(57)【要約】【課題】優れたインク吐出性、着色力、画像堅牢性を実現するインクジェット記録用水性インクを提供する。【解決手段】Ａ及びＢを含有する顔料分散物及び水性媒体を含むインク。Ａ：ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が５〜１５°及び２０〜３０°に特徴的なＸ線回折ピークを１個以上有する下記式等で表されるアゾ顔料、Ｂ：疎水性構造単位（ａ）と、親水性構造単位（ｃ）とを含むビニルポリマー。2011074377.tif 000054【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ及びＢを含有することを特徴とする水系顔料分散物。
Ａ：ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ）が５〜１５°及び２０〜３０°に特徴的なＸ線回折ピークを少なくとも１個以上有する下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物
Ｂ：下記一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）と、親水性構造単位（ｃ）とを含むビニルポリマー
【化１】
2011074377.tif 000046
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【化２】
2011074377.tif 000047
（一般式（ＡＩ)中、Ｒ１は水素原子、メチル基、又はハロゲン原子を表し、Ｌ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｏ−、又は置換若しくは無置換のフェニレン基を表し、Ｒ２は水素原子、アルキル基を表す。Ｌ２は単結合又は、２価の連結基を表す。Ａｒ１は芳香族炭化水素環から誘導される１価の基を表す。）
【請求項２】
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、Ｗ１、Ｗ２が、それぞれ独立に総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基、又は総炭素数５以下のアルキルアミノ基であることを特徴とする請求項１に記載の水系顔料分散物。
【請求項３】
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、Ｇ１、Ｇ２が、それぞれ独立に総炭素数３以下のアルキル基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の水系顔料分散物。
【請求項４】
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、Ｚが、６員含窒素ヘテロ環であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のインクジェット記録用水性インク水系顔料分散物。
【請求項５】
一般式（１）で表されるアゾ顔料が、下記一般式（１０）で表されることを特徴とする請求項１に記載の水系顔料分散物。
【化３】
2011074377.tif 000048
（一般式（１０）中、Ｚは５〜６員含窒素ヘテロ環を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【請求項６】
一般式（１０）で表されるアゾ顔料が、下記一般式（１１）で表されることを特徴とする請求項５に記載の水系顔料分散物。
【化４】
2011074377.tif 000049
（一般式（１１）中、Ｚ’は６員含窒素ヘテロ環を表す。）
【請求項７】
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する下式（１ａ）で表されるアゾ顔料又は互変異性体を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【化５】
2011074377.tif 000050
【請求項８】
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有する下式（２ａ）で表されるアゾ顔料又は互変異性体を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【化６】
2011074377.tif 000051
【請求項９】
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．５°、１１．２°、１８．６°、２１．２°及び２３．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する下式（３ａ）で表されるアゾ顔料又は互変異性体を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【化７】
2011074377.tif 000052
【請求項１０】
前記Ｂで表されるビニルポリマーが更に、アクリル酸又はメタクリル酸の、アルキルエステルに由来する疎水性構造単位（ｂ）を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【請求項１１】
前記疎水性構造単位（ａ）がフェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位及びベンジル（メタ）アクリレートに由来の構造単位より選択される少なくとも一つを総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含み、前記親水性構造単位（ｃ）がアクリル酸及びメタクリル酸に由来の構造単位より選択される少なくとも一つをビニルポリマー全質量に対して３０質量％以下含む、ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【請求項１２】
前記疎水性構造単位（ａ）が、フェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位を総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【請求項１３】
前記Ｂで表されるビニルポリマーが、下記一般式（ＡＩＩ）であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【化８】
2011074377.tif 000053
（一般式（ＡＩＩ）中、ａはビニルポリマー全質量に対して１０質量％以上７５質量％未満を表す。ｂはビニルポリマー全質量に対して５質量％以上５０質量％未満を表す。ｃはビニルポリマー全質量に対して４質量％以上５０質量％未満を表す。ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を表す。）
【請求項１４】
更に水性媒体を含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の水系顔料分散物を含むことを特徴とするインクジェット記録用水性インク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インク吐出性に優れ、良好な色相と高印画濃度（高い着色力）、印画物の高い画像堅牢性（例えば、耐光性、耐ガス性、耐熱性、耐水性）を実現するアゾ顔料、ビニルポリマー、水性媒体を含有する分散物安定性、貯蔵安定性に優れた水系顔料分散物及びインクジェット記録用水性インクに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像記録材料としては、特にカラー画像を形成するための材料が主流であり、具体的には、インクジェット方式の記録材料、感熱転写方式の記録材料、電子写真方式の記録材料、転写式ハロゲン化銀感光材料、印刷インキ、記録ペン等が盛んに利用されている。また、撮影機器ではＣＣＤなどの撮像素子において、ディスプレーではＬＣＤやＰＤＰにおいてカラー画像を記録・再現するためにカラーフィルターが使用されている。これらのカラー画像記録材料やカラーフィルターでは、フルカラー画像を表示あるいは記録する為に、いわゆる加法混色法や減法混色法の３原色の色素（染料や顔料）が使用されているが、好ましい色再現域を実現できる吸収特性を有し、かつさまざまな使用条件、環境条件に耐えうる堅牢な色素がないのが実状であり、改善が強く望まれている。
【０００３】
特に、使用用途が民生用途から工業用途となる事で、更に要求性能が高いレベル（色相、着色力、画像堅牢性；光、ガス、熱、湿度、薬品）で求められる。
用いる着色材料（例えば、インクジェット用インク）も、染料インクであれば水溶性インクから油溶性への変更が要求性能により必要となり、更に高いレベルでの性能が要求される場合（室内用途から屋外用用途）には、染料インクから顔料インクへの変更が必要となっている。
屋外用途での使用に関しては、屋内用途以上に各単色だけでなく他色とのバランスや低濃度部〜高濃度部においても各色バランスの良い保存性が付与されていることが必要である。
【０００４】
染料と顔料の使用形態の違いは、染料が繊維や溶媒などの媒体中に溶解状態（分子分散状態）で使用するのに対して、顔料は溶解させることなく、媒体中に微細に分散された粒子（分子集合体）で使用することである。
【０００５】
上記の各用途で使用する染料や顔料には、共通して次のような性質を具備している必要がある。即ち、色再現性上好ましい吸収特性を有すること、使用される環境条件下における堅牢性、例えば、耐光性、耐熱性、耐湿度、オゾンなどの酸化性ガスに対する耐性が良好であること等が挙げられる。
加えて色素が顔料の場合には、更に水や有機溶剤に実質的に不溶であり耐薬品堅牢性が良好であること、及び対応する色素の分子分散状態における好ましい吸収特性を、顔料粒子として使用しても損なわないこと等の性質をも具備している必要がある。上記要求特性は分子内・分子間相互作用の強弱である程度コントロールすることができるが、両者はトレードオフの関係になるため両立させるのが困難である。
また、顔料を使用するにあたっては、他にも、所望の透明性を発現させるために必要な粒子径、粒子形及び結晶形を有すること、使用される環境条件下における堅牢性、例えば、耐光性、耐熱性、耐湿度、オゾンなどの酸化性ガスに対する耐性、その他、有機溶剤や亜硫酸ガスなどへの耐薬品堅牢性が良好であること、使用される媒体中において微小粒子まで分散し、かつ、その分散状態が安定であること等の性質も必要となる。特に、良好なイエロー色相を有し、着色力が高く、光、熱、湿度及び環境中の活性ガスに対して堅牢な顔料が強く望まれている。
【０００６】
すなわち、顔料に対する要求性能は色素分子としての性能を要求される染料に比べて、多岐にわたり、色素分子としての性能だけでなく、色素分子の集合体としての固体（微粒子分散物）としての上記要求性能を全て満足する必要がある。結果として、顔料として使用できる化合物群は染料に比べて極めて限定されたものとなっており、高性能な染料を顔料に誘導したとしても微粒子分散物としての要求性能を満足できるものは数少なく、容易に開発できるものではない。これは、カラーインデックスに登録されている顔料の数が染料の数の１／１０にも満たないことからも確認される。
【０００７】
アゾ顔料は、色彩的特性である色相及び着色力に優れているため、印刷インキ、インクジェット記録用インク、電子写真材料などに広く使用されている。これらのうち、最も典型的に使用されている黄色アゾ顔料は、ジアリーリド顔料である。ジアリーリド顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、同１３、同１７などが挙げられる。しかし、ジアリーリド顔料は、堅牢性とりわけ耐光性が非常に劣るため、印字物の長期間の保存に適さない。
【０００８】
このような欠点を改良するため、分子量を大きくしたり、強い分子間相互作用を持つ基を導入することにより堅牢性を改善したアゾ顔料も開示されている（例えば特許文献１〜３参照）。しかしながら、改良された顔料においても、例えば特許文献１に記載の顔料は耐光性が改善されてはいるが未だ不十分であり、また、例えば特許文献２及び３に記載の顔料は色相が緑味で着色力が低くなり、色彩的特性に劣るといった欠点があった。
【０００９】
また、特許文献４には色再現性に優れた吸収特性と十分な堅牢性を有する色素が開示されている。しかしながら、該特許文献に記載されている具体的化合物は、どれも水又は有機溶剤に溶解するため、耐薬品堅牢性が十分でない。
【００１０】
ところで、特許文献５には、色素を染料として水媒体に中に溶解してインクジェット用水溶性インクとして使用する例が記載されている。また、特許文献６にも光堅牢性に特徴を有する陰イオン型モノアゾ化合物の例が記載されている。しかし、これらの画像堅牢性のレベルは要求性能を高いレベルで満足するには充分なものでなく、かつ顔料としての使用形態を付与できるものではなかった。
【００１１】
イエロー、マゼンタ、シアンの３色、又は更にブラックを加えた４色による減色混合法を用いてフルカラーを表現する場合、イエロー用の顔料として堅牢性の劣る顔料を用いると、時間の経過とともに印字物のグレーバランスが変化してしまい、また、色彩的特性に劣る顔料を用いると、印刷時の色再現性が低下してしまう。したがって、高い色再現性を長期間維持する印字物を得るために、色彩的特性及び堅牢性の両立した黄色顔料及び顔料分散物が望まれている。
【００１２】
また、特許文献７には、染料として、色再現性に優れた吸収特性と非常に高いレベルの堅牢性を有する色素が開示されている。
【００１３】
一方、有機顔料の代表的なものの多くは多形性のものが存在し、同一の化学組成を有するにもかかわらず、このような顔料は２つ以上の結晶形態をとることが知られている。
有機顔料には、例えばアゾ顔料のように、合成時に適切な反応条件を選択することにより、微細で整粒された粒子を得ることができるものもあり、銅フタロシアニングリーン顔料のように、合成時に生成する極めて微細で凝集した粒子を、後工程で粒子成長、整粒させることにより顔料化するもの、銅フタロシアニンブルー顔料のように、合成時に生成する粗大で不揃いな粒子を後工程で微細化し、整粒させることにより顔料化を行うものもある。例えば、ジケトピロロピロール顔料は、一般的には、琥珀酸ジエステルと芳香族ニトリルとを有機溶媒中で反応させて合成される（例えば、特許文献８参照）。そして、粗製ジケトピロロピロール顔料は、水又は有機溶剤中で熱処理し、次に湿式摩砕のごとき粉末化を行うことにより、使用に適する形態にされる（例えば、特許文献９参照）。例えば、ジケトピロロピロール顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４には、α型とβ型の結晶形態が知られている（例えば、特許文献１０参照）。また、アゾ顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８１は、数種の結晶形態が知られている（例えば、特許文献１１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開昭５６−３８３５４号公報
【特許文献２】米国特許第２９３６３０６号明細書
【特許文献３】特開平１１−１００５１９号公報
【特許文献４】特開２００３−２７７６６２号公報
【特許文献５】米国特許第７１２５４４６号明細書
【特許文献６】特開昭６１−３６３６２号公報
【特許文献７】特許第４０７３４５３号公報
【特許文献８】特開昭５８−２１００８４号公報
【特許文献９】特開平５−２２２３１４号公報
【特許文献１０】特開平８−４８９０８号公報
【特許文献１１】米国出願公開第２００８／０５８５３１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、特許文献７に記載されている具体的化合物は、どれも水又は有機溶剤に対する溶解性が高いため、顔料として使用しようとすると目的とする顔料微粒子分散物が得られず、色素が溶解した溶液又は乳化物となる。その結果、各種要求性能を高いレベルで付与する目的で、顔料分散体を含有した着色材料として用いることが困難であった。
本発明は、インク吐出性に優れ、良好な色相と高印画濃度（高い着色力）、印画物の高い画像堅牢性（例えば耐光性、耐ガス性、耐熱性、耐水性（特に屋外用途での耐光性）を実現するアゾ顔料、ビニルポリマー、水性媒体を含有するインクジェット記録用水性インク及び分散物安定性、貯蔵安定性に優れた水系顔料分散物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者等は上記した実状に鑑みて鋭意検討した結果、アゾ基に隣接する炭素原子に分子内水素結合を形成可能なカルボニル基で置換したアゾ顔料が、色彩的特性に優れ、分散物の粒子径が小さく、着色力と耐光性を両立することを見出し、更に該アゾ顔料に、特定の構造を有するビニルポリマー及び水性媒体を組み合わせることにより、これらの課題が解決されることを見出し、本発明を完成した。
【００１７】
即ち、以下の手段により本発明の目的は達成される。
【００１８】
〔１〕
Ａ及びＢを含有することを特徴とする水系顔料分散物。
Ａ：ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ）が５〜１５°及び２０〜３０°に特徴的なＸ線回折ピークを少なくとも１個以上有する下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物
Ｂ：下記一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）と、親水性構造単位（ｃ）とを含むビニルポリマー
【００１９】
【化１】
2011074377.tif 000002
【００２０】
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【００２１】
【化２】
2011074377.tif 000003
【００２２】
（一般式（ＡＩ)中、Ｒ１は水素原子、メチル基、又はハロゲン原子を表し、Ｌ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｏ−、又は置換若しくは無置換のフェニレン基を表し、Ｒ２は水素原子、アルキル基を表す。Ｌ２は単結合又は、２価の連結基を表す。Ａｒ１は芳香族炭化水素環から誘導される１価の基を表す。）
【００２３】
〔２〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、Ｗ１、Ｗ２が、それぞれ独立に総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基、又は総炭素数５以下のアルキルアミノ基であることを特徴とする〔１〕に記載の水系顔料分散物。
【００２４】
〔３〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、Ｇ１、Ｇ２が、それぞれ独立に総炭素数３以下のアルキル基であることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の水系顔料分散物。
【００２５】
〔４〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、Ｚが、６員含窒素ヘテロ環であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載のインクジェット記録用水性インク水系顔料分散物。
【００２６】
〔５〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料が、下記一般式（１０）で表されることを特徴とする〔１〕のいずれかに記載の水系顔料分散物。
【００２７】
【化３】
2011074377.tif 000004
【００２８】
（一般式（１０）中、Ｚは５〜６員含窒素ヘテロ環を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【００２９】
〔６〕
一般式（１０）で表されるアゾ顔料が、下記一般式（１１）で表されることを特徴とする〔５〕に記載の水系顔料分散物。
【００３０】
【化４】
2011074377.tif 000005
【００３１】
（一般式（１１）中、Ｚ’は６員含窒素ヘテロ環を表す。）
【００３２】
〔７〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する下式（１ａ）で表されるアゾ顔料又は互変異性体を少なくとも１種含有することを特徴とする〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００３３】
【化５】
2011074377.tif 000006
【００３４】
〔８〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有する下式（２ａ）で表されるアゾ顔料又は互変異性体を少なくとも１種含有することを特徴とする〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００３５】
【化６】
2011074377.tif 000007
【００３６】
〔９〕
一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物において、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．５°、１１．２°、１８．６°、２１．２°及び２３．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する下式（３ａ）で表されるアゾ顔料又は互変異性体を少なくとも１種含有することを特徴とする〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００３７】
【化７】
2011074377.tif 000008
【００３８】
〔１０〕
前記Ｂで表されるビニルポリマーが更に、アクリル酸又はメタクリル酸の、アルキルエステルに由来する疎水性構造単位（ｂ）を含むことを特徴とする〔１〕〜〔９〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００３９】
〔１１〕
前記疎水性構造単位（ａ）がフェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位及びベンジル（メタ）アクリレートに由来の構造単位より選択される少なくとも一つを総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含み、前記親水性構造単位（ｃ）がアクリル酸及びメタクリル酸に由来の構造単位より選択される少なくとも一つをビニルポリマー全質量に対して３０質量％以下含む、ことを特徴とする〔１〕〜〔１０〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００４０】
〔１２〕
前記疎水性構造単位（ａ）が、フェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位を総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含むことを特徴とする〔１〕〜〔１１〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００４１】
〔１３〕
前記Ｂで表されるビニルポリマーが、下記一般式（ＡＩＩ）であることを特徴とする〔１〕〜〔１２〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００４２】
【化８】
2011074377.tif 000009
【００４３】
（一般式（ＡＩＩ）中、ａはビニルポリマー全質量に対して１０質量％以上７５質量％未満を表す。ｂはビニルポリマー全質量に対して５質量％以上５０質量％未満を表す。ｃはビニルポリマー全質量に対して４質量％以上５０質量％未満を表す。ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を表す。）
【００４４】
〔１４〕
更に水性媒体を含有することを特徴とする〔１〕〜〔１３〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物。
【００４５】
〔１５〕
〔１〕〜〔１４〕のいずれか一項に記載の水系顔料分散物を含むことを特徴とするインクジェット記録用水性インク。
【発明の効果】
【００４６】
本発明によれば、特定のアゾ顔料と特定のビニルポリマーと水性媒体とを組み合わせることにより、（１）貯蔵安定性に優れた、アゾ顔料、ビニルポリマー、水性媒体を含有する水系顔料分散物、及び、（２）インク吐出性に優れ、良好な色相と高印画濃度（高い着色力）、印画物の高い画像堅牢性（耐光・耐オゾンガス・耐熱・耐湿度）を実現するアゾ顔料、ビニルポリマー、水性媒体を含有するインクジェット記録用水系インクが提供される。
本発明の水系顔料分散物は、例えば、インクジェットなどの印刷用のインク、電子写真用のカラートナー、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのディスプレーやＣＣＤなどの撮像素子で用いられるカラーフィルター、塗料、着色プラスチック等に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】合成例１で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図２】合成例２で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図３】合成例３で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図４】合成例４で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図５】合成例５で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図６】合成例６で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図７】合成例７で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図８】合成例８で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図９】合成例９で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１０】合成例１０で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１１】合成例１１で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１２】合成例１２で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１３】合成例１３で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１４】合成例１４で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１５】合成例１５で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１６】合成例１６で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１７】合成例１７で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１８】合成例１８で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【図１９】合成例１９で得られたアゾ顔料のＣｕＫαＸ線回折図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
＜水系顔料分散物＞
本発明の水系顔料分散物は、Ａ及びＢを含有する。
Ａ：ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ）が５〜１５°及び２０〜３０°に特徴的なＸ線回折ピークを少なくとも１個以上有する下記一般式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、それらの塩又は水和物
Ｂ：下記一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）と、親水性構造単位（ｃ）とを含むビニルポリマー
【化９】
2011074377.tif 000010
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【化１０】
2011074377.tif 000011
（一般式（ＡＩ)中、Ｒ１は水素原子、メチル基、又はハロゲン原子を表し、Ｌ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｏ−、又は置換若しくは無置換のフェニレン基を表し、Ｒ２は水素原子、アルキル基を表す。Ｌ２は単結合又は、２価の連結基を表す。Ａｒ１は芳香族炭化水素環から誘導される１価の基を表す。）
【００４９】
本発明の顔料分散物は、上記Ａ及びＢを含有することにより、１：貯蔵安定性に優れた、アゾ顔料、ビニルポリマー、水性媒体を含有する水系顔料分散物、及び、２：インク吐出性に優れ、良好な色相と高印画濃度（高い着色力）、印画物の高い画像堅牢性（耐光・耐オゾンガス・耐熱・耐湿度）を実現する。
【００５０】
〔一般式（１）で表されるアゾ顔料〕
一般式（１）で表される化合物は、その特異的な構造により色素分子の分子内・分子間相互作用を形成しやすく、水又は有機溶媒等に対する溶解性が低く、好ましい形態のアゾ顔料とすることができる。
顔料は、水や有機溶媒等に分子分散状態で溶解させて使用する染料とは異なり、媒体中に分子集合体等の粒子として微細に分散させて用いるものである。
【００５１】
【化１１】
2011074377.tif 000012
【００５２】
（一般式（１）中、Ｚは５〜６員ヘテロ環を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【００５３】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基が挙げられ、その中でも特に炭素数１から８の置換若しくは無置換のアルコキシ基が好ましく、更に炭素数１から４の置換若しくは無置換のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。特に好ましくはメトキシ基である。
【００５４】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基が挙げられ、その中でもアミノ基、炭素数１から８の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から１８の置換若しくは無置換のアニリノ基が好ましく、更にアミノ基、炭素数１から４の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から１２の置換若しくは無置換のアニリノ基が好ましく、例えば、アミノ基（−ＮＨ２）、メチルアミノ基（−ＮＨＣＨ３）、ジメチルアミノ基｛−Ｎ（ＣＨ３）２｝、アニリノ基（−ＮＨＰｈ）、Ｎ−メチル−アニリノ基｛−Ｎ（ＣＨ３）Ｐｈ｝、ジフェニルアミノ基｛−Ｎ（Ｐｈ）２｝等が挙げられる。特に好ましくはアミノ基である。
【００５５】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。
【００５６】
Ｗ１、Ｗ２で表されるアリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基が挙げられ、その中でも、炭素数６から１８の置換若しくは無置換のアリール基が好ましく、更に炭素数６から１２の置換若しくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。
【００５７】
好ましいＷ１、Ｗ２としては、それぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基又はアルキル基が挙げられ、中でもアルコキシ基、又はアミノ基が好ましく、総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ２基）、総炭素数５以下のアルキルアミノ基が更に好ましく、総炭素数３以下のアルコキシ基又は総炭素数３以下のアルキルアミノ基が特に好ましく、その中でもメトキシ基が最も好ましい。Ｗが総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基、総炭素数５以下のアルキルアミノ基の場合、色素分子が分子内及び分子間で相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を強固に形成しやすくなり、より安定な分子配列の構造（例えば３次元ネットワーク）を構成しやすくなることで、良好な色相、高い堅牢性（耐光・耐ガス・耐熱・耐水・耐薬品）の点で好ましい。
【００５８】
一般式（１）において、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ１１、Ｒ１２が置換基を表す場合の置換基としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル、シクロペンチル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。
【００５９】
一般式（１）において、好ましいＲ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の総炭素数１〜８のアシルアミノ基、置換若しくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基であり、より好ましくは、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基であり、その中でも総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基が好ましく、更に詳細にはメチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、特にｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、その中でもｔ−ブチル基が最も好ましい。
Ｒ１１、Ｒ１２を総炭素数の小さい（１〜４）直鎖アルキル基又は分岐アルキル基にすることで、色素分子配列が立体的に制御（一定の距離・角度で配列）しやすくなる。その結果、色素分子が安定な分子内・分子間相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を有する構造が形成されやすく、より安定な分子配列の構造（例えば３次元ネットワーク）を構成しやすくなることで、良好な色相、着色力、高い画像堅牢性（耐光・耐ガス・耐熱・耐水・耐薬品）の点で好ましい。
【００６０】
一般式（１）において、Ｚはヘテロ環基を表し、それらは更に縮環していてもよい。Ｚとして好ましくは５〜６員ヘテロ環基であり、より好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換のヘテロ環基であり、特に好ましくは、炭素数３から１０の６員含窒素ヘテロ環基である。
【００６１】
前記Ｚで表されるヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、トリアジニル、キノリニル、イソキノリニル、キナゾリニル、シンノリニル、フタラジニル、キノキサリニル、ピロリル、インドリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピラゾリル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、ベンズオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、イソチアゾリル、ベンズイソチアゾリル、チアジアゾリル、イソオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリジニル、チアゾリニル、スルホラニルなどが挙げられる。
【００６２】
好ましいヘテロ環基の例は、ピリジル、ピリミジニル、Ｓ−トリアジニル、ピリダジニル、ピラジニル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、イミダゾリルであり、より好ましくは、ピリジル、ピリミジニル、Ｓ−トリアジニル、ピリダジニル、ピラジニルであり、特に色相、着色力、画像堅牢性の点から、ピリミジニル、Ｓ−トリアジニルが好ましく、更に４，６−に置換基を有するピリミジニル、２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジニルが色相と画像堅牢性の点から好ましく、その中でも特に４，６−に置換基を有するピリミジニルが良好な画像の光堅牢性向上の点から最も好ましい。
【００６３】
Ｚをピリミジニル基、Ｓ−トリアジニル基にすることでビス型アゾ色素がアミノ基、含窒素６員ヘテロ環とで分子内水素結合を形成しやすくなり、色素分子配列が立体的に制御（一定の距離・角度、平面性で配列）しやすくなる。その結果、色素分子が安定な分子内・分子間相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を有する構造が形成されやすく、より安定な分子配列の構造（例えば３次元ネットワーク）を構成しやすくなることで、良好な色相、着色力、高い画像堅牢性（耐光・耐ガス・耐熱・耐水・耐薬品）の点で好ましい。
【００６４】
Ｇ１、Ｇ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、更に水素原子、メチル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、その中でも総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基、２−ピリジル基、２，６−ピリミジニル基、２，５−ピラジニル基が好ましく、総炭素数３以下のアルキル基がより好ましい。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点からメチル基が特に好ましい。
【００６５】
Ｙ１、Ｙ２が置換基を表す場合の例は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。Ｙの例として特に好ましくは、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基）アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基）であり、更に水素原子、総炭素数１〜４の直鎖又は分岐アルキル基、フェニル基、メチルチオ基である。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点から水素原子が特に好ましい。
【００６６】
Ｇ１、Ｇ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｚが、更に置換基を有する場合の置換基としては、下記の置換基（以下「置換基Ｊ」と称する場合がある）を挙げることができる。
【００６７】
例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【００６８】
更に詳しくは、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。
【００６９】
アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。
【００７０】
アラルキル基としては、置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。例えばベンジル基及び２−フェネチル基を挙げられる。
【００７１】
アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。
【００７２】
アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
【００７３】
アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。
【００７４】
ヘテロ環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
【００７５】
アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。
【００７６】
アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。
【００７７】
シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。
【００７８】
ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。
【００７９】
アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００８０】
カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。
【００８１】
アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００８２】
アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００８３】
アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。
【００８４】
アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００８５】
アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００８６】
アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００８７】
アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００８８】
スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【００８９】
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。
【００９０】
アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。
【００９１】
ヘテロ環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。
【００９２】
スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。
【００９３】
アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
【００９４】
アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００９５】
アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。
【００９６】
アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００９７】
アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００９８】
カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。
【００９９】
アリール又はヘテロ環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ等が挙げられる。
【０１００】
イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。
【０１０１】
ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。
【０１０２】
ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。
【０１０３】
ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。
【０１０４】
ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。
【０１０５】
シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。
【０１０６】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、該水素原子が上記の置換基で置換されていても良い。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１０７】
なお、前記一般式（１）で表される化合物の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１０８】
本発明の一般式（１）で表されるアゾ顔料として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ホ）を含むものである。
【０１０９】
（イ）Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立に、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基）、アミノ基（例えば、−ＮＨ２基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基）又はアリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）が好ましく、その中でもアルコシキ基、アミノ基又はアルキル基が好ましく、更にアルコキシ基、アミノ基が好ましく、更に好ましくは、総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ２基）、総炭素数５以下のアルキルアミノ基であり、特に好ましくは、総炭素数３以下のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ２基）、総炭素数３以下のアルキルアミノ基であり、更に、メトキシ基（−ＯＣＨ３基）、エトキシ基（−ＯＣ２Ｈ５基）、アミノ基（−ＮＨ２基）が好ましく、その中でもメトキシ基（−ＯＣＨ３基）が最も好ましい。
【０１１０】
（ロ）Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換基（例えば、置換若しくは無置換の総炭素数１〜８のアシルアミノ基、置換若しくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基）が好ましく、より好ましくは、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐アルキル基であり、更にメチル基、ｉ−プロピル基又はｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特にｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、その中でもｔ−ブチル基が最も好ましい。
【０１１１】
（ハ）Ｚは、二価のヘテロ環基を表し、それらは更に縮環していてもよい。Ｚとして好ましくは５〜６員ヘテロ環基であり、より好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の含窒素ヘテロ環が挙げられ、更に好ましくは、６員の置換若しくは無置換の含窒素ヘテロ環である。例えば、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアジアゾール環、チオフェン環、フラン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環が好ましく、特に好ましくは、６員含窒素ヘテロ環、具体的には炭素数３から１０の６員含窒素ヘテロ環基である。更に好ましいヘテロ環の例は、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環であり、より好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環であり、更に好ましくは、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環であり、特にピリミジン環、Ｓ−トリアジン環が好ましく、更に４，６−に置換基を有するピリミジン環、２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジン環が好ましく、その中でも４，６−に置換基を有するピリミジン環が最も好ましい。
【０１１２】
（ニ）Ｇ１、Ｇ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、更に水素原子、メチル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基が好ましく、その中でもメチル基、２−ピリジル基、２，６−ピリミジニル基、２，５−ピラジニル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。
【０１１３】
（ホ）Ｙ１、Ｙ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基）アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基）であり、更に水素原子、メチル基、フェニル基、メチルチオ基であり、その中でも水素原子が最も好ましい。
【０１１４】
本発明は、一般式（１）で表されるアゾ顔料の互変異性体もその範囲に含むものである。
一般式（１）は、化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示しているが、記載された構造以外の互変異性体であってもよく、複数の互変異性体を含有した混合物として用いても良い。
例えば、一般式（１）で表される顔料には、下記一般式（１’）で表されるアゾ−ヒドラゾンの互変異性体が考えられる。本発明は、一般式（１）で表されるアゾ顔料の互変異性体である以下の一般式（１’）で表される化合物もその範囲に含むものである。
【０１１５】
【化１２】
2011074377.tif 000013
【０１１６】
（一般式（１’）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｇ１、Ｇ２及びＺは一般式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｇ１、Ｇ２及びＺと同義である。）
【０１１７】
本発明の上記一般式（１）で表されるアゾ顔料のうち、好ましくは下記一般式（２）で表されるアゾ顔料である。
【０１１８】
【化１３】
2011074377.tif 000014
【０１１９】
上記一般式（２）中のＧ１、Ｇ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１及びＹ２は、上記一般式（１）中のＧ１、Ｇ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｗ１、Ｗ２、Ｙ１及びＹ２と同義である。
Ｈｅｔ．は、上記一般式（１）中のＺが構成するヘテロ環を表し、Ｘ１１、Ｘ１２はそれぞれ独立にＨｅｔ．が構成するヘテロ環中のそれぞれヘテロ原子を表す。
【０１２０】
また、本発明において、一般式（１）で表されるアゾ顔料は、分子内水素結合又は分子内交叉水素結合を形成する置換基を有することが好ましい。少なくとも１個以上の分子内交叉水素結合を形成する置換基を有することが好ましく、より好ましくは少なくとも３個以上の分子内水素結合を形成する置換基を有する場合が挙げられ、更に少なくとも３個以上の分子内水素結合を形成する置換基を有し、かつ、それらの水素結合の少なくとも２個が分子内交叉水素結合を形成する置換基を有する場合が特に好ましい。
【０１２１】
一般式（１）で表されるアゾ顔料のうち、前述したように特に好ましいアゾ顔料の一般式の例としては、上記一般式（２）で表されるアゾ顔料を挙げることができる。
【０１２２】
この構造が好ましい要因としては、一般式（２）で示すようにアゾ顔料構造に含有するヘテロ環を構成する窒素原子、水素原子及びヘテロ原子（アゾ基又はその互変異性体であるヒドラゾン基の窒素原子とカルボニル基の酸素原子又はアミノ基の窒素原子）が少なくとも１個以上の分子内の交叉水素結合（分子内水素結合）を容易に形成し易いことが挙げられる。
更に好ましくは、上記一般式（２）で示すようにアゾ顔料構造に含有するヘテロ環基を構成する窒素原子、アミノ基の水素原子及びヘテロ原子（アゾ基又はその互変異性体であるヒドラゾン基の窒素原子とカルボニル基の酸素原子又はアミノ基の窒素原子）が少なくとも４個以上の分子内水素結合を容易に形成し易く、かつ、少なくとも２個以上の分子内の交叉水素結合を容易に形成し易いことが挙げられる。
その結果、分子の平面性が上がり、更に分子内・分子間相互作用（水素結合・π−πスタッキング）が向上し、例えば一般式（２）で表されるアゾ顔料の結晶性が高くなり（高次構造を形成し易くなり）、顔料としての要求性能である、光堅牢性、熱安定性、湿熱安定性、耐水性、耐ガス性及び又は耐溶剤性が大幅に向上するため、最も好ましい例となる。
【０１２３】
本発明において、上記式（１）で表されるアゾ顔料の結晶形はα型、β型、γ型等の結晶多形が存在する場合がある。その場合は、対応するアゾ顔料のＸ線回折の測定結果から、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）に特有のそれぞれのピーク位置や数及びの強度比から、容易に算出する事ができる。本発明のＸ線回折測定は、日本工業規格ＪＩＳＫ０１３１（Ｘ線回析分析通則）に準じて、粉末Ｘ線回折測定装置ＲＩＮＴ２５００（株式会社リガク製）にて行った。
【０１２４】
本発明において、上記式（１）で表されるアゾ顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ）が５〜１５°及び２０〜３０°に特徴的なＸ線回折ピークを少なくとも１個以上有するものであることにより、後述する特定のビニルポリマー及び水性媒体と組み合わせたときに、インク吐出性に優れ、良好な色相と高印画濃度（高い着色力）、印画物の高い画像堅牢性（例えば、耐光性、耐オゾンガス性、耐熱性、耐湿度性等）を実現することができる。なお本発明では、上記のアゾ顔料の要件を満たすことが必要であり、これにより、同一の化学組成、色素分子構造式を有する対応する顔料粒子の結晶形のものよりも、優れた上記効果を奏することができる。
なお本発明において特徴的なＸ線回折ピークとは、同一の化学構造式で表されるアゾ色素が３次元的に分子配列した際のとり得る結晶多形の中で、特に好ましい結晶形を表す場合の粉末Ｘ線回折ピークを意味する。
【０１２５】
また、本発明では、一般式（１）〜（２）で表される化合物中に同位元素（例えば、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１５Ｎ）を含有していても適用できる。
【０１２６】
本発明では、効果の点から、以下の一般式（１０）で表されるアゾ顔料が更に好ましく、一般式（１１）で表されるアゾ顔料が特に好ましい。
【０１２７】
【化１４】
2011074377.tif 000015
【０１２８】
（一般式（１０）中、Ｚは５〜６員含窒素ヘテロ環を表し、Ｗ１、Ｗ２はそれぞれ独立にアルコキシ基、アミノ基、アルキル基又はアリール基を表す。）
【０１２９】
【化１５】
2011074377.tif 000016
【０１３０】
（一般式（１１）中、Ｚ’は６員含窒素ヘテロ環を表す。）
一般式（１１）中、Ｚ’が表す６員含窒素ヘテロ環としては、一般式（１）中のＺが表す６員含窒素ヘテロ環と同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【０１３１】
以下に前記一般式（１）〜（２）で表されるアゾ顔料の具体例を以下に示すが、本発明に用いられるアゾ顔料は、下記の例に限定されるものではない。また、以下の具体例の構造は化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示されるが、記載された構造以外の互変異性体構造のものであっても良いことは言うまでもない。
【０１３２】
【化１６】
2011074377.tif 000017
【０１３３】
【化１７】
2011074377.tif 000018
【０１３４】
【化１８】
2011074377.tif 000019
【０１３５】
【化１９】
2011074377.tif 000020
【０１３６】
【化２０】
2011074377.tif 000021
【０１３７】
【化２１】
2011074377.tif 000022
【０１３８】
【化２２】
2011074377.tif 000023
【化２３】
2011074377.tif 000024
【０１３９】
【化２４】
2011074377.tif 000025
【０１４０】
【化２５】
2011074377.tif 000026
【０１４１】
【化２６】
2011074377.tif 000027
【０１４２】
【化２７】
2011074377.tif 000028
【０１４３】
【化２８】
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【０１４４】
【化２９】
2011074377.tif 000030
【０１４５】
【化３０】
2011074377.tif 000031
【０１４６】
【化３１】
2011074377.tif 000032
【０１４７】
上記の中でも、本発明の効果の点から、Ｐｉｇ．−１，Ｐｉｇ．−１８，Ｐｉｇ．−２５が好ましい。Ｐｉｇ．−１は、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有するものが好ましい。Ｐｉｇ．−１８は、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有するものが好ましい。Ｐｉｇ．−２５は、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．５°、１１．２°、１８．６°、２１．２°及び２３．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有するものが好ましい。
本発明では、化合物の構造によって互変異性体が存在する場合においても、本発明においては代表的な形の一つで記載しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明のアゾ顔料に含まれる。また、本発明のアゾ顔料の塩、水和物も本発明のアゾ顔料に含まれる。
【０１４８】
本発明の一般式（１）で表される顔料は、化学構造式が一般式（１）又はその互変異性体であれば良く、多形とも呼ばれるいかなる結晶形態の顔料であっても良い。
【０１４９】
結晶多形は、同じ化学組成を有するが、結晶中におけるビルディングブロック（分子又はイオン）の配置が異なることを言う。結晶構造によって化学的及び物理的性質が決定され、各多形は、レオロジー、色、及び他の色特性によってそれぞれ区別することができる。また、異なる多形は、Ｘ−Ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ（粉末Ｘ線回折測定結果）やＸ−Ｒａｙ  Ａｎａｌｙｓｉｓ（Ｘ線結晶構造解析結果）によって確認することもできる。
本発明の一般式（１）〜（４）で表される顔料に結晶多形が存在する場合、どの多形であってもよく、また２種以上の多形の混合物であっても良いが、結晶型が単一のものを主成分とすることが好ましい。すなわち結晶多形が混入していないものが好ましく、単一の結晶型を有するアゾ顔料の含有量はアゾ顔料全体に対し７０％〜１００％、好ましくは８０％〜１００％、より好ましくは９０％〜１００％、更に好ましくは９５％〜１００、特に好ましくは１００％である。単一の結晶型を有するアゾ顔料を主成分とすることで、色素分子の配列に対して規則性が向上し、分子内・分子間相互作用が強まり高次な３次元ネットワークを形成しやすくなる。その結果として色相の向上・光堅牢性・熱堅牢性・湿度堅牢性・酸化性ガス堅牢性及び耐溶剤性等、顔料に要求される性能の点で好ましい。
アゾ顔料における結晶多形の混合比は、単結晶Ｘ線結晶構造解析、粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ）、結晶の顕微鏡写真（ＴＥＭ）、ＩＲ（ＫＢｒ法）等の固体の物理化学的測定値から確認できる。
【０１５０】
本発明において、一般式（１）で表されるアゾ顔料は、酸基のある場合には、酸基の一部あるいは全部が塩型のものであってもよく、塩型の顔料と遊離酸型の顔料が混在していてもよい。上記の塩型の例としてＮａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等のアルカリ土類金属の塩、アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、又は有機アミンの塩が挙げられる。有機アミンの例として、低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換低級アルキルアミン、カルボキシ置換低級アルキルアミン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有するポリアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は１種類に限られず複数種混在していてもよい。
【０１５１】
更に、本発明で使用する顔料の構造において、その１分子中に酸基が複数個含まれる場合は、その複数の酸基は塩型あるいは酸型であり互いに異なるものであってもよい。
【０１５２】
本発明において、前記一般式（１）で表されるアゾ顔料は、結晶中に水分子を含む水和物であっても良い。
【０１５３】
次に上記一般式（１）で表されるアゾ顔料の製造方法の一例について説明する。例えば、下記一般式（Ａ）で表されるヘテロ環アミンを酸性条件でジアゾニウム化し、下記一般式（Ｂ）で表される化合物とカップリング反応を行い、常法による後処理を行って上記一般式（１）で表されるアゾ顔料を製造することができる。
【０１５４】
【化３２】
2011074377.tif 000033
【０１５５】
（一般式（Ａ）及び（Ｂ）中、Ｇ、Ｙ、Ｗ、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｚは一般式（１）中の対応するＧ１、Ｇ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｚと同義である。）
【０１５６】
上記一般式（Ａ）で表されるヘテロ環アミンは、一般的には公知慣用の方法、例えば、Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４１，１９５８，１０５２〜１０５６やＨｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４２，１９５９，３４９〜３５２等に記載の方法、及び、それに準じた方法で製造することができる。
上記一般式（Ｂ）で表される化合物は、国際公開第０６／０８２６６９号や特開２００６−５７０７６号公報に記載の方法、及び、それに準じた方法で製造することができる。
上記一般式（Ａ）で表されるヘテロ環アミンのジアゾニウム化反応は、例えば、硫酸、リン酸、酢酸、塩酸、メタンスルホン酸などの酸性溶媒中、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸、亜硝酸イソアミル等の試薬を１５℃以下の温度で１０分〜６時間程度反応させることで行うことができる。
カップリング反応は、上述の方法で得られたジアゾニウム塩と上記一般式（Ｂ）で表される化合物とを４０℃以下、好ましくは、２５℃以下で１０分〜１２時間程度反応させることで行うことができる。
このようにして反応させたものは、結晶が析出しているものもあるが、一般的には反応液に水、あるいはアルコール系溶媒を添加し、結晶を析出させ、結晶を濾取することができる。また、反応液にアルコール系溶媒、水等を添加して結晶を析出させて、析出した結晶を濾取することができる。濾取した結晶を必要に応じて洗浄・乾燥して、一般式（１）で表されるアゾ顔料を得ることができる。
【０１５７】
上記の製造方法によって、上記一般式（１）で表される化合物は粗アゾ顔料（クルード）として得られるが、本発明の顔料として用いる場合、後処理を行うことが望ましい。この後処理の方法としては、例えば、ソルベントソルトミリング、ソルトミリング、ドライミリング、ソルベントミリング、アシッドペースティング等の磨砕処理、溶媒加熱処理などによる顔料粒子制御工程、樹脂、界面活性剤及び分散剤等による表面処理工程が挙げられる。
【０１５８】
前述したように、Ｐｉｇ．−１８は、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態が好ましく、更に、７．２°、１５．０°、１９．８°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態がより好ましい。その中でも特に、７．２°、８．２°、１０．０°、１３．４°、１５．０°、１９．８°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態が最も好ましい。
【０１５９】
更に、Ｐｉｇ．−１は、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態が好ましく、更に、７．６°、１３．５°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態がより好ましい。その中でも特に、７．６°、１３．５°、１５．９°、１６．９°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態が最も好ましい。
【０１６０】
また、上記Ｐｉｇ．−１及びＰｉｇ．−１８の１次粒子を、透過型顕微鏡で観察した際の長軸方向の長さは、０．０１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、０．０２μｍ以上３０μｍ以下であることが更に好ましく、０．０３μｍ以上２μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１６１】
１次粒子を透過型顕微鏡で観察した際の長軸方向の長さが０．０１μｍ以上である場合には、光やオゾンに対する堅牢性、及び、顔料分散物とした場合の分散性をより確実に発現できる。一方、３０μｍ以下である場合には、分散して所望の体積平均粒子径にした際に過分散状態（１次粒子を破壊した形態）になりにくく、顔料粒子の表面に活性面を露出しにくいことから凝集が起こりにくいため、顔料分散物の保存安定性をより確実に発現できる。
【０１６２】
１次粒子の大きさが、上記の範囲内に制御する事で、分子内・分子間相互作用が強くて強固で安定な３次元ネーとワークを形成した顔料粒子となり、光、熱、湿度、酸化性ガスに対して高い堅牢性を示し、その顔料分散物を用いた着色物は保存安定性に優れていて好ましい。
【０１６３】
本発明の顔料組成物を含有する顔料分散物の体積平均粒子径測定は、ナノトラックＵＰＡ粒度分析計（ＵＰＡ−ＥＸ１５０；日機装社製）を用いることができる。その測定は、例えば、顔料分散物３ｍｌを測定セルに入れ、所定の測定方法に従って行うことができる。なお、測定時に入力するパラメーターとしては、粘度にはインク粘度を、分散粒子の密度には顔料の密度を用いる。
【０１６４】
ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態のＰｉｇ．−１８の平均粒径は０．０１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、０．０２μｍ以上１０μｍ以下であることが更に好ましく、０．０３μｍ以上１μｍ以下であることが最も好ましい。
【０１６５】
ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°及び２５．６°に特徴的なＸ線回折ピークを有する結晶形態のＰｉｇ．−１の平均粒径は０．０１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、０．０２μｍ以上３０μｍ以下であることが更に好ましく、０．０３μｍ以上２０μｍ以下であることが最も好ましい。
【０１６６】
上記の範囲であれば印画物の印画濃度が高く、分散物の安定性が増し、赤や緑などの混色部の色再現性が向上し、透明性が高くなり、インクジェット等で印画する際に、ノズルの目詰まりが起こりにくくなるため好ましい。また、顔料分散物の凝集が起こり難く、分散物の経時安定性が高くなる点からも好ましい。
【０１６７】
本発明の顔料組成物を含有する顔料分散物の体積平均粒径を上記の範囲とするには、後
述の顔料分散条件を便宜組み合わせる事で容易に調整する事ができる。
【０１６８】
以下に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び
２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有するＰｉｇ．−１８又は互変異性体を少なくとも１種含有するアゾ顔料組成物の製造方法に関して詳細に説明する。
【０１６９】
Ｐｉｇ．−１８の製造方法は、下記式（３）で表されるヘテロ環アミン（ジアゾ成分）から誘導したジアゾニウム塩と、下記式（４）で表される化合物（カップリング成分）とをアゾカップリング反応させる工程を含む。
【０１７０】
【化３３】
2011074377.tif 000034
【０１７１】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°及び２５．６°に特徴的なＸ線回折ピークを有するＰｉｇ．−１又は互変異性体を少なくとも１種含有するアゾ顔料組成物の製造方法に関して詳細に説明する。
【０１７２】
Ｐｉｇ．−１の製造方法は、下記式（３）で表されるヘテロ環アミン（ジアゾ成分）から誘導したジアゾニウム塩と、下記式（５）で表される化合物（カップリング成分）とをアゾカップリング反応させる工程を含む。
【０１７３】
【化３４】
2011074377.tif 000035
【０１７４】
〔ヘテロ環アミンのジアゾニウム塩調製工程〕
上式（３）で表されるヘテロ環アミン（ジアゾ成分）のジアゾニウム塩への調製及びジアゾニウム塩と上式（４）及び（５）で表される化合物（カップリング成分）とのカップリング反応は、慣用法によって実施できる。
【０１７５】
上式（３）で表されるヘテロ環アミンのジアゾニウム塩調製は、例えば酸（例えば、塩酸、硫酸、リン酸、酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等）含有反応媒質中で、ニトロソニウムイオン源、例えば亜硝酸、亜硝酸塩又はニトロシル硫酸を用いる慣用のジアゾニウム塩調製方法が適用できる。
【０１７６】
より好ましい酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、リン酸、硫酸を単独又は併用して用いる場合が挙げられ、その中でリン酸、又は酢酸と硫酸の併用系、酢酸とプロピオン酸の併用系、酢酸とプロピオン酸と硫酸の併用系が更に好ましく、酢酸とプロピオン酸の併用系、酢酸とプロピオン酸と硫酸の併用系が特に好ましい。
【０１７７】
反応媒質（溶媒）の好ましい例としては、有機酸、無機酸を用いることが好ましく、特にリン酸、硫酸、酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸が好ましく、その中でも酢酸及び又はプロピオン酸が好ましい。
【０１７８】
好ましいニトロソニウムイオン源の例としては、亜硝酸エステル類、亜硝酸塩類、ニトロシル硫酸等が挙げられる。その中でも、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、ニトロシル硫酸（例えば、ＯＮＨＳＯ４硫酸溶液）が好ましく、特に亜硝酸イソアミル、ニトロシル硫酸（例えば、４０質量％〜５０質量％ＯＮＨＳＯ４硫酸溶液）が好ましく、その中でも上記の好ましい酸含有反応媒質中でニトロシル硫酸を用いることが安定にかつ効率的にジアゾニウム塩を調製できる。
【０１７９】
式（３）のジアゾ成分に対する溶媒の使用量は、０．５〜５０質量倍が好ましく、より好ましくは１〜２０質量倍であり、特に３〜１５質量倍が好ましい。
【０１８０】
本発明において、式（３）のジアゾ成分は溶媒に分散している状態であっても、ジアゾ成分の種類によっては溶解液の状態になっていてもどちらでも良い。
【０１８１】
ニトロソニウムイオン源の使用量はジアゾ成分に対して０．９５〜５．０当量が好ましく、より好ましくは１．００〜３．００当量であり、特に１．００〜１．１０当量であることが好ましい。
【０１８２】
反応温度は、−１５℃〜４０℃が好ましく、より好ましくは−５℃〜３５℃であり、更に好ましくは−０℃〜３０℃である。−１５℃未満では反応速度が顕著に遅くなり合成に要する時間が著しく長くなるため経済的でなく、また４０℃を超える高温で合成する場合には、副生成物の生成量が増加するため好ましくない。
【０１８３】
反応時間は、３０分から３００分が好ましく、より好ましくは３０分から２００分であり、更に好ましくは３０分から１５０分である。
【０１８４】
〔カップリング反応工程〕
カップリング反応する工程は、酸性反応媒質中〜塩基性反応媒質中で実施することができるが、本発明のアゾ顔料は酸性〜中性反応媒質中で実施することが好ましく、特に酸性反応媒質中で実施することがジアゾニウム塩の分解を抑制し効率良くアゾ顔料に誘導することができる。
【０１８５】
反応媒質（溶媒）の好ましい例としては、有機酸、無機酸、有機溶媒を用いることができるが、特に有機溶媒が好ましく、反応時に液体分離現象を起こさず、溶媒と均一な溶液を呈する溶媒が好ましい。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール性有機溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系有機溶媒、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール等のジオール系有機溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル系有機溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等が挙げられる、これらの溶媒は２種類以上の混合液であってもよい。
【０１８６】
好ましくは、極性パラメータ（ＥＴ）の値が４０以上の有機溶媒である。なかでも溶媒分子中に水酸基を２個以上有するグリコール系の溶媒、あるいは炭素原子数が３個以下のアルコール系溶媒、総炭素数５以下のケトン系溶媒、好ましくは炭素原子数が２以下のアルコール溶媒（例えば、メタノール、エチレングリコール）、総炭素数４以下のケトン系溶媒（例えばアセトン、メチルエチルケトン）が好ましい。またこれらの混合溶媒も含まれる。
【０１８７】
溶媒の使用量は上記式（４）及び（５）で表されるカップリング成分の１〜１００質量倍が好ましく、より好ましくは１〜５０質量倍であり、更に好ましくは２〜３０質量倍である。
【０１８８】
本発明において、式（４）及び（５）で表されるカップリング成分は溶媒に分散している状態であっても、カップリング成分の種類によっては溶解液の状態になっていてもどちらでも良い。
【０１８９】
カップリング成分の使用量は、アゾカップリング部位あたり、ジアゾ成分が０．９５〜
５．０当量が好ましく、より好ましくは１．００〜３．００当量であり、特に１．００〜１．５０当量であることが好ましい。
【０１９０】
反応温度は、−３０℃〜３０℃が好ましく、より好ましくは−１５℃〜１０℃であり、更に好ましくは−１０℃〜５℃である。−３０℃未満では反応速度が顕著に遅くなり合成に要する時間が著しく長くなるため経済的でなく、また３０℃を超える高温で合成する場合には、副生成物の生成量が増加するため好ましくない。
【０１９１】
反応時間は、３０分から３００分が好ましく、より好ましくは３０分から２００分であり、更に好ましくは３０分から１５０分である。
【０１９２】
本発明のアゾ顔料組成物の製造方法においては、これらの反応によって得られる生成物
（粗アゾ顔料）は通常の有機合成反応の後処理方法に従って処理した後、精製してあるいは精製せずに供することができる。
【０１９３】
すなわち、例えば、反応系から遊離したものを精製せずに、あるいは再結晶、造塩等にて精製する操作を単独、あるいは組み合わせて行ない、供することができる。
【０１９４】
また、反応終了後、反応溶媒を留去して、あるいは留去せずに水、又は氷にあけ、中和してあるいは中和せずに、遊離したものをあるいは有機溶媒／水溶液にて抽出したものを、精製せずにあるいは再結晶、晶析、造塩等にて精製する操作を単独に又は組み合わせて行なった後、供することもできる。
【０１９５】
更に詳細に本発明のアゾ顔料組成物の製造方法について説明する。
【０１９６】
本発明のアゾ顔料組成物の製造方法は、上記式（３）で表されるヘテロ環アミンをジアゾニウム化したジアゾニウム化合物と、上記式（４）及び（５）で表される化合物とのカップリング反応において、該式（４）及び（５）で表される化合物を有機溶媒に溶解させた後カップリング反応を行うことを特徴とする。
【０１９７】
上記式（３）で表されるヘテロ環アミンのジアゾニウム塩調製反応は、例えば、硫酸、リン酸、酢酸などの酸性溶媒中、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸等の試薬と１５℃以下の温度で１０分〜６時間程度反応させることで行うことができる。カップリング反応は、上述の方法で得られたジアゾニウム塩と上記式（４）及び（５）で表される化合物とを４０℃以下、好ましくは１５℃以下で１０分〜１２時間程度反応させることで行うことが好ましい。
【０１９８】
上述した互変異性及び／又は結晶多形の制御は、カップリング反応の際の製造条件で制御することができる。より好ましい形態である本発明の７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有するＰｉｇ．−１８の結晶又は７．６°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有するＰｉｇ．−１の結晶を主成分とする顔料組成物を製造する方法としては、例えば、上記式（４）及び（５）で表される化合物を有機溶媒に一度溶解させた後カップリング反応を行う本発明の方法を用いるのが好ましい。このとき使用できる有機溶媒としては、例えば、アルコール溶媒、ケトン系溶媒が挙げられる。アルコール溶媒の例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等が好ましく、その中でもメタノールが特に好ましい。ケトン系溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等が好ましく、その中でもアセトンが特に好ましい。
【０１９９】
本発明の別のアゾ顔料組成物の製造方法は、上記式（３）で表されるヘテロ環アミンをジアゾニウム化したジアゾニウム化合物と、上記式（４）及び（５）で表される化合物とのカップリング反応において、極性非プロトン性溶媒の存在下カップリング反応を行うことを特徴とする。
【０２００】
極性非プロトン性溶媒の存在下カップリング反応を行う方法によっても、７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを有するＰｉｇ．−１８の結晶又は７．６°、２５．６°及び２７．７°に特徴的なＸ線回折ピークを有するＰｉｇ．−１の結晶を主成分とする顔料組成物を効率よく製造することができる。極性非プロトン性溶媒の例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。これらの溶媒の中でも、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリルが特に好ましい。これらの溶媒を用いる場合、上記式（３）で表される化合物は溶媒に完溶していても完溶していなくてもよい。
【０２０１】
上記の製造方法によって得られた化合物を用途に応じて、精製工程として塩基を加えてｐＨを調整してもしなくても良い。ｐＨを調整する場合、ｐＨは４〜１０が好ましい。その中でも、ｐＨが５〜８がより好ましく、５．５〜７．５が特に好ましい。
【０２０２】
ｐＨが１０以下であれば、色相の観点で変色・褪色を引き起こすことなくが赤味を増すこともなく、一定品質の色相を確保する点の観点から好ましい。ｐＨが４以上の場合には、例えば、インクジェット記録用インクとして用いた場合、ノズルを腐食してしまう等の問題が生じ難いため好ましい。
【０２０３】
上記の製造方法によって、上記Ｐｉｇ．−１８及びＰｉｇ．−１で表される化合物は粗アゾ顔料（クルード）として得られる。
本発明は上記製造方法で製造されたアゾ顔料組成物にも関する。
【０２０４】
〔後処理工程〕
本発明の製造方法においては、後処理を行う工程を含むことが好ましい。この後処理工程の方法としては、例えば、ソルベントソルトミリング、ソルトミリング、ドライミリング、ソルベントミリング、アシッドペースティング等の磨砕処理、溶媒加熱処理などによる顔料粒子制御工程、樹脂、界面活性剤及び分散剤等による表面処理工程が挙げられる。
【０２０５】
本発明の一般式（１）で表される化合物、Ｐｉｇ．−１８及びＰｉｇ．−１で表される化合物は後処理工程として溶媒加熱処理及び／又はソルベントソルトミリングを行うことが好ましい。例えば、水を除いた有機溶媒中で還流することにより目的とする結晶形態のアゾ顔料を製造できる。
【０２０６】
溶媒加熱処理に使用される溶媒としては、例えば、水、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、イソプロパノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル等の極性非プロトン性有機溶媒、氷酢酸、ピリジン、又はこれらの混合物等が挙げられる。上記で挙げた溶媒に、更に無機又は有機の酸又は塩基を加えても良い。
【０２０７】
溶媒加熱処理の温度は所望する顔料の一次粒子径の大きさによって異なるが、４０〜１５０℃が好ましく、６０〜１００℃が更に好ましい。また、処理時間は、３０分〜２４時間が好ましい。
【０２０８】
ソルベントソルトミリングとしては、例えば、粗アゾ顔料と、無機塩と、それを溶解しない有機溶剤とを混練機に仕込み、その中で混練磨砕を行うことが挙げられる。上記無機塩としては、水溶性無機塩が好適に使用でき、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等の無機塩を用いることが好ましい。また、平均粒子径０．５〜５０μｍの無機塩を用いることがより好ましい。当該無機塩の使用量は、粗アゾ顔料に対して３〜２０質量倍とするのが好ましく、５〜１５質量倍とするのがより好ましい。有機溶剤としては、水溶性有機溶剤が好適に使用でき、混練時の温度上昇により溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から高沸点溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えばジエチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、液体ポリエチレングルコール、液体ポリプロピレングリコール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−ブトキシエタノール、２ー（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングルコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール又はこれらの混合物が挙げられる。当該水溶性有機溶剤の使用量は、粗アゾ顔料に対して０．１〜５質量倍が好ましい。混練温度は、２０〜１３０℃が好ましく、４０〜１１０℃が特に好ましい。混練機としては、例えばニーダーやミックスマーラー等が使用できる。
【０２０９】
〔ビニルポリマー〕
本発明に用いるビニルポリマーは、下記一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）と、親水性構造単位（ｃ）とを含む。
【０２１０】
【化３５】
2011074377.tif 000036
【０２１１】
（一般式（ＡＩ)中、Ｒ１は水素原子、メチル基、又はハロゲン原子を表し、Ｌ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｏ−、又は置換若しくは無置換のフェニレン基を表し、Ｒ２は水素原子、又はアルキル基を表す。Ｌ２は単結合又は、２価の連結基を表す。Ａｒ１は芳香族炭化水素環から誘導される１価の基を表す。）
【０２１２】
一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）：
一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）（以下単に「疎水性構造単位（ａ）」と称する場合がある。）の含有量は、顔料の分散安定性、吐出安定性、洗浄性の観点から、前記ビニルポリマーの全質量のうち１０質量％以上７５質量％未満であることが好ましく、２０質量％以上７０質量％未満であることがより好ましく、３０質量％以上６０質量％未満であることが特に好ましい。
【０２１３】
Ｒ２が表すアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
ここで、前記置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基等、シアノ基等が挙げられるが、特に限定されない。
Ｌ２が２価の連結基である場合、好ましくは炭素数１〜３０の連結基であり、より好ましくは炭素数１〜２５の連結基であり、特に好ましくは炭素数１〜２０の連結基である。
【０２１４】
上記一般式（ＡＩ)の中でも、Ｒ１が水素原子又はメチル基であり、Ｌ１が（主鎖側）−ＣＯＯ−であり、Ｌ２がアルキレンオキシ基及びアルキレン基より選択される少なくとも一つを含む炭素数１〜２５の２価の連結基である構造単位の組合せが好ましく、より好ましくは、Ｒ１が水素原子又はメチル基であり、Ｌ１が（主鎖側）−ＣＯＯ−であり、Ｌ２が（主鎖側）−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−である（ｎは平均の繰り返し単位数をあらわし、ｎ＝１〜６である）構造単位の組合せである。
【０２１５】
Ａｒ１における芳香族炭化水素環としては、特に限定されないが、ベンゼン環、炭素数８以上の縮環型芳香族炭化水素環、芳香族炭化水素環が縮環したヘテロ環、又は二個以上連結したベンゼン環が挙げられる。
【０２１６】
前記炭素数８以上の縮環型芳香族炭化水素環とは、少なくとも二個以上のベンゼン環が縮環した芳香族炭化水素環、及び／又は、少なくとも一種以上の芳香族炭化水素環と該芳香族炭化水素環に縮環した脂環式炭化水素で環が構成される、炭素数８以上の芳香族化合物である。具体的な例としては、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、フェナントレン、アセナフテンなどが挙げられる。
【０２１７】
前記芳香族炭化水素環が縮環したヘテロ環とは、ヘテロ原子を含まない芳香族化合物（好ましくはベンゼン環）と、ヘテロ原子を有する環状化合物とが少なくとも縮環した化合物である。ここで、ヘテロ原子を有する環状化合物は５員環又は６員環であることが好ましい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子が好ましい。ヘテロ原子を有する環状化合物は複数のヘテロ原子を有していても良く、この場合、ヘテロ原子は互いに同じでも異なっていてもよい。芳香族炭化水素環が縮環したヘテロ環の具体例としては、フタルイミド、アクリドン、カルバゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾールなどが挙げられる。
【０２１８】
一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）はアクリレート及び（メタ）アクリレートに由来の構造単位より選択される少なくとも一つであることが好ましい。アクリレート及び（メタ）アクリレートに由来の構造単位より選択される少なくとも一つであれば、主鎖から芳香族炭化水素環をエステル結合を介して結合することができ、顔料と吸着性などの相互作用が期待できる芳香族炭化水素環が主鎖から自由度を持った立体構造をとることができる。
【０２１９】
また、一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）はベンゼン環、炭素数８以上の縮環型芳香族炭化水素環、芳香族炭化水素環が縮環したヘテロ環、又は二個以上連結したベンゼン環から誘導される１価の基を含むことが好ましい。前記の芳香族炭化水素環を採用することで顔料との吸着性などの相互作用が発揮できるからである。
【０２２０】
以下に、一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）を形成しうるモノマーの具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。
【０２２１】
【化３６】
2011074377.tif 000037
【０２２２】
【化３７】
2011074377.tif 000038
【０２２３】
本発明において、一般式（ＡＩ)で表される疎水性構造単位（ａ）の中でも、分散安定性の観点から、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及びフェノキシエチルメタクリレートのいずれかより選択される少なくとも一つに由来する構造単位であることが好ましく、フェノキシエチルメタクリレート及びベンジルメタアクリレートより選択される少なくとも一つを含むことがより好ましい。
本発明においては、前記疎水性構造単位（ａ）がフェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位を総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含むことがより好ましい。
前記疎水性構造単位（ａ）がフェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位及びベンジル（メタ）アクリレートに由来の構造単位より選択される少なくとも一つを総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含み、前記親水性構造単位（ｃ）がアクリル酸及びメタクリル酸に由来の構造単位より選択される少なくとも一つをビニルポリマー全質量に対して３０質量％以下含むことが更に好ましい。
その中でも、前記疎水性構造単位（ａ）がフェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位を総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含み、前記親水性構造単位（ｃ）がアクリル酸及びメタクリル酸に由来の構造単位より選択される少なくとも一つをビニルポリマー全質量に対して１５質量％以下含むことが特に好ましい。
【０２２４】
アクリル酸又はメタクリル酸の、アルキルエステルに由来する疎水性構造単位（ｂ）：
ビニルポリマーはアクリル酸又はメタクリル酸の、アルキルエステルに由来する疎水性構造単位（ｂ）を含有してもよい。
アルキルエステルの炭素数は炭素数１〜１８が好ましく、炭素数１〜８がより好ましく、炭素数１〜４が更に好ましく、炭素数１〜２が特に好ましい。
疎水性構造単位（ｂ）の含有量はビニルポリマー中に好ましくは５質量％以上７５質量％以下、更に好ましくは、２０質量％以上６０質量％以下である。
疎水性構造単位（ｂ）の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、（イソ）プロピル（メタ）アクリレート、（イソ又はターシャリー）ブチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類が挙げられる。
中でもメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレートが好ましい。
【０２２５】
親水性構造単位（ｃ）：
本発明におけるビニルポリマーに含まれる親水性構造単位（ｃ）について説明する。
親水性構造単位（ｃ）の例として、カルボン酸を有するアクリル酸、メタクリル酸を挙げることができる。また、非イオン性の親水性基を含有する親水性構造単位を挙げることができる。
【０２２６】
前記親水性構造単位（ｃ）の例として、親水性の官能基を有する（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエステル類が挙げられる。
親水性の官能基としては、水酸基、アミノ基、（窒素原子が無置換の）アミド基及び、後述するようなポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のアルキレンオキシド重合体が挙げられる。
これらのうち、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、アミノプロピルアクリレート、アルキレンオキシド重合体を含有する（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【０２２７】
前記親水性構造単位（ｃ）の例として、アルキレンオキシド重合体構造を有する親水性の構造単位を挙げることができる。
前記アルキレンオキシド重合体のアルキレンとしては、親水性の観点から炭素数１〜６が好ましく、炭素数２〜６がより好ましく、炭素数２〜４が特に好ましい。
また、前記アルキレンオキシド重合体の重合度としては、１〜１２０が好ましく、１〜６０がより好ましく、１〜３０が特に好ましい。
【０２２８】
前記親水性構造単位（ｃ）の例として、水酸基を含む親水性の構造単位を挙げることができる。水酸基数としては、特に限定されず、ビニルポリマーの親水性、重合時の溶媒や他のモノマーとの相溶性の観点から、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
【０２２９】
親水性構造単位（ｃ）の好ましい例として、アクリル酸、メタクリル酸を挙げることができる。
【０２３０】
前記親水性構造単位（ｃ）の含有量は、ビニルポリマー全質量に対して、４質量％以上５０質量％以下が好ましく、６質量％以上２５質量％以下が好ましく、８質量％以上１５質量％以下がより好ましい。
【０２３１】
本発明におけるビニルポリマーは、本発明の効果の点から下記一般式（ＡＩＩ）で表されるポリマーであることが特に好ましい。
【０２３２】
【化３８】
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【０２３３】
（一般式（ＡＩＩ)中、ａはビニルポリマー全質量に対して１０質量％以上７５質量％未満を表す。ｂはビニルポリマー全質量に対して５質量％以上５０質量％未満を表す。ｃはビニルポリマー全質量に対して４質量％以上５０質量％未満を表す。ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を表す。）
【０２３４】
この一般式（ＡＩＩ）の形態である場合は、ａはビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上６０質量％未満、ｂはビニルポリマー全質量に対して５質量％以上６０質量％未満、ｃはビニルポリマー全質量に対して４質量％以上５０質量％未満を表す場合が好ましく、更に、ａはビニルポリマー全質量に対して４０質量％以上６０質量％未満、ｂはビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上６０質量％未満、ｃはビニルポリマー全質量に対して８質量％以上１５質量％未満を表す場合が特に好ましい。なお、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を表す。
また、この一般式（ＡＩＩ）の形態のビニルポリマーと、前記式（１ａ）〜（３ａ）のいずれかのアゾ顔料（それぞれ、Ｐｉｇ−１８、Ｐｉｇ−１、Ｐｉｇ−２５に対応）との組み合わせによれば、本発明の効果が一層向上し好ましい。
【０２３５】
＜構造単位（ｄ）＞
本発明におけるビニルポリマーは、前述の通り、前記疎水性構造単位（ａ）、前記疎水性構造単位（ｂ）、及び前記親水性構造単位（ｃ）とは異なる構造を有する構造単位（ｄ）（以下、単に「構造単位（ｄ）」という。）を含有することもできる。
前記構造単位（ｄ）の含有量は、ビニルポリマー全質量に対して、１５質量％以上８０質量％以下が好ましく、２５質量％以上７０質量％以下が好ましく、４０質量％以上６０質量％以下がより好ましい。
【０２３６】
前記構造単位（ｄ）が疎水性の構造単位である場合のモノマーは、重合体を形成しうる官能基と疎水性の官能基とを有していれば特に制限はなく、公知の如何なるモノマー類をも用いることができる。
前記疎水性の構造単位を形成しうるモノマーとしては、入手性、取り扱い性、汎用性の観点から、ビニルモノマー類、（（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエステル類等）が好ましい。
【０２３７】
（メタ）アクリルアミド類としては、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド類が挙げられる。
【０２３８】
スチレン類としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ｎ−ブチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレン、ビニルナフタレン等などが挙げられ、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
【０２３９】
ビニルエステル類としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどのビニルエステル類が挙げられ、中でも、ビニルアセテートが好ましい。
これらは、それぞれ単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０２４０】
ビニルポリマーは疎水性構造単位（ａ）、親水性構造単位（ｃ）のみから構成されることも可能である。
インクジェット記録用水性インクとしてより好ましくは、前記ビニルポリマーの前記疎水性構造単位（ａ）がフェノキシエチル（メタ）アクリレートに由来の構造単位及びベンジル（メタ）アクリレートに由来の構造単位より選択される少なくとも一つを総量でビニルポリマー全質量に対して２０質量％以上含み、前記親水性構造単位（ｃ）がアクリル酸及びメタクリル酸に由来の構造単位より選択される少なくとも一つをビニルポリマー全質量に対して３０質量％以下含むものがより好ましい。
【０２４１】
本発明のビニルポリマーの酸価は、顔料分散性、保存安定性の観点から、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であることがより好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
なお、ここでいう酸価とは、ビニルポリマーの１ｇを完全に中和するのに要するＫＯＨの質量（ｍｇ）で定義され、ＪＩＳ規格（ＪＩＳＫ００７０、１９９２）記載の方法により測定することができる。
【０２４２】
本発明におけるビニルポリマーは、各構造単位が不規則的に導入されたランダム共重合体であっても、規則的に導入されたブロック共重合体であっても良く、ブロック共重合体である場合の各構造単位は、如何なる導入順序で合成されたものであっても良く、同一の構成成分を２度以上用いてもよいが、ランダム共重合体であることが汎用性、製造性の点で好ましい。
【０２４３】
更に、本発明で用いるビニルポリマーの分子量範囲は、質量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは３万〜１５万であり、より好ましくは３万〜１０万であり、更に好ましくは３万〜８万である。
前記分子量を上記範囲とすることにより、分散剤としての立体反発効果が良好な傾向となり、また立体効果により顔料への吸着に時間がかからなくなる傾向の観点から好ましい。
また、本発明で用いるビニルポリマーの分子量分布（質量平均分子量値／数平均分子量値で表される）は、１〜６であることが好ましく、１〜４であることがより好ましい。
前記分子量分布を上記範囲とすることは、インクの分散安定性、吐出安定性の観点から好ましい。ここで数平均分子量及び、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用い換算して表した分子量である。
【０２４４】
本発明に用いられるビニルポリマーは、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合により合成することができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行うことができる。
重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光又は放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。
上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは２種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。
重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり、通常、０℃〜１００℃程度であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行うことが好ましい。
反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、１〜１００ｋｇ／ｃｍ２、特に、１〜３０ｋｇ／ｃｍ２程度が好ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。得られた樹脂は再沈殿などの精製を行っても良い。
【０２４５】
本発明における前記ビニルポリマーの添加量比率は、分散安定性の観点から、顔料に対して質量基準で、１０％以上１００％以下の範囲が好ましく、３０％以上６０％以下がより好ましい。
【０２４６】
本発明におけるビニルポリマーの顔料分散物は、特定樹脂及び顔料等を用いて従来の物理的、化学的方法によって製造することができる。例えば、特開平９−１５１３４２号、特開平１０−１４００６５号、特開平１１−２０９６７２号、特開平１１−１７２１８０号、特開平１０−２５４４０号、又は特開平１１−４３６３６号の各公報に記載の方法により製造することができる。具体的には、特開平９−１５１３４２号及び特開平１０−１４００６５号の各公報に記載の転相法と酸析法等が挙げられ、中でも、分散安定性の点で転相法が好ましい。
特定樹脂がポリマー主鎖と連結基を介して結合した芳香族炭化水素環を有する疎水性構造単位（ａ）と、親水性構造単位（ｃ）とを含むことが好ましい。更に水性媒体を含有することが好ましい。
【０２４７】
ａ）転相法
転相法は、基本的には、自己分散能又は溶解能を有する樹脂と顔料との混合溶融物を水に分散させる自己分散（転相乳化）させる方法であり、顔料を含有するビニルポリマー粒子を得ることができる。ここで、混合溶融物とは、溶解せず混合した状態、溶解して混合した状態、又はこれら両者の状態のいずれの状態を含むものをいう。「転相法」のより具体的な製造方法は、特開平１０−１４００６５号に記載の方法が挙げられる。
【０２４８】
ｂ）酸析法
酸析法は、樹脂と顔料とからなる含水ケーキを用意し、その含水ケーキ中の、樹脂が有するアニオン性基の一部又は全部を、塩基性化合物を用いて中和することによって、顔料を含有するビニルポリマー粒子を製造する方法である。
酸析法は、具体的には、（１）樹脂と顔料とをアルカリ性水性媒体中に分散し、必要に応じて加熱処理を行なって樹脂のゲル化を図る工程と、（２）ｐＨを中性又は酸性にすることによって樹脂を疎水化して、樹脂を顔料に強く固着する工程と、（３）必要に応じて、濾過及び水洗を行って含水ケーキを得る工程と、（４）含水ケーキを中の、樹脂が有するアニオン性基の一部又は全部を、塩基性化合物を用いて中和し、その後、水性媒体中に再分散する工程と、（５）必要に応じて加熱処理を行い、樹脂のゲル化を図る工程と、を含む方法がある。
【０２４９】
上記の転相法及び酸析法のより具体的な製造方法は、特開平９−１５１３４２号、特開平１０−１４００６５号の各公報に記載の方法が挙げられる。
【０２５０】
本発明のインクジェット記録用水性インクにおいて、ビニルポリマーの顔料分散物は、特定樹脂を水性分散物として得る工程、具体的には下記の工程（１）及び工程（２）を含む方法により顔料を含有するビニルポリマー粒子の分散物を調製する調製工程を設けて得ることができ、また、本発明のインクジェット記録用水性インクの製造は、この調製工程を設け、得られたビニルポリマーの顔料分散物を水と水溶性有機溶媒と共に用いて水性インクとする方法により好適に行なえる。
工程（１）：既述の本発明における特定樹脂、有機溶媒、中和剤、顔料、及び水を含有する混合物を攪拌等により分散して分散物を得る工程
工程（２）：前記分散物から前記有機溶媒を除去する工程
【０２５１】
攪拌方法には特に制限はなく、一般に用いられる混合攪拌装置や、必要に応じて超音波分散機や高圧ホモジナイザー、ビーズミル等の分散機を用いることができる。
【０２５２】
有機溶媒としては、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、及びエーテル系溶媒が好ましく挙げられる。
前記アルコール系溶媒としては、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、エタノール等が挙げられる。前記ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。前記エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒の中では、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒とイソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒が好ましく、メチルエチルケトンが最も好ましい。
【０２５３】
中和剤は、解離性基の一部又は全部が中和され、特定樹脂が水中で安定した乳化又は分散状態を形成するために用いられる。特定樹脂が解離性基としてアニオン性の解離基を有する場合、用いられる中和剤としては有機アミン化合物、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物等の塩基性化合物が挙げられる。前記有機アミン化合物の例としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノプロピルアミン、ジプロピルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−エタノールアミン、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアニン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等が挙げられる。前記アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。中でも、水中での分散安定化の観点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、トリエタノールアミンが好ましく、特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
【０２５４】
前記塩基性化合物の含有量は、解離性基１００モル％に対して、５〜１２０モル％の範囲が好ましく、１０〜１２０モル％の範囲がより好ましく、８０〜１２０モル％の範囲が更に好ましい。該含有量は、５モル％以上であると水中での分散安定化に効果的であり、１２０モル％以下であると水溶性成分を低下させる効果がある。
【０２５５】
前記工程（２）では、前記工程（１）で得られた分散物から、減圧蒸留等の常法により有機溶剤を留去して水系へと転相することで、顔料の粒子表面が前記樹脂で被覆されたビニルポリマーの顔料分散物を得ることができる。得られた分散物中の有機溶媒は実質的に除去されており、ここでの有機溶媒の量は、好ましくは０．２質量％以下であり、更に好ましくは０．１質量％以下である。
【０２５６】
より具体的には、例えば、（１）アニオン性基を有する、本発明における特定樹脂を有機溶剤に溶解した溶液と塩基性化合物（中和剤）と水とを混合して中和する工程と、（２）得られた混合液に顔料を混合して懸濁液とした後に、分散機等で顔料を分散して顔料分散液を得る工程と、（３）有機溶剤を例えば蒸留して除去することによって、顔料を、アニオン性基を有する特定樹脂で被覆し、水性媒体中に分散させて水性分散体とする工程と、を設けて、インクジェット記録用水性インクを製造することができる。
なお、より具体的には、特開平１１−２０９６７２２号公報及び特開平１１−１７２１８０号の記載を参照することができる。
【０２５７】
顔料分散物の体積平均粒子径とは、顔料そのものの粒子径、又は顔料にビニルポリマー分散剤等の添加物が付着している場合には、添加物が付着した粒子径をいう。
本発明のインクジェット記録用水性インク中に含まれるビニルポリマーの顔料分散物の体積平均粒子径（Ｍｖ）は、１０〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましい体積平均粒子径は、２０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であり、更に好ましくは２５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、その中でも特に５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が最も好ましい。体積平均粒子径が２０ｎｍ未満である場合には、保存安定性が確保できない場合が存在し、一方、２５０ｎｍを超える場合には、光学濃度が低くなる場合がある。なお、ビニルポリマーの顔料分散物の粒径分布に関しては、特に制限はなく、広い粒径分布を持つもの、又は単分散の粒径分布を持つもののいずれでもよい。
ビニルポリマーの顔料分散物の平均粒子径及び粒径分布は、本発明において、顔料粒子の体積平均粒子径の測定装置には、ナノトラックＵＰＡ粒度分析計（ＵＰＡ−ＥＸ１５０；日機装社製）を用いて、動的光散乱法により体積平均粒径を測定することにより求めたものである。その測定は、顔料分散物３ｍｌを測定セルに入れ、所定の測定方法に従って行った。なお、測定時に入力するパラメーターとしては、粘度にはインク粘度を、分散粒子の密度には顔料の密度を用いた。
【０２５８】
本発明において、分散処理は、例えば、スターラーやインペラー攪拌方式、インライン攪拌方式、ミル方式（例えば、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、アトライター、ロールミル、ジェットミル、ペイントシェイカー、アジテーターミル等）、超音波方式、高圧乳化分散方式（高圧ホモジナイザー；具体的な市販装置としてはゴーリンホモジナイザー、マイクロフルイダイザー、ＤｅＢＥＥ２０００等）を使用することができる。
【０２５９】
本発明の水系顔料分散物に含まれる顔料の濃度は、１〜３５質量％の範囲であることが好ましく、２〜２５質量％の範囲であることがより好まし、その中でも特に１０〜２０質量％の範囲が好ましい。濃度が１質量％に満たないと、インクとして顔料分散物を単独で用いるときに十分な画像濃度が得られない場合がある。濃度が３５質量％を超えると、分散安定性が低下する場合がある。
【０２６０】
本発明における特定樹脂により被覆されてなるビニルポリマーの顔料分散物のインクジェット記録用水性インク中における含有量としては、インクジェット記録用水性インクの分散安定性、濃度の観点から、１〜１０質量％が好ましく、２〜８質量％がより好ましく、２〜６質量％が特に好ましい。
【０２６１】
〔インクジェット記録用水性インク〕
次に、本発明のインクジェット記録用水性インクについて説明する。本発明のインクジェット記録用水性インク（以下、「インク」という場合がある）は、本発明の水系顔料分散物及び水性媒体を含む。好ましくは、水性媒体、水等を混合して調製される。
【０２６２】
本発明のインク中の顔料分散物の含有割合は、記録媒体上に形成した画像の色相、色濃度、彩度、透明性等を考慮すると、１〜１００質量％の範囲が好ましく、３〜２０質量％の範囲が特に好ましく、その中でも３〜１０質量％の範囲がもっとも好ましい。
【０２６３】
本発明のインク１００質量部中に、本発明の顔料を０．１質量部以上２０質量部以下含有するのが好ましく、０．２質量部以上１０質量部以下含有するのがより好ましく、１〜１０質量部含有するのが更に好ましい。また、本発明のインクには、本発明の顔料とともに、他の顔料を併用してもよい。２種類以上の顔料を併用する場合は、顔料の含有量の合計が前記範囲となっているのが好ましい。
【０２６４】
本発明のインクは、単色の画像形成のみならず、フルカラーの画像形成に用いることができる。フルカラー画像を形成するために、マゼンタ色調インク、シアン色調インク、及びイエロー色調インクを用いることができ、また、色調を整えるために、更にブラック色調インクを用いてもよい。
【０２６５】
更に、本発明におけるインクは、上記本発明におけるアゾ顔料の他に別の顔料を同時に用いることができる。適用できるイエロー顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−７４、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１２０、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１２８、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１３８、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１３９、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１５０、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１５５、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１８０、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−１８５、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．−２１３が挙げられ、適用できるマゼンタ顔料としては、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．−１９、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．−１２２が挙げられ、適用できるシアン顔料としては、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．−１５：３、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．−１５：４が挙げられ、これらとは別に、各々任意のものを使用する事ができる。適用できる黒色材としては、ジスアゾ、トリスアゾ、テトラアゾ顔料のほか、カーボンブラック（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．−７）の分散体を挙げることができる。
【０２６６】
＜水性媒体＞
本発明のインクジェット記録用水性インクは水性媒体を必須成分として含む。水性媒体としては、水溶性有機溶剤が挙げられる。水溶性有機溶剤は乾燥防止剤、湿潤剤あるいは浸透促進剤の目的で使用される。
ノズルのインク噴射口において該インクが乾燥することによる目詰まりを防止する目的で乾燥防止剤が用いられ、乾燥防止剤や湿潤剤としては、水より蒸気圧の低い水溶性有機溶剤が好ましい。また、インクを紙により良く浸透させる目的で浸透促進剤として、水溶性有機溶剤が好適に使用される。
【０２６７】
水溶性有機溶媒の例として、グリセリン、１，２，６−ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレングリセリルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテル、２−ブテン−１，４−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ペンタンジオール、４−メチル−１，２−ペンタンジオール等のアルカンジオール（多価アルコール類）；ヴルコース、マンノース、フルクトース、リボース、キシロース、アラビノース、ガラクトース、アルドン酸、グルシトール、（ソルビット）、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、トレハロース、マルトトリオース等の糖類；糖アルコール類；ピアルロン酸類；尿素類等のいわゆる固体湿潤剤；エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素数１〜４のアルキルアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテルなどのグリコールエーテル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルスルポキシド、ソルビット、ソルビタン、アセチン、ジアセチン、トリアセチン、スルホラン等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。
【０２６８】
乾燥防止剤や湿潤剤の目的としては，ポリオール化合物が有用であり、例えば、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、テトラエチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２６９】
浸透剤の目的としては、ポリオール化合物が好ましく、脂肪族ジオールとしては、例えば、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、５−ヘキセン−１，２−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールなどが挙げられる。これらの中でも、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールが好ましい例として挙げることができる。
【０２７０】
本発明に使用される水性媒体は、単独で使用しても、２種類以上混合して使用しても構わない。水性媒体の好ましい例として、グリセリン、ジプロピレングリコール、ポリオキシエチレングリセリルエーテル、ポリオキシプロピレングリセリルエーテルを挙げることができる。
水性溶媒の含有量としては、５質量％以上６０質量％以下、好ましくは、１０質量％以上４０質量％以下で使用される。
本発明に使用される水の添加量は特に制限は無いが、好ましくは、１０質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは、３０質量％以上８０質量％以下である。更に好ましくは、５０質量％以上７０質量％以下である。
【０２７１】
＜界面活性剤＞
本発明のインクには、表面張力調整剤を含有することが好ましい。表面張力調整剤としてはノニオン、カチオン、アニオン、ベタイン界面活性剤が挙げられる。表面張力の調整剤の添加量は、インクジェットで良好に打滴するために、本発明のインクの表面張力を２０〜６０ｍＮ／ｍに調整する量が好ましく、より好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、更に好ましくは２５〜４０ｍＮ／ｍに調整できる量である。
本発明における界面活性剤としては、分子内に親水部と疎水部を合わせ持つ構造を有する化合物等が有効に使用することができ、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤のいずれも使用することができる。更には、上記高分子物質（高分子分散剤）を界面活性剤としても使用することもできる。
【０２７２】
アニオン系界面活性剤の具体例としては、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルポコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルポコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ−オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられ、これらの１種、又は２種以上を選択することができる。
ノニオン性界面活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ｔ−オクチルフェノキシエチルポリエトキシエタノール、ノニルフェノキシエチルポリエトキシエタノール等が挙げられ、これらの１種、又は２種以上を選択することができる。
カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられ、具体的には、例えば、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２−ヘプタデセニル−ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
本発明におけるインクジェット用液体組成物に添加する界面活性剤の量は、特に限定されるものではないが、１質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１〜１０質量％、更に好ましくは１〜３質量％である。
【０２７３】
＜その他成分＞
本発明のインクには、その他の添加剤を含有してもよい。その他の添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、褪色防止剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、防錆剤、酸化防止剤、乳化安定剤、防腐剤、消泡剤、粘度調整剤、分散安定剤、キレート剤等の公知の添加剤が挙げられる。
【０２７４】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ニッケル錯塩系紫外線吸収剤、などが挙げられる。
【０２７５】
褪色防止剤としては、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。有機の褪色防止剤としてはハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類などがあり、金属錯体としてはニッケル錯体、亜鉛錯体などがある。
【０２７６】
防黴剤としてはデヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、ソルビン酸ナトリウム、ペンタクロロフェノールナトリウムなどが挙げられる。これらはインク中に０．０２〜１．００質量％使用するのが好ましい。
【０２７７】
ｐＨ調整剤としては、調合される記録用インクに悪影響を及ぼさずにｐＨを所望の値に調整できるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルコールアミン類（例えば、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−アミノ−２−エチル−１，３プロパンジオールなど）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アンモニウム水酸化物（例えば、水酸化アンモニウム、第４級アンモニウム水酸化物）、ホスホニウム水酸化物、アルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。
【０２７８】
防錆剤としては、例えば、酸性亜硫酸塩、チオ硫酸ナトリウム、チオジグリコール酸アンモン、ジイソプロピルアンモニウムニトライト、四硝酸ペンタエリスリトール、ジシクロヘキシルアンモニウムニトライトなどが挙げられる。
【０２７９】
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤（ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む）、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、りん系酸化防止剤などが挙げられる。
【０２８０】
キレート剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸ナトリウム、ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム、ウラミル二酢酸ナトリウムなどが挙げられる。
【０２８１】
＜樹脂微粒子＞
本発明のインクには樹脂微粒子あるいはポリマーラテックスを含有してもよい。樹脂微粒子あるいはポリマーラテックスとしては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂等を用いることができる。アクリル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン系樹脂を好ましい例として挙げることができる。
【０２８２】
樹脂微粒子の好ましい例として、自己分散性ポリマー微粒子を挙げることができる。自己分散性ポリマー微粒子とは、他の界面活性剤の不存在下に、ポリマー自身が有する官能基（特に、酸性基又はその塩）によって、水性媒体中で分散状態となりうるビニルポリマーであって、遊離の乳化剤を含有しないビニルポリマーの微粒子を意味する。ここで分散状態とは、水性媒体中にビニルポリマーが液体状態で分散された乳化状態（エマルジョン）、及び、水性媒体中にビニルポリマーが固体状態で分散された分散状態（サスペンジョン）の両方の状態を含むものである。本発明ではビニルポリマーが固体状態で分散された分散状態となりうるビニルポリマーであることが好ましい。
【０２８３】
本発明で好ましく用いられる自己分散性ポリマー微粒子は、自己分散性の観点から、親水性の構成単位と芳香族基含有モノマーに由来する構成単位とを含むビニルポリマーを含むことが好ましい。
【０２８４】
前記親水性の構成単位は、親水性基含有モノマーに由来するものであれば特に制限はなく、１種の親水性基含有モノマーに由来するものであっても、２種以上の親水性基含有モノマーに由来するものであってもよい。前記親水性基としては、特に制限はなく、解離性基であってもノニオン性親水性基であってもよい。前記親水性基は、自己分散促進の観点、形成された乳化又は分散状態の安定性の観点から、解離性基であることが好ましく、アニオン性の解離基であることがより好ましい。前記解離性基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、中でも、インク組成物を構成した場合の定着性の観点から、カルボキシル基が好ましい。解離性基含有モノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸モノマー、不飽和スルホン酸モノマー、不飽和リン酸モノマー等が挙げられる。
【０２８５】
不飽和カルボン酸モノマーとして具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−メタクリロイルオキシメチルコハク酸等が挙げられる。不飽和スルホン酸モノマーとして具体的には、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、３−スルホプロピル（メタ）アクリレート、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコン酸エステル等が挙げられる。不飽和リン酸モノマーとして具体的には、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。分散安定性、吐出安定性の観点から、不飽和カルボン酸モノマーが好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸がより好ましい。
【０２８６】
前記芳香族基含有モノマーは、芳香族基と重合性基とを含む化合物であれば特に制限はない。前記芳香族基は芳香族炭化水素に由来する基であっても、芳香族複素環に由来する基であってもよい。水性媒体中での粒子形状安定性の観点から、芳香族炭化水素に由来する芳香族基であることが好ましい。また前記重合性基は、縮重合性の重合性基であっても、付加重合性の重合性基であってもよい。本発明においては水性媒体中での粒子形状安定性の観点から、付加重合性の重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を含む基であることがより好ましい。
【０２８７】
芳香族基含有モノマーは、芳香族炭化水素に由来する芳香族基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマーであることが好ましく、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーであることがより好ましい。前記芳香族基含有モノマーとしては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、スチレン系モノマー等が挙げられる。中でも、ポリマー鎖の親水性と疎水性のバランスとインク定着性の観点から、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、及びフェニル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、フェノキシエチル（メタ）アクリレートであることがより好ましく、フェノキシエチルアクリレートであることが特に好ましい。
【０２８８】
なお、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。自己分散性ポリマー微粒子は、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーに由来する構成単位を含み、その含有量が１０質量％〜９５質量％であることが好ましい。芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーの含有量が１０質量％〜９５質量％であることで、自己乳化又は分散状態の安定性が向上し、更にインク粘度の上昇を抑制することができる。自己分散状態の安定性、芳香環同士の疎水性相互作用による水性媒体中での粒子形状の安定化、粒子の適度な疎水化による水溶性成分量の低下の観点から、１５質量％〜９０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２５質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。
【０２８９】
自己分散性ポリマー微粒子は、例えば、芳香族基含有モノマーからなる構成単位と、解離性基含有モノマーからなる構成単位とから構成することができるが、必要に応じて、その他の構成単位を更に含んで構成することができる。前記その他の構成単位を形成するモノマーとしては、前記芳香族基含有モノマーと解離性基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に制限はない。中でも、ポリマー骨格の柔軟性やガラス転移温度（Ｔｇ）制御の容易さの観点から、アルキル基含有モノマーであることが好ましい。
【０２９０】
前記アルキル基含有モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するエチレン性不飽和モノマー；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎーヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド；Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｎ−，イソ）ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｎ−、イソ）ブトキシエチル（メタ）アクリルアミド等のＮ−アルコキシアルキル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【０２９１】
本発明における自己分散性ポリマー微粒子を構成するビニルポリマーの分子量範囲は、質量平均分子量で、３０００〜２０万であることが好ましく、５０００〜１５万であることがより好ましく、１００００〜１０万であることが更に好ましい。質量平均分子量を３０００以上とすることで水溶性成分量を効果的に抑制することができる。また、質量平均分子量を２０万以下とすることで、自己分散安定性を高めることができる。
【０２９２】
なお、質量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）によって測定することできる。
【０２９３】
自己分散性ポリマー微粒子を構成するビニルポリマーは、ポリマーの親疎水性制御の観点から、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーを共重合比率として１５〜９０質量％とカルボキシル基含有モノマーとアルキル基含有モノマーとを含み、酸価が２５〜１００であって、質量平均分子量が３０００〜２０万であることが好ましく、芳香族基含有（メタ）アクリレートモノマーを共重合比率として１５〜８０質量％とカルボキシル基含有モノマーとアルキル基含有モノマーとを含み、酸価が２５〜９５であって、質量平均分子量が５０００〜１５万であることがより好ましい。
【０２９４】
自己分散性ポリマー微粒子の平均粒径は、１０ｎｍ〜１μｍの範囲が好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲が更に好ましく、２０〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０２９５】
自己分散性ポリマー微粒子の添加量はインクに対して、０．５〜２０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。
自己分散性ポリマー微粒子のガラス転移温度Ｔｇは３０℃以上であることが好ましく、４０℃以上がより好ましく、５０℃以上が更に好ましい。
また、ポリマー粒子の粒径分布に関しては、特に制限は無く、広い粒径分布を持つもの、又は単分散の粒径分布を持つもの、いずれでもよい。また、単分散の粒径分布を持つポリマー微粒子を、２種以上混合して使用してもよい。
【０２９６】
＜プリント性を向上させる液体組成物＞
本発明には、プリント性を向上させる液体組成物を印字媒体に付与することが好ましい例として挙げることができる。
本発明に用いることができるプリント性を向上させる液体組成物の好ましい一例として、インクのｐＨを変化させることにより凝集物を生じさせる液体組成物を挙げることができる。このとき、液体組成物のｐＨは１〜６であることが好ましく、ｐＨは２〜５であることがより好ましく、ｐＨは３〜５であることが更に好ましい。液体組成物の成分として、ポリアクリル酸、酢酸、グリコール酸、マロン酸、リンゴ酸、マレイン酸、アスコルビン酸、コハク酸、グルタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、乳酸、スルホン酸、オルトリン酸、ピロリドンカルボン酸、ピロンカルボン酸、ピロールカルボン酸、フランカルボン酸、ビリジンカルボン酸、クマリン酸、チオフェンカルボン酸、ニコチン酸、若しくはこれらの化合物の誘導体、又はこれらの塩等の中から選ばれることが好ましい。これらの化合物は、１種類で使用されてもよく、２種類以上併用されてもよい。
【０２９７】
また、本発明に用いることができるプリント性を向上させる液体組成物の好ましい一例として、多価金属塩あるいはポリアリルアミンを添加した処理液を挙げることができる。液体組成物の成分として、多価金属塩として周期表の２Ａ属のアルカリ土類金属（例えば、マグネシウムとカルシウム）；周期表の３Ｂ属の遷移金属（例えば、ランタン）；周期表の３Ａ属からのカチオン（例えば、アルミニウム）；ランタニド類（例えば、ネオジム）；及びポリアリルアミン、ポリアリルアミン誘導体、を挙げることができる。好ましい例として、カルシウムとマグネシウムを挙げることができる。カルシウム又はマグネシウムの対塩として好ましく採用されるアニオンは、カルボン酸塩（蟻酸、酢酸、安息香酸塩など）、硝酸塩、塩化物、及びチオシアン酸塩を挙げることができる。処理液への添加量として、当該塩は約１〜約１０質量％、好ましくは約１．５〜約７質量％、より好ましくは約２〜約６質量％の範囲の量で処理液中に存在させることができる。
【０２９８】
本発明に使用される水性媒体は、単独で使用しても、２種類以上混合して使用しても構わない。水性媒体の含有量としては、インク全体の１質量％以上６０質量％以下、好ましくは、５質量％以上４０質量％以下で使用される。インク中の水性媒体量が１質量％よりも少ない場合には、十分な光学濃度が得られない場合が存在し、逆に、６０質量％よりも多い場合には、液体の粘度が大きくなり、インク液体の噴射特性が不安定になる場合が存在する。
【０２９９】
＜インク物性＞
本発明のインクの好ましい物性は以下の通りである。インクの表面張力は、２０ｍＮ／ｍ以上６０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、２０ｍＮ以上４５ｍＮ／ｍ以下であり、更に好ましくは、２５ｍＮ／ｍ以上３５ｍＮ／ｍ以下である。表面張力が２０ｍＮ／ｍ未満となると記録ヘッドのノズル面に液体が溢れ出し、正常に印字できない場合がある。一方、６０ｍＮ／ｍを超えると、印字後の記録媒体への浸透性が遅くなり、乾燥時間が遅くなる場合がある。
なお、上記表面張力は、前記同様ウイルヘルミー型表面張力計を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定した。
【０３００】
インクの粘度は、１．２ｍＰａ・ｓ以上８．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは１．５ｍＰａ・ｓ以上６．０ｍＰａ・ｓ未満、更に好ましくは１．８ｍＰａ・ｓ以上４．５ｍＰａ・ｓ未満である。粘度が８．０ｍＰａ・ｓより大きい場合には、吐出性が低下する場合がある。一方、１．２ｍＰａ・ｓより小さい場合には、長期噴射性が悪化する場合がある。
なお、上記粘度（後述するものを含む）の測定は、回転粘度計レオマット１１５（Ｃｏｎｔｒａｖｅｓ社製）を用い、２３℃でせん断速度を１４００ｓ−１として行った。
【０３０１】
インクには、前記各成分に加えて、上記の好ましい表面張力及び粘度となる範囲で、水が添加される。水の添加量は特に制限は無いが、好ましくは、インク全体に対して、１０質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは、３０質量％以上８０質量％以下である。
【０３０２】
＜インクジェット記録方法＞
本発明に好ましいインクジェット記録方法として、インクにエネルギーを供与して、公知の受像材料、即ち普通紙、樹脂コート紙、例えば特開平８−１６９１７２号公報、同８−２７６９３号公報、同２−２７６６７０号公報、同７−２７６７８９号公報、同９−３２３４７５号公報、特開昭６２−２３８７８３号公報、特開平１０−１５３９８９号公報、同１０−２１７４７３号公報、同１０−２３５９９５号公報、同１０−３３７９４７号公報、同１０−２１７５９７号公報、同１０−３３７９４７号公報等に記載されているインクジェット専用紙、フィルム、電子写真共用紙、布帛、ガラス、金属、陶磁器等に画像を形成する。なお、本発明に好ましいインクジェット記録方法として特開２００３−３０６６２３号公報の段落番号００９３〜０１０５の記載が適用できる。
【０３０３】
画像を形成する際に、光沢性や耐水性を与えたり耐候性を改善する目的からポリマーラテックス化合物を併用してもよい。ラテックス化合物を受像材料に付与する時期については、着色剤を付与する前であっても、後であっても、また同時であってもよく、したがって添加する場所も受像紙中であっても、インク中であってもよく、あるいはポリマーラテックス単独の液状物として使用しても良い。具体的には、特開２００２−１６６６３８（特願２０００−３６３０９０）、特開２００２−１２１４４０（特願２０００−３１５２３１）、特開２００２−１５４２０１（特願２０００−３５４３８０）、特開２００２−１４４６９６（特願２０００−３４３９４４）、特開２００２−０８０７５９（特願２０００−２６８９５２）に記載された方法を好ましく用いることができる。
【０３０４】
本発明に好ましい画像形成方式の一例として、第一の工程：プリント性を向上させる液体組成物を記録媒体に付与する工程。第二の工程：前記液体組成物が付与された記録媒体にインク組成物を付与する工程。その他の工程：その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、乾燥除去工程、加熱定着工程等が挙げられる。前記乾燥除去工程としては、記録媒体に付与されたインク組成物におけるインク溶媒を乾燥除去する以外は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記加熱定着工程としては、前記インクジェット記録方法で用いられるインク中に含まれるラテックス粒子を溶融定着する以外は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０３０５】
本発明に好ましい画像形成方式のもう一つの例として、第一の工程：プリント性を向上させる液体組成物を中間転写体に付与する工程。第二の工程：前記液体組成物が付与された中間転写体にインク組成物を付与する工程。第三の工程：前記中間転写体に形成されたインク画像を記録媒体に転写する工程。その他の工程：その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、乾燥除去工程、加熱定着工程等が挙げられる。
【実施例】
【０３０６】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例中、「部」とは質量部を表す。
本発明のアゾ顔料は、下記顔料の合成例１で説明する合成方法に準じて合成することが可能である。
【０３０７】
本発明の顔料組成物のＸ線回折の測定は、日本工業規格ＪＩＳＫ０１３１（Ｘ線回析分析通則）に準じて、粉末Ｘ線回折測定装置ＲＩＮＴ２５００（株式会社リガク製）にてＣｕＫα線を用い、次の条件で行ったものである。
【０３０８】
使用測定器  ：Ｒｉｇａｋｕ社製  自動Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ２５００
Ｘ線管球  ：Ｃｕ
管電圧  ：５５ＫＶ
管電流  ：２８０ｍＡ
スキャン方法  ：２θ／θスキャン
スキャン速度  ：６ｄｅｇ．／ｍｉｎ．
サンプリング間隔  ：０．１００ｄｅｇ．
スタート角度（２θ）  ：５ｄｅｇ．
ストップ角度（２θ）  ：５５ｄｅｇ．
ダイバージェンススリット  ：２ｄｅｇ．
スキャッタリングスリット  ：２ｄｅｇ．
レジーピングスリット  ：０．６ｍｍ
縦型ゴニオメータ使用  
【０３０９】
〔合成例１〕アゾ顔料組成物（１ａ）の合成
【０３１０】
【化３９】
2011074377.tif 000040
【０３１１】
（１）中間体（ａ）の合成
シアノ酢酸メチル２９．７ｇ（０．３モル）にオルトギ酸トリメチル４２．４ｇ（０．４モル）、無水酢酸２０．４ｇ（０．２モル）、ｐ−トルエンスルホン酸０．５ｇを加えて１１０℃（外温）に加熱し、反応系から生じる低沸点成分を留去しながら２０時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ａ）を１４．１ｇ（黄色粉末、収率３０％）で得た。得られた中間体（ａ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．９６（ｓ，１Ｈ），４．１５（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ）
【０３１２】
（２）中間体（ｂ）の合成
メチルヒドラジン７．４ｍＬ（１４１ミリモル）にイソプロパノール１５０ｍＬを加えて１５℃（内温）に冷却し、この混合液に中間体（ａ）７．０ｇ（４９．６ミリモル）を徐々に添加した後、５０℃に加熱して１時間４０分攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ｂ）を１０．５ｇ（白色粉末、収率５０％）で得た。得られた中間体（ｂ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．６０（ｓ，１Ｈ），４．９５（ｂｒｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ）
【０３１３】
（３）中間体（ｃ）の合成
メタノール１．１Ｌに水１３６ｍＬを加えて、炭酸水素ナトリウム１８２ｇ（２．１７モル）を添加し、室温にて攪拌した。同温度にて塩化シアヌル２００ｇ（１．０８モル）を分割添加した。添加終了後、内温を３０℃まで昇温した。同温度にて３０分間攪拌した後、水５００ｍＬを加え、析出した固体を濾別し、水５００ｍＬ、メタノール３００ｍＬでかけ洗い後、乾燥を行い、前記中間体（ｃ）を１６８ｇ（白色粉末、収率８６．２％）で得た。得られた中間体（ｃ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）４．１４（ｓ，３Ｈ）
【０３１４】
（４）中間体（ｄ）の合成
ヒドラジン１水和物３６３ｍＬ（７．４６モル）に水６７３ｍＬを加えて１０℃（内温）に冷却し、この混合液に中間体（ｃ）１６８ｇ（９３４ミリモル）を徐々に添加（内温２０℃以下）した後、氷浴をはずし、室温まで昇温し、同温度にて３０分攪拌した。反応液から析出した結晶をろ取、水７００ｍＬ、アセトニトリル１Ｌでかけ洗い後、乾燥を行い前記中間体（ｄ）の疎精製物（白色粉末）を得た。
【０３１５】
（５）中間体（ｅ）の合成
中間体（ｄ）の疎精製物に、エチレングリコール４８０ｍＬを加えて室温で攪拌した。この懸濁液にピバロイルアセトニトリル２５７ｇ（２．０６モル）を加え、内温が５０℃になるまで加熱した。同温度にて１２Ｍ塩酸水をｐＨ３になるように滴下した後、内温が８０℃になるまで加熱して３時間攪拌した。反応終了後、氷冷し内温が８℃になるまで冷却し、析出した結晶をろ取、水でかけ洗い後、シリカゲルカラム精製を行い、前記中間体（ｅ）を１０５ｇ（白色粉末、２工程収率２９．２％）で得た。得られた中間体（ｅ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ−ＤＭＳＯ）７．００（ｓ，４Ｈ），５．３５（ｓ，２Ｈ），４．０５（ｓ，３Ｈ），５．３５（ｓ，２Ｈ），１．２２（ｓ，１８Ｈ）
【０３１６】
（６）アゾ顔料（１ａ）の合成
酢酸１２５ｍＬと硫酸２４ｍＬの混合液を氷冷し、内温を３℃まで冷却した。同温度にてニトロシル硫酸２６．４ｇを添加し、続いて、同温度にて中間体（ｂ）１１．６ｇを分割添加して溶解させた。同温度にて１時間攪拌した後、同温度にて尿素１．２ｇを分割添加し、同温度にて１５分間攪拌し、ジアゾニウム塩溶液を得た。別に、中間体（ｅ）１１．６ｇをメタノール４０５ｍＬに室温にて完溶させ、氷冷して内温を−３℃に冷却した。同温にて、上述のジアゾニウム塩溶液を内温が３℃以下になるように分割添加し、添加終了後、２時間攪拌した。氷浴をはずし、室温にて１０分間攪拌した後、析出した結晶を濾別し、メタノール１５０ｍＬでかけ洗いし、更に水１００ｍＬでかけ洗いした。得られた結晶を乾燥せずに水７５０ｍＬに懸濁させ、８規定の水酸化カリウム水溶液を添加して、ｐＨを５．７にした。室温にて２０分間攪拌した後、得られた結晶を濾別し、水で十分にかけ洗いしたのち、メタノール８０ｍＬでかけ洗いした。得られた結晶を室温にて、１２時間乾燥させた。
【０３１７】
得られた結晶をジメチルアセトアミド１８０ｍＬと水１８０ｍＬの混合溶液に懸濁させた後、内温を８５℃まで昇温し、同温度にて２時間攪拌した。その後、得られた結晶を熱時にて濾別し、メタノール３００ｍＬに懸濁し、室温にて３０分攪拌した。得られた結晶を濾別し、室温にて５時間乾燥させ、アゾ顔料（１ａ）を１９．５ｇ得た。収率９０．３％
得られたアゾ顔料（１ａ）を透過型顕微鏡（日本電子（株）製：ＪＥＭ−１０１０電子顕微鏡）で目視にて観察したところ、１次粒子の長軸方向の長さは、約１５０ｎｍであった。
アゾ顔料（１ａ）のＸ線回折の測定を上記の条件により行ったところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°及び２５．９°に特徴的なＸ線回折ピークを示した。
ＣｕＫα特性Ｘ線回折図を図２に示す。
【０３１８】
〔合成例２〕アゾ顔料組成物（２ａ）の合成
アゾ顔料（２ａ）の合成スキームを下記に示す。
【０３１９】
【化４０】
2011074377.tif 000041
【０３２０】
（７）中間体（ａ）の合成
シアノ酢酸メチル２９．７ｇ（０．３モル）にオルトギ酸トリメチル４２．４ｇ（０．４モル）、無水酢酸２０．４ｇ（０．２モル）、ｐ−トルエンスルホン酸０．５ｇを加えて１１０℃（外温）に加熱し、反応系から生じる低沸点成分を留去しながら２０時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ａ）を１４．１ｇ（黄色粉末、収率３０％）で得た。得られた中間体（ａ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．９６（ｓ，１Ｈ），４．１５（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ）
【０３２１】
（８）中間体（ｂ）の合成
メチルヒドラジン７．４ｍＬ（１４１ミリモル）にイソプロパノール１５０ｍＬを加えて１５℃（内温）に冷却し、この混合液に中間体（ａ）７．０ｇ（４９．６ミリモル）を徐々に添加した後、５０℃に加熱して１時間４０分攪拌した。この反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラム精製を行い前記中間体（ｂ）を１０．５ｇ（白色粉末、収率５０％）で得た。得られた中間体（ｂ）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）７．６０（ｓ，１Ｈ），  ４．９５（ｂｒｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ）
【０３２２】
（９）中間体（ｃ’）の合成
ヒドラジン１水和物３８７ｍＬ（７．９８モル）にメタノール２９８ｍＬを加えて１０℃（内温）に冷却し、この混合液に４，６−ジクロロピリミジン１４９ｇ（１．００モル）を徐々に添加（内温２０℃以下）した後、氷浴をはずし、室温まで昇温し、同温度にて３０分攪拌した。その後更に加熱して内温６０℃まで昇温し、同温度にて５時間攪拌した。反応終了後、水７５０ｍＬを加えた後、氷冷して内温が８℃になるまで冷却し、析出した結晶をろ取、水でかけ洗いし、イソプロパノールでかけ洗いした。室温にて３６時間乾燥を行い前記中間体（ｃ’）を１１９ｇ（白色粉末、収率８４．５％）で得た。得られた中間体（ｃ’）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ−ＤＭＳＯ）７．８０（ｓ，１Ｈ），７．５２（ｓ，２Ｈ），  ５．９８（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｓ，４Ｈ）
【０３２３】
（１０）中間体（ｄ’）の合成
中間体（ｃ’）５０ｇ（３５７ミリモル）に、水１２８ｍＬを加えて室温で攪拌した。この懸濁液にピバロイルアセトニトリル９８．２ｇ（７８５ミリモル）を加え、同温度にて１２Ｍ塩酸水をｐＨ３になるように滴加した後、内温が５０℃になるまで加熱し、同温度にて６時間攪拌した。反応終了後、８Ｎの水酸化カリウム水溶液を加えて中和し、ｐＨ６．４にした。氷冷し内温が１０℃になるまで冷却し、析出した結晶をろ取、水でかけ洗いした。得られた結晶を減圧下６０℃にて乾燥し、得られた粗精製物にトルエン３０ｍＬを加え、６０℃に加熱して溶解させた。得られた溶液を室温にて１２時間静置し、析出した結晶をろ取、冷却したトルエンでかけ洗いし、減圧下６０℃にて乾燥し、前記中間体（ｄ’）を８７．７ｇ（白色粉末、収率６９．３％）で得た。得られた中間体（ｄ’）のＮＭＲ測定結果は以下の通りである。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ−ＤＭＳＯ）８．７４（ｓ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｓ，４Ｈ），５．３５（ｓ，２Ｈ），１．２４（ｓ，１８Ｈ）
【０３２４】
（１１）アゾ顔料（２ａ）の合成
【０３２５】
酢酸５５ｍＬとプロピオン酸３７ｍＬの混合液に室温にて中間体（ｂ）９．２ｇを溶解させた。氷冷して内温を−３℃まで冷却し、内温が−３℃〜４℃でニトロシル硫酸の４０質量％硫酸溶液を１０分かけて滴下した。内温４℃にて１時間攪拌した後、尿素０．２ｇを加え、その後、内温を−３℃に冷却し、更に１０分攪拌し、ジアゾニウム塩溶液を得た。別に中間体（ｄ’）１０ｇをアセトン１５０ｍＬに完溶させた後、内温を１７℃に冷却し、上述のジアゾニウム塩溶液に内温−３℃〜３℃の範囲内で２５分かけて添加した。添加完了後、３℃で３０分攪拌した後、氷浴をはずし、３０分かけて室温まで昇温させた。室温にて３０分攪拌した後、得られた結晶を濾別し、アセトン１５０ｍＬでかけ洗いし、更に水１００ｍＬでかけ洗いした。得られた結晶を乾燥せずに水４００ｍＬに懸濁させ、８規定の水酸化カリウム水溶液を添加して、ｐＨを５．７にした。室温にて２０分間攪拌した後、得られた結晶を濾別し、水で十分にかけ洗いしたのち、アセトン８０ｍＬをかけ洗いした。得られた結晶を室温にて、１２時間乾燥させた。
【０３２６】
得られた結晶をアセトン５８０ｍＬに懸濁させた後、還流下３０分間攪拌した。その後、１０分間かけて室温に冷却し、得られた結晶を濾別し、室温にて５時間乾燥させ、アゾ顔料（２ａ）を１７．１ｇ得た。収率８８．５％。
得られたアゾ顔料（２）を透過型顕微鏡（日本電子（株）製：ＪＥＭ−１０１０電子顕微鏡）で目視にて観察したところ、１次粒子の長軸方向の長さは、約１５μｍであった。
アゾ顔料（２ａ）のＸ線回折の測定を上記の条件により行ったところ、ブラッグ角（２θ±０．２°）が７．６°、及び２５．６°に特徴的なＸ線回折ピークを示した。ＣｕＫα特性Ｘ線回折図を図１に示す。
【０３２７】
［合成例３〜１９］
上記例合成例１及び２に示す上記例示化合物（Ｐｉｇ．−１）、（Ｐｉｇ．−１８）と同様の合成法又は上記記載の本発明のアゾ顔料の製造方法を組み合わせることにより、下記表１に示す本発明のアゾ顔料を合成した。
得られたアゾ顔料のＣｕＫα特性Ｘ線回折図を図３〜１９に示す。
【０３２８】
【表１】
2011074377.tif 000042
【０３２９】
［合成例１０４］
（ビニルポリマー（Ｐ−１）の合成）
下記モノマー組成の成分を全量が１００質量部になるように混合し、更に重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部添加し、窒素ガス置換を十分に行い、合成混合液を得た。
【０３３０】
フェノキシエチルメタクリレート                                ５０質量部
メチルメタクリレート                                          ３９質量部
メタクリル酸                                                  １１質量部
２−メルカプトエタノール                                    ０．１質量部
【０３３１】
次に、メチルエチルケトン１００質量部を窒素雰囲気下で撹拌しながら７５℃まで昇温させた。７５℃、攪拌状態で上記合成混合液を３時間にわたって滴下した。更に７５℃、攪拌状態で５時間反応を続けた。その後、反応合成物を２５℃まで自然冷却した後、固形分が４０％になるようにメチルエチルケトンを加えて希釈し、ＧＰＣより求めた重量平均分子量（Ｍｗ）が４１０００であり、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｋ  ００７０：１９９２）記載の方法により求めた酸価が７１．７ｍｇＫＯＨ／ｇであるビニルポリマー溶液を得た。
【０３３２】
［実施例１］
（１０質量％の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の調製）
以下の組成にて混合し、ビーズミルで０．１ｍｍφジルコニアビーズを用いて３〜６時間分散した。続いて、得られた分散体を減圧下、５５℃でメチルエチルケトンを除去し、更に一部の水を除去することにより、例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の濃度が１０．０質量％となるよう顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体を調製した。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）について、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用い、動的光散乱法により平均粒子径を測定した。測定は、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体３０μｌに対してイオン交換水１０ｍｌを加えて測定用サンプル液を調製し、これを２５℃に調温して行ない、体積平均粒子径Ｍｖが９０ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが４０ｎｍであった。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）について、Ｒ１００型粘度計（東機産業社製）を用い、２５℃、コーンの回転数１００ｒｐｍの条件により測定し、粘度が１．９ｍＰａｓであった。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）について、東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧを用い、２５℃で測定したところ、８．８であった。
【０３３３】
＜顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の組成＞
例示化合物（Ｐｉｇ．−１）                                    １０．０質量部
ビニルポリマー（Ｐ−１）                                        ７．５質量部
メチルエチルケトン                                            １４．６質量部
１ｍｏｌ／Ｌ  ＮａＯＨ水溶液                                    ３．８質量部
イオン交換水                                                  ７１．２質量部
【０３３４】
（自己分散性ポリマー微粒子の調製）
攪拌機、温度計、還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた２リットル三口フラスコに、メチルエチルケトン３５０．０ｇを仕込んで、７５℃まで昇温した。反応容器内温度を７５℃に保ちながら、フェノキシエチルアクリレート１６２．０ｇ、メチルメタクリレート１８０．０ｇ、アクリル酸１８．０ｇ、メチルエチルケトン７０ｇ、及び「Ｖ−６０１」（和光純薬（株）製）１．４４ｇからなる混合溶液を、２時間で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、「Ｖ−６０１」０．７２ｇ、メチルエチルケトン３６．０ｇからなる溶液を加え、７５℃で２時間攪拌後、更に「Ｖ−６０１」０．７２ｇ、イソプロパノール３６．０ｇからなる溶液を加え、７５℃で２時間攪拌した後、８５℃に昇温して、更に２時間攪拌を続けた。得られた共重合体の質量平均分子量（Ｍｗ）は６４０００（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、使用カラムはＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製））、酸価は３８．９（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であった。
次に、重合溶液６６８．３ｇを秤量し、イソプロパノール３８８．３ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ
ＮａＯＨ水溶液１４５．７ｍｌを加え、反応容器内温度を８０℃に昇温した。次に蒸留水７２０．１ｇを２０ｍｌ／ｍｉｎの速度で滴下し、水分散化せしめた。その後、大気圧下にて反応容器内温度８０℃で２時間、８５℃で２時間、９０℃で２時間保った後、反応容器内を減圧にし、イソプロパノール、メチルエチルケトン、蒸留水を合計で９１３．７ｇ留去し、固形分濃度２８．０％の自己分散性ポリマー微粒子（Ｂ−０１）の水分散物（エマルジョン）を得た。
【０３３５】
（インクジェット記録用水性インク組成物（１）の調製）
次に、得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）を用い、以下の組成にて水性インク組成物（１）を調製した。東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（１）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．１であった。
＜水性インク組成物（１）の組成＞
顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）                          ４３質量部
１，２−ヘキサンジオール                                              ２質量部
グリセリン                                                            ８質量部
トリエチレングリコールモノブチルエーテル                              ２質量部
２−ピロリドン                                                        ２質量部
プロピレングリコール                                                  １質量部
トリメチロールプロパン                                                ３質量部
サーフィノール４６５（日信化学工業（株）製）                          ３質量部
イオン交換水                                                        ３６質量部
【０３３６】
［実施例２］
実施例１で用いた本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の代わりに例示化合物（Ｐｉｇ．−２）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（２）を得た。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（２）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが８７ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが３７ｎｍ、粘度が１．６ｍＰａｓ、ｐＨが９．０であった。
【０３３７】
引き続き、実施例１で用いた本発明の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の代わりに顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（２）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（２）を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（２）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．２であった。
【０３３８】
［実施例３］
実施例１で用いた本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の代わりに例示化合物（Ｐｉｇ．−３）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（３）を得た。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（３）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが８６ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが３９ｎｍ、粘度が１．５ｍＰａｓ、ｐＨが９．１であった。
【０３３９】
引き続き、実施例１で用いた本発明の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の代わりに顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（３）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（３）を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（３）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．３であった。
【０３４０】
［実施例４］
実施例１で用いた本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の代わりに例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（４）を得た。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（４）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが９０ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが４６ｎｍ、粘度が２．０ｍＰａｓ、ｐＨが９．２であった。
【０３４１】
引き続き、実施例１で用いた本発明の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の代わりに顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（４）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（４）を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（４）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．３であった。
【０３４２】
［実施例５］
実施例１で用いた本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の代わりに例示化合物（Ｐｉｇ．−２５）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（５）を得た。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（５）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが８３ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが３４ｎｍ、粘度が１．２ｍＰａｓ、ｐＨが８．６であった。
【０３４３】
引き続き、実施例１で用いた本発明の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の代わりに顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（５）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（５）を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（５）のｐＨを２５℃で測定したところ、８．９であった。
【０３４４】
［実施例６］
実施例１の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の組成において、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体組成を以下にように変更した以外は同様にして、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（６）を調整した。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（６）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが９５ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが４９ｎｍ、粘度が２．３ｍＰａｓ、ｐＨが９．４であった。
＜顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（５）の組成＞
例示化合物（Ｐｉｇ．−１）                                      １０．０質量部
ビニルポリマー（Ｐ−１）                                        １２．５質量部
メチルエチルケトン                                                ９．７質量部
１ｍｏｌ／Ｌ  ＮａＯＨ水溶液                                      ６．４質量部
イオン交換水                                                    ６８．６質量部
【０３４５】
引き続き、実施例１で用いた本発明の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の代わりに顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（６）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（６）を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（６）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．４であった。
【０３４６】
［実施例７］
実施例６のインクジェット記録用水性インク組成物（６）の組成において、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体組成を以下にように変更した以外は同様にして、インクジェット記録用水性インク組成物（７）を調整した。東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（７）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．３であった。
＜水性インク組成物（７）の組成＞
顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（６）                          ４３質量部
１，２−ヘキサンジオール                                              ２質量部
グリセリン                                                            ８質量部
トリエチレングリコールモノブチルエーテル                              ２質量部
２−ピロリドン                                                        ２質量部
プロピレングリコール                                                  １質量部
トリメチロールプロパン                                                ３質量部
サーフィノール４６５（日信化学工業（株）製）                          ３質量部
自己分散性ポリマー微粒子（Ｂ−０１）の水分散物                        ７質量部
イオン交換水                                                        ２９質量部
【０３４７】
［実施例８］
実施例６のインクジェット記録用水性インク組成物（６）の組成において、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体組成を以下にように変更した以外は同様にして、インクジェット記録用水性インク組成物（８）を調整した。東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（８）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．４であった。
＜水性インク組成物（８）の組成＞
顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（６）                          ４３質量部
１，２−ヘキサンジオール                                              ２質量部
グリセリン                                                            ８質量部
トリエチレングリコールモノブチルエーテル                              ２質量部
２−ピロリドン                                                        ２質量部
プロピレングリコール                                                  １質量部
トリメチロールプロパン                                                ３質量部
サーフィノール４６５（日信化学工業（株）製）                          ３質量部
自己分散性ポリマー微粒子（Ｂ−０１）の水分散物                      １１質量部
イオン交換水                                                        ２５質量部
【０３４８】
［実施例９］
実施例６で用いた本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）の代わりに例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）を用いた以外は実施例６と同様の操作をして顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（７）を得た。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（７）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが９９ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが５３ｎｍ、粘度が２．８ｍＰａｓ、ｐＨが９．２であった。
引き続き、実施例５と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（９）を得た。東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（９）のｐＨを２５℃で測定したところ、９．４であった。
【０３４９】
［実施例１０］
実施例１のビーズミル分散を以下の分散方法に変更した他は同様にして、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（７）を得た。
実施例１の組成にて混合し、クレアミックス（ＭＴＥＣＨＮＩＱＵＥ社製；ＣＬＭ-０．８Ｓ、１００００ｒｐｍ）で５分間予備分散し、更に高圧ホモジナイザー（（株）スギノマシン社製；スタ―バースト）の処理条件を１００ＭＰａの圧力、パス回数を１２パスで分散処理を行った。
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（７）について、実施例１と同様に測定した液物性は、体積平均粒子径Ｍｖが８７ｎｍ、個数平均粒子径Ｍｎが３６ｎｍ、粘度が１．７ｍＰａｓ、ｐＨが８．６であった。
【０３５０】
引き続き、実施例１で用いた本発明の顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（１）の代わりに顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体（７）を用いた以外は実施例１と同様の操作をして本発明の水性インク組成物（１０）を得た。
東亜ＤＫＫ（株）製ｐＨメータ−ＷＭ−５０ＥＧにて、水性インク組成物（４）のｐＨを２５℃で測定したところ、８．８であった。
【０３５１】
［比較例］（実験１０５１〜１０５４）
実施例８のインクジェット用水性インク組成物（８）の組成において、顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散物における顔料、及び、ビニルポリマーを、表３に記載の顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０）、及び、表３に記載の組成で上記の合成例４と同様の方法で合成したビニルポリマーに変更した以外は、同様にして、比較例のインク組成物を得た。
【０３５２】
（顔料含有ビニルポリマー粒子の水分散体の安定性）
得られた顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体を、ＰＥＴ製容器に入れて密栓し、６０℃恒温槽中で７日間保存し、保存後の粘度及び平均粒子径を測定した。また、同様の方法で保存前の顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体の粘度及び平均粒子径も測定した。粘度は、Ｒ１００型粘度計（東機産業社製）により２５℃、コーンの回転数２０〜１００ｒｐｍの条件にて測定した。平均粒子径は、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用い、動的光散乱法により体積平均粒子径Ｍｖを測定した。それぞれの測定値を指標にして、下記の評価基準にしたがって顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体の安定性の評価をした。評価結果は下記表２に示す。
<評価基準>
Ａ：粘度及び平均粒子径ともに、保存前の値の±１０％未満であった。
Ｂ：粘度及び平均粒子径いずれかの値が、保存前の値の±１０％以上であった。
Ｃ：粘度及び平均粒子径ともに、保存前の値の±１０％以上であった。
【０３５３】
（インク組成物の安定性）
得られたインク組成物を、上記の顔料含有ビニルポリマー粒子水分散体の安定性と同様に測定し、それぞれの測定値を指標にして、下記の評価基準にしたがってインク組成物の安定性の評価をした。評価結果は下記表２に示す。
<評価基準>
Ａ：粘度及び平均粒子径ともに、保存前の値の±１０％未満であった。
Ｂ：粘度及び平均粒子径いずれかの値が、保存前の値の±１０％以上であった。
Ｃ：粘度及び平均粒子径ともに、保存前の値の±１０％以上であった。
【０３５４】
【表２】
2011074377.tif 000043
【０３５５】
［実施例１１］（実験１００１〜１０５４）
表３及び表４に記載の組成で上記の合成例１０４と同様の方法で合成した本発明のビニルポリマーを用いて、実施例１と同様の操作をして対応する本発明のインク組成物を得た。
【０３５６】
上記方法で作成した本発明のインクジェット記録用水性インクを用いた実験１００１〜１０５０、及び、上記の比較例のインクジェット記録用水性インクを用いた実験１０５１〜１０５４に関し、これらのインクの組成及び評価結果を表３及び表４中に示す。
【０３５７】
（吐出精度評価）
表３及び表４に示す顔料インク組成物をＰＥＴ製容器に密栓し６５℃環境下に３週間経時した。インクジェット記録装置として、富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製ＤＭＰ−２８３１プリンターを用い、インク液滴量２ｐＬで吐出周波数２０ｋＨｚ、ノズル配列列方向×搬送方向１６×１２００ｄｏｔ/２５．４ｍｍで１０ｃｍライン印字した。記録媒体として富士フイルム社製画彩写真仕上げＰｒｏを用いた。印字サンプルの打滴開始部から５ｃｍの部位のライン間の距離を王子計測機器製ドットアナライザイーＤＡ−６０００で測定し、その標準偏差を算出し、吐出の方向精度を評価した。
Ａ・・・標準偏差が３μｍ未満
Ｂ・・・標準偏差が３μｍ以上４μｍ未満
Ｃ・・・標準偏差が４μｍ以上５μｍ未満
Ｄ・・・標準偏差が５μｍ以上
【０３５８】
（印画濃度）
表３及び表４に示す顔料インク組成物を、インクジェット記録装置として、セイコーエプソン社製ＰＸ−Ｖ６３０を用い濃度が階段状のイエロー単色画像を印字した。記録媒体として富士フイルム社製画彩写真仕上げＰｒｏを用いた。反射濃度計（ＧＲＥＴＡＧ  ＭＡＣＢＥＴＨ  Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ）で測定し、実験１０１９を基準に階調部とベタ部のＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｉ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）を評価した。結果を表３及び表４に示す。
Ａ・・・実験１０１９に対し、ベタ部濃度高く、階調部濃度同等
Ｂ・・・実験１０１９に対し、ベタ部濃度及び階調部濃度同等
Ｃ・・・実験１０１９に対し、ベタ部濃度低く、階調部濃度同等
Ｄ・・・実験１０１９に対し、ベタ部濃度及び階調部濃度低い
【０３５９】
（色相）
色相については、上記で得られた印字物のＯＤ１付近の目視とＬ＊ａ＊ｂ＊を上記反射濃度計で測定し実験１０１９に対しての評価を行った。結果を表３及び表４に示す。
Ａ・・・実験１０１９に対し鮮やかで、色差（△Ｅ）が３未満
Ｂ・・・実験１０１９に対し鮮やかさ同等で、色差（△Ｅ）が３未満
Ｃ・・・実験１０１９に対し色差（△Ｅ）が３以上５以内
Ｄ・・・実験１０１９に対し色差（△Ｅ）が５以上
【０３６０】
（熱堅牢性）
上記印字物を７０℃の環境下で２週間暴露し、暴露前のＯＤが１の画像部について、濃度変化率を［（暴露後濃度／暴露前濃度）×１００％］、熱堅牢性として評価した。結果を表３及び表４に示す。
Ａ・・・濃度変化が５％未満
Ｂ・・・濃度変化が５％以上１０％未満
Ｃ・・・濃度変化が１０％以上２０％未満
Ｄ・・・濃度変化が２０％以上
【０３６１】
（光堅牢性）
上記印字物を、キセノンウェザーメーター（スガ試験機社製）を用いて屋外直接暴露相当条件（９．９ｋｗ、フィルタ：＃２７５）で５週間照射し、照射前のＯＤが１の画像部について、色素残存率［（照射後濃度／照射前濃度）×１００％］を求めて、光堅牢性を評価した。結果を表３及び表４に示す。
Ａ・・・色素残存率が９５％以上
Ｂ・・・色素残存率が９５％未満８５％以上
Ｃ・・・色素残存率が８５％未満７０％以上
Ｄ・・・色素残存率が７０％未満５０％以上
Ｅ・・・色素残存率が５０％未満
【０３６２】
（オゾンガス堅牢性）
上記印字物を、オゾン発生装置内（５ｐｐｍ）で４週間暴露し、照射前のＯＤが１の画像部について、色素残存率［（照射後濃度／照射前濃度）×１００％］を求めて、オゾン堅牢性を評価した。結果を表３及び表４に示す。
Ａ・・・色素残存率が９５％以上
Ｂ・・・色素残存率が９５％未満８５％以上
Ｃ・・・色素残存率が８５％未満７０％以上
Ｄ・・・色素残存率が７０％未満
【０３６３】
【表３】
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【０３６４】
【表４】
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【０３６５】
実施例１〜１０から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）、（Ｐｉｇ．−２）、（Ｐｉｇ．−３）、（Ｐｉｇ．−１８）又は（Ｐｉｇ．−２５）を用い、ビニルポリマーの疎水性構造単位にフェノキシエチルメタクリレートを用いることにより高温条件下で保存した後であっても、インク吐出精度評価で良好な結果が得られたことが判り、特に、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）、（Ｐｉｇ．−１８）又は（Ｐｉｇ．−２５）を用いることにより、印画濃度や色相も更に良好な結果が得られることが判る。
【０３６６】
実験１００１〜１００４から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）を用い、ビニルポリマーの疎水性構造単位にフェノキシエチルメタクリレートを用いることにより高温条件下で保存した後であっても、インク吐出精度評価、光堅牢性で特に良好な結果が得られたことが判る。
【０３６７】
また、実験１００３及び１００５〜１００７から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）を用い、ビニルポリマーの親水性構造単位が８質量％〜１５質量％の場合、インク吐出精度評価で特に良好な結果が得られたことが判る。
【０３６８】
また、実験１００３及び１００８〜１０１１から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１）を用い、顔料に対するビニルポリマーの添加量が３０％〜６０％の場合、インク吐出精度評価、光堅牢性で特に良好な結果が得られたことが判る。
【０３６９】
また、実験１００３及び１０１２〜１０１５から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．１）を用い、ビニルポリマーの質量平均分子量が３万〜８万の場合、インク吐出精度評価で特に良好な結果が得られたことが判る。
【０３７０】
また、実験１０１９〜１０２０から、顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントイエロー７４を用いると吐出精度、熱堅牢性、光堅牢性が悪化したことが判る。
【０３７１】
また、実験１０１６及び１０２１〜１０２４から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）を用い、インク中の顔料添加量が４．３％〜６．３％の場合、特に良好な吐出精度、印画濃度、光堅牢性が得られたことが判る。
【０３７２】
また、実験１０１６及び１０２５〜１０２９から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）を用い、顔料に対するビニルポリマーの添加量が３０％〜９０％の場合、特に良好な吐出精度、印画濃度、色相が得られたことが判る。
【０３７３】
また、実験１０１６及び実験１０３０〜１０３４から、顔料として本発明の例示化合物（Ｐｉｇ．−１８）を用い、インク中の自己分散性ポリマー微粒子の添加量がなし〜６％の場合、特に良好な吐出精度、印画濃度、色相が得られたことが判る。
【０３７４】
また、実験１０３５〜１０４５から、顔料として本発明の例示化合物Ｐｉｇ．−６，１０，１２，１９，２４，２５，３３，４１，４５，４６のいずれかを用い、ビニルポリマーの疎水性構造単位にフェノキシエチルメタクリレートを用いることにより、各インク吐出精度評価で特に良好な結果が得られたことが判る。
【０３７５】
また、実験１０４６〜１０５０から、ビニルポリマーの疎水性構造単位にフェノキシエチルメタクリレート以外の芳香族基を有する構造単位を使用した場合も、光堅牢性で特に良好な結果が得られたことが判る。
【０３７６】
また、実験１０５１〜１０５４から、顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、１２８、１８５、１５０を用いると、特に、吐出精度、印画濃度、色相が悪化したことが判る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2011074377.tif 000070
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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