(57)【要約】 【課題】多重反射された紫外線を利用してシール剤を硬化する場合よりも光源から出射される際の強度が抑えられた紫外線をシール剤硬化時に利用することができる。【解決手段】液晶表示パネルは、第一の透明基板と、第一の透明基板との間に液晶層と該液晶層を取り囲むシール剤とが介在された状態で第一の透明基板に重ね合わされた第二の透明基板と、第一の透明基板とシール剤との間に介在された配線と、第二の透明基板とシール剤との間に配線と重なった状態で介在され、第一の透明基板に対して第二の透明基板が配置された側とは反対側から入射される光を乱反射する乱反射層とを備えている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の透明基板と、
前記第一の透明基板との間に液晶層と該液晶層を取り囲むシール剤とが介在された状態で前記第一の透明基板に重ね合わされた第二の透明基板と、
前記第一の透明基板と前記シール剤との間に介在された配線と、
前記第二の透明基板と前記シール剤との間に前記配線と重なった状態で介在され、前記第一の透明基板に対して前記第二の透明基板が配置された側とは反対側から入射される光を乱反射する乱反射層とを備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示パネルにおいて、
前記乱反射層は前記シール剤の全体と重なっていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記乱反射層が連続的に形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに一項に記載の液晶表示パネルにおいて、
光を遮断する遮光膜が、前記第二の透明基板と前記乱反射層との間に前記シール剤と重なった状態で介在されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
請求項４記載の液晶表示パネルにおいて、
前記乱反射層のうち該乱反射層に対して前記液晶層が配置された側の端部は、前記遮光膜のうち該遮光膜に対して前記液晶層が配置された側の端部よりも、前記液晶表示パネルの表示領域からの距離が離れていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記遮光膜は前記シール剤の全体と重なっていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項７】
請求項４〜６のいずれか一項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記遮光膜が連続的に形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれか一項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記液晶層と重なる領域から前記第二の透明基板の端部にかけて、前記遮光膜が形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記乱反射層のうち前記第一の透明基板と対向する対向面に金属膜が成膜されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第一の透明基板と前記液晶層との間に介在した状態で前記液晶表示パネルの表示領域内に形成された画素電極をさらに有し、
前記画素電極に接続された薄膜トランジスタを駆動する駆動回路が搭載される駆動回路搭載領域が、前記第一の透明基板のうち前記第二の透明基板から突出した突出部に形成され、
前記配線は、前記薄膜トランジスタに接続された走査線または信号線と、前記駆動回路搭載領域に形成されたゲート端子またはデータ端子とを接続する引き回し配線であることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項１１】
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内に画素電極が形成され、前記各表示領域の外側に配線が形成された第一の基板を準備する第１基板準備工程と、
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記各表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第２基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記各配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記各乱反射層上のいずれか一方に、前記各表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記各シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記各シール剤を前記第一の基板の前記各配線および前記第二の基板の前記各乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記各シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記各遮光膜は前記第二の基板の平坦な面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に感光性樹脂を塗布し、次いで、露光および現像処理により前記各遮光膜上に多数の微小な凹凸を形成し、次いで、前記多数の微小な凹凸上に金属膜を成膜することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記各遮光膜は前記第二の基板の凹凸を有する面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に金属膜を成膜することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記第二の基板の表面に対してフッ酸溶液を用いてフロスト加工することにより、前記第二の基板の前記凹凸を有する面を形成することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記金属膜を成膜後、露光および現像処理により前記金属膜の一部を除去して前記各乱反射層を形成することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記貼り合わせ工程は、前記各シール剤の全体を前記第二の基板の前記各乱反射膜と重ねた状態で、前記第二の基板と前記第一の基板とを貼り合わせることを含み、
前記光照射工程は、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に配置された光源から前記シール剤に向けて照射された光を前記乱反射層で乱反射させて、前記各シール剤のうち前記光源との間に前記各配線が介在された部分に照射させることを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記光照射工程は、前記各シール剤に向けて光を照射する前に、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に、前記第一の基板のうち前記各表示領域をなす領域を覆い、前記光源からの光を遮断するマスクを配置することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法において、
前記光照射工程の後に、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせた液晶表示パネル形成用構成体を切断して個片化する個片化工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
完成された少なくとも１つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも１つの液晶表示パネルの表示領域内に画素電極が形成され、前記表示領域の外側に配線が形成された第一の基板を準備する第１基板準備工程と、
完成された少なくとも１つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも１つの液晶表示パネルの表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第２基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記乱反射層上のいずれか一方に、前記表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記シール剤を前記第一の基板の前記配線および前記第二の基板の前記乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の液晶表示パネルを製造する方式として、例えばＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式が知られている。ＯＤＦ方式においては、各種配線及び薄膜トランジスタが形成されたＴＦＴ基板をＣＦ基板と貼り合わせる際に、予めＴＦＴ基板に光硬化型のシール剤により形成した液晶封止領域中に液晶を滴下してから真空中で貼り合わせる。貼り合わせ後に大気圧に戻し、シール剤に囲まれた内側の領域と外側の領域との間の気圧差を利用してＴＦＴ基板とＣＦ基板とによってシール剤を押し広げてから、シール剤に対して紫外線を照射することにシール剤を硬化させている。
ここで、ＣＦ基板の周縁部に遮光膜としてのブラックマトリクスが形成されていて、ＴＦＴ基板においてブラックマトリクスに対向する部分に配線が形成されている場合がある。この場合、ＣＦ基板にはブラックマトリクスが形成されているためＴＦＴ基板側から紫外線を照射する必要があるが、シール剤のうち、紫外線の光源とシール剤との間にＴＦＴ基板の配線が介在する領域ではシール剤を硬化できない。
【０００３】
これを防止すべく、近年においては、貼り合わせた基板の表面に対して紫外線を斜め方向から入射させることで、基板間で多重反射を生じさせて、シール剤のうち、紫外線の光源とシール剤との間にＴＦＴ基板の配線やブラックマトリクスが介在する領域においても、シール剤を硬化させる液晶表示パネルの製造方法が考えられている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−４５６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載される製造方法では、貼り合わせ基板の表面に対して斜め方向に入射させた紫外線を表面が平坦な遮光膜や金属配線で何度か反射させてシール剤に紫外線を照射している。シール剤のうち特に液晶に隣接する領域に対しては可能な限り紫外線の強度を減衰させてから紫外線を照射することにより、液晶側に紫外線が漏れて液晶の汚染が発生しないようにしている。特許文献１に記載の発明では、上述のように多重反射され強度が減衰した紫外線を利用しているため、光源から出射されるときの紫外線の強度は必然的に高く設定されることになる。このように紫外線の強度が高く設定されていると、液晶封止領域内に直接入射した紫外線が直接または各基板の表面で反射して高強度のまま液晶に達してしまい、液晶を汚染してしまう可能性が高くなってしまう。
本発明の課題は、紫外線を大きくすることなくシール剤を硬化することができ、ひいてはシール剤を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶に到達し、液晶を汚染する可能性を高めることなく、シール剤を硬化することのできる液晶表示パネル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の課題を解決するため、本発明の一の態様によれば、
第一の透明基板と、
前記第一の透明基板との間に液晶層と該液晶層を取り囲むシール剤とが介在された状態で前記第一の透明基板に重ね合わされた第二の透明基板と、
前記第一の透明基板と前記シール剤との間に介在された配線と、
前記第二の透明基板と前記シール剤との間に前記配線と重なった状態で介在され、前記第一の透明基板に対して前記第二の透明基板が配置された側とは反対側から入射される光を乱反射する乱反射層とを備えることを特徴とする液晶表示パネルが提供される。
【０００７】
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記乱反射層は前記シール剤の全体と重なっている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記乱反射層が連続的に形成されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、光を遮断する遮光膜が、前記第二の透明基板と前記乱反射層との間に前記シール剤と重なった状態で介在されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記乱反射層のうち該乱反射層に対して前記液晶層が配置された側の端部は、前記遮光膜のうち該遮光膜に対して前記液晶層が配置された側の端部よりも、前記液晶表示パネルの表示領域からの距離が離れている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記遮光膜は前記シール剤の全体と重なっている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記遮光膜が連続的に形成されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記液晶層と重なる領域から前記第二の透明基板の端部にかけて、前記遮光膜が形成されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記乱反射層のうち前記第一の透明基板と対向する対向面に金属膜が成膜されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記第一の透明基板と前記液晶層との間に介在した状態で前記液晶表示パネルの表示領域内に形成された画素電極をさらに有し、
前記画素電極に接続された薄膜トランジスタを駆動する駆動回路が搭載される駆動回路搭載領域が、前記第一の透明基板のうち前記第二の透明基板から突出した突出部に形成され、
前記配線は、前記薄膜トランジスタに接続された走査線または信号線と、前記駆動回路搭載領域に形成されたゲート端子またはデータ端子とを接続する引き回し配線である。
【０００８】
また、本発明の他の態様によれば、
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内に画素電極が形成され、前記各表示領域の外側に配線が形成された第一の基板を準備する第１基板準備工程と、
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記各表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第２基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記各配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記各乱反射層上のいずれか一方に、前記各表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記各シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記各シール剤を前記第一の基板の前記各配線および前記第二の基板の前記各乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記各シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法が提供される。
【０００９】
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記各遮光膜は前記第二の基板の平坦な面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に感光性樹脂を塗布し、次いで、露光および現像処理により前記各遮光膜上に多数の微小な凹凸を形成し、次いで、前記多数の微小な凹凸上に金属膜を成膜することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記各遮光膜は前記第二の基板の凹凸を有する面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に金属膜を成膜することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記第二の基板の表面に対してフッ酸溶液を用いてフロスト加工することにより、前記第二の基板の前記凹凸を有する面を形成することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記金属膜を成膜後、露光および現像処理により前記金属膜の一部を除去して前記各乱反射層を形成することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記貼り合わせ工程は、前記各シール剤の全体を前記第二の基板の前記各乱反射膜と重ねた状態で、前記第二の基板と前記第一の基板とを貼り合わせることを含み、
前記光照射工程は、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に配置された光源から前記シール剤に向けて照射された光を前記乱反射層で乱反射させて、前記各シール剤のうち前記光源との間に前記各配線が介在された部分に照射させることを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記光照射工程は、前記各シール剤に向けて光を照射する前に、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に、前記第一の基板のうち前記各表示領域をなす領域を覆い、前記光源からの光を遮断するマスクを配置することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記光照射工程の後に、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせた液晶表示パネル形成用構成体を切断して個片化する個片化工程をさらに含む。
【００１０】
また、本発明の他の態様によれば、
完成された少なくとも１つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも１つの液晶表示パネルの表示領域内に画素電極が形成され、前記表示領域の外側に配線が形成された第一の基板を準備する第１基板準備工程と、
完成された少なくとも１つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも１つの液晶表示パネルの表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第２基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記乱反射層上のいずれか一方に、前記表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記シール剤を前記第一の基板の前記配線および前記第二の基板の前記乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、紫外線の強度を大きくすることなくシール剤を硬化することができ、ひいてはシール剤を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶に到達し、液晶を汚染する可能性を高めることなく、シール剤を硬化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施形態の液晶表示パネルに備わる液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１におけるII−II切断線から見た液晶表示パネルの断面図である。
【図３】本実施形態の液晶表示パネルのＴＦＴ基板上に形成された回路の一部を示す平面図である。
【図４】本実施形態の液晶表示パネルの製造工程図である。
【図５】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図６】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図７】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図８】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図９】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図１０】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図１１】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図１２】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法の一工程を示す説明図である。
【図１３】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法における光照射工程での紫外線の光路を示す説明図である。
【図１４】比較例としての乱反射膜のない液晶表示パネルの製造方法における光照射工程での紫外線の光路を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
【００１４】
まず、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法により形成された液晶表示パネルについて説明する。図１は、液晶表示パネル１の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１におけるII−II切断線から見た断面図である。図３はＴＦＴ基板１０上に形成された回路の一部を示す平面図である。図１〜図３に示すように、液晶表示パネル１は、第一の透明基板としてのガラス基板１１を有するＴＦＴ基板１０、第二の透明基板としてのガラス基板２１を有するＣＦ基板２０、そしてＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０との間に介在されたシール剤３０を有する。ＴＦＴ基板１０は、４辺のうち少なくとも一辺においてＣＦ基板２０から突出した突出部１０ａを有する形状をなしており、この突出部１０ａに駆動回路６０が搭載されている。シール剤３０は、ＣＦ基板２０の外周縁に沿って枠状に形成され、シール剤３０、ＴＦＴ基板１０及びＣＦ基板２０により形成された空間内に液晶層４０が封入されている。
【００１５】
この液晶表示パネル１は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をアクティブ素子としたアクティブマトリックス液晶素子である。ガラス基板１１におけるＣＦ基板２０との対向面（ＴＦＴ基板１０の内面）１２における液晶表示パネル１の表示領域Ｇ内には、行及び列方向にマトリクス状に配列させて形成されて画素を形成する複数の画素電極３３と、複数の画素電極３３にそれぞれ対応させて配置され、対応する画素電極３３に接続された複数の薄膜トランジスタ３４と、各行の複数の薄膜トランジスタ３４にそれぞれゲート信号を供給する複数の走査線３５と、各列の複数の薄膜トランジスタ３４にそれぞれデータ信号を供給する複数の信号線３６とが設けられている。また、ガラス基板１１におけるＣＦ基板２０との対向面（ＴＦＴ基板１０の内面）１２における液晶表示パネル１の表示領域Ｇの外側には、複数の走査線３５または複数の信号線３６のうちいずれか１つにそれぞれ接続された複数の引き回し配線１３が形成されている。複数の引き回し配線１３のうち複数の走査線３５に接続された一部の引き回し配線１３の各端部が、突出部１０ａのうち駆動回路６０が搭載される駆動回路搭載領域３９に配置されてゲート端子３７を形成し、複数の引き回し配線１３のうち信号線３６に接続された他の一部の引き回し配線１３の各端部が、突出部１０ａの駆動回路搭載領域３９に配置されてデータ端子３８を形成している。そして、複数の引き回し配線１３はそれぞれ、その全体または一部がシール剤３０と重ねて形成されている。尚、図２において、複数の引き回し配線１３上に形成された保護膜は図示を省略している。
【００１６】
一方、ガラス基板２１におけるＴＦＴ基板１０との対向面（ＣＦ基板２０の内面）２２には、複数の画素電極３３の配列領域全体に対向させて形成された対向電極（不図示）と、複数の画素電極３３と対向電極とが互いに対向する領域からなる複数の画素にそれぞれ対応させて形成された赤、緑、青の３色のカラーフィルタ層（不図示）とが設けられている。そして、ガラス基板２１の対向面２２の外周縁部には、ＴＦＴ基板１０に対してＣＦ基板２０が配置された側とは反対側に配置されるバックライトから液晶表示パネル１に向けて照射される光を遮断する枠状の遮光膜２３が、表示領域Ｇを取り囲んで形成されている。この遮光膜２３はガラス基板２１の対向面２２上にシール剤３０と重ねて、液晶層４０と重なる領域からＣＦ基板２０の外側の端部２４にかけて連続的に形成されている。
【００１７】
また、ＴＦＴ基板１０およびＣＦ基板２０の内面にはそれぞれ、電極を覆う配向膜（不図示）が形成されており、この配向膜により液晶４０の液晶分子は初期配向状態に保持され配向されている。そして、突出部１０ａの駆動回路搭載領域３９に搭載された駆動回路６０は、ゲート端子３７を介して複数の走査線３５に順次ゲート信号を印加し、データ端子３８を介して複数の信号線３６にデータ信号を印加するものである。さらに、突出部１０ａの端部には、図示しない外部回路からのドライバ制御信号を駆動回路６０に供給する配線フィルム（不図示）が接続されている。
ここで、液晶表示パネル１において、液晶層４０が配置されて、複数の薄膜トランジスタ３４が形成され且つ遮光膜２３によって取り囲まれた領域のうち、当該領域の外周縁部を除く領域が液晶表示パネル１の表示領域Ｇとされる。
【００１８】
遮光膜２３におけるＴＦＴ基板１０に対向する対向面のうち、遮光膜２３に対して表示領域Ｇが配置された側の縁部を除く領域、即ち枠状の遮光膜２３の内周縁部に、入射した光を乱反射する乱反射層５０が形成されている。即ち、遮光膜２３のうち該遮光膜２３に対して液晶層４０および表示領域Ｇが配置された側の端部よりも、遮光膜２３上に配置された乱反射層５０のうち該乱反射層５０に対して液晶層４０および表示領域Ｇが配置された側の端部の方が、表示領域Ｇから離れた状態となっている。また、この乱反射層５０は、遮光膜２３の対向面上にシール剤３０の全体と重ねて液晶層４０と重なる領域からＣＦ基板２０の外側の端部２４にかけて連続的に形成されている。
【００１９】
乱反射層５０は、例えばアルミニウムや白金等の金属からなる金属膜であり、そのＴＦＴ基板１０に対向する表面５１に微小な凹凸５１が多数形成されている。この乱反射層５０によって、ＴＦＴ基板１０側から遮光膜２３に向けて照射される光が乱反射される。乱反射層５０は少なくとも複数の引き回し配線１３の全てに重ねて設けられている。
【００２０】
次に、液晶表示パネルの製造方法について、図４に示す液晶表示パネル１の製造工程図を参照して説明する。また、図５〜図１２は、液晶表示パネルの製造方法の各工程を模式的に示す説明図である。なお、図５〜図１２において、ＴＦＴ基板１０の画素電極３３、薄膜トランジスタ３４及び配向膜と、ＣＦ基板２０のカラーフィルタ層及び配向膜との図示を省略している。
【００２１】
まず、図５に示すように、完成された複数の液晶表示パネル１を形成することができる面積を有するＴＦＴ基板１０Ａを準備する（第１基板準備工程Ｓ１）。ＴＦＴ基板１０Ａには、完成された複数の液晶表示パネル１を形成することができる面積を有するガラス基板１１Ａの対向面１２Ａ上における、複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇ内に複数の画素電極３３、複数の薄膜トランジスタ３４及び配向膜が形成され、複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇの外側に複数の引き回し配線１３が形成されている。
【００２２】
その後、図６に示すように、ＴＦＴ基板１０Ａの複数の引き回し配線１３上及びガラス基板１１Ａの対向面１２Ａ上に、複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇを取り囲んで、閉じた枠状の光硬化型の複数のシール剤３０と、全てのシール剤３０を取り囲む閉じた枠状の光硬化型の外周シール剤３１とを形成する（シール剤形成工程Ｓ２）。なお、シール剤３０としては紫外線硬化型のシール剤が用いられている。
次いで、図７に示すように、ガラス基板１１Ａの対向面１２Ａ上における複数のシール剤３０に囲まれた各領域に液晶４１を滴下して配置する（液晶配置工程Ｓ３）。
【００２３】
そして、図８に示すように、完成された複数の液晶表示パネル１を形成することができる面積を有するＣＦ基板２０Ａを準備する（第２基板準備工程Ｓ４）。ＣＦ基板２０Ａには、完成された複数の液晶表示パネル１を形成することができる面積を有するガラス基板２１Ａの対向面２２Ａ上における、複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇ内にカラーフィルタ層と配向膜とが形成され、複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇの外側に複数の遮光膜２３が形成されている。尚、ＣＦ基板２０Ａのガラス基板２１Ａ上には各色のカラーフィルタ層の間に配置するように遮光膜が形成されており、この遮光膜と複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇ外に形成された複数の遮光膜２３とが同時に形成される。
【００２４】
その後、図９に示すように、ＣＦ基板２０Ａの複数の遮光膜２３上に、内周縁部が各遮光膜２３の内周縁部よりも外側に配置された閉じた枠状の乱反射層５０を形成する（乱反射層形成工程Ｓ５）。この際、ＣＦ基板２０Ａの平坦な面上に形成された平坦な遮光膜２３上に感光性樹脂を塗布後、露光および現像処理により遮光膜２３上に多数の微小な凹凸５１を形成する。その後、これらの微小な凹凸５１上にアルミニウムや白金等の金属からなる金属膜をメッキ処理により成膜する。その後、露光および現像処理により金属膜の一部を除去して、遮光膜２３におけるＴＦＴ基板１０に対向する対向面のうち、遮光膜２３に対して表示領域Ｇが配置された側の縁部を除く領域に、閉じた枠状となるように乱反射層５０を形成する。即ち、各遮光膜２３のうち該各遮光膜２３に対して該各遮光膜２３に対応する表示領域Ｇが配置された側の端部よりも、各遮光膜２３上に配置された乱反射層５０のうち該各乱反射層５０に対して各遮光膜２３に対応する表示領域Ｇが配置された側の端部の方が、各遮光膜２３に対応する表示領域Ｇから離れた状態となるように、各乱反射層５０を形成する。
【００２５】
その後、図１０に示すように、ＴＦＴ基板１０ＡとＣＦ基板２０Ａとを、ＴＦＴ基板１０Ａの対向面１２ＡとＣＦ基板２０Ａの対向面２２Ａとを対向させた状態で配置後、位置合わせして、図１１に示すように、ＣＦ基板２０ＡをＴＦＴ基板１０Ａに貼り合わせて液晶表示パネル形成用構成体７０Ａを形成する（貼り合わせ工程Ｓ６）。この際、ＴＦＴ基板１０Ａの全ての複数の引き回し配線１３および複数のシール剤３０の全体が、ＣＦ基板２０Ａの乱反射層５０と重なるように、両ガラス基板１１Ａ，２１Ａを位置合わせする。
【００２６】
貼り合わせ後には、図１２に示すように、ＴＦＴ基板１０Ａのガラス基板１１Ａのうち各表示領域Ｇをなす領域を少なくとも覆うように、ガラス基板１１Ａの裏面１４Ａに、光を遮断するマスク１１０を貼付する。その後、紫外線を照射する光源１００を、ＴＦＴ基板１０Ａのガラス基板１１Ａに対して、ＣＦ基板２０Ａのガラス基板２１Ａが配置された側とは反対側に配置し、液晶表示パネル形成用構成体７０Ａに紫外線を照射することにより、光源１００から出射した紫外線がＴＦＴ基板１０のガラス基板１１を通過してシール剤３０及び外周シール剤３１に到達し、シール剤３０及び外周シール剤３１が硬化される（光照射工程Ｓ７）。この際、ＴＦＴ基板１０Ａのガラス基板１１Ａのうち各表示領域Ｇをなす領域と、光源１００との間にマスク１１０が配置されるので、光源１００からの紫外線が直接各液晶層４０に入射することを防止できる。これにより各液晶層４０の汚染が発生しない。また、マスク１１０は、光源１００からの出射光を遮断する光遮断部を複数有し、各光遮断部は少なくとも各表示領域Ｇの全体と重なり、各光遮断部の外周縁部が各表示領域Ｇに重なる領域から各遮光膜２３に重なる領域にかけて連続的に形成されているので、各液晶層４０のうち各表示領域Ｇと重ねて配置された部分に紫外線が斜め方向から直接各液晶層４０に入射してしまうことも防止される。
【００２７】
ここで、シール剤３０のうち複数の引き回し配線１３と重ねて配置され、且つ光源１００との間に複数の引き回し配線１３が介在された部分では、光源１００から出射した紫外線が各引き回し配線１３により遮断されてしまうため、光源１００から照射された紫外線が直接到達しない。従って、例えば図１４に示す比較例のように、乱反射層５０のない液晶表示パネル２００においては、光源１００からの出射光は反射されないか、またはわずかに反射されたとしてもに遮光膜２３に対して実質的に直角の方向に反射されてしまうため、シール剤３０が複数の引き回し配線１３と重ならずに硬化する部分（図１４におけるＰ１部分）と、シール剤３０が複数の引き回し配線１３と重なるため硬化しない部分（図１４におけるＰ２部分）とが混在することになる。
【００２８】
一方、本実施形態の液晶表示パネル１のように、遮光膜２３に乱反射層５０が積層された液晶表示パネル１においては、図１３に示すように、複数の引き回し配線１３の間隙から遮光膜２３に向けて入射した紫外線が乱反射層５０によって乱反射されて、シール剤３０のうち光源１００との間に複数の引き回し配線１３が介在された部分にも紫外線を到達させることができる。これにより、シール剤３０のうち光源１００との間に複数の引き回し配線１３が介在された部分も硬化させることができる。
【００２９】
この場合、光源１００から出射した紫外線を、乱反射層５０や複数の引き回し配線１３において複数回反射させることなく、乱反射層５０で１回だけ反射させることで、シール剤３０のうち光源１００との間に複数の引き回し配線１３が介在された部分に紫外線を到達させることができるので、紫外線の強度を大きくすることなくシール剤３０を硬化することができ、ひいてはシール剤３０を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶層４０に到達し、液晶層４０を汚染する可能性を高めることなく、シール剤３０を硬化することができる。
【００３０】
その後、液晶表示パネル形成用構成体７０ＡのＴＦＴ基板１０ＡおよびＣＦ基板２０Ａをガラスカッターなどの切断手段によって切断して個片化することにより、図１に示す液晶表示パネル１が複数個同時に完成される（個片化工程Ｓ８）。この個片化工程において、ＴＦＴ基板１０が、４辺のうち少なくとも一辺においてＣＦ基板２０から突出した突出部１０ａを有する形状となるように切断を行う。その後、この突出部１０ａに駆動回路６０が搭載される。
【００３１】
以上のように、本実施形態によれば、紫外線の強度を抑制したとしても、均一にシール剤３０を硬化させることができる。
また、光源から出射される際の紫外線の強度を大きくすることなくシール剤３０を硬化することができ、ひいてはシール剤を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶に到達し、液晶を汚染する可能性を高めることなく、シール剤３０を硬化することができる。
さらに、遮光膜２３の対向面のうち、遮光膜２３に対して表示領域Ｇが配置された側の縁部を除く領域に乱反射層５０が設けられているので、乱反射層５０が遮光膜２３の対向面のうち、遮光膜２３に対して表示領域Ｇが配置された側の縁部にまで形成されている場合と比べて、乱反射層５０で反射した紫外線が表示領域Ｇ内の液晶層に到達する可能性を低減することができる。
【００３２】
また、ＣＦ基板２０のガラス基板２１における液晶層４０と重なる領域から、シール剤３０と重なる領域にかけて遮光膜２３及び乱反射層５０が形成されているので、液晶層４０側から入射した紫外線を乱反射させて、シール剤３０に到達させることも可能である。
【００３３】
そして、ＣＦ基板２０のガラス基板２１における液晶層４０と重なる領域から、ガラス基板２１の外側の端部２４にかけて遮光膜２３が形成されているので、ＴＦＴ基板１０に対してＣＦ基板２０が配置された側とは反対側に配置されるバックライトから液晶表示パネル１に向けて照射される光を遮断して、バックライトからの光漏れを防止することができる。
【００３４】
なお、本発明は上記実施形態に限らず適宜変更可能である。
例えば、上述の実施形態ではシール剤形成工程Ｓ２において、複数のシール剤３０をＴＦＴ基板１０Ａのガラス基板１１Ａに形成し、液晶配置工程Ｓ３において、ガラス基板１１Ａの対向面１２Ａ上における複数のシール剤３０に囲まれた各領域に液晶４１を滴下して配置したが、複数のシール剤をＣＦ基板２０Ａのガラス基板２１Ａに形成し、ガラス基板２１Ａの対向面２２Ａ上における複数のシール剤に囲まれた各領域に液晶４１を滴下して配置してもよい。この場合、ＣＦ基板２０Ａの複数の乱反射層５０上及びガラス基板２１Ａの対向面２２Ａ上に、複数の液晶表示パネル１の各表示領域Ｇを取り囲んで、閉じた枠状の光硬化型の複数のシール剤３０と、全てのシール剤３０を取り囲む閉じた枠状の光硬化型の外周シール剤３１とを形成することとなる。
また、以下の方法により乱反射層５０を形成してもよい。即ち、第２基板準備工程の前に、まず、乱反射層５０を形成するＣＦ基板２０Ａの対向面２２Ａのうち少なくとも乱反射層５０を形成する領域に対して、フッ酸溶液を用いたフロスト加工を行い、対向面２２Ａに多数の微小な凹凸が形成されたＣＦ基板２０Ａを準備する。そのＣＦ基板２０Ａの各表示領域Ｇ内にカラーフィルタ層と配向膜とを形成し、更に遮光膜２３を形成する。多数の微小な凹凸に対応する領域では、遮光膜２３の表面が微小な凹凸を有する形状に形成される。その後、遮光膜２３の微小な凹凸上にアルミニウムや白金等の金属からなる金属膜をメッキ処理により成膜する。その後、露光および現像処理により金属膜の一部を除去して、内周縁部が各遮光膜２３の内周縁部よりも外側に配置された閉じた枠状となるように乱反射層５０を形成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００３５】
１      液晶表示パネル
１０，１０Ａ      ＴＦＴ基板（第一の基板）
１０ａ    突出部
１１，１１Ａ      ガラス基板（第一の透明基板）
１２，１２Ａ      対向面（一の面）
１３      引き回し配線（配線）
２０，２０Ａ      ＣＦ基板（第二の基板）
２１，２１Ａ      ガラス基板（第二の透明基板）
２２，２２Ａ      対向面（一の面）
２３      遮光膜
２４      端部
３０      シール剤
３３      画素電極
４０      液晶層
４１      液晶
５０      乱反射層
５１      表面
１００      光源
１１０      マスク
Ｇ      表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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