(57)【要約】【課題】媒体対向面を所望の位置に正確に形成できるようにする。【解決手段】磁気ヘッドの製造方法は、１枚の基板に対して複数の磁気ヘッドの構成要素を形成することによって、それぞれ後に磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列された磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程と、この磁気ヘッド用基礎構造物を切断することによって複数のヘッド予定部を互いに分離して、複数の磁気ヘッドを作製する工程とを備えている。磁気ヘッド用基礎構造物には指標部が形成されている。指標部は、第１および第２の指標１２１，１２２と、１組以上の第３および第４の指標（１３１，１３２、１３３，１３４、１３５，１３６、１３７，１３８）を含んでいる。第１および第２の指標１２１，１２２の幅は、媒体対向面の目標位置において等しい。第３および第４の指標の幅は、媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しい。【選択図】図２５
2011060419.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有するトラック幅規定部を含み、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層とを備えた磁気ヘッドの製造方法であって、
基板に対して複数組の前記磁極層およびコイルを形成して、それぞれ後に前記磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列された磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程と、
前記基礎構造物を切断することによって複数の前記ヘッド予定部を互いに分離して、複数の磁気ヘッドを作製する工程とを備え、
前記磁気ヘッドを作製する工程は、前記基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して前記媒体対向面を形成する工程を含み、
前記基礎構造物を作製する工程は、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置を示す第１および第２の指標と、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置から媒体対向面に対して垂直な方向にずれた位置を示す１組以上の第３および第４の指標とを形成する工程を含み、
前記第１の指標の幅と第２の指標の幅は、前記媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、前記第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方は減少し、他方は増加し、
前記第３の指標の幅と第４の指標の幅は、前記媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、前記第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有するトラック幅規定部を含み、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層とを備えた磁気ヘッドを製造するために用いられる磁気ヘッド用基礎構造物であって、
前記磁極層およびコイルが積層される基板と、
それぞれ後に前記磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列されるように、前記基板に対して形成された複数組の前記磁極層およびコイルと、
媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置を示す第１および第２の指標と、
媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置からずれた位置を示す１組以上の第３および第４の指標とを備え、
前記第１の指標の幅と第２の指標の幅は、前記媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、前記第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方は減少し、他方は増加し、
前記第３の指標の幅と第４の指標の幅は、前記媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、前記第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加することを特徴とする磁気ヘッド用基礎構造物。
【請求項３】
記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有するトラック幅規定部を含み、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板と、
それぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置を示す第１および第２の指標と、
それぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置からずれた位置を示す１組以上の第３および第４の指標とを備え、
前記第１の指標の幅と第２の指標の幅は、前記媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、前記第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方は減少し、他方は増加し、
前記第３の指標の幅と第４の指標の幅は、前記媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、前記第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加することを特徴とする磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体に情報を記録するために用いられる磁気ヘッドおよびその製造方法、ならびに磁気ヘッドを製造するために用いられる磁気ヘッド用基礎構造物（substructure）に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録再生装置における記録方式には、信号磁化の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）とする長手磁気記録方式と、信号磁化の向きを記録媒体の面に対して垂直な方向とする垂直磁気記録方式とがある。垂直磁気記録方式は、長手磁気記録方式に比べて、記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、高い線記録密度を実現することが可能であると言われている。
【０００３】
一般的に、長手磁気記録方式と垂直磁気記録方式のいずれにおいても、磁気ヘッドとしては、読み出し用の磁気抵抗効果素子（以下、ＭＲ（Magnetoresistive）素子とも記す。）を有する再生ヘッドと、書き込み用の誘導型電磁変換素子を有する記録ヘッドとを、基板上に積層した構造のものが用いられる。
【０００４】
また、長手磁気記録方式と垂直磁気記録方式のいずれにおいても、記録ヘッドは、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層とを備えている。磁極層は、例えば、一端部が記録媒体に対向する媒体対向面に配置されたトラック幅規定部と、このトラック幅規定部の他端部に連結され、トラック幅規定部よりも大きな幅を有する幅広部とを有している。トラック幅規定部は、ほぼ一定の幅を有している。
【０００５】
高記録密度化のために、記録ヘッドには、トラック幅の縮小、すなわち媒体対向面における磁極層の端面の幅の縮小と、記録特性の向上が求められる。記録特性の向上とは、例えば、重ね書きの性能を表わすオーバーライト特性の向上である。トラック幅が小さくなるとオーバーライト特性は低下するので、トラック幅が小さくなるほど、オーバーライト特性の一層の向上が必要となる。ここで、媒体対向面に垂直な方向についてのトラック幅規定部の長さをネックハイトと呼ぶ。このネックハイトが小さいほど、オーバーライト特性が向上する。
【０００６】
ところで、ハードディスク装置等の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドは、一般的に、スライダに設けられる。スライダは、上記媒体対向面を有している。この媒体対向面は、空気流入側の端部と空気流出側の端部とを有している。そして、空気流入側の端部から媒体対向面と記録媒体との間に流入する空気流によって、スライダは記録媒体の表面からわずかに浮上するようになっている。このスライダにおいて、一般的に、磁気ヘッドは媒体対向面における空気流出側の端部近傍に配置される。磁気ディスク装置において、磁気ヘッドの位置決めは、例えばロータリーアクチュエータによって行なわれる。この場合、磁気ヘッドは、ロータリーアクチュエータの回転中心を中心とした円軌道に沿って記録媒体上を移動する。このような磁気ディスク装置では、磁気ヘッドのトラック横断方向の位置に応じて、スキューと呼ばれる、円形のトラックの接線に対する磁気ヘッドの傾きが生じる。
【０００７】
特に、長手磁気記録方式に比べて記録媒体への書き込み能力が高い垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置では、上述のスキューが生じると、あるトラックへの情報の書き込み時に隣接トラックの情報が消去される現象（以下、隣接トラック消去と言う。）が生じたり、隣り合う２つのトラックの間において不要な書き込みが行なわれたりするという問題が生じる。高記録密度化のためには、隣接トラック消去を抑制する必要がある。また、隣り合う２つのトラックの間における不要な書き込みは、磁気ヘッドの位置決め用のサーボ信号の検出や再生信号の信号対雑音比に悪影響を及ぼす。
【０００８】
上述のようなスキューに起因した問題の発生を防止する技術としては、例えば特許文献１、２に記載されているように、媒体対向面におけるトラック幅規定部の端面の形状を、記録媒体の進行方向の後側（スライダにおける空気流入端側）に配置される辺が反対側の辺よりも短い形状とする技術が知られている。磁気ヘッドでは、通常、媒体対向面において、基板から遠い端部が記録媒体の進行方向の前側（スライダにおける空気流出端側）に配置される。従って、上述の媒体対向面におけるトラック幅規定部の端面の形状は、基板に近い辺が基板から遠い辺よりも短い形状となる。
【０００９】
また、垂直磁気記録方式用の磁気ヘッドとしては、例えば特許文献３に記載されているように、磁極層とシールドとを備えた磁気ヘッドも知られている。この磁気ヘッドでは、媒体対向面において、シールドの端面は、磁極層の端面に対して、所定の小さな間隔を開けて記録媒体の進行方向の前側に配置されている。以下、このような磁気ヘッドをシールド型ヘッドと呼ぶ。このシールド型ヘッドにおいて、シールドは、磁極層の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束が記録媒体に達することを阻止することができる。このシールド型ヘッドによれば、線記録密度のより一層の向上が可能になる。
【００１０】
ところで、磁気ヘッドの製造過程では、１枚の基板（ウェハ）に対して、それぞれ磁気ヘッドとなる多数の磁気ヘッド素子が形成される。多数の磁気ヘッド素子が形成された基板は、媒体対向面となる面が現れるように切断される。そして、この面が研磨されて、媒体対向面が形成される。
【００１１】
特許文献４には、ウェハ内に、互いに反対向きに配置された第１および第２の三角形を形成しておき、この第１および第２の三角形を用いて、ＭＲセンサのハイト（ＭＲセンサの媒体対向面に垂直な方向についての長さ）を計算する技術が記載されている。この技術では、ウェハ処理前（研磨前）の媒体対向面における第１の三角形の底辺の幅と、ウェハ処理前の媒体対向面における第２の三角形の上部の幅と、研磨後の媒体対向面における第１の三角形の底辺の幅と、研磨後の媒体対向面における第２の三角形の上部の幅とを用いて、ＭＲセンサのハイトを計算する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−２４２６０７号公報
【特許文献２】米国特許第６，５０４，６７５Ｂ１号明細書
【特許文献３】米国特許第４，６５６，５４６号明細書
【特許文献４】米国特許第５，７４２，９９５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ここで、上述のように媒体対向面におけるトラック幅規定部の端面の形状が、基板に近い辺が基板から遠い辺よりも短い形状となる磁極層の形成方法について考える。従来、このような磁極層の形成方法としては、フレームめっき法が多く用いられていた。フレームめっき法による磁極層の形成方法では、まず、磁極層の下地の上に、電極膜を形成する。次に、電極膜の上にフォトレジスト層を形成する。次に、フォトレジスト層をパターニングして、磁極層に対応した形状の溝部を有するフレームを形成する。次に、電極膜に電流を流してめっきを行い、溝部内に磁極層を形成する。次に、フレームを除去する。次に、電極膜のうち、磁極層の下に存在している部分以外の部分を除去する。
【００１４】
フレームめっき法では、フォトリソグラフィによって、フォトレジスト層に幅の小さな溝部を形成することが難しい。そのため、フレームめっき法によって磁極層を形成する場合には、トラック幅を小さくすることが難しいという問題点があった。そこで、フレームめっき法によって磁極層を形成した後、トラック幅規定部の両側の側部を、イオンビームエッチング等のドライエッチングによってエッチングして、トラック幅を小さくすることも考えられる。
【００１５】
図３８は、前述のように、トラック幅規定部の両側の側部をエッチングしてトラック幅を小さくした場合における磁極層の上面の形状の一例を示している。図３８は、媒体対向面を形成する前における磁極層におけるトラック幅規定部２０１と幅広部２０２との境界の近傍を示している。図３８において、記号ＡＢＳは、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面を表し、記号ＴＷはトラック幅を表し、記号ＮＨは設計上のネックハイトを表している。
【００１６】
トラック幅規定部２０１の両側の側部をエッチングしてトラック幅ＴＷを小さくした場合には、磁極層の形状が所望の形状から崩れやすい。その結果、特にネックハイトＮＨが小さい場合には、トラック幅規定部２０１の形状は、図３８に示したように、媒体対向面に垂直な方向（図３８における上下方向）の位置に応じて幅が変化したものになりやすい。
【００１７】
トラック幅規定部２０１の形状が図３８に示したような形状の場合には、厳密な意味でのネックハイトは、仮想の面ＡＢＳから、トラック幅規定部２０１の幅が仮想の面ＡＢＳにおける幅よりも大きくなり始める位置までの長さということになる。しかし、このようにネックハイトを定義すると、トラック幅規定部２０１の形状が図３８に示したような形状の場合には、正確にネックハイトを求めることが困難になる。そこで、トラック幅規定部２０１の形状が図３８に示したような形状の場合には、ネックハイトを、以下のように定義する。すなわち、磁極層の上面において、仮想の面ＡＢＳとトラック幅規定部２０１の側部との交点を通って仮想の面ＡＢＳに垂直な方向に延びる仮想の直線Ｌ１と、トラック幅規定部２０１の側部に続く幅広部２０２の側部のうちの直線部分から、この直線部分の方向に延びる仮想の直線Ｌ２との交点をＣとする。そして、仮想の面ＡＢＳと交点Ｃとの間の距離をネックハイトとする。このように定義したネックハイトは、設計上のネックハイトＮＨとほぼ等しい。
【００１８】
トラック幅規定部２０１の形状が図３８に示したような形状の場合には、媒体対向面の位置が所望の位置からずれてネックハイトが所望の値からずれると、トラック幅ＴＷも所望の値からずれるおそれがある。
【００１９】
ここで、磁気ヘッドの製造方法の一例について説明する。この製造方法では、まず、１枚の基板に対して、複数の磁気ヘッドの構成要素を形成して、それぞれ後に磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列された磁気ヘッド用基礎構造物を作製する。次に、磁気ヘッド用基礎構造物を切断して、１列に配列された複数のヘッド予定部を含むヘッド集合体を作製する。次に、磁気ヘッド用基礎構造物を切断することによってヘッド集合体に形成された１つの面を研磨して、ヘッド集合体に含まれる各ヘッド予定部に対して、媒体対向面を形成する。次に、媒体対向面に浮上用レールを形成する。次に、複数のヘッド予定部が互いに分離されるようにヘッド集合体を切断して、複数の磁気ヘッドを形成する。
【００２０】
次に、ヘッド集合体を研磨して媒体対向面を形成する方法の一例について説明する。この方法では、ヘッド集合体に含まれる複数のＭＲ素子の抵抗値を検出しながら、複数のヘッド予定部におけるＭＲハイトが等しくなるように、ヘッド集合体の研磨を行う。なお、ＭＲハイトとは、媒体対向面に垂直な方向についてのＭＲ素子の長さを言う。
【００２１】
上述のような媒体対向面を形成する方法によれば、ＭＲハイトが所望の値になるように媒体対向面を形成することができる。従って、この方法では、媒体対向面のうち、ＭＲ素子の端部が露出した部分は、所望の位置に配置される。そして、この方法では、媒体対向面と基板の上面とのなす角度が９０°であれば、媒体対向面のうち、トラック幅規定部の端面が露出した部分も、所望の位置に配置される。その結果、ネックハイトも所望の値になる。
【００２２】
しかしながら、従来、媒体対向面と基板の上面とのなす角度は９０°からずれる場合があった。その原因は、例えば、ヘッド集合体を研磨する際にヘッド集合体を支持する治具とヘッド集合体との位置ずれである。媒体対向面と基板の上面とのなす角度が９０°からずれた場合には、媒体対向面のうち、ＭＲ素子の端部が露出した部分は所望の位置に配置されていても、媒体対向面のうち、トラック幅規定部の端面が露出した部分は、所望の位置からずれて配置されてしまう。その結果、ネックハイトは所望の値からずれてしまう。図３８において、符号２０３で示す範囲は、媒体対向面のうち、トラック幅規定部の端面が露出した部分の位置ずれの範囲を示している。
【００２３】
前述のように、ネックハイトが所望の値からずれると、トラック幅も所望の値からずれてしまう。このように、従来は、媒体対向面のうち、トラック幅規定部の端面が露出した部分が所望の位置からずれて配置されて、トラック幅が所望の値からずれる場合があり、その結果、磁気ヘッドの歩留りが低下するという問題点があった。
【００２４】
特許文献４に記載された技術では、ＭＲハイトを計算することはできるが、上記の問題点を解決することはできない。また、特許文献４に記載された技術では、媒体対向面の目標位置を検出することはできない。更に、特許文献４に記載された技術では、ウェハ処理前（研磨前）の媒体対向面における第１の三角形の底辺の幅および第２の三角形の上部の幅とを測定しておく必要があり、磁気ヘッドの製造方法において工程数が多くなる。
【００２５】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、媒体対向面を所望の位置に正確に形成できるようにした磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明の製造方法によって製造される磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、媒体対向面に配置された端面を有するトラック幅規定部を含み、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層とを備えている。
【００２７】
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、基板に対して複数組の磁極層およびコイルを形成して、それぞれ後に磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列された磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程と、基礎構造物を切断することによって複数のヘッド予定部を互いに分離して、複数の磁気ヘッドを作製する工程とを備えている。磁気ヘッドを作製する工程は、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面を形成する工程を含んでいる。基礎構造物を作製する工程は、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置を示す第１および第２の指標を形成する工程を含んでいる。第１の指標の幅と第２の指標の幅は、媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【００２８】
本発明の磁気ヘッドの製造方法では、磁気ヘッドを作製する工程において、媒体対向面における第１および第２の指標の幅を観察することにより、媒体対向面が目標位置に形成されているか否かを知ることができる。また、本発明の磁気ヘッドの製造方法では、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面を形成する際に、研磨面が媒体対向面の目標位置に近いほど、研磨面における第１および第２の指標の幅の差が小さくなる。
【００２９】
本発明の磁気ヘッドの製造方法では、基礎構造物において、媒体対向面の目標位置から媒体対向面に対して垂直な方向にずれた変位位置における第１および第２の指標の幅の差は、変位位置と媒体対向面の目標位置とのずれ量に比例していてもよい。
【００３０】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、磁気ヘッドは、更に、媒体対向面に配置された端部を有し、記録媒体に記録された情報を再生する磁気抵抗効果素子を備え、第１および第２の指標と基板との間の距離は、磁気抵抗効果素子と基板との間の距離よりも、トラック幅規定部と基板との間の距離に近くてもよい。この場合、基礎構造物を作製する工程は、ヘッド予定部毎に、磁極層およびコイルと共に磁気抵抗効果素子を形成する。
【００３１】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法では、磁気ヘッドにおいて、媒体対向面に配置されたトラック幅規定部の端面の幅は、基板に近づくに従って小さくなっていてもよい。
【００３２】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程は、更に、磁極層を収容する溝部を有する収容層を形成する工程を含み、磁極層は、収容層の溝部内に形成されてもよい。
【００３３】
収容層を形成する工程は、後に溝部が形成されることにより収容層となる非磁性層を形成する工程と、非磁性層の上面の上に非磁性導電材料よりなる非磁性導電層を形成する工程と、非磁性導電層に磁極層の平面形状に対応した形状の貫通する開口部が形成されるように、非磁性導電層をパターニングする工程と、非磁性層が収容層になるように、非磁性層のうち非磁性導電層の開口部から露出する部分を選択的にエッチングすることによって、非磁性層に溝部を形成する工程とを含んでいてもよい。この場合、第１および第２の指標を形成する工程は、非磁性導電層をパターニングする工程と同時に行われ、第１および第２の指標は、非磁性導電層の一部によって形成されてもよい。
【００３４】
また、収容層を形成する工程は、後に溝部が形成されることにより収容層となる非磁性層を形成する工程と、非磁性層に磁極層を収容する溝部と第１および第２の指標を収容する溝部とを形成する工程とを含んでいてもよい。この場合、基礎構造物を作製する工程は、めっき法によって、磁極層を収容する溝部内に磁極層を形成すると共に、第１および第２の指標を収容する溝部内に第１および第２の指標を形成してもよい。
【００３５】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、第１および第２の指標は、その一部が磁気ヘッドに残る位置に配置されてもよいし、磁気ヘッドに残らない位置に配置されてもよい。
【００３６】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、基礎構造物を作製する工程は、更に、媒体対向面が形成されたときに一部が媒体対向面に露出する位置に配置された基準部を形成する工程を含み、基準部は、媒体対向面の目標位置における第１および第２の指標の幅と等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有していてもよい。
【００３７】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、第１および第２の指標を形成する工程は、更に、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置から媒体対向面に対して垂直な方向にずれた位置を示す１組以上の第３および第４の指標を形成する工程を含み、第３の指標の幅と第４の指標の幅は、媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【００３８】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、第１および第２の指標を形成する工程は、第１および第２の指標の外形を規定する指標規定部を形成する工程を含み、第１および第２の指標は、それぞれ媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面に対して斜めに交差する辺を有し、指標規定部は、第１および第２の指標における辺を規定する直線部分と、直線部分の端部に接続され、垂直に、あるいは直線部分よりも垂直に近い角度で、仮想の面と交差する部分とを含んでいてもよい。
【００３９】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、第１および第２の指標は、それぞれ、媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面と平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する２つの辺を有し、第１および第２の指標の各辺が仮想の面に対してなす角度のうちの小さい方は、１０°以上６３．４°以下であってもよい。
【００４０】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、第１および第２の指標は、それぞれ、媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面と平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する２つの辺を有し、第１および第２の指標の各辺が仮想の面に対してなす角度のうちの小さい方をθとしたとき、角度θは、２／ｔａｎθが整数となるような値であってもよい。
【００４１】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法において、磁気ヘッドは、垂直磁気記録方式に用いられるものであってもよい。
【００４２】
本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、媒体対向面に配置された端面を有するトラック幅規定部を含み、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層とを備えた磁気ヘッドを製造するために用いられるものである。
【００４３】
本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、磁極層およびコイルが積層される基板と、それぞれ後に磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列されるように、基板に対して形成された複数組の磁極層およびコイルと、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置を示す第１および第２の指標とを備えている。第１の指標の幅と第２の指標の幅は、媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【００４４】
本発明の磁気ヘッド用基礎構造物によれば、この基礎構造物を用いて磁気ヘッドを作製する際に、媒体対向面における第１および第２の指標の幅を観察することにより、媒体対向面が目標位置に形成されているか否かを知ることが可能になる。また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物では、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面を形成する際に、研磨面が媒体対向面の目標位置に近いほど、研磨面における第１および第２の指標の幅の差が小さくなる。
【００４５】
本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、媒体対向面の目標位置から媒体対向面に対して垂直な方向にずれた変位位置における第１および第２の指標の幅の差は、変位位置と媒体対向面の目標位置とのずれ量に比例していてもよい。
【００４６】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、磁気ヘッドは、更に、媒体対向面に配置された端部を有し、記録媒体に記録された情報を再生する磁気抵抗効果素子を備え、第１および第２の指標と基板との間の距離は、磁気抵抗効果素子と基板との間の距離よりも、トラック幅規定部と基板との間の距離に近くてもよい。
【００４７】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物では、磁気ヘッドにおいて、媒体対向面に配置されたトラック幅規定部の端面の幅は、基板に近づくに従って小さくなっていてもよい。
【００４８】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、磁極層を収容する溝部を有する収容層を備えていてもよい。
【００４９】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、非磁性導電材料よりなり、収容層の上面の上に配置された非磁性導電層を備え、非磁性導電層は、貫通する開口部を有し、この開口部の縁は、収容層の上面における溝部の縁の真上に配置され、非磁性導電層の一部によって第１および第２の指標が形成されていてもよい。
【００５０】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、収容層は、磁極層を収容する溝部と第１および第２の指標を収容する溝部とを有し、第１および第２の指標は、磁極層と同じ材料によって形成されていてもよい。
【００５１】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、第１および第２の指標は、その一部が磁気ヘッドに残る位置に配置されていてもよいし、磁気ヘッドに残らない位置に配置されていてもよい。
【００５２】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、媒体対向面が形成されたときに一部が媒体対向面に露出する位置に配置された基準部を備え、基準部は、媒体対向面の目標位置における第１および第２の指標の幅と等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有していてもよい。
【００５３】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置からずれた位置を示す１組以上の第３および第４の指標を備え、第３の指標の幅と第４の指標の幅は、媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【００５４】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、第１および第２の指標の外形を規定する指標規定部を備え、第１および第２の指標は、それぞれ媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面に対して斜めに交差する辺を有し、指標規定部は、第１および第２の指標における辺を規定する直線部分と、直線部分の端部に接続され、垂直に、あるいは直線部分よりも垂直に近い角度で、仮想の面と交差する部分とを含んでいてもよい。
【００５５】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、第１および第２の指標は、それぞれ、媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面と平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する２つの辺を有し、第１および第２の指標の各辺が仮想の面に対してなす角度のうちの小さい方は、１０°以上６３．４°以下であってもよい。
【００５６】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、第１および第２の指標は、それぞれ、媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面と平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する２つの辺を有し、第１および第２の指標の各辺が仮想の面に対してなす角度のうちの小さい方をθとしたとき、角度θは、２／ｔａｎθが整数となるような値であってもよい。
【００５７】
また、本発明の磁気ヘッド用基礎構造物において、磁気ヘッドは、垂直磁気記録方式に用いられるものであってもよい。
【００５８】
本発明の磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、媒体対向面に配置された端面を有するトラック幅規定部を含み、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、磁極層およびコイルが積層される基板と、それぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面を形成すべき位置である媒体対向面の目標位置を示す第１および第２の指標とを備えている。第１の指標の幅と第２の指標の幅は、媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【００５９】
本発明の磁気ヘッドによれば、媒体対向面における第１および第２の指標の幅を観察することにより、媒体対向面が目標位置に形成されているか否かを知ることが可能になる。また、本発明の磁気ヘッドでは、媒体対向面が媒体対向面の目標位置に近いほど、媒体対向面における第１および第２の指標の幅の差が小さくなる。
【００６０】
本発明の磁気ヘッドにおいて、媒体対向面における第１および第２の指標の幅の差は、媒体対向面と媒体対向面の目標位置とのずれ量に比例していてもよい。
【００６１】
また、本発明の磁気ヘッドは、更に、媒体対向面に配置された端部を有し、記録媒体に記録された情報を再生する磁気抵抗効果素子を備え、第１および第２の指標と基板との間の距離は、磁気抵抗効果素子と基板との間の距離よりも、トラック幅規定部と基板との間の距離に近くてもよい。
【００６２】
また、本発明の磁気ヘッドにおいて、媒体対向面に配置されたトラック幅規定部の端面の幅は、基板に近づくに従って小さくなっていてもよい。
【００６３】
また、本発明の磁気ヘッドは、更に、磁極層を収容する溝部を有する収容層を備えていてもよい。
【００６４】
また、本発明の磁気ヘッドは、更に、非磁性導電材料よりなり、収容層の上面の上に配置された非磁性導電層を備え、非磁性導電層は、貫通する開口部を有し、この開口部の縁は、収容層の上面における溝部の縁の真上に配置され、非磁性導電層の一部によって第１および第２の指標が形成されていてもよい。
【００６５】
また、本発明の磁気ヘッドにおいて、収容層は、磁極層を収容する溝部と第１および第２の指標を収容する溝部とを有し、第１および第２の指標は、磁極層と同じ材料によって形成されていてもよい。
【００６６】
また、本発明の磁気ヘッドは、更に、一部が媒体対向面に露出する位置に配置された基準部を備え、基準部は、媒体対向面の目標位置における第１および第２の指標の幅と等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有していてもよい。
【００６７】
また、本発明の磁気ヘッドは、更に、それぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置からずれた位置を示す１組以上の第３および第４の指標を備え、第３の指標の幅と第４の指標の幅は、媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【００６８】
また、本発明の磁気ヘッドは、更に、第１および第２の指標の外形を規定する指標規定部を備え、第１および第２の指標は、それぞれ媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面に対して斜めに交差する辺を有し、指標規定部は、第１および第２の指標における辺を規定する直線部分と、直線部分の端部に接続され、垂直に、あるいは直線部分よりも垂直に近い角度で、仮想の面と交差する部分とを含んでいてもよい。
【００６９】
また、本発明の磁気ヘッドにおいて、第１および第２の指標は、それぞれ、媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面と平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する２つの辺を有し、第１および第２の指標の各辺が仮想の面に対してなす角度のうちの小さい方は、１０°以上６３．４°以下であってもよい。
【００７０】
また、本発明の磁気ヘッドにおいて、第１および第２の指標は、それぞれ、媒体対向面の目標位置に配置された仮想の面と平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する２つの辺を有し、第１および第２の指標の各辺が仮想の面に対してなす角度のうちの小さい方をθとしたとき、角度θは、２／ｔａｎθが整数となるような値であってもよい。
【００７１】
また、本発明の磁気ヘッドは、垂直磁気記録方式に用いられるものであってもよい。
【発明の効果】
【００７２】
本発明の磁気ヘッドの製造方法または磁気ヘッド用基礎構造物によれば、媒体対向面における第１および第２の指標の幅を観察することにより、媒体対向面が目標位置に形成されているか否かを知ることができる。また、本発明によれば、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面を形成する際に、研磨面が媒体対向面の目標位置に近いほど、研磨面における第１および第２の指標の幅の差が小さくなる。これらのことから、本発明によれば、媒体対向面を所望の位置に正確に形成することが可能になるという効果を奏する。
【００７３】
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法または磁気ヘッド用基礎構造物において、媒体対向面の目標位置から媒体対向面に対して垂直な方向にずれた変位位置における第１および第２の指標の幅の差は、変位位置と媒体対向面の目標位置とのずれ量に比例していてもよい。この場合には、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面を形成する際に、研磨面における第１および第２の指標の幅の差から、研磨面と媒体対向面の目標位置とのずれ量を求めることができる。これにより、媒体対向面を所望の位置により正確に形成することが可能になるという効果を奏する。
【００７４】
本発明の磁気ヘッドによれば、媒体対向面における第１および第２の指標の幅を観察することにより、媒体対向面が目標位置に形成されているか否かを知ることができる。また、本発明によれば、媒体対向面が媒体対向面の目標位置に近いほど、媒体対向面における第１および第２の指標の幅の差が小さくなる。これらのことから、本発明によれば、媒体対向面を所望の位置に正確に形成することが可能になるという効果を奏する。
【００７５】
また、本発明の磁気ヘッドにおいて、媒体対向面における第１および第２の指標の幅の差は、媒体対向面と媒体対向面の目標位置とのずれ量に比例していてもよい。この場合には、媒体対向面における第１および第２の指標の幅の差から、媒体対向面と媒体対向面の目標位置とのずれ量を求めることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物における主要な構成要素の配置の第１の例を示す説明図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物における主要な構成要素の配置の第２の例を示す説明図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物の主要部分を示す平面図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図７】図６に示した工程に続く工程を示す説明図である。
【図８】図７に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図９】図８に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１０】図９に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１１】図１０に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１２】図１１に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１３】図１２に示した工程が終了した後における指標部およびその周辺を示す平面図である。
【図１４】図１２に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１５】図１４に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１６】図１５に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１７】図１６に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図１８】本発明の第１の実施の形態における指標部の一部を示す説明図である。
【図１９】本発明の第１の実施の形態における指標部の一部を示す説明図である。
【図２０】本発明の第１の実施の形態における指標部の一部を示す説明図である。
【図２１】本発明の第１の実施の形態の第１の変形例における第１の指標、第２の指標および基準部を示す平面図である。
【図２２】本発明の第１の実施の形態の第２の変形例における指標部を示す説明図である。
【図２３】本発明の第１の実施の形態の第２の変形例における指標部を示す説明図である。
【図２４】本発明の第１の実施の形態の第３の変形例における指標部を示す説明図である。
【図２５】本発明の第２の実施の形態における指標部を示す説明図である。
【図２６】本発明の第２の実施の形態における指標部を示す説明図である。
【図２７】本発明の第２の実施の形態における指標部を示す説明図である。
【図２８】本発明の第２の実施の形態における指標部を示す説明図である。
【図２９】本発明の第２の実施の形態における指標部を示す説明図である。
【図３０】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物の主要部分を示す平面図である。
【図３１】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。
【図３２】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図３３】図３２に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図３４】図３３に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図３５】図３４に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図３６】図３５に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図３７】図３６に示した工程に続く工程における積層体の断面図である。
【図３８】磁気ヘッドの磁極層の上面の形状の一例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００７７】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図４および図５を参照して、本発明の第１の実施の形態に係る製造方法および磁気ヘッド用基礎構造物を用いて製造される磁気ヘッドの構成について説明する。ここでは、磁気ヘッドの一例として、垂直磁気記録方式用の磁気ヘッドを挙げる。図４は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。図５は本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成を示す断面図である。なお、図５は媒体対向面および基板の面に垂直な断面を示している。また、図５において記号Ｔで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。
【００７８】
図４および図５に示したように、本実施の形態に係る磁気ヘッドは、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）等のセラミック材料よりなる基板１と、この基板１の上に配置されたアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の絶縁材料よりなる絶縁層２と、この絶縁層２の上に配置された磁性材料よりなる下部シールド層３と、この下部シールド層３の上に配置された絶縁膜である下部シールドギャップ膜４と、この下部シールドギャップ膜４の上に配置された再生素子としてのＭＲ（磁気抵抗効果）素子５と、このＭＲ素子５の上に配置された絶縁膜である上部シールドギャップ膜６と、この上部シールドギャップ膜６の上に配置された磁性材料よりなる第１の上部シールド層７とを備えている。
【００７９】
ＭＲ素子５の一端部は、記録媒体に対向する媒体対向面３０に配置されている。ＭＲ素子５には、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果）素子あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。ＧＭＲ素子としては、磁気的信号検出用の電流を、ＧＭＲ素子を構成する各層の面に対してほぼ平行な方向に流すＣＩＰ（Current In Plane）タイプでもよいし、磁気的信号検出用の電流を、ＧＭＲ素子を構成する各層の面に対してほぼ垂直な方向に流すＣＰＰ（Current Perpendicular to Plane）タイプでもよい。
【００８０】
磁気ヘッドは、更に、第１の上部シールド層７の上に順に配置された非磁性層８１および第２の上部シールド層８２を備えている。非磁性層８１は、アルミナ等の非磁性材料によって形成されている。第２の上部シールド層８２は、磁性材料によって形成されている。下部シールド層３から第２の上部シールド層８２までの部分は、再生ヘッドを構成する。
【００８１】
磁気ヘッドは、更に、第２の上部シールド層８２の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層８３と、この絶縁層８３の上に配置されたコイル９と、コイル９の巻線間および周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層１０と、絶縁層１０の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層１１とを備えている。コイル９は、平面渦巻き形状をなしている。コイル９および絶縁層１０，１１の上面は平坦化されている。絶縁層８３，１１は、例えばアルミナによって形成されている。絶縁層１０は、例えばフォトレジストによって形成されている。コイル９は、銅等の導電材料によって形成されている。
【００８２】
磁気ヘッドは、更に、平坦化されたコイル９および絶縁層１０，１１の上面の上に配置された非磁性材料よりなる収容層１２を備えている。収容層１２は、上面で開口する溝部１２ａを有している。収容層１２の材料としては、例えば、アルミナ、シリコン酸化物（ＳｉＯＸ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）等の絶縁材料でもよいし、Ｒｕ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＮｉＣｕ、ＮｉＢ、ＮｉＰｄ等の非磁性金属材料でもよい。
【００８３】
磁気ヘッドは、更に、非磁性導電材料よりなり、収容層１２の上面の上に配置された非磁性導電層１３を備えている。非磁性導電層１３は、貫通する開口部１３ａを有し、この開口部１３ａの縁は、収容層１２の上面における溝部１２ａの縁の真上に配置されている。開口部１３ａの内壁は、基板１の上面に対して垂直になっていることが好ましい。非磁性導電層１３の材料としては、例えば、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＮｉＣｒ、ＮｉＰ、ＮｉＰｄ、ＮｉＢ、ＷＳｉ２、ＴａＳｉ２、ＴｉＳｉ２、ＴｉＮ、ＴｉＷのいずれかを用いることができる。
【００８４】
磁気ヘッドは、更に、収容層１２の溝部１２ａ内および非磁性導電層１３の開口部１３ａ内に配置された非磁性膜１４、研磨停止層１５および磁極層１６を備えている。非磁性膜１４は、非磁性材料よりなり、溝１２ａの表面に接するように配置されている。非磁性膜１４の一部は、非磁性導電層１３の上にも配置されている。磁極層１６は、磁性材料よりなり、溝部１２ａの表面から離れるように配置されている。研磨停止層１５は、非磁性膜１４と磁極層１６の間に配置されている。研磨停止層１５は、磁極層１６をめっき法で形成する際に用いられるシード層を兼ねている。磁極層１６は、溝部１２ａの表面に近い位置に配置された第１層１６１と、溝部１２ａの表面から遠い位置に配置された第２層１６２とを有している。なお、第１層１６１は省略してもよい。
【００８５】
非磁性膜１４の材料としては、例えば絶縁材料または半導体材料を用いることができる。非磁性膜１４の材料としての絶縁材料としては、例えばアルミナ、シリコン酸化物（ＳｉＯＸ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）のいずれかを用いることができる。非磁性膜１４の材料としての半導体材料としては、例えば多結晶シリコンまたはアモルファスシリコンを用いることができる。
【００８６】
研磨停止層１５は、非磁性導電材料によって形成されている。研磨停止層１５の材料としては、例えば、非磁性導電層１３と同じものを用いることができる。
【００８７】
第１層１６１と第２層１６２は、いずれも金属磁性材料によって形成されている。第１層１６１の材料としては、例えば、ＣｏＦｅＮ、ＣｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。第２層１６２の材料としては、例えば、ＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。
【００８８】
磁気ヘッドは、更に、非磁性導電層１３の周囲に配置された絶縁層１７を備えている。絶縁層１７は、例えばアルミナによって形成されている。
【００８９】
磁気ヘッドは、更に、非磁性導電層１３、非磁性膜１４、研磨停止層１５、磁極層１６および絶縁層１７の上面の上に配置されたギャップ層１８を備えている。ギャップ層１８には、媒体対向面３０から離れた位置において、開口部が形成されている。ギャップ層１８の材料は、アルミナ等の絶縁材料でもよいし、Ｒｕ、ＮｉＣｕ、Ｔａ、Ｗ、ＮｉＢ、ＮｉＰｄ等の非磁性金属材料でもよい。
【００９０】
磁気ヘッドは、更に、シールド層２０を備えている。シールド層２０は、ギャップ層１８の上に配置された第１層２０Ａと、この第１層２０Ａの上に配置された第２層２０Ｃと、ギャップ層１８の開口部が形成された位置において磁極層１６の上に配置されたヨーク層２０Ｂと、このヨーク層２０Ｂの上に配置された連結層２０Ｄと、第２層２０Ｃと連結層２０Ｄを連結するように配置された第３層２０Ｅとを有している。第１層２０Ａ、ヨーク層２０Ｂ、第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄおよび第３層２０Ｅは、いずれも磁性材料によって形成されている。これらの層２０Ａ〜２０Ｅの材料としては、例えばＣｏＦｅＮ、ＣｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。
【００９１】
磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなり、ヨーク層２０Ｂの周囲に配置された非磁性層２１を備えている。非磁性層２１の一部は、第１層２０Ａの側方に配置されている。非磁性層２１は、例えば、アルミナや塗布ガラス等の無機絶縁材料によって形成されている。あるいは、非磁性層２１は、非磁性金属材料よりなる層とその上に配置された絶縁材料よりなる層とで構成されていてもよい。この場合、非磁性金属材料としては、例えば、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｗ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｃｕ等の高融点金属が用いられる。
【００９２】
磁気ヘッドは、更に、ヨーク層２０Ｂおよび非磁性層２１の上面のうち、後述するコイル２３が配置される領域の上に配置された絶縁層２２と、この絶縁層２２の上に配置されたコイル２３と、このコイル２３の巻線間およびコイル２３の周囲に配置された絶縁層２４と、第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄおよび絶縁層２４の周囲に配置された絶縁層２５と、コイル２３および絶縁層２４の上に配置された絶縁層２６を備えている。コイル２３は、平面渦巻き形状をなしている。コイル２３の一部は、第２層２０Ｃと連結層２０Ｄの間を通過している。コイル２３は、銅等の導電材料によって形成されている。第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄ、コイル２３および絶縁層２４，２５の上面は平坦化されている。絶縁層２４は、例えばフォトレジストによって形成されている。絶縁層２２，２５，２６は、例えばアルミナによって形成されている。
【００９３】
コイル９からシールド層２０の第３層２０Ｅまでの部分は、記録ヘッドを構成する。磁気ヘッドは、更に、シールド層２０を覆うように形成された保護層２８を備えている。保護層２８は、例えばアルミナによって形成されている。
【００９４】
以上説明したように、本実施の形態に係る磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面３０と再生ヘッドと記録ヘッドとを備えている。再生ヘッドと記録ヘッドは、基板１の上に積層されている。再生ヘッドは記録媒体の進行方向Ｔの後側（スライダにおける空気流入端側）に配置され、記録ヘッドは記録媒体の進行方向Ｔの前側（スライダにおける空気流出端側）に配置されている。
【００９５】
再生ヘッドは、再生素子としてのＭＲ素子５と、媒体対向面３０側の一部がＭＲ素子５を挟んで対向するように配置された、ＭＲ素子５をシールドするための下部シールド層３および上部シールド層７と、ＭＲ素子５と下部シールド層３との間に配置された下部シールドギャップ膜４と、ＭＲ素子５と上部シールド層７との間に配置された上部シールドギャップ膜６とを備えている。
【００９６】
記録ヘッドは、コイル９、収容層１２、非磁性導電層１３、非磁性膜１４、研磨停止層１５、磁極層１６、ギャップ層１８、シールド層２０およびコイル２３を備えている。コイル９，２３は、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。なお、コイル９は、記録ヘッドにおける必須の構成要素ではなく、設けられていなくてもよい。また、非磁性膜１４は省略してもよい。
【００９７】
磁極層１６は、媒体対向面３０に配置された端面を有し、コイル２３によって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。
【００９８】
シールド層２０は、媒体対向面３０に配置された端面を有し、媒体対向面３０から離れた位置において磁極層１６に連結されている。ギャップ層１８は、非磁性材料よりなり、磁極層１６とシールド層２０との間に設けられている。
【００９９】
媒体対向面３０において、シールド層２０の端面は、磁極層１６の端面に対して、ギャップ層１８の厚みによる所定の間隔を開けて記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。ギャップ層１８の厚みは、例えば、３０〜６０ｎｍの範囲内である。コイル２３の少なくとも一部は、磁極層１６とシールド層２０との間に、磁極層１６およびシールド層２０に対して絶縁された状態で配置されている。
【０１００】
磁極層１６は、収容層１２の溝部１２ａ内および非磁性導電層１３の開口部１３ａ内に、非磁性膜１４および研磨停止層１５を介して配置されている。非磁性導電層１３の厚みは、例えば２０〜８０ｎｍの範囲内である。非磁性膜１４の厚みは、例えば１０〜４０ｎｍの範囲内である。しかし、この範囲内に限らず、非磁性膜１４の厚みは、トラック幅に応じて任意に設定することができる。研磨停止層１５の厚みは、例えば３０〜１００ｎｍの範囲内である。
【０１０１】
磁極層１６は、溝部１２ａの表面に近い位置に配置された第１層１６１と、溝部１２ａの表面から遠い位置に配置された第２層１６２とを有している。第１層１６１の厚みは、例えば０〜１００ｎｍの範囲内である。第１層１６１の厚みが０というのは、第１層１６１がない場合である。
【０１０２】
シールド層２０は、ギャップ層１８に隣接するように配置された第１層２０Ａと、第１層２０Ａにおけるギャップ層１８とは反対側に配置された第２層２０Ｃと、ギャップ層１８の開口部が形成された位置において磁極層１６の上に配置されたヨーク層２０Ｂと、このヨーク層２０Ｂの上に配置された連結層２０Ｄと、第２層２０Ｃと連結層２０Ｄを連結するように配置された第３層２０Ｅとを有している。第２層２０Ｃは、媒体対向面３０とコイル２３の少なくとも一部との間に配置されている。
【０１０３】
第１層２０Ａは、媒体対向面３０に配置された第１の端部とその反対側の第２の端部とを有している。第２層２０Ｃも、媒体対向面３０に配置された第１の端部とその反対側の第２の端部とを有している。スロートハイトＴＨは、媒体対向面３０から見て磁極層１６とシールド層２０との間隔が大きくなり始める位置から媒体対向面３０までの距離となる。本実施の形態では、スロートハイトＴＨは、第１層２０Ａの媒体対向面３０から遠い端部から媒体対向面３０までの距離となる。スロートハイトＴＨは、例えば０．０５〜０．３μｍの範囲内である。また、第２層２０Ｃのうち、ギャップ層１８および第１層２０Ａを介して磁極層１６と対向する部分における第１の端部と第２の端部との間の最短距離は、例えば０．３〜０．８μｍの範囲内である。また、第１層２０Ａおよびヨーク層２０Ｂの厚みは、例えば０．３〜０．８μｍの範囲内である。第２層２０Ｃおよび連結層２０Ｄの厚みは、例えば１．５〜３．０μｍの範囲内である。第３層２０Ｅの厚みは、例えば、２．０〜３．０μｍの範囲内である。コイル２３の厚みは、第２層２０Ｃの厚み以下であり、例えば、１．５〜３．０μｍの範囲内である。
【０１０４】
ここで、図３および図４を参照して、磁極層１６の形状について詳しく説明する。図３は、本実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物の主要部分を示す平面図である。磁気ヘッド用基礎構造物は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを製造するために用いられるものである。磁気ヘッド用基礎構造物の構成については後で詳しく説明する。図３において、記号ＡＢＳは、媒体対向面３０を形成すべき位置である媒体対向面３０の目標位置に配置された仮想の面を表している。図３に示したように、磁極層１６は、媒体対向面３０に配置された端面を有するトラック幅規定部１６Ａと、このトラック幅規定部１６Ａよりも媒体対向面３０から遠い位置に配置され、トラック幅規定部１６Ａよりも大きな幅を有する幅広部１６Ｂとを有している。トラック幅規定部１６Ａは、媒体対向面３０からの距離に応じて変化しない幅を有している。幅広部１６Ｂの幅は、例えば、トラック幅規定部１６Ａとの境界位置ではトラック幅規定部１６Ａの幅と等しく、媒体対向面３０から離れるに従って、徐々に大きくなった後、一定の大きさになっている。ここで、媒体対向面３０に垂直な方向についてのトラック幅規定部１６Ａの長さをネックハイトＮＨと呼ぶ。ネックハイトＮＨは、例えば０．１〜０．３μｍの範囲内である。
【０１０５】
図４に示したように、媒体対向面３０に配置された磁極層１６の端面は、基板１に近い第１の辺Ａ１と、第１の辺Ａ１とは反対側の第２の辺Ａ２と、第１の辺Ａ１の一端と第２の辺Ａ２の一端とを結ぶ第３の辺Ａ３と、第１の辺Ａ１の他端と第２の辺Ａ２の他端とを結ぶ第４の辺Ａ４とを有している。第２の辺Ａ２は、ギャップ層１８に接すると共にトラック幅を規定する。媒体対向面３０に配置された磁極層１６の端面の幅は、第１の辺Ａ１に近づくに従って、すなわち基板１に近づくに従って小さくなっている。また、第３の辺Ａ３と第４の辺Ａ４がそれぞれ基板１の上面に垂直な方向に対してなす角度は、例えば、５°〜１５°の範囲内とする。第２の辺Ａ２の長さ、すなわちトラック幅は、例えば０．０５〜０．２０μｍの範囲内である。磁極層１６の厚みは、例えば０．１５〜０．５μｍの範囲内である。
【０１０６】
また、媒体対向面３０に配置された磁極層１６の端面は、第１の領域と、この第１の領域よりも基板１から遠い位置に配置され、且つ第１の領域に接続された第２の領域とを有している。第１の領域は、基板１に近づくに従って小さくなる幅を有している。第２の領域は、トラック幅を規定する一定の幅を有している。媒体対向面３０において、第２の領域のトラック幅方向の両側には、非磁性導電層１３が存在している。
【０１０７】
本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、記録ヘッドによって記録媒体に情報を記録し、再生ヘッドによって、記録媒体に記録されている情報を再生する。記録ヘッドにおいて、コイル２３は、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。磁極層１６およびシールド層２０は、コイル２３が発生する磁界に対応した磁束を通過させる磁路を形成する。磁極層１６は、コイル２３によって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。シールド層２０は、磁気ヘッドの外部から磁気ヘッドに印加された外乱磁界を取り込む。これにより、外乱磁界が磁極層１６に集中して取り込まれることによって記録媒体に対して誤った記録が行なわれることを防止することができる。
【０１０８】
また、本実施の形態では、媒体対向面３０において、シールド層２０の端面は、トラック幅規定部１６Ａの端面に対して、ギャップ層１８による所定の小さな間隔を開けて記録媒体の進行方向Ｔの前側（スライダにおける空気流出端側）に配置されている。記録媒体に記録されるビットパターンの端部の位置は、媒体対向面３０における磁極層１６のギャップ層１８側の端部の位置によって決まる。シールド層２０は、磁極層１６の媒体対向面３０側の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込むことにより、この磁束が記録媒体に達することを阻止する。これにより、記録媒体に既に記録されているビットパターンにおける磁化の方向が上記磁束の影響によって変化することを防止することができる。これにより、本実施の形態によれば、線記録密度を向上させることができる。
【０１０９】
また、本実施の形態では、図４に示したように、媒体対向面３０に配置されたトラック幅規定部１６Ａの端面の幅は、第１の辺Ａ１に近づくに従って小さくなっている。これにより、本実施の形態によれば、スキューに起因した問題の発生を防止することができる。
【０１１０】
次に、本実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物について説明する。図１および図２は、それぞれ本実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物における主要な構成要素の配置の第１および第２の例を示す説明図である。図１および図２に示したように、磁気ヘッド用基礎構造物は、複数列に配列されたヘッド予定部１０１を備えている。ヘッド予定部１０１は、後に磁気ヘッドとなる部分である。図１および図２において、記号ＡＢＳは、媒体対向面３０の目標位置に配置された仮想の面を表している。本実施の形態では、媒体対向面３０に平行な方向、すなわち図１および図２における水平方向についてのヘッド予定部１０１の並びを列と言う。
【０１１１】
磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、隣接する２つの列の間に配置された列間除去予定部１０２と、列内において隣接する２つのヘッド予定部１０１の間に配置された列内除去予定部１０３とを備えている。列間除去予定部１０２および列内除去予定部１０３は、いずれも、磁気ヘッドに残らない部分である。
【０１１２】
磁気ヘッド用基礎構造物は、更に、媒体対向面３０の目標位置を示すための指標部１１０を備えている。指標部１１０は、仮想の面ＡＢＳと交差する位置に配置される。なお、指標部１１０は、その一部が磁気ヘッドに残る位置に配置されてもよいし、磁気ヘッドに残らない位置に配置されてもよい。図１に示した第１の例では、指標部１１０は、その一部が磁気ヘッドに残る位置に配置されている。具体的には、第１の例では、指標部１１０は、仮想の面ＡＢＳと交差し、且つヘッド予定部１０１と列間除去予定部１０２とに跨る領域に配置されている。第１の例の基礎構造物を用いて磁気ヘッドを製造した場合には、磁気ヘッドに指標部１１０の一部が残ることになる。図２に示した第２の例では、指標部１１０は、磁気ヘッドに残らない位置に配置されている。具体的には、第２の例では、指標部１１０は、列内除去予定部１０３内において、仮想の面ＡＢＳと交差する領域に配置されている。
【０１１３】
図３は、指標部１１０の構成の一例を示している。指標部１１０は、指標層１１１と指標規定部１１２とによって構成されている。また、指標部１１０は、複数の第１の指標１２１と、複数の第２の指標１２２と、２つの基準部１２３とを含んでいる。指標規定部１１２は、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３の外形を規定する部分である。指標部１１０のうち、指標規定部１１２以外の部分が指標層１１１になっている。第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３は、それぞれ、指標層１１１の一部によって構成されている。本実施の形態では、指標規定部１１２は、指標層１１１に形成された溝部になっている。指標部１１０の全体の平面形状は、仮想の面ＡＢＳおよび基板１の上面に平行な方向（図３における水平方向）に長い矩形になっている。本実施の形態では、指標層１１１は、非磁性導電層１３の一部によって構成されている。
【０１１４】
２つの基準部１２３は、指標部１１０における長手方向の両端の近傍に配置されている。指標規定部１１２は、２つの基準部１２３の間に配置されたジグザグ形状の部分（以下、ジグザグ部と言う。）１１３を含んでいる。第１の指標１２１と第２の指標１２２は、ジグザグ部１１３を挟んで互いに反対側に配置されている。第１の指標１２１は、ジグザグ部１１３よりも図３における下方に配置されている。第２の指標１２２は、ジグザグ部１１３よりも図３における上方に配置されている。また、指標部１１０の長手方向（図３における水平方向）について見ると、第１の指標１２１と第２の指標１２２は交互に配置されている。
【０１１５】
図４に示したように、第１の指標１２１および第２の指標１２２を構成する指標層１１１は、非磁性導電層１３の一部によって構成されていることから、第１の指標１２１および第２の指標１２２と基板１との間の距離は、ＭＲ素子５と基板１との間の距離よりも、トラック幅規定部１６Ａと基板１との間の距離に近い。
【０１１６】
ここで、図１８を参照して、第１の指標１２１と第２の指標１２２について詳しく説明する。図１８は、指標部１１０の一部を示す説明図である。図１８において（ａ）は、指標部１１０の一部を上から見た状態を示している。図１８において（ｂ）は、仮想の面ＡＢＳと一致する位置に媒体対向面３０が形成されたときの媒体対向面３０を示している。ジグザグ部１１３は、それぞれ仮想の面ＡＢＳと交差する複数の直線部分１１３Ａと、直線部分１１３Ａの端部に接続された突出部分１１３Ｂとを含んでいる。本実施の形態では、突出部分１１３Ｂは、隣接する２つの直線部分１１３Ａの端部同士を接続している。隣接する２つの直線部分１１３Ａは、仮想の面ＡＢＳに対して斜めに交差し、且つ互いに異なる方向に延びている。直線部分１１３Ａは、第１の指標１２１と第２の指標１２２において、仮想の面ＡＢＳに対して斜めに交差する辺を規定する。突出部分１１３Ｂは、一端が一方の直線部分１１３Ａの端部に接続された第１の部分１１３Ｂ１と、一端が他方の直線部分１１３Ａの端部に接続された第２の部分１１３Ｂ２と、仮想の面ＡＢＳに平行な方向に延び、第１の部分１１３Ｂ１の他端と第２の部分１１３Ｂ２の他端とを接続する第３の部分１１３Ｂ３とを含んでいる。第１の部分１１３Ｂ１と第２の部分１１３Ｂ２は、垂直に、あるいは直線部分１１３Ａよりも垂直に近い角度で、仮想の面ＡＢＳと交差している。突出部分１１３Ｂ、特に第１の部分１１３Ｂ１と第２の部分１１３Ｂ２の役割は、フォトリソグラフィを利用して指標規定部１１２を形成する際に、直線部分１１３Ａにおける端部近傍の部分が湾曲することを防止することにある。
【０１１７】
第１の指標１２１と第２の指標１２２は、隣接する２つの直線部分１１３Ａの間に形成されている。第１の指標１２１と第２の指標１２２は、いずれも、仮想の面ＡＢＳと平行に配置された底辺を有する二等辺三角形における頂点部分を面取りした形状をなしている。従って、第１の指標１２１と第２の指標１２２は、それぞれ、仮想の面ＡＢＳに対して斜めに交差する、長さの等しい２つの辺を有している。この２つの辺は、上記の二等辺三角形における長さの等しい２つの辺に相当する。ここで、第１の指標１２１と第２の指標１２２において、長さの等しい２つの辺の各々が仮想の面ＡＢＳに対してなす角度のうちの小さい方をθとする。角度θは、０°より大きく９０°より小さい。
【０１１８】
第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅は、媒体対向面３０の目標位置、すなわち仮想の面ＡＢＳにおいて等しい。次に、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、各位置における第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅がどのように変化するかについて説明する。まず、図１８（ａ）における下方から上方に位置を変化させた場合には、位置の変化に応じて、各位置における第１の指標１２１の幅は減少し、各位置における第２の指標１２２の幅は増加する。逆に、図１８（ａ）における上方から下方に位置を変化させた場合には、位置の変化に応じて、各位置における第１の指標１２１の幅は増加し、各位置における第２の指標１２２の幅は減少する。このように、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【０１１９】
基準部１２３は、媒体対向面３０の目標位置における第１の指標１２１および第２の指標１２２の幅と等しく、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有している。また、基準部１２３は、仮想の面ＡＢＳと交差する位置に配置されている。
【０１２０】
ここで、媒体対向面３０における第１の指標１２１、第２の指標１２２の各幅をＷ１、Ｗ２とする。媒体対向面３０が目標位置に形成されている場合には、幅Ｗ１と幅Ｗ２は等しい。
【０１２１】
また、媒体対向面３０の目標位置から媒体対向面３０に対して垂直な方向にずれた変位位置ＤＰにおける第１の指標１２１、第２の指標１２２の各幅をＷ１ｄ、Ｗ２ｄとする。変位位置ＤＰと媒体対向面の目標位置とのずれ量Ｄは、幅Ｗ１ｄ、Ｗ２ｄと前述の角度θを用いて、次の式（１）で表される。
【０１２２】
Ｄ＝（１／４）・（Ｗ１ｄ−Ｗ２ｄ）・ｔａｎθ    …（１）
【０１２３】
上記の式（１）から分かるように、第１の指標１２１と第２の指標１２２の幅の差Ｗ１ｄ−Ｗ２ｄは、変位位置ＤＰと媒体対向面の目標位置とのずれ量Ｄに比例している。
【０１２４】
ところで、前述のように、第１の指標１２１と第２の指標１２２がそれぞれ、仮想の面ＡＢＳに対してなす角度がθとなる２つの辺を有している場合、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化量（絶対値）ΔＰと、第１の指標１２１と第２の指標１２２の各幅の変化量（絶対値）ΔＷと、角度θは、以下の式（２）で表される関係を有する。
【０１２５】
ΔＷ＝２ΔＰ／ｔａｎθ    …（２）
【０１２６】
式（２）から分かるように、角度θが小さいほど、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化量ΔＰに対する第１の指標１２１と第２の指標１２２の各幅の変化量ΔＷの割合が大きくなる。すなわち、角度θが小さいほど、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に対する第１の指標１２１と第２の指標１２２の感度が高くなる。しかし、角度θが小さいほど、第１の指標１２１と第２の指標１２２の最大の幅は大きくなる。そのため、角度θが小さすぎることは実用的ではない。これらのことから、角度θは、１０°以上であることが好ましい。
【０１２７】
一方、角度θが６３．４°のとき、ΔＷとΔＰはほぼ等しくなる。角度θが６３．４°以下の場合にはΔＷはΔＰ以上となり、角度θが６３．４°を超えるとΔＷはΔＰよりも小さくなる。第１の指標１２１と第２の指標１２２の感度をある程度大きくするという観点から、ΔＷはΔＰ以上であることが好ましく、角度θは６３．４°以下であることが好ましい。
【０１２８】
また、式（２）を変形すると、以下の式（３）が得られる。
【０１２９】
ΔＷ／ΔＰ＝２／ｔａｎθ    …（３）
【０１３０】
式（３）から分かるように、２／ｔａｎθが整数の場合、ΔＷ／ΔＰも整数となり、ΔＷとΔＰの関係が分かりやすくなると共に、ΔＷからΔＰを計算で求めるときの計算が容易になる。この観点から、角度θは、２／ｔａｎθが整数となるような値であることが好ましい。このようなθの値としては、６３．４°、４５°、３３．７°、２６．６°、２１．８°、１８．４°等がある。
【０１３１】
次に、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法は、１枚の基板に対して複数の磁気ヘッドの構成要素を形成することによって、ヘッド予定部１０１が複数列に配列された磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程と、この磁気ヘッド用基礎構造物を切断することによって複数のヘッド予定部１０１を互いに分離して、複数の磁気ヘッドを作製する工程とを備えている。以下、図６ないし図１７を参照して、磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程について詳しく説明する。
【０１３２】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法では、まず、図４および図５に示したように、基板１の上に、絶縁層２、下部シールド層３、下部シールドギャップ膜４を順に形成する。次に、下部シールドギャップ膜４の上にＭＲ素子５と、このＭＲ素子５に接続される図示しないリードとを形成する。次に、ＭＲ素子５およびリードを、上部シールドギャップ膜６で覆う。次に、上部シールドギャップ膜６の上に、上部シールド層７、非磁性層８１、第２の上部シールド層８２および絶縁層８３を順に形成する。次に、絶縁層８３の上に、コイル９および絶縁層１０，１１を形成する。次に、コイル９および絶縁層１０，１１の上面を、例えばＣＭＰによって平坦化する。
【０１３３】
図６は、次の工程を示す。図６は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造過程の途中における積層体の上面および断面を示している。図６において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の上面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の上面を示し、（ｃ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｄ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。
【０１３４】
この工程では、まず、平坦化されたコイル９および絶縁層１０，１１の上面の上に、後に溝部１２ａが形成されることにより収容層１２となる非磁性層１２Ｐを形成する。次に、例えばスパッタ法によって、非磁性層１２Ｐの上に非磁性導電層１３を形成する。次に、非磁性導電層１３の上に、例えば１．０μｍの厚みのフォトレジスト層を形成する。次に、このフォトレジスト層をパターニングして、非磁性導電層１３をパターニングするためのマスク３１を形成する。このマスク３１は、溝部１２ａに対応した形状の開口部３１ａと、指標規定部１１２に対応した形状の開口部３１ｂとを有している。
【０１３５】
図７は、次の工程を示す。図７は、図６に示した工程に続く工程における積層体の上面および断面を示している。図７において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の上面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の上面を示し、（ｃ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｄ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。
【０１３６】
この工程では、まず、マスク３１を用いて、非磁性導電層１３を選択的にエッチングする。これにより、非磁性導電層１３に、貫通した開口部１３ａ，１３ｂが形成される。開口部１３ａは、マスク３１の開口部３１ａに対応する位置に形成され、後に形成される磁極層１６の平面形状に対応した形状をなしている。開口部１３ｂは、マスク３１の開口部３１ｂに対応する位置に形成され、指標規定部１１２を構成する。指標部１１０が配置される領域では、開口部１３ｂが形成されるように非磁性導電層１３がパターニングされ、このパターニングされた非磁性導電層１３が指標層１１１となる。このようにして、非磁性導電層１３の一部によって指標部１１０が形成される。
【０１３７】
図７に示した工程では、更に、非磁性層１２Ｐのうち非磁性導電層１３の開口部１３ａ，１３ｂから露出する部分を選択的にエッチングする。これにより、非磁性層１２Ｐにおいて、開口部１３ａ，１３ｂに対応する位置に、それぞれ溝部１２ａ，１２ｂが形成される。この溝部１２ａ，１２ｂが形成されることによって、非磁性層１２Ｐは収容層１２となる。次に、マスク３１を除去する。
【０１３８】
非磁性導電層１３および非磁性層１２Ｐのエッチングは、例えば、反応性イオンエッチングまたはイオンビームエッチングを用いて行われる。非磁性導電層１３のエッチングでは、エッチングによって形成される開口部１３ａ，１３ｂの側壁が、基板１の上面に対して垂直になるようにする。反応性イオンエッチングを用いて非磁性導電層１３をエッチングする場合には、エッチングガスとしては、例えばＣｌ２およびＢＣｌ３を含むものを用いる。また、反応性イオンエッチングを用いて非磁性層１２Ｐをエッチングする場合には、エッチングガスとしては、塩素（Ｃｌ）または臭素（Ｂｒ）を含む第１のガスと、フッ素（Ｆ）を含む第２のガスとを含むものが好ましい。第１のガスは、例えば、ＢＣｌ３、Ｃｌ２、ＢＢｒ３、ＨＣｌのいずれかを含む。第２のガスは、例えば、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、ＣＨＦ３のいずれかを含む。非磁性層１２Ｐのエッチングの際には、磁極層１６のトラック幅規定部１６Ａの両側部に対応する溝部１２ａの壁面が基板１の上面に垂直な方向に対してなす角度が、例えば５°〜１５°の範囲内になるようにする。
【０１３９】
図８は、次の工程を示す。図８は、図７に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図８において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、非磁性膜１４を形成する。非磁性膜１４は、溝部１２ａ，１２ｂ内にも形成される。非磁性膜１４は、例えば、スパッタ法または化学的気相成長法（以下、ＣＶＤと記す。）によって形成される。非磁性膜１４の厚みは、精度よく制御することができる。ＣＶＤを用いて非磁性膜１４を形成する場合には、特に、１原子層毎の成膜を繰り返すＣＶＤ、いわゆるアトミックレイヤーＣＶＤ（以下、ＡＬＣＶＤと記す。）を用いることが好ましい。この場合には、非磁性膜１４の厚みの制御をより精度よく行うことができる。また、ＡＬＣＶＤを用いて非磁性膜１４を形成する場合には、非磁性膜１４の材料としては、特にアルミナが好ましい。半導体材料を用いて非磁性膜１４を形成する場合には、特に、低温（２００℃程度）でのＡＬＣＶＤまたは低温での低圧ＣＶＤを用いて非磁性膜１４を形成することが好ましい。また、非磁性膜１４の材料としての半導体材料は、不純物をドープしない多結晶シリコンまたはアモルファスシリコンであることが好ましい。
【０１４０】
次に、例えばスパッタ法またはＡＬＣＶＤによって、積層体の上面全体の上に研磨停止層１５を形成する。研磨停止層１５は、溝部１２ａ，１２ｂ内にも形成される。研磨停止層１５は、後に行われる研磨工程における研磨の停止位置を示す。
【０１４１】
図９は、次の工程を示す。図９は、図８に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図９において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、磁極層１６の第１層１６１となる第１の磁性層１６１Ｐを形成する。この第１の磁性層１６１Ｐは、例えば、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成される。スパッタ法によって第１の磁性層１６１Ｐを形成する場合には、コリメーションスパッタやロングスロースパッタを用いることが好ましい。なお、前述のように第１層１６１は省略してもよいので、第１の磁性層１６１Ｐは形成しなくてもよい。
【０１４２】
次に、第１の磁性層１６１Ｐの上に、磁極層１６の第２層１６２となる第２の磁性層１６２Ｐを形成する。第２の磁性層１６２Ｐは、溝部１２ａ，１２ｂを埋め、且つその上面が非磁性導電層１３、非磁性膜１４および研磨停止層１５の各上面よりも上方に配置されるように形成される。この第２の磁性層１６２Ｐは、例えばフレームめっき法によって形成される。その際、第１の磁性層１６１Ｐは、めっき用の電極として用いられる。研磨停止層１５が導電性の材料によって形成されている場合には、研磨停止層１５も、めっき用の電極として用いられる。なお、第２の磁性層１６２Ｐは、パターニングしていないめっき層を形成した後、このめっき層をエッチングによってパターニングして形成してもよい。
【０１４３】
図１０は、次の工程を示す。図１０は、図９に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１０において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、第２の磁性層１６２Ｐをマスクとして、例えばイオンビームエッチングによって、非磁性導電層１３、非磁性膜１４、研磨停止層１５および第１の磁性層１６１Ｐのうち、第２の磁性層１６２Ｐの下に存在している部分以外の部分を除去する。
【０１４４】
図１１は、次の工程を示す。図１１は、図１０に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１１において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、第２の磁性層１６２Ｐのうち、溝部１２ａ内および溝部１２ａの周辺に配置された部分を覆うように、例えばフォトレジストよりなるマスク３２を形成する。次に、エッチングによって、第２の磁性層１６２Ｐおよび第１の磁性層１６１Ｐのうち、マスク３２によって覆われていない部分を除去する。
【０１４５】
図１２は、次の工程を示す。図１２は、図１１に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１２において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、積層体の上面のうち、指標部１１０が配置されている部分以外の部分を覆うように、例えばフォトレジストよりなるマスク３３を形成する。次に、エッチングによって、研磨停止層１５のうち、マスク３３によって覆われていない部分を除去する。
【０１４６】
図１３は、図１２に示した工程が終了した後における指標部１１０およびその周辺を示す平面図である。なお、図１３では、便宜上、非磁性膜１４を除いている。図１３に示したように、指標部１１０は研磨停止層１５によって覆われていないが、指標部１１０の周辺には研磨停止層１５が残っている。
【０１４７】
このようにして、指標部１１０において、指標層１１１となる非磁性導電層１３の周辺の第１の磁性層１６１Ｐ，第２の磁性層１６２Ｐおよび研磨停止層１５が除去される。これにより、電子顕微鏡を用いて媒体対対向面３０に露出した指標層１１１を観察したときに、指標層１１１の鮮明な画像を得ることが可能になる。なお、電子顕微鏡の解像度によっては、溝部１２ｂ内の第２の磁性層１６２Ｐを除去しなくても、電子顕微鏡によって指標層１１１の鮮明な画像を得ることができる場合もある。この場合には、溝部１２ｂ内の第２の磁性層１６２Ｐを除去しなくてもよい。
【０１４８】
図１４は、次の工程を示す。図１４は、図１２に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１４において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、積層体の上面全体の上に、絶縁層１７を、例えば０．５〜１．５μｍの厚みに形成する。
【０１４９】
図１５は、次の工程を示す。図１５は、図１４に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１５において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、例えばＣＭＰによって、研磨停止層１５が露出するまで絶縁層１７、第２の磁性層１６２Ｐおよび第１の磁性層１６１Ｐを研磨して、研磨停止層１５、絶縁層１７、第１の磁性層１６１Ｐおよび第２の磁性層１６２Ｐの上面を平坦化する。ＣＭＰによって研磨停止層１５、絶縁層１７、第２の磁性層１６２Ｐおよび第１の磁性層１６１Ｐを研磨する場合には、研磨停止層１５が露出した時点で研磨が停止するようなスラリー、例えばアルミナ系のスラリーを用いる。
【０１５０】
図１６は、次の工程を示す。図１６は、図１５に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１６において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、例えばイオンビームエッチングによって、研磨停止層１５のうち、非磁性導電層１３の上方に存在している部分を除去すると共に、第１の磁性層１６１Ｐおよび第２の磁性層１６２Ｐの各一部をエッチングして、非磁性膜１４、研磨停止層１５、第１の磁性層１６１Ｐおよび第２の磁性層１６２Ｐの上面を平坦化する。これにより、磁性層１６１Ｐ，１６２Ｐがそれぞれ第１層１６１、第２層１６２となる。
【０１５１】
次に、積層体の上面全体の上に、ギャップ層１８を形成する。ギャップ層１８は、例えば、スパッタ法またはＣＶＤによって形成される。ＣＶＤを用いてギャップ層１８を形成する場合には、特にＡＬＣＶＤを用いることが好ましい。また、ＡＬＣＶＤを用いてギャップ層１８を形成する場合には、ギャップ層１８の材料としては、特にアルミナが好ましい。
【０１５２】
次に、ギャップ層１８の上に第１層２０Ａを形成すると共に、磁極層１６の上にヨーク層２０Ｂを形成する。第１層２０Ａとヨーク層２０Ｂは、フレームめっき法によって形成してもよいし、スパッタ法によって磁性層を形成した後、この磁性層を選択的にエッチングすることによって形成してもよい。磁性層を選択的にエッチングする方法としては、例えば、磁性層の上にアルミナ層を形成し、このアルミナ層の上にフレームめっき法によってマスクを形成し、このマスクを用いて、アルミナ層および磁性層をエッチングする方法を用いることができる。次に、積層体の上面全体の上に、非磁性層２１を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第１層２０Ａおよびヨーク層２０Ｂが露出するまで非磁性層２１を研磨して、第１層２０Ａ、ヨーク層２０Ｂおよび非磁性層２１の上面を平坦化する。
【０１５３】
図１７は、次の工程を示す。図１７は、図１６に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図１７において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、図５に示したように、ヨーク層２０Ｂおよび非磁性層２１の上面のうち、コイル２３が配置される領域の上に絶縁層２２を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、コイル２３の少なくとも一部が絶縁層２２の上に配置されるように、コイル２３を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、第２層２０Ｃおよび連結層２０Ｄを形成する。なお、第２層２０Ｃおよび連結層２０Ｄを形成した後に、コイル２３を形成してもよい。
【０１５４】
次に、コイル２３の巻線間およびコイル２３の周囲に、例えばフォトレジストよりなる絶縁層２４を選択的に形成する。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層２５を例えば４〜４．５μｍの厚みで形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄおよびコイル２３が露出するまで絶縁層２５を研磨して、第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄ、コイル２３および絶縁層２４，２５の上面を平坦化する。
【０１５５】
次に、コイル２３および絶縁層２４の上に絶縁層２６を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、第３層２０Ｅを形成して、シールド層２０を完成させる。次に、積層体の上面全体を覆うように保護層２８を形成する。次に、保護層２８の上に配線や端子等を形成し、スライダ単位で基板を切断し、媒体対向面３０の研磨、浮上用レールの作製等を行って、磁気ヘッドが完成する。
【０１５６】
このようにして、１枚の基板１に対して、複数組の磁極層１６およびコイル２３を含む複数の磁気ヘッドの構成要素が形成されて、それぞれ後に磁気ヘッドとなるヘッド予定部が複数列に配列された磁気ヘッド用基礎構造物が作製される。この磁気ヘッド用基礎構造物は、仮想の面ＡＢＳの近傍で切断される。そして、磁気ヘッド用基礎構造物を切断することによって形成された面が研磨されて、媒体対向面３０が形成される。また、磁気ヘッド用基礎構造物を切断することによって複数のヘッド予定部が互いに分離されて、複数の磁気ヘッドが作製される。
【０１５７】
ここで、磁気ヘッド用基礎構造物を切断して複数の磁気ヘッドを作製する工程の一例について説明する。この例では、まず、図１または図２に示した列間除去予定部１０２内の位置で磁気ヘッド用基礎構造物を切断して、１列に配列された複数のヘッド予定部１０１を含むヘッド集合体を作製する。次に、磁気ヘッド用基礎構造物を切断することによってヘッド集合体に形成された１つの面（仮想の面ＡＢＳに近い面）を研磨して、ヘッド集合体に含まれる各ヘッド予定部１０１に対して、媒体対向面３０を形成する。次に、媒体対向面３０に、例えばエッチングによって、浮上用レールを形成する。その後、図１または図２に示した列内除去予定部１０３の位置でヘッド集合体を切断することによって複数のヘッド予定部１０１を互いに分離して、複数の磁気ヘッドを作製する。
【０１５８】
ヘッド集合体を研磨して媒体対向面３０を形成する工程では、例えば、ヘッド集合体に含まれる複数のＭＲ素子５の各抵抗値を監視しながら、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して、ＭＲ素子５の各抵抗値がそれぞれ所定の値になるように媒体対向面３０を形成する。これにより、各ヘッド予定部１０１におけるＭＲハイト、スロートハイトＴＨおよびネックハイトＮＨが、それぞれ所望の値になるように制御される。
【０１５９】
なお、磁気ヘッド用基礎構造物を切断して複数の磁気ヘッドを作製する工程の具体的な内容は、上記の例に限らない。例えば、以下のようにして、磁気ヘッドを作製してもよい。まず、磁気ヘッド用基礎構造物を切断して、複数列に配列された複数のヘッド予定部１０１を含む第１のヘッド集合体を作製する。次に、この第１のヘッド集合体の一面を研磨して、１列のヘッド予定部１０１における媒体対向面３０を形成する。次に、媒体対向面３０が形成された１列のヘッド予定部１０１が分離されて第２のヘッド集合体となるように、第１のヘッド集合体を切断する。次に、複数のヘッド予定部１０１が互いに分離されるように、第２のヘッド集合体を切断して、複数の磁気ヘッドを作製する。
【０１６０】
ところで、磁気ヘッド用基礎構造物に指標部１１０が設けられず、ＭＲ素子５の各抵抗値のみを監視しながら媒体対向面３０を形成する場合を考える。この場合には、各ヘッド予定部１０１におけるＭＲハイトが所望の値になるように媒体対向面３０を形成することができる。しかし、この場合、媒体対向面３０と基板１の上面とのなす角度が所望の角度、例えば９０°からずれた場合には、媒体対向面３０のうち、ＭＲ素子５の端部が露出した部分は所望の位置に配置されていても、媒体対向面３０のうち、トラック幅規定部１６Ａの端面が露出した部分は、所望の位置からずれて配置されてしまう。その結果、スロートハイトＴＨおよびネックハイトＮＨは所望の値からずれてしまう。
【０１６１】
本実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物は、指標部１１０を備えている。指標部１１０は、第１の指標１２１と第２の指標１２２と含んでいる。第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅は、媒体対向面３０の目標位置において等しい。また、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅の一方は減少し、他方は増加する。従って、本実施の形態によれば、磁気ヘッドを作製する工程において、媒体対向面３０における第１の指標１２１および第２の指標１２２の幅を観察することにより、媒体対向面３０が目標位置に形成されているか否かを知ることができる。また、本実施の形態によれば、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面３０を形成する際に、研磨面が媒体対向面３０の目標位置に近いほど、研磨面における第１の指標１２１と第２の指標１２２の幅の差が小さくなる。従って、研磨面における第１の指標１２１と第２の指標１２２の幅を観察することにより、研磨面が媒体対向面３０の目標位置に近いか否かが容易に分かる。これらのことから、本実施の形態によれば、媒体対向面３０を所望の位置に正確に形成することが可能になる。
【０１６２】
また、本実施の形態では、式（１）で表されるように、媒体対向面３０の目標位置から媒体対向面３０に対して垂直な方向にずれた変位位置ＤＰにおける第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅との差は、変位位置ＤＰと媒体対向面３０の目標位置とのずれ量に比例している。従って、本実施の形態によれば、基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面３０を形成する際に、研磨面における第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅との差から、研磨面と媒体対向面３０の目標位置とのずれ量を求めることができる。これにより、媒体対向面３０を所望の位置により正確に形成することが可能になる。
【０１６３】
また、本実施の形態では、第１の指標１２１および第２の指標１２２の幅と、ＭＲ素子５の抵抗値の両方を監視しながら、媒体対向面３０を形成することにより、媒体対向面３０と基板１の上面とのなす角度を、所望の角度、例えば９０°にすることができる。従って、本実施の形態によれば、ＭＲハイト、スロートハイトＴＨおよびネックハイトＮＨを、それぞれ所望の値になるように制御することができる。
【０１６４】
また、指標部１１０が、その一部が磁気ヘッドに残る位置に配置されている場合には、磁気ヘッドにおいて、媒体対向面３０における第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅との差から、媒体対向面３０と媒体対向面３０の目標位置とのずれ量を求めることができる。
【０１６５】
ここで、図１８ないし図２０を参照して、媒体対向面３０の位置と、媒体対向面３０における指標１２１，１２２の幅との関係について説明する。図１９および図２０は、図１８と同様に、指標部１１０の一部を示す説明図である。図１９および図２０において、（ａ）は、指標部１１０の一部を上から見た状態を示し、（ｂ）は、媒体対向面３０を示している。
【０１６６】
媒体対向面３０が目標位置に形成されている場合には、図１８（ｂ）に示したように、媒体対向面３０における第１の指標１２１の幅Ｗ１と第２の指標１２２の幅をＷ２とが等しい。
【０１６７】
図１９は、媒体対向面３０の研磨量が必要量よりも不足して、媒体対向面３０が目標位置からずれた場合を示している。この場合、図１９（ｂ）に示したように、媒体対向面３０における第１の指標１２１の幅Ｗ１は、第２の指標１２２の幅をＷ２よりも大きくなる。従って、幅の差Ｗ１−Ｗ２は、正の値となる。
【０１６８】
図２０は、媒体対向面３０の研磨量が必要量を超過して、媒体対向面３０が目標位置からずれた場合を示している。この場合、図２０（ｂ）に示したように、媒体対向面３０における第１の指標１２１の幅Ｗ１は、第２の指標１２２の幅をＷ２よりも小さくなる。従って、幅の差Ｗ１−Ｗ２は、負の値となる。
【０１６９】
図１８ないし図２０から分かるように、本実施の形態によれば、幅の差Ｗ１−Ｗ２がゼロではない場合、その正負の符号から、媒体対向面３０が目標位置の前後のどちらにずれているかを知ることができる。更に、幅の差Ｗ１−Ｗ２は、媒体対向面３０と目標位置とのずれ量に比例するため、幅の差Ｗ１−Ｗ２から、このずれ量を求めることができる。
【０１７０】
また、本実施の形態では、指標部１１０は基準部１２３を含んでいる。この基準部１２３は、媒体対向面３０の目標位置における第１の指標１２１および第２の指標１２２の幅と等しく、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有している。従って、媒体対向面３０が目標位置に形成されている場合には、媒体対向面３０における第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３の各幅は全て等しくなる。一方、媒体対向面３０が目標位置からずれている場合には、媒体対向面３０における第１の指標１２１、第２の指標１２２の各幅のうち、一方は媒体対向面３０における基準部１２３の幅よりも小さくなり、他方は媒体対向面３０における基準部１２３の幅よりも大きくなる。これらのことから、本実施の形態によれば、媒体対向面３０が目標位置に形成されているか否か判定が容易になる。
【０１７１】
また、本実施の形態では、磁極層１６は、収容層１２の溝部１２ａ内に、非磁性膜１４および研磨停止層１５を介して配置される。従って、本実施の形態では、磁極層１６の形状は、溝部１２ａの形状によって決まる。このように、本実施の形態では、磁極層１６の側部をエッチングしないので、ネックハイトＮＨが所望の値よりも大きくなったり、磁極層１６の形状が所望の形状から大きく崩れたりすることがない。更に、本実施の形態では、前述のように、媒体対向面３０を所望の位置に正確に形成することができる。これらのことから、本実施の形態によれば、ネックハイトＮＨが小さい場合であっても、トラック幅を正確に決めることができる。
【０１７２】
また、本実施の形態によれば、スキューに起因した問題の発生を防止できる形状を有し且つ幅の小さな磁極層１６を正確に形成することができる。
【０１７３】
また、本実施の形態では、収容層１２の溝部１２ａ内に、非磁性膜１４および研磨停止層１５を介して磁極層１６が配置される。そのため、本実施の形態によれば、トラック幅を規定するトラック幅規定部１６Ａの上面の幅を小さくすることが可能になる。
【０１７４】
［変形例］
以下、本実施の形態における第１ないし第３の変形例について説明する。図２１は、第１の変形例における第１の指標、第２の指標および基準部を示す平面図である。第１の変形例では、第１の指標１２１と第２の指標１２２は、それぞれ二等辺三角形の形状を有している。第１の指標１２１および第２の指標１２２において、底辺は仮想の面ＡＢＳに平行になるように配置され、底辺と頂点は仮想の面ＡＢＳを挟んで互いに反対側に配置されている。ただし、第１の指標１２１の底辺と第２の指標１２２の底辺は、仮想の面ＡＢＳを挟んで互いに反対側に配置されている。第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅は、媒体対向面３０の目標位置、すなわち仮想の面ＡＢＳにおいて等しい。また、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅の一方は減少し、他方は増加する。また、第１の変形例では、基準部１２３は、正方形の形状を有している。基準部１２３は、媒体対向面３０の目標位置における第１の指標１２１および第２の指標１２２の幅と等しく、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有している。また、基準部１２３は、仮想の面ＡＢＳと交差する位置に配置されている。
【０１７５】
第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３は、例えば非磁性導電層１３によって形成されている。図２１に示した例では、基準部１２３の一方の側方に、一対の第１の指標１２１および第２の指標１２２が配置され、基準部１２３の他方の側方に、他の一対の第１の指標１２１および第２の指標１２２が配置されている。しかし、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３の配置や数は、これに限られるわけではない。第１の変形例におけるその他の構成、作用および効果は、図１ないし図２０を参照して説明した実施の形態と同様である。
【０１７６】
図２２および図２３は、それぞれ第２の変形例における指標部を示す説明図である。図２２において、（ａ）は指標部を上から見た状態を示し、（ｂ）は仮想の面における指標部を示している。また、図２３において、（ａ）は指標部を上から見た状態を示し、（ｂ）は変位位置における指標部を示している。
【０１７７】
第２の変形例では、第１の指標１２１は、指標層１１１のうち、２つの細長い溝部１１４ａ，１１４ｂに挟まれた領域によって形成されている。第２の指標１２２は、指標層１１１のうち、２つの細長い溝部１１５ａ，１１５ｂに挟まれた領域によって形成されている。基準部１２３は、指標層１１１のうち、２つの細長い溝部１１６ａ，１１６ｂに挟まれた領域によって形成されている。指標層１１１は、例えば非磁性導電層１３によって形成されている。また、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３は、いずれも仮想の面ＡＢＳと交差する位置に配置されている。
【０１７８】
第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅は、媒体対向面３０の目標位置、すなわち仮想の面ＡＢＳにおいて等しい。また、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標１２１の幅と第２の指標１２２の幅の一方は減少し、他方は増加する。また、基準部１２３は、媒体対向面３０の目標位置における第１の指標１２１および第２の指標１２２の幅と等しく、媒体対向面３０に対して垂直な方向の位置の変化に応じて変化しない幅を有している。第２の変形例におけるその他の構成、作用および効果は、図１ないし図２０を参照して説明した実施の形態と同様である。
【０１７９】
図２４は、第３の変形例における指標部を示す説明図である。図２４において、（ａ）は指標部を上から見た状態を示し、（ｂ）は仮想の面における指標部を示している。第３の変形例において、指標層１１１および溝部１１４ａ，１１４ｂ，１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，１１６ｂの形状は、第２の変形例と同じである。ただし、第３の変形例では、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３の規定の方法が、第２の変形例と異なっている。すなわち、第３の変形例では、第１の指標１２１は、溝部１１４ａにおける長手方向に延びる中心線と溝部１１４ｂにおける長手方向に延びる中心線とに挟まれた領域によって形成されている。第２の指標１２２は、溝部１１５ａにおける長手方向に延びる中心線と溝部１１５ｂにおける長手方向に延びる中心線とに挟まれた領域によって形成されている。基準部１２３は、溝部１１６ａにおける長手方向に延びる中心線と溝部１１６ｂにおける長手方向に延びる中心線とに挟まれた領域によって形成されている。
【０１８０】
媒体対向面３０の目標位置、すなわち仮想の面ＡＢＳにおいて、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３の幅は等しい。第３の変形例では、溝部１１４ａ，１１４ｂ，１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，１１６ｂを形成する際に利用するフォトリソグラフィの精度によって溝部１１４ａ，１１４ｂ，１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，１１６ｂの幅が変化しても、これらの溝部における中心線の位置は、ほとんど変化しない。従って、第３の変形例によれば、フォトリソグラフィの精度によって溝部１１４ａ，１１４ｂ，１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，１１６ｂの幅が変化しても、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３の各幅がほとんど変化しないという利点がある。第３の変形例におけるその他の構成、作用および効果は、図１ないし図２０を参照して説明した実施の形態と同様である。
【０１８１】
［第２の実施の形態］
次に、図２５ないし図２９を参照して、本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物について説明する。図２５ないし図２９は、本実施の形態における指標部を示す説明図である。図２５ないし図２９において、（ａ）は指標部を上から見た状態を示している。図２５、図２６、図２８および図２９において、（ｂ）は変位位置における指標部を示している。図２７において、（ｂ）は仮想の面ＡＢＳにおける指標部を示している。
【０１８２】
本実施の形態における指標部１１０は、第１の指標１２１および第２の指標１２２の他に、４組の第３および第４の指標、すなわち、指標１３１，１３２、指標１３３，１３４、指標１３５，１３６および指標１３７，１３８を含んでいる。なお、指標１３１，１３３，１３５，１３７が第３の指標であり、指標１３２，１３４，１３６，１３８が第４の指標である。本実施の形態における指標部１１０は、更に、基準部１２３を含んでいてもよい。本実施の形態における指標部１１０は、第１の実施の形態と同様に、指標層１１１と指標規定部１１２とによって構成されている。
【０１８３】
第３および第４の指標は、媒体対向面が形成されたときにそれぞれの一部が媒体対向面に露出する位置に配置され、媒体対向面の目標位置から媒体対向面に対して垂直な方向にずれた位置を示す。また、第３の指標の幅と第４の指標の幅は、媒体対向面の目標位置からずれた位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第３の指標の幅と第４の指標の幅の一方は減少し、他方は増加する。
【０１８４】
本実施の形態では、媒体対向面の目標位置からずれた位置として、第１の位置ＤＰ１、第２の位置ＤＰ２、第３の位置ＤＰ３および第４の位置ＤＰ４を規定している。基礎構造物を切断することによって形成された面を研磨して媒体対向面を形成する工程では、研磨が進行するにつれて研磨面に、第１の位置ＤＰ１、第２の位置ＤＰ２、仮想の面ＡＢＳ（媒体対向面の目標位置）、第３の位置ＤＰ３、第４の位置ＤＰ４が、この順に露出する。第１の位置ＤＰ１と第２の位置ＤＰ２との間の距離、第２の位置ＤＰ２と仮想の面ＡＢＳとの間の距離、仮想の面ＡＢＳと第３の位置ＤＰ３との間の距離、および第３の位置ＤＰ３と第４の位置ＤＰ４との間の距離は、等しくてもよいし、異なっていてもよい。
【０１８５】
図２５に示したように、指標１３１，１３２の幅は、第１の位置ＤＰ１において等しい。図２６に示したように、指標１３３，１３４の幅は、第２の位置ＤＰ２において等しい。図２７に示したように、指標１２１，１２２の幅は、仮想の面ＡＢＳ（媒体対向面の目標位置）において等しい。図２８に示したように、指標１３５，１３６の幅は、第３の位置ＤＰ３において等しい。図２９に示したように、指標１３７，１３８の幅は、第４の位置ＤＰ４において等しい。
【０１８６】
本実施の形態によれば、媒体対向面を形成する工程において、研磨面における各指標の幅を観察することにより、研磨面と仮想の面ＡＢＳ（媒体対向面の目標位置）との大まかなずれ量を容易に認識することが可能になる。すなわち、研磨面において指標１３１，１３２の幅が等しければ、研磨面が第１の位置ＤＰ１にあることが分かる。研磨面において指標１３３，１３４の幅が等しければ、研磨面が第２の位置ＤＰ１にあることが分かる。研磨面において指標１２１，１２２の幅が等しければ、研磨面が目標位置にあることが分かる。研磨面において指標１３５，１３６の幅が等しければ、研磨面が第３の位置ＤＰ３にあることが分かる。研磨面において指標１３７，１３８の幅が等しければ、研磨面が第４の位置ＤＰ４にあることが分かる。各位置ＤＰ１，ＤＰ２，ＤＰ３，ＤＰ４と仮想の面ＡＢＳ（媒体対向面の目標位置）とのずれ量は予め知られている。また、研磨面がちょうど上記の各位置にない場合であっても、研磨面における各指標の幅を観察することにより、研磨面が上記の各位置のうちのいずれに近い位置にあるかが容易に分かる。また、本実施の形態においても、第１の実施の形態と同様に、指標１２１，１２２の幅の差から、研磨面と媒体対向面の目標位置とのずれ量を正確に求めることもできる。
【０１８７】
なお、図２５ないし図２９には、４組の第３および第４の指標を設けた例を示したが、本実施の形態において、第３および第４の指標は１組以上あればよい。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果、変形例も含めて、第１の実施の形態と同様である。
【０１８８】
［第３の実施の形態］
次に、本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物について説明する。図３０は、本実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物の主要部分を示す平面図である。図３１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。本実施の形態では、第１の指標１２１、第２の指標１２２および基準部１２３を構成する指標層１１１は、非磁性導電層１３の一部ではなく、磁極層１６と同じ材料によって形成されている。また、指標規定部１１２は、非磁性導電層１３の一部によって構成されている。図３０に示したように、指標部１１０の周辺には、非磁性導電層１３が配置されている。また、図３１に示したように、本実施の形態では、収容層１２は、磁極層１６を収容する溝部１２ａと、指標層１１１を収容する溝部１２ｂとを有している。
【０１８９】
次に、図３２ないし図３７を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッド用基礎構造物を作製する工程について詳しく説明する。本実施の形態では、非磁性層１２Ｐの上に非磁性導電層１３を形成する工程までは、第１の実施の形態と同様である。
【０１９０】
図３２は、次の工程を示す。図３２は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造過程の途中における積層体の上面および断面を示している。図３２において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の上面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の上面を示し、（ｃ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｄ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、非磁性導電層１３の上に、例えば１．０μｍの厚みのフォトレジスト層を形成する。次に、このフォトレジスト層をパターニングして、非磁性導電層１３をパターニングするためのマスク３１を形成する。このマスク３１は、溝部１２ａに対応した形状の開口部３１ａと、溝部１２ｂに対応した形状の開口部３１ｂとを有している。
【０１９１】
図３３は、次の工程を示す。図３３は、図３２に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図３３において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、マスク３１を用いて、非磁性導電層１３を選択的にエッチングする。これにより、非磁性導電層１３に、貫通した開口部１３ａ，１３ｂが形成される。開口部１３ａは、マスク３１の開口部３１ａに対応する位置に形成され、後に形成される磁極層１６の平面形状に対応した形状をなしている。開口部１３ｂは、マスク３１の開口部３１ｂに対応する位置に形成される。
【０１９２】
図３３に示した工程では、更に、非磁性層１２Ｐのうち非磁性導電層１３の開口部１３ａ，１３ｂから露出する部分を選択的にエッチングする。これにより、非磁性層１２Ｐにおいて、開口部１３ａ，１３ｂに対応する位置に、それぞれ溝部１２ａ，１２ｂが形成される。この溝部１２ａ，１２ｂが形成されることによって、非磁性層１２Ｐは収容層１２となる。次に、マスク３１を除去する。非磁性導電層１３および非磁性層１２Ｐのエッチング方法は、第１の実施の形態と同様である。
【０１９３】
図３４は、次の工程を示す。図３４は、図３３に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図３４において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、非磁性膜１４を形成する。非磁性膜１４は、溝部１２ａ，１２ｂ内にも形成される。非磁性膜１４の形成方法は、第１の実施の形態と同様である。次に、例えばスパッタ法またはＡＬＣＶＤによって、積層体の上面全体の上に研磨停止層１５を形成する。研磨停止層１５は、溝部１２ａ，１２ｂ内にも形成される。研磨停止層１５は、後に行われる研磨工程における研磨の停止位置を示す。
【０１９４】
図３５は、次の工程を示す。図３５は、図３４に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図３５において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、第１の実施の形態と同様にして、第１の磁性層１６１Ｐと第２の磁性層１６２Ｐを順に形成する。図３５では、第１の磁性層１６１Ｐと第２の磁性層１６２Ｐとを合わせて、磁性層１６Ｐとして表している。また、以下の説明でも、第１の磁性層１６１Ｐと第２の磁性層１６２Ｐとを合わせたものを磁性層１６Ｐと呼ぶ。次に、図示しないが、第２の磁性層１６２Ｐをマスクとして、例えばイオンビームエッチングによって、第１の磁性層１６１Ｐのうち、第２の磁性層１６２Ｐの下に存在している部分以外の部分を除去する。なお、第１の実施の形態で説明した通り、第１の磁性層１６１Ｐは形成しなくてもよい。
【０１９５】
次に、積層体の上面全体の上に、図示しない絶縁層を、例えば０．５〜１．５μｍの厚みに形成する。次に、例えばＣＭＰによって、研磨停止層１５が露出するまで絶縁層および磁性層１６Ｐを研磨して、研磨停止層１５、絶縁層および磁性層１６Ｐの上面を平坦化する。ＣＭＰによって研磨停止層１５、絶縁層および磁性層１６Ｐを研磨する場合には、研磨停止層１５が露出した時点で研磨が停止するようなスラリー、例えばアルミナ系のスラリーを用いる。
【０１９６】
図３６は、次の工程を示す。図３６は、図３５に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図３６において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、例えばイオンビームエッチングによって、研磨停止層１５および非磁性膜１４のうち、非磁性導電層１３の上方に存在している部分を除去すると共に、磁性層１６Ｐの一部をエッチングして、非磁性導電層１３、非磁性膜１４、研磨停止層１５および磁性層１６Ｐの上面を平坦化する。これにより、指標部１１０が配置される領域では、磁性層１６Ｐが指標層１１１となり、磁極層１６が配置される領域では、磁性層１６Ｐが磁極層１６となる。
【０１９７】
次に、積層体の上面全体の上に、ギャップ層１８を形成する。ギャップ層１８の形成方法は、第１の実施の形態と同様である。次に、ギャップ層１８の上に第１層２０Ａを形成すると共に、磁極層１６の上にヨーク層２０Ｂを形成する。第１層２０Ａとヨーク層２０Ｂの形成方法は、第１の実施の形態と同様である。次に、積層体の上面全体の上に、非磁性層２１を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第１層２０Ａおよびヨーク層２０Ｂが露出するまで非磁性層２１を研磨して、第１層２０Ａ、ヨーク層２０Ｂおよび非磁性層２１の上面を平坦化する。
【０１９８】
図３７は、次の工程を示す。図３７は、図３６に示した工程に続く工程における積層体の断面を示している。図３７において、（ａ）は指標部１１０が配置される領域の断面を示し、（ｂ）は磁極層１６が配置される領域の断面を示している。この工程では、まず、図５に示したように、ヨーク層２０Ｂおよび非磁性層２１の上面のうち、コイル２３が配置される領域の上に絶縁層２２を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、コイル２３の少なくとも一部が絶縁層２２の上に配置されるように、コイル２３を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、第２層２０Ｃおよび連結層２０Ｄを形成する。なお、第２層２０Ｃおよび連結層２０Ｄを形成した後に、コイル２３を形成してもよい。
【０１９９】
次に、コイル２３の巻線間およびコイル２３の周囲に、例えばフォトレジストよりなる絶縁層２４を選択的に形成する。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層２５を例えば４〜４．５μｍの厚みで形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄおよびコイル２３が露出するまで絶縁層２５を研磨して、第２層２０Ｃ、連結層２０Ｄ、コイル２３および絶縁層２４，２５の上面を平坦化する。
【０２００】
次に、コイル２３および絶縁層２４の上に絶縁層２６を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、第３層２０Ｅを形成して、シールド層２０を完成させる。次に、積層体の上面全体を覆うように保護層２８を形成する。次に、保護層２８の上に配線や端子等を形成し、スライダ単位で基板を切断し、媒体対向面３０の研磨、浮上用レールの作製等を行って、磁気ヘッドが完成する。
【０２０１】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。なお、第２の実施の形態における指標部１１０を、本実施の形態と同様の方法で形成してもよい。
【０２０２】
なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、第１の指標と第２の指標の形状は、実施の形態に示した形状に限らず、第１の指標の幅と第２の指標の幅が媒体対向面の目標位置において等しく、媒体対向面に対して垂直な方向の位置の変化に応じて、第１の指標の幅と第２の指標の幅の一方が減少し、他方が増加するような形状であればよい。
【０２０３】
また、各実施の形態において、平面渦巻き形状のコイル９，２３の代わりに、磁極層１６を中心にして螺旋状に配置されたコイルを設けてもよい。
【０２０４】
また、実施の形態では、基体側に再生ヘッドを形成し、その上に、記録ヘッドを積層した構造の磁気ヘッドについて説明したが、この積層順序を逆にしてもよい。
【０２０５】
また、本発明は、垂直磁気記録方式用の磁気ヘッドに限らず、長手磁気記録方式用の磁気ヘッドにも適用することができる。
【符号の説明】
【０２０６】
１…基板、５…ＭＲ素子、１２…収容層、１３…非磁性導電層、１６…磁極層、１８……ギャップ層、２０…シールド層、２３…コイル、３０…媒体対向面、１０１…ヘッド予定部、１０２…列間除去予定部、１０３…列内除去予定部、１１０…指標部、１１１…指標層、１１２…指標規定部、１２１…第１の指標、１２２…複数の第２の指標、１２３…基準部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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