の配向膜１６からなる。
【００３６】
対向基板２は、ガラス基板などの第２の絶縁基板１７と、当該第２の絶縁基板１７の表面に形成された第２の薄膜積層体（図示しない）とからなる。第２の薄膜積層体は、たとえば、ブラックマトリクス１８、カラーフィルタ１９、平坦化層２０、および第２の配向膜２１などからなる。
【００３７】
ＩＰＳ方式の液晶表示パネルの各画素は、ＴＦＴ素子、画素電極１５、共通電極１３、および液晶層３を有する。このとき、ＴＦＴ素子の半導体層９は、走査信号線７の上に、第１の絶縁層８を介して積層されている。また、第１の絶縁層８の上には、ＴＦＴ素子の半導体層９のほかに、映像信号線１０および第１のソース-ドレイン電極１１が形成されている。このとき、映像信号線１０のうちの走査信号線７の延びる方向（ｘ軸方向）に分岐した部分、および第１のソース-ドレイン電極１１の一部は、それぞれ、半導体層９に乗り上げている。すなわち、各画素のＴＦＴ素子は、走査信号線７の一部分をゲート電極としており、映像信号線１０から走査信号線７の延びる方向に分岐した部分を第２のソース-ドレイン電極としている。
【００３８】
また、画素電極１５は、図１（ｂ）に示したように、スルーホールにより第１のソース-ドレイン電極１１と接続している。そのため、走査信号線７（ＴＦＴ素子のゲート電極）に所定の電圧を印加してＴＦＴ素子をオンにすると、画素電極１５の電位が、映像信号線１０に印加されている階調電圧と概ね同じ電位になる。
【００３９】
このとき、画素電極１５と共通電極１３との間に電位差があると、図１（ｂ）に示したように、液晶層３を通るアーチ状の電気力線２２が生じ、これにより液晶層３に電界が印加される。液晶層３は、電界が印加されると、その電界の強さに応じて配向状態が変化する。
【００４０】
第１の偏光板４を通過した後、液晶層３を通過して第２の偏光板５に入射する光の偏光状態は、液晶層３の配向状態に応じて変化する。そのため、画素電極１５と共通電極１３との間の電位差を制御することで、第２の偏光板５を通過する光の光量、すなわち画素の輝度（階調）が制御される。
【００４１】
ところで、ＩＰＳ方式の液晶表示パネルでは、電界が印加されていない状態の液晶層３の配向がホモジニアス配向であり、液晶分子の長軸は、画素電極１５の歯に相当する部分１５Ｔ（以下、単に歯と呼ぶ）が延びる方向とは異なる方向を向いている。そして、電界が印加されると、液晶分子は、長軸が電界の方向を向くような回転をする。
【００４２】
また、電界が印加されていない状態の液晶層３の配向は、第１の配向膜１６および第２の配向膜２１の配向方向（たとえば、ラビング方向）により制御される。従来のＩＰＳ方式の液晶表示パネルにおける画素電極１５の歯１５Ｔは、通常、単純な平行四辺形であり、たとえば、外的圧力などにより液晶層３に配向の乱れが生じ、透過率の低下による表示品質の低下などの問題が生じやすかった。
【００４３】
そのため、近年のＩＰＳ方式の液晶表示パネルでは、たとえば、図１（ａ）に示したように、画素電極１５の歯１５Ｔの端１５ＴＥを屈曲させることで、液晶層３の配向の乱れを低減し、透過率の低下などを抑えている。
【００４４】
しかしながら、画素電極１５の歯１５Ｔの端１５ＴＥを屈曲させる場合、当該画素電極１５の形成方法によっては、歯１５Ｔの端１５ＴＥに形状不良が生じる。
【００４５】
図２（ａ）乃至図２（ｃ）、図３（ａ）乃至図３（ｄ）、図４（ａ）、および図４（ｂ）は、液晶表示パネルの製造方法およびその問題点の一例を説明するための模式図である。
図２（ａ）は、液晶表示パネルの外形の一例を示す模式平面図である。図２（ｂ）は、多面取りの液晶表示パネルの製造方法における面付け方法の一例を示す模式平面図である。図２（ｃ）は、多面取りの液晶表示パネルの製造方法における面付け方法の別の一例を示す模式平面図である。
図３（ａ）は、マスクレス露光の露光手順の一例を示す模式平面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）の領域ＡＲ１を拡大して示した模式平面図である。図３（ｃ）は、感光性材料膜に照射する光のパターンの制御方法の一例を示す模式断面図である。図３（ｄ）は、露光装置で使用する描画データの一例を可視化した模式図である。
図４（ａ）は、良好な鋭角状のパターンが得られる露光条件の一例を示す模式平面図である。図４（ｂ）は、鋭角状のパターンに形状不良が生じる露光条件の一例を示す模式平面図である。
なお、図３（ｃ）は、図３（ｂ）のＢ−Ｂ’線方向で見た断面構成の一例を示す模式断面図である。
また、図４（ａ）および図４（ｂ）は、それぞれ、上側の（α）がレイアウトデータで指定されたパターンを示す模式図であり、下側の（β）がレイアウトデータに基づいて露光した後、現像して得られるレジストのパターンを示す模式図である。
【００４６】
液晶表示パネルは、通常、平面形状が概略四角形である。また、液晶表示パネルの平面形状は、たとえば、用途に応じて、走査信号線７の延びる方向（以下、ｘ軸方向という。）の寸法Ｐｘと映像信号線１０の延びる方向（以下、ｙ軸方向という。）の寸法Ｐｙとの大小の関係が異なる。なお、上記の走査信号線７の延びる方向および映像信号線１０の延びる方向は、それぞれ、表示領域ＤＡにおける方向である。
【００４７】
本実施例では、液晶表示パネルの平面形状の一例として、たとえば、図２（ａ）に示すように、ｘ軸方向の寸法Ｐｘがｙ軸方向の寸法Ｐｙよりも小さい場合を挙げる。このような平面形状の液晶表示パネルは、主として、携帯電話端末などの携帯型電子機器の液晶ディスプレイとして用いられる。このとき、液晶表示パネルのｘ軸方向の寸法Ｐｘおよびｙ軸方向の寸法Ｐｙは、それぞれ、数ｃｍから十数ｃｍ程度である。
【００４８】
このような液晶表示パネルの製造方法は、多面取りと呼ばれる、一組のマザーガラスを用いて複数枚の液晶表示パネルを一括して製造する方法が一般的である。
【００４９】
液晶表示パネルを多面取りで製造するときには、一方のマザーガラスに、ＴＦＴ基板１として切り出す領域を複数設定し、それぞれの領域に、走査信号線７、映像信号線１０、ＴＦＴ素子、および画素電極１５などを並行して形成する。このとき、他方のマザーガラスには、ＴＦＴ基板１として切り出す領域と対応する複数の領域を設定し、それぞれの領域に、ブラックマトリクス１８やカラーフィルタ１９などを形成する。
【００５０】
また、液晶表示パネルを多面取りで製造するときには、通常、一組のマザーガラスから得られる液晶表示パネルの枚数をできるだけ多くすることが望まれる。このとき、マザーガラスにＴＦＴ基板１として切り出す領域を設定する方法、すなわち面付け方法は、マザーガラスの寸法とＴＦＴ基板１の寸法との関係によって、二通りに大別される。
【００５１】
面付け方法の一つめは、たとえば、図２（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向とマザーガラス２３の短辺方向（ｕ軸方向）とが平行になるように設定する方法である。面付け方法の二つめは、たとえば、図２（ｃ）に示すように、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向とマザーガラスの長辺方向（ｖ軸方向）とが平行になるように設定する方法である。
【００５２】
さて、ＴＦＴ基板１に設ける画素電極１５は、通常、ＩＴＯなどの透明導電膜をエッチングして形成する。すなわち、画素電極１５を形成する工程は、通常、透明導電膜を形成する工程、透明導電膜の上にエッチングレジスト（マスク）を形成する工程、および透明導電膜の不要な部分を除去する工程を有する。
【００５３】
また、エッチングレジストを形成する工程は、透明導電膜の上に未感光の状態の感光性レジストを形成する工程、当該感光性レジストを露光する工程、露光した感光性レジストを現像する工程、および現像後に残った感光性レジストを定着させる工程を有する。
【００５４】
感光性レジストの露光は、従来、フォトマスクを用いる露光装置で行われている。しかしながら、近年の液晶表示パネルの製造方法では、前述のように、フォトマスクを使用しないマスクレス露光の適用が検討されている。
【００５５】
マスクレス露光は、前述のように、フォトマスクの代わりに、レイアウトデータに基づく数値制御により感光性レジストに照射する光のパターン（露光パターン）を生成する空間光変調素子を用いる露光方法である。このとき、空間光変調素子で生成する光のパターンは、数μｍ単位で制御する必要がある。そのため、マスクレス露光の場合、空間光変調素子の制御性を考慮すると、一度に露光可能な領域は、数ｍｍ２から数ｃｍ２程度になる。すなわち、マスクレス露光の場合、一度に露光可能な領域は、感光性レジストの露光対象領域に比べて、非常に小さい。
【００５６】
したがって、マスクレス露光で感光性レジストを露光するときには、たとえば、図３（ａ）に示すように、一度に露光可能な領域ＥＲ（以下、単に露光領域ＥＲという。）の位置をマザーガラス２３の長辺方向（ｖ軸方向）にずらしながら露光する第１の動作と、当該露光領域ＥＲの位置をマザーガラス２３の短辺方向（ｕ軸方向）にずらす第２の動作とを繰り返して、感光性レジストの全体を露光する。このとき、１回の第１の動作で露光される帯状領域の幅Ｑｕ（ｕ軸方向の寸法）は、たとえば、２ｍｍから１ｃｍ程度である。
【００５７】
また、１回の第１の動作に着目すると、当該動作により露光する帯状領域は、たとえば、図３（ｂ）および図３（ｃ）に示すように、多数の微細帯状領域に分割し、微細帯状領域毎に独立して露光する。このとき、微細帯状領域の幅Ｒｕ（ｕ軸方向の寸法）は、たとえば、０．５μｍ程度である。
【００５８】
またこのとき、空間光変調素子２４は、光を照射する状態と照射しない状態との切替を行う照射制御素子２４ａを多数有し、それらの照射制御素子２４ａは、たとえば、マザーガラス２３の短辺方向（ｕ軸方向）に並んでいる。また、各照射制御素子２４ａは、光を照射する状態と照射しない状態との切替の制御が独立している。そのため、透明導電膜２５の上に形成された感光性レジスト２６の露光領域ＥＲには、図３（ｃ）に示したように、露光により感光した領域と、感光していない領域とを作ることができる。なお、図３（ｃ）に示した感光性レジスト２６は、ドットパターンを付した部分が露光により感光した領域であり、白地の部分が感光していない領域である。
【００５９】
また、各照射制御素子２４ａにおける、光を照射する状態と照射しない状態との切替の制御は、レイアウトデータに基づいて作成される描画データにより行う。この描画データは、数値データであり、たとえば、光を照射する領域の位置、言い換えると光を照射する状態から照射しない状態に切り替える位置、光を照射しない状態から照射する状態に切り替える位置などが指定されている。この描画データを可視化すると、光を照射する領域と照射しない領域との関係は、たとえば、図３（ｄ）に示すような関係になる。なお、図３（ｄ）に示した描画データは、ドットパターンを付した領域が光を照射する領域であり、白地の領域は光を照射しない領域である。
【００６０】
ところで、従来のマスクレス露光で用いる描画データにおいて、光を照射する領域と照射しない領域とを指定する場合、光を照射する状態から照射しない状態に切り替える位置、および光を照射しない状態から照射する状態に切り替える位置は、たとえば、距離Δｓ刻みで指定するようになっている。そのため、光を照射する領域のｖ軸方向の寸法Ｒ１ｖ、および照射しない領域のｖ軸方向の寸法Ｒ２ｖは、それぞれ、距離Δｓの自然数倍の値になる。
【００６１】
また、従来のマスクレス露光で用いる描画データでは、たとえば、照射制御素子２４ａにおける光を照射する状態と照射しない状態との切替の制御性などの観点から、光を照射する領域のｖ軸方向の寸法Ｒ１ｖ、および照射しない領域のｖ軸方向の寸法Ｒ２ｖとして設定可能な最小値が、距離Δｓの２倍以上であることが多い。従来のマスクレス露光の場合、光を照射する領域のｖ軸方向の寸法Ｒ１ｖ、および照射しない領域のｖ軸方向の寸法Ｒ２ｖとして設定可能な最小値は、それぞれ、たとえば、１．５μｍ程度である。
【００６２】
これに対し、従来のマスクレス露光の場合、微細帯状領域の幅Ｒｕ（ｕ軸方向の寸法）は、たとえば、０．５μｍ程度である。そのため、従来のマスクレス露光では、通常、光を照射する領域および照射しない領域の最小寸法が、第１の動作において露光領域ＥＲが移動する方向（ｖ軸方向）を長手方向とする長方形になる。
【００６３】
したがって、櫛歯形状の画素電極１５を形成する工程で行う感光性レジストの露光を、このような従来のマスクレス露光で行うと、たとえば、以下のようなことが起こる。
【００６４】
まず、櫛歯形状の画素電極１５の形成に用いるレイアウトデータにおいて、たとえば、図４（ａ）の（α）に示すように、歯１５Ｔがｕ軸方向に延びており、かつ、当該歯１５Ｔの端に−ｖ方向に突出する鋭角状の突起がある場合について説明する。このとき、当該突起のｕ軸方向の寸法Ｗｕおよびｖ軸方向の寸法Ｗｖが、それぞれ、２．０μｍから３．０μｍ程度であるとすると、当該レイアウトデータに基づいたマスクレス露光で感光性レジストを露光した後、現像して得られるレジスト２６Ｔの平面形状は、たとえば、図４（ａ）の（β）に示したような形状になる。すなわち、突起の頂角部分（二点差線で囲んだ部分）は、レイアウトデータ通りではないものの、比較的良好な鋭角状の形状になる。
【００６５】
次に、櫛歯形状の画素電極１５の形成に用いるレイアウトデータにおいて、たとえば、図４（ｂ）の（α）に示すように、歯１５Ｔがｖ軸方向に延びており、かつ、当該歯１５Ｔの端に＋ｕ方向に突出する鋭角状の突起がある場合について説明する。このとき、当該突起のｕ軸方向の寸法Ｗｕおよびｖ軸方向Ｗｖの寸法が、それぞれ、２．０μｍから３．０μｍ程度であるとすると、当該レイアウトデータに基づいたマスクレス露光で感光性レジストを露光した後、現像して得られるレジスト２６Ｔの平面形状は、たとえば、図４（ｂ）の（β）に示したような形状になる。すなわち、突起の頂角部分（二点差線で囲んだ部分）は、レイアウトデータとの差が大きく、鋭角状とは呼べない形状になる。
【００６６】
このように、従来のマスクレス露光では、レイアウトデータに鋭角状のパターンがある場合、当該鋭角を構成する二辺の方向と、第１の動作において露光領域ＥＲが移動する方向との関係によって、現像後に残るレジストの形状に違いが生じる。すなわち、鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、第１の動作において露光領域ＥＲが移動する方向と概略平行である場合は、現像後に残るレジストが比較的良好な鋭角状の形状になる。また、鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、第１の動作において露光領域ＥＲが移動する方向と概略直交している場合は、現像後に残るレジストが鋭角状とは呼べない形状になる。
【００６７】
したがって、たとえば、図１（ａ）に示したような櫛歯形状の画素電極１５を有するＴＦＴ基板１を多面取りで製造するときに、当該画素電極１５を形成する工程でマスクレス露光を行うと、以下のようなことが起こる。
【００６８】
まず、マザーガラス２３への面付け方法が、図２（ｂ）に示したように、ＴＦＴ基板１におけるｘ軸方向とマザーガラス２３の短辺方向（ｕ軸方向）とが平行であり、かつ、マスクレス露光の第１の動作において露光領域ＥＲの移動する方向がｖ軸方向である場合は、画素電極１５の歯１５Ｔの端が、レイアウトデータを反映した比較的良好な形状になる。
【００６９】
一方、マザーガラス２３への面付け方法が、図２（ｃ）に示したように、ＴＦＴ基板１におけるｘ軸方向とマザーガラス２３の長辺方向（ｖ軸方向）とが平行であり、かつ、マスクレス露光の第１の動作において露光領域ＥＲの移動する方向がｖ軸方向である場合は、画素電極１５の歯１５Ｔの端が、レイアウトデータを反映した形状にならず、いわゆる形状不良になる。
【００７０】
マスクレス露光で使用する露光装置は、通常、使用可能なマザーガラスの寸法や、第１の動作において露光領域ＥＲを移動させる方向とマザーガラスの長辺方向との関係が固定されている。そのため、ある一台の露光装置において、ある規格（寸法）のマザーガラス２３の上に形成した感光性レジスト２６を露光するときには、ＴＦＴ基板１の寸法（面付け方法）によって、当該ＴＦＴ基板１におけるｘ軸方向が、第１の動作において露光領域ＥＲの移動する方向と直交する場合と、平行になる場合とがある。
【００７１】
したがって、図１に示したような櫛歯形状の画素電極１５を有する液晶表示パネルを多面取りで製造する場合、マスクレス露光の制約による画素電極１５の形状不良を防ぐには、たとえば、ＴＦＴ基板１の寸法によらず、ＴＦＴ基板１におけるｙ軸方向が、第１の動作において露光領域ＥＲの移動する方向（ｖ軸方向）と平行になるように面付けする必要がある。しかしながら、その場合、ＴＦＴ基板１の寸法によっては、一組のマザーガラスから得られる液晶表示パネルの枚数が最大値にならず、たとえば、マザーガラス２３からＴＦＴ基板１を切り出した後に残るガラス片、すなわち無駄になるガラス片の量が多くなる。
【００７２】
本発明では、上記のようなマスクレス露光の制約による画素電極１５の形状不良を防ぐとともに、たとえば、当該画素電極１５の形状不良による表示品質の低下や製造歩留まりの低下、材料（主にマザーガラス）の無駄を抑える。
【００７３】
図５（ａ）乃至図５（ｃ）、図６（ａ）乃至図６（ｃ）、および図７は、本実施例の液晶表示パネルの製造方法におけるマスクレス露光の概要を説明するための模式図である。
図５（ａ）は、本実施例の液晶表示パネルの製造方法におけるマスクレス露光の原理を説明するための模式断面図である。図５（ｂ）は、露光量と現像後に残るパターンの線幅との関係の一例を示す模式図である。図５（ｃ）は、本実施例の液晶表示パネルの製造方法における描画データの第１の例を示す模式平面図である。
図６（ａ）は、本実施例の液晶表示パネルの製造方法における描画データの第２の例を示す模式平面図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）に示した描画データを用いることにより得られるレジストパターンを説明するための模式図である。図６（ｃ）は、描画データの第２の例の変形例を示す模式平面図である。
図７は、描画データの第３の例を示す模式平面図である。
【００７４】
マスクレス露光に限らず、従来の露光装置で感光性レジスト２６を露光する場合、当該感光性レジスト２６に対する露光量は、通常、光を照射するように指定された領域を感光させるのに必要十分な露光量である。また、近年は、ハーフ露光と呼ばれる露光方法のように、１回の露光における露光量が２通り以上の場合もあるが、この場合も、最大の露光量は、通常、光を照射するように指定された領域を感光させるのに必要十分な露光量である。
【００７５】
これに対し、本実施例の液晶表示パネルの製造方法において行う感光性レジスト２６の露光では、光を照射するように指定された領域のうちの、光を照射しないように指定された領域との境界付近に、感光させるのに必要十分な露光量よりも多い露光量で露光する部分を設ける。
【００７６】
ポジ型の感光性レジストを露光、現像してレジストパターンを形成する場合、現像後にマザーガラス２３上に残るのは、感光していない領域である。そのため、ポジ型の感光性レジストを露光、現像して幅ｄのレジストパターンを形成する場合、その描画データは、たとえば、図５（ａ）に示すように、標準露光量で露光したときに感光しない領域（露光されない領域）の幅がｄになるように指定される。なお、図５（ａ）に示した感光性レジスト２６は、ドットパターンを付した部分が、標準露光量で露光したときに感光する部分である。
【００７７】
このような描画データを用い、かつ、標準露光量よりも多い露光量で感光性レジスト２６を露光すると、オーバー露光になり、感光する領域の幅が広がるので、感光しない領域の幅は、ｄ’（＝ｄ−２・Δｄ）に減少する。なお、図５（ａ）に示した感光性レジスト２６は、右下がりの平行斜線群を付した部分が、標準露光量よりも多い露光量で露光したときに感光する部分である。
【００７８】
このとき、図５（ａ）に示した幅ｄが、マスクレス露光の第１の動作において露光領域ＥＲが移動する方向（ｖ軸方向）での光を照射しない領域の寸法Ｒ２ｙであり、かつ、描画データにおいて設定可能な最小寸法であるとすると、標準露光量よりも多い露光量で露光することにより、レジストパターンの当該方向での寸法を、描画データで設定可能な最小寸法よりも小さくすることができる。
【００７９】
すなわち、光を照射するように指定された領域のうちの、光を照射しないように指定された領域との境界付近に、標準露光量で露光する部分と、標準露光量よりも多い露光量で露光する部分とを設ければ、描画データで設定可能な最小寸法よりも小さいパターンを形成することができる。
【００８０】
また、ポジ型の感光性レジストを標準露光量よりも多い露光量で露光する場合、当該露光量と標準露光量の差が大きいほど、感光する領域のはみ出し量Δｄが大きくなり、感光しない領域の幅ｄ’が狭くなる。そのため、ポジ型の感光性レジストを標準露光量よりも多い露光量で露光する場合、当該露光量を調整することにより、現像後に残るレジストパターンの寸法を所望の値にすることができる。
【００８１】
そこで、本願発明者らが、ポジ型の感光性レジストを露光、現像する場合において、露光量と現像後に残るパターンの線幅との関係について調べたところ、図５（ｂ）に示した曲線のような関係があった。図５（ｂ）は、横軸が露光量Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）、縦軸が現像後に残るパターンの線幅ｄ（μｍ）のグラフである。また、図５（ｂ）は、標準露光量が５０ｍＪ／ｃｍ2になるように形成された感光性レジストを露光、現像したときに、残るパターンの線幅が２．５μｍになるような描画データを用いて、露光量Ｅと残るパターンの線幅ｄとの関係を調べた結果である。また、図５（ｂ）のグラフ内に示した表は、いくつかの露光量における標準露光量との相対値ＱｏＥ（％）および感光する領域のはみ出し量Δｄ（μｍ）である。
【００８２】
すなわち、本願発明者らが調べた結果では、露光量Ｅを７２ｍＪ／ｃｍ2（標準露光量の１４４％の露光量）にすると、感光する領域のはみ出し量Δｄが０．２８μｍになる。また、露光量Ｅを９６ｍＪ／ｃｍ2（標準露光量の１９２％の露光量）にすると、感光する領域のはみ出し量Δｄが０．４５μｍになり、露光量Ｅを１２０ｍＪ／ｃｍ2（標準露光量の２４０％の露光量）にすると、感光する領域のはみ出し量Δｄが０．５５μｍになる。
【００８３】
このとき、レイアウトデータに基づいて作成する描画データに、たとえば、図５（ｃ）に示すように、光を照射しないように指定する領域の前後の露光量を標準露光量にする微細帯状領域と、標準露光量よりも多い露光量にする微細帯状領域とを設けると、当該描画データを用いてポジ型の感光性レジストを露光したときに、感光しない部分の幅（ｖ軸方向の寸法）を段階的に狭くすることができる。そのため、当該描画データを用いてポジ型の感光性レジストを露光した後、現像して得られるパターンは、図５（ｃ）に示した太線のようなパターンになり、端部を鋭角状にすることができる。なお、図５（ｃ）に示した描画データは、ドットパターンを付した部分が光を照射するように指定された領域であり、ドットパターンの密度と露光量との関係は、当該図５（ｃ）の下部にある表の通りである。また、図５（ｃ）に示した平行斜線群は、それぞれ、指定された露光量でオーバー露光したときに感光する領域である。
【００８４】
またこのとき、図５（ｃ）に示した描画データにおける白地の領域、すなわち光を照射しない領域のｖ軸方向の寸法Ｒ２ｖが、描画データで指定可能な最小寸法であるとすると、現像後に得られるパターンの端部には、当該描画データで指定可能な最小寸法よりも小さいパターンが形成されたことになる。
【００８５】
ところで、描画データを作成するときには、前述のように、光の照射を開始する位置および終了する位置をΔｓ間隔で指定することができる。そのため、レイアウトデータに基づいて作成する描画データに、標準露光量よりも多い露光量にする微細帯状領域を設ける場合は、たとえば、図６（ａ）に示すように、光の照射を開始する位置および終了する位置を、−ｖ方向に段階的にずらすこともできる。このような描画データを用いてポジ型の感光性レジストを露光した場合、感光するのは、たとえば、図６（ｂ）のドットパターンを付した領域および平行斜線群を付した領域である。そのため、当該描画データを用いて感光性レジストを露光した後、現像して得られるパターンは、図６（ｂ）に示した太線のようなパターンになる。すなわち、鋭角を構成する二辺のうちの一辺が、第１の動作で露光領域ＥＲが移動する方向（ｕ軸方向）と概ね直交する鋭角状のパターンを形成することができる。なお、図６（ａ）および図６（ｂ）に示した描画データは、ドットパターンを付した部分が光を照射するように指定された領域であり、ドットパターンの密度と露光量との関係は、各図の下部にある表の通りである。また、図６（ｂ）に示した平行斜線群は、それぞれ、指定された露光量でオーバー露光したときに感光する領域である。
【００８６】
また、図６（ａ）および図６（ｂ）に示した例では、標準露光量よりも多い露光量で露光する領域を、露光量によらず一定の寸法Ｒ１ｖ（たとえば、描画データで設定可能な最小寸法）にしている。しかしながら、描画データにおいて標準露光量よりも多い露光量で露光する領域を設ける場合、それらの領域の寸法は、これに限らず、たとえば、図６（ｃ）に示すように、標準露光量で露光する領域との境界の位置が揃うようにしてもよい。
【００８７】
また、図６（ａ）に示した例では、標準露光量よりも多い露光量で露光する領域を、−ｖ方向に段階的にずらしており、鋭角を構成する二辺のうちの下側の辺が、第２の動作で露光領域ＥＲが移動する方向（ｕ軸方向）と概ね直交する。
【００８８】
しかしながら、レイアウトデータに基づいて作成する描画データに、標準露光量よりも多い露光量にする微細帯状領域を設ける場合は、たとえば、図７に示すように、光の照射を開始する位置および終了する位置を、＋ｖ方向に段階的にずらすこともできる。このような描画データを用いてポジ型の感光性レジストを露光した場合、感光するのは、たとえば、図７のドットパターンを付した領域および平行斜線群を付した領域である。そのため、当該描画データを用いて感光性レジストを露光した後、現像して得られるパターンは、図７に示した太線のようなパターンになる。すなわち、本発明に関わる感光性レジストの露光方法を用いると、鋭角を構成する二辺のうちの上側の辺が、第２の動作で露光領域ＥＲが移動する方向（ｕ軸方向）と概ね直交するパターンも形成することができる。なお、図７に示した描画データは、ドットパターンを付した部分が光を照射するように指定された領域であり、ドットパターンの密度と露光量との関係は、当該図７の下部にある表の通りである。また、図７に示した平行斜線群は、それぞれ、指定された露光量でオーバー露光したときに感光する領域である。
【００８９】
図８（ａ）乃至図８（ｈ）は、本実施例の液晶表示パネルの製造方法におけるマスクレス露光の具体例と、そのとき形成されるパターンの形状の一例を説明するための模式図である。
図８（ａ）は、本発明に関わるマスクレス露光の適用が望まれる液晶表示パネルの製造方法の一例を示す模式平面図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）の領域ＡＲ２のレイアウトデータおよび描画データの一従来例を示す模式図である。図８（ｃ）は、本発明に関わるマスクレス露光を適用した場合の領域ＡＲ２のレイアウトデータおよび描画データの一例を示す模式図である。図８（ｄ）は、図８（ｃ）に示した描画データを用いて露光したときに感光する領域および露光後に現像して得られるレジストパターンの一例を示す模式図である。図８（ｅ）は、図８（ｄ）に示したレジストパターンを用いたエッチングで形成される画素電極の形状の一例とレイアウトデータとの関係を示す模式図である。
図８（ｆ）は、図８（ａ）の領域ＡＲ３のレイアウトデータおよび描画データの一例を示す模式図である。図８（ｇ）は、図８（ｆ）に示した描画データを用いて露光したときに感光する領域および露光後に現像して得られるレジストパターンの一例を示す模式図である。図８（ｈ）は、図８（ｇ）に示したレジストパターンを用いたエッチングで形成される画素電極の形状の一例とレイアウトデータとの関係を示す模式図である。
【００９０】
話を戻して、図１（ａ）に示したような櫛歯形状の画素電極１５を有するＴＦＴ基板１を多面取りで製造する場合を考えると、マザーガラス２３のｕ軸方向およびｖ軸方向と、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向およびｙ軸方向との関係には、前述のような二通りがある。すなわち、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向がマザーガラスのｕ軸方向と平行になる場合と、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向がマザーガラスのｖ軸方向と平行になる場合とがある。
【００９１】
図１（ａ）に示した画素電極１５の歯１５Ｔは、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向となす角が、ｙ軸方向となす角よりも小さい。また、歯１５Ｔの端には、ＴＦＴ基板１のｙ軸方向と平行な辺を有する鋭角状の突起形状が設けられている。
【００９２】
したがって、図１（ａ）に示したような櫛歯形状の画素電極１５を有するＴＦＴ基板１を多面取りで製造する際に、本発明に関わるマスクレス露光の適用が望まれるのは、図８（ａ）に示すように、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向がマザーガラス２３のｖ軸方向と平行になる場合である。
【００９３】
画素電極１５を形成する工程で行う露光を、ポジ型の感光性レジストを用い、従来のマスクレス露光で行う場合、図８（ａ）に示した領域ＡＲ２に対するレイアウトデータと描画データとの関係は、たとえば、図８（ｂ）に示したような関係になる。なお、図８（ｂ）は、太線がレイアウトデータにおけるパターンである。
【００９４】
すなわち、従来のマスクレス露光の場合、画素電極１５の歯１５Ｔの端にある鋭角状の突起形状の周辺における描画データは、前述の設定可能な最小寸法の影響により、光を照射しない領域（白地の領域）を、レイアウトデータに沿うように段階的に変化させることができない。そのため、当該描画データを用いて露光した後、現像して得られるパターンでは、画素電極１５の歯１５Ｔの端の形状が鋭角状にならない。
【００９５】
これに対し、本実施例の液晶表示パネル（ＴＦＴ基板）の製造方法では、領域ＡＲ２に対するレイアウトデータと描画データとの関係を、たとえば、図８（ｃ）に示したような関係にする。なお、図８（ｃ）は、太線がレイアウトデータにおけるパターンである。また、図８（ｃ）に示した描画データは、ドットパターンを付した部分が光を照射するように指定された領域であり、ドットパターンの密度と露光量との関係は、当該図８（ｃ）の下部にある表の通りである。
【００９６】
すなわち、画素電極１５の歯１５Ｔの端にある鋭角状の突起形状の周辺における描画データは、光を照射しない領域（白地の領域）を、−ｖ方向に段階的にずらし、かつ、光を照射する領域の露光量を段階的に多くする。このとき、レイアウトデータと描画データとの関係を見ただけだと、画素電極１５の歯１５Ｔの端にある鋭角状の突起形状の周辺における描画データは、レイアウトデータにおける形状を反映していないように見える。
【００９７】
しかしながら、図８（ｃ）に示した描画データでは、突起形状の先端部分における露光量が段階的に多くなっている。そのため、当該描画データを用いてマスクレス露光を行うと、たとえば、図８（ｄ）に示すように、突起形状の先端部分における感光しない領域は、段階的に小さくなっていく。そのため、露光後に現像して得られるレジストパターンには、図８（ｄ）に示した太線のように、段階的に細くなっていく鋭角状の突起形状が形成される。なお、図８（ｄ）に示した描画データは、ドットパターンを付した部分が光を照射するように指定された領域であり、ドットパターンの密度と露光量との関係は、当該図８（ｄ）の下部にある表の通りである。また、図８（ｄ）に示した平行斜線群は、それぞれ、指定された露光量でオーバー露光したときに感光する領域である。
【００９８】
したがって、本発明に関わるマスクレス露光で露光した後、現像して得られるレジストパターンを用いて透明導電膜（たとえば、ＩＴＯ膜）をエッチングすると、図８（ｅ）に示したように、画素電極１５の歯１５Ｔの端に、概略鋭角状の突起形状が形成される。すなわち、画素電極１５の歯１５Ｔの端には、ｖ軸方向の寸法が、描画データにおいて設定可能な最小寸法よりも小さい部分を有する形状が形成される。なお、図８（ｅ）に示した破線および点線は、それぞれ、レイアウトデータにおけるパターンおよび現像後に得られるレジストパターンである。
【００９９】
またこのとき、図８（ａ）に示した領域ＡＲ３のように、二つの辺により構成される鈍角状の形状を形成する部分におけるレイアウトデータと描画データとの関係は、たとえば、図８（ｆ）に示したような関係になる。なお、図８（ｆ）は、太線がレイアウトデータにおけるパターンである。また、図８（ｆ）に示した描画データは、ドットパターンを付した部分が光を照射するように指定された領域である。
【０１００】
すなわち、鈍角を構成する二辺の関係が、露光する部分および露光しない部分が両方とも鈍角になる関係である場合は、感光しない領域と感光する領域との境界を段階的にずらすことで、当該境界をレイアウトデータに沿うように設定することができる。これに対し、鈍角を構成する二辺の関係が、露光する部分は鋭角で露光しない部分は鈍角になる関係である場合は、描画データのうちの露光する部分の鋭角の端に、露光する領域を設定することができない。
【０１０１】
そのため、当該描画データを用いてマスクレス露光を行うと、露光後に現像して得られるパターンは、たとえば、図８（ｇ）に太線で示したような形状になる。すなわち、鈍角を構成する二辺の関係が、露光する部分および露光しない部分が両方とも鈍角になる関係である部分は、レイアウトデータと概ね同じ形状になる。これに対し、鈍角を構成する二辺の関係が、露光する部分は鋭角で露光しない部分は鈍角になる関係である場合は、鋭角状の切り欠きが形成されない。
【０１０２】
したがって、本発明に関わるマスクレス露光で露光した後、現像して得られるレジストパターンを用いて透明導電膜（たとえば、ＩＴＯ膜）をエッチングすると、図８（ｈ）に示したように、画素電極の歯に相当する部分の端と複数本の歯を連結する部分とのつなぎ目の切り欠きは、レイアウトデータからのずれが大きくなる。なお、図８（ｈ）に示した破線および点線は、それぞれ、レイアウトデータにおけるパターンおよび現像後に得られるレジストパターンである。
【０１０３】
すなわち、櫛歯形状の画素電極１５を形成する工程で行う露光に、本発明に関わるマスクレス露光を用いると、感光性レジスト２６がポジ型の場合、現像後に残るパターンにおける鋭角形状と、現像時に除去される抜きパターンにおける鋭角形状とでは、現像後に残るパターンにおける鋭角形状のほうがレイアウトデータを反映した、より良好な形状になる。
【０１０４】
以上説明したように、本実施例の液晶表示パネル（ＴＦＴ基板）の製造方法によれば、櫛歯形状の画素電極１５を形成するときに、当該画素電極１５の歯１５Ｔの端に、レイアウトデータを反映した、概略鋭角状の突起形状を形成することができる。そのため、本実施例の液晶表示パネル（ＴＦＴ基板１）の製造方法は、マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極１５を形成したときの、当該画素電極１５の歯１５Ｔの端の形状不良を低減することができる。
【０１０５】
また、本実施例の液晶表示パネルは、多面取りの際の面付け方法、すなわちマスクレス露光における第１の動作で露光領域ＥＲが移動する方向と、レイアウトデータにおいて鋭角を構成する辺の方向との関係によらず、櫛歯形状の画素電極の歯に相当する部分の端に、鋭角状の突起を形成することができる。そのため、本実施例の液晶表示パネルは、基板サイズによらず、画素電極１５での外的圧力によって生じる液晶層３の配向の乱れによる表示品質の低下（たとえば、透過率の低下など）を防ぐことができる。
【０１０６】
以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。
【０１０７】
たとえば、前記実施例では、櫛歯形状の画素電極１５の平面形状の一例として、図１（ａ）に示したように、歯に相当する部分が、ＴＦＴ基板１のｘ軸方向（走査信号線７の延びる方向）となす角のほうが小さくなるように設けられている形状を挙げている。しかしながら、本発明は、これに限らず、画素電極１５の歯１５ＴがＴＦＴ基板１のｙ軸方向（映像信号線１０の延びる方向）となす角のほうが小さくなるように設けられている形状であっても適用可能であることはもちろんである。
【０１０８】
また、前記実施例では、標準露光量と、当該標準露光量よりも多い露光量の一例として、５０ｍＪ／ｃｍ２、７２ｍＪ／ｃｍ２、９６ｍＪ／ｃｍ２、および１２０ｍＪ／ｃｍ２を挙げたが、露光量の組み合わせが、これに限らず、適宜変更可能であることはもちろんである。またこのとき、標準露光量よりも多い露光量は、３通りに限らず、１通りまたは２通り、あるいは４通り以上であってもよいことはもちろんである。
【０１０９】
また、前記実施例では、図１（ｂ）に示したように、共通電極１３と画素電極１５とが、第３の絶縁層１４を介して積層配置されている場合を挙げている。しかしながら、本発明は、これに限らず、共通電極１３と画素電極１５とが絶縁層の同一面に配置されていても適用可能であることはもちろんである。
【０１１０】
また、前記実施例では、櫛歯形状の画素電極１５の平面形状の一例として、図１（ａ）に示したように、歯１５Ｔの端を屈曲させた形状を挙げている。しかしながら、本発明は、これに限らず、当該歯１５Ｔの端の形状によらず適用可能であることはもちろんである。
【０１１１】
また、前記実施例では、マスクレス露光の一例として、櫛歯形状の画素電極１５を形成する工程における露光を挙げている。しかしながら、本発明は、これに限らず、他の導電層や半導体層を形成する工程における露光にも適用できることはもちろんである。
【０１１２】
また、前記実施例では、マスクレス露光の一例として、ポジ型の感光性レジスト２６を露光する場合を挙げている。しかしながら、本発明は、これに限らず、ネガ型の感光性レジストを露光する場合にも適用可能であることはもちろんである。
【符号の説明】
【０１１３】
１  ＴＦＴ基板
２  対向基板
３  液晶層
４  第１の偏光板
５  第２の偏光板
６  第１の絶縁基板
７  走査信号線
８  第１の絶縁層
９  （ＴＦＴ素子の）半導体層
１０  映像信号線
１１  第１のソース-ドレイン電極
１２  第２の絶縁層
１３  共通電極
１４  第３の絶縁層
１５  画素電極
１５Ｔ  （画素電極の）歯
１６  第１の配向膜
１７  第２の絶縁基板
１８  ブラックマトリクス
１９  カラーフィルタ
２０  平坦化層
２１  第２の配向膜
２２  電気力線
２３  マザーガラス
２４  空間光変調素子
２４ａ  照射制御素子
２５  透明導電膜
２６  感光性レジスト
【図１（ａ）】
2011081204.tif 000003
【図１（ｂ）】
2011081204.tif 000004
【図２（ａ）】
2011081204.tif 000005
【図２（ｂ）】
2011081204.tif 000006
【図２（ｃ）】
2011081204.tif 000007
【図３（ａ）】
2011081204.tif 000008
【図３（ｂ）】
2011081204.tif 000009
【図３（ｃ）】
2011081204.tif 000010
【図３（ｄ）】
2011081204.tif 000011
【図４（ａ）】
2011081204.tif 000012
【図４（ｂ）】
2011081204.tif 000013
【図５（ａ）】
2011081204.tif 000014
【図５（ｂ）】
2011081204.tif 000015
【図５（ｃ）】
2011081204.tif 000016
【図６（ａ）】
2011081204.tif 000017
【図６（ｂ）】
2011081204.tif 000018
【図６（ｃ）】
2011081204.tif 000019
【図７】
2011081204.tif 000020
【図８（ａ）】
2011081204.tif 000021
【図８（ｂ）】
2011081204.tif 000022
【図８（ｃ）】
2011081204.tif 000023
【図８（ｄ）】
2011081204.tif 000024
【図８（ｅ）】
2011081204.tif 000025
【図８（ｆ）】
2011081204.tif 000026
【図８（ｇ）】
2011081204.tif 000027
【図８（ｈ）】
2011081204.tif 000028