(57)【要約】【課題】減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法において、装置を大型化させることを抑制しつつ、熱処理温度のばらつきを低減することが可能な熱処理方法を提供する。【解決手段】減圧された処理室１０内において複数の被処理物５１，５２，５３，５４を加熱する熱処理方法は、処理室１０内に遮熱板３０を挟んで複数の被処理物５１，５２，５３，５４を配置する工程と、配置された複数の被処理物５１，５２，５３，５４を加熱処理する工程とを備えている。そして、被処理物５１，５２，５３，５４を加熱処理する工程では、遮熱板３０が複数の被処理物５１，５２，５３，５４よりも低温に維持される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法であって、
前記処理室内に遮熱部材を挟んで前記複数の被処理物を配置する工程と、
配置された前記複数の被処理物を加熱処理する工程とを備え、
前記被処理物を加熱処理する工程では、前記遮熱部材が前記複数の被処理物よりも低温に維持される、熱処理方法。
【請求項２】
前記複数の被処理物を配置する工程では、導電体からなる前記複数の被処理物が前記処理室内に配置された電極と電気的に接続された状態で、前記処理室内に配置され、
前記複数の被処理物を加熱処理する工程では、放電現象により前記複数の被処理物が加熱されるとともに、前記遮熱部材が前記電極に対して絶縁されていることにより、前記遮熱部材が前記複数の被処理物よりも低温に維持される、請求項１に記載の熱処理方法。
【請求項３】
前記遮熱部材の少なくとも一部が絶縁体からなっている、請求項２に記載の熱処理方法。
【請求項４】
前記複数の被処理物を配置する工程では、前記被処理物を加熱処理する工程において前記遮熱部材の絶縁体からなる領域に導電体が付着することを抑制する付着防止部材が、前記絶縁体からなる領域の少なくとも一部を覆うように配置される、請求項３に記載の熱処理方法。
【請求項５】
前記遮熱部材の絶縁体からなる領域の表面上には、前記被処理物を加熱処理する工程において付着する導電体とともに前記遮熱部材から剥離させることが可能な犠牲膜が形成されている、請求項３または４に記載の熱処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱処理方法に関し、より特定的には、複数の被処理物間における熱処理温度のばらつきを抑制することが可能な熱処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
複数の被処理物に対して同時に熱処理を実施する場合、被処理物間における熱処理温度のばらつきが生じ、被処理物間において熱処理後の品質にばらつきが生じるという問題が発生する場合がある。特に、ヒータなどによって雰囲気を加熱し、当該雰囲気を介して被処理物を加熱する雰囲気加熱による熱処理とは異なり、たとえば減圧雰囲気下における放電を利用して被処理物が直接加熱されるプラズマ処理のような熱処理では、上述のような熱処理温度のばらつきが特に顕著となる。
【０００３】
これに対し、たとえばプラズマ処理装置において、処理室の内壁にヒータを配置することにより、被処理物間における熱処理温度のばらつきを抑制する技術（ホットウォールタイプのプラズマ処理装置）が提案されている（たとえば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１１８８２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記ホットウォールタイプのプラズマ処理装置を採用した場合、処理室の壁面の内部にヒータなどを埋設する必要があるため、装置が大型化するという問題が発生する。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法において、装置を大型化させることを抑制しつつ、熱処理温度のばらつきを低減することが可能な熱処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に従った熱処理方法は、減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法である。この熱処理方法は、処理室内に遮熱部材を挟んで複数の被処理物を配置する工程と、配置された複数の被処理物を加熱処理する工程とを備えている。そして、被処理物を加熱処理する工程では、遮熱部材が当該複数の被処理物よりも低温に維持される。
【０００８】
本発明者は、減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法において、熱処理温度のばらつきを低減する方策について詳細な検討を行なった。その結果、以下のような知見が得られ、本発明に想到した。
【０００９】
すなわち、プラズマ処理のように減圧雰囲気下で被処理物が直接加熱される場合、処理室内に複数の被処理物を装入して熱処理を実施すると、処理室の中心付近に配置された被処理物の温度が、内壁付近に配置された被処理物の温度に比べて高くなることがある。これは、処理室の中心付近に配置された被処理物は、隣接する被処理物同士の間における熱放射により相互に加熱されるのに対し、内壁付近に配置された被処理物は、当該内壁に対向する側において他の被処理物からの熱放射を受けない。そして、処理室の内壁にヒータを配置しないコールドウォールタイプのプラズマ処理装置のように、処理室の内壁の温度が被処理物と比較して低い場合、内壁からの十分な熱放射は見込めず、内壁付近に配置された被処理物の温度は低くなる。その結果、処理室の中心付近に配置された被処理物と内壁付近に配置された被処理物との間で、熱処理温度のばらつきが発生する。
【００１０】
そこで、たとえばプラズマ処理装置において、被処理物が配置される領域と処理室の内壁との間に導電体からなる治具を配置する対策が有効であるとも考えられる。これにより、当該治具が放電によって発熱し、治具からの熱放射により内壁付近に配置された被処理物が加熱されるため、熱処理温度のばらつきを抑制することができる。
【００１１】
しかし、上記対策では、被処理物が配置される領域と処理室の内壁との間に治具を配置する必要があるため、同一の処理室を使用する場合、装入される被処理物の数量を減少させる必要があり、生産効率が低下する。一方、上記治具の配置を見越した処理室を採用すると、当該処理室が大型化する。また、被処理物同士の間隔を減少させて上記治具を配置するための領域を確保した場合、隣接する被処理物同士の間における熱放射による温度上昇が一層顕著となり、治具の配置の効果が相殺される可能性がある。また、上述のように、ホットウォールタイプのプラズマ処理装置を採用した場合、装置が大型化するという問題が発生する。
【００１２】
これに対し、本発明の熱処理方法においては、処理室内に遮熱部材を挟んで複数の被処理物が配置され、当該被処理物が加熱処理されるとともに、当該加熱処理に際しては、遮熱部材が被処理物よりも低温に維持される。そのため、隣接する被処理物同士の間における熱放射が遮断されるとともに、遮熱部材から被処理物への熱放射も抑制され、熱処理温度のばらつきを低減することができる。また、ホットウォールタイプのプラズマ処理装置を採用した場合のように、装置自体が大型化することも抑制することができる。その結果、本発明の熱処理方法によれば、減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法において、装置を大型化させることを抑制しつつ、熱処理温度のばらつきを低減することが可能な熱処理方法を提供することができる。
【００１３】
上記熱処理方法においては、複数の被処理物を配置する工程では、導電体からなる複数の被処理物が処理室内に配置された電極と電気的に接続された状態で、処理室内に配置されてもよい。この場合、複数の被処理物を加熱処理する工程では、放電現象により複数の被処理物が加熱されるとともに、遮熱部材が電極に対して絶縁されていることにより、遮熱部材が当該複数の被処理物よりも低温に維持されてもよい。
【００１４】
放電現象により直接被処理物が加熱される熱処理には、隣接する被処理物同士の間における熱放射を遮断可能な上記本発明の熱処理方法の採用が好適である。そして、遮熱部材が電極に対して絶縁されていることにより遮熱部材が放電現象により加熱されないため、遮熱部材を被処理物よりも低温に維持することが容易となる。
【００１５】
上記熱処理方法においては、処理室内において被処理物が配置される領域と処理室の内壁との間に、被処理物を加熱処理する工程において発熱する発熱治具、たとえば導電体からなり、放電現象により加熱される発熱治具を配置してもよい。
【００１６】
このような構成を採用することにより、上記本発明の熱処理方法による効果により処理室の中心付近に配置された被処理物の加熱温度を抑制する一方、内壁付近に配置された被処理物の温度を発熱治具からの赤外線照射により上昇させ、処理室内における被処理物間の熱処理温度のばらつきを一層抑制することができる。
【００１７】
放電現象により直接被処理物が加熱される熱処理としては、たとえばプラズマ処理が挙げられ、より具体的にはプラズマ浸炭処理、プラズマ窒化処理、プラズマ浸炭窒化処理などを本発明の熱処理方法により実施することができる。さらに、処理室の壁面に埋設されたヒータを有さないコールドウォールタイプのプラズマ処理装置が採用される場合、本発明の熱処理方法の効果がより顕著である。
【００１８】
上記熱処理方法においては、遮熱部材の少なくとも一部が絶縁体からなっていてもよい。これにより、遮熱部材と電極との絶縁を容易に実現することができる。
【００１９】
上記熱処理方法においては、複数の被処理物を配置する工程では、被処理物を加熱処理する工程において、遮熱部材の絶縁体からなる領域に導電体が付着することを抑制する付着防止部材が、遮熱部材の絶縁体からなる領域の少なくとも一部を覆うように配置されてもよい。
【００２０】
放電現象により導電体からなる被処理物が加熱される場合、スパッタ現象により被処理物を構成する導電体が遮熱部材の絶縁体からなる領域に付着するおそれがある。そして、遮熱部材に付着した導電体により遮熱部材と電極とが電気的に接続されると、放電現象により遮熱部材が加熱され、遮熱部材が本来の機能を果たさなくなる可能性がある。これに対し、上述のように付着防止部材が配置されることにより、遮熱部材と電極との絶縁をより確実に確保することができる。
【００２１】
上記熱処理方法においては、遮熱部材の絶縁体からなる領域の表面上には、被処理物を加熱処理する工程において付着する導電体とともに遮熱部材から剥離させることが可能な犠牲膜が形成されていてもよい。
【００２２】
これにより、長時間の使用の結果、あるいは複数回の使用の結果、スパッタ現象に起因して遮熱部材に導電体が付着した場合でも、犠牲膜とともに当該導電体を剥離させることにより、遮熱部材と電極との絶縁をより確実に確保することができる。
【００２３】
上記熱処理方法においては、遮熱部材は冷却用の熱媒体（たとえば水）を流すための管を備えていてもよい。これにより、被処理物を加熱処理する工程において当該管に熱媒体を流し、遮熱部材を能動的に冷却できるため、遮熱部材の温度をより確実に低く保つことができる。
【発明の効果】
【００２４】
以上の説明から明らかなように、本発明の熱処理方法によれば、減圧された処理室内において複数の被処理物を加熱する熱処理方法において、装置を大型化させることを抑制しつつ、熱処理温度のばらつきを低減することが可能な熱処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】プラズマ処理方法を説明するための概略断面図である。
【図２】図１の線分ＩＩ−ＩＩに沿う概略断面図である。
【図３】遮熱部材の一例を示す概略図である。
【図４】図３の線分ＩＶ−ＩＶに沿う概略断面図である。
【図５】遮熱部材の他の一例を示す概略図である。
【図６】図５の線分ＶＩ−ＶＩに沿う概略断面図である。
【図７】遮熱部材のさらに他の一例を示す概略図である。
【図８】図７の線分ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿う概略断面図である。
【図９】遮熱部材のさらに他の一例を示す概略図である。
【図１０】図９の線分Ｘ−Ｘに沿う概略断面図である。
【図１１】遮熱部材のさらに他の一例を示す概略図である。
【図１２】図１１の線分ＸＩＩ−ＸＩＩに沿う概略断面図である。
【図１３】遮熱部材のさらに他の一例を示す概略図である。
【図１４】図１３の線分ＸＩＶ−ＸＩＶに沿う概略断面図である。
【図１５】遮熱部材のさらに他の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
【００２７】
まず、本発明の一実施の形態について、鋼からなる被処理物に対してプラズマ処理（プラズマ浸炭処理、プラズマ窒化処理、プラズマ浸炭窒化処理など）が実施される場合を例として説明する。図１および図２を参照して、本実施の形態における熱処理であるプラズマ処理は、プラズマ処理装置１の減圧された処理室１０内において、複数の鋼製の被処理物５１，５２，５３，５４を加熱する熱処理方法である。そして、本実施の形態におけるプラズマ処理方法は、処理室１０内に遮熱部材としての遮熱板３０を挟んで複数の被処理物５１，５２，５３，５４を配置する工程と、当該被処理物５１，５２，５３，５４を加熱処理する工程とを備えている。
【００２８】
より具体的には、本実施の形態におけるプラズマ処理方法では、まず被処理物５１，５２，５３，５４が、処理室１０内に配置された電極２０上に載置される。これにより、被処理物５１，５２，５３，５４は、当該電極２０と電気的に接続された状態で処理室１０内に配置される。このとき、被処理物５１，５２，５３，５４同士の間には、それぞれ遮熱板３０が配置される。これにより、被処理物５１，５２，５３，５４同士が直接対向しない状態となる。
【００２９】
次に、被処理物５１，５２，５３，５４が所定の雰囲気中で加熱されることにより熱処理される。具体的には、たとえばプラズマ窒化処理が実施される場合、処理室１０内の圧力が減圧状態（たとえば１００Ｐａ程度）となるように、処理室１０内に窒素（Ｎ２）と、水素（Ｈ２）、メタン（ＣＨ４）およびアルゴン（Ａｒ）からなる群から選択される少なくともいずれか１つ以上とが導入される。そして、一方の電極である電極２０と他方の電極である処理室１０の内壁１０Ａとの間に所定の電圧が印加されることにより、電極２０に電気的に接続された被処理物５１，５２，５３，５４と内壁１０Ａとの間で放電が起こる。その結果、被処理物５１，５２，５３，５４が所定の温度に加熱されつつ、当該被処理物５１，５２，５３，５４の表層部に窒素が侵入する。これにより、被処理物５１，５２，５３，５４のプラズマ窒化処理が達成される。
【００３０】
ここで、上記被処理物５１，５２，５３，５４が加熱される工程では、遮熱板３０が電極２０に対して絶縁されていることにより、遮熱板３０が被処理物５１，５２，５３，５４よりも低温に維持される。より具体的には、遮熱板３０は以下のような構造を有していることにより、電極２０に対して絶縁され、被処理物５１，５２，５３，５４よりも低温に維持される。
【００３１】
図３および図４を参照して、本実施の形態における遮熱板３０は、板状の形状を有する本体部３１と、本体部３１の端部が嵌め込まれることにより本体部３１を支持する凹部３２Ｃを有する支持治具３２とを備えている。そして、支持治具３２は、セラミックス（たとえば酸化アルミニウム、窒化珪素など）などの絶縁体からなっている。一方、本体部３１を構成する材料は特に限定されないが、たとえば加工の容易性を考慮して、鋼などの金属を採用することができる。そして、絶縁体からなる支持治具３２が電極２０と接触し、本体部３１と電極２０とが接触しないように遮熱板３０が処理室１０内に配置されることにより（図１および図２参照）、遮熱板３０は電極２０に対して絶縁されている。
【００３２】
このように、本実施の形態におけるプラズマ処理においては、処理室１０内に遮熱板３０を挟んで複数の被処理物５１，５２，５３，５４が配置される。そして、当該被処理物５１，５２，５３，５４が加熱処理（プラズマ処理）されるとともに、当該プラズマ処理に際しては、遮熱板３０が被処理物５１，５２，５３，５４よりも低温に維持される。そのため、隣接する被処理物５１，５２，５３，５４同士の間における熱放射が遮断されるとともに、遮熱板３０から被処理物５１，５２，５３，５４への熱放射も抑制され、熱処理温度のばらつきを低減することができる。また、ホットウォールタイプのプラズマ処理装置を採用した場合のように、装置自体が大型化することも抑制することができる。その結果、本実施の形態におけるプラズマ処理方法によれば、減圧された処理室１０内において複数の被処理物５１，５２，５３，５４を加熱するプラズマ処理において、装置を大型化させることを抑制しつつ、熱処理温度のばらつきを低減することができる。
【００３３】
また、遮熱部材としての遮熱板３０の具体的構造は上記構造に限られず、種々の構造を採用することができる。以下、遮熱板３０の変形例について例示する。
【００３４】
（変形例１）
図５および図６を参照して、変形例１における遮熱板３０は、柱状の形状を有する一対の支持治具３２と、一対の支持治具３２上に配置された板状の形状を有する本体部３１とを備えている。そして、支持治具３２は、上記実施の形態の場合と同様にセラミックスなどの絶縁体からなっている。一方、本体部３１は、たとえば鋼などの金属からなっている。そして、絶縁体からなる支持治具３２が電極２０と接触し、本体部３１と電極２０とが接触しないように遮熱板３０が処理室１０内に配置されることにより、遮熱板３０を電極２０に対して絶縁することができる。
【００３５】
（変形例２）
図７および図８を参照して、変形例２における遮熱板３０は、上記実施の形態および変形例１の場合とは異なり、支持治具３２を備えていない。そして、遮熱板３０の本体部３１がセラミックスなどの絶縁体からなっている。そのため、本体部３１を電極２０上に直接載置することにより、遮熱板３０を電極２０に対して絶縁することができる。
【００３６】
（変形例３）
図９および図１０を参照して、変形例３における遮熱板３０は、図５および図６に基づいて説明した上記変形例１の遮熱板３０と基本的には同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、変形例３における遮熱板３０は、絶縁体からなる支持治具３２に導電体が付着することを抑制する付着防止治具３３をさらに備えている点において、変形例１の遮熱板３０とは異なっている。より具体的には、付着防止治具３３は、１つの面が欠落した箱状（六面体状）の形状を有し、当該欠落した面に対向すべき面が本体部３１と支持治具３２とによって挟まれるように配置されることにより、支持治具３２の少なくとも一部を覆っている。これにより、放電現象に起因したスパッタ現象により、導電体（鋼）が支持治具３２に付着することが抑制される。その結果、遮熱板３０と電極２０との絶縁をより確実に確保することができる。また、上記構造を採用することにより、遮熱板３０に付着した導電体を除去する、あるいは遮熱板３０を交換する等のメンテナンス周期を長くすることができる。なお、付着防止治具３３を構成する材料は特に限定されないが、絶縁体である必要はなく、たとえば加工の容易性を考慮して、鋼などの金属を採用することができる。
【００３７】
（変形例４）
図１１および図１２を参照して、変形例４における遮熱板３０は、図９および図１０に基づいて説明した上記変形例３の遮熱板３０と基本的には同様の構成を有している。しかし、変形例４における遮熱板３０の支持治具３２が、板状の形状を有するベース板３２Ｂと、ベース板３２Ｂ上に配置された柱状の形状を有する柱部３２Ａとを含んでいる点において、変形例３の遮熱板３０とは異なっている。より具体的には、ベース板３２Ｂは、セラミックスなどの絶縁体からなり、板状の形状を有している。一方、柱部３２Ａを構成する材料は特に限定されないが、絶縁体である必要はなく、たとえば加工の容易性を考慮して、鋼などの金属を採用することができる。そして、絶縁体からなるベース板３２Ｂが電極２０と接触し、柱部３２Ａ、付着防止治具３３および本体部３１と電極２０とが接触しないように遮熱板３０が処理室１０内に配置されることにより、遮熱板３０を電極２０に対して絶縁することができる。
【００３８】
（変形例５）
図１３および図１４を参照して、変形例５における遮熱板３０は、図７および図８に基づいて説明した上記変形例２の遮熱板３０と基本的には同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、変形例５における遮熱板３０は、絶縁体からなる本体部３１に導電体が付着することを抑制する付着防止治具３３をさらに備えている点において、変形例２の遮熱板３０とは異なっている。
【００３９】
より具体的には、付着防止治具３３は、１つの面が欠落した箱状（六面体状）の形状を有し、当該欠落した面に対向すべき面が本体部３１に接触するとともに本体部３１の少なくとも一部を覆うように本体部３１に被せられる。これにより、放電現象に起因したスパッタ現象により、導電体（鋼）が本体部３１に付着することが抑制される。その結果、遮熱板３０と電極２０との絶縁をより確実に確保することができる。また、上記構造を採用することにより、遮熱板３０に付着した導電体を除去する、あるいは遮熱板３０を交換する等のメンテナンス周期を長くすることができる。なお、付着防止治具３３を構成する材料は特に限定されないが、絶縁体である必要はなく、たとえば加工の容易性を考慮して、鋼などの金属を採用することができる。
【００４０】
（変形例６）
図１５を参照して、変形例６における遮熱板３０は、図７および図８に基づいて説明した上記変形例２の遮熱板３０と基本的には同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、変形例６における遮熱板３０は、被処理物５１，５２，５３，５４をプラズマ処理する工程において付着する導電体とともに遮熱板３０から剥離させることが可能な犠牲膜としての窒化ホウ素膜３１Ａが、本体部３１の表面を覆うように形成されている点において、変形例２の遮熱板３０とは異なっている。
【００４１】
これにより、長時間の使用の結果、あるいは複数回の使用の結果、スパッタ現象に起因して遮熱板３０に導電体（たとえば鋼）が付着した場合でも、窒化ホウ素膜３１Ａとともに当該導電体を剥離させることにより、遮熱板３０と電極２０との絶縁をより確実に確保することができる。また、犠牲膜を構成する材料として窒化ホウ素を採用することにより、酸などの腐食性の液体、あるいは酸化性の液体を使用することなく、たとえば水を用いて犠牲膜（窒化ホウ素膜３１Ａ）を洗い流すことにより、遮熱板３０から導電体を容易に除去することができる。さらに、遮熱板３０に導電体が付着した場合、その上から窒化ホウ素膜３１Ａをさらに形成することにより、遮熱板３０と電極２０との絶縁を確保してもよい。
【００４２】
なお、上記実施の形態および変形例における遮熱板３０の構造は、本発明の遮熱部材の構造を例示するものであって、上記したもの以外にも種々の構造を採用することができる。たとえば、遮熱部材としての遮熱板３０は、冷却用の熱媒体（たとえば水）を流すための管を備えていてもよい。これにより、被処理物５１，５２，５３，５４を加熱処理（たとえばプラズマ処理）する工程において当該管に熱媒体を流し、遮熱板３０を能動的に冷却できるため、熱処理温度のばらつきを一層確実に抑制することができる。
【００４３】
さらに、上記プラズマ処理においては、処理室１０内において被処理物５１，５２，５３，５４が配置される領域と処理室１０の内壁１０Ａとの間に、被処理物５１，５２，５３，５４をプラズマ処理する工程において発熱する発熱治具を配置してもよい。より具体的には、図１および図２を参照して、たとえば鋼からなる発熱治具を被処理物５１，５２，５３，５４が配置される領域と処理室１０の内壁１０Ａとの間の電極２０上に配置することができる。これにより、上記遮熱板３０による効果により処理室１０の中心付近に配置された被処理物５１，５２，５３，５４の加熱温度を抑制する一方、内壁１０Ａ付近に配置された被処理物５１，５２，５３，５４の温度を発熱治具からの赤外線照射により上昇させ、処理室１０内における被処理物５１，５２，５３，５４間の熱処理温度のばらつきを一層抑制することができる。
【００４４】
また、遮熱板３０は被処理物５１，５２，５３，５４間に配置できるため、単に処理室１０内において被処理物５１，５２，５３，５４が配置される領域と処理室１０の内壁１０Ａとの間に発熱治具を配置する場合に比べて、被処理物５１，５２，５３，５４の装入量や処理室１０の内寸の制約を受けにくい。さらに、遮熱板３０を配置することで被処理物５１，５２，５３，５４を処理室１０の中心付近に密に配置し、同時に処理する５１，５２，５３，５４の量を増やすことができる。また、上述のように発熱治具を配置する場合でも、処理室１０の中心付近に密に被処理物５１，５２，５３，５４を配置して内壁１０Ａ付近に余剰の空間を形成し、当該空間に発熱治具を配置することにより、装入量を損なわずに上記プラズマ処理を実施することができる。
【００４５】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明の熱処理方法は、複数の被処理物間における熱処理温度のばらつきを抑制することが求められる熱処理に、特に有利に適用され得る。
【符号の説明】
【００４７】
１  プラズマ処理装置、１０  処理室、１０Ａ  内壁、２０  電極、３０  遮熱板、３１  本体部、３１Ａ  窒化ホウ素膜、３２  支持治具、３２Ａ  柱部、３２Ｂ  ベース板、３２Ｃ  凹部、３３  付着防止治具、５１，５２，５３，５４  被処理物。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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