(57)【要約】【課題】測定波形のマスター波形に対する位置補正を精度よく行ことが可能な測定波形の補正方法を提供する。【解決手段】測定波形１０の補正方法は、マスター被測定物の二次元形状を測定するとともに、被測定物１の二次元形状を測定する工程と、マスター波形２０を生成するとともに、測定波形１０を生成する工程と、マスター波形２の頂点の形状データ「Ｂｖ」のＸ座標「Ｘｂｍ」、および測定波形１０の頂点の形状データ「Ａｖ」のＸ座標「Ｘａｍ」を算出する工程と、測定波形１０のＸ座標「Ｘａｍ」がマスター波形２０のＸ座標「Ｘｂｍ」と等しくなるように、測定波形１０をＸ軸方向に平行移動する工程と、マスターＺ平均値「Ｚｂｖ」を算出するとともに、Ｚ平均値「Ｚａｖ」を算出する工程と、測定波形１０のＺ平均値「Ｚａｖ」がマスター波形２０のマスターＺ平均値「Ｚｂｖ」と等しくなるように、測定波形１０をＺ軸方向に平行移動する工程と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象にレーザを照射することにより測定された、前記測定対象の二次元形状を表す測定波形の位置を補正する方法であって、
予め欠陥のないことが確認されたマスター被測定物に前記レーザを照射することにより前記マスター被測定物の二次元形状を測定するとともに、前記測定対象に前記レーザを照射することにより前記測定対象の二次元形状を測定する工程と、
前記マスター被測定物の二次元形状を測定することにより得られた形状データをＸＺ座標系に表示することにより、前記マスター被測定物の二次元形状を表すマスター波形を生成するとともに、前記測定対象の二次元形状を測定することにより得られた形状データをＸＺ座標系に表示することにより、前記測定対象の二次元形状を表す測定波形を生成する工程と、
前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標、および前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標を算出する工程と、
前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標が前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標と等しくなるように、前記測定波形をＸ軸方向に平行移動する工程と、
前記マスター波形を構成する複数の形状データのＺ座標値の平均値であるマスターＺ平均値を算出するとともに、前記マスターＺ平均値を算出するのに用いられた前記マスター波形の形状データと同じＸ座標値を有する、前記測定波形を構成する複数の前記形状データのＺ座標値の平均値であるＺ平均値を算出する工程と、
前記測定波形のＺ平均値が前記マスター波形のマスターＺ平均値と等しくなるように、前記測定波形をＺ軸方向に平行移動する工程と、を備える、
測定波形の補正方法。
【請求項２】
前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標、および前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標を算出する工程においては、
前記マスター波形を構成する形状データ毎に、
当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が小さい側にありＸ座標値が連続する複数の形状データのＺ座標値の平均値であるマスター前側平均値を算出するとともに、当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が大きい側にありＸ座標値が連続する、前記前側平均値を算出するのに用いた形状データと同数の、複数の形状データのＺ座標値の平均値であるマスター後側平均値を算出し、
前記マスター前側平均値とマスター後側平均値との差分を絶対値化して、
前記マスター前側平均値とマスター後側平均値との差分を絶対値化した値が最小になる形状データのＸ座標を、前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標として算出し、
前記測定波形を構成する形状データ毎に、
当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が小さい側にありＸ座標値が連続する複数の形状データのＺ座標値の平均値である前側平均値を算出するとともに、当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が大きい側にありＸ座標値が連続する、前記前側平均値を算出するのに用いた形状データと同数の、複数の形状データのＺ座標値の平均値である後側平均値を算出し、
前記前側平均値と後側平均値との差分を絶対値化して、
前記前側平均値と後側平均値との差分を絶対値化した値が最小になる形状データのＸ座標を、前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標として算出する、
請求項１に記載の測定波形の補正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークの形状を測定した際等に得られる測定波形の補正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、測定波形のマスター波形に対する位置ズレを補正する技術は公知である（例えば、特許文献１）。
【０００３】
図６に示すように、従来、ワークの形状を測定した際等に得られた測定波形の補正方法として、測定波形１００およびマスター波形２００において、測定データが一直線状に並ぶ部分（直線部）をそれぞれ二カ所抽出して、抽出した二カ所の直線部の延長線の交点１１０・２１０を算出し、前記交点１１０と交点２１０とが重なるように、測定波形１００をＸ軸方向およびＺ軸方向に平行移動することで、測定波形１００のマスター波形２００に対する位置ズレを補正するものがある。
【０００４】
しかし、このような補正方法では、測定波形・マスター波形が直線部を持たない場合（被測定物の多くの部分がＲ形状に形成され、得られた測定波形の多くが曲線部にて構成される場合）、測定波形の位置補正が困難となり、測定波形のマスター波形に対する位置補正を精度よく行うことができない。
また、測定波形およびマスター波形が直線部を有していても、抽出する直線部の範囲は、予め設定されたパラメータにより決定されるため、例えば測定対象となるワークに位置ズレが生じていると、直線部として抽出された波形に非直線部領域が混入する場合がある。このような場合は、抽出された非直線部領域が直線部と見なされるため、補正誤差が発生することがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−９６１１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、測定波形のマスター波形に対する位置補正を精度よく行ことが可能な測定波形の補正方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の測定波形の補正方法は、
測定対象にレーザを照射することにより測定された、前記測定対象の二次元形状を表す測定波形の位置を補正する方法であって、
予め欠陥のないことが確認されたマスター被測定物に前記レーザを照射することにより前記マスター被測定物の二次元形状を測定するとともに、前記測定対象に前記レーザを照射することにより前記測定対象の二次元形状を測定する工程と、
前記マスター被測定物の二次元形状を測定することにより得られた形状データをＸＺ座標系に表示することにより、前記マスター被測定物の二次元形状を表すマスター波形を生成するとともに、前記測定対象の二次元形状を測定することにより得られた形状データをＸＺ座標系に表示することにより、前記測定対象の二次元形状を表す測定波形を生成する工程と、
前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標、および前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標を算出する工程と、
前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標が前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標と等しくなるように、前記測定波形をＸ軸方向に平行移動する工程と、
前記マスター波形を構成する複数の形状データのＺ座標値の平均値であるマスターＺ平均値を算出するとともに、前記マスターＺ平均値を算出するのに用いられた前記マスター波形の形状データと同じＸ座標値を有する、前記測定波形を構成する複数の前記形状データのＺ座標値の平均値であるＺ平均値を算出する工程と、
前記測定波形のＺ平均値が前記マスター波形のマスターＺ平均値と等しくなるように、前記測定波形をＺ軸方向に平行移動する工程と、を備える。
【０００８】
請求項２に記載の測定波形の補正方法は、
前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標、および前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標を算出する工程においては、
前記マスター波形を構成する形状データ毎に、
当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が小さい側にありＸ座標値が連続する複数の形状データのＺ座標値の平均値であるマスター前側平均値を算出するとともに、当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が大きい側にありＸ座標値が連続する、前記前側平均値を算出するのに用いた形状データと同数の、複数の形状データのＺ座標値の平均値であるマスター後側平均値を算出し、
前記マスター前側平均値とマスター後側平均値との差分を絶対値化して、
前記マスター前側平均値とマスター後側平均値との差分を絶対値化した値が最小になる形状データのＸ座標を、前記マスター波形における頂点の形状データのＸ座標として算出し、
前記測定波形を構成する形状データ毎に、
当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が小さい側にありＸ座標値が連続する複数の形状データのＺ座標値の平均値である前側平均値を算出するとともに、当該形状データおよび当該形状データよりもＸ座標値が大きい側にありＸ座標値が連続する、前記前側平均値を算出するのに用いた形状データと同数の、複数の形状データのＺ座標値の平均値である後側平均値を算出し、
前記前側平均値と後側平均値との差分を絶対値化して、
前記前側平均値と後側平均値との差分を絶対値化した値が最小になる形状データのＸ座標を、前記測定波形における頂点の形状データのＸ座標として算出する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、測定波形のマスター波形に対する位置補正を精度よく行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】測定波形の補正形態を示す模式図である。
【図２】被測定物の各測定ポイントにレーザを照射している状態を示す図である。
【図３】（ａ）は測定波形をＸ軸方向に平行移動している状態を示し、（ｂ）は測定波形を、（ａ）に示すＸ軸方向への平行移動後にＺ軸方向に平行移動している状態を示す図である。
【図４】マスター波形の各測定ポイントの平均差分値をＸΔＺ座標系に表示した図である。
【図５】被測定物の別形態を示す図である。
【図６】従来の測定波形の補正方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明に係る測定波形の補正方法の実施の一形態である測定波形１０の補正方法について説明する。
【００１２】
測定波形１０の補正方法は、後述するマスター被測定物のマスター波形２０に対して位置ズレしている被測定物１の測定波形１０を、マスター波形２０の位置に移動して、位置ズレを補正する際に用いられるものである。
測定波形１０は、被測定物１の形状を、二次元レーザ変位センサ２を用いて測定することにより生成された、被測定物１の二次元形状を表す波形である。
マスター波形２０は、外周にボイド（キズ、欠肉）等の欠陥のない被測定物（マスター被測定物）の形状を、二次元レーザ変位センサ２を用いて測定することにより生成された、マスター被測定物の二次元形状を表す波形である。
被測定物１は、例えばＲ形状（曲面形状）を有し、成形した樹脂等で構成される。
【００１３】
図１に示すように、被測定物１の形状の測定、および測定により得られた測定波形１０の補正は、二次元レーザ変位センサ２、および制御装置３を用いて行われる。
【００１４】
二次元レーザ変位センサ２は、公知の二次元レーザ変位センサである。二次元レーザ変位センサ２は、センサ本体２ａおよびコントローラ２ｂを有している。センサ本体２ａには、レーザＬａの発光源、被測定物１にレーザＬａを照射する照射部、被測定物１からの反射光を受ける受光素子等が設けられている。前記受光素子は、反射光の入射位置に応じた電流を生じる。センサ本体２ａにはコントローラ２ｂが接続されており、コントローラ２ｂは前記受光素子からの電流値に基づいて被測定物１の形状データ「Ａｎ（ｎ＝１、２、・・・）」の算出処理を行う。
【００１５】
二次元レーザ変位センサ２が、被測定物１の形状データ「Ａｎ」の算出処理を行うときの手順について詳細に説明する。
二次元レーザ変位センサ２の照射部は、帯状のレーザＬａを一平面に対して照射する。このため、被測定物１においてレーザＬａを照射される領域は、前記一平面内における線状の領域Ｄになる。また、図１および図２に示すように、二次元レーザ変位センサ２の照射部は、レーザＬａを、領域Ｄ上における所定間隔おきの複数の測定ポイント「ＰＡｎ（ｎ＝１、２、・・・）」にスポット照射する。
二次元レーザ変位センサ２のコントローラ２ｂは、測定ポイント「ＰＡｎ」からの反射光に基づいて、被測定物１の形状データ「Ａｎ」を算出する。形状データ「Ａｎ」は、詳細には、測定ポイント「ＰＡｎ」の位置を示すデータである。
【００１６】
なお、本実施形態では、二次元レーザ変位センサ２は、被測定物１の上方に配置されており、レーザＬａを下方に照射するように構成される。また、領域Ｄは、上下左右方向に延在する平面に平行な領域であり、測定ポイント「ＰＡｎ（ｎ＝１、２、・・・）」は、左右方向に所定間隔を空けて並んでいる。
また、二次元レーザ変位センサ２が算出する測定ポイント「ＰＡｎ」の形状データ「Ａｎ」は、測定ポイント「ＰＡｎ」の左右方向（測定ポイント「ＰＡｎ」の並び方向）の形状データ、および高さ方向（レーザＬａの照射方向）の形状データ、で構成される。
【００１７】
制御装置３は、制御部３ａ、記憶部３ｂ、および表示部３ｃを備える。
【００１８】
制御部３ａは、コントローラ２ｂに接続されており、コントローラ２ｂから測定ポイント「ＰＡｎ」の形状データ「Ａｎ」を取得可能である。
制御部３ａは、取得した測定ポイント「ＰＡｎ」の形状データ「Ａｎ」に基づいて測定波形１０を生成する。測定波形１０は、測定ポイント「ＰＡｎ」の形状データ「Ａｎ」を、二次元座標系（ＸＺ座標系）に表示して、座標化したものである。なお、Ｘ軸が左右方向、Ｚ軸が高さ方向をそれぞれ表す（図３（ａ）および図３（ｂ）参照）。
本実施形態における測定波形１０は、Ｘ軸方向の略中央部に一つの頂点を有した、Ｚ軸方向の（＋）側に凸の曲線形状に形成されている。
また、制御部３ａは、後述する所定の処理を行うことにより、測定波形１０をＸ軸方向およびＺ軸方向に平行移動して、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置ズレを補正し、測定波形１０とマスター波形２０との重ね合わせ画像を生成する。
【００１９】
記憶部３ｂには、マスター波形２０、マスター頂点Ｘ座標、およびマスターＺ平均値が記憶されている。
【００２０】
マスター波形２０は、マスター被測定物（不図示）の測定ポイント「ＰＢｎ（ｎ＝１、２、・・・）」の形状データ「Ｂｎ（ｎ＝１、２、・・・）」を座標化して、ＸＺ座標系に表示したものである。
マスター被測定物は、被測定物１の理想形状を有し、予めその外周に欠陥のないことが確認された被測定物である。
マスター被測定物の測定ポイント「ＰＢｎ」の形状データ「Ｂｎ」の取得は、被測定物１における測定ポイント「ＰＡｎ」の形状データ「Ａｎ」を取得するときと同様に、二次元レーザ変位センサ２により、そのレーザＬａをマスター被測定物の測定ポイント「ＰＢｎ」にスポット照射することにより行われる（図１および図２参照）。このとき、マスター被測定物には、被測定物１に対してレーザＬａを照射するときと同じ角度にて二次元レーザ変位センサ２のレーザＬａが照射される。従って、マスター被測定物の測定ポイント「ＰＢｎ」は、被測定物１における測定ポイント「ＰＡｎ」に相当するものとなる。
このように取得されたマスター被測定物の測定ポイント「ＰＢｎ」の形状データ「Ｂｎ」は、被測定物１の測定ポイント「ＰＡｎ」の形状データ「Ａｎ」に相当するものである。
【００２１】
また、記憶部３ｂには、マスター波形２０の頂点の形状データのＸ座標の値を示すマスター頂点Ｘ座標が記憶されている。
マスター頂点Ｘ座標は、上記マスター波形２０に基づいて算出され、詳細には、以下の（１−１）〜（１−５）の手順で算出される。
【００２２】
（１−１）マスター波形２０を構成する各形状データ「Ｂｎ」毎に、形状データ群を作成する。前記形状データ群は、マスター波形２０において、「Ｂｎ」を中心にＸ座標値が連続する複数の形状データにて構成される。
なお、図３（ａ）に示すように、本実施形態では、形状データ群は、「Ｂｎ−３」、「Ｂｎ−２」、「Ｂｎ−１」、「Ｂｎ」、「Ｂｎ＋１」、「Ｂｎ＋２」、および「Ｂｎ＋３」といった七つの形状データで構成されている。
また、「Ｂｎ−３」、「Ｂｎ−２」、「Ｂｎ−１」、「Ｂｎ」、「Ｂｎ＋１」、「Ｂｎ＋２」、および「Ｂｎ＋３」についての、それぞれの（Ｘ、Ｚ）座標値は、（Ｘｎ−３、Ｚｎ−３）、（Ｘｎ−２、Ｚｎ−２）、（Ｘｎ−１、Ｚｎ−１）、（Ｘｎ、Ｚｎ）、（Ｘｎ＋１、Ｚｎ＋１）、（Ｘｎ＋２、Ｚｎ＋２）、および（Ｘｎ＋３、Ｚｎ＋３）で表わされる。
また、上記形状データ群の各Ｘ座標値の大きさは、Ｘｎ−３＜Ｘｎ−２＜Ｘｎ−１＜Ｘｎ＜Ｘｎ＋１＜Ｘｎ＋２＜Ｘｎ＋３、の関係を有している。すなわち、マスター波形２０における上記形状データ群のうちでは、「Ｂｎ」がＸ軸方向の中間（中心）に位置する。
【００２３】
（１−２）上記形状データ群のうちでＸ軸方向の（−）側に位置する、「Ｂｎ」および「Ｂｎ」よりもＸ座標値が小さい側にある「Ｂｎ−３」、「Ｂｎ−２」、「Ｂｎ−１」についての、Ｚ座標値の平均値であるマスター前側平均値「ΔＺｎ（−）」を次式［数１］により算出する。
［数１］
ΔＺｎ（−）＝｛（Ｚｎ−３）＋（Ｚｎ−２）＋（Ｚｎ−１）＋（Ｚｎ）｝／４
【００２４】
（１−３）上記形状データ群のうちでＸ軸方向の（＋）側に位置する、「Ｂｎ」および「Ｂｎ」よりもＸ座標値が大きい側にある「Ｂｎ＋１」、「Ｂｎ＋２」、「Ｂｎ＋３」についての、Ｚ座標値の平均値であるマスター後側平均値「ΔＺｎ（＋）」を次式［数２］により算出する。
［数２］
ΔＺｎ（＋）＝｛（Ｚｎ）＋（Ｚｎ＋１）＋（Ｚｎ＋２）＋（Ｚｎ＋３）｝／４
【００２５】
（１−４）「ΔＺｎ（−）」と「ΔＺｎ（＋）」との差分を算出して、この差分を絶対値化した値である平均差分値「ΔＺ」を次式［数３］により算出する。
［数３］
ΔＺ＝｜ΔＺｎ（−）−ΔＺｎ（＋）｜
【００２６】
なお、マスター前側平均値「ΔＺｎ（−）」を算出する形状データの数（本実施形態では４個）と、マスター後側平均値「ΔＺｎ（＋）」を算出する形状データの数（本実施形態では４個）とは同じである。
また、図４は、平均差分値「ΔＺ」を、二次元座標系（ＸΔＺ座標系）に表示して、座標化したものである。
【００２７】
（１−５）このように算出された上記平均差分値「ΔＺ」が最小となるときの「Ｘｎ」を、マスター頂点Ｘ座標とする。
なお、本実施形態では、上記平均差分値が最小値（例えば「｜ΔＺｂｍ（−）−ΔＺｂｍ（＋）｜＝０」）になる「Ｘｎ」を「Ｘｂｍ」（「ｎ＝ｂｍ（定数）」とする。すなわち、マスター頂点Ｘ座標は、「Ｘｂｍ」となる。
また、マスター波形２０において、Ｘ座標がマスター頂点Ｘ座標「Ｘｂｍ」である形状データ、すなわちマスター波形２０の頂点の形状データを、マスター頂点「Ｂｖ」とする。
【００２８】
なお、本実施形態では、上記平均差分値「ΔＺ」の最小値「｜ΔＺｂｍ（−）−ΔＺｂｍ（＋）｜」を「０」としたが、マスター被測定物の形状や、測定ポイント「ＰＢｎ」の位置（レーザＬａの照射位置）によっては「０」とならずに、「０」より僅かに大きい値となることもある。
【００２９】
マスターＺ平均値は、上記マスター波形２０における、複数の形状データのＺ座標値の平均値である。
なお、図３（ｂ）に示すように、本実施形態では、マスター頂点「Ｂｖ」付近の複数の形状データ（マスター頂点「Ｂｖ」を含む）のＺ座標値の平均値をマスターＺ平均値として算出することとする。
詳細には、マスター波形２０において、マスター頂点「Ｂｖ」を中心にＸ座標値が連続する、「Ｂｖ−２」、「Ｂｖ−１」、「Ｂｖ」、「Ｂｖ＋１」、および「Ｂｖ＋２」といった五つの形状データにおけるＺ座標値の平均値を、マスターＺ平均値として算出する。そして、算出したマスターＺ平均値を「Ｚｂｖ」とする。
【００３０】
表示部３ｃは、上記制御部３ａにより生成された測定波形１０とマスター波形２０との重ね合わせ画像等を表示する。
【００３１】
以下では、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置ズレの補正方法、および被測定物１の形状測定方法について説明する。すなわち、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置ズレを補正して、測定波形１０とマスター波形２０との重ね合わせ画像を生成し、被測定物１の形状（ボイド深さ等）を測定するときの手順について、（２−１）〜（２−７）の順に説明する。
【００３２】
（２−１）二次元レーザ変位センサ２により、レーザＬａを被測定物１の測定ポイントＰＡ１・ＰＡ２・・・にスポット照射して、前述のように、測定ポイントＰＡ１・ＰＡ２・・・の形状データＡ１・Ａ２・・・を取得する。
【００３３】
（２−２）制御部３ａは、取得した測定ポイントＰＡ１・ＰＡ２・・・の形状データＡ１・Ａ２・・・に基づいて、前述のように測定波形１０を生成する（図３（ａ）参照）。
【００３４】
（２−３）制御部３ａは、測定波形１０に基づいて、測定波形１０の頂点の形状データのＸ座標の値を示す、頂点Ｘ座標を算出する。
測定波形１０における頂点Ｘ座標は、上記マスター波形２０におけるマスター頂点Ｘ座標に相当するものであり、上記（１−１）〜（１−５）に示すマスター頂点Ｘ座標の算出方法に準じた手順で算出されるので、その算出方法についての詳細な説明は省略する。
なお、本実施形態では、頂点Ｘ座標を「Ｘａｍ」とし、測定波形１０においてＸ座標が頂点Ｘ座標「Ｘａｍ」である形状データ、すなわち測定波形１０の頂点の形状データを、頂点「Ａｖ」とする。
【００３５】
（２−４）
図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、制御部３ａは、測定波形１０の頂点「Ａｖ」のＸ座標値が、マスター波形２０のマスター頂点「Ｂｖ」のＸ座標値と等しくなるように、測定波形１０をＸ軸方向に平行移動する。すなわち、制御部３ａは、測定波形１０をＸ軸方向（本実施形態ではＸ軸方向の（＋）側）に、頂点Ｘ座標「Ｘａｍ」と、マスター頂点Ｘ座標「Ｘｂｍ」と、の差分だけ平行移動する。
【００３６】
（２−５）制御部３ａは、Ｚ平均値を算出する。
図３（ｂ）に示すように、詳細には、制御部３ａは、（ｉ）測定波形１０において、上記マスターＺ平均値を算出する際に用いたマスター波形２０の複数の形状データ、「Ｂｖ−２」、「Ｂｖ−１」、「Ｂｖ」、「Ｂｖ＋１」、および「Ｂｖ＋２」に相当する形状データ（相当データ）、すなわち、マスターＺ平均値を算出する際に用いたマスター波形２０の複数の形状データと同じＸ座標値を有する、測定波形１０の複数の形状データを算出し、（ｉｉ）算出した相当データのＺ座標の平均値であるＺ平均値を算出する。
すなわち、制御部３ａは、上記（２−３）で算出した頂点「Ａｖ」を中心にＸ座標値が連続する複数の形状データのＺ座標値の平均値を、Ｚ平均値として算出する。
上記（ｉ）について説明すると、制御部３ａは、測定波形１０において、頂点「Ａｖ」を中心にＸ座標値が連続する五つの形状データ、「Ａｖ−２」、「Ａｖ−１」、「Ａｖ」、「Ａｖ＋１」、および「Ａｖ＋２」を、上記相当データとして算出する。
上記（ｉｉ）について説明すると、制御部３ａは、上記（ｉ）で算出した、「Ａｖ−２」、「Ａｖ−１」、「Ａｖ」、「Ａｖ＋１」、および「Ａｖ＋２」のＺ座標の平均値をＺ平均値として算出する。なお、本実施形態では、測定波形１０におけるＺ平均値を「Ｚａｖ」とする。
【００３７】
（２−６）図３（ｂ）に示すように、制御部３ａは、測定波形１０のＺ平均値「Ｚａｖ」がマスター波形２０のマスターＺ平均値「Ｚｂｖ」と等しくなるように、測定波形１０をＺ軸方向に平行移動する。すなわち、制御部３ａは、測定波形１０をＺ軸方向（本実施形態ではＺ軸方向の（−）側）に、Ｚ平均値「Ｚａｖ」と、マスターＺ平均値「Ｚｂｖ」と、の差分だけ平行移動する。
制御部３ａは、このように測定波形１０をＸ軸方向およびＺ軸方向に所定量平行移動することで、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置ズレを補正し、測定波形１０とマスター波形２０との重ね合わせ画像を生成する。このようにして、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置ズレが補正される。
【００３８】
（２−７）
表示部３ｃは、上記重ね合わせ画像を表示する。作業者は、表示部３ｃに表示された重ね合わせ画像の測定波形１０とマスター波形２０とを比較し、両者の相違部分を測定することで、被測定物１の欠陥（被測定物１が有するボイドの深さ等）を検査する。
【００３９】
以上のような方法により、例えば、図５に示す、被測定物１ａの領域Ｄａのような非直線形状（半円形状）の領域Ｄａの形状を測定する場合、生成される測定波形・マスター波形は形状データが一直線状に並ぶ部分（直線部）を有さないが、このような場合でも測定波形のマスター波形に対する位置補正が可能である。従って、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置補正を精度よく行うことが可能である。
【００４０】
また、測定波形１０に基づいて頂点Ｘ座標を算出するときや、Ｚ平均値を算出するときには、複数の形状データの座標値の平均値に基づいて算出するので、測定波形１０（形状データの一部）が測定ノイズの影響を受けていたとしても、この測定ノイズの影響による誤差を低減することが可能である。従って、測定波形１０のマスター波形２０に対する位置補正を精度よく行うことが可能である。
【符号の説明】
【００４１】
１      被測定物
２      二次元レーザ変位センサ
１０    測定波形
２０    マスター波形
Ｌａ    レーザ
Ａｖ    測定波形の頂点の形状データ
Ｂｖ    マスター波形の頂点の形状データ
Ｘａｍ  頂点Ｘ座標
Ｘｂｍ  マスター頂点Ｘ座標
Ｚａｖ  Ｚ平均値
Ｚｂｖ  マスターＺ平均値
【図１】
2011214993.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2011214993.tif 000006
【図５】
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【図６】
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