(57)【要約】【課題】一定高さのスペーサーを表示領域に影響のない遮光膜上に配置したスペーサー付カラーフィルタ基板を提供する。【解決手段】カラーフィルタ基板７の遮光膜１１上に相当する位置に多数の凹部パターン部５ａを形成した凹版５に、１）スペーサー粒子４を分散溶媒中に分散したスペーサーインク３をインクジェット印刷方式で凹部パターン部５ａへ定点配置する工程、２）スペーサーインク３を乾燥し、凹部パターン部５ａへスペーサー粒子４を集合させる工程、３）カラーフィルタ基板７側および凹版５側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、カラーフィルタ基板７上の所定パターン位置にスペーサー粒子４を転写する工程、４）熱処理、エネルギー線もしくは紫外線照射によりスペーサー粒子４をカラーフィルタ基板７に固着させる工程を含む製造方法でスペーサー付カラーフィルタ基板７を得る。【選択図】図１
2011203626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に形成されたカラーフィルタの遮光膜上に相当する位置に多数のパターンを形成した凹版に、
１）スペーサー粒子を分散溶媒中に分散したインクをインクジェット印刷方式で凹部パターン部へ定点配置する工程、
２）インクを乾燥し、前記凹部パターン部へ前記スペーサー粒子を集合させる工程、
３）前記カラーフィルタ側および前記凹版側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、前記カラーフィルタ上の所定パターン位置に前記スペーサー粒子を転写する工程、
４）熱処理、エネルギー線もしくは紫外線照射により前記スペーサー粒子を前記透明基板に固着させる工程
を含み、インクジェット印刷時の液滴１ドロップ中の前記スペーサー粒子の平均含有量が２個以下で、且つ所定の配置数の２倍以上の液滴を印刷する、
ことを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
上記スペーサーインクの分散溶媒が沸点１５０℃以上の有機溶剤を主成分とし、粒子径１〜１０μｍのスペーサー粒子を５重量％以下で含有し、インクの２３℃条件下での粘度が３０ｃｐｓ以下、表面張力が２０〜５０ｍＮ／ｍであることを特徴とする請求項１記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
上記凹版のパターンが円形であり、その直径がスペーサー粒子径の２倍以上であり、且つカラーフィルタ基板上の遮光膜幅以下であること、また、版深がスペーサー粒子径の半分以下であることを特徴とする請求項１または２記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
上記スペーサーインク中に接着成分を含み、これらが熱硬化／またはエネルギー線硬化／または紫外線硬化することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
上記凹版がガラス基板からなり、その表面をスペーサーインクの分散溶媒の接触角が１００°以上となるように表面処理を施すことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
上記凹版からカラーフィルタ基板への転写処理を行う際に、凹版側、もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
上記方式でカラーフィルタ基板の所定パターン位置上に選択的に配置されたスペーサー粒子数密度が１０００〜５００００個／ｃｍ２  であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
上記スペーサー付きカラーフィルタ基板の製造方法のうち、フレキシブル基材を用いたカラーフィルタ基版をロール状に供給し、間欠に繰り出しながら連続的にスペーサーを転写形成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スペーサーをインクジェット法によってカラーフィルタ基板の遮光部上に選択的に配置、固定し、スペーサーによる光抜けや表示ムラ等のない高い表示品質の液晶ディスプレイを製造することができるスペーサーインク、及び、該スペーサーインクを用いてなるスペーサー付カラーフィルタ基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶ディスプレイはパソコン、携帯電子機器等に広く用いられている。この液晶ディスプレイにおいて液晶層を一定の間隔で保ち、適正な液晶層の厚みを維持する役割を果たすのがスペーサーである。
【０００３】
従来の液晶ディスプレイの製造方法においては、画素電極が形成された基板上にスペーサーを散布して配置するため、位置制御は不可能であり、結果、ランダムな配置となるため液晶ディスプレイの表示部にもスペーサーが配置されてしまうという問題があった。スペーサーは一般的に合成樹脂やガラス等からなり、画素電極上にスペーサーが配置されると消偏作用によりスペーサー部分が光り漏れを起こす。また、スペーサー表面での液晶の配向が乱れることにより光抜けが起こり、コントラストや色調が低下し表示品質が悪化する問題がある。
【０００４】
このようなスペーサーのランダム散布に伴う問題を解決するために、スペーサーを遮光層部位に定点配置することが必要であり、このようにスペーサーを特定の位置にのみ配置する方法としては、フォトリソ方式やインクジェット印刷方式による形成方法が数多く提案されている。
【０００５】
フォトリソ方式とは、カラーフィルタ基板形成における主流な製造方法であり、感光性レジストを基板上に全面塗布し、パターンデザインが描画されたマスクを介して露光、現像することでカラーフィルタパターンを順次形成していく方法である。
【０００６】
この方式はパターン精度や製造安定性に優れているため、数多くの特許出願がなされており、例えば特許文献１〜４においては感光性樹脂組成物に関して、現像性の向上や変形量の低減などに対応した組成物が提案されている。しかしながら、そもそもフォトリソ方式は、マスクを介して露光後、現像することにより任意パターンを形成する方式であり、特にスペーサー形成においては、パターン形成部分が１％にも満たないため、材料のロスが非常に大きいというデメリットがある。
【０００７】
一方、インクジェット印刷方式とは、数十μｍの微小ノズルから必要な部分に必要な量を付与することが可能な材料効率に優れた印刷方式である。
【０００８】
この方式は精密ステージとの組み合わせで任意デザインのマイクロパターンを、間接部材を介することなく印刷することが可能であり、近年、液晶関連技術への展開が盛んである。例えば特許文献５〜７においてはスペーサーを任意の位置に直接配置する方法が提案されている。しかしながら、数μｍのスペーサー粒子を吐出するにはインクジェットノズル径が大きいものを選択しなければならず、基板上で形成される液滴径は５０μｍ程度の大きさとなる。インクジェット印刷で精度良く、遮光膜上に配置したとしても、液滴中のスペーサー粒子の乾燥後の位置を制御することが難しいため、線幅が１０μｍ程度の遮光膜幅の狭いモバイル用途では、選択的に遮光パターン上にスペーサーを配置することは、困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７-２０６３２８号公報
【特許文献２】特開２００７-２０４５８８号公報
【特許文献３】特開２００７-６５６４０号公報
【特許文献４】特開２００６-２７６４９６号公報
【特許文献５】特開２００１-８３５２４号公報
【特許文献６】特開２００１-１８８２３５号公報
【特許文献７】特開平９-１０５９４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、透明基板上に形成されたカラーフィルタ上の遮光膜パターン上の任意位置に、精度良くスペーサー粒子を配置・形成する方法を提供するものであり、特に解像度の高いカラーフィルタに有効である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明において上記課題を達成する為に、まず請求項１の発明では、透明基板上に形成されたカラーフィルタの遮光膜上に相当する位置に多数のパターンを形成した凹版に、１）スペーサー粒子を分散溶媒中に分散したインクをインクジェット印刷方式で凹部パターンへ定点配置する工程、２）インクを乾燥し、凹版パターン部へスペーサー粒子を集合させる工程、３）カラーフィルタ側および前記凹版側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、カラーフィルタ上の所定パターン位置にスペーサー粒子を転写する工程、４）熱処理、エネルギー線もしくは紫外線照射によりスペーサー粒子を基板に固着させる工程からなり、インクジェット印刷時の液滴１ドロップ中のスペーサー粒子の平均含有量が２個以下で、且つ所定の配置数の２倍以上の液滴を印刷することを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１２】
次に請求項２の発明では、上記スペーサーインクの分散溶媒が沸点１５０℃以上の有機溶剤を主成分とし、粒子径１〜１０μｍのスペーサー粒子を５重量％以下で含有し、インクの２３℃条件下での粘度が３０ｃｐｓ以下、表面張力が２０〜５０ｍＮ／ｍであることを特徴とする請求項１記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１３】
次に請求項３の発明では、上記凹版のパターンが円形であり、その直径がスペーサー粒子径の２倍以上であり、且つカラーフィルタ基板上の遮光膜幅以下であること、また、版深がスペーサー粒子径の半分以下であることを特徴とする請求項１および２記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１４】
次に請求項４の発明では、上記スペーサーインク中に接着成分を含み、これらが熱硬化／またはエネルギー線硬化／または紫外線硬化することを特徴とする請求項１〜３記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１５】
次に請求項５の発明では、上記凹版がガラス基板からなり、その表面をスペーサーインクの分散溶媒の接触角が１００°以上となるように表面処理を施すことを特徴とする請求項１〜４記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１６】
次に請求項６の発明では、上記凹版からカラーフィルタ基板への転写処理を行う際に、凹版側、もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することを特徴とする請求項１〜５記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１７】
次に請求項７の発明では、上記方式でカラーフィルタ基板の所定パターン位置上に選択的に配置されたスペーサー粒子数密度が１０００〜５００００個／ｃｍ２  であることを特徴とする請求項１〜６記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【００１８】
次に請求項８の発明では、上記スペーサー付きカラーフィルタ基板の製造方法のうち、フレキシブル基材を用いたカラーフィルタ基版をロール状に供給し、間欠に繰り出しながら連続的にスペーサーを転写形成することを特徴とする請求項１〜７記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は以上の特徴を持つことから、下記に示す効果がある。
【００２０】
即ち、請求項１に係る発明によれば、透明基板上に形成されたカラーフィルタの遮光膜上に相当する位置に多数のパターンを形成した凹版に、１）スペーサー粒子を分散溶媒中に分散したインクをインクジェット印刷方式で凹版パターン部へ定点配置する工程、２）インクを乾燥し、前記凹版パターン部へ前記スペーサー粒子を集合させる工程、３）前記カラーフィルタ側および前記凹版側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、前記カラーフィルタ上の所定パターン位置に前記スペーサー粒子を転写する工程、４）熱処理、エネルギー線もしくは紫外線照射により前記スペーサー粒子を前記透明基板に固着させる工程を含み、インクジェット印刷時の液滴１ドロップ中の前記スペーサー粒子の平均含有量が２個以下で、且つ所定の配置数の２倍以上の液滴を印刷することにより、インクジェット印刷による使用材料の低減と、カラーフィルタの遮光膜パターン上への精密なスペーサー配置が可能となる。
【００２１】
即ち、請求項２に係る発明によれば、上記スペーサーインクの分散溶媒が沸点１５０℃以上の有機溶剤を主成分とし、粒子径１〜１０μｍのスペーサー粒子を５重量％以下で含有し、インクの２３℃条件下での粘度が３０ｃｐｓ以下、表面張力が２０〜５０ｍＮ／ｍであることにより、インクジェット印刷時の安定吐出が可能であると共に、ノズル目詰まり等の不具合を低減することが可能となる。
【００２２】
即ち、請求項３に係る発明によれば、上記凹版のパターンが円形であり、その直径がスペーサー粒子径の２倍以上であり、且つカラーフィルタ基板上の遮光膜幅以下であること、また、版深がスペーサー粒子径の半分以下であることにより、凹版に形成された凹部パターンを含む広域に着弾したスペーサーインクの乾燥過程で作用する自己配置現象を発現しつつ、カラーフィルタ基板側へのスペーサー粒子の転写性を高めることが可能となる。
【００２３】
即ち、請求項４に係る発明によれば、上記スペーサーインク中に接着成分を含み、これらが熱硬化／またはエネルギー線硬化／または紫外線硬化することにより、カラーフィルタ基板上に転写されたスペーサー粒子が後工程やパネル形成後でも欠落することなく用いることが可能となる。
【００２４】
即ち、請求項５に係る発明によれば、上記凹版がガラス基板からなり、その表面をスペーサーインクの分散溶媒の接触角が１００°以上となるように表面処理を施すことにより、着弾したインク滴の乾燥過程で、液膜端面がスペーサー粒子の移動を促すことにより、凹版上に設けられた凹部パターン中への自己配置現象を促進させることが可能となる。
【００２５】
即ち、請求項６に係る発明によれば、上記凹版からカラーフィルタ基板への転写処理を行う際に、凹版側、もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することにより、スペーサー粒子の転写性を高めることが可能となる。
【００２６】
即ち、請求項７に係る発明によれば、上記方式でカラーフィルタ基板の所定パターン位置上に選択的に配置されたスペーサー粒子数密度が１０００〜５００００個／ｃｍ２  であることにより、パネル化によるセル厚の不均一や、パネル化工程での配向膜や液晶の塗布の際に障害となることなく製品に用いることが可能となる。
【００２７】
即ち、請求項８に係る発明によれば、上記スペーサー付きカラーフィルタ基板の製造方法のうち、フレキシブル基材を用いたカラーフィルタ基版をロール状に供給し、間欠に繰り出しながら連続的にスペーサーを転写形成することにより、フォトリソ方式などによるスペーサー形成と比較し安価で、セルギャップにムラの無いカラーフィルタ基板の製造が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】（ａ）〜（ｅ）は本発明によるスペーサー形成工程の概略図である。
【図２】実施例１〜８と比較例１〜４の評価結果一覧を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明を実施するための形態について、詳細に説明する。
【００３０】
本発明のカラーフィルタの所定パターン位置にスペーサーを定点配置する方法として、まず、図１（ａ）に示すように、凹部パターン部５ａを形成した凹版５に、スペーサー粒子４を分散溶媒中に分散したインクであるスペーサーインク３の液滴を、インクジェット印刷方式による印刷装置のインクジェットヘッド１に設けられたノズル２から吐出させることで、図１（ｂ）に示すように、凹版５の凹部パターン部５ａへ選択的に定点配置するのが好ましい。これによりカラーフィルタ上に直接印刷するよりもスペーサー粒子４の位置精度が向上する。インクジェット印刷でカラーフィルタ上に直接形成した場合、印刷精度は優れていても液滴がある程度の範囲に広がり、乾燥過程でスペーサー粒子４を一定位置に制御するのが困難である。
【００３１】
次に、スペーサーインク３をプレ乾燥し、図１（ｃ）に示すように、凹部パターン部５ａにおいて溶剤が乾燥した状態のスペーサーインク６を凝集させることで、凹部パターン部５ａへスペーサー粒子４を集合させるのが好ましい。液滴が凹版５の凹部パターン部５ａを覆う範囲に配置されていれば、多少の位置ズレがあっても、その乾燥過程で物理的に凹部パターン部５ａへ集合させることができる。これは、凹版５に表面処理を施した効果であり、この表面処理がないと凹部パターン部５ａ内に集合させることが困難である。
【００３２】
次に、図１（ｄ）に示すように、赤色画素８、緑色画素９、および青色画素１０が遮光膜１１を挟んで順次配列されたカラーフィルタ基板７側および前記凹版５側のアライメントマーク（図示せず）により双方の位置合わせを行い、図１（ｅ）に示すように、カラーフィルタ基板７を被覆する透明導電膜１２上の所定パターン位置（各遮光膜１１に対応する位置）に、残存成分を一部含むスペーサー粒子４を転写するのが好ましい。カラーフィルタ基板７側および凹版５側の複数のアライメントマークにより位置合わせを行うことで、スペーサー粒子４を精度良く配置することが可能である。カラーフィルタ基板７、凹版５のアライメントを行わなければ、位置精度良く転写することは不可能である。
【００３３】
次に、熱、エネルギー線もしくは紫外線照射によりスペーサー粒子４をカラーフィルタ基板７に固着させるのが好ましい。この固着処理を行わなければ、転写後のスペーサー粒子４は任意に動くため、表示の優れたディスプレイを形成することは困難となる。
【００３４】
そして、インクジェット印刷時の液滴１ドロップ中のスペーサー粒子４の平均含有量が２個以下、所定の配置密度の２倍以上の液滴を印刷するのが好ましい。液滴１ドロップ中のスペーサー粒子４の平均含有量を２個以下とすることで、カラーフィルタ基板７の遮光膜１１のパターン上への配置精度が向上し、特に高解像度パターンで効果が大きい。しかし、その反面、液滴１ドロップ中のスペーサー粒子４の含有量が０個となる確率が高くなるため、その分、所定の配置密度（所定の配置数）の２倍以上の液滴を印刷することでスペーサー粒子４の密度の低下を防止することが可能である。通常の密度で印刷処理した場合は、スペーサー粒子４の密度が低くなるため、セルギャップの均一性を保つのが困難となる。ここで、所定の配置密度とは、例えば、液晶ディスプレイの液晶層を一定間隔で維持可能となるスペーサー粒子の配置密度とすることができる。
【００３５】
本発明のスペーサーインク３に用いる有機溶剤としては沸点１５０℃以上、好ましくは１８０℃以上のものが用いられ、１種または２種以上を混合して用いることができる。沸点が１５０℃以下であるとインクジェットヘッド１のノズル２近傍での乾燥性が著しく高くなり、ノズル詰まりの原因となるため好ましくない。
【００３６】
本発明に用いられる有機溶剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，２，４−ブタントリオール、２，２‘−チオジエタノール等の高沸点低揮発性の多価アルコール類が用いられ、その他にＮ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、モノエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の有機溶剤を添加することが出来る。
【００３７】
また、本発明における沸点１５０℃以上の有機溶剤の添加量は５０〜９０％であることが好ましい。添加量が５０％以下であるとスペーサー形成インクの揮発性が高くなり、インク安定性を低下させ、また、９０％以上であるとスペーサーインク３の粘度が上昇し、インクジェット印刷時の吐出不良の原因となるため好ましくない。
【００３８】
本発明のスペーサーインク３に用いるスペーサー粒子４としては液晶表示のギャップとして好ましい範囲の粒子径１〜１０μｍの球状粒子を、１種または２種以上を混合して用いることができる。
球状粒子の粒子径が１μｍ未満であると、液晶層の間隔が狭くなり、表示不良が発生する点で不利であり、１０μｍを上回ると、インクジェット印刷において、ヘッドへの目詰まりが起こり、印刷不良が発生する点で不利である。
【００３９】
スペーサー粒子４の材質としては特に限定されず、例えば、樹脂、有機物、無機物、これらの化合物や混合物等が挙げられる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール等の線状又は架橋高分子重合体；エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジビニルベンゼン−アクリル酸エステル共重合体、ジアリルフタレート重合体、トリアリルイソシアヌレート重合体等の架橋構造を有する樹脂等が挙げられる。また、無機物としてはシリカ等が挙げられる。
【００４０】
本発明のスペーサー分散液であるスペーサーインク３中におけるスペーサー粒子４の固形分濃度は、特に限定されないが、例えば分散液全体の５重量％以下であることが好ましい。
【００４１】
スペーサー形成用インクにおけるスペーサー粒子の固形分濃度が５重量％以上であると、吐出された液滴中のスペーサーの含有量が多くなり、特に高解像度パターンにおいては、表示部に配置される可能性が高くなるため好ましくない。
【００４２】
本発明のスペーサーインク中の接着樹脂成分の例としては、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリエチルアクリル酸エステル、スチレンーブタジエン共重合体、ブタジエン共重合体、アクリロニトリルーブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン、ベンゾグアナミン樹脂、フエノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリルアミド共重合体、ｎ−イソブチルアクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミド、シリコーン樹脂、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ロジン系樹脂、ポリエチレン、ポリカーボネート、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン、等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【００４３】
上記樹脂成分にアクリル基、カルボキシル基、イソシアネート基などの反応性部位を付与したもの、更にはこれらに必要に応じて架橋剤、光開始剤などを添加したものを硬化型樹脂として使用できる。これらは熱硬化、エネルギー線硬化、または紫外線硬化が可能であり、プロセスに応じ、任意に選択することができる。
【００４４】
また、本発明における接着樹脂成分の添加量はスペーサー粒子４の添加量に準じて０．２〜２０％であり、且つスペーサー粒子４と同量以上であることが好ましい。添加量が０．２％以下であるとカラーフィルタ基板７上での密着性が乏しくなり、また、２０％以上であるとスペーサーインク３の粘度が著しく上昇し、インクジェットヘッド１がノズル詰まりを起こすため好ましくない。
【００４５】
また、必要に応じ、カラーフィルタ基板７およびインクジェットヘッド１とスペーサーインク３との濡れ性を制御する目的でアルコール類や界面活性剤を用いられ、１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００４６】
アルコール類としてはメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール等が使用でき、界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、両性、ノニオン性の界面活性剤を一種類または複数種を添加できる。
【００４７】
本発明におけるスペーサーインク３は、スペーサー粒子４が単粒子状に分散していることが好ましく、その効果を阻害しない範囲で、各種添加剤、例えば、粘接着性付与剤、粘性調整剤、ｐＨ調整剤、界面活性剤、消泡剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤が添加されていても良い。
【００４８】
本発明におけるスペーサーインク３は、２３℃条件下での粘度が３０ｃｐｓ以下、表面張力が２０〜５０ｍＮ／ｍであることが好ましく、この範囲外の物性であるとインクジェットヘッド１に対する吐出適性が著しく低下するため好ましくない。
【００４９】
本発明における凹版５の材質としては、ソーダガラスや無アルカリガラス等のガラス基材やプラスチック等の基材を加工し用いることが可能である。さらに光透過性の基材を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができるが、寸法安定性の点からガラス基材が好ましい。
【００５０】
本発明における凹版５のパターン加工方法としては、版材表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介した露光処理によりパターン形成、現像処理後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、使用するスペーサーの粒子径や設置密度に応じた版深に加工した後、該感光性樹脂を剥離して形成する方法を用いることができる。
【００５１】
また、同じく凹版５のパターン加工方法としては、版材表面に感光性樹脂を使用するスペーサーの粒子径や設置密度に応じた厚みで塗布し、マスクを介した露光処理によりパターン形成、現像処理する方法を用いることができる。
【００５２】
また、凹版５のパターンは円形状であり、その直径はスペーサー粒子４の直径の２倍以上とすることが好ましい。スペーサー粒子４の直径の２倍以下では総じて複数個含まれるスペーサー粒子４をすべて版内に収めるのが困難になるため、転写性が損なわれる恐れがあるため好ましくない。
また、凹版５の凹部パターン部５ａは円形状以外でもよいが、円形状とすれば、スペーサー粒子の集合性が制御し易い点、また、転写性の向上が望める点で有利である。
また、凹版５の凹部パターン部５ａの直径は、カラーフィルタ基板７上の遮光膜１１の幅以下であることが好ましい。
凹版５の凹部パターン部５ａの直径が遮光膜１１の幅を上回ると、ディスプレイの表示部にもスペーサー粒子が配置され、表示不良が発生する点で不利である。
【００５３】
また、凹版５の版深は、使用するスペーサー粒子４の直径の半分以下とするのが好ましい。スペーサー粒子４の直径の半分以上の版深であるとカラーフィルタ基板７への転写性が著しく低下するため好ましくない。
【００５４】
凹版５上に設ける表面処理層には、シリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を用いても良いし、あるいはシリコーンゴムを薄く設けてもをよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用され得るし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。
【００５５】
具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。
【００５６】
上記に示した凹版５上に設ける表面処理層を形成する方法としては、インクの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。例えばスピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができる。
【００５７】
凹版５上に設ける表面処理層の膜厚は、凹版５の表面におけるスペーサーインク３の分散溶媒の接触角が１００°以上となる機能を発現し、且つ版深に影響のない範囲の任意の膜厚で良く、０．０５〜５μｍに設けるのが好ましい。０．０５μｍ以下では、スペーサーインク３の分散溶媒の接触角１００°以上を確保するのが困難であり、５μｍ以上では、版深に影響し、転写性を低下させる恐れがあるため好ましくない。また、スペーサーインク３の分散溶媒の接触角が１００°未満であると凹版内へのスペーサーインク３の集合性を安定して発現するのが困難となり好ましくない。
【００５８】
本発明ではスペーサー粒子４をインクジェット印刷方式で凹版５上の所定位置に配置する。インクジェット方式は、インク滴の生成原理により、連続ジェット（コンティヌアス）方式とドロップ・オン・デマンド方式の２方式に分類される。本発明では、いずれの方式も好ましく採用できる。
【００５９】
連続ジェット方式は、インク滴を連続して生成させ、記録信号に応じてインク滴を選択して記録を行う方式であり、Ｓｗｅｅｔ型、マイクロドット型、Ｈｅｒｚ型、ＩＲＩＳ型などがある。また、ドロップ・オン・デマンド方式は、記録信号に応じてスペーサー分散液を噴出させる方式であり、圧力パルス方式、サーマルジェット方式、ＥＲＦ方式などがある。
【００６０】
また必要に応じ、スペーサーを形成するカラーフィルタ基板７をスペーサーインク３との濡れ性を制御し、転写性能を向上させる目的で表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、コロナ処理、常圧プラズマ処理、ＵＶオゾン処理など任意の方法が選択できる。
【００６１】
また必要に応じ、凹版５からカラーフィルタ基板７への転写処理を行う際に、凹版５側、もしくはカラーフィルタ基板７側の少なくとも一方に熱を付与することで、転写性能を向上させることが可能である。
【００６２】
カラーフィルタ基板７上におけるスペーサー粒子４の配置は、特に限定されるものではなく、ランダム配置であっても良いし、特定の位置にパターン化して配置したパターン配置であってもよい。スペーサー粒子４に起因する光抜けなどの表示品質の低下を抑制するという観点からは、パネルの非表示部分にスペーサー粒子４を配置することが好ましい。また、カラーフィルタ基板７上におけるスペーサー粒子４の粒子密度は、特に限定されるものではないが、通常１ｃｍ平方の領域に１０００〜５００００個であることが好ましい。１０００個未満では、一定のギャップを保持するのが困難となり、また、５００００個以上では表示エリアへ影響を及ぼす恐れがあるため好ましくない。
【００６３】
本発明の応用展開として、フレキシブル基材上に連続で形成したカラーフィルタ基版７をロール状に供給し、間欠に繰り出しながら連続的にスペーサーを転写形成することが可能である。
【００６４】
本発明の対象基板としては、スペーサー粒子４を配置する用途に用いられ、各種表示素子やタッチスイッチ等に使用可能であるが、特に液晶ディスプレイに好適である。この基板は、特に限定されるものではなく、ガラス板や樹脂板等の一般的に液晶ディスプレイとして用いられているものであってよい。
【００６５】
液晶ディスプレイは２枚の基板を重ね合わせて形成される。このため、通常は一方の基板に本発明のスペーサーが間接基板を介した転写工程にて配置される。そして他方の基板と重ね合わせて液晶表示素子を作製する。スペーサーを吐出する基板は、位置合わせの点からは、遮光部を有するカラーフィルタ基板７とすることが好ましい。
以上のように本発明では、透明基板上に形成されたカラーフィルタ（カラーフィルタ基板７）の遮光膜１１上に相当する位置に多数のパターン（凹部パターン部５ａ）を形成した凹版５に、
１）スペーサー粒子４を分散溶媒中に分散したインク（スペーサーインク３）をインクジェット印刷方式で凹部パターン部５ａへ定点配置する工程、
２）インクを乾燥し、凹部パターン部５ａへスペーサー粒子４を集合させる工程、
３）カラーフィルタ側および凹版５側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、カラーフィルタ上の所定パターン位置にスペーサー粒子４を転写する工程、
４）熱処理、エネルギー線もしくは紫外線照射によりスペーサー粒子４を基板に固着させる工程
を含み、インクジェット印刷時の液滴１ドロップ中のスペーサー粒子４の平均含有量が２個以下で、且つ所定の配置数の２倍以上の液滴を印刷することで、スペーサー付カラーフィルタ基板を製造する。
【実施例】
【００６６】
以下、本発明を更に詳しく説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６７】
＜実施例１＞
〜スペーサーインクの調製〜
反応性を有する水分散型ウレタンアクリレートエマルション（荒川化学製、ＥＭ−９０、固形分４０％）を攪拌しながら、光開始剤（チバスペシャリティケミカル製、ダロキュア４２６５）を固形分比で５％となる添加量で少量ずつ添加し、光硬化型エマルションポリマー液を調製した。次いでスペーサー粒子（早川ゴム製、ハヤビーズＬ−１１Ｓ、粒子径５μｍ）、前記光硬化型エマルションポリマー液、エチレングリコール／ブチルセルソルブ／水＝６５／５／３０（重量比）の混合溶媒を、スペーサー粒子／ポリマー液／混合溶媒＝０．２／５／９４．８（重量比）となるように混合、超音波分散させ、目開き２０μｍのステンレスメッシュで濾過し、実施例１のスペーサー形成用インキを得た。得られた分散液の粘度は１１．０ｍＰａ・ｓ（２３℃）であった。
〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、遮光部幅１５μｍのカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように、１５μｍφのパターンを多数配置した設計のマスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことでパターンを形成した。このパターンの開口部分をフッ酸処理液により、版深１．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。
〜カラーフィルタ基板上へのスペーサー形成〜
吐出量３０ｐｌのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記スペーサーインクを真空脱泡処理した後、充填し、上記ガラス凹版のアライメントを行った後、所定の密度（１６２μｍ×１６２μｍ）に対し、３倍の密度（５４μｍ×１６２μｍ）となる配置でスペーサーインク液滴を定点配置し、１００℃で５分間乾燥を行った。この版を上下基板のアライメント機構を有する転写装置に搭載し、耐熱性を有する透明フィルム上に形成したカラーフィルタ基板、ガラス凹版の位置合わせを行った後、転写ローラーにより転写処理を行った。このスペーサーを形成したカラーフィルタ基板をＵＶ照射で硬化処理を行い、スペーサー付カラーフィルタ基板を得た。
【００６８】
＜実施例２＞
実施例１におけるカラーフィルタ基板上へのスペーサー形成を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜カラーフィルタ基板上へのスペーサー形成〜
吐出量３０ｐｌのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記スペーサーインクを真空脱泡処理した後、充填し、上記ガラス凹版のアライメントを行った後、所定の密度（１６２μｍ×１６２μｍ）に対し、９倍の密度（５４μｍ×５４μｍ）となる配置でスペーサーインク液滴を定点配置し、１００℃で５分間乾燥を行った。この版を上下基板のアライメント機構を有する転写装置に搭載し、耐熱性を有する透明フィルム上に形成したカラーフィルタ基板、ガラス凹版の位置合わせを行った後、転写ローラーにより転写処理を行った。このスペーサーを形成したカラーフィルタ基板をＵＶ照射で硬化処理を行い、スペーサー付カラーフィルタ基板を得た。
【００６９】
＜実施例３＞
実施例１のガラス凹版の作成を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、遮光部幅１５μｍのカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように、１５μｍφのパターンを多数配置した設計のマスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことでパターンを形成した。このパターンの開口部分をフッ酸処理液により、版深２．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。
【００７０】
＜実施例４＞
実施例１のガラス凹版の作成を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、遮光部幅１５μｍのカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように、１０μｍφのパターンを多数配置した設計のマスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことでパターンを形成した。このパターンの開口部分をフッ酸処理液により、版深１．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。
【００７１】
＜実施例５＞
実施例１のスペーサーインクの調製を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜スペーサーインクの調製〜
反応性を有する水分散型ウレタンアクリレートエマルション（荒川化学製、ＥＭ−９０、固形分４０％）を攪拌しながら、光開始剤（チバスペシャリティケミカル製、ダロキュア４２６５）を固形分比で５％となる添加量で少量ずつ添加し、光硬化型エマルションポリマー液を調製した。次いでスペーサー粒子（早川ゴム製、ハヤビーズＬ−１１Ｓ、粒子径５μｍ）、前記光硬化型エマルションポリマー液、エチレングリコール／ブチルセルソルブ／水＝６５／５／３０（重量比）の混合溶媒を、スペーサー粒子／ポリマー液／混合溶媒＝０．５／６／９３．５（重量比）となるように混合、超音波分散させ、目開き２０μｍのステンレスメッシュで濾過し、実施例１のスペーサー形成用インキを得た。得られた分散液の粘度は１３．６ｍＰａ・ｓ（２３℃）であった。
【００７２】
＜実施例６＞
〜スペーサーインクの調製〜
反応性を有する水分散型ウレタンアクリレートエマルション（荒川化学製、ＥＭ−９０、固形分４０％）を攪拌しながら、光開始剤（チバスペシャリティケミカル製、ダロキュア４２６５）を固形分比で５％となる添加量で少量ずつ添加し、光硬化型エマルションポリマー液を調製した。次いでスペーサー粒子（早川ゴム製、ハヤビーズＬ−１１Ｓ、粒子径５μｍ）、前記光硬化型エマルションポリマー液、エチレングリコール／ブチルセルソルブ／水＝６５／５／３０（重量比）の混合溶媒を、スペーサー粒子／ポリマー液／混合溶媒＝０．５／６／９３．５（重量比）となるように混合、超音波分散させ、目開き２０μｍのステンレスメッシュで濾過し、実施例１のスペーサー形成用インキを得た。得られた分散液の粘度は１３．６ｍＰａ・ｓ（２３℃）であった。
〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、遮光部幅１５μｍのカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように、１０μｍφのパターンを多数配置した設計のマスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことでパターンを形成した。このパターンの開口部分をフッ酸処理液により、版深２．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。
〜カラーフィルタ基板上へのスペーサー形成〜
吐出量３０ｐｌのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記スペーサーインクを真空脱泡処理した後、充填し、上記ガラス凹版のアライメントを行った後、所定の密度（１６２μｍ×１６２μｍ）に対し、９倍の密度（５４μｍ×５４μｍ）となる配置でスペーサーインク液滴を定点配置し、１００℃で５分間乾燥を行った。この版を上下基板のアライメント機構を有する転写装置に搭載し、耐熱性を有する透明フィルム上に形成したカラーフィルタ基板、ガラス凹版の位置合わせを行った後、転写ローラーにより転写処理を行った。このスペーサーを形成したカラーフィルタ基板をＵＶ照射で硬化処理を行い、スペーサー付カラーフィルタ基板を得た。
【００７３】
＜比較例１＞
実施例１におけるカラーフィルタ基板上へのスペーサー形成を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜カラーフィルタ基板上へのスペーサー形成〜
吐出量３０ｐｌのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記スペーサーインクを真空脱泡処理した後、充填し、上記ガラス凹版のアライメントを行った後、所定の密度（１６２μｍ×１６２μｍ）となる配置でスペーサーインク液滴を定点配置し、１００℃で５分間乾燥を行った。この版を上下基板のアライメント機構を有する転写装置に搭載し、耐熱性を有する透明フィルム上に形成したカラーフィルタ基板、ガラス凹版の位置合わせを行った後、転写ローラーにより転写処理を行った。このスペーサーを形成したカラーフィルタ基板をＵＶ照射で硬化処理を行い、スペーサー付カラーフィルタ基板を得た。
【００７４】
＜比較例２＞
実施例１のガラス凹版の作成を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、遮光部幅１５μｍのカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように、１５μｍφのパターンを多数配置した設計のマスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことでパターンを形成した。このパターンの開口部分をフッ酸処理液により、版深５．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。
【００７５】
＜比較例３＞
実施例１のガラス凹版の作成を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、遮光部幅１５μｍのカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように、２５μｍφのパターンを多数配置した設計のマスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことでパターンを形成した。このパターンの開口部分をフッ酸処理液により、版深１．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。
【００７６】
＜比較例４＞
実施例１のスペーサーインクの調製を下記の通り実施した以外は実施例１と同様の方法で行った。
〜スペーサーインクの調製〜
反応性を有する水分散型ウレタンアクリレートエマルション（荒川化学製、ＥＭ−９０、固形分４０％）を攪拌しながら、光開始剤（チバスペシャリティケミカル製、ダロキュア４２６５）を固形分比で５％となる添加量で少量ずつ添加し、光硬化型エマルションポリマー液を調製した。次いでスペーサー粒子（早川ゴム製、ハヤビーズＬ−１１Ｓ、粒子径５μｍ）、前記光硬化型エマルションポリマー液、エチレングリコール／ブチルセルソルブ／水＝６５／５／３０（重量比）の混合溶媒を、スペーサー粒子／ポリマー液／混合溶媒＝１０／８／８２（重量比）となるように混合、超音波分散させ、目開き２０μｍのステンレスメッシュで濾過し、実施例１のスペーサー形成用インキを得た。得られた分散液の粘度は１９．２ｍＰａ・ｓ（２３℃）であった。
【００７７】
以上のようにして得られたスペーサー付カラーフィルタ基板を下記基準に基づいて評価した。
【００７８】
〜インクジェット印刷性〜
インクジェットヘッドからの吐出性能を下記基準で評価した。
○；吐出ノズルが９０％以上
△；吐出ノズルが５０％以上、９０％未満
×；吐出ノズルが５０％以下
【００７９】
〜転写性〜
カラーフィルタ上へのスペーサーの転写性を下記基準で評価した。
○；転写率が９０％以上
△；転写率が５０％以上、９０％未満
×；転写率が５０％以下
【００８０】
〜転写位置精度〜
カラーフィルタ内の遮光膜パターン（幅１５μｍ）上へのスペーサー配置位置精度を顕微鏡観察により、下記基準で評価した。
○；遮光部上の存在率が９０％以上
△；遮光部上の存在率が５０％以上、９０％未満
×；遮光部上の存在率が５０％以下
【００８１】
〜スペーサー密度〜
カラーフィルタ上に形成したスペーサーの密度を１ｍｍ□（平方）エリアで測定し、それを１ｃｍ□（平方）エリアに換算し、下記基準に基づいて評価した。
○；２０００個以上
△；１０００〜２０００個
×；１０００個以下
【００８２】
〜固着性〜
形成したスペーサーのカラーフィルタ基板上への固着性をエアブラシにより水を流体とし、０．２５ＭＰａ、３０ｓｅｃの条件下で下記基準に基づいて評価した。
○；剥離箇所が１０％以下
△；剥離箇所が１０％以上、３０％未満
×；剥離箇所が３０％以上
【００８３】
上記評価基準に基づく、実施例１〜８、比較例１〜４の評価結果一覧を図２に示す。図２に示すように、実施例１〜６では、インクジェット印刷性、転写性、位置精度、スペーサー密度、および固着性の全てにおいて評価が「○」となる良好な結果が得られた。これに対し、比較例１ではスペーサー密度において、比較例２では転写性とスペーサー密度において、比較例３では位置精度において、比較例４ではインクジェット印刷性において、それぞれ「×」の評価となる結果となり、それぞれスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法としては適切でないことが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明は微小な空間を得る為の構造物を微細パターン上の一定位置に選択的に形成する用途、例えば各種表示素子やタッチパネル等に使用可能であるが、特にガラス基材やフィルム基材を用いた液晶ディスプレイのスペーサー形成に利用可能である。
【符号の説明】
【００８５】
１  インクジェットヘッド
２  ノズル
３  スペーサーインク
４  スペーサー粒子
５  凹版
５ａ  凹版の凹部パターン部
６  溶剤が乾燥した状態のスペーサーインク
７  カラーフィルタ基板
８  赤色画素
９  緑色画素
１０  青色画素
１１  遮光膜
１２  透明導電膜
【図１】
2011203626.tif 000003
【図２】
2011203626.tif 000004