(57)【要約】【課題】画像ボケがなく、高い取出し効率（正面輝度）を有し、低消費電力を図れる有機電界発光装置及びその製造方法の提供。【解決手段】有機電界発光装置は、陽極と、発光層と、陰極とを少なくとも有する有機電界発光表示部と、該有機電界発光表示部の上に配置され、前記発光層から発光される光の光路を制御するレンズと、前記レンズと一体化され、前記レンズにおける光路を覆うように配置され、前記発光層から発光される光を透過するフィルター層と、を有する有機電界発光装置であって、前記有機電界発光装置は、複数の有機電界発光表示部及び複数のレンズを有し、前記複数のレンズのうちの、一のレンズと一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも１個のレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と、発光層と、陰極とを少なくとも有する有機電界発光表示部と、該有機電界発光表示部の上に配置され、前記発光層から発光される光の光路を制御するレンズと、前記レンズと一体化され、前記レンズにおける光路を覆うように配置され、前記発光層から発光される光を透過するフィルター層と、を有する有機電界発光装置であって、  
前記有機電界発光装置は、複数の有機電界発光表示部及び複数のレンズを有し、前記複数のレンズのうちの、一のレンズと一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも１個のレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収することを特徴とする有機電界発光装置。
【請求項２】
複数のレンズのうちの、一のレンズに一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも２方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する請求項１に記載の有機電界発光装置。
【請求項３】
複数のレンズのうちの、一のレンズに一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも３方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する請求項２に記載の有機電界発光装置。
【請求項４】
前記複数のレンズのうちの、一のレンズに一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接する全てのレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する請求項１に記載の有機電界発光装置。
【請求項５】
一のレンズが、フィルター層として機能する請求項１から４のいずれかに記載の有機電界発光装置。
【請求項６】
フィルター層が、レンズにおける発光層側の界面に形成された請求項１から４のいずれかに記載の有機電界発光装置。
【請求項７】
フィルター層が、レンズ表面を覆うように形成された請求項１から４のいずれかに記載の有機電界発光装置。
【請求項８】
同一色の光を発光する発光層を含む有機電界発光表示部を複数有する画素要素を複数有し、前記複数の画素要素のうちの、一の画素要素における有機電界発光表示部の発光層は、該一の画素要素と隣接する他の画素要素のうち少なくとも１個の画素要素における有機電界発光表示部の発光層が発光する光の色と異なる色の光を発光する請求項１から７のいずれかに記載の有機電界発光装置。
【請求項９】
複数の画素要素のうちの、一の画素要素における有機電界発光表示部の発光層は、該一の画素要素と隣接する他の画素要素における有機電界発光表示部の発光層が発光する光の色と異なる色の光を発光する請求項８に記載の有機電界発光装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の有機電界発光装置を製造する有機電界発光装置の製造方法であって、インクジェット法によりフィルター層を形成することを特徴とする有機電界発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機電界発光装置（以下、「有機エレクトロルミネッセント装置」、「有機ＥＬ装置」と称することもある）及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ装置（有機電界発光装置）は自発光型の表示装置であり、ディスプレイや照明の用途に用いられる。有機ＥＬディスプレイは、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して視認性が高い、視野角依存性がないといった表示性能の利点を有する。また、ディスプレイを軽量化、薄層化できるといった利点もある。また、有機ＥＬ照明は、軽量化、薄層化という利点に加え、フレキシブル基板を用いることで、これまで実現できなかった形状の照明を実現できる可能性を持っている。
【０００３】
このように有機ＥＬ装置は、優れた特徴を有するが、一般に、発光層を含め表示装置を構成する各層の屈折率は空気より高い。例えば、有機ＥＬ装置では、発光層などの有機薄膜層の屈折率は１．６〜２．１である。このため、発光した光は界面で全反射しやすく、その光取出し効率は２０％に満たず、大部分の光を損失している。
例えば、一般的に知られる有機ＥＬ装置における有機ＥＬ表示部は、基板上に、一対の電極層の間に配される有機化合物層を備えて構成されている。該有機化合物層は、発光層を含み、有機ＥＬ装置は、該発光層から発光される光を光取出し面側から出射させている。この場合、光取出し面や電極層と有機化合物層の界面において、臨界角以上の光である全反射成分を取出すことができないため、光の取出し効率が低いという問題がある。
【０００４】
このようなことから、光取出し効率を向上させるため、発光層から発光される光の光路を制御し、該発光層から発光される光を光取出し面側から出射させるレンズ等の光取り出し部材を、光路上に配する有機ＥＬ装置が種々提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１には、基板上に形成された反射層と、前記反射層上に形成された陽極と、前記陽極上に形成された有機ＥＬからなる発光層と、光を透過する厚さの金属薄膜で形成され、一面を前記発光層に被着し他面に半透明反射層が形成された陰極とを有し、前記反射層と半透明反射層で微小光共振器（マイクロキャビティ）を構成し、前記半透明反射層の外側にレンズを形成した有機ＥＬヘッドが提案されている。
この提案は、有機ＥＬヘッドを画像形成装置の書き込み手段として用いるものである。
【０００６】
また、特許文献２には、電極間に発光素子が配置され、前記電極間に印加される電圧により前記発光素子が発光する発光層と、前記発光素子からの光が出力される射出方向の前記電極の上の少なくとも発光素子の１辺の長さ以内の位置に、少なくとも１つのレンズが形成されたレンズ層とを有し、前記レンズの径が、前記発光素子の径よりも大きい表示体が提案されている。
【０００７】
また、特許文献３には、第１主表面に直径２５〜１，０００ｎｍの複数の連続した半球状凸部（レンズ）が形成された透明基材と、基板、第１電極、有機物層および第２電極を順次含む有機発光素子を有する有機発光装置において、前記第１電極と接しない基板の下面および／または前記有機物層と接しない第２電極の上面に直径２５〜１，０００ｎｍの複数の連続した半球状凸部（レンズ）を有する有機発光装置が提案されている。
【０００８】
しかしながら、これらの従来技術においては、レンズから出射した光が前記レンズと隣接するレンズに再入射されることにより、レンズと発光層との間で光が導波し、画像滲み、画像ボケが生じてしまうという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−２７２８７３号公報
【特許文献２】特開２００４−２２７９４０号公報
【特許文献３】特表２００７−５２９８６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、画像ボケがなく、高い取出し効率（正面輝度）を有し、低消費電力を図れる有機電界発光装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞  陽極と、発光層と、陰極と少なくとも有する有機電界発光表示部と、該有機電界発光表示部の上に配置され、前記発光層から発光される光の光路を制御するレンズと、前記レンズと一体化され、前記レンズにおける光路を覆うように配置され、前記発光層から発光される光を透過するフィルター層と、を有する有機電界発光装置であって、前記有機電界発光装置は、複数の有機電界発光表示部及び複数のレンズを有し、前記複数のレンズのうちの、一のレンズと一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも１個のレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収することを特徴とする有機電界発光装置である。
＜２＞  複数のレンズのうちの、一のレンズに一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも２方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する前記＜１＞に記載の有機電界発光装置である。
＜３＞  複数のレンズのうちの、一のレンズに一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも３方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する前記＜２＞に記載の有機電界発光装置である。
＜４＞  前記複数のレンズのうちの、一のレンズに一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接する全てのレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する前記＜１＞に記載の有機電界発光装置である。
＜５＞  一のレンズが、フィルター層として機能する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の有機電界発光装置である。
＜６＞  フィルター層が、レンズにおける発光層側の界面に形成された前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の有機電界発光装置である。
＜７＞  フィルター層が、レンズ表面を覆うように形成された前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の有機電界発光装置である。
＜８＞  同一色の光を発光する発光層を含む有機電界発光表示部を複数有する画素要素を複数有し、前記複数の画素要素のうちの、一の画素要素における有機電界発光表示部の発光層は、該一の画素要素と隣接する他の画素要素のうち少なくとも１個の画素要素における有機電界発光表示部の発光層が発光する光の色と異なる色の光を発光する前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の有機電界発光装置である。
＜９＞  複数の画素要素のうちの、一の画素要素における有機電界発光表示部の発光層は、該一の画素要素と隣接する他の画素要素における有機電界発光表示部の発光層が発光する光の色と異なる色の光を発光する前記＜８＞に記載の有機電界発光装置である。
＜１０＞  前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の有機電界発光装置を製造する有機電界発光装置の製造方法であって、インクジェット法によりフィルター層を形成することを特徴とする有機電界発光装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、画像ボケがなく、高い取出し効率（正面輝度）を有し、低消費電力を図れる有機電界発光装置及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の有機電界発光装置の一例を示す図である（その１）。
【図１Ｂ】図１Ｂは、図１Ａの有機電界発光装置の概略断面図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、本発明の有機電界発光装置における緑色有機電界発光表示部と該緑色有機電界発光表示部上に形成されたレンズとを説明するための図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明の有機電界発光装置の一例を示す概略断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明の有機電界発光装置の他の一例を示す概略断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、従来の有機電界発光装置における光の導波を示す図である（その１）。
【図３Ｂ】図３Ｂは、従来の有機電界発光装置における光の導波を示す図である（その２）。
【図３Ｃ】図３Ｃは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）における光の導波を示す図である（その１）。
【図３Ｄ】図３Ｄは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）における光の導波を示す図である（その２）。
【図３Ｅ】図３Ｅは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）における光の導波を示す図である（その１）。
【図３Ｆ】図３Ｆは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）における光の導波を示す図である（その２）。
【図４Ａ】図４Ａは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）の製造方法を示す図である（その１）。
【図４Ｂ】図４Ｂは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）の製造方法を示す図である（その２）。
【図４Ｃ】図４Ｃは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）の製造方法を示す図である（その３）。
【図４Ｄ】図４Ｄは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）の製造方法を示す図である（その４）。
【図４Ｅ】図４Ｅは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）の製造方法を示す図である（その５）。
【図５Ａ】図５Ａは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）の製造方法を示す図である（その１）。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）の製造方法を示す図である（その２）。
【図５Ｃ】図５Ｃは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）の製造方法を示す図である（その３）。
【図５Ｄ】図５Ｄは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）の製造方法を示す図である（その４）。
【図５Ｅ】図５Ｅは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）の製造方法を示す図である（その５）。
【図５Ｆ】図５Ｆは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）の製造方法を示す図である（その６）。
【図６Ａ】図６Ａは、色付きレンズ内の光の透過を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、発光層側の界面にカラーフィルターが形成されたレンズ内の光の透過を示す図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、レンズ表面を覆うように形成されたカラーフィルターを示す図である。
【図６Ｄ】図６Ｄは、有機電界発光表示部の配光分布の一例を示す図である(ｓｍ＝１)。
【図６Ｅ】図６Ｅは、有機電界発光表示部の配光分布の一例を示す図である(ｓｍ＝２)。
【図７】図７は、本発明の有機電界発光装置の一例を示す図である(その２)。
【図８】図８は、本発明の有機電界発光装置の一例を示す図である(その３)。
【図９Ａ】図９Ａは、有機電界発光表示部の配光分布の一例を示す図である(その１)。
【図９Ｂ】図９Ｂは、有機電界発光表示部の配光分布の一例を示す図である(その２)。
【図１０Ａ】図１０Ａは、実施例４の有機電界発光装置における有機電界発光表示部（レンズ）の配列を示す図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、実施例５の有機電界発光装置における有機電界発光表示部（レンズ）の配列を示す図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、実施例３の有機電界発光装置における有機電界発光表示部（レンズ）の配列を示す図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、実施例６の有機電界発光装置における有機電界発光表示部（レンズ）の配列を示す図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、実施例の正面輝度での光取出し効率の関係を示すグラフである。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、レンズ外形と発光幅とを説明する図である。
【図１３】図１３は、実施例の積分強度での光取出し効率の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（有機電界発光装置）
本発明の有機電界発光装置は、少なくとも、有機電界発光表示部と、レンズと、フィルター層と有してなり、さらに必要に応じて、撥油層、親油層、その他の部材を有してなる。
【００１５】
＜有機電界発光表示部＞
前記有機電界発光表示部（有機電界発光素子）は、陽極と、発光層と、陰極と少なくとも有し、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、封止層（バリア層）、基板などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
前記有機電界発光表示部は、赤（Ｒ）、緑（Ｂ）及び青（Ｂ）を含む画素を構成する画素要素（画素要素におけるドット）である。
このような赤（Ｒ）、緑（Ｂ）及び青（Ｂ）を含む画素の構成としては、例えば「月刊ディスプレイ」、２０００年９月号、３３〜３７ページに記載されているように、前記発光層を、赤色、緑色、又は青色に対応する光をそれぞれ発光する発光層とした画素要素（画素要素におけるドット）を形成し、これら赤色、緑色、及び青色のいずれかの画素要素を配する３色発光法など、公知の構成を適用することができる。
【００１６】
−陽極−
前記陽極は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル、アルミニウム等の金属、更にこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。
前記陽極の厚みは、特に制限はなく、材料により適宜選択可能であるが、１０ｎｍ〜５μｍが好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１００ｎｍ〜５００ｎｍが更に好ましい。
【００１７】
前記陽極としては、通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。
前記基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、０．２ｍｍ以上が好ましく、０．７ｍｍ以上がより好ましい。
【００１８】
前記透明樹脂基板としては、バリアフィルムを用いることもできる。該バリアフィルムとは、プラスチック支持体上にガス不透過性のバリア層を設置したフィルムである。バリアフィルムとしては、酸化ケイ素や酸化アルミニウムを蒸着したもの（特公昭５３−１２９５３号公報、特開昭５８−２１７３４４号公報）、有機無機ハイブリッドコーティング層を有するもの（特開２０００−３２３２７３号公報、特開２００４−２５７３２号公報）、無機層状化合物を有するもの（特開２００１−２０５７４３号公報）、無機材料を積層したもの（特開２００３−２０６３６１号公報、特開２００６−２６３９８９号公報）、有機層と無機層を交互に積層したもの（特開２００７−３０３８７号公報、米国特許第６４１３６４５号明細書、Affinitoら著  Thin  Solid  Films  1996年  290-291頁）、有機層と無機層を連続的に積層したもの（米国特許出願公開公報２００４−４６４９７号明細書）などが挙げられる。
【００１９】
前記陽極の作製には、材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、表示装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。
【００２０】
−陰極−
前記陰極は、電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの陰極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。
前記陰極の材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）又はそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）又はそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金又はそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金又はそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金又はそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらの中でも、仕事関数が４ｅＶ以下の材料が好ましく、アルミニウム、リチウム−アルミニウム合金又はそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金又はそれらの混合金属が特に好ましい。
【００２１】
前記陰極の厚みとしては、特に制限はなく、材料により適宜選択可能であるが、１０ｎｍ〜５μｍが好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１００ｎｍ〜１μｍが更に好ましい。
前記陰極の作製には、例えば電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。更に、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。
前記陽極及び陰極のシート抵抗は、低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。
【００２２】
−発光層−
前記発光層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、電界印加時に陽極又は正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に、陰極又は電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものなどを用いることができる。
【００２３】
前記発光層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体；ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記発光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１ｎｍ〜５μｍが好ましく、５ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍが更に好ましい。
前記発光層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法などの方法が挙げられる。これらの中でも、抵抗加熱蒸着、コーティング法が特に好ましい。
【００２４】
−正孔注入層、正孔輸送層−
前記正孔注入層及び正孔輸送層の材料としては、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記正孔注入層及び正孔輸送層の材料としては、例えば、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２５】
前記正孔注入層及び正孔輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
前記正孔注入層及び正孔輸送層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、ＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解又は分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解乃至分散することができる。
前記樹脂成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリブチルメタクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）樹脂、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、エチルセルロース、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記正孔注入層及び正孔輸送層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば１ｎｍ〜５μｍが好ましく、５ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍが更に好ましい。
【００２６】
−電子注入層、電子輸送層−
前記電子注入層及び電子輸送層の材料としては、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記電子注入層及び電子輸送層の材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２７】
前記電子注入層及び電子輸送層としては、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
前記電子注入層及び電子輸送層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解乃至分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解乃至分散することができ、前記樹脂成分としては、例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
前記電子注入層又は電子輸送層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１ｎｍ〜５μｍが好ましく、５ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍが更に好ましい。
【００２８】
−封止層（バリア層）−
前記封止層（バリア層）としては、大気中の酸素、水分、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等の透過を防ぐという機能を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記封止層（バリア層）の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ、などが挙げられる。
前記封止層（バリア層）の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、７ｎｍ〜７５０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍが特に好ましい。前記バリア層の厚みが、５ｎｍ未満であると、大気中の酸素及び水分の透過を防ぐバリア機能が不充分であることがあり、１，０００ｎｍを超えると、光線透過率が低下し、透明性を損なうことがある。
前記封止層（バリア層）の光学的性質は、光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましい。
前記封止層（バリア層）の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＣＶＤ法、真空蒸着法、などが挙げられる。
【００２９】
−基板−
前記基板としては、その形状、構造、大きさ等を適宜選択すればよく、一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。前記基板は、無色透明であっても、有色透明であってもよいが、発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。
【００３０】
前記基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばイットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガラス等の無機材料；ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）樹脂等の有機材料、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３１】
前記基板としてガラスを用いる場合には、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したもの（例えば、バリアフィルム基板）を使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
【００３２】
前記基板として熱可塑性基板を用いる場合には、更に必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
【００３３】
ここで、前記有機電界発光表示部の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば（１）有機電界発光表示部における光出射側の電極の反射率、（２）マイクロキャビティ構造の光学長、（３）ボトムエミッション型又はトップエミッション型、などが挙げられる。
【００３４】
前記（１）の有機電界発光表示部の光出射側の電極としては、ボトムエミッション型では、発光層からみた反射率が１０％以下である透明電極（例えばＩＴＯ）、又は発光層からみた反射率が１０％を超える半透過電極（例えばＡｇ電極）を用いることができる。前記光出射側の電極として透明電極を用いると、光の反射が弱いので、マイクロキャビティ構造を形成できない。前記光出射側の電極として半透過電極を用いると、マイクロキャビティ構造を形成できる。
トップエミッション型では、光出射側の電極として、発光層からみた反射率が１０％を超える半透過電極を用い、マイクロキャビティ構造を形成する。
【００３５】
前記（２）のマイクロキャビティ構造の光学長は、有機電界発光表示部を構成する陽極と陰極の間の有機化合物層の厚みを変えることにより適宜調整することができる。ここで、前記有機化合物層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばホール輸送層、ホール注入層、発光層、電子輸送層、電子注入層、などが挙げられる。
ここで、前記マクロキャビティ構造とは、光出射側の半透過反射層と光出射と逆側の反射層とが干渉する構造を意味する。
【００３６】
前記マイクロキャビティ構造の光学長（光学距離）Ｌは、Ｌ＝２×Σｎｉｄｉ（ただし、ｉは積層数で１〜ｉまでの整数を表す）及び反射による位相シフトで表され、陽極と陰極の間に形成される各層の厚さｄとその層の屈折率ｎの積の和で表される。
前記光学長Ｌは、発光波長λに対し、光学長Ｌ（λ）＝ｍλ（ｍ＝１：１次、ｍ＝２：２次、ｍ＝３：３次）に示す関係があり、光学長Ｌ（λ）は、下記数式で表される。
【数１】
2011060611.tif 000002
ただし、式中、Ｌ（λ）は光学長〔＝２Σｎjｄj＋ΣＡＢＳ（φｍｉλ／２π）〕、λは、発光波長、ｉは、金属反射層を示すサフィックス、ｊは、金属反射層以外の金属層間の層（有機層や誘電体層等）を示すサフィックスを表す。
【００３７】
前記マイクロキャビティ構造が１次であるとは、光学長Ｌ（λ）が１λ（ただし、λは発光波長を表す）であり、金属反射層間をラウンドトリップする光が強めあう条件となる最小の光学長であることを意味する。
前記マイクロキャビティ構造が２次であるとは、光学長Ｌ（λ）が２λ（ただし、λは発光波長を表す）であり、金属反射層間をラウンドトリップする光が強めあう条件となる最小の光学長から２番目に短い光学長であることを意味する。
前記マイクロキャビティ構造が３次であるとは、光学長Ｌ（λ）が３λ（ただし、λは発光波長を表す）であり、金属反射層間をラウンドトリップする光が強めあう条件となる最小の光学長から３番目に短い光学長であることを意味する。
【００３８】
＜レンズ＞
前記レンズは、有機電界発光表示部の上に配置され、発光層から発光される光の光路を制御する機能を有する。ここで、「有機電界発光表示部の上」とは、有機電界発光表示部の光取出し面上に接して配置されている場合のみならず、有機電界発光表示部の光取出し面の上方に配置されている場合も含む。
前記光取り出し面としては、ボトムエミッション型ではガラス基板などが挙げられる。トップエミッション型では封止層（バリア層）などが挙げられる。
【００３９】
前記レンズとしては、その形状、大きさ、材質などについては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記レンズの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、球状、半球状、楕円状、台形状などが挙げられる。これらの中でも、半球状レンズが正面輝度の向上率の点で好ましい。
前記レンズの材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）、透明樹脂、ガラス、透明結晶、透明セラミックなどが挙げられる。これらの中でも、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）が、低温プロセスが可能なため有機ＥＬ層へのダメージが少ないという観点で好ましい。
前記レンズの屈折率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．４〜１．９が好ましい。前記屈折率が１．４未満であると、光取り出し効率が低くなることがあり、１．９を超えると、角度に対する輝度変化が大きくなることがある。
前記ＵＶインク（紫外線硬化型インク）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＰＭＭＡに光開始剤、熱硬化材、分散剤等を添加したものなどが好ましい。
前記レンズの大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、半球状レンズの場合には、その有効直径が１０μｍ〜１，０００μｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍがより好ましい。
前記レンズの配列としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、正方格子状、ハニカム状などが挙げられる。
【００４０】
前記レンズの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばインクジェット法、インプリント法、フォトリソグラフィ法、などが挙げられる。これらの中でも、前記インクジェット法が、着色されたレンズを作製する場合に複数のインク種を塗り分けることが容易であるという観点で好ましい。
前記インクジェット法では、例えば、有機電界発光表示部上に後述する撥油層を形成し、前記撥油層の上に後述する親油層を形成することによって、前記親油層上に選択的にレンズを形成することができる。
前記インプリント法では、例えば、離型剤及びＵＶ硬化樹脂を含む組成物を透明なモールド上に塗布した後に、該透明なモールドを有機電界発光装置上に圧着し、ＵＶ光を照射した後、離型することによって有機電界発光装置上にレンズを形成することができる。
【００４１】
なお、有機電界発光表示部にレンズなどの光取出し部品が装着されない場合、ガラスと空気の界面の全反射角度は±３３°角度より大きい角度の光は空気中に放射されない。
【００４２】
＜フィルター層＞
前記フィルター層としては、有機電界発光表示部の上に配置されたレンズと一体化され、前記レンズにおける光路を覆うように配置され、前記有機電界発光表示部における発光層から発光される光を透過する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レンズがフィルター層として機能する態様（図４Ｄ及び図６Ａにおけるレンズ４４）、レンズにおける発光層側の界面に形成された態様（図５Ｄ及び図６Ｂにおけるフィルター層６０）、レンズ表面を覆うように形成された態様（図６Ｃにおけるフィルター層７０）、などが挙げられる。
【００４３】
前記フィルター層は、前記有機電界発光表示部における発光層から発光される光の色と同色の材料で形成され、前記発光層から発光される光を透過する。
例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示すように、赤色光を発光する発光層１１Ｒを有する有機電界発光表示部１２Ｒ上には、赤色光を透過する赤色レンズ（フィルター層）１０Ｒが配置され、緑色光を発光する発光層１１Ｇを有する有機電界発光表示部１２Ｇ上には、緑色光を透過する緑色レンズ（フィルター層）１０Ｇが配置され、青色光を発光する発光層１１Ｂを有する有機電界発光表示部１２Ｂ上には、青色光を透過する青色レンズ（フィルター層）１０Ｂが配置されている。
レンズ（フィルター層）１０Ｒは、発光層１１Ｒから発光される赤色光と同色の赤色材料で形成され、発光層１１Ｒから発光される赤色光を透過する。また、レンズ（フィルター層）１０Ｇは、発光層１１Ｇから発光される緑色光と同色の緑色材料で形成され、発光層１１Ｇから発光される緑色光を透過する。さらに、レンズ（フィルター層）１０Ｂは、発光層１１Ｂから発光される青色光と同色の青色材料で形成され、発光層１１Ｂから発光される青色光を透過する。
【００４４】
前記フィルター層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、レンズにおける発光層側の界面に形成された態様、又は、レンズ表面を覆うように形成された態様である場合、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．５μｍ〜５μｍがより好ましく、２μｍ  〜３μｍが特に好ましい。
前記厚みが０．５μｍ未満であると、所望の濃度が得られないことがあり、５μｍを超えると、厚みコントロールが難しく、表面粗さが荒くなり、光散乱を誘発する場合がある。一方、前記厚みが特に好ましい範囲内であると、製造適正、歩留まりの点で有利である。
【００４５】
前記フィルター層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）、透明樹脂、ガラス、透明結晶、透明セラミックなどに、顔料、染料を添加したものなどが挙げられる。これらの中でも、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）が、有機EL層にダメージを与えない低温プロセスの点で好ましい。
前記ＵＶインク（紫外線硬化型インク）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＰＭＭＡに光開始剤、熱硬化材、分散剤等を添加したもの、などが好ましい。
前記顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記染料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００４６】
前記フィルターの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばインクジェット法、インプリント法、フォトリソグラフィ法、などが挙げられる。これらの中でも、前記インクジェット法が、１回のプロセスで塗りわけが可能である。レンズを作成する装置を共用できるという観点で好ましい。
前記インクジェット法では、例えば、有機電界発光表示部上に後述する撥油層を形成し、前記撥油層の上に後述する親油層を形成することによって、前記親油層上に選択的にフィルター層を形成することができる。
前記インプリント法では、例えば、離型剤及びＵＶ硬化樹脂を含む組成物を透明なモールド上に塗布した後に、該透明なモールドを有機電界発光装置上に圧着し、ＵＶ光を照射した後、離型することによって有機電界発光装置上にフィルター層を形成することができる。
【００４７】
＜撥油層＞
前記撥油層としては、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）等のインクをはじく限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機フッ化膜などが挙げられる。撥油層としては旭硝子社製サイトップやフロリナート等が好適である。
前記撥油層は、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）等のインクをはじくので、上部に後述する親油層を設けることにより、前記親油層上に選択的にインク層を形成することができる。また、前記撥油層は、低屈折率層として機能してもよい。
前記撥油層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５μｍ〜１０μｍが好ましく、１μｍ〜５μｍがより好ましく、２μｍ〜３μｍが特に好ましい。
前記厚みが０．５μｍ未満であると、干渉膜として作用し厚みむらが輝度むらを誘発することがあり、１０μｍを超えると、レンズへのＮＡが小さくなり高角度側で極端な輝度落ちを生じることがある。一方、前記厚みが特に好ましい範囲内であると、輝度落ちが適切で輝度むらが小さくなる点で有利である。
前記撥油層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４などが挙げられる。これらの中でも、屈折率が安定して製造することが容易という点でＳｉＯ２が好ましい。
【００４８】
＜親油層＞
前記親油層としては、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）等のインクとの親和性が高い限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＯ２膜などが挙げられる。
前記親油層は、ＵＶインク（紫外線硬化型インク）等のインクとの親和性が高いので、前記親油層上に選択的にインク層を形成することができる。
前記親油層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０ｎｍ〜５，０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１，０００ｎｍがより好ましく、１００ｎｍ〜５００ｎｍが特に好ましい。
前記厚みが２０ｎｍ未満であると、ピンホールによる欠陥が生じることがあり、５，０００ｎｍを超えると、膜応力による剥離が生じることがある。一方、前記厚みが特に好ましい範囲内であると、膜密着や歩留まりの点で有利である。
前記親油層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法などが挙げられる。これらの中でも、密着性の確保と低温成膜の観点でスパッタ法が好ましい。
【００４９】
ここで、図２Ａは、本発明の有機電界発光装置の一例であるボトムエミッション型の有機電界発光装置を示す概略断面図である。図２Ｂは、本発明の有機電界発光装置の一例であるトップエミッション型の有機電界発光装置を示す概略断面図である。
【００５０】
図２Ａのボトムエミッション型の有機電界発光装置１００は、ガラス基板１上に、有機電界発光表示部１０１（陽極２、ホール注入層３、ホール輸送層４、発光層５、電子輸送層６、電子注入層７、陰極８）を有し、光取り出し面としてのガラス基板１上に撥油層（不図示）及び親油層（不図示）を介してレンズ９が形成されている。
図２Ｂのトップエミッション型の有機電界発光装置２００は、ガラス基板１上に、有機電界発光表示部２０１（陽極２、ホール注入層３、ホール輸送層４、発光層５、電子輸送層６、電子注入層７、陰極８）を有し、陰極８上にガスバリア層Ｂが形成され、光取り出し面としてのガスバリア層Ｂ上に撥油層（不図示）及び親油層（不図示）を介してレンズ９が形成されている。
なお、「光出射方向」は、発光層からの光が、光取り出し面から有機電界発光装置の外部に出射される方向を示す。図２Ａに示すボトムエミッション型の有機ＥＬ装置１００の場合、矢印で示した通り、発光層５からみて図面に平行に下方に向かう方向を示す。図２Ｂに示すトップエミッション型の有機電界発光装置２００の場合、矢印で示した通り、発光層５からみて図面に平行に上方に向かう方向を示す。
【００５１】
本発明の有機電界発光装置は、フルカラーで表示し得る装置として構成されてもよい。本発明の有機電界発光装置をフルカラータイプのものとする方法としては、例えば「月刊ディスプレイ」、２０００年９月号、３３〜３７ページに記載されているように、色の３原色（青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ））に対応する光をそれぞれ発光する層構造を基板上に配置する３色発光法、白色発光用の層構造による白色発光をカラーフィルタを通して３原色に分ける白色法、青色発光用の層構造による青色発光を蛍光色素層を通して赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ）に変換する色変換法、などが知られている。
【００５２】
また、上記方法により得られる異なる発光色の層構造を複数組み合わせて用いることにより、所望の発光色の平面型光源を得ることができる。例えば、青色及び黄色の有機電界発光表示部（発光素子）を組み合わせた白色発光光源、青色、緑色、赤色の有機電界発光表示部（発光素子）を組み合わせた白色発光光源、等である。
【００５３】
＜有機電界発光表示部、レンズ、及びフィルター層の配置＞
前記有機電界発光装置は、複数の有機電界発光表示部及び複数のレンズを有し、前記複数のレンズのうちの、一のレンズと一体化されたフィルター層は、前記一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも１個のレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する。
例えば、図１Ａ及びＢに示すように、有機電界発光装置１００は、複数の有機電界発光表示部１２Ｒ、１２Ｂ、１２Ｇ及び複数のレンズ１０Ｒ、１０Ｂ、１０Ｇを有し、複数のレンズ１０のうちの、一のレンズ（フィルター層）１０Ｒ（Ｘ）は、一のレンズ１０Ｒ（Ｘ）に隣接するレンズ１０Ｇ（Ｙ）、１０Ｂ（Ｙ）を透過した緑色光及び青色光のうち少なくとも緑色光及び青色光のピーク波長の光を吸収する。
前記透過光のピーク波長の光とは、透過光の波長のうち最も光強度が高い波長の光である。例えば、赤色光のピーク波長は、６３０ｎｍであり、緑色光のピーク波長は、５３０ｎｍであり、青緑色光のピーク波長は、４７０ｎｍである。
【００５４】
図１Ａ及びＢにおいて、一のレンズ（フィルター層）１０Ｒ（Ｘ）は、一のレンズ１０Ｒ（Ｘ）に隣接する全てのレンズ１０Ｇ（Ｙ）、１０Ｂ（Ｙ）を透過した緑色光及び青色光のうち少なくとも緑色光及び青色光のピーク波長の光を吸収する、即ち、一のレンズ（フィルター層）１０Ｒ（Ｘ）の色（赤色）は、一のレンズ１０Ｒ（Ｘ）に隣接する全てのレンズ１０Ｇ（Ｙ）、１０Ｂ（Ｙ）の色（緑色、青色）と異なる色であるが、一のレンズ（フィルター層）は、該一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも１個のレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収するものであればよく、例えば、一のレンズ（フィルター層）が、該一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも２方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する態様、一のレンズ（フィルター層）が、該一のレンズに隣接するレンズのうち少なくとも３方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する態様、などであってもよい。なお、後述する図３Ｃ及びＥは、一のレンズ（フィルター層）が、該一のレンズに隣接するレンズのうち３方向に配列したレンズを透過した光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する態様である。
【００５５】
また、有機電界発光装置において、有機電界発光表示部とレンズとの距離は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０μｍ以下であることが好ましい。
【００５６】
図１Ｃは、本発明の有機電界発光装置における緑色有機電界発光表示部と該緑色有機電界発光表示部上に形成されたレンズを説明するための図である。
緑色有機電界発光表示部１２Ｇは、基板（不図示）と、基板上に形成された陽極２１（例えば、厚み１００ｎｍのＡｌ層）と、陽極２１上に形成されたホール注入層２２（例えば、厚み２０ｎｍの２−ＴＮＡＴＡ／ＭｎＯ３層）と、ホール注入層２２上に形成された第１ホール輸送層２３（例えば、厚み１４１ｎｍの２−ＴＮＡＴＡ／Ｆ４−ＴＣＮＱ層）と、第１ホール輸送層２３上に形成された第２ホール輸送層２４（例えば、厚み１０ｎｍのα−ＮＰＤ層）と、第２ホール輸送層２４上に形成された第３ホール輸送層２５（例えば、厚み３ｎｍの下記ホール輸送材料Ａからなる層）と、第３ホール輸送層２５上に形成された発光層２６（例えば、厚み２０ｎｍのＣＢＰ／下記発光材料Ａからなる層）と、発光層２６上に形成された第１電子輸送層２７（例えば、厚み３９ｎｍのＢＡｌｑ層）と、第１電子輸送層２７上に形成された第２電子輸送層２８（例えば、厚み１ｎｍのＢＣＰ層）と、第２電子輸送層２８上に形成された第１電子注入層２９（例えば、厚み１ｎｍのＬｉＦ層）と、第１電子注入層２９上に形成された第２電子注入層３０（例えば、厚み１ｎｍのＡｌ層）と、第２電子注入層３０上に形成された陰極３１（例えば、厚み２０ｎｍのＡｇ層）と、陰極３１上に形成された封止層３２（例えば、厚み３，０００ｎｍのＳｉＯＮ層）と、を有する。
【化１】
2011060611.tif 000003
【化２】
2011060611.tif 000004
緑色有機電界発光表示部１２Ｇ上には、撥油層３３（例えば、厚み３，０００ｎｍの有機フッ化樹脂層）が形成され、撥油層３３上に親油層３４（例えば、厚み１００ｎｍのＳｉＯ２層）が形成され、親油層３４上に緑色のレンズ１０Ｇ（例えば、アクリル樹脂レンズ）が形成されている。
【００５７】
図３Ａは、従来の有機電界発光装置における光の導波を示す図であり（その１）、図３Ｂは、従来の有機電界発光装置における光の導波を示す図であり（その２）、図３Ｃは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）における光の導波を示す図であり（その１）、図３Ｄは、本発明の有機電界発光装置（色付きレンズの場合）における光の導波を示す図であり（その２）、図３Ｅは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）における光の導波を示す図であり（その１）、図３Ｆは、本発明の有機電界発光装置（カラーフィルターの場合）における光の導波を示す図である（その２）。
図３Ａに示すように、縦１１個及び横１１個で正方格子状に配列した有機電界発光表示部（発光画素要素）上に透明なレンズを装着すると、図３Ａ及びＢに示すように、一のレンズ（図３Ａの中心のレンズ（囲みが付されたレンズ））から、該一のレンズに隣接するレンズに光が入射して、特に、縦方向及び横方向に伝播する。この伝播した光がレンズから出射することにより、画像がにじんで見えてしまう。そこで、図３Ｃに示すように、一のレンズ（図３Ｃの中心のレンズ（囲みが付されたレンズ））の色と、該一のレンズに縦方向及び横方向に隣接するレンズの色とが異なるように、レンズ（有機電界発光表示部）を配列する。なお、図３Ｃにおいて、レンズＡは、中心のレンズ（囲みが付されたレンズ）から出射する光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する（中心のレンズと異なる色の）媒体で形成されている。以上より、図３Ｄに示すように、隣接するレンズへの伝播光量は、大幅に低減する。
【００５８】
図３Ｅに示すように、一のレンズ（図３Ｅの中心のレンズ（囲みが付されたレンズ））の下に配置されたカラーフィルターの色と、該一のレンズに縦方向及び横方向に隣接するレンズの下に配置されたカラーフィルターの色とが異なるように、カラーフィルター（有機電界発光表示部）を配列する。なお、図３Ｅにおいて、カラーフィルターＣＦは、中心のレンズ（囲みが付されたレンズ）から出射する光のうち少なくとも該光のピーク波長の光を吸収する（中心のレンズの下に配置されたカラーフィルターと異なる色の）媒体で形成されている。以上より、図３Ｆに示すように、長距離を伝播する光は、カラーフィルターＣＦに吸収されることがわかった。
【００５９】
図４Ａ〜Ｅを用いて、レンズがフィルター層として機能する有機電界発光装置の製造方法を説明する。
まず、公知の方法により、上面に封止層としてのＳｉＯＮ層４１が形成された有機電界発光表示部４０を作製する（図４Ａ）。
次に、有機フッ化物（サイトップ、旭ガラス製）をスピンコートし、撥油層として厚み３，０００ｎｍの有機フッ化膜４２を形成した後、有機フッ化膜４２を形成した有機電界発光表示部４０を、１５０℃以下、好ましくは１００℃以下でポストベーキングする（図４Ｂ）。
次に、有機フッ化膜４２上に、マスク（不図示）をアライメントした後に、親油層として厚み１００ｎｍのＳｉＯ２膜４３をＲＦスパッタで作製する（図４Ｃ）。
ＵＶクリーニングを行った後、ＳｉＯ２膜４３上にＵＶインクをインクジェット法でパターニングする（図４Ｄ）。その後、ＵＶ光を照射してＵＶインクを硬化させ、レンズ４４を形成する。なお、インクジェット法では、顔料または染料を混ぜたインクを用いる。
【００６０】
図５Ａ〜Ｆを用いて、フィルター層がレンズにおける発光層側の界面に形成された有機電界発光装置の製造方法を説明する。
まず、公知の方法により、上面に封止層としてのＳｉＯＮ層４１が形成された有機電界発光表示部４０を作製する（図５Ａ）。
次に、有機フッ化物（サイトップ、旭ガラス製）をスピンコートし、撥油層として厚み３，０００ｎｍの有機フッ化膜４２を形成した後、有機フッ化膜４２を形成した有機電界発光表示部４０を、１５０℃以下、好ましくは１００℃以下でポストベーキングする（図５Ｂ）。
次に、有機フッ化膜４２上に、マスク（不図示）をアライメントした後に、親油層として厚み１００ｎｍのＳｉＯ２膜４３をＲＦスパッタで作製する（図５Ｃ）。
ＵＶクリーニングを行った後、ＳｉＯ２膜４３上にＵＶインクをインクジェット法でパターニングする（図５Ｄ）。その後、ＵＶ光を照射してＵＶインクを硬化させ、厚み１μｍのカラーフィルター６０を形成する。なお、インクジェット法では、顔料または染料を混ぜたインクを用いる。
この後、透明なＵＶインクをインクジェット法でパターニングする。その後、ＵＶ光を照射し、ＵＶインクを硬化させレンズ６１を形成する（図５Ｅ及び図５Ｆ）。
【００６１】
なお、図６Ａに示すように、色がついたレンズ４４を用いると、レンズ４４を透過する光の光路長Ａ、Ｂが透過する位置によって異なり、発光デバイスの色合いに影響を与える。一方、図６Ｂに示すように、レンズ６１の直下にカラーフィルター６０を設ける構成では、カラーフィルター６０を透過する光の光路長は、透過する位置によって大きく変化しない。
【００６２】
有機電界発光素子構造において、光学長が２次のマイクロキャビティ構造である場合（ｓｍ＝２）（図６Ｄ）は、光学長が１次のマイクロキャビティ構造である場合（ｓｍ＝１）（図６Ｅ）と比較して、隣接する有機電界発光表示部（レンズ）への伝播光量を低減する効果は顕著である。これは高角度側の光成分が多いためである。
【００６３】
また、図７及び図８に示すように、１画素要素８０中に、ドットとして複数の有機電界発光表示部１２（レンズ１０）を設けてもよい。
図７において、同一色の光を発光する発光層を含む有機電界発光表示部１２を複数有する画素要素８０を複数有し、複数の画素要素８０のうちの、一の緑色画素要素８０Ｇ（Ｘ）における緑色有機電界発光表示部１２Ｇの発光層が、該一の緑色画素要素８０Ｇ（Ｘ）と隣接する他の画素要素（緑色画素要素８０Ｇ（Ｙ）、青色画素要素８０Ｂ（Ｙ）、赤色画素要素８０Ｒ（Ｙ））のうち少なくとも１個の画素要素（青色画素要素８０Ｂ（Ｙ）、赤色画素要素８０Ｒ（Ｙ））における青色有機電界発光表示部１２Ｂ、赤色有機電界発光表示部１２Ｒの発光層が発光する光の色と異なる色の光を発光する。
図８において、複数の画素要素８０のうちの、一の緑色画素要素８０Ｇ（Ｘ）における緑色有機電界発光表示部１２Ｇの発光層は、該一の緑色画素要素８０Ｇ（Ｘ）と隣接する他の画素要素（青色画素要素８０Ｂ（Ｙ）、赤色画素要素８０Ｒ（Ｙ））における青色有機電界発光表示部１２Ｂ、赤色有機電界発光表示部１２Ｒの発光層が発光する光の色と異なる色の光を発光する。
なお、図８に示すように、画素同士が正方配置でなく斜めに並ぶような配置を取ることにより、隣接する有機電界発光表示部（レンズ）への伝播光量を低減する効果が大きい。斜めのラインには同じ色の画素が並んでしまうために、この方向の光が伝播することを許容してしまうからである。
【００６４】
図７及び８では、１つの画素には、緑色画素要素８０Ｇ、青色画素要素８０Ｂ、赤色画素要素８０Ｒが含まれ、各色画素要素８０Ｇ、８０Ｂ、８０Ｒには、複数のドットとして、各色の光を発光する発光層を含む有機電界発光表示部１２Ｇ、１２Ｂ、１２Ｒが含まれているものとした。
【００６５】
本発明の有機電界発光装置は、例えば、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。
【実施例】
【００６６】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００６７】
（製造例１）
＜トップエミッション型の緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（１）（ｓｍ＝２）の作製；光学長が２次のマイクロキャビティ構造である場合＞
ガラス基板として、厚みが０．７ｍｍ、屈折率が約１．５のイーグル２０００（コーニング社製）を用いた。
次に、ガラス基板上に、陽極としてアルミニウム（Ａｌ）を、厚みが１００ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、アルミニウム膜上に、ホール注入層として２−ＴＮＡＴＡ〔４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン〕とＭｎＯ３を７：３の割合で、厚みが２０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、ホール注入層上に、第１のホール輸送層として２−ＴＮＡＴＡにＦ４−ＴＣＮＱ（２，３，５，６−ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ−７，７，８，８ｔｅｔｒａｃｙａｎｏｑｕｉｎｏｄｉｍｅｔｈａｎｅ）を１．０％ドープして１４１ｎｍの厚さとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１のホール輸送層上に、第２のホール輸送層としてα−ＮＰＤ〔Ｎ，Ｎ’−（ジナフチルフェニルアミノ）ピレン〕を、厚みが１０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２のホール輸送層上に、第３のホール輸送層として下記構造式で表されるホール輸送材料Ａを、厚みが３ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
【化１】
2011060611.tif 000005
【００６８】
次に、第３のホール輸送層上に、発光層を、ホスト材料としてＣＢＰ（４，４’−ジカルバゾール−ビフェニル）と、発光材料として下記構造式で表される発光材料Ａを、８５：１５の割合で、厚みが２０ｎｍとなるように、真空共蒸着により形成した。
【化２】
2011060611.tif 000006
【００６９】
次に、発光層上に、第１の電子輸送層としてＢＡｌｑ（Ａｌｕｍｉｎｕｍ（ＩＩＩ）ｂｉｓ（２−ｍｅｔｈｙｌ−８−ｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）−４−ｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｏｌａｔｅ）を、厚みが３９ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１の電子輸送層上に、第２の電子輸送層としてＢＣＰ（２，９−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−４，７−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−１，１０−ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎ）を、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２の電子輸送層上に、第１の電子注入層としてＬｉＦを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１の電子注入層の上に、第２電子注入層としてＡｌを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２電子注入層上に、陰極として銀（Ａｇ）を、厚みが２０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、陰極上に、封止層としてＳｉＯＮを、厚みが３，０００ｎｍとなるように、ＣＶＤ法により形成した。
次に、封止層上に、撥油層として有機フッ素膜（旭硝子製サイトップ）を、厚みが３，０００ｎｍとなるように、スピンコートにより形成した。
次に、撥油層上に、親油層としてＳｉＯ２を、厚みが１００ｎｍとなるように、スパッタ法により形成した。
以上により、緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（１）を作製した。
得られた緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（１）は、光学長Ｌ（λ）が２λ（ただし、λは発光波長を表す）である２次のマイクロキャビティ構造を有していた。
【００７０】
（製造例２）
＜トップエミッション型の緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（２）（ｓｍ＝３）の作製；光学長が３次のマイクロキャビティ構造である場合＞
製造例１において第１のホール輸送層の厚みを１４１ｎｍから２７１ｎｍに変えた以外は、製造例１の緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（１）の作製と同様にして、緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（２）を作製した。
得られた緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（２）は、光学長Ｌ（λ）が３λ（ただし、λは発光波長を表す）である３次のマイクロキャビティ構造を有していた。
【００７１】
（製造例３）
＜トップエミッション型の赤色有機電界発光表示部（赤色画素要素）（Ｓｍ＝２）の作製；光学長が２次のマイクロキャビティ構造である場合＞
ガラス基板として、厚みが０．７ｍｍ、屈折率が約１．５のイーグル２０００（コーニング社製）を用いた。
次に、ガラス基板上に、陽極としてアルミニウム（Ａｌ）を、厚みが１００ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、アルミニウム膜上に、ホール注入層として２−ＴＮＡＴＡ〔４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン〕とＭｎＯ３を７：３の割合で、厚みが２０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、ホール注入層上に、第１のホール輸送層として２−ＴＮＡＴＡにＦ４−ＴＣＮＱを１．０％ドープして１９６ｎｍの厚さとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１のホール輸送層上に、第２のホール輸送層としてα−ＮＰＤ〔Ｎ，Ｎ’−（ジナフチルフェニルアミノ）ピレン〕を、厚みが１０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２のホール輸送層上に、発光層を、ホスト材料としてＢＡｌｑと、発光材料として下記構造式で表される発光材料Ｘを、９５：５の割合で、厚みが３０ｎｍとなるように、真空共蒸着により形成した。
【化３】
2011060611.tif 000007
次に、発光層上に、第１の電子輸送層としてＢＡｌｑを、厚みが４８ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１の電子輸送層上に、第２の電子輸送層としてＢＣＰを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２の電子輸送層上に、第１の電子注入層としてＬｉＦを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１の電子注入層の上に、第２電子注入層としてＡｌを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２電子注入層上に、陰極として銀（Ａｇ）を、厚みが２０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、陰極上に、封止層としてＳｉＯＮを、厚みが３，０００ｎｍとなるように、ＣＶＤ法により形成した。
次に、封止層上に、撥油層として有機フッ素膜（旭硝子製サイトップ）を、厚みが３，０００ｎｍとなるように、スピンコートにより形成した。
次に、撥油層上に、親油層としてＳｉＯ２を、厚みが１００ｎｍとなるように、スパッタ法により形成した。
以上により、赤色有機電界発光表示部（赤色画素要素）を作製した。
得られた赤色有機電界発光表示部（赤色画素要素）は、光学長Ｌ（λ）が２λ（ただし、λは発光波長を表す）である２次のマイクロキャビティ構造を有していた。
【００７２】
（製造例４）
トップエミッション型の青色有機電界発光表示部（青色画素要素）を作製した。
＜青色有機電界発光表示部（青色画素要素）（Ｓｍ＝2  ）の作製；光学長が  次のマイクロキャビティ構造である場合＞
ガラス基板として、厚みが０．７ｍｍ、屈折率が約１．５のイーグル２０００（コーニング社製）を用いた。
次に、ガラス基板上に、陽極としてアルミニウム（Ａｌ）を、厚みが１００ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、アルミニウム膜上に、ホール注入層として２−ＴＮＡＴＡ〔４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン〕とＭｎＯ３を７：３の割合で、厚みが２０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、ホール注入層上に、第１のホール輸送層として２−ＴＮＡＴＡにＦ４−ＴＣＮＱを１．０％ドープして１１０ｎｍの厚さとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１のホール輸送層上に、第２のホール輸送層としてα−ＮＰＤ〔Ｎ，Ｎ’−（ジナフチルフェニルアミノ）ピレン〕を、厚みが１０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２のホール輸送層上に、第３のホール輸送層として下記構造式で表されるホール輸送材料Ａを、厚みが３ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第３のホール輸送層上に、発光層を、ホスト材料としてｍＣＰ（１，３−ビス（カルバゾーリル）ベンゼン）と、発光材料として下記構造式で表される発光材料Ｙを、８５：１５の割合で、厚みが３０ｎｍとなるように、真空共蒸着により形成した。
【化４】
2011060611.tif 000008
次に、発光層上に、第１の電子輸送層としてＢＡｌｑを、厚みが２９ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１の電子輸送層上に、第２の電子輸送層としてＢＣＰを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２の電子輸送層上に、第１の電子注入層としてＬｉＦを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第１の電子注入層の上に、第２電子注入層としてＡｌを、厚みが１ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、第２電子注入層上に、陰極として銀（Ａｇ）を、厚みが２０ｎｍとなるように、真空蒸着により形成した。
次に、陰極上に、封止層としてＳｉＯＮを、厚みが３，０００ｎｍとなるように、ＣＶＤ法により形成した。
次に、封止層上に、撥油層として有機フッ素膜（旭硝子製サイトップ）を、厚みが３，０００ｎｍとなるように、スピンコートにより形成した。
次に、撥油層上に、親油層としてＳｉＯ２を、厚みが１００ｎｍとなるように、スパッタ法により形成した。
以上により、青色有機電界発光表示部（青色画素要素）を作製した。
得られた青色有機電界発光表示部（青色画素要素）は、光学長Ｌ（λ）が２λ（ただし、λは発光波長を表す）である２次のマイクロキャビティ構造を有していた。
【００７３】
製造例１〜４で作製した有機電界発光表示部に、半径１０ｍｍの屈折率１．８のシリンダーレンズ（商品名：屈折液  ＫＰＲ、島津製作所製）をマッチングオイル（屈折率：約１．８）を介して装着した。有機電界発光表示部について、以下のようにして、配光分布を測定した。この評価により、ガラス内での光の角度分布を知ることができる。
緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（１）の配光分布の結果を図９Ａに、緑色有機電界発光表示部（緑色画素要素）（２）の配光分布の結果を図９Ｂにそれぞれ示す。
【００７４】
＜配光分布の測定方法＞
シリコンディテクターをゴニオメータに装着し、各有機電界発光表示部を発光させて、ゴニオメータの角度と、ディテクターからの光強度に対応する電圧信号との関係を測定し、配光分布を求めた。
【００７５】
（実施例１：一の色付きレンズと、該一の色付きレンズに隣接する全ての色付きレンズとが異なる色である場合）
製造例１で作製した緑色有機電界発光表示部と、製造例３で作製した赤色有機電界発光表示部と、製造例４で作製した青色有機電界発光表示部と、を用いて、以下に示す作製方法により、各色の有機電界発光表示部（レンズ）が図１Ａのように配列した有機電界発光装置を作製した。
＜有機電界発光装置の作製方法＞
発光素子の配置が、有機ＥＬディプレイ構造を作成した後に封止層をスパッタ法によりＳｉＯＮ膜を３μｍ成膜した後に、旭ガラス製サイトップＣＴＬ−１０７をディップコートで１μｍ成膜した。その後、マスクスパッタでレンズを形成する部分で１００ｎｍのＳｉＯ２膜を成膜した。インクジェット装置は、富士フイルム製ＤＭＰ−２８３１を用いてＲＧＢのカラーインクをそれぞれの画素に打ち分けた。
【００７６】
（実施例２：一の色付きレンズと、該一の色付きレンズに隣接する全ての色付きレンズとが異なる色である場合）
実施例１において、製造例１で作製した緑色有機電界発光表示部に代えて、製造例２で作製した緑色有機電界発光表示部以外を用いた以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００７７】
（実施例３：一の色付きレンズと、該一の色付きレンズに隣接する色付きレンズのうち２方向に配列した４個レンズとが異なる色である場合）
実施例１において、各色の有機電界発光表示部（レンズ）を図１１Ａのように配列した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００７８】
（実施例４：一の色付きレンズと、該一の色付きレンズに隣接する色付きレンズのうち３方向に配列した６個レンズとが異なる色である場合）
実施例１において、各色の有機電界発光表示部（レンズ）を図１０Ａのように配列した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００７９】
（実施例５：一の色付きレンズと、該一の色付きレンズに隣接する色付きレンズのうち３方向に配列した６個レンズとが異なる色である場合）
実施例１において、各色の有機電界発光表示部（レンズ）を図１０Ｂ（縦列におけるレンズは同色のカラーレンズ）のように配列した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００８０】
（実施例６：一の色付きレンズと、該一の色付きレンズに隣接する全ての色付きレンズとが異なる色である場合）
実施例１において、各色の有機電界発光表示部（レンズ）を図１１Ｂのように配列した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００８１】
（実施例７：色付きレンズを図７のように配列した場合）
実施例１において、各色の有機電界発光表示部（レンズ）を図７のように配列した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００８２】
（実施例８：色付きレンズを図８のように配列した場合）
実施例１において、各色の有機電界発光表示部（レンズ）を図８のように配列した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
【００８３】
（実施例９：レンズにおける発光層側の界面に形成されたカラーフィルターを用いた場合）
実施例１において、色付きレンズを用いる代わりに、レンズにおける発光層側の界面に形成されたカラーフィルターを用いて、以下に示す作製方法により作製した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
＜有機電界発光装置の作製方法＞
有機ＥＬディプレイ構造を作成した後に封止層をスパッタ法によりＳｉＯＮ膜を３μｍ成膜した後に、旭ガラス製サイトップＣＴＬ−１０７をディップコートで１μｍ成膜した。その後、マスクスパッタでレンズを形成する部分で１００ｎｍのＳｉＯ２膜を成膜した。インクジェット装置は、富士フイルム製ＤＭＰ−２８３１を用いてＲＧＢのカラーインクをそれぞれの画素に打ち分けカラーフィルターを作製した。その後、透明なＵＶインクをレンズ形成用に上記インクジェット装置で形成した。
【００８４】
（実施例１０：レンズ表面を覆うように形成されたカラーフィルターを用いた場合）
実施例１において、色付きレンズを用いる代わりに、レンズ表面を覆うように形成されたカラーフィルターを用いて、以下に示す作製方法により作製した以外は、実施例１と同様にして有機電界発光装置を作製した。
＜有機電界発光装置の作製方法＞
有機ＥＬディプレイ構造を作成した後に封止層をスパッタ法によりＳｉＯＮ膜を３μｍ成膜した後に、旭ガラス製サイトップＣＴＬ−１０７をディップコートで１μｍ成膜した。その後、マスクスパッタでレンズを形成する部分で１００ｎｍのＳｉＯ２膜を成膜した。インクジェット装置は、富士フイルム製ＤＭＰ−２８３１を用いて透明UVインクをそれぞれの画素に打ち分け透明レンズを作製した。その後、レンズそれぞれにＲＧＢインクを打ち分けることによってレンズ表面にカラーフィルターを形成した。
【００８５】
作製した各有機電界発光装置について、以下のようにして、光取り出し効率及び画像ボケを測定した。なお、光取り出し効率は、積分強度と正面輝度の両方を測定した。結果を図１２Ａ（正面輝度）及び図１３（積分強度）に示す。
【００８６】
＜光取り出し効率の測定＞
レンズを装着した有機電界発光素子の積分強度と正面輝度を、レンズを装着せずに測定した積分強度と正面輝度の値で割った値を光取り出し効率と定義した。
なお、積分強度は積分球を用い、正面輝度は、分光放射輝度計（トプコン社製、ＳＲ−３）で測定した。レンズ外径及び発光幅の比（図１２Ｂ）が３の素子を評価した。
【００８７】
＜画像ボケの測定＞
画像ボケの測定に輝度色度ユニフォミティ測定装置（トプコン社製、ＵＡ−１０００）を用いた。１画素を発光させた場合に、該１画素の発光強度に対する隣接画素の発光強度の比（隣接画素の発光強度／１画素の発光強度）の最大値が、１／１０００を超える場合は評価は×とし、１／１０００〜１／１００００の場合は、評価△とし、１／１００００未満の場合は評価は○とした。レンズ外形と発光幅は３の素子を評価した。例えば図７や図８の場合は６個の発光部及びレンズを取り囲む同色の部分を画素と解釈して評価した。
【００８８】
【表１】
2011060611.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の有機電界発光装置は、画像のにじみが少ないので、ボトムエミッション型有機電界発光表示装置、及びトップエミッション型有機電界発光表示装置のいずれにも好適に用いられ、例えば、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。
【符号の説明】
【００９０】
１  ガラス基板
２  陽極      
３  ホール注入層
４  ホール輸送層
５  発光層
６  電子輸送層
７  電子注入層
８  陰極
９  レンズ
１０  レンズ
１１  発光層
１２  有機電界発光表示部
２１  陽極
２２  ホール注入層
２３  ホール輸送層
２４  第２ホール輸送層
２５  第３ホール輸送層
２６  発光層
２７  第１電子輸送層
２８  第２電子輸送層
２９  第１電子注入層
３０  第２電子注入層
３１  陰極
３２  封止層
３３  撥油層
３４  親油層
４０  有機電界発光表示部
４１  ＳｉＯＮ層
４２  有機フッ化膜
４３  ＳｉＯ２膜
４４  レンズ
６０  フィルター層
６１  レンズ
８０  画素要素
１００  有機電界発光装置
１０１  有機電界発光表示部
２００  有機電界発光装置
２０１  有機電界発光表示部
【図９Ａ】
2011060611.tif 000010
【図９Ｂ】
2011060611.tif 000011
【図１Ａ】
2011060611.tif 000012
【図１Ｂ】
2011060611.tif 000013
【図１Ｃ】
2011060611.tif 000014
【図２Ａ】
2011060611.tif 000015
【図２Ｂ】
2011060611.tif 000016
【図３Ａ】
2011060611.tif 000017
【図３Ｂ】
2011060611.tif 000018
【図３Ｃ】
2011060611.tif 000019
【図３Ｄ】
2011060611.tif 000020
【図３Ｅ】
2011060611.tif 000021
【図３Ｆ】
2011060611.tif 000022
【図４Ａ】
2011060611.tif 000023
【図４Ｂ】
2011060611.tif 000024
【図４Ｃ】
2011060611.tif 000025
【図４Ｄ】
2011060611.tif 000026
【図４Ｅ】
2011060611.tif 000027
【図５Ａ】
2011060611.tif 000028
【図５Ｂ】
2011060611.tif 000029
【図５Ｃ】
2011060611.tif 000030
【図５Ｄ】
2011060611.tif 000031
【図５Ｅ】
2011060611.tif 000032
【図５Ｆ】
2011060611.tif 000033
【図６Ａ】
2011060611.tif 000034
【図６Ｂ】
2011060611.tif 000035
【図６Ｃ】
2011060611.tif 000036
【図６Ｄ】
2011060611.tif 000037
【図６Ｅ】
2011060611.tif 000038
【図７】
2011060611.tif 000039
【図８】
2011060611.tif 000040
【図１０Ａ】
2011060611.tif 000041
【図１０Ｂ】
2011060611.tif 000042
【図１１Ａ】
2011060611.tif 000043
【図１１Ｂ】
2011060611.tif 000044
【図１２Ａ】
2011060611.tif 000045
【図１２Ｂ】
2011060611.tif 000046
【図１３】
2011060611.tif 000047