(57)【要約】      （修正有）【課題】高温で反射性を維持する反射性物品を提供する。【解決手段】基材（２０）、反射金属層（３０）及び基材と反射金属層との間にヘイズ防止層（４０）を含んでなり、この基材（２０）は、約１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度、及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有する非晶質熱可塑性樹脂を含み、またヘイズ防止層（４０）は、１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び約３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性を有する物質を含む。【選択図】図１
2011203725.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って６６ｐｓｉで測定して１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度、及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有し、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルイミドスルホン類、ポリスルホン類、ポリエーテルスルホン類、ポリフェニレンエーテルスルホン類、ポリ（アリーレンエーテル）類、ポリカーボネート類、ポリエステルカーボネート類、ポリアリーレート類及びこれらの混合物から選択される非晶質熱可塑性樹脂を含む基材（２０）、
アルミニウム、銀、金、ニッケル、パラジウム、白金、銅及びこれらの合金から選択される金属を含み、厚さが２０〜１０００ｎｍの反射金属層（３０）、並びに
基材と反射金属層との間に挟まれたヘイズ防止層（４０）
を含んでなり、
前記ヘイズ防止層が、２５℃でＡＳＴＭ Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ Ｄ６３８に従って測定して３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含み、
前記ヘイズ防止層は、プラズマ重合したオルガノシリコーンを含み、
前記反射金属層は、前記ヘイズ防止層と接触しており、
前記ヘイズ防止層は、前記基材と接触している、
反射性物品（１０）。
【請求項２】
反射金属層（３０）がアルミニウムを含む、請求項１記載の反射性物品（１０）。
【請求項３】
オルガノシリコーンが次式を有する、請求項１記載の反射性物品（１０）。
【化１】
2011203725.tif 000021
式中、各Ｒは独立に水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルアルキル又はＣ６〜Ｃ１８アリールであり、ｎは０〜１００であり、ｍは１〜１００であり、Ｘは−Ｏ−又は−ＮＨ−である。
【請求項４】
ヘイズ防止層（４０）が１００ｎｍ〜１００μｍの厚さを有する、請求項１記載の反射性物品（１０）。
【請求項５】
前記反射金属層（３０）はアルミニウムを含み、
前記プラズマ重合したオルガノシリコーンは、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−２Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して５×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する、請求項１に記載の反射性物品（１０）。
【請求項６】
ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って６６ｐｓｉで測定して１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有し、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルイミドスルホン類、ポリスルホン類、ポリエーテルスルホン類、ポリフェニレンエーテルスルホン類、ポリ（アリーレンエーテル）類、ポリカーボネート類、ポリエステルカーボネート類、ポリアリーレート類及びこれらの混合物から選択される非晶質熱可塑性樹脂を含む基材（１０）の表面に、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含むヘイズ防止層（４０）を設け、
前記ヘイズ防止層は、重合したオルガノシリコーンを含んでおり、
前記ヘイズ防止層（４０）の表面に、アルミニウム、銀、金、ニッケル、パラジウム、白金、銅及びこれらの合金から選択される金属を含み、厚さが２０〜１０００ｎｍの反射金属層（３０）を設ける、
ことを含んでなる、反射性物品（１０）の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射性物品及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
熱可塑性基材と反射金属層からなる反射性物品は、現在、自動車用ヘッドライトの反射板を始めとして各種の製品用途に用いられている。かかる物品は、周囲温度では良好に機能し得るが、ある種の製造及び使用条件で遭遇する高温では、反射コーティングにおけるヘイズの生成によってその反射性が損なわれ得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第２９９９８３５号明細書
【特許文献２】米国特許第３１５３００８号明細書
【特許文献３】米国特許第３１６９１２１号明細書
【特許文献４】米国特許第３３０６８７４号明細書
【特許文献５】米国特許第３３０６８７５号明細書
【特許文献６】米国特許第３３３４１５４号明細書
【特許文献７】米国特許第３６４２９４６号明細書
【特許文献８】米国特許第３８４７８６７号明細書
【特許文献９】米国特許第３８５０８８５号明細書
【特許文献１０】米国特許第３８５２２４２号明細書
【特許文献１１】米国特許第３８５５１７８号明細書
【特許文献１２】米国特許第３９８３０９３号明細書
【特許文献１３】米国特許第３９８６９９７号明細書
【特許文献１４】米国特許第４００１１８４号明細書
【特許文献１５】米国特許第４０１１２００号明細書
【特許文献１６】米国特許第４０３８３４３号明細書
【特許文献１７】米国特許第４１２３４３６号明細書
【特許文献１８】米国特許第４１３１５７５号明細書
【特許文献１９】米国特許第４１５６０６９号明細書
【特許文献２０】米国特許第４２１０８４１号明細書
【特許文献２１】米国特許第４３４８４６２号明細書
【特許文献２２】米国特許第４３６３８４４号明細書
【特許文献２３】米国特許第４４９１５０８号明細書
【特許文献２４】米国特許第４６２４８７０号明細書
【特許文献２５】米国特許第４６６３４２１号明細書
【特許文献２６】米国特許第５０３４４５８号明細書
【特許文献２７】米国特許第５３４６７６７号明細書
【特許文献２８】米国特許第５３７８２８４号明細書
【特許文献２９】米国特許第５４４７７６７号明細書
【特許文献３０】米国特許第５５０３９３４号明細書
【特許文献３１】米国特許第５５０６０３８号明細書
【特許文献３２】米国特許第５５０８０９２号明細書
【特許文献３３】米国特許第５５２７５９６号明細書
【特許文献３４】米国特許第５８４９０８７号明細書
【特許文献３５】米国特許第６１１０５４４号明細書
【特許文献３６】米国特許第６３４７０１６号明細書
【特許文献３７】米国特許第６３５５７２３号明細書
【特許文献３８】米国特許第６３５５７２３号明細書
【特許文献３８】米国特許第６３７９７５７号明細書
【特許文献３９】米国特許第６３７９７５７号明細書
【特許文献３２】米国特許第６３９７７７６号明細書
【特許文献３３】米国特許第６４２００３２号明細書
【特許文献３４】米国特許第６４３６５０３号明細書
【特許文献３５】米国特許第６５２０６５０号明細書
【特許文献３６】米国特許出願公開第２００２／００４８６９１号明細書
【特許文献３７】米国特許出願公開第２００２／００９４４５５号明細書
【特許文献３６】米国特許出願公開第２００２／０１９７４３８号明細書
【特許文献３７】米国特許出願公開第２００３／００４４５６４号明細書
【特許文献３７】米国特許出願第１０／６３８０９９号明細書
【特許文献３８】米国特許出願第１０／６３８０９４号明細書
【特許文献４０】米国特許出願第１０／６３８１４５号明細書
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｖｏｌ．１６，ｐｐ．２７２−２８１（１９６８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、高温でその反射性を維持する反射性物品に対するニーズが存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一実施形態は耐熱性の向上した反射性物品であり、この物品は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って６６ｐｓｉで測定して約１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有する非晶質熱可塑性樹脂を含む基材、反射金属層及び基材と反射金属層との間に挟まれたヘイズ防止層を含んでおり、このヘイズ防止層は、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含む。
【０００７】
その他の実施形態、例えば反射性物品の製造方法については以下に詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、熱可塑性基材２０、反射金属層３０及びヘイズ防止層４０からなる反射性物品１０の分解図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
一実施形態は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って６６ｐｓｉで測定して約１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有する非晶質熱可塑性樹脂を含む基材、反射金属層及び基材と反射金属層との間に挟まれたヘイズ防止層を含んでなる反射性物品であって、このヘイズ防止層は、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含む。
【００１０】
自動車用ヘッドライトの反射板の商用開発中、熱可塑性基材の直接金属化によって製造された反射板は、最初は優れた反射性を示すが、使用条件下では反射面のヘイズが生じ、その結果その部品の故障に至るのが観察されることがあった。各種材料に対する広範な研究により、本発明者は、熱可塑性基材と反射金属層との間に、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含むヘイズ防止層を挟むことによって、高温条件下でのヘイズの生成を低減又は排除することができるということを発見した。
【００１１】
基材は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って６６ｐｓｉで測定して約１４０℃以上、好ましくは約１７０℃以上、さらに好ましくは約１８５℃以上、さらに一段と好ましくは約２００℃以上の熱変形温度を有する非晶質熱可塑性樹脂を含む。非晶質熱可塑性樹脂はまた、１．７ｇ／ｍＬ未満、好ましくは１．６ｇ／ｍＬ未満、さらに好ましくは１．５ｇ／ｍＬ未満の密度を有する。非晶質熱可塑性樹脂の密度はＡＳＴＭ  Ｄ７９２に従って２５℃で決定することができる。従って、非晶質熱可塑性樹脂は、反射性物品を形成するのにしばしば使用されているバルクモールディングコンパウンドより密度が低い。反射性物品がヘッドライトの反射板である場合、この非晶質樹脂を使用するとヘッドライトの重量が低減することにより重量低下となり、そのため車両の燃料１ガロン当たりのマイル数を大きくできる。さらに、非晶質熱可塑性樹脂は、有機揮発分含量がＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００重量ｐｐｍ未満、好ましくは７５０重量ｐｐｍ未満、さらに好ましくは５００重量ｐｐｍ未満である。ＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に規定されているように、揮発分は、９０℃の熱可塑性樹脂と平衡になっているヘッドスペースから試料を採取し、水素炎イオン化検出を用いて定量することによって決定される。従って、有機揮発分含量は、高温でガスを発生し反射金属層の反射率を低下させる高濃度の残留モノマーを含有することがあるバルクモールディングコンパウンドより低い。適切な熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエーテルイミド、ポリエーテルイミドスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテルスルホン、ポリ（アリーレンエーテル）、ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリアリーレートなど及びこれらの混合物がある。これらの熱可塑性樹脂及びその製造方法は当技術分野で公知である。
【００１２】
好ましいポリエーテルイミドには、次式（Ｉ）の構造単位を含むものがある。
【００１３】
【化１】
2011203725.tif 000003
式中、二価Ｔ部分は式（Ｉ）のそれぞれのアリールイミド部分のアリール環の３，３′、３，４′、４，３′又は４，４′位置間を橋かけしており、Ｔは−Ｏ−又は式−Ｏ−Ｚ−Ｏ−の基であり、Ｚは次式（ＩＩ）からなる群から選択される二価基である。
【００１４】
【化２】
2011203725.tif 000004
式中、Ｘは次式（ＩＩＩ）の二価基からなる群から選択される基である。
【００１５】
【化３】
2011203725.tif 000005
式中、ｙは１〜約５の整数である。式（ＩＩ）中のｑは０又は１である。また、式（Ｉ）中のＲは、（ａ）６〜約２０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素基及びそのハロゲン化誘導体、（ｂ）２〜約２０個の炭素原子を有するアルキレン基、（ｃ）３〜約２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、並びに（ｄ）次の一般式（ＩＶ）の二価基から選択される二価有機基である。
【００１６】
【化４】
2011203725.tif 000006
式中、Ｑは共有結合又は次式（Ｖ）からなる群から選択される基である。
【００１７】
【化５】
2011203725.tif 000007
式中、ｙ′は１〜約５の整数である。
【００１８】
上記式で、Ｘ又はＱが二価スルホン結合からなる場合、そのポリエーテルイミドはポリエーテルイミドスルホンと考えられる。
【００１９】
一般に、有用なポリエーテルイミドは、６．６ｋｇの錘を用いる米国材料試験協会（ＡＳＴＭ）Ｄ１２３８により３３７℃で測定して約０．１〜約１０ｇ／ｍｉｎのメルトインデックスを有する。
【００２０】
好ましい実施形態では、ポリエーテルイミド樹脂は、ポリスチレン標準を用いるゲルクロマトグラフィーで測定して約１００００〜約１５００００原子質量単位（ＡＭＵ）の重量平均分子量を有する。かかるポリエーテルイミド樹脂は通例、ｍ−クレゾール中２５℃で測定して約０．２ｄＬ／ｇより大きい固有粘度を有する。約０．３５ｄＬ／ｇ以上の固有粘度が好ましい。また、約０．７ｄＬ／ｇ以下の固有粘度が好ましい。
【００２１】
ポリエーテルイミド樹脂を製造する多くの方法の中には、例えば、Ｈｅａｔｈらの米国特許第３８４７８６７号、Ｔａｋｅｋｏｓｈｉらの同第３８５０８８５号、Ｗｈｉｔｅの同第３８５２２４２号及び同第３８５５１７８号、並びにＷｉｌｌｉａｍｓらの同第３９８３０９３号に記載されているものがある。
【００２２】
好ましい実施形態では、ポリエーテルイミド樹脂は、各Ｒが独立にパラフェニレン又はメタフェニレンであり、Ｔが次式（ＶＩ）の二価基である式（Ｉ）の構造単位を含む。
【００２３】
【化６】
2011203725.tif 000008
特に好ましいポリエーテルイミド樹脂は、２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とパラフェニレンジアミン及びメタフェニレンジアミンの１種以上との溶融重合により形成される反応生成物である。ポリエーテルイミドはＧｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ ＣｏｍｐａｎｙからＵＬＴＥＭ（登録商標）樹脂として、例えばＵＬＴＥＭ（登録商標）１０００、ＵＬＴＥＭ（登録商標）１０１０、ＵＬＴＥＭ（登録商標）６０００、ＵＬＴＥＭ（登録商標）ＸＨ６０５０及びＵＬＴＥＭ（登録商標）ＣＲＳ５０００として市販されている。ポリエーテルイミドポリマーの追加の記載は、例えば、ＡＳＴＭ  ５２０５の「ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）材料の標準分類系」に見られる。
【００２４】
熱可塑性基材に使用するのに適切なポリスルホンは、１以上のスルホン基を有する繰返し単位を含んでなるポリマーである。ポリスルホン及びその製造方法は当技術分野で周知であり、例えばＧｒａｂｏｗｓｋｉらの米国特許第３６４２９４６号及びＫｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ、Ｖｏｌ．１６、ｐｐ．２７２−２８１（１９６８）に記載されている。このタイプの代表的なポリマーとしては、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリフェニルスルホンがある。
【００２５】
本発明で利用することができるポリスルホンは、次の一般式（ＶＩＩ）で表される１以上の繰返し構造単位を含有している。
【００２６】
【化７】
2011203725.tif 000009
式中、各Ａｒは独立に非置換フェニレン又はフェニル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、ハロゲン、ニトロなどで置換されたフェニレンであり、各Ａは独立に炭素−炭素直接結合、Ｃ１〜Ｃ１２アルキリデン、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキリデン、カルボニル、スルホキシド、イオウ、スルホン、アゾ、イミノ、酸素などである。
【００２７】
式（ＶＩＩ）のポリスルホンは好ましくはビスフェノールと反応したジクロロジフェニルスルホンから誘導される。式Ｉで表されるスルホンの第２のグループは各Ａｒがフェニレンで、Ａがスルホンであるものである。式Ｉで表されるポリスルホンの第３の主要なグループは、各Ａｒがフェニレンで、Ａが酸素であるもの、すなわち、ポリアリールエーテルスルホンである。Ａｒがフェニレンである場合、好ましくはメタ又はパラであるべきであり、環位置がＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基などで置換されていてもよい。特に有用なポリスルホンは、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテルと反応した４，４−ビフェニルジスルホニルクロリドのようなジスルホニルクロリドから誘導されたものである。
【００２８】
ポリフェニレンエーテルスルホンを始めとするポリアリールエーテルスルホンは少なくとも以下の繰返し構造単位を含有している。
【００２９】
【化８】
2011203725.tif 000010
式中、Ｒ、Ｒ１及びＲ２は独立にＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ４〜Ｃ８シクロアルキル及びハロゲン基から選択され、ＷはＣ２〜Ｃ８アルキレン、Ｃ１〜Ｃ８アルキリデン、４〜約１６個の環炭素原子を含有するシクロアルキレン又はシクロアルキリデン基などであり、ｂは０又は１であり、ｎ、ｎ１及びｎ２は独立に０、１、２、３又は４である。ポリスルホンに関する追加の記載は、例えば、ＡＳＴＭ  Ｄ６３９４、Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｓｕｌｆｏｎｅ Ｐｌａｓｔｉｃｓ（ＳＰ）に見られる。
【００３０】
適切なポリ（アリーレンエーテル）としては、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）及びポリ（アリーレンエーテル）コポリマー、グラフトコポリマー、ポリ（アリーレンエーテル）エーテルアイオノマー及びアルケニル芳香族化合物、ビニル芳香族化合物及びポリ（アリーレンエーテル）などのブロックコポリマー、並びにこれらの１種以上を含む組合せなどがある。ポリ（アリーレンエーテル）は、次式の構造単位を複数含む公知のポリマーである。
【００３１】
【化９】
2011203725.tif 000011
式中、各構造単位で、各Ｑ１は独立にハロゲン、第一若しくは第二Ｃ１〜Ｃ８アルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ８アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ８炭化水素オキシ又は２個以上の炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを隔てているＣ２〜Ｃ８ハロ炭化水素オキシであり、各Ｑ２は独立に水素、ハロゲン、第一若しくは第二Ｃ１〜Ｃ８アルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ８アミノアルキル、Ｃ１〜Ｃ８炭化水素オキシ又は２個以上の炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを隔てているＣ２〜Ｃ８ハロ炭化水素オキシである。好ましくは、各Ｑ１がアルキル又はフェニル、殊にＣ１〜Ｃ４アルキルであり、各Ｑ２が独立に水素又はメチルである。
【００３２】
ホモポリマーとコポリマーの両方のポリ（アリーレンエーテル）が包含される。好ましいホモポリマーは２，６−ジメチルフェニレンエーテル単位を含むものである。適切なコポリマーとしては、例えば、かかる単位を２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位と組み合わせて含むランダムコポリマー又は２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリメチルフェノールの共重合から誘導されたコポリマーがある。２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリメチルフェノールのかかるコポリマー、殊に２，３，６−トリメチルフェノールから誘導された単位を約５〜約５０重量％含有するものは、その耐熱性のために特に好ましい。また、ビニルモノマー又はポリスチレンのようなポリマーをグラフト化することにより製造された部分を含有するポリ（アリーレンエーテル）、並びに低分子量ポリカーボネート、キノン類、複素環式化合物及びホルマールのようなカップリング剤を２つのポリ（アリーレンエーテル）鎖のヒドロキシ基と公知の方法で反応させてより高分子量のポリマーを生成させてなるカップル化ポリ（アリーレンエーテル）も包含される。さらに、本発明のポリ（アリーレンエーテル）には以上のものの任意の組合せ、例えば、ポリ（アリーレンエーテル）とポリスチレン樹脂のブレンドが包含される。
【００３３】
ポリ（アリーレンエーテル）は一般に、ゲルクロマトグラフィーで決定される数平均分子量が約３０００〜約４００００原子質量単位（ＡＭＵ）で、重量平均分子量が約２００００〜約８００００ＡＭＵである。また、ポリ（アリーレンエーテル）は一般にクロロホルム中２５℃で測定して約０．２〜約０．６ｄＬ／ｇの固有粘度を有することができる。この範囲内で、固有粘度は好ましくは約０．５ｄＬ／ｇ以下、さらに好ましくは約０．４７ｄＬ／ｇ以下であろう。また、この範囲内で、固有粘度は好ましくは約０．３ｄＬ／ｇ以上であろう。高い固有粘度のポリ（アリーレンエーテル）と低い固有粘度のポリ（アリーレンエーテル）を組み合わせて利用することも可能である。２つの固有粘度を使用する場合、正確な比の決定は、使用するポリ（アリーレンエーテル）の正確な固有粘度及び目的とする最終の物理的性質に依存する。
【００３４】
ポリ（アリーレンエーテル）は通例、２，６−キシレノール又は２，３，６−トリメチルフェノールのような１種以上のモノヒドロキシ芳香族化合物の酸化カップリングによって製造される。一般にかかるカップリングには触媒系が使用される。これらの触媒系は通例、銅、マンガン又はコバルトの化合物のような１種以上の重金属化合物を、通常は様々な他の物質と組み合わせて含有する。ポリ（アリーレンエーテル）を製造するのに適切な方法は、例えば、Ｈａｙの米国特許第３３０６８７４号及び同第３３０６８７５号、並びにＹｏｎｅｍｉｔｓｕらの同第４０１１２００号及び同第４０３８３４３号に記載されている。
【００３５】
適切なポリカーボネートは二価フェノールをホスゲン、ハロホルメート又はカーボネートエステルのようなカーボネート前駆体と反応させることによって製造することができる。一般に、かかるカーボネートポリマーは次式の繰返し構造単位を有する。
【００３６】
【化１０】
2011203725.tif 000012
式中、Ａはポリマー生成反応に使用した二価フェノールの二価芳香族基である。好ましくは、本発明の樹脂混合物を提供するのに使用されるカーボネートポリマーは固有粘度が（塩化メチレン中２５℃で測定して）約０．３０〜約１．００ｄＬ／ｇである。かかる芳香族カーボネートポリマーを提供するのに使用される二価フェノールは、各々が芳香核の炭素原子に直接結合している２つのヒドロキシ基を官能基として含有する単核又は多核の芳香族化合物であることができる。典型的な二価フェノールとしては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、ヒドロキノン、レゾルシノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，４′−（ジヒドロキシジフェニル）メタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ジヒドロキシジフェニル、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ビス（４−ヒドロキシジフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、５′−クロロ−２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジクロロジフェニルエーテル、４，４−ジヒドロキシ−２，５−ジヒドロキシジフェニルエーテルなどがある。
【００３７】
ポリカーボネート樹脂の製造に使用するのに適切なその他の二価フェノールは、例えば、Ｇｏｌｄｂｅｒｇの米国特許第２９９９８３５号、Ｋｉｍの同第３３３４１５４号及びＡｄｅｌｍａｎｎらの同第４１３１５７５号に記載されている。
【００３８】
これらの芳香族ポリカーボネートは、例えば、上記文献及びＨｏｌｕｂらの米国特許第４１２３４３６号に記載の方法に従って上記のように二価フェノールをホスゲンのようなカーボネート前駆体と反応させることにより又はＦｏｘの米国特許第３１５３００８号に開示されているようなエステル交換プロセスにより、並びに当業者に公知のその他のプロセスのような公知のプロセスによって製造することができる。
【００３９】
また、ホモポリマーではなくカーボネートコポリマー又は共重合体が望ましい場合には、２種以上の異なる二価フェノールを使用することも、或いは二価フェノールとグリコール又はヒドロキシ−若しくは酸−末端終止ポリエステル若しくは二塩基酸とのコポリマーを使用することも可能である。Ｓｃｏｔｔの米国特許第４００１１８４号に記載されているような枝分れポリカーボネートも有用である。また、線状ポリカーボネートと枝分れポリカーボネートのブレンドも利用することができる。さらに、以上の材料の任意のブレンドを本発明の実施の際に使用して芳香族ポリカーボネートを提供してもよい。
【００４０】
これらのポリカーボネートは枝分れでも線状でもよく、一般にゲルクロマトグラフィーで測定した重量平均分子量が約１００００〜約２０００００ＡＭＵ、好ましくは約２００００〜約１０００００ＡＭＵである。本発明のポリカーボネートは、性能を改良するために各種の末端基を使用することができる。クミルフェノールのような嵩高いモノフェノールが好ましい。
【００４１】
適切なポリカーボネートとして、さらに、アルキルシクロヘキサン単位を含有するビスフェノールから誘導されたものがある。かかるポリカーボネートは次式の構造に対応する構造単位を有する
【００４２】
【化１１】
2011203725.tif 000013
式中Ｒａ〜Ｒｄは各々独立に水素、Ｃ１〜Ｃ１２ヒドロカルビル又はハロゲンであり、Ｒｅ〜Ｒｉは各々独立に水素、Ｃ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。本明細書で使用する「ヒドロカルビル」とは、炭素と水素のみを含有する残基を指す。この残基は脂肪族又は芳香族、直鎖状、環式、二環式、枝分れ、飽和又は不飽和であり得る。しかし、このヒドロカルビル残基は、当該置換基の炭素及び水素原子に加えてヘテロ原子を含有していてもよい。すなわち、かかるヘテロ原子を含有するとして特に記載されている場合、ヒドロカルビル残基はカルボニル基、アミノ基、ヒドロキシル基などを含有していてもよいし、また当該ヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含有していてもよい。アルキルシクロヘキサンを含有するビスフェノール、例えば２モルのフェノールと１モルの水素化イソホロンの反応生成物は、高いガラス転移温度と高い熱変形温度を有するポリカーボネート樹脂を作成するのに有用である。かかるイソホロンビスフェノール含有ポリカーボネートは次式の構造に対応する構造単位を有する。
【００４３】
【化１２】
2011203725.tif 000014
式中、Ｒａ〜Ｒｄは上記定義の通りである。これらのイソホロンビスフェノール系樹脂、例えば、非−アルキルシクロヘキサンビスフェノールを含有して作成されたポリカーボネートコポリマー及びアルキルシクロヘキシルビスフェノールを含有するポリカーボネートと非−アルキルシクロヘキシルビスフェノールポリカーボネートとのブレンドは、Ｂａｙｅｒ Ｃｏ．によりＡＰＥＣという商標で供給されており、また例えばＳｅｒｉｎｉらの米国特許第５０３４４５８号に記載されている。
【００４４】
適切な熱可塑性樹脂にはさらに「ポリアリーレート」が包含され、これは芳香族ジカルボン酸とビスフェノールのポリエステルを指す一般用語である。アリールエステル結合に加えてカーボネート結合を含むポリエステル−カーボネートともいわれるポリアリーレートコポリマーも適している。これらの樹脂は単独で、若しくは互いに組み合わせて又はさらに好ましくはビスフェノールポリカーボネートと組み合わせて使用できる。これらの樹脂は溶液中又は溶融重合により芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体とビスフェノール及びその誘導体から製造することができる。適切なジカルボン酸はイソフタル酸及びテレフタル酸、これらのエステル又は酸塩化物である。好ましいビスフェノールはビスフェノールＡ又はその二酢酸誘導体である。ポリエステルカーボネート及びポリアリーレートはまた、ヒドロキシ安息香酸のようなヒドロキシカルボン酸から誘導された結合を含有していてもよい。最も好ましいポリエステル−カーボネート及びポリアリーレートはビスフェノールＡと、イソフタル酸とテレフタル酸の混合物とから誘導された非晶質の樹脂である。適切なポリアリーレート及びその製造は、例えば、Ｍａｒｋの米国特許第４６６３４２１号に記載されている。適切なポリエステル−カーボネート及びその製造は、例えば、Ｇｏｌｄｂｅｒｇの米国特許第３１６９１２１号及びＰｒｅｖｏｒｓｅｋらの同第４１５６０６９号に記載されている。
【００４５】
一実施形態では、基材は、約５０重量％以上、好ましくは約８０重量％以上、さらに好ましくは約９０重量％以上、さらに一段と好ましくは約９５重量％以上の熱可塑性樹脂を含んでいる。
【００４６】
一実施形態では、基材は、熱可塑性樹脂に加えて、例えば、タルク、雲母、粘土、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、ウォラストナイトなど又はこれらの混合物のような無機充填材を含んでいる。
【００４７】
別の実施形態では、基材は無機充填材を実質的に含まない。本明細書中で、「無機充填材を実質的に含まない」とは、無機充填材を０．１重量％未満しか含むものとして定義される。基材は無機充填材を０．０１重量％未満しか含むのが好ましい。
【００４８】
基材樹脂はさらに、溶融加工、成形又は部品安定性を改良する添加剤を含有していてもよい。有用な添加剤としては、脂肪族エステル、例えばペンタエリトリトールテトラステアレート又はポリオレフィン、例えば高密度ポリエチレンのような滑剤及び離型剤がある。アリールホスファイト及びヒンダードフェノールのような安定剤も基材樹脂とブレンドすることができる。その他の添加剤としては、静電気の蓄積を低減する化合物がある。基材中に使用する場合、かかる添加剤は、熱的に安定であり、低い揮発性を示し、そして金属化された物品中でヘイズを生じることのないように選択するのが重要である。
【００４９】
基材の寸法は反射性物品の用途によって決まる。例えば、反射性物品がヘッドライトの反射板である場合、その厚さはヘイズ防止層及び反射金属層に対して垂直な寸法で約０．１〜約２０ｍｍであり得る。この範囲内で、厚さは好ましくは約０．５ｍｍ以上、さらに好ましくは約１ｍｍ以上であろう。またこの範囲内で、厚さは好ましくは約１０ｍｍ以下、さらに好ましくは約８ｍｍ以下であろう。
【００５０】
反射性物品は反射金属層を含んでいる。反射金属層に使用するのに適切な金属としては、周期表の第ＩＩＩＡ、ＩＩＩＢ、ＩＶＢ、ＶＢ、ＶＩＢ、ＶＩＩＢ、ＶＩＩＩ、ＩＢ及びＩＩＢ族の金属がある。これらの金属の混合物及び合金も使用できる。好ましい金属としては、アルミニウム、銀、金、ニッケル、パラジウム、白金、銅など及び以上の金属を１種以上含む合金がある。アルミニウム及びその合金は反射金属層として特に好ましい金属である。
【００５１】
反射金属層は、スパッタリング、真空金属蒸着、アーク蒸着、プラズマ化学蒸着、熱金属蒸着及びイオンメッキを始めとして当技術分野で公知の方法を用いて形成することができる。
【００５２】
反射金属層は約１〜約１０００ｎｍの厚さを有し得る。この範囲内で、厚さは好ましくは約１０ｎｍ以上、さらに好ましくは約２０ｎｍ以上であろう。またこの範囲内で、厚さは好ましくは約５００ｎｍ以下、さらに好ましくは約２００ｎｍ以下であろう。
【００５３】
反射性物品は基材と反射金属層との間に挟まれたヘイズ防止層を含んでいる。このヘイズ防止層は、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率と、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約３×１０５ｐｓｉ（２０６８ＭＰａ）以上の引張弾性率を有する物質を含んでいる。この体積抵抗率は好ましくは１×１０−２Ωｃｍ以上、さらに好ましくは１Ωｃｍ以上であり得る。引張弾性率は好ましくは約５×１０５ｐｓｉ（３４４７ＭＰａ）以上、さらに好ましくは約８×１０５ｐｓｉ（５５１６ＭＰａ）以上、さらに一段と好ましくは約１×１０６ｐｓｉ（６８９５ＭＰａ）以上であり得る。好ましい実施形態では、ヘイズ防止層は、基材中に使用した非晶質樹脂の熱変形温度で測定して３×１０５ｐｓｉ（２０６８ＭＰａ）以上の引張弾性率を有する。この実施形態で、基材が１種より多くの非晶質樹脂を含んでいる場合、引張弾性率はあらゆる非晶質樹脂の中の最低の熱変形温度で測定する。ヘイズ防止層は好ましくは非金属であり、プラズマ重合したヘイズ防止層が極めて好ましい。上記抵抗率の制限を満たすことに加えて、非金属ヘイズ防止層は、ゼロ価の金属を合計で１重量％未満含むのが好ましい。
【００５４】
一実施形態では、ヘイズ防止層はプラズマ重合したオルガノシリコーンを含んでいる。ヒドロキシ炭化ケイ素又はケイ素オキシ炭素コーティングといわれることもあるプラズマ重合したオルガノシリコーンは、次式を有するケイ素前駆体のプラズマ蒸着の生成物である。
【００５５】
【化１３】
2011203725.tif 000015
式中、各Ｒは独立に水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルアルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリールなどであり、ｎは０〜約１００であり、ｍは１〜約１００であり、Ｘは−Ｏ−又は−ＮＨ−である。
【００５６】
好ましいオルガノシリコーン化合物としては、次式のものなど及びこれらの混合物がある。
【００５７】
【化１４】
2011203725.tif 000016
【００５８】
【化１５】
2011203725.tif 000017
オルガノシリコーンのプラズマ重合は、コーティング中に取り込まれ得る小量の酸素の存在下で行うことができる。プラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ低減層は、ラジオ周波数（ＲＦ）のプラズマ源を用いるプラズマ支援又は助長化学蒸着（ＰＥＣＶＤ、ＰＡＣＶＤ）、マイクロ波（ＭＷ）、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）、電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）、中空カソード、熱プラズマ、拡大熱プラズマ（ＥＴＰ）及びプラズマアーク又はジェットを始めとする各種のプラズマ蒸着技術で形成することができる。好ましい実施形態では、ヘイズ低減層は、Ｉａｃｏｖａｎｇｅｌｏの米国特許第６４２００３２号及びＹａｎｇらの同第６３９７７７６号に記載されているようにＥＴＰによって蒸着させる。
【００５９】
一実施形態では、ヘイズ防止層は、ヘイズ防止層の総重量を基準にして約５０重量％以上、好ましくは約８０重量％以上、さらに好ましくは約９０重量％以上、さらに一段と好ましくは約９５重量％以上のプラズマ重合したオルガノシリコーンを含んでいる。
【００６０】
別の実施形態では、ヘイズ防止層はダイヤモンド様炭素を含んでいる。ダイヤモンド様炭素を含むヘイズ防止層は、例えばＫｎａｐｐらの米国特許第５５０６０３８号、並びにＫｉｍｏｃｋらの同第５５２７５９６号及び同第５５０８０９２号に記載されているように有機モノマーのプラズマ−支援化学蒸着で形成することができる。
【００６１】
別の実施形態では、ヘイズ防止層は、シラノール、アクリル又はメタクリルから誘導されたポリマー系に分散したコロイド状シリカを含んでなるコロイド状シリカ組成物を含んでいる。例えば、コロイド状シリカ組成物は、アルコール−水媒質中に分散したコロイド状シリカとヒドロキシル化シルセスキオキサンの酸性分散物であり得る。より特定的には、コーティング組成物は、式ＲＳｉ（ＯＨ）３を有するシラノールの低級脂肪族アルコール−水溶液に分散したコロイド状シリカの分散物であり得る。ここで、式中のＲは例えばＣ１〜Ｃ３アルキル、ビニル、３，３，３−トリフルオロプロピル、γ−グリシドキシプロピル、γ−メタクリルオキシプロピルなどでよい。好ましくは、シラノールの７０パーセント以上がＣＨ３Ｓｉ（ＯＨ）３である。この組成物は、１０〜７０重量％のコロイド状シリカと３０〜９０重量％のシラノールの部分的縮合物（すなわち、ヒドロキシル化シルセスキオキサン）とから実質的になる固形分を例えば１０〜５０重量％含み得る。また、この組成物はｐＨを３．０〜６．０の範囲にするのに充分な酸を含有している。適切なコーティング組成物とその製造は、例えば、Ｃｌａｒｋの米国特許第３９８６９９７号及びＴｉｌｌｅｙらの同第５３４６７６７号に記載されている。
【００６２】
別の例として、コロイド状シリカ組成物は、水酸化アンモニウムで安定化されたコロイド状シリカ約１０〜７０重量％と、式Ｒ′Ｓｉ（ＯＲ）３のオルガノトリアルコキシシランから誘導された部分的縮合物約３０〜９０重量％とを含んでなる約１０〜５０重量％の固形分が水／脂肪族アルコール混合物に分散してなるシリカ含有コーティング組成物であり得る。ここで、式中のＲ′は、例えば、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ６〜Ｃ１３アリールなどでよく、Ｒは、例えば、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリールなどでよい。この組成物はｐＨが約７．１〜約７．８である。適切なコーティング組成物とその製造は、例えば、Ｂｌａｉｒの米国特許第４６２４８７０号及びＴｉｌｌｅｙらの同第５３４６７６７号に記載されている。
【００６３】
第３の例として、コロイド状シリカ組成物は、約１〜約６０重量％のコロイド状シリカ、約１〜約５０重量％のアクリル酸シリルの加水分解により生成した物質及び約２５〜約９０重量％のアクリレートモノマーを含んでなる紫外光硬化性コーティングであり得る。この組成物は、場合によりさらに、約０．１〜約５重量％のＵＶ光開始剤を含んでいてもよい。好ましい組成物は、水性コロイド状シリカ、２−メタクリルオキシ−プロピルトリメトキシシラン、ヘキサンジオールアクリレート及び光増感量の光開始剤から誘導される。適切な組成物とその製造は、例えば、Ｏｌｓｏｎらの米国特許第４４９１５０８号及びＴｉｌｌｅｙらの同第５３４６７６７号に記載されている。
【００６４】
第４の例として、コロイド状シリカ組成物は、１００重量部のコロイド状シリカ、５〜５００重量部のアクリルオキシ官能性シラン又はグリシドキシ官能性シラン、１０〜５００重量部の非−アクリル酸シリル及び触媒量の紫外光感光性光開始剤を含んでなる紫外光硬化性コーティングであり得る。好ましい組成物は、水性コロイド状シリカ、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ヘキサンジオールジアクリレート、グリシジルオキシ官能性シラン及び陽イオン性光開始剤からなる。これらの組成物とその製造は、Ｃｈｕｎｇの米国特許第４３４８４６２号、Ｏｌｓｏｎの同第４４９１５０８号及びＴｉｌｌｅｙらの同第５３４６７６７号に開示されている。
【００６５】
一実施形態では、ヘイズ防止層は、総重量を基準にして約５０重量％以上、好ましくは約８０重量％以上、さらに好ましくは約９０重量％以上、さらに一段と好ましくは約９５重量％以上のコロイド状シリカ組成物を含んでいる。
【００６６】
一実施形態では、ヘイズ防止層は熱硬化性樹脂を含む。適切な熱硬化性樹脂としては、熱硬化性ポリエステル樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、メラミン樹脂などがある。かかる樹脂は当技術分野で周知であり、市販されている。
【００６７】
一実施形態では、ヘイズ防止層は、このヘイズ防止層の総重量を基準にして約５０重量％以上、好ましくは約８０重量％以上、さらに好ましくは約９０重量％以上、さらに一段と好ましくは約９５重量％以上の高い引張弾性率の熱硬化性樹脂を含む。
【００６８】
ヘイズ防止層の厚さはその組成に依存するが、一般に約１０ｎｍ〜約１００μｍである。この範囲内で、厚さは好ましくは約２０ｎｍ以上、さらに好ましくは約４０ｎｍ以上であろう。またこの範囲内で、厚さは好ましくは約５０μｍ以下、さらに好ましくは約１０μｍ以下であろう。ヘイズ防止層に使用する物質によっては、より薄いヘイズ防止層を使用することが可能であろう。例えば、ヘイズ防止層がプラズマ重合したオルガノシリコーンを含む場合、厚さは１００ｎｍ未満、好ましくは９０ｎｍ未満、さらに好ましくは８０ｎｍ未満、さらに一段と好ましくは７０ｎｍ未満であり得る。
【００６９】
基材はヘイズ防止層を直接設けるのに十分適しているが、ヘイズ防止層を設ける前に基材をプライマーでプレコートすることも可能である。また、反射性物品を透明な堅い保護層でさらにコートして反射金属層を擦過、酸化又は関連する問題から保護することも有利であろう。保護層は、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に従ってｎｍ単位で測定して９０％より大きい透過率を示すのが好ましい。保護層は、好ましくは、ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５に従って測定して５未満の黄色度指数を示し得る。保護性の金属酸化物層の適切な組成及び製造方法は、例えば、Ｙａｎｇらの米国特許第６１１０５４４号及びＩａｃｏｖａｎｇｅｌｏの同第６３７９７５７号に記載されている。従って、一実施形態では、反射性物品は基材、ヘイズ防止層、反射層及び保護層を有しており、ヘイズ防止層は基材と反射層に挟まれており、反射層はヘイズ防止層と保護層の間に挟まれている。
【００７０】
好ましい実施形態では、反射性物品は、ＡＳＴＭ  Ｄ５２３に従って測定して８０％以上、さらに好ましくは約８５％以上、さらに一段と好ましくは約９０％以上の反射率を有する表面を含んでいる。極めて好ましい実施形態では、反射性物品は、基材中の全ての熱可塑性樹脂の最低の熱変形温度に１５分曝露した後８０％以上、さらに好ましくは約８５％以上、さらに一段と好ましくは約９０％以上の反射率を有する表面を含んでいる。
【００７１】
図１に、反射性物品１０の部分の分解斜視図を示す。ヘイズ防止層４０が基材２０と反射金属層３０との間に挟まれている。
【００７２】
反射性物品は、例えば、自動車用ヘッドライトの反射板、映写用電球に組み込まれた反射板、あらゆる形状及び曲率のミラーとして使用できる。ヘッドライト反射板及びその製造方法は、例えば、Ｖｏｄｉｃｋａらの米国特許第４２１０８４１号、Ｍａａｓらの同第５５０３９３４号及びｖａｎ Ｂａａｌらの同第６３５５７２３号に記載されている。
【００７３】
その単純さのために好ましい実施形態では、反射性物品は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って６６ｐｓｉで測定して約１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有する非晶質熱可塑性樹脂を含む基材、反射金属層及び基材と反射金属層との間に挟まれたヘイズ防止層から実質的になり、ここでヘイズ防止層は２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含んでいる。
【００７４】
好ましい実施形態では、反射性物品は、約１７０℃以上のガラス転移温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有するポリスルホン又はイソホロンビスフェノール含有ポリカーボネート樹脂を含む基材、アルミニウムを含む反射金属層及び基材と反射金属層との間に挟まれたプラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ防止層を含んでおり、ここでヘイズ防止層は、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−２Ωｃｍ以上の体積抵抗率及びＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約５×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有するプラズマ重合したオルガノシリコーンを含んでいる。
【００７５】
別の実施形態は、基材の表面にヘイズ防止層を設け、このヘイズ防止層の表面に反射金属層を設けることを含んでなる反射性物品の製造方法であり、ここでヘイズ防止層は、２５℃でＡＳＴＭ  Ｄ２５７に従って測定して１×１０−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及びＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って測定して約３×１０５ｐｓｉ以上の引張弾性率を有する物質を含んでおり、基材は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って測定して約１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度及びＡＳＴＭ  Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有する非晶質熱可塑性樹脂を含んでいる。
【実施例】
【００７６】
以下の非限定実施例により本発明をさらに例証する。本発明の実施例は数字で示し、比較例は文字で示す。
【００７７】
比較例Ａ、実施例１〜３
射出成形したポリエーテルイミド（ＧＥ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｃｏ．のＵＬＴＥＭ １０１０）の直径１０２ｍｍ×厚さ３．２ｍｍのディスクを、以下のプロセスを用いてコートした。試料を真空チャンバー内でポンプで減圧し、３．０ｋＷの出力設定で１８０秒間０．０２３トルでグロークリーニングした(glow cleaned)。これらの部品を、チャンバー内にヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を導入しプラズマを発生させることにより作成したヘイズ低減性のプラズマ重合したオルガノシリコーンコーティングでプレコートした。圧力は０．０２７〜０．０３６トルで、出力は３．２キロワット（ｋＷ）であった。プラズマ重合したオルガノシリコーンコーティングの時間を２〜４〜８分で変えて厚さ約４０〜約１４５ｎｍのプラズマ重合したオルガノシリコーンコーティングを得た。次に、これらの部品を０．００００５トルにおいて約１００ｎｍのアルミニウムでコートした。次いで、金属化後の保護トップコートを０．０２７トル、出力３．２ｋＷ、１８０秒で施した。コートした試料を次に３．２ｋＷ、０．０１８トルで１８０秒間ポストグローに供し、チャンバーから取り出した。
【００７８】
プラズマ重合したオルガノシリコーンでコートした試料のヘイズ防止性能を試験するために、部品を１９８℃から２１０℃まで２℃ずつ加熱し、ヘイズを観察した。結果を表１に示す。比較例Ａのプラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ防止層をもたない金属化したポリエーテルイミド（ＰＥＩ）対照は２０４℃でヘイズを示した。実施例１の２分間プラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ防止層は２０８℃までヘイズが生成しなかった。実施例２の４分間プラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ防止層は２１０℃までヘイズが発生しなかった。実施例３の８分間プラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ防止層は２１０℃までヘイズが発生しなかった。
【００７９】
【表１】
2011203725.tif 000018
比較例Ｂ〜Ｉ、実施例４〜１１
ガラス転移温度（Ｔｇ）が高い様々な熱可塑性樹脂（表２）の１０２ｍｍ×３．２ｍｍのディスクを、上記のように射出成形し金属化した。対照実施例（Ｂ〜Ｉ）は約１００ｎｍの反射アルミニウムコーティングでコートした後トップコート層で保護した。本発明の実施例（４〜１１）は最初に、約４分間ＨＭＤＳＯのプラズマ蒸着で生成したヘイズ低減性のヒドロキシ炭化ケイ素層でコートした。このヒドロキシ炭化ケイ素層の厚さは約６４ｎｍであった。その後試料をアルミニウムの反射層でコートし、保護層でトップコートした。
【００８０】
表２に試験した高いＴｇの樹脂を示す。熱変形温度（ＨＤＴ）はＡＳＴＭ  Ｄ６４８に従って測定した。ガラス転移温度はＡＳＴＭ  Ｄ３４１８に準じて示差走査熱量分析（ＤＳＣ）によって測定した。
【００８１】
【表２】
2011203725.tif 000019
これらのコートした試料を次に、空気循環式オーブン内で加熱し、ヘイズの生成を検査した。初期温度は、各々の樹脂のガラス転移温度より約２０℃低かった。温度を２℃ずつヘイズ発生が観察されるまで上昇させた。試料は各温度に約９０分保った。各々の樹脂で、対照試料とヘイズが低減した試料とは同じ条件下で加熱した。加熱温度は、各個々の樹脂又は樹脂混合物の熱能力（Ｔｇ及びＨＤＴ）を反映するように変えた。
【００８２】
表３に、基材が反射アルミニウム層のみでコートされている対照試料Ｂ〜Ｉと、基材、プラズマ重合したオルガノシリコーンヘイズ防止層及び反射金属層を含む本発明の試料４〜１１とに対して、ヘイズの生成が最初に観察された温度を示す。各樹脂に対して、プラズマ重合したオルガノシリコーン下層（ヘイズ防止層）がヘイズ発生に対する増大した耐性を付与し、ヘイズ生成の発生がより高い温度で見られることに注意されたい。
【００８３】
【表３】
2011203725.tif 000020
比較例Ｊ及びＫ
厚さが１．５２ｍｍと６．３５ｍｍの２枚のポリカーボネートプラーク（ＬＥＸＡＮ（登録商標）１４０、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙから入手）を７０ワット、８ミリトル、２０分のＤＣマグネトロンスパッタリングによりアルミニウムで金属化して厚さ約１００〜２００ｎｍの反射層を生成させた。これらの金属化した試料を、温度を上昇させながら様々な時間空気循環式オーブン内に入れた。オーブン温度１２５℃で、試料は４８時間後曇っていなかったが、１３８℃で試料は約１０〜２０分後に曇ってきた。ヘイズは目視で観察した。選択した試料は光学顕微鏡でも検査した。
【００８４】
実施例１２及び１３
比較例Ｊ及びＫの手順に従ったが、ポリカーボネートプラークは金属化の前にアクリル変性コロイド状シリカ組成物でプレコートした。このアクリル変性コロイド状シリカ組成物はＧＥ ＳｉｌｉｃｏｎｅｓからＡＳ４０００懸濁物として入手したものであり、流し塗りにより塗布し熱硬化により厚さ約６〜８μｍの硬化したヘイズ低減性の層コーティングを生成させた。アルミニウムで金属化した後、試料は１４５℃もの高い温度で２４時間後までヘイズの徴候を示さなかった。１４５℃でヘイズは発生しなかったが、試料は反り、この温度でアクリル変性コロイド状シリカに亀裂が発生した。この系はヘイズの低減には成功したが、他の性能特性に関して最適ではなかった。
【００８５】
比較例Ｌ
厚さ３．２ｍｍのポリエーテルイミド（ＵＬＴＥＭ １０００）のプラークを、比較例Ｊ及びＫの手順に従ってアルミニウムで金属化して厚さ約２００ｎｍの反射層を作成した。試料をオーブン温度１９５〜２１０℃で試験した。試料は４８時間（１９５℃）〜３分（２１０℃）後にヘイズを発生した。
【００８６】
実施例１４
３．２ｍｍの厚さのポリエーテルイミド（ＵＬＴＥＭ（登録商標）１０００）プラークを、プラズマ重合したオルガノシリコーン層でコートして厚さ約２μｍのコーティングを得た。このプラズマ蒸着は拡大アルゴン熱プラズマを用いて７０アンペア、１．６５標準リットル／分（ｓｌｐｍ）のアルゴンで行った。蒸着は各々約１μｍの厚さの二回のコーティング工程で行った。酸素とオクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）は拡大プラズマの下流でリングインジェクターを介して供給した。二回の工程のいずれもＤ４の供給速度は０．１９ｓｌｐｍであり、酸素の供給速度は初回が０．３ｓｌｐｍ、二回目が０．８ｓｌｐｍであった。次に、試料のプラズマ重合したオルガノシリコーン表面上にアルミニウムをスパッタリングすることにより金属化して厚さ約２００ｎｍの反射層を得た。この試料を上記のようにオーブンで試験した。２２０℃までの温度でヘイズは観察されなかった。
【００８７】
好ましい実施形態に関連して本発明を説明してきたが、本発明の範囲から逸脱することなく様々な変更をなすことができ、また本発明の要素に代えて等価物を用いることができるということが当業者には理解されよう。加えて、特定の状況又は材料を本発明の教示に適合させるために本発明の本質的な範囲から逸脱することなく多くの修正をなすことができる。従って、本発明は、本発明を実施する上で考えられる最良の形態として開示した特定の実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲に入る全ての実施形態を包含するものである。
【００８８】
引用した特許、特許出願は全て、援用によりその全体が本明細書の内容の一部をなす。
【符号の説明】
【００８９】
１０  反射性物品
２０  基材
３０  反射金属層
４０  ヘイズ防止層
【図１】
2011203725.tif 000022