(57)【要約】【課題】ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各フォトマスク面の照度を容易に測定し校正する、照度の測定及び校正方法、並びに露光装置を提供する。【解決手段】マスクホルダ３０にフォトマスクＰＭ３を装着するマスク搬送トレイ４１に、照度測定ユニット７０を保持させ、照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に照度測定ユニットを合わせ、測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うこと。露光ヘッドＨは光源８０、マスクホルダを備え、マスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構４０を備え、フォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ照度を測定し校正する露光装置。【選択図】図１２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各露光ヘッドのマスクホルダに装着されたフォトマスク面に照射される露光光の照度を測定及び校正する際に、
１）前記各露光ヘッドのマスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイに、照度測定ユニットを保持させ、
２）該マスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定する前記フォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ、
該フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、該測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うことを特徴とする照度の測定及び校正方法。
【請求項２】
前記照度測定ユニットに設けられた照度センサーは、マスク搬送トレイの移動、及び照度センサーの移動によって、フォトマスク面内の任意の位置で照度の測定ができることを特徴とする請求項１記載の照度の測定及び校正方法。
【請求項３】
ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置において、
１）前記露光ヘッドの各々は、少なくとも光源、マスクホルダを備え、
２）該マスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構を備え、
該マスク搬送トレイに照度測定ユニットを保持させ、該マスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせることにより、該フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、該測定した照度を標準照度と対比した校正を、各露光ヘッドのマスクホルダに装着された各フォトマスク面について行えることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
前記照度測定ユニットに設けられた照度センサーは、マスク搬送トレイの移動、及び照度センサーの移動によって、フォトマスク面内の任意の位置で照度の測定ができることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記露光装置は、照射される露光光の照度の測定及び校正、及び積算露光量を算出する計測器を備えていることを特徴とする請求項３又は請求項４記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置における照度の測定及び校正方法に関するものであり、特に、ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各露光ヘッド内のフォトマスク面に照射される露光光の照度を容易に測定し、その照度を校正する方法、並びに照度の測定及校正を容易に行える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置用のカラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを大サイズのガラス基板に多面付けした状態で製造する。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
この際の露光は、ガラス基板のサイズと略同程度のサイズのマスク基板に、例えば、対角１７インチのカラーフィルタを形成するためのマスクパターンが４面付けされたフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。４面付けされたマスクパターンの４画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
【０００３】
この一括露光法において、露光装置内では、ガラス基板にフォトマスクが密着することによって生じるキズを防止するため、また、フォトマスクに塵埃が付着した際に画素が欠陥となってしまうのを防止するためフォトレジストが塗布されたガラス基板と、略ガラス基板大のフォトマスクとは、例えば、１００μｍ程度の間隙を保ってのプロキシミティ（近接）露光を行っている。
【０００４】
この際の多面付けは、例えば、パターンである着色画素の膜厚、仕上がりサイズなどが同一仕様の、つまり、同一品種のカラーフィルタを多面付けする。そして、その製造にあたっては、面間のバラツキが発生しないように、各工程での条件に配慮を施し製造を行う。このような、大サイズのガラス基板に、マスクパターンが多面付けされたフォトマスクを用いた１回の露光を行い、続いて一括した現像処理を行うといった、この一括露光法による製造方法は、フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の製造方法としては、廉価に大量にカラーフィルタを製造することのできる優れた製造方法といえる。
【０００５】
しかしながら、マスクサイズの大型化によるコスト高と、マスクの自重による撓みの問題の解決のため、ガラス基板のサイズが、例えば、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ程度の第４世代からは、露光方式は一括露光法から１軸ステップ露光方式が採用され始め、また、ガラス基板のサイズが、例えば、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ程度の第５世代からは、ＸＹ（２軸）ステップ露光方式（所謂、ステップ・アンド・リピート方式）に移行している。
【０００６】
図１は、ＸＹステップ露光方式によりカラーフィルタを製造する際のステップ露光の一例を説明する平面図である。
図１に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に、第１露光〜第６露光の６回の露光が行われた例である。第１露光から数えて５回のステップ移動（Ｐｙ、Ｐｘ）毎に、第２露光以降の各露光が行われたものである。符号（１Ｅｘ〜６Ｅｘ）は、各々第１露光〜第６露光の領域を表している。
【０００７】
このようなステップ露光方式への移行によって、マスクサイズの大型化によるコスト高は抑制され、自重による撓みの問題は解決された。
しかしながら、ガラス基板のサイズが、例えば、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度の第６世代、或いは、例えば、２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度の第８世代へと更に大型化へと
移行するのに伴い、マスクサイズの大型化も付随し、コスト高と、撓みの問題が再燃している。
【０００８】
そこで、ガラス基板のサイズが更に大型化へと移行した際の、付随するフォトマスクのコスト高を回避するために、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型化にしてカラーフィルタを製造すべく、様々な露光方式が試みられている。
図２は、スリット露光によりカラーフィルタを製造する際のスリット露光の一例を説明する平面図である。図２に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に第１露光と第２露光の２回の露光が行われる例である。
【０００９】
図２示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の上方にフォトマスク（ＰＭ２）が配置されている。フォトマスク（ＰＭ２）は露光装置内で固定されており、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向には原則として移動しないようになっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方の露光ステージ（６０）は、ガラス基板（５０）を載置した状態で、白太矢印で示すように、図２中左方、Ｘ軸方向に等速で移動するようになっている。また、Ｙ軸方向ではステップ移動を行うようになっている。
【００１０】
スリット露光とは、露光装置内に、ガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に短く、幅方向（Ｙ軸方向）に長いスリット（Ｓ）を設け、スリット（Ｓ）又はガラス基板をガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に移動させながらスリット（Ｓ）を介した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に与え、ガラス基板の全面を露光する露光方法である。
カラーフィルタを製造する際のスリット露光は、ストライプ状の着色画素を形成するので、上記スリット（Ｓ）は、着色画素のストライプの幅に対応した幅（Ｗｉ）を開口部（５１）とし、他の部分を遮光部（５２）とした構成となる。この開口部（５１）が着色画素の形成に対応したマスクパターンとしてフォトマスク（ＰＭ２）に設けられている。
【００１１】
図３は、スリット露光に用いられるフォトマスク（ＰＭ２）の一例におけるスリット（Ｓ）の部分を拡大して示す平面図である。このフォトマスク（ＰＭ２）は、ネガ型フォトレジストに対応した例である。
図３に示すように、スリット（Ｓ）の長手方向（Ｌｓ）はＹ軸と平行であり、この長手方向（Ｌｓ）に多数個の開口部（５１）が配設されている。開口部（５１）以外の部分は遮光部（５２）となっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方では、図３中、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動（Ｘ軸方向）させながら、開口部（５１）を透過した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）を連続して照射する。尚、符号（Ｐｉ）は開口部（５１）のピッチ、符号（Ｗｉ）は開口部（５１）の幅、符号（Ｌｉ）は開口部（５１）の長さを表している。
【００１２】
図４（ａ）は、ガラス基板（５０）上に塗布されたフォトレジストの塗膜（５４）にフォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介した第１露光が開始される状態を表したものである。また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。図４（ａ）、（ｂ）は、図２のＸ−Ｘ線での断面図である。図４中、白太矢印で示すように、露光ステージ（６０）を図中左方へ移動（Ｘ軸方向）させながら、フォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介し連続して露光光（Ｅ）を与え、図４（ｂ）中、斜線で示す第１露光を終了する。第２露光は図２に示すステップ移動（Ｐｙ）を露光ステージ（６０）に与えた後に行われる。
このように、スリット露光は、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型にして、Ｘ軸方向に長く、大面積の露光を可能とする方式である。
【００１３】
図５は、このようなスリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。図５に示すように、このカラーフィルタは、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上に、赤色、緑色、青色の着色画素（２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂ）が
形成された状態のものである。
各色の着色画素は、各々が図５中、Ｘ軸方向に画素間で途切れず、連続したストライプ状のものである。また、Ｙ軸方向には、その各々のストライプ状の着色画素の列が、赤色、緑色、青色の順に繰り返し配設されている。すなわち、スリット露光方式が好適に適用された例である。
【００１４】
図６は、スリット露光方式によりカラーフィルタを製造する際の、露光装置の他の例を示す平面図である。図６は、露光装置の露光ステージ（６０）上部を表している部分平面図である。
前記図２に示す、スリット露光を行う露光装置では、サイズ（（ａ）×（ｂ））のフォトマスク（ＰＭ２）を用い、第１及び第２露光の２回の露光によりガラス基板（５０）の全面を露光する。この露光装置で用いるフォトマスク（ＰＭ２）は、図１に示すＸＹステップ露光方式におけるフォトマスク（ＰＭ）のサイズ（（ｃ）×（ｄ））と比較し、Ｘ軸方向のサイズは数分の１（（ａ）≪（ｃ）、（ｂ）≒（ｄ））に小型化されたものが例示されている。
【００１５】
図６に示す露光装置の他の例は、ガラス基板（５０）のサイズが更に大型化した際に、スリット露光の精度を保持し、且つフォトマスクのサイズを更に小型化し、また、１回の露光でガラス基板の全面を露光して、廉価にカラーフィルタを製造する露光装置の例である。
【００１６】
図６中、符号（Ｈ）は、光源、マスクホルダ、フォトマスクで一体的に構成される露光ヘッドを表している。この露光ヘッドに装着されるフォトマスク（図示せず）のサイズは、図２に示すフォトマスク（ＰＭ２）のサイズより更に小さな、特にＹ軸方向に小さな小型フォトマスクである。
図６に示すように、複数基の露光ヘッド（Ｈ）が、基板ステージ（６０）の移動方向と直角な方向（Ｙ軸方向）に一定の間隔を保った列をなして設けられている。各々の露光ヘッド（Ｈ）の光源からの露光光（Ｅ）の光軸は、図６中、符号（Ｙ２）又は（Ｙ３）で表す一直線上に揃えたものとなっている。露光ヘッド（Ｈ）の複数基からなる列は、露光ヘッド（Ｈ）の大きさからして二列とした例である。
【００１７】
図６（ｂ）は、露光ヘッドの列の配列を表したものである。基板ステージ（６０）の移動方向の逆方向（図６中、Ｘ軸右方向）側に設けられた前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）は、奇数番目の露光ヘッド（Ｈ１〜Ｈ１１）で構成され、また、基板ステージ（６０）の移動方向の順方向側に設けられた後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）は、偶数番目の露光ヘッド（Ｈ２〜Ｈ１２）で構成されている。前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）及び後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）は、相互に補完し、露光光（Ｅ）の光軸をＹ軸方向の一直線上に揃え、一体となった露光部として機能させている。
【００１８】
さて、カラーフィルタを構成するパターン、例えば、着色画素の寸法には高い精度と、高い安定性が求められており、着色画素の形成に用いる露光装置は、そのフォトマスク面に照射される露光光の照度を定期的に測定し、校正する必要がある。
前記図１に示すＸＹステップ露光方式による露光装置では、基板ステージ（６０）側面の、マスクホルダと干渉しない高さの位置に照度を測定するセンサーを設け、露光光が照射される領域内の任意の位置に基板ステージを移動して照度を測定するといった方法を採用している。
【００１９】
すなわち、ＸＹステップ露光方式による、この種の露光装置では、露光光が照射される領域内の任意の位置での照度を測定し、標準照度との比較による補正を行うといった校正作業は、比較的容易に行うことができる。
【００２０】
一方、スリット露光方式による、図６に例示する露光装置は、図６中、Ｙ軸方向に複数基の露光ヘッドが配設されているので、基板ステージ（６０）はＹ軸方向の移動はなく、基板ステージの移動はＸ軸方向のみである。このため、基板ステージは任意の測定位置に移動することができず（Ｙ軸方向）、上記ＸＹステップ露光方式による露光装置のように、基板ステージ側面に照度を測定するセンサーを設けることによって、複数基の露光ヘッド内に装着されたフォトマスクの対応した位置に照射される露光光の照度を測定し、校正することは困難なこである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２１】
【特許文献１】特開２００７−１２１３４４号公報
【特許文献２】特開２００７−２８１３１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、上述したスリット露光方式による露光装置のように、ガラス基板の移動方向と直角な方向（Ｙ軸方向）に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各露光ヘッドのマスクホルダに装着されたフォトマスク面に照射される露光光の照度を、各フォトマスク面内の任意の位置で容易に測定し、その照度を校正することのできる、照度の測定及び校正方法を提供することを課題とするものであれる。
また、上記照度の測定及び校正を容易に行うことのできる露光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各露光ヘッドのマスクホルダに装着されたフォトマスク面に照射される露光光の照度を測定及び校正する際に、
１）前記各露光ヘッドのマスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイに、照度測定ユニットを保持させ、
２）該マスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定する前記フォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ、
該フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、該測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うことを特徴とする照度の測定及び校正方法である。
【００２４】
また、本発明は、上記発明による照度の測定及び校正方法において、前記照度測定ユニットに設けられた照度センサーは、マスク搬送トレイの移動、及び照度センサーの移動によって、フォトマスク面内の任意の位置で照度の測定ができることを特徴とする照度の測定及び校正方法である。
【００２５】
また、本発明は、ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置において、
１）前記露光ヘッドの各々は、少なくとも光源、マスクホルダを備え、
２）該マスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構を備え、
該マスク搬送トレイに照度測定ユニットを保持させ、該マスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニット
を合わせることにより、該フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、該測定した照度を標準照度と対比した校正を、各露光ヘッドのマスクホルダに装着された各フォトマスク面について行えることを特徴とする露光装置である。
【００２６】
また、本発明は、上記発明による露光装置において、前記照度測定ユニットに設けられた照度センサーは、マスク搬送トレイの移動、及び照度センサーの移動によって、フォトマスク面内の任意の位置で照度の測定ができることを特徴とする露光装置である。
【００２７】
また、本発明は、上記発明による露光装置において、前記露光装置は、照射される露光光の照度の測定及び校正、及び積算露光量を算出する計測器を備えていることを特徴とする露光装置である。
【発明の効果】
【００２８】
本発明は、露光ヘッドのマスクホルダに装着されたフォトマスク面に照射される露光光の照度を測定及び校正する際に、各露光ヘッドのマスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイに、照度測定ユニットを保持させ、マスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ、フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うので、ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各露光ヘッドのマスクホルダに装着されたフォトマスク面に照射される露光光の照度を容易に測定し、その照度を校正することのできる、照度の測定及び校正方法となる。
【００２９】
また、本発明は、露光ヘッドの各々は、少なくとも光源、マスクホルダを備え、マスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構を備え、マスク搬送トレイに照度測定ユニットを保持させ、マスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に照度測定ユニットを合わせることにより、フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、測定した照度を標準照度と対比した校正を、各露光ヘッドのマスクホルダに装着された各フォトマスク面について行えるので、ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、照度の測定及び校正を容易に行うことのできる露光装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】ステップ露光の一例を説明する平面図である。
【図２】スリット露光の一例を説明する平面図である。
【図３】スリット露光に用いられるフォトマスクの一例におけるスリットの部分を拡大して示す平面図である。
【図４】（ａ）は、スリットを介した第１露光が開始される状態を表したものである。（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。
【図５】スリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。
【図６】スリット露光方式によりカラーフィルタを製造する露光装置の他の例を示す平面図である。
【図７】本発明による露光装置の一例の露光ヘッドの部分を示す平面図である。
【図８】図７に示す、複数基の露光ヘッド内でのフォトマスクの配列を示した平面図である。
【図９】フォトマスクを装着するマスクホルダの配列と、トレイ搬送機構を説明する平面図である。
【図１０】図９中、白太矢印で示す方向からの側面図である。
【図１１】マスクホルダにフォトマスクを装着する方法の一例を示す平面図である。
【図１２】本発明による照度の測定及び校正方法の一例を示す平面図である。
【図１３】照度測定ユニットの一例の概略を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図７は、スリット露光方式によりカラーフィルタを製造する際の、本発明による露光装置の一例の露光ヘッドの部分を示す平面図である。図７に示すように、複数基の露光ヘッド（Ｈ）が、ガラス基板（５０）の移動方向（白太矢印）と直角な方向（Ｙ軸方向）に一定の間隔を保った列をなして設けられている。各々の露光ヘッド（Ｈ）の光源からの露光光（Ｅ）の光軸は、図７中、符号（Ｙ２）又は（Ｙ３）で表す一直線上に揃えたものとなっている。
【００３２】
露光ヘッドは、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）と後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）の二列であり、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）は、奇数番目の６基の露光ヘッド（Ｈ１〜Ｈ１１）で構成され、また、後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）は、偶数番目の露光ヘッド（Ｈ２〜Ｈ１２）で構成されている。前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）及び後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）は、相互に補完し、露光光（Ｅ）の光軸をＹ軸方向の一直線上に揃え、一体となった露光部として機能させている。この露光ヘッド（Ｈ）の各々は、光源、マスクホルダ、フォトマスクが一体的に構成されたものである。
【００３３】
図８は、図７に示す、複数基の露光ヘッド（Ｈ）内でのフォトマスクの配列を示した平面図である。フォトマスクは、露光ヘッド（Ｈ）内では光源の下方に設けられたマスクホルダに装着されているのであるが、図８は、フォトマスクのみの配列を示したものである。なお、図８は、図７を４５°右回転させたものとしている。
【００３４】
複数基の露光ヘッド（Ｈ）内でのフォトマスクは、露光ヘッドの、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）と後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）に準じて、前方フォトマスク列（ＰＭ−Ａ）と後方フォトマスク列（ＰＭ−Ｂ）の二列であり、前方フォトマスク列（ＰＭ−Ａ）は、奇数番目の６基のフォトマスク（ＰＭ３−１〜ＰＭ３−１１）で構成され、また、後方フォトマスク列（ＰＭ−Ｂ）は、偶数番目の６基のフォトマスク（ＰＭ３−２〜ＰＭ３−１２）で構成されている。この二列間のピッチは、露光ヘッド（Ｈ）の二列間のピッチと同一のピッチ（Ｐｉ−３）である。
【００３５】
このフォトマスク（ＰＭ３−１〜ＰＭ３−１２）は、前記図３に示すような、その中央部にスリット（Ｓ）が設けられたフォトマスクである。
具体的には、このフォトマスクの外形寸法（ｅ×ｆ）は、３００×３５０ｍｍ程度、フォトマスク内のスリット寸法（ｇ×ｈ）は、６０×２３０ｍｍ、フォトマスク間のピッチ（Ｐｉ−２）は、２０５ｍｍである。
【００３６】
このフォトマスクの配列は、ガラス基板のサイズ（Ｗ×Ｌ）が２１００×２４００ｍｍ程度の第８世代の大型のガラス基板（５０）に対応した露光装置に用いられる例である。大型のガラス基板（５０）は、図８中、前方フォトマスク列（ＰＭ−Ａ）と後方フォトマスク列（ＰＭ−Ｂ）の下方を、白太矢印で示す方向に空気浮上搬送コンベアによって搬送されながら、ガラス基板（５０）にフォトマスクを介した上方からの露光光が照射されるようになっている。
【００３７】
図９は、露光ヘッド（Ｈ）内に設けられた、フォトマスクを装着するマスクホルダの配列と、トレイ搬送機構を説明する平面図である。また、図１０は、図９中、白太矢印で示す方向からの側面図である。
【００３８】
図９及び図１０に示すように、複数基の露光ヘッド（Ｈ）内のマスクホルダ（３０）は、露光ヘッドの、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）と後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）に準じて、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）と後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）の二列であり、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）は、奇数番目の６基のマスクホルダ（３０−１〜３０−１１）で構成され、また、後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）は、偶数番目の６基のマスクホルダ（３０−２〜３０−１２）で構成されている。この二列間のピッチは、露光ヘッド（Ｈ）の二列間のピッチと同一のピッチ（Ｐｉ−３）である。
【００３９】
マスクホルダ（３０）は、露光ヘッド（Ｈ）内でフォトマスクを保持するものであり、枠状の形状をしている。各マスクホルダ（３０−１〜３０−１２）の上方には、各マスクホルダに対応した光源（８０−１〜８０−１２）が設けられている。
【００４０】
トレイ搬送機構（４０）は、マスク搬送トレイ（４１）、送り台（サドル）（４２）、空気浮上搬送コンベア（図示せず）、トレイ搬送軸（４３）、及びロボット（４５）で構成されている。マスク搬送トレイ（４１）は、フォトマスクを保持するものであり、枠状の形状をしている。マスク搬送トレイ（４１）は、前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）と後方マスク搬送トレイ（４１Ｂ）が送り台（サドル）（４２）で連結されたものである。
【００４１】
空気浮上搬送コンベアは、マスクホルダ（３０）の下方に設けられており、トレイ搬送軸（４３）は、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）と後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）の間の、送り台（サドル）（４２）の下方に設けられている。
空気浮上搬送コンベアは、送り台（サドル）（４２）で連結された前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）と後方マスク搬送トレイ（４１Ｂ）を浮上させて、トレイ搬送軸（４３）に沿って、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）と後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）の間を図９中、Ｙ軸方向左右に移動させることが出来るようになっている。
【００４２】
前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）と後方マスク搬送トレイ（４１Ｂ）は、フォトマスクを保持し、移動してマスクホルダ（３０）にフォトマスクを装着する。また、マスクホルダ（３０）からフォトマスクを取り外して保持し、移動してロボット（４５）にフォトマスクを引き渡す。
また、ロボット（４５）は、前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）と後方マスク搬送トレイ（４１Ｂ）へのフォトマスクの着脱を行う。
【００４３】
トレイ搬送機構（４０）によるマスクホルダ（３０）へのフォトマスクの装着は、図９中、符号（Ｘ２）で示すフォトマスク着脱位置にて、先ず、ロボット（４５）はフォトマスクをマスク搬送トレイ（４１）へ受け渡す。マスク搬送トレイ（４１）は、ロボット（４５）から受け渡されたフォトマスクを保持する。
次に、空気浮上搬送コンベアは、フォトマスクを保持したマスク搬送トレイ（４１）を、
フォトマスク着脱位置（Ｘ２）からマスクホルダ（３０）までトレイ搬送軸（４３）に沿って移動する。続いて、マスク搬送トレイ（４１）は保持していたフォトマスクをマスクホルダ（３０）を装着するといった順序で行われる。
【００４４】
また、トレイ搬送機構（４０）によるロボット（４５）へのフォトマスクの引き渡しは、マスクホルダ（３０）の位置にて、先ず、マスク搬送トレイ（４１）はマスクホルダ（３０）からフォトマスクを取り外して保持する。
次に、空気浮上搬送コンベアは、フォトマスクを保持したマスク搬送トレイ（４１）を、マスクホルダ（３０）からフォトマスク着脱位置（Ｘ２）までトレイ搬送軸（４３）に沿って移動する。続いて、ロボット（４５）は、マスク搬送トレイ（４１）が保持していたフォトマスクを取り外するといった順序で行われる。
【００４５】
図１１は、図９に示す、１２基のマスクホルダ（３０−１〜３０−１２）にフォトマスクを装着する方法の一例を示す平面図である。図１１は、各々のマスクホルダにフォトマスクを順次に装着する途上を表したものである。
この方法は、先ず、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）のマスクホルダにフォトマスクを順次に装着し、次に、後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）のマスクホルダにフォトマスクを順次に装着する方法である。
【００４６】
図１１に示すように、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）の奇数マスクホルダ（３０−１〜３０−１１）には、既にフォトマスク（ＰＭ３−１〜ＰＭ３−１１）が装着されている。後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）のマスクホルダ（３０−２）には、フォトマスク（ＰＭ３−２）が装着されており、次には、マスクホルダ（３０−４）にフォトマスクが装着される段階が表されている。
【００４７】
次のフォトマスク（ＰＭ３−４）は、後方マスク搬送トレイ（４１−Ｂ）に受け渡された状態にある。次の段階で、空気浮上搬送コンベアにより、後方マスク搬送トレイ（４１−Ｂ）が図１１中、左方へトレイ搬送軸（４３）に沿ってマスクホルダ（３０−４）に移動されると、後方マスク搬送トレイ（４１−Ｂ）はフォトマスク（ＰＭ３−４）をマスクホルダ（３０−４）に装着する。以降、同様な動作が行われる。
【００４８】
さて、本発明による照度の測定及び校正方法は、上述した露光装置にて、各露光ヘッド（Ｈ）のマスクホルダ（３０）に装着されたフォトマスク面に照射される露光光の照度を測定及び校正する際に、先ず、露光ヘッドのマスクホルダにフォトマスクを装着するマスク搬送トレイ（４１）に、照度測定ユニット（７０）を保持させる。
【００４９】
次に、このマスク搬送トレイを移動させて、照射される露光光の照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に照度測定ユニットを合わせる。この位置で、フォトマスク面に対応した位置の照度を測定し、測定した照度を標準照度と対比した校正を行う照度の測定及び校正方法である。この操作を各フォトマスク面について順次に行い、露光装置の全ての露光ヘッドの照度を標準照度に揃える照度の測定及び校正方法である。
【００５０】
図１２は、本発明による照度の測定及び校正方法の一例を示す平面図である。図１２は、露光のために装着されていたフォトマスク（ＰＭ３−１〜ＰＭ３−１２）の全てが、全てのマスクホルダ（３０−１〜３０−１２）から取り外され、前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）には照度測定ユニット（７０）が受け渡され、前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）は、照度測定ユニット（７０）を保持している段階が表されている。
【００５１】
この一例に示す、照度の測定及び校正方法は、先ず、前方マスクホルダ列（３０−Ａ）を構成する６基の奇数マスクホルダ（３０−１〜３０−１１）の位置にて照度を順次に測
定し、次に、後方マスクホルダ列（３０−Ｂ）を構成する６基の奇数マスクホルダ（３０−２〜３０−１２）の位置にて照度を順次に測定し校正する方法である。
【００５２】
図１２に示すように、照度測定ユニット（７０）を保持した前方マスク搬送トレイ（４１Ａ）は、空気浮上搬送コンベアによってフォトマスク着脱位置（Ｘ２）からトレイ搬送軸（４３）に沿ってマスクホルダ（３０−１）まで移動される。
この位置は、照射する露光光の照度を測定する、フォトマスク面に対応した位置であり、この位置で照度測定ユニット（７０）は照度を測定する。
【００５３】
測定された照度は標準照度と対比され、有意差が認められた際には、光源を調整することによって正常な照度へと校正される。続いて、マスクホルダ（３０−３）以降の位置にての照度の測定及び校正が行われる。
【００５４】
図１３は、照度測定ユニットの一例の概略を示す平面図である。照度測定ユニット（７０）は、前記図８に示すフォトマスクの外形寸法と略同一の外形寸法（（ｉ×ｊ）≒（ｅ×ｆ））を有している。
照度測定ユニット（７０）は、図１３中、左右中央部にＸ軸方向を長手とする切欠部（７２）を有し、この切欠部（７２）の中央に照度センサー（７３）が設けられている。照度の測定は、この照度センサー（７３）を用いて行う。
【００５５】
照度測定ユニット（７０）は、図１３中、矢印で示すように、送り台（サドル）（４２）のＹ軸方向の移動、及び照度センサー（７３）のＸ軸方向の移動によって、マスクホルダに対する照度センサー（７３）の位置を調整することが出来るようになっている。
従って、図１２に示す、例えば、マスクホルダ（３０−１）の上方に移動した照度測定ユニット（７０）は、送り台（サドル）（４２）及び照度センサー（７３）を移動させることによって、照度センサー（７３）をマスクホルダ（３０−１）面内の任意の位置へと移動することができる。これにより、照度センサー（７３）は、マスクホルダ（３０−１）面内の任意の位置での照度を測定することが可能である。
【００５６】
また、上記照度を測定した後の校正は、例えば、露光装置に設けられた計測器により行うことが可能である。この計測器は、照度の測定及び校正を行う他に、露光光の積算露光量を算出することも可能となっている。
【符号の説明】
【００５７】
３０、３０−１〜３０−１２・・・マスクホルダ
３０−Ａ・・・前方マスクホルダ列
３０−Ｂ・・・後方マスクホルダ列
４０・・・トレイ搬送機構
４１・・・マスク搬送トレイ
４１Ａ・・・前方マスク搬送トレイ
４１Ｂ・・・後方マスク搬送トレイ
４２・・・送り台（サドル）
４３・・・トレイ搬送軸
４５・・・ロボット
５０・・・ガラス基板
６０・・・露光ステージ
７０・・・照度測定ユニット
７２・・・切欠部
７３・・・照度センサー
８０−１〜８０−１２・・・露光ヘッド内の光源                                    
Ｅ・・・露光光
Ｈ、Ｈ１〜Ｈ１２・・・露光ヘッド
Ｈ−Ａ・・・前方露光ヘッド列
Ｈ−Ｂ・・・後方露光ヘッド列
ＰＭ、ＰＭ２・・・フォトマスク
ＰＭ３、ＰＭ３−１〜ＰＭ３−１２・・・本発明におけるフォトマスク
ＰＭ−Ａ・・・前方フォトマスク列
ＰＭ−Ｂ・・・後方フォトマスク列
Ｓ・・・スリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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