(57)【要約】【課題】本発明は、インビトロで細胞性過剰増殖を阻害および／または微小管を安定化する、およびインビボでの過剰増殖性疾患の処置することを目的とする。【解決手段】本発明は、新規なトランス−９，１０−デヒドロエポチロンＣおよびトランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤベースの誘導体化合物、組成物および方法を提供する。また、当該化合物を作製する方法も開示される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式（Ｉ）の化合物またはそれらの薬学的に受容可能な塩もしくはプロドラッグ：
【化１】
2011006480.tif 000057
ここで、
Ｒは、Ｈであるか、または置換されたもしくは置換されていない低級アルキルであり；
Ｒ１は、Ｈであるか、または置換されたもしくは置換されていない低級アルキル、低級アルケニル、もしくは低級アルキニルであり；そして
Ａｒは、置換されたもしくは置換されていないヘテロアリールであり；
但し、Ｒがメチルまたはトリフルオロメチルであり、そしてＡｒが
【化２】
2011006480.tif 000058
である場合、Ｒ１はＨではない、化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物であって、ここでＡｒが、置換されたもしくは置換されていないチアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリル、キノリジニル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、またはベンゾトリアゾリルである、化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物であって、ここでＡｒが、
【化３】
2011006480.tif 000059
であり、ここでＸは、ＳまたはＯであり、そしてＲ２は、Ｈまたは置換されたもしくは置換されていない低級アルキルである、化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物であって、ここでＲが、ハロ、ヒドロキシル、アミノ、およびアジドから独立して選択される１つ以上の基と置換された低級アルキルである、化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の化合物であって、ここでＲが、メチルまたはトリフルオロメチルである、化合物。
【請求項６】
請求項１に記載の化合物であって、ここでＲ１が、ハロ、ヒドロキシル、アミノ、およびアジドから独立して選択される１つ以上の基と置換された低級アルキルである、化合物。
【請求項７】
以下からなる群から選択される化合物：
【化４】
2011006480.tif 000060
【請求項８】
請求項１に記載の化合物を、ヒトまたは動物被験体に投与される場合にヒトまたは動物被験体において細胞過剰増殖を減少させるのに有効な量で、薬学的に受容可能なキャリアと共に含む、組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の化合物に加えて、１つ以上の活性剤を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
ヒトまたは動物被験体において過剰増殖性疾患を処置する方法であって、該ヒトまたは動物被験体に、該被験体において細胞過剰増殖を減少させるのに有効な量の請求項８に記載の組成物を投与することを特徴とする、方法。
【請求項１１】
前記過剰増殖性疾患が、癌、乾癬、多発性硬化症、慢性関節リウマチ、アテローム硬化症、および再狭窄から選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記過剰増殖性疾患が、乳癌、結腸直腸癌、および非小細胞肺癌からなる群から選択される癌である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
トランス−９，１０−デヒドロエポチロンを合成する方法であって、９−オキソ−エポチロンを該トランス−９，１０−デヒドロエポチロンに変換する工程を包含する、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、前記９−オキソ−エポチロンが前記トランス−９，１０−デヒドロエポチロンに変換されるのが、該９−オキソ−エポチロンの遊離ヒドロキシル基を保護し、該９−オキソ−エポチロンの９−オキソ基を還元して９−ヒドロキシル保護化合物を得、該９−ヒドロキシル保護化合物を活性化基で活性化し、該活性化基を脱離させて保護９，１０−デヒドロエポチロンを得、そして次いで該保護９，１０−デヒドロエポチロンを脱保護して該９，１０−デヒドロエポチロンを得ることによってである、方法。
【請求項１５】
前記活性化基がキサンテートまたはチオカルバメートであり、そして前記活性化基を脱離させる工程が熱分解によって実施される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
請求項１３に記載の方法であって、前記９−オキソ−エポチロンが前記トランス−９，１０−デヒドロエポチロンに変換されるのが、該９−オキソ−エポチロンの遊離ヒドロキシル基を保護し、該保護９−オキソ−エポチロンをトリフレート剤（ｔｒｉｆｌａｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ）および塩基と反応させて９，１０−デヒドロ−９−トリフルオロメタンスルホニルオキシ中間体化合物を得、そして次いで該９，１０−デヒドロ−９−トリフルオロメタンスルホニルオキシ中間体の９−トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を還元し、そして次いで該保護９，１０−デヒドロエポチロン化合物を脱保護して該９，１０−デヒドロエポチロンを得ることによってである、方法。
【請求項１７】
請求項１３に記載の方法であって、前記９−オキソエポチロンが前記トランス−９，１０−デヒドロエポチロンに変換されるのが、該９−オキソエポチロンの遊離ヒドロキシル基を保護し、該保護９−オキソエポチロンをトリフレート試薬および塩基と反応させて、９，１０−デヒドロ−９−トリフルオロメタンスルホニルオキシエポチロンを得、該９，１０−デヒドロ−９−トリフルオロメタンスルホニルオキシエポチロンとアルキル有機金属化合物またはアルケニル有機金属化合物とを、該トリフレート基がアルキルまたはアルケニル基によって置換される条件下で反応させ、そして脱保護して９−アルキルまたは９−アルケニル９，１０−デヒドロエポチロンを提供することによってである、方法。
【請求項１８】
製剤として使用するための、請求項１に記載の化合物。
【請求項１９】
過剰増殖性疾患の処置のための医薬品の製造における、請求項１に記載の化合物の使用。
【請求項２０】
前記過剰増殖性疾患が、癌、乾癬、多発性硬化症、慢性関節リウマチ、アテローム硬化症、および再狭窄から選択される、請求項１９に記載の使用。
【請求項２１】
前記過剰増殖性疾患が、乳癌、結腸直腸癌、および非小細胞肺癌からなる群から選択される癌である、請求項１９に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＣおよびＤ、ならびにそれらのアナログを作製するための方法に関し、そして当該方法により作製される化合物、当該化合物を含む組成物、および過剰増殖性疾患の処置のための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
（発明の背景）
エポチロンとして知られるポリケチドのクラスは、パクリタキセルに類似の作用形態を有する、治療可能性のある化合物の供給源として現れた（Ｂｏｌｌａｇら，Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．５５：２３２５−２３３３（１９９５）；Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ｓｃｉｅｎｃｅ ２７４（５２９５）：２００９（１９９６）；ＣｏｗｄｅｎおよびＰａｔｅｒｓｏｎ，Ｎａｔｕｒｅ ３８７（６６３０）：２３８−９（１９９７））。エポチロンおよびエポチロンアナログにおける関心は、特定のエポチロンが、パクリタキセルに対して耐性を発現した腫瘍に対して活性であること、ならびに望ましくない副作用に関する可能性を減少したことの所見と共に増大している（ＭｕｈｌｒａｄｔおよびＳａｓｓｅ Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．５７（１６）：３３４４−６（１９９７））。治療効力について調べられているエポチロンおよびエポチロンアナログの中には、エポチロンＢ １および半合成エポチロンＢアナログ、ＢＭＳ−２４７５５０ ２（「アザエポチロンＢ」としても知られる）（Ｃｏｌｅｖａｓら，Ｏｎｃｏｌｏｇｙ（Ｈｕｎｔｉｎｇｔ）．１５（９）：１１６８−９，１１７２−５（２００１）；Ｌｅｅら，Ｃｌｉｎ Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．７（５）：１４２９−３７（２００１）；ＭｃＤａｉｄら，Ｃｌｉｎ Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．８（７）：２０３５−４３（２００２）；Ｙａｍａｇｕｃｈｉら，Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．６２（２）：４６６−７１（２００２））およびＢＭＳ−３１０７０５ ３がある。
【０００３】
【化１】
2011006480.tif 000002
【０００４】
【化２】
2011006480.tif 000003
デスオキシエポチロンＢ ４（「エポチロンＤ」としても知られる）は、治療効力について調べられている、有望な抗腫瘍特性を有する別のエポチロン誘導体（すなわち、パクリタキセル）である。この化合物はまた、１２，１３−エポキシドを有するエポチロン（例えば、エポチロンＢまたはＢＭＳ−２４７５５０）よりも毒性を示さなかった。これは、おそらく、高い反応性のエポキシド部分の欠如に起因する。
【０００５】
【化３】
2011006480.tif 000004
化学的および生物工学的経路を用いる９−オキソ−エポチロンアナログ（９−オキソ−エポチロンＤおよびそのアナログを含む）の生成が、近年、国際ＰＣＴ出願公開番号ＷＯ ０１／８３８００（２００１年１１月８日公開）において開示された。
【０００６】
近年、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ（５）および２６−トリフルオロ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロン Ｄ（６）の合成および予備評価が報告された（Ｒｉｖｋｉｎら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３，１２５：２８９９−２９０１）。５の調製に関する初期報告は、間違っていることが判明している（Ｗｈｉｔｅら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００１，１２３：５４０７−１３；Ｗｈｉｔｅら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３，１２５：３１９０）。これらの化合物は有望な活性を示すが、全てが化学合成によるそれらの調製は長たらしく、かつ費用がかかり、それらの調製についての改善法が必要とされている。
【０００７】
【化４】
2011006480.tif 000005
抗腫瘍活性を有する種々のエポチロンアナログが当該分野で開示されているが、パクリタキセルまたはエポチロンＡおよびＢよりも示す副作用が少ない、微小管安定化活性を有する新規なアナログにおいて、関心が持たれ続けられている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（発明の要旨）
１つの局面では、本発明は、微小管安定化活性を有し、かつ癌および細胞過剰増殖によって特徴付けられる他の疾患の処置において有用な新規な化合物であって、以下の式（Ｉ）の化合物、およびそれらの薬学的に受容可能な塩もしくはプロドラッグを提供する：
【０００９】
【化５】
2011006480.tif 000006
ここでＲは、Ｈ、置換されたもしくは置換されていない低級アルキルであり；
Ｒ１は、Ｈであるか、または置換されたもしくは置換されていない低級アルキル、低級アルケニル、もしくは低級アルキニルであり；
Ａｒは、置換されたもしくは置換されていないヘテロアリールであり；
但し、Ｒがメチルまたはトリフルオロメチルであり、そしてＡｒが
【００１０】
【化６】
2011006480.tif 000007
である場合、Ｒ１はＨではない。
【００１１】
本発明のいくつかの実施形態では、Ａｒは、
【００１２】
【化７】
2011006480.tif 000008
であり、これは、以下の式（ＩＩ）の化合物を形成する：
【００１３】
【化８】
2011006480.tif 000009
ここで、Ｘは、ＳまたはＯであり、そしてＲ２は、Ｈまたは置換されたもしくは置換されていない低級アルキルである。他の実施形態では、Ａｒは、以下のような他の置換されたもしくは置換されていない部分（例えば、置換されたもしくは置換されていないチアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリル、キノリジニル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ベンゾトリアゾリルなど）であり得る。本発明の現在特に好ましい、および新規な化合物は、式（Ｉ）の化合物であって、ここでＲがメチルまたはトリフルオロメチルであり、そしてＡｒが２−ピリジル、４−メトキシ−２−ピリジル、５−（ヒドロキシメチル）−２−ピリジル、または５−メチル−３−イソキサゾリルである、化合物である。
【００１４】
別の局面では、本発明はさらに、本発明の化合物を、それらに投与される場合にヒトまたは動物被験体において細胞過剰増殖を阻害および／またはチューブリン活性を破壊するのに有効な量で、薬学的に受容可能なキャリアと共に含む、組成物、ならびにヒトまたは動物被験体において細胞過剰増殖を阻害および／またはチューブリン活性を破壊する方法であって、当該ヒトまたは動物被験体に、細胞過剰増殖を阻害するかまたはチューブリン活性を破壊する量の本発明の化合物または組成物を投与する工程を包含する、方法を提供する。
【００１５】
別の局面では、本発明は、９−オキソ−エポチロンＣまたはＤから本発明の化合物を合成する方法を提供する。また、本発明には、上述のような本発明の化合物または組成物でコーティングされたステント、およびこのようなコーティングされたステントを用いて心血管疾患を処置する方法もまた包含される。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（好ましい実施形態の詳細な説明）
特定のトランス−９，１０−デヒドロエポチロンＣおよびトランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤベースの誘導体によって、チューブリン活性がインビトロまたはインビボで破壊され得ることが、いまや驚くべきことに発見された。従って、本発明は、インビトロで細胞過剰増殖を阻害および／または微小管を安定化する、およびインビボでの過剰増殖性疾患の処置の、新規な化合物、組成物および方法を提供する。１つの局面では、本発明は、以下の式（Ｉ）の新規化合物、およびそれらの薬学的に受容可能な塩もしくはプロドラッグを提供する：
【００１７】
【化９】
2011006480.tif 000010
ここで、Ｒは、Ｈであるか、または置換されたもしくは置換されていない低級アルキルであり；
Ｒ１は、Ｈであるか、または置換されたもしくは置換されていない低級アルキル、低級アルケニル、もしくは低級アルキニルであり；そして
Ａｒは、置換されたもしくは置換されていないヘテロアリールであり；
但し、Ｒがメチルまたはトリフルオロメチルであり、そしてＡｒが
【００１８】
【化１０】
2011006480.tif 000011
である場合、Ｒ１はＨではない。
【００１９】
本発明のいくつかの実施形態では、Ａｒは、
【００２０】
【化１１】
2011006480.tif 000012
であり、これは、以下の式（ＩＩ）の化合物を形成する：
【００２１】
【化１２】
2011006480.tif 000013
ここで、Ｘは、ＳまたはＯであり、そしてＲ２は、Ｈであるか、または置換されたもしくは置換されていない低級アルキルであり、但し、Ｒがメチルまたはトリフルオロメチルであり、ＸがＳであり、そしてＲ２がメチルである場合、Ｒ１はＨではない。特定の実施形態では、Ｒ２は、置換されたメチルである。特定の実施形態では、Ｒ２は、ヒドロキシメチル、アミノメチル、アルキルアミノメチル、ジアルキエルアミノメチル、アジドメチル、またはフルオロメチルである。
【００２２】
上記のチアゾリルおよびオキサゾリル部分に加えて、Ａｒは、チアゾリルまたはオキサゾリル以外に、以下のような置換されたもしくは置換されていないヘテロアリール部分（例えば、置換されたもしくは置換されていないイミダゾリル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリル、キノリジニル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ベンゾトリアゾリルなど）であり得る。
【００２３】
本発明の１つの実施形態では、式（Ｉ）の化合物であって、ここでＡｒが、置換されたもしくは置換されていない２−ピリジルである、化合物が提供される。
【００２４】
本発明の１つの実施形態では、式（Ｉ）の化合物であって、ここでＡｒが、置換されたもしくは置換されていない３−イソキサゾリルである、化合物が提供される。
【００２５】
本発明の１つの実施形態では、式（Ｉ）の化合物であって、ここでＡｒが、置換されたもしくは置換されていない２−キノリルである、化合物が提供される。
【００２６】
本発明の１つの実施形態では、式（Ｉ）の化合物であって、ここでＡｒが、置換されたもしくは置換されていない２−ベンゾキサゾリルである、化合物が提供される。
【００２７】
本発明の１つの実施形態では、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物であって、ここでＲがＨであり、そしてＲ１がＨまたはＣ１−Ｃ４アルキルである、化合物が、提供される。
【００２８】
本発明の別の実施形態では、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物であって、ここでＲがＣＨ３であり、そしてＲ１がＨまたはＣ１−Ｃ４アルキルである、化合物が、提供される。
【００２９】
本発明の別の実施形態では、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物であって、ここでＲがＨであり、そしてＲ１がＨまたはＣ２−Ｃ４アルケニルである、化合物が、提供される。
【００３０】
本発明の別の実施形態では、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物であって、ここでＲがＣＨ３であり、そしてＲ１がＨまたはＣ２−Ｃ４アルケニルである、化合物が、提供される。
【００３１】
本発明の別の実施形態では、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物であって、ここでＲがＨであり、そしてＲ１がＨまたはＣ２−Ｃ４アルキニルである、化合物が、提供される。
【００３２】
本発明の別の実施形態では、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物であって、ここでＲがＣＨ３であり、そしてＲ１がＨまたはＣ２−Ｃ４アルキニルである、化合物が、提供される。
【００３３】
他の実施形態では、本発明は、以下の構造を有する、式（Ｉ）の化合物を提供する：
【００３４】
【化１３】
2011006480.tif 000014
【００３５】
【化１４】
2011006480.tif 000015
本発明の別の実施形態では、構造（ＩＩＩ）に示されるようなトランス−９，１０−デヒドロエポチロンＣ（構造（ＩＩ）の化合物であって、ここでＸがＳであり、ＲがＨであり、そしてＲ１がＨである、化合物）および構造（ＩＶ）に示されるようなトランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ（構造（ＩＩ）の化合物であって、ここでＸがＳであり、Ｒがメチルであり、そしてＲ１がＨである、化合物）が提供される：
【００３６】
【化１５】
2011006480.tif 000016
別の局面では、本発明は、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の化合物を、ヒトまたは動物被験体に投与される場合にヒトまたは動物被験体において細胞過剰増殖を阻害および／またはチューブリン活性を破壊するのに有効な量で、薬学的に受容可能なキャリアと共に含む、組成物を提供する。
【００３７】
なお他の実施形態では、本発明は、ヒトまたは動物被験体において細胞過剰増殖を阻害および／またはチューブリン活性を破壊する方法であって、当該ヒトまたは動物被験体に、チューブリン活性を破壊する量の式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の化合物を投与する工程を包含する、方法を提供する。
【００３８】
本発明はさらに、過剰増殖性疾患（例えば、癌）を罹患するヒトまたは動物被験体を処置する方法であって、当該ヒトまたは動物被験体に、治療有効量の上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の化合物を、単独または他の治療活性剤と組み合わせて投与する工程を包含する、方法を提供する。
【００３９】
本発明の他の実施形態は、本発明の化合物でコーティングされたステント、およびこのようなコーティングされたステントを用いて心血管疾患を処置するための方法を包含する。
【００４０】
なお他の実施形態では、本発明は、製剤としての使用のための、上記のような式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の化合物、ならびに過剰増殖性疾患の処置のための医薬品の製造におけるこれら化合物の使用の方法を提供する。
【００４１】
本発明の他の実施形態は、本発明の化合物または組成物でコーティングされたステント、およびこのようなコーティングされたステントを用いて心血管疾患を処置するための方法を包含する。
【００４２】
なお他の実施形態では、本発明は、本明細書中以降に詳述するように、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の化合物を作製するための新規方法を提供する。
【００４３】
上記および本明細書中の他の箇所で使用されるように、以下の用語は、以下に定義するような意味を有する：
本明細書中で使用される「低級アルキル」とは、１〜１０の炭素原子、好ましくは１〜６の炭素原子、およびよりずっと好ましくは１〜４の炭素原子（Ｃ１−Ｃ４アルキル）を含む、分枝状または直鎖状のアルキル基をいう。
【００４４】
「低級アルケニル」とは、本明細書中で、１つ以上の二重結合、および２〜１０の炭素原子、好ましくは２〜６の炭素原子、およびよりずっと好ましくは２〜４の炭素原子（Ｃ２−Ｃ４アルケニル）を有する、直鎖状、分枝状、または環状の基をいう。
【００４５】
「低級アルキニル」とは、本明細書中で、１つ以上の三重結合、および２〜１０の炭素原子、好ましくは２〜６の炭素原子、およびよりずっと好ましくは２〜４の炭素原子（Ｃ２−Ｃ４アルキニル）を有する、直鎖状、分枝状、または環状の基をいう。
【００４６】
本明細書中で定義される低級アルキル、低級アルケニル、または低級アルキニル部分は、置換されていても置換されていなくてもよい。従って、本明細書中で使用される用語「置換されたもしくは置換されていない低級アルキル、低級アルケニル、もしくは低級アルキニル」は、これらの部分のいずれかが、置換されていなくても、または例えば、１つ以上のハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、アジド、または他の基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、トリフルオロメチル、ヒドロキシメチル、アミノメチル、アジドメチル、ペンタフルオロエチルなどを含む）で置換されていてもよいことを意味する。
【００４７】
本明細書中で使用される「ヘテロアリール」とは、窒素、酸素、または硫黄からなる群から選択される１〜３のヘテロ原子を含有する任意の５員環または６員環をいい；ここで、この５員環は、０〜２の二重結合を有し、そして６員環は、０〜３の二重結合を有し；ここでこの窒素および硫黄原子は、必要に応じて酸化され得；ここでこの窒素および硫黄ヘテロ原子は、必要に応じて四級化（ｑｕａｒｔｅｒｎｉｚｅｄ）され得；そして任意の二環式基を含み、ここで上記複素環のいずれかが、ベンゼン環または別の５もしくは６員の飽和もしくは不飽和の複素環に融合されている。代表的なヘテロアリール基としては、例えば、以下が挙げられる：チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリル、キノリジニル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ベンゾトリアゾリルなど。これらは、置換されていないことも、または、ヒドロキシ、ハロ、シアノ、オキソ（Ｃ＝Ｏ）、アルキルイミノ（ＲＮ＝、ここでＲは、低級アルキルまたは低級アルコキシ基である）、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノアルキル、アルコキシ、チオアルコキシ、ポリアルコキシ、低級アルキル、シクロアルキル、またはハロアルキルから独立して選択される種々の置換基により、一置換されてももしくは二置換されていることもあり得る。
【００４８】
本発明の実施において有用な「薬学的に受容可能な塩」は、無機酸または有機酸から誘導される塩の形態で使用され得る。これらの塩としては、以下が挙げられるが、これらに限定されない：酢酸塩、アジピン酸塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン酸塩、，安息香酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、重硫酸塩、酪酸塩、樟脳酸塩（ｃａｍｐｈｏｒａｔｅ）、樟脳スルホン酸塩（ｃａｍｐｈｏｒｓｕｌｆｏｎａｔｅ）、ジグルコン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、ヘミ硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、フマル酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、２−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、メタンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、シュウ酸塩、パモエート、ペクチン酸塩、硫酸塩、３−フェニルプロピオン酸塩、ピクリン酸塩、ピバレート、プロピオン酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、およびウンデカン酸塩。また、塩基性窒素含有基は、以下のような薬剤で四級化され得る：低級アルキルハロゲン化物（例えば、メチル、エチル、プロピル、およびブチルの塩化物、臭化物、およびヨウ化物）；硫酸ジアルキル（例えば、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、硫酸ジブチル、および硫酸ジアミル）、長鎖ハロゲン化物（例えば、デシル、ラウリル、ミリスチル、およびステアリルの塩化物、臭化物、およびヨウ化物）、アラルキルハロゲン化物（例えば、臭化ベンジルおよび臭化フェネチル）など。水溶性もしくは油溶性または水分散性もしくは油分散性の生成物が、それによって得られる。
【００４９】
薬学的に受容可能な酸付加塩を形成するために使用され得る酸の例としては、以下のような無機酸（例えば、塩酸、硫酸、およびリン酸）および以下のような有機酸（例えば、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸、およびクエン酸）が挙げられる。塩基付加塩は、式（Ｉ）の化合物の最終的な単離および精製の間にインサイチュで、または薬学的に受容可能な金属カチオンの適切な塩基（例えば、水酸化物、炭酸塩、または重炭酸塩）と、あるいはアンモニア、または有機第一級、第二級、もしくは第三級アミンと、カルボン酸部分を反応させることにより別個に、調製され得る。．薬学的に受容可能な塩としては、以下が挙げられるが、これらに限定されない：アルカリおよびアルカリ土類金属に基づくカチオン（例えば、ナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム塩など）、ならびに非毒性アンモニウム、第四級アンモニウム、およびアミンカチオン（以下を含むが、これらに限定されない：アンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、エチルアミンなど）。塩基付加塩の形成に有用な他の代表的な有機アミンとしては、ジエチルアミン、エチレンジアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、ピペラジンなどが挙げられる。
【００５０】
本明細書中で使用される用語「薬学的に受容可能なプロドラッグ」とは、本発明の化合物のプロドラッグならびに本発明の化合物の双性イオン形態（可能な場合）であって、これらは、正常な医学的判断の範囲内で、過度の毒性、刺激、アレルギー反応などを伴わずに、ヒトおよびより下等の動物の組織と接触して使用するのに適切であり、妥当な利益／危険度比と釣り合い、かつそれらの意図された用途に効果的であるものをいう。用語「プロドラッグ」とは、インビボで迅速に転換されて（例えば、血液中での加水分解によって）、上記式の親化合物を生じる化合物をいう。十分な考察が、以下において提供される：Ｔ．ＨｉｇｕｃｈｉおよびＶ．Ｓｔｅｌｌａ，Ｐｒｏ−ｄｒｕｇｓ ａｓ Ｎｏｖｅｌ Ｄｅｌｉｖｅｆｙ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｖｏｌ．１４，Ａ．Ｃ．Ｓ．Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ Ｓｅｒｉｅｓ、およびＥｄｗａｒｄ Ｂ．Ｒｏｃｈｅ編，Ｂｉｏｒｅｖｅｒｓｉｂｌｅ Ｃａｒｒｉｅｒｓ ｉｎ Ｄｒｕｇ Ｄｅｓｉｇｎ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ，１９８７（これらの両方とも、本明細書中に参考として援用される）。
【００５１】
１つの局面では、本発明は、構造（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）（ここでＸがＳである）の化合物を、９−オキソ−エポチロンＣまたはＤから合成する方法に関する。９−オキソ−エポチロンＣおよびＤは、国際ＰＣＴ出願公開番号ＷＯ ０１／８３８００（２００１年１１月８日公開）（この内容は、この参照によって本明細書中に援用される）に開示されるようにして容易に得られ得る。一般には、９−オキソ−エポチロンＤは、ポリケチドシンターゼ（ＰＫＳ）遺伝子をコードする組換え発現ベクターを含む亜目Ｃｙｓｔｏｂａｃｔｅｒｉｎｅａｅの組換え宿主細胞によって産生される。ＷＯ０１／８３８００において開示されるように、エポチロンＰＫＳのエキステンダーモジュール６のＫＲドメインの不活性化は、９−オキソ−エポチロンを生成し得るＰＫＳを生じる。エキステンダーモジュール６のＫＲドメインが非活性化された株はＫ３９−１６４と称されており、これはアメリカンタイプカルチャーコレクション（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｔｙｐｅ Ｃｕｌｔｕｒｅ Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ）、Ｍａｎａｓｓａｓ，Ｖｉｒｇｉｎｉａ ２０１１０−２２０９，ＵＳＡに、２０００年１１月２１日に、ブダペスト条約の条件下で寄託されており、そして受託番号ＰＴＡ−２７１６で入手可能である。Ｋ３９−１６４株は、主産物として９−オキソ−エポチロンＤを、および副産物として９−オキソ−エポチロンＣを産生する。別の局面では、本発明は、構造（ＩＩ）（ここでＸがＯである）の化合物を、９−オキソ−エポチロンＨ１またはＨ２（９−オキソ−エポチロンＣまたはＤのオキサゾール対応物）から合成する方法に関する。ＷＯ ０１／８３８００にまた記載されるように、過度のセリンを宿主細胞に補うことにより、宿主細胞によって正常に産生されるチアゾールエポチロン化合物は、オキサゾール対応物の産生を好むように調整される。このようにして、９−オキソ−エポチロンＣまたはＤを優勢に産生する細胞が、９−オキソ−エポチロンＨ１またはＨ２（対応するオキサゾール対応物）の産生を好むようになされ得る。
【００５２】
以下の反応スキーム１を参照すると、本発明の化合物は、ケト還元および脱離によって得られ得る。これは、例えば、遊離ヒドロキシル基を適切な保護基（例えば、トリエチルシリル基、ブチルジメチルシリル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基など）で保護し；９−オキソ基を還元して、対応する９−ヒドロキシル中間体化合物を得；当該９−ヒドロキシル化合物を、テトラヒドロフラン（「ＴＨＦ」）または他の適切な溶媒中に適切な塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドまたはアミン塩基（例えば、ピリジンまたは４−（ジメチルアミノピリジン））の存在下で、例えば、トリフルオロ酢酸無水物、塩化メタンスルホニル、またはトリフルオロメタンスルホン酸無水物で活性化して、対応するトリフルオロアセチル、メタンスルホネート、またはトリフルオロメタンスルホネート中間体化合物を得；この活性化基を脱離させて、対応する保護９，１０−デヒドロエポチロンを適切な塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリルアミド）、リチウムジイソプロピルアミド、または４−（ジメチルアミノピリジン））との反応によって得；そして次いで当該保護中間体を脱保護して、所望の９，１０−デヒドロエポチロンを得ることによる。この合成経路を利用する代表例を、本明細書中以下、実施例１〜２１において記載する。
【００５３】
合成経路１：ケト還元および脱離（Ｘ＝ＳまたはＯ）
【００５４】
【化１６】
2011006480.tif 000017
以下の反応スキーム２を参照すると、本発明の化合物はまた、熱分解脱離によっても得られ得る。例えば、これは、ビス（保護）９−オキソ−エポチロンを塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド）、二硫化炭素、およびヨウ化メチルで活性化してメチルキサンテートエステルを形成させるか、または塩化ジメチルチオカルバモイルで活性化してチオカルバメートを形成し、そして次いで当該活性化された中間体を十分な温度（例えば、約１７０℃）で十分な時間加熱して、活性化基を脱離させ、そして対応する保護９，１０−デヒドロエポチロン化合物を得、そして次いで当該保護中間体を脱保護して、所望の９，１０−デヒドロエポチロンを得ることによる。適切な温度および時間は、有機化学分野の当業者に知られる方法を用いて決定され得る。この合成経路を利用する代表例を、本明細書中以下、実施例１〜４および２２〜２５において記載する。
【００５５】
合成経路２：熱分解排脱離（Ｘ＝ＳまたはＯ）
【００５６】
【化１７】
2011006480.tif 000018
以下の反応スキーム３を参照すると、本発明の化合物はまた、ビニルトリフレート還元によっても得られ得る。例えば、これは、保護９−オキソ−エポチロンをトリフレート試薬（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、Ｎ−（２−ピリジル）トリフリミド（ｔｒｉｆｌｉｍｉｄｅ）、またはＮ−（５−クロロ−２−ピリジル）トリフリミド）および塩基（例えば、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン、またはナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドと反応させて、対応する９，１０−デヒドロ−９−トリフルオロメタンスルホニルオキシ中間体化合物を得ることによる。次いで、９−トリフルオロ−メタンスルホニルオキシ基を、例えば、パラジウム触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０））の存在下で水素化物供給源（例えば、トリアルキルアンモニウムギ酸塩または水素化トリアルキルスズ）を用いて還元して、得られる保護９，１０−デヒドロ−エポチロンを形成し、そしてこの化合物を脱保護して、所望の９，１０−デヒドロエポチロン１０を獲得し得る。あるいは、９，１０−デヒドロ−９−トリフルオロメタン−スルホニルオキシ中間体化合物を、例えば、ビニルトリフレートカップリング技術（例えば、触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）および塩化リチウム）の存在下での、アルキルトリブチルスズとのトリフルオロメチルスルホニルオキシエノール（８）の反応）を用いることによる、アルキル基の付加によってさらに置換して、アルキル置換保護９，１０−デヒドロエポチロン化合物９ａ（Ｒ１＝ＣＨ２ＣＨＣＨ２）を得；そして次いで当該保護９−置換中間体を脱保護して所望の９−置換９，１０−デヒドロエポチロン１０ａを獲得し得る。同様にして、触媒（例えば、（テトラキス）トリフェニルホスフィンパラジウム（０））の存在下での低級アルキル亜鉛試薬との中間体（８）の反応は、式（９ａ）の化合物（ここでＲ１は低級アルキルである）を提供する。これらの合成経路を利用する代表例を、本明細書中以下、実施例１〜４および２６〜３０において記載する。
【００５７】
合成経路３：ビニルトリフレート還元（Ｘ＝ＳまたはＯ）
【００５８】
【化１８】
2011006480.tif 000019
以下の反応スキーム４を参照すると、本発明の化合物はまた、開環中間体を用いて、９−オキソエポチロンから調製され得る。本発明の１つの実施形態では、エポチロンの３，７−保護形態（２）を、還元剤（例えば、ジ（イソブチル）水素化アルミニウム（ＤｉＢＡｌ−Ｈ））と、ラクトンカルボニルが選択的に還元される条件下で反応させる。得られる開環中間体（１１）のアルコール基が、例えば、塩基（例えば、イミダゾールまたは２，６−ルチジン）の存在下でクロロトリアルキルシランまたはトリアルキルシリルトリフレートを用いてシリル化することにより、保護されて、中間体（１２）を提供する。本発明の別の実施形態では、エポチロンの３，７−保護形態を、還元剤（例えば、ジ（イソブチル）水素化アルミニウム（ＤｉＢＡｌ−Ｈ））と、ラクトンカルボニルと９−オキソ基との両方が還元される条件下で反応させて、中間体を提供する。１−および１５−ＯＨ基が、例えば、それらの塩化ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルおよびイミダゾールとの反応により、それらのｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテルとして、選択的に保護されて、中間体（１３）を提供する。９−ＯＨが、例えば、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎペルヨージナン（ジクロロメタン中）を用いてまたケトンに酸化されて、中間体（１２）を提供し得る。
【００５９】
中間体（１２）のケトン基は、上記の方法のいずれかを用いて、トランス−９，１０−アルケンに転換され得る。１つの実施形態では、中間体（１２）を、トリフレート剤（ｔｒｉｆｌａｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ）（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物またはＮ−（２−ピリジル）トリフリミド）および塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドまたはリチウムジイソプロピルアミド）と反応させて、ビニルトリフレート（１４）を形成させる。このビニルトリフレートが、触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０））の存在下で、水素化物供給源（例えば、トリアルキルアンモニウムギ酸塩または水素化トリアルキルスズ）を用いて還元されて、中間体（１５）を提供する。
【００６０】
本発明の別の実施形態では、中間体（１３）を試薬と反応させて、脱離のために９−基を活性化させる。例えば、（１３）を、適切な塩基（例えば、ピリジンまたは４−（ジメチルアミノピリジン））の存在下で、トリフルオロ酢酸無水物、メタンスルホン酸無水物、またはトリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応させて、それぞれ、９−Ｏ−トリフルオロアセテート、９−Ｏ−メタンスルホネート、または９−Ｏ−トリフレートを生成させる。ヒンダード塩基（ｈｉｎｄｅｒｅｄ ｂａｓｅ）（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドまたはリチウムジイソプロピルアミド）での続く処理により、トランス−９，１０−アルケン中間体（１５）が生成される。
【００６１】
別の実施形態では、中間体（１３）は、塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド）、二硫化炭素、およびヨウ化メチルとの反応により、メチルキサンテートに変換される。この中間体キサンテートは、上記のように熱分解に供されて、中間体（１５）を生成する。
【００６２】
合成経路４（Ｘ＝ＳまたはＯ）：
【００６３】
【化１９】
2011006480.tif 000020
中間体（１５）が、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンに変換され得る。第一級シリル保護基が、例えば、樟脳スルホン酸を用いて除去されて、そして得られる１−アルコールが、例えば、二工程手順を用いて、カルボン酸に酸化される。この二工程手順では、まずアルコールが、酸化アミンおよび触媒テトラプロピルアンモニウムペルルテネート（ｔｅｔｒａｐｒｏｐｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ ｐｅｒｒｕｔｈｅｎａｔｅ）を用いて酸化され、次いでさらに、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）との反応により酸に酸化される。１５−ＯＨ基が、０℃でのＴＨＦ中フッ化テトラブチルアンモニウムでの処理により脱保護され、そして大環状高分子が、例えば、Ｙａｍａｇｕｃｈｉの条件（０℃で塩化１，３，５−トリクロロベンゾイルおよびトリエチルアミン（ＴＨＦ中）、その後７５℃で４−（ジメチルアミノ）ピリジンの溶液（トルエン中）に混合無水物を添加）を用いて、閉環されて、保護中間体（１３）を提供する。脱保護により、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンが提供される。
【００６４】
合成スキーム５を参照すると、本発明の化合物は、けん化によって調製された開環エポチロン中間体を用いて調製され得る。１つの実施形態では、保護エポチロン（２）が、例えば、水酸化物またはエステラーゼでの処理により、保護セコ酸に変換される。この酸は、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、カルボジイミド（例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド）、および４−（ジメチルアミノ）ピリジンを触媒として用いて、ｔｅｒｔ−ブチルエステルに変換される。１５−ＯＨが、例えば、シリル化によって、保護され、そして９−ケトンが、上記のようにビニルトリフレートに変換される。このビニルトリフレートは、上記のように還元され、そしてこの中間体は、樟脳スルホン酸を用いて部分的に脱保護されて、３，７−保護−セコ−９，１０−デヒドロエポチロンを提供する。Ｙａｍａｇｕｃｈｉの手順に従うラクトン化、続く脱保護により、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンが提供される。
【００６５】
合成経路５（Ｘ＝ＳまたはＯ）：
【００６６】
【化２０】
2011006480.tif 000021
エポチロンの３，７−保護形態（２）が、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンに変換され得る。この合成経路は、エポチロン誘導体（２）の初期けん化を包含し、開環エポチロン中間体を提供し、この中間体は、９，１０−トランスアルケン基を含むように修飾されて、そして次いで、最後にラクトン化されて、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンを提供する。代表合成スキームを、合成経路６中に図示する。
【００６７】
合成経路６を参照すると、３，７−保護エポチロン（２）が、水性メタノール中の水酸化ナトリウムでけん化されて、対応するヒドロキシ酸（１６）を提供する。ヒドロキシ酸（１６）は、トリメチルシリルジアゾメタンとの反応によって、そのメチルエステル（１７）に変換される。このメチルエステル（１７）のヒドロキシ基は、塩化トリメチルシリル／トリメチルシリルイミダゾールでの処理により保護されて、トリメチルシリルエーテル（１８）を提供する。トリメチルシリルエーテル（１８）の９−ケトンが、Ｎ−（２−ピリジル）トリフリミドおよびナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドとの反応によりトランス−９，１０−アルケンに転換されて、ビニルトリフレート（１９）を生成する。酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフェニルホスフィン、トリブチルアミン、およびギ酸でのビニルトリフレート（１９）の還元により、トランス−９，１０−アルケン（２０）が提供される。中間体（２０）のトリメチルシリル保護基およびメチルエステル基は、水酸化ナトリウムでの処理、次いで酢酸での処理によって除去されて、ヒドロキシ酸（２１）を生じ、次いでこれがラクトン化されて、３，７−保護エポチロン（９）を提供する。脱保護により、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンが提供される。
【００６８】
合成経路６（Ｘ＝ＳまたはＯ）：
【００６９】
【化２１】
2011006480.tif 000022
上記のように、および合成経路６において示されるように調製された開環トリメチルシリルエーテル（１８）は、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンへの別の経路のための出発点であり得る。合成経路は、中間体（１８）の９−ケトン基の還元、続く脱離によるトランス−９，１０−アルケン基の提供、および次いで最後にラクトン化によるトランス−９，１０−デヒドロエポチロンの提供を包含する。代表合成経路を、合成経路７中に図示する。
【００７０】
合成経路７を参照すると、水素化ホウ素ナトリウムでのトリメチルシリルエーテル（１８）の還元により、９−ヒドロキシ誘導体（２２）が提供される。次いで、ヒドロキシ誘導体（２２）が、適切な塩基（例えば、ピリジンまたは４−（ジメチルアミノピリジン））の存在下での、活性化剤（例えば、トリフルオロ酢酸無水物、メタンスルホン酸無水物、またはトリフルオロメタンスルホン酸無水物）での処理により、脱離のために活性化されて、それぞれ、９−Ｏ−トリフルオロアセテート、９−Ｏ−メタンスルホネート、または９−Ｏ−トリフレートで活性化された中間体（２３）を生成する。続いて、ヒンダード塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドまたはリチウムジイソプロピルアミド）で活性化中間体（２３）を処理することにより、トランス−９，１０−アルケン中間体（２４）が生成される。中間体（２４）のトリメチルシリル保護基およびメチルエステル基は、水酸化ナトリウムでの処理、続く酢酸での処理によって除去されて、ヒドロキシ酸（２１）を生じる。ヒドロキシ酸（２１）のラクトン化により、３，７−保護エポチロン（９）が提供され、これは、脱保護の際に、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンを生成する。
【００７１】
合成経路７：
【００７２】
【化２２】
2011006480.tif 000023
本発明の他の実施形態では、化合物は、合成経路８に図示されるような全合成によって調製され得る。ケトン（２５）（ここで、Ｐ１およびＰ２は、ヒドロキシル保護基である）は、例えば、Ａ．Ｒｉｖｋｉｎら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３ １２５：２８９９−２９０１に記載されるようにして調製され得る。代表的なヒドロキシル保護基としては、シリルエーテル（例えば、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ））；エステル（例えば、酢酸エステル、クロロ酢酸エステル、トリフルオロ酢酸エステル、または安息香酸エステル）；カルボネート（例えば、メチルカルボネート、トリクロロエチルカルボネート（ｔｒｏｃ）、またはアリルカルボネート（ａｌｌｏｃ））；およびアセタール（例えば、メトキシメチル（ＭＯＭ）またはベンジルオキシメチル（ＢＯＭ））が挙げられる。特定実施形態では、Ｐ１およびＰ２は、シリルエーテルである。適切なＷｉｔｔｉｇイリドとの（２５）の反応により、保護化合物（２６）が得られる。以下の実施例に記載されるような続く脱保護により、式（Ｉ）の化合物が提供される。Ｗｉｔｔｉｇイリドは、対応するホスホニウム塩の強塩基（例えば、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド（ＮａＨＭＤＳ）、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド（ＫＨＭＤＳ）、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ブチルリチウム、水素化ナトリウム、または同様のもの）との反応によって調製され得る。ホスホニウム塩は、ハロゲン化アルキルのトリアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィン（例えば、トリフェニルホスフィンまたはトリブチルホスフィン）との反応によって調製され得る。本発明の特定実施形態では、ホスホニウム塩は、塩化アルキルのトリブチルホスフィンとの反応によって調製される。あるいは、Ｗｉｔｔｉｇイリドは、当該分野で公知の他の方法（例えば、強塩基でのアルキルジフェニルホスフィンオキシドの処理により）に従って調製され得る。式（Ｉ）の化合物の調製において使用するのに適した種々のホスホニウム塩の調製の例を、以下の実施例に提供する。
【００７３】
脱保護（Ｐ１および／またはＰ２の除去）は、当該分野で公知の方法（例えば、ＧｒｅｅｎｅおよびＷｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ（Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），１９９９に記載のように）を用いて実施され得る。特定実施形態では、Ｐ１およびＰ２がシリルエーテル（例えば、ＴＭＳ、ＴＥＳ、またはＴＢＳ）である場合、脱保護は、ジクロロメタン中の酸（例えば、ＨＦ・ピリジンまたはトリフルオロ酢酸））での処理によって実施される。
【００７４】
合成経路８：
【００７５】
【化２３】
2011006480.tif 000024
本発明の化合物は、細胞傷害性について、当業者に周知の従来のアッセイを用いてスクリーニングされ得る。例えば、化合物の細胞傷害性は、Ｓｋｅｈａｎら，Ｊ．Ｎａｔｌ．Ｃａｎｃｅｒ Ｉｎｓｔ．８２：１１０７−１１１２（１９９０）（これは、参考として本明細書中に援用される）に開示されるように、ＳＲＢアッセイによって決定され得る。ＳＲＢアッセイでは、以下の培養細胞を、トリプシン処理し、計数し、そして増殖培地で１００μｌ当たりで以下の濃度に希釈する：ＭＣＦ−７，５０００；ＮＣＩ／ＡＤＲ−Ｒｅｓ，７５００；ＮＣＩ−Ｈ４６０，５０００；Ａ５４９，５０００；Ｓｋｏｖ３，７５００；およびＳＦ−２６８，７５００。細胞を、９６ウェルマイクロタイタープレート中に１００μｌ／ウェルで播種する。２４時間後、本発明の試験エポチロン化合物１００μｌ（増殖培地中１０００ｎＭから０．００１ｎＭの濃度の範囲に希釈）を、各ウェルに添加する。数日間のこれら化合物とのインキュベーション後、細胞を、４℃で１時間、１００μｌの１０％トリクロロ酢酸（「ＴＣＡ」）で固定し、そして０．２％スルホローダミンＢ（ＳＲＢ）／１％酢酸で染色し、そして次いで、結合したＳＲＢを、２００μｌの１０ｍＭ Ｔｒｉｓ塩基で抽出する。結合した染料の量をＯＤ ５１５ｎｍによって決定し、これは、総細胞性タンパク質含有量と相関する。このデータを、標準的な統計学的方法論（例えば、Ｒｅａｄｉｎｇ，ＰＡのＳｙｎｅｒｇｙ ＳｏｆｔｗａｒｅによりＫＡＬＥＩＤＡ ＧＲＡＰＨ（登録商標）として販売されているソフトウェアとともに利用可能な方法論）を用いて解析し、そしてＩＣ５０を算定する。
【００７６】
式（Ｉ）の種々の化合物についての細胞傷害性の結果を、以下の表１および２に示す。理解され得るように、本発明の化合物は、予期されないことに、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤと同等またはより優れた細胞傷害性活性を示す。
【００７７】
本発明の化合物はまた、チューブリン重合について、当業者に周知の従来のアッセイを用いてスクリーニングされ得る。例えば、化合物は、チューブリン重合について、Ｇｉａｎｎａｋａｋｏｕら，Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．２７１：１７１１８−１７１２５（１９９７）および／またはＩｎｔｌ．Ｊ．Ｃａｎｃｅｒ ７５：５７−６３（１９９８）（これらは、参考として本明細書中に援用される）の手順を用いてアッセイされ得る。この手順では、ＭＣＦ−７細胞を、３５ｍｍ培養皿中でコンフルエンシーにまで増殖させ、そして３５℃で０、１、または２時間の間１ｎＭの本発明の化合物で処理する。細胞を２ｍｌのリン酸緩衝化生理食塩水（ＰＢＳ）（カルシウムまたはマグネシウムを含まない）で２回洗浄した後、これら細胞を、室温で５〜１０分間、３００μｌの溶解緩衝液（２０ｍＭ Ｔｒｉｓ、ＰＨ ６．８、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、２ｍＭ ＥＤＴＡ、１％ Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１００、＋プロテアーゼインヒビター）で溶解させる。細胞を掻き取り、そして溶解物を１．５ｍｌエッペンドルフチューブに移す。次いで、溶解物を室温で１２分間、１８０００ｇで遠心分離する。可溶または重合されていない（細胞質ゾル）チューブリンを含む上清を、不溶または重合された（細胞骨格）チューブリンを含有するペレットから分離し、そして新たなチューブに移す。次いで、ペレットを３００μｌの溶解緩衝液中に再懸濁する。細胞におけるチューブリン重合の変化を、各サンプルの同じ容量のアリコートをＳＤＳ−ＰＡＧＥで分析し、続いて抗チューブリン抗体（Ｓｉｇｍａ）を用いて免疫ブロットすることにより決定する。
【００７８】
他の局面では、本発明は、本発明の化合物および薬学的に受容可能なキャリアを含む組成物に関する。本発明の化合物は、遊離形態であり得るか、または適切な場合、本発明の化合物の薬学的に受容可能な誘導体（例えば、プロドラッグ、および塩およびエステル）であり得る。
【００７９】
本発明の組成物は、任意の適切な形態（例えば、固体、半固体、液体またはエアロゾル形態）であり得る。Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｄｏｓａｇｅ Ｆｏｒｍｓ ａｎｄ
Ｄｒｕｇ Ｄｅｌｉｖｅｒｙ Ｓｙｓｔｅｍｓ，５ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｌｉｐｐｉｃｏｔｔ Ｗｉｌｌｉａｍｓ ＆ Ｗｉｌｋｉｎｓ（１９９１）（これは、参考として本明細書中に援用される）を参照のこと。一般に、製剤は、活性成分として本発明の化合物の１つ以上を、外用、腸内適用、または非経口適用に適した有機または無機のキャリアまたは賦形剤と共に含む。活性成分は、例えば、錠剤、ペレット剤、カプセル剤、座剤、膣座剤、液剤、乳剤、懸濁剤、および使用に適した他の形態のために、従来の非毒性の薬学的に受容可能なキャリアと調合され得る。組成物において使用するための薬学的に受容可能なキャリアとしては、例えば、以下が挙げられる：水、グルコース、ラクトース、アラビアゴム、ゼラチン、マンニトール、デンプンペースト、三ケイ酸マグネシウム、滑石、トウモロコシデンプン、ケラチン、コロイド状シリカ、ジャガイモデンプン、尿素、および固体、半固体、液体、またはエアロゾル形態での調製剤の製造における使用に適した他のキャリア。組成物は、補助の安定剤、増粘剤（ｔｈｉｃｋｅｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ）、および／または着色剤および芳香剤をさらに含み得る。
【００８０】
１つの実施形態では、本発明の化合物を含む組成物は、Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標）非含有である。Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標）（ＢＡＳＦ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ）は、ポリエトキシ化ヒマシ油であり、これは、代表的に、低溶解性薬物を処方する際の界面活性剤として使用される。しかし、Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標）は、被験体においてアレルギー反応を生じさせ得る（ｃａｓｅ）ので、Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標）を最小限にするか、または排除する組成物が好ましい。Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標）を排除するエポチロンＡまたはＢの処方物は、例えば、ＰＣＴ公報ＷＯ ９９／３９６９４（これは、参考として本明細書中に援用される）によって記載され、そして本発明の化合物と共に使用するために適合され得る。例えば、組成物は、薬学的に受容可能なキャリア（例えば、アルコール（例えば、エタノール）、グリコール（例えば、プロピレングリコール）、ポリオキシエチレン化合物（例えば、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、Ｔｗｅｅｎ（登録商標）（ポリオキシエチレンソルビタンモノエステル；ＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ）、およびＳｏｌｕｔｏｌ（登録商標）（ポリエリレングリコール６６０ １２−ヒドロキシステアレート；ＢＡＳＦ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ）、または中鎖トリグリセリド（Ｍｉｇｌｙｏｌ（登録商標）、Ｈｕｌｓ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ））と共に、本発明の化合物を含み得る。本発明の特定の実施形態では、エタノール、プロピレングリコール、およびＴｗｅｅｎ−８０（登録商標）と共に式（Ｉ）の化合物を含む組成物が提供される。本発明の特定の他の実施形態では、エタノール、プロピレングリコール、およびＳｏｌｕｔｏｌ ＨＳ−１５（登録商標）と共に式（Ｉ）の化合物を含む組成物が提供される。あるいは、本発明のＣｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標）非含有組成物は、少なくとも１つのシクロデキストリンを含み得、そしてより特定の実施形態では、このシクロデキストリンは、ヒドロキシアルキル−β−シクロデキストリンまたはスルホアルキル−β−シクロデキストリンであり得、そしてなおより特定の実施形態では、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンまたはスルホブチル−β−シクロデキストリンであり得る。キャリアがヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンを含む、なおより特定の実施形態は、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンが、少なくとも約４．６％の置換度、およびより特定すると、少なくとも約６．５％の置換度を有するものを含む。本発明の組成物のなおより特定の実施形態は、キャリアが、約４．６％と約６．５％との間の置換度を有するヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンを含むものである。
【００８１】
本発明の１つの実施形態では、組成物は、式（Ｉ）の化合物、アルコール、グリコール、およびシクロデキストリンを含む。特定の実施形態では、組成物は、式（Ｉ）の化合物、エタノール、プロピレングリコール、およびシクロデキストリンを含む。１つの実施形態では、組成物は、約５％〜約２０％エタノール、約１％〜約１０％プロピレングリコール、および約５％〜約２０％のβ−シクロデキストリンと共に、式（Ｉ）の化合物を含む。特定の実施形態では、組成物は、約７％エタノール、約３％プロピレングリコール、および約１２％のβ−シクロデキストリンと共に式（Ｉ）の化合物を含む。
【００８２】
適用可能な場合、本発明の化合物は、マイクロカプセルおよび／またはナノ粒子として処方され得る。一般プロトコルは、例えば、Ｍｉｃｒｏｃａｐｓｕｌｅｓ ａｎｄ Ｎａｎｏｐａｒｔｉｃｌｅｓ ｉｎ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ ａｎｄ Ｐｈａｒｍａｃｙ，Ｍａｘ Ｄｏｎｂｒｏｗ編，ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ（１９９２）および米国特許番号５，５１０，１１８；５，５３４，２７０；および５，６６２，８８３（これらは全て、参考として本明細書中に援用される）によって記載される。体積に対する表面積の比を増大させることにより、これらの処方物は、そうでない場合では経口送達に従わない化合物の経口送達を可能にする。
【００８３】
本発明の組成物はまた、低溶解性薬物について以前に使用された他の方法を用いて処方され得る。例えば、本発明の化合物は、ＷＯ ９８／３０２０５およびＷＯ ００／７１１６３（これらは、参考として本明細書中に援用される）によって記載されるように、ビタミンＥまたはそのＰＥＧ化誘導体と共にエマルジョン中に処方され得る。代表的には、化合物は、エタノール（好ましくは、１％ ｗ／ｖ未満）を含有する水溶液中に溶解され、そして次いでビタミンＥまたはＰＥＧ化ビタミンＥが添加される。次いで、エタノールは除去されて、静脈内または経口投与経路のために処方され得るプレエマルジョンが形成される。あるいは、本発明の化合物は、リポソーム中にカプセル化され得る。薬物送達ビヒクルとしてリポソームを形成するための方法は、当該分野で周知である。適切なプロトコルは、米国特許番号５，６８３，７１５；５，４１５，８６９，および５，４２４，０７３（これらは、参考として本明細書中に援用される）（別の相対的に低い溶解度の癌薬物タキソールに関して）およびＰＣＴ公報ＷＯ ０１／１０４１２（これは、参考として本明細書中に援用される）（エポチロンＢに関して）によって記載されるものを含む。使用され得る種々の脂質のうち、エポチロンカプセル化リポソームを作製するために現在特に好ましい脂質としては、例えば、ホスファチジルコリンおよびポリエチレングリコール誘導体化ジステアリルホスファチジルエタノールアミンが挙げられる。
【００８４】
なお他の実施形態では、本発明の組成物は、ポリマー（例えば、バイオポリマーまたは生体適合性（合成または天然に存在する）ポリマー）を含み得る。生体適合性ポリマーは、生分解性および非生分解性として類別され得る。生分解性ポリマーは、化学組成、製造方法、および／またはインプラント構造の機能としてインビボで分解する。合成ポリマー
の例証的な例としては、例えば、ポリ無水物、ポリヒドロキシ酸（例えば、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、およびそれらのコポリマー）、ポリエステル、ポリアミド、ポリオルトエステル、およびいくつかのポリホスファゼンが挙げられる。天然に存在するポリマーの例証的な例は、タンパク質および多糖（例えば、コラーゲン、ヒアルロン酸、アルブミン、およびゼラチン）が挙げられる。
【００８５】
なお他の実施形態では、本発明の化合物は、水溶解度を増強するポリマーに結合体化され得る。この目的のために適切なポリマーの代表例としては、ポリエチレングリコール、ポリ−（ｄ−グルタミン酸）、ポリ−（ｌ−グルタミン酸）、ポリ−（ｄ−アスパラギン酸）、ポリ−（ｌ−アスパラギン酸）、およびそれらのコポリマーが挙げられる。約５，０００〜約１００，０００の間の分子量を有するポリグルタミン酸は好ましく、約２０，０００と８０，０００との間（ｂｅｔｗｅｅｎ ａｂｏｕｔ ２０，０００ ａｎｄ ８０，０００）の分子量を有するものはより好ましく、そして約３０，０００と６０，０００との間）の分子量を有するものは最も好ましい。ポリマーは、米国特許番号５，９７７，１６３（これは、参考として本明細書中に援用される）により本質的に記載されるようなプロトコルを用いて、本発明のエポチロンの１つ以上のヒドロキシルに、エステル結合を介して結合体化される。好ましい結合体化部位としては、３−ヒドロキシル基および７−ヒドロキシル基が挙げられる。
【００８６】
なお他の実施形態では、本発明の化合物は、モノクローナル抗体に結合体化され得る。この戦略は、この化合物を特異的な標的に対して向けることを可能にする。結合体化抗体の設計および使用に関する一般プロトコルは、Ｍｏｎｏｃｌｏｎａｌ Ａｎｔｉｂｏｄｙ−Ｂａｓｅｄ Ｔｈｅｒａｐｙ ｏｆ Ｃａｎｃｅｒ，Ｍｉｃｈａｅｌ Ｌ．Ｇｒｏｓｓｂａｒｄ編（１９９８）（これは、参考として本明細書中に援用される）において記載される。
【００８７】
単一投薬形態を生成するために本発明の組成物中に取り込まれる活性成分の量は、処置される被験体および特定投与形態に依存して変動する。本発明の化合物の治療用量の大きさは、処置される状態の性質および重篤度と共に変動し、そして特定化合物およびその投与経路と共に変動する。一般に、抗癌活性のための一日用量範囲は、単一または多用量で、０．００１〜１００ｍｇ／ｋｇ哺乳動物体重、好ましくは、０．０１〜８０ｍｇ／ｋｇ、および最も好ましくは０．１〜７０ｍｇ／ｋｇの範囲にある。変わった場合では、１００ｍｇ／ｋｇを上回る用量を投与することが必要であり得る。
【００８８】
他の局面では、本発明は、代表的には（しかし必ずしもではない）哺乳動物において、過剰増殖性疾患（例えば、癌）を処置するための方法を包含する。１つの実施形態では、本発明の化合物は、頭頚部の癌を処置するために使用される。この癌は、頭部、頚部、鼻腔、副鼻腔、鼻咽頭、口腔、口腔咽頭部、咽頭、下咽頭、唾液腺、および傍神経節腫の腫瘍を包含する。別の実施形態では、本発明の化合物は、肝臓および胆道樹状部（ｂｉｌｉａｒｙ ｔｒｅｅ）の癌（特に肝細胞癌）を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、腸癌（特に結腸直腸癌）を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、卵巣癌を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、小細胞および非小細胞の肺癌を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、乳癌を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、肉腫（例えば、線維肉腫、悪性線維性組織球腫、胎児性横紋筋肉腫（ｅｍｂｒｙｏｎａｌ ｒｈａｂｄｏｍｙｓｏｃａｒｃｏｍａ）、平滑筋肉腫（ｌｅｉｏｍｙｓｏｓａｒｃｏｍａ）、神経線維肉腫、骨肉腫、滑膜肉腫、脂肪肉腫、および胞状軟部肉腫）を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、中枢神経系の新生物（特に、脳癌）を処置するために使用される。別の実施形態では、本発明の化合物は、リンパ腫（これは、ホジキンリンパ腫、リンパ形質細胞性悪性リンパ腫（ｌｙｍｐｈｏｐｌａｓｍａｃｙｔｏｉｄ ｌｙｍｐｈｏｍａ）、濾胞性リンパ腫、粘膜関連リンパ組織リンパ腫、マントル細胞リンパ腫、Ｂ系統大細胞型リンパ腫（Ｂ−ｌｉｎｅａｇｅ ｌａｒｇｅ ｃｅｌｌ ｌｙｍｐｈｏｍａ）、バーキットリンパ腫、およびＴ細胞未分化大細胞リンパ腫を含む）を処置するために使用される。
【００８９】
いくつかの局面では、この方法は、このような処置を必要とする被験体に、少なくとも１つの本発明の化合物または組成物を、治療有効量で、投与する工程を包含する。被験体への投与は、癌を含む（すなわち、さらなる増殖を防止する）か、または癌を排除するかのいずれかのために、必要に応じて、繰り返され得る。臨床学的には、この方法の実施は、癌性増殖の大きさもしくは数の減少および／または関連した症状の減少（適用可能な場合）を生じる。病理学的には、この方法の実施は、以下の少なくとも１つを生じる：癌細胞増殖の阻害、癌または腫瘍の大きさの減少、さらなる転移の防止、および腫瘍新脈管形成の阻害。
【００９０】
本発明の化合物および組成物は、組み合わせ治療において、１つ以上の他の所望の治療または医療手順と一緒に、その前に、またはそれに続いてのいずれかで、投与され得る。組み合わせ養生法における治療および手順の特定の組み合わせは、その治療および／または手順の適合性と、達成されるべき所望の治療効果とを考慮に入れる。適切な組み合わせの例は、本発明の化合物と、アザシチジン、クラドリビン、シタラビン、フロクスウリジン、リン酸フルダラビン、ゲムシタビン、ペントスタチン、ウラシルマスタード、またはヌクレオシドアナログ（例えば、５フルオロウラシル（「５ＦＵ」）またはそれらのプロドラッグ（例えば、５α−デオキシ−５フルオロ−Ｎ［（ペンチルオキシ）カルボニル］−シチジン（商用名ＸＥＬＯＤＡ（登録商標）（Ｒｏｃｈｅ，Ｂａｓｅｌ Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ）で市販されている）（これは、５’−デオキシ−５−フルオロウリジン（５’−ＤＦＵＲ）の経口投与全身性プロドラッグであり、これは、インビボで５−フルオロウラシルに変換される））の１つ以上とを含む。
【００９１】
１つの実施形態では、本発明の化合物および組成物は、別の抗癌剤または手順と組み合わせて使用される。他の抗癌剤の例証的な例としては、以下が挙げられるが、これらに限定されない：（ｉ）アルキル化薬（例えば、メクロレタミン、クロラムブシル、シクロホスファミド、メルファラン、イフォスファミド）；（ｉｉ）代謝拮抗物質（例えば、メトトレキセート）；（ｉｉｉ）微小管安定剤（例えば、ビンブラスチン、パクリタキセル、ドセタキセル、およびジスコデルモライド（ｄｉｓｃｏｄｅｒｍｏｌｉｄｅ））；（ｉｖ）新脈管形成阻害剤；および（ｖ）細胞傷害性抗生物質（例えば、ドキソルビシン（ｄｏｘｏｒｕｂｉｃｏｎ）（アドリアマイシン）、ブレオマイシン、およびマイトマイシン）。他の抗癌手順の例証的な例としては、以下が挙げられる：（ｉ）外科手術；（ｉｉ）放射線療法；および（ｉｉｉ）光ダイナミック療法。
【００９２】
他の実施形態では、本発明の化合物および／または組成物は、その化合物または組成物から可能性のある副作用（例えば、下痢、悪心、および嘔吐）を緩和する薬剤または手順と組み合わせて使用され得る。下痢は、下痢止め剤（例えば、オピオイド（例えば、コデイン、ジフェノキシレート、ジフェノキシン、およびロエラミド（ｌｏｅｒａｍｉｄｅ））、次サリチル酸ビスマス、およびオクトレオチド）で処置され得る。悪心および嘔吐は、制吐剤（例えば、デキサメタゾン、メトクロプラミド、ジフェニルヒドラミン、ロラゼパム、オンダンセトロン、プロクロルペラジン、チエチルペラジン、およびドロナビノール）で処置され得る。ポリエトキシ化ヒマシ油（例えば、Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（登録商標））を含む組成物のために、コルチコステロイド（例えば、デキサメタゾンおよびメチルプレドニゾロン）および／またはＨ１拮抗剤（例えば、ジフェニルヒドラミンＨＣｌ）および／またはＨ２拮抗剤での前処理が、アナフィラキシーを緩和するために使用され得る。
【００９３】
本発明の別の局面では、本発明の化合物および／または組成物は、細胞過剰増殖により特徴付けられる非癌障害を処置するために使用される。１つの実施形態では、本発明の化合物は、乾癬（皮膚上に積み上げられて高い落屑性の病巣を形成する、ケラチノサイトの細胞過剰増殖によって特徴付けられる状態）を処置するために使用され得る。この方法は、本発明の化合物または組成物の治療有効量を、乾癬を罹患する被験体に投与する工程を包含する。投与は、病巣の数もしくは重篤度を減少させるか、または病巣を排除するかのいずれかのために、必要に応じて、繰り返され得る。臨床学的には、この方法の実施は、皮膚病巣の大きさもしくは数の減少、皮膚症状（罹患皮膚の疼痛、火傷、および出血）の縮小、および／または関連した症状（例えば、関節発赤（ｊｏｉｎｔ ｒｅｄｎｅｓｓ）、発熱、腫脹、下痢、腹痛）の減少を生じる。病理学的には、この方法の実施は、以下の少なくとも１つを生じる：ケラチノサイト増殖の阻害、皮膚炎症（例えば、以下に対する影響による：誘引因子および増殖因子、抗原提示、反応性酸素種およびマトリックスメタロプロテイナーゼの生成）の減少、および皮膚新脈管形成の阻害。
【００９４】
他の実施形態では、本発明の化合物は、多発性硬化症（脳における進行性脱髄によって特徴付けられる状態）を処置するために使用され得る。ミエリンの喪失に関与する正確な機構は理解されていないが、星状細胞増殖の増大およびミエリン破壊面積の蓄積がある。これらの部位に、マクロファージ様活性および増大されたプロテアーゼ活性があり、このことは、少なくとも部分的に、ミエリン鞘の分解の原因となる。この方法は、本発明の化合物または組成物の治療有効量を、多発性硬化症を罹患する被験体に投与する工程を包含する。このような投与は、星状細胞増殖の阻害および／または運動機能の喪失の重篤度の緩和および／または疾患の慢性的な進行の防止もしくは減衰のために、必要に応じて、繰り返され得る。臨床学的には、この方法の実施は、視覚症状（視覚喪失、複視）、歩行障害（衰弱、体軸不安定性、知覚喪失、痙性、反射亢進、器用さの喪失）、上肢機能不全（衰弱、痙性、知覚喪失）、膀胱機能不全（尿意促迫、失禁、排尿躊躇、残尿感）、うつ病、情緒不安定、および認識欠陥における改善を生じる。病理学的には、この方法の実施は、以下の１つ以上の減少を生じる：例えば、ミエリン喪失、血液脳関門の崩壊、単核細胞の脈管周囲浸潤、免疫異常、神経膠瘢痕形成（ｇｌｉｏｔｉｃ ｓｃａｒ ｆｏｒｍａｔｉｏｎ）および星状細胞増殖、メタロプロテイナーゼ生成、および伝導速度減損。
【００９５】
なお他の実施形態では、本発明の化合物および／または組成物は、慢性関節リウマチ、（時に罹患関節の破壊および強直（ａｎｋｙｉｏｓｉｓ）に至る、多系の慢性的な再発性の炎症性疾患）を処置するために使用される。慢性関節リウマチは、関節隙に伸長する絨毛状突出を形成する滑膜の顕著な肥厚、滑膜細胞内壁の多層化（滑膜細胞増殖）、白血球による滑膜の浸潤（マクロファージ、リンパ球、形質細胞、およびリンパ濾胞；「炎症性滑膜炎」と呼ばれる）、および滑膜内の細胞壊死を伴うフィブリンの沈着によって特徴付けられる。この過程の結果として形成された組織は、パンヌスと呼ばれ、そして、最終的には、パンヌスは、成長して、関節隙を埋める。パンヌスは、滑膜炎の進展に必須とされる新脈管形成の過程を通して新規血管の広範な網を発達させる。パンヌス組織の細胞からの消化酵素（マトリックスメタロプロテイナーゼ（例えば、コラゲナーゼ、ストロメライシン））および炎症過程の他のメディエーター（例えば、過酸化水素、スーパーオキシド、リソソーム酵素、およびアラキドン酸代謝の産物）の放出により、軟骨組織の進行性の破壊に至る。パンヌスは、関節軟骨を浸潤し、軟骨組織の侵食および断裂に至る。最終的に、罹患関節の肋軟骨下骨の侵食が生じ、これは、線維性強直および最終的には骨強直を伴う。本発明のこの局面では、本発明の化合物および／または組成物の治療有効量が、慢性関節リウマチを罹患する患者に投与される。このような投与は、滑膜細胞増殖の阻害および／または罹患関節の運動の喪失の重篤度の緩和および／またはこの疾患の慢性的な進行の防止もしくは減衰を達成するために、必要に応じて、繰り返され得る。臨床学的には、本発明の実施は、以下の１つ以上を生じる：（ｉ）症状の重篤度の減少（罹患関節の疼痛、腫脹、および圧痛；午前中の硬直（ｍｏｒｎｉｎｇ ｓｔｉｆｆｎｅｓｓ）、衰弱、疲労、食欲不振、体重低下）；（ｉｉ）疾患の臨床徴候の重篤度の減少（関節包の肥厚、滑膜肥大、関節滲出、軟組織拘縮、運動範囲の減少、強直、および固定の関節変形）；（ｉｉｉ）疾患の関節外徴候発現の減少（リウマチ小結節、脈管炎、肺小結節、間質性線維症、心膜炎、上強膜炎、虹彩炎、フェルティ症候群、骨粗しょう症）；（ｉｖ）疾患寛解／無症状期の頻度および期間の増大；（ｖ）固定の欠陥および不安定性の防止；および／または（ｖｉ）疾患の慢性的な進行の防止／減衰。病理学的には、本発明の実施は、以下の少なくとも１つを生じる：（ｉ）炎症応答の減少；（ｉｉ）炎症性サイトカイン（例えば、ＩＬ−Ｉ、ｌＮＦα、ＦＧＦ、ＶＥＧＦ）の活性の破壊；（ｉｉｉ）滑膜細胞増殖の阻害；（ｉｖ）マトリックスメタロプロテイナーゼ活性の阻害；および／または（ｖ）新脈管形成の阻害。
【００９６】
他の実施形態では、本発明の化合物および／または組成物は、アテローム硬化症および／または再狭窄を処置する（ｔｈｒｅａｔ）（特に、その遮断（ｂｌｏｃｋａｇｅ）が血管内ステントで処置され得る患者において）ために使用される。アテローム硬化症は、慢性の血管損傷であって、ここでは、動脈壁における正常な血管平滑筋細胞（「ＶＳＭＣ」）（通常、血流を調節する血管緊張を制御する）のいくらかが、それらの性質を変化させ、そして「癌様」挙動を発現する。これらのＶＳＭＣは、異常に増殖性の分泌物質（増殖因子、組織分解酵素、および他のタンパク質）になり、それらを内部血管内壁に侵襲および拡散させて、血流を遮断し、そして異常にも、その血管が局所血液凝固によって完全に遮断されるようにする。再狭窄（矯正手順後の狭窄または動脈狭窄の再発）は、アテローム硬化症の加速形態である。本発明のこの局面では、本発明の化合物および／または組成物の治療有効量が、ステント上にコーティングされ得、そしてこのステントは、アテローム硬化症を罹患する被験体における疾患動脈に送達され得る。化合物でステントをコーティングするための方法は、例えば、米国特許番号６，１５６，３７３および６，１２０，８４７（これらは、参考として本明細書中に援用される）によって記載される。臨床的には、本発明の実施は、以下の１つ以上を生じる：（ｉ）動脈血流の増大；（ｉｉ）疾患の臨床的徴候の重篤度の減少；（ｉｉｉ）再狭窄の割合の減少；または（ｉｖ）アテローム硬化症の慢性的な進行の防止／減衰。病理学的には、本発明の実施は、ステント移植の部位で、以下の少なくとも１つを生じる：（ｉ）炎症応答の減少、（ｉｉ）マトリックスメタロプロテイナーゼのＶ５ＭＣ分泌の阻害；（ｉｉｉ）平滑筋細胞蓄積の阻害；および（ｉｖ）Ｖ５ＭＣ表現型脱分化の阻害。
【００９７】
１つの実施形態では、癌、または細胞過剰増殖によって特徴付けられる非癌障害を罹患する被験体に投与される投薬量レベルは、必要に応じて、毎週、二週毎、または三週毎に、約１ｍｇ／ｍ２〜約２００ｍｇ／ｍ２のオーダーであり、これは、ボーラス（任意の適切な投与経路で）または連続注入（例えば、１時間、３時間、６時間、２４時間 ４８時間または７２時間）として投与され得る。しかし、任意の特定の患者について特異の用量レベルは、種々の要因に依存することが理解される。これらの要因としては、以下が挙げられる：用いられる特異化合物の活性；被験体の年齢、体重、一般健康状態、性別、および食事状態；薬物の投与時間および経路ならびに分泌速度；薬物の組み合わせが処置において用いられるか否か；ならびに処置される状態の重篤度。
【００９８】
別の実施形態では、投薬量レベルは、必要かつ寛容に応じて、三週毎に１回で、約１０ｍｇ／ｍ２〜約１５０ｍｇ／ｍ２、好ましくは、約１０〜約７５ｍｇ／ｍ２、およびより好ましくは、約１５ｍｇ／ｍ２〜約５０ｍｇ／ｍ２である。別の実施形態では、投薬量レベルは、必要かつ寛容に応じて、二週毎に１回で、約１ｍｇ〜約１５０ｍｇ／ｍ２、好ましくは約１０ｍｇ／ｍ２〜約７５ｍｇ／ｍ２、およびより好ましくは約２５ｍｇ／ｍ２〜約５０ｍｇ／ｍ２である。別の実施形態では、投薬量レベルは、必要かつ寛容に応じて、週に１回で、約１ｍｇ／ｍ２〜約１００ｍｇ／ｍ２、好ましくは約５ｍｇ／ｍ２〜約５０ｍｇ／ｍ２、およびより好ましくは約１０ｍｇ／ｍ２〜約２５ｍｇ／ｍ２である。別の実施形態では、投薬量レベルは、必要かつ寛容に応じて、一日に一回、約０．１〜約２５ｍｇ／ｍ２、好ましくは約０．５〜約１５ｍｇ／ｍ２、およびより好ましくは約１ｍｇ／ｍ２〜約１０ｍｇ／ｍ２である。
【００９９】
本発明の詳細な説明を上記に提示してきたが、以下の実施例は、本発明を例証する目的で示されるのであって、本発明の範囲または添付の特許請求の範囲に制限を行うものとはみなされない。
【実施例】
【０１００】
（実施例１）
（３，７−ジオールの保護）
【０１０１】
【化２４】
2011006480.tif 000025
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−オキソエポチロンＤ
（化合物（２）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ）
クロロトリエチルシランを、９−オキソエポチロンＤおよび２，６−ルチジンの溶液（ジクロロメタン中）に周囲温度で添加し、そして有機合成分野において公知の方法（例えば、薄層クロマトグラフィー（「ＴＬＣ」）または液体クロマトグラフィー（「ＬＣ」）によるモニタリング）を用いて決定されるように、その反応が実質的に完了するまで（代表的には、一晩）、攪拌する。次いで、この生成物溶液をジクロロメタンで希釈し、そして水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（「ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３」）、およびブラインで順次洗浄し、そして次いで硫酸マグネシウム（「ＭｇＳＯ４」）で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。所望の生成物を、適切な溶媒系（例えば、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配のような）を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１０２】
（実施例２）
（３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−オキソエポチロンＤ）
（化合物（２）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ｔＢｕＭｅ２Ｓｉ）
上記実施例１に提供した詳細と同様に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを、９−オキソエポチロンＤおよび２，６−ルチジンの溶液（ジクロロメタン中）に周囲温度で添加し、そして一晩攪拌する。この混合物を、ジクロロメタンで希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１０３】
（実施例３）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−オキソエポチロンＤ）
（化合物（２）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３）
【０１０４】
【化２５】
2011006480.tif 000026
９−オキソエポチロンＤ（８０ｍｇ）の溶液（１．５ｍＬのピリジン中）を、２，２，２−トリクロロエチルクロロフォーメート（１３４ｍｇ）で、周囲温度で１６時間処理した。この混合物を、酢酸エチルで希釈し、ｓａｔ．ＮＨ４Ｃｌおよびブラインで続いて洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、濾過し、そしてエバポレートした。シリカゲルクロマトグラフィー（４０％酢酸エチル／ヘキサン）は、１６２ｍｇの生成物を生じた。
【０１０５】
（実施例４）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−８−エピ−９−オキソエポチロンＤ）
【０１０６】
【化２６】
2011006480.tif 000027
９−オキソ−８−エピ−エポチロンＤ（０．１００ｇ、０．１９８ｍｍｏｌ）の溶液（ピリジン（２．０ｍｌ）中）に、２，２，２−トリクロロエチルクロロフォーメート（０．２７ｍｌ、０．４２０ｇ、１．９８０ｍｍｏｌ）、次いでジメチルアミノピリジン（０．００２ｇ、０．０２０ｍｍｏｌ）を添加した。得られる溶液を、周囲温度で１４時間攪拌し、その後、酢酸エチル（２０ｍｌ）とｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３（２０ｍｌ）との間で分配した。有機物を、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌ（２×２０ｍｌ）およびブライン（２０ｍｌ）でさらに洗浄し、その後、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして減圧下で濃縮した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、４０％酢酸エチル−ヘキサン）により、生成物を無色のオイルとして得た（０．１２５ｇ、７４％）。
【０１０７】
（実施例５）
（ＩＩ．経路１：ケト還元および脱離）
【０１０８】
【化２７】
2011006480.tif 000028
（工程１．ケト還元）
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤ）
（化合物（３）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
０℃で３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−オキソエポチロンＤの溶液（メタノール中）に、１当量の水素化ホウ素ナトリウムを添加する。この溶液を０℃で４０分間攪拌し、その後、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌを添加する。この有機物を酢酸エチルで抽出して合わせ、その後乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして減圧下で濃縮する。カラムクロマトグラフィー（シリカ、ＥｔＯＡｃ−ヘキサン）により、生成物を得る。
【０１０９】
（実施例６）
（３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤ）
（化合物（３）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ｔＢｕＭｅ２Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
０℃で３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−オキソエポチロンＤの溶液（メタノール中）に、１当量の水素化ホウ素ナトリウムを添加する。この溶液を０℃で４０分間攪拌し、その後、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌを添加する。この有機物を酢酸エチルで抽出して合わせ、その後乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして減圧下で濃縮する。カラムクロマトグラフィー（シリカ、ＥｔＯＡｃ−ヘキサン）により、生成物を得る。
【０１１０】
（実施例７）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−ヒドロキシエポチロンＤ）
（化合物（３）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３；Ｘ＝Ｓ）
【０１１１】
【化２８】
2011006480.tif 000029
０℃で３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−オキソエポチロンＤの溶液（メタノール中）に、１当量の水素化ホウ素ナトリウムを添加する。この溶液を０℃で４０分間攪拌し、その後、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌを添加する。この有機物を酢酸エチルで抽出して合わせ、その後乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして減圧下で濃縮する。カラムクロマトグラフィー（シリカ、ＥｔＯＡｃ−ヘキサン）により、３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−ヒドロキシエポチロンＤを得る。
【０１１２】
（実施例８）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル−８−エピ−９−ヒドロキシエポチロンＤ）
【０１１３】
【化２９】
2011006480.tif 000030
０℃で３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−８−エピ−９−オキソエポチロンＤ（０．１２５ｇ、０．１３１ｍｍｏｌ）の溶液（メタノール（２．０ｍｌ）中）に、水素化ホウ素ナトリウム（０．００５ｇ、０．１３１ｍｍｏｌ）を添加した。この溶液を０℃で４０分間攪拌し、その後、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌ（１５ｍｌ）を添加した。この有機物を酢酸エチル（３×１５ｍｌ）で抽出して合わせ、その後乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして減圧下で濃縮した。カラムクロマトグラフィー（シリカ、２０％ＥｔＯＡｃ−ヘキサン）により、３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシ−カルボニル）−８−エピ−９−ヒドロキシエポチロンＤを無色のオイルとして得た。
【０１１４】
（実施例９）
（工程２．活性化）
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（メタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（４）：Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＭｅＳＯ２Ｏ）
塩化メタンスルホニルを、３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−ヒドロキシ−エポチロンＤおよび４−（ジメチルアミノ）ピリジンの溶液（ジクロロメタン中）に添加する。１２時間攪拌した後、混合物をジクロロメタンで希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１１５】
（実施例１０）
（３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−（メタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ｔＢｕＭｅ２Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＭｅＳＯ２Ｏ）
塩化メタンスルホニルを、３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤおよび４−（ジメチルアミノ）ピリジンの溶液（ジクロロメタン中）に添加する。１２時間攪拌した後、混合物をジクロロメタンで希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１１６】
（実施例１１）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−（メタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＭｅＳＯ２Ｏ）
塩化メタンスルホニルを、３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシ−カルボニル）−９−ヒドロキシエポチロンＤおよび４−（ジメチルアミノ）ピリジンの溶液（ジクロロメタン中）に添加する。１２時間攪拌した後、混合物をジクロロメタンで希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４上で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１１７】
（実施例１２）
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＣＦ３ＳＯ２Ｏ）
ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）を、３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）に−７８℃で滴下により添加する。３０分後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を滴下により添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまで暖める。この混合物をエーテルに希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、さらに精製することなく使用する。
【０１１８】
（実施例１３）
（３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ｔＢｕＭｅ２Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＣＦ３ＳＯ２Ｏ）
ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）を、３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）に−７８℃で滴下により添加する。３０分後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を滴下により添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまで暖める。この混合物をエーテルに希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、さらに精製することなく使用する。
【０１１９】
（実施例１４）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＣＦ３ＳＯ２Ｏ）
ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）を、３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−ヒドロキシエポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）に−７８℃で滴下により添加する。３０分後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を滴下により添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまで暖める。この混合物をエーテルに希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、さらに精製することなく使用する。
【０１２０】
（実施例１５）
（工程３．脱離）
（メシレート脱離を介した３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（メタンスルホニルオキシ）エポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃に冷却し、そしてナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）１当量で処理する。この混合物を周囲温度にまで暖め、そして次いでｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１２１】
（実施例１６）
（３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ｔＢｕＭｅ２Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−（メタンスルホニルオキシ）エポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃に冷却し、そしてナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）１当量で処理する。この混合物を周囲温度にまで暖め、そして次いでｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１２２】
（実施例１７）
（３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９−（メタンスルホニルオキシ）エポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃に冷却し、そしてナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）１当量で処理する。この混合物を周囲温度にまで暖め、そして次いでｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１２３】
（実施例１８）
（トリフレート脱離を介した３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）エポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）を０℃で２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンで処理する。この混合物を周囲温度にまで暖め、そして次いでｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１２４】
（実施例１９）
（工程４．脱保護）
（９，１０−デヒドロエポチロンＤ（Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉを介する））
（化合物（６）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤの溶液（アセトニトリルおよび水中）を氷上で冷却し、そして４８％フッ化水素酸で処理する。この反応を、薄層クロマトグラフィーによってモニタリングする。完了の際に、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３の添加により反応を中和し、そして濃縮して水性スラリーにする。このスラリーを酢酸エチルで抽出し、そしてこの抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１２５】
（実施例２０）
（９，１０−デヒドロエポチロンＤ（Ｐ＝ｔＢｕＭｅ２Ｓｉを介する））
（化合物（６）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤの溶液（アセトニトリルおよび水中）を氷上で冷却し、そして４８％フッ化水素酸で処理する。この反応を、薄層クロマトグラフィーによってモニタリングする。完了の際に、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３の添加により反応を中和し、そして濃縮して水性スラリーにする。このスラリーを酢酸エチルで抽出し、そしてこの抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１２６】
（実施例２１）
（９，１０−デヒドロエポチロンＤ（Ｐ＝ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３を介する））
（化合物（６）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｘ＝Ｓ）
亜鉛粉末を室温で３，７−ビス−Ｏ−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤの溶液（酢酸およびテトラヒドロフランの混合物中）に添加する。溶液を室温で１時間攪拌し、その後、さらなる亜鉛を添加し、一晩室温で攪拌する。この溶液を酢酸エチルと水との間で分配し、そして水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機物をブラインで洗浄し、そして乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、その後減圧下で濃縮する。ヘキサン中酢酸エチル勾配を用いるシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーにより、９，１０−デヒドロエポチロンＤを得る。
【０１２７】
（実施例２２）
（ＩＩＩ．経路２：熱分解脱離）
【０１２８】
【化３０】
2011006480.tif 000031
（工程１．活性化）
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（（メチルチオ）チオカルボニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（７）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝Ｓ−Ｍｅ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃に冷却し、そしてナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）１当量で処理する。３０分後、二硫化炭素を添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまで暖める。１時間後、ヨウ化メチルを添加し、そしてこの反応を１２時間進行させ、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１２９】
（実施例２３）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（（ジメチルアミノ）チオカルボニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（７）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ：Ｘ＝Ｓ；Ｙ＝ＮＭｅ２）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−ヒドロキシエポチロンＤ、塩化ジメチルチオカルバモイル、およびピリジンの混合物を１２時間反応させる。この混合物を水に注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。生成物を、ヘキサン中の酢酸エチルの勾配を用いたシリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１３０】
（実施例２４）
（工程２．熱分解）
（キサンテートを介する３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）：Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（（メチルチオ）チオカルボニルオキシ）エポチロンＤを高真空（約０．１トール）下に置き、そして１７０℃に加熱し、その間に出発物質が薄層クロマトグラフィー分析によって決定されるように消失する。この反応を周囲温度に冷却し、そして残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１３１】
（実施例２５）
（チオカルバメートを介する３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）：Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−（（ジメチルアミノ）チオカルボニルオキシ）エポチロンＤを高真空（約０．１トール）下に置き、そして１７０℃に加熱し、その間に出発物質が薄層クロマトグラフィー分析によって決定されるように消失する。この反応を周囲温度に冷却し、そして残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１３２】
（実施例２６）
（ＩＶ．ビニルトリフレート還元）
【０１３３】
【化３１】
2011006480.tif 000032
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロ−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（８）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
トリフルオロメタンスルホン酸無水物を０℃で３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−オキソエポチロンＤおよび２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンの溶液（ジクロロメタン中）に滴下により添加する。添加の完了後、この混合物を周囲温度にまでゆっくりと暖め、そして一晩攪拌する。この反応を薄層クロマトグラフィーによってモニタリングし、そしてさらなるトリフルオロメタンスルホン酸無水物を、出発物質が消耗されるまで添加する。この混合物をエバポレートし、そして残渣を酢酸エチルと合わせる。沈殿した塩を濾過により除去し、そしてエーテル溶液を水、氷冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。
【０１３４】
（実施例２７）
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロ−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）エポチロンＤ）
（化合物（８）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９−オキソエポチロンＤの溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃でナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）に滴下により添加する。添加の完了後、この混合物を−７８℃で３０分間維持し、そしてＮ−（５−クロロ−２−ピリジル）トリフリミド（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ
７４：７７−８３（１９９６））の溶液を滴下により添加する。この混合物を２時間維持し、次いで周囲温度にまでゆっくりと暖める。混合物をエバポレートし、そして残渣を酢酸エチルと合わせる。エーテル溶液を水、氷冷５％ＮａＯＨ、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。
【０１３５】
（実施例２８）
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（５）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロ−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−エポチロンＤ、トリブチルアミン、酢酸パラジウム、およびトリフェニルホスフィンの混合物（ジメチルホルムアミド中）を、不活性ガス雰囲気下に置き、そしてスパージャーによって脱気する（ｄｅｇａｓｓｅｄ ｂｙ ｓｐａｒｇｉｎｇ）。ギ酸を、シリンジを介して添加し、そしてその混合物を１時間６０℃に加熱する。この混合物を周囲温度に冷却し、エーテルに希釈し、そして水、氷冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１３６】
（実施例２９）
（Ｖ．ビニルトリフレートへのカップリング）
【０１３７】
【化３２】
2011006480.tif 000033
（３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロ−９−アリルエポチロンＤ）
（化合物（９）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｒ１＝ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２；Ｐ＝Ｅｔ３Ｓｉ；Ｘ＝Ｓ）
テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）および塩化リチウムの混合物（無水ＴＨＦ中）を１５分間、不活性ガス雰囲気下で攪拌し、次いで、３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロ−９−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−エポチロンＤおよびアリル−トリブチルスズの溶液（ＴＨＦ中）を添加する。この混合物を穏やかな還流で４８時間加熱する。この混合物を周囲温度に冷却し、エーテルに希釈し、そして水、氷冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１３８】
（実施例３０）
（９，１０−デヒドロ−９−アリルエポチロンＤ）
（化合物（１０）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｒ１＝ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２；Ｘ＝Ｓ）
３，７−ビス−Ｏ−（トリエチルシリル）−９，１０−デヒドロ−９−アリルエポチロンＤの溶液（アセトニトリルおよび水中）を氷上で冷却し、そして４８％フッ化水素酸で処理する。この反応を薄層クロマトグラフィーによってモニタリングする。完了の際に、この反応をｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３の添加により中和し、そして濃縮して水性スラリーにする。このスラリーを酢酸エチルで抽出し、そしてこの抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１３９】
（実施例３１）
（開環中間体を介する９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（１０）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｒ１＝Ｈ；Ｘ＝Ｓ）
（工程１．開環）水素化ジイソブチルアルミニウムの溶液を、−７８℃に冷却した３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−オキソエポチロンＤの溶液（テトラヒドロフラン中）に添加する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、リン酸緩衝液の添加によりクエンチングし、そして周囲温度にまで暖める。この混合物を酢酸エチルで抽出し、そしてこの抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１４０】
（工程２．保護）工程１の生成物、塩化ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、およびイミダゾールの混合物（ジメチルホルムアミド中）を、ＴＬＣ分析により判断されるように反応が完了するまで攪拌する。この混合物を水に注ぎ、そしてエーテルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートし、そして生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１４１】
（工程３．ビニルトリフレート形成）工程２の生成物の溶液（ＴＨＦ中）を、−７８℃に冷却したナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの溶液に滴下により添加する。エノラート形成に十分な時間の後、Ｎ−（２−ピリジル）トリフリミドの溶液（ＴＨＦ中）を添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまでゆっくりと暖める。この混合物を水に注ぎ、そしてエーテルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートし、そして生成物をさらに精製することなく使用する。
【０１４２】
（工程４．トリフレート還元）工程３の生成物、トリブチルアミン、酢酸パラジウム、およびトリフェニルホスフィンの混合物（ジメチルホルムアミド中）を不活性ガス雰囲気下に置き、そしてスパージャーによって脱気する。ギ酸を、シリンジを介して添加し、そしてその混合物を１時間６０℃で加熱する。この混合物を周囲温度に冷却し、エーテルに希釈し、そして水、氷冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そして乾燥までエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１４３】
（工程５．１−Ｏ−ＴＢＳ基の除去）工程４の生成物および樟脳スルホン酸の溶液（メタノールおよびジクロロメタン中）を０℃で攪拌し、そしてＴＬＣによりモニタリングする。出発物質が消失した際に、この反応物をｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３に注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１４４】
（工程６．酸化）テトラプロピルアンモニウムペルルテネートを、工程５の生成物およびＮ−メチルモルホリンオキシドの混合物（ジクロロメタン中）に注意深く添加し、そしてこの混合物を攪拌し、そしてＴＬＣによりモニタリングする。出発物質が消失した際に、この反応物をｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３に注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。残渣をｔｅｒｔ−ブタノールおよびリン酸緩衝液の混合物中に溶解し、そして２−メチル−２−ブテンおよび亜塩素酸ナトリウムで処理する。この反応後にＴＬＣを行う。出発物質が消失した際に、この反応物を酢酸エチルに注ぎ、そして１Ｎ ＨＣｌの添加によりｐＨ４にし、そして水およびブラインで順次洗浄する。有機相を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１４５】
（工程７．１５−Ｏ−ＴＢＳ基の除去）フッ化テトラブチルアンモニウムの溶液を、０℃で工程６の生成物の溶液（ＴＨＦ中）に添加する。反応の完了後、混合物を周囲温度にし、酢酸エチルで希釈し、そして水で洗浄する。有機相を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン）に供し、生成物を単離する。
【０１４６】
（工程８．マクロラクトン化（Ｍａｃｒｏｌａｃｔｏｎｉｚａｔｉｏｎ））トリエチルアミンおよび塩化２，４，６−トリクロロベンゾイルを、周囲温度で工程７の生成物の溶液（ＴＨＦ中）に添加する。２０分後、この混合物をトルエンに希釈し、そして数時間にわたって４−（ジメチルアミノ）−ピリジンの溶液（温トルエン中）に滴下により添加する。完了後、混合物を濃縮し、そして生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製する。
【０１４７】
（工程９．脱保護）工程８の生成物を、０℃で１：１のトリフルオロ酢酸およびジクロロメタン中に溶解する。この反応をＴＬＣによりモニタリングし、そして完了時に真空下で濃縮する。残渣を酢酸エチル中に溶解し、そしてｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３で洗浄し、次いで乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製する。
【０１４８】
（実施例３２）
（開環中間体、代替経路を介した９，１０−デヒドロエポチロンＤ）
（化合物（１０）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｒ１＝Ｈ；Ｘ＝Ｓ）
（工程１．開環）３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−オキソ−エポチロンＤの溶液（メタノール中）を周囲温度で１Ｎ ＮａＯＨで処理する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、リン酸緩衝液（ｐＨ４）の添加によりクエンチングする。メタノールを真空下でロータリーエバポレーションによって除去し、そして水性残渣を酢酸エチルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１４９】
（工程２．エステル化）（トリメチルシリル）ジアゾメタンを工程１の生成物の溶液（エーテル中）に、黄色が消えずに残るまで添加する。この溶液を濃縮し、そして生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５０】
（工程３．１５−ＯＨの保護）クロロトリメチルシランを周囲温度で工程２の生成物およびトリメチルシリルイミダゾールの溶液（ジクロロメタン中）に添加する。１時間後、この混合物を飽和水性ＮａＨＣＯ３に注ぎ、そしてジクロロメタンで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５１】
（工程４．ビニルトリフレート形成）工程３の生成物の溶液（無水ＴＨＦ中）を、−７８℃に冷却したナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの溶液（ＴＨＦ中）に滴下により添加する。エノラート形成に十分な時間の後、Ｎ−（２−ピリジル）トリフリミドの溶液（ＴＨＦ中）を添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまでゆっくりと暖める。この
混合物を水に注ぎ、そしてエーテルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５２】
（工程５．トリフレート還元）工程４の生成物、トリブチルアミン、酢酸パラジウム、およびトリフェニルホスフィンの混合物（ジメチルホルムアミド中）を不活性ガス雰囲気下に置き、そしてスパージャーによって脱気する。ギ酸を、シリンジを介して添加し、そしてその混合物を１時間６０℃で加熱する。この混合物を周囲温度に冷却し、エーテルに希釈し、そして水、氷冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄する。エーテル相を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５３】
（工程６．１５−ＯＴＭＳ基の除去）工程５の生成物をアセトニトリル、水、および酢酸の混合物中に溶解する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、この混合物を、真空下で、乾燥までエバポレートする。
【０１５４】
（工程７．メチルエステルの除去）工程６の生成物をメタノール中に溶解し、そして周囲温度で１Ｎ ＮａＯＨで処理する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、リン酸緩衝液（ｐＨ４）の添加によりクエンチングする。メタノールを真空下でロータリーエバポレーションによって除去し、そして水性残渣を酢酸エチルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５５】
（工程８．マクロラクトン化）トリエチルアミンおよび塩化２，４，６−トリクロロベンゾイルを、周囲温度で工程７の生成物の溶液（ＴＨＦ中）に添加する。２０分後、この混合物をトルエンに希釈し、そして数時間にわたって４−（ジメチルアミノ）−ピリジンの溶液（温トルエン中）に滴下により添加する。添加の完了後、混合物を濃縮する。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５６】
（工程９．脱保護）工程８の生成物を、０℃で１：１のトリフルオロ酢酸およびジクロロメタン中に溶解する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによりモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、真空下で乾燥までエバポレートする。残渣を酢酸エチル中に溶解し、そしてｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、次いでブラインで洗浄する。次いで、酢酸エチル相を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５７】
（実施例３３）
（開環中間体を介する９，１０−デヒドロエポチロンＨ２）
（化合物（１０）；Ｒ＝Ｍｅ：Ｒ１＝Ｈ：Ｘ＝Ｏ）
（工程１．保護）９−オキソエポチロンＨ２および２，６−ルチジンの溶液（ジクロロメタン中）を、周囲温度でｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートで処理する。一晩攪拌した後、この混合物をジクロロメタンで希釈し、そして水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄する。この溶液を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートし、そして生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５８】
（工程２．開環）３，７−ビス−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−９−オキソ−エポチロンＨ２の溶液（メタノール中）を周囲温度で１Ｎ ＮａＯＨで処理する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、リン酸緩衝液（ｐＨ４）の添加によりクエンチングする。メタノールを真空下でロータリーエバポレーションによって除去し、そして水性残渣を酢酸エチルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１５９】
（工程３．エステル化）（トリメチルシリル）ジアゾメタンを工程２の生成物の溶液（エーテル中）に、黄色が消えずに残るまで添加する。この溶液を濃縮し、そして生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６０】
（工程４．１５−ＯＨの保護）クロロトリメチルシランを周囲温度で工程３の生成物およびトリメチルシリルイミダゾールの溶液（ジクロロメタン中）に添加する。１時間後、この混合物を飽和水性ＮａＨＣＯ３に注ぎ、そしてジクロロメタンで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６１】
（工程５．ビニルトリフレート形成）工程４の生成物の溶液（無水ＴＨＦ中）を、−７８℃に冷却したナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの溶液（ＴＨＦ中）に滴下により添加する。エノラート形成に十分な時間の後、Ｎ−（２−ピリジル）トリフリミドの溶液（ＴＨＦ中）を添加し、そしてこの混合物を周囲温度にまでゆっくりと暖める。この混合物を水に注ぎ、そしてエーテルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６２】
（工程６．トリフレート還元）工程５の生成物、トリブチルアミン、酢酸パラジウム、およびトリフェニルホスフィンの混合物（ジメチルホルムアミド中）を不活性ガス雰囲気下に置き、そしてスパージャーによって脱気する。ギ酸を、シリンジを介して添加し、そしてその混合物を１時間６０℃で加熱する。この混合物を周囲温度に冷却し、エーテルに希釈し、そして水、氷冷１Ｎ ＨＣｌ、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄する。エーテル相を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６３】
（工程７．１５−ＯＴＭＳ基の除去）工程６の生成物をアセトニトリル、水、および酢酸の混合物中に溶解する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、この混合物を、真空下で、乾燥までエバポレートする。
【０１６４】
（工程８．メチルエステルの除去）工程７の生成物をメタノール中に溶解し、そして周囲温度で１Ｎ ＮａＯＨで処理する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによってモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、リン酸緩衝液（ｐＨ４）の添加によりクエンチングする。メタノールを真空下でロータリーエバポレーションによって除去し、そして水性残渣を酢酸エチルで抽出する。この抽出物を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６５】
（工程９．マクロラクトン化）トリエチルアミンおよび塩化２，４，６−トリクロロベンゾイルを、周囲温度で工程８の生成物の溶液（ＴＨＦ中）に添加する。２０分後、この混合物をトルエンに希釈し、そして数時間にわたって４−（ジメチルアミノ）−ピリジンの溶液（温トルエン中）に滴下により添加する。添加の完了後、混合物を濃縮する。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６６】
（工程１０．脱保護）工程９の生成物を、０℃で１：１のトリフルオロ酢酸およびジクロロメタン中に溶解する。この反応をＴＬＣまたはＬＣによりモニタリングし、そして出発物質を消耗した際に、真空下で乾燥までエバポレートする。残渣を酢酸エチル中に溶解し、そしてｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、次いでブラインで洗浄する。次いで、酢酸エチル相を乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６７】
（実施例３４）
（化合物（２４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｘ＝Ｓ）
（工程１．ケトン還元）実施例３２の工程３の生成物の溶液（メタノール中）を０℃に冷却し、そして１当量の水素化ホウ素ナトリウムで処理する。この溶液を０℃で４０分間攪拌し、その後ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌを添加する。有機物を酢酸エチルで抽出し、そしてこの抽出物を乾燥し、濾過し、そして乾燥まで濃縮する。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製する。
【０１６８】
（工程２．キサンテート形成）工程１の生成物の溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃に冷却し、そしてナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）１当量で処理する。３０分後、二硫化炭素を添加し、そして混合物を周囲温度にまで暖める。１時間後、ヨウ化メチルを添加し、そしてこの反応を１２時間進行させ、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いで乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物を、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１６９】
（工程３．熱分解脱離）工程２からの生成物を高真空（約０．１トール）下に置き、そして出発物質がＴＬＣ分析によって決定されるように消耗するまで、１５０〜２００℃で加熱する。この反応を周囲温度に冷却し、そして残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに供し、生成物を単離する。
【０１７０】
（実施例３５）
（化合物（２４）；Ｒ＝Ｍｅ；Ｘ＝Ｏ）
（工程１．ケトン還元）実施例３３の工程４の生成物の溶液（メタノール中）を０℃に冷却し、そして１当量の水素化ホウ素ナトリウムで処理する。この溶液を０℃で４０分間攪拌し、その後ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌを添加する。有機物を酢酸エチルで抽出し、そしてこの抽出物を乾燥し、濾過し、そして乾燥まで濃縮する。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製する。
【０１７１】
（工程２．キサンテート形成）工程１の生成物の溶液（ＴＨＦ中）を−７８℃に冷却し、そしてナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの１．０Ｍ溶液（ＴＨＦ中）１当量で処理する。３０分後、二硫化炭素を添加し、そして混合物を周囲温度にまで暖める。１時間後、ヨウ化メチルを添加し、そしてこの反応を１２時間進行させ、ｓａｔ．ａｑ．ＮＨ４Ｃｌに注ぎ、そして酢酸エチルで抽出する。この抽出物を水、ｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３、およびブラインで順次洗浄し、次いで乾燥し、濾過し、そしてエバポレートする。生成物を、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製する。
【０１７２】
（工程３．熱分解脱離）工程２からの生成物を高真空（約０．１トール）下に置き、そして出発物質がＴＬＣ分析によって決定されるように消耗するまで、１５０〜２００℃で加熱する。この反応を周囲温度に冷却し、そして残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに供し、生成物を単離する。
【０１７３】
（実施例３６）
（２−（ピバロリイル（ｐｉｖａｌｏｌｙｌ）オキシメチル）−４−（クロロメチル）チアゾール）
【０１７４】
【化３３】
2011006480.tif 000034
３０ｍｍｏｌの１，３−ジクロロアセトンおよび３０ｍｍｏｌの２−（ピバロイルオキシ）−チオアセトアミドの混合物を２１ｍｌの無水アルコール中に溶解し、そして窒素下で一晩還流させた。得られた混合物を真空下で濃縮し、そして残渣を１００ｍｌの水中に溶解した。得られた水溶液をｐＨ＝８に中和し、その後それをエーテル（２００ｍｌ×３）で抽出した。合わせた有機層を飽和ＮａＨＣＯ３、水、およびブラインで順次洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そしてエバポレートして、褐色シロップを得た。シリカゲル（２％〜１０％アセトン（ヘキサン中）勾配）上のクロマトグラフィーにより、２００ｍｇの２−（ピバロリイル（ｐｉｖａｌｏｌｙｌ）オキシメチル）−４−クロロメチルチアゾール、および８００ｍｇの２−（ヒドロキシメチル）−４−（クロロメチル）チアゾールを得た。
【０１７５】
（実施例３７）
（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−４−（クロロメチル）チアゾール）
【０１７６】
【化３４】
2011006480.tif 000035
８００ｍｇの（２−ヒドロキシメチル）−（４−クロロメチル）チアゾール（４．８９ｍｍｏｌ）および１．３３ｇのイミダゾール（１８．５６ｍｍｏｌ）の混合物を１０ｍｌのＤＭＦ中に溶解した。得られた溶液を０℃に冷却し、その後、１．４７ｇの塩化ｔ−ブチルジメチルシリル（９．７８ｍｍｏｌ）を一部ずつ添加した。得られる溶液を周囲温度にまで暖め、そして反応をもう４時間継続し、その後、３０ｍｌのｓａｔ．ａｑ．ＮａＨＣＯ３溶液を添加することによりクエンチングした。得られる混合物を５０ｍｌ×２の酢酸エチルで抽出した。合わせた有機抽出物を水２０ｍｌ×３、およびブラインで順次洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、そしてエバポレートして、褐色シロップを得た。シリカゲル（１％〜１０％アセトン（ヘキサン中）勾配）上のクロマトグラフィーにより、８００ｍｇの２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−４−（クロロメチル）−チアゾールを得た。
【０１７７】
（実施例３８）
（［（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−４−チアゾリル）メチル］トリブチルホスホニウムクロライド）
【０１７８】
【化３５】
2011006480.tif 000036
５５７．０ｍｇの２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−４−（クロロメチル）チアゾール（２．０ｍｍｏｌ）の溶液（３ｍｌのベンゼン中）に、窒素ガス雰囲気下で滴下によりトリ−ｎ−ブチルホスフィンを添加した。得られた溶液を一晩窒素下で還流させた。次いで、この溶液を真空下で濃縮し、そして残渣を、１：１（ｖ／ｖ）のエーテルおよびヘキサンの混合物を添加することにより結晶させた。次いで、固形物を濾過し、少量のヘキサンで洗浄し、その後、真空中で乾燥させて、８００ｍｇのホスホニウム塩を白色固形物として得た。
【０１７９】
（実施例３９）
（２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロ−エポチロンＤの調製）
【０１８０】
【化３６】
2011006480.tif 000037
カリウムビス（トリメチルシリル）アミドの０．５Ｍ溶液（トルエン（２．４ｍＬ）中）を、−２０℃で（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチルチアゾル−４−イル）メチルトリ−ｎ−ブチル−ホスホニウムクロライド（０．５８ｇ）の溶液（１ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中）に添加した。この溶液を３０分にわたって０℃にまで暖め、次いで−７８℃に冷却し、そしてケトン１（１２８ｍｇ）（Ａ．Ｒｉｖｋｉｎら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３ １２５：２８９９−２９０１）の溶液を添加した。混合物を１時間にわたって−４０℃にまで暖め、その時点で、反応を、薄層クロマトグラフィー分析によって完了したことを判定した。この反応を、ｓａｔ．ａｑ．塩化アンモニウムの添加によってクエンチングし、そして酢酸エチルで抽出した。この抽出物をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そしてエバポレートした。残渣をシリカゲル（２０：１ヘキサン／エーテル）上でクロマトグラフィーに供し、１５０ｍｇの純粋な保護生成物を得た。
【０１８１】
この保護生成物（１５０ｍｇ）を３ｍＬのＴＨＦ中に溶解し、そして０℃でフッ化水素−ピリジン（２ｍＬ）で処理した。反応を１時間にわたって周囲温度に暖め、そして次いで４時間、維持した。メトキシトリメチルシラン（１５ｍＬ）をゆっくりと添加し、そしてこの混合物を一晩攪拌した。混合物を乾燥までエバポレートし、そして残渣をシリカゲル（３：１〜１：１のヘキサン／アセトン）上でクロマトグラフィーに供し、６４ｍｇの純粋２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロエポチロンＤを得た。
【０１８２】
（実施例４０）
（２１−アジド−９，１０−デヒドロ−エポチロンＤの調製）
【０１８３】
【化３７】
2011006480.tif 000038
２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロエポチロンＤ（３０ｍｇ）の溶液（１．５ｍＬの無水ＴＨＦ中）を０℃に冷却し、そして１分にわたってジフェニルホスホリルアジド（１５．３μＬ）で処理した。５分後、１，８−ジアザ［５．４．０］ビシクロウンデ−７−セン（ＤＢＵ）（８．８μＬ）を添加し、そしてこの反応物を０℃で２時間攪拌し、次いで周囲温度に暖めた。１８時間後、薄層クロマトグラフィー分析により、２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロエポチロンＤが残っていることが示され、そのためこの混合物を０℃に冷却し、そしてさらにジフェニルホスホリルアジド（２μＬ）で処理した。この混合物を０℃でさらに３０分攪拌し、そして次いで周囲温度で１．５時間攪拌した。この溶液を３０ｍＬの酢酸エチルに注ぎ、そして２×１０ｍＬの水で洗浄した。合わせた水性洗浄物を酢酸エチル（２×１５ｍＬ）で抽出し、そしてこの抽出物を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そしてエバポレートした。粗製の物質をシリカゲル上でクロマトグラフィーに供し、９ｍｇの生成物を得た。
【０１８４】
（実施例４１）
（２１−アミノ−９，１０−デヒドロ−エポチロンＤの調製）
【０１８５】
【化３８】
2011006480.tif 000039
２１−アジド−９，１０−デヒドロエポチロンＤ（１４ｍｇ）およびトリメチルホスフィン（３３μＬの１Ｍ溶液（ＴＨＦ中））の溶液（０．３ｍＬのＴＨＦ中）を５分間攪拌し、次いで８０μＬの水で処理し、そしてさらに３時間攪拌した。この混合物を乾燥までエバポレートし、そして残渣をシリカゲル（１０％メタノール（クロロホルム中））上でクロマトグラフィーに供し、８ｍｇの２１−アミノ−９，１０−デヒドロエポチロンＤを得た。正確分子量：Ｃ２７Ｈ４１Ｎ２Ｏ５Ｓ（Ｍ＋Ｈ）についての算定＝５０５．２７３１，実測＝５０５．２７１９。
【０１８６】
【数１】
2011006480.tif 000040
（実施例４２）
（２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロ−２６−トリフルオロエポチロンＤの調製）
【０１８７】
【化３９】
2011006480.tif 000041
カリウムビス（トリメチルシリル）アミドの０．５Ｍ溶液（トルエン（１．５ｍＬ）中）を、１０分にわたって滴下により、−３０℃で、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−メチルチアゾル−４−イル）メチルトリ−ｎ−ブチル−ホスホニウムクロライド（０．６４１ｇ）の溶液（３ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中）に添加した。この溶液を４０分にわたって０℃にまで暖め、次いで−７０℃に冷却し、そしてケトン３（８５ｍｇ）（Ａ．Ｒｉｖｋｉｎら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３ １２５：２８９９−２９０１）の溶液（１ｍＬのＴＨＦ中）を１０分にわたって滴下により添加した。２０分後、この混合物を１時間にわたって−３０℃にまで暖めた。反応をｓａｔ．ａｑ．塩化アンモニウムの添加によってクエンチングし、そして酢酸エチルで抽出した。この抽出物をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そしてエバポレートした。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィーに供し、０、２、４、６、および８％エーテル（ヘプタン中）で順次溶出し、６７ｍｇの純粋保護生成物を得た。
【０１８８】
この保護生成物（６７ｍｇ）を１．５ｍＬのＴＨＦ中に溶解し、そして０℃でフッ化水素−ピリジン（０．６ｍＬ）で処理した。２０分後、この反応物を周囲温度にまで暖め、３．５時間維持し、次いで０℃に冷却した。メトキシトリメチルシラン（６ｍＬ）をゆっくりと添加し、そしてこの混合物を周囲温度にし、そしてエバポレートしてオイルにした。このオイルをシリカゲル（０、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、および９０％酢酸エチル（ヘキサン中））上でクロマトグラフィーに供し、純粋な２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロ−２６−トリフルオロエポチロンＤを得た。ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｚ ５６０ ［Ｍ＋Ｈ］。
【０１８９】
（実施例４３）
（２１−アジド−９，１０−デヒドロ−２６−トリフルオロエポチロンＤの調製）
【０１９０】
【化４０】
2011006480.tif 000042
２１−ヒドロキシ−９，１０−デヒドロ−２６−トリフルオロエポチロンＤ（２０ｍｇ）の溶液（０．５ｍＬの無水ＴＨＦ中）を０℃に冷却し、そしてジフェニルホスホリルアジド（１０μＬ）で処理した。５分後、１，８−ジアザ［５．４．０］ビシクロウンデ−７−セン（ＤＢＵ）（５μＬ）を添加し、そしてこの反応物を周囲温度に暖め、そして一晩攪拌した。この反応混合物を直接シリカゲルのカラムに適用した。次いで、これを０、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、および８０％酢酸エチル（ヘキサン中）で溶出し、生成物を得た。ＭＳ：Ｃ２７Ｈ３８Ｎ４Ｏ５Ｓ［Ｍ＋Ｈ］について算定＝５３０．２５６３；実測５８５．２７９７。
【０１９１】
（実施例４４）
（２１−アミノ−９，１０−デヒドロ−２６−トリフルオロエポチロンＤの調製）
【０１９２】
【化４１】
2011006480.tif 000043
２１−アジド−９，１０−デヒドロ−２６−トリフルオロエポチロンＤ（１３ｍｇ）の溶液を０℃に冷却し、そして０．５ｍＬのＴＨＦ中のトリメチルホスフィン（２８μＬの１Ｍ溶液（ＴＨＦ中））で処理し、５分間攪拌し、次いで１００μＬの水で処理し、１．５時間にわたって周囲温度にまで暖めた。この反応混合物を直接シリカゲルのカラムに適用した。次いで、これを、１％トリエチルアミンを含有するジクロロメタン中０、２、４、６、８、および１０％メタノールで溶出し、不純な生成物を得た。シリカゲル上の第二のクロマトグラフィー（これは、ヘキサン中０、２５、５０、７５、および１００％酢酸エチル、次いで１％トリエチルアミンを含有するジクロロメタン中０、２、および５％メタノールで溶出する）により、純粋な生成物を得た。ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｚ ５５９ ［Ｍ＋Ｈ］。
【０１９３】
（実施例４５）
（１７−デス（２−メチル−４−チアゾリル）−１７−（２−ピリジル）−９，１０−デヒドロエポチロン（ｐｅｏｔｈｉｌｏｎｅ）Ｄ）（ＫＯＳＮ １６３２）
【０１９４】
【化４２】
2011006480.tif 000044
（２−ピリジル）メチルトリ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライドを以下のように調製した。１０ｍｍｏｌの２−（クロロメチル）ピリジンの溶液（１５ｍｌのベンゼン中）に、１０ｍｍｏｌのトリ−ｎ−ブチルホスフィンを窒素下で滴下により添加した。得られた溶液を１８時間還流させ、その後、周囲温度にまで冷却した。次いで、この溶液を真空下で濃縮した；必要な測定は全て、空気との接触を減少させるように行った。残渣にジエチルエーテルを添加することにより、白色固形物が形成された。母液を濾過して除去し、そしてこの白色固形物を、窒素下、ジエチルエーテルで数回洗浄し、次いでこの固形物を真空下で乾燥して、白色粉末を最終生成物として得た。
【０１９５】
１７−デス（２−メチル−４−チアゾリル）−１７−（２−ピリジル）−９，１０−デヒドロエポチロン（ｐｅｏｔｈｉｌｏｎｅ）Ｄを、実施例４２の方法に従って調製したが、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル−シリルオキシ）−メチルチアゾル−４−イル）メチルトリ−ｎ−ブチル−ホスホニウムクロライドを（２−ピリジル）メチルトリ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライドと置き換え、そしてクエンチング前に反応物を−１０℃にまで暖めた。
【０１９６】
【数２】
2011006480.tif 000045
（実施例４６）
（１７−デス（２−メチル−４−チアゾリル）−１７−（２−キノリル）−９，１０デヒドロエポチロン（ｐｅｏｔｈｉｌｏｎｅ）Ｄ）
【０１９７】
【化４３】
2011006480.tif 000046
実施例４２の方法に従って調製したが、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル−シリルオキシ）−メチルチアゾル−４−イル）メチルトリ−ｎ−ブチル−ホスホニウムクロライドを（２−キノリル）メチルトリ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライドと置き換え、そしてクエンチング前に、この反応物を周囲温度にまで暖め、そして３時間維持した。
【０１９８】
【数３】
2011006480.tif 000047
（実施例４７）
（１７−デス（２−メチル−４−チアゾリル）−１７−（２−ベンゾチアゾリル）−９，１０−デヒドロエポチロン（ｐｅｏｔｈｉｌｏｎｅ）Ｄ（ＫＯＳＮ １６３５）
【０１９９】
【化４４】
2011006480.tif 000048
実施例４２の方法に従って調製したが、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル−シリルオキシ）−メチルチアゾル−４−イル）メチルトリ−ｎ−ブチル−ホスホニウムクロライドを（２−ベンゾチアゾリル）メチルトリ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライドと置き換え、そしてクエンチング前に、この反応物を周囲温度にまで暖め、そして２日間維持した。
【０２００】
【数４】
2011006480.tif 000049
（実施例４８）
（細胞傷害性データ）
（細胞株および培養条件）
ヒト乳癌細胞株ＭＣＦ−７、多薬耐性乳癌細胞株ＮＣＩ／ＡＤＲをＮａｔｉｏｎａｌ Ｃａｎｃｅｒ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅから入手した。ヒト非小細胞肺癌細胞株Ａ５４９およびヒト卵巣癌細胞株ＳＫＯＶ−３をＡｍｅｒｉｃａｎ Ｔｙｐｅ Ｃｕｌｔｕｒｅ Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ（Ｍａｎａｓｓａｓ，ＶＡ）から入手した。全ての細胞株をＲＰＭＩ−１６４０培地（Ｇｉｂｃｏ／ＢＲＬ，Ｒｏｃｋｖｉｌｌｅ，ＭＤ）（２ｍＭ Ｌ−グルタミン、２５ｍＭ ＨＥＰＥＳ、および１０％ ＦＢＳ（Ｈｙｃｌｏｎｅ，Ｌｏｇａｎ，ＵＴ）を補足した）中で維持した。細胞を５％ＣＯ２中３７℃で加湿インキュベーター中で維持した。
【０２０１】
（細胞傷害性アッセイ）
腫瘍細胞を、９６ウェルプレート中でウェル当たり５０００（ＭＣＦ−７）、７５００（ＮＣＩ／ＡＤＲ），５０００（Ａ５４９）、および７５００（ＳＫＯＶ３）細胞で、１００μｌ中に播種した。細胞を２４時間接着させた。０．００１〜１０００ｎＭ（１００μｌ中）の範囲の各化合物を二連ウェル中で細胞に添加した。３日後、細胞を４℃で１時間１０％トリクロロ酢酸で固定し、そして次いで、室温で２０分間、０．２％スルホローダミンＢ（ＳＲＢ）／１％酢酸で染色した。結合していない染料を１％酢酸ですすいで流し、そして次いで未結合のＳＲＢを２００μｌの１０ｍＭ Ｔｒｉｓ塩基で抽出した。吸光度を、９６ウェルマイクロタイタープレート読取器（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｍａｘ ２５０，Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｄｅｖｉｃｅｓ）を用いて５１５ｎｍで測定した。ＩＣ５０値をＫａｌｅｉｄａＧｒａｐｈプログラムを用いて算定した。この実験を２回実施した。この結果を以下の表１中に示す。
【０２０２】
【表１】
2011006480.tif 000050
（実施例４９）
（さらなる９，１０−デヒドロエポチロンＤアナログ）
実施例３９（Ｒ＝メチルの場合）および４２（Ｒ＝ＣＦ３の場合）の手順に従って、表２中に示すさらなる化合物を、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル−シリルオキシ）−メチルチアゾル−４−イル）メチルトリ−ｎ−ブチル−ホスホニウムクロライドを対応するホスホニウムクロライドと置き換えることにより、作製した。細胞傷害性データ（表２）を、実施例４８に記載のようにして得た。シトクロームＰ４５０阻害データ（表３）を、ＢＦＣ基質に対する初期速度方法を用いて得た。
【０２０３】
（４−メトキシピリジン−２−イル）メチルトリブチルホスホニウムクロライドを以下のようにして調製した。７７０ｍｇ（４．９ｍｍｏｌ）の２−（クロロメチル）−４−メトキシピリジンの溶液（７ｍｌのベンゼン中）に、１．２２ｍｌのトリ−ｎ−ブチルホスフィン（４．９ｍｍｏｌ）を、窒素下で滴下により添加した。得られた溶液を１８時間還流させ、その後、周囲温度にまで冷却した。次いで、この溶液を真空下で濃縮した；必要な測定は全て、空気との接触を減少させるように行った。残渣にジエチルエーテルを添加することにより、わずかに黄色の固形物が形成された。母液を濾過して除去し、そしてこの黄色固形物を、窒素下、ジエチルエーテルで数回洗浄し、次いでこの固形物を真空下で乾燥して、１．２ｇの黄色粉末としてホスホニウム塩を得た。（５−メチル−イソキサゾル−３−イル）メチルトリブチルホスホニウムクロライドを以下のようにして調製した：３−（クロロメチル）−５−メチルイソキサゾール（０．３０ｇ、２．２８ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）を１００ｍＬオーブン乾燥ＲＢＦにおいて６ｍＬベンゼン中に溶解した。トリブチルホスフィン（０．５７ｍＬ、２．２８ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）をシリンジを介して添加し、そしてその溶液を窒素ガス雰囲気下で１５時間還流させた。この溶液を室温に冷却し、そしてこの体積を真空中で減少させた。Ｅｔ２Ｏを添加し、所望のホスホニウム塩を沈殿させた。エーテル上清をデカントにて除去し、そして白色固形物を一晩真空下で乾燥した（０．７６０ｇ、９９％収率）。
【０２０４】
表２中に示した選択された化合物についての１３Ｃ−ＮＭＲデータは、以下の通りである：
【０２０５】
【数５−１】
2011006480.tif 000051
【０２０６】
【数５−２】
2011006480.tif 000052
【０２０７】
【化４５】
2011006480.tif 000053
【０２０８】
【表２−１】
2011006480.tif 000054
【０２０９】
【表２−２】
2011006480.tif 000055
（実施例５０）
（薬理学パラメーター）
シトクロームＰ４５０阻害測定を、ＣＹＰ３Ａ４に対する基質としてＢＦＣを用いて、市販のキット（ＢＤ ＧｅｎＴｅｓｔ，Ｗｏｂｕｒｎ，ＭＡ）を用いて実施した。そのようにして得られたμＭでのＩＣ５０値を表３中に列挙する。
【０２１０】
【表３】
2011006480.tif 000056
化合物溶解度を以下のようにして決定した：５μＬのストック溶液（２０ｍｇ／ｍＬ（ＤＭＳＯ中））を９５μＬのリン酸緩衝化生理食塩水に添加した。約１０秒間ボルテックスにかけた後、溶液／懸濁液を０．４５ミクロンフィルターで濾過し、そして分析物の量をＨＰＬＣによって定量した。決定した溶解度（ｍｇ／ｍＬ）は、以下の通りであった：エポチロンＤ、＜０．０６；トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、＜０．０６；２１−ＯＨ−２６−Ｆ３−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、０．１；２１−アミノ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、＞０．６；２１−アミノ−２６−Ｆ３−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、＞０．６；２６−Ｆ３−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、＜０．０６；２１−ＯＨ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、０．１；ＫＯＳＮ １６３５、＜０．０２；ＫＯＳＮ １６３２、０．１２。
【０２１１】
新鮮なマウスおよびヒト血漿における化合物の半減期を、ＤＭＳＯ中に化合物を溶解し、そしてアリコートをマウスまたはヒト血漿のサンプルに添加することにより、決定した。ゼロ時点で、各サンプルから７５μｌをアリコートに分け、そして１５０μｌのアセトニトリルを添加した。１３５００ｒｐｍで３分間、白色沈殿物を遠心分離した。全ての透明な上清を別の微小遠心分離チューブに移し、そして遠心分離工程（１３５００ｒｐｍ／３分）を繰り返した。１５０μｌの透明な上清を標識したＨＰＬＣサンプルチューブに注意深くピペットで移し、そしていかなるタンパク質ペレットもピペットに混入することを避けるように試みた。サンプルをＨＰＬＣにより分析し、真正標準との比較により、各時点で残存する化合物を測定した。マウスおよびヒト血漿のそれぞれにおける半減期（分）は、以下の通りであると決定された：エポチロンＤ：４９，＞１４４０；２１−ＯＨ−２６−Ｆ３−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ：３７９，＞１４４０；２１−アミノ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ：５９，＞１４４０；２６−Ｆ３−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ：１６３，＞１４４０；２１−ＯＨ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ：１０５９，＞１４４０；ＫＯＳＮ １６３５：５８，＞１４４０；ＫＯＳＮ １６３２：２８，＞１４４０。凍結マウス血漿を用いて、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤは、４７分の半減期を有した。新鮮ヒト血漿では、トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤは、＞１４４０分の半減期を有した。
【０２１２】
血漿タンパク質結合研究を、以下のようにして実施した。化合物をＤＭＳＯ中に溶解し、次いで、マウスまたはヒト血漿の新鮮または解凍したサンプルのいずれかに希釈し、そして３７℃でインキュベートした。５０μＬの時点で、１００μｌのアセトニトリルと混合し、そして約１４０００ｒｐｍで３分間遠心分離した。１００μＬアリコートを上清から取り出し、そして総画分（ｔｏｔａｌ ｆｒａｃｔｉｏｎ）における化合物を示す分析のためにわきに置いた。残存する上清を、ＹＭ１０膜を備えたＭｉｃｒｏｃｏｎ限外濾過デバイス上に移し、そして遠心分離して、タンパク質結合物質を分離した。タンパク質非含有濾液の５０μＬアリコートを１００μＬのアセトニトリルと混合し、約１４０００ｒｐｍで３分間遠心分離し、次いで１００μＬの上清を採集し、そして分析して、タンパク質を結合していない化合物の量を決定した。総サンプル中の化合物の量およびタンパク質非含有画分中の化合物の量を、真正標準に対するＨＰＬＣ分析によって決定した。
【０２１３】
これらの血漿タンパク質結合研究により、タンパク質が結合した化合物が以下の割合であることが示された：エポチロンＤ：９８．５％；トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、９６．６％；２６−トリフルオロ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、９６．５％；２１−アミノ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、８９．５％；２１−ＯＨ−２６−Ｆ３−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、９２．８％；２１−ＯＨ−トランス−９，１０−デヒドロエポチロンＤ、９４．２％；ＫＯＳＮ １６３５、９９．７％；ＫＯＳＮ １６３２、８９．４％。
【０２１４】
本発明の好ましい実施形態を例証し、そして記載してきたが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、それにおいて種々の変更がなされ得ることが理解される。
【０２１５】
独占的な所有または権利が請求される本発明の実施形態は、前述のように定義される。
【外国語明細書】
【０００１】
2011006480.tif 000061
【０００２】
2011006480.tif 000062
【０００３】
2011006480.tif 000063
【０００４】
2011006480.tif 000064
【０００５】
2011006480.tif 000065
【０００６】
2011006480.tif 000066
【０００７】
2011006480.tif 000067
【０００８】
2011006480.tif 000068
【０００９】
2011006480.tif 000069
【００１０】
2011006480.tif 000070
【００１１】
2011006480.tif 000071
【００１２】
2011006480.tif 000072
【００１３】
2011006480.tif 000073
【００１４】
2011006480.tif 000074
【００１５】
2011006480.tif 000075
【００１６】
2011006480.tif 000076
【００１７】
2011006480.tif 000077
【００１８】
2011006480.tif 000078
【００１９】
2011006480.tif 000079
【００２０】
2011006480.tif 000080
【００２１】
2011006480.tif 000081
【００２２】
2011006480.tif 000082
【００２３】
2011006480.tif 000083
【００２４】
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【００２５】
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【００２６】
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【００２７】
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【００２８】
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【００２９】
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【００３０】
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【００３１】
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【００３２】
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【００３３】
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【００３４】
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【００３５】
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【００３６】
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【００３７】
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【００３８】
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【００３９】
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【００４０】
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