(57)【要約】【課題】良好な電気的接続を確保できる信号線引き回し配線と走査線引き回し配線との間の透明導電性部材を用いたブリッジ接続を提供すること。【解決手段】第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとの配線切り替え領域において、第１絶縁膜１７と第２絶縁膜２０を貫通して第１引き回し配線１６ａの表面を露出させるコンタクトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群２４と、第２絶縁膜４を貫通して信号線引き回し配線１６ｂの表面を露出させるコンタクトホールが複数個配設されてなる第２コンタクトホール群２５とを形成し、それらコンタクトホール群２４、２５を被覆する接続電極２３で第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとをブリッジ接続する。【選択図】図２
2011017821.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持して対向配置された第１透明基板と第２透明基板とを備え、前記第１透明
基板の前記液晶層側には、表示領域の周辺部に引き回し配線によって前記表示領域の走査
線及び信号線とそれぞれ電気的に接続された複数の走査線用電極端子及び信号線用電極端
子とが形成されている液晶表示パネルであって、
前記引き回し配線は、
前記走査線をそれぞれ前記複数の走査線用電極端子に引き回す複数の走査線引き回し配
線と、前記信号線をそれぞれ前記複数の信号線用電極端子に引き回す複数の信号線引き回
し配線とを備え、
前記複数の走査線引き回し配線及び／または前記複数の信号線引き回し配線は、前記走
査線と同一の走査線材料から形成された第１引き回し配線と、前記第１の引き回し配線と
電気的に絶縁され、かつ前記信号線と同一の信号線材料から形成された第２引き回し配線
とから構成されており、
前記第２引き回し配線は所定の配線切り替え領域において前記第１引き回し配線と切り
替え接続されており、
前記配線切り替え領域においては、
第１絶縁膜及び第２絶縁膜を貫通して前記第１引き回し配線の表面を露出させるコンタ
クトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群と、前記第２絶縁膜を貫通して前
記第２引き回し配線の表面を露出させるコンタクトホールが複数個配設された第２コンタ
クトホール群とが形成されており、
前記第１引き回し配線と前記第２引き回し配線とは、前記第１及び第２コンタクトホー
ル群の全コンタクトホールを被覆しつつ前記第２絶縁膜上に形成された接続電極によりブ
リッジ接続されている、ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記走査線は、
一部が前記走査線引き回し配線によって直接前記走査線用電極端子に接続され、
他の部分が第１の前記配線切り替え領域を経て前記走査線から前記第２引き回し配線に
切り替えられ、かつ、第２の前記配線切り替え領域を経て前記第２引き回し配線から前記
第１引き回し配線に切り替えられて前記走査線用電極端子に接続されていることを特徴と
する請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記接続電極は、前記表示領域に形成された画素電極と同一の透明導電性材料で形成さ
れていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記配線切り替え領域内に位置する前記第１引き回し配線及び前記第２引き回し配線は
、前記配線切り替え領域外の前記第１引き回し配線及び前記第２引き回し配線よりも幅広
に形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネル
【請求項５】
液晶層を挟持して対向配置された第１透明基板と第２透明基板とを備え、前記第１透明
基板の前記液晶層側には、表示領域の周辺部に引き回し配線によって前記表示領域の走査
線及び信号線とそれぞれ電気的に接続された走査線用電極端子及び信号線用電極端子とが
形成されている液晶表示パネルの製造方法であって、以下の（１）〜（７）の工程を具備
することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
（１）前記第１透明基板上に走査線材料からなる走査線、ゲート電極、第１引き回し配線
をパターニング形成する工程、
（２）前記工程で得られた第１透明基板の表面を第１絶縁膜で被覆する工程、
（３）前記第１絶縁膜上の前記ゲート電極に対応する位置に半導体層を形成する工程、
（４）前記第１絶縁膜上に信号線材料で形成された信号線、ソース電極、ドレイン電極、
第２引き回し配線をパターニング形成する工程、
（５）前記工程で得られた第１透明基板の表面を第２絶縁膜で被覆する工程、
（６）画素電極と前記ドレイン電極とを接続するために電極接続用コンタクトホールを形
成すると同時に、前記第１絶縁膜と第２絶縁膜を貫通して前記第１引き回し配線の表面を
露出させるコンタクトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群と、前記第２絶
縁膜を貫通して前記第２引き回し配線の表面を露出させるコンタクトホールが複数個配設
された第２コンタクトホール群とを前記配線切り替え領域に形成する工程、
（７）前記画素電極接続用コンタクトホールと、前記第１及び第２コンタクトホール群の
全コンタクトホールを被覆しつつ、前記第２絶縁膜上に画素電極と同一の透明導電性部材
からなる接続電極を形成して前記第１引き回し配線と前記第２引き回し配線とをブリッジ
接続する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの非表示領域に走査線及び信号線と、第１引き回し配線及び
第２引き回し配線等の引き回し配線が形成された液晶表示パネル及びその製造方法に関す
る。更に詳しくは、本発明は、それら引き回し配線が絶縁膜の上下に形成され、これら引
き回し配線が所定の配線切り替え領域においてブリッジ接続されている液晶表示パネル及
びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルはＣＲＴ（陰極線管）と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴が
あるため、表示用として多くの電子機器に使用されている。液晶表示パネルの液晶層に電
界を印加する方法として、縦電界方式のものと横電界方式のものとがある。縦電界方式の
液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の透明基板上にそれぞれ電極が設けら
れ、これら一対の電極により、概ね列方向の電界を液晶分子に印加するものである。この
縦電界方式の液晶表示パネルとしては、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertica
l Alignment）モード、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モード等のものが知
られている。
【０００３】
また、横電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配設される一対の基板のうちの
一方の内面側にのみ一対の電極を絶縁して設け、概ね横方向の電界を液晶分子に対して印
加するものである。この横電界方式の液晶表示パネルとしては、一対の電極が平面視で重
ならないＩＰＳ（In-Plane Switching）モードのものと、重なるＦＦＳ（Fringe Field S
witching）モードのものとが知られている。
【０００４】
このように、液晶表示パネルには複数の方式のものが知られている。これらの液晶表示
パネルは、いずれも液晶分子の配向を変化させるための電界を形成する画素電極及び共通
電極と、マトリクス状に整列された画素ごとに画素電極の電圧を変化させるための走査線
及び信号線が、アレイ基板の表示領域に形成されている。
【０００５】
そして、アレイ基板の非表示領域にはドライバー用ＩＣとの電気的接続用の電極端子が
形成され、これらの電極端子には走査線及び信号線が走査線と同一材料の走査線引き回し
配線及び信号線と同一材料の信号線引き回し配線とからなる引き回し配線を介して電気的
に接続されている。これらの引き回し配線は表示領域の周縁領域に形成されるが、走査線
及び信号線用の引き回し配線は非常に数が多いので、広い周縁領域が必要とされる。特に
、ドライバー用ＩＣが、信号線の延在方向に配設されているときは、表示領域が液晶表示
パネルの左右のいずれにも偏らずに中央に配置されているようにするためには、走査線用
の引き回し配線を表示領域の左右の両側から信号線の延在方向に引き回す必要があるため
、更に広い周縁領域が必要とされる。
【０００６】
このような周縁領域に必要な面積を減らす目的で、下記特許文献１には、引き回し配線
を多層構造化した液晶表示パネルが開示されている。ここで、下記特許文献１に開示され
ている液晶表示パネルの引き回し配線の構成を図６及び図７を用いて説明する。なお、図
６Ａは従来例の液晶表示パネルの周縁領域左側における引き回し配線の配置を示す部分拡
大平面図、図６Ｂは図６ＡのＶＢ−ＶＢ線の断面図である。図７Ａは従来の液晶表示パネ
ルの配線切り替え領域の平面図であり、図７Ｂは図７ＡのVIＢ−VIＢ線の断面図である。
【０００７】
なお、理解を容易とするために、図６Ａにおいては、走査線と同一材料で形成された導
電部材を点線で示し、信号線と同一材料で形成された導線部材を実線で示している。
【０００８】
下記特許文献１に開示された液晶表示パネル５０においては、アレイ基板ＡＲは、透明
なガラス基板１１の表面に走査線１２及び信号線１３とがマトリクス状に配置された表示
領域と、表示領域の左右両側（図６Ａにおいては左側のみ示されている）及び下側に位置
する周縁領域とに区画されている。周縁領域には、信号線１３の延在方向に、ドライバー
用ＩＣ（図示省略）ないし外部回路との接続のための走査線用電極端子１４及び信号線用
電極端子１５が設けられており、周縁領域には更に、走査線１２と走査線用電極端子１４
とを接続するための引き回し配線１６が形成されている。
【０００９】
引き回し配線１６は、走査線１２と同一材料からなる第１引き回し配線１６ａと信号線
１３と同一材料からなる第２引き回し配線１６ｂとからなる。図６Ｂに示されているよう
に、これらの第１引き回し配線１６ａと、第２引き回し配線１６ｂとは、間に第１絶縁膜
（一般にゲート絶縁膜と称される）１７を挟んで２層構造化されると共に、一般的には平
面視で互いに重なることなく互い違いに隣接配置されている。
【００１０】
この際、第１絶縁膜１７の下側に配置されている第１引き回し配線１６ａの一部は、一
端が走査線１２の端部と直接接続され、他端が第１絶縁膜１７の下側に形成された走査線
用電極端子１４と直接接続されている。また、第１絶縁膜１７の上側に形成された第２引
き回し配線１６ｂは、第１配線切り替え領域１８において走査線１２と電気的に接続され
、第２配線切り替え領域１９において再度第１引き回し配線１６ａに切り替えられて走査
線用電極端子１４と電気的に接続されている。更に、信号線１３は、第２引き回し配線１
６ｃによって直接、又は適宜走査線と同一材料からなる別の引き回し配線（図示省略）に
切り替えられて、信号線用電極端子１５に電気的に接続されている。
【００１１】
図７Ａに示されているように、第１配線切り替え領域１８（図６Ａ参照）においては、
第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとは、互いの端部が一定の距離Ｌを隔
てて隣接配置されている。そして、図７Ｂに示されているように、第１引き回し配線１６
ａの表面を被覆する第１絶縁膜１７及びこの第１絶縁膜１７の表面を被覆する第２絶縁膜
（一般にパッシベーション膜と称される）２０には、第１引き回し配線１６ａの一部表面
を露出させる第１コンタクトホール２１が形成されている。また、第２引き回し配線１６
ｂの表面を被覆する第２絶縁膜２０には、第２引き回し配線１６ｂの一部表面を露出させ
る第２コンタクトホール２２が形成されている。そして、これら第１コンタクトホール２
１と第２コンタクトホール２２を被覆するようにして、画素電極と同一材料の透明導電性
材料からなる接続電極２３が第２絶縁膜２０の表面に形成されており、これにより、第１
引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとがブリッジ接続されている。なお、第２
配線切り替え領域１９（図６Ａ参照）の構成は、実質的に第１配線切り替え領域１８と同
様であるので、図示省略した。
【００１２】
この特許文献１に開示されている液晶表示パネル５０によれば、第１引き回し配線１６
ａ及び第２引き回し配線１６ｂからなる引き回し配線が２層構造化されていることから、
引き回し配線間のピッチを狭めることができ、周縁領域の占める面積の狭小化が達成され
る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００５−９１９６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、このような第１コンタクトホール２１及び第２のコンタクトホール２２
を被覆する透明導電性材料からなる接続電極２３により第１引き回し配線１６ａと第２引
き回し配線１６ｂとをブリッジ接続すると、図７Ｂ中に４箇所の丸囲みで示される第１、
第２コンタクトホール２１、２２の底面端部で、いわゆるカバレッジ不良が発生する場合
があることが知られている。これは、一般に、接続電極２３を形成するために透明導電性
材料が上方からスパッタリングにより積層されるように形成されることに起因している。
【００１５】
このようなカバレッジ不良箇所は、第１引き回し配線１６ａや第２引き回し配線１６ｂ
の腐食の要因となり、第２引き回し配線１６ｂと第１引き回し配線１６ａとの間の良好な
電気的接続の妨げとなることがある。また、液晶表示パネルの画素数の増加に伴い、各種
引き回し配線の数も増加するので、このような問題を放置すると画質劣化の大きな要因と
なる。
【００１６】
本発明は、上述の問題点を解決すべくなされたものであり、その目的は、第１引き回し
配線及び第２引き回し配線のコンタクトホールを介したブリッジ接続を透明導電性部材か
らなる接続電極を用いて行いながら、コンタクトホールの底面端部でカバレッジ不良が発
生しても、第１引き回し配線及び第２引き回し配線との良好な電気的接続を確保でき、そ
れにより安定した表示画質を提供することのできる液晶表示パネル及びその製造方法を提
供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示パネルは、液晶層を挟持して対向配置さ
れた第１透明基板と第２透明基板とを備え、前記第１透明基板の前記液晶層側には、表示
領域の周辺部に引き回し配線によって前記表示領域の走査線及び信号線とそれぞれ電気的
に接続された複数の走査線用電極端子及び信号線用電極端子とが形成されている液晶表示
パネルであって、
前記引き回し配線は、
前記走査線をそれぞれ前記複数の走査線用電極端子に引き回す複数の走査線引き回し配
線と、前記信号線をそれぞれ前記複数の信号線用電極端子に引き回す複数の信号線引き回
し配線とを備え、
前記複数の走査線引き回し配線及び／または前記複数の信号線引き回し配線は、前記走
査線と同一の走査線材料から形成された第１引き回し配線と、前記第１の引き回し配線と
電気的に絶縁され、かつ前記信号線と同一の信号線材料から形成された第２引き回し配線
とから構成されており、
前記第２引き回し配線は所定の配線切り替え領域において前記第１引き回し配線と切り
替え接続されており、
前記配線切り替え領域においては、
第１絶縁膜及び第２絶縁膜を貫通して前記第１引き回し配線の表面を露出させるコンタ
クトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群と、前記第２絶縁膜を貫通して前
記第２引き回し配線の表面を露出させるコンタクトホールが複数個配設された第２コンタ
クトホール群とが形成されており、
前記第１引き回し配線と前記第２引き回し配線とは、前記第１及び第２コンタクトホー
ル群の全コンタクトホールを被覆しつつ前記第２絶縁膜上に形成された接続電極によりブ
リッジ接続されている、ことを特徴とする。
【００１８】
本発明の液晶表示パネルにおいては、配線切り替え領域におけるコンタクトホールの形
成範囲を従来例のものと同じとしても、このコンタクトホールの形成範囲内に形成される
コンタクトホールの数を従来例のものよりも増加させている。このため、本発明の液晶表
示パネルによれば、何れかのコンタクトホールでカバレッジ不良が発生しても、そのカバ
レッジ不良箇所は従来例のものよりも小さくなり、また、その他の複数のコンタクトホー
ルで十分なカバレッジが維持されているようにできるので、走査線引き回し配線と信号線
引き回し配線との電気的接続を十分に確保することができるようになる。
【００１９】
本発明の液晶表示パネルにおいては、前記走査線は、一部が前記走査線引き回し配線に
よって直接前記走査線用電極端子に接続され、他の部分が第１の前記配線切り替え領域を
経て前記走査線から前記第２引き回し配線に切り替えられ、かつ、第２の前記配線切り替
え領域を経て前記第２引き回し配線から前記第１引き回し配線に切り替えられて前記走査
線用電極端子に接続されていることが好ましい。
【００２０】
このような構成を備えていると、走査線と直接接続されている第１引き回し配線は第１
絶縁膜の下側に配置されているが、走査線に接続されている第２引き回し配線を第１絶縁
膜の表面に配置することができるので、走査線用の引き回し配線を２層構造とすることが
できる。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、走査線用の引き回し配線を形成す
るために必要とする表示領域の周辺部を狭幅化することができるようになる。
【００２１】
本発明の液晶表示パネルにおいては、前記接続電極は、前記表示領域に形成された画素
電極と同一の透明導電性材料で形成されていることが好ましい。
【００２２】
このような本発明の液晶表示パネルによれば、画素電極の形成と同時に接続電極を形成
することができるので、特に接続電極の形成用の工程数を増やす必要がなくなる。
【００２３】
本発明の液晶表示パネルにおいて、前記配線切り替え領域内に位置する前記第１引き回
し配線及び前記第２引き回し配線は、前記配線切り替え領域外の前記第１引き回し配線及
び前記第２引き回し配線よりも幅広に形成されていることが好ましい。
【００２４】
このような本発明の液晶表示パネルによれば、配線切り替え領域が広く確保されるので
、より多くのコンタクトホールからなるコンタクトホール群を形成することができ、これ
により第１引き回し配線と第２引き回し配線との電気的接続をより確かなものとすること
が可能となる。
【００２５】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、液晶層を挟持して対向配置された第１透
明基板と第２透明基板とを備え、前記第１透明基板の前記液晶層側には、表示領域の周辺
部に引き回し配線によって前記表示領域の走査線及び信号線とそれぞれ電気的に接続され
た走査線用電極端子及び信号線用電極端子とが形成されている液晶表示パネルの製造方法
であって、以下の（１）〜（７）の工程を具備することを特徴とする。
（１）前記第１透明基板上に走査線材料からなる走査線、ゲート電極、第１引き回し配線
をパターニング形成する工程、
（２）前記工程で得られた第１透明基板の表面を第１絶縁膜で被覆する工程、
（３）前記第１絶縁膜上の前記ゲート電極に対応する位置に半導体層を形成する工程、
（４）前記第１絶縁膜上に信号線材料からなる信号線、ソース電極、ドレイン電極、第２
引き回し配線をパターニング形成する工程、
（５）前記工程で得られた第１透明基板の表面を第２絶縁膜で被覆する工程、
（６）画素電極と前記ドレイン電極とを接続するために電極接続用コンタクトホールを形
成すると同時に、前記第１絶縁膜と第２絶縁膜を貫通して前記第１引き回し配線の表面を
露出させるコンタクトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群と、前記第２絶
縁膜を貫通して前記第２引き回し配線の表面を露出させるコンタクトホールが複数個配設
された第２コンタクトホール群とを前記配線切り替え領域に形成する工程、
（７）前記画素電極接続用コンタクトホールと、前記第１及び第２コンタクトホール群の
全コンタクトホールを被覆しつつ、前記第２絶縁膜上に画素電極と同一の透明導電性部材
からなる接続電極を形成して前記第１引き回し配線と前記第２引き回し配線とをブリッジ
接続する工程。
【００２６】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、上述した本発明の液晶表示パネルにより
適した製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置のアレイ基板を示す模式平面図である。
【図２】図２Ａは本実施形態の液晶表示パネルにおける周辺領域の第１引き回し配線と第２引き回し配線との配線切り替え領域を示す図であり、図２Ｂは図２ＡのＩB−ＩB線に沿った断面図である。
【図３】本実施形態の液晶表示パネルの変形例を示す配線切り替え領域を示す図である。
【図４】本実施形態の液晶表示パネルの製造方法を工程順に示す図である。
【図５】図４に続く本実施形態の液晶表示パネルの製造方法を工程順に示す図である。
【図６】図６Ａは本実施形態及び従来例に共通の液晶表示パネルの周縁領域左側における引き回し配線の配置を示す部分拡大平面図、図６Ｂは図６ＡのＶＢ−ＶＢ線の断面図である。
【図７】図７Ａは従来の液晶表示パネルの配線切り替え領域の平面図であり、図７Ｂは図７ＡのVIＢ−VIＢ線の断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。ただし、以下に示す実施形態は、
本発明の技術的思想を具体化するための液晶表示パネルを例示するものであって、本発明
をこの液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれ
るその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における
説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大
きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法
に比例して表示されているものではない。
【００２９】
図１は第１実施形態の液晶表示装置のアレイ基板を示す模式平面図である。この実施形
態の液晶表示パネル１０は、各種の画像が表示される表示領域ＤＡと、その周辺に形成さ
れた額縁領域ＰＦとを備えており、この額縁領域ＰＦの一つの端部側にドライバーＩＣな
いし外部接続のための端子部Ｄｒが形成されている。そして、額縁領域ＰＦには、表示領
域ＤＡの走査線１２を端子部Ｄｒへ引き回す引き回し配線１６及び信号線１３を端子部Ｄ
ｒへと引き回す引き回し配線１６Ｃを備えている。
【００３０】
なお、この実施形態の液晶表示パネル１０における周縁領域左側における引き回し配線
部分の構成は、図６Ａに示した従来例のものと実質的に相違はないので、適宜図６Ａを援
用して説明することとし、また、従来例のものと同様の構成部分については同一の参照符
号を付与して説明する。
【００３１】
端子部Ｄｒはガラス基板（本発明の第１透明基板に対応）１１の表面に、信号線１３の
延在方向に形成され、図６に示すように、走査線材料で形成された走査線用電極端子１４
及び信号線材料で形成された信号線用電極端子１５とを含んでいる。走査線１２と走査線
用電極端子１４とは複数の引き回し配線１６で接続されている。引き回し配線１６は、走
査線材料からなる第１引き回し配線１６ａと信号線材料からなる第２引き回し配線１６ｂ
とから形成されている。これらの第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとは
、図６Ｂに示されている従来例の液晶表示パネルの場合と同様に、間にゲート絶縁膜１７
を挟んで２層構造化されると共に、平面視で互いに重なることなく互い違いに隣接配置さ
れている。
【００３２】
この際、第１絶縁膜１７の下側に配置されている第１引き回し配線１６ａの一部は、一
端が走査線１２の端部と直接接続され、他端がゲート絶縁膜１７の下側に形成された走査
線用電極端子１４と直接接続されている。またゲート絶縁膜１７の上側に形成された第２
引き回し配線１６ｂは、第１配線切り替え領域１８において走査線１２と電気的に接続さ
れ、第２配線切り替え領域１９において再度第１引き回し配線１６ａに切り替えられて走
査線用電極端子１４と電気的に接続されている。更に、信号線１３は、信号線１３と第２
引き回し配線１６ｃによって直接信号線用電極端子１５に電気的に接続されている。
【００３３】
この実施形態の液晶表示パネル１０においては、走査線材料からなる第１引き回し配線
１６ａは、図２Ｂに示されているように、その表面がゲート絶縁膜１７で被覆されており
、信号線材料からなる第２引き回し配線１６ｂは、ゲート絶縁膜（本発明の第１絶縁膜対
応）１７の表面に形成され、その表面がパッシベーション膜（本発明の第２絶縁膜に対応
）２０で被覆されている。そして、この第１配線切り替え領域１８においては、図２Ａに
示されているように、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとは、互いの端
部が一定の距離Ｌを隔てて隣接配置されている。
【００３４】
第１引き回し配線１６ａの表面を被覆するゲート絶縁膜１７及びこのゲート絶縁膜１７
の表面を被覆するパッシベーション膜２０には、第１引き回し配線１６ａの表面を露出さ
せる複数個、例えば合計１６個（４×４個）のコンタクトホールからなる第１コンタクト
ホール群２４が形成されている。すなわち、この例では、配線切り替え領域１８において
は、第１引き回し配線１６ａは１６箇所でその表面が露出されている。一方、第２引き回
し配線１６ｂの表面を被覆するパッシベーション膜２０には、同様に第２引き回し配線１
６ｂの表面を露出させる合計１６個（４×４個）のコンタクトホールからなる第２コンタ
クトホール群２５が形成されている。すなわち、この例では、配線切り替え領域において
は、第２引き回し配線１６ｂは１６箇所でその表面が露出されている。
【００３５】
そして、これら第１コンタクトホール群２４の１６個のコンタクトホールと第２コンタ
クトホール群２５の１６個のコンタクトホールは、パッシベーション膜２０の表面に形成
される画素電極と同一の例えばＩＴＯ（Indium Thin Oxide）又はＩＺＯ（Indium Zinc O
xide）等からなる透明導電性材料からなる接続電極２３で被覆されている。これにより、
第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとが透明導電性材料からなる接続電極
２３を介してブリッジ接続されている。
【００３６】
このように、図７に示した従来例の液晶表示パネル５０ではそれぞれ１個の第１、第２
コンタクトホール２１、２２のみを形成してブリッジ接続しているが、本実施形態の液晶
表示パネル１０ではそれぞれ１６個のコンタクトホールからなるコンタクトホール群２４
、２５を形成してブリッジ接続を行っている。また、本実施形態の液晶表示パネル１０で
は、これらの第１、第２コンタクトホール群２４、２５の形成範囲は、図７と比較すれば
明らかなように、従来例のものとほぼ同様である。したがって、本実施形態の各コンタク
トホールの大きさは、従来例のものと比して小さくなる。しかしながら、それぞれのコン
タクトホール群２４、２５におけるコンタクトホールの数を従来例のものよりも大幅に増
加すると、何れかのコンタクトホールでカバレッジ不良が発生しても、そのカバレッジ不
良箇所は従来例のものよりも小さくなり、また、その他のコンタクトホールで十分なカバ
レッジが維持されているようにできるので、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線
１６ｂとの電気的接続は十分に確保される。
【００３７】
なお、本実施形態では第１配線切り替え領域１８の場合について説明したが、第２配線
切り替え領域１９の構成は、第１配線切り替え領域１８と同様であるので、図示省略する
。また、本実施形態では信号線１３は信号線１３と第２引き回し配線１６ｃによって信号
線用電極端子１５に接続した例を示したが、この信号線用電極端子１５が走査線１２と同
層に形成されている場合には上述の第２配線切り替え領域１９と同様の構成が採用される
。なお、この場合についても図示は省略する。
【００３８】
次に、本実施形態の変形例を図３を用いて説明する。なお、図３では第１引き回し配線
１６ａ及び第２引き回し配線１６ｂは、図２に示されているものよりも細くされているが
、実際には図２に示されているものと同じ太さのものである。この例では、配線切り替え
領域Ａ内に位置する第１引き回し配線１６ａ'及び第２引き回し配線１６ｂ'が、配線切り
替え領域Ａに隣接する領域Ｂに位置する第１引き回し配線１６ａ及び第２引き回し配線１
６ｂよりも幅広に形成されている。このような構成とすれば、配線切り替え領域Ａをより
広く確保して、より多くのコンタクトホール群を形成して第１引き回し配線１６ａと第２
引き回し配線１６ｂとの間の電気的接続をより確かなものとすることができるようになる
。なお、このような太くされた配線切り替え領域Ａは、図６Ａを参照すれば明らかなよう
に、走査線１２の１本おきに形成すればよいので、配線切り替え領域Ａの形成に必要な面
積は十分に確保することができる。
【００３９】
次に、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法を図４及び図５を用いて説明する。なお
、ここではＦＦＳモードのアレイ基板ＡＲの製造方法のみを示し、カラーフィルター基板
については、従来例のものと相違はないので、その説明は省略する。また、図４及び図５
においては、左側に表示領域の１サブ画素分を、右側に周縁領域の配線切り替え領域をそ
れぞれ示す。
【００４０】
まず、ガラス基板１１の表面全体に亘って走査線材料（例えばＡｌ／Ｍｏの２層構造）
からなる金属薄膜を形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によって、走
査線１２と、コモン配線２６とを、互いが平行になるようにパターニング形成する。この
際、走査線１２と信号線（図示せず）との交差部近傍において、走査線１２の一部が部分
的に幅広とされることにより、或いは、走査線１２の一部を延在させることにより、ＴＦ
Ｔのゲート電極Ｇが同時に形成される。更に、周縁領域においては、同様の走査線材料に
より、第１引き回し配線１６ａ、コモン配線（図示省略）及び走査線用電極端子１４（図
６Ａ参照）が同時にパターニング形成される（図４（Ａ））。
【００４１】
次いで、上記工程により得られた基板の表面全体を、スパッタリング法によって例えば
ＩＴＯからなる透明導電性膜で被覆し、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によっ
て共通電極２７を形成する（図４（Ｂ））。なお、この共通電極２７はコモン配線２６と
直接接触されることにより導通されているが、走査線１２ないしゲート電極Ｇとは導通さ
れないように、かつ信号線とは平面視で重複しないようにサブ画素領域毎に独立したもの
として形成されている。
【００４２】
次いで、上記工程により得られた基板の表面全体を、プラズマＣＶＤ法によって窒化ケ
イ素又は酸化ケイ素からなるゲート絶縁膜１７で被覆する（図４（Ｃ））。これにより、
周縁領域では、第１引き回し配線１６ａの表面がゲート絶縁膜１７で被覆される。
【００４３】
次いで、プラズマＣＶＤ法により、たとえばアモルファス・シリコン（以下「ａ−Ｓｉ
」という。）層及びオーミット層となるｎ＋ａ−Ｓｉ層をゲート絶縁膜１７の表面全体に
亘って形成した後に、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によって、ＴＦＴ形成領
域にａ−Ｓｉ層及びｎ＋ａ−Ｓｉ層からなる半導体層２８を形成する（図４（Ｄ））。
【００４４】
次いで、上記工程により得られた基板の表面全体を、信号線材料（例えばＭｏ／Ａｌ／
Ｍｏの３層構造）からなる金属薄膜で被覆した後、フォトリソグラフィー法及びエッチン
グ法によって、ＴＦＴのソース電極Ｓ（信号線１３の一部）とドレイン電極Ｄを形成する
（図５（Ａ））。このソース電極Ｓ部分及びドレイン電極Ｄ部分は、いずれも半導体層２
８の表面に部分的に重なっており、両電極間に被覆されていない半導体層２８の露出領域
がＴＦＴのチャネル領域ｃｈとなる。このとき、周縁領域においては、ゲート絶縁膜１７
の表面に第２引き回し配線１６ｂが同時にパターニング形成される（図５（Ａ））。
【００４５】
次いで、上記工程により得られた基板の表面全体を、プラズマＣＶＤ法によって、窒化
ケイ素又は酸化ケイ素からなるパッシベーション膜２０で被覆する。これにより、周縁領
域では、第２引き回し配線１６ｂの表面がパッシベーション膜で被覆される（図５（Ｂ）
）。
【００４６】
次いで、ドレイン電極Ｄと接触する箇所のパッシベーション膜２０にプラズマエッチン
グ法によってコンタクトホール２９を形成してドレイン電極Ｄの一部を露出させる（図５
（Ｃ））。このとき、周縁領域においては、第１引き回し配線１６ａの表面を被覆するゲ
ート絶縁膜１７及びこのゲート絶縁膜１７の表面を被覆するパッシベーション膜２０には
、第１引き回し配線１６ａの表面を露出させる合計１６個（４×４個）のコンタクトホー
ルからなる第１コンタクトホール群２４が同時形成される。更に、第２引き回し配線１６
ｂの表面を被覆するパッシベーション膜２０には、第２引き回し配線１６ｂの表面を露出
させる合計１６個（４×４個）のコンタクトホールからなる第２コンタクトホール群２５
が同時に形成される。
【００４７】
次いで、上記工程により得られた基板の表面全体を、スパッタリング法によって例えば
ＩＴＯからなる透明導電性膜で被覆する。そして、フォトリソグラフィー法及びエッチン
グ法によって、複数のスリット３０を有する画素電極３１を形成し、パッシベーション膜
２０のコンタクトホール２９を経てドレイン電極と導通させる。このとき、周縁領域では
、第１コンタクトホール群２４の１６個のコンタクトホールと第２コンタクトホール群２
５の１６個のコンタクトホールは、画素電極３１と同一の透明導電性材料からなる接続電
極２３で被覆され、これにより、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとが
ブリッジ接続される（図５（Ｄ））。
【００４８】
更に、この表面全体に亘り所定の配向膜（図示せず）を形成することによりアレイ基板
ＡＲが完成される。そして、このようにして製造されたアレイ基板ＡＲと別途製造された
カラーフィルター基板ＣＦとを対向させ、周囲をシール材でシールして両基板間に液晶を
注入することにより本実施形態に係る液晶表示パネルが得られる。
【００４９】
なお、上記実施形態では、第１コンタクトホール群２４及び第２コンタクトホール群２
５ではそれぞれ４×４個＝１６個のコンタクトホールを形成した例を示したが、本発明で
はそれぞれのコンタクトホール群２４、２５においてそれぞれ複数個のコンタクトホール
が形成されていれば所定の効果を奏する。そのため、それぞれのコンタクトホール群に形
成するコンタクトホールの数は、切り替え領域における第１引き回し配線１６ａ及び第２
引き回し配線１６ｂの幅や長さに応じて適宜設定すればよい。
【００５０】
また、上記実施形態では、横電界方式の液晶表示パネルであるＦＦＳモードの液晶表示
パネルの場合を例にとって説明したが、同じ横電界方式のＩＰＳモードの液晶表示パネル
や、ＴＮモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード等の縦電界方式の液晶表示パネルの場合にも
等しく適用可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１０…液晶表示パネル  １１…ガラス基板  １２…走査線  １３…信号線  １４…走査
線用電極端子  １５…信号線用電極端子  １６…引き回し配線  １６ａ、１６ａ'…第１
引き回し配線  １６ｂ、１６ｂ'、１６ｃ…第２引き回し配線、  １７…第１絶縁膜（ゲ
ート絶縁膜）  １８…第１配線切り替え領域  １９…第２配線切り替え領域  ２０…第２
絶縁膜（パッシベーション膜）  ２１…第１コンタクトホール  ２２…第２コンタクトホ
ール  ２３…接続電極  ２４…第１コンタクトホール群  ２５…第２コンタクトホール群
２６…コモン配線  ２７…下電極  ２８…半導体層  ２９…コンタクトホール  ３０…
スリット  ３１…画素電極  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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