(57)【要約】【課題】光照射清浄器と液晶基板の表面との間隔を常に所定値の許容範囲内に維持し、液晶基板の所期の表面清浄効果を確実に安定して得る液晶基板表面清浄装置を提供する。【解決手段】小型で簡単な縦型安定搬送機構で液晶基板を撓みの発生なく、多少の上下微振動があっても液晶基板の表面と光照射清浄器との間隔に全く影響を与えることのない、機内の縦型傾斜搬送手段と、液晶基板を保持しその表面を光照射清浄器に進退移動させる吸着保持手段と進退移動手段と、液晶基板の表面と光照射清浄器の照射発光源との間隔を任意の所定値に自動的に微調整する進退量制御手段とを小スペース内に収めた液晶基板表面清浄装置。【選択図】        図１
2011064893.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶基板の表面清浄を行う液晶基板表面清浄装置であって、
囲いボックスの架構本体（100）内に鉛直状からの傾斜角度を調整可能に設けた傾斜調整枠（101）と、
前記傾斜調整枠（101）に支持され縦型で傾斜調整枠内に挿入される液晶基板（W）の下端部を支持する昇降機構付の下端支持搬送ロール（201）と当該液晶基板の裏面を支持する複数の裏面支持搬送ロール（202）を配置した搬送ロール機構（200）と、
前記傾斜調整枠（101）の後部に設けた前進後退駆動機構（500）に支持され、前面部に液晶基板の裏面を吸着支持・解除する吸引パット(301)を複数配置し、前記前進後退駆動機構（500）により吸引パットを前記裏面支持搬送ロールの液晶基板裏面支持位置の後方と前方を往復移動させる吸着パット支持枠体（300）と、
前記傾斜調整枠（101）の前部に支持して吸着パット支持枠体（300）の前方に対面平行して配置され吸着パット支持枠体で吸着支持した液晶基板（W）の表面に所定間隔離間して照射発光源から光照射する光照射清浄器(401)を液晶基板の表面に沿って横方向往復走行移動可能に装着支持する光照射清浄器支持枠体（400）と、
吸着パット支持枠体（300）で支持した液晶基板の表面と光照射清浄器(401)の照射発光源との対面離間間隔を測定する離間間隔測定器(601)を有しこの離間間隔測定器からの対面離間間隔値に基いて前記前進後退駆動機構（500）の進退量を制御しその目的値に一致させる進退量制御装置（600）と
を設けたことを特徴とする液晶基板表面清浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板状の液晶基板の表面をエキシマ照射或いはプラズマ照射して清浄する液晶基板表面清浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶基板表面清浄装置は、エキシマ光或いはプラズマを発生する清浄光照射装置を備え、発生した清浄光を液晶基板表面に照射してその表面の汚れを清浄する。例えばエキシマ照射装置は、エキシマランプの放電容器内にエキシマ分子を形成する放電用ガスを充填し、無声放電と呼ばれる誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成し、そのエキシマ分子から放射される単一波長の紫外光（以下「エキシマ光」という。）を液晶基板表面に照射し、その表面の汚れ、バクテリア、その他の細菌を清浄、滅菌し、更に濡れ性なども改善するものである。
従来の液晶基板表面清浄装置は、平面型で、ロール搬送水平状態の液晶基板の全表面に沿ってエキシマ照射装置のエキシマランプ又は液晶基板自体をロール搬送により一方向に又は可逆方向に相対移動させるものが主体であった。
このため広い設置スペースを必要とする大型なものであり、液晶基板の大型化に伴い益々広大な設置スペースを必要とする趨勢にある。
また次に記載のように液晶基板の表面とエキシマランプとの間隔を所定値に維持することが極めて困難であった。
因みにエキシマランプと液晶基板の表面との間隔は通常2.5mm±0.5mmと極めて厳しい制約がある。
しかし、機内外に設ける液晶基板の水平搬送ロール装置が複雑且つ大型化なため、水平状態にした液晶基板の水平搬送中の撓みによりエキシマランプと液晶基板の表面との間隔が大きく変動する。
更に、液晶基板の水平搬送ロールによる線接触の間隔で支持搬送するため液晶基板が微細に上下振動し且つ波状に撓みによるエキシマランプと液晶基板の表面との間隔の変動が加わる。このためロールピッチを小さく細密化しても限界があり当該微細な上下振動と撓みによる対面間隔変動は皆無にはならない。
この問題を是正すべく水平搬送ロールをフラット搬送台にすることも考えられるが、複雑かつ大型化して設備費が高額に嵩み、現実的に抜本的な解決策にはならない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、小型で簡単な搬送機構で液晶基板の撓みが殆ど発生しなく、多少の上下微振動があっても液晶基板の表面と光照射清浄器との間隔に全く影響を与えることのない、機内の搬送手段と、液晶基板を保持しその表面を光照射清浄器に進退移動させる保持進退手段と、液晶基板の表面と光照射清浄器との間隔を微調整する自動制御の進退量調節手段とを小スペース内に収めて、光照射清浄器と液晶基板の表面との間隔を常に所定値の許容範囲内に維持し、液晶基板の所期の表面清浄効果を確実に得る液晶基板表面清浄装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は前記の課題を満足する液晶基板Ｗの表面清浄を行う液晶基板表面清浄装置であって、その特徴とするところは次の(1)のとおりである。
(1)、液晶基板の表面清浄を行う液晶基板表面清浄装置であって、
囲いボックスの架構本体100内に鉛直状からの傾斜角度を調整可能に設けた傾斜調整枠101と、
前記傾斜調整枠に支持され縦型で傾斜調整枠内に挿入される液晶基板の下端部を支持する昇降機構付の下端支持搬送ロールと当該液晶基板の裏面を支持する複数の裏面支持搬送ロールを配置した搬送ロール機構200と、
前記傾斜調整枠の後部に設けた前進後退駆動機構500に支持され、前面部に液晶基板の裏面を吸着支持・解除する吸引パットを複数配置し、前記前進後退駆動機構により吸引パットを前記裏面支持搬送ロールの液晶基板裏面支持位置の後方と前方を往復移動させる吸着パット支持枠体300と、
前記傾斜調整枠の前部に支持して吸着パット支持枠体の前方に対面平行して配置され吸着パット支持枠体で吸着支持した液晶基板の表面に所定間隔離間して照射発光源から光照射する光照射清浄器を液晶基板の表面に沿って横方向往復走行移動可能に装着支持する光照射清浄器支持枠体400と、
吸着パット支持枠体で支持した液晶基板の表面と光照射清浄器の照射発光源との対面離間間隔を測定する離間間隔測定器を有しこの離間間隔測定器からの対面離間間隔値に基いて前記前進後退駆動機構の進退量を制御しその目的値に一致させる進退量制御装置600と
を設けたことを特徴とする液晶基板表面清浄装置。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の液晶基板表面清浄装置において、機内の搬送手段は、液晶基板を略竪型状にして取り扱うもので、小型で簡単な竪型搬送手段により液晶基板に撓みを殆ど発生しなく、搬送中に多少の上下微振動があっても振動方向が液晶基板の幅方向に働くので液晶基板の表面と光照射清浄器との間隔に全く影響を与えることがない。そして竪型搬送手段と、液晶基板を保持しその表面を光照射清浄器に進退移動させる吸着保持進退手段と、液晶基板の表面と光照射清浄器との間隔を任意に設定した所定値にする前進後退駆動機構と、微調整進退量調節手段とを小スペース内に収めて、光照射清浄器の照射発光源と液晶基板の表面との間隔を常に任意に設定した所定値の許容範囲内に自動的に維持し、液晶基板の清浄、殺菌などの所期の表面清浄効果を確実に安定して得るものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の液晶基板表面清浄装置を実施するための最良の形態を以下に紹介の実施例と共に詳細に説明する。
【実施例１】
【０００７】
本発明の液晶基板表面清浄装置の実施例を図１〜図６に示し、図１は本実施例の側面説明図であり、Iは図2の矢視-Ｄ-Ｄから見た全体の側断面説明図であり、判り易いようにIIは吸着パット支持枠体300を省略した側面説明図であり、IIIは搬送ロール機構200を省略した側面説明図である。
図２は図１のIの矢視Ａ-Ａから見た全体の正面図であり、図３は図１のIの矢視Ｂ-Ｂから見た光照射清浄器支持枠体400の正面を中心に示す説明図であり、図４は図１のIの矢視Ｃ-Ｃから見た搬送ロール機構200と吸着パット支持枠体300の正面を中心に示す説明図である。
図５は図１のIの下部の要部を拡大して示す説明図であり、図６は、図１のIに示す吸着パット支持枠体300の前進後退駆動機構500を拡大して示す説明図である。
【０００８】
本例の液晶基板Ｗ表面清浄装置は、液晶基板Ｗの表面清浄を行うものであって、換気可能にした直方体状の囲いボックスの架構本体100内に、傾斜調整枠101と、この傾斜調整枠101で縦型に傾斜支持する搬送ロール機構200（機内の縦型傾斜搬送手段）と、吸着パット支持枠体300と、光照射清浄器支持枠体400を並設し、更に吸着パット支持枠体300の複数個（本例は四箇所）の前進後退駆動機構500（液晶基板Ｗの保持進退手段）と、前進後退駆動機構500の進退量制御装置600とを設けてなる。
【０００９】
傾斜調整枠101は、下端を水平回転軸102で架構本体100の下部に軸着し上端を架構本体100の上部に傾斜調整スクリューシャフト機構103で傾動可能に支持装着し、この傾斜調整シャフト機構103により傾動して搬送ロール機構200、吸着パット支持枠体300、光照射清浄器支持枠体400、前進後退駆動機構500等の全体を所定の液晶基板取り扱いの安定傾斜角度2〜10度に設定する。
【００１０】
搬送ロール機構200は、傾斜調整枠101の下部に設けられ鉛直状から2〜10度傾斜した状態で架構本体100の側部開口部から挿入される液晶基板Ｗの下端面を支持する複数の下端支持搬送ロール201と、傾斜調整枠101の後部で支持され当該液晶基板Ｗの裏面の上部を支持する複数の竪型の裏面支持搬送ロール202とを配置してある。
【００１１】
前記搬送ロール機構200の下端支持搬送ロール201は、ロール支持架構212に配列し駆動モータ203によるタイミングベルト204で駆動し、傾斜調整枠101の下部に設けた一対のピストンシリンダー式昇降機構210によりロール支持架構212を介して所定高さ間を上下する。この上下動の上限レベルを液晶基板Ｗ支持搬送レベルとし、下限レベルを吸着パット支持枠体300による液晶基板Ｗ吸着前進の際の下降退避レベルにしてある。
【００１２】
吸着パット支持枠体300は、搬送ロール機構200で支持した液晶基板Ｗの裏面を吸着支持・解除する吸引パット301を、液晶基板Ｗの最大サイズ保持領域に複数配置し、後部枠部302の上下左右の四箇所を前進後退駆動機構500で支持されて傾斜調整枠101の横梁105に取り付けられ、前進後退駆動機構500により前後進して、吸着パットを搬送ロール機構200の裏面支持搬送ロール202位置の後方側からその前面側に移動可能とし、且つ進退量制御装置600により光照射清浄器401の清浄走行面に対する吸着した液晶基板Ｗの対向表面との間隔を所定値にすべく作動される。
【００１３】
吸着パット支持枠体300の前進後退駆動機構500構成は、図６に示す。
前進後退駆動機構500は、進退駆動サーボモーター501側と、摺動進退駆動伝達接続具502側からなり、進退駆動サーボモーター501側は傾斜調整枠101の横梁105に前端開放型の摺動進退ガイドボックス503を固定支持し、摺動進退ガイドボックス503の後端中央部に進退駆動サーボモーター501の減速機504を装着し減速機504の回転軸505を内部に貫通挿入する。摺動進退駆動伝達接続具502側は摺動進退ガイドボックス503内に摺動進退直線ガイド506を摺動進退自在に嵌めその後部を回転軸505に螺合し、前部を吸着パット支持枠体300の後部枠部302にバネ螺子式連結固定具507で連結支持させてある。
このバネ螺子式連結固定具507による吸着パット支持枠体300の連結は、前進後退駆動機構500の個々が互いに干渉されずに夫々別個の値に単独制御されることを可能にしている。
【００１４】
この前進後退駆動機構500は、搬送ロール機構200でロール支持した液晶基板Ｗの裏面に対して吸着パット支持枠体300を前進させて吸着パット301を接触吸着させて一旦停止し、次いで下端支持搬送ロール201が下降し吸着パット301のみによる液晶基板Ｗ支持後に、再び吸着パット支持枠体300を前進させて、吸着支持した液晶基板Ｗの表面を光照射清浄器支持枠体400の光照射清浄器401に所定距離で接近して停止させる。この停止に当たっては前進後退駆動機構500個々が進退量制御装置600により液晶基板Ｗの表面と光照射清浄器401の照射発光源である光照射管410との対面離間間隔を各目標値に制御される。
【００１５】
光照射清浄器支持枠体400は、搬送ロール機構200の対面側に配置され吸着パット支持枠体300で吸着支持した液晶基板Ｗの表面に所定間隔離間して光照射管410で光照射する光照射清浄器401を横方向往復走行移動可能に装着支持してある。
光照射清浄器401としては、エキシマ照射装置或いはプラズマ照射装置などを採用するが、本例はエキシマ照射装置を採用した例である。
液晶基板Ｗの前進後退駆動機構500を制御する進退量制御装置600は、光照射清浄器支持枠体400が横移動し光照射清浄器401により、対面している吸着パット支持枠体300に保持された液晶基板Ｗの表面に光照射する際に、光照射清浄器401に搭載された離間間隔測定器601により液晶基板Ｗと照射発光源である光照射管410との間隔を逐次測定し、その間隔が例えば設定値の2.5ｍｍ±0.5ｍｍの範囲から外れようとした場合に前進後退駆動機構500の個々を制御し当該設定値（目標値）の範囲内に微調整を行う。その場合に、光照射清浄器401が液晶基板Ｗと正対してなく、多少傾いていたとしてもその傾きに合致するように四箇所の前進後退駆動機構500を個別に制御し微調整を行う事ができ、前進後退駆動機構500の稼動範囲内であれば如何なる場合においても対応可能な機構であり、光照射清浄器支持枠体400が横移動し液晶基板Ｗに光照射を行っている際はこのフィードバック制御を絶え間なく行う事で光照射清浄器401の清浄機能を高位安定化させている。
離間間隔測定器601はレーザー光式、マイクロ波式、超音波式など公知の距離計を適宜採用すればよい。
【００１６】
光照射清浄器支持枠体400の構成は、傾斜調整枠101の前部に支持した上下枠402,403にガイドレール404,405を設け、ガイドレール404,405で光照射清浄器401の上下を走行可能に支持し、下枠403に駆動モータ406を装着しこれにタイミングベルト407を介して光照射清浄器401を横行走行させる。光照射清浄器401と離間間隔測定器601の給電と制御等の電気信号は架構本体100内の底部に配置したキャブタイヤケーブル機構408により行う。駆動モータ406は固定しているため別途給電してある。
【産業上の利用可能性】
【００１７】
本発明の液晶基板表面清浄装置は、機内の搬送手段は、液晶基板を略竪型状にして取り扱うもので、小型で簡単な竪型搬送手段により液晶基板に撓みを殆ど発生しなく、搬送中に多少の上下微振動があっても振動方向が液晶基板の幅方向に働くので液晶基板の表面と光照射清浄器との間隔に全く影響を与えることがない。そして竪型搬送手段と、液晶基板を保持しその表面を光照射清浄器に進退移動させる吸着保持進退手段と、液晶基板の表面と光照射清浄器の照射発光源との間隔を所定値にする微調整用の進退量制御手段付の前進後退駆動機構と、小スペース内に収めて、光照射清浄器の照射発光源と液晶基板の表面との間隔を常に所定値の許容範囲内に自動的に維持し、液晶基板の清浄、殺菌などの所期の表面清浄効果を確実に安定して得る優れた効果を有し、液晶基板製造産業界に画期的な貢献を呈するものである。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の液晶基板表面清浄装置の実施例を示す側面説明図であり、Iは図２の矢視-Ｄ-Ｄから見た全体の側断面面説明図であり、判り易いようにIIは吸着パット支持枠体を省略した側面説明図であり、IIIは搬送ロール機構を省略した側面説明図である。
【図２】図１のIの矢視Ａ-Ａから見た液晶基板表面清浄装置の正面図である。
【図３】図１のIの矢視Ｂ-Ｂから見た光照射清浄器支持枠体400の清浄器の横行機構を中心に示す正面説明図である。
【図４】図１のIの矢視Ｃ-Ｃから見た搬送ロール機構と吸着パット支持枠体の全体正面説明図である。
【図５】図１のIの下部の拡大詳細説明図である。
【図６】傾斜調整枠に吸着パット支持枠体を進退移動可能に取り付けた前進後退駆動機構の詳細側断面説明図である。
【符号の説明】
【００１９】
Ｗ    液晶基板
100  直方体状の囲いボックスの架構本体
101  傾斜調整枠
200  搬送ロール機構
300  吸着パット支持枠体
400  光照射清浄器支持枠体
500  前進後退駆動機構
600  進退量制御装置
【図１】
2011064893.tif 000003
【図２】
2011064893.tif 000004
【図３】
2011064893.tif 000005
【図４】
2011064893.tif 000006
【図５】
2011064893.tif 000007
【図６】
2011064893.tif 000008