(57)【要約】【課題】蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法を提供する。【解決手段】熱源と、熱源上に配置されて熱源から発生した熱を伝達する熱伝逹プレートと、蒸着材料を配置するように熱伝逹プレート上に配置された平坦化層と、を備え、熱源は、熱伝逹プレートの領域の中央領域より中央領域を取り囲む熱伝逹プレートのエッジ領域にさらに多くの熱を供給するように形成された蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱源と、
前記熱源上に配置されて前記熱源から発生した熱を伝達する熱伝逹プレートと、
蒸着材料を配置するように前記熱伝逹プレート上に配置された平坦化層と、を備え、
前記熱源は、前記熱伝逹プレートの中央領域より前記中央領域を取り囲む前記熱伝逹プレートのエッジ領域にさらに多くの熱を供給するように形成された蒸着ソース。
【請求項２】
前記熱源はコイル部を備える請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項３】
前記コイル部は一体に形成され、１つの電源に連結された請求項２に記載の蒸着ソース。
【請求項４】
前記コイル部は複数のサブコイル部を備え、前記複数のサブコイル部はそれぞれ独立した電源に連結された請求項２に記載の蒸着ソース。
【請求項５】
前記コイル部は、前記熱伝逹プレートの前記中央領域に対応する位置より、前記熱伝逹プレートの前記エッジ領域に対応する位置でさらに密に配置される請求項２に記載の蒸着ソース。
【請求項６】
前記コイル部は、前記熱伝逹プレートの全体領域で同じ密度に配置される請求項２に記載の蒸着ソース。
【請求項７】
前記コイル部は、ニッケルまたはチタンを含む請求項２に記載の蒸着ソース。
【請求項８】
前記熱源はヒートパイプを備え、前記ヒートパイプの内部に熱伝逹流体が配置される請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項９】
前記ヒートパイプは、前記熱伝逹プレートの前記中央領域に対応する位置より、前記熱伝逹プレートの前記エッジ領域に対応する位置でさらに密に配置される請求項８に記載の蒸着ソース。
【請求項１０】
前記ヒートパイプは、銅またはアルミニウムを含む請求項８に記載の蒸着ソース。
【請求項１１】
前記熱伝逹流体は、パラフィン系化合物である請求項８に記載の蒸着ソース。
【請求項１２】
前記熱伝逹プレートは、金属を含む請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項１３】
前記平坦化層は、前記熱伝逹プレートと分離される請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項１４】
前記平坦化層は、アルミニウムまたは銅を含む請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項１５】
前記熱伝逹プレート及び前記平坦化層の側面を取り囲むように形成された熱遮断部をさらに備える請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項１６】
前記熱遮断部は、前記熱源の下に配置されるように形成された請求項１５に記載の蒸着ソース。
【請求項１７】
前記熱遮断部は、セラミック材料を含む請求項１５に記載の蒸着ソース。
【請求項１８】
前記熱遮断部は、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２及びＣａＯからなる群から選択されたいずれか一つを含む請求項１５に記載の蒸着ソース。
【請求項１９】
前記平坦化層は、前記蒸着材料が蒸着される被蒸着材より大きく形成される請求項１に記載の蒸着ソース。
【請求項２０】
熱源、前記熱源上に配置されて前記熱源から発生した熱を伝達する熱伝逹プレート、及び蒸着材料を配置するように前記熱伝逹プレート上に配置された平坦化層を備え、前記熱源は、前記熱伝逹プレートの中央領域より前記中央領域を取り囲む前記熱伝逹プレートのエッジ領域にさらに多くの熱を供給するように形成された蒸着ソースを利用した有機発光素子の製造方法であって、
第１電極が形成された基板を用意する工程と、
前記第１電極上に、有機発光層及び前記有機発光層の周囲に配置される一つ以上の有機層を形成する工程と、
前記有機発光層と電気的に接続されるように第２電極を形成する工程と、を含み、
前記有機発光層または前記有機層を形成する工程は、前記蒸着ソースを利用して行われる有機発光素子の製造方法。
【請求項２１】
前記蒸着ソースを利用して前記有機発光層または前記有機層を形成する工程は、前記基板を前記平坦化層と対向するように配置する工程を含む請求項２０に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項２２】
前記平坦化層のサイズは、前記基板のサイズより大きい請求項２０に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項２３】
前記有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層からなる群から選択された少なくともいずれか一つを含む請求項２０に記載の有機発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法に関し、さらに詳細には、蒸着特性及び蒸着膜均一性を向上できる蒸着ソースに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子装置は、微細な薄膜を備え、微細な薄膜を形成するために多様な方法を利用する。特に、平板表示装置は複数の薄膜を形成して製造されるので、平板表示装置の特性を向上するために薄膜の特性向上が重要である。
【０００３】
平板表示装置のうち有機発光素子は、他の平板表示装置に比べて視野角が広くてコントラストが優れており、応答速度が速いので次世代表示装置として注目されている。
【０００４】
有機発光素子で可視光線を発光する有機発光層及び有機発光層の周囲に配置される有機層は、多様な方法を利用して形成するが、工程の単純な真空蒸着法が頻繁に使われる。真空蒸着法は、蒸着するための粉末、固体形態の蒸着材料を加熱して所望の部分に蒸着膜を形成することである。
【０００５】
このような真空蒸着法は、点形態の蒸着ソース、線形態の蒸着ソース及び面形態の蒸着ソースを利用する。ところが、点形態の蒸着ソースを利用すれば、点形態の蒸着ソースから広い基板に蒸着物が広がるので、蒸着膜の均一度を確保し難い。
【０００６】
また、線形蒸着ソースを利用した蒸着方法は、一方向に長く延びた坩堝（るつぼ）に粉末を入れて坩堝を加熱して蒸着膜を形成するが、蒸着ソースまたは基板を移動しつつ蒸着するので、均一な蒸着特性を確保し難い。
【０００７】
面形態の蒸着ソースは、被蒸着材に対応するサイズに形成すれば、別途の移動なしに蒸着工程を進めることができる。ところが、被蒸着材の全体領域に対して均一な温度を維持し難く、そのため均一な蒸着特性を確保し難い。特に、被蒸着材のサイズが大きくなればなるほど蒸着特性の向上には限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、蒸着特性及び蒸着膜均一性を向上できる蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法を提供できる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、熱源と、前記熱源の上部に配置されて前記熱源から発生した熱を伝達する熱伝逹プレートと、蒸着材料を配置するように前記熱伝逹プレート上に配置された平坦化層と、を備え、前記熱源は、前記熱伝逹プレートの領域のうち、中央領域より前記中央領域を取り囲むエッジ領域にさらに多くの熱を供給するように形成された蒸着ソースを含む。
【００１０】
本発明において、前記熱源はコイル部を備える。
【００１１】
本発明において、前記コイル部は一体に形成され、１つの電源に連結される。
【００１２】
本発明において、前記コイル部は複数のサブコイル部を備え、前記複数のサブコイル部はそれぞれ独立した電源に連結される。
【００１３】
本発明において、前記コイル部は、前記熱伝逹プレートの中央領域に対応する位置より、前記中央領域を取り囲むエッジ領域に対応する位置でさらに密に配置される。
【００１４】
本発明において、前記コイル部は、前記熱伝逹プレートの全体領域で同じ密度に配置される。
【００１５】
本発明において、前記コイル部は、ニッケルまたはチタンを含む。
【００１６】
本発明において、前記熱源はヒートパイプを備え、前記ヒートパイプの内部に熱伝逹流体が配置される。
【００１７】
本発明において、前記ヒートパイプは、前記熱伝逹プレートの中央領域に対応する位置より、前記中央領域を取り囲むエッジ領域に対応する位置でさらに密に配置される。
【００１８】
本発明において、前記ヒートパイプは、銅またはアルミニウムを含む。
【００１９】
本発明において、前記熱伝逹流体は、パラフィン系化合物である。
【００２０】
本発明において、前記熱伝逹プレートは、金属を含む。
【００２１】
本発明において、前記平坦化層は、前記熱伝逹プレートと分離される。
【００２２】
本発明において、前記平坦化層は、アルミニウムまたは銅を含む。
【００２３】
本発明において、前記熱伝逹プレート及び前記平坦化層の側面を取り囲むように形成された熱遮断部をさらに備える。
【００２４】
本発明において、前記熱遮断部は、前記熱源の下部に配置されるように形成される。
【００２５】
本発明において、前記熱遮断部は、セラミック材料を含む。
【００２６】
本発明において、前記熱遮断部は、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２及びＣａＯからなる群から選択されたいずれか一つを含む。
【００２７】
本発明において、前記平坦化層は、前記蒸着材料が蒸着される被蒸着材より大きく形成される。
【００２８】
本発明の他の側面によれば、熱源、前記熱源上配置されて前記熱源から発生した熱を伝達する熱伝逹プレート、及び蒸着材料を配置するように前記熱伝逹プレート上に配置された平坦化層を備え、前記熱源は、前記熱伝逹プレートの中央領域より前記中央領域を取り囲む前記熱伝逹プレートのエッジ領域にさらに多くの熱を供給するように形成された蒸着ソースを利用した有機発光素子の製造方法であって、第１電極が形成された基板を用意する工程と、前記第１電極上に、有機発光層及び前記有機発光層の周囲に配置される一つ以上の有機層を形成する工程と、前記有機発光層と電気的に接続されるように第２電極を形成する工程と、を含み、前記有機発光層または前記有機層を形成する工程は、前記蒸着ソースを利用して行われる有機発光素子の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明において、前記蒸着ソースを利用して前記有機発光層または前記有機層を形成する工程は、前記基板を前記平坦化層と対向するように配置する工程を含む。
【００３０】
本発明において、前記平坦化層のサイズは、前記基板のサイズより大きい。
【００３１】
本発明において、前記有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層からなる群から選択された少なくともいずれか一つを含む。
【発明の効果】
【００３２】
本発明に関する蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法は、蒸着特性及び蒸着膜均一性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の一実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した斜視図である。
【図２】図１のII−II線の断面図である。
【図３Ａ】図２のコイル部を概略的に示した斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ａの変形例を概略的に示した斜視図である。
【図４】本発明の他の実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した断面図である。
【図５】図４のコイル部を概略的に示した斜視図である。
【図６】本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した断面図である。
【図７】図６のコイル部を概略的に示した斜視図である。
【図８】本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した断面図である。
【図９】図８のヒートパイプを概略的に示した斜視図である。
【図１０Ａ】本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。
【図１０Ｃ】本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。
【図１０Ｄ】本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。
【図１０Ｅ】本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。
【図１０Ｆ】本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、添付して示した本発明に関する実施形態を参照して本発明の構成及び作用を詳細に説明する。
【００３５】
図１は、本発明の一実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した斜視図であり、図２は、図１のII−II線の断面図であり、図３Ａは、図２のコイル部を概略的に示した斜視図である。
【００３６】
図１ないし図３Ａを参照すれば、蒸着ソース１００は、コイル部１１０を持つ熱源（図示せず）、熱伝逹プレート１２０、平坦化層１３０及び熱遮断部１４０を備える。
【００３７】
蒸着ソース１００はチャンバー（図示せず）の内部に配置され、チャンバーの内部には、蒸着ソース１００と対向するように被蒸着材（図示せず）が配置される。チャンバーの内部は、真空または低圧を維持するために１つ以上のポンプ（図示せず）によって連結される。またチャンバーの側面には被蒸着材の出入のための１つ以上の出入口（図示せず）が形成される。
【００３８】
蒸着ソース１００は、被蒸着材の全体面に蒸着材料を蒸着できる面形態に形成される。このために、蒸着ソース１００は被蒸着材より大きく形成されることが望ましい。
【００３９】
熱源は平坦化層１３０の上部に配置される蒸着材料を加熱するためのものであって、多様な形態の加熱装置を備えることができる。本実施形態で熱源はコイル部１１０を備える。また、コイル部１１０は複数のサブコイル部１１１を備える。図３Ａに示したように、サブコイル部１１１は方形と類似した形態であり、各サブコイル部１１１はサイズが異なる。
【００４０】
複数のサブコイル部１１１は互いに離隔されている。互いに離隔したサブコイル部１１１はそれぞれ別の電源に連結される。これを通じて、サブコイル部１１１に印加される電圧の大きさを制御できる。サブコイル部１１１は多様な金属を利用して形成できるが、ニッケルまたはチタンを含むことが望ましい。
【００４１】
またコイル部１１０は、中央よりエッジ領域がさらに密に配置される。すなわち、コイル部１１０に備えられたサブコイル部１１１は同じ間隔で配置されず、中央領域よりエッジ領域での間隔がさらに小さく配置される。これを通じてコイル部１１０で発生する熱を、領域別に異ならせることができる。
【００４２】
図３Ａには、各サブコイル部１１１がそれぞれ１個の方形と類似した形態を持つと図示されている。しかし、本発明はこれに限定されない。すなわち、サブコイル部１１１は、各サブコイル部１１１が離隔されつつ中央領域よりエッジ領域で狭い間隔で配置されればよい。図３Ｂは、図３Ａの変形例を概略的に示した斜視図である。図３Ｂに示したように、サブコイル部１１１のうち１つの方形と類似した形態を持つこともあり、複数のサブコイル部１１１が集まって離隔した方形の形態をなすこともある。
【００４３】
コイル部１１０の上部には熱伝逹プレート１２０が配置される。熱伝逹プレート１２０は、コイル部１１０で発生した熱を容易に伝達するように熱伝逹効率の良い材料を利用して形成する。このために、熱伝逹プレート１２０は金属を含むが、アルミニウム（Ａｌ）を含有でき、特に、熱伝逹プレート１２０の熱伝逹効率及び耐久性を向上するように、正極酸化被膜処理アルミニウムを使用できる。
【００４４】
図１には、熱伝逹プレート１２０とコイル部１１０とが離隔しているが、本発明はこれに限定されず、コイル部１１０と熱伝逹プレート１２０とが接触してもよい。すなわち、伝導を通じてコイル部１１０から熱伝逹プレート１２０に熱が伝えられることもある。
【００４５】
熱伝逹プレート１２０は、蒸着ソース１００の耐久性に影響を与えるので、数ｍｍ以上の厚さにする。
【００４６】
熱伝逹プレート１２０の上部に平坦化層１３０が配置される。平坦化層１３０の上部には、被蒸着材に蒸着膜を形成するための蒸着材料が配置される。このために、平坦化層１３０は平坦度を高く形成する。平坦化層１３０が熱伝逹プレート１２０と容易に分離されるように、平坦化層１３０と熱伝逹プレート１２０との間に接着層を介さない。すなわち、平坦化層１３０自体の重さだけで平坦化層１３０を熱伝逹プレート１２０に載置させ、平坦化層１３０の重さが軽いならば、別途の錘（図示せず）を平坦化層１３０の上部の角に置くようにする。
【００４７】
平坦化層１３０の上部には蒸着材料が配置されるが、蒸着材料は液状、粉末状など多様でありうる。平坦化層１３０が熱伝逹プレート１２０と容易に分離されるので、蒸着材料を平坦化層１３０に容易に配置でき、蒸着工程の進行後に平坦化層１３０の上部に残存する蒸着材料を容易に除去できる。
【００４８】
平坦化層１３０は金属を含むが、熱伝導度に優れたアルミニウム、銅を含むことができる。例えば、平坦化層１３０は、陽極酸化被膜処理アルミニウムで形成できる。平坦化層１３０は被蒸着材と対応できるように、蒸着工程を進めようとする被蒸着材より厚く形成されることが望ましい。
【００４９】
熱伝逹プレート１２０及び平坦化層１３０の側面を取り囲むように熱遮断部１４０が配置される。また熱遮断部１４０は、コイル部１１０の下部にも配置される。これを通じてコイル部１１０で発生した熱が周辺に漏れず、熱伝逹プレート１２０に伝えられるようにする。また熱伝逹プレート１２０に伝達された熱が熱伝逹プレート１２０の周辺に流出されず、平坦化層１３０に伝えられるようにする。また平坦化層１３０に伝達された熱が蒸着材料に効果的に伝えられて、蒸着工程効率を向上させる。
【００５０】
熱遮断部１４０は断熱特性に優れた材料を含むが、セラミック系材料を利用して形成することが望ましい。具体的に熱遮断部１４０は、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２及びＣａＯからなる群から選択されたいずれか一つを含むことができる。
【００５１】
本実施形態の蒸着ソース１００は面形態に形成され、被蒸着材より大きく形成される。これを通じて蒸着ソース１００または被蒸着材を移動させず、１回の蒸着工程を進めて被蒸着材に所望の蒸着膜を形成できる。
【００５２】
また本実施形態の蒸着ソース１００はコイル部１１０を備え、コイル部１１０は複数の離隔したサブコイル部１１１を備える。これを通じて、熱伝逹プレート１２０の全体的な温度を均一にすることができる。
【００５３】
すなわち、従来に熱伝逹プレート１２０は、その形態によって領域別に不均一な温度分布を持つ。これは、熱伝逹プレート１２０のエッジ領域は大気と近いため熱を外部に奪われやすいためであり、これによって、熱伝逹プレート１２０のエッジ領域は中央領域より温度が低下した。また熱伝逹プレート１２０の温度が領域別に不均一であるので、蒸着材料が均一に気化されず、結果的に被蒸着材に形成された蒸着膜の均一度が減少した。
【００５４】
しかし、本発明はコイル部１１０に備えられたサブコイル部１１１が領域別に異なる間隔で配置される。すなわち、熱伝逹プレート１２０のエッジ領域にはサブコイル部１１１が多く配置され、熱伝逹プレート１２０の中央領域にはサブコイル部１１１が相対的に少なく配置される。具体的に、熱伝逹プレート１２０のエッジに対応するように配置されたサブコイル部１１１の間隔は、熱伝逹プレート１２０の中央に対応するように配置されたサブコイル部１１１の間隔より小さい。これによって、熱伝逹プレート１２０の中央領域よりエッジ領域にさらに多くの熱を伝達できる。これによって熱伝逹プレート１２０の温度不均一性を解消し、結果的に被蒸着材の蒸着均一性を向上できる。
【００５５】
さらに、サブコイル部１１１はそれぞれの別の電源に連結される。すなわち、サブコイル部１１１はそれぞれ独立して制御されうる。これによって、熱伝逹プレート１２０に伝達される熱を各領域別に微細に制御でき、結果的に熱伝逹プレート１２０の領域別温度分布の均一性向上効果を増大させ、最終的に蒸着均一性向上効果を増大させる。
【００５６】
また本実施形態の蒸着ソース１００は蒸着物質を平坦化層１３０に配置する。平坦化層１３０を熱伝逹プレート１２０と別途に形成して分離されるようにして蒸着物質を平坦化層１３０に配置する、または平坦化層１３０から蒸着物質を除去する工程を容易に進めることができる。
【００５７】
また本実施形態の熱遮断層１４０は、コイル部１１０で発生した熱が周辺の大気に流出されず、熱伝逹プレート１２０、平坦化層１３０に順に伝えられるようにして蒸着効率を向上させる。
【００５８】
図４は、本発明の他の実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した断面図であり、図５は、図４のコイル部を概略的に示した斜視図である。説明の便宜のために、前述した実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００５９】
図４を参照すれば、蒸着ソース２００は、コイル部２１０を備えた熱源、熱伝逹プレート２２０、平坦化層２３０及び熱遮断部２４０を備える。
【００６０】
本実施形態の蒸着ソース２００は、前述した図１ないし図３の蒸着ソース１００と比較する時、コイル部２１０を除外した構成は類似しているので、コイル部２１０についてのみ説明する。
【００６１】
コイル部２１０は、複数のサブコイル部２１１を備える。サブコイル部２１１は、それぞれ方形と類似した形状であり、各サブコイル部２１１のサイズは異なる。
【００６２】
複数のサブコイル部２１１は互いに離隔している。互いに離隔したサブコイル部２１１はそれぞれ別の電源に連結される。これを通じて、サブコイル部２１１に印加される電圧の大きさを制御できる。
【００６３】
サブコイル部２１１は、同じ全体領域で同じ密度で配置される。すなわち、サブコイル部２１１は互いに同じ間隔で配置される。サブコイル部２１１がそれぞれ独立した電源に連結されるので、各サブコイル部２１１が発生する熱を制御できる。これによって、熱伝逹プレート２２０の中央領域よりエッジ領域にさらに多くの熱を伝達できる。これを通じて、熱伝逹プレート２２０の温度不均一性を解消し、結果的に被蒸着材の蒸着均一性を向上させることができる。
【００６４】
図６は、本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した断面図であり、図７は、図６のコイル部を概略的に示した斜視図である。
【００６５】
説明の便宜のために、前述した実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００６６】
図６を参照すれば、蒸着ソース３００は、コイル部３１０を備えた熱源、熱伝逹プレート３２０、平坦化層３３０及び熱遮断部３４０を備える。
【００６７】
本実施形態の蒸着ソース３００は、前述した図１ないし図３の蒸着ソース１００と比較する時、コイル部３１０を除外した構成は類似しているので、コイル部３１０についてのみ説明する。
【００６８】
コイル部３１０は一体に形成され、１つの電源（図示せず）に連結される。
【００６９】
この時、コイル部３１０は領域別に異なる間隔で配置される。すなわち、熱伝逹プレート３２０のエッジ領域に対応する位置では、コイル部３１０が密に配置され、熱伝逹プレート３２０のエッジ領域内側の中央領域に対応する位置では、コイル部３１０が相対的に粗く配置される。具体的に熱伝逹プレート３２０のエッジに対応するコイル部３１０の間隔は、熱伝逹プレート３２０の中央に対応するコイル部３１０の間隔より小さい。これによって、熱伝逹プレート３２０の中央領域よりエッジ領域にさらに多くの熱を伝達できる。これを通じて熱伝逹プレート３２０の温度不均一性を解消し、結果的に被蒸着材の蒸着均一性を向上させることができる。
【００７０】
図８は、本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着ソースを概略的に示した断面図であり、図９は、図８のヒートパイプを概略的に示した斜視図である。
【００７１】
説明の便宜のために、前述した実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００７２】
図８を参照すれば、蒸着ソース４００は、ヒートパイプ４１０を備えた熱源、熱伝逹プレート４２０、平坦化層４３０及び熱遮断部４４０を備える。
【００７３】
本実施形態の蒸着ソース４００は、前述した図１ないし図３の蒸着ソース１００と比較する時、ヒートパイプ４１０を備えた熱源を除外した構成は類似しているので、これについてのみ説明する。
【００７４】
本実施形態の蒸着ソース４００はヒートパイプ４１０を備えた熱源を備えるが、ヒートパイプ４１０の内部には熱伝逹流体４１１が配置される。熱伝逹流体４１１がヒートパイプ４１０の内部を通じて循環して、熱伝逹流体４１１からヒートパイプ４１０に熱が伝えられ、この熱は熱伝逹プレート４２０に伝えられる。
【００７５】
熱伝逹流体４１０は、熱伝逹効率の良い材料を含むが、パラフィン系化合物を含むことができる。またヒートパイプ４１０は、熱伝逹流体４１０から熱を容易に伝達されうるように金属を含むことができる。具体的には、ヒートパイプ４１０は銅またはアルミニウムを含有できる。
【００７６】
この時、ヒートパイプ４１０は領域別に異なる間隔で配置される。すなわち、熱伝逹プレート４２０のエッジ領域に対応する位置では、ヒートパイプ４１０が密に配置され、熱伝逹プレート４２０のエッジ領域内側の中央領域に対応する位置では、ヒートパイプ４１０が相対的に粗く配置される。具体的に、熱伝逹プレート４２０のエッジに対応するヒートパイプ４１０の間隔は、熱伝逹プレート４２０の中央に対応するヒートパイプ４１０の間隔より小さい。これによって、熱伝逹プレート４２０の中央領域よりエッジ領域にさらに多くの熱を伝達できる。これを通じて熱伝逹プレート４２０の温度不均一性を解消し、結果的に被蒸着材の蒸着均一性を向上できる。
【００７７】
本実施形態の薄膜蒸着装置１００は、多様な用途の薄膜を蒸着するのに使用できる。その具体的な例として、薄膜蒸着装置１００は有機発光素子を形成するのに使用できる。
【００７８】
図１０Ａないし図１０Ｆは、本発明の一実施形態に関する有機発光素子の製造方法を順次に示した断面図である。各図面を参照して本実施形態の製造方法を説明する。
【００７９】
図１０Ａを参照すると、蒸着ソース１００上に基板１０を配置する。図１０Ｂは、図１０ＡのＡ部分の拡大図である。図１０Ｂを参照すると、基板１０には第１電極１１が形成されている。図示していないが、蒸着ソース１００及び基板１０はチャンバー（図示せず）の内部に配置され、チャンバーの内部は真空レベルを維持させる。
【００８０】
この時、蒸着ソース１００の平坦化層１３０の上部には、基板１０に蒸着しようとする蒸着材料２０を配置する。基板１０は、平坦化層１３０の上部の蒸着材料２０と対向するように配置される。この時、基板１０は蒸着材料２０と間隔ｄを持って離隔するが、この間隔ｄは１ｍｍ以下にする。間隔ｄを１ｍｍ以下にすれば、蒸着ソース１００が配置されるチャンバーの内部が高レベルの真空雰囲気になる必要がなく、１０−２ｔｏｒｒほどの低真空雰囲気であってもよい。これは、蒸着材料の平均自由行程（ｍｅａｎ  ｆｒｅｅ  ｐａｔｈ）が圧力に反比例するためである。
【００８１】
基板１０は、ＳｉＯ２を主成分とする透明なガラス材質からなりうる。基板１０は、必ずしもこれに限定されるものではなく、透明なプラスチック材で形成してもよい。プラスチック基板は絶縁性有機物で形成できるが、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースエステルプロピオネート（ＣＡＰ）からなる群から選択される有機物からなりうる。
【００８２】
また基板１０は、金属でも形成できるが、金属で基板１０を形成する場合、基板１０は鉄、クロム、マンガン、ニッケル、チタン、モリブデン、ステンレススチール（ＳＵＳ）、インバー合金、インコネル合金及びコバール合金からなる群から選択された一つ以上を含むことができるが、これに限定されるものではない。この時、基板１０はフォイル形態でありうる。
【００８３】
基板１０の上面に、基板１０の平滑性及び不純元素の浸透の遮断のためにバッファ層（図示せず）を形成できる。バッファ層（図示せず）は、ＳｉＯ２及び／またはＳｉＮｘなどで形成できる。
【００８４】
基板１０上に第１電極１１が形成されている。第１電極１１は、フォトリソグラフィ法により所定のパターンで形成できる。第１電極１１のパターンは、受動駆動型（ｐａｓｓｉｖｅ  ｍａｔｒｉｘ  ｔｙｐｅ：ＰＭ）の有機発光素子である場合には、互いに所定間隔離れたストライプ状のラインで形成でき、能動駆動型（ａｃｔｉｖｅ  ｍａｔｒｉｘ  ｔｙｐｅ：ＡＭ）の有機発光素子である場合には、画素に対応する形態で形成できる。
【００８５】
第１電極１１は反射型電極または透過型電極でありうる。第１電極１１が反射型電極である場合、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に仕事関数の高いＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などを配置して第１電極１１を形成する。
【００８６】
第１電極１１が透過型電極である場合、第１電極１１は仕事関数の高いＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで形成される。
【００８７】
次いで、図１０Ｃを参照すれば、蒸着ソース１００を利用して、第１電極１１上に共通で配置される有機層である正孔注入層１２及び正孔輸送層１３を形成する。正孔注入層１２及び正孔輸送層１３は各ピクセルの共通層として作用するので、別途のマスクなしに蒸着工程を進めることができる。
【００８８】
この時、図１０Ａに示した蒸着材料２０は、正孔注入層１２を形成するための蒸着材料である。正孔注入層１２を形成した後、平坦化層１３０に残存する蒸着材料２０を除去する。そして、正孔輸送層１３を形成するための蒸着材料を平坦化層１３０に配置した後、蒸着工程を進めて正孔輸送層１３を形成する。
【００８９】
次いで、図１０Ｄを参照すれば、有機発光層１４を形成する。有機発光層１４は、赤色、緑色及び青色に対応する可視光線を発光する材料を利用して形成する。この時、蒸着ソース１００上にマスクを配置し、１回の蒸着工程を利用して赤色可視光線を発光する有機発光層１４を形成し、次いで、同じ過程で順次に緑色及び青色有機発光層１４を形成できる。しかし、本発明はこれに限定されず、別途の蒸着装置を利用して有機発光層１４を形成できる。
【００９０】
また照明などに使われる白色の可視光線を具現しようとする場合、別途のマスクなしに赤色、緑色及び青色有機発光層１４を順次に形成できる。この時、蒸着ソース１００は基板１０のサイズより大きいので、基板１０及び蒸着ソース１００を移動させずに１回の蒸着工程で所望の蒸着膜を形成できる。
【００９１】
次いで、図１０Ｅを参照すれば、有機発光層１４上に共通で配置される有機層の電子輸送層１５及び電子注入層１６を形成する。電子輸送層１５及び電子注入層１６は各ピクセルの共通層として作用するので、別途のマスクなしに蒸着工程を進めることができる。電子輸送層１５及び電子注入層１６を形成する工程は、前述した正孔注入層１２及び正孔輸送層１３を形成する工程と類似している。
【００９２】
本実施形態は、正孔注入層１２、正孔輸送層１３、電子輸送層１５及び電子注入層１６を形成することを含む。しかし、本発明はこれに限定されない。正孔注入層１２、正孔輸送層１３、電子輸送層１５及び電子注入層１６で形成される群から選択されたいずれか一つ以上の層を形成できる。
【００９３】
また正孔注入層１２、正孔輸送層１３、電子輸送層１５及び電子注入層１６を形成するための蒸着材料にも制限はないが、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）や、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）などを使用できる。
【００９４】
次いで、図１０Ｆを参照すれば、電子注入層１６上に第２電極１７を形成して有機発光素子１８を最終的に製造する。
【００９５】
第２電極１７は、受動駆動型である場合には、第１電極１１のパターンに直交するストライプ状であり、能動駆動型である場合には、画像が具現されるアクティブ領域全体にわたって形成されうる。
【００９６】
第２電極１７は、透過型電極または反射型電極でありうる。第２電極１７が透過型電極である場合、第２電極１７は仕事関数の小さな金属、すなわち、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物を蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明導電物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。
【００９７】
第２電極１７が反射型電極である場合、第２電極１７は仕事関数の小さな金属、すなわち、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａなどで形成できる。前述したのは、第１電極１１をアノード電極、第２電極１７をカソード電極として仮定したことであるが、電極の極性が逆になることもあるということはいうまでもない。
【００９８】
基板１０の一面に対向するように密封部材（図示せず）が配置されうる。密封部材（図示せず）は、外部の水分や酸素から有機発光素子１８を保護するために形成するものであって、密封部材（図示せず）は透明な材質で形成される。このために、ガラス、プラスチックまたは有機物と無機物とが複数重畳した構造でもありうる。
【００９９】
図面に示した実施形態を参考にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明は、蒸着ソース関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１０１】
１０  基板
１１  第１電極
１２  正孔注入層
１３  正孔輸送層
１４  有機発光層
１５  電子輸送層
１６  電子注入層
１７  第２電極
２０  蒸着材料
１００、２００、３００、４００  蒸着ソース
１１０、２１０、３１０  コイル部
１２０、２２０、３２０、４２０  熱伝逹プレート
１３０、２３０、３３０、４３０  平坦化層
１４０、２４０、３４０、４４０  熱遮断層
４１０  ヒートパイプ
４１１  熱伝逹流体
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１０Ｅ】
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【図１０Ｆ】
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