(57)【要約】【課題】ＰＳＶＡ技術を利用した液晶パネルの製造工程で、液晶パネルへの確実な電圧印加を可能とし、確実な紫外光照射処理を行うことのできる紫外光照射装置を提供すること。【解決手段】光反応物質を含有した液晶を内部に封入した被処理基板を搬送するステージと、該ステージに搬送された被処理基板に電圧を印加するための電圧プローブと、該被処理基板に紫外光を照射する紫外光光源と、該紫外光光源を配置した紫外光照射器と、を具備した紫外光照射装置において、該ステージは、水冷機構を持ち、該被処理基板を設置する側の面に判定用光源を具備しており、該ステージに対して紫外光照射器側には、該判定用光源からの光を検出する検出機構がある紫外光照射装置とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光反応物質を含有した液晶を内部に封入した被処理基板が搬送されるステージと、該ステージに搬送された該被処理基板に電圧を印加するための電圧プローブと、該被処理基板に紫外光を照射する紫外光光源と、該紫外光光源を配置した紫外光照射器と、を具備した紫外光照射装置において、
該ステージは、水冷機構を持ち、該被処理基板を設置する側の面に判定用光源を具備しており、
該ステージに対して該紫外光照射器側には、該判定用光源からの光を検出する検出機構がある
ことを特徴とする紫外光照射装置。
【請求項２】
前記判定用光源は、白色ＬＥＤ、または、白色ＥＬであることを特徴とする請求項１に記載の紫外光照射装置。
【請求項３】
前記判定用光源は、光出射側に第一の偏光板を具備し、被処理基板を介して、該判定用光源からの光を検出する前記検出機構側に、該第一の偏光板の偏光方向に対して該偏光方向を９０度回転させて配置した第二の偏光板を具備していることを特徴とする請求項１に記載の紫外光照射装置。
【請求項４】
前記判定用光源は、前記ステージに複数個配置されていることを特徴とする請求項１に記載の紫外光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は液晶パネルの製造に用いられる装置に関する。特に、液晶パネルの製造工程に用いられる紫外光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の液晶パネル製造工程では、液晶パネルへの電圧印加時に液晶を所定方向に配向させるため、液晶基板上に形成された配向膜に同一方向の微細溝を形成する工程として、配向膜を布で擦る「ラビング法」が広く用いられていた。しかし、数ｎｍの配線パターンを持つ一画素ごとの回路や、同一パネル上に形成されるトランジスタ等の半導体素子にとって、布で配向膜表面を擦ることで発生する微細な埃が、結線不良を引き起こす原因となり、液晶素子の動作不良等の問題となっていた。また、布との摩擦で発生する静電気が同一パネル上に形成されたトランジスタ等を破壊する等の問題もあった。
【０００３】
このような問題を解決する技術の開発が進められ、液晶基板の配向膜に機械的な処理を行わず液晶の配向制御を可能とする製造方法として光配向技術が開発されている。光配向技術としては、光偏光記憶膜を用いた光配向処理方法などが知られており、例えば、特開平９−３１８９４６号公報（特許文献１）が知られている。しかし、この方式では、１）製造された液晶パネルの視野角を充分に広げられない、２）均一な配向処理が得られないために、電圧印加時の液晶分子の転傾（ディスクリネーション）が発生する、といった問題があった。
【０００４】
最近では、このような問題を解決し、更に、電圧印加時の反応速度が高い液晶パネルの開発が求められており、光重合性モノマーを利用して配向膜近傍の液晶に配向特性を付与する技術として、高分子安定化垂直配向ネマチック（ＰＳＶＡ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）技術が開発されている。このような技術としては、例えば、特開２００８−１１６６７３号公報（特許文献２）が知られている。
【０００５】
ＰＳＶＡ技術を利用した従来の液晶パネル製造装置、の構成について図を用いて説明する。図９は、従来の液晶パネル製造装置５０１の一例である。その構成は、複数のワークＷ（液晶パネル）を収納可能な搬入部５０２と、搬入部５０２に収納されたワークＷの上下方向を反転させる反転部５０３と、反転部５０３から搬送ロボット５０７で搬送されたワークＷを検査する検査部５０４と、検査部５０４から搬送されたワークＷに紫外光を照射する紫外光照射部５０５と、紫外光照射部５０５から搬送された紫外光照射処理後のワークＷを反転させる反転部５０６とから成る。検査部５０４では、ワークＷに電圧を印加し、形成されているトランジスタが動作するか、回路パターンの欠陥が無いか等について、ワークＷ中の液晶を電圧印加させて検査する。その後、紫外光照射部５０５に搬送され、紫外光照射処理が行われる。
【０００６】
紫外光照射部５０５の詳細な構成を図１０に示す。紫外光照射部５０５は、筐体５１１内部に紫外光を放射する複数のランプ５１２が並列配置されている。また、各ランプ５１２には反射鏡５１３が配置され、ワークＷに対してランプ後方に放射した光を反射し、光を有効利用している。また、ランプ５１２とワークＷとの間には、熱線をカットするフィルター５１４が配置されている。更に、ワークＷは、ステージ５１５上に設置され、電圧プローブ５１６と接触し電圧印加された状態で紫外光照射される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−３１８９４６号公報
【特許文献２】特開２００８−１１６６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ここで、ＰＳＶＡ技術を利用した液晶パネルの製造方法としては、ガラス基板に光重合性モノマーが配合された液晶を挟み込んだ液晶パネルに電圧を印加して液晶分子を傾斜させ、その状態で紫外光を照射するものである。この照射工程は、液晶パネルの生産工程の中では、液晶滴下張り合わせ（ＯＤＦ：Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌｉｎｇ）工程後に行なわれるのが通常であり、まだ液晶パネルに電圧印加用の端子や基板は接続されていない状態で行われる。このような場合、液晶パネルとの電気的な接合は、コンタクトプローブ（電圧プローブとも称する）と呼ばれる金属端子を液晶パネルの表面に設けられた電極パッド部に接触させることで行なわれる。このように、ＰＳＶＡ技術を利用した液晶パネルの製造方法では、電圧印加を確実に行い液晶のプレチルト角を制御することが、大変重要となる。しかし、該コンタクトプローブと液晶パネルとの間での導通不良や、接触抵抗の増大による印加電圧の低下によって、液晶のプレチルト角を制御できず不良工程となる、といった問題があった。
【０００９】
そこで、本発明の課題は、ＰＳＶＡ技術を利用した液晶パネルの製造工程で、液晶パネルへの確実な電圧印加を可能とし、確実な紫外光照射処理を行うことのできる紫外光照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は上記の課題を鑑みてなされたものであって、ステージに判定用光源を埋め込み、点灯させることにより、紫外光照射処理工程において、確実に電圧印加を行い、液晶に所定のプレチルト角を与えることのできる紫外光照射装置を提供するものである。尚、本発明で判定用光源とは、ステージに搬送されたワーク（液晶パネル）に電圧を印加し紫外光を照射するための電圧印加が正確に成されているかを判定するための光源のことをいい、具体的には、ステージに埋め込まれたＬＥＤ等の光源のことを言う。
【００１１】
すなわち、請求項１に記載の紫外光照射装置は、光反応物質を含有した液晶を内部に封入した被処理基板が搬送されるステージと、該ステージに搬送された該被処理基板に電圧を印加するための電圧プローブと、該被処理基板に紫外光を照射する紫外光光源と、該紫外光光源を配置した紫外光照射器と、を具備した紫外光照射装置において、該ステージは、水冷機構を持ち、該被処理基板を設置する側の面に判定用光源を具備しており、該ステージに対して該紫外光照射器側には、該判定用光源からの光を検出する検出機構があることを特徴とする。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明によれば、前記判定用光源は、白色ＬＥＤ、または、白色ＥＬであることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明によれば、前記判定用光源は、光出射側に第一の偏光板を具備し、被処理基板を介して、該判定用光源からの光を検出する前記検出機構側に、該第一の偏光板の偏光方向に対して該偏光方向を９０度回転させて（クロスニコル）配置した第二の偏光板を具備していることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明によれば、前記判定用光源は、前記ステージに複数個配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の請求項１に記載の紫外光照射装置は、ステージに判定用光源が具備されており、判定用光源からの光を検出する検出機構を設けているので、紫外光照射処理を行う液晶パネルに印加される電圧のＯＮ−ＯＦＦ状態や、印加電圧の過小の検出が可能となる。これにより、電圧プローブと液晶パネルとの間での導通不良や、接触抵抗の増大による印加電圧の低下といった不具合を回避できる、といった利点がある。
【００１６】
また、本発明の請求項２に記載の紫外光照射装置は、判定用光源に白色ＬＥＤや白色ＥＬを使用しているので、判定用光源からの熱放射が少なくなり、液晶パネルに過度な熱を加えることなく電圧プローブと液晶パネルとの間での導通不良や、接触抵抗の増大による印加電圧の低下を検出できる、といった利点がある。また、光源が白色であるために、液晶パネルのＲＧＢ全ての色に対応する各画素に印加される電圧が正常に印加されているかを同時に確認できるといった利点もある。
【００１７】
更に、本発明の請求項３に記載の紫外光照射装置は、判定用光源の光出射側に第一の偏光板を具備し、被処理基板である液晶パネルを間に挟む状態で、判定用光源から出射した光を検出する検出機構側に、第一の変更板の偏光方向に対して、偏光方向を９０度回転させて（クロスニコル）配置しているので、液晶に印加する電圧が正常に印加されているかを容易に判定できる、といった利点がある。
【００１８】
更に、本発明の請求項４に記載の紫外光照射装置は、判定用光源が該ステージに複数個配置されているので、サイズの大きなマザーガラスに複数の液晶パネルが形成された場合でも、個々の液晶パネルに所定の電圧を印加することができ、確実な紫外光照射処理することができる、といった利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明にかかる紫外光照射装置を示す図。
【図２】本発明にかかる架台の構成を示す図。
【図３】本発明にかかる判定用光源の概要を示す図。
【図４】本発明にかかる電圧プローブがワークと接触する部位を説明する図。
【図５】電圧印加検査工程のフローを示す図。
【図６】電圧印加判定において検出器で検出された検出光の強度を説明する図。
【図７】ステージに複数の判定用光源を設置した場合の例。
【図８】リファレンス光源の設置例を示す図。
【図９】従来の紫外光照射装置を配置した液晶パネル製造装置の概略を示す図。
【図１０】従来の紫外光照射装置の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の紫外光照射装置は、ＰＳＶＡ技術を利用して液晶パネルに配向特性を形成する工程で使用される装置であって、液晶パネルを搬送し受け渡すステージに判定用光源が具備されており、その判定用光源からの光を検出する検出機構を設けているものである。この判定用光源には、検出機構側とクロスニコル配置した第一の偏光板を光出射側に配置し、間に液晶パネルを挟んで、検出機構側に第二の偏光板を配置している。また、光源には、例えば、白色ＬＥＤを使用している。このような構成の紫外光照射装置によって、液晶パネルに紫外光を照射する場合に、その液晶パネルへの電圧印加を確実に行い処理することが可能となる。以下に図面を用いて、具体的な実施例を説明する。
【実施例１】
【００２１】
図１は本発明にかかる紫外光照射装置１０の構成を示す概略図である。１は紫外光照射器であり、内部に紫外光ランプ１１が設置されている。紫外光ランプ１１から放射される紫外光はその紫外光照射器１と架台部２との間に設けられた反射板１２により、紫外光ランプ１１の側面や端面側の光量減衰を抑制し、効率よく照射面に紫外光が照射されるようになっている。詳しい図示はしないが、紫外光ランプ１１にはメタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、紫外光蛍光ランプ、エキシマランプ、無電極ランプなどが用いられ、それぞれ適切な点灯電源（図示せず）が接続され点灯動作する。紫外光照射器１は架台部２の上に設置され、架台部２にはステージ３、アライメント機構８、電圧印加用の電圧プローブ６が設置されている。ステージ３はサーフェイスプレート３２と水冷板３３が重ねられた二重構造になっている。サーフェイスプレート３２には判定用光源３１が設けられている。水冷板３３には冷却管３４が配置され、冷却水が接続口３４ａから注入され、接続口３４ｂから排出される。被照射物である液晶パネル（以下、単にワークＷとも称する）は、以上のような構造の紫外光照射装置１０のステージ３の上に設置され、ワークＷに電圧プローブ６が接触した後、電圧プローブ６との接続状態を確認するため判定用光源３１が点灯し、電圧プローブ６からワークＷに電圧を印加させることで液晶の配向状態を変化させる。判定用光源３１から出射した光は、最初、ワークＷを透過しないため、検出機構として配置された検出器７（例えば、フォトダイオード等）では光が検出されない。次に、電圧プローブ６の接触が正常で所定の電圧が印加されれば、判定用光源３１から出射した光は、ワークＷを透過し、検出器７で検出される。
尚、判定用光源３１には、例えば、白色ＬＥＤ等が利用されているので、発光に伴う発熱量が少なく、且つ、ステージ３によってワークＷが充分に冷却されているので、液晶に過度な熱を加えることなく、確実に電圧印加された状態で紫外光照射処理を行うことができる。
【００２２】
図２は本発明にかかる紫外光照射装置１０の架台部２の構成を示す図である。ステージ３にワークＷを設置するには、まず、受け渡しピン取り付け台３６に設置された受け渡しピン３５を上部方向に稼働させ、搬送ロボットのロボットアーム（不図示）で運ばれたワークＷを受け渡しピン３５上に置く。受け渡しピン３５上にワークＷが配置されたら、ロボットアームが引いて、受け渡しピン３５が下方に下がり、ワークＷがステージ３上にのる。ワークＷがステージ３にのったら該ステージ３に設けられた複数の微細な穴（不図示）からエアを流しエアブロー状態で、ワークＷをわずかに浮上させる。その状態でアライメント機構８がワークＷの縁をおさえて所定の場所に設置させ、その後、エアブロー状態を停止する。次に、不図示の吸着穴をつかってワークＷをステージ３上に吸着し固定する。ここで、ステージ３はワークＷよりやや小さい寸法になっており、ワークの縁に設けられた電極パッド部がステージ３からはみ出すように設置されている。その状態で、プローブピン移動機構９が上昇してワークＷの電極パッド部と電圧印加用の電圧プローブ６とが接触して導通をとる仕組みになっている。
【００２３】
図３は判定用光源３１の構成を示す概略図である。判定用光源３１にはＬＥＤ３１１が配置されており、ＬＥＤ３１１の上部に第一の偏光板３１２が設置されている。第一の偏光板３１２の上部には、例えば、サファイアを利用した透光性窓３１３がある。ＬＥＤ３１１の基板は冷却部３１４により冷却されており、ＬＥＤ３１１の発するわずかな熱も除去されている。冷却部３１４はステージ３と同一体でもよい。尚、特に図示しないが、第一の偏光板３１２と対になる第二の偏光板は、例えば、判定用光源３１から出射した光をワークＷを挟んで紫外光照射器１側に配置した検出器７の前面に配置する。
【００２４】
図４は本発明にかかる電圧印加用の電圧プローブ６がワークＷと接触する部位を説明する概略図である。ワークＷは、ＴＦＴのパターンが形成された基板Ｗ（ＴＦＴ）とカラーフィルターが構成された基板Ｗ（ＣＦ）とを張り合わせ、内部に液晶と光重合成モノマーを添加した混合物を充填した液晶パネルである。ＴＦＴ側の基板はＣＦ側の基板よりもやや大きくなっている。その張り出した部分の表面には外部から電圧を印加するための電極パッドＰが形成されている。ワークＷは液晶充填部が冷却されるようにステージ３のサーフェイスプレート３２上に設置されている。ワークＷはアライメント機構８により所定の場所に設置されたのち、制御部５からの制御信号を受けたプローブ移動機構９により電圧プローブ６が上昇する。電圧プローブ６は一般にコンタクトプローブと呼ばれるものが使用され、電圧プローブ６の先端は電極パッドＰとの接触を確実にする形状で、かつ基板をいためないように先端が丸く加工してある。図４では詳細を示さないが、電圧プローブ６の先端部品の基部には、例えば、バネ部材が配置され、プローブ先端とワークＷが接触した後、プローブ移動機構によりやや押し付けるように電圧プローブ６が移動される。この時、プローブ先端が沈み込むとともに内部のバネ部材により適当な圧力で押し付けられて確実な接触を実現する。電圧プローブ６の他端は電圧印加用電源に繋がっており、ワークＷへの電圧供給を行う。
【００２５】
電圧プローブ６は繰り返し使用することで、バネ圧の低下や、先端形状が変形して確実な接触が保てなくなるといった問題がある。また、アライメント精度の低下、例えば、位置きめパッドの変形や動作精度の悪化による位置ずれによって接触が安定したものでなくなる、といった問題もある。これらの問題は、ほとんどのケースで、ワークＷの再アライメント、または、電圧プローブ６を該ワークＷへ再接触をさせることで正しい電圧で導通を取ることができ、液晶に所定のプレチルト角を与えることが可能となる。このように、ワークＷへ確実に電圧印加が可能となった後、紫外光照射装置１０では、ステージ３上に設置された判定用光源３１から光を出射し、ワークＷを挟んで紫外光照射器１側に配置された光検出器７により検出させる。この検出光の強度により基板への導通状態が判定され、印加電圧の低下や接触不良による処理不良を回避できるといった利点がある。
【００２６】
図５は本発明の紫外光照射装置を用いた電圧印加検査工程のフローを示す図である。
該工程は、以下の１６のステップにより構成されている。
１）液晶パネルであるワークＷをステージ上に搬送設置する基板設置工程。
２）基板設置後、ステージに設けられた複数の微細な穴からエアを流しエアブロー状態で、ワークＷをわずかに浮上させるエアブロー工程。
３）エアブロー工程で浮上させたワークＷの設置位置を調整する基板アライメント工程。
４）基板アライメント工程で位置調整したワークＷをステージ上に吸着固定する吸着工程。
【００２７】
５）固定されたワークＷに電圧を印加するプローブを接触させるために、プローブ台を移動するプローブ台移動工程。
６）固定されたワークＷに電圧を印加する電圧プローブを接触させるプローブ接触工程。
【００２８】
７）ステージに配置された判定用光源から、ワークＷ側に該ワークＷと電圧プローブの接触状態を確認するための光を点灯照射する検査照明ＯＮ工程。
８）ワークＷに電圧プローブを介して電圧を印加し、液晶を所定のプレチルト角まで傾斜させる電圧印加工程。
９）判定用光源から出射された光を電圧印加されたワークＷを介して紫外光照射器側に配置された光検出器で検知する光量検知工程。
１０）光検出器で検出された光量によってワークＷへの電圧印加状態を判断する電圧印加判定工程。
【００２９】
１１）電圧印加工程の判定結果がＯＫの場合に、電圧印加をした状態のままで紫外光照射処理を行う紫外照射工程。
１２）紫外光照射処理後、電圧プローブを降下させるプローブ台ダウン工程。
１３）ワークＷの固定を解除する吸着ＯＦＦ工程。
１４）ワークＷをエアブローにより浮上させるエアブロー工程。
１５）エアブローにより、わずかに浮上したワークＷに対して受け渡しピンを上昇させて搬送ロボットに該ワークＷを受け渡し、該ワークＷを紫外光照射装置から搬出する基板搬出工程。
【００３０】
１６）前記１０）で示した電圧印加判定工程で電圧印加が不十分との判定結果、すなわちＮＧの場合は、ワークＷに電圧印加する電圧プローブを一時降下させるプローブ台ダウン工程。尚、１６）の該プローブ台ダウン工程を経て、２）に示したエアブロー工程に戻る。該エアブロー工程で再度ワークＷをわずかに浮上させ、再度基板アライメントからやり直し、その後、順次電圧印加判定工程まで続ける。
【００３１】
このような電圧印加検査工程では、ワークＷである液晶パネルに正常に電圧が印加されれば、液晶が所定のプレチルト角で傾斜される。この時、判定用光源の光出射側に配置された第一の偏光板と、液晶パネルを介して配置された光検出器側の第二の偏光板の変更方向とは、クロスニコル配置になっており、液晶が正常に傾斜すれば、該判定用光源から放射された光は、透過され、光検出器７に判定用光源からの光が検出される。しかし、液晶への電圧印加が不十分、または、電圧プローブの接触不良等のため液晶の傾斜が正確になされない場合、判定用光源の光は一部しか透過できない、または、全部透過できない状態であり、光検出器７によって検出される判定用光源からの明るさを検知することによって判定できることとなる。これにより、電圧プローブの接触等が問題なくなされ、所定の電圧がワークＷに印加されているか否かの判定が確実に行える。
【００３２】
図６は本発明にかかる判定用光源から出射された光を検出器で検出する場合の検出光の強度を説明する図である。縦軸は検出光の強度Ｉを示しており、横軸は検査工程に準じた時間軸である。判定用光源から光を放射しても、ワークＷである液晶パネルに電圧がかかっていないと、検出器の出力はされずＩｂの低い出力を示す。次に、ワークＷへ電圧印加する時、電圧プローブの接触が正常であると検出器の出力はＩｈの高い出力を示す。しかし、ワークＷへの電圧プローブの接触に不具合があり、例えば、接触抵抗が増大した場合は、液晶のプレチルト角が所定の傾斜と成らず、検出光はＩｈより低いレベル（Ｉｅ）となる。また、電圧プローブが、全く接触できていない場合は、検出光のレベルがＩｂのレベルになり、いずれの場合でも判定は不合格となる。その場合はいったんプローブ台を下げてエアブローし、基板アライメント工程からやり直す。この動作は紫外照射工程前に行なうことができるので、確実な紫外光照射処理を行うことが可能となり、高い歩留まりを達成できる。
【００３３】
図７は判定用光源３１をステージ３上に複数箇所設置した場合の実施例である。本実施例では、４０インチクラスのテレビ用基板を６枚、同一のマザーガラスから取り出す場合の例を示している。各液晶パネルには、それぞれに対応した電圧印加用の電極パッドＰが設けられている。このワークＷに対して、ステージ３は、電極パッドＰがステージ３の外側に突出するように、ステージ３のサイズを少し小さくしている。また、本実施例では、マザーガラスに対して、各液晶パネルに対応するステージ３に、判定用光源３１が設けられている。本実施例では、ステージ３のワークＷに対向する面であって、計６箇所に、判定用光源３１が設けられている。このように、大型のマザーガラスに対して、４０〜６０インチクラスのテレビ用基板を複数枚同時に製作する（多面取り）場合、電圧印加用の電極パッドＰも独立して各パネルに電圧を供給するのが一般的であり、判定用光源３１はそれぞれのパネルに相当する位置にあるほうが良い。更に、本発明では、判定用光源３１が、例えば、白色ＬＥＤ等から成り、且つ、充分に冷却されているので、液晶への紫外光照射処理に熱的な影響を与えない、といった利点がある。
【００３４】
図８は、ステージ３のサーフェイスプレート３２内に設けた判定用光源３１近傍にリファレンス光源３１Ｒを設置した事例である。判定用光源３１と同様に、リファレンス光源３１Ｒには、ＬＥＤ３１１とサファイアを利用した透過窓３１３が配置されている。しかし、リファレンス光源３１Ｒには偏光板３１２が入っていないので電圧の印加状態に依存しない基準光を得ることができる。そのため電圧印加によって液晶が正常に傾斜し光検出器に光が検出されていないか、判定用光源自身がＯＮ状態でないかの判別が容易になる、といった利点がある。また、判定用光源３１、リファレンス光源３１Ｒとも光源を冷却する冷却部３１４、３１４Ｒが設けられている。これにより、点灯によってわずかな熱が発生してもワークＷの温度均一性に影響すること無く、検査等を行うことができる。
【符号の説明】
【００３５】
１        紫外光照射器
２        架台部
３        ステージ
５        制御部
６        電圧プローブ
７        光検出器
８        アライメント機構
９        プローブ移動機構
１０      紫外光照射装置
１１      紫外光ランプ
１２      反射板
３１      判定用光源
３１Ｒ    リファレンス光源
３２      サーフェイスプレート
３３      水冷板
３４      冷却管
３４ａ    接続口
３４ｂ    接続口
３５      受け渡しピン
３６      受け渡しピン取り付け台
３１１    ＬＥＤ
３１２    第一の偏光板
３１３    透光性窓
３１４    冷却部
Ｗ        ワーク
Ｐ        電極パッド
５０１    液晶パネル製造装置
５０２    搬入部
５０３    反転部
５０４    検査部
５０５    紫外光照射部
５０６    反転部
５０７    搬送ロボット
５１１    筐体
５１２    ランプ
５１３    反射鏡
５１４    フィルター
５１５    ステージ
５１６    電圧プローブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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