(57)【要約】【課題】各層に異なる液晶が注入される２層型液晶素子の製造方法において、短冊状態で効率よく２種類の液晶を各層に注入できる液晶素子の製造方法を提供すること。【解決手段】第１液晶層１６側には短冊状態で第１シール１７の注入孔２０をとり囲むガードシール３３が備えられている。最初の段階として第２液晶層１９を形成するため一種目の液晶を注入するとき、ガードシール３３があるので第１液晶層１６側にこの液晶は入り込まない。その後、第２液晶層１９側の注入孔２２を封孔材２３で封止してからガードシール３３を除去し、第１液晶層１６を形成するために二種目の液晶を注入する。このとき第２シール１８の注入孔２２が封止されているから第２液晶層１９側にこの液晶は入り込まない。【選択図】図６
2011064995.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層する第１〜第３基板を有し、該第１及び第２基板間と該第２及び第３基板間に、それぞれ異なる液晶材料からなる第１及び第２液晶層をこの順に挟持する２層型の液晶素子の製造方法において、
前記第１及び第２液晶層を有する２層型の素子に個片化された際にそれぞれ前記第１〜第３基板となる第１〜第３マザー基板を用意する基板準備工程と、
前記第１液晶層を封止するための第１シールが前記第１液晶層用の第１液晶注入口を同一方向にして一列に複数並んで構成された第１シール列と、前記第１液晶注入口群を取り囲むガードシールとを形成する第１シール形成工程と、
前記第２液晶層を封止するための第２シールが前記第２液晶層用の第２液晶注入口を前記第１液晶注入口と同一方向にして一列に複数並んで構成された第２シール列を形成する第２シール形成工程と、
前記第１〜第３マザー基板をこの順に重ね合わせる基板重ね合わせ工程と、
前記第２シールに囲まれ前記第２液晶層となる領域に液晶材料を注入し、その後前記第２液晶注入口を封止する第２液晶層形成工程と、
前記第２液晶層形成工程の後に、前記第１マザー基板の前記ガードシールの一部領域を除去して前記第１液晶注入口を露出させ、前記第１シールに囲まれ前記第１液晶層となる領域に液晶材料を注入し、その後前記第１液晶注入口を封止する第１液晶層形成工程と、
前記第１〜第３マザー基板を切断して個片化し、前記第１及び第２液晶層を有する２層型の素子を複数得る個片化工程と、
を有することを特徴とする液晶素子の製造方法。
【請求項２】
前記ガードシールが封口材で塞がれた通気孔を備え、前記封口材を除去することで、前記第１液晶注入口を露出させることを特徴とする請求項１に記載の液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３枚の透明基板間にそれぞれ異なる液晶材料からなる液晶層を備えた２層型の液晶素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶素子を多機能化するため、３枚の基板を積層し、これらの基板間に２つの液晶層を備える２層型の液晶素子が知られている。それぞれの液晶層が同じ液晶材料からなっていれば、１層型の液晶素子と同様な手法（例えば、真空注入法等）で液晶層を形成できる。ところがそれぞれの液晶層が異なった液晶材料からなる場合には工夫が必要となる。例えば下記特許文献１の図２，３には、第１の液晶層４の注入口５が図の右側にあり、第２の液晶層８の注入口５が図の左側にある液晶パネルが開示されている。すなわち第１，２の液晶層４，８の注入口５は表示部を挟んで反対の位置に設けられている。この液晶パネル（液晶素子）は、ガラスパネル１，２とシール３からなる空間に真空注入法で第１の液晶層４を形成してから、液晶パネルの上下を反転しガラスパネル２，７とシール３からなる空間に真空注入法で第２の液晶層８を形成する。
【０００３】
下記特許文献２では、４枚の基板を積層し、これらの基板間にそれぞれ異なる材料からなる液晶層を備えた３層型の液晶素子が開示されている。例えば図５の注入方法は、それぞれの層の注入口をセル周縁部の異なる部位（例えば異なった辺）に設けた３層の空セル（図２）に対し、順次注入口を液晶材料注入領域（例えば液晶材料が入った容器）に配置し、各層の空セルに個別の液晶材料を真空注入するものである。図１１のように、各層の注入口を同じ辺の異なる部位に設け、各注入口を液晶材料注入領域（例えば注入口のピッチで配列した注入管）の下に配置し同時的に液晶材料を注入しても良い。これら２つの方法を発展させ、図１２、図１４のように多数の３層型の液晶素子を積層し同時に注入しても良い。
【０００４】
また特許文献２には、単個に分離した３層型の液晶素子への注入方法ばかりでなく、複数の空セルが連結した液晶素子への注入方法も示されている。例えば図１９（A）〜（C）は、シールで囲まれた領域を複数備え、注入口で各空セル領域が連結し、一個の注入口が外部に開口した３層の空セルにおいて、各層の外部に開口した注入口がセル周縁部の異なる部位（同じ辺の異なる部位）に設けられ、これらの注入口から個別の液晶材料を注入することで各層に異なった液晶層を形成するものである。
【０００５】
下記特許文献３には、表示用セルAと位相補償用セルBが積層する２層型の液晶素子において、各層の注入口１４，１５を同じ辺の異なる部位に設け、さらにまた多数の空セルを積層し、液晶ざら３１を使って層毎に異なった液晶を同時に注入する方法が示されている（図３）。
【０００６】
下記特許文献４の図５、図６には、複数の２層型の液晶素子が含まれる上、中、下の大型基板積層物において、２回の注入作業で２種類の異なった液晶材料を２層型の液晶素子の上部表示用対向電極の形成部１３ａ，１３ｂと下部表示用対向電極の形成部１４ａ，１４ｂに注入する方法が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】実開昭５５−１２５６１７号公報  （図２，３）
【特許文献２】特開２００２−１４３６２号公報  （図２、図５、図１１、図１２、図１４、図１９）
【特許文献３】実開平２−４８９２４号公報  （図３）
【特許文献４】実公平１−５１８１５号公報  （図５、図６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
１層型の液晶素子を製造する場合、一個分の液晶素子の電極パターンが多数配列する複数のマザー基板を準備し、これらを重ね合わせ、この重ね合わせたマザー基板を切断して一個の液晶素子を得ることがある。重ね合わせたマザー基板から個片の液晶素子を得る工程の一部を効率的なものとするため、個片化すると液晶素子になる領域（以下液晶素子部と呼ぶ）が１列に配列した領域（以下短冊と呼ぶ）をこのマザー基板から切りだし、短冊単位で液晶注入や注入口封止を行なうことが多い。短冊では液晶素子部の注入口が一辺に配列しており、この注入口を液晶溜に挿入し、真空注入法で各液晶素子部の液晶層を形成する空間（以下空セルと呼ぶ）に液晶注入を行い、その後液晶溜から短冊を引き上げ注入口を封止する。最後に短冊から個片の液晶素子を分離する。なお複数の短冊を重ね合わせることでさらに注入や封止を効率化できる。
【０００９】
以上のように、上記従来技術では、短冊状態を経る製造方法が効率的であることが分かっているにもかかわらず、各層で異なった液晶材料を使う２層型の液晶素子に短冊を適用する方法については開示されていない。前述の特許文献２には空セルが一列に配列した空セル列が図示されているが、各空セル同士は注入口で連結したものなので、各空セルの注入口が一辺に配列する短冊の注入方法への示唆はない。特許文献４でもマザー基板を重ね合わせた状態の空セルに層毎に異なる液晶材料を注入する方法が開示されているが、短冊に対する注入方法は示唆されていない。
【００１０】
本発明は、上記従来技術の有する問題に鑑みてなされたものであり、各層に異なる液晶が注入される２層型の液晶素子の製造方法において、短冊状態で効率よく２種類の液晶を各層に注入できる液晶素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、積層する第１〜第３基板を有し、該第１及び第２基板間と該第２及び第３基板間に、それぞれ異なる液晶材料からなる第１及び第２液晶層をこの順に挟持する２層型の液晶素子の製造方法において、第１及び第２液晶層を有する２層型の素子に個片化された際にそれぞれ第１〜第３基板となる第１〜第３マザー基板を用意する基板準備工程と、第１液晶層を封止するための第１シールが第１液晶層用の第１液晶注入口を同一方向にして一列に複数並んで構成された第１シール列と、第１液晶注入口群を取り囲むガードシールとを形成する第１シール形成工程と、第２液晶層を封止するための第２シールが第２液晶層用の第２液晶注入口を第１液晶注入口と同一方向にして一列に複数並んで構成された第２シール列を形成する第２シール形成工程と、第１〜第３マザー基板をこの順に重ね合わせる基板重ね合わせ工程と、第２シールに囲まれ第２液晶層となる領域に液晶材料を注入し、その後第２液晶注入口を封止する第２液晶層形成工程と、第２液晶層形成工程の後に、前記第１マザー基板のガードシールの一部領域を除去して第１液晶注入口を露出させ、第１シールに囲まれ第１液晶層となる領域に液晶材料を注入し、その後第１液晶注入口を封止する第１液晶層形成工程と、第１〜第３マザー基板を切断して個片化し、第１及び第２液晶層を有する２層型の素子を複数得る個片化工程と、を有することを特徴とする。
このような本発明では、第２液晶層に液晶を注入する際には、第１液晶層の液晶注入口がガードシールによってカバーされているため第１液晶層へ第２液晶層の液晶が入り込むことがない。また、第２液晶層の第２液晶注入口を封止した後に第１液晶層へ液晶を注入するため、第２液晶層と第１液晶層の液晶が混じり合うことがない。したがって、２種類の液晶を混じり合わせることなく効率よく注入することが可能となる。
【００１２】
この場合、ガードシールが封口材で塞がれた通気孔を備え、封口材を除去することで、第１液晶注入口を露出させることが好ましい。ガードシールは第１シール列の一辺に配列された第１液晶注入口を取り囲んでいるため、第１シール列とガードシールで閉領域が形成され、マザー基板を重ね合わせシールを加圧焼成した場合に、シールと２枚のマザー基板にとり囲まれた閉領域のガスが行き場を失い、シールが破損することがある。そこでガードシールに通気孔を設けることにより、加圧焼成時にガスを逃がすことができ、シールの破損を防止することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、一方の液晶層に液晶を注入する際には、液晶を他方の液晶層の液晶注入口をカバーした構成とすることできるため、２種類の液晶を混じり合わせることなく効率よく注入することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶素子の説明図である。
【図２】図１に示す光学素子の各液晶層の断面図である。
【図３】図１に示す光学素子の製造工程のフローチャートである。
【図４】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【図５】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係る製造工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面１〜６を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１６】
図１により本実施形態の製造方法で作成する液晶素子を説明する。図１はこの液晶素子の説明図で図１（ａ）が斜視図、図１（ｂ）が垂直方向の断面図、図２（ａ）と図２（ｂ）が水平方向の断面図である。
【００１７】
図１（ａ）において基板の積層構造を説明する。液晶素子１０は、第３基板１３上に第２基板１２と第１基板１１が積層された構造となっている。第２基板１２は、第１及び第３基板１１，１３よりも前方と後方に延びる延出部を有している。前方の延出部の両面には、外部回路（図示せず）との接続用電極(図示せず)が形成されている。
【００１８】
図１（ｂ）において積層構造をさらに詳しく説明する。第２基板１２の上面（一方の面）には透明電極１４と配向膜１５が形成されている。同様に対向配置する第１基板１１の下面にも透明電極１４と配向膜１５が形成されている。第１基板１１と第２基板の間には、配向膜１５を介して第１液晶層１６が挟持され、周辺部には第１シール１７が存在する。第２基板１２の下面（他方の面）及び対向配置する第３基板１３の上面にも透明電極１４と配向膜１５が形成されている。第２基板１２と第３基板の間には、配向膜１５を介して第２液晶層１９が挟持され、周辺部には第２シール１８が存在する。
【００１９】
図２（ａ）は、図１（ｂ）のＡ−Ｂ線に沿った水平断面図である。第１シール１７には注入口２０があり、注入口２０は封口材２１で封止されている。図２（ｂ）は図１（ｂ）のＣ−Ｄ線に沿った水平断面図である。第２シール１８にも注入口２２があり、注入口２２は封口材２３で封止されている。第１シール１７と第２シール１８は同じ形をしており、平面的にも重なっている。
【００２０】
以下、本実施形態の製造方法の製造工程を説明する。最初に、図３により本実施形態の製造方法の製造工程の全体を説明する。次いで、図４−図６により、各製造工程における部品の加工状態を説明する。
図３の製造工程は、スタートが上段の３つの楕円で示したマザー基板準備工程であり、エンドが下段の楕円で示した短冊を個片化して液晶素子１０を形成する工程に対応し、これらの間に長方形で示した複数の工程が存在する。
（基板準備工程）
【００２１】
第１マザー基板は、第１基板１１が備える透明電極１４の形成、透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷、配向膜１５の焼結、ラビング処理、及びスペーサ散布を含む処理を経て準備される。同様に第３マザー基板も、第３基板１３が備える透明電極１４の形成、透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷、配向膜１５の焼結、ラビング処理、及び洗浄乾燥を含む処理を経て準備される。なおこの処理にはスペーサ散布は含まれない。第２マザー基板は、上下の面の領域への透明電極１４の形成、上面に対する透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷と焼結、ラビング処理、洗浄乾燥を含む処理、下面に対する透明電極１４を覆う配向膜１５の印刷と焼結を含む処理を経て準備される。なおこの処理には下面のラビングは含まれない。
（第１シール形成工程）
【００２２】
まず、第２マザー基板の上面に、第１液晶層１６を封止するための第１シール１７が一列に並んだ第１シール列が印刷される。同時に、第１シール列の一辺に配列する第１シール１７の注入口２０を第１シール列とともにとり囲むガードシールも印刷される。その他、洗浄用外周シールなどシール材を使って製造に必要なパターンも同時に印刷される。以上のように第１シール形成工程では第１シール列とガードシールを含むシールパターンが形成される。
（第１重ね合わせ工程）
【００２３】
次に、第２マザー基板の上面に第１シール列とガードシールを含むシールパターンが形成されたら第１マザー基板と第２マザー基板とを重ね合わせる。
（第２基板下面処理工程）
【００２４】
第１マザー基板と第２マザー基板とを重ね合わせたら、洗浄用外周シールを封孔し、ガラス割り取り（ブレークともいう）用のスクライブパターンを刻み込んだのち、裏面にラビング処理を行い、洗浄乾燥してからスペーサを散布する。
（第２シール形成工程）
【００２５】
第３マザー基板の上面には、第２液晶層１９を封止するための第２シール１８が一列に並んだ第２シール列が印刷される。このとき、第２シール１８の注入口は第２シール列の一辺に沿って一列に並んでいる。その他、シール材を使って製造に必要なパターンも同時に印刷される。以上のように第２シール形成工程では、第２シール列を含むシールパターンを形成する。なおこの工程ではガードシールは形成しない。
（第２重ね合わせ工程）
【００２６】
第３マザー基板にシールパターンが形成されたら、第２マザー基板の下面にスペーサを散布し、第２マザー基板と第３マザー基板とを重ね合わせる。その後、第１，２シール１７，１８を含むシールパターンを加圧焼成する。なお加圧焼成の前にガスの膨張によるシール破壊を防ぐため洗浄用外周シールの封口材を除去して置く。
（短冊化工程）
【００２７】
第1及び第２、第３基板となるマザー基板が重ね合って接着した（積層した）状態から
、第１，２シール列及びガードシールを含む短冊状の領域（短冊）を切り出す。
（第２液晶層形成工程）
【００２８】
短冊化工程の後に第２液晶層を形成するための液晶材料を注入し、第２シール１８の注入口２２を封止する。液晶材料を注入する方法としては、例えば、真空中で液晶溜に注入口を浸け、その後加圧することにより液晶を吸い上げて注入する真空注入法が用いられる。
（第１液晶層形成工程）
【００２９】
第２液晶層形成工程の後にガードシールが形成された領域を除去し、第１液晶層１６を形成するための液晶材料の注入を行い、第１シール１７の注入口２０を封止する。液晶の注入には、同様に真空注入法を用いる。
（後工程）
【００３０】
短冊にガラスカッターでスクライブ線をいれ、短冊を割り液晶素子を個片化する。
【００３１】
次に、図４−図６を用いて、図３の各製造工程における部品の状態を説明する。
図４においてマザー基板上に形成したシールパターンを説明する。図４は本実施例のマザー基板の平面図であり、図４（ａ）が、第２基板１２を形成する第２マザー基板３０の上面に形成したシールパターンであり、図４（ｂ）が第３基板１３を形成する第３マザー基板３１の上面に形成したシールパターンである。なお第１基板１１を形成する第１マザー基板はシールパターンを形成しないので図示していない。
【００３２】
図４（ａ）に示すとおり、第２マザー基板３０の上面の外周部には通気孔３６を備えた洗浄用外周シール３５がある。洗浄用外周シール３５の内側には第１シール１７がマトリクス状に配列されている。ここで、図の水平方向（行方向）が第１シール列３７となっている。第１シール列３７に属する第１シール１７の間には、液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３２が設けられており、第１シール列３７の下辺に第１シール１７の注入口２０が配列されている。この注入口２０は、浸潤防止部３２を含む第１シール列３７と、通気孔３４を備えるガードシール３３とにより囲まれている。
【００３３】
一方、図４（ｂ）に示すとおり、第３マザー基板３１の上面には第２シール１８がマトリクス状に配列されている。ここで、図の水平方向（行方向）の配列が第２シール列３９となっている。第２シール列３９に属する第２シール１８の間にも液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３８が設けられており、第２シール列３９の下辺に第２シール１８の注入口２２が配列されている。
【００３４】
なお、図中第１及び第２シール１７，１８の配列を５行８列としたが、例えば光ピックアップ装置に装填するような液晶素子の場合、液晶素子の外形が数ｍｍ角であるため、マトリクスの各行及び列において第１及び第２シール１７，１８が数十個ずつ並ぶことになる。
【００３５】
図５において短冊化工程から第１液晶層形成工程に至る短冊の外観を説明する。図５は、本実施形態の短冊の斜視図であり、（ａ）が短冊化工程、（ｂ）と（ｃ）が第２液晶層形成工程、（ｄ）が第１液晶層形成工程の短冊を示している。
【００３６】
短冊化工程では第１〜第３マザー基板が積層した状態から、図４（ａ）に示した第１シール列３７とガードシール３３を含むように長方形の領域（短冊）が切り出される。この短冊は、図５（ａ）に示すとおり、第２基板１２を形成する第２短冊基板４２を挟んで、第１基板１１を形成する第１短冊基板４１と第３基板１３を形成する第３短冊基板４３が
積層している。なお図５（ａ）では、既に第１短冊基板４１と第３短冊基板４３の一部が切り取られ外部回路との接続に使用する第２短冊基板の延出部が現れている状況を示しており、図１とは逆に接続用の延出部が後方を向いている。
【００３７】
第２液晶層形成工程では図５（ｂ）に示すとおり、第２シール１８の注入口２２が露出するように第３短冊基板４３の一部４５が切り取られる。このときガードシール３３の通気孔３４は封口材４４で封止しておく。
【００３８】
図５（ｃ）は、図５（ｂ）に示す第２液晶層形成工程が完了した状態から、短冊の表裏を反転させた状況を示している。第２液晶層形成工程では、第３短冊基板４３の一部４５を切り取ってから、液晶材料を真空注入法で注入し、第２液晶層１９を形成した後、第２シール１８の注入口２２を封口材２３で封止してある。
【００３９】
第１液晶層形成工程では図５（ｄ）に示すとおり、第１シール１７の注入口２０が露出するように第１短冊基板４１と第２短冊基板４２の一部４６が切り取られる。このときガードシール３３も同時に除去される。その後、液晶材料を真空注入法で注入し、第１液晶層１６を形成した後、第１シール１７の注入口２０を封口材２３で封止する。
【００４０】
図６において短冊化工程から第１液晶層形成工程に至る工程をさらに詳しく説明する。図６は本実施形態の短冊に係る処理を示す説明図であり、図６（ａ）が短冊化工程、図６（ｂ）〜（ｄ）が第２液晶層形成工程、図６（ｅ）〜（ｇ）が第１液晶層形成工程の短冊を示している。なお説明のため第１及び第２シール列３７，３９に含まれる第１及び第２シール１７，１８を３個とした。なお、図６（ａ）〜（ｇ）において、左が第１液晶層側、右が第２液晶層側に対応する。
【００４１】
図６（ａ）に示すとおり、第１液晶層側では第１シール列３７に属する第１シール１７の間には液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３２があり、第１シール列３７の下辺に第１シール１７の注入口２０が配列している。この注入口２０は浸潤防止部３２を含む第１シール列３７と、通気孔３４を備えるガードシール３３とにより囲まれている。第２液晶層側では第２シール列３９に属する第２シール１８の間にも液晶材料の浸潤を防止するための浸潤防止部３８があり、第２シール列３９の下辺に第２シール１８の注入口２２が配列している。ここで図５（ａ）に対応して外部回路との接続に使用する第２短冊基板の延出部が現れている状況を示すため、第１及び第３短冊基板４１，４３の端を点線で示している。
【００４２】
図６（ｂ）に示すとおり、第２液晶層形成工程において第１液晶層側のガードシール３３の通気孔３４を封口材４４で封止してある。第２液晶層側では第３短冊基板４３の一部４５を切り取ったことにより図の下側に第３短冊基板４３の端（点線）が現れている。
【００４３】
次に図６（ｃ）に示すとおり、第２液晶層形成工程において第２液晶層側では液晶材料を真空注入法で注入し、第２液晶層１９を形成する。このとき、第１液晶層側では、注入口２０側がカバーされていることにより、第２液晶層側の液晶材料が入り込むことは無い。
【００４４】
次に図６（ｄ）に示すとおり、第２液晶層形成工程において第２液晶層側では第２シール１８の注入口２２を封口材２３で封止する。
【００４５】
図６（ｅ）に示すとおり、第１液晶層形成工程において先ずガードシール３３ごと第１及び第２短冊基板４１，４２の一部４６を切り取とってしまう。このため、図の下側に第１短冊基板４１の端（点線）が現れるとともに、第２短冊基板４２が小さくなっている。
【００４６】
次に図６（ｆ）に示すとおり、第１液晶層形成工程において第１液晶層側では液晶材料を真空注入法で注入し、第１液晶層１６を形成する。
【００４７】
最後に図６（ｇ）に示すとおり、第１液晶層形成工程において第１液晶層側では第１シール１７の注入口２０を封口材２１で封止する。
【００４８】
以上のような本発明の実施形態に係る液晶素子の製造方法によれば、第２液晶層１９を形成する際、第１液晶層１６の注入口２０をカバーしながら液晶を注入するため、第１及び第２液晶層の異なる液晶が混じり合う事態を防止できる。したがって、簡単に異種液晶を注入することができ、品質の高い液晶素子を効率的に製造することができる。
【００４９】
なお、本発明は上記実施形態に限られることはなく、例えば第１（または第２）シールを第1（または第２）マザー基板の下面に形成しても良い。またシール強度が充分であればガードシールの通気孔３４は不要となる。また第１シール列３７の一部に通気孔を設けてもよい。この通気孔は液晶溜に触れないので第２液晶層注入時に封口しなくてもよくなる。また液晶を注入する際には、短冊を重ねた状態で実施すればさらに効率がよくなる。
【符号の説明】
【００５０】
１０…液晶素子、１１…第１基板、１２…第２基板、１３…第３基板、１４…透明電極、１５…配向膜、１６…第１液晶層、１７…第１シール、１８…第２シール、１９…第２液晶層、２０…注入口（第１液晶注入口）、２２…注入口（第２液晶注入口）、２１，２３，４４…封口材、３０…第２マザー基板、３１…第３マザー基板、３２，３８…浸潤防止部、３４、３６…通気孔、３５…洗浄用外周シール、３７…第１シール列、３９…第２シール列、４１…第１短冊基板、４２…第２短冊基板、４３…第３短冊基板、４５…第３短冊基板の一部、４６…第１及び第２短冊基板の一部。
【図１】
2011064995.tif 000003
【図２】
2011064995.tif 000004
【図３】
2011064995.tif 000005
【図４】
2011064995.tif 000006
【図５】
2011064995.tif 000007
【図６】
2011064995.tif 000008