(57)【要約】【課題】電極の絶縁を簡易な工程で確実になすことのできる座標入力装置を提供する。【解決手段】硬質性を有する第１の透光性基板１０の一対の電極１２ａ、１２ａと第２の透光性基板２０の一対の電極２２ａ、２２ａとに囲まれた領域が操作領域２とされ、第１の透光性基板１０に配置される一対の電極１２ａ、１２ａからは、それぞれ透明導電膜１１の外側まで引き出し電極部１２ｂ、１２ｂが引き出され、第１の透光性基板１０と透明導電膜１１には、引き出し電極部１２ｂ、１２ｂと操作領域２の間及び引き出し電極部１２ｂ、１２ｂ間に凹状の溝部１３が形成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬質性を有する第１の透光性基板と、一方の面が操作面側とされ可撓性を有する第２の透光性基板とが、絶縁層を介して対向配置され、各透光性基板の内面側に透明導電膜と電極とが形成された座標入力装置において、
前記第１の透光性基板には、互いに対向する一対の電極が前記透明導電膜上に第１の方向に沿って配置され、前記第２の透光性基板には、互いに対向する一対の電極が前記透明導電膜上に前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って配置され、前記第１の透光性基板の一対の電極と前記第２の透光性基板の一対の電極とに囲まれた領域が操作領域とされ、
前記第１の透光性基板に配置される一対の電極からは、それぞれ前記透明導電膜の外側まで引き出し電極部が引き出され、前記透明導電膜には、前記引き出し電極部と操作領域の間及び前記引き出し電極部間に前記第１の透光性基板に形成された凹状の成形加工溝に沿った溝部が形成されることを特徴とする座標入力装置。
【請求項２】
前記第１の透光性基板は、前記透明導電膜が形成される面の前記第１の方向に沿って伸びる両端部の全長に渡る切欠部を有することを特徴とする請求項１記載の座標入力装置。
【請求項３】
前記第１の透光性基板と透明導電膜には、前記操作領域の端部であって前記引き出し電極部が形成される側と反対側に凹状の第２溝部が形成されることを特徴とする請求項１または２記載の座標入力装置。
【請求項４】
硬質性を有する第１の透光性基板と、一方の面が操作面側とされ可撓性を有する第２の透光性基板とが、絶縁層を介して対向配置され、各透光性基板の内面側に透明導電膜と電極とが形成され、前記第１の透光性基板には、互いに対向する一対の電極が前記透明導電膜上に第１の方向に沿って配置され、前記第２の透光性基板には、互いに直交する一対の電極が前記透明導電膜上に前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って配置され、前記第１の透光性基板の一対の電極と前記第２の透光性基板の一対の電極とに囲まれた領域が操作領域とされる座標入力装置の製造方法において、
前記第１の透光性基板には、該第１の透光性基板に配置される一対の電極からそれぞれ前記透明導電膜の外側まで引き出される引き出し電極部の形成位置と前記操作領域が形成される位置との間及び前記引き出し電極部が各々形成される位置の間に凹状の基板溝部が形成され、
前記透明導電膜と、該透明導電膜と前記第１の透光性基板を接着させる接合層と、前記透明導電膜を覆うように設けられる剥離層とからなる導電膜シートを前記第１の透光性基板上に配置し、前記導電膜シートを走査状に加圧及び加熱して前記透明導電膜と接合層を前記基板溝部の縁に沿って切断すると共に、前記基板溝部に対向する領域を前記剥離層と共に剥離させることで、前記第１の透光性基板の基板溝部と連続する膜溝部を有する前記透明導電膜を形成する工程を有することを特徴とする座標入力装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の透光性基板には、前記透明導電膜が形成される面の前記第１の方向に沿って伸びる両端部の全長に渡って切欠部が形成され、前記導電膜シートが走査状に加圧及び加熱される際に、前記透明導電膜と接合層は前記切欠部の縁に沿って切断されることを特徴とする請求項４記載の座標入力装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜を備えた抵抗膜型の座標入力装置及びその製造方法に関し、特に電極間の絶縁のため透明導電膜に切欠を設けた座標入力装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話やＰＤＡ、ＰＣなどの情報端末は、液晶表示パネル等の表示画面を備えており、その表面をタッチペンや指で押圧することにより、メニューの選択やデータの入力を行うことができるように、表示画面の表面を覆うように座標入力装置が設けられることがある。座標入力装置を備えた機器は、最近ではさらにデジタルカメラや携帯ゲーム機などにも広がっている。
【０００３】
座標入力装置は、表示画面の表面に設けられるため、それ自身は透明である必要がある。透明な入力部を備えた座標入力装置としては、抵抗膜型のものが知られている。抵抗膜型の座標入力装置は、表示画面側に例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる透明導電膜を表面に形成した樹脂板またはガラス板からなる第１の透光性基板を配置し、操作側に透明導電膜が形成された透明なフィルムからなる第２の透光性基板を配置し、これら透光性基板の各透明導電膜が対向するように、間に絶縁層を設けて構成されている。第２の透光性基板は可撓性を有しており、タッチペンや指で押圧することにより撓んで、対向する透明導電膜同士が接触する。
【０００４】
透光性基板の各外周部には、それぞれ一対の電極が形成されており、押圧操作された際の透明導電膜の抵抗による分圧比を、互いに直交するＸ方向とＹ方向についてそれぞれ測定することで、入力部における押圧位置を特定することができる。
【０００５】
透光性基板に形成される一対の電極は、透明導電膜上において外部に出力するための接続部まで引き出される引き出し電極部を有している。この引き出し電極部と操作領域、及び引き出し電極部間を絶縁するため、レーザー切断などの手法によって透明導電膜に切り溝を形成していた。このように絶縁のため切り溝を形成した座標入力装置としては、例えば特許文献１に挙げるようなものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−２１４１４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
絶縁のため切り溝を形成する場合、切り溝の形成は透光性基板に透明導電膜及び電極を形成するのと別の工程で行うこととなるため、製造工程が煩雑化することとなっていた。また、位置決めを高精度に行わないと、正常に絶縁することができないので、歩留まりの悪化並びに高コスト化を招いていた。
【０００８】
本発明は前記課題を鑑みてなされたものであり、電極の絶縁を簡易な工程で確実になすことのできる座標入力装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、本発明に係る座標入力装置は、硬質性を有する第１の透光性基板と、一方の面が操作面側とされ可撓性を有する第２の透光性基板とが、絶縁層を介して対向配置され、各透光性基板の内面側に透明導電膜と電極とが形成された座標入力装置において、
前記第１の透光性基板には、互いに対向する一対の電極が前記透明導電膜上に第１の方向に沿って配置され、前記第２の透光性基板には、互いに対向する一対の電極が前記透明導電膜上に前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って配置され、前記第１の透光性基板の一対の電極と前記第２の透光性基板の一対の電極とに囲まれた領域が操作領域とされ、
前記第１の透光性基板に配置される一対の電極からは、それぞれ前記透明導電膜の外側まで引き出し電極部が引き出され、前記透明導電膜には、前記引き出し電極部と操作領域の間及び前記引き出し電極部間に前記第１の透光性基板に形成された凹状の成形加工溝に沿った溝部が形成されることを特徴として構成されている。
【００１０】
また、本発明に係る座標入力装置は、前記第１の透光性基板は、前記透明導電膜が形成される面の前記第１の方向に沿って伸びる両端部の全長に渡る切欠部を有することを特徴として構成されている。
【００１１】
さらに、本発明に係る座標入力装置は、前記第１の透光性基板と透明導電膜には、前記操作領域の端部であって前記引き出し電極部が形成される側と反対側に凹状の第２溝部が形成されることを特徴として構成されている。
【００１２】
さらにまた、本発明に係る座標入力装置の製造方法は、硬質性を有する第１の透光性基板と、一方の面が操作面側とされ可撓性を有する第２の透光性基板とが、絶縁層を介して対向配置され、各透光性基板の内面側に透明導電膜と電極とが形成され、前記第１の透光性基板には、互いに対向する一対の電極が前記透明導電膜上に第１の方向に沿って配置され、前記第２の透光性基板には、互いに直交する一対の電極が前記透明導電膜上に前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って配置され、前記第１の透光性基板の一対の電極と前記第２の透光性基板の一対の電極とに囲まれた領域が操作領域とされる座標入力装置の製造方法において、
前記第１の透光性基板には、該第１の透光性基板に配置される一対の電極からそれぞれ前記透明導電膜の外側まで引き出される引き出し電極部の形成位置と前記操作領域が形成される位置との間及び前記引き出し電極部が各々形成される位置の間に凹状の基板溝部が形成され、
前記透明導電膜と、該透明導電膜と前記第１の透光性基板を接着させる接合層と、前記透明導電膜を覆うように設けられる剥離層とからなる導電膜シートを前記第１の透光性基板上に配置し、前記導電膜シートを走査状に加圧及び加熱して前記透明導電膜と接合層を前記基板溝部の縁に沿って切断すると共に、前記基板溝部に対向する領域を前記剥離層と共に剥離させることで、前記第１の透光性基板の基板溝部と連続する膜溝部を有する前記透明導電膜を形成する工程を有することを特徴として構成されている。
【００１３】
そして、本発明に係る座標入力装置の製造方法は、前記第１の透光性基板には、前記透明導電膜が形成される面の前記第１の方向に沿って伸びる両端部の全長に渡って切欠部が形成され、前記導電膜シートが走査状に加圧及び加熱される際に、前記透明導電膜と接合層は前記切欠部の縁に沿って切断されることを特徴として構成されている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る座標入力装置によれば、第１の透光性基板に配置される一対の電極からは、それぞれ透明導電膜の外側まで引き出し電極部が引き出され、第１の透光性基板と透明導電膜には、引き出し電極部と操作領域の間及び引き出し電極部間に非切り溝で凹状の溝部が形成されることにより、透明導電膜を第１の透光性基板に設ける際に、溝部を同時に形成することができ、引き出し電極部の絶縁を簡易な工程で確実になすことができる。
【００１５】
また、本発明に係る座標入力装置によれば、第１の透光性基板は、透明導電膜が形成される面の第１の方向に沿って伸びる両端部の全長に渡る切欠部を有することにより、第１の透光性基板の端部に透明導電膜が形成されないので、機器内で周囲に配置される他の部品と透明導電膜の短絡を防止することができる。
【００１６】
さらに、本発明に係る座標入力装置によれば、第１の透光性基板と透明導電膜には、操作領域の端部であって引き出し電極部が形成される側と反対側に凹状の第２溝部が形成されることにより、透明導電膜を操作領域の外側と絶縁し、意図しない短絡等が生じないようにすることができる。
【００１７】
さらにまた、本発明に係る座標入力装置の製造方法によれば、第１の透光性基板には、引き出し電極部の形成位置と操作領域が形成される位置との間及び引き出し電極部が各々形成される位置の間に凹状の基板溝部が形成され、導電膜シートを第１の透光性基板上に配置し、導電膜シートを走査状に加圧及び加熱して透明導電膜と接合層を基板溝部の縁に沿って切断すると共に、基板溝部に対向する領域を剥離層と共に剥離させることで、第１の透光性基板の基板溝部と連続する膜溝部を有する透明導電膜を形成する工程を有することにより、透明導電膜の形成と共に絶縁のための溝部を形成することができ、工程を簡易化すると共に溝部の位置ずれも防止することができる。
【００１８】
そして、本発明に係る座標入力装置の製造方法によれば、第１の透光性基板には切欠部が形成され、導電膜シートが走査状に加圧及び加熱される際に、透明導電膜と接合層は切欠部の縁に沿って切断されることにより、複数の第１の透光性基板を第１の方向に沿って並べ、第１の方向に沿って長尺状の導電膜シートを設けることで、導電膜シートを並設配置された第１の透光性基板に対し順次連続的に切断していくことができ、透明導電膜を形成する工程を一括的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施形態における座標入力装置の概念的な分解斜視図である。
【図２】座標入力装置の動作原理を表した模式図である。
【図３】座標入力装置の断面図である。
【図４】第１の透光性基板の平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ断面図である。
【図６】図４のＢ−Ｂ断面図である。
【図７】第１の透光性基板に透明導電膜を形成する工程の断面図である。
【図８】図７に示す工程を別の方向から見た断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の実施形態について図面に沿って詳細に説明する。図１には、本実施形態における座標入力装置の概念的な分解斜視図を示している。この図に示すように、座標入力装置１は、大まかには平面状に形成された第１の透光性基板１０と、該第１の透光性基板１０と略同形状で平面状の第２の透光性基板２０とが絶縁層４０を介して対向配置され、第１の透光性基板１０の第２の透光性基板２０側と反対側面には、出力用電極部３１を備えたフレキシブル基板３０が取付けられて構成される。
【００２１】
第１の透光性基板１０は、透明な硬質性の樹脂板によって形成されており、第２の透光性基板２０と対向する面には透明導電膜１１が形成されている。また、第２の透光性基板２０は、可撓性を有する透明なフィルムによって形成されており、第１の透光性基板１０と対向する面には透明導電膜２１が形成されている。透明導電膜１１、２１は、例えば透明無機材料としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ、透明有機材料としてはカーボンナノチューブを含んだ樹脂フィルムなどの透明導電材料が用いられており、面内で均一な抵抗値を有している。また、第２の透光性基板２０を構成するフィルムには、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂などが用いられる。これらにより、第２の透光性基板２０の第１の透光性基板１０側と反対側面が、押圧操作を行うことのできる入力部１ａとされている。
【００２２】
また、第１の透光性基板１０の透明導電膜１１が形成された面の外周部には、第２の方向である図中Ｙ方向において対向し、Ｙ方向と直交する第１の方向である図中Ｘ方向に伸びる二辺に沿って、一対の電極部１２ａ、１２ａが形成されている。一方、第２の透光性基板２０の透明導電膜２１が形成された面の外周部には、図中Ｘ方向において対向し、図中Ｙ方向に伸びる二辺に沿って、一対の電極部２２ａ、２２ａが形成されている。これらの電極部１２ａ、２２ａは、フレキシブル基板３０の出力用電極部３１と電気的に接続されている。また、これら電極部１２ａ、２２ａに四方を囲まれた領域が、押圧座標位置を特定可能な操作領域となる。
【００２３】
第２の透光性基板２０の外周部には、加飾印刷層２３が全周に渡る枠形状に形成されていて、入力部１ａを取り囲んでいる。入力部１ａの領域は透明で、その下部に配置される表示装置に表示される文字や画像などを透過して見ることができるのに対し、加飾印刷層２３は、着色されて光を透過せず、表示装置の額縁として座標入力装置１が取付けられる電子機器におけるデザインの一部を構成する。また、加飾印刷層２３には、着色の他に、模様、文字、マーク、絵柄等を加えることができる。
【００２４】
次に、座標入力装置１の動作原理について説明する。図２には、座標入力装置１の動作原理を表した模式図を示している。座標入力装置１においては、入力部１ａからの押圧操作時において、Ｘ方向とＹ方向のそれぞれについて押圧座標位置を特定する動作を行う。図２（ａ）は、Ｘ方向について押圧座標位置を特定する際の動作原理を示している。
【００２５】
図２（ａ）に示すように、例えば第２の透光性基板２０の点Ｓをタッチペン等で押圧操作したとすると、可撓性を有する第２の透光性基板２０が撓むことによって、点Ｓにおいて第２の透光性基板２０の透明導電膜２１と第１の透光性基板１０の透明導電膜１１とが接触し導通する。
【００２６】
Ｘ方向における座標を検出する際には、第２の透光性基板２０の電極部２２ａ、２２ａ間に電圧が印加される。これにより、第２の透光性基板２０の表面に形成された透明導電膜２１には、点Ｓと各電極２２ａとの間に、それぞれの距離に応じた抵抗値ＲＸ１、ＲＸ２でＸ方向に電位勾配が形成される。この点Ｓにおける電位を、第１の透光性基板１０に形成された電極１２ａから取り出し、Ａ／Ｄ変換することにより、Ｘ方向における座標を検出することができる。
【００２７】
Ｙ方向における座標を検出する際には、図２（ｂ）に示すように、第１の透光性基板１０の電極部１２ａ、１２ａ間に電圧が印加される。これにより、第１の透光性基板１０の表面に形成された透明導電膜１１には、点Ｓと各電極１２ａとの間に、それぞれの距離に応じた抵抗値ＲＹ１、ＲＹ２でＹ方向に電位勾配が形成される。そして、点Ｓにおける電位を、第２の透光性基板２０に形成された電極２２ａから取り出し、Ａ／Ｄ変換することにより、Ｙ方向における座標を検出することができる。
【００２８】
図３には、座標入力装置１の断面図を示している。この図に示すように、座標入力装置１は、前述のように第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とが、絶縁層４０を介して対向配置されている。第１の透光性基板１０の両面のうち、第２の透光性基板２０と対向する側の面の表面には、透明導電膜１１及び電極部１２ａが形成されている。透明導電膜１１は、接着材からなる接合層１６を介して第１の透光性基板１０に接合されている。接合層１６は、５０μｍ以下の厚みを有し、また透明導電膜１１は１μｍ以下の厚みを有するように形成されている。
【００２９】
第２の透光性基板２０には、第１の透光性基板１０と対向する面側に、透明導電膜２１と印刷回路部２２を構成する電極部２２ａが形成されており、それと反対側の面はタッチペン４等により押圧操作される入力部１ａとなっている。また、第２の透光性基板２０の操作面側の外周部には、加飾印刷層２３が形成されている。加飾印刷層２３の内周側領域には、透明な樹脂材からなる透明加厚層２４が形成されている。さらに、加飾印刷層２３及び透明加厚層２４を覆うように、透明な被覆膜２５が最表面に設けられている。第２の透光性基板２０に形成される透明導電膜２１は、操作領域よりも外方まで延出して形成されている。これにより、第２の透光性基板２０の積層構造を均一に近づけ、積層応力による反りの発生を低減することができる。
【００３０】
図４には第１の透光性基板１０の平面図を、図５には図４のＡ−Ａ断面図を、図６には図４のＢ−Ｂ断面図を、それぞれ示している。図４は、第１の透光性基板１０を透明導電膜１１が形成される側から見た図である。また、図４においては、第２の透光性基板２０に設けられる電極２２ａ、２２ａの位置を破線で示しており、電極１２ａ、２２ａで四方を囲まれた領域が操作領域２となっている。
【００３１】
図４に示すように、透明導電膜１１は、第１の透光性基板１０のＸ方向両端部の領域以外の領域に渡って形成されている。また、一対の電極１２ａ、１２ａは、透明導電膜１１が形成された領域においてＸ方向に沿って伸びると共に、一方の端部からは、透明導電膜１１の外側まで引き出される引き出し電極部１２ｂ、１２ｂが伸びている。
【００３２】
引き出し電極部１２ｂは、それぞれ各電極部１２ａからＹ方向に沿って第１の透光性基板１０の中央方向に向かって伸び、第１の透光性基板１０における操作領域２の側部に沿うように形成されている。また、引き出し電極部１２ｂの端部は、さらにＸ方向に沿って伸び、透明導電膜１１の領域の外側位置に、出力用電極部３１と接続するための接続部１２ｃが形成されている。引き出し電極部１２ｂにおいてＸ方向に沿って伸びる部分は、互いに近接対向するように配置されている。
【００３３】
この引き出し電極部１２ｂと電極部１２ａ、及び引き出し電極部１２ｂ同士を絶縁するため、第１の透光性基板１０と透明導電膜１１及び接合層１６には、Ｔ字状に溝部１３が形成されている。溝部１３は、引き出し電極部１２ｂと操作領域２の間と、引き出し電極部１２ｂが近接対向する部分でこれら引き出し電極部１２ｂの間に渡るように凹状に形成されている。図６に示すように、溝部１３の部分は、透明導電膜１１が存在しないため、引き出し電極部１２ｂと操作領域２の透明導電膜１１とは絶縁され、また互いに近接対向する引き出し電極部１２ｂ同士も絶縁される。
【００３４】
また、操作領域２の端部であって引き出し電極部１２ｂが形成される側と反対側には、透明導電膜１１のＹ方向全長に渡って凹状の第２溝部１４が形成されている。これにより、透明導電膜１１を操作領域２の外側と絶縁し、意図しない短絡等が生じないようにしている。
【００３５】
図５に示すように、第１の透光性基板１０には、透明導電膜１１が形成される面のＹ方向両端部に、それぞれ段状の切欠部１５、１５が形成されている。切欠部１５は、第１の透光性基板１０のＸ方向全長に渡って形成されている。切欠部１５は、後述するように座標入力装置の製造時に、縁部で透明導電膜１１を切断すると共に、使用時には座標入力装置の周囲に配置される他の外部部品と透明導電膜１１との接触を防止する機能を有する。
【００３６】
このような座標入力装置の製造工程について説明する。図７には、第１の透光性基板１０に透明導電膜１１を形成する工程の断面図を示している。また、図８には、図７に示す工程を別の方向から見た断面図を示している。図７（ａ）と図８（ａ）に示すように、第１の透光性基板１０には、透明導電膜１１が形成される面に予め切欠部１５と基板溝部１３ａが形成されている。基板溝部１３ａは、溝部１３のうち深さ方向奥側を構成する部分となるものであって、第１の透光性基板１０の溝部１３が形成される位置、すなわち、引き出し電極部１２ｂの形成位置と操作領域２の形成位置との間、及び引き出し電極部１２ｂが各々形成される位置の間に渡るように、形成される。第１の透光性基板１０の切欠部１５と基板溝部１３ａは、第１の透光性基板１０を射出成形加工により形成する際に形成される成形加工溝である。
【００３７】
切欠部１５と基板溝部１３ａが予め形成された第１の透光性基板１０に対し、透明導電膜１１を有する導電膜シート５０が載置される。導電膜シート５０は、第１の透光性基板１０に対向する側から順に、接合層１６と透明導電膜１１及び剥離層５１を積層してなるものであり、剥離層５１は透明導電膜１１から剥離自在となっている。接合層１６は、加熱並びに紫外線照射により硬化する接着材からなっている。
【００３８】
図７（ａ）及び図８（ａ）に示すように、第１の透光性基板１０に導電膜シート５０を載置した状態で、加圧ローラー５５により導電膜シート５０を走査状に加圧する。加圧ローラー５５は、加圧と共に加熱も行い、接合層１６を第１の透光性基板１０に密着接合させる。また、第１の透光性基板１０は硬質性の樹脂材からなることにより、加圧ローラー５５による加圧によって、導電膜シート５０のうち接合層１６と透明導電膜１１が、切欠部１５の縁部と基板溝部１３ａの縁部でそれぞれ切断される。すなわち、接合層１６と透明導電膜１１には、切欠部１５及び基板溝部１３ａの形状に沿った切り込みが形成されることとなる。
【００３９】
加圧ローラー５５により第１の透光性基板１０の全域を加圧及び加熱したら、導電膜シート５０の剥離層５１を透明導電膜１１から剥離させる。剥離層５１の剥離に伴って、加圧ローラー５５の加圧によって形成された接合層１６と透明導電膜１１の切り込みにより、切欠部１５より外側の領域と基板溝部１３ａが形成された領域の接合層１６と透明導電膜１１が、剥離層５１と共に剥離する。これによって、第１の透光性基板１０上に透明導電膜１１が露出し、透明導電膜１１と接合層１６が所定領域に形成されると共に、透明導電膜１１と接合層１６に基板溝部１３ａと連続する膜溝部１３ｂが形成され、これらによって溝部１３及び第２溝部１４が形成される。
【００４０】
実際の製造工程においては、第１の透光性基板１０を図７のＹ方向に多数配置し、導電膜シート５０はＹ方向に長尺のものを用意して、複数の第１の透光性基板１０を覆うようにし、加圧ローラー５５により順次加圧及び加熱していくことで、一工程で多数の第１の透光性基板１０に対し、透明導電膜１１を形成することができる。
【００４１】
第１の透光性基板１０に透明導電膜１１が形成されたら、第１の透光性基板１０の透明導電膜１１が形成された面に対して紫外線を照射する。紫外線は、透明導電膜１１を介して接合層１６に照射され、接合層１６を構成する接着材が、強固に第１の透光性基板１０に対して接合される。その後、第１の透光性基板１０に電極部１２ａ等を形成し、さらに第２の透光性基板２０と絶縁層４０を介して一体化することにより、座標入力装置が形成される。
【００４２】
このように、第１の透光性基板１０に予め所定の基板溝部１３ａを形成しておき、導電膜シート５０を加圧することにより、透明導電膜１１と接合層１６を基板溝部１３ａの縁部で切断し、剥離層５１の剥離と共に透明導電膜１１と接合層１６の基板溝部１３ａを覆う領域を除去するようにしたので、透明導電膜１１の形成と同時に溝部１３を形成でき、切り溝を形成する工程を設ける必要がないので、製造工程を簡易化することができる。また、溝部１３の位置は基板溝部１３ａの形成位置により定まるので、別工程で切り溝を形成する場合のように、形成位置の誤差を生じることがなく、電極部１２ａの絶縁を確実になすことができる。
【００４３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の適用は本実施形態には限られず、その技術的思想の範囲内において様々に適用されうるものである。例えば、引き出し電極部１２ｂの形状は、本実施形態のものには限られない。本実施形態では、一対の電極部１２ａ、１２ａが、図４のＹ方向中央位置で近接対向するように伸びているが、いずれか一方の電極１２ａ側に寄っていてもよいし、また一方の電極１２ａから伸びる引き出し電極部１２ｂは、電極１２ａの端部からＸ方向にのみ伸び、他方の電極１２ａから伸びる引き出し電極部１２ｂは、電極１２ａの端部から一方の電極１２ａの近傍までＹ方向に伸びていてもよい。いずれにおいても、引き出し電極部１２ｂのうち操作領域２の側部にかかる部分と操作領域２との間には、溝部１３が形成され、また互いに近接対向する引き出し電極部１２ｂ間にも溝部１３が形成される。
【符号の説明】
【００４４】
１    座標入力装置
１ａ  入力部
２    操作領域
１０    第１の透光性基板
１１    透明導電膜
１２ａ  電極部
１２ｂ  引き出し電極部
１２ｃ  接続部
１３    溝部
１３ａ  基板溝部
１３ｂ  膜溝部
１４    第２溝部
１５    切欠部
１６    接合層
２０    第２の透光性基板
２１    透明導電膜
２２ａ  電極部
２３    加飾印刷層
２４    透明加厚層
２５    被覆膜
３０    フレキシブルケーブル
３１    接続電極
４０    絶縁層
５０    導電膜シート
５１    剥離層
５５    加圧ローラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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