(57)【要約】【課題】反射光学素子、光学ユニット、光学装置及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】反射光学素子４３は、露光光を反射させる第１面４７及び該第１面４７とは異なる第２面４９を有する入射側フライアイミラー４８と、入射側フライアイミラー４８の第２面４９を支持する支持面５０ａを有する支持部材５０と、入射側フライアイミラー４８の第２面４９及び支持部材５０の支持面５０ａのうち一方の面に設けられる突出部材７１と、入射側フライアイミラー４８の第２面４９及び支持部材５０の支持面５０ａのうち他方の面に設けられ、突出部材７１を収容する第１収容部７０と、を備え、支持部材５０は、突出部材７１及び第１収容部７０を介して入射側フライアイミラー４８との間で熱を交換する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を反射させる第１面及び該第１面とは異なる第２面を有する光学部材と、
前記光学部材の第２面を支持する支持面を有する支持部材と、
前記光学部材の第２面及び前記支持部材の支持面のうち一方の面に設けられる突出部材と、
前記光学部材の第２面及び前記支持部材の支持面のうち他方の面に設けられ、前記突出部材を収容する収容部と、を備え、
前記支持部材は、前記突出部材及び前記収容部を介して前記光学部材との間で熱を交換することを特徴とする反射光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の反射光学素子において、
前記光学部材は、前記第１面及び前記第２面を有する複数の光学ブロックを備え、
前記支持部材は、前記支持面を有する複数の第１支持部と、該複数の第１支持部を支持する第２支持部とを備え、
前記各第１支持部は、前記各光学ブロックのうち何れか一つの光学ブロックを支持しており、
前記突出部材は、前記光学ブロックの第２面及び前記第１支持部の支持面のうち一方の面に設けられ、
前記収容部は、前記光学部材の第２面及び前記第１支持部の支持面のうち他方の面に設けられることを特徴とすることを特徴とする反射光学素子。
【請求項３】
請求項２に記載の反射光学素子において、
前記各光学ブロックは、複数の光学要素をそれぞれ備え、
前記複数の光学要素は、光を反射する第１要素面と、該第１要素面とは異なる第２要素面とをそれぞれ有し、
前記第１面は、複数の前記第１要素面で構成されると共に、前記第２面は、複数の前記第２要素面で構成されており、
前記突出部材は、前記光学要素の第２要素面及び前記第１支持部の支持面のうち一方の面に設けられ、
前記収容部は、前記光学要素の第２要素面及び前記第１支持部の支持面のうち他方の面に設けられることを特徴とする反射光学素子。
【請求項４】
請求項１に記載の反射光学素子において、
前記光学部材は、前記第１面が複数の反射面で構成されるフライアイミラーであることを特徴とする反射光学素子。
【請求項５】
請求項１又は請求項４に記載の反射光学素子において、
前記突出部材及び前記収容部は、複数設けられることを特徴とする反射光学素子。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載の反射光学素子において、
前記突出部材及び前記収容部において互いに対向する部位同士の間には、前記突出部材よりも剛性の低い伝熱媒体が介在することを特徴とする反射光学素子。
【請求項７】
請求項６に記載の反射光学素子において、
前記収容部は、重力方向における上方に開口する凹状に形成されると共に、前記伝熱媒体は、伝熱用の液体を含むことを特徴とする反射光学素子。
【請求項８】
請求項７に記載の反射光学素子において、
前記伝熱媒体の前記収容部外への漏出を抑制する漏出抑制部材をさらに備えることを特徴とする反射光学素子。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のうち何れか一項に記載の反射光学素子において、
前記支持部材に対する前記光学部材の位置決めを行うための位置決め機構をさらに備えることを特徴とする反射光学素子。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のうち何れか一項に記載の反射光学素子と、
前記反射光学素子の前記支持部材の温度を調節する温度調節装置と、を備えることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持部材と前記温度調節装置との間で熱を伝達する伝熱部をさらに備えることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学ユニットにおいて、
前記伝熱部は、前記支持部材と前記温度調節装置との間に配置される伝熱部材を有することを特徴とする光学ユニット。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学ユニットにおいて、
前記突出部材及び前記収容部は、複数設けられると共に、
前記伝熱部材は、前記突出部材よりも少ないことを特徴とする光学ユニット。
【請求項１４】
請求項１２又は請求項１３に記載の光学ユニットにおいて、
前記伝熱部材の太さは、前記突出部材よりも太いことを特徴とする光学ユニット。
【請求項１５】
請求項１２〜請求項１４のうち何れか一項に記載の光学ユニットにおいて、
前記伝熱部は、前記支持部材及び前記温度調節装置のうち一方側に設けられる伝熱媒体をさらに有し、
前記伝熱部材は、前記支持部材及び前記温度調節装置のうち他方側に支持されると共に、前記伝熱媒体を介して前記支持部材及び前記温度調節装置のうち一方側と熱を交換することを特徴とする光学ユニット。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持部材及び前記温度調節装置のうち他方側は、前記支持部材及び前記温度調節装置のうち一方側よりも重力方向における下方に配置されており、
前記支持部材及び前記温度調節装置のうち他方側には、上方に開口する凹状の他の収容部が形成されており、
前記他の収容部内には、前記伝熱媒体が収容されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１７】
請求項１６に記載の光学ユニットにおいて、
前記伝熱媒体は、伝熱用の液体を含み、
前記伝熱部材の下端は、前記他の収容部内に収容されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１８】
請求項１６又は請求項１７に記載の光学ユニットにおいて、
前記反射光学素子は、前記温度調節装置に対して重力方向に移動可能な状態で配置されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１９】
光を用いた光学処理を行う光学装置において、
請求項１０〜請求項１８のうち何れか一項に記載の光学ユニットを備える光学装置。
【請求項２０】
所定のパターンが形成されたマスクを光で照明する照明光学系と、
前記マスクを介した光を基板に導く投影光学系と、を備え、
前記照明光学系は、請求項１０〜請求項１８のうち何れか一項に記載の光学ユニットを有することを特徴とする光学装置。
【請求項２１】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程は、請求項２０に記載の光学装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射した光を反射する反射光学素子、該反射光学素子を備える光学ユニット、該光学ユニットを備える光学装置及び該光学装置を用いるデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、反射型の光学部材を備える光学装置の一例として、ＥＵＶ（Extreme Ultraviolet ）光を露光光として用いる露光装置が知られている。こうした露光装置の照明光学系には、オプティカルインテグレータの一例として一対のフライアイミラー（反射光学素子）が設けられている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００７／０２７３８５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ＥＵＶ光を反射光学素子に入射させた場合、入射したＥＵＶ光の７０％程度は反射されるものの、残りの３０％程度のＥＵＶ光は反射光学素子に吸収される。そして、反射光学素子では、ＥＵＶ光の吸収量に応じた熱量が発生し、この熱量の発生により反射光学素子が熱変形するおそれがある。こうした反射光学素子の熱変形を抑制するためには、反射光学素子とは別体に設けられた温度調整装置と反射光学素子との間の熱交換を速やかに行う必要がある。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、実施形態に示す図１〜図２０に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の反射光学素子は、光（ＥＬ）を反射させる第１面（４７，５５，９１）及び該第１面（４７，５５，９１）とは異なる第２面（４９，５７，９２）を有する光学部材（４８，４８Ａ，５６）と、前記光学部材（４８，４８Ａ，５６）の第２面（４９，５７，９２）を支持する支持面（５０ａ，９５ａ）を有する支持部材（５０，５０Ａ，５８）と、前記光学部材（４８，４８Ａ，５６）の第２面（４９，５７，９２）及び前記支持部材（５０，５０Ａ，５８）の支持面（５０ａ，９５ａ）のうち一方の面に設けられる突出部材（７１）と、前記光学部材（４８，４８Ａ，５６）の第２面（４９，５７，９２）及び前記支持部材（５０，５０Ａ，５８）の支持面（５０ａ，９５ａ）のうち他方の面に設けられ、前記突出部材（７１）を収容する収容部（７０）と、を備え、前記支持部材（５０，５０Ａ，５８）は、前記突出部材（７１）及び前記収容部（７０）を介して前記光学部材（４８，４８Ａ，５６）との間で熱を交換することを要旨とする。
【０００７】
なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１の実施形態における露光装置を示す概略構成図。
【図２】オプティカルインテグレータ光学系の構成を示す概略構成図。
【図３】（ａ）は入射側フライアイミラーを模式的に示す正面図、（ｂ）は射出側フライアイミラーを模式的に示す正面図。
【図４】（ａ）は第１の実施形態における第１光学ユニットの構成を示す側断面図、（ｂ）は突出部材が支持部材に固定される様子を示す側断面図。
【図５】伝熱部材が温度調節ブロックに固定される様子を示す側断面図。
【図６】第１の実施形態において、反射光学素子が第１光学ユニットから取り外された様子を説明する側断面図。
【図７】第１の実施形態において、他の反射光学素子が第１光学ユニットに取り付けられた様子を説明する側断面図。
【図８】第２の実施形態における第１光学ユニットの構成を示す側断面図。
【図９】第３の実施形態における第１光学ユニットの構成を示す側断面図。
【図１０】位置決め機構の一例を説明する側断面図。
【図１１】第３の実施形態において、光学ブロックが第１光学ユニットから取り外された様子を説明する側断面図。
【図１２】第３の実施形態において、反射光学素子が第１光学ユニットから取り外された様子を説明する側断面図。
【図１３】第４の実施形態における第１光学ユニットの構成を示す側断面図。
【図１４】第５の実施形態における第１光学ユニットの構成を示す側断面図。
【図１５】第６の実施形態における第１光学ユニットの構成を示す側断面図。
【図１６】（ａ）（ｂ）は別の実施形態において、光学ブロックを第１支持部に固定する方法を説明する側面図。
【図１７】（ａ）は別の実施形態の光学ブロックを示す斜視図、（ｂ）は別の実施形態の第１支持部を示す斜視図、（ｃ）は光学ブロックが第１支持部に位置合せされた状態を示す斜視図。
【図１８】他の別の実施形態の光学ブロックを示す斜視図。
【図１９】デバイスの製造例のフローチャート。
【図２０】半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（第１の実施形態）
以下に、本発明を具体化した第１の実施形態について図１〜図７に基づき説明する。なお、本実施形態では、投影光学系の光軸に平行な方向をＺ軸方向とし、Ｚ軸方向に垂直な平面内で走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向をＹ軸方向とし、その走査方向に直交する非走査方向をＸ軸方向として説明する。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの回転方向をθｘ方向、θｙ方向、θｚ方向ともいう。また、Ｚ軸方向は、重力方向と一致しているものとする。
【００１０】
図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、光源装置１２から射出される、波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域である極端紫外光、即ちＥＵＶ（Extreme Ultraviolet ）光を露光光ＥＬとして用いるＥＵＶ露光装置である。こうした露光装置１１は、内部が大気よりも低圧の真空雰囲気に設定されるチャンバ１３（図１では二点鎖線で囲まれた部分）を備えている。このチャンバ１３内には、光源装置１２からチャンバ１３内に供給された露光光ＥＬで所定のパターンが形成された反射型のレチクルＲを照明する照明光学系１４と、パターンの形成されたパターン形成面Ｒａが−Ｚ方向側（図１では下側）に位置するようにレチクルＲを保持するレチクル保持装置１５とが設けられている。また、チャンバ１３内には、レチクルＲを介した露光光ＥＬでレジストなどの感光性材料が塗布されたウエハＷを照射する投影光学系１６と、露光面（感光性材料が塗布されたウエハ表面）Ｗａが＋Ｚ方向側（図１では上側）に位置するようにウエハＷを保持するウエハ保持装置１７とが設けられている。
【００１１】
光源装置１２は、波長が５〜２０ｎｍのＥＵＶ光を露光光ＥＬとして出力する装置であって、図示しないレーザ励起プラズマ光源を備えている。このレーザ励起プラズマ光源では、高出力レーザを用いて高密度のＥＵＶ光発生物質（ターゲット）を照射することによりターゲットがプラズマ化され、該プラズマからＥＵＶ光が露光光ＥＬとして放射される。高出力レーザとしては、例えば、ＣＯ２レーザ、半導体レーザ励起を利用したＹＡＧレーザ、エキシマレーザなどがある。そして、放射された露光光ＥＬは、図示しない集光光学系によって集光されてチャンバ１３内に出力される。
【００１２】
照明光学系１４は、チャンバ１３の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定される筐体１８（図１では実線で囲まれた部分）を備えている。この筐体１８内には、光源装置１２から筐体１８内に入射された露光光ＥＬを反射可能な複数枚の図示しない反射ミラーが設けられている。そして、各反射ミラーによって順に反射された露光光ＥＬは、後述する鏡筒２５内に設置された折り返し用の反射ミラー１９に入射し、該反射ミラー１９で反射した露光光ＥＬがレチクル保持装置１５に保持されるレチクルＲに導かれる。なお、照明光学系１４には、レチクルＲでの照度均一性を図るためのオプティカルインテグレータ光学系４０（図２参照）が設けられている。このオプティカルインテグレータ光学系４０の構成については後述する。
【００１３】
レチクル保持装置１５は、投影光学系１６の物体面側に配置されており、レチクルＲを静電吸着するための第１静電吸着保持装置２１を備えている。この第１静電吸着保持装置２１は、誘電性材料から構成され且つ吸着面２２ａを有する基体２２と、該基体２２内に配置される図示しない複数の電極部とを有している。そして、図示しない電圧印加部から電圧が各電極部にそれぞれ印加された場合、基体２２から発生されるクーロン力により、吸着面２２ａにレチクルＲが静電吸着される。
【００１４】
また、レチクル保持装置１５は、レチクル移動装置２３の駆動によって、Ｙ軸方向に移動可能である。すなわち、レチクル移動装置２３は、第１静電吸着保持装置２１に保持されるレチクルＲをＹ軸方向に所定ストロークで移動させる。また、レチクル移動装置２３は、レチクルＲをＸ軸方向（図１において紙面と直交する方向）及びθｚ方向に微動させることが可能である。なお、レチクルＲのパターン形成面Ｒａが露光光ＥＬで照明される場合、該パターン形成面Ｒａの一部には、Ｘ軸方向に延びる略円弧状の照明領域が形成される。
【００１５】
投影光学系１６は、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン形成面Ｒａを照明することにより形成されたパターンの像を所定の縮小倍率（例えば１／４倍）に縮小させる光学系であって、チャンバ１３の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定される鏡筒２５を備えている。この鏡筒２５内には、複数枚（一例としては６枚であって、図１では１枚のみ図示）の反射型のミラー２６が収容されている。これら各ミラー２６は、図示しないミラー保持装置を介して鏡筒２５に支持されている。そして、物体面側であるレチクルＲ側から導かれた露光光ＥＬは、各ミラー２６に順に反射され、ウエハ保持装置１７に保持されるウエハＷに導かれる。
【００１６】
照明光学系１４及び投影光学系１６が備える各ミラーにおいて露光光ＥＬを反射するミラー面には、露光光ＥＬを反射する反射層がそれぞれ形成されている。これら各反射層は、モリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）を交互に積層した多層膜をそれぞれ有している。
【００１７】
ウエハ保持装置１７は、ウエハＷを静電吸着するための第２静電吸着保持装置２７を備えている。この第２静電吸着保持装置２７は、誘電性材料から構成され且つ吸着面２８ａを有する基体２８と、該基体２８内に配置される図示しない複数の電極部とを有している。そして、図示しない電圧印加部から電圧が各電極部にそれぞれ印加された場合、基体２８から発生されるクーロン力により、吸着面２８ａにウエハＷが静電吸着される。また、ウエハ保持装置１７には、第２静電吸着保持装置２７を保持する図示しないウエハホルダと、該ウエハホルダのＺ軸方向における位置及びＸ軸周り、Ｙ軸周りの傾斜角を調整する図示しないＺレベリング機構とが組み込まれている。
【００１８】
こうしたウエハ保持装置１７は、ウエハ移動装置２９によって、Ｙ軸方向に移動可能である。すなわち、ウエハ移動装置２９は、第２静電吸着保持装置２７に保持されるウエハＷをＹ軸方向に所定ストロークで移動させる。また、ウエハ移動装置２９は、第２静電吸着保持装置２７に保持されるウエハＷをＸ軸方向に所定ストロークで移動させることが可能であると共に、Ｚ軸方向に微動させることが可能である。
【００１９】
そして、ウエハＷの一つのショット領域にレチクルＲのパターンを形成する場合、照明光学系１４によって照明領域をレチクルＲに形成した状態で、レチクル移動装置２３の駆動によって、レチクルＲをＹ軸方向（例えば、＋Ｙ方向側から−Ｙ方向側）に所定ストローク毎に移動させる。また同時に、ウエハ移動装置２９の駆動によって、ウエハＷをレチクルＲのＹ軸方向に沿った移動に対して投影光学系１６の縮小倍率に応じた速度比でＹ軸方向（例えば、−Ｙ方向側から＋Ｙ方向側）に同期して移動させる。そして、一つのショット領域へのパターンの形成が終了した場合、ウエハＷの他のショット領域に対するパターンの形成が連続して行われる。
【００２０】
次に、オプティカルインテグレータ光学系４０について説明する。
図２に示すように、オプティカルインテグレータ光学系４０は、露光光ＥＬの入射側に配置される第１光学ユニット４１と、射出側に配置される第２光学ユニット４２とを備えている。第１光学ユニット４１には、入射した露光光ＥＬを第２光学ユニット４２側に反射する反射光学素子４３と、該反射光学素子４３が着脱可能な状態で取り付けられる温度調節装置４４とが設けられている。また、第２光学ユニット４２には、第１光学ユニット４１側から入射した露光光ＥＬを反射する反射光学素子４５と、該反射光学素子４５が着脱可能な状態で取り付けられる温度調節装置４６とが設けられている。
【００２１】
第１光学ユニット４１の反射光学素子４３は、図２及び図３（ａ）に示すように、入射した露光光ＥＬを反射する第１面４７（図２では下面）を有する入射側フライアイミラー４８と、入射側フライアイミラー４８を第１面４７の反対側に位置する第２面４９（図２では上面）側から支持する支持部材５０とを備えている。入射側フライアイミラー４８は、図３（ａ）及び図４（ａ）に示すように、二次元的に配置された複数の光学要素５１から構成されており、該各光学要素５１は、平面視略円弧状の第１要素面５２（反射面ともいう。）と、該第１要素面５２とは反対側に位置する第２要素面５３とを有している。すなわち、入射側フライアイミラー４８の第１面４７は、複数の第１要素面５２で構成されると共に、入射側フライアイミラー４８の第２面４９は、複数の第２要素面５３によってＺ軸方向に略直交する平面状に構成されている。こうした入射側フライアイミラー４８は、第１面４７がレチクルＲのパターン形成面Ｒａと光学的に共役な位置又は共役な位置近傍に位置するように配置されている。
【００２２】
第２光学ユニット４２の反射光学素子４５は、図２及び図３（ｂ）に示すように、入射した露光光ＥＬを反射する第１面５５（図２では上面）を有する射出側フライアイミラー５６と、射出側フライアイミラー５６を第１面５５の反対側に位置する第２面５７（図２では下面）側から支持する支持部材５８とを備えている。射出側フライアイミラー５６は、二次元的に配置された複数の光学要素５９から構成されており、該各光学要素５９は、平面視略矩形状の第１要素面６０を有している。すなわち、射出側フライアイミラー５６の第１面５５は、複数の第１要素面６０で構成されている。こうした射出側フライアイミラー５６は、照明瞳面と光学的に共役な位置又は共役な位置近傍に位置するように配置されている。
【００２３】
入射側フライアイミラー４８に入射した露光光ＥＬの光束は、第１要素面５２毎に波面分割され、波面分割された多数の光束は、射出側フライアイミラー５６に入射する。そして、射出側フライアイミラー５６の各第１要素面６０には、該各第１要素面６０に個別対応する入射側フライアイミラー４８の第１要素面５２から射出された光束が入射する。その結果、射出側フライアイミラー５６近傍には、多数の光源像（二次光源ともいう。）が形成される。そして、射出側フライアイミラー５６から射出された多数の光束がレチクルＲのパターン形成面Ｒａ上で重畳することにより、レチクルＲ上での高照度均一性が確保される。
【００２４】
次に、第１光学ユニット４１の構成について説明する。
図４（ａ）に示すように、第１光学ユニット４１の反射光学素子４３は、筐体１８（又はチャンバ１２の側壁）に対して固定機構６５を介して固定されている。つまり、反射光学素子４３は、温度調節装置４４に対する相対的な位置が固定される。その一方で、反射光学素子４３は、固定機構６５から取り外された場合には、温度調節装置４４に対してＺ軸方向に移動可能とされている。
【００２５】
反射光学素子４３において、入射側フライアイミラー４８は、支持部材５０に対して図示しないボルトによって固定されている。また、入射側フライアイミラー４８には、第２面４９側に開口する多数の第１収容部７０が形成されている。本実施形態では、入射側フライアイミラー４８には、一つの光学要素５１に対して複数（図１では１つのみ図示）の第１収容部７０が形成されている。第１収容部７０は、＋Ｚ方向側から見た場合の形状が略円形状となる凹状に形成されている。また、第１収容部７０内には、後述する突出部材７１よりも剛性が低く且つ伝熱効率が高い伝熱媒体が収容されている。
【００２６】
本実施形態では、伝熱媒体として、伝熱用の液体の一種として液体金属が用いられている。液体金属としては、例えば、ガリウムとインジウムの合金、ガリウムとインジウムと錫の合金、ガリウムとインジウムと亜鉛の合金、ガリウムと錫の合金、ガリウムと亜鉛の合金、及び水銀などが挙げられる。そして、第１収容部７０内において伝熱用の液体の液面は、第２面４９よりも−Ｚ方向側（即ち、重力方向における下側）に位置している。
【００２７】
支持部材５０には、入射側フライアイミラー４８の第２面４９を支持する支持面５０ａが設けられており、該支持面５０ａは、第２面４９とほぼ平行な平面をなすように形成されている。また、支持部材５０の支持面５０ａ側において第１収容部７０に対応する各位置には、図４（ａ）（ｂ）に示すように、伝熱効率が高い材料（例えば、アルミニウムなどの金属）で構成される突出部材７１が設けられており、該突出部材７１は、−Ｚ方向側に突出している。また、突出部材７１は、Ｚ軸方向に延びる略円柱状の軸部７２と、該軸部７２の＋Ｚ方向側に設けられる雄ねじ部７３とを有している。この雄ねじ部７３は、略円柱形状をなしており、その側面に雄ねじ加工が施されている。また、雄ねじ部７３には、突出部材７１及び支持部材５０よりも剛性の低く且つ熱伝導率の高い金属膜が付着している。一方、支持部材５０の支持面５０ａ側において第１収容部７０に対応する各位置には、側面が雌ねじ加工されたねじ穴７４が形成されている。そして、突出部材７１は、雄ねじ部７３をねじ穴７４に螺入させることにより支持部材５０に固定されると共に、軸部７２は、対応する第１収容部７０内に収容されている。このとき、突出部材７１の軸部７２の中心は、第１収容部７０の中心にほぼ一致している。
【００２８】
また、図４（ｂ）に示すように、突出部材７１において伝熱用の液体の液面よりも＋Ｚ方向側には、漏出抑制部材７５が取り付けられている。この漏出抑制部材７５は、円環状をなしている。そして、漏出抑制部材７５の内周面は、突出部材７１の軸部７２に密接すると共に、漏出抑制部材７５の外周面は、第１収容部７０の側面に密接している。すなわち、漏出抑制部材７５は、第１収容部７０に収容された伝熱用の液体が外部に漏出することを抑制している。なお、漏出抑制部材７５としては、例えば、Ｏリングが挙げられる。
【００２９】
また、支持部材５０において支持面５０ａの反対側に位置する反対面５０ｂ側には、第１収容部７０よりも少ない第２収容部８０（図４（ａ）では３つのみ図示）が設けられている。第２収容部８０は、＋Ｚ方向側から見た場合の形状が略円形状となる凹状に形成されている。そして、支持部材５０の反対面５０ｂ側に第２収容部８０を設けることによって形成される開口部の直径は、入射側フライアイミラー４８の第２面４９側に第１収容部７０を設けることによって形成される開口部の直径よりも十分に大きい。
【００３０】
また、第２収容部８０内には、第１収容部７０内と同様に、後述する伝熱部材８５よりも剛性が低い伝熱媒体が収容されている。本実施形態では、伝熱媒体は、伝熱用の液体の一例として液体金属が用いられる。第２収容部８０内における伝熱用の液体の液面は、反対面５０ｂよりも−Ｚ方向側（即ち、重力方向における下側）に位置している。
【００３１】
温度調節装置４４は、略直方体状の温度調節ブロック８１を備えている。この温度調節ブロック８１には、図示しない冷媒供給装置から冷媒を供給するための供給管路８２と、冷媒供給装置に冷媒を排出するための排出管路８３とが接続されている。こうした温度調節ブロック８１内には、供給管路８２内及び排出管路８３内に連通する循環流路８４（図４（ａ）では破線で示す。）が形成されている。この循環流路８４は、供給された冷媒を温度調節ブロック８１内で循環させるための流路である。
【００３２】
また、温度調節ブロック８１は、支持部材５０に対向する対向面８１ａを有している。そして、対向面８１ａ側において第２収容部８０に対応する各位置には、伝熱効率が高い材料（例えば、アルミニウムなどの金属）で構成される伝熱部材８５が設けられており、該伝熱部材８５は、−Ｚ方向側に突出している。伝熱部材８５は、図４（ａ）及び図５に示すように、Ｚ軸方向に延びる略円柱状の軸部８６と、該軸部８６の＋Ｚ方向側に設けられる雄ねじ部８７とを有している。伝熱部材８５の軸部８６は、その直径が突出部材７１の軸部７２の直径よりも大きくなるように構成されている。すなわち、伝熱部材８５の軸部８６は、突出部材７１の軸部７２よりも太い。伝熱部材８５の雄ねじ部８７は、略円柱形状をなしており、その側面に雄ねじ加工が施されている。
【００３３】
一方、温度調節ブロック８１の対向面８１ａ側において第２収容部８０に対応する各位置には、側面が雌ねじ加工されたねじ穴８８が形成されている。そして、伝熱部材８５は、雄ねじ部８７をねじ穴８８に螺入させることにより、温度調節ブロック８１に固定される。また、伝熱部材８５の軸部８６の先端部（即ち、−Ｚ方向側の端部）８６ａは、対応する第２収容部８０内に収容される。このとき、伝熱部材８５の軸部８６の中心は、第２収容部８０の中心にほぼ一致している。しかも、軸部８６の先端部８６ａの先端は、第２収容部８０内の伝熱用の液体に浸されている。したがって、本実施形態では、温度調節装置４４は、支持部材５０の第２収容部８０内の伝熱用の液体及び伝熱部材８５により、支持部材５０に支持される入射側フライアイミラー４８の温度を調節する。なお、雄ねじ部８７及びねじ穴８８の少なくとも一方の側面には、伝熱部材８５及び温度調節ブロック８１よりも剛性の低く且つ伝熱効率が高い金属膜（例えば、金）が蒸着されている。これによって、雄ねじ部８７をねじ穴８８に対して密接に螺入させることができ、結果として、雄ねじ部８７とねじ穴８８との間の熱の交換効率が向上する。
【００３４】
次に、第１光学ユニット４１において、露光光ＥＬの入射する入射側フライアイミラー４８の温度を調節する際の作用について説明する。
さて、温度調節装置４４の温度調節ブロック８１が、循環流路８４内を循環する冷媒によって冷却されると、該温度調節ブロック８１に支持される各伝熱部材８５が冷却される。すると、反射光学素子４３の支持部材５０と温度調節装置４４との間では、各第２収容部８０内の伝熱用の液体及び各伝熱部材８５を介して熱が交換される。具体的には、反射光学素子４３の支持部材５０からは、各第２収容部８０内の伝熱用の液体及び各伝熱部材８５を介して温度調節装置４４側に放熱される。また、支持部材５０が温度調節装置４４によって冷却されるため、該支持部材５０に支持される各突出部材７１もまた冷却される。そのため、入射側フライアイミラー４８は、各突出部材７１及び各第１収容部７０内の伝熱用の液体を介して冷却される。
【００３５】
このとき、温度調節ブロック８１では、その内部に形成された循環流路８４内を循環する冷媒の脈動によって振動が発生している。この振動は、温度調節ブロック８１に固定される各伝熱部材８５には伝達されるものの、支持部材５０側にはほとんど伝達されない。これは、各伝熱部材８５の先端部８６ａと各第２収容部８０の側面との間に介在する伝熱用の液体が、温度調節装置４４側から伝達される振動を吸収するダンパーとして機能するためである。
【００３６】
また、入射側フライアイミラー４８は、その第１面４７に入射する露光光ＥＬの大部分（７０％程度）を射出側フライアイミラー５６側に反射する一方で、残りの露光光ＥＬを吸収してしまう。すると、入射側フライアイミラー４８では、露光光ＥＬの吸収量に応じた熱量が発生する。ところで、熱は、温度の高い部分から低い部分に向けて移動する性質を有している。そのため、入射側フライアイミラー４８で発生した熱は、第１面４７側から第２面４９側に移動する。そして、温度の高い入射側フライアイミラー４８と、温度の低い支持部材５０との間では、各第１収容部７０内の伝熱用の液体及び各突出部材７１を介して熱が交換される。
【００３７】
その結果、入射側フライアイミラー４８の昇温が抑制されるため、入射側フライアイミラー４８の第１面４７の熱変形が抑制される。また、支持部材５０と温度調節装置４４との間でも熱が交換されているため、支持部材５０において入射側フライアイミラー４８の第２面４９を支持する支持面５０ａの熱変形が抑制される。その結果、入射側フライアイミラー４８の第１面４７の変位が抑制される。
【００３８】
次に、第１光学ユニット４１において、反射光学素子４３を交換する際の作用について説明する。
さて、反射光学素子４３を交換する際には、固定機構６５が取り外される、又は反射光学素子４３が、固定機構６５から取り外される。すると、反射光学素子４３は、温度調節装置４４に対してＺ軸方向（即ち、重力方向）に移動可能な状態となる。そして、図６に示すように、反射光学素子４３は、各第２収容部８０内の伝熱用の液体が漏れ出ないように−Ｚ方向側に移動される。反射光学素子４３の支持部材５０には、冷媒を供給するための管路などが接続されていない。そのため、本実施形態の反射光学素子４３は、支持部材に冷媒を供給するための管路が接続された反射光学素子を交換する場合と比較して、容易に第１光学ユニット４１から取り外される。
【００３９】
その後、取り外す前の反射光学素子４３とは特性の異なる他の反射光学素子４３Ａ（図７参照）が、第１光学ユニット４１に取り付けられる。他の反射光学素子４３Ａの支持部材５０の反対面５０ｂ側には、反射光学素子４３の支持部材５０と同一位置に第２収容部８０が設けられている。そのため、温度調節ブロック８１で伝熱部材８５が固定される各位置は、変更しなくてもよい。そして、他の反射光学素子４３Ａは、図７に示すように、各第２収容部８０と該各第２収容部８０に個別対応する各伝熱部材８５との位置合せを行った状態で、＋Ｚ方向側に移動される。その後、各伝熱部材８５の先端部８６ａの先端が、各第２収容部８０内の伝熱用の液体に浸った状態になると、他の反射光学素子４３Ａの移動が停止される。そして、他の反射光学素子４３Ａは、固定機構６５によって移動不能な状態で固定される。
【００４０】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）第１光学ユニット４１において、入射側フライアイミラー４８を交換する際には、入射側フライアイミラー４８を支持部材５０から取り外す必要がない。そのため、入射側フライアイミラー４８を容易に交換することができる。
【００４１】
（２）一般的に、入射側フライアイミラーの温度を調節する場合には、該入射側フライアイミラーを支持する支持部材内で所定の温度に調節された流体を循環させるために、該支持部材に流体を供給するための管路などが接続される。この場合、反射光学素子を交換する際には、支持部材から管路を取り外した後に、第１光学ユニット４１から反射光学素子を取り外す必要がある。その後、他の反射光学素子を第１光学ユニット４１に取り付ける場合には、他の反射光学素子を設置した後に、該他の反射光学素子の支持部材に管路を取り付ける必要がある。こうした支持部材からの管路の取り外しや支持部材への管路の取り付けは、非常に煩雑な作業である。この点、本実施形態では、支持部材５０には、上記管路などが接続されていない。そのため、第１光学ユニット４１からの反射光学素子４３，４３Ａの取り外し時や取り付け時の作業が非常に容易となる。したがって、反射光学素子４３，４３Ａを容易に交換することができる。
【００４２】
（３）反射光学素子４３，４３Ａには、該反射光学素子４３，４３Ａを構成する入射側フライアイミラー４８の特性に応じた複数の突出部材７１が設けられている。そのため、支持部材５０を冷却することにより、入射する露光光ＥＬの一部を吸収して発熱する入射側フライアイミラー４８を好適に冷却できる。
【００４３】
（４）しかも、冷却された各突出部材７１の先端は、支持部材５０の支持面５０ａよりもＺ軸方向において入射側フライアイミラー４８の第１面４７（即ち、露光光ＥＬが入射する面）に近接している。そのため、突出部材７１を設けない場合と比較して、入射側フライアイミラー４８と支持部材５０との間での熱を効率良く交換させることができる。したがって、入射側フライアイミラー４８の第１面４７の発熱に基づく変形を抑制できる。
【００４４】
（５）また、第１収容部７０内には、突出部材７１の側面と第１収容部７０の側面との間の隙間を埋めるように伝熱用の液体が収容されている。そのため、第１収容部７０内に伝熱用の液体を収容しない場合と比較して、入射側フライアイミラー４８と支持部材５０との間での熱の交換効率を向上させることができる。
【００４５】
（６）また、突出部材７１の基端側には、漏出抑制部材７５が取り付けられている。そのため、第１収容部７０内から外部への伝熱用の液体の漏出を抑制できる。
（７）本実施形態では、支持部材５０は、該支持部材５０から離間した位置に配置される温度調節装置４４との間で熱の交換を行う。そのため、支持部材５０内に冷媒を循環させるための流路を設ける必要がない分、支持部材５０の構成を簡易化させることができる。
【００４６】
（８）また、温度調節装置４４は、伝熱部材８５を介して支持部材５０と熱の交換を行う。そのため、支持部材５０と輻射によって熱の交換を行う場合と比較して、支持部材５０の温度を効率良く調節でき、ひいては入射側フライアイミラー４８の温度を効率良く調節できる。
【００４７】
（９）また、伝熱部材８５は、直接的には支持部材５０の温度を調節するための部材である。そのため、反射光学素子４３，４３Ａを構成する入射側フライアイミラー４８の特性に応じて設置位置及び本数などを変更しなくてもよい。そのため、使用する入射側フライアイミラー４８の特性に応じて伝熱部材８５の設置位置及び本数などを変更する場合と比較して、反射光学素子４３，４３Ａを容易に交換することができる。
【００４８】
（１０）突出部材７１を第１収容部７０から離脱させるように、光学部材を取り外す方法も考えられる。この場合、各突出部材７１は非常に多く且つ細いため、細心の注意を払いながら作業をする必要がある。この点、本実施形態では、伝熱部材８５の本数は、突出部材７１の本数よりも少ない。そのため、突出部材７１を第１収容部７０から離脱させる場合と比較して、入射側フライアイミラー４８を容易に交換することができる。
【００４９】
（１１）さらに、伝熱部材８５は、突出部材７１よりも太い。すなわち、伝熱部材８５は、突出部材７１と比較して破損や変形しにくい。そのため、突出部材７１を第１収容部７０から離脱させる場合と比較して、入射側フライアイミラー４８を容易に交換することができる。
【００５０】
（１２）伝熱部材８５の先端部８６ａの側面と、支持部材５０に形成された第２収容部８０の側面との間には、伝熱用の液体が介在している。そのため、第２収容部８０内に伝熱用の液体を収容しない場合と比較して、支持部材５０と温度調節装置４４との間での熱を効率良く交換させることができる。したがって、支持部材５０に支持される入射側フライアイミラー４８を効率良く冷却できる。
【００５１】
（１３）本実施形態のように入射側フライアイミラー４８の温度を効率良く調節することにより、該入射側フライアイミラー４８の第１面４７の変形を抑制できる。そのため、レチクルＲに形成される照明領域内での高照度均一性が確保される。したがって、ウエハＷの各ショット領域へのパターン形成精度を向上させることができる。
【００５２】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態を図８に基づき説明する。なお、第２の実施形態は、入射側フライアイミラーの第１面が上方に位置するように配置される点などが第１の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１の実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１の実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００５３】
図８に示すように、本実施形態の第１光学ユニット４１Ａは、反射光学素子４３と、該反射光学素子４３の−Ｚ方向側（即ち、重力方向における下方側）に配置される温度調節装置４４とを備えている。反射光学素子４３は、第１面４７が＋Ｚ方向側（即ち、重力方向における上方側）に位置するように配置される入射側フライアイミラー４８と、該入射側フライアイミラー４８を−Ｚ方向側から支持する支持部材５０とを有している。
【００５４】
支持部材５０には、支持面５０ａ（＋Ｚ方向側の面）側に開口する多数の第１収容部７０が形成されている。本実施形態では、支持部材５０には、一つの光学要素５１に対して複数（図８では１つのみ図示）の第１収容部７０が形成されている。また、第１収容部７０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。第１収容部７０内において伝熱用の液体の液面は、支持面５０ａよりも−Ｚ方向側に位置している。
【００５５】
入射側フライアイミラー４８の第２面４９側において第１収容部７０に対応する各位置には、側面が雌ねじ加工されたねじ穴７４が形成されている。そして、入射側フライアイミラー４８には、ねじ穴７４内に雄ねじ部７３が螺入された突出部材７１が設けられている。こうした突出部材７１の軸部７２は、第１収容部７０内に収容されており、軸部７２の下端部は、第１収容部７０内の伝熱用の液体に浸っている。また、突出部材７１において伝熱用の液体の液面よりも＋Ｚ方向側には、漏出抑制部材７５が取り付けられている。
【００５６】
また、支持部材５０の反対面５０ｂ側には、−Ｚ方向側に突出する複数（図８では３つのみ図示）の伝熱部材８５が設けられている。
温度調節装置４４の温度調節ブロック８１の対向面８１ａ側において、伝熱部材８５に対応する各位置には、第２収容部８０が形成されている。第２収容部８０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。第２収容部８０内において伝熱用の液体の液面は、対向面８１ａよりも−Ｚ方向側に位置している。そして、第２収容部８０内には、伝熱部材８５の先端部８６ａが収容されている。
【００５７】
なお、本実施形態の照明光学系１４では、第２光学ユニット４２は、射出側フライアイミラー５６の第１面５５が−Ｚ方向側に位置するように配置されている。
したがって、本実施形態では、上記第１の実施形態の効果（１）〜（３）（５）〜（１３）と同等の効果に加え、以下に示す効果を得ることができる。
【００５８】
（１４）入射側フライアイミラー４８に設けられた各突出部材７１の側面は、入射側フライアイミラー４８との間で熱交換を行うための熱交換面ということもできる。すなわち、本実施形態において入射側フライアイミラー４８の熱交換面は、第２面４９及び各突出部材７１の側面により構成される。そのため、入射側フライアイミラー４８及び支持部材５０に突出部材７１を設けない場合と比較して、熱交換面の面積が広くなる分、入射側フライアイミラー４８と支持部材５０との間での熱交換の効率を向上させることができる。
【００５９】
（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態を図９〜図１２に基づき説明する。なお、第３の実施形態は、入射側フライアイミラーが複数の光学ブロックで構成される点、支持部材が複数の支持部で構成される点などが第１の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１及び第２の各実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１及び第２の各実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００６０】
図９に示すように、本実施形態の第１光学ユニット４１Ｂは、反射光学素子４３と、該反射光学素子４３の＋Ｚ方向側（重力方向における上方側）に配置される温度調節装置４４とを備えている。反射光学素子４３は、複数（図９では３つのみ図示）の光学ブロック（ミラーブロックともいう。）９０を有する入射側フライアイミラー４８Ａと、該入射側フライアイミラー４８Ａを＋Ｚ方向側（重力方向における上方側）から支持する支持部材５０Ａとを備えている。
【００６１】
入射側フライアイミラー４８Ａにおいて各光学ブロック９０は、複数（図９では３つのみ図示）の光学要素５１を連結して構成されている。各光学要素５１の第１要素面５２は、−Ｚ方向側に位置すると共に、各光学要素５１の第２要素面５３は、＋Ｚ方向側に位置している。すなわち、光学ブロック９０は、複数の第１要素面５２で構成される第１面９１と、複数の第２要素面５３で構成される第２面９２とを有している。
【００６２】
また、光学ブロック９０には、第２面９２側に開口する複数の第１収容部７０が形成されている。本実施形態では、光学ブロック９０には、一つの光学要素５１に対して複数（図９では１つのみ図示）の第１収容部７０が形成されている。第１収容部７０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。そして、第１収容部７０内において伝熱用の液体の液面は、第２面９２よりも−Ｚ方向側（即ち、重力方向における下側）に位置している。
【００６３】
支持部材５０Ａは、支持面９５ａ（−Ｚ方向側の面）を有する複数（図９では３つのみ図示）の第１支持部９５と、該各第１支持部９５を＋Ｚ方向側から支持する第２支持部９６とを備えている。各第１支持部９５は、各光学ブロック９０のうち何れか一つの光学ブロック９０を支持している。本実施形態では、一つの光学ブロック９０に対して、一つの第１支持部９５が設けられている。また、第１支持部９５は、ボルト９７によって第２支持部９６に固定されている。
【００６４】
なお、第１支持部９５と光学ブロック９０との間には、図１０に示すように、第１支持部９５の支持面９５ａでの光学ブロック９０の位置を決めるための位置決め機構９８が設けられている。すなわち、位置決め機構９８は、光学ブロック９０の第２面９２の周縁に形成される切り欠き部９９と、第１支持部９５の支持面９５ａの周縁から突出する係合部１００とを備えている。そして、第１支持部９５の支持面９５ａに光学ブロック９０の第２面９２を当接させる際に切り欠き部９９に係合部１００が係合することにより、光学ブロック９０が、第１支持部９５に位置決めされる。
【００６５】
また、第２支持部９６と第１支持部９５との間には、第２支持部９６の支持面９６ａでの第１支持部９５の位置を決めるための位置決め機構（図示略）が設けられている。すなわち、位置決め機構は、第１支持部９５の第２面の周縁に形成される切り欠き部と、第２支持部９６の支持面９６ａの周縁から突出する係合部とを備えている。そして、第２支持部９６の支持面９６ａに第１支持部９５の第２面を当接させる際に切り欠き部に係合部が係合することにより、第１支持部９５が、第２支持部９６に位置決めされる。
【００６６】
また、図９に示すように、第１支持部９５の支持面９５ａ側において第１収容部７０に対応する各位置には、−Ｚ方向側に突出する突出部材７１が設けられており、突出部材７１における軸部７２の下端部は、第１収容部７０内の伝熱用の液体に浸っている。また、第１支持部９５において支持面９５ａの反対側に位置する反対面９５ｂ側には、第２収容部８０が設けられている。一つの光学ブロック９０に設けられる第２収容部８０の数は、一つの光学ブロック９０に設けられる突出部材７１の数よりも少ない。また、反対面９５ｂ側に第２収容部８０を設けることによって形成される開口部の直径は、光学ブロック９０の第２面９２側に第１収容部７０を設けることによって形成される開口部の直径よりも十分に大きい。さらに、第２収容部８０内には、第１収容部７０内と同様に、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。そして、第２収容部８０内において伝熱用の液体の液面は、反対面９５ｂよりも−Ｚ方向側に位置している。
【００６７】
第２支持部９６は、固定機構６５によって照明光学系１４の筐体１８に固定されている。こうした第２支持部９６において第２収容部８０に対応する各位置には、Ｚ軸方向に貫通する貫通孔１０１が形成されている。第２支持部９６に貫通孔１０１を設けることによって＋Ｚ方向側の面及び−Ｚ方向側の面に形成される開口部の直径は、反対面９５ｂ側に第２収容部８０を設けることによって形成される開口部の直径と略同等である。
【００６８】
温度調節装置４４の温度調節ブロック８１の対向面８１ａ側において第２収容部８０に対応する各位置には、−Ｚ方向側に突出する伝熱部材８５が設けられている。伝熱部材８５の軸部８６は、第２支持部９６の貫通孔１０１を挿通しており、軸部８６の先端部８６ａは、第１支持部９５の第２収容部８０内に収容されている。すなわち、本実施形態では、伝熱部材８５は、第２支持部９６に接触していない。また、伝熱部材８５の側面において貫通孔１０１の側面に対向する部分と貫通孔１０１の側面は、伝熱部材８５と第２支持部９６との間での輻射によって熱が伝達しにくいように、鏡面仕上げされている。
【００６９】
本実施形態の第１光学ユニット４１Ｂでは、上記第１光学ユニット４１，４１Ａとは異なり、入射側フライアイミラー４８Ａの一部のみを交換することも可能である。図１１には、入射側フライアイミラー４８Ａを構成する各光学ブロック９０のうち一部の光学ブロック（図１１では右端側に位置する光学ブロック）を取り外す場合の模式図が図示されている。
【００７０】
図１１に示すように、ボルト９７は、図示しない工具を用いることによって支持部材５０Ａから取り外される。すると、交換する光学ブロック９０は、該光学ブロック９０を支持する第１支持部９５と共に、第２支持部９６から取り外される。すなわち、本実施形態の光学ブロック９０は、第１支持部９５と共に第１光学ユニット４１Ｂから取り外し可能とされている。そのため、光学ブロック９０を第１支持部９５から取り外す必要がない。
【００７１】
また、本実施形態の第１光学ユニット４１Ｂでは、上記第１光学ユニット４１，４１Ａと同様に、反射光学素子４３を交換することも可能である。すなわち、図１２に示すように、第２支持部９６は、固定機構６５が取り外されることにより、温度調節装置４４に対してＺ軸方向に移動可能となる。すると、第２支持部９６を含んだ反射光学素子４３は、−Ｚ方向側に移動されることにより、第１光学ユニット４１Ｂから取り外される。このときも、光学ブロック９０を第１支持部９５から取り外す必要がない。
【００７２】
したがって、本実施形態では、上記各実施形態の効果（１）〜（１３）と同等の効果に加え、以下に示す効果を得ることができる。
（１５）本実施形態では、入射側フライアイミラー４８Ａを構成する各光学ブロック９０のうち一部の光学ブロック９０だけを交換することができる。しかも、この際に、光学ブロック９０は、該光学ブロック９０を支持する第１支持部９５と共に第２支持部９６から取り外される。そのため、光学ブロック９０を第１支持部９５から取り外す場合と比較して、光学ブロック９０を容易に交換できる。
【００７３】
（１６）また、温度調節装置４４側に設けられた伝熱部材８５は、第２支持部９６に接触していない。そのため、伝熱部材８５が第２支持部９６に接触する場合と比較して、伝熱部材８５と第２支持部９６との間での熱の交換量を低減できる。したがって、第２支持部９６の温度が変動しても、伝熱部材８５を用いた第１支持部９５及び光学ブロック９０の温度の調節効率の変動を抑制できる。
【００７４】
（１７）また、第２収容部８０は、第２支持部９６ではなく第１支持部９５に設けられている。そのため、第２収容部８０が第２支持部９６に設けられる場合と比較して、伝熱部材８５の先端を光学ブロック９０に接近させることができる分、各光学ブロック９０の温度を効率良く調節できる。
【００７５】
（第４の実施形態）
次に、本発明の第４の実施形態を図１３に基づき説明する。なお、第４の実施形態は、入射側フライアイミラーの第１面が上方に位置するように配置される点などが第３の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１〜第３の各実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１〜第３の各実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００７６】
図１３に示すように、本実施形態の第１光学ユニット４１Ｃは、反射光学素子４３と、該反射光学素子４３の−Ｚ方向側（即ち、重力方向における下方側）に配置される温度調節装置４４とを備えている。反射光学素子４３は、第１面４７が＋Ｚ方向側（即ち、重力方向における上方側）に位置するように配置される入射側フライアイミラー４８Ａと、該入射側フライアイミラー４８Ａを−Ｚ方向側から支持する支持部材５０Ａとを有している。
【００７７】
支持部材５０Ａは、光学ブロック９０を−Ｚ方向側から支持する複数の第１支持部９５と、該各第１支持部９５を−Ｚ方向側から支持する第２支持部９６とを備えている。第１支持部９５には、支持面９５ａ側に開口する多数の第１収容部７０が形成されている。本実施形態では、第１支持部９５には、一つの光学要素５１に対して複数（図１３では１つのみ図示）の第１収容部７０が形成されている。また、第１収容部７０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。第１収容部７０内において伝熱用の液体の液面は、支持面９５ａよりも−Ｚ方向側に位置している。
【００７８】
光学ブロック９０の第２面９２側において第１収容部７０に対応する各位置には、−Ｚ方向側に突出する突出部材７１が設けられている。こうした突出部材７１の軸部７２は、第１収容部７０内に収容されており、軸部７２の下端部は、第１収容部７０内の伝熱用の液体に浸っている。また、突出部材７１において伝熱用の液体の液面よりも＋Ｚ方向側には、漏出抑制部材７５（一例として、Ｏリング）が取り付けられている。
【００７９】
また、第１支持部９５の反対面９５ｂ側には、温度調節装置４４側に突出する伝熱部材８５が設けられている。そして、伝熱部材８５は、第２支持部９６に形成された貫通孔１０１を挿通している。
【００８０】
温度調節装置４４の温度調節ブロック８１の対向面８１ａ側において、伝熱部材８５に対応する各位置には、第２収容部８０が形成されている。第２収容部８０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。第２収容部８０内において伝熱用の液体の液面は、対向面８１ａよりも−Ｚ方向側に位置している。そして、第２収容部８０内には、伝熱部材８５の先端部８６ａが収容されている。
【００８１】
なお、本実施形態の照明光学系１４では、第２光学ユニット４２は、射出側フライアイミラー５６の第１面５５が−Ｚ方向側に位置するように配置されている。
したがって、本実施形態では、上記各実施形態の効果（１）〜（３）（５）〜（１７）と同等の効果を得ることができる。
【００８２】
（第５の実施形態）
次に、本発明の第５の実施形態を図１４に基づき説明する。なお、第５の実施形態は、入射側フライアイミラーの構成などが第３の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１〜第４の各実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１〜第４の各実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００８３】
図１４に示すように、第１光学ユニット４１Ｄの反射光学素子４３は、複数の第１支持部９５と、該各第１支持部９５を＋Ｚ方向側（重力方向における上方側）から支持する第２支持部９６とを有する支持部材５０Ａを備えている。支持部材５０Ａにおいて各第１支持部９５は、複数（図１４では３つ）の光学ブロック９０Ａを＋Ｚ方向側から支持している。なお、本実施形態では、光学ブロック９０Ａは、例えば、一つの光学要素５１で構成されている。
【００８４】
光学ブロック９０Ａには、第２面９２側に開口する複数（図１４では１つのみ図示）の第１収容部７０が形成されており、該第１収容部７０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。そして、第１収容部７０内において伝熱用の液体の液面は、第２面９２よりも−Ｚ方向側（即ち、重力方向における下側）に位置している。
【００８５】
第１支持部９５の支持面９５ａ側において第１収容部７０に対応する各位置には、−Ｚ方向側に突出する突出部材７１が設けられており、突出部材７１における軸部７２の下端部は、第１収容部７０内の伝熱用の液体に浸っている。また、第１支持部９５において支持面９５ａの反対側に位置する反対面９５ｂ側には、第２収容部８０が設けられている。第２収容部８０内には、第１収容部７０内と同様に、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。そして、第２収容部８０内において伝熱用の液体の液面は、反対面９５ｂよりも−Ｚ方向側に位置している。また、第２支持部９６において第２収容部８０に対応する各位置には、Ｚ軸方向に貫通する貫通孔１０１が形成されている。
【００８６】
温度調節装置４４の温度調節ブロック８１の対向面８１ａ側において第２収容部８０に対応する各位置には、−Ｚ方向側に突出する伝熱部材８５が設けられている。伝熱部材８５の軸部８６は、第２支持部９６の貫通孔１０１を挿通しており、軸部８６の先端部８６ａは、第１支持部９５の第２収容部８０内に収容されている。すなわち、本実施形態では、伝熱部材８５は、第２支持部９６に接触していない。
【００８７】
したがって、本実施形態では、上記各実施形態の効果（１）〜（１３）（１５）〜（１７）と同等の効果を得ることができる。
（第６の実施形態）
次に、本発明の第６の実施形態を図１５に基づき説明する。なお、第６の実施形態は、入射側フライアイミラーの第１面が上方に位置するように配置される点などが第５の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１〜第５の各実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１〜第５の各実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００８８】
図１５に示すように、本実施形態の第１光学ユニット４１Ｅの反射光学素子４３は、複数の第１支持部９５と、該各第１支持部９５を−Ｚ方向側（重力方向における下方側）から支持する第２支持部９６を有する支持部材５０Ａを備えている。支持部材５０Ａにおいて各第１支持部９５は、複数（図１５では３つ）の光学ブロック９０Ａを−Ｚ方向側からそれぞれ支持している。
【００８９】
第１支持部９５には、支持面９５ａ側に開口する多数の第１収容部７０が形成されている。本実施形態では、第１支持部９５には、一つの光学要素５１に対して複数（図１５では一つのみ図示）の第１収容部７０が形成されている。また、第１収容部７０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。第１収容部７０内において伝熱用の液体の液面は、支持面９５ａよりも−Ｚ方向側に位置している。
【００９０】
光学ブロック９０Ａの第２面９２側において第１収容部７０に対応する各位置には、−Ｚ方向側に突出する突出部材７１が設けられている。こうした突出部材７１の軸部７２は、第１収容部７０内に収容されており、軸部７２の下端部は、第１収容部７０内の伝熱用の液体に浸っている。また、第１支持部９５の反対面９５ｂ側には、温度調節装置４４側に突出する伝熱部材８５が設けられている。そして、伝熱部材８５は、第２支持部９６に形成された貫通孔１０１を挿通している。
【００９１】
温度調節装置４４の温度調節ブロック８１の対向面８１ａ側において、伝熱部材８５に対応する各位置には、第２収容部８０が形成されている。第２収容部８０内には、伝熱媒体の一種として伝熱用の液体（例えば、液体金属）が収容されている。第２収容部８０内において伝熱用の液体の液面は、対向面８１ａよりも−Ｚ方向側に位置している。そして、第２収容部８０内には、伝熱部材８５の先端部８６ａが収容されている。
【００９２】
したがって、本実施形態では、上記各実施形態の効果（１）〜（３）（５）〜（１７）と同等の効果を得ることができる。
なお、上記各実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
【００９３】
・各実施形態において、支持部材５０，５０Ａに光学ブロック９０，９０Ａを固定する際には、以下に示すような固定方法を採用してもよい。一例として、図１６（ａ）（ｂ）に示すように、第１支持部９５の支持面９５ａ側において第１の方向に沿って並置される複数（図１６（ａ）では３つ）の光学ブロック９０の両側には、一対の支持ロッド１１０が立設される。そして、一対の支持ロッド１１０は、第１の方向に延びる略矩形板状の連結部材１１１をそれぞれ支持している。この連結部材１１１には、ボルト１１２を介して各光学ブロック９０が連結されている。このように第１支持部９５に各光学ブロック９０を固定させることにより、第１支持部９５に、各光学ブロック９０を支持するためのボルトの設置スペースを確保しなくてもよくなり、その分、突出部材７１及び第１収容部７０の設置数を多くできる。したがって、入射側フライアイミラー４８，４８Ａを効率良く冷却できる。
【００９４】
・各実施形態において、第２収容部８０内に収容される伝熱用の液体は、液体金属以外の他の液体（例えば水）であってもよい。また、伝熱用の液体は、粘性を有する液体（例えばオイルコンパウンド）を含んでもよい。
【００９５】
・各実施形態において、第２収容部８０内に収容される伝熱媒体は、軟質性の伝熱物質を含んでもよい。また、伝熱媒体が液体を含んだ構成ではない場合には、第２収容部８０を設けなくてもよい。一例として、第１の実施形態において、支持部材５０の反対面５０ｂ上に上記軟質性の伝熱物質で構成される伝熱層を形成し、温度調節装置４４側に設けられた伝熱部材８５の先端部８６ａを伝熱層に密接させてもよい。また、第２の実施形態において、温度調節ブロック８１の対向面８１ａ上に上記軟質性の伝熱物質で構成される伝熱層を形成し、支持部材５０側に設けられた伝熱部材８５の先端部８６ａを伝熱層に密接させてもよい。
【００９６】
・各実施形態において、第２収容部８０内に伝熱媒体を収容しなくてもよい。この場合、第２収容部８０内では、伝熱部材８５の先端部８６ａと第２収容部８０の側面とが対向している。そのため、伝熱部材８５の先端部８６ａと第２収容部８０の側面との間で熱（輻射熱）が交換されるため、支持部材５０，５０Ａに支持される入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節することができる。
【００９７】
・各実施形態において、伝熱部材８５は、ヒートパイプであってもよい。
・第１、第３及び第５の各実施形態において、伝熱部材８５を、支持部材５０，５０Ａから離間した位置に配置してもよい。このように構成しても、チャンバ１３内は真空雰囲気であるため、支持部材５０，５０Ａと各伝熱部材８５との間で輻射熱が交換される。その結果、支持部材５０，５０Ａに支持される入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節することができる。
【００９８】
また、第１、第３及び第５の各実施形態において、伝熱部材８５を、省略してもよい。このように構成しても、チャンバ１３内は真空雰囲気であるため、温度調節ブロック８１を支持部材５０，５０Ａに近接して配置することにより、支持部材５０，５０Ａに支持される入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節することができる。なお、支持部材５０，５０Ａの反対面５０ｂと温度調節ブロック８１の対向面８１ａとを黒色塗装面とすることで、効率よく輻射を利用して熱を交換することができる。また、支持部材５０，５０Ａの反対面５０ｂと温度調節ブロック８１の対向面８１ａとの表面を粗く加工することで、効率よく輻射を利用して熱を交換することができる。なお、支持部材５０，５０Ａを加熱する際に、輻射を利用してもよい。このとき、温度調節ブロック８１を、ヒーター等を用いて加熱すればよい。
【００９９】
また、第１、第３及び第５の各実施形態において、伝熱部材８５を省略した場合には、温度調節ブロック８１の対向面８１ａに支持部材５０，５０Ａを当接させてもよい。さらに、温度調節ブロック８１の対向面８１ａと支持部材５０，５０Ａとの間に、軟質性の伝熱物質で構成される伝熱層を設けてもよい。
【０１００】
・第２、第４及び第６の各実施形態において、伝熱部材８５を、温度調節ブロック８１から離間した位置に配置してもよい。このように構成しても、チャンバ１３内は真空雰囲気であるため、温度調節ブロック８１と各伝熱部材８５との間で輻射熱が交換される。その結果、支持部材５０，５０Ａに支持される入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節することができる。
【０１０１】
また、第２、第４及び第６の各実施形態において、伝熱部材８５を、省略してもよい。このように構成しても、チャンバ１３内は真空雰囲気であるため、温度調節ブロック８１を支持部材５０，５０Ａに近接して配置することにより、支持部材５０，５０Ａに支持される入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節することができる。なお、支持部材５０，５０Ａの反対面５０ｂと温度調節ブロック８１の対向面８１ａとを黒色塗装面とすることで、効率よく輻射を利用して熱を交換することができる。また、支持部材５０，５０Ａの反対面５０ｂと温度調節ブロック８１の対向面８１ａとの表面を粗く加工することで、効率よく輻射を利用して熱を交換することができる。なお、支持部材５０，５０Ａを加熱する際に、輻射を利用してもよい。このとき、温度調節ブロック８１を、ヒーター等を用いて加熱すればよい。
【０１０２】
また、第２、第４及び第６の各実施形態において、伝熱部材８５を省略した場合には、温度調節ブロック８１の対向面８１ａに支持部材５０，５０Ａを当接させてもよい。さらに、温度調節ブロック８１の対向面８１ａと支持部材５０，５０Ａとの間に、軟質性の伝熱物質で構成される伝熱層を設けてもよい。
【０１０３】
・各実施形態において、第２収容部８０内又は伝熱部材８５において第２収容部８０内に収容される部分に、第２収容部８０内の伝熱用の液体が外部に漏出することを抑制する部材（一例として、Ｏリング）を設けてもよい。
【０１０４】
・各実施形態において、温度調節装置４４は、輻射（熱放射）を利用して温度調節ブロック８１の温度を調整する調整機構を備えた構成であってもよい。このとき、温度調節ブロック８１を熱線吸収率の高い物質で形成し、調整機構と温度調節ブロック８１との間を、輻射を利用して熱の交換を行うように構成してもよい。なお、熱線吸収率の高い物質としては、例えば、ガラスが挙げられる。
【０１０５】
・各実施形態において、温度調節装置４４は、温度調節ブロック８１の温度を調節するためのペルチェ素子と、該ペルチェ素子を制御するためのコントローラーとを備えた構成であってもよい。
【０１０６】
・各実施形態において、第１光学ユニット４１，４１Ａ〜４１Ｅは、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度を検出する温度検出部と、温度調節ブロック８１内を循環させる流体の温度及び流量のうち少なくとも一方を調節するコントローラーとを備えてもよい。このように構成すると、温度検出部によって検出された温度によって流体の温度及び流量のうち少なくとも一方が調整されることにより、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度を、予め設定された基準温度（例えば２３℃）に維持することができる。すなわち、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度が基準温度よりも低温である場合には、温度調節ブロック８１側から支持部材５０，５０Ａなどを介して熱が入射側フライアイミラー４８に伝達され、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度の上昇が図られる。一方、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度が基準温度よりも高温である場合には、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの熱が支持部材５０，５０Ａなどを介して熱が温度調節ブロック８１側に移動し、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度の低下が図られる。
【０１０７】
すなわち、入射側フライアイミラー４８，４８Ａで一方的に発熱する場合、温度調節装置４４は、入射側フライアイミラー４８，４８Ａを冷却し続けることになる。また、入射側フライアイミラー４８，４８Ａが基準温度よりも外的影響又は内的影響で基準温度よりも常に低温である場合、温度調節装置４４は、入射側フライアイミラー４８，４８Ａを暖め続けることになる。
【０１０８】
・各実施形態において、温度調節ブロック８１を、予め設定された基準温度に維持させてもよい。このように構成すると、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの第１面５５の温度が基準温度に近づくことになる。
【０１０９】
・各実施形態において、温度調節装置４４は、ペルチェ素子を備えた構成であってもよい。例えば、ペルチェ素子と支持部材５０，５０Ａとの間で伝熱部材８５を介して熱の交換を行ってもよい。また、伝熱部材８５を介さずにペルチェ素子と支持部材５０，５０Ａとの間で熱の交換を行ってもよい。この場合、ペルチェ素子を、支持部材５０，５０Ａから離間して配置してもよいし、支持部材５０，５０Ａに接触させてもよい。
【０１１０】
・第１及び第２の実施形態において、支持部材５０の支持面５０ａ上における入射側フライアイミラー４８，４８Ａの位置を、位置決め機構９８を用いて決めてもよい。
・各実施形態において、位置決め機構９８は、光学ブロック９０の第２面９２及び第１支持部９５の支持面９５ａの何れか一方に設けられる係合部と、第２面９２及び支持面９５ａの何れか他方に設けられる突起部とを備えた構成でもよい。この場合、係合部に突起部を嵌め合わせることにより、光学ブロック９０の位置決めがなされる。また、位置決め機構９８は、支持部材５０，５０Ａに設けられた突起部又は誘導部に、フライアイミラー４８，４８Ａを合わせることで、該フライアイミラー４８，４８Ａの位置決めを行う構成であってもよい。
【０１１１】
・また、位置決め機構９８は、図１７（ａ）（ｂ）に示すように、光学ブロック９０の周縁の複数箇所（図１７（ａ）では６箇所）に形成される切り欠き部１２０と、第１支持部９５の支持面９５ａにおいて各切り欠き部１２０に個別対応する突起部１２１とを備えた構成であってもよい。この場合、図１７（ｃ）に示すように、切り欠き部１２０に突起部１２１が係合されることにより、光学ブロック９０は、第１支持部９５上で位置決めされる。なお、切り欠き部１２０を、光学ブロック９０を構成する各光学要素５１の４隅と対応する位置に形成してもよい。また、切り欠き部１２０は、図１７（ａ）に示すように、光学ブロック９０を第１面９１側から第２面９２側に渡って切り欠いた構成であってもよい。
【０１１２】
また、切り欠き部１２０は、図１８に示すように、光学ブロック９０の第２面９２側を切り欠いた構成であってもよい。
また、切り欠き部１２０を、光学ブロック９０の４隅にのみ設けてもよい。
【０１１３】
なお、図１７及び図１８においては、明細書の説明理解の便宜上、第１収容部７０及び突出部材７１の図示を省略するものとする。
・第３〜第６の各実施形態において、第１支持部９５を第２支持部９６上で位置決めするための位置決め機構は、隣接する第１支持部９５同士の位置決めを行うことができる構造であってもよい。この場合、隣接する第１支持部９５の一方の面には切り欠き部を設け、他方の面には係合部とを設け、それらを係合させればよい。
【０１１４】
・各実施形態において、漏出抑制部材７５を省略してもよい。このように構成しても、入射側フライアイミラー４８の第２面４９と、支持部材５０の支持面５０ａ又は第１支持部９５の支持面９５ａとを密接させることにより、第１収容部７０からの伝熱用の液体の漏出が抑制される。また、漏出抑制部材７５を用いないことによって、反射光学素子４３，４３Ａの製造時又は入射側フライアイミラー４８を支持部材５０に取り付ける際に、漏出抑制部材７５と第１収容部７０の側面との接触を抑制できる。また、突出部材７１を第１収容部７０内に収容する際に、漏出抑制部材７５と第１収容部７０の側面との接触に基づく応力が突出部材７１に付与されることを抑制できる。結果として、支持部材５０に対して反射光学素子４３，４３Ａを容易に取り付けることができる。
【０１１５】
・各実施形態において、第１収容部７０内に収容される伝熱用の液体は、伝熱効率の高い液体であれば、液体金属以外の他の液体（例えば水）であってもよい。また、伝熱用の液体は、粘性を有する液体（例えばオイルコンパウンド）を含んでもよい。
【０１１６】
・各実施形態において、第１収容部７０内に収容される伝熱媒体は、インジウムやその合金などの軟質性の熱伝達物質を含んでもよい。
・各実施形態において、第１収容部７０内に収容される伝熱媒体は、大気や窒素などの気体であってもよい。この場合、第１収容部７０内から気体がチャンバ１３内に漏れ出ないように、支持部材５０，５０Ａと入射側フライアイミラー４８，４８Ａとの間を密閉することが好ましい。
【０１１７】
・各実施形態において、第１収容部７０内に伝熱媒体を収容しなくてもよい。この場合、第１収容部７０内では、突出部材７１の軸部７２と第１収容部７０の側面とが対向していると共に、第１収容部７０内は、チャンバ１３内と同様に、真空雰囲気に調整されている。そのため、突出部材７１の軸部７２と第１収容部７０の側面との間で熱（輻射熱）が交換されるため、入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節することができる。
【０１１８】
・各実施形態において、第１収容部７０及び第２収容部８０内に収容される伝熱媒体が液体を含んでいない場合、及び第１収容部７０及び第２収容部８０内に伝熱媒体が収容されない場合には、反射光学素子４３，４３Ａと温度調節装置４４とを、重力方向と交差する方向に沿って並置してもよい。
【０１１９】
・第３及び第５の各実施形態において、第２収容部８０を、第２支持部９６において温度調節ブロック８１に対向する面側に設けてもよい。
・第４及び第６の各実施形態において、伝熱部材８５を、第２支持部９６において温度調節ブロック８１に対向する面側に設けてもよい。この場合、第２支持部９６には、貫通孔１０１を設けなくてもよい。
【０１２０】
・第１及び第２の各実施形態において、入射側フライアイミラー４８，４８Ａは、複数の光学ブロック９０，９０Ａで構成される光学部材であってもよい。この場合、支持部材５０は、複数の光学ブロック９０，９０Ａを支持することになる。
【０１２１】
・各実施形態において、第２光学ユニット４２では、第１光学ユニット４１，４１Ａ〜４１Ｅでの入射側フライアイミラー４８，４８Ａの温度を調節する方法と同一方法で、射出側フライアイミラー５６の第１面５５の温度を調節してもよい。
【０１２２】
・本発明の光学ユニットを、フライアイミラー４８，４８Ａ，５６以外の他のミラーの温度を調節する光学ユニットに具体化してもよい。
・各実施形態において、露光装置１１は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置１１は、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。
・各実施形態において、光源装置１２で用いられるＥＵＶ光発生物質は、気体状の錫（Ｓｎ）でもよいし、液体状又は固体状の錫でもよい。また、ＥＵＶ光発生物質として、キセノン（Ｘｅ）を用いてもよい。
【０１２３】
・各実施形態において、光源装置１２は、放電型プラズマ光源を有する装置でもよい。
・各実施形態において、光源装置１２は、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１２６ｎｍ）等を供給可能な光源であってもよい。また、光源装置１２は、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を供給可能な光源であってもよい。
【０１２４】
・各実施形態において、露光装置１１を、ステップ・アンド・リピート方式の装置に具体化してもよい。
次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図１９は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【０１２５】
まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【０１２６】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【０１２７】
図２０は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）においては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【０１２８】
基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。
【０１２９】
・本発明の光学装置は、光学部材で反射した光を用いて光学処理を行う装置であれば、露光装置以外の他の任意の光学装置（例えば、プロジェクター）に具体化してもよい。
【符号の説明】
【０１３０】
１１…光学装置としての露光装置、１４…照明光学系、１６…投影光学系、４１，４１Ａ〜４１Ｅ，４２…光学ユニット、４３，４３Ａ，４５…反射光学素子、４４，４６…温度調節装置、４７，５５，９１…第１面、４８，４８Ａ，５６…光学部材としてのフライアイミラー、４９，５７，９２…第２面、５０，５０Ａ，５８…支持部材、５０ａ…支持面、５１，５９…光学要素、５２，６０…反射面としての第１要素面、５３…第２要素面、７０…第１収容部、７１…突出部材、７５…漏出抑制部材、８０…伝熱部を構成する第２収容部（他の収容部）、８５…伝熱部を構成する伝熱部材、８６ａ…下端としての先端部、９０，９０Ａ…光学ブロック、９５…第１支持部、９５ａ…支持面、９６…第２支持部、９８…位置決め機構、ＥＬ…露光光、Ｒ…マスクとしてのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。
【図１】
2011233816.tif 000003
【図２】
2011233816.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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