(57)【要約】【課題】プロセスや部品の増加を招くことなく容易に赤外フィルタを形成可能であり、かつ電源投入時のキャリブレーション動作を要することなく、ノイズによる影響を小さくでき、受光システムのＳＮ比を向上することが可能な表示装置および電子機器を提供する。【解決手段】第２基板３２側から受光素子３１１へ入射する光の強度を検出する第１の光センサ部３１と、第２基板側から受光素子へ入射する光路に赤外フィルタＦＬＴ３２１が配置された第２の光センサ部３２と、第２基板に形成されて第２基板から入射する光を遮蔽するめの遮光マスクＢＭＳＫ３と、を備え、遮光マスクには、第１の光センサ部の受光素子に光を導く第１の開口部および第２の光センサ部の受光素子に光を導く第２の開口部が形成され、赤外フィルタは、第２の開口部に、少なくとも２種類のカラーフィルタを遮光マスクより第１基板側に積層して形成されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光素子が形成される第１基板と、
上記第１基板と対向して配置される第２基板と、
上記第２基板側から上記受光素子へ入射する光の強度を検出する第１の光センサ部と、
上記第２基板側から上記受光素子へ入射する光路に赤外フィルタが配置された第２の光センサ部と、
上記第２基板に形成されて当該第２基板から入射する光を遮蔽するめの遮光マスクと、
上記第１の光センサ部の検出信号と上記第２の光センサ部の検出信号との差分処理を行う信号処理部と、
を備え、
上記遮光マスクには、上記第１の光センサ部の受光素子に光を導く第１の開口部および上記第２の光センサ部の受光素子に光を導く第２の開口部が形成され、
上記赤外フィルタは、上記第２の開口部に、少なくとも２種類のカラーフィルタを上記遮光マスクより上記第１基板側に積層して形成されている
表示装置。
【請求項２】
上記第１の開口部の上記遮光マスクより上記第１基板側に一つのカラーフィルタが形成され、
上記赤外フィルタは、上記第２の開口部の上記遮光マスクより上記第１基板側に、上記一つのカラーフィルタより厚く形成されている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
上記第１基板と上記第２基板との間には、液晶層が形成されている
請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
上記赤外フィルタは、
色の三原色である赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）のカラーフィルタのうち、赤用カラーフィルタと青用カラーフィルタの２層、赤用カラーフィルタと緑用カラーフィルタの２層、赤用カラーフィルタと緑用カラーフィルタと青用カラーフィルタの３層のうちのいずれかの積層構造を有する
請求項１から３のいずれか一に記載の表示装置。
【請求項５】
上記第１の光センサ部は、
表示画面を形成する有効表示領域部に形成されている
請求項１から４のいずれか一に記載の表示装置。
【請求項６】
上記第１の光センサ部は、
物体からの反射光を検出可能であり、
上記信号処理部は、
上記第１の光センサ部の検出信号と上記第２の光センサ部の検出信号との差分処理結果により上記第１の光センサ部に物体があるか否かを示す信号を出力する
請求項５記載の表示装置。
【請求項７】
表示光を上記有効表示領域部に照射するバックライトを有する
請求項６記載の表示装置。
【請求項８】
上記有効表示領域部に、
複数の表示セルがマトリクス状に配列され、
上記表示セルのマトリクス配列に混在して、上記第１の光センサ部および上記第２の光センサ部のうち少なくとも上記第１の光センサ部が配列されている
請求項５から７に記載の表示装置。
【請求項９】
複数の上記第１の光センサ部が、
各表示セルに隣接してそれぞれ配列されている
請求項５から８のいずれか一に記載の表示装置。
【請求項１０】
上記信号処理部は、
上記第１の光センサ部の受光素子と上記第２の光センサ部の受光素子とが直列に接続された接続ノードに設けられたキャパシタを有し、上記キャパシタに蓄積された電荷に基づく出力信号により、上記差分処理を行う
請求項８または９記載の表示装置。
【請求項１１】
上記第１の光センサ部の受光素子のアノードと上記第２の光センサ部の受光素子のカソードとが上記接続ノードに接続されており、
上記信号処理部は、上記キャパシタに蓄積された電荷を放電させてリセットするリセットＴＦＴを有する
請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
上記表示セルのマトリクス配列に混在して、上記第１の光センサ部および上記第２の光センサ部が配置され、上記表示セルの走査線と共に、列方向に沿って複数の上記リセットＴＦＴにリセット信号を供給する配線を有している
請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
上記有効表示領域部は表面輝度が変更可能であり、
上記信号処理部は、
上記差分処理結果に応じて上記有効表示領域部の表面輝度を変化させる
請求項１から５のいずれか一に記載の表示装置。
【請求項１４】
表示光を上記有効表示領域部に照射するバックライトを有し、
上記信号処理部は、
上記バックライトによる表示光のレベルを制御する
請求項１３記載の表示装置。
【請求項１５】
表示装置を有する電子機器であって、
上記表示装置は、
受光素子が形成される第１基板と、
上記第２透明基板と対向して配置される第２基板と、
上記第２基板から上記受光素子へ入射する光の強度を検出する第１の光センサ部と、
上記第２基板から上記受光素子へ入射する光路に赤外フィルタが配置された第２の光センサ部と、
上記第１の光センサ部および第２の光センサ部に形成されて上記第２基板から入射する光を遮蔽するめの遮光マスクと、
上記第１の光センサ部の検出信号と上記第２の光センサ部の検出信号との差分処理を行う信号処理部と、
を備え、
上記遮光マスクには、上記第１の光センサ部の受光素子に光を導く第１の開口部および上記第２の光センサ部の受光素子に光を導く第２の開口部が形成され、
上記赤外フィルタは、上記第２の開口部に、少なくとも２種類のカラーフィルタを上記遮光マスクより上記第１基板側に積層して形成されている
電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示画素部や額縁上に光センサを備えた表示装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フォトセンサで外光の照度を検出することにより、環境照度が明るい場合は、画面輝度を上げ、環境照度が暗い場合は逆に画面輝度を下げる技術が知られている。この技術を用いることで画面が見やすくなるばかりでなく、液晶表示装置などのようにバックライトシステムにより表示している場合などは、バックライトシステムの消費電力の削減になり、携帯電話等のモバイルアプリケーションの電池寿命へ貢献できることからこの種技術が種々検討されている。
【０００３】
また、表示装置自体に座標入力機能を設けた技術がいくつか提案されている。
具体的には、たとえば、感圧式タッチパネル（特許文献１，２を参照）方式による表示装置や電磁誘導型タッチパネル方式（特許文献３を参照）による表示装置などが知られている。
【０００４】
しかし、上記のような座標入力機能付随の表示装置は小型化するのが困難であり、通常の表示装置と比較し、コストが高くなってしまうという問題点があった。
そこで、近年、上記の問題を解決すべく表示装置の各画素に受光素子を設け、受光素子への入射光を検知することにより表示装置内の座標を特定する表示装置の開発が盛んに行われている（特許文献４，５を参照）。
【０００５】
上記のように、受光素子を設けることによって表示装置内の座標入力を可能とした装置は、座標入力機能を設けた表示装置と比較し、小型化が可能でコストも低減できるという利点を有するだけでなく、多点座標入力や面積入力も可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２-１４９０８５号公報
【特許文献２】特開２００２-４１２４４号公報
【特許文献３】特開平１１-１３４１０５号公報
【特許文献４】特開２００４-３１８０６７号公報
【特許文献５】特開２００４-３１８８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、フォトセンサは可視光のみならず、図１に示すように、近赤外域にも感度を持つ。
このために、環境光に赤外を持つような白熱球下などでは、赤外域の光を検出してしまい、本来さほど照度が高くない環境でも、照度が比較的高い環境であるかの如く反応してしまい、環境照度の評価誤差が大きくなる。
【０００８】
そこで、可視域の照度だけを評価するために、赤外カットフィルタを別途センサ前に装着する必要があった。
この赤外カットフィルタは、通常ガラスに無機膜を多層コートした誘電体フィルタか赤外域に吸収をもつ色素をコーティングしたフィルタが用いられてきた。
【０００９】
ところが、表示デバイスの表示領域の周辺に作り込む場合、センサ部分に別途フィルタを取り付けるためには、表示領域との干渉を避けるために、ある程度表示領域からの距離を保って装着する必要があり、画面照度を測定する場合の誤差となる。
さらには、別途フィルタを設けるので、部品点数の増加や、製造プロセスが煩雑となり、コスト増にもつながる。
【００１０】
また、液晶表示デバイスのように、表示に偏光板のようなフィルムを用いる場合、そのフィルムと赤外カットフィルタの一体化により、部品点数の削減や、フォトセンサの表示領域付近への配置の方法も考えられるが、赤外カットフィルタは、それそのものが着色されているために、表示品位そのものへ影響してしまい採用は難しい。
【００１１】
また、上記システムあるいは指等の検出対象物のバックライト光からの反射光を利用して、タッチパネルやイメージセンサ等を実現するシステムにおいて、表示装置内部での反射光ノイズをリアルタイムで除去できないという不利益がある。
また、上記バックライト光によるシステム、もしくは外光による撮像システムにおいて、ディスプレイ部からの干渉ノイズをリアルタイムで除去できない。
また、このような理由のため、温度特性、時間変動に強い高信頼性システムが実現できない。
また、高信頼性システムを実現使用とすると、電源投入時のキャリブレーション動作が必要になる。
【００１２】
本発明は、プロセスや部品の増加を招くことなく容易に赤外フィルタを形成可能であり、かつ電源投入時のキャリブレーション動作を要することなく、ノイズによる影響を小さくでき、受光システムのＳＮ比を向上することが可能な表示装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１の観点の表示装置は、受光素子を含み、表示領域における外光の強度を検出する第１の光センサ部と、受光素子を含み、当該受光素子への光路に赤外フィルタが配置された第２の光センサ部と、上記第１の光センサ部の検出信号と上記第２の光センサ部の検出信号との差分処理を行う信号処理部と、を有し、上記赤外フィルタは、少なくとも２種類のカラーフィルタを積層して形成されている。
【００１４】
好適には、上記赤外フィルタは、色の三原色である赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）のカラーフィルタのうち、赤用カラーフィルタと青用カラーフィルタの２層、赤用カラーフィルタと緑用カラーフィルタの２層、赤用カラーフィルタと緑用カラーフィルタと青用カラーフィルタの３層のうちのいずれかの積層構造を有する。
【００１５】
好適には、上記第１の光センサ部は、遮光マスクに、上記受光素子に光を導く開口部が形成され、上記第２の光センサ部は、遮光マスクに、上記受光素子に光を導く開口部が形成され、当該開口部に上記赤外フィルタが形成されている。
【００１６】
好適には、上記第１の光センサ部の開口部に、一つのカラーフィルタが形成されている。
【００１７】
好適には、上記表示部は表面輝度が変更可能であり、上記信号処理部は、上記差分信号処理結果に応じて上記表示部の表面輝度を変化させる。
【００１８】
好適には、表示光を上記表示部に照射するバックライトを有し、上記信号処理部は、上記バックライトによる表示光のレベルを制御する。
【００１９】
好適には、上記第１の光センサ部は、物体からの反射光を検出可能であり、上記信号処理部は、上記第１の光センサ部の検出信号と上記第２の光センサ部の検出信号との差分処理結果により上記第１の光センサ部に物体があるか否かを示す信号を出力する。
【００２０】
好適には、有効表示領域部に、複数の表示セルがマトリクス状に配列され、上記表示セルのマトリクス配列に混在して、上記第１の光センサ部および上記第２の光センサ部のうち少なくとも上記第１の光センサ部が配列されている。
【００２１】
好適には、複数の上記第１の光センサ部が、各表示セルに隣接してそれぞれ配列されている。
【００２２】
好適には、上記有効表示領域部は、上記バックライトに対向して配置され、セル回路および受光素子が形成される第１透明基板と、上記第２透明基板と対向して配置される第２透明基板と、上記第１透明基板および上記第２透明基板間に配置された液晶層と、上記第１の光センサ部および第２の光センサ部に形成されて光を遮蔽するめの遮光マスクと、を有し、上記第１の光センサ部および第２の光センサ部の遮光マスクには、光を受光素子に導くための開口部が形成され、上記第２の光センサ部の開口部に上記赤外センサが形成されている。
【００２３】
本発明の第２の観点は、表示装置を有する電子機器であって、上記表示装置は、受光素子を含み、表示領域における外光の強度を検出する第１の光センサ部と、受光素子を含み、当該受光素子への光路に赤外フィルタが配置された第２の光センサ部と、上記第１の光センサ部の検出信号と上記第２の光センサ部の検出信号との差分処理を行う信号処理部と、を有し、上記赤外フィルタは、少なくとも２種類のカラーフィルタを積層して形成されている。
【００２４】
本発明によれば、第２の光センサ部で赤外光が検出される。そして、信号処理部において、第１の光センサ部の検出信号と第２の光センサ部の検出信号の対する差分処理が行われる。その処理結果の信号は、第１の光センサ部内の反射ノイズや遮光時の暗電流および近赤外領域の感度による漏れ電流、オフセットノイズの影響を極めて小さく抑えた信号となる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、プロセスや部品の増加を招くことなく容易に赤外フィルタを形成可能であり、かつ電源投入時のキャリブレーション動作を要することなく、ノイズによる影響を小さくでき、受光システムのＳＮ比を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】光センサの素子特性を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の構成例を示すブロック図である。
【図３】図２の液晶表示装置における有効画素領域の構成例を示す図である。
【図４】本実施形態に係る光検出部の構成例を示す回路図である。
【図５】第１の光センサ部および第２の光センサ部のフォトセンサ（受光素子）をＴＦＴにより形成した構造例を示す断面図である。
【図６】Ｒ色フィルタ、Ｇ色フィルタ、およびＢ色フィルタの各カラーフィルタの可視領域と赤外領域の吸収スペクトルを示す図である。
【図７】赤外フィルタの第１の構成例を示す図である。
【図８】図７の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
【図９】図７のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【図１０】赤外フィルタの第２の構成例を示す図である。
【図１１】図１０の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
【図１２】図１０のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【図１３】赤外フィルタの第３の構成例を示す図である。
【図１４】図１３の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
【図１５】図１３のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【図１６】赤外フィルタの第４の構成例を示す図である。
【図１７】図１６の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
【図１８】図１６のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【図１９】第１〜第４の構成例の赤外フィルタを有する第２の光センサ部の赤外感度特性の一例を示す図である。
【図２０】第２の光センサ部のＧ色フィルタとＲ色フィルタの２色のカラーフィルタを積層した赤外フィルタと第１の光センサ部の第１の構成例を示す図である。
【図２１】第２の光センサ部のＧ色フィルタとＲ色フィルタの２色のカラーフィルタを積層した赤外フィルタと第１の光センサ部の第２の構成例を示す図である。
【図２２】本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置の構成例を示すブロック図である。
【図２３】図２２の液晶表示装置における有効表示領域部の構成例を示す図である。
【図２４】本第２の実施形態に係る第１の光センサ部（第２の光センサ部）の基本構成例を示す回路図である。
【図２５】本実施形態に係る第１の光センサ部の簡略断面図である。
【図２６】本実施形態に係る第２の光センサ部の簡略断面図である。
【図２７】本実施形態に係る第１の光センサ部と第２の光センサ部の配置の他の例を示す図である。
【図２８】バックライトの反射光の検出システムを模式的に示す図である。
【図２９】本実施形態に係る第１の光センサ部と第２の光センサ部の出力信号の差分信号処理によりノイズの除去できる理由を説明するための図である。
【図３０】フラット型のモジュール形状の例を示す模式図である。
【図３１】本実施形態が適用されるテレビを示す斜視図である。
【図３２】本実施形態が適用されるデジタルカメラを示す斜視図である。
【図３３】本実施形態が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図３４】本実施形態が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。
【図３５】本実施形態が適用される携帯端末装置、たとえば携帯電話機を示す図である。
【図３６】本発明の実施形態に係る表示撮像装置の構成を表すブロック図である。
【図３７】図３６に示したＩ／Ｏディスプレイパネルの構成例を表すブロック図である。
【図３８】各画素の構成例を表す回路図である。
【図３９】各画素とセンサ読み出し用Ｈドライバとの接続関係を説明するための回路図である。
【図４０】バックライトのオン・オフ状態と表示状態との関係について説明するためのタイミング図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態を添付図面に関連付けて説明する。
【００２８】
＜第１実施形態＞
図２は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の構成例を示すブロック図である。
図３（Ａ）〜（Ｃ）は、図２の液晶表示装置における有効表示領域部の構成例を示す図であって、図３（Ａ）はセルのマトリクス配列を、図３（Ｂ）は平面図を、図３（Ｃ）は断面図をそれぞれ示している。
また、図４は、本実施形態に係る光検出回路の構成例を示す図である。
【００２９】
液晶表示装置１は、図２に示すように、表示部としての有効表示領域部（画像表示部）２、光検出部（ＬＤＴＣ）３、垂直駆動回路（ＶＤＲＶ）４、水平駆動回路（ＨＤＲＶ）５、および信号処理回路（ＳＰＲＣ）６を有している。
【００３０】
本実施形態の液晶表示装置１は、外光の強度（照度）に応じて有効表示領域部２の表面輝度を変更可能（実際にはバックライト２５の発光強度を変更可能）に構成されている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１は、調光機能を有している。
【００３１】
有効表示領域部２は、表示画素を形成する表示回路２１０を含む複数の表示セル２１がマトリクス状に配列されている。有効表示領域部２は、表示画面を形成する。
そして、有効表示領域部２に隣接（近接）して光検出部３が配置されている。
なお、光検出部３は、有効表示領域部２外部（表示領域部の有効領域外の非表示領域部）に隣接して形成する代わりに、後で第２の実施形態として説明するように、有効表示領域部２と一体的に形成することも可能である。
【００３２】
光検出部３は、図４に示すように、第１の光センサ部３１、第２の光センサ部３２、リセット用スイッチ３３、コンパレータ３４、およびキャパシタＣ３１を有する。
【００３３】
第１の光センサ部３１は、受光素子（フォトセンサ、調光側センサ）３１１を含み、有効表示領域部２における外光の強度を検出する。
第２の光センサ部３２は、受光素子３２１を含み、この受光素子３２１への光路に赤外フィルタＦＬＴ３２１が配置され、遮光時の暗電流および近赤外領域の感度による漏れ電流を検出可能に構成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ３２１は、後で詳述するように、少なくとも２種類のカラーフィルタを積層して形成されている。より具体的には、赤外フィルタＦＬＴ３２１は、色の三原色である赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）のカラーフィルタのうち、赤用カラーフィルタＦＬＴ−Ｒと青用カラーフィルタＦＬＴ−Ｂの２層、赤用カラーフィルタＦＬＴ−Ｒと緑用カラーフィルタＦＬＴ−Ｇの２層、赤用カラーフィルタＦＬＴ−Ｒと緑用カラーフィルタＦＬＴ−Ｇと青用カラーフィルタＦＬＴ−Ｂの３層のうちのいずれの積層構造を有する。
【００３４】
なお、第１の光センサ部３１および第２の光センサ部３２は、たとえば遮光物体（たとえばユーザの指）が上部にかざされず、かつ、外光を受光してその外光レベルを検出可能な領域に配置される。
【００３５】
図４の光検出部３においては、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）と第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）とが、電源電位ＶＤＤと基準電位ＶＳＳ（たとえば接地電位ＧＮＤ）との間に、直近で（近接させて）直列に接続されている。
そして、光検出部３は、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）の検出電流成分から第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）の検出電流成分である赤外成分を取り除いた信号を、コンパレータ３４を用いて参照電圧との比較結果して外光強度信号を得、検出信号Ｓ３として信号処理回路６に出力する。
光検出部３による検出信号Ｓ３は、調光側センサ３１１が検出した赤外域の検出成分が除去されている。
このように、光検出部３は、第１の光センサ部の検出信号と第２の光センサ部の検出信号との差分処理を行う信号処理部としての機能を有している。
【００３６】
そして、信号処理回路６は、光検出部３による検出信号Ｓ３に応じて、有効表示領域部２に与える光量を制御する。
本実施形態においては、信号処理回路６は、光検出部３の検出信号Ｓ３の出力レベルに応じて、制御信号ＣＴＬにより、有効表示領域部（画面表示部）２の表面輝度を変化させる。
【００３７】
有効表示領域部２の説明に戻る。
たとえば、有効表示領域部２の所定領域において、図３中の左から、色の三原色に対応したＲ色の表示セル２１Ｒ、Ｇ色の表示セル２１Ｇ、Ｂ色の表示セル２１Ｂが配列され、たとえば図示しない遮光マスク（ブラックマスク）を介して、あるいはブラックマスクを介さずにこの配列が繰り返される。
【００３８】
また、有効表示領域部２においては、図３（Ｂ）に示すように、Ｒ色の表示セル２１Ｒの配置領域にはＲ色フィルタＦＬＴ−Ｒ、Ｇ色の表示セル２１Ｇの配置領域にはＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇ、Ｂ色の表示セル２１Ｂの配置領域にはＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂが形成されている。
【００３９】
有効表示領域部２においては、図３（Ｃ）に示すように、たとえばガラスにより形成されたＴＦＴ基板（第１透明基板）２２と対向基板（第２透明基板）２３との間に液晶層２４が封入されて形成されている。また、たとえばＴＦＴ基板２２の底面２２１側にバックライト２５が配置されている。
また、ＴＦＴ基板２２の基面２２２側には各表示セル２１の表示回路２１０が形成されている。
一方、対向基板２３の基面２３１には各種フィルタＦＬＴ−Ｒ，ＦＬＴ−Ｇ，ＦＬＴ−Ｂが形成されている。
【００４０】
各表示セル２１における表示回路２１０は、図３（Ａ）に示すように、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；thin film transistor）２１１と、ＴＦＴ２１１のドレイン電極（またはソース電極）に画素電極が接続された液晶セル（ＬＣ）２１２と、ＴＦＴ２１１のドレイン電極に一方の電極が接続された保持容量（Ｃｓ）２１３とにより構成されている。
【００４１】
これら表示セル２１の各々に対して、走査線（ゲート線）７−１〜７−ｍが各行ごとにその画素配列方向に沿って配線され、表示信号線８−１〜８−ｎが列ごとにその画素配列方向に沿って配線されている。
そして、各表示セル２１のＴＦＴ２１１のゲート電極は、各行単位で同一の走査線（ゲート線）７−１〜７−ｍにそれぞれ接続されている。また、各表示セル２１のＴＦＴ２１１のソース電極（または、ドレイン電極）は、各列単位で同一の表示信号線８−１〜８−ｎに各々接続されている。
【００４２】
図３（Ａ）の構成においては、走査線７−１〜７−ｍは垂直駆動回路４に接続されて、この垂直駆動回路４により駆動される。
また、表示セル２１に対応した配線された表示信号線８−１〜８−ｎは水平駆動回路５に接続され、この水平駆動回路５により駆動される。
【００４３】
さらに、一般的な液晶表示装置においては、画素保持容量配線（Ｃｓ）９−１〜９−ｍが独立に配線され、この画素保持容量配線９−１〜９−ｍと接続電極との間に保持容量２１３が形成されている。
そして、各画素部の表示セル２１の液晶セル２１２の対向電極および／または保持容量２１３の他方の電極には、コモン配線（共通配線）を通してたとえば所定の直流電圧がコモン電圧ＶＣＯＭとして与えられる。
あるいは、各表示セル２１の液晶セル２１２の対向電極および保持容量２１３の他方の電極には、たとえば１水平走査期間（１Ｈ）毎に極性が反転するコモン電圧ＶＣＯＭが与えられる。
【００４４】
垂直駆動回路４は、図示しないクロックジェネレータにより生成された垂直スタート信号ＶＳＴ、垂直クロックＶＣＫ、イネーブル信号ＥＮＢを受けて、１フィールド期間ごとに垂直方向（行方向）に走査して走査線７−１〜７−ｍに接続された各表示セル２１を行単位で順次選択する処理を行う。
すなわち、垂直駆動回路４から走査線７−１に対して走査パルスＳＰ１が与えられたときには第１行目の各列の画素が選択され、走査線７−２に対して走査パルスＳＰ２が与えられたときには第２行目の各列の画素が選択される。以下同様にして、走査線７−３，…，７−ｍに対して走査パルスＳＰ３，…，ＳＰｍが順に与えられる。
【００４５】
水平駆動回路５は、図示しないクロックジェネレータにより生成された水平走査の開始を指令する水平スタートパルスＨＳＴ、水平走査の基準となる互いに逆相の水平クロックＨＣＫを受けてサンプリングパルスを生成し、入力される画像データＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）を、生成したサンプリングパルスに応答して順次サンプリングして、各表示セル２１に書き込むベきデータ信号として各表示信号線８−１〜８−ｎに供給する。
【００４６】
以下に、光検出部３における第１のセンサ部３１および第２のセンサ部３２の構成についてさらに詳細に説明する。
【００４７】
図５は、第１の光センサ部および第２の光センサ部のフォトセンサ（受光素子）をＴＦＴにより形成した構造例を示す断面図である。
【００４８】
ＴＦＴ基板２２（透明絶縁基板、たとえばガラス基板）上にゲート絶縁膜３３１で覆われたゲート電極３３２が形成されている。ゲート電極は、たとえばモリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）などの金属または合金をスパッタリングなどの方法で成膜して形成される。
ゲート絶縁膜３３１上に半導体膜（チャネル形成領域）３３３、並びに半導体膜３３３を挟んで一対のｎ―拡散層（ＬＤＤ領域）３３４，３３５、ｎ＋拡散層３３６，３３７(ソース、ドレイン領域)が形成されている。さらに、ゲート絶縁膜３３１、半導体層（チャネル形成領域）３３３、ｎ―拡散層（ＬＤＤ領域）３３４，３３５、ｎ＋拡散層３３６，３３７(ソース、ドレイン領域)を覆うように層間絶縁膜３３８が形成され、層間絶縁膜３３８を覆うように層間絶縁膜３３９が形成されている。層間絶縁膜３３９は、たとえばＳｉＮ、ＳｉＯ２等により形成される。
一方のｎ＋拡散層３３６には、層間絶縁膜３３８，３３９に形成されたコンタクトホール３４０ａを介してソース電極３４１が接続され、他方のｎ＋拡散層３３７には、層間絶縁膜３３８，３３９に形成されたコンタクトホール３４０ｂを介してドレイン電極３４２が接続される。
ソース電極３４１およびドレイン電極３４２は、たとえばアルミニウム（Ａｌ）をパターニングしたものである。
層間絶縁膜３３８、ソース電極３４１、ドレイン電極３４２、層間絶縁膜３３９上に平坦化膜３４３が形成されている。
そして、たとえば表示領域部の有効表示領域あるいは、非表示領域に配置される場合には、この平坦化膜３４３上に液晶層２４が形成される。
【００４９】
そして、本実施形態においては、たとえば第２の光センサ部３２のブラックマスクＢＭＳＫに形成される開口部にカラーフィルタの多層構造からなる赤外フィルタＦＬＴ３２１が形成されている。
ここで、本実施形態に係る赤外フィルタＦＬＴ３２１の構成例および作製方法について、図面に関連付けて説明する。
【００５０】
図６に、Ｒ色フィルタ（カラーフィルタ）ＦＬＴ−Ｒ、Ｇ色フィルタＦＬＴ−Ｇ、およびＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの各カラーフィルタＣＦの可視領域（ＶＩＳ）と赤外領域ＮＩＲの吸収スペクトルを示す。
図６において、横軸は波長を、縦軸が吸収率をそれぞれ示している。
【００５１】
図７は、赤外フィルタの第１の構成例を示す図である。
また、図８は、図７の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
図８において、横軸が波長を、縦軸が透過率をそれぞれ示している。
【００５２】
図７の赤外フィルタＦＬＴ３２１−１は、ブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３２１にＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの２色のカラーフィルタを積層して形成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ３２１−１は、図８に示すように、赤外域に対して良好な透過特性を有している。
また、図８の例では、第１の光センサ部３１におけるブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３１１に可視光を良好に受光素子（フォトセンサ）３１１に導くように、１層のＧ色フィルタＦＴＬ−Ｇが形成されている。この第１の光センサ部３１のＧ色フィルタＦＴＬ−Ｇはなくても良い。
【００５３】
図９（Ａ）〜（Ｌ）は、図７のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【００５４】
まず、図９（Ａ）に示すように、ガラス基板（対向基板）２３のブラック（黒）光感光レジスト４０１を塗布する。
次に、図９（Ｂ）に示すように、ブラック光感光レジスト４０１上にフォトマスク４０２を形成し、ブラック光感光レジスト４０１を選択的に露光する。
そして、図９（Ｃ）に示すように、ブラックのパターンを現像する。
次に、図９（Ｄ）に示すように、グリーン（Ｇ）光感光レジスト４０３を塗布する。
図９（Ｅ）に示すように、グリーン光感光レジスト４０３上にフォトマスク４０４を形成し、グリーン光感光レジスト４０３を選択的に露光する。
そして、図９（Ｆ）に示すように、グリーンのパターンを現像する。
次に、図９（Ｇ）に示すように、レッド（Ｒ）光感光レジスト４０５を塗布する。
図９（Ｈ）に示すように、レッド光感光レジスト４０５上にフォトマスク４０６を形成し、レッド光感光レジスト４０５を選択的に露光する。
そして、図９（Ｉ）に示すように、レッドのパターンを現像する。
次に、図９（Ｊ）に示すように、ブルー（Ｂ）光感光レジスト４０７を塗布する。
図９（Ｋ）に示すように、ブルー光感光レジスト４０７上にフォトマスク４０８を形成し、ブルー光感光レジスト４０７を選択的に露光する。
そして、図１２（Ｌ）に示すように、ブルーのパターンを現像する。
以上の製造プロセスを経て第２の光センサ部３２の赤外フィルタＦＬＴ３２１−２、および第１の光センサ部３１のＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇが形成される。
【００５５】
図１０は、赤外フィルタの第２の構成例を示す図である。
また、図１１は、図１０の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
図１１において、横軸が波長を、縦軸が透過率をそれぞれ示している。
【００５６】
図１０の赤外フィルタＦＬＴ３２１−２は、ブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３２１にＧ色フィルタＦＬＴ−ＧとＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの３色のカラーフィルタを積層して形成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ３２１−２は、図１１に示すように、赤外域に対して良好な透過特性を有している。
また、図１０の例では、図７の例と同様に、第１の光センサ部３１におけるブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３１１に可視光を良好に受光素子（フォトセンサ）３１１に導くように、１層のＧ色フィルタＦＴＬ−Ｇが形成されている。この第１の光センサ部３１のＧ色フィルタＦＴＬ−Ｇはなくても良い。
【００５７】
図１２（Ａ）〜（Ｌ）は、図１０のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【００５８】
まず、図１２（Ａ）に示すように、ガラス基板（対向基板）２３のブラック（黒）光感光レジスト４１１を塗布する。
次に、図１２（Ｂ）に示すように、ブラック光感光レジスト４１１上にフォトマスク４１２を形成し、ブラック光感光レジスト４１１を選択的に露光する。
そして、図１２（Ｃ）に示すように、ブラックのパターンを現像する。
次に、図１２（Ｄ）に示すように、グリーン（Ｇ）光感光レジスト４１３を塗布する。
図１２（Ｅ）に示すように、グリーン光感光レジスト４１３上にフォトマスク４１４を形成し、グリーン光感光レジスト４１３を選択的に露光する。
そして、図１２（Ｆ）に示すように、グリーンのパターンを現像する。
次に、図１２（Ｇ）に示すように、レッド（Ｒ）光感光レジスト４１５を塗布する。
図１２（Ｈ）に示すように、レッド光感光レジスト４１５上にフォトマスク４１６を形成し、レッド光感光レジスト４１５を選択的に露光する。
そして、図１２（Ｉ）に示すように、レッドのパターンを現像する。
次に、図１２（Ｊ）に示すように、ブルー（Ｂ）光感光レジスト４１７を塗布する。
図１２（Ｋ）に示すように、ブルー光感光レジスト４１７上にフォトマスク４１８を形成し、ブルー光感光レジスト４１７を選択的に露光する。
そして、図１２（Ｌ）に示すように、ブルーのパターンを現像する。
以上の製造プロセスを経て第２の光センサ部３２の赤外フィルタＦＴＬ３２１−２、および第１の光センサ部３１のＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇが形成される。
【００５９】
図１３は、赤外フィルタの第３の構成例を示す図である。
また、図１４は、図１３の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
図１４において、横軸が波長を、縦軸が透過率をそれぞれ示している。
【００６０】
図１３の赤外フィルタＦＬＴ３２１−３は、図１０の第１の構成例と同様に、ブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３２１にＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの２色のカラーフィルタを積層して形成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ３２１−３は、図１４に示すように、赤外域に対して良好な透過特性を有している。
また、図１３の例では、図７の例と異なり、第１の光センサ部３１におけるブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３１１にＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇが形成されていない。
【００６１】
図１５（Ａ）〜（Ｌ）は、図１３のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【００６２】
まず、図１５（Ａ）に示すように、ガラス基板（対向基板）２３のブラック（黒）光感光レジスト４２１を塗布する。
次に、図１５（Ｂ）に示すように、ブラック光感光レジスト４２１上にフォトマスク４２２を形成し、ブラック光感光レジスト４２１を選択的に露光する。
そして、図１５（Ｃ）に示すように、ブラックのパターンを現像する。
次に、図１５（Ｄ）に示すように、グリーン（Ｇ）光感光レジスト４２３を塗布する。
図１５（Ｅ）に示すように、グリーン光感光レジスト４２３上にフォトマスク４２４を形成し、グリーン光感光レジスト４２３を選択的に露光する。
そして、図１５（Ｆ）に示すように、グリーンのパターンを現像する。
次に、図１５（Ｇ）に示すように、レッド（Ｒ）光感光レジスト４２５を塗布する。
図１５（Ｈ）に示すように、レッド光感光レジスト４２５上にフォトマスク４２６を形成し、レッド光感光レジスト４２５を選択的に露光する。
そして、図１５（Ｉ）に示すように、レッドのパターンを現像する。
次に、図１５（Ｊ）に示すように、ブルー（Ｂ）光感光レジスト４２７を塗布する。
図１５（Ｋ）に示すように、ブルー光感光レジスト４２７上にフォトマスク４２８を形成し、ブルー光感光レジスト４２７を選択的に露光する。
そして、図１５（Ｌ）に示すように、ブルーのパターンを現像する。
以上の製造プロセスを経て第２の光センサ部３２の赤外フィルタＦＬＴ３２１−３、および第１の光センサ部３１の開口部ＢＭＳＫ３１１が形成される。
【００６３】
図１６は、赤外フィルタの第４の構成例を示す図である。
また、図１７は、図１６の赤外フィルタの分光特性を示す図である。
図１７において、横軸が波長を、縦軸が透過率をそれぞれ示している。
【００６４】
図１６の赤外フィルタＦＬＴ３２１−４は、図１０の第２の構成例と同様に、ブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３２１にＧ色フィルタＦＬＴ−ＧとＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの３色のカラーフィルタを積層して形成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ３２１−４は、図１７に示すように、赤外域に対して良好な透過特性を有している。
また、図１６の例では、図１０の例と異なり、第１の光センサ部３１におけるブラックマスクＢＭＳＫの開口部ＢＭＳＫ３１１にＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇが形成されていない。
【００６５】
図１８（Ａ）〜（Ｌ）は、図１６のフィルタの製造プロセスを示す図である。
【００６６】
まず、図１８（Ａ）に示すように、ガラス基板（対向基板）２３のブラック（黒）光感光レジスト４３１を塗布する。
次に、図１８（Ｂ）に示すように、ブラック光感光レジスト４３１上にフォトマスク４３２を形成し、ブラック光感光レジスト４３１を選択的に露光する。
そして、図１８（Ｃ）に示すように、ブラックのパターンを現像する。
次に、図１８（Ｄ）に示すように、グリーン（Ｇ）光感光レジスト４３３を塗布する。
図１８（Ｅ）に示すように、グリーン光感光レジスト４３３上にフォトマスク４３４を形成し、グリーン光感光レジスト４３３を選択的に露光する。
そして、図１８（Ｆ）に示すように、グリーンのパターンを現像する。
次に、図１８（Ｇ）に示すように、レッド（Ｒ）光感光レジスト４３５を塗布する。
図１８（Ｈ）に示すように、レッド光感光レジスト４３５上にフォトマスク４３６を形成し、レッド光感光レジスト４３５を選択的に露光する。
そして、図１８（Ｉ）に示すように、レッドのパターンを現像する。
次に、図１８（Ｊ）に示すように、ブルー（Ｂ）光感光レジスト４３７を塗布する。
図１８（Ｋ）に示すように、ブルー光感光レジスト４３７上にフォトマスク４３８を形成し、ブルー光感光レジスト４３７を選択的に露光する。
そして、図１８（Ｌ）に示すように、ブルーのパターンを現像する。
以上の製造プロセスを経て第２の光センサ部３２の赤外フィルタＦＬＴ３２１−４、および第１の光センサ部３１の開口部ＢＭＳＫ３１１が形成される。
【００６７】
図１９は、第１〜第４の構成例の赤外フィルタを有する第２の光センサ部の赤外感度特性の一例を示す図である。
【００６８】
図１９においては、（Ａ）赤外フィルタを形成しない場合、（Ｂ）Ｇ色フィルタＦＬＴ−Ｇの１層のみのカラーフィルタを形成した場合、（Ｃ）Ｒ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの２色のカラーフィルタを積層した場合、（Ｄ）Ｇ色フィルタＦＬＴ−ＧとＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの３色のカラーフィルタを積層した場合の赤外感度特性を示している。
【００６９】
図１９からわかるように、赤外フィルタを形成しない場合、およびＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇの１層のカラーフィルタのみを形成した場合は近赤外領域の感度は良くない。
これに対して、Ｒ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの２色のカラーフィルタを積層した場合、およびＧ色フィルタＦＬＴ−ＧとＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの３色のカラーフィルタを積層した場合は近赤外領域の感度は良好である。
このことから、近赤外領域の感度が良好な赤外フィルタを実現するには、異なる色のカラーフィルタを２層以上積層して形成する必要があることがわかる。
【００７０】
なお、以上の説明においては、２層構造の赤外フィルタとしてＲ色フィルタＦＬＴ−ＲとＢ色フィルタＦＬＴ−Ｂの２色のカラーフィルタを積層した場合を例に説明したが、図２０および図２１に示すように、Ｇ色フィルタＦＬＴ−ＧとＲ色フィルタＦＬＴ−Ｒの２色のカラーフィルタを積層した構成の赤外フィルタＦＬＴ３２１−５も適用することが可能である。
製造プロセスは、上述した方法と同様に行われることから、ここではその詳細な説明は省略する。
この場合も、近赤外領域の感度が良好である。
【００７１】
以上の構成を有する光検出部３においては、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）と第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）とが、電源電位ＶＤＤと基準電位ＶＳＳ（たとえば接地電位ＧＮＤ）との間に、直近で（近接させて）直列に接続されている。
光検出部３においては、有効表示領域部２に照射される外光が第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）で直接、または１層のたとえばＧ色フィルタＦＬＴ−Ｇを介して受光される。また、第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）においては、赤外フィルタＦＬＴ３２１を通過した赤外域の光が受光される。
そして、光検出部３は、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）の検出電流成分から第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）の検出電流成分である赤外成分が取り除かれた信号が、コンパレータ３４を用いて参照電圧と比較される。その比較結果、外光強度信号として得られ、検出信号Ｓ３として信号処理回路６に出力される。
光検出部３による検出信号Ｓ３は、調光側センサ（受光素子３１１）が検出した赤外域の検出成分が除去されている。
そして、信号処理回路６は、光検出部３の検出信号Ｓ３の出力レベルに応じて、制御信号ＣＴＬにより、有効表示領域部（画面表示部）２の表面輝度を変化させる。
【００７２】
以上説明したように、本第１の実施形態によれば、光検出部３は、受光素子３１１を含み表示領域における外光の強度を検出する第１の光センサ部３１と、受光素子３２１への光路に赤外フィルタＦＬＴ３２１が配置された第２の光センサ部３２と、を有し、第１の光センサ部３１の出力から第２の光センサ部３２の検出した少なくとも赤外成分に相当する成分を取り除く機能を有し、赤外フィルタＦＬＴ３２１は、少なくとも２種類のカラーフィルタを積層して形成されていることから、以下の効果を得ることができる。
【００７３】
すなわち、本実施形態によれば、センサの個体差をキャンセルするばかりでなく、近赤外感度をキャンセルすることが可能となり、可視領域の環境照度を正確に評価可能となる。
また、赤外フィルタを既存のカラーフィルタと同時に形成できるので、製造プロセスにも影響が無く、コスト増を招くこともない。
また、赤外フィルタの形成にフォトリソグラフィプロセスを用いるので、フィルタ形成の位置精度が良く、表示領域付近にセンサを配置した場合でも、表示領域と、センサとの干渉もなく、センサの配置に対して制約がなくなる。
また、電源投入時のキャリブレーション動作を要することなく、ノイズによる影響を小さくでき、受光システムのＳＮ比を向上することが可能となる。
【００７４】
＜第２実施形態＞
図２２は、本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置の構成例を示すブロック図である。
図２３（Ａ）〜（Ｃ）は、図２２の液晶表示装置における有効表示領域部の構成例を示す図であって、図２３（Ａ）はセルのマトリクス配列を、図２３（Ｂ）は平面図を、図２３（Ｃ）は断面図をそれぞれ示している。
【００７５】
本第２の実施形態の液晶表示装置１Ａが上述した第１の実施形態の液晶表示装置１と異なる点は、上述した第１の実施形態においては、光検出部３を有効表示領域部２外部（表示領域部の有効領域外の非表示領域部）に隣接して形成したが、本第２の実施形態では、光検出部３Ａを有効表示領域部２Ａと一体的に形成したことにある。
【００７６】
本液晶表示装置１Ａは、図２２に示すように、表示部としての有効表示領域部（画像表示部）２Ａ、有効表示領域部２に一体的に形成された光検出部３Ａ、垂直駆動回路（ＶＤＲＶ）４、水平駆動回路（ＨＤＲＶ）５、信号処理回路（ＳＰＲＣ）６Ａ、および受光制御回路（ＲＣＴＬ）１０を有している。
【００７７】
本第２の実施形態の液晶表示装置１Ａは、外光の強度（照度）に応じて有効表示領域部２Ａの表面輝度を変更可能（実際にはバックライト２５の発光強度を変更可能）に構成されている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１Ａは、調光機能を有している。
【００７８】
有効表示領域部２Ａは、表示画素を形成する表示回路２１０を含む複数の表示セル２１がマトリクス状に配列されている。有効表示領域部２Ａは、表示画面を形成する。
そして、有効表示領域部２Ａにおいては、所定の領域に第１の光センサ部３１および第２の光センサ部３２を含む光検出部３Ａが配置されている。
【００７９】
光検出部３Ａの基本的な構成は、第１の実施形態と同様である。
すなわち、第１の光センサ部３１は、受光素子（フォトセンサ、調光側センサ）３１１を含み、有効表示領域部２Ａにおける外光の強度を検出する。
第２の光センサ部３２は、受光素子３２１を含み、この受光素子３２１への光路に赤外フィルタＦＬＴ３２１が配置され、遮光時の暗電流および近赤外領域の感度による漏れ電流を検出可能に構成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ３２１は、前述したように、少なくとも２種類のカラーフィルタを積層して形成されている。より具体的には、赤外フィルタＦＬＴ３２１は、色の三原色である赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）のカラーフィルタのうち、赤用カラーフィルタと青用カラーフィルタの２層、赤用カラーフィルタと緑用カラーフィルタの２層、赤用カラーフィルタと緑用カラーフィルタと青用カラーフィルタの３層のうちのいずれの積層構造を有する。
【００８０】
なお、第１の光センサ部３１および第２の光センサ部３２は、たとえば遮光物体物体（たとえばユーザの指）が上部にかざされず、かつ、外光を受光してその外光レベルを検出可能な領域に配置される。
【００８１】
たとえば、有効表示領域部２Ａの所定領域において、図２３中の左から、色の三原色に対応したＲ色の表示セル２１Ｒ、Ｇ色の表示セル２１Ｇ、Ｂ色の表示セル２１Ｂが配列されていて、この表示セル２１Ｂに隣接して光検出部３Ａが配置されている。
そして、たとえば、この光検出部３Ａに続いて、Ｒ色の表示セル２１Ｒ、さらにＧ色の表示セル２１Ｇ、Ｂ色の表示セル２１Ｂが配列されている。
【００８２】
図２３の光検出部３Ａにおいては、第１の実施形態の場合と同様に、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）と第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）とが、電源電位ＶＤＤと基準電位ＶＳＳ（たとえば接地電位ＧＮＤ）との間に、直近で（近接させて）直列に接続されている。
そして、光検出部３Ａは、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）の検出電流成分から第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）の検出電流成分である赤外成分を取り除いた信号を、コンパレータ３４を用いて参照電圧との比較結果して外光強度信号を得、検出信号Ｓ３として信号処理回路６Ａに出力する。
光検出部３Ａによる検出信号Ｓ３Ａは、調光側センサ（受光素子３１１）が検出した赤外域の検出成分が除去されている。
【００８３】
そして、信号処理回路６Ａは、光検出部３Ａによる検出信号Ｓ３Ａに応じて、有効表示領域部２Ａに与える光量を制御する。
本実施形態においては、信号処理回路６Ａは、光検出部３Ａの検出信号Ｓ３Ａの出力レベルに応じて、制御信号ＣＴＬにより、有効表示領域部（画面表示部）２Ａの表面輝度を変化させる。
【００８４】
有効表示領域部２Ａの説明に戻る。
光検出部３Ａの配置領域には遮光機能を有するブラックマスク（遮光マスク）ＢＭＳＫ３が形成されている。
第１の光センサ部３１に含まれるブラックマスクＢＭＳＫ３には、受光素子３１１に光を入射させるための開口部ＢＭＳＫ３１１が形成されている。あるいは、この開口部ＢＭＳＫ３１１には、たとえば１種類のカラーフィルタ、たとえばＧ色カラーフィルタＦＬＴ−Ｇが形成される。
同様に、第２の光センサ部３２に含まれるブラックマスクＢＭＳＫ３には、受光素子３２１に光を入射させるための開口部ＢＭＳＫ３２１が形成され、この開口部ＢＭＳＫ３２１にカラーフィルタの多層構造からなる赤外フィルタＦＬＴ３２１が形成されている。
この赤外フィルタＦＬＴ２３１の構造等については前述した通りである。
【００８５】
有効表示領域部２Ａにおいては、図２３（Ｃ）に示すように、図３（Ｃ）と同様、たとえばガラスにより形成されたＴＦＴ基板（第１透明基板）２２と対向基板（第２透明基板）２３との間に液晶層２４が封入されて形成されている。また、たとえばＴＦＴ基板２２の底面２２１側にバックライト２５が配置されている。
また、ＴＦＴ基板２２の基面２２２側には各表示セル２１の表示回路２１０、光検出部３Ａの読み出し回路３５０および受光素子（フォトセンサ）３１１（３２１）が形成されている。
一方、図２３（Ｃ）に示すように、対向基板２３の基面２３１には各種フィルタＦＬＴ−Ｒ，ＦＬＴ−Ｇ，ＦＬＴ−Ｂ、ブラックマスクＢＭＳＫ３、赤外フィルタＦＬＴ３２１（図２３には図示せず）が形成されている。
【００８６】
各表示セル２１における表示回路２１０は、第１の実施形態と同様であり、その説明は省略する。
【００８７】
また、有効表示領域部２Ａにおいては、光検出部３Ａに対応して受光信号線１１が配線されている。
受光信号線１１は、信号処理回路６Ａに接続され、受光制御回路１０の制御の下に読み出される検出信号Ｓ３Ａを信号処理回路６Ａに伝搬する。
また、光検出部３Ａに対して、第１の制御線（リセット信号線）１２、および第２の制御線（読み出し信号線）１３がその画素配列方向に沿って配線されている。
また、第１の制御線１２および第２の制御線１３は、受光制御回路１０により駆動制御される。
【００８８】
図２４は、本実施形態に係る第１の光センサ部（第２の光センサ部）の基本構成例を示す回路図であって、図２３（Ａ）の回路を拡大して示す図である。なお、図２４においては、隣接する表示セルの表示回路２１０も併せて示している。
【００８９】
本第２の実施形態の光検出部３Ａは、第１の光センサ部３１の受光素子３１１および第２の光センサ部３２の受光素子３２１の他に、読み出し回路３５０を形成するリセットＴＦＴ３５１、増幅ＴＦＴ３５２、選択（読み出し）ＴＦＴ３５３、受光信号蓄積容量（キャパシタ）３５４、およびノードＮＤ３５１を有している。
受光素子３１１，３２１は、ＴＦＴ、ダイオード等により形成される。
【００９０】
受光素子３１１と受光素子３２１は電源電位ＶＤＤと基準電位ＶＳＳ間に直列に接続されている。具体的には、受光素子３１１のカソード側が電源電位ＶＤＤに接続され、アノード側が受光素子３２１のカソード側に接続され、受光素子３２１のアノード側が基準電位ＶＳＳに接続されている。そして、受光素子３１１のアノード側と受光素子３２１のカソード側の接続点がリセットＴＦＴ３５１のドレインに接続されている。
リセットＴＦＴ３５１は、たとえばｎチャネルトランジスタにより形成され、そのソースが基準電位ＶＳＳ（たとえばグランドＧＮＤ）に接続され、ドレインがノードＮＤ３５１に接続されている。そして、リセットＴＦＴ３５１のゲート電極が対応する行に配線された第１の制御線１２に接続されている。
増幅ＴＦＴ３５２のゲートがノードＮＤ３５１に接続され、ドレインが電源電位ＶＤＤに接続され、ソースが選択ＴＦＴ３５３のドレインに接続されている。選択ＴＦＴ３５３のゲートが第２の制御線１３に接続され、ソースが対応する列に配線された受光信号線１１に接続されている。
この増幅ＴＦＴ３５２と選択ＴＦＴ３５３により、いわゆるソースフォロワが形成されている。したがって、受光信号線１１には電流源が接続される。この電流源は、本実施形態においては、たとえば信号処理回路６Ａに形成される。
また、キャパシタ（受光信号蓄積容量）３５４がノードＮＤ３５１と基準電位ＶＳＳとの間に接続されている。
【００９１】
図２５は、本第２の実施形態に係る第１の光センサ部３１の簡略断面図であって、図２３（Ｃ）の第１の光センサ部３１の部分を拡大して示す図である。
図２６は、本第２の実施形態に係る第２の光センサ部３２の簡略断面図であって、図２３（Ｃ）の第２の光センサ部３２の部分を拡大して示す図である。
【００９２】
光検出部３Ａの第１の光センサ部３１および第２の光センサ部３２は、基本的に、図２５および図２６に示すように、透明絶縁基板（たとえばガラス基板）により形成されたＴＦＴ基板２２の基面２２２側に形成されている。光検出部３Ａは、読み出し回路３５０および受光素子（フォトセンサ）３１１，３２１により構成されている。
対向基板透明絶縁基板（たとえばガラス基板）により形成された対向基板２３の基面２３１側にはブラックマスクＢＭＳＫ３が形成され、受光素子（フォトセンサ）３１１，３２１の形成領域と対向するブラックマスクＢＭＳＫ３には外光を受光素子（フォトセンサ）３１１，３２１に導く開口部ＢＭＳＫ３１１，ＢＭＳＫ３２１が形成されている。
そして、ＴＦＴ基板２２と対向基板２３との間に液晶層２４が封入されている。また、たとえばＴＦＴ基板２２の底面２２１側にバックライト２５が配置されている。
また、このＴＦＴ基板２２の底面２２１には偏光フィルタ２６が形成され、対向基板２３の前面（光入射面）２３２に偏光フィルタ２７が形成されている。
受光素子（フォトセンサ）３１１，３２１並びに読み出し回路３５０は、ＬＴＰＳ（低温ポリシリコン）ＴＦＴにより形成される。
【００９３】
そして、図５に関連付けて説明したように、第１の光センサ部および第２の光センサ部のフォトセンサ（受光素子）はＴＦＴにより形成することが可能である。
【００９４】
そして、本実施形態においては、第２の光センサ部３２の開口部ＢＭＳＫ３２１にカラーフィルタの多層構造からなる赤外フィルタＦＬＴ３２１が形成されている。
ここで、本実施形態に係る赤外フィルタＦＬＴ３２１の構成例および作製方法について、既に説明したことからここではその説明を省略する。
【００９５】
ここで、表示装置の構成および機能に説明に戻る。
【００９６】
第１の制御線１２と第２の制御配線１３は受光制御回路１０に接続されている。
受光制御回路１０は、所定のタイミングでリセットパルスＲＳＴを第１の制御線１２に印加する。
これにより、光検出部３Ａのリセット用ＴＦＴ３５１が一定期間オンし、ノードＮＤ３５１がリセットされる。
換言すれば、光検出部３Ａにおいては、たとえばノードＮＤ３５１に接続された受光信号蓄積容量３５４の電荷が放電されて、ノードＮＤ３５１の電位が基準電位にセットされ、光検出部３Ａが初期の状態となる。
この状態で受光素子３１１，３２１が所定の光量を受光すると、受光素子３１１，３２１が導通し、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）の検出電流成分から第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）の検出電流成分である赤外成分を取り除いた信号によりノードＮＤ３５１の電位が上昇し、キャパシタ（受光信号蓄積容量）３５４に電荷が蓄積される。
このとき、受光制御回路１０により読み出し信号ＲＤがハイレベルで第２に制御線１３に印加されて選択ＴＦＴ３５３がオン状態に保持される。これにより、キャパシタ３５４に蓄積された電荷が電気信号として増幅ＴＦＴ３５２で増幅され、選択ＴＦＴ３５３を介して受光信号として受光信号線１１に出力される。
【００９７】
そして、受光信号線１１を伝搬された検出信号３Ａは信号処理回路６に入力され、信号処理回路６Ａは、検出信号Ｓ３Ａのレベルに応じてたとえば制御信号ＣＴＬにより、有効表示領域部（画面表示部）２Ａの表面輝度を変化させる。
【００９８】
第２の実施形態によれば、上述した第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００９９】
なお、第１及び第２の実施形態においては、第１の光センサ部３１の調光側センサ（受光素子３１１）と第２の光センサ部３２の遮光側センサ（受光素子３２１）とを近接させて光検出部内で赤外成分を取り除く差分処理を行うようにした。
本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば、図２７に示すように、調光側センサ（受光素子３１１）の検出信号と遮光側センサ（受光素子３２１）の検出信号を個別に読み出し、有効表示領域部２Ｂ外に配置した信号処理回路６にて赤外成分を取り除くように構成することも可能である。
この場合、図２７に示すように、第１の光センサ部３１において、調光側センサ（受光素子）３１１のカソード側が電源電位ＶＤＤに接続され、アノード側がノードＮＤ３５１に接続されている。
同様に、第２の光センサ部３２において、遮光側センサ（受光素子３２１）のカソード側が電源電位ＶＤＤに接続され、アノード側がノードＮＤ３５１に接続されている。
その他の構成および機能は、基本的に前述した第２の実施形態と同様であることから、その詳細な説明は省略する。
【０１００】
以上の説明では、外光の強度（照度）に応じて有効表示領域部２，２Ａ，２Ｂの表面輝度を変更可能（実際にはバックライト２５の発光強度を変更可能）な調光機能を有する液晶表示装置について説明した。
本発明は調光機能に限定されず、図２８に示すような、バックライトの反射光の検出システム等にも適用可能である。
この場合、第１の光センサ部３１が検出セルとして用いられ、第２の光センサ部３２が参照セルとして用いられる。
【０１０１】
ここでは、第１の光センサ部３１の検出信号と第２の光センサ部３２の検出信号との差分信号処理により第１の光センサ部３１内の反射ノイズや遮光時の暗電流および近赤外領域の感度による漏れ電流、オフセットノイズの影響を極めて小さく抑えた信号が得られることについても併せて説明する。
なお、ここでは、図２８に示すように、バックライトの反射光の検出システムとして構成された場合を例に説明する。
【０１０２】
図２９（Ａ），（Ｂ）は、本実施形態に係る第１の光センサ部３１と第２の光センサ部３２出力信号の差分信号処理によりノイズの除去できる理由を説明するための図であって、図２９（Ａ）が第１の光センサ部の状態を示す図であり、図２９（Ｂ）が第２の光センサ部の状態を示す図である。
図２９（Ａ），（Ｂ）において、矢印Ａが検出対象光を示す、矢印Ｂのノイズ光を示している。
【０１０３】
バックライトの反射光の検出システムにおける第１の光センサ部３１においては、図２８および図２９（Ａ）に示すように、バックライト２５による検出対象光Ａが有効表示領域部２Ａの偏光フィルタ２６、ＴＦＴ基板２２、液晶層２４、所定の位置（座標位置）に配置されている第１の光センサ部３１のブラックマスクＢＭＳＫ３の開口部ＢＭＳＫ３１１、対向基板２３、偏光フィルタ２７を透過して、対向基板２３の前面側２３２に配置されたユーザの被検出体（たとえば指）で反射される。
この反射光Ａが、偏光フィルタ２７、対向基板２３、液晶層２４を透過して第１の光センサ部３１のブラックマスクＢＭＳＫ３の開口部ＢＭＳＫ３１１を通して、たとえばＴＦＴからなる受光素子（フォトセンサ）３１１のアクティブ領域（チャネル領域）で受光され、フォト電流として取り出される。
【０１０４】
第１の光センサ部３１において、バックライト２５による光は、検出対象光Ａになるものの他に、たとえば平坦化膜３４３と液晶層２４の界面領域で反射して受光素子３１１に入射してしまうノイズ光Ｂ１や直接的に受光素子３１１に入射してしまうノイズ光Ｂ２、近赤外領域の感度による漏れ電流が存在する。
すなわち、第１の光センサ部３１の出力信号には、検出対象光Ａおよびノイズ光Ｂ１、Ｂ２等を含む。
【０１０５】
また、第２の光センサ部３２において、ブラックマスクＢＭＳＫ３の開口部ＢＭＳＫ３２１に赤外フィルタＦＬＴ３２１が形成されていることから、バックライト２５による光は、検出対象光Ａになるものはなく、たとえば平坦化膜３４３と液晶層２４の界面領域で反射して受光素子３２１に入射してしまうノイズ光Ｂ１や直接的に受光素子３２１に入射してしまうノイズ光Ｂ２が存在する。また、受光素子３２１には赤外フィルタＦＬＴ３２１を通過した近赤外光が入射する
すなわち、第２の光センサ部３２の検出信号（出力信号）には、ノイズ光Ｂ１、Ｂ２や第１の光センサ部３１の検出信号（出力信号）にも含まれる、近赤外領域の感度による漏れ電流成分を含む。
【０１０６】
なお、ノイズ光Ｂ２は直接的にＴＦＴのゲート電極を通過してチャネル領域に直接的に入射するように図示しているが、実際には、ボトムゲート型ＴＦＴのゲート電極がバックライト光のＴＦＴのチャネル領域への光路上に形成されていることから、ここで反射されてゲート電極の周囲に回り込んでノイズ光Ｂ２となる場合があるという意味で示してある。
【０１０７】
したがって、光検出部３，３Ａ、あるいは信号処理回路６において、第１の光センサ部３１の検出信号と第２の光センサ部３２の検出信号の差分処理を行うことによりノイズ成分を略除去することが可能となる。
その結果、差分処理後の検出信号は、第１の光センサ部３１内の反射ノイズや遮光時の暗電流および近赤外領域の感度による漏れ電流、オフセットノイズの影響を極めて小さく抑えた信号となる。
【０１０８】
以上説明したように、本実施形態によれば、表示回路２１０を有する複数の表示セル２１と、受光素子３２１を含み表示領域における外光の強度を検出する第１の光センサ部２２と、受光素子３２１への光路に赤外フィルタＦＬＴ３２１が配置された第２の光センサ部２３と、第１の光センサ部３１の検出信号から第２の光センサ部３２の検出した少なくとも赤外成分に相当する成分を取り除く機能と、を含み、赤外フィルタＦＬＴ３２１は、少なくとも２種類のカラーフィルタを積層して形成されていることから、以下の効果を得ることができる。
【０１０９】
すなわち、本実施形態によれば、センサの個体差をキャンセルするばかりでなく、近赤外感度をキャンセルすることが可能となり、可視領域の環境照度を正確に評価可能となる。
また、赤外フィルタを既存のカラーフィルタと同時に形成できるので、製造プロセスにも影響が無く、コスト増を招くこともない。
また、赤外フィルタの形成にフォトリソグラフィプロセスを用いるので、フィルタ形成の位置精度が良く、表示領域付近にセンサを配置した場合でも、表示領域と、センサとの干渉もなく、センサの配置に対して制約がなくなる。
また、電源投入時のキャリブレーション動作を要することなく、ノイズによる影響を小さくでき、受光システムのＳＮ比を向上することが可能となる。
【０１１０】
また、検出対象物のバックライト光からの反射光を利用して、タッチパネル・イメージセンサ等を実現するシステムにおいて、ブラックマスクより下にある層での内部反射光ノイズや近赤外領域の感度による漏れ電流による影響を除去でき、高ＳＮ比化を実現できる。
上記バックライトを用いたシステム、もしくは外光の撮像システムにおいて、受光素子（フォトセンサ）および画素回路のオフセットノイズを除去できるため、高ＳＮ比化を実現できる。
上記バックライト光を用いたシステム、もしくは外光の撮像システムにおいて、ディスプレイからの干渉ノイズを除去できるため、高ＳＮ比化を実現できる。
上記ノイズをリアルタイムでキャンセルできるため、温度特性、時間変動に強い高信頼性システムを実現できる。
上記と同一の理由により、電源投入時のキャリブレーション動作が不要になる。
【０１１１】
なお、複数画素に対して、一つの受光素子を配置する構成でも構わないし、受光素子はＲＧＢそれぞれに対し一つずつが配置されていても構わないし、一画素に対して受光素子が一つ配置されていても構わない。
本発明を適用する場合の表示装置内の受光素子配置は特に言及しないものとする。このように、本発明を受光素子内蔵の表示装置に適用することにより、ノイズの影響の少ない受光信号を後処理で用いることが可能となり、また、表示側信号の撮像側信号への混入を防ぎつつ、受光（撮像）を行うことが可能となる。
【０１１２】
本実施形態に係る表示装置は、図３０に示すようにフラット型のモジュール形状のものを含む。
たとえば絶縁性の基板２２上に、液晶素子、薄膜トランジスタ、薄膜容量、受光素子等からなる画素をマトリックス状に集積形成した画素アレイ部を設ける、この画素アレイ部（画素マトリックス部）を囲むように接着剤を配し、ガラス等の対向基板２３を貼り付けて表示モジュールとする。
この透明な対向基板２３には必要に応じて、カラーフィルタ、保護膜、遮光膜等を設けてもよい。表示モジュールには、外部から画素アレイ部への信号等を入出力するためのコネクタＣＮＴとしてたとえばＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）を設けてもよい。
【０１１３】
以上説明した本実施形態に係る表示装置は、図３１〜図３５に示す様々な電子機器、たとえば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
以下に、本実施形態が適用される電子機器の一例について説明する。
【０１１４】
図３１は、本実施形態が適用されるテレビジョンを示す斜視図である。
本適用例に係るテレビジョン５００は、フロントパネル５２０やフィルターガラス５３０等から構成される映像表示画面部５１０を含み、その映像表示画面部５１０として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。
【０１１５】
図３２は、本実施形態が適用されるデジタルカメラを示す斜視図であり、図３２（Ａ）は表側から見た斜視図、図３２（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。
本適用例に係るデジタルカメラ５００Ａは、フラッシュ用の発光部５１１、表示部５１２、メニュースイッチ５１３、シャッターボタン５１４等を含み、その表示部５１２として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。
【０１１６】
図３３は、本実施形態が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。
本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータ５００Ｂは、本体５２１に、文字等を入力するとき操作されるキーボード５２２、画像を表示する表示部５２３等を含み、その表示部５２３として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。
【０１１７】
図３４は、本実施形態が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。
本適用例に係るビデオカメラ５００Ｃは、本体部５３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ５３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ５３３、表示部５３４等を含み、その表示部５３４として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。
【０１１８】
図３５は、本実施形態が適用される携帯端末装置、たとえば携帯電話機を示す図であり、図３５（Ａ）は開いた状態での正面図、図３５（Ｂ）はその側面図、図３５（Ｃ）は閉じた状態での正面図、図３５（Ｄ）は左側面図、図３５（Ｅ）は右側面図、図３５（Ｆ）は上面図、図３５（Ｇ）は下面図である。
本適用例に係る携帯電話機５００Ｄは、上側筐体５４１、下側筐体５４２、連結部（ここではヒンジ部）５４３、ディスプレイ５４４、サブディスプレイ５４５、ピクチャーライト５４６、カメラ５４７等を含み、そのディスプレイ５４４やサブディスプレイ５４５として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。
【０１１９】
また、本実施形態に係る表示装置は、以下のような表示撮像装置に適用可能である。また、この表示撮像装置は、先に説明した各種電子機器に適用可能である。
【０１２０】
図３６は、表示撮像装置の全体構成を示す図である。
この表示撮像装置１０００は、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００と、バックライト１５００と、表示ドライブ回路１２００と、受光ドライブ回路１３００と、画像処理部１４００と、アプリケーションプログラム実行部１１００とを有している。
【０１２１】
Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００は、複数の画素が全面にわたってマトリクス状に配置された液晶パネル（ＬＣＤ（Liquid Crystal Display））からなり、線順次動作をしながら表示データに基づく所定の図形や文字などの画像を表示する機能（表示機能）を有し、後述するようにこのＩ／Ｏディスプレイ２０００に接触または近接する物体を撮像する機能（撮像機能）を有する。
また、バックライト１５００は、たとえば複数の発光ダイオードが配置されてなるＩ／Ｏディスプレイパネル２０００の光源であり、後述するようにＩ／Ｏディスプレイ２０００の動作タイミングに同期した所定のタイミングで、高速にオン・オフ動作を行うようになっている。
【０１２２】
表示ドライブ回路１２００は、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００において表示データに基づく画像が表示されるように（表示動作を行うように）、このＩ／Ｏディスプレイパネル２０００の駆動を行う（線順次動作の駆動を行う）回路である。
【０１２３】
受光ドライブ回路１３００は、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００において受光データが得られるように（物体を撮像するように）、このＩ／Ｏディスプレイパネル２０００の駆動を行う（線順次動作の駆動を行う）回路である。なお、各画素での受光データは、たとえばフレーム単位でフレームメモリ１３００Ａに蓄積され、撮像画像として画像処理部１４００へ出力される。
【０１２４】
画像処理部１４００は、受光ドライブ回路１３００から出力される撮像画像に基づいて所定の画像処理（演算処理）を行い、Ｉ／Ｏディスプレイ２０００に接触または近接する物体に関する情報（位置座標データ、物体の形状や大きさに関するデータなど）を検出し、取得するものである。なお、この検知する処理の詳細については後述する。
【０１２５】
アプリケーションプログラム実行部１１００は、画像処理部１４００による検知結果に基づいて所定のアプリケーションソフトに応じた処理を実行するものであり、たとえば検知した物体の位置座標を表示データに含むようにし、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００上に表示させるものなどが挙げられる。
なお、このアプリケーションプログラム実行部１１００で生成される表示データは表示ドライブ回路１２００へ供給される。
【０１２６】
次に、図３７を参照してＩ／Ｏディスプレイパネル２０００の詳細構成例について説明する。このＩ／Ｏディスプレイパネル２０００は、表示エリア（センサエリア）２１００と、表示用Ｈドライバ２２００と、表示用Ｖドライバ２３００と、センサ読み出し用Ｈドライバ２５００と、センサ用Ｖドライバ２４００とを有している。
【０１２７】
表示エリア（センサエリア）２１００は、バックライト１５００からの光を変調して表示光を出射すると共にこのエリアに接触または近接する物体を撮像する領域であり、発光素子（表示素子）である液晶素子と後述する受光素子（撮像素子）とがそれぞれマトリクス状に配置されている。
【０１２８】
表示用Ｈドライバ２２００は、表示ドライブ回路１２００から供給される表示駆動用の表示信号および制御クロックに基づいて、表示用Ｖドライバ２３００と共に表示エリア２１００内の各画素の液晶素子を線順次駆動するものである。
【０１２９】
センサ読み出し用Ｈドライバ２５００は、センサ用Ｖドライバ２４００と共にセンサエリア２１００内の各画素の受光素子を線順次駆動し、受光信号を取得するものである。
【０１３０】
次に、図３８を参照して、表示エリア２１００における各画素の詳細構成例について説明する。この図３８に示した画素３１００は、表示素子である液晶素子と受光素子とから構成されている。
【０１３１】
具体的には、表示素子側には、水平方向に延在するゲート電極３１００ｈと垂直方向に延在するドレイン電極３１００ｉとの交点に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）などからなるスイッチング素子３１００ａが配置され、このスイッチング素子３１００ａと対向電極との間に液晶を含む画素電極３１００ｂが配置されている。
そして、ゲート電極３１００ｈを介して供給される駆動信号に基づいてスイッチング素子３１００ａがオン・オフ動作し、オン状態のときにドレイン電極３１００ｉを介して供給される表示信号に基づいて画素電極３１００ｂに画素電圧が印加され、表示状態が設定される。
【０１３２】
一方、表示素子に隣接する受光素子側には、たとえばフォトダイオードなどからなる受光用のセンサ３１００ｃが配置され、電源電圧ＶＤＤが供給される。
また、この受光センサ３１００ｃには、リセットスイッチ３１００ｄとキャパシタ３１００ｅが接続され、リセットスイッチ３１００ｄによってリセットされながら、キャパシタ３１００ｅにおいて受光量に対応した電荷が蓄積される。
そして、蓄積された電荷は読み出しスイッチ３１００ｇがオンとなるタイミングで、バッファアンプ３１００ｆを介して信号出力用電極３１００ｊに供給され、外部へ出力される。また、リセットスイッチ３１００ｄのオン・オフ動作はリセット電極３１００ｋにより供給される信号により制御され、読み出しスイッチ３１００ｇのオン・オフ動作は、読出し制御電極３１００ｍにより供給される信号により制御される。
【０１３３】
次に、図３９を参照して、表示エリア２１００内の各画素とセンサ読み出し用Ｈドライバ２５００との接続関係について説明する。この表示エリア２１００では、赤（Ｒ）用の画素３１００と、緑（Ｇ）用の画素３２００と、青（Ｂ）用の画素３３００とが並んで配置されている。
【０１３４】
各画素の受光センサ３１００ｃ，３２００ｃ，３３００ｃに接続されたキャパシタに蓄積された電荷は、それぞれのバッファアンプ３１００ｆ，３２００ｆ，３３００ｆで増幅され、読み出しスイッチ３１００ｇ，３２００ｇ，３３００ｇがオンになるタイミングで、信号出力用電極を介してセンサ読み出し用Ｈドライバ２５００へ供給される。
なお、各信号出力用電極には定電流源４１００ａ，４１００ｂ，４１００ｃがそれぞれ接続され、センサ読み出し用Ｈドライバ２５００で感度良く受光量に対応した信号が検出される。
【０１３５】
次に、表示撮像装置の動作について詳細に説明する。
【０１３６】
まず、この表示撮像装置の基本動作、すなわち画像の表示動作および物体の撮像動作について説明する。
【０１３７】
この表示撮像装置では、アプリケーションプログラム実行部１１００から供給される表示データに基づいて、表示用ドライブ回路１２００において表示用の駆動信号が生成され、この駆動信号により、Ｉ／Ｏディスプレイ２０００に対して線順次表示駆動がなされ、画像が表示される。
また、このときバックライト１５００も表示ドライブ回路１２００によって駆動され、Ｉ／Ｏディスプレイ２０００と同期した点灯・消灯動作がなされる。
【０１３８】
ここで、図４０に関連付けて、バックライト１５００のオン・オフ状態とＩ／Ｏディスプレイパネル２０００の表示状態との関係について説明する。
【０１３９】
まず、たとえば１／６０秒のフレーム周期で画像表示がなされている場合、各フレーム期間の前半期間（１／１２０秒間）にバックライト１５００が消灯し（オフ状態となり）、表示が行われない。一方、各フレーム期間の後半期間には、バックライト１５００が点灯し（オン状態となり）、各画素に表示信号が供給され、そのフレーム期間の画像が表示されるようになっている。
【０１４０】
このように、各フレーム期間の前半期間は、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００から表示光が出射されない無光期間である一方、各フレーム期間の後半期間は、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００から表示光が出射される有光期間となっている。
【０１４１】
ここで、Ｉ／Ｏディスプレイパネル２０００に接触または近接する物体（たとえば、指先など）がある場合、受光ドライブ回路１３００による線順次受光駆動により、このＩ／Ｏディスプレイパネル２０００における各画素の受光素子においてその物体が撮像され、各受光素子からの受光信号が受光ドライブ回路１３００へ供給される。受光ドライブ回路１３００では、１フレーム分の画素の受光信号が蓄積され、撮像画像として画像処理部１４００へ出力される。
【０１４２】
そして画像処理部１４００では、この撮像画像に基づいて、所定の画像処理（演算処理）を行い、Ｉ／Ｏディスプレイ２０００に接触または近接する物体に関する情報（位置座標データ、物体の形状や大きさに関するデータなど）が検出される。
【符号の説明】
【０１４３】
１，１Ａ・・・液晶表示装置、２，２Ａ，２Ｂ・・・有効表示領域部、３，３Ａ・・・光検出部、４・・・垂直駆動回路（ＶＤＲＶ）、５・・・水平駆動回路（ＨＤＲＶ）、６，６Ａ・・・信号処理回路（ＳＰＲＣ）、１１・・・受光信号線、１０・・・受光制御回路（ＲＣＴＬ）、１２・・・第１の制御線、１３・・・第２の制御線、２１・・・表示セル、３１・・・第１の光センサ部、３２・・第２の光センサ部、３１１，３２１・・・受光素子（フォトセンサ）、ＢＭＳＫ、ＢＭＳＫ３・・・ブラックマスク（遮光マスク）、ＢＭＳＫ３１１，ＢＭＳＫ３２１・・・開口部、ＦＬＴ３２１，ＦＬＴ３２１−１〜ＦＬＴ３２１−５・・・赤外フィルタ、３５０・・・読み出し回路、３５１・・・リセットＴＦＴ、３５２・・・増幅ＴＦＴ、３５３・・・選択（読み出し）ＴＦＴ、３５４・・・受光信号蓄積容量（キャパシタ）、ＮＤ３５１・・・ノード。
【図１】
2011081390.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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